KR20180133977A - Redundant gas supply control apparatus - Google Patents

Redundant gas supply control apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR20180133977A
KR20180133977A KR1020170070824A KR20170070824A KR20180133977A KR 20180133977 A KR20180133977 A KR 20180133977A KR 1020170070824 A KR1020170070824 A KR 1020170070824A KR 20170070824 A KR20170070824 A KR 20170070824A KR 20180133977 A KR20180133977 A KR 20180133977A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas supply
supply control
control device
value
pressure
Prior art date
Application number
KR1020170070824A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101942398B1 (en
Inventor
김정민
조일호
이민제
Original Assignee
주식회사 명성시스템
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 명성시스템 filed Critical 주식회사 명성시스템
Priority to KR1020170070824A priority Critical patent/KR101942398B1/en
Publication of KR20180133977A publication Critical patent/KR20180133977A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101942398B1 publication Critical patent/KR101942398B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67248—Temperature monitoring
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring

Abstract

According to the present invention, a redundant gas supply control apparatus interlocks with a main gas supply control apparatus controlling at least one cylinder cabinet supplying process gas to at least one semiconductor manufacturing facility, and controls or monitors a supply state of the process gas supplied to the semiconductor manufacturing facility from the cylinder cabinet independently of or complementary to the main gas supply control apparatus. According to the present invention, the redundant gas supply control apparatus is able to maintain the supply of the process gas to the semiconductor manufacturing facility even when the power of the existing gas supply apparatus is shut off.

Description

이중화 가스공급 제어장치{Redundant gas supply control apparatus}[0001] Redundant gas supply control apparatus [

본 발명은 이중화 가스공급 제어장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 메인 가스공급장치의 전원 차단 및 부품 고장시 자동으로 공정가스를 반도체 제조설비에 자동으로 공급할 수 있는 이중화 가스공급 제어장치에 관한 것이다.The present invention relates to a redundant gas supply control device, and more particularly, to a redundant gas supply control device capable of automatically supplying a process gas to a semiconductor manufacturing facility automatically when a power supply to the main gas supply device is cut off or a component fails.

일반적으로 반도체 기판은 사진, 확산, 식각, 증착 등의 다수의 일련의 공정들을 반복 수행하여 반도체 소자로 제작된다. 이러한 각 공정을 수행하는 반도체 제조설비에는 반도체 기판 상에 요구되는 공정 가스를 공급하기 위한 가스공급시스템(gas supply system)이 필수적으로 설치되어 있다.Generally, a semiconductor substrate is fabricated as a semiconductor device by repeating a series of processes such as photography, diffusion, etching, and deposition. In a semiconductor manufacturing facility for performing each of these processes, a gas supply system for supplying a required process gas onto a semiconductor substrate is essentially installed.

가스공급시스템은 가스 공급원으로부터 공정 가스를 공급 받아서 동일 또는 서로 다른 공정을 처리하는 복수개의 반도체 제조설비로 공정 가스를 공급한다. 이러한 가스공급시스템으로는 가스 공급원으로부터 공정 가스를 받아서 반도체 제조설비로 분배하여 공급하는 밸브 매니폴드 박스(Valve Manifold Box: VMB) 또는 밸브 매니폴드 패널(Valve Manifold Panel: VMP) 타입의 가스분배장치와, 공정 가스가 저장된 하나 이상의 가스 실린더(gas cylinder)를 구비하는 실린더 캐비닛(Cylinder Cabinet: CC) 또는 가스 캐비닛(Gas Cabinet: GC) 타입의 가스공급장치 등이 있다.The gas supply system supplies process gas to a plurality of semiconductor fabrication facilities that receive the process gas from a gas source and process the same or different processes. Such a gas supply system may include a valve manifold box (VMB) or a valve manifold panel (VMP) type gas distribution apparatus that receives process gas from a gas supply source and distributes the process gas to a semiconductor manufacturing facility, , A cylinder cabinet (CC) or a gas cabinet (GC) type gas supply apparatus having one or more gas cylinders in which process gases are stored.

기존의 실린더 캐비닛 타입의 가스공급장치는 전원이 차단되거나 밸브 등의 오작동으로 이상이 발생하면, 가스공급장치를 제어하지 못하여 반도체 제조설비로의 공정 가스의 공급이 중단되는 경우가 빈번히 발생한다. 그 결과, 공정 가스의 공급 중단으로 현재 진행 중인 반도체 제조설비에서의 반도체 제조 공정이 중단되므로, 현재 처리 중인 반도체 기판이 손상되는 문제점이 있다. In the conventional gas supply system of the cylinder cabinet type, when the power supply is cut off or an abnormality occurs due to a malfunction of the valve or the like, the gas supply device can not be controlled and the supply of the process gas to the semiconductor manufacturing facility is frequently interrupted. As a result, the semiconductor manufacturing process in the ongoing semiconductor manufacturing facility is stopped due to the interruption of the process gas supply, thereby damaging the semiconductor substrate being processed.

이러한 문제점을 해결하기 위해서 실린더 캐비닛에서 반도체 제조설비로 공급되는 공정 가스의 공급 상태 등을 모니터하고 제어하기 위한 가스공급 제어장치(Gas supply controller)가 이용되고 있다. 하지만, 기존의 가스공급 제어장치는 전원이 차단되거나 에어 밸브의 압력을 감지하는 압력센서가 불량이거나 에어 밸브를 구동시키는 솔레노이드 밸브가 불량인 경우에는 반도체 제조설비로의 공정 가스 공급이 중단되는 문제가 있다. In order to solve such a problem, a gas supply controller for monitoring and controlling the supply state of the process gas supplied from the cylinder cabinet to the semiconductor manufacturing facility is used. However, in the conventional gas supply control apparatus, if the power source is cut off or the pressure sensor for detecting the pressure of the air valve is defective or the solenoid valve for driving the air valve is defective, there is a problem that the supply of the process gas to the semiconductor manufacturing facility is stopped have.

또한, 가스공급 제어장치 또는 실린더 캐비닛의 부품 교체 작업, 소프트웨어/프로그램 업데이트 작업, 각종 점검 작업시, 공정 가스의 공급 중단 및 전원을 차단해야 하기 때문에 유지 보수 및 정기 점검 일정 계획에도 제약이 많은 한계가 있다.In addition, there is a limit to the maintenance schedule and regular maintenance schedule because the gas supply control device or cylinder cabinet parts replacement work, software / program update work, have.

따라서, 가스공급 제어장치의 전원 차단 및 PLC(Programmable Logic Controller) 고장시에도 압력센서 및 온도 모니터링 등이 가능하도록 기존의 가스공급 제어장치와 별개로 구비되는 가스공급 제어장치의 필요성이 커지고 있다.Accordingly, there is a growing need for a gas supply control device that is provided separately from the existing gas supply control device so that pressure sensors and temperature monitoring can be performed even when the power supply to the gas supply control device is turned off and a programmable logic controller (PLC) fails.

본 출원인은, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명을 제안하게 되었다.The present applicant has proposed the present invention in order to solve the above problems.

한국공개특허공보 제10-2001-0084011호(2001.09.06.)Korean Patent Publication No. 10-2001-0084011 (September, 2001)

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 기존의 가스공급장치의 전원 차단시에도 반도체 제조설비로의 공정 가스 공급을 유지할 수 있는 이중화 가스공급 제어장치를 제안한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been proposed in order to solve the above-mentioned problems, and proposes a redundant gas supply control device capable of maintaining a process gas supply to a semiconductor manufacturing facility even when the power supply of the existing gas supply device is shut off.

본 발명은 기존의 가스공급 제어장치의 PLC 고장시에도 압력센서 및 온도를 모니터링하고 제어할 수 있는 이중화 가스공급 제어장치를 제공한다.The present invention provides a redundant gas supply control device capable of monitoring and controlling the pressure sensor and the temperature even when a PLC of the existing gas supply control device fails.

본 발명은 기존의 가스공급 제어장치의 유지보수를 위한 전원 차단시에도 에어 밸브를 수동으로 조작 가능하게 함으로써 가스공급 제어장치의 유지 보수가 가능한 이중화 가스공급 제어장치를 제공한다.The present invention provides a redundant gas supply control device capable of performing maintenance of a gas supply control device by allowing an air valve to be manually operated even when power is cut off for maintenance of an existing gas supply control device.

본 발명은 정상상태에 있는 실린더 캐비닛의 내부에 설치된 솔레노이드 밸브 상태 및 압력센서, 히터 온도 데이터를 모니터링할 수 있기 때문에 이러한 데이터들을 이중으로 감시 및 확인이 가능하고 이상 발생에 대한 원인 파악을 할 수 있는 이중화 가스공급 제어장치를 제공한다.The present invention can monitor the solenoid valve state, the pressure sensor, and the heater temperature data installed in the cylinder cabinet in the steady state. Therefore, it is possible to double monitor and check such data and to identify the cause of the abnormality A duplicated gas supply control device is provided.

상기한 바와 같은 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치는, 적어도 하나의 반도체 제조설비로 공정가스를 공급하는 적어도 하나의 실린더 캐비닛을 제어하는 메인 가스공급 제어장치와 연동하며, 상기 메인 가스공급 제어장치와 독립적 또는 상보적으로 상기 실린더 캐비닛에서 상기 반도체 제조설비로 공급되는 공정가스의 공급 상태를 제어하거나 모니터링할 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a redundant gas supply control apparatus, which is interlocked with a main gas supply control apparatus for controlling at least one cylinder cabinet for supplying a process gas to at least one semiconductor manufacturing facility, The supply state of the process gas supplied to the semiconductor manufacturing facility from the cylinder cabinet can be controlled or monitored independently or complementarily with the main gas supply control device.

상기 실린더 캐비닛의 내부에 마련된 가스 실린더와 상기 반도체 제조설비를 연결하는 프로세스 라인의 압력을 감지하는 압력센서로부터 압력값을 아날로그 데이터로 취득하여 공정가스의 공급 프로세스를 제어하는 제어부를 포함할 수 있다.And a control unit for obtaining a pressure value from the pressure sensor for sensing the pressure of the process line connecting the gas cylinder provided in the cylinder cabinet and the semiconductor manufacturing facility to analog data and controlling the process of supplying the process gas.

상기 제어부는, 상기 압력센서에서 감지된 압력값으로부터 상기 가스 실린더에 존재하는 공정가스의 무게값을 아날로그 데이터로 취득할 수 있다.The control unit may acquire, as analog data, the weight value of the process gas existing in the gas cylinder from the pressure value sensed by the pressure sensor.

상기 제어부는, 상기 가스 실린더 또는 상기 프로세스 라인 중 적어도 하나에 구비된 히터로부터 히터 온도값을 아날로그 데이터로 취득하여 상기 히터의 작동 상태를 제어할 수 있다.The control unit may control the operating state of the heater by acquiring the heater temperature value from the heater provided in at least one of the gas cylinder and the process line as analog data.

상기 압력값, 상기 무게값 또는 상기 히터 온도값은 상기 메인 가스공급 제어장치와 무관하게 상기 제어부에서 취득될 수 있다.The pressure value, the weight value or the heater temperature value may be acquired by the control unit regardless of the main gas supply control device.

