KR102492449B1 - Adhesive composition and film made of the composition - Google Patents
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Abstract
[과제] 광학 기능성 필름과 액정 셀과의 첩합에 사용한 경우에, 리워크성을 양호하게 유지하면서, 내구성을 향상할 수 있는 점착제 조성물을 제공하는 것.
[해결 수단]
(메타)아크릴산 에스터 모노머를 포함하는 중합성 불포화 모노머의 공중합체와, 식 [1a]로 표시되는 오가노실록세인 및 그 가수분해물의 적어도 일방을 포함하는 점착제 조성물.
(X는 산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기를, Y는 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기를, Z는 가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기를, R1은 서로 독립하여 수소 원자 등을, M1은, 서로 독립하여, X, Y, Z 및 R1로부터 선택되는 기를, a, b, c, d는, 각각, 0∼100의 정수를 나타내는데, a가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 X이고 c는 1≤c≤100의 정수이며, c가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Z이고 a는 1≤a≤100의 정수이다.)[Problem] To provide an adhesive composition capable of improving durability while maintaining reworkability favorably when used for bonding between an optical functional film and a liquid crystal cell.
[Solution]
An adhesive composition containing at least one of a copolymer of a polymerizable unsaturated monomer containing a (meth)acrylic acid ester monomer, an organosiloxane represented by formula [1a], and a hydrolyzate thereof.
(X is a monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group, Y is a monovalent hydrocarbon group having a polyether group, Z is a monovalent hydrocarbon group having a hydrolyzable silyl group, R 1 is independently a hydrogen atom, etc., M 1 is , independently of each other, a group selected from X, Y, Z and R 1 , a, b, c, and d each represent an integer from 0 to 100, and when a is 0, at least one of M 1 is X and c is an integer of 1≤c≤100, and when c is 0, at least one of M 1 is Z and a is an integer of 1≤a≤100.)
Description
본 발명은 점착제 조성물 및 이 조성물을 사용하여 이루어지는 필름에 관한 것으로, 더욱 상세하게 설명하면, 광학 기능성 필름과 액정 셀과의 첩합에 사용되는 점착제 조성물 및 이 조성물을 사용하여 이루어지는 층을 갖는 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive composition and a film made using the composition, and more specifically, to a pressure-sensitive adhesive composition used for bonding an optical functional film and a liquid crystal cell, and a film having a layer formed using the composition will be.
액정 표시 장치는 우선 액정 성분을 2장의 유리 기판에 끼워 액정 셀을 제작하고, 다음에 액정 셀의 표면에, 점착제층을 통하여, 편광판 또는 편광판과 위상차판의 적층체 등의 광학 기능성 필름을 첩착하는 공정을 거쳐 제조된다.In the liquid crystal display device, first, a liquid crystal cell is produced by sandwiching a liquid crystal component between two glass substrates, and then an optical functional film such as a polarizing plate or a laminate of a polarizing plate and a retardation plate is attached to the surface of the liquid crystal cell through an adhesive layer. is manufactured through a process.
이 액정 표시 장치는 차량 탑재용, 옥외계기용 및 퍼스널 컴퓨터용 등의 디스플레이나 텔레비전 등의 표시 장치로서, 널리 사용되게 되었다. 또한, 이 용도의 확대에 따라, 액정 표시 장치가 사용되는 환경도 복잡다단하기 때문에, 대단히 가혹한 환경에서 사용되는 경우가 있고, 액정 표시 장치의 제조에 사용되는 점착제 조성물에 대해서도, 가혹한 환경에도 대응 가능한 성능이 요구되게 되었다.This liquid crystal display device has come to be widely used as a display device such as a display device for a vehicle, an outdoor instrument, a personal computer, and the like, and a television. In addition, with the expansion of this use, since the environment in which liquid crystal display devices are used is also complex, they may be used in very harsh environments, and also for the adhesive composition used in the manufacture of liquid crystal display devices, capable of responding to harsh environments performance was required.
구체적으로는, 고온 조건 또는 고온고습 조건에 노출되어도, 점착제 조성물에 의해 형성한 점착제층에 발포가 생기거나, 첩착된 광학 기능성 필름이 기판으로부터 벗겨지거나 하지 않는 특성(이하, 「내구성」이라고 부름)이 필요하게 된다.Specifically, even when exposed to high-temperature conditions or high-temperature, high-humidity conditions, the pressure-sensitive adhesive layer formed by the pressure-sensitive adhesive composition does not foam or the adhered optical functional film does not peel off from the substrate (hereinafter referred to as "durability") this will be needed
한편, 제조 공정에 있어서, 광학 기능성 필름과 액정 셀과의 재부착이 필요한 경우가 있다. 그 경우, 액정 셀에 손상을 주지 않고 용이하게 광학 기능성 필름을 박리할 수 있고, 또한 액정 셀 표면상에 접착제가 잔류하지 않는 것(이하, 「리워크성」이라고 부름)이 요구된다.On the other hand, in the manufacturing process, reattachment of the optical functional film and the liquid crystal cell may be necessary. In that case, it is required that the optical functional film can be easily peeled off without damaging the liquid crystal cell, and that no adhesive remains on the surface of the liquid crystal cell (hereinafter referred to as “reworkability”).
즉, 광학 기능성 필름과 액정 셀과의 첩합에 사용되는 점착제에서는, 첩합 시에 리워크성이 양호하고, 또한 첩합한 후는 고내구성으로 되는 것이 요구된다.That is, the adhesive used for bonding the optical functional film and the liquid crystal cell is required to have good reworkability during bonding and high durability after bonding.
이러한 용도로 사용되는 점착제로서는 아크릴계 수지가 많이 사용되고, 예를 들면, 특허문헌 1에서는, 아크릴계 폴리머에 에폭시기 함유 커플링제를 함유시킨 점착제 조성물이 제안되어 있다.As the pressure-sensitive adhesive used for such applications, many acrylic resins are used. For example, in Patent Literature 1, an adhesive composition in which an epoxy group-containing coupling agent is contained in an acrylic polymer is proposed.
특허문헌 1의 조성물은 반응성 기로서 카복시기를 메인에 함유하는 타입의 아크릴계 폴리머(이하, 「COOH형 아크릴계 폴리머」라고 부름)에 대해서는 높은 내구성을 발현한다. 그러나, 반응성 기로서 수산기를 메인에 함유하는 타입의 아크릴 폴리머(이하, 「OH형 아크릴계 폴리머」라고 부름)에 대해서는, 내구성이 얻어지지 않는다고 하는 문제가 있다.The composition of Patent Literature 1 exhibits high durability against a type of acrylic polymer (hereinafter referred to as "COOH-type acrylic polymer") containing a carboxyl group as the main reactive group. However, there is a problem that durability is not obtained for acrylic polymers of a type mainly containing a hydroxyl group as a reactive group (hereinafter referred to as "OH-type acrylic polymer").
또한, 특허문헌 2, 3에서는, 아크릴계 폴리머에 에폭시기 함유 폴리에터 변성 커플링제를 함유시킨 점착제 조성물이 제안되어 있다. 이 조성물은 COOH형 아크릴계 폴리머에 대해서는 리워크성과 내구성을 양립한다. 그러나, OH형 아크릴계 폴리머에 대해서는, 내구성이 얻어지지 않는다고 하는 문제가 있다.Further, Patent Literatures 2 and 3 propose adhesive compositions in which an acrylic polymer contains an epoxy group-containing polyether-modified coupling agent. This composition achieves both reworkability and durability for COOH-type acrylic polymers. However, there is a problem that durability is not obtained for OH-type acrylic polymers.
또한, 특허문헌 4에서는, 아크릴계 폴리머에 대하여, 머캡토기 함유 실레인 커플링제를 함유시킨 점착제 조성물이 기재되어 있다. 이 조성물은 OH형 아크릴계 폴리머에 대해서도 내구성이 향상되지만, 충분한 레벨이 아니다.Further, Patent Literature 4 describes an adhesive composition in which a mercapto group-containing silane coupling agent is incorporated in an acrylic polymer. Although this composition improves durability against OH-type acrylic polymers, it is not at a sufficient level.
또한 특허문헌 5에서는, 아크릴계 폴리머에 산 무수물기 함유 폴리에터 변성 커플링제를 함유시킨 점착제 조성물이 제안되어 있다. 이 조성물은 OH형 아크릴계 폴리머에 대하여 리워크성과 내구성을 양립하는 것이다. 그러나, 최근, 점착제의 내구성에 대한 요구가 높아지는 가운데, 더한층의 내구성의 향상이 요구되고 있다.Further, Patent Document 5 proposes an adhesive composition in which an acid anhydride group-containing polyether-modified coupling agent is contained in an acrylic polymer. This composition achieves both reworkability and durability with respect to the OH-type acrylic polymer. However, in recent years, while the demand for durability of pressure-sensitive adhesives has increased, further improvement in durability has been requested.
본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 광학 기능성 필름과 액정 셀과의 첩합에 사용한 경우에, 리워크성을 양호하게 유지하면서, 또한 내구성을 향상할 수 있는 점착제 조성물, 및 이 조성물을 사용하여 이루어지는 점착제층을 갖는 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above circumstances, and when used for bonding an optical functional film and a liquid crystal cell, a pressure-sensitive adhesive composition capable of improving durability while maintaining good reworkability, and using this composition It is an object of the present invention to provide a film having a pressure-sensitive adhesive layer formed thereon.
본 발명자는 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, (메타)아크릴산 에스터 모노머를 포함하는 중합성 불포화 모노머의 공중합체와, 분자 내에 가수분해성 실릴기 및 산 무수물기를 각각 적어도 1개 갖는 오가노실록세인 또는 분자 내에 가수분해성 실릴기, 산 무수물기 및 폴리에터기를 각각 적어도 1개 갖는 오가노실록세인을 포함하는 조성물이, 광학 기능성 필름과 액정 셀과의 첩합에 사용한 경우에, 리워크성을 양호하게 유지하면서, 또한 내구성을 향상할 수 있고, 점착제 조성물로서 적합한 것을 발견하고, 본 발명을 완성하였다.As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a copolymer of a polymerizable unsaturated monomer containing a (meth)acrylic acid ester monomer and an organosilox having at least one hydrolyzable silyl group and acid anhydride group in the molecule, respectively. When a composition containing organosiloxane having at least one hydrolyzable silyl group, acid anhydride group, and polyether group in its molecule or at least one each is used for bonding an optical functional film and a liquid crystal cell, reworkability The present invention was completed by finding that it is possible to improve the durability and is suitable as an adhesive composition while maintaining it well.
즉, 본 발명은,That is, the present invention,
1. (메타)아크릴산 에스터 모노머를 포함하는 중합성 불포화 모노머의 공중합체와, 하기 식 [1a]로 표시되는, 분자 내에 가수분해성 실릴기 및 산 무수물기를 각각 적어도 1개 갖는 오가노실록세인 및 그 가수분해물의 적어도 일방을 포함하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물,1. A copolymer of a polymerizable unsaturated monomer containing a (meth)acrylic acid ester monomer and an organosiloxane represented by the following formula [1a] having at least one hydrolyzable silyl group and at least one acid anhydride group in its molecule, respectively, and its A pressure-sensitive adhesive composition comprising at least one of a hydrolyzate,
(식 중, X는 산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Y는 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Z는 가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, R1은, 서로 독립하여, 수소 원자, 또는 할로젠 원자로 치환되어도 되는 탄소 원자수 1∼20의 1가 탄화수소기를 나타내고, M1은, 서로 독립하여, 상기 X, Y, Z 및 R1로부터 선택되는 기를 나타내고, a, b, c 및 d는, 각각, 0≤a≤100, 0≤b≤100, 0≤c≤100, 0≤d≤100의 정수를 나타낸다. 단, a가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 X이고, c는 1≤c≤100의 정수이며, c가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Z이고, a는 1≤a≤100의 정수이다. a, b, c 및 d가 붙여진 괄호 내의 각 반복단위의 배열은 랜덤이어도 블록이어도 된다.)(Wherein, X represents a monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group, Y represents a monovalent hydrocarbon group having a polyether group, Z represents a monovalent hydrocarbon group having a hydrolysable silyl group, R 1 are independently of each other, Represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom, and M 1 is independently of each other a group selected from X, Y, Z and R 1 , a, b, c and d respectively represent integers of 0≤a≤100, 0≤b≤100, 0≤c≤100, and 0≤d≤100, provided that when a is 0, at least one of M 1 is X And, c is an integer of 1≤c≤100, and when c is 0, at least one of M 1 is Z, and a is an integer of 1≤a≤100. The arrangement of each repeating unit may be random or block.)
2. (메타)아크릴산 에스터 모노머를 포함하는 중합성 불포화 모노머의 공중합체와, 하기 식 [1b]로 표시되는, 분자 내에 가수분해성 실릴기, 산 무수물기 및 폴리에터기를 각각 적어도 1개 갖는 오가노실록세인 및 그 가수분해물의 적어도 일방을 포함하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물,2. A copolymer of a polymerizable unsaturated monomer containing a (meth)acrylic acid ester monomer, and a five-group having at least one hydrolyzable silyl group, acid anhydride group, and polyether group in the molecule, each represented by the following formula [1b] A pressure-sensitive adhesive composition comprising at least one of nosiloxane and a hydrolyzate thereof;
(식 중, X는 산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Y는 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Z는 가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, R1은, 서로 독립하여, 수소 원자, 또는 할로젠 원자로 치환되어도 되는 탄소 원자수 1∼20의 1가 탄화수소기를 나타내고, M1은, 서로 독립하여, 상기 X, Y, Z 및 R1로부터 선택되는 기를 나타내고, a, b, c, d는, 각각, 0≤a≤100, 0≤b≤100, 0≤c≤100, 0≤d≤100의 정수를 나타낸다. 단, a가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 X이고, b 및 c는, 각각, 1≤b≤100, 1≤c≤100의 정수이고, b가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Y이고, a 및 c는, 각각, 1≤a≤100, 1≤c≤100의 정수이며, c가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Z이고, a, b는, 각각, 1≤a≤100, 1≤b≤100의 정수이다. a, b, c 및 d가 붙여진 괄호 내의 각 반복단위의 배열은 랜덤이어도 블록이어도 된다.)(Wherein, X represents a monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group, Y represents a monovalent hydrocarbon group having a polyether group, Z represents a monovalent hydrocarbon group having a hydrolysable silyl group, R 1 are independently of each other, Represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom, and M 1 is independently of each other a group selected from X, Y, Z and R 1 , a, b, c and d represent integers of 0≤a≤100, 0≤b≤100, 0≤c≤100, and 0≤d≤100, respectively, provided that when a is 0, at least one of M 1 is X And, b and c are integers of 1≤b≤100 and 1≤c≤100, respectively, and when b is 0, at least one of M 1 is Y, and a and c are each 1≤a≤ It is an integer of 100 and 1≤c≤100, and when c is 0, at least one of M 1 is Z, and a and b are integers of 1≤a≤100 and 1≤b≤100, respectively. The arrangement of each repeating unit in brackets with b, c and d may be random or block.)
3. 상기 X가 하기 식 [2]로 표시되는 산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기이고, 상기 Y가 하기 식 [3]으로 표시되는 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기이며, 상기 Z가 하기 식 [5]로 표시되는 가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기인 1 또는 2의 점착제 조성물,3. The X is a monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group represented by the following formula [2], the Y is a monovalent hydrocarbon group having a polyether group represented by the following formula [3], and the Z is The pressure-sensitive adhesive composition of 1 or 2, which is a monovalent hydrocarbon group having a hydrolyzable silyl group represented by [5],
(식 중, A는 탄소 원자수 2∼6의 알킬렌기를 나타낸다.)(In the formula, A represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.)
(식 중, R2는 수소 원자, 탄소 원자수 1∼6의 1가 탄화수소기, 또는 하기 식 [4]로 표시되는 기를 나타내고, m은 2 이상의 정수를 나타내고, e 및 f는 서로 독립하여 0 이상의 정수를 나타내는데, e 및 f 중 적어도 1개는 1 이상의 정수이다.)(Wherein, R 2 represents a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a group represented by the following formula [4], m represents an integer of 2 or more, and e and f are each independently 0 represents an integer above, at least one of e and f is an integer greater than or equal to 1.)
(식 중, R3은 탄소 원자수 1∼4의 1가 탄화수소기를 나타낸다.)(In the formula, R 3 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.)
(식 중, R4는 탄소 원자수 1∼10의 알킬기를 나타내고, R5는 탄소 원자수 1∼10의 1가 탄화수소기 또는 아실기를 나타내고, n은 2 이상의 정수를 나타내고, g는 1∼3의 정수를 나타낸다.)(Wherein, R 4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 5 represents a monovalent hydrocarbon group or acyl group having 1 to 10 carbon atoms, n represents an integer of 2 or greater, and g represents 1 to 3 represents the integer of .)
