KR20180129601A - Concentration control device for developing solution and substrate developing system - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 현상액의 농도 관리 장치, 및, 기판의 현상 처리 시스템에 관한 것이고, 특히, 반도체 또는 액정 패널에 있어서의 회로 기판의 현상 공정 등에서, 포토레지스트막을 현상하기 위해 반복 사용되는 알칼리성을 나타내는 현상액의 농도 관리 장치, 및, 기판의 현상 처리 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for developing a concentration of developer and a development processing system for a substrate, and more particularly to a developing apparatus for developing a photoresist film which is repeatedly used for developing a photoresist film in a semiconductor or a liquid- A concentration management apparatus, and a development processing system for a substrate.
반도체나 액정 패널 등에 있어서의 미세 배선 가공을 실현하는 포토리소그래피의 현상 공정에는, 기판 상에 제막(製膜)된 포토레지스트를 용해하는 약액(藥液)으로서, 알칼리성을 나타내는 현상액(이하, 「알칼리성 현상액」이라고도 함)이 사용되고 있다. 알칼리성 현상액은, 그 성능이 최대한으로 발휘되도록, 필요에 따른 소정의 농도로 유지 관리되어 사용된다. 현상액의 농도 관리는, 현상액의 성분 농도의 감시와 측정된 농도에 의거하는 보충액의 보급에 의해 이루어진다. 보급되는 보충액으로서는, 현상액의 원액이나 순수 외에, 새롭게 조제된 알칼리성 현상액(이하, 「신액」이라고도 함)이나 재이용 가능하게 재생 처리된 알칼리성 현상액(이하, 「재생액」이라고도 함) 등이 사용된다.Description of the Related Art [0002] In a photolithography development process for realizing fine wiring in a semiconductor or a liquid crystal panel, a developing solution (hereinafter referred to as " alkali developing solution ") is used as a chemical solution for dissolving a photoresist film- Developer ") is used. The alkaline developer is used and maintained at a predetermined concentration as necessary so that its performance can be maximized. The concentration control of the developer is performed by monitoring the component concentration of the developer and replenishing the replenisher based on the measured concentration. As the replenishing liquid to be replenished, a newly prepared alkaline developer (hereinafter also referred to as "fresh solution") or an alkaline developer (hereinafter also referred to as "regenerated solution") which has been regenerated reusably is used in addition to the original solution or pure water of the developer.
또한, 알칼리성 현상액은 공기 중의 이산화탄소를 흡수하여, 탄산염을 발생시켜 열화되기 쉽다. 또한, 알칼리성 현상액은 포토레지스트의 용해에 의해 포토레지스트염을 발생시켜, 현상 처리에 유효한 알칼리 성분이 소비된다. 그 때문에, 반복 사용되는 알칼리성 현상액은, 알칼리 성분뿐만 아니라, 포토레지스트나 이산화탄소도 포함하는 다성분계로 되어 있다. 그리고, 그들 성분의 각각이 서로 다른 기여도로 현상 성능에 영향을 미치고 있다. 따라서, 알칼리성 현상액의 현상 성능을 고정밀도로 유지 관리하기 위해서는, 이들 성분이 현상 성능에 끼치는 영향을 함께 고려한 현상액 관리가 필요했다.In addition, the alkaline developer easily absorbs carbon dioxide in the air, and is liable to generate carbonates and deteriorate. Further, the alkaline developing solution generates a photoresist salt by dissolving the photoresist, and an alkaline component effective for the developing treatment is consumed. Therefore, the alkaline developer to be used repeatedly has a multicomponent system including not only an alkaline component but also a photoresist and carbon dioxide. And, each of the components affects the developing performance with different contribution. Therefore, in order to maintain and maintain the developing performance of the alkaline developing solution with high accuracy, it was necessary to manage the developing solution considering the influence of these components on the developing performance.
종래는, 알칼리성 현상액의 농도를 유지 관리하기 위해, 알칼리성 현상액을 사용하여 기판을 처리하는 자(이하, 「기판 제조자」라고도 함)는, 현상액의 농도 관리 장치를 구입해서 사용하고 있었다. 기판 제조자는, 알칼리성 현상액의 농도를 관리하기 위해 보급되는 보충액으로서, 현상액의 원액이나 신액 등을 조달해야만 했다. 또한, 기판 제조자는, 자기 부담으로 신액을 조제할 때는, 알칼리성 현상액을 그 원료로부터 자동으로 조제하는 조제 장치를 구입하고, 이것을 운용해야만 했다. 또한, 기판 제조자는, 재생액을 자기 부담으로 준비하기 위해서는, 사용된 현상액을 재이용 가능하게 재생 처리하는 재생 장치를 구입해야만 했다.Conventionally, in order to maintain the concentration of the alkaline developer, a person who processes the substrate using an alkaline developer (hereinafter also referred to as " substrate manufacturer ") has purchased and used a developer concentration controller. The substrate manufacturer had to procure undiluted solution or fresh solution of the developing solution as replenishment solution to be supplied for managing the concentration of the alkaline developing solution. Further, the substrate manufacturer had to purchase and operate a dispenser for automatically preparing an alkaline developer from the raw material when preparing a fresh solution at the own cost. Further, in order to prepare the regenerated solution by self-burden, the substrate manufacturer had to purchase a regenerating device for regenerating the used developer in a reusable manner.
알칼리성 현상액의 관리 장치로서, 예를 들면, 하기의 특허문헌 1에는, 알칼리성 현상액의 성분 농도와 상관이 있는 복수의 특성값을 측정하고, 측정한 복수의 측정값에 의거하여 다변량 해석법에 의해 알칼리성 현상액의 성분 농도를 산출하고, 이 측정값 및 산출값에 의거하여 현상액에 보충액을 송액하는 것이 기재되어 있다.As an apparatus for managing an alkaline developer, for example, Patent Document 1 below discloses a method of measuring a plurality of characteristic values correlated with a component concentration of an alkaline developer, And the replenisher is fed to the developer on the basis of the measured value and the calculated value.
또한, 특허문헌 2에는, 현상액의 밀도를 측정하고, 현상액의 밀도값과 흡수 이산화탄소 농도값 사이의 대응 관계를 사용해서, 현상액의 흡수 이산화탄소 농도가 소정의 관리값 또는 관리값 이하로 되도록, 현상액에 보충액을 공급하는 현상액 관리 장치가 기재되어 있다. 특허문헌 3에는, 현상액의 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도를 지표로 해서 특정되는 영역마다 소정의 현상 성능으로 되는 것이 확인된 현상액의 도전률값을 갖는 도전률 데이터가 저장된 데이터 기억부를 구비하고, 현상액의 용해 포토레지스트 농도의 측정값 및 흡수 이산화탄소 농도의 측정값에 의해 특정되는 농도 영역의 데이터 기억부에 저장된 도전률값을 제어 목표값으로 해서, 현상액에 보충액을 보급하는 현상액 관리 장치가 기재되어 있다.
그러나, 종래와 같이 농도 관리 장치나 조제 장치, 재생 장치를 구입해서 사용하는 태양에서는, 기판 제조자가, 농도 관리 장치나 재생 장치를 구입하고, 이들을 운전하고 유지 관리하는 것이 필요했다. 또한, 농도 관리 장치나, 조제 장치, 재생 장치를 제조 판매하는 자(이하, 「장치 판매자」라고도 함)에 있어서도, 장치 판매 시점밖에 이들 장치의 대가를 얻을 기회가 없었다.However, in the case where a concentration management apparatus, a preparation apparatus, and a reproduction apparatus are purchased and used as in the prior art, it is necessary for the substrate manufacturer to purchase the concentration management apparatus and the regeneration apparatus, and to operate and maintain them. Further, even in the case of a person who manufactures and sells a concentration management apparatus, a preparation apparatus, and a reproduction apparatus (hereinafter also referred to as " apparatus seller "),
그 때문에, 기판 제조자는, 농도 관리 장치나 조제 장치, 재생 장치를 구입하기 위한 일시적으로 다액의 비용 부담과, 구입 후의 운전 및 유지 관리에 따른 많은 수고나 부담을 지지 않으면 안 되었다. 또한, 장치 판매자는, 한정된 시장 중에서, 장치의 구입을 희망하는 기판 제조자를 일일이 찾아서 장치를 판매하지 않으면, 충분한 이익을 올리는 것이 어렵다는 문제를 안고 있었다.For this reason, the substrate manufacturer has had to pay a large amount of cost for temporarily purchasing a concentration management apparatus, a preparation apparatus, and a regenerating apparatus, and a lot of labor and burden due to operation and maintenance after purchase. In addition, the device vendor has a problem that it is difficult to raise a sufficient profit unless a device manufacturer is searched for and the device is desired to be purchased from a limited market.
본 발명은, 상기 제반 과제를 감안해서 이루어진 것이다. 발명자는, 장치를 판매하는 것이 아닌, 농도 관리 장치나 조제 장치, 재생 장치를 사용해서 기판의 처리에 최적인 원하는 상태로 현상액을 유지 관리하는 역무(役務)를 기판 제조자에게 제공하는 것을 발안(發案)했다. 이 신규한 비지니스 모델에서는, 기판 제조자가 상기와 같은 부담을 지지 않고 항상 최적인 상태로 유지된 현상액을 사용할 수 있고, 또한, 장치 판매자가 계속해서 수익을 올릴 수 있다. 본 발명은, 상기 발안한 신규한 비지니스 모델에 있어서, 상기 역무를 제공하는 자가 그 역무의 제공에 사용하는 현상액의 농도 관리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 농도 관리 장치나 조제 장치, 재생 장치를 기판 제조자가 운용하는 현상 처리 장치에 접속해서 구축되는 상기 역무를 제공하는데 최적인 기판의 현상 처리 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above problems. The inventor has found that it is not a matter of selling a device but providing a substrate manufacturer with the task of maintaining and managing the developer in a desired state optimal for the processing of the substrate by using a concentration control device, Proposal). In this new business model, the substrate manufacturer can use a developing solution that does not suffer the above burdens and is always kept in the optimum state, and the device vendor can continue to make profits. An object of the present invention is to provide a concentration control apparatus for a developing solution used by a person who provides the service in the novel business model. Another object of the present invention is to provide a development processing system for a substrate which is most suitable for providing the above-described tasks, which is constructed by connecting a concentration management apparatus, a preparation apparatus, and a reproduction apparatus to a development processing apparatus operated by a substrate manufacturer.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 현상액의 농도 관리 장치는, 반복 사용되는, 알칼리성을 나타내는 현상액의 성분 농도와 상관이 있는 현상액의 복수의 특성값을 측정하는 측정 수단과, 측정 수단에 의해 측정된 복수의 특성값에 의거하여, 다변량 해석법에 의해, 현상액의 성분 농도를 산출하는 연산 수단과, 연산 수단에 의해 산출된 현상액의 성분 농도값에 의거하여, 현상액의 성분 농도가 소정의 관리값으로 되도록, 또는, 소정의 관리값 이하로 되도록, 현상액에 보충액을 공급하는 제어 수단과, 제어 수단에 의해 공급되는 보충액의 적산 유량을 계측하는 적산 유량계를 구비한다.In order to attain the above object, a developer concentration managing device of the present invention is characterized by comprising: measuring means for measuring a plurality of characteristic values of a developer, which is correlated with a component concentration of an alkaline developing developer repeatedly used; Calculating means for calculating a component concentration of the developer by a multivariate analysis method on the basis of a plurality of characteristic values obtained by the calculation means; Control means for supplying the replenishing liquid to the developer so that the concentration of the replenishing liquid supplied to the developing solution becomes equal to or less than a predetermined control value and an integrated flowmeter for measuring the cumulative flow rate of the replenishing liquid supplied by the control means.
본 발명에 따르면, 다변량 해석법을 사용한 연산 수단에 의해 다성분계인 알칼리성 현상액의 성분 농도를 산출하고 있으므로, 복수의 현상액 성분의 영향을 받고 있는 특성값으로부터여도 정밀하게 현상액의 성분 농도를 산출하는 것이 가능하다. 산출한 현상액의 성분 농도에 의거하여 소정의 관리값으로 되도록, 또는, 소정의 관리값 이하로 되도록, 보충액을 공급함으로써, 정밀하게 현상액의 농도 관리를 행할 수 있다.According to the present invention, since the component concentrations of the multi-component alkaline developer are calculated by the calculation means using the multivariate analysis method, it is possible to accurately calculate the component concentrations of the developer even from the characteristic values influenced by a plurality of developer components Do. The concentration of the developer can be precisely controlled by supplying the replenishing liquid so as to have a predetermined control value or a predetermined control value or less based on the calculated component concentration of the developer.
또한, 보충액의 적산 유량을 계측하는 적산 유량계를 구비함으로써, 소정 기간(예를 들면, 일주일 또는 일개월 등)마다 보충액의 양을 파악할 수 있다. 그 때문에, 예를 들면, 이 소정 기간에 있어서의 보충액의 공급량에 이들 단위당 요금을 승산하여 얻은 공급 요금에, 그 밖의 제반 경비 등에 의거하는 기본 요금을 가산한 금액을, 「현상액의 농도 관리의 요금」으로서 산출하는 것이 가능해진다. 그리고, 산출한 요금을 기판 제조자에게 청구할 수 있다.Further, by providing the integrated flow meter for measuring the integrated flow rate of the supplement liquid, it is possible to grasp the amount of the supplement liquid every predetermined period (for example, one week or one month, etc.). For this reason, for example, an amount obtained by adding a basic charge based on other various expenses to the supply rate obtained by multiplying the supply amount of the replenishing liquid in the predetermined period by the charge per unit, &Quot; can be calculated. Then, the calculated fee can be charged to the substrate manufacturer.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 현상액의 농도 관리 장치는, 밀도계와, 밀도계에 의해 측정된 알칼리성을 나타내는 현상액의 밀도에 의거하여, 현상액의 밀도와 흡수 이산화탄소 농도 사이의 대응 관계로부터, 현상액의 흡수 이산화탄소 농도가 소정의 관리값으로 되도록, 또는, 소정의 관리값 이하로 되도록, 현상액에 보충액을 공급하는 제어 수단과, 제어 수단에 의해 공급되는 보충액의 적산 유량을 계측하는 적산 유량계를 구비한다.In order to achieve the above object, the concentration control apparatus of a developer of the present invention is characterized in that, from the correspondence between the density of the developer and the absorbed carbon dioxide concentration, on the basis of the density meter and the density of the developer exhibiting the alkalinity measured by the density meter, Control means for supplying the replenishing liquid to the developer so that the absorbed carbon dioxide concentration of the developing liquid becomes a predetermined control value or below a predetermined control value and a cumulative flow meter for measuring the cumulative flow rate of the replenishing liquid supplied by the control means do.
본 발명에 따르면, 현상액의 밀도와 흡수 이산화탄소 농도의 대응 관계(특허문헌 2의 도 1 참조)에 의해, 밀도계에 의해 측정된 현상액의 밀도값으로부터 공급해야 할 보충액의 양을 알 수 있으므로, 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 소정의 관리값 또는 소정의 관리값 이하로 되도록 보충액을 공급해서 관리할 수 있다.According to the present invention, the amount of the replenishing liquid to be supplied can be known from the density value of the developing liquid measured by the density meter by the corresponding relationship between the density of the developing liquid and the absorbed carbon dioxide concentration (see FIG. 1 of Patent Document 2) It is possible to supply the replenishing liquid so that the absorbed carbon dioxide concentration of the adsorbing carbon dioxide becomes equal to or less than a predetermined control value or a predetermined control value.
또한, 보충액의 적산 유량을 계측하는 적산 유량계를 구비함으로써, 소정 기간(예를 들면, 일주일 또는 일개월 등)마다 보충액의 양을 파악할 수 있다. 그 때문에, 예를 들면, 이 소정 기간에 있어서의 보충액의 공급량에 이들 단위당 요금을 승산하여 얻은 공급 요금에, 그 밖의 제반 경비 등에 의거하는 기본 요금을 가산한 금액을, 「현상액의 농도 관리의 요금」으로서 산출하는 것이 가능해진다. 그리고, 산출한 요금을 기판 제조자에게 청구할 수 있다.Further, by providing the integrated flow meter for measuring the integrated flow rate of the supplement liquid, it is possible to grasp the amount of the supplement liquid every predetermined period (for example, one week or one month, etc.). For this reason, for example, an amount obtained by adding a basic charge based on other various expenses to the supply rate obtained by multiplying the supply amount of the replenishing liquid in the predetermined period by the charge per unit, &Quot; can be calculated. Then, the calculated fee can be charged to the substrate manufacturer.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 현상액의 농도 관리 장치는, 반복 사용되는, 알칼리성을 나타내는 현상액의 도전률, 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도를 측정하는 측정 수단과, 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도를 지표로 해서 특정되는 농도 영역마다 소정의 현상 성능으로 되는 것이 미리 확인된 현상액의 도전률값을 갖는 도전률 데이터가 저장되어 있는 데이터 기억부, 및, 데이터 기억부에 저장된 도전률 데이터 중, 측정 수단에 의해 측정된 현상액의 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도의 측정값에 의해 특정되는 농도 영역의 도전률값을 제어 목표값으로 해서, 현상액의 도전률이 제어 목표값으로 되도록 현상액에 보충액을 공급하는 제어부를 구비한 제어 수단과, 제어 수단에 의해 공급되는 보충액의 적산 유량을 계측하는 적산 유량계를 구비한다.In order to achieve the above object, a developer concentration managing apparatus of the present invention is characterized by comprising: measuring means for measuring conductivity, dissolution photoresist concentration and absorbed carbon dioxide concentration of a developer which exhibits alkalinity repeatedly, A data storage unit for storing conductivity rate data having a conductivity value of a developer that has been confirmed to have a predetermined developing performance for each concentration region specified with the carbon dioxide concentration as an index; A replenishing liquid is supplied to the developer such that the conductivity rate of the developer becomes the control target value while the conductivity value of the concentration region specified by the measurement value of the dissolved photoresist concentration and the absorbed carbon dioxide concentration of the developer measured by the measuring means is set as the control target value A control unit provided with a control unit for controlling And a cumulative flow meter for measuring the total flow of chungaek.
본 발명에 따르면, 현상액이 어떠한 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도로 될지라도, 현상액 중의 현상 작용에 활성을 갖는 성분이 일정하게 유지되므로, 원하는 현상 성능을 유지할 수 있어, 원하는 선폭 및 잔존 막 두께를 유지할 수 있는 현상 처리를 실현할 수 있다.According to the present invention, since the component having activity in the developing action in the developing solution is constantly maintained regardless of what concentration of the developing solution becomes the concentration of the dissolved photoresist and the concentration of the absorbed carbon dioxide, the desired developing performance can be maintained and the desired line width and remaining film thickness It is possible to realize development processing that can be maintained.
또한, 보충액의 적산 유량을 계측하는 적산 유량계를 구비함으로써, 소정 기간(예를 들면, 일주일 또는 일개월 등)마다 보충액의 양을 파악할 수 있다. 그 때문에, 예를 들면, 이 소정 기간에 있어서의 보충액의 공급량에 이들 단위당 요금을 승산하여 얻은 공급 요금에, 그 밖의 제반 경비 등에 의거하는 기본 요금을 가산한 금액을, 「현상액의 농도 관리의 요금」으로서 산출하는 것이 가능해진다. 그리고, 산출한 요금을 기판 제조자에게 청구할 수 있다.Further, by providing the integrated flow meter for measuring the integrated flow rate of the supplement liquid, it is possible to grasp the amount of the supplement liquid every predetermined period (for example, one week or one month, etc.). For this reason, for example, an amount obtained by adding a basic charge based on other various expenses to the supply rate obtained by multiplying the supply amount of the replenishing liquid in the predetermined period by the charge per unit, &Quot; can be calculated. Then, the calculated fee can be charged to the substrate manufacturer.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 기판의 현상 처리 시스템은, 현상액을 사용해서 기판을 처리하는 현상 처리 장치와, 현상 처리 장치에서 반복 사용되는 현상액의 농도를 관리하는 현상액의 농도 관리 장치와, 현상 처리 장치에 접속되고, 농도 관리 장치에 의해 현상액에 공급되는 보충액이 현상 처리 장치에 송액되는 배관과, 배관에 설치된 적산 유량계를 구비하고, 농도 관리 장치가, 현상액의 성분 농도와 상관이 있는 복수의 특성값을 측정하는 측정 수단과, 측정 수단에 의해 측정된 복수의 특성값에 의거하여, 다변량 해석법에 의해, 현상액의 성분 농도를 산출하는 연산 수단과, 연산 수단에 의해 산출된 현상액의 성분 농도값에 의거하여, 현상액의 성분 농도가 소정의 관리값으로 되도록, 또는, 소정의 관리값 이하로 되도록, 현상액에 보충액을 공급하는 제어 수단을 구비한다.In order to achieve the above object, a development processing system of a substrate of the present invention comprises: a development processing apparatus for processing a substrate using a developer; a concentration managing apparatus for managing the concentration of the developer repeatedly used in the development processing apparatus; A pipeline connected to the development processing apparatus, the pipeline piped to the development processing apparatus by the replenishing liquid supplied to the developer by the concentration management apparatus, and the cumulative flow meter installed in the pipeline, wherein the concentration management apparatus comprises a plurality A calculation means for calculating a component concentration of the developer by a multivariate analysis method on the basis of a plurality of characteristic values measured by the measurement means; Based on the value of the developer amount so that the component concentration of the developer becomes a predetermined management value or a predetermined management value or less, And a control means for supplying the liquid.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 기판의 현상 처리 시스템은, 현상액을 사용해서 기판을 처리하는 현상 처리 장치와, 현상 처리 장치에서 반복 사용되는 현상액의 농도를 관리하는 현상액의 농도 관리 장치와, 현상 처리 장치에 접속되고, 농도 관리 장치에 의해 현상액에 공급되는 보충액이 현상 처리 장치에 송액되는 배관과, 배관에 설치된 적산 유량계를 구비하고, 농도 관리 장치가, 밀도계와, 밀도계에 의해 측정된 현상액의 밀도에 의거하여, 현상액의 밀도와 흡수 이산화탄소 농도 사이의 대응 관계로부터, 현상액의 흡수 이산화탄소 농도가 소정의 관리값으로 되도록, 또는, 소정의 관리값 이하로 되도록, 현상액에 보충액을 공급하는 제어 수단을 구비한다.In order to achieve the above object, a development processing system of a substrate of the present invention comprises: a development processing apparatus for processing a substrate using a developer; a concentration managing apparatus for managing the concentration of the developer repeatedly used in the development processing apparatus; A pipeline connected to the development processing apparatus, the pipeline piped to the development processing apparatus by the replenishment liquid supplied to the developer by the concentration management apparatus, and the cumulative flow rate meter installed in the pipeline, wherein the concentration management apparatus measures the density by a density meter The replenishing liquid is supplied to the developer so that the absorbed carbon dioxide concentration of the developer becomes a predetermined control value or a predetermined control value or less based on the correspondence between the density of the developer and the absorbed carbon dioxide concentration And control means.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 기판의 현상 처리 시스템은, 현상액을 사용해서 기판을 처리하는 현상 처리 장치와, 현상 처리 장치에서 반복 사용되는 현상액의 농도를 관리하는 현상액의 농도 관리 장치와, 현상 처리 장치에 접속되고, 농도 관리 장치에 의해 현상액에 보급되는 보충액이 현상 처리 장치에 송액되는 배관과, 배관에 설치된 적산 유량계를 구비하고, 농도 관리 장치가, 현상액의 도전률, 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도를 측정하는 측정 수단과, 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도를 지표로 해서 특정되는 농도 영역마다 소정의 현상 성능으로 되는 것이 미리 확인된 현상액의 도전률값을 갖는 도전률 데이터가 저장되어 있는 데이터 기억부, 및, 데이터 기억부에 저장된 도전률 데이터 중, 측정 수단에 의해 측정된 현상액의 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도의 측정값에 의해 특정되는 농도 영역의 도전률값을 제어 목표값으로 해서, 현상액의 도전률이 제어 목표값으로 되도록 현상액에 보충액을 공급하는 제어부를 구비한 제어 수단을 구비한다.In order to achieve the above object, a development processing system of a substrate of the present invention comprises: a development processing apparatus for processing a substrate using a developer; a concentration managing apparatus for managing the concentration of the developer repeatedly used in the development processing apparatus; A pipeline connected to the development processing apparatus and replenished to the developing solution by the concentration managing apparatus, and a cumulative flow meter provided in the piping, wherein the concentration managing apparatus controls the conductivity of the developer, the dissolved photoresist concentration And conductivity data having a conductivity value of a developer which has been confirmed to have a predetermined developing performance for each concentration region specified with the dissolved photoresist concentration and the absorbed carbon dioxide concentration as an index are stored Among the conductivity ratio data stored in the data storage unit and the data storage unit, A control unit for supplying the replenishing liquid to the developer so that the conductivity rate of the developer becomes the control target value, with the conductivity value of the concentration region specified by the measurement value of the dissolved photoresist and the absorbed carbon dioxide concentration of the developer measured by the control unit And a control unit.
본 발명에 따르면, 보충액이 현상 처리 장치에 송액되는 배관에 적산 유량계를 구비하고 있으므로, 소정 기간(예를 들면, 일주일 또는 일개월 등)마다 현상 처리 장치에 공급한 보충액의 양을 파악할 수 있다. 그 때문에, 예를 들면, 이 소정 기간에 있어서의 보충액의 공급량에 이들 단위당 요금을 승산하여 얻은 공급 요금에, 그 밖의 제반 경비 등에 의거하는 기본 요금을 가산한 금액을, 현상 처리를 위해 제공한 현상액 관리의 역무의 제공에 따른 요금, 즉, 「현상 처리 요금」으로서 산출하는 것이 가능해진다. 그리고, 산출한 요금을 기판 제조자에게 청구하는 것이 가능해진다.According to the present invention, since the replenishing liquid is provided in the pipe to be fed to the developing processing apparatus, the amount of the replenishing liquid supplied to the developing processing apparatus can be grasped every predetermined period (for example, one week or one month). Therefore, for example, an amount obtained by multiplying the supply rate obtained by multiplying the supply amount of the replenishing liquid in the predetermined period by the charge per unit, plus the basic charge based on other expenses, etc., Quot; development processing fee " based on the provision of the service of management. Then, it is possible to charge the calculated fee to the substrate manufacturer.
본 발명의 다른 태양에 있어서는, 현상액을 신액으로서 조제하는 현상액의 조제 장치와, 현상 처리 장치 및 조제 장치에 접속되고, 조제 장치에 의해 조제된 신액이 농도 관리 장치에 의해 현상 처리 장치에서 반복 사용되고 있는 현상액에 공급되는 신액용 배관을 더 구비하고, 신액용 배관에 적산 유량계를 구비하는 것이 바람직하다.According to another aspect of the present invention, there is provided a developing solution preparation apparatus for preparing a developer solution as a fresh solution, and a developing solution supply unit connected to the developing apparatus and the developing apparatus, wherein the fresh solution prepared by the developing apparatus is repeatedly used in the developing apparatus by the concentration- It is preferable to further include a new liquid pipe supplied to the developer, and the new liquid pipe is provided with an integrated flow meter.
이 태양에 따르면, 조제 장치에 의해 조제된 현상액의 신액을 공급하는 신액용 배관에 적산 유량계가 설치되어 있으므로, 소정 기간(예를 들면, 일주일 또는 일개월 등)마다 현상 처리 장치에 공급한 현상액의 신액의 양을 파악할 수 있다. 그 때문에, 예를 들면, 이 소정 기간에 있어서의 신액의 공급량에 단위당 요금을 승산하여 얻은 공급 요금에, 그 밖의 제반 경비 등에 의거하는 기본 요금을 가산한 금액을, 현상 처리를 위해 제공한 현상액 관리의 역무의 제공에 따른 요금, 즉, 「현상 처리 요금」으로서 산출하는 것이 가능해진다. 그리고, 산출한 요금을 기판 제조자에게 청구하는 것이 가능해진다.According to this aspect, since the integrating flowmeter is provided in the new liquid piping for supplying the fresh liquid of the developer prepared by the dispenser, the amount of the developer supplied to the developing apparatus every predetermined period (for example, one week or one month) The amount of the new amount can be grasped. For this reason, for example, an amount obtained by multiplying the supply amount obtained by multiplying the supply amount of the new liquid in the predetermined period by the charge per unit, plus the basic charge based on other expenses, etc., As the " development fee ". Then, it is possible to charge the calculated fee to the substrate manufacturer.
