KR20180116136A - Adhesive composition and film made of the composition - Google Patents

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Abstract

The present invention provides an adhesive composition capable of improving durability while maintaining satisfactory reworkability when used in bonding an optical functional film and liquid cells. In particular, the adhesive composition comprises: a polymer of unsaturated polymerizable monomers containing (meth)acrylic ester monomers; organosiloxane represented by formula [1a]; and at least a portion of hydrolysates thereof. In the chemical formula [1a]: X represents a monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group; Y represents a monovalent hydrocarbon group having a polyether group; Z represents a monovalent hydrocarbon group having a hydrolysable silyl group; R^1s each independently represent a hydrogen atom and the like; M^1s each independently represent a group selected from among X, Y, Z, and R^1; and a, b, c, and d each independently represent an integer of 0-100, wherein when a is 0, at least one of the M^1s is X, and c is an integer of 1 <= c <= 100; and when c is 0, at least one M^1 is Z, and a is an integer of 1 <= a <= 100.

Description

점착제 조성물 및 이 조성물을 사용하여 이루어지는 필름{ADHESIVE COMPOSITION AND FILM MADE OF THE COMPOSITION}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive composition and a film using the pressure-

본 발명은 점착제 조성물 및 이 조성물을 사용하여 이루어지는 필름에 관한 것으로, 더욱 상세하게 설명하면, 광학 기능성 필름과 액정 셀과의 첩합에 사용되는 점착제 조성물 및 이 조성물을 사용하여 이루어지는 층을 갖는 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive composition and a film using the composition, and more particularly, to a pressure-sensitive adhesive composition used for bonding an optically functional film to a liquid crystal cell and a film having a layer using the composition will be.

액정 표시 장치는 우선 액정 성분을 2장의 유리 기판에 끼워 액정 셀을 제작하고, 다음에 액정 셀의 표면에, 점착제층을 통하여, 편광판 또는 편광판과 위상차판의 적층체 등의 광학 기능성 필름을 첩착하는 공정을 거쳐 제조된다.In the liquid crystal display, first, a liquid crystal cell is formed by sandwiching a liquid crystal component between two glass substrates, and then an optical functional film such as a polarizing plate or a laminate of a polarizing plate and a retarder is attached to the surface of the liquid crystal cell through a pressure- Are manufactured through a process.

이 액정 표시 장치는 차량 탑재용, 옥외계기용 및 퍼스널 컴퓨터용 등의 디스플레이나 텔레비전 등의 표시 장치로서, 널리 사용되게 되었다. 또한, 이 용도의 확대에 따라, 액정 표시 장치가 사용되는 환경도 복잡다단하기 때문에, 대단히 가혹한 환경에서 사용되는 경우가 있고, 액정 표시 장치의 제조에 사용되는 점착제 조성물에 대해서도, 가혹한 환경에도 대응 가능한 성능이 요구되게 되었다.This liquid crystal display device has been widely used as a display device for a vehicle, an outdoor device, a personal computer, etc., and a display device such as a television. Further, according to the enlargement of this application, the environment in which the liquid crystal display device is used is complicated, and therefore, it is used in a very harsh environment, and the pressure-sensitive adhesive composition used in the production of a liquid crystal display device can also be adapted to harsh environments Performance is required.

구체적으로는, 고온 조건 또는 고온고습 조건에 노출되어도, 점착제 조성물에 의해 형성한 점착제층에 발포가 생기거나, 첩착된 광학 기능성 필름이 기판으로부터 벗겨지거나 하지 않는 특성(이하, 「내구성」이라고 부름)이 필요하게 된다.Specifically, even when exposed to high temperature or high temperature and high humidity conditions, the characteristics (hereinafter referred to as &quot; durability &quot;) in which foaming occurs in the pressure-sensitive adhesive layer formed by the pressure-sensitive adhesive composition or in which the bonded optical functional film is not peeled off the substrate, .

한편, 제조 공정에 있어서, 광학 기능성 필름과 액정 셀과의 재부착이 필요한 경우가 있다. 그 경우, 액정 셀에 손상을 주지 않고 용이하게 광학 기능성 필름을 박리할 수 있고, 또한 액정 셀 표면상에 접착제가 잔류하지 않는 것(이하, 「리워크성」이라고 부름)이 요구된다.On the other hand, in the manufacturing process, the optical functional film and the liquid crystal cell may need to be reattached. In this case, it is required that the optical functional film can be easily peeled without damaging the liquid crystal cell, and that the adhesive does not remain on the surface of the liquid crystal cell (hereinafter referred to as "reworkability").

즉, 광학 기능성 필름과 액정 셀과의 첩합에 사용되는 점착제에서는, 첩합 시에 리워크성이 양호하고, 또한 첩합한 후는 고내구성으로 되는 것이 요구된다.That is, in the pressure-sensitive adhesive used for bonding the optically functional film and the liquid crystal cell, it is required that the reheat property at the time of bonding is good and that the pressure-sensitive adhesive is highly durable after being bonded.

이러한 용도로 사용되는 점착제로서는 아크릴계 수지가 많이 사용되고, 예를 들면, 특허문헌 1에서는, 아크릴계 폴리머에 에폭시기 함유 커플링제를 함유시킨 점착제 조성물이 제안되어 있다.As the pressure-sensitive adhesive used for such a purpose, a large amount of acrylic resin is used. For example, Patent Document 1 proposes a pressure-sensitive adhesive composition containing an epoxy group-containing coupling agent in an acrylic polymer.

특허문헌 1의 조성물은 반응성 기로서 카복시기를 메인에 함유하는 타입의 아크릴계 폴리머(이하, 「COOH형 아크릴계 폴리머」라고 부름)에 대해서는 높은 내구성을 발현한다. 그러나, 반응성 기로서 수산기를 메인에 함유하는 타입의 아크릴 폴리머(이하, 「OH형 아크릴계 폴리머」라고 부름)에 대해서는, 내구성이 얻어지지 않는다고 하는 문제가 있다.The composition of Patent Document 1 exhibits high durability for an acrylic polymer of the type containing a carboxy group as a reactive group (hereinafter referred to as &quot; COOH-type acrylic polymer &quot;). However, there is a problem that durability can not be obtained with respect to an acrylic polymer of a type containing a hydroxyl group as a main group as a reactive group (hereinafter referred to as &quot; OH type acrylic polymer &quot;).

또한, 특허문헌 2, 3에서는, 아크릴계 폴리머에 에폭시기 함유 폴리에터 변성 커플링제를 함유시킨 점착제 조성물이 제안되어 있다. 이 조성물은 COOH형 아크릴계 폴리머에 대해서는 리워크성과 내구성을 양립한다. 그러나, OH형 아크릴계 폴리머에 대해서는, 내구성이 얻어지지 않는다고 하는 문제가 있다.In Patent Documents 2 and 3, a pressure-sensitive adhesive composition containing an epoxy group-containing polyether-modified coupling agent in an acrylic polymer has been proposed. This composition is compatible with the reworkability and durability of the COOH-type acrylic polymer. However, there is a problem that durability can not be obtained with respect to the OH type acrylic polymer.

또한, 특허문헌 4에서는, 아크릴계 폴리머에 대하여, 머캡토기 함유 실레인 커플링제를 함유시킨 점착제 조성물이 기재되어 있다. 이 조성물은 OH형 아크릴계 폴리머에 대해서도 내구성이 향상되지만, 충분한 레벨이 아니다.Further, Patent Document 4 describes a pressure-sensitive adhesive composition comprising a mercapto group-containing silane coupling agent for an acrylic polymer. This composition improves the durability of the OH type acrylic polymer, but is not a sufficient level.

또한 특허문헌 5에서는, 아크릴계 폴리머에 산 무수물기 함유 폴리에터 변성 커플링제를 함유시킨 점착제 조성물이 제안되어 있다. 이 조성물은 OH형 아크릴계 폴리머에 대하여 리워크성과 내구성을 양립하는 것이다. 그러나, 최근, 점착제의 내구성에 대한 요구가 높아지는 가운데, 더한층의 내구성의 향상이 요구되고 있다.Further, Patent Document 5 proposes a pressure-sensitive adhesive composition comprising an acryl-based polymer containing a polyether-modified coupling agent containing an acid anhydride group. This composition is compatible with OH-type acrylic polymer for reworkability and durability. However, in recent years, as the demand for the durability of the pressure sensitive adhesive increases, it is required to further improve the durability.

일본 특허 제5826179호 공보Japanese Patent No. 5826179 일본 특허 제5891534호 공보Japanese Patent No. 5891534 일본 특허 제3498158호 공보Japanese Patent No. 3498158 일본 특허 제5544858호 공보Japanese Patent No. 5544858 일본 특허 제5990847호 공보Japanese Patent No. 5,990,847

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 광학 기능성 필름과 액정 셀과의 첩합에 사용한 경우에, 리워크성을 양호하게 유지하면서, 또한 내구성을 향상할 수 있는 점착제 조성물, 및 이 조성물을 사용하여 이루어지는 점착제층을 갖는 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a pressure-sensitive adhesive composition capable of improving durability while maintaining good reworkability when used for bonding an optically functional film and a liquid crystal cell, And a pressure-sensitive adhesive layer formed thereon.

본 발명자는 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, (메타)아크릴산 에스터 모노머를 포함하는 중합성 불포화 모노머의 공중합체와, 분자 내에 가수분해성 실릴기 및 산 무수물기를 각각 적어도 1개 갖는 오가노실록세인 또는 분자 내에 가수분해성 실릴기, 산 무수물기 및 폴리에터기를 각각 적어도 1개 갖는 오가노실록세인을 포함하는 조성물이, 광학 기능성 필름과 액정 셀과의 첩합에 사용한 경우에, 리워크성을 양호하게 유지하면서, 또한 내구성을 향상할 수 있고, 점착제 조성물로서 적합한 것을 발견하고, 본 발명을 완성하였다.As a result of intensive investigations to solve the above problems, the present inventors have found that a copolymer of a polymerizable unsaturated monomer containing a (meth) acrylic acid ester monomer and an organosiloxane having at least one hydrolyzable silyl group and an acid anhydride group, When a composition comprising an organosiloxane having at least one hydrolysable silyl group, an acid anhydride group and a polyether group in the molecule or the molecule is used for bonding an optically functional film to a liquid crystal cell, It is possible to improve the durability while maintaining a satisfactory condition, and found that it is suitable as a pressure-sensitive adhesive composition, and the present invention has been completed.

즉, 본 발명은,That is,

1. (메타)아크릴산 에스터 모노머를 포함하는 중합성 불포화 모노머의 공중합체와, 하기 식 [1a]로 표시되는, 분자 내에 가수분해성 실릴기 및 산 무수물기를 각각 적어도 1개 갖는 오가노실록세인 및 그 가수분해물의 적어도 일방을 포함하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물,1. A copolymer comprising a copolymer of a polymerizable unsaturated monomer containing a (meth) acrylic acid ester monomer and an organosiloxane having at least one hydrolyzable silyl group and an acid anhydride group each represented by the following formula [1a] Wherein the pressure-sensitive adhesive composition comprises at least one of hydrolyzate,

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 중, X는 산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Y는 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Z는 가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, R1은, 서로 독립하여, 수소 원자, 또는 할로젠 원자로 치환되어도 되는 탄소 원자수 1∼20의 1가 탄화수소기를 나타내고, M1은, 서로 독립하여, 상기 X, Y, Z 및 R1로부터 선택되는 기를 나타내고, a, b, c 및 d는, 각각, 0≤a≤100, 0≤b≤100, 0≤c≤100, 0≤d≤100의 정수를 나타낸다. 단, a가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 X이고, c는 1≤c≤100의 정수이며, c가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Z이고, a는 1≤a≤100의 정수이다. a, b, c 및 d가 붙여진 괄호 내의 각 반복단위의 배열은 랜덤이어도 블록이어도 된다.)(Wherein X represents a monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group, Y represents a monovalent hydrocarbon group having a polyether group, Z represents a monovalent hydrocarbon group having a hydrolyzable silyl group, R &lt; 1 &gt; A hydrogen atom, or a monovalent hydrocarbon group of 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, M 1 independently represents a group selected from X, Y, Z and R 1 , c and d each represent an integer of 0? a? 100, 0? b? 100, 0? c? 100, 0? d? 100, provided that when a is 0, at least one of M 1 is X C is an integer of 1? C? 100, and when c is 0, at least one of M 1 is Z and a is an integer of 1? A? 100. In parentheses a, b, c, The arrangement of each repeating unit may be random or block.

2. (메타)아크릴산 에스터 모노머를 포함하는 중합성 불포화 모노머의 공중합체와, 하기 식 [1b]로 표시되는, 분자 내에 가수분해성 실릴기, 산 무수물기 및 폴리에터기를 각각 적어도 1개 갖는 오가노실록세인 및 그 가수분해물의 적어도 일방을 포함하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물,2. A copolymer comprising a copolymer of a polymerizable unsaturated monomer containing a (meth) acrylic acid ester monomer and a copolymer having at least one hydrolyzable silyl group, acid anhydride group and polyether group represented by the following formula [1b] A pressure-sensitive adhesive composition comprising at least one of a non-siloxane and a hydrolyzate thereof,

Figure pat00002
Figure pat00002

(식 중, X는 산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Y는 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Z는 가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, R1은, 서로 독립하여, 수소 원자, 또는 할로젠 원자로 치환되어도 되는 탄소 원자수 1∼20의 1가 탄화수소기를 나타내고, M1은, 서로 독립하여, 상기 X, Y, Z 및 R1로부터 선택되는 기를 나타내고, a, b, c, d는, 각각, 0≤a≤100, 0≤b≤100, 0≤c≤100, 0≤d≤100의 정수를 나타낸다. 단, a가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 X이고, b 및 c는, 각각, 1≤b≤100, 1≤c≤100의 정수이고, b가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Y이고, a 및 c는, 각각, 1≤a≤100, 1≤c≤100의 정수이며, c가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Z이고, a, b는, 각각, 1≤a≤100, 1≤b≤100의 정수이다. a, b, c 및 d가 붙여진 괄호 내의 각 반복단위의 배열은 랜덤이어도 블록이어도 된다.)(Wherein X represents a monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group, Y represents a monovalent hydrocarbon group having a polyether group, Z represents a monovalent hydrocarbon group having a hydrolyzable silyl group, R &lt; 1 &gt; A hydrogen atom, or a monovalent hydrocarbon group of 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, M 1 independently represents a group selected from X, Y, Z and R 1 , c and d each represent an integer of 0? a? 100, 0? b? 100, 0? c? 100 and 0? d? 100, provided that when a is 0, at least one of M 1 is X B and c are integers of 1? B? 100, 1? C? 100, and when b is 0, at least one of M 1 is Y, and a and c are 1? A? 100, 1? C? 100, and when c is 0, at least one of M 1 is Z and a and b are integers of 1? A? 100 and 1? An array of each repeat unit in parentheses with b, c, and d May be a random block or a block.

3. 상기 X가 하기 식 [2]로 표시되는 산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기이고, 상기 Y가 하기 식 [3]으로 표시되는 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기이며, 상기 Z가 하기 식 [5]로 표시되는 가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기인 1 또는 2의 점착제 조성물,Wherein X is a monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group represented by the following formula [2], Y is a monovalent hydrocarbon group having a polyether group represented by the following formula [3] 1 or 2, which is a monovalent hydrocarbon group having a hydrolyzable silyl group represented by the formula [5]

Figure pat00003
Figure pat00003

(식 중, A는 탄소 원자수 2∼6의 알킬렌기를 나타낸다.)(In the formula, A represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.)

Figure pat00004
Figure pat00004

(식 중, R2는 수소 원자, 탄소 원자수 1∼6의 1가 탄화수소기, 또는 하기 식 [4]로 표시되는 기를 나타내고, m은 2 이상의 정수를 나타내고, e 및 f는 서로 독립하여 0 이상의 정수를 나타내는데, e 및 f 중 적어도 1개는 1 이상의 정수이다.)(Wherein R 2 represents a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group of 1 to 6 carbon atoms, or a group represented by the following formula [4], m represents an integer of 2 or more, e and f independently represent 0 Wherein at least one of e and f is an integer of 1 or more.

Figure pat00005
Figure pat00005

(식 중, R3은 탄소 원자수 1∼4의 1가 탄화수소기를 나타낸다.)(In the formula, R 3 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.)

Figure pat00006
Figure pat00006

(식 중, R4는 탄소 원자수 1∼10의 알킬기를 나타내고, R5는 탄소 원자수 1∼10의 1가 탄화수소기 또는 아실기를 나타내고, n은 2 이상의 정수를 나타내고, g는 1∼3의 정수를 나타낸다.)(Wherein R 4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 5 represents a monovalent hydrocarbon group or an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, n represents an integer of 2 or more, and g represents an integer of 1 to 3 Lt; / RTI &gt;

4. 상기 R1의 적어도 1개가 퍼플루오로알킬기를 갖는 1가 탄화수소기인 1∼3 중 어느 하나의 점착제 조성물,4. A pressure-sensitive adhesive composition according to any one of 1 to 3, wherein at least one of R &lt; 1 &gt; is a monovalent hydrocarbon group having a perfluoroalkyl group,

5. 상기 오가노실록세인 및 그 가수분해물의 산 무수물기 당량이 5,000g/mol 이하인 1∼4 중 어느 하나의 점착제 조성물,5. The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of 1 to 4, wherein the organosiloxane and the hydrolyzate thereof have an acid anhydride group equivalent of 5,000 g / mol or less,

6. 상기 공중합체가 카복시기 함유 모노머 유래의 구조단위 및 하이드록시기 함유 모노머 유래의 구조단위의 적어도 일방을 함유하는 1∼5 중 어느 하나의 점착제 조성물,6. The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of 1 to 5, wherein the copolymer contains at least one of a structural unit derived from a carboxyl-containing monomer and a structural unit derived from a hydroxyl-containing monomer,

7. 상기 공중합체 100질량부에 대하여, 상기 오가노실록세인 및 그 가수분해물의 적어도 일방의 배합량이 0.001∼5질량부인 1∼6 중 어느 하나의 점착제 조성물,7. A pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the blending amount of at least one of the organosiloxane and the hydrolyzate thereof is 0.001 to 5 parts by mass relative to 100 parts by mass of the copolymer,

8. 상기 공중합체 100질량부에 대하여, 가교제를 0.01∼40질량부 포함하는 1∼7 중 어느 하나의 점착제 조성물,8. A pressure-sensitive adhesive composition according to any one of 1 to 7, which comprises 0.01 to 40 parts by mass of a crosslinking agent, based on 100 parts by mass of the copolymer,

9. 상기 가교제가 아이소사이아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 금속계 가교제, 아지리딘계 가교제 및 과산화물계 가교제로부터 선택되는 적어도 1종인 8의 점착제 조성물,9. A pressure-sensitive adhesive composition comprising at least one selected from the group consisting of an isocyanate crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, a metal crosslinking agent, an aziridine crosslinking agent and a peroxide crosslinking agent,

10. 필름과 이 필름의 적어도 일방의 면에, 1∼9 중 어느 하나의 점착제 조성물을 사용하여 이루어지는 층을 갖는 것을 특징으로 하는 점착층 부착 필름10. A pressure-sensitive adhesive sheet, which comprises a film and at least one surface of the film, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a layer comprising any one of the pressure-sensitive adhesive compositions 1 to 9

을 제공한다..

본 발명의 점착제 조성물은, 액정 표시 장치의 제조 공정에 있어서, 광학 기능성 필름과 액정 셀과의 점착제로서 적합하게 사용할 수 있고, 첩합 시에는 박리 가능함에도 불구하고, 첩합 후에는 고온고습 조건에서, 부풀어오름이나 벗겨짐이 발생하기 어렵다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention can be suitably used as a pressure-sensitive adhesive between an optically functional film and a liquid crystal cell in the production process of a liquid crystal display device, and although peeling is possible at the time of bonding, It is hard to rise or peel off.

이러한 특성을 갖는 본 발명의 점착제 조성물은, 최근, 높은 레벨의 실현이 요구되고 있는 내구성 및 리워크성을 실현할 수 있기 때문에, 기재 표면에 대한 보호막 형성제, 섬유나 분체의 표면처리제, 기재 간의 점접착제 등으로서, 특히, 액정 표시 장치의 제조 공정에 있어서 광학 기능성 필름의 첩합에 사용되는 점착제 조성물로서 적합하게 사용할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention having such properties can realize durability and reworkability, which are required to realize a high level in recent years. Therefore, the pressure-sensitive adhesive composition for a surface of a base material, the surface treatment agent for a fiber or a powder, It can be suitably used as a pressure-sensitive adhesive composition used for bonding an optically functional film in a process of manufacturing a liquid crystal display device.

(발명을 실시하기 위한 형태)(Mode for carrying out the invention)

이하, 본 발명에 대하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명에 따른 점착제 조성물은 (메타)아크릴산 에스터 모노머를 포함하는 중합성 불포화 모노머의 공중합체와, 상기 식 [1a] 또는 [1b]로 표시되는 오가노실록세인 및 그 가수분해물(이하, 단지 오가노실록세인이라고 함)의 적어도 일방을 포함하는 것이다.The pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention comprises a copolymer of a polymerizable unsaturated monomer containing a (meth) acrylic acid ester monomer and an organosiloxane represented by the above formula [1a] or [1b] and a hydrolyzate thereof Quot; or &quot; non-siloxane &quot;).

상기 (메타)아크릴산 에스터 모노머를 포함하는 중합성 불포화 모노머의 공중합체는 점착제 조성물 중에서 매트릭스 수지로서 기능하는 성분이며, (메타)아크릴산 에스터 모노머를 포함하는 중합성 불포화 모노머의 공중합체이면 특별히 한정되는 것은 아니다.The copolymer of the polymerizable unsaturated monomer containing the (meth) acrylic acid ester monomer is a component which functions as a matrix resin in the pressure-sensitive adhesive composition, and is particularly limited as long as it is a copolymer of a polymerizable unsaturated monomer containing a (meth) acrylic acid ester monomer no.

(메타)아크릴산 에스터 모노머의 구체예로서는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, n-뷰틸(메타)아크릴레이트, 아이소뷰틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, 아이소옥틸(메타)아크릴레이트, 아이소노닐(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트 등의 알킬(메타)아크릴레이트; 메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 에톡시에틸(메타)아크릴레이트 등의 알콕시알킬(메타)아크릴레이트; 페녹시에틸(메타)아크릴레이트 등의 아릴(메타)아크릴레이트; 벤질(메타)아크릴레이트 등의 아르알킬(메타)아크릴레이트; β-카복시에틸아크릴레이트 등의 카복시알킬(메타)아크릴레이트; 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시뷰틸(메타)아크릴레이트, 5-하이드록시펜틸(메타)아크릴레이트, 6-하이드록시헥실(메타)아크릴레이트, 7-하이드록시헵틸(메타)아크릴레이트, 8-하이드록시옥틸(메타)아크릴레이트 등의 하이드록시알킬(메타)아크릴레이트; 카프로락톤 변성 (메타)아크릴레이트; 폴리에틸렌글라이콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글라이콜모노(메타)아크릴레이트 등의 폴리알킬렌글라이콜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 이들 모노머는 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.Specific examples of the (meth) acrylic ester monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n- butyl (meth) acrylate, isobutyl (Meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, Alkyl (meth) acrylates such as cyclohexyl (meth) acrylate; Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as methoxyethyl (meth) acrylate and ethoxyethyl (meth) acrylate; Aryl (meth) acrylates such as phenoxyethyl (meth) acrylate; Aralkyl (meth) acrylates such as benzyl (meth) acrylate; carboxyalkyl (meth) acrylates such as? -carboxyethyl acrylate; (Meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 5-hydroxypentyl Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 7-hydroxyheptyl (meth) acrylate and 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate; Caprolactone-modified (meth) acrylates; (Meth) acrylate such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate and polypropylene glycol mono (meth) acrylate. These monomers may be used alone or in combination of two kinds These may be used in combination.

본 발명의 공중합체는 상기 (메타)아크릴산 에스터 모노머로부터 유도되는 반복단위를 60∼100질량% 포함하는 것이 바람직하고, 80∼100질량% 포함하는 것이 보다 바람직하다.The copolymer of the present invention preferably contains 60 to 100 mass%, more preferably 80 to 100 mass%, of the repeating units derived from the (meth) acrylate ester monomer.

또한 광학 기능성 필름과 액정 셀의 접착에 사용되는 수지는 감압 접착성을 갖는 것을 고려하면, 본 발명의 공중합체는 카복시기 함유 모노머 유래의 구조단위 및 하이드록시기 함유 모노머 유래의 구조단위의 적어도 일방을 함유하는 것이 바람직하다. Considering that the resin used for bonding the optically functional film and the liquid crystal cell has a pressure-sensitive adhesive property, the copolymer of the present invention contains at least one of a structural unit derived from a carboxyl group-containing monomer and a structural unit derived from a hydroxyl- Is preferably contained.

이러한 구조단위를 제공하는 카복시기 및/또는 하이드록시기를 함유하는 모노머의 구체예로서는 상술한 카복시알킬(메타)아크릴레이트, 하이드록시알킬(메타)아크릴레이트, 폴리알킬렌글라이콜(메타)아크릴레이트와 더불어, (메타)아크릴산, N-(2-하이드록시에틸)(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있고, 이들 모노머는 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다. Specific examples of the monomer containing a carboxy group and / or a hydroxy group to provide such a structural unit include a carboxyl group such as a carboxyalkyl (meth) acrylate, a hydroxyalkyl (meth) acrylate, a polyalkyleneglycol (meth) (Meth) acrylic acid and N- (2-hydroxyethyl) (meth) acrylamide. These monomers may be used alone or in combination of two or more.

특히, 본 발명에서 사용하는 공중합체에 있어서의, 카복시기 및/또는 하이드록시기를 함유하는 모노머로부터 유도되는 반복단위의 함유량은 1∼20질량%가 바람직하고, 2∼10질량%가 보다 바람직하다.In particular, the content of the repeating unit derived from a monomer containing a carboxyl group and / or a hydroxy group in the copolymer used in the present invention is preferably from 1 to 20 mass%, more preferably from 2 to 10 mass% .

또한, 본 발명에서 사용하는 공중합체는 상술한 모노머 이외의 그 밖의 모노머로부터 유도되는 반복단위를 포함하고 있어도 된다.In addition, the copolymer used in the present invention may contain a repeating unit derived from other monomers other than the above-mentioned monomers.

그 밖의 모노머의 구체예로서는 스타이렌, 메틸스타이렌, 다이메틸스타이렌, 트라이메틸스타이렌, 에틸스타이렌, 다이에틸스타이렌, 트라이에틸스타이렌, 프로필스타이렌, 뷰틸스타이렌, 헥실스타이렌, 헵틸스타이렌, 옥틸스타이렌, 플루오로스타이렌, 클로로스타이렌, 브로모스타이렌, 다이브로모스타이렌, 아이오도스타이렌, 나이트로스타이렌, 아세틸스타이렌, 메톡시스타이렌 등의 스타이렌계 모노머; 바이닐피리딘, 바이닐피롤리돈, 바이닐카바졸, 다이바이닐벤젠, 아세트산 바이닐, 아크릴로나이트릴, 뷰타다이엔, 아이소프렌, 클로로프렌, 염화 바이닐, 브로민화 바이닐, 염화 바이닐리덴 등의 바이닐계 모노머를 들 수 있고, 이들 모노머는 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.Specific examples of other monomers include styrene, methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, diethylstyrene, triethylstyrene, propylstyrene, butylstyrene, hexylstyrene, heptyl Styrene-based monomers such as styrene, octylstyrene, fluorostyrene, chlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, iododystyrene, nitrostyrene, acetylstyrene and methoxystyrene; Vinyl monomers such as vinylpyridine, vinylpyrrolidone, vinylcarbazole, divinylbenzene, vinyl acetate, acrylonitrile, butadiene, isoprene, chloroprene, vinyl chloride, vinyl bromide and vinylidene chloride These monomers may be used alone or in combination of two or more.

본 발명에서 사용하는 공중합체 중에서의, 상기 그 밖의 모노머로부터 유도되는 반복단위의 함유량은 0∼20질량%가 바람직하고, 0∼10질량%가 보다 바람직하다.The content of the repeating unit derived from the other monomers in the copolymer used in the present invention is preferably 0 to 20% by mass, more preferably 0 to 10% by mass.

또한, 본 발명에서 사용하는 공중합체는, 그 중의 모노머의 배열 규칙에 특별히 제한은 없고, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그 밖의 어떤 것이어도 된다.In the copolymer used in the present invention, there are no particular restrictions on the order of arrangement of the monomers therein, and random copolymers, block copolymers, and others may be used.

상기 공중합체의 중량평균 분자량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 점착제층의 응집력을 높이고, 또한, 점착제층의 발포나 벗겨짐을 억제하여 내구성을 높임과 아울러, 점착제 조성물의 점도를 적정 범위로 유지하여 작업성을 양호하게 하는 것을 고려하면, 100,000∼2,000,000이 바람직하고, 300,000∼1,500,000이 보다 바람직하다.The weight average molecular weight of the copolymer is not particularly limited, but it is preferable that the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive layer is increased and the foaming and peeling of the pressure-sensitive adhesive layer are suppressed to improve the durability and the viscosity of the pressure- It is preferably 100,000 to 2,000,000, and more preferably 300,000 to 1,500,000.

또한, 중량평균 분자량은 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의한, 폴리스타이렌 환산값이다.The weight average molecular weight is a polystyrene equivalent value determined by gel permeation chromatography (GPC).

본 발명에서 사용하는 공중합체는, 용액 중합, 괴상 중합, 유화 중합 또는 현탁 중합 등의 공지의 중합법에 의해 제조할 수 있지만, 특히, 공중합체가 용액으로서 얻어지는 용액 중합에 의해 제조하는 것이 바람직하고, 이와 같이 공중합체를 용액으로서 얻음으로써 그대로 본 발명의 점착제 조성물의 제조에 사용할 수 있다.The copolymer used in the present invention can be produced by a known polymerization method such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization or suspension polymerization, but it is particularly preferable that the copolymer is produced by solution polymerization in which a copolymer is obtained as a solution , And thus the copolymer can be used as a solution to obtain the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention.

용액 중합의 용매에는 유기 용매가 사용되고, 그 구체예로서는 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류; n-헥세인 등의 지방족 탄화수소류; 아세트산 에틸, 아세트산 뷰틸 등의 에스터류; n-프로필알코올, 아이소프로필알코올 등의 지방족 알코올류; 메틸에틸케톤, 메틸아이소뷰틸케톤, 사이클로헥산온 등의 케톤류 등을 들 수 있다.As the solvent for the solution polymerization, an organic solvent is used, and specific examples thereof include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane; Esters such as ethyl acetate and butyl acetate; aliphatic alcohols such as n-propyl alcohol and isopropyl alcohol; And ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone.

또한, 반응 용매는 모노머의 합계량 100질량부에 대하여 50∼300질량부의 양으로 사용하는 것이 바람직하다.The reaction solvent is preferably used in an amount of 50 to 300 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the monomers.

또한 중합에 사용하는 중합개시제로서도 공지의 것으로부터 적당히 선택하여 사용하면 되고, 그 구체예로서는 다이-tert-뷰틸퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, 라우릴퍼옥사이드, tert-뷰틸퍼옥시벤조에이트, 큐멘하이드로퍼옥사이드, 다이아이소프로필퍼옥시다이카보네이트, 다이프로필퍼옥시다이카보네이트, tert-뷰틸퍼옥시네오데카노에이트, tert-뷰틸퍼옥시피발레이트, (3,5,5-트라이메틸헥사노일)퍼옥사이드 등의 과산화물; 아조비스아이소뷰티로나이트릴, 아조비스발레로나이트릴, 1,1'-아조비스(사이클로헥세인-1-카보나이트릴), 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸발레로나이트릴), 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸-4-메톡시발레로나이트릴), 다이메틸-2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 2,2'-아조비스(2-하이드록시메틸프로피오나이트릴) 등의 아조비스 화합물 또는 고분자 아조 중합개시제 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.The polymerization initiator to be used in the polymerization may be appropriately selected from those known in the art, and specific examples thereof include di-tert-butylperoxide, benzoyl peroxide, lauryl peroxide, tert- butylperoxybenzoate, Oxide, diisopropyl peroxydicarbonate, dipropyl peroxydicarbonate, tert-butylperoxy neodecanoate, tert-butylperoxy pivalate, (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide, etc. Of peroxide; Azobisisobutyronitrile, azobisvaleronitrile, 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronite Azobis (2-methylpropionate), 2,2'-azobis (2,4-dimethyl-4-methoxyvaleronitrile) Azobis compounds such as azobis (2-hydroxymethylpropionitrile), and azo polymerization initiators. These may be used alone or in combination of two or more.

또한, 반응개시제는, 통상, 모노머의 합계량 100질량부에 대하여 0.01∼10질량부의 양으로 사용된다.The reaction initiator is usually used in an amount of 0.01 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the monomers.

중합반응의 온도는, 통상, 50∼90℃이며, 반응시간, 통상, 2∼20시간이지만, 바람직하게는 4∼12시간이다.The polymerization reaction temperature is usually 50 to 90 占 폚, and the reaction time is usually 2 to 20 hours, preferably 4 to 12 hours.

한편, 본 발명의 점착제 조성물에 사용되는 오가노실록세인은 전술한 바와 같이 식 [1a] 또는 [1b]로 표시된다. 이 오가노실록세인은, 상기 특허문헌 5(일본 특허 제5990847호 공보)에 기재된, 분자 내에 알콕시기와, 산 무수물기와, 폴리에터기를 갖는 화합물과는 실리콘 골격의 구조가 상이한 것이다. 특허문헌 5에 기재된 화합물은 실리콘 골격이 삼차원적인 구조를 갖는 것에 반해, 본 발명에서 사용하는 오가노실록세인은 실리콘 골격이 직쇄상의 구조를 갖는다. 이것에 의해 아크릴 수지에 첨가 사용한 경우, 수지 표면으로의 이행성이 향상되기 때문에, 수지 표면의 기능성을 보다 높이는 것이 가능하게 된다. 또한 화합물의 구조적 요인에 의해, 알콕시기의 유리 등 무기 기재에 대한 반응성이 향상된다. 따라서, 광학 기능성 필름과 액정 셀과의 첩합에 있어서, 내구성을 더욱 향상시키는 것이 가능하게 된다.On the other hand, the organosiloxane used in the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is represented by the formula [1a] or [1b] as described above. This organosiloxane has a structure of a silicon skeleton different from that of a compound having an alkoxy group, an acid anhydride group and a polyether group in the molecule described in Patent Document 5 (Japanese Patent No. 5990847). In the compound described in Patent Document 5, the silicon skeleton has a three-dimensional structure, whereas the organosiloxane used in the present invention has a structure in which the silicon skeleton has a linear structure. As a result, when it is added to an acrylic resin, the transferability to the resin surface is improved, so that the functionality of the resin surface can be further improved. Also, due to the structural factors of the compound, the reactivity of an alkoxy group to an inorganic substrate such as glass is improved. Therefore, in the fusion of the optically functional film with the liquid crystal cell, the durability can be further improved.

