KR20190060415A - Antistatic bowl - Google Patents

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KR20190060415A KR1020170158590A KR20170158590A KR20190060415A KR 20190060415 A KR20190060415 A KR 20190060415A KR 1020170158590 A KR1020170158590 A KR 1020170158590A KR 20170158590 A KR20170158590 A KR 20170158590A KR 20190060415 A KR20190060415 A KR 20190060415A
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(주)신우에이엔티
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Abstract

A disclosed antistatic bowl receives processing liquid which is supplied to a substrate on a chuck member from a processing liquid supply member and is separated from the substrate, wherein at least a part thereof is made of conductive substances so as to remove static electricity, thereby being possible to remove the static electricity generated in the antistatic bowl, being possible to prevent a defect generated on a wafer or the like when the substrate is influenced by the static electricity, and being possible to prevent foreign substances such as dust or the like from adhering to the antistatic bowl.

Description

대전 방지용 바울{Antistatic bowl}Antistatic bowl

본 발명은 대전 방지용 바울에 관한 것이다.The present invention relates to an anti-static pole.

반도체 및 디스플레이 제조 설비에는 반도체 및 디스플레이 제조를 위한 기판의 처리, 예를 들어 세정을 위한 기판 처리 유닛이 적용되는데, 이러한 기판 처리 유닛은 기판이 올려지는 척 부재와, 상기 척 부재에 올려진 상기 기판을 향해 처리액을 공급해주는 처리액 공급 부재와, 상기 처리액 공급 부재에서 상기 척 부재 상의 상기 기판으로 공급되었다가 상기 기판으로부터 이탈되는 세정액을 수용하는 바울(bowl)을 포함한다.Semiconductor and display manufacturing facilities are equipped with a substrate processing unit for processing substrates, for example cleaning, for manufacturing semiconductors and displays, wherein the substrate processing unit comprises a chuck member on which a substrate is lifted, And a bowl for receiving a cleaning liquid supplied from the processing liquid supply member to the substrate on the chuck member and separated from the substrate.

상기 바울의 예로 제시될 수 있는 것이 아래 제시된 특허문헌의 그 것들이다.Examples of the above-mentioned Pauls are those of patent documents presented below.

그러나, 종래의 바울에 의하면, 바울이 수지 재질로 이루어지기 때문에, 기판 처리 유닛의 작동에 따라 상기 바울에 정전기가 발생되었고, 그에 따라 그 정전기로 인해 웨이퍼 등의 기판이 영향을 받아서 불량이 발생되고, 먼지 등의 이물질이 상기 바울에 들러붙는 문제가 있었다.However, according to the conventional pawl, since the pawl is made of a resin material, static electricity is generated in the pawl by the operation of the substrate processing unit, and the substrate such as a wafer is affected by the static electricity, , There is a problem that foreign matter such as dust adheres to the above-mentioned Paul.

등록특허 제 10-0674391호, 등록일자: 2007.01.19., 발명의 명칭: 보올, 스핀, 세정 및 건조모듈, 및 스핀, 세정 및 건조모듈에 반도체 웨이퍼를 적재하는 방법Registered Patent No. 10-0674391, Date of Registration: Jan. 19, 2007. Title of the Invention: Method for loading a semiconductor wafer into a ball, spin, cleaning and drying module, and spin, 공개특허 제 10-2005-0109099호, 공개일자: 2005.11.17., 발명의 명칭: 반도체용 스핀 코터의 보울Patent Publication No. 10-2005-0109099, published on November 17, 2005, entitled " Bowl of semiconductor spin coater "

본 발명은 바울에 발생된 정전기가 제거될 수 있는 대전 방지용 바울을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide an anti-static pole capable of eliminating the static electricity generated in the Paul.

본 발명의 일 측면에 따른 대전 방지용 바울은 기판이 올려지는 척 부재와, 상기 척 부재에 올려진 상기 기판을 향해 처리액을 공급해주는 처리액 공급 부재를 포함하는 기판 처리 유닛에 적용되는 것으로서,An antistatic paw according to an aspect of the present invention is applied to a substrate processing unit including a chuck member on which a substrate is lifted and a process liquid supply member for supplying a process liquid toward the substrate mounted on the chuck member,

상기 처리액 공급 부재에서 상기 척 부재 상의 상기 기판으로 공급되었다가 상기 기판으로부터 이탈되는 상기 처리액을 수용하되, 적어도 일부가 정전기 제거를 위해 전도성을 가지는 물질로 이루어지는 것을 특징으로 한다.Wherein the processing solution supply member is made of a material having conductivity for at least a portion of the processing solution supply member to receive the processing solution supplied to the substrate on the chuck member and separated from the substrate.

본 발명의 일 측면에 따른 대전 방지용 바울에 의하면, 대전 방지용 바울이 처리액 공급 부재에서 척 부재 상의 기판으로 공급되었다가 상기 기판으로부터 이탈되는 처리액을 수용하되, 적어도 일부가 정전기 제거를 위해 전도성을 가지는 물질로 이루어짐으로써, 상기 대전 방지용 바울에 발생된 정전기가 제거될 수 있고, 그에 따라 그러한 정전기로 인해 웨이퍼 등의 상기 기판이 영향을 받아서 발생되던 불량이 방지될 수 있고, 먼지 등의 이물질이 상기 대전 방지용 바울에 들러붙는 현상이 방지될 수 있는 효과가 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided an antistatic pole, wherein the antistatic pole is provided with a treatment liquid which is supplied from the treatment liquid supply member to the substrate on the chuck member and is separated from the substrate, wherein at least a portion of the treatment liquid is conductive The electrostatic charge generated in the antistatic pawl can be removed so that defects such as those caused by the influence of the substrate such as the wafer due to the static electricity can be prevented, There is an effect that the phenomenon of sticking to the antistatic pawl can be prevented.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 대전 방지용 바울이 적용된 기판 처리 유닛의 구성을 개략적으로 보이는 단면도.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 대전 방지용 바울이 적용된 기판 처리 유닛을 구성하는 서포트 핀 부재를 보이는 도면.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 대전 방지용 바울이 적용된 기판 처리 유닛을 구성하는 척 핀 부재를 보이는 도면.
도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 대전 방지용 바울이 적용된 기판 처리 유닛을 구성하는 척 핀 부재의 내부를 보이는 단면도.
도 5는 도 4에 도시된 척 핀 부재의 회전 중일 때 내부 모습을 보이는 단면도.
도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 대전 방지용 바울의 일부에 대한 단면도.
도 7은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 대전 방지용 바울의 일부에 대한 단면도.
도 8은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 대전 방지용 바울의 일부에 대한 단면도.
도 9는 도 8에 도시된 대전 방지용 바울에서의 처리액 흐름을 보이는 단면도.1 is a sectional view schematically showing a configuration of a substrate processing unit to which an antistatic pole according to a first embodiment of the present invention is applied;
2 is a view showing a support pin member constituting a substrate processing unit to which an anti-static bar according to the first embodiment of the present invention is applied;
3 is a view showing a chuck pin member constituting a substrate processing unit to which an anti-static bar according to the first embodiment of the present invention is applied.
4 is a sectional view showing the inside of a chuck pin member constituting a substrate processing unit to which an antistatic pole according to the first embodiment of the present invention is applied.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing the inside of the chuck pin member shown in FIG. 4 when the chuck pin member is rotating;
6 is a cross-sectional view of a portion of an antistatic pole according to a second embodiment of the present invention;
7 is a cross-sectional view of a portion of an antistatic pole according to a third embodiment of the present invention.
8 is a cross-sectional view of a portion of an antistatic pole according to a fourth embodiment of the present invention.
9 is a cross-sectional view showing the flow of the treatment liquid in the antistatic pole shown in Fig.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 대전 방지용 바울에 대하여 설명한다.Hereinafter, an anti-static pole according to embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 대전 방지용 바울이 적용된 기판 처리 유닛의 구성을 개략적으로 보이는 단면도이고, 도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 대전 방지용 바울이 적용된 기판 처리 유닛을 구성하는 서포트 핀 부재를 보이는 도면이고, 도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 대전 방지용 바울이 적용된 기판 처리 유닛을 구성하는 척 핀 부재를 보이는 도면이고, 도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 대전 방지용 바울이 적용된 기판 처리 유닛을 구성하는 척 핀 부재의 내부를 보이는 단면도이고, 도 5는 도 4에 도시된 척 핀 부재의 회전 중일 때 내부 모습을 보이는 단면도이다.FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of a substrate processing unit to which an anti-static bar according to the first embodiment of the present invention is applied, FIG. 2 is a sectional view of a substrate processing unit to which an anti- FIG. 3 is a view showing a chuck pin member constituting a substrate processing unit to which an anti-static bar according to the first embodiment of the present invention is applied, and FIG. 4 is a cross- FIG. 5 is a cross-sectional view showing the inside of the chuck pin member shown in FIG. 4 when the chuck pin member is rotating. FIG.