본 발명의 다른 태양에 있어서는, 현상 처리 장치에서 사용된 현상액을 재생액으로서 재이용 가능하게 재생하는 현상액의 재생 장치와, 현상 처리 장치 및 재생 장치에 접속되고, 재생 장치에 의해 재생된 재생액이 농도 관리 장치에 의해 현상 처리 장치에서 반복 사용되고 있는 현상액에 공급되는 재생액용 배관을 더 구비하고, 재생액용 배관에 적산 유량계를 구비하는 것이 바람직하다.According to another aspect of the present invention, there is provided a developer recovery device for reusably reusing a developer used in a development processing apparatus, and a regenerating apparatus connected to the development processing apparatus and the regenerating apparatus, It is preferable to further include a regeneration liquid pipe which is supplied to the developing solution repeatedly used in the developing apparatus by the management apparatus, and the regenerating liquid pipe is provided in the regeneration liquid pipe.
이 태양에 따르면, 재생 장치에 의해 재생된 현상액의 재생액을 공급하는 재생액용 배관에 적산 유량계가 설치되어 있으므로, 소정 기간(예를 들면, 일주일 또는 일개월 등)마다 현상 처리 장치에 공급한 현상액의 재생액의 양을 파악할 수 있다. 그 때문에, 예를 들면, 이 소정 기간에 있어서의 재생액의 공급량에 단위당 요금을 승산하여 얻은 공급 요금에, 그 밖의 제반 경비 등에 의거하는 기본 요금을 가산한 금액을, 현상 처리를 위해 제공한 현상액 관리의 역무의 제공에 따른 요금, 즉, 「현상 처리 요금」으로서 산출하는 것이 가능해진다. 그리고, 산출한 요금을 기판 제조자에게 청구하는 것이 가능해진다.According to this aspect, since the accumulation flowmeter is provided in the regenerant liquid pipe for supplying the regenerant liquid of the developing liquid regenerated by the regenerating apparatus, the developing liquid supplied to the developing apparatus every predetermined period (for example, one week or one month) It is possible to grasp the amount of the regeneration solution. Therefore, for example, an amount obtained by adding a basic charge based on other expenses and the like to the supply charge obtained by multiplying the supply amount of the regeneration liquid in the predetermined period by the charge per unit, Quot; development processing fee " based on the provision of the service of management. Then, it is possible to charge the calculated fee to the substrate manufacturer.
본 발명에 따르면, 현상액에 공급되는 보충액, 신액 또는 재생액의 적산 유량을 계측하는 적산 유량계를 구비하므로, 소정 기간에 공급한 보충액, 신액 또는 재생액의 공급량을 파악할 수 있어, 이 공급량에 의거한 합리적인 요금의 계산이 가능해진다. 이 때문에, 기판의 현상 처리에 최적인 원하는 상태로 현상액을 유지 관리하는 역무를 기판 제조자에게 제공한다라는, 이 업계에 지금까지 없었던 새로운 비지니스의 방법을 실현할 수 있다. 그 때문에, 본 발명에 따르면, 이 역무를 제공하는 자는, 장치를 판매하고 있었던 종래의 경우와 비교해, 한정된 시장 중에서 장치 구입 희망자를 일일이 찾지 않아도, 계속적으로 안정된 수익을 확보할 수 있다.According to the present invention, since the integrated flow meter for measuring the integrated flow rate of the replenishing liquid supplied to the developer, the fresh liquid, or the regenerated liquid is provided, it is possible to grasp the supplied amount of the replenishing liquid, the fresh liquid or the regeneration liquid supplied in a predetermined period, A reasonable calculation of the fee becomes possible. Therefore, a new business method that has never been available in the industry can be realized, which provides the substrate manufacturer with the task of maintaining the developer in a desired state optimal for developing processing of the substrate. Therefore, according to the present invention, a person who provides this service can secure a steady and stable profit without searching for a device purchaser in a limited market, unlike the conventional case where the device is sold.
본 발명에 따르면, 기판 제조자는, 현상액의 농도를 관리하는 농도 관리 장치, 현상액을 새롭게 조제하는 조제 장치, 현상액을 재생 처리하는 재생 장치 등을 구입하거나 운전하거나 유지 관리하거나 하는 부담을 지지 않고, 현상액에 공급된 보충액, 신액 또는 재생액의 적산 유량에 의거한 현상액 관리의 역무 제공의 요금을 지불하는 것만으로, 상시 원하는 상태로 관리된 현상액을 사용할 수 있다.According to the present invention, a substrate manufacturer is not required to purchase, operate, or maintain a concentration control apparatus for managing the concentration of a developer, a dispensing apparatus for newly preparing the developer, a regenerating apparatus for regenerating the developer, It is possible to use a developer that is always maintained in a desired state only by paying a fee for providing service of developer management based on the replenishment liquid supplied to the liquid developer,
도 1은 제1 실시형태의 기판의 현상 처리 시스템의 모식도.
도 2는 제2 실시형태의 기판의 현상 처리 시스템의 모식도.
도 3은 제3 실시형태의 기판의 현상 처리 시스템의 모식도.
도 4는 제4 실시형태의 기판의 현상 처리 시스템의 모식도.
도 5는 제5 실시형태의 기판의 현상 처리 시스템의 모식도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a schematic diagram of a development processing system for a substrate according to a first embodiment; Fig.
2 is a schematic diagram of a development processing system for a substrate according to a second embodiment;
3 is a schematic diagram of a development processing system of a substrate according to a third embodiment.
4 is a schematic diagram of a development processing system for a substrate according to a fourth embodiment;
5 is a schematic diagram of a development processing system of a substrate according to a fifth embodiment.
이하, 적절히 도면을 참조하면서, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해 상세히 설명한다. 단, 이들 실시형태에 기재되어 있는 장치 등의 형상, 크기, 치수 비, 그 상대 배치 등은, 특별히 특정적인 기재가 없는 한, 본 발명의 범위에 도시되어 있는 것에만 한정되는 것은 아니다. 단순한 설명 예로서, 모식적으로 도시하고 있는 것에 지나지 않는다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as appropriate. However, the shape, size, dimensional ratio, relative arrangement, and the like of the apparatuses described in these embodiments are not limited to those shown in the scope of the present invention unless otherwise specified. As a simple explanation example, it is only schematically shown.
또한, 이하의 설명에서는, 현상액의 구체예로서, 반도체나 액정 패널 기판의 제조 공정에서 주로 사용되는 2.38wt％(이하, wt％를 단순히 ％로 기재함)의 테트라메틸암모늄하이드로옥사이드 수용액(이하, 테트라메틸암모늄하이드로옥사이드를 TMAH라 함)을 적절히 사용해서 설명한다.In the following description, as a specific example of the developer, an aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (hereinafter, simply referred to as " wt% ") of 2.38 wt% And tetramethylammonium hydroxide is referred to as TMAH).
단, 본 발명이 적용되는 현상액은 이것에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 현상액의 농도 관리 장치나 기판의 현상 처리 시스템이 적용할 수 있는 다른 현상액의 예로서, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 인산나트륨, 규산나트륨 등의 무기 화합물의 수용액이나, 트리메틸모노에탄올암모늄하이드로옥사이드(콜린) 등의 유기 화합물의 수용액을 들 수 있다.However, the developer to which the present invention is applied is not limited to this. Examples of other developing solutions that can be applied to the developing solution concentration control apparatus or substrate development processing system of the present invention include aqueous solutions of inorganic compounds such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium phosphate, and sodium silicate, and aqueous solutions of trimethyl monoethanol ammonium hydroxide (Choline), and the like.
종래, 알칼리성 현상액을 사용해서, 기판을 현상 처리해서 기판의 제조를 하는 기판 제조자는, 현상액의 농도 관리 장치나 조제 장치, 재생 장치를 구입하고, 이것을 현상 처리 장치에 접속하고, 이들 장치를 운전해서, 현상액을 사용한 기판의 현상 처리를 행하고 있었다. 그 때문에, 기판 제조자는, 현상액의 농도 관리 장치나 조제 장치, 재생 장치를 구입할 때의 일시적으로 다액의 비용 부담, 장치의 운전 시의 보충액이나 필요 원료의 조달의 부담, 장치의 운전이나 유지 관리에 관련되는 그 밖의 많은 수고나 부담을 지지 않으면 안 되었다.Conventionally, a substrate manufacturer who manufactures a substrate by developing a substrate using an alkaline developer is required to purchase a concentration control device, a preparation device, and a regeneration device for a developer, connect them to a development processing device, operate these devices , And development processing of the substrate using the developer was carried out. For this reason, the substrate manufacturer is required to temporarily charge a large amount of cost when purchasing a developer concentration control apparatus, a preparation apparatus, and a regenerating apparatus, a burden of supplying replenishment liquids or necessary raw materials during operation of the apparatus, We had to bear a lot of other troubles and burden to be concerned.
또한, 장치 판매자측에서 보면, 종래의 장치 그 자체를 판매하는 비지니스에서는, 장치 판매 시점밖에 장치의 대가 회수의 기회가 없고, 장치 구입 희망자를 일일이 찾아서 장치를 판매하지 않으면 충분한 이익을 올리는 것이 어려웠다.In the business of selling the conventional device itself, there is no chance of recovering the price of the device outside the point of sale of the device, and it is difficult to obtain sufficient profit unless the device purchaser is searched every time and the device is sold.
본 발명자는, 이들 모든 점을 감안해, 신규한 비지니스의 방법을 발안했다. 즉, 현상액의 농도 관리 장치나 조제 장치, 재생 장치를 사용해서 기판 제조자가 사용하는 현상액의 농도를 소정의 농도로 관리하는 역무를 제공하는 비지니스이다. 이들 신규한 비지니스의 방법에 대해 설명한다.The present inventor has devised a novel business method in consideration of all these points. That is, this is a business that provides a task of managing the concentration of the developing solution used by the substrate manufacturer at a predetermined concentration by using a developer concentration managing device, a preparing device, and a regenerating device. These novel methods of business will be described.
우선, 현상액을 관리하는 역무를 제공하는 비지니스에 대해 설명한다.First, a business that provides a task of managing a developer will be described.
현상액 관리의 역무 제공자는, 현상액의 농도 관리 장치를 사용해서 기판 제조자가 사용하고 있는 현상액을 기판 제조자가 원하는 소정의 농도 또는 소정의 농도 범위로 관리한다. 현상액의 농도 관리는, 현상액에 보충액을 공급함에 의해 행해진다. 현상액의 농도 관리 장치는, 현상액의 농도를 반복 측정해서 상시 감시하고, 적절한 보충액이 필요량 공급되도록 보충액을 공급하는 배관에 구비된 제어 밸브를 제어한다. 보충액은, 보충액을 공급하는 배관에 구비된 적산 유량계에 의해 적산 유량이 계측되면서, 공급된다. 역무 제공자는, 공급된 보충액의 적산 유량을 감시함으로써, 소정 기간(예를 들면, 일주일 또는 일개월 등)마다의 적산 유량에 의거하여, 현상액의 농도 관리의 역무 제공에 따른 요금을 산출하고, 이것을 당해 소정 기간마다 기판 제조자에게 청구한다. 이것이, 약액의 농도를 관리하는 역무를 제공하는 비지니스의 개요이다.The provider of the developer management manages the developer used by the substrate manufacturer at a predetermined concentration or a predetermined concentration range desired by the substrate manufacturer by using the developer concentration managing apparatus. The concentration control of the developer is performed by supplying a replenishing liquid to the developer. The concentration control device of the developer controls the control valve provided in the pipe for repeatedly measuring the concentration of the developer and constantly monitoring and supplying the replenishing liquid so that a proper amount of replenishing liquid is supplied. The replenishing liquid is supplied while the accumulated flow rate is measured by an integrating flowmeter provided in the pipe for supplying the replenishing liquid. The service provider monitors the accumulated flow rate of the supplied replenishing liquid to calculate a charge based on the service provision of the concentration control of the developer on the basis of the cumulative flow rate per predetermined period (for example, one week or one month, etc.) And then charges the substrate manufacturer every predetermined period. This is an outline of a business that provides services for managing the concentration of a chemical liquid.
현상액의 농도를 관리하는 역무에 사용하는 현상액의 농도 관리 장치는, 역무 제공자의 소유 물건으로서, 역무 제공자가 운전 및 유지 관리를 행하고, 농도 관리에 사용한다. 따라서, 기판 제조자는, 농도 관리 장치를 구입할 필요가 없고, 그 운전이나 유지 관리를 할 필요도 없다. 단지, 역무 제공자에 의해 현상액의 농도를 관리받을 뿐이다.The concentration control device of the developer used in the task of managing the concentration of the developer is the property owned by the service provider, and the service provider performs the operation and maintenance and uses it for the concentration control. Therefore, the substrate manufacturer does not need to purchase the concentration control device, and does not need to perform the operation or maintenance. Only the concentration of the developer is managed by the service provider.
역무 제공자는, 자신이 소유하는 현상액의 농도 관리 장치를 기판 제조자의 공장에 두고, 기판 제조자가 운용하는 현상 처리 장치에 접속한다.The service provider puts the developer concentration apparatus of his own in the factory of the substrate manufacturer and connects it to the developing apparatus operated by the substrate manufacturer.
농도 관리는, 현상액의 농도 측정과, 측정된 현상액의 농도에 의거하는 보충액의 보급에 의해 실현된다. 농도 관리에 사용되는 보충액으로서는, 현상액의 원액이나 신액, 순수 등이 사용된다. 단, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 사용된 현상액의 재생 처리를 조합하는 등 해서, 농도 관리해도 된다.The concentration control is realized by measuring the concentration of the developer and replenishing the replenisher based on the measured concentration of the developer. As the replenishment liquid used for the concentration control, a stock solution, a fresh solution, pure water, or the like is used. However, the present invention is not limited to this. For example, the concentration may be controlled by combining the regeneration treatment of the developer used.
예를 들면, 현상액으로서 다용되고 있는 TMAH 수용액을 2.38％의 농도로 관리할 경우에는, 예를 들면, 다음과 같은 농도 관리가 이루어진다. 즉, 현상액의 농도 관리 장치는, 알칼리 성분 농도(TMAH 농도), 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도를 반복 측정해서 상시 감시하고, 알칼리 성분 농도가 대략 2.38％의 농도로 되도록, 용해 포토레지스트 농도가 소정의 설정 농도를 넘지 않도록, 또한, 흡수 이산화탄소 농도가, 소정의 관리값 또는 관리값 이하로 되도록, 보충액을 보급해서 농도 관리한다.For example, when a TMAH aqueous solution commonly used as a developing solution is controlled at a concentration of 2.38%, the following concentration control is performed, for example. In other words, the developer concentration control apparatus constantly monitors the alkaline component concentration (TMAH concentration), the dissolved photoresist concentration, and the absorbed carbon dioxide concentration by repeated measurement and determines the concentration of the dissolved photoresist so that the concentration of the alkaline component becomes approximately 2.38% The replenishing liquid is replenished so as not to exceed the predetermined set concentration and the absorbed carbon dioxide concentration to be less than or equal to the predetermined control value or the control value.
이 경우, 보충액으로서는, 현상액의 원액, 현상액의 신액, 순수 등이 보급된다. 현상액의 원액이란, 농도가 진한 현상액, 예를 들면, 20％ 내지 25％ 정도의 TMAH 수용액이다. 현상액의 신액이란, 미사용의 현상액, 즉 용해 수지 등의 불필요물을 포함하지 않는 신선한 현상액이다. 예를 들면, 미사용의 2.38％ TMAH 수용액이다. 사용된 현상액으로부터 용해 수지 등의 불필요물을 제거한 현상액의 재생액을 보충액으로서 사용해도 된다.In this case, as the replenishment liquid, a stock solution of developer, a fresh solution of developer, pure water and the like are replenished. The developer solution is a developer with a high concentration, for example, a TMAH aqueous solution of about 20% to 25%. The fresh solution of the developer is a fresh developer which does not contain an unused developer, that is, an unnecessary matter such as a dissolution resin. For example, it is an unused aqueous solution of 2.38% TMAH. A regenerated solution of the developer obtained by removing unnecessary matters such as a molten resin from the used developer may be used as a replenisher.
농도 측정은, 현상 처리 장치에서 반복 사용되고 있는 현상액을 샘플링하여, 현상액의 농도 관리 장치의 측정부에서 행해진다. 알칼리 성분 농도는 현상액의 도전률을 측정함으로써, 용해 포토레지스트 농도는 현상액의 특정 파장에 있어서의 흡광도를 측정함으로써, 또한, 흡수 이산화탄소 농도는 현상액의 밀도를 측정함으로써 행해진다. 이들 성분 농도와 대응하는 현상액의 물성값 사이에는, 양호한 상관 관계가 있음이 알려져 있다(현상액의 흡수 이산화탄소 농도와 밀도 사이의 상관 관계에 대해 특허문헌 2의 도 1을 참조). 이러한 상관 관계를 사용하면, 측정된 도전률값으로부터 알칼리 성분 농도가, 측정된 흡광도값으로부터 용해 포토레지스트 농도가, 측정된 밀도로부터 흡수 이산화탄소 농도가 도출된다.The concentration measurement is carried out in the measuring section of the developer concentration control apparatus by sampling the developing solution repeatedly used in the developing treatment apparatus. The alkali component concentration is determined by measuring the conductivity of the developer, by measuring the absorbance of the dissolved photoresist at a specific wavelength of the developer, and by measuring the density of the developer at the absorbed carbon dioxide concentration. It is known that there is a good correlation between the concentration of these components and the property value of the corresponding developer (see FIG. 1 of
농도 측정의 결과, 알칼리 성분 농도가 2.38％보다 낮을 때에는, 현상액의 농도 관리 장치는, 보충액으로서 현상액의 원액을 보급한다. 반대로, 2.38％보다 높을 때에는, 현상액의 농도 관리 장치는, 보충액으로서 순수 또는 현상액의 신액을 보급한다. 마찬가지로, 용해 포토레지스트 농도가 소정의 설정 농도를 넘었을 때에는, 현상액의 관리 장치는, 보충액으로서 현상액의 신액을 공급한다. 현상액의 신액 대신에, 또는 신액과 함께 재생액을 공급해도 된다. 또한, 흡수 이산화탄소 농도가 소정의 관리값을 넘었을 때는, 현상액의 관리 장치는, 보충액으로서 현상액의 신액을 공급한다. 또한, 보충액의 공급을 제어하는 방법은, 알칼리성 농도, 용해 포토레지스트 농도, 흡수 이산화탄소 농도가 소정의 값으로 되도록, 보충액을 공급하는 방법 외에, 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도를 지표로 해서 특정되는 농도 영역마다 소정의 현상 성능으로 되는 것이 확인된 도전률값을 갖는 도전률 데이터에 의거하여, 도전률값을 제어 목표값으로 되도록 현상액에 보충액을 공급할 수도 있다. 보충액의 공급량을 결정하는 방법에 대해서는, 후술한다.When the concentration of the alkali component is lower than 2.38% as a result of the concentration measurement, the developer concentration controller supplies the developer solution as the replenishment liquid. Conversely, when the concentration is higher than 2.38%, the developer concentration control apparatus replenishes the fresh liquid of pure water or developer as the replenishment liquid. Likewise, when the dissolved photoresist concentration exceeds a predetermined set concentration, the developer management device supplies a fresh solution of developer as a replenishment liquid. The regenerant solution may be supplied in place of or in combination with the fresh solution of the developer solution. Further, when the absorbed carbon dioxide concentration exceeds a predetermined management value, the developer management device supplies the fresh liquid of the developer as the replenishment liquid. The method of controlling the supply of the replenishing liquid is not limited to the method of supplying the replenishing liquid so that the alkaline concentration, the dissolved photoresist concentration, and the absorbed carbon dioxide concentration become a predetermined value, The replenishing liquid may be supplied to the developer so that the conductivity rate value becomes the control target value based on the conductivity rate data having the conductivity rate value confirmed to have a predetermined developing performance for each concentration region. A method for determining the supply amount of the replenishing liquid will be described later.
보충액은, 배관을 통해, 보충액을 저류하고 있는 저류 용기나 신액을 조제해서 공급하는 조제 장치나 재생액을 공급하는 재생 장치로부터 기판 제조자의 현상 처리 장치로 송액된다. 보충액이 보급되는 배관에는, 적산 유량계와 현상액의 농도 관리 장치에 의해 제어되는 제어 밸브가 설치되어 있다. 제어 밸브가 열릴 때에 단위 시간당 흐르는 유량이 제어 밸브마다 미리 설정되어 있으면, 농도 관리 장치는, 공급해야 할 보충액이 흐르는 배관에 설치된 제어 밸브를 소정 시간 개방으로 함으로써, 적량의 보충액을 공급할 수 있다. 보충액을 공급할 때, 적산 유량계는, 보충액의 적산 유량을 측정한다. 이것은, 현상 처리 장치에 공급된 보충액의 공급량이다.The replenishing liquid is sent to the developing apparatus of the substrate manufacturer from the regenerating apparatus for supplying the regenerating liquid or the regenerating liquid for supplying the regenerant liquid through the piping. The piping to which the replenishing liquid is replenished is provided with a control valve controlled by the cumulative flow meter and the concentration control device of the developing solution. If the flow rate per unit time is set in advance for each control valve when the control valve is opened, the concentration control device can supply a proper amount of the replenishing liquid by opening the control valve provided in the pipe through which the replenishing liquid to be supplied flows for a predetermined time. When the replenishing liquid is supplied, the integrated flowmeter measures the cumulative flow rate of the replenishing liquid. This is the supply amount of the replenishing liquid supplied to the developing processing apparatus.
역무 제공자는, 예를 들면 일개월마다 등의 소정 기간마다, 적산 유량계에 의해 측정된 보충액의 적산 유량(공급량)에 의거하여 기판의 현상 처리 요금을 산출한다. 역무 제공자는, 기판의 현상 처리에 사용하는 현상액을 관리하는 역무의 제공의 대가로서, 산출한 기판의 현상 처리 요금을 기판 제조자에게 청구한다.The service provider calculates the development processing rate of the substrate based on the accumulated flow rate (supply amount) of the replenishment liquid measured by the accumulation flow meter every predetermined period, such as every month. The service provider charges the substrate manufacturer of the calculated development processing fee of the substrate as a compensation for providing services for managing the developer used in the development processing of the substrate.
기판 제조자는, 소정 기간마다 기판의 현상 처리 요금을 지불함으로써, 농도 관리 장치의 구입이나 운전 및 유지 관리를 하지 않고, 농도 관리된 현상액을 계속해서 사용할 수 있다. 한편, 역무 제공자는, 장치를 판매하고 있었던 때에 비해, 계속해서 안정된 수익을 올리는 것이 가능해진다.The substrate manufacturer can continue to use the concentration-controlled developer without purchasing, operating, and maintaining the concentration management apparatus by paying the development processing fee of the substrate every predetermined period. On the other hand, the service provider can continue to make stable profits, compared to when the device was being sold.
여기에서, 기판의 현상 처리 요금으로서는, 다양한 태양이 있을 수 있다. 이하에, 기판의 현상 처리 요금의 구체예를, 몇 가지 예시한다. 단, 기판의 현상 처리 요금의 산출의 방법은, 이들에 한정되지 않는다. 본 발명에 관련되는 기판의 현상 처리 요금의 산출의 방법은, 보충액의 적산 유량(공급량)에 의거하는 각종의 요금 산출 방법을 포함하는 것이다.Here, there may be various kinds of charges for developing treatment of the substrate. Hereinafter, some specific examples of charges for developing treatment of the substrate will be illustrated. However, the method of calculating the development processing charge of the substrate is not limited to these. The method for calculating the developing treatment charge of the substrate according to the present invention includes various charge calculating methods based on the accumulated flow rate (supply amount) of the replenishing liquid.
첫째로, 기판의 현상 처리 요금으로서, 소정 기간에 공급한 보충액의 공급 요금을 기준으로 요금을 계산하는 경우가 있다. 보충액을 판매한다는 사고 방식에 따른 것이다.First, in some cases, a fee is calculated on the basis of the supply rate of the replenishing liquid supplied in a predetermined period as the developing processing rate of the substrate. This is due to the way in which the supplements are sold.
예를 들면, 소정 기간을 한달마다로 한다. 적산 유량계에서 보충액의 적산 유량을 계측하고 있으므로, 금월 검침 시점에 있어서의 적산 유량으로부터 전월 검침 시점에 있어서의 적산 유량을 감산함에 의해, 금월 보급한 보충액의 공급량이 구해진다. 이것을 Q(L/월)로 한다. 보충액의 공급 단가를 A(원/L)로 한다. 그러면, 금월의 보충액의 공급 요금이, Q×A(원/월)로 구해진다. 보충액이 복수 있을 경우에는, 복수 있는 보충액의 각각에 대해, 공급량을 Q1, Q2, Q3, …(L/월), 공급 단가를 A1, A2, A3, …(원/L)으로 해서, 보충액의 공급 요금은, ΣQi×Ai(i＝1, 2, 3, …) (원/L)로 구해진다. 이것을, 금월의 기판의 현상 처리 요금으로서, 기판 제조자에게 청구한다.For example, the predetermined period is set every month. Since the accumulated flow rate of the replenishing liquid is measured in the integrated flowmeter, the supply flow rate of the replenishing liquid supplied this month is obtained by subtracting the accumulated flow rate at the time of the previous month reading from the accumulated flow rate at the time of reading the current month. Let this be Q (L / month). The supply unit price of the replenishing liquid is A (W / L). Then, the supply rate of the replenishing liquid for the current month is obtained as Q x A (yuan / month). When there are a plurality of replenishment liquids, for each of the plurality of replenishment liquids, the supply amounts Q 1 , Q 2 , Q 3 , ... (L / month), the supply unit price is A 1 , A 2 , A 3 , ... (Yuan / L), the supply rate of the replenishment liquid is obtained by? Q i x A i (i = 1, 2, 3, ...) (won / L). This is charged to the substrate manufacturer as a development processing fee for the substrate this month.
이 변형예로서, 상기와 같이 계산한 보충액의 공급 요금에 각종의 요금을 가산하여 얻은 요금을, 매달의 기판의 현상 처리 요금으로 하는 경우가 있다. 가산하는 각종의 요금의 대표적인 것으로서, 기본 요금이 있다. 현상액 관리의 역무 제공에 따른 계약 시에, 매달의 기본 요금을 정하고, 이것을 보충액의 공급의 유무에 상관없이, 기판의 현상 처리 요금에 포함시켜 청구하는 것이다. 물론, 기본 요금이라는 명목 여하에 상관없이, 설비 유지 관리비나 장치 운전원의 인건비, 원료 조달비, 그 밖의 제반 경비 등을, 가산하는 요금에 포함시켜도 된다. 가산되는 요금(예를 들면 기본 요금)을 Z(원/월)로 하면, 매달의 기판의 현상 처리 요금은, Q×A＋Z(원/월)로 된다. 보충액이 복수 있고, 가산되는 요금이 다양한 요금의 합 Z＝ΣZj일 때는, 매달의 기판의 현상 처리 요금은, ΣQi×Ai＋ΣZj(i, j＝1, 2, 3, …)(원/월)로 된다.In this modification, the charge obtained by adding various charges to the supply rate of the replenishing liquid calculated as described above may be used as the charge for developing the substrate every month. There are basic charges, which are representative of various kinds of charges to be added. A basic charge for each month is set at the time of a contract for the provision of the developer management, and this charge is included in the development charge of the substrate regardless of whether the replenisher is supplied or not. Of course, regardless of the name of the basic charge, the maintenance fee, the labor cost of the device driver, the raw material procurement cost, and other expenses can be included in the charge for addition. Assuming that the charge (for example, the basic charge) to be added is Z (yuan / month), the development processing fee of the substrate per month becomes Q x A + Z (yuan / month). When there are a plurality of replenishing liquids and the added charge is the sum of various charges Z = ΣZ j , the development processing fee of the substrate per month is ΣQ i × A i + ΣZ j (i, j = 1, 2, 3, Won / month).
