KR20180106212A - Polyimide Resin, Polyimide Film and Display Device Comprising Thereof - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a polyimide resin, a polyimide film, and an image display device comprising the polyimide film. According to the present invention, the polyimide film has advantages suitable for using as a substrate material of a display device having excellent optical characteristics and heat resistance, and can secure excellent solvent resistance while maintaining the characteristics of a conventional transparent polyimide film.

Description

폴리이미드 수지, 폴리이미드 필름 및 이를 포함하는 영상표시 소자{Polyimide Resin, Polyimide Film and Display Device Comprising Thereof}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a polyimide resin, a polyimide film,

본 발명은 폴리이미드 수지, 폴리이미드 필름 및 이를 포함하는 표시 기판 모듈에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 내용제성이 우수하면서도 광학특성 및 내열성도 우수한 물성을 갖는 폴리이미드 수지, 이의 폴리이미드 필름 및 이를 포함하는 영상표시소자에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a polyimide resin, a polyimide film and a display substrate module comprising the polyimide resin, and more specifically to a polyimide resin having excellent solvent resistance and excellent optical properties and heat resistance, To a video display device.

일반적으로 폴리이미드(PI) 필름은 폴리이미드 수지를 필름화한 것으로, 폴리이미드 수지는 방향족 디안하이드라이드와 방향족 디아민 또는 방향족 디이소시아네이트를 용액 중합하여 폴리아믹산 유도체를 제조한 후, 고온에서 폐환 탈수시켜 이미드화하여 제조되는 고내열 수지를 일컫는다.In general, a polyimide (PI) film is a film made of a polyimide resin, and a polyimide resin is produced by solution polymerization of an aromatic dianhydride and an aromatic diamine or aromatic diisocyanate to prepare a polyamic acid derivative, Refers to a high heat-resistant resin produced by imidization.

이와 같은 폴리이미드 필름은 뛰어난 기계적, 내열성, 전기절연성을 가지고 있기 때문에 반도체의 절연막, TFT-LCD의 전극 보호막 플랙시블 인쇄 배선 회로용 기판 등의 전자재료에 광범위한 분야에서 사용되고 있다. Such a polyimide film has excellent mechanical, heat resistance and electrical insulation properties and is used in a wide range of electronic materials such as a semiconductor insulating film, a substrate for a flexible printed wiring circuit of a TFT-LCD electrode protective film, and the like.

그러나 폴리이미드 수지는 높은 방향족 고리 밀도로 인하여 갈색 및 황색으로 착색되어 있어 가시광선 영역에서의 투과도가 낮고 노란색 계열의 색을 나타내어 광투과율을 낮게 하며 큰 복굴절률을 가지게 하여 광학부재로 사용하기에는 곤란한 점이 있다. However, the polyimide resin is colored in brown and yellow due to its high aromatic ring density, and thus has low transmittance in the visible light region and yellowish color to lower the light transmittance and has a large birefringence, making it difficult to use the polyimide resin as an optical member have.

이러한 점을 해결하기 위하여 투명성이 높은 폴리이미드를 얻기 위해 지환식 단량체를 사용하거나 플루오렌 구조를 포함하는 폴리이미드를 중합하는 방법이 시도 되었다.To solve this problem, a method of polymerizing a polyimide containing an alicyclic monomer or a fluorene structure has been attempted in order to obtain a highly transparent polyimide.

일본특허 2005-015629호 및 2005-163012호, 2006-070096호 등에는 지환식 단량체 및 플루오렌 구조를 함유하는 폴리이미드 중합에 대한 내용이 기재되어 있는데 이중 지환식 단량체를 사용하는 경우 전하이동 착체 형성이 아예 일어나지 않기 때문에 매우 우수한 투명성을 갖지만 열적 및 기계적 특성의 저하를 가져오는 결과를 보여 기계적 특성, 내열성, 복굴절 측면에서 OLED, TFT-LCD, 플렉시블 디스플레이 등의 표시소자 소재로 사용하기에는 부족한 결과를 보였다.Japanese Patent Publication Nos. 2005-015629 and 2005-163012 and 2006-070096 disclose contents of polyimide polymerization containing alicyclic monomers and fluorene structures. In the case of using alicyclic monomers, charge transfer complex formation But it is not enough to be used as a display element material for OLED, TFT-LCD, and flexible display in terms of mechanical properties, heat resistance and birefringence in view of the result that thermal and mechanical properties are deteriorated .