도 1 내지 도 5를 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 대전 방지용 바울(150)은 기판 처리 유닛(100)에 적용되는 것이다.Referring to FIGS. 1 to 5 together, the anti-static bar 150 according to the present embodiment is applied to the substrate processing unit 100.

상기 기판 처리 유닛(100)은 척 부재(120)와, 대전 방지용 척 핀(130, 140)과, 처리액 공급 부재(180)와, 바울 승강 부재(170)와, 척 회전 부재(125)를 포함한다.The substrate processing unit 100 includes a chuck member 120, antistatic chuck pins 130 and 140, a process liquid supply member 180, a pawl elevating member 170, and a chuck rotating member 125 .

도면 번호 110은 상기 척 부재(120), 상기 처리액 공급 부재(180), 상기 대전 방지용 바울(150), 상기 바울 승강 부재(170) 및 상기 척 회전 부재(125)가 내부에 배치되고 외부에 대해 격리되는 케이스이고, 도면 번호 101은 상기 기판 처리 유닛(100)의 각 구성 요소를 제어할 수 있는 제어 부재(101)이다.Reference numeral 110 designates the chuck member 120, the process liquid supply member 180, the antistatic pawl 150, the pawl elevating member 170 and the chuck rotating member 125, And reference numeral 101 denotes a control member 101 capable of controlling each component of the substrate processing unit 100. [

상기 척 부재(120)는 상기 기판(10)이 올려질 수 있는 것으로, 원형 플레이트 형태로 형성되고, 그 내부에 히터 등이 내장된 것이다.The chuck member 120 is formed in a circular plate shape in which the substrate 10 can be lifted, and a heater or the like is built in the chuck member 120.

상기 척 회전 부재(125)는 상기 척 부재(120)를 회전시켜줄 수 있는 것으로, 상기 척 부재(120)의 하부와 연결되는 척 회전 축(126)과, 상기 척 회전 축(126)을 회전시켜줄 수 있는 전기 모터 등의 척 회전 수단(127)을 포함한다.The chuck rotating member 125 can rotate the chuck member 120 and includes a chuck rotating shaft 126 connected to a lower portion of the chuck member 120, And a chuck rotating means 127 such as an electric motor.

상기 처리액 공급 부재(180)는 상기 척 부재(120)에 올려진 상기 기판(10)을 향해 처리액을 공급해주는 것으로, 세정액 등의 상기 처리액을 상기 척 부재(120) 쪽으로 공급하는 처리액 공급관(181)과, 상기 처리액 공급관(181)을 통해 공급된 상기 처리액을 상기 척 부재(120) 상의 상기 기판(10) 상에 분사하는 분사 노즐(182)과, 상기 처리액 공급관(181)과 연결되는 공급관 회전 축(183)과, 상기 공급관 회전 축(183)을 일정 각도 범위 내에서 회전시켜줄 수 있는 전기 모터 등의 공급관 회전 수단(184)을 포함한다.The treatment liquid supply member 180 supplies treatment liquid toward the substrate 10 placed on the chuck member 120 and supplies the treatment liquid such as a cleaning liquid to the chuck member 120 A spray nozzle 182 for spraying the treatment liquid supplied through the treatment liquid supply pipe 181 onto the substrate 10 on the chuck member 120 and the treatment liquid supply pipe 181 A supply pipe rotating shaft 183 connected to the supply pipe rotating shaft 183 and a supply pipe rotating means 184 such as an electric motor capable of rotating the supply pipe rotating shaft 183 within a certain angle range.

상기 대전 방지용 바울(150)은 상기 처리액 공급 부재(180)에서 상기 척 부재(120) 상의 상기 기판(10)으로 공급되었다가 상기 기판(10)으로부터 이탈되는 처리액을 수용하는 것으로, 상기 척 부재(120)로부터 상대적으로 가장 외곽에 배치되는 외곽 바울(151)과, 상기 척 부재(120)로부터 상대적으로 가장 내곽에 배치되는 내곽 바울(157)과, 상기 외곽 바울(151)과 상기 내곽 바울(157) 사이에 배치되는 중간 바울(154)을 포함한다.The antistatic pawl 150 is supplied to the substrate 10 on the chuck member 120 from the process liquid supply member 180 and receives the process liquid which is separated from the substrate 10. In this state, An outline pole 151 disposed relatively outermost from the member 120, an inner circumference pole 157 disposed relatively to the inner circumference from the chuck member 120, (Not shown).

상기 외곽 바울(151)은 그 상부가 개방된 원형 실린더 형태로 형성되는 외곽 몸체(152)와, 상기 외곽 몸체(152)의 상단으로부터 그 상측으로 갈수록 점진적으로 상기 척 부재(120) 쪽으로 향하여 좁아지도록 그 상부가 개방된 고깔 형태로 형성되는 외곽 입사체(153)를 포함한다.The outline pawl 151 is configured to have an outer body 152 formed in the shape of a circular cylinder having an open upper portion and a lower outer body 152 so as to be gradually narrowed from the upper end of the outer body 152 toward the upper side toward the chuck member 120 And an outer incident member 153 formed in a conical shape having an open top.

상기 내곽 바울(157)은 그 상부가 개방된 원형 실린더 형태로 형성되는 내곽 몸체(158)와, 상기 내곽 몸체(158)의 상단으로부터 그 상측으로 갈수록 점진적으로 상기 척 부재(120) 쪽으로 향하여 좁아지도록 그 상부가 개방된 고깔 형태로 형성되는 내곽 입사체(159)를 포함한다.The inner ear pawl 157 has an inner body 158 formed in the shape of a circular cylinder whose upper portion is opened and a lower inner body 158 so as to be gradually narrowed from the upper end of the inner body 158 toward the upper side toward the chuck member 120 And an inner bottom incidence body 159 formed in a conical shape with its top opened.

상기 중간 바울(154)은 그 상부가 개방된 원형 실린더 형태로 형성되는 중간 몸체(155)와, 상기 중간 몸체(155)의 상단으로부터 그 상측으로 갈수록 점진적으로 상기 척 부재(120) 쪽으로 향하여 좁아지도록 그 상부가 개방된 고깔 형태로 형성되는 중간 입사체(156)를 포함한다.The intermediate pawl 154 is formed to have an intermediate body 155 formed in the shape of a circular cylinder having an open upper portion and an intermediate body 155 so as to be gradually narrowed from the upper end of the intermediate body 155 toward the upper side toward the chuck member 120 And an intermediate incidence body 156 formed in a conical shape with its top opened.