Figure pat00007
Figure pat00007

상기 각 식에 있어서, X는 산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Y는 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Z는 가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, R1은, 서로 독립하여, 수소 원자, 또는 할로젠 원자로 치환되어도 되는 탄소 원자수 1∼20의 1가 탄화수소기를 나타내고, M1은, 서로 독립하여, 상기 X, Y, Z 및 R1로부터 선택되는 기를 나타낸다.Wherein X represents a monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group, Y represents a monovalent hydrocarbon group having a polyether group, Z represents a monovalent hydrocarbon group having a hydrolyzable silyl group, and R &lt; 1 &gt; Represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group of 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, and M 1 independently represents a group selected from X, Y, Z and R 1 .

또한 상기 각 식에 있어서, a, b, c 및 d는, 각각, 0≤a≤100, 0≤b≤100, 0≤c≤100, 0≤d≤100의 정수를 나타내는데, 식 [1a]에서는 a가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 X이고, c는 1≤c≤100의 정수이며, c가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Z이고, a는 1≤a≤100의 정수이며, 식 [1b]에서는, a가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 X이고, b 및 c는, 각각, 1≤b≤100, 1≤c≤100의 정수이며, b가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Y이고, a 및 c는, 각각, 1≤a≤100, 1≤c≤100의 정수이며, c가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Z이고, a, b는, 각각, 1≤a≤100, 1≤b≤100의 정수이다.In the above formulas, a, b, c and d each represent an integer of 0? A? 100, 0? B? 100, 0? C? 100, At least one of M 1 is X and c is an integer of 1? C? 100 when a is 0, and when c is 0, at least one of M 1 is Z and a is 1? At least one of M 1 is X and b and c are integers of 1? B? 100, 1? C? 100, and b is 0 when a is 0 in formula [1b] At least one of M 1 is Y and a and c are integers of 1? A? 100 , 1? C? 100, and when c is 0, at least one of M 1 is Z and a, b is an integer of 1? a? 100, 1? b?

또한, 상기 각 식에 있어서, a, b, c 및 d가 붙여진 괄호 내의 각 반복단위의 배열은 랜덤이어도 블록이어도 된다.In the above formulas, the arrangement of each repeating unit in parentheses to which a, b, c and d are attached may be random or block.

상기 R1의 탄소수 1∼20의 1가 탄화수소기의 구체예로서는 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, 아이소뷰틸, tert-뷰틸, n-펜틸, 네오펜틸, n-헥실기, 사이클로헥실, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-옥타데실기 등의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 알킬기; 페닐, 톨릴, 자일릴, 나프틸기 등의 아릴기; 벤질, 페닐에틸, 페닐프로필기 등의 아르알킬기 등을 들 수 있다.Specific examples of the monovalent hydrocarbon group of 1 to 20 carbon atoms represented by R 1 include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, n-pentyl, neopentyl, Straight, branched or cyclic alkyl groups such as cyclohexyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl, and n-octadecyl; Aryl groups such as phenyl, tolyl, xylyl and naphthyl groups; And aralkyl groups such as benzyl, phenylethyl and phenylpropyl groups.

또한 이들 1가 탄화수소기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로젠 원자로 치환된 기의 구체예로서는 클로로메틸, 트라이플루오로메틸, 클로로프로필기 등을 들 수 있다.Specific examples of the groups in which some or all of the hydrogen atoms of these monovalent hydrocarbon groups are substituted with halogen atoms include chloromethyl, trifluoromethyl, and chloropropyl groups.

이것들 중에서도, R1로서는 메틸기, 퍼플루오로알킬기를 갖는 1가 탄화수소기가 바람직하고, 메틸기, 퍼플루오로알킬기로 치환된 알킬기(플루오로알킬기)가 보다 바람직하다.Of these, R 1 is preferably a monovalent hydrocarbon group having a methyl group or a perfluoroalkyl group, and more preferably an alkyl group (fluoroalkyl group) substituted with a methyl group or a perfluoroalkyl group.

플루오로알킬기의 구체적인 예로서는 CF3-C2H4-, CF3-C3H6-, C4F9-C2H4-, C4F9-C3H6-, C6F13-C2H4-, C6F13-C3H6-, C8F17-C2H4-, C8F17-C3H6-으로 표시되는 기 등을 들 수 있다.Specific examples of the fluoroalkyl group include CF 3 -C 2 H 4 -, CF 3 -C 3 H 6 -, C 4 F 9 -C 2 H 4 -, C 4 F 9 -C 3 H 6 -, C 6 F 13 A group represented by -C 2 H 4 -, C 6 F 13 -C 3 H 6 -, C 8 F 17 -C 2 H 4 -, or C 8 F 17 -C 3 H 6 -.

본 발명의 오가노실록세인은 R1로서 상기 1가 탄화수소기를 도입함으로써, 매트릭스 수지인 상기 공중합체와 혼합하여 사용할 때, 수지와의 상용성이 향상되어, 상분리 등이 발생하기 어렵게 되기 때문에, 상기 각 R1의 적어도 1개는 1가 탄화수소기인 것이 바람직하고, 모두 1가 탄화수소기가 보다 바람직하고, 모든 R1이 메틸기이거나, 메틸기와 퍼플루오로알킬기를 갖는 1가 탄화수소기의 조합이 더한층 바람직하다.When the organosiloxane of the present invention is used in combination with the above-mentioned copolymer as a matrix resin by introducing the monovalent hydrocarbon group as R 1 , the compatibility with the resin is improved and the phase separation becomes difficult to occur. At least one of R 1 is preferably a monovalent hydrocarbon group, more preferably a monovalent hydrocarbon group, and all R 1 is a methyl group, or a combination of a monovalent hydrocarbon group having a methyl group and a perfluoroalkyl group is further preferable .

또한 본 발명에서 사용하는 오가노실록세인은 산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기 X를 가지고 있고, 이 1가 탄화수소기 X가 존재함으로써 당해 오가노실록세인을 매트릭스 수지에 첨가했을 때, 1가 탄화수소기 X가 갖는 산 무수물기가 매트릭스 수지의 반응성 기(하이드록시기, 카복시기 등)와 반응하여, 수지와 당해 오가노실록세인의 일체화가 이루어진다.Also, the organosiloxane used in the present invention has a monovalent hydrocarbon group X having an acid anhydride group, and when the organosiloxane is added to the matrix resin, the monovalent hydrocarbon group X is present, The acid anhydride group of X reacts with the reactive group (hydroxyl group, carboxyl group, etc.) of the matrix resin to integrate the resin and the organosiloxane.

산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기에 있어서의 1가 탄화수소기로서는 상기 R1에서 예시한 기와 동일한 것을 들 수 있지만, 알킬기가 바람직하고, 직쇄상의 알킬기가 보다 바람직하다.The monovalent hydrocarbon group in the monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group may be the same as the group exemplified for R 1 above, but an alkyl group is preferable, and a straight-chain alkyl group is more preferable.

산 무수물기로서는 무수 석신산기, 무수 말레산기 등을 들 수 있다.Examples of the acid anhydride group include a maleic anhydride group and a maleic anhydride group.

적합한 X로서는 하기 식 [2]로 표시되는 기를 들 수 있다.Suitable X is a group represented by the following formula [2].

Figure pat00008
Figure pat00008

상기 A는 탄소 원자수 2∼6의 알킬렌기를 나타내고, 그 구체예로서는 에틸렌, 트라이메틸렌, 프로필렌, 테트라메틸렌, 펜타메틸렌, 헥사메틸렌기 등의 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬렌기를 들 수 있지만, 특히, 트라이메틸렌기가 바람직하고, 따라서, X로서는 무수 석신산 프로필기가 바람직하다.A is an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, and specific examples thereof include straight chain or branched alkylene groups such as ethylene, trimethylene, propylene, tetramethylene, pentamethylene and hexamethylene groups, , And a trimethylene group is preferable. Therefore, X is preferably an anhydrous succinic acid propyl group.

또한, 본 발명에서 사용하는 오가노실록세인은 가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기 Z를 갖고, 이 1가 탄화수소기 Z를 가짐으로써 유리 등의 무기 기재를 당해 오가노실록세인으로 표면 처리한 경우에, 가수분해성 실릴기가 무기 기재 표면에 존재하는 -OH기와 반응하고, 당해 오가노실록세인과 무기 기재 사이에 화학 결합이 형성된다.The organosiloxane used in the present invention has a monovalent hydrocarbon group Z having a hydrolyzable silyl group and has an univalent hydrocarbyl group Z so that an inorganic substrate such as glass is surface-treated with the organosiloxane , A hydrolyzable silyl group reacts with an -OH group present on the inorganic substrate surface, and a chemical bond is formed between the organosiloxane and the inorganic substrate.

가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기의 1가 탄화수소기로서는 상기 R1에서 예시한 기와 동일한 것을 들 수 있지만, 알킬기가 바람직하고, 직쇄상의 알킬기가 보다 바람직하다.The monovalent hydrocarbon group of the monovalent hydrocarbon group having a hydrolysable silyl group may be the same as the group exemplified for R 1 above, but an alkyl group is preferable, and a linear alkyl group is more preferable.

바람직한 Z로서는 하기 식 [5]로 표시되는 것을 들 수 있다.Preferable examples of Z include those represented by the following formula [5].

Figure pat00009
Figure pat00009

상기 R4는 탄소 원자수 1∼10의 알킬기를 나타내고, R5는 탄소 원자수 1∼10의 1가 탄화수소기 또는 아실기를 나타내고, n은 2 이상의 정수, 바람직하게는 2∼5의 정수, 보다 바람직하게는 2 또는 3의 정수를 나타내고, g는 1∼3의 정수, 바람직하게는 2 또는 3, 보다 바람직하게는 3을 나타낸다.R 4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 5 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or an acyl group, n is an integer of 2 or more, preferably an integer of 2 to 5, Preferably an integer of 2 or 3, and g represents an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3.

탄소 원자수 1∼10의 알킬기의 구체예로서는 상기 R1에서 예시한 알킬기 중, 탄소 원자수 1∼10의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있지만, 메틸기, 에틸기가 바람직하다.Specific examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include the same alkyl groups as the alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms among the alkyl groups exemplified for R 1 above, but methyl group and ethyl group are preferable.

1가 탄화수소기의 구체예로서는 상기 R1에서 예시한 기와 동일한 것을 들 수 있지만, 알킬기, 아릴기가 바람직하다.Specific examples of the monovalent hydrocarbon group include the same groups as those exemplified for R 1 above, but an alkyl group and an aryl group are preferable.

아실기의 구체예로서는 폼일, 아세틸기 등을 들 수 있다.Specific examples of the acyl group include formyl and acetyl groups.

가수분해성 실릴기(상기 식 [5]에 있어서, -CnH2n-을 제외한 부분)의 구체예로서는 트라이메톡시실릴, 메틸다이메톡시실릴, 다이메틸모노메톡시실릴, 트라이에톡시실릴, 메틸다이에톡시실릴, 다이메틸모노에톡시실릴, 트라이프로폭시실릴, 메틸다이프로폭시실릴, 다이메틸모노프로폭시실릴, 트라이아이소프로펜옥시실릴, 메틸다이아이소프로펜옥시실릴, 다이메틸아이소프로펜옥시실릴, 트라이아실옥시실릴, 메틸다이아실옥시실릴, 다이메틸모노아실옥시실릴기 등을 들 수 있고, 이들 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있다. 바람직하게는 트라이메톡시실릴기이다.Specific examples of the hydrolyzable silyl group (the part excluding -C n H 2n - in the formula [5]) include trimethoxysilyl, methyldimethoxysilyl, dimethylmonomethoxysilyl, triethoxysilyl, methyl But are not limited to, diethoxysilyl, dimethylmonoethoxysilyl, tripropoxysilyl, methyldipropoxysilyl, dimethylmonopropoxysilyl, triisopropenoxysilyl, methyldiisopropeneoxysilyl, dimethylisopropene Oxysilyl, triacyloxysilyl, methyldiacyloxysilyl, dimethylmonoacyloxysilyl groups and the like, and at least one selected from these groups can be used. And is preferably a trimethoxysilyl group.

또한, 본 발명에서 사용하는 오가노실록세인은 가수분해성 실릴기와 산 무수물기의 수를 자유롭게 조정할 수 있다. 이 때문에, 유기 수지에 대한 반응성 및 무기 기재에 대한 반응성의 밸런스를 자유롭게 제어할 수 있다.In the organosiloxane used in the present invention, the number of the hydrolyzable silyl group and the number of the acid anhydride groups can be freely adjusted. Therefore, the balance between the reactivity to the organic resin and the reactivity to the inorganic substrate can be freely controlled.

또한 본 발명에서 사용하는 오가노실록세인은, 상기 가수분해성 실릴기 및 산 무수기와 더불어, 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기 Y를 포함하고 있어도 된다.The organosiloxane used in the present invention may contain a monovalent hydrocarbon group Y having a polyether group in addition to the hydrolyzable silyl group and acid anhydride group.

이 폴리에터기는 당해 오가노실록세인과 무기 기재 표면과의 친화성을 제어하는 효과를 갖는다.This polyether group has the effect of controlling the affinity between the organosiloxane and the inorganic substrate surface.

즉, 유기 작용기로서 가수분해성 실릴기와 산 무수물기만을 함유하는 오가노실록세인은 산 무수물기의 친수성이 낮기 때문에, 그 수의 증가에 따라, 분자 전체의 친수성이 크게 저하되는 경우가 있다. 이 때문에, 친수성 표면을 갖는 무기 기재 위에 이 오가노실록세인을 도포하고, 경화 피막을 형성할 때, 젖음성이 나빠, 튕김 등이 발생하여, 균일한 도포막이 얻어지지 않는다고 하는 문제가 발생하는 경우가 있다. 그러나, 상기 오가노실록세인의 분자 내에 폴리에터기를 도입함으로써, 이러한 문제가 해결되어, 무기 기재 위에 오가노실록세인의 균일한 경화막을 형성하는 것이 가능하게 된다.That is, the organosiloxane containing only the hydrolyzable silyl group and the acid anhydride group as the organic functional group has a low hydrophilicity of the acid anhydride group, and accordingly, the hydrophilicity of the entire molecule may be greatly lowered as the number of the organosiloxane is increased. For this reason, when the organosiloxane is applied onto an inorganic substrate having a hydrophilic surface to form a cured coating, problems such as a poor wettability and skipping, and a problem that a uniform coating film can not be obtained have. However, by introducing a polyether group into the molecule of the organosiloxane, such a problem is solved, and it becomes possible to form a uniform cured film of organosiloxane on the inorganic substrate.

또한, 폴리에터기의 종류나 도입량을 조정함으로써, 가수분해성 실릴기와 무기 기재와의 반응을 제어하여, 기재와 오가노실록세인과의 결합력을 조정하는 것이 가능하게 된다. 이것에 의해, 오가노실록세인을 유기 수지와 무기 기재와의 접착에 사용했을 때, 미점착으로부터 강접착까지, 용도에 따라, 접착력을 조정하는 것이 가능하게 된다.It is also possible to adjust the binding force between the substrate and the organosiloxane by controlling the reaction between the hydrolyzable silyl group and the inorganic substrate by adjusting the type and amount of the polyether group. As a result, when the organosiloxane is used for bonding an organic resin and an inorganic substrate, the adhesive force can be adjusted depending on the application, from unadhesion to strong adhesion.

폴리에터기를 함유하는 1가 탄화수소기에 있어서의 1가 탄화수소기의 구체예로서는 상기 R1에서 예시한 기와 동일한 것을 들 수 있지만, 알킬기가 바람직하고, 직쇄상의 알킬기가 보다 바람직하다.Specific examples of the monovalent hydrocarbon group in the monovalent hydrocarbon group containing a polyether group include the same groups as those exemplified for R 1 above, but an alkyl group is preferable, and a straight-chain alkyl group is more preferable.

적합한 Y로서는 하기 식 [3]으로 표시되는 기를 들 수 있다.Suitable Y is a group represented by the following formula [3].

Figure pat00010
Figure pat00010

상기 R2는 수소 원자, 탄소 원자수 1∼6의 1가 탄화수소기, 또는 하기 식 [4]로 표시되는 기를 나타낸다.R 2 represents a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a group represented by the following formula [4].

Figure pat00011
Figure pat00011

(식 중, R3은 탄소 원자수 1∼4의 1가 탄화수소기, 바람직하게는 탄소 원자수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.)(In the formula, R 3 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.)

식 [3], [4]에 있어서의 1가 탄화수소기로서는 상기 R1에서 예시한 기 중, 각각 해당의 탄소 원자수의 것을 들 수 있다.Examples of the monovalent hydrocarbon groups represented by the formulas [3] and [4] include those corresponding to the corresponding carbon atoms among the groups exemplified for R 1 above.

R2로서는 탄소 원자수 1∼4의 알킬기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.As R 2, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable.

e, f는 서로 독립하여 0 이상의 정수를 나타내는데, 0≤e≤50, 0≤f≤50의 범위의 정수가 바람직하고, 0≤e≤20, 0≤f≤20의 범위의 정수가 보다 바람직하다. 단, e, f 중 적어도 1개는 1 이상, 바람직하게는 1∼50의 정수이다.e and f independently represent an integer of 0 or more, preferably 0? e? 50, 0? f? 50, more preferably 0? e? 20 and 0? f? Do. Provided that at least one of e and f is an integer of 1 or more, preferably 1 to 50. [

m은 2 이상의 정수를 나타내는데, 2∼6의 정수가 바람직하다.m represents an integer of 2 or more, preferably an integer of 2 to 6.