상기 제어부는, 상기 메인 가스공급 제어장치에 영향을 주지 않도록 상기 압력센서에서 나온 전류에 걸리는 전압으로부터 상기 압력값을 아날로그 데이터로 산출할 수 있다.The control unit may calculate the pressure value as analog data from a voltage applied to the current from the pressure sensor so as not to affect the main gas supply control device.

상기 제어부는 상기 압력값 또는 상기 히터 온도값이 상기 메인 가스공급 제어장치의 압력값 또는 히터 온도값과 동일하도록 상기 압력값 또는 상기 히터 온도값에 대해 오프셋 값을 설정하여 보정할 수 있다.The controller may adjust the offset value with respect to the pressure value or the heater temperature value so that the pressure value or the heater temperature value is equal to the pressure value or the heater temperature value of the main gas supply control device.

상기 제어부와 연동하여 상기 압력값, 상기 무게값 또는 상기 히터 온도값을 상위 모니터링 컴퓨터에 전달하는 통신부를 포함할 수 있다.And a communication unit for transmitting the pressure value, the weight value or the heater temperature value to the upper monitoring computer in cooperation with the control unit.

상기 제어부는, 상기 압력센서를 포함하여 각종 센서들을 OR 방식으로 연결할 수 있다.The control unit may connect various sensors including the pressure sensor by an OR method.

본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치는 기존의 가스공급장치의 전원 차단시에도 반도체 제조설비로의 공정 가스 공급을 유지할 수 있다.The redundant gas supply control apparatus according to the present invention can maintain the supply of the process gas to the semiconductor manufacturing facility even when the power supply of the existing gas supply apparatus is shut off.

본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치는 기존의 가스공급 제어장치의 PLC 고장시에도 압력센서 및 온도를 모니터링하고 제어할 수 있다.The redundant gas supply control device according to the present invention can monitor and control the pressure sensor and the temperature even when the PLC of the existing gas supply control device fails.

본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치는 기존의 가스공급 제어장치의 유지보수를 위한 전원 차단시에도 에어 밸브를 수동으로 조작 가능하게 함으로써 가스공급 제어장치의 유지 보수가 가능하다.The redundant gas supply control device according to the present invention can maintain the gas supply control device by allowing the air valve to be manually operated even when the power supply for maintenance of the existing gas supply control device is shut down.

본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치는 정상상태에 있는 실린더 캐비닛의 내부에 설치된 솔레노이드 밸브 상태 및 압력센서, 히터 온도 데이터를 모니터링할 수 있기 때문에 이러한 데이터들을 이중으로 감시 및 확인이 가능하고 이상 발생에 대한 원인 파악을 할 수 있다.Since the redundant gas supply control apparatus according to the present invention can monitor the solenoid valve state, the pressure sensor, and the heater temperature data installed in the cylinder cabinet in the steady state, it is possible to double monitor and confirm such data, The cause of the problem can be identified.

본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치는 기존의 가스공급 제어장치와 독립적 또는 상보적으로 실린더 캐비닛에서 반도체 제조설비로 공급되는 공정가스의 공급 상태를 제어하거나 모니터링할 수 있기 때문에 기존 가스공급 제어장치의 전원이 차단되거나 고장이 발생하는 경우에도 이중화 가스공급 제어장치를 통해서 이전의 공정 가스 공급 프로세스를 그대로 유지할 수 있다.Since the redundant gas supply control apparatus according to the present invention can control or monitor the supply state of the process gas supplied to the semiconductor manufacturing facility in the cylinder cabinet independently or complementarily to the existing gas supply control apparatus, Even when the power is cut off or a failure occurs, the process gas supply process of the previous process can be maintained through the redundant gas supply control device.

도 1은 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치를 포함하는 가스공급 시스템의 구성을 도시한 블록도이다.
도 2는 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치의 구성을 도시한 블록도이다.
도 3 내지 도 11은 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치의 디스플레이부에 표시되는 화면을 예시적으로 도시한 도면이다.
도 12는 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치의 제어부에 포함된 인쇄회로기판의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 13 내지 도 15는 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치에 의한 이중화 가스공급 제어방법을 설명하기 위한 순서도이다.1 is a block diagram showing the configuration of a gas supply system including a duplicated gas supply control device according to the present invention.
2 is a block diagram showing a configuration of a duplicated gas supply control device according to the present invention.
FIG. 3 to FIG. 11 illustrate screens displayed on the display unit of the duplicated gas supply control apparatus according to the present invention.
12 is a view schematically showing a configuration of a printed circuit board included in a control unit of the redundant gas supply control apparatus according to the present invention.
13 to 15 are flowcharts for explaining a redundant gas supply control method by the redundant gas supply control apparatus according to the present invention.

이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예들을 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명이 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다. Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to or limited by the embodiments. Like reference symbols in the drawings denote like elements.

도 1은 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치를 포함하는 가스공급 시스템의 구성을 도시한 블록도, 도 2는 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치의 구성을 도시한 블록도, 도 3 내지 도 11은 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치의 디스플레이부에 표시되는 화면을 예시적으로 도시한 도면, 도 12는 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치의 제어부에 포함된 인쇄회로기판의 구성을 개략적으로 도시한 도면, 도 13 내지 도 15는 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치에 의한 이중화 가스공급 제어방법을 설명하기 위한 순서도이다.FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of a gas supply system including a duplicated gas supply control device according to the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of a duplicated gas supply control device according to the present invention, 11 is a view exemplarily showing a screen displayed on the display unit of the duplicated gas supply control apparatus according to the present invention, and Fig. 12 is a schematic view showing the configuration of a printed circuit board included in the control unit of the duplicated gas supply control apparatus according to the present invention. And FIGS. 13 to 15 are flowcharts for explaining a redundant gas supply control method by the redundant gas supply control apparatus according to the present invention.

도 1에는 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)를 포함하는 가스공급 시스템(1)의 구성이 개략적으로 도시되어 있다. 가스공급 시스템(1)은 실린더 캐비닛(10)에서부터 적어도 하나의 반도체 제조설비(20)로 공정 가스를 공급하는 시스템이라고 할 수 있다.Fig. 1 schematically shows a configuration of a gas supply system 1 including a duplicated gas supply control device 100 according to the present invention. The gas supply system 1 can be said to be a system for supplying process gas from the cylinder cabinet 10 to at least one semiconductor manufacturing facility 20.

가스공급 시스템(1)은 실린더 캐비닛(10)에서부터 반도체 제조설비(20)로의 공정 가스 공급 상태를 모니터링하거나 제어하는 메인 가스공급 제어장치(30) 및 이중화 가스공급 제어장치(100)를 포함할 수 있다. 여기서, 종래기술에 따른 가스공급 시스템은 실린더 캐비닛(10), 반도체 제조설비(20) 및 메인 가스공급 제어장치(30)을 포함하는 반면에, 본 발명에 따른 가스공급 시스템(1)은 이중화 가스공급 제어장치(100)를 더 포함하는 것에 하나의 특징이 있다. 여기서, 메인 가스공급 제어장치(30)는 기존의 가스공급 제어장치와 동일한 제어장치이다.The gas supply system 1 may include a main gas supply control device 30 and a redundant gas supply control device 100 that monitor or control the process gas supply status from the cylinder cabinet 10 to the semiconductor manufacturing facility 20. [ have. Herein, the gas supply system according to the prior art includes a cylinder cabinet 10, a semiconductor manufacturing facility 20 and a main gas supply control device 30, whereas the gas supply system 1 according to the present invention includes a redundant gas And a supply control device 100. [0064] Here, the main gas supply control device 30 is the same control device as the existing gas supply control device.

본 발명에 따른 이중화 가스공급제어장치(100)는 메인 가스공급 제어장치(30)와 독립적으로 공정 가스의 공급 상태를 제어하거나 모니터링 할 뿐만 아니라, 메인 가스공급 제어장치(30)와 상보적으로(상호 보완하는 방식으로)도 공정 가스의 공급 상태를 제어하거나 모니터링 할 수 있다. 예를 들면, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 차단되거나 다양한 고장 상태가 발생하더라도 공정 가스의 공급 상태를 유지할 수 있다. 뿐만 아니라, 메인 가스공급 제어장치(30)가 정상적으로 작동하는 평상시에도 이중화 가스공급 제어장치(100)는 메인 가스공급 제어장치(30)로부터 공정 가스의 공급 상태 제어 또는 모니터링에 필요한 각종 정보 또는 신호를 전달 받고 저장함으로써 메인 가스공급 제어장치(30)와 병행하여 공정 가스의 공급 상태를 제어하거나 모니터링 할 수도 있다.The redundant gas supply control device 100 according to the present invention not only controls or monitors the supply state of the process gas independently from the main gas supply control device 30 but also performs a complementary operation with respect to the main gas supply control device 30 (In a manner complementary to each other) can also be controlled or monitored. For example, the redundant gas supply control device 100 according to the present invention can maintain the supply state of the process gas even if the power supply to the main gas supply control device 30 is cut off or various failures occur. In addition, even when the main gas supply control device 30 normally operates, the redundant gas supply control device 100 receives various information or signals necessary for controlling or monitoring the supply state of the process gas from the main gas supply control device 30 And may control or monitor the supply state of the process gas in parallel with the main gas supply control device 30. [

이와 같이, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는, 적어도 하나의 반도체 제조설비(20)로 공정가스를 공급하는 적어도 하나의 실린더 캐비닛(10)을 제어하는 메인 가스공급 제어장치(30)와 연동하며, 메인 가스공급 제어장치(30)와 독립적 또는 상보적으로 실린더 캐비닛(10)에서 반도체 제조설비(20)로 공급되는 공정가스의 공급 상태를 제어하거나 모니터링할 수 있다.The redundant gas supply control apparatus 100 according to the present invention includes a main gas supply control device 30 for controlling at least one cylinder cabinet 10 for supplying a process gas to at least one semiconductor manufacturing facility 20 And can control or monitor the supply state of the process gas supplied to the semiconductor manufacturing facility 20 from the cylinder cabinet 10 independently or complementarily to the main gas supply control device 30. [

여기서, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는 가스 캐비닛(10)과 별도로 형성될 수도 있고 일체로 형성될 수도 있다.Here, the redundant gas supply control device 100 according to the present invention may be formed separately from the gas cabinet 10 or may be integrally formed.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는, 누전 차단부(110), 전원 공급부(120), 제어부(140), 솔레노이드 밸브부(150), 디스플레이부(130)를 포함할 수 있다.2, the redundant gas supply control apparatus 100 according to the present invention includes an electric leakage blocking unit 110, a power supply unit 120, a control unit 140, a solenoid valve unit 150, a display unit 130, . ≪ / RTI >

누전 차단부(110)에는 분전반용 누전차단기가 사용될 수 있으며, 전원 공급부(120)에서 누전이 발생하는 등 이상이 발생할 경우 전원 공급부(120)에서 출력되는 전원을 차단할 수 있다.The circuit breaker for a distribution board may be used as the circuit breaker 110. When an abnormality such as a short circuit occurs in the power supply unit 120, the power supply unit 120 may be cut off.

