KR20190091393A - flexible metal clad laminate and THERMOPLASTIC POLYIMIDE PRECORSOR COMPOSITION for flexible metal clad laminate - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a flexible metal clad laminate and, more specifically, relates to a flexible metal clad laminate having a high modulus, excellent laser processing characteristics, and improved bonding characteristics with respect to metal foil, in particular, to aluminum foil, a flexible printed circuit board having the same, and a thermoplastic polyimide precursor composition for a flexible metal clad laminate.

Description

연성금속박적층체 및 연성금속박적층체용 열가소성 폴리이미드 전구체 조성물{flexible metal clad laminate and THERMOPLASTIC POLYIMIDE PRECORSOR COMPOSITION for flexible metal clad laminate}Flexible poly clad laminate and THERMOPLASTIC POLYIMIDE PRECORSOR COMPOSITION COMPOSITION for flexible metal clad laminate

본 발명은 연성금속박적층체에 관한 발명으로, 모듈러스가 높고 레이저 가공 특성이 양호하며, 금속박에 대한 접착특성, 특히 알루미늄박에 대한 접착특성이 개선된 연성금속박적층체와 이를 포함하는 연성인쇄회로기판 및 연성금속박적층체용 열가소성 폴리이미드 전구체 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a flexible metal laminate, wherein a flexible metal laminate and a flexible printed circuit board including the same, having high modulus, good laser processing characteristics, and improved adhesion to metal foil, in particular, to aluminum foil. And a thermoplastic polyimide precursor composition for a ductile metal laminate.

연성금속박적층체(Flexilble Metal Clad Laminate, FPCB)는 스마트폰과 같은 전자 기기의 회로를 구성하는 FPCB 제품의 기본 원자재로 사용되고 있다.Flexible Metal Clad Laminate (FPCB) is used as a basic raw material for FPCB products that make up the circuit of electronic devices such as smartphones.

최근에 전자기기의 발전과 복잡한 기능의 요구에 따라 연성인쇄회로기판(Flexible Printed Cicruit Board)의 고속전송, 저중량화, 박판화, 소형화가 날로 진행되고 있다. 이러한 요구에 맞추어 연성인쇄회로기판의 가공 측면에서는 미세 패턴화가 진행되고 있다. 이러한 추세에 대응하기 위해 연성금속박적층체(Flexilble Metal Clad Laminate)의 폴리이미드층이 치수편차가 적고 가공성이 양호하도록 하는데 대한 연구개발이 필요한 실정이다.Recently, in accordance with the development of electronic devices and the demand for complex functions, high-speed transmission, low weight, thinness, and miniaturization of flexible printed circuit boards are progressing day by day. In order to meet these demands, fine patterning is progressing in terms of processing flexible printed circuit boards. In order to cope with such a trend, research and development are needed to make the polyimide layer of flexible metal clad laminates have a small dimensional deviation and good workability.

보편적으로 연성금속박적층체의 폴리이미드층의 모듈러스가 높으면 치수편차가 덜 유발되는 것으로 알려져 있으나, 폴리이미드 접착층의 경우 모듈러스가 높으면 접착력 하락이 발생하여 이 두 가지 물성을 동시에 만족시키기는 쉽지 않은 실정이다.Generally, it is known that the higher the modulus of the polyimide layer of the ductile metal laminate, the less the dimensional deviation is induced. However, the higher the modulus of the polyimide adhesive layer, the lower the adhesive force. .

FPCB 공정에는 연성금속박적층체를 여러 층으로 적층하여 층간의 신호 전송을 위한 레이저 홀(Laser hole) 가공을 진행한다. 높은 모듈러스를 구현하기 위해 p-PDA와 같이 단위 길이가 짧고 rigid한 성질의 모노머를 사용하게 되면 레이저 가공성이 나빠지는 경향이 있다. 따라서 모듈러스가 높으면서도 레이저 가공성이 우수한 물성을 동시에 만족하는 연성금속박적층체에 대한 연구가 필요하였다.In the FPCB process, a flexible metal laminate is laminated in several layers to perform laser hole processing for signal transmission between layers. In order to realize high modulus, the use of monomers having short unit length and rigid properties such as p-PDA tends to deteriorate laser machinability. Therefore, it is necessary to study a flexible metal laminate that has high modulus and satisfies the properties of laser workability at the same time.

본 발명은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 모듈러스가 높으면서도 레이저 가공성이 우수한 물성을 동시에 만족하는 연성금속박적층체를 제공하는데 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve a conventional problem, and an object of the present invention is to provide a ductile metal laminate that satisfies physical properties with high modulus and excellent laser workability.

또한 본 발명은 동박 뿐만 아니라 고순도의 알루미늄박에 대해서도 접착력이 1.0 kgf/cm이상으로 접착력이 우수하며, 치수안정성, solder bath 내열성 및 컬 특성 등 전반적인 물성이 우수한 연성금속박적층체를 제공하는데 목적이 있다.In addition, the present invention is excellent in adhesion strength not only copper foil but also high purity aluminum foil with 1.0 kgf / cm or more, and an object of the present invention is to provide a flexible metal laminate with excellent overall physical properties such as dimensional stability, solder bath heat resistance and curl characteristics. .

또한 본 발명은 알루미늄박의 열팽창계수와 유사한 열팽창계수를 가지져 컬 발생 현상과 치수안정성 불량 현상을 극복하고 동박을 사용하는 수준의 물성을 발현할 수 있는 연성금속박적층체를 제공하는데 목적이 있다.In addition, an object of the present invention is to provide a flexible metal laminate that has a coefficient of thermal expansion similar to that of aluminum foil, overcomes curling and poor dimensional stability, and can express the physical properties of copper foil.

또한 본 발명은 동박 또는 알루미늄박에 대한 접착력을 확보하기 위하여 에폭시 수지 등 별도의 접착수지층을 필요로 하지 않으며, 순수한 열가소성 폴리이미드계 접착층(TPI층)을 사용하여 접착력이 우수한 연성금속박적층체를 제공하는데 목적이 있다.In addition, the present invention does not require a separate adhesive resin layer such as an epoxy resin in order to secure the adhesion to copper foil or aluminum foil, using a flexible thermoplastic polyimide laminate (TPI layer) with excellent adhesive strength The purpose is to provide.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 양태는 제 1열가소성 폴리이미드층, 베이스 폴리이미드층 및 제 2열가소성 폴리이미드층이 순차적으로 적층된 폴리이미드 적층체의 일면 또는 양면에 금속박을 포함하는 연성금속박적층체로서,One aspect of the present invention for achieving the above object is a flexible metal foil comprising a metal foil on one side or both sides of a polyimide laminate in which a first thermoplastic polyimide layer, a base polyimide layer, and a second thermoplastic polyimide layer are sequentially laminated. As a laminate,

상기 제 1열가소성 폴리이미드층 및 상기 제 2열가소성 폴리이미드층은 산무수물과 디아민으로부터 유도된 폴리이미드를 포함하고,The first thermoplastic polyimide layer and the second thermoplastic polyimide layer include a polyimide derived from an acid anhydride and diamine,

상기 디아민은 m-톨리딘 30 몰% 이상 및 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠 30 몰% 이상을 포함하는 연성금속박적층체이다.The diamine is a soft metal laminate comprising at least 30 mol% of m-tolidine and at least 30 mol% of 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene.

본 발명의 또 다른 양태는 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드를 포함하는 산무수물 및 m-톨리딘과 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠을 포함하는 디아민으로부터 유도된 폴리아믹산을 포함하는 연성금속박적층체용 열가소성 폴리이미드 전구체 조성물이다.Another embodiment of the present invention provides an acid anhydride comprising biphenyltetracarboxylic dianhydride and a polyamic acid derived from diamine comprising m-tolidine and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene. It is a thermoplastic polyimide precursor composition for flexible metal laminates containing.

본 발명에 따른 연성금속박적층체는 모듈러스가 높고, 금속박과의 접착력이 우수하면서 동시에 레이저 가공특성이 우수한 연성금속박적층체를 제공할 수 있다.The flexible metal laminate according to the present invention can provide a flexible metal laminate having high modulus, excellent adhesion to the metal foil, and excellent laser processing characteristics.

또한 동박 뿐만 아니라 알루미늄박에 대한 접착력도 우수하며, 알루미늄박에 접착 시 컬이 발생하지 않고, 치수안정성이 우수한 연성금속박적층체를 제공할 수 있다.In addition, it is excellent in adhesion to aluminum foil as well as copper foil, it is possible to provide a flexible metal foil laminate excellent in dimensional stability without the occurrence of curl when bonding to aluminum foil.

도 1은 본 발명의 일 양태에 따른 레이저 가공특성을 나타낸 단면사진으로, 잔사가 없음을 보이는 단면사진이다.
도 2는 본 발명의 일 양태에 따른 레이저 가공특성을 나타낸 단면사진으로, 잔사(붉은 선 표기)가 있음을 보이는 단면사진이다.
1 is a cross-sectional photograph showing a laser processing characteristic according to an embodiment of the present invention, a cross-sectional photograph showing no residue.
2 is a cross-sectional photograph showing a laser processing characteristic according to an aspect of the present invention, a cross-sectional photograph showing that there is a residue (red line notation).

이하 첨부된 도면들을 포함한 구체예 또는 실시예를 통해 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 다만 하기 구체예 또는 실시예는 본 발명을 상세히 설명하기 위한 하나의 참조일 뿐 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 여러 형태로 구현될 수 있다. DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying examples or embodiments. However, the following specific examples or examples are only one reference for describing the present invention in detail, but the present invention is not limited thereto and may be implemented in various forms.

또한 달리 정의되지 않는 한, 모든 기술적 용어 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 당업자 중 하나에 의해 일반적으로 이해되는 의미와 동일한 의미를 갖는다. 본 발명에서 설명에 사용되는 용어는 단지 특정 구체예를 효과적으로 기술하기 위함이고 본 발명을 제한하는 것으로 의도되지 않는다. Also, unless defined otherwise, all technical and scientific terms have the same meanings as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. The terms used in the description in the present invention are only for effectively describing specific embodiments and are not intended to limit the present invention.