상기 폴리에터기 부분은 에틸렌옥사이드형(이하, EO형으로 기재한다.), 프로필렌옥사이드형(이하, PO형으로 기재한다.), 에틸렌옥사이드-프로필렌옥사이드형(이하, EO-PO형으로 기재한다.)의 어떤 것이어도 좋고, EO-PO형의 경우에는, 랜덤, 블록, 교호의 어떤 것이어도 좋다.The polyether group portion is described as an ethylene oxide type (hereinafter referred to as EO type), a propylene oxide type (hereinafter referred to as PO type), an ethylene oxide-propylene oxide type . In the case of the EO-PO type, any of random, block, and alternate may be used.

또한 본 발명에서 사용하는 오가노실록세인에 PO형의 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기를 도입함으로써, 내습성을 향상시킬 수 있다.Further, by introducing a monovalent hydrocarbon group having a polyether group of PO type into the organosiloxane used in the present invention, moisture resistance can be improved.

상기 폴리에터기 부분은 수소 원자의 적어도 일부가 불소로 치환된 플루오로폴리에터기이어도 된다. 불소를 함유함으로써, 본 발명에서 사용하는 오가노실록세인의 수지 표면으로의 이행성을 높이거나, 수지 표면과 피착체와의 친화성을 제어하거나 하는 것이 가능하게 된다. The polyether group portion may be a fluoropolyether group in which at least a part of the hydrogen atoms are substituted with fluorine. By containing fluorine, it becomes possible to increase the transferability of the organosiloxane used in the present invention to the resin surface, or to control the affinity between the resin surface and the adherend.

플루오로폴리에터기로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 이하에 나타내는 구조단위로부터 선택되는 적어도 1종으로 구성되는 것이 바람직하다.The fluoropolyether group is not particularly limited, but is preferably composed of at least one member selected from the following structural units.

Figure pat00012
Figure pat00012

플루오로폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기의 구체예로서는 이하와 같은 구조 등을 들 수 있다.Specific examples of the monovalent hydrocarbon group having a fluoropolyether group include the following structures and the like.

Figure pat00013
Figure pat00013

본 발명에서 사용하는 오가노실록세인의 적합예로서는 하기 식 [12], [13]으로 표시되는 것을 들 수 있지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 하기 식 [12], [13]으로 표시되는 오가노실록세인 중에서의 각 실록세인 단위의 배열은 랜덤이어도 블록이어도 된다.Suitable examples of the organosiloxane used in the present invention include those represented by the following formulas [12] and [13], but are not limited thereto. In addition, the arrangement of each siloxane unit among the organosiloxanes represented by the following formulas [12] and [13] may be random or block.

Figure pat00014
Figure pat00014

본 발명에서 사용하는 오가노실록세인의 산 무수물기 당량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 5,000g/mol 이하가 바람직하고, 2,000g/mol 이하가 보다 바람직하고, 1,500g/mol 이하가 더한층 바람직하고, 1,000g/mol 이하가 더욱 바람직하다.The acid anhydride group equivalent of the organosiloxane used in the present invention is not particularly limited, but is preferably 5,000 g / mol or less, more preferably 2,000 g / mol or less, still more preferably 1,500 g / mol or less, More preferably 1,000 g / mol or less.

이상에서 설명한 오가노실록세인은 백금 촉매하, 하기 식 [7]로 표시되는 오가노하이드로젠실록세인에, 지방족 불포화 결합을 갖는 가수분해성 실릴기 함유 화합물과, 지방족 불포화 결합을 갖는 산 무수물기 함유 화합물과, 필요에 따라 지방족 불포화 결합을 갖는 폴리에터기 함유 화합물을 하이드로실릴화 반응시켜, 제조할 수 있다.The organosiloxane described above can be synthesized by reacting an organohydrogensiloxane represented by the following formula [7] with a hydrolyzable silyl group-containing compound having an aliphatic unsaturated bond and an acid anhydride group having an aliphatic unsaturated bond A compound and a polyether group-containing compound having an aliphatic unsaturated bond, if necessary, may be subjected to a hydrosilylation reaction.

Figure pat00015
Figure pat00015

식 [7] 중, R10은 할로젠 원자로 치환되어도 되는 탄소 원자수 1∼20의 1가 탄화수소기를 나타내고, M2는 수소 원자, 또는 상기 R10을 나타낸다. i, j는, 각각, 1≤i≤300, 0≤j≤100의 정수를 나타내고, 바람직하게는 1≤i≤150, 0≤j≤50의 범위의 정수, 보다 바람직하게는 1≤i≤60, 0≤j≤20의 범위의 정수이다. i 및 j가 붙여진 괄호 내의 각 반복단위의 배열은 랜덤이어도 블록이어도 된다.In formula [7], R 10 represents a monovalent hydrocarbon group of 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, and M 2 represents a hydrogen atom or the above R 10 . i and j each represent an integer of 1? i? 300 and 0? j? 100, preferably an integer in the range of 1? i? 150 and 0? j? 50, 60, 0? J? 20. The arrangement of each repeating unit in parentheses to which i and j are attached may be a random or a block.

이 경우, 지방족 불포화 결합을 갖는 가수분해성 실릴기 함유 화합물로서는, 예를 들면, 하기 식 [8]로 표시되는 것을 들 수 있다.In this case, examples of the hydrolyzable silyl group-containing compound having an aliphatic unsaturated bond include those represented by the following formula [8].

Figure pat00016
Figure pat00016

(식 중, p는 0∼10, 바람직하게는 0∼5의 정수를 나타낸다. R4, R5 및 g는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)(Wherein p represents an integer of 0 to 10, preferably 0 to 5. R 4 , R 5 and g have the same meanings as defined above.)

상기 불포화 결합을 갖는 가수분해성 실릴기 함유 화합물의 구체예로서는 바이닐트라이메톡시실레인, 바이닐트라이에톡시실레인 등의 바이닐기 함유 알콕시실레인 화합물을 들 수 있다.Specific examples of the hydrolyzable silyl group-containing compound having an unsaturated bond include a vinyl group-containing alkoxysilane compound such as vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane.

하이드로실릴화 반응시의 반응비율로서는, 오가노하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 1∼100mol이 바람직하고, 1∼50mol이 보다 바람직하고, 1∼20mol이 더한층 바람직하다.The reaction rate in the hydrosilylation reaction is preferably from 1 to 100 mol, more preferably from 1 to 50 mol, and still more preferably from 1 to 20 mol, based on 1 mol of the organohydrogensiloxane.

상기 지방족 불포화 결합을 갖는 산 무수물기 함유 화합물로서는, 예를 들면, 하기 식 [9]로 표시되는 것을 들 수 있다.Examples of the acid anhydride group-containing compound having an aliphatic unsaturated bond include those represented by the following formula [9].

Figure pat00017
Figure pat00017

(식 중, p는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)(Wherein p has the same meaning as defined above.)

상기 지방족 불포화 결합을 갖는 산 무수물기 함유 화합물의 구체예로서는 하기와 같은 화합물을 들 수 있고, 특히, 알릴 무수 석신산이 바람직하다.Specific examples of the acid anhydride group-containing compound having an aliphatic unsaturated bond include the following compounds, and allylhydrosuccinic acid is particularly preferable.

하이드로실릴화 반응시의 반응 비율로서는 오가노하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 1∼100mol이 바람직하고, 1∼50mol이 보다 바람직하고, 1∼20mol이 더한층 바람직하다.The reaction rate in the hydrosilylation reaction is preferably 1 to 100 mol, more preferably 1 to 50 mol, and further preferably 1 to 20 mol, per 1 mol of organohydrogensiloxane.

Figure pat00018
Figure pat00018

상기 지방족 불포화 결합을 갖는 폴리에터기 함유 화합물로서는, 예를 들면, 하기 식 [10]으로 표시되는 것을 들 수 있다.The polyether group-containing compound having an aliphatic unsaturated bond includes, for example, those represented by the following formula [10].

Figure pat00019
Figure pat00019

(식 중, p, R2, e, f는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)(Wherein p, R 2 , e and f have the same meanings as defined above.)

특히, 불포화 결합을 갖는 폴리에터기 함유 화합물로서는 하기 식 [11]로 표시되는 알릴폴리에터가 바람직하다.In particular, as the polyether group-containing compound having an unsaturated bond, an allyl polyether represented by the following formula [11] is preferable.

하이드로실릴화 반응시의 반응비율로서는 오가노하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 1∼100mol이 바람직하고, 1∼50mol이 보다 바람직하고, 1∼20mol이 더한층 바람직하다.The reaction rate in the hydrosilylation reaction is preferably 1 to 100 mol, more preferably 1 to 50 mol, and further preferably 1 to 20 mol, per 1 mol of organohydrogensiloxane.

Figure pat00020
Figure pat00020

(식 중, R2, e, f는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)(Wherein R 2 , e and f have the same meanings as defined above).

보다 구체적으로는, 예를 들면, 상기 식 [12]로 표시되는 화합물의 경우, 백금 촉매하, 하기 식 [14]로 표시되는 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 바이닐트라이메톡시실레인 4mol과, 하기 식 [15]로 표시되는 알릴폴리에터 1mol과, 알릴 무수 석신산 3mol을 하이드로실릴화 반응시켜, 제조할 수 있다.More specifically, for example, in the case of the compound represented by the above formula [12], 4 mol of vinyltrimethoxysilane and 1 mol of vinyltrimethoxysilane are reacted with 1 mol of methylhydrogensiloxane represented by the following formula [14] , 1 mole of allyl polyether represented by the following formula [15], and 3 moles of allylhydrosicylic acid are subjected to a hydrosilylation reaction.

Figure pat00021
Figure pat00021

또한 상기 식 [13]으로 표시되는 화합물의 경우, 백금 촉매하, 하기 식 [16]으로 표시되는 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 바이닐트라이메톡시실레인 4mol과, 알릴 무수 석신산 4mol을 하이드로실릴화 반응시켜, 제조할 수 있다.In the case of the compound represented by the above formula [13], 4 mol of vinyltrimethoxysilane and 4 mol of allylhydrosuccinic acid are reacted with 1 mol of methylhydrogensiloxane represented by the following formula [16] Followed by silylation reaction.

Figure pat00022
Figure pat00022

또한, 본 발명에서 사용하는 알콕시실레인 화합물은 상기에서 설명한 방법 이외의 방법으로도 제조할 수 있고, 예를 들면, 무수 석신산 변성 알콕시실레인과 폴리에터 변성 알콕시실레인을 가수분해 축합하는 방법으로도 제조할 수 있다.The alkoxysilane compound used in the present invention can also be produced by a method other than the method described above. For example, the alkoxysilane compound may be produced by hydrolysis and condensation of succinic anhydride-modified alkoxysilane and polyether-modified alkoxysilane Method. &Lt; / RTI &gt;

그러나, 이 방법은 물을 사용하기 때문에, 제조 단계에서, 무수 석신산의 가수분해에 의한 개환 반응이 함께 발생한다는 문제가 있다.However, since this method uses water, there is a problem that a ring-opening reaction by hydrolysis of succinic anhydride occurs simultaneously in the production step.

또한 또 다른 방법으로서, 예를 들면, 하기 식 [17]로 표시되는 환상 오가노하이드로젠실록세인에, 백금 촉매하, 바이닐트라이메톡시실레인, 알릴폴리에터, 알릴 무수 석신산을 차례로 부가하는 방법으로도 제조할 수 있다.Further, as another method, for example, a method in which a cyclic organohydrogensiloxane represented by the following formula [17], a vinyltrimethoxysilane, an allyl polyether and an allylsuccinic anhydride are sequentially added And the like.

Figure pat00023
Figure pat00023

(식 중, k는 3 이상의 정수를 나타낸다.)(In the formula, k represents an integer of 3 or more.)

그러나, 상기 환상 오가노하이드로젠실록세인 중에서, 현실적으로, 저렴하고 용이하게 입수할 수 있는 것은 k=3∼5의 저분자 실록세인이 된다. 그 경우, 분자 내에 존재하는 반응점(SiH)의 수는 최대이어도 5개까지가 된다. 이 환상 오가노하이드로젠실록세인에, 바이닐트라이메톡시실레인, 알릴폴리에터, 알릴 무수 석신산을 차례로, 하이드로실릴화 반응에 의해 부가하고자 하는 경우, 각 화합물의 합계 도입량은 5개까지가 되어, 각 작용기의 자유로운 도입량의 설정을 할 수 없다.However, among the above-mentioned cyclic organohydrogensiloxanes, what is practically inexpensive and readily available is a low-molecular siloxane having k = 3 to 5. In this case, the number of reaction sites (SiH) present in the molecule may be up to five. When the cyclic organohydrogensiloxane is to be added by the hydrosilylation reaction in order of vinyltrimethoxysilane, allyl polyether and allylhydrous succinic acid, the total introduction amount of each compound is up to 5 So that it is not possible to set the free introduction amount of each functional group.

이에 대하여 상술한 본 발명의 오가노실록세인의 제조 방법은 상기의 문제를 해결할 수 있는 것이다.On the other hand, the above-described method for producing an organosiloxane of the present invention can solve the above problems.

즉, 원료로서 사용하는 상기 식 [7]로 표시되는 오가노하이드로젠실록세인의 i값을 조정함으로써, 바이닐트라이메톡시실레인, 알릴폴리에터, 알릴 무수 석신산의 도입량을 자유롭게 설정할 수 있다.That is, the introduction amount of vinyltrimethoxysilane, allyl polyether, and allylnaphosuccinic acid can be freely set by adjusting the i value of the organohydrogensiloxane represented by the above formula [7] used as a raw material .

본 발명에서 사용하는 오가노실록세인은, 직쇄상 실록세인 골격의 측쇄에, 알콕시기, 산 무수물기, 폴리에터기의 각 작용기를 함유하는 기가 결합한 구조를 취한다.The organosiloxane used in the present invention has a structure in which a group containing an alkoxy group, an acid anhydride group and a polyether group is bonded to the side chain of the linear siloxane skeleton.

본 발명의 점착제 조성물에 있어서, 상술한 매트릭스 수지가 되는 공중합체와, 상기 알콕시실레인과의 배합비율은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 매트릭스 수지가 되는 공중합체 100질량부에 대하여, 오가노실록세인 0.001∼5질량부 배합하는 것이 바람직하고, 0.01∼3질량부 배합하는 것이 보다 바람직하고, 0.1∼2질량부 배합하는 것이 더한층 바람직하다.In the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention, the compounding ratio of the copolymer to be the matrix resin and the alkoxysilane is not particularly limited. However, it is preferable that the ratio of the organosiloxane to the organosiloxane More preferably from 0.01 to 3 parts by mass, and even more preferably from 0.1 to 2 parts by mass.

또한 본 발명의 점착제 조성물에는 가교제를 배합해도 된다.A crosslinking agent may be added to the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention.

가교제의 배합량으로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 점착제 조성물의 응집력을 적절하게 하여, 내구성을 향상시키고, 첩착하는 필름 벗겨짐을 효율적으로 억제하는 것을 고려하면, 공중합체 100질량부에 대하여, 가교제 0.01∼40질량부 배합하는 것이 바람직하고, 0.02∼30질량부 배합하는 것이 보다 바람직하다.The blending amount of the crosslinking agent is not particularly limited. However, considering that the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive composition is suitably adjusted to improve the durability and effectively suppress the film peeling, the crosslinking agent is preferably used in an amount of 0.01 to 40 Is preferably incorporated in an amount of 0.02 to 30 parts by mass.

가교제로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 본 발명에서는, 아이소사이아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 금속 킬레이트 가교제 및 아지리딘계 가교제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것이 적합하게 사용된다.The crosslinking agent is not particularly limited, but is preferably selected from the group consisting of an isocyanate crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, a metal chelate crosslinking agent and an aziridine crosslinking agent in the present invention.

보다 구체적으로는, 예를 들면, 1분자 중에 글라이시딜기를 2개 이상 갖는 폴리글라이시딜 화합물, 1분자 중에 아이소사이아네이트기를 2개 이상 갖는 폴리아이소사이아네이트 화합물, 1분자 중에 아지리딘일기를 2개 이상 갖는 폴리아지리딘 화합물, 금속 킬레이트 화합물 또는 뷰틸화 멜라민 화합물 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.More specifically, for example, polyglycidyl compounds having two or more glycidyl groups in one molecule, polyisocyanate compounds having two or more isocyanate groups in one molecule, aziridine A metal chelate compound or a butylated melamine compound having two or more diaries, and these may be used alone or in combination of two or more.

폴리글라이시딜 화합물의 구체예로서는 에틸렌글라이콜다이글라이시딜에터, 폴리에틸렌글라이콜다이글라이시딜에터, 프로필렌글라이콜다이글라이시딜에터, 폴리프로필렌글라이콜다이글라이시딜에터, 글리세린다이글라이시딜에터, 네오펜틸글라이콜다이글라이시딜에터, 1,6-헥세인다이올다이글라이시딜에터, N,N,N',N'-테트라글라이시딜-m-자일렌다이아민, 1,3-비스(N,N-다이글라이시딜아미노메틸)사이클로헥세인, 트라이메틸올프로페인폴리글라이시딜에터, 다이글라이세롤폴리글라이시딜에터 등의 다작용 글라이시딜 화합물을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.Specific examples of the polyglycidyl compound include ethylene glycol diglycidylether, polyethylene glycol diglycidylether, propylene glycol diglycidylether, polypropylene glycol diglycidyl Ether, glycerin diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, N, N, N ', N'-tetra Lysidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, trimethylolpropane polyglycidyl ether, diglycerol polyglycidyl And polyfunctional glycidyl compounds such as diethers. These may be used alone or in combination of two or more.