전원 공급부(120)는 이중화 가스공급 제어장치(100)에서 필요로 하는 전원을 공급할 수 있다. 전원 공급부(120)는 실린더 캐비닛(10) 내부에 마련된 각종 센서들에 전원을 공급할 수도 있다. 이중화 가스공급 제어장치(100)는 전원 공급부(120) 뿐만 아니라 메인 가스공급 제어장치(30)로부터 전원을 공급받을 수도 있다. 이 때, 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 차단되어 메인 가스공급 제어장치(30)에서부터 이중화 가스공급 제어장치(100)로의 전원이 공급되지 않을 때 전원 공급부(120)가 이중화 가스공급 제어장치(100)에 전원을 공급할 수 있다. 다만, 이중화 가스공급 제어장치(100)에 전원을 어떻게 연결하고 공급하는지는 다양하게 변형될 수도 있다.The power supply unit 120 can supply power required by the redundant gas supply control device 100. [ The power supply unit 120 may supply power to various sensors provided in the cylinder cabinet 10. The redundant gas supply control device 100 may receive power from the main gas supply control device 30 as well as the power supply part 120. At this time, when the main gas supply control device 30 is turned off and power is not supplied from the main gas supply control device 30 to the redundant gas supply control device 100, the power supply part 120 performs redundant gas supply control The device 100 can be powered. However, how to connect and supply power to the redundant gas supply control device 100 may be variously modified.

제어부(140)는 전원 공급부(120)의 전원 공급 작동을 제어하거나, 이중화 가스공급 제어장치(100)의 작동 상태를 제어할 수 있다. 제어부(140)는 이중화 가스공급 제어장치(100)의 작동 상태 제어 뿐만 아니라, 이중화 가스공급 제어장치(100)와 메인 가스공급 제어장치(30) 또는 실린더 캐비닛(10)과의 연동 상태를 제어할 수도 있다. 여기서, 제어부(140)는 PLC(Programmable Logic Controller)를 포함할 수 있다.The control unit 140 may control the power supply operation of the power supply unit 120 or may control the operating state of the redundant gas supply control device 100. [ The control unit 140 controls the operation state of the redundant gas supply control apparatus 100 as well as the operation state of the redundant gas supply control apparatus 100 and the main gas supply control apparatus 30 or the cylinder cabinet 10 It is possible. Here, the controller 140 may include a PLC (Programmable Logic Controller).

또한, 제어부(140)는 실린더 캐비닛(10)의 내부에 구비된 각종 센서들과 히터와 연결되어 이들의 작동 상태를 제어할 수도 있다. 제어부(140)는 솔레노이드 밸브부(150)와 연결되어 솔레노이드 밸브부(150)의 작동 상태를 제어할 수도 있다. 솔레노이드 밸브부(150)는 후술하는 에어 밸브에 연결되어 에어 밸브에 밸브 구동가스를 공급한다. 제어부(140)가 솔레노이드 밸브부(150)의 작동 상태를 제어함으로써 에어 밸브의 개폐 여부를 제어할 수 있고 에어 밸브에 걸리는 압력을 조절할 수도 있다. 여기서, 솔레노이드 밸브부(150)는 솔레노이드 밸브 블록 형태로 마련될 수도 있다.In addition, the controller 140 may be connected to various sensors and a heater provided in the cylinder cabinet 10 to control the operating states thereof. The control unit 140 may be connected to the solenoid valve unit 150 to control the operation state of the solenoid valve unit 150. The solenoid valve unit 150 is connected to an air valve to be described later to supply a valve driving gas to the air valve. The control unit 140 can control whether the air valve is open or closed by controlling the operation state of the solenoid valve unit 150 and adjust the pressure applied to the air valve. Here, the solenoid valve unit 150 may be provided in the form of a solenoid valve block.

한편, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는 통신부(160)를 더 포함할 수 있다. 통신부(160)는 제어부(140)와 연결되어 제어부(140)에 의해서 통신되는 정보의 종류, 정보가 전달되는 지점 등이 결정될 수 있다.Meanwhile, the redundant gas supply control device 100 according to the present invention may further include a communication unit 160. The communication unit 160 may be connected to the control unit 140 to determine the type of information communicated by the control unit 140 and the point at which the information is transmitted.

통신부(160)는 이중화 가스공급 제어장치(100)의 작동 상태, 실린더 캐비닛(10)의 각종 센서들의 작동 상태, 압력 센서 등의 센서값, 그리고 무게값, 히터 온도값, 실린더 캐비닛의 상태(Cabinet Status), Value Status 등을 상위 모니터링 컴퓨터(GMS PC, 미도시)로 전송할 수 있다. 통신부(160)는 이더넷 통신(Ethernet)을 이용하는 것이 바람직하지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며 다양한 통신 방식을 이용할 수 있다.The communication unit 160 controls the operation of the redundant gas supply control device 100, the operation status of various sensors of the cylinder cabinet 10, sensor values such as pressure sensors, and weight values, heater temperature values, Status, and Value Status to the upper monitoring computer (GMS PC, not shown). The communication unit 160 preferably uses Ethernet communication, but the present invention is not limited thereto, and various communication methods can be used.

디스플레이부(130)는 이중화 가스공급 제어장치(100)가 작동되는 소프트웨어 또는 프로그램에 의한 화면을 보여주는 부분으로써, 터치 스크린이 가능한 것이 바람직하다. 디스플레이부(130)에는 도 3 내지 도 11에 도시된 화면이 표시될 수 있다. 도 3 내지 도 11에 도시된 화면은 디스플레이부(130)에 표시됨으로써 작업자에게 다양한 정보를 줄 수 있고, 작업자가 디스플레이부(130)의 화면을 터치함으로써 다양한 정보를 입력할 수도 있다. 이하에서는 도면을 참조하여 보다 자세하게 설명한다.The display unit 130 may be a touch screen capable of displaying a screen by software or a program in which the redundant gas supply control device 100 is operated. 3 to 11 may be displayed on the display unit 130. FIG. 3 to 11 may be displayed on the display unit 130 to provide various information to the operator, and the operator may input various information by touching the screen of the display unit 130. [ Hereinafter, a more detailed description will be given with reference to the drawings.

도 3에는 실린더 캐비닛(10)의 내부에 마련되는 주요 구성품들의 작동 상태를 표시해 주는 화면이 도시되어 있다. 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는, 실린더 캐비닛(10)의 내부에 마련된 가스 실린더(CA,CB)와 반도체 제조설비(20)를 연결하는 프로세스 라인(PA,PB)의 압력을 감지하는 압력센서(미도시)로부터 압력값을 아날로그 데이터(analog data)로 취득하여 공정가스의 프로세스를 제어하는 제어부(140)를 포함할 수 있다.FIG. 3 shows a screen for displaying an operating state of major components provided inside the cylinder cabinet 10. As shown in FIG. 3, a redundant gas supply control apparatus 100 according to the present invention includes a process line PA (not shown) for connecting a gas cylinder CA, CB provided in a cylinder cabinet 10 to a semiconductor manufacturing facility 20, , PB), and a control unit (140) for controlling the process of the process gas by acquiring the pressure value from the pressure sensor (not shown) into analog data.

가스 실린더(CA,CB)가 2개인 경우에, 가스 실린더(CA,CB)에 동일한 공정 가스가 저장될 수도 있고, 다른 종류의 공정 가스가 저장될 수도 있다.In the case of two gas cylinders (CA, CB), the same process gas may be stored in the gas cylinders (CA, CB), and another kind of process gas may be stored.

가스 실린더(CA,CB)에는 프로세스 라인(PA,PB)이 각각 연결되는데, 프로세스 라인(PA,PB)은 가스 실린더(CA,CB)와 반도체 제조설비(20)를 연결하는 일종의 파이프 라인이다. 프로세스 라인(PA,PB)의 일단은 각각 가스 실린더(CA,CB)에 연결되고 타단은 2차 파이프 라인(P)에 공통적으로 연결될 수 있다.Process lines PA and PB are connected to the gas cylinders CA and CB respectively and are a kind of pipeline connecting the gas cylinders CA and CB to the semiconductor manufacturing facility 20. [ One end of the process lines PA and PB may be connected to the gas cylinders CA and CB, respectively, and the other end may be connected to the secondary pipeline P in common.

프로세스 라인(PA,PB)에는 복수개의 에어 밸브(AV2A,AV2B,AV3A,AV3B)와 레귤레이터(RA,RB)가 설치될 수 있다. 에어 밸브(AV2A,AV2B,AV3A,AV3B)는 상기에서 설명한 솔레노이드 밸브부(150)와 연결되어 솔레노이드 밸브부(150)에서 밸브 구동가스를 받음으로써 개폐될 수 있다.A plurality of air valves AV2A, AV2B, AV3A and AV3B and regulators RA and RB may be installed in the process lines PA and PB. The air valves AV2A, AV2B, AV3A and AV3B are connected to the solenoid valve unit 150 described above and can be opened and closed by receiving the valve driving gas from the solenoid valve unit 150. [

상기 압력센서는 에어 밸브(AV2A,AV2B,AV3A,AV3B)가 열리거나 닫히는 경우에 발생하는 압력 변화에 따른 압력값을 감지하고, 이를 제어부(140)로 전달할 수 있다. 압력센서는 에어 밸브(AV2A,AV2B,AV3A,AV3B)가 열리거나 닫히는 경우에 발생하는 압력값 또는 압력값의 변화를 비트(Bit) 값으로 읽어서 에어 밸브에 걸리는 압력을 감지할 수 있다.The pressure sensor senses a pressure value corresponding to a pressure change occurring when the air valves AV2A, AV2B, AV3A and AV3B are opened or closed, and can transmit the sensed pressure value to the controller 140. The pressure sensor can detect the pressure applied to the air valve by reading the change in the pressure value or pressure value that occurs when the air valve (AV2A, AV2B, AV3A, AV3B) opens or closes as a bit value.

뿐만 아니라, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)의 압력센서는 프로세스 라인(PA,PB)에 공정 가스를 흐를 때 프로세스 라인(PA,PB)에 걸리는 압력값 또는 압력 변화값을 감지할 수 있는데, 이 때 감지되는 압력값 등은 연속적이고 실시간으로 감지되는 값으로서 아날로그 데이터의 형태를 가진다.In addition, the pressure sensor of the redundant gas supply control apparatus 100 according to the present invention detects a pressure value or a pressure change value applied to the process lines PA and PB when the process gas flows into the process lines PA and PB In this case, the pressure value, etc. sensed at this time is a continuous, real-time sensed value and has the form of analog data.

이와 같이, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)의 제어부(140)는 에어 밸브(AV2A,AV2B,AV3A,AV3B)에 설치된 압력센서로부터 (AV2A,AV2B,AV3A,AV3B)의 개폐에 따른 압력값을 감지할 뿐만 아니라, 공정 가스의 공급에 따른 프로세스 라인(PA,PB) 내부의 압력값 등도 감지할 수 있다. 프로세스 라인(PA,PB) 내부의 압력값 등은 아날로그 데이터의 형태 즉, 연속적인 변화를 가지는 압력값이다. 제어부(140)가 압력센서로부터 아날로그 데이터를 획득하는 것에 대해서는 후술하기로 한다.As described above, the control unit 140 of the redundant gas supply control apparatus 100 according to the present invention can control the operation of the redundant gas supply control apparatus 100 according to the opening and closing of the air pressure sensors AV2A, AV2B, AV3A, and AV3B provided in the air valves AV2A, AV2B, AV3A, In addition to sensing pressure values, pressure values inside the process lines (PA, PB) as well as process gas supply can be detected. The pressure values inside the process lines PA and PB are the shape of the analog data, that is, the pressure value having a continuous change. The control unit 140 acquires analog data from the pressure sensor will be described later.