또한 명세서 및 첨부된 특허청구범위에서 사용되는 단수 형태는 문맥에서 특별한 지시가 없는 한 복수 형태도 포함하는 것으로 의도할 수 있다. Also, the singular forms used in the specification and the appended claims may be intended to include the plural forms as well, unless the context clearly indicates otherwise.

본 발명의 일 양태는 제 1열가소성 폴리이미드층, 베이스 폴리이미드층 및 제 2열가소성 폴리이미드층이 순차적으로 적층된 폴리이미드 적층체의 일면 또는 양면에 금속박을 포함하는 연성금속박적층체로서,One aspect of the present invention is a flexible metal laminate comprising a metal foil on one or both sides of a polyimide laminate in which a first thermoplastic polyimide layer, a base polyimide layer, and a second thermoplastic polyimide layer are sequentially stacked,

상기 제 1열가소성 폴리이미드층 및 상기 제 2열가소성 폴리이미드층은 산무수물과 디아민으로부터 유도된 폴리이미드를 포함하고,The first thermoplastic polyimide layer and the second thermoplastic polyimide layer include a polyimide derived from an acid anhydride and diamine,

상기 디아민은 m-톨리딘 30 몰% 이상 및 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠 30 몰% 이상을 포함하는 연성금속박적층체이다.The diamine is a soft metal laminate comprising at least 30 mol% of m-tolidine and at least 30 mol% of 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene.

본 발명의 일 양태에서, 상기 산무수물은 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드를 70 몰% 이상 포함하는 것일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the acid anhydride may be one containing 70 mol% or more of biphenyltetracarboxylic dianhydride.

본 발명의 일 양태에서, 상기 제 1열가소성 폴리이미드층 및 상기 제 2열가소성 폴리이미드층은 모듈러스가 5 GPa이상이고, 25℃에서 금속박과의 접착력이 1.0 kgf/cm이상인 것일 수 있다.In one aspect of the present invention, the first thermoplastic polyimide layer and the second thermoplastic polyimide layer may have a modulus of 5 GPa or more and an adhesive force with a metal foil of 1.0 kgf / cm or more at 25 ° C.

본 발명의 일 양태에서, 상기 제 1열가소성 폴리이미드층 및 상기 제 2열가소성 폴리이미드층은 5 중량% 열분해 온도가 530℃ 이하인 것일 수 있다.In one aspect of the present invention, the first thermoplastic polyimide layer and the second thermoplastic polyimide layer may be 5 wt% pyrolysis temperature of 530 ° C. or less.

본 발명의 일 양태에서, 상기 금속박은 알루미늄박인 것일 수 있다.In one aspect of the invention, the metal foil may be an aluminum foil.

본 발명의 일 양태에서, 상기 연성금속박적층체는 알루미늄박과 제 1열가소성 폴리이미드층 및 알루미늄박과 상기 제 2열가소성 폴리이미드층 간의 접착력이 하기 식 1 및 2를 만족하는 것일 수 있다.In one aspect of the present invention, the flexible metal foil laminate may have an adhesive force between the aluminum foil and the first thermoplastic polyimide layer and the aluminum foil and the second thermoplastic polyimide layer satisfying Equations 1 and 2 below.

[식 1][Equation 1]

60 % ≤ AF100 ≤ 90 %60% ≤ AF100 ≤ 90%

상기 식 1에서, AF100 = (100 ℃에서 측정된 접착력/25℃에서 측정된 접착력) ×100이다.In Equation 1, AF100 = (adhesion measured at 100 ° C./adhesion measured at 25 ° C.) × 100.

[식 2][Equation 2]

50 % ≤ AF200 ≤ 90 %50% ≤ AF200 ≤ 90%

상기 식 2에서, AF200 = (200 ℃에서 측정된 접착력/25℃에서 측정된 접착력) ×100이다.In Equation 2, AF200 = (adhesion measured at 200 ° C./adhesion measured at 25 ° C.) × 100.

본 발명의 다른 양태는 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드를 포함하는 산무수물 및 m-톨리딘과 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠을 포함하는 디아민으로부터 유도된 폴리아믹산을 포함하는 연성금속박적층체용 열가소성 폴리이미드 전구체 조성물이다.Another aspect of the invention includes an acid anhydride comprising biphenyltetracarboxylic dianhydride and a polyamic acid derived from diamine comprising m-tolidine and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene It is a thermoplastic polyimide precursor composition for flexible metal laminates.

본 발명의 전구체 조성물의 일 양태에서, 상기 디아민은 m-톨리딘 30 몰% 이상 및 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠 30 몰% 이상을 포함하는 것일 수 있다.In one aspect of the precursor composition of the present invention, the diamine may be at least 30 mol% of m-tolidine and at least 30 mol% of 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene.

본 발명의 전구체 조성물의 일 양태에서, 상기 산무수물은 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드를 70 몰% 이상 포함하는 것일 수 있다.In one aspect of the precursor composition of the present invention, the acid anhydride may be 70 mol% or more of biphenyltetracarboxylic dianhydride.

이하는 본 발명의 각 구성에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.Hereinafter, each configuration of the present invention will be described in more detail.

일반적으로 열가소성 폴리이미드층의 경우는 베이스 폴리이미드층과는 달리 금속박에 대한 접착특성이 매우 중요하다. 접착특성을 확보하기 위해 단위 분자가 길고, 다양한 관능기를 포함하는 구조로 설계하게 되면 모듈러스가 감소되어, 높은 모듈러스를 구현하기에 어려움이 있다. In general, in the case of the thermoplastic polyimide layer, unlike the base polyimide layer, the adhesion property to the metal foil is very important. In order to secure the adhesive properties, when the unit molecule is long and designed in a structure including various functional groups, modulus is reduced, and thus it is difficult to realize high modulus.

본 발명의 발명자들은 열가소성 폴리이미드층을 형성하기 위한 디아민 단량체로 m-톨리딘(m-tolidine)과 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPER)을 포함하는 경우 열가소성 폴리이미드층의 모듈러스가 향상되고, 금속박에 대한 접착력, 구체적으로 동박 뿐만 아니라 알루미늄박에 대해서도 접착력이 향상되며, 레이저 가공특성이 향상되어 잔사가 거의 발생하지 않으며, 미세 패턴을 형성하기에 적합한 연성금속박적층체를 제공할 수 있음을 발견하였다.The inventors of the present invention provide a thermoplastic polyimide layer when m-tolidine and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPER) are included as diamine monomers for forming the thermoplastic polyimide layer. The modulus of metal is improved, the adhesion to metal foil, in particular, the adhesion to aluminum foil as well as copper foil is improved, and the laser processing characteristics are improved, so that almost no residue occurs, It has been found that it can be provided.

상기 레이저 가공 시 잔사가 거의 발생하지 않는다는 것은 홀 형성 시 드릴링된 폴리이미드가 홀 내부에 잔류하지 않는 것을 의미하는 것으로 도 1은 잔사가 발생하지 않은 일 양태의 단면을 도시하였으며, 도 2는 빨간색 선으로 표시한 바와 같이 잔사가 발생하는 경우의 일 양태의 단면을 도시한 것이다. 상기 레이저 가공 시 잔사의 유무는 홀 형성 조건으로, 레이저 출력량(Power) 2W에서 가공속도(velocity) 250 ㎜/sec에서 홀 크기 120㎛로 수행하였을 때, 홀 내부에 잔사가 없는 것일 수 있다. 후술되는 측정방법에 의해 더욱 구체적으로 설명될 수 있다.Almost no residue during laser processing means that the drilled polyimide does not remain inside the hole during hole formation. FIG. 1 illustrates a cross section of one embodiment in which no residue occurs, and FIG. 2 shows a red line. As shown by the figure, the cross section of one aspect in case a residue generate | occur | produces is shown. The presence or absence of residue in the laser processing may be a hole-free condition, when there is no residue in the hole when the hole size is 120㎛ at 250 mm / sec processing speed (velocity) at laser power 2W. It may be described in more detail by the measuring method described below.

또한 상기 디아민 단량체로 m-톨리딘(m-tolidine)과 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPER)을 포함하면서, 이들의 함량을 디아민 함량 중 각각 30몰% 이상 포함되는 함량으로 사용함으로써 모듈러스가 더욱 향상되면서도 금속박, 특히 알루미늄박에 대한 접착력이 더욱 향상되는 것을 발견하여 본 발명을 완성하였다. 상기 m-톨리딘(m-tolidine) 및 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPER)을 제외한 40몰% 이하는 통상적으로 디아민 단량체로 사용되는 것이라면 제한되지 않고 사용될 수 있다.In addition, the diamine monomers include m-tolidine and m-tolidine and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPER), each of which contains at least 30 mol% of the diamine content. The present invention was completed by finding that the modulus is further improved and the adhesion to metal foil, particularly aluminum foil, is further improved. 40 mole% or less except for m-tolidine and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPER) may be used without limitation as long as it is normally used as a diamine monomer.

구체적으로 본 발명의 일 양태에 따른 연성금속박적층체는 상기 디아민 단량체로 m-톨리딘(m-tolidine)과 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPER)을 각각 30몰% 이상 포함함으로써, 금속박에 접착되는 열가소성 폴리이미드층의 모듈러스가 5 GPa이상이고, 접착력이 1.0 kgf/cm이상인 물성을 동시에 만족할 수 있다. 상기 물성을 동시에 만족함으로써 레이저 가공 시 잔사가 거의 발생하지 않으며, 동시에 동박 뿐만 아니라 알루미늄박에 대해서도 접착력이 우수하고 컬이 발생하지 않으며, 치수안정성이 우수한 물성을 발현할 수 있다. 또한, 5 중량% 열분해 온도가 530℃ 이하인 물성을 만족할 수 있다. 즉, 본 발명의 일 양태에 따른 연성금속박적층체는 높은 모듈러스를 가짐과 동시에 동박 및 알루미늄박에 대한 우수한 접착력을 가지며, 동시에 낮은 열분해온도를 가지게 됨으로써, 연성인쇄회로기판 제조과정에서 폴리이미드 적층체의 치수변화율을 감소시켜 미세회로 형성 및 다층구조 제조 시 안정적인 제조가 가능하도록 할 수 있다. 또한 레이저 가공 시 형성된 홀 내부에 폴리이미드 잔사 없이 홀을 형성할 수 있는 효과를 동시에 달성할 수 있다.Specifically, the flexible metal laminate according to one embodiment of the present invention is 30 mol% or more of m-tolidine and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPER) as the diamine monomer. By including, the modulus of the thermoplastic polyimide layer adhered to the metal foil is 5 GPa or more, and the adhesive force can satisfy the physical properties of 1.0 kgf / cm or more at the same time. By satisfying the above physical properties at the same time, the residue hardly occurs during laser processing, and at the same time excellent adhesion to not only copper foil but also aluminum foil, curl does not occur, it is possible to express the physical properties excellent dimensional stability. In addition, it can satisfy the physical properties of 5% by weight pyrolysis temperature of 530 ℃ or less. That is, the flexible metal laminate according to an aspect of the present invention has a high modulus and excellent adhesion to copper foil and aluminum foil, and at the same time has a low thermal decomposition temperature, thereby producing a polyimide laminate in a flexible printed circuit board manufacturing process. By reducing the rate of dimensional change of the microcircuit can be made possible to manufacture a stable and multi-layer structure. In addition, the effect of forming a hole without polyimide residue in the hole formed during laser processing can be simultaneously achieved.

구체적으로 모듈러스가 5 GPa이상, 더욱 구체적으로 5 ~ 6 GPa인 물성을 만족함으로써 기계적, 화학적 및 열적 변형에 의한 변화율이 낮아 연성인쇄회로기판에 적용되었을 때, 회로간격의 급변을 방지할 수 있어 미세회로형성에 유리할 수 있다. 또한, 다층구조의 연성인쇄회로기판 제조를 위하여 연성금속박적층체를 다층으로 적층 시 프레스 전 후에서 치수변화율이 작아 랜드(Land)부와 홀(Hole) 간의 틀어짐을 방지하여 다층연성회로기판 제조에 유리할 수 있다. 또한, 접착력이 1.0 kgf/cm이상, 더욱 구체적으로 1.0 내지 2.0 kgf/cm인 물성을 만족함으로써 동박 뿐만 아니라 알루미늄 박에 대한 접착성이 향상되며, 열분해 온도가 530℃ 이하, 더욱 구체적으로 500 ~ 530 ℃인 물성을 만족할 수 있어 드릴 가공 시 홀 내부에 폴리이미드 잔사가 발생되지 않고 가공 용이성이 우수하며, 홀 도금 시 신뢰성이 향상될 수 있다.Specifically, the modulus is 5 GPa or more, and more specifically, 5 to 6 GPa, so that the change rate due to mechanical, chemical and thermal deformation is low, and when applied to the flexible printed circuit board, it is possible to prevent sudden changes in the circuit intervals. It may be advantageous for circuit formation. In addition, in order to manufacture a flexible printed circuit board having a multilayer structure, when the flexible metal laminate is laminated in multiple layers, the dimensional change rate is small before and after pressing to prevent distortion between the land part and the hole, thereby manufacturing the multilayer flexible circuit board. May be advantageous. In addition, by satisfying the physical properties of the adhesive strength is more than 1.0 kgf / cm, more specifically 1.0 to 2.0 kgf / cm, the adhesion to not only copper foil but also aluminum foil is improved, the thermal decomposition temperature is 530 ℃ or less, more specifically 500 ~ 530 It can satisfy the physical properties of ℃ ℃ does not generate a polyimide residue in the hole during the drilling process is excellent in ease of processing, and can be improved in the hole plating reliability.

본 발명의 일 양태에 따른 연성금속박적층체는 제 1열가소성 폴리이미드층, 베이스 폴리이미드층 및 제 2열가소성 폴리이미드층이 순차적으로 적층된 폴리이미드 적층체의 일면에 금속박을 포함하는 것일 수 있다. 더욱 구체적으로 금속박, 제 1열가소성 폴리이미드층, 베이스 폴리이미드층 및 제 2열가소성 폴리이미드층이 순차적으로 적층된 것일 수 있다.The flexible metal laminate according to an aspect of the present invention may include a metal foil on one surface of a polyimide laminate in which a first thermoplastic polyimide layer, a base polyimide layer, and a second thermoplastic polyimide layer are sequentially stacked. More specifically, the metal foil, the first thermoplastic polyimide layer, the base polyimide layer, and the second thermoplastic polyimide layer may be sequentially stacked.

또한, 본 발명의 일 양태에 따른 연성금속박적층체는 제 1열가소성 폴리이미드층, 베이스 폴리이미드층 및 제 2열가소성 폴리이미드층이 순차적으로 적층된 폴리이미드 적층체의 양면에 금속박을 포함하는 것일 수 있다. 더욱 구체적으로 제 1 금속박, 제 1열가소성 폴리이미드층, 베이스 폴리이미드층, 2열가소성 폴리이미드층 및 제 2 금속박이 순차적으로 적층된 것일 수 있다.In addition, the flexible metal laminate according to an aspect of the present invention may be one containing a metal foil on both sides of the polyimide laminate in which the first thermoplastic polyimide layer, the base polyimide layer and the second thermoplastic polyimide layer are sequentially laminated. have. More specifically, the first metal foil, the first thermoplastic polyimide layer, the base polyimide layer, the second thermoplastic polyimide layer, and the second metal foil may be sequentially stacked.

본 발명의 일 양태에서, 상기 연성금속박적층체는 제 1열가소성 폴리이미드층, 베이스 폴리이미드층 및 제 2열가소성 폴리이미드층이 순차적으로 적층된 폴리이미드 적층체가 아닌 열가소성 폴리이미드층 단독으로 이루어진 것도 배제되는 것은 아니다. 즉, 열가소성 폴리이미드층의 일면 또는 양면에 금속박을 포함하는 연성금속박적층체 역시 본 발명의 범위에 포함된다. 또한, 상기 열가소성 폴리이미드층은 모듈러스가 5 GPa이상이고, 접착력이 1.0 kgf/cm이상인 것일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the flexible metal laminate is excluded that the first thermoplastic polyimide layer, the base polyimide layer, and the second thermoplastic polyimide layer are made of a thermoplastic polyimide layer alone, not a polyimide laminate sequentially stacked. It doesn't happen. That is, the flexible metal foil laminate including the metal foil on one or both sides of the thermoplastic polyimide layer is also included in the scope of the present invention. In addition, the thermoplastic polyimide layer may have a modulus of 5 GPa or more and an adhesive force of 1.0 kgf / cm or more.

본 발명의 일 양태에서, 상기 금속박은 통상적으로 해당분야에서 사용되는 것이라면 제한되지 않으며, 구체적으로 예를 들면, 동박 또는 알루미늄박인 것일 수 있다. 상기 금속박이 양면에 형성되는 경우 서로 동일하거나 또는 상이한 금속으로 이루어진 것일 수 있다. 바람직하게는 치수안정성을 향상시키기 위한 관점에서 동일한 금속인 것일 수 있다. In one aspect of the present invention, the metal foil is not limited as long as it is commonly used in the art, specifically, for example, may be copper foil or aluminum foil. When the metal foil is formed on both sides, they may be made of the same or different metals. Preferably it may be the same metal from the viewpoint of improving the dimensional stability.

본 발명의 일 양태에서, 상기 알루미늄박은 알루미늄이 99.3%이상의 고순도 단순 압연재로서 표면처리가 되지 않은 것일 수 있다. 더욱 구체적으로 10점 평균거칠기 Rz가 0.5 내지 2.0 ㎛이고, 전기전도도가 50 IACS(%) 이상의 고순도 알루미늄박인 것일 수 있다. In one aspect of the present invention, the aluminum foil may be a surface of the aluminum as a high-purity simple rolling material of 99.3% or more. More specifically, the 10-point average roughness Rz may be 0.5 to 2.0 μm, and the electrical conductivity may be high purity aluminum foil of 50 IACS (%) or more.

본 발명의 일 양태에서, 상기 금속박의 두께는 제한되는 것은 아니나 2 내지 105 ㎛인 것일 수 있고, 더욱 구체적으로 6 내지 105㎛인 것일 수 있다. 상기 폴리이미드 적층체의 양면에 금속박이 적층될 경우 양면의 금속박의 두께는 동일 또는 상이한 두께를 사용할 수 있으나, 균일한 물성구현을 위해서는 동일한 두께인 것일 수 있다. 상기 금속박은 전해박, 압연박 등인 것일 수 있으나 사용용도에 따라 다양하게 적용될 수 있다. In one embodiment of the present invention, the thickness of the metal foil is not limited but may be 2 to 105 μm, and more specifically 6 to 105 μm. When metal foils are laminated on both sides of the polyimide laminate, the thicknesses of the metal foils on both sides may be the same or different, but may be the same thickness to realize uniform physical properties. The metal foil may be an electrolytic foil, a rolled foil, or the like, but may be variously applied depending on the intended use.

본 발명의 일 양태에서, 상기 제 1열가소성 폴리이미드층 및 제 2열가소성 폴리이미드층은 산무수물과 디아민으로부터 유도된 폴리이미드를 포함하고, 상기 디아민은 m-톨리딘과 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠을 포함하는데 특징이 있다. 이때 제한되는 것은 아니나 상기 산무수물은 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드(BPDA)를 포함하는 것일 수 있다. In one aspect of the invention, the first thermoplastic polyimide layer and the second thermoplastic polyimide layer comprise a polyimide derived from an acid anhydride and diamine, wherein the diamine is m- tolidine and 1,3-bis (4 -Aminophenoxy) benzene. In this case, but is not limited to, the acid anhydride may include biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA).

상기 산무수물은 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드 외에, 피로멜리틱 디언하이드라이드(PMDA), 4,4’-헥사플루오로이소프로필리덴 다이프탈릭 언하이드라이드(6FDA), 벤조페논테트라카르복실릭 디언하이드라이드(BTDA), 4,4’-옥시디프탈릭 디언하이드라이드(ODPA) 및 비스디카르복시페녹시 디페닐설파이드 디언하이드라이드(BDSDA) 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 산무수물을 더 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 보다 바람직하게는 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드(BPDA)를 70몰%이상, 더욱 구체적으로 70 ~ 100 몰%를 사용하는 것일 수 있으며, 상기 범위에서 목적하는 물성 효과를 구현하는데 더욱 바람직할 수 있다.The acid anhydride is, in addition to biphenyltetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride (PMDA), 4,4'-hexafluoroisopropylidene diphthalic anhydride (6FDA), benzophenonetetracarbide One or more acid anhydrides selected from cyclic dianhydride (BTDA), 4,4'-oxydiphthalic dianhydride (ODPA) and bisdicarboxyphenoxy diphenylsulfide dianhydride (BDSDA) are further added. It may include, but is not limited thereto. More preferably, more than 70 mol%, more specifically, 70 to 100 mol% of biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) may be used, and it may be more preferable to implement a desired physical effect in the above range. Can be.

상기 디아민은 m-톨리딘과 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠을 포함함으로써 모듈러스가 5 GPa이상이고, 접착력이 1.0 kgf/cm이상인 물성을 만족할 수 있다. 더욱 구체적으로 m-톨리딘 30 몰% 이상 및 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠 30 몰% 이상을 포함함으로써 모듈러스가 5 GPa이상이고, 접착력이 1.0 kgf/cm이상인 물성을 동시에 만족할 수 있다. 더욱 구체적으로 m-톨리딘 30 ~ 70몰% 및 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠 30 ~ 70 몰%를 포함하는 것일 수 있다. The diamine may include m-tolidine and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene to satisfy physical properties of 5 GPa or more of modulus and 1.0 kgf / cm or more of adhesion. More specifically, by including at least 30 mol% of m-tolidine and at least 30 mol% of 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, it is possible to simultaneously satisfy physical properties of 5 GPa or more of modulus and 1.0 kgf / cm or more of adhesion. Can be. More specifically, it may be one containing 30 to 70 mol% of m-tolidine and 30 to 70 mol% of 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene.

또한, 상기 디아민으로 m-톨리딘 및 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠 외에, 필요에 따라 통상적으로 사용되는 디아민을 더 포함하는 것일 수 있다. 구체적으로 예를 들면, p-페닐렌디아민(p-PDA), 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판(BAPP) 및 4,4'-디아미노디페닐에테르(ODA) 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상을 더 포함하는 것일 수 있다. 즉, m-톨리딘 30 몰% 이상, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠 30몰% 이상, 및 m-톨리딘과 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠을 제외한 디아민을 40몰% 이하로 포함하는 것일 수 있다. 더욱 구체적으로 m-톨리딘 30 ~ 70 몰%, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠 30 ~ 70 몰% 및 그 외 디아민을 20 ~ 40몰%를 포함하는 것일 수 있다.In addition, in addition to m-tolidine and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, the diamine may further include a diamine commonly used as necessary. Specifically, for example, p-phenylenediamine (p-PDA), 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP) and 4,4'-diaminodiphenyl ether ( ODA), etc. may be any one or two or more selected. That is, at least 30 mol% of m-tolidine, at least 30 mol% of 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, and excluding m-tolidine and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene It may be one containing 40 mol% or less of diamine. More specifically, it may include 30 to 70 mol% of m-tolidine, 30 to 70 mol% of 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, and 20 to 40 mol% of other diamines.

더욱 구체적으로 상기 디아민으로 m-톨리딘과 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠 및 p-페닐렌디아민(p-PDA)를 포함하는 것일 수 있다. 이때 상기 p-페닐렌디아민의 함량은 20 몰%이상, 더욱 구체적으로 20 ~ 40 몰%를 사용하는 것일 수 있다. 이때 상기 m-톨리딘은 30 ~ 50 몰%, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠은 30 ~ 50 몰%을 포함하는 것일 수 있다.More specifically, the diamine may include m-tolidine, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, and p-phenylenediamine (p-PDA). In this case, the content of p-phenylenediamine may be 20 mol% or more, more specifically, 20 to 40 mol%. At this time, the m- tolidine may be 30 to 50 mol%, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene may contain 30 to 50 mol%.

본 발명의 일 양태에서, 상기 제 1열가소성 폴리이미드층 및 제 2열가소성 폴리이미드층의 두께는 제한되는 것은 아니나, 2 ~ 50 ㎛, 더욱 구체적으로 3 ~ 38 ㎛인 것일 수 있다. 상기 범위에서 연성금속박적층체의 전체 두께를 감소 시킴에도 불구하고, 높은 모듈러스와 낮은 열분해온도를 구현할 수 있으며, 연성금속박적층체에 적용하였을 때, 레이저 드릴 가공특성이 우수하고, 잔사가 없으므로 바람직하나 이에 제한되는 것은 아니다.In one aspect of the present invention, the thickness of the first thermoplastic polyimide layer and the second thermoplastic polyimide layer is not limited, but may be 2 to 50 μm, more specifically 3 to 38 μm. Despite reducing the overall thickness of the ductile metal laminate in the above range, high modulus and low pyrolysis temperature can be realized, and when applied to the ductile metal laminate, excellent laser drill processing characteristics, there is no residue, but It is not limited to this.

본 발명의 일 양태에서, 상기 연성금속박적층체는 알루미늄박과 제 1열가소성 폴리이미드층 및 알루미늄박과 상기 제 2열가소성 폴리이미드층 간의 접착력이 하기 식 1 및 2를 만족하는 것일 수 있다.In one aspect of the present invention, the flexible metal foil laminate may have an adhesive force between the aluminum foil and the first thermoplastic polyimide layer and the aluminum foil and the second thermoplastic polyimide layer satisfying Equations 1 and 2 below.

[식 1][Equation 1]

60 % ≤ AF100 ≤ 90 %60% ≤ AF100 ≤ 90%

상기 식 1에서, AF100 = (100 ℃에서 측정된 접착력/25℃에서 측정된 접착력) ×100이다.In Equation 1, AF100 = (adhesion measured at 100 ° C./adhesion measured at 25 ° C.) × 100.

[식 2][Equation 2]

50 % ≤ AF200 ≤ 90 %50% ≤ AF200 ≤ 90%

상기 식 2에서, AF200 = (200 ℃에서 측정된 접착력/25℃에서 측정된 접착력) ×100이다.In Equation 2, AF200 = (adhesion measured at 200 ° C./adhesion measured at 25 ° C.) × 100.

즉, 본 발명의 일 양태에 따른 제 1열가소성 폴리이미드층 및 제 2열가소성 폴리이미드층은 상온, 보다 구체적으로 25℃에서 구리박 또는 알루미늄박에 대한 접착력이 1.0 kgf/cm이상으로 우수한 것일 수 있으며, 고온에서 알루미늄박에 대한 접착력이 50% 이상 유지되는 것일 수 있다. 더욱 구체적으로 상기 식 1에서 보는 바와 같이, 100 ℃에서 측정된 접착력이 25℃에서 측정된 접착력에 비하여 60% 이상 유지되는 것일 수 있으며, 200 ℃에서 측정된 접착력이 25℃에서 측정된 접착력에 비하여 50% 이상 유지되는 것일 수 있다. 이와 같이 본 발명의 일 양태에 따른 제 1열가소성 폴리이미드층 및 제 2열가소성 폴리이미드층은 가열된 상태에서 알루미늄박에 대한 접착력이 더욱 우수한 물성을 발현할 수 있다.That is, the first thermoplastic polyimide layer and the second thermoplastic polyimide layer according to an aspect of the present invention may have excellent adhesion to copper foil or aluminum foil at room temperature, more specifically, at 25 ° C. of 1.0 kgf / cm or more. , The adhesive force to the aluminum foil at a high temperature may be maintained at 50% or more. More specifically, as shown in Equation 1, the adhesive force measured at 100 ℃ may be maintained at 60% or more than the adhesive strength measured at 25 ℃, the adhesive force measured at 200 ℃ compared to the adhesive strength measured at 25 ℃ 50% or more may be maintained. As described above, the first thermoplastic polyimide layer and the second thermoplastic polyimide layer according to an aspect of the present invention may exhibit more excellent physical properties of adhesion to aluminum foil in a heated state.

통상적으로 고온에서의 금속박에 대한 접착력은 상온 대비 크게 떨어지는 것이 일반적이나, 본 발명의 일 양태에 따른 제 1열가소성 폴리이미드층 및 제 2열가소성 폴리이미드층은 m-톨리딘 및 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠을 포함함으로써 고온에서의 접착력이 양호한 수준으로 유지됨을 확인하였다. 또한 상온에서의 접착력은 알루미늄박에 비하여 구리박의 접착력이 더욱 높은 접착력을 보이나, 고온에서는 구리박에 비하여 알루미늄박의 접착력이 더욱 우수함을 알 수 있었다.Typically, the adhesion to the metal foil at a high temperature is generally significantly lower than room temperature, but the first thermoplastic polyimide layer and the second thermoplastic polyimide layer according to an embodiment of the present invention are m-tolidine and 1,3-bis ( It was confirmed that the adhesion at high temperature was maintained at a good level by including 4-aminophenoxy) benzene. In addition, the adhesive force at room temperature showed a higher adhesive strength of the copper foil than the aluminum foil, but it was found that the adhesive strength of the aluminum foil is more excellent than the copper foil at a high temperature.

본 발명의 일 양태에서, 상기 베이스 폴리이미드층은 통상적으로 해당 분야에서 사용되는 폴리이미드 수지로 이루어진 것일 수 있으며, 제한되지 않는다. 구체적으로 예를 들면, 디아민 성분으로 4,4'-디아미노디페닐에테르, p-페니렌 디아민 등을 사용하는 것일 수 있으며, 산무수물 성분으로 비페닐-테트라카르복실산 디언하이드라이드, 피로멜리틱 언하이드라이드 등을 사용하는 것일 수 있다.In one aspect of the invention, the base polyimide layer may be made of a polyimide resin typically used in the art, it is not limited. Specifically, for example, 4,4'-diaminodiphenyl ether, p-phenylene diamine, etc. may be used as the diamine component, and biphenyl-tetracarboxylic acid dianhydride, pyromelli as the acid anhydride component. Tic anhydride and the like.

본 발명의 일 양태에서 상기 베이스 폴리이미드층의 두께는 제한되는 것은 아니나, 2 ~ 50 ㎛, 더욱 구체적으로 3 ~ 38 ㎛인 것일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the thickness of the base polyimide layer is not limited, but may be 2 to 50 μm, more specifically 3 to 38 μm.

이하는 본 발명의 일 양태에 따른 연성금속박적층체를 제조하는 방법에 대하여 설명한다.The following describes a method of manufacturing the flexible metal laminate according to one aspect of the present invention.

본 발명의 일 양태에 따른 상기 연성금속박적층체의 제조방법의 제 1 양태는 The first aspect of the method for producing the flexible metal laminate according to one aspect of the present invention

(a) 금속박 일면에 제 1열가소성 폴리이미드 전구체 조성물을 도포 및 건조하여 제 1열가소성 폴리이미드 전구체층을 형성하는 단계;(a) coating and drying the first thermoplastic polyimide precursor composition on one surface of the metal foil to form a first thermoplastic polyimide precursor layer;

(b) 상기 제 1열가소성 폴리이미드 전구체층 상에 베이스 폴리이미드 전구체 조성물을 도포 및 건조하여 베이스 폴리이미드 전구체층을 형성하는 단계;(b) applying and drying a base polyimide precursor composition on the first thermoplastic polyimide precursor layer to form a base polyimide precursor layer;

(c) 상기 베이스 폴리이미드 전구체층 상에 제 2열가소성 폴리이미드 전구체 조성물을 도포 및 건조하여 제 2열가소성 폴리이미드 전구체층을 형성하는 단계; 및 (c) applying and drying a second thermoplastic polyimide precursor composition on the base polyimide precursor layer to form a second thermoplastic polyimide precursor layer; And

(d) 상기 적층된 폴리이미드 적층체를 이미드화하는 단계;(d) imidating the laminated polyimide laminate;

를 포함하는 것일 수 있다.It may be to include.

본 발명의 일 양태에 따른 상기 연성금속박적층체의 제조방법의 제 2 양태는The second aspect of the method for producing the flexible metal laminate according to one aspect of the present invention

ⅰ)기판상에 제 1열가소성 폴리이미드 전구체 조성물을 도포 및 건조하여 제 1열가소성 폴리이미드 전구체층을 형성하는 단계;Iii) applying and drying the first thermoplastic polyimide precursor composition on the substrate to form a first thermoplastic polyimide precursor layer;

ⅱ) 상기 제 1열가소성 폴리이미드 전구체층 상에 베이스 폴리이미드 전구체 조성물을 도포 및 건조하여 베이스 폴리이미드 전구체층을 형성하는 단계;Ii) applying and drying a base polyimide precursor composition on the first thermoplastic polyimide precursor layer to form a base polyimide precursor layer;

ⅲ) 상기 베이스 폴리이미드 전구체층 상에 제 2열가소성 폴리이미드 전구체 조성물을 도포 및 건조하여 제 2열가소성 폴리이미드 전구체층을 형성하는 단계; Iii) applying and drying a second thermoplastic polyimide precursor composition on the base polyimide precursor layer to form a second thermoplastic polyimide precursor layer;

ⅳ) 상기 적층된 폴리이미드 적층체를 이미드화하는 단계; 및Iii) imidating the laminated polyimide laminate; And

Ⅴ) 상기 이미드화된 적층체의 일면 또는 양면에 금속박을 적층 후 가열압착하는 단계;를 포함하는 것일 수 있다.V) laminating a metal foil on one or both surfaces of the imidized laminate and then heating and compressing the same.

본 발명의 일 양태에 따른 상기 연성금속박적층체의 제조방법의 제 3 양태는The third aspect of the method for producing the flexible metal laminate according to one aspect of the present invention

(a) 금속박 일면에 제 1열가소성 폴리이미드 전구체 조성물을 도포 및 건조하여 제 1열가소성 폴리이미드 전구체층을 형성하는 단계;(a) coating and drying the first thermoplastic polyimide precursor composition on one surface of the metal foil to form a first thermoplastic polyimide precursor layer;

(b) 상기 제 1열가소성 폴리이미드층 상에 베이스 폴리이미드 전구체 조성물을 도포 및 건조하여 베이스 폴리이미드 전구체층을 형성하는 단계;(b) applying and drying a base polyimide precursor composition on the first thermoplastic polyimide layer to form a base polyimide precursor layer;

(c) 상기 베이스 폴리이미드 전구체층 상에 제 2열가소성 폴리이미드 전구체 조성물을 도포 및 건조하여 제 2열가소성 폴리이미드 전구체층을 형성하는 단계;(c) applying and drying a second thermoplastic polyimide precursor composition on the base polyimide precursor layer to form a second thermoplastic polyimide precursor layer;

(d) 적층된 적층체를 이미드화하는 단계; 및(d) imidating the stacked laminates; And

(e) 상기 이미드화된 적층체 상에 금속박을 적층 후 가열압착하는 단계;를 포함하는 것일 수 있다.(e) laminating a metal foil on the imidized laminate and then heating and compressing it.

본 발명의 일 양태에서, 상기 제 1열가소성 폴리이미드 전구체 조성물 및 제 2열가소성 폴리이미드 전구체 조성물은 서로 동일 또는 상이한 조성인 것일 수 있다. 상기 전구체 조성물은 유기용매를 포함하는 것일 수 있다. 상기 유기 용매는 그 종류가 크게 제한되지 않으며, 구체적인 예를 들어, 디메틸아세트아미드(DMAc), N-메틸-2-피롤리돈(NMP), 디메틸포름아미드(DMF), 디메틸포름설폭사이드(DMSO), 아세톤, 디에틸아세테이트 및 m-크레졸 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물일 수 있다. 바람직하게는 디메틸아세트아미드나 N-메틸-2-피롤리돈을 사용하는 것일 수 있다. 또한, 상기 유기용매의 함량은 단량체들로부터 유도되는 공중합물인 열가소성 폴리아믹산의 분자량을 고려하여 적절하게 선택할 수 있으며, 전체 조성물 중 80 내지 97중량%일 수 있다. 바람직하게는 85 내지 95중량%인 것이 더욱 바람직하다. 즉 고형분의 함량이 3 내지 20중량%, 바람직하게는 5 내지 15중량%인 것이 더욱 바람직하다.In one aspect of the present invention, the first thermoplastic polyimide precursor composition and the second thermoplastic polyimide precursor composition may be the same or different compositions from each other. The precursor composition may be one containing an organic solvent. The organic solvent is not particularly limited in kind, and specific examples thereof include dimethylacetamide (DMAc), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), dimethylformamide (DMF), and dimethylformsulfoxide (DMSO). ), Acetone, diethyl acetate, m-cresol and the like. Preferably dimethylacetamide or N-methyl-2-pyrrolidone may be used. In addition, the content of the organic solvent may be appropriately selected in consideration of the molecular weight of the thermoplastic polyamic acid is a copolymer derived from the monomers, it may be 80 to 97% by weight of the total composition. More preferably, it is 85 to 95 weight%. That is, the content of solids is more preferably 3 to 20% by weight, preferably 5 to 15% by weight.

본 발명의 일 양태에서, 상기 도포방법은 나이프 코팅(knife coating), 롤 코팅(roll coating), 다이 코팅(die coating), 커튼 코팅(curtain coating) 및 캐스팅 코팅(casting coating)등에서 선택되는 방법을 통하여 수행될 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다.In one aspect of the present invention, the coating method may be selected from knife coating, roll coating, die coating, curtain coating, casting coating, and the like. It may be carried out through, but is not limited thereto.

본 발명의 일 양태에서, 상기 건조는 구체적인 예를 들어, 100 내지 200에서 1분 내지 2시간, 바람직하게는 100 내지 150에서 1분 내지 1시간 동안 열처리하여 건조시킬 수 있다. 또한, 건조는 별도의 건조오븐에서 실시할 수 있으며, 이에 반드시 제한되는 것은 아니다.In one aspect of the invention, the drying may be dried by heat treatment for 1 minute to 2 hours, preferably 1 to 1 hour at 100 to 200, for example at 100 to 200. In addition, the drying may be carried out in a separate drying oven, but is not necessarily limited thereto.

본 발명의 일 양태에서, 상기 이미드화는 공지의 이미드화법, 예를 들어, 열 이미드화법, 화학 이미드화법, 열 이미드화법과 화학 이미드화법을 병행하는 방법 등을 통하여 경화시킬 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 열 이미드화 이전에 탈수제 및 이미드화 촉매를 추가하여 화학 이미드화를 실시하는 것일 수 있다. 상기 탈수제는 통상적으로 사용되는 것이라면 제한되지 않으나, 구체적으로 예를 들면, 아세트산 무수물(acetic anhydride), 프탈산 무수물(phthalic anhydride) 및 말레산 무수물(maleic anhydride) 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 사용할 수 있다. 상기 이미드화 촉매는 통상적으로 사용되는 것이라면 제한되지 않으나, 구체적으로 예를 들면, 피리딘(pyridine), 이소퀴놀린(isoquinoline) 및 β-퀴놀린(β-quinoline) 등에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 사용할 수 있으며, 반드시 이에 제한되는 것은 아니다. In one aspect of the present invention, the imidation can be cured through a known imidization method, for example, thermal imidization method, chemical imidization method, thermal imidization method and chemical imidization method in combination. However, it is not limited thereto. In addition, prior to thermal imidization, a dehydrating agent and an imidization catalyst may be added to perform chemical imidization. The dehydrating agent is not limited as long as it is conventionally used, and specifically, for example, one or a mixture of two or more selected from acetic anhydride, phthalic anhydride, maleic anhydride and the like may be used. Can be. The imidation catalyst is not limited as long as it is conventionally used, and specifically, for example, pyridine, isoquinoline, β-quinoline, and any one or two or more mixtures selected from the like may be used. May be, but is not necessarily limited thereto.

