KR20180129325A - Apparatus for heating liquid - Google Patents

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KR20180129325A
KR20180129325A KR1020170065183A KR20170065183A KR20180129325A KR 20180129325 A KR20180129325 A KR 20180129325A KR 1020170065183 A KR1020170065183 A KR 1020170065183A KR 20170065183 A KR20170065183 A KR 20170065183A KR 20180129325 A KR20180129325 A KR 20180129325A
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Abstract

According to an embodiment of the present invention, a liquid heating apparatus comprises: a dielectric heating unit having at least two electrodes and heating a liquid located in a dielectric area formed between the two electrodes to produce gas; a particle removing unit removing a particle of the gas; and a control unit controlling a driving voltage applied to the dielectric heating unit and the particle removing unit. At least one of the two electrodes has an opening unit on the upper surface thereof, and has a shape in which a side surface and a lower surface are closed, and the produced gas can be accommodated inside the side surface and the lower surface.

Description

액체가열장치{APPARATUS FOR HEATING LIQUID}[0001] APPARATUS FOR HEATING LIQUID [0002]

본 발명은 액체가열장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 파티클제거부를 통하여 파티클을 제거하는 액체가열장치에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid heating apparatus, and more particularly, to a liquid heating apparatus for removing particles through a particle removing unit.

일반적으로 반도체 웨이퍼, 화면표시 장치의 기판은 여러 공정을 거쳐 제조되며, 각 공정에서 미립자, 여러 금속을 함유한 무기물 및 폴리머화합물 등의 유기오염물이 발생한다. 이 오염물은 기판의 품질에 큰 영향을 미치는 문제를 발생한다. 또한, 산업이 발달함에 따라 기판의 미세화 동향은 90 → 65 → 45nm로, 점점 미세화되며 이에 따라 회로 패턴의 미세화, 고밀도화, 고집적화, 배선의 다층화가 진행됨에 따라 제조공정이 복잡해지고 제조 공정수도 계속 증가하고 있다. 뿐만 아니라, 칩 면적도 증대되고 웨이퍼 지름도 200mm에서 300mm로 대구경화되면서 파티클(이물 미립자), 금속불순물, 표면 흡착 화학물질 등 미세(미량) 오염물질을 줄일 수 있으며 대용량의 순수를 가열할 수 있는 가열장치가 세정공정이 요구되고 있는 실정이다.Generally, semiconductor wafers and substrates of screen display devices are manufactured through various processes, and organic contaminants such as fine particles, inorganic substances containing various metals, and polymer compounds are generated in each process. This contaminant causes a problem that greatly affects the quality of the substrate. Also, as the industry develops, the miniaturization trend of the substrate becomes gradually from 90 → 65 → 45 nm, and as a result, miniaturization, high density, high integration and wiring multi-layering are progressed, . In addition, the area of the chip is increased and the diameter of the wafer is increased from 200 mm to 300 mm to reduce micro-contaminants such as particles (foreign particles), metal impurities, surface adsorption chemicals, and the like, A cleaning process is required for the heating device.

세정공정 중 발생하는 문제는 미세 오염물질은 제조된 기판에 구조적 형상의 왜곡과 전기적 특성을 저하시킴으로써 기판의 성능, 신뢰성 및 수율 저하 등의 문제를 야기하고 이를 해결하기 위하여 이온이 제거된 순수를 사용하여 기판을 세정하고 있다.The problem that arises during the cleaning process is that the fine contaminants degrade the distortion of the structural shape and the electrical characteristics of the substrate, thereby causing problems such as poor performance, reliability, and yield of the substrate. To solve this problem, Thereby cleaning the substrate.

하지만, 순수는 물의 경도를 감소시켜 세정공정에 사용이 가능도록 칼슘과 마그네슘을 제거하여 이온을 제거하는 공정을 거쳐 제조하는데, 이러한 순수에는 금속이온으로 분류되는 양이온과 비금속 이온으로 분류되는 음이온이 극미량으로 존재하여 세정공정시 기판을 세정하기 위한 고순도의 스팀을 제공하지 못하는 문제점이 있다.However, pure water is produced by reducing the hardness of water and removing ions by removing calcium and magnesium so that it can be used in the cleaning process. In this pure water, a cation classified as a metal ion and a negative ion classified as a non- There is a problem that high purity steam for cleaning the substrate during the cleaning process can not be provided.

이때, 순수에 극 미량으로 잔존하는 양이온과 음이온은 기판오염을 발생시키는 원인이 되며, 이러한 이온들은 공정상에서 각각의 영향을 미친다.At this time, cations and anions remaining in pure water in a very small amount cause contamination of the substrate, and these ions have respective effects on the process.

예를 들어, 기판에 잔존하는 칼슘성분의 미세 오염물질은 기판의 절연막 내압불량이 발생하게 된다.For example, fine contaminants of the calcium component remaining on the substrate may cause defective in the dielectric strength of the insulating film of the substrate.

또한, 세정공정 중 발생하는 다른 문제는 대구경화 되는 기판을 세정하기 위해서 대용량의 순수를 단시간에 가열하여 대용량의 스팀을 생성하는 유도가열 방식을 적용하게 된다.Another problem that arises during the cleaning process is that an induction heating method is employed in which a large capacity pure water is heated for a short time in order to clean a substrate to be cured in a large amount to generate a large amount of steam.

하지만, 대용량의 순수를 가열하기 위해 사용되는 유도가열 방식은 복수의 가열코일에 흐르는 전류에 의한 자계를 발생시켜, 가열되는 부재에서 과전류를 발생시킨다. 이에 따라, 복수의 가열코일을 이용한 유도가열 방식에서 각각의 부하 전류의 주파수가 일치하고 각각의 가열코일 전류의 위상이 일정하게 유지되지 않는 경우, 가열 온도의 고정밀 제어가 어려워지는 문제점이 있다.However, the induction heating method used for heating a large amount of pure water generates a magnetic field by a current flowing through a plurality of heating coils, thereby generating an overcurrent in the heated member. Accordingly, in the induction heating system using a plurality of heating coils, when the frequencies of the respective load currents coincide with each other and the phases of the respective heating coil currents are not kept constant, there is a problem that it is difficult to control the heating temperature with high accuracy.