도 3을 참조하면, 에어 밸브(AV2A,AV2B,AV3A,AV3B)에 설치되거나 연결된 압력센서에서 감지한 압력값이 표시되는 압력창(203,204,205,206)이 화면에 표시될 수 있다. 이와 같이, 작업자는 디스플레이부(130)에 표시되는 도 3의 화면에 나타난 압력센서의 값을 읽어서 어떠한 가스 공급 프로세스가 작동 중에 있는지 확인할 수 있다.Referring to FIG. 3, pressure windows 203, 204, 205, and 206 are displayed on the screen in which pressure values detected by pressure sensors installed or connected to the air valves AV2A, AV2B, AV3A, and AV3B are displayed. In this manner, the operator can read the value of the pressure sensor displayed on the screen of FIG. 3 displayed on the display unit 130 to check which gas supply process is in operation.

도 3의 경우에는 회색으로 표시된 프로세스(A 프로세스)는 작동하지 않고 있는 반면에 보라색으로 표시된 프로세스(B 프로세스)는 작동하고 있음을 나타낸다. In the case of FIG. 3, the gray process (process A) is not working, whereas the process shown in purple (process B) is working.

한편, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)의 제어부(140)는, 상기 압력센서에서 감지된 압력값 즉, 프로세스 라인의 압력값으로부터 가스 실린더(PA,PB)에 존재하는 공정가스의 잔량값 또는 무게값을 아날로그 데이터로 취득할 수 있다. The control unit 140 of the redundant gas supply control apparatus 100 according to the present invention controls the flow rate of the process gas existing in the gas cylinders PA and PB from the pressure value sensed by the pressure sensor, The remaining value or the weight value can be acquired as analog data.

제어부(140)는 가스 실린던(PA,PB)에 잔존하는 공정 가스의 잔량 또는 무게를 감지함으로써 중단된 프로세스의 중단 원인을 파악할 수도 있다. 예를 들면, 중단된 프로세스 라인이 연결된 가스 실린더에 공정 가스가 모두 배출되어 프로세스가 중단되었는지, 아니면 전원 차단 등으로 인해 프로세스가 중단되었는지 등과 같이 프로세스 중단의 원인도 파악할 수 있다.The control unit 140 may detect the interruption cause of the stopped process by sensing the remaining amount or the weight of the process gas remaining in the gas cylinders PA and PB. For example, the cause of the process interruption can be identified, such as whether the process gas was discharged to the gas cylinder where the interrupted process line was connected and the process was interrupted, or if the process was interrupted due to a power failure or the like.

한편, 가스 실린더(CA,CB)에 저장된 공정 가스가 저압가스인 경우에는 실린더(CA,CB) 내부에 저장된 저압가스의 잔량 또는 무게를 감지하기 위한 중량센서(미도시)를 더 포함할 수 있다. 도 3을 참조하면, 가스 실린더(CA,CB)에 남아 있는 공정가스의 무게가 표시되는 무게창(201,202)이 있는데, 공정 가스가 저압가스인 경우에는 가스 실린더(CA,CB)에 설치된 중량센서의 값이 무게창(201,202)에 표시되고 공정 가스가 고압가스인 경우에는 프로세스 라인(PA,PB)의 압력값으로부터 산출된 무게값이 무게창(201,202)에 표시될 수 있다.If the process gas stored in the gas cylinders CA and CB is a low-pressure gas, a weight sensor (not shown) may be further provided to detect the remaining amount or weight of the low-pressure gas stored in the cylinders CA and CB . 3, there are weight windows 201 and 202 for displaying the weight of the process gas remaining in the gas cylinders CA and CB. When the process gas is a low-pressure gas, the weight sensors 201 and 202 installed in the gas cylinders CA and CB, And the weight value calculated from the pressure values of the process lines PA and PB may be displayed on the weight windows 201 and 202 when the process gas is a high pressure gas.

도 4 내지 도 10에는 도 3에 도시된 화면을 포함하는 이중화 가스공급 제어장치(100)의 작동 메뉴 등이 도시되어 있다.FIGS. 4 to 10 show operation menus of the redundant gas supply control device 100 including the screen shown in FIG.

우선 도 4를 참조하면, 화면의 좌측 상단에는 A 프로세스 및 B 프로세스의 전원 ON/OFF를 표시하는 창(201,202) 및 각 프로세스가 메인 가스공급 제어장치(30)에 의해서 제어되는지 이중화 가스공급 제어장치(100)에 의해서 제어되는지 표시하는 창(203,204)이 마련될 수 있다. 도 4의 경우에는 A 프로세스의 전원이 OFF되고(201) A 프로세스가 아이들(IDLE) 상태에 있으며(203), B 프로세스의 전원은 ON되고(202) 메인 가스공급 제어장치(30)가 B 프로세스를 제어한다(204)는 것이 표시되어 있다. Referring to FIG. 4, windows 201 and 202 for displaying the power ON / OFF state of the A process and the B process are displayed at the upper left of the screen, and the windows 201 and 202 for controlling the respective processes are controlled by the main gas supply control device 30, (203, 204) for indicating whether the window is controlled by the display unit (100). 4, the power of the A process is turned off (201), the process A is in an idle state (203), the power of the process B is turned on (202), and the main gas supply control device (204) are displayed.

도 4의 화면 우측 상단에는 메인 스크린 표시창(230)이 있다. 메인 스크린 표시창(230)은 도 4에 보여지는 화면이 메인 스크린이라는 것을 의미한다. 메인 스크린 표시창(230)의 아래에는 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원 ON/OFF 상태를 나타내는 창(231), 메인 가스공급 제어장치(30)의 중앙처리유닛(CPU)의 작동 여부를 나타내는 창(232), 이중화 가스공급 제어장치(100)의 전원 ON/OFF 상태를 나타내는 창(233)이 표시되어 있다. 도 4에 도시된 화면의 경우에는 3개의 창(231,232,233)이 모두 ON으로 표시되어 있다.A main screen display window 230 is located at the upper right of the screen of FIG. The main screen display window 230 means that the screen shown in FIG. 4 is the main screen. Below the main screen display window 230, a window 231 indicating the power ON / OFF state of the main gas supply control device 30 and a display 231 indicating whether the central processing unit CPU of the main gas supply control device 30 is operating A window 232 and a window 233 showing the power ON / OFF state of the redundant gas supply control device 100 are displayed. In the case of the screen shown in Fig. 4, all three windows 231, 232, and 233 are displayed as ON.

그 아래에는 6개의 클릭 창이 있는데, 메인 가스공급 제어장치(30)의 활성화 선택 창(240), A 프로세스를 수동으로 조작하기 위한 창(246), B 프로세스를 수동으로 조작하기 위한 창(247), 조정모드 창(250), 설정모드 창(260), 옵션 창(270)이 있다. 도 4의 경우에는 메인 가스공급 제어장치(30)의 활성화 선택 창(240)만 ON되어 있다.Below this, there are six click windows: an activation selection window 240 of the main gas supply control device 30, a window 246 for manually operating the A process, a window 247 for manually operating the B process, An adjustment mode window 250, a setting mode window 260, and an option window 270. [ 4, only the activation selection window 240 of the main gas supply control device 30 is turned ON.

도 4에 도시된 화면의 좌측에는 히터들의 ON/OFF 상태와 온도를 표시하는 5개의 창(211~215)이 표시되어 있다. 가스 실린더(CA,CB)에 저장되어 있는 공정 가스가 저압가스인 경우에는 히터(미도시)가 필요할 수 있다. On the left side of the screen shown in FIG. 4, five windows 211 to 215 for indicating ON / OFF states and temperatures of the heaters are displayed. If the process gas stored in the gas cylinders (CA, CB) is a low-pressure gas, a heater (not shown) may be required.

상기 히터는 A 프로세스 라인(PA)에 감긴 상태로 제공되거나(211), B 프로세스 라인(PB)에 감긴 상태로 제공되거나(212), 2차 파이프 라인(P)에 감긴 상태로 제공(213)될 수 있다. 또한, 저압가스가 저장된 가스 실린더(CA,CB)의 외면에 구비되어 가스 실린더(CA,CB)의 온도를 조절하는 자켓(미도시)이 마련되어 히터 역할을 할 수 있다(214,215). The heater may be provided in a wrapped state 211 to the A process line PA or provided 212 in a wound state on the B process line PB or may be provided 213 in a wrapped state to the secondary pipeline P, . In addition, a jacket (not shown) provided on an outer surface of the gas cylinders CA and CB storing the low-pressure gas and regulating the temperature of the gas cylinders CA and CB may be provided to serve as a heater 214 and 215.

도 4를 참조하면, B 프로세스만 진행이므로 B 프로세스 라인(PB)에 설치된 히터의 온도(212)와 2차 파이프 라인(P)에 설치된 히터의 온도(213), 그리고 가스 실린더(CB)의 자켓의 온도(215)만 표시되고, 나머지 히터의 온도는 표시되어 있지 않다.4, since only the B process is performed, the temperature 212 of the heater installed in the B process line PB, the temperature 213 of the heater installed in the secondary pipeline P, Only the temperature 215 of the remaining heater is displayed, and the temperature of the remaining heater is not displayed.

히터의 온도 표시창(211~215) 아래에는 알람 메시지(ALARM Message)를 표시하는 창(200)이 마련되어 있다.Below the temperature display windows 211 to 215 of the heater, a window 200 for displaying an alarm message (ALARM Message) is provided.

한편, 제어부(140)는 실린더 캐비닛(10)에 구비된 비상센서(Emergency sensor, 미도시)를 통해서 UVIR, Hi-Temp, Gas Leak, Emergency Switch 등의 알람 메시지를 취득하거나 표시할 수 있다.The control unit 140 can acquire or display alarm messages such as UVIR, Hi-Temp, Gas Leak, and Emergency Switch through an emergency sensor (not shown) provided in the cylinder cabinet 10.

이와 같이, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는 작동 중인 공정 가스 공급 프로세스가 어떤 것이며 그것이 메인 가스공급 제어장치(30)에 의해서 제어되는지 아니면 이중화 가스공급 제어장치(100)에 의해서 제어되는지 시각적으로 표시할 수 있다.As described above, the redundant gas supply control apparatus 100 according to the present invention can be applied to the redundant gas supply control apparatus 100 to determine which process gas supply process is in operation and which is controlled by the main gas supply control apparatus 30, Can be visually displayed.

도 4의 상태에서 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 OFF되면 도 5의 화면이 된다. 도 5에는, B 프로세스가 공정 가스 공급 상태를 유지하되 B 프로세스의 제어를 이중화 가스공급 제어장치(100)에 의해서 수행되는 화면이 표시되어 있다. When the main gas supply control device 30 is turned off in the state of FIG. 4, the screen of FIG. 5 is displayed. 5 shows a screen in which the B process maintains the process gas supply state but the B process is performed by the redundant gas supply control device 100. [

도 5를 참조하면, B 프로세스 라인(PB)이 작동하는 것과 히터의 온도 표시창(211~215)은 도 4의 경우와 동일하다. 하지만, 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원과 CPU가 OFF되어 있고(231,232), B 프로세스가 이중화 가스공급 제어장치(100)에 의해서 제어된다는 것이 표시되어 있다(204,233).Referring to FIG. 5, the operation of the B process line PB and the temperature display windows 211 to 215 of the heater are the same as in the case of FIG. However, it is indicated (204, 233) that the power supply of the main gas supply control device 30 and the CPU are OFF (231, 232) and that the B process is controlled by the redundant gas supply control device 100.