또한 이렇게 개발되고 있는 무색 투명한 지환족 폴리이미드의 경우, 수지의 내용제성 특성이 저하되는 점들이 있는데 이는 디스플레이 기판용등의 필름형태로 사용될때 극성용매나 산, 염기같은 현상액 및 기타의 코팅액등에 노출될 경우 표면이 녹거나 팽윤에 의해 그 형태가 바뀌는 현상이 일어나 그 자체로써 기능을 상실하거나 보호층 없이 사용되기 어려운 한계점이 있다. In the case of the colorless transparent alicyclic polyimide which is being developed in this way, the solvent resistance characteristic of the resin is degraded. When it is used in the form of a film such as a display substrate, it is exposed to a developer such as polar solvent, acid, There is a limitation in that the surface is melted or swelled and its shape is changed, so that it is difficult to lose its function or to use it without a protective layer.

본 발명에서는 본 발명에서는 종래의 투명 폴리이미드 막이 가지고 있는 특성을 유지하며 내용제성이 확보된 우수한 광학특성 및 내열성을 갖는 표시소자의 기판소재 등으로 사용하기에 적합한 폴리이미드 수지 및 이의 필름을 얻는 것을 목적으로 한다. In the present invention, the present invention provides a polyimide resin and a film thereof suitable for use as a substrate material of a display device having excellent optical properties and heat resistance, which retains the characteristics possessed by the conventional transparent polyimide film and has excellent solvent resistance The purpose.

본 발명은 또한, 상기 폴리이미드 수지로 제조된 필름을 포함하는 영상 표시소자를 제공하는데 있다. The present invention also provides an image display device comprising a film made of the polyimide resin.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 바람직한 일 구현예는 비스 트리플루오로메틸 디아미노페닐 에테르(6FODA)로 유래된 단위구조 및 1종의 방향족 디안하이드라이드계 모노머로 유래된 단위구조를 포함하는 제1 블록; 및 1종의 방향족 디아민계 모노머로 유래된 단위구조 및 1,4-사이클로헥산디카보닐 디클로라이드(1,4-Cyclohexanedicarbonyl dichloride; 1,4-CHDC)로 유래된 단위구조를 포함하는 제2 블록을 포함하는 폴리이미드 수지를 제공하는 것이다. A preferred embodiment of the present invention for solving the above-mentioned problems is a method for producing a polymer electrolyte membrane comprising a unit structure derived from bistrifluoromethyldiaminophenyl ether (6FODA) and a unit structure derived from one aromatic dianhydride monomer 1 block; And a second block comprising a unit structure derived from one kind of aromatic diamine-based monomer and a unit structure derived from 1,4-cyclohexanedicarbonyl dichloride (1,4-CHDC) And a polyimide resin.

상기 제2 블록은 상기 제1 블록 1몰에 대하여 2.3 내지 4.0의 몰비로 포함되는 것을 특징으로 한다.And the second block is contained at a molar ratio of 2.3 to 4.0 with respect to 1 mole of the first block.

상기 방향족 디안하이드라이드계 모노머는 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(ODPA), 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA), 비페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(BPDA) 및 3,3'4,4'-디페닐설폰 테트라카르복실릭 디안하이드라이드(DSDA) 중에서 선택되는 1종인 것을 특징으로 한다.The aromatic dianhydride monomer may be selected from the group consisting of oxydiphthalic dianhydride (ODPA), 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanediamine hydride (6FDA), biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), and 3,3'4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride (DSDA).

상기 방향족 디아민계 모노머는 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB), 비스(3-아미노페닐)설폰(3DDS) 및 비스(4-아미노페닐)설폰(4DDS) 중에서 선택되는 1종인 것을 특징으로 한다. The aromatic diamine-based monomer is one selected from the group consisting of bistrifluoromethylbenzidine (TFDB), bis (3-aminophenyl) sulfone (3DDS), and bis (4-aminophenyl) sulfone.

본 발명의 바람직한 다른 일 구현예는 비스 트리플루오로메틸 디아미노페닐 에테르(6FODA) 및 1종의 방향족 디안하이드라이드계 모노머를 포함하여 공중합시켜 제1 블록을 형성한 후, 1종의 방향족 디아민계 모노머 및 1,4-사이클로헥산디카보닐 디클로라이드를 포함하여 공중합시켜 제2 블록을 형성하는 공정을 포함하는 폴리이미드 수지의 제조방법을 제공하는 것이다. In another preferred embodiment of the present invention, a first block is formed by copolymerizing bistrifluoromethyldiaminophenyl ether (6FODA) and one kind of aromatic dianhydride monomer to form an aromatic diamine compound Monomer and 1,4-cyclohexanedicarbonyl dichloride to form a second block. The present invention also provides a method for producing a polyimide resin.

상기 제2 블록을 형성하는 공정에서 cis의 함량이 70중량% 이상으로 포함된 1,4-사이클로헥산디카보닐 디클로라이드를 첨가하여 실시하는 것을 특징으로 한다. And then adding 1,4-cyclohexanedicarbonyl dichloride having a cis content of 70 wt% or more in the step of forming the second block.

상기 방향족 디안하이드라이드계 모노머는 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(ODPA), 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA), 비페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(BPDA) 및 3,3'4,4'-디페닐설폰 테트라카르복실릭 디안하이드라이드(DSDA) 중에서 선택되는 1종인 것을 특징으로 한다. The aromatic dianhydride monomer may be selected from the group consisting of oxydiphthalic dianhydride (ODPA), 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanediamine hydride (6FDA), biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), and 3,3'4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride (DSDA).

상기 방향족 디아민계 모노머는 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB), 비스(3-아미노페닐)설폰(3DDS) 및 비스(4-아미노페닐)설폰(4DDS) 중에서 선택되는 1종인 것을 특징으로 한다. The aromatic diamine-based monomer is one selected from the group consisting of bistrifluoromethylbenzidine (TFDB), bis (3-aminophenyl) sulfone (3DDS), and bis (4-aminophenyl) sulfone.

본 발명의 바람직한 다른 일 구현예는 상기 구현예에 따른 폴리이미드 수지를 포함하는 폴리이미드 필름을 제공하는 것이다. Another preferred embodiment of the present invention is to provide a polyimide film comprising the polyimide resin according to the above embodiment.

상기 폴리이미드 필름은 필름 두께 10 ~ 15㎛를 기준으로 550nm에서 측정한 투과도가 90% 이상이며, 하기 방법을 측정된 내용제성 지수가 2.0% 이하인 것을 특징으로 한다.The polyimide film has a transmittance of 90% or more as measured at 550 nm based on a film thickness of 10 to 15 탆, and has a measured solvent resistance index of 2.0% or less as measured by the following method.

<내용제성 지수 측정방법><Method of measuring solvent resistance index>

폴리이미드 필름을 5cm × 5cm 시편으로 채취하여 80℃ 진공오븐에서 1시간 건조하고 필름의 임의 5지점으로부터 두께 평균값을 측정하여 이 값을 T0으로 정의하였다. 이어서 D.I Water로 세척후 80℃ 진공오븐에서 1시간 건조하여 필름의 임의 5지점으로부터 두께 평균값을 측정하여 이 값을 T1으로 정의하였다. The polyimide film was taken in a 5 cm × 5 cm sample, dried in a vacuum oven at 80 ° C. for 1 hour, and the average thickness was measured from five arbitrary points on the film, and this value was defined as T 0 . Then, the film was washed with DI Water, dried in a vacuum oven at 80 ° C for 1 hour, and an average thickness was measured from five arbitrary points on the film. The value was defined as T 1 .

상기 얻어진 T0 및 T1 값을 이용하여 침지 전과 후에서의 두께 편차로 정의되는 하기 식 1로부터 내용제성 지수를 계산하였다.Using the values of T 0 and T 1 obtained above, the solvent resistance index was calculated from the following Equation 1, which is defined as the thickness deviation before and after immersion.

<식 1><Formula 1>

(T0 - T1 ) / T0 × 100(%)(T 0 - T 1 ) / T 0 × 100 (%)

본 발명의 바람직한 다른 일 구현예는 상기 구현예에 따른 폴리이미드 필름을 포함하는 영상 표시소자를 제공하는 것이다. Another preferred embodiment of the present invention provides an image display device including the polyimide film according to the above embodiment.

본 발명에 따르면, 종래의 투명 폴리이미드 필름이 가지고 있는 특성을 유지하면서 내용제성이 확보된 우수한 광학특성 및 내열성을 갖는 표시소자의 기판소재 등으로 사용하기에 적합한 폴리이미드 수지 및 이를 포함하는 폴리이미드 필름을 제공할 수 있다.According to the present invention, there is provided a polyimide resin suitable for use as a substrate material of a display element having excellent optical properties and heat resistance while retaining characteristics of a conventional transparent polyimide film while ensuring solvent resistance, and polyimide A film can be provided.

본 발명의 일 양태에 따르면 비스 트리플루오로메틸 디아미노페닐 에테르(6FODA)로 유래된 단위구조 및 1종의 방향족 디안하이드라이드계 모노머로 유래된 단위구조를 포함하는 제1 블록; 및 1종의 방향족 디아민계 모노머로 유래된 단위구조 및 사이클로헥산디카보닐 디클로라이드(1,4-Cyclohexanedicarbonyl dichloride; 1,4-CHDC)로 유래된 단위구조를 포함하는 제2 블록을 포함하는 폴리이미드 수지를 제공할 수 있다.. According to an aspect of the present invention, there is provided a process for producing a polymer electrolyte membrane comprising: a first block comprising a unit structure derived from bistrifluoromethyldiaminophenyl ether (6FODA) and a unit structure derived from one aromatic dianhydride monomer; And a second block comprising a unit structure derived from an aromatic diamine-based monomer of one kind and a unit structure derived from 1,4-cyclohexanedicarbonyl dichloride (1,4-CHDC) Resin can be provided. .

상기 폴리이미드 수지는 상기 제1 블록 및 제2 블록을 포함하는 블록코폴리머(block copolymer)로서, 고신율, 저CTE, 고투과 성질을 갖지만 내용제성이 없는 제2 블록이 내용제성을 가지며 고투과성을 갖는 제1 블록과의 Copolymer 구조를 이룸으로써, 각 블록이 갖는 취약점을 보완하는 효과를 얻을 수 있다. 즉, 본 특허의 폴리이미드 Block Copolymer 수지는 내용제성이 없는 블록과 내용제성이 있는 블록으로 구분지을 수 있으며 내용제성이 없는 제2 블록의 경우 지환족 모노머를 사용함으로써, 광학특성에 강세가 있으며 고신율, 저CTE를 갖는 디아민을 사용하여 특성을 발현하고, 내용제성이 있는 제1 블록의 경우 제2 블록과 Copolymer 구조를 이룰때, 제2 블록이 갖는 광학 특성 및 신율 특성의 저하를 최소로 하기위해 에테르기 및 -CF3 Group을 동시에 가지고 있는 6FODA 모노머를 도입한 것이다. The polyimide resin is a block copolymer including the first block and the second block. The second block having a high elongation, a low CTE and a high permeability but no solvent resistance has a solvent resistance and a high permeability And the second block having the second block has a copolymer structure, it is possible to obtain the effect of compensating for the weakness of each block. That is, the polyimide block copolymer resin of the present patent can be divided into a block having no solvent resistance and a block having a solvent resistance, and in the case of the second block having no solvent resistance, an alicyclic monomer is used, In order to minimize the deterioration of the optical characteristics and elongation properties of the second block when the first block having solvent resistance exhibits a property using a diamine having a high elongation and a low CTE and forms a copolymer structure with the second block 6FODA monomers having ether groups and -CF 3 groups at the same time.

이를 구체적으로 설명하면, 사이클로헥산디카보닐 디클로라이드(1,4-Cyclohexanedicarbonyl dichloride; 1,4-CHDC)는 지환족 모노머로서, 지환족 모노머를 사용하는 경우 투과도는 향상되나, 기계적 특성, 내열성, 내화학성 등은 저하되는 문제가 있다. Specifically, when 1,4-cyclohexanedicarbonyl dichloride (1,4-CHDC) is an alicyclic monomer, when an alicyclic monomer is used, the permeability is improved, but mechanical properties, heat resistance, There is a problem that the chemical properties are deteriorated.

또한, 지환족 모노머 중에서도 1,4-CHDC는 이성질체의 구조를 가지기 때문에 디안하이드라이드와 디아민과 함께 폴리이미드 수지에 적용하는데 있어서, 일부 모노모와는 중합도가 낮아져 충분한 고 분자량을 갖는 수지를 얻지 못할 수도 있다. Among alicyclic monomers, 1,4-CHDC has an isomer structure, so that it is applied to a polyimide resin together with dianhydride and diamine, and the degree of polymerization is lower than that of some monomers, so that a resin having sufficient high molecular weight may not be obtained have.

본 발명에서는 지환족 모노머인 사이클로헥산-1,4-디카르보닐 디클로라이드를 방향족 디아민계 모노머와 함께 상기 제2 블록에 도입하고, 상기 제2 블록과 함께 비스 트리플루오로메틸 디아미노페닐 에테르(6FODA) 및 방향족 디안하이드라이드계 모노머를 포함하는 제1 블록을 포함하여 투과도를 현저하게 향상시키면서도 우수한 내용제성 및 영상 표시소자의 투명기판에 사용하기에 충분한 고 신율 및 저 선형 열팽창 계수(CTE) 특성을 확보할 수 있는 효과를 가질 수 있는 것이다. In the present invention, cyclohexane-1,4-dicarbonyl dichloride, which is an alicyclic monomer, is introduced into the second block together with an aromatic diamine-based monomer, and bistrifluoromethyldiaminophenyl ether ( 6FODA) and an aromatic dianhydride-based monomer, and has a high elongation and low linear thermal expansion coefficient (CTE) characteristics sufficient for use in a transparent substrate of an image display device while remarkably improving transparency. Can be secured.

상기 제2 블록은 상기 제1 블록 1몰에 대하여 2.3 내지 4.0의 몰비, 바람직하게는 3.0 내지 3.5의 몰비로 포함되는 것이 좋다. 상기 제2 블록의 함량이 2.3 미만인 경우 내화학성을 갖지만 제2 블록에 비해서 광학특성이 낮은 제1 블록의 함량이 높아져 광학특성의 하락이 생기는 문제가 있을 수 있고, 4.0을 초과하는 경우 내용제성 단위구조인 제1 블록의 함량이 낮아져 팽윤 및 백탁현상 등이 일어나 기판 용도로 적용이 어려운 문제가 있을 수 있다. The second block is preferably contained in a molar ratio of 2.3 to 4.0, preferably 3.0 to 3.5, to 1 mole of the first block. If the content of the second block is less than 2.3, the content of the first block having chemical resistance but lower in optical characteristics is higher than that of the second block, so that the optical characteristic may be lowered. On the other hand, The content of the first block, which is a structure, is lowered, causing swelling and clouding, which may make it difficult to apply it to substrate applications.

상기 방향족 디안하이드라이드계 모노머는 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(ODPA), 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA), 비페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(BPDA) 및 3,3'4,4'-디페닐설폰 테트라카르복실릭 디안하이드라이드(DSDA) 중에서 선택되는 1종인 것이 바람직하다. The aromatic dianhydride monomer may be selected from the group consisting of oxydiphthalic dianhydride (ODPA), 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanediamine hydride (6FDA), biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), and 3,3'4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride (DSDA).

상기 방향족 디아민계 모노머는 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB), 비스(3-아미노페닐)설폰(3DDS) 및 비스(4-아미노페닐)설폰(4DDS) 중에서 선택되는 1종인 것이 바람직하다. The aromatic diamine-based monomer is preferably one selected from bistrifluoromethylbenzidine (TFDB), bis (3-aminophenyl) sulfone (3DDS), and bis (4-aminophenyl) sulfone.

상술한 제1 블록 및 제2 블록을 포함하는 폴리이미드 수지는 일례로 하기 화학식 1로 표시되는 블록구조를 포함하는 공중합체일 수 있다. The polyimide resin comprising the first block and the second block may be a copolymer including a block structure represented by the following general formula (1).

<화학식 1>&Lt; Formula 1 >

Figure pat00001
Figure pat00001

(상기 식에서 x는 0.75의 몰분율을 의미한다.)(In the above formula, x means a molar fraction of 0.75.)

상기 화학식 1에서 1-x의 반복단위는 제1 블록에 해당하는 것으로서, 6FODA로 유래된 단위구조 및 방향족 디안하이드라이드계 모노머로서, BPDA로 유래된 단위구조를 포함하고, x의 반복단위는 제2 블록에 해당하는 것으로서, 방향족 디아민계 모노머로서, 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB)로 유래된 단위구조 및 1,4-CHDC로 유래된 단위구조를 포함하는 구조를 가지고 있다. The repeating unit of 1-x in the above formula (1) corresponds to the first block, and includes a unit structure derived from 6FODA and an aromatic dianhydride-based monomer having a unit structure derived from BPDA, 2 block. The aromatic diamine-based monomer has a unit structure derived from bistrifluoromethylbenzidine (TFDB) and a unit structure derived from 1,4-CHDC.

본 발명의 다른 일 구현예로서, 상술한 폴리이미드 수지는 비스 트리플루오로메틸 디아미노페닐 에테르(6FODA) 및 방향족 디안하이드라이드계 모노머를 포함하여 공중합시켜 제1 블록을 형성한 후, 방향족 디아민계 모노머 및 1,4-CHDC를 포함하여 공중합시켜 제2 블록을 형성하는 공정을 포함하여 제조될 수 있다. In another embodiment of the present invention, the above-mentioned polyimide resin is