상기 열이미드화법은 단계적으로 열처리를 실시하는 것일 수 있다. 바람직하게는 80 내지 100 ℃, 더욱 구체적으로 90 내지 100 ℃에서 1분 내지 2시간 동안 1차 열처리, 100 내지 200 ℃, 더욱 구체적으로 150 내지 200 ℃에서 1분 내지 2시간 동안 2차 열처리, 250 내지 300 ℃, 더욱 구체적으로 280 내지 300 ℃에서 1분 내지 2시간 동안 3차 열처리하는 단계적인 열처리를 실시하는 것일 수 있다. 이때, 단계적인 열처리는 각 단계 이동 시 바람직하게는 1 내지 20 ℃/min의 범위에서 승온시키는 것일 수 있다. 상기와 같이 단계적으로 열처리 하지 않고 한번에 열처리를 하는 경우는 건조되지 못한 용매가 필름 내에 트랩되어 고온 열처리 시에도 증발하지 못하고 잔류하는 문제가 발생할 수 있으므로, 다단으로 열처리 함으로써 용매의 건조 및 이미드화 반응을 실시하는 것일 수 있다.The thermal imidization method may be to perform a heat treatment step by step. Preferably the first heat treatment at 80 to 100 ℃, more specifically at 90 to 100 ℃ for 1 minute to 2 hours, the second heat treatment at 100 to 200 ℃, more specifically at 150 to 200 ℃ for 1 minute to 2 hours, 250 To 300 ° C, more specifically, may be to perform a stepped heat treatment of the third heat treatment for 1 minute to 2 hours at 280 to 300 ℃. At this time, the stepped heat treatment may be to increase the temperature in the range of preferably 1 to 20 ℃ / min during each step movement. When heat treatment is performed at once without heat treatment step by step as described above, the solvent that is not dried may be trapped in the film and may not be evaporated even at high temperature heat treatment. Therefore, the solvent may be dried and imidized by heat treatment in multiple stages. It may be to practice.

본 발명의 일 양태에서, 상기 가열압착은 구체적인 예를 들어, 열 프레스, 진공 프레스, 라미네이터, 진공 라미네이터, 열롤 라미네이터 및 진공 열롤 라미네이터 등에서 선택되는 어느 하나 이상의 장치에 의해, 수행할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one aspect of the present invention, the hot pressing may be performed by any one or more devices selected from, for example, a heat press, a vacuum press, a laminator, a vacuum laminator, a thermal roll laminator, a vacuum thermal roll laminator, and the like, but is not limited thereto. It doesn't happen.

또한, 본 발명은 상술한 본 발명의 일 양태에 따른 연성금속박적층체를 포함하는 연성인쇄회로기판을 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide a flexible printed circuit board comprising a flexible metal laminate according to an aspect of the present invention described above.

이하 실시예 및 비교예를 바탕으로 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 다만 하기 실시예 및 비교예는 본 발명을 더욱 상세히 설명하기 위한 하나의 예시일 뿐, 본 발명이 하기 실시예 및 비교예에 의해 제한되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. However, the following Examples and Comparative Examples are only examples for explaining the present invention in more detail, the present invention is not limited by the following Examples and Comparative Examples.

이하 물성은 다음과 같이 측정하였다. Hereinafter, physical properties were measured as follows.

1)모듈러스(Modulus)1) Modulus

IPC-TM-650.2.4.18.3 측정방법에 의거하여 모듈러스를 측정하였다.The modulus was measured according to the IPC-TM-650.2.4.18.3 measuring method.

2)접착력2) adhesion

폴리이미드계 수지와 금속박간의 접착력(Peel Strength) 측정을 위하여 JIS C6471에 준하여 금속층을 1mm 폭으로 패터닝(Pattering) 후 만능시험기계(UTM, universal testing machine)을 사용하여 180˚ 껍질벗김강도를 측정하였다.In order to measure the peel strength between polyimide resin and metal foil, 180 ° peeling strength was measured by using universal testing machine (UTM) after patterning metal layer to 1mm width according to JIS C6471. .

3) 5 중량% 열분해온도(Td) 3) 5 wt% Pyrolysis temperature (Td)

TGA(TA사의 TGA Q500)를 이용하여 질소분위기 하에 상온(25℃)에서 900℃까지 10℃/min으로 승온하여 열중량을 측정하였다. 이 때, 측정된 열중량분석에서 150℃에서의 무게를 초기 무게로 기준으로 하여 5중량% 무게감소된 온도를 측정하였다.The TGA (TGA Q500 by TA) was used to measure the thermogravimetric temperature by raising the temperature from room temperature (25 ° C.) to 900 ° C. under a nitrogen atmosphere at 10 ° C./min. At this time, in the measured thermogravimetric analysis, the weight at 150% by weight was measured based on the initial weight based on the weight at 150 ° C.

4) 레이저 홀 가공 특성4) laser hole processing characteristics

하기 레이저 조건에서 홀을 형성 시, 잔사 영역을 평가하였다. 상기 잔사는 연속금속박적층체의 한쪽 동박면을 하기 동박면 레이저 조건으로 제거 후 드러난 폴리이미드 적층체면을 하기 폴리이미드 적층체 레이저 조건으로 드릴링 가공 수행하였다. 상기 드릴링은 20㎜ⅹ20㎜ 면적에서 일정 간격으로 이격된 거리로 홀을 형성하였고, 이 때 홀은 50개를 확인하여 50개 모두 드릴링 후 동박 표면에 폴리이미드가 깨끗이 제거되지 않고 남아 있으면 잔사가 있는 것, 폴리이미드가 남아 있지 않으면 잔사가 없는 것으로 판단하였다. 잔사영역은 50개 중 잔사가 남은 홀의 개수를 의미한다.When forming holes under the following laser conditions, the residue area was evaluated. The residue was subjected to the drilling process of the polyimide laminate surface exposed after removing one copper foil surface of the continuous metal foil laminate under the following copper foil laser conditions under the following polyimide laminate laser conditions. In the drilling, holes were formed at a distance spaced at regular intervals in an area of 20 mm × 20 mm, and at this time, 50 holes were identified. It was judged that there was no residue if no thing and polyimide remained. The residue area means the number of holes in which 50 residues remain.

폴리이미드 적층체면 (Power, Velocity) : 2W, 250㎜/sec 속도로 진행Polyimide laminate surface (Power, Velocity): 2W, 250mm / sec speed

홀 직경: 120㎛Hole diameter: 120㎛

[제조예 1][Production Example 1]

(열가소성 폴리이미드 전구체 조성물의 제조)(Preparation of thermoplastic polyimide precursor composition)

질소 분위기 하 반응기에 N,N-디메틸아세트아마이드(DMAc)에 m-톨리딘(m-toluidine) 및 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPER)을 넣어 충분히 교반시킨 다음 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드(BPDA)를 넣어 용해될 때까지 교반하여 용해 및 반응시켜 열가소성 폴리이미드 전구체 조성물을 제조하였다.In a nitrogen atmosphere, m-toluidine and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPER) were added to N, N-dimethylacetamide (DMAc) in a reactor, followed by sufficient stirring. Tetracarboxylic dianhydride (BPDA) was added thereto, stirred until dissolved, and dissolved and reacted to prepare a thermoplastic polyimide precursor composition.

이때 각 단량체의 함량은 하기 표 1과 같은 몰%로 투입하였으며, 고형분 함량이 10 중량%가 되도록 조절하였고, 반응기의 온도는 30℃로 유지하였다.At this time, the content of each monomer was added to the mol% as shown in Table 1, the solid content was adjusted to 10% by weight, the temperature of the reactor was maintained at 30 ℃.

[제조예 2 내지 6][Production Examples 2 to 6]

상기 제조예 1에서 단량체의 함량 및 종류를 하기 표 1에 나타낸 바와 같이 조절하여 제조된 것을 제외하고는 동일하게 실시하였다.Except that prepared in Example 1 to adjust the content and type of monomer as shown in Table 1 was carried out in the same manner.

상기 제조예 1 ~ 6에서 제조된 열가소성 폴리이미드 전구체 조성물을 유리 기판 상에 어플리케이터(applicator)를 이용하여 용액 캐스팅을 실시하였다. 이후, 건조오븐에서 140℃에서 20분 동안 열처리한 후, 질소를 투입한 오븐에서 온도를 상온에서 350℃까지 승온시킨 후 30분간 유지하여 열가소성 폴리이미드 필름을 제조하였다. 이 후, 상온에서 냉각시키고 유리 기판 상에 형성된 필름을 기판으로부터 분리하여 두께 20㎛의 폴리이미드 필름을 얻었다. 제조된 폴리이미드 필름의 모듈러스를 측정하여 하기 표 1에 나타내었다. 또한, 제조된 폴리이미드 필름 상에 12㎛ 두께의 압연 동박(JX사의 BHY-82F-HA-V2)을 적층시킨 후, 고온 라미네이터를 이용하여 접착시켜 연성금속박적층체를 제조한 후 상온(25 ℃)에서 동박접착력을 측정하였다.The thermoplastic polyimide precursor composition prepared in Preparation Examples 1 to 6 was subjected to solution casting on an glass substrate using an applicator. Then, after the heat treatment for 20 minutes at 140 ℃ in a drying oven, the temperature was raised from 350 ℃ to 350 ℃ in an oven in which nitrogen was added to maintain a 30 minutes to prepare a thermoplastic polyimide film. Thereafter, the film was cooled at room temperature and the film formed on the glass substrate was separated from the substrate to obtain a polyimide film having a thickness of 20 μm. The modulus of the prepared polyimide film was measured and shown in Table 1 below. In addition, the laminated copper foil (BHY-82F-HA-V2 manufactured by JX Corporation) having a thickness of 12 μm was laminated on the manufactured polyimide film, and then bonded using a high temperature laminator to prepare a flexible metal laminate, and then at room temperature (25 ° C.). ), Copper foil adhesion was measured.

산무수물
(몰%)
Acid anhydride
(mole%)
디아민
(몰%)
Diamine
(mole%)
Modulus
(GPa)
Modulus
(GPa)
동박접착력
(Kgf/cm)
Copper foil adhesion
(Kgf / cm)
BPDABPDA m-Tolidinem-Tolidine P-PDAP-PDA TPERTPER BAPPBAPP 제조예1Preparation Example 1 100100 5050 00 5050 -- 5.25.2 1.21.2 제조예2Preparation Example 2 100100 4040 2020 4040 -- 5.15.1 1.11.1 제조예3Preparation Example 3 100100 3030 4040 3030 -- 5.15.1 1.01.0 제조예4Preparation Example 4 100100 5050 3030 2020 -- 5.45.4 0.40.4 제조예5Preparation Example 5 100100 2020 00 8080 -- 2.42.4 1.21.2 제조예6Preparation Example 6 100100 -- -- -- 100100 2.32.3 1.01.0 제조예7Preparation Example 7 100100 4040 00 6060 00 5.15.1 1.41.4

상기 표 1에서, P-PDA는 p-페닐렌 디아민이고, BAPP는 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판이다.In Table 1 above, P-PDA is p-phenylene diamine and BAPP is 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane.

