KR20190062471A - 방법, 조성물 및 그에 관한 용도 - Google Patents

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매튜 로버트 자일스
킴벌리 엘리자베스 그리피스
토니 고프
이안 말콤 맥로비
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Abstract

하기 단계를 포함하는, 염색된 물질로부터의 색상 손실을 방지하는 방법:
(1) 물질을 알데히드, 숙신이미딜 에스테르, 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종을 포함하는 조성물과 접촉시키는 단계;
(2) 물질을 킬레이트화제 및/또는 아민 및/또는 카르복실산의 염을 포함하는 조성물과 접촉시키는 단계.

Description

방법, 조성물 및 그에 관한 용도
본 발명은 염색된 물질을 처리하는 방법, 이러한 방법에 사용하기 위한 조성물, 및 이와 관련된 용도에 관한 것이다. 특히 본 발명은 염색된 케라틴성 물질, 특히 모발을 처리하는 방법에 관한 것이다. 방법은 염색된 물질, 특히 염색된 모발로부터 색상의 손실을 감소시키거나, 억제하거나, 방지하는데 특히 유용하다.
물질, 특히 모발 및 다른 케라틴성 물질을 염색하는 절차가 다년간 존재해 왔었다. 그러나 염색된 물질은 염색 후 색상 강도 및 활력을 잃는다. 이러한 색상의 손실의 한 가지 원인은 염료를 용해/가용시켜 이들을 물질로부터 확산되도록 할 수 있는 물 또는 다른 용매와 접촉한 경우 염료 분자가 물질로부터 침출하기 때문인 것으로 여겨진다. 따라서, 이 색상 손실은, 과정 예컨대 물질의 세척 (또는 모발의 경우에 샴푸질) 동안, 또는 물질이 물질로부터 염료를 침출시킬 수 있는 물 또는 다른 용매와 접촉되는 다른 과정 동안 일어날 수 있다. 문제는, 작은 염료 분자의 경우에 이들이 더 이동성이고, 따라서 보다 큰 염료 분자보다 더 빠른 속도로 물질로부터 침출될 수 있기 때문에 보다 중대하다. 그 결과, 물질의 반복된 세척은 시간이 지나면서 색상 손실을 유도할 수 있다. 이는 또한 이에 의해 색상 변이를 유발할 수 있고, 예를 들어 물질을 착색하는데 사용된 혼합물에 존재하는 1종 이상의 염료 화합물이 세척 동안 다른 염료들보다 더 큰 정도로 물질로부터 침출된다.
텍스타일 물질 및 직물의 경우, 색상 손실은 손세탁 과정에서 또는 자동 세탁기에서 물질의 세척 동안 일어날 수 있다.
색상 손실이 방지되거나 억제되는 1개의 효과적인 수단은 포름알데히드에 의한 처리이다. 그러나 포름알데히드는 의심되는 발암물질이고, 따라서 화장품 조성물 중 그의 사용은 엄격하게 규제되고 대단히 바람직하지 않다. 모발로부터 색상 손실을 방지하는 수많은 수단을 제공하기 위한 여러 시도가 있었다. 그러나 지금까지 이들 중 어느 것도 완전히 만족스럽지 않았고, 따라서 추가의 개선된 전략을 개발하기 위한 필요가 존재한다.
본 발명의 목적은 염색된 물질로부터의 색상 손실을 감소시키거나, 억제하거나 또는 방지하는 수단을 제공하는 것이다.
본 발명의 제1 측면에 따르면, 하기 단계를 포함하는, 염색된 물질로부터 색상 손실을 방지하는 방법이 제공된다:
(1) 물질을 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종을 포함하는 조성물과 접촉시키는 단계;
(2) 물질을 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함하는 조성물과 접촉시키는 단계.
단계 (1) 및 (2)는 임의의 순서로 수행될 수 있다. 이들은 순차적으로 또는 동시에 수행될 수 있다. 일부 실시양태에서 단계 (1)은 단계 (2) 전에 수행된다. 일부 실시양태에서 단계 (2)는 단계 (1) 전에 수행된다.
바람직한 실시양태에서 단계 (1) 및 (2)는 동시에 수행되고, 본 발명의 방법은 물질을 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함하는 조성물과 접촉시키는 것을 포함한다.
"아민과 카르복실산의 염"을 지칭할 때 의심을 피하기 위해 아민과 카르복실산의 반응 생성물 및 따라서 카르복실산의 아민 염을 지칭하는 것을 의미한다. 염은 암모늄 양이온 및 카르복실레이트 음이온을 포함한다.
본 발명은 염색된 물질로부터 색상 손실을 방지하는 방법에 관한 것이다. 방법은 염색된 물질을 처리하는 것을 포함할 수 있고/거나 이는 염색될 물질을 처리하는 것을 포함할 수 있고/거나 이는 염색 과정의 일부로서 물질을 처리하는 것을 포함할 수 있다.
일부 실시양태에서 방법은 염색된 물질로부터 색상 손실을 방지하는 방법이다.
적합하게는 이러한 실시양태에서 방법은 염색 과정의 일부가 아니다. 오히려 이는 염색 과정 후 임의의 시간에, 및 이보다 훨씬 후에 수행될 수 있는 별개의 비관련된 과정이다.
방법은 임의의 수단에 의해 염색된/염색될 임의의 물질을 처리하는데 사용될 수 있다.
일부 실시양태에서 본 발명의 방법은 염색된 텍스타일 물질로부터 색상 손실을 방지하는데 사용될 수 있다. 이러한 실시양태에서 염색된 텍스타일 물질은 적합하게는 울 (wool)을 포함하고, 바람직하게는 울을 그의 주요 비율로 포함한다.
바람직한 실시양태에서 물질은 케라틴성 물질이다. 보다 바람직하게는 물질은 케라틴성 섬유를 포함한다. 바람직하게는 물질은 모발이다. 모발은 인간 또는 동물 모발일 수 있다. 특히 바람직한 실시양태에서 본 발명의 방법은 인간 모발을 처리하는 방법이다. 가장 바람직하게는 이는 두피에서 성장하는 인간 모발을 처리하는 방법이다.
그러나 본 발명의 방법은 또한 계속해서 성장하고 있지 않은 (즉, 제거된) 모발 예컨대 가발 또는 동물 모발, 예를 들어 울로부터 색상 손실을 방지하는데 사용될 수 있음이 인지될 것이다.
특히 바람직한 실시양태에서 본 발명은 염색된 모발을 처리하여 색상 손실을 방지하는 방법에 관한 것이다. 방법은 임의의 수단에 의해 염색된 모발로부터, 색상 손실을 방지하는데 사용될 수 있다. 예를 들어 본 발명은 직접 염료를 사용하여 염색된 모발로부터 색상 손실을 방지하는데 사용될 수 있다. 모발에 대한 직접 염료로서 분류된 화합물의 유형은 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 공지되고, 니트로페닐렌디아민 화합물 (예를 들어, 2-니트로-o-페닐렌디아민, HC 옐로우 10, HC 레드 14, N,N'-비스-(2-히드록시에틸)-2-니트로-p-페닐렌디아민, HC 바이올렛 2 및 HC 블루 2); 니트로아미노페놀 화합물 (예를 들어, HC 옐로우 4, 2-아미노-3-니트로페놀, HC 오렌지 3, 4-히드록시프로필아미노-3-니트로페놀 및 3-니트로-p-히드록시에틸아미노페놀); 및 안트라퀴논 화합물 (예를 들어, 디스퍼스 레드 11, 디스퍼스 바이올렛 4, 디스퍼스 블루 3 및 HC 블루 14)을 포함할 것이다. 그러나 본 발명의 방법은 산화 염료를 사용하여 염색된 모발에서 색상 손실을 방지하는 것에서 특히 효과적이다.
모발의 산화 염색은 통상적으로 모발의 영구적, 반영구적 또는 부분-영구적 착색에 사용된다. 이는 작은 치환된 방향족 화합물 (예를 들어 페놀, 나프톨, 페닐렌 디아민 및 아미노 페놀 (중간체로 공지됨))에 의한 모발의 처리를 포함하고, 이에 의해 산화되어 계내에 활성 염료 분자를 생성시킨다. 이 유형의 모발 착색 방법은 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 매우 익히 공지된 것이다.
본 발명의 방법은 물질, 바람직하게는 모발을 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종; 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함하는 조성물과 접촉시키는 것을 포함한다.
일부 실시양태에서 본 발명의 제1 측면의 방법은 물질, 예컨대 모발을 염색시키는 방법이 아니라, 오히려 염색된 물질을 처리하는 방법이다.
일부 실시양태에서 방법은 염색 과정의 일부로서, 물질을 염색하기 전, 물질을 염색하는 동안 또는 물질을 염색한 직후의 임의의 시간에 수행될 수 있다.
제1 측면의 방법은 모발을 염색하기 전, 모발을 염색하는 동안 또는 모발을 염색한 직후의 임의의 시간에 수행되는 실시양태에서, 본 발명은 추가로 향상된 모발 착색 방법을 제공할 수 있다. 염색 직전 또는 직후란 바람직하게는 2시간 이내, 보다 바람직하게는 1시간 이내, 적합하게는 30분 이내를 의미한다.
본 발명의 제2 측면에 따르면,
(a) 모발을 착색 조성물과 접촉시키는 것; 및
(b) 모발을 (1) 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종을 포함하는 조성물; 및 (2) 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함하는 조성물과 접촉시키는 것
을 포함하는 모발을 착색하는 방법을 제공한다.
바람직한 실시양태에서 제2 측면의 방법의 단계 (b)는 물질을 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종; 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함하는 조성물과 접촉시키는 것을 포함한다.
본 발명은 착색 조성물을 사용하여 모발을 착색하는 방법에 관한 것이다. 이는 본원에서 또한 염색 조성물을 사용하여 모발을 염색하는 방법을 지칭할 수 있다.
제2 측면의 방법은 모발을 착색하는 방법이다. 이는 인간 모발을 착색하거나 울을 비롯한 동물 모발을 착색하는 것을 포함함을 의미한다. 바람직하게는 제2 측면의 방법은 인간 모발을 착색하는 방법이다. 보다 바람직하게는 이는 두피에서 성장하는 인간 모발을 착색하는 방법이다.
단계 (a) 및 (b)는 개별적으로 임의의 순서로 수행될 수 있거나, 또는 이들은 동시에 수행될 수 있다.
일부 실시양태에서 단계 (b)는 단계 (a) 전에 수행되고, 따라서 방법은 알데히드 및/또는 숙신이미딜 에스테르 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함하는 1종 이상의 조성물로 모발을 예비처리하는 단계를 포함한다.
일부 실시양태에서 단계 (a) 및 (b)는 동시에 수행될 수 있고, 방법은 모발을 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함하는 착색 조성물과 접촉시키는 것을 포함한다.
일부 바람직한 실시양태에서 단계 (b)는 단계 (a) 후에 수행된다. 적합하게는 모발은 단계 (a)와 단계 (b) 사이에 세정되고 임의로 건조된다.
단계 (a)는 모발을 임의의 적합한 착색 조성물과 접촉시키는 것을 포함할 수 있다. 이러한 조성물은 관련 기술분야의 통상의 기술자는 알 것이다.
일부 바람직한 실시양태에서 단계 (a)는 산화 염색 방법에서 염료 전구체 화합물 및 산화 조성물 (현색제)을 적용함으로써 계내에 모발에서 착색 조성물을 형성하는 것을 포함할 수 있다.
일부 실시양태에서 단계 (a)는 모발을 1종 이상의 직접 염료를 포함하는 착색 조성물과 접촉시키는 것을 포함할 수 있다.
일부 실시양태에서 본 발명의 제1 측면의 방법은 염색 과정의 일부로서 수행되지 않으며, 모발과 접촉된 조성물은 샴푸 조성물, 컨디셔닝 조성물, 모발 스타일링 조성물, 모발 영구적 웨이빙 조성물, 모발 영구적 스트레이트닝 조성물, 모발 릴렉싱 조성물 또는 연속적 모발 착색/모발 염색 조성물의 형태일 수 있다.
다수의 기능을 수행하는 조성물, 예를 들어 조합된 샴푸 및 컨디셔닝 조성물은 또한 본 발명의 범주 내에 있다.
본 발명의 제3 측면에 따르면, 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종; 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함하는 조성물이 제공된다.
본 발명의 제1, 제2 및 제3 측면의 바람직한 특색은 이제 기재될 것이다. 임의의 특색은 적절한 경우 임의의 다른 측면에 적용될 수 있다. 따라서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 적합하게는 모발을 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종; 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함하는 조성물과 접촉시키는 것을 포함할 수 있다.
이제부터 본 발명이 추가로 기재될 것이다. 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종; 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함하는 단일 조성물을 사용하는 방법이 언급될 것이다. 그러나 2종 이상의 조성물이 동일한 목적을 달성하는데 사용된 실시양태도 본 발명의 범주 내에 포함된다.
본 발명의 제3 측면의 조성물은 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종을 포함한다.
이에 의한 의심을 피하기 위해 이는 조성물이 1종 또는 1종 초과의 알데히드를 포함하며 숙신이미딜 에스테르를 포함하지 않을 수 있거나; 알데히드를 포함하지 않으며 1종 또는 1종 초과의 숙신이미딜 에스테르를 포함할 수 있거나; 또는 1종 또는 1종 초과의 알데히드 및 1종 또는 1종 초과의 숙신이미딜 에스테르를 포함할 수 있음을 의도한다.
본원에 사용하기 위한 바람직한 알데히드는 히드록실-치환된 알데히드 및 알파-치환된 알데히드를 포함한다. α-위치에서의 히드록시 치환기를 갖는 알데히드가 특히 바람직하다.
본원에 사용하기 위한 적합한 알데히드는 적어도 2개의 탄소 원자를 갖는다. 바람직하게는 이들은 적어도 3개의 탄소 원자를 갖는다.
본원에 사용하기 위한 적합한 알데히드는 36개 이하의 탄소 원자, 바람직하게는 30개 이하의 탄소 원자, 보다 바람직하게는 24개 이하의 탄소 원자, 바람직하게는 20개 이하의 탄소 원자, 예를 들어 18개 이하의 탄소 원자 또는 16개 이하의 탄소 원자를 가질 수 있다.
본원에 사용하기 위한 일부 바람직한 알데히드는 3 내지 20개의 탄소 원자, 예를 들어 3 내지 16개의 탄소 원자를 갖는다.
본원에 사용하기 위한 일부 바람직한 알데히드는 3 내지 12개의 탄소 원자, 예를 들어 3 내지 11개의 탄소 원자를 갖는다.
본원에 사용하기 위한 일부 특히 바람직한 알데히드는 3 내지 9개의 탄소 원자, 보다 바람직하게는 3 내지 8개의 탄소 원자를 갖는다.
본원에 사용하기 위한 일부 다른 바람직한 알데히드는 8 내지 16개의 탄소 원자, 예를 들어 10 내지 14개의 탄소 원자를 갖는다.
일부 바람직한 실시양태에서 알데히드는 오직 1개의 알데히드 관능기를 함유한다.