4. 상기 R1의 적어도 1개가 퍼플루오로알킬기를 갖는 1가 탄화수소기인 1∼3 중 어느 하나의 점착제 조성물,4. The pressure-sensitive adhesive composition of any one of 1 to 3, wherein at least one of R 1 is a monovalent hydrocarbon group having a perfluoroalkyl group;
5. 상기 오가노실록세인 및 그 가수분해물의 산 무수물기 당량이 5,000g/mol 이하인 1∼4 중 어느 하나의 점착제 조성물,5. The pressure-sensitive adhesive composition of any one of 1 to 4, wherein the acid anhydride group equivalent of the organosiloxane and its hydrolyzate is 5,000 g/mol or less;
6. 상기 공중합체가 카복시기 함유 모노머 유래의 구조단위 및 하이드록시기 함유 모노머 유래의 구조단위의 적어도 일방을 함유하는 1∼5 중 어느 하나의 점착제 조성물,6. The pressure-sensitive adhesive composition of any one of 1 to 5, wherein the copolymer contains at least one of a structural unit derived from a carboxy group-containing monomer and a structural unit derived from a hydroxyl group-containing monomer;
7. 상기 공중합체 100질량부에 대하여, 상기 오가노실록세인 및 그 가수분해물의 적어도 일방의 배합량이 0.001∼5질량부인 1∼6 중 어느 하나의 점착제 조성물,7. An adhesive composition of any one of 1 to 6, wherein the compounding amount of the organosiloxane and at least one of its hydrolyzate is 0.001 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the copolymer;
8. 상기 공중합체 100질량부에 대하여, 가교제를 0.01∼40질량부 포함하는 1∼7 중 어느 하나의 점착제 조성물,8. The adhesive composition of any one of 1-7 containing 0.01-40 mass parts of crosslinking agents with respect to 100 mass parts of said copolymers;
9. 상기 가교제가 아이소사이아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 금속계 가교제, 아지리딘계 가교제 및 과산화물계 가교제로부터 선택되는 적어도 1종인 8의 점착제 조성물,9. The pressure-sensitive adhesive composition of 8, wherein the crosslinking agent is at least one selected from isocyanate crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, metal crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, and peroxide crosslinking agents;
10. 필름과 이 필름의 적어도 일방의 면에, 1∼9 중 어느 하나의 점착제 조성물을 사용하여 이루어지는 층을 갖는 것을 특징으로 하는 점착층 부착 필름10. A film with an adhesive layer characterized by having a film and a layer comprising the adhesive composition of any one of 1 to 9 on at least one side of the film.
을 제공한다.provides
본 발명의 점착제 조성물은, 액정 표시 장치의 제조 공정에 있어서, 광학 기능성 필름과 액정 셀과의 점착제로서 적합하게 사용할 수 있고, 첩합 시에는 박리 가능함에도 불구하고, 첩합 후에는 고온고습 조건에서, 부풀어오름이나 벗겨짐이 발생하기 어렵다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention can be suitably used as an adhesive between an optical functional film and a liquid crystal cell in the manufacturing process of a liquid crystal display device, and although it can be peeled off during bonding, it swells under high temperature and high humidity conditions after bonding. Raising and peeling are difficult to occur.
이러한 특성을 갖는 본 발명의 점착제 조성물은, 최근, 높은 레벨의 실현이 요구되고 있는 내구성 및 리워크성을 실현할 수 있기 때문에, 기재 표면에 대한 보호막 형성제, 섬유나 분체의 표면처리제, 기재 간의 점접착제 등으로서, 특히, 액정 표시 장치의 제조 공정에 있어서 광학 기능성 필름의 첩합에 사용되는 점착제 조성물로서 적합하게 사용할 수 있다.Since the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention having these properties can realize durability and reworkability, which have recently been required to achieve a high level, a protective film forming agent for the surface of a substrate, a surface treatment agent for fibers or powders, and a point between substrates It can be used suitably as an adhesive etc., especially as an adhesive composition used for bonding of an optical functional film in the manufacturing process of a liquid crystal display device.
(발명을 실시하기 위한 형태)(Mode for implementing the invention)
이하, 본 발명에 대하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.
본 발명에 따른 점착제 조성물은 (메타)아크릴산 에스터 모노머를 포함하는 중합성 불포화 모노머의 공중합체와, 상기 식 [1a] 또는 [1b]로 표시되는 오가노실록세인 및 그 가수분해물(이하, 단지 오가노실록세인이라고 함)의 적어도 일방을 포함하는 것이다.The pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention is a copolymer of a polymerizable unsaturated monomer containing a (meth)acrylic acid ester monomer, an organosiloxane represented by the formula [1a] or [1b] and a hydrolyzate thereof (hereinafter, only five It is called nosiloxane) and contains at least one of them.
상기 (메타)아크릴산 에스터 모노머를 포함하는 중합성 불포화 모노머의 공중합체는 점착제 조성물 중에서 매트릭스 수지로서 기능하는 성분이며, (메타)아크릴산 에스터 모노머를 포함하는 중합성 불포화 모노머의 공중합체이면 특별히 한정되는 것은 아니다.The copolymer of polymerizable unsaturated monomers containing the (meth)acrylic acid ester monomer is a component that functions as a matrix resin in the pressure-sensitive adhesive composition, and is not particularly limited as long as it is a copolymer of polymerizable unsaturated monomers containing the (meth)acrylic acid ester monomer not.
(메타)아크릴산 에스터 모노머의 구체예로서는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, n-뷰틸(메타)아크릴레이트, 아이소뷰틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, 아이소옥틸(메타)아크릴레이트, 아이소노닐(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트 등의 알킬(메타)아크릴레이트; 메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 에톡시에틸(메타)아크릴레이트 등의 알콕시알킬(메타)아크릴레이트; 페녹시에틸(메타)아크릴레이트 등의 아릴(메타)아크릴레이트; 벤질(메타)아크릴레이트 등의 아르알킬(메타)아크릴레이트; β-카복시에틸아크릴레이트 등의 카복시알킬(메타)아크릴레이트; 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시뷰틸(메타)아크릴레이트, 5-하이드록시펜틸(메타)아크릴레이트, 6-하이드록시헥실(메타)아크릴레이트, 7-하이드록시헵틸(메타)아크릴레이트, 8-하이드록시옥틸(메타)아크릴레이트 등의 하이드록시알킬(메타)아크릴레이트; 카프로락톤 변성 (메타)아크릴레이트; 폴리에틸렌글라이콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글라이콜모노(메타)아크릴레이트 등의 폴리알킬렌글라이콜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 이들 모노머는 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.Specific examples of the (meth)acrylic acid ester monomer include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, 2 -Ethylhexyl (meth)acrylate, n-octyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate Alkyl (meth)acrylates, such as late and cyclohexyl (meth)acrylate; alkoxyalkyl (meth)acrylates such as methoxyethyl (meth)acrylate and ethoxyethyl (meth)acrylate; aryl (meth)acrylates such as phenoxyethyl (meth)acrylate; aralkyl (meth)acrylates such as benzyl (meth)acrylate; carboxyalkyl (meth)acrylates such as β-carboxyethyl acrylate; 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 5-hydroxypentyl ( hydroxyalkyl (meth)acrylates such as meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 7-hydroxyheptyl (meth)acrylate, and 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate; caprolactone-modified (meth)acrylate; and polyalkylene glycol (meth)acrylates such as polyethylene glycol mono(meth)acrylate and polypropylene glycol mono(meth)acrylate. You may use it in combination of more than one.
본 발명의 공중합체는 상기 (메타)아크릴산 에스터 모노머로부터 유도되는 반복단위를 60∼100질량% 포함하는 것이 바람직하고, 80∼100질량% 포함하는 것이 보다 바람직하다.The copolymer of the present invention preferably contains 60 to 100% by mass, more preferably 80 to 100% by mass of the repeating unit derived from the (meth)acrylic acid ester monomer.
또한 광학 기능성 필름과 액정 셀의 접착에 사용되는 수지는 감압 접착성을 갖는 것을 고려하면, 본 발명의 공중합체는 카복시기 함유 모노머 유래의 구조단위 및 하이드록시기 함유 모노머 유래의 구조단위의 적어도 일방을 함유하는 것이 바람직하다. In addition, considering that the resin used for adhesion between the optical functional film and the liquid crystal cell has pressure-sensitive adhesiveness, the copolymer of the present invention has at least one of a structural unit derived from a carboxyl group-containing monomer and a structural unit derived from a hydroxyl group-containing monomer It is preferable to contain.
이러한 구조단위를 제공하는 카복시기 및/또는 하이드록시기를 함유하는 모노머의 구체예로서는 상술한 카복시알킬(메타)아크릴레이트, 하이드록시알킬(메타)아크릴레이트, 폴리알킬렌글라이콜(메타)아크릴레이트와 더불어, (메타)아크릴산, N-(2-하이드록시에틸)(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있고, 이들 모노머는 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다. Specific examples of the monomer containing a carboxy group and/or a hydroxy group providing such a structural unit include the above-mentioned carboxyalkyl (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, polyalkylene glycol (meth) acrylate and In addition, (meth)acrylic acid, N-(2-hydroxyethyl) (meth)acrylamide, etc. are mentioned, These monomers may be used independently or may be used in combination of 2 or more types.
특히, 본 발명에서 사용하는 공중합체에 있어서의, 카복시기 및/또는 하이드록시기를 함유하는 모노머로부터 유도되는 반복단위의 함유량은 1∼20질량%가 바람직하고, 2∼10질량%가 보다 바람직하다.In particular, the content of the repeating unit derived from the monomer containing a carboxy group and/or a hydroxyl group in the copolymer used in the present invention is preferably 1 to 20% by mass, more preferably 2 to 10% by mass. .
또한, 본 발명에서 사용하는 공중합체는 상술한 모노머 이외의 그 밖의 모노머로부터 유도되는 반복단위를 포함하고 있어도 된다.In addition, the copolymer used in the present invention may contain repeating units derived from other monomers other than the above-mentioned monomers.
그 밖의 모노머의 구체예로서는 스타이렌, 메틸스타이렌, 다이메틸스타이렌, 트라이메틸스타이렌, 에틸스타이렌, 다이에틸스타이렌, 트라이에틸스타이렌, 프로필스타이렌, 뷰틸스타이렌, 헥실스타이렌, 헵틸스타이렌, 옥틸스타이렌, 플루오로스타이렌, 클로로스타이렌, 브로모스타이렌, 다이브로모스타이렌, 아이오도스타이렌, 나이트로스타이렌, 아세틸스타이렌, 메톡시스타이렌 등의 스타이렌계 모노머; 바이닐피리딘, 바이닐피롤리돈, 바이닐카바졸, 다이바이닐벤젠, 아세트산 바이닐, 아크릴로나이트릴, 뷰타다이엔, 아이소프렌, 클로로프렌, 염화 바이닐, 브로민화 바이닐, 염화 바이닐리덴 등의 바이닐계 모노머를 들 수 있고, 이들 모노머는 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.Specific examples of other monomers include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, triethyl styrene, propyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, heptyl Styrene-type monomers, such as styrene, octyl styrene, fluoro styrene, chloro styrene, bromo styrene, dibromo styrene, iodo styrene, nitro styrene, acetyl styrene, and methoxy styrene; Vinyl monomers such as vinylpyridine, vinylpyrrolidone, vinylcarbazole, divinylbenzene, vinyl acetate, acrylonitrile, butadiene, isoprene, chloroprene, vinyl chloride, vinyl bromide, and vinylidene chloride These monomers may be used alone or in combination of two or more.
본 발명에서 사용하는 공중합체 중에서의, 상기 그 밖의 모노머로부터 유도되는 반복단위의 함유량은 0∼20질량%가 바람직하고, 0∼10질량%가 보다 바람직하다.The content of repeating units derived from the other monomers in the copolymer used in the present invention is preferably 0 to 20% by mass, more preferably 0 to 10% by mass.
또한, 본 발명에서 사용하는 공중합체는, 그 중의 모노머의 배열 규칙에 특별히 제한은 없고, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그 밖의 어떤 것이어도 된다.In addition, the copolymer used in the present invention is not particularly limited in the arrangement rules of the monomers therein, and may be a random copolymer, a block copolymer, or any other copolymer.
상기 공중합체의 중량평균 분자량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 점착제층의 응집력을 높이고, 또한, 점착제층의 발포나 벗겨짐을 억제하여 내구성을 높임과 아울러, 점착제 조성물의 점도를 적정 범위로 유지하여 작업성을 양호하게 하는 것을 고려하면, 100,000∼2,000,000이 바람직하고, 300,000∼1,500,000이 보다 바람직하다.The weight average molecular weight of the copolymer is not particularly limited, but increases the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive layer, suppresses foaming and peeling of the pressure-sensitive adhesive layer to increase durability, and maintains the viscosity of the pressure-sensitive adhesive composition in an appropriate range for workability. 100,000 to 2,000,000 are preferable, and 300,000 to 1,500,000 are more preferable, considering making it good.
또한, 중량평균 분자량은 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의한, 폴리스타이렌 환산값이다.In addition, a weight average molecular weight is a polystyrene conversion value by gel permeation chromatography (GPC).
본 발명에서 사용하는 공중합체는, 용액 중합, 괴상 중합, 유화 중합 또는 현탁 중합 등의 공지의 중합법에 의해 제조할 수 있지만, 특히, 공중합체가 용액으로서 얻어지는 용액 중합에 의해 제조하는 것이 바람직하고, 이와 같이 공중합체를 용액으로서 얻음으로써 그대로 본 발명의 점착제 조성물의 제조에 사용할 수 있다.The copolymer used in the present invention can be produced by a known polymerization method such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization or suspension polymerization, but it is preferably produced by solution polymerization in which the copolymer is obtained as a solution. , By obtaining the copolymer as a solution in this way, it can be used as it is for the production of the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention.
용액 중합의 용매에는 유기 용매가 사용되고, 그 구체예로서는 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류; n-헥세인 등의 지방족 탄화수소류; 아세트산 에틸, 아세트산 뷰틸 등의 에스터류; n-프로필알코올, 아이소프로필알코올 등의 지방족 알코올류; 메틸에틸케톤, 메틸아이소뷰틸케톤, 사이클로헥산온 등의 케톤류 등을 들 수 있다.An organic solvent is used as a solvent for solution polymerization, and specific examples thereof include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; aliphatic alcohols such as n-propyl alcohol and isopropyl alcohol; Ketones, such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, etc. are mentioned.
또한, 반응 용매는 모노머의 합계량 100질량부에 대하여 50∼300질량부의 양으로 사용하는 것이 바람직하다.Further, the reaction solvent is preferably used in an amount of 50 to 300 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of monomers.
또한 중합에 사용하는 중합개시제로서도 공지의 것으로부터 적당히 선택하여 사용하면 되고, 그 구체예로서는 다이-tert-뷰틸퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, 라우릴퍼옥사이드, tert-뷰틸퍼옥시벤조에이트, 큐멘하이드로퍼옥사이드, 다이아이소프로필퍼옥시다이카보네이트, 다이프로필퍼옥시다이카보네이트, tert-뷰틸퍼옥시네오데카노에이트, tert-뷰틸퍼옥시피발레이트, (3,5,5-트라이메틸헥사노일)퍼옥사이드 등의 과산화물; 아조비스아이소뷰티로나이트릴, 아조비스발레로나이트릴, 1,1'-아조비스(사이클로헥세인-1-카보나이트릴), 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸발레로나이트릴), 2,2'-아조비스(2,4-다이메틸-4-메톡시발레로나이트릴), 다이메틸-2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 2,2'-아조비스(2-하이드록시메틸프로피오나이트릴) 등의 아조비스 화합물 또는 고분자 아조 중합개시제 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.In addition, as a polymerization initiator used for polymerization, it may be appropriately selected from known ones and used, and specific examples thereof include di-tert-butyl peroxide, benzoyl peroxide, lauryl peroxide, tert-butyl peroxybenzoate, and cumene hydroper. oxide, diisopropylperoxydicarbonate, dipropylperoxydicarbonate, tert-butylperoxyneodecanoate, tert-butylperoxypivalate, (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide, etc. of peroxide; Azobisisobutyronitrile, azobisvaleronitrile, 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronite Lil), 2,2'-azobis (2,4-dimethyl-4-methoxyvaleronitrile), dimethyl-2,2'-azobis (2-methylpropionate), 2,2 azobis compounds such as '-azobis(2-hydroxymethylpropionitrile) or polymeric azo polymerization initiators are exemplified, and these may be used alone or in combination of two or more.