또한, 메인 가스공급 제어장치(30)의 OFF 상태 지속 시간도 별도의 창을 통해 표시될 수 있다(도 5의 205 참조).Further, the OFF state duration of the main gas supply control device 30 can also be displayed through a separate window (see 205 in FIG. 5).

도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는 공정 가스 공급 프로세스를 제어하고 모니터링 하는 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 OFF되는 경우 이중화 가스공급 제어장치(100)에 의해서 자동적으로 공정 가스 공급 프로세스가 유지될 수 있고, 히터(212,213,215)의 작동 상태도 유지할 수 있다. 여기서, 이중화 가스공급 제어장치(100)에 의해서 기존의 프로세스가 그대로 유지된다는 것은, 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원 OFF시에도 에어 밸브의 개방 상태가 이중화 가스공급 제어장치(100)에 의해서 그대로 유지된다는 것을 의미한다.As shown in FIGS. 4 and 5, the redundant gas supply control apparatus 100 according to the present invention includes a redundant gas supply control unit 30 for controlling and monitoring a process gas supply process when the main gas supply control unit 30 is powered off, The process gas supply process can be automatically maintained by the control device 100, and the operating state of the heaters 212, 213, and 215 can be maintained. Here, the fact that the existing process is maintained as it is by the redundant gas supply control device 100 means that even when the main gas supply control device 30 is turned off, the open state of the air valve is controlled by the redundant gas supply control device 100 And it is maintained.

또한, 실린더 캐비닛(10)의 내부에 마련되어 있는 각종 센서들(예를 들면, 압력센서, 히터 온도센서, 적외선 센서, 자외선 센서, 고온 센서(Hi-Temp 센서), 가스누출감지센서, 비상상태감지센서 등)의 직류 전원 인가상태 및 센서들의 작동 상태도 이중화 가스공급 제어장치(100)에 의해서 그대로 동일하게 유지될 수 있다.In addition, various sensors provided inside the cylinder cabinet 10 (e.g., a pressure sensor, a heater temperature sensor, an infrared sensor, an ultraviolet sensor, a high temperature sensor (Hi- Sensor or the like) and the operation state of the sensors can be maintained as they are by the duplicated gas supply control device 100 as they are.

본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)의 제어부(140)는, 압력센서를 포함하는 상기 각종 센서들 OR 방식으로 연결할 수 있다. 이와 같이, 각종 센서들이 OR 방식으로 제어부(140)에 연결되기 때문에 어느 하나의 센서에 문제가 있거나 센서값이 오류가 있어도 다른 센서들에 영향을 주지 않을 수 있다.The control unit 140 of the redundant gas supply control apparatus 100 according to the present invention may be connected to the various sensors including the pressure sensor by the OR method. As described above, since various sensors are connected to the control unit 140 in the OR scheme, even if there is a problem in one sensor or an error in the sensor value, the other sensors may not be affected.

또한, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는, 도 5에 도시된 화면을 통해 압력센서의 현재 압력값, 히터의 온도 등이 표시되며, 압력 또는 온도의 오류(error) 상태 여부도 확인할 수 있다.5, the present pressure value of the pressure sensor, the temperature of the heater, and the like are displayed, and whether the pressure or the temperature is in error or not is also displayed. Can be confirmed.

도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)의 제어부(140)는, 가스 실린더(CA,CB) 또는 프로세스 라인(PA,PB) 중 적어도 하나에 구비된 히터로부터 히터 온도값을 아날로그 데이터로 취득하여 상기 히터의 작동 상태를 제어할 수 있다.4 and 5, the control unit 140 of the redundant gas supply control apparatus 100 according to the present invention includes at least one of the gas cylinders CA and CB or the process lines PA and PB, It is possible to obtain the heater temperature value from the heater and to control the operating state of the heater.

또한, 압력센서의 압력값, 가스 실린더(CA,CB)의 잔존 가스의 무게값 또는 히터의 온도값 등은 메인 가스공급 제어장치(30)와 무관하게 이중화 가스공급 제어장치(100)의 제어부(140)에서 취득될 수 있다.The pressure value of the pressure sensor, the weight value of the residual gas of the gas cylinders CA and CB or the temperature value of the heater and the like are controlled by the control unit (not shown) of the redundant gas supply control device 100 140, < / RTI >

또한, 제어부(140)는 통신부(160)와 연동하여 상기 압력값, 상기 무게값 또는 상기 히터 온도값을 이중화 가스공급 제어장치(100)에서부터 메인 가스공급 제어장치(30)에 이더넷 통신을 통해 전달할 수 있다.In addition, the control unit 140 transmits the pressure value, the weight value, or the heater temperature value from the redundant gas supply control device 100 to the main gas supply control device 30 through the Ethernet communication in cooperation with the communication unit 160 .

도 6 내지 도 8에는 이중화 가스공급 제어장치(100)에 의한 프로세스 제어 상태에서 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 ON되는 경우의 화면이 도시되어 있다.6 to 8 show a screen when the power supply of the main gas supply control device 30 is turned on in the process control state by the redundant gas supply control device 100. As shown in Fig.

도 6을 참조하면, B 프로세스는 중단되어 있고 A 프로세스가 진행되고 있는데 이중화 가스공급 제어장치(100)에 의해서 A 프로세스가 진행되고 있다(203,233 참조). 참고로, 도 6 내지 도 8에 도시된 화면은 히터의 온도 변화, 프로세스 라인의 압력변화, 가스 실린더의 무게 변화 등은 무시하고, 이중화 가스공급 제어장치(100)에 의한 제어 상태가 메인 가스공급 제어장치(30)에 의한 제어 상태로 변화되는 과정에 주안점을 두고 있다.Referring to FIG. 6, the B process is interrupted and the A process is proceeding, and the A process is proceeding by the redundant gas supply control apparatus 100 (see 203, 233). 6 to 8 ignores the temperature change of the heater, the pressure change of the process line, the weight change of the gas cylinder, and the control status by the redundant gas supply control device 100 becomes the main gas supply And the control state of the control device 30 is changed.

도 6의 상태에서 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 ON이 되면, 도 7과 같이 작업자에게 이중화 가스공급 제어장치(100)에 의한 프로세스 제어를 중단할 것인지 물어 보게 된다. 도 7에 도시된 바와 같이, 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 ON되면, 화면에 별도의 문의 창(281)이 나타나면서 이중화 가스공급 제어장치(100)의 프로세스 제어 상태 중지 여부를 확인하게 된다. 이중화 가스공급 제어장치(100)에서부터 메인 가스공급 제어장치(30)에 의한 프로세스 제어로 바꾸기 위해서 도 7의 화면에서 “YES”를 작업자가 누르게 되면 도 8의 화면과 같이 된다. When the main gas supply control device 30 is turned on in the state of Fig. 6, the operator is asked whether to stop the process control by the redundant gas supply control device 100 as shown in Fig. 7, when the power of the main gas supply control device 30 is turned on, a separate inquiry window 281 appears on the screen to confirm whether or not the process control state of the redundant gas supply control device 100 is stopped . When the operator presses "YES" on the screen of FIG. 7 to change from the redundant gas supply control device 100 to the process control by the main gas supply control device 30, the screen as shown in FIG. 8 is obtained.

도 8을 참조하면, 작업자의 실수를 대비하여 한번 더 이중화 가스공급 제어장치(100)의 중단을 확인 문의하는 창(282)이 나타나게 된다. 만약, 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 ON되어 메인 가스공급 제어장치(30)가 프로세스를 제어하는 상태가 되면 이중화 가스공급 제어장치(100)의 프로세스 중단 여부를 묻지 않고 곧바로 메인 가스공급 제어장치(30)에 의한 프로세스 제어가 수행된다.Referring to FIG. 8, a window 282 for confirming the interruption of the redundant gas supply control apparatus 100 appears once more in preparation for the operator's mistake. If the main gas supply control device 30 is turned on and the main gas supply control device 30 is in the process control state, The process control by the control device 30 is performed.

도 9 및 도 10에는 메인 가스공급 제어장치(30)의 유지 보수를 위해서 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 OFF된 경우에도, 이중화 가스공급 제어장치(100)에 의한 에어 밸브, 히터/자켓을 수동으로 조작할 수 있다는 것을 보여 주는 화면이 도시되어 있다. 9 and 10, even when the main gas supply control device 30 is powered off for maintenance of the main gas supply control device 30, the air valve, the heater / A screen is shown showing that the jacket can be manually operated.

도 9의 (a)에는 이중화 가스공급 제어장치(100)에 의해서 A 프로세스가 수동으로 조작되는 화면이 도시되어 있다. 도 9의 (a)를 참조하면, 프로세스의 수동 조작 선택 창(290), 수동으로 조작할 에어 밸브를 선택하는 창(292), 수동으로 조작할 히터/자켓을 선택하는 창(296)이 표시되어 있다. 도 9의 (a) 화면에서 프로세스의 수동 조작 선택 창(290)을 선택하여 A 프로세서의 수동 조작을 하게 되면, 도 9의 (b) 화면으로 전환되면서 A 프로세스의 에어 밸브와 히터/자켓을 수동으로 조작할 수 있게 된다. 도 9의 (b)를 참조하면, 수동으로 조작할 에어 밸브를 선택하는 창(292)에서 선택된 3개의 밸브가 녹색으로 표시되어 있고, 수동으로 조작할 히터/자켓을 선택하는 창(296)에 표시된 모든 히터 및 자켓이 선택되어 노란색으로 표시되어 있다.FIG. 9A shows a screen in which the A process is manually operated by the redundant gas supply control device 100. In FIG. 9A, a manual operation selection window 290 of a process, a window 292 for selecting an air valve to be manually operated, and a window 296 for selecting a heater / jacket to be manually operated are displayed . When the manual operation selection window 290 of the process is selected and a manual operation of the A processor is performed on the screen of FIG. 9 (a), the air valve and the heater / jacket of the A process are manually operated As shown in FIG. 9B, three valves selected in the window 292 for selecting an air valve to be manually operated are displayed in green, and a window 296 for selecting a heater / jacket to be manually operated is shown in FIG. All displayed heaters and jackets are highlighted in yellow.

도 10은 도 9와 반대로 이중화 가스공급 제어장치(100)를 사용하여 B 프로세스의 에어밸브, 히터/자켓을 수동으로 조작하기 위한 화면을 나타낸다. B 프로세스가 수동으로 조작된다는 것을 제외하면 도 9의 경우와 동일하므로 반복적인 설명은 생략한다.Fig. 10 shows a screen for manually operating the air valve and the heater / jacket of the process B using the duplicated gas supply control device 100, as opposed to Fig. B process is the same as the case of FIG. 9 except that the process is manually operated, so that repetitive description will be omitted.

도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는, 유지 보수를 위해 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원 OFF 시에도 수동조작모드를 통해서 프로세스의 에어 밸브, 히터/자켓을 선택적으로 작동시킬 수 있기 때문에, 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 OFF 되더라도 메인 가스공급 제어장치(30)의 유지보수가 가능하다.9 and 10, the redundant gas supply control device 100 according to the present invention is configured such that even when the main gas supply control device 30 is powered off for maintenance, The valve and the heater / jacket can be selectively operated, maintenance of the main gas supply control device 30 is possible even if the main gas supply control device 30 is turned off.