폴리아이소사이아네이트 화합물의 구체예로서는 톨릴렌다이아이소사이아네이트, 헥사메틸렌다이아이소사이아네이트, 아이소포론다이아이소사이아네이트, 자일렌다이아이소사이아네이트, 수소 첨가 자일렌다이아이소사이아네이트, 다이페닐메테인다이아이소사이아네이트, 수소 첨가 다이페닐메테인다이아이소사이아네이트, 나프탈렌다이아이소사이아네이트, 트라이페닐메테인트라이아이소사이아네이트 등이나, 이들 아이소사이아네이트 화합물에, 글라이세롤이나 트라이메틸올프로페인 등의 폴리올을 반응시킨 어덕트체나, 아이소사이아네이트 화합물을 2량체, 3량체 등으로 한 것 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.Specific examples of the polyisocyanate compound include tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophoronediisocyanate, xylene diisocyanate, hydrogenated xylene diisocyanate , Diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate and the like, and to these isocyanate compounds, An adduct in which a polyol such as glycerol or trimethylolpropane is reacted, or an isocyanate compound in which the isocyanate compound is a dimer, a trimer or the like. These may be used alone or in combination of two or more They may be used in combination.

폴리아지리딘 화합물의 구체예로서는 1,1'-(메틸렌-다이-p-페닐렌)비스-3,3-아지리딜유레아, 1,1'-(헥사메틸렌)비스-3,3-아지리딜유레아, 에틸렌비스-(2-아지리딘일프로피오네이트), 트리스(1-아지리딘일)포스핀옥사이드, 2,4,6-트라이아지리딘일-1,3,5-트라이아진, 트라이메틸올프로페인-트리스-(2-아지리딘일프로피오네이트) 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.Specific examples of the polyaziridine compound include 1,1 '- (methylene-di-p-phenylene) bis-3,3-aziridylurea, 1,1' - (hexamethylene) , Ethylene bis- (2-aziridinyl propionate), tris (1-aziridinyl) phosphine oxide, 2,4,6-triaziridinyl-1,3,5-triazine, Tris- (2-aziridinyl propionate), etc. These may be used alone or in combination of two or more kinds.

금속 킬레이트 화합물의 구체예로서는 알루미늄, 철, 구리, 아연, 주석, 타이타늄, 니켈, 안티모니, 마그네슘, 바나듐, 크로뮴 및 지르코늄 등의 다가 금속에, 아세틸아세톤이나 아세토아세트산 에틸이 배위한 화합물 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.Specific examples of the metal chelate compound include compounds for charging acetylacetone or ethyl acetoacetate with a polyvalent metal such as aluminum, iron, copper, zinc, tin, titanium, nickel, antimony, magnesium, vanadium, chromium and zirconium These may be used alone or in combination of two or more.

또한 가교 형태로서 방사선(바람직하게는 자외선) 가교도 유효하며, 그때에는 중합 가능한 반응성 이중결합을 적어도 2개 갖는 모노머와 광중합개시제(증감제도 포함함)를 첨가할 수 있다.Radiation (preferably ultraviolet ray) crosslinking is also effective as a crosslinked form. At this time, a monomer having at least two polymerizable reactive double bonds and a photopolymerization initiator (including a sensitization system) may be added.

중합 가능한 이중결합을 적어도 2개 갖는 모노머의 구체예로서는 폴리에틸렌글라이콜다이아크릴레이트, 프로폭시화 에톡시화 비스페놀A 다이아크릴레이트, 트라이사이클로데케인다이메탄올다이아크릴레이트, 1,9-노네인다이올다이아크릴레이트 등의 2작용 (메타)아크릴레이트; 트라이메틸올프로페인트라이아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 아이소사이아누르산 트라이아크릴레이트, 트리스(2-아크릴옥시에틸)아이소사이아누레이트 등의 다작용 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the monomer having at least two polymerizable double bonds include polyethylene glycol diacrylate, propoxylated ethoxylated bisphenol A diacrylate, tricyclodecane dimethanol diacrylate, 1,9-nonene diol Bifunctional (meth) acrylates such as diacrylate; (Such as trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, isocyanuric acid triacrylate, and tris (2-acryloxyethyl) isocyanurate. Methacrylate, and the like.

또한, 필요에 따라 중합 가능한 반응성 이중결합을 1개만 갖는 기지의 모노머를 병용하여 가교밀도의 제어를 행할 수도 있다.In addition, crosslinking density control may be performed by using a known monomer having only one reactive double bond capable of polymerization as needed.

광중합개시제로서는 공지의 방사선(자외선)에 의한 광중합개시제를 사용할 수 있고, 예를 들면, 아미노케톤계, 하이드로케톤계, 아실포스핀옥사이드계, 벤질다이메틸케탈계, 벤조페논계, 트라이클로로메틸기 함유 트라이아진 유도체계 광중합개시제 등을 들 수 있다.As the photopolymerization initiator, a photopolymerization initiator based on a known radiation (ultraviolet ray) can be used. Examples of the photopolymerization initiator include an aminoketone type, hydro ketone type, acylphosphine oxide type, benzyldimethylketal type, benzophenone type, Triazine-derived photopolymerization initiator, and the like.

또한 본 발명의 점착제 조성물은 상술한 필수 오가노실록세인 이외의 실레인 커플링제 및/또는 그 가수분해 축합물(아울러, 실레인 커플링제라고 함)을 첨가할 수 있고, 그것에 의해, 본 발명의 점착제 조성물로 형성되는 점착제층의 내구성을 더욱 향상시킬 수 있다.In addition, the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention can further comprise a silane coupling agent other than the above-mentioned essential organosiloxane and / or a hydrolyzed condensate thereof (also referred to as a silane coupling agent) The durability of the pressure-sensitive adhesive layer formed of the pressure-sensitive adhesive composition can be further improved.

실레인 커플링제의 첨가량은, 공중합체 100질량부에 대하여, 0.01∼5질량부가 바람직하다.The addition amount of the silane coupling agent is preferably 0.01 to 5 parts by mass relative to 100 parts by mass of the copolymer.

실레인 커플링제의 구체예로서는 γ-글라이시드옥시프로필트라이메톡시실레인, γ-글라이시드옥시프로필트라이에톡시실레인, γ-글라이시드옥시프로필메틸다이메톡시실레인, γ-글라이시드옥시프로필메틸다이에톡시실레인, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실레인, 에폭시기 함유 알콕시실레인 올리고머 등의 에폭시기 함유 실레인 커플링제; γ-머캡토프로필트라이메톡시실레인, γ-머캡토프로필트라이에톡시실레인, γ-머캡토프로필메틸다이메톡시실레인, γ-머캡토프로필메틸다이에톡시실레인, 머캡토기 함유 알콕시실레인 올리고머 등의 머캡토기 함유 실레인 커플링제; γ-아미노프로필트라이메톡시실레인, γ-아미노프로필트라이에톡시실레인, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트라이메톡시실레인, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트라이에톡시실레인, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸다이메톡시실레인, N-페닐-γ-아미노프로필트라이메톡시실레인 등의 아미노기 함유 실레인 커플링제; γ-아이소사이아네이트프로필트라이메톡시실레인, γ-아이소사이아네이트프로필트라이에톡시실레인 등의 아이소사이아네이트기 함유 실레인 커플링제 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.Specific examples of the silane coupling agent include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, Epoxy group-containing silane coupling agents such as ricidoxypropylmethyldiethoxysilane,? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and epoxy group-containing alkoxysilane oligomer; ? -mercaptopropyltrimethoxysilane,? -mercaptopropyltriethoxysilane,? -mercaptopropylmethyldimethoxysilane,? -mercaptopropylmethyldiethoxysilane, a mercapto group-containing alkoxy A mercapto group-containing silane coupling agent such as a silane oligomer; ? - (aminoethyl) -? - aminopropyltrimethoxysilane, N-? - (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane,? -aminopropyltriethoxysilane, N- Amino group-containing silane coupling agents such as aminopropyltriethoxysilane, N -? - (aminoethyl) -? - aminopropylmethyldimethoxysilane and N-phenyl-? -Aminopropyltrimethoxysilane; and isocyanate group-containing silane coupling agents such as? -isocyanate propyltrimethoxysilane and? -isocyanate propyltriethoxysilane, and these may be used singly, Two or more kinds may be used in combination.

또한, 본 발명의 점착제 조성물은, 점착력을 조정할 목적 등, 필요한 특성에 따라, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 여러 첨가제를 배합해도 된다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention may be blended with various additives within a range that does not impair the effect of the present invention, depending on the necessary properties such as the purpose of adjusting the adhesive strength.

첨가제로서는, 터펜계, 터펜-페놀계, 큐마론-인덴계, 스타이렌계, 로진계, 자일렌계, 페놀계, 석유계 등의 점착 부여 수지, 산화방지제, 자외선흡수제, 충전제, 안료, 가소제, 대전방지제 등을 들 수 있다.Examples of the additives include adhesion-imparting resins such as terpene, terpene-phenol, coumarone-indene, styrene, rosin, xylene, phenol and petroleum, antioxidants, ultraviolet absorbers, fillers, pigments, plasticizers, And the like.

본 발명의 점착층 부착 필름은 필름과, 이 필름의 적어도 일방의 면에, 상술한 본 발명의 점착제 조성물을 사용하여 이루어지는 층을 구비하는 것이다.The adhesive layer-adhering film of the present invention comprises a film and a layer formed by using the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention described above on at least one surface of the film.

즉, 점착제층이 형성되어 있지 않은 광학 기능성 필름(이하, 이것을 「원재료 필름」이라고 부름)의 편면 또는 양면에, 「내구성」과 「리워크성」이 모두 우수한 본 발명의 점착제 조성물로 이루어지는 막(점착제층)을 적층하여 이루어지는 것이다.That is, a film made of the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention having both "durability" and "reworkability" on one side or both sides of an optical functional film on which no pressure-sensitive adhesive layer is formed (hereinafter referred to as "raw material film" A pressure-sensitive adhesive layer).

이 때문에, 본 발명의 점착층 부착 필름은 고온하나 고온고습하에서도, 액정 셀을 구성하는 유리 기판 등으로부터 벗겨지지 않고, 점착제층에 발포가 생기지 않는 특성(내구성)과, 장기간 시간이 경과해도 용이하게 박리할 수 있고, 또한 박리 후에 있어서 기판 등에 잔류물이 생기지 않는 특성(리워크성)을 함께 갖게 된다.Therefore, the pressure-sensitive adhesive layer-bearing film of the present invention is excellent in properties (durability) that the pressure-sensitive adhesive layer does not peel from the glass substrate or the like constituting the liquid crystal cell even at high temperature but high temperature and high humidity, (Reworkability) that does not cause residues on the substrate or the like even after peeling off.

상기 원재료 필름의 종류로서는 특별히 한정은 없지만, 예를 들면, 필름 도광판, 반사방지 필름, 도전성 필름, 시야각 확대 필름, 위상차 필름, 편광판, 및 이것들을 조합한 필름 등을 들 수 있다.The kind of the raw material film is not particularly limited, and examples thereof include a film light guide plate, an antireflection film, a conductive film, a viewing angle expansion film, a retardation film, a polarizing plate, and a film obtained by combining them.

또한 본 발명의 점착제 조성물로 이루어지는 막의 원재료 필름에 대한 밀착성을 향상시키기 위하여, 원재료 필름의 표면에는, 코로나 처리 등의 표면 처리를 시행해도 된다.In order to improve the adhesion of the film made of the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention to the raw material film, the surface of the raw material film may be subjected to surface treatment such as corona treatment.

원재료 필름의 두께는 특별히 제한은 없고, 용도나 목적에 따라 적당한 두께로 하면 되지만, 예를 들면, 5∼300㎛ 정도로 할 수 있다.The thickness of the raw material film is not particularly limited and may be set to a suitable thickness depending on the application or purpose, but may be, for example, about 5 to 300 m.

본 발명의 점착층 부착 필름은 통상 사용되고 있는 도포 장치, 예를 들면, 롤 도포 장치 등을 사용하여, 상기 원재료 필름의 편면 또는 양면에, 본 발명의 점착제 조성물을 도공하고, 도공층을 건조함으로써 막(점착제층)을 형성하여 얻어진다. 또한, 필요에 따라, 도공한 점착제층을 가열 가교 또는 자외선 등의 광에 의해 경화시켜 경화막으로 해도 된다.The adhesive layer-adhering film of the present invention can be produced by applying the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention to one side or both sides of the raw material film using a commonly used coating device, such as a roll coating device, (Pressure-sensitive adhesive layer). If necessary, the applied pressure-sensitive adhesive layer may be cured by heat crosslinking or light such as ultraviolet rays to form a cured film.

또한 본 발명의 점착층 부착 필름은, 우선, 실리콘 수지 등의 박리제를 표면에 코팅한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름) 등의 보호 필름에, 본 발명의 점착제 조성물을 도공하고, 이것을 건조하여 점착제층을 형성한 후에, 점착제층 위에 원재료 필름을 첩합하여 얻을 수도 있다.The pressure-sensitive adhesive layer-bearing film of the present invention is obtained by first coating a pressure-sensitive adhesive composition of the present invention on a protective film such as a polyethylene terephthalate film (PET film) coated with a releasing agent such as a silicone resin, And then, a raw material film is laminated on the pressure-sensitive adhesive layer.

상기의 어느 경우도, 점착제 조성물의 도포량은 건조 후의 점착제층(막)의 두께가 10∼50㎛가 되는 정도인 것이 바람직하다. 상기 점착제층의 두께를 상기 범위 내로 함으로써, 광학 기능성 필름으로서 적합한, 보다 내구성과 리워크성의 밸런스가 잡힌 점착층 부착 필름이 된다.In any of the above cases, the coating amount of the pressure-sensitive adhesive composition is preferably such that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (film) after drying becomes 10 to 50 占 퐉. By setting the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer within the above-mentioned range, a pressure-sensitive adhesive layer-attached film which is suitable as an optically functional film and has a balance of durability and reworkability can be obtained.

이상과 같이 하여 제작된 본 발명의 점착층 부착 필름은 통상 사용되고 있는 수단으로, 액정 표시 장치 등의 액정 셀의 유리 기판 위에 첩착할 수 있다.The adhesive layer-adhering film of the present invention produced in the above-described manner can be adhered onto a glass substrate of a liquid crystal cell such as a liquid crystal display device by a commonly used means.

또한 본 발명의 점착층 부착 필름은 유리 기판 위에 첩착된 광학 기능성 필름 위에 또한 적층하여 첩착할 수도 있다.The adhesive layer-adhering film of the present invention may also be laminated and adhered onto an optical functional film adhered on a glass substrate.

(실시예)(Example)

이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.

또한, 실시예에서 사용한 장치는 이하와 같다.The apparatuses used in the examples are as follows.

적외 분광법(FTIR): Thermo sientific제 NICOLET6700Infrared Spectroscopy (FTIR): Thermo sientific NICOLET6700

29Si-NMR: Bruker제 AVANCE400M 29 Si-NMR: Bruker's AVANCE400M

GPC: 토소제 HLC-8220 GPCGPC: Topical agent HLC-8220 GPC

[1] 매트릭스 수지의 조제[1] preparation of matrix resin

[합성예 1-1] 공중합체 용액-1의 조제 [Synthesis Example 1-1] Preparation of copolymer solution-1

교반기, 환류 냉각기, 적하 깔때기 및 온도계를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, 질소 가스를 도입하고, 장치 내의 공기를 질소 가스로 치환했다. 다음에 플라스크 내에, n-뷰틸아크릴레이트(BA) 70.0g, 메틸아크릴레이트(MA) 30.0g, 아크릴산(AA) 0.3g, 2-하이드록시에틸아크릴레이트(2HEA) 1.7g, 아조비스아이소뷰티로나이트릴 0.1g, 아세트산 에틸 100g을 장입하고, 교반하면서 70℃에서 10시간 반응시켜 아크릴계 공중합체 용액-1을 얻었다. GPC에 의한 공중합체의 중량평균 분자량은 1,500,000이었다.Nitrogen gas was introduced into a 1 L separable flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, and air in the apparatus was replaced with nitrogen gas. Then, 70.0 g of n-butyl acrylate (BA), 30.0 g of methyl acrylate (MA), 0.3 g of acrylic acid (AA), 1.7 g of 2-hydroxyethyl acrylate (2HEA) 0.1 g of nitrile and 100 g of ethyl acetate were charged and reacted at 70 DEG C for 10 hours while stirring to obtain an acrylic copolymer solution-1. The weight average molecular weight of the copolymer by GPC was 1,500,000.

[합성예 1-2] 공중합체 용액-2의 조제 [Synthesis Example 1-2] Preparation of copolymer solution-2

아크릴산(AA)을 사용하지 않고, 2-하이드록시에틸아크릴레이트(2HEA)를 2.0g 사용하고, 또한, 아크릴산(AA)을 사용하지 않은 이외는 합성예 1과 동일하게 하여 공중합체 용액-2를 얻었다. GPC에 의한 공중합체의 중량평균 분자량은 1,500,000이었다.Copolymer solution-2 was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that acrylic acid (AA) was not used, 2.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate (2HEA) was used and acrylic acid (AA) . The weight average molecular weight of the copolymer by GPC was 1,500,000.

[2] 오가노실록세인의 합성[2] Synthesis of organosiloxane

[합성예 2-1][Synthesis Example 2-1]

교반기, 온도계, 및 딤로스 냉각기 냉각관을 구비한 1리터의 3구 플라스크에, 하기 식 [18]에 나타내어지는 오가노하이드로젠실록세인 100g(0.192mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 56.7g(0.383mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.100 g (0.192 mol) of the organohydrogensiloxane shown in the following formula [18] and 114 g of toluene were charged into a 1-liter three-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a Dimroth condenser cooling tube, Siloxane coordination 1.00 g of a toluene solution of Pt was added with stirring. Then, the temperature was raised to 80 占 폚, and 56.7 g (0.383 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, followed by aging for 2 hours.

Figure pat00024
Figure pat00024

여기에서, 상기 반응에 사용한 바이닐트라이메톡시실레인의 반응율에 대하여, 다음과 같이 하여 측정을 행했다.Here, the reaction rate of the vinyltrimethoxysilane used in the above reaction was measured in the following manner.

우선, 다음 방법에 의해, 반응 전후에 있어서의 샘플 1g 중의 ≡SiH 함유량을 각각 측정했다.First, the ≡SiH content in 1 g of the sample before and after the reaction was measured by the following method.

반응 전후의 샘플 1g에 각각 부탄올 10g을 가하고, 또한, 교반하면서, 20질량% NaOH 수용액을 20g 가했다. 이때에 발생하는 수소 가스(≡SiH+H2O→≡SiOH+H2↑)의 양으로부터 ≡SiH의 함유량을 각각 산출했다.10 g of butanol was added to 1 g of the sample before and after the reaction, and 20 g of a 20 mass% NaOH aqueous solution was added while stirring. The content of ≡SiH was calculated from the amount of hydrogen gas (≡SiH + H 2 O → ≡SiOH + H 2 ↑) generated at this time.

다음에 하기 식에 의해, 샘플 1g 중에 있어서, 실제로 반응한 바이닐트라이메톡시실레인의 양을 산출했다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.Next, the amount of vinyltrimethoxysilane actually reacted in 1 g of the sample was calculated by the following equation. The results are shown in Table 1.

반응량(mol)=[반응 전의 ≡SiH 함유량(mol)]―[반응 후의 ≡SiH 함유량(mol)]Reaction amount (mol) = [? SiH content (mol) before reaction] - [? SiH content (mol)

Figure pat00025
Figure pat00025

반응 전의 샘플 1g 중에는, 원료로서 장입한 바이닐트라이메톡시실레인이 1.41×10-3mol 존재한다. 앞에 구한 반응량과, 원료로서 장입한 양으로부터, 하기와 같이 하여, 바이닐트라이메톡시실레인의 반응율을 계산하면 99.3%가 된다.In 1 g of the sample before the reaction, 1.41 × 10 -3 mol of vinyltrimethoxysilane charged as a raw material was present. From the amount of the reaction previously obtained and the amount charged as the raw material, the reaction rate of vinyltrimethoxysilane is calculated to be 99.3% as described below.

[반응율=1.40×10-3(mol)/1.41×10-3(mol)×100=99.3(%)][Response rate = 1.40 × 10 -3 (mol) /1.41×10 -3 (mol) × 100 = 99.3 (%)]

이상으로부터, 하이드로실릴화 반응에 의해, 원료로서 장입한 바이닐트라이메톡시실레인의 99% 이상이 메틸하이드로젠실록세인과 반응한 것이 확인되었다.From the above, it was confirmed that at least 99% of vinyltrimethoxysilane charged as a raw material was reacted with methylhydrogensiloxane by the hydrosilylation reaction.

다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에 알릴 무수 석신산을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에 얻어진 반응액에, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 온도를 110℃까지 승온했다. 다음에 알릴 무수 석신산 120g(0.857mol)을 적하 첨가한 후, 115℃에서 10시간의 숙성을 행했다.Next, an operation was performed to react allylhydrosuccinic acid with the remaining ≡Si-H groups contained in the methylhydrogensiloxane. 1.00 g of a toluene solution (Pt concentration: 0.5 mass%) of Pt in a vinylsiloxane coordination state was added to the reaction solution obtained above with stirring, and the temperature was raised to 110 캜. Subsequently, 120 g (0.857 mol) of allyl-succinic anhydride was added dropwise, followed by aging at 115 ° C for 10 hours.

여기에서, 알릴 무수 석신산의 반응율을 측정했다. 우선, 상기와 동일한 방법에 의해, 반응 전후에 있어서의 샘플 1g 중의 ≡SiH 함유량을 측정하고, 실제로 반응한 알릴 무수 석신산의 양을 산출했다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.Here, the reaction rate of allylhydrous succinic acid was measured. First, the ≡SiH content in 1 g of the sample before and after the reaction was measured by the same method as above, and the amount of allylhydrous succinic acid actually reacted was calculated. The results are shown in Table 2.

Figure pat00026
Figure pat00026

반응 종료 후의 수소 가스 발생량은 거의 0ml에 가까운 값이었다. 이것으로부터, 메틸하이드로젠실록세인 중에 잔류하고 있던 ≡SiH는 하이드로실릴화 반응에 의해, 거의 모두 알릴 무수 석신산과 반응했다고 생각된다.The amount of hydrogen gas generated after the completion of the reaction was close to 0 ml. From this, it is considered that the ≡SiH remaining in the methylhydrogensiloxane reacted with the allyl anhydridesuccinic acid by virtue of the hydrosilylation reaction.

반응 전의 샘플 1g 중에는, 원료로서 장입한 알릴 무수 석신산이 2.17×10-3mol 존재한다. 앞에 구한 반응량과, 원료로서 장입한 양으로부터, 하기와 같이 하여 알릴 무수 석신산의 반응율을 계산하면, 87.6%가 된다.In 1 g of the sample before the reaction, 2.17 x 10 &lt; -3 &gt; mol of allylhydrous succinic acid charged as a raw material was present. From the amount of the reaction previously obtained and the amount charged as the raw material, the reaction rate of allylhydrous succinic acid is calculated as described below to be 87.6%.

[1.90×10-3(mol)/2.17×10-3(mol)×100=87.6(%)] [1.90 × 10 -3 (mol) /2.17×10 -3 (mol) × 100 = 87.6 (%)]

원료로서 장입한 알릴 무수 석신산의 약 88%가 메틸하이드로젠실록세인과 반응하고, 나머지 약 12%가 잉여분으로서 잔류했다.About 88% of the allyl anhydride succinic acid charged as the raw material reacted with methylhydrogensiloxane, and the remaining about 12% remained as surplus.

마지막으로, 잔류한 잉여의 알릴 무수 석신산을 제거하기 위한 조작을 행했다. 딤로스 냉각기 냉각관을 배기 가스관으로 바꾸어 연결하고, 계 내의 압력을 10mmHg까지 감압한 후, 질소 가스 버블링하, 150℃에서 20시간 가열을 행했다. 감압 가열을 종료 후, 온도를 실온까지 냉각하고, 압력을 상압으로 복압한 후, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하여, 246g의 생성물-1을 얻었다.Finally, an operation was performed to remove residual surplus allyl anhydridesic acid. The dimox cooler cooling tube was connected to an exhaust gas pipe, and the pressure in the system was reduced to 10 mmHg, followed by heating at 150 DEG C for 20 hours under nitrogen gas bubbling. After completion of the reduced-pressure heating, the temperature was cooled to room temperature, the pressure was returned to normal pressure, and the obtained liquid was filtrated and purified to obtain 246 g of the product-1.

여기에서, 생성물-1에 관하여, THF 용매하에서의 GPC 측정을 행했다. 그 결과, 유지시간 21∼32분의 위치에 브로드한 생성물 피크를 확인했다. 유지시간 36∼37분의 부근에 원료 알릴 무수 석신산의 피크가 존재하지 않는 점에서, 알릴 무수 석신산의 잉여분은 최후의 감압 가열에서 거의 완전히 제거되었다고 생각된다.Here, regarding the product-1, GPC measurement was carried out in a THF solvent. As a result, a broad peak of the product was observed at a holding time of 21 to 32 minutes. It is considered that the excess of allylhydrosic succinic acid was almost completely removed by the last decompression heating in that the peak of allylphthalic anhydride was not present in the vicinity of the retention time of 36 to 37 minutes.

다음에 생성물-1에 관하여, 적외 분광법(FTIR)에 의해, 산 무수물기의 귀속을 행했다. 그 결과, 1863cm-1, 1785cm-1에 무수 석신산기의 카본일 신축 진동에 의한 흡수가 관측되었다. 또한, 1735cm-1에, 무수 석신산기가 개환하여 생기는 카복시기의 카본일 신축 진동에 의한 흡수는 관측되지 않았다. 생성물-1은 완전 비수계에서 제조를 행하기 때문에, 제조 단계에 있어서, 활성 수소 함유 화합물(예: 물이나 알코올 등)이 혼입되지 않아, 무수 석신산기의 개환이 충분히 억제되었다.Next, regarding the product-1, attachment of an acid anhydride group was carried out by infrared spectroscopy (FTIR). As a result, absorption at 1863 cm -1 and 1785 cm -1 was observed by the stretching vibration of the carbon monoxide anhydride group. Absorption by carboxy stretching vibration of the carboxy group resulting from the ring opening of the anhydride group was not observed at 1735 cm -1 . Since the production of product-1 is carried out completely in the non-aqueous system, the active hydrogen-containing compound (such as water or alcohol) is not incorporated in the production step, and the conversion of the anhydride group is sufficiently inhibited.

다음에 생성물-1의 구조 해석을 행하기 위해, 29Si-NMR 측정을 실시했다. 그 결과, 우선, 7.2ppm 부근에, 하기에 나타내는 구조의 존재를 시사하는 1개의 피크가 확인되었다.Next, 29 Si-NMR measurement was carried out to analyze the structure-1 structure. As a result, at first about 7.2 ppm, one peak indicating the existence of the structure shown below was confirmed.

Figure pat00027
Figure pat00027

또한 -22ppm 부근에, 하기에 나타내는 구조의 존재를 시사하는 1개의 피크가 확인되었다.In addition, near the -22 ppm, one peak indicating the presence of the structure shown below was confirmed.

Figure pat00028
Figure pat00028

식 중, R은 하기의 어느 하나의 기를 나타낸다.In the formulas, R represents any one of the following groups.

Figure pat00029
Figure pat00029

또한 -42ppm 부근에, 하기에 나타내는 기의 존재를 시사하는 1개의 피크가 확인되었다.In addition, near the -42 ppm, one peak indicating the presence of the group shown below was confirmed.

Figure pat00030
Figure pat00030

상기의 결과로부터, 생성물-1은 직쇄상 실록세인의 측쇄에, 트라이메톡시실릴기를 함유하는 1가 탄화수소기, 및 무수 석신산기를 함유하는 1가 탄화수소기가 결합한 구조체인 것으로 추정된다.From the above results, it is presumed that the product-1 is a structure in which a monovalent hydrocarbon group containing a trimethoxysilyl group and a monovalent hydrocarbon group containing a succinic anhydride group are bonded to the side chain of the linear siloxane.

여기에서, 메틸하이드로젠실록세인, 바이닐트라이메톡시실레인, 알릴 무수 석신산의 각 원료 장입량, 및 상기 반응율의 측정 결과로부터, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응하여 도입된 트라이메톡시실릴기, 무수 석신산기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 산 무수물기 당량을 표 3에 나타낸다.From the measurement results of the amounts of each raw material of methylhydrogensiloxane, vinyltrimethoxysilane, and allylhydrous succinic acid, and the reaction rate, it was confirmed from the measurement results that the amount of trimethoxysilyl introduced into 1 mole of methylhydrogensiloxane (Average value) of the anhydride groups and the anhydride groups were calculated. Table 3 shows the amount of each functional group introduced and the acid anhydride group equivalent.

[합성예 2-2][Synthesis Example 2-2]

합성예 2-1과 동일하게 하여, 하기 식 [19]로 표시되는 메틸하이드로젠실록세인 100g(0.0371mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 55.0g(0.371mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.100 g (0.0371 mol) of methylhydrogensiloxane represented by the following formula [19] and 114 g of toluene were charged in the same manner as in Synthesis Example 2-1, and a toluene solution of vinyl siloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5 Mass%) was added with stirring. Then, the temperature was raised to 80 DEG C, and 55.0 g (0.371 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, followed by aging for 2 hours.

Figure pat00031
Figure pat00031

다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴 무수 석신산을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에서 얻어진 반응액에, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 온도를 110℃까지 승온했다. 다음에 알릴 무수 석신산 62.3g(0.445mol)을 적하 첨가한 후, 115℃에서 10시간의 숙성을 행했다.Then, the remaining ≡Si-H group contained in the methylhydrogensiloxane was subjected to an operation for reacting allylhydrosuccinic acid. To the reaction solution obtained above, 1.00 g of a toluene solution (Pt concentration: 0.5 mass%) of Pt in a vinyl siloxane coordination state was added with stirring, and the temperature was raised to 110 캜. Subsequently, 62.3 g (0.445 mol) of allyl-succinic anhydride was added dropwise and aged at 115 ° C for 10 hours.

최후에, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 잔류한 잉여의 알릴 무수 석신산을 제거하기 위한 조작을 행하고, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하고, 178g의 생성물-2를 얻었다.Finally, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, an operation for removing residual surplus allylphthalic anhydrosuccinic acid was carried out, and the resulting liquid was subjected to filtration purification to obtain 178 g of Product-2.

여기에서, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응 도입된 트라이메톡시실릴기, 무수 석신산기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 산 무수물기 당량을 표 3에 나타낸다.Here, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, the number (average value) of the reaction-introduced trimethoxysilyl groups and anhydroscopic groups was calculated for 1 mol of methylhydrogensiloxane. Table 3 shows the amount of each functional group introduced and the acid anhydride group equivalent.

[합성예 2-3][Synthesis Example 2-3]

합성예 2-1과 동일하게 하여, 상기 식 [19]로 표시되는 메틸하이드로젠실록세인 100g(0.0371mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 55.0g(0.371mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.100 g (0.0371 mol) of methylhydrogensiloxane represented by the above formula [19] and 114 g of toluene were charged in the same manner as in Synthesis Example 2-1, and a toluene solution of vinylsiloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5 Mass%) was added with stirring. Then, the temperature was raised to 80 DEG C, and 55.0 g (0.371 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, followed by aging for 2 hours.

계속해서, 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 3-(퍼플루오로헥실)-1-프로펜을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에서 얻어진 반응액의 온도를 100℃까지 승온하고, 3-(퍼플루오로헥실)-1-프로펜 26.7g(0.0742mol)을 적하 첨가한 후, 5시간의 숙성을 더 행했다.Then, the remaining ≡Si-H group contained in the methylhydrogensiloxane was subjected to an operation for reacting 3- (perfluorohexyl) -1-propene. The temperature of the reaction solution obtained above was raised to 100 占 폚, and 26.7 g (0.0742 mol) of 3- (perfluorohexyl) -1-propene was added dropwise, followed by further aging for 5 hours.

다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴 무수 석신산을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에서 얻어진 반응액에, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 온도를 110℃까지 승온했다. 다음에 알릴 무수 석신산 62.3g(0.445mol)을 적하 첨가한 후, 115℃에서 10시간의 숙성을 행했다.Then, the remaining ≡Si-H group contained in the methylhydrogensiloxane was subjected to an operation for reacting allylhydrosuccinic acid. To the reaction solution obtained above, 1.00 g of a toluene solution (Pt concentration: 0.5 mass%) of Pt in a vinyl siloxane coordination state was added with stirring, and the temperature was raised to 110 캜. Subsequently, 62.3 g (0.445 mol) of allyl-succinic anhydride was added dropwise and aged at 115 ° C for 10 hours.

최후에, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 잔류한 잉여의 알릴 무수 석신산을 제거하기 위한 조작을 행하고, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하고, 199g의 생성물-3을 얻었다.Finally, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, an operation for removing residual surplus allylphthalic anhydrosaric acid was carried out, and the obtained liquid was subjected to filtration purification to obtain 199 g of Product-3.

여기에서, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응 도입된 트라이메톡시실릴기, 퍼플루오로헥실기, 무수 석신산기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 산 무수물기 당량을 표 3에 나타낸다.Here, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, the number of reaction-introduced trimethoxysilyl groups, perfluorohexyl groups and anhydrous succinic acid groups (average value) was calculated for 1 mol of methylhydrogensiloxane. Table 3 shows the amount of each functional group introduced and the acid anhydride group equivalent.

[합성예 2-4][Synthesis Example 2-4]

합성예 2-1과 동일하게 하여, 상기 식 [18]에 나타내어지는 메틸하이드로젠실록세인 100g(0.192mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 56.9g(0.384mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.100 g (0.192 mol) of methylhydrogensiloxane shown in the above formula [18] and 114 g of toluene were charged in the same manner as in Synthesis Example 2-1, and then a toluene solution of vinylsiloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5 Mass%) was added with stirring. Then, the temperature was raised to 80 ° C, 56.9 g (0.384 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, and the mixture was aged for 2 hours.

계속해서, 메틸하이드로젠실록세인 중에 잔류하는 ≡Si-H기의 일부에, 알릴폴리에터를 반응시키기 위한 조작을 행했다. 반응액을 80℃로 유지한 상태에서, 교반하, CH2=CH-CH2-O(CH2CH2O)8CH3로 표시되는 알릴폴리에터 81.4g(0.192mol)을 적하 첨가한 후, 3시간의 숙성을 행했다.Subsequently, an operation for reacting the allyl polyether with a part of the? Si-H groups remaining in the methylhydrogensiloxane was carried out. The reaction solution was maintained in a state in 80 ℃, stirring, CH 2 = CH-CH 2 -O (CH 2 CH 2 O) 8 CH 3 by dropwise addition of emitter 81.4g (0.192mol) in allyl poly represented by And then aged for 3 hours.

다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴 무수 석신산을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 반응액의 온도를 110℃까지 승온하고, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 또한 알릴 무수 석신산 121g(0.864mol)을 적하 첨가한 후, 115℃에서 10시간의 숙성을 행했다.Then, the remaining ≡Si-H group contained in the methylhydrogensiloxane was subjected to an operation for reacting allylhydrosuccinic acid. The temperature of the reaction solution was raised to 110 占 폚 and 1.00 g of a toluene solution of Pt siloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5 mass%) was added with stirring, and 121 g (0.864 mol) of allylhydrous succinic acid was added dropwise And then aged at 115 ° C for 10 hours.

최후에, 잔류한 잉여의 알릴 무수 석신산을 제거하기 위하여, 합성예 2-1과 동일하게 하고, 10mmHg까지 감압한 후, 질소 가스 버블링하, 120℃에서 20시간 가열을 행했다. 감압 가열을 종료 후, 온도를 실온까지 냉각하고, 압력을 상압으로 복압한 후, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하고, 271g의 생성물-4를 얻었다.Finally, in order to remove residual surplus allylhydrosic succinic acid, the pressure was reduced to 10 mmHg in the same manner as in Synthesis Example 2-1, followed by heating at 120 캜 for 20 hours under nitrogen gas bubbling. After completion of the reduced-pressure heating, the temperature was cooled to room temperature, the pressure was returned to normal pressure, and the obtained liquid was filtrated and purified to obtain 271 g of product-4.

여기에서, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응 도입된 트라이메톡시실릴기, 폴리에터기, 무수 석신산기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 산 무수물기 당량을 표 3에 나타낸다.Here, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, the number (average value) of the reaction-introduced trimethoxysilyl group, polyether group and anhydride group was calculated for 1 mol of methylhydrogensiloxane. Table 3 shows the amount of each functional group introduced and the acid anhydride group equivalent.

[합성예 2-5][Synthesis Example 2-5]

합성예 2-1과 동일하게 하여, 상기 식 [19]에 나타내어지는 메틸하이드로젠실록세인 100g(0.0371mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 16.5g(0.111mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.100 g (0.0371 mol) of methylhydrogensiloxane shown in the above formula [19] and 114 g of toluene were charged in the same manner as in Synthesis Example 2-1, and a toluene solution of vinylsiloxane coordination Pt (Pt concentration: 0.5 Mass%) was added with stirring. Then, the temperature was raised to 80 占 폚, and 16.5 g (0.111 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, followed by aging for 2 hours.

계속해서, 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴폴리에터를 반응시키기 위한 조작을 행했다. 반응액을 80℃로 유지한 상태에서, 교반하, CH2=CH-CH2-O(CH2CH2CH2O)12C4H9로 표시되는 알릴폴리에터를 271g(0.335mol) 적하 첨가한 후, 3시간의 숙성을 행했다.Subsequently, the remaining ≡Si-H groups contained in the methylhydrogensiloxane were subjected to an operation for reacting the allyl polyether. 271 g (0.335 mol) of an allyl polyether represented by CH 2 = CH-CH 2 -O (CH 2 CH 2 CH 2 O) 12 C 4 H 9 was added thereto while stirring at 80 ° C., After the dropwise addition, aging was carried out for 3 hours.

다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴 무수 석신산을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에 얻어진 반응액에, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 온도를 110℃까지 승온했다. 다음에 알릴 무수 석신산 62.3g(0.445mol)을 적하 첨가한 후, 115℃에서 10시간의 숙성을 행했다.Then, the remaining ≡Si-H group contained in the methylhydrogensiloxane was subjected to an operation for reacting allylhydrosuccinic acid. 1.00 g of a toluene solution (Pt concentration: 0.5 mass%) of Pt in a vinylsiloxane coordination state was added to the reaction solution obtained above with stirring, and the temperature was raised to 110 캜. Subsequently, 62.3 g (0.445 mol) of allyl-succinic anhydride was added dropwise and aged at 115 ° C for 10 hours.

최후에, 합성예 2-4와 동일하게 하여, 잔류한 잉여의 알릴 무수 석신산을 제거하기 위한 조작을 행하고, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하고, 367g의 생성물-5를 얻었다.Finally, in the same manner as in Synthesis Example 2-4, an operation for removing residual surplus allylphthalic anhydrosuccinic acid was carried out, and the resulting liquid was filtrated and purified to obtain 367 g of the product-5.

여기에서, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응 도입된 트라이메톡시실릴기, 폴리에터기, 무수 석신산기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 산 무수물기 당량을 표 3에 나타낸다.Here, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, the number (average value) of the reaction-introduced trimethoxysilyl group, polyether group and anhydride group was calculated for 1 mol of methylhydrogensiloxane. Table 3 shows the amount of each functional group introduced and the acid anhydride group equivalent.

[합성예 2-6][Synthesis Example 2-6]

합성예 2-1과 동일하게 하여, 상기 식 [19]로 표시되는 메틸하이드로젠실록세인 100g(0.0371mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 16.5g(0.111mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.100 g (0.0371 mol) of methylhydrogensiloxane represented by the above formula [19] and 114 g of toluene were charged in the same manner as in Synthesis Example 2-1, and a toluene solution of vinylsiloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5 Mass%) was added with stirring. Then, the temperature was raised to 80 占 폚, and 16.5 g (0.111 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, followed by aging for 2 hours.

계속해서, 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴폴리에터를 반응시키기 위한 조작을 행했다. 반응액을 80℃로 유지한 상태에서, 교반하, CH2=CH-CH2-O(CH2CH2CH2O)12C4H9로 표시되는 알릴폴리에터를 420g(0.519mol) 적하 첨가한 후, 3시간의 숙성을 행했다.Subsequently, the remaining ≡Si-H groups contained in the methylhydrogensiloxane were subjected to an operation for reacting the allyl polyether. (0.519 mol) of an allyl polyether represented by CH 2 = CH-CH 2 -O (CH 2 CH 2 CH 2 O) 12 C 4 H 9 under stirring while maintaining the reaction liquid at 80 ° C, After the dropwise addition, aging was carried out for 3 hours.

다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴 무수 석신산을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에 얻어진 반응액에, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 온도를 110℃까지 승온했다. 다음에 알릴 무수 석신산 23.4g(0.167mol)을 적하 첨가한 후, 115℃에서 10시간의 숙성을 행했다.Then, the remaining ≡Si-H group contained in the methylhydrogensiloxane was subjected to an operation for reacting allylhydrosuccinic acid. 1.00 g of a toluene solution (Pt concentration: 0.5 mass%) of Pt in a vinylsiloxane coordination state was added to the reaction solution obtained above with stirring, and the temperature was raised to 110 캜. Then, 23.4 g (0.167 mol) of allylhydrous succinic acid was added dropwise, followed by aging at 115 DEG C for 10 hours.

최후에, 합성예 2-4와 동일하게 하여, 잔류한 잉여의 알릴 무수 석신산을 제거하기 위한 조작을 행하고, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하고, 475g의 생성물-6을 얻었다.Finally, in the same manner as in Synthesis Example 2-4, an operation for removing residual surplus allylphthalic anhydrosuccinic acid was carried out, and the obtained liquid was filtrated and purified to obtain 475 g of the product-6.

여기에서, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응 도입된 트라이메톡시실릴기, 폴리에터기, 무수 석신산기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 산 무수물기 당량을 표 3에 나타낸다.Here, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, the number (average value) of the reaction-introduced trimethoxysilyl group, polyether group and anhydride group was calculated for 1 mol of methylhydrogensiloxane. Table 3 shows the amount of each functional group introduced and the acid anhydride group equivalent.

[합성예 2-7][Synthesis Example 2-7]

합성예 2-1과 동일하게 하여, 상기 식 [19]로 표시되는 메틸하이드로젠실록세인 100g(0.0371mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 55.0g(0.371mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.100 g (0.0371 mol) of methylhydrogensiloxane represented by the above formula [19] and 114 g of toluene were charged in the same manner as in Synthesis Example 2-1, and a toluene solution of vinylsiloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5 Mass%) was added with stirring. Then, the temperature was raised to 80 DEG C, and 55.0 g (0.371 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, followed by aging for 2 hours.

계속해서, 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴폴리에터를 반응시키기 위한 조작을 행했다. 반응액을 80℃로 유지한 상태에서, 교반하, CH2=CH-CH2-O(CH2CH2CH2O)12C4H9로 표시되는 알릴폴리에터를 60.1g(0.0742mol) 적하 첨가한 후, 3시간의 숙성을 행했다.Subsequently, the remaining ≡Si-H groups contained in the methylhydrogensiloxane were subjected to an operation for reacting the allyl polyether. While maintaining the reaction solution at 80 占 폚, 60.1 g (0.0742 mol) of an allyl polyether represented by CH 2 = CH-CH 2 -O (CH 2 CH 2 CH 2 O) 12 C 4 H 9 ), Followed by aging for 3 hours.

다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 3-(퍼플루오로헥실)-1-프로펜을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에서 얻어진 반응액에, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 온도를 100℃까지 승온했다. 다음에 3-(퍼플루오로헥실)-1-프로펜 26.7g(0.0741mol)을 적하 첨가한 후, 5시간의 숙성을 행했다.Then, the remaining ≡Si-H groups contained in the methylhydrogensiloxane were subjected to an operation for reacting 3- (perfluorohexyl) -1-propene. To the reaction solution obtained above, 1.00 g of a toluene solution of Pt siloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5 mass%) was added with stirring, and the temperature was raised to 100 캜. Then, 26.7 g (0.0741 mol) of 3- (perfluorohexyl) -1-propene was added dropwise and aged for 5 hours.

또한, 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴 무수 석신산을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에서 얻어진 반응액에, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 온도를 110℃까지 승온했다. 다음에 알릴 무수 석신산 46.8g(0.334mol)을 적하 첨가한 후, 115℃에서 10시간의 숙성을 행했다.Further, an operation for reacting allylhydrosuccinic acid with the remaining ≡Si-H groups contained in the methylhydrogensiloxane was carried out. To the reaction solution obtained above, 1.00 g of a toluene solution (Pt concentration: 0.5 mass%) of Pt in a vinyl siloxane coordination state was added with stirring, and the temperature was raised to 110 캜. Subsequently, 46.8 g (0.334 mol) of allylphthalic anhydride was added dropwise, followed by aging at 115 ° C for 10 hours.

최후에, 합성예 2-4와 동일하게 하여, 잔류한 잉여의 알릴 무수 석신산을 제거하기 위한 조작을 행하고, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하여, 230g의 생성물-7을 얻었다.Finally, in the same manner as in Synthesis Example 2-4, an operation for removing residual surplus allylphthalic anhydrosuccinic acid was carried out, and the obtained liquid was filtrated and purified to obtain 230 g of Product-7.

여기에서, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응 도입된 트라이메톡시실릴기, 폴리에터기, 퍼플루오로헥실기 및 무수 석신산기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 산 무수물기 당량을 표 3에 나타낸다.Here, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, the number (average value) of the reaction-introduced trimethoxysilyl group, polyether group, perfluorohexyl group, and anhydrous succinic acid groups, relative to 1 mol of methylhydrogensiloxane, Respectively. Table 3 shows the amount of each functional group introduced and the acid anhydride group equivalent.

Figure pat00032
Figure pat00032

[합성예 2-8][Synthesis Example 2-8]

교반기, 온도계 및 딤로스 냉각기 냉각관을 구비한 1리터의 3구 플라스크에, 상기 식 [19]로 표시되는 메틸하이드로젠실록세인 100g(0.0371mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 55.0g(0.371mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.100 g (0.0371 mol) of methylhydrogensiloxane represented by the above formula [19] and 114 g of toluene were charged into a 1-liter three-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a Dimroth condenser cooling tube, 1.00 g of a toluene solution of coordination Pt (Pt concentration: 0.5% by mass) was added with stirring. Then, the temperature was raised to 80 DEG C, and 55.0 g (0.371 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, followed by aging for 2 hours.

계속해서, 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴폴리에터를 반응시키기 위한 조작을 행했다. 반응액을 80℃로 유지한 상태에서, 교반하, CH2=CH-CH2-O(CH2CH2CH2O)12C4H9로 표시되는 알릴폴리에터를 60.1g(0.0742mol) 적하 첨가한 후, 3시간의 숙성을 행했다.Subsequently, the remaining ≡Si-H groups contained in the methylhydrogensiloxane were subjected to an operation for reacting the allyl polyether. 60.1 g (0.0742 mol) of an allyl polyether represented by CH 2 = CH-CH 2 -O (CH 2 CH 2 CH 2 O ) 12 C 4 H 9 was added thereto while stirring at 80 ° C., After the dropwise addition, aging was carried out for 3 hours.

다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴글라이시딜에터를 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에 얻어진 반응액에, 알릴글라이시딜에터 50.7g(0.445mol)을 적하 첨가한 후, 10시간의 숙성을 행했다.Next, the remaining ≡Si-H groups contained in the methylhydrogensiloxane were reacted with allyl glycidyl ether. To the reaction solution obtained above, 50.7 g (0.445 mol) of allyl glycidyl ether was added dropwise, followed by aging for 10 hours.

최후에, 잔류한 잉여의 알릴글라이시딜에터를 제거하기 위하여, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 10mmHg까지 감압한 후, 질소 가스 버블링하, 120℃에서 5시간 가열을 행했다. 감압 가열을 종료 후, 온도를 실온까지 냉각하고, 압력을 상압으로 복압한 후, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하고, 219g의 생성물-8을 얻었다.Finally, to remove residual surplus allyl glycidyl ether, the pressure was reduced to 10 mmHg in the same manner as in Synthesis Example 2-1, followed by heating at 120 캜 for 5 hours under nitrogen gas bubbling. After completion of the reduced-pressure heating, the temperature was cooled to room temperature, the pressure was returned to normal pressure, and the obtained liquid was filtrated and purified to obtain 219 g of product-8.

여기에서, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응 도입된 트라이메톡시실릴기, 폴리에터기, 에폭시기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 에폭시 당량을 표 4에 나타낸다.Here, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, the number of reaction-introduced trimethoxysilyl groups, polyether groups and epoxy groups (average value) was calculated for 1 mol of methylhydrogensiloxane. Table 4 shows the amount of each functional group introduced and the epoxy equivalent.

Figure pat00033
Figure pat00033

[2] 점착제 조성물의 조제[2] Preparation of pressure-sensitive adhesive composition

[실시예 및 비교예][Examples and Comparative Examples]

합성예 1-1 및 1-2에서 얻어진 (A) 아크릴산 에스터를 포함하는 공중합체 용액의 고형분 100질량부에 대하여, 하기 표 5, 6에 기재된 각 성분을 배합하고, 실시예 1-1∼1-7, 2-1∼2-7, 및 비교예 1-1∼1-4, 2-1∼2-4의 각 점착제 조성물을 조제했다.Each of the components described in Tables 5 and 6 was blended with 100 parts by mass of the solid content of the copolymer solution containing the acrylic acid ester (A) obtained in Synthesis Examples 1-1 and 1-2, -7, 2-1 to 2-7, and Comparative Examples 1-1 to 1-4 and 2-1 to 2-4 were prepared.

Figure pat00034
Figure pat00034

TDI: 트라이메틸올프로페인톨릴렌다이아이소사이아네이트 부가물TDI: Trimethylol propane tallylene diisocyanate adduct

Figure pat00035
Figure pat00035

TDI: 트라이메틸올프로페인톨릴렌다이아이소사이아네이트 부가물TDI: Trimethylol propane tallylene diisocyanate adduct

X-24-1056: 신에츠카가쿠고교(주)제, 에폭시계 알콕시 올리고머X-24-1056: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., epoxy-based alkoxy oligomer

X-41-1810: 신에츠카가쿠고교(주)제, 메틸머캡토계 알콕시 올리고머X-41-1810: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., methyl mercapto-based alkoxy oligomer

X-12-641: 신에츠카가쿠고교(주)제, 폴리에터 변성 실레인X-12-641: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., polyether-modified silane

상기 각 실시예 및 비교예에서 얻어진 점착제 조성물을 PET 필름(이형성 기재)에 코팅하고 건조함으로써, 25㎛의 균일한 점착제층을 형성했다. 이 점착제층을 형성한 면에, 두께 185㎛의 아이오딘계 편광판을 첩합하고, 25℃, 50% RH의 분위기하에서 7일간 양생한 후, 얻어진 편광판을 적절한 크기로 절단하고, 이하에 나타내는 방법에 의해, 리워크성 및 내구성의 평가를 행했다. 결과를 표 7, 8에 나타낸다.The pressure-sensitive adhesive compositions obtained in the above Examples and Comparative Examples were coated on a PET film (releasable substrate) and dried to form a uniform pressure-sensitive adhesive layer of 25 탆. An iodine polarizing plate having a thickness of 185 mu m was laminated on the surface on which the pressure-sensitive adhesive layer was formed and cured for 7 days under an atmosphere of 25 DEG C and 50% RH. The obtained polarizing plate was cut into an appropriate size, , The reworkability and durability were evaluated. The results are shown in Tables 7 and 8.

(1) 리워크성(1) Re-workability

점착제가 코팅된 편광판을 90mm×170mm의 크기로 재단하고, PET 필름을 박리하고, 유리 기판에 첩합한 후, 50℃, 0.5MPa로 20분간 유지하여 접착시키고, 시험용의 시료를 제작했다. 25℃, 60% RH에서 1시간 방치 후, 또한 70℃에서 20시간 에이징하고, 25℃까지 방냉했다.The polarizer coated with the pressure-sensitive adhesive was cut into a size of 90 mm x 170 mm, and the PET film was peeled off and attached to the glass substrate, and then held at 50 DEG C and 0.5 MPa for 20 minutes to adhere to each other to produce a test sample. Left at 25 ° C and 60% RH for 1 hour, aged at 70 ° C for 20 hours, and allowed to cool to 25 ° C.