또한 다른 변형예로서는, 보충액의 공급 요금에 할증률 B를 곱해 얻은 금액을, 매달의 기판의 현상 처리 요금으로 하는 경우도 있다. 예를 들면, 보충액의 원료의 조달에 드는 제반 경비나 장치의 유지 관리비 등은, 보충액의 공급량(이것은 장치의 운전 시간과도 관계됨)에 연동되는 것으로 파악하는 것이 합리적이다. 이러한 경우에는, 할증률 B를 보충액의 공급 요금 Q×A(원/월)에 곱해, 매달의 기판의 현상 처리 요금은, Q×A×B(원/월)로 구해진다. 할증률 B를 보충액의 공급 단가 A(원/L)에 포함시켜 버리는 것이어도 된다. 또한, 기본 요금 등이 가산될 경우에는, 매달의 기판의 현상 처리 요금은, Q×A×B＋Z(원/월)로 된다. 보다 일반적으로는, 매달의 기판의 현상 처리 요금은, (ΣQi×Ai)×B＋ΣZj(i, j＝1, 2, 3, …)(원/월)로 구해진다.As another modification, the amount obtained by multiplying the supply rate of the replenishing liquid by the addition rate B may be set as the development processing rate of the substrate every month. For example, it is reasonable to grasp that all expenses involved in procuring the raw material of the replenishing liquid, the maintenance cost of the apparatus, etc. are linked to the supply amount of the replenishing liquid (this also relates to the operation time of the apparatus). In such a case, the charge rate Q of the replenishment liquid is multiplied by the supply rate Q × A (won / month) of the replenishing liquid, and the development processing fee of the substrate per month is obtained by Q × A × B (yuan / month). The addition rate B may be included in the supply unit price A (won / L) of the replenishing liquid. In addition, when the basic charge or the like is added, the development processing fee of the substrate per month becomes Q x A x B + Z (yuan / month). More generally, the development processing fee of the substrate per month is obtained by (? Q i x A i ) B +? Z j (i, j = 1, 2, 3, ...) (won / month).
둘째로, 기판의 현상 처리 요금으로서, 소정 기간에 제공한 현상액 관리의 역무에 의해 기판 제조자에게 가져온 경제적인 이익에 소정의 비율을 곱해 얻은 금액을, 기판 제조자에게 청구한다는 것이다. 현상액 관리의 역무의 제공에 의해 기판 제조자에게 발생시킨 경제적인 이익을, 기판 제조자와 역무 제공자로 서로 나누자고 한다는 사고 방식에 따른 것이다. 이것은, 예를 들면, 현상액 관리를 실시하고 있지 않았던 기판 제조자에 대해, 현상 관리의 역무를 제공할 경우 등에, 호적하게 적용된다.Secondly, as a charge for developing the substrate, the substrate manufacturer is charged with the amount obtained by multiplying the economic benefit brought to the substrate manufacturer by a predetermined ratio by the developer management task provided in a predetermined period. This is due to the way in which the substrate manufacturer and the service provider share the economic benefits generated by the substrate manufacturer by the provision of developer management services. This is suitably applied to, for example, a case where a substrate manufacturer that has not been subjected to developer solution management is to be provided with a function of development management.
현상액 관리를 하지 않을 경우, 기판 제조자는, 현상액을 소정 횟수 사용한 후 전량 폐기해서, 새로운 현상액으로 교환하고 있었다. 이 때문에, 현상액의 액 성능은, 액을 교환할 때마다 크게 변동하고 있었다. 한편, 현상액의 농도 관리를 실시하면, 기판 제조자는, 다음과 같은 다양한 효능을 향수할 수 있다. 즉, 현상액의 사용량이 대폭으로 삭감된다. 현상액의 폐액량도 대폭 삭감된다. 또한, 현상액의 액 성능이 상시 일정해지기 때문에, 반도체나 액정 기판의 제조 품질이 안정되고, 제조 수율이 향상된다. 액 교환을 위해 제조 장치를 정지시킬 필요가 없어, 제조 장치의 가동률이 향상되고, 반도체나 액정 기판의 제조량이 증가한다.When the developer is not managed, the substrate manufacturer discards the entire amount of developer after a predetermined number of times and replaces it with a new developer. For this reason, the liquid performance of the developer largely fluctuated every time the liquid was exchanged. On the other hand, when the concentration control of the developer is carried out, the substrate manufacturer can enjoy the following various effects. That is, the usage amount of the developer is greatly reduced. The amount of the waste liquid of the developing solution is greatly reduced. Further, since the liquid performance of the developer is constantly constant, the production quality of the semiconductor and the liquid crystal substrate is stabilized and the production yield is improved. It is not necessary to stop the manufacturing apparatus for liquid exchange, the operating rate of the manufacturing apparatus is improved, and the amount of semiconductor or liquid crystal substrate produced increases.
이러한 경우에 있어서의 기판의 현상 처리 요금의 산출의 구체예로서, 현상액 사용량의 삭감에 의한 현상액 비용의 경감액의 몇 할만큼을 소정 기간의 기판의 현상 처리 요금으로 하는 것을 들 수 있다.As a concrete example of the calculation of the developing treatment charge of the substrate in such a case, the developing treatment charge of the substrate for a predetermined period may be as much as several percentages of the reduction in the developer cost due to the reduction in the developer used amount.
예를 들면, 소정 기간을 한달마다로 한다. 기판 제조자가 본 발명에 따른 현상액 관리의 역무의 제공을 받기 전, 즉, 현상액의 농도 관리를 실시하고 있지 않았던 무렵에, 기판 제조자가 구입한 한달당 현상액의 구입량을 R(L/월)로 하고, 그 구입 단가를 C(원/L)로 한다. 현상액 구입량 R의 변동이 클 경우에는, 과거의 적당한 기간에 있어서의 현상액 구입량의 평균값을 R로 한다.For example, the predetermined period is set every month. The amount of developer per month purchased by the substrate manufacturer is R (L / month) before the substrate manufacturer is provided with the task of managing the developer according to the present invention, i.e., when the concentration control of the developer has not been performed , And the purchase price is C (W / L). When the fluctuation of the developer purchase amount R is large, the average value of the developer purchase amount in the past suitable period is R.
본 발명에 따른 현상액 관리의 역무의 제공에 의해 공급되는 보충액의 공급량은, 적산 유량계에 의해 측정된 적산 유량으로부터, Q(L/월)로 구해진다. 보충액의 공급 단가 A(원/L)를 곱해, 매달의 보충액의 공급 요금은, Q×A(원/월)로 구해진다.The supply amount of the replenishing liquid supplied by the provision of developer control according to the present invention is obtained from Q (L / month) from the cumulative flow rate measured by the integrating flow meter. The supply rate of the replenishment liquid is multiplied by the supply unit price A (won / L), and the supply rate of the replenishment liquid of each month is obtained as Q x A (yuan / month).
그러면, 기판 제조자가 본 발명에 따른 현상액의 농도 관리의 역무의 제공을 받음에 의해 얻을 수 있는 현상액 비용의 경감액은, R×C-Q×A(원/월)로 된다. 매달의 기판의 현상 처리 요금은, 비율을 D로 해서, (R×C-Q×A)×D(원/월)로 구해진다. 물론, 이것에 기본 요금 등을 가산해도 된다. 비율 D로서는, 예를 들면, 일할(0.1)이든지, 이할(0.2)이든지, 삼할(0.3) 등이다.Then, the amount of reduction in developer cost that can be obtained by the substrate manufacturer being provided with the task of managing the concentration of the developer according to the present invention is R x C-Q x A (yuan / month). The development processing rate of the substrate per month is obtained by (R x C - Q x A) x D (yuan / month) with the ratio D. Of course, basic charges and the like may be added to this. The ratio D is, for example, 0.1, 0.1, 0.3, or the like.
변형예로서, 현상액의 폐액량의 삭감에 의한 폐액 처리 비용의 경감액의 몇 할만큼을 소정 기간의 기판의 현상 처리 요금으로 해도 된다.As a modified example, it is also possible to use as many as several percentages of the amount of the waste solution treatment cost due to the reduction of the amount of the waste solution of the developer, as the development processing rate of the substrate for a predetermined period.
현상액의 농도 관리 실시 전의 현상액의 매달의 폐액 처리 비용을 S(원/월), 현상액의 농도 관리 실시 후의 매달의 폐액 처리 비용을 T(원/월)(단 S＞T로 함)로 하면, 농도 관리에 의해 삭감된 폐액 처리 비용의 경감액은, S-T(원/월)이다. 기판 제조자는, 농도 관리에 의해, 매달 Q×A(원/월)의 보충액의 공급 요금을 지불하므로, 기판 제조자의 폐액량 삭감에 관련되는 경제적인 이익의 금액은, (S-T)-Q×A(원/월)로 된다. 매달의 기판의 현상 처리 요금은, 이것에 비율 D를 곱해, ((S-T)-Q×A)×D(원/월)로 구해진다. 이것에 기본 요금 등을 가산해도 된다.When the waste liquid treatment cost per month of the developing solution before the concentration control of the developer is S (yuan / month) and the waste liquid treatment cost per month after the concentration control of the developer is T (yuan / The reduction amount of the waste liquid treatment cost reduced by the concentration control is ST (yuan / month). Since the substrate manufacturer pays the supply rate of the replenishing liquid of Q x A (yuan / month) every month by concentration control, the amount of the economic benefit related to the waste amount reduction of the substrate manufacturer is (ST) -Q x A (Won / month). The development processing rate of the substrate every month is obtained by multiplying this by the ratio D to ((S-T) - Q A) D (yuan / month). The basic charge or the like may be added to this.
다른 변형예로서, 기판 제조자의 경제적인 이익의 금액에, 현상액 비용의 경감액이나 폐액 처리 비용의 경감액 대신에, 수율 향상이나 제품 품질의 향상, 장치 가동률의 향상 등에 의해 가져온 기판 제조자측의 수익 증가액 등을 사용하도록 해도 된다. 또한, 현상액 비용의 경감액, 폐액 처리 비용의 경감액, 기판 제조자의 수익 증가액 등을 종합한 금액으로부터 보충액의 공급 요금 Q×A(원/월)를 차감한 금액을, 기판 제조자의 현상액의 농도 관리에 의한 종합적인 경제적 이익의 금액으로 보고, 매달의 기판의 현상 처리 요금을 산출하는 것이어도 된다. 이 경우, 수익 증가액 등을 종합하여 얻어진 금액을 U(원/월)로 하면, 기판의 현상 처리 요금은, (U-Q×A)×D(원/월)로 된다. 이것에 기본 요금 등을 가산해도 된다.As another modified example, it is possible to provide a method of manufacturing a semiconductor device, in which the amount of profit of the substrate manufacturer brought by the improvement of the yield, improvement of the product quality, May be used. In addition, the amount obtained by subtracting the replenishment liquid supply rate Q A (won / month) from the total of the reduction amount of the developing solution cost, the reduction amount of the waste liquid processing cost, and the profit increase of the substrate manufacturer, The amount of the total economic benefit of the board, and calculate the development fee of the board every month. In this case, assuming that the amount obtained by collecting the increase in profit, etc. is U (yuan / month), the development processing fee of the board is (U-Q x A) x D (yuan / month). The basic charge or the like may be added to this.
또 다른 변형예로서, 이미 현상액의 농도 관리를 실시하고 있었던 기판 제조자에게, 본 발명에 따른 현상액의 농도 관리의 역무를 제공함에 의해, 기판 제조자에게 다양한 경제적 이익을 발생시킬 수 있다. 이들을, 마찬가지로, 매달의 기판의 현상 처리 요금으로서 계산하여, 기판 제조자에게 청구한다.As another modification, it is possible to generate various economic benefits to the substrate manufacturer by providing the substrate manufacturer, which has already performed concentration control of the developer, with the task of managing the concentration of the developer according to the present invention. They are similarly calculated as the development processing fee of the substrate every month, and charge the substrate manufacturer.
많은 기판 제조자는, 이미 현상액의 농도 관리를 실시하고 있을 경우여도, 여전히, 현상액의 농도 관리 장치를 구입해서, 스스로 운전하고, 유지 관리해서, 현상액의 농도 관리를 하고 있다. 그 때문에, 기판 제조자는, 현상액의 농도 관리에, 원료나 자재의 조달의 제반 경비나 장치의 운전원의 인건비 등의 비용을 부담하고 있다. 또한, 오래된 현상액 관리 장치를 여전히 사용하고 있거나, 현상액의 성분마다 충분 최적화되어 있지 않은 농도 측정 원리에 의거한 현상액 관리 장치를 사용하고 있거나 하는 경우도 많다.Many substrate manufacturers, even if concentration control of a developer is already carried out, still purchase a concentration controller for the developer, operate it by itself, maintain it, and manage the concentration of the developer. Therefore, the substrate manufacturer pays for the expenses such as the expenses of procuring the raw materials and the materials and the labor costs of the operators of the apparatus in the concentration control of the developer. Also, in many cases, a developer management apparatus based on a concentration measurement principle is used which is still using an old developer management apparatus or is not sufficiently optimized for each component of the developer.
이러한 경우, 종래의 현상액 관리를 본 발명에 따른 현상액 관리의 역무로 치환함으로써, 기판 제조자에게, 현상액 비용이나 폐액 비용의 삭감, 수율 향상, 제품 품질의 향상과 안정, 설비 가동률의 향상, 제품 제조 수량의 향상 등에 수반하는 경제적인 이익을 가져올 수 있다. 이러한 경우에도, 상기와 마찬가지로, 보충액의 적산 유량에 의거하여 얻은 경제적 이익의 금액의 몇 할만큼을, 기판의 현상 처리 요금으로서 산출해서, 기판 제조자에게 청구하는 것이 가능하다.In this case, by replacing the conventional developer solution management with the task of managing the developer according to the present invention, it is possible to provide the substrate manufacturer with a reduction in developer cost and waste liquid cost, improvement in yield, improvement in product quality and stability, And the like. In this case as well, it is possible to calculate as many as a few percent of the amount of the economic benefit obtained based on the accumulated flow rate of the replenishing liquid, as the charge for developing the substrate, and to charge the substrate manufacturer.
또한, 상기에서는, 현상액의 농도 관리의 역무에 대해, 기판의 현상 처리 요금으로서 산출해서, 기판 제조자에게 청구하는 방법으로 설명했지만, 현상액의 농도 관리 요금으로서 산출해서, 기판 제조자에게 청구해도 된다.In the above description, the charge of the concentration control of the developer is calculated as the development charge of the substrate, and the fee is charged to the substrate manufacturer. However, it may be calculated as the concentration control charge of the developer, and charged to the substrate manufacturer.
다음으로, 사용된 현상액을 재이용 가능하게 재생 처리해서 얻어진 재생액을 보충액의 하나로서 공급해서 현상액을 관리하는 역무를 제공하는 비지니스에 대해 설명한다.Next, a business will be described in which a regenerated solution obtained by regenerating the used developing solution in a reusable manner is supplied as one of the replenishment solutions and the developer is managed.
재생액을 공급하고 현상액을 관리하는 역무의 역무 제공자는, 재생 장치를 사용해서 현상 처리 장치에서 사용된 현상액에 축적된 불필요 성분을 제거하고, 기판 제조자가 원하는 소정의 농도 또는 소정의 농도 범위로 조정하여, 재이용 가능하게 재생한다. 재생 처리는, 여과, 전석(電析), 정석(晶析), 막 분리 등의 기술을 사용하여, 축적된 불필요 성분을 제거함에 의해, 행해진다(재생 처리의 방식은, 이들에 한정되지 않음. 대상으로 하는 약액이나 제거해야 할 성분에 따라, 적절히 바람직한 기술이 선택되어, 적용됨). 재생 장치는, 재생된 현상액(재생액)을 공급하는 배관에 구비된 제어 밸브를 개방으로 함에 의해, 재생액을 현상 처리 장치에 공급한다. 재생액은, 재생액을 공급하는 배관에 구비된 적산 유량계에 의해 적산 유량이 계측되면서, 공급된다. 역무 제공자는, 공급된 재생액의 적산 유량을 감시함으로써, 소정 기간마다(예를 들면, 일주일 또는 일개월 등)의 적산 유량에 의거하여, 재생액을 공급하고 현상액을 관리하는 역무의 역무 제공에 따른 요금을 산출하고, 이것을 당해 소정 기간마다 기판 제조자에게 청구한다. 이것이, 사용된 현상액을 재생 처리해서 얻어진 재생액을 공급하고 현상액을 관리하는 역무를 제공하는 비지니스의 개요이다.The service provider of the service of supplying the regenerant and managing the developer is configured to remove the unnecessary components accumulated in the developer used in the developing apparatus by using the regenerator and to adjust the concentration to a predetermined concentration or a predetermined concentration range desired by the substrate manufacturer And reproduces it in a reusable manner. The regeneration treatment is carried out by removing the accumulated unnecessary components by using techniques such as filtration, electrodeposition, crystallization, and membrane separation (the regeneration treatment method is not limited to them Depending on the chemical liquid to be removed or the component to be removed, a suitable technique is appropriately selected and applied). The regenerating apparatus supplies the regenerant to the developing apparatus by opening the control valve provided in the pipe for supplying the regenerated developer (regenerant). The regeneration liquid is supplied while the integrated flow rate is measured by an integrating flowmeter provided in a pipe for supplying the regeneration liquid. The service provider monitors the cumulative flow rate of the regenerated liquid supplied to thereby provide the regenerated liquid to the service provider for managing the developer based on the accumulated flow rate every predetermined period (for example, one week or one month, etc.) And charges the substrate manufacturer every predetermined period. This is an outline of a business that provides a task of supplying a regenerating solution obtained by regenerating the used developing solution and managing the developer.
사용된 현상액을 재생 처리해서 얻어진 재생액을 공급하고 현상액을 관리하는 역무에 사용하는 재생 장치는, 역무 제공자의 소유 물건으로서, 역무 제공자가 운전 및 유지 관리를 행하여, 현상액의 재생 처리에 사용한다. 따라서, 기판 제조자는, 재생 장치를 구입할 필요가 없고, 그 운전이나 유지 관리를 할 필요도 없다. 단지, 역무 제공자에 의해 현상액의 재생 처리를 받을 뿐이다.The regenerating apparatus used for supplying the regenerant solution obtained by regenerating the used developer solution and using the regenerated solution for the purpose of managing the developer solution is used by the service provider as an article owned by the service provider for the operation and maintenance of the developer and for the regeneration treatment of the developer. Therefore, the substrate manufacturer does not need to purchase a reproducing apparatus, and does not need to operate or maintain the apparatus. However, it is only subjected to the regeneration processing of the developer by the service provider.
역무 제공자는, 자신이 소유하는 재생 장치를 기판 제조자의 공장에 두고, 기판 제조자가 운용하는 현상 처리 장치에 접속한다.The service provider puts his or her own reproduction apparatus at the factory of the substrate manufacturer and connects to the development processing apparatus operated by the substrate manufacturer.
재생 처리는, 현상액이 사용된 것에 의해 현상액 중에 축적된 불필요물을, 여과, 전석, 정석, 막 분리 등의 분리 제거 기술을 사용해서 현상액 중에서 제거함에 의해 실현된다. 적절히, 보충액의 보급 등에 의해, 현상액의 각 성분을 조절하게 되어 있어도 된다. 단, 재생 처리에 사용되는 분리 기술은, 이들에 한정되지 않는다. 현상액 중에 축적된 불필요물이란, 예를 들면, 현상 처리에 의해 기판으로부터 용출된 레지스트 성분 등이다.The regeneration treatment is realized by removing unnecessary matter accumulated in the developing solution due to the use of the developing solution in the developing solution by using separation and removal techniques such as filtration, electrolytic filtration, crystallization, and membrane separation. The respective components of the developer may be appropriately controlled by replenishing the replenishing liquid or the like. However, the separation technique used in the regeneration process is not limited to these. The unnecessary matter accumulated in the developing solution is, for example, a resist component eluted from the substrate by development processing or the like.
재생된 현상액의 재생액은, 배관을 통해, 기판 제조자의 현상 처리 장치로 송액된다. 재생액이 보급되는 배관에는, 제어 밸브와 적산 유량계가 설치되어 있다. 제어 밸브가 열릴 때에 단위 시간당 흐르는 유량이 미리 설정되어 있으면, 이 제어 밸브를 소정 시간 개방으로 함으로써, 적량의 재생액을 공급할 수 있다. 재생액의 공급 시, 적산 유량계는, 재생액의 적산 유량을 측정한다. 이것은, 현상 처리 장치에 공급된 재생액의 공급량이다.The regenerated solution of the regenerated developer is sent to the developing apparatus of the substrate manufacturer through the pipe. A control valve and a cumulative flowmeter are installed in the piping where the regeneration liquid is supplied. If the flow rate per unit time is set in advance when the control valve is opened, this regulating valve can be opened for a predetermined time to supply an appropriate amount of regenerant. When the regenerated liquid is supplied, the integrated flowmeter measures the cumulative flow rate of the regenerant. This is the supply amount of the regenerant supplied to the developing apparatus.
역무 제공자는, 예를 들면 일개월마다 등의 소정 기간마다, 적산 유량계에 의해 측정된 재생액의 적산 유량(공급량)에 의거하여 재생액의 공급에 수반하는 기판의 현상 처리 요금을 산출한다. 역무 제공자는, 재생액의 공급에 의한 현상액 관리의 역무의 제공의 대가로서, 산출한 기판의 현상 처리 요금을 기판 제조자에게 청구한다.The service provider calculates the development processing fee of the substrate accompanying the supply of the regeneration liquid on the basis of the accumulated flow rate (supply amount) of the regeneration liquid measured by the integrated flowmeter every predetermined period, such as every month. The service provider charges the substrate manufacturer with the development fee of the calculated substrate as a compensation for the provision of the service of the developer control by supplying the regeneration liquid.
기판 제조자는, 소정 기간마다 재생액의 공급에 수반하는 기판의 현상 처리 요금을 지불함으로써, 재생 장치의 구입이나 운전 및 유지 관리를 하지 않고, 재생 처리된 약액을 입수하여 기판 처리에 사용할 수 있다. 한편, 역무 제공자는, 장치를 판매하고 있었던 때에 비해, 계속해서 안정된 수익을 올리는 것이 가능해진다.The substrate manufacturer can use the regenerated chemical liquid for the substrate processing without purchasing, operating, and maintaining the regenerating apparatus by paying the development processing fee of the substrate with the supply of the regenerant liquid every predetermined period. On the other hand, the service provider can continue to make stable profits, compared to when the device was being sold.
여기에서, 재생액의 공급에 수반하는 기판의 현상 처리 요금으로서는, 다양한 태양이 있을 수 있다. 이하에, 그 기판의 현상 처리 요금의 구체예를, 몇 가지 예시한다. 단, 기판의 현상 처리 요금의 산출의 방법은, 이들에 한정되지 않는다. 본 발명의 기판의 현상 처리 요금의 산출의 방법은, 재생액의 적산 유량(공급량)에 의거하는 각종의 요금 산출 방법을 포함하는 것이다.Here, there may be various kinds of charges for developing treatment of the substrate accompanying supply of the regenerated liquid. Hereinafter, some specific examples of the developing treatment charge of the substrate will be exemplified. However, the method of calculating the development processing charge of the substrate is not limited to these. The method for calculating the developing treatment charge of the substrate of the present invention includes various charge calculating methods based on the accumulated flow rate (supply amount) of the regenerant.
첫째로, 재생액의 공급에 수반하는 기판의 재생 처리 요금으로서, 소정 기간에 공급한 재생액의 공급 요금을 기준으로 요금을 계산하는 경우가 있다. 재생액을 판매한다는 사고 방식에 따른 것이다.First, in some cases, a charge is calculated on the basis of the supply rate of the regeneration liquid supplied in a predetermined period as the regeneration processing charge of the substrate accompanying the supply of the regeneration liquid. It is based on the idea of selling regeneration.
예를 들면, 소정 기간을 한달마다로 한다. 적산 유량계에서 재생액의 적산 유량을 계측하고 있으므로, 금월 검침 시점에 있어서의 적산 유량으로부터 전월 검침 시점에 있어서의 적산 유량을 감산함에 의해, 금월 공급한 재생액의 공급량이 구해진다. 이것을 K(L/월)로 한다. 재생액의 공급 단가를 E(원/L)로 한다. 그러면, 금월의 재생액의 공급 요금이, K×E(원/월)로 구해진다. 이것을, 금월의 재생액의 공급에 수반하는 기판의 현상 처리 요금으로서, 기판 제조자에게 청구한다.For example, the predetermined period is set every month. Since the accumulated flow rate of the regeneration liquid is measured in the integrated flowmeter, the supply flow rate of the regeneration liquid supplied this month is obtained by subtracting the integrated flow rate at the previous month reading from the cumulative flow rate at the time of the measurement of the current month. Let it be K (L / month). Let the supply unit price of the regenerant be E (W / L). Then, the supply rate of the regeneration liquid for the current month is obtained as K x E (yuan / month). This is charged to the substrate manufacturer as a development processing fee for the substrate accompanying the supply of the regenerated liquid for the month.
이 변형예로서, 상기와 같이 계산한 재생액의 공급 요금에 각종의 요금을 가산하여 얻은 요금을, 매달의 재생액의 공급에 수반하는 기판의 현상 처리 요금으로 하는 경우가 있다. 가산하는 각종의 요금의 대표적인 것으로서, 기본 요금이 있다. 현상액의 재생 처리에 의한 현상액 관리의 역무 제공에 따른 계약 시에, 매달의 기본 요금을 정하고, 이것을 재생액의 공급의 유무에 상관없이, 기판의 현상 처리 요금에 포함시켜 청구하는 것이다. 물론, 기본 요금이라는 명목 여하에 상관없이, 설비 유지 관리비나 장치 운전원의 인건비, 원료 조달비, 그 밖의 제반 경비 등을, 가산하는 요금에 포함시켜도 된다. 가산되는 요금(예를 들면 기본 요금)을 Z(원/월)로 하면, 매달의 기판의 현상 처리 요금은, K×E＋Z(원/월)로 된다. 가산되는 요금이 다양한 요금의 합 Z＝ΣZj일 때는, 매달의 기판의 현상 처리 요금은, K×E＋ΣZj(j＝1, 2, 3, …)(원/월)로 된다.As a modified example, the charge obtained by adding various charges to the supply rate of the regenerant solution calculated as described above may be used as the development charge rate of the substrate accompanying the supply of the regenerant solution every month. There are basic charges, which are representative of various kinds of charges to be added. A basic charge for each month is determined at the time of a contract for providing developer services by the developer regeneration treatment and charged to the developer charge for the substrate regardless of whether the regeneration liquid is supplied or not. Of course, regardless of the name of the basic charge, the maintenance fee, the labor cost of the device driver, the raw material procurement cost, and other expenses can be included in the charge for addition. If the charge (for example, basic charge) to be added is Z (yuan / month), the development processing fee of the board per month becomes K x E + Z (yuan / month). When the added charge is the sum of various charges Z = ΣZ j , the development processing fee of the substrate per month becomes K × E + ΣZ j (j = 1, 2, 3, ...) (won / month).
또한 다른 변형예로서는, 재생액의 공급 요금에 할증률 F를 곱해 얻은 금액을, 매달의 재생액의 공급에 수반하는 기판의 현상 처리 요금으로 하는 경우도 있다. 예를 들면, 재생액의 자재나 원료의 조달에 드는 제반 경비, 장치의 유지 관리비 등은, 재생액의 공급량(이것은 장치의 운전 시간과도 관계됨)에 연동되는 것으로 파악하는 것이 합리적이다. 이러한 경우에는, 할증률 F를 재생액의 공급 요금 K×E(원/월)에 곱해, 매달의 기판의 현상 처리 요금은, K×E×F(원/월)로 구해진다. 할증률 F를 재생액의 공급 단가 E(원/L)에 포함시켜 버리는 것이어도 된다. 또한, 기본 요금 등이 가산될 경우에는, 매달의 기판의 현상 처리 요금은, K×E×F＋Z(원/월)로 된다. 보다 일반적으로는, 매달의 기판의 현상 처리 요금은, (K×E)×F＋ΣZj(j＝1, 2, 3, …)(원/월)로 구해진다.As another modification, the amount obtained by multiplying the supply rate of the regeneration liquid by the premium F may be used as the development processing rate of the substrate with the supply of the regeneration liquid every month. For example, it is reasonable to grasp that the expenses of procuring the recycled liquid material and the procurement of the raw material, the maintenance cost of the apparatus, etc. are linked to the supply amount of the recycled liquid (this also relates to the operation time of the apparatus). In this case, the charge F of the regenerant is multiplied by the supply rate K × E (won / month) of the regeneration solution, and the development processing fee of the substrate per month is obtained as K × E × F (won / month). The addition rate F may be included in the supply unit price E (yuan / L) of the regenerant. In addition, when the basic charge or the like is added, the development processing fee of the substrate per month becomes K x E x F + Z (yuan / month). More generally, the development processing fee of the substrate per month is obtained by (K × E) × F + ΣZ j (j = 1, 2, 3, ...) (won / month).