도 11에는 도 4의 화면에 도시된 조정모드(250), 설정모드(260)를 선택한 경우의 화면이 도시되어 있다. FIG. 11 shows a screen when the adjustment mode 250 and the setting mode 260 shown in the screen of FIG. 4 are selected.

먼저, 도 11의 (a)는 조정모드(250)를 선택한 경우의 화면을 나타낸다. 조정모드에서는 각 압력센서에 대해서 현재의 압력값을 확인할 수 있다. 또한, 압력값의 최대값 설정이 가능하고, 오프셋(OFFSET) 값을 설정하여 이중화 가스공급 제어장치(100)의 압력값 또는 무게값이 메인 가스공급 제어장치(30)의 압력값 또는 무게값과 일치하도록 설정할 수도 있다.11 (a) shows a screen when the adjustment mode 250 is selected. In the adjustment mode, the current pressure value can be confirmed for each pressure sensor. It is also possible to set the maximum value of the pressure value and set the OFFSET value so that the pressure value or the weight value of the redundant gas supply control device 100 corresponds to the pressure value or weight value of the main gas supply control device 30 It may be set to match.

도 11의 (b)는 설정모드(260)를 선택한 경우 중 압력 설정모드 화면을 나타낸다. 압력 설정모드에서는 각 압력센서에 대해서 최대 압력값과 최소 압력값을 설정할 수 있다.FIG. 11 (b) shows the medium pressure setting mode screen when the setting mode 260 is selected. In the pressure setting mode, the maximum pressure value and the minimum pressure value can be set for each pressure sensor.

도 11의 (c)는 설정모드(260)를 선택한 경우 중 히터 설정모드 화면을 나타낸다. 히터 설정모드에서는 각 히터 또는 가스 실린더를 둘러싸는 자켓의 셋-포인트(SET POINT), 최고 온도, 최저 온도를 설정할 수 있다. 또한, 오프셋(OFFSET) 값을 설정하여 이중화 가스공급 제어장치(100)의 히터/자켓 온도값이 메인 가스공급 제어장치(30)의 히터/자켓 온도값과 일치하도록 설정할 수도 있다.11 (c) shows the heater setting mode screen when the setting mode 260 is selected. In the heater setting mode, you can set SET POINT, maximum temperature and minimum temperature of the jacket surrounding each heater or gas cylinder. The OFFSET value may be set so that the heater / jacket temperature value of the redundant gas supply control device 100 matches the heater / jacket temperature value of the main gas supply control device 30. [

이와 같이, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)의 제어부(140)는 압력센서의 압력값 또는 히터의 온도값이 메인 가스공급 제어장치(30)의 압력센서의 압력값 또는 히터의 온도값과 동일하도록 압력값 또는 히터의 온도값에 대해 오프셋(OFFSET) 값을 설정하여 보정할 수 있다.The control unit 140 of the redundant gas supply control apparatus 100 according to the present invention controls the pressure of the pressure sensor of the main gas supply control device 30 or the temperature of the heater (OFFSET) value for the pressure value or the temperature value of the heater so as to be equal to the value of the pressure value or the heater value.

한편, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)의 제어부(140)는, 메인 가스공급 제어장치(30)에 영향을 주지 않도록 압력센서에서 나온 전류에 걸리는 전압으로부터 압력값을 아날로그 데이터로 산출할 수 있다. 다시 말하면, 압력센서에서 나온 전류는 제어부(140) 즉, PLC로 흘러 들어가게 되는데, 압력센서에서 PLC로 흘러 들어가는 전류를 분기하여 이 전류에 걸리는 전압으로부터 압력값에 대한 아날로그 데이터를 얻을 수 있다. 예를 들면, 압력센서에서 나온 전류가 4~20 mA이고 PLC의 내부 저항이 250 Ω인 경우에, 4~20 mA의 전류에 걸리는 전압은 1~5 V가 된다. 따라서, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는 압력센서에서 흘러 나가는 전류에 걸리는 전압값으로부터 압력값을 얻을 수 있으며, 이 때의 압력값은 프로세스 라인의 내부에 공정 가스가 흐를 때 생기는 압력 변화를 반영하는 아날로그 데이터이다. The control unit 140 of the redundant gas supply control apparatus 100 according to the present invention calculates the pressure value from the voltage applied to the current from the pressure sensor as analog data so as not to affect the main gas supply control device 30 can do. In other words, the current from the pressure sensor flows into the controller 140, that is, the PLC. The current flowing from the pressure sensor to the PLC can be branched to obtain analog data on the pressure value from the voltage applied to the current. For example, if the current from the pressure sensor is 4 to 20 mA and the internal resistance of the PLC is 250 Ω, the voltage across the 4 to 20 mA current will be 1 to 5 V. Therefore, the redundant gas supply control apparatus 100 according to the present invention can obtain the pressure value from the voltage value applied to the current flowing from the pressure sensor, and the pressure value at this time is a value obtained when the process gas flows into the process line It is analog data reflecting pressure change.

압력센서가 (-)15 psi부터 (+)200 psi까지 측정할 수 있는 규격을 가지는 경우, 압력센서에서 감지된 프로세스 라인(PA,PB) 내부의 압력이 (-)15 psi이면 압력센서의 전류에 걸리는 전압값이 1 V가 되고, 압력센서에서 감지된 프로세스 라인(PA,PB) 내부의 압력이 (+)200 psi이면 압력센서의 전류에 걸리는 전압값이 5 V가 된다. 만약, 압력센서의 감지 가능 규격이 달라지면 그에 따라 1~5V에 따른 압력값이 달라지면 된다. 이와 같이, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는 압력센서를 이용하여 에어 밸브의 개폐에 따른 압력을 BIT 값으로 획득할 뿐만 아니라, 프로세스 라인의 내부에 흐르는 공정 가스에 따른 압력 변화를 연속적인 아날로그 데이터로 획득할 수 있다. 아날로그 데이터 형식의 압력값은 제어부(140)에서 1~5 V의 전압값을 획득하여 산출될 수 있다. 1~5 V 전압값을 획득하는 것은 메인 가스공급 제어장치(30)에 영향을 주거나 영향을 받지 않기 때문에, 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는 메인 가스공급 제어장치(30)에 영향을 주지 않고 실린더 캐비닛(10)에 연결하여 공정 가스의 공급 상태를 모니터링 할 수 있다.If the pressure sensor has a specification to measure from (-) 15 psi to (+) 200 psi, if the pressure inside the process line (PA, PB) detected by the pressure sensor is (-) 15 psi, And the pressure inside the process line (PA, PB) sensed by the pressure sensor is (+) 200 psi, the voltage value applied to the current of the pressure sensor becomes 5 V. [ If the sensing standard of the pressure sensor is changed, the pressure value according to 1 ~ 5V should be changed accordingly. As described above, the redundant gas supply control apparatus 100 according to the present invention not only obtains the pressure resulting from opening and closing of the air valve using the pressure sensor as a BIT value, but also changes the pressure according to the process gas flowing in the process line And can be obtained as continuous analog data. The pressure value of the analog data format can be calculated by obtaining the voltage value of 1 to 5 V in the controller 140. Since obtaining the voltage value of 1 to 5 V does not affect or be influenced by the main gas supply control device 30, the redundant gas supply control device 100 according to the present invention is connected to the main gas supply control device 30 It is possible to monitor the supply state of the process gas by connecting it to the cylinder cabinet 10 without affecting it.

본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)를 포함하는 가스공급 시스템(1)에 있어서 모든 동작은 메인 가스공급 제어장치(30)가 우선이며, 긴급 사항 발생시에는 메인 가스공급 제어장치(30)가 멈추고 이중화 가스공급 제어장치(100)가 공정 가스 프로세스를 제어할 수 있다.In the gas supply system 1 including the redundant gas supply control device 100 according to the present invention, the main gas supply control device 30 takes the first priority and all the operations are performed by the main gas supply control device 30, The redundant gas supply control device 100 can control the process gas process.

본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는 프로세스에 이상이 발생할 경우 에러 메시지(Error message), 부저(Buzzer), 램프(Lamp) 등을 이용하여 작업자에게 이상 발생을 알릴 수 있다.The redundant gas supply control apparatus 100 according to the present invention can notify an operator of an abnormality occurrence by using an error message, a buzzer, a lamp, or the like when an abnormality occurs in a process.

본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는 가스 캐비닛(C/C, VMB, Bundle, BSGS 등) 등 모든 타입의 이상 발생 및 유지보수 등의 작업시 구동하며 메인 가스공급 제어장치(30)를 대체하여 공정 가스의 공급을 유지할 수 있다.The redundant gas supply control device 100 according to the present invention is driven during operation such as generation of abnormalities and maintenance of all types of gas cabinets (C / C, VMB, Bundle, BSGS, The supply of the process gas can be maintained.

본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는 메인 가스공급 제어장치(30)의 작동에 어떠한 영향도 주지 않도록 인터록(Interlock)되는 것이 바람직하다.The redundant gas supply control device 100 according to the present invention is preferably interlocked so as not to affect the operation of the main gas supply control device 30. [

한편, 도 12는 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)의 제어부(140)에 포함된 인쇄회로기판(300)의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.12 is a view schematically showing the configuration of the printed circuit board 300 included in the control unit 140 of the redundant gas supply control device 100 according to the present invention.

도 12에 도시된 바와 같이 인쇄회로기판(300, PCB)에는 전원 공급부(120)가 연결되는 전원포트(301)가 형성될 수 있다. 전원포트(301)에 연결된 전원 공급부(120)의 전원에 의해서 이중화 가스공급 제어장치(100)의 전원이 ON되거나 OFF될 수 있다. As shown in FIG. 12, a power supply port 301 to which a power supply unit 120 is connected may be formed on a printed circuit board (PCB) 300. The power of the redundant gas supply control device 100 can be turned on or off by the power of the power supply unit 120 connected to the power supply port 301.

인쇄회로기판(300)에는 이중화 가스공급 제어장치(100)와 메인 가스공급 제어장치(30)의 통신을 위한 이더넷 통신 포트(302)를 포함할 수 있다. 또한, 인쇄회로기판(300)에는 디스플레이부(130)와의 통신을 위한 터치 스크린 통신용 포트(303)가 형성될 수 있다. 터치 스크린 통신용 포트(303)의 일측에는 터치 스크린 및 상위 통신용 포트(304)가 더 형성될 수 있다. 터치 스크린 및 상위 통신용 포트(304)의 일측에는 프로그램 로딩(program loading)용 포트(305)가 마련될 수 있다. 프로그램 로딩용 포트(305)는 프로그램을 업로드하거나 다운로드하기 위한 연결 포트이다.The printed circuit board 300 may include an Ethernet communication port 302 for communication between the redundant gas supply control device 100 and the main gas supply control device 30. [ In addition, a port 303 for touch screen communication for communication with the display unit 130 may be formed on the printed circuit board 300. A touch screen and an upper communication port 304 may be further formed on one side of the port 303 for the touch screen communication. A program loading port 305 may be provided on one side of the touch screen and the upper communication port 304. The program loading port 305 is a connection port for uploading or downloading a program.