상기 외곽 몸체(152)와 상기 내곽 몸체(158) 사이에 각각 간격을 두고 상기 중간 몸체(155)가 위치되고, 상기 외곽 입사체(153)와 상기 내곽 입사체(159) 사이에 각각 간격을 두고 상기 중간 입사체(156)가 위치된다. 그러면, 상기 척 부재(120) 상의 상기 기판(10)이 상기 외곽 입사체(153)와 상기 중간 입사체(156) 사이의 입구 높이에 배치된 상태에서 상기 척 회전 부재(125)에 의해 상기 척 부재(120)가 회전되면, 상기 처리액 중 제 1 액이 상기 외곽 입사체(153)와 상기 중간 입사체(156) 사이의 입구를 통해 유입되어 상기 외곽 몸체(152) 내부에 수용되고, 상기 대전 방지용 바울(150)이 상기 바울 승강 부재(170)에 의해 상승되면서, 상기 척 부재(120) 상의 상기 기판(10)이 상기 중간 입사체(156)와 상기 내곽 입사체(159) 사이의 입구 높이에 배치된 상태에서 상기 척 회전 부재(125)에 의해 상기 척 부재(120)가 회전되면, 상기 처리액 중 제 2 액이 상기 중간 입사체(156)와 상기 내곽 입사체(159) 사이의 입구를 통해 유입되어 상기 중간 몸체(155) 내부에 수용되고, 상기 대전 방지용 바울(150)이 상기 바울 승강 부재(170)에 의해 다시 상승되면서, 상기 척 부재(120) 상의 상기 기판(10)이 상기 내곽 입사체(159) 하측의 입구 높이에 배치된 상태에서 상기 척 회전 부재(125)에 의해 상기 척 부재(120)가 회전되면, 상기 처리액 중 제 3 액이 상기 내곽 입사체(159) 하측의 입구를 통해 유입되어 상기 내곽 몸체(158) 내부에 수용된다.The intermediate body 155 is positioned at an interval between the outer body 152 and the inner body 158 and a gap is formed between the outer incident body 153 and the inner body 159 The intermediate incidence body 156 is located. The substrate 10 on the chuck member 120 is positioned at the entrance height between the outline incident member 153 and the intermediate incidence member 156 by the chuck rotational member 125, When the member 120 is rotated, the first liquid in the treatment liquid flows into the outer body 152 through the inlet between the outer incident object 153 and the intermediate incident body 156, As the antistatic pawl 150 is lifted by the pawl elevation member 170 the substrate 10 on the chuck member 120 is guided by the entrance between the intermediate incidence body 156 and the inside entrance 159 The second liquid in the treatment liquid is supplied to the inner incident surface of the intermediate incident member 156 and the inner incident object 159 in a state where the chuck member 120 is rotated by the chuck rotational member 125, And is received in the intermediate body 155, and the anti-static pole 150, The substrate 10 on the chuck member 120 is moved to the chuck rotating member 125 in a state where the substrate 10 is disposed at the entrance height below the inner circumferential incident body 159 while being raised again by the pawl elevating member 170 The third liquid in the treatment liquid flows through the inlet on the lower side of the inner circumferential incident body 159 and is accommodated in the inner circumferential body 158 when the chuck member 120 is rotated.

도면 번호 160, 161 및 162는 상기 외곽 몸체(152), 상기 중간 몸체(155) 및 상기 내곽 몸체(158)의 바닥에 각각 형성되어, 상기 외곽 몸체(152), 상기 중간 몸체(155) 및 상기 내곽 몸체(158)에 각각 수용된 액을 외부로 유출시키는 외곽 배출관, 중간 배출관 및 내곽 배출관이다.Reference numerals 160, 161, and 162 are formed on the bottoms of the outer body 152, the middle body 155, and the inner body 158, respectively. The outer body 152, the middle body 155, An outer discharge pipe, an intermediate discharge pipe and an inner discharge pipe for discharging the liquid contained in the inner body 158 to the outside.

상기 바울 승강 부재(170)는 상기 대전 방지용 바울(150)을 승강시킬 수 있는 것으로, 상기 외곽 바울(151)에 연결된 바울 연결체(171)와, 상기 바울 연결체(171)에서 굽혀진 형태로 연장되되 상기 외곽 바울(151)과 평행하게 형성되는 바울 승강 축(172)과, 상기 바울 승강 축(172)을 승강시킬 수 있는 유공압 실린더 등의 바울 승강 수단(173)을 포함한다.The pawl elevating member 170 is capable of lifting and lowering the antistatic pawl 150. The pawl connecting member 171 connected to the outer pawl 151 and the pawl connecting member 171 bent in the pawl connecting member 171 And a pawl elevating means 173 such as a pneumatic pressure cylinder capable of raising and lowering the pawl elevating shaft 172. The pawl elevating means 173 includes a pawl elevating shaft 172 extending in parallel with the outer pawl 151,

상기 대전 방지용 척 핀(130, 140)은 상기 척 부재(120)에서 일정 높이로 돌출되어 상기 척 부재(120)에 올려진 상기 기판(10)을 지지해주되, 상기 기판(10)의 정전기 제거를 위해 전도성을 가지도록 탄소나노튜브(CNT)가 혼합되어 성형된 것이다.The antistatic chuck pins 130 and 140 protrude from the chuck member 120 at a predetermined height to support the substrate 10 mounted on the chuck member 120. The static elimination of the substrate 10 Carbon nanotubes (CNTs) are mixed and molded so as to have conductivity.

상세히, 상기 대전 방지용 척 핀(130, 140)은 상기 탄소나노튜브와 폴리에테르에테르케톤(PEEK)이 혼합 성형되어 이루어진다.In detail, the antistatic chuck pins 130 and 140 are formed by mixing the carbon nanotubes with polyetheretherketone (PEEK).

상기와 같이 구성되면, 상기 대전 방지용 척 핀(130, 140)이 상기 기판(10)의 정전기 제거를 위해 전도성을 가지고, 그 저항값이 10＾3Ω 이하가 되도록 이루어질 수 있다.The chucking pins 130 and 140 may be made of conductive material to reduce the static electricity of the substrate 10 so that the resistance of the chuck pins 130 and 140 is less than 10 3 ?.

상기 대전 방지용 척 핀(130, 140)이 상기 탄소나노튜브와 상기 폴리에테르에테르케톤의 혼합물이 사출 성형되어 제조된다. 그러면, 상기 대전 방지용 척 핀(130, 140)의 균일도가 향상될 수 있다.The antistatic chuck pins 130 and 140 are manufactured by injection molding a mixture of the carbon nanotubes and the polyether ether ketone. Then, the uniformity of the antistatic chuck pins 130 and 140 can be improved.

상기 대전 방지용 척 핀(130, 140)은 서포트 핀 부재(130)와, 척 핀 부재(140)를 포함한다.The antistatic chuck pins (130, 140) include a support pin member (130) and a chuck pin member (140).

상기 서포트 핀 부재(130)는 상기 기판(10)의 저면에서 상기 기판(10)을 받쳐주는 것이다.The support pin member 130 supports the substrate 10 on the bottom surface of the substrate 10.

상세히, 상기 서포트 핀 부재(130)는 일정 길이로 길게 형성되는 서포트 핀 몸체(131)와, 상기 서포트 핀 몸체(131)의 하부에서 외곽으로 연장된 형태로 형성되어 상기 척 부재(120)의 표면과 접하는 서포트 핀 플레이트(133)와, 상기 서포트 핀 플레이트(133) 저면에서 하방으로 연장되어 상기 척 부재(120) 표면에 함몰된 홀에 삽입되는 서포트 핀 삽입부(134)와, 상기 서포트 핀 몸체(131)의 상부에 그 상부로 갈수록 점진적으로 뾰족해져 상기 기판(10)의 저면이 받쳐지게 되는 기판 지지부(132)를 포함한다.The support pin member 130 includes a support pin body 131 formed to have a predetermined length and a support pin body 131 extending from the lower portion of the support pin body 131 to an outer periphery of the support pin body 130, A support pin insertion portion 134 extending downward from the bottom surface of the support pin plate 133 and inserted into a hole recessed in the surface of the chuck member 120, And a substrate support 132 which is gradually tapered toward the upper portion of the substrate support portion 131 to support the bottom surface of the substrate 10.

상기 척 핀 부재(140)는 상기 척 부재(120)의 회전 시에 상기 기판(10)이 상기 척 부재(120)로부터의 임의 이탈이 방지되도록, 상기 기판(10)의 측면에서 상기 기판(10)을 지지해주는 것이다.The chuck pin member 140 is disposed on the side of the substrate 10 so as to prevent the substrate 10 from being separated from the chuck member 120 when the chuck member 120 rotates. ).

상세히, 상기 척 핀 부재(140)는 일정 길이로 길게 형성되는 척 핀 몸체(141)와, 상기 척 핀 몸체(141)의 하부에서 외곽으로 연장된 형태로 형성되어 상기 척 부재(120)의 표면과 접하는 척 핀 플레이트(143)와, 상기 척 핀 플레이트(143) 저면에서 하방으로 연장되어 상기 척 부재(120) 표면에 함몰된 홀에 삽입되는 척 핀 삽입부(144)와, 상기 척 핀 삽입부(144)에 관통 형성되는 척 핀 이동용 홀(145)과, 상기 척 핀 몸체(141)의 상부에 오목하게 함몰되어 상기 기판(10)의 측면이 접하여 지지되는 기판 접촉부(142)를 포함한다.The chuck pin member 140 has a chuck pin body 141 formed to have a predetermined length and an elongated shape extending from the lower portion of the chuck pin body 141 to the outer surface of the chuck member 120 A chuck pin insertion portion 144 extending downward from a bottom surface of the chuck pin plate 143 and inserted into a hole recessed in the surface of the chuck member 120, And a substrate contact portion 142 recessed on the upper portion of the chuck pin body 141 and supported on the side surface of the substrate 10 so as to be in contact with the side surface of the chuck pin body 141 .

상기 기판 접촉부(142)에 상기 기판(10)의 측면이 접한 상태에서 상기 척 부재(120)가 회전되면, 상기 척 핀 부재(140)에 의해 상기 기판(10)이 지지되어, 임의로 상기 척 부재(120) 외부로 이탈되지 아니하게 된다.The substrate 10 is supported by the chuck pin member 140 when the chuck member 120 is rotated in a state where the side surface of the substrate 10 is in contact with the substrate contacting portion 142, (Not shown).

상기 척 핀 이동용 홀(145)에는 상기 척 핀 부재(140)를 상기 척 부재(120) 내외부로 일정 간격 이동시키기 위한 막대 형태 등의 이동 수단(미도시)이 관통된다. 상기 이동 수단에 의해 상기 척 핀 부재(140)가 상기 척 부재(120) 내측으로 향하도록 밀리면, 상기 척 핀 부재(140)가 상기 기판(10)의 측면에 접촉되어 지지하게 되고, 상기 이동 수단에 의해 상기 척 핀 부재(140)가 상기 척 부재(120) 외측으로 향하도록 당겨지면, 상기 척 핀 부재(140)와 상기 기판(10)의 접촉이 해제되어 상기 기판(10)이 상기 척 부재(120)로부터 이탈될 수 있게 된다.(Not shown) such as a rod for moving the chuck pin member 140 at a predetermined distance from the inside and the outside of the chuck member 120 is passed through the chuck pin moving hole 145. When the chuck pin member 140 is pushed toward the inside of the chuck member 120 by the moving means, the chuck pin member 140 is held in contact with the side surface of the substrate 10, When the chuck pin member 140 is pulled toward the outside of the chuck member 120 by the chuck pin member 140, the contact between the chuck pin member 140 and the substrate 10 is released, (Not shown).

상기 서포트 핀 부재(130)와 상기 척 핀 부재(140)가 상기 탄소나노튜브와 상기 폴리에테르에테르케톤의 혼합물이 각각 사출 성형되어 각각 일체로 제조될 수 있다.The support pin member 130 and the chuck pin member 140 may be injection molded into a single body of a mixture of the carbon nanotube and the polyetheretherketone.

상기 서포트 핀 부재(130)와 상기 척 핀 부재(140)는 상기 척 부재(120) 상에 복수 개가 배열되고, 상기 서포트 핀 부재(130)가 상기 척 핀 부재(140)에 비해 상대적으로 상기 척 부재(120)이 중심 쪽으로 편심된 위치에 배치된다.A plurality of support pin members 130 and the chuck pin members 140 are arranged on the chuck member 120 and the support pin member 130 is disposed relatively to the chuck pin member 140, The member 120 is disposed at a position eccentric to the center.

한편, 본 실시예에서는, 상기 척 핀 부재(140)가 상기 척 핀 몸체(141) 내부에 배치되어, 상기 척 핀 몸체(141)의 자세가 요구되는 자세로 유지되는지 여부를 감지하는 척 핀 자세 감지 부재(190)를 포함한다.In the present embodiment, the chuck pin member 140 is disposed inside the chuck pin body 141, and the chuck pin body 141 is provided with a chuck pin posture for detecting whether or not the posture of the chuck pin body 141 is maintained in a required posture Sensing member (190).

상세히, 상기 척 핀 자세 감지 부재(190)는 상기 척 핀 몸체(141) 내부에 수직으로 세워지고 그 내부가 빈 형태로 형성되는 감지 하우징(191)과, 상기 감지 하우징(191)의 내측벽 중 상기 척 부재(120)의 중심 쪽에 상대적으로 근접된 측면에서 돌출되는 감지 축 지지부(192)와, 상기 감지 축 지지부(192)에 회전 가능하게 연결되는 감지 축(193)과, 상기 감지 축(193)의 하부에 배치되어 하중을 가하되 영구 자석이 구비된 하중체(194)와, 상기 감지 하우징(191)의 바닥면 상에 배치되어 상기 척 부재(120)가 정지 상태여서 상기 감지 축(193)이 중력 방향으로 늘어졌을 때의 상기 하중체(194)에 구비된 상기 영구 자석의 자력을 감지하는 홀 센서(hall sensor) 등의 정지 자세 감지 수단(195)과, 상기 감지 하우징(191)의 내측벽 중 상기 감지 축 지지부(192)와 대면되고 상기 척 부재(120)의 중심 쪽에서 상대적으로 이격된 측면에 배치되어 상기 척 부재(120)가 회전 상태여서 상기 감지 축(193)이 원심력에 의해 외측을 향할 때의 상기 하중체(194)에 구비된 상기 영구 자석의 자력을 감지하는 홀 센서 등의 회전 자세 감지 수단(196)과, 상기 감지 하우징(191)의 상면에 배치되어 상기 척 부재(120)가 회전 상태이면서 상기 척 핀 몸체(141)가 상기 척 부재(120)에서 임의로 기울어지는 등 비정상 자세가 되어 상기 하중체(194)가 과도하게 회동되어 접촉되는 것을 감지하는 접촉 감지 센서, 압력 감지 센서 등의 비정상 접촉 감지 수단(197)을 포함한다.In detail, the chuck pin position sensing member 190 includes a sensing housing 191 vertically erected inside the chuck pin body 141 and having a hollow interior, A sensing shaft support portion 192 projecting from a side relatively closer to the center of the chuck member 120, a sensing shaft 193 rotatably connected to the sensing shaft supporting portion 192, A load body 194 disposed under the sensing housing 191 and having a permanent magnet for applying a load to the sensing housing 191 and a chuck member 120 disposed on a bottom surface of the sensing housing 191, A stop position sensing means 195 such as a hall sensor for sensing the magnetic force of the permanent magnet provided on the load body 194 when the sensor housing 191 is stretched in the gravity direction, And the chuck member 120 faces the sensing shaft supporter 192, The magnetic force of the permanent magnet provided on the load body 194 when the sensing shaft 193 is directed to the outside due to the centrifugal force due to the rotation of the chuck member 120 is disposed at a relatively spaced- The chuck member 120 is disposed on the upper surface of the sensing housing 191 so that the chuck pin body 141 rotates while the chuck member 120 is rotated. And an abnormal contact detecting means 197 such as a contact detecting sensor and a pressure detecting sensor for sensing that the load body 194 is excessively rotated to be in contact with an abnormal posture such as an arbitrary inclination.

상기 척 부재(120)가 정지 상태인 경우, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 하중체(194)가 중력에 의해 늘어져서 상기 정지 자세 감지 수단(195)에 의해 감지되고, 상기 척 부재(120)가 정상 회전 상태인 경우, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 하중체(194)가 원심력에 의해 외측으로 향하게 되어 상기 회전 자세 감지 수단(196)에 의해 감지되며, 상기 척 부재(120)가 비정상 회전 상태인 경우, 상기 하주에가 상기 비정상 접촉 감지 수단(197)과 접촉되어 그 비정상 상태가 감지될 수 있게 된다.4, when the chuck member 120 is in a stopped state, the load body 194 is stretched by gravity and is sensed by the stop position sensing means 195, The load body 194 is directed outward by the centrifugal force and is sensed by the rotational position sensing means 196 as shown in FIG. 5, and when the chuck member 120 is in an abnormal state In the rotated state, the unsteady contact detecting means 197 is brought into contact with the undercarriage, so that the abnormal state can be detected.

상기 정지 자세 감지 수단(195), 상기 회전 자세 감지 수단(196) 및 상기 비정상 접촉 감지 수단(197)의 감지값은 상기 제어 부재(101)로 전달되어, 외부로 디스플레이되거나 외부에 알람 표시 등으로 알려질 수 있다.The sensed values of the stop position sensing means 195, the rotation position sensing means 196 and the abnormal contact sensing means 197 are transmitted to the control member 101 and displayed outside or displayed as an alarm indicator Can be known.

상기와 같이 구성됨으로써, 상기 척 핀 부재(140)의 정상 상태 및 상기 척 부재(120)의 회전 및 정지 상태가 실시간으로 감지될 수 있게 된다.With this configuration, the steady state of the chuck pin member 140 and the rotation and stopping states of the chuck member 120 can be sensed in real time.

한편, 본 실시예에서는, 상기 기판 접촉부(142) 상에 배치되어, 상기 척 핀 부재(140)에 접촉되는 상기 기판(10)의 접촉 압력을 감지하는 압력 감지 센서 등의 기판 접촉 압력 감지 부재(199)를 더 포함한다.In the present embodiment, a substrate contact pressure sensing member (not shown) such as a pressure sensing sensor disposed on the substrate contacting portion 142 for sensing the contact pressure of the substrate 10 in contact with the chuck pin member 140 199).

상기 기판 접촉 압력 감지 부재(199)에서 상기 기판(10)이 상기 기판 접촉부(142)에 접촉되어 가압하는 압력을 실시간으로 감지함으로써, 상기 기판 접촉부(142)가 상기 기판(10)을 과도하게 가압하여 상기 기판(10)이 손상되거나 휘어지는 현상이 방지될 수 있다.The substrate contact portion 142 may press the substrate 10 excessively by sensing in real time the pressure at which the substrate 10 is pressed against the substrate contact portion 142 in the substrate contact pressure sensing member 199, So that the substrate 10 can be prevented from being damaged or warped.

상기 기판 접촉 압력 감지 부재(199)의 감지값은 상기 제어 부재(101)로 전달되어, 외부로 디스플레이되거나 외부에 알람 표시 등으로 알려질 수 있다.The sensed value of the substrate contact pressure sensing member 199 may be transmitted to the control member 101 to be displayed externally or may be informed to an external alarm indicator.

이하에서는 도면을 참조하여 본 실시예에 따른 대전 방지용 바울(150)이 적용된 상기 기판 처리 유닛(100)의 작동에 대하여 설명한다.Hereinafter, the operation of the substrate processing unit 100 to which the anti-static bar 150 according to the present embodiment is applied will be described with reference to the drawings.

상기 척 부재(120)의 상기 대전 방지용 척 핀(130, 140)에 상기 기판(10)이 지지되고 고정된 상태에서, 상기 척 회전 부재(125)가 작동되면, 상기 척 부재(120)와 상기 기판(10)이 회전하게 된다.When the chuck member 120 is operated and the substrate 10 is supported and fixed on the antistatic chuck pins 130 and 140 of the chuck member 120, The substrate 10 is rotated.

이러한 상태에서 상기 처리액 공급 부재(180)가 상기 처리액을 상기 기판(10) 상에 공급하면, 상기 처리액이 상기 기판(10) 상에서 스퍼터링되면서 상기 기판(10)에 대한 세정 등의 처리가 이루어진다.In this state, when the processing solution supply member 180 supplies the processing solution onto the substrate 10, the processing solution is sputtered on the substrate 10, and the processing such as cleaning of the substrate 10 is performed .

상기 기판(10)에 대한 세정 등의 처리를 완료한 상기 처리액은 상기 대전 방지용 바울(150)의 해당 바울에 환수된다.The treatment liquid that has been subjected to the cleaning treatment or the like with respect to the substrate 10 is returned to the corresponding pole of the antistatic pole 150.

상기와 같이, 상기 대전 방지용 척 핀(130, 140)이 상기 척 부재(120)에서 일정 높이로 돌출되어 상기 척 부재(120)에 올려진 상기 기판(10)을 지지해주되, 상기 기판(10)의 정전기 제거를 위해 전도성을 가지도록 탄소나노튜브(CNT)가 혼합되어 성형됨으로써, 상기 기판(10)의 정전기가 원활하게 처리될 수 있으면서도, 사용 시간 경과에 따른 품질 저하가 방지될 수 있게 된다.As described above, the antistatic chuck pins 130 and 140 protrude at a predetermined height from the chuck member 120 to support the substrate 10 mounted on the chuck member 120, The carbon nanotubes (CNTs) are mixed and formed so as to have conductivity for the static elimination of the substrate 10, so that the static electricity of the substrate 10 can be smoothly processed, and quality deterioration over time can be prevented .

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 제 2 실시예에 따른 대전 방지용 바울에 대하여 설명한다. 이러한 설명을 수행함에 있어서, 상기된 본 발명의 제 1 실시예에서 이미 기재된 내용과 중복되는 설명은 그에 갈음하고, 여기서는 생략하기로 한다.Hereinafter, an antistatic pole according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In carrying out these explanations, the description overlapping with the content already described in the first embodiment of the present invention described above will be omitted and omitted here.

도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 대전 방지용 바울의 일부에 대한 단면도이다.6 is a cross-sectional view of a portion of an antistatic pole according to a second embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 본 실시예에 따른 대전 방지용 바울(250)은 처리액 공급 부재에서 척 부재 상의 기판으로 공급되었다가 상기 기판으로부터 이탈되는 처리액을 수용하되, 적어도 일부가 정전기 제거를 위해 전도성을 가지는 물질로 이루어진다.6, an antistatic pole 250 according to the present embodiment is provided with a treatment liquid supply line which is supplied from a treatment liquid supply member to a substrate on a chuck member and is separated from the substrate, at least a part of which is conductive Lt; / RTI >

본 실시예에서는, 상기 대전 방지용 바울(250)의 일부인 상부가 전도성을 가지는 물질로 이루어진다.In this embodiment, the upper portion of the antistatic pole 250 is made of a conductive material.

상세히, 상기 대전 방지용 바울(250)은 외곽 바울(251), 중간 바울(254) 및 내곽 바울(257)로 구성되고, 상기 외곽 바울(251), 상기 중간 바울(254) 및 상기 내곽 바울(257)을 각각 구성하는 외곽 몸체(252), 중간 몸체(255) 및 내곽 몸체(258)는 각각 수지 등 다른 물질로 이루어지더라도, 상기 대전 방지용 바울(250)에서 상기 기판의 상공에 해당되는 부분들인 외곽 입사체(253), 중간 입사체(256) 및 내곽 입사체(259)가 전도성을 가지는 물질로 이루어질 수 있다.In detail, the anticorruption pole 250 is composed of an outer pole 251, a middle pole 254 and an inner pole 257. The outer pole 251, the middle pole 254 and the inner pole 257 The intermediate body 255 and the inner body 258 constituting the outer body 252 are made of different materials such as resin respectively and the parts corresponding to the upper part of the substrate in the antistatic pole 250 The outer incident object 253, the intermediate incident object 256, and the inner incident object 259 may be made of a conductive material.

상기 대전 방지용 바울(250), 상세히는 상기 외곽 입사체(253), 상기 중간 입사체(256) 및 상기 내곽 입사체(259)는 탄소나노튜브(CNT)가 혼합되어 성형된 것일 수 있다.The anti-static bar 250, in particular, the outer incident object 253, the intermediate incident object 256, and the inner incident object 259 may be formed by mixing carbon nanotubes (CNTs).

상기 대전 방지용 바울(250)에서 정전기 제거를 위해 전도성을 가지는 물질로 이루어지는 부분, 여기서는 상기 외곽 입사체(253), 상기 중간 입사체(256) 및 상기 내곽 입사체(259)는 외부 그라운드 등에 접지(205)된다.The outer incident object 253, the intermediate incident object 256, and the inner incident object 259, which are parts of conductive material for static elimination in the anti-static bar 250, 205).

상기와 같이, 상기 대전 방지용 바울(250)이 상기 처리액 공급 부재에서 상기 척 부재 상의 상기 기판으로 공급되었다가 상기 기판으로부터 이탈되는 처리액을 수용하되, 적어도 일부가 정전기 제거를 위해 전도성을 가지는 물질로 이루어짐으로써, 상기 대전 방지용 바울(250)에 발생된 정전기가 제거될 수 있고, 그에 따라 그러한 정전기로 인해 웨이퍼 등의 상기 기판이 영향을 받아서 발생되던 불량이 방지될 수 있고, 먼지 등의 이물질이 상기 대전 방지용 바울(250)에 들러붙는 현상이 방지될 수 있다.As described above, the antistatic pawl 250 is supplied from the processing liquid supply member to the substrate on the chuck member and is separated from the substrate. In this case, at least a part of the processing liquid is electro- It is possible to prevent the static electricity generated in the electrification preventing pole 250 from being generated due to the influence of the substrate such as the wafer due to the static electricity and to prevent the foreign matter such as dust The phenomenon of sticking to the antistatic pole 250 can be prevented.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 제 3 실시예 및 제 4 실시예에 따른 대전 방지용 바울에 대하여 설명한다. 이러한 설명을 수행함에 있어서, 상기된 본 발명의 제 1 실시예 및 상기된 본 발명의 제 2 실시예에서 이미 기재된 내용과 중복되는 설명은 그에 갈음하고, 여기서는 생략하기로 한다.Hereinafter, an antistatic pole according to a third embodiment and a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In carrying out these explanations, the description of the first embodiment of the present invention and the description of the second embodiment of the present invention which are the same as those already described will be omitted.

도 7은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 대전 방지용 바울의 일부에 대한 단면도이다.7 is a cross-sectional view of a portion of an antistatic pole according to a third embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 본 실시예에서는, 대전 방지용 바울(350)이 전체적으로 정전기 제거를 위해 전도성을 가지는 물질, 상세히는 탄소나노튜브가 혼합된 물질로 성형된다.Referring to FIG. 7, in this embodiment, the anti-static bar 350 is formed of a material having conductivity for removing static electricity, specifically, a material mixed with carbon nanotubes.

도 8은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 대전 방지용 바울의 일부에 대한 단면도이고, 도 9는 도 8에 도시된 대전 방지용 바울에서의 처리액 흐름을 보이는 단면도이다.FIG. 8 is a cross-sectional view of a portion of an antistatic pole according to a fourth embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a cross-sectional view showing a flow of a processing liquid in the antistatic pole shown in FIG.

도 8 및 도 9를 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 대전 방지용 바울(450)은 외곽 바울(451), 중간 바울(454) 및 내곽 바울(457)과 함께, 외곽 세정관(510), 외곽 외면 세정 노즐(515), 외곽 내면 세정 노즐(518), 중간 외면 세정관(511), 중간 외면 세정 노즐(512), 중간 내면 세정관(530), 중간 내면 세정 노즐(535), 내곽 외면 세정관(531), 내곽 외면 세정 노즐(532), 내곽 내면 세정관(550) 및 내곽 내면 세정 노즐(555)을 포함한다.8 and 9, the anti-static bar 450 according to the present embodiment includes an outer barrel 451, a middle bar 454 and an inner barrel 457, The outer surface cleaning nozzle 515, the outer surface inner surface cleaning nozzle 518, the intermediate outer surface cleaning pipe 511, the middle outer surface cleaning nozzle 512, the middle inner surface cleaning pipe 530, the middle inner surface cleaning nozzle 535, An inner inner surface cleaning nozzle 532, an inner inner surface cleaning nozzle 550, and an inner inner surface cleaning nozzle 555.

도면 번호 500은 상기 외곽 바울(451)의 바닥부에 배치되어, 처리액 중 상기 외곽 바울(451)에 수용된 액 중 일부를 펌핑할 수 있는 외곽 펌프이고, 도면 번호 520은 상기 중간 바울(454)의 바닥부에 배치되어, 상기 처리액 중 상기 중간 바울(454)에 수용된 액 중 일부를 펌핑할 수 있는 중간 펌프이고, 도면 번호 540은 상기 내곽 바울(457)의 바닥부에 배치되어, 상기 처리액 중 상기 내곽 바울(457)에 수용된 액 중 일부를 펌핑할 수 있는 내곽 펌프이다.Reference numeral 500 denotes an outer pump disposed at the bottom of the outer pail 451 and capable of pumping a part of the liquid contained in the outer pail 451 of the treatment liquid, 540 is an intermediate pump arranged at the bottom of the inner pillar 457 and capable of pumping a part of the liquid contained in the intermediate pail 454 among the processing liquids, And is capable of pumping a part of the liquid contained in the inner ear pawl 457 of the liquid.

상기 외곽 세정관(510)은 상기 외곽 펌프(500)와 연결되어, 상기 처리액 중 상기 외곽 바울(451)에 수용된 액 중 일부를 상기 외곽 바울(451)의 벽체 내부를 따라 상기 외곽 바울(451)의 상부까지 환류시키는 것이다.The outer cleansing pipe 510 is connected to the outer pump 500 so that a part of the liquid contained in the outer pail 451 of the treatment liquid flows along the inner wall of the outer pail 451 to the outer pail 451 ).

상기 외곽 외면 세정 노즐(515)은 상기 외곽 바울(451)의 외면에 묻은 이물질이 제거되도록, 상기 외곽 세정관(510)을 통해 환류된 액을 상기 외곽 바울(451)의 외면으로 흘려주는 것이다.The outer circumferential outer surface cleaning nozzle 515 flows the refluxed liquid through the outer cleaning pipe 510 to the outer surface of the outer circumferential pail 451 so that foreign matter adhering to the outer surface of the outer circumferential pail 451 is removed.

도면 번호 517은 상기 외곽 바울(451)의 하부에서 상기 외곽 바울(451)의 내외부를 연통시키는 환류 홀이고, 도면 번호 516은 상기 환류 홀(517) 부근에 형성되어 상기 환류 홀(517) 쪽으로 처리액을 유도하는 유도 가이드이다.Reference numeral 517 denotes a reflux hole for communicating the inner and outer portions of the outer peripheral pail 451 from the lower portion of the outer peripheral pail 451. Reference numeral 516 denotes a hole formed in the vicinity of the reflux hole 517, This is an induction guide for guiding the liquid.

상기 외곽 외면 세정 노즐(515)을 통해 분사되어 상기 외곽 바울(451)을 따라 유동된 처리액이 상기 유도 가이드(516)에 의해 유도된 다음 상기 환류 홀(517)을 통해 상기 외곽 바울(451) 내부로 재유입된다.The processing liquid injected through the outer outer surface cleaning nozzle 515 and flowing along the outer pouring pole 451 is guided by the guide 516 and then flows through the outer pouring pole 451 through the reflux hole 517, Lt; / RTI >

상기 외곽 내면 세정 노즐(518)은 상기 외곽 바울(451)의 내면에 묻은 이물질이 제거되도록, 상기 외곽 세정관(510)을 통해 환류된 액을 상기 외곽 바울(451)의 내면으로 흘려주는 것이다.The outer circumferential surface cleaning nozzle 518 flows the refluxed liquid through the outer cleansing tube 510 to the inner surface of the outer circumferential pail 451 so that foreign substances adhered to the inner surface of the outer circumferential pail 451 are removed.

상기 중간 외면 세정관(511)은 상기 외곽 펌프(500)와 연결되어, 상기 처리액 중 상기 외곽 바울(451)에 수용된 액 중 일부를 상기 중간 바울(454)의 벽체 내부를 따라 상기 중간 바울(454)의 상부까지 환류시키는 것이다.The intermediate outer surface cleaning pipe 511 is connected to the outer pump 500 so that part of the liquid contained in the outer peripheral pail 451 of the treatment liquid flows along the inner wall of the middle pail 454, 454, respectively.

상기 중간 외면 세정 노즐(512)은 상기 중간 바울(454)의 외면에 묻은 이물질이 제거되도록, 상기 중간 외면 세정관(511)을 통해 환류된 액을 상기 중간 바울(454)의 외면으로 흘려주는 것이다.The intermediate outer surface cleaning nozzle 512 flows the refluxed liquid through the intermediate outer surface cleaning tube 511 to the outer surface of the middle pawl 454 so that foreign matter adhering to the outer surface of the middle pawl 454 is removed .

상기 중간 내면 세정관(530)은 상기 중간 펌프(520)와 연결되어, 상기 처리액 중 상기 중간 바울(454)에 수용된 액 중 일부를 상기 중간 바울(454)의 벽체 내부를 따라 상기 중간 바울(454)의 상부까지 환류시키는 것이다.The intermediate inner surface cleaning pipe 530 is connected to the intermediate pump 520 so that a part of the liquid contained in the intermediate pail 454 of the treatment liquid flows along the inside of the wall of the middle pail 454, 454, respectively.

상기 중간 내면 세정 노즐(535)은 상기 중간 바울(454)의 내면에 묻은 이물질이 제거되도록, 상기 중간 내면 세정관(530)을 통해 환류된 액을 상기 중간 바울(454)의 내면으로 흘려주는 것이다.The intermediate inner surface cleaning nozzle 535 flows the refluxed liquid through the middle inner surface cleaning pipe 530 to the inner surface of the middle pawl 454 so that foreign matter adhering to the inner surface of the middle pawl 454 is removed .

상기 내곽 외면 세정관(531)은 상기 중간 펌프(520)와 연결되어, 상기 처리액 중 상기 중간 바울(454)에 수용된 액 중 일부를 상기 내곽 바울(457)의 벽체 내부를 따라 상기 내곽 바울(457)의 상부까지 환류시키는 것이다.The inner and outer surface cleaning pipes 531 are connected to the intermediate pump 520 so that a part of the liquid contained in the intermediate pails 454 of the treatment liquid flows along the inner wall of the inner pail 457, 457).

상기 내곽 외면 세정 노즐(532)은 상기 내곽 바울(457)의 외면에 묻은 이물질이 제거되도록, 상기 내곽 외면 세정관(531)을 통해 환류된 액을 상기 내곽 바울(457)의 외면으로 흘려주는 것이다.The inner circumference outer surface cleaning nozzle 532 flows the refluxed liquid through the inner circumferential outer surface cleaning tube 531 to the outer surface of the inner circumferential pole 457 so as to remove foreign matter adhering to the outer surface of the inner circumferential pole 457 .

상기 내곽 내면 세정관(550)은 상기 내곽 펌프(540)와 연결되어, 상기 처리액 중 상기 내곽 바울(457)에 수용된 액 중 일부를 상기 내곽 바울(457)의 벽체 내부를 따라 상기 내곽 바울(457)의 상부까지 환류시키는 것이다.The inside surface cleaning pipe 550 is connected to the inside pouring pump 540 so that a part of the liquid contained in the inside pouring pipe 457 of the treatment liquid is supplied to the inside pouring pipe 457 along the inside wall of the inside pouring hole 457 457).

상기 내곽 내면 세정 노즐(555)은 상기 내곽 바울(457)의 내면에 묻은 이물질이 제거되도록, 상기 내곽 내면 세정관(550)을 통해 환류된 액을 상기 내곽 바울(457)의 내면으로 흘려주는 것이다.The inner circumference inner surface cleaning nozzle 555 flows the refluxed liquid through the inner circumferential inner surface cleaning tube 550 to the inner surface of the inner circumferential trough 457 so that foreign substances adhered to the inner surface of the inner circumferential pour 457 are removed .

상기와 같이 구성됨으로써, 상기 외곽 바울(451), 상기 중간 바울(454) 및 상기 내곽 바울(457)에 각각 수용된 처리액에 의해 상기 외곽 바울(451), 상기 중간 바울(454) 및 상기 내곽 바울(457)의 각 표면의 이물질이 세정되어 제거될 수 있게 된다.The intermediate pillar 454 and the inner pillar 454 are separated by the treatment liquid contained in the outer pillar 451, the middle pillar 454 and the inner pillar 457, So that foreign matter on each surface of the substrate 457 can be cleaned and removed.

상기에서 본 발명은 특정한 실시예에 관하여 도시되고 설명되었지만, 당업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 알 수 있을 것이다. 그렇지만 이러한 수정 및 변형 구조들은 모두 본 발명의 권리범위 내에 포함되는 것임을 분명하게 밝혀두고자 한다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those of ordinary skill in the art that various changes in form and detail may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the following claims And can be changed. However, it is intended that the present invention covers the modifications and variations of this invention provided they come within the scope of the appended claims and their equivalents.

본 발명의 일 측면에 따른 대전 방지용 바울에 의하면, 바울에 발생된 정전기가 제거될 수 있으므로, 그 산업상 이용가능성이 높다고 하겠다.According to one aspect of the present invention, since the static electricity generated in the pawl can be removed, the potential for industrial use is high.

100 : 기판 처리 유닛
150 : 대전 방지용 바울
151 : 외곽 바울
154 : 중간 바울
157 : 내곽 바울100: substrate processing unit
150: Anti-
151: Outskirts of Paul
154: Intermediate Paul
157: Paul the Hollow

Claims (5)

기판이 올려지는 척 부재와, 상기 척 부재에 올려진 상기 기판을 향해 처리액을 공급해주는 처리액 공급 부재를 포함하는 기판 처리 유닛에 적용되는 것으로서,
상기 처리액 공급 부재에서 상기 척 부재 상의 상기 기판으로 공급되었다가 상기 기판으로부터 이탈되는 상기 처리액을 수용하되, 적어도 일부가 정전기 제거를 위해 전도성을 가지는 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 대전 방지용 바울.A chuck member on which a substrate is mounted and a processing liquid supply member for supplying a processing liquid toward the substrate placed on the chuck member,
Wherein at least a part of the processing liquid is supplied from the processing liquid supply member to the substrate on the chuck member and is detached from the substrate, and at least a part of the processing liquid is made of a material having conductivity for removing static electricity. 제 1 항에 있어서,
상기 대전 방지용 바울은 탄소나노튜브(CNT)가 혼합되어 성형된 것을 특징으로 하는 대전 방지용 바울.The method according to claim 1,
Wherein the antistatic pole is formed by mixing carbon nanotubes (CNTs). 제 1 항에 있어서,
상기 대전 방지용 바울에서 상기 기판의 상공에 해당되는 부분이 정전기 제거를 위해 전도성을 가지는 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 대전 방지용 바울.The method according to claim 1,
Wherein the portion of the antistatic pole corresponding to the upper portion of the substrate is made of a material having conductivity to remove static electricity. 제 1 항에 있어서,
상기 대전 방지용 바울에서 정전기 제거를 위해 전도성을 가지는 물질로 이루어지는 부분은 접지되는 것을 특징으로 하는 대전 방지용 바울.The method according to claim 1,
Wherein a part made of a conductive material is grounded for removing static electricity in the antistatic pole. 제 1 항에 있어서,
상기 대전 방지용 바울은
상기 척 부재로부터 상대적으로 가장 외곽에 배치되는 외곽 바울;
상기 척 부재로부터 상대적으로 가장 내곽에 배치되는 내곽 바울;
상기 외곽 바울과 상기 내곽 바울 사이에 배치되는 중간 바울;
상기 처리액 중 상기 외곽 바울에 수용된 액 중 일부를 상기 외곽 바울의 상부까지 환류시키는 외곽 세정관;
상기 외곽 바울의 외면에 묻은 이물질이 제거되도록, 상기 외곽 세정관을 통해 환류된 액을 상기 외곽 바울의 외면으로 흘려주는 외곽 외면 세정 노즐;
상기 외곽 바울의 내면에 묻은 이물질이 제거되도록, 상기 외곽 세정관을 통해 환류된 액을 상기 외곽 바울의 내면으로 흘려주는 외곽 내면 세정 노즐;
상기 처리액 중 상기 외곽 바울에 수용된 액 중 일부를 상기 중간 바울의 상부까지 환류시키는 중간 외면 세정관;
상기 중간 바울의 외면에 묻은 이물질이 제거되도록, 상기 중간 외면 세정관을 통해 환류된 액을 상기 중간 바울의 외면으로 흘려주는 중간 외면 세정 노즐;
상기 처리액 중 상기 중간 바울에 수용된 액 중 일부를 상기 중간 바울의 상부까지 환류시키는 중간 내면 세정관;
상기 중간 바울의 내면에 묻은 이물질이 제거되도록, 상기 중간 내면 세정관을 통해 환류된 액을 상기 중간 바울의 내면으로 흘려주는 중간 내면 세정 노즐;
상기 처리액 중 상기 중간 바울에 수용된 액 중 일부를 상기 내곽 바울의 상부까지 환류시키는 내곽 외면 세정관;
상기 내곽 바울의 외면에 묻은 이물질이 제거되도록, 상기 내곽 외면 세정관을 통해 환류된 액을 상기 내곽 바울의 외면으로 흘려주는 내곽 외면 세정 노즐;
상기 처리액 중 상기 내곽 바울에 수용된 액 중 일부를 상기 내곽 바울의 상부까지 환류시키는 내곽 내면 세정관; 및
상기 내곽 바울의 내면에 묻은 이물질이 제거되도록, 상기 내곽 내면 세정관을 통해 환류된 액을 상기 내곽 바울의 내면으로 흘려주는 내곽 내면 세정 노즐;을 포함하는 것을 특징으로 하는 대전 방지용 바울.The method according to claim 1,
The anti-
An outer brick disposed on the outermost side relative to the chuck member;
An inner ear pawl disposed at the innermost position relative to the chuck member;
A middle pole disposed between the outer Paul and the inner Paul;
An outer squeeze pipe for refluxing part of the liquid contained in the outer paul to the upper part of the outer paul of the treatment liquid;
An outer surface cleaning nozzle for allowing the refluxed liquid to flow to the outer surface of the outer pouring pole through the outer squeeze pipe so as to remove foreign matter adhering to the outer surface of the outer pouring pole;
An inner surface cleaning nozzle which flows the refluxed liquid through the outer surface cleaning tube to the inner surface of the outer peripheral pail so that foreign matter adhered to the inner surface of the outer surface paul is removed;
An intermediate outer surface cleaning tube for refluxing some of the liquid contained in the outer peripheral pawls of the treatment liquid to an upper portion of the intermediate pawl;
An intermediate outer surface cleaning nozzle for flowing a refluxed liquid through the intermediate outer surface cleaning tube to the outer surface of the intermediate pawl so that foreign matter adhering to the outer surface of the intermediate pawl is removed;
An intermediate inner surface cleaning tube for refluxing a part of the liquid contained in the intermediate liquid in the treatment liquid to an upper portion of the intermediate pawl;
An intermediate inner surface cleaning nozzle for allowing a liquid refluxed through the intermediate inner surface cleaning tube to flow to the inner surface of the middle pawl so as to remove foreign matter adhering to the inner surface of the middle pawl;
An inner and outer surface washing tub for refluxing a part of the liquid contained in the treating liquid to the upper portion of the inner bottom pole;
An outer surface cleaning nozzle for flowing refluxed liquid through the inner and outer surface cleaning tubes to the outer surface of the inner pouring pole so as to remove foreign matter adhering to the outer surface of the inner pouring pole;
An inner circumferential inner surface cleaning tube for refluxing some of the liquid contained in the inner circumferential surface of the processing solution to an upper portion of the inner circumferential surface; And
And an inner circumferential surface cleaning nozzle for flowing the refluxed liquid through the inner circumferential inner surface cleaning tube to the inner surface of the inner circumferential surface of the inner circumferential surface of the inner circumferential surface of the inner circumferential surface of the inner circumferential surface of the inner circumferential surface.
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