둘째로, 재생액의 공급에 수반하는 기판의 현상 처리 요금으로서, 소정 기간에 제공한 현상액의 재생 처리에 의한 현상액 관리의 역무에 의해 기판 제조자에게 가져온 경제적인 이익에 소정의 비율을 곱해 얻은 금액을, 기판 제조자에게 청구한다는 것이다. 현상액의 재생 처리에 의한 현상액 관리의 역무의 제공에 의해 기판 제조자에게 발생시킨 경제적인 이익을, 기판 제조자와 역무 제공자로 서로 나누고자 한다는 사고 방식에 따른 것이다. 이것은, 예를 들면, 현상액의 재생 처리를 실시하고 있지 않았던 기판 제조자에 대해, 현상액의 재생 처리에 의한 현상액 관리의 역무를 제공할 경우 등에, 호적하게 적용된다.Secondly, as a charge for developing the substrate with supply of the regenerated liquid, an amount obtained by multiplying the economic profit brought to the substrate manufacturer by a predetermined ratio by the developer management by the regeneration processing of the developer supplied in a predetermined period , The manufacturer of the substrate. This is in accordance with the idea of sharing the economic benefits generated by the substrate manufacturer by the provision of the developer management by the regeneration treatment of the developer to the substrate manufacturer and the service provider. This is suitably applied to, for example, a case where the substrate manufacturer who has not performed the regeneration treatment of the developer is provided with the function of managing the developer by the regeneration treatment of the developer.
현상액의 재생 처리를 하지 않을 경우, 기판 제조자는, 현상액을 소정 횟수 사용한 후 전량 폐기해서, 새로운 현상액으로 교환하고 있었다. 이 때문에, 현상액의 폐액량이 매우 많아, 새로운 현상액도 다량으로 조달해야만 했다. 한편, 현상액을 재생 처리해서 재이용하면, 기판 제조자는, 다음과 같은 다양한 효능을 향수할 수 있다. 즉, 새로운 현상액의 사용량이 대폭으로 삭감된다. 현상액의 폐액량도 대폭 삭감된다.When the developer is not subjected to the regeneration treatment, the substrate manufacturer discards the entire amount of developer after a predetermined number of times and replaces it with a fresh developer. Because of this, the amount of the waste solution of the developer is so large that a large amount of new developer has to be procured. On the other hand, if the developer is recycled and reused, the substrate manufacturer can enjoy the following various effects. That is, the amount of new developing solution used is greatly reduced. The amount of the waste liquid of the developing solution is greatly reduced.
이러한 경우에 있어서의 재생액의 공급에 수반하는 기판의 현상 처리 요금의 산출의 구체예로서, 현상액 사용량의 삭감에 의한 현상액 비용의 경감액의 몇 할만큼을 소정 기간의 기판의 현상 처리 요금으로 하는 것을 들 수 있다.As a concrete example of the calculation of the developing treatment charge of the substrate accompanying the supply of the regenerant solution in such a case, it is preferable that the developing solution charge of the substrate for a predetermined period is as much as several percentages of the amount of the developer solution cost, .
예를 들면, 소정 기간을 한달마다로 한다. 기판 제조자가 본 발명에 따른 현상액의 재생 처리에 의한 현상액 관리의 역무의 제공을 받기 전, 즉, 현상액의 재생 처리를 실시하고 있지 않았던 무렵에, 기판 제조자가 구입한 한달당 현상액의 구입량을 M(L/월)으로 하고, 그 구입 단가를 G(원/L)로 한다. 현상액 구입량 M의 변동이 클 경우에는, 과거의 적당한 기간에 있어서의 현상액 구입량의 평균값을 M으로 한다.For example, the predetermined period is set every month. The amount of the developer per month purchased by the substrate manufacturer is set at M (1) before the developer of the substrate according to the present invention is provided with the function of managing the developer by the regeneration treatment of the developer according to the present invention, L / month), and the purchase price is G (Yuan / L). When the fluctuation of the developer purchase amount M is large, the average value of the developer purchase amount in the past suitable period is M.
본 발명에 따른 현상액의 재생 처리에 의한 현상액 관리의 역무의 제공에 의해 공급되는 재생액의 공급량은, 적산 유량계에 의해 측정된 적산 유량으로부터, K(L/월)로 구해진다. 보충액의 공급 단가 E(원/L)를 곱해, 매달의 재생액의 공급 요금은, K×E(원/월)로 구해진다.The supply amount of the regenerant solution supplied by the provision of the developer control by the regeneration treatment of the developer according to the present invention is obtained from K (L / month) from the cumulative flow rate measured by the cumulative flow meter. The supply rate of the regeneration liquid per month is obtained by K × E (yuan / month) by multiplying the supply unit price E (yuan / L) of the replenishment liquid.
그러면, 기판 제조자가 본 발명에 따른 현상액의 재생 처리에 의한 현상액 관리의 역무의 제공을 받음에 의해 얻을 수 있는 현상액 비용의 경감액은, M×G-K×E(원/월)로 된다. 매달의 기판의 현상 처리 요금은, 비율을 F로 해서, (M×G-K×E)×F(원/월)로 구해진다. 물론, 이것에 기본 요금 등을 가산해도 된다. 비율 F로서는, 예를 들면, 일할(0.1)이든지, 이할(0.2)이든지, 삼할(0.3) 등이다.Then, the amount of reduction in developer cost that can be obtained by the substrate manufacturer being provided with the task of managing the developer by the regeneration treatment of the developer according to the present invention is M x G-K x E (yuan / month). The development processing fee of the substrate per month is obtained by (M x G-K x E) x F (yuan / month) with the ratio being F. Of course, basic charges and the like may be added to this. The ratio F is, for example, 1 (0.1), 0.2 (zero), 3 (0.3), or the like.
변형예로서, 현상액의 폐액량의 삭감에 의한 폐액 처리 비용의 경감액의 몇 할만큼을 소정 기간의 현상액의 재생 처리에 수반하는 기판의 현상 처리 요금으로 해도 된다.As a modified example, the amount of the reduction in the waste liquid treatment cost due to the reduction in the amount of the waste liquid of the developer may be the development processing rate of the substrate accompanied with the regeneration treatment of the developer for a predetermined period.
재생 처리 실시 전의 현상액의 매달의 폐액 처리 비용을 N(원/월), 재생 처리 실시 후의 매달의 폐액 처리 비용을 P(원/월)(단 N＞P로 함)로 하면, 현상액의 재생 처리에 의해 삭감된 폐액 처리 비용의 경감액은, N-P(원/월)이다. 기판 제조자는, 현상액의 재생 처리에 의해, 매달 K×E(원/월)의 재생액의 공급 요금을 지불하므로, 기판 제조자의 폐액량 삭감에 관련되는 경제적인 이익의 금액은, (N-P)-K×E(원/월)로 된다. 매달의 현상액의 재생 처리에 수반하는 기판의 현상 처리 요금은, 이것에 비율 F를 곱해, ((N-P)-K×E)×F(원/월)로 구해진다. 이것에 기본 요금 등을 가산해도 된다.The waste liquid treatment cost per month of the developer before the regeneration treatment is N (won / month), and the waste liquid treatment cost per month after the regeneration treatment is P (yuan / , The reduction amount of the waste liquid treatment cost reduced by the above is NP (yuan / month). The substrate manufacturer pays the supply rate of the regeneration liquid of K × E (yuan / month) every month by the regeneration treatment of the developer, so the amount of the economic profit related to the waste amount reduction of the substrate manufacturer is (NP) - K x E (yuan / month). The development processing rate of the substrate accompanying the monthly regeneration processing of the developer is calculated by multiplying the ratio F by the ratio F ((N-P) -K x E) x F (yuan / month). The basic charge or the like may be added to this.
다른 변형예로서, 기판 제조자의 경제적인 이익의 금액에, 제조액 비용의 경감액이나 폐액 처리 비용의 경감액 등을 종합한 금액을 사용해도 된다. 제조액 비용의 경감액이나 폐액 처리 비용의 경감액 등을 종합한 금액으로부터 보충액의 공급 요금 K×E(원/월)를 차감한 금액을, 기판 제조자의 현상액의 재생 처리에 의한 종합적인 경제적 이익의 금액으로 보고, 매달의 기판의 현상 처리 요금을 산출해도 된다. 이 경우, 현상액 비용의 경감액이나 폐액 처리 비용의 경감액 등을 종합한 금액을 V(원/월)로 하면, 기판의 현상 처리 요금은, (V-K×E)×F(원/월)로 된다. 이것에 기본 요금 등을 가산해도 된다.As another modification, the amount of the economic benefit of the substrate manufacturer may be the sum of the reduction amount of the manufacturing cost or the reduction amount of the waste liquid processing cost. The amount of the total economic benefit obtained by regenerating the developing solution of the developer of the substrate by the substrate manufacturer is calculated by subtracting the supply rate K × E (won / month) of the replenishing liquid from the sum of the reduction amount of the manufacturing solution cost and the reduction amount of the waste liquid processing cost, , And the development processing fee of the substrate every month may be calculated. In this case, the development processing fee of the substrate is (V-K x E) x F (yuan / month) when the sum of the reduction amount of developer cost and the reduction amount of waste solution processing cost is V The basic charge or the like may be added to this.
또 다른 변형예로서, 이미 현상액의 재생 처리를 실시하고 있었던 기판 제조자에게, 본 발명에 따른 현상액의 재생 처리의 역무를 제공함에 의해, 기판 제조자에게 다양한 경제적 이익을 발생시킬 수 있다. 이들을, 마찬가지로, 매달의 기판의 현상 처리 요금으로서 계산하여, 기판 제조자에게 청구한다.As another modification, it is possible to generate various economic benefits to the substrate manufacturer by providing the substrate manufacturer, which has already performed the regeneration treatment of the developer, to the regeneration treatment of the developer according to the present invention. They are similarly calculated as the development processing fee of the substrate every month, and charge the substrate manufacturer.
많은 기판 제조자는, 이미 현상액의 재생 처리를 실시하고 있을 경우여도, 여전히, 현상액 재생 장치를 구입해서, 스스로 운전하고, 유지 관리해서, 현상액의 재생 처리를 하고 있다. 그 때문에, 기판 제조자는, 현상액의 재생 처리에, 원료나 자재의 조달의 제반 경비나 장치의 운전원의 인건비 등의 비용을 부담하고 있다. 또한, 오래된 재생 처리 장치를 여전히 사용하고 있는 경우도 많다.Many substrate manufacturers, even if they are already performing the regeneration treatment of the developer, still purchase the developer regeneration device, operate it by themselves, maintain it, and perform regeneration treatment of the developer. For this reason, the substrate manufacturer pays for the costs of procuring raw materials and materials, labor costs of operators of the apparatus, and the like in the developer regeneration processing. In addition, there are many cases where an old reproduction processing apparatus is still used.
이러한 경우, 종래의 재생 처리를 본 발명에 따른 현상액의 재생 처리에 의한 현상액 관리의 역무로 치환함으로써, 기판 제조자에게, 현상액 비용이나 폐액 비용의 삭감 등에 수반하는 경제적인 이익을 가져올 수 있다. 이러한 경우에도, 상기와 마찬가지로, 보충액의 적산 유량에 의거하여 얻은 경제적 이익의 금액의 몇 할만큼을, 재생액의 공급에 수반하는 기판의 현상 처리 요금으로서 산출해서, 기판 제조자에게 청구하는 것이 가능하다.In this case, by replacing the conventional regeneration process with the function of the developer control by the regeneration process of the developer according to the present invention, it is economically advantageous to the substrate manufacturer to reduce the developer cost and the waste solution cost. In this case as well, as in the above, it is possible to calculate the amount of the economic benefit obtained on the basis of the accumulated flow rate of the replenishing liquid as the development processing rate of the substrate accompanied by the supply of the regenerated liquid, and to charge the substrate manufacturer.
기판 제조자가 원하는 성분 농도의 현상액을 현상액의 원료로부터 현상액의 신액으로서 자동적으로 조제해서 공급하는 조제 장치를 사용해서 현상액의 신액을 조제하고, 보충액의 하나로서 기판 제조자가 운용하는 현상 처리 장치에 공급함에 의해, 현상액 관리의 역무를 제공하는 비지니스에 대해서도, 재생액의 공급에 의한 현상액 관리의 역무의 경우와 마찬가지로 고려할 수 있다. 이 경우의 기판의 현상 처리 요금에 대해서는, 재생액을 신액으로 치환하고 동일하게 생각하면 되어, 설명이 중복되므로, 구체적인 설명은 생략한다.A new liquid of the developer is prepared by using a dispenser in which the substrate manufacturer automatically prepares and supplies a developing solution having the desired component concentration as a new liquid of the developing liquid from the raw material of the developing liquid and supplies the liquid to the developing apparatus operated by the substrate manufacturer as one of the replenishing liquids The business that provides the task of developing solution management can be considered in the same manner as the case of the task of developing solution management by supplying the regenerating solution. Regarding the developing treatment rate of the substrate in this case, the regenerated liquid is replaced with a fresh liquid and the same description is given, and a detailed description thereof will be omitted.
다음으로, 본 발명에 따른 현상액의 농도 관리 장치 및 기판의 현상 처리 시스템에 대해 설명한다. 현상액의 농도 관리의 역무를 제공하는 비지니스를 실현하기 위해서는, 농도 관리에 요하는 보충액의 공급량을 측정하는 것이 가능한, 보충액의 공급 배관에 구비된 적산 유량계가 필요불가결하다. 이하, 이러한 적산 유량계를 구비한 현상액의 농도 관리 장치 및 기판의 현상 처리 시스템을, 도면을 참조하면서 설명한다.Next, a developing agent concentration managing apparatus and a substrate developing processing system according to the present invention will be described. It is indispensable to provide an integrated flow meter provided in a replenishing liquid supply pipe capable of measuring the supply amount of the replenishing liquid required for the concentration control in order to realize the business of providing the concentration control of the developer. Hereinafter, a concentration control apparatus for a developer with such an integrated flow meter and a development processing system for a substrate will be described with reference to the drawings.
〔제1 실시형태〕[First Embodiment]
도 1은, 본 실시형태의 현상액의 농도 관리 장치(A)를 구비하는 기판의 현상 처리 시스템을 설명하기 위한 모식도이다.1 is a schematic view for explaining a development processing system of a substrate provided with a developer concentration managing apparatus A of the present embodiment.
현상 처리 프로세스에서는, 현상액이 노광 처리 후의 포토레지스트막의 불필요 부분을 녹임에 의해, 현상이 행해진다. 현상액에 용해된 포토레지스트는, 현상액의 알칼리 성분과의 사이에 포토레지스트염을 발생시킨다. 이 때문에, 현상액을 적절히 관리하지 않으면, 현상 처리가 진행됨에 따라, 현상액은 현상 활성을 갖는 알칼리 성분이 소비되고 열화되어, 현상 성능이 악화해 간다. 동시에, 현상액 중에는 용해된 포토레지스트가 알칼리 성분과의 포토레지스트염으로서 축적되어 간다.In the development processing process, development is carried out by dissolving unnecessary portions of the photoresist film after the exposure processing. The photoresist dissolved in the developing solution generates a photoresist salt with the alkali component of the developing solution. Therefore, unless the developer is appropriately controlled, as the developing process proceeds, the alkaline component having the developing activity is consumed and deteriorated in the developing solution, and the developing performance deteriorates. Simultaneously, the dissolved photoresist accumulates as a photoresist salt with the alkali component in the developer.
현상액에 용해된 포토레지스트는, 현상액 중에서 계면활성 작용을 나타낸다. 이 때문에, 현상액에 용해된 포토레지스트는, 현상 처리에 제공되는 포토레지스트막의 현상액에 대한 젖음성을 높여, 현상액과 포토레지스트막의 친화성을 양호하게 한다. 따라서, 적당히 포토레지스트를 포함하는 현상액에서는, 현상액이 포토레지스트막의 미세한 오목부 내에도 잘 고루 퍼지게 되어, 미세한 요철을 갖는 포토레지스트막의 현상 처리를 양호하게 실시할 수 있다.The photoresist dissolved in the developer shows a surfactant activity in the developer. Therefore, the photoresist dissolved in the developer enhances the wettability of the photoresist film provided in the developing process with respect to the developing solution, thereby improving the affinity between the developing solution and the photoresist film. Therefore, in a developer containing an appropriate photoresist, the developer can be spread evenly through the fine recesses of the photoresist film, so that the development processing of the photoresist film having fine irregularities can be satisfactorily performed.
또한, 최근 현상 처리에서는, 기판이 대형화한 것에 수반해서, 대량의 현상액이 반복 사용되게 되었기 때문에, 현상액이 공기에 노출될 기회가 늘고 있다. 그런데, 알칼리성 현상액은, 공기에 노출되면 공기 중의 이산화탄소를 흡수한다. 흡수된 이산화탄소는, 현상액의 알칼리 성분과의 사이에 탄산염을 발생시킨다. 이 때문에, 현상액을 적절히 관리하지 않으면, 현상액은 현상 활성을 갖는 알칼리 성분이 흡수된 이산화탄소에 의해 소비되어 감소한다. 동시에, 현상액 중에는 흡수된 이산화탄소가 알칼리 성분과의 탄산염으로서 축적되어 간다.Further, in the recent developing process, since a large amount of developer is repeatedly used due to the enlargement of the substrate, the chance that the developer is exposed to the air is increasing. However, the alkaline developer absorbs carbon dioxide in the air when exposed to air. The absorbed carbon dioxide generates a carbonate between itself and the alkali component of the developer. For this reason, unless the developer is appropriately managed, the developer is consumed by the absorbed carbon dioxide of the alkaline component having the developing activity and decreases. At the same time, the absorbed carbon dioxide accumulates as a carbonate with the alkali component in the developer.
현상액 중의 탄산염은, 현상액 중에서 알칼리성을 나타내기 때문에, 현상 작용을 갖는다. 예를 들면 2.38％ TMAH 수용액의 경우, 현상액 중에 이산화탄소가 대략 0.4wt％ 정도 이하이면, 현상이 가능하다.The carbonate in the developer has alkalinity in the developer, and therefore has a developing effect. For example, in the case of a 2.38% aqueous solution of TMAH, development is possible if the concentration of carbon dioxide in the developer is about 0.4 wt% or less.
이와 같이, 현상액에 용해된 포토레지스트나 흡수된 이산화탄소는, 현상 처리에 불필요한 것이라는 종래의 인식과는 달리, 실제로는 현상액의 현상 성능에 기여하고 있다. 그 때문에, 용해 포토레지스트나 흡수 이산화탄소를 완전히 배제하도록 하는 현상액 관리를 하는 것이 아닌, 현상액 중에 약간 용존하는 것을 허용하면서, 이들을 최적인 농도로 유지 관리하는 현상액 관리가 필요하다.Unlike the conventional recognition that the photoresist dissolved in the developing solution or the absorbed carbon dioxide is unnecessary for the developing process, it actually contributes to the developing performance of the developing solution. Therefore, it is necessary to manage the developer to maintain them at an optimum concentration while permitting the developer to be slightly dissolved in the developer, not to control the developer to completely eliminate the dissolved photoresist and the absorbed carbon dioxide.
또한, 현상액 중에 생긴 포토레지스트염이나 탄산염은, 그 일부가 해리해서, 포토레지스트 이온이나 탄산 이온, 탄산수소 이온 등, 다양한 유리(遊離) 이온을 발생시킨다. 그리고, 이들 유리 이온은, 현상액의 도전률에 다양한 기여율로 영향을 미치고 있다.In addition, the photoresist salt and the carbonate salt generated in the developing solution partially dissociate to generate various free ions such as photoresist ions, carbonate ions and bicarbonate ions. These free ions affect the conductivity of the developer with various contribution rates.
종래의 알칼리성 현상액의 성분 농도 분석은, 현상액의 알칼리 성분 농도가 현상액의 도전률값과 양호한 직선 관계를 갖는 것, 및, 현상액의 용해 포토레지스트 농도가 현상액의 흡광도값과 양호한 직선 관계를 갖는 것을 이용하는 것이었다(이하, 이것을 「종래법」이라 함).Conventional analysis of the concentration of the alkaline developing solution is based on the fact that the alkali component concentration of the developing solution has a good linear relationship with the conductivity value of the developing solution and that the dissolved photoresist concentration of the developing solution has a good linear relationship with the absorbance value of the developing solution (Hereinafter referred to as " conventional method ").
현상액의 도전률값은, 현상액 중에 포함되는 이온 등의 하전 입자수와 그 전하량에 의존하는 물성값이다. 현상액 중에는, 상기와 같이, 알칼리 성분뿐만 아니라, 현상액에 용해된 포토레지스트나 현상액에 흡수된 이산화탄소에 유래하는 각종유리 이온이 존재한다. 따라서, 성분 농도의 분석 정밀도를 높이기 위해서는, 이들 유리 이온이 현상액의 도전률값에 끼치는 영향도 가미한 연산 방법을 사용하는 것이 필요하다.The conductivity value of the developer is a number of charged particles such as ions contained in the developer and a property value depending on the charge amount. As described above, not only alkali components but also various free ions derived from carbon dioxide absorbed in a photoresist or a developer dissolved in a developing solution exist in the developing solution. Therefore, in order to improve the analysis accuracy of the component concentration, it is necessary to use a calculation method which also takes into consideration the influence of these free ions on the conductivity value of the developer.
현상액의 흡광도값은, 그 측정 파장의 광을 선택적으로 흡수하는 특정의 성분의 농도와 직선 관계를 갖는 물성값이다(람베르트-비어의 법칙). 그러나, 다성분계에 있어서는, 측정 파장에 따라 그 정도가 서로 다르지만, 통상, 대상 성분의 흡광 스펙트럼에 다른 성분의 흡광 스펙트럼이 겹쳐진다. 따라서, 성분 농도의 분석 정밀도를 높이기 위해서는, 현상액에 용해된 포토레지스트뿐만 아니라, 다른 성분이 현상액의 흡광도값에 끼치는 영향도 가미한 연산 방법을 사용하는 것이 필요하다.The absorbance value of the developing solution is a property value having a linear relationship with the concentration of a specific component that selectively absorbs light of the measurement wavelength (Lambert-Beer's law). However, in the case of a multi-component system, the degree of the difference is different depending on the wavelength to be measured, but usually the absorption spectrum of the component is overlapped with the absorption spectrum of the other component. Therefore, in order to improve the accuracy of analyzing the component concentration, it is necessary to use a calculation method which not only affects the photoresist dissolved in the developer but also influences the absorbance value of the developer to other components.
본 실시형태에 있어서는, 연산 방법에 다변량 해석법(예를 들면, 중회귀 분석법)을 사용하고 있다. 다변량 해석법(예를 들면, 중회귀 분석법)을 사용함으로써, 종래법과 비교하여, 정밀하게 현상액의 각 성분의 농도를 산출할 수 있다. 또한, 흡수 이산화탄소 농도를 측정할 수 있다. 다변량 해석법(예를 들면, 중회귀 분석법)에 의해 산출한 현상액의 성분 농도를 사용하면, 현상액의 용해 포토레지스트 농도나 흡수 이산화탄소 농도를 양호한 상태로 유지 관리할 수 있다.In the present embodiment, a multivariate analysis method (for example, a multiple regression analysis method) is used for the calculation method. By using a multivariate analysis method (for example, a multiple regression method), it is possible to accurately calculate the concentration of each component of the developer as compared with the conventional method. In addition, the absorbed carbon dioxide concentration can be measured. By using the component concentration of the developer calculated by the multivariate analysis method (for example, the regression method), it is possible to maintain the dissolved photoresist concentration and the absorbed carbon dioxide concentration of the developer in a good state.
우선, 다변량 해석법의 예로서, 중회귀 분석에 대해 설명한다. 중회귀 분석은, 구성과 예측의 이단계로 이루어진다. n성분계의 중회귀 분석에 있어서, 교정 표준 용액을 m개 준비했다고 한다. i번째의 용액 중에 존재하는 j번째의 성분의 농도를 Cij로 나타낸다. 여기에서, i＝1~m, j＝1~n이다. m개의 표준 용액에 대해, 각각, p개의 특성값(예를 들면, 어떤 파장에 있어서의 흡광도이거나 도전률 등의 물성값) Aik(k＝1~p)을 측정한다. 농도 데이터와 특성 데이터는, 각각, 한번에 행렬의 형(C, A)으로 나타낼 수 있다.First, as an example of the multivariate analysis method, the multiple regression analysis will be described. The regression analysis consists of two stages of composition and prediction. In the multiple regression analysis of the n-component system, m calibration standard solutions are prepared. The concentration of the jth component in the i-th solution is denoted by C ij . Here, i = 1 to m and j = 1 to n. For each of the m standard solutions, p characteristic values (for example, physical properties such as absorbance at a certain wavelength or conductivity) A ik (k = 1 to p) are measured. The density data and the characteristic data can be represented by a matrix type (C, A) at a time, respectively.
[수식 1][Equation 1]
이들 행렬을 관계짓는 행렬을 교정행렬이라 하고, 여기에서는 기호 S(Skj；k＝1~p, j＝1~n)로 나타낸다.The matrix related to these matrices is referred to as a calibration matrix and is represented here as a symbol S (S kj ; k = 1 to p, j = 1 to n).
[수식 2][Equation 2]
기지의 C와 A(A의 내용은, 동질의 측정값뿐만 아니라 이질의 측정값이 혼재해도 상관없음. 예를 들면, 도전률과 흡광도와 밀도)로부터 S를 행렬 연산에 의해 산출하는 것이 교정 단계이다. 이때, p≥n, 또한, m≥np여야만 한다. S의 각 요소는 모두 미지수이므로, m＞np인 것이 요구되고, 그 경우는 다음과 같이 최소자승연산을 행한다.The calculation of S by the matrix operation from the known C and A (contents of A, regardless of the homogeneous measurement values and the heterogeneous measurement values, for example, conductivity and absorbance and density) to be. At this time, p? N and m? Np must be satisfied. Since each element of S is unknown, it is required that m > np. In this case, the least squares operation is performed as follows.
[수식 3][Equation 3]
여기에서, 윗첨자의 T는 전치행렬을, 윗첨자의 -1은 역행렬을 의미한다.Here, T in the superscript denotes the transpose matrix, and -1 in the superscript denotes the inverse matrix.
농도 미지의 시료액에 대해 p개의 특성값을 측정하고, 그들을 Au(Auk；k＝1~p)로 하면, 그것에 S를 승산하고 구해야 할 농도 Cu(Cuj；j＝1~n)를 얻을 수 있다.(Cu j, j = 1 to n) to be obtained by multiplying S by the value of p characteristic is measured with respect to the sample solution of undetermined concentration and Au (Au k ; k = 1 to p) Can be obtained.
[수식 4][Equation 4]
이것이 예측 단계이다.This is a prediction step.
알칼리 현상액의 일례로서 나타내는 2.38％ TMAH 수용액에 있어서는, 알칼리 성분, 용해 포토레지스트, 흡수 이산화탄소의 3성분으로 이루어지는 다른 성분계(n＝3)로 간주하고, 당해 현상액의 특성값으로서 3개의 물성값(p＝3), 즉, 현상액의 도전률값, 특정 파장에 있어서의 흡광도값, 및, 밀도값으로부터, 중회귀 분석법에 의해 각 성분 농도를 산출할 수 있다.(N = 3) composed of three components of alkali component, dissolved photoresist and absorbed carbon dioxide in a 2.38% aqueous solution of TMAH as an example of an alkali developing solution, and three property values (p = 3), that is, from the conductivity value of the developer, the absorbance value at a specific wavelength, and the density value, each component concentration can be calculated by the multiple regression analysis method.
다변량 해석법(예를 들면, 중회귀 분석법)은, 복수의 성분의 농도를 연산하여 구하는데 유효하다. 현상액의 복수의 특성값 a, b, c, …을 측정해서, 그들 측정값으로부터 다변량 해석법(예를 들면, 중회귀 분석법)에 의해 성분 농도 A, B, C, …을 구할 수 있다. 이 때, 구해야 할 성분 농도에 대해, 적어도 이 성분 농도와 상관이 있는 특성값이, 적어도 하나는 측정되어 연산에 사용되는 것이 필요하다.The multivariate analysis method (for example, the multiple regression method) is effective for calculating the concentration of a plurality of components. A plurality of characteristic values a, b, c, ... of the developer And the component concentrations A, B, C, ... are measured from the measured values by a multivariate analysis method (for example, a multiple regression analysis method). Can be obtained. At this time, it is necessary that at least one of the characteristic values correlated with at least the concentration of the components is to be measured and used for the calculation with respect to the component concentration to be obtained.
여기에서, 성분 농도와 「상관이 있는」 현상액의 특성값이란, 그 특성값이 그 성분 농도와 관계가 있고, 그 성분 농도의 변화에 따라 특성값이 변하도록 하는 관계에 있음을 말한다. 예를 들면, 현상액의 성분 농도 중 적어도 성분 농도 A와 상관이 있는 현상액의 특성값 a란, 특성값 a가 성분 농도를 변수로 하는 함수에 의해 구해질 때에, 변수의 하나에 적어도 성분 농도 A를 포함하는 것을 말한다. 특성값 a가 성분 농도 A만의 함수여도 되지만, 통상은, 성분 농도 A 외에, 성분 농도 B나 C 등을 변수로 하는 다변수 함수로 되어 있을 때에, 다변량 해석법(예를 들면, 중회귀 분석법)을 사용하는 의의가 크다.Here, the characteristic value of the developer which is " correlated " with the concentration of the composition means that the characteristic value is related to the concentration of the component, and the characteristic value changes according to the variation of the concentration of the component. For example, the characteristic value a of the developer having at least correlation with the component concentration A among the component concentrations of the developer is such that when the characteristic value a is obtained by a function having the component concentration as a variable, at least the component concentration A . Although the characteristic value a may be a function of only the component concentration A, a multivariate analysis method (for example, a multiple regression analysis method) may be used when a multivariable function is used in addition to the component concentration A, Significance to use.
또한, 성분 농도는, 전체에 대한 그 성분의 상대량을 나타내는 척도이다. 반복 사용되는 현상액과 같은 경시적으로 성분이 증감하는 혼합액의 성분 농도는, 그 성분 단독으로 결정되지 않고, 통상, 다른 성분의 농도의 함수로 된다. 그 때문에, 현상액의 특성값과 성분 농도의 관계는, 평면적인 그래프로 표시하는 것이 곤란한 경우가 많다. 이러한 경우에는, 검량선을 사용하는 연산법 등으로는, 현상액의 특성값으로부터 성분 농도를 산출할 수 없다.Also, the component concentration is a measure indicating the relative amount of the component with respect to the whole. The component concentration of the mixed liquid in which the component increases or decreases with time, such as a developer to be used repeatedly, is not determined solely by the component but is usually a function of the concentration of the other components. Therefore, in many cases, it is difficult to display the relationship between the characteristic value of the developing solution and the component concentration in a plane graph. In such a case, the component concentration can not be calculated from the characteristic value of the developer with the calculation method or the like using the calibration curve.
그러나, 다변량 해석법(예를 들면, 중회귀 분석법)에 따르면, 산출하고자 하는 성분 농도와 상관이 있는 복수의 특성값의 측정값이 하나의 세트 마련되면, 이것을 연산에 사용해서, 성분 농도가 하나의 세트 산출된다. 한번에 측정 곤란한 성분 농도여도, 특성값을 측정함으로써 성분 농도를 측정할 수 있다라는 현저한 효과를, 다변량 해석법(예를 들면, 중회귀 분석법)에 의한 성분 농도 측정으로는 얻을 수 있다.However, according to the multivariate analysis method (for example, the multiple regression method), when one set of measured values of a plurality of characteristic values correlated with the concentration of a component to be calculated is prepared, . It is possible to obtain the remarkable effect that the component concentration can be measured by measuring the characteristic value even at a concentration of the component which is difficult to measure at once by the component concentration measurement by the multivariate analysis method (for example, the multiple regression method).
이상과 같이, 다변량 해석법(예를 들면, 중회귀 분석법)을 사용함으로써, 현상액의 알칼리 성분 농도, 용해 포토레지스트 농도, 및, 흡수 이산화탄소 농도를, 현상액의 특성값(예를 들면, 도전률, 특정 파장에 있어서의 흡광도, 및, 밀도)의 측정값에 의거하여 산출할 수 있다. 따라서, 종래법에 비해, 고정밀도로 각 성분 농도를 산출할 수 있다.As described above, by using a multivariate analysis method (for example, a multiple regression analysis method), the alkali component concentration, the dissolved photoresist concentration, and the absorbed carbon dioxide concentration of the developer can be set to the characteristic values of the developer The absorbance at the wavelength, and the density). Therefore, the concentration of each component can be calculated with high accuracy as compared with the conventional method.
또한, 다변량 해석법(예를 들면, 중회귀 분석법)을 사용하고 있으므로, 현상액의 성분 농도를 산출하는 연산에, 현상액의 특정의 성분 농도와 직선 관계가 아닌 현상액의 특성값도 채용할 수 있다. 채용하는데 바람직한 현상액의 특성값으로서, 현상액의 도전률, 특정 파장에 있어서의 흡광도, 밀도 외에, 현상액의 광의 굴절률, 초음파 전파 속도, 점도, pH, 적정(滴定) 종점 등을 들 수 있다.Furthermore, since the multivariate analysis method (for example, the multiple regression method) is used, the characteristic value of the developing solution which is not linearly related to the concentration of the specific component of the developing solution can be employed in the calculation for calculating the component concentration of the developing solution. The refractive index of the developing solution, the ultrasonic wave propagation speed, the viscosity, the pH, the titration end point, and the like can be mentioned as properties of the developing solution preferable for the application, in addition to the conductivity of the developing solution, the absorbance and density at a specific wavelength.
다음으로, 기판의 현상 처리 시스템에 대해 도 1을 사용해서 설명한다. 도 1은, 현상액의 3가지의 성분의 농도(예를 들면, 알칼리 성분 농도, 용해 포토레지스트 농도, 흡수 이산화탄소 농도)를 측정해서 보충액을 공급하는 배관에 구비된 제어 밸브를 제어하는 농도 관리 장치를 구비하는 기판의 현상 처리 시스템이다. 기판의 현상 처리 시스템은, 주로, 현상액의 농도 관리 장치(A)와, 현상 처리 장치(B)와, 보충액이 현상 처리 장치(B)로 송액되는 배관(81, 82, 83)과, 배관(81, 82, 83)에 구비된 적산 유량계(151, 152, 153), 및, 제어 밸브(41, 42, 43)로 구성된다. 그 외, 현상 처리 장치(B)는, 보충액의 저류 용기인 현상액 원액 저류 용기(91), 현상액 신액 저류 용기(92) 등과도 접속되어 있다.Next, a development processing system for a substrate will be described with reference to Fig. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 shows a concentration control apparatus for controlling a control valve provided in a pipe for measuring the concentration of three components (for example, alkali component concentration, dissolved photoresist concentration, absorbed carbon dioxide concentration) And a development processing system for a substrate. The development processing system of the substrate mainly includes a developer concentration control device A, a development processing device B, pipings 81, 82 and 83 to which the replenishing liquid is fed to the development processing device B, 152, and 153 and
우선, 현상 처리 장치(B)에 대해 간단히 설명한다.First, the developing apparatus B will be briefly described.
현상 처리 장치(B)는, 주로, 현상액 저류조(61), 오버플로우조(62), 현상실 후드(64), 롤러 컨베이어(65), 현상액 샤워 노즐(67) 등으로 이루어진다. 현상액 저류조(61)에는 현상액이 저류되어 있다. 현상액은, 보충액이 보충되어 조성 관리된다. 현상액 저류조(61)는, 액면계(63)와 오버플로우조(62)를 구비하고, 보충액을 보급함에 의한 액량의 증가를 관리하고 있다. 현상액 저류조(61)와 현상액 샤워 노즐(67)은, 현상액 관로(80)에 의해 접속되고, 현상액 저류조(61) 내에 저류된 현상액이 현상액 관로(80)에 설치된 순환 펌프(72)에 의해 필터(73)를 통해 현상액 샤워 노즐(67)로 송액된다. 롤러 컨베이어(65)는, 현상액 저류조(61)의 상방에 구비되고, 포토레지스트막의 제막된 기판(66)을 반송한다. 현상액은 현상액 샤워 노즐(67)로부터 적하되고, 롤러 컨베이어(65)에 의해 반송되는 기판(66)은 적하되는 현상액 중을 통과함으로써 현상액으로 적셔진다. 그 후, 현상액은, 현상액 저류조(61)로 회수되어, 다시 저류된다. 이와 같이, 현상액은, 현상 공정에서 순환되어 반복 사용된다. 또한, 소형의 글래스 기판에 있어서의 현상실 내는, 질소 가스를 충만시키는 등에 의해, 공기 중의 이산화탄소를 흡수하지 않도록 하는 처리가 실시될 경우도 있다. 또한, 열화된 현상액은 폐액 펌프(71)를 작동시킴에 의해 폐액(드레인)된다.The developing apparatus B mainly includes a
또한, 현상 처리 장치(B)에는, 현상액 저류조(61) 내에 저류된 현상액을 교반하기 위한 순환 교반 기구(D)가 접속되어 있다. 순환 교반 기구(D)는, 도중에 순환 펌프(74) 및 필터(75)가 설치된 순환 관로(90)로 이루어지고, 순환 관로(90)가 현상액 저류조(61)의 저부(底部)와 측부에 접속되어 있다. 순환 펌프(74)를 작동시키면, 현상액 저류조(61)에 저류된 현상액은, 순환 관로(90)를 통해 순환한다. 이에 의해, 현상액 저류조(61)에 저류된 현상액의 청정화와 교반이 행해진다.A circulation agitating mechanism D for agitating the developer stored in the
다음으로, 본 실시형태의 현상액의 농도 관리 장치(A)에 대해 설명한다. 본 실시형태의 농도 관리 장치(A)는, 측정 수단(1)과, 연산 수단(2)과, 제어 수단(3)을 구비하고 있다.Next, the developer concentration managing apparatus A of the present embodiment will be described. The concentration managing apparatus A of the present embodiment is provided with a measuring means 1, an
현상 처리 장치(B)에 접속되는 것이 상정되어 있는 농도 관리의 역무의 제공에 적합한 현상액의 농도 관리 장치(A)는, 또한, 보충액이 공급되는 배관(81, 82, 83)과 접속되고, 현상액의 농도 관리 장치의 내부를 지나는 이들 배관(81, 82, 83)에, 현상액의 농도 관리 장치의 내부 부품으로서, 제어 수단(3)에 의해 제어되는 제어 밸브(41, 42, 43)와, 보충액의 적산 유량을 계측하는 적산 유량계(151, 152, 153)를 구비하고 있는 것이 바람직하다.The concentration control apparatus A for the developer, which is suitable for the provision of the concentration control task to be connected to the developing apparatus B, is also connected to the
그러나, 현상 처리 시스템을 구성하는 현상액의 농도 관리 장치(A)로서는, 제어 밸브(41, 42, 43)나, 적산 유량계(151, 152, 153)를, 농도 관리 장치(A)의 내부 부품으로서 구비하고 있는 것이 필수라는 것은 아니다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 농도 관리 장치(A)와 제어 밸브(41, 42, 43) 및 적산 유량계(151, 152, 153)가 별개로서, 현상 처리 시스템을 구성하고 있어도 된다.However, as the developer concentration control apparatus A constituting the development processing system, the
이하의 각 실시태양에 있어서도, 마찬가지이다.The same is true in each of the following embodiments.
현상액의 농도 관리 장치(A)는, 샘플링 배관(15) 및 복귀 배관(16)에 의해 현상액 저류조(61)와 접속되어 있다. 측정 수단(1)과 연산 수단(2)은, 측정 데이터용 신호선(51, 52, 53)에 의해 접속되어 있다.The developer concentration control apparatus A is connected to the
측정 수단(1)은, 샘플링 펌프(14)와, 제1 검출기(11), 제2 검출기(12), 및, 제3 검출기(13)를 구비하고 있다(제1 검출기(11), 제2 검출기(12), 및, 제3 검출기(13)를 특성값 검출 수단이라 할 경우가 있음. 또한, 「제1 …」, 「제2 …」, 「제3 …」 등의 용어는, 측정 수단(1)에 있어서의 각 검출기의 측정 순서를 한정하는 것은 아님. 단지, 각 검출기를 구별하기 위한 편의를 위해 사용하고 있는 것에 지나지 않음. 이하의 설명 중에 있어서도 마찬가지임). 특성값 검출 수단(11, 12, 13)은, 샘플링 펌프(14)의 후단에 직렬로 접속된다. 측정 수단(1)은, 또한, 측정 정밀도를 높이기 위해, 샘플링한 현상액을 소정의 온도로 안정시키는 온도 조절 수단(도시생략)을 구비하고 있는 것이 바람직하다. 샘플링 배관(15)은, 측정 수단(1)의 샘플링 펌프(14)에 접속되어 있고, 복귀 배관(16)은, 특성값 검출 수단 말단의 배관과 접속되어 있다.The measuring means 1 is provided with a
특성값 검출 수단(11, 12, 13)은, 측정 및 관리를 하고 싶은 현상액의 성분의 농도와 상관을 갖는 현상액의 특성값을 검출하기 위한 계측 장치이다. 예를 들면, 현상액의 알칼리 성분 농도, 용해 포토레지스트 농도, 및, 흡수 이산화탄소 농도를 측정해서 관리하고자 할 경우에는, 현상액의 도전률값을 검출하는 도전률계, 현상액의 특정 파장(예를 들면 560㎚)에 있어서의 흡광도값을 검출하는 흡광 광도계, 현상액의 밀도값을 검출하는 밀도계 등이, 특성값 검출 수단(11, 12, 13)으로 된다.The characteristic value detecting means (11, 12, 13) is a measuring device for detecting a characteristic value of a developer having a correlation with a concentration of a component of the developer to be measured and managed. For example, when it is desired to measure and manage the alkaline component concentration, the dissolved photoresist concentration, and the absorbed carbon dioxide concentration of the developing solution, it is preferable to use a conductivity meter for detecting the conductivity value of the developing solution, A density meter for detecting the density value of the developer, and the like are the characteristic
도 1에서는, 측정 수단(1)은, 연산 수단(2)이나 제어 수단(3)과 일체로 되어 농도 관리 장치(A)를 구성하고, 또한, 현상액을 샘플링해서 현상액의 특성값을 측정하는 태양을 도시했지만, 이것에 한정되지 않는다. 특성값 검출 수단(11, 12, 13)의 각 검출기는, 그 채용하는 측정 원리나 검출 대상으로 되는 현상액의 특성값에 따라, 최적인 설치 태양으로 구비되어 있는 것이 바람직하다. 예를 들면, 검출기가 현상 처리 장치(B)의 현상액 저류조(61)에 직접 부착되어 있거나, 검출기의 프로브 부분이 현상액 저류조(61)에 침지되어 있거나, 또는, 검출기가 현상액 관로(80)에 부착되어 있거나 해도 된다. 이 때, 측정 수단(1)은, 연산 수단(2)이나 제어 수단(3)과 별개로 될 경우도 있다.1, the measuring means 1 is constituted by the calculating means 2 and the control means 3 to constitute the concentration managing apparatus A and further includes a means for measuring the characteristic value of the developer by sampling the developer, The present invention is not limited to this. It is preferable that each of the detectors of the characteristic
연산 수단(2)은, 다변량 해석법에 따른 연산 블록(21)을 포함하고 있다. 연산 수단(2)은, 또한, 다변량 해석법과는 다른 연산 방법에 따른 연산 블록을 포함하고 있어도 된다. 예를 들면, 검출한 현상액의 특성값으로부터 검량선법에 의해 대응하는 현상액의 성분 농도를 산출하는 연산 블록 등이다. 다변량 회석법에 따른 연산 블록(21)은, 측정 데이터용 신호선(51)에 의해 측정 수단(1)에 구비된 제1 검출기(11)와, 측정 데이터용 신호선(52)에 의해 측정 수단(1)에 구비된 제2 검출기(12)와, 측정 데이터용 신호선(53)에 의해 측정 수단(1)에 구비된 제3 검출기(13)와 접속되어 있다.The calculation means 2 includes a
다음으로, 현상액의 농도 관리 장치(A)에 의한 현상액의 특성값의 측정 동작, 및, 현상액의 성분 농도의 연산 동작에 대해 설명한다.Next, the measurement operation of the developer value of the developer by the developer concentration managing apparatus A and the calculation operation of the developer concentration of the developer will be described.
샘플링 펌프(14)에 의해 현상액 저류조(61)로부터 채취된 현상액은, 샘플링 배관(15)을 통해, 현상액의 농도 관리 장치(A)의 측정 수단(1) 내로 유도된다. 그 후, 온도 조절 수단을 구비하고 있을 경우는, 샘플링된 현상액은 온도 조절 수단으로 송액되고, 소정의 측정 온도(예를 들면 25℃)로 유지되고, 특성값 검출 수단(11, 12, 13)으로 송액된다. 측정 후의 현상액은, 복귀 배관(16)을 통해, 현상액 저류조(61)로 되돌려진다.The developer collected from the
특성값 검출 수단(11, 12, 13)에 의해 측정된 현상액의 특성값의 측정값은, 각각, 측정 데이터용 신호선(51, 52, 53)을 통해, 다변량 해석법의 연산 블록(21)에 보내진다. 연산 블록(21)은, 이들 측정값을 다변량 해석법에 의해 연산해서 현상액의 성분 농도를 산출한다. 이렇게 해서, 현상액의 농도 관리 장치(A)에 의해 현상액의 성분 농도가 측정된다.The measured values of the developer characteristic values measured by the characteristic
연산 수단(2)은, 연산 데이터용 신호선(54)에 의해 제어 수단(3)에 접속되어 있다. 연산 수단과 제어 수단은, 예를 들면 컴퓨터 등에 의해, 일체로 구성되어 있어도 된다.The calculation means 2 is connected to the control means 3 by the calculation data signal
제어 수단(3)은, 제어 블록(31)을 포함한다. 제어 블록(31)은, 보충액 공급용의 배관(81, 82, 83)에 설치된 제어 밸브(41, 42, 43)와, 제어 신호용 신호선(55, 56, 57)에 의해, 접속되어 있다. 제어 수단(3)은, 연산 수단(2)에 의해 산출된 현상액의 농도에 따라, 어떤 보충액을 얼마만큼 보충할지를 결정하고, 보충액을 송액하는 배관에 설치된 제어 밸브를 개폐 제어한다.The control means (3) includes a control block (31). The
보충액 공급용의 배관(81, 82, 83)에는, 또한, 각각, 공급된 보충액의 적산 유량을 측정하는 적산 유량계(151, 152, 153)가 구비되어 있다. 순수 공급용의 배관(83)에는, 적산 유량계를 설치하지 않는 경우도 있다.The
현상액 원액 저류 용기(91), 현상액 신액 저류 용기(92)는 질소 가스로 가압되어 있고, 제어 수단(3)이 제어 밸브(41, 42, 43)를 개폐함에 의해, 보충액이 합류 관로(89)를 통해 현상액에 보급된다. 공급되는 보충액은, 순환 펌프(74)에 의해 순환 관로(90)를 경유해서 현상액 저류조(61)로 되돌려져, 교반된다.The developer
또한, 보충액이란, 예를 들면, 현상액의 원액, 신액, 순수 등의 것을 말한다. 재생액을 포함시킬 경우도 있다. 원액이란, 알칼리 성분 농도가 농후한 미사용의 현상액(예를 들면 20~25％ TMAH 수용액)이다. 신액이란, 알칼리 성분 농도가 현상 공정에서 사용되는 농도와 동일한 농도에서 미사용의 현상액(예를 들면 2.38％ TMAH 수용액)이다. 재생액이란, 사용 완료의 현상액으로부터 불필요물(예를 들면 포토레지스트 성분)을 제거해서 재이용 가능하게 한 현상액이다. 이들은, 보충액으로서의 용도나 효과가 서로 다르다. 예를 들면, 원액은, 알칼리 성분 농도를 높이기 위한 보충액으로, 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도를 낮춘다. 신액은, 알칼리 성분 농도를 유지 혹은 완만히 증감시키고, 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도를 낮추기 위한 보충액이다. 순수는, 각 성분 농도를 낮추기 위한 보충액이다. 재생액은, 용해 포토레지스트 농도를 낮추기 위한 보충액이다. 이하의 실시예의 설명에 있어서도, 마찬가지이다.The replenisher refers to, for example, a developer solution, a fresh solution, or pure water. The regenerant may be included. The undiluted solution is an unused developer (for example, aqueous solution of 20 to 25% TMAH) having a concentrated alkali component concentration. The fresh solution is an unused developer (for example, a 2.38% TMAH aqueous solution) at the same concentration as the concentration of the alkali component used in the developing step. The regenerant solution is a developer solution in which unnecessary matters (for example, photoresist components) are removed from the used developer solution and reused. They have different uses and effects as a replenishing liquid. For example, the stock solution lowers the dissolved photoresist concentration and the absorbed carbon dioxide concentration as a replenisher for increasing the alkali component concentration. The fresh liquid is a replenishing liquid for maintaining or slowly increasing or decreasing the alkali component concentration and lowering the dissolved photoresist concentration and the absorbed carbon dioxide concentration. Pure water is a replenisher to lower the concentration of each component. The regenerant is a replenisher for lowering the concentration of the dissolved photoresist. The same is true in the following description of the embodiment.
제어 수단(3)은, 연산 수단(2)에서 산출된 현상액의 성분 농도와 미리 기억해둔 성분 농도의 관리 목표값을 비교한다. 제어 수단(3)은, 성분 농도를 관리 목표값으로 유지하기 위해 보급하는 것이 필요한 보충액의 선택, 보충액의 공급량의 계산 또는 보충액을 송액하는 배관에 설치된 제어 밸브를 개방으로 해야 할 시간의 계산을 한다. 제어 수단(3)은, 제어 신호용 신호선(55, 56, 57)을 통해, 보충액 공급용의 배관(81, 82, 83)에 설치된 제어 밸브(41, 42, 43)의 어느 적절한 제어 밸브에, 개폐 제어의 신호를 보낸다.The control means (3) compares the component concentration of the developer calculated by the calculation means (2) with the management target value of the previously stored component concentration. The control means 3 calculates the supply amount of the replenishing liquid required for replenishment in order to keep the component concentration at the management target value, the time for which the control valve provided in the pipe for feeding the replenishing liquid is to be opened . The control means 3 is connected to any appropriate control valve of the
제어 신호를 받은 제어 밸브는, 그 제어 신호에 의거하여, 소정 시간 유로를 개방으로 한다. 제어 밸브는, 미리 개방 시의 유량이 설정되어 있다. 그 때문에, 소정 시간 유로를 개방으로 함으로써, 소정 양의 보충액이 공급된다.The control valve, which has received the control signal, opens the flow path for a predetermined time based on the control signal. In the control valve, the flow rate at the time of opening is set in advance. Therefore, by opening the flow path for a predetermined time, a predetermined amount of replenishing liquid is supplied.
예를 들면, TMAH 수용액(현상액)의 알칼리 성분 농도를 2.38％로 관리하는 제어는 다음과 같이 된다. 연산 수단(2)에 의해 산출된 알칼리 성분의 농도가 2.38％보다 낮을 때는, 배관(현상액 원액 공급 배관)(81)에 설치된 제어 밸브(41)를 소정 시간 열어, 현상액 원액 저류 용기(보충액 저류 용기)(91)에 준비해둔 현상액의 원액(20％ TMAH 수용액)을 보급한다. 알칼리 성분의 농도가 2.38％보다 높을 때는, 배관(순수 공급 배관)(83)에 설치된 제어 밸브(43)를 소정 시간 열어, 순수를 보급한다.For example, control for controlling the alkali component concentration of the TMAH aqueous solution (developer) to 2.38% is as follows. When the concentration of the alkali component calculated by the calculation means 2 is lower than 2.38%, the
마찬가지로, 용해 포토레지스트 농도를 소정의 관리 농도 이하로 관리하는 제어는, 다음과 같이 된다. 연산 수단(2)에 의해 산출된 용해 포토레지스트 농도가 소정의 관리값보다 높을 때는, 배관(현상액 신액 공급 배관)(82)에 설치된 제어 밸브(42)를 소정 시간 열어, 현상액 신액 저류 용기(보충액 저류 용기)(92)에 준비해둔 현상액의 신액(미사용의 2.38％ TMAH 수용액)을 보급한다. 보충액으로서 재생액을 보급할 수 있는 시스템 구성으로 되어 있을 때는, 재생액을 보급하는 것이어도 된다.Likewise, the control for controlling the dissolved photoresist concentration to a predetermined management concentration or less is as follows. When the concentration of the dissolved photoresist calculated by the calculation means 2 is higher than the predetermined control value, the
현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 소정의 관리값 이하로 관리하는 제어에 대해서도, 마찬가지로, 다음과 같이 된다. 연산 수단(2)에 의해 산출된 현상액의 흡수 이산화탄소 농도가, 소정의 관리값보다 높을 때는, 배관(현상액 신액 공급용 배관)(82)에 설치된 제어 밸브(42)를 소정 시간 열고, 현상액 신액 저류 용기(보충액 저류 용기)(92)에 준비해둔 현상액의 신액(미사용의 2.38％ TMAH 수용액)을 보급한다.Control for managing the absorbed carbon dioxide concentration of the developing solution to a predetermined management value or less is likewise as follows. When the absorbed carbon dioxide concentration of the developer calculated by the calculation means 2 is higher than the predetermined management value, the
보충액은, 보충액 저류부(C)의 현상액 원액 저류 용기(91), 현상액 신액 저류 용기(92)에 저류되어 있다. 현상액 원액 저류 용기(91), 현상액 신액 저류 용기(92)에는, 가압 가스용 밸브(46, 47)를 구비한 질소 가스용 관로가 접속되어 있고, 이 관로를 통해 공급되는 질소 가스에 의해 가압되어 있다. 또한, 현상액 원액 저류 용기(91), 현상액 신액 저류 용기(92)에는 각각에 보충액용의 배관(81, 82)이 접속되고, 통상 열린 상태의 밸브(48, 49)를 통해 보충액이 송액된다. 보충액용의 배관(81, 82) 및 순수용의 배관(83)에는 제어 밸브(41, 42, 43)가 구비되어 있고, 제어 밸브(41, 42, 43)는 제어 수단(3)에 의해 개폐 제어된다. 제어 밸브가 동작함에 의해, 현상액 원액 저류 용기(91), 현상액 신액 저류 용기(92)에 저류되어 있던 보충액이 압송되고, 또한, 순수가 송액된다. 그 후, 보충액은 합류 관로(89)를 거쳐, 순환 교반 기구(D)와 합류하고, 현상액 저류조(61)에 보급되어 교반된다.The replenishment liquid is stored in the developer stock
보급에 의해 현상액 원액 저류 용기(91) 내 및 현상액 신액 저류 용기(92) 내에 저류된 보충액이 감소하면, 그 내압이 내려가 공급량이 불안정해지기 때문에, 보충액의 감소에 따라 가압 가스용 밸브(46, 47)를 적절히 열고 질소 가스를 공급하여, 현상액 원액 저류 용기(91), 현상액 신액 저류 용기(92)의 내압이 유지되도록 유지된다. 현상액 원액 저류 용기(91), 현상액 신액 저류 용기(92)가 비워졌을 때는, 밸브(48, 49)를 닫고, 보충액을 채운 새로운 보충액 저류조와 교환하거나, 또는, 별도 조달한 보충액을 비워진 현상액 원액 저류 용기(91), 현상액 신액 저류 용기(92)에 다시 충전한다.When the replenishment amount stored in the developer stock
이렇게 해서, TMAH 수용액의 알칼리 성분 농도가 2.38％로, 용해 포토레지스트 농도와 흡수 이산화탄소 농도가 소정의 관리값 이하로, 농도 관리된다. 농도 관리는, 예를 들면, PID 제어(Proportional-Integral-Differential Control) 등에 의해 행해진다.In this way, the concentration of the dissolved photoresist and the absorbed carbon dioxide are controlled to be below the predetermined control value, with the alkali component concentration of the aqueous TMAH solution being 2.38%. The concentration control is performed, for example, by PID control (Proportional-Integral-Differential Control) or the like.
보충액 공급용의 배관(81, 82, 83)에는, 적산 유량계(151, 152, 153)가 설치되어 있다. 적산 유량계(151, 152, 153)는, 보충액 공급용의 배관(81, 82, 83)을 통해 공급된 보충액의 적산 유량을 측정한다. 현상액의 농도 관리 장치(A)에 의해 공급된 보충액은, 적산 유량계(151, 152, 153)를 통과한 후, 합류 관로(89)에서 합류하고, 순환 관로(90)를 통해, 현상액 저류조(61)에 보급된다. 적산 유량계(151, 152, 153)는, 통신 기능을 구비하고 있는 것이 바람직하다. 통신 기능을 구비하고 있으면, 적산 유량을 네트워크에 접속할 수 있다. 측정된 적산 유량의 측정값을, 네트워크를 통해, 파악할 수 있다.