또한, 반응개시제는, 통상, 모노머의 합계량 100질량부에 대하여 0.01∼10질량부의 양으로 사용된다.In addition, the reaction initiator is usually used in an amount of 0.01 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of monomers.
중합반응의 온도는, 통상, 50∼90℃이며, 반응시간, 통상, 2∼20시간이지만, 바람직하게는 4∼12시간이다.The temperature of the polymerization reaction is usually 50 to 90°C, and the reaction time is usually 2 to 20 hours, but preferably 4 to 12 hours.
한편, 본 발명의 점착제 조성물에 사용되는 오가노실록세인은 전술한 바와 같이 식 [1a] 또는 [1b]로 표시된다. 이 오가노실록세인은, 상기 특허문헌 5(일본 특허 제5990847호 공보)에 기재된, 분자 내에 알콕시기와, 산 무수물기와, 폴리에터기를 갖는 화합물과는 실리콘 골격의 구조가 상이한 것이다. 특허문헌 5에 기재된 화합물은 실리콘 골격이 삼차원적인 구조를 갖는 것에 반해, 본 발명에서 사용하는 오가노실록세인은 실리콘 골격이 직쇄상의 구조를 갖는다. 이것에 의해 아크릴 수지에 첨가 사용한 경우, 수지 표면으로의 이행성이 향상되기 때문에, 수지 표면의 기능성을 보다 높이는 것이 가능하게 된다. 또한 화합물의 구조적 요인에 의해, 알콕시기의 유리 등 무기 기재에 대한 반응성이 향상된다. 따라서, 광학 기능성 필름과 액정 셀과의 첩합에 있어서, 내구성을 더욱 향상시키는 것이 가능하게 된다.On the other hand, the organosiloxane used in the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is represented by the formula [1a] or [1b] as described above. This organosiloxane has a structure of a silicone skeleton different from the compound having an alkoxy group, an acid anhydride group, and a polyether group in the molecule described in Patent Document 5 (Japanese Patent No. 5990847). The compound described in Patent Literature 5 has a three-dimensional silicon skeleton, whereas the organosiloxane used in the present invention has a linear silicon skeleton. As a result, since migration to the resin surface is improved when added to the acrylic resin and used, it becomes possible to further enhance the functionality of the resin surface. In addition, the reactivity of the alkoxy group to inorganic substrates such as glass is improved by structural factors of the compound. Therefore, in bonding the optical functional film and the liquid crystal cell, it becomes possible to further improve durability.
상기 각 식에 있어서, X는 산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Y는 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Z는 가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, R1은, 서로 독립하여, 수소 원자, 또는 할로젠 원자로 치환되어도 되는 탄소 원자수 1∼20의 1가 탄화수소기를 나타내고, M1은, 서로 독립하여, 상기 X, Y, Z 및 R1로부터 선택되는 기를 나타낸다.In each of the above formulas, X represents a monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group, Y represents a monovalent hydrocarbon group having a polyether group, Z represents a monovalent hydrocarbon group having a hydrolysable silyl group, and R 1 are independent of each other represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom, and M 1 independently represents a group selected from X, Y, Z and R 1 described above.
또한 상기 각 식에 있어서, a, b, c 및 d는, 각각, 0≤a≤100, 0≤b≤100, 0≤c≤100, 0≤d≤100의 정수를 나타내는데, 식 [1a]에서는 a가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 X이고, c는 1≤c≤100의 정수이며, c가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Z이고, a는 1≤a≤100의 정수이며, 식 [1b]에서는, a가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 X이고, b 및 c는, 각각, 1≤b≤100, 1≤c≤100의 정수이며, b가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Y이고, a 및 c는, 각각, 1≤a≤100, 1≤c≤100의 정수이며, c가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Z이고, a, b는, 각각, 1≤a≤100, 1≤b≤100의 정수이다.In each of the above formulas, a, b, c, and d represent integers of 0≤a≤100, 0≤b≤100, 0≤c≤100, and 0≤d≤100, respectively. In, when a is 0, at least one of M 1 is X, c is an integer of 1≤c≤100, when c is 0, at least one of M 1 is Z, and a is 1≤a≤100 In formula [1b], when a is 0, at least one of M 1 is X, b and c are integers of 1≤b≤100 and 1≤c≤100, respectively, and b is 0. In this case, at least one of M 1 is Y, a and c are integers of 1≤a≤100 and 1≤c≤100, respectively, and when c is 0, at least one of M 1 is Z, a, b is an integer of 1≤a≤100 and 1≤b≤100, respectively.
또한, 상기 각 식에 있어서, a, b, c 및 d가 붙여진 괄호 내의 각 반복단위의 배열은 랜덤이어도 블록이어도 된다.Further, in each of the above formulas, the arrangement of each repeating unit in parentheses a, b, c and d may be random or block.
상기 R1의 탄소수 1∼20의 1가 탄화수소기의 구체예로서는 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, 아이소뷰틸, tert-뷰틸, n-펜틸, 네오펜틸, n-헥실기, 사이클로헥실, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-옥타데실기 등의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 알킬기; 페닐, 톨릴, 자일릴, 나프틸기 등의 아릴기; 벤질, 페닐에틸, 페닐프로필기 등의 아르알킬기 등을 들 수 있다.Specific examples of the monovalent hydrocarbon group of 1 to 20 carbon atoms for R 1 include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, n-pentyl, neopentyl, n-hexyl, linear, branched or cyclic alkyl groups such as cyclohexyl, n-octyl, n-nonyl, n-decyl, and n-octadecyl groups; aryl groups such as phenyl, tolyl, xylyl, and naphthyl groups; Aralkyl groups, such as a benzyl, phenylethyl, and phenylpropyl group, etc. are mentioned.
또한 이들 1가 탄화수소기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 할로젠 원자로 치환된 기의 구체예로서는 클로로메틸, 트라이플루오로메틸, 클로로프로필기 등을 들 수 있다.Specific examples of groups in which some or all of the hydrogen atoms of these monovalent hydrocarbon groups are substituted with halogen atoms include chloromethyl, trifluoromethyl, and chloropropyl groups.
이것들 중에서도, R1로서는 메틸기, 퍼플루오로알킬기를 갖는 1가 탄화수소기가 바람직하고, 메틸기, 퍼플루오로알킬기로 치환된 알킬기(플루오로알킬기)가 보다 바람직하다.Among these, R 1 is preferably a monovalent hydrocarbon group having a methyl group or a perfluoroalkyl group, and more preferably an alkyl group (fluoroalkyl group) substituted with a methyl group or a perfluoroalkyl group.
플루오로알킬기의 구체적인 예로서는 CF3-C2H4-, CF3-C3H6-, C4F9-C2H4-, C4F9-C3H6-, C6F13-C2H4-, C6F13-C3H6-, C8F17-C2H4-, C8F17-C3H6-으로 표시되는 기 등을 들 수 있다.Specific examples of the fluoroalkyl group include CF 3 -C 2 H 4 -, CF 3 -C 3 H 6 -, C 4 F 9 -C 2 H 4 -, C 4 F 9 -C 3 H 6 -, C 6 F 13 -C 2 H 4 -, C 6 F 13 -C 3 H 6 -, C 8 F 17 -C 2 H 4 -, C 8 F 17 -C 3 H 6 -;
본 발명의 오가노실록세인은 R1로서 상기 1가 탄화수소기를 도입함으로써, 매트릭스 수지인 상기 공중합체와 혼합하여 사용할 때, 수지와의 상용성이 향상되어, 상분리 등이 발생하기 어렵게 되기 때문에, 상기 각 R1의 적어도 1개는 1가 탄화수소기인 것이 바람직하고, 모두 1가 탄화수소기가 보다 바람직하고, 모든 R1이 메틸기이거나, 메틸기와 퍼플루오로알킬기를 갖는 1가 탄화수소기의 조합이 더한층 바람직하다.By introducing the monovalent hydrocarbon group as R 1 , the organosiloxane of the present invention improves compatibility with the resin when used in combination with the copolymer as a matrix resin, making phase separation difficult to occur. It is preferable that at least one of each R 1 is a monovalent hydrocarbon group, all of which are more preferably a monovalent hydrocarbon group, all R 1 are methyl groups, or a combination of a methyl group and a monovalent hydrocarbon group having a perfluoroalkyl group is still more preferable. .
또한 본 발명에서 사용하는 오가노실록세인은 산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기 X를 가지고 있고, 이 1가 탄화수소기 X가 존재함으로써 당해 오가노실록세인을 매트릭스 수지에 첨가했을 때, 1가 탄화수소기 X가 갖는 산 무수물기가 매트릭스 수지의 반응성 기(하이드록시기, 카복시기 등)와 반응하여, 수지와 당해 오가노실록세인의 일체화가 이루어진다.In addition, the organosiloxane used in the present invention has a monovalent hydrocarbon group X having an acid anhydride group, and when this organosiloxane is added to a matrix resin due to the existence of this monovalent hydrocarbon group X, a monovalent hydrocarbon group The acid anhydride group of X reacts with the reactive group (hydroxy group, carboxy group, etc.) of the matrix resin, and the resin and the organosiloxane are integrated.
산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기에 있어서의 1가 탄화수소기로서는 상기 R1에서 예시한 기와 동일한 것을 들 수 있지만, 알킬기가 바람직하고, 직쇄상의 알킬기가 보다 바람직하다.Examples of the monovalent hydrocarbon group in the monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group include the same groups as those exemplified for R 1 above, but an alkyl group is preferable and a straight-chain alkyl group is more preferable.
산 무수물기로서는 무수 석신산기, 무수 말레산기 등을 들 수 있다.As an acid anhydride group, a succinic anhydride group, a maleic anhydride group, etc. are mentioned.
적합한 X로서는 하기 식 [2]로 표시되는 기를 들 수 있다.Suitable X includes groups represented by the following formula [2].
상기 A는 탄소 원자수 2∼6의 알킬렌기를 나타내고, 그 구체예로서는 에틸렌, 트라이메틸렌, 프로필렌, 테트라메틸렌, 펜타메틸렌, 헥사메틸렌기 등의 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬렌기를 들 수 있지만, 특히, 트라이메틸렌기가 바람직하고, 따라서, X로서는 무수 석신산 프로필기가 바람직하다.The above A represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, and specific examples thereof include linear or branched chain alkylene groups such as ethylene, trimethylene, propylene, tetramethylene, pentamethylene, and hexamethylene groups. In particular, , a trimethylene group is preferable, and therefore, as X, a propyl succinic acid anhydride group is preferable.
또한, 본 발명에서 사용하는 오가노실록세인은 가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기 Z를 갖고, 이 1가 탄화수소기 Z를 가짐으로써 유리 등의 무기 기재를 당해 오가노실록세인으로 표면 처리한 경우에, 가수분해성 실릴기가 무기 기재 표면에 존재하는 -OH기와 반응하고, 당해 오가노실록세인과 무기 기재 사이에 화학 결합이 형성된다.In addition, the organosiloxane used in the present invention has a monovalent hydrocarbon group Z having a hydrolyzable silyl group, and by having this monovalent hydrocarbon group Z, inorganic substrates such as glass are surface-treated with the organosiloxane Then, the hydrolyzable silyl group reacts with the -OH group present on the surface of the inorganic substrate, and a chemical bond is formed between the organosiloxane and the inorganic substrate.
가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기의 1가 탄화수소기로서는 상기 R1에서 예시한 기와 동일한 것을 들 수 있지만, 알킬기가 바람직하고, 직쇄상의 알킬기가 보다 바람직하다.Examples of the monovalent hydrocarbon group of the monovalent hydrocarbon group having a hydrolyzable silyl group include the same groups as those exemplified for R 1 above, but an alkyl group is preferable and a straight-chain alkyl group is more preferable.
바람직한 Z로서는 하기 식 [5]로 표시되는 것을 들 수 있다.As preferable Z, what is represented by following formula [5] is mentioned.
상기 R4는 탄소 원자수 1∼10의 알킬기를 나타내고, R5는 탄소 원자수 1∼10의 1가 탄화수소기 또는 아실기를 나타내고, n은 2 이상의 정수, 바람직하게는 2∼5의 정수, 보다 바람직하게는 2 또는 3의 정수를 나타내고, g는 1∼3의 정수, 바람직하게는 2 또는 3, 보다 바람직하게는 3을 나타낸다.Said R 4 represents an alkyl group of 1 to 10 carbon atoms, R 5 represents a monovalent hydrocarbon group or acyl group of 1 to 10 carbon atoms, n is an integer of 2 or more, preferably an integer of 2 to 5, and more Preferably represents an integer of 2 or 3, g represents an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3.
탄소 원자수 1∼10의 알킬기의 구체예로서는 상기 R1에서 예시한 알킬기 중, 탄소 원자수 1∼10의 알킬기와 동일한 것을 들 수 있지만, 메틸기, 에틸기가 바람직하다.Specific examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include the same ones as the alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms among the alkyl groups exemplified for R 1 above, but a methyl group and an ethyl group are preferable.
1가 탄화수소기의 구체예로서는 상기 R1에서 예시한 기와 동일한 것을 들 수 있지만, 알킬기, 아릴기가 바람직하다.Specific examples of the monovalent hydrocarbon group include the same groups as those exemplified for R 1 above, but an alkyl group and an aryl group are preferable.
아실기의 구체예로서는 폼일, 아세틸기 등을 들 수 있다.Specific examples of the acyl group include formyl and acetyl groups.
가수분해성 실릴기(상기 식 [5]에 있어서, -CnH2n-을 제외한 부분)의 구체예로서는 트라이메톡시실릴, 메틸다이메톡시실릴, 다이메틸모노메톡시실릴, 트라이에톡시실릴, 메틸다이에톡시실릴, 다이메틸모노에톡시실릴, 트라이프로폭시실릴, 메틸다이프로폭시실릴, 다이메틸모노프로폭시실릴, 트라이아이소프로펜옥시실릴, 메틸다이아이소프로펜옥시실릴, 다이메틸아이소프로펜옥시실릴, 트라이아실옥시실릴, 메틸다이아실옥시실릴, 다이메틸모노아실옥시실릴기 등을 들 수 있고, 이들 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있다. 바람직하게는 트라이메톡시실릴기이다.As specific examples of the hydrolyzable silyl group (in the formula [5], the portion excluding -C n H 2n -), trimethoxysilyl, methyldimethoxysilyl, dimethylmonomethoxysilyl, triethoxysilyl, methyl Diethoxysilyl, Dimethylmonoethoxysilyl, Tripropoxysilyl, Methyldipropoxysilyl, Dimethylmonopropoxysilyl, Triisopropenoxysilyl, Methyldiisopropeneoxysilyl, Dimethylisopropene oxysilyl, triacyloxysilyl, methyldiacyloxysilyl, dimethylmonoacyloxysilyl group, etc. are mentioned, and at least 1 sort(s) selected from these groups can be used. Preferably it is a trimethoxysilyl group.
또한, 본 발명에서 사용하는 오가노실록세인은 가수분해성 실릴기와 산 무수물기의 수를 자유롭게 조정할 수 있다. 이 때문에, 유기 수지에 대한 반응성 및 무기 기재에 대한 반응성의 밸런스를 자유롭게 제어할 수 있다.In the organosiloxane used in the present invention, the number of hydrolyzable silyl groups and acid anhydride groups can be freely adjusted. For this reason, the balance of the reactivity to organic resins and the reactivity to inorganic substrates can be freely controlled.
또한 본 발명에서 사용하는 오가노실록세인은, 상기 가수분해성 실릴기 및 산 무수기와 더불어, 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기 Y를 포함하고 있어도 된다.In addition, the organosiloxane used in the present invention may contain a monovalent hydrocarbon group Y having a polyether group in addition to the hydrolysable silyl group and acid anhydride group.
이 폴리에터기는 당해 오가노실록세인과 무기 기재 표면과의 친화성을 제어하는 효과를 갖는다.This polyether group has an effect of controlling the affinity between the organosiloxane and the surface of the inorganic substrate.
즉, 유기 작용기로서 가수분해성 실릴기와 산 무수물기만을 함유하는 오가노실록세인은 산 무수물기의 친수성이 낮기 때문에, 그 수의 증가에 따라, 분자 전체의 친수성이 크게 저하되는 경우가 있다. 이 때문에, 친수성 표면을 갖는 무기 기재 위에 이 오가노실록세인을 도포하고, 경화 피막을 형성할 때, 젖음성이 나빠, 튕김 등이 발생하여, 균일한 도포막이 얻어지지 않는다고 하는 문제가 발생하는 경우가 있다. 그러나, 상기 오가노실록세인의 분자 내에 폴리에터기를 도입함으로써, 이러한 문제가 해결되어, 무기 기재 위에 오가노실록세인의 균일한 경화막을 형성하는 것이 가능하게 된다.That is, organosiloxanes containing only hydrolyzable silyl groups and acid anhydride groups as organic functional groups have low hydrophilicity of the acid anhydride groups, and therefore, the hydrophilicity of the entire molecule may significantly decrease as the number of organic functional groups increases. For this reason, when this organosiloxane is applied on an inorganic substrate having a hydrophilic surface to form a cured film, problems such as poor wettability, repelling, etc., and inability to obtain a uniform coating film may occur. there is. However, by introducing a polyether group into the molecule of the organosiloxane, this problem is solved, and it becomes possible to form a uniform cured film of organosiloxane on an inorganic substrate.
또한, 폴리에터기의 종류나 도입량을 조정함으로써, 가수분해성 실릴기와 무기 기재와의 반응을 제어하여, 기재와 오가노실록세인과의 결합력을 조정하는 것이 가능하게 된다. 이것에 의해, 오가노실록세인을 유기 수지와 무기 기재와의 접착에 사용했을 때, 미점착으로부터 강접착까지, 용도에 따라, 접착력을 조정하는 것이 가능하게 된다.In addition, by adjusting the type and amount of the polyether group introduced, it is possible to control the reaction between the hydrolyzable silyl group and the inorganic substrate and adjust the bonding strength between the substrate and the organosiloxane. As a result, when organosiloxane is used for adhesion between an organic resin and an inorganic substrate, it becomes possible to adjust the adhesive strength from slight adhesion to strong adhesion depending on the application.
폴리에터기를 함유하는 1가 탄화수소기에 있어서의 1가 탄화수소기의 구체예로서는 상기 R1에서 예시한 기와 동일한 것을 들 수 있지만, 알킬기가 바람직하고, 직쇄상의 알킬기가 보다 바람직하다.Specific examples of the monovalent hydrocarbon group in the monovalent hydrocarbon group containing a polyether group include the same groups as those exemplified for R 1 above, but an alkyl group is preferable and a straight-chain alkyl group is more preferable.
적합한 Y로서는 하기 식 [3]으로 표시되는 기를 들 수 있다.As suitable Y, group represented by following formula [3] is mentioned.
상기 R2는 수소 원자, 탄소 원자수 1∼6의 1가 탄화수소기, 또는 하기 식 [4]로 표시되는 기를 나타낸다.The above R 2 represents a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or a group represented by the following formula [4].
(식 중, R3은 탄소 원자수 1∼4의 1가 탄화수소기, 바람직하게는 탄소 원자수 1∼4의 알킬기를 나타낸다.)(In the formula, R 3 represents a monovalent hydrocarbon group of 1 to 4 carbon atoms, preferably an alkyl group of 1 to 4 carbon atoms.)
식 [3], [4]에 있어서의 1가 탄화수소기로서는 상기 R1에서 예시한 기 중, 각각 해당의 탄소 원자수의 것을 들 수 있다.As a monovalent hydrocarbon group in Formula [3] and [4], the thing of the corresponding number of carbon atoms can be mentioned among the groups illustrated by said R< 1 >, respectively.
R2로서는 탄소 원자수 1∼4의 알킬기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.As R 2 , an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable.
e, f는 서로 독립하여 0 이상의 정수를 나타내는데, 0≤e≤50, 0≤f≤50의 범위의 정수가 바람직하고, 0≤e≤20, 0≤f≤20의 범위의 정수가 보다 바람직하다. 단, e, f 중 적어도 1개는 1 이상, 바람직하게는 1∼50의 정수이다.e and f represent integers greater than or equal to 0 independently of each other, preferably integers in the range of 0≤e≤50 and 0≤f≤50, and more preferably integers in the range of 0≤e≤20 and 0≤f≤20. Do. However, at least 1 of e and f is 1 or more, Preferably it is an integer of 1-50.
m은 2 이상의 정수를 나타내는데, 2∼6의 정수가 바람직하다.Although m represents an integer of 2 or more, an integer of 2 to 6 is preferable.
상기 폴리에터기 부분은 에틸렌옥사이드형(이하, EO형으로 기재한다.), 프로필렌옥사이드형(이하, PO형으로 기재한다.), 에틸렌옥사이드-프로필렌옥사이드형(이하, EO-PO형으로 기재한다.)의 어떤 것이어도 좋고, EO-PO형의 경우에는, 랜덤, 블록, 교호의 어떤 것이어도 좋다.The polyether group portion is ethylene oxide type (hereinafter referred to as EO type), propylene oxide type (hereinafter referred to as PO type), ethylene oxide-propylene oxide type (hereinafter referred to as EO-PO type) .) may be used, and in the case of the EO-PO type, any of random, block and alternating may be used.
또한 본 발명에서 사용하는 오가노실록세인에 PO형의 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기를 도입함으로써, 내습성을 향상시킬 수 있다.Moisture resistance can be improved by introducing a monovalent hydrocarbon group having a PO polyether group into the organosiloxane used in the present invention.
상기 폴리에터기 부분은 수소 원자의 적어도 일부가 불소로 치환된 플루오로폴리에터기이어도 된다. 불소를 함유함으로써, 본 발명에서 사용하는 오가노실록세인의 수지 표면으로의 이행성을 높이거나, 수지 표면과 피착체와의 친화성을 제어하거나 하는 것이 가능하게 된다. The polyether group portion may be a fluoropolyether group in which at least a part of hydrogen atoms are substituted with fluorine. By containing fluorine, it becomes possible to improve the transferability of the organosiloxane used in the present invention to the resin surface or to control the affinity between the resin surface and the adherend.
플루오로폴리에터기로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 이하에 나타내는 구조단위로부터 선택되는 적어도 1종으로 구성되는 것이 바람직하다.The fluoropolyether group is not particularly limited, but is preferably composed of at least one selected from structural units shown below.
플루오로폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기의 구체예로서는 이하와 같은 구조 등을 들 수 있다.Specific examples of the monovalent hydrocarbon group having a fluoropolyether group include the following structures.
본 발명에서 사용하는 오가노실록세인의 적합예로서는 하기 식 [12], [13]으로 표시되는 것을 들 수 있지만, 이것들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 하기 식 [12], [13]으로 표시되는 오가노실록세인 중에서의 각 실록세인 단위의 배열은 랜덤이어도 블록이어도 된다.Although what is represented by the following formula [12] and [13] as a suitable example of organosiloxane used by this invention is mentioned, It is not limited to these. In addition, the arrangement|sequence of each siloxane unit in organosiloxane represented by following formula [12] and [13] may be random or a block may be sufficient as it.
본 발명에서 사용하는 오가노실록세인의 산 무수물기 당량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 5,000g/mol 이하가 바람직하고, 2,000g/mol 이하가 보다 바람직하고, 1,500g/mol 이하가 더한층 바람직하고, 1,000g/mol 이하가 더욱 바람직하다.The acid anhydride group equivalent of the organosiloxane used in the present invention is not particularly limited, but is preferably 5,000 g/mol or less, more preferably 2,000 g/mol or less, and even more preferably 1,500 g/mol or less, 1,000 g/mol or less is more preferable.
이상에서 설명한 오가노실록세인은 백금 촉매하, 하기 식 [7]로 표시되는 오가노하이드로젠실록세인에, 지방족 불포화 결합을 갖는 가수분해성 실릴기 함유 화합물과, 지방족 불포화 결합을 갖는 산 무수물기 함유 화합물과, 필요에 따라 지방족 불포화 결합을 갖는 폴리에터기 함유 화합물을 하이드로실릴화 반응시켜, 제조할 수 있다.The organosiloxane described above contains a hydrolyzable silyl group-containing compound having an aliphatic unsaturated bond and an acid anhydride group having an aliphatic unsaturated bond in an organohydrogensiloxane represented by the following formula [7] under a platinum catalyst. It can manufacture by carrying out the hydrosilylation reaction of a compound and the polyether group containing compound which has an aliphatic unsaturated bond as needed.
식 [7] 중, R10은 할로젠 원자로 치환되어도 되는 탄소 원자수 1∼20의 1가 탄화수소기를 나타내고, M2는 수소 원자, 또는 상기 R10을 나타낸다. i, j는, 각각, 1≤i≤300, 0≤j≤100의 정수를 나타내고, 바람직하게는 1≤i≤150, 0≤j≤50의 범위의 정수, 보다 바람직하게는 1≤i≤60, 0≤j≤20의 범위의 정수이다. i 및 j가 붙여진 괄호 내의 각 반복단위의 배열은 랜덤이어도 블록이어도 된다.In Formula [7], R 10 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, and M 2 represents a hydrogen atom or the above R 10 . i and j represent integers of 1≤i≤300 and 0≤j≤100, respectively, preferably integers in the range of 1≤i≤150 and 0≤j≤50, more preferably 1≤i≤ 60, an integer in the range of 0≤j≤20. The arrangement of each repeating unit in parentheses with i and j may be random or block.
이 경우, 지방족 불포화 결합을 갖는 가수분해성 실릴기 함유 화합물로서는, 예를 들면, 하기 식 [8]로 표시되는 것을 들 수 있다.In this case, examples of the hydrolyzable silyl group-containing compound having an aliphatic unsaturated bond include those represented by the following formula [8].
(식 중, p는 0∼10, 바람직하게는 0∼5의 정수를 나타낸다. R4, R5 및 g는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)(In the formula, p represents an integer of 0 to 10, preferably 0 to 5. R 4 , R 5 and g represent the same meaning as above.)
상기 불포화 결합을 갖는 가수분해성 실릴기 함유 화합물의 구체예로서는 바이닐트라이메톡시실레인, 바이닐트라이에톡시실레인 등의 바이닐기 함유 알콕시실레인 화합물을 들 수 있다.Specific examples of the hydrolyzable silyl group-containing compound having an unsaturated bond include vinyl group-containing alkoxysilane compounds such as vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane.
하이드로실릴화 반응시의 반응비율로서는, 오가노하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 1∼100mol이 바람직하고, 1∼50mol이 보다 바람직하고, 1∼20mol이 더한층 바람직하다.The reaction ratio during the hydrosilylation reaction is preferably 1 to 100 mol, more preferably 1 to 50 mol, and still more preferably 1 to 20 mol, relative to 1 mol of organohydrogensiloxane.
상기 지방족 불포화 결합을 갖는 산 무수물기 함유 화합물로서는, 예를 들면, 하기 식 [9]로 표시되는 것을 들 수 있다.As an acid anhydride group containing compound which has the said aliphatic unsaturated bond, what is represented by following formula [9] is mentioned, for example.
(식 중, p는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)(In the formula, p represents the same meaning as above.)
상기 지방족 불포화 결합을 갖는 산 무수물기 함유 화합물의 구체예로서는 하기와 같은 화합물을 들 수 있고, 특히, 알릴 무수 석신산이 바람직하다.Specific examples of the acid anhydride group-containing compound having an aliphatic unsaturated bond include the following compounds, and allyl succinic anhydride is particularly preferable.
하이드로실릴화 반응시의 반응 비율로서는 오가노하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 1∼100mol이 바람직하고, 1∼50mol이 보다 바람직하고, 1∼20mol이 더한층 바람직하다.The reaction ratio during the hydrosilylation reaction is preferably 1 to 100 mol, more preferably 1 to 50 mol, and even more preferably 1 to 20 mol, per 1 mol of organohydrogensiloxane.
상기 지방족 불포화 결합을 갖는 폴리에터기 함유 화합물로서는, 예를 들면, 하기 식 [10]으로 표시되는 것을 들 수 있다.As a polyether group containing compound which has the said aliphatic unsaturated bond, what is represented by following formula [10] is mentioned, for example.
(식 중, p, R2, e, f는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)(In the formula, p, R 2 , e, f represent the same meaning as above.)
특히, 불포화 결합을 갖는 폴리에터기 함유 화합물로서는 하기 식 [11]로 표시되는 알릴폴리에터가 바람직하다.In particular, as the polyether group-containing compound having an unsaturated bond, an allylpolyether represented by the following formula [11] is preferable.
하이드로실릴화 반응시의 반응비율로서는 오가노하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 1∼100mol이 바람직하고, 1∼50mol이 보다 바람직하고, 1∼20mol이 더한층 바람직하다.The reaction ratio in the hydrosilylation reaction is preferably 1 to 100 mol, more preferably 1 to 50 mol, and still more preferably 1 to 20 mol, per 1 mol of organohydrogensiloxane.
(식 중, R2, e, f는 상기와 동일한 의미를 나타낸다.)(In the formula, R 2 , e and f represent the same meaning as above.)
보다 구체적으로는, 예를 들면, 상기 식 [12]로 표시되는 화합물의 경우, 백금 촉매하, 하기 식 [14]로 표시되는 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 바이닐트라이메톡시실레인 4mol과, 하기 식 [15]로 표시되는 알릴폴리에터 1mol과, 알릴 무수 석신산 3mol을 하이드로실릴화 반응시켜, 제조할 수 있다.More specifically, for example, in the case of the compound represented by the formula [12], 4 mol of vinyltrimethoxysilane and 4 mol of vinyltrimethoxysilane per 1 mol of methylhydrogensiloxane represented by the following formula [14] under a platinum catalyst. , 1 mol of allyl polyether represented by the following formula [15] and 3 mol of allyl succinic anhydride are subjected to a hydrosilylation reaction, and can be manufactured.
또한 상기 식 [13]으로 표시되는 화합물의 경우, 백금 촉매하, 하기 식 [16]으로 표시되는 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 바이닐트라이메톡시실레인 4mol과, 알릴 무수 석신산 4mol을 하이드로실릴화 반응시켜, 제조할 수 있다.In addition, in the case of the compound represented by the formula [13], 4 mol of vinyltrimethoxysilane and 4 mol of allyl succinic anhydride were hydrolyzed with respect to 1 mol of methylhydrogensiloxane represented by the following formula [16] under a platinum catalyst. It can be produced by silylation reaction.
또한, 본 발명에서 사용하는 알콕시실레인 화합물은 상기에서 설명한 방법 이외의 방법으로도 제조할 수 있고, 예를 들면, 무수 석신산 변성 알콕시실레인과 폴리에터 변성 알콕시실레인을 가수분해 축합하는 방법으로도 제조할 수 있다.In addition, the alkoxysilane compound used in the present invention can be produced by a method other than the method described above, for example, by hydrolytic condensation of succinic anhydride-modified alkoxysilane and polyether-modified alkoxysilane. It can also be manufactured by this method.
그러나, 이 방법은 물을 사용하기 때문에, 제조 단계에서, 무수 석신산의 가수분해에 의한 개환 반응이 함께 발생한다는 문제가 있다.However, since this method uses water, there is a problem that a ring-opening reaction due to hydrolysis of succinic anhydride occurs together in the production step.
또한 또 다른 방법으로서, 예를 들면, 하기 식 [17]로 표시되는 환상 오가노하이드로젠실록세인에, 백금 촉매하, 바이닐트라이메톡시실레인, 알릴폴리에터, 알릴 무수 석신산을 차례로 부가하는 방법으로도 제조할 수 있다.As another method, for example, vinyl trimethoxysilane, allyl polyether, and allyl succinic anhydride are sequentially added to a cyclic organohydrogensiloxane represented by the following formula [17] under a platinum catalyst. It can also be manufactured in the same way.
(식 중, k는 3 이상의 정수를 나타낸다.)(In the formula, k represents an integer of 3 or greater.)
그러나, 상기 환상 오가노하이드로젠실록세인 중에서, 현실적으로, 저렴하고 용이하게 입수할 수 있는 것은 k=3∼5의 저분자 실록세인이 된다. 그 경우, 분자 내에 존재하는 반응점(SiH)의 수는 최대이어도 5개까지가 된다. 이 환상 오가노하이드로젠실록세인에, 바이닐트라이메톡시실레인, 알릴폴리에터, 알릴 무수 석신산을 차례로, 하이드로실릴화 반응에 의해 부가하고자 하는 경우, 각 화합물의 합계 도입량은 5개까지가 되어, 각 작용기의 자유로운 도입량의 설정을 할 수 없다.However, among the above-mentioned cyclic organohydrogensiloxanes, low-molecular-weight siloxanes having k = 3 to 5 are practically inexpensive and easily available. In that case, the number of reaction sites (SiH) present in the molecule is at most five. When adding vinyl trimethoxysilane, allyl polyether, and allyl succinic anhydride sequentially to this cyclic organohydrogensiloxane through a hydrosilylation reaction, the total amount of each compound introduced is up to five. Therefore, it is not possible to freely set the introduction amount of each functional group.
이에 대하여 상술한 본 발명의 오가노실록세인의 제조 방법은 상기의 문제를 해결할 수 있는 것이다.In contrast, the method for producing organosiloxane of the present invention described above can solve the above problems.
즉, 원료로서 사용하는 상기 식 [7]로 표시되는 오가노하이드로젠실록세인의 i값을 조정함으로써, 바이닐트라이메톡시실레인, 알릴폴리에터, 알릴 무수 석신산의 도입량을 자유롭게 설정할 수 있다.That is, by adjusting the i-value of the organohydrogensiloxane represented by the above formula [7] used as a raw material, the introduction amount of vinyl trimethoxysilane, allyl polyether, and allyl succinic anhydride can be freely set. .
본 발명에서 사용하는 오가노실록세인은, 직쇄상 실록세인 골격의 측쇄에, 알콕시기, 산 무수물기, 폴리에터기의 각 작용기를 함유하는 기가 결합한 구조를 취한다.The organosiloxane used in the present invention has a structure in which a group containing each functional group, such as an alkoxy group, an acid anhydride group, or a polyether group, is bonded to the side chain of the linear siloxane skeleton.
본 발명의 점착제 조성물에 있어서, 상술한 매트릭스 수지가 되는 공중합체와, 상기 알콕시실레인과의 배합비율은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 매트릭스 수지가 되는 공중합체 100질량부에 대하여, 오가노실록세인 0.001∼5질량부 배합하는 것이 바람직하고, 0.01∼3질량부 배합하는 것이 보다 바람직하고, 0.1∼2질량부 배합하는 것이 더한층 바람직하다.In the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention, the blending ratio of the above-mentioned copolymer serving as the matrix resin and the alkoxysilane is not particularly limited, but 0.001 to 0.001 to 0.001 of organosiloxane based on 100 parts by mass of the copolymer serving as the matrix resin. It is preferably blended at 5 parts by mass, more preferably blended at 0.01 to 3 parts by mass, and even more preferably blended at 0.1 to 2 parts by mass.
또한 본 발명의 점착제 조성물에는 가교제를 배합해도 된다.In addition, you may mix|blend a crosslinking agent with the adhesive composition of this invention.
가교제의 배합량으로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 점착제 조성물의 응집력을 적절하게 하여, 내구성을 향상시키고, 첩착하는 필름 벗겨짐을 효율적으로 억제하는 것을 고려하면, 공중합체 100질량부에 대하여, 가교제 0.01∼40질량부 배합하는 것이 바람직하고, 0.02∼30질량부 배합하는 것이 보다 바람직하다.The amount of the crosslinking agent is not particularly limited, but considering that the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive composition is appropriate, the durability is improved, and peeling of the film to be adhered is effectively suppressed, the crosslinking agent is 0.01 to 40 parts per 100 parts by mass of the copolymer. It is preferable to mix by mass part, and it is more preferable to blend 0.02 to 30 mass parts.
가교제로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 본 발명에서는, 아이소사이아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 금속 킬레이트 가교제 및 아지리딘계 가교제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것이 적합하게 사용된다.The crosslinking agent is not particularly limited, but in the present invention, one selected from the group consisting of an isocyanate crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, a metal chelate crosslinking agent and an aziridine crosslinking agent is suitably used.
보다 구체적으로는, 예를 들면, 1분자 중에 글라이시딜기를 2개 이상 갖는 폴리글라이시딜 화합물, 1분자 중에 아이소사이아네이트기를 2개 이상 갖는 폴리아이소사이아네이트 화합물, 1분자 중에 아지리딘일기를 2개 이상 갖는 폴리아지리딘 화합물, 금속 킬레이트 화합물 또는 뷰틸화 멜라민 화합물 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.More specifically, for example, a polyglycidyl compound having two or more glycidyl groups in one molecule, a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule, and aziridine in one molecule. A polyaziridine compound, a metal chelate compound, a butylated melamine compound, etc. which have two or more groups are mentioned, These may be used individually or may be used in combination of 2 or more types.
폴리글라이시딜 화합물의 구체예로서는 에틸렌글라이콜다이글라이시딜에터, 폴리에틸렌글라이콜다이글라이시딜에터, 프로필렌글라이콜다이글라이시딜에터, 폴리프로필렌글라이콜다이글라이시딜에터, 글리세린다이글라이시딜에터, 네오펜틸글라이콜다이글라이시딜에터, 1,6-헥세인다이올다이글라이시딜에터, N,N,N',N'-테트라글라이시딜-m-자일렌다이아민, 1,3-비스(N,N-다이글라이시딜아미노메틸)사이클로헥세인, 트라이메틸올프로페인폴리글라이시딜에터, 다이글라이세롤폴리글라이시딜에터 등의 다작용 글라이시딜 화합물을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.Specific examples of the polyglycidyl compound include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, and polypropylene glycol diglycidyl. Ether, glycerin diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, N, N, N', N'-tetragly Lycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane, trimethylolpropane polyglycidyl ether, diglycerol polyglycy Polyfunctional glycidyl compounds, such as dil ether, are mentioned, These may be used independently or may be used in combination of 2 or more types.
폴리아이소사이아네이트 화합물의 구체예로서는 톨릴렌다이아이소사이아네이트, 헥사메틸렌다이아이소사이아네이트, 아이소포론다이아이소사이아네이트, 자일렌다이아이소사이아네이트, 수소 첨가 자일렌다이아이소사이아네이트, 다이페닐메테인다이아이소사이아네이트, 수소 첨가 다이페닐메테인다이아이소사이아네이트, 나프탈렌다이아이소사이아네이트, 트라이페닐메테인트라이아이소사이아네이트 등이나, 이들 아이소사이아네이트 화합물에, 글라이세롤이나 트라이메틸올프로페인 등의 폴리올을 반응시킨 어덕트체나, 아이소사이아네이트 화합물을 2량체, 3량체 등으로 한 것 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.Specific examples of the polyisocyanate compound include tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylene diisocyanate, and hydrogenated xylene diisocyanate. , diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, etc., and these isocyanate compounds, adducts obtained by reacting polyols such as glycerol and trimethylolpropane, and compounds obtained by making isocyanate compounds into dimers, trimers, etc. are exemplified; even if these are used alone, two or more You may use them in combination.
폴리아지리딘 화합물의 구체예로서는 1,1'-(메틸렌-다이-p-페닐렌)비스-3,3-아지리딜유레아, 1,1'-(헥사메틸렌)비스-3,3-아지리딜유레아, 에틸렌비스-(2-아지리딘일프로피오네이트), 트리스(1-아지리딘일)포스핀옥사이드, 2,4,6-트라이아지리딘일-1,3,5-트라이아진, 트라이메틸올프로페인-트리스-(2-아지리딘일프로피오네이트) 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.Specific examples of the polyaziridine compound include 1,1'-(methylene-di-p-phenylene)bis-3,3-aziridyl urea and 1,1'-(hexamethylene) bis-3,3-aziridyl urea. , Ethylenebis-(2-aziridinylpropionate), tris(1-aziridinyl)phosphine oxide, 2,4,6-triaziridinyl-1,3,5-triazine, trimethylolpropane- Tris-(2-aziridinyl propionate) etc. are mentioned, These may be used independently or may be used in combination of 2 or more types.
금속 킬레이트 화합물의 구체예로서는 알루미늄, 철, 구리, 아연, 주석, 타이타늄, 니켈, 안티모니, 마그네슘, 바나듐, 크로뮴 및 지르코늄 등의 다가 금속에, 아세틸아세톤이나 아세토아세트산 에틸이 배위한 화합물 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.Specific examples of the metal chelate compound include compounds in which acetylacetone or ethyl acetoacetate is coordinated with a multivalent metal such as aluminum, iron, copper, zinc, tin, titanium, nickel, antimony, magnesium, vanadium, chromium, and zirconium. and these may be used alone or in combination of two or more.
또한 가교 형태로서 방사선(바람직하게는 자외선) 가교도 유효하며, 그때에는 중합 가능한 반응성 이중결합을 적어도 2개 갖는 모노머와 광중합개시제(증감제도 포함함)를 첨가할 수 있다.Radiation (preferably ultraviolet) crosslinking is also effective as a form of crosslinking, in which case a monomer having at least two polymerizable reactive double bonds and a photopolymerization initiator (including a sensitizer) can be added.
중합 가능한 이중결합을 적어도 2개 갖는 모노머의 구체예로서는 폴리에틸렌글라이콜다이아크릴레이트, 프로폭시화 에톡시화 비스페놀A 다이아크릴레이트, 트라이사이클로데케인다이메탄올다이아크릴레이트, 1,9-노네인다이올다이아크릴레이트 등의 2작용 (메타)아크릴레이트; 트라이메틸올프로페인트라이아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 아이소사이아누르산 트라이아크릴레이트, 트리스(2-아크릴옥시에틸)아이소사이아누레이트 등의 다작용 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the monomer having at least two polymerizable double bonds include polyethylene glycol diacrylate, propoxylated ethoxylated bisphenol A diacrylate, tricyclodecane dimethanol diacrylate, and 1,9-nonanediol. bifunctional (meth)acrylates such as diacrylate; Polyfunctionals such as trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, isocyanuric acid triacrylate, and tris(2-acryloxyethyl)isocyanurate ( meta) acrylate; and the like.
또한, 필요에 따라 중합 가능한 반응성 이중결합을 1개만 갖는 기지의 모노머를 병용하여 가교밀도의 제어를 행할 수도 있다.Further, if necessary, a known monomer having only one polymerizable reactive double bond may be used in combination to control the crosslinking density.
광중합개시제로서는 공지의 방사선(자외선)에 의한 광중합개시제를 사용할 수 있고, 예를 들면, 아미노케톤계, 하이드로케톤계, 아실포스핀옥사이드계, 벤질다이메틸케탈계, 벤조페논계, 트라이클로로메틸기 함유 트라이아진 유도체계 광중합개시제 등을 들 수 있다.As the photopolymerization initiator, a known photopolymerization initiator by radiation (ultraviolet rays) can be used, for example, an amino ketone system, a hydroketone system, an acylphosphine oxide system, a benzyldimethyl ketal system, a benzophenone system, and a trichloromethyl group-containing triazine derivative-based photopolymerization initiators; and the like.
또한 본 발명의 점착제 조성물은 상술한 필수 오가노실록세인 이외의 실레인 커플링제 및/또는 그 가수분해 축합물(아울러, 실레인 커플링제라고 함)을 첨가할 수 있고, 그것에 의해, 본 발명의 점착제 조성물로 형성되는 점착제층의 내구성을 더욱 향상시킬 수 있다.In addition, the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention can add a silane coupling agent other than the above-mentioned essential organosiloxane and/or a hydrolytic condensate thereof (also referred to as a silane coupling agent), whereby the present invention The durability of the pressure-sensitive adhesive layer formed of the pressure-sensitive adhesive composition can be further improved.
실레인 커플링제의 첨가량은, 공중합체 100질량부에 대하여, 0.01∼5질량부가 바람직하다.The addition amount of the silane coupling agent is preferably 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the copolymer.
실레인 커플링제의 구체예로서는 γ-글라이시드옥시프로필트라이메톡시실레인, γ-글라이시드옥시프로필트라이에톡시실레인, γ-글라이시드옥시프로필메틸다이메톡시실레인, γ-글라이시드옥시프로필메틸다이에톡시실레인, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실레인, 에폭시기 함유 알콕시실레인 올리고머 등의 에폭시기 함유 실레인 커플링제; γ-머캡토프로필트라이메톡시실레인, γ-머캡토프로필트라이에톡시실레인, γ-머캡토프로필메틸다이메톡시실레인, γ-머캡토프로필메틸다이에톡시실레인, 머캡토기 함유 알콕시실레인 올리고머 등의 머캡토기 함유 실레인 커플링제; γ-아미노프로필트라이메톡시실레인, γ-아미노프로필트라이에톡시실레인, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트라이메톡시실레인, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트라이에톡시실레인, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸다이메톡시실레인, N-페닐-γ-아미노프로필트라이메톡시실레인 등의 아미노기 함유 실레인 커플링제; γ-아이소사이아네이트프로필트라이메톡시실레인, γ-아이소사이아네이트프로필트라이에톡시실레인 등의 아이소사이아네이트기 함유 실레인 커플링제 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 사용해도, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.Specific examples of the silane coupling agent include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and γ-glucin. epoxy group-containing silane coupling agents such as lysedoxypropylmethyldiethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and epoxy group-containing alkoxysilane oligomers; γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, mercapto group-containing alkoxy mercapto group-containing silane coupling agents such as silane oligomers; γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ- amino group-containing silane coupling agents such as aminopropyltriethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, and N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane; Isocyanate group containing silane coupling agents, such as γ-isocyanate propyl trimethoxysilane and γ-isocyanate propyl triethoxysilane, etc. are mentioned, Even if these are used independently, You may use in combination of 2 or more types.
또한, 본 발명의 점착제 조성물은, 점착력을 조정할 목적 등, 필요한 특성에 따라, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 여러 첨가제를 배합해도 된다.Further, the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention may be formulated with various additives depending on required properties such as the purpose of adjusting the adhesive strength, within a range not impairing the effects of the present invention.
첨가제로서는, 터펜계, 터펜-페놀계, 큐마론-인덴계, 스타이렌계, 로진계, 자일렌계, 페놀계, 석유계 등의 점착 부여 수지, 산화방지제, 자외선흡수제, 충전제, 안료, 가소제, 대전방지제 등을 들 수 있다.As additives, terpene-based, terpene-phenolic, cumarone-indene-based, styrene-based, rosin-based, xylene-based, phenolic, petroleum-based tackifying resins, antioxidants, ultraviolet absorbers, fillers, pigments, plasticizers, electrification An inhibitor etc. are mentioned.
본 발명의 점착층 부착 필름은 필름과, 이 필름의 적어도 일방의 면에, 상술한 본 발명의 점착제 조성물을 사용하여 이루어지는 층을 구비하는 것이다.The film with an adhesive layer of the present invention is provided with a film and a layer formed by using the above-described adhesive composition of the present invention on at least one side of the film.
즉, 점착제층이 형성되어 있지 않은 광학 기능성 필름(이하, 이것을 「원재료 필름」이라고 부름)의 편면 또는 양면에, 「내구성」과 「리워크성」이 모두 우수한 본 발명의 점착제 조성물로 이루어지는 막(점착제층)을 적층하여 이루어지는 것이다.That is, a film made of the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention excellent in both "durability" and "reworkability" on one side or both sides of an optical functional film (hereinafter referred to as "raw material film") on which no pressure-sensitive adhesive layer is formed ( pressure-sensitive adhesive layer).
이 때문에, 본 발명의 점착층 부착 필름은 고온하나 고온고습하에서도, 액정 셀을 구성하는 유리 기판 등으로부터 벗겨지지 않고, 점착제층에 발포가 생기지 않는 특성(내구성)과, 장기간 시간이 경과해도 용이하게 박리할 수 있고, 또한 박리 후에 있어서 기판 등에 잔류물이 생기지 않는 특성(리워크성)을 함께 갖게 된다.For this reason, the film with an adhesive layer of the present invention has characteristics (durability) that it does not peel off from the glass substrate constituting the liquid crystal cell even under high temperature and high humidity, and foaming does not occur in the adhesive layer, and it is easy even after a long period of time. It can be easily peeled off, and also has a characteristic (rework property) that no residue is formed on the substrate or the like after peeling.
상기 원재료 필름의 종류로서는 특별히 한정은 없지만, 예를 들면, 필름 도광판, 반사방지 필름, 도전성 필름, 시야각 확대 필름, 위상차 필름, 편광판, 및 이것들을 조합한 필름 등을 들 수 있다.The type of the raw material film is not particularly limited, and examples thereof include a film light guide plate, an antireflection film, a conductive film, a viewing angle expansion film, a retardation film, a polarizing plate, and a combination thereof.
또한 본 발명의 점착제 조성물로 이루어지는 막의 원재료 필름에 대한 밀착성을 향상시키기 위하여, 원재료 필름의 표면에는, 코로나 처리 등의 표면 처리를 시행해도 된다.Further, in order to improve the adhesion of the film made of the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention to the raw material film, the surface of the raw material film may be subjected to surface treatment such as corona treatment.
원재료 필름의 두께는 특별히 제한은 없고, 용도나 목적에 따라 적당한 두께로 하면 되지만, 예를 들면, 5∼300㎛ 정도로 할 수 있다.The thickness of the raw material film is not particularly limited, and may be, for example, about 5 to 300 μm, although it may be an appropriate thickness depending on the use or purpose.
본 발명의 점착층 부착 필름은 통상 사용되고 있는 도포 장치, 예를 들면, 롤 도포 장치 등을 사용하여, 상기 원재료 필름의 편면 또는 양면에, 본 발명의 점착제 조성물을 도공하고, 도공층을 건조함으로써 막(점착제층)을 형성하여 얻어진다. 또한, 필요에 따라, 도공한 점착제층을 가열 가교 또는 자외선 등의 광에 의해 경화시켜 경화막으로 해도 된다.The film with an adhesive layer of the present invention is formed by coating the adhesive composition of the present invention on one or both surfaces of the raw material film using a commonly used coating device, for example, a roll coating device, and drying the coated layer. It is obtained by forming (adhesive layer). Further, if necessary, the coated pressure-sensitive adhesive layer may be cured by heat crosslinking or by light such as ultraviolet rays to form a cured film.
또한 본 발명의 점착층 부착 필름은, 우선, 실리콘 수지 등의 박리제를 표면에 코팅한 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름) 등의 보호 필름에, 본 발명의 점착제 조성물을 도공하고, 이것을 건조하여 점착제층을 형성한 후에, 점착제층 위에 원재료 필름을 첩합하여 얻을 수도 있다.In the film with an adhesive layer of the present invention, first, the adhesive composition of the present invention is coated on a protective film such as a polyethylene terephthalate film (PET film) coated with a release agent such as a silicone resin on the surface, and dried to form an adhesive layer. It can also be obtained by bonding a raw material film on an adhesive layer after forming.
상기의 어느 경우도, 점착제 조성물의 도포량은 건조 후의 점착제층(막)의 두께가 10∼50㎛가 되는 정도인 것이 바람직하다. 상기 점착제층의 두께를 상기 범위 내로 함으로써, 광학 기능성 필름으로서 적합한, 보다 내구성과 리워크성의 밸런스가 잡힌 점착층 부착 필름이 된다.In any of the above cases, it is preferable that the coating amount of the pressure-sensitive adhesive composition is such that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (film) after drying is 10 to 50 μm. By setting the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer within the above range, the film with the pressure-sensitive adhesive layer is more well-balanced in durability and reworkability, suitable as an optical functional film.
이상과 같이 하여 제작된 본 발명의 점착층 부착 필름은 통상 사용되고 있는 수단으로, 액정 표시 장치 등의 액정 셀의 유리 기판 위에 첩착할 수 있다.The film with an adhesion layer of the present invention produced as described above can be adhered onto a glass substrate of a liquid crystal cell such as a liquid crystal display device by means normally used.
또한 본 발명의 점착층 부착 필름은 유리 기판 위에 첩착된 광학 기능성 필름 위에 또한 적층하여 첩착할 수도 있다.Further, the film with an adhesive layer of the present invention may be further laminated and adhered onto an optical functional film adhered onto a glass substrate.
(실시예)(Example)
이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
또한, 실시예에서 사용한 장치는 이하와 같다.In addition, the apparatus used in the Example is as follows.
적외 분광법(FTIR): Thermo sientific제 NICOLET6700Infrared spectroscopy (FTIR): NICOLET6700 from Thermo sientific
29Si-NMR: Bruker제 AVANCE400M 29 Si-NMR: AVANCE400M from Bruker
GPC: 토소제 HLC-8220 GPCGPC: Toso HLC-8220 GPC
[1] 매트릭스 수지의 조제[1] Preparation of matrix resin
[합성예 1-1] 공중합체 용액-1의 조제 [Synthesis Example 1-1] Preparation of Copolymer Solution-1
교반기, 환류 냉각기, 적하 깔때기 및 온도계를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, 질소 가스를 도입하고, 장치 내의 공기를 질소 가스로 치환했다. 다음에 플라스크 내에, n-뷰틸아크릴레이트(BA) 70.0g, 메틸아크릴레이트(MA) 30.0g, 아크릴산(AA) 0.3g, 2-하이드록시에틸아크릴레이트(2HEA) 1.7g, 아조비스아이소뷰티로나이트릴 0.1g, 아세트산 에틸 100g을 장입하고, 교반하면서 70℃에서 10시간 반응시켜 아크릴계 공중합체 용액-1을 얻었다. GPC에 의한 공중합체의 중량평균 분자량은 1,500,000이었다.Nitrogen gas was introduced into a 1 L separable flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer, and the air in the apparatus was substituted with nitrogen gas. Next, in the flask, 70.0 g of n-butyl acrylate (BA), 30.0 g of methyl acrylate (MA), 0.3 g of acrylic acid (AA), 1.7 g of 2-hydroxyethyl acrylate (2HEA), and azobisisobutyro 0.1 g of nitrile and 100 g of ethyl acetate were charged, and the mixture was reacted at 70°C for 10 hours while stirring to obtain an acrylic copolymer solution-1. The weight average molecular weight of the copolymer by GPC was 1,500,000.
[합성예 1-2] 공중합체 용액-2의 조제 [Synthesis Example 1-2] Preparation of Copolymer Solution-2
아크릴산(AA)을 사용하지 않고, 2-하이드록시에틸아크릴레이트(2HEA)를 2.0g 사용하고, 또한, 아크릴산(AA)을 사용하지 않은 이외는 합성예 1과 동일하게 하여 공중합체 용액-2를 얻었다. GPC에 의한 공중합체의 중량평균 분자량은 1,500,000이었다.Copolymer solution-2 was prepared in the same manner as in Synthesis Example 1 except that acrylic acid (AA) was not used, 2.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate (2HEA) was used, and acrylic acid (AA) was not used. got it The weight average molecular weight of the copolymer by GPC was 1,500,000.
[2] 오가노실록세인의 합성[2] Synthesis of organosiloxanes
[합성예 2-1][Synthesis Example 2-1]
교반기, 온도계, 및 딤로스 냉각기 냉각관을 구비한 1리터의 3구 플라스크에, 하기 식 [18]에 나타내어지는 오가노하이드로젠실록세인 100g(0.192mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 56.7g(0.383mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.After charging 100 g (0.192 mol) of organohydrogensiloxane represented by the following formula [18] and 114 g of toluene to a 1 liter three-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a dimroth condenser condenser, vinyl 1.00 g of a toluene solution of siloxane-coordinated Pt was added with stirring. Next, the temperature was raised to 80°C, and 56.7 g (0.383 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, followed by aging for 2 hours.
여기에서, 상기 반응에 사용한 바이닐트라이메톡시실레인의 반응율에 대하여, 다음과 같이 하여 측정을 행했다.Here, the reaction rate of vinyltrimethoxysilane used in the above reaction was measured as follows.
우선, 다음 방법에 의해, 반응 전후에 있어서의 샘플 1g 중의 ≡SiH 함유량을 각각 측정했다.First, the ≡SiH content in 1 g of the sample before and after the reaction was measured by the following method, respectively.
반응 전후의 샘플 1g에 각각 부탄올 10g을 가하고, 또한, 교반하면서, 20질량% NaOH 수용액을 20g 가했다. 이때에 발생하는 수소 가스(≡SiH+H2O→≡SiOH+H2↑)의 양으로부터 ≡SiH의 함유량을 각각 산출했다.10 g of butanol was added to 1 g of the sample before and after the reaction, respectively, and 20 g of 20 mass% NaOH aqueous solution was added while stirring. The content of ≡SiH was calculated from the amount of hydrogen gas (≡SiH+H 2 O→≡SiOH+H 2 ↑) generated at this time.
다음에 하기 식에 의해, 샘플 1g 중에 있어서, 실제로 반응한 바이닐트라이메톡시실레인의 양을 산출했다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.Next, the amount of vinyltrimethoxysilane actually reacted in 1 g of the sample was calculated by the following formula. The results are shown in Table 1.
반응량(mol)=[반응 전의 ≡SiH 함유량(mol)]―[반응 후의 ≡SiH 함유량(mol)]Reaction amount (mol) = [≡SiH content (mol) before reaction] - [≡SiH content (mol) after reaction]
반응 전의 샘플 1g 중에는, 원료로서 장입한 바이닐트라이메톡시실레인이 1.41×10-3mol 존재한다. 앞에 구한 반응량과, 원료로서 장입한 양으로부터, 하기와 같이 하여, 바이닐트라이메톡시실레인의 반응율을 계산하면 99.3%가 된다.In 1 g of the sample before the reaction, 1.41 x 10 -3 mol of vinyltrimethoxysilane charged as a raw material was present. When the reaction rate of vinyltrimethoxysilane is calculated as follows from the reaction amount obtained previously and the amount charged as a raw material, it is 99.3%.
[반응율=1.40×10-3(mol)/1.41×10-3(mol)×100=99.3(%)][Reaction rate = 1.40 × 10 -3 (mol) / 1.41 × 10 -3 (mol) × 100 = 99.3 (%)]
이상으로부터, 하이드로실릴화 반응에 의해, 원료로서 장입한 바이닐트라이메톡시실레인의 99% 이상이 메틸하이드로젠실록세인과 반응한 것이 확인되었다.From the above, it was confirmed that 99% or more of vinyltrimethoxysilane charged as a raw material reacted with methylhydrogensiloxane by the hydrosilylation reaction.
다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에 알릴 무수 석신산을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에 얻어진 반응액에, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 온도를 110℃까지 승온했다. 다음에 알릴 무수 석신산 120g(0.857mol)을 적하 첨가한 후, 115℃에서 10시간의 숙성을 행했다.Next, an operation for reacting allyl succinic anhydride with the remaining ≡Si-H groups contained in methylhydrogensiloxane was performed. To the reaction solution obtained above, 1.00 g of a toluene solution of vinylsiloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5% by mass) was added while stirring, and the temperature was raised to 110°C. Next, 120 g (0.857 mol) of allyl succinic anhydride was added dropwise, followed by aging at 115°C for 10 hours.
여기에서, 알릴 무수 석신산의 반응율을 측정했다. 우선, 상기와 동일한 방법에 의해, 반응 전후에 있어서의 샘플 1g 중의 ≡SiH 함유량을 측정하고, 실제로 반응한 알릴 무수 석신산의 양을 산출했다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.Here, the reaction rate of allyl succinic anhydride was measured. First, by the same method as above, the content of ≡SiH in 1 g of the sample before and after the reaction was measured, and the amount of allyl succinic anhydride actually reacted was calculated. The results are shown in Table 2.
반응 종료 후의 수소 가스 발생량은 거의 0ml에 가까운 값이었다. 이것으로부터, 메틸하이드로젠실록세인 중에 잔류하고 있던 ≡SiH는 하이드로실릴화 반응에 의해, 거의 모두 알릴 무수 석신산과 반응했다고 생각된다.The amount of hydrogen gas generated after completion of the reaction was a value close to 0 ml. From this, it is considered that almost all of the ?SiH remaining in methylhydrogensiloxane reacted with allyl succinic anhydride by the hydrosilylation reaction.
반응 전의 샘플 1g 중에는, 원료로서 장입한 알릴 무수 석신산이 2.17×10-3mol 존재한다. 앞에 구한 반응량과, 원료로서 장입한 양으로부터, 하기와 같이 하여 알릴 무수 석신산의 반응율을 계산하면, 87.6%가 된다.In 1 g of the sample before the reaction, 2.17 x 10 -3 mol of allyl succinic anhydride charged as a raw material was present. When the reaction rate of allyl succinic anhydride is calculated as follows from the reaction amount obtained above and the amount charged as a raw material, it is 87.6%.
[1.90×10-3(mol)/2.17×10-3(mol)×100=87.6(%)][1.90×10 -3 (mol)/2.17×10 -3 (mol)×100 = 87.6 (%)]
원료로서 장입한 알릴 무수 석신산의 약 88%가 메틸하이드로젠실록세인과 반응하고, 나머지 약 12%가 잉여분으로서 잔류했다.About 88% of the allyl succinic anhydride charged as a raw material reacted with methylhydrogensiloxane, and the remaining about 12% remained as an excess.
마지막으로, 잔류한 잉여의 알릴 무수 석신산을 제거하기 위한 조작을 행했다. 딤로스 냉각기 냉각관을 배기 가스관으로 바꾸어 연결하고, 계 내의 압력을 10mmHg까지 감압한 후, 질소 가스 버블링하, 150℃에서 20시간 가열을 행했다. 감압 가열을 종료 후, 온도를 실온까지 냉각하고, 압력을 상압으로 복압한 후, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하여, 246g의 생성물-1을 얻었다.Finally, an operation was performed to remove the remaining surplus allyl succinic anhydride. The cooling pipe of the Dimroth condenser was replaced with an exhaust gas pipe, and after reducing the pressure in the system to 10 mmHg, heating was performed at 150° C. for 20 hours under nitrogen gas bubbling. After completion of heating under reduced pressure, the temperature was cooled to room temperature and the pressure was restored to normal pressure, and then the obtained liquid was purified by filtration to obtain 246 g of Product-1.
여기에서, 생성물-1에 관하여, THF 용매하에서의 GPC 측정을 행했다. 그 결과, 유지시간 21∼32분의 위치에 브로드한 생성물 피크를 확인했다. 유지시간 36∼37분의 부근에 원료 알릴 무수 석신산의 피크가 존재하지 않는 점에서, 알릴 무수 석신산의 잉여분은 최후의 감압 가열에서 거의 완전히 제거되었다고 생각된다.Here, for Product-1, GPC measurement was performed under a THF solvent. As a result, a broad product peak was confirmed at a holding time of 21 to 32 minutes. Since the peak of raw material allyl succinic anhydride does not exist in the vicinity of the holding time of 36 to 37 minutes, it is considered that the excess of allyl succinic anhydride was almost completely removed by the last reduced-pressure heating.
다음에 생성물-1에 관하여, 적외 분광법(FTIR)에 의해, 산 무수물기의 귀속을 행했다. 그 결과, 1863cm-1, 1785cm-1에 무수 석신산기의 카본일 신축 진동에 의한 흡수가 관측되었다. 또한, 1735cm-1에, 무수 석신산기가 개환하여 생기는 카복시기의 카본일 신축 진동에 의한 흡수는 관측되지 않았다. 생성물-1은 완전 비수계에서 제조를 행하기 때문에, 제조 단계에 있어서, 활성 수소 함유 화합물(예: 물이나 알코올 등)이 혼입되지 않아, 무수 석신산기의 개환이 충분히 억제되었다.Next, the acid anhydride group was assigned to Product-1 by infrared spectroscopy (FTIR). As a result, absorption by the carbonyl stretching vibration of the anhydride succinic acid group was observed at 1863 cm -1 and 1785 cm -1 . Further, at 1735 cm −1 , absorption due to stretching vibration of the carbonyl group of the carboxy group caused by ring-opening of an anhydride succinic acid group was not observed. Since Product-1 was produced in a completely non-aqueous system, active hydrogen-containing compounds (eg, water, alcohol, etc.) were not incorporated in the production step, and ring opening of the succinic anhydride group was sufficiently suppressed.
다음에 생성물-1의 구조 해석을 행하기 위해, 29Si-NMR 측정을 실시했다. 그 결과, 우선, 7.2ppm 부근에, 하기에 나타내는 구조의 존재를 시사하는 1개의 피크가 확인되었다.Next, in order to analyze the structure of Product-1, 29 Si-NMR measurement was performed. As a result, first, one peak suggesting the existence of a structure shown below was confirmed around 7.2 ppm.
또한 -22ppm 부근에, 하기에 나타내는 구조의 존재를 시사하는 1개의 피크가 확인되었다.Furthermore, one peak suggesting the presence of a structure shown below was confirmed around -22 ppm.
식 중, R은 하기의 어느 하나의 기를 나타낸다.In formula, R represents any one of the following groups.
또한 -42ppm 부근에, 하기에 나타내는 기의 존재를 시사하는 1개의 피크가 확인되었다.Furthermore, one peak suggesting the presence of a group shown below was confirmed around -42 ppm.
상기의 결과로부터, 생성물-1은 직쇄상 실록세인의 측쇄에, 트라이메톡시실릴기를 함유하는 1가 탄화수소기, 및 무수 석신산기를 함유하는 1가 탄화수소기가 결합한 구조체인 것으로 추정된다.From the above results, it is estimated that Product-1 is a structure in which a monovalent hydrocarbon group containing a trimethoxysilyl group and a monovalent hydrocarbon group containing a succinic anhydride group are bonded to the side chain of a linear siloxane.