다음에 편광판을 유리로부터 박리하여, 편광판이나 유리판을 파괴하지 않고, 또한 점착재를 유리 표면에 남기지 않고 박리할 수 있는지 아닌지를 확인하고, 하기 기준에 기초하여 평가했다. 결과를 표 7, 8에 나타낸다.Next, the polarizing plate was peeled off from the glass, and it was confirmed whether or not the polarizing plate or the glass plate was not broken and the peeling could be performed without leaving the adhesive on the glass surface, and evaluation was made based on the following criteria. The results are shown in Tables 7 and 8.

◎: 용이하게 박리 가능(경박리)◎: Easily peelable (peel off)

○: 박리 가능(중박리)○: Peelable (heavy)

△: 박리는 약간 곤란, 점착제가 유리 표면에 잔존(중박리)?: Peeling was a little difficult, the adhesive remained on the glass surface (heavy)

×: 박리 불능, 유리 또는 편광판이 파손(중박리)X: Inability to peel off, breakage of glass or polarizing plate (heavy)

(2) 내구성(2) Durability

점착제가 코팅된 편광판을 90mm×170mm의 크기로 재단하고, PET 필름을 박리하고, 유리 기판에 첩합한 후, 50℃, 0.5MPa로 20분간 오토클레이브 처리를 행하고, 편광판을 유리에 밀착시켰다. 다음에 80℃(DRY)의 분위기하와, 60℃/90% RH의 분위기하에서, 각각 1000시간 방치한 후, 기포의 생성이나 박리의 유무를 확인하고, 하기 기준에 기초하여 평가했다. 결과를 표 7, 8에 나타낸다. 또한, 시험편의 상태를 평가하기 전에, 실온(23℃/60% RH)에서 24시간 정치했다.The polarizing plate coated with the pressure-sensitive adhesive was cut to a size of 90 mm x 170 mm, the PET film was peeled off, and the resultant was adhered to a glass substrate, followed by autoclaving at 50 DEG C and 0.5 MPa for 20 minutes to adhere the polarizing plate to the glass. Subsequently, each of the substrates was allowed to stand in an atmosphere of 80 DEG C (DRY) and 60 DEG C / 90% RH for 1000 hours, respectively. Then, the presence or absence of formation of bubbles was checked and evaluated based on the following criteria. The results are shown in Tables 7 and 8. Further, before evaluating the state of the test piece, it was allowed to stand at room temperature (23 DEG C / 60% RH) for 24 hours.

◎: 벗겨짐 등의 외관상의 변화가 전혀 없음.?: No apparent change such as peeling was observed.

○: 미소하지만 벗겨짐이 있지만, 실용상 문제 없음.○: Although there is a slight but peeling, there is no practical problem.

×: 현저한 벗겨짐이 있어, 실용상 문제 있음.X: There is significant peeling, there is a problem in practical use.

Figure pat00036
Figure pat00036

Figure pat00037
Figure pat00037

표 7, 8에 나타내어지는 바와 같이, 각 실시예의 점착제 조성물은 리워크성과 내구성이 모두 양호하여, 비교예의 점착제 조성물보다도 분명히 우수한 것이 확인되었다. 본 발명의 점착제 조성물은, 작용기로서 하이드록실기를 메인에 함유하는 OH형 아크릴 수지를 사용한 경우에도, 우수한 내구성을 나타내고, 또한 리워크성과의 양립이 가능하다.As shown in Tables 7 and 8, it was confirmed that the pressure-sensitive adhesive composition of each of the Examples was satisfactory in both reworkability and durability, and clearly superior to the pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example. INDUSTRIAL APPLICABILITY The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention exhibits excellent durability and compatibility with rework performance even when an OH type acrylic resin containing a hydroxyl group as a functional group is used.

Claims (10)

(메타)아크릴산 에스터 모노머를 포함하는 중합성 불포화 모노머의 공중합체와, 하기 식 [1a]로 표시되는, 분자 내에 가수분해성 실릴기 및 산 무수물기를 각각 적어도 1개 갖는 오가노실록세인 및 그 가수분해물의 적어도 일방을 포함하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
Figure pat00038

(식 중, X는 산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Y는 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Z는 가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, R1은, 서로 독립하여, 수소 원자, 또는 할로젠 원자로 치환되어도 되는 탄소 원자수 1∼20의 1가 탄화수소기를 나타내고, M1은, 서로 독립하여, 상기 X, Y, Z 및 R1로부터 선택되는 기를 나타내고, a, b, c 및 d는, 각각, 0≤a≤100, 0≤b≤100, 0≤c≤100, 0≤d≤100의 정수를 나타낸다. 단, a가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 X이고, c는 1≤c≤100의 정수이며, c가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Z이고, a는 1≤a≤100의 정수이다. a, b, c 및 d가 붙여진 괄호 내의 각 반복단위의 배열은 랜덤이어도 블록이어도 된다.)
(Meth) acrylic acid ester monomer and an organosiloxane having at least one hydrolyzable silyl group and an acid anhydride group in the molecule each represented by the following formula [1a] and a hydrolyzate thereof Of the pressure-sensitive adhesive composition.
Figure pat00038

(Wherein X represents a monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group, Y represents a monovalent hydrocarbon group having a polyether group, Z represents a monovalent hydrocarbon group having a hydrolyzable silyl group, R &lt; 1 &gt; A hydrogen atom, or a monovalent hydrocarbon group of 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, M 1 independently represents a group selected from X, Y, Z and R 1 , c and d each represent an integer of 0? a? 100, 0? b? 100, 0? c? 100, 0? d? 100, provided that when a is 0, at least one of M 1 is X C is an integer of 1? C? 100, and when c is 0, at least one of M 1 is Z and a is an integer of 1? A? 100. In parentheses a, b, c, The arrangement of each repeating unit may be random or block.
(메타)아크릴산 에스터 모노머를 포함하는 중합성 불포화 모노머의 공중합체와, 하기 식 [1b]로 표시되는, 분자 내에 가수분해성 실릴기, 산 무수물기 및 폴리에터기를 각각 적어도 1개 갖는 오가노실록세인 및 그 가수분해물의 적어도 일방을 포함하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
Figure pat00039

(식 중, X는 산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Y는 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Z는 가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, R1은, 서로 독립하여, 수소 원자, 또는 할로젠 원자로 치환되어도 되는 탄소 원자수 1∼20의 1가 탄화수소기를 나타내고, M1은, 서로 독립하여, 상기 X, Y, Z 및 R1로부터 선택되는 기를 나타내고, a, b, c, d는, 각각, 0≤a≤100, 0≤b≤100, 0≤c≤100, 0≤d≤100의 정수를 나타낸다. 단, a가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 X이고, b 및 c는, 각각, 1≤b≤100, 1≤c≤100의 정수이며, b가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Y이고, a 및 c는, 각각, 1≤a≤100, 1≤c≤100의 정수이며, c가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Z이고, a, b는, 각각, 1≤a≤100, 1≤b≤100의 정수이다. a, b, c 및 d가 붙여진 괄호 내의 각 반복단위의 배열은 랜덤이어도 블록이어도 된다.)
(Meth) acrylate monomer having at least one hydrolyzable silyl group, an acid anhydride group and a polyether group in the molecule represented by the following formula [1b], and a copolymer of a polymerizable unsaturated monomer containing a Wherein the pressure-sensitive adhesive composition comprises at least one of cine and hydrolyzate thereof.
Figure pat00039

(Wherein X represents a monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group, Y represents a monovalent hydrocarbon group having a polyether group, Z represents a monovalent hydrocarbon group having a hydrolyzable silyl group, R &lt; 1 &gt; A hydrogen atom, or a monovalent hydrocarbon group of 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, M 1 independently represents a group selected from X, Y, Z and R 1 , c and d each represent an integer of 0? a? 100, 0? b? 100, 0? c? 100 and 0? d? 100, provided that when a is 0, at least one of M 1 is X B and c are integers of 1? B? 100 and 1? C? 100, and when b is 0, at least one of M 1 is Y, and a and c are 1? A? 100, 1? C? 100, and when c is 0, at least one of M 1 is Z and a and b are integers of 1? A? 100 and 1? An array of each repeat unit in parentheses with b, c, and d May be a random block or a block.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 X가 하기 식 [2]로 표시되는 산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기이고, 상기 Y가 하기 식 [3]으로 표시되는 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기이며, 상기 Z가 하기 식 [5]로 표시되는 가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기인 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
Figure pat00040

(식 중, A는 탄소 원자수 2∼6의 알킬렌기를 나타낸다.)
Figure pat00041

(식 중, R2는 수소 원자, 탄소 원자수 1∼6의 1가 탄화수소기, 또는 하기 식 [4]로 표시되는 기를 나타내고, m은 2 이상의 정수를 나타내고, e 및 f는 서로 독립하여 0 이상의 정수를 나타내는데, e 및 f 중 적어도 1개는 1 이상의 정수이다.)
Figure pat00042

(식 중, R3은 탄소 원자수 1∼4의 1가 탄화수소기를 나타낸다.)
Figure pat00043

(식 중, R4는 탄소 원자수 1∼10의 알킬기를 나타내고, R5는 탄소 원자수 1∼10의 1가 탄화수소기 또는 아실기를 나타내고, n은 2 이상의 정수를 나타내고, g는 1∼3의 정수를 나타낸다.)
The polyimide resin composition according to claim 1 or 2, wherein X is a monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group represented by the following formula [2], and Y is a monovalent hydrocarbon having a polyether group represented by the following formula [3] Group, and Z is a monovalent hydrocarbon group having a hydrolyzable silyl group represented by the following formula [5].
Figure pat00040

(In the formula, A represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.)
Figure pat00041

(Wherein R 2 represents a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group of 1 to 6 carbon atoms, or a group represented by the following formula [4], m represents an integer of 2 or more, e and f independently represent 0 Wherein at least one of e and f is an integer of 1 or more.
Figure pat00042

(In the formula, R 3 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.)
Figure pat00043

(Wherein R 4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 5 represents a monovalent hydrocarbon group or an acyl group having 1 to 10 carbon atoms, n represents an integer of 2 or more, and g represents an integer of 1 to 3 Lt; / RTI &gt;
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 R1의 적어도 1개가 퍼플루오로알킬기를 갖는 1가 탄화수소기인 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.Wherein the first to third according to any one of claims, wherein the pressure-sensitive adhesive composition of the first with at least one of said R 1 having a perfluoroalkyl group wherein the hydrocarbon group. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 오가노실록세인 및 그 가수분해물의 산 무수물기 당량이 5,000g/mol 이하인 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the organosiloxane and the hydrolyzate thereof have an acid anhydride group equivalent of 5,000 g / mol or less. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 공중합체가 카복시기 함유 모노머 유래의 구조단위 및 하이드록시기 함유 모노머 유래의 구조단위의 적어도 일방을 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the copolymer contains at least one of a structural unit derived from a monomer containing a carboxyl group and a structural unit derived from a monomer containing a hydroxyl group. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 공중합체 100질량부에 대하여, 상기 오가노실록세인 및 그 가수분해물의 적어도 일방의 배합량이 0.001∼5질량부인 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the blending amount of at least one of the organosiloxane and the hydrolyzate thereof is 0.001 to 5 parts by mass based on 100 parts by mass of the copolymer. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 공중합체 100질량부에 대하여, 가교제를 0.01∼40질량부 포함하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the crosslinking agent is contained in an amount of 0.01 to 40 parts by mass based on 100 parts by mass of the copolymer. 제 8 항에 있어서, 상기 가교제가 아이소사이아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 금속계 가교제, 아지리딘계 가교제 및 과산화물계 가교제로부터 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 8, wherein the crosslinking agent is at least one selected from an isocyanate crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, a metal crosslinking agent, an aziridine crosslinking agent and a peroxide crosslinking agent. 필름과, 이 필름의 적어도 일방의 면에, 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 점착제 조성물을 사용하여 이루어지는 층을 갖는 것을 특징으로 하는 점착층 부착 필름.



A pressure-sensitive adhesive layer-adhering film characterized by having a film and a layer formed by using the pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 1 to 9 on at least one side of the film.



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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7119972B2 (en) * 2017-12-27 2022-08-17 三菱ケミカル株式会社 ADHESIVE COMPOSITION AND ADHESIVE USING SAME, ADHESIVE FOR POLARIZING PLATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
WO2020116229A1 (en) * 2018-12-03 2020-06-11 Dic株式会社 Adhesive composition and laminated film using same
WO2020184161A1 (en) * 2019-03-08 2020-09-17 Dic株式会社 Pressure-sensitive adhesive composition and lamination film using same
JP7218866B2 (en) * 2019-03-27 2023-02-07 太平洋セメント株式会社 Chemical heat storage material for chemical heat pump coated with inorganic porous material and manufacturing method thereof
JP7136388B1 (en) * 2020-10-01 2022-09-13 Dic株式会社 PSA COMPOSITION AND LAMINATED FILM USING THE SAME
JP2023121587A (en) 2022-02-21 2023-08-31 シャープ株式会社 Image forming apparatus comprising electrifying roller
CN116515052B (en) * 2023-05-11 2024-05-17 宇昂科技有限公司 Water-soluble dispersing agent and preparation method and application thereof

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS498158B1 (en) 1970-05-28 1974-02-25
JPS5544858B2 (en) 1975-09-05 1980-11-14
JPS5826179B2 (en) 1978-06-14 1983-06-01 富士通株式会社 Semiconductor integrated circuit device
JPH07331206A (en) * 1994-06-01 1995-12-19 Soken Kagaku Kk Pressure-sensitive adhesive composition for liquid crystal element and liquid crystal element
JP2013129691A (en) * 2011-12-20 2013-07-04 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Acid anhydride group-containing organosiloxane and method for producing the same
JP2013216726A (en) * 2012-04-04 2013-10-24 Saiden Chemical Industry Co Ltd Optical pressure-sensitive adhesive composition and optical functional film using the same
JP2015160908A (en) * 2014-02-27 2015-09-07 日本カーバイド工業株式会社 Adhesive composition and optical member surface protective film
JP5891534B2 (en) 2011-10-04 2016-03-23 サイデン化学株式会社 Optical pressure-sensitive adhesive composition and optical functional film using the same

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3426410B2 (en) * 1995-05-12 2003-07-14 日本合成化学工業株式会社 Adhesive composition
KR100733150B1 (en) * 2004-10-04 2007-06-27 롬 앤드 하아스 컴패니 Reactive hot-melt adhesive
JP2006265349A (en) * 2005-03-23 2006-10-05 Lintec Corp Pressure-sensitive adhesive composition and optical member
JP5496668B2 (en) * 2006-08-28 2014-05-21 サイテク サーフェイス スペシャルティーズ エス.エー. Polymer composition
JP5544858B2 (en) * 2009-12-11 2014-07-09 サイデン化学株式会社 Adhesive composition for polarizing plate
EP2554615A1 (en) * 2011-08-05 2013-02-06 Nitto Denko Corporation Pressure-sensitive adhesive compositions, pressure-sensitive adhesive layers, and pressure-sensitive adhesive sheets
JP5883294B2 (en) * 2011-11-22 2016-03-09 菱江化学株式会社 Bleaching, cleaning bleach and disinfectant
KR101745608B1 (en) * 2011-11-25 2017-06-09 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 Acid anhydride group-containing organosiloxane and method for producing the same
JP6022795B2 (en) * 2012-04-06 2016-11-09 日東電工株式会社 Adhesive composition, adhesive layer, adhesive sheet, surface protective sheet, optical surface protective sheet, and optical film with surface protective sheet
JP5924286B2 (en) * 2013-02-14 2016-05-25 信越化学工業株式会社 Organic functional group-containing polyether-modified alkoxysiloxane and method for producing the same
JP6064937B2 (en) * 2014-03-31 2017-01-25 信越化学工業株式会社 Adhesive composition, adhesive polarizing plate and liquid crystal display device
KR101799499B1 (en) * 2014-12-24 2017-12-20 주식회사 엘지화학 Adhesive composition for semiconductor, adhesive film, dicing die bonding film, and semiconductor device
JP6432336B2 (en) * 2014-12-24 2018-12-05 信越化学工業株式会社 Isocyanate group-containing organopolysiloxane compound, method for producing the same, adhesive, pressure-sensitive adhesive, and coating agent
TWI586780B (en) * 2015-03-23 2017-06-11 阿科瑪法國公司 Pressure sensitive adhesives

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS498158B1 (en) 1970-05-28 1974-02-25
JPS5544858B2 (en) 1975-09-05 1980-11-14
JPS5826179B2 (en) 1978-06-14 1983-06-01 富士通株式会社 Semiconductor integrated circuit device
JPH07331206A (en) * 1994-06-01 1995-12-19 Soken Kagaku Kk Pressure-sensitive adhesive composition for liquid crystal element and liquid crystal element
JP5891534B2 (en) 2011-10-04 2016-03-23 サイデン化学株式会社 Optical pressure-sensitive adhesive composition and optical functional film using the same
JP2013129691A (en) * 2011-12-20 2013-07-04 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Acid anhydride group-containing organosiloxane and method for producing the same
JP2013216726A (en) * 2012-04-04 2013-10-24 Saiden Chemical Industry Co Ltd Optical pressure-sensitive adhesive composition and optical functional film using the same
JP5990847B2 (en) 2012-04-04 2016-09-14 サイデン化学株式会社 Optical pressure-sensitive adhesive composition and optical functional film using the same
JP2015160908A (en) * 2014-02-27 2015-09-07 日本カーバイド工業株式会社 Adhesive composition and optical member surface protective film

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