이에 따라 전체 공정의 30%이상을 차지하는 세정공정은 기판 제조간 반복적으로 사용되고 있으며, 기판의 미세화에 따라 더욱 엄격한 오염관리와 기판의 대구경화에 따른 대용량의 순수를 가열하는 시간을 단축시키는 생산성관리가 요구되고 있어 세정을 위한 공정장비의 설계와 공정조건의 최적화 등을 위한 다양한 기술개발이 요구되어지는 실정이다.As a result, the cleaning process, which accounts for more than 30% of the entire process, is repeatedly used between substrate fabrication. As the substrate becomes finer, more stringent contamination control and productivity management that shortens the heating time of large- It is required to develop various technologies for designing process equipment for cleaning and optimization of process conditions.

본 발명의 목적은 기체에 잔존하는 극미량의 부유물질 및 입자 등과 같은 파티클을 제거하는 액체가열장치를 제공하는 데 있다.It is an object of the present invention to provide a liquid heating apparatus for removing particulate matter such as suspended substances and particles and the like in trace amounts remaining in a gas.

본 발명의 다른 목적은 액체가 기체로 상태변환시 기체에 잔존하는 극미량의 양이온과 음이온이 포함된 파티클을 제거하여 고순도의 기체를 제공하는 액체가열장치를 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a liquid heating apparatus which removes particles containing a very small amount of positive ions and negative ions remaining in a gas upon transition to a gas state to provide a high purity gas.

본 발명의 또 다른 목적은 복수 개의 전극에 교류전압을 인가하여 유전체 영역에 존재하는 액체를 가열시키는 액체가열장치를 제공하는 데 있다.It is still another object of the present invention to provide a liquid heating apparatus for applying an AC voltage to a plurality of electrodes to heat a liquid present in a dielectric region.

본 발명의 또 다른 목적은 유전체 영역에 존재하는 액체가 편차없이 가열되어 열 전달 효율을 향상시키는 액체가열장치를 제공하는 데 있다.It is still another object of the present invention to provide a liquid heating apparatus in which liquid present in a dielectric region is heated without deviation to improve heat transfer efficiency.

상기와 같은 기술적 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 일 실시 예에 따른 액체가열장치는 적어도 2 이상의 전극이 구비되어 적어도 2 이상의 전극 사이에 형성된 유전체영역에 위치하는 액체를 가열하여 기체를 생성하는 유전가열부, 상기 기체의 파티클을 제거하는 파티클제거부 및 상기 유전가열부 및 상기 파티클제거부에 인가되는 구동전압을 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 적어도 2 이상의 전극 중 적어도 하나의 전극은 상면에 개구부를 구비하고, 측면 및 하면이 닫힌 형상을 포함하고, 상기 생성된 기체를 상기 측면 및 상기 하면 내부에 수용할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a liquid heating apparatus comprising: at least two electrodes, each of which is provided with at least two electrodes, And a control unit for controlling a driving voltage applied to the dielectric heating unit and the particle removing unit, wherein at least one electrode of the at least two electrodes has an opening in the upper surface thereof, The side surface and the bottom surface including a closed shape, and the generated gas can be accommodated in the side surface and the bottom surface.

실시 예에 있어서, 상기 액체는 순수를 포함하고, 상기 기체는 스팀을 포함할 수 있다.In an embodiment, the liquid comprises pure water, and the gas may comprise steam.

실시 예에 있어서, 상기 파티클제거부는 직류 전압을 인가받아, 전기적 인력을 통하여 상기 기체로부터 상기 파티클을 제거할 수 있다.In an embodiment, the particle removing unit may receive the DC voltage and remove the particles from the gas through an electrical attraction force.

실시 예에 있어서, 상기 유전가열부는 교류전압을 인가받아, 상기 유전체영역에 위치하는 액체를 가열하여 상기 기체를 생성할 수 있다.In an embodiment, the dielectric heating portion may receive an alternating voltage and heat the liquid located in the dielectric region to produce the gas.

실시 예에 있어서, 상기 유전가열부 및 상기 파티클제거부 사이에 전기적 불연속영역을 형성하는 적어도 하나 이상의 절연부를 더 포함할 수 있다.In an exemplary embodiment, the apparatus may further include at least one insulating portion forming an electrically discontinuous region between the dielectric heating portion and the particle removing portion.

실시 예에 있어서, 상기 적어도 2 이상의 전극이 3 개인 경우 제 1 전극, 제 2 전극 및 제 3 전극으로 포함할 수 있다.In an exemplary embodiment, the first electrode, the second electrode, and the third electrode may include three or more electrodes.

실시 예에 있어서, 상기 제 1 전극은 상기 생성된 기체를 저장할 수 있다.In an embodiment, the first electrode may store the generated gas.

실시 예에 있어서, 상기 제 2 전극은 상기 제 1 전극과 이웃하여 유전체영역을 형성하고, 상기 액체를 상기 유전체영역으로 유입시키는 적어도 하나 이상의 유입공을 포함할 수 있다.In an embodiment, the second electrode may include at least one inflow hole adjacent to the first electrode to form a dielectric region and to introduce the liquid into the dielectric region.

실시 예에 있어서, 상기 제 3 전극은 상기 제 2 전극과 이웃하여 유전체영역을 형성하고, 상기 제 1 전극, 상기 제 2 전극 및 상기 파티클제거부를 상기 측면 및 상기 하면 내부에 수용하고, 상기 개구부를 통하여 상기 기체를 외부로 전달할 수 있다.In an embodiment, the third electrode forms a dielectric region adjacent to the second electrode, and the first electrode, the second electrode, and the particle removing portion are housed in the side surface and the bottom surface, So that the gas can be transmitted to the outside.

실시 예에 있어서, 상기 제 3 전극은 상기 액체의 수위를 감지하는 수위센서 및 상기 기체의 압력을 감지하는 압력센서 중 적어도 하나 이상을 포함하고, 상기 수위 및 상기 압력은 상기 제어부에 전달될 수 있다.In an embodiment, the third electrode may include at least one of a water level sensor for sensing a level of the liquid and a pressure sensor for sensing a pressure of the gas, and the water level and the pressure may be transmitted to the control unit .

실시 예에 있어서, 상기 제 3 전극은 상기 내부로 상기 액체를 공급하는 공급공 및 외부로 상기 기체를 전달하는 배출공을 포함할 수 있다.In an embodiment, the third electrode may include a supply hole for supplying the liquid to the inside and an exhaust hole for transferring the gas to the outside.