상기 표 1에서 보는 바와 같이 m-Tolidine과 TPER 2종 모두 30mol% 이상 포함 시에는 Modulus도 5GPa이상으로 높은 값이 확인되며 접착력도 1.0kgf/cm 이상으로 우수함이 확인되었다.As shown in Table 1, when both m-Tolidine and TPER included more than 30mol%, Modulus was also confirmed to be high value of 5GPa or more, and the adhesion was also excellent as more than 1.0kgf / cm.

하기 표 2는 제조예 1 및 제조예 6의 조성으로 제조된 열가소성 폴리이미드층과 금속박의 기재에 따른 상온(25 ℃)접착력을 측정한 것이다.Table 2 below measures the normal temperature (25 ° C.) adhesion of the thermoplastic polyimide layer and the metal foil prepared in the compositions of Preparation Example 1 and Preparation Example 6.

금속박 종류Metal foil 금속박 정보Metal foil information 제조예 6의 조성
(BPDA 100 몰%/BAPP 100 몰%)
Composition of Preparation Example 6
(BPDA 100 mol% / BAPP 100 mol%)
제조예 1의 조성
BPDA 100몰%/m-Tolidine 50 몰%+TPER 50몰%
Composition of Preparation Example 1
BPDA 100 mol% / m-Tolidine 50 mol% + TPER 50 mol%
Copper FoilCopper foil 두께 12 ㎛ 압연동박
GHY5-82F-HA-V2
Matte면 조도 1 ㎛
12 ㎛ thick rolled copper foil
GHY5-82F-HA-V2
Matte surface roughness 1 μm
1.0kgf/cm1.0kgf / cm 1.2kgf/cm1.2kgf / cm
Aluminium FoilAluminum foil 두께 70 ㎛
조도 0.5~1 ㎛
접착력 향상을 위한 추가 표면 처리 없음
70 ㎛ thick
Roughness 0.5 ~ 1 ㎛
No additional surface treatment for improved adhesion
0.6kgf/cm0.6kgf / cm 1.1kgf/cm1.1kgf / cm

상기 표 2에서 보는 바와 같이, 제조예 6 및 제조예 1의 조성 모두 동박에 대해서는 1.0kgf/cm 이상 수준을 만족하였다. 그러나 알루미늄박에 대해서는 제조예 6에 비하여, m-톨리딘과 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠을 30 몰% 이상 포함하는 제조예 1의 조성이 접착력이 더욱 우수함을 알 수 있었다. 또한 알루미늄박에 대해서도 1.0kgf/cm 이상 수준을 만족함을 알 수 있었다.As shown in Table 2, the composition of Preparation Example 6 and Preparation Example 1 satisfied the level of 1.0kgf / cm or more for the copper foil. However, as for aluminum foil, it was found that the composition of Preparation Example 1 containing 30 mol% or more of m-tolidine and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene was better than that of Preparation Example 6. . In addition, the aluminum foil was found to satisfy the level of 1.0kgf / cm or more.

하기 표 3은 상기 제조예 7의 조성으로 제조된 열가소성 폴리이미드층과 금속박의 기재에 따른 상온(25 ℃)접착력을 측정한 것이다.Table 3 below measures the normal temperature (25 ° C.) adhesion of the thermoplastic polyimide layer and the metal foil prepared in the composition of Preparation Example 7.

제조예 7 조성의 기재에 따른 접착력Preparation Example 7 Adhesion According to Composition of Composition 기재materials 기재 정보Equipment information 측정 온도Measuring temperature 접착력(kgf/cm)Adhesive force (kgf / cm) Aluminium Foil
Aluminum foil
Lotte Aluminium社
A1235H18
두께 50 ㎛
Lotte Aluminum
A1235H18
Thickness 50 ㎛
상온 (25 ℃)Room temperature (25 ℃) 1.21.2
100 ℃100 ℃ 1.01.0 200 ℃200 ℃ 0.70.7 Cu FoilCu Foil JX社
GHY5-82F-HA-V2
두께 18㎛
JX
GHY5-82F-HA-V2
18㎛ thick
상온 (25 ℃)Room temperature (25 ℃) 1.41.4
100 ℃100 ℃ 0.80.8 200 ℃200 ℃ 0.40.4

통상적으로 고온에서의 금속박에 대한 접착력은 상온 대비 크게 떨어지는 것이 일반적이나, 상기 표 3에서 보는 바와 같이, 본 발명의 일 양태에 따른 열가소성 폴리이미드층은 m-톨리딘 및 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠을 포함함으로써 고온에서의 접착력이 양호한 수준으로 유지됨을 확인하였다. 또한 상온에서의 접착력은 알루미늄박에 비하여 구리박의 접착력이 더욱 높은 접착력을 보이나, 고온에서는 구리박에 비하여 알루미늄박의 접착력이 더욱 우수함을 알 수 있었다. 이는 동박 대비 알루미늄박이 산화특성이 좋기 때문인 것으로 추정된다.Typically, the adhesion to the metal foil at a high temperature is generally significantly lower than room temperature, but as shown in Table 3, the thermoplastic polyimide layer according to one embodiment of the present invention is m-tolidine and 1,3-bis (4). It was confirmed that the adhesion at high temperature was maintained at a good level by including -aminophenoxy) benzene. In addition, the adhesive force at room temperature showed a higher adhesive strength of the copper foil than the aluminum foil, but it was found that the adhesive strength of the aluminum foil is more excellent than the copper foil at a high temperature. This is presumably because aluminum foil has better oxidation characteristics than copper foil.

[실시예 1] Example 1

12㎛ 두께의 압연 동박(JX사의 BHY-82F-HA-V2) 상에 하기 표 4와 같은 조성을 이용하여 제조예 1과 동일한 방법으로 제조된 열가소성 폴리이미드 전구체 조성물을 도포한 후, 140℃에서 20분간 건조하여 제 1열가소성 폴리이미드 전구체층을 형성하였다. 상기 제 1열가소성 폴리이미드 전구체층 상에 상기 베이스 폴리이미드 전구체 조성물을 도포한 후 140℃에서 20분간 건조하여 베이스 폴리이미드 전구체층을 형성하였다. 상기 베이스 폴리이미드 전구체층 상에 하기 표 2와 같은 조성을 이용하여 제조예 1과 동일한 방법으로 제조된 열가소성 폴리이미드 전구체 조성물을 도포하여 140℃에서 20분간 건조하여 제 2열가소성 폴리이미드 전구체층을 형성하였다. 이 후, 롤투롤 적외선 경화기에서 승온속도 2℃/min으로 상온에서 380℃까지 승온시켜 경화 하여 제 1 열가소성 폴리이미드층 3 ㎛/ 베이스 폴리이미드층 19 ㎛/ 제 2 열가소성 폴리이미드층 3 ㎛로 적층된 총 두께가 25㎛인 연성금속박적층체를 제조하였다.After applying the thermoplastic polyimide precursor composition prepared in the same manner as in Preparation Example 1 on the rolled copper foil (BHY-82F-HA-V2 of JX Co., Ltd.) having a thickness of 12 ㎛ thickness, 20 at 140 ℃ It dried for 1 minute and formed the 1st thermoplastic polyimide precursor layer. After applying the base polyimide precursor composition on the first thermoplastic polyimide precursor layer and dried for 20 minutes at 140 ℃ to form a base polyimide precursor layer. The thermoplastic polyimide precursor composition prepared in the same manner as in Preparation Example 1 was applied to the base polyimide precursor layer by using the composition shown in Table 2, and dried at 140 ° C. for 20 minutes to form a second thermoplastic polyimide precursor layer. . Subsequently, in a roll-to-roll infrared curing machine, the temperature was raised to 380 ° C. at a temperature increase rate of 2 ° C./min, and cured. A flexible metal laminate having a total thickness of 25 μm was prepared.

상기 이미드화된 적층체의 제 2열가소성 폴리이미드층 상에 12㎛ 두께의 압연 동박(JX사의 BHY-82F-HA-V2)을 적층시킨 후, 고온 라미네이터를 이용하여 접착시켜 연성금속박적층체를 제조하였다. 제조된 연성금속박적층체의 5 중량% 열분해온도(Td) 및 레이저 홀 가공특성을 평가하여 하기 표 4에 나타내었다.A 12 μm thick rolled copper foil (BHY-82F-HA-V2 manufactured by JX) was laminated on the second thermoplastic polyimide layer of the imidized laminate, and then bonded using a high temperature laminator to produce a flexible metal laminate. It was. The 5 wt% pyrolysis temperature (Td) and the laser hole processing characteristics of the manufactured flexible metal laminate were shown in Table 4 below.

상기 베이스 폴리이미드 전구체 조성물은 디아민 성분으로 4,4'-디아미노디페닐에테르 및 p-페니렌 디아민을 1 : 1 몰비로 사용하고, 산무수물 성분으로 비페닐-테트라카르복실산 디언하이드라이과 피로멜리틱 언하이드라이드를 1 : 1 몰비로 혼합한 것을 제외하고는 제조예 1과 동일한 방법으로 제조하여 사용하였다.The base polyimide precursor composition uses 4,4'-diaminodiphenyl ether and p-phenylene diamine in a 1: 1 molar ratio as the diamine component, and biphenyl-tetracarboxylic acid dianhydride as the acid anhydride component. It was prepared and used in the same manner as in Preparation Example 1 except that the melionic anhydride was mixed in a 1: 1 molar ratio.

[실시예 2 내지 7][Examples 2 to 7]

하기 표 4에 기재된 바와 같이 열가소성 폴리이미드 전구체 조성물의 조성을 변경하여 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 연성금속박적층체를 제조하였다. 제조된 연성금속박적층체의 5 중량% 열분해온도(Td) 및 레이저 홀 가공특성을 평가하여 하기 표 4에 나타내었다.A flexible metal laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except for changing the composition of the thermoplastic polyimide precursor composition as shown in Table 4 below. The 5 wt% pyrolysis temperature (Td) and the laser hole processing characteristics of the manufactured flexible metal laminate were shown in Table 4 below.

[비교예 1 내지 6][Comparative Examples 1 to 6]

하기 표 4에 기재된 바와 같이 열가소성 폴리이미드 전구체 조성물의 조성을 변경하여 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 연성금속박적층체를 제조하였다. 제조된 연성금속박적층체의 5 중량% 열분해온도(Td) 및 레이저 홀 가공특성을 평가하여 하기 표 4에 나타내었다.A flexible metal laminate was prepared in the same manner as in Example 1 except for changing the composition of the thermoplastic polyimide precursor composition as shown in Table 4 below. The 5 wt% pyrolysis temperature (Td) and the laser hole processing characteristics of the manufactured flexible metal laminate were shown in Table 4 below.

실시예 및 비교예에서 제조된 연성금속박적층체의 5 중량% 열분해온도(Td) 및 레이저 홀 가공특성을 평가하여 하기 표 4에 나타내었다. 또한, 상온(25 ℃)접착력을 측정하여 하기 표 4에 나타내었다.5 wt% pyrolysis temperature (Td) and laser hole processing characteristics of the flexible metal laminates prepared in Examples and Comparative Examples were evaluated and shown in Table 4 below. In addition, the adhesion at room temperature (25 ° C.) was measured and shown in Table 4 below.

TPI 조성TPI composition 산무수물
(몰%)
Acid anhydride
(mole%)
디아민(몰%)Diamine (mol%) Td
(5 wt%)
Td
(5 wt%)
Laser Hole가공특성Laser Hole Machining Characteristics
BPDABPDA TPERTPER p-PDAp-PDA m-Tolidinem-Tolidine 잔사 개수Residues 실시예1Example 1 100100 5050 2020 3030 530530 55 실시예2Example 2 100100 5050 00 5050 520520 44 실시예3Example 3 100100 4040 00 6060 513513 44 실시예4Example 4 100100 3030 4040 3030 530530 55 실시예5Example 5 100100 7070 00 3030 523523 33 실시예6Example 6 100100 3030 00 7070 510510 22 실시예7Example 7 100100 6060 00 4040 520520 33 비교예1Comparative Example 1 100100 5050 5050 00 572572 2121 비교예2Comparative Example 2 100100 5050 4040 1010 548548 1313 비교예3Comparative Example 3 100100 5050 3030 2020 538538 88 비교예4Comparative Example 4 100100 2020 6060 2020 545545 1010 비교예5Comparative Example 5 100100 2020 3030 5050 543543 1212 비교예6Comparative Example 6 100100 00 5050 5050 540540 1111

알루미늄박은 두께 70 ㎛이고, 조도가 0.5 ~ 1 ㎛이며, 접착력 향상을 위한 추가 표면처리를 하지 않은 것을 사용하였다.Aluminum foil was 70 micrometers in thickness, roughness 0.5-1 micrometer, and the thing which did not give further surface treatment for the adhesive force improvement was used.

동박은 두께 12 ㎛인 압연동박을 사용하였으며, GHY5-82F-HA-V2이고, Matte면 조도 1 ㎛인 것을 사용하였다.As the copper foil, a rolled copper foil having a thickness of 12 μm was used, and GHY5-82F-HA-V2 was used, and a Matte surface roughness of 1 μm was used.

상기 표 4에서 보는 바와 같이, m-Tolidine 및 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠(TPER)의 함량이 각각 30mol%이상에서부터 Td가 530 ℃이하 수준으로 확인되었다. 또한, 분해온도가 낮아질수록 레이져 가공성이 개선됨을 확인하였다.As shown in Table 4, the content of m-Tolidine and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPER) was found to be more than 30 mol% and Td below 530 ° C, respectively. In addition, the lower the decomposition temperature was confirmed that the laser workability is improved.

하기 표 5는 실시예 1의 연성금속박적층체를 이용하여 다양한 조건에서 레이저 홀 가공성을 평가한 것이다.Table 5 shows the laser hole processability under various conditions using the flexible metal laminate of Example 1.

POWERPOWER 70%70% 80%80% 100%100% 120%120% 130%130% 150%150% VelocityVelocity 140%140% PI 잔사PI residue PI 잔사PI residue PI 잔사PI residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 120%120% PI 잔사PI residue PI 잔사PI residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 110%110% 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 100%100% 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 90%90% 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 80%80% 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 60%60% 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue 잔사없음No residue

상기 표 5에서 보는 바와 같이, 본 발명의 실시예 1에 따른 연성금속박적층체는 잔사가 거의 발생하지 않는 것을 확인하였다. 또한, 낮은 power와 높은 velocity에서 잔사가 일부 발생하였으나 모두 잔사개수가 5개 이하로 나타나 잔사가 거의 발생하지 않음을 알 수 있었다.As shown in Table 5, the soft metal laminate according to Example 1 of the present invention confirmed that the residue hardly occurs. In addition, some residues were generated at low power and high velocity, but the number of residues was less than 5, indicating that almost no residues occurred.

Claims (9)

제 1열가소성 폴리이미드층, 베이스 폴리이미드층 및 제 2열가소성 폴리이미드층이 순차적으로 적층된 폴리이미드 적층체의 일면 또는 양면에 금속박을 포함하는 연성금속박적층체로서,
상기 제 1열가소성 폴리이미드층 및 상기 제 2열가소성 폴리이미드층은 산무수물과 디아민으로부터 유도된 폴리이미드를 포함하고,
상기 디아민은 m-톨리딘 30 몰% 이상 및 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠 30 몰% 이상을 포함하는 연성금속박적층체.
A flexible metal foil laminate comprising metal foil on one or both sides of a polyimide laminate in which a first thermoplastic polyimide layer, a base polyimide layer, and a second thermoplastic polyimide layer are sequentially stacked,
The first thermoplastic polyimide layer and the second thermoplastic polyimide layer include a polyimide derived from an acid anhydride and diamine,
The diamine is a flexible metal laminate comprising at least 30 mol% of m-tolidine and at least 30 mol% of 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene.
제 1항에 있어서,
상기 산무수물은 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드를 70 몰% 이상 포함하는 연성금속박적층체.
The method of claim 1,
The acid anhydride is a flexible metal laminate comprising at least 70 mol% of biphenyl tetracarboxylic dianhydride.
제 1항에 있어서,
상기 제 1열가소성 폴리이미드층 및 상기 제 2열가소성 폴리이미드층은 모듈러스가 5 GPa이상이고, 25℃에서 금속박과의 접착력이 1.0 kgf/cm이상인 연성금속박적층체.
The method of claim 1,
The first thermoplastic polyimide layer and the second thermoplastic polyimide layer have a modulus of 5 GPa or more and an adhesive strength with a metal foil of 25 kg or more at 1.0 kgf / cm or more.
제 1항에 있어서,
상기 제 1열가소성 폴리이미드층 및 상기 제 2열가소성 폴리이미드층은 5 중량% 열분해 온도가 530℃ 이하인 연성금속박적층체.
The method of claim 1,
The first thermoplastic polyimide layer and the second thermoplastic polyimide layer have a 5 wt% pyrolysis temperature of 530 ° C. or less.
제 1항에 있어서,
상기 금속박은 알루미늄박인 연성금속박적층체.
The method of claim 1,
The metal foil is a flexible metal laminate of aluminum foil.
제 5항에 있어서,
상기 연성금속박적층체는 알루미늄박과 제 1열가소성 폴리이미드층 및 알루미늄박과 상기 제 2열가소성 폴리이미드층 간의 접착력이 하기 식 1 및 2를 만족하는 연성금속박적층체.
[식 1]
60 % ≤ AF100 ≤ 90 %
상기 식 1에서, AF100 = (100 ℃에서 측정된 접착력/25℃에서 측정된 접착력) ×100이다.
[식 2]
50 % ≤ AF200 ≤ 90 %
상기 식 2에서, AF200 = (200 ℃에서 측정된 접착력/25℃에서 측정된 접착력) ×100이다.
The method of claim 5,
The flexible metal laminate is a flexible metal laminate in which the adhesive force between the aluminum foil and the first thermoplastic polyimide layer and the aluminum foil and the second thermoplastic polyimide layer satisfies the following Equations 1 and 2.
[Equation 1]
60% ≤ AF100 ≤ 90%
In Equation 1, AF100 = (adhesion measured at 100 ° C./adhesion measured at 25 ° C.) × 100.
[Equation 2]
50% ≤ AF200 ≤ 90%
In Equation 2, AF200 = (adhesion measured at 200 ° C./adhesion measured at 25 ° C.) × 100.
비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드를 포함하는 산무수물 및 m-톨리딘과 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠을 포함하는 디아민으로부터 유도된 폴리아믹산을 포함하는 연성금속박적층체용 열가소성 폴리이미드 전구체 조성물.Thermoplastics for ductile metal laminates comprising acid anhydrides comprising biphenyltetracarboxylic dianhydride and polyamic acids derived from m-tolidine and diamines comprising 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene Polyimide precursor composition. 제 7항에 있어서,
상기 디아민은 m-톨리딘 30 몰% 이상 및 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠 30 몰% 이상을 포함하는 연성금속박적층체용 열가소성 폴리이미드 전구체 조성물.
The method of claim 7, wherein
The diamine is a thermoplastic polyimide precursor composition for a flexible metal laminate comprising at least 30 mol% of m-tolidine and at least 30 mol% of 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene.
제 7항에 있어서,
상기 산무수물은 비페닐테트라카르복실릭 디언하이드라이드를 70 몰% 이상 포함하는 연성금속박적층체용 열가소성 폴리이미드 전구체 조성물.
The method of claim 7, wherein
The acid anhydride is a thermoplastic polyimide precursor composition for a flexible metal laminate comprising at least 70 mol% biphenyltetracarboxylic dianhydride.
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