적산 유량계(151, 152, 153)는, 직접적으로 네트워크에 접속될 경우에 한정되지 않고, 간접적으로 네트워크에 접속되는 것이어도 된다. 예를 들면, 적산 유량계(151, 152, 153)가, 현상액의 농도 관리 장치(A) 내에서, 현상액의 농도 관리 장치(A)의 연산나 제어의 기능을 담당하는 컴퓨터에 접속되고, 네트워크에는 현상액의 농도 관리 장치(A)가 접속되도록 하는 태양으로, 간접적으로 네트워크에 접속되는 것이어도 된다.The
또한, 적산 유량계(151, 152, 153)가 접속되는 네트워크는, 공장 내의 로컬 에어리어 네트워크여도 되고, 인터넷 등의 광역적인 네트워크여도 된다.The network to which the
이상과 같이, 본 실시형태의 현상액의 농도 관리 장치, 및, 기판의 현상 처리 시스템에 의해 현상액의 농도 관리가 실현되어, 기판 제조자는 상시 최적인 상태로 관리된 현상액을 사용해서 기판을 현상 처리할 수 있다. 이 때, 보충액을 공급하는 배관(81, 82, 83)에 구비된 적산 유량계(151, 152, 153)에 의해, 공급된 보충액의 적산 유량이 계측된다. 보충액의 적산 유량이 계측되므로, 보충액의 공급량에 의거하는 합리적인 요금의 산출이 가능해진다.As described above, the concentration control of the developer is realized by the developer concentration managing apparatus of the present embodiment and the development processing system of the substrate, and the substrate manufacturer can perform development processing of the substrate by using the developer managed in the optimum state at all times . At this time, the integrated flow rate of the supplied replenishing liquid is measured by the
도 1에 나타낸 본 실시형태의 현상액의 농도 관리 장치, 및, 기판의 현상 처리 시스템은, 어디까지나 예시이고, 이 태양에 한정되지 않는다. 도 1의 현상액의 농도 관리 장치(A)에서는, 보충액 공급용의 배관(81, 82, 83), 제어 밸브(41, 42, 43) 등이 별개로서 구성된 장치를 나타내지만, 보충액 공급용의 배관(81, 82, 83), 제어 밸브(41, 42, 43) 등이 농도 관리 장치(A)와 일체로 구성된 장치로 할 수도 있다. 측정 수단(1)의 내부 구성 등도, 도 1에 한정되지 않고, 현상액의 종류 등에 따라 각종 태양을 취할 수 있다.The developer concentration managing apparatus of this embodiment shown in Fig. 1 and the development processing system of the substrate are only examples, and are not limited to this embodiment. The developer concentration control apparatus A of Fig. 1 shows an apparatus in which the replenishing
통신 기능을 구비한 적산 유량계로서는, 예를 들면, KEYENCE사의 코리올리식 디지털 유량 센서 FD-S 시리즈 등이 알려져 있다. 통신 유닛을 부착함에 의해, 측정한 적산 유량 데이터 등의 다양한 데이터를, 퍼스널 컴퓨터 등과 통신할 수 있다. 따라서, 적산 유량을 원격으로 모니터할 수 있다.As an integrated flowmeter having a communication function, for example, a Coriolis digital flow sensor FD-S series manufactured by KEYENCE Co., Ltd. is known. By attaching the communication unit, it is possible to communicate various data such as measured integrated flow rate data with a personal computer or the like. Therefore, the accumulated flow rate can be remotely monitored.
〔제2 실시형태〕[Second embodiment]
도 2는, 본 실시형태의 현상액의 농도 관리 장치(A)와 현상 처리 장치(B)와 조제 장치(E)와, 현상 처리 장치(B)에 보충액으로서 현상액의 원액을 공급하는 배관(81), 순수를 공급하는 배관(83), 조제 장치(E)에 의해 조제된 현상액의 신액을 공급하는 신액용 배관(84)과, 그들 배관의 각각에 농도 관리 장치(A)에 의해 제어되는 제어 밸브(41, 43, 44), 및, 적산 유량계(151, 153, 154)를 구비하는 기판의 현상 처리 시스템을 설명하기 위한 모식도이다.2 is a schematic diagram showing the structure of the concentration control apparatus A, the developing apparatus B and the dispensing apparatus E of the present embodiment and the piping 81 for supplying the developer solution as the replenishing liquid to the developing apparatus B, A piping 83 for supplying pure water, a
도 2에서는, 보충액으로서 공급되는 현상액의 신액이, 조제 장치(E)에 의해, 그 원료로 되는 현상액의 원액과 순수로부터 자동적으로 조제되어 공급된다. 조제 장치(E)는, 신액용 배관(84)을 통해 현상 처리 장치(B)와 접속되어 있다. 신액용 배관(84)은, 제어 밸브(44)와 적산 유량계(154)를 구비하고 있다.In Fig. 2, a fresh solution of the developer supplied as the replenishing liquid is automatically prepared and supplied from the developer of the developer serving as the raw material and pure water by the preparation device (E). The dispenser E is connected to the developing apparatus B through a new
또한, 도 2에 있어서는, 현상액 원액 저류 용기(91)로부터의 현상액 원액의 공급을 송액 펌프(77)에 의해 송액하는 태양을 나타내고 있다. 액의 송액은, 가스로 가압하는 방법에 한정되지 않고, 송액 펌프에 의해 행할 수도 있다.2 shows a state in which the supply of the developer liquid from the developer
그 외, 현상액의 농도 관리 장치(A) 및 현상 처리 장치(B)의 구성이나 동작에 대해서는, 제1 실시형태와 마찬가지이므로, 그 중복되는 설명을 생략한다.The configuration and operation of the developer concentration managing apparatus A and the developing processing apparatus B are the same as those of the first embodiment, and therefore duplicate explanations thereof will be omitted.
조제 장치(E)는, 주로, 현상액의 신액을 조제하는 신액 조제조(301)와, 조제된 신액을 저류해 둘 신액 저류조(302)와, 조제 장치(E)의 동작을 제어하는 제어 장치(예를 들면 컴퓨터)(331)를 구비하고 있다. 조제 장치(E)는, 현상액 원액 저류 용기(91)와, 현상액 원액 공급 배관(86)을 통해 접속되어 있다. 현상액 원액 저류 용기(91)는, 조제 장치(E)에 접속되는 것과 현상 처리 장치(B)에 접속되는 것을 공통의 하나의 용기로서 도시했지만, 개별적으로 준비되어 있어도 된다. 또한, 조제 장치(E)는, 순수 공급 배관(87)과 접속되어 있다.The dispenser E is mainly composed of a fresh
신액 조제조(301)는, 현상액 원액 공급 배관(86)을 통해 현상액 원액 저류 용기(91)와 접속되어, 현상액의 원액의 공급을 받도록 되어 있다. 신액 조제조(301)는, 순수 공급 배관(87)과 접속되어, 순수의 공급을 받도록 되어 있다. 현상액 원액 공급 배관(86) 및 순수 공급 배관(87)에는, 제어 밸브(341, 342)가 구비되어 있다. 제어 밸브(341, 342)는, 제어 장치(331)에 의해 동작 제어된다. 또한, 현상액 원액 공급 배관(86)에는, 현상액 원액을 송액하기 위한 송액 펌프(78)가 구비되어 있다.The
신액 조제조(301)는, 농도계(311)와 액면계(312)를 구비한다. 농도계(311) 및 액면계(312)는, 각각 신호선(351, 352)을 통해 제어 장치(331)와 접속되고, 측정한 신액 조제조(301)의 농도 정보나 액면 위치 정보가 제어 장치(331)에 보내진다. 또한, 신액 조제조(301)와 신액 저류조(302)는, 연통관(380)에 의해 접속된다. 신액 저류조(302)는 액면계(322)를 구비하고 있다. 액면계(322)는, 신호선(353)에 의해 제어 장치(331)와 접속되어 있고, 신액 저류조(302)의 액면 위치 정보가 제어 장치(331)에 보내진다. 신액 저류조(302)는, 별도, 농도계를 구비하고 있어도 된다.The
현상액의 신액을 조제할 때는, 제어 장치(331)에 의해 제어 밸브(341 및 342)가 적절히 동작 제어되어, 신액 조제조(301)에 현상액의 원액이나 순수가 공급된다. 신액 조제조(301)에서는, 현상액의 원액과 순수가 혼합되어, 소정 농도의 현상액이 조제된다. 농도계(311)는, 신액 조제조(301)에서 조제되는 현상액의 농도를 상시 감시한다.The
신액 조제조(301)의 농도를 감시한 결과, 예를 들면, 조제된 현상액의 농도가 묽을 때에는, 제어 장치(331)에 의해 순수 공급 배관(87)에 구비된 제어 밸브(342)가 닫힌다. 그 때문에, 현상액의 원액의 공급이 상대적으로 늘어나, 신액 조제조(301) 내의 현상액의 농도가 상승한다. 또한, 예를 들면, 조제된 현상액의 농도가 진할 때에는, 제어 장치(331)에 의해 현상액 원액 공급 배관(86)에 구비된 제어 밸브(341)가 닫히고, 순수에 의해 신액 조제조(301) 내의 현상액의 농도가 묽어진다. 제어 장치(331)는, 농도계(311)의 농도 정보에 의거하여 신액 조제조(301)에서 조제되는 현상액을 소정의 농도로 한다.The
신액 조제조(301) 내의 액면 위치가 소정의 하한값보다 낮아졌을 때는, 제어 장치(331)는, 제어 밸브(341, 342)를 열고, 현상액 원액 및 순수의 공급량을 증가시켜, 액면 위치의 회복을 도모한다. 신액 조제조(301) 내의 액면 위치가 소정의 상한값보다 높아졌을 때는, 제어 장치(331)는, 제어 밸브(341 및 342)를 닫고, 현상액 원액 및 순수의 공급을 멈춘다. 신액 저류조(302)의 액면 위치에 대해서도 마찬가지이다. 양쪽 조의 액면은, 조제된 신액을 현상 처리 장치(B)에 공급함에 따라 감소한다. 제어 장치(331)는, 액면계(312, 322)의 액면 위치 정보에 의거하여, 양쪽 조의 액면 위치가 소정의 범위 내에 들어가도록 조제되는 현상액의 액량을 제어한다.The
신액 조제조(301) 내의 현상액은, 그 일부가 순환 관로(381)에 구비된 순환 펌프(371)에 의해 뽑아내 다시 되돌림에 의해, 순환 교반된다. 신액 저류조(302) 내의 현상액도, 마찬가지로, 그 일부가 순환 관로(382)에 구비된 순환 펌프(372)에 의해 뽑아내 다시 되돌림에 의해, 순환 교반된다.A part of the developer in the
신액 조제조(301)에서 조제된 현상액은, 연통관(380)을 통해, 신액 저류조(302)에 보내진다. 신액 저류조(302) 내의 현상액의 액량이 감소함에 의해, 신액 조제조(301) 내의 현상액은, 신액 저류조(302)로 자연 송액된다. 연통관(380)은 적당한 내경과 길이를 구비하고, 신액 조제조(301) 내의 농도 변동이 신액 저류조(302)에 미치지 않도록 하는 농도 변동의 평준화의 효과를 갖는다.The developer solution prepared in the new
신액 저류조(302)에 저류된 현상액의 신액은, 송액 펌프(373)에 의해, 신액용 배관(84)을 통해 현상 처리 장치(B)로 송액된다. 이 때, 신액용 배관(84)에 구비된 적산 유량계(154)에 의해, 공급된 신액의 적산 유량이 계측된다. 신액용 배관(84)의 제어 밸브(343)는 신호선(354)을 통해 제어 장치(331)와 접속되어 있고, 제어 밸브(343)는 제어 장치(331)에 의해 동작 제어된다. 조제한 현상액의 신액을 송액할 때는, 제어 장치(331)는 제어 밸브(343)를 개방으로 한다.The fresh liquid of the developer stored in the fresh
예를 들면, 제어 장치(331)를 현상 처리 장치(B)와 접속해 둔다. 이 경우, 현상 처리 장치(B)로부터 신액 공급 리퀘스트 신호를 받을 때에, 제어 장치(331)가 제어 밸브(343)를 개방으로 하도록 할 수 있다. 또한, 현상액의 농도 관리 장치(A)와 제어 장치(331)를 접속해 두면, 현상액의 농도 관리 장치(A)가 보충액으로서 신액을 보급할 타이밍에, 조제 장치(E)로부터 현상 처리 장치(B)에 현상액의 신액을 공급하게 할 수도 있다. 이 경우, 신액용 배관(84)에는 제어 밸브(44)가 있으므로, 제어 밸브(343)를 생략해도 된다.For example, the
도 2에 나타낸 본 실시형태의 기판의 현상 처리 시스템은, 어디까지나 예시이다. 본 실시형태의 현상 처리 장치와 현상액의 농도 관리 장치와 조제 장치와 적산 유량계를 구비한 기판의 현상 처리 시스템은, 이 태양에 한정되지 않는다.The development processing system of the substrate of this embodiment shown in Fig. 2 is merely an example. The development processing system of the substrate of the present embodiment having the development processing apparatus, the developer concentration managing apparatus, the preparing apparatus, and the integrating flow meter is not limited to this embodiment.
제2 실시형태의 기판의 현상 처리 시스템에 있어서도, 현상액의 농도 관리가 실현되고, 기판 제조자는 상시 최적인 상태로 관리된 현상액을 사용해서 기판을 현상 처리할 수 있다. 이 때, 보충액을 공급하는 배관(81, 83), 신액용 배관(84)에 구비된 적산 유량계(151, 153, 154)에 의해 공급된 보충액의 적산 유량이 계측된다. 보충액의 적산 유량이 계측되므로, 보충액의 공급량에 의거하는 합리적인 요금의 산출이 가능해진다.Also in the development processing system of the substrate of the second embodiment, the concentration control of the developer is realized, and the substrate manufacturer can develop the substrate by using the developer which is always managed in an optimum state. At this time, the accumulated flow rate of the replenishing liquid supplied by the piping 81, 83 for supplying the replenishing liquid and the accumulating
〔제3 실시형태〕[Third embodiment]
도 3은, 본 실시형태의 현상액의 농도 관리 장치(A)와 현상 처리 장치(B)와 재생 장치(F)와 적산 유량계(151, 152, 153, 155)를 구비하는 기판의 현상 처리 시스템을 설명하기 위한 모식도이다.3 is a schematic diagram showing the development processing system of the substrate including the developer concentration managing apparatus A, the developing processing apparatus B, the regenerating apparatus F and the
도 3에서는, 현상 처리 장치(B)에서 사용된 현상액이 재생 장치(F)에 의해 재이용 가능하게 재생된다. 재생 장치(F)에 의해 재생된 재생액은, 보충액의 하나로서 현상 처리 장치(B)로 공급된다. 재생 장치(F)는, 재생액용 배관(85)을 통해 현상 처리 장치(B)와 접속되어 있다. 재생액용 배관(85)은, 제어 밸브(45)와 적산 유량계(155)를 구비하고 있다.In Fig. 3, the developer used in the developing apparatus B is regenerated by the reproducing apparatus F so as to be reusable. The regenerant liquid regenerated by the regenerator F is supplied to the developing apparatus B as one of the replenishing liquids. The regenerating apparatus F is connected to the developing apparatus B via a regenerating
또한, 도 3의 현상액의 농도 관리 장치(A)는, 현상액의 농도 관리 장치(A) 내에, 제어 밸브(41, 42, 43, 45)나 배관(81, 82, 83), 재생액용 배관(85)을 구비하는 태양이다. 또한, 현상액 원액 저류 용기(91), 및, 현상액 신액 저류 용기(92)에 대해서는, 제1 실시형태와 마찬가지로, 질소 가스로 가압함에 의해 현상액의 원액, 및, 현상액의 신액이 송액되는 태양이다.The developer concentration control apparatus A of Fig. 3 is provided with a developer concentration control apparatus A in which control
또한, 도 3에서는, 적산 유량계(151, 152, 153, 155)는 농도 관리 장치(A)의 외부에 구비된 태양을 도시했지만, 이것에 한정되지 않는다. 제어 밸브(41, 42, 43, 45)와 동일하게, 적산 유량계(151, 152, 153, 155)도, 농도 관리 장치(A) 내에, 그 내부 부품으로서, 구비되어 있어도 된다.In Fig. 3, the
그 외, 현상액의 농도 관리 장치(A) 및 현상 처리 장치(B)의 구성이나 동작에 대해서는, 제1 실시형태와 마찬가지이므로, 그 중복되는 설명을 생략한다.The configuration and operation of the developer concentration managing apparatus A and the developing processing apparatus B are the same as those of the first embodiment, and therefore duplicate explanations thereof will be omitted.
재생 장치(F)는, 주로, 사용된 현상액으로부터 불필요물을 제거하여 현상액을 재생하는 필터(461, 462, 463)와, 재생액을 저류해 두는 재생액 저류조(493)와, 재생 장치(F)의 동작을 제어하는 제어 장치(예를 들면 컴퓨터)(431)를 구비하고 있다. 재생 장치(F)는, 현상 처리 장치(A)로부터 폐액(드레인)된 현상액을 저류하는 사용 완료 현상액 저류 용기(99)와 사용 완료 현상액 송액 배관(88)을 통해 접속되어 있다. 사용 완료 현상액 송액 배관(88)에는 송액 펌프(76)가 설치되고, 사용 완료 현상액 저류 용기(99) 내의 현상액이 재생 장치(F)로 송액된다.The regenerator F mainly includes
필터(461, 462, 463)는, 사용 완료 현상액 송액 배관(88)과 접속되어 있고, 현상 처리 장치(B)로부터 폐액(드레인)된 현상액이 송액된다. 필터(461, 462, 463)는, 현상액 중의 불필요물, 예를 들면 현상액 중에 현탁된 레지스트 잔사(殘渣) 등을 제거한다. 필터(461, 462, 463)에 의해 재생된 현상액은, 재생액 저류조(493)에 저류된다.The
재생액 저류조(493)에 저류된 재생액은, 송액 펌프(471)에 의해 제어 밸브(441)를 통해, 재생 장치(F)와 현상 처리 장치(B)를 접속하는 재생액용 배관(85)으로 송액되고, 재생액용 배관(85)을 통해 현상 처리 장치(B)로 송액된다. 이 때, 재생액용 관로(85)에 구비된 적산 유량계(155)에 의해, 공급된 재생액의 적산 유량이 계측된다.The regenerant liquid stored in the regenerating
제어 밸브(441) 및 송액 펌프(471)는, 각각 신호선(451, 452)에 의해 제어 장치(431)와 접속되어 있다. 제어 밸브(441) 및 송액 펌프(471)는, 제어 장치(431)에 의해 동작 제어된다. 재생액을 송액할 때는, 제어 장치(431)는, 송액 펌프(471)를 구동하고, 제어 밸브(441)를 개방으로 한다.The
예를 들면, 제어 장치(431)를 현상 처리 장치(B)와 접속해 둔다. 이 경우, 현상 처리 장치(B)로부터 재생액 공급 리퀘스트 신호를 받을 때에, 제어 장치(431)가 제어 밸브(441)를 개방으로 하게 할 수 있다. 또한, 현상액의 농도 관리 장치(A)와 제어 장치(431)를 접속해 두면, 현상액의 농도 관리 장치(A)가 보충액으로서 재생액을 보급할 타이밍에, 재생 장치(F)로부터 현상 처리 장치(B)로 재생액을 공급하게 할 수도 있다. 이 경우, 재생액용 배관(85)에는 제어 밸브(45)가 있으므로, 제어 밸브(441)를 생략해도 된다.For example, the
도 3에 나타낸 본 실시형태의 기판의 현상 처리 시스템은, 어디까지나 예시이다. 본 실시형태의 현상 처리 장치와 현상액의 농도 관리 장치와 재생 장치와 적산 유량계를 구비한 기판의 현상 처리 시스템은, 이 태양에 한정되지 않는다.The development processing system of the substrate of this embodiment shown in Fig. 3 is merely an example. The development processing system of the substrate of the present embodiment having the development processing apparatus, the developer concentration managing apparatus, the regenerating apparatus, and the integrating flow meter is not limited to this embodiment.
또한, 현상액을 재생하는데 사용되는 원리는, 필터에 의한 여과에 한정되지 않는다. 예를 들면, 필터에 의한 여과 대신에, 정석, 전석, 막 분리 등을 사용할 수 있다. 약액이나 분리해야 할 불필요물의 성질 등에 따라, 적절히 상응하는 원리에 따른 설비를 사용하는 것이 바람직하다.Further, the principle used for regenerating the developer is not limited to the filtration by the filter. For example, in place of filtration by a filter, crystallization, electroplating, membrane separation and the like can be used. It is preferable to use the equipment according to a suitable principle according to the chemical liquid or the property of the unnecessary material to be separated.
또한, 도 3에서는, 필터가 3개 병렬로 접속된 태양을 도시했지만, 필터의 개수는 3개로 한정되지 않는다. 1개여도 된다. 필터는, 사용에 따라 경시적으로 막힘을 일으키는 것이 있으므로, 그 때의 메인터넌스의 상황을 고려해서, 복수의 필터를 병렬로 구비하고 있는 것이 바람직하다.In Fig. 3, three filters are connected in parallel. However, the number of filters is not limited to three. It may be one. Since the filter may cause clogging with time depending on the use, it is preferable that a plurality of filters are provided in parallel in consideration of the state of maintenance at that time.
제3 실시형태의 기판의 현상 처리 시스템에 있어서도, 현상액의 농도 관리가 실현되어, 기판 제조자는 상시 최적인 상태로 관리된 현상액을 사용해서 기판을 현상 처리할 수 있다. 이 때, 보충액을 공급하는 배관(81, 82, 83), 재생액용 배관(85)에 구비된 적산 유량계(151, 153, 153, 155)에 의해 공급된 보충액의 적산 유량이 계측된다. 보충액의 적산 유량이 계측되므로, 보충액의 공급량에 의거하는 합리적인 요금의 산출이 가능해진다.Also in the development processing system of the substrate of the third embodiment, concentration control of the developer is realized, and the substrate manufacturer can develop the substrate by using a developer that is always managed in an optimum state. At this time, the integrated flow rate of the replenishing liquid supplied by the piping 81, 82, 83 for supplying the replenishing liquid and the accumulating
또한, 제2 실시형태에 있어서 조제 장치(E)를 구비하는 기판의 현상 처리 시스템을 설명하고, 제3 실시형태에 있어서 재생 장치(F)를 구비하는 기판의 현상 처리 시스템을 각각 설명했지만, 조제 장치(E) 및 재생 장치(F)의 양쪽을 구비하는 구성으로 해도 된다.In the second embodiment, the development processing system of the substrate having the dispenser E is described, and the development processing system of the substrate having the dispenser F is described in the third embodiment. However, It may be configured to include both the apparatus E and the reproducing apparatus F.
〔제4 실시형태〕[Fourth Embodiment]
도 4는, 본 실시형태의 현상액의 농도 관리 장치(A)와, 현상 처리 장치(B)를 구비하는 기판의 현상 처리 시스템을 설명하기 위한 모식도이다. 도 4에 나타내는 기판의 현상 처리 시스템의 현상액의 농도 관리 장치(A)는, 현상액의 농도 관리 장치(A) 내에, 제어 밸브(41, 42, 43)나 보충액 공급용의 배관(81, 82, 83)이 배치된 태양을 나타내고 있다. 그러나, 이것에 한정되지 않고, 제어 밸브(41, 42, 43)나 배관(81, 82, 83)은, 현상액의 농도 관리 장치(A) 밖에 존재하는 태양이어도 된다. 제어 수단(3)이, 제어 밸브(41, 42, 43)의 동작을 제어해서, 현상액에 보충액을 보급할 수 있도록, 제어 밸브(41, 42, 43)와 연락하고 있으면 된다.4 is a schematic diagram for explaining a development processing system for a substrate including the developer concentration managing apparatus A and the developing processing apparatus B of the present embodiment. The concentration control apparatus A of the developer in the development processing system of the substrate shown in Fig. 4 is provided with the
제4 실시형태에 따른 현상액의 농도 관리 장치(A) 및 기판의 현상 처리 시스템은, 현상액 중의 흡수 이산화탄소 농도와 현상액의 밀도값 사이에 비교적 양호한 대응 관계(직선 관계)(특허문헌 2의 도 1 참조)가 얻어지는 것을 이용하여, 측정된 밀도값 또는 산출된 흡수 이산화탄소 농도값에 의거하여 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 보충액의 보급에 의해 관리한다. 또한, 현상 처리 장치(A), 보충액 저류부(C) 등의 제1 실시형태와 마찬가지인 구성에 대해서는, 그 설명을 생략할 경우가 있다.The developing solution concentration control apparatus (A) and the development processing system of the substrate according to the fourth embodiment have a relatively good correspondence relationship (linear relationship) between the absorbed carbon dioxide concentration in the developer and the density value of the developer (see FIG. 1 of Patent Document 2) ) Is obtained, the absorbed carbon dioxide concentration of the developer is managed by the replenishment of the replenisher on the basis of the measured density value or the calculated absorbed carbon dioxide concentration value. The description of the components similar to those of the first embodiment, such as the developing apparatus A and the replenishing liquid storage section C, may be omitted.
측정 수단(1)은, 샘플링 펌프(14)와, 제1 검출기(11), 제2 검출기(12), 및, 제3 검출기(13)(제1 검출기(11), 제2 검출기(12), 및, 제3 검출기(13)를 특성값 검출 수단이라 할 경우가 있음), 샘플링한 현상액을 측정 전에 소정의 측정 온도(예를 들면 25℃)로 온도 조정하기 위한 항온조(도시생략) 등을 구비하고 있다.The measuring means 1 includes a
측정 수단(1)으로 밀도를 측정하는 것만으로 좋은 경우는, 예를 들면, 제1 검출기(11)로서 밀도계를 구비하고 있으면 되고, 다른 특성값을 측정하는 검출기(예를 들면 12, 13)는 불필요하다. 그러나, 알칼리성 현상액의 성분 측정은, 흡수 이산화탄소 농도뿐만 아니라, 알칼리 성분의 농도나, 현상액에 용해된 포토레지스트 농도를 측정할 경우가 많다. 그 때문에, 도 4에서는, 알칼리 성분 농도나 용해 포토레지스트 농도 등을 측정하기 위해 필요한 다른 검출기도 포함한 특성값 검출 수단(11, 12, 13)을 기재하고 있다. 이 중 하나가 밀도계이다. 이하의 현상액의 농도 관리 장치(A)의 설명에서는, 도 4의 특성값 검출 수단(11, 12, 13) 중 검출기(11)를 밀도계라 한다.In the case where it is sufficient to measure the density with the measuring means 1, for example, a density meter may be provided as the
연산 수단(2)은, 측정된 밀도값으로부터 현상액의 밀도와 흡수 이산화탄소 농도 사이의 대응 관계를 사용해서 흡수 이산화탄소 농도값을 산출하는 연산 블록(24)을 구비하고 있다. 연산 블록(24)에는, 현상액의 밀도와 흡수 이산화탄소 농도의 대응 관계가 미리 입력되어 있다. 연산 블록(24)은, 측정된 현상액의 밀도값으로부터 대응하는 흡수 이산화탄소 농도값을 구하는 기능을 구비하고 있다.The computation means (2) has a computation block (24) for computing the absorbed carbon dioxide concentration value by using the corresponding relationship between the density of the developer and the absorbed carbon dioxide concentration from the measured density value. In the
또한, 연산 수단(2)은, 흡수 이산화탄소 이외의 다른 현상액의 성분 농도를 산출하는 연산 블록을 구비하고 있어도 된다. 예를 들면, 다변량 해석법에 의해 현상액의 알칼리 성분 농도나 용해 포토레지스트 농도를 산출하는 연산 블록 등이다.The calculation means 2 may be provided with a calculation block for calculating the component concentration of the developer other than the absorbed carbon dioxide. For example, a calculation block for calculating the concentration of the alkali component of the developer or the concentration of the dissolved photoresist by a multivariate analysis method, or the like.
다음으로, 현상액의 농도 관리 장치(A)에 의한, 성분 농도 측정 방법에 대해 설명한다. 측정 수단(1)은, 샘플링 배관(15)에 의해 현상액 저류조(61)와 접속된다. 현상액은, 샘플링 펌프(14)에 의해 측정 수단(1) 내로 송액된다. 측정 수단(1)으로 송액된 현상액은, 우선 항온조에서 소정의 측정 온도(예를 들면 25℃)로 온도 조정된다. 밀도계(11)는, 현상액의 밀도를 측정한다. 다른 검출기(12, 13)도, 각각 현상액의 특성값을 측정한다. 측정 후의 현상액은, 복귀 배관(16)으로부터 현상액의 농도 관리 장치(A) 밖으로 배출되고 현상액 저류조(61)로 되돌아간다.Next, a method of measuring the concentration of a component by the developer concentration control apparatus A will be described. The measuring means 1 is connected to the
밀도계(11)는, 신호선(51)에 의해 연산 수단(2)의 연산 블록(24)과 접속되어 있다. 밀도계(11)에 의해 측정된 현상액의 밀도값은, 신호선(51)을 통해 연산 블록(24)에 보내진다.The
검출기(12, 13)는, 신호선(52, 53)에 의해 연산 수단(2)과 접속되어 있다. 검출기(12, 13)에 의해 측정된 현상액의 특성값은, 신호선(52, 53)을 통해 연산 수단(2)에 보내진다.The
현상액의 밀도값의 측정 데이터를 수취한 연산 블록(24)은, 밀도의 측정 데이터에 의거하여, 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 산출한다. 현상액의 흡수 이산화탄소 농도는, 현상액의 밀도와 흡수 이산화탄소 농도 사이의 대응 관계를 사용해서 산출된다. 즉, 현상액의 밀도와 흡수 이산화탄소 농도 사이의 대응 관계로부터, 측정된 현상액의 밀도값에 대응하는 흡수 이산화탄소 농도값을 얻고, 이것을 현상액의 흡수 이산화탄소 농도의 측정값으로 한다.The
이렇게 해서, 본 실시형태의 현상액의 농도 관리 장치(A)는, 현상액의 밀도의 측정값에 의거하여, 현상액의 밀도와 흡수 이산화탄소 농도의 대응 관계로부터, 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 측정할 수 있다.Thus, the developer concentration managing device A of the present embodiment can measure the absorbed carbon dioxide concentration of the developer from the correspondence between the density of the developer and the absorbed carbon dioxide concentration, based on the measured value of the density of the developer.
또한, 연산 수단(2)은, 밀도의 측정값으로부터 흡수 이산화탄소 농도를 산출하는 연산 블록(24) 외에, 현상액의 알칼리 성분 농도나 용해 포토레지스트 농도 등, 다른 성분 농도를 산출하는 연산 블록을 구비하고 있어도 된다. 그렇게 함으로써, 현상액의 알칼리 성분 농도, 용해 포토레지스트 농도, 및, 흡수 이산화탄소 농도를 측정할 수 있다.The calculation means 2 includes a
밀도계를 사용해서 측정된 현상액의 밀도값에 의거하여, 현상액의 밀도와 흡수 이산화탄소 농도 사이의 대응 관계로부터, 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 제어하는 농도 관리를 실현함에 있어서, 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 산출하는 것은, 필수라는 것은 아니다. 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 산출하지 않아도, 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 소정의 관리값으로 되도록, 또는, 소정의 관리값 이하로 되도록, 제어하는 것은 가능하다.Based on the density value of the developing solution measured using the density meter, in order to realize the concentration control for controlling the absorbed carbon dioxide concentration of the developing solution from the correspondence between the density of the developing solution and the absorbed carbon dioxide concentration, the absorbed carbon dioxide concentration of the developing solution is calculated It is not necessary to do. It is possible to control the absorbed carbon dioxide concentration of the developer to be a predetermined control value or below a predetermined control value without calculating the absorbed carbon dioxide concentration of the developer.
특허문헌 2의 도 1에 있는 바와 같이, 현상액의 밀도와 흡수 이산화탄소 농도 사이에는 양호한 대응 관계(흡수 이산화탄소 농도가 증가하면 밀도가 증가하는 직선 관계)가 있음이 알려져 있다. 그 때문에, 흡수 이산화탄소 농도의 소정의 관리값에 대응하는 밀도의 관리값을, 이 대응 관계로부터 얻을 수 있다. 따라서, 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 소정의 관리값으로 되도록 하는 제어는, 현상액의 밀도를 대응하는 소정의 밀도값으로 되도록 하는 제어와 동일한 것이다. 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 소정의 관리값 이하로 되도록 하는 제어는, 현상액의 밀도를 대응하는 소정의 밀도값 이하로 되도록 하는 제어와 동일한 것이다. 그러므로, 측정된 현상액의 밀도값으로부터 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 산출하는 것은, 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 소정의 관리값으로 되도록, 또는, 소정의 관리값 이하로 되도록 제어하는데, 필수는 아니다.As shown in FIG. 1 of
이 의미에서, 도 4의 연산 수단(2)이나 연산 블록(24)은, 없어도 된다. 이 경우에는, 밀도계(11)는, 측정 데이터용 신호선(51)에 의해, 제어 수단(3)에 접속된다. 밀도계(11)에서 측정된 현상액의 밀도의 측정 데이터는, 직접, 제어 수단(3)에 보내진다.In this sense, the calculation means 2 and the
제어 수단(3)은, 연산 수단(2)에서 산출된 흡수 이산화탄소 농도에 의거하여, 현상액의 흡수 이산화탄소 농도가 소정의 관리값 또는 관리값 이하로 되도록, 현상액에 보충액을 보급하여 제어하기 위한 제어 블록(32)을 구비하고 있다. 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 대응하는 현상액의 밀도에 의해 관리할 경우에는, 제어 블록(32)에는, 현상액의 밀도와 흡수 이산화탄소 농도의 대응 관계에 의거하여 결정되는 흡수 이산화탄소 농도의 관리값에 대응하는 밀도의 관리값이 설정되어 있다. 제어 수단(3)은, 연산 수단(2)으로 산출된 현상액의 흡수 이산화탄소 농도에 의해, 또는, 밀도계(11)로부터 수취한 현상액의 밀도의 측정값에 의해, 이하와 같이 제어를 행한다.The control means 3 controls the supply of the replenishing liquid to the developing liquid so that the absorbed carbon dioxide concentration of the developing liquid becomes a predetermined management value or a management value or less on the basis of the absorbed carbon dioxide concentration calculated by the calculating means 2, (32). In the case where the absorbed carbon dioxide concentration of the developer is controlled by the density of the corresponding developing solution, the
현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 소정의 관리값으로 되도록, 또는, 대응하는 소정의 밀도의 관리값으로 되도록 관리할 경우는, 다음과 같은 관리를 행한다. 즉, 산출된 현상액의 흡수 이산화탄소 농도값이 소정의 관리값으로 되도록, 또는, 측정된 현상액의 밀도값이 흡수 이산화탄소 농도의 관리값에 대응하는 밀도의 관리값으로 되도록, 현상액에 보충액을 보급한다. 농도 관리받지 않으면, 현상액은 이산화탄소를 흡수하여, 흡수 이산화탄소 농도 및 밀도가 증가하는 경향이 있음을 감안해, 보급하는 보충액은 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 묽게 하도록 작용하는 보충액을 보급하면 된다.In the case where the absorbed carbon dioxide concentration of the developer is controlled to be a predetermined control value or a control value of a corresponding predetermined density, the following control is performed. That is, the replenishing liquid is replenished to the developer so that the absorbed carbon dioxide concentration value of the calculated developer becomes a predetermined control value or the density value of the measured developer becomes the control value of density corresponding to the control value of the absorbed carbon dioxide concentration. Taking into consideration that the developer absorbs carbon dioxide and the absorbed carbon dioxide concentration and density tend to increase unless the concentration is controlled, the replenishing liquid to be replenished can be replenished with a replenishing liquid which functions to dilute the absorbed carbon dioxide concentration of the developing liquid.
현상액의 이산화탄소 농도를 소정의 관리값 이하로 되도록, 또는, 대응하는 소정의 밀도의 관리값 이하로 되도록 관리할 경우는, 다음과 같은 관리를 행한다. 즉, 현상액의 밀도와 흡수 이산화탄소 농도의 대응 관계는 단조증가의 관계이므로, 측정된 현상액의 밀도값이 흡수 이산화탄소 농도의 관리값에 대응하는 밀도의 관리값 이하로 되도록, 현상액에 보충액을 보급한다. 보급하는 보충액은 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 묽게 하도록 작용하는 보충액을 보급하면 된다.When the concentration of carbon dioxide in the developer is controlled so as to be equal to or lower than a predetermined control value or to be equal to or lower than the control value of the corresponding predetermined density, the following control is performed. That is, since the correspondence between the density of the developing solution and the absorbed carbon dioxide concentration is a monotone increasing relationship, the replenishing solution is replenished to the developing solution so that the density value of the measured developing solution becomes equal to or less than the control value of density corresponding to the control value of the absorbed carbon dioxide concentration. The replenishing liquid to be replenished can be replenished with a replenishing liquid which serves to dilute the absorbed carbon dioxide concentration of the developer.
여기에서, 「소정의 관리값」이란, 현상액이 최적인 현상 성능을 발휘할 때의 흡수 이산화탄소 농도값으로서 미리 알려져 있는 관리값이다. 예를 들면 현상액의 액 성능을 현상 처리에 의해 기판에 형성된 선폭이나 잔존 막 두께로 평가할 때는, 이들을 원하는 최적값으로 할 수 있는 현상액의 흡수 이산화탄소 농도값이다. 이하의 설명에 있어서도, 마찬가지이다.Here, the " predetermined management value " is a management value that is known in advance as the absorbed carbon dioxide concentration value when the developer exhibits optimum developing performance. For example, when evaluating the liquid performance of the developer with the line width or the remaining film thickness formed on the substrate by the developing process, it is the absorbed carbon dioxide concentration value of the developer which can make them optimum values desired. The same goes for the following description.
현상액의 흡수 이산화탄소 농도의 관리로서는, 예를 들면, 현상액으로서 2.38％ TMAH 수용액을 사용할 경우, 현상액의 흡수 이산화탄소 농도는 0.40(wt％) 이하로 관리하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 0.25(wt％) 이하로 관리하는 것이 좋다.As the management of the absorbed carbon dioxide concentration of the developer, for example, when a 2.38% TMAH aqueous solution is used as the developer, the absorbed carbon dioxide concentration of the developer is preferably controlled to 0.40 (wt%) or less. More preferably 0.25 (wt%) or less.
현상액에 보급되는 보충액으로서는, 예를 들면, 현상액의 원액이나 신액, 순수 등이 있다. 이들 보충액은, 현상액의 흡수 이산화탄소 농도를 묽게 하기 위한 것이다. 이들 보충액은, 현상액의 알칼리 성분 농도나 용해 포토레지스트 농도를 관리하기 위해서도, 보급된다.Examples of the replenishment liquid replenished to the developer include a stock solution, a fresh solution, and pure water for the developer. These replenishers are intended to dilute the absorbed carbon dioxide concentration of the developer. These replenishing liquids are also spread to manage the alkali component concentration of the developer and the dissolved photoresist concentration.
보충액 공급용의 배관(81, 82, 83)에는, 적산 유량계(151, 152, 153)가 설치되어 있다. 적산 유량계(151, 152, 153)는, 보충액 공급용의 배관(81, 82, 83)을 통해 공급된 보충액의 적산 유량을 계측한다. 이 계측된 보충액의 적산 유량에 의거하여, 합리적인 요금의 산출이 가능하다.
또한, 도 4에 나타내는 기판의 현상 처리 시스템에 대해서는, 현상액의 조제 장치, 및, 현상액의 재생 장치는 기재하고 있지 않지만, 현상액의 조제 장치, 및, 현상액의 재생 장치 중 어느 한쪽, 또는, 양쪽을 갖는 구성으로 할 수도 있다. 현상액의 조제 장치, 및, 현상액의 재생 장치의 구성에 대해서는, 각각, 제2 실시형태 및 제3 실시형태와 공통되므로, 그 설명을 생략한다.4, the apparatus for preparing a developer and the apparatus for regenerating the developer are not described, but any one or both of the apparatus for preparing a developer and the apparatus for regenerating the developer may be used As shown in Fig. The constitution of the developer for developer, and the constitution of the developer for developer are the same as those of the second and third embodiments, respectively, and the description thereof will be omitted.
〔제5 실시형태〕[Fifth Embodiment]
도 5는, 본 실시형태의 현상액의 농도 관리 장치(A)와, 현상 처리 장치(B)를 구비하는 기판의 현상 처리 시스템을 설명하기 위한 모식도이다. 도 5에 나타내는 기판의 현상 처리 시스템의 현상액의 농도 관리 장치(A)는, 현상액의 농도 관리 장치(A)의 내부 부품으로서, 제어 밸브(41, 42, 43)를 구비하고 있다. 제어 수단(22)이, 제어 밸브(41, 42, 43)의 동작을 제어해서, 현상액에 보충액을 보급할 수 있도록, 제어 밸브(41, 42, 43)와 연락하고 있으면 된다. 제어 밸브(41, 42, 43)는, 현상액의 농도 관리 장치(A) 밖에 존재하는 태양이어도 된다. 또한, 현상 처리 장치(B), 보충액 저류부(C) 등의 제1 실시형태와 마찬가지인 구성에 대해서는, 그 설명을 생략할 경우가 있다.5 is a schematic diagram for explaining a development processing system of a substrate including the developer concentration managing apparatus A and the developing processing apparatus B of the present embodiment. The concentration control apparatus A of the developer in the development processing system of the substrate shown in Fig. 5 is provided with
제5 실시형태에 따른 현상액의 농도 관리 장치(A) 및 기판의 현상 처리 시스템의 발명자는, 현상액으로서 TMAH 수용액의 관리를 행할 경우를 상정해서, 용해 포토레지스트 농도, 흡수 이산화탄소 농도를 다양하게 변화시켜서, 그 용해 포토레지스트 농도와 흡수 이산화탄소 농도에 있어서의 현상액의 포토레지스트에 대한 현상 성능과, 현상액의 도전률값의 관계를 구했다.The inventor of the developer concentration managing apparatus (A) and the developer processing system of the substrate according to the fifth embodiment presupposes the case where the aqueous solution of TMAH is to be managed as a developing solution and varies the dissolved photoresist concentration and the absorbed carbon dioxide concentration , The relationship between the development performance of the developer in the photoresist concentration and the absorbed carbon dioxide concentration of the dissolution photoresist and the conductivity value of the developer was obtained.
발명자는, 흡수 이산화탄소 농도를 0.0~1.3(wt％) 사이에서 변화시켜, 용해 포토레지스트 농도를 0.0~0.40(wt％)(파장 560㎚에서의 흡광도 0.0~1.3(abs) 상당)(이하, 마찬가지로 농도와 흡광도를 병기할 경우가 있음) 사이에서 변화시킨 TMAH 수용액의 현상액의 샘플을 조제했다. 발명자는, 이들 샘플에 대해, 현상액의 도전률, 흡수 이산화탄소 농도, 및, 용해 포토레지스트 농도를 측정하고, 현상 성능, 도전률, 흡수 이산화탄소 농도, 및, 용해 포토레지스트 농도 성분과의 상관을 확인하는 실험을 행했다. 흡수 이산화탄소 농도를 하나의 항목으로 하고 종 또는 횡으로 배열하고, 용해 포토레지스트 농도를 다른 항목으로 하고, 횡 또는 종으로 배열한 매트릭스(조합 표)를 작성했다. 흡수 이산화탄소 농도와 용해 포토레지스트 농도의 조합마다, 포토레지스트에 대한 소정의 현상 성능을 만족하는, 현상액의 도전률을 구하고, 각 란에 기입하여, 매트릭스를 완성시켰다.The inventors have found that when the concentration of dissolved photoresist is changed in a range of 0.0 to 0.40 (wt%) (corresponding to an absorbance of 0.0 to 1.3 (abs) at a wavelength of 560 nm) The concentration and the absorbance may be sometimes referred to as " TMAH aqueous solution "). The inventors of the present invention measured the conductivity of the developer, the absorbed carbon dioxide concentration, and the concentration of the dissolved photoresist on these samples and confirmed the correlation with the developing performance, the conductivity, the absorbed carbon dioxide concentration, and the dissolved photoresist concentration component An experiment was conducted. A matrix (combination table) in which the absorbed carbon dioxide concentration was set as one item and arranged in the longitudinal or transverse direction, and the concentration of the dissolved photoresist was set as another item and arranged horizontally or vertically was prepared. For each combination of the absorbed carbon dioxide concentration and the dissolved photoresist concentration, the conductivity of the developer satisfying the predetermined developing performance for the photoresist was obtained and written in each column to complete the matrix.
여기에서, 소정의 현상 성능이란, 현상 공정에서 실현하고자 하고 있는 선폭이나 잔존 막 두께가 실현될 때의 현상액의 현상 성능을 의미한다.Here, the predetermined developing performance means the developing performance of the developing solution when the line width or the remaining film thickness to be realized in the developing process is realized.
대표적인 각 샘플의 흡수 이산화탄소 농도, 용해 포토레지스트 농도, 및, 도전률의 측정 결과를 예시한다. 흡수 이산화탄소 농도가 0.0(wt％)이고, 용해 포토레지스트 농도가 0.0(wt％)(0.0(abs) 상당)인 경우(소위 신액), 소정의 현상 성능을 발휘할 수 있는 현상액의 도전률은 54.58(mS/cm)이었다.Representative measurement results of the absorbed carbon dioxide concentration of each sample, the dissolved photoresist concentration, and the conductivity are shown. When the absorbed carbon dioxide concentration is 0.0 (wt%) and the dissolved photoresist concentration is 0.0 (wt%) (equivalent to 0.0 (abs)) (so-called fresh solution), the conductivity of the developer capable of exhibiting predetermined developing performance is 54.58 mS / cm).
흡수 이산화탄소 농도가 0.0(wt％)이고, 용해 포토레지스트 농도가 0.25(wt％)(0.8abs 상당)인 경우, 소정의 현상 성능을 발휘할 수 있는 현상액의 도전률은 54.55(mS/cm)이고, 용해 포토레지스트 농도가 0.40(wt％)(1.3abs 상당)인 경우, 현상액의 도전률은 54.53(mS/cm)이었다.When the absorbed carbon dioxide concentration is 0.0 (wt%) and the dissolved photoresist concentration is 0.25 (wt%) (equivalent to 0.8abs), the conductivity of the developer capable of exhibiting predetermined developing performance is 54.55 (mS / cm) When the concentration of the dissolved photoresist was 0.40 (wt%) (corresponding to 1.3abs), the conductivity of the developer was 54.53 (mS / cm).
또한, 용해 포토레지스트 농도가 0.0(wt％)(0.0(abs) 상당)이고, 흡수 이산화탄소 농도가 0.6(wt％)인 경우, 현상액의 도전률은 54.60(mS/cm)이고, 흡수 이산화탄소 농도가 1.3(wt％)인 경우, 현상액의 도전률은 54.75(mS/cm)였다.When the dissolved photoresist concentration is 0.0 (wt%) (corresponding to 0.0 (abs)) and the absorbed carbon dioxide concentration is 0.6 (wt%), the conductivity of the developer is 54.60 (mS / cm) 1.3 (wt%), the conductivity of the developer was 54.75 (mS / cm).
또한, 흡수 이산화탄소 농도가 0.6(wt％)이고, 용해 포토레지스트 농도가 0.22(wt％)(0.7abs 상당)인 경우, 현상액의 도전률은 54.60(mS/cm)이고, 용해 포토레지스트 농도가 0.40(wt％)(1.3abs 상당)인 경우, 현상액의 도전률은 54.58(mS/cm)이었다.When the absorbed carbon dioxide concentration is 0.6 (wt%) and the dissolved photoresist concentration is 0.22 (wt%) (corresponding to 0.7abs), the conductivity of the developer is 54.60 (mS / cm) (wt%) (corresponding to 1.3abs), the conductivity of the developer was 54.58 (mS / cm).
또한, 흡수 이산화탄소 농도가 1.3(wt％)이고, 용해 포토레지스트 농도가 0.22(wt％)(0.7abs 상당)인 경우, 현상액의 도전률은 54.75(mS/cm)이고, 용해 포토레지스트 농도가 0.40(wt％)(1.3abs 상당)인 경우, 현상액의 도전률은 54.75(mS/cm)였다.When the absorbed carbon dioxide concentration is 1.3 (wt%) and the dissolved photoresist concentration is 0.22 (wt%) (equivalent to 0.7abs), the conductivity of the developer is 54.75 (mS / cm) (wt%) (corresponding to 1.3abs), the conductivity of the developer was 54.75 (mS / cm).
또한, 상술한 실험에 있어서는, 어떤 농도 영역에 있어서, 흡수 이산화탄소 농도가 커지면, 도전률의 관리값이 커지는 경향이 있고, 용해 포토레지스트 농도가 커지면, 도전률의 관리값이 작아지는 경향이 보였다.In the experiment described above, the management value of the conductivity tends to increase when the absorbed carbon dioxide concentration increases in a certain concentration region, and the management value of the conductivity tends to decrease when the concentration of the dissolved photoresist increases.
상술한 실험에서는, 각 샘플의 현상액의 도전률은 도전률계에 의해 측정한 값을 사용했다. 흡수 이산화탄소 농도는 적정 분석법에 의해 측정한 값을 사용했다. 용해 포토레지스트 농도는 중량 조제값을 사용했다. 적정은, 염산을 적정 시약으로 하는 중화 적정이다. 적정 장치로서, 미츠비시가가쿠 아나리테크사제의 자동 적정 장치 GT-200을 사용했다.In the above experiment, the conductivity of each developer in each sample was measured by a conductivity meter. The absorbed carbon dioxide concentration was determined by the titration method. The concentration of the dissolved photoresist was determined by the weight preparation value. Titration is neutralization titration using hydrochloric acid as titration reagent. As a titration apparatus, Mitsubishi used the GT-200 automatic titrator manufactured by Gakuenari Tech.
또한, 상술한 도전률, 흡수 이산화탄소 농도, 및 용해 포토레지스트 농도는, 도전률, 흡수 이산화탄소 농도, 및 용해 포토레지스트 농도와 현상 성능과의 관계성을 발견하기 위한 것이고, 각 수치에 한정되지 않는다.The conductivity, the absorbed carbon dioxide concentration, and the dissolved photoresist concentration described above are for finding the relationship between the conductivity, the absorbed carbon dioxide concentration, and the dissolved photoresist concentration and developing performance, and are not limited to the respective values.
상술한 바와 같이, 현상 성능을 발휘할 수 있는 도전률은, 흡수 이산화탄소 농도 및 용해 포토레지스트 농도에 의해 다양하게 달라 있음을 이해할 수 있다. 이와 같이, 현상액의 관리에 있어서, 흡수 이산화탄소, 및 용해 포토레지스트를 포함하는 현상액에서는, 도전률을 관리값으로 하고, 또한 흡수 이산화탄소 농도, 및 용해 포토레지스트 농도를 측정하고, 각 측정 결과에 의거하여 도전률의 관리값을 상이하게 함에 의해, 소정의 현상 성능을 발휘시킬 수 있다.As described above, it can be understood that the conductivity rate capable of exhibiting the developing performance varies depending on the absorbed carbon dioxide concentration and the dissolved photoresist concentration. As described above, in the development liquid management, in the developer containing the absorbed carbon dioxide and the dissolved photoresist, the conductivity is set to the control value, the absorbed carbon dioxide concentration and the dissolved photoresist concentration are measured, By differentiating the control value of the conductivity, a predetermined developing performance can be exerted.
즉, 현상액의 용해 포토레지스트 농도, 및 흡수 이산화탄소 농도를 지표로 해서 특정되는 농도 영역마다, 소정의 현상 성능으로 되는 것이 미리 확인된 현상액의 도전률값을 갖는 도전률 데이터(매트릭스)를 기억하고, 도전률 데이터(매트릭스)를 이용함으로써, 소정의 현상 성능을 발휘시킬 수 있는, 현상액의 관리가 가능해진다.That is, the conductivity rate data (matrix) having the conductivity value of the developer, which has been confirmed to have a predetermined developing performance, is stored for each concentration region specified with the concentration of the dissolved photoresist of the developer and the concentration of the absorbed carbon dioxide as an index, By using the rate data (matrix), it becomes possible to manage the developing solution capable of exhibiting a predetermined developing performance.
현상액의 농도 관리 장치(A)는, 측정 수단(1)과 제어 수단(22)을 구비하고 있다. 현상액의 농도 관리 장치(A)는, 샘플링 배관(15) 및 복귀 배관(16)에 의해 현상액 저류조(61)와 접속되어 있다. 또한, 도 5에 있어서는, 제어 밸브(41, 42, 43)가 구비된 보충액 공급용의 배관(81, 82, 83)이 현상액의 농도 관리 장치(A) 내에 배치된 태양을 나타내고, 보충액 공급용의 배관(81, 82, 83)은, 합류 관로(89)를 거쳐, 순환 교반 기구(D)의 순환 관로(90)에 접속되어 있다.The developer concentration control apparatus A is provided with a measuring means 1 and a control means 22. The developer concentration control apparatus A is connected to the
측정 수단(1)은, 샘플링 펌프(14)와, 제1 검출기(11), 제2 검출기(12), 및, 제3 검출기(13)(제1 검출기(11), 제2 검출기(12), 및, 제3 검출기(13)를 특성값 검출 수단이라 할 경우가 있음)를 구비하고 있다. 본 실시형태에 있어서는, 용해 포토레지스트 농도, 및, 흡수 이산화탄소 농도를 지표로 해서 이용된 도전률 데이터를 이용하여, 현상액의 관리를 행한다. 특성값 검출 수단(11, 12, 13)은, 도전률계, 용해 포토레지스트 농도를 측정하는 계측 장치(검출한 특성값으로부터 용해 포토레지스트 농도를 산출하는 연산 기능을 내포함), 흡수 이산화탄소 농도를 측정하는 계측 장치(검출한 특성값으로부터 흡수 이산화탄소 농도를 산출하는 연산 기능을 내포함)로 된다.The measuring means 1 includes a
본 실시형태의 농도 관리 장치(A)의 측정 수단(1)은 현상액의 성분 농도를 연산하는 기능을 각 검출기가 내포하는 태양으로 도시했지만, 이것에 한정되지 않는다. 본 실시형태의 농도 관리 장치(A)는, 제1 실시형태의 농도 관리 장치(A)와 같이, 농도 관리 장치(A)가 연산 수단을 구비하고, 현상액의 특성값을 검출하는 각 검출기가 측정한 현상액의 특성값을 사용해서, 용해 포토레지스트 농도나 흡수 이산화탄소 농도 등의 성분 농도를 산출하는 태양으로 되어 있어도 된다.Although the measuring means 1 of the concentration managing apparatus A of the present embodiment has been described as an embodiment in which each detector contains a function of calculating the component concentration of the developer, the present invention is not limited to this. The concentration managing apparatus A of the present embodiment is characterized in that, like the concentration managing apparatus A of the first embodiment, the concentration managing apparatus A includes arithmetic means, and each detector, which detects the developer characteristic value, The characteristic value of a developer may be used to calculate the component concentration such as the dissolved photoresist concentration or the absorbed carbon dioxide concentration.
제어 수단(22)은, 데이터 기억부(23)와 제어부(33)를 구비하고 있다. 데이터 기억부(23)와 제어부(33)는, 제어 수단(22) 내에서 신호선(54)에 의해 접속되어 있다. 데이터 기억부(23)에는, 알칼리성을 나타내는 현상액의 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도를 지표로 해서 특정되는 농도 영역마다 소정의 현상 성능으로 되는 것이 미리 확인된, 사용하는 현상액의 도전률값을 갖는 도전률 데이터가 저장되어 있다.The control means 22 is provided with a
제어 수단(22)은, 측정 수단(1)의 특성값 검출 수단(11, 12, 13)과 신호선(51, 52, 53)에 의해 접속되어 있다. 측정 수단(1)으로 측정된 도전률값, 용해 포토레지스트 농도값, 및, 흡수 이산화탄소 농도값이 제어 수단(22)에 보내진다.The control means 22 is connected to the characteristic
제어 수단(22)의 제어부(33)는, 현상액에 보충액을 송액하는 배관(81, 82, 83)에 설치된 제어 밸브(41, 42, 43)와, 신호선(55, 56, 57)에 의해 접속되어 있다.The
이어서, 본 실시형태의 현상액의 농도 관리 장치(A)의 동작에 대해 설명한다.Next, the operation of the developer concentration managing apparatus A of the present embodiment will be described.
현상액 저류조(61)로부터 샘플링된 현상액은, 측정 수단(1) 내로 송액되고, 온도 조절된다. 현상액은, 그 후, 특성값 검출 수단(11, 12, 13)으로 송액되고, 도전률, 용해 포토레지스트 농도, 및 흡수 이산화탄소 농도가 측정된다. 각 측정 데이터는 제어 수단(22)에 보내진다.The developer sampled from the
제어부(33)에는, 현상액의 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도를 지표로 해서 특정되는 농도 영역마다 소정의 현상 성능으로 되는 것이 미리 확인된 현상액의 도전률값을 갖는 도전률 데이터의 도전률값에 대응하는, 도전률의 관리값이 설정되어 있다. 제어부(33)는, 측정 수단(1)으로부터 수취한 측정 데이터에 의해, 이하와 같이 제어를 행한다.The
제어부(33)는, 측정 수단(1)으로부터 수취한 용해 포토레지스트 농도와 흡수 이산화탄소 농도에 의거하여, 데이터 기억부(23)에 기억되어 있는 도전률 데이터 중, 측정된 용해 포토레지스트 농도 및 측정된 흡수 이산화탄소 농도에 의해 특정되는 농도 영역의 도전률값을 구한다. 구해진 도전률값을 현상액의 도전률의 제어 목표값으로서 설정한다.The
제어부(33)는, 측정 수단(1)으로부터 수취한 측정된 도전률과, 제어 목표값으로서 설정된 도전률을 비교하고, 비교 결과에 따라 다음과 같은 관리를 행한다. 즉, 제어 목표값으로서 설정된 도전률이, 측정된 도전률과 동일할 경우, 기본적으로 현상액에 보충액을 더하지 않다. 또한, 제어 목표값으로서 설정된 도전률이, 측정된 도전률보다 큰 경우, 현상액의 도전률을 올리도록 작용을 하는 보충액을 현상액에 보급하면 된다. 또한, 제어 목표값으로서 설정된 도전률이, 측정된 도전률보다 작은 경우, 현상액의 도전률을 낮추도록 작용을 하는 보충액을 현상액에 보급하면 된다.The
여기에서, 현상액에 보급되는 보충액으로서는, 예를 들면, 현상액의 원액이나 신액, 순수 등이다.Here, the replenishment liquid replenished to the developer is, for example, a stock solution, fresh solution, pure water or the like of the developer.
보충액을 공급하기 위한 제어 밸브(41, 42, 43)의 제어는, 예를 들면, 다음과 같이 행해진다. 제어 밸브의 개방 시에 흐르는 유량이 조정되어 있으면, 제어 밸브를 열고 있는 시간을 관리함에 의해, 보급해야 할 액량의 보충액을 보급할 수 있다. 제어부(33)는, 측정 수단(1)으로부터 수취한 측정된 도전률과, 제어 목표값으로서 설정된 도전률에 의거하여, 보급해야 할 액량의 보충액이 흐르도록, 소정 시간 제어 밸브를 열도록 제어 밸브에 제어 신호를 발한다.The control of the
제어의 방식은, 제어량을 목표값에 맞추는 제어에 사용되는 각종의 제어 방법을 채용할 수 있다. 특히, 비례 제어(P 제어)(Proportional Control), 적분 제어(I 제어)(Integral Control), 미분 제어(D 제어)(Differential Control), 및, 이들을 조합한 제어(PI 제어(Proportional-Integral Control) 등)가 바람직하다. 보다 바람직하게는, PID 제어가 적합하다.As the control method, various control methods used for controlling the control amount to the target value can be adopted. Particularly, a proportional-integral control (PI control), a proportional control (P control), an integral control (I control), a differential control (D control) Etc.). More preferably, the PID control is suitable.
본 실시형태에서는, 현상액의 도전률, 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도를 측정하고, 측정된 용해 포토레지스트 농도값 및 흡수 이산화탄소 농도값에 의해 특정되는 미리 준비된 도전률 데이터 중의 도전률값을 제어 목표값으로 해서, 측정되는 현상액의 도전률값이 이 제어 목표값으로 되도록, 현상액에 보충액을 보급해서 현상액을 관리하는 태양을 설명했지만, 이것에 한정되지 않는다.In the present embodiment, the conductivity of the developer, the dissolved photoresist concentration, and the absorbed carbon dioxide concentration are measured, and the conductivity value in the prepared conductivity data specified by the measured dissolved photoresist concentration value and the absorbed carbon dioxide concentration value is set as the control target value , The replenishing liquid is replenished to the developer so that the conductivity value of the developer to be measured becomes the control target value. However, the present invention is not limited to this.
예를 들면, 현상액이 TMAH 수용액인 경우, 알칼리 성분의 농도가 2.38％ 부근에 있어서, 현상액의 도전률과 알칼리 성분 농도가 양호한 직선 관계에 있는 것, 및, 현상액의 특정 파장에 있어서의 흡광도와 용해 포토레지스트 농도가 양호한 직선 관계에 있는 것이 알려져 있다.For example, when the developer is a TMAH aqueous solution, it is preferable that the concentration of the alkaline component is in the vicinity of 2.38%, the conductivity of the developer is in a favorable linear relationship with the concentration of the alkaline component, and the absorbance and dissolution It is known that the photoresist concentration is in a good linear relationship.
그 때문에, 이러한 관계가 얻어지는 범위에 있어서는, 본 실시형태의 도전률을 이 도전률과 알칼리 성분 농도 사이의 직선 관계 상의 대응하는 알칼리 성분 농도로 치환하고, 용해 포토레지스트 농도를 이 특정 파장에 있어서의 흡광도와 용해 포토레지스트 농도 사이의 직선 관계 상의 대응하는 특정 파장에 있어서의 흡광도로 치환한 현상액의 농도 관리가 가능하다. 즉, 현상액의 알칼리 성분 농도, 특정 파장에 있어서의 흡광도 및 흡수 이산화탄소 농도를 측정하고, 측정된 특정 파장에 있어서의 흡광도값 및 흡수 이산화탄소 농도값에 의해 특정되는 미리 준비된 알칼리 성분 농도 데이터 중의 알칼리 성분 농도값을 제어 목표값으로 해서, 측정되는 현상액의 알칼리 성분 농도값이 이 제어 목표값으로 되도록, 현상액에 보충액을 보급해서 현상액을 관리하는 태양도, 본 실시형태의 현상액 관리와 동일한 것이다.Therefore, in the range in which such a relationship can be obtained, the conductivity of the present embodiment is replaced by the corresponding alkali component concentration on the linear relationship between the conductivity and the alkali component concentration, and the concentration of the dissolved photoresist at this specific wavelength It is possible to manage the concentration of the developing solution substituted with the absorbance at the corresponding specific wavelength on the linear relationship between the absorbance and the dissolved photoresist concentration. That is, the concentration of the alkali component of the developer, the absorbance at a specific wavelength and the absorbed carbon dioxide concentration are measured, and the alkali component concentration in the previously prepared alkali component concentration data specified by the absorbance value and the absorbed carbon dioxide concentration value at the measured specific wavelength Is a control target value, and the developer is replenished by replenishing replenishing liquid to the developer so that the alkali component concentration value of the developing liquid to be measured becomes the control target value, is the same as the developer managing of the present embodiment.
이상에 의해, 본 실시형태에 따른 현상액의 농도 관리 장치(A)에 따르면, 현상액이 어떠한 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도로 될지라도, 현상액 중의 도전률로, 현상액을 관리함에 의해, 현상 작용에 활성을 갖는 성분이 유지되므로, 원하는 현상 성능을 유지할 수 있어, 원하는 선폭 및 잔존 막 두께를 유지할 수 있는 현상 처리를 실현할 수 있다.As described above, according to the developer concentration managing apparatus A according to the present embodiment, regardless of which dissolved photoresist concentration and absorbed carbon dioxide concentration the developer has, by managing the developer with the conductivity in the developer, Since the active component is retained, the desired developing performance can be maintained, and a developing process capable of maintaining the desired line width and remaining film thickness can be realized.
또한, 본 실시형태에 따른 현상액의 농도 관리 장치(A)에 따르면, 현상 성능이 미리 확인된 현상액의 도전률값의 도전률 데이터를 사용하여 제어 목표 관리값으로 함으로써, 현상액의 용해 포토레지스트 농도가 0.0~0.40(wt％)(0.0~1.3(abs) 상당)이고, 또한 흡수 이산화탄소 농도가 0.0~1.3(wt％)이어도, 원하는 현상 활성을 갖는 현상액으로서 사용할 수 있다. 즉, 본 실시형태에 따른 현상액 관리 장치(A)에 따르면, 현상액의 용해 포토레지스트 농도가 0.25(wt％) 이상(0.8(abs) 상당), 또한 흡수 이산화탄소 농도가 0.6(wt％) 이상이어도, 현상액을 폐액하지 않고 사용할 수 있어, 현상액의 폐액량을 줄이는 것이 가능해진다.Further, according to the developer concentration managing apparatus A according to the present embodiment, by setting the control target management value using the conductivity rate data of the conductivity value of the developer whose developing performance has been confirmed in advance, the dissolved photoresist concentration of the developer becomes 0.0 To 0.40 (wt%) (corresponding to 0.0 to 1.3 (abs)) and an absorbed carbon dioxide concentration of 0.0 to 1.3 (wt%). That is, according to the developer managing apparatus A of the present embodiment, even if the concentration of the dissolved photoresist in the developer is 0.25 (wt%) or more (corresponding to 0.8 (abs)) and the absorbed carbon dioxide concentration is 0.6 (wt% The developer can be used without a waste solution, and it becomes possible to reduce the amount of waste solution of the developer.
보충액 공급용의 배관(81, 82, 83)에는, 적산 유량계(151, 152, 153)가 설치되어 있다. 적산 유량계(151, 152, 153)는, 보충액 공급용의 배관(81, 82, 83)을 통해 공급된 보충액의 적산 유량을 계측한다. 이 계측된 보충액의 적산 유량에 의거하여, 합리적인 요금의 산출이 가능하다.
또한, 도 5에 나타내는 기판의 현상 처리 시스템에 대해서는, 현상액의 조제 장치, 및, 현상액의 재생 장치의 도면은 기재되어 있지 않지만, 현상액의 조제 장치, 및, 현상액의 재생 장치 중 어느 한쪽, 또는, 양쪽을 갖는 구성으로 할 수도 있다. 현상액의 조제 장치, 및, 현상액의 재생 장치의 구성에 대해서는, 각각, 제2 실시형태 및 제3 실시형태와 공통되므로, 그 설명을 생략한다.5 does not show the apparatus for preparing a developer and the apparatus for regenerating the developer, it is also possible to use any one of the apparatus for preparing a developer and the apparatus for regenerating the developer, It is also possible to adopt a configuration having both sides. The constitution of the developer for developer, and the constitution of the developer for developer are the same as those of the second and third embodiments, respectively, and the description thereof will be omitted.
이상, 본 발명에 따르면, 기판 제조자는, 현상액의 농도 관리 장치나 현상액의 농도 관리 장치를 구입하거나, 유지 관리하거나 하는 부담을 지지 않고, 현상액의 농도 관리 요금 또는 기판의 현상 처리 요금을 지불하는 것만으로, 원하는 농도로 관리된 현상액을 사용할 수 있고, 신액이나 재생액을 입수해서 사용할 수 있다. 그 때문에, 기판 제조자는, 장치의 구입이나 유지 관리에 따른 비용의 삭감, 현상액의 조달이나 폐액 처리에 따른 비용의 삭감, 생산 라인의 가동률이나 수율의 향상, 제조하는 기판의 품질의 향상 등에 수반하는 다양한 경제적 메리트를 향수할 수 있다.As described above, according to the present invention, it is possible for the substrate manufacturer to pay only the concentration control fee of the developer or the development processing fee of the substrate without the burden of purchasing or maintaining the developer concentration managing apparatus or the developer concentration managing apparatus , A developing solution managed at a desired concentration can be used, and a fresh solution or a regenerating solution can be obtained and used. Therefore, the substrate manufacturer is required to reduce the cost of purchasing and maintenance of the apparatus, to reduce the cost due to the procurement of the developer and to the waste solution treatment, to improve the operation rate and yield of the production line, Various economic advantages can be enjoyed.
또한, 본 발명에 따르면, 역무 제공자는, 본 발명에 따라 실현 가능하게 되는 비지니스 방법에 의해, 장치를 판매할 경우에 비해, 계속적으로 안정된 수익을 얻을 수 있다.Further, according to the present invention, a service provider can continuously obtain a stable profit by a business method that can be realized according to the present invention, as compared with a case where the device is sold.
A…현상액의 농도 관리 장치, B…현상 처리 장치, C…보충액 저류부, D…순환 교반 기구, E…조제 장치, F…재생 장치
1…측정 수단, 2…연산 수단, 3, 22…제어 수단, 11…제1 검출기, 12…제2 검출기, 13…제3 검출기, 14…샘플링 펌프, 15…샘플링 배관, 16…복귀 배관, 21, 24…연산 블록, 23…데이터 기억부, 31, 32…제어 블록, 33…제어부, 41, 42, 43, 44, 45…제어 밸브, 46, 47…가압 가스용 밸브, 48, 49…밸브, 51, 52, 53…측정 데이터용 신호선(신호선), 54…연산 데이터용 신호선(신호선), 55, 56, 57, 58, 59…제어 신호용 신호선(신호선), 61…현상액 저류조, 62…오버플로우조, 63…액면계, 64…현상실 후드, 65…롤러 컨베이어, 66…기판, 67…현상액 샤워 노즐, 71…폐액 펌프, 72, 74…순환 펌프, 73, 75…필터, 76, 77, 78…송액 펌프, 80…현상액 관로, 81, 82, 83…배관, 84…신액용 배관, 85…재생액용 배관, 86…현상액 원액 공급 배관, 87…순수 공급 배관, 88…사용 완료 현상액 송액 배관, 89…합류 관로, 90…순환 관로, 91…현상액 원액 저류 용기, 92…현상액 신액 저류 용기, 93…질소 가스용 배관, 151, 152, 153, 154, 155…적산 유량계, 301…신액 조제조, 302…신액 저류조, 311…농도계, 312, 322…액면계, 331…제어 장치, 341, 342, 343…제어 밸브, 351, 352, 353, 354…신호선, 371, 372…순환 펌프, 373…송액 펌프, 380…연통관, 381, 382…순환 관로, 431…제어 장치, 441…제어 밸브, 451, 452…신호선, 461, 462, 463…필터, 471…송액 펌프, 493…재생액 저류조A ... The concentration control device of developer, B ... Development processing device, C ... Refill solution reservoir, D ... Circulating stirring device, E ... Dispenser, F ... Playback device
One… Measuring means, 2 ... Computing means, 3, 22 ... Control means, 11 ... The first detector, 12 ... A second detector, 13 ... The third detector, 14 ... Sampling pump, 15 ... Sampling piping, 16 ... Return piping, 21, 24 ... Operation block, 23 ...
Claims (12)
상기 측정 수단에 의해 측정된 상기 복수의 특성값에 의거하여, 다변량 해석법에 의해, 상기 현상액의 성분 농도를 산출하는 연산 수단과,
상기 연산 수단에 의해 산출된 현상액의 성분 농도값에 의거하여, 상기 현상액의 성분 농도가 소정의 관리값으로 되도록, 또는, 소정의 관리값 이하로 되도록, 상기 현상액에 보충액을 공급하는 제어 수단과,
상기 제어 수단에 의해 공급되는 보충액의 적산 유량을 계측하는 적산 유량계
를 구비하는 현상액의 농도 관리 장치.Measuring means for measuring a plurality of characteristic values of the developer which are used repeatedly and correlated with a component concentration of a developing solution exhibiting alkalinity;
Calculating means for calculating a component concentration of the developer by a multivariate analysis method based on the plurality of characteristic values measured by the measuring means;
Control means for supplying the replenishing liquid to the developer so that the concentration of the developer becomes equal to or lower than a predetermined control value based on the component concentration value of the developer calculated by the calculating means;
And an integrating flow meter for measuring the integrated flow rate of the replenishing liquid supplied by the control means
And a controller for controlling the concentration of the developer.
상기 밀도계에 의해 측정된 알칼리성을 나타내는 현상액의 밀도에 의거하여, 상기 현상액의 밀도와 흡수 이산화탄소 농도 사이의 대응 관계로부터, 상기 현상액의 흡수 이산화탄소 농도가 소정의 관리값으로 되도록, 또는, 소정의 관리값 이하로 되도록, 상기 현상액에 보충액을 공급하는 제어 수단과,
상기 제어 수단에 의해 공급되는 보충액의 적산 유량을 계측하는 적산 유량계
를 구비하는 현상액의 농도 관리 장치.Density meter,
Based on the density of the developing solution exhibiting alkalinity measured by the density meter, the absorbed carbon dioxide concentration of the developing solution is adjusted to a predetermined management value from the corresponding relationship between the density of the developing solution and the absorbed carbon dioxide concentration, Control means for supplying the replenishing liquid to the developer so that the amount of the replenishing liquid becomes equal to or less than the value
And an integrating flow meter for measuring the integrated flow rate of the replenishing liquid supplied by the control means
And a controller for controlling the concentration of the developer.
상기 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도를 지표로 해서 특정되는 농도 영역마다 소정의 현상 성능으로 되는 것이 미리 확인된 상기 현상액의 도전률값을 갖는 도전률 데이터가 저장되어 있는 데이터 기억부, 및, 상기 데이터 기억부에 저장된 상기 도전률 데이터 중, 상기 측정 수단에 의해 측정된 상기 현상액의 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도의 측정값에 의해 특정되는 농도 영역의 도전률값을 제어 목표값으로 해서, 상기 현상액의 도전률이 상기 제어 목표값으로 되도록 상기 현상액에 보충액을 공급하는 제어부를 구비한 제어 수단과,
상기 제어 수단에 의해 공급되는 보충액의 적산 유량을 계측하는 적산 유량계
를 구비하는 현상액의 농도 관리 장치.A measuring means for measuring a conductivity, a dissolved photoresist concentration and an absorbed carbon dioxide concentration of a developing solution which exhibits alkalinity repeatedly,
A data storage unit for storing conductivity rate data having a conductivity value of the developer, which has been confirmed in advance to be a predetermined developing performance for each concentration area specified by using the dissolved photoresist concentration and the absorbed carbon dioxide concentration as indexes, Wherein a conductivity value of a concentration region specified by measurement values of a dissolved photoresist concentration and an absorbed carbon dioxide concentration of the developer measured by the measurement means among the conductivity rate data stored in the storage section is set as a control target value, And control means for supplying the replenishing liquid to the developer so that the conductivity rate becomes the control target value;
And an integrating flow meter for measuring the integrated flow rate of the replenishing liquid supplied by the control means
And a controller for controlling the concentration of the developer.
상기 현상 처리 장치에서 반복 사용되는 상기 현상액의 농도를 관리하는 현상액의 농도 관리 장치와,
상기 현상 처리 장치에 접속되고, 상기 농도 관리 장치에 의해 상기 현상액에 공급되는 보충액이 상기 현상 처리 장치에 송액(送液)되는 배관과,
상기 배관에 설치된 적산 유량계를 구비하고,
상기 농도 관리 장치가,
상기 현상액의 성분 농도와 상관이 있는 복수의 특성값을 측정하는 측정 수단과,
상기 측정 수단에 의해 측정된 상기 복수의 특성값에 의거하여, 다변량 해석법에 의해, 상기 현상액의 성분 농도를 산출하는 연산 수단과,
상기 연산 수단에 의해 산출된 현상액의 성분 농도값에 의거하여, 상기 현상액의 성분 농도가 소정의 관리값으로 되도록, 또는, 소정의 관리값 이하로 되도록, 상기 현상액에 보충액을 공급하는 제어 수단을 구비하는
기판의 현상 처리 시스템.A development processing apparatus for processing a substrate using a developer,
A concentration control device of the developer for managing the concentration of the developer repeatedly used in the development processing apparatus,
A pipeline connected to the development processing apparatus, to which the replenishment liquid supplied to the developer by the concentration management apparatus is fed (fed) to the development processing apparatus;
And an integrated flow meter installed in the pipe,
Wherein the concentration-
Measuring means for measuring a plurality of characteristic values correlated with a component concentration of the developer;
Calculating means for calculating a component concentration of the developer by a multivariate analysis method based on the plurality of characteristic values measured by the measuring means;
And control means for supplying the replenishing liquid to the developer so that the concentration of the developer becomes equal to or lower than a predetermined control value based on the concentration value of the developer calculated by the calculating means doing
Development processing system for substrate.
상기 현상액을 신액으로서 조제하는 현상액의 조제 장치와,
상기 현상 처리 장치 및 상기 조제 장치에 접속되고, 상기 조제 장치에 의해 조제된 상기 신액이 상기 농도 관리 장치에 의해 상기 현상 처리 장치에서 반복 사용되고 있는 현상액에 공급되는 신액용 배관을 더 구비하고,
상기 신액용 배관에 적산 유량계를 구비하는 기판의 현상 처리 시스템.5. The method of claim 4,
A developing solution dispensing device for dispensing the developing solution as a fresh solution,
Further comprising a new liquid piping connected to the development processing apparatus and the dispenser, wherein the new liquid dispensed by the dispenser is supplied to a developing solution repeatedly used in the developing apparatus by the concentration managing apparatus,
And a liquid flowmeter mounted on the new liquid pipe.
상기 현상 처리 장치에서 사용된 상기 현상액을 재생액으로서 재이용 가능하게 재생하는 현상액의 재생 장치와,
상기 현상 처리 장치 및 상기 재생 장치에 접속되고, 상기 재생 장치에 의해 재생된 상기 재생액이 상기 농도 관리 장치에 의해 상기 현상 처리 장치에서 반복 사용되고 있는 현상액에 공급되는 재생액용 배관을 더 구비하고,
상기 재생액용 배관에 적산 유량계를 구비하는 기판의 현상 처리 시스템.5. The method of claim 4,
A developer replenishing device for reusably recycling the developer used in the developing apparatus as a regeneration liquid;
Further comprising a regeneration liquid pipe connected to the development processing apparatus and the regeneration apparatus, wherein the regeneration liquid regenerated by the regeneration apparatus is supplied to the developer repeatedly used in the development processing apparatus by the concentration management apparatus,
Wherein the regenerating liquid pipe is provided with an integrated flow meter.
상기 현상 처리 장치에서 반복 사용되는 상기 현상액의 농도를 관리하는 현상액의 농도 관리 장치와,
상기 현상 처리 장치에 접속되고, 상기 농도 관리 장치에 의해 상기 현상액에 공급되는 보충액이 상기 현상 처리 장치에 송액되는 배관과,
상기 배관에 설치된 적산 유량계를 구비하고,
상기 농도 관리 장치가,
밀도계와,
상기 밀도계에 의해 측정된 상기 현상액의 밀도에 의거하여, 상기 현상액의 밀도와 흡수 이산화탄소 농도 사이의 대응 관계로부터, 상기 현상액의 흡수 이산화탄소 농도가 소정의 관리값으로 되도록, 또는, 소정의 관리값 이하로 되도록, 상기 현상액에 보충액을 공급하는 제어 수단을 구비하는
기판의 현상 처리 시스템.A development processing apparatus for processing a substrate using a developer,
A concentration control device of the developer for managing the concentration of the developer repeatedly used in the development processing apparatus,
A pipeline connected to the development processing apparatus, to which the replenishing liquid supplied to the developing solution by the concentration managing apparatus is fed to the developing processing apparatus,
And an integrated flow meter installed in the pipe,
Wherein the concentration-
Density meter,
Based on the density of the developer measured by the density meter, from the corresponding relationship between the density of the developer and the absorbed carbon dioxide concentration so that the absorbed carbon dioxide concentration of the developer becomes a predetermined management value or a predetermined management value or less , And a control means for supplying a replenishing liquid to the developer
Development processing system for substrate.
상기 현상액을 신액으로서 조제하는 현상액의 조제 장치와,
상기 현상 처리 장치 및 상기 조제 장치에 접속되고, 상기 조제 장치에 의해 조제된 상기 신액이 상기 농도 관리 장치에 의해 상기 현상 처리 장치에서 반복 사용되고 있는 현상액에 공급되는 신액용 배관을 더 구비하고,
상기 신액용 배관에 적산 유량계를 구비하는 기판의 현상 처리 시스템.8. The method of claim 7,
A developing solution dispensing device for dispensing the developing solution as a fresh solution,
Further comprising a new liquid piping connected to the development processing apparatus and the dispenser, wherein the new liquid dispensed by the dispenser is supplied to a developing solution repeatedly used in the developing apparatus by the concentration managing apparatus,
And a liquid flowmeter mounted on the new liquid pipe.
상기 현상 처리 장치에서 사용된 상기 현상액을 재생액으로서 재이용 가능하게 재생하는 현상액의 재생 장치와,
상기 현상 처리 장치 및 상기 재생 장치에 접속되고, 상기 재생 장치에 의해 재생된 상기 재생액이 상기 농도 관리 장치에 의해 상기 현상 처리 장치에서 반복 사용되고 있는 현상액에 공급되는 재생액용 배관을 더 구비하고,
상기 재생액용 배관에 적산 유량계를 구비하는 기판의 현상 처리 시스템.8. The method of claim 7,
A developer replenishing device for reusably recycling the developer used in the developing apparatus as a regeneration liquid;
Further comprising a regeneration liquid pipe connected to the development processing apparatus and the regeneration apparatus, wherein the regeneration liquid regenerated by the regeneration apparatus is supplied to the developer repeatedly used in the development processing apparatus by the concentration management apparatus,
Wherein the regenerating liquid pipe is provided with an integrated flow meter.
상기 현상 처리 장치에서 반복 사용되는 상기 현상액의 농도를 관리하는 현상액의 농도 관리 장치와,
상기 현상 처리 장치에 접속되고, 상기 농도 관리 장치에 의해 상기 현상액에 보급되는 보충액이 상기 현상 처리 장치에 송액되는 배관과,
상기 배관에 설치된 적산 유량계를 구비하고,
상기 농도 관리 장치가,
상기 현상액의 도전률, 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도를 측정하는 측정 수단과,
상기 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도를 지표로 해서 특정되는 농도 영역마다 소정의 현상 성능으로 되는 것이 미리 확인된 상기 현상액의 도전률값을 갖는 도전률 데이터가 저장되어 있는 데이터 기억부, 및, 상기 데이터 기억부에 저장된 상기 도전률 데이터 중, 상기 측정 수단에 의해 측정된 상기 현상액의 용해 포토레지스트 농도 및 흡수 이산화탄소 농도의 측정값에 의해 특정되는 농도 영역의 도전률값을 제어 목표값으로 해서, 상기 현상액의 도전률이 상기 제어 목표값으로 되도록 상기 현상액에 보충액을 공급하는 제어부를 구비한 제어 수단을 구비하는
기판의 현상 처리 시스템.A development processing apparatus for processing a substrate using a developer,
A concentration control device of the developer for managing the concentration of the developer repeatedly used in the development processing apparatus,
A pipeline connected to the development processing apparatus and to which the replenishing liquid replenished to the developer by the concentration management apparatus is fed to the development processing apparatus;
And an integrated flow meter installed in the pipe,
Wherein the concentration-
Measuring means for measuring the conductivity of the developer, the dissolved photoresist concentration and the absorbed carbon dioxide concentration,
A data storage unit for storing conductivity rate data having a conductivity value of the developer, which has been confirmed in advance to be a predetermined developing performance for each concentration area specified by using the dissolved photoresist concentration and the absorbed carbon dioxide concentration as indexes, Wherein a conductivity value of a concentration region specified by measurement values of a dissolved photoresist concentration and an absorbed carbon dioxide concentration of the developer measured by the measurement means among the conductivity rate data stored in the storage section is set as a control target value, And control means for supplying the replenishing liquid to the developer so that the conductivity rate becomes the control target value
Development processing system for substrate.
상기 현상액을 신액으로서 조제하는 현상액의 조제 장치와,
상기 현상 처리 장치 및 상기 조제 장치에 접속되고, 상기 조제 장치에 의해 조제된 상기 신액이 상기 농도 관리 장치에 의해 상기 현상 처리 장치에서 반복 사용되고 있는 현상액에 공급되는 신액용 배관을 더 구비하고,
상기 신액용 배관에 적산 유량계를 구비하는 기판의 현상 처리 시스템.11. The method of claim 10,
A developing solution dispensing device for dispensing the developing solution as a fresh solution,
Further comprising a new liquid piping connected to the development processing apparatus and the dispenser, wherein the new liquid dispensed by the dispenser is supplied to a developing solution repeatedly used in the developing apparatus by the concentration managing apparatus,
And a liquid flowmeter mounted on the new liquid pipe.
상기 현상 처리 장치에서 사용된 상기 현상액을 재생액으로서 재이용 가능하게 재생하는 현상액의 재생 장치와,
상기 현상 처리 장치 및 상기 재생 장치에 접속되고, 상기 재생 장치에 의해 재생된 상기 재생액이 상기 농도 관리 장치에 의해 상기 현상 처리 장치에서 반복 사용되고 있는 현상액에 공급되는 재생액용 배관을 더 구비하고,
상기 재생액용 배관에 적산 유량계를 구비하는 기판의 현상 처리 시스템.11. The method of claim 10,
A developer replenishing device for reusably recycling the developer used in the developing apparatus as a regeneration liquid;
Further comprising a regeneration liquid pipe connected to the development processing apparatus and the regeneration apparatus, wherein the regeneration liquid regenerated by the regeneration apparatus is supplied to the developer repeatedly used in the development processing apparatus by the concentration management apparatus,
Wherein the regenerating liquid pipe is provided with an integrated flow meter.
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