알데히드는 바람직하게는 α-위치에 치환기를 갖고/거나 히드록시 치환기를 갖는다. 이는 1종 이상의 추가의 치환기를 가질 수 있다.
적합한 추가의 치환기는 추가의 히드록시 치환기, 추가의 알데히드 기, 케토 기, 카르복시 기, 아실 기, 할로 기, 알콕시 기, 알킬 기, 니트로 기, 아미노 기, 술폭시 기, 메르캅토 기, 아미드, 에스테르, 니트릴 기 또는 이소니트릴 기로부터 선택될 수 있다.
바람직한 할로 치환기는 클로로, 플루오로 및 브로모이다.
바람직한 알콕시 치환기는 메톡시, 에톡시, 프로폭시 및 부톡시 (그의 이성질체 포함)이다.
바람직한 알킬 치환기는 C1 내지 C8 알킬, 바람직하게는 C1 내지 C6 알킬 (그의 이성질체 포함)이다.
일부 실시양태에서 알데히드는 추가의 알데히드 관능기를 포함할 수 있다. 적합하게는 이러한 추가의 알데히드 기는 α-치환될 수 있다.
바람직한 실시양태에서 알데히드는 탄화수소 쇄를 포함한다. 이는 적합하게는 탄소 백본을 갖는 쇄이다. 그러나 탄소 백본에 1개 이상의 헤테로원자가 개재된 화합물도 또한 본 발명의 범주 내에 있다. 예를 들어 탄소 백본은 1개 이상의 산소, 황 또는 질소 분자가 개재될 수 있고, 따라서 알데히드는 에테르, 티오에테르, 아민 또는 디술피드 모이어티를 포함할 수 있다.
알데히드는 성질상 우세하게 지방족 또는 우세하게 방향족일 수 있다. 바람직하게는 알데히드는 지방족이다. 그러나 이는 1개 이상의 이중 결합 및/또는 1개 이상의 시클릭 기를 포함할 수 있다. 이는 직쇄형 또는 분지형일 수 있다.
알데히드가 히드록시-치환된 실시양태에서 임의의 적합한 히드록시 치환된 알데히드가 포함될 수 있다.
알데히드는 1개 이상의 히드록시 치환기를 포함할 수 있다.
적합하게는 알데히드는 1, 2 또는 3개의 히드록시 치환기, 바람직하게는 1 또는 2개의 치환기를 포함한다.
일부 바람직한 실시양태에서 알데히드는 사카라이드가 아니다.
바람직하게는 알데히드는 1개의 히드록시 치환기를 포함한다.
적합하게는 알데히드는 2, 3 또는 4 위치에 히드록시 치환기를 갖는다.
일부 실시양태에서 알데히드는 2 및 3 위치 또는 2 및 4 위치에 히드록시 치환기를 가질 수 있다.
적합하게는 알데히드는 2 위치 및/또는 3 위치에 히드록시 치환기를 가질 수 있다.
적합하게는 알데히드는 2 위치 또는 3 위치에 히드록시 치환기를 가질 수 있다.
특히 바람직한 실시양태에서 알데히드는 2 위치에 히드록시 치환기를 갖는다. 따라서 알데히드는 적합하게는 α-히드록시 알데히드/ 2-히드록시 알데히드이다.
알파-치환된 알데히드는 적합하게는 화학식 (I)의 화합물이다:
Figure pct00001
여기서 X는 히드록시, 알콕시, 카르복시, 알킬카르복시, 아미노, 니트로, 메르캅토, 할로, 케토, 술폭시, 알킬, 메르캅토, 아미드, 니트릴, 이소니트릴, 에스테르 및 다른 카르보닐 함유 기로부터 선택되고; Y는 수소, 히드록시, 알콕시, 카르복시, 알킬카르복시, 아미노, 니트로, 메르캅토, 할로, 케토, 술폭시, 알킬, 메르캅토, 아미드, 니트릴, 이소니트릴, 에스테르 및 다른 카르보닐 함유 기로부터 선택되고; R은 수소, 또는 1 내지 36개의 탄소 원자를 갖는 임의로 치환된 히드로카르빌 기이다.
바람직한 실시양태에서 Y는 수소 및 할로겐으로부터 선택된다. Y가 할로겐인 경우, X는 적합하게는 할로겐이고, 예를 들어 X 및 Y는 둘 다 플루오린일 수 있다. 바람직한 실시양태에서 Y는 수소이다.
바람직하게는 알파-치환된 알데히드는 화학식 (II)의 화합물이다:
Figure pct00002
여기서 X는 히드록시, 알콕시, 카르복시, 알킬카르복시, 아미노, 니트로, 메르캅토, 할로, 케토, 술폭시, 알킬, 메르캅토, 아미드, 니트릴, 이소니트릴, 에스테르 및 다른 카르보닐 함유 기로부터 선택되고, R은 수소, CHO, 또는 1 내지 36개의 탄소 원자를 갖는 임의로 치환된 히드로카르빌 기이다.
R은 수소, CHO, 또는 1 내지 30개의 탄소 원자, 바람직하게는 1 내지 20개의 탄소 원자, 보다 바람직하게는 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 임의로 치환된 알킬, 알케닐 또는 아릴 기일 수 있다.
적합하게는 R은 수소, 또는 1 내지 30개의 탄소 원자, 바람직하게는 1 내지 20개의 탄소 원자, 보다 바람직하게는 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 임의로 치환된 알킬, 알케닐 또는 아릴 기일 수 있다.
일부 실시양태에서 R은 CHO이고, 알데히드는 말론디알데히드 유도체이다.
바람직하게는 R은 수소 또는 1 내지 30개, 바람직하게는 1 내지 20개, 적합하게는 1 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 임의로 치환된 알킬 또는 알케닐 기이다.
일부 실시양태에서 R은 1 내지 7개, 바람직하게는 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 임의로 치환된 알킬 또는 알케닐 기이다.
일부 실시양태에서 R은 8 내지 14개, 바람직하게는 8 내지 12개의 탄소 원자를 갖는 임의로 치환된 알킬 또는 알케닐 기이다.
R은 케토, 히드록시, 할로, 카르복시, 아실, 니트로, 아미노, 메르캅토, 알콕시, 술폭시, 에스테르, 니트릴, 이소니트릴 또는 아미드로부터 선택된 1종 이상의 치환기로 치환될 수 있다. 탄소 백본은 1개 이상의 헤테로원자, 예를 들어 1개 이상의 산소, 질소 또는 황 원자가 개재될 수 있다.
일부 바람직한 실시양태에서 R은 1 내지 8개, 바람직하게는 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 비치환된 알킬 기이다.
일부 바람직한 실시양태에서 R은 4 내지 16개, 바람직하게는 8 내지 12개의 탄소 원자를 갖는 비치환된 알킬 기이다.
R은 히드록시 메틸렌, 메틸, 부틸, 헥실, 옥틸, 데실 및 도데실로부터 선택될 수 있다. 이들 기는 직쇄형 또는 분지형일 수 있다. 바람직하게는 이들은 직쇄형이다.
적합하게는 R은 수소, 히드록시메틸렌, 메틸, n-부틸 및 n-헥실로부터 선택된다.
R은 메틸, n-부틸, n-헥실 n-옥틸, n-데실 및 n-도데실로부터 선택될 수 있다.
바람직하게는 R은 메틸, n-부틸 및 n-헥실로부터 선택된다.
가장 바람직하게는 R은 n-부틸 및 n-헥실로부터 선택된다.
X는 히드록시, 알콕시, 카르복시, 알킬카르복시, 아미노, 니트로, 메르캅토, 할로, 케토, 술폭시, 알킬, 메르캅토, 아미드, 니트릴, 이소니트릴, 에스테르 및 다른 카르보닐 함유 기로부터 선택된다.
일부 바람직한 실시양태에서 X는 화학식 OZ의 기이고, 여기서 Z는 H, R1, R3COR2, R3CONHR2, R3NHCOR2, R3OCOR2, 또는 R3COOR2이고, 여기서 각각의 R1 및 R2는 1 내지 20개의 탄소 원자, 바람직하게는 1 내지 8개의 탄소 원자, 바람직하게는 1 내지 6개의 탄소 원자 및 가장 바람직하게는 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 임의로 치환된 히드로카르빌 기이고; R3은 결합, 또는 1 내지 20개의 탄소 원자, 바람직하게는 1 내지 8개의 탄소 원자, 바람직하게는 1 내지 6개의 탄소 원자 및 가장 바람직하게는 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 알킬렌 기이다.
R1 및 R2는 임의로 치환된 알킬 기이다. 바람직한 치환기는 히드록실 기, 특히 말단 히드록실 기이다.
적합하게는 R1 및 R2는 알킬 기, 바람직하게는 C1 내지 C4 알킬 기이다.
일부 특히 바람직한 실시양태에서 Z는 H 또는 R1이고, 여기서 R1은 C1 내지 C4 알킬 기 또는 화학식 HO(CH2)n의 기이고, 여기서 n은 1 내지 6, 바람직하게는 1 내지 4, 바람직하게는 2 또는 3이다.
일부 바람직한 실시양태에서 X는 할로 기이다. 적합하게는 X는 F, Br 또는 Cl, 바람직하게는 Br이다.
일부 특히 바람직한 실시양태에서 X는 OH, O(CH2)nA, Cl, Br 또는 F로부터 선택되고, 여기서 n은 1 내지 6, 바람직하게는 1 내지 4이고, A는 H 또는 OH이다.
일부 바람직한 실시양태에서 X는 HOCH2CH2이고, R은 수소이다.
일부 바람직한 실시양태에서 X는 Br이고, R은 CHO이다.
일부 가장 바람직한 실시양태에서 X는 OH이고, 알데히드는 2-히드록시 알데히드이다.
일부 바람직한 실시양태에서 X는 OH이고, R은 C1 내지 C6 알킬 또는 히드록시알킬 기이다.
화학식 (II)의 화합물은 2 위치에 치환되는 알데히드이다. 이는 1개 이상의 추가의 치환기를 가질 수 있다.
적합한 추가의 치환기는 히드록시 치환기, 추가의 알데히드 기, 케토 기, 카르복시 기, 아실 기, 할로 기, 알콕시 기, 알킬 기, 니트로 기, 아미노 기, 술폭시 기, 메르캅토 기, 아미드, 에스테르, 니트릴 기 또는 이소니트릴 기로부터 선택될 수 있다.
바람직한 할로 치환기는 클로로, 플루오로 및 브로모이다.
바람직한 알콕시 치환기는 메톡시, 에톡시, 프로폭시 및 부톡시 (그의 이성질체 포함)이다.
바람직한 알킬 치환기는 C1 내지 C8 알킬, 바람직하게는 C1 내지 C6 알킬 (그의 이성질체 포함)이다.
일부 실시양태에서 알데히드는 추가의 알데히드 관능기를 포함할 수 있다. 이러한 추가의 알데히드 기는 α-치환될 수 있다.
바람직한 실시양태에서 알데히드는 탄화수소 쇄를 포함한다. 이는 적합하게는 탄소 백본을 갖는 쇄이다. 그러나 탄소 백본에 1개 이상의 헤테로원자가 개재된 화합물도 또한 본 발명의 범주 내에 있다. 예를 들어 탄소 백본은 1개 이상의 산소, 황 또는 질소 분자가 개재될 수 있고, 따라서 알데히드는 에테르, 티오에테르, 아민 또는 디술피드 모이어티를 포함할 수 있다.
알데히드는 성질상 우세하게 지방족 또는 우세하게 방향족일 수 있다. 바람직하게는 알데히드는 지방족이다. 그러나 이는 1개 이상의 이중 결합 및/또는 1개 이상의 시클릭 기를 포함할 수 있다. 이는 직쇄형 또는 분지형일 수 있다.
본원에 사용하기 위한 적합한 알데히드는 2-히드록시데칸알, 2-히드록시도데칸알, 2-히드록시테트라데칸알, 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알, 글리세르알데히드, 2-히드록시부탄알, 3-히드록시부탄알, 4-히드록시부탄알, 브로모말론알데히드, 2-(2-히드록시에톡시)아세트알데히드, 2-클로로 옥탄알, 2-플루오로 옥탄알, 2-브로모 옥탄알, 6-히드록시헥산알, 3-히드록시프로판알 및 4-히드록시-부트-2-엔알을 포함한다.
본원에 사용하기 위한 적합한 알파-치환된 알데히드는 히드록시데칸알, 2-히드록시도데칸알, 2-히드록시테트라데칸알, 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알, 글리세르알데히드, 2-히드록시부탄알, 브로모말론알데히드, 2-(2-히드록시에톡시)아세트알데히드, 2-클로로 옥탄알, 2-플루오로 옥탄알 및 2-브로모 옥탄알을 포함한다.
본원에 사용하기 위한 적합한 알파-치환된 알데히드는 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알, 글리세르알데히드, 2-히드록시부탄알, 브로모말론알데히드, 2-(2-히드록시에톡시)아세트알데히드, 2-클로로 옥탄알, 2-플루오로 옥탄알 및 2-브로모 옥탄알을 포함한다.
본원에 사용하기 위한 적합한 히드록시-치환된 알데히드는 2-히드록시데칸알, 2-히드록시도데칸알, 2-히드록시테트라데칸알, 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알, 글리세르알데히드, 6-히드록시헥산알, 3-히드록시프로판알, 4-히드록시-부트-2-엔알, 2-히드록시부탄알, 3-히드록시부탄알 및 4-히드록시부탄알을 포함한다.
본원에 사용하기 위한 바람직한 히드록시-치환된 알데히드는 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알, 글리세르알데히드, 6-히드록시헥산알, 3-히드록시프로판알, 4-히드록시-부트-2-엔알, 2-히드록시부탄알, 3-히드록시부탄알 및 4-히드록시부탄알을 포함한다.
본원에 사용하기 위한 바람직한 알파-치환된 알데히드는 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알, 글리세르알데히드, 2-히드록시부탄알, 브로모말론알데히드 및 2-(2-히드록시에톡시)아세트알데히드를 포함한다.
본원에 사용하기 위한 보다 바람직한 알데히드는 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알 및 글리세르알데히드를 포함한다.
본원에 사용하기 위한 가장 바람직한 히드록시-치환된 알데히드는 2-히드록시헥산알 및 2-히드록시옥탄알 및 2-히드록시프로판알이다.
적합하게는 조성물은 알데히드를 적어도 0.1 wt%, 적합하게는 적어도 0.5 wt%, 바람직하게는 적어도 1 wt%, 예를 들어 적어도 1.5 wt%의 양으로 포함한다.
조성물은 알데히드를 50 wt% 이하, 바람직하게는 30 wt% 이하, 적합하게는 20 wt% 이하, 바람직하게는 10 wt% 이하, 보다 바람직하게는 5 wt% 이하, 예를 들어 4 wt% 이하, 3 wt% 이하 또는 2.75 wt% 이하의 양으로 포함할 수 있다.
일부 실시양태에서 조성물은 알데히드를 0.1 내지 10 wt%, 바람직하게는 0.5 내지 5 wt%, 적합하게는 0.5 내지 3 wt% 포함한다.
