KR20180110313A - 자성 나노 입자로 코팅된 스텐트 및 이의 제조방법 - Google Patents

자성 나노 입자로 코팅된 스텐트 및 이의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 표면 개질된 스텐트 기재; 및 코팅제 및 자성 나노 입자를 포함하는 코팅층;을 포함하는, 스텐트 및 이의 제조방법으로서, 스텐트 기재 전체에 걸쳐 균일하게 자성 나노 입자가 코팅된 스텐트는 외부 자기장에 의해 발열 효과를 나타내므로 자성 온열 치료에 적용될 수 있다.

Description

자성 나노 입자로 코팅된 스텐트 및 이의 제조방법{MAGNETIC NANOPARTICLES COATED STENT AND PREPARATION METHOD THEREOF}
본 발명은 외부 자기장을 이용한 온열 치료에 적용 가능한 스텐트로서, 표면 개질된 스텐트 기재 전체에 걸쳐 균일하게 자성 나노 입자로 코팅된 스텐트 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
의료 기술이 발달함에 따라 인간의 평균 수명이 늘어나고, 고 연령층의 인구가 증가함에 따라 혈관 및 비혈관계의 스텐트 시술이 증가하고 있다.
일반적으로, 스텐트는 주로 혈관 또는 비혈관 등이 혈전이나 암 조직 등으로 인해 막히는 협착 문제를 해결하기 위하여, 혈관 또는 비혈관 등에 삽입된다. 삽입된 스텐트는 협착부의 내경을 확장시켜 개통성을 확보함으로써 혈액, 음식 또는 신진대사에 필요한 액이 흐를 수 있게 한다.
최근 들어, 인체 내부에 고정된 스텐트가 위와 같은 기본적인 기능 이외에 암 조직의 국소치료 및 조직 과증식 억제를 위한 기능성 스텐트의 개발에 대한 연구가 활발하게 진행되고 있다.
본 발명의 목적은 스텐트 기재에 자성 나노 입자를 균일하게 코팅시킨 스텐트 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.
또한, 좁아진 혈관 및 비혈관 등에 삽입되어 내벽을 지지하여 협착부의 개통성을 확보하는 스텐트 본래의 기능뿐만 아니라 외부 자기장에 의해 국소적인 발열 효과를 나타내므로 온열 국소치료 기능도 수행 가능한 스텐트 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위해 일 실시예는,
표면 개질된 스텐트 기재; 및
코팅제 및 자성 나노 입자를 포함하는 코팅층;을 포함하는, 스텐트를 제공한다.
또한, 일 실시예는,
스텐트 기재를 표면 개질하는 단계; 및
상기 표면 개질된 스텐트 기재 상에 코팅제 및 자성 나노 입자를 코팅하여 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는, 스텐트 제조방법을 제공한다.
본 발명에 따르면, 표면 개질된 스텐트 기재를 사용함으로써, 자성 나노 입자를 스텐트 기재 전체에 걸쳐 균일하게 코팅시킬 수 있다.
또한, 상기 자성 나노 입자로 코팅된 스텐트는 외부 자기장에 의해 발열 효과를 나타내므로 자성 온열 치료에 적용될 수 있다.
나아가, 상기 자성 나노 입자로 코팅된 스텐트는 좁아진 혈관 및 비혈관 등에 삽입되어 내벽을 지지하여 협착부의 개통성을 확보할 수 있다.
도 1은 도파민 산화중합반응의 개략도이다.
도 2는 자성 나노 입자의 발열 효과를 나타낸 사진이다.
도 3은 자성 나노 입자의 농도에 따른 발열 효과를 나타낸 그래프이다.
도 4는 본 발명의 비교예 및 실시예의 스텐트를 나타낸 사진이다.
본 발명은 표면 개질된 스텐트 기재; 및 코팅제 및 자성 나노 입자를 포함하는 코팅층;을 포함하는, 스텐트 및 이의 제조방법을 제공한다.