프로그램 로딩용 포트(305)의 일측에는 아날로그 및 온도 커넥터 연결 포트(306)가 형성될 수 있다. 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는 아날로그 및 온도 커넥터와의 연결을 통해서, 기존의 아날로그 센서 및 메인 가스공급 제어장치(30)에 영향을 주지 않도록 1~5 V 전압 방식으로 센서의 데이터를 확인할 수 있다. 온도는 별도의 온도센서를 이용하여 메인 가스공급 제어장치(30)와 독립적으로 온도를 모니터링 할 수 있다.An analog and temperature connector connection port 306 may be formed on one side of the program loading port 305. The redundant gas supply control device 100 according to the present invention is connected to the analog and temperature connectors and is connected to the analog sensor and the main gas supply control device 30 through the connection of the analog and temperature connectors, You can see the data. The temperature can be monitored independently of the main gas supply control device 30 by using a separate temperature sensor.

전원포트(301)의 일측에는 입력 커넥터 연결포트(307)가 마련될 수 있다. 입력 커넥터 연결포트(307)에는 각각의 센서들이 연결될 수 있는데, 이중화 가스공급 제어장치(100)의 철거시에도 문제가 발생하지 않도록 각각의 센서들을 OR 연결 방식으로 연결하는 것이 바람직하다.An input connector connection port 307 may be provided on one side of the power supply port 301. The respective sensors may be connected to the input connector connection port 307. It is preferable that the respective sensors are connected in an OR connection manner so that no problem occurs even when the redundant gas supply control device 100 is removed.

입력 커넥터 연결포트(307)의 일측에는 출력 커넥터 연결포트(308)가 형성될 수 있다. 출력 커넥터 연결포트(308)에는 에어 밸브 또는 SSR(Solid State Relay) 등과 같은 별도의 구동 출력이 연결될 수 있다.An output connector connection port 308 may be formed on one side of the input connector connection port 307. A separate drive output such as an air valve or a solid state relay (SSR) may be connected to the output connector connection port 308.

이하에서는 도면을 참조하여 이중화 가스공급 제어방법에 대해서 설명한다. 도 13 내지 도 15는 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치에 의한 이중화 가스공급 제어방법을 설명하기 위한 순서도이다.Hereinafter, a redundant gas supply control method will be described with reference to the drawings. 13 to 15 are flowcharts for explaining a redundant gas supply control method by the redundant gas supply control apparatus according to the present invention.

도 13에는 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 ON되어 있고 압력센서 등에 BIT 신호를 줄 때, 이중화 가스공급 제어장치(100)의 동작을 설명하는 순서도가 도시되어 있다. 도 13을 참조하면, 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 ON되어 있는지 여부를 판단하고(1100), OFF되어 있으면 다시 단계 1100으로 돌아가고, ON되어 있으면 공정 가스 공급 프로세스의 상태를 확인한다(1200). 단계 1200 이후에는 A 프로세스가 진행되는지 판단하고(1300), A 프로세스가 진행되면 메인 가스공급 제어장치(30)의 A 프로세스 램프를 ON하고(1310), 이어서 A 프로세스 라인(PA)의 에어 밸브(AV2A,AV3A)를 개방한다(1320).13 is a flow chart for explaining the operation of the redundant gas supply control device 100 when the power supply of the main gas supply control device 30 is ON and a BIT signal is given to a pressure sensor or the like. 13, it is determined whether the power supply of the main gas supply controller 30 is turned on (step 1100). If the main gas supply controller 30 is turned off, the process returns to step 1100. If the main gas supply controller 30 is turned on, 1200). In step 1300, the A process lamp of the main gas supply control device 30 is turned on (1310), and then the air valve (A) of the A process line PA is turned on AV2A, and AV3A are opened (1320).

만약, 단계 1300에서 판단한 결과, A 프로세스가 진행되지 않으면 B 프로세스가 진행되는지 판단하고(1400), B 프로세스도 진행하지 않으면 아이들 상태(1500)를 유지한다. 단계 1400에서 판단한 결과, B 프로세스가 진행되면 메인 가스공급 제어장치(30)의 B 프로세스 램프를 ON하고(1410), 이어서 B 프로세스 라인(PB)의 에어 밸브(AV2B,AV3B)를 개방한다(1420).If it is determined in step 1300 that the A process does not proceed, it is determined whether the B process proceeds (step 1400). If the B process does not proceed, the idle state 1500 is maintained. The B process lamp of the main gas supply control device 30 is turned on 1410 and then the air valves AV2B and AV3B of the B process line PB are opened 1420 ).

여기서, 단계 1300과 단계 1400에서는 각 프로세스의 BIT 신호가 감지되는지 여부를 판단할 수 있다.Here, in steps 1300 and 1400, it can be determined whether the BIT signal of each process is detected.

도 14에는 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 OFF되어 있을 때, 이중화 가스공급 제어장치(100)의 동작을 설명하는 순서도가 도시되어 있다. 도 14를 참조하면, 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 OFF되어 있는지 여부를 판단하고(2100), ON되어 있으면 다시 단계 2100으로 돌아가고, OFF되어 있으면 공정 가스 공급 프로세스의 상태를 확인한다(2200). 단계 2200 이후에는 A 프로세스가 진행되는지 판단하고(2300), A 프로세스가 진행되면 이중화 가스공급 제어장치(100)의 A 프로세스 램프를 ON하고(2310), 이어서 A 프로세스 라인(PA)의 에어 밸브(AV2A,AV3A)를 개방하고(2320), A 프로세스 라인의 히터를 구동한다(2330).14 is a flowchart for explaining the operation of the redundant gas supply control device 100 when the power supply of the main gas supply control device 30 is turned off. 14, it is determined whether or not the main gas supply control device 30 is turned off (step 2100). If the main gas supply control device 30 is turned on, the process returns to step 2100. If the main gas supply control device 30 is turned off, 2200). The A process lamp of the redundant gas supply control device 100 is turned on 2310 and then the air valve of the A process line PA is turned on AV2A, AV3A) (2320) and drives the heater of the A process line (2330).

만약, 단계 2300에서 판단한 결과, A 프로세스가 진행되지 않으면 B 프로세스가 진행되는지 판단하고(2400), B 프로세스도 진행하지 않으면 아이들 상태(2500)를 유지한다. 단계 2400에서 판단한 결과, B 프로세스가 진행되면 이중화 가스공급 제어장치(100)의 B 프로세스 램프를 ON하고(2410), 이어서 B 프로세스 라인(PB)의 에어 밸브(AV2B,AV3B)를 개방하고(2420), B 프로세스 라인의 히터를 구동한다(2430).If it is determined in step 2300 that the A process does not proceed, it is determined whether the B process proceeds (2400). If the B process does not proceed, the idle state 2500 is maintained. The B process lamp of the redundant gas supply control device 100 is turned on 2410 and then the air valves AV2B and AV3B of the B process line PB are opened 2420 ), The heater of the B process line is driven (2430).

여기서, 단계 2300과 단계 2400에서는 각 프로세스의 BIT 신호가 감지되는지 여부를 판단할 수 있다.Here, in steps 2300 and 2400, it can be determined whether the BIT signal of each process is detected.

도 15에는 이중화 가스공급 제어장치(100)에 의해서 프로세스가 진행되는 도중에 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 ON되는 경우의 동작을 설명하는 순서도가 도시되어 있다. 도 15를 참조하면, 이중화 가스공급 제어장치(100)가 작동하는 중에 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원이 ON되면(3100) 공정 가스 공급 프로세스가 진행되고 있는지를 판단한다(3200). 단계 3200의 판단 결과, 진행 중이면 메인 가스공급 제어장치(30)의 프로세스 램프를 ON하고(3210) 프로세스 라인의 에어 밸브를 개방한다(3220).15 is a flowchart for explaining the operation when the main gas supply control device 30 is powered on while the process is being performed by the redundant gas supply control device 100. [ Referring to FIG. 15, when the main gas supply control device 30 is turned on (3100) while the redundant gas supply control device 100 is operating, it is determined whether the process gas supply process is proceeding (3200). As a result of the judgment in the step 3200, if the process is in progress, the process lamp of the main gas supply control device 30 is turned ON (3210) and the air valve of the process line is opened (3220).

단계 3200의 판단 결과, 프로세스가 진행되고 있지 않으면 이중화 가스공급 제어장치(100)의 프로세스 중지 알림을 수행하고(3300), 이중화 가스공급 제어장치(100)의 프로세스 중지 여부를 확인한다(3310). 단계 3310에서 중지 확인을 하면, 이중화 가스공급 제어장치(100)의 프로세스 중지 여부를 재확인한다(3320). 단계 3320에서 중지 재확인을 하면, 프로세스 라인의 에어 밸브를 닫고(3340) 아이들 상태에 진입하게 된다(3350).As a result of the determination in step 3200, if the process is not proceeding, a process stop notification of the duplication gas supply control device 100 is performed (3300), and the process of the duplication gas supply control device 100 is confirmed (3310). If the suspend confirmation is made in step 3310, the duplication gas supply control apparatus 100 confirms whether the process is aborted (step 3320). If the interruption is confirmed again at step 3320, the air valve of the process line is closed (3340) and enters the idle state (3350).

단계 3310에서 이중화 가스공급 제어장치(100)의 프로세스 중지가 확인되지 않거나, 단계 3320에서 이중화 가스공급 제어장치(100)의 프로세스 중지가 재확인되지 않으면, 이중화 가스공급 제어장치(100)의 프로세스 램프가 ON되고(3400), 프로세스 라인의 에어 밸브가 개방되며(3410) 프로세스 라인의 히터가 구동된다(3420).If the process stop of the redundant gas supply control device 100 is not confirmed in step 3310 or if the process interruption of the redundant gas supply control device 100 is not confirmed in step 3320, (3400), the air valve of the process line is opened (3410), and the heater of the process line is driven (3420).

한편, 본 발명은 이중화 가스공급 제어방법을 수행하기 위한 컴퓨터 상에서 수행 가능한 프로그램이 기록된 기록매체를 제공할 수 있다. 본 발명의 실시예들은 다양한 컴퓨터로 구현되는 동작을 수행하기 위한 프로그램 명령을 포함하는 컴퓨터 판독 가능 매체를 포함한다. 상기 컴퓨터 판독 가능 매체는 프로그램 명령, 로컬 데이터 파일, 로컬 데이터 구조 등을 단독으로 또는 조합하여 포함할 수 있다. 상기 매체는 본 발명을 위하여 특별히 설계되고 구성된 것들이거나 컴퓨터 소프트웨어 당업자에게 공지되어 사용 가능한 것일 수도 있다. 컴퓨터 판독 가능 기록 매체의 예에는 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체, CD-ROM, DVD와 같은 광기록 매체, 플롭티컬 디스크와 같은 자기-광 매체, 및 롬, 램, 플래시 메모리 등과 같은 프로그램 명령을 저장하고 수행하도록 특별히 구성된 하드웨어 장치가 포함된다. 프로그램 명령의 예에는 컴파일러에 의해 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용해서 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드를 포함한다.Meanwhile, the present invention can provide a recording medium on which a computer-executable program for performing a redundant gas supply control method is recorded. Embodiments of the present invention include computer readable media including program instructions for performing various computer implemented operations. The computer-readable medium may include program instructions, local data files, local data structures, etc., alone or in combination. The media may be those specially designed and constructed for the present invention or may be those known to those skilled in the computer software. Examples of computer-readable media include magnetic media such as hard disks, floppy disks and magnetic tape, optical recording media such as CD-ROMs and DVDs, magneto-optical media such as floppy disks, and ROMs, And hardware devices specifically configured to store and execute the same program instructions. Examples of program instructions include machine language code such as those produced by a compiler, as well as high-level language code that can be executed by a computer using an interpreter or the like.

