KR20190059130A - polishing wastewater treatment device - Google Patents

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KR20190059130A
KR20190059130A KR1020170156782A KR20170156782A KR20190059130A KR 20190059130 A KR20190059130 A KR 20190059130A KR 1020170156782 A KR1020170156782 A KR 1020170156782A KR 20170156782 A KR20170156782 A KR 20170156782A KR 20190059130 A KR20190059130 A KR 20190059130A
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이종경
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월드시스템주식회사
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Abstract

The present invention relates to a polishing wastewater treatment apparatus. More particularly, the present invention relates to a polishing wastewater treatment apparatus for separating and discharging waste comprising dust and sludge after recovering the polishing wastewater mixed with dust and sludge generated during a polishing process. The apparatus comprises: a polishing unit for performing polishing; a polishing water supply unit for supplying polishing water to the polishing unit; and a treatment unit for recovering the polishing wastewater mixed with the dust and sludge generated by the polishing process together with the polishing water supplied to the polishing unit, and separating and discharging the waste comprising the dust and sludge.

Description

연마 폐수 처리장치{polishing wastewater treatment device}[0001] POLISHING WASTEWATER TREATMENT DEVICE [0002]

본 발명은 연마 폐수 처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 연마 가공시 발생되는 분진 및 슬러지가 혼합된 연마 폐수를 회수한 후 분진 및 슬러지로 구성된 폐기물을 분리하여 배출하기 위한 연마 폐수 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to an abrasive wastewater treatment apparatus, and more particularly to an abrasive wastewater treatment apparatus for recovering abrasive wastewater mixed with dust and sludge generated during polishing and separating and discharging waste composed of dust and sludge will be.

일반적으로 연마 가공시 연마를 실시하기 위한 연마 숫돌과 피 가공체와의 접촉에 의해 열이 발생되며, 매우 많은 분진과 파티클이 발생하게 된다.In general, heat is generated by the contact between the abrasive grindstone and the workpiece for polishing during abrading, and a large amount of dust and particles are generated.

이때, 발생된 분진 및 파티클은 연마를 수행한 후 폐기를 실시하고 있으나, 연마 과정에서 공기중으로 날린 분진의 제거에는 어려움이 있었다.At this time, the dust and particles generated are polished and then discarded, but it is difficult to remove dusts blown into the air during the polishing process.

또한, 연마 과정에서 발생되는 열에 의해 피 가공체 또는 연마 숫돌의 물성이 변경되거나, 파손되는 문제점이 있었으며, 이를 해결하기 위해 연마 숫돌과 피 가공체의 접촉부에 연마수를 공급함으로써, 연마 숫돌 및 피 가공체의 온도 상승을 억제하고, 분진의 발생을 축소할 수 있게 되었다.In order to solve this problem, polishing water is supplied to the abutting portion between the abrasive grindstone and the work to be processed, so that the abrasive grindstone and the abrasive grindstone The temperature rise of the processed body can be suppressed, and generation of dust can be reduced.

반면, 분진의 발생을 축소할 수는 있으나, 발생된 분진을 제거할 수 없는 문제점이 있었다. 또한, 연마수를 이용함에 따라, 분진 및 파티클로 구성된 연마 폐기물뿐만 아니라, 연마 폐기물이 혼합된 연마 폐수가 발생되어, 폐기물의 처리에 어려움이 있었다.On the other hand, although the generation of dust can be reduced, the generated dust can not be removed. Further, by using the polishing water, abrasive wastewater mixed with polishing waste as well as abrasive wastes composed of dust and particles was generated, which made it difficult to treat the waste.

특히, 종래의 단순 냉각을 위한 연마수 공급은 단순하게 연마 숫돌에 연마수를 공급하는데에 그쳐 과도한 연마 폐수가 발생되는 문제점이 있었다.Particularly, the conventional supply of polishing water for simple cooling has merely supplied polishing water to the polishing grindstone, resulting in excessive polishing wastewater.

이에 따라, 한국등록특허 제10-1019032호 "웨이퍼 가공폐수 처리장치 및 처리방법"와 같이, 분리막을 이용하여 고형물질을 세정, 처리하는 장치가 개발되었으나, 분리막에 의한 고형물질의 분리는 수분을 완전히 제거하기 어려운 문제점이 있었다.Accordingly, an apparatus for cleaning and treating a solid material using a separation membrane has been developed, such as Korean Patent No. 10-1019032, entitled " Wafer Processing Wastewater Treatment Device and Treatment Method ", but separation of the solid material by the separation membrane There was a problem that it was difficult to remove.

즉, 수분이 함유된 슬러지의 폐기로 인해 폐기물 중량이 크게 발생되며, 수분이 함유된 폐기물에 의해 지하수의 오염 등 2차 오염발생의 문제점이 있었다.That is, the weight of the waste is large due to the disposal of the sludge containing water, and there is a problem that secondary contamination such as contamination of the ground water occurs due to the waste containing moisture.

한국등록특허 제10-1019032호 "웨이퍼 가공폐수 처리장치 및 처리방법"Korean Patent No. 10-1019032 entitled " Apparatus and Method for Processing Wastewater Wastewater "

본 발명의 목적은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 연마시 발생된 분진을 효과적으로 회수하기 위한 연마 폐수 처리장치를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an abrasive wastewater treatment apparatus for effectively recovering dust generated during polishing.

본 발명의 다른 목적은 연마 숫돌의 연마 위치 및 연마 면적에 따라 연마수를 효율적으로 공급하여 연마 폐수의 발생을 최소화 시키기 위한 연마 폐수 처리장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an abrasive wastewater treatment apparatus for efficiently supplying polishing water according to the polishing position and the polishing area of the polishing grindstone to minimize the generation of polishing wastewater.

본 발명의 또 다른 목적은 연마시 발생된 분진 및 파티클로 구성된 폐기물을 연마수로부터 완전히 분리하여 배출하기 위한 연마 폐수 처리장치를 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide an abrasive wastewater treatment apparatus for completely separating and discharging wastes composed of dust and particles generated during polishing from polishing water.

상기 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치는 연마 가공을 실시하기 위한 연마부와 상기 연마부로 연마수를 공급하기 위한 연마수 공급부와 상기 연마부로 공급된 연마수와 함께 연마 가공에 의해 발생되는 분진 및 슬러지가 혼합된 연마 폐수를 회수한 후 분진 및 슬러지로 구성된 폐기물을 분리하여 배출하기 위한 처리부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided an abrasive wastewater treatment apparatus comprising: a polishing section for performing polishing; a polishing water supply section for supplying polishing water to the polishing section; And a treatment unit for separating and discharging waste composed of dust and sludge after recovering abrasive wastewater mixed with generated dust and sludge.

또한, 상기 연마부는 수용부 내에 배치된 연마 숫돌과 상기 연마 숫돌에 연마수를 공급하기 위한 복수 개의 연마 노즐과 수용부 내에서 발생되는 분진의 누출을 억제하기 위해 수용부 내에 연마수를 미스트 형태로 분무하기 위한 분무 노즐로 구성되는 것을 특징으로 한다.The polishing unit may include a polishing grindstone disposed in the accommodating portion, a plurality of polishing nozzles for supplying polishing water to the polishing grindstone, and a plurality of polishing nozzles for feeding the polishing water into the accommodating portion in a mist And a spray nozzle for spraying.

또한, 상기 처리부는 상기 연마부로부터 연마 폐수와 공기를 함께 흡입한 후 흡입된 공기를 배출하기 위한 집진부와 상기 집진부를 통해 회수된 연마 폐수를 저장하되, 저장된 연마 폐수를 가열하여 연마 폐수에 포함된 물을 기화시켜 제거하는 건조부로 구성되는 것을 특징으로 한다.The processing unit may include a dust collecting unit for sucking the abrasive wastewater and air from the polishing unit together and discharging the sucked air, and a polishing wastewater recovered through the dust collecting unit, wherein the polishing wastewater is heated, And a drying section for vaporizing and removing water.

또한, 상기 처리부는 집진부와 건조부 사이에 배치되어 흡입된 연마 폐수는 자중에 의해 낙하하여 건조부로 유입되도록 하단이 개방되되, 흡입된 공기로부터 분진을 걸러주기 위한 1차 필터가 상단에 배치된 1차 필터부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The processing unit is disposed between the dust collecting unit and the drying unit, and the sucked polishing wastewater falls down due to its own weight to be introduced into the drying unit. The lower end of the processing unit is opened, and a primary filter for filtering dust from the sucked air And further comprises a car filter unit.

또한, 상기 집진부는 상기 연마부로부터 흡입된 공기의 분진을 걸러주기 위한 2차 필터부와 상기 2차 필터부에 의해 분진이 제거된 공기에 포함된 유해 가스의 제거 및 탈취를 위한 카본 필터부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The dust collecting unit may further include a secondary filter unit for filtering dust from the air sucked from the polishing unit and a carbon filter unit for removing and deodorizing noxious gas contained in the dust-removed air by the secondary filter unit .

또한, 상기 처리부는 상기 건조부에 의해 발생되는 수증기를 배출하기 위한 수증기 배출부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The processing unit may further include a water vapor discharge unit for discharging water vapor generated by the drying unit.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치에 의하면, 연마시 발생된 분진을 효과적으로 회수하여 제거할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the polishing wastewater treatment apparatus of the present invention, dust generated during polishing can be effectively recovered and removed.

또한, 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치에 의하면, 연마 숫돌의 연마 위치 및 연마 면적에 따라 연마수를 미스트 형태로 분무하되, 분무 방향 및 분무 면적을 조절하여 연마수를 효율적으로 공급함으로써, 연마 폐수의 발생을 최소화 시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the polishing-wastewater treatment apparatus of the present invention, the polishing water is sprayed in the form of mist in accordance with the polishing position and the polishing area of the polishing grindstone, and the polishing direction and the spraying area are adjusted, It is possible to minimize the occurrence of the problem.

또한, 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치에 의하면, 연마시 발생된 분진 및 파티클로 구성된 폐기물을 연마수로부터 완전히 분리하여 배출할 수 있는 효과가 있다.Further, according to the polishing wastewater treatment apparatus of the present invention, there is an effect that the waste composed of dust and particles generated during polishing can be completely separated and discharged from the polishing water.

도 1은 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치를 도시한 사시도.
도 2는 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치의 연마부를 도시한 도면.
도 3은 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치의 처리부를 도시한 전면도.
도 4 또는 도 5는 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치의 처리부를 도시한 단면도.
도 6은 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치의 처리부의 다른 실시예를 도시한 단면도.
1 is a perspective view showing an abrasive wastewater treatment apparatus according to the present invention.
2 is a view showing an abrasive portion of an abrasive wastewater treatment apparatus according to the present invention.
3 is a front view showing a treatment section of the polishing wastewater treatment apparatus according to the present invention.
FIG. 4 or 5 is a sectional view showing a treatment section of the polishing wastewater treatment apparatus according to the present invention. FIG.
6 is a sectional view showing another embodiment of the treatment section of the polishing wastewater treatment apparatus according to the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치를 도시한 사시도이며, 도 2는 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치의 연마부를 도시한 도면이고, 도 3은 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치의 처리부를 도시한 전면도이며, 도 4 또는 도 5는 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치의 처리부를 도시한 단면도이고, 도 6은 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치의 처리부의 다른 실시예를 도시한 단면도이다.FIG. 1 is a perspective view showing a polishing wastewater treatment apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a view showing a polishing section of the polishing wastewater treatment apparatus according to the present invention, and FIG. 3 is a view showing the treatment section of the polishing waste water treatment apparatus according to the present invention 6 is a cross-sectional view showing another embodiment of the treatment section of the polishing-wastewater treatment apparatus according to the present invention .

도 1은 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치를 도시한 것이며, 연마 가공을 실시하기 위한 연마부(1)와 상기 연마부(1)로 연마수를 공급하기 위한 연마수 공급부(2)와 상기 연마부(1)로 공급된 연마수와 함께 연마 가공에 의해 발생되는 분진 및 슬러지가 혼합된 연마 폐수를 진공 흡입으로 회수한 후 분진 및 슬러지로 구성된 폐기물을 분리하여 배출하기 위한 처리부(3)를 포함하여 구성된다.Fig. 1 shows a polishing-wastewater treatment apparatus according to the present invention. The polishing-wastewater treatment apparatus 1 includes a polishing section 1 for polishing, (3) for separating and discharging the waste composed of dust and sludge after recovering the abrasive wastewater mixed with the dust and sludge generated by the polishing process together with the polishing water supplied to the part (1) by vacuum suction .

또한, 상기 연마부(1)와 연마수 공급부(2) 및 처리부(3)를 제어하기 위한 제어부(4)를 포함하여 구성될 수 있으며, 상기 제어부(4)는 유,무선 통신이 가능하도록 구성될 수 있다.The control unit 4 may include a control unit 4 for controlling the polishing unit 1 and the polishing water supply unit 2 and the processing unit 3, .

특히, 상기 처리부(3)는 분진 및 슬러지와 연마수가 혼합된 연마 폐수로부터 수분을 완전히 제거함으로써, 분진 및 슬러지로 구성된 폐기물만을 분리하여 배출할 수 있도록 구성되며, 상세한 설명은 하기 아래에서 설명한다.Particularly, the treatment section 3 is constructed so as to separate and discharge waste composed of dust and sludge by completely removing moisture from the polishing wastewater mixed with dust and sludge and polishing water, and a detailed description will be given below.

또한, 상기 처리부(3)는 유지 관리가 용이하도록 전면에 탈부착 가능한 전면 커버(3a)가 배치되며, 전면 커버에는 복수 개의 도어(3b, 3c)에 의해 부분적으로도 개방 가능하도록 구성된다.In addition, the processing unit 3 is provided with a front cover 3a detachably attachable to the front surface thereof for easy maintenance, and the front cover can be partially opened by a plurality of doors 3b and 3c.

특히, 전면 커버(3a) 및 각 도어(3b, 3c)는 처리부(3)가 연마부(1)로부터 분진을 진공 흡입을 통해 효율적으로 회수할 수 있도록 복수 개의 씰링재를 이용하여 내부 압력 손실없이 밀폐시키도록 구성됨이 바람직하다.Particularly, the front cover 3a and each of the doors 3b and 3c are sealed by a plurality of sealing materials so that the treating portion 3 can efficiently recover dust from the polishing portion 1 through vacuum suction, .

도 2는 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치의 연마부를 도시한 것이며, 상기 연마부(1)는 상기 처리부(도 1의 3)에 흡입관(도 4의 33c)을 통해 연결되어 있으며, 수용부(11) 내에 배치된 연마 숫돌(15)과 상기 연마 숫돌(15)에 상기 연마수 공급부(2)에 의해 공급되는 연마수를 공급하기 위한 복수 개의 연마 노즐(13)과 수용부(11) 내에서 발생되는 분진의 누출을 억제하기 위해 수용부(11) 내에 상기 연마수 공급부(2)에 의해 공급되는 연마수를 미스트 형태로 분무하기 위한 분무 노즐(14)로 구성된다.2, the polishing unit 1 is connected to the treatment unit (3 in FIG. 1) through a suction pipe (33c in FIG. 4), and the receiving unit A plurality of polishing nozzles 13 for supplying the polishing water supplied by the polishing water supply section 2 to the polishing grindstone 15 and a plurality of polishing nozzles 13 for supplying polishing water supplied from the polishing water supply section 2, And a spray nozzle 14 for spraying the abrasive water supplied by the abrasive water supply part 2 in the form of mist in the accommodating part 11 to suppress leakage of generated dust.

특히, 상기 분무 노즐(14)은 연마 과정에서 발생되는 미립자 형태의 분진이 흡착되어 흩날리지 않도록 미스트(안개) 형태로 연마수를 분무하게 되며, 분무된 연마수 입자에는 미립자 형태의 분진이 흡착되면서 보다 큰 입자를 형성하면서 자중에 의해 수용부(11)의 저면으로 가라앉게 되어 분진을 효율적 제거할 수 있게 된다.Particularly, the spray nozzle 14 sprays polish water in the form of a mist (mist) so that the particulate dust generated in the polishing process is not adsorbed and scattered. Particulate dust is adsorbed on the sprayed polish water particles The dust is submerged into the bottom of the receiving portion 11 by its own weight while forming larger particles, so that dust can be efficiently removed.

또한, 상기 분무 노즐(14)은 상기 연마 숫돌(15)의 회전 속도에 맞춰 분무량이 제어되도록 구성되어 연마수의 사용을 최소화 시키도록 구성될 수 있으며, 추후 보다 빠르게 연마 폐수로부터 수분을 제거하기 위해서는 연마수의 사용이 최소화되도록 구성함이 바람직하다.In addition, the spray nozzle 14 may be configured to control the spray amount in accordance with the rotation speed of the polishing grindstone 15 to minimize the use of the polishing water. In order to remove moisture from the polishing wastewater sooner It is preferable that the use of polishing water is minimized.

또한, 상기 연마 숫돌(15)을 냉각시키면서, 연마 과정에서 분진 및 파티클의 발생을 최소화시키기 위해서 연마 숫돌(15)에 연마수를 공급하기 위한 연마 노즐(13)도 연마수의 사용을 최소화하면서 넓은 면적에 연마수를 고르게 공급하기 위해서 미스트(안개) 형태로 분무하도록 구성될 수도 있다.The polishing nozzle 13 for supplying polishing water to the polishing grindstone 15 in order to minimize the generation of dust and particles in the polishing process while cooling the polishing grindstone 15 is also provided with a large And may be configured to be sprayed in the form of mist (mist) in order to uniformly supply the polishing water to the area.

또한, 각 연마 노즐(13)은 연마 숫돌(15)의 표면 중 피 가공체가 접촉되는 위치 및 방향과 연마 숫돌(15)의 회전 속도에 맞춰 연마 숫돌(15)에 공급되는 연마수의 공급 방향 및 면적을 조절할 수 있도록 구성될 수 있다.Each of the polishing nozzles 13 is provided with a supply direction of the polishing water supplied to the polishing grindstone 15 in accordance with the position and direction of the surface of the polishing grindstone 15 to be contacted with the workpiece and the rotational speed of the polishing grindstone 15, And can be configured to adjust the area.

보다 상세하게는, 수용부(11)에 배치된 노즐 프레임(11)을 따라, 각 연마 노즐(13)이 좌,우(Y축 방향) 이송 가능하며, 분사 방향을 상,하로(Y축을 중심으로 회전 가능하게) 조절할 수 있도록 구성될 수 있다.More specifically, each of the polishing nozzles 13 can be moved in the left and right (Y-axis direction) along the nozzle frame 11 arranged in the accommodating portion 11, As shown in Fig.

이를 통해, 연마 숫돌(15)에 공급되는 연마수의 형태가 원형뿐만 아니라, 다양한 타원 형태가 될 수 있다.In this way, the shape of the polishing water supplied to the polishing grindstone 15 can be not only circular but also various oval shapes.

예를 들면, 수평한 타원 형태로 연마 숫돌(15)에 연마수를 공급함으로써, 특정 위치에 연마수가 집중되는 것을 최대한 억제하거나, 수직한 타원 형태로 연마수를 공급함으로써, 피 가공체가 특히 많이 접촉되는 특정 위치에 연마수가 집중되도록 조절할 수 있게 된다.For example, by supplying polishing water to the polishing grindstone 15 in a horizontal elliptical shape, concentration of polishing water at a specific position is suppressed to the maximum, or polishing water is supplied in a vertical oval shape, It is possible to control the concentration of polishing water at a specific position.

또는, 도 2의 (2-II)에 도시된 형태와 같이, 수용부(11)에 배치되는 노즐 프레임(11)이 Y축을 중심으로 회전 가능하게 구성되거나, 노즐 프레임(11)에 설치된 노즐 브라켓(17)에 회전 가능하게 결합되어, 분사 방향을 상,하로(Y축을 중심으로 회전 가능하게) 조절할 수 있도록 구성될 수도 있다.Alternatively, as shown in Fig. 2 (2-II), the nozzle frame 11 disposed in the accommodating portion 11 may be configured to be rotatable about the Y axis, (17) so as to adjust the injection direction upward and downward (rotatable about the Y axis).

이때, 상기 노즐 브라켓(17)은 상기 연마 노즐(13)의 분사 방향을 좌,우로 조절할 수 있도록(Z축을 중심으로 회전 되도록) 노즐 프레임(11)에 회전 가능하게 결합됨이 바람직하다.The nozzle bracket 17 may be rotatably coupled to the nozzle frame 11 so as to adjust the spraying direction of the polishing nozzle 13 to the left and right (rotated about the Z axis).

도 3은 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치의 처리부의 전면 커버(도 1의 3a) 및 복수 개의 도어(도 1의 3b, 3c)를 제거한 상태를 도시한 것이며, 상기 처리부(3)는 상기 연마부(도 1의 1)로부터 연마 폐수와 공기를 함께 처리부(3) 내로 흡입한 후 흡입된 공기를 배출하기 위한 팬이 구비된 집진부(33)와 상기 집진부(33)를 통해 회수된 연마 폐수를 저장하되, 저장된 연마 폐수를 가열하여 연마 폐수에 포함된 물을 기화시켜 제거하는 건조부로 구성된다.3 shows a state in which a front cover (3a in FIG. 1) and a plurality of doors (3b and 3c in FIG. 1) of a processing section of the polishing-wastewater treatment apparatus according to the present invention are removed. A dust collecting part 33 provided with a fan for sucking the abrasive wastewater and air from the dust collecting part 33 (1 in FIG. 1) into the processing part 3 and discharging the sucked air, And a drying unit for heating the stored abrasive wastewater to vaporize and remove water contained in the abrasive wastewater.

보다 상세하게는, 도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 전면 커버(도 1의 3a) 및 복수 개의 도어(도 1의 3b, 3c)에 의해 밀폐되도록 구성된 처리부(3)는 집진부(31)의 진공 흡입에 의해 처리부(3) 내부 압력이 낮아지면서, 연마부로부터 흡입관(도 4의 33c)을 통해 분진 및 파티클과 연마수가 혼합된 연마 폐수 및 외부 공기를 진공 흡입하게 된다.3 to 5, the processing unit 3 configured to be closed by the front cover (3a in FIG. 1) and the plurality of doors (3b and 3c in FIG. 1) includes a dust collecting unit 31, The inner pressure of the processing part 3 is lowered by the vacuum suction of the processing part 3, and the polishing wastewater mixed with dust and particles and the polishing water from the polishing part through the suction pipe (33c in FIG.

또한, 상기 처리부(3) 내부로 흡입된 연마 폐수는 자중에 의해 낙하하여 하단에 배치된 서랍 형태의 건조부(32)에 담겨지며, 흡입된 외부 공기는 상단에 배치된 집진부(31)를 통해 외부로 배출된다.In addition, the abrasive wastewater sucked into the processing unit 3 falls down by its own weight and is contained in a drawer-shaped drying unit 32 disposed at the lower end, and the sucked outside air flows through the dust collecting unit 31 disposed at the upper end And is discharged to the outside.

또한, 상기 집진부(31)는 상기 연마부로부터 흡입된 공기의 분진을 걸러주기 위한 2차 필터부(34)를 더 포함하여 상기 분무 노즐에 의해 흡착되지 못한 분진을 제거할 수 있도록 구성됨이 바람직하다.The dust collecting unit 31 may further include a second filter unit 34 for filtering dust from the air sucked from the polishing unit to remove dust that is not adsorbed by the spray nozzle .

또한, 상기 2차 필터부(34)는 슬라이드 형태로 탈부착 가능하게 배치되어 전면에 설치된 도어(2a)를 통해 간편하게 교체할 수 있다.In addition, the secondary filter unit 34 is detachably installed in a slidable manner and can be easily replaced through a door 2a provided on the front surface.

상기 2차 필터부(34)는 복수 개의 "V"자 형태 단면을 가지는 백필터를 사용하여 필터링 면적이 최대한 크게 형성되도록 구성함이 바람직하되, 건식 이외에 습식필터를 이용할 수도 있으며, 습식 필터의 실시예에 대해서는 하기 아래에서 보다 상세히 설명한다.It is preferable that the secondary filter portion 34 is formed to have a maximum filtering area using a bag filter having a plurality of "V" shaped cross-sections, but a wet filter may be used in addition to a dry filter, Examples are described in more detail below.

또한, 상기 2차 필터부(34)에 의해 분진이 제거된 공기에 포함된 유해 가스의 제거 및 탈취를 위한 카본 필터부(35)를 더 포함하여 연마 과정중에 발생되는 유해가스 및 악취까지 제거할 수 있도록 구성됨이 바람직하다.Further, the apparatus further includes a carbon filter unit 35 for removing and deodorizing noxious gas contained in the dust-removed air by the secondary filter unit 34 to remove harmful gases and odors generated during the polishing process .

또한, 상기 처리부는 흡입관(33c)의 단부에 연결되되, 집진부(31)와 건조부(32) 사이에 배치되어 흡입된 연마 폐수는 자중에 의해 낙하하여 건조부(32)로 유입되도록 하단에 개방구(33b)가 형성되고, 흡입된 공기로부터 비교적 큰 입자의 분진을 걸러주기 위한 메쉬 형태의 1차 필터(33a)가 상단에 배치된 1차 필터부(33)를 더 포함하도록 구성될 수도 있다.The treatment section is connected to the end of the suction pipe 33c and disposed between the dust collecting section 31 and the drying section 32 so that the abrasive wastewater sucked falls down by its own weight and flows into the drying section 32 And a primary filter portion 33 having a mesh-shaped primary filter 33a disposed at the upper end thereof for filtering the dust of relatively large particles from the sucked air is formed .

이때, 상기 1차 필터(33a)는 부직포로 구성되거나, 스테인리스와 같은 금속 또는 수지재로 구성된 메쉬 필터가 사용될 수도 있다.At this time, the primary filter 33a may be formed of a nonwoven fabric, or a mesh filter made of a metal such as stainless steel or a resin material may be used.

특히, 상기 1차 필터(33a)는 비교적 큰 입자를 1차적으로 걸러줌으로써, 2차 필터의 수명을 연장시켜줄 수 있는 효과를 가지면서, 연마 폐수가 상향으로 튀거나, 상기 집진부(31)의 진공 흡입력에 의해 연마 폐수가 상향으로 빨려 올라가는 것을 억제시켜주게 된다.Particularly, since the primary filter 33a primarily filters relatively large particles, the life of the secondary filter can be prolonged, and the abrasive wastewater can bounce upward, and the vacuum of the dust collecting part 31 Thereby preventing the abrasive wastewater from sucking upward by the suction force.

또한, 상기 흡입관(33c)을 통해 처리부 내로 공급된 연마 폐수는 건조부(32)에 적재되며, 건조부(32)에 설치된 복수 개의 히터(32a)에 의한 가열에 의해 건조되어 수분은 제거되고, 분진 및 슬러지만 남게된다.The polishing wastewater supplied into the treatment section through the suction pipe 33c is loaded on the drying section 32 and is dried by heating by a plurality of heaters 32a provided on the drying section 32 to remove moisture, Only dust and sludge remain.

또한, 상기 건조부(32)는 슬라이드 형태로 탈부착 가능하게 배치되어 전면에 설치된 도어(2b)를 통해 건조부(32)에 남은 분진 및 슬러지 간편하게 버릴 수 있다.In addition, the drying unit 32 is detachably installed in a slidable manner, and dust and sludge remaining in the drying unit 32 can be easily disposed through the door 2b installed on the front surface.

또한, 상기 건조부(32)의 바닥면에는 테프론 등의 코팅처리가 실시되어 복수 개의 히터(32a)에 의한 가열시 분진 및 슬러지가 바닥면에 붙어 떨어지지 않는 것을 방지하도록 구성됨이 바람직하다.The bottom surface of the drying unit 32 may be coated with Teflon or the like to prevent dust and sludge from falling on the bottom surface when heated by the plurality of heaters 32a.

또한, 처리부(3) 내에는 수위 센서, 습도 센서 등으로 구성된 센서부(38)를 더 포함할 수 있으며, 건조부(32) 내에 적재되는 연마 폐수의 수위 또는 습도에 따라, 히터의 동작 또는 하기 아래에서 설명하는 덕트부 또는 집진부의 동작을 조절하도록 구성될 수 있다.The processing section 3 may further include a sensor section 38 constituted by a water level sensor and a humidity sensor. Depending on the level or the humidity of the polishing wastewater loaded in the drying section 32, And may be configured to control the operation of the duct portion or the dust collecting portion described below.

예를 들면, 수위가 기 설정된 수치가 될 경우 히터(32a)를 동작시키거나, 습도가 높을 경우, 덕트부 또는 집진부가 보다 빠르게 동작하도록 제어하게 된다.For example, when the water level is a preset value, the heater 32a is operated, or when the humidity is high, the duct part or the dust collecting part is controlled to operate more quickly.

또한, 상기 히터(32a)의 동작에 의한 가열에 의해 연마 폐수의 수분이 기화되어 발생되는 수증기를 제거하기 위한 덕트부(36)를 더 포함하여 구성될 수 있다.Further, it may further include a duct unit 36 for removing water vapor generated by vaporization of the water of polishing wastewater by heating by the operation of the heater 32a.

또한, 상기 덕트부(36)는 개폐를 제어하기 위한 덕트(36a)와 덕트(36a)가 개방되었을 때, 처리부(3) 내의 수증기를 배출하기 위한 팬이 구비된 수증기 배출부(36b)로 구성된다.The duct portion 36 is constituted by a duct 36a for controlling opening and closing and a steam discharging portion 36b having a fan for discharging water vapor in the treating portion 3 when the duct 36a is opened do.

상기 히터(32a)가 동작할 때에는 덕트(36a)가 개방되고, 수증기 배출부(36b)가 동작하며, 상기 집진부(31)의 동작은 정지하도록 구성되며, 상기 히터(32a)가 기 설정된 시간동안 동작된 후 또는 상기 센서부(38)로 측정되는 습도가 기 설정된 상태가 되면, 덕트(36a)가 폐쇠되고, 수증기 배출부(36b)의 동작이 정지하게 된다.When the heater 32a is operated, the duct 36a is opened, the steam discharging portion 36b is operated, and the operation of the dust collecting portion 31 is stopped. When the heater 32a is operated for a predetermined time The duct 36a is closed and the operation of the steam discharging portion 36b is stopped when the humidity measured by the sensor unit 38 becomes a predetermined state.

또한, 상기 건조부(32) 내에 설치된 히터(32a)의 동작은 연마 가공이 종료된 후에 실시됨이 바람직하나, 상기 2차 필터부(34)가 습식 필터일 경우, 연마 가공 중에도 연마 폐수를 가열하도록 실시될 수 있으며, 별도의 덕트부(36)의 필요없이 집진부(31)가 공기와 함께 수증기를 배출할 수 있게 된다.The operation of the heater 32a provided in the drying unit 32 is preferably performed after the polishing process is finished. However, when the secondary filter unit 34 is a wet filter, the polishing water is heated even during the polishing process And the dust collecting part 31 can discharge the steam together with the air without the need of the separate duct part 36. [

도 6 또는 도 7은 본 발명에 따른 연마 폐수 처리장치의 처리부의 다른 실시예를 도시한 것이며, 상기 건조부(32) 내에는 건조된 분진 및 슬러지를 자동으로 제거 및 외부로 배출하기 위한 스크류(37) 또는 오거나, 수평 이송되는 스크리퍼 등을 더 포함하여 구성될 수도 있다.6 or 7 shows another embodiment of the treatment section of the polishing wastewater treatment apparatus according to the present invention. In the drying section 32, a screw (not shown) for automatically removing and discharging dried dust and sludge 37), or a scraper which is fed horizontally or the like.

특히, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 연마부가 연마 과정중에도 이전의 연마 과정에서 발생된 연마 폐수가 적재된 건조부(32)가 건조 동작을 실시할 수 있도록 상기 1차 필터부(33)의 하단에 연마 과정중에 발생되는 연마 폐수가 임시로 적재될 수 있는 임시 적재부(38) 및 임시 적재부(38)에 임시 적재된 연마 폐수의 배출을 제어하기 위한 배출밸브(39)를 더 포함할 수도 있다.In particular, as shown in FIG. 7, during the polishing process, the drying unit 32 on which the abrasive wastewater generated in the previous polishing process is loaded can perform the drying operation, And a discharge valve 39 for controlling the discharge of the temporary abrasive wastewater temporarily stored in the temporary storage portion 38 and the temporary storage portion 38 at which the polishing wastewater generated during the polishing process can be temporarily loaded It is possible.

보다 상세하게는, 상기 건조부(32)가 기 적재된 연마 폐수를 건조시켜 수분을 제거하고, 수분이 제거된 분진 및 슬러지를 배출하기 전까지 상기 임시 적재부(38)는 상기 연마부로부터 흡입관(33c)을 통해 흡입된 연마 폐수를 임시 저장하게 된다.More specifically, until the drying unit 32 dries the abrasive wastewater to remove moisture and discharges the dust and sludge from which the moisture has been removed, the temporary loading unit 38 is moved from the polishing unit to the suction pipe 33c to temporarily store the abrasive wastewater sucked in.

상기 건조부(32)에서 수분이 제거되어 건조된 분진 및 슬러지는 작업자에 의해 버려지거나, 스크류(37) 또는 오거에 의해 자동으로 폐기물 적재함(40)으로 배출되며, 건조부(32) 내의 건조된 분진 및 슬러지의 배출이 완료되면, 상기 배출밸브(39)가 개방되어 임시 적재부(38)에 적재된 연마 폐수를 건조부(32)로 공급하게 된다.The dust and sludge dried by removing the moisture from the drying unit 32 are discarded by the operator or automatically discharged into the waste loading box 40 by the screw 37 or auger, When the discharge of the dust and sludge is completed, the discharge valve 39 is opened to supply the abrasive wastewater loaded in the temporary loading unit 38 to the drying unit 32.

이와 같은 일련의 과정은 상기 위에서 설명한 제어부(도 1의 4) 및 제어부와 무선통신 가능한 무선통신 단말기를 통해 제어될 수 있다.Such a series of processes can be controlled through the above-described control unit (4 in FIG. 1) and a wireless communication terminal capable of wireless communication with the control unit.

이상과 같이 본 발명은 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예를 중심으로 기술되었지만 당업자라면 이러한 기재로부터 본 발명의 범주를 벗어남이 없이 많은 다양한 자명한 변형이 가능하다는 것은 명백하다. 따라서 본 발명의 범주는 이러한 많은 변형의 예들을 포함하도록 기술된 청구범위에 의해서 해석되어져야 한다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is evident that many alternatives, modifications and variations will be apparent to those skilled in the art without departing from the scope of the present invention. The scope of the invention should therefore be construed in light of the claims set forth to cover many of such variations.

1 : 연마부
2 : 연마수 공급부
3 : 처리부
11 : 수용부
12 : 연마 숫돌
13 : 연마 노즐
14 : 분무 노즐
15 : 연마 숫돌
16 : 노즐 프레임
17 : 노즐 브라켓
31 : 집진부
32 : 건조부
33 : 1차 필터부
34 : 2차 필터부
35 : 카본 필터부
36 : 덕트부
37 : 스크류
38 : 센서부
1:
2: Polishing water supply part
3:
11:
12: Abrasive wheel
13: Polishing nozzle
14: Spray nozzle
15: abrasive wheel
16: nozzle frame
17: Nozzle bracket
31: Dust collector
32: Drying section
33: primary filter section
34: Secondary filter section
35: Carbon filter unit
36: Duct part
37: Screw
38:

Claims (6)

연마 가공을 실시하기 위한 연마부와;
상기 연마부로 연마수를 공급하기 위한 연마수 공급부와;
상기 연마부로 공급된 연마수와 함께 연마 가공에 의해 발생되는 분진 및 슬러지가 혼합된 연마 폐수를 회수한 후 분진 및 슬러지로 구성된 폐기물을 분리하여 배출하기 위한 처리부를 포함하는 것을 특징으로 하는
연마 폐수 처리장치.
A polishing part for performing polishing processing;
A polishing water supply unit for supplying polishing water to the polishing unit;
And a processing unit for recovering the polishing wastewater mixed with the dust and sludge generated by the polishing process together with the polishing water supplied to the polishing unit, and separating and discharging the waste composed of the dust and the sludge
Abrasive wastewater treatment device.
제 1항에 있어서,
상기 연마부는
수용부 내에 배치된 연마 숫돌과;
상기 연마 숫돌에 연마수를 공급하기 위한 복수 개의 연마 노즐과;
수용부 내에서 발생되는 분진의 누출을 억제하기 위해 수용부 내에 연마수를 미스트 형태로 분무하기 위한 분무 노즐로 구성되는 것을 특징으로 하는
연마 폐수 처리장치.
The method according to claim 1,
The polishing unit
A polishing grindstone disposed in the accommodating portion;
A plurality of polishing nozzles for supplying polishing water to the polishing grindstone;
And a spray nozzle for spraying the abrasive water in the form of mist in the receptacle for suppressing leakage of dust generated in the receptacle
Abrasive wastewater treatment device.
제 1항에 있어서,
상기 처리부는
상기 연마부로부터 연마 폐수와 공기를 함께 흡입한 후 흡입된 공기를 배출하기 위한 집진부와;
상기 집진부를 통해 회수된 연마 폐수를 저장하되, 저장된 연마 폐수를 가열하여 연마 폐수에 포함된 물을 기화시켜 제거하는 건조부로 구성되는 것을 특징으로 하는
연마 폐수 처리장치.
The method according to claim 1,
The processing unit
A dust collecting part for sucking the abrasive wastewater and air from the polishing part together and discharging the sucked air;
And a drying unit for storing abrasive wastewater recovered through the dust collecting unit and heating the stored abrasive wastewater to vaporize and remove water contained in the abrasive wastewater
Abrasive wastewater treatment device.
제 3항에 있어서,
상기 처리부는
집진부와 건조부 사이에 배치되어 흡입된 연마 폐수는 자중에 의해 낙하하여 건조부로 유입되도록 하단이 개방되되, 흡입된 공기로부터 분진을 걸러주기 위한 1차 필터가 상단에 배치된 1차 필터부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는
연마 폐수 처리장치.
The method of claim 3,
The processing unit
And a primary filter unit disposed between the dust collecting unit and the drying unit and having a first filter for filtering dust from the sucked air, Characterized in that
Abrasive wastewater treatment device.
제 3항에 있어서,
상기 집진부는
상기 연마부로부터 흡입된 공기의 분진을 걸러주기 위한 2차 필터부와;
상기 2차 필터부에 의해 분진이 제거된 공기에 포함된 유해 가스의 제거 및 탈취를 위한 카본 필터부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는
연마 폐수 처리장치.
The method of claim 3,
The dust collecting part
A second filter part for filtering dust of air sucked from the polishing part;
And a carbon filter unit for removing and deodorizing noxious gas contained in the dust-removed air by the secondary filter unit
Abrasive wastewater treatment device.
제 3항에 있어서,
상기 처리부는
상기 건조부에 의해 발생되는 수증기를 배출하기 위한 수증기 배출부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는
연마 폐수 처리장치.
The method of claim 3,
The processing unit
And a steam discharging portion for discharging water vapor generated by the drying portion
Abrasive wastewater treatment device.
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