여기에서, 메틸하이드로젠실록세인, 바이닐트라이메톡시실레인, 알릴 무수 석신산의 각 원료 장입량, 및 상기 반응율의 측정 결과로부터, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응하여 도입된 트라이메톡시실릴기, 무수 석신산기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 산 무수물기 당량을 표 3에 나타낸다.Here, from the measurement results of the respective raw material loading amounts of methylhydrogensiloxane, vinyltrimethoxysilane, and allyl succinic anhydride, and the reaction rate, trimethoxysilyl introduced by reacting with respect to 1 mol of methylhydrogensiloxane The number of groups and anhydrous succinic acid groups (average value) was calculated. Table 3 shows the amount of each functional group introduced and the equivalent weight of the acid anhydride group.
[합성예 2-2][Synthesis Example 2-2]
합성예 2-1과 동일하게 하여, 하기 식 [19]로 표시되는 메틸하이드로젠실록세인 100g(0.0371mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 55.0g(0.371mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.In the same manner as in Synthesis Example 2-1, after charging 100 g (0.0371 mol) of methylhydrogensiloxane represented by the following formula [19] and 114 g of toluene, a toluene solution of vinylsiloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5 mass %) 1.00 g was added while stirring. Next, the temperature was raised to 80°C, and 55.0 g (0.371 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, followed by aging for 2 hours.
다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴 무수 석신산을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에서 얻어진 반응액에, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 온도를 110℃까지 승온했다. 다음에 알릴 무수 석신산 62.3g(0.445mol)을 적하 첨가한 후, 115℃에서 10시간의 숙성을 행했다.Next, an operation for reacting allyl succinic anhydride with the remaining ≡Si-H groups contained in methylhydrogensiloxane was performed. To the reaction solution obtained above, 1.00 g of a toluene solution of vinylsiloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5% by mass) was added while stirring, and the temperature was raised to 110°C. Next, 62.3 g (0.445 mol) of allyl succinic anhydride was added dropwise, followed by aging at 115°C for 10 hours.
최후에, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 잔류한 잉여의 알릴 무수 석신산을 제거하기 위한 조작을 행하고, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하고, 178g의 생성물-2를 얻었다.Finally, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, an operation for removing the remaining surplus allyl succinic anhydride was carried out, and the obtained liquid was purified by filtration to obtain 178 g of Product-2.
여기에서, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응 도입된 트라이메톡시실릴기, 무수 석신산기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 산 무수물기 당량을 표 3에 나타낸다.Here, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, the number of reacted and introduced trimethoxysilyl groups and succinic anhydride groups (average value) was calculated with respect to 1 mol of methylhydrogensiloxane. Table 3 shows the amount of each functional group introduced and the equivalent weight of the acid anhydride group.
[합성예 2-3][Synthesis Example 2-3]
합성예 2-1과 동일하게 하여, 상기 식 [19]로 표시되는 메틸하이드로젠실록세인 100g(0.0371mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 55.0g(0.371mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.In the same manner as in Synthesis Example 2-1, after charging 100 g (0.0371 mol) of methylhydrogensiloxane represented by the above formula [19] and 114 g of toluene, a toluene solution of Pt coordinated with vinylsiloxane (Pt concentration: 0.5 mass %) 1.00 g was added while stirring. Next, the temperature was raised to 80°C, and 55.0 g (0.371 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, followed by aging for 2 hours.
계속해서, 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 3-(퍼플루오로헥실)-1-프로펜을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에서 얻어진 반응액의 온도를 100℃까지 승온하고, 3-(퍼플루오로헥실)-1-프로펜 26.7g(0.0742mol)을 적하 첨가한 후, 5시간의 숙성을 더 행했다.Subsequently, an operation for reacting 3-(perfluorohexyl)-1-propene with the remaining ≡Si-H groups contained in methylhydrogensiloxane was performed. The temperature of the reaction solution obtained above was raised to 100°C, and 26.7 g (0.0742 mol) of 3-(perfluorohexyl)-1-propene was added dropwise, followed by aging for 5 hours.
다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴 무수 석신산을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에서 얻어진 반응액에, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 온도를 110℃까지 승온했다. 다음에 알릴 무수 석신산 62.3g(0.445mol)을 적하 첨가한 후, 115℃에서 10시간의 숙성을 행했다.Next, an operation for reacting allyl succinic anhydride with the remaining ≡Si-H groups contained in methylhydrogensiloxane was performed. To the reaction solution obtained above, 1.00 g of a toluene solution of vinylsiloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5% by mass) was added while stirring, and the temperature was raised to 110°C. Next, 62.3 g (0.445 mol) of allyl succinic anhydride was added dropwise, followed by aging at 115°C for 10 hours.
최후에, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 잔류한 잉여의 알릴 무수 석신산을 제거하기 위한 조작을 행하고, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하고, 199g의 생성물-3을 얻었다.Finally, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, an operation for removing remaining surplus allyl succinic anhydride was carried out, and the resulting liquid was purified by filtration to obtain 199 g of Product-3.
여기에서, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응 도입된 트라이메톡시실릴기, 퍼플루오로헥실기, 무수 석신산기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 산 무수물기 당량을 표 3에 나타낸다.Here, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, the number (average value) of trimethoxysilyl groups, perfluorohexyl groups, and succinic anhydride groups introduced by the reaction was calculated with respect to 1 mol of methylhydrogensiloxane. Table 3 shows the amount of each functional group introduced and the equivalent weight of the acid anhydride group.
[합성예 2-4][Synthesis Example 2-4]
합성예 2-1과 동일하게 하여, 상기 식 [18]에 나타내어지는 메틸하이드로젠실록세인 100g(0.192mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 56.9g(0.384mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.In the same manner as in Synthesis Example 2-1, after charging 100 g (0.192 mol) of methylhydrogensiloxane represented by the above formula [18] and 114 g of toluene, a toluene solution of vinylsiloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5 mass %) 1.00 g was added while stirring. Next, the temperature was raised to 80°C, and 56.9 g (0.384 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, followed by aging for 2 hours.
계속해서, 메틸하이드로젠실록세인 중에 잔류하는 ≡Si-H기의 일부에, 알릴폴리에터를 반응시키기 위한 조작을 행했다. 반응액을 80℃로 유지한 상태에서, 교반하, CH2=CH-CH2-O(CH2CH2O)8CH3로 표시되는 알릴폴리에터 81.4g(0.192mol)을 적하 첨가한 후, 3시간의 숙성을 행했다.Subsequently, an operation for reacting allyl polyether with a part of the ?Si-H groups remaining in methylhydrogensiloxane was performed. 81.4 g (0.192 mol) of an allyl polyether represented by CH 2 =CH-CH 2 -O(CH 2 CH 2 O) 8 CH 3 was added dropwise while stirring the reaction solution at 80°C. After that, aging was performed for 3 hours.
다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴 무수 석신산을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 반응액의 온도를 110℃까지 승온하고, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 또한 알릴 무수 석신산 121g(0.864mol)을 적하 첨가한 후, 115℃에서 10시간의 숙성을 행했다.Next, an operation for reacting allyl succinic anhydride with the remaining ≡Si-H groups contained in methylhydrogensiloxane was performed. The temperature of the reaction solution was raised to 110 ° C., and 1.00 g of a toluene solution of vinylsiloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5% by mass) was added while stirring, and further, 121 g (0.864 mol) of allyl succinic anhydride was added dropwise. After that, aging was performed at 115°C for 10 hours.
최후에, 잔류한 잉여의 알릴 무수 석신산을 제거하기 위하여, 합성예 2-1과 동일하게 하고, 10mmHg까지 감압한 후, 질소 가스 버블링하, 120℃에서 20시간 가열을 행했다. 감압 가열을 종료 후, 온도를 실온까지 냉각하고, 압력을 상압으로 복압한 후, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하고, 271g의 생성물-4를 얻었다.Finally, in order to remove the remaining surplus allyl succinic anhydride, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, after reducing the pressure to 10 mmHg, heating was performed at 120° C. for 20 hours under nitrogen gas bubbling. After completion of heating under reduced pressure, the temperature was cooled to room temperature, and the pressure was restored to normal pressure, and then the resulting liquid was purified by filtration to obtain 271 g of Product-4.
여기에서, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응 도입된 트라이메톡시실릴기, 폴리에터기, 무수 석신산기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 산 무수물기 당량을 표 3에 나타낸다.Here, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, the number (average value) of trimethoxysilyl groups, polyether groups, and succinic anhydride groups introduced by the reaction was calculated with respect to 1 mol of methylhydrogensiloxane. Table 3 shows the amount of each functional group introduced and the equivalent weight of the acid anhydride group.
[합성예 2-5][Synthesis Example 2-5]
합성예 2-1과 동일하게 하여, 상기 식 [19]에 나타내어지는 메틸하이드로젠실록세인 100g(0.0371mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 16.5g(0.111mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.In the same manner as in Synthesis Example 2-1, after charging 100 g (0.0371 mol) of methylhydrogensiloxane represented by the above formula [19] and 114 g of toluene, a toluene solution of vinylsiloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5 mass %) 1.00 g was added while stirring. Next, the temperature was raised to 80°C, and 16.5 g (0.111 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, followed by aging for 2 hours.
계속해서, 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴폴리에터를 반응시키기 위한 조작을 행했다. 반응액을 80℃로 유지한 상태에서, 교반하, CH2=CH-CH2-O(CH2CH2CH2O)12C4H9로 표시되는 알릴폴리에터를 271g(0.335mol) 적하 첨가한 후, 3시간의 숙성을 행했다.Subsequently, an operation for reacting allylpolyether with the remaining ≡Si-H groups contained in methylhydrogensiloxane was performed. While the reaction solution was maintained at 80 ° C., 271 g (0.335 mol) of allyl polyether represented by CH 2 =CH-CH 2 -O (CH 2 CH 2 CH 2 O) 12 C 4 H 9 was stirred. After dropwise addition, aging was performed for 3 hours.
다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴 무수 석신산을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에 얻어진 반응액에, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 온도를 110℃까지 승온했다. 다음에 알릴 무수 석신산 62.3g(0.445mol)을 적하 첨가한 후, 115℃에서 10시간의 숙성을 행했다.Next, an operation for reacting allyl succinic anhydride with the remaining ≡Si-H groups contained in methylhydrogensiloxane was performed. To the reaction solution obtained above, 1.00 g of a toluene solution of vinylsiloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5% by mass) was added while stirring, and the temperature was raised to 110°C. Next, 62.3 g (0.445 mol) of allyl succinic anhydride was added dropwise, followed by aging at 115°C for 10 hours.
최후에, 합성예 2-4와 동일하게 하여, 잔류한 잉여의 알릴 무수 석신산을 제거하기 위한 조작을 행하고, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하고, 367g의 생성물-5를 얻었다.Finally, in the same manner as in Synthesis Example 2-4, an operation for removing the remaining surplus allyl succinic anhydride was carried out, and the obtained liquid was purified by filtration to obtain 367 g of Product-5.
여기에서, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응 도입된 트라이메톡시실릴기, 폴리에터기, 무수 석신산기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 산 무수물기 당량을 표 3에 나타낸다.Here, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, the number (average value) of trimethoxysilyl groups, polyether groups, and succinic anhydride groups introduced by the reaction was calculated with respect to 1 mol of methylhydrogensiloxane. Table 3 shows the amount of each functional group introduced and the equivalent weight of the acid anhydride group.
[합성예 2-6][Synthesis Example 2-6]
합성예 2-1과 동일하게 하여, 상기 식 [19]로 표시되는 메틸하이드로젠실록세인 100g(0.0371mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 16.5g(0.111mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.In the same manner as in Synthesis Example 2-1, after charging 100 g (0.0371 mol) of methylhydrogensiloxane represented by the above formula [19] and 114 g of toluene, a toluene solution of Pt coordinated with vinylsiloxane (Pt concentration: 0.5 mass %) 1.00 g was added while stirring. Next, the temperature was raised to 80°C, and 16.5 g (0.111 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, followed by aging for 2 hours.
계속해서, 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴폴리에터를 반응시키기 위한 조작을 행했다. 반응액을 80℃로 유지한 상태에서, 교반하, CH2=CH-CH2-O(CH2CH2CH2O)12C4H9로 표시되는 알릴폴리에터를 420g(0.519mol) 적하 첨가한 후, 3시간의 숙성을 행했다.Subsequently, an operation for reacting allylpolyether with the remaining ≡Si-H groups contained in methylhydrogensiloxane was performed. 420 g (0.519 mol) of allyl polyether represented by CH 2 =CH-CH 2 -O(CH 2 CH 2 CH 2 O) 12 C 4 H 9 while stirring the reaction solution at 80 ° C. After dropwise addition, aging was performed for 3 hours.
다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴 무수 석신산을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에 얻어진 반응액에, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 온도를 110℃까지 승온했다. 다음에 알릴 무수 석신산 23.4g(0.167mol)을 적하 첨가한 후, 115℃에서 10시간의 숙성을 행했다.Next, an operation for reacting allyl succinic anhydride with the remaining ≡Si-H groups contained in methylhydrogensiloxane was performed. To the reaction solution obtained above, 1.00 g of a toluene solution of vinylsiloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5% by mass) was added while stirring, and the temperature was raised to 110°C. Next, 23.4 g (0.167 mol) of allyl succinic anhydride was added dropwise, followed by aging at 115°C for 10 hours.
최후에, 합성예 2-4와 동일하게 하여, 잔류한 잉여의 알릴 무수 석신산을 제거하기 위한 조작을 행하고, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하고, 475g의 생성물-6을 얻었다.Finally, in the same manner as in Synthesis Example 2-4, an operation for removing remaining surplus allyl succinic anhydride was carried out, and the resulting liquid was purified by filtration to obtain 475 g of Product-6.
여기에서, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응 도입된 트라이메톡시실릴기, 폴리에터기, 무수 석신산기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 산 무수물기 당량을 표 3에 나타낸다.Here, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, the number (average value) of trimethoxysilyl groups, polyether groups, and succinic anhydride groups introduced by the reaction was calculated with respect to 1 mol of methylhydrogensiloxane. Table 3 shows the amount of each functional group introduced and the equivalent weight of the acid anhydride group.
[합성예 2-7][Synthesis Example 2-7]
합성예 2-1과 동일하게 하여, 상기 식 [19]로 표시되는 메틸하이드로젠실록세인 100g(0.0371mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 55.0g(0.371mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.In the same manner as in Synthesis Example 2-1, after charging 100 g (0.0371 mol) of methylhydrogensiloxane represented by the above formula [19] and 114 g of toluene, a toluene solution of Pt coordinated with vinylsiloxane (Pt concentration: 0.5 mass %) 1.00 g was added while stirring. Next, the temperature was raised to 80°C, and 55.0 g (0.371 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, followed by aging for 2 hours.
계속해서, 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴폴리에터를 반응시키기 위한 조작을 행했다. 반응액을 80℃로 유지한 상태에서, 교반하, CH2=CH-CH2-O(CH2CH2CH2O)12C4H9로 표시되는 알릴폴리에터를 60.1g(0.0742mol) 적하 첨가한 후, 3시간의 숙성을 행했다.Subsequently, an operation for reacting allylpolyether with the remaining ≡Si-H groups contained in methylhydrogensiloxane was performed. While the reaction solution was maintained at 80°C, 60.1 g (0.0742 mol) of allyl polyether represented by CH 2 =CH-CH 2 -O(CH 2 CH 2 CH 2 O) 12 C 4 H 9 was added while stirring. ) After adding dropwise, aging was performed for 3 hours.
다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 3-(퍼플루오로헥실)-1-프로펜을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에서 얻어진 반응액에, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 온도를 100℃까지 승온했다. 다음에 3-(퍼플루오로헥실)-1-프로펜 26.7g(0.0741mol)을 적하 첨가한 후, 5시간의 숙성을 행했다.Next, an operation for reacting 3-(perfluorohexyl)-1-propene with the remaining ≡Si-H groups contained in methylhydrogensiloxane was performed. To the reaction solution obtained above, 1.00 g of a toluene solution of vinylsiloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5% by mass) was added while stirring, and the temperature was raised to 100°C. Next, 26.7 g (0.0741 mol) of 3-(perfluorohexyl)-1-propene was added dropwise, followed by aging for 5 hours.
또한, 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴 무수 석신산을 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에서 얻어진 반응액에, 교반하, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 첨가하고, 온도를 110℃까지 승온했다. 다음에 알릴 무수 석신산 46.8g(0.334mol)을 적하 첨가한 후, 115℃에서 10시간의 숙성을 행했다.In addition, an operation for reacting allyl succinic anhydride with the remaining ≡Si-H groups contained in methylhydrogensiloxane was performed. To the reaction solution obtained above, 1.00 g of a toluene solution of vinylsiloxane-coordinated Pt (Pt concentration: 0.5% by mass) was added while stirring, and the temperature was raised to 110°C. Next, 46.8 g (0.334 mol) of allyl succinic anhydride was added dropwise, followed by aging at 115°C for 10 hours.
최후에, 합성예 2-4와 동일하게 하여, 잔류한 잉여의 알릴 무수 석신산을 제거하기 위한 조작을 행하고, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하여, 230g의 생성물-7을 얻었다.Finally, in the same manner as in Synthesis Example 2-4, an operation for removing remaining surplus allyl succinic anhydride was carried out, and the resulting liquid was purified by filtration to obtain 230 g of Product-7.
여기에서, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응 도입된 트라이메톡시실릴기, 폴리에터기, 퍼플루오로헥실기 및 무수 석신산기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 산 무수물기 당량을 표 3에 나타낸다.Here, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, the number (average value) of trimethoxysilyl groups, polyether groups, perfluorohexyl groups and succinic anhydride groups introduced by the reaction with respect to 1 mol of methylhydrogensiloxane Calculated. Table 3 shows the amount of each functional group introduced and the equivalent weight of the acid anhydride group.
[합성예 2-8][Synthesis Example 2-8]
교반기, 온도계 및 딤로스 냉각기 냉각관을 구비한 1리터의 3구 플라스크에, 상기 식 [19]로 표시되는 메틸하이드로젠실록세인 100g(0.0371mol)과, 톨루엔 114g을 장입한 후, 바이닐실록세인 배위 Pt의 톨루엔 용액(Pt 농도: 0.5질량%) 1.00g을 교반하면서 첨가했다. 다음에 80℃까지 승온하고, 바이닐트라이메톡시실레인 55.0g(0.371mol)을 적하 첨가한 후, 2시간의 숙성을 행했다.After charging 100 g (0.0371 mol) of methylhydrogensiloxane represented by the above formula [19] and 114 g of toluene to a 1 liter three-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer and a dimroth condenser cooling pipe, vinylsiloxane 1.00 g of a toluene solution of coordinating Pt (Pt concentration: 0.5% by mass) was added while stirring. Next, the temperature was raised to 80°C, and 55.0 g (0.371 mol) of vinyltrimethoxysilane was added dropwise, followed by aging for 2 hours.
계속해서, 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴폴리에터를 반응시키기 위한 조작을 행했다. 반응액을 80℃로 유지한 상태에서, 교반하, CH2=CH-CH2-O(CH2CH2CH2O)12C4H9로 표시되는 알릴폴리에터를 60.1g(0.0742mol) 적하 첨가한 후, 3시간의 숙성을 행했다.Subsequently, an operation for reacting allylpolyether with the remaining ≡Si-H groups contained in methylhydrogensiloxane was performed. While the reaction solution was maintained at 80 ° C., 60.1 g (0.0742 mol) of allyl polyether represented by CH 2 =CH-CH 2 -O (CH 2 CH 2 CH 2 O ) 12 C 4 H 9 was stirred. After dropwise addition, aging was performed for 3 hours.
다음에 메틸하이드로젠실록세인 중에 함유하는 나머지의 ≡Si-H기에, 알릴글라이시딜에터를 반응시키기 위한 조작을 행했다. 상기에 얻어진 반응액에, 알릴글라이시딜에터 50.7g(0.445mol)을 적하 첨가한 후, 10시간의 숙성을 행했다.Next, an operation for reacting allylglycidyl ether with the remaining ≡Si-H groups contained in methylhydrogensiloxane was performed. After adding 50.7 g (0.445 mol) of allylglycidyl ether dropwise to the reaction solution obtained above, aging was performed for 10 hours.
최후에, 잔류한 잉여의 알릴글라이시딜에터를 제거하기 위하여, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 10mmHg까지 감압한 후, 질소 가스 버블링하, 120℃에서 5시간 가열을 행했다. 감압 가열을 종료 후, 온도를 실온까지 냉각하고, 압력을 상압으로 복압한 후, 얻어진 액체의 여과 정제를 행하고, 219g의 생성물-8을 얻었다.Finally, in order to remove the remaining surplus allylglycidyl ether, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, after reducing the pressure to 10 mmHg, heating was performed at 120°C for 5 hours under nitrogen gas bubbling. After completion of heating under reduced pressure, the temperature was cooled to room temperature and the pressure was restored to normal pressure, and then the obtained liquid was purified by filtration to obtain 219 g of Product-8.
여기에서, 합성예 2-1과 동일하게 하여, 메틸하이드로젠실록세인 1mol에 대하여, 반응 도입된 트라이메톡시실릴기, 폴리에터기, 에폭시기의 수(평균값)를 산출했다. 각 작용기 도입량 및 에폭시 당량을 표 4에 나타낸다.Here, in the same manner as in Synthesis Example 2-1, the number (average value) of trimethoxysilyl groups, polyether groups, and epoxy groups introduced by reaction was calculated with respect to 1 mol of methylhydrogensiloxane. The amount of each functional group introduced and the epoxy equivalent are shown in Table 4.
[2] 점착제 조성물의 조제[2] Preparation of pressure-sensitive adhesive composition
[실시예 및 비교예][Examples and Comparative Examples]
합성예 1-1 및 1-2에서 얻어진 (A) 아크릴산 에스터를 포함하는 공중합체 용액의 고형분 100질량부에 대하여, 하기 표 5, 6에 기재된 각 성분을 배합하고, 실시예 1-1∼1-7, 2-1∼2-7, 및 비교예 1-1∼1-4, 2-1∼2-4의 각 점착제 조성물을 조제했다.With respect to 100 parts by mass of the solid content of the copolymer solution containing (A) acrylic acid ester obtained in Synthesis Examples 1-1 and 1-2, each component shown in Tables 5 and 6 below was blended, and Examples 1-1 to 1 -7, 2-1 to 2-7, and Comparative Examples 1-1 to 1-4, and each adhesive composition of 2-1 to 2-4 were prepared.
TDI: 트라이메틸올프로페인톨릴렌다이아이소사이아네이트 부가물TDI: trimethylolpropanetolylenediisocyanate adduct
TDI: 트라이메틸올프로페인톨릴렌다이아이소사이아네이트 부가물TDI: trimethylolpropanetolylenediisocyanate adduct
X-24-1056: 신에츠카가쿠고교(주)제, 에폭시계 알콕시 올리고머X-24-1056: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., epoxy-based alkoxy oligomer
X-41-1810: 신에츠카가쿠고교(주)제, 메틸머캡토계 알콕시 올리고머X-41-1810: Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd., methyl mercapto alkoxy oligomer
X-12-641: 신에츠카가쿠고교(주)제, 폴리에터 변성 실레인X-12-641: Polyether-modified silane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
상기 각 실시예 및 비교예에서 얻어진 점착제 조성물을 PET 필름(이형성 기재)에 코팅하고 건조함으로써, 25㎛의 균일한 점착제층을 형성했다. 이 점착제층을 형성한 면에, 두께 185㎛의 아이오딘계 편광판을 첩합하고, 25℃, 50% RH의 분위기하에서 7일간 양생한 후, 얻어진 편광판을 적절한 크기로 절단하고, 이하에 나타내는 방법에 의해, 리워크성 및 내구성의 평가를 행했다. 결과를 표 7, 8에 나타낸다.A uniform pressure-sensitive adhesive layer of 25 µm was formed by coating the pressure-sensitive adhesive composition obtained in each of the above Examples and Comparative Examples on a PET film (releasable substrate) and drying. An iodine-based polarizing plate having a thickness of 185 μm was bonded to the surface on which this pressure-sensitive adhesive layer was formed, and after curing for 7 days in an atmosphere of 25 ° C. and 50% RH, the obtained polarizing plate was cut into appropriate sizes, and the method shown below Thus, reworkability and durability were evaluated. The results are shown in Tables 7 and 8.
(1) 리워크성(1) Reworkability
점착제가 코팅된 편광판을 90mm×170mm의 크기로 재단하고, PET 필름을 박리하고, 유리 기판에 첩합한 후, 50℃, 0.5MPa로 20분간 유지하여 접착시키고, 시험용의 시료를 제작했다. 25℃, 60% RH에서 1시간 방치 후, 또한 70℃에서 20시간 에이징하고, 25℃까지 방냉했다.A polarizing plate coated with an adhesive was cut to a size of 90 mm × 170 mm, the PET film was peeled off, bonded to a glass substrate, held at 50 ° C. and 0.5 MPa for 20 minutes to adhere, and a test sample was prepared. After leaving it at 25°C and 60% RH for 1 hour, it was further aged at 70°C for 20 hours and allowed to cool to 25°C.
다음에 편광판을 유리로부터 박리하여, 편광판이나 유리판을 파괴하지 않고, 또한 점착재를 유리 표면에 남기지 않고 박리할 수 있는지 아닌지를 확인하고, 하기 기준에 기초하여 평가했다. 결과를 표 7, 8에 나타낸다.Next, the polarizing plate was peeled from the glass, and it was confirmed whether or not it could be peeled without destroying the polarizing plate or the glass plate and without leaving an adhesive material on the glass surface, and evaluated based on the following criteria. The results are shown in Tables 7 and 8.
◎: 용이하게 박리 가능(경박리)◎: Easy peeling (light peeling)
○: 박리 가능(중박리)○: Peelable (heavy peeling)
△: 박리는 약간 곤란, 점착제가 유리 표면에 잔존(중박리)△: Peeling is slightly difficult, the adhesive remains on the glass surface (heavy peeling)
×: 박리 불능, 유리 또는 편광판이 파손(중박리)×: Impossible to peel, broken glass or polarizing plate (heavy peeling)
(2) 내구성(2) durability
점착제가 코팅된 편광판을 90mm×170mm의 크기로 재단하고, PET 필름을 박리하고, 유리 기판에 첩합한 후, 50℃, 0.5MPa로 20분간 오토클레이브 처리를 행하고, 편광판을 유리에 밀착시켰다. 다음에 80℃(DRY)의 분위기하와, 60℃/90% RH의 분위기하에서, 각각 1000시간 방치한 후, 기포의 생성이나 박리의 유무를 확인하고, 하기 기준에 기초하여 평가했다. 결과를 표 7, 8에 나타낸다. 또한, 시험편의 상태를 평가하기 전에, 실온(23℃/60% RH)에서 24시간 정치했다.A polarizing plate coated with an adhesive was cut to a size of 90 mm × 170 mm, the PET film was peeled off, bonded to a glass substrate, and then autoclave treatment was performed at 50 ° C. and 0.5 MPa for 20 minutes to adhere the polarizing plate to the glass. Next, after leaving it to stand for 1000 hours in an atmosphere of 80° C. (DRY) and an atmosphere of 60° C./90% RH, respectively, the presence or absence of bubble generation or peeling was confirmed and evaluated based on the following criteria. The results are shown in Tables 7 and 8. In addition, before evaluating the state of the test piece, it was left still at room temperature (23 degreeC/60%RH) for 24 hours.
◎: 벗겨짐 등의 외관상의 변화가 전혀 없음.◎: No change in appearance such as peeling at all.
○: 미소하지만 벗겨짐이 있지만, 실용상 문제 없음.○: There is slight peeling, but there is no problem in practical use.
×: 현저한 벗겨짐이 있어, 실용상 문제 있음.x: There is remarkable peeling, and there is a problem in practical use.
표 7, 8에 나타내어지는 바와 같이, 각 실시예의 점착제 조성물은 리워크성과 내구성이 모두 양호하여, 비교예의 점착제 조성물보다도 분명히 우수한 것이 확인되었다. 본 발명의 점착제 조성물은, 작용기로서 하이드록실기를 메인에 함유하는 OH형 아크릴 수지를 사용한 경우에도, 우수한 내구성을 나타내고, 또한 리워크성과의 양립이 가능하다.As shown in Tables 7 and 8, it was confirmed that the pressure-sensitive adhesive compositions of each example had good reworkability and durability, and were clearly superior to the pressure-sensitive adhesive compositions of comparative examples. The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention exhibits excellent durability and is compatible with reworkability even when an OH-type acrylic resin containing a hydroxyl group as a main functional group is used.
Claims (10)
(식 중, X는 산 무수물기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Y는 폴리에터기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, Z는 가수분해성 실릴기를 갖는 1가 탄화수소기를 나타내고, R1은, 서로 독립하여, 수소 원자, 또는 할로젠 원자로 치환되어도 되는 탄소 원자수 1∼20의 1가 탄화수소기를 나타내고, M1은, 서로 독립하여, 상기 X, Z 및 R1로부터 선택되는 기를 나타내고, a, b, c 및 d는, 각각, 0≤a≤100, b=0, 0≤c≤100, 0≤d≤100의 정수를 나타낸다. 단, a가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 X이고, c는 1≤c≤100의 정수이며, c가 0인 경우, M1의 적어도 1개가 Z이고, a는 1≤a≤100의 정수이다. a, b, c 및 d가 붙여진 괄호 내의 각 반복단위의 배열은 랜덤이어도 블록이어도 된다.)A copolymer of a polymerizable unsaturated monomer containing a (meth)acrylic acid ester monomer and an organosiloxane represented by the following formula [1a] having at least one hydrolyzable silyl group and at least one acid anhydride group in its molecule, and a hydrolyzate thereof A pressure-sensitive adhesive composition comprising at least one of
(Wherein, X represents a monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group, Y represents a monovalent hydrocarbon group having a polyether group, Z represents a monovalent hydrocarbon group having a hydrolysable silyl group, R 1 are independently of each other, Represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom, and M 1 independently represents a group selected from the above X, Z and R 1 , and a, b, c and d represents an integer of 0≤a≤100, b=0, 0≤c≤100, and 0≤d≤100, provided, however, that when a is 0, at least one of M 1 is X, and c is It is an integer of 1≤c≤100, and when c is 0, at least one of M 1 is Z, and a is an integer of 1≤a≤100. The array may be random or block.)
(식 중, A는 탄소 원자수 2∼6의 알킬렌기를 나타낸다.)
(식 중, R4는 탄소 원자수 1∼10의 알킬기를 나타내고, R5는 탄소 원자수 1∼10의 1가 탄화수소기 또는 아실기를 나타내고, n은 2 이상의 정수를 나타내고, g는 1∼3의 정수를 나타낸다.)The method according to claim 1, wherein X is a monovalent hydrocarbon group having an acid anhydride group represented by the following formula [2], and Z is a monovalent hydrocarbon group having a hydrolysable silyl group represented by the following formula [5]. A pressure-sensitive adhesive composition.
(In the formula, A represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.)
(Wherein, R 4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 5 represents a monovalent hydrocarbon group or acyl group having 1 to 10 carbon atoms, n represents an integer of 2 or greater, and g represents 1 to 3 represents the integer of .)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2017-080441 | 2017-04-14 | ||
JP2017080441A JP6708158B2 (en) | 2017-04-14 | 2017-04-14 | Adhesive composition and film using this composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20180116136A KR20180116136A (en) | 2018-10-24 |
KR102492449B1 true KR102492449B1 (en) | 2023-01-27 |
Family
ID=63941362
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020180037236A KR102492449B1 (en) | 2017-04-14 | 2018-03-30 | Adhesive composition and film made of the composition |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6708158B2 (en) |
KR (1) | KR102492449B1 (en) |
CN (1) | CN108728023B (en) |
TW (1) | TWI830697B (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7119972B2 (en) * | 2017-12-27 | 2022-08-17 | 三菱ケミカル株式会社 | ADHESIVE COMPOSITION AND ADHESIVE USING SAME, ADHESIVE FOR POLARIZING PLATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE |
TWI819152B (en) * | 2018-12-03 | 2023-10-21 | 日商Dic股份有限公司 | Adhesive composition and laminated film using the same |
JP6950846B2 (en) * | 2019-03-08 | 2021-10-13 | Dic株式会社 | Adhesive composition and laminated film using it |
JP7218866B2 (en) * | 2019-03-27 | 2023-02-07 | 太平洋セメント株式会社 | Chemical heat storage material for chemical heat pump coated with inorganic porous material and manufacturing method thereof |
CN116323849A (en) * | 2020-10-01 | 2023-06-23 | Dic株式会社 | Adhesive composition and laminated film using same |
JP2023121587A (en) | 2022-02-21 | 2023-08-31 | シャープ株式会社 | Image forming apparatus comprising electrifying roller |
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JP2015160908A (en) | 2014-02-27 | 2015-09-07 | 日本カーバイド工業株式会社 | Adhesive composition and optical member surface protective film |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR20180116136A (en) | 2018-10-24 |
TWI830697B (en) | 2024-02-01 |
JP6708158B2 (en) | 2020-06-10 |
TW201900823A (en) | 2019-01-01 |
JP2018177995A (en) | 2018-11-15 |
CN108728023A (en) | 2018-11-02 |
CN108728023B (en) | 2021-11-02 |
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---|---|---|---|
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