일부 대안적 실시양태에서 조성물은 알데히드의 보다 큰 농도, 예를 들어 20 내지 100 wt%, 바람직하게는 50 내지 100 wt%, 예를 들어 70 내지 100 wt% 또는 90 내지 100 wt% 포함할 수 있다.
제3 측면의 조성물은 2종 이상의 알데히드의 혼합물을 포함할 수 있다. 이러한 실시양태에서 상기 양은 조성물에 존재하는 모든 이러한 화합물의 총량을 지칭한다.
일부 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 2종 이상의 알데히드의 혼합물을 포함한다.
일부 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 2-히드록시옥탄알 및 1종 이상의 추가의 알데히드를 포함한다.
일부 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 글리세르알데히드 및 1종 이상의 추가의 알데히드를 포함한다.
일부 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 2-히드록시옥탄알 및 글리세르알데히드를 포함한다. 이는 임의로 1종 이상의 추가의 알데히드를 포함할 수 있다.
일부 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 10개 미만의 탄소 원자를 갖는 제1 알데히드 및 10개 이상의 탄소 원자를 갖는 제2 알데히드를 포함한다. 이는 임의로 1종 이상의 추가의 알데히드를 포함할 수 있다. 예를 들어 제3 측면의 조성물은 3 내지 9개의 탄소 원자, 바람직하게는 3 내지 8개의 탄소 원자를 갖는 제1 알파-치환된 알데히드 및 10 내지 18개의 탄소 원자, 바람직하게는 10 내지 16개의 탄소 원자, 보다 바람직하게는 10 내지 14개의 탄소 원자를 갖는 제2 알데히드를 포함할 수 있다. 이는 임의로 1종 이상의 추가의 알데히드를 포함할 수 있다.
일부 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 2-히드록시데칸알, 2-히드록시도데칸알 및 2-히드록시테트라데칸알로부터 선택된 1종 이상의 알데히드 및 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알, 글리세르알데히드, 2-히드록시부탄알, 3-히드록시부탄알, 4-히드록시부탄알, 브로모말론알데히드, 2-(2-히드록시에톡시)아세트알데히드, 2-클로로 옥탄알, 2-플루오로 옥탄알, 2-브로모 옥탄알, 6-히드록시헥산알, 3-히드록시프로판알 및 4-히드록시-부트-2-엔알로부터 선택된 1종 이상의 추가의 알데히드를 포함한다.
일부 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 2-히드록시데칸알, 2-히드록시도데칸알 및 2-히드록시테트라데칸알로부터 선택된 1종 이상의 알데히드 및 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알 및 글리세르알데히드로부터 선택된 1종 이상의 추가의 알데히드를 포함할 수 있다.
본 발명에 사용된 조성물은 숙신이미딜 에스테르를 포함할 수 있다.
적합한 숙신이미딜 에스테르는 FR2937543에 기재된 화합물을 포함한다.
바람직한 숙신이미딜 에스테르는 모노카르복실산의 에스테르 및 디카르복실산의 에스테르를 포함한다.
디카르복실산의 적합한 숙신이미딜 에스테르는 화학식 (III)의 화합물을 포함한다:
Figure pct00003
여기서 각각의 R1 및 R4는 독립적으로 수소 또는 술포네이트 모이어티이고; 각각의 R2 및 R3은 독립적으로 결합 또는 임의로 치환된 알킬렌, 알케닐렌 또는 아릴렌 기이고, X는 결합, (CH2)n, O, S 또는 S-S로부터 선택된다.
R1은 수소 또는 술포네이트 모이어티이다. 술포네이트 모이어티란 화학식 SO3X의 기를 지칭하는 것을 의미하며, 여기서 X는 수소, 알칼리 금속 또는 암모늄 이온이다. 바람직하게는 R1은 수소이다.
R4는 수소 또는 술포네이트 모이어티이다. 술포네이트 모이어티란 화학식 SO3X의 기를 지칭하는 것을 의미하며, 여기서 X는 수소, 알칼리 금속 또는 암모늄 이온이다. 바람직하게는 R4는 수소이다.
R2는 결합 또는 임의로 치환된 알킬렌, 알케닐렌 또는 아릴렌 기이다. 이는 케토, 히드록시, 할로, 카르복시, 아실, 니트로, 아미노, 메르캅토, 알콕시, 술폭시, 에스테르, 니트릴, 이소니트릴 또는 아미드로부터 선택된 1종 이상의 치환기로 치환될 수 있다.
바람직하게는 R2는 임의로 치환된 알킬렌 기이다. 보다 바람직하게는 R2는 비치환된 알킬렌 기이다.
R2는 직쇄 또는 분지형일 수 있다. 바람직하게는 R2는 1 내지 12개, 보다 바람직하게는 1 내지 18개, 적합하게는 1 내지 6개, 바람직하게는 1 내지 4개, 예를 들어 1 또는 2개의 탄소 원자를 갖는다.
R3은 결합 또는 임의로 치환된 알킬렌, 알케닐렌 또는 아릴렌 기이다. 이는 케토, 히드록시, 할로, 카르복시, 아실, 니트로, 아미노, 메르캅토, 알콕시, 술폭시, 에스테르, 니트릴, 이소니트릴 또는 아미드로부터 선택된 1종 이상의 치환기로 치환될 수 있다.
바람직하게는 R3은 임의로 치환된 알킬렌 기이다. 보다 바람직하게는 R3은 비치환된 알킬렌 기이다.
R3은 직쇄 또는 분지형일 수 있다. 바람직하게는 R3은 1 내지 12개, 보다 바람직하게는 1 내지 18개, 적합하게는 1 내지 6개, 바람직하게는 1 내지 4개, 예를 들어 1 또는 2개의 탄소 원자를 갖는다.
X는 결합, (CH2)n, O, S 또는 S-S로부터 선택된다. n은 바람직하게는 1 내지 10, 예를 들어 1 내지 4이다.
바람직하게는 X는 S 및 S-S로부터 선택된다.
본원에 사용하기 위한 일부 바람직한 디에스테르는 하기 화합물을 포함한다:
Figure pct00004
본원에 사용하기 위한 바람직한 숙신이미딜 에스테르는 모노카르복실산의 에스테르이다.
본원에 사용하기 위한 특히 바람직한 숙신이미딜 에스테르는 화학식 (IV)의 화합물을 포함한다:
Figure pct00005
여기서 R은 적어도 5개의 탄소 원자를 갖는 임의로 치환된 히드로카르빌 기이고; R1은 수소 또는 가용화제이다.
R1은 수소 또는 가용화 기이다.
가용화 기는 화학식 (I)의 화합물의 수용해도를 개선시키는 임의의 모이어티로부터 선택될 수 있다. 적합한 가용화 기는 히드록시, 알콕시, 폴리알콕시, 알킬카르복시, 술포 및 포스포노 기를 포함한다.
바람직하게는 R1은 수소 및 술포네이트 모이어티로부터 선택된다.
일부 실시양태에서 R1은 술포네이트 모이어티이다. 술포네이트 모이어티란 화학식 SO3X의 기를 지칭하는 것을 의미하며, 여기서 X는 수소, 알칼리 금속 또는 암모늄 이온이다.
바람직하게는 R1은 수소이다.
바람직하게는 R은 36개 이하의 탄소 원자, 적합하게는 30개 이하의 탄소 원자, 바람직하게는 24개 이하의 탄소 원자, 보다 바람직하게는 20개 이하의 탄소 원자, 바람직하게는 18개 이하의 탄소 원자, 바람직하게는 14개 이하의 탄소 원자, 가장 바람직하게는 12개 이하의 탄소 원자를 갖는 임의로 치환된 히드로카르빌 기이다.
R은 5 내지 36개의 탄소 원자, 적합하게는 5 내지 30개의 탄소 원자, 바람직하게는 5 내지 20개의 탄소 원자, 보다 바람직하게는 5 내지 12개의 탄소 원자를 갖는 임의로 치환된 알킬, 알케닐, 아릴, 알크아릴 또는 아르알킬 기일 수 있다.
일부 실시양태에서 R은 6 내지 24개, 바람직하게는 6 내지 16개, 보다 바람직하게는 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 아릴 기이다.
일부 실시양태에서 R은 임의로 치환된 페닐 기이다. R은 페닐일 수 있다.
일부 실시양태에서 R은 5 내지 24개, 바람직하게는 5 내지 16개, 적합하게는 6 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 임의로 치환된 알킬 또는 알케닐 기이다.
R은 케토, 히드록실, 할로, 아릴, 카르복시, 아실, 니트로, 아미노, 메르캅토, 알콕시, 술폭시, 에스테르, 니트릴, 이소니트릴 또는 아미드로부터 선택된 1개 이상의 치환기로 치환될 수 있다. 탄소 백본은 1개 이상의 헤테로원자, 예를 들어 1개 이상의 산소, 질소 또는 황 원자가 개재될 수 있다.
일부 바람직한 실시양태에서 R은 5 내지 11개, 바람직하게는 6 내지 10개, 보다 바람직하게는 7 내지 9개의 탄소 원자를 갖는 비치환된 알킬 기이다.
적합하게는 R은 n-헵틸 및 n-노닐로부터 선택된다.
바람직하게는 R은 n-헵틸이다.
적합하게는 조성물은 숙신이미딜 에스테르를 적어도 0.1 wt%, 적합하게는 적어도 0.5 wt%, 바람직하게는 적어도 1 wt%, 예를 들어 적어도 1.5 wt%의 양으로 포함한다.
조성물은 숙신이미딜 에스테르를 50 wt% 이하, 바람직하게는 30 wt% 이하, 적합하게는 20 wt%, 예를 들어 10 wt% 이하, 예를 들어 내지 5 wt% 이하, 3 wt% 이하 또는 2.75 wt% 이하의 양으로 포함할 수 있다.
일부 실시양태에서 조성물은 적합하게는 0.1 내지 10 wt%, 바람직하게는 0.5 내지 5 wt%, 예를 들어 숙신이미딜 에스테르의 1 내지 3 wt%를 포함할 수 있다.
제3 측면의 조성물은 2종 이상의 숙신이미딜 에스테르를 포함할 수 있다. 이러한 실시양태에서 상기 양은 조성물에 존재하는 모든 이러한 화합물의 총량을 지칭한다.
추가로 본 발명에 사용된 조성물은 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함한다.
이에 의한 의심을 피하기 위해 이는 조성물이 1종 또는 1종 초과의 킬레이트화제를 함유하며 아민과 카르복실산의 염을 함유하지 않을 수 있거나; 킬레이트화제를 함유하지 않으며 1종 또는 1종 초과의 아민과 카르복실산의 염을 포함할 수 있거나; 또는 1종 또는 1종 초과의 킬레이트화제 및 1종 또는 1종 초과의 아민과 카르복실산의 염을 함유할 수 있음을 의미한다.
임의의 적합한 킬레이트화제가 사용될 수 있다. 이 유형의 화합물은 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 공지될 것이다.
본원에 사용하기 위한 바람직한 킬레이트화제는 폴리카르복실산 유래 킬레이트화제다.
본 발명에 사용된 조성물은 킬레이트화제를 포함한다. 일부 바람직한 실시양태에서 킬레이트화제는 글루탐산 N,N-디아세트산 (GLDA), 디에틸렌 트리아민 펜타아세트산 (DTPA), 이미도 디숙신산 (IDS), L-아스파르트산 디아세트산 (ASDA), 에틸렌 디아민 테트라아세트산 (EDTA), 에틸렌 디아민 디숙신산 (EDDS), 히드록시에틸 에틸렌디아민트리아세트산 (HEDTA), 시트르산 및 그의 혼합물로부터 선택된다.
본 발명에 사용된 킬레이트화제는 폴리카르복실산의 유도체이다. 이는 킬레이트화제가 2개 이상의 카르복실산 모이어티 또는 그의 염을 포함하는 것을 의미한다. 적합하게는 본원에 사용하기 위한 킬레이트화제는 3, 4 또는 5개의 카르복실산 모이어티를 포함할 수 있다.
글루탐산 N,N-디아세트산 (GLDA)는 도 1에 나타낸 구조를 갖는다:
Figure pct00006
본 발명의 조성물에서 GLDA는 도 1에 나타낸 구조 및/또는 다수의 산성 양성자가 대체된, 즉 1, 2, 3 또는 4개의 산 기가 중화되거나 또는 부분적으로 중화된 동일한 구조를 가지면서 존재할 수 있다. 이는 유리 산 또는 그의 염 또는 착물로 존재할 수 있다.
GLDA는 거울상이성질체 또는 그의 혼합물로 존재할 수 있다. 바람직하게는 적어도 50%, 바람직하게는 적어도 70%, 보다 바람직하게는 적어도 90%, 가장 바람직하게는 적어도 95 wt%, 예를 들어 약 98 wt%가 [S]-GLDA로 존재한다. 일부 바람직한 실시양태에서 GLDA는 본질적으로 S 거울상이성질체로 이루어진다.
GLDA는 사나트륨 염 38 wt%를 포함하는 용액으로 상업적으로 입수가능하고 상표 디졸빈 GL-38(Dissolvine GL-38) 하에 판매된다.
디에틸렌 트리아민 펜타아세트산 (DTPA)은 도 2에 나타낸 구조를 갖는다:
Figure pct00007
성분 (b)가 DTPA를 포함하는 경우, 이는 도 2에 나타낸 구조를 갖는 형태로 제공될 수 있거나, 또는 다수의 수소 원자가 대체된 동일한 구조를 갖는 형태로 제공될 수 있다. 따라서 성분 (b)는 1, 2, 3, 4 또는 5개의 산 기가 중화되거나 또는 부분적으로 중화된 염을 포함할 수 있다.
DTPA의 염을 포함하는 경우, 이는 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 암모니아 또는 적합한 아민의 염일 수 있다.
1가 반대이온이 사용된 경우, 염은 일염, 이염, 삼염, 사염 또는 오염일 수 있다. 2가 양이온의 경우, 일염 또는 이염이 존재할 수 있다. 또한, 혼합 염도 존재할 수 있으며, 예를 들어 이나트륨 마그네슘 염 또는 나트륨 마그네슘 염이 존재할 수 있다. 바람직하게는, DTPA 잔기에 대한 반대이온(들)은 나트륨, 마그네슘, 칼슘, 칼륨, 리튬, 암모늄, 및 4급 암모늄 이온 중 1종 이상으로부터 선택된다.
바람직하게는 DTPA가 존재할 경우 오나트륨 염으로서 포함된다.
이미노디숙신산 (IDS)은 도 3에 나타낸 구조를 갖는다:
Figure pct00008
본 발명의 조성물에서 IDS는 도 3에 나타낸 구조 및/또는 다수의 산성 양성자가 대체된, 즉 1, 2, 3 또는 4개의 산 기가 중화되거나 또는 부분적으로 중화된 동일한 구조를 가지면서 존재할 수 있다. 이는 유리 산 또는 그의 염 또는 착물로 존재할 수 있다.
IDS 또는 그의 염은 거울상이성질체 또는 그의 혼합물로 존재할 수 있다. 바람직하게 그것은 라세미 혼합물로 존재한다.
