KR20180127144A - Antenna substrate and semiconductor combined module - Google Patents

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Abstract

The present disclosure relates to an antenna substrate and a semiconductor package combined module capable of improving antenna reception sensitivity. A fan-out semiconductor package comprises: a semiconductor chip; an encapsulant sealing at least a part of the semiconductor chip; and a connection member including a rewiring layer electrically connected to a connection pad. The antenna substrate includes an antenna member including an antenna pattern, a ground pattern, and a feeding line and a wiring member including a wiring layer disposed under the antenna member and including a feeding pattern electrically connected to the feeding line.

Description

안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈{ANTENNA SUBSTRATE AND SEMICONDUCTOR COMBINED MODULE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an antenna substrate and a semiconductor package composite module,

본 개시는 안테나 기판과 반도체 패키지가 복합된 복합 모듈에 관한 것이다.
The present disclosure relates to a composite module in which an antenna substrate and a semiconductor package are combined.

10GHz 이상의 mm-Wave를 사용하는 어플리케이션은 모바일용 5G통신이나 60GHz 통신뿐만 아니라, 움직임을 검출하여 사용자의 I/F 편리성을 증대하는 모션센서 제품, 일정한 공간 내에 침입자를 확인하는 보안용 동작 감시 센서제품, 자동차용 Near-Field & Far-Field 검출용 24GHz, 77GHz Radar 시스템 등에 많이 확산되어 있다. 이와 같은 mm-Wave를 사용하는 제품의 경우, RFIC(Radio Frequency Integrated Circuit)에서부터 안테나까지, 또는 안테나에서 RFIC까지 신호를 전달할 때, 신호의 손실이 최대한 발생하지 않도록 전달을 해야 한다. 예전에는 이를 위해 RFIC와 안테나간의 거리를 동축케이블로 연결을 하여 신호감쇄를 최소화하였으나, 이는 공간적 측면과 비용 측면에서 비효율적이다.
Applications using 10GHz or higher mm-Wave are not only for mobile 5G communication and 60GHz communication, but also motion sensor products that detect motion and increase user's I / F convenience, security motion monitoring sensor Products, 24GHz, 77GHz radar systems for near-field and far-field detection for automobiles. In the case of a product using such an mm-wave, when transmitting signals from an RFIC (Radio Frequency Integrated Circuit) to an antenna, or from an antenna to an RFIC, it is necessary to transmit signals in such a manner that loss of the signal is minimized. In the past, the distance between the RFIC and the antenna was coaxially connected to minimize the signal attenuation. However, this is inefficient in terms of space and cost.

최근에 60GHz 통신 시스템에서 60GHz 안테나를 LTCC(Low Temperature Co-fired Ceramic)등의 재료를 이용하여 설계한 후에 RFIC위에 부착을 해서 부품간의 거리를 최소화하는 방식을 적용하기 시작하였다. 또한, 자동차용 Radar 시스템에서 Main PCB(Printed Circuit Board) 보드 위에 RFIC를 실장하고, 안테나는 PCB 보드상에 패턴으로 안테나를 형성하여 연결하거나, 또는 별도의 안테나 모듈을 Main PCB에 실장하는 방식을 사용하고 있다. 그러나, 이 역시 부품간의 선간 손실이 발생하는 것을 충분히 방지하기는 어렵다.
Recently, a 60GHz antenna has been designed with materials such as LTCC (Low Temperature Co-fired Ceramic) in 60GHz communication system and then applied to the RFIC to minimize the distance between components. In the automotive radar system, the RFIC is mounted on the main PCB (Printed Circuit Board) board, and the antenna is formed by connecting the antennas in a pattern on the PCB board or mounting a separate antenna module on the main PCB . However, it is also difficult to sufficiently prevent occurrence of line-to-line loss between the components.

최근에 패키지 기술이 개발되면서 RFIC의 패키지 내에 안테나를 형성하는 방법을 개발하고 있으며, 일부에서는 패키지의 RDL(Re-Distribution Layer)에 안테나 패턴을 형성하는 방식을 채용하고 있지만, 이 역시 안테나의 방사 성능을 확보하기 위해서는 몇 가지 디자인 제약이 있거나, 성능상의 오차가 발생할 가능성이 있다. 따라서, 플렉서블한 디자인 설계 자유도와 설계 오차를 최소화할 수 있는 안정적인 RFIC와 안테나 통합 패키지 설계 기술이 필요하다.
Recently, a package technology has been developed and a method of forming an antenna in a package of an RFIC has been developed. In some cases, a method of forming an antenna pattern in a package's RDL (Re-Distribution Layer) There are some design constraints or there is a possibility of a performance error. Therefore, there is a need for a stable RFIC and antenna integrated package design technology that can flexibly design design freedom and minimize design errors.

본 개시의 여러 목적 중 하나는 안테나와 반도체칩 간의 신호 경로의 최단 설계가 가능하고, 전 방향 커버리지 특성 확보가 가능하며, 안테나 수신 감도를 향상시킬 수 있는, 새로운 형태의 복합 모듈을 제공하는 것이다.
One of the objects of the present disclosure is to provide a new type of composite module capable of designing the shortest signal path between the antenna and the semiconductor chip, securing the omnidirectional coverage characteristics, and improving the antenna reception sensitivity.

본 개시를 통하여 제안하는 여러 해결 수단 중 하나는 반도체칩을 포함하는 반도체 패키지와 안테나를 포함하는 안테나 기판을 복합 모듈화하는 것이다.
One of the various solutions proposed through the present disclosure is to composite the module substrate including the semiconductor chip and the antenna substrate including the antenna.

예를 들면, 본 개시에서 제안하는 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈은, 접속패드가 배치된 활성면 및 상기 활성면의 반대측에 배치된 비활성면을 갖는 반도체칩과 상기 반도체칩의 적어도 일부를 봉합하는 봉합재와 상기 반도체칩의 상부에 배치되며 상기 접속패드와 전기적으로 연결된 재배선층을 포함하는 연결부재를 포함하는 팬-아웃 반도체 패키지, 및 절연층과 상기 절연층의 상면에 배치되며 안테나 패턴을 포함하는 제1패턴층과 상기 절연층의 하면에 배치되며 그라운드 패턴을 포함하는 제2패턴층과 상기 절연층을 관통하며 상기 안테나 패턴과 전기적으로 연결된 피딩라인을 포함하는 비아를 포함하는 안테나 부재와 상기 안테나 부재의 하부에 배치되며 상기 피딩라인과 전기적으로 연결된 피딩패턴을 포함하는 배선층을 포함하는 배선부재를 포함하는 안테나 기판, 을 포함하며, 상기 팬-아웃 반도체 패키지 및 상기 안테나 기판이 상기 연결부재 및 상기 배선부재가 서로 마주하도록 결합된 것일 수 있다.
For example, an antenna substrate and a semiconductor package composite module according to an example proposed in the present disclosure may include a semiconductor chip having an active surface on which a connection pad is disposed and an inactive surface disposed on the opposite side of the active surface, Out semiconductor package including a seal member for sealing the semiconductor chip and a connection member including a re-wiring layer disposed on the semiconductor chip and electrically connected to the connection pad, and an insulation layer disposed on the insulation layer, A second pattern layer disposed on a lower surface of the insulating layer and including a ground pattern, and a via including a via hole extending through the insulating layer and electrically connected to the antenna pattern, And a wiring pattern disposed at a lower portion of the antenna member and including a feeding pattern electrically connected to the feeding line, Comprising: an antenna board, including a wiring member including the fan-out of a semiconductor package and the antenna substrate on which the connection member and the wiring member may be coupled to each other.

또는, 본 개시에서 제안하는 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈은, 관통홀을 갖는 코어부재와 상기 관통홀에 배치되며 접속패드가 배치된 활성면 및 상기 활성면의 반대측에 배치된 비활성면을 갖는 반도체칩과 상기 반도체칩의 적어도 일부를 봉합하는 봉합재와 상기 반도체칩의 상부에 배치된 연결부재를 포함하며, 상기 코어부재 및 상기 연결부재가 각각 상기 접속패드와 전기적으로 연결된 코어 배선층 및 재배선층을 포함하는 팬-아웃 반도체 패키지, 및 절연층을 기준으로 상부에 안테나 패턴을 포함하는 제1패턴층이 배치되고 하부에 그라운드 패턴을 포함하는 제2패턴층이 배치되며 상기 절연층에 상기 절연층을 관통하며 상기 안테나 패턴과 전기적으로 연결된 피딩라인을 포함하는 비아가 형성된 안테나 부재와 상기 안테나 부재의 하부에 배치되며 상기 피딩라인과 전기적으로 연결된 피딩패턴을 포함하는 배선층을 포함하는 배선부재를 포함하는 안테나 기판, 을 포함하며, 상기 안테나 기판이 상기 팬-아웃 반도체 패키지 상에 적층되며, 상기 안테나 기판 및 상기 팬-아웃 반도체 패키지가 전기연결구조체를 통하여 서로 연결된 것일 수도 있다.
Alternatively, the antenna substrate and the semiconductor package composite module according to an example proposed in the present disclosure may include a core member having a through hole, an active surface disposed in the through hole and having a connection pad disposed thereon, and an inactive surface And a connecting member disposed on the semiconductor chip, wherein the core member and the connecting member are respectively connected to the core wiring layer and the core wiring layer electrically connected to the connection pad, A semiconductor device comprising: a fan-out semiconductor package including a re-wiring layer; and a first pattern layer including an antenna pattern on an upper surface thereof and a second pattern layer including a ground pattern on an upper surface thereof, An antenna member having a via formed therein and including a feeding line electrically connected to the antenna pattern through the insulating layer, And an antenna substrate disposed at a lower portion of the substrate and including a wiring layer including a wiring layer including a feeding pattern electrically connected to the feeding line, wherein the antenna substrate is stacked on the fan-out semiconductor package, The antenna substrate and the fan-out semiconductor package may be connected to each other through the electrical connection structure.

본 개시의 여러 효과 중 일 효과로서 안테나와 반도체칩 간의 신호 경로의 최단 설계가 가능하고, 전 방향 커버리지 특성 확보가 가능하며, 안테나 수신 감도를 향상시킬 수 있는, 새로운 형태의 복합 모듈을 제공할 수 있다.
As one of the effects of the present disclosure, it is possible to provide a new type of composite module capable of designing the shortest signal path between the antenna and the semiconductor chip, securing the omnidirectional coverage characteristics, and improving the antenna reception sensitivity have.

도 1은 전자기기 시스템의 예를 개략적으로 나타내는 블록도다.
도 2는 전자기기의 일례를 개략적으로 나타낸 사시도다.
도 3은 팬-인 반도체 패키지의 패키징 전후를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 4는 팬-인 반도체 패키지의 패키징 과정을 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 5는 팬-인 반도체 패키지가 인터포저 기판 상에 실장되어 최종적으로 전자기기의 메인보드에 실장된 경우를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 6은 팬-인 반도체 패키지가 인터포저 기판 내에 내장되어 최종적으로 전자기기의 메인보드에 실장된 경우를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 7은 팬-아웃 반도체 패키지의 개략적은 모습을 나타낸 단면도다.
도 8은 팬-아웃 반도체 패키지가 전자기기의 메인보드에 실장된 경우를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 9는 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 10은 도 9의 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 Ⅰ-Ⅰ' 절단 평면도를 개략적으로 나타낸다.
도 11은 도 9의 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 안테나 기판의 다양한 예를 개략적으로 나타낸다.
도 12는 도 9의 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 안테나 기판의 패치 안테나의 적용 예를 개략적으로 나타낸다.
도 13은 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 14는 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 15는 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 16은 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 17은 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 18은 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 19는 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 20은 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 21은 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 22는 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
도 23은 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
1 is a block diagram schematically showing an example of an electronic equipment system.
2 is a perspective view schematically showing an example of an electronic apparatus.
3 is a cross-sectional view schematically showing the front and rear of the package of the fan-in semiconductor package.
4 is a cross-sectional view schematically showing a packaging process of a fan-in semiconductor package.
5 is a cross-sectional view schematically showing a case where a fan-in semiconductor package is mounted on an interposer substrate and finally mounted on a main board of an electronic apparatus.
6 is a cross-sectional view schematically showing a case where a fan-in semiconductor package is embedded in an interposer substrate and finally mounted on a main board of an electronic apparatus.
7 is a cross-sectional view showing a schematic view of a fan-out semiconductor package.
8 is a cross-sectional view schematically showing a case where the fan-out semiconductor package is mounted on a main board of an electronic apparatus.
9 is a cross-sectional view schematically showing an example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.
FIG. 10 schematically shows a sectional plan view of the antenna substrate and the semiconductor package composite module of FIG. 9 taken along line I-I '.
11 schematically shows various examples of the antenna substrate of the antenna substrate and the semiconductor package composite module of Fig.
FIG. 12 schematically shows an application example of a patch antenna of an antenna substrate and a composite package module of the semiconductor package of FIG. 9; FIG.
13 is a cross-sectional view schematically showing another example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.
14 is a cross-sectional view schematically showing another example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.
15 is a cross-sectional view schematically showing another example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.
16 is a cross-sectional view schematically showing another example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.
17 is a cross-sectional view schematically showing another example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.
18 is a cross-sectional view schematically showing another example of the antenna substrate and the semiconductor package composite module.
19 is a cross-sectional view schematically showing another example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.
20 is a cross-sectional view schematically showing another example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.
21 is a cross-sectional view schematically showing another example of the antenna substrate and the semiconductor package composite module.
22 is a cross-sectional view schematically showing another example of the antenna substrate and the semiconductor package composite module.
23 is a cross-sectional view schematically showing another example of the antenna substrate and the semiconductor package composite module.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 개시에 대해 설명한다. 도면에서 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장되거나 축소될 수 있다.
Hereinafter, the present disclosure will be described with reference to the accompanying drawings. The shape and size of elements in the drawings may be exaggerated or reduced for clarity.

전자기기Electronics

도 1은 전자기기 시스템의 예를 개략적으로 나타내는 블록도이다.
1 is a block diagram schematically showing an example of an electronic equipment system.

도면을 참조하면, 전자기기(1000)는 메인보드(1010)를 수용한다. 메인보드(1010)에는 칩 관련부품(1020), 네트워크 관련부품(1030), 및 기타부품(1040) 등이 물리적 및/또는 전기적으로 연결되어 있다. 이들은 후술하는 다른 전자부품과도 결합되어 다양한 신호라인(1090)을 형성한다.
Referring to the drawings, an electronic device 1000 accommodates a main board 1010. The main board 1010 is physically and / or electrically connected to the chip-related components 1020, the network-related components 1030, and other components 1040. They are also combined with other electronic components to be described later to form various signal lines 1090.

칩 관련부품(1020)으로는 휘발성 메모리(예컨대, DRAM), 비-휘발성 메모리(예컨대, ROM), 플래시 메모리 등의 메모리 칩; 센트랄 프로세서(예컨대, CPU), 그래픽 프로세서(예컨대, GPU), 디지털 신호 프로세서, 암호화 프로세서, 마이크로 프로세서, 마이크로 컨트롤러 등의 어플리케이션 프로세서 칩; 아날로그-디지털 컨버터, ASIC(application-specific IC) 등의 로직 칩 등이 포함되며, 이에 한정되는 것은 아니고, 이 외에도 기타 다른 형태의 칩 관련 전자부품이 포함될 수 있음은 물론이다. 또한, 이들 전자부품(1020)이 서로 조합될 수 있음은 물론이다.
Chip related components 1020 include memory chips such as volatile memory (e.g., DRAM), non-volatile memory (e.g., ROM), flash memory, etc.; An application processor chip such as a central processor (e.g., a CPU), a graphics processor (e.g., a GPU), a digital signal processor, a cryptographic processor, a microprocessor, An analog-to-digital converter, and a logic chip such as an application-specific IC (ASIC), but the present invention is not limited thereto and other types of chip-related electronic components may be included. It goes without saying that these electronic components 1020 can be combined with each other.

네트워크 관련부품(1030)으로는, Wi-Fi(IEEE 802.11 패밀리 등), WiMAX(IEEE 802.16 패밀리 등), IEEE 802.20, LTE(long term evolution), Ev-DO, HSPA+, HSDPA+, HSUPA+, EDGE, GSM, GPS, GPRS, CDMA, TDMA, DECT, Bluetooth, 3G, 4G, 5G 및 그 이후의 것으로 지정된 임의의 다른 무선 및 유선 프로토콜들이 포함되며, 이에 한정되는 것은 아니고, 이 외에도 기타 다른 다수의 무선 또는 유선 표준들이나 프로토콜들 중의 임의의 것이 포함될 수 있다. 또한, 네트워크 관련부품(1030)이 칩 관련 전자부품(1020)과 더불어 서로 조합될 수 있음은 물론이다.
IEEE 802.11 family, etc.), IEEE 802.20, long term evolution (LTE), Ev-DO, HSPA +, HSDPA +, HSUPA +, EDGE, GSM , And any other wireless and wired protocols designated as GPS, GPRS, CDMA, TDMA, DECT, Bluetooth, 3G, 4G, 5G and later, as well as any other wireless or wired Any of the standards or protocols may be included. It goes without saying that the network-related component 1030 can be combined with the chip-related electronic component 1020 with each other.

기타부품(1040)으로는, 고주파 인덕터, 페라이트 인덕터, 파워 인덕터, 페라이트 비즈, LTCC(low Temperature Co-Firing Ceramics), EMI(Electro Magnetic Interference) filter, MLCC(Multi-Layer Ceramic Condenser) 등이 포함되며, 이에 한정되는 것은 아니고, 이 외에도 기타 다른 다양한 용도를 위하여 사용되는 수동부품 등이 포함될 수 있다. 또한, 기타부품(1040)이 칩 관련 전자부품(1020) 및/또는 네트워크 관련 전자부품(1030)과 더불어 서로 조합될 수 있음은 물론이다.
Other components 1040 include high-frequency inductors, ferrite inductors, power inductors, ferrite beads, low temperature co-firing ceramics (LTCC), EMI (Electro Magnetic Interference) filters, and MLCC (Multi-Layer Ceramic Condenser) But is not limited to, passive components used for various other purposes, and the like. Of course, other components 1040 may be combined with chip-related electronic components 1020 and / or network-related electronic components 1030 with each other.

전자기기(1000)의 종류에 따라, 전자기기(1000)는 메인보드(1010)에 물리적 및/또는 전기적으로 연결되거나 그렇지 않을 수도 있는 다른 전자부품을 포함할 수 있다. 다른 전자부품의 예를 들면, 카메라(1050), 안테나(1060), 디스플레이(1070), 배터리(1080), 오디오 코덱(미도시), 비디오 코덱(미도시), 전력 증폭기(미도시), 나침반(미도시), 가속도계(미도시), 자이로스코프(미도시), 스피커(미도시), 대량 저장 장치(예컨대, 하드디스크 드라이브)(미도시), CD(compact disk)(미도시), 및 DVD(digital versatile disk)(미도시) 등이 있으며, 다만, 이에 한정되는 것은 아니고, 이 외에도 전자기기(1000)의 종류에 따라 다양한 용도를 위하여 사용되는 기타 전자부품 등이 포함될 수 있음은 물론이다.
Depending on the type of electronic device 1000, the electronic device 1000 may include other electronic components that may or may not be physically and / or electrically connected to the mainboard 1010. Examples of other electronic components include a camera 1050, an antenna 1060, a display 1070, a battery 1080, an audio codec (not shown), a video codec (not shown), a power amplifier (not shown) (Not shown), a CD (compact disk) (not shown), and a mass storage device (not shown), an accelerometer (not shown), a gyroscope And a digital versatile disk (DVD) (not shown). However, the present invention is not limited thereto, and other electronic components used for various purposes may be included depending on the type of the electronic device 1000 .

전자기기(1000)는, 스마트 폰(smart phone), 개인용 정보 단말기(personal digital assistant), 디지털 비디오 카메라(digital video camera), 디지털 스틸 카메라(digital still camera), 네트워크 시스템(network system), 컴퓨터(computer), 모니터(monitor), 태블릿(tablet), 랩탑(laptop), 넷북(netbook), 텔레비전(television), 비디오 게임(video game), 스마트 워치(smart watch), 오토모티브(Automotive) 등일 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들 외에도 데이터를 처리하는 임의의 다른 전자기기일 수 있음은 물론이다.
The electronic device 1000 may be a smart phone, a personal digital assistant, a digital video camera, a digital still camera, a network system, a computer a computer, a monitor, a tablet, a laptop, a netbook, a television, a video game, a smart watch, an automotive, and the like. However, it is needless to say that the present invention is not limited thereto and may be any other electronic device that processes data.

도 2는 전자기기의 일례를 개략적으로 나타낸 사시도다.
2 is a perspective view schematically showing an example of an electronic apparatus.

도면을 참조하면, 전자기기는 예를 들면 스마트 폰(1100)일 수 있다. 스마트 폰(1100)에는 무선 주파수 집적회로(RF IC: Radio Frequency Integrated Circuit)가 반도체 패키지 형태로 적용될 수 있으며, 또한 안테나(Antenna)가 기판 또는 모듈 형태로 적용될 수 있다. 스마튼 폰(1100) 내에서 무선 주파수 집적회로와 안테나가 전기적으로 연결됨으로써, 다양한 방향으로 안테나 신호의 방사(R)가 가능하다. 무선 주파수 집적회로를 포함하는 반도체 패키지와 안테나를 포함하는 기판 또는 모듈은 다양한 형태로 스마트 폰 등의 전자기기에 적용될 수 있다.
Referring to the drawings, the electronic device may be, for example, a smartphone 1100. A radio frequency integrated circuit (RF IC) may be applied to the smartphone 1100 in the form of a semiconductor package, and an antenna may be applied in the form of a substrate or a module. The radio frequency integrated circuit and the antenna are electrically connected in the smartphone 1100, so that radiation (R) of the antenna signal in various directions is possible. A semiconductor package including a radio frequency integrated circuit and a substrate or a module including an antenna can be applied to electronic devices such as smart phones in various forms.

반도체 패키지Semiconductor package

일반적으로 반도체칩은 수많은 미세 전기 회로가 집적되어 있으나 그 자체로는 반도체 완성품으로서의 역할을 할 수 없으며, 외부의 물리적 또는 화학적 충격에 의해 손상될 가능성이 존재한다. 그래서 반도체칩 자체를 그대로 사용하지 않고 반도체칩을 패키징하여 패키지 상태로 전자기기 등에 사용하고 있다.
In general, a semiconductor chip has many microelectronic circuits integrated therein, but itself can not serve as a finished product of a semiconductor, and there is a possibility of being damaged by external physical or chemical impact. Therefore, the semiconductor chip itself is not used as it is, and the semiconductor chip is packaged and used as electronic devices in a package state.

반도체 패키징이 필요한 이유는, 전기적인 연결이라는 관점에서 볼 때, 반도체칩과 전자기기의 메인보드의 회로 폭에 차이가 있기 때문이다. 구체적으로, 반도체칩의 경우, 접속패드의 크기와 접속패드간의 간격이 매우 미세한 반면 전자기기에 사용되는 메인보드의 경우, 전자부품 실장 패드의 크기 및 전자부품 실장 패드의 간격이 반도체칩의 스케일보다 훨씬 크다. 따라서, 반도체칩을 이러한 메인보드 상에 바로 장착하기 어려우며 상호간의 회로 폭 차이를 완충시켜 줄 수 있는 패키징 기술이 요구되는 것이다.
The reason for the necessity of semiconductor packaging is that there is a difference in circuit width between the semiconductor chip and the main board of the electronic device from the viewpoint of electrical connection. Specifically, in the case of a semiconductor chip, the sizes of the connection pads and the spacing between the connection pads are very small. On the other hand, in the case of the main board used in electronic devices, the size of the electronic component mounting pads and the intervals of the electronic component mounting pads It is much bigger. Therefore, there is a need for a packaging technique which makes it difficult to directly mount a semiconductor chip on such a main board and can buffer the difference in circuit width between the semiconductor chips.

이러한 패키징 기술에 의하여 제조되는 반도체 패키지는 구조 및 용도에 따라서 팬-인 반도체 패키지(Fan-in semiconductor package)와 팬-아웃 반도체 패키지(Fan-out semiconductor package)로 구분될 수 있다.
The semiconductor package manufactured by such a packaging technique can be classified into a fan-in semiconductor package and a fan-out semiconductor package depending on the structure and use.

이하에서는, 도면을 참조하여 팬-인 반도체 패키지와 팬-아웃 반도체 패키지에 대하여 보다 자세히 알아보도록 한다.
Hereinafter, the fan-in semiconductor package and the fan-out semiconductor package will be described in more detail with reference to the drawings.

(팬-인 반도체 패키지)(Fan-in semiconductor package)

도 3은 팬-인 반도체 패키지의 패키징 전후를 개략적으로 나타낸 단면도다.3 is a cross-sectional view schematically showing the front and rear of the package of the fan-in semiconductor package.

도 4는 팬-인 반도체 패키지의 패키징 과정을 개략적으로 나타낸 단면도다.
4 is a cross-sectional view schematically showing a packaging process of a fan-in semiconductor package.

도면을 참조하면, 반도체칩(2220)은 실리콘(Si), 게르마늄(Ge), 갈륨비소(GaAs) 등을 포함하는 바디(2221), 바디(2221)의 일면 상에 형성된 알루미늄(Al) 등의 도전성 물질을 포함하는 접속패드(2222), 및 바디(2221)의 일면 상에 형성되며 접속패드(2222)의 적어도 일부를 덮는 산화막 또는 질화막 등의 패시베이션막(2223)을 포함하는, 예를 들면, 베어(Bare) 상태의 집적회로(IC)일 수 있다. 이때, 접속패드(2222)는 매우 작기 때문에, 집적회로(IC)는 전자기기의 메인보드 등은 물론, 중간 레벨의 인쇄회로기판(PCB)에도 실장 되기 어렵다.
The semiconductor chip 2220 includes a body 2221 including silicon (Si), germanium (Ge), gallium arsenide (GaAs), or the like; A connection pad 2222 including a conductive material and a passivation film 2223 such as an oxide film or a nitride film formed on one surface of the body 2221 and covering at least a part of the connection pad 2222. [ May be an integrated circuit (IC) in a bare state. At this time, since the connection pad 2222 is very small, the integrated circuit (IC) is difficult to be mounted on a medium-level printed circuit board (PCB) as well as a main board of an electronic apparatus.

이에, 접속패드(2222)를 재배선하기 위하여 반도체칩(2220) 상에 반도체칩(2220)의 사이즈에 맞춰 연결부재(2240)를 형성한다. 연결부재(2240)는 반도체칩(2220) 상에 감광성 절연 수지(PID)와 같은 절연물질로 절연층(2241)을 형성하고, 접속패드(2222)를 오픈시키는 비아홀(2243h)을 형성한 후, 배선패턴 (2242) 및 비아(2243)를 형성하여 형성할 수 있다. 그 후, 연결부재(2240)를 보호하는 패시베이션층(2250)을 형성하고, 개구부(2251)를 형성한 후, 언더범프금속층(2260) 등을 형성한다. 즉, 일련의 과정을 통하여, 예를 들면, 반도체칩(2220), 연결부재(2240), 패시베이션층(2250), 및 언더범프금속층(2260)을 포함하는 팬-인 반도체 패키지(2200)가 제조된다.
A connection member 2240 is formed on the semiconductor chip 2220 in accordance with the size of the semiconductor chip 2220 in order to rewire the connection pad 2222. [ The connecting member 2240 is formed by forming an insulating layer 2241 with an insulating material such as a photosensitive insulating resin (PID) on the semiconductor chip 2220 and forming a via hole 2243h for opening the connecting pad 2222, The wiring pattern 2242 and the via 2243 can be formed. Thereafter, a passivation layer 2250 for protecting the connecting member 2240 is formed, and an under-bump metal layer 2260 or the like is formed after the opening 2251 is formed. That is, through a series of processes, a fan-in semiconductor package 2200 including, for example, a semiconductor chip 2220, a connecting member 2240, a passivation layer 2250, and an under bump metal layer 2260, do.

이와 같이, 팬-인 반도체 패키지는 반도체칩의 접속패드, 예컨대 I/O(Input/Output) 단자를 모두 소자 안쪽에 배치시킨 패키지형태이며, 팬-인 반도체 패키지는 전기적 특성이 좋으며 저렴하게 생산할 수 있다. 따라서, 스마트폰에 들어가는 많은 소자들이 팬-인 반도체 패키지 형태로 제작되고 있으며, 구체적으로는 소형이면서도 빠른 신호 전달을 구현하는 방향으로 개발이 이루어지고 있다.
As described above, the fan-in semiconductor package is a package in which all the connection pads of the semiconductor chip, for example, I / O (Input / Output) terminals are disposed inside the element, and the fan-in semiconductor package has good electrical characteristics and can be produced at low cost have. Accordingly, many devices incorporated in a smart phone are manufactured in the form of a fan-in semiconductor package. Specifically, development is being made in order to implement a small-sized and fast signal transmission.

다만, 팬-인 반도체 패키지는 I/O 단자를 모두 반도체칩 안쪽에 배치해야 하는바 공간적인 제약이 많다. 따라서, 이러한 구조는 많은 수의 I/O 단자를 갖는 반도체칩이나 크기가 작은 반도체칩에 적용하는데 어려운 점이 있다. 또한, 이러한 취약점으로 인하여 전자기기의 메인보드에 팬-인 반도체 패키지가 직접 실장 되어 사용될 수 없다. 반도체칩의 I/O 단자를 재배선 공정으로 그 크기와 간격을 확대하였다 하더라도, 전자기기 메인보드에 직접 실장 될 수 있을 정도의 크기와 간격을 가지는 것은 아니기 때문이다.
However, in the fan-in semiconductor package, all of the I / O terminals must be disposed inside the semiconductor chip, so that there are many space limitations. Therefore, such a structure is difficult to apply to a semiconductor chip having a large number of I / O terminals or a semiconductor chip having a small size. In addition, due to this vulnerability, the fan-in semiconductor package can not be directly mounted on the main board of the electronic device. This is because even if the size and spacing of the I / O terminals of the semiconductor chip are enlarged by the rewiring process, they do not have a size and a gap enough to be directly mounted on the electronic device main board.

도 5는 팬-인 반도체 패키지가 인터포저 기판 상에 실장되어 최종적으로 전자기기의 메인보드에 실장된 경우를 개략적으로 나타낸 단면도다.5 is a cross-sectional view schematically showing a case where a fan-in semiconductor package is mounted on an interposer substrate and finally mounted on a main board of an electronic apparatus.

도 6은 팬-인 반도체 패키지가 인터포저 기판 내에 내장되어 최종적으로 전자기기의 메인보드에 실장된 경우를 개략적으로 나타낸 단면도다.
6 is a cross-sectional view schematically showing a case where a fan-in semiconductor package is embedded in an interposer substrate and finally mounted on a main board of an electronic apparatus.

도면을 참조하면, 팬-인 반도체 패키지(2200)는 반도체칩(2220)의 접속패드들(2222), 즉 I/O 단자들이 인터포저 기판(2301)을 통하여 다시 한 번 재배선되며, 최종적으로는 인터포저 기판(2301) 상에 팬-인 반도체 패키지(2200)가 실장된 상태로 전자기기의 메인보드(2500)에 실장될 수 있다. 이때, 솔더볼(2270) 등은 언더필 수지(2280) 등으로 고정될 수 있으며, 외측은 몰딩재(2290) 등으로 커버될 수 있다. 또는, 팬-인 반도체 패키지(2200)는 별도의 인터포저 기판(2302) 내에 내장(Embedded) 될 수 도 있으며, 내장된 상태로 인터포저 기판(2302)에 의하여 반도체칩(2220)의 접속패드들(2222), 즉 I/O 단자들이 다시 한 번 재배선되고, 최종적으로 전자기기의 메인보드(2500)에 실장될 수 있다.
Referring to the drawing, the fan-in semiconductor package 2200 is again rewired with the connection pads 2222 of the semiconductor chip 2220, that is, the I / O terminals through the interposer substrate 2301, May be mounted on the main board 2500 of the electronic device with the fan-in semiconductor package 2200 mounted on the interposer substrate 2301. At this time, the solder ball 2270 and the like can be fixed with the underfill resin 2280 and the outside can be covered with the molding material 2290 or the like. Alternatively, the fan-in semiconductor package 2200 may be embedded in a separate interposer substrate 2302, and the interposer substrate 2302 may be embedded in the connection pads 2220 of the semiconductor chip 2220, The I / O terminals 2222, i.e., the I / O terminals, may be re-routed again and finally mounted on the main board 2500 of the electronic device.

이와 같이, 팬-인 반도체 패키지는 전자기기의 메인보드에 직접 실장 되어 사용되기 어렵기 때문에, 별도의 인터포저 기판 상에 실장된 후 다시 패키징 공정을 거쳐 전자기기 메인보드에 실장되거나, 또는 인터포저 기판 내에 내장된 채로 전자기기 메인보드에 실장되어 사용되고 있다.
Since the fan-in semiconductor package is difficult to be directly mounted on the main board of the electronic apparatus, it is mounted on a separate interposer substrate and then re-packaged to be mounted on the electronic device main board, And is mounted on an electronic device main board while being embedded in a substrate.

(팬-아웃 반도체 패키지)(Fan-out semiconductor package)

도 7은 팬-아웃 반도체 패키지의 개략적은 모습을 나타낸 단면도다.
7 is a cross-sectional view showing a schematic view of a fan-out semiconductor package.

도면을 참조하면, 팬-아웃 반도체 패키지(2100)는, 예를 들면, 반도체칩(2120)의 외측이 봉합재(2130)로 보호되며, 반도체칩(2120)의 접속패드(2122)가 연결부재(2140)에 의하여 반도체칩(2120)의 바깥쪽까지 재배선된다. 이때, 연결부재(2140) 상에는 패시베이션층(2150)이 더 형성될 수 있으며, 패시베이션층(2150)의 개구부에는 언더범프금속층(2160)이 더 형성될 수 있다. 언더범프금속층(2160) 상에는 솔더볼(2170)이 더 형성될 수 있다. 반도체칩(2120)은 바디(2121), 접속패드(2122), 패시베이션막(미도시) 등을 포함하는 집적회로(IC)일 수 있다. 연결부재(2140)는 절연층(2141), 절연층(2241) 상에 형성된 재배선층(2142), 접속패드(2122)와 재배선층(2142) 등을 전기적으로 연결하는 비아(2143)를 포함할 수 있다.
In the fan-out semiconductor package 2100, for example, the outer side of the semiconductor chip 2120 is protected by the sealing material 2130, and the connection pad 2122 of the semiconductor chip 2120 is connected to the connection member 2120. [ The semiconductor chip 2120 is rewound to the outside of the semiconductor chip 2120. At this time, a passivation layer 2150 may be further formed on the connecting member 2140, and an under bump metal layer 2160 may be further formed on the opening of the passivation layer 2150. A solder ball 2170 may be further formed on the under bump metal layer 2160. The semiconductor chip 2120 may be an integrated circuit (IC) including a body 2121, a connection pad 2122, a passivation film (not shown), and the like. The connecting member 2140 includes an insulating layer 2141, a re-wiring layer 2142 formed on the insulating layer 2241, and a via 2143 for electrically connecting the connecting pad 2122 and the re-wiring layer 2142 .

이와 같이, 팬-아웃 반도체 패키지는 반도체칩 상에 형성된 연결부재를 통하여 반도체칩의 바깥쪽에 까지 I/O 단자를 재배선하여 배치시킨 형태이다. 상술한 바와 같이, 팬-인 반도체 패키지는 반도체칩의 I/O 단자를 모두 반도체칩 안쪽에 배치시켜야 하고 이에 소자 사이즈가 작아지면 볼 크기와 피치를 줄여야 하므로 표준화된 볼 레이아웃을 사용할 수 없다. 반면, 팬-아웃 반도체 패키지는 이와 같이 반도체칩 상에 형성된 연결부재를 통하여 반도체칩의 바깥쪽에 까지 I/O 단자를 재배선하여 배치시킨 형태인바 반도체칩의 크기가 작아지더라도 표준화된 볼 레이아웃을 그대로 사용할 수 있는바, 후술하는 바와 같이 전자기기의 메인보드에 별도의 인터포저 기판 없이도 실장될 수 있다.
As described above, the fan-out semiconductor package is formed by rewiring the I / O terminals to the outside of the semiconductor chip through the connecting member formed on the semiconductor chip. As described above, in the fan-in semiconductor package, all of the I / O terminals of the semiconductor chip must be disposed inside the semiconductor chip. If the element size is reduced, the ball size and pitch must be reduced. On the other hand, in the fan-out semiconductor package, the I / O terminals are rewired to the outside of the semiconductor chip through the connecting member formed on the semiconductor chip so that the size of the semiconductor chip is reduced. And can be mounted on a main board of an electronic device without a separate interposer substrate as will be described later.

도 8은 팬-아웃 반도체 패키지가 전자기기의 메인보드에 실장된 경우를 개략적으로 나타낸 단면도다.
8 is a cross-sectional view schematically showing a case where the fan-out semiconductor package is mounted on a main board of an electronic apparatus.

도면을 참조하면, 팬-아웃 반도체 패키지(2100)는 솔더볼(2170) 등을 통하여 전자기기의 메인보드(2500)에 실장될 수 있다. 즉, 상술한 바와 같이, 팬-아웃 반도체 패키지(2100)는 반도체칩(2120) 상에 반도체칩(2120)의 사이즈를 벗어나는 팬-아웃 영역까지 접속패드(2122)를 재배선할 수 있는 연결부재(2140)를 형성하기 때문에, 표준화된 볼 레이아웃을 그대로 사용할 수 있으며, 그 결과 별도의 인터포저 기판 등 없이도 전자기기의 메인보드(2500)에 실장 될 수 있다.
Referring to the drawings, the fan-out semiconductor package 2100 may be mounted on a main board 2500 of an electronic device through a solder ball 2170 or the like. That is, as described above, the fan-out semiconductor package 2100 includes a connection member 2120 that can rewire the connection pad 2122 to the fan-out area beyond the size of the semiconductor chip 2120 on the semiconductor chip 2120, The standardized ball layout can be used as it is, and as a result, it can be mounted on the main board 2500 of the electronic apparatus without a separate interposer substrate or the like.

이와 같이, 팬-아웃 반도체 패키지는 별도의 인터포저 기판 없이도 전자기기의 메인보드에 실장 될 수 있기 때문에, 인터포저 기판을 이용하는 팬-인 반도체 패키지 대비 두께를 얇게 구현할 수 있는바 소형화 및 박형화가 가능하다. 또한, 열 특성과 전기적 특성이 우수하여 모바일 제품에 특히 적합하다. 또한, 인쇄회로기판(PCB)을 이용하는 일반적인 POP(Package on Package) 타입 보다 더 컴팩트하게 구현할 수 있고, 휨 현상 발생으로 인한 문제를 해결할 수 있다.
Since the fan-out semiconductor package can be mounted on the main board of the electronic device without using a separate interposer substrate, the thickness of the fan-out semiconductor package can be reduced compared to a fan-in semiconductor package using the interposer substrate. Do. In addition, it has excellent thermal characteristics and electrical characteristics and is particularly suitable for mobile products. In addition, it can be implemented more compactly than a general POP (Package on Package) type using a printed circuit board (PCB), and it is possible to solve a problem caused by a bending phenomenon.

한편, 팬-아웃 반도체 패키지는 이와 같이 반도체칩을 전자기기의 메인보드 등에 실장하기 위하여, 그리고 외부의 충격으로부터 반도체칩을 보호하기 위한 패키지 기술을 의미하는 것으로, 이와는 스케일, 용도 등이 상이하며, 팬-인 반도체 패키지가 내장되는 인터포저 기판 등의 인쇄회로기판(PCB)과는 다른 개념이다.
On the other hand, the fan-out semiconductor package means a package technology for mounting the semiconductor chip on a main board or the like of an electronic device and protecting the semiconductor chip from an external impact, and the scale, (PCB) such as an interposer substrate having a built-in fan-in semiconductor package.

안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈Antenna substrate and semiconductor package composite module

도 9는 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.9 is a cross-sectional view schematically showing an example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.

도 10은 도 9의 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 Ⅰ-Ⅰ' 절단 평면도를 개략적으로 나타낸다.
FIG. 10 schematically shows a sectional plan view of the antenna substrate and the semiconductor package composite module of FIG. 9 taken along line I-I '.

도면을 참조하면, 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300A)은 팬-아웃 반도체 패키지(100A)와 안테나 기판(200A)이 결합된 형태를 가진다. 보다 구체적으로는, 팬-아웃 반도체 패키지(100A)와 안테나 기판(200A)이 일체화된 형태를 가진다.
Referring to the drawings, an antenna substrate and a semiconductor package composite module 300A according to an exemplary embodiment are formed by combining a fan-out semiconductor package 100A and an antenna substrate 200A. More specifically, the fan-out semiconductor package 100A and the antenna substrate 200A are integrated.

팬-아웃 반도체 패키지(100A)는 관통홀(110H)을 갖는 코어부재(110), 관통홀(110H)에 배치되며 접속패드(120P)가 배치된 활성면 및 활성면의 반대측에 배치된 비활성면을 갖는 반도체칩(120), 관통홀(110H)에 반도체칩(120)과 나란하게 배치된 수동부품(125), 코어부재(110)와 반도체칩(120)과 수동부품(125)의 적어도 일부를 봉합하는 봉합재(130), 반도체칩(120)의 활성면 상에 배치된 연결부재(140), 반도체칩(120)의 비활성면 및 코어부재(110) 상에 배치된 백사이드 배선층(132), 봉합재(130) 하부에 배치된 패시베이션층(150), 백사이드 배선층(132)과 연결된 언더범프금속층(160), 및 언더범프금속층과 연결된 전기연결구조체(170)를 포함한다. 코어부재(110) 및 연결부재(140)는 각각 접속패드(120P)와 전기적으로 연결된 코어 배선층(112a, 112b)과 재배선층(142)을 포함한다. 반도체칩(120)은 안테나 기판(200A)을 향하여 페이스-업 배치된다.
The fan-out semiconductor package 100A includes a core member 110 having a through hole 110H, an active surface disposed in the through hole 110H and having an active surface on which the connection pad 120P is disposed, A passive component 125 disposed in parallel with the semiconductor chip 120 in the through hole 110H and at least a portion of the core member 110 and the semiconductor chip 120 and the passive component 125. [ A connecting member 140 disposed on the active surface of the semiconductor chip 120, an inactive surface of the semiconductor chip 120, and a backside wiring layer 132 disposed on the core member 110, A passivation layer 150 disposed under the sealing material 130, an under bump metal layer 160 connected to the backside wiring layer 132, and an electrical connection structure 170 connected to the under bump metal layer. The core member 110 and the connecting member 140 include core wiring layers 112a and 112b and a redistribution layer 142 electrically connected to the connection pad 120P. The semiconductor chip 120 is face-up disposed toward the antenna substrate 200A.

안테나 기판(200A)은 절연층(211)을 기준으로 상면에 안테나 패턴(212aA)을 포함하는 제1패턴층(212a)이 배치되고 하면에 그라운드 패턴(212bG)을 포함하는 제2패턴층(212b)이 배치되며 절연층(211)에 절연층(211)을 관통하며 안테나 패턴(212aA)과 전기적으로 연결된 피딩라인(213F)을 포함하는 비아(213)가 형성된 안테나 부재(210), 안테나 부재(210)의 하부에 배치되며 피딩라인(213F)과 전기적으로 연결된 피딩패턴(222F)을 포함하는 배선층(222)을 포함하는 배선부재(220), 및 안테나 부재(210)의 상부에 배치되며 제1배선층(212a)을 덮는 패시베이션층(230)을 포함한다. 안테나 부재(210)는 배선부재(220) 보다 두껍다.
The antenna substrate 200A includes a first pattern layer 212a including an antenna pattern 212aA on the upper surface thereof and a second pattern layer 212b including a ground pattern 212bG on the lower surface thereof, An antenna member 210 having an insulating layer 211 and a via 213 formed through the insulating layer 211 and including a feeding line 213F electrically connected to the antenna pattern 212aA, A wiring member 220 disposed on a lower portion of the antenna member 210 and including a wiring layer 222 including a feeding pattern 222F electrically connected to a feeding line 213F, And a passivation layer 230 covering the wiring layer 212a. The antenna member 210 is thicker than the wiring member 220.

안테나 기판(200A)의 배선부재(220)와 팬-아웃 반도체 패키지(100A)의 연결부재(140)는 별도의 전기연결구조체 등 없이 서로 접하여 일체화된다. 한편, 결합 이라는 표현은 두 구성요소가 서로 접하도록 일체화된 경우와 두 구성요소가 매개체를 이용하여 적층된 형태를 포함하는 개념이다.
The wiring member 220 of the antenna substrate 200A and the connecting member 140 of the fan-out semiconductor package 100A come into contact with each other without any separate electrical connection structure or the like. On the other hand, the term "combination" refers to a case where two components are integrated so as to be in contact with each other and a case where two components are stacked by using an intermediary.

한편, RFIC와 함께 안테나를 하나의 복합 모듈로 형성하는 경우, 안테나의 공진주파수와 대역폭을 결정짓기 위해서 안테나, 그라운드 면, 유전물질, 피딩라인 등의 구현을 어떻게 해야 할지 고려해야 한다. 예컨대, 안테나 특성에 민감한 영향을 주는 안테나와 그라운드 면 간의 거리, 즉 공기층의 두께 또는 유전물질의 두께를 일정하게 유지 및 관리를 해야 안정적인 안테나의 방사특성을 확보할 수 있다.
Meanwhile, when an antenna is formed as a single composite module together with an RFIC, it is necessary to consider how to implement an antenna, a ground plane, a dielectric material, and a feeding line to determine the resonance frequency and bandwidth of the antenna. For example, the distance between the antenna and the ground plane, which affects the antenna characteristics sensitively, that is, the thickness of the air layer or the thickness of the dielectric material, must be constantly maintained and managed to secure stable radiation characteristics of the antenna.

한편, 종래의 경우, 반도체 패키지의 재배선층에 안테나를 형성하되, 그라운드 면은 메인보드에 형성하는 방식을 사용한바 있다. 이 경우, 안테나와 그라운드 면 간의 두께 또는 거리를 패키지의 솔더볼의 높이로 확보를 해야 하며, 따라서 메인보드에 패키지를 실장 하였을 때, 솔더볼이 주저 않는 높이 정도에 따라 두께 차이가 발생할 수 있다. 또한, 이 경우 공기층을 유전물질로 사용하였기 때문에 안테나의 사이즈가 커지는 단점을 가지고 있다. 또한, 이 경우 안테나와 그라운드 면 사이의 공간에 플럭스(Flux) 또는 이물질이 삽입될 수 있으며, 그 결과 안테나의 특성이 크게 영향을 받을 수 있다. 또한, 이 경우, RFIC에서 열이 발생되는 경우, 충분한 방열 경로를 확보하기 힘들기 때문에, 많은 전력을 사용하는 제품에는 적용하는데 한계성을 가지고 있다.
On the other hand, in the conventional case, an antenna is formed on the rewiring layer of the semiconductor package, and a ground surface is formed on the main board. In this case, the thickness or the distance between the antenna and the ground surface must be secured to the height of the solder ball of the package. Therefore, when the package is mounted on the main board, thickness difference may occur depending on the height of the solder ball. In this case, since the air layer is used as a dielectric material, the size of the antenna is increased. Also, in this case, flux or foreign matter may be inserted into the space between the antenna and the ground plane, and as a result, the characteristics of the antenna may be greatly affected. Further, in this case, when heat is generated in the RFIC, it is difficult to secure a sufficient heat radiation path, and therefore, it is limited to a product using a lot of electric power.

반면, 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300A)의 경우는, RFIC 등의 반도체칩(120)을 페이스-업 형태로 패키징한 팬-아웃 반도체 패키지(100A)를 다이폴 안테나 또는 패치 안테나 등의 안테나 패턴(212aA)을 포함하는 안테나 기판(200A)과 일체화 한 구조이다. 이때, 안테나 기판(200A)은 안테나 부재(210)를 도입하고 있으며, 안테나 부재(210)는 절연층(211)을 기준으로 양면에 안테나 패턴(212aA)과 그라운드 패턴(212bG)을 형성하며, 절연층(211)을 관통하는 비아(213) 등을 통하여 피딩라인(213F)을 구현하고 있다. 따라서, 외부환경 변화에 관계없이 단일 복합 모듈 내에서 안테나와 그라운드 면 간의 거리를 안정적으로 확보하여 안테나의 방사특성을 유지할 수 있으며, 그럼에도 불구하고 안테나와 반도체칩 간의 신호 경로를 최소화하여 안정적인 RF 특성을 확보할 수 있다.
On the other hand, in the case of the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300A according to the example, the fan-out semiconductor package 100A in which the semiconductor chip 120 such as an RFIC is packaged in a face-up form is referred to as a dipole antenna, And the antenna substrate 200A including the antenna pattern 212aA of FIG. At this time, the antenna substrate 210A introduces the antenna member 210. The antenna member 210 forms the antenna pattern 212aA and the ground pattern 212bG on both sides with respect to the insulating layer 211, And through the vias 213 penetrating the layer 211 and the like. Therefore, it is possible to maintain the radiation characteristics of the antenna by stably maintaining the distance between the antenna and the ground plane in a single composite module regardless of external environment change. Nevertheless, by minimizing the signal path between the antenna and the semiconductor chip, .

또한, 안테나 부재(210)의 절연층(211)의 유전률(Dk)과 코어부재(110)의 절연층(211)의 유전률(Dk)을 적절히 이용함으로써 안테나의 크기를 소형화하여 전체 모듈의 구조를 절감하여 공간적인 효율성을 높임과 동시에 코스트 절감도 가능하다. 또한, 안테나와 그라운드 면 공간의 이물의 영향에 의한 안테나 성능 저하도 방지할 수 있다. 또한, 코어부재(110)의 도입으로 모듈(300A)의 강성을 부가할 수 있음은 물론이며, 코어부재(110)가 전기적인 연결 경로를 제공함으로써 메인보드 등에 연결되기 위한 전기연결구조체(170)까지의 모듈 내의 신호적 경로를 효과적으로 제공할 수 있다. 기타, 수동부품(125)이 팬-아웃 반도체 패키지(100A)에 반도체칩(120)과 함께 내장되어 있는바, 신호 및 파워 등의 로스 최소화도 가능하다.
It is also possible to miniaturize the size of the antenna by appropriately using the dielectric constant Dk of the insulating layer 211 of the antenna member 210 and the dielectric constant Dk of the insulating layer 211 of the core member 110, It is possible to reduce the cost while improving the spatial efficiency. It is also possible to prevent deterioration of antenna performance due to the influence of foreign matter on the antenna and the ground plane space. In addition, the rigidity of the module 300A can be added by introducing the core member 110, and the electrical connection structure 170 for connecting the core member 110 to the main board or the like by providing an electrical connection path, It is possible to effectively provide a signal path in the module up to the time of the present invention. In addition, since passive components 125 are embedded in the fan-out semiconductor package 100A together with the semiconductor chip 120, it is also possible to minimize the loss of signals and power.

이하에서는, 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300A)의 구성요소에 대하여 도면을 참조하여 보다 자세히 설명한다.
Hereinafter, components of the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300A according to an example will be described in more detail with reference to the drawings.

먼저, 팬-아웃 반도체 패키지(100A)는 상술한 바와 같이 관통홀(110H)을 갖는 코어부재(110), 관통홀(110H)에 배치되며 접속패드(120P)가 배치된 활성면 및 활성면의 반대측에 배치된 비활성면을 갖는 반도체칩(120), 관통홀(110H)에 반도체칩(120)과 나란하게 배치된 수동부품(125), 코어부재(110)와 반도체칩(120)과 수동부품(125)의 적어도 일부를 봉합하는 봉합재(130), 반도체칩(120)의 활성면 상에 배치된 연결부재(140), 반도체칩(120)의 비활성면 및 코어부재(110) 상에 배치된 백사이드 배선층(132), 봉합재(130) 하부에 배치된 패시베이션층(150), 백사이드 배선층(132)과 연결된 언더범프금속층(160), 및 언더범프금속층과 연결된 전기연결구조체(170)를 포함한다. 코어부재(110) 및 연결부재(140)는 각각 접속패드(120P)와 전기적으로 연결된 코어 배선층(112a, 112b)과 재배선층(142)을 포함한다.
First, the fan-out semiconductor package 100A includes a core member 110 having a through hole 110H, an active surface disposed on the through hole 110H and having an active surface on which the connection pad 120P is disposed, A passive component 125 disposed in parallel with the semiconductor chip 120 in the through hole 110H, a core member 110 and a semiconductor chip 120, and a passive component A connecting member 140 disposed on the active surface of the semiconductor chip 120, a non-active surface of the semiconductor chip 120, and a sealing member 130 disposed on the core member 110. The seal member 130 seals at least a part of the semiconductor chip 120, A passivation layer 150 disposed under the sealing material 130, an under bump metal layer 160 connected to the backside wiring layer 132, and an electrical connection structure 170 connected to the under bump metal layer. do. The core member 110 and the connecting member 140 include core wiring layers 112a and 112b and a redistribution layer 142 electrically connected to the connection pad 120P.

코어부재(110)는 코어 배선층(112a, 112b)을 포함하는바 연결부재(140)의 층수를 감소시킬 수 있다. 필요에 따라서는, 구체적인 재료에 따라 패키지(100A)의 강성을 보다 개선시킬 수 있으며, 봉합재(130)의 두께 균일성 확보 등의 역할을 수행할 수 있다. 코어부재(110)의 코어 배선층(112a, 112b) 및 코어 비아(113)에 의하여 모듈(300A) 내에 전기적인 경로가 제공될 수도 있다. 코어부재(110)는 관통홀(110H)을 가진다. 관통홀(110H) 내에는 반도체칩(120)과 수동부품(125)이 코어부재(110)와 소정거리 이격 되도록 나란하게 배치된다. 반도체칩(120) 및 수동부품(125)의 측면 주위는 코어부재(110)에 의하여 둘러싸일 수 있다. 다만, 이는 일례에 불과하며 다른 형태로 다양하게 변형될 수 있으며, 그 형태에 따라서 다른 기능을 수행할 수 있다.
The core member 110 can reduce the number of the bar connecting members 140 including the core wiring layers 112a and 112b. The rigidity of the package 100A can be further improved according to the specific material, and the function of securing the thickness uniformity of the sealing material 130 can be performed. An electrical path may be provided in the module 300A by the core wiring layers 112a and 112b and the core vias 113 of the core member 110. [ The core member 110 has a through hole 110H. In the through hole 110H, the semiconductor chip 120 and the passive components 125 are arranged in parallel so as to be spaced apart from the core member 110 by a predetermined distance. The periphery of the side surfaces of the semiconductor chip 120 and the passive component 125 may be surrounded by the core member 110. However, it is to be understood that the present invention is not limited thereto and various modifications may be made in other forms, and other functions may be performed according to the forms.

코어부재(110)는 유전층(111), 유전층(111)의 상면 상에 배치된 제1코어 배선층(112a), 유전층(111)의 하면 상에 배치된 제2코어 배선층(112b), 및 유전층(111)을 관통하며 제1 및 제2코어 배선층(112a, 112b)을 연결하는 코어 비아(113)를 포함한다. 코어부재(110)의 제1 및 제2코어 배선층(112a, 112b)은 연결부재(140)의 재배선층(142) 대비 두께가 두꺼울 수 있다. 코어부재(110)는 반도체칩(120) 등과 유사한 또는 그 이상의 두께를 가질 수 있는바, 제1 및 제2코어 배선층(112a, 112b) 역시 그 스케일에 맞춰 기판 공정을 통하여 보다 큰 사이즈로 형성할 수 있다. 반면, 연결부재(140)의 재배선층(142)은 박형화를 위하여 반도체 공정을 통하여 보다 작은 사이즈로 형성할 수 있다.
The core member 110 includes a dielectric layer 111, a first core wiring layer 112a disposed on the upper surface of the dielectric layer 111, a second core wiring layer 112b disposed on the lower surface of the dielectric layer 111, And core vias 113 connecting the first and second core wiring layers 112a and 112b. The first and second core wiring layers 112a and 112b of the core member 110 may be thicker than the re-wiring layer 142 of the connecting member 140. [ The core member 110 may have a thickness similar to or greater than that of the semiconductor chip 120 and the first and second core wiring layers 112a and 112b may be formed to have a larger size through the substrate process . On the other hand, the redistribution layer 142 of the connection member 140 can be formed in a smaller size through a semiconductor process for thinning.

유전층(111)의 재료는 특별히 한정되는 않는다. 예를 들면, 절연물질이 사용될 수 있는데, 이때 절연물질로는 에폭시 수지와 같은 열경화성 수지, 폴리이미드와 같은 열가소성 수지, 또는 이들 수지가 무기필러와 함께 유리섬유(Glass Fiber, Glass Cloth, Glass Fabric) 등의 심재에 함침된 수지, 예를 들면, 프리프레그(prepreg), ABF(Ajinomoto Build-up Film), FR-4, BT(Bismaleimide Triazine) 등이 사용될 수 있다. 필요에 따라서는, 감광성 절연(Photo Imagable Dielectric: PID) 수지를 사용할 수도 있다. 예를 들면, 유전층(111)의 재료로는 요구되는 자재 특성에 따라 Low Df & Low Dk의 일반 동박 적층판(CCL) 또는 Low Df & High Dk의 글래스나 세라믹 계열의 절연재를 적용할 수 있다.
The material of the dielectric layer 111 is not particularly limited. For example, an insulating material may be used. As the insulating material, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a thermoplastic resin such as polyimide, or a glass fiber, a glass cloth, or a glass fabric together with an inorganic filler, Such as prepreg, ABF (Ajinomoto Build-up Film), FR-4, BT (bismaleimide triazine), etc., can be used. If desired, a photosensitive insulator (PID) resin may be used. For example, low Df & Low Dk general copper clad laminate (CCL) or low Df & High Dk glass or ceramic type insulating material can be applied as the material of the dielectric layer 111, depending on the required material properties.

코어 배선층(112a, 112b)은 반도체칩(120)의 접속패드(120P)를 재배선하는 역할을 수행할 수 있다. 또한, 팬-아웃 반도체 패키지(100A)를 상부 및 하부의 다른 구성요소와 전기적으로 연결할 때 연결패턴으로 사용될 수 있다. 코어 배선층(112a, 112b)의 형성물질로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금 등의 도전성 물질을 사용할 수 있다. 코어 배선층(112a, 112b)은 해당 층의 설계 디자인에 따라 다양한 기능을 수행할 수 있다. 예를 들면, 그라운드(GrouND: GND) 패턴, 파워(PoWeR: PWR) 패턴, 신호(Signal: S) 패턴 등을 포함할 수 있다. 여기서, 신호(S) 패턴은 그라운드(GND) 패턴, 파워(PWR) 패턴 등을 제외한 각종 신호, 예를 들면, 데이터 신호 등을 포함한다. 또한, 비아 패드 등을 포함할 수 있다.
The core wiring layers 112a and 112b can perform the role of rewiring the connection pads 120P of the semiconductor chip 120. [ It can also be used as a connection pattern when electrically connecting the fan-out semiconductor package 100A with other components at the top and bottom. The core wiring layers 112a and 112b may be formed of copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), lead (Pb), titanium ), Or alloys of these materials may be used. The core wiring layers 112a and 112b can perform various functions according to the design design of the layer. For example, it may include a ground (GND) pattern, a power (PoWeR: PWR) pattern, a signal (S: S) pattern, Here, the signal S pattern includes various signals except for a ground (GND) pattern, a power (PWR) pattern, and the like, for example, a data signal. In addition, a via pad or the like may be included.

코어 비아(113)는 서로 다른 층에 형성된 코어 배선층(112a, 112b)을 전기적으로 연결시키며, 그 결과 코어부재(110) 내에 전기적 경로를 형성시킨다. 코어 비아(113) 역시 형성물질로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금 등의 도전성 물질을 사용할 수 있다. 코어 비아(113)는 도전성 물질로 완전히 충전될 수 있으며, 또는 도전성 물질이 비아 홀의 벽면을 따라 형성된 것일 수도 있다. 또한, 모래시계 형상이나 원통 형상 등 공지된 모든 형상이 적용될 수 있다. 코어 비아(113) 역시 신호를 위한 비아, 그라운드를 위한 비아 등을 포함할 수 있다.
The core vias 113 electrically connect the core wiring layers 112a and 112b formed in the different layers, thereby forming an electrical path in the core member 110. [ The core vias 113 may also be formed of copper, aluminum, silver, tin, gold, nickel, lead, titanium, Or an alloy thereof may be used. The core via 113 may be completely filled with a conductive material, or a conductive material may be formed along the wall surface of the via hole. Further, any known shape such as an hourglass shape or a cylindrical shape can be applied. Core vias 113 may also include vias for signals, vias for ground, and the like.

코어부재(110)의 관통홀(110H)의 벽면에는 필요에 따라서 금속층(115)이 더 배치될 수 있다. 금속층(115)은 관통홀(110H)의 벽면에 전면 형성이 되어 반도체칩(120)을 둘러쌀 수 있다. 이를 통하여, 방열 특성을 개선할 수 있음은 물론이며, 전자파 차폐의 효과를 가질 수도 있다. 금속층(115)의 형성물질로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금 등의 도전성 물질을 사용할 수 있다. 금속층(115)은 제1코어 배선층(112a) 및/또는 제2코어 배선층(112b)의 그라운드 패턴과 전기적으로 연결되어 그라운드 면으로 사용될 수도 있다.The metal layer 115 may be further disposed on the wall surface of the through hole 110H of the core member 110 as needed. The metal layer 115 may be formed on the wall surface of the through hole 110H to surround the semiconductor chip 120. [ As a result, the heat dissipation characteristics can be improved, and the electromagnetic wave shielding effect can be obtained. The metal layer 115 may be formed of copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), lead (Pb), titanium A conductive material such as an alloy thereof may be used. The metal layer 115 may be electrically connected to the ground pattern of the first core wiring layer 112a and / or the second core wiring layer 112b to be used as a ground plane.

반도체칩(120)은 소자 수백 내지 수백만 개 이상이 하나의 칩 안에 집적화된 베어 상태의 집적회로(IC)일 수 있다. 집적회로(IC)는, 예를 들면, RFIC(Radio-Frequency Integrated Circuit)일 수 있다. 즉, 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300A)은 RFIC와 mmWave/5G Antenna가 일체화된 패키지일 수 있다. 반도체칩(120)은 각종 회로가 형성된 바디를 포함할 수 있으며, 바디의 활성면에는 접속패드(120P)가 형성될 수 있다. 바디는, 예를 들면, 액티브 웨이퍼를 기반으로 형성될 수 있으며, 이 경우 모재로는 실리콘(Si), 게르마늄(Ge), 갈륨비소(GaAs) 등이 사용될 수 있다. 접속패드(120P)는 반도체칩(120)을 다른 구성요소와 전기적으로 연결시키기 위한 것으로, 형성물질로는 도전성 물질, 바람직하게는 알루미늄(Al)을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 반도체칩(120)은 접속패드(120P)가 배치된 면이 활성면, 그 반대측이 비활성면이 된다. 도면에 도시하지는 않았으나, 반도체칩(120)의 활성면 상에는 접속패드(120P)의 적어도 일부를 노출시키는 개구부를 갖는 산화막 및/또는 질화막 등으로 구성되는 패시베이션막(미도시)이 형성될 수 있다. 반도체칩(120)은 페이스-업 형태로 배치되며, 따라서 안테나와의 최소의 신호 경로를 가질 수 있다.
Semiconductor chip 120 may be a bare state integrated circuit (IC) in which hundreds to millions of devices are integrated into one chip. The integrated circuit (IC) may be, for example, a Radio-Frequency Integrated Circuit (RFIC). That is, the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300A according to an example may be a package in which the RFIC and the mmWave / 5G antenna are integrated. The semiconductor chip 120 may include a body having various circuits, and a connection pad 120P may be formed on the active surface of the body. The body may be formed based on, for example, an active wafer. In this case, silicon (Si), germanium (Ge), gallium arsenide (GaAs) or the like may be used as the base material. The connection pad 120P is for electrically connecting the semiconductor chip 120 to other components. The connection pad 120P may be formed of a conductive material, preferably aluminum (Al), but is not limited thereto. In the semiconductor chip 120, the surface on which the connection pad 120P is disposed becomes the active surface and the surface on the opposite side becomes the inactive surface. A passivation film (not shown) composed of an oxide film and / or a nitride film having an opening for exposing at least a part of the connection pad 120P may be formed on the active surface of the semiconductor chip 120, though not shown in the figure. The semiconductor chip 120 is disposed in a face-up fashion and thus can have a minimum signal path to the antenna.

수동부품(125)은 관통홀(110H) 내에 반도체칩(120)과 나란하게 배치된다. 수동부품(125)은 커패시터, 인덕터 등의 공지의 수동부품일 수 있다. 제한되지 않는 일례로서, 수동부품(125)은 커패시터 일 수 있다. 수동부품(125)은 연결부재(140)를 통하여 반도체칩(120)과 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 연결부재(140)를 통하여 안테나 기판(200A)과도 전기적으로 연결될 수 있다. 수동부품(125)의 수는 특별히 한정되지 않는다.
The passive component 125 is disposed in parallel with the semiconductor chip 120 in the through hole 110H. The passive component 125 may be a known passive component such as a capacitor, an inductor, or the like. As a non-limiting example, the passive component 125 may be a capacitor. The passive component 125 may be electrically connected to the semiconductor chip 120 through the connection member 140. [ Also, it can be electrically connected to the antenna substrate 200A through the connecting member 140. [ The number of passive components 125 is not particularly limited.

봉합재(130)는 반도체칩(120), 수동부품(125) 등을 보호하며 절연영역을 제공하기 위한 구성이다. 봉합형태는 특별히 제한되지 않으며, 반도체칩(120)과 수동부품(125)의 적어도 일부를 감싸는 형태이면 무방하다. 예를 들면, 봉합재(130)는 코어부재(110)의 하면을 덮을 수 있으며, 반도체칩(120)의 측면과 비활성면을 덮을 수 있으며, 수동부품(125)의 측면과 하면을 덮을 수 있다. 또한, 관통홀(110H) 내의 공간을 채울 수 있다. 봉합재(130)의 구체적인 물질은 특별히 한정되는 않으며, 예를 들면, PIE(Photo Imageable Encapsulant)를 사용할 수 있다. 기타, 필에요 따라서는 ABF 등의 절연물질이 사용될 수도 있다.
The sealing member 130 is a structure for protecting the semiconductor chip 120, the passive components 125, and the like and providing an insulating region. The sealing shape is not particularly limited and may be a shape that covers at least a part of the semiconductor chip 120 and the passive component 125. For example, the sealing member 130 may cover the lower surface of the core member 110, cover the side surface and the inactive surface of the semiconductor chip 120, and may cover the side surface and the lower surface of the passive component 125 . In addition, the space in the through hole 110H can be filled. The material of the sealing material 130 is not particularly limited. For example, PIE (Photo Imageable Encapsulant) can be used. Other, fill, therefore, an insulating material such as ABF may be used.

백사이드 배선층(132)은 반도체칩(120)의 접속패드(120P)를 재배선 역할을 수행할 수 있으며, 형성물질로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금 등의 도전성 물질을 사용할 수 있다. 백사이드 배선층(132)은 해당 층의 설계 디자인에 따라 다양한 기능을 수행할 수 있다. 예를 들면, 그라운드 패턴, 신호 패턴 등을 포함할 수 있다. 또한, 비아 패드, 전기연결구조체 패드 등을 포함할 수 있다.
The backside wiring layer 132 may serve as a wiring for rewiring the connection pads 120P of the semiconductor chip 120. Copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn) , Gold (Au), nickel (Ni), lead (Pb), titanium (Ti), or alloys thereof. The backside wiring layer 132 may perform various functions according to the design design of the layer. For example, a ground pattern, a signal pattern, and the like. It may also include via pads, electrical connection structure pads, and the like.

백사이드 비아(133)는 서로 다른 층에 형성된 백사이드 배선층(132)과 제2 코어 배선층(112b) 등을 전기적으로 연결시킨다. 또한, 필요에 따라서는 백사이드 비아(133)는 반도체칩(120)의 비활성면에 형성된 금속층(122)과 연결되어 방열비아로 활용될 수도 있다. 백사이드 비아(133) 역시 형성물질로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금 등의 도전성 물질을 사용할 수 있다. 백사이드 비아(133) 역시 도전성 물질로 완전히 충전될 수 있으며, 또는 도전성 물질이 비아의 벽을 따라서만 형성된 것일 수도 있다. 또한, 형상이 테이퍼 형상, 원통형상 등 공지된 모든 형상이 적용될 수 있다.
The backside via 133 electrically connects the backside wiring layer 132 and the second core wiring layer 112b formed in different layers. In addition, if necessary, the backside via 133 may be connected to the metal layer 122 formed on the inactive surface of the semiconductor chip 120 and utilized as a heat radiation via. The backside via 133 may also be formed of copper, aluminum, silver, tin, gold, nickel, lead, titanium, Or an alloy thereof may be used. The backside via 133 may also be completely filled with a conductive material, or the conductive material may be formed only along the walls of the via. Further, any known shape such as a taper shape, a cylindrical shape, or the like can be applied.

연결부재(140)는 반도체칩(120)의 접속패드(120P)를 재배선할 수 있다. 연결부재(140)를 통하여 다양한 기능을 가지는 수십 수백의 반도체칩(120)의 접속패드(120P)가 각각 재배선 될 수 있다. 또한, 연결부재(140)는 배선부재(220)와 연결되는바 팬-아웃 반도체 패키지(100A)와 안테나 기판(200A)이 일체화될 수 있도록 연결 경로를 제공한다. 연결부재(140)는 절연층(141), 절연층(141) 상에 배치된 재배선층(142), 및 절연층(141)을 관통하며 재배선층(142)과 연결된 비아(143)를 포함한다. 연결부재(140)는 단층으로 구성될 수도 있고, 도면에서 보다 많은 수의 복수 층으로 설계될 수도 있다.
The connection member 140 may rewire the connection pad 120P of the semiconductor chip 120. [ The connection pads 120P of several hundreds of semiconductor chips 120 having various functions can be rewired through the connecting member 140, respectively. The connection member 140 provides a connection path so that the bar-out semiconductor package 100A connected to the wiring member 220 and the antenna substrate 200A can be integrated. The connecting member 140 includes an insulating layer 141, a redistribution layer 142 disposed on the insulating layer 141, and a via 143 connected to the redistribution layer 142 through the insulating layer 141 . The connecting member 140 may be composed of a single layer or may be designed in a plurality of layers in the figure.

절연층(141)의 물질로는 절연물질이 사용될 수 있는데, 이때 절연물질로는 상술한 바와 같은 절연물질 외에도 PID 수지와 같은 감광성 절연물질을 사용할 수도 있다. 즉, 절연층(141)은 감광성 절연층일 수 있다. 절연층(141)이 감광성의 성질을 가지는 경우, 절연층(141)을 보다 얇게 형성할 수 있으며, 보다 용이하게 비아(143)의 파인 피치를 달성할 수 있다. 절연층(141)은 절연수지 및 무기필러를 포함하는 감광성 절연층일 수 있다. 절연층(141)이 다층인 경우, 이들의 물질은 서로 동일할 수 있고, 필요에 따라서는 서로 상이할 수도 있다. 절연층(141)이 다층인 겨우, 이들은 공정에 따라 일체화 되어 경계가 불분명할 수도 있다.
As the material of the insulating layer 141, an insulating material may be used. In addition to the above-described insulating material, a photosensitive insulating material such as a PID resin may be used as the insulating material. That is, the insulating layer 141 may be a photosensitive insulating layer. When the insulating layer 141 has photosensitivity, the insulating layer 141 can be made thinner and the pitch of the via 143 can be more easily achieved. The insulating layer 141 may be a photosensitive insulating layer containing an insulating resin and an inorganic filler. When the insulating layer 141 has multiple layers, these materials may be the same as each other and may be different from each other as needed. If the insulating layers 141 are multilayered, they may be unified according to the process, and the boundaries may be unclear.

재배선층(142)은 실질적으로 접속패드(120P)를 재배선하는 역할을 수행할 수 있으며, 형성물질로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금 등의 도전성 물질을 사용할 수 있다. 재배선층(142)은 해당 층의 설계 디자인에 따라 다양한 기능을 수행할 수 있다. 예를 들면, 그라운드(GrouND: GND) 패턴, 파워(PoWeR: PWR) 패턴, 신호(Signal: S) 패턴 등을 포함할 수 있다. 여기서, 신호(S) 패턴은 그라운드(GND) 패턴, 파워(PWR) 패턴 등을 제외한 각종 신호, 예를 들면, 데이터 신호 등을 포함한다. 또한, 비아 패드, 접속단자 패드 등을 포함할 수 있다. 재배선층(142)은 피딩라인(223F)과 전기적으로 연결된 피딩패턴을 포함할 수 있다.
The re-distribution layer 142 may serve to rewire the connection pad 120P. The re-distribution layer 142 may be formed of copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Ni), lead (Pb), titanium (Ti), or an alloy thereof may be used. The re-distribution layer 142 may perform various functions according to the design of the layer. For example, it may include a ground (GND) pattern, a power (PoWeR: PWR) pattern, a signal (S: S) pattern, Here, the signal S pattern includes various signals except for a ground (GND) pattern, a power (PWR) pattern, and the like, for example, a data signal. It may also include via pads, connection terminal pads, and the like. The redistribution layer 142 may include a feeding pattern electrically connected to the feeding line 223F.

비아(143)는 서로 다른 층에 형성된 재배선층(142), 접속패드(120P) 등을 전기적으로 연결시키며, 그 결과 패키지(100A) 내에 전기적 경로를 형성시킨다. 비아(143)의 형성 물질로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금 등의 도전성 물질을 사용할 수 있다. 비아(153)는 도전성 물질로 완전히 충전될 수 있으며, 또는 도전성 물질이 비아의 벽을 따라 형성된 것일 수도 있다. 또한, 형상이 테이퍼 형상, 원통형상 등 당해 기술분야에 공지된 모든 형상이 적용될 수 있다. 비아(143)는 피딩라인(223F)과 전기적으로 연결된 피딩라인을 포함한다.
The vias 143 electrically connect the re-wiring layer 142, the connection pads 120P, and the like formed in the different layers, thereby forming an electrical path in the package 100A. The via 143 may be formed of copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), lead (Pb), titanium A conductive material such as an alloy thereof may be used. The vias 153 may be completely filled with a conductive material, or a conductive material may be formed along the walls of the vias. In addition, any shape known in the art, such as a tapered shape, a cylindrical shape, etc., can be applied. The via 143 includes a feeding line that is electrically connected to the feeding line 223F.

패시베이션층(150)은 백사이드 배선층(132)을 외부의 물리적 화학적 손상 등으로부터 보호할 수 있다. 패시베이션층(150)은 절연수지 및 무기필러를 포함하되, 유리섬유는 포함하지 않을 수 있다. 예를 들면, 패시베이션층(150)은 ABF일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, PID나 솔더 레지스트 등일 수도 있다.
The passivation layer 150 can protect the backside wiring layer 132 from external physical chemical damage or the like. The passivation layer 150 includes an insulating resin and an inorganic filler, but may not include glass fibers. For example, the passivation layer 150 may be ABF, but is not limited thereto, and may be a PID, a solder resist, or the like.

언더범프금속층(160)은 전기연결구조체(170)의 접속 신뢰성을 향상시켜주며, 그 결과 패키지(100A)의 보드 레벨 신뢰성을 개선해준다. 언더범프금속층(160)은 봉합재(130) 및/또는 패시베이션층(150)의 개구부를 통하여 노출된 백사이드 배선층(132)의 전기연결구조체를 위한 각종 패드와 연결된다. 언더범프금속층(160)은 봉합재(130)의 개구부에 공지의 도전성 물질, 즉 금속을 이용하여 공지의 메탈화(Metallization) 방법으로 형성할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
The under bump metal layer 160 improves the connection reliability of the electrical connection structure 170, thereby improving the board level reliability of the package 100A. The underbump metal layer 160 is connected to various pads for the electrical connection structure of the backside interconnect layer 132 exposed through the openings of the sealant 130 and / or the passivation layer 150. The under bump metal layer 160 may be formed on the opening of the sealing material 130 by a known metallization method using a known conductive material, that is, metal, but is not limited thereto.

전기연결구조체(170)는 안테나 내장 반도체 패키지(100A)를 외부와 물리적 및/또는 전기적으로 연결시키기 위한 부가적인 구성이다. 예를 들면, 안테나 내장 반도체 패키지(100A)는 전기연결구조체(170)를 통하여 전자기기의 메인보드에 실장될 수 있다. 전기연결구조체(170)는 도전성 물질, 예를 들면, 솔더(solder) 등으로 형성될 수 있으나, 이는 일례에 불과하며 재질이 특별히 이에 한정되는 것은 아니다. 전기연결구조체(170)는 랜드(land), 볼(ball), 핀(pin) 등일 수 있다. 전기연결구조체(170)는 다중층 또는 단일층으로 형성될 수 있다. 다중층으로 형성되는 경우에는 구리 필러(pillar) 및 솔더를 포함할 수 있으며, 단일층으로 형성되는 경우에는 주석-은 솔더나 구리를 포함할 수 있으나, 역시 이는 일례에 불과하며 이에 한정되는 것은 아니다. 전기연결구조체(170)의 개수, 간격, 배치 형태 등은 특별히 한정되지 않으며, 통상의 기술자에게 있어서 설계 사항에 따라 충분히 변형이 가능하다. 예를 들면, 전기연결구조체(170)의 수는 접속패드(120P)의 수에 따라서 수십 내지 수천 개일 수 있으며, 그 이상 또는 그 이하의 수를 가질 수도 있다.
The electrical connection structure 170 is an additional structure for physically and / or electrically connecting the semiconductor package 100A with the outside. For example, the semiconductor integrated package 100A with an antenna can be mounted on the main board of the electronic device through the electrical connection structure 170. The electrical connection structure 170 may be formed of a conductive material, for example, a solder or the like, but this is merely an example and the material is not particularly limited thereto. The electrical connection structure 170 may be a land, a ball, a pin, or the like. The electrical connection structure 170 may be formed of multiple layers or a single layer. In the case of a multi-layered structure, it may include a copper pillar and a solder. In the case of a single layer, tin-silver may include solder or copper. However, the present invention is not limited thereto. . The number, spacing, arrangement type, etc. of the electrical connection structures 170 are not particularly limited and can be sufficiently modified according to design specifications for a typical engineer. For example, the number of electrical connection structures 170 may be several tens to several thousands depending on the number of connection pads 120P, and may have a number greater than or less than the number.

전기연결구조체(170) 중 적어도 하나는 팬-아웃 영역에 배치된다. 팬-아웃 영역이란 반도체칩(120)이 배치된 영역을 벗어나는 영역을 의미한다. 팬-아웃(fan-out) 패키지는 팬-인(fan-in) 패키지에 비하여 신뢰성이 우수하고, 다수의 I/O 단자 구현이 가능하며, 3D 인터코넥션(3D interconnection)이 용이하다. 또한, BGA(Ball Grid Array) 패키지, LGA(Land Grid Array) 패키지 등과 비교하여 패키지 두께를 얇게 제조할 수 있으며, 가격 경쟁력이 우수하다.
At least one of the electrical connection structures 170 is disposed in the fan-out area. The fan-out area means an area outside the area where the semiconductor chip 120 is disposed. The fan-out package is more reliable than the fan-in package, allows multiple I / O terminals, and facilitates 3D interconnection. Compared with BGA (Ball Grid Array) package and LGA (Land Grid Array) package, it is possible to make package thickness thinner and excellent price competitiveness.

다음으로, 안테나 기판(200A)은 절연층(211)을 기준으로 상면에 안테나 패턴(212aA)을 포함하는 제1패턴층(212a)이 배치되고 하면에 그라운드 패턴(212bG)을 포함하는 제2패턴층(212b)이 배치되며 절연층(211)에 절연층(211)을 관통하며 안테나 패턴(212aA)과 전기적으로 연결된 피딩라인(213F)을 포함하는 비아(213)가 형성된 안테나 부재(210), 안테나 부재(210)의 하부에 배치되며 피딩라인(213F)과 전기적으로 연결된 피딩패턴(222F)을 포함하는 배선층(222)을 포함하는 배선부재(220), 및 안테나 부재(210)의 상부에 배치되며 제1배선층(212a)을 덮는 패시베이션층(230)을 포함한다. 안테나 부재(210)는 배선부재(220) 보다 두껍다. 배선부재(220)와 연결부재(140)는 별도의 전기연결구조체 등 없이 서로 접한다. 안테나 기판(200A)은 안테나 부재(210)를 기준으로 비대칭 구조를 가진다.
The antenna substrate 200A includes a first pattern layer 212a including an antenna pattern 212aA on the upper surface thereof and a second pattern 212b including a ground pattern 212bG on the lower surface thereof, An antenna member 210 in which a layer 212b is disposed and the via 213 including the insulating layer 211 and the feeding line 213F electrically connected to the antenna pattern 212aA is formed in the insulating layer 211, A wiring member 220 disposed on the lower portion of the antenna member 210 and including a wiring layer 222 including a feeding pattern 222F electrically connected to the feeding line 213F, And a passivation layer 230 covering the first wiring layer 212a. The antenna member 210 is thicker than the wiring member 220. The wiring member 220 and the connecting member 140 are in contact with each other without a separate electrical connection structure or the like. The antenna substrate 200A has an asymmetric structure with respect to the antenna member 210.

안테나 부재(210)는 mmWave/5G Antenna를 구현할 수 있는 영역으로, 절연층(211), 절연층의 상면에 형성된 제1패턴층(212a), 절연층(211)의 하면에 형성된 제2패턴층(212b), 절연층(211)을 관통하며 제1 및 제2패턴층(212a, 212b)을 전기적으로 연결하는 비아(213)를 포함한다. 안테나 부재(210)는 제1패턴층(212a)이 안테나 패턴(212aA)을 포함하고, 제2패턴층(212b)이 그라운드 패턴(212bG)을 포함하며, 이들 사이에 절연층(211)이 배치되는바, 외부환경 변화에 관계없이 단일 복합 모듈 내에서 안테나와 그라운드 면 간의 거리를 안정적으로 확보하여 안테나의 방사특성을 유지할 수 있다. 또한, 절연층(211)의 유전률(Dk)을 적절히 이용함으로써 안테나의 크기를 소형화하여 전체 모듈의 구조를 절감하여 공간적인 효율성을 높임과 동시에 코스트 절감도 가능하다. 예를 들면, 안테나 부재(210)의 절연층(211)의 유전률(Dk)은 코어부재(110)의 유전층(111)의 유전률(Dk) 대비 높을 수 있다. 안테나 부재(210)의 절연층(211)의 유전률(Dk)은 모듈(300A) 내의 다른 절연층이나 유전층 대비 유전률(Dk)이 높을 수 있다.
The antenna member 210 is an area capable of realizing an mmWave / 5G antenna and includes an insulating layer 211, a first pattern layer 212a formed on the upper surface of the insulating layer, a second pattern layer 212b formed on the lower surface of the insulating layer 211, And a via 213 for electrically connecting the first and second pattern layers 212a and 212b through the insulating layer 211. [ The antenna member 210 is formed such that the first pattern layer 212a includes the antenna pattern 212aA and the second pattern layer 212b includes the ground pattern 212bG and the insulating layer 211 is disposed therebetween Therefore, the distance between the antenna and the ground plane can be stably secured within a single composite module regardless of changes in the external environment, thereby maintaining the radiation characteristic of the antenna. Also, by appropriately using the dielectric constant Dk of the insulating layer 211, the size of the antenna can be miniaturized to reduce the structure of the entire module, thereby improving the spatial efficiency and reducing the cost. For example, the dielectric constant Dk of the insulating layer 211 of the antenna member 210 may be higher than the dielectric constant Dk of the dielectric layer 111 of the core member 110. The dielectric constant Dk of the insulating layer 211 of the antenna member 210 may be higher than that of other insulating layers or dielectric layers in the module 300A.

절연층(211)의 재료로는 절연물질이 사용될 수 있는데, 이때 절연물질로는 에폭시 수지와 같은 열경화성 수지, 폴리이미드와 같은 열가소성 수지, 또는 이들과 함께 유리섬유(Glass Fiber, Glass Cloth, Glass Fabric) 및/또는 무기필러와 같은 보강재를 포함하는 재료, 예를 들면, 프리프레그(prepreg), ABF(Ajinomoto Build-up Film), FR-4, BT(Bismaleimide Triazine) 등이 사용될 수 있다. 예를 들면, 절연층(211)의 재료로는 요구되는 자재 특성에 따라 Low Df & Low Dk의 일반 동박 적층판(CCL) 또는 Low Df & High Dk의 글래스나 세라믹 계열의 절연재를 적용할 수 있다. 절연층(211)의 재료로 유리나 세라믹 계열의 High Dk & Low Df 자재를 사용하는 경우 보다 소형화가 가능한 안테나 형성을 도모할 수 있다. 절연층(211)의 두께는 임피던스 매칭 특성에 따라서 자유롭게 변경할 수 있다.
As the material of the insulating layer 211, an insulating material may be used. As the insulating material, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a thermoplastic resin such as polyimide, or a glass fiber, a glass cloth, a glass fabric For example, prepregs, Ajinomoto Build-up Film (ABF), FR-4, BT (Bismaleimide Triazine) and the like may be used. For example, as the material of the insulating layer 211, a general copper-clad laminate (CCL) of Low Df & Low Dk or a glass or ceramic-based insulating material of Low Df & High Dk can be applied according to required material properties. It is possible to form an antenna capable of downsizing as compared with the case of using the high Dk & Low Df material such as glass or ceramic as the material of the insulating layer 211. The thickness of the insulating layer 211 can be freely changed in accordance with the impedance matching characteristic.

제1배선층(212a)은 실질적으로 mmWave/5G Antenna 등을 구현하는 안테나 패턴(212aA)을 포함하며, 기타 그라운드 패턴(212aG) 등을 포함할 수 있다. 안테나 패턴(212aA)은 다이폴 안테나(Dipole antenna), 패치 안테나(Patch antenna) 등일 수 있다. 이러한 안테나 패턴(212aA)의 주위는 그라운드 패턴으로 둘러싸일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 제1배선층(212a)의 형성물질로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금 등의 도전성 물질을 사용할 수 있다.
The first wiring layer 212a includes an antenna pattern 212aA that realizes an mmWave / 5G antenna or the like, and may include other ground patterns 212aG and the like. The antenna pattern 212aA may be a dipole antenna, a patch antenna, or the like. The periphery of the antenna pattern 212aA may be surrounded by a ground pattern, but is not limited thereto. The first wiring layer 212a may be formed of copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), lead (Pb) , Or an alloy thereof can be used.

제2배선층(212b)은 안테나 패턴(212aA)을 위한 그라운드 패턴(212bG)을 포함하며, 기타 신호 패턴 등을 포함할 수 있다. 그라운드 패턴(212bG)은 그라운드 면의 형태일 수 있다. 제2배선층(212b)의 형성물질로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금 등의 도전성 물질을 사용할 수 있다.
The second wiring layer 212b includes a ground pattern 212bG for the antenna pattern 212aA, and may include other signal patterns and the like. The ground pattern 212bG may be in the form of a ground plane. The second wiring layer 212b may be formed of copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), lead (Pb) , Or an alloy thereof can be used.

비아(213)는 서로 다른 층에 형성된 제1 및 제2패턴층(212a, 212b)을 전기적으로 연결시키며, 그 결과 안테나 부재(210) 내에 전기적인 경로를 제공한다. 비아(213)는 피딩라인(213F)을 포함하며, 기타 그라운드 비아(213G) 등을 포함할 수 있다. 피딩라인(213F)은 안테나 패턴(212aA)과 전기적으로 연결된다. 그라운드 비아(213G)는 이러한 피딩라인(213F) 주위를 촘촘히 둘러쌀 수 있다. 비아(213)의 형성물질로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금 등의 도전성 물질을 사용할 수 있다. 비아(213)는 도전성 물질로 완전히 충전될 수 있으며, 또는 도면에서와 달리 도전성 물질이 비아 홀의 벽면을 따라 형성된 것일 수도 있다. 또한, 원통형상, 모래시계 형상, 테이퍼 형상 등 공지된 모든 수직 단면 형상이 적용될 수 있다.
The vias 213 electrically connect the first and second pattern layers 212a and 212b formed in the different layers and thus provide an electrical path within the antenna member 210. Vias 213 include a feed line 213F, and may include other ground vias 213G and the like. The feeding line 213F is electrically connected to the antenna pattern 212aA. The ground vias 213G can tightly surround the feeding line 213F. Examples of the material for forming the vias 213 include copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), lead (Pb), titanium A conductive material such as an alloy thereof may be used. The via 213 may be completely filled with the conductive material, or unlike the drawing, the conductive material may be formed along the wall surface of the via hole. Any known vertical cross-sectional shape such as a cylindrical shape, an hourglass shape, or a taper shape may be applied.

배선부재(220)는 절연층(221), 절연층(221) 상에 형성된 배선층(222), 절연층(221)을 관통하며 서로 다른 층에 형성된 배선층(222)을 전기적으로 연결하거나 또는 배선층(222)을 다른 부재의 패턴층이나 재배선층과 전기적으로 연결하는 비아(223)를 포함한다. 배선부재(220)는 보다 많은 수의 배선층을 가질 수도 있고, 또는 단지 하나의 배선층을 가질 수도 있다.
The wiring member 220 electrically connects the wiring layer 222 formed on the different layers through the insulating layer 221 and the wiring layer 222 formed on the insulating layer 221 and the insulating layer 221, 222 electrically connected to the pattern layer or the rewiring layer of the other member. The wiring member 220 may have a larger number of wiring layers, or may have only one wiring layer.

절연층(221)의 재료로는 절연물질이 사용될 수 있는데, 이때 절연물질로는 ABF(Ajinomoto Build-up Film), PID(Photo Imageble Dielectric) 등이 사용될 수 있다. 절연층(221)이 복수인 경우에는 각 층의 경계가 불분명할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
As the material of the insulating layer 221, an insulating material may be used. As the insulating material, Ajinomoto Build-up Film (ABF), Photo Image Binary Dielectric (PID), or the like may be used. When there are a plurality of insulating layers 221, the boundaries of the respective layers may be unclear, but the present invention is not limited thereto.

배선층(222)은 피딩라인(213F)과 전기적으로 연결되는 피딩패턴(222F)을 포함하며, 기타 그라운드 패턴(222G) 등을 포함할 수 있다. 배선층(222)의 형성물질로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금 등의 도전성 물질을 사용할 수 있다.
The wiring layer 222 includes a feeding pattern 222F electrically connected to the feeding line 213F and may include other ground patterns 222G and the like. The wiring layer 222 may be formed of copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), lead (Pb), titanium A conductive material such as an alloy thereof may be used.

비아(223)는 서로 다른 층에 형성된 배선층(222)을 전기적으로 연결하거나 또는 배선층(222)을 다른 부재의 패턴층이나 재배선층과 전기적으로 연결하여 전기적 경로를 제공한다. 비아(223)는 피딩패턴(222F)과 전기적으로 연결된 피딩라인(223F)을 포함한다. 비아(223)의 형성물질로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금 등의 도전성 물질을 사용할 수 있다.
The vias 223 electrically connect the wiring layers 222 formed on different layers or electrically connect the wiring layers 222 with pattern layers or rewiring layers of other members to provide an electrical path. The via 223 includes a feeding line 223F that is electrically connected to the feeding pattern 222F. As the material for forming the via 223, copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni), lead (Pb), titanium A conductive material such as an alloy thereof may be used.

패시베이션층(230)은 안테나 부재(210)를 외부의 물리적 화학적 손상 등으로부터 보호할 수 있다. 패시베이션층(230)은 절연수지 및 무기필러를 포함하되, 유리섬유는 포함하지 않을 수 있다. 예를 들면, 패시베이션층(150)은 ABF일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, PID 일 수도 있고, 솔더 레지스트 등일 수도 있다.
The passivation layer 230 may protect the antenna member 210 from external physical chemical damage or the like. The passivation layer 230 includes an insulating resin and an inorganic filler, but may not include glass fibers. For example, the passivation layer 150 may be ABF, but is not limited thereto, and may be a PID, a solder resist, or the like.

도 11은 도 9의 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 안테나 기판의 다양한 예를 개략적으로 나타낸다.
11 schematically shows various examples of the antenna substrate of the antenna substrate and the semiconductor package composite module of Fig.

도면을 참조하면, 안테나 기판(200A)은 복수의 다이폴 안테나(210DA)와 복수의 패치 안테나(210PA)를 포함하는 형태일 수 있다. 또는, 보다 많은 수의 패치 안테나(210PA)를 포함하는 형태일 수도 있다. 즉, 안테나 기판(200A)은 설계에 따라서 다양한 형태의 안테나를 포함할 수 있다.
Referring to the drawings, the antenna substrate 200A may be configured to include a plurality of dipole antennas 210DA and a plurality of patch antennas 210PA. Alternatively, it may be a form including a larger number of patch antennas 210PA. That is, the antenna substrate 200A may include various types of antennas depending on the design.

도 12는 도 9의 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 안테나 기판의 패치 안테나의 적용 예를 개략적으로 나타낸다.
FIG. 12 schematically shows an application example of a patch antenna of an antenna substrate and a composite package module of the semiconductor package of FIG. 9; FIG.

도면을 참조하면, 패치 안테나(210PA)는 안테나 패턴(212bA)과 피딩라인(213F)이 촘촘하게 형성된 그라운드 비아(213G)에 의하여 둘러싸인 형태를 가질 수 있다. 안테나 패턴(212bA)과 그라운드 비아(213G) 사이는 패시베이션층(230) 등의 절연물질이 배치될 수 있다. 피딩라인(213F)은 피딩패턴(222F)과 전기적으로 연결될 수 있으며, 결과적으로 접속패드(120P)와 전기적으로 연결될 수 있다.
Referring to the drawing, the patch antenna 210PA may have a shape surrounded by a ground via 213G in which an antenna pattern 212bA and a feeding line 213F are closely formed. An insulating material such as the passivation layer 230 may be disposed between the antenna pattern 212bA and the ground vias 213G. The feeding line 213F may be electrically connected to the feeding pattern 222F and, as a result, may be electrically connected to the connection pad 120P.

도 13은 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
13 is a cross-sectional view schematically showing another example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.

도면을 참조하면, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300B)은 안테나 기판(200B)과 반도체 패키지(100B)가 일체화된 형태를 가진다. 이때, 반도체 패키지(100B)는 코어부재(110)가 연결부재(140)와 접하는 제1유전층(111a), 연결부재(140)와 접하며 제1유전층(111a)에 매립된 제1코어 코어 배선층(112a), 제1유전층(111a)의 제1코어 코어 배선층(112a)이 매립된측의 반대측 상에 배치된 제2코어 코어 배선층(112b), 제1유전층(111a) 상에 배치되며 제2코어 코어 배선층(112b)을 덮는 제2유전층(111b), 및 제2유전층(111b) 상에 배치된 제3코어 코어 배선층(112c)을 포함한다. 제1 내지 제3코어 코어 배선층(112a, 112b, 112c)은 접속패드(120P)와 전기적으로 연결된다. 제1 및 제2코어 코어 배선층(112a, 112b)과 제2및 제3코어 코어 배선층(112b, 112c)은 각각 제1 및 제2유전층(111a, 111b)을 관통하는 제1 및 제2코어 코어 비아(113a, 113b)를 통하여 전기적으로 연결된다. 한편, 제1 내지 제3코어 배선층(112a, 112b, 112c) 중 적어도 하나의 층은 안테나 패턴(212aA)와 전기적으로 연결된 필터패턴(미도시)을 포함할 수 있으며, 이 경우 안테나 부재(210)의 절연물질은 안테나의 소형화를 위하여 고유전율의 재료를 사용할 수 있고, 코어부재(110)의 절연물질은 필터 손실 최소화를 위하여 저유전율의 재료를 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
Referring to the drawings, an antenna substrate and a semiconductor package composite module 300B according to another example have a form in which an antenna substrate 200B and a semiconductor package 100B are integrated. The semiconductor package 100B includes a first dielectric layer 111a in contact with the connection member 140 and a first core core wiring layer in contact with the connection member 140 and embedded in the first dielectric layer 111a, A second core core wiring layer 112b disposed on the opposite side of the first dielectric layer 111a on the side where the first core core wiring layer 112a is buried, a second core core wiring layer 112b disposed on the first dielectric layer 111a, A second dielectric layer 111b covering the core wiring layer 112b and a third core core wiring layer 112c disposed on the second dielectric layer 111b. The first to third core core wiring layers 112a, 112b and 112c are electrically connected to the connection pad 120P. The first and second core core wiring layers 112a and 112b and the second and third core core wiring layers 112b and 112c are formed of first and second core layers 112a and 111b penetrating through the first and second dielectric layers 111a and 111b, And are electrically connected through vias 113a and 113b. At least one of the first to third core wiring layers 112a, 112b and 112c may include a filter pattern (not shown) electrically connected to the antenna pattern 212aA. In this case, The insulating material of the core member 110 may be a material having a low dielectric constant for minimizing the filter loss, but the present invention is not limited thereto.

제1코어 코어 배선층(112a)을 제1유전층(111a) 내에 매립하는 경우, 제1코어 코어 배선층(112a)의 두께에 의하여 발생하는 단차가 최소화 되는바, 연결부재(140)의 절연거리가 일정해진다. 즉, 연결부재(140)의 제1재배선층(142a)으로부터 제1유전층(111a)의 하면까지의 거리와, 연결부재(140)의 제1재배선층(142a)로부터 반도체칩(120)의 접속패드(120P)까지의 거리의 차이는, 제1코어 코어 배선층(112a)의 두께보다 작을 수 있다. 따라서, 연결부재(140)의 고밀도 배선 설계가 용이할 수 있다.
The step generated by the thickness of the first core core wiring layer 112a is minimized when the first core core wiring layer 112a is buried in the first dielectric layer 111a, It becomes. That is, the distance from the first rewiring layer 142a of the connecting member 140 to the lower surface of the first dielectric layer 111a and the distance from the first rewiring layer 142a of the connecting member 140 to the connection of the semiconductor chip 120 The difference in distance to the pad 120P may be smaller than the thickness of the first core core wiring layer 112a. Therefore, high-density wiring design of the connecting member 140 can be facilitated.

연결부재(140)의 재배선층(142)과 코어부재(110)의 제1코어 코어 배선층(112a) 사이의 거리는 연결부재(140)의 재배선층(142)과 반도체칩(120)의 접속패드(120P) 사이의 거리보다 클 수 있다. 이는 제1코어 코어 배선층(112a)이 제1유전층(111a)의 내부로 리세스될 수 있기 때문이다. 이와 같이, 제1코어 코어 배선층(112a)이 제1유전층(111a) 내부로 리세스되어 제1유전층(111a)의 상면과 제1코어 코어 배선층(112a)의 상면이 단차를 가지는 경우, 봉합재(130) 형성물질이 블리딩되어 제1코어 코어 배선층(112a)을 오염시키는 것을 방지할 수도 있다. 코어부재(110)의 제2코어 코어 배선층(112b)은 반도체칩(120)의 활성면과 비활성면 사이에 위치할 수 있다. 코어부재(110)는 반도체칩(120)의 두께에 대응하는 두께로 형성할 수 있으며, 따라서 코어부재(110) 내부에 형성된 제2코어 코어 배선층(112b)은 반도체칩(120)의 활성면과 비활성면 사이의 레벨에 배치될 수 있다.
The distance between the re-wiring layer 142 of the connecting member 140 and the first core core wiring layer 112a of the core member 110 is larger than the distance between the re-wiring layer 142 of the connecting member 140 and the connection pad 120P. ≪ / RTI > This is because the first core core wiring layer 112a can be recessed into the first dielectric layer 111a. When the first core core wiring layer 112a is recessed into the first dielectric layer 111a and the upper surface of the first dielectric layer 111a and the upper surface of the first core core wiring layer 112a have a step, It is possible to prevent the first core core wiring layer 112a from being contaminated by bleeding of the first core core wiring layer 112a. The second core core wiring layer 112b of the core member 110 may be positioned between the active surface and the inactive surface of the semiconductor chip 120. [ The second core core wiring layer 112b formed in the core member 110 may be formed to have a thickness corresponding to the thickness of the semiconductor chip 120, And may be disposed at a level between the inactive surfaces.

코어부재(110)의 코어 코어 배선층(112a, 112b, 112c)의 두께는 연결부재(140)의 재배선층(142)의 두께보다 두꺼울 수 있다. 코어부재(110)는 반도체칩(120) 이상의 두께를 가질 수 있는바, 코어 코어 배선층(112a, 112b, 112c) 역시 그 스케일에 맞춰 보다 큰 사이즈로 형성할 수 있다. 반면, 연결부재(140)의 재배선층(142)은 박형화를 위하여 코어 코어 배선층(112a, 112b, 112c) 보다 상대적으로 작은 사이즈로 형성할 수 있다.
The thickness of the core core wiring layers 112a, 112b and 112c of the core member 110 may be thicker than the thickness of the re-wiring layer 142 of the connecting member 140. [ The core member 110 may have a thickness greater than that of the semiconductor chip 120 and the core core wiring layers 112a, 112b, and 112c may be formed to have a larger size in accordance with the scale. On the other hand, the redistribution layer 142 of the connection member 140 may be formed in a relatively smaller size than the core core wiring layers 112a, 112b, and 112c for thinning.

유전층(111a, 111b)의 재료는 특별히 한정되는 않는다. 예를 들면, 절연물질이 사용될 수 있는데, 이때 절연물질로는 에폭시 수지와 같은 열경화성 수지, 폴리이미드와 같은 열가소성 수지, 또는 이들 수지가 무기필러와 혼합되거나, 또는 무기필러와 함께 유리섬유(Glass Fiber, Glass Cloth, Glass Fabric) 등의 심재에 함침된 수지, 예를 들면, 프리프레그(prepreg), ABF(Ajinomoto Build-up Film), FR-4, BT(Bismaleimide Triazine) 등이 사용될 수 있다. 필요에 따라서는, 감광성 절연(Photo Imagable Dielectric: PID) 수지를 사용할 수도 있다.
The material of the dielectric layers 111a and 111b is not particularly limited. For example, an insulating material may be used. As the insulating material, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a thermoplastic resin such as polyimide, or a mixture of these resins with an inorganic filler, or a glass fiber Such as a prepreg, an Ajinomoto Build-up Film (ABF), a bismaleimide triazine (BT), or the like, may be used. If desired, a photosensitive insulator (PID) resin may be used.

코어 코어 배선층(112a, 112b, 112c)은 반도체칩(120)의 접속패드(120P)를 재배선하는 역할을 수행할 수 있다. 코어 코어 배선층(112a, 112b, 112c)의 형성물질로는 구리(Cu), 알루미늄(Al), 은(Ag), 주석(Sn), 금(Au), 니켈(Ni), 납(Pb), 티타늄(Ti), 또는 이들의 합금 등의 도전성 물질을 사용할 수 있다. 코어 코어 배선층(112a, 112b, 112c)은 해당 층의 설계 디자인에 따라 다양한 기능을 수행할 수 있다. 예를 들면, 그라운드(GrouND: GND) 패턴, 파워(PoWeR: PWR) 패턴, 신호(Signal: S) 패턴 등을 포함할 수 있다. 여기서, 신호(S) 패턴은 그라운드(GND) 패턴, 파워(PWR) 패턴 등을 제외한 각종 신호, 예를 들면, 데이터 신호 등을 포함한다. 또한, 신호 비아 패드나 그라운드 비아 패드 등을 포함할 수 있다.
The core core wiring layers 112a, 112b and 112c may serve to re-wire the connection pads 120P of the semiconductor chip 120. [ The core core wiring layers 112a, 112b and 112c are formed of copper (Cu), aluminum (Al), silver (Ag), tin (Sn), gold (Au), nickel (Ni) Titanium (Ti), or an alloy thereof may be used. The core core wiring layers 112a, 112b and 112c can perform various functions according to the design design of the layer. For example, it may include a ground (GND) pattern, a power (PoWeR: PWR) pattern, a signal (S: S) pattern, Here, the signal S pattern includes various signals except for a ground (GND) pattern, a power (PWR) pattern, and the like, for example, a data signal. It may also include signal via pads, ground via pads, and the like.

코어 코어 비아(113a, 113b)는 서로 다른 층에 형성된 코어 코어 배선층(112a, 112b, 112c)을 전기적으로 연결시키며, 그 결과 코어부재(110) 내에 전기적 경로를 형성시킨다. 코어 코어 비아(113a, 113b) 역시 형성물질로는 도전성 물질을 사용할 수 있다. 코어 코어 비아(113a, 113b)는 도전성 물질로 완전히 충전될 수 있으며, 또는 도전성 물질이 비아 홀의 벽면을 따라 형성된 것일 수도 있다. 또한, 테이퍼형상뿐만 아니라, 원통형상 등 공지된 모든 형상이 적용될 수 있다. 제1코어 코어 비아(113a)를 위한 홀을 형성할 때 제1코어 코어 배선층(112a)의 일부 패드가 스토퍼(stopper) 역할을 수행할 수 있는바, 제1코어 코어 비아(113a)는 아랫면의 폭이 윗면의 폭보다 큰 테이퍼 형상인 것이 공정상 유리할 수 있다. 이 경우, 제1코어 코어 비아(113a)는 제2코어 코어 배선층(112b)의 패드 패턴과 일체화될 수 있다. 또한, 제2코어 코어 비아(113b)를 위한 홀을 형성할 때 제2코어 코어 배선층(112b)의 일부 패드가 스토퍼(stopper) 역할을 수행할 수 있는바, 제2코어 코어 비아(113b)는 아랫면의 폭이 윗면의 폭보다 큰 테이퍼 형상인 것이 공정상 유리할 수 있다. 이 경우, 제2코어 코어 비아(113b)는 제3코어 코어 배선층(112c)의 패드 패턴과 일체화될 수 있다.
The core core vias 113a and 113b electrically connect the core core wiring layers 112a, 112b, and 112c formed in different layers, thereby forming an electrical path in the core member 110. [ The core core vias 113a and 113b may also be formed of a conductive material. The core core vias 113a and 113b may be completely filled with a conductive material, or a conductive material may be formed along the wall surface of the via hole. In addition, not only tapered but also all known shapes such as a cylindrical shape can be applied. A part of the pads of the first core core wiring layer 112a may serve as a stopper when the holes for the first core core vias 113a are formed. It is advantageous in terms of the process that the width is larger than the width of the upper surface. In this case, the first core core via 113a can be integrated with the pad pattern of the second core core wiring layer 112b. In addition, when forming a hole for the second core core via 113b, some pads of the second core core wiring layer 112b can serve as stoppers, and the second core core via 113b It is advantageous in terms of the process that the width of the lower surface is larger than the width of the upper surface. In this case, the second core core via 113b can be integrated with the pad pattern of the third core core wiring layer 112c.

그 외에 다른 구성에 대한 설명은 상술한 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300A)에서 설명한 바와 실질적으로 동일한바 생략한다.
Other configurations are substantially the same as those described in the antenna substrate and semiconductor package composite module 300A according to the above-described example.

도 14는 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
14 is a cross-sectional view schematically showing another example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.

도면을 참조하면, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300C)은 안테나 기판(200C)과 반도체 패키지(100C)가 일체화된 형태를 가진다. 이때, 반도체 패키지(100C)는 코어부재(110)가 제1유전층(111a), 제1유전층(111a)의 양면에 배치된 제1코어 배선층(112a) 및 제2코어 배선층(112b), 제1절연층(112a) 상에 배치되며 제1코어 배선층(112a)을 덮는 제2유전층(111b), 제2유전층(111b) 상에 배치된 제3재배선층(111c), 제1유전층(111a) 상에 배치되어 제2코어 배선층(112b)을 덮는 제3유전층(111c), 및 제3유전층(111c) 상에 배치된 제4코어 배선층(112d)을 포함한다. 제1 내지 제4코어 배선층(112a, 112b, 112c, 112d)는 접속패드(120P)와 전기적으로 연결된다. 코어부재(110)가 더 많은 수의 코어 배선층(112a, 112b, 112c, 112d)을 포함하는바, 연결부재(140)를 더욱 간소화할 수 있다. 따라서, 연결부재(140) 형성 과정에서 발생하는 불량에 따른 수율 저하를 개선할 수 있다. 한편, 제1 내지 제4 코어 배선층(112a, 112b, 112c, 112d)은 제1 내지 제3 유전층(111a, 111b, 111c)을 각각 관통하는 제1 내지 제3코어 비아(113a, 113b, 113c)를 통하여 전기적으로 연결될 수 있다. 한편, 제1 내지 제4코어 배선층(112a, 112b, 112c, 112d) 중 적어도 하나의 층은 안테나 패턴(212aA)와 전기적으로 연결된 필터패턴(미도시)을 포함할 수 있으며, 이 경우 안테나 부재(210)의 절연물질은 안테나의 소형화를 위하여 고유전율의 재료를 사용할 수 있고, 코어부재(110)의 절연물질은 필터 손실 최소화를 위하여 저유전율의 재료를 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
Referring to the drawings, an antenna substrate and a semiconductor package composite module 300C according to another example have a form in which an antenna substrate 200C and a semiconductor package 100C are integrated. At this time, in the semiconductor package 100C, the core member 110 includes a first dielectric layer 111a, a first core wiring layer 112a and a second core wiring layer 112b disposed on both surfaces of the first dielectric layer 111a, A second dielectric layer 111b disposed on the insulating layer 112a and covering the first core wiring layer 112a, a third redistribution layer 111c disposed on the second dielectric layer 111b, A third dielectric layer 111c disposed on the third dielectric layer 111c and covering the second core wiring layer 112b and a fourth core wiring layer 112d disposed on the third dielectric layer 111c. The first to fourth core wiring layers 112a, 112b, 112c, and 112d are electrically connected to the connection pad 120P. Since the core member 110 includes a larger number of core wiring layers 112a, 112b, 112c and 112d, the connecting member 140 can be further simplified. Therefore, it is possible to improve the yield reduction due to defects generated in the process of forming the connecting member 140. The first through fourth core wiring layers 112a 112b 112c and 112d have first through third core vias 113a 113b and 113c passing through the first through third dielectric layers 111a 111b and 111c, As shown in FIG. At least one of the first to fourth core wiring layers 112a, 112b, 112c, and 112d may include a filter pattern (not shown) electrically connected to the antenna pattern 212aA. In this case, 210 may be made of a high dielectric constant material for miniaturization of the antenna and a low dielectric constant material may be used for the insulation material of the core member 110 to minimize filter loss.

제1유전층(111a)은 제2유전층(111b) 및 제3유전층(111c)보다 두께가 두꺼울 수 있다. 제1유전층(111a)은 기본적으로 강성 유지를 위하여 상대적으로 두꺼울 수 있으며, 제2유전층(111b) 및 제3유전층(111c)은 더 많은 수의 코어 배선층(112c, 112d)을 형성하기 위하여 도입된 것일 수 있다. 제1유전층(111a)은 제2유전층(111b) 및 제3유전층(111c)과 상이한 절연물질 포함할 수 있다. 예를 들면, 제1유전층(111a)은 심재, 필러, 및 절연수지를 포함하는, 예컨대, 프리프레그일 수 있고, 제2유전층(111c) 및 제3유전층(111c)은 필러 및 절연수지를 포함하는 ABF 필름 또는 PID 필름일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 유사한 관점에서, 제1유전층(111a)을 관통하는 제1코어 비아(113a)는 제2 및 제3유전층(111b, 111c)을 관통하는 제2및 제3코어 비아(113b, 113c)보다 직경이 클 수 있다.
The first dielectric layer 111a may be thicker than the second dielectric layer 111b and the third dielectric layer 111c. The first dielectric layer 111a may be relatively thick for maintaining stiffness and the second dielectric layer 111b and the third dielectric layer 111c may be formed to have a larger number of core wiring layers 112c and 112d Lt; / RTI > The first dielectric layer 111a may include an insulating material different from the second dielectric layer 111b and the third dielectric layer 111c. For example, the first dielectric layer 111a may be a prepreg, for example, comprising a core material, a filler, and an insulating resin, and the second dielectric layer 111c and the third dielectric layer 111c may include fillers and insulating resin But is not limited to, an ABF film or a PID film. The first core via 113a passing through the first dielectric layer 111a has a diameter greater than that of the second and third core vias 113b and 113c passing through the second and third dielectric layers 111b and 111c It can be big.

연결부재(140)의 재배선층(142)과 코어부재(110)의 제3코어 배선층(112c) 사이의 거리는 연결부재(140)의 재배선층(142)과 반도체칩(120)의 접속패드(120P) 사이의 거리보다 작을 수 있다. 제3코어 배선층(112c)이 제2유전층(111b) 상에 돌출된 형태로 배치될 수 있으며, 그 결과 연결부재(140)와 접할 수 있기 때문이다. 코어부재(110)의 제1코어 배선층(112a) 및 제2코어 배선층(112b)은 반도체칩(120)의 활성면과 비활성면 사이에 위치할 수 있다. 코어부재(110)는 반도체칩(120)의 두께에 대응하게 형성할 수 있는바, 코어부재(110) 내부에 형성된 제1코어 배선층(112a) 및 제2코어 배선층(112b)은 반도체칩(120)의 활성면과 비활성면 사이 레벨에 배치될 수 있다.
The distance between the redistribution layer 142 of the connection member 140 and the third core wiring layer 112c of the core member 110 is set to be shorter than the distance between the redistribution layer 142 of the connection member 140 and the connection pads 120P As shown in FIG. The third core wiring layer 112c may be disposed on the second dielectric layer 111b so as to be in contact with the connection member 140. [ The first core wiring layer 112a and the second core wiring layer 112b of the core member 110 may be positioned between the active surface and the inactive surface of the semiconductor chip 120. [ The first core wiring layer 112a and the second core wiring layer 112b formed in the core member 110 may be formed to correspond to the thickness of the semiconductor chip 120, ) Between the active surface and the inactive surface.

코어부재(110)의 코어 배선층(112a, 112b, 112c, 112d)의 두께는 연결부재(140)의 재배선층(142)의 두께보다 두꺼울 수 있다. 코어부재(110)는 반도체칩(120) 이상의 두께를 가질 수 있는바, 코어 배선층(112a, 112b, 112c, 112d) 역시 보다 큰 사이즈로 형성할 수 있다. 반면, 연결부재(140)의 재배선층(142)은 박형화를 위하여 보다 상대적으로 작은 사이즈로 형성할 수 있다.
The thickness of the core wiring layers 112a, 112b, 112c and 112d of the core member 110 may be thicker than the thickness of the re-wiring layer 142 of the connecting member 140. [ The core member 110 may have a thickness greater than that of the semiconductor chip 120 and the core wiring layers 112a, 112b, 112c, and 112d may also be formed in a larger size. On the other hand, the redistribution layer 142 of the connection member 140 can be formed in a relatively smaller size for thinning.

그 외에 다른 구성에 대한 설명은 상술한 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300A)에서 설명한 바와 실질적으로 동일한바 생략한다.
Other configurations are substantially the same as those described in the antenna substrate and semiconductor package composite module 300A according to the above-described example.

도 15는 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
15 is a cross-sectional view schematically showing another example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.

도면을 참조하면, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300D)은 안테나 기판(200D)과 반도체 패키지(100D)가 일체화된 형태를 가진다. 이때, 안테나 기판(200D)은 배선부재(220)의 배선층(222)이 필터패턴(222R)을 포함한다. 필터패턴(222R)은 피딩라인(213F), 피딩패턴(222F) 등과 전기적으로 연결된다. 필터패턴(222R)은 마이크로 스트립라인 또는 스트립라인 등일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 필터패턴(222R)은 배선부재(220)의 다양한 층에 적절하게 형성될 수 있다. 안테나 부재(210)의 절연물질로는 안테나 사이즈를 줄이기 위하여 고유전율(Er1) 특성을 가지는 재료를 사용할 수 있고, 배선부재(220)의 절연물질로는 필터의 손실을 줄이기 위하여 저유전율(Er12)의 특성을 가지는 재료를 사용할 수 있다. 안테나 부재(210)의 그라운드 패턴(212bG) 및/또는 배선부재(220)의 그라운드 패턴(222G)은 필터패턴(222R)을 위한 그라운드 면을 제공할 수 있다.
Referring to the drawings, the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300D according to another example have a form in which the antenna substrate 200D and the semiconductor package 100D are integrated. At this time, in the antenna substrate 200D, the wiring layer 222 of the wiring member 220 includes the filter pattern 222R. The filter pattern 222R is electrically connected to the feeding line 213F, the feeding pattern 222F, and the like. The filter pattern 222R may be, but is not limited to, a microstrip line or a stripline. The filter pattern 222R may be appropriately formed in various layers of the wiring member 220. [ As the insulating material of the antenna member 210, a material having a high dielectric constant (Er1) characteristic may be used to reduce the antenna size. As the insulating material of the wiring member 220, a low dielectric constant (Er12) Can be used. The ground pattern 212bG of the antenna member 210 and / or the ground pattern 222G of the wiring member 220 may provide a ground plane for the filter pattern 222R.

그 외에 다른 구성에 대한 설명은 상술한 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300A)에서 설명한 바와 실질적으로 동일한바 생략한다. 한편, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 모듈(300B, 300C)에서 설명한 코어부재(110)의 형태가 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300D)에도 적용될 수 있음은 물론이다.
Other configurations are substantially the same as those described in the antenna substrate and semiconductor package composite module 300A according to the above-described example. It goes without saying that the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300D according to other examples may be applied to the antenna substrate and the semiconductor package modules 300B and 300C according to other examples.

도 16은 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
16 is a cross-sectional view schematically showing another example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.

도면을 참조하면, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300E)은 안테나 기판(200E)과 반도체 패키지(100E)가 일체화된 형태를 가진다. 이때, 반도체 패키지(100E)는 코어부재(110)가 유전층(111)의 내부에 매립된 제3배선층(112c) 및 제3배선층(112c)을 제1 및 제2배선층(112a, 112b)과 전기적으로 연결하는 제2 및 제3코어 비아(113b, 113c)을 더 포함한다. 제3배선층(112c)은 필터패턴(112cR)을 포함한다. 필터패턴(112cR)은 피딩라인(213F), 피딩패턴(222F) 등과 전기적으로 연결된다. 필터패턴(112cR)은 마이크로 스트립라인 또는 스트립라인 등일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 코어부재(110)의 제1 및 제2배선층(112a, 112b)의 그라운드 패턴은 필터패턴(112cR)을 위한 그라운드 면을 제공할 수 있다. 반도체칩(120)은 페이스-다운 형태로 배치된다. 반도체칩(120)이 페이스-다운 형태로 배치되는 경우 활성면이 메인보드에 가까워지기 때문에 메인보드로의 고방열 효과를 가질 수 있다. 반도체칩(120)의 비활성면에 형성된 금속층(122)은 경우에 따라서 다이부착필름으로 대체될 수 있다.
Referring to the drawings, an antenna substrate and a semiconductor package composite module 300E according to another example have a form in which an antenna substrate 200E and a semiconductor package 100E are integrated. At this time, the semiconductor package 100E is formed such that the third wiring layer 112c and the third wiring layer 112c, in which the core member 110 is buried in the dielectric layer 111, are electrically and electrically connected to the first and second wiring layers 112a and 112b, And second and third core vias 113b and 113c connecting the first and second core vias 113a and 113b. The third wiring layer 112c includes a filter pattern 112cR. The filter pattern 112cR is electrically connected to the feeding line 213F, the feeding pattern 222F, and the like. The filter pattern 112cR may be, but is not limited to, a microstrip line or strip line. The ground pattern of the first and second wiring layers 112a and 112b of the core member 110 may provide a ground plane for the filter pattern 112cR. The semiconductor chip 120 is disposed in a face-down fashion. When the semiconductor chip 120 is disposed in a face-down configuration, the active surface is closer to the main board, so that it can have a high heat radiation effect to the main board. The metal layer 122 formed on the inactive surface of the semiconductor chip 120 may be replaced with a die attach film as occasion demands.

그 외에 다른 구성에 대한 설명은 상술한 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300A)에서 설명한 바와 실질적으로 동일한바 생략한다. 한편, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 모듈(300B, 300C)에서 설명한 코어부재(110)의 형태가 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300E)에도 적용될 수 있음은 물론이다. 이 경우, 내부에 배치된 코어부재의 배선층이 필터패턴을 포함하는 형태일 수 있다.
Other configurations are substantially the same as those described in the antenna substrate and semiconductor package composite module 300A according to the above-described example. It goes without saying that the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300E according to other examples may be applied to the antenna substrate and the semiconductor package modules 300B and 300C according to other examples. In this case, the wiring layer of the core member disposed therein may be in a form including the filter pattern.

도 17은 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
17 is a cross-sectional view schematically showing another example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.

도면을 참조하면, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300F)은 안테나 기판(200F)과 반도체 패키지(100F)가 일체화된 형태를 가진다. 한편, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300F)은 안테나 기판(200F)을 먼저 형성하고, 안테나 기판(200F)의 배선부재(220) 상에 반도체칩(120)을 솔더 등의 범프(120B) 등을 이용하여 실장한 후 봉합재(130)로 봉합하고 추가로 백사이드 배선층(132) 및 백사이드 비아(133) 등을 형성하여 반도체 패키지(100F)를 형성한다. 즉, 소위 칩-라스트 공법으로 일체화된 복합 모듈(300F)을 제조한다. 따라서, 반도체 패키지(100F)의 연결부재(140)는 안테나 기판(200F)의 배선부재(220)에 통합된다. 즉, 도면에 도시한 바와 같이 배선부재(220)의 일부가 연결부재(140)의 역할을 수행한다. 즉, 배선부재(220)는 연결부재(140)를 포함한다. 한편, 이 경우 반도체 패키지(100F)는 코어부재(110)를 포함하지 않을 수 있으며, 봉합재(130)를 관통하는 관통비아(117)를 통하여 상부 및 하부의 전기적 연결 경로가 제공될 수 있다.
Referring to the drawings, an antenna substrate and a semiconductor package composite module 300F according to another example have a form in which an antenna substrate 200F and a semiconductor package 100F are integrated. The antenna substrate 200F according to another exemplary embodiment may be formed by first forming the antenna substrate 200F and bonding the semiconductor chip 120 on the wiring member 220 of the antenna substrate 200F with a bump And the semiconductor package 100F is formed by forming a backside wiring layer 132 and a backside via 133 in addition to the semiconductor package 100F. That is, the composite module 300F integrated with the so-called chip-last method is manufactured. Therefore, the connecting member 140 of the semiconductor package 100F is integrated into the wiring member 220 of the antenna substrate 200F. That is, as shown in the drawing, a part of the wiring member 220 serves as the connecting member 140. That is, the wiring member 220 includes the connecting member 140. In this case, the semiconductor package 100F may not include the core member 110, and the upper and lower electrical connection paths may be provided through the through vias 117 passing through the sealing material 130. [

그 외에 다른 구성에 대한 설명은 상술한 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300A)에서 설명한 바와 실질적으로 동일한바 생략한다.
Other configurations are substantially the same as those described in the antenna substrate and semiconductor package composite module 300A according to the above-described example.

도 18은 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
18 is a cross-sectional view schematically showing another example of the antenna substrate and the semiconductor package composite module.

도면을 참조하면, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300G)은 안테나 기판(200G)과 반도체 패키지(100G)가 일체화된 형태를 가진다. 한편, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300G)은 반도체 패키지(100G)의 반도체칩(120)이 페이스-다운 형태로 배치되며, 이때 반도체칩(120)의 비활성면이 안테나 기판(200G)의 배선부재(220)에 다이부착필름(128)을 매개로 부착된다. 반도체칩(120)이 페이스-다운 형태로 배치되는 경우 활성면이 메인보드에 가까워지기 때문에 메인보드로의 고방열 효과를 가질 수 있다. 이 경우에도, 반도체 패키지(100G)의 연결부재(140)는 안테나 기판(200G)의 배선부재(220)에 통합된다. 즉, 도면에 도시한 바와 같이 배선부재(220)의 일부가 연결부재(140)의 역할을 수행한다. 즉, 배선부재(220)는 연결부재(140)를 포함한다. 한편, 이 경우 반도체 패키지(100G)는 코어부재(110)를 포함하지 않을 수 있으며, 봉합재(130)를 관통하는 관통비아(117)를 통하여 상부 및 하부의 전기적 연결 경로가 제공될 수 있다.
Referring to the drawings, an antenna substrate and a semiconductor package composite module 300G according to another example have a form in which an antenna substrate 200G and a semiconductor package 100G are integrated. Meanwhile, the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300G according to another example are arranged such that the semiconductor chip 120 of the semiconductor package 100G is disposed in face-down fashion, 200G via the die attach film 128. The die attach film 128 is attached to the wiring members 220 of the semiconductor devices 200A, 200G. When the semiconductor chip 120 is disposed in a face-down configuration, the active surface is closer to the main board, so that it can have a high heat radiation effect to the main board. Also in this case, the connecting member 140 of the semiconductor package 100G is integrated into the wiring member 220 of the antenna substrate 200G. That is, as shown in the drawing, a part of the wiring member 220 serves as the connecting member 140. That is, the wiring member 220 includes the connecting member 140. In this case, the semiconductor package 100G may not include the core member 110, and the upper and lower electrical connection paths may be provided through the through vias 117 passing through the sealing material 130.

그 외에 다른 구성에 대한 설명은 상술한 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300A)에서 설명한 바와 실질적으로 동일한바 생략한다.
Other configurations are substantially the same as those described in the antenna substrate and semiconductor package composite module 300A according to the above-described example.

도 19는 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
19 is a cross-sectional view schematically showing another example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.

도면을 참조하면, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300H)은 안테나 기판(200H)과 반도체 패키지(100H)가 패키지-온-패키지(PoP) 형태로 결합되어 있다. 이때, 안테나 기판(200H)은 제1배선부재(220) 하부에 절연층(241)과 배선층(242)과 비아(243)를 포함하는 제2배선부재(240)를 더 포함한다. 연결부재(140) 및 제2배선부재(240) 상에는 각각 패시베이션층(190, 250)이 배치된다. 반도체 패키지(100H)의 연결부재(140)와 안테나 기판(200H)의 제2배선부재(240)는 솔더볼 등의 전기연결구조체(180)를 통하여 전기적으로 연결된다.
Referring to the drawings, in an antenna substrate and a semiconductor package composite module 300H according to another example, an antenna substrate 200H and a semiconductor package 100H are coupled in a package-on-package (PoP) form. The antenna substrate 200H further includes a second wiring member 240 including an insulating layer 241 and a wiring layer 242 and a via 243 under the first wiring member 220. [ Passivation layers 190 and 250 are disposed on the connection member 140 and the second wiring member 240, respectively. The connection member 140 of the semiconductor package 100H and the second wiring member 240 of the antenna substrate 200H are electrically connected through the electrical connection structure 180 such as a solder ball.

그 외에 다른 구성에 대한 설명은 상술한 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300A)에서 설명한 바와 실질적으로 동일한바 생략한다.
Other configurations are substantially the same as those described in the antenna substrate and semiconductor package composite module 300A according to the above-described example.

도 20은 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
20 is a cross-sectional view schematically showing another example of an antenna substrate and a semiconductor package composite module.

도면을 참조하면, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300I)은 상술한 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300B)와 마찬가지로 반도체 패키지(100I)는 코어부재(110)가 연결부재(140)와 접하는 제1유전층(111a), 연결부재(140)와 접하며 제1유전층(111a)에 매립된 제1코어 코어 배선층(112a), 제1유전층(111a)의 제1코어 코어 배선층(112a)이 매립된측의 반대측 상에 배치된 제2코어 코어 배선층(112b), 제1유전층(111a) 상에 배치되며 제2코어 코어 배선층(112b)을 덮는 제2유전층(111b), 및 제2유전층(111b) 상에 배치된 제3코어 코어 배선층(112c)을 포함한다. 제1 내지 제3코어 코어 배선층(112a, 112b, 112c)은 접속패드(120P)와 전기적으로 연결된다. 제1 및 제2코어 코어 배선층(112a, 112b)과 제2및 제3코어 코어 배선층(112b, 112c)은 각각 제1 및 제2유전층(111a, 111b)을 관통하는 제1 및 제2코어 코어 비아(113a, 113b)를 통하여 전기적으로 연결된다. 한편, 제1 내지 제3코어 배선층(112a, 112b, 112c) 중 적어도 하나의 층은 안테나 패턴(212aA)와 전기적으로 연결된 필터패턴(미도시)을 포함할 수 있으며, 이 경우 안테나 부재(210)의 절연물질은 안테나의 소형화를 위하여 고유전율의 재료를 사용할 수 있고, 코어부재(110)의 절연물질은 필터 손실 최소화를 위하여 저유전율의 재료를 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
Referring to the drawings, the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300I according to another exemplary embodiment, like the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300B according to another example described above, includes a core member 110, A first dielectric layer 111a in contact with the connection member 140, a first core core wiring layer 112a in contact with the connection member 140 and embedded in the first dielectric layer 111a, a first core core layer 112b of the first dielectric layer 111a, A second dielectric layer 111b disposed on the first dielectric layer 111a and covering the second core core wiring layer 112b, and a second dielectric layer 111b covering the second core core wiring layer 112b. The second core core wiring layer 112b is disposed on the opposite side of the side where the wiring layer 112a is embedded. And a third core core wiring layer 112c disposed on the second dielectric layer 111b. The first to third core core wiring layers 112a, 112b and 112c are electrically connected to the connection pad 120P. The first and second core core wiring layers 112a and 112b and the second and third core core wiring layers 112b and 112c are formed of first and second core layers 112a and 111b penetrating through the first and second dielectric layers 111a and 111b, And are electrically connected through vias 113a and 113b. At least one of the first to third core wiring layers 112a, 112b and 112c may include a filter pattern (not shown) electrically connected to the antenna pattern 212aA. In this case, The insulating material of the core member 110 may be a material having a low dielectric constant for minimizing the filter loss, but the present invention is not limited thereto.

그 외에 다른 구성에 대한 설명은 상술한 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300A) 및 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300B, 300H)에서 설명한 바와 실질적으로 동일한바 생략한다.
Other configurations are substantially the same as those described in the antenna substrate and semiconductor package composite module 300A according to the above-described example, and the antenna substrate and semiconductor package composite modules 300B and 300H according to another example.

도 21은 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
21 is a cross-sectional view schematically showing another example of the antenna substrate and the semiconductor package composite module.

도면을 참조하면, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300J)은 상술한 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300C)와 마찬가지로 반도체 패키지(100J)는 코어부재(110)가 제1유전층(111a), 제1유전층(111a)의 양면에 배치된 제1코어 배선층(112a) 및 제2코어 배선층(112b), 제1절연층(112a) 상에 배치되며 제1코어 배선층(112a)을 덮는 제2유전층(111b), 제2유전층(111b) 상에 배치된 제3재배선층(111c), 제1유전층(111a) 상에 배치되어 제2코어 배선층(112b)을 덮는 제3유전층(111c), 및 제3유전층(111c) 상에 배치된 제4코어 배선층(112d)을 포함한다. 제1 내지 제4코어 배선층(112a, 112b, 112c, 112d)는 접속패드(120P)와 전기적으로 연결된다. 코어부재(110)가 더 많은 수의 코어 배선층(112a, 112b, 112c, 112d)을 포함하는바, 연결부재(140)를 더욱 간소화할 수 있다. 따라서, 연결부재(140) 형성 과정에서 발생하는 불량에 따른 수율 저하를 개선할 수 있다. 한편, 제1 내지 제4 코어 배선층(112a, 112b, 112c, 112d)은 제1 내지 제3 유전층(111a, 111b, 111c)을 각각 관통하는 제1 내지 제3코어 비아(113a, 113b, 113c)를 통하여 전기적으로 연결될 수 있다. 한편, 제1 내지 제4코어 배선층(112a, 112b, 112c, 112d) 중 적어도 하나의 층은 안테나 패턴(212aA)와 전기적으로 연결된 필터패턴(미도시)을 포함할 수 있으며, 이 경우 안테나 부재(210)의 절연물질은 안테나의 소형화를 위하여 고유전율의 재료를 사용할 수 있고, 코어부재(110)의 절연물질은 필터 손실 최소화를 위하여 저유전율의 재료를 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
Referring to the drawings, the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300J according to another exemplary embodiment, like the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300C according to another example described above, include the core member 110, A first core wiring layer 112a and a second core wiring layer 112b disposed on both sides of the first dielectric layer 111a and a first core wiring layer 112b disposed on the first insulation layer 112a, A third re-distribution layer 111c disposed on the second dielectric layer 111b; a third re-distribution layer 111b disposed on the first dielectric layer 111a to cover the second core wiring layer 112b; A dielectric layer 111c, and a fourth core wiring layer 112d disposed on the third dielectric layer 111c. The first to fourth core wiring layers 112a, 112b, 112c, and 112d are electrically connected to the connection pad 120P. Since the core member 110 includes a larger number of core wiring layers 112a, 112b, 112c and 112d, the connecting member 140 can be further simplified. Therefore, it is possible to improve the yield reduction due to defects generated in the process of forming the connecting member 140. The first through fourth core wiring layers 112a 112b 112c and 112d have first through third core vias 113a 113b and 113c passing through the first through third dielectric layers 111a 111b and 111c, As shown in FIG. At least one of the first to fourth core wiring layers 112a, 112b, 112c, and 112d may include a filter pattern (not shown) electrically connected to the antenna pattern 212aA. In this case, 210 may be made of a high dielectric constant material for miniaturization of the antenna and a low dielectric constant material may be used for the insulation material of the core member 110 to minimize filter loss.

그 외에 다른 구성에 대한 설명은 상술한 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300A) 및 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300C, 300H)에서 설명한 바와 실질적으로 동일한바 생략한다.
Other configurations are substantially the same as those described in the antenna substrate and semiconductor package complex module 300A according to the above-described example, and the antenna substrate and semiconductor package complex modules 300C and 300H according to another example.

도 22는 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
22 is a cross-sectional view schematically showing another example of the antenna substrate and the semiconductor package composite module.

도면을 참조하면, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300K)은 상술한 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300D)와 마찬가지로 안테나 기판(200K)은 배선부재(220)의 배선층(222)이 필터패턴(222R)을 포함한다. 필터패턴(222R)은 피딩라인(213F), 피딩패턴(222F) 등과 전기적으로 연결된다. 필터패턴(222R)은 마이크로 스트립라인 또는 스트립라인 등일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 안테나 부재(210)의 그라운드 패턴(212bG) 및/또는 배선부재(220)의 그라운드 패턴(222G)은 필터패턴(222R)을 위한 그라운드 면을 제공할 수 있다.
The antenna substrate 200 and the semiconductor package composite module 300K according to another exemplary embodiment are similar to the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300D according to another example described above, The wiring layer 222 includes a filter pattern 222R. The filter pattern 222R is electrically connected to the feeding line 213F, the feeding pattern 222F, and the like. The filter pattern 222R may be, but is not limited to, a microstrip line or a stripline. The ground pattern 212bG of the antenna member 210 and / or the ground pattern 222G of the wiring member 220 may provide a ground plane for the filter pattern 222R.

그 외에 다른 구성에 대한 설명은 상술한 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300A) 및 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300D, 300H)에서 설명한 바와 실질적으로 동일한바 생략한다. 한편, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 모듈(300I, 300J)에서 설명한 코어부재(110)의 형태가 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300K)에도 적용될 수 있음은 물론이다.
Other configurations are substantially the same as those described in the antenna substrate and semiconductor package composite module 300A according to the above-described exemplary embodiment and the antenna substrate and semiconductor package composite module 300D according to another example. It goes without saying that the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300K according to other embodiments may be applied to the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300K according to another example of the shape of the core member 110 described in the antenna substrate and the semiconductor package modules 300I and 300J.

도 23은 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈의 다른 일례를 개략적으로 나타낸 단면도다.
23 is a cross-sectional view schematically showing another example of the antenna substrate and the semiconductor package composite module.

도면을 참조하면, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300L)은 반도체칩(120)은 페이스-다운 형태로 배치된다. 반도체칩(120)이 페이스-다운 형태로 배치되는 경우 활성면이 메인보드에 가까워지기 때문에 메인보드로의 고방열 효과를 가질 수 있다. 반도체칩(120)의 활성면 상에 연결부재(140)가 배치되며 비활성면 상에 백사이드 재배선(132)과 백사이드 비아(133)가 배치된다. 반도체칩(120)의 비활성면에 형성된 금속층(122)은 경우에 따라서 다이부착필름으로 대체될 수 있다.
Referring to the drawings, the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300L according to another example are arranged in a face-down fashion. When the semiconductor chip 120 is disposed in a face-down configuration, the active surface is closer to the main board, so that it can have a high heat radiation effect to the main board. A connecting member 140 is disposed on the active surface of the semiconductor chip 120 and a backside wiring 132 and a backside via 133 are disposed on the inactive surface. The metal layer 122 formed on the inactive surface of the semiconductor chip 120 may be replaced with a die attach film as occasion demands.

그 외에 다른 구성에 대한 설명은 상술한 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300A) 및 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300H)에서 설명한 바와 실질적으로 동일한바 생략한다. 한편, 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 모듈(300I, 300J)에서 설명한 코어부재(110)의 형태가 다른 일례에 따른 안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈(300L)에도 적용될 수 있음은 물론이다.
Other configurations are substantially the same as those described in the antenna substrate and semiconductor package composite module 300A according to the above-described example, and the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300H according to another example. It is needless to say that the antenna substrate and the semiconductor package composite module 300L according to another example may be applied to the antenna substrate and the semiconductor package modules 300I and 300J according to another example.

본 개시에서 사용된 결합 이라는 표현은 두 구성요소가 서로 접하도록 일체화된 경우와 두 구성요소가 매개체를 이용하여 적층된 형태를 포함하는 개념이다.
The expression " bond " used in the present disclosure is a concept including two cases where the two elements are integrated so as to be in contact with each other and a case where the two elements are laminated using the medium.

본 개시에서 사용된 일례 라는 표현은 서로 동일한 실시 예를 의미하지 않으며, 각각 서로 다른 고유한 특징을 강조하여 설명하기 위해서 제공된 것이다. 그러나, 상기 제시된 일례들은 다른 일례의 특징과 결합되어 구현되는 것을 배제하지 않는다. 예를 들어, 특정한 일례에서 설명된 사항이 다른 일례에서 설명되어 있지 않더라도, 다른 일례에서 그 사항과 반대되거나 모순되는 설명이 없는 한, 다른 일례에 관련된 설명으로 이해될 수 있다.
The expression " exemplary " used in this disclosure does not mean the same embodiment but is provided for emphasizing and explaining different unique features. However, the above-mentioned examples do not exclude that they are implemented in combination with the features of other examples. For example, although the description in the specific example is not described in another example, it can be understood as an explanation related to another example, unless otherwise described or contradicted by the other example.

본 개시에서 연결된다는 의미는 직접 연결된 것뿐만 아니라, 간접적으로 연결된 것을 포함하는 개념이다. 또한, 전기적으로 연결된다는 의미는 물리적으로 연결된 경우와 연결되지 않은 경우를 모두 포함하는 개념이다. 예를 들면, 물리적으로 연결되지 않았으나 신호적으로 연결되는 경우를 포함한다. 또한, 제 1, 제 2 등의 표현은 한 구성요소와 다른 구성요소를 구분 짓기 위해 사용되는 것으로, 해당 구성요소들의 순서 및/또는 중요도 등을 한정하지 않는다. 경우에 따라서는 권리범위를 벗어나지 않으면서, 제 1 구성요소는 제 2 구성요소로 명명될 수도 있고, 유사하게 제 2 구성요소는 제 1 구성요소로 명명될 수도 있다.
In the present disclosure, the meaning of being connected is not a direct connection but a concept including an indirect connection. In addition, the term "electrically connected" means a concept including both a physical connection and a non-connection. For example, a case where a signal is not physically connected but is connected to a signal. Also, the first, second, etc. expressions are used to distinguish one component from another, and do not limit the order and / or importance of the components. In some cases, without departing from the scope of the right, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may be referred to as a first component.

본 개시에서 상부, 하부, 상측, 하측, 상면, 하면 등은 첨부된 도면을 기준으로 판단한다. 예를 들면, 제1연결부재는 재배선층 보다 상부에 위치한다. 다만, 특허청구범위가 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 수직 방향은 상술한 상부 및 하부 방향을 의미하며, 수평 방향은 이와 수직한 방향을 의미한다. 이때, 수직 단면은 수직 방향의 평면으로 절단한 경우를 의미하는 것으로, 도면에 도시한 단면도를 그 예로 들 수 있다. 또한, 수평 단면은 수평 방향의 평면으로 절단한 경우를 의미하는 것으로, 도면에서 도시한 평면도를 그 예로 들 수 있다.In the present disclosure, upper, lower, upper, lower, upper, lower, and the like are determined based on the attached drawings. For example, the first connecting member is located above the re-wiring layer. However, the claims are not limited thereto. In addition, the vertical direction means the above-mentioned upper and lower direction, and the horizontal direction means the direction perpendicular thereto. In this case, the vertical cross-section means a case of cutting into a plane in the vertical direction, and the cross-sectional view shown in the figure is an example. In addition, the horizontal cross-section means a case where the horizontal cross-section is cut into a plane in the horizontal direction, for example, the plan view shown in the drawing.

Claims (22)

접속패드가 배치된 활성면 및 상기 활성면의 반대측에 배치된 비활성면을 갖는 반도체칩, 상기 반도체칩의 적어도 일부를 봉합하는 봉합재, 및 상기 반도체칩의 상부에 배치되며 상기 접속패드와 전기적으로 연결된 재배선층을 포함하는 연결부재, 를 포함하는 팬-아웃 반도체 패키지; 및
절연층과 상기 절연층의 상면에 배치되며 안테나 패턴을 포함하는 제1패턴층과 상기 절연층의 하면에 배치되며 그라운드 패턴을 포함하는 제2패턴층과 상기 절연층을 관통하며 상기 안테나 패턴과 전기적으로 연결된 피딩라인을 포함하는 비아를 포함하는 안테나 부재, 및 상기 안테나 부재의 하부에 배치되며 상기 피딩라인과 전기적으로 연결된 피딩패턴을 포함하는 배선층을 포함하는 배선부재, 를 포함하는 안테나 기판; 을 포함하며,
상기 팬-아웃 반도체 패키지 및 상기 안테나 기판은 상기 연결부재 및 상기 배선부재가 서로 마주하도록 결합된,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
A semiconductor chip having an active surface on which a connection pad is disposed and an inactive surface disposed on an opposite side of the active surface, a seal member for sealing at least a part of the semiconductor chip, and a sealing member disposed on the semiconductor chip, A connecting member including a re-wiring layer connected thereto; And
A first pattern layer disposed on the insulating layer and on the insulating layer, the first pattern layer including an antenna pattern; a second pattern layer disposed on a lower surface of the insulating layer and including a ground pattern; An antenna member including a via including a feeding line connected to the antenna member, and a wiring member including a wiring layer disposed below the antenna member and including a feeding pattern electrically connected to the feeding line; / RTI >
Wherein the fan-out semiconductor package and the antenna substrate are connected to each other with the connecting member and the wiring member facing each other,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 1 항에 있어서,
상기 반도체칩은 무선 주파수 집적회로(RFIC)를 포함하는,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
The method according to claim 1,
Wherein the semiconductor chip comprises a radio frequency integrated circuit (RFIC)
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 1 항에 있어서,
상기 안테나 패턴은 다이폴 안테나(Dipole antenna) 및 패치 안테나(Patch antenna) 중 적어도 하나를 포함하는,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
The method according to claim 1,
Wherein the antenna pattern comprises at least one of a dipole antenna and a patch antenna.
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 3 항에 있어서,
상기 패치 안테나 및 상기 패치 안테나와 연결된 상기 피딩라인은 상기 안테나 부재의 절연층을 관통하는 그라운드 비아로 둘러싸인,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
The method of claim 3,
Wherein the patch antenna and the feeding line connected to the patch antenna are surrounded by ground vias passing through an insulating layer of the antenna member,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 1 항에 있어서,
상기 반도체칩은 상기 활성면이 상기 배선부재를 향하도록 페이스-업 배치된,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
The method according to claim 1,
Wherein the semiconductor chip is face-up arranged such that the active surface faces the wiring member,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 1 항에 있어서,
상기 배선부재의 배선층은 상기 피딩라인과 전기적으로 연결된 필터패턴을 포함하는,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
The method according to claim 1,
Wherein a wiring layer of the wiring member includes a filter pattern electrically connected to the feeding line,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 1 항에 있어서,
상기 안테나 기판은 상기 팬-아웃 반도체 패키지와 일체화된,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
The method according to claim 1,
Wherein the antenna substrate is integrated with the fan-out semiconductor package,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 7 항에 있어서,
상기 연결부재 및 상기 배선부재가 서로 접하여 일체화된,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
8. The method of claim 7,
Wherein the connecting member and the wiring member are integrated with each other,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 8 항에 있어서,
상기 연결부재의 재배선층과 상기 배선부재의 배선층이 상기 배선부재의 비아를 통하여 서로 전기적으로 연결된,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
9. The method of claim 8,
The rewiring layer of the connecting member and the wiring layer of the wiring member are electrically connected to each other through vias of the wiring member,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 7 항에 있어서,
상기 연결부재가 상기 배선부재에 통합된,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
8. The method of claim 7,
Wherein the connecting member is integrated with the wiring member,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 10 항에 있어서,
상기 팬-아웃 반도체 패키지는 상기 봉합재를 관통하며 상기 배선부재의 배선층과 전기적으로 연결된 관통비아를 더 포함하는,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
11. The method of claim 10,
Wherein the fan-out semiconductor package further comprises through vias through the sealing material and electrically connected to the wiring layer of the wiring member,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 10 항에 있어서,
상기 반도체칩은 상기 배선부재 상에 범프를 통하여 실장된,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
11. The method of claim 10,
Wherein the semiconductor chip is mounted on the wiring member through a bump,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 10 항에 있어서,
상기 반도체칩은 상기 비활성면이 상기 배선부재를 향하도록 페이스-다운 배치되며,
상기 반도체칩의 비활성면은 다이부착필름을 통해 상기 배선부재에 부착된,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
11. The method of claim 10,
Wherein the semiconductor chip is face-down disposed such that the inactive surface faces the wiring member,
Wherein the inactive surface of the semiconductor chip is attached to the wiring member via a die attach film,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 1 항에 있어서,
상기 안테나 기판이 상기 팬-아웃 반도체 패키지 상에 적층되며,
상기 안테나 기판 및 상기 팬-아웃 반도체 패키지가 전기연결구조체를 통하여 서로 연결된,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
The method according to claim 1,
Wherein the antenna substrate is laminated on the fan-out semiconductor package,
Wherein the antenna substrate and the fan-out semiconductor package are connected to each other through an electrical connection structure,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 1 항에 있어서,
상기 팬-아웃 반도체 패키지는 관통홀을 갖는 코어부재를 더 포함하며,
상기 반도체칩은 상기 코어부재에 배치되며,
상기 코어부재는 상기 접속패드와 전기적으로 연결된 적어도 하나의 코어 배선층을 포함하는,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
The method according to claim 1,
Wherein the fan-out semiconductor package further comprises a core member having a through-hole,
Wherein the semiconductor chip is disposed on the core member,
Wherein the core member comprises at least one core wiring layer electrically connected to the connection pad,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 15 항에 있어서,
상기 팬-아웃 반도체 패키지는 상기 관통홀에 상기 반도체칩과 나란하게 배치되며 상기 연결부재의 재배선층을 통하여 상기 접속패드와 전기적으로 연결된 수동부품을 더 포함하는,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
16. The method of claim 15,
Wherein the fan-out semiconductor package further comprises a passive component that is disposed in parallel with the semiconductor chip in the through-hole and is electrically connected to the connection pad through a re-wiring layer of the connection member.
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 15 항에 있어서,
상기 코어부재의 코어 배선층은 상기 피딩라인과 전기적으로 연결된 필터패턴을 포함하는,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
16. The method of claim 15,
Wherein the core wiring layer of the core member includes a filter pattern electrically connected to the feeding line,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 15 항에 있어서,
상기 코어부재는 상기 연결부재와 접하는 제1유전층, 상기 연결부재와 접하며 상기 제1유전층에 매립된 제1코어 배선층, 상기 제1유전층의 상기 제1코어 배선층이 배치된 측의 반대측 상에 배치된 제2코어 배선층, 및 상기 제1유전층을 관통하며 상기 제1 및 제2코어 배선층을 전기적으로 연결하는 제1코어 비아를 포함하며,
상기 제1 및 제2코어 배선층은 상기 접속패드와 전기적으로 연결된,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
16. The method of claim 15,
The core member includes a first dielectric layer in contact with the connecting member, a first core wiring layer in contact with the connecting member and embedded in the first dielectric layer, and a second core wiring layer disposed on the opposite side of the first dielectric layer, And a first core via electrically connecting the first and second core wiring layers through the first dielectric layer,
Wherein the first and second core wiring layers are electrically connected to the connection pad,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 18 항에 있어서,
상기 코어부재는 상기 제1유전층 상에 배치되며 상기 제2코어 배선층을 덮는 제2유전층, 상기 제2유전층의 상기 제2코어 배선층이 배치된 측의 반대측 상에 배치된 제3코어 배선층, 및 상기 제2유전층을 관통하며 상기 제2 및 제3코어 배선층을 전기적으로 연결하는 제2코어 비아를 포함하며,
상기 제3코어 배선층은 상기 접속패드와 전기적으로 연결된,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
19. The method of claim 18,
The core member includes a second dielectric layer disposed on the first dielectric layer and covering the second core wiring layer, a third core wiring layer disposed on the opposite side of the second dielectric layer on the side where the second core wiring layer is disposed, And a second core via penetrating the second dielectric layer and electrically connecting the second and third core wiring layers,
Wherein the third core wiring layer is electrically connected to the connection pad,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 15 항에 있어서,
상기 코어부재는 제1유전층, 상기 제1유전층의 양면 상에 각각 배치된 제1코어 배선층 및 제2코어 배선층, 상기 제1유전층을 관통하며 상기 제1 및 제2코어 배선층을 전기적으로 연결하는 제1코어 비아를 포함하며,
상기 제1 및 제2코어 배선층은 상기 접속패드와 전기적으로 연결된,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
16. The method of claim 15,
Wherein the core member comprises a first dielectric layer, a first core wiring layer and a second core wiring layer respectively disposed on both surfaces of the first dielectric layer, and a second core wiring layer which penetrates the first dielectric layer and electrically connects the first and second core wiring layers 1 core vias,
Wherein the first and second core wiring layers are electrically connected to the connection pad,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
제 20 항에 있어서,
상기 코어부재는 상기 제1유전층 상에 배치되며 상기 제1코어 배선층을 덮는 제2유전층, 상기 제2유전층 상에 배치된 제3유전층, 상기 제1유전층 상에 배치되며 상기 제2코어 배선층을 덮는 제3유전층, 상기 제3유전층 상에 배치된 제4유전층, 상기 제1유전층을 관통하며 상기 제1 및 제2코어 배선층을 전기적으로 연결하는 제1코어 비아, 상기 제2유전층을 관통하며 상기 제1 및 제3코어 배선층을 전기적으로 연결하는 제2코어 비아, 및 상기 제3유전층을 관통하며 상기 제2 및 제4코어 배선층을 전기적으로 연결하는 제3코어 비아를 포함하며,
상기 제3 및 제4코어 배선층은 상기 접속패드와 전기적으로 연결된,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
21. The method of claim 20,
Wherein the core member comprises a second dielectric layer disposed on the first dielectric layer and covering the first core wiring layer, a third dielectric layer disposed on the second dielectric layer, a second dielectric layer disposed on the first dielectric layer, A second dielectric layer, a third dielectric layer, a fourth dielectric layer disposed on the third dielectric layer, a first core via electrically connecting the first and second core wiring layers through the first dielectric layer, 1 and a third core wiring layer and a third core via electrically connecting the second and fourth core wiring layers through the third dielectric layer,
Wherein the third and fourth core wiring layers are electrically connected to the connection pad,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
관통홀을 갖는 코어부재, 상기 관통홀에 배치되며 접속패드가 배치된 활성면 및 상기 활성면의 반대측에 배치된 비활성면을 갖는 반도체칩, 상기 반도체칩의 적어도 일부를 봉합하는 봉합재, 및 상기 반도체칩의 상부에 배치된 연결부재, 를 포함하며, 상기 코어부재 및 상기 연결부재가 각각 상기 접속패드와 전기적으로 연결된 코어 배선층 및 재배선층을 포함하는 팬-아웃 반도체 패키지; 및
절연층을 기준으로 상부에 안테나 패턴을 포함하는 제1패턴층이 배치되고 하부에 그라운드 패턴을 포함하는 제2패턴층이 배치되며 상기 절연층에 상기 절연층을 관통하며 상기 안테나 패턴과 전기적으로 연결된 피딩라인을 포함하는 비아가 형성된 안테나 부재, 및 상기 안테나 부재의 하부에 배치되며 상기 피딩라인과 전기적으로 연결된 피딩패턴을 포함하는 배선층을 포함하는 배선부재, 를 포함하는 안테나 기판; 을 포함하며,
상기 안테나 기판이 상기 팬-아웃 반도체 패키지 상에 적층되며,
상기 안테나 기판 및 상기 팬-아웃 반도체 패키지가 전기연결구조체를 통하여 서로 연결된,
안테나 기판 및 반도체 패키지 복합 모듈.
A semiconductor chip having an active surface disposed on the through hole and having an active surface on which the connection pad is disposed and an inactive surface disposed on the opposite side of the active surface, a sealing material for sealing at least a part of the semiconductor chip, And a connecting member disposed on an upper portion of the semiconductor chip, wherein the core member and the connecting member each include a core wiring layer and a re-wiring layer electrically connected to the connection pads, respectively; And
A first pattern layer including an antenna pattern is disposed on an upper portion of the insulating layer and a second pattern layer including a ground pattern is disposed on an upper portion of the first pattern layer, and the insulating layer is electrically connected to the antenna pattern An antenna substrate comprising: an antenna member having a via formed therein including a feeding line; and a wiring member disposed at a lower portion of the antenna member and including a wiring layer including a feeding pattern electrically connected to the feeding line; / RTI >
Wherein the antenna substrate is laminated on the fan-out semiconductor package,
Wherein the antenna substrate and the fan-out semiconductor package are connected to each other through an electrical connection structure,
Antenna Substrate and Semiconductor Package Composite Module.
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