실시 예에 있어서, 상기 적어도 2 이상의 전극은 단면이 동일한 중심을 가지는 원통형상을 포함할 수 있다.In an embodiment, the at least two electrodes may include a cylindrical shape having a center having the same cross section.

실시 예에 있어서, 상기 적어도 2 이상의 전극은 상기 하면이 닫힌 곡면형상 또는 닫힌 평면형상을 구비하며, 단면이 동일한 중심을 가지는 원통형상을 포함할 수 있다.In an embodiment, the at least two electrodes may include a cylindrical shape having a closed bottom surface or a closed planar shape, and having the same center in cross section.

실시 예에 있어서, 상기 제 1 전극, 제 2 전극 및 제 3 전극 중 상기 제 1 전극 및 제 3 전극은 단일 형상으로 구비되고, 상기 제 2 전극은 적어도 2개 이상의 짝수이고, 상기 제 2 전극 한쌍 각각은 가상의 중심선을 기준으로 이격되는 하나의 반원 형상 및 상기 하나의 반원형상과 마주보는 다른 하나의 반원 형상을 포함할 수 있다In an exemplary embodiment, the first electrode and the third electrode of the first electrode, the second electrode, and the third electrode are formed in a single shape, and the second electrode is at least two or more even, Each may include one semicircular shape spaced apart from a virtual centerline and another semicircular shape facing the one semicircular shape

실시 예에 있어서, 상기 제어부를 통하여 상기 제 1 전극, 상기 제 2 전극 및 제 3 전극 각각에 교류전압을 인가하는 3상전원기를 더 포함할 수 있다.In an exemplary embodiment, the apparatus may further include a three-phase inverter for applying an AC voltage to the first electrode, the second electrode, and the third electrode through the control unit.

실시 예에 있어서, 상기 파티클제거부에 상기 직류 전압을 인가하는 직류전원부를 더 포함할 수 있다.In an embodiment, the apparatus may further include a DC power source unit for applying the DC voltage to the particle removing unit.

실시 예에 있어서, 상기 제어부는 상기 유전가열부 및 상기 파티클제거부에 상기 구동전압을 동시에 인가하거나 또는 상기 유전가열부 및 상기 파티클제거부 중 어느 하나에만 상기 구동전압을 인가할 수 있다.In an embodiment, the controller may apply the driving voltage to the dielectric heating unit and the particle removing unit at the same time, or may apply the driving voltage to only one of the dielectric heating unit and the particle removing unit.

본 발명의 액체가열장치의 효과에 대해 설명하면 다음과 같다.The effect of the liquid heating apparatus of the present invention will be described as follows.

본 발명의 실시 예들 중 적어도 하나에 의하면, 기체에 잔존하는 극미량의 부유물질 및 입자 등과 같은 파티클을 제거할 수 있다.According to at least one of the embodiments of the present invention, it is possible to remove particles such as suspended particles and particles remaining in the gas in trace amounts.

본 발명의 실시 예들 중 적어도 하나에 의하면, 액체가 기체로 상태변환시 기체에 잔존하는 극미량의 양이온과 음이온이 포함된 파티클을 제거하여 고순도의 기체를 제공할 수 있다.According to at least one of the embodiments of the present invention, it is possible to provide a high-purity gas by removing particles containing a very small amount of positive ions and anions remaining in the gas upon liquid-to-gas conversion.

본 발명의 실시 예들 중 적어도 하나에 의하면, 복수 개의 전극에 교류전압을 인가하여 유전체 영역에 존재하는 액체를 가열시킬 수 있다.According to at least one of the embodiments of the present invention, an AC voltage may be applied to the plurality of electrodes to heat the liquid present in the dielectric region.

본 발명의 실시 예들 중 적어도 하나에 의하면, 유전체 영역에 존재하는 액체가 편차없이 가열되어 열 전달 효율을 향상시킬 수 있다.According to at least one of the embodiments of the present invention, the liquid present in the dielectric region can be heated without deviation to improve the heat transfer efficiency.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 액체가열장치를 나타내는 구성도이다.
도 2는 본 발명의 다른 일 실시 예에 따른 액체가열장치를 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른 액체가열장치의 제 1 전극, 제 2 전극 및 제 3 전극을 사시도로 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른 액체가열장치의 제 1 전극, 제 2 전극 및 제 3 전극을 사시도로 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른 액체가열장치를 나타내는 도면이다.
1 is a configuration diagram showing a liquid heating apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a view showing a liquid heating apparatus according to another embodiment of the present invention.
3 is a perspective view illustrating a first electrode, a second electrode, and a third electrode of a liquid heating apparatus according to another embodiment of the present invention.
4 is a perspective view illustrating a first electrode, a second electrode, and a third electrode of a liquid heating apparatus according to another embodiment of the present invention.
5 is a view showing a liquid heating apparatus according to another embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시 예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시 예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 명세서에 개시된 실시 예의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시 예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되지 않으며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals are used to designate identical or similar elements, and redundant description thereof will be omitted. The suffix "module" and " part "for the components used in the following description are given or mixed in consideration of ease of specification, and do not have their own meaning or role. In the following description of the embodiments of the present invention, a detailed description of related arts will be omitted when it is determined that the gist of the embodiments disclosed herein may be blurred. It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are intended to provide further explanation of the invention as claimed. , ≪ / RTI > equivalents, and alternatives.

제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Terms including ordinals, such as first, second, etc., may be used to describe various elements, but the elements are not limited to these terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.It is to be understood that when an element is referred to as being "connected" or "connected" to another element, it may be directly connected or connected to the other element, . On the other hand, when an element is referred to as being "directly connected" or "directly connected" to another element, it should be understood that there are no other elements in between.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise.

본 출원에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In the present application, the terms "comprises", "having", and the like are used to specify that a feature, a number, a step, an operation, an element, a component, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, elements, components, or combinations thereof.

이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대해 상세히 설명하기로 한다. 본 발명은 본 발명의 정신 및 필수적 특징을 벗어나지 않는 범위에서 다른 특정한 형태로 구체화될 수 있음은 당업자에게 자명하다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

다만, 이하의 도 1 내지 도 5를 통하여 설명되는 액체가열장치는, 본 발명에 따른 특징적인 기능을 소개함에 있어서, 필요한 구성요소만이 도시된 것으로서, 그 외 다양한 구성요소가 액체가열장치에 포함될 수 있음은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 자명하다.However, in the following description of the characteristic functions according to the present invention, only the required components are shown, and various other components are included in the liquid heating apparatus It will be apparent to those skilled in the art that the present invention can be carried out without departing from the spirit and scope of the invention.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 액체가열장치를 나타내는 구성도이다.1 is a configuration diagram showing a liquid heating apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 액체가열장치(100)는 용기(110), 유전가열부(120), 파티클제거부(130), 절연부(140) 및 제어부(150)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the liquid heating apparatus 100 may include a container 110, a dielectric heating unit 120, a particle removing unit 130, an insulating unit 140, and a control unit 150.

먼저, 용기는(110)는 용기(110) 내부로 액체를 공급하는 공급공(111) 및 용기 외부로 기체를 배출하는 배출공(112)을 포함할 수 있다.First, the container 110 may include a supply hole 111 for supplying a liquid into the container 110 and a discharge hole 112 for discharging gas to the outside of the container.

여기서 액체는 순수일 수 있으며, 기체는 스팀일 수 있다.Where the liquid can be pure, and the gas can be steam.

그리고, 공급공(111)은 외부의 공급부(미도시) 및 공급라인(미도시)과 연결되어 액체를 용기(110) 내부로 유입시킬 수 있다.The supply hole 111 is connected to an external supply unit (not shown) and a supply line (not shown) to allow liquid to flow into the container 110.

이때, 배출공(112)은 용기(110) 내부에서 생성된 기체를 용기(110) 외부로 배출시킬 수 있다.At this time, the discharge hole 112 can discharge the gas generated inside the container 110 to the outside of the container 110.

유전가열부(120)는 적어도 2 이상의 전극이 구비되어 적어도 2 이상의 전극사이에 위치하는 액체를 가열하여 기체를 생성할 수 있다.The dielectric heating unit 120 may include at least two electrodes to generate a gas by heating the liquid located between at least two electrodes.

도 1에 도시된 바와 같이, 유전가열부(120)는 제 1 전극(121), 제 2 전극(122), 유전체영역(124, 피가열체), 교류전압기(125) 및 기체저장부(126)를 포함할 수 있다.1, the dielectric heating unit 120 includes a first electrode 121, a second electrode 122, a dielectric region 124, a heated body, an AC power supply 125, and a gas storage portion 126 ).

여기서, 교류전원기(125)는 유전가열부 외부에 위치하는 별개의 구성으로 본 발명에 포함될 수 있다.Here, the alternating current generator 125 may be included in the present invention in a separate configuration located outside the dielectric heating portion.

이때, 제 1 전극(121) 및 제 2 전극(122)에 교류전압기(125)를 통해 교류전압이 인가되면, 유전체영역(124)에 위치하는 쌍극자가 교류전계의 교번에 따라 방향이 변경되면서 인가된 주파수와 동일한 진동을 일으키게 된다. 이때, 발생된 진동으로 유전체영역(124) 내부의 쌍극자에 마찰열이 발생되어 유전체영역(124)이 가열된다. 이러한 유전가열은 교류전압의 주파수 및 인가전압을 높일 경우, 쌍극자의 진동이 빨라져 제 1 전극(121) 및 제 2 전극(122) 사이에서 형성되는 유전체영역(124, 피가열체)의 가열효과를 높일 수 있다.At this time, when an AC voltage is applied to the first electrode 121 and the second electrode 122 through the AC power supply 125, the dipole located in the dielectric region 124 changes its direction according to the alternating electric field, Resulting in the same vibration as the frequency. At this time, frictional heat is generated in the dipoles inside the dielectric region 124 by the generated vibration, so that the dielectric region 124 is heated. This dielectric heating increases the frequency of the AC voltage and the applied voltage so that the vibration of the dipole is accelerated to increase the heating effect of the dielectric region 124 (heating target) formed between the first electrode 121 and the second electrode 122 .

그 결과, 유전가열부(120)는 교류전압기(125)를 통해 유전체영역(124)에 위치하는 액체를 가열하여 기체를 생성할 수 있다.As a result, the dielectric heating portion 120 can generate gas by heating the liquid located in the dielectric region 124 through the alternating current power supply 125.

구체적으로, 유전체영역(124)은 전극 간의 폭으로 결정되는 영역이며, 서로 이웃하는 제 1 전극(121) 및 제 2 전극(122) 사이에서 형성될 수 있다.Specifically, the dielectric region 124 is a region determined by the width between the electrodes, and may be formed between the adjacent first and second electrodes 121 and 122.

또한, 유전체 영역(124)은 중공 영역일 수 있으며, 중공 영역에 액체가 존재할 경우 유전체 영역(113)은 액체를 가열하여 해당 액체가 기체로 상태변환되도록 하는 가열영역일 수 있다.In addition, the dielectric region 124 may be a hollow region, and when a liquid exists in the hollow region, the dielectric region 113 may be a heating region for heating the liquid to convert the liquid into a gas.

교류전원기(125)는 제 1 전극(121)과 제 2 전극(122) 각각에 연결될 수 있고, 제 1 전극(121)과 제 2 전극(122)은 제어부(150)를 통해 제어된 구동전압을 인가받아 유전체영역(124)에 위치하는 액체를 가열하여 기체를 생성할 수 있다.The AC power supply 125 may be connected to the first electrode 121 and the second electrode 122 respectively and the first electrode 121 and the second electrode 122 may control the driving voltage controlled through the controller 150 The liquid located in the dielectric region 124 may be heated to generate gas.

기체저장부(126)는 유전가열부(110)에서 생성된 기체를 저장할 수 있다.The gas storage unit 126 may store the gas generated in the dielectric heating unit 110.

파티클제거부(130)는 직류 전압을 인가받아, 전기적 인력을 통하여 유전가열부(120)로부터 생성된 기체의 파티클을 제거할 수 있다.The particle removing unit 130 receives the DC voltage and can remove the particles of the gas generated from the dielectric heating unit 120 through the electrical attraction.

또한, 파티클제거부(130)를 통해 파티클이 제거된 기체는 액체가열장치(100) 외부로 토출되거나 액체가열장치(100) 내부에 구비된 별도의 기체저장부(미도시)에 저장될 수 있다.The particles removed by the particle removing unit 130 may be discharged to the outside of the liquid heating apparatus 100 or may be stored in a separate gas storage unit (not shown) provided in the liquid heating apparatus 100 .

이때, 유전가열부(120)와 파티클제거부(130) 사이에 전기적 불연속영역을 형성하는 적어도 하나 이상의 절연부(140)가 존재할 수 있다.At this time, there may be at least one insulating part 140 between the dielectric heating part 120 and the particle removing part 130 to form an electric discontinuity area.

절연부(140)는 유전가열부(120)와 파티클제거부(130) 각각에 인가되는 구동전압이 상이함으로써 발생되는 문제를 방지하는 구성으로 교류와 직류 각각을 유전가열부(120) 및 파티클제거부(130)에 인가하여 기체의 생성과 파티클의 제거를 동시에 가능하게 할 수 있다.The insulating part 140 prevents the problems caused by different driving voltages applied to the dielectric heating part 120 and the particle removing part 130, It is possible to apply gas to the rejection 130 to simultaneously generate gas and remove particles.

제어부(150)는 유전가열부(120) 및 파티클제거부(130)에 인가되는 구동전압을 제어하여, 유전가열부(120)에서 생성된 기체가 균일하게 생성 및 유지되도록 제어할 수도 있으며, 파티클제거부(130)를 통하여 유전가열부(120)로부터 생성된 기체에 포함된 파티클이 제거되도록 제어할 수도 있다.The control unit 150 may control the driving voltage applied to the dielectric heating unit 120 and the particle removing unit 130 so that the gas generated by the dielectric heating unit 120 is uniformly generated and maintained, The particles contained in the gas generated from the dielectric heating unit 120 may be controlled to be removed through the removal unit 130.

이때, 제어부(150)는 유전가열부(120)로 액체가 유입되도록 동작을 제어할 수 있으며, 유전가열부(120) 및 파티클제거부(130)에 구동전압을 동시에 인가하거나 또는 유전가열부(120) 및 파티클제거부(130) 중 어느 하나에만 구동전압을 인가할 수 있다.At this time, the control unit 150 may control the operation of allowing the liquid to flow into the dielectric heating unit 120, and may simultaneously apply a driving voltage to the dielectric heating unit 120 and the particle removing unit 130, 120, and the particle removing unit 130. [0054]

이하 설명에서는 액체가 순수를 포함하고, 기체가 스팀을 포함하는 예를 구체적으로 설명한다. 그러나 이는 설명의 편의를 위한 하나의 일 예일 뿐이며, 본 발명에 따른 액체와 기체가 순수 및 스팀으로 한정되지 않음은 당업자에게 자명할 것이다.In the following description, examples in which the liquid includes pure water and the gas includes steam will be specifically described. However, this is only one example for convenience of explanation, and it will be apparent to those skilled in the art that the liquid and gas according to the present invention are not limited to pure water and steam.

도 2는 본 발명의 다른 일 실시 예에 따른 액체가열장치를 나타내는 도면이다.2 is a view showing a liquid heating apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 액체가열장치(200)는 용기(210), 유전가열부(220), 파티클제거부(230), 절연부(240) 및 제어부(250)를 포함할 수 있다.2, the liquid heating apparatus 200 may include a container 210, a dielectric heating unit 220, a particle removing unit 230, an insulating unit 240, and a control unit 250.

한편, 도 2에 도시된 구성 중 용기(210), 유전가열부(220), 파티클제거부(230), 절연부(240) 및 제어부(250)는 앞서 도 1의 용기(110), 유전가열부(120), 파티클제거부(130), 절연부(140) 및 제어부(150)를 통해 설명한 바와 같으므로 중복되는 설명은 생략한다.2, the container 210, the dielectric heating unit 220, the particle removing unit 230, the insulating unit 240, and the control unit 250 are formed by the container 110, The particle removing unit 130, the insulating unit 140, and the control unit 150, and thus the description thereof will be omitted.

도 2에 도시된 바와 같이, 유전가열부(220)는 제 1 전극(221), 제 2 전극(222) 및 제 3 전극(223)을 포함할 수 있다.2, the dielectric heating unit 220 may include a first electrode 221, a second electrode 222, and a third electrode 223.

제 1 전극(221)은 스팀을 포집하는 기체저장부(226)를 포함할 수 있다.The first electrode 221 may include a gas storage part 226 for collecting steam.

제 1 전극(221) 및 제 2 전극(222)은 상면에 개구부를 구비하고, 측면과 하면이 닫힌 형상을 포함할 수 있으며, 제 1 전극(221)은 제 1 전극(221)과 제 2 전극(222) 사이에 형성된 유전체영역(224)에서 생성된 스팀을 측면 및 하면 내부에 수용할 수 있다.The first electrode 221 and the second electrode 222 may have openings on the upper surface and may have a closed shape on a side surface and a lower surface. The first electrode 221 may include a first electrode 221, The steam generated in the dielectric region 224 formed between the side walls 222 can be accommodated in the side surface and the bottom surface.

이때, 제 2 전극(222)은 제 1 전극(221)과 이웃하여 유전체영역(224-1)을 형성하고, 순수를 유전체영역으로 유입시키는 적어도 하나 이상의 유입공(222-1)을 포함할 수 있다.The second electrode 222 may include at least one inflow hole 222-1 adjacent to the first electrode 221 to form a dielectric region 224-1 and to introduce pure water into the dielectric region. have.

제 3 전극(223)은 제 2 전극(222)과 이웃하여 유전체영역(224-2)을 형성하고, 제 1 전극(221), 제 2 전극(222) 및 파티클제거부(230)를 측면 및 하면 내부에 수용하고, 개구부를 통하여 스팀을 외부로 전달할 수 있다. The third electrode 223 is adjacent to the second electrode 222 to form a dielectric region 224-2 and the first electrode 221, And the steam can be delivered to the outside through the opening.

즉, 제 3 전극(223)은 순수를 공급받아 가열하여 스팀을 생성하고, 스팀을 외부로 전달하는 챔버일 수 있으며, 용기에 포함되는 일 구성일 수도 있다.That is, the third electrode 223 may be a chamber for supplying pure water to generate steam to generate steam, and deliver the steam to the outside.

제 3 전극(223)은 챔버 또는 용기(210)의 일부로 구성됨에 있어, 제 3 전극(223) 외면에는 절연체(213)가 구비될 수 있다.The third electrode 223 is formed as a part of the chamber or the container 210, and the insulator 213 may be provided on the outer surface of the third electrode 223.

교류전원기(225)는 제 1 전극(221), 제 2 전극(222) 및 제 3 전극(223) 각각에 연결되는 3상전원일 수 있으며, 교류전원기(225)는 제어부(250)를 통해 교류전압을 제 1 전극(221), 제 2 전극(222) 및 제 3 전극(223)에 공급할 수 있다.The AC power supply 225 may be a three-phase power source connected to the first electrode 221, the second electrode 222 and the third electrode 223. The AC power supply 225 may be a three- A voltage can be supplied to the first electrode 221, the second electrode 222, and the third electrode 223.

또한, 용기(210)로 구비되는 제 3 전극(223)은 내부로 액체를 공급하는 공급공(211) 및 스팀을 배출하는 배출공(212)을 포함할 수 있다. 이때, 용기(210)로써 구성되는 제 3 전극(223)은 내부에 순수의 수위를 감지하는 수위센서(252) 및 압력을 감지하는 압력센서(253) 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있으며, 감지된 수위와 압력은 제어부(250)로 전달될 수 있다.The third electrode 223 provided in the container 210 may include a supply hole 211 for supplying liquid to the inside and a discharge hole 212 for discharging steam. At this time, the third electrode 223 constituted by the container 210 may include at least one of a water level sensor 252 for sensing the level of pure water and a pressure sensor 253 for sensing the pressure, And the control unit 250 controls the flow of the water.

파티클제거부(230)는 유전체영역(224-1, 224-2)에서 생성된 스팀이 배출공(212)으로 배출되는 경로에 각각 배치되어 직류 전압에 의해 발생된 전기적 인력을 통하여 스팀에 포함된 파티클을 제거하여, 고순도의 스팀이 외부로 배출될 수 있게 한다.The particle removing unit 230 is disposed in a path through which the steam generated in the dielectric regions 224-1 and 224-2 is discharged to the discharge hole 212 and discharged through the electric attraction generated by the DC voltage Particles are removed, allowing high purity steam to be discharged to the outside.

이를 위해서, 본 발명에 따른 액체가열장치는 제어부(250)에 의해 구동전압인 직류 전압을 파티클제거부(230)에 공급하는 직류전원부(231)를 포함할 수 있다.To this end, the liquid heating apparatus according to the present invention may include a DC power supply unit 231 for supplying a DC voltage, which is a driving voltage, to the particle removing unit 230 by a control unit 250.

도 3은 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른 액체가열장치의 제 1 전극, 제 2 전극 및 제 3 전극을 사시도로 나타낸 도면이다.3 is a perspective view illustrating a first electrode, a second electrode, and a third electrode of a liquid heating apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 액체가열장치의 제 1 전극(321), 제 2 전극(322) 및 제 3 전극(323) 각각은 동일한 중심을 가지는 원통형상으로 형성될 수 있다.Referring to FIG. 3, each of the first electrode 321, the second electrode 322, and the third electrode 323 of the liquid heating device may be formed into a cylindrical shape having the same center.

또한, 원통형상으로 형성된 제 1 전극(321), 제 2 전극(322) 및 제 3 전극(323) 각각의 상부는 개구되고, 원통형상으로 구비된 제 1 전극(321), 제 2전극(322) 및 제 3 전극(323) 각각의 하부는 하부를 폐쇄시키는 바닥면을 포함할 수 있으며, 해당 바닥면은 평면일 수 있다.The upper portion of each of the first electrode 321, the second electrode 322 and the third electrode 323 formed in a cylindrical shape is opened and has a first electrode 321 and a second electrode 322 And the third electrode 323 may include a bottom surface for closing the bottom, and the bottom surface may be a flat surface.

그리고, 원통형상으로 구비된 제 2 전극(322) 및 제 3 전극(323) 각각은 순수를 적어도 하나 이상의 유전체영역(324-1, 324-2)으로 유입시킬 수 있다.Each of the second electrode 322 and the third electrode 323 provided in a cylindrical shape can introduce pure water into at least one of the dielectric regions 324-1 and 324-2.

이때, 제 2 전극(322)은 복수 개의 유입공(322-1)을 포함할 수 있으며, 제 3 전극(323)이 용기에 포함되는 일 구성일 경우, 제 3 전극(223)은 순수를 적어도 하나 이상의 유전체영역(324-1, 324-2)내부로 공급하는 공급공(311)을 포함할 수 있다.In this case, the second electrode 322 may include a plurality of inflow holes 322-1. When the third electrode 323 is included in the container, the third electrode 223 may include at least And may include a supply hole 311 for supplying into at least one of the dielectric regions 324-1 and 324-2.

여기서, 복수 개의 유입공(322-1)은 액체에 존재하는 이온들이 충돌하는 영역일 수 있다. 구체적으로 설명하면, 3상 전원에 따라서 이온이 이동하고, 복수개의 유입공(322-1) 각각은 상이한 전극의 영향으로 이온들이 충돌하는 영역으로서, 이온간의 충돌을 일으키며 열을 발생시킬 수 있다.Here, the plurality of inflow holes 322-1 may be regions where ions existing in the liquid collide. More specifically, ions move according to the three-phase power source, and each of the plurality of inflow holes 322-1 is a region where ions collide due to the influence of different electrodes, causing collision between ions and generating heat.

그 결과, 이온들이 충동하는 영역에서 이온간의 충돌로 발생된 열에 의해 액체의 가열속도가 증가될 수 있다.As a result, the heating rate of the liquid can be increased by the heat generated by the collision between the ions in the region where the ions impinge.

도 4는 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른 액체가열장치의 제 1 전극, 제 2 전극 및 제 3 전극을 사시도로 나타낸 도면이다.4 is a perspective view illustrating a first electrode, a second electrode, and a third electrode of a liquid heating apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 액체가열장치의 제 1 전극(421) 및 제 3 전극(423)은 단일 형상으로 구비되고, 제 2 전극(421)은 적어도 2개 이상의 짝수이고, 제 2 전극(421) 한쌍은 가상의 중심선을 기준으로 이격되는 하나의 반원 형상 및 하나의 반원 형상과 마주 보는 다른 하나의 반원 형상을 포함할 수 있다.4, the first electrode 421 and the third electrode 423 of the liquid heating device are provided in a single shape, the second electrode 421 is at least two or more even numbered, and the second electrode 421, The pair may include one semicircular shape spaced apart from the imaginary centerline and another semicircular shape facing one semicircular shape.

그 결과, 제 2 전극(422)과 이웃하는 제 1 전극(421) 및 제 3 전극(423)의 간격을 조절함에 따라 유전체영역(424-1, 424-2)이 넓게 형성될 수 있다. 그에 따라, 유전체영역(424-1, 424-2)이 증가됨에 따라 많은 양의 순수가 빠르고 균일하게 가열되어 스팀으로 상태 변환되는 가열시간이 단축되고, 결국, 스팀 발생량이 증가될 수 있다.As a result, the spacing between the first electrode 421 and the third electrode 423 adjacent to the second electrode 422 can be adjusted so that the dielectric regions 424-1 and 424-2 can be widely formed. As a result, as the dielectric regions 424-1 and 424-2 are increased, a large amount of pure water is quickly and uniformly heated to shorten the heating time in which the state is converted into steam, and as a result, the amount of steam generated can be increased.

도 5는 본 발명의 또 다른 일 실시 예에 따른 액체가열장치를 나타내는 도면이다.5 is a view showing a liquid heating apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 액체가열장치(500)는 용기(510), 유전가열부(520), 파티클제거부(530), 절연부(540) 및 제어부(550)를 포함할 수 있다.5, the liquid heating apparatus 500 may include a container 510, a dielectric heating unit 520, a particle removing unit 530, an insulating unit 540, and a control unit 550.

한편, 도 5에 도시된 구성 중 용기(510), 유전가열부(220), 파티클제거부(230), 절연부(240) 및 제어부(250)는 앞서 도 2의 용기(210), 유전가열부(220), 파티클제거부(230), 절연부(240) 및 제어부(250)를 통해 설명한 바와 같으므로 중복되는 설명은 생략한다.5, the container 510, the dielectric heating unit 220, the particle removing unit 230, the insulating unit 240, and the control unit 250 may be formed of the container 210 of FIG. 2, The particle removing unit 230, the insulating unit 240, and the control unit 250, the detailed description thereof will be omitted.

도 5에 도시된 제 1 전극(521), 제 2 전극(522) 및 제 3 전극(523) 각각의 하부는 하부를 폐쇄시키는 바닥면을 포함할 수 있으며, 바닥면은 하부방향으로 돌출되는 곡면형상(또는 U자형상)을 포함할 수도 있다.The lower portion of each of the first electrode 521, the second electrode 522, and the third electrode 523 shown in FIG. 5 may include a bottom surface that closes the lower portion, and the bottom surface may include a curved surface Shape (or a U-shape).

그 결과, 도 2의 액체가열장치와 비교하여, 도 5의 액체가열장치의 경우, 제 1 전극(521), 제 2 전극(522) 및 제 3 전극(523) 각각의 하부는 곡면형상으로 형성되어 적어도 하나 이상의 유전체 영역(524-1, 524-2)에 수용된 순수의 면적 또는 부피가 증가됨으로써 가열되는 스팀의 양이 증가될 수 있다.As a result, as compared with the liquid heating apparatus of FIG. 2, in the liquid heating apparatus of FIG. 5, the lower portions of the first electrode 521, the second electrode 522, and the third electrode 523 are formed into curved shapes So that the amount of steam to be heated can be increased by increasing the area or volume of pure water contained in at least one of the dielectric regions 524-1 and 524-2.

결국, 본 발명에 따른 액체가열장치는 기체에 잔존하는 극미량의 부유물질 및 입자 등과 같은 파티클이 제거할 수 있으며, 액체가 기체로 상태변환시 기체에 잔존하는 극미량의 양이온과 음이온이 포함된 파티클을 제거하여 고순도의 기체를 제공할 수 있다.As a result, the liquid heating apparatus according to the present invention is capable of removing particulate matters such as suspended substances and particles remaining in the gas, and removing particles containing a very small amount of positive ions and anions remaining in the gas when the liquid is converted into a gas state Thereby providing a gas of high purity.

또한, 복수 개의 전극에 교류전압을 인가하여 유전체 영역에 존재하는 액체를 가열시킬 수 있고, 유전체 영역에 존재하는 액체가 편차없이 가열되어 열 전달 효율을 향상시킬 수 있다.Further, the liquid present in the dielectric region can be heated by applying the alternating voltage to the plurality of electrodes, and the liquid present in the dielectric region can be heated without deviation to improve the heat transfer efficiency.

이상에서 설명된 본 발명의 실시 예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시 예가 가능하다는 점을 잘 알 수 있을 것이다. 그러므로 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 형태로만 한정되는 것은 아님을 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명은 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 그 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and equivalent arrangements may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. Therefore, it is to be understood that the present invention is not limited to the above-described embodiments. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims. It is also to be understood that the invention includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

따라서, 이상의 상세한 설명은 모든 면에서 제한적으로 해석되어서는 아니되고 예시적인 것으로 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 첨부된 청구항의 합리적 해석에 의해 결정되어야 하고, 본 발명의 등가적 범위 내에서의 모든 변경은 본 발명의 범위에 포함된다.Accordingly, the foregoing detailed description should not be construed in any way as limiting and should be considered illustrative. The scope of the present invention should be determined by rational interpretation of the appended claims, and all changes within the scope of equivalents of the present invention are included in the scope of the present invention.

Claims (17)

적어도 2 이상의 전극이 구비되어 적어도 2 이상의 전극 사이에 형성된 유전체영역에 위치하는 액체를 가열하여 기체를 생성하는 유전가열부;
상기 기체의 파티클을 제거하는 파티클제거부; 및
상기 유전가열부 및 상기 파티클제거부에 인가되는 구동전압을 제어하는 제어부를 포함하고,
상기 적어도 2 이상의 전극 중 적어도 하나의 전극은,
상면에 개구부를 구비하고, 측면 및 하면이 닫힌 형상을 포함하고, 상기 생성된 기체를 상기 측면 및 상기 하면 내부에 수용하는 액체가열장치.
A dielectric heating unit having at least two electrodes and heating a liquid located in a dielectric region formed between at least two electrodes to generate a gas;
A particle removing unit for removing particles of the gas; And
And a control unit for controlling a driving voltage applied to the dielectric heating unit and the particle removing unit,
Wherein at least one of the at least two electrodes comprises:
The liquid heating apparatus including an opening on an upper surface, the side surface and the lower surface including a closed shape, and accommodating the generated gas on the side surface and the lower surface.
제 1 항에 있어서,
상기 액체는,
순수를 포함하고,
상기 기체는,
스팀을 포함하는 액체가열장치.
The method according to claim 1,
The liquid,
Including pure water,
The gas,
A liquid heating apparatus comprising steam.
제 1 항에 있어서,
상기 파티클제거부는,
직류 전압을 인가받아, 전기적 인력을 통하여 상기 기체로부터 상기 파티클을 제거하는 액체가열장치.
The method according to claim 1,
The particle removing unit includes:
A liquid heating apparatus which receives a DC voltage and removes the particles from the gas through an electrical attraction.
제 1 항에 있어서,
상기 유전가열부는,
교류전압을 인가받아, 상기 유전체영역에 위치하는 액체를 가열하여 상기 기체를 생성하는 액체가열장치.
The method according to claim 1,
The oil-
And applies an alternating voltage to heat the liquid located in the dielectric region to generate the gas.
제 1 항에 있어서,
상기 유전가열부 및 상기 파티클제거부 사이에 전기적 불연속영역을 형성하는 적어도 하나 이상의 절연부를 더 포함하는 액체가열장치.
The method according to claim 1,
Further comprising at least one insulating portion forming an electrically discontinuous region between the dielectric heating portion and the particle removing portion.
제 1 항에 있어서,
상기 적어도 2 이상의 전극이 3 개인 경우,
제 1 전극, 제 2 전극 및 제 3 전극으로 포함하는 액체가열장치.
The method according to claim 1,
When the at least two electrodes are three electrodes,
A second electrode, and a third electrode.
제 6 항에 있어서,
상기 제 1 전극은,
상기 생성된 기체를 저장하는 액체가열장치.
The method according to claim 6,
Wherein the first electrode comprises:
And the generated gas is stored.
제 6 항에 있어서,
상기 제 2 전극은,
상기 제 1 전극과 이웃하여 유전체영역을 형성하고, 상기 액체를 상기 유전체영역으로 유입시키는 적어도 하나 이상의 유입공을 포함하는 액체가열장치.
The method according to claim 6,
Wherein the second electrode comprises:
And at least one inflow hole adjacent to the first electrode to form a dielectric region and to introduce the liquid into the dielectric region.
제 6항에 있어서,
상기 제 3 전극은,
상기 제 2 전극과 이웃하여 유전체영역을 형성하고, 상기 제 1 전극, 상기 제 2 전극 및 상기 파티클제거부를 상기 측면 및 상기 하면 내부에 수용하고, 상기 개구부를 통하여 상기 기체를 외부로 전달하는 액체가열장치.
The method according to claim 6,
Wherein the third electrode comprises:
A second electrode, a second electrode, and a particle eliminating portion, the second electrode and the particle eliminating portion being disposed adjacent to the second electrode, the first electrode, the second electrode, and the particle removing portion being housed in the side surface and the bottom surface, Device.
제 9 항에 있어서,
상기 제 3 전극은,
상기 액체의 수위를 감지하는 수위센서; 및
상기 기체의 압력을 감지하는 압력센서 중 적어도 하나 이상을 포함하고,
상기 수위 및 상기 압력은,
상기 제어부에 전달되는 액체가열장치.
10. The method of claim 9,
Wherein the third electrode comprises:
A level sensor for sensing a level of the liquid; And
And a pressure sensor for sensing the pressure of the gas,
The water level and the pressure may be,
And is transmitted to the control unit.
제 9 항에 있어서,
상기 제 3 전극은,
상기 내부로 상기 액체를 공급하는 공급공; 및
외부로 상기 기체를 전달하는 배출공을 포함하는 액체가열장치.
10. The method of claim 9,
Wherein the third electrode comprises:
A supply hole for supplying the liquid to the inside; And
And a discharge hole for transferring the gas to the outside.
제 1 항에 있어서,
상기 적어도 2 이상의 전극은,
단면이 동일한 중심을 가지는 원통형상을 포함하는 액체가열장치.
The method according to claim 1,
Wherein the at least two electrodes comprise:
A liquid heating apparatus comprising a cylindrical shape having a center having the same cross section.
제 1 항에 있어서,
상기 적어도 2 이상의 전극은,
상기 하면이 닫힌 곡면형상 또는 닫힌 평면형상을 구비하며, 단면이 동일한 중심을 가지는 원통형상을 포함하는 액체가열장치.
The method according to claim 1,
Wherein the at least two electrodes comprise:
Wherein the lower surface comprises a cylindrical shape having a closed curved or closed planar shape and having a center with the same cross section.
제 6 항에 있어서,
상기 제 1 전극, 제 2 전극 및 제 3 전극 중 상기 제 1 전극 및 제 3 전극은,
단일 형상으로 구비되고,
상기 제 2 전극은,
적어도 2개 이상의 짝수이고,
상기 제 2 전극 한쌍 각각은,
가상의 중심선을 기준으로 이격되는 하나의 반원 형상 및 상기 하나의 반원형상과 마주보는 다른 하나의 반원 형상을 포함하는 액체가열장치.
The method according to claim 6,
The first electrode and the third electrode of the first electrode, the second electrode,
And is provided in a single shape,
Wherein the second electrode comprises:
At least two or more even numbers,
Wherein each of the pair of second electrodes comprises:
And one semicircular shape spaced apart from a virtual centerline and another semicircular shape facing the one semicircular shape.
제 6 항에 있어서,
상기 제어부를 통하여, 상기 제 1 전극, 상기 제 2 전극 및 제 3 전극 각각에 교류전압을 인가하는 3상전원기를 더 포함하는 액체가열장치.
The method according to claim 6,
And a three-phase inverter for applying an AC voltage to each of the first electrode, the second electrode and the third electrode through the control unit.
제 3 항에 있어서,
상기 파티클제거부에 상기 직류 전압을 인가하는 직류전원부를 더 포함하는 액체가열장치.
The method of claim 3,
And a DC power supply unit for applying the DC voltage to the particle removing unit.
제 1 항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 유전가열부 및 상기 파티클제거부에 상기 구동전압을 동시에 인가하거나 또는 상기 유전가열부 및 상기 파티클제거부 중 어느 하나에만 상기 구동전압을 인가하는 액체가열장치.
The method according to claim 1,
Wherein,
Wherein the driving voltage is simultaneously applied to the dielectric heating unit and the particle removing unit, or the driving voltage is applied to only one of the dielectric heating unit and the particle removing unit.
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