IDS는 사나트륨 염 34 wt%를 포함하는 용액으로 상업적으로 입수가능하고 상표 베이퓨어 CX100(Baypure CX100) 하에 판매된다.
ASDA는 IDS의 구조 이성질체이고, 도 4에 나타낸 구조를 갖는다:
Figure pct00009
본 발명의 조성물에서 ASDA는 도 4에 나타낸 구조 및/또는 다수의 산성 양성자가 대체된, 즉 1, 2, 3 또는 4개의 산 기가 중화되거나 또는 부분적으로 중화된 동일한 구조를 가지면서 존재할 수 있다. 이는 유리 산 또는 그의 염 또는 착물로 존재할 수 있다.
EDTA는 도 5에 나타낸 구조를 갖는다:
Figure pct00010
성분 (b)가 EDTA를 포함하는 경우, 이는 도 5에 나타낸 구조를 갖는 형태로 또는 다수의 수소 원자가 대체된 동일한 구조를 갖는 형태로 제공될 수 있다. 따라서 성분 (b)는 1, 2, 3 또는 4개의 산 기가 중화되거나 또는 부분적으로 중화된 염을 포함할 수 있다.
EDTA의 염을 포함하는 경우, 이는 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 암모니아 또는 적합한 아민의 염일 수 있다.
1가 반대이온이 사용된 경우, 염은 일염, 이염, 삼염, 또는 사염일 수 있다. 2가 양이온의 경우, 일염 또는 이염이 존재할 수 있다. 또한, 혼합 염도 존재할 수 있으며, 예를 들어 이나트륨 마그네슘 염 또는 나트륨 마그네슘 염이 존재할 수 있다. 바람직하게는, EDTA 잔기에 대한 반대이온(들)은 나트륨, 마그네슘, 칼슘, 칼륨, 리튬, 암모늄, 및 4급 암모늄 이온 중 1종 이상으로부터 선택된다.
바람직하게는 EDTA가 존재할 경우, 이는 사나트륨 염으로 존재한다.
도 6에 나타낸 구조를 갖는 에틸렌디아민 디숙신산 (EDDS):
Figure pct00011
EDDS는 2개의 입체생성 중심을 포함하며 3개의 가능한 입체이성질체가 존재한다. 특히 바람직한 배위는 용이하게 생분해되는 [S,S]-에틸렌디아민 디숙신산이다.
본 발명의 조성물에서 "EDDS"는 도 6에 나타낸 구조 및/또는 다수의 수소 원자가 대체된 동일한 구조를 가지면서 존재할 수 있다. 따라서 EDDS는 또한 1, 2, 3 또는 4개의 산 기가 중화되거나 또는 부분적으로 중화된 숙시네이트 염을 함유할 수 있다. 이는 유리 산 또는 그의 염 또는 착물로 존재할 수 있다.
1종의 상업적으로 입수가능한 물질은 삼나트륨 에틸렌디아민 디숙시네이트이다. 상업용 제품 (나트를퀘스트(Natrlquest) E30 (RTM))은 30 wt% EDDS (유리 산으로 표현됨), 또는 삼나트륨 염 37 wt% (반대이온을 포함함)을 포함하는 수용액으로서 공급된다.
EDDS의 또 다른 상업적으로 입수가능한 형태는 상표 나트를퀘스트 E80 하에 상업적으로 입수가능한 테트라 산이다. 이는 산으로서의 80 wt% 고체 [S,S] EDDS, 및 결정수를 함유하는 분말로서 제공된다.
히드록시에틸에틸렌디아민트리아세트산 (HEEDTA 또는 HEDTA로 공지됨)은 도 7에 나타낸 구조를 갖는다:
Figure pct00012
본 발명의 조성물에서 HEDTA는 도 7에 나타낸 구조 및/또는 다수의 산성 양성자가 대체된, 즉 1, 2 또는 3개의 산 기가 중화되거나 또는 부분적으로 중화된, 동일한 구조를 가지고 존재할 수 있다. 이는 유리 산 또는 그의 염 또는 착물로 존재할 수 있다.
HEDTA는 사나트륨 염으로서 상표 디졸빈 H40(Dissolvine H40) 하에 악조 노벨(Akzo Nobel)로부터 상업적으로 입수가능하다.
시트르산은 유리 산으로서 또는 알칼리 금속 또는 암모늄 염으로서 포함될 수 있다.
일부 바람직한 실시양태에서 킬레이트화제는 DTPA, GLDA, IDS 및 그의 혼합물로부터 선택된다.
일부 특히 바람직한 실시양태에서 킬레이트화제는 DTPA, GLDA 및 그의 혼합물로부터 선택된다.
일부 실시양태에서 조성물은 폴리카르복실산 유래 킬레이트화제를 적어도 0.1 wt%, 적합하게는 적어도 1 wt%, 바람직하게는 적어도 3 wt%, 예를 들어 적어도 5 wt%, 적어도 6 wt%, 적어도 7 wt%, 또는 적어도 8 wt%의 양으로 포함한다.
조성물은 폴리카르복실산 유래 킬레이트화제를 50 wt% 이하, 바람직하게는 40 wt% 이하, 적합하게는 30 wt% 이하, 예를 들어 20 wt% 이하, 15 wt% 이하 또는 12 wt% 이하의 양으로 포함할 수 있다.
일부 실시양태에서 조성물은 카르복실산 유래 킬레이트화제를 0.1 내지 15 wt%, 적합하게는 0.25 내지 10 wt%, 바람직하게는 0.5 내지 5 wt%, 예를 들어 1 내지 3 wt%의 양으로 포함할 수 있다.
조성물은 폴리카르복실산 유래 킬레이트화제의 혼합물을 포함할 수 있다. 이러한 실시양태에서 상기 양은 조성물에 존재하는 모든 이러한 킬레이트화제의 총량을 지칭한다.
일부 실시양태에서 조성물은 GLDA를 포함한다. 일부 실시양태에서 조성물은 DTPA를 포함한다. 일부 실시양태에서 조성물은 GLDA 및 DTPA의 혼합물을 포함한다. 이러한 실시양태에서 GLDA 대 DTPA의 비는 바람직하게는 1:10 내지 10:1, 바람직하게는 1:5 내지 5:1, 예를 들어 1:2 내지 2:1이다.
본 발명의 조성물은 카르복실산의 아민 염을 포함할 수 있다.
적합한 카르복실산은 모노카르복실산, 디카르복실산 및 폴리카르복실산을 포함한다.
모노카르복실산이 바람직하다.
바람직한 실시양태에서 카르복실산은 탄화수소 쇄를 포함한다. 이는 적합하게는 탄소 백본을 갖는 쇄이다. 그러나 탄소 백본에 1개 이상의 헤테로원자가 개재된 화합물도 또한 본 발명의 범주 내에 있다. 예를 들어 탄소 백본은 1개 이상의 산소, 황 또는 질소 분자가 개재될 수 있고, 따라서 카르복실산은 에테르, 티오에테르, 아민 또는 디술피드 모이어티를 포함할 수 있다.
카르복실산은 사실상 우세하게 지방족 또는 우세하게 방향족일 수 있다. 바람직하게는 카르복실산은 지방족이다. 그러나 이는 1개 이상의 이중 결합 및/또는 1개 이상의 시클릭 기를 포함할 수 있다. 이는 직쇄형 또는 분지형일 수 있다.
일부 특히 바람직한 실시양태에서 염은 화학식 RCOOH의 카르복실산의 것이며, 여기서 R은 임의로 치환된 히드로카르빌 기, 적합하게는 임의로 치환된 알킬, 알케닐 또는 아릴 기이다.
일부 실시양태에서 R은 40개 이하의 탄소 원자, 바람직하게는 30개 이하의 탄소 원자, 보다 바람직하게는 24개 이하의 탄소 원자, 적합하게는 18개 이하의 탄소 원자, 예를 들어 12개 이하의 탄소 원자를 가질 수 있다.
바람직한 실시양태에서 조성물은 아민과 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 카르복실산의 염을 포함한다.
일부 바람직한 카르복실산은 5 내지 9개의 탄소 원자, 예를 들어 6 내지 8개의 탄소 원자를 갖는다.
R은 3 내지 9개의 탄소 원자, 바람직하게는 4 내지 8개의 탄소 원자, 보다 바람직하게는 5 내지 7개의 탄소 원자를 갖는 임의로 치환된 알킬, 알케닐 또는 아릴 기일 수 있다.
바람직하게는 R은 3 내지 9개, 바람직하게는 4 내지 8개, 적합하게는 5 내지 7개의 탄소 원자를 갖는 임의로 치환된 알킬 또는 알케닐 기이다.
R은 케토, 히드록실, 할로, 카르복시, 아실, 니트로, 아미노, 메르캅토, 알콕시, 술폭시, 에스테르, 니트릴, 이소니트릴 또는 아미드로부터 선택된 1개 이상의 치환기로 치환될 수 있다. 탄소 백본은 1개 이상의 헤테로원자, 예를 들어 1개 이상의 산소, 질소 또는 황 원자가 개재될 수 있다.
바람직하게는 R은 직쇄 알킬 기이다.
일부 바람직한 실시양태에서 R은 3 내지 9개, 바람직하게는 4 내지 8개, 보다 바람직하게는 5 내지 7개의 탄소 원자를 갖는 비치환된 알킬 기이다.
적합하게는 R은 이성질체를 포함하여 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 세틸, 노닐 및 그의 혼합물로부터 선택된다.
바람직하게는 R은 n-펜틸 및 n-헵틸로부터 선택된다.
가장 바람직하게는 R은 n-헵틸이다.
본 발명은 카르복실산과 아민의 염과 관련된다.
임의의 적합한 아민이 염을 형성하는데 사용될 수 있다. 적합한 아민은 1급, 2급 및 3급 아민 및 암모니아를 포함한다.
일부 바람직한 실시양태에서 아민은 화학식 R1R2R3N의 알킬아미노 및/또는 히드록시알킬 아미노 화합물이며, 각각의 R1, R2 및 R3은 수소 또는 알킬 기 또는 히드록시알킬 기이다. 각각의 R1, R2 및 R3은 동일하거나 상이할 수 있다. 적합하게는 각각의 R1, R2 및 R3은 수소 및 1 내지 6개의 탄소 원자, 예를 들어 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 히드록시알킬 기로부터 독립적으로 선택된다. 각각의 R1, R2 및 R3은 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 히드록시메틸, 히드록시에틸, 히드록시프로필, 히드록시부틸, 히드록시펜틸, 히드록시헥실 및 그의 이성질체로부터 선택될 수 있다. 아민은 알킬아민, 히드록시알킬아민, 디알킬아민, 히드록시알킬 알킬 아민, 디히드록시알킬아민, 트리알킬아민, 디알킬히드록시알킬아민, 디히드록시알킬아민 또는 트리히드록시알킬아민일 수 있다. 이러한 유형의 많은 상이한 화합물이 존재하며, 이들은 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 공지되어 있을 것이다. 일부 실시양태에서 아민은 시클릭 아민이다.
일부 실시양태에서 아민은 1급 아민이다. 적합한 1급 아민은 메틸아민, 에틸아민, 프로필아민, 부틸아민, 펜틸아민, 헥실아민, 2-아미노부탄올, 에탄올아민, 시클로헥실아민, 아미노프로판디올, 이소프로판올아민, 혼합 이소프로판올아민, 트로메타민 및 벤질아민을 포함한다.
바람직하게는 아민은 2급 아민 또는 3급 아민이다.
본원에 사용하기 위한 적합한 2급 아민 화합물은 디메틸아민, N,N-메틸에틸아민, N,N-메틸프로필아민, N,N-메틸부틸아민, 디에틸아민, N,N-에틸프로필아민, N,N-에틸부틸아민, 디프로필아민, N,N-프로필부틸아민, 디부틸아민, N,N-부틸메틸아민, N,N-부틸에틸아민, N,N-부틸프로필아민, N,N-메틸메탄올아민, N,N-메틸에탄올아민, 디에탄올아민, N,N-메틸디프로판올아민, 디프로판올아민, N,N-메틸부탄올아민, 디부탄올아민, N,N-에틸메탄올아민, N,N-에틸에탄올아민, N,N-에틸프로판올아민, N,N-에틸부탄올아민, N,N-프로필메탄올아민, N,N-프로필에탄올아민, N,N-프로필프로판올아민, N,N-프로필부탄올아민, N,N-부틸메탄올아민, N,N-부틸에탄올아민, N,N-부틸프로판올아민, N,N-부틸부탄올아민, 2-(2-아미노에톡시)에탄올, 아미노에틸 프로판디올, 아미노메틸 프로판디올, 아미노에틸 프로판올, 디이소프로필아민, 디이소프로판올아민, 모르폴린 및 그의 혼합물 및 이성질체를 포함한다.
본원에 사용하기 위한 일부 바람직한 3급 아민 화합물은 트리메틸아민, N,N-디메틸에틸아민, N,N-디메틸프로필아민, N,N-디메틸부틸아민, 트리에틸아민, N,N-디에틸메틸아민, N,N-디에틸프로필아민, N,N-디에틸부틸아민, 트리프로필아민, N,N-디프로필메틸아민, N,N-디프로필에틸아민, N,N-디프로필부틸아민, 트리부틸아민, N,N-디부틸메틸아민, N,N-디부틸에틸아민, N,N-디부틸프로필아민, N,N-디메틸메탄올아민, 메틸디메탄올아민, N,N-디메틸에탄올아민, 메틸디에탄올아민, N,N-디메틸프로판올아민, 메틸디프로판올아민, N,N-디메틸부탄올아민, 메틸디부탄올아민, N,N-디에틸메탄올아민, 에틸디메탄올아민, N,N-디에틸에탄올아민, 에틸디에탄올아민, N,N-디에틸프로판올아민, 에틸디프로판올아민, N,N-디에틸부탄올아민, 에틸디부탄올아민, N,N-디프로필메탄올아민, 프로필디메탄올아민, N,N-디프로필에탄올아민, 프로필디에탄올아민, N,N-디프로필프로판올아민, 프로필디프로판올아민, N,N-디프로필부탄올아민, 프로필디부탄올아민, N,N-디부틸메탄올아민, 부틸디메탄올아민, N,N-디부틸에탄올아민, 부틸디에탄올아민, N,N-디부틸프로판올아민, 부틸디프로판올아민, N,N-디부틸부탄올아민, 부틸디부탄올아민, 트리메탄올아민, 트리에탄올아민, 트리프로판올아민, 트리부탄올아민, 디에틸헥실아민, 디메틸톨릴아민, 비스-히드록시에틸 트로메타민, 디에틸에탄올아민, 디메틸아미노 메틸프로판올, 디메틸 이소프로판올아민, 디메틸 MEA, 히드록시에틸 메틸 톨릴 아민, 트리이소프로판올아민, 비스-트리스 (2-[비스(2-히드록시에틸)아미노]-2-(히드록시메틸)프로판-1,3-디올]) 및 그의 혼합물 및 이성질체를 포함한다.
일부 실시양태에서 아민은 2, 3개 이상의 질소 원자를 갖는 디아민, 트리아민 또는 폴리아민일 수 있다. 그러나 바람직한 아민은 모노아민 또는 디아민, 특히 모노아민이다. 아민이 디아민인 경우 염은 아민 당 오직 1 mol의 산이 존재하는 일염 또는 아민 당 2 mol의 산이 존재하는 이염일 수 있다.
적합한 폴리아민은 폴리알킬렌 폴리아민을 포함한다.
바람직한 디아민은 임의로 치환된 알킬렌 디아민, 예를 들어 에틸렌 디아민이다. 따라서 아민은 화학식 R1R2NCH2CH2NR3R4의 에틸렌 디아민일 수 있으며, 여기서 각각의 R1, R2, R3 및 R4는 수소 또는 알킬 기 또는 히드록시알킬 기이다. 각각의 R1, R2, R3 및 R4는 동일하거나 상이할 수 있다. 적합하게는 각각의 R1, R2, R3 및 R4는 수소, 및 1 내지 6개의 탄소 원자, 예를 들어 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 히드록시알킬 기로부터 독립적으로 선택된다. 각각의 R1, R2, R3 및 R4는 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 히드록시메틸, 히드록시에틸, 히드록시프로필, 히드록시부틸, 히드록시펜틸 및 히드록시헥실로부터 선택될 수 있다.
본원에 사용하기 위한 일부 특히 바람직한 염은 하기 구조를 갖는 화합물을 포함한다.
Figure pct00013
Figure pct00014
Figure pct00015
여기서 R은 3 내지 9개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 알케닐 기, 바람직하게는 펜틸 또는 헵틸이다.
특히 바람직한 실시양태에서 본 발명의 조성물은 옥탄산과, 트리에탄올아민 및 디에탄올아민, 바람직하게는 트리에탄올아민으로부터 선택된 아민의 염을 포함한다.
적합하게는 조성물은 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 카르복실산의 아민 염을 적어도 0.1 wt%, 적합하게는 적어도 0.5 wt%, 바람직하게는 적어도 1 wt%, 예를 들어 적어도 1.5 wt%의 양으로 포함한다.
조성물은 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 카르복실산의 아민 염을 50 wt% 이하, 바람직하게는 30 wt% 이하, 적합하게는 20 wt% 이하, 바람직하게는 10 wt% 이하, 보다 바람직하게는 5 wt% 이하, 예를 들어 4 wt% 이하, 3 wt% 이하 또는 2.75 wt% 이하의 양으로 포함할 수 있다.
일부 실시양태에서 조성물은 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 카르복실산의 아민 염을 0.1 내지 10 wt%, 바람직하게는 0.5 내지 5 wt%, 적합하게는 0.5 내지 3 wt% 포함한다.
일부 대안적 실시양태에서 조성물은 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 카르복실산의 아민 염의 보다 큰 농도, 예를 들어 20 내지 100 wt%, 바람직하게는 50 내지 100 wt%, 예를 들어 70 내지 100 wt% 또는 90 내지 100 wt%를 포함할 수 있다.
제3 측면의 조성물은 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 카르복실산의 2종 이상의 아민 염의 혼합물을 포함할 수 있다. 이러한 실시양태에서 상기 양은 조성물에 존재하는 모든 이러한 화합물의 총량을 지칭한다.
일부 바람직한 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 알데히드, 바람직하게는 알파-치환된 알데히드 및/또는 히드록시 치환된 알데히드와 접촉시키는 것을 포함한다.
일부 바람직한 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 알데히드, 바람직하게는 알파-치환된 알데히드 및/또는 히드록시 치환된 알데히드를 포함한다.
일부 바람직한 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 숙신이미딜 에스테르, 바람직하게는 화학식 (IV)의 화합물과 접촉시키는 것을 포함한다.
일부 바람직한 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 숙신이미딜 에스테르, 바람직하게는 화학식 (IV)의 화합물을 포함한다.
일부 바람직한 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 킬레이트화제, 바람직하게는 폴리카르복실산 유래 킬레이트화제와 접촉시키는 것을 포함한다.
일부 바람직한 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 킬레이트화제, 바람직하게는 폴리카르복실산 유래 킬레이트화제를 포함한다.
일부 바람직한 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 카르복실산의 아민 염과 접촉시키는 것을 포함하며, 여기서 바람직하게는 카르복실산이 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는다.
일부 바람직한 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 카르복실산의 아민 염을 포함하며, 여기서 바람직하게는 카르복실산이 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는다.
일부 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 알데히드, 바람직하게는 알파-치환된 알데히드 및/또는 히드록시 치환된 알데히드 및 킬레이트화제, 바람직하게는 폴리카르복실산 유래 킬레이트화제와 접촉시키는 것을 포함한다.
일부 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 알데히드, 바람직하게는 알파-치환된 알데히드 및/또는 히드록시 치환된 알데히드 및 킬레이트화제, 바람직하게는 폴리카르복실산 유래 킬레이트화제를 포함한다.
일부 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 숙신이미딜 에스테르, 바람직하게는 화학식 (IV)의 화합물 및 킬레이트화제 바람직하게는 폴리카르복실산 유래 킬레이트화제와 접촉시키는 것을 포함한다.
일부 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 숙신이미딜 에스테르, 바람직하게는 화학식 (IV)의 화합물 및 킬레이트화제, 바람직하게는 폴리카르복실산 유래 킬레이트화제를 포함한다.
일부 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 알데히드, 바람직하게는 알파-치환된 알데히드 및/또는 히드록시 치환된 알데히드 및 카르복실산의 아민 염과 접촉시키는 것을 포함하며, 여기서 바람직하게는 카르복실산이 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는다.
일부 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 알데히드, 바람직하게는 알파-치환된 알데히드 및/또는 히드록시 치환된 알데히드 및 카르복실산의 아민 염을 포함하며, 여기서 바람직하게는 카르복실산이 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는다.
일부 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 숙신이미딜 에스테르, 바람직하게는 화학식 (IV)의 화합물 및 카르복실산의 아민 염과 접촉시키는 것을 포함하며, 여기서 바람직하게는 카르복실산이 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는다.
일부 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 숙신이미딜 에스테르, 바람직하게는 화학식 (IV)의 화합물 및 카르복실산의 아민 염을 포함하며, 여기서 바람직하게는 카르복실산이 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는다.
일부 바람직한 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 하기와 접촉시키는 것을 포함한다:
- 숙신이미딜 에스테르, 바람직하게는 화학식 (IV)의 화합물;
- 킬레이트화제, 바람직하게는 폴리카르복실산 유래 킬레이트화제; 및
- 카르복실산의 아민 염, 바람직하게는 카르복실산이 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 것.
일부 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 하기를 포함한다:
- 숙신이미딜 에스테르, 바람직하게는 화학식 (IV)의 화합물;
- 킬레이트화제, 바람직하게는 폴리카르복실산 유래 킬레이트화제; 및
- 카르복실산의 아민 염, 바람직하게는 카르복실산이 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 것.
일부 바람직한 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 하기와 접촉시키는 것을 포함한다:
- 알데히드, 바람직하게는 알파-치환된 알데히드 및/또는 히드록시 치환된 알데히드;
- 킬레이트화제, 바람직하게는 폴리카르복실산 유래 킬레이트화제; 및
- 카르복실산의 아민 염, 바람직하게는 카르복실산이 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 것.
일부 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 하기를 포함한다:
- 알데히드, 바람직하게는 알파-치환된 알데히드 및/또는 히드록시 치환된 알데히드;
- 킬레이트화제, 바람직하게는 폴리카르복실산 유래 킬레이트화제; 및
- 카르복실산의 아민 염, 바람직하게는 카르복실산이 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 것.
일부 바람직한 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 하기와 접촉시키는 것을 포함한다:
- 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알, 글리세르알데히드, 2-히드록시부탄알, 3-히드록시부탄알, 4-히드록시부탄알, 브로모말론알데히드 및 2-(2-히드록시에톡시)아세트알데히드로부터 선택된 알데히드; 및
- 글루탐산 N,N-디아세트산 (GLDA), 디에틸렌 트리아민 펜타아세트산 (DTPA), 이미도 디숙신산 (IDS), L-아스파르트산 디아세트산 (ASDA), 에틸렌 디아민 테트라아세트산 (EDTA), 에틸렌 디아민 디숙신산 (EDDS), 히드록시에틸 에틸렌디아민트리아세트산 (HEDTA), 시트르산 및 그의 혼합물로부터 선택된 킬레이트화제.
일부 바람직한 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 하기를 포함한다:
- 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알, 글리세르알데히드, 2-히드록시부탄알, 3-히드록시부탄알, 4-히드록시부탄알, 브로모말론알데히드 및 2-(2-히드록시에톡시)아세트알데히드로부터 선택된 알데히드; 및
- 글루탐산 N,N-디아세트산 (GLDA), 디에틸렌 트리아민 펜타아세트산 (DTPA), 이미도 디숙신산 (IDS), L-아스파르트산 디아세트산 (ASDA), 에틸렌 디아민 테트라아세트산 (EDTA), 에틸렌 디아민 디숙신산 (EDDS), 히드록시에틸 에틸렌디아민트리아세트산 (HEDTA), 시트르산 및 그의 혼합물로부터 선택된 킬레이트화제.
일부 바람직한 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 하기와 접촉시키는 것을 포함한다:
- 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알, 글리세르알데히드, 2-히드록시부탄알, 3-히드록시부탄알, 4-히드록시부탄알, 브로모말론알데히드 및 2-(2-히드록시에톡시)아세트알데히드로부터 선택된 알데히드; 및
- 카르복실산이 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖고 아민이 화학식 R1R2R3N의 화합물 (여기서 각각의 R1, R2 및 R3은 수소, 및 1 내지 6개의 탄소 원자, 예를 들어 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 히드록시알킬 기로부터 독립적으로 선택됨)인 카르복실산의 아민 염.
일부 바람직한 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 하기를 포함한다:
- 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알, 글리세르알데히드, 2-히드록시부탄알, 3-히드록시부탄알, 4-히드록시부탄알, 브로모말론알데히드 및 2-(2-히드록시에톡시)아세트알데히드로부터 선택된 알데히드; 및
- 카르복실산이 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖고 아민이 화학식 R1R2R3N의 화합물 (여기서 각각의 R1, R2 및 R3은 수소, 및 1 내지 6개의 탄소 원자, 예를 들어 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 히드록시알킬 기로부터 독립적으로 선택됨)인 카르복실산의 아민 염.
일부 바람직한 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 하기와 접촉시키는 것을 포함한다:
- 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알, 글리세르알데히드, 2-히드록시부탄알, 3-히드록시부탄알, 4-히드록시부탄알, 브로모말론알데히드 및 2-(2-히드록시에톡시)아세트알데히드로부터 선택된 알데히드;
- 글루탐산 N,N-디아세트산 (GLDA), 디에틸렌 트리아민 펜타아세트산 (DTPA), 이미도 디숙신산 (IDS), L-아스파르트산 디아세트산 (ASDA), 에틸렌 디아민 테트라아세트산 (EDTA), 에틸렌 디아민 디숙신산 (EDDS), 히드록시에틸 에틸렌디아민트리아세트산 (HEDTA), 시트르산 및 그의 혼합물로부터 선택된 킬레이트화제; 및
- 카르복실산이 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖고 아민이 화학식 R1R2R3N의 화합물 (여기서 각각의 R1, R2 및 R3은 수소, 및 1 내지 6개의 탄소 원자, 예를 들어 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 히드록시알킬 기로부터 독립적으로 선택됨)인 카르복실산의 아민 염.
일부 바람직한 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 하기를 포함한다:
- 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알, 글리세르알데히드, 2-히드록시부탄알, 3-히드록시부탄알, 4-히드록시부탄알, 브로모말론알데히드 및 2-(2-히드록시에톡시)아세트알데히드로부터 선택된 알데히드;
- 글루탐산 N,N-디아세트산 (GLDA), 디에틸렌 트리아민 펜타아세트산 (DTPA), 이미도 디숙신산 (IDS), L-아스파르트산 디아세트산 (ASDA), 에틸렌 디아민 테트라아세트산 (EDTA), 에틸렌 디아민 디숙신산 (EDDS), 히드록시에틸 에틸렌디아민트리아세트산 (HEDTA), 시트르산 및 그의 혼합물로부터 선택된 킬레이트화제; 및
- 카르복실산이 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖고 아민이 화학식 R1R2R3N의 화합물 (여기서 각각의 R1, R2 및 R3은 수소 및 1 내지 6개의 탄소 원자, 예를 들어 1 내지 4개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 히드록시알킬 기로부터 독립적으로 선택됨)인 카르복실산의 아민 염.
일부 바람직한 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 하기와 접촉시키는 것을 포함한다:
- 2-히드록시헥산알 및 2-히드록시옥탄알 및 2-히드록시프로판알로부터 선택된 알데히드;
- 글루탐산 N,N-디아세트산 (GLDA), 디에틸렌 트리아민 펜타아세트산 (DTPA) 및 그의 혼합물로부터 선택된 킬레이트화제; 및
- 옥탄산 또는 헥산산의 디에탄올아민 또는 트리에탄올아민 염.
일부 바람직한 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 하기를 포함한다:
- 2-히드록시헥산알 및 2-히드록시옥탄알 및 2-히드록시프로판알로부터 선택된 알데히드;
- 글루탐산 N,N-디아세트산 (GLDA), 디에틸렌 트리아민 펜타아세트산 (DTPA) 및 그의 혼합물로부터 선택된 킬레이트화제; 및
- 옥탄산 또는 헥산산의 디에탄올아민 또는 트리에탄올아민 염.
일부 바람직한 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 2-히드록시옥탄알 및 GLDA와 접촉시키는 것을 포함한다.
일부 바람직한 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 2-히드록시옥탄알 및 GLDA를 포함한다.
일부 특히 바람직한 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 2-히드록시옥탄알 및 옥탄산의 트리에탄올아민 염과 접촉시키는 것을 포함한다.
일부 바람직한 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 2-히드록시옥탄알, GLDA 및 옥탄산의 트리에탄올아민 염을 포함한다.
일부 특히 바람직한 실시양태에서 제1 측면의 방법 및 제2 측면의 방법은 물질을 2-히드록시옥탄알, GLDA 및 옥탄산의 트리에탄올아민 염과 접촉시키는 것을 포함한다.
일부 바람직한 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 2-히드록시옥탄알, GLDA 및 옥탄산의 트리에탄올아민 염을 포함한다.
한 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 알데히드 0.1 내지 5 wt%, 킬레이트화제 0.1 내지 5 wt% 및 아민과 카르복실산의 염 0.1 내지 5 wt%를 포함한다. 상기 양은 조성물에 존재하는 각각 성분의 합계를 지칭한다.
하나의 바람직한 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 0.1 내지 5 wt% 2-히드록시옥탄알, 0.1 내지 5 wt% GLDA 및 0.1 내지 5 wt% 옥탄산의 트리에탄올아민 염을 포함한다.
일부 실시양태에서 조성물은 2개 이상의 반응성 모이어티 및 링커를 포함하는 가교제를 추가로 포함할 수 있다. 이 유형의 화합물은 예를 들어 US2015/034117 및 US2015/0034119에 기재되어 있다.
일부 실시양태에서 반응성 모이어티는 활성화 카르복실산 또는 술폰산 유도체이고, 링커는 반응성 모이어티와의 염 또는 공유 결합을 형성할 수 있는 폴리아미노 화합물이다.
일부 실시양태에서 반응성 모이어티는 말레산 유도체이고, 링커는 알킬렌 또는 옥시알킬렌 쇄에 의해 연결된 2개 이상의 아미노 기를 갖는다. 가교제는 말레이미드 또는 말레산 아민 염일 수 있다.
일부 실시양태에서 반응성 모이어티는 말레산 이온이고, 링커는 알킬렌 또는 옥시알킬렌 쇄에 의해 연결된 4급 암모늄 이온을 포함한다.
일부 바람직한 가교제는 하기 구조를 갖는다:
Figure pct00016
2개 이상의 반응성 모이어티 및 링커를 포함하는 가교제는 0.1 내지 30 wt%, 바람직하게는 0.1 내지 10 wt%, 적합하게는 0.5 내지 5 wt%의 양으로 존재할 수 있다.
본 발명의 조성물은 임의의 적합한 형태로 제공될 수 있다. 이는 겔, 페이스트, 크림 또는 왁스의 형태일 수 있다. 이는 액체 조성물의 형태일 수 있다. 이러한 조성물은 용액, 분산액 또는 에멀젼의 형태일 수 있다. 이는 고체 조성물로서, 예를 들어 분말로서 또는 바로서 제공될 수 있다. 일부 실시양태에서 사용 전에 희석되는 농축 조성물이 제공될 수 있다. 일부 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 물질과의 접촉 전에 1종 이상의 추가의 성분과 혼합되는 전구체 조성물의 일부일 수 있다.
제3 측면의 조성물의 형태 및 성질은 그의 용도에 따라 달라질 것이다.
일부 실시양태에서 조성물은 세탁 세제 조성물이다. 이러한 실시양태에서 조성물은 적합하게는 빌더, 계면활성제, 킬레이트화제, 표백제, 광학 증백제, 효소, 향료로부터 선택된 1종 이상의 추가의 성분 및 세탁 세제 조성물 중에 흔히 존재하는 다른 이러한 성분을 일반적으로 포함한다. 조성물은 손세탁 세탁 세제 조성물 또는 자동 세탁 세제 조성물일 수 있다.
특히 바람직한 실시양태에서 조성물은 모발 관리 조성물이다.
적합하게는 조성물은 1종 이상의 희석제 또는 담체를 포함한다. 바람직한 희석제 및 담체는 미용학적으로 승인된 화합물이고, 이들의 적합한 예는 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 공지될 것이다. 적합한 담체의 예는 유기 용매 (예를 들어, 탄화수소 용매 (예를 들어, 이소도데칸), 알콜 (예를 들어, 에탄올, 프로판올 및 부탄올), 프로필렌 카르보네이트, 벤질 알콜, 지방족 또는 방향족 에스테르 (예를 들어, 식물성 오일, 이소프로필 미리스테이트, C12-15 알킬 벤조에이트), 퍼플루오로카본 용매 및 실리콘 유체를 포함한다.
일부 실시양태에서 조성물은 수성 조성물이다. 적합하게는 물은 조성물에 존재하는 주요 용매이다. 일부 실시양태에서 물은 조성물에 존재하는 모든 용매 중 적어도 50 wt%, 바람직하게는 적어도 60 wt%, 보다 바람직하게는 적어도 70 wt%, 적합하게는 적어도 80 wt%, 예를 들어 적어도 90 wt% 또는 적어도 95 wt%를 공급한다. 일부 실시양태에서 1종 이상의 추가의 수혼화성 용매가 존재할 수 있다. 적합한 수혼화성 용매의 예는 1가 및 다가 알콜, 예를 들어 에탄올, 글리세롤 및 이소프로판올을 포함한다.
일부 실시양태에서 본 발명의 조성물은 수성이 아니고 주요 희석제 또는 담체는 친유성 물질이다. 이러한 실시양태에서 조성물은 주요 용매로서 1종 이상의 고급 지방 알콜, 미네랄 오일 및/또는 식물성 오일을 포함할 수 있다.
일부 실시양태에서 조성물은 실질적으로 수성이지만 알데히드는 자신이 가용성인 친유성 상 내에 분산된다.
일부 실시양태에서 조성물은 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종; 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염 및 1종 이상의 희석제 또는 담체로 본질적으로 이루어질 수 있다. 바람직한 실시양태에서 조성물은 1종 이상의 추가의 성분을 포함한다. 적합한 성분은 개인 관리 조성물에 전형적으로 사용되는 것이고, 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 공지되어 있다.
상술된 본 발명의 조성물은 그의 의도된 용도에 따라 상이한 성분을 포함할 수 있다. 일부 실시양태에서 조성물은 모발을 염색한 후 바로 사용될 수 있다. 대안적으로 조성물은 헤어 트리트먼트 조성물로서 1회 이상 사용될 수 있다. 일부 실시양태에서 이는 색상-손실 방지 조성물로서 제공될 수 있다. 대안적으로 조성물은 샴푸, 컨디셔너 또는 모발 스타일링 제품의 형태, 예를 들어 세럼, 왁스, 무스, 겔 또는 스프레이, 또는 일반적 모발 관리 이익을 제공하는데 사용될 수 있는 임의의 다른 헤어 트리트먼트 형태일 수 있다. 다수의 기능을 수행하는 조성물, 예를 들어 조합된 샴푸 및 컨디셔닝 조성물이 또한 본 발명의 범주 내에 있다.
적합하게는 조성물은 계면활성제 (음이온성, 양쪽성, 비이온성 및 양이온성 계면활성제 포함); 컨디셔닝제 (4급 암모늄 화합물, 양이온성 중합체, 실리콘, 합성 또는 천연 오일 또는 수지 등 포함), 지방 알콜, 전해질 또는 다른 레올로지 개질제, 불투명화제/펄제, 두피 유익제, 향료, 염료, UV 필터, 침투 증진제 (예를 들어, 프로필렌 카르보네이트, 벤질 알콜 등), 보존제, 항산화제, 유화제, pH 조정제 및 완충제 및 스타일링 중합체 (예를 들어, 폴리비닐피롤리돈 등)로부터 선택된 1종 이상의 추가의 성분을 포함한다.
일부 실시양태에서 조성물은 pH 조정제를 포함한다.
본원에 사용하기 위한 적합한 pH 조정제는 락트산, 수산화나트륨, 인산나트륨 및 그의 염 및 완충제를 포함할 수 있다.
조성물의 pH는 그의 용도에 따라 달라질 것이다. 그러나 바람직한 실시양태에서 조성물은 3 내지 9, 바람직하게는 3.5 내지 8, 보다 바람직하게는 4 내지 7, 바람직하게는 4 내지 6의 pH를 갖는다.
일부 바람직한 실시양태에서 조성물은 모발 관리 조성물이다. 적합한 모발 관리 조성물은 샴푸 조성물, 컨디셔닝 조성물, 모발 스타일링 조성물 및 모발 영구적 웨이빙, 릴렉싱 또는 영구적 스트레이트닝 조성물 또는 모발 착색 조성물을 포함한다.
모발 관리 조성물에 사용되는 적합한 추가의 성분 및 그의 양은 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 공지될 것이다. 성분의 상대비 및 이러한 조성물의 조성비는 통상의 기술자의 권한 내에 있을 것이다.
적합하게는 조성물은 적합하게는 적어도 50 wt% 물, 바람직하게는 적어도 60 wt% 물, 보다 바람직하게는 적어도 70 wt% 물을 포함하는 실질적으로 수성인 조성물이다.
적합하게는 조성물은 1종 이상의 계면활성제를 포함한다. 예를 들어 조성물은 0.1 내지 60 wt% 계면활성제, 바람직하게는 1 내지 30 wt% 계면활성제, 적합하게는 5 내지 25 wt% 계면활성제를 포함할 수 있다.
적합하게는 조성물은 1종 이상의 음이온성 계면활성제를 포함한다. 예를 들어 조성물은 1 내지 60 wt% 음이온성 계면활성제, 바람직하게는 1 내지 30 wt% 음이온성 계면활성제, 적합하게는 5 내지 25 wt% 음이온성 계면활성제를 포함할 수 있다.
일부 실시양태에서 조성물은 4급 암모늄 염을 적합하게는 0.1 내지 20 wt%, 바람직하게는 0.1 내지 10 wt%의 양으로 포함할 수 있다.
일부 실시양태에서 본 발명의 제3 측면의 조성물은 샴푸 조성물이다.
본 발명의 적합한 샴푸 조성물은 전형적으로 1종 이상의 음이온성 계면활성제를 0.5 내지 60 wt%, 바람직하게는 1 내지 50 wt%, 보다 바람직하게는 5 내지 30 wt%, 예를 들어 8 내지 20 wt% 또는 8 내지 12 wt%; 임의로 양쪽성 계면활성제를 0.1 내지 30 wt%, 바람직하게는 1 내지 15 wt%, 예를 들어 2 내지 12 wt%; 및 임의로 비-이온성 계면활성제를 0.1 내지 40 wt%, 바람직하게는 0.5 내지 30 wt%, 예를 들어 1 내지 15 wt% 또는 2 내지 12 wt% 포함한다.
본 발명의 샴푸 조성물은 음이온성 계면활성제 (예를 들어, 소듐 라우레트 술페이트, 소듐 라우로일 메틸 이세티오네이트, 소듐 코코일 메틸 이세티오네이트, 소듐 알파-올레핀 술포네이트, 소듐 라우릴 술포아세테이트, 소듐 모노알킬 포스페이트, 소듐 디알킬 포스페이트 및 소듐 코코일 메틸 타우레이트), 양쪽성 계면활성제 (예를 들어, 코카미도프로필 베타인, 소듐 라우로암포아세테이트, 코카미도프로필히드록시 술타인 및 디소듐 코코암포디아세테이트), 폼 부스터 (예를 들어, 코카미드 DEA, 코카미드 MEA, 코카미드 MIPA 라우레트-3), 지방 알킬 알콜 (예를 들어, 세틸 알콜, 스테아릴 알콜 및 베헤닐 알콜), 비이온성 계면활성제 (예를 들어, 알킬폴리글루코시드 및 알킬 에테르 에톡실레이트), 양이온성 중합체 (예를 들어, 구아 히드록시프로필 트리모늄 클로라이드, 폴리쿼터늄-10), 실리콘 (예를 들어, 폴리디메틸실록산 예컨대 디메티콘 및 디메티콘올), 레올로지 개질제 (예를 들어, 카르보머, PEG-150 디스테아레이트 및 크산탄 검), 합성 또는 천연 오일 또는 수지 (예를 들어, 미네랄 오일 또는 식물성 오일), 항비듬 작용제 (예를 들어, 피록톤 올라민, 아연 피리티온 및 살리실산), 스타일링제 (예를 들어, 폴리이소부틸렌 및 폴리비닐 피롤리돈/비닐 아세테이트 공중합체), 보습제 (예를 들어, 판테놀 및 글리세롤), 비-중합체성 컨디셔닝제 (예를 들어, 4급 암모늄 화합물 예컨대 베헨트리모늄 클로라이드 및 스테아르알코늄 클로라이드), 불투명화제/펄제 (예를 들어, 스티렌/아크릴레이트 공중합체 및 에틸렌 글리콜 디스테아레이트), 두피 유익제, 향료, 착색제, 모발 염료, 선스크린, UV 필터, 보존제, 침투 증진제 (예를 들어, 프로필렌 카르보네이트, 벤질 알콜 등) 및 본원에 정의된 바와 같은 희석제 및 담체로부터 선택된 1종 이상의 성분을 포함할 수 있다.
본 발명의 일부 바람직한 샴푸 조성물은 1종 이상의 음이온성 계면활성제 (예를 들어, 소듐 라우레트 술페이트, 소듐 라우로일 메틸 이세티오네이트, 소듐 코코일 이세티오네이트, 소듐 알파-올레핀 술포네이트, 소듐 라우릴 술포아세테이트, 소듐 모노알킬 포스페이트 및 소듐 디알킬 포스페이트)를 0.5 내지 60 wt%; 및 양쪽성 계면활성제 (예를 들어, 코카미도프로필 베타인, 소듐 라우로암포아세테이트 및 코카미도프로필히드록시 술타인)를 0 내지 30 wt% 포함한다.
일부 실시양태에서 본 발명의 제3 측면의 조성물은 컨디셔닝 조성물이다.
본 발명의 적합한 컨디셔닝 조성물은 전형적으로 1종 이상의 양이온성 계면활성제를 0.1 내지 20 wt%, 바람직하게는 0.5 내지 8 wt%, 보다 바람직하게는 1 내지 4 wt%; 1종 이상의 지방 알킬 알콜을 0.1 내지 20 wt%, 바람직하게는 0.5 내지 8 wt%, 보다 바람직하게는 1 내지 4 wt%; 및 임의로 1종 이상의 비-이온성 계면활성제를 0.1 내지 20 wt%, 바람직하게는 0.5 내지 8 wt%, 보다 바람직하게는 1 내지 4 wt%; 및 임의로 1종 이상의 양이온성 중합체를 0.1 내지 20 wt%, 바람직하게는 0.5 내지 8 wt%, 보다 바람직하게는 1 내지 4 wt% 포함한다.
린스-오프 및 리브-온 컨디셔너 ('헤어 마스크' 포함), 및 리브-인 또는 린스-오프인 모발 광택 또는 외관 증진 생성물, 곱슬 트리트먼트 세럼 및 다른 트리트먼트를 포함하는 본 발명의 컨디셔닝 조성물은, 착색된 후 바로 또는 이후 임의의 시간에 모발에, 및 모발-토닉제에 적용되도록 설계된다. 이러한 조성물은 하기로부터 선택된 1종 이상의 추가의 성분을 포함할 수 있다: 모노- 및 디-지방 알킬 3급 아민 및 4급 암모늄 화합물 (예를 들어, 모노- 및 디-지방 알킬 4급 암모늄 화합물, 예컨대 세트리모늄 클로라이드, 스테아르트리모늄 클로라이드 및 베헨트리모늄 클로라이드)을 포함하는 양이온성 계면활성제, 지방 알킬 알콜 (예를 들어, 세틸 알콜, 스테아릴 알콜 및 베헤닐 알콜), 비이온성 계면활성제 (예를 들어, 알킬폴리글루코시드 및 알킬 에테르 에톡실레이트, 예를 들어, 세테아레트-20), 양이온성 중합체 (예를 들어, 구아 히드록시프로필 트리모늄 클로라이드, 폴리쿼터늄-10), 실리콘 (예를 들어, 폴리디메틸실록산 예컨대 디메티콘 및 디메티콘올), 레올로지 개질제 (예를 들어, 히드록시에틸 셀룰로스 및 폴리쿼터늄-37), 보습제 (예를 들어, 판테놀 및 글리세롤), 비-중합체성 컨디셔닝제 (예를 들어, 4급 암모늄 화합물 예컨대 베헨트리모늄 클로라이드 및 스테아르알코늄 클로라이드), 두피 유익제, 향료, 착색제, 모발 염료, 선스크린, UV 필터 보존제, 침투 증진제 (예를 들어, 프로필렌 카르보네이트, 벤질 알콜 등) 및 본원에 정의된 바와 같은 희석제 및 담체.
본 발명의 일부 바람직한 컨디셔닝 조성물은 양이온성 계면활성제 (예를 들어 모노-및 디-지방 알킬 4급 암모늄 화합물, 모노-및 디-지방 알킬 3급 아민)를 0.1 내지 20 wt%, 지방 알킬 알콜을 0.1% 내지 20 wt%; 비-이온성 계면활성제 (예를 들어 세테아레트-20)를 0.1% 내지 20 wt% 포함한다.
일부 실시양태에서 본 발명의 제3 측면의 조성물은 모발 스타일링 조성물이다.
본 발명의 적합한 모발 스타일링 조성물은 1종 이상의 모발 스타일링 중합체를 전형적으로 0.1 내지 40 wt%, 바람직하게는 0.1 내지 30 wt%, 보다 바람직하게는 0.5 내지 10 wt% 포함한다.
본 발명의 모발 스타일링 조성물 (겔, 추진제 함유 및 무함유 무스, 추진제 함유 및 무함유 헤어 스프레이, 모발 포마드, 모발 왁스, 모발 크림, 모발 브릴리언틴, 및 (예를 들어 헤어 살롱에서 사용되는) 블로우 드라이어, 고데기, 스트레이트닝 아이론, 열기 후드와 같은 가열 스타일링 장비와 함께 사용되도록 설계된 조성물 포함)은 하기로부터 선택된 1종 이상의 추가의 성분을 포함할 수 있다: 모발 스타일링 중합체 (예를 들어, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐피롤리돈/비닐 아세테이트 공중합체, 옥틸아크릴아미드/아크릴레이트/부틸아미노에틸 메타크릴레이트 공중합체, 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물 공중합체 및 폴리에틸렌 왁스), 레올로지 개질제 (예를 들어, 카르보머, 아크릴레이트 공중합체, 히드록스에틸셀룰로스, 크산탄 검 및 폴리쿼터늄-37), 아미노메틸 프로판올, 지방 알킬 알콜 (예를 들어, 세틸 알콜, 스테아릴 알콜 및 베헤닐 알콜), 에탄올, 프로필 알콜, 이소프로필 알콜, 페트롤라툼, 미네랄 오일, 오조케라이트, 밀랍, 카르나우바 왁스, 실리콘 (예를 들어, 폴리디메틸실록산 예컨대 디메티콘 및 디메티콘올), 폴리에틸렌 글리콜, 음이온성 계면활성제 (예를 들어, 소듐 라우레트 술페이트 및 소듐 라우로일 메틸 이세티오네이트), 양쪽성 계면활성제 (예를 들어, 코카미도프로필 베타인 및 디소듐 코코암포디아세테이트), 비이온성 계면활성제 (예를 들어, 알킬폴리글루코시드 및 알킬 에테르 에톡실레이트), 양이온성 중합체 (예를 들어, 구아 히드록시프로필 트리모늄 클로라이드, 폴리쿼터늄-10), 실리콘 (예를 들어, 폴리디메틸실록산 예컨대 디메티콘 및 디메티콘올), 보습제 (예를 들어, 판테놀 및 글리세롤), 비-중합체성 컨디셔닝제 (예를 들어, 4급 암모늄 화합물 예컨대 베헨트리모늄 클로라이드 및 스테아르알코늄 클로라이드), 두피 유익제, 향료, 착색제, 모발 염료, 선스크린, UV 필터, 보존제, 침투 증진제 (예를 들어, 프로필렌 카르보네이트, 벤질 알콜 등) 및 본원에 정의된 바와 같은 희석제 및 담체.
본 발명의 일부 바람직한 모발 스타일링 조성물은 1종 이상의 모발 스타일링 중합체/수지 (예를 들어 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐피롤리돈/비닐 아세테이트 공중합체, 옥틸아크릴아미드/아크릴레이트/부틸아미노에틸 메타크릴레이트 공중합체, 메틸 비닐 에테르/말레산 무수물 공중합체 및 폴리에틸렌 왁스)를 0.1 내지 40 wt% 포함한다.
관련 기술분야의 통상의 기술자는 적합한 성분을 함유하는 단일 생성물로부터 모발에 모발 컨디셔닝, 광택 등, 및 모발 스타일링 중 1종 이상의 특질을 부여하는 것이 가능함을 인지할 것이고, 따라서 이러한 조합의 모발 이익 효과를 갖는 조성물은 또한 본 발명에 포함된다.
일부 실시양태에서 제3 측면의 조성물은 모발 영구적 웨이빙 조성물이다.
본 발명의 적합한 모발 영구적 웨이빙 조성물은 1종 이상의 환원제를 전형적으로 0.1 내지 20 wt%, 바람직하게는 0.5 내지 15 wt%, 보다 바람직하게는 3 내지 12 wt% 포함한다.
본 발명의 일부 바람직한 모발 영구적 웨이빙 조성물은 1종 이상의 환원제 (예를 들어 티오글리콜산, 암모늄 티오글리콜레이트, 티오락트산, 시스테아민, 시스테인, 글리세롤 모노티오글리콜레이트, 소듐 술파이트/비스술파이트로서임)를 0.5 내지 15 wt% 포함하고; 알칼리화제 (예를 들어 암모니아, 모노에탄올아민)를 환원 성분의 pH를 pH 8-13으로 조정하기에 충분한 양으로 포함한다. 모발 영구적 웨이빙 조성물은 1종 이상의 산화제 (예를 들어 과산화수소, 브로민산나트륨, 과탄산나트륨 및 과붕산나트륨)를 0.5 내지 10 wt% 포함하는 제2 조성물과의 패키지로 전형적으로 제공되며, 이는 환원제 조성물이 적용되고, 처리되게 하고, 이어서 세정된 후에 적용된다.
일부 실시양태에서 본 발명의 제3 측면의 조성물은 모발 릴렉싱 조성물이다.
본 발명의 모발 릴렉싱 조성물은 수산화나트륨, 수산화리튬, 수산화칼륨, 수산화칼슘 및 구아니딘 카르보네이트로부터 선택된 1종 이상의 성분을 포함할 수 있다. 이들 성분은 적합하게는 0.5 내지 5 wt%의 양으로 존재한다
다른 유형의 영구적 스트레이트닝 조성물은 포름알데히드, 글리콕실산, 글루타르알데히드 및 글리옥실로일 카르보시스테인으로부터 선택된 1종 이상의 성분을 포함할 수 있다. 이들 성분은 적합하게는 0.1 내지 10 wt%의 양으로 존재한다
상기에 언급된 모발 영구적 웨이빙, 릴렉싱 및 영구적 스트레이트닝 조성물은 음이온성 계면활성제 (예를 들어, 소듐 라우레트 술페이트 및 소듐 라우로일 메틸 이세티오네이트), 양쪽성 계면활성제 (예를 들어, 코카미도프로필 베타인 및 디소듐 코코암포디아세테이트), 4급 암모늄 화합물 (예를 들어, 세트리모늄 클로라이드, 스테아르트리모늄 클로라이드 및 베헨트리모늄 클로라이드), 지방 알킬 알콜 (예를 들어, 세틸 알콜, 스테아릴 알콜 및 베헤닐 알콜), 비이온성 계면활성제 (예를 들어, 알킬폴리글루코시드 및 알킬 에테르 에톡실레이트), 양이온성 중합체 (예를 들어, 구아 히드록시프로필 트리모늄 클로라이드, 폴리쿼터늄-10), 실리콘 (예를 들어, 폴리디메틸실록산 예컨대 디메티콘 및 디메티콘올), 불투명화제 (예를 들어, 스티렌 아크릴레이트 공중합체), 레올로지 개질제 (예를 들어, 히드록시에틸 셀룰로스 및 크산탄 검), 보습제 (예를 들어, 판테놀 및 글리세롤), 비-중합체성 컨디셔닝제 (예를 들어, 4급 암모늄 화합물 예컨대 베헨트리모늄 클로라이드 및 스테아르알코늄 클로라이드), 향료, 선스크린, UV 필터, 착색제 및 본원에 정의된 바와 같은 희석제 및 담체로부터 선택된 1종 이상의 추가의 성분을 추가로 포함할 수 있다.
일부 실시양태에서 본 발명의 제3 측면의 조성물은 모발 착색 조성물이다.
모발 착색 조성물은 염료 화합물을 포함할 수 있고/거나 산화 조성물과의 혼합 후에 계내에 모발에서 활성 염료를 형성하는 염료 전구체 화합물을 포함할 수 있다.
본 발명의 산화 모발 착색 조성물은 1종 이상의 중간체, 예를 들어 p-페닐렌디아민, N,N-비스(2-히드록시에틸)-p-페닐렌디아민, p-톨루엔디아민, p-아미노페놀 페닐 메틸 피라졸론, m-페닐렌디아민, 레조르시놀, 1-나프톨, 1-히드록시에틸 4,5-디아미노 피라졸 및 m-아미노페놀을 포함할 수 있다. 이들 중간체는 목적하는 쉐이드 (shade)에 따라, 0.01% 내지 15%의 총 중간체 농도에서 임의의 조합 및 비로 존재할 수 있다. 이러한 조성물은 전형적으로 추가로 1종 이상의 알칼리화제, 예를 들어 암모니아, 수산화암모늄, 수산화나트륨 및 모노에탄올아민을 포함한다. 산화 염색을 위한 현색제 조성물은 산화제, 예를 들어 과산화수소, 브로민산나트륨, 과탄산나트륨 또는 과붕산나트륨을 포함한다. 이들은 전형적으로 0.1 내지 30 wt%의 양으로 존재한다.
본 발명의 직접 염료 착색 조성물은 예를 들어 니트로페닐렌디아민 (예를 들어, 4-니트로-o-페닐렌디아민 등), 니트로아미노페놀 (예를 들어, 2-아미노-4-니트로페놀 등), 아미노안트라퀴논 (예를 들어, 디스퍼스 레드 11 등)의 부류로부터의 1종 이상의 직접 염료를 포함할 수 있다. 이들은 목적하는 쉐이드에 따라, 전형적으로 0.1 wt% 내지 20 wt%의 양으로 존재한다.
일부 바람직한 실시양태에서 본 발명의 조성물은 모발 착색 조성물이 아니다. 바람직하게는, 조성물은 염료 화합물 및/또는 염료 전구체 화합물을 0.1 wt% 미만, 바람직하게는 0.01 wt% 미만으로 포함한다. 바람직하게는, 조성물은 염료 화합물 및/또는 염료 전구체 화합물을 포함하지 않는다. 조성물에 색상을 제공하는 화합물 예컨대 안료 및 진주광택제는 존재할 수 있지만, 적합하게는 조성물은 모발 염색에 사용될 수 있는 임의의 화합물을 포함하지 않는다.
제1 측면의 방법에서 물질은 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종; 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염과 접촉된다.
물질, 바람직하게는 모발은 조성물과 접촉될 때 습윤 또는 건조일 수 있다.
적합하게는, 조성물은 물질에 적용되고, 물질의 표면에 퍼진다. 물질이 모발인 바람직한 실시양태에서, 조성물은 샴푸의 방식으로 모발 내로 문질러질 수 있고/거나 이는 모발을 통해 빗질될 수 있다.
본 발명의 조성물은 물질에 남겨질 수 있거나 이는 물질로부터 제거될 수 있다. 적합하게는, 이는 온수를 사용하여 세정될 수 있다.
일부 실시양태에서 조성물은 물질과 접촉되고, 전체에 퍼지고, 이어서 즉시 제거될 수 있다.
적합하게는 조성물은 세정, 바람직하게는 물을 사용하여 물질로부터 제거될 수 있다.
일부 실시양태에서 조성물은 세제 조성물에 의해 세척함으로써 물질로부터 세척될 수 있다.
일부 실시양태에서 조성물은 예를 들어 브러싱에 의해 물질로부터 기계적으로 제거될 수 있다.
일부 실시양태에서 조성물은 물질에 남겨지고, 물질이 정상 주기 동안 세척되기 전까지 제거되지 않을 수 있다.
물질이 모발인 일부 실시양태에서, 조성물은 모발에 적용되고, 전체에 퍼지고, 모발 내로 문질러지고, 이어서 샴푸의 방식으로 물로 세정될 수 있다.
물질이 모발인 일부 실시양태에서, 조성물은 모발에 적용되고, (임의로 빗질에 의해) 모발 전체에 퍼지고, 단기간 동안 모발에 남겨지고, 이어서 컨디셔너의 방식으로 물에 의해 모발로부터 세정될 수 있다.
물질이 모발인 일부 실시양태에서, 조성물은 스타일링 제품의 방식으로 모발과 접촉되고, 모발에 남겨질 수 있다. 조성물은 모발 전체에 분무되고, 모발 전체에 문질러지고, 모발 전체에 빗질하거나, 또는 달리 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 공지된 방식으로 모발을 통해 퍼질 수 있다.
조성물이 모발에 남겨진 실시양태에서, 이는 적합하게는 모발이 다음에 세척되기 전까지 모발에 남아있지만, 조성물의 일부는 정상 활동 동안 털어내지거나 떼어내질 수 있다.
본 발명의 방법에서 조성물은 적합하게는 주위 온도에서 물질, 바람직하게는 모발과 접촉된다. 일부 실시양태에서 조성물은 주위 온도 초과의 온도에서 물질과 접촉될 수 있다.
일부 실시양태에서 조성물은 모발과 접촉될 수 있고, 조성물을 보유한 모발은 이어서 가열되고/거나 조작되고/거나 건조된다. 따라서 모발은 조성물이 적용된 후 헤어드라이어를 사용하여 건조되거나 스트레이트닝될 수 있다.
본 발명의 제1 및 제2 측면의 방법은 모발을 가열시키는 것을 포함할 수 있다. 이러한 가열 단계는 가열 기술에 흔히 사용되는 것 예컨대 블로우 건조, 또는 고데기, 스트레이트너 또는 후드 등을 사용하는 것을 포함할 수 있다.
본 발명은 염색된 물질, 바람직하게는 염색된 모발로부터 색상 손실을 방지하는 방법을 제공한다. 색상 손실을 방지함으로써, 염색된 물질로부터 색상의 손실을 감소시키는 것 및/또는 염색된 물질, 예를 들어 염색된 모발로부터 색상의 손실을 방지하거나 억제하는 것을 포함함을 의미한다.
색상 손실이 측정될 수 있는 다수의 방법이 존재한다. 예를 들어, 색상 강도는 염색 후 즉시 및 이어서 다수의 세척 기간 또는 그 후에 측정될 수 있다. 본 발명에 따라 처리된 물질로부터의 임의의 색상 손실은, 염색되고 후속적으로 본 발명에 따른 알데히드 및/또는 숙신이미딜 에스테르 및 킬레이트화제 및/또는 아민 염의 사용을 제외하고는 동일한 방법으로 처리된 대조군 샘플과 비교될 수 있다.
숙련된 전문가는 시각에 의해 색상 톤 및 강도를 판단할 수 있고, 따라서 색상 손실은 육안에 의해 평가될 수 있다. 그러나, 다수의 경우에서 적합한 장치가 사용된다. 이러한 장치 및 그의 작업은 관련 기술분야의 통상의 기술자에게 공지되어 있고, 예를 들어 색도계 또는 비색계를 포함한다.
색상 차이를 규정하는 표준 방법은 dE (또는 ΔE 또는 델타 E) 측정을 제공하는 것이다. 이는 CIELAB 측정을 기반으로 색상 차이를 계산하기 위한 식을 사용한다.
색상 손실을 결정하는 1개의 적합한 방법은 특정 파장에서 광의 반사도를 측정하는 것이다. 시간, 세척 또는 다른 처리 후 반사도의 차이는 대조군과 비교될 수 있다. 예를 들어 457nm에서의 광의 반사도가 측정될 수 있다 (R457).
1개의 적합한 방법은 실시예 2에 기재된다.
바람직하게는, 본 발명의 방법은 적어도 10%, 바람직하게는 적어도 20%, 보다 바람직하게는 적어도 30%, 예를 들어 적어도 40%만큼 색상 손실을 감소시킨다.
일부 실시양태에서, 본 발명의 방법은 50% 초과만큼, 바람직하게는 60% 초과만큼, 보다 바람직하게는 70% 초과만큼, 예를 들어 80% 초과 또는 90% 초과만큼 색상 손실을 감소시킬 수 있다.
적어도 10%의 감소란, 물질이 본 발명의 방법에 따라 처리되는 경우의 색상 손실이, 물질이 알데히드 및/또는 숙신이미딜 에스테르 및 킬레이트화제 및/또는 아민 염이 포함되지 않은 동일한 방법에 의해 처리되는 경우에 비해 적어도 10% 더 적음을 의미한다. 예를 들어 샴푸 조성물의 경우에서, 알데히드 및/또는 숙신이미딜 에스테르 및 킬레이트화제 및/또는 아민 염을 포함하는 샴푸에 의한 모발 세척은, 다른 것은 동일하지만 알데히드 및/또는 숙신이미딜 에스테르 및 킬레이트화제 및/또는 아민 염을 포함하지 않은 샴푸에 의한 세척과 비교하여 색상 손실에서의 10% 감소를 제공한다.
적합하게는, 본 발명의 방법은 실시예 2의 방법에 따라 측정된 경우, 대조군과 비교하여, 적어도 10%, 바람직하게는 적어도 20%, 적합하게는 적어도 30%의 색상 손실에서의 감소를 제공한다. 이와 관련하여 대조군이 100%의 색상 손실을 제공한다는 것에 유의해야 한다. 따라서, 90%의 색상 손실이 관찰되면, 이는 색상 손실에서의 10%의 감소를 나타낸다.
본 발명은 물질을 알데히드 및/또는 숙신이미딜 에스테르 및 킬레이트화제 및/또는 아민 염을 포함하는 조성물과 1회 또는 1회 초과로 접촉시키는 것을 포함할 수 있다.
본 발명은 정기적으로, 예를 들어 모발 (또는 또 다른 물질)이 세척될 때마다 사용될 수 있다. 대안적으로 본 발명은 덜 빈번하게 주기적으로, 예를 들어 매주 또는 매달 사용될 수 있다.
본 발명의 방법은 염색된 모발로부터 색상의 손실을 현저하게 감소시킬 수 있는 것이 놀랍게도 확인되었다.
본 발명은 다수의 세척 후에 감소된 색상 손실을 제공할 수 있다. 예를 들어, 본 발명이 착색 조성물과 관련된 실시양태에서, 염색 과정의 일부 단계에서 알데히드 및/또는 숙신이미딜 에스테르 및 킬레이트화제 및/또는 아민 염을 함유하는 것은 개선된 세척 견뢰도 및/또는 시간에 따른 감소된 색상 바램을 제공할 수 있다.
바람직하게는, 제2 측면의 방법에 따라 모발을 염색시키는 것은 개선된 세척 견뢰도를 제공한다. 적합하게는 제2 측면의 방법에 따라 염색된 모발은 알데히드 및/또는 숙신이미딜 에스테르 및 킬레이트화제 및/또는 아민 염을 제외하고는 동일한 방법에 의해 염색된 모발과 비교하여 3회 세척 후에 적어도 10% 더 적은, 바람직하게는 적어도 30%, 보다 바람직하게는 적어도 50% 더 적은 색상 손실을 갖는다.
본 발명의 제4 측면에 따르면, 염색된 모발로부터 색상 손실을 방지하기 위한 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종; 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염의 용도가 제공된다.
본 발명의 제5 측면에 따르면, 1종 이상의 조성물이 함께 적어도 1종의 염료 화합물 및/또는 1종의 염료 전구체 화합물; 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종; 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함하는 1종 이상의 조성물을 포함하는, 패키징된 모발 착색 제품이 제공된다.
제5 측면의 생성물의 바람직한 특색은 제1, 제2, 제3 및 제4 측면과 관련하여 기재된 바와 같고, 생성물은 제2 측면의 착색 방법에 사용하기에 적합하다.
일부 실시양태에서 제8 측면의 생성물은 1종 이상의 염료 전구체 화합물을 포함한 제1 조성물 및 1종 이상의 산화제를 포함한 제2 산화 조성물을 포함하는 모발의 산화 염색을 위한 생성물일 수 있다. 알데히드 및/또는 숙신이미딜 에스테르 및 킬레이트화제 및/또는 아민 염은 1종 이상의 염료 전구체 화합물을 포함한 조성물에 및/또는 산화제를 포함한 조성물에 포함될 수 있다. 그러나 바람직한 실시양태에서 이는 별개의 제3 조성물로서 제공된다. 이 제3 조성물은 제1 및/또는 제2 조성물의 처리 전, 이들의 처리 동안 또는 이들의 처리 후에 모발에 적용될 수 있다. 대안적으로 이는 모발과의 접촉 전에 제1 또는 제2 조성물과 혼합될 수 있다.
지금부터 본 발명이 하기의 비제한적 실시예를 참조하여 추가로 정의될 것이다.
실시예 1
본 발명에 사용된 히드록시-치환된 알데히드 화합물은 하기 방법을 사용하여 제조하였다:
이들을 상응하는 1,2-디올 화합물로부터 알파 알콜의 선택적 산화에 의해 형성하였다. 3구 플라스크에서, 고온 오일 중 구리 촉매를 칭량하였다. 이어서, 플라스크에 사이드 암, 수용 플라스크 및 수 냉각 응축기를 설치하였다. 반응물을 질소의 유동 및/또는 진공 하에 교반하면서 정확한 온도로 가열하였다.
요구되는 알콜을 일정 비율로 계속적으로 첨가하였다. 생성물을 반응 혼합물로부터 증류에 의해 수집하였다. 진공 또는 질소를 조절하여, 알데히드가 빠르게 증류되어 추가의 산화 기회를 감소시키는 것을 보장하였다. 정확한 조건은 생성되는 알데히드에 따라 달라졌다. 75% 초과의 수율이 전형적이었다.
실시예 2
울 견본을 하기와 같이 형성된 산화 적색 염료로 염색하였다:
Figure pct00017
염색된 견본을 40℃에서 30분 동안 아세트산나트륨 완충제에 의해 pH 5.5로 완충된 0.1 wt% SLES 및 표 1에 열거된 시험 화합물을 특정된 양으로 포함하는 수용액에 침지하였다. 이어서, 견본을 2분 동안 물에서 세정하고, 이어서 건조시켰다. 생성된 직물의 색상 강도의 판독을 표준 반사측정법을 사용하여 측정하고 탈이온수 대조군 (0.1 wt% SLES 함유)과 비교하였다. 이 경우에 457 nm의 파장을 갖는 광의 반사도의 차이를 측정하였다.
표 1의 결과는 ΔR457의 절대값이며, 여기서 ΔR457은 초기에 염색된 울 견본과 표에서 상술된 바와 같이 처리된 견본 사이의 457 nm에서의 반사도의 차이이다.
표 1
Figure pct00018
* 실시예에 사용된 아민 염은 옥탄산의 트리에탄올아민 염이었다.
** 양은 유리 산으로서의 양을 지칭한다.
실시예 3
성분을 0.1 wt% SLES가 아닌 10 wt%의 상업용 샴푸 제제를 포함하는 수성 조성물에 첨가하는 것을 제외하고는 실시예 2의 시험을 반복하였다.
표 2의 결과는 ΔR457의 절대값이며, 여기서 ΔR457은 초기에 염색된 울 견본과 표에서 상술된 바와 같이 처리된 견본 사이의 457 nm에서의 반사도의 차이이다.
표 2
Figure pct00019
* 실시예에 사용된 아민 염은 옥탄산의 트리에탄올아민 염이었다.
** 양은 유리 산으로서의 양을 지칭한다.

Claims (32)

  1. 하기 단계를 포함하는, 염색된 물질으로부터 색상 손실을 방지하는 방법:
    (1) 물질을 알데히드, 숙신이미딜 에스테르, 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종을 포함하는 조성물과 접촉시키는 단계;
    (2) 물질을 킬레이트화제 및/또는 아민 및/또는 카르복실산의 염을 포함하는 조성물과 접촉시키는 단계.
  2. 제1항에 있어서, 물질이 케라틴성 물질인 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 물질이 인간 모발 또는 동물 모발, 바람직하게는 인간 모발인 방법.
  4. 제3항에 있어서, 물질이 성장하는 인간 모발 또는 동물 모발, 바람직하게는 성장하는 인간 모발인 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (1)이 단계 (2) 전에 수행되는 것인 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (2)가 단계 (1) 전에 수행되는 것인 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (1) 및 (2)가 동시에 수행되고, 물질이 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종; 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함하는 단일 조성물과 접촉되는 것인 방법.
  8. (a) 모발을 착색 조성물과 접촉시키는 것; 및
    (b) 모발을
    (1) 알데히드, 숙신이미딜 에스테르, 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종을 포함하는 조성물; 및
    (2) 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함하는 조성물
    과 접촉시키는 것
    을 포함하는 모발을 착색하는 방법.
  9. 제8항에 있어서, 단계 (a) 및 (b)가 동시에 수행되고, 모발을 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종; 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함하는 착색 조성물과 접촉시키는 것을 포함하는 방법.
  10. 제8항에 있어서, 단계 (b)가 단계 (a) 전에 수행되는 것인 방법.
  11. 제8항에 있어서, 단계 (b)가 단계 (a) 후에 수행되는 것인 방법.
  12. 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종; 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 포함하는 모발 관리 조성물.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 알데히드가 히드록실 치환된 알데히드 및/또는 알파-치환된 알데히드인 방법 또는 조성물.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 알데히드가 2-히드록시프로판알, 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알 또는 글리세르알데히드로부터 선택된 것인 방법 또는 조성물.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 10개 미만의 탄소 원자를 갖는 제1 알데히드 및 10개 이상의 탄소 원자를 갖는 제2 알데히드를 포함하는 방법 또는 조성물.
  16. 제15항에 있어서, 제2 알데히드가 2-히드록시데칸알, 2-히드록시도데칸알 및 2-히드록시테트라데칸알로부터 선택된 것인 방법 또는 조성물.
  17. 제15항에 있어서, 제1 알데히드가 2-히드록시헥산알, 2-히드록시옥탄알, 2-히드록시프로판알, 글리세르알데히드, 2-히드록시부탄알, 3-히드록시부탄알, 4-히드록시부탄알, 브로모말론알데히드, 2-(2-히드록시에톡시)아세트알데히드, 2-클로로 옥탄알, 2-플루오로 옥탄알, 2-브로모 옥탄알, 6-히드록시헥산알, 3-히드록시프로판알 및 4-히드록시-부트-2-엔알로부터 선택되고, 제2 알데히드가 2-히드록시데칸알, 2-히드록시도데칸알 및 2-히드록시테트라데칸알로부터 선택된 것인 방법 또는 조성물.
  18. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 숙신이미딜 에스테르가 화학식 (IV)의 화합물인 방법 또는 조성물:
    Figure pct00020

    여기서 R은 적어도 5개의 탄소 원자를 갖는 임의로 치환된 히드로카르빌 기이고; R1은 수소 또는 술포네이트 모이어티이다.
  19. 제18항에 있어서, R은 페닐 또는 CH3(CH2)n이고, n은 5 내지 10인 방법 또는 조성물.
  20. 제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 킬레이트화제가 폴리카르복실산 유래 킬레이트화제인 방법 또는 조성물.
  21. 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 킬레이트화제가 DTPA, GLDA 및 그의 혼합물로부터 선택된 것인 방법 또는 조성물.
  22. 제1항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, 카르복실산의 아민 염이 4 내지 10개의 탄소 원자를 갖는 카르복실산의 아민 염인 방법 또는 조성물.
  23. 제22항에 있어서, 아민 염이 옥탄산 또는 헥산산의 디에탄올아민 또는 트리에탄올아민 염인 방법 또는 조성물.
  24. 제12항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 샴푸 조성물, 컨디셔닝 조성물, 모발 스타일링 조성물, 모발 영구적 웨이빙 조성물, 모발 릴렉싱 조성물, 모발 영구적 스트레이트닝 조성물 또는 모발 착색 조성물로부터 선택된 조성물.
  25. 제12항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서, 1 내지 30 wt% 계면활성제, 바람직하게는 음이온성 계면활성제를 추가로 포함하는 조성물.
  26. 제12항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서, 2개 이상의 말레산 유래 반응성 모이어티 및 2개 이상의 아미노 기를 갖는 링커를 포함하는 가교제를 추가로 포함하는 조성물.
  27. 제1항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서, 알데히드 및/또는 숙신이미딜 에스테르 및 킬레이트화제 및/또는 아민 염을 제외하고는 동일한 수단으로 처리된 모발과 비교해서 색상이 시각적으로 더 강렬하도록 1 내지 3회 세척 후에 색상 손실에서의 유의한 감소를 제공하는 방법 또는 조성물.
  28. 제1항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서, 알데히드 및/또는 숙신이미딜 에스테르 및 킬레이트화제 및/또는 아민 염을 제외하고는 동일한 방법으로 처리된 모발과 비교해서 3회 세척 후에 적어도 10%의 색상 손실에서의 감소를 제공하는 방법 또는 조성물.
  29. 염색된 모발로부터 색상 손실을 방지하기 위한, 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종으로부터 선택된 친전자성 종; 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염의 용도.
  30. 적어도 1종의 염료 화합물 및/또는 1종의 염료 전구체 화합물; 알데히드, 숙신이미딜 에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 친전자성 종; 및 킬레이트화제 및/또는 아민과 카르복실산의 염을 함께 포함하는 1종 이상의 조성물을 포함하는 패키징된 모발 착색 제품.
  31. 제1항에 있어서, 염색된 물질이 텍스타일 물질, 바람직하게는 울을 포함하는 텍스타일 물질인 방법.
  32. 제1항 또는 제30항에 있어서, 세탁물 세척 과정에서 염색된 텍스타일 물질의 세척에 기인하는 색상 손실을 방지하는 방법.
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