일 실시예에 따른 스텐트는 표면 개질된 스텐트 기재; 및 코팅제 및 자성 나노 입자를 포함하는 코팅층;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 스텐트 기재는 통상적으로 사용되는 스텐트 기재를 사용할 수 있으며, 특별히 제한되지 않는다.
일 구현예에 따르면, 상기 스텐트 기재는 비분해성 고분자 또는 생분해성 고분자를 포함할 수 있다.
구체적으로, 상기 스텐트 기재는, 비분해성 고분자; 또는 폴리글리콜라이드(polyglycolide), 폴리락타이드(polylactide, PLLA), 폴리디옥사논(poly p-dioxanone), 폴리카프로락톤(polycaprolactone), 트리메틸렌 카보네이트(trimethylene carbonate), 폴리하이드록시알카노에이트(polyhydroxyalkanoates), 폴리프로필렌푸마레이트(polypropylene fumarate), 폴리오르쏘에스테르(polyortho esters), 폴리에스테르(other polyester), 폴리안하이드라이드(polyanhydride), 폴리포스파젠 (polyphosphazenes), 폴리알킬시아노아크릴레이트, 포록자머(poloxamers), 폴리아미노티로신(polyamino L-tyrosine), 폴리사카라이드 계열(modified polysaccharrides), 산화셀룰로오즈(oxidized cellulose), 젤라틴(gelatin) 및 콜라겐(collagen)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상을 포함하는 생분해성 고분자;를 포함할 수 있다.
예를 들어, 상기 스텐트 기재는 생분해성 고분자를 포함할 수 있고, 바람직하게는 폴리락타이트(PLLA)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 스텐트 기재가 생분해성 고분자를 포함하는 경우, 인체에 무해하므로, 혈관 또는 비혈관 등에 삽입되는 스텐트로서 적합할 수 있다.
또한, 상기 스탠트 기재는 카테콜 계열 화합물로 표면 개질된 것을 특징으로 한다.
상기 카테콜 계열 화합물은 카테콜기를 갖는 화합물로서, 카테콜 및 이의 유도체를 포함한다.
상기 카테콜기는 벤젠고리의 오르쏘(ortho) 위치에 각각 하이드록실기(-OH)가 치환된 그룹을 의미한다. 예를 들어, 상기 카테콜기는 1,2-다이하이드록시벤젠그룹일 수 있다.
상기 카테콜 계열 화합물이 카테콜기를 포함하고, 상기 카테콜기는 상기 스텐트 기재에 결합된다.
또한, 상기 카테콜 계열 화합물은 아민기를 더 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
예를 들어, 상기 카테콜 계열 화합물은 도파민, 노레피네프린(norepinephrine) 및 디하드록실페닐알라닌(dihydroxylphenylalanine)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
구체적으로, 상기 디하드록실페닐알라닌은 L-3,4-디하드록실페닐알라닌일 수 있다.
또 다른 예로서, 상기 카테콜 계열 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다:
[화학식 1]
Figure pat00001
상기 화학식 1의 n은 1 내지 10의 정수이다. 구체적으로 화학식 1의 n은 1 내지 6의 정수, 더욱 구체적으로 1 내지 4의 정수일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 스텐트 기재의 표면 개질에 사용되는 카테콜 계열 화합물은 산화중합반응에 의해 중합된 형태로 존재할 수 있다.
예컨대, 상기 카테콜 계열 화합물로서 도파민을 사용하는 경우, 상기 표면 개질된 스텐트 기재는 산화중합반응에 의한 폴리도파민을 포함할 수 있다.
상기 도파민 산화중합반응의 구체적인 반응 개략도는 도 1을 참조한다.
상기 카테콜 계열 화합물이 상기 스텐트 기재에 결합됨으로써, 코팅제 및 자성 나노 입자가 스텐트 기재에 균일하고 강력하게 코팅될 수 있게 한다.
또한, 상기 카테콜 계열 화합물이 상기 스텐트 기재에 유기 용매가 아닌 수용액 상에서 스텐트 기재에 결합됨으로써, 생분해성 스텐트의 손상을 감소시킬 수 있다.
상기 코팅층은 코팅제 및 자성 나노 입자를 포함한다.
상기 코팅층은 상기 표면 개질된 스텐트 기재 상에 코팅될 수 있다.
상기 코팅제는 카테콜 계열 화합물과 공유 결합을 하고 양이온성을 띄기 때문에 음이온성 나노 입자의 코팅을 유도할 수 있다.
상기 코팅제는 아민기 또는 티올기를 포함할 수 있다.
구체적으로, 상기 코팅제는 키토산, 폴리에틸렌이민(polyethylenimine), 시스테아민(cysteamine), 아미노프로판티올 하이드로클로라이드(aminopropanethiol hydrochloride), (디메틸아미노)에탄티올 하이드로클로라이드((dimethylamino)ethanethiol hydrochloride) 및 아미노헥산티올 하이드로클로라이드(aminohexanethiol hydrochloride)로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상이다.
예를 들어, 상기 코팅제는 생체 적합성이 있는 천연 물질인 키토산을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 코팅제의 스텐트당 단위질량비는 0.2 내지 0.8 mg/stent(mg)이다. 구체적으로, 상기 코팅제의 스텐트당 단위질량비는 0.3 내지 0.7 mg/stent(mg)일 수 있다. 더욱 구체적으로, 상기 코팅제의 스텐트당 단위질량비는 0.43 내지 0.57 mg/stent(mg)일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 코팅제의 스텐트당 단위질량비는 스텐트 기재 1 mg당 코팅제의 함량비를 의미한다.
상기 코팅제의 함량이 상기 범위일 때, 균일한 나노 입자의 코팅이 가능하며, 우수한 자기 유도 발열 효과를 나타내는데 유리하다.
상기 자성 나노 입자는 상기 코팅제에 분산된 상태로 존재할 수 있다. 상기 자성 나노 입자는 상기 코팅제에 고르게 분산되어 코팅되는 것이 바람직하다. 상기 자성 나노 입자가 상기 코팅제에 고르게 분산되어 코팅될수록 높은 발열 효율을 나타낸다.
상기 자성 나노 입자는 외부 자기장에 의해 발열 효과를 나타내는 물질이다.
구체적으로, 상기 자성 나노 입자는 금속의 산화물을 포함하고, 상기 금속이 리튬(Li), 나트륨(Na), 칼륨(K), 루비듐(Rb), 세슘(Cs), 베릴륨(Be), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 스트론튬(Sr), 바륨(Ba), 라듐(Ra), 게르마늄(Ge), 갈륨(Ga), 비스무트(Bi), 인듐(In), 규소(Si), 게르마늄(Ge), 티타늄(Ti), 바나듐(V), 크롬(Cr), 망간(Mn), 철(Fe), 코발트(Co), 니켈(Ni), 구리(Cu), 이트륨(Y), 지르코늄(Zr), 니오븀(Nb), 몰리브덴(Mo), 테크네튬(Tc), 루테늄(Ru), 로듐(Rh), 팔라듐(Pd), 은(Ag), 카드뮴(Cd), 하프늄(Hf), 탄탈럼(Ta), 텅스텐(W), 레늄(Re), 오스뮴(Os), 이리듐(Ir), 백금(Pt), 금(Au) 및 수은(Hg)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 더욱 구체적으로, 상기 금속이 바륨(Ba), 아연(Zn), 망간(Mn), 철(Fe), 코발트(Co), 니켈(Ni) 또는 퍼멀로이(Ni/Fe 합금)일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
예를 들어, 상기 자성 나노 입자는 산화철 나노 입자일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 자성 나노 입자의 평균 직경은 1 내지 500 nm이다. 구체적으로, 상기 자성 나노 입자의 평균 직경은 10 내지 200 nm이다. 더욱 구체적으로 상기 자성 나노 입자의 평균 직경은 10 내지 100 nm일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 자성 나노 입자는 다공성 자성 나노 클러스터일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 자성 나노 입자의 스텐트당 단위질량비는 0.18 내지 14.56 mg/stent(mg)이다. 구체적으로, 상기 자성 나노 입자의 스텐트당 단위질량비는 5.4 내지 7.28 mg/stent(mg)일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 자성 나노 입자의 스텐트당 단위질량비는 스텐트 기재 1mg당 자성 나노 입자의 함량비를 의미한다.
상기 자성 나노 입자의 함량이 상기 범위일 때, 제조된 스텐트에 2 내지 20 분 동안 297 kHz 세기의 외부 자기장을 가하면 45 내지 95℃까지 주변 온도를 상승시킬 수 있다.
상기 자성 나노 입자의 함량이 상기 범위일 때, 자기 유도 발열 효과를 나타내는데 유리하다.
상기 자성 나노 입자는 외부 고주파 자기장을 주변에 가하면, 액체 속에 분산되어 있는 나노 입자 자체의 회전 현상으로 인한 브라운 이완(Brownian relaxation) 현상, 나노 입자 내부 스핀의 에너지 장벽으로 인해 생기는 닐 이완(Neel relaxation) 현상 및 외부 고주파 자기장 방향으로 자화되는 과정에서 물질 내부 스핀 도메인들의 이동에 의한 자기이력 현상에 의해 열이 발생한다.
도 2는 상기 자성 나노 입자 주변에 자기장을 가하기 전, 자기장을 가하는 경우 및 자기장을 제거한 후, 각각의 경우에 대한 발열 효과를 나타낸 결과이다.
상기 도 2의 결과를 통해, 자기장을 가하기 전과 자기장 제거 후에는 열이 발생하지 않고, 자기장을 가하는 경우에만 열이 발생함을 확인할 수 있다.
도 3은 자성 나노 입자의 농도에 따른 발열 효과를 나타낸 결과이다.
상기 도 3의 결과를 통해 자성 나노 입자의 농도가 높을수록 온도가 급격하게 증가하고 더 높은 온도까지 증가하므로 발열 효율이 더 우수함을 확인할 수 있다.
또한, 외부 자기장을 가하면 자성 나노 입자의 발열 효과에 의해 신속하게 온도가 상승하고, 자기장을 제거하게 되면 7 분 이내에 급격히 온도가 떨어지는 결과를 나타내었다. 이를 통해 외부 자기장을 가하여 목적하는 부위에서 필요한 시간만큼 발열 효과를 발열 효과를 내기에 유리함을 확인하였다.
본 발명에 따른 스텐트는 스텐트 기재에 결합된 카테콜 계열 화합물 및 코팅제를 포함함으로써, 자성 나노 입자가 균일하게 코팅될 수 있다.
본 발명에 따른 스텐트는 좁아진 혈관 및 비혈관 등에 삽입되어 내벽을 지지하여 혈관의 협착을 방지하는 것뿐만 아니라, 외부 자기장에 의해 발열 효과를 나타내므로 주변 조직의 괴사나 생리적 기능을 변화시킬 수 있으며, 표적화된 종양을 박멸시키는 등 암을 포함한 다양한 질병 치료에 사용할 수 있다. 또한, 온열 치료시 인체에 무해한 외부 자기장을 사용하여 온열 치료가 수행되므로, 화상의 염려 및 정상 조직의 파괴를 최소화할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 스텐트는 물리 화학적으로 안정하여 스텐트가 체내에 삽입된 경우에도 코팅이 장기간 안정적으로 유지될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 스텐트를 제조하는 방법은,
스텐트 기재를 표면 개질하는 단계; 및
상기 표면 개질된 스텐트 기재 상에 코팅제 및 자성 나노 입자를 코팅하여 코팅층을 형성하는 단계;를 포함한다.
상기 스텐트 기재를 표면 개질하는 단계는 카테콜 계열 화합물을 포함하는 용액을 이용하여, 스텐트 기재 상에 카테콜 계열 화합물을 결합시키는 단계이다.
상기 카테콜 계열 화합물을 포함하는 용액의 pH는 8.5 내지 10.0이다.
상기 카테콜 계열 화합물을 포함하는 용액의 pH가 상기 범위일 때, 카테콜 계열 화합물이 산화되어 스텐트 기재에 균일하게 코팅되는 효과, 예를 들어, 도파민이 산화되어 폴리도파민의 고분자 형태로 스텐트 기재에 균일하게 코팅되는 효과를 나타내는데 유리하다.
상기 스텐트 제조 방법에 있어서, 상기 코팅층을 형성하는 단계는, 수용액 상에서 코팅층을 형성할 수 있다.
상기 코팅층을 유기 용매가 아닌 수용액 상에서 형성함으로써, 생분해성 스텐트의 손상을 최소화할 수 있다.
또한, 상기 코팅층을 형성하는 단계는, 상기 표면 개질된 스텐트 기재 상에 상기 코팅제를 코팅하는 단계; 및 상기 코팅제를 코팅하는 단계 직후에, 상기 자성 나노 입자를 코팅하는 단계;를 포함한다.
상기 코팅제를 코팅하는 단계 직후에 자성 나노 입자를 코팅함으로써, 자성 나노 입자가 고르게 분산되고 접착력을 향상시키는데 유리하다.
상술한 스텐트 제조방법에 있어서, 스텐트 기재, 카테콜 계열 화합물, 코팅제 및 자성 나노 입자에 대한 설명은 상기 스텐트에 기재된 설명을 참조한다.
이하, 본 발명을 하기 실시예에 의하여 더욱 상세하게 설명한다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들만으로 한정되는 것은 아니다.
실시예 1. 폴리도파민 코팅된 PLLA 스텐트 기재에 키토산 및 자성 나노 입자가 코팅된 스텐트
1.1. 자성 나노 입자 제조
NaOH (Sodium Hydroxide) 2 g, DEG (diethylene glycol) 20 ml를 합성기에 넣은 후, 산소를 제거하기 위해 질소로 치환시키고 환류 장치를 설치한 후, 120 °C 로 1시간 동안 환류 교반시켜서, (1) 용액을 제조하였다.
또한, PAA (poly acrylic acid) 288 mg, FeCl3 (Iron(III) chloride anhydrous) 64.7 mg 및 DEG 17 ml을 합성기에 넣은 후, 산소를 제거하기 위해 질소로 치환시키고 환류 장치를 설치한 후 220 °C 로 30분 동안 환류 교반시켜서, (2) 용액을 제조하였다.
2 ml의 (1) 용액을 2 ml의 (2) 용액에 첨가한 후, 220 °C 로 1 시간 동안 추가적으로 환류 교반시켰다. 환류 교반시킨 상기 용액을 상온에서 식혔다. 에탄올과 3차 증류수를 이용하여 상기 합성 용액을 세척한 후, 원심분리기를 이용하여 자성 나노 입자를 수득하였다.
1.2. 키토산 코팅제 제조
키토산(chitosan) 0.5 g을 염산(1N HCl) 5 ml을 이용하여 용해시킨 후 3차 증류수 45 ml을 추가로 주입하여 키토산을 완전 용해시켰다. 상기 수용액의 pH을 5.0 내지 5.5로 유지시켰다. EDC(N-Ethyl-N'-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide hydrochloride) 310 mg과 3,4-Dihydroxyphenylacetic acid 295 mg을 3차 증류수와 에탄올의 비율이 50:50인 25 ml 용액에 용해시킨 후 상기 수용액에 첨가하였다. 본 혼합액의 pH를 4.5로 설정한 후 상온에서 12시간 동안 교반하였다. 이어서, 상기 용액을 멤브레인(MWCO: 1,000 Da)을 이용하여 1일 동안 분리하고, 동결건조시켜 최종적으로 키토산 코팅제를 수득하였다.
1.3. 스텐트 표면 개질
PLLA 스텐트 기재에 도파민 하이드로클로라이드(dopamine hydrochloride) 15 mg을 pH 8.5의 TRIS 수용액 15 ml에 혼합하고, PLLA 스텐트 기재를 혼합액 내에 삽입하고 8시간 동안 교반시켰다. 8시간 후 1차 폴리도파민이 코팅된 스텐트 기재를 자연 건조시킨 후, 2차 폴리도파민 코팅을 같은 방법으로 진행하여, 폴리도파민으로 표면 개질된 스텐트 기재를 수득하였다.
1.4. 코팅층 형성
폴리도파민으로 표면 개질된 스텐트 기재를 3차 증류수로 세척 후 자성 나노 입자를 코팅하기 위해 동결건조된 키토산 90 mg을 3차 증류수 3 ml에 용해시킨 후 상기 용액을 이용하여 스텐트에 1차 코팅하였다. 상기 1차 코팅 직후에, 200 g/l의 농도의 자성 나노 입자 용액을 이용하여 자성 나노 입자를 코팅한 후 상온에서 건조시켜 자성 나노 입자 및 키토산을 포함하는 코팅층이 형성된 스텐트를 최종적으로 수득하였다.
비교예 1. PLLA 스텐트 기재에 키토산 및 자성 나노 입자가 코팅된 스텐트
스텐트의 표면을 개질하는 것을 제외하고, 실시예와 동일한 방법으로 스텐트를 제조하였다.
실험예 1. 코팅의 균일도
상기 실시예 1 및 비교예 1에서 제조된 스텐트 사진을 각각 도 4에 나타내었다.
상기 도 4에서 볼 수 있는 바와 같이, 폴리도파민 코팅을 하지 않은 스텐트 기재에 키토산 및 자성 나노 입자를 코팅한 스텐트인 비교예의 경우, 키토산 및 자성 나노 입자가 균일하게 코팅되지 않았으며, 접착력도 약하여 스텐트 기재 상의 코팅층이 박리되는 현상이 나타났다. 또한, 폴리도파민 코팅을 한 스텐트 기재에 키토산 및 자성 나노 입자를 코팅한 스텐트인 실시예의 경우, 키토산 및 자성 나노 입자가 균일하게 코팅되었으며, 접착력도 향상되어 박리 현상이 나타나지 않음을 확인할 수 있었다.

Claims (17)

  1. 표면 개질된 스텐트 기재; 및
    코팅제 및 자성 나노 입자를 포함하는 코팅층;을 포함하는
    스텐트.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 스텐트 기재가 카테콜 계열 화합물로 표면 개질된
    스텐트.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 스텐트 기재는,
    비분해성 고분자; 또는
    폴리글리콜라이드(polyglycolide), 폴리락타이드(polylactide, PLLA), 폴리디옥사논(poly p-dioxanone), 폴리카프로락톤(polycaprolactone), 트리메틸렌 카보네이트(trimethylene carbonate), 폴리하이드록시알카노에이트(polyhydroxyalkanoates), 폴리프로필렌푸마레이트(polypropylene fumarate), 폴리오르쏘에스테르(polyortho esters), 폴리에스테르(other polyester), 폴리안하이드라이드(polyanhydride), 폴리포스파젠 (polyphosphazenes), 폴리알킬시아노아크릴레이트, 포록자머(poloxamers), 폴리아미노티로신(polyamino L-tyrosine), 폴리사카라이드 계열(modified polysaccharrides), 산화셀룰로오즈(oxidized cellulose), 젤라틴(gelatin) 및 콜라겐(collagen)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상을 포함하는 생분해성 고분자;를 포함하는
    스텐트.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 카테콜 계열 화합물이 카테콜기를 포함하고,
    상기 카테콜기가 상기 스텐트 기재에 결합된
    스텐트.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 카테콜 계열 화합물이 아민기를 더 포함하는
    스텐트.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 카테콜 계열 화합물이 도파민, 노레피네프린(norepinephrine) 및 디하드록실페닐알라닌(dihydroxylphenylalanine)로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상을 포함하는
    스텐트.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 코팅제는 키토산, 폴리에틸렌이민(polyethylenimine), 시스테아민(cysteamine), 아미노프로판티올 하이드로클로라이드(aminopropanethiol hydrochloride), (디메틸아미노)에탄티올 하이드로클로라이드((dimethylamino)ethanethiol hydrochloride) 및 아미노헥산티올 하이드로클로라이드(aminohexanethiol hydrochloride)로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상인
    스텐트.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 자성 나노 입자가 금속의 산화물을 포함하고,
    상기 금속이 리튬(Li), 나트륨(Na), 칼륨(K), 루비듐(Rb), 세슘(Cs), 베릴륨(Be), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 스트론튬(Sr), 바륨(Ba), 라듐(Ra), 게르마늄(Ge), 갈륨(Ga), 비스무트(Bi), 인듐(In), 규소(Si), 게르마늄(Ge), 티타늄(Ti), 바나듐(V), 크롬(Cr), 망간(Mn), 철(Fe), 코발트(Co), 니켈(Ni), 구리(Cu), 이트륨(Y), 지르코늄(Zr), 니오븀(Nb), 몰리브덴(Mo), 테크네튬(Tc), 루테늄(Ru), 로듐(Rh), 팔라듐(Pd), 은(Ag), 카드뮴(Cd), 하프늄(Hf), 탄탈럼(Ta), 텅스텐(W), 레늄(Re), 오스뮴(Os), 이리듐(Ir), 백금(Pt), 금(Au) 및 수은(Hg)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상인
    스텐트.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 자성 나노 입자의 평균 직경이 1 내지 500 nm인
    스텐트.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 자성 나노 입자가 다공성 자성 나노 클러스터인
    스텐트.
  11. 스텐트 기재를 표면 개질하는 단계; 및
    상기 표면 개질된 스텐트 기재 상에 코팅제 및 자성 나노 입자를 코팅하여 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는
    스텐트 제조방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 스텐트 기재를 표면 개질하는 단계는 카테콜 계열 화합물을 포함하는 용액을 이용하여, 스텐트 기재 상에 카테콜 계열 화합물을 결합시키는 단계인
    스텐트 제조방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 카테콜 계열 화합물을 포함하는 용액의 pH가 8.0 내지 10.0인
    스텐트 제조방법.
  14. 제11항에 있어서,
    상기 코팅층을 형성하는 단계는,
    상기 표면 개질된 스텐트 기재 상에 상기 코팅제를 코팅하는 단계; 및
    상기 코팅제를 코팅하는 단계 직후에, 상기 자성 나노 입자를 코팅하는 단계;를 포함하는
    스텐트 제조방법.
  15. 제11항에 있어서,
    상기 자성 나노 입자가 금속의 산화물을 포함하고,
    상기 금속이 리튬(Li), 나트륨(Na), 칼륨(K), 루비듐(Rb), 세슘(Cs), 베릴륨(Be), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 스트론튬(Sr), 바륨(Ba), 라듐(Ra), 게르마늄(Ge), 갈륨(Ga), 비스무트(Bi), 인듐(In), 규소(Si), 게르마늄(Ge), 티타늄(Ti), 바나듐(V), 크롬(Cr), 망간(Mn), 철(Fe), 코발트(Co), 니켈(Ni), 구리(Cu), 이트륨(Y), 지르코늄(Zr), 니오븀(Nb), 몰리브덴(Mo), 테크네튬(Tc), 루테늄(Ru), 로듐(Rh), 팔라듐(Pd), 은(Ag), 카드뮴(Cd), 하프늄(Hf), 탄탈럼(Ta), 텅스텐(W), 레늄(Re), 오스뮴(Os), 이리듐(Ir), 백금(Pt), 금(Au) 및 수은(Hg)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상인
    스텐트 제조방법.
  16. 제11항에 있어서,
    상기 자성 나노 입자의 평균 직경이 1 내지 500 nm인
    스텐트 제조방법.
  17. 제11항에 있어서,
    상기 자성 나노 입자가 다공성 자성 나노 클러스터인
    스텐트 제조방법.

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