KR20190048530A - 버퍼 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치 - Google Patents

버퍼 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은는 기판을 일시적으로 보관하는 버퍼 유닛 및 이를 가지는 장치를 제공한다. 기판을 임시 보관하는 버퍼 유닛은 내부에 버퍼 공간이 형성되며, 기판이 반출입되는 출입구를 가지는 하우징, 상기 버퍼 공간에서 기판을 지지하는 기판 지지 부재, 그리고 상기 출입구에 차단 기류를 형성하여 상기 버퍼 공간에 외기 유입을 차단하는 외기 차단 유닛을 포함하되, 상기 외기 차단 유닛은 상기 하우징에 설치되며, 서로 다른 방향을 향하는 복수 개의 토출구들을 가지는 노즐 부재를 포함한다. 이로 인해 외기 유입의 방지 효과를 향상시킬 수 있다.

Description

버퍼 유닛 및 이를 가지는 기판 처리 장치{Buffer unit and Apparatus for treating a substrate with the unit}
본 발명은 기판을 일시적으로 보관하는 버퍼 유닛 및 이를 가지는 장치에 관한 것이다.
반도체소자를 제조하기 위해서, 기판에 패턴을 형성하기 위해 사진 공정, 식각 공정, 애싱 공정, 이온주입 공정, 그리고 박막 증착 공정 등의 다양한 공정들을 수행한다. 이러한 공정들 중 식각 공정, 이온 주입 공정, 그리고 박막 증착 공정은 진공 분위기에서 기판을 처리한다. 진공 분위기에서 대기 분위기로 이동된 기판은 산소에 노출되면서 기판에는 파티클 및 퓸(Fume)이 형성된다. 따라서 기판 처리 공정 후에는 기판 상에 잔류되는 파티클 및 퓸을 제거하기 위해 기판이 버퍼 유닛에서 보관되는 중에 그 파티클 및 퓸을 제거하는 공정을 수행한다.
버퍼 유닛에서 퓸을 제거하는 공정으로는 에어 또는 가스를 블로우하는 공정이 수행된다. 이러한 블로우 공정은 외기의 유입이 공정 효율에 많은 영향을 끼친다.
도 1은 일반적인 버퍼 유닛을 보여주는 사시도이고, 도 2는 도 1의 버퍼 유닛의 외기 유입을 보여주는 단면도이다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 버퍼 유닛은 폭에 비해 높이가 더 긴 하우징(2)을 포함한다. 하우징(2)에는 기판이 반출입되는 출입구가 형성된다. 출입구의 상부 및 하부 각각에는 외기의 유입을 차단하기 위한 상부 노즐(4a)과 하부 노즐(4b)이 설치된다. 각 노즐(4)은 일 방향을 따라 길게 연장된 몸체를 가지며, 몸체에는 복수 개의 홀들(6)이 형성된다. 상부 노즐(4a)과 하부 노즐(4b)은 서로를 향하는 방향으로 차단 가스를 토출하여 외기의 유입을 방지한다.
그러나 출입구의 상부 영역과 하부 영역의 사이에 위치되는 중앙 영역에는 차단 가스가 원활히 공급되지 않는다. 이로 인해 출입구의 중앙 영역에는 외기의 유입이 발생되며, 이는 기판의 퓸 제거 공정에 악영향을 끼친다.
본 발명은 하우징의 외부 기류가 내부에 유입되는 것을 방지할 수 있는 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
또한 본 발명은 하우징의 출입구의 전체 영역에 균일한 차단 기류를 형성할 수 있는 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명의 실시예는 기판을 일시적으로 보관하는 버퍼 유닛 및 이를 가지는 장치를 제공한다. 기판을 임시 보관하는 버퍼 유닛은 내부에 버퍼 공간이 형성되며, 기판이 반출입되는 출입구를 가지는 하우징, 상기 버퍼 공간에서 기판을 지지하는 기판 지지 부재, 그리고 상기 출입구에 차단 기류를 형성하여 상기 버퍼 공간에 외기 유입을 차단하는 외기 차단 유닛을 포함하되, 상기 외기 차단 유닛은 상기 하우징에 설치되며, 서로 다른 방향을 향하는 복수 개의 토출구들을 가지는 노즐 부재를 포함한다.
상기 노즐 부재는 상기 토출구들은 상기 하우징의 내측을 향하는 제1토출구, 상기 하우지의 외측을 향하는 제2토출구, 그리고 상기 제1토출구와 상기 제2토출구의 사이에 위치되며 상기 출입구와 평행한 방향을 향하는 중간 토출구를 포함할 수 있다. 상기 제1토출구가 향하는 방향은 상기 중간 토출구가 향하는 방향에 대해 예각을 이루고, 상기 제2토출구가 향하는 방향은 상기 중간 토출구가 향하는 방향에 대해 예각을 이룰 수 있다.
상기 노즐 부재는 복수 개로 제공되며, 서로 조합되어 상기 출입구를 감싸도록 배열될 수 있다. 상기 노즐 부재는 바디를 포함하되, 상기 바디는 제1몸체와 상기 제1몸체의 끝단으로부터 연장되는 제2몸체를 가지고, 상기 제2몸체는 상기 제1몸체보다 좁은 폭을 가지고 상기 제1몸체의 중앙 영역으로부터 돌출되며, 상기 제2몸체는 상기 출입구를 향하는 프론트면과 상기 프론트 면의 양측에 각각으로부터 연장되는 제1측면 및 제2측면을 포함하고, 상기 중간 토출구는 상기 프론트면에 형성되고, 상기 제1토출구는 상기 제1측면에 형성되며, 상기 제2토출구는 상기 제2측면에 형성될 수 있다.
복수 개의 상기 노즐 부재들 중 제1그룹에 속하는 노즐 부재는 상기 출입구를 정면에서 바라볼 때, 상기 출입구의 중심을 지나는 수평선을 사이에 두고 서로 마주하게 위치되며, 상기 수평선을 향하는 방향으로 차단 기류를 공급하고, 복수 개의 상기 노즐 부재들 중 제2그룹에 속하는 노즐 부재는 상기 출입구를 정면에서 바라볼 때, 상기 출입구의 중심을 지나는 수직선을 사이에 두고 서로 마주하게 위치되며, 상기 수직선을 향하는 방향으로 차단 기류를 공급할 수 있다.
상기 제1그룹의 노즐 부재는 상기 수평선의 상부에 위치되는 제1수평 노즐 부재 및 상기 수평선의 하부에 위치되는 제2수평 노즐 부재를 포함하고, 상기 제2그룹의 노즐 부재는 상기 수직선의 일측에 위치되는 제1수직 노즐 부재 및 상기 수직선의 타측에 위치되는 제2수직 노즐 부재를 포함할 수 있다.
상기 수평선, 상기 제1수평 노즐 부재의 중간 토출구, 상기 제2수평 노즐 부재의 중간 토출구는 상하 방향을 따라 정렬되게 위치되고, 상기 수직선, 상기 제1수직 노즐 부재의 중간 토출구, 상기 제2수직 노즐 부재의 중간 토출구는 상기 상하 방향과 수직한 방향을 따라 정렬되게 위치될 수 있다.
상기 제1그룹의 노즐 부재의 제1토출구, 제2토출구, 그리고 중간 토출구 각각은 상기 수평선과 평행한 길이 방향의 슬릿 형상을 가지고, 상기 제2그룹의 노즐 부재의 제1토출구, 제2토출구, 그리고 중간 토출구 각각은 상기 수직선과 평행한 길이 방향의 슬릿 형상을 가질 수 있다.
상기 노즐 부재들 각각의 내부에는, 상기 노즐 부재들 각각의 제1토출구, 제2토출구, 그리고 중간 토출구에 차단 가스를 공급하는 가스 공급 유로가 형성되고, 상기 가스 공급 유로에서 차단 가스의 공급 방향의 수직 절단면은 적어도 2 회 이상 굴곡지게 제공될 수 있다.
상기 버퍼 유닛을 포함하는 기판 처리 장치는 인덱스 모듈 및 기판을 처리하는 공정 모듈을 포함하되, 상기 인덱스 모듈은 기판을 수용하는 용기가 놓여지는 로드 포트, 상기 로드 포트 및 상기 기판 처리 모듈 사이에 배치되는 이송 프레임, 그리고 상기 이송 프레임의 일측에 배치되며, 기판을 임시 보관하는 제9항의 버퍼 유닛을 포함한다.
또한 기판을 임시 보관하는 버퍼 유닛은 내부에 버퍼 공간이 형성되며, 기판이 반출입되는 출입구를 가지는 하우징, 상기 버퍼 공간에서 기판을 지지하는 기판 지지 부재, 그리고 상기 출입구에 차단 기류를 형성하여 상기 버퍼 공간에 외기 유입을 차단하는 외기 차단 유닛을 포함하되, 상기 외기 차단 유닛은 상기 하우징에 설치되며, 서로 간에 다른 방향을 향하는 복수 개의 슬릿 형상의 토출구들을 가지는 노즐 부재를 포함하되, 상기 노즐 부재의 내부에는 상기 토출구들 각각에 차단 가스를 공급하는 가스 공급 유로가 형성되고, 상기 가스 공급 유로에서 차단 가스의 공급 방향의 수직 절단면은 적어도 2 회 이상 굴곡지게 제공된다.
상기 노즐 부재는 복수 개로 제공되며, 서로 조합되어 상기 출입구를 감싸도록 배열되고, 상기 노즐 부재는 바디를 포함하되, 상기 바디는 제1몸체와 상기 제1몸체의 끝단으로부터 연장되는 제2몸체를 가지고, 상기 제2몸체는 상기 제1몸체보다 좁은 폭을 가지고 상기 제1몸체의 중앙 영역으로부터 돌출되며, 상기 제2몸체는 상기 출입구를 향하는 프론트면과 상기 프론트 면의 양측에 각각으로부터 경사지게 연장되는 제1측면 및 제2측면을 포함하되, 상기 프론트면, 상기 제1측면, 그리고 상기 제2측면 각각에는 상기 토출구가 형성될 수 있다.
상기 가스 공급 유로는 상기 제1몸체에 제공될 수 있다.
상기 제1측면은 상기 프론트면으로부터 예각을 가지도록 연장되고, 상기 제2측면은 상기 프론트면을부터 예각을 가지도록 연장될 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 차단 기류를 형성하는 노즐 부재는 3 방향으로 차단 가스를 공급한다. 이로 인해 외기 유입의 방지 효과를 향상시킬 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 노즐 부재는 출입구를 감싸도록 위치되며, 출입구의 중심을 지나는 수평선 및 수직선을 향하는 방향으로 차단 가스를 공급한다. 이로 인해 외기 유입의 방지 효과를 향상시킬 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 노즐 부재의 토출구는 슬릿 형상으로 제공되며, 각 토출구에 연결되는 가스 공급 유로는 굴곡지게 제공된다. 이로 인해 차단 가스는 유로를 통과하는 과정에서 균일하게 분산되며, 토출구의 가장자리 영역과 중앙 영역 간에 토출되는 차단 가스의 유량 차이를 최소화할 수 있다.
도 1은 일반적인 버퍼 유닛을 보여주는 사시도이다.
도 2는 도 1의 버퍼 유닛의 외기 유입을 보여주는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 설비를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 4는 도 3의 가스 처리 장치의 단면도이다.
도 5는 도 3의 버퍼 유닛을 보여주는 사시도이다.
도 6은 도 5의 버퍼 유닛을 보여주는 평면도이다.
도 7은 도 6의 선 A-A를 따라 절단한 단면도이다.
도 8은 도 5의 외기 차단 유닛의 노즐 부재를 보여주는 사시도이다.
도 9는 도 8의 노즐 부재의 가스 공급 유로를 보여주는 사시도이다.
도 10은 도 5의 버퍼 유닛에서 차단 가스에 의한 외기 유입의 차단을 보여주는 단면도이다.
도 11은 도 8의 다른 실시예에 따른 노즐 부재를 보여주는 사시도이다.
본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.
본 발명의 실시예에서는 플라즈마를 이용하여 기판을 식각하는 기판 처리 장치에 대해 설명한다. 그러나 본 발명은 이에 한정되지 않고, 가스를 이용하여 기판을 처리하는 다양한 종류의 장치에 적용 가능하다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 설비를 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 3을 참조하면, 기판 처리 설비(1)는 인덱스 모듈(10), 로딩 모듈(30), 그리고 공정 모듈(20)을 가지고, 인덱스 모듈(10)은 로드 포트(120), 이송 프레임(140), 그리고 버퍼 유닛(2000)을 가진다. 로드 포트(120), 이송 프레임(140), 그리고 공정 모듈(20)은 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 로드 포트(120), 이송 프레임(140), 로딩 모듈(30), 그리고 공정 모듈(20)이 배열된 방향을 제1방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때, 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하며, 제1방향(12)과 제2방향(14)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제3방향(16)이라 칭한다.
로드 포트(120)에는 복수 개의 기판들(W)이 수납된 캐리어(18)가 안착된다. 로드 포트(120)는 복수 개가 제공되며 이들은 제2방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 도 2에서는 3 개의 로드 포트(120)가 제공된 것으로 도시하였다. 그러나 로드 포트(120)의 개수는 공정 모듈(20)의 공정효율 및 풋 프린트 등의 조건에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 캐리어(18)에는 기판의 가장자리를 지지하도록 제공된 슬롯(도시되지 않음)이 형성된다. 슬롯은 제3방향(16)을 따라 복수 개가 제공되고, 기판은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 캐리어 내에 위치된다. 캐리어(18)로는 전면 개방 일체형 포드(Front Opening Unified Pod;FOUP)가 사용될 수 있다.
이송 프레임(140)은 로드 포트(120)에 안착된 캐리어(18), 버퍼 유닛(2000), 그리고 로딩 모듈(30) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송 프레임(140)에는 인덱스 레일(142)과 인덱스 로봇(144)이 제공된다. 인덱스 레일(142)은 그 길이 방향이 제2방향(14)과 나란하게 제공된다. 인덱스 로봇(144)은 인덱스 레일(142) 상에 설치되며, 인덱스 레일(142)을 따라 제2방향(14)으로 직선 이동된다. 인덱스 로봇(144)은 베이스(144a), 몸체(144b), 그리고 인덱스암(144c)을 가진다. 베이스(144a)는 인덱스 레일(142)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(144b)는 베이스(144a)에 결합된다. 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 몸체(144b)에 결합되고, 몸체(144b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 인덱스암(144c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 인덱스암(144c)들 중 일부는 공정 모듈(20)에서 캐리어(18)로 기판(W)을 반송할 때 사용되고, 다른 일부는 캐리어(18)에서 공정 모듈(20)로 기판(W)을 반송할 때 사용될 수 있다. 이는 인덱스 로봇(144)이 기판(W)을 반입 및 반출하는 과정에서 공정 처리 전의 기판(W)으로부터 발생된 파티클이 공정 처리 후의 기판(W)에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
버퍼 유닛(2000)은 기판(W)을 임시 보관한다. 버퍼 유닛(2000)에서 기판(W) 상에 잔류되는 공정 부산물은 제거된다. 버퍼 유닛(2000)에서 공정 부산물의 제거는 버퍼 유닛(2000) 내로 퍼지 가스를 공급함으로써 이루어진다. 버퍼 유닛(2000)은 복수 개로 제공될 수 있다. 예컨대, 버퍼 유닛(2000)은 2개가 제공될 수 있다. 2개의 버퍼 유닛(2000)은 이송 프레임(140)의 양측에 각각 제공되어, 이송 프레임(140)을 사이에 두고 서로 대향되게 위치될 수 있다. 선택적으로 버퍼 유닛(2000)은 이송 프레임(140)의 일측에 1개만 제공될 수 있다.
로딩 모듈(30)은 이송 프레임(140)과 반송 챔버(242) 사이에 배치된다. 로딩 모듈(30)은 반송 챔버(242)와 이송 프레임(140) 간에 기판(W)이 반송되기 전에 기판(W)이 머무르는 공간을 제공한다. 로딩 모듈(30)은 로드락 챔버(32) 및 언로드락 챔버(34)를 포함한다. 로드락 챔버(32) 및 언로드락 챔버(34)는 각각 그 내부가 진공 분위기와 상압 분위기 간에 전환 가능하도록 제공된다.
로드락 챔버(32)는 인덱스 모듈(10)에서 공정 모듈(20)로 반송되는 기판(W)이 임시로 머무른다. 로드락 챔버(32)에 기판(W)이 반입되면, 내부 공간을 인덱스 모듈(10)과 공정 모듈(20) 각각에 대해 밀폐한다. 이후 로드락 챔버(32)의 내부 공간을 상압 분위기에서 진공 분위기로 전환하고, 인덱스 모듈(10)에 대해 밀폐가 유지된 상태에서 공정 모듈(20)에 대해 개방된다.
언로드락 챔버(34)는 공정 모듈(20)에서 인덱스 모듈(10)로 반송되는 기판(W)이 임시로 머무른다. 언로드락 챔버(34)에 기판(W)이 반입되면, 내부 공간을 인덱스 모듈(10)과 공정 모듈(20) 각각에 대해 밀폐한다. 이후 언로드락 챔버(34)의 내부 공간을 진공 분위기에서 상압 분위기로 전환하고, 공정 모듈(20)에 대해 밀폐가 유지된 상태에서 인덱스 모듈(10)에 대해 개방된다.
공정 모듈(20)은 반송 챔버(242) 및 복수 개의 공정 챔버들을 포함한다.
반송 챔버(242)는 로드락 챔버(32), 언로드락 챔버(34), 그리고 복수 개의 공정 챔버들(260) 간에 기판(W)을 반송한다. 반송 챔버(242)는 상부에서 바라볼 때 육각의 형상으로 제공될 수 있다. 선택적으로 반송 챔버(242)는 직사각 또는 오각의 형상으로 제공될 수 있다. 반송 챔버(242)의 둘레에는 로드락 챔버(32), 언로드락 챔버(34), 그리고 복수 개의 공정 챔버들(260)이 위치된다. 반송 챔버(242) 내에 반송 로봇(250)이 제공된다. 반송 로봇(250)은 반송 챔버(242)의 중앙부에 위치될 수 있다. 반송 로봇(250)은 수평, 수직 방향으로 이동할 수 있고, 수평면 상에서 전진, 후진 또는 회전이 가능한 복수 개의 핸드들(252)을 가질 수 있다. 각 핸드(252)는 독립 구동이 가능하며, 기판(W)은 핸드(252)에 수평 상태로 안착될 수 있다.
아래에서는 공정 챔버(260)에 제공된 가스 처리 장치(1000)에 대해 설명한다. 가스 처리 장치는 기판(W)을 식각 처리한다.
도 4는 도 3의 가스 처리 장치의 단면도이다. 도 4를 참조하면, 가스 처리 장치(1000)는 챔버(1100), 기판 지지 유닛(1200), 가스 공급 유닛(1300), 플라즈마 소스(1400), 그리고 배기 배플(1500)을 포함한다.
챔버(1100)는 기판(W)이 처리되는 처리 공간(1106)을 가진다. 챔버(1100)는 원형의 통 형상으로 제공된다. 챔버(1100)는 금속 재질로 제공된다. 예컨대, 챔버(1100)는 알루미늄 재질로 제공될 수 있다. 챔버(1100)의 일측벽에는 개구가 형성된다. 개구는 기판(W)이 반출입되는 입구로 기능한다. 개구는 도어(1120)에 의해 개폐된다. 챔버(1100)의 바닥면에는 하부홀(1150)이 형성된다. 하부홀(1150)에는 감압 부재(미도시)가 연결된다. 챔버(1100)의 처리 공간(1106)은 감압 부재에 의해 배기 가능하며, 공정 진행시 감압 분위기로 유지될 수 있다.
기판 지지 유닛(1200)은 처리 공간(1106)에서 기판(W)을 지지한다. 기판 지지 유닛(1200)은 정전기력을 이용하여 기판(W)을 지지하는 정전척(1200)으로 제공될 수 있다. 선택적으로 기판 지지 유닛(1200)은 기계적 클램핑과 같은 다양한 방식으로 기판(W)을 지지할 수 있다.
정전척(1200)은 유전판(1210), 베이스(1230), 그리고 포커스링(1250)을 포함한다. 유전판(1210)은 유전체 재질로 제공될 수 있다. 유전판(1210)의 상면에는 기판(W)이 직접 놓인다. 유전판(1210)은 원판 형상으로 제공된다. 유전판(1210)은 기판(W)보다 작은 반경을 가질 수 있다. 유전판(1210)의 내부에는 척킹용 전극(1212)이 설치된다. 척킹용 전극(1212)에는 전원(미도시)이 연결되고, 전원(미도시)으로부터 전력이 인가되며, 기판(W)은 정전기력에 의해 유전판(1210)에 흡착된다. 유전판(1210)의 내부에는 기판(W)을 가열하는 히터(1214)가 설치된다. 히터(1214)는 척킹용 전극(1212)의 아래에 위치된다. 히터(1214)는 나선 형상의 코일로 제공될 수 있다.
베이스(1230)는 유전판(1210)을 지지한다. 베이스(1230)는 유전판(1210)의 아래에 위치되며, 유전판(1210)과 고정결합된다. 베이스(1230)의 상면은 그 중앙영역이 가장자리영역에 비해 높도록 단차진 형상을 가진다. 베이스(1230)는 그 상면의 중앙영역이 유전판(1210)의 저면에 대응하는 면적을 가진다. 베이스(1230)의 내부에는 냉각 유로(1232)가 형성된다. 냉각유로(232)는 냉각유체가 순환하는 통로로 제공된다. 냉각 유로(1232)는 베이스(1230)의 내부에서 나선 형상으로 제공될 수 있다. 베이스에는 외부에 위치된 고주파 전원(1234)과 연결된다. 고주파 전원(1234)은 베이스(1230)에 전력을 인가한다. 베이스(1230)에 인가된 전력은 챔버(1100) 내에 발생된 플라즈마가 베이스(1230)를 향해 이동되도록 안내한다. 베이스(1230)는 금속 재질로 제공될 수 있다.
포커스링(1250)은 플라즈마를 기판(W)으로 집중시킨다. 포커스링(1250)은 내측링(1252) 및 외측링(1254)을 포함한다. 내측링(1252)은 유전판(1210)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 내측링(1252)을 베이스(1230)의 가장자리영역에 위치된다. 내측링(1252)의 상면은 유전판(1210)의 상면과 동일한 높이를 가지도록 제공된다. 내측링(1252)의 상면 내측부는 기판(W)의 저면 가장자리영역을 지지한다. 예컨대, 내측링(1252)은 도전성 재질로 제공될 수 있다. 외측링(1254)은 내측링(1252)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 외측링(1254)은 베이스(1230)의 가장자리영역에서 내측링(1252)과 인접하게 위치된다. 외측링(1254)은 내측링(1252)에 비해 그 높은 상단을 가진다. 외측링(1254)은 절연 물질로 제공될 수 있다.
가스 공급 유닛(1300)은 기판 지지 유닛(1200)에 지지된 기판(W) 상으로 공정 가스를 공급한다. 가스 공급 유닛(1300)은 가스 저장부(1350), 가스 공급 라인(1330), 그리고 가스 유입 포트(1310)를 포함한다. 가스 공급 라인(1330)은 가스 저장부(1350) 및 가스 유입 포트(1310)를 연결한다. 가스 저장부(1350)에 저장된 공정 가스는 가스 공급 라인(1330)을 통해 가스 유입 포트(1310)으로 공급한다. 가스 유입 포트(1310)는 챔버(1100)의 상부벽에 설치된다. 가스 유입 포트(1310)는 기판 지지 유닛(1200)과 대향되게 위치된다. 일 예에 의하면, 가스 유입 포트(1310)는 챔버(1100) 상부벽의 중심에 설치될 수 있다. 가스 공급 라인(1330)에는 밸브가 설치되어 그 내부 통로를 개폐하거나, 그 내부 통로에 흐르는 가스의 유량을 조절할 수 있다. 예컨대, 공정 가스는 식각 가스일 수 있다.
플라즈마 소스(1400)는 챔버(1100) 내에 공정가스를 플라즈마 상태로 여기시킨다. 플라즈마 소스(1400)로는 유도 결합형 플라즈마(ICP: inductively coupled plasma) 소스가 사용될 수 있다. 플라즈마 소스(1400)는 안테나(1410) 및 외부 전원(1430)을 포함한다. 안테나(1410)는 챔버(1100)의 외측 상부에 배치된다. 안테나(1410)는 복수 회 감기는 나선 형상으로 제공되고, 외부 전원(1430)과 연결된다. 안테나(1410)는 외부 전원(1430)으로부터 전력을 인가받는다. 전력이 인가된 안테나(1410)는 챔버(1100)의 내부 공간에 방전 공간을 형성한다. 방전 공간 내에 머무르는 공정 가스는 플라즈마 상태로 여기될 수 있다.
배기 배플(1500)은 처리 공간(1106)에서 플라즈마를 영역 별로 균일하게 배기시킨다. 배기 배플(1500)은 환형의 링 형상을 가진다. 배기 배플(1500)은 처리 공간(1106)에서 챔버(1100)의 내측벽과 기판 지지 유닛(1200)의 사이에 위치된다. 배기 배플(1500)에는 복수의 배기홀들(1502)이 형성된다. 배기홀들(1502)은 상하 방향을 향하도록 제공된다. 배기홀들(1502)은 배기 배플(1500)의 상단에서 하단까지 연장되는 홀들로 제공된다. 배기홀들(1502)은 배기 배플(1500)의 원주방향을 따라 서로 이격되게 배열된다. 각각의 배기홀(1502)은 슬릿 형상을 가지며, 반경 방향을 향하는 길이 방향을 가진다.
다음은 상술한 버퍼 유닛에 대해 보다 자세히 설명한다. 도 5는 도 3의 버퍼 유닛을 보여주는 사시도이고, 도 6은 도 5의 버퍼 유닛을 보여주는 평면도이, 도 7은 도 6의 선 A-A를 따라 절단한 단면도이다. 도 5 내지 도 7을 참조하면, 버퍼 유닛(2000)은 하우징(2100), 기판 지지 부재(2300), 배기 유닛(2400), 분위기 형성 유닛(2500), 그리고 외기 차단 유닛을 포함한다.
하우징(2100)은 내부에 버퍼 공간(2120)을 가지는 통 형상으로 제공된다. 하우징(2100)은 제3방향(16)을 향하는 길이 방향을 가진다. 버퍼 공간(2120)은 복수 매의 기판들이 수용 가능한 공간으로 제공된다. 하우징(2100)은 개방면(2140)을 가진다. 개방면(2140)은 이송 프레임(140)과 마주하는 면으로 제공된다. 개구는 이송 프레임과 버퍼 공간(2120) 간에 기판(W)이 반입 및 반출되는 출입구(2140a)로 기능한다.
기판 지지 부재(2300)는 버퍼 공간(2120)에서 기판(W)을 지지한다. 기판 지지 부재(2300)는 복수 매의 기판들(W)을 지지한다. 복수 매의 기판들(W)은 기판 지지 부재(2300)에 의해 상하 방향으로 배열되게 위치된다. 기판 지지 부재(2300)는 복수 개의 지지 슬롯들(2330)을 포함한다. 지지 슬롯들(2330)은 기판(W)이 안착되는 안착면을 가진다. 여기서 안착면은 지지 슬롯(2330)의 상면일 수 있다. 지지 슬롯들(2330)은 하우징의 내측면으로부터 돌출되게 제공된다. 상부에서 바라볼 때 동일 높이에 위치되는 2 개의 지지 슬롯들(2330)은 서로 마주하도록 위치된다. 또한 지지 슬롯들(2330)은 제3방향(16)을 따라 서로 이격되게 위치된다. 제3방향(16)에 대해 서로 인접한 지지 슬롯들(2330) 간의 간격은 동일하게 제공될 수 있다. 이에 따라 기판 지지 부재(2300)에는 복수 개의 기판들(W)이 적층되게 지지될 수 있다.
배기 유닛(2400)은 버퍼 공간(2120)의 분위기를 배기한다. 배기 유닛(2400)은 가스에 의해 제거된 파티클 및 퓸을 배기한다. 배기 유닛(2400)은 배기 포트(2420) 및 감압 부재(2440)를 포함한다. 배기 포트(2420)는 하우징(2100)의 바닥면에 설치된다. 상부에서 바라볼 때, 배기 포트(2420)는 하우징(2100)의 개방면(2140)보다 이에 마주하는 타측면(2120b)에 더 가깝게 위치된다. 선택적으로 배기 포트(2420)는 하우징(2100)의 천장면에 설치될 수 있다.
분위기 형성 유닛(2500) 버퍼 공간(2120)에 퍼지 가스를 공급한다. 분위기 형성 유닛(2500)은 버퍼 공간(2120) 내에서 회전 기류를 형성할 수 있도록 퍼지 가스가 토출한다. 회전 기류는 상하 방향을 중심축으로 하는 기류이다. 분위기 형성 유닛(2500)은 퍼지 가스 노즐(2600), 팬 필터 유닛(2800), 그리고 히터(2560)를 포함한다.
퍼지 가스 노즐(2600)은 버퍼 공간(2120)에 퍼지가스를 토출한다. 퍼지 가스 노즐(2600)은 기판의 접선 방향과 이의 내측으로 가스를 토출할 수 있다. 일 예에 의하면, 가스는 접선 방향의 내측으로 10 도 와 20 도의 사이 각도로 토출될 수 있다.
퍼지 가스 노즐(2600)는 복수 개로 제공되며, 하우징(2100)의 내측벽에 설치된다. 퍼지 가스 노즐들(2600)은 상하 방향으로 서로 이격되게, 그리고 하우징의 원주 방향을 따라 서로 이격 배열된다. 예컨대, 서로 인접한 퍼지 가스 노즐들(2600) 간에 상하 간격은 지지 슬롯들(2330) 간에 상하 간격과 동일할 수 있다. 이에 따라 퍼지 가스 노즐들(2600)로부터 토출되는 퍼지 가스에 의해 버퍼 공간(2120)에는 회전 기류가 형성된다. 회전 기류는 나선 형상으로 형성될 수 있다.
팬 필터 유닛(2800)은 버퍼 공간(2120)에 하강 기류를 형성한다. 팬 필터 유닛(2800)은 하우징(2100)의 천장면에 설치된다. 상부에서 바라볼 때 팬 필터 유닛(2800)은 기판 지지 부재(2300)에 지지된 기판(W)과 중첩되게 위치된다. 팬 필터 유닛(2800)은 버퍼 공간(2120)에 수직한 아래 방향으로 가스를 공급한다. 이에 따라 버퍼 공간에는 전체적으로 아래 방향으로 이동되는 회전 기류가 형성된다. 예컨대, 팬 필터 유닛(2800)과 퍼지 가스 노즐(2600)로부터 토출되는 가스는 동일 가스일 수 있다.
히터(2560)는 퍼지 가스 노즐(2600)에 공급되는 가스를 가열한다. 퍼지 가스는 상온보다 높은 온도로 가열될 수 있다.
외기 차단 유닛(3000)은 버퍼 공간에 외기가 유입되는 것을 차단한다. 외기 차단 유닛(3000)은 출입구(2140a)에 차단 기류를 형성한다. 외기 차단 유닛(3000)은 복수 개의 노즐 부재들(3100)을 포함한다. 각각의 노즐 부재(3100)는 출입구(2140a)를 감싸도록 하우징(2100)에 설치된다. 예컨대, 노즐 부재들(3100)은 서로 조합되어 사각의 링 형상으로 배열될 수 있다. 노즐 부재들(3100) 각각은 서로 다른 방향을 향하는 복수 개의 토출구들을 가진다.
도 8은 도 5의 외기 차단 유닛의 노즐 부재를 보여주는 사시도이다. 도 8을 참조하면, 각각의 노즐 부재(3100)는 바디(3100)를 포함한다. 바디(3100)는 일 방향을 따라 길이 연장된 바 형상을 가진다. 바디(3100)는 제1몸체(3120) 및 제2몸체(3140)를 가진다. 제1몸체(3120)는 하우징(2100)의 설치된다. 제2몸체(3140)는 제1몸체(3120)의 끝단 중앙 영역으로부터 돌출되게 연장된다. 제2몸체(3140)의 길이 방향에 대한 수직 절단면은 다각 형상을 가질 수 있다. 상부에서 바라볼 때 제2몸체(3140)는 제1몸체(3120)보다 좁은 폭을 가진다. 일 예에 의하면, 제2몸체(3140)는 제1몸체(3120)로부터 출입구(2140a)를 향하는 방향으로 돌출될 수 있다. 제2몸체(3140)는 프론트면(3142), 제1측면(3144), 그리고 제2측면(3146)을 가진다. 프론트면(3142)이 향하는 방향은 출입구(2140a)가 향하는 방향과 수직한 방향으로 제공될 수 있다. 제1측면(3144)은 프론트면(3142)의 일측단으로부터 하우징(2100)의 내측을 향하도록 경사지게 제공된다. 제2측면(3146)은 프론트면(3142)의 타측단으로부터 하우징(2100)의 외측을 향하도록 경사지게 제공된다. 예컨대, 제1측면(3144)이 향하는 방향은 프론트면(3142)이 향하는 방향에 대해 예각을 이루고, 제2측면(3146)이 향하는 방향은 프론트면(3142)이 향하는 방향에 대해 예각을 이룰 수 있다. 예각은 45°일 수 있다.
본 실시예에는 노즐 부재(3100) 각각이 3 개의 토출구를 가지는 것으로 설명한다. 노즐 부재(3100) 각각은 제1토출구(3145), 제2토출구(3147), 그리고 중간 토출구(3143)를 가진다. 제2몸체(3140)는 각 토출구들이 형성되는 영역으로 제공되고, 제1몸체(3120)는 각 토출구에 차단 가스를 공급하는 가스 공급 유로가 형성되는 영역으로 제공될 수 있다. 제1토출구(3145), 제2토출구(3147), 그리고 중간 토출구(3143) 각각은 노즐 부재(3100)의 길이 방향과 평행한 슬릿 형상으로 제공된다.
제1토출구(3145)는 제1측면(3144)에 형성되고, 제2토출구(3147)는 제2측면(3146)에 형성되며, 중간 토출구(3143)는 프론트면(3142)에 형성된다. 따라서 중간 토출구(3143)는 출입구(2140a)가 향하는 방향과 수직한 방향을 향하도록 제공되고, 제1토출구(3145)는 하우징(2100)의 내측을 향하는 방향으로 제공되며, 제2토출구(3147)는 하우징(2100)의 외측을 향하는 방향으로 제공된다.
제1토출구(3145)로부터 토출되는 차단 가스는 버퍼 공간의 분위기가 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있다. 제2토출구(3147)로부터 토출되는 차단 가스는 외기가 출입구(2140a)에 인접하게 위치되는 것을 방지한다. 중간 토출구(3143)로부터 토출되는 차단 가스는 외기가 버퍼 공간에 유입되는 것을 차단한다.
제1몸체(3120) 내에는 가스 공급 유로가 형성된다. 가스 공급 유로는 제1토출구(3145), 제2토출구(3147), 그리고 중간 토출구(3143)에 차단 가스를 공급한다. 가스 공급 유로는 차단 가스가 공급되는 방향에 대해 굴곡지게 제공된다. 도 9는 가스 공급 유로를 차단 가스의 공급 방향에 대해 수직하게 절단한 면은 보여주는 도면으로, 2 회 이상 굴곡지게 제공된다. 이에 따라 차단 가스의 유속은 토출구에 도달되는 중에 분산되어 각 토출구의 중앙 영역과 가장자리 영역에 균일하게 공급될 수 있다.
복수 개의 노즐 부재들(3100)은 제1그룹에 속하는 노즐 부재들(3400)과 제2그룹에 속하는 노즐 부재들(3500)로 이루어진다. 제1그룹에 속하는 노즐 부재(3400)는 출입구(2140a)를 정면에서 바라볼 때, 출입구(2140a)의 중심을 지나는 수평선을 사이에 두고 서로 마주하게 위치되는 노즐 부재들(3400a,3400b)을 포함한다. 제1그룹의 노즐 부재들(3400) 각각에 형성된 토출구들은 수평선과 평행한 방향을 가지는 슬릿 형상으로 제공된다. 출입구(2140a)를 정면에서 바라볼 때 제1그룹의 노즐 부재들(34000)은 각각 수평선을 향하는 방향으로 차단 기류를 공급한다.
제2그룹에 속하는 노즐 부재(3500)는 출입구(2140a)를 정면에서 바라볼 때, 출입구(2140a)의 중심을 지나는 수직선을 사이에 두고 서로 마주하게 위치되는 노즐 부재들(3500a,3500b)을 포함한다. 제2그룹의 노즐 부재들(3500) 각각에 형성된 토출구들은 수직선과 평행한 방향을 가지는 슬릿 형상으로 제공된다. 출입구(2140a)를 정면에서 바라볼 때 제2그룹의 노즐 부재들(3500)은 각각 수직선을 향하는 방향으로 차단 기류를 공급한다.
즉, 제1그룹은 수평선의 상부에 위치되는 제1수평 노즐 부재(3400a)와 수평선의 하부에 위치되는 제2수평 노즐 부재(3400b)를 포함하고, 제2그룹은 수직선의 일측에 위치되는 제1수직 노즐 부재(3500a)와 수직선의 타측에 위치되는 제2수직 노즐 부재(3500b)를 포함한다.
제1수평 노즐 부재(3400a)와 제2수평 노즐 부재(3400b)는 각각의 중간 토출구(3143)가 수평선에 정렬되게 위치된다. 따라서 상부에서 바라볼 때 수평선, 제1수평 노즐 부재(3400a)의 중간 토출구, 그리고 제2수평 노즐 부재(3400b)의 중간 토출구는 서로 중첩되게 위치된다.
제1수직 노즐 부재(3500a)와 제2수직 노즐 부재(3500b)는 각각의 중간 토출구(3143)가 수직선에 정렬되게 위치된다. 따라서 측부에서 바라볼 때 수직선, 제1수직 노즐 부재(3500a)의 중간 토출구, 그리고 제2수직 노즐 부재(3500b)의 중간 토출구는 서로 중첩되게 위치된다.
이에 따라 노즐 부재들은 다양한 위치에서, 그리고 다양한 방향에서 차단 기류를 공급함에 따라 도 10과 같이, 외기의 유입을 차단할 수 있다.
상술한 실시예에는 노즐 부재(3100)의 제2몸체(3140)가 길이 방향에 대한 수직 절단면이 다각 형상으로 제공되는 것으로 설명하였다. 그러나 제2몸체(3140)의 수직 절단면은 라운드진 형상으로 제공되고, 각 토출구가 원주 방향을 따라 배열될 수 있다.
또한 도 11과 같이, 노즐 부재(3100a)에는 제1토출구(3145)가 제1측면(3144)과 제1몸체(3120)가 만나는 모서리에 형성되고, 제2토출구(3147)가 제2측면(3146)과 제1몸체(3120)가 만나는 모서리에 형성될 수 있다. 제1측면(3144) 및 제2측면(3146) 각각은 프론트면(3142)에 대해 예각 또는 직각을 가지도록 제1몸체(3120)에 연장될 수 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
3100: 노즐 부재 3120: 제1몸체
3140: 제2몸체 3143: 중간 토출구
3145: 제1토출구 3147: 제2토출구
3400: 제1그룹에 속하는 노즐 부재들 3500: 제2그룹에 속하는 노즐 부재들

Claims (15)

  1. 기판을 임시 보관하는 버퍼 유닛에 있어서,
    내부에 버퍼 공간이 형성되며, 기판이 반출입되는 출입구를 가지는 하우징과;
    상기 버퍼 공간에서 기판을 지지하는 기판 지지 부재와;
    상기 출입구에 차단 기류를 형성하여 상기 버퍼 공간에 외기 유입을 차단하는 외기 차단 유닛을 포함하되,
    상기 외기 차단 유닛은,
    상기 하우징에 설치되며, 서로 다른 방향을 향하는 복수 개의 토출구들을 가지는 노즐 부재를 포함하고,
    상기 노즐 부재는 상기 하우징의 상기 출입구의 양 측부에 각각 설치되며,
    상기 토출구들은 상하 방향으로 연장되는 슬릿 형상을 포함하는 버퍼 유닛.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 토출구들은 상기 하우징의 내측을 향하는 제1토출구, 상기 하우지의 외측을 향하는 제2토출구, 그리고 상기 제1토출구와 상기 제2토출구의 사이에 위치되며 상기 출입구와 평행한 방향을 향하는 중간 토출구를 포함하는 버퍼 유닛.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1토출구가 향하는 방향은 상기 중간 토출구가 향하는 방향에 대해 예각을 이루고,
    상기 제2토출구가 향하는 방향은 상기 중간 토출구가 향하는 방향에 대해 예각을 이루는 버퍼 유닛.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 노즐 부재는 복수 개로 제공되며, 서로 조합되어 상기 출입구를 감싸도록 배열되는 버퍼 유닛.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 노즐 부재는 바디를 포함하되,
    상기 바디는 제1몸체와 상기 제1몸체의 끝단으로부터 연장되는 제2몸체를 가지고,
    상기 제2몸체는 상기 제1몸체보다 좁은 폭을 가지고 상기 제1몸체의 중앙 영역으로부터 돌출되며,
    상기 제2몸체는 상기 출입구를 향하는 프론트면과 상기 프론트 면의 양측에 각각으로부터 연장되는 제1측면 및 제2측면을 포함하고,
    상기 중간 토출구는 상기 프론트면에 형성되고, 상기 제1토출구는 상기 제1측면에 형성되며, 상기 제2토출구는 상기 제2측면에 형성되는 버퍼 유닛.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 노즐 부재는 바디를 포함하되,
    상기 바디는 제1몸체와 상기 제1몸체의 끝단으로부터 연장되는 제2몸체를 가지고,
    상기 제2몸체는 상기 제1몸체보다 좁은 폭을 가지고 상기 제1몸체의 중앙 영역으로부터 돌출되며,
    상기 제2몸체는 상기 출입구를 향하는 프론트면과 상기 프론트 면의 양측에 각각으로부터 연장되는 제1측면 및 제2측면을 포함하고,
    상기 중간 토출구는 상기 프론트면에 형성되고, 상기 제1토출구는 상기 제1측면과 상기 제1몸체가 만나는 모서리에 형성되며, 상기 제2토출구는 상기 제2측면과 상기 제1몸체가 만나는 모서리에 형성되는 버퍼 유닛.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서,
    복수 개의 상기 노즐 부재들 중 제1그룹에 속하는 노즐 부재는 상기 출입구를 정면에서 바라볼 때, 상기 출입구의 중심을 지나는 수평선을 사이에 두고 서로 마주하게 위치되며, 상기 수평선을 향하는 방향으로 차단 기류를 공급하고,
    복수 개의 상기 노즐 부재들 중 제2그룹에 속하는 노즐 부재는 상기 출입구를 정면에서 바라볼 때, 상기 출입구의 중심을 지나는 수직선을 사이에 두고 서로 마주하게 위치되며, 상기 수직선을 향하는 방향으로 차단 기류를 공급하는 버퍼 유닛.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1그룹의 노즐 부재는,
    상기 수평선의 상부에 위치되는 제1수평 노즐 부재와;
    상기 수평선의 하부에 위치되는 제2수평 노즐 부재를 포함하고,
    상기 제2그룹의 노즐 부재는,
    상기 수직선의 일측에 위치되는 제1수직 노즐 부재와;
    상기 수직선의 타측에 위치되는 제2수직 노즐 부재를 포함하는 버퍼 유닛.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 수평선, 상기 제1수평 노즐 부재의 중간 토출구, 상기 제2수평 노즐 부재의 중간 토출구는 상하 방향을 따라 정렬되게 위치되고,
    상기 수직선, 상기 제1수직 노즐 부재의 중간 토출구, 상기 제2수직 노즐 부재의 중간 토출구는 상기 상하 방향과 수직한 방향을 따라 정렬되게 위치되는 버퍼 유닛.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 제1그룹의 노즐 부재의 제1토출구, 제2토출구, 그리고 중간 토출구 각각은 상기 수평선과 평행한 길이 방향의 슬릿 형상을 가지고,
    상기 제2그룹의 노즐 부재의 제1토출구, 제2토출구, 그리고 중간 토출구 각각은 상기 수직선과 평행한 길이 방향의 슬릿 형상을 가지는 버퍼 유닛.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 노즐 부재들 각각의 내부에는,
    상기 노즐 부재들 각각의 제1토출구, 제2토출구, 그리고 중간 토출구에 차단 가스를 공급하는 가스 공급 유로가 형성되고,
    상기 가스 공급 유로에서 차단 가스의 공급 방향의 수직 절단면은 적어도 2 회 이상 굴곡지게 제공되는 버퍼 유닛.
  12. 인덱스 모듈과;
    기판을 처리하는 공정 모듈을 포함하되,
    상기 인덱스 모듈은,
    기판을 수용하는 용기가 놓여지는 로드 포트와;
    상기 로드 포트 및 상기 기판 처리 모듈 사이에 배치되는 이송 프레임과;
    상기 이송 프레임의 일측에 배치되며, 기판을 임시 보관하는 제10항의 버퍼 유닛을 포함하는 기판 처리 장치.
  13. 기판을 임시 보관하는 버퍼 유닛에 있어서,
    내부에 버퍼 공간이 형성되며, 기판이 반출입되는 출입구를 가지는 하우징과;
    상기 버퍼 공간에서 기판을 지지하는 기판 지지 부재와;
    상기 출입구에 차단 기류를 형성하여 상기 버퍼 공간에 외기 유입을 차단하는 외기 차단 유닛을 포함하되,
    상기 외기 차단 유닛은,
    상기 하우징에 설치되며, 서로 간에 다른 방향을 향하는 복수 개의 슬릿 형상의 토출구들을 가지는 노즐 부재를 포함하되,
    상기 노즐 부재의 내부에는,
    상기 토출구들 각각에 차단 가스를 공급하는 가스 공급 유로가 형성되고,
    상기 가스 공급 유로에서 차단 가스의 공급 방향의 수직 절단면은 적어도 2 회 이상 굴곡지게 제공되는 버퍼 유닛.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 노즐 부재는 복수 개로 제공되며, 서로 조합되어 상기 출입구를 감싸도록 배열되고,
    상기 노즐 부재는 바디를 포함하되,
    상기 바디는 제1몸체와 상기 제1몸체의 끝단으로부터 연장되는 제2몸체를 가지고,
    상기 제2몸체는 상기 제1몸체보다 좁은 폭을 가지고 상기 제1몸체의 중앙 영역으로부터 돌출되며,
    상기 제2몸체는 상기 출입구를 향하는 프론트면과 상기 프론트 면의 양측에 각각으로부터 경사지게 연장되는 제1측면 및 제2측면을 포함하되,
    상기 프론트면, 상기 제1측면, 그리고 상기 제2측면 각각에는 상기 토출구가 형성되는 버퍼 유닛.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 노즐 부재는 바디를 포함하되,
    상기 바디는 제1몸체와 상기 제1몸체의 끝단으로부터 연장되는 제2몸체를 가지고,
    상기 제2몸체는 상기 제1몸체보다 좁은 폭을 가지고 상기 제1몸체의 중앙 영역으로부터 돌출되며,
    상기 제2몸체는 상기 출입구를 향하는 프론트면과 상기 프론트 면의 양측에 각각으로부터 연장되는 제1측면 및 제2측면을 포함하고,
    상기 중간 토출구는 상기 프론트면에 형성되고, 상기 제1토출구는 상기 제1측면과 상기 제1몸체가 만나는 모서리에 형성되며, 상기 제2토출구는 상기 제2측면과 상기 제1몸체가 만나는 모서리에 형성되는 버퍼 유닛.




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