상기에서 설명한 바와 같은 본 발명에 따른 이중화 가스공급 제어장치(100)는, 메인 가스공급 제어장치(30)의 전원 차단 및 에어 밸브(미도시)의 고장시에도 공정 가스의 공급 상태를 동일하게 유지시킬 수 있다. 또한, 에어 밸브의 개폐에 따른 압력 또는 에어 밸브에 연결된 프로세스 라인(PA,PB,P) 내부의 압력을 감지하는 압력센서의 현재 압력값을 디스플레이부(130)에 나타낼 수 있고, 압력값에 따른 알람(alarm) 여부의 확인도 가능하다. 또한, 메인 가스공급 제어장치(30) 또는 실린더 캐비닛(10)을 수리하거나 유지보수하기 위해 전원을 차단하는 경우에도 공정 가스의 공급 상태를 유지할 수 있고, 프로세스 라인 내부의 압력 또는 히터의 작동 상태 등을 제어할 수 있다. 또한, 메인 가스공급 제어장치(30)가 고장인 경우에도 히터 구동이 가능하며 히터의 설정값에 따라 알람 여부의 확인도 가능하다.The redundant gas supply control device 100 according to the present invention as described above can maintain the supply state of the process gas even when the power supply to the main gas supply control device 30 is cut off and the air valve . Further, the present pressure value of the pressure sensor for sensing the pressure due to the opening and closing of the air valve or the pressure inside the process lines PA, PB, P connected to the air valve can be displayed on the display unit 130, It is also possible to check whether an alarm is present or not. Further, even when the main gas supply control device 30 or the cylinder cabinet 10 is powered off for repair or maintenance, the supply state of the process gas can be maintained, and the pressure inside the process line or the operating state of the heater Can be controlled. Further, even when the main gas supply control device 30 is in failure, the heater can be driven and it is also possible to confirm whether or not the alarm is present according to the set value of the heater.

이상과 같이 본 발명의 실시예에서는 구체적인 구성 요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 청구범위뿐 아니라 이 청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다. Although the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, And various modifications and changes may be made thereto without departing from the scope of the present invention. Accordingly, the spirit of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments described, and all of the equivalents or equivalents of the claims, as well as the claims set forth below, fall within the scope of the present invention.

1: 가스공급 시스템
10: 실린더 캐비닛
20: 반도체 제조설비
30: 메인 가스공급 제어장치
100: 이중화 가스공급 제어장치
130: 디스플레이부
140: 제어부
150: 솔레노이드 밸브부
160: 통신부
300: 인쇄회로기판1: Gas supply system
10: Cylinder cabinet
20: Semiconductor manufacturing facility
30: main gas supply control device
100: Redundant gas supply control device
130:
140:
150: Solenoid valve section
160:
300: printed circuit board

Claims (9)

적어도 하나의 반도체 제조설비로 공정가스를 공급하는 적어도 하나의 실린더 캐비닛을 제어하는 메인 가스공급 제어장치와 연동하며,
상기 메인 가스공급 제어장치와 독립적 또는 상보적으로 상기 실린더 캐비닛에서 상기 반도체 제조설비로 공급되는 공정가스의 공급 상태를 제어하거나 모니터링하는 것을 특징으로 하는 이중화 가스공급 제어장치.
Interlocking with a main gas supply control device for controlling at least one cylinder cabinet for supplying a process gas to at least one semiconductor manufacturing facility,
Wherein the controller controls or monitors the supply state of the process gas supplied to the semiconductor manufacturing facility from the cylinder cabinet, independently or complementarily to the main gas supply control device.
제1항에 있어서,
상기 실린더 캐비닛의 내부에 마련된 가스 실린더와 상기 반도체 제조설비를 연결하는 프로세스 라인의 압력을 감지하는 압력센서로부터 압력값을 아날로그 데이터로 취득하여 공정가스의 공급 프로세스를 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 이중화 가스공급 제어장치.
The method according to claim 1,
And a control unit for obtaining the pressure value from the pressure sensor for sensing the pressure of the process line connecting the gas cylinder provided in the cylinder cabinet and the semiconductor manufacturing facility to analog data and controlling the process of supplying the process gas. And a control unit for controlling the supply of the gas.
제2항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 압력센서에서 감지된 압력값으로부터 상기 가스 실린더에 존재하는 공정가스의 무게값을 아날로그 데이터로 취득하는 것을 특징으로 하는 이중화 가스공급 제어장치.
3. The method of claim 2,
Wherein,
And obtains, as analog data, the weight value of the process gas existing in the gas cylinder from the pressure value detected by the pressure sensor.
제3항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 가스 실린더 또는 상기 프로세스 라인 중 적어도 하나에 구비된 히터로부터 히터 온도값을 아날로그 데이터로 취득하여 상기 히터의 작동 상태를 제어하는 것을 특징으로 하는 이중화 가스공급 제어장치.
The method of claim 3,
Wherein,
Wherein the control unit controls the operating state of the heater by acquiring a heater temperature value from the heater provided in at least one of the gas cylinder and the process line as analog data.
제2항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 압력값, 상기 무게값 또는 상기 히터 온도값은 상기 메인 가스공급 제어장치와 무관하게 상기 제어부에서 취득되는 것을 특징으로 하는 이중화 가스공급 제어장치.
5. The method according to any one of claims 2 to 4,
Wherein the pressure value, the weight value, or the heater temperature value is acquired by the control unit regardless of the main gas supply control device.
제5항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 메인 가스공급 제어장치에 영향을 주지 않도록 상기 압력센서에서 나온 전류에 걸리는 전압으로부터 상기 압력값을 아날로그 데이터로 산출하는 것을 특징으로 하는 이중화 가스공급 제어장치.
6. The method of claim 5,
Wherein the control unit calculates the pressure value as analog data from a voltage applied to the current from the pressure sensor so as not to affect the main gas supply control device.
제5항에 있어서,
상기 제어부는 상기 압력값 또는 상기 히터 온도값이 상기 메인 가스공급 제어장치의 압력값 또는 히터 온도값과 동일하도록 상기 압력값 또는 상기 히터 온도값에 대해 오프셋 값을 설정하여 보정하는 것을 특징으로 하는 이중화 가스공급 제어장치.
6. The method of claim 5,
Wherein the controller corrects the pressure value or the heater temperature value by setting an offset value with respect to the pressure value or the heater temperature value so that the pressure value or the heater temperature value is equal to the pressure value or the heater temperature value of the main gas supply control device. Gas supply control device.
제5항에 있어서,
상기 제어부와 연동하여 상기 압력값, 상기 무게값 또는 상기 히터 온도값을 상위 모니터링 컴퓨터에 전달하는 통신부를 포함하는 것을 특징으로 하는 이중화 가스공급 제어장치.
6. The method of claim 5,
And a communication unit for transmitting the pressure value, the weight value or the heater temperature value to an upper monitoring computer in cooperation with the control unit.
제5항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 압력센서를 포함하여 각종 센서들을 OR 방식으로 연결하는 것을 특징으로 하는 이중화 가스공급 제어장치.6. The method of claim 5,
Wherein,
And the various sensors including the pressure sensor are connected in an OR manner.
KR1020170070824A 2017-06-07 2017-06-07 Redundant gas supply control apparatus KR101942398B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170070824A KR101942398B1 (en) 2017-06-07 2017-06-07 Redundant gas supply control apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170070824A KR101942398B1 (en) 2017-06-07 2017-06-07 Redundant gas supply control apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180133977A true KR20180133977A (en) 2018-12-18
KR101942398B1 KR101942398B1 (en) 2019-01-31

Family

ID=64952439

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170070824A KR101942398B1 (en) 2017-06-07 2017-06-07 Redundant gas supply control apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101942398B1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102137822B1 (en) * 2020-06-02 2020-07-27 주식회사 명성시스템 Recording medium having managing program for dual gas supply system
KR102137821B1 (en) * 2020-06-02 2020-07-27 주식회사 명성시스템 Dual gas supply system
KR102526435B1 (en) * 2022-11-30 2023-04-27 (주)쎄미콤 System for monitoring automatic pressure

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102198756B1 (en) 2020-07-14 2021-01-05 주식회사 명성시스템 Gas supply control system
KR20230138153A (en) 2022-03-23 2023-10-05 (주)명성오토메이션 Gas supply control system with improved stability

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010068231A (en) * 2000-01-03 2001-07-23 윤종용 Method for calibrating gas supply system
KR20010084011A (en) 2000-02-23 2001-09-06 윤종용 Gas supply system
KR20060028874A (en) * 2004-09-30 2006-04-04 삼성전자주식회사 System for supplying gas
KR101185032B1 (en) * 2011-08-16 2012-09-21 김상호 Nonstop gas supply control apparatus for semiconductor manufacturing equitments and control method of the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010068231A (en) * 2000-01-03 2001-07-23 윤종용 Method for calibrating gas supply system
KR20010084011A (en) 2000-02-23 2001-09-06 윤종용 Gas supply system
KR20060028874A (en) * 2004-09-30 2006-04-04 삼성전자주식회사 System for supplying gas
KR101185032B1 (en) * 2011-08-16 2012-09-21 김상호 Nonstop gas supply control apparatus for semiconductor manufacturing equitments and control method of the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102137822B1 (en) * 2020-06-02 2020-07-27 주식회사 명성시스템 Recording medium having managing program for dual gas supply system
KR102137821B1 (en) * 2020-06-02 2020-07-27 주식회사 명성시스템 Dual gas supply system
KR102526435B1 (en) * 2022-11-30 2023-04-27 (주)쎄미콤 System for monitoring automatic pressure

Also Published As

Publication number Publication date
KR101942398B1 (en) 2019-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101942398B1 (en) Redundant gas supply control apparatus
CA2615167C (en) Emergency shutdown system
US8820342B2 (en) Actuator control device and method
US7504961B2 (en) Emergency isolation valve controller with integral fault indicator
FI104129B (en) Procedure for monitoring the condition of control valve
KR101988361B1 (en) Gas Supply System
CN108351640B (en) Valve monitoring
US10267704B2 (en) Oil leakage detection device
NO20151642A1 (en) Method and apparatus for conditional control of an electronic pressure regulator
JP4234309B2 (en) Diagnosis method of combustion state
US7040336B2 (en) Gas delivery system for supplying gas to semiconductor manufacturing equipment
AU2012206003B2 (en) Gas engine system with detection function of abnormality occurrence of gas pressure detection mechanism
JP2647567B2 (en) Control valve control mechanism
CN107271163A (en) Local diagnosis and checking system and method for cooler
JP2024060223A (en) Industrial Burners
JPH06313545A (en) Trouble controller for heating device
JP2008232542A (en) Central supervisory control device in air conditioning control system
KR20020005214A (en) Method of supplying process gas for manufacturing semiconductor
JPH11125463A (en) Method and system of checking hot-water supplier on malfunctioning
KR20090062383A (en) Control unit and method for controlling a plurality of controll valves in a ship
JPH11245276A (en) Maintenance system of injection molding machine

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant