KR20180116354A - Composition, a cured film, a color filter, a light-shielding film, a solid-state image pickup device and an image display device - Google Patents

Composition, a cured film, a color filter, a light-shielding film, a solid-state image pickup device and an image display device Download PDF

Info

Publication number
KR20180116354A
KR20180116354A KR1020187027311A KR20187027311A KR20180116354A KR 20180116354 A KR20180116354 A KR 20180116354A KR 1020187027311 A KR1020187027311 A KR 1020187027311A KR 20187027311 A KR20187027311 A KR 20187027311A KR 20180116354 A KR20180116354 A KR 20180116354A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
titanium nitride
containing particles
composition
mass
Prior art date
Application number
KR1020187027311A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102160018B1 (en
Inventor
마코토 쿠보타
다이스케 하마다
Original Assignee
후지필름 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지필름 가부시키가이샤 filed Critical 후지필름 가부시키가이샤
Publication of KR20180116354A publication Critical patent/KR20180116354A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102160018B1 publication Critical patent/KR102160018B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/28Nitrogen-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B21/00Nitrogen; Compounds thereof
    • C01B21/06Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
    • C01B21/076Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with titanium or zirconium or hafnium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/70Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
    • C01P2002/72Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/64Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12Surface area
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00Specific properties of additives
    • C08K2201/002Physical properties
    • C08K2201/006Additives being defined by their surface area
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00Specific properties of additives
    • C08K2201/011Nanostructured additives

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

전극의 방식성이 우수하고, 또한 패터닝성이 우수한 경화막을 제작할 수 있는 조성물을 제공한다. 또, 경화막, 컬러 필터, 차광막, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치를 제공한다. 조성물이, 염소 원자를 포함하는 타이타늄 질화물 함유 입자를 함유하고, 상기 타이타늄 질화물 함유 입자 중에 있어서의 상기 염소 원자의 함유량이, 0.001~0.3질량%이다.A composition capable of producing a cured film having excellent anticorrosion property and excellent patterning property is provided. A cured film, a color filter, a light shielding film, a solid-state image pickup device, and an image display device are also provided. The composition contains titanium nitride-containing particles containing a chlorine atom, and the content of the chlorine atoms in the titanium nitride-containing particles is 0.001 to 0.3 mass%.

Description

조성물, 경화막, 컬러 필터, 차광막, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치Composition, a cured film, a color filter, a light-shielding film, a solid-state image pickup device and an image display device

본 발명은, 조성물, 경화막, 컬러 필터, 차광막, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a composition, a cured film, a color filter, a light-shielding film, a solid-state image pickup device, and an image display device.

고체 촬상 장치는, 촬영 렌즈와, 이 촬영 렌즈의 배후에 배치되는 CCD(전하 결합 소자) 및 CMOS(상보성 금속 산화막 반도체) 등의 고체 촬상 소자(이하, 고체 촬상 소자를 "이미지 센서"라고도 함)와, 이 고체 촬상 소자가 실장되는 회로 기판을 구비한다. 이 고체 촬상 장치는, 디지털 카메라, 카메라 장착 휴대 전화, 및 스마트폰 등에 탑재된다.The solid-state imaging device includes a photographing lens, a solid-state imaging device (hereinafter also referred to as an "image sensor") such as a CCD (charge-coupled device) and a CMOS (complementary metal oxide semiconductor) And a circuit board on which the solid-state imaging device is mounted. This solid-state imaging device is mounted on a digital camera, a camera-equipped mobile phone, a smart phone, or the like.

고체 촬상 장치에 있어서는, 가시광의 반사에 의한 노이즈가 발생하는 경우가 있다. 따라서, 노이즈의 발생의 억제를 도모할 목적으로, 고체 촬상 장치 내에 소정의 차광막이 마련된다. 차광막을 형성하기 위한 조성물로서는, 타이타늄 블랙 등의 흑색 안료를 함유하는 흑색 조성물이 사용되고 있다.In the solid-state imaging device, noise due to reflection of visible light may occur. Therefore, for the purpose of suppressing the generation of noise, a predetermined light-shielding film is provided in the solid-state imaging device. As a composition for forming a light-shielding film, a black composition containing a black pigment such as titanium black is used.

한편, 고체 촬상 소자 및 액정 화상 장치 등에 배치되는 컬러 필터에는, 착색 화소 간의 광의 혼색을 방지하고 콘트라스트를 향상시키는 등의 목적으로 R(레드), G(그린), B(블루)의 각 화소 간에 블랙 매트릭스가 형성되어 있는 경우가 있다. 그 밖에도, 컬러 필터에는, 고체 촬상 소자의 수광부의 광누출을 방지하는 목적으로, 그 액자 영역에 이미지 센서 주변 차광막(액자 차광막)이 형성되어 있다.On the other hand, a color filter disposed in a solid-state image pickup device, a liquid crystal imaging device, and the like is provided between each pixel of R (red), G (green), and B (blue) for the purpose of preventing color mixing of light between colored pixels, There is a case where a black matrix is formed. In addition, in the color filter, a shielding film (frame shielding film) around the image sensor is formed in the frame region for the purpose of preventing light leakage of the light receiving portion of the solid-state image pickup device.

상술한 블랙 매트릭스를 형성하기 위한 조성물에도, 타이타늄 블랙 등의 흑색 안료를 함유하는 흑색 조성물이 사용되고 있다. 예를 들면 특허문헌 1에는, "적어도 차광재, 수지 및 용매를 포함하고, 차광재로서 적어도 타이타늄 질화물 입자를 함유하는 수지 블랙 매트릭스용 흑색 수지 조성물로서, CuKα선을 X선원으로 한 경우의 상기 타이타늄 질화물 입자의 (200)면에서 유래하는 피크의 회절각 2θ가 42.5° 이상 42.8° 이하인 수지 블랙 매트릭스용 흑색 수지 조성물."이 개시되어 있다(청구항 1).A black composition containing a black pigment such as titanium black is also used for the composition for forming the black matrix described above. For example, Patent Document 1 discloses a black resin composition for a resin black matrix containing at least a light-shielding material, a resin and a solvent, and at least titanium nitride particles as a light-shielding material, And the diffraction angle 2? Of the peak derived from the (200) plane of the nitride particle is not less than 42.5 占 and not more than 42.8 占 "(Claim 1).

특허문헌 1: 일본 특허공보 제5136139호Patent Document 1: Japanese Patent Publication No. 5136139

상기와 같은 타이타늄 질화물 입자(타이타늄 질화물 함유 입자)를 함유하는 흑색 조성물의 경화막은, 예를 들면 고체 촬상 장치의 구성 부재의 차광막 또는 컬러 필터의 블랙 매트릭스 혹은 이미지 센서 주변 차광막으로서 이용될 때에, 전극 패턴 등의 전극이 배치된 기판 상에 적층되어 이용되는 경우가 있다.When the cured film of the black composition containing the titanium nitride particles (titanium nitride-containing particles) as described above is used, for example, as a light shielding film of a constituent member of a solid-state image sensor or a black matrix of a color filter or a light shielding film around an image sensor, May be stacked on the substrate on which the electrodes are arranged.

본 발명자들은, 특허문헌 1에 기재된 타이타늄 질화물 입자(타이타늄 질화물 함유 입자)를 함유하는 흑색 조성물을 제작하고, 이를 이용하여, 전극이 배치된 기판 상에, 전극을 피복하도록 경화막을 형성하여 그 평가를 실시했다. 이 결과, 타이타늄 질화물 입자(타이타늄 질화물 함유 입자)의 종류에 따라서는, 상기 전극의 차광막과 접촉하는 영역에 녹 등이 발생하고, 즉 전극이 부식되는 경우가 있는 것을 알 수 있었다. 또, 동일하게 상기 흑색 조성물을 이용하여 패턴 형상의 경화막을 형성할 때에는, 패턴의 해상성(패터닝성)이 원하는 요구를 만족하지 않는 경우가 있는 것을 밝혔다.The present inventors prepared a black composition containing the titanium nitride particles (titanium nitride-containing particles) described in Patent Document 1, and formed a cured film so as to cover the electrodes on the substrate on which the electrodes were arranged, . As a result, depending on the type of the titanium nitride particles (titanium nitride-containing particles), it was found that rusting or the like occurred in a region contacting the light-shielding film of the electrode, that is, the electrode was corroded. It has also been found that when the patterned cured film is similarly formed using the black composition, the resolution of the pattern (patternability) may not satisfy the desired requirements.

따라서, 본 발명은 전극의 방식성이 우수하고, 또한 패터닝성이 우수한 경화막을 제작할 수 있는 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 본 발명은 경화막, 컬러 필터, 차광막, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치를 제공하는 것도 목적으로 한다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a composition capable of producing a cured film having excellent anticorrosion property and excellent patterning property. It is also an object of the present invention to provide a cured film, a color filter, a light-shielding film, a solid-state image pickup device and an image display device.

본 발명자들은, 상기 과제를 달성하기 위하여 예의 검토한 결과, 타이타늄 질화물 함유 입자 중의 염소 원자의 함유량을 소정의 수치 범위로 조정함으로써 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성시켰다.The present inventors have intensively studied in order to achieve the above object, and as a result, they found that the above problems can be solved by adjusting the content of chlorine atoms in titanium nitride-containing particles to a predetermined numerical value range, and completed the present invention.

즉, 이하의 구성에 의하여 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 발견했다.That is, it has been found that the above object can be achieved by the following constitution.

(1) 염소 원자를 포함하는 타이타늄 질화물 함유 입자를 함유하고,(1) A titanium nitride-containing particle containing a chlorine atom,

상기 타이타늄 질화물 함유 입자 중에 있어서의 상기 염소 원자의 함유량이, 0.001~0.3질량%인, 조성물.Wherein the content of the chlorine atoms in the titanium nitride-containing particles is 0.001 to 0.3 mass%.

(2) 상기 타이타늄 질화물 함유 입자의 (200)면에서 유래하는 피크의 회절각 2θ가, CuKα선을 X선원으로 한 경우에 있어서, 42.8° 초과 43.5° 이하인, (1)에 기재된 조성물.(2) The composition according to (1), wherein the diffraction angle 2? Of the peak originating from the (200) plane of the titanium nitride-containing particle is 42.8 占 to 43.5 占 when the CuK? Ray is an X-ray source.

(3) 상기 타이타늄 질화물 함유 입자의 BET법에 의하여 구해진 비표면적이, 40~60m2/g인, (1) 또는 (2)에 기재된 조성물.(3) The composition according to (1) or (2), wherein the titanium nitride-containing particles have a specific surface area of 40 to 60 m 2 / g as determined by the BET method.

(4) 상기 타이타늄 질화물 함유 입자의 평균 1차 입자경이 10~30nm인, (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 기재된 조성물.(4) The composition according to any one of (1) to (3), wherein the titanium nitride-containing particles have an average primary particle diameter of 10 to 30 nm.

(5) 투과형 전자 현미경을 이용한, 상기 타이타늄 질화물 함유 입자의 1차 입자상의 사진 관찰에 있어서,(5) In the photographing of the primary particles of the titanium nitride-containing particles using a transmission electron microscope,

관찰 대상의 100개 중 60개 이상이 구형인, (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 기재된 조성물.The composition according to any one of (1) to (4), wherein 60 or more out of 100 of the objects to be observed are spherical.

(6) 2종 이상의 용제를 더 함유하는, (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 조성물.(6) The composition according to any one of (1) to (5), further containing two or more kinds of solvents.

(7) 분산제를 더 함유하는, (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 기재된 조성물.(7) The composition according to any one of (1) to (6), further comprising a dispersant.

(8) 상기 타이타늄 질화물 함유 입자에 대한 상기 분산제의 함유 비율이, 질량비로 0.3 이하인, (7)에 기재된 조성물.(8) The composition according to (7), wherein the content ratio of the dispersant to the titanium nitride-containing particles is 0.3 or less by mass.

(9) 중합성 화합물을 더 함유하는, (1) 내지 (8) 중 어느 하나에 기재된 조성물.(9) The composition according to any one of (1) to (8), further comprising a polymerizable compound.

(10) 중합 개시제를 더 함유하는, (1) 내지 (9) 중 어느 하나에 기재된 조성물.(10) The composition according to any one of (1) to (9), further containing a polymerization initiator.

(11) 상기 조성물 중의 고형분이 10~40질량%인, (1) 내지 (10) 중 어느 하나에 기재된 조성물.(11) The composition according to any one of (1) to (10), wherein the solid content in the composition is 10 to 40% by mass.

(12) 상기 타이타늄 질화물 함유 입자의 함유량이, 상기 조성물의 전체 고형분에 대하여, 30~70질량%인, (1) 내지 (11) 중 어느 하나에 기재된 조성물.(12) The composition according to any one of (1) to (11), wherein the content of the titanium nitride-containing particles is 30 to 70 mass% with respect to the total solid content of the composition.

(13) 물을 더 함유하고,(13) A composition containing more water,

상기 물의 함유량이, 상기 조성물 전체 질량에 대하여, 0.1~1질량%인, (1) 내지 (12) 중 어느 하나에 기재된 조성물.The composition according to any one of (1) to (12), wherein the water content is 0.1 to 1% by mass with respect to the total mass of the composition.

(14) 분산제를 더 함유하고,(14) The composition according to any one of

상기 분산제가, 폴리카프로락톤, 폴리발레로락톤, 폴리아크릴산 메틸 및 폴리메타크릴산 메틸로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 구조를 갖는, (1) 내지 (13) 중 어느 하나에 기재된 조성물.The composition according to any one of (1) to (13), wherein the dispersant has at least one structure selected from the group consisting of polycaprolactone, polyvalerolactone, methyl polyacrylate and methyl polymethacrylate.

(15) (1) 내지 (14) 중 어느 하나에 기재된 조성물을 이용하여 얻어지는, 경화막.(15) A cured film obtained by using the composition according to any one of (1) to (14).

(16) (15)에 기재된 경화막을 갖는, 컬러 필터.(16) A color filter having the cured film described in (15).

(17) (15)에 기재된 경화막을 갖는, 차광막.(17) A light-shielding film having the cured film according to (15).

(18) (15)에 기재된 경화막을 갖는, 고체 촬상 소자.(18) A solid-state imaging device having the cured film described in (15).

(19) (15)에 기재된 경화막을 갖는, 화상 표시 장치.(19) An image display device having the cured film described in (15).

본 발명에 의하면, 전극의 방식성이 우수하고, 또한 패터닝성이 우수한 경화막을 제작할 수 있는 조성물을 제공할 수 있다. 또, 본 발명은 경화막, 컬러 필터, 차광막, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a composition capable of producing a cured film having excellent anticorrosion property and excellent patterning property. Further, the present invention can provide a cured film, a color filter, a light-shielding film, a solid-state image pickup device and an image display device.

이하에, 본 발명에 대하여 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described.

본 명세서에 있어서 "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.In the present specification, the numerical range indicated by using "~ " means a range including numerical values written before and after" ~ "as a lower limit value and an upper limit value.

본 명세서에 있어서의 기(원자단)의 표기에 있어서, 치환 및 무치환을 기재하지 않은 표기는, 치환기를 갖지 않는 것과 함께 치환기를 갖는 것도 포함하는 것이다. 예를 들면, "알킬기"란, 치환기를 갖지 않는 알킬기(무치환 알킬기)뿐만 아니라, 치환기를 갖는 알킬기(치환 알킬기)도 포함한다.In the notation of the group (atomic group) in the present specification, the notation in which substitution and non-substitution are not described includes those having a substituent and having a substituent. For example, the "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (an unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).

본 명세서 중에 있어서의 "활성광선" 또는 "방사선"이란, 예를 들면 수은등의 휘선 스펙트럼, 엑시머 레이저로 대표되는 원자외선, 극자외선(EUV 광), X선, 및 전자선 등을 의미한다. 또 본 발명에 있어서 광이란, 활성광선 또는 방사선을 의미한다. 본 명세서 중에 있어서의 "노광"이란, 특별히 설명하지 않는 한 수은등의 휘선 스펙트럼, 엑시머 레이저로 대표되는 원자외선, X선, 및 EUV 광 등에 의한 노광뿐만 아니라, 전자선 및 이온빔 등의 입자선에 의한 묘화도 노광에 포함시킨다.The term " actinic ray "or" radiation " in the present specification means, for example, a line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet ray represented by an excimer laser, extreme ultraviolet ray (EUV light), X ray and electron ray. In the present invention, light means an actinic ray or radiation. In the present specification, the term "exposure" means not only exposure using deep-line spectra of mercury lamps, deep ultraviolet rays represented by excimer lasers, X-rays, EUV light, etc., but also imaging with particle lines such as electron beams and ion beams Are included in the exposure.

본 명세서에 있어서, "(메트)아크릴레이트"는 아크릴레이트 및 메타아크릴레이트를 나타내고, "(메트)아크릴"은 아크릴 및 메타아크릴을 나타내며, "(메트)아크릴로일"은, 아크릴로일 및 메타크릴로일을 나타내고, "(메트)아크릴아마이드"는, 아크릴아마이드 및 메타아크릴아마이드를 나타낸다. 또, 본 명세서 중에 있어서, "단량체"와 " 모노머"는 동의이다. 본 발명에 있어서의 단량체는, 올리고머 및 폴리머와 구별되고, 중량 평균 분자량이 2,000 이하인 화합물을 말한다. 본 명세서 중에 있어서, 중합성 화합물이란, 중합성기를 갖는 화합물을 말하고, 단량체여도 되며, 폴리머여도 된다. 중합성기란, 중합 반응에 관여하는 기를 말한다.As used herein, "(meth) acrylate" refers to acrylate and methacrylate, "(meth) acryl" refers to acrylic and methacrylic, "(meth) acryloyl" Methacryloyl ", and "(meth) acrylamide" represents acrylamide and methacrylamide. In the present specification, the terms "monomer" and "monomer" are synonyms. The monomer in the present invention is distinguished from an oligomer and a polymer and refers to a compound having a weight average molecular weight of 2,000 or less. In the present specification, the polymerizable compound means a compound having a polymerizable group, and may be a monomer or a polymer. The polymerizable group means a group involved in the polymerization reaction.

[조성물][Composition]

본 발명의 조성물은, 염소 원자를 포함하는 타이타늄 질화물 함유 입자를 함유하고, 상기 타이타늄 질화물 함유 입자 중에 있어서의 상기 염소 원자의 함유량이, 0.001~0.3질량%이다.The composition of the present invention contains titanium nitride-containing particles containing a chlorine atom, and the content of the chlorine atoms in the titanium nitride-containing particles is 0.001 to 0.3 mass%.

본 발명의 조성물에 의하면, 전극의 방식성이 우수하고, 또한 패터닝성이 우수한 경화막을 제작할 수 있다.According to the composition of the present invention, it is possible to produce a cured film having excellent anticorrosion property of electrodes and excellent patterning property.

본 발명자들은, 예의 검토의 결과, 염소 원자의 함유량이 0.3질량%를 초과한 타이타늄 질화물 함유 입자를 안료 성분으로서 포함하는 흑색의 조성물을 이용하여, 전극이 배치된 기판 상에 차광막을 형성했을 때에, 사용 환경 조건에 의해서는 상기 염소 원자가 공기 중의 수분 등과 반응함으로써 염산을 생성하고, 이로써 전극 부재의 열화가 일어나는 경우가 있는 것을 확인했다.As a result of intensive studies, the present inventors have found that when a light-shielding film is formed on a substrate on which electrodes are arranged by using a black composition containing titanium nitride-containing particles having a content of chlorine atoms of more than 0.3 mass% as a pigment component, It has been confirmed that depending on the use environment conditions, the chlorine atom reacts with moisture or the like in the air to generate hydrochloric acid, thereby deteriorating the electrode member.

한편, 염소 원자의 함유량이 0.001질량% 미만인 타이타늄 질화물 함유 입자를 안료 성분으로서 포함하는 조성물을 이용한 경우, 얻어지는 도막의 광학 농도(OD)가 높아져, 패터닝성이 저하되는 경향이 있는 것을 발견했다.On the other hand, when a composition containing titanium nitride-containing particles having a chlorine atom content of less than 0.001 mass% as a pigment component is used, the optical density (OD) of the obtained coating film is increased and the patterning property tends to be lowered.

상기의 관점에서, 조성물이 함유하는 타이타늄 질화물 함유 입자 중의 염소 원자의 함유량을 0.001~0.3질량%로 함으로써, 전극의 방식성이 우수하고, 또한 패터닝성이 우수한 경화막을 형성할 수 있다.From the above viewpoint, the content of chlorine atoms in the titania nitride-containing particles contained in the composition is 0.001 to 0.3% by mass, whereby a cured film having excellent anticorrosion property and excellent patterning property can be formed.

<염소 원자를 포함하는 타이타늄 질화물 함유 입자>&Lt; Titanium nitride-containing particles containing chlorine atoms >

타이타늄 질화물 함유 입자의 제조에는, 통상 기상 반응법이 이용되고, 구체적으로는 전기로법 및 열플라즈마법 등을 들 수 있다. 이들 제법 중에서도, 불순물의 혼입이 적은 점, 입자경이 정렬되기 쉬운 점, 및 생산성이 높은 점 등의 이유에서, 열플라즈마법이 바람직하다.For producing the titanium nitride-containing particles, a gas phase reaction method is generally used, and specific examples thereof include an electric furnace method and a thermal plasma method. Among these methods, the thermal plasma method is preferable because of the low content of impurities, easy alignment of the particle diameter, and high productivity.

열플라즈마의 발생 방법으로서는, 직류 아크 방전, 다상(多相) 아크 방전, 고주파(RF) 플라즈마, 및 하이브리드 플라즈마 등을 들 수 있고, 전극으로부터의 불순물의 혼입이 적은 고주파 플라즈마가 바람직하다. 열플라즈마법에 의한 타이타늄 질화물 함유 입자의 구체적인 제조 방법으로서는, 예를 들면 타이타늄 분말을 고주파 열플라즈마에 의하여 증발시켜, 질소를 캐리어 가스로서 장치 내에 도입하고, 냉각 과정에서 타이타늄 분말을 질화시켜, 타이타늄 질화물 함유 입자를 합성하는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 열플라즈마법은, 상기에 한정되는 것은 아니다.Examples of the method of generating the thermal plasma include a DC arc discharge, a polyphase arc discharge, a high frequency (RF) plasma, a hybrid plasma, and the like, and a high frequency plasma in which impurities are rarely mixed from the electrode is preferable. As a specific method for producing the titanium nitride-containing particles by the thermal plasma method, for example, a titanium powder is evaporated by a high-frequency thermal plasma to introduce nitrogen into the apparatus as a carrier gas, and the titanium powder is nitrided in the cooling process, Containing particles are synthesized. The thermal plasma method is not limited to the above.

또, 타이타늄 질화물 함유 입자는, 열플라즈마법을 이용하여 얻어짐으로써, CuKα선을 X선원으로 한 경우의 (200)면에서 유래하는 피크의 회절각 2θ(상세는 후술함)를, 42.8° 초과 43.5° 이하의 범위로 조정하는 것이 용이하게 된다.Titanium nitride-containing particles can be obtained by thermal plasma method, so that the diffraction angle 2? Of the peak derived from the (200) plane (details will be described later) when the CuK? Ray is an X- It can be easily adjusted to the range of 43.5 DEG or less.

여기에서, 타이타늄 질화물 함유 입자에 염소 원자를 함유시키는 방법으로서는, 특별히 한정되지 않는다. 상술한 열플라즈마법에 있어서, 타이타늄 분말과 함께 사염화 타이타늄을 이용하고, 또한 캐리어 가스로서 암모니아 가스를 흐르게 함으로써, 염소 원자를 포함하는 타이타늄 질화물 함유 입자를 합성하는 방법을 일례로서 들 수 있다.Here, the method of containing the titanium atom-containing particles in the chlorine atom is not particularly limited. As an example, a method of synthesizing titanium nitride-containing particles containing chlorine atoms by using titanium tetrachloride in combination with titanium powder and flowing ammonia gas as a carrier gas in the thermal plasma method described above is an example.

또, 타이타늄 질화물 함유 입자 중의 염소 원자의 함유량이 소정량 이상인 경우에는, 입자를, 예를 들면 100~300℃(바람직하게는 120~280℃, 보다 바람직하게는 120~250℃)에서 5분~72시간(바람직하게는 3~48시간, 보다 바람직하게는 3~36시간) 가열 처리하는 것이 바람직하다. 가열 처리를 거침으로써, 타이타늄 질화물 함유 입자 중에 포함되는 염소 원자의 함유량을 저감시켜 소정량으로 조정할 수 있다.When the content of the chlorine atoms in the titanium nitride-containing particles is a predetermined amount or more, the particles are heated at a temperature of, for example, 100 to 300 占 폚 (preferably 120 to 280 占 폚, more preferably 120 to 250 占 폚) It is preferable to carry out heat treatment for 72 hours (preferably 3 to 48 hours, more preferably 3 to 36 hours). By carrying out the heat treatment, the content of chlorine atoms contained in the titanium nitride-containing particles can be reduced and adjusted to a predetermined amount.

타이타늄 질화물 함유 입자의 제조에 사용하는 타이타늄 분말 재료(타이타늄 입자), 및 사염화 타이타늄은, 고순도인 것이 바람직하다. 타이타늄 분말 재료, 및 사염화 타이타늄은, 특별히 한정되지 않지만, 타이타늄 원소의 순도가 99.99% 이상인 것이 바람직하고, 99.999% 이상인 것이 보다 바람직하게 이용된다.Titanium powder materials (titanium particles) and titanium tetrachloride used for producing titanium nitride-containing particles are preferably high purity. The titanium powder and the titanium tetrachloride are not particularly limited, but the purity of the titanium element is preferably 99.99% or more, more preferably 99.999% or more.

타이타늄 질화물 함유 입자의 제조에 사용하는 타이타늄 분말 재료(타이타늄 입자) 및 사염화 타이타늄은, 타이타늄 원자 이외의 원자를 함유하는 경우가 있다. 타이타늄 분말 재료에 포함될 수 있는 다른 원자로서는, 예를 들면 Fe 원자 및 Si 원자 등을 들 수 있다.Titanium powder materials (titanium particles) and titanium tetrachloride used for producing titanium nitride-containing particles sometimes contain atoms other than titanium atoms. Other atoms that may be included in the titanium powder material include, for example, Fe atoms and Si atoms.

타이타늄 분말 재료 및 사염화 타이타늄이 Fe 원자를 함유하는 경우에는, Fe 원자의 함유량은, 타이타늄 분말 재료 및 사염화 타이타늄의 전체 질량에 대하여, 0.001질량% 초과인 것이 바람직하다. 이로써, 경화막의 패터닝성이 보다 우수하다. 또, 타이타늄 분말 재료 및 사염화 타이타늄이 Fe 원자를 함유하는 경우에는, Fe 원자의 함유량은, 타이타늄 분말 재료 및 사염화 타이타늄의 전체 질량에 대하여, 0.4질량% 미만인 것이 바람직하다. 이로써, 경화막에 의한 전극의 방식성이 보다 우수하다(경화막이 전극을 부식시키는 것을 보다 억제할 수 있다). 즉, 타이타늄 질화물 함유 입자의 제조에 사용하는 타이타늄 분말 재료 및 사염화 타이타늄에 포함되는 Fe 원자가 상기 범위 내(0.001질량 초과, 0.4질량% 미만)이면, 본 발명의 효과를 보다 현저하게 얻을 수 있다.When the titanium powder material and the titanium tetrachloride contain Fe atoms, the content of Fe atoms is preferably more than 0.001 mass% with respect to the total mass of the titanium powder material and the titanium tetrachloride. As a result, the patterning property of the cured film is more excellent. When the titanium powder material and the titanium tetrachloride contain Fe atoms, the content of Fe atoms is preferably less than 0.4 mass% with respect to the total mass of the titanium powder material and the titanium tetrachloride. As a result, the corrosion resistance of the electrode by the cured film is more excellent (the cured film can further suppress corrosion of the electrode). That is, when the titanium atoms contained in the titanium powder material and the titanium tetrachloride used in the production of the titanium nitride-containing particles are within the above range (more than 0.001 mass% and less than 0.4 mass%), the effect of the present invention can be obtained more remarkably.

타이타늄 분말 재료 및 사염화 타이타늄이 Si 원자를 함유하는 경우에는, Si 원자의 함유량이, 타이타늄 분말 재료 전체 질량에 대하여, 0.002질량% 초과 0.3질량% 미만인 것이 바람직하고, 0.01~0.15질량%인 것이 보다 바람직하며, 0.02~0.1질량%인 것이 더 바람직하다. Si 원자의 함유량이 0.002질량% 초과이면, 경화막의 패터닝성이 보다 향상된다. 또, Si 원자의 함유량이 0.3질량% 미만이면, 얻어지는 타이타늄 질화물 함유 입자의 최표층의 극성이 안정되고, 타이타늄 질화물 함유 입자를 분산시킬 때에 있어서의 타이타늄 질화물 함유 입자에 대한 분산제의 흡착성이 양호해져, 타이타늄 질화물 함유 입자의 미분산물이 저감됨으로써, 파티클 발생을 억제하는 효과가 있다고 생각된다. 즉, 타이타늄 질화물 함유 입자의 제조에 사용하는 타이타늄 분말 재료 및 사염화 타이타늄에 포함되는 Si 원자가 상기 범위 내이면, 본 발명의 효과를 보다 현저하게 얻을 수 있다.When the titanium powder material and the titanium tetrachloride contain Si atoms, the content of Si atoms is preferably more than 0.002 mass% and less than 0.3 mass% with respect to the total mass of the titanium powder material, more preferably 0.01 to 0.15 mass% , More preferably from 0.02 to 0.1 mass%. When the Si atom content is more than 0.002 mass%, the patterning property of the cured film is further improved. When the Si atom content is less than 0.3% by mass, the polarity of the outermost layer of the obtained titanium nitride-containing particles is stabilized, the adsorption of the dispersant to the titanium nitride-containing particles at the time of dispersing the titanium nitride- It is considered that there is an effect of suppressing particle generation by reducing the fine dispersion of the titanium nitride-containing particles. That is, if the titanium atoms contained in the titanium powder material and the titanium tetrachloride used for the production of the titanium nitride-containing particles are within the above-mentioned range, the effect of the present invention can be obtained more remarkably.

또, 타이타늄 질화물 함유 입자의 제조에 사용하는 타이타늄 분말 재료(타이타늄 입자) 및 사염화 타이타늄 중의 수분은, 타이타늄 분말 재료의 전체 질량에 대하여, 1질량% 미만인 것이 바람직하고, 0.1질량% 미만인 것이 보다 바람직하며, 실질적으로 포함하지 않는 것이 더 바람직하다. 타이타늄 질화물 함유 입자의 제조에 사용하는 타이타늄 분말 재료 및 사염화 타이타늄 중의 수분이 상기 범위에 있으면, 본 발명의 효과를 보다 현저하게 얻을 수 있다.The amount of water in the titanium powder material (titanium particle) and the titanium tetrachloride used for producing the titanium nitride-containing particles is preferably less than 1% by mass, more preferably less than 0.1% by mass based on the total mass of the titanium powder material , And it is more preferable that it does not substantially contain it. When the moisture content in the titanium powder material and the titanium tetrachloride used in the production of the titanium nitride-containing particles is within the above range, the effect of the present invention can be obtained more remarkably.

타이타늄 질화물 함유 입자 중의 타이타늄 원자(Ti 원자)의 함유량은, 타이타늄 질화물 함유 입자의 전체 질량에 대하여, 50~85질량%인 것이 바람직하고, 50~80질량%인 것이 보다 바람직하며, 50~75질량%인 것이 더 바람직하다. 타이타늄 질화물 함유 입자 중의 Ti 원자의 함유량은, ICP(고주파 유도 결합 플라즈마) 발광 분광 분석법에 의하여 분석할 수 있다.The content of the titanium atom (Ti atom) in the titanium nitride-containing particles is preferably 50 to 85 mass%, more preferably 50 to 80 mass%, and more preferably 50 to 75 mass%, based on the total mass of the titanium nitride- % Is more preferable. The content of Ti atoms in the titanium nitride-containing particles can be analyzed by ICP (high frequency inductively coupled plasma) emission spectroscopy.

타이타늄 질화물 함유 입자 중의 질소 원자(N 원자)의 함유량은, 타이타늄 질화물 함유 입자의 전체 질량에 대하여, 20~50질량%인 것이 바람직하고, 20~45질량%인 것이 보다 바람직하며, 20~40질량%인 것이 더 바람직하다. 질소 원자의 함유량은 불활성 가스 융해-열전도도법에 의하여 분석할 수 있다.The content of the nitrogen atoms (N atoms) in the titanium nitride-containing particles is preferably 20 to 50 mass%, more preferably 20 to 45 mass%, and more preferably 20 to 40 mass%, based on the total mass of the titanium nitride- % Is more preferable. The content of nitrogen atoms can be analyzed by inert gas fusion-thermal conductivity method.

타이타늄 질화물 함유 입자 중의 산소 원자의 함유량은, 타이타늄 질화물 함유 입자 전체 질량에 대하여, 12질량% 이하인 것이 바람직하고, 8질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 산소 원자의 함유량은, 불활성 가스 융해-적외선 흡수법에 의하여 분석할 수 있다.The content of oxygen atoms in the titanium nitride-containing particles is preferably 12 mass% or less, and more preferably 8 mass% or less, with respect to the total mass of the titanium nitride-containing particles. The content of oxygen atoms can be analyzed by an inert gas melting-infrared absorption method.

타이타늄 질화물 함유 입자 중에 있어서의 염소 원자의 함유량은, 타이타늄 질화물 함유 입자 전체 질량에 대하여, 0.001~0.3질량%이다. 그 중에서도, 0.005~0.3질량%인 것이 바람직하고, 0.01~0.3질량%가 보다 바람직하며, 0.1~0.3질량%인 것이 더 바람직하고, 0.1~0.15질량%가 특히 바람직하다. 염소 원자의 함유량이 0.001질량% 이상이면, 경화막의 패터닝성이 우수하다. 염소 원자의 함유량이 0.3질량% 이하이면, 경화막의 패터닝성이 우수하고, 또 경화막에 의한 전극의 방식성이 우수하다.The content of chlorine atoms in the titanium nitride-containing particles is 0.001 to 0.3 mass% with respect to the total mass of the titanium nitride-containing particles. Among them, the content is preferably 0.005 to 0.3 mass%, more preferably 0.01 to 0.3 mass%, even more preferably 0.1 to 0.3 mass%, particularly preferably 0.1 to 0.15 mass%. When the content of the chlorine atom is 0.001 mass% or more, the patterning property of the cured film is excellent. When the content of the chlorine atom is 0.3 mass% or less, the patterning property of the cured film is excellent and the cushioning property of the electrode is excellent.

여기에서, 타이타늄 질화물 함유 입자 중에 있어서의 염소 원자의 함유량은, ICP 발광 분광 분석법에 의하여 측정된다.Here, the content of chlorine atoms in the titanium nitride-containing particles is measured by ICP emission spectroscopy.

타이타늄 질화물 함유 입자는, CuKα선을 X선원으로 하여 X선 회절 스펙트럼을 측정한 경우의 (200)면에서 유래하는 피크의 회절각 2θ가 42.8° 초과 43.5° 이하인 것이 바람직하다. 이와 같은 특징을 갖는 타이타늄 질화물 함유 입자를 함유하는 조성물을 이용하여 얻어지는 경화막(예를 들면, 블랙 매트릭스 등)은, OD값이 적절한 수치가 되고, 패터닝성(해상성)이 보다 우수하다.It is preferable that the titanium nitride-containing particles have a diffraction angle 2? Of the peak derived from the (200) plane when the X-ray diffraction spectrum is measured with the CuK? Ray as the X-ray source being more than 42.8 degrees and not more than 43.5 degrees. The cured film (for example, a black matrix or the like) obtained by using the composition containing the titanium nitride-containing particles having such characteristics has an appropriate OD value and is superior in patterning property (resolution).

타이타늄 질화물 함유 입자의 (200)면에서 유래하는 피크의 회절각 2θ는, 상술과 같이 42.8° 초과 43.5° 이하인 것이 바람직하고, 42.85~43.3°인 것이 보다 바람직하며, 42.9~43.2°인 것이 더 바람직하다.As described above, the diffraction angle 2 &amp;thetas; of the peak originating from the (200) plane of the titanium nitride-containing particles is preferably 42.8 DEG to 43.5 DEG, more preferably 42.85 to 43.3 DEG, still more preferably 42.9 to 43.2 DEG Do.

타이타늄 질화물 함유 입자는 주성분으로서 타이타늄 질화물(TiN)을 포함하고, 통상 그 합성 시에 산소가 혼입하는 경우, 및 입자경이 작은 경우 등에 현저해지지만, 입자 표면의 산화 등에 의하여, 일부 산소 원자를 함유해도 된다.Titanium nitride-containing particles include titanium nitride (TiN) as a main component, and are usually remarkable when oxygen is mixed in the composition and when the particle diameter is small. However, the titanium nitride-containing particles contain some oxygen atoms do.

단, 타이타늄 질화물 함유 입자에 포함되는 산소량이 적은 것이 보다 높은 OD값(광학 농도)이 얻어지기 때문에 바람직하다. 또, 타이타늄 질화물 함유 입자는, 부성분으로서 TiO2를 함유하지 않는 것이 바람직하다. 부성분으로서 산화 타이타늄 TiO2를 타이타늄 질화물 함유 입자가 함유하는 경우, 가장 강도가 강한 피크로서 아나타제형 TiO2 (101)에서 유래하는 피크가 2θ=25.3°근방에, 루틸형 TiO2 (110)에서 유래하는 피크가 2θ=27.4°근방에 보인다. 그러나, TiO2는 백색이고 블랙 매트릭스의 차광성을 저하시키는 요인이 되기 때문에, 피크로서 관찰되지 않을 정도로 저감되어 있는 것이 바람직하다.However, it is preferable that the amount of oxygen contained in the titanium nitride-containing particles is small because an OD value (optical density) higher than that is obtained. It is preferable that the titanium nitride-containing particles do not contain TiO 2 as a subcomponent. When titanium nitride TiO 2 as a subcomponent contains titanium nitride-containing particles, a peak derived from anatase-type TiO 2 (101) as a peak having the strongest intensity is derived from rutile TiO 2 (110) in the vicinity of 2? = 25.3 占Peak appears near 2? = 27.4 °. However, since TiO 2 is white and causes a deterioration in the light shielding property of the black matrix, it is preferable that TiO 2 is reduced to such an extent that it can not be observed as a peak.

X선 회절 피크의 반값폭으로부터 타이타늄 질화물 함유 입자를 구성하는 결정자 사이즈를 구할 수 있고, 셰러의 식을 이용하여 산출된다.The crystallite size constituting the titanium nitride-containing particles can be obtained from the half width of the X-ray diffraction peak, and is calculated using the Scherr equation.

결정자 사이즈로서는, 20nm 이상인 것이 바람직하고, 20~50nm인 것이 보다 바람직하다. 결정자 사이즈가 20nm 이상인 타이타늄 질화물 함유 입자를 이용하여 블랙 매트릭스를 형성한 경우, 경화막의 투과광은 그 피크 파장이 475nm 이하인 청색으로부터 청자색을 나타내고, 높은 차광성과 자외선 감도를 겸비하는 블랙 매트릭스를 얻을 수 있다.The crystallite size is preferably 20 nm or more, and more preferably 20 to 50 nm. When a black matrix is formed by using titanium nitride-containing particles having a crystallite size of 20 nm or more, the transmitted light of the cured film has a peak wavelength of 475 nm or less and exhibits a bluish purple color. Thus, a black matrix having high light shielding and ultraviolet sensitivity can be obtained.

타이타늄 질화물 함유 입자의 비표면적은 BET법에 의하여 구할 수 있고, 40~60m2/g인 것이 바람직하며, 40~58m2/g인 것이 보다 바람직하고, 42~55m2/g인 것이 더 바람직하다. 타이타늄 질화물 함유 입자의 비표면적을 40~60m2/g으로 함으로써, 얻어지는 경화막은 OD(광학 농도)값이 보다 적절한 범위가 되고, 패터닝성(해상성)이 보다 우수한 것 외에, 조성물의 여과성도 우수하다.The specific surface area of the titanium nitride-containing particles can be determined by the BET method, and is preferably 40 to 60 m 2 / g, more preferably 40 to 58 m 2 / g, and even more preferably 42 to 55 m 2 / g . By setting the specific surface area of the titanium nitride-containing particles to 40 to 60 m 2 / g, the obtained cured film has a more appropriate range of OD (optical density) value, and is superior in patterning property (resolution) Do.

타이타늄 질화물 함유 입자의 평균 1차 입자경은, 10~30nm인 것이 바람직하고, 10~28nm인 것이 보다 바람직하며, 10~25nm인 것이 더 바람직하고, 10~20nm인 것이 더 바람직하다. 타이타늄 질화물 함유 입자의 평균 1차 입자경을 10~30nm로 함으로써, 얻어지는 경화막은 OD(광학 농도)값이 적절한 범위가 된다. 또, 조성물의 점도 경시 안정성의 관점에서는, 타이타늄 질화물 함유 입자의 평균 1차 입자경이 10nm 이상인 것이 바람직하다.The average primary particle diameter of the titanium nitride-containing particles is preferably 10 to 30 nm, more preferably 10 to 28 nm, further preferably 10 to 25 nm, and even more preferably 10 to 20 nm. By setting the average primary particle diameter of the titanium nitride-containing particles to 10 to 30 nm, the OD (optical density) value of the obtained cured film is in a suitable range. From the viewpoint of viscosity stability over time, it is preferable that the average primary particle size of the titanium nitride-containing particles is 10 nm or more.

또한, 본 발명에 있어서, 타이타늄 질화물 함유 입자의 평균 1차 입자경이란, 입자를 투과형 전자 현미경(예를 들면, 니혼 덴시제 JEM-2100F형 전계 방사형 투과 전자 현미경에 준하는 장치)에 의하여 관찰하고, 얻어진 사진으로부터 구할 수 있으며, 1차 입자의 수평균 입자경을 말한다. 구체적으로는, 실시예에 기재된 수법에 의하여 타이타늄 질화물 함유 입자를 포함하는 분산액을 조제하여 그 고형분이 1질량% 정도가 되도록 분산액과 동일한 용매에 의하여 희석하고, 카본 포일 상에 분산액을 적하, 건조한 후의 카본 포일 상에 존재하는 타이타늄 질화물 함유 입자의 투과형 전자 현미경상을 관찰한다. 상기 장치에 의하여 타이타늄 질화물 함유 입자의 1차 입자의 투영 면적을 구하고, 거기로부터 원 상당 직경을 구한다. 구한 원 상당 직경의 산술 평균을 1차 입자경으로 했다. 보다 구체적으로는, 평균 1차 입자경을 구하기 위하여 무작위로 선택한 100개의 입자에 대하여 1차 입자경을 측정한 후, 최대 측 10개와 최소 측 10개를 제외한, 80개의 입자의 1차 입자경을 산술 평균함으로써 구해진다.In the present invention, the average primary particle diameter of the titanium nitride-containing particles is measured by observing the particles with a transmission electron microscope (for example, a device based on a field emission transmission electron microscope of JEM-2100F type manufactured by JEOL Ltd.) It can be obtained from the photograph and refers to the number average particle diameter of the primary particles. Specifically, a dispersion containing titanium nitride-containing particles was prepared by the method described in the examples, and the dispersion was diluted with the same solvent as that of the dispersion so that the solid content became about 1 mass%, the dispersion was dropped on the carbon foil, The transmission electron microscope image of the titanium nitride-containing particles present on the carbon foil is observed. The projection area of the primary particles of the titanium nitride-containing particles is determined by the above apparatus, and the circle-equivalent diameter is obtained therefrom. The arithmetic mean of the obtained circle equivalent diameters was defined as the primary particle diameter. More specifically, in order to obtain the average primary particle diameter, the primary particle diameter was measured for 100 randomly selected particles, and then the primary particle diameter of 80 particles excluding the maximum 10 sides and the minimum 10 particles was arithmetically averaged Is obtained.

또, 타이타늄 질화물 함유 입자는, 상술한 투과형 전자 현미경을 이용한 1차 입자상의 사진 관찰에 있어서, 관찰 대상의 100개 중 60개 이상(바꾸어 말하면, 60% 이상)이 구형인 것이 바람직하다. 이용하는 타이타늄 질화물 함유 입자의 60% 이상이 구형이면, 얻어지는 경화막은 OD(광학 농도)값이 적절한 범위가 되고, 패터닝성(해상성)이 보다 우수하다. 또, 이용하는 타이타늄 질화물 함유 입자의 60% 이상이 구형이면, 조성물의 여과성 및 점도 경시 안정성도 우수하다.It is preferable that 60% or more (in other words, 60% or more) of the 100 out of 100 objects to be observed are spherical in the photographic observation of the primary particle image using the transmission electron microscope described above. When 60% or more of the titanium nitride-containing particles used is spherical, the obtained cured film has an OD (optical density) value in a suitable range and is superior in patterning property (resolution). Further, when at least 60% of the titanium nitride-containing particles used are spherical, the composition has excellent filterability and viscosity stability over time.

또한, 본 발명에 있어서 입자가 "구형"이라는 것은, 반드시 진구(眞球)일 필요는 없고, 예를 들면 대략 구 형상인 것(투영했을 때의 이차원 도형에 있어서의 단경(短徑)/장경(長徑)비가 0.7~1 정도), 회전 타원체여도 된다.In the present invention, the term "spherical" in the present invention does not necessarily mean a true sphere. For example, it may be a substantially spherical shape (a short diameter / long diameter in a two- (Diameter ratio) of about 0.7 to 1) or a spheroid.

타이타늄 질화물 함유 입자의 함유량은, 조성물의 전체 고형분에 대하여, 30~70질량%인 것이 바람직하고, 40~68질량%인 것이 보다 바람직하며, 42~65질량%인 것이 더 바람직하다. 타이타늄 질화물 함유 입자의 함유량이 상기 수치 범위에 있으면, 분광성(양호한 OD값)이 우수한 것 외에, 패터닝성(해상성) 및 전극의 방식성도 우수하다.The content of the titanium nitride-containing particles is preferably 30 to 70 mass%, more preferably 40 to 68 mass%, and even more preferably 42 to 65 mass% with respect to the total solid content of the composition. When the content of the titanium nitride-containing particles is in the above-mentioned range, the film has excellent spectroscopic properties (good OD value), excellent patterning property (resolution) and excellent corrosion resistance of the electrode.

또한, 본 명세서에 있어서, 고형분이란, 조성물에 의하여 형성되는 경화막을 구성하는 성분을 의도하고, 용매는 포함되지 않는다. 예를 들면, 후술하는 중합성 화합물은 경화막을 구성하는 성분이기 때문에, 액체(액상)여도 고형분에 포함된다.In the present specification, the solid content means a component constituting the cured film formed by the composition, and does not include a solvent. For example, since a polymerizable compound to be described later is a component constituting a cured film, it is included in a solid matter even if it is a liquid (liquid phase).

<분산제><Dispersant>

본 발명의 조성물은, 분산제를 함유하는 것이 바람직하다. 분산제는, 상술한 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료의 분산성 향상에 기여한다. 본 발명에 있어서, 분산제와, 후술하는 바인더 수지는, 다른 성분이다.The composition of the present invention preferably contains a dispersant. The dispersant contributes to the improvement of the dispersibility of the pigment such as the titanium nitride-containing particles described above. In the present invention, the dispersant and the binder resin to be described later are different components.

분산제로서는, 예를 들면 공지의 안료 분산제를 적절히 선택하여 이용할 수 있다. 그 중에서도, 고분자 화합물이 바람직하다.As the dispersing agent, for example, a known pigment dispersing agent can be suitably selected and used. Among them, a polymer compound is preferable.

분산제로서는, 고분자 분산제〔예를 들면, 폴리아마이드아민과 그 염, 폴리카복실산과 그 염, 고분자량 불포화산 에스터, 변성 폴리유레테인, 변성 폴리에스터, 변성 폴리(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴계 공중합체, 나프탈렌설폰산 포말린 축합물〕, 폴리옥시에틸렌알킬 인산 에스터, 폴리옥시에틸렌알킬아민, 및 안료 유도체 등을 들 수 있다.Examples of the dispersant include polymer dispersants such as polyamide amines and their salts, polycarboxylic acids and their salts, high molecular weight unsaturated acid esters, modified polyurethane, modified polyester, modified poly (meth) acrylate, Acrylic copolymer, naphthalenesulfonic acid-formalin condensate], polyoxyethylene alkylphosphoric acid ester, polyoxyethylene alkylamine, and pigment derivative.

고분자 화합물은, 그 구조로부터 추가로 직쇄상 고분자, 말단 변성형 고분자, 그래프트형 고분자, 및 블록형 고분자로 분류할 수 있다.From the structure, the polymer compound can be further classified into a linear polymer, a terminal modified polymer, a graft polymer, and a block polymer.

고분자 화합물은, 타이타늄 질화물 함유 입자 및 목적에 따라 병용하는 안료 등의 피분산체의 표면에 흡착하여, 피분산체의 재응집을 방지하도록 작용한다. 이로 인하여, 안료 표면에 대한 앵커 부위를 갖는, 말단 변성형 고분자, 그래프트형 고분자, 및 블록형 고분자가 바람직하다.The polymer compound is adsorbed on the surface of the titanium nitride-containing particles and the pigment dispersion such as a pigment to be used according to the purpose, and functions to prevent re-aggregation of the pigment dispersion. For this reason, end-modified polymers, graft polymers, and block polymers having anchor sites to the pigment surface are preferred.

한편, 타이타늄 질화물 함유 입자의 표면을 개질함으로써, 이에 대한 고분자 화합물의 흡착성을 촉진시킬 수도 있다.On the other hand, by modifying the surface of the titanium nitride-containing particles, the adsorption of the polymer compound to the titanium nitride-containing particles can be promoted.

고분자 화합물은, 그래프트쇄를 갖는 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, "구조 단위"는 "반복 단위"와 동의이다.The polymer compound preferably has a structural unit having a graft chain. Also, in this specification, the term "structural unit" is synonymous with "repeating unit".

이와 같은 그래프트쇄를 갖는 구조 단위를 갖는 고분자 화합물은, 그래프트쇄에 의하여 용제와의 친화성을 갖기 때문에, 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료의 분산성, 및 경시 후의 분산 안정성이 우수한 것이다. 또, 그래프트쇄의 존재에 의하여, 그래프트쇄를 갖는 구조 단위를 갖는 고분자 화합물은 중합성 화합물 또는 그 외의 병용 가능한 수지 등과의 친화성을 갖는다. 결과적으로, 알칼리 현상으로 잔사를 발생시키기 어려워진다.Such a polymer compound having a structural unit having a graft chain is excellent in dispersibility of a pigment such as titanium nitride-containing particles and dispersion stability after aging because it has affinity with a solvent by a graft chain. Also, due to the presence of the graft chain, the polymer compound having a structural unit having a graft chain has affinity with a polymerizable compound or other usable resin or the like. As a result, it becomes difficult to generate residues by the alkali phenomenon.

그래프트쇄가 길어지면 입체 반발 효과가 높아져 안료 등의 분산성은 향상된다. 한편, 그래프트쇄가 너무 길면 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료에 대한 흡착력이 저하되어, 안료 등의 분산성은 저하되는 경향이 된다. 이로 인하여, 그래프트쇄는, 수소 원자를 제외한 원자수가 40~10000인 것이 바람직하고, 수소 원자를 제외한 원자수가 50~2000인 것이 보다 바람직하며, 수소 원자를 제외한 원자수가 60~500인 것이 더 바람직하다.As the graft chain becomes longer, the effect of three-dimensional repulsion increases, and the dispersibility of the pigment and the like is improved. On the other hand, if the graft chain is too long, the adsorption force to the pigment such as titanium nitride-containing particles decreases, and the dispersibility of the pigment tends to be lowered. Therefore, the number of atoms other than hydrogen atoms in the graft chain is preferably 40 to 10,000, more preferably 50 to 2000 atoms excluding hydrogen atoms, and more preferably 60 to 500 atoms other than hydrogen atoms .

여기에서, 그래프트쇄란, 공중합체의 주쇄의 근원(주쇄로부터 분지되어 있는 기에 있어서 주쇄에 결합하는 원자)으로부터, 주쇄로부터 분지되어 있는 기의 말단까지를 나타낸다.Here, the graft chain indicates from the base of the main chain of the copolymer (the atom binding to the main chain in the group branched from the main chain) to the end of the group branched from the main chain.

그래프트쇄는, 폴리머 구조를 갖는 것이 바람직하고, 이와 같은 폴리머 구조로서는, 예를 들면 폴리(메트)아크릴레이트 구조(예를 들면, 폴리(메트)아크릴 구조), 폴리에스터 구조, 폴리유레테인 구조, 폴리유레아 구조, 폴리아마이드 구조, 및 폴리에터 구조 등을 들 수 있다.The graft chain preferably has a polymer structure. Examples of such a polymer structure include a poly (meth) acrylate structure (for example, a poly (meth) acryl structure), a polyester structure, , A polyurea structure, a polyamide structure, and a polyether structure.

그래프트쇄와 용제의 상호 작용성을 향상시키고, 이로써 분산성을 높이기 위하여, 그래프트쇄는, 폴리에스터 구조, 폴리에터 구조 및 폴리(메트)아크릴레이트 구조로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종을 갖는 그래프트쇄인 것이 바람직하고, 폴리에스터 구조 및 폴리에터 구조 중 적어도 어느 하나를 갖는 그래프트쇄인 것이 보다 바람직하다.In order to improve the interactivity of the graft chain and the solvent and thereby increase the dispersibility, the graft chain is preferably a graft having at least one member selected from the group consisting of a polyester structure, a polyether structure and a poly (meth) acrylate structure And more preferably a graft chain having at least one of a polyester structure and a polyether structure.

이와 같은 그래프트쇄를 갖는 매크로모노머로서는, 특별히 한정되지 않지만, 반응성 이중 결합성기를 갖는 매크로모노머를 적합하게 사용할 수 있다.The macromonomer having such a graft chain is not particularly limited, but a macromonomer having a reactive double bond group can be suitably used.

고분자 화합물이 갖는 그래프트쇄를 갖는 구조 단위에 대응하여, 고분자 화합물의 합성에 적합하게 이용되는 시판 중인 매크로모노머로서는, AA-6(상품명, 도아 고세이(주)), AA-10(상품명, 도아 고세이(주)제), AB-6(상품명, 도아 고세이(주)제), AS-6(상품명, 도아 고세이(주)), AN-6(상품명, 도아 고세이(주)제), AW-6(상품명, 도아 고세이(주)제), AA-714(상품명, 도아 고세이(주)제), AY-707(상품명, 도아 고세이(주)제), AY-714(상품명, 도아 고세이(주)제), AK-5(상품명, 도아 고세이(주)제), AK-30(상품명, 도아 고세이(주)제), AK-32(상품명, 도아 고세이(주)제), 블렘머 PP-100(상품명, 니치유(주)제), 블렘머 PP-500(상품명, 니치유(주)제), 블렘머 PP-800(상품명, 니치유(주)제), 블렘머 PP-1000(상품명, 니치유(주)제), 블렘머 55-PET-800(상품명, 니치유(주)제), 블렘머 PME-4000(상품명, 니치유(주)제), 블렘머 PSE-400(상품명, 니치유(주)제), 블렘머 PSE-1300(상품명, 니치유(주)제), 블렘머 43PAPE-600B(상품명, 니치유(주)제) 등이 이용된다. 이 중에서도, 바람직하게는, AA-6(상품명, 도아 고세이(주)제), AA-10(상품명, 도아 고세이(주)), AB-6(상품명, 도아 고세이(주)제), AS-6(상품명, 도아 고세이(주)), AN-6(상품명, 도아 고세이(주)제), 및 블렘머 PME-4000(상품명, 니치유(주)제) 등이 이용된다.Examples of commercially available macromonomers that are suitably used for the synthesis of high molecular compounds corresponding to structural units having a graft chain possessed by the polymer compound include AA-6 (trade name, manufactured by Doagosei Co., Ltd.), AA-10 6 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), AW-6 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) AY-714 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), AY-707 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) AK-32 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), BLEMMER PP-100 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) (Trade name, manufactured by Nichiyu Corporation), Blemmer PP-500 (trade name, manufactured by Nichiyu Corporation), Blemmer PP-800 (trade name, manufactured by Nichiyu Corporation) (Trade name, manufactured by Nichiyu Corporation), Blemmer 55-PET-800 (trade name, manufactured by Nichiyu Corporation), Blemmer PME-4000 ), Blemmer PSE-400 (trade name, manufactured by Nichiyu Corporation), Blemmer PSE-1300 (trade name, manufactured by Nichiyu Corporation), Blemmer 43PAPE-600B . Of these, preferred are AA-6 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), AA-10 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), AB- 6 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), AN-6 (trade name, manufactured by Doagosei Co., Ltd.) and BLEMMER PME-4000 (trade name, manufactured by Nichiyu Corporation).

분산제는, 폴리카프로락톤, 폴리발레로락톤, 폴리아크릴산 메틸 및 폴리메타크릴산 메틸로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 구조를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 이들 구조는 2종 이상을 병용하는 것이 보다 바람직하다.The dispersing agent preferably has at least one structure selected from the group consisting of polycaprolactone, polyvalerolactone, methyl polyacrylate and methyl polymethacrylate. Further, it is more preferable to use two or more of these structures in combination.

여기에서, 폴리카프로락톤 구조란, ε-카프로락톤을 개환한 구조를 반복 단위로서 갖는 것을 말한다. 폴리발레로락톤 구조란, δ-발레로락톤을 개환한 구조를 반복 단위로서 갖는 것을 말한다.Here, the polycaprolactone structure refers to a structure having a structure in which? -Caprolactone is replaced by a repeating unit. The polyvalero lactone structure refers to a structure having a structure in which? -Valerolactone is replaced as a repeating unit.

폴리카프로락톤 구조를 갖는 분산제의 구체예로서는, 하기 식 (1) 및 하기 식 (2)에 있어서의 j 및 k가 5인 것을 들 수 있다. 또, 폴리발레로락톤 구조를 갖는 분산제의 구체예로서는, 하기 식 (1) 및 하기 식 (2)에 있어서의 j 및 k가 4인 것을 들 수 있다.Specific examples of the dispersant having a polycaprolactone structure include those in which j and k in the following formulas (1) and (2) are 5. Specific examples of the dispersant having a polyvalero lactone structure include those wherein j and k in the following formulas (1) and (2) are 4.

폴리아크릴산 메틸 구조를 갖는 분산제의 구체예로서는, 하기 식 (4)에 있어서의 X5가 수소 원자이고, R4가 메틸기인 것을 들 수 있다. 또, 폴리메타크릴산 메틸 구조를 갖는 분산제의 구체예로서는, 하기 식 (4)에 있어서의 X5가 메틸기이고, R4가 메틸기인 것을 들 수 있다.As specific examples of the dispersant having a methyl polyacrylate structure, X 5 in the following formula (4) is a hydrogen atom and R 4 is a methyl group. Specific examples of the dispersant having a polymethylmethacrylate structure include those in which X 5 in the following formula (4) is a methyl group and R 4 is a methyl group.

고분자 화합물은, 그래프트쇄를 갖는 구조 단위로서, 하기 식 (1)~식 (4) 중 어느 하나로 나타나는 구조 단위를 포함하는 것이 바람직하고, 하기 식 (1A), 하기 식 (2A), 하기 식 (3A), 하기 식 (3B), 및 하기 (4) 중 어느 하나로 나타나는 구조 단위를 포함하는 것이 보다 바람직하다.The polymer compound is preferably a structural unit having a graft chain and includes a structural unit represented by any one of the following formulas (1) to (4), and is preferably a structural unit represented by any one of the following formulas (1A) 3A), the following formula (3B), and the following formula (4).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

식 (1)~식 (4)에 있어서, W1, W2, W3, 및 W4는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 NH를 나타낸다. W1, W2, W3, 및 W4는 산소 원자인 것이 바람직하다.In the formulas (1) to (4), W 1 , W 2 , W 3 and W 4 each independently represent an oxygen atom or NH 2. W 1 , W 2 , W 3 , and W 4 are preferably oxygen atoms.

식 (1)~식 (4)에 있어서, X1, X2, X3, X4, 및 X5는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기를 나타낸다. X1, X2, X3, X4, 및 X5로서는, 합성상의 제약의 관점에서는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수(탄소 원자수) 1~12의 알킬기인 것이 바람직하고, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기인 것이 보다 바람직하며, 메틸기가 더 바람직하다.In the formulas (1) to (4), X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. X 1 , X 2 , X 3 , X 4 , and X 5 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (in terms of synthetic limitations) , A hydrogen atom or a methyl group, more preferably a methyl group.

식 (1)~식 (4)에 있어서, Y1, Y2, Y3, 및 Y4는, 각각 독립적으로, 2가의 연결기를 나타내고, 연결기는 특별히 구조상 제약되지 않는다. Y1, Y2, Y3, 및 Y4로 나타나는 2가의 연결기로서, 구체적으로는, 하기의 (Y-1)~(Y-21)의 연결기 등을 예로서 들 수 있다. 하기에 나타낸 구조에 있어서, A, B는 각각, 식 (1)~식 (4)에 있어서의 좌측 말단기, 우측 말단기와의 결합 부위를 의미한다. 하기에 나타낸 구조 중, 합성의 간편성으로부터, (Y-2) 또는 (Y-13)인 것이 보다 바람직하다.In formulas (1) to (4), Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 each independently represent a divalent linking group, and the linking group is not particularly limited in structure. Specific examples of the divalent linking group represented by Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 include linking groups represented by the following (Y-1) to (Y-21). In the structures shown below, A and B each represent a bonding site with the left terminal group and the right terminal group in the formulas (1) to (4). Among the structures shown below, from the simplicity of synthesis, it is more preferable to be (Y-2) or (Y-13).

[화학식 2](2)

Figure pct00002
Figure pct00002

식 (1)~식 (4)에 있어서, Z1, Z2, Z3, 및 Z4는, 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타낸다. 유기기의 구조는, 특별히 한정되지 않지만, 구체적으로는, 알킬기, 수산기, 알콕시기, 아릴옥시기, 헤테로아릴옥시기, 알킬싸이오에터기, 아릴싸이오에터기, 헤테로아릴싸이오에터기, 및 아미노기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, Z1, Z2, Z3, 및 Z4로 나타나는 유기기로서는, 특히 분산성 향상의 관점에서, 입체 반발 효과를 갖는 것이 바람직하고, 각각 독립적으로 탄소수 5에서 24의 알킬기 또는 알콕시기가 바람직하며, 그 중에서도, 특히 각각 독립적으로 탄소수 5에서 24의 분기 알킬기, 탄소수 5에서 24의 환상 알킬기, 또는 탄소수 5에서 24의 알콕시기가 바람직하다. 또한, 알콕시기 중에 포함되는 알킬기는, 직쇄상, 분기쇄상, 및 환상 중 어느 것이어도 된다.In the formulas (1) to (4), Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 each independently represent a monovalent organic group. The structure of the organic group is not particularly limited, but specific examples thereof include an alkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, an alkyl thioether group, an aryl thioether group, a heteroaryl thioether group, . Among them, as an organic group represented by Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 , from the viewpoint of improving the dispersibility, it is preferable to have a steric repulsion effect, and each independently an alkyl group or an alkoxy group having 5 to 24 carbon atoms Among them, branched alkyl groups having 5 to 24 carbon atoms, cyclic alkyl groups having 5 to 24 carbon atoms, and alkoxy groups having 5 to 24 carbon atoms are particularly preferable. The alkyl group contained in the alkoxy group may be any of linear, branched and cyclic.

식 (1)~식 (4)에 있어서, n, m, p, 및 q는, 각각 독립적으로, 1에서 500의 정수이다.In the formulas (1) to (4), n, m, p, and q are each independently an integer of 1 to 500.

또, 식 (1) 및 식 (2)에 있어서, j 및 k는, 각각 독립적으로, 2~8의 정수를 나타낸다. 식 (1) 및 식 (2)에 있어서의 j 및 k는, 조성물의 분산 안정성 및 현상성의 관점에서, 4~6의 정수가 바람직하고, 5가 보다 바람직하다.In the formulas (1) and (2), j and k each independently represent an integer of 2 to 8. J and k in the formulas (1) and (2) are preferably an integer of 4 to 6 and more preferably 5 in view of dispersion stability and developability of the composition.

식 (3) 중, R3은 분기 또는 직쇄의 알킬렌기를 나타내고, 탄소수 1~10의 알킬렌기가 바람직하며, 탄소수 2 또는 3의 알킬렌기가 보다 바람직하다. p가 2~500일 때, 복수 존재하는 R3은 서로 동일해도 되고 달라도 된다.In the formula (3), R 3 represents a branched or linear alkylene group, preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms. When p is 2 to 500, plural R 3 may be the same or different.

식 (4) 중, R4는 수소 원자 또는 1가의 유기기를 나타내고, 이 1가의 유기기로서는 특별히 구조상 한정은 되지 않는다. R4로서 바람직하게는, 수소 원자, 알킬기, 아릴기, 및 헤테로아릴기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는, 수소 원자, 또는 알킬기이다. R4가 알킬기인 경우, 알킬기로서는, 탄소수 1~20의 직쇄상 알킬기, 탄소수 3~20의 분기상 알킬기, 또는 탄소수 5~20의 환상 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~20의 직쇄상 알킬기가 보다 바람직하며, 탄소수 1~6의 직쇄상 알킬기가 더 바람직하다. 식 (4)에 있어서, q가 2~500일 때, 그래프트 공중합체 중에 복수 존재하는 X5 및 R4는 서로 동일해도 되고 달라도 된다.In formula (4), R 4 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and the monovalent organic group is not particularly limited in structure. R 4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group. When R 4 is an alkyl group, the alkyl group is preferably a linear alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 5 to 20 carbon atoms, and a straight chain alkyl group having 1 to 20 carbon atoms More preferably a straight chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. When q is 2 to 500 in the formula (4), a plurality of X 5 and R 4 existing in the graft copolymer may be the same or different.

또, 고분자 화합물은, 2종 이상의 구조가 다른, 그래프트쇄를 갖는 구조 단위를 가질 수 있다. 즉, 고분자 화합물의 분자 중에, 서로 구조가 다른 식 (1)~식 (4)로 나타나는 구조 단위를 포함하고 있어도 되고, 또 식 (1)~식 (4)에 있어서 n, m, p, 및 q가 각각 2 이상의 정수를 나타내는 경우, 식 (1) 및 식 (2)에 있어서는, 측쇄 중에 j 및 k가 서로 다른 구조를 포함하고 있어도 되며, 식 (3) 및 식 (4)에 있어서는, 분자 내에 복수 존재하는 R3, R4 및 X5는 서로 동일해도 되고 달라도 된다.The polymer compound may have a structural unit having a graft chain having two or more different structures. That is, the polymer molecule may contain structural units represented by formulas (1) to (4) having different structures from each other, and n, m, p, and In the formulas (1) and (2), j and k may be different from each other in the side chain, and in the formulas (3) and (4) R 3 , R 4 and X 5 present in plural groups may be the same or different.

식 (1)로 나타나는 구조 단위로서는, 조성물의 분산 안정성 및 현상성의 관점에서, 하기 식 (1A)로 나타나는 구조 단위인 것이 보다 바람직하다.The structural unit represented by the formula (1) is more preferably a structural unit represented by the following formula (1A) from the viewpoint of dispersion stability and developability of the composition.

또, 식 (2)로 나타나는 구조 단위로서는, 조성물의 분산 안정성 및 현상성의 관점에서, 하기 식 (2A)로 나타나는 구조 단위인 것이 보다 바람직하다.The structural unit represented by the formula (2) is more preferably a structural unit represented by the following formula (2A) from the viewpoint of dispersion stability and developability of the composition.

[화학식 3](3)

Figure pct00003
Figure pct00003

식 (1A) 중, X1, Y1, Z1 및 n은, 식 (1)에 있어서의 X1, Y1, Z1 및 n과 동의이고, 바람직한 범위도 동일하다. 식 (2A) 중, X2, Y2, Z2 및 m은, 식 (2)에 있어서의 X2, Y2, Z2 및 m과 동의이며, 바람직한 범위도 동일하다.Formula (1A) of the, X 1, Y 1, Z 1 and n is 1 and X, Y 1, Z 1 and n and the consent of the formula (1), are also the same preferable range. In the formula (2A), X 2, Y 2, Z 2 and m is 2, and X, Y 2, Z 2 and m and consent of the formula (2) are also the same preferable range.

또, 식 (3)으로 나타나는 구조 단위로서는, 조성물의 분산 안정성 및 현상성의 관점에서, 하기 식 (3A) 또는 식 (3B)로 나타나는 구조 단위인 것이 보다 바람직하다.The structural unit represented by the formula (3) is more preferably a structural unit represented by the following formula (3A) or (3B) from the viewpoint of dispersion stability and developability of the composition.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

식 (3A) 또는 (3B) 중, X3, Y3, Z3 및 p는, 식 (3)에 있어서의 X3, Y3, Z3 및 p와 동의이고, 바람직한 범위도 동일하다.In the formula (3A) or (3B), X 3, Y 3, Z 3 , and p is 3, and X, Y 3, Z 3, and p and consent of the formula (3) it is also the same preferable range.

고분자 화합물은, 그래프트쇄를 갖는 구조 단위로서, 식 (1A)로 나타나는 구조 단위를 갖는 것이 보다 바람직하다.It is more preferable that the polymer compound has a structural unit represented by formula (1A) as a structural unit having a graft chain.

고분자 화합물에 있어서, 그래프트쇄를 갖는 구조 단위(예를 들면, 상기 식 (1)~식 (4)로 나타나는 구조 단위)는, 질량 환산으로, 고분자 화합물의 총 질량에 대하여 2~90%의 범위에서 포함되는 것이 바람직하고, 5~30%의 범위에서 포함되는 것이 보다 바람직하다. 그래프트쇄를 갖는 구조 단위가, 이 범위 내에서 포함되면 타이타늄 질화물 함유 입자의 분산성이 높고, 경화막을 형성할 때의 현상성이 양호하다.In the polymer compound, a structural unit having a graft chain (for example, a structural unit represented by the above formulas (1) to (4)) is preferably in the range of 2 to 90% , And it is more preferable that it is contained in the range of 5 to 30%. When the structural unit having a graft chain is contained within this range, the dispersibility of the titanium nitride-containing particles is high, and the developability in forming the cured film is good.

또, 고분자 화합물은, 그래프트쇄를 갖는 구조 단위와는 다른(즉, 그래프트쇄를 갖는 구조 단위에는 상당하지 않는) 소수성 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다. 단, 본 발명에 있어서, 소수성 구조 단위는, 산기(예를 들면, 카복실산기, 설폰산기, 인산기, 페놀성 수산기 등)를 갖지 않는 구조 단위이다.The polymer compound preferably has a hydrophobic structural unit that is different from the structural unit having a graft chain (i.e., does not correspond to a structural unit having a graft chain). However, in the present invention, the hydrophobic structural unit is a structural unit having no acid group (for example, a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a phenolic hydroxyl group, etc.).

소수성 구조 단위는, 바람직하게는, ClogP값이 1.2 이상인 화합물(모노머)에서 유래하는(대응하는) 구조 단위이고, 보다 바람직하게는, ClogP값이 1.2~8인 화합물에서 유래하는 구조 단위이다. 이로써, 본 발명의 효과를 보다 확실히 발현할 수 있다.The hydrophobic structural unit is preferably a (corresponding) structural unit derived from a compound (monomer) having a ClogP value of 1.2 or more, and more preferably a structural unit derived from a compound having a ClogP value of 1.2 to 8. As a result, the effect of the present invention can be more reliably expressed.

ClogP값은, Daylight Chemical Information System, Inc.로부터 입수할 수 있는 프로그램 "CLOGP"로 계산된 값이다. 이 프로그램은, Hansch, Leo의 프래그먼트 어프로치(하기 문헌 참조)에 의하여 산출되는 "계산 logP"의 값을 제공한다. 프래그먼트 어프로치는 화합물의 화학 구조에 근거하고 있고, 화학 구조를 부분 구조(프래그먼트)로 분할하여, 그 프래그먼트에 대하여 할당된 logP 기여분을 합계함으로써 화합물의 logP값을 추산하고 있다. 그 상세는 이하의 문헌에 기재되어 있다. 본 발명에서는, 프로그램 CLOGP v4.82에 의하여 계산한 ClogP값을 이용한다.The ClogP value is a value calculated by the program "CLOGP" available from Daylight Chemical Information System, Inc. This program provides the value of "computed logP" calculated by Hansch, Leo's fragment approach (see below). The fragment approach is based on the chemical structure of the compound and estimates the logP value of the compound by dividing the chemical structure into partial structures (fragments) and summing the assigned logP contributions for the fragments. The details thereof are described in the following documents. In the present invention, the ClogP value calculated by the program CLOGP v 4.82 is used.

A. J. Leo, Comprehensive Medicinal Chemistry, Vol. 4, C. Hansch, P. G. Sammnens, J. B. Taylor and C. A. Ramsden, Eds., p. 295, Pergamon Press, 1990 C. Hansch & A. J. Leo. Substituent Constants For Correlation Analysis in Chemistry and Biology. John Wiley & Sons. A. J. Leo. Calculating logPoct from structure. Chem. Rev., 93, 1281-1306, 1993.A. J. Leo, Comprehensive Medicinal Chemistry, Vol. 4, C. Hansch, P. G. Sammnens, J. B. Taylor and C. A. Ramsden, Eds., P. 295, Pergamon Press, 1990 C. Hansch & A. J. Leo. Substituent Constants for Correlation Analysis in Chemistry and Biology. John Wiley & Sons. A. J. Leo. Calculating logPoct from structure. Chem. Rev., 93, 1281-1306,1993.

logP는, 분배 계수 P(Partition Coefficient)의 상용 대수를 의미하고, 소정 유기 화합물이 오일(일반적으로는 1-옥탄올)과 물의 2상계의 평형에서 어떻게 분배되는지를 정량적인 수치로서 나타내는 물성값이고, 이하의 식으로 나타난다.log P means a common logarithm of the partition coefficient P and is a physical property value showing quantitatively how an organic compound is distributed in an equilibrium of a two-phase system of oil (generally 1-octanol) and water, Is expressed by the following equation.

logP=log(Coil/Cwater)logP = log (Coil / Cwater)

식 중, Coil은 유상(油相) 중의 화합물의 몰 농도를, Cwater는 수상(水相) 중의 화합물의 몰 농도를 나타낸다.In the formula, Coil represents the molar concentration of the compound in the oil phase and Cwater represents the molar concentration of the compound in the aqueous phase.

logP의 값이 0을 기준으로 플러스로 커지면 유용성(油溶性)이 증가하고, 마이너스로 절댓값이 커지면 수용성이 증가하는 것을 의미하며, 유기 화합물의 수용성과 부(負)의 상관이 있고, 유기 화합물의 친소수성을 평가하는 파라미터로서 널리 이용되고 있다.When the value of logP is increased to 0 on the positive side, the oil solubility is increased and when the negative value is increased, the water solubility is increased. The water solubility of the organic compound is negatively correlated with that of the organic compound. And is widely used as a parameter for evaluating the hydrophilicity.

고분자 화합물은, 소수성 구조 단위로서, 하기 일반식 (i)~(iii)으로 나타나는 단량체에서 유래하는 구조 단위로부터 선택된 1종 이상의 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다.The polymer compound is preferably a hydrophobic structural unit having at least one structural unit selected from the structural units derived from the monomers represented by the following general formulas (i) to (iii).

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

상기 식 (i)~(iii) 중, R1, R2, 및 R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자(예를 들면, 불소, 염소, 브로민 등), 또는 탄소수가 1~6인 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등)를 나타낸다.In the above formulas (i) to (iii), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, fluorine, chlorine or bromine) (For example, methyl group, ethyl group, propyl group, etc.).

R1, R2, 및 R3은, 바람직하게는 수소 원자, 또는 탄소수가 1~3인 알킬기이고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 메틸기이다. R2 및 R3은, 수소 원자인 것이 특히 바람직하다.R 1 , R 2 and R 3 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. It is particularly preferable that R 2 and R 3 are hydrogen atoms.

X는, 산소 원자(-O-) 또는 이미노기(-NH-)를 나타내고, 산소 원자인 것이 바람직하다.X represents an oxygen atom (-O-) or an imino group (-NH-), preferably an oxygen atom.

L은, 단결합 또는 2가의 연결기이다. 2가의 연결기로서는, 2가의 지방족기(예를 들면, 알킬렌기, 치환 알킬렌기, 알켄일렌기, 치환 알켄일렌기, 알카인일렌기, 치환 알카인일렌기), 2가의 방향족기(예를 들면, 아릴렌기, 치환 아릴렌기), 2가의 복소환기, 산소 원자(-O-), 황 원자(-S-), 이미노기(-NH-), 치환 이미노기(-NR31-, 여기에서 R31은 지방족기, 방향족기 또는 복소환기), 카보닐기(-CO-), 및 이들의 조합 등을 들 수 있다.L is a single bond or a divalent linking group. Examples of the divalent linking group include a divalent aliphatic group (e.g., an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, a substituted alkenylene group, an alkenylene group, a substituted alkenylene group), a divalent aromatic group (-O-), a sulfur atom (-S-), an imino group (-NH-), a substituted imino group (-NR 31 -, where R is a substituted or unsubstituted aryl group), a divalent heterocyclic group, 31 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group), a carbonyl group (-CO-), and combinations thereof.

2가의 지방족기는, 환상 구조 또는 분기 구조를 갖고 있어도 된다. 지방족기의 탄소수는, 1~20이 바람직하고, 1~15가 보다 바람직하며, 1~10이 더 바람직하다. 지방족기는 불포화 지방족기여도 되고 포화 지방족기여도 되지만, 포화 지방족기인 것이 바람직하다. 또, 지방족기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기의 예는, 할로젠 원자, 방향족기 및 복소환기 등을 들 수 있다.The divalent aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. The carbon number of the aliphatic group is preferably from 1 to 20, more preferably from 1 to 15, and even more preferably from 1 to 10. The aliphatic group may be an unsaturated aliphatic group or a saturated aliphatic group, but is preferably a saturated aliphatic group. The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an aromatic group, and a heterocyclic group.

2가의 방향족기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~15가 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다. 또, 방향족기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기의 예는, 할로젠 원자, 지방족기, 방향족기 및 복소환기 등을 들 수 있다.The carbon number of the divalent aromatic group is preferably from 6 to 20, more preferably from 6 to 15, and still more preferably from 6 to 10. The aromatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, and a heterocyclic group.

2가의 복소환기는, 복소환으로서 5원환 또는 6원환을 갖는 것이 바람직하다. 복소환에 다른 복소환, 지방족환 또는 방향족환이 축합하고 있어도 된다. 또, 복소환기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기의 예로서는, 할로젠 원자, 하이드록시기, 옥소기(=O), 싸이옥소기(=S), 이미노기(=NH), 치환 이미노기(=N-R32, 여기에서 R32는 지방족기, 방향족기 또는 복소환기), 지방족기, 방향족기, 및 복소환기를 들 수 있다.The divalent heterocyclic group preferably has a 5-membered ring or a 6-membered ring as a heterocyclic ring. The heterocycle may be condensed with another heterocycle, an aliphatic ring or an aromatic ring. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent, a halogen atom, a hydroxyl group, an oxo group (= O), Im oxo group (= S), imino group (= NH), a substituted imino group (= NR 32, where R 32 be an aliphatic group, An aromatic group or a heterocyclic group), an aliphatic group, an aromatic group, and a heterocyclic group.

L은, 단결합, 알킬렌기 또는 옥시알킬렌 구조를 포함하는 2가의 연결기인 것이 바람직하다. 옥시알킬렌 구조는, 옥시에틸렌 구조 또는 옥시프로필렌 구조인 것이 보다 바람직하다. 또, L은, 옥시알킬렌 구조를 2 이상 반복하여 포함하는 폴리옥시알킬렌 구조를 포함하고 있어도 된다. 폴리옥시알킬렌 구조로서는, 폴리옥시에틸렌 구조 또는 폴리옥시프로필렌 구조가 바람직하다. 폴리옥시에틸렌 구조는, -(OCH2CH2)n-으로 나타나고, n은, 2 이상의 정수가 바람직하며, 2~10의 정수인 것이 보다 바람직하다.L is preferably a divalent linking group containing a single bond, an alkylene group or an oxyalkylene structure. The oxyalkylene structure is more preferably an oxyethylene structure or an oxypropylene structure. L may contain a polyoxyalkylene structure containing two or more repeating oxyalkylene structures. As the polyoxyalkylene structure, a polyoxyethylene structure or a polyoxypropylene structure is preferable. The polyoxyethylene structure is represented by - (OCH 2 CH 2 ) n-, and n is preferably an integer of 2 or more, more preferably an integer of 2 to 10.

Z로서는, 지방족기(예를 들면, 알킬기, 치환 알킬기, 불포화 알킬기, 치환 불포화 알킬기), 방향족기(예를 들면, 아릴기, 치환 아릴기, 아릴렌기, 치환 아릴렌기), 복소환기, 및 이들의 조합을 들 수 있다. 이들 기에는, 산소 원자(-O-), 황 원자(-S-), 이미노기(-NH-), 치환 이미노기(-NR31-, 여기에서 R31은 지방족기, 방향족기 또는 복소환기), 또는 카보닐기(-CO-)가 포함되어 있어도 된다.Examples of Z include an aliphatic group (e.g., alkyl group, substituted alkyl group, unsaturated alkyl group, substituted unsaturated alkyl group), aromatic group (e.g., aryl group, substituted aryl group, arylene group, substituted arylene group) . &Lt; / RTI &gt; These groups include an oxygen atom (-O-), a sulfur atom (-S-), an imino group (-NH-), a substituted imino group (-NR 31 -, wherein R 31 represents an aliphatic group, ), Or a carbonyl group (-CO-).

지방족기는, 환상 구조 또는 분기 구조를 갖고 있어도 된다. 지방족기의 탄소수는, 1~20이 바람직하고, 1~15가 보다 바람직하며, 1~10이 더 바람직하다. 지방족기에는, 추가로 환집합 탄화 수소기, 가교환식 탄화 수소기가 포함되고, 환집합 탄화 수소기의 예로서는, 바이사이클로헥실기, 퍼하이드로나프탈렌일기, 바이페닐기, 및 4-사이클로헥실페닐기 등이 포함된다. 가교환식 탄화 수소환으로서, 예를 들면, 피네인, 보네인, 노피네인, 노보네인, 및 바이사이클로옥테인환(바이사이클로[2.2.2]옥테인환, 바이사이클로[3.2.1]옥테인환 등) 등의 2환식 탄화 수소환, 호모블레데인, 아다만테인, 트라이사이클로[5.2.1.02,6]데케인, 및 트라이사이클로[4.3.1.12,5]운데케인환 등의 3환식 탄화 수소환, 테트라사이클로[4.4.0.12,5.17,10]도데케인, 및 퍼하이드로-1,4-메타노-5,8-메타노나프탈렌환 등의 4환식 탄화 수소환 등을 들 수 있다. 또, 가교환식 탄화 수소환에는, 축합환식 탄화 수소환, 예를 들면 퍼하이드로나프탈렌(데칼린), 퍼하이드로안트라센, 퍼하이드로페난트렌, 퍼하이드로아세나프텐, 퍼하이드로플루오렌, 퍼하이드로인덴, 및 퍼하이드로페날렌환 등의 5~8원 사이클로알케인환이 복수 개 축합한 축합환도 포함된다.The aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. The carbon number of the aliphatic group is preferably from 1 to 20, more preferably from 1 to 15, and even more preferably from 1 to 10. Examples of the cyclic hydrocarbon group include a bicyclohexyl group, a perhydronaphthalenylene group, a biphenyl group, and a 4-cyclohexylphenyl group. Examples of the cyclic hydrocarbon group include a cyclic hydrocarbon group and a cyclic hydrocarbon group, do. As the bridged cyclic hydrocarbon ring, there may be mentioned, for example, pinene, bonene, nopine, novone, and bicyclooctane ring (bicyclo [2.2.2] octanoic 2 recalled cyclic hydrocarbons, such as heptane ring, etc.), homo blade Dane, adamantane, tricyclo [5.2.1.0 2,6] de cane, such as, and tricyclo [4.3.1.1 2,5] undecane ring Tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] dodecane, and perhydro-1,4-methano-5,8-methanonaphthalene ring, And the like. Examples of the bridged cyclic hydrocarbon ring include condensed cyclic hydrocarbon rings such as perhydronaphthalene (decalin), perhydroanthracene, perhydrophenanthrene, perhydroanenaphthene, perhydrofluorene, perhydroindene, And a condensed ring in which a plurality of 5- to 8-membered cycloalkane rings such as a hydroperylene ring are condensed.

지방족기는 불포화 지방족기보다 포화 지방족기가 바람직하다. 또, 지방족기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기의 예는, 할로젠 원자, 방향족기 및 복소환기를 들 수 있다. 단, 지방족기는, 치환기로서 산기를 갖지 않는다.The aliphatic group is preferably a saturated aliphatic group rather than an unsaturated aliphatic group. The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an aromatic group and a heterocyclic group. Provided that the aliphatic group does not have an acid group as a substituent.

방향족기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~15가 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다. 또, 방향족기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기의 예는, 할로젠 원자, 지방족기, 방향족기 및 복소환기를 들 수 있다. 단, 방향족기는, 치환기로서 산기를 갖지 않는다.The carbon number of the aromatic group is preferably from 6 to 20, more preferably from 6 to 15, and even more preferably from 6 to 10. The aromatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an aliphatic group, an aromatic group and a heterocyclic group. Provided that the aromatic group does not have an acid group as a substituent.

복소환기는, 복소환으로서 5원환 또는 6원환을 갖는 것이 바람직하다. 복소환에 다른 복소환, 지방족환 또는 방향족환이 축합하고 있어도 된다. 또, 복소환기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기의 예로서는, 할로젠 원자, 하이드록시기, 옥소기(=O), 싸이옥소기(=S), 이미노기(=NH), 치환 이미노기(=N-R32, 여기에서 R32는 지방족기, 방향족기 또는 복소환기), 지방족기, 방향족기 및 복소환기를 들 수 있다. 단, 복소환기는, 치환기로서 산기를 갖지 않는다.The heterocyclic group preferably has a 5-membered ring or a 6-membered ring as a heterocyclic ring. The heterocycle may be condensed with another heterocycle, an aliphatic ring or an aromatic ring. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent, a halogen atom, a hydroxyl group, an oxo group (= O), Im oxo group (= S), imino group (= NH), a substituted imino group (= NR 32, where R 32 be an aliphatic group, An aromatic group or a heterocyclic group), an aliphatic group, an aromatic group and a heterocyclic group. Provided that the heterocyclic group does not have an acid group as a substituent.

상기 식 (iii) 중, R4, R5, 및 R6은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자(예를 들면, 불소, 염소, 브로민 등), 탄소수가 1~6인 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등), Z, 또는 L-Z를 나타낸다. 여기에서 L 및 Z는, 상기에 있어서의 것과 동의이다. R4, R5, 및 R6으로서는, 수소 원자, 또는 탄소수가 1~3인 알킬기가 바람직하고, 수소 원자가 보다 바람직하다.R 4 , R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, fluorine, chlorine or bromine), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, For example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.), Z, or LZ. Wherein L and Z are the same as those in the above. As R 4 , R 5 , and R 6 , a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and a hydrogen atom is more preferable.

본 발명에 있어서는, 상기 일반식 (i)로 나타나는 단량체로서 R1, R2, 및 R3이 수소 원자 또는 메틸기이고, L이 단결합 또는 알킬렌기 혹은 옥시알킬렌 구조를 포함하는 2가의 연결기이며, X가 산소 원자 또는 이미노기이고, Z가 지방족기, 복소환기 또는 방향족기인 화합물이 바람직하다.In the present invention, as the monomer represented by the general formula (i), R 1 , R 2 , and R 3 are each a hydrogen atom or a methyl group, L is a single bond or a divalent linking group containing an alkylene group or an oxyalkylene structure , X is an oxygen atom or an imino group, and Z is an aliphatic group, a heterocyclic group or an aromatic group.

또, 상기 일반식 (ii)로 나타나는 단량체로서, R1이 수소 원자 또는 메틸기이고, L이 알킬렌기이며, Z가 지방족기, 복소환기 또는 방향족기인 화합물이 바람직하다. 또, 상기 일반식 (iii)으로 나타나는 단량체로서, R4, R5, 및 R6이 수소 원자 또는 메틸기이고, Z가 지방족기, 복소환기 또는 방향족기인 화합물이 바람직하다.As the monomer represented by the general formula (ii), a compound wherein R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, L is an alkylene group, and Z is an aliphatic group, a heterocyclic group, or an aromatic group is preferable. As the monomer represented by the general formula (iii), a compound wherein R 4 , R 5 , and R 6 are each a hydrogen atom or a methyl group and Z is an aliphatic group, a heterocyclic group, or an aromatic group is preferable.

식 (i)~(iii)으로 나타나는 대표적인 화합물의 예로서는, 아크릴산 에스터류, 메타크릴산 에스터류, 및 스타이렌류 등으로부터 선택되는 라디칼 중합성 화합물을 들 수 있다.Examples of representative compounds represented by the formulas (i) to (iii) include radically polymerizable compounds selected from acrylic acid esters, methacrylic acid esters, styrene, and the like.

또한, 식 (i)~(iii)으로 나타나는 대표적인 화합물의 예로서는, 일본 공개특허공보 2013-249417호의 단락 0089~0093에 기재된 화합물을 참조할 수 있고, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.As a representative example of the compounds represented by formulas (i) to (iii), reference can be made to the compounds described in paragraphs 0089 to 0093 of JP-A-2013-249417, the contents of which are incorporated herein by reference.

고분자 화합물에 있어서, 소수성 구조 단위는, 질량 환산으로, 고분자 화합물의 총 질량에 대하여 10~90%의 범위에서 포함되는 것이 바람직하고, 20~80%의 범위에서 포함되는 것이 보다 바람직하다. 함유량이 상기 범위에 있어서 충분한 패턴 형성이 얻어진다.In the polymer compound, the hydrophobic structural unit is preferably contained in a range of 10 to 90%, more preferably 20 to 80%, in terms of mass, based on the total mass of the polymer compound. When the content is within the above range, sufficient pattern formation is obtained.

고분자 화합물은, 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료와 상호 작용을 형성할 수 있는 관능기를 도입할 수 있다. 여기에서, 고분자 화합물은, 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료와 상호 작용을 형성할 수 있는 관능기를 갖는 구조 단위를 더 갖는 것이 바람직하다.The polymer compound can introduce a functional group capable of forming an interaction with a pigment such as a titanium nitride-containing particle or the like. Here, the polymer compound preferably further has a structural unit having a functional group capable of forming an interaction with a pigment such as a titanium nitride-containing particle.

이 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료와 상호 작용을 형성할 수 있는 관능기로서는, 예를 들면 산기, 염기성기, 배위성기, 및 반응성을 갖는 관능기 등을 들 수 있다.Examples of the functional group capable of forming an interaction with the pigment such as the titanium nitride-containing particles include an acid group, a basic group, a coordinating group, and a functional group having reactivity.

고분자 화합물이, 산기, 염기성기, 배위성기, 또는 반응성을 갖는 관능기를 갖는 경우, 각각 산기를 갖는 구조 단위, 염기성기를 갖는 구조 단위, 배위성기를 갖는 구조 단위, 또는 반응성을 갖는 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다.When the polymer compound has an acid group, a basic group, a coordinating group, or a functional group having reactivity, it is preferable that the polymer compound has a structural unit having an acid group, a structural unit having a basic group, a structural unit having a coordinating group, desirable.

특히, 고분자 화합물이, 또한 산기로서 카복실산기 등의 알칼리 가용성기를 가짐으로써, 고분자 화합물에, 알칼리 현상에 의한 패턴 형성을 위한 현상성을 부여할 수 있다.In particular, the polymer compound has an alkali-soluble group such as a carboxylic acid group as an acid group, so that the developability for forming a pattern by an alkali development can be imparted to the polymer compound.

즉, 고분자 화합물에 알칼리 가용성기를 도입함으로써, 본 발명의 조성물은, 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료의 분산에 기여하는 분산제로서의 고분자 화합물이 알칼리 가용성을 갖게 된다. 이와 같은 고분자 화합물을 함유하는 조성물은, 노광부의 차광성이 우수한 것이 되고, 또한 미노광부의 알칼리 현상성이 향상된다.That is, by introducing an alkali-soluble group into the polymer compound, the composition of the present invention has alkali-solubility in the polymer compound as a dispersing agent contributing to the dispersion of the pigment such as titanium nitride-containing particles. Such a composition containing a polymer compound is excellent in the light shielding property of the exposed portion and improves the alkali developability of the unexposed portion.

또, 고분자 화합물이 산기를 갖는 구조 단위를 가짐으로써, 고분자 화합물이 용제와 친화되기 쉬워져, 도포성도 향상되는 경향이 된다.Further, when the polymer compound has a structural unit having an acid group, the polymer compound tends to be easily compatible with the solvent, and the coating property tends to be improved.

이것은, 산기를 갖는 구조 단위에 있어서의 산기가 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료와 상호 작용하기 쉽고, 고분자 화합물이 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료를 안정적으로 분산함과 함께, 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료를 분산하는 고분자 화합물의 점도가 낮게 되어 있어, 고분자 화합물 자체도 안정적으로 분산되기 쉽기 때문이라고 추측된다.This is because the acid group in the structural unit having an acid group is likely to interact with the pigment such as the titanium nitride-containing particles, and the polymer compound stably disperses the pigment such as the titanium nitride-containing particles and the pigment such as the titanium nitride- The viscosity of the polymer compound dispersed therein is low, and the polymer compound itself is likely to be stably dispersed.

단, 산기로서의 알칼리 가용성기를 갖는 구조 단위는, 상기한 그래프트쇄를 갖는 구조 단위와 동일한 구조 단위여도 되고, 다른 구조 단위여도 되지만, 산기로서의 알칼리 가용성기를 갖는 구조 단위는, 상기한 소수성 구조 단위와는 다른 구조 단위이다(즉, 상기한 소수성 구조 단위에는 상당하지 않는다).However, the structural unit having an alkali-soluble group as an acid group may be the same structural unit as the structural unit having the graft chain described above or may be another structural unit, but the structural unit having an alkali-soluble group as an acid group is not limited to the above- (I.e., does not correspond to the hydrophobic structural unit described above).

타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료와 상호 작용을 형성할 수 있는 관능기인 산기로서는, 예를 들면 카복실산기, 설폰산기, 인산기, 또는 페놀성 수산기 등이 있고, 바람직하게는, 카복실산기, 설폰산기, 및 인산기 중 적어도 1종이며, 특히 바람직한 것은, 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료에 대한 흡착력이 양호하고, 또한 안료의 분산성이 높은 점에서, 카복실산기이다.Examples of the acid group which is a functional group capable of forming an interaction with the pigment such as titanium nitride-containing particles include a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, and a phenolic hydroxyl group, and preferably a carboxylic acid group, And a phosphoric acid group. Particularly preferred is a carboxylic acid group in view of good adsorption ability to pigments such as titanium nitride-containing particles and high pigment dispersibility.

즉, 고분자 화합물은, 카복실산기, 설폰산기, 및 인산기 중 적어도 1종을 갖는 구조 단위를 더 갖는 것이 바람직하다.That is, the polymer compound preferably further has a structural unit having at least one of a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.

고분자 화합물은, 산기를 갖는 구조 단위를 1종 또는 2종 이상 가져도 된다.The polymer compound may have one or more structural units having an acid group.

고분자 화합물은, 산기를 갖는 구조 단위를 함유해도 되고 함유하지 않아도 되지만, 함유하는 경우, 산기를 갖는 구조 단위의 함유량은, 질량 환산으로, 고분자 화합물의 총 질량에 대하여, 바람직하게는 5~80%이고, 보다 바람직하게는, 알칼리 현상에 의한 화상 강도의 대미지 억제라는 관점에서, 10~60%이다.The content of the structural unit having an acid group is preferably 5 to 80% by mass, based on the total mass of the polymer compound, of the structural unit having an acid group, , And more preferably 10 to 60% from the viewpoint of suppressing the damage of the image caused by the alkali development.

타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료와 상호 작용을 형성할 수 있는 관능기인 염기성기로서는, 예를 들면 제1급 아미노기, 제2급 아미노기, 제3급 아미노기, N 원자를 포함하는 헤테로환, 및 아마이드기 등이 있고, 바람직한 것은, 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료에 대한 흡착력이 양호하며, 또한 안료의 분산성이 높은 점에서, 제3급 아미노기이다. 고분자 화합물은, 이들 염기성기를 1종 혹은 2종 이상, 가질 수 있다.Examples of the basic group that is a functional group capable of forming an interaction with a pigment such as a titanium nitride-containing particle include a primary amino group, a secondary amino group, a tertiary amino group, a heterocyclic ring containing an N atom, And is preferably a tertiary amino group because of its good adsorptivity to pigments such as titanium nitride-containing particles and also high dispersibility of pigments. The polymer compound may have one or more of these basic groups.

고분자 화합물은, 염기성기를 갖는 구조 단위를 함유해도 되고 함유하지 않아도 되지만, 함유하는 경우, 염기성기를 갖는 구조 단위의 함유량은, 질량 환산으로, 고분자 화합물의 총 질량에 대하여, 바람직하게는 0.01% 이상 50% 이하이고, 보다 바람직하게는, 현상성 저해 억제라는 관점에서, 0.01% 이상 30% 이하이다.The polymer compound may or may not contain a structural unit having a basic group, but when contained, the content of the structural unit having a basic group is preferably 0.01% to 50% % Or less, and more preferably from 0.01% or more and 30% or less from the viewpoint of inhibiting developability.

타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료와 상호 작용을 형성할 수 있는 관능기인 배위성기, 및 반응성을 갖는 관능기로서는, 예를 들면 아세틸아세톡시기, 트라이알콕시실릴기, 아이소사이아네이트기, 산무수물, 및 산염화물 등을 들 수 있다. 바람직한 것은, 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료에 대한 흡착력이 양호하고, 안료의 분산성이 높은 점에서, 아세틸아세톡시기이다. 고분자 화합물은, 이들 기를 1종 또는 2종 이상 가져도 된다.Examples of the coordinating group which is a functional group capable of forming an interaction with the pigment such as titanium nitride-containing particles and the reactive functional group include, for example, an acetyl acetoxy group, a trialkoxysilyl group, an isocyanate group, And acid chlorides. Preferred is an acetyl acetoxy group in view of good adsorption ability to pigments such as titanium nitride-containing particles and high dispersibility of pigments. The polymer compound may have one or more of these groups.

고분자 화합물은, 배위성기를 갖는 구조 단위, 또는 반응성을 갖는 관능기를 갖는 구조 단위를 함유해도 되고 함유하지 않아도 되지만, 함유하는 경우, 이들 구조 단위의 함유량은, 질량 환산으로, 고분자 화합물의 총 질량에 대하여, 바람직하게는 10% 이상 80% 이하이고, 보다 바람직하게는, 현상성 저해 억제라는 관점에서, 20% 이상 60% 이하이다.The polymer compound may or may not contain a structural unit having a coordinating group or a structural unit having a reactive functional group, but when contained, the content of these structural units is preferably in the range of , Preferably not less than 10% and not more than 80%, and more preferably not less than 20% and not more than 60% from the viewpoint of suppressing development inhibition.

본 발명에 있어서의 고분자 화합물이, 그래프트쇄 이외에, 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료와 상호 작용을 형성할 수 있는 관능기를 갖는 경우, 상술한 바와 같은, 각종 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료와 상호 작용을 형성할 수 있는 관능기를 함유하고 있으면 되고, 이들 관능기가 어떻게 도입되어 있는지는 특별히 한정은 되지 않지만, 고분자 화합물은, 하기 일반식 (iv)~(vi)으로 나타나는 단량체에서 유래하는 구조 단위로부터 선택된 1종 이상의 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다.In the case where the polymer compound in the present invention has functional groups capable of forming an interaction with a pigment such as titanium nitride-containing particles in addition to the graft chain, it is preferable that the interaction with pigments such as various titanium nitride- And the functional groups are not specifically limited. However, the polymer compound is preferably a polymer comprising a structural unit derived from a monomer represented by the following general formulas (iv) to (vi) It is preferable to have the above structural units.

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

일반식 (iv)~일반식 (vi) 중, R11, R12, 및 R13은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자(예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자 등), 또는 탄소수가 1~6인 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등)를 나타낸다.In the general formulas (iv) to (vi), R 11 , R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, , Or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (e.g., methyl, ethyl, propyl, etc.).

일반식 (iv)~일반식 (vi) 중, R11, R12, 및 R13은, 바람직하게는, 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 탄소수가 1~3인 알킬기이고, 보다 바람직하게는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기이다. 일반식 (iv) 중, R12 및 R13은, 각각 수소 원자인 것이 특히 바람직하다.In the general formulas (iv) to (vi), R 11 , R 12 and R 13 are preferably each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, Is independently a hydrogen atom or a methyl group. In the formula (iv), it is particularly preferable that R 12 and R 13 are each a hydrogen atom.

일반식 (iv) 중의 X1은, 산소 원자(-O-) 또는 이미노기(-NH-)를 나타내고, 산소 원자인 것이 바람직하다.X 1 in the general formula (iv) represents an oxygen atom (-O-) or an imino group (-NH-), preferably an oxygen atom.

또, 일반식 (v) 중의 Y는, 메타인기 또는 질소 원자를 나타낸다.In the general formula (v), Y represents a methoxy group or a nitrogen atom.

또, 일반식 (iv)~일반식 (v) 중의 L1은, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. 2가의 연결기의 예로서는, 2가의 지방족기(예를 들면, 알킬렌기, 치환 알킬렌기, 알켄일렌기, 치환 알켄일렌기, 알카인일렌기, 및 치환 알카인일렌기), 2가의 방향족기(예를 들면, 아릴렌기, 및 치환 아릴렌기), 2가의 복소환기, 산소 원자(-O-), 황 원자(-S-), 이미노기(-NH-), 치환 이미노 결합(-NR31'-, 여기에서 R31'은 지방족기, 방향족기 또는 복소환기), 카보닐 결합(-CO-), 및 이들의 조합 등을 들 수 있다.L 1 in formulas (iv) to (v) represents a single bond or a divalent linking group. Examples of the divalent linking group include a divalent aliphatic group (e.g., an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, a substituted alkenylene group, an alkenylene group, and a substituted alkenylene group) (-O-), a sulfur atom (-S-), an imino group (-NH-), a substituted imino group (-NR 31 '), a substituted or unsubstituted arylene group -, wherein R 31 'is an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group), a carbonyl bond (-CO-), and combinations thereof.

2가의 지방족기는, 환상 구조 또는 분기 구조를 갖고 있어도 된다. 지방족기의 탄소수는, 1~20이 바람직하고, 1~15가 보다 바람직하며, 1~10이 더 바람직하다. 지방족기는 불포화 지방족기보다 포화 지방족기가 바람직하다. 또, 지방족기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기의 예로서는, 할로젠 원자, 하이드록실기, 방향족기 및 복소환기를 들 수 있다.The divalent aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. The carbon number of the aliphatic group is preferably from 1 to 20, more preferably from 1 to 15, and even more preferably from 1 to 10. The aliphatic group is preferably a saturated aliphatic group rather than an unsaturated aliphatic group. The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aromatic group and a heterocyclic group.

2가의 방향족기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~15가 더 바람직하며, 6~10이 가장 바람직하다. 또, 방향족기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기의 예는, 할로젠 원자, 하이드록실기, 지방족기, 방향족기 및 복소환기를 들 수 있다.The carbon number of the divalent aromatic group is preferably from 6 to 20, more preferably from 6 to 15, and most preferably from 6 to 10. The aromatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic group, an aromatic group and a heterocyclic group.

2가의 복소환기는, 복소환으로서 5원환 또는 6원환을 갖는 것이 바람직하다. 복소환에 다른 복소환, 지방족환 또는 방향족환 중 하나 이상이 축합하고 있어도 된다. 또, 복소환기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기의 예로서는, 할로젠 원자, 하이드록시기, 옥소기(=O), 싸이옥소기(=S), 이미노기(=NH), 치환 이미노기(=N-R32, 여기에서 R32는 지방족기, 방향족기 또는 복소환기), 지방족기, 방향족기 및 복소환기를 들 수 있다.The divalent heterocyclic group preferably has a 5-membered ring or a 6-membered ring as a heterocyclic ring. The heterocycle may be condensed with at least one of another heterocycle, an aliphatic ring or an aromatic ring. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent, a halogen atom, a hydroxyl group, an oxo group (= O), Im oxo group (= S), imino group (= NH), a substituted imino group (= NR 32, where R 32 be an aliphatic group, An aromatic group or a heterocyclic group), an aliphatic group, an aromatic group and a heterocyclic group.

L1은, 단결합, 알킬렌기 또는 옥시알킬렌 구조를 포함하는 2가의 연결기인 것이 바람직하다. 옥시알킬렌 구조는, 옥시에틸렌 구조 또는 옥시프로필렌 구조인 것이 보다 바람직하다. 또, L1은, 옥시알킬렌 구조를 2 이상 반복하여 포함하는 폴리옥시알킬렌 구조를 포함하고 있어도 된다. 폴리옥시알킬렌 구조로서는, 폴리옥시에틸렌 구조 또는 폴리옥시프로필렌 구조가 바람직하다. 폴리옥시에틸렌 구조는, -(OCH2CH2)n-으로 나타나고, n은, 2 이상의 정수가 바람직하며, 2~10의 정수인 것이 보다 바람직하다.L 1 is preferably a divalent linking group containing a single bond, an alkylene group or an oxyalkylene structure. The oxyalkylene structure is more preferably an oxyethylene structure or an oxypropylene structure. L 1 may also include a polyoxyalkylene structure containing two or more oxyalkylene structures repeatedly. As the polyoxyalkylene structure, a polyoxyethylene structure or a polyoxypropylene structure is preferable. The polyoxyethylene structure is represented by - (OCH 2 CH 2 ) n-, and n is preferably an integer of 2 or more, more preferably an integer of 2 to 10.

일반식 (iv)~일반식 (vi) 중, Z1은, 그래프트쇄 이외에 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료와 상호 작용을 형성할 수 있는 관능기를 나타내고, 카복실산기, 및 제3급 아미노기인 것이 바람직하며, 카복실산기인 것이 보다 바람직하다.In the general formulas (iv) to (vi), Z 1 represents a functional group capable of forming an interaction with a pigment such as a titanium nitride-containing particle in addition to the graft chain, and is preferably a carboxylic acid group or a tertiary amino group And more preferably a carboxylic acid group.

일반식 (vi) 중, R14, R15, 및 R16은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자(예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자 등), 탄소수가 1~6인 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등), -Z1, 또는 L1-Z1을 나타낸다. 여기에서 L1 및 Z1은, 상기에 있어서의 L1 및 Z1과 동의이고, 바람직한 예도 동일하다. R14, R15, 및 R16으로서는, 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 탄소수가 1~3인 알킬기가 바람직하고, 수소 원자가 보다 바람직하다.In the formula (vi), R 14 , R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) An alkyl group (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, etc.), -Z 1 , or L 1 -Z 1 . Here, L 1 and Z 1 is, and L 1 and Z 1 and copper in the above, the same preferable examples. R 14 , R 15 and R 16 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom.

본 발명에 있어서는, 일반식 (iv)로 나타나는 단량체로서, R11, R12, 및 R13이 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기이고, L1이 알킬렌기 또는 옥시알킬렌 구조를 포함하는 2가의 연결기이며, X1이 산소 원자 또는 이미노기이고, Z1이 카복실산기인 화합물이 바람직하다.In the present invention, it is preferable that as the monomer represented by the general formula (iv), R 11 , R 12 and R 13 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, L 1 is a divalent linking group containing an alkylene group or an oxyalkylene structure , X 1 is an oxygen atom or an imino group, and Z 1 is a carboxylic acid group.

또, 일반식 (v)로 나타나는 단량체로서, R11이 수소 원자 또는 메틸기이고, L1이 알킬렌기이며, Z1이 카복실산기이고, Y가 메타인기인 화합물이 바람직하다.As the monomer represented by the general formula (v), a compound wherein R 11 is a hydrogen atom or a methyl group, L 1 is an alkylene group, Z 1 is a carboxylic acid group, and Y is a meta-group is preferable.

또한, 일반식 (vi)으로 나타나는 단량체로서, R14, R15, 및 R16이 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기이고, L1이 단결합 또는 알킬렌기이며, Z가 카복실산기인 화합물이 바람직하다.As the monomer represented by formula (vi), it is preferable that R 14 , R 15 , and R 16 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, L 1 is a single bond or an alkylene group, and Z is a carboxylic acid group.

이하에, 일반식 (iv)~일반식 (vi)으로 나타나는 단량체(화합물)의 대표적인 예를 나타낸다.Representative examples of the monomers (compounds) represented by the general formulas (iv) to (vi) are shown below.

단량체의 예로서는, 메타크릴산, 크로톤산, 아이소크로톤산, 분자 내에 부가 중합성 이중 결합 및 수산기를 갖는 화합물(예를 들면, 메타크릴산 2-하이드록시에틸)과 석신산 무수물의 반응물, 분자 내에 부가 중합성 이중 결합 및 수산기를 갖는 화합물과 프탈산 무수물의 반응물, 분자 내에 부가 중합성 이중 결합 및 수산기를 갖는 화합물과 테트라하이드록시프탈산 무수물의 반응물, 분자 내에 부가 중합성 이중 결합 및 수산기를 갖는 화합물과 무수 트라이멜리트산의 반응물, 분자 내에 부가 중합성 이중 결합 및 수산기를 갖는 화합물과 파이로멜리트산 무수물의 반응물, 아크릴산, 아크릴산 다이머, 아크릴산 올리고머, 말레산, 이타콘산, 푸마르산, 4-바이닐벤조산, 바이닐페놀, 및 4-하이드록시페닐메타크릴아마이드 등을 들 수 있다.Examples of the monomer include a reaction product of a methacrylic acid, a crotonic acid, an isocrotonic acid, a compound having an addition polymerizable double bond and a hydroxyl group in a molecule (for example, 2-hydroxyethyl methacrylate) and succinic anhydride, A reaction product of a compound having an addition polymerizable double bond and a hydroxyl group and a phthalic anhydride, a reaction product of a compound having an addition polymerizable double bond and a hydroxyl group in a molecule and a tetrahydrophthalic anhydride, a compound having an addition polymerizable double bond and a hydroxyl group in the molecule, A reaction product of trimellitic anhydride, a reaction product of a compound having an addition polymerizable double bond and a hydroxyl group in the molecule with pyromellitic anhydride, a reaction product of acrylic acid, acrylic acid dimer, acrylic acid oligomer, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, Phenol, and 4-hydroxyphenylmethacrylamide, and the like.

타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료와 상호 작용을 형성할 수 있는 관능기를 갖는 구조 단위의 함유량은, 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료와의 상호 작용, 분산 안정성, 및 현상액에 대한 침투성의 관점에서, 고분자 화합물의 전체 질량에 대하여, 0.05질량%~90질량%가 바람직하고, 1.0질량%~80질량%가 보다 바람직하며, 10질량%~70질량%가 더 바람직하다.The content of the structural unit having a functional group capable of forming an interaction with the pigment such as titanium nitride-containing particles is preferably in the range of from 0.1 to 10 parts by mass, more preferably from 10 to 30 parts by mass, from the viewpoint of the interaction with the pigment such as titanium nitride- Is preferably from 0.05% by mass to 90% by mass, more preferably from 1.0% by mass to 80% by mass, and still more preferably from 10% by mass to 70% by mass.

또한, 고분자 화합물은, 화상 강도 등의 모든 성능을 향상시킬 목적으로, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한에 있어서, 그래프트쇄를 갖는 구조 단위, 소수성 구조 단위, 및 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료와 상호 작용을 형성할 수 있는 관능기를 갖는 구조 단위와는 다른, 다양한 기능을 갖는 다른 구조 단위(예를 들면, 분산물에 이용되는 분산매와의 친화성을 갖는 관능기 등을 갖는 구조 단위)를 더 갖고 있어도 된다.In order to improve all the performance such as the image strength, the polymer compound may contain a pigment such as a structural unit having a graft chain, a hydrophobic structural unit and a titanium nitride-containing particle, (For example, a structural unit having a functional group having affinity with a dispersion medium used in a dispersion) different from the structural unit having a functional group capable of forming an interaction .

이와 같은, 다른 구조 단위로서는, 예를 들면 아크릴로나이트릴류, 및 메타크릴로나이트릴류 등으로부터 선택되는 라디칼 중합성 화합물에서 유래하는 구조 단위를 들 수 있다.Examples of such another structural unit include a structural unit derived from a radically polymerizable compound selected from acrylonitrile, methacrylonitrile, and the like.

고분자 화합물은, 이들 다른 구조 단위를 1종 혹은 2종 이상 이용할 수 있고, 그 함유량은, 질량 환산으로, 고분자 화합물의 총 질량에 대하여, 바람직하게는 0% 이상 80% 이하이며, 특히 바람직하게는, 10% 이상 60% 이하이다. 함유량이 상기 범위에 있어서, 충분한 패턴 형성성이 유지된다.The polymer compound may use one or more of these other structural units, and the content thereof is preferably 0% or more and 80% or less with respect to the total mass of the polymer compound in terms of mass, , 10% or more and 60% or less. When the content is within the above range, sufficient pattern formation property is maintained.

고분자 화합물의 산가는, 0mgKOH/g 이상 160mgKOH/g 이하의 범위인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10mgKOH/g 이상 140mgKOH/g 이하의 범위이며, 더 바람직하게는 20mgKOH/g 이상 120mgKOH/g 이하의 범위이다.The acid value of the polymer compound is preferably in the range of 0 mgKOH / g or more and 160 mgKOH / g or less, more preferably 10 mgKOH / g or more and 140 mgKOH / g or less, still more preferably 20 mgKOH / g or more and 120 mgKOH / g or less Range.

고분자 화합물의 산가가 160mgKOH/g 이하이면, 경화막을 형성할 때의 현상 시에 있어서의 패턴 박리가 보다 효과적으로 억제된다. 또, 고분자 화합물의 산가가 10mgKOH/g 이상이면 알칼리 현상성이 보다 양호해진다. 또, 고분자 화합물의 산가가 20mgKOH/g 이상이면, 타이타늄 질화물 함유 입자 등의 안료의 침강을 보다 억제할 수 있고, 조대(粗大) 입자수를 보다 줄일 수 있어, 조성물의 경시 안정성을 보다 향상시킬 수 있다.When the acid value of the polymer compound is 160 mgKOH / g or less, the pattern peeling at the time of development when the cured film is formed is more effectively suppressed. When the acid value of the polymer compound is 10 mgKOH / g or more, the alkali developability is better. When the acid value of the polymer compound is 20 mgKOH / g or more, the sedimentation of the pigment such as titanium nitride-containing particles can be further suppressed, the number of coarse particles can be further reduced, and the stability over time of the composition can be further improved have.

본 발명에 있어서, 고분자 화합물의 산가는, 예를 들면 고분자 화합물 중에 있어서의 산기의 평균 함유량으로부터 산출할 수 있다. 또, 고분자 화합물의 구성 성분인 산기를 함유하는 구조 단위의 함유량을 변화시킴으로써 원하는 산가를 갖는 수지를 얻을 수 있다.In the present invention, the acid value of the polymer compound can be calculated from, for example, the average content of acid groups in the polymer compound. In addition, a resin having a desired acid value can be obtained by changing the content of the structural unit containing an acid group, which is a component of the polymer compound.

본 발명에 있어서의 고분자 화합물의 중량 평균 분자량은, 경화막을 형성할 때에 있어서, 현상 시의 패턴 박리 억제와 현상성의 관점에서, GPC(젤 침투 크로마토그래피)법에 의한 폴리스타이렌 환산값으로서, 4,000 이상 300,000 이하인 것이 바람직하고, 5,000 이상 200,000 이하인 것이 보다 바람직하며, 6,000 이상 100,000 이하인 것이 더 바람직하고, 10,000 이상 50,000 이하인 것이 특히 바람직하다.The weight average molecular weight of the polymer compound in the present invention is preferably from 4,000 to 300,000 as a polystyrene reduced value by the GPC (Gel Permeation Chromatography) method, from the viewpoint of pattern peel suppression at the time of development and developability at the time of forming a cured film More preferably 5,000 or more and 200,000 or less, still more preferably 6,000 or more and 100,000 or less, particularly preferably 10,000 or more and 50,000 or less.

GPC법은, HLC-8020GPC(도소(주)제)를 이용하여, 칼럼으로서 TSKgel SuperHZM-H, TSKgel SuperHZ4000, TSKgel SuperHZ2000(도소(주)제, 4.6mmID×15cm)을, 용리액으로서 THF(테트라하이드로퓨란)를 이용하는 방법에 근거한다.The GPC method was carried out by using TSKgel SuperHZM-H, TSKgel SuperHZ4000, TSKgel SuperHZ2000 (manufactured by Tosoh Corporation, 4.6 mm ID x 15 cm) as a column and THF (tetrahydrofuran) as an eluent, using HLC-8020GPC (manufactured by TOSOH CORPORATION) Furans).

고분자 화합물은, 공지의 방법에 근거하여 합성할 수 있고, 고분자 화합물을 합성할 때에 이용되는 용제로서는, 예를 들면 에틸렌 다이클로라이드, 사이클로헥산온, 메틸에틸케톤, 아세톤, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 뷰탄올, 에틸렌글라이콜모노메틸에터, 에틸렌글라이콜모노에틸에터, 2-메톡시에틸아세테이트, 1-메톡시-2-프로판올, 1-메톡시-2-프로필아세테이트, N,N-다이메틸폼아마이드, N,N-다이메틸아세트아마이드, 다이메틸설폭사이드, 톨루엔, 아세트산 에틸, 락트산 메틸, 및 락트산 에틸 등을 들 수 있다. 이들 용제는 단독으로 이용해도 되고 2종 이상 혼합하여 이용해도 된다.The polymer compound can be synthesized on the basis of known methods. Examples of the solvent used in synthesizing the polymer compound include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, Methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propylacetate, N, N-dimethylethanolamine, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, Dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, and ethyl lactate. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

본 발명에 이용할 수 있는 고분자 화합물의 구체예로서는, 구스모토 가세이 가부시키가이샤제 "DA-7301", BYKChemie사제 "Disperbyk-101(폴리아마이드아민 인산염), 107(카복실산 에스터), 110(산기를 포함하는 공중합물), 111(인산계 분산제), 130(폴리아마이드), 161, 162, 163, 164, 165, 166, 170, 190(고분자 공중합물)", "BYK-P104, P105(고분자량 불포화 폴리카복실산)", EFKA사제 "EFKA4047, 4050~4010~4165(폴리유레테인계), EFKA4330~4340(블록 공중합체), 4400~4402(변성 폴리아크릴레이트), 5010(폴리에스터아마이드), 5765(고분자량 폴리카복실산염), 6220(지방산 폴리에스터), 6745(프탈로사이아닌 유도체), 6750(아조 안료 유도체)", 아지노모토 파인 테크노사제 "아지스퍼 PB821, PB822, PB880, PB881", 교에이샤 가카쿠사제 "플로렌 TG-710(유레테인 올리고머)", "폴리플로 No. 50E, No. 300(아크릴계 공중합체)", 구스모토 가세이사제 "디스파론 KS-860, 873SN, 874, #2150(지방족 다가 카복실산), #7004(폴리에터에스터), DA-703-50, DA-705, DA-725", 가오사제 "데몰 RN, N(나프탈렌설폰산 포말린 중축합물), MS, C, SN-B(방향족 설폰산 포말린 중축합물)", "호모게놀 L-18(고분자 폴리카복실산)", "에멀겐 920, 930, 935, 985(폴리옥시에틸렌노닐페닐에터)", "아세타민 86(스테아릴아민아세테이트)", 니혼 루브리졸(주)제 "솔스퍼스 5000(프탈로사이아닌 유도체), 22000(아조 안료 유도체), 13240(폴리에스터아민), 3000, 12000, 17000, 20000, 27000(말단부에 기능부를 갖는 고분자), 24000, 28000, 32000, 38500(그래프트 공중합체)", 닛코 케미컬즈사제 "닛콜 T106(폴리옥시에틸렌소비탄모노올리에이트), MYS-IEX(폴리옥시에틸렌모노스테아레이트)", 가와켄 파인 케미컬(주)제 히노액트 T-8000E 등, 신에쓰 가가쿠 고교(주)제, 오가노실록세인 폴리머 KP341, 유쇼(주)제 "W001: 양이온계 계면활성제", 폴리옥시에틸렌라우릴에터, 폴리옥시에틸렌스테아릴에터, 폴리옥시에틸렌올레일에터, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에터, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에터, 폴리에틸렌글라이콜다이라우레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이스테아레이트, 소비탄 지방산 에스터 등의 비이온계 계면활성제, "W004, W005, W017" 등의 음이온계 계면활성제, 모리시타 산교(주)제 "EFKA-46, EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA 폴리머 100, EFKA 폴리머 400, EFKA 폴리머 401, EFKA 폴리머 450", 산노프코(주)제 "디스퍼스에이드 6, 디스퍼스에이드 8, 디스퍼스에이드 15, 디스퍼스에이드 9100" 등의 고분자 분산제, (주)ADEKA제 "아데카 플루로닉 L31, F38, L42, L44, L61, L64, F68, L72, P95, F77, P84, F87, P94, L101, P103, F108, L121, P-123", 및 산요 가세이(주)제 "이오넷(상품명) S-20" 등을 들 수 있다. 또, 아크리베이스 FFS-6752, 아크리베이스 FFS-187, 아크리큐어 RD-F8, 및 사이클로머 P를 이용할 수도 있다.Specific examples of the polymer compound usable in the present invention include "DA-7301" manufactured by Goosumoto Kasei Co., Ltd., "Disperbyk-101 (polyamide amine phosphate)", BYKChemie Quot ;, "BYK-P104, P105 " (high molecular weight unsaturated poly (ethylene oxide)), 111 (phosphate dispersant), 130 (polyamide), 161,162,163,164,165,166,170,190 (Block copolymers), 4400 to 4402 (modified polyacrylate), 5010 (polyester amide), 5765 (polybutylene terephthalate), EFKA4047, 4050 to 4010 to 4165 (polyurethane resin), EFKA4330 to 4340 6750 (azo pigment derivative) "manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.," Ajisper PB821, PB822, PB880, PB881 "manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Quot; Fluorene TG-710 (Yreetain Oligomer) ", "Polyflur No. 50E, No. 300 (acrylic copolymer)" 703-50, DA-705, DA-725 ", manufactured by Kao Corporation, " Diparon KS-860, 873SN, 874, # 2150 (aliphatic polyvalent carboxylic acid) &Quot; Homogenol L-18 (Polymeric Polycarboxylic Acid) ", "Emulgen 920 ", " Dermol RN, N (Naphthalenesulfonic acid-formaldehyde polycondensate) , "930, 935, 985 (polyoxyethylene nonylphenyl ether)", "acetamin 86 (stearylamine acetate)", Nippon Rubisol Co., 28,000, 32000, 38500 (graft copolymer) "manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd.," manufactured by Nippon Kayaku Co., (Polyoxyethylene sorbitan monooleate), MYS-IEX (polyoxyethylene monostearate) ", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and Hinoact T-8000E manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co., , Oganosil COOPIN POLYMER KP341, "W001: cationic surfactant" manufactured by YUSHO CO., LTD., Polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, Nonionic surface active agents such as polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol diolate, polyethylene glycol distearate, and sorbitan fatty acid ester; anionic surface active agents such as "W004, W005, W017" EFKA Polymer 400, EFKA Polymer 401, EFKA Polymer 450 ", manufactured by Morishita Sangyo Co., Ltd., "EFKA-46, EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA Polymer 100, EFKA Polymer 400, F38, L42, L44, L61, L64, F68, L72, P95, F77, and F77, manufactured by ADEKA Co., (Trade name) S-20 "manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., and the like, There. In addition, Acrybee FFS-6752, Acrybee FFS-187, Acricheter RD-F8, and Cyclamer P may be used.

또, 양성(兩性) 수지의 시판품으로서는, 예를 들면 빅케미사제의 DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-142, DISPERBYK-145, DISPERBYK-180, DISPERBYK-187, DISPERBYK-191, DISPERBYK-2001, DISPERBYK-2010, DISPERBYK-2012, DISPERBYK-2025, BYK-9076, 아지노모토 파인 테크노사제의 아지스퍼 PB821, 아지스퍼 PB822, 및 아지스퍼 PB881 등을 들 수 있다.Examples of commercially available bisphenol resins include DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-142, DISPERBYK-145, DISPERBYK-180, DISPERBYK- DISPERBYK-2010, DISPERBYK-2012, DISPERBYK-2025, BYK-9076, Ajisper PB821, Ajisper PB822 and Ajisper PB881 manufactured by Ajinomoto Fine Techno.

이들 고분자 화합물은, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.These polymer compounds may be used alone or in combination of two or more.

또한, 고분자 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2013-249417호의 단락 0127~0129에 기재된 고분자 화합물을 참조할 수 있고, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.As specific examples of the polymer compound, reference can be made to the polymer compounds described in paragraphs 0127 to 0129 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-249417, the contents of which are incorporated herein by reference.

또, 분산제로서는, 상술한 고분자 화합물 이외에, 일본 공개특허공보 2010-106268호의 단락 0037~0115(대응하는 US2011/0124824의 단락 0075~0133란)의 그래프트 공중합체를 사용할 수 있고, 이들의 내용은 원용할 수 있으며, 본 명세서에 포함된다.As the dispersant, graft copolymers of the above-mentioned polymer compounds and paragraphs 0037 to 0115 (corresponding to paragraphs 0075 to 0133 of US2011 / 0124824) of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2010-106268 can be used, And is incorporated herein by reference.

또, 상기 이외에도, 일본 공개특허공보 2011-153283호의 단락 0028~0084(대응하는 US2011/0279759의 단락 0075~0133란)의 산성기가 연결기를 통하여 결합하여 이루어지는 측쇄 구조를 갖는 구성 성분을 포함하는 고분자 화합물을 사용할 수 있고, 이들의 내용은 원용할 수 있으며, 본 명세서에 포함된다.In addition to the above, a polymer compound comprising a constituent component having a side chain structure in which an acidic group of a compound of the paragraphs 0028 to 0084 (corresponding to paragraphs 0075 to 0133 of US2011 / 0279759) of JP-A No. 2011-153283 is bonded via a linking group , The contents of which are expressly incorporated herein by reference.

조성물이 분산제를 함유하는 경우에 있어서, 분산제의 함유량은, 조성물의 전체 고형분에 대하여, 0.1~50질량%가 바람직하고, 0.5~30질량%가 보다 바람직하다.In the case where the composition contains a dispersant, the content of the dispersant is preferably from 0.1 to 50 mass%, more preferably from 0.5 to 30 mass%, based on the total solid content of the composition.

분산제는, 1종 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상 병용해도 된다. 2종 이상을 병용하는 경우는, 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The dispersant may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, it is preferable that the total amount is in the above range.

<바인더 수지><Binder Resin>

본 발명의 조성물은, 바인더 수지를 함유하는 것이 바람직하다.The composition of the present invention preferably contains a binder resin.

바인더 수지로서는, 선상 유기 폴리머를 이용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 선상 유기 폴리머로서는, 공지의 것을 임의로 사용할 수 있다. 바람직하게는, 수현상(水現像) 또는 약알칼리수 현상을 가능하게 하기 위하여, 물 또는 약알칼리수에 가용성 또는 팽윤성인 선상 유기 폴리머가 선택된다. 그 중에서도, 바인더 수지로서는, 알칼리 가용성 수지(알칼리 가용성을 촉진하는 기를 갖는 수지)가 특히 바람직하다.As the binder resin, it is preferable to use a linear organic polymer. As such a linear organic polymer, any known one can be used. Preferably, a linear organic polymer that is soluble or swellable in water or weak alkaline water is selected to enable water development or weak alkaline development. Among them, an alkali-soluble resin (a resin having a group capable of promoting alkali solubility) is particularly preferable as the binder resin.

바인더 수지로서는, 선상 유기 폴리머로서, 분자(바람직하게는, (메트)아크릴계 공중합체, 또는 스타이렌계 공중합체를 주쇄로 하는 분자) 중에 적어도 하나의 알칼리 가용성을 촉진하는 기를 갖는 알칼리 가용성 수지 중에서 적절히 선택할 수 있다. 내열성의 관점에서는, 폴리하이드록시스타이렌계 수지, 폴리실록세인계 수지, (메트)아크릴계 수지, (메트)아크릴아마이드계 수지, (메트)아크릴/(메트)아크릴아마이드 공중합체 수지가 바람직하고, 현상성 제어의 관점에서는, (메트)아크릴계 수지, (메트)아크릴아마이드계 수지, (메트)아크릴/(메트)아크릴아마이드 공중합체 수지가 바람직하다.As the binder resin, it is preferable to use, as the linear organic polymer, an alkali-soluble resin having at least one group capable of promoting alkali solubility in a molecule (preferably, a (meth) acrylic copolymer or a molecule having a styrene- . From the viewpoint of heat resistance, a polyhydroxystyrene resin, a polysiloxane resin, a (meth) acrylic resin, a (meth) acrylamide resin and a (meth) acrylic / (meth) acrylamide copolymer resin are preferable, From the viewpoint of control, (meth) acrylic resins, (meth) acrylamide resins and (meth) acrylic / (meth) acrylamide copolymer resins are preferable.

알칼리 가용성을 촉진하는 기(이하, 산기라고도 함)로서는, 예를 들면 카복실기, 인산기, 설폰산기, 및 페놀성 수산기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 유기 용제에 가용이고 약알칼리 수용액에 의하여 현상 가능한 것이 바람직하며, (메트)아크릴산 유래의 구조 단위를 갖는 알칼리 가용성 수지를 보다 바람직한 것으로서 들 수 있다. 이들 산기는, 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.Examples of the group capable of promoting alkali solubility (hereinafter also referred to as acid group) include a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and a phenolic hydroxyl group. Among them, those soluble in an organic solvent and capable of being developed by a weakly alkaline aqueous solution are preferable, and an alkali-soluble resin having a structural unit derived from (meth) acrylic acid is more preferable. These acid groups may be only one kind, or two or more kinds.

바인더 수지로서는, 예를 들면 측쇄에 카복실산기를 갖는 라디칼 중합체, 예를 들면 일본 공개특허공보 소59-44615호, 일본 공고특허공보 소54-34327호, 일본 공고특허공보 소58-12577호, 일본 공고특허공보 소54-25957호, 일본 공개특허공보 소54-92723호, 일본 공개특허공보 소59-53836호, 및 일본 공개특허공보 소59-71048호에 기재되어 있는 것, 즉 카복실기를 갖는 모노머를 단독 혹은 공중합시킨 수지, 산무수물을 갖는 모노머를 단독 혹은 공중합시켜 산무수물 유닛을 가수분해 혹은 하프 에스터화 혹은 하프 아마이드화시킨 수지, 및 에폭시 수지를 불포화 모노 카복실산 및 산무수물로 변성시킨 에폭시아크릴레이트 등을 들 수 있다. 카복실기를 갖는 모노머의 예로서는, 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 크로톤산, 말레산, 푸마르산, 및 4-카복실스타이렌 등을 들 수 있고, 산무수물을 갖는 모노머의 예로서는, 무수 말레산 등을 들 수 있다. 또, 동일하게 측쇄에 카복실산기를 갖는 산성 셀룰로스 유도체도 예로서 들 수 있다. 그 외에 수산기를 갖는 중합체에 환상 산무수물을 부가시킨 것 등이 유용하다.As the binder resin, for example, a radical polymer having a carboxylic acid group in its side chain, for example, Japanese Patent Application Laid-open No. 59-44615, Japanese Patent Publication No. 54-34327, Japanese Patent Publication No. 58-12577, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 54-25957, 54-92723, 59-53836, and 59-71048, that is, monomers having a carboxyl group A resin in which an acid anhydride unit is hydrolyzed, half-esterified or half-aminated, or an epoxy acrylate in which an epoxy resin is modified with an unsaturated monocarboxylic acid or an acid anhydride, etc. . Examples of the monomer having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, and 4-carboxy styrene. Examples of the monomer having an acid anhydride include maleic anhydride, . An acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain may also be mentioned as an example. In addition, a polymer obtained by adding a cyclic acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group is useful.

또, 유럽 특허공보 제993966호, 유럽 특허공보 제1204000호, 및 일본 공개특허공보 2001-318463호 등의 각 공보에 기재된 산기를 갖는 아세탈 변성 폴리바이닐알코올계 바인더 수지는, 막 강도, 및 현상성의 밸런스가 우수하여 적합하다.The acetal-modified polyvinyl alcohol-based binder resin having an acid group described in each publication of European Patent Publication No. 993966, European Patent Publication No. 1204000, and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-318463 is excellent in film strength and developability It is suitable because of its excellent balance.

또한, 그 외에 수용성 선상 유기 폴리머로서, 폴리바이닐피롤리돈이나 폴리에틸렌옥사이드 등이 유용하다. 또, 경화 피막의 강도를 높이기 위하여, 알코올 가용성 나일론, 및 2,2-비스-(4-하이드록시페닐)-프로페인과 에피클로로하이드린의 반응물인 폴리에터 등도 유용하다.In addition, as the water-soluble linear organic polymer, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide and the like are useful. In addition, in order to increase the strength of the cured coating, alcohol-soluble nylon and a polyether which is a reaction product of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin are also useful.

특히, 이들 중에서도, 〔벤질(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/필요에 따라 그 외의 부가 중합성 바이닐 모노머〕 공중합체, 및 〔알릴(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/필요에 따라 그 외의 부가 중합성 바이닐 모노머〕 공중합체는, 막 강도, 감도, 및 현상성의 밸런스가 우수하여 적합하다.Particularly preferred among these are (benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally addition polymerizable vinyl monomer) copolymer and [allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / Addition polymerizable vinyl monomer] copolymer is suitable because it has excellent balance of film strength, sensitivity, and developability.

시판품으로서는, 예를 들면 아크리베이스 FF-187, FF-426(후지쿠라 가세이사제), 아크리큐어 RD-F8(닛폰 쇼쿠바이(주)), 및 다이셀 올넥스(주)제 사이클로머 P(ACA)230AA 등을 들 수 있다.Examples of commercially available products include commercially available products such as ACRYBASE FF-187, FF-426 (manufactured by Fujikura Chemical Industry Co., Ltd.), ARC Liqueur RD-F8 (manufactured by Nippon Shokubai Co., (ACA) 230AA, and the like.

바인더 수지의 제조에는, 예를 들면 공지의 라디칼 중합법에 의한 방법을 적용할 수 있다. 라디칼 중합법으로 알칼리 가용성 수지를 제조할 때의 온도, 압력, 라디칼 개시제의 종류 및 그 양과, 용제의 종류 등의 중합 조건은, 당업자에 있어서 용이하게 설정 가능하다.For the production of the binder resin, for example, a known radical polymerization method can be applied. Polymerization conditions such as the temperature and pressure at the time of producing the alkali-soluble resin by the radical polymerization method, the kind and amount of the radical initiator, and the kind of the solvent can be easily set by those skilled in the art.

또, 바인더 수지로서, 그래프트쇄를 갖는 구조 단위와, 산기(알칼리 가용성기)를 갖는 구조 단위를 갖는 폴리머를 사용하는 것도 바람직하다.As the binder resin, it is also preferable to use a polymer having a structural unit having a graft chain and a structural unit having an acid group (alkali-soluble group).

그래프트쇄를 갖는 구조 단위의 정의는, 상술한 분산제가 갖는 그래프트쇄를 갖는 구조 단위와 동의이고, 또 적합 범위도 동일하다.The definition of the structural unit having a graft chain is the same as that of the structural unit having the graft chain of the above-mentioned dispersant, and the preferable range is also the same.

산기로서는, 예를 들면 카복실산기, 설폰산기, 인산기, 또는 페놀성 수산기 등이 있고, 바람직하게는, 카복실산기, 설폰산기, 및 인산기 중 적어도 1종이며, 보다 바람직한 것은, 카복실산기이다.Examples of the acid group include a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, and a phenolic hydroxyl group, and preferably at least one of a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group, and more preferably a carboxylic acid group.

산기를 갖는 구조 단위로서는, 하기 일반식 (vii)~일반식 (ix)로 나타나는 단량체에서 유래하는 구조 단위로부터 선택된 1종 이상의 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다.The structural unit having an acid group preferably has at least one structural unit selected from the structural units derived from monomers represented by the following general formulas (vii) to (ix).

[화학식 7](7)

Figure pct00007
Figure pct00007

일반식 (vii)~일반식 (ix) 중, R21, R22, 및 R23은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자(예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자 등), 또는 탄소수가 1~6인 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등)를 나타낸다.In the general formulas (vii) to (ix), R 21 , R 22 and R 23 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom) , Or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (e.g., methyl, ethyl, propyl, etc.).

일반식 (vii)~일반식 (ix) 중, R21, R22, 및 R23은, 바람직하게는, 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 탄소수가 1~3인 알킬기이고, 보다 바람직하게는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기이다. 일반식 (vii) 중, R21 및 R23은, 각각 수소 원자인 것이 특히 바람직하다.In the general formulas (vii) to (ix), R 21 , R 22 and R 23 are preferably each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably, Is independently a hydrogen atom or a methyl group. In the general formula (vii), it is particularly preferable that R 21 and R 23 are each a hydrogen atom.

일반식 (vii) 중의 X2는, 산소 원자(-O-) 또는 이미노기(-NH-)를 나타내고, 산소 원자인 것이 바람직하다.X 2 in the general formula (vii) represents an oxygen atom (-O-) or an imino group (-NH-), preferably an oxygen atom.

또, 일반식 (viii) 중의 Y는, 메타인기 또는 질소 원자를 나타낸다.In the general formula (viii), Y represents a methoxy group or a nitrogen atom.

또, 일반식 (vii)~일반식 (ix) 중의 L2는, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. 2가의 연결기의 예로서는, 2가의 지방족기(예를 들면, 알킬렌기, 치환 알킬렌기, 알켄일렌기, 치환 알켄일렌기, 알카인일렌기, 및 치환 알카인일렌기), 2가의 방향족기(예를 들면, 아릴렌기, 및 치환 아릴렌기), 2가의 복소환기, 산소 원자(-O-), 황 원자(-S-), 이미노기(-NH-), 치환 이미노 결합(-NR41'-, 여기에서 R41'은 지방족기, 방향족기 또는 복소환기), 카보닐 결합(-CO-), 및 이들의 조합 등을 들 수 있다.L 2 in formulas (vii) to (ix) represents a single bond or a divalent linking group. Examples of the divalent linking group include a divalent aliphatic group (e.g., an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, a substituted alkenylene group, an alkenylene group, and a substituted alkenylene group) (-O-), a sulfur atom (-S-), an imino group (-NH-), a substituted imino group (-NR 41 '), a substituted or unsubstituted arylene group -, wherein R 41 'is an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group), a carbonyl bond (-CO-), and combinations thereof.

2가의 지방족기는, 환상 구조 또는 분기 구조를 갖고 있어도 된다. 지방족기의 탄소수는, 1~20이 바람직하고, 1~15가 보다 바람직하며, 1~10이 더 바람직하다. 지방족기는 불포화 지방족기보다 포화 지방족기가 바람직하다. 또, 지방족기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기의 예로서는, 할로젠 원자, 하이드록실기, 방향족기 및 복소환기를 들 수 있다.The divalent aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. The carbon number of the aliphatic group is preferably from 1 to 20, more preferably from 1 to 15, and even more preferably from 1 to 10. The aliphatic group is preferably a saturated aliphatic group rather than an unsaturated aliphatic group. The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aromatic group and a heterocyclic group.

2가의 방향족기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~15가 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다. 또, 방향족기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기의 예는, 할로젠 원자, 하이드록실기, 지방족기, 방향족기 및 복소환기를 들 수 있다.The carbon number of the divalent aromatic group is preferably from 6 to 20, more preferably from 6 to 15, and still more preferably from 6 to 10. The aromatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic group, an aromatic group and a heterocyclic group.

2가의 복소환기는, 복소환으로서 5원환 또는 6원환을 갖는 것이 바람직하다. 복소환에 다른 복소환, 지방족환 또는 방향족환 중 하나 이상이 축합하고 있어도 된다. 또, 복소환기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기의 예로서는, 할로젠 원자, 하이드록시기, 옥소기(=O), 싸이옥소기(=S), 이미노기(=NH), 치환 이미노기(=N-R42, 여기에서 R42는 지방족기, 방향족기 또는 복소환기), 지방족기, 방향족기 및 복소환기를 들 수 있다.The divalent heterocyclic group preferably has a 5-membered ring or a 6-membered ring as a heterocyclic ring. The heterocycle may be condensed with at least one of another heterocycle, an aliphatic ring or an aromatic ring. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent, a halogen atom, a hydroxyl group, an oxo group (= O), Im oxo group (= S), imino group (= NH), a substituted imino group (= NR 42, where R 42 is an aliphatic group, An aromatic group or a heterocyclic group), an aliphatic group, an aromatic group and a heterocyclic group.

L2는, 단결합, 알킬렌기 또는 옥시알킬렌 구조를 포함하는 2가의 연결기인 것이 바람직하다. 옥시알킬렌 구조는, 옥시에틸렌 구조 또는 옥시프로필렌 구조인 것이 보다 바람직하다. 또, L2는, 옥시알킬렌 구조를 2 이상 반복하여 포함하는 폴리옥시알킬렌 구조를 포함하고 있어도 된다. 폴리옥시알킬렌 구조로서는, 폴리옥시에틸렌 구조 또는 폴리옥시프로필렌 구조가 바람직하다. 폴리옥시에틸렌 구조는, -(OCH2CH2)n-으로 나타나고, n은, 2 이상의 정수가 바람직하며, 2~10의 정수인 것이 보다 바람직하다.L 2 is preferably a divalent linking group containing a single bond, an alkylene group or an oxyalkylene structure. The oxyalkylene structure is more preferably an oxyethylene structure or an oxypropylene structure. In addition, L 2 may contain a polyoxyalkylene structure containing two or more oxyalkylene structures repeatedly. As the polyoxyalkylene structure, a polyoxyethylene structure or a polyoxypropylene structure is preferable. The polyoxyethylene structure is represented by - (OCH 2 CH 2 ) n-, and n is preferably an integer of 2 or more, more preferably an integer of 2 to 10.

일반식 (vii)~일반식 (ix) 중, Z2는, 산기이고, 카복실산기인 것이 바람직하다.In the general formulas (vii) to (ix), Z 2 is an acid group and is preferably a carboxylic acid group.

일반식 (ix) 중, R24, R25, 및 R26은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로젠 원자(예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자 등), 탄소수가 1~6인 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등), -Z2, 또는 L2-Z2를 나타낸다. 여기에서 L2 및 Z2는, 상기에 있어서의 L2 및 Z2와 동의이고, 바람직한 예도 동일하다. R24, R25, 및 R26으로서는, 각각 독립적으로 수소 원자, 또는 탄소수가 1~3인 알킬기가 바람직하고, 수소 원자가 보다 바람직하다.In the general formula (ix), R 24 , R 25 and R 26 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom) An alkyl group (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, etc.), -Z 2 , or L 2 -Z 2 . Here, L 2 and Z 2 are, and L 2 and Z 2 as agreed in the above, the same preferable examples. R 24 , R 25 , and R 26 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom.

본 발명에 있어서는, 일반식 (vii)로 나타나는 단량체로서, R21, R22, 및 R23이 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기이고, L2가 알킬렌기 또는 옥시알킬렌 구조를 포함하는 2가의 연결기이며, X2가 산소 원자 또는 이미노기이고, Z2가 카복실산기인 화합물이 바람직하다.In the present invention, as the monomer represented by the general formula (vii), R 21 , R 22 , and R 23 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, and L 2 is an alkylene group or a divalent linking group , X 2 is an oxygen atom or an imino group, and Z 2 is a carboxylic acid group.

또, 일반식 (vii)로 나타나는 단량체로서, R21이 수소 원자 또는 메틸기이고, L2가 알킬렌기이며, Z2가 카복실산기이고, Y가 메타인기인 화합물이 바람직하다.As the monomer represented by the general formula (vii), a compound in which R 21 is a hydrogen atom or a methyl group, L 2 is an alkylene group, Z 2 is a carboxylic acid group, and Y is a meta-group is preferable.

또한, 일반식 (ix)로 나타나는 단량체로서, R24, R25, 및 R26이 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기이고, Z2가 카복실산기인 화합물이 바람직하다.As the monomer represented by the general formula (ix), a compound wherein R 24 , R 25 , and R 26 are each independently a hydrogen atom or a methyl group and Z 2 is a carboxylic acid group is preferable.

상기 바인더 수지는, 상술한 그래프트쇄를 갖는 구조 단위를 갖는 분산제와 동일한 방법에 의하여 합성할 수 있고, 또 그 바람직한 산가, 중량 평균 분자량도 동일하다.The binder resin can be synthesized by the same method as the dispersant having the structural unit having the graft chain described above, and its preferable acid value and weight average molecular weight are also the same.

상기 바인더 수지는, 산기를 갖는 구조 단위를 1종 또는 2종 이상 가져도 된다.The binder resin may contain one or more structural units having an acid group.

산기를 갖는 구조 단위의 함유량은, 질량 환산으로, 상기 바인더 수지의 총 질량에 대하여, 바람직하게는 5~95%이며, 보다 바람직하게는, 알칼리 현상에 의한 화상 강도의 대미지 억제라는 관점에서, 10~90%이다.The content of the structural unit having an acid group is preferably from 5 to 95%, in terms of mass, relative to the total mass of the binder resin, more preferably from 10 to 10%, from the viewpoint of suppressing the damage of the image strength due to alkali development To 90%.

본 발명의 조성물에 있어서의 바인더 수지의 함유량은, 조성물의 전체 고형분에 대하여, 0.1~30질량%인 것이 바람직하고, 0.3~25질량%인 것이 보다 바람직하다.The content of the binder resin in the composition of the present invention is preferably 0.1 to 30 mass%, more preferably 0.3 to 25 mass%, based on the total solid content of the composition.

바인더 수지는, 1종 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상 병용해도 된다. 2종 이상을 병용하는 경우는, 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The binder resin may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, it is preferable that the total amount is in the above range.

본 발명의 조성물에 있어서, 상기 타이타늄 질화물 함유 입자에 대한 상기 분산제의 함유 비율(분산제/타이타늄 질화물 함유 입자(이하, "D/P"라고도 함) 질량비)은, 0.3 이하인 것이 바람직하고, 0.05~0.3인 것이 보다 바람직하며, 0.1~0.3인 것이 더 바람직하다. 함유비 D/P가 상기 범위 내에 있으면, 분산액의 성능 재현성이 우수한 것 외에, 경화막의 패터닝성(해상성)도 우수하다.In the composition of the present invention, the content ratio of the dispersant to the titanium nitride-containing particles (the mass ratio of the dispersant / titanium nitride-containing particles (hereinafter also referred to as "D / P")) is preferably 0.3 or less, , More preferably from 0.1 to 0.3. When the content ratio D / P is within the above range, not only the performance reproducibility of the dispersion is excellent, but also the patterning property (resolution) of the cured film is excellent.

<중합성 화합물><Polymerizable compound>

본 발명의 조성물은, 중합성 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.The composition of the present invention preferably contains a polymerizable compound.

중합성 화합물은, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 기를 1개 이상 갖는 화합물이 바람직하고, 2개 이상 갖는 화합물이 보다 바람직하며, 3개 이상 갖는 것이 더 바람직하고, 5개 이상 갖는 것이 특히 바람직하다. 상한은, 예를 들면 15개 이하이다. 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 기로서는, 예를 들면 바이닐기, (메트)알릴기, 및 (메트)아크릴로일기 등을 들 수 있다.The polymerizable compound is preferably a compound having at least one group having an ethylenically unsaturated bond, more preferably at least two compounds, more preferably at least three, and particularly preferably at least five. The upper limit is, for example, 15 or less. Examples of the group having an ethylenic unsaturated bond include a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group.

중합성 화합물은, 예를 들면 모노머, 프리폴리머, 올리고머, 및 이들의 혼합물과 이들의 다량체 등의 화학적 형태 중 어느 것이어도 되고, 모노머가 바람직하다.The polymerizable compound may be any of chemical forms such as, for example, a monomer, a prepolymer, an oligomer, a mixture thereof and a multimer thereof, and a monomer is preferable.

중합성 화합물의 분자량은, 100~3000이 바람직하고, 250~1500이 보다 바람직하다.The molecular weight of the polymerizable compound is preferably 100 to 3000, more preferably 250 to 1500.

중합성 화합물은, 3~15관능의 (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 바람직하고, 3~6관능의 (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 보다 바람직하다.The polymerizable compound is preferably a (meth) acrylate compound having 3 to 15 functional groups, and more preferably a (meth) acrylate compound having 3 to 6 functional groups.

모노머, 프리폴리머의 예로서는, 불포화 카복실산(예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 크로톤산, 아이소크로톤산, 말레산 등)이나 그 에스터류, 아마이드류와, 이들의 다량체를 들 수 있고, 바람직하게는, 불포화 카복실산과 지방족 다가 알코올 화합물과의 에스터, 및 불포화 카복실산과 지방족 다가 아민 화합물과의 아마이드류와 이들의 다량체이다. 또, 하이드록실기, 아미노기, 머캅토기 등의 구핵성 치환기를 갖는 불포화 카복실산 에스터 혹은 아마이드류와, 단관능 혹은 다관능 아이소사이아네이트류 혹은 에폭시류와의 부가 반응물, 상기 불포화 카복실산 에스터 혹은 아마이드류와, 단관능 혹은 다관능의 카복실산과의 탈수 축합 반응물 등도 적합하게 사용된다. 또, 아이소사이아네이트기, 에폭시기 등의 친전자성 치환기를 갖는 불포화 카복실산 에스터 혹은 아마이드류와, 단관능 혹은 다관능의 알코올류, 아민류, 싸이올류와의 반응물, 할로젠기, 토실옥시기 등의 탈리성 치환기를 갖는 불포화 카복실산 에스터 혹은 아마이드류와, 단관능 혹은 다관능의 알코올류, 아민류, 싸이올류와의 반응물도 적합하다. 또, 상기의 불포화 카복실산 대신에, 불포화 포스폰산, 스타이렌 등의 바이닐벤젠 유도체, 바이닐에터, 알릴에터 등으로 치환된 화합물군을 사용하는 것도 가능하다.Examples of monomers and prepolymers include unsaturated carboxylic acids (e.g., acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof, amides, and oligomers thereof , Preferably an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound, and oligomers thereof. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or multifunctional isocyanate or an epoxide, an unsaturated carboxylic acid ester or an amide And a dehydration condensation reaction product with a monofunctional or multifunctional carboxylic acid are suitably used. The unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group may be reacted with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines, reaction products with thiols, halogen group, tosyloxy group, etc. Unsaturated carboxylic acid esters or amides having a salting-out substituent and mono- or polyfunctional alcohols, amines and thiols are also suitable. It is also possible to use a group of compounds substituted with an unsaturated phosphonic acid, a vinylbenzene derivative such as styrene, a vinyl ether, an ally ether or the like in place of the above unsaturated carboxylic acid.

이들의 구체적인 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2009-288705호의 단락 〔0095〕~〔0108〕에 기재되어 있는 화합물을 본 발명에 있어서도 적합하게 이용할 수 있다.As specific compounds thereof, the compounds described in paragraphs [0095] to [0108] of JP-A No. 2009-288705 can be suitably used in the present invention.

본 발명에 있어서, 중합성 화합물로서는, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 기를 1개 이상 갖는, 상압하에서 100℃ 이상의 비점을 갖는 화합물도 바람직하다. 그 예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0227, 일본 공개특허공보 2008-292970호의 단락 0254~0257에 기재된 화합물을 참조할 수 있고, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.In the present invention, as the polymerizable compound, a compound having at least one group having an ethylenic unsaturated bond and having a boiling point of 100 캜 or more at normal pressure is also preferable. As an example thereof, reference may be made to the compounds described in paragraphs 0227 and 027 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-29760 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-292970, the contents of which are incorporated herein by reference.

중합성 화합물은, 다이펜타에리트리톨트라이아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-330; 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제), 다이펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-320; 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제), 다이펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-310; 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제), 다이펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD DPHA; 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제, A-DPH-12E; 신나카무라 가가쿠사제), 및 이들의 (메트)아크릴로일기가 에틸렌글라이콜 잔기 또는 프로필렌글라이콜 잔기를 개재하고 있는 구조(예를 들면, 사토머사로부터 시판되고 있는, SR454, SR499)가 바람직하다. 이들의 올리고머 타입도 사용할 수 있다. 또, NK에스터 A-TMMT(펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 신나카무라 가가쿠(주)제), 및 KAYARAD RP-1040(닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제) 등을 사용할 수도 있다.As the polymerizable compound, dipentaerythritol triacrylate (KAYARAD D-330, Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha) and dipentaerythritol tetraacrylate (KAYARAD D-320, Nippon Kayaku Co., Ltd., (KAYARAD D-310 manufactured by Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha), dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (commercially available as KAYARAD DPHA; Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha), dipentaerythritol penta A-DPH-12E manufactured by Shin-Nakamura Kagaku Co., Ltd.), and a structure in which the (meth) acryloyl group intervenes between the ethylene glycol residue or the propylene glycol residue (for example, SR454, SR499, which are commercially available from Mitsubishi Chemical Corporation) are preferred. These oligomer types can also be used. NK Ester A-TMMT (pentaerythritol tetraacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Kagaku Co., Ltd.) and KAYARAD RP-1040 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) can also be used.

이하에 바람직한 중합성 화합물의 양태를 나타낸다.Preferred embodiments of the polymerizable compound are shown below.

중합성 화합물은, 카복실기, 설폰산기, 및 인산기 등의 산기를 갖고 있어도 된다. 산기를 갖는 중합성 화합물로서는, 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카복실산의 에스터가 바람직하고, 지방족 폴리하이드록시 화합물의 미반응의 하이드록실기에 비방향족 카복실산 무수물을 반응시켜 산기를 갖게 한 중합성 화합물이 보다 바람직하며, 더 바람직하게는, 이 에스터에 있어서, 지방족 폴리하이드록시 화합물이 펜타에리트리톨 및/또는 다이펜타에리트리톨인 것이다. 시판품으로서는, 예를 들면 도아 고세이 가부시키가이샤제의, 아로닉스 TO-2349, M-305, M-510, 및 M-520 등을 들 수 있다.The polymerizable compound may have an acid group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group. As the polymerizable compound having an acid group, an aliphatic polyhydroxy compound and an ester of an unsaturated carboxylic acid are preferable, and a polymerizable compound having an acid group by reacting an unreacted hydroxyl group of the aliphatic polyhydroxy compound with a nonaromatic carboxylic acid anhydride More preferably, in this ester, the aliphatic polyhydroxy compound is pentaerythritol and / or dipentaerythritol. Commercially available products include Aronix TO-2349, M-305, M-510, and M-520 manufactured by Toagosei Co.,

산기를 갖는 중합성 화합물의 바람직한 산가로서는, 0.1~40mgKOH/g이고, 보다 바람직하게는 5~30mgKOH/g이다. 중합성 화합물의 산가가 0.1mgKOH/g 이상이면, 현상 용해 특성이 양호하고, 40mgKOH/g 이하이면, 제조나 취급상, 유리하다. 나아가서는, 광중합 성능이 양호하여, 경화성이 우수하다.The acid value of the polymerizable compound having an acid group is preferably from 0.1 to 40 mgKOH / g, and more preferably from 5 to 30 mgKOH / g. If the acid value of the polymerizable compound is 0.1 mgKOH / g or more, the development and dissolution characteristics are good, and if it is 40 mgKOH / g or less, it is advantageous in terms of production and handling. Further, the photopolymerization performance is good and the curability is excellent.

중합성 화합물은, 카프로락톤 구조를 갖는 화합물도 바람직한 양태이다.The polymerizable compound is also a preferred embodiment of the compound having a caprolactone structure.

카프로락톤 구조를 갖는 화합물로서는, 분자 내에 카프로락톤 구조를 갖는 한 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 트라이메틸올에테인, 다이트라이메틸올에테인, 트라이메틸올프로페인, 다이트라이메틸올프로페인, 펜타에리트리톨, 다이펜타에리트리톨, 트라이펜타에리트리톨, 글리세린, 다이글리세롤, 트라이메틸올멜라민 등의 다가 알코올과, (메트)아크릴산 및 ε-카프로락톤을 에스터화함으로써 얻어지는, ε-카프로락톤 변성 다관능 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 그 중에서도 하기 일반식 (Z-1)로 나타나는 카프로락톤 구조를 갖는 화합물이 바람직하다.The compound having a caprolactone structure is not particularly limited as long as it has a caprolactone structure in the molecule, and examples thereof include trimethylolethane, ditrimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, penta (Meth) acrylic acid and? -Caprolactone obtained by esterifying a polyhydric alcohol such as trimethylol propane, trimethylol propane, trimethylol propane, trimethylol propane, trimethylol propane, trimethylol propane, (Meth) acrylate. Among them, a compound having a caprolactone structure represented by the following general formula (Z-1) is preferable.

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

일반식 (Z-1) 중, 6개의 R은 모두가 하기 일반식 (Z-2)로 나타나는 기이거나, 또는 6개의 R 중 1~5개가 하기 일반식 (Z-2)로 나타나는 기이고, 잔여가 하기 일반식 (Z-3)으로 나타나는 기이다.In the general formula (Z-1), all six R's are groups represented by the following general formula (Z-2), or one to five of the six R's are groups represented by the following general formula (Z-2) And the remainder is a group represented by the following general formula (Z-3).

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

일반식 (Z-2) 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, m은 1 또는 2의 수를 나타내며, "*"는 결합손인 것을 나타낸다.In the general formula (Z-2), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, m represents a number of 1 or 2, and "*" represents a bonding bond.

[화학식 10][Chemical formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

일반식 (Z-3) 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, "*"는 결합손인 것을 나타낸다.In the general formula (Z-3), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and "*" represents a bonding bond.

카프로락톤 구조를 갖는 중합성 화합물은, 예를 들면 닛폰 가야쿠(주)로부터 KAYARAD DPCA 시리즈로서 시판되고 있고, DPCA-20(상기 식 (Z-1)~(Z-3)에 있어서 m=1, 식 (Z-2)로 나타나는 기의 수=2, R1이 모두 수소 원자인 화합물), DPCA-30(동일 식, m=1, 식 (Z-2)로 나타나는 기의 수=3, R1이 모두 수소 원자인 화합물), DPCA-60(동일 식, m=1, 식 (Z-2)로 나타나는 기의 수=6, R1이 모두 수소 원자인 화합물), 및 DPCA-120(동일 식에 있어서 m=2, 식 (Z-2)로 나타나는 기의 수=6, R1이 모두 수소 원자인 화합물) 등을 들 수 있다.The polymerizable compound having a caprolactone structure is commercially available, for example, as KAYARAD DPCA series from Nippon Kayaku Co., and DPCA-20 (in the formulas (Z-1) to (Z-3) , The number of groups represented by formula (Z-2) = 2, and R 1 are all hydrogen atoms), DPCA-30 (number of groups represented by the formula: m = R 1 is a hydrogen atom), DPCA-60 (the compound represented by the formula: m = 1, the number of groups represented by the formula (Z-2) = 6 and R 1 are all hydrogen atoms), and DPCA-120 M = 2 in the same formula, the number of groups represented by the formula (Z-2) = 6, and R 1 are all hydrogen atoms).

중합성 화합물은, 하기 일반식 (Z-4) 또는 (Z-5)로 나타나는 화합물을 이용할 수도 있다.The polymerizable compound may be a compound represented by the following general formula (Z-4) or (Z-5).

[화학식 11](11)

Figure pct00011
Figure pct00011

일반식 (Z-4) 및 (Z-5) 중, E는, 각각 독립적으로, -((CH2)yCH2O)-, 또는 -((CH2)yCH(CH3)O)-를 나타내고, y는, 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내며, X는, 각각 독립적으로, (메트)아크릴로일기, 수소 원자, 또는 카복실기를 나타낸다.In the general formulas (Z-4) and (Z-5), E is each independently - ((CH 2 ) y CH 2 O) - or - ((CH 2 ) y CH (CH 3 ) -, y represents an integer independently from 0 to 10, and X represents, independently of each other, a (meth) acryloyl group, a hydrogen atom, or a carboxyl group.

일반식 (Z-4) 중, (메트)아크릴로일기의 합계는 3개 또는 4개이고, m은 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내며, 각 m의 합계는 0~40의 정수이다.In the general formula (Z-4), the sum of the (meth) acryloyl groups is 3 or 4, m is independently an integer of 0 to 10, and the sum of m is an integer of 0 to 40.

일반식 (Z-5) 중, (메트)아크릴로일기의 합계는 5개 또는 6개이고, n은 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내며, 각 n의 합계는 0~60의 정수이다.In the general formula (Z-5), the sum of the (meth) acryloyl groups is 5 or 6, and each n independently represents an integer of 0 to 10, and the sum of n is an integer of 0 to 60.

일반식 (Z-4) 중, m은, 0~6의 정수가 바람직하고, 0~4의 정수가 보다 바람직하다.In the general formula (Z-4), m is preferably an integer of 0 to 6, more preferably an integer of 0 to 4.

또, 각 m의 합계는, 2~40의 정수가 바람직하고, 2~16의 정수가 보다 바람직하며, 4~8의 정수가 더 바람직하다.The sum of each m is preferably an integer of 2 to 40, more preferably an integer of 2 to 16, and still more preferably an integer of 4 to 8.

일반식 (Z-5) 중, n은, 0~6의 정수가 바람직하고, 0~4의 정수가 보다 바람직하다.In the general formula (Z-5), n is preferably an integer of 0 to 6, more preferably an integer of 0 to 4.

또, 각 n의 합계는, 3~60의 정수가 바람직하고, 3~24의 정수가 보다 바람직하며, 6~12의 정수가 더 바람직하다.The sum of each n is preferably an integer of 3 to 60, more preferably an integer of 3 to 24, and still more preferably an integer of 6 to 12.

또, 일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5) 중의 -((CH2)yCH2O)- 또는 -((CH2)yCH(CH3)O)-는, 산소 원자 측의 말단이 X에 결합하는 형태가 바람직하다.- ((CH 2 ) y CH 2 O) - or - ((CH 2 ) y CH (CH 3 ) O) - in the general formula (Z-4) or the general formula (Z- Side is bonded to X is preferable.

일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5)로 나타나는 화합물은 1종 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상 병용해도 된다. 특히, 일반식 (Z-5)에 있어서, 6개의 X 모두가 아크릴로일기인 형태, 일반식 (Z-5)에 있어서, 6개의 X 모두가 아크릴로일기인 화합물과, 6개의 X 중, 적어도 하나가 수소 원자인 화합물과의 혼합물인 양태가 바람직하다. 이와 같은 구성으로 함으로써, 현상성을 보다 향상시킬 수 있다.The compounds represented by the general formula (Z-4) or (Z-5) may be used singly or in combination of two or more. Particularly, in the compound represented by the general formula (Z-5) in which all of the six X's are acryloyl groups, in the compound represented by the general formula (Z-5) And a compound in which at least one is a hydrogen atom is preferable. With such a configuration, the developability can be further improved.

또, 일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5)로 나타나는 화합물의 중합성 화합물 중에 있어서의 전체 함유량으로서는, 20질량% 이상이 바람직하고, 50질량% 이상이 보다 바람직하다.The total content of the compound represented by the formula (Z-4) or (Z-5) in the polymerizable compound is preferably 20% by mass or more, and more preferably 50% by mass or more.

일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5)로 나타나는 화합물은, 종래 공지의 공정인, 펜타에리트리톨 또는 다이펜타에리트리톨에 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드를 개환 부가 반응에 의하여 개환 골격을 결합하는 공정과, 개환 골격의 말단 하이드록실기에, 예를 들면 (메트)아크릴로일 클로라이드를 반응시켜 (메트)아크릴로일기를 도입하는 공정으로부터 합성할 수 있다. 각 공정은 잘 알려진 공정이고, 당업자는 용이하게 일반식 (Z-4) 또는 (Z-5)로 나타나는 화합물을 합성할 수 있다.The compound represented by the general formula (Z-4) or the general formula (Z-5) can be produced by subjecting pentaerythritol or dipentaerythritol, which is a conventionally known process, to a ring opening skeleton And a step of introducing a (meth) acryloyl group by reacting, for example, (meth) acryloyl chloride to the terminal hydroxyl group of the ring opening skeleton. Each process is a well-known process, and a person skilled in the art can easily synthesize a compound represented by formula (Z-4) or (Z-5).

일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5)로 나타나는 화합물 중에서도, 펜타에리트리톨 유도체 및/또는 다이펜타에리트리톨 유도체가 보다 바람직하다.Among the compounds represented by formula (Z-4) or formula (Z-5), pentaerythritol derivatives and / or dipentaerythritol derivatives are more preferable.

구체적으로는, 하기 식 (a)~(f)로 나타나는 화합물을 들 수 있고, 그 중에서도 예시 화합물(a), (b), (e), (f)가 바람직하다.Specifically, the compounds represented by the following formulas (a) to (f) are exemplified, and among them, the exemplified compounds (a), (b), (e), and (f) are preferable.

[화학식 12][Chemical Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

[화학식 13][Chemical Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

일반식 (Z-4), (Z-5)로 나타나는 중합성 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면 사토머사제의 에틸렌옥시쇄를 4개 갖는 4관능 아크릴레이트인 SR-494, 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제의 펜틸렌옥시쇄를 6개 갖는 6관능 아크릴레이트인 DPCA-60, 및 아이소뷰틸렌옥시쇄를 3개 갖는 3관능 아크릴레이트인 TPA-330 등을 들 수 있다.Examples of commercially available products of the polymerizable compounds represented by the general formulas (Z-4) and (Z-5) include SR-494, a tetrafunctional acrylate having four ethyleneoxy chains of Satomar Co., DPCA-60, which is a hexafunctional acrylate having six pentylene oxy chains, and TPA-330, which is a trifunctional acrylate having three isobutyleneoxy chains, and the like.

중합성 화합물로서는, 일본 공고특허공보 소48-41708호, 일본 공개특허공보 소51-37193호, 일본 공고특허공보 평2-32293호, 및 일본 공고특허공보 평2-16765호에 기재되어 있는 바와 같은 유레테인아크릴레이트류나, 일본 공고특허공보 소58-49860호, 일본 공고특허공보 소56-17654호, 일본 공고특허공보 소62-39417호, 및 일본 공고특허공보 소62-39418호에 기재된 에틸렌옥사이드계 골격을 갖는 유레테인 화합물류도 적합하다. 또, 일본 공개특허공보 소63-277653호, 일본 공개특허공보 소63-260909호, 및 일본 공개특허공보 평1-105238호에 기재되는, 분자 내에 아미노 구조나 설파이드 구조를 갖는 부가 중합성 화합물류를 이용함으로써, 매우 감광 스피드가 우수한 조성물을 얻을 수 있다.Examples of the polymerizable compound include those described in JP-A-48-41708, JP-A-51-37193, JP-A-2-32293, and JP-A-2-16765 Such as urethane acrylates described in JP-A-58-49860, JP-A-56-17654, JP-A-62-39417, and JP-A-62-39418 Yutein compounds having an ethylene oxide skeleton are also suitable. In addition, the addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909 and JP-A-1-105238 A composition having a very high photosensitive speed can be obtained.

시판품으로서는, 유레테인 올리고머 UAS-10, UAB-140(산요 고쿠사쿠 펄프사제), UA-7200(신나카무라 가가쿠사제), DPHA-40H(닛폰 가야쿠사제), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, 및 AI-600(교에이샤제) 등을 들 수 있다.(Commercially available from Shin-Nakamura Kagaku), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku), UA-306H, UA-306T (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) , UA-306I, AH-600, T-600, and AI-600 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).

또, 본 발명에 사용되는 중합성 화합물은, SP(용해 파라미터)값이, 9.50 이상인 것이 바람직하고, 10.40 이상인 것이 보다 바람직하며, 10.60 이상이 더 바람직하다.The polymerizable compound used in the present invention preferably has a SP (dissolution parameter) value of 9.50 or more, more preferably 10.40 or more, and even more preferably 10.60 or more.

또한, 본 명세서에 있어서 SP값은, 특별히 설명하지 않는 한 Hoy법에 의하여 구한다(H. L. Hoy Journal of Painting, 1970, Vol. 42, 76-118). 또, SP값에 대해서는 단위를 생략하여 나타내고 있지만, 그 단위는 cal1/2cm-3/2이다.In this specification, the SP value is obtained by the Hoy method (HL Hoy Journal of Painting, 1970, Vol. 42, 76-118) unless otherwise specified. The SP value is shown by omitting the unit, but its unit is cal 1/2 cm -3/2 .

또, 조성물은, 현상 잔사 저감의 관점에서, 카도 골격을 갖는 중합성 화합물을 갖는 것도 바람직하다.It is also preferable that the composition has a polymerizable compound having a cardo skeleton from the viewpoint of reducing development residue.

카도 골격을 갖는 중합성 화합물로서는, 9,9-비스아릴플루오렌 골격을 갖는 중합성 화합물이 바람직하고, 하기 식 (Q3)으로 나타나는 화합물이 보다 바람직하다.As the polymerizable compound having a cardo skeleton, a polymerizable compound having a 9,9-bisarylfluorene skeleton is preferable, and a compound represented by the following formula (Q3) is more preferable.

일반식 (Q3)In general formula (Q3)

[화학식 14][Chemical Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

상기 일반식 (Q3) 중, Ar11~Ar14는 각각 독립적으로 파선으로 둘러싸인 벤젠환을 포함하는 아릴기를 나타낸다. X1~X4는 각각 독립적으로 중합성기를 갖는 치환기를 나타내고, 상기 치환기 중의 탄소 원자는 헤테로 원자에 의하여 치환되어 있어도 된다. a 및 b는 각각 독립적으로 1~5의 정수를 나타내고, c 및 d는 각각 독립적으로 0~4의 정수를 나타낸다. R1~R4는 각각 독립적으로 치환기를 나타내고, e, f, g 및 h는 각각 독립적으로 0 이상의 정수를 나타내며, e, f, g 및 h의 상한값은 각각 Ar11~Ar14가 가질 수 있는 치환기의 수로부터 a, b, c 또는 d를 뺀 값이다. 단, Ar11~Ar14가 각각 독립적으로 파선으로 둘러싸인 벤젠환을 축합환의 하나로서 포함하는 다환 방향족 탄화 수소기인 경우는, X1~X4 및 R1~R4는 각각 독립적으로 파선으로 둘러싸인 벤젠환으로 치환되어 있어도 되고, 파선으로 둘러싸인 벤젠환 이외의 환으로 치환되어 있어도 된다.In the general formula (Q3), Ar 11 to Ar 14 each independently represent an aryl group including a benzene ring surrounded by a broken line. X 1 to X 4 each independently represent a substituent having a polymerizable group, and the carbon atom in the substituent may be substituted by a heteroatom. a and b each independently represent an integer of 1 to 5; and c and d each independently represent an integer of 0 to 4; R 1 ~ R 4 each independently represent a substituent, e, f, g and h each independently represent an integer of 0 or more, e, the upper limit of f, g and h are in the Ar 11 ~ Ar 14 may have, respectively A, b, c or d from the number of substituents. When Ar 11 to Ar 14 each independently represent a polycyclic aromatic hydrocarbon group containing a benzene ring surrounded by a broken line as one of the condensed rings, X 1 to X 4 and R 1 to R 4 are each independently a benzene ring surrounded by a dashed line Or may be substituted with a ring other than a benzene ring surrounded by a broken line.

상기 일반식 (Q3) 중, Ar11~Ar14가 나타내는 파선으로 둘러싸인 벤젠환을 포함하는 아릴기는, 탄소수 6~14의 아릴기인 것이 바람직하고, 탄소수 6~10의 아릴기(예를 들면, 페닐기, 나프틸기)인 것이 보다 바람직하며, 페닐기(파선으로 둘러싸인 벤젠환만)인 것이 더 바람직하다.In the general formula (Q3), the aryl group containing a benzene ring surrounded by the broken line represented by Ar 11 to Ar 14 is preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 10 carbon atoms , Naphthyl group), and more preferably a phenyl group (benzene ring surrounded by a broken line).

상기 일반식 (Q3) 중, X1~X4는 각각 독립적으로 중합성기를 갖는 치환기를 나타내고, 상기 치환기 중의 탄소 원자는 헤테로 원자에 의하여 치환되어 있어도 된다. X1~X4가 나타내는 중합성기를 갖는 치환기로서는 특별히 제한은 없지만, 중합성기를 갖는 지방족기인 것이 바람직하다.In the general formula (Q3), X 1 to X 4 each independently represent a substituent having a polymerizable group, and the carbon atom in the substituent may be substituted by a heteroatom. The substituent having a polymerizable group represented by X 1 to X 4 is not particularly limited, but is preferably an aliphatic group having a polymerizable group.

X1~X4가 나타내는 중합성기를 갖는 지방족기로서는, 특별히 제한은 없지만, 중합성기 이외에 있어서의 탄소수가 1~12의 알킬렌기인 것이 바람직하고, 탄소수 2~10의 알킬렌기인 것이 보다 바람직하며, 탄소수 2~5의 알킬렌기인 것이 더 바람직하다.The aliphatic group having a polymerizable group represented by X 1 to X 4 is not particularly limited, but is preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms other than the polymerizable group, more preferably an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms , And more preferably an alkylene group having 2 to 5 carbon atoms.

또, X1~X4가 나타내는 중합성기를 갖는 지방족기에 있어서, 상기 지방족기가 헤테로 원자에 의하여 치환되는 경우는, -NR-(R은 치환기), 산소 원자, 또는 황 원자에 의하여 치환되어 있는 것이 바람직하고, 상기 지방족기 중 인접하지 않은 -CH2-가 산소 원자 또는 황 원자로 치환되어 있는 것이 보다 바람직하며, 상기 지방족기 중 인접하지 않은 -CH2-가 산소 원자로 치환되어 있는 것이 더 바람직하다. X1~X4가 나타내는 중합성기를 갖는 지방족기는, 헤테로 원자에 의하여 1~2개소 치환되어 있는 것이 바람직하고, 헤테로 원자에 의하여 1개소 치환되어 있는 것이 보다 바람직하며, Ar11~Ar14가 나타내는 파선으로 둘러싸인 벤젠환을 포함하는 아릴기에 인접하는 1개소가 헤테로 원자에 의하여 치환되어 있는 것이 더 바람직하다.In the aliphatic group having a polymerizable group represented by X 1 to X 4 , when the aliphatic group is substituted by a heteroatom, it is preferably a group substituted by -NR- (R is a substituent), an oxygen atom, or a sulfur atom preferably, -CH 2 non-adjacent of said aliphatic group - is more preferable, which is substituted with an oxygen atom or a sulfur atom, and, -CH 2 non-adjacent of said aliphatic group - is more preferred that the optionally substituted oxygen atom. The aliphatic group having a polymerizable group represented by X 1 to X 4 is preferably substituted by 1 to 2 substituents selected from a hetero atom, more preferably one substituent by a heteroatom, and Ar 11 to Ar 14 It is more preferable that one adjacent to the aryl group including the benzene ring surrounded by the broken line is substituted by a hetero atom.

X1~X4가 나타내는 중합성기를 갖는 지방족기에 포함되는 중합성기로서는, 라디칼 중합 또는 양이온 중합 가능한 중합성기(이하, 각각 라디칼 중합성기 및 양이온 중합성기라고도 함)가 바람직하다.As the polymerizable group contained in the aliphatic group having a polymerizable group represented by X 1 to X 4 , a polymerizable group capable of radical polymerization or cationic polymerization (hereinafter also referred to as a radical polymerizable group and a cationic polymerizable group, respectively) is preferable.

라디칼 중합성기로서는, 일반적으로 알려져 있는 라디칼 중합성기를 이용할 수 있고, 적합한 것으로서 라디칼 중합 가능한 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성기를 들 수 있으며, 구체적으로는 바이닐기, (메트)아크릴로일옥시기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, (메트)아크릴로일옥시기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다.As the radical polymerizing group, there can be used generally known radically polymerizing groups, and suitable ones include polymerizable groups having radically polymerizable ethylenically unsaturated bonds, and specific examples thereof include a vinyl group, a (meth) acryloyloxy group and the like . Among them, a (meth) acryloyloxy group is preferable, and an acryloyloxy group is more preferable.

양이온 중합성기로서는, 일반적으로 알려져 있는 양이온 중합성기를 이용할 수 있고, 구체적으로는, 지환식 에터기, 환상 아세탈기, 환상 락톤기, 환상 싸이오에터기, 스파이로오쏘에스터기, 및 바이닐옥시기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 지환식 에터기 또는 바이닐옥시기가 적합하고, 에폭시기, 옥세탄일기, 또는 바이닐옥시기가 특히 바람직하다.As the cationic polymerizable group, generally known cationic polymerizable groups can be used. Specific examples thereof include aliphatic ether groups, cyclic acetal groups, cyclic lactone groups, cyclic thioether groups, spiroorthoesters groups, and vinyloxy groups . Among them, an alicyclic ether or vinyloxy group is preferable, and an epoxy group, oxetanyl group, or vinyloxy group is particularly preferable.

Ar1~Ar4가 포함하는 치환기가 갖는 상기 중합성기는, 라디칼 중합성기인 것이 바람직하다.The polymerizable group of the substituent group contained in Ar 1 to Ar 4 is preferably a radical polymerizable group.

Ar1~Ar4 중 2개 이상은 중합성기를 갖는 치환기를 포함하고, Ar1~Ar4 중 2~4개가 중합성기를 갖는 치환기를 포함하는 것이 바람직하며, Ar1~Ar4 중 2 또는 3개가 중합성기를 갖는 치환기를 포함하는 것이 보다 바람직하고, Ar1~Ar4 중 2개가 중합성기를 갖는 치환기를 포함하는 것이 더 바람직하다.Ar 1 ~ Ar least two of the four comprises a substituent having a polymerizable group, Ar 1 ~ Ar may include a substituent having a 42-4 dog polymerization of the penis and, Ar 1 ~ Ar 4 of 2 or 3 More preferably a substituent having a polymerizable group, and more preferably two of Ar 1 to Ar 4 include a substituent having a polymerizable group.

Ar11~Ar14가 각각 독립적으로 파선으로 둘러싸인 벤젠환을 축합환의 하나로서 포함하는 다환 방향족 탄화 수소기인 경우는, X1~X4는 각각 독립적으로 파선으로 둘러싸인 벤젠환으로 치환되어 있어도 되고, 파선으로 둘러싸인 벤젠환 이외의 환으로 치환되어 있어도 된다.When Ar 11 to Ar 14 each independently represent a polycyclic aromatic hydrocarbon group containing a benzene ring surrounded by a broken line as one of the condensed rings, X 1 to X 4 may each independently be substituted with a benzene ring surrounded by a broken line, May be substituted by a ring other than a benzene ring.

상기 일반식 (Q3) 중, a 및 b는 각각 독립적으로 1~5의 정수를 나타내고, 1 또는 2인 것이 바람직하며, a 및 b가 모두 1인 것이 보다 바람직하다.In the general formula (Q3), a and b each independently represent an integer of 1 to 5, preferably 1 or 2, and more preferably all of a and b.

상기 일반식 (Q3) 중, c 및 d는 각각 독립적으로 0~5의 정수를 나타내고, 0 또는 1인 것이 바람직하며, c 및 d가 모두 0인 것이 보다 바람직하다.In the general formula (Q3), c and d each independently represent an integer of 0 to 5, preferably 0 or 1, and more preferably all of c and d are 0.

상기 일반식 (Q3) 중, R1~R4는 각각 독립적으로 치환기를 나타낸다. R1~R4가 나타내는 치환기로서는 특별히 제한은 없지만, 예를 들면 할로젠 원자, 할로젠화 알킬기, 알킬기, 알켄일기, 아실기, 하이드록실기, 하이드록시알킬기, 알콕시기, 아릴기, 헤테로아릴기, 및 지환기 등을 들 수 있다. R1~R4가 나타내는 치환기는 알킬기, 알콕시기 또는 아릴기인 것이 바람직하고, 탄소수 1~5의 알킬기, 탄소수 1~5의 알콕시기 또는 페닐기인 것이 보다 바람직하며, 메틸기, 메톡시기 또는 페닐기인 것이 더 바람직하다.In the general formula (Q3), R 1 to R 4 each independently represent a substituent. The substituent represented by R 1 to R 4 is not particularly limited and examples thereof include a halogen atom, a halogenated alkyl group, an alkyl group, an alkenyl group, an acyl group, a hydroxyl group, a hydroxyalkyl group, an alkoxy group, Groups, and vicinal groups. The substituent represented by R 1 to R 4 is preferably an alkyl group, an alkoxy group or an aryl group, more preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a phenyl group, more preferably a methyl group, More preferable.

상기 일반식 (Q3) 중, Ar11~Ar14가 각각 독립적으로 파선으로 둘러싸인 벤젠환을 축합환의 하나로서 포함하는 다환 방향족 탄화 수소기인 경우는, R1~R4는 각각 독립적으로 파선으로 둘러싸인 벤젠환으로 치환되어 있어도 되고, 파선으로 둘러싸인 벤젠환 이외의 환으로 치환되어 있어도 된다.In the general formula (Q3), when Ar 11 to Ar 14 each independently represent a polycyclic aromatic hydrocarbon group containing a benzene ring surrounded by a broken line as one of the condensed rings, R 1 to R 4 are each independently a benzene ring surrounded by a dashed line Or may be substituted with a ring other than a benzene ring surrounded by a broken line.

상기 일반식 (Q3) 중, e, f, g 및 h는 각각 독립적으로 0 이상의 정수를 나타내고, e, f, g 및 h의 상한값은 각각 Ar11~Ar14가 가질 수 있는 치환기의 수로부터 a, b, c 또는 d를 뺀 값이다.In the above general formula (Q3), e, f, g and h each independently represents an integer of 0 or more, e, f, g and the upper limit value of h is a from a number of substituents that Ar 11 ~ Ar 14 may have, respectively , b, c, or d.

e, f, g 및 h는 각각 독립적으로 0~8인 것이 바람직하고, 0~2인 것이 보다 바람직하며, 0인 것이 더 바람직하다.e, f, g and h are each independently preferably 0 to 8, more preferably 0 to 2, still more preferably 0.

Ar11~Ar14가 각각 독립적으로 파선으로 둘러싸인 벤젠환을 축합환의 하나로서 포함하는 다환 방향족 탄화 수소기인 경우, e, f, g 및 h는 0 또는 1인 것이 바람직하고, 0인 것이 보다 바람직하다.When Ar 11 to Ar 14 each independently represent a polycyclic aromatic hydrocarbon group containing a benzene ring surrounded by a broken line as one of the condensed rings, e, f, g and h are preferably 0 or 1, and more preferably 0 .

상기 식 (Q3)으로 나타나는 화합물로서는, 예를 들면 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌 등을 들 수 있다. 9,9-비스아릴플루오렌 골격을 갖는 중합성 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2010-254732호에 기재된 화합물류도 적합하게 이용할 수 있다.Examples of the compound represented by the formula (Q3) include 9,9-bis [4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene. As the polymerizable compound having a 9,9-bisarylfluorene skeleton, the compounds described in JP-A-2010-254732 can also be suitably used.

본 발명의 조성물이 중합성 화합물을 함유하는 경우에 있어서, 중합성 화합물의 함유량은, 조성물의 전체 고형분에 대하여, 0.1~40질량%가 바람직하다. 하한은, 예를 들면 0.5질량% 이상이 보다 바람직하고, 1질량% 이상이 더 바람직하다. 상한은, 예를 들면 30질량% 이하가 보다 바람직하고, 20질량% 이하가 더 바람직하다.In the case where the composition of the present invention contains a polymerizable compound, the content of the polymerizable compound is preferably from 0.1 to 40 mass% with respect to the total solid content of the composition. The lower limit is more preferably 0.5% by mass or more, for example, and further preferably 1% by mass or more. The upper limit is more preferably 30 mass% or less, for example, and still more preferably 20 mass% or less.

중합성 화합물은, 1종 단독이어도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 2종 이상을 병용하는 경우는, 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The polymerizable compounds may be used singly or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, it is preferable that the total amount is in the above range.

<중합 개시제><Polymerization Initiator>

본 발명의 조성물은, 중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다.The composition of the present invention preferably contains a polymerization initiator.

중합 개시제로서는 특별히 제한은 없고, 공지의 중합 개시제 중에서 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들면 감광성을 갖는 것(이른바, 광중합 개시제)이 바람직하다.The polymerization initiator is not particularly limited and can be appropriately selected from known polymerization initiators, and for example, those having photosensitivity (so-called photopolymerization initiator) are preferable.

본 발명의 조성물은, 타이타늄 질화물 함유 입자 외에, 광중합 개시제 및 상술한 중합성 화합물을 함유하는 경우에는, 활성광선 또는 방사선의 조사에 의하여 경화하는 점에서, "감광성 조성물"이라고 불리는 경우가 있다.The composition of the present invention is sometimes referred to as a "photosensitive composition" in that it contains a photopolymerization initiator and the aforementioned polymerizable compound in addition to the titanium nitride-containing particles, because it cures upon irradiation with an actinic ray or radiation.

광중합 개시제로서는, 중합성 화합물의 중합을 개시하는 능력을 갖는 한, 특별히 제한은 없고, 공지의 광중합 개시제 중에서 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면, 자외선 영역으로부터 가시의 광선에 대하여 감광성을 갖는 것이 바람직하다. 또, 광여기된 증감제와 어떠한 작용을 일으켜, 활성 라디칼을 생성하는 활성제여도 되고, 모노머의 종류에 따라 양이온 중합을 개시시키는 개시제여도 된다.The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has the ability to initiate polymerization of the polymerizable compound, and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, it is preferable to have photosensitivity to a visible ray from an ultraviolet ray region. In addition, it may be an activator that generates an active radical by generating some action with a photosensitized sensitizer, or may be an initiator that initiates cationic polymerization depending on the type of the monomer.

또, 광중합 개시제는, 약 300nm~800nm(330nm~500nm가 보다 바람직함)의 범위 내에 적어도 약 50의 몰 흡광 계수를 갖는 화합물을, 적어도 1종 함유하고 있는 것이 바람직하다.The photopolymerization initiator preferably contains at least one compound having a molar extinction coefficient of at least about 50 within a range of about 300 nm to 800 nm (more preferably 330 nm to 500 nm).

광중합 개시제로서는, 예를 들면 할로젠화 탄화 수소 유도체(예를 들면, 트라이아진 골격을 갖는 것, 옥사다이아졸 골격을 갖는 것, 등), 아실포스핀옥사이드 등의 아실포스핀 화합물, 헥사아릴바이이미다졸, 옥심 유도체 등의 옥심 화합물, 유기 과산화물, 싸이오 화합물, 케톤 화합물, 방향족 오늄염, 케톡심에터, 아미노아세토페논 화합물, 및 하이드록시아세토페논 등을 들 수 있다. 상기 트라이아진 골격을 갖는 할로젠화 탄화 수소 화합물로서는, 예를 들면 와카바야시 등 저, Bull. Chem. Soc. Japan, 42, 2924(1969)에 기재된 화합물, 영국 특허공보 1388492호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 소53-133428호에 기재된 화합물, 독일 특허공보 3337024호에 기재된 화합물, F. C. Schaefer 등에 의한 J. Org. Chem.; 29, 1527(1964)에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 소62-58241호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 평5-281728호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 평5-34920호에 기재된 화합물, 및 미국 특허공보 제4212976호에 기재되어 있는 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include acylphosphine compounds such as halogenated hydrocarbon derivatives (for example, those having a triazine skeleton, oxadiazole skeletons, etc.), acylphosphine oxides and the like, Oxime compounds such as imidazole and oxime derivatives, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ketoxime ethers, aminoacetophenone compounds, and hydroxyacetophenones. As the halogenated hydrocarbon compound having a triazine skeleton, for example, Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. Compounds described in GB-A-5313428, compounds described in German Patent Publication No. 3337024, compounds described in J. Org., &Lt; RTI ID = 0.0 &gt; . Chem .; 29, 1527 (1964), compounds described in JP-A-62-58241, compounds described in JP-A-5-281728, compounds described in JP-A-5-34920, and Compounds described in U.S. Patent No. 4212976, and the like.

또, 노광 감도의 관점에서, 트라이할로메틸트라이아진 화합물, 벤질다이메틸케탈 화합물, α-하이드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물, 아실포스핀 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 메탈로센 화합물, 옥심 화합물, 트라이알릴이미다졸 다이머, 오늄 화합물, 벤조싸이아졸 화합물, 벤조페논 화합물, 아세토페논 화합물 및 그 유도체, 사이클로펜타다이엔-벤젠-철 착체 및 그 염, 할로메틸옥사다이아졸 화합물과, 3-아릴 치환 쿠마린 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 화합물이 바람직하다.From the viewpoint of exposure sensitivity, it is also possible to use a trihalomethyltriazine compound, a benzyldimethylketal compound, an? -Hydroxyketone compound, an? -Amino ketone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, Oxime compounds, triallyl imidazole dimers, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds and derivatives thereof, cyclopentadiene-benzene-iron complexes and salts thereof, halomethyloxadiazole compounds, And a 3-aryl-substituted coumarin compound.

더 바람직하게는, 트라이할로메틸트라이아진 화합물, α-아미노케톤 화합물, 아실포스핀 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 옥심 화합물, 트라이알릴이미다졸 다이머, 오늄 화합물, 벤조페논 화합물, 아세토페논 화합물이고, 트라이할로메틸트라이아진 화합물, α-아미노케톤 화합물, 옥심 화합물, 트라이알릴이미다졸 다이머, 벤조페논 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물이 특히 바람직하다.More preferably, it is a trihalomethyltriazine compound, an? -Amino ketone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, an oxime compound, a triallylimidazole dimer, an onium compound, a benzophenone compound or an acetophenone compound , At least one compound selected from the group consisting of a trihalomethyltriazine compound, an? -Amino ketone compound, an oxime compound, a triallylimidazole dimer, and a benzophenone compound is particularly preferable.

특히, 본 발명의 조성물을 고체 촬상 소자의 차광막의 제작에 사용하는 경우에는, 미세한 패턴을 샤프한 형상으로 형성할 필요가 있기 때문에, 경화성과 함께 미노광부에 잔사가 없이 현상되는 것이 중요하다. 이와 같은 관점에서는, 광중합 개시제로서는 옥심 화합물을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 특히, 고체 촬상 소자에 있어서 미세한 패턴을 형성하는 경우, 경화용 노광에 스테퍼 노광을 이용하지만, 이 노광기는 할로젠에 의하여 손상되는 경우가 있고, 광중합 개시제의 첨가량도 낮게 억제할 필요가 있기 때문에, 이들 점을 고려하면, 고체 촬상 소자와 같은 미세 패턴을 형성하기 위해서는 광중합 개시제로서는, 옥심 화합물을 이용하는 것이 특히 바람직하다. 또, 옥심 화합물을 이용함으로써, 색 전이성을 보다 양호하게 할 수 있다.Particularly, when the composition of the present invention is used for the production of a light-shielding film of a solid-state image sensor, it is necessary to form a fine pattern in a sharp shape, so that it is important that the composition is cured and developed without residue on the unexposed portion. From this viewpoint, it is particularly preferable to use an oxime compound as the photopolymerization initiator. Particularly, in the case of forming a fine pattern in a solid-state image pickup device, stepper exposure is used for curing exposure, but this exposure device may be damaged by halogen, and the addition amount of the photopolymerization initiator also needs to be suppressed to a low level, Taking these points into consideration, it is particularly preferable to use an oxime compound as a photopolymerization initiator in order to form a fine pattern such as a solid-state imaging element. In addition, by using an oxime compound, the colorimetricity can be further improved.

광중합 개시제의 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0265~0268을 참조할 수 있고, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.As specific examples of the photopolymerization initiator, reference can be made, for example, to paragraphs 0265 to 0268 of JP-A-2013-29760, the contents of which are incorporated herein by reference.

광중합 개시제로서는, 하이드록시아세토페논 화합물, 아미노아세토페논 화합물, 및 아실포스핀 화합물도 적합하게 이용할 수 있다. 보다 구체적으로는, 예를 들면 일본 공개특허공보 평10-291969호에 기재된 아미노아세토페논계 개시제, 일본 특허 제4225898호에 기재된 아실포스핀계 개시제도 이용할 수 있다.As the photopolymerization initiator, a hydroxyacetophenone compound, an aminoacetophenone compound, and an acylphosphine compound can also be suitably used. More specifically, for example, the aminoacetophenone initiator disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-291969 or the acylphosphine initiator disclosed in Japanese Patent No. 4225898 may be used.

하이드록시아세토페논계 개시제로서는, IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, 및 IRGACURE-127(상품명: 모두 BASF사제)을 이용할 수 있다.As the hydroxyacetophenone-based initiator, IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959 and IRGACURE-127 (all trade names, manufactured by BASF) can be used.

아미노아세토페논계 개시제로서는, 시판품인 IRGACURE-907, IRGACURE-369, 및 IRGACURE-379EG(상품명: 모두 BASF사제)를 이용할 수 있다. 아미노아세토페논계 개시제는, 365nm 또는 405nm 등의 장파 광원에 흡수 파장이 매칭된 일본 공개특허공보 2009-191179 공보에 기재된 화합물도 이용할 수 있다.As the aminoacetophenone-based initiator, commercially available IRGACURE-907, IRGACURE-369, and IRGACURE-379EG (all trade names, manufactured by BASF) can be used. As the aminoacetophenone-based initiator, compounds described in JP-A-2009-191179 in which the absorption wavelength is matched to a long-wavelength light source such as 365 nm or 405 nm can be used.

아실포스핀계 개시제로서는, 시판품인 IRGACURE-819 및 DAROCUR-TPO(상품명: 모두 BASF사제)를 이용할 수 있다.As the acylphosphine-based initiator, commercially available IRGACURE-819 and DAROCUR-TPO (all trade names, all manufactured by BASF) can be used.

광중합 개시제로서, 보다 바람직하게는 옥심 화합물을 들 수 있다. 특히 옥심계 개시제는 고감도로 중합 효율이 높고, 색재 농도에 관계 없이 경화할 수 있어, 색재의 농도를 높게 설계하기 쉽기 때문에 바람직하다.The photopolymerization initiator is more preferably an oxime compound. In particular, the oxime-based initiator is preferable because it has high sensitivity, high polymerization efficiency, can be cured irrespective of the coloring material concentration, and can be easily designed with high coloring density.

옥심 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2001-233842호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2000-80068호에 기재된 화합물, 및 일본 공개특허공보 2006-342166호에 기재된 화합물을 이용할 수 있다.Specific examples of the oxime compounds include compounds described in JP 2001-233842 A, compounds described in JP-A 2000-80068, and compounds described in JP 2006-342166 A.

본 발명에 있어서, 적합하게 이용할 수 있는 옥심 화합물로서는, 예를 들면 3-벤조일옥시이미노뷰탄-2-온, 3-아세톡시이미노뷰탄-2-온, 3-프로피온일옥시이미노뷰탄-2-온, 2-아세톡시이미노펜탄-3-온, 2-아세톡시이미노-1-페닐프로판-1-온, 2-벤조일옥시이미노-1-페닐프로판-1-온, 3-(4-톨루엔설폰일옥시)이미노뷰탄-2-온, 및 2-에톡시카보닐옥시이미노-1-페닐프로판-1-온 등을 들 수 있다.Examples of oxime compounds that can be suitably used in the present invention include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan- , 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino- 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, and the like.

또, J. C. S. Perkin II(1979년) pp. 1653-1660, J. C. S. Perkin II(1979년) pp. 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology(1995년) pp. 202-232, 일본 공개특허공보 2000-66385호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2000-80068호, 일본 공표특허공보 2004-534797호, 및 일본 공개특허공보 2006-342166호의 각 공보에 기재된 화합물 등도 들 수 있다.J. C. S. Perkin II (1979) pp. Pp. 1653-1660, J. C. S. Perkin II (1979) pp. Pp. 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) pp. 202-232, JP-A 2000-66385, JP-A 2000-80068, JP-A 2004-534797, JP-A 2006-342166, etc. .

시판품에서는 IRGACURE-OXE01(BASF사제), IRGACURE-OXE02(BASF사제)도 적합하게 이용된다. 또, TR-PBG-304(창저우 강력 전자 신재료 유한공사(Changzhou Tronly New Electronic Materials Co., Ltd.)제), 아데카 아클즈 NCI-831 및 아데카 아클즈 NCI-930(ADEKA사제)도 이용할 수 있다. 또, N-1919(ADEKA사제)도 사용할 수 있다.IRGACURE-OXE01 (manufactured by BASF) and IRGACURE-OXE02 (manufactured by BASF) are suitably used in commercial products. ADEKA ACKNES NCI-831 and ADEKA ACKLS NCI-930 (manufactured by ADEKA), TR-PBG-304 (manufactured by Changzhou Tronly New Electronic Materials Co., Ltd.) Can also be used. N-1919 (manufactured by ADEKA) can also be used.

또 상기 기재 이외의 옥심 화합물로서, 카바졸 N위에 옥심이 연결된 일본 공표특허공보 2009-519904호에 기재된 화합물, 벤조페논 부위에 헤테로 치환기가 도입된 미국 특허공보 제7626957호에 기재된 화합물, 색소 부위에 나이트로기가 도입된 일본 공개특허공보 2010-15025호 및 미국 특허공개공보 2009-292039호에 기재된 화합물, 국제 공개특허공보 2009-131189호에 기재된 케톡심 화합물, 트라이아진 골격과 옥심 골격을 동일 분자 내에 함유하는 미국 특허공보 7556910호에 기재된 화합물, 및 405nm에 흡수 극대를 갖고 g선 광원에 대하여 양호한 감도를 갖는 일본 공개특허공보 2009-221114호에 기재된 화합물 등을 이용해도 된다.As oxime compounds other than the above-mentioned materials, compounds described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-519904 in which oxime is linked to carbazole N, compounds described in U.S. Patent No. 7626957 in which a hetero substituent is introduced into a benzophenone moiety, Compounds disclosed in Japanese Unexamined Patent Application Publication Nos. 2002-15025 and 2009-292039 where nitro groups are introduced, ketoxime compounds described in International Patent Publication No. 2009-131189, triazine skeleton and oxime skeleton in the same molecule And compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-221114 having a maximum absorption at 405 nm and good sensitivity to a g-ray light source may be used.

바람직하게는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0274~0275를 참조할 수 있고, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.Preferably, for example, reference is made to paragraphs 0274 to 0275 of JP-A-2013-29760, the contents of which are incorporated herein by reference.

구체적으로는, 옥심 화합물로서는, 하기 식 (OX-1)로 나타나는 화합물이 바람직하다. 또한, 옥심의 N-O 결합이 (E)체의 옥심 화합물이어도 되고, (Z)체의 옥심 화합물이어도 되며, (E)체와 (Z)체의 혼합물이어도 된다.Specifically, the oxime compound is preferably a compound represented by the following formula (OX-1). Further, the N-O bond of the oxime may be an oxime compound of the (E) form, an oxime compound of the (Z) form, or a mixture of the form (E) and the form (Z).

[화학식 15][Chemical Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

일반식 (OX-1) 중, R 및 B는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내고, A는 2가의 유기기를 나타내며, Ar은 아릴기를 나타낸다.In the general formula (OX-1), R and B each independently represent a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, and Ar represents an aryl group.

일반식 (OX-1) 중, R로 나타나는 1가의 치환기로서는, 1가의 비금속 원자단인 것이 바람직하다.In the general formula (OX-1), the monovalent substituent represented by R is preferably a monovalent non-metallic atomic group.

1가의 비금속 원자단으로서는, 알킬기, 아릴기, 아실기, 알콕시카보닐기, 아릴옥시카보닐기, 복소환기, 알킬싸이오카보닐기, 및 아릴싸이오카보닐기 등을 들 수 있다. 또, 이들 기는, 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 된다. 또, 상술한 치환기는, 또 다른 치환기로 치환되어 있어도 된다.Examples of the monovalent nonmetal atomic group include an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a heterocyclic group, an alkylthiocarbonyl group, and an arylthiocarbonyl group. These groups may have one or more substituents. The substituent described above may be substituted with another substituent.

치환기로서는 할로젠 원자, 아릴옥시기, 알콕시카보닐기 또는 아릴옥시카보닐기, 아실옥시기, 아실기, 알킬기, 및 아릴기 등을 들 수 있다.Examples of the substituent include a halogen atom, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acyl group, an alkyl group, and an aryl group.

일반식 (OX-1) 중, B로 나타나는 1가의 치환기로서는, 아릴기, 복소환기, 아릴카보닐기, 또는 복소환 카보닐기가 바람직하다. 이들 기는 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 상술한 치환기를 예시할 수 있다.In the general formula (OX-1), the monovalent substituent represented by B is preferably an aryl group, a heterocyclic group, an arylcarbonyl group or a heterocyclic carbonyl group. These groups may have one or more substituents. As the substituent, the above-mentioned substituent can be exemplified.

일반식 (OX-1) 중, A로 나타나는 2가의 유기기로서는, 탄소수 1~12의 알킬렌기, 사이클로알킬렌기, 또는 알카인일렌기가 바람직하다. 이들 기는 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 상술한 치환기를 예시할 수 있다.In the general formula (OX-1), as the divalent organic group represented by A, an alkylene group, a cycloalkylene group or an alkane-ylene group having 1 to 12 carbon atoms is preferable. These groups may have one or more substituents. As the substituent, the above-mentioned substituent can be exemplified.

본 발명은, 광중합 개시제로서 불소 원자를 갖는 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 불소 원자를 갖는 옥심 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-262028호에 기재된 화합물, 일본 공표특허공보 2014-500852호에 기재된 화합물 24, 36~40, 및 일본 공개특허공보 2013-164471호에 기재된 화합물 (C-3) 등을 들 수 있다. 이 내용은 본 명세서에 원용되는 것으로 한다.In the present invention, it is also possible to use an oxime compound having a fluorine atom as a photopolymerization initiator. Specific examples of the fluorine atom-containing oxime compounds include compounds described in JP-A-2010-262028, compounds 24, 36 to 40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471 (C-3), and the like. The contents of which are incorporated herein by reference.

본 발명은, 광중합 개시제로서 하기 일반식 (1) 또는 (2)로 나타나는 화합물을 이용할 수도 있다.In the present invention, a compound represented by the following general formula (1) or (2) may be used as a photopolymerization initiator.

[화학식 16][Chemical Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

식 (1)에 있어서, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 4~20의 지환식 탄화 수소기, 탄소수 6~30의 아릴기, 또는 탄소수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고, R1 및 R2가 페닐기의 경우, 페닐기끼리가 결합하여 플루오렌기를 형성해도 되고, R3 및 R4는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소수 4~20의 복소환기를 나타내며, X는, 단결합 또는 카보닐기를 나타낸다.In formula (1), R 1 and R 2 each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an aryl group having 7 to 30 carbon atoms in the case of an aryl group, R 1 and R 2 is a phenyl group, and combine with the phenyl group together form a group fluorene, R 3 and R 4 are, each independently, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, having a carbon number of 6 An aryl group having 7 to 30 carbon atoms or a heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, and X represents a single bond or a carbonyl group.

식 (2)에 있어서, R1, R2, R3 및 R4는, 식 (1)에 있어서의 R1, R2, R3 및 R4와 동의이고, R5는, -R6, -OR6, -SR6, -COR6, -CONR6R6, -NR6COR6, -OCOR6, -COOR6, -SCOR6, -OCSR6, -COSR6, -CSOR6, -CN, 할로젠 원자 또는 수산기를 나타내며, R6은, 탄소수 1~20의 알킬기, 탄소수 6~30의 아릴기, 탄소수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소수 4~20의 복소환기를 나타내고, X는, 단결합 또는 카보닐기를 나타내며, a는 0~4의 정수를 나타낸다.In the formula (2), R 1, R 2, R 3 and R 4, R 1, in the formula (1) R 2, R 3 and R 4 with the consent and, R 5 is, -R 6, -OR 6, -SR 6, -COR 6 , -CONR 6 R 6, -NR 6 COR 6, -OCOR 6, -COOR 6, -SCOR 6, -OCSR 6, -COSR 6, -CSOR 6, -CN , A halogen atom or a hydroxyl group, and R 6 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, Or a carbonyl group, and a represents an integer of 0 to 4.

상기 식 (1) 및 식 (2)에 있어서, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 아이소프로필, 사이클로헥실기 또는 페닐기가 바람직하다. R3은 메틸기, 에틸기, 페닐기, 톨릴기 또는 자일릴기가 바람직하다. R4는 탄소수 1~6의 알킬기 또는 페닐기가 바람직하다. R5는 메틸기, 에틸기, 페닐기, 톨릴기 또는 나프틸기가 바람직하다. X는 단결합이 바람직하다.In the above formulas (1) and (2), R 1 and R 2 are each independently preferably a methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, cyclohexyl group or phenyl group. R 3 is preferably a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, a tolyl group or a xylyl group. R 4 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group. R 5 is preferably a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, a tolyl group or a naphthyl group. X is preferably a single bond.

식 (1) 및 식 (2)로 나타나는 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2014-137466호의 단락 번호 0076~0079에 기재된 화합물을 들 수 있다. 이 내용은 본 명세서에 원용되는 것으로 한다.Specific examples of the compounds represented by the formulas (1) and (2) include the compounds described in paragraphs 0076 to 0079 of JP-A No. 2014-137466. The contents of which are incorporated herein by reference.

본 발명에 있어서 바람직하게 사용되는 옥심 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the oxime compounds preferably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

[화학식 17][Chemical Formula 17]

Figure pct00017
Figure pct00017

본 발명은, 광중합 개시제로서, 벤조퓨란 골격을 갖는 옥심 화합물을 이용할 수도 있다.The present invention can also use an oxime compound having a benzofuran skeleton as a photopolymerization initiator.

구체예로서는, WO2015/036910 공보에 기재되는 OE-01~OE-75를 들 수 있다.Specific examples thereof include OE-01 to OE-75 described in WO2015 / 036910.

또, 시판되고 있는 중합 개시제로서는, 특별히 한정은 되지 않지만, BASF 재팬사제 IRGACURE OXE01(1.2-옥테인다이온,1-[4-(페닐싸이오)-,2-(O-벤조일옥심)]), IRGACURE OXE02(에탄온,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카바졸-3-일]-,1-(O-아세틸옥심)), 2-(아세틸옥시이미노메틸)싸이오잔텐-9-온, O-아실옥심계 화합물(예를 들면, ADEKA사제 아데카 옵토머 N-1919, 아데카 아클즈 NCI-831), 아데카 아클즈 NCI-930, IRGACURE-OXE03, IRGACURE-OXE04 등도 들 수 있고, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.The commercially available polymerization initiator is not particularly limited, but IRGACURE OXE01 (1.2-octene ion, 1- [4- (phenylthio) -, 2- (O-benzoyloxime)]) , IRGACURE OXE02 (ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -, 1- (O-acetyloxime) Methyl) thioxanthene-9-one, O-acyloxime compounds (for example, ADEKA OPTOMER N-1919 and ADEKA ACKLS NCI-831 manufactured by ADEKA), ADEKA ACKLS NCI-930, IRGACURE- OXE03, IRGACURE-OXE04, and the like, all of which are incorporated herein by reference.

옥심 화합물은, 350nm~500nm의 파장 영역에 극대 흡수 파장을 갖는 것이 바람직하고, 360nm~480nm의 파장 영역에 극대 흡수 파장을 갖는 것이 보다 바람직하며, 365nm 및 405nm의 흡광도가 높은 것이 특히 바람직하다.The oxime compound preferably has a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 350 nm to 500 nm, more preferably a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 360 nm to 480 nm, and particularly preferably a high absorbance at 365 nm and 405 nm.

옥심 화합물은, 365nm 또는 405nm에 있어서의 몰 흡광 계수는, 감도의 관점에서, 1,000~300,000인 것이 바람직하고, 2,000~300,000인 것이 보다 바람직하며, 5,000~200,000인 것이 더 바람직하다.The oxime compound preferably has a molar extinction coefficient at 365 nm or 405 nm of 1,000 to 300,000, more preferably 2,000 to 300,000, and still more preferably 5,000 to 200,000 from the viewpoint of sensitivity.

화합물의 몰 흡광 계수는, 공지의 방법을 이용할 수 있지만, 예를 들면 자외 가시 분광 광도계(Varian사제 Cary-5 spectrophotometer)로, 아세트산 에틸 용매를 이용하여 0.01g/L의 농도로 측정하는 것이 바람직하다.The molar extinction coefficient of the compound can be measured by a known method. For example, it is preferable that the molar extinction coefficient is measured at a concentration of 0.01 g / L by using an ultraviolet visible spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian) using an ethyl acetate solvent .

본 발명에 이용되는 광중합 개시제는, 필요에 따라 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The photopolymerization initiator used in the present invention may be used in combination of two or more as necessary.

본 발명의 조성물이 중합 개시제를 함유하는 경우, 중합 개시제의 함유량은, 조성물 중의 전체 고형분에 대하여, 0.1~30질량%인 것이 바람직하고, 1~25질량%인 것이 보다 바람직하며, 1~10질량%인 것이 더 바람직하다. 본 발명의 조성물은, 중합 개시제를, 1종류만을 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.When the composition of the present invention contains a polymerization initiator, the content of the polymerization initiator is preferably 0.1 to 30 mass%, more preferably 1 to 25 mass%, and more preferably 1 to 10 mass%, based on the total solid content in the composition % Is more preferable. The composition of the present invention may contain only one type of polymerization initiator or two or more types of the polymerization initiator. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<용제><Solvent>

본 발명의 조성물은, 용제를 함유하는 것이 바람직하고, 유기 용제를 함유하는 것이 보다 바람직하다.The composition of the present invention preferably contains a solvent, and more preferably contains an organic solvent.

유기 용제의 예로서는, 예를 들면 아세톤, 메틸에틸케톤, 사이클로헥세인, 아세트산 에틸, 에틸렌 다이클로라이드, 테트라하이드로퓨란, 톨루엔, 에틸렌글라이콜모노메틸에터, 에틸렌글라이콜모노에틸에터, 에틸렌글라이콜다이메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노에틸에터, 아세틸아세톤, 사이클로헥산온, 사이클로펜탄온, 다이아세톤알코올, 에틸렌글라이콜모노메틸에터아세테이트, 에틸렌글라이콜에틸에터아세테이트, 에틸렌글라이콜모노아이소프로필에터, 에틸렌글라이콜모노뷰틸에터아세테이트, 3-메톡시프로판올, 메톡시메톡시에탄올, 다이에틸렌글라이콜모노메틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노에틸에터, 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 다이에틸렌글라이콜다이에틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트, 프로필렌글라이콜모노에틸에터아세테이트, 에틸3-에톡시프로피오네이트, 3-메톡시프로필아세테이트, N,N-다이메틸폼아마이드, 다이메틸설폭사이드, γ-뷰티로락톤, 아세트산 에틸, 아세트산 뷰틸, 락트산 메틸, 및 락트산 에틸 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다.Examples of the organic solvent include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethylether, ethylene glycol monoethylether, ethylene Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, cyclopentanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate , Ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether Propyleneglycol monoethyl ether acetate, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, gamma -butyrolactone, ethyl acetate , Butyl acetate, methyl lactate, and ethyl lactate, but are not limited thereto.

본 발명의 조성물은, 유기 용제를 1종 함유하고 있어도 되고, 2종 이상의 유기 용제를 함유하고 있어도 되지만, 본 발명의 조성물의 조액 시에 타이타늄 질화물 함유 입자의 입경 변동을 억제할 수 있다는 점에서, 2종 이상의 유기 용제를 함유하는 것이 바람직하다.The composition of the present invention may contain one kind of organic solvent or two or more kinds of organic solvents but it is preferable that the composition of the present invention can suppress the fluctuation of the particle size of the titanium nitride- It is preferable to contain two or more kinds of organic solvents.

2종 이상의 유기 용제를 함유하는 경우에는, 상기의 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에틸셀로솔브아세테이트, 락트산 에틸, 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 아세트산 뷰틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 2-헵탄온, 사이클로헥산온, 사이클로펜탄온, 에틸카비톨아세테이트, 뷰틸카비톨아세테이트, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 에틸3-에톡시프로피오네이트 및 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 2종 이상으로 구성되는 것이 바람직하다.When two or more organic solvents are contained, the above-mentioned methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethylcellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, - methyl methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, cyclopentanone, ethylcarbitol acetate, butylcarbitol acetate, propylene glycol monomethylether, ethyl 3-ethoxypropionate and propylene glycol It is preferably composed of two or more kinds selected from the group consisting of colmonomethyl ether acetate.

본 발명의 조성물이 유기 용제를 함유하는 경우, 유기 용제의 함유량으로서는, 조성물의 전체 질량에 대하여, 10~90질량%인 것이 바람직하고, 60~90질량%인 것이 보다 바람직하다. 유기 용제를 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.When the composition of the present invention contains an organic solvent, the content of the organic solvent is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 60 to 90% by mass with respect to the total mass of the composition. When two or more kinds of organic solvents are contained, the total amount is preferably in the above range.

<물><Water>

본 발명의 조성물은, 물을 함유해도 된다. 물은, 의도적으로 첨가되는 것이어도 되고, 본 발명의 조성물에 포함되는 각 성분을 첨가함으로써 불가피적으로 조성물 중에 함유되는 것이어도 된다.The composition of the present invention may contain water. The water may be intentionally added, or may be inevitably contained in the composition by adding each component contained in the composition of the present invention.

물의 함유량은, 조성물 전체 질량에 대하여, 0.1~1질량%인 것이 바람직하고, 0.1~0.8질량%인 것이 보다 바람직하며, 0.1~0.4질량%인 것이 더 바람직하다. 물의 함유량이 상기 범위 내에 있으면, 경화막을 제작했을 때의 패터닝성(해상성)이 우수하고, 전극 재료의 방식성도 우수하다. 또, 물의 함유량을, 조성물 전체 질량에 대하여 0.1~1질량%로 함으로써, 조성물 중의 파티클량을 보다 저감시킬 수 있는 것 외에, 조성물의 점도 경시 안정성도 보다 우수하다.The content of water is preferably 0.1 to 1 mass%, more preferably 0.1 to 0.8 mass%, and even more preferably 0.1 to 0.4 mass% with respect to the total mass of the composition. When the content of water is within the above range, the patterning property (resolution) of the cured film is excellent, and the corrosion resistance of the electrode material is excellent. By adjusting the content of water to 0.1 to 1% by mass with respect to the total mass of the composition, the amount of particles in the composition can be further reduced, and the stability of the composition over time is also excellent.

<다른 성분><Other Ingredients>

본 발명의 조성물 중에는, 상술한 성분 이외의 다른 성분이 포함되어 있어도 된다.The composition of the present invention may contain other components than the above-mentioned components.

이하, 각 성분에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, each component will be described in detail.

(실레인 커플링제)(Silane coupling agent)

실레인 커플링제란, 분자 중에 가수분해성기와 그 이외의 관능기를 갖는 화합물이다. 또한, 알콕시기 등의 가수분해성기는, 규소 원자에 결합하고 있다.The silane coupling agent is a compound having a hydrolyzable group and other functional groups in the molecule. The hydrolyzable group such as an alkoxy group is bonded to a silicon atom.

가수분해성기란, 규소 원자에 직결하여, 가수분해 반응 및/또는 축합 반응에 의하여 실록세인 결합을 발생시킬 수 있는 치환기를 말한다. 가수분해성기로서는, 예를 들면 할로젠 원자, 알콕시기, 아실옥시기, 및 알켄일옥시기를 들 수 있다. 가수분해성기가 탄소 원자를 갖는 경우, 그 탄소수는 6 이하인 것이 바람직하고, 4 이하인 것이 보다 바람직하다. 특히, 탄소수 4 이하의 알콕시기 또는 탄소수 4 이하의 알켄일옥시기가 바람직하다.The hydrolyzable group means a substituent which is directly connected to a silicon atom and capable of generating a siloxane bond by a hydrolysis reaction and / or a condensation reaction. Examples of the hydrolyzable group include a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, and an alkenyloxy group. When the hydrolyzable group has carbon atoms, the number of carbon atoms thereof is preferably 6 or less, more preferably 4 or less. Particularly, an alkoxy group having 4 or less carbon atoms or an alkenyloxy group having 4 or less carbon atoms is preferable.

또, 실레인 커플링제는 기판과 경화막 간의 밀착성을 향상시키기 위하여, 불소 원자 및 규소 원자(단, 가수분해성기가 결합한 규소 원자는 제외함)를 포함하지 않는 것이 바람직하고, 불소 원자, 규소 원자(단, 가수분해성기가 결합한 규소 원자는 제외함), 규소 원자로 치환된 알킬렌기, 탄소수 8 이상의 직쇄 알킬기, 및 탄소수 3 이상의 분쇄 알킬기는 포함하지 않는 것이 바람직하다.In order to improve adhesion between the substrate and the cured film, it is preferable that the silane coupling agent does not contain a fluorine atom and a silicon atom (provided that the silicon atom bonded to the hydrolyzable group is excluded), and a fluorine atom, a silicon atom But excluding the silicon atom bonded to the hydrolyzable group), an alkylene group substituted with a silicon atom, a straight chain alkyl group having a carbon number of 8 or more, and a branched alkyl group having a carbon number of 3 or more.

실레인 커플링제는, 이하의 식 (Z)로 나타나는 기를 갖는 것이 바람직하다. *는 결합 위치를 나타낸다.The silane coupling agent preferably has a group represented by the following formula (Z). * Indicates the binding position.

식 (Z) *-Si-(RZ1)3 (Z) * -Si- (R Z1 ) 3

식 (Z) 중, RZ1은 가수분해성기를 나타내고, 그 정의는 상술하는 바와 같다.In the formula (Z), R Z1 represents a hydrolyzable group and its definition is as described above.

실레인 커플링제는, (메트)아크릴로일옥시기, 에폭시기, 및 옥세탄일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 경화성 관능기를 갖는 것이 바람직하다. 경화성 관능기는, 직접, 규소 원자에 결합해도 되고, 연결기를 통하여 규소 원자에 결합하고 있어도 된다.The silane coupling agent preferably has at least one curable functional group selected from the group consisting of a (meth) acryloyloxy group, an epoxy group, and an oxetane group. The curable functional group may be directly bonded to a silicon atom, or may be bonded to a silicon atom through a linking group.

또한, 상기 실레인 커플링제에 포함되는 경화성 관능기의 적합 양태로서는, 라디칼 중합성기도 들 수 있다.In addition, examples of the favorable mode of the curable functional group contained in the silane coupling agent include a radical polymerizable group.

실레인 커플링제의 분자량은 특별히 제한되지 않고, 취급성의 점에서, 100~1000인 경우가 많으며, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 270 이상이 바람직하고, 270~1000이 보다 바람직하다.The molecular weight of the silane coupling agent is not particularly limited and is usually from 100 to 1000 in view of handleability, and is preferably 270 or more, and more preferably from 270 to 1000, from the viewpoint of more excellent effects of the present invention.

실레인 커플링제의 적합 양태 중 하나로서는, 식 (W)로 나타나는 실레인 커플링제 X를 들 수 있다.One preferred embodiment of the silane coupling agent is the silane coupling agent X represented by the formula (W).

식 (W) RZ2-Lz-Si-(RZ1)3 (W) ???????? R Z2 -Lz-Si- (R Z1 ) 3 ?????

Rz1은, 가수분해성기를 나타내고, 정의는 상술하는 바와 같다.R z1 represents a hydrolyzable group, and the definitions are as described above.

Rz2는, 경화성 관능기를 나타내고, 정의는 상술하는 바와 같으며, 적합 범위도 상술하는 바와 같다.R z2 represents a curable functional group, the definitions are as described above, and the suitable ranges are as described above.

Lz는, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. Lz가 2가의 연결기를 나타내는 경우, 2가의 연결기로서는, 할로젠 원자가 치환하고 있어도 되는 알킬렌기, 할로젠 원자가 치환하고 있어도 되는 아릴렌기, -NR12-, -CONR12-, -CO-, -CO2-, SO2NR12-, -O-, -S-, -SO2-, 및 이들의 조합을 들 수 있다. 그 중에서도, 탄소수 2~10의 할로젠 원자가 치환하고 있어도 되는 알킬렌기 및 탄소수 6~12의 할로젠 원자가 치환하고 있어도 되는 아릴렌기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 또는 이들 기와 -NR12-, -CONR12-, -CO-, -CO2-, SO2NR12-, -O-, -S-, 및 SO2-로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 기와의 조합으로 이루어지는 기가 바람직하고, 탄소수 2~10의 할로젠 원자가 치환하고 있어도 되는 알킬렌기, -CO2-, -O-, -CO-, -CONR12-, 또는 이들 기의 조합으로 이루어지는 기가 보다 바람직하다. 여기에서, 상기 R12는, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.Lz represents a single bond or a divalent linking group. When Lz represents a divalent linking group, examples of the divalent linking group include an alkylene group which may be substituted by a halogen atom, an arylene group which may be substituted by a halogen atom, -NR 12 -, -CONR 12 -, -CO-, -CO 2 -, SO 2 NR 12 -, -O-, -S-, -SO 2 -, and combinations thereof. Among these, a carbon number of 2 to 10 hydrogen atoms are substituted and at least one selected from an alkylene group and a halogen atom is the group consisting of an arylene which may be substituted, and having 6 to 12 which may be of the species, or those groups -NR 12 -, A group formed by combination with at least one group selected from the group consisting of -CONR 12 -, -CO-, -CO 2 -, SO 2 NR 12 -, -O-, -S-, and SO 2 - , An alkylene group which may be substituted with a halogen atom having 2 to 10 carbon atoms, -CO 2 -, -O-, -CO-, -CONR 12 -, or a group formed by a combination of these groups. Here, R 12 represents a hydrogen atom or a methyl group.

실레인 커플링제 X로서는, N-β-아미노에틸-γ-아미노프로필-메틸다이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교사제 상품명 KBM-602), N-β-아미노에틸-γ-아미노프로필-트라이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교사제 상품명 KBM-603), N-β-아미노에틸-γ-아미노프로필-트라이에톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교사제 상품명 KBE-602), γ-아미노프로필-트라이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교사제 상품명 KBM-903), γ-아미노프로필-트라이에톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교사제 상품명 KBE-903), 3-메타크릴옥시프로필트라이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교사제 상품명 KBM-503), 글리시독시옥틸트라이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교사제 상품명 KBM-4803) 등을 들 수 있다.Examples of the silane coupling agent X include N -? - aminoethyl -? - aminopropyl-methyldimethoxysilane (trade name: KBM-602 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Trimethoxysilane (KBM-603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), N-β-aminoethyl-γ-aminopropyl-triethoxysilane (KBE- Aminopropyltrimethoxysilane (trade name KBM-903, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), γ-aminopropyltriethoxysilane (trade name KBE-903 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-methacryloxypropyl Trimethoxysilane (trade name KBM-503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and glycidoxy-octyltrimethoxysilane (KBM-4803, trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

실레인 커플링제의 다른 적합 양태로서는, 분자 내에 적어도 규소 원자와 질소 원자와 경화성 관능기를 갖고, 또한 규소 원자에 결합한 가수분해성기를 갖는 실레인 커플링제 Y를 들 수 있다.Other suitable examples of the silane coupling agent include a silane coupling agent Y having at least a silicon atom, a nitrogen atom and a curable functional group in the molecule and a hydrolyzable group bonded to a silicon atom.

이 실레인 커플링제 Y는, 분자 내에 적어도 하나의 규소 원자를 가지면 되고, 규소 원자는, 이하의 원자, 치환기와 결합할 수 있다. 그들은 동일한 원자, 치환기여도 되고 달라도 된다. 결합할 수 있는 원자, 치환기는, 수소 원자, 할로젠 원자, 수산기, 탄소수 1에서 20의 알킬기, 알켄일기, 알카인일기, 아릴기, 알킬기 및/또는 아릴기로 치환 가능한 아미노기, 실릴기, 탄소수 1에서 20의 알콕시기와, 아릴옥시기 등을 들 수 있다. 이들 치환기는 또한, 실릴기, 알켄일기, 알카인일기, 아릴기, 알콕시기, 아릴옥시기, 싸이오알콕시기, 알킬기 및/또는 아릴기로 치환 가능한 아미노기, 할로젠 원자, 설폰아마이드기, 알콕시카보닐기, 아마이드기, 유레아기, 암모늄기, 알킬암모늄기, 카복실기, 또는 그 염, 설포기, 또는 그 염 등으로 치환되어 있어도 된다.The silane coupling agent Y may have at least one silicon atom in the molecule, and the silicon atom may be bonded to the following atoms or substituents. They can be the same atom, substitution or different. The substituent is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an amino group which may be substituted with an alkyl group and / or an aryl group, An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and an aryloxy group. These substituents may also be substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a silyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a thioalkoxy group, an amino group which may be substituted with an alkyl group and / An amide group, an urea group, an ammonium group, an alkylammonium group, a carboxyl group, or a salt thereof, a sulfo group, or a salt thereof.

또한, 규소 원자에는 적어도 하나의 가수분해성기가 결합하고 있다. 가수분해성기의 정의는, 상술하는 바와 같다.At least one hydrolyzable group is bonded to the silicon atom. The definition of the hydrolyzable group is as described above.

실레인 커플링제 Y에는, 식 (Z)로 나타나는 기가 포함되어 있어도 된다.The silane coupling agent Y may contain a group represented by the formula (Z).

실레인 커플링제 Y는, 분자 내에 질소 원자를 적어도 하나 이상 갖고, 질소 원자는, 2급 아미노기 혹은 3급 아미노기의 형태로 존재하는 것이 바람직하며, 즉 질소 원자는 치환기로서 적어도 하나의 유기기를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 아미노기의 구조로서는, 함질소 헤테로환의 부분 구조의 형태로 분자 내에 존재해도 되고, 아닐린 등 치환 아미노기로서 존재하고 있어도 된다.The silane coupling agent Y preferably has at least one nitrogen atom in the molecule and the nitrogen atom is present in the form of a secondary amino group or a tertiary amino group, that is, the nitrogen atom has at least one organic group as a substituent desirable. The structure of the amino group may be in the form of a partial structure of a nitrogen-containing heterocycle, or may exist as a substituted amino group such as aniline.

여기에서, 유기기로서는, 알킬기, 알켄일기, 알카인일기, 아릴기, 또는 이들의 조합 등을 들 수 있다. 이들은 치환기를 더 가져도 되고, 도입 가능한 치환기로서는, 실릴기, 알켄일기, 알카인일기, 아릴기, 알콕시기, 아릴옥시기, 싸이오알콕시기, 아미노기, 할로젠 원자, 설폰아마이드기, 알콕시카보닐기, 카보닐옥시기, 아마이드기, 유레아기, 알킬렌옥시기, 암모늄기, 알킬암모늄기, 카복실기, 또는 그 염, 설포기 등을 들 수 있다.Examples of the organic group include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, and combinations thereof. These substituents may further have a substituent and examples of the substituent which can be introduced include a silyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a thioalkoxy group, an amino group, a halogen atom, a sulfonamido group, An amide group, an urea group, an alkyleneoxy group, an ammonium group, an alkylammonium group, a carboxyl group or a salt thereof, and a sulfo group.

또, 질소 원자는, 임의의 유기 연결기를 통하여 경화성 관능기와 결합하고 있는 것이 바람직하다. 바람직한 유기 연결기로서는, 상술한 질소 원자 및 그에 결합하는 유기기에 도입 가능한 치환기를 들 수 있다.The nitrogen atom is preferably bonded to the curable functional group through an arbitrary organic linking group. Preferable examples of the organic linking group include substituents that can be introduced into the above-mentioned nitrogen atom and the organic group bonded thereto.

실레인 커플링제 Y에 포함되는 경화성 관능기의 정의는, 상술하는 바와 같고, 적합 범위도 상술하는 바와 같다.The definition of the curable functional group contained in the silane coupling agent Y is as described above, and the preferable range thereof is as described above.

실레인 커플링제 Y에는, 경화성 관능기는 1분자 중에 적어도 하나 이상 갖고 있으면 되지만, 경화성 관능기를 2 이상 갖는 양태를 취하는 것도 가능하고, 감도, 안정성의 관점에서는, 경화성 관능기를 2~20 갖는 것이 바람직하며, 4~15 갖는 것이 더 바람직하고, 가장 바람직하게는 분자 내에 경화성 관능기를 6~10 갖는 양태이다.The silane coupling agent Y may contain at least one curable functional group in one molecule, but it may also have two or more curable functional groups. From the viewpoints of sensitivity and stability, it is preferable to have 2 to 20 curable functional groups , More preferably from 4 to 15, and most preferably from 6 to 10 curable functional groups in the molecule.

실레인 커플링제 X 및 실레인 커플링제 Y의 분자량은 특별히 제한되지 않지만, 상술한 범위(270 이상이 바람직함)를 들 수 있다.The molecular weight of the silane coupling agent X and the silane coupling agent Y is not particularly limited, but may be the above-mentioned range (preferably not less than 270).

본 발명의 조성물 중에 있어서의 실레인 커플링제의 함유량은, 조성물 중의 전체 고형분에 대하여, 0.1~10질량%가 바람직하고, 0.5~8질량%가 보다 바람직하며, 1.0~6질량%가 더 바람직하다.The content of the silane coupling agent in the composition of the present invention is preferably 0.1 to 10 mass%, more preferably 0.5 to 8 mass%, and even more preferably 1.0 to 6 mass%, based on the total solid content in the composition .

본 발명의 조성물은, 실레인 커플링제를 1종 단독으로 포함하고 있어도 되고, 2종 이상을 포함하고 있어도 된다. 조성물이 실레인 커플링제를 2종 이상 포함하는 경우는, 그 합계가 상기 범위 내이면 된다.The composition of the present invention may contain one kind of silane coupling agent or two or more kinds of silane coupling agents. When the composition contains two or more silane coupling agents, the total amount may be within the above range.

(자외선 흡수제)(Ultraviolet absorber)

본 발명의 조성물에는, 자외선 흡수제가 포함되어 있어도 된다. 이로써, 패턴의 형상을 보다 우수한(정세(精細)한) 것으로 할 수 있다.The composition of the present invention may contain an ultraviolet absorber. As a result, the shape of the pattern can be made better (finer).

자외선 흡수제로서는, 살리실레이트계, 벤조페논계, 벤조트라이아졸계, 치환 아크릴로나이트릴계, 트라이아진계의 자외선 흡수제를 사용할 수 있다. 이들의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2012-068418호의 단락 0137~0142(대응하는 US2012/0068292의 단락 0251~0254)의 화합물을 사용할 수 있고, 이들의 내용을 원용할 수 있으며, 본 명세서에 포함된다.As the ultraviolet absorber, salicylate, benzophenone, benzotriazole, substituted acrylonitrile and triazine ultraviolet absorbers can be used. As specific examples thereof, compounds of paragraphs 0137 to 0142 (corresponding to paragraphs 0251 to 0254 of US2012 / 0068292) of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-068418 may be used and the contents thereof may be used and are included in this specification .

그 외에 다이에틸아미노-페닐설폰일계 자외선 흡수제(다이토 가가쿠제, 상품명: UV-503) 등도 적합하게 이용된다.In addition, a diethylamino-phenyl sulfonyl ultraviolet absorber (trade name: UV-503, manufactured by Daitogagaku Co., Ltd.) is suitably used.

자외선 흡수제로서는, 일본 공개특허공보 2012-32556호의 단락 0134~0148에 예시되는 화합물을 들 수 있다.Examples of the ultraviolet absorber include compounds exemplified in paragraphs 0134 to 0148 of JP-A No. 2012-32556.

본 발명의 조성물은, 자외선 흡수제를 포함해도 되고 포함하지 않아도 되지만, 포함하는 경우, 자외선 흡수제의 함유량은, 조성물의 전체 고형분에 대하여, 0.001~15질량%가 바람직하고, 0.01~10질량%가 보다 바람직하며, 0.1~5질량%가 더 바람직하다.The composition of the present invention may or may not contain an ultraviolet absorber, but if included, the content of the ultraviolet absorber is preferably 0.001 to 15 mass%, more preferably 0.01 to 10 mass%, based on the total solid content of the composition , More preferably from 0.1 to 5 mass%.

(계면활성제)(Surfactants)

본 발명의 조성물은, 도포성을 보다 향상시키는 관점에서, 각종 계면활성제를 함유시켜도 된다. 계면활성제로서는, 불소계 계면활성제, 비이온계 계면활성제, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 및 실리콘계 계면활성제 등의 각종 계면활성제를 사용할 수 있다.The composition of the present invention may contain various surfactants in order to further improve the applicability. As the surfactant, various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicon-based surfactant can be used.

본 발명의 조성물에 불소계 계면활성제를 함유시킴으로써, 도포액으로서 조제했을 때의 액특성(특히, 유동성)이 보다 향상되어, 도포 두께의 균일성이나 성액성(省液性)을 보다 개선할 수 있다. 즉, 불소계 계면활성제를 함유하는 조성물을 적용한 도포액을 이용하여 막형성하는 경우에 있어서는, 피도포면과 도포액의 계면장력이 저하되어, 피도포면에 대한 습윤성이 개선되고, 피도포면에 대한 도포성이 향상된다. 이로 인하여, 두께 편차가 작은 균일한 두께의 막형성을 보다 적합하게 행할 수 있다.By containing the fluorine-containing surfactant in the composition of the present invention, the liquid properties (particularly, the fluidity) when prepared as a coating liquid are further improved, and the uniformity of coating thickness and the liquid-storing property can be further improved . That is, in the case of forming a film by using a coating liquid to which a composition containing a fluorine-containing surfactant is applied, the interfacial tension between the surface to be coated and the coating liquid is lowered and the wettability to the surface to be coated is improved, . This makes it possible to more suitably form a film having a uniform thickness with a small thickness deviation.

불소계 계면활성제 중의 불소 함유율은, 3~40질량%가 적합하고, 보다 바람직하게는 5~30질량%이며, 특히 바람직하게는 7~25질량%이다. 불소 함유율이 이 범위 내인 불소계 계면활성제는, 도포막의 두께의 균일성이나 성액성의 점에서 효과적이고, 조성물 중에 있어서의 용해성도 양호하다.The fluorine content in the fluorine surfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 7 to 25% by mass. The fluorine-based surfactant having a fluorine content within this range is effective from the viewpoints of the uniformity of the thickness of the coating film and the lyophobic property, and the solubility in the composition is also good.

불소계 계면활성제로서는, 예를 들면 메가팍 F171, 동 F172, 동 F173, 동 F176, 동 F177, 동 F141, 동 F142, 동 F143, 동 F144, 동 R30, 동 F437, 동 F475, 동 F479, 동 F482, 동 F554, 동 F780, RS-72-K(이상, DIC(주)제), 플루오라드 FC430, 동 FC431, 동 FC171(이상, 스미토모 3M(주)제), 서프론 S-382, 동 SC-101, 동 SC-103, 동 SC-104, 동 SC-105, 동 SC-1068, 동 SC-381, 동 SC-383, 동 S-393, 동 KH-40(이상, 아사히 글라스(주)제), PF636, PF656, PF6320, PF6520, 및 PF7002(OMNOVA사제) 등을 들 수 있다. 불소계 계면활성제는, 일본 공개특허공보 2015-117327호의 단락 0015~0158에 기재된 화합물을 이용할 수도 있다. 불소계 계면활성제로서 블록 폴리머를 이용할 수도 있고, 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2011-89090호에 기재된 화합물을 들 수 있다.Examples of the fluorine-based surfactant include Megapak F171, Dong F172, Dong F173, Dong F176, Dong F177, Dong F141, Dong F142, Dong F143, Dong F144, Dong R30, Dong F437, Dong F475, Dong F479, Dong F482 (Manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Surflon S-382, Copper SC-422 (manufactured by DIC Corporation), Fluorad FC430, Copper FC431, Copper FC171 (Manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), SC-103, SC-104, SC-105, SC-1068, SC-381, PF636, PF656, PF6320, PF6520, and PF7002 (manufactured by OMNOVA). As the fluorochemical surfactant, the compounds described in paragraphs 0015 to 0158 of JP-A No. 2015-117327 may be used. As the fluorine-based surfactant, a block polymer may be used. Specific examples thereof include the compounds described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-89090.

불소계 계면활성제는, 불소 원자를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물에서 유래하는 반복 단위와, 알킬렌옥시기(바람직하게는 에틸렌옥시기, 프로필렌옥시기)를 2 이상(바람직하게는 5 이상) 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물에서 유래하는 반복 단위를 포함하는 함불소 고분자 화합물도 바람직하게 이용할 수 있고, 하기 화합물도 본 발명에서 이용되는 불소계 계면활성제로서 예시된다.The fluorine-containing surfactant is preferably a fluorine-containing surfactant having two or more (preferably five or more) repeating units derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and an alkyleneoxy group (preferably an ethyleneoxy group and a propyleneoxy group) ) Acrylate compounds, and the following compounds are also exemplified as the fluorinated surfactants used in the present invention.

[화학식 18][Chemical Formula 18]

Figure pct00018
Figure pct00018

상기 화합물의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 3,000~50,000이고, 예를 들면 14,000이다.The weight average molecular weight of the compound is preferably from 3,000 to 50,000, for example, 14,000.

또, 에틸렌성 불포화기를 측쇄에 갖는 함불소 중합체를 불소계 계면활성제로서 이용할 수도 있다. 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-164965호 0050~0090 단락 및 0289~0295 단락에 기재된 화합물, 예를 들면 DIC사제의 메가팍 RS-101, RS-102, RS-718K, 및 RS-72-K 등을 들 수 있다.A fluorine-containing polymer having an ethylenic unsaturated group in its side chain may also be used as a fluorine-containing surfactant. Specific examples thereof include compounds described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2010-164965, paragraphs 0050 to 0090 and paragraphs 0289 to 0295, such as Megapark RS-101, RS-102, RS-718K and RS-72-K And the like.

비이온계 계면활성제로서 구체적으로는, 글리세롤, 트라이메틸올프로페인, 트라이메틸올에테인과 그들의 에톡실레이트 및 프로폭실레이트(예를 들면, 글리세롤프로폭실레이트, 글리세린에톡실레이트 등), 폴리옥시에틸렌라우릴에터, 폴리옥시에틸렌스테아릴에터, 폴리옥시에틸렌올레일에터, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에터, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에터, 폴리에틸렌글라이콜다이라우레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이스테아레이트, 소비탄 지방산 에스터(BASF사제의 플루로닉 L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2, 테트로닉 304, 701, 704, 901, 904, 150R1, 및 솔스퍼스 20000(니혼 루브리졸(주)제), 등을 들 수 있다. 또, 와코 준야쿠 고교사제의, NCW-101, NCW-1001, 및 NCW-1002를 사용할 수도 있다.Specific examples of the nonionic surfactants include glycerol, trimethylol propane, trimethylol ethane and their ethoxylates and propoxylates (for example, glycerol propoxylate, glycerin ethoxylate and the like), polyoxyethylene Polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyethylene glycol diallylate, polyethylene glycol Diestearate and consumptive fatty acid ester (Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2, Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1, NCW-101, NCW-1001, and NCW-1002 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. may also be used.

양이온계 계면활성제로서 구체적으로는, 프탈로사이아닌 유도체(상품명: EFKA-745, 모리시타 산교(주)제), 오가노실록세인 폴리머 KP341(신에쓰 가가쿠 고교(주)제), (메트)아크릴산계 (공)중합체 폴리플로 No.75, No.90, No.95(교에이샤 가가쿠(주)제), 및 W001(유쇼(주)제) 등을 들 수 있다.Specific examples of the cationic surfactant include phthalocyanine derivatives (trade name: EFKA-745, manufactured by Morishita Sangyo Co., Ltd.), organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Acrylic acid type (co) polymer Polyflow No. 75, No. 90, No. 95 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and W001 (manufactured by Yusoh Co., Ltd.).

음이온계 계면활성제로서 구체적으로는, W004, W005, W017(유쇼(주)제), 및 산뎃 BL(산요 가세이(주)사제) 등을 들 수 있다.Specific examples of the anionic surfactant include W004, W005, W017 (manufactured by Yusoh Corp.) and Sandet BL (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.).

실리콘계 계면활성제로서는, 예를 들면 도레이 실리콘 DC3PA, 도레이 실리콘 SH7PA, 도레이 실리콘 DC11PA, 도레이 실리콘 SH21PA, 도레이 실리콘 SH28PA, 도레이 실리콘 SH29PA, 도레이 실리콘 SH30PA, 도레이 실리콘 SH8400(이상, 도레이·다우코닝(주)제), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452(이상, 모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사제), KP341, KF6001, KF6002(이상, 신에쓰 실리콘 가부시키가이샤제), BYK307, BYK323, 및 BYK330(이상, 빅케미사제) 등을 들 수 있다.Examples of silicone based surfactants include TORAY silicone DC3PA, TORAY silicone SH7PA, TORAY silicone DC11PA, TORAY silicone SH21PA, TORAY silicone SH28PA, TORAY silicone SH29PA, TORAY silicone SH30PA, TORAY silicone SH8400 (manufactured by Toray Dow Corning Co., ), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460 and TSF-4452 (manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd.), KP341, KF6001 and KF6002 (all manufactured by Shin-Etsu Silicones Co., , BYK307, BYK323, and BYK330 (manufactured by Big Chemie).

계면활성제는, 1종만을 이용해도 되고, 2종류 이상을 조합해도 된다. 계면활성제의 함유량은, 본 발명의 조성물의 전체 고형분에 대하여, 0.001~2.0질량%가 바람직하고, 0.005~1.0질량%가 보다 바람직하다.Only one surfactant may be used, or two or more surfactants may be combined. The content of the surfactant is preferably 0.001 to 2.0% by mass, more preferably 0.005 to 1.0% by mass based on the total solid content of the composition of the present invention.

상기 성분 이외에도, 본 발명의 조성물에는, 이하의 성분을 더 첨가해도 된다. 예를 들면, 증감제, 공증감제, 가교제, 경화 촉진제, 필러, 열경화 촉진제, 중합 금지제, 가소제, 희석제, 감지화제를 들 수 있고, 또한 기판 표면에 대한 밀착 촉진제 및 그 외의 조제류(예를 들면, 도전성 입자, 충전제, 소포제, 난연제, 레벨링제, 박리 촉진제, 산화 방지제, 향료, 표면 장력 조정제, 및 연쇄 이동제 등) 등의 공지의 첨가제를 필요에 따라 첨가해도 된다.In addition to the above components, the following components may be further added to the composition of the present invention. Examples of the additives include sensitizers, notarization agents, crosslinking agents, curing accelerators, fillers, thermal curing accelerators, polymerization inhibitors, plasticizers, diluents and sensitizers. For example, known additives such as conductive particles, fillers, antifoaming agents, flame retardants, leveling agents, peeling accelerators, antioxidants, flavors, surface tension adjusting agents and chain transfer agents may be added as needed.

이들 성분은, 예를 들면 일본 공개특허공보 2012-003225호의 단락 번호 0183~0228(대응하는 미국 특허출원 공개공보 제2013/0034812호의 <0237>~<0309>), 일본 공개특허공보 2008-250074호의 단락 번호 0101~0102, 단락 번호 0103~0104, 단락 번호 0107~0109, 일본 공개특허공보 2013-195480호의 단락 번호 0159~0184 등의 기재를 참조할 수 있고, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.These components are described in, for example, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2012-003225, paragraphs 0183 to 0228 (corresponding to U.S. Patent Application Publication No. 2013/0034812 <0237> to <0309>), Reference numerals 0101 to 0102, paragraph numbers 0103 to 0104, paragraph numbers 0107 to 0109, and paragraphs 0159 to 0184 of Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2013-195480, all of which are incorporated herein by reference.

(착색제)(coloring agent)

본 발명의 조성물은, 상술한 타이타늄 질화물 함유 입자 이외의 착색제(이하, 간단히 "착색제"라고도 함)를 이용할 수도 있다. 착색제는, 예를 들면 조성물의 색도 조정을 위하여 이용되고, OD값이 저하되지 않는 범위에서, 타이타늄 질화물의 일부를 착색제로 치환하는 것이 가능하다. 이와 같은 착색제로서는, 안료(흑색 유기 안료 및 유채색의 유기 안료의 유기 안료와 무기 안료) 및 염료 등을 들 수 있다.The composition of the present invention may use a colorant other than the above-mentioned titanium nitride-containing particles (hereinafter, simply referred to as "colorant"). The colorant is used, for example, for adjusting the chromaticity of the composition, and it is possible to replace part of the titanium nitride with a colorant within a range in which the OD value is not lowered. Examples of such colorants include pigments (black organic pigments, organic pigments of chromatic organic pigments and inorganic pigments), and dyes.

착색제로서는, 안료를 이용하는 것이 바람직하다. 이로써, 파장 400~700nm의 범위에 있어서의 투과율의 표준 편차가 작은 막을 제조하기 쉽다. 특히, 안료로서 흑색 안료(흑색 유기 안료 및 흑색 무기 안료)를 이용한 경우, 상기 범위에 있어서의 투과율의 표준 편차가 10% 이하인 막을 제조하기 쉽다.As the colorant, it is preferable to use a pigment. This makes it easy to produce a film having a small standard deviation of transmittance in the wavelength range of 400 to 700 nm. Particularly, when a black pigment (black organic pigment and black inorganic pigment) is used as a pigment, it is easy to produce a film having a standard deviation of transmittance in the above range of 10% or less.

((안료))((Pigment))

안료로서는, 종래 공지의 다양한 안료를 들 수 있다.As the pigment, various conventionally known pigments can be mentioned.

유채색의 유기 안료로서 이하의 것을 들 수 있다. 단 본 발명은, 이들에 한정되는 것은 아니다.Examples of chromatic organic pigments include the following. However, the present invention is not limited thereto.

컬러 인덱스(C. I.) 피그먼트 옐로 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35:1, 36, 36:1, 37, 37:1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179, 180, 181, 182, 185, 187, 188, 193, 194, 199, 213, 214 등,Color Index (CI) Pigment Yellow 1, 2,3,4,5,6,10,11,12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34,35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 172, 173, 174, 175, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 176, 177, 179, 180, 181, 182, 185, 187, 188, 193, 194, 199, 213,

C. I. 피그먼트 오렌지 2, 5, 13, 16, 17:1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 71, 73 등,CI Pigment Orange 2, 5, 13, 16, 17: 1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 73,

C. I. 피그먼트 레드 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49, 49:1, 49:2, 52:1, 52:2, 53:1, 57:1, 60:1, 63:1, 66, 67, 81:1, 81:2, 81:3, 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184, 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 264, 270, 272, 279 등,CI Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48: 81: 2, 81: 2, 53: 1, 57: 1, 60: 1, 63: 1, 66, 67, 81: 175, 176, 177, 178, 179, 170, 176, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 184, 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 264, 270, 272, 279,

C. I. 피그먼트 그린 7, 10, 36, 37, 58, 59 등,C. I. Pigment Green 7, 10, 36, 37, 58, 59, etc.,

C. I. 피그먼트 바이올렛 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42 등,C. I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42, etc.,

C. I. 피그먼트 블루 1, 2, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 64, 66, 79, 80 등CI Pigment Blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64, 66,

또, 녹색 안료로서, 분자 중의 할로젠 원자수가 평균 10~14개이고, 브로민 원자가 평균 8~12개이며, 염소 원자가 평균 2~5개인 할로젠화 아연 프탈로사이아닌 안료를 이용하는 것도 가능하다. 구체예로서는, 국제 공개공보 제2015/118720호에 기재된 화합물을 들 수 있다.As the green pigment, it is also possible to use a halogenated zinc phthalocyanine pigment having an average of 10 to 14 halogen atoms in the molecule, an average of 8 to 12 bromine atoms, and an average chlorine atom of 2 to 5. Specific examples include the compounds described in International Publication No. 2015/118720.

이들 유기 안료는, 단독 혹은 색순도를 높이기 위하여 다양하게 조합하여 이용할 수 있다.These organic pigments can be used singly or in various combinations in order to enhance color purity.

흑색 안료는, 각종 공지의 흑색 안료를 이용할 수 있다. 예를 들면, 카본 블랙이나 이하에 나타내는 흑색 금속 함유 무기 안료를 들 수 있다. 흑색 금속 함유 무기 안료로서는, Co, Cr, Cu, Mn, Ru, Fe, Ni, Sn, Ti 및 Ag로 이루어지는 군으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상의 금속 원소를 포함하는 금속 산화물, 금속 질소물을 들 수 있다. 이들은 1종만을 이용해도 되고, 또 2종 이상의 혼합물로서 이용할 수도 있다. 또, 흑색 안료에, 추가로 다른 색상의 무기 안료를 조합하여 이용함으로써, 원하는 차광성을 갖도록, 조제해도 된다. 조합하여 이용할 수 있는 구체적인 무기 안료의 예로서 예를 들면, 아연화(亞鉛華), 연백, 리토폰, 산화 타이타늄, 산화 크로뮴, 산화 철, 침강성 황산 바륨 및 바라이트분, 연단, 산화 철적, 황연, 아연 황(아연 황 1종, 아연 황 2종), 울트라마린 블루, 프러시안 블루(페로시안화 철 칼리)지르콘 그레이, 프라세오디뮴 옐로, 크로뮴 타이타늄 옐로, 크로뮴 그린, 피콕, 빅토리아 그린, 감청(프러시안 블루와는 무관계), 바나듐 지르코늄 블루, 크로뮴 주석 핑크, 망가니즈 핑크, 새먼 핑크 등을 들 수 있다. 특히, 자외로부터 적외까지의 넓은 파장역에서의 차광성을 발현할 목적으로, 이들 흑색 안료나 다른 색상을 갖는 무기 안료를, 단독뿐만 아니라, 복수 종의 안료를 혼합하여, 사용하는 것이 가능하다.As the black pigment, various known black pigments can be used. For example, carbon black and the following black metal-containing inorganic pigments can be mentioned. Examples of the black metal-containing inorganic pigment include metal oxides and metal nitrates containing one or more metal elements selected from the group consisting of Co, Cr, Cu, Mn, Ru, Fe, Ni, Sn, . These may be used alone or as a mixture of two or more. The black pigment may be further combined with inorganic pigments of different colors to have desired light-shielding properties. Examples of specific inorganic pigments that can be used in combination include zinc oxide, zinc white, ritofone, titanium oxide, chromium oxide, iron oxide, precipitated barium sulfate and barite, podium, iron oxide, , Prussian Blue (Ferrocyanide Iron Carlyle), Zircon Gray, Praseodymium Yellow, Chromium Titanium Yellow, Chromium Green, Peacock, Victoria Green, Prussian Blue (Prussian Blue), Zinc Sulfur (Zinc Sulfur One, Zinc Sulfur Two) Blue), vanadium zirconium blue, chromium tin pink, manganese pink, and salmon pink. In particular, for the purpose of exhibiting light shielding properties in a wide wavelength range from ultraviolet rays to infrared rays, it is possible to use these black pigments and inorganic pigments having different hues not only singly but also by mixing a plurality of kinds of pigments.

흑색 안료는, 카본 블랙, 타이타늄 블랙이 바람직하고, 자외로부터 적외까지의 넓은 파장역의 차광성을 갖는다는 관점에서 타이타늄 블랙이 특히 바람직하다. 타이타늄 블랙이란, 타이타늄 원자를 갖는 흑색 입자이다. 바람직하게는 저차 산화 타이타늄이나 산질화 타이타늄 등이다. 특별히 한정되지 않지만, 산질화 타이타늄으로서는, 국제 공개공보 2008/123097호, 일본 공개특허공보 2009-58946, 일본 공개특허공보 2010-14848, 일본 공개특허공보 2010-97210 및 일본 공개특허공보 2011-2274670 등과 같은 산질화 타이타늄, 또 일본 공개특허공보 2010-95716과 같은 산질화 타이타늄과 탄화 타이타늄의 혼합물 등을 사용할 수 있다. 타이타늄 블랙 입자는, 분산성 향상, 응집성 억제 등의 목적으로 필요에 따라, 표면을 수식하는 것이 가능하다. 산화 규소, 산화 타이타늄, 산화 저마늄, 산화 알루미늄, 산화 마그네슘, 산화 지르코늄으로 피복하는 것이 가능하고, 또 일본 공개특허공보 2007-302836호에 나타나는 바와 같은 발수성 물질에 의한 처리도 가능하다. 타이타늄 블랙은, 분산성, 착색성 등을 조정할 목적으로 Cu, Fe, Mn, V, Ni 등의 복합 산화물, 산화 코발트, 산화 철, 카본 블랙 등의 흑색 안료를 1종 혹은 2종 이상의 조합으로 함유해도 된다.As the black pigment, carbon black and titanium black are preferable, and titanium black is particularly preferable from the viewpoint of having a light shielding property in a broad wavelength range from ultraviolet rays to infrared rays. Titanium black is a black particle having a titanium atom. Preferably titanium oxide or titanium oxynitride. Although not particularly limited, examples of titanium oxynitride include those disclosed in International Publication Nos. 2008/123097, 2009-58946, 2010-14848, 2010-97210, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-2274670 The same titanium oxynitride, or a mixture of titanium oxynitride and titanium carbide such as Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2010-95716. The surface of the titanium black particles can be modified as needed for the purpose of improving dispersibility and inhibiting cohesiveness. It can be coated with silicon oxide, titanium oxide, germanium oxide, aluminum oxide, magnesium oxide and zirconium oxide, and treatment with a water repellent substance as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-302836 is also possible. Titanium black may contain one or more kinds of black pigments such as composite oxides of Cu, Fe, Mn, V and Ni, cobalt oxide, iron oxide and carbon black for the purpose of adjusting dispersibility, do.

타이타늄 블랙의 제조 방법으로서는, 이산화 타이타늄과 금속 타이타늄의 혼합체를 환원 분위기에서 가열하여 환원하는 방법(일본 공개특허공보 소49-5432호), 사염화 타이타늄의 고온 가수분해로 얻어진 초미세 이산화 타이타늄을 수소를 포함하는 환원 분위기 중에서 환원하는 방법(일본 공개특허공보 소57-205322호), 이산화 타이타늄 또는 수산화 타이타늄을 암모니아 존재하에서 고온 환원하는 방법(일본 공개특허공보 소60-65069호, 일본 공개특허공보 소61-201610호), 이산화 타이타늄 또는 수산화 타이타늄에 바나듐 화합물을 부착시켜, 암모니아 존재하에서 고온 환원하는 방법(일본 공개특허공보 소61-201610호) 등이 있다. 단, 본 발명이 이들에 한정되는 것은 아니다.As a method of producing the titanium black, a method of heating and reducing a mixture of the titanium dioxide and the metallic titanium in a reducing atmosphere (JP-A-49-5432), a method in which ultrafine titanium dioxide obtained by the high temperature hydrolysis of titanium tetrachloride is reacted with hydrogen (JP-A-57-205322), a method in which titanium dioxide or titanium hydroxide is reduced at a high temperature in the presence of ammonia (JP-A-60-65069, JP-A-61 -201610), a method in which a vanadium compound is attached to titanium dioxide or titanium hydroxide, followed by high-temperature reduction in the presence of ammonia (JP-A-61-201610). However, the present invention is not limited thereto.

타이타늄 블랙의 비표면적은 특별히 제한되지 않지만, BET(Brunauer, Emmett, Teller)법으로 측정한 값이 5m2/g 이상 150m2/g 이하인 것이 바람직하고, 20m2/g 이상 120m2/g 이하인 것이 보다 바람직하다.The specific surface area of titanium black is not particularly limited, BET (Brunauer, Emmett, Teller ) method a value of 5m 2 / g and more than preferably 150m 2 / g or less, 20m 2 / g more than 120m 2 / g or less measured by More preferable.

타이타늄 블랙의 시판품의 예로서는, 타이타늄 블랙 10S, 12S, 13R, 13M, 13M-C, 13R, 13R-N, 13M-T(상품명: 미쓰비시 머티리얼(주)제), 티랙(Tilack) D(상품명: 아코 가세이(주)제) 등을 들 수 있다.Examples of commercially available products of titanium black include titanium black 10S, 12S, 13R, 13M, 13M-C, 13R, 13R-N, 13M-T (trade name, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation), Tilack D (Manufactured by Kasei Corporation).

상기의 흑색 안료는, 평균 1차 입자경이 5nm 이상인 것이 바람직하고, 10nm 이상인 것이 바람직하다. 동일한 관점에서, 상한으로서는 10μm 이하인 것이 바람직하고, 1μm 이하인 것이 보다 바람직하며, 100nm 이하인 것이 더 바람직하다. 흑색 안료의 평균 1차 입자경은, 다음의 방법으로 측정한 값으로 한다. 흑색 안료를 포함하는 혼합액을, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트로 80배로 희석하여, 얻어진 희석액에 대하여 동적 광산란법을 이용하여 측정한 값으로 한다. 이 측정은, 닛키소 가부시키가이샤제 마이크로트랙(상품명) UPA-EX150을 이용하여 행하여 얻어진 평균 입경으로 한다.The above-mentioned black pigment preferably has an average primary particle diameter of 5 nm or more, more preferably 10 nm or more. From the same viewpoint, the upper limit is preferably 10 占 퐉 or less, more preferably 1 占 퐉 or less, and most preferably 100 nm or less. The average primary particle diameter of the black pigment is a value measured by the following method. The mixed liquid containing the black pigment is diluted 80 times with propylene glycol monomethyl ether acetate, and the diluted solution thus obtained is measured using the dynamic light scattering method. This measurement is made by using Microtrack (trade name) UPA-EX150 manufactured by Nikkiso Co., Ltd. as the average particle diameter.

또한, 타이타늄 블랙을, 타이타늄 블랙 및 Si 원자를 포함하는 피분산체로서 함유하는 것도 바람직하다.It is also preferable that titanium black be contained as a pigment dispersion containing titanium black and Si atoms.

이 형태에 있어서, 타이타늄 블랙은, 조성물 중에 있어서 피분산체로서 함유되는 것이고, 피분산체 중의 Si 원자와 Ti 원자의 함유비(Si/Ti)가 질량 환산으로 0.05 이상이 바람직하며, 0.05~0.5가 보다 바람직하고, 0.07~0.4가 더 바람직하다.In this embodiment, the titanium black is contained as a dispersoid in the composition, and the content ratio (Si / Ti) of Si atoms and Ti atoms in the dispersoid is preferably 0.05 or more in terms of mass, more preferably 0.05 to 0.5 More preferably 0.07 to 0.4.

여기에서, 상기 피분산체는, 타이타늄 블랙이 1차 입자 상태인 것, 응집체(2차 입자) 상태인 것의 쌍방을 포함한다.Here, the above-described dispersed body includes both of the titanium black in the primary particle state and the aggregate (secondary particle) state.

피분산체의 Si/Ti를 변경하기(예를 들면, 0.05 이상으로 하기) 위해서는, 이하와 같은 수단을 이용할 수 있다.In order to change the Si / Ti of the object to be dispersed (for example, to be 0.05 or more), the following means can be used.

먼저, 산화 타이타늄과 실리카 입자를 분산기를 이용하여 분산시킴으로써 분산물을 얻고, 이 분산물을 고온(예를 들면, 850~1000℃)에서 환원 처리함으로써, 타이타늄 블랙 입자를 주성분으로 하고, Si와 Ti를 함유하는 피분산체를 얻을 수 있다. 상기 환원 처리는, 암모니아 등의 환원성 가스의 분위기하에서 행할 수도 있다.First, titanium oxide and silica particles are dispersed using a dispersing machine to obtain a dispersion, and the dispersion is subjected to a reduction treatment at a high temperature (for example, 850 to 1000 ° C) to obtain titanium black particles as a main component and Si and Ti And the like can be obtained. The reduction treatment may be performed in an atmosphere of a reducing gas such as ammonia.

산화 타이타늄으로서는, TTO-51N(상품명: 이시하라 산교제) 등을 들 수 있다.Examples of the titanium oxide include TTO-51N (trade name, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) and the like.

플라즈마 법에 의하여 제작된 산화 타이타늄은, 그 입경이 시판 중인 산화 타이타늄 미립자보다 작은 점에서 적합하게 사용할 수 있다(일본 금속 학회지 제63권 제1호(1999) 74-81의 기재를 참조).The titanium oxide produced by the plasma method can be suitably used because the particle size thereof is smaller than that of commercially available titanium dioxide fine particles (see Journal of the Japanese Institute of Metals 63 (1) (1999) 74-81).

실리카 입자의 시판품으로서는, AEROSIL(등록 상표) 90, 130, 150, 200, 255, 300, 380(상품명: 에보닉제) 등을 들 수 있다.Examples of commercial products of silica particles include AEROSIL (registered trademark) 90, 130, 150, 200, 255, 300, 380 (trade name: Ebonic).

산화 타이타늄과 실리카 입자의 분산은, 분산제를 이용해도 된다. 분산제로서는, 상술한 분산제의 란에서 설명한 것을 들 수 있다.A dispersion agent may be used for the dispersion of the titanium oxide and the silica particles. As the dispersant, those described in the section of the above-mentioned dispersant can be mentioned.

상기의 분산은 용제 중에서 행해도 된다. 용제로서는, 물, 유기 용제를 들 수 있다. 상술한 유기 용제의 란에서 설명한 것을 들 수 있다.The above dispersion may be performed in a solvent. Examples of the solvent include water and organic solvents. Include those described in the column of the above-mentioned organic solvent.

Si/Ti가, 예를 들면 0.05 이상 등으로 조정된 타이타늄 블랙은, 예를 들면 일본 공개특허공보 2008-266045호의 단락 번호 〔0005〕 및 단락 번호 〔0016〕~〔0021〕에 기재된 방법에 의하여 제작할 수 있다.Titanium black whose Si / Ti is adjusted to 0.05 or more, for example, can be produced by a method described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-266045, paragraph [0016] and paragraphs [0016] to [0021] .

타이타늄 블랙 및 Si 원자를 포함하는 피분산체 중의 Si 원자와 Ti 원자의 함유비(Si/Ti)를 적합한 범위(예를 들면 0.05 이상)로 조정함으로써, 이 피분산체를 포함하는 조성물을 이용하여 차광막을 형성했을 때에, 차광막의 형성 영역 외에 있어서의 조성물 유래의 잔사물이 저감된다. 또한, 잔사물은, 타이타늄 블랙 입자, 수지 성분 등의 조성물에서 유래하는 성분을 포함하는 것이다.(Si / Ti) ratio of Si atoms and Ti atoms in a target containing titanium black and Si atoms to a suitable range (for example, 0.05 or more), a light shielding film is formed by using a composition containing this object The residues derived from the composition outside the formation region of the light-shielding film are reduced. In addition, the residue includes a component derived from a composition such as titanium black particles, a resin component and the like.

잔사물이 저감되는 이유는 아직도 명확하지 않지만, 상기와 같은 피분산체는 소입경이 되는 경향이 있고(예를 들면, 입경이 30nm 이하), 또한 이 피분산체의 Si 원자가 포함되는 성분이 증가함으로써, 막 전체의 하지(下地)와의 흡착성이 저감되어, 이것이, 차광막의 형성에 있어서의 미경화의 조성물(특히, 타이타늄 블랙)의 현상 제거성의 향상에 기여한다고 추측하고 있다.The reason why the residue is reduced is still unclear. However, the above-described dispersed body tends to become a small particle size (for example, the particle size is 30 nm or less), and the component containing Si atoms of the dispersed body increases, It is presumed that the adsorption of the film to the underlying film is reduced and this contributes to the improvement of the developing ability of the uncured composition (particularly, titanium black) in the formation of the light-shielding film.

또, 타이타늄 블랙은, 자외광으로부터 적외광까지의 광범위에 걸친 파장 영역의 광에 대한 차광성이 우수한 점에서, 상기한 타이타늄 블랙 및 Si 원자를 포함하는 피분산체(바람직하게는 Si/Ti가 질량 환산으로 0.05 이상인 것)를 이용하여 형성된 차광막은 우수한 차광성을 발휘한다.In addition, titanium black is excellent in light shielding property against light in a wavelength range over a wide range from ultraviolet light to infrared light. Therefore, titanium black and an object to be dispersed including Si atoms (preferably Si / Shielding film formed by using a light shielding film having a thickness of 0.05 or more)

또한, 피분산체 중의 Si 원자와 Ti 원자의 함유비(Si/Ti)는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-249417호의 단락 0033에 기재된 방법 (1-1) 또는 방법 (1-2)를 이용하여 측정할 수 있다.Further, the content ratio (Si / Ti) of Si atoms and Ti atoms in the target dispersion can be measured by using the method (1-1) or the method (1-2) described in paragraph 0033 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-249417 .

또, 조성물을 경화하여 얻어진 차광막에 함유되는 피분산체에 대하여, 그 피분산체 중의 Si 원자와 Ti 원자의 함유비(Si/Ti)가 0.05 이상인지 아닌지를 판단하기 위해서는, 일본 공개특허공보 2013-249417호의 단락 0035에 기재된 방법 (2)를 이용한다.In order to determine whether or not the content ratio (Si / Ti) of Si atoms and Ti atoms in the object to be dispersed in the object to be dispersed contained in the light shielding film obtained by curing the composition is 0.05 or more, JP-A- (2) as described in paragraph [0035] of this Article.

타이타늄 블랙 및 Si 원자를 포함하는 피분산체에 있어서, 타이타늄 블랙은, 상기한 것을 사용할 수 있다.In the pigment dispersion containing titanium black and Si atoms, the above-mentioned titanium black can be used.

또, 이 피분산체에 있어서는, 타이타늄 블랙과 함께, 분산성, 착색성 등을 조정할 목적으로, Cu, Fe, Mn, V, Ni 등의 복합 산화물, 산화 코발트, 산화 철, 카본 블랙, 아닐린 블랙 등으로 이루어지는 흑색 안료를, 1종 또는 2종 이상을 조합하여, 피분산체로서 병용해도 된다.In this dispersion, a composite oxide of Cu, Fe, Mn, V, Ni, etc., cobalt oxide, iron oxide, carbon black, aniline black or the like is mixed with titanium black for the purpose of adjusting the dispersibility, Or one or more black pigments may be used in combination as a pigment dispersion.

이 경우, 전체 피분산체 중의 50질량% 이상을 타이타늄 블랙으로 이루어지는 피분산체가 차지하는 것이 바람직하다.In this case, it is preferable that 50% by mass or more of the entire dispersoid is occupied by the to-be-dispersed body made of titanium black.

또, 이 피분산체에 있어서는, 차광성의 조정 등을 목적으로 하여, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한에 있어서, 타이타늄 블랙과 함께, 다른 착색제(유기 안료나 염료 등)를 목적에 따라 병용해도 된다.In this dispersion, it is also possible to use other coloring agents (such as organic pigments and dyes) together with titanium black in combination with the purpose, as long as the effect of the present invention is not impaired for the purpose of adjusting the light shielding property do.

이하, 피분산체에 Si 원자를 도입할 때에 이용되는 재료에 대하여 설명한다. 피분산체에 Si 원자를 도입할 때에는, 실리카 등의 Si 함유 물질을 이용하면 된다.Hereinafter, a material used for introducing Si atoms into the object to be dispersed will be described. When a Si atom is introduced into the object to be dispersed, a Si-containing substance such as silica may be used.

이용할 수 있는 실리카로서는, 침강 실리카, 흄드 실리카, 콜로이달 실리카, 합성 실리카 등을 들 수 있고, 이들을 적절히 선택하여 사용하면 된다.Examples of usable silica include precipitated silica, fumed silica, colloidal silica, synthetic silica and the like, and these may be appropriately selected and used.

또한, 실리카 입자의 입경이 차광막을 형성했을 때에 막두께보다 작은 입경이면 차광성이 보다 우수하기 때문에, 실리카 입자로서 미립자 타입의 실리카를 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 미립자 타입의 실리카의 예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-249417호의 단락 0039에 기재된 실리카를 들 수 있고, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.In addition, since the particle diameter of the silica particles is smaller than the film thickness when the light shielding film is formed, the silica particles are preferably used as the silica particles because of better light shielding properties. Further, as an example of the particulate type silica, there may be mentioned, for example, the silica described in paragraph 0039 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-249417, the contents of which are incorporated herein.

또, 안료로서는, 텅스텐 화합물 및 금속 붕화물도 사용할 수 있다.As the pigment, a tungsten compound and a metal boride can also be used.

텅스텐 화합물, 및 금속 붕화물은, 적외선(파장이 약 800~1200nm의 광)에 대해서는 흡수가 높고(즉, 적외선에 대한 차광성(차폐성)이 높고), 가시광에 대해서는 흡수가 낮은 적외선 차폐재이다. 이로 인하여, 본 발명의 감광성 조성물은, 텅스텐 화합물, 및/또는 금속 붕화물을 함유함으로써, 적외 영역에 있어서의 차광성이 높고, 가시광 영역에 있어서의 투광성이 높은 패턴을 형성할 수 있다.Tungsten compounds and metal borides are infrared shielding materials that have high absorption (that is, high shielding property against infrared rays) for infrared rays (light having a wavelength of about 800 to 1,200 nm) and low absorption for visible light. Thus, the photosensitive composition of the present invention contains a tungsten compound and / or a metal boride, thereby forming a pattern having a high light shielding property in an infrared region and a high light transmittance in a visible light region.

또, 텅스텐 화합물, 및 금속 붕화물은, 화상 형성에 이용되는, 고압 수은등, KrF 및 ArF 등의 노광에 이용되는 가시역보다 단파의 광에 대해서도 흡수가 작다.Further, the tungsten compound and the metal boride are less likely to absorb light even for short-wavelength light used for exposure, such as high-pressure mercury lamps, KrF, and ArF used for image formation.

텅스텐 화합물로서는, 산화 텅스텐계 화합물, 붕화 텅스텐계 화합물, 황화 텅스텐계 화합물 등을 들 수 있고, 하기 일반식(조성식) (I)로 나타나는 산화 텅스텐계 화합물이 바람직하다.Examples of the tungsten compound include a tungsten oxide compound, a tungsten boride compound, and a tungsten sulphide compound, and a tungsten oxide compound represented by the following formula (composition formula) (I) is preferable.

MxWyOz…(I)M x W y O z ... (I)

M은 금속, W는 텅스텐, O는 산소를 나타낸다.M represents a metal, W represents tungsten, and O represents oxygen.

0.001≤x/y≤1.10.001? X / y?

2.2≤z/y≤3.02.2? Z / y? 3.0

M의 금속으로서는, 예를 들면 알칼리 금속, 알칼리 토류 금속, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Sn, Pb, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi 등을 들 수 있지만, 알칼리 금속인 것이 바람직하다. M의 금속은 1종이어도 되고 2종 이상이어도 된다.As the metal of M, for example, an alkali metal, an alkaline earth metal, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, , Ga, In, Tl, Sn, Pb, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os and Bi. The metal of M may be one kind or two kinds or more.

M은 알칼리 금속인 것이 바람직하고, Rb 또는 Cs인 것이 보다 바람직하며, Cs인 것이 더 바람직하다.M is preferably an alkali metal, more preferably Rb or Cs, and more preferably Cs.

x/y가 0.001 이상이면, 적외선을 충분히 차폐할 수 있고, 1.1 이하이면, 텅스텐 화합물 중에 불순물상이 생성되는 것을 보다 확실히 회피할 수 있다.When x / y is 0.001 or more, infrared rays can be sufficiently shielded, and when it is 1.1 or less, generation of an impurity phase in the tungsten compound can be more reliably avoided.

z/y가 2.2 이상이면, 재료로서의 화학적 안정성을 보다 향상시킬 수 있고, 3.0 이하이면 적외선을 충분히 차폐할 수 있다.When z / y is 2.2 or more, the chemical stability as a material can be further improved. When the ratio z / y is 3.0 or less, infrared rays can be sufficiently shielded.

상기 일반식 (I)로 나타나는 산화 텅스텐계 화합물의 구체예로서는, Cs0.33WO3, Rb0.33WO3, K0.33WO3, Ba0.33WO3 등을 들 수 있고, Cs0.33WO3 또는 Rb0.33WO3인 것이 바람직하며, Cs0.33WO3인 것이 보다 바람직하다.Specific examples of the tungsten oxide compound represented by the general formula (I) include Cs 0.33 WO 3 , Rb 0.33 WO 3 , K 0.33 WO 3 , and Ba 0.33 WO 3 , and Cs 0.33 WO 3 or Rb 0.33 WO 3 , And Cs 0.33 WO 3 is more preferable.

텅스텐 화합물은 미립자인 것이 바람직하다. 텅스텐 미립자의 평균 1차 입자경은, 800nm 이하인 것이 바람직하고, 400nm 이하인 것이 보다 바람직하며, 200nm 이하인 것이 더 바람직하다. 평균 1차 입자경이 이와 같은 범위이면, 텅스텐 미립자가 광산란에 의하여 가시광을 차단하기 어려워지는 점에서, 가시광 영역에 있어서의 투광성을 보다 확실히 할 수 있다. 광산란을 회피하는 관점에서는, 평균 1차 입자경은 작을수록 바람직하지만, 제조 시에 있어서의 취급 용이성 등의 이유에서, 텅스텐 미립자의 평균 1차 입자경은, 통상 1nm 이상이다.The tungsten compound is preferably a fine particle. The average primary particle diameter of the tungsten fine particles is preferably 800 nm or less, more preferably 400 nm or less, and further preferably 200 nm or less. When the average primary particle diameter falls within this range, the tungsten fine particles are less likely to block visible light due to light scattering, so that the light transmittance in the visible light region can be more surely obtained. From the viewpoint of avoiding light scattering, the smaller the average primary particle diameter is, the better, but the average primary particle diameter of the tungsten fine particles is usually 1 nm or more for ease of handling at the time of production.

또, 텅스텐 화합물은 2종 이상을 사용하는 것이 가능하다.It is also possible to use two or more kinds of tungsten compounds.

텅스텐 화합물은 시판품으로서 입수 가능하지만, 텅스텐 화합물이, 예를 들면 산화 텅스텐계 화합물인 경우, 산화 텅스텐계 화합물은, 텅스텐 화합물을 불활성 가스 분위기 또는 환원성 가스 분위기 중에서 열처리하는 방법에 의하여 얻을 수 있다(일본 특허공보 제4096205호를 참조).When the tungsten compound is, for example, a tungsten oxide compound, the tungsten oxide compound can be obtained by a method of heat-treating the tungsten compound in an inert gas atmosphere or a reducing gas atmosphere Patent Publication No. 4096205).

또, 산화 텅스텐계 화합물은, 예를 들면 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤제의 YMF-02 등의 텅스텐 미립자의 분산물로서도, 입수 가능하다.The tungsten oxide-based compound is also available as a dispersion of tungsten fine particles such as YMF-02 manufactured by Sumitomo Ginkgo Co., Ltd.

또, 금속 붕화물로서는, 붕화 란타넘(LaB6), 붕화 프라세오디뮴(PrB6), 붕화 네오디뮴(NdB6), 붕화 세륨(CeB6), 붕화 이트륨(YB6), 붕화 타이타늄(TiB2), 붕화 지르코늄(ZrB2), 붕화 하프늄(HfB2), 붕화 바나듐(VB2), 붕화 탄탈럼(TaB2), 붕화 크로뮴(CrB, CrB2), 붕화 몰리브데넘(MoB2, Mo2B5, MoB), 붕화 텅스텐(W2B5) 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있고, 붕화 란타넘(LaB6)인 것이 바람직하다.Examples of the metal boride include LaB 6 , PrB 6 , NdB 6 , CeB 6 , YB 6 , TiB 2 , boride, zirconium (ZrB 2), boride, hafnium (HfB 2), boride, vanadium (VB 2), boride, tantalum (TaB 2), boride, chromium (CrB, CrB 2), boride, molybdenum (MoB 2, Mo 2 B 5 , MoB), tungsten boride (W 2 B 5 ), and the like, and it is preferable to use lanthanum boride (LaB 6 ).

금속 붕화물은 미립자인 것이 바람직하다. 금속 붕화물 미립자의 평균 1차 입자경은, 800nm 이하인 것이 바람직하고, 300nm 이하인 것이 보다 바람직하며, 100nm 이하인 것이 더 바람직하다. 평균 입자경이 이와 같은 범위이면, 금속 붕화물 미립자가 광산란에 의하여 가시광을 차단하기 어려워지는 점에서, 가시광 영역에 있어서의 투광성을 보다 확실히 할 수 있다. 광산란을 회피하는 관점에서는, 평균 1차 입자경은 작을수록 바람직하지만, 제조 시에 있어서의 취급 용이성 등의 이유에서, 금속 붕화물 미립자의 평균 1차 입자경은, 통상 1nm 이상이다.The metal boride is preferably fine particles. The average primary particle size of the metal boride fine particles is preferably 800 nm or less, more preferably 300 nm or less, and most preferably 100 nm or less. When the average particle diameter is in this range, the light transmittance in the visible light region can be more surely ensured because the metal boride fine particles are less likely to block visible light due to light scattering. From the viewpoint of avoiding light scattering, the smaller the average primary particle size is, the better, but the average primary particle size of the metal boride fine particles is usually 1 nm or more for ease of handling at the time of production and so on.

또, 금속 붕화물은 2종 이상을 사용하는 것이 가능하다.It is also possible to use two or more metal borides.

금속 붕화물은 시판품으로서 입수 가능하고, 예를 들면 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤제의 KHF-07AH 등의 금속 붕화물 미립자의 분산물로서도, 입수 가능하다.The metal boride is available as a commercially available product and is also available as a dispersion of metal boride fine particles such as KHF-07AH manufactured by Sumitomo Ginkgo Kogyo Co., Ltd.

((염료))((dyes))

염료로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 소64-90403호, 일본 공개특허공보 소64-91102호, 일본 공개특허공보 평1-94301호, 일본 공개특허공보 평6-11614호, 일본 특허 2592207호, 미국 특허공보 4808501호, 미국 특허공보 5667920호, 미국 특허공보 505950호, 미국 특허공보 5667920호, 일본 공개특허공보 평5-333207호, 일본 공개특허공보 평6-35183호, 일본 공개특허공보 평6-51115호, 일본 공개특허공보 평6-194828호 등에 개시되어 있는 색소를 사용할 수 있다. 화학 구조로서 구분하면, 피라졸아조 화합물, 피로메텐 화합물, 아닐리노아조 화합물, 트라이페닐메테인 화합물, 안트라퀴논 화합물, 벤질리덴 화합물, 옥소놀 화합물, 피라졸로트라이아졸아조 화합물, 피리돈아조 화합물, 사이아닌 화합물, 페노싸이아진 화합물, 피롤로피라졸아조메타인 화합물 등을 사용할 수 있다. 또, 염료로서는 색소 다량체를 이용해도 된다. 색소 다량체로서는, 일본 공개특허공보 2011-213925호, 일본 공개특허공보 2013-041097호에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있다.As the dyes, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 64-90403, Japanese Unexamined Patent Publication No. 64-91102, Japanese Unexamined Patent Publication No. 1-94301, Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-11614, Japanese Patent No. 2592207 , U.S. Patent No. 4808501, U.S. Patent No. 5667920, U.S. Patent No. 5,05950, U.S. Patent No. 5,667,920, JP-A-5-333207, JP-A-6-35183, JP-A- 6-51115, 6-194828 and the like can be used. As a chemical structure, it is possible to use a pyrazole compound, a pyromethene compound, an anilino compound, a triphenylmethane compound, an anthraquinone compound, a benzilidene compound, an oxolin compound, a pyrazolotriazoazo compound, A cyanine compound, a phenothiazine compound, a pyrrolopyrazolequamethane compound, and the like can be used. As the dye, a dye multimer may be used. Examples of the pigment multimer include the compounds described in JP-A-2011-213925 and JP-A-2013-041097.

본 발명의 조성물은, 착색제에 더하여, 필요에 따라 체질 안료를 포함하고 있어도 된다. 이와 같은 체질 안료로서는, 예를 들면 황산 바륨, 탄산 바륨, 탄산 칼슘, 실리카, 염기성 탄산 마그네슘, 알루미나 화이트, 글로스 화이트, 타이타늄 화이트, 및 하이드로탈사이트 등을 들 수 있다. 이들 체질 안료는, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 체질 안료의 사용량은, 착색제 100질량부에 대하여, 통상 0~100질량부, 바람직하게는 5~50질량부, 보다 바람직하게는 10~40질량부이다. 본 발명에 있어서, 착색제 및 체질 안료는, 경우에 따라, 이들의 표면을 폴리머로 개질하여 사용할 수 있다.The composition of the present invention may contain an extender pigment, if necessary, in addition to the colorant. Examples of such extender pigments include barium sulfate, barium carbonate, calcium carbonate, silica, basic magnesium carbonate, alumina white, gloss white, titanium white, hydrotalcite and the like. These extender pigments may be used alone or in combination of two or more. The amount of the extender pigment to be used is usually 0 to 100 parts by mass, preferably 5 to 50 parts by mass, and more preferably 10 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the colorant. In the present invention, the colorant and the extender pigment may be used by modifying the surface of these colorants with a polymer as occasion demands.

착색제는 1종을 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 착색제로서는, 적색, 청색, 황색, 녹색, 및 자색 등의 착색 유기 안료를 함유해도 된다. 차광성 안료(구체적으로는, 타이타늄 질화물 함유 입자)와 착색 유기 안료를 병용하는 경우에는, 착색 유기 안료를 차광성 안료에 대하여 1~40질량% 이용하는 것이 바람직하다. 색조를 조정하는 관점에서 적색 안료와 차광성 안료를 병용하는 것이 바람직하고, 특별히 한정은 되지 않지만 적색 안료로서는 피그먼트 레드 254인 것이 바람직하다. 또, 차광성을 높이는 관점에서 황색 안료와 차광성 안료를 병용하는 것이 바람직하고, 특별히 한정은 되지 않지만 황색 안료로서는 피그먼트 옐로 150인 것이 바람직하다.The colorants may be used alone or in combination of two or more. As the coloring agent, colored organic pigments such as red, blue, yellow, green, and purple may be contained. When a light-shielding pigment (concretely, titanium nitride-containing particles) and a colored organic pigment are used in combination, it is preferable to use the colored organic pigment in an amount of 1 to 40 mass% with respect to the light-shielding pigment. From the viewpoint of adjusting the color tone, it is preferable to use a red pigment and a light-shielding pigment in combination, and although not particularly limited, Pigment Red 254 is preferably used as the red pigment. From the viewpoint of enhancing light shielding property, it is preferable to use a yellow pigment and a light-shielding pigment in combination, and there is no particular limitation, but Pigment Yellow 150 is preferable as the yellow pigment.

본 발명의 조성물이 착색제를 함유하는 경우에는, 착색제의 함유량은, 조성물의 전체 고형분에 대하여, 20~80질량%가 바람직하고, 30~70질량%가 보다 바람직하며, 35~60질량%가 더 바람직하다.When the composition of the present invention contains a colorant, the content of the colorant is preferably 20 to 80 mass%, more preferably 30 to 70 mass%, and more preferably 35 to 60 mass%, based on the total solid content of the composition desirable.

(안료 유도체)(Pigment derivative)

본 발명의 조성물은, 안료 유도체를 함유할 수 있다. 안료 유도체로서는, 예를 들면 유기 안료의 일부분을, 산성기, 염기성기 또는 프탈이미드메틸기로 치환한 구조를 갖는 화합물을 들 수 있다.The composition of the present invention may contain a pigment derivative. Examples of the pigment derivative include compounds having a structure in which a part of the organic pigment is substituted with an acidic group, a basic group, or a phthalimide methyl group.

안료 유도체를 구성하기 위한 유기 안료로서는, 다이케토피롤로피롤계 안료, 아조계 안료, 프탈로사이아닌계 안료, 안트라퀴논계 안료, 퀴나크리돈계 안료, 다이옥사진계 안료, 페린온계 안료, 페릴렌계 안료, 싸이오인디고계 안료, 아이소인돌린계 안료, 아이소인돌린온계 안료, 퀴노프탈론계 안료, 트렌계 안료, 금속 착체계 안료 등을 들 수 있다.Examples of the organic pigments for constituting the pigment derivative include pigments such as diketopyrrolopyrrole pigments, azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, perynone pigments, , Thioindigo pigments, isoindolin pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, trene pigments, metal complex pigments, and the like.

또, 안료 유도체가 갖는 산성기로서는, 설폰산기, 카복실산기 및 그 4급 암모늄염기가 바람직하고, 카복실산기 및 설폰산기가 더 바람직하며, 설폰산기가 특히 바람직하다. 안료 유도체가 갖는 염기성기로서는, 아미노기가 바람직하고, 특히 3급 아미노기가 바람직하다.The acid group of the pigment derivative is preferably a sulfonic acid group, a carboxylic acid group or a quaternary ammonium salt group thereof, more preferably a carboxylic acid group or a sulfonic acid group, and particularly preferably a sulfonic acid group. As the basic group of the pigment derivative, an amino group is preferable, and a tertiary amino group is particularly preferable.

안료 유도체의 구체예로서는, 예를 들면 하기 화합물을 들 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2011-252065호의 단락 0162~0183의 기재를 참조할 수 있고, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.Specific examples of the pigment derivative include the following compounds. Reference may also be made to paragraphs 0162 to 0183 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-252065, the contents of which are incorporated herein by reference.

[화학식 19][Chemical Formula 19]

Figure pct00019
Figure pct00019

본 발명의 조성물이 안료 유도체를 함유하는 경우, 안료 유도체의 함유량은, 착색제의 전체 질량에 대하여, 1~30질량%가 바람직하고, 3~20질량%가 더 바람직하다. 본 발명의 조성물은, 안료 유도체를, 1종류만을 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.When the composition of the present invention contains a pigment derivative, the content of the pigment derivative is preferably from 1 to 30 mass%, more preferably from 3 to 20 mass%, based on the total mass of the colorant. The composition of the present invention may contain only one kind of pigment derivative or two or more kinds thereof. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<조성물의 조제 방법>&Lt; Preparation method of composition >

본 발명의 조성물은, 상술한 각종 성분을 공지의 혼합 방법(예를 들면, 교반기, 호모지나이저, 고압 유화 장치, 습식 분쇄기, 습식 분산기)에 의하여 혼합하여 조제할 수 있다.The composition of the present invention can be prepared by mixing the above-mentioned various components by a known mixing method (for example, a stirrer, a homogenizer, a high-pressure emulsifier, a wet grinder, a wet disperser).

본 발명의 조성물은, 이물의 제거나 결함의 저감 등의 목적으로, 필터로 여과하는 것이 바람직하다. 필터로서는, 종래부터 여과 용도 등에 이용되고 있는 것이면 특별히 한정되지 않고 이용할 수 있다. 예를 들면, PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌) 등의 불소 수지, 나일론 등의 폴리아마이드계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌(PP) 등의 폴리올레핀 수지(고밀도, 초고분자량을 포함함) 등에 의한 필터를 들 수 있다. 이들 소재 중에서도 폴리프로필렌(고밀도 폴리프로필렌을 포함함), 나일론이 바람직하다.The composition of the present invention is preferably filtered with a filter for the purpose of removing foreign matters or reducing defects. The filter is not particularly limited as long as it is conventionally used for filtration and the like. For example, a filter made of a fluororesin such as PTFE (polytetrafluoroethylene), a polyamide resin such as nylon, a polyolefin resin (including high density, ultrahigh molecular weight) such as polyethylene and polypropylene (PP) . Among these materials, polypropylene (including high-density polypropylene) and nylon are preferable.

필터의 구멍 직경은, 0.1~7.0μm 정도가 적합하고, 바람직하게는 0.2~2.5μm 정도, 보다 바람직하게는 0.2~1.5μm 정도, 더 바람직하게는 0.3~0.7μm이다. 이 범위로 함으로써, 안료의 여과 막힘을 억제하면서, 안료에 포함되는 불순물이나 응집물 등, 미세한 이물을 확실히 제거하는 것이 가능해진다.The pore diameter of the filter is preferably about 0.1 to 7.0 mu m, preferably about 0.2 to 2.5 mu m, more preferably about 0.2 to 1.5 mu m, and still more preferably 0.3 mu m to 0.7 mu m. By setting this range, it is possible to reliably remove fine foreign matters such as impurities and aggregates contained in the pigment while suppressing clogging of the pigment.

필터를 사용할 때, 다른 필터를 조합해도 된다. 그때, 제1 필터를 이용한 필터링은, 1회만이어도 되고, 2회 이상 행해도 된다. 다른 필터를 조합하여 2회 이상 필터링을 행하는 경우는 1회째의 필터링의 구멍 직경보다 2회째 이후의 구멍 직경이 동일하거나, 또는 큰 것이 바람직하다. 또, 상술한 범위 내에서 다른 구멍 직경의 제1 필터를 조합해도 된다. 여기에서의 구멍 직경은, 필터 제조 회사의 공칭값을 참조할 수 있다. 시판 중인 필터로서는, 예를 들면 니혼 폴 가부시키가이샤, 어드밴텍 도요 가부시키가이샤, 니혼 인테그리스 가부시키가이샤(구 니혼 마이크롤리스 가부시키가이샤) 또는 가부시키가이샤 키츠 마이크로 필터 등이 제공하는 각종 필터 중에서 선택할 수 있다.When using a filter, other filters may be combined. At this time, the filtering using the first filter may be performed once, or may be performed two or more times. When filtering is performed two or more times in combination with other filters, it is preferable that the hole diameters of the second and subsequent times are equal to or larger than the hole diameters of the first filtering. The first filter having different pore diameters may be combined within the above-described range. The hole diameter here can refer to the nominal value of the filter manufacturer. As a commercially available filter, there may be selected, for example, various filters provided by Nippon Oil Corporation, Advantech Toyokawa Co., Ltd., Nippon Integrity Corporation (formerly Nihon Micro-Roller Corporation) or Kitsch Microfilter .

제2 필터는, 상술한 제1 필터와 동일한 재료 등으로 형성된 것을 사용할 수 있다. 제2 필터의 구멍 직경은, 0.2~10.0μm 정도가 적합하고, 바람직하게는 0.2~7.0μm 정도, 더 바람직하게는 0.3~6.0μm 정도이다.The second filter may be formed of the same material as the first filter described above. The pore diameter of the second filter is suitably about 0.2 to 10.0 mu m, preferably about 0.2 to 7.0 mu m, and more preferably about 0.3 to 6.0 mu m.

본 발명의 조성물의 고형분은, 10~40질량%인 것이 바람직하고, 12~35질량%인 것이 보다 바람직하다. 조성물의 고형분이 10질량% 이상이면, 경화막의 차광성이 보다 향상된다. 또, 조성물의 고형분이 40질량% 이하이면, 조성물의 경시 점도 안정성이 보다 양호해진다.The solid content of the composition of the present invention is preferably 10 to 40 mass%, more preferably 12 to 35 mass%. When the solid content of the composition is 10 mass% or more, the light shielding property of the cured film is further improved. When the solid content of the composition is 40% by mass or less, the viscosity stability of the composition over time is further improved.

[경화막(차광막)][Coating film (light-shielding film)]

본 발명의 경화막은, 상술한 조성물을 이용하여 얻어진다.The cured film of the present invention is obtained by using the above-mentioned composition.

상기 경화막은, 표면 요철 구조를 갖는 것이 바람직하다. 그렇게 함으로써, 차광막 혹은 차광막을 갖는 차광층의 반사율을 저감시킬 수 있다. 상기 요철 구조는, 차광막 그 자체의 표면에 요철 구조를 갖는 것이어도 되고, 차광막 상에 다른 층을 마련하여 요철 구조를 부여해도 된다. 표면 요철 구조의 형상은 특별히 한정되지 않지만, 표면 조도가 0.55μm 이상 1.5μm 이하의 범위인 것이 바람직하다.The cured film preferably has a surface uneven structure. By doing so, the reflectance of the light-shielding film or the light-shielding film having the light-shielding film can be reduced. The concavo-convex structure may have a concavo-convex structure on the surface of the light-shielding film itself, or another layer may be provided on the light-shielding film to provide the concavo-convex structure. The shape of the surface relief structure is not particularly limited, but it is preferable that the surface roughness is in the range of 0.55 μm or more and 1.5 μm or less.

차광막의 반사율은, 5% 이하인 것이 바람직하고, 3% 이하인 것이 보다 바람직하며, 2% 이하인 것이 특히 바람직하다.The reflectance of the light-shielding film is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 2% or less.

표면 요철 구조를 제작하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 차광막 또는, 그 이외의 층에, 유기 필러나 무기 필러를 포함하는 방법이나, 노광 현상을 이용한 리소그래피법이나, 에칭이나 스퍼터, 나노임프린트법 등으로 차광막 또는 그 이외의 층의 표면을 조면화하는 방법이어도 된다.The method for producing the surface relief structure is not particularly limited, but a method including an organic filler or an inorganic filler in a light-shielding film or other layers, a lithography method using an exposure process, an etching method, a sputtering method, a nano-imprinting method or the like The surface of the light-shielding film or other layers may be roughened.

또, 상기 경화막의 반사율을 저감시키는 방법으로서는, 상기 이외에, 차광막 상에 저굴절률층을 마련하는 방법이나, 또한 굴절률이 다른 층(예를 들면, 고굴절률층)을 복수 마련하는 방법이나, 예를 들면 일본 공개특허공보 2015-1654호에 기재된, 저광학 농도층과, 고광학 농도층을 형성하는 방법을 들 수 있다.As a method of reducing the reflectance of the cured film, a method of providing a low refractive index layer on the light-shielding film, a method of providing a plurality of layers (for example, high refractive index layers) having different refractive indexes, For example, a method of forming a low optical density layer and a high optical density layer described in JP-A-2015-1654.

본 발명의 경화막에는, 상술한 타이타늄 질화물 함유 입자가 주로 포함된다. 본 발명의 경화막은, 차광막으로서 적합하게 이용되고, 구체적으로는 CCD 이미지 센서 또는 CMOS 이미지 센서 등의 이미지 센서 주변 차광막(액자 차광막)으로서 적합하게 이용된다.In the cured film of the present invention, the above-mentioned titanium nitride-containing particles are mainly included. The cured film of the present invention is suitably used as a light shielding film, and specifically, it is suitably used as a light shielding film (frame shielding film) around an image sensor such as a CCD image sensor or a CMOS image sensor.

이하, 경화막이 이미지 센서 주변 차광막으로서 사용된 경우를 일례로서 설명한다. 경화막을 이미지 센서 주변 차광막으로서 이용하는 경우에는, 컬러 필터에 이미지 센서 주변 차광막을 형성하여, 이를 CCD 이미지 센서 또는 CMOS 이미지 센서에 적용하는 형태를 들 수 있다. 즉, 컬러 필터의 CCD 이미지 센서 또는 CMOS 이미지 센서 등의 액자 영역에 맞닿는 영역에 상술한 경화막을 구성할 수 있다.Hereinafter, a case where the cured film is used as a light shielding film around the image sensor will be described as an example. When the cured film is used as a light shielding film around the image sensor, a light shielding film around the image sensor is formed on the color filter and applied to a CCD image sensor or a CMOS image sensor. That is, the above-described cured film can be formed in a region in contact with the frame region of the CCD image sensor or the CMOS image sensor of the color filter.

본 발명의 이미지 센서 주변 차광막을 갖는 컬러 필터는, 상술한 조성물(특히, 상술한 감광성 조성물)을 이용하여 형성된 것이다. 본 발명의 조성물을 이용하여 얻어지는 이미지 센서 주변 차광막은, 패터닝성 및 전극의 방식성이 우수하다.The color filter having the light shielding film around the image sensor of the present invention is formed using the above-described composition (particularly, the above-described photosensitive composition). The light shielding film around the image sensor obtained using the composition of the present invention is excellent in patterning property and anti-corrosiveness of the electrode.

이미지 센서 주변 차광막으로서 이용되는 경우, 차광막의 막두께로서는 특별히 한정은 없지만, 본 발명에 의한 효과를 보다 효과적으로 얻는 관점에서는, 건조 후의 막두께에서, 0.2μm 이상 50μm 이하가 바람직하고, 0.5μm 이상 30μm 이하가 보다 바람직하며, 0.7μm 이상 20μm 이하가 더 바람직하다. 또, 차광막의 사이즈(한 변의 길이)로서는, 본 발명에 의한 효과를 보다 효과적으로 얻는 관점에서는, 0.001mm 이상 5mm 이하가 바람직하고, 0.05mm 이상 4mm 이하가 보다 바람직하며, 0.1mm 이상 3.5mm 이하가 더 바람직하다.When used as a light shielding film around the image sensor, the film thickness of the light shielding film is not particularly limited, but from the viewpoint of more effectively obtaining the effect of the present invention, the film thickness after drying is preferably 0.2 탆 or more and 50 탆 or less, Or less, more preferably 0.7 m or more and 20 m or less. From the viewpoint of more effectively obtaining the effect of the present invention, the size of the light-shielding film (length of one side) is preferably from 0.001 mm to 5 mm, more preferably from 0.05 mm to 4 mm, More preferable.

<경화막의 제조 방법>&Lt; Process for producing a cured film &

다음으로, 본 발명의 경화막(차광막)의 제조 방법은 특별히 제한되지 않고, 공지의 방법을 채용할 수 있다. 이하, 대표예로서 패턴 형상의 경화막을 제조하는 방법에 대하여 상세하게 설명한다.Next, a method of producing the cured film (light-shielding film) of the present invention is not particularly limited, and a known method can be employed. Hereinafter, a typical method for producing a patterned cured film will be described in detail.

본 발명의 패턴 형상의 경화막의 제조 방법은, 기판 상에, 본 발명의 조성물을 도포하여 조성물층(도포막)을 형성하는 공정(이하, 적절히 "조성물층 형성 공정"이라고 약칭함)과, 상기 조성물층을 마스크를 통하여 노광하는 공정(이하, 적절히 "노광 공정"이라고 약칭함)과, 노광 후의 조성물층을 현상하여 패턴 형상의 경화막을 형성하는 공정(이하, 적절히 "현상 공정"이라고 약칭함)을 포함하는 것을 특징으로 한다.The process for producing a patterned cured film of the present invention comprises a step of applying a composition of the present invention onto a substrate to form a composition layer (coating film) (hereinafter referred to as a "composition layer forming step" (Hereinafter abbreviated as " exposure step " as appropriate) and a step of developing a composition layer after exposure to form a patterned cured film (hereinafter referred to as " And a control unit.

구체적으로는, 본 발명의 조성물을, 직접 또는 다른 층을 통하여 기판 상에 도포하여, 조성물층을 형성하고(조성물층 형성 공정), 소정의 마스크 패턴을 통하여 노광하여, 광조사된 조성물층 부분만을 경화시키며(노광 공정), 현상액으로 현상함으로써(현상 공정), 화소로 이루어지는 패턴 형상의 경화막을 형성할 수 있다.Specifically, the composition of the present invention is applied directly or through a different layer on a substrate to form a composition layer (composition layer forming step), and exposed through a predetermined mask pattern to form only the light irradiated composition layer portion (Curing process) and developing with a developing solution (developing process), a patterned cured film composed of pixels can be formed.

이하, 각 공정에 대하여 설명한다.Hereinafter, each process will be described.

(조성물층 형성 공정)(Composition layer forming step)

조성물층 형성 공정에서는, 기판 상에, 본 발명의 조성물을 도포하여 조성물층(도포막)을 형성한다.In the composition layer forming step, the composition of the present invention is coated on a substrate to form a composition layer (coating film).

기판으로서는, 예를 들면 액정 표시 장치 등에 이용되는 무알칼리 유리, 소다 유리, 파이렉스(등록 상표) 유리, 석영 유리, 및 이들에 투명 도전막을 부착시킨 것, 고체 촬상 소자 등에 이용되는 광전 변환 소자 기판(예를 들면, 실리콘 기판 등), CCD(Charge Coupled Device) 기판, 및 CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor) 기판 등을 들 수 있다.As the substrate, for example, an alkali-free glass, a soda glass, a Pyrex (registered trademark) glass, a quartz glass, a transparent conductive film adhered thereto, a photoelectric conversion element substrate (E.g., a silicon substrate), a CCD (Charge Coupled Device) substrate, and a CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor) substrate.

또, 이들 기판 상에는, 필요에 따라, 상부의 층과의 밀착 개량, 물질의 확산 방지 혹은 기판 표면의 평탄화를 위하여 언더코팅층을 마련해도 된다.If necessary, an undercoat layer may be provided on these substrates in order to improve adhesion with the upper layer, prevent diffusion of substances, or planarize the surface of the substrate.

기판 상에 대한 본 발명의 조성물의 도포 방법으로서는, 슬릿 도포, 잉크젯법, 회전 도포, 유연 도포, 롤 도포, 스크린 인쇄법 등의 각종 도포 방법을 적용할 수 있다.As a coating method of the composition of the present invention on a substrate, various coating methods such as slit coating, inkjet coating, spin coating, flex coating, roll coating, screen printing and the like can be applied.

이미지 센서 주변 차광막을 갖는 컬러 필터를 제조할 때에는, 조성물의 도포 막두께로서는, 해상도와 현상성의 관점에서, 0.35μm 이상 2.0μm 이하가 바람직하고, 0.40μm 이상 1.5μm 이하가 보다 바람직하다.When manufacturing a color filter having a light shielding film around the image sensor, the coating film thickness of the composition is preferably from 0.35 μm to 2.0 μm, more preferably from 0.40 μm to 1.5 μm from the viewpoints of resolution and developability.

기판 상에 도포된 조성물은, 통상 70℃ 이상 110℃ 이하에서 2분 이상 4분 이하 정도의 조건하에서 건조한다. 이로써, 조성물층을 형성할 수 있다.The composition applied on the substrate is generally dried at 70 DEG C or higher and 110 DEG C or lower for about 2 minutes to 4 minutes or less. Thus, a composition layer can be formed.

(노광 공정)(Exposure step)

노광 공정에서는, 조성물층 형성 공정에 있어서 형성된 조성물층(도포막)을, 마스크를 통하여 노광하고, 광조사된 도포막 부분만을 경화시킨다.In the exposure step, the composition layer (coating film) formed in the composition layer forming step is exposed through a mask to cure only the irradiated coated film portion.

노광은, 활성광선 또는 방사선의 조사에 의하여 행하는 것이 바람직하고, 특히, g선, h선, i선 등의 자외선이 바람직하게 이용되며, 고압 수은등이 보다 선호된다. 조사 강도는 5~1500mJ/cm2가 바람직하고 10~1000mJ/cm2가 보다 바람직하다.The exposure is preferably performed by irradiation with an actinic ray or radiation, and ultraviolet rays such as g line, h line and i line are preferably used, and a high pressure mercury lamp is more preferable. The irradiation intensity is 5 ~ 1500mJ / cm 2 are preferred and more preferably 10 ~ 1000mJ / cm 2.

(현상 공정)(Developing step)

노광 공정에 이어서, 알칼리 현상 처리(현상 공정)를 행하여, 노광 공정에 있어서의 광 미조사 부분을 알칼리 수용액에 용출시킨다. 이로써, 광경화한 부분(광조사된 도포막 부분)만이 남는다.Subsequent to the exposure step, an alkali developing treatment (development step) is performed to elute the unirradiated portion in the exposure step into an aqueous alkali solution. As a result, only the photo-cured portion (coated film portion irradiated with light) remains.

현상액으로서는, 이미지 센서 주변 차광막을 갖는 컬러 필터를 제작하는 경우에는, 하지의 회로 등에 대미지를 일으키지 않는, 유기 알칼리 현상액이 바람직하다. 현상 온도로서는 통상 20~30℃이고, 현상 시간은 20~90초이다.When a color filter having a light shielding film around the image sensor is manufactured, an organic alkali developing solution which does not cause any damages to the underlying circuit or the like is preferable. The developing temperature is usually 20 to 30 占 폚, and the developing time is 20 to 90 seconds.

알칼리성의 수용액으로서는, 예를 들면 무기계 현상액 및 유기계 현상액을 들 수 있다. 무기계 현상액으로서는, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산 나트륨, 탄산 수소 나트륨, 규산 나트륨, 메타규산 나트륨을, 농도가 0.001~10질량%, 바람직하게는 0.01~1질량%가 되도록 용해한 알칼리성 수용액을 들 수 있다. 유기계 현상액으로서는, 암모니아수, 에틸아민, 다이에틸아민, 다이메틸에탄올아민, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 콜린, 피롤, 피페리딘, 1,8-다이아자바이사이클로-[5.4.0]-7-운데센 등의 알칼리성 화합물을, 농도가 0.001~10질량%, 바람직하게는 0.01~1질량%가 되도록 용해한 알칼리성 수용액을 들 수 있다. 알칼리성 수용액에는, 예를 들면 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기 용제 및/또는 계면활성제 등을 적당량 첨가할 수도 있다. 또한, 이와 같은 알칼리성 수용액으로 이루어지는 현상액을 사용한 경우에는, 일반적으로 현상 후 순수로 세정(린스)한다.Examples of the alkaline aqueous solution include an inorganic developer and an organic developer. Examples of the inorganic developing solution include alkaline aqueous solutions obtained by dissolving sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium silicate and sodium metasilicate so as to have a concentration of 0.001 to 10 mass%, preferably 0.01 to 1 mass% . Examples of the organic developer include aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5.4 -0-ene-7-undecene in an amount of 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to 1% by mass. To the alkaline aqueous solution, a water-soluble organic solvent such as methanol and ethanol and / or a surfactant may be added in an appropriate amount. When a developer comprising such an alkaline aqueous solution is used, it is generally cleaned (rinsed) with purified water after development.

현상 방법으로서는, 예를 들면 퍼들 현상 방법 및 샤워 현상 방법 등을 이용할 수 있다.As the developing method, for example, a puddle developing method, a shower developing method, or the like can be used.

또한, 본 발명의 경화막을 갖는 컬러 필터의 제조 방법에 있어서는, 상술한, 조성물층 형성 공정, 노광 공정, 및 현상 공정을 행한 후에, 필요에 따라, 형성된 경화막을 가열 및/또는 노광에 의하여 경화하는 경화 공정을 포함하고 있어도 된다.In the method of manufacturing a color filter having the cured film of the present invention, after the composition layer forming step, the exposure step, and the developing step described above are carried out, the cured film formed is cured by heating and / or exposure A curing process may be included.

〔컬러 필터, 차광막〕[Color filter, light-shielding film]

본 발명의 조성물을 이용하여 형성된 경화막은, 컬러 필터의 화소 블랙 매트릭스 혹은 상술한 바와 같은 이미지 센서 주변 차광막(액자 차광막)으로서, 또는 후술하는 화상 표시 장치나 센서 모듈 내의 각종 부재에 적용하는 차광막으로서 바람직하게 이용할 수 있다.The cured film formed using the composition of the present invention is preferably used as a pixel black matrix of a color filter, a light shielding film around the image sensor (frame shielding film) as described above, or a light shielding film applied to various members in an image display device or a sensor module Can be used to make.

(컬러 필터)(Color filter)

컬러 필터는, CCD(전하 결합 소자)나 CMOS(상보성 금속 산화막 반도체) 등의 고체 촬상 소자에 적합하게 이용할 수 있고, 특히 100만 화소를 초과하는 고해상도의 CCD나 CMOS 등에 적합하다. 컬러 필터는, 예를 들면 CCD 또는 CMOS를 구성하는 각 화소의 수광부와, 집광하기 위한 마이크로 렌즈의 사이에 배치하여 이용할 수 있다. 또, 컬러 필터는, 격벽에 의하여 예를 들면 격자 형상으로 구획된 공간에, 각색 화소를 형성하는 경화막이 매립된 구조를 갖고 있어도 된다. 이 경우의 격벽은 각색 화소에 대하여 저굴절률인 것이 바람직하다. 이와 같은 구조를 갖는 촬상 소자의 예로서는, 일본 공개특허공보 2012-227478호, 일본 공개특허공보 2014-179577호에 기재된 장치를 들 수 있다.The color filter can be suitably used for a solid-state image pickup device such as a CCD (charge coupled device) or a CMOS (complementary metal oxide semiconductor), and is particularly suitable for a high resolution CCD or CMOS exceeding one million pixels. The color filter can be disposed, for example, between a light-receiving portion of each pixel constituting a CCD or a CMOS and a microlens for condensing. The color filter may have a structure in which a cured film for forming each color pixel is embedded in a space partitioned by, for example, a lattice shape by the partition wall. In this case, the partition wall preferably has a low refractive index for each color pixel. Examples of the image pickup device having such a structure include the devices described in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-227478 and Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2014-179577.

본 발명의 컬러 필터는, 상기 경화막을 갖고 있으면 특별히 그 형태는 한정되지 않는다.The shape of the color filter of the present invention is not particularly limited as long as it has the cured film.

컬러 필터에 있어서, 상기 경화막은, 예를 들면 컬러 필터의 화소 블랙 매트릭스 혹은 상술한 바와 같은 이미지 센서 주변 차광막(액자 차광막)으로서 적합하게 이용할 수 있다.In the color filter, the cured film can be suitably used as, for example, a pixel black matrix of a color filter or a light shielding film (frame shielding film) around the image sensor as described above.

(차광막)(Light-shielding film)

차광막은, 화상 표시 장치나 센서 모듈 내의 각종 부재(예를 들면, 적외광 차단 필터, 고체 촬상 소자의 외주부, 웨이퍼 레벨 렌즈 외주부, 고체 촬상 소자 이면 등) 등에 형성하여 이용할 수 있다.The light shielding film can be formed and used in an image display apparatus and various members in a sensor module (for example, an infrared light cut filter, an outer peripheral portion of a solid state image pickup element, a wafer level lens outer peripheral portion, or a solid state image pickup element).

또, 적외광 차단 필터의 표면 상의 적어도 일부에, 차광막을 형성하여, 차광막 부착 적외광 차단 필터로 해도 된다.A light shielding film may be formed on at least a part of the surface of the infrared light cut filter to form an infrared light cut filter with a light shielding film.

차광막의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 0.2~25μm가 바람직하고, 1.0~10μm가 보다 바람직하다. 상기 두께는 평균 두께이고, 차광막의 임의의 5개 이상의 두께를 측정하여, 그들을 산술 평균한 값이다.The thickness of the light-shielding film is not particularly limited, but is preferably 0.2 to 25 占 퐉, more preferably 1.0 to 10 占 퐉. The thickness is an average thickness, and is a value obtained by measuring arbitrary five or more thicknesses of the light-shielding film and arithmetically averaging them.

차광막의 반사율은, 10% 이하가 바람직하고, 8% 이하가 보다 바람직하며, 6% 이하가 더 바람직하고, 4% 이하가 특히 바람직하다. 또한, 차광막의 반사율은, 차광막에, 입사 각도 5°에서 400~700nm의 광을 입사하여, 그 반사율을 히타치 하이테크놀로지제 분광기 UV4100(상품명)에 의하여 측정한 값이다.The reflectance of the light-shielding film is preferably 10% or less, more preferably 8% or less, further preferably 6% or less, and particularly preferably 4% or less. The reflectance of the light-shielding film is a value measured by Hitachi High-Tech Spectrometer UV4100 (trade name) when light with an incident angle of 5 to 400 to 700 nm is incident on the light-shielding film.

〔고체 촬상 소자〕[Solid-state image pickup device]

본 발명의 고체 촬상 소자는, 상기 경화막(컬러 필터, 차광막 등)을 구비한다. 본 발명의 고체 촬상 소자의 구성으로서는, 상기 경화막을 구비하고, 고체 촬상 소자로서 기능하는 구성이면 특별히 한정은 없지만, 예를 들면 이하와 같은 구성을 들 수 있다.The solid-state imaging element of the present invention comprises the cured film (color filter, light shielding film, etc.). The configuration of the solid-state imaging device of the present invention is not particularly limited as long as it includes the cured film and functions as a solid-state imaging device.

기판 상에, 고체 촬상 소자(CCD 이미지 센서, CMOS 이미지 센서 등)의 수광 에어리어를 구성하는 복수의 포토다이오드 및 폴리실리콘 등으로 이루어지는 전송 전극을 갖고, 포토다이오드 및 전송 전극 상에 포토다이오드의 수광부만 개구한 차광막을 가지며, 차광막 상에 차광막 전체면 및 포토다이오드 수광부를 덮도록 형성된 질화 실리콘 등으로 이루어지는 디바이스 보호막을 갖고, 디바이스 보호막 상에, 컬러 필터를 갖는 구성이다.A plurality of photodiodes constituting a light receiving area of a solid-state image sensor (a CCD image sensor, a CMOS image sensor, or the like) and a transfer electrode composed of polysilicon or the like are formed on a substrate. On the photodiode and the transfer electrode, And a device protective film made of silicon nitride or the like formed on the light shielding film so as to cover the entire surface of the light shielding film and the photodiode light receiving portion, and has a color filter on the device protective film.

또한, 디바이스 보호층 상이고, 컬러 필터 아래(기판에 가까운 측)에 집광 수단(예를 들면, 마이크로 렌즈 등. 이하 동일)을 갖는 구성, 컬러 필터 상에 집광 수단을 갖는 구성 등이어도 된다. 또, 컬러 필터는, 격벽에 의하여 예를 들면 격자 형상으로 구획된 공간에, 각색 화소를 형성하는 경화막이 매립된 구조를 갖고 있어도 된다. 이 경우의 격벽은 각색 화소에 대하여 저굴절률인 것이 바람직하다. 이와 같은 구조를 갖는 촬상 장치의 예로서는, 일본 공개특허공보 2012-227478호, 일본 공개특허공보 2014-179577호에 기재된 장치를 들 수 있다.Further, it may be a configuration having a condensing means (for example, a microlens or the like) on the device protective layer, below the color filter (near the substrate), or a configuration having condensing means on the color filter. The color filter may have a structure in which a cured film for forming each color pixel is embedded in a space partitioned by, for example, a lattice shape by the partition wall. In this case, the partition wall preferably has a low refractive index for each color pixel. Examples of the image pickup device having such a structure include the devices described in Japanese Unexamined Patent Application Publication Nos. 2001-227478 and 2014-179577.

〔화상 표시 장치〕[Image display device]

본 발명의 경화막(컬러 필터, 차광막 등)은, 액정 표시 장치나 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치 등의, 화상 표시 장치에 이용할 수 있다.The cured film (color filter, light-shielding film, etc.) of the present invention can be used for an image display device such as a liquid crystal display device or an organic electroluminescence display device.

표시 장치의 정의나 각 표시 장치의 상세에 대해서는, 예를 들면 "전자 디스플레이 디바이스(사사키 아키오 저, (주)고교 초사카이 1990년 발행)", "디스플레이 디바이스(이부키 스미아키 저, 산교 도쇼(주) 헤이세이 원년 발행)" 등에 기재되어 있다. 또, 액정 표시 장치에 대해서는, 예를 들면 "차세대 액정 디스플레이 기술(우치다 다쓰오 편집, (주)고교 초사카이 1994년 발행)"에 기재되어 있다. 본 발명을 적용할 수 있는 액정 표시 장치에 특별히 제한은 없고, 예를 들면 상기의 "차세대 액정 디스플레이 기술"에 기재되어 있는 다양한 방식의 액정 표시 장치에 적용할 수 있다.For the definition of the display device and the details of each display device, refer to, for example, "Electronic display device (Sasaki Akio Kogyo Co., Ltd., Sakai, 1990 issued by Sakai Corporation)", "Display device (Ibukisumi Akira, ) Published in the first year of Heisei) ". The liquid crystal display device is described in, for example, "Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Uchida Tatsuo, published by Sakai High School Co., Ltd. in 1994) ". The liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited. For example, the present invention can be applied to various types of liquid crystal display devices described in the "next generation liquid crystal display technology ".

본 발명에 있어서의 컬러 필터를 액정 표시 장치에 적용하는 경우는, 그 형태는 특별히 한정되지 않는다.When the color filter of the present invention is applied to a liquid crystal display device, its form is not particularly limited.

이하에, 본 발명의 컬러 필터를 액정 표시 장치에 적용하는 경우의 양태에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, a mode in which the color filter of the present invention is applied to a liquid crystal display device will be described in detail.

본 발명의 컬러 필터는, 컬러 TFT(Thin Film Transistor) 방식의 액정 표시 장치에 이용해도 된다. 컬러 TFT 방식의 액정 표시 장치에 대해서는, 예를 들면 "컬러 TFT 액정 디스플레이(교리쓰 슛판(주) 1996년 발행)"에 기재되어 있다. 또한, 본 발명의 컬러 필터는 IPS(In Plane Switching) 등의 횡전계 구동 방식, MVA(Multi-domain Vertical Alignment) 등의 화소 분할 방식 등의 시야각이 확대된 액정 표시 장치나, STN(Super-Twist Nematic), TN(Twisted Nematic), VA(Vertical Alignment), OCS(on-chips pacer), FFS(fringe field switching), 및 R-OCB(Reflective Optically Compensated Bend) 등에도 적용할 수 있다.The color filter of the present invention may be used in a color TFT (Thin Film Transistor) type liquid crystal display device. The color TFT type liquid crystal display device is described in, for example, "Color TFT liquid crystal display (published by Kyoritsu Shootpan Co., Ltd., 1996) ". The color filter of the present invention can be applied to a liquid crystal display device such as a transverse electric field driving system such as IPS (In Plane Switching) or a pixel division system such as MVA (Multi-domain Vertical Alignment) Nematic), TN (Twisted Nematic), VA (Vertical Alignment), OCS (on-chip pacer), FFS (fringe field switching) and R-OCB (Reflective Optically Compensated Bend).

또, 본 발명에 있어서의 컬러 필터는, 밝고 고정세한 COA(Color-filter On Array) 방식에도 적용하는 것이 가능하다. COA 방식의 액정 표시 장치에 있어서는, 컬러 필터에 대한 요구 특성은, 상술한 바와 같은 통상의 요구 특성에 더하여, 층간 절연막에 대한 요구 특성, 즉 저유전율 및 박리액 내성이 필요하게 되는 경우가 있다. 본 발명의 컬러 필터는, 내광성 등이 우수하므로, 해상도가 높고 장기 내구성이 우수한 COA 방식의 액정 표시 장치를 제공할 수 있다. 또한, 저유전율의 요구 특성을 만족하기 위해서는, 컬러 필터층의 상에 수지 피막을 마련해도 된다.In addition, the color filter in the present invention can be applied to a color-filter on array (COA) method which is bright and highly accurate. In the COA type liquid crystal display device, the required characteristics for the color filter may require the characteristics required for the interlayer insulating film, that is, the low dielectric constant and the peel liquid resistance, in addition to the above-mentioned usual required characteristics. Since the color filter of the present invention is excellent in light resistance and the like, it is possible to provide a COA-type liquid crystal display device having high resolution and excellent long-term durability. In addition, in order to satisfy the requirement of low dielectric constant, a resin film may be provided on the color filter layer.

이들 화상 표시 방식에 대해서는, 예를 들면 "EL, PDP, LCD 디스플레이 -기술과 시장의 최신 동향-(도레이 리서치 센터 조사 연구 부문 2001년 발행)"의 43페이지 등에 기재되어 있다.These image display methods are described in, for example, page 43 of "EL, PDP, and LCD display technology and the latest trend in the market" (published by Toray Research Center Research Division, 2001).

본 발명의 액정 표시 장치는, 본 발명에 있어서의 컬러 필터 이외에, 전극 기판, 편광 필름, 위상차 필름, 백라이트, 스페이서, 또는 시야각 보장 필름 등 다양한 부재로 구성된다. 본 발명의 컬러 필터는, 이들 공지의 부재로 구성되는 액정 표시 장치에 적용할 수 있다. 이들 부재에 대해서는, 예를 들면 "94 액정 디스플레이 주변 재료·케미컬즈의 시장(시마 겐타로 (주)씨엠씨 1994년 발행)", "2003 액정 관련 시장의 현상과 장래 전망(하권)(오모테 료키치 (주)후지 키메라 소켄, 2003년 발행)"에 기재되어 있다.The liquid crystal display device of the present invention is composed of various members such as an electrode substrate, a polarizing film, a retardation film, a backlight, a spacer, or a viewing angle assurance film in addition to the color filter in the present invention. The color filter of the present invention can be applied to a liquid crystal display device constituted by these known members. These members are described in, for example, "94 Market of Liquid Crystal Display Materials and Chemicals (published by Shimaguchi Co., Ltd., CMC 1994)," 2003 Liquid crystal display market trends and future prospects Quot; Fuji Chimera Soken, 2003 ").

백라이트에 관해서는, SID meeting Digest 1380(2005)(A. Konno et. al)이나, 월간 디스플레이 2005년 12 월호의 18~24페이지(시마 야스히로), 동 25~30페이지(야기 다카아키) 등에 기재되어 있다.Regarding the backlight, it is described in SID meeting Digest 1380 (2005) (A. Konno et al), Monthly Display December 2005, pages 18-24 (Yamazaki Shimaya), 25-30 pages (Yagi Takaaki) have.

또, 본 발명의 경화막은, 퍼스널 컴퓨터, 태블릿, 휴대 전화, 스마트폰, 또는 디지털 카메라 등의 휴대용 기기; 프린터 복합기 또는 스캐너 등의 OA(Office Automation) 기기; 감시 카메라, 바코드 리더, 현금 자동 입출금기(ATM), 하이 스피드 카메라, 또는 얼굴 화상 인증을 사용한 본인 인증 등의 산업용 기기; 차재용 카메라 기기; 내시경, 캡슐 내시경, 또는 카테터 등의 의료용 카메라 기기; 생체 센서, 바이오 센서, 군사 정찰용 카메라, 입체 지도용 카메라, 기상 혹은 해양 관측 카메라, 육지 자원 탐사 카메라, 또는 우주의 천문 혹은 심우주 타깃용의 탐사 카메라 등의 우주용 기기 등에 사용되는 광학 필터 또는 모듈의 차광 부재 혹은 차광층에 이용할 수 있다. 나아가서는, 본 발명의 경화막은, 상기 광학 필터 또는 모듈의 반사 방지 부재 또는 반사 방지층에 이용할 수 있다.In addition, the cured film of the present invention can be used as a portable device such as a personal computer, a tablet, a mobile phone, a smart phone, or a digital camera; An office automation (OA) device such as a printer multi-function printer or a scanner; Industrial devices such as surveillance cameras, bar code readers, ATMs, high speed cameras, or personal authentication using face image authentication; Vehicle camera equipment; A medical camera device such as an endoscope, a capsule endoscope, or a catheter; An optical filter used for space devices such as a biosensor, a biosensor, a military reconnaissance camera, a three-dimensional map camera, a weather or ocean observation camera, a land resource exploration camera, or an exploration camera for a space astronomical or deep space target It can be used for a light-shielding member or a light-shielding layer of a module. Further, the cured film of the present invention can be used for an antireflection member or an antireflection layer of the optical filter or module.

또, 본 발명의 경화막은, 마이크로 LED(Light Emitting Diode)나 마이크로 OLED(Organic Light Emitting Diode) 등의 용도에도 이용할 수 있다. 특별히 한정되지 않지만, 마이크로 LED 또는 마이크로 OLED에 사용되는 광학 필터 또는 광학 필름 외에, 차광 기능 또는 반사 방지 기능을 부여하는 부재에 대하여 적합하게 이용된다.The cured film of the present invention can also be used for applications such as a micro LED (Light Emitting Diode) and a micro OLED (Organic Light Emitting Diode). It is suitably used for a member that provides a light shielding function or an antireflection function in addition to an optical filter or an optical film used in a micro LED or a micro OLED.

마이크로 LED 및 마이크로 OLED의 예로서는, 일본 공표특허공보 2015-500562호 및 일본 공표특허공보 2014-533890호에 기재된 것을 들 수 있다.Examples of micro LEDs and micro OLEDs include those described in JP-A-2015-500562 and JP-A-2014-533890.

또, 본 발명의 경화막은, 양자 도트 디스플레이 등의 용도에도 이용할 수 있다. 특별히 한정되지 않지만, 양자 도트 디스플레이에 사용되는 광학 필터 및 광학 필름 외에, 차광 기능 및 반사 방지 기능을 부여하는 부재에 대하여 적합하게 이용된다.The cured film of the present invention can also be used for applications such as a quantum dot display. It is suitably used for a member that provides a light shielding function and an antireflection function in addition to an optical filter and an optical film used in a quantum dot display.

양자 도트 디스플레이의 예로서는, 미국 특허출원 공개공보 제2013/0335677호, 미국 특허출원 공개공보 제2014/0036536호, 미국 특허출원 공개공보 제2014/0036203호, 및 미국 특허출원 공개공보 제2014/0035960호에 기재된 것을 들 수 있다.Examples of quantum dot displays are disclosed in U.S. Patent Application Publication No. 2013/0335677, U.S. Patent Application Publication No. 2014/0036536, U.S. Patent Application Publication No. 2014/0036203, and U.S. Patent Application Publication No. 2014/0035960 And the like.

실시예Example

이하에 실시예에 근거하여 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 이하의 실시예로 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 순서 등은, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 한 적절히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 실시예에 의하여 한정적으로 해석되어야 할 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. The materials, the amounts used, the ratios, the processing contents, the processing procedures, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed to be limited by the following embodiments.

이하, 실시예를 이용하여, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 특별히 설명이 없는 한, "부", "%"는, 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. However, the present invention is not limited thereto. Unless otherwise stated, "part" and "%" are based on mass.

[조성물][Composition]

이하, 실시예 및 비교예의 조성물의 조제에 있어서, 먼저 조성물에 포함되는 각 성분에 대하여 설명한다.Hereinafter, in preparing the compositions of Examples and Comparative Examples, the respective components contained in the composition will be described first.

<타이타늄 질화물 함유 입자>&Lt; Titanium nitride-containing particles >

타이타늄 질화물 함유 입자로서, 다음과 같이 하여 제조한 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1~TiN-19를 이용했다.Titanium nitride-containing particles TiN-1 to TiN-19 prepared as described below were used as the titanium nitride-containing particles.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1)(Titanium nitride-containing particles TiN-1)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1은, 국제 공개공보 제2010/147098의 도 1에 기재된 흑색 복합 미립자 제조 장치에 준하는 장치를 이용하여 제조했다.Titanium nitride-containing particles TiN-1 were produced by using a device similar to the apparatus for producing black composite fine particles described in FIG. 1 of International Publication No. 2010/147098.

흑색 복합 미립자 제조 장치에 있어서, 플라즈마 토치의 고주파 발진용 코일에는, 약 4MHz 및 약 80kVA의 고주파 전압을 인가하고, 플라즈마 가스 공급원으로부터는 플라즈마 가스로서 아르곤 가스 50L/min 및 질소 50L/min의 혼합 가스를 공급하여, 플라즈마 토치 내에 아르곤-질소 열플라즈마염을 발생시켰다. 또, 재료 공급 장치의 분무 가스 공급원으로부터는 10L/min의 캐리어 가스를 공급했다.In the black composite fine particle production apparatus, a high frequency voltage of about 4 MHz and about 80 kVA is applied to the high frequency oscillation coil of the plasma torch, and a mixed gas of argon gas of 50 L / min and nitrogen of 50 L / min as the plasma gas To generate an argon-nitrogen thermal plasma salt in the plasma torch. A carrier gas of 10 L / min was supplied from a spray gas supply source of the material supply device.

그리고, 입자 원료 1로서 사염화 타이타늄(액체), 입자 원료 2로서 액체 암모니아(우베 고산제), 입자 원료 3으로서 Ti 분말 입자(도호 테크사제, "TC-200")를, 캐리어 가스인 아르곤 가스와 함께, 플라즈마 토치 내의 열플라즈마염 중에 공급하고, 열플라즈마염 중에서 증발시켜, 기상 상태에서 고도로 분산시켰다. 또한, 입자 원료 1~3의 각각의 유량 비율(체적 비율)은 제1표에 나타내는 바와 같다.(Liquid) was used as the raw material 1, liquid ammonia (made by Ube Gosan) was used as the raw material 2, and Ti powder (TC-200 made by Toho Tech Co., Ltd.) Together, they were fed into the thermal plasma salt in the plasma torch and evaporated in the thermal plasma salt to be highly dispersed in the gaseous state. The flow rate ratio (volume ratio) of each of the raw materials 1 to 3 is as shown in Table 1.

또, 기체 공급 장치에 의하여, 챔버 내에 공급되는 기체로서는, 질소를 사용했다. 이때의 챔버 내의 유속은 5m/sec으로 하고, 공급량은 1000L/min으로 했다. 또, 사이클론 내의 압력은 50kPa로 하고, 또 챔버로부터 사이클론에 대한 타이타늄 입자의 공급 속도는, 10m/s(평균값)로 했다.Nitrogen was used as the gas supplied into the chamber by the gas supply device. The flow rate in the chamber at this time was 5 m / sec and the supply amount was 1000 L / min. The pressure in the cyclone was 50 kPa, and the feeding rate of the titanium particles to the cyclone from the chamber was 10 m / s (average value).

이어서, 소성로로서 가부시키가이샤 나라하시 세이사쿠쇼제 라보 킬른 L/K를 이용하여, 입자에 대하여 열처리를 실시했다. 구체적으로는, 소성로에 분위기 가스로서 질소를 100mL/min으로 공급하면서 240℃에서 0.2시간 열처리했다.Subsequently, the particles were subjected to a heat treatment using a Lavo Kiln L / K manufactured by Nisshin Seisakusho Co., Ltd. as a firing furnace. Specifically, the furnace was heat-treated at 240 캜 for 0.2 hours while supplying nitrogen as an atmosphere gas at a rate of 100 mL / min.

이와 같이 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1을 얻었다.Thus, titanium nitride-containing particles TiN-1 were obtained.

얻어진 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1에 대하여, ICP 발광 분광 분석법에 의하여, 타이타늄(Ti) 원자, 염소(Cl) 원자의 함유량을 측정했다. 또한, ICP 발광 분광 분석법에는, 세이코 인스트루먼트사제의 ICP 발광 분광 분석 장치 "SPS3000"(상품명)을 이용했다.The content of titanium (Ti) atoms and chlorine (Cl) atoms was measured by ICP emission spectroscopy for the obtained titanium nitride-containing particles TiN-1. An ICP emission spectrochemical analyzer "SPS3000" (trade name) manufactured by Seiko Instruments Inc. was used for the ICP emission spectroscopy.

또, 질소 원자의 함유량에 대해서는, 호리바 세이사쿠쇼제의 산소·질소 분석 장치 "EMGA-620W/C"(상품명)를 이용하여 측정하여, 불활성 가스 융해-열전도도법에 의하여 산출했다. 결과를 제1표에 나타낸다.The content of nitrogen atoms was measured using an oxygen / nitrogen analyzer "EMGA-620W / C" (trade name) manufactured by Horiba Seisakusho Co., Ltd. and calculated by an inert gas melting-thermal conductivity method. The results are shown in Table 1.

또, 후술하는 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-2~TiN-19에 대해서도, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일한 방법에 의하여, Ti 원자, Cl 원자, 질소 원자의 함유량을 측정했다. 또한, 각 입자에 있어서의 잔량은, 입자 중에 존재하는 산화물 유래의 산소, 금속 원소 등의 불순물이다.Also for the titanium nitride-containing particles TiN-2 to TiN-19 described later, the contents of Ti atoms, Cl atoms and nitrogen atoms were measured by the same method as that of the titanium nitride-containing particles TiN-1. The residual amount in each particle is an impurity such as oxygen or metal element derived from the oxide present in the particle.

결과를 제1표 및 제2표에 나타낸다.The results are shown in Tables 1 and 2.

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1의 X선 회절은, 분말 시료를 알루미늄제 표준 시료 홀더에 채워, 광각 X선 회절법(리가쿠 덴키사제, 상품명 "RU-200R")에 의하여 측정했다. 측정 조건으로서는, X선원은 CuKα선으로 하고, 출력은 50kV/200mA, 슬릿계는 1° -1° -0.15mm -0.45mm, 측정 스텝(2θ)은 0.02°, 스캔 속도는 2°/분으로 했다.X-ray diffraction of the titanium nitride-containing particles TiN-1 was measured by a wide-angle X-ray diffraction method (trade name "RU-200R", manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd.) by filling a powder sample with a standard sample holder made of aluminum. The measurement conditions are as follows: the X-ray source is a CuK? Ray; the output is 50 kV / 200 mA; the slit system is 1 ° -1 ° -0.15 mm -0.45 mm; the measurement step (2θ) is 0.02 °; did.

그리고, 이 TiN (200)면에서 유래하는 피크의 회절각 2θ를 측정했다. 또 이 피크의 반값폭으로부터, 셰러의 식을 이용하여 입자를 구성하는 결정자 사이즈를 구했다. 결과를 제1표에 나타낸다.Then, the diffraction angle 2? Of the peak derived from the TiN (200) plane was measured. From the half width of the peak, the crystallite size constituting the particles was determined using the Scherr equation. The results are shown in Table 1.

또한, 이하의 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-2~TiN-19에 대해서도, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일한 방법에 의하여, 회절각 2θ 및 결정자 사이즈를 측정했다. 결과를 제1표 및 제2표에 나타낸다.The diffraction angle 2? And crystallite size of the following titanium nitride-containing particles TiN-2 to TiN-19 were also measured by the same method as the titanium nitride-containing particles TiN-1. The results are shown in Tables 1 and 2.

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1의 평균 1차 입자경의 측정은, 상술한 방법에 준하여, 투과형 전자 현미경(Transmission Electron Microscope; TEM)을 이용하여 행했다. 또, 상기의 측정과 동시에, 입자의 형상 관찰을 실시한바, 관찰 대상인 타이타늄 질화물 함유 입자 100개 중 60개 이상이 구형인 것이 확인되었다. 이들 결과를 제1표에 나타낸다. 또한, 입자의 형상 관찰 평가에 대해서는, 측정 대상의 60% 이상이 구형인 경우, 표 중에서는 "구형"으로 하여 나타냈다. 구형의 입자의 수가 측정 대상의 60% 미만인 경우에는, 표 중에 있어서 "구형이 60% 미만"으로 하여 나타냈다. 또, 표 중에 있어서 "정육면체"라고 기재되어 있는 경우는, 정육면체의 입자의 수가 측정 대상의 60% 이상인 경우를 나타냈다. 또한, 정육면체란, 정육면체라고 시인되는 것에 한정하지 않고, 각이 시인되는 다면체도 정육면체로 하여 측정을 했다.The measurement of the average primary particle diameter of the titanium nitride-containing particles TiN-1 was carried out using a transmission electron microscope (TEM) in accordance with the above-described method. In addition, when observing the shape of the particles at the same time as the above-described measurement, it was confirmed that at least 60 of the 100 titanium nitride-containing particles to be observed were spherical. These results are shown in Table 1. In the evaluation of shape observation of particles, when more than 60% of the objects to be measured are spherical, they are shown as "spherical" in the table. When the number of spherical particles is less than 60% of the object to be measured, "spherical shape is less than 60%" is shown in the table. In the table, "cube" indicates the case where the number of particles in the cube is 60% or more of the object to be measured. The cube is not limited to a cube, but a polyhedron is used as a cube.

또한, 이하의 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-2~TiN-19에 대해서도, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일한 방법에 의하여, 평균 1차 입자경을 측정하고, 추가로 형상 관찰을 행했다. 결과를 제1표 및 제2표에 나타낸다.Also for the following titanium nitride-containing particles TiN-2 to TiN-19, the average primary particle diameter was measured by the same method as that of the titanium nitride-containing particle TiN-1, and further observation of the shape was carried out. The results are shown in Tables 1 and 2.

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1의 비표면적은, 니혼 벨(주)제 고정밀도 전자동 가스 흡착 장치("BELSORP"36)를 이용하여 100℃에서 진공 탈기 후, N2 가스의 액체 질소 온도(77K)에 있어서의 흡착 등온선을 측정하고, 이 등온선을 BET법으로 해석하여 비표면적을 구했다. 결과를 제1표에 나타낸다.The specific surface area of the titanium nitride-containing particles TiN-1 was measured at a liquid nitrogen temperature (77K) of N 2 gas after vacuum degassing at 100 ° C using a high precision automatic gas adsorption apparatus ("BELSORP" The isotherm was analyzed by the BET method to determine the specific surface area. The results are shown in Table 1.

또한, 이하의 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-2~TiN-19에 대해서도, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일한 방법에 의하여, 비표면적을 구했다.The specific surface area was also determined for the following titanium nitride-containing particles TiN-2 to TiN-19 by the same method as for the titanium nitride-containing particles TiN-1.

결과를 제1표 및 제2표에 나타낸다.The results are shown in Tables 1 and 2.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-2)(Titanium nitride-containing particles TiN-2)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1 입자의 제조에 사용한 입자 원료 1~3 및 그 유량 비율과 열처리 조건을 제1표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-2를 제조했다.Titanium nitride-containing particles The titanium nitride-containing particles TiN-1 were produced in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-1 except that the raw materials 1 to 3 and the flow rate ratios and the heat treatment conditions used in the preparation of the TiN- Containing particles TiN-2.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-3)(Titanium nitride-containing particles TiN-3)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1 입자의 제조에 사용한 입자 원료 1~3 및 그 유량 비율과 열처리 조건을 제1표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-3을 제조했다.Titanium nitride-containing particles The titanium nitride-containing particles TiN-1 were produced in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-1 except that the raw materials 1 to 3 and the flow rate ratios and the heat treatment conditions used in the preparation of the TiN- Containing particles TiN-3.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-4)(Titanium nitride-containing particles TiN-4)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1 입자의 제조에 사용한 입자 원료 1~3 및 그 유량 비율과 열처리 조건을 제1표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-4를 제조했다.Titanium nitride-containing particles The titanium nitride-containing particles TiN-1 were produced in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-1 except that the raw materials 1 to 3 and the flow rate ratios and the heat treatment conditions used in the preparation of the TiN- Containing particles TiN-4.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-5)(Titanium nitride-containing particles TiN-5)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1 입자의 제조에 사용한 입자 원료 1~3 및 그 유량 비율과 열처리 조건을 제1표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-5를 제조했다.Titanium nitride-containing particles The titanium nitride-containing particles TiN-1 were produced in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-1 except that the raw materials 1 to 3 and the flow rate ratios and the heat treatment conditions used in the preparation of the TiN- Containing particles TiN-5.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-6)(Titanium nitride-containing particles TiN-6)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1 입자의 제조에 사용한 입자 원료 1~3 및 그 유량 비율과 열처리 조건, 챔버 내의 유속을 제1표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-6을 제조했다.Titanium nitride-containing particles The titanium nitride-containing particles TiN-1 were prepared in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-1 except that the particle raw materials 1 to 3 used in the production of the titanium nitride-containing particles and the flow rate ratios thereof, the heat treatment conditions, To prepare titanium nitride-containing particles TiN-6.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-7)(Titanium nitride-containing particles TiN-7)

챔버 내의 유속을 제1표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-6과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-7을 제조했다.Titanium nitride-containing particles TiN-7 were produced in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-6 except that the flow rates in the chamber were changed as shown in Table 1.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-8)(Titanium nitride-containing particles TiN-8)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1 입자의 제조에 사용한 입자 원료 1~3 및 그 유량 비율과 열처리 조건, 챔버 내의 유속을 제1표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-8을 제조했다.Titanium nitride-containing particles The titanium nitride-containing particles TiN-1 were prepared in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-1 except that the particle raw materials 1 to 3 used in the production of the titanium nitride-containing particles and the flow rate ratios thereof, the heat treatment conditions, To prepare a titanium nitride-containing particle TiN-8.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-9)(Titanium nitride-containing particles TiN-9)

챔버 내의 유속을 제1표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-8과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-9를 제조했다.Titanium nitride-containing particles TiN-9 were prepared in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-8 except that the flow rates in the chamber were changed as shown in Table 1.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-10)(Titanium nitride-containing particles TiN-10)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1 입자의 제조에 사용한 입자 원료 1~3 및 그 유량 비율과 열처리 조건을 제1표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-10을 제조했다.Titanium nitride-containing particles The titanium nitride-containing particles TiN-1 were produced in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-1 except that the raw materials 1 to 3 and the flow rate ratios and the heat treatment conditions used in the preparation of the TiN- Containing particles TiN-10.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-11)(Titanium nitride-containing particles TiN-11)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1 입자의 제조에 사용한 입자 원료 1~3 및 그 유량 비율과 열처리 조건을 제2표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-11을 제조했다. 또한, TiN-11에 있어서 입자 원료 3은 사용하지 않았다.Titanium nitride-containing particles The titanium nitride-containing particles TiN-1 were produced in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-1 except that the raw materials 1 to 3 and the flow rate ratios and the heat treatment conditions used in the preparation of the TiN- Containing particles TiN-11. Further, the raw material 3 of the particles was not used in TiN-11.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-12)(Titanium nitride-containing particles TiN-12)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1 입자의 제조에 사용한 입자 원료 1~3 및 그 유량 비율과 열처리 조건을 제2표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-12를 제조했다. 또한, TiN-12에 있어서 입자 원료 1 및 2는 사용하지 않았다.Titanium nitride-containing particles The titanium nitride-containing particles TiN-1 were produced in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-1 except that the raw materials 1 to 3 and the flow rate ratios and the heat treatment conditions used in the preparation of the TiN- Containing particles TiN-12. Further, the raw materials 1 and 2 were not used in TiN-12.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-13)(Titanium nitride-containing particles TiN-13)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1 입자의 제조에 사용한 입자 원료 1~3 및 그 유량 비율과 열처리 조건을 제2표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-13을 제조했다. 또한, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-13의 열처리 온도는 250℃로 했다.Titanium nitride-containing particles The titanium nitride-containing particles TiN-1 were produced in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-1 except that the raw materials 1 to 3 and the flow rate ratios and the heat treatment conditions used in the preparation of the TiN- Containing particles TiN-13. The heat treatment temperature of the titanium nitride-containing particles TiN-13 was set at 250 캜.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-14)(Titanium nitride-containing particles TiN-14)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1 입자의 제조에 사용한 입자 원료 1~3 및 그 유량 비율과 열처리 조건을 제2표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-14를 제조했다.Titanium nitride-containing particles The titanium nitride-containing particles TiN-1 were produced in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-1 except that the raw materials 1 to 3 and the flow rate ratios and the heat treatment conditions used in the preparation of the TiN- Containing particles TiN-14.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-15)(Titanium nitride-containing particles TiN-15)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1 입자의 제조에 사용한 입자 원료 1~3 및 그 유량 비율과 열처리 조건을 제2표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-15를 제조했다.Titanium nitride-containing particles The titanium nitride-containing particles TiN-1 were produced in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-1 except that the raw materials 1 to 3 and the flow rate ratios and the heat treatment conditions used in the preparation of the TiN- Containing particles TiN-15.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-16)(Titanium nitride-containing particles TiN-16)

열처리 조건을 제2표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-15와 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-16을 제조했다.Titanium nitride-containing particles TiN-16 were produced in the same manner as in the case of the titanium nitride-containing particles TiN-15 except that the heat treatment conditions were as shown in Table 2.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-17)(Titanium nitride-containing particles TiN-17)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1 입자의 제조에 사용한 입자 원료 1~3 및 그 유량 비율을 제2표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-17을 제조했다.Titanium nitride-containing particles The titanium nitride-containing particles TiN-1 were prepared in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-1 except that the raw materials 1 to 3 and the flow rates of the titanium nitride-containing particles TiN- -17.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-18)(Titanium nitride-containing particles TiN-18)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1 입자의 제조에 사용한 입자 원료 1~3 및 그 유량 비율을 제2표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-18을 제조했다.Titanium nitride-containing particles The titanium nitride-containing particles TiN-1 were prepared in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-1 except that the raw materials 1 to 3 and the flow rates of the titanium nitride-containing particles TiN- -18.

(타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-19)(Titanium nitride-containing particles TiN-19)

타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1 입자의 제조에 사용한 입자 원료 1~3 및 그 유량 비율과 열처리 조건을 제2표에 나타내는 바와 같이 한 것 이외에는, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 동일하게 하여, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-19를 제조했다.Titanium nitride-containing particles The titanium nitride-containing particles TiN-1 were produced in the same manner as the titanium nitride-containing particles TiN-1 except that the raw materials 1 to 3 and the flow rate ratios and the heat treatment conditions used in the preparation of the TiN- Containing particles TiN-19.

상기 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1~타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-19의 제조 조건 및 물성을 하기의 제1표 및 제2표에 나타낸다.Production conditions and physical properties of the titanium nitride-containing particles TiN-1 to the titanium nitride-containing particles TiN-19 are shown in the following Tables 1 and 2.

또한, 표 중, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-11, TiN-12, TiN-13 및 TiN-14이외에는, 모두 열처리 온도 240℃이다.In the table, all of the titanium nitride-containing particles TiN-11, TiN-12, TiN-13 and TiN-14 are all at a heat treatment temperature of 240 占 폚.

(제1표)(Table 1)

[표 1][Table 1]

Figure pct00020
Figure pct00020

(제2표)(Table 2)

[표 2][Table 2]

Figure pct00021
Figure pct00021

<분산제><Dispersant>

분산제로서 이하의 구조의 분산제 A~E를 이용했다. 분산제 A, B, D에 있어서, 각 구조 단위에 기재된 수치는, 전체 구조 단위에 대한, 각 구조 단위의 질량%를 의도한다. 또, 분산제 C에 있어서, 각 구조 단위에 기재된 수치(a~e)는, 전체 구조 단위에 대한, 각 구조 단위의 몰비를 의도하고, x 및 y는 연결수를 의도한다. 또, 분산제 E에 있어서는, Z에 연결한 연결기에 기재된 수치는, Z에 연결한 수를 의도한다.Dispersants A to E having the following structures were used as dispersants. In the dispersants A, B and D, the numerical values described in each structural unit are intended to indicate the mass% of each structural unit with respect to the total structural unit. In the dispersant C, the numerical values (a to e) described in each structural unit are intended to mean the molar ratio of each structural unit to the entire structural unit, and x and y are intended to be the number of linkages. Further, in the case of dispersant E, the numerical value described in the connector connected to Z is intended to be the number connected to Z.

[화학식 20][Chemical Formula 20]

Figure pct00022
Figure pct00022

[화학식 21][Chemical Formula 21]

Figure pct00023
Figure pct00023

<바인더 수지><Binder Resin>

바인더 수지로서 이하의 바인더 수지 A 및 B를 이용했다.The following binder resins A and B were used as the binder resin.

·바인더 수지 A(아크리큐어 RD-F8 닛폰 쇼쿠바이제, 하기 구조 참조)· Binder Resin A (ARC Liqueur RD-F8, Nippon Shokubai Corporation, see structure below)

·바인더 수지 B(사이클로머 P(ACA)230AA 다이셀제)Binder resin B (cyclamer P (ACA) 230AA die)

[화학식 22][Chemical Formula 22]

Figure pct00024
Figure pct00024

<중합성 화합물><Polymerizable compound>

·중합성 화합물 M1(닛폰 가야쿠사제, 상품명 "KAYARAD", 하기 구조 참조)Polymerizable compound M1 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name "KAYARAD ", see structure below)

[화학식 23](23)

Figure pct00025
Figure pct00025

PET-30(펜타에리트리톨트라이아크릴레이트, 닛폰 가야쿠사제)PET-30 (pentaerythritol triacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

<중합 개시제><Polymerization Initiator>

·OXE-02: Irgacure OXE02(상품명, BASF 재팬사제)OXE-02: Irgacure OXE02 (trade name, manufactured by BASF Japan)

·OXE-03: Irgacure OXE03(상품명, BASF 재팬사제)OXE-03: Irgacure OXE03 (trade name, manufactured by BASF Japan)

·N-1919: 상품명, ADEKA사제N-1919: Product name, manufactured by ADEKA

·IRGACURE-907: 상품명, BASF 재팬사제IRGACURE-907: product name, manufactured by BASF Japan

<용제><Solvent>

·PGMEA: 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트PGMEA: propylene glycol monomethyl ether acetate

·사이클로펜탄온· Cyclopentanone

·아세트산 뷰틸· Acetic acid butyl

·에틸3-에톡시프로피오네이트Ethyl 3-ethoxypropionate

·증류 아세트산 뷰틸· Distilled acetic acid butyl

·증류 사이클로펜탄온· Distilled cyclopentanone

또한, 상기 증류 아세트산 뷰틸 및 증류 사이클로펜탄온으로서는, 시판 중인 아세트산 뷰틸 및 사이클로펜탄온을 증류 정제한 것을 이용했다.As the above-mentioned distilled acetic acid butyl and distilled cyclopentanone, commercially available butyl acetate and cyclopentanone were distilled and purified.

<중합 금지제><Polymerization inhibitor>

·p-메톡시페놀· P-methoxyphenol

<계면활성제><Surfactant>

F-1: 하기 혼합물(중량 평균 분자량(Mw)=14000)F-1: The following mixture (weight average molecular weight (Mw) = 14000)

[화학식 24]&Lt; EMI ID =

Figure pct00026
Figure pct00026

<안료 분산물의 조제>&Lt; Preparation of Pigment Dispersion >

먼저, 타이타늄 질화물 함유 입자, 분산제 및 용제를, 교반기(IKA사제 EUROSTAR)에 의하여 15분간 혼합하여, 분산물을 얻었다. 다음으로, 얻어진 분산물에 대하여, (주)신마루 엔터프라이제스제의 NPM-Pilot를 사용하여 하기 조건에서 분산 처리를 행하고, 안료 분산액을 얻었다.First, the titanium nitride-containing particles, the dispersant and the solvent were mixed by a stirrer (EUROSTAR manufactured by IKA Corporation) for 15 minutes to obtain a dispersion. Next, the resulting dispersion was subjected to dispersion treatment under the following conditions using NPM-Pilot manufactured by Shinmaru Enterprise Co., Ltd. to obtain a pigment dispersion.

(분산 조건)(Dispersion condition)

·비즈 직경: φ0.05mm, (닛카토제 YTZ)· Bead diameter: φ0.05 mm, (YTZ manufactured by Nikkato)

·비즈 충전율: 65체적%· Beads filling rate: 65 vol%

·밀 주속: 10m/sec· Mill speed: 10m / sec

·세퍼레이터 주속: 13m/sSeparator speed: 13 m / s

·분산 처리하는 혼합액량: 15kg· Mixed liquid amount to be dispersed: 15 kg

·순환 유량(펌프 공급량): 90kg/hour· Circulating flow (pump supply): 90kg / hour

·처리액 온도: 19~21℃· Treatment temperature: 19 ~ 21 ℃

·냉각수: 물· Cooling water: water

·처리 시간: 22시간· Processing time: 22 hours

<조성물의 조제>&Lt; Preparation of composition >

다음으로, 상기 안료 분산액, 바인더 수지, 중합성 화합물, 중합 개시제 및 용제를 혼합, 교반하여, 하기 제3표~제5표에 나타내는 실시예 및 비교예의 각 조성물을 얻었다. 실시예 및 비교예의 각 조성물에 포함되는 각 성분의 함유량(질량%)을, 제3표~제5표에 나타낸다.Next, the pigment dispersion, the binder resin, the polymerizable compound, the polymerization initiator and the solvent were mixed and stirred to obtain the respective compositions shown in the following Tables 3 to 5 and Comparative Examples. The content (mass%) of each component contained in each composition in Examples and Comparative Examples is shown in Tables 3 to 5.

또한, 타이타늄 질화물 함유 입자에 대한 분산제의 비율((질량비)D/P), 조성물 중의 고형분 농도(질량%), 조성물 중의 수분량(질량%, 이하에 측정 방법을 나타냄), 고형분 중의 안료 농도(질량%)가 제3표~제5표의 각 실시예 및 비교예로 나타내는 비율이 되도록 각 조성물을 조제했다.Further, the ratio ((mass ratio) D / P) of the dispersant to the titanium nitride-containing particles, the solid content concentration (mass%) in the composition, the water content (mass% %) Was the ratio shown in each of Examples and Comparative Examples in Tables 3 to 5.

(조성물 중의 수분량의 측정)(Measurement of water content in the composition)

실시예 및 비교예의 각 조성물의 수분량에 대하여, 칼 피셔법을 측정 원리로 하는 MKV-710(상품명, 교토 덴시 고교(주)사제)에 의하여 측정했다. 결과를 제3표~제5표에 나타낸다.The moisture content of each composition in the examples and comparative examples was measured by MKV-710 (trade name, manufactured by Kyoto Denshi Kogyo Co., Ltd.) having the Karl Fischer method as a measurement principle. The results are shown in Tables 3 to 5.

[평가 시험][Evaluation test]

실시예 및 비교예의 각 조성물에 대하여, 이하의 각 평가 시험을 행했다.The following evaluation tests were carried out for each of the compositions of Examples and Comparative Examples.

<아웃 가스><Outgas>

실시예 및 비교예의 각 조성물을 이용하여 컬러 필터용의 액자를 제작했다.Using the compositions of Examples and Comparative Examples, a frame for a color filter was produced.

구체적으로는, 8인치 기판으로 이미지 센서를 상정하여 구성되어 있는 반도체 기판 상에, 프리베이크 후의 막두께가 1.5μm가 되도록 실시예 및 비교예의 조성물을 스핀 코트하여 도막을 형성했다. 계속해서, 가로 720μm, 세로 520μm의 외주에 가로폭 250μm, 세로폭 200μm의 차광막을 형성할 수 있는 바이너리 마스크를 배치하여, i선 노광 장치(FPA-3000+i5, 캐논제)를 이용하여 노광(노광량 500mJ/cm2)을 행한 후, 더 현상했다.Specifically, the compositions of Examples and Comparative Examples were spin-coated on a semiconductor substrate constituted by assuming an image sensor with an 8-inch substrate to have a thickness of 1.5 mu m after pre-baking to form a coating film. Subsequently, a binary mask capable of forming a light-shielding film having a width of 250 mu m and a width of 200 mu m was arranged on the outer periphery of 720 mu m in length and 520 mu m in length, and exposed using an i-line exposure apparatus (FPA-3000 + i5, manufactured by Canon Inc.) An exposure dose of 500 mJ / cm &lt; 2 &gt;), and further developed.

얻어진 컬러 필터용의 액자를 복수 갖는 반도체 기판에 대하여, 10mm×10mm의 사이즈로 잘라내고, 승온 이탈 가스 분석법(TDS)에 의하여, 아웃 가스 중의 Cl량을 검출하여, 이하의 기준에 의하여 평가를 행했다. 백그라운드에 포함되는 대기 성분 유래의 카운트를 캔슬했을 때의 질량수 1에서 199까지의 전체 아웃 가스량(검출 전체 이온 전류값)에 있어서의 Cl 유래의 피크 위치의 카운트 강도비를 측정하여, 하기 기준에 의하여 평가를 행했다. 측정 시의 진공도는 1×10-7Torr 이하로 했다.The obtained semiconductor substrate having a plurality of picture frames for a color filter was cut into a size of 10 mm x 10 mm and the amount of Cl in the out gas was detected by a temperature rise degassing gas analysis method (TDS), and evaluation was performed according to the following criteria . The count intensity ratio of the peak position derived from Cl in the total amount of outgass (detected total ion current value) of mass number 1 to 199 when the count derived from the atmospheric component contained in the background was canceled was measured, And evaluated. The degree of vacuum at the time of measurement was set to 1 x 10 &lt; -7 &gt; Torr or less.

"A": 아웃 가스 1L 중, Cl량이 10ppm 이하"A ": Cl in 1 L of outgas is 10 ppm or less

"B": 아웃 가스 1L 중, Cl량이 10ppm 초과 50ppm 이하"B ": Cl in 1 L of outgas exceeding 10 ppm and not more than 50 ppm

"C": 아웃 가스 1L 중, Cl량이 50ppm 초과 100ppm 이하"C ": Out of 1 L of Cl, the amount of Cl is more than 50 ppm and not more than 100 ppm

"D": 아웃 가스 1L 중, Cl량이 100ppm 초과"D ": Cl out of 1 L of outgas exceeding 100 ppm

<파티클의 개수><Number of particles>

PGMEA에 의하여 상기 조성물을 500배로 희석한 시료 용액을 조제하고, 이 시료 용액 10ml 중에 포함되는 10μm 이상의 사이즈의 파티클의 수를 플로식 입자상 분석 장치(상품명 "FPIA-3000", 말번사제)에 의하여 측정했다.The sample solution diluted 500 times with the above composition by PGMEA was prepared and the number of particles having a size of 10 m or more contained in 10 ml of the sample solution was measured by a flow type particle image analyzer (trade name "FPIA-3000" did.

<OD값><OD value>

두께 0.7mm, 평방 10cm의 유리판(EagleXG, Corning사제) 상에 막두께 1.0μm가 되는 회전수로 실시예 및 비교예의 조성물을 스핀 코트하여 막을 형성하고, 핫플레이트 상 100℃, 2min의 열처리에 의하여 건조막을 얻었다. 얻어진 기판에 대하여, 분광 광도계 U-4100(히타치 하이테크놀로지즈제)에 의하여 OD를 측정하고, 파장 영역 400nm에서 1200nm까지에 있어서 최저가 되는 OD값을 측정하여, 이하의 기준에 의하여 평가를 행했다.On the glass plate (EagleXG, manufactured by Corning) having a thickness of 0.7 mm and a squareness of 10 cm, the compositions of Examples and Comparative Examples were spin-coated at a rotation speed of 1.0 占 퐉 in film thickness to form a film. A dried film was obtained. The obtained substrate was subjected to OD measurement by means of a spectrophotometer U-4100 (Hitachi High Technologies), and the lowest OD value in the wavelength range from 400 nm to 1200 nm was measured and evaluated according to the following criteria.

"A": 최저 OD가 4.2 이상"A": lowest OD of 4.2 or higher

"B": 최저 OD가 3.8 이상 4.2 미만"B": lowest OD is 3.8 or more and less than 4.2

"C": 최저 OD가 3.5 이상 3.8 미만"C": lowest OD is 3.5 or more and less than 3.8

"D": 최저 OD가 3.5 미만"D": lowest OD less than 3.5

<여과성><Filterability>

실시예 및 비교예의 조성물에 대하여, 캡슐 필터 DFA(니혼 폴 사제, 나일론 구멍 직경 0.45μm, 2inch)를 이용하여, 여과성의 평가를 행했다. 또한, 조성물 16kg을 유량 400ml/min의 조건에서 여과하여, 이하의 기준에 의하여 평가를 행했다.For the compositions of Examples and Comparative Examples, the filterability was evaluated using a capsule filter DFA (Nippon Poult Co., Ltd., nylon pore diameter: 0.45 μm, 2 inches). Further, 16 kg of the composition was filtered at a flow rate of 400 ml / min and evaluated according to the following criteria.

"A": 16kg 모두 여과 되었다."A": All 16 kg were filtered.

"B": 12kg 이상 16kg 미만까지 여과된 후, 유량이 400mL/min 미만이 되었다."B ": After filtration to less than 12 kg and less than 16 kg, the flow rate was less than 400 mL / min.

"C": 8kg 이상 12kg 미만까지 여과된 후, 유량이 400mL/min 미만이 되었다."C ": The filtrate was filtered from 8 kg to less than 12 kg, and the flow rate was less than 400 mL / min.

"D": 8kg 미만까지 여과된 후, 유량이 400mL/min 미만이 되었다."D ": After filtration to less than 8 kg, the flow rate was less than 400 mL / min.

<조성물 경시 점도 안정성(CM 경시 안정)>&Lt; Stability of viscosity of the composition over time (stability of CM over time)

실시예 및 비교예의 조성물을 23℃에 있어서 30일간 보존한 후, 7℃에 있어서 9개월간 보존했다. 그 후, 보존 전후의 각 조성물의 점도를, E형 점도계(도키 산교사제, 상품명 "R85형 점도계")를 이용하여 회전수 10rpm, 23℃의 조건에서 측정하여, 하기 식으로부터 증점율을 산출했다. 평가 기준은 이하와 같다.The compositions of the examples and comparative examples were stored at 23 캜 for 30 days and then at 7 캜 for 9 months. Thereafter, the viscosity of each composition before and after storage was measured using an E-type viscometer (product name: "R85 type viscometer" manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) under the conditions of the number of revolutions of 10 rpm and 23 ° C, . The evaluation criteria are as follows.

(증점율)=(경시 후의 점도)-(조액 직후의 점도)/(조액 직후의 점도)(Viscosity increase rate) = (viscosity after aging) - (viscosity immediately after liquid preparation) / (viscosity immediately after liquid preparation)

"A": 증점율 3% 미만"A": Less than 3% increase rate

"B": 증점율 3% 이상 5% 미만"B": Increase rate 3% to less than 5%

"C": 증점율 5% 이상 10% 미만"C": Increase rate 5% or more and less than 10%

"D": 증점율 10% 이상"D": Increase rate 10% or more

<패터닝성(해상성)><Patterning property (resolution)>

실시예 및 비교예의 조성물을 이용하여, 스핀 코터에 의하여, 이미지 센서 디바이스 기판 상에 도막을 형성했다. 이어서, 얻어진 도막에 대하여, 핫플레이트 상에서 100℃, 2min의 프리베이크 처리를 행했다. 계속해서, i선 노광 장치(FPA, 캐논제)를 이용하여 상기 프리베이크 처리를 거친 도막을 노광하고, 추가로 현상함으로써, 기판 상의 수광부 외주 부분에 다이싱 라인 및 전극부 이외를 피복하는 차광막을 형성함과 동시에, 기판 상에 20μm의 선폭을 갖는 얼라인먼트 마크를 20개 형성했다.Using the compositions of Examples and Comparative Examples, a coating film was formed on the image sensor device substrate by a spin coater. Next, the obtained coating film was prebaked on a hot plate at 100 DEG C for 2 minutes. Subsequently, the coating film subjected to the pre-baking treatment is exposed using an i-line exposure apparatus (FPA, manufactured by Canon Inc.) and further developed so that a dicing line and a light shielding film covering the electrode portion are formed on the outer peripheral portion of the light- And 20 alignment marks having a line width of 20 mu m were formed on the substrate.

광학 현미경을 이용하여, 형성한 얼라인먼트 마크의 개수를 관찰함으로써, 해상성의 평가를 행했다.The resolution was evaluated by observing the number of the formed alignment marks using an optical microscope.

"A": 마크를 20개 형성할 수 있었다."A": 20 marks were formed.

"B": 마크를 19개 형성할 수 있었다."B ": 19 marks were formed.

"C": 마크를 18개 형성할 수 있었다."C ": 18 marks were formed.

"D": 마크가 17개 이하였다."D": No more than 17 marks.

<전극의 방식성><Corrosion resistance of electrode>

실시예 및 비교예의 조성물을 이용하여, 스핀 코터에 의하여, 이미지 센서 디바이스 기판 상에 도막을 형성했다. 이어서, 얻어진 도막 형성 후의 디바이스 기판에 대하여, 핫플레이트 상에서 100℃, 2min의 프리베이크 처리를 행했다. 계속해서, i선 노광 장치(FPA-3000+i5, 캐논제)를 이용하여 상기 프리베이크 처리를 거친 도막을 노광하고, 추가로 현상함으로써, 기판 상의 수광부 외주 부분에 다이싱 라인 및 전극부 이외를 피복하는 차광막을 형성했다. 또한, 얻어진 차광막에 대하여, 핫플레이트를 이용하여 220℃, 5min의 가열 처리를 행했다(포스트베이크 공정).Using the compositions of Examples and Comparative Examples, a coating film was formed on the image sensor device substrate by a spin coater. Subsequently, the obtained device substrate after the coating film formation was prebaked on a hot plate at 100 DEG C for 2 minutes. Subsequently, the coating film subjected to the pre-baking treatment was exposed to light using an i-line exposure apparatus (FPA-3000 + i5, manufactured by Canon) and further developed so that a dicing line and electrode portions Thereby forming a light-shielding film for covering. The resulting light-shielding film was subjected to heat treatment at 220 DEG C for 5 minutes using a hot plate (post-baking step).

얻어진 차광막을 갖는 웨이퍼를 온도 110℃, 습도 90%RH의 환경하(에스펙사제 HAST 시험기 EHS-411M)에서 3일간 보존한 후, 전극 패턴의 녹의 발생 상태를 웨이퍼 상에 형성된 전극 패드 300개에 대하여 광학 현미경(올림푸스사제, 상품명 "LEXT OLS4500")에 의하여 관찰하여, 전극의 방식성의 평가를 이하의 기준에 의하여 행했다.The resulting wafer having the light-shielding film was stored for 3 days under an environment of a temperature of 110 DEG C and a humidity of 90% RH (HAST tester EHS-411M manufactured by Espec Co.), and the rust state of the electrode pattern was measured on 300 electrode pads Was observed with an optical microscope (manufactured by Olympus, trade name "LEXT OLS4500"), and the corrosion resistance of the electrode was evaluated according to the following criteria.

"A": 변화가 관찰되지 않는다"A": no change observed

"B": 전극의 녹 발생이 2개 이하"B": Rust of the electrode is 2 or less

"C": 전극의 녹 발생이 2개 초과 10개 이하"C": Greater than 2 and less than 10 rust

"D": 전극의 녹 발생이 10개 초과"D": Greater than 10 rust of electrode

이상의 평가 시험의 평가 결과를, 제3표~제5표에 나타낸다.The evaluation results of the above evaluation tests are shown in Tables 3 to 5.

또한, 실시예 33에 있어서, M1과 PET-30의 혼합 비율은, 질량비로 5:5이다.Further, in Example 33, the mixing ratio of M1 and PET-30 is 5: 5 by mass ratio.

[표 3][Table 3]

Figure pct00027
Figure pct00027

[표 4][Table 4]

Figure pct00028
Figure pct00028

[표 5][Table 5]

Figure pct00029
Figure pct00029

제3표~제5표에 나타내는 바와 같이, 타이타늄 질화물 함유 입자 중에 있어서의 염소 원자의 함유량이 0.001~0.3질량%(바꾸어 말하면, 10질량ppm~3000질량ppm)의 범위 내에 있으면, 전극의 방식성이 우수하고, 또한 패터닝성(해상성)이 우수한 경화막을 제작할 수 있는 것이 나타났다(실시예).As shown in Tables 3 to 5, if the content of chlorine atoms in the titanium nitride-containing particles is in the range of 0.001 to 0.3 mass% (in other words, 10 mass ppm to 3000 mass ppm) , And a cured film excellent in patterning property (resolution) can be produced (Example).

또, 타이타늄 질화물 함유 입자 중에 있어서의 염소 원자의 함유량이 0.3질량%(바꾸어 말하면, 3000질량ppm)를 초과하면, 패터닝성(해상성) 및 전극의 방식성이 뒤떨어지는 것이 나타났다(비교예 1, 비교예 2).When the content of the chlorine atoms in the titanium nitride-containing particles exceeds 0.3 mass% (in other words, 3000 mass ppm), the patterning property (resolution) and the corrosion resistance of the electrode are inferior (Comparative Example 1, Comparative Example 2).

또, 타이타늄 질화물 함유 입자 중에 있어서의 염소 원자의 함유량이 0.001질량% 미만(바꾸어 말하면, 10질량ppm 미만)이면, 패터닝성(해상성)이 뒤떨어지는 것이 나타났다(비교예 3, 비교예 4).Also, when the content of chlorine atoms in the titanium nitride-containing particles was less than 0.001 mass% (in other words, less than 10 mass ppm), the patterning properties (comparative example 3 and comparative example 4) were poor.

또, 실시예 17~21과의 대비에 의하여, 물의 함유량은, 조성물 전체 질량에 대하여 0.1~1질량%(바람직하게는 0.1~0.8질량%, 보다 바람직하게는 0.1~0.4질량%)인 경우, 경화막의 패터닝성(해상성)과 전극 재료의 방식성이 보다 우수한 것이 확인되었다. 또, 물의 함유량을, 조성물 전체 질량에 대하여 0.1~1질량%로 함으로써, 조성물 중의 파티클량을 보다 저감시킬 수 있는 것 외에, 조성물의 점도 경시 안정성도 보다 우수한 것이 확인되었다.In contrast to Examples 17 to 21, when the content of water is 0.1 to 1% by mass (preferably 0.1 to 0.8% by mass, and more preferably 0.1 to 0.4% by mass) based on the total mass of the composition, It was confirmed that the patterning property (resolution) of the cured film and the corrosion resistance of the electrode material were more excellent. Further, it was confirmed that the content of water in the composition was 0.1 to 1% by mass with respect to the total mass of the composition to further reduce the amount of particles in the composition, and the stability of the composition over time was also superior.

또, 실시예 26과 실시예 27의 대비에 의하여, D/P가 0.3 이하인 경우에, 경화막의 패터닝성(해상성)이 보다 우수한 것이 확인되었다.Also, it was confirmed that the patterning property (resolution) of the cured film was more excellent when the D / P was 0.3 or less, by the contrast between Example 26 and Example 27. [

실시예 26, 31 및 32의 대비에 의하여, 타이타늄 질화물 함유 입자의 함유량이, 조성물의 전체 고형분에 대하여, 30~70질량%인 경우에, 분광성(양호한 OD값), 패터닝성(해상성) 및 전극의 방식성이 보다 우수한 것이 확인되었다.(Good OD value), patterning property (resolution) when the content of the titanium nitride-containing particles was 30 to 70% by mass with respect to the total solid content of the composition by the contrast of Examples 26, 31 and 32, And the corrosion resistance of the electrode was more excellent.

또, 실시예 6~9의 대비에 의하여, 타이타늄 질화물 함유 입자의 BET법에 의하여 구해진 비표면적이 40~60m2/g인 경우에, 분광성(양호한 OD값) 및 패터닝성(해상성)이 보다 우수한 것이 확인되었다. 또, 여과성도 우수한 것이 확인되었다.It is to be noted that the spectral properties (good OD value) and patterning property (resolution) of the titanium nitride-containing particles were 40 to 60 m 2 / g, as determined by the BET method, . In addition, it was confirmed that the filter was also excellent in filtration.

또, 실시예 10~14의 대비에 의하여, 타이타늄 질화물 함유 입자의 (200)면에서 유래하는 피크의 회절각 2θ가, CuKα선을 X선원으로 한 경우에 있어서, 42.8° 초과 43.5° 이하인 경우에, 분광성(양호한 OD값) 및 패터닝성(해상성)이 보다 우수한 것이 확인되었다.When the diffraction angles 2? Of the peaks derived from the (200) plane of the titanium nitride-containing particles are in the range of 42.8 DEG to 43.5 DEG in the case where the CuK? Ray is an X-ray source, , A spectroscopic property (good OD value), and a patterning property (resolution).

또, 실시예 12~15의 대비에 의하여, 타이타늄 질화물 함유 입자의 평균 1차 입자경이 10~30nm인 경우에, 분광성(양호한 OD값)이 보다 우수한 것이 확인되었다. 또, 조성물의 점도 경시 안정성도 우수한 것이 확인되었다. 또, 타이타늄 질화물 함유 입자의 평균 1차 입자경이 10nm 이상인 경우에는 조성물의 점도 경시 안정성이 우수한 것이 확인되었다.It was also confirmed by the contrast of Examples 12 to 15 that the spectroscopic properties (good OD value) were better when the average primary particle size of the titanium nitride-containing particles was 10 to 30 nm. In addition, it was confirmed that the viscosity stability of the composition over time was also excellent. It was also confirmed that when titanium nitride-containing particles had an average primary particle diameter of 10 nm or more, the composition had excellent viscosity stability over time.

또, 실시예 12와 실시예 16의 대비에 의하여, 타이타늄 질화물 함유 입자의 투과형 전자 현미경을 이용한 1차 입자의 형상에 있어서, 구형의 비율이 60질량% 이상인 경우에, 분광성(양호한 OD값) 및 패터닝성(해상성)이 보다 우수한 것이 확인되었다. 또, 조성물의 여과성 및 점도 경시 안정성도 우수한 것이 확인되었다.In contrast to Example 12 and Example 16, when the ratio of the spherical shape is 60% by mass or more in the shape of the primary particles using the transmission electron microscope of the titanium nitride-containing particles, the spectral properties (good OD value) And patterning property (resolution). Further, it was confirmed that the composition had excellent filterability and viscosity stability with time.

실시예 1에 있어서, 계면활성제 F-1을 이용하지 않았던 것 이외에는 동일하게 하여 평가를 행했다. 평가의 결과, 실시예 1과 동일한 결과가 얻어지는 것을 알 수 있었다.Evaluation was carried out in the same manner as in Example 1, except that the surfactant F-1 was not used. As a result of the evaluation, it was found that the same results as in Example 1 were obtained.

<카본 블랙 분산물(CB 분산액)의 조제>&Lt; Preparation of carbon black dispersion (CB dispersion) >

상기의 안료 분산물의 조제에 있어서, 타이타늄 질화물 함유 입자 대신에, 카본 블랙(상품명 "컬러 블랙 S170", 데구사사제, 평균 1차 입자경 17nm, BET 비표면적 200m2/g, 가스 블랙 방식에 의하여 제조된 카본 블랙)을 사용한 것 이외에는 동일한 방법에 의하여, 분산물을 제작하여, 카본 블랙 분산물을 얻었다.In the preparation of the above pigment dispersion, carbon black (trade name: "Color Black S170" manufactured by Degussa Co., Ltd., average primary particle diameter 17 nm, BET specific surface area 200 m 2 / g, manufactured by the gas black method Carbon black) was used in place of the carbon black dispersion obtained in Example 1, a dispersion was prepared to obtain a carbon black dispersion.

실시예 1의 조성물의 조제에 있어서, 조성물 중에서 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1을 19질량% 함유하도록 첨가한 안료 분산액 대신에, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1을 함유하는 안료 분산액과, 상기의 CB분산액의 혼합물[조성물 중의 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1:조성물의 카본 블랙=15:4(질량비). 조성물 중의 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 카본 블랙의 합계 함유량은 19질량%임]을 이용한 것 외에는 동일하게 하여 조성물을 조제하고, 이를 이용하여 평가를 행했다. 평가의 결과, 실시예 1과 동일한 차광성이 얻어지는 것을 알 수 있었다.In the preparation of the composition of Example 1, a pigment dispersion containing titanium nitride-containing particles TiN-1 and a pigment dispersion containing the titanium nitride-containing particles TiN-1 in an amount of 19 mass% [Titanium nitride-containing particles TiN-1 in composition: Carbon black in composition = 15: 4 (by mass ratio). And the total content of the titanium nitride-containing particles TiN-1 and carbon black in the composition was 19 mass%) was used in place of the titanium nitride-containing particles TiN-1 and carbon black. As a result of the evaluation, it was found that the same light shielding property as in Example 1 was obtained.

<유채색 안료 분산물(PY 분산액)의 조제>&Lt; Preparation of chromatic pigment dispersion (PY dispersion) >

상기의 안료 분산물의 조제에 있어서, 타이타늄 질화물 함유 입자 대신에, 피그먼트 옐로 150(Hangzhou Star-up Pigment Co., Ltd.제, 상품명 6150 안료 황 5GN)을 사용한 것 이외에는 동일한 방법에 의하여, 분산물을 제작하여, 유채색 안료 분산물(PY 분산액)을 얻었다.The pigment dispersion was prepared in the same manner as in the preparation of the pigment dispersion except that Pigment Yellow 150 (manufactured by Hangzhou Star-up Pigment Co., Ltd., trade name: 6150 pigment sulfur 5GN) was used instead of the titanium nitride- To obtain a chromatic pigment dispersion (PY dispersion).

실시예 1의 조성물의 조제에 있어서, 조성물 중에서 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1을 19질량% 함유하도록 첨가한 안료 분산액 대신에, 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1을 함유하는 안료 분산액과, 상기의 PY 분산액의 혼합물[조성물 중의 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1:조성물 중의 피그먼트 옐로 150=17:2(질량비). 조성물 중의 타이타늄 질화물 함유 입자 TiN-1과 피그먼트 옐로 150의 합계 함유량은 19질량%임]을 이용한 것 외에는 동일하게 하여 조성물을 조제하고, 이를 이용하여 평가를 행했다. 평가의 결과, 실시예 1과 동일한 차광성이 얻어지고, 또한 검은 빛의 진한 막이 얻어지는 것을 알 수 있었다.In the preparation of the composition of Example 1, a pigment dispersion containing titanium nitride-containing particles TiN-1 and a pigment dispersion containing the titanium nitride-containing particles TiN-1 in an amount of 19 mass% [Titanium nitride-containing particles TiN-1 in the composition: Pigment Yellow 150 = 17: 2 (mass ratio) in the composition. And the total content of the titanium nitride-containing particles TiN-1 and Pigment Yellow 150 in the composition was 19 mass%) was used in place of the titanium nitride-containing particles TiN-1 and Pigment Yellow 150 in the composition. As a result of the evaluation, it was found that the same light shielding property as in Example 1 was obtained and a dark black film was obtained.

Claims (19)

염소 원자를 포함하는 타이타늄 질화물 함유 입자를 함유하고,
상기 타이타늄 질화물 함유 입자 중에 있어서의 상기 염소 원자의 함유량이, 0.001~0.3질량%인, 조성물.
Containing titanium nitride-containing particles containing a chlorine atom,
Wherein the content of the chlorine atoms in the titanium nitride-containing particles is 0.001 to 0.3 mass%.
청구항 1에 있어서,
상기 타이타늄 질화물 함유 입자의 (200)면에서 유래하는 피크의 회절각 2θ가, CuKα선을 X선원으로 한 경우에 있어서 42.8°초과 43.5° 이하인, 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the diffraction angle 2? Of the peak originating from the (200) plane of the titanium nitride-containing particles is 42.8 占 to 43.5 占 when the CuK? Ray is an X-ray source.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 타이타늄 질화물 함유 입자의 BET법에 의하여 구해진 비표면적이, 40~60m2/g인, 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein the titanium nitride-containing particles have a specific surface area of 40 to 60 m 2 / g as measured by the BET method.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 타이타늄 질화물 함유 입자의 평균 1차 입자경이 10~30nm인, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the titanium nitride-containing particles have an average primary particle diameter of 10 to 30 nm.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
투과형 전자 현미경을 이용한, 상기 타이타늄 질화물 함유 입자의 1차 입자상의 사진 관찰에 있어서, 관찰 대상의 100개 중 60개 이상이 구형인, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein at least 60 of 100 objects to be observed are spherical in the photographic observation of the primary particles of the titanium nitride-containing particles using a transmission electron microscope.
청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
2종 이상의 용제를 더 함유하는, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the composition further comprises at least two solvents.
청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
분산제를 더 함유하는, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 6,
Further comprising a dispersing agent.
청구항 7에 있어서,
상기 타이타늄 질화물 함유 입자에 대한 상기 분산제의 함유 비율이, 질량비로 0.3 이하인, 조성물.
The method of claim 7,
Wherein the content ratio of the dispersant to the titanium nitride-containing particles is 0.3 or less by mass ratio.
청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 한 항에 있어서,
중합성 화합물을 더 함유하는, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 8,
Further comprising a polymerizable compound.
청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서,
중합 개시제를 더 함유하는, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 9,
Further comprising a polymerization initiator.
청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
상기 조성물 중의 고형분이 10~40질량%인, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 10,
Wherein the solid content in the composition is 10 to 40% by mass.
청구항 1 내지 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서,
상기 타이타늄 질화물 함유 입자의 함유량이, 상기 조성물의 전체 고형분에 대하여, 30~70질량%인, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 11,
Wherein the content of the titanium nitride-containing particles is 30 to 70 mass% with respect to the total solid content of the composition.
청구항 1 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 있어서,
물을 더 함유하고,
상기 물의 함유량이, 상기 조성물 전체 질량에 대하여, 0.1~1질량%인, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 12,
It contains more water,
Wherein the water content is 0.1 to 1% by mass with respect to the total mass of the composition.
청구항 1 내지 청구항 13 중 어느 한 항에 있어서,
분산제를 더 함유하고,
상기 분산제가, 폴리카프로락톤, 폴리발레로락톤, 폴리아크릴산 메틸 및 폴리메타크릴산 메틸로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 구조를 갖는, 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 13,
Further comprising a dispersing agent,
Wherein the dispersant has at least one structure selected from the group consisting of polycaprolactone, polyvalerolactone, methyl polyacrylate and methyl polymethacrylate.
청구항 1 내지 청구항 14 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 이용하여 얻어지는, 경화막.A cured film obtained by using the composition according to any one of claims 1 to 14. 청구항 15에 기재된 경화막을 갖는, 컬러 필터.A color filter having the cured film according to claim 15. 청구항 15에 기재된 경화막을 갖는, 차광막.A light-shielding film having the cured film according to claim 15. 청구항 15에 기재된 경화막을 갖는, 고체 촬상 소자.A solid-state imaging device having the cured film according to claim 15. 청구항 15에 기재된 경화막을 갖는, 화상 표시 장치.An image display apparatus having the cured film according to claim 15.
KR1020187027311A 2016-03-31 2017-03-08 Composition, cured film, color filter, light shielding film, solid-state image sensor and image display device KR102160018B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016072402 2016-03-31
JPJP-P-2016-072402 2016-03-31
PCT/JP2017/009177 WO2017169584A1 (en) 2016-03-31 2017-03-08 Composition, cured film, color filter, light-blocking film, solid-state imaging element and image display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180116354A true KR20180116354A (en) 2018-10-24
KR102160018B1 KR102160018B1 (en) 2020-09-25

Family

ID=59963096

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020187027311A KR102160018B1 (en) 2016-03-31 2017-03-08 Composition, cured film, color filter, light shielding film, solid-state image sensor and image display device

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6698820B2 (en)
KR (1) KR102160018B1 (en)
CN (2) CN109073799B (en)
TW (1) TWI790993B (en)
WO (1) WO2017169584A1 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6698820B2 (en) * 2016-03-31 2020-05-27 富士フイルム株式会社 Composition, cured film, color filter, light-shielding film, solid-state image sensor and image display device
CN112189168A (en) * 2018-07-20 2021-01-05 富士胶片株式会社 Light-shielding resin composition, cured film, color filter, light-shielding film, solid-state imaging element, and image display device
JP7330719B2 (en) * 2019-03-01 2023-08-22 太陽ホールディングス株式会社 Alkali developable photocurable thermosetting resin composition
WO2020203080A1 (en) * 2019-03-29 2020-10-08 富士フイルム株式会社 Composition, light shielding film, color filter, optical element, sensor, solid-state imaging element, and headlight unit
JP7301986B2 (en) * 2019-09-06 2023-07-03 富士フイルム株式会社 Composition, film, structure, color filter, solid-state imaging device, and image display device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5136139B1 (en) 1971-03-03 1976-10-06
JPS53137099A (en) * 1977-05-06 1978-11-30 Toyo Soda Mfg Co Ltd Production of titanium nitride
JP2010217839A (en) * 2009-03-19 2010-09-30 Fujifilm Corp Dispersion composition and method of manufacturing the same, photosensitive resin composition for light-shielding color filter and method of manufacturing the composition, light-shielding color filter and method of manufacturing the color filter, and solid-state imaging device
JP5136139B2 (en) * 2007-03-20 2013-02-06 東レ株式会社 Black resin composition for resin black matrix, resin black matrix, color filter and liquid crystal display device
KR20150013266A (en) * 2012-05-11 2015-02-04 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 Film-forming composition

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB787516A (en) * 1955-02-24 1957-12-11 British Titan Products Improvements in or relating to the preparation of titanium nitride
JPS54145400A (en) * 1978-05-08 1979-11-13 Ube Ind Ltd Production of metal nitride powder
US4812301A (en) * 1986-04-24 1989-03-14 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior Production of titanium nitride, carbide, and carbonitride powders
JPH02284643A (en) * 1989-01-10 1990-11-22 Kawasaki Steel Corp Recovering method for high-purity fine and superfine metallic and ceramics powder
DE3924300A1 (en) * 1989-01-21 1991-01-31 Basf Ag METHOD FOR PRODUCING POWDERED METAL NITRIDES
WO2006070794A1 (en) * 2004-12-28 2006-07-06 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Black resin composition for display element, and member for display element
CN101443707A (en) * 2006-05-18 2009-05-27 三菱化学株式会社 Electrophotographic photosensitive body, image forming device, and electrophotographic cartridge
JP2010097214A (en) * 2008-09-19 2010-04-30 Toray Ind Inc Color filter substrate for liquid crystal display apparatus and liquid crystal display apparatus
TWI483999B (en) * 2009-06-15 2015-05-11 Toray Industries Black composite fine particle, black resin composition, color filter substrate and liquid crystal display
EP2510399A4 (en) * 2009-12-11 2014-01-22 Fujifilm Corp Black curable composition, light-shielding color filter, light-shielding film and method for manufacturing the same, wafer level lens, and solid-state imaging device
JP5526821B2 (en) * 2010-02-01 2014-06-18 Jsr株式会社 Coloring composition, color filter and color liquid crystal display element
JP5689691B2 (en) * 2010-03-30 2015-03-25 富士フイルム株式会社 Titanium black dispersion, photosensitive resin composition, light shielding film, method for producing the same, and solid-state imaging device
JP6698820B2 (en) * 2016-03-31 2020-05-27 富士フイルム株式会社 Composition, cured film, color filter, light-shielding film, solid-state image sensor and image display device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5136139B1 (en) 1971-03-03 1976-10-06
JPS53137099A (en) * 1977-05-06 1978-11-30 Toyo Soda Mfg Co Ltd Production of titanium nitride
JP5136139B2 (en) * 2007-03-20 2013-02-06 東レ株式会社 Black resin composition for resin black matrix, resin black matrix, color filter and liquid crystal display device
JP2010217839A (en) * 2009-03-19 2010-09-30 Fujifilm Corp Dispersion composition and method of manufacturing the same, photosensitive resin composition for light-shielding color filter and method of manufacturing the composition, light-shielding color filter and method of manufacturing the color filter, and solid-state imaging device
KR20150013266A (en) * 2012-05-11 2015-02-04 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 Film-forming composition

Also Published As

Publication number Publication date
KR102160018B1 (en) 2020-09-25
TWI790993B (en) 2023-02-01
CN113031398A (en) 2021-06-25
JP6698820B2 (en) 2020-05-27
WO2017169584A1 (en) 2017-10-05
CN109073799B (en) 2021-03-09
TW201806853A (en) 2018-03-01
CN109073799A (en) 2018-12-21
JPWO2017169584A1 (en) 2019-01-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102208741B1 (en) Curable composition, cured film, color filter, light-shielding film, solid-state imaging device, image display device, and method for producing cured film
JP7109624B2 (en) Composition, cured film, color filter, light-shielding film, solid-state imaging device, and image display device
KR102146312B1 (en) Composition, manufacturing method of composition, cured film, color filter, light shielding film, solid-state image sensor, and image display device
KR102160018B1 (en) Composition, cured film, color filter, light shielding film, solid-state image sensor and image display device
KR102197489B1 (en) Curable composition, cured film, color filter, light-blocking film, solid-state imaging element, image display device, method for producing cured film, and polyfunctional thiol compound
JP6727344B2 (en) Curable composition, compound, cured film, method for producing cured film, method for producing color filter, solid-state imaging device, infrared sensor
TWI726075B (en) Composition, method for manufacturing composition, cured film, color filter, light-shielding film, solid-state imaging element, and image display device
JP6800949B2 (en) Resin composition, resin film, color filter, light-shielding film, solid-state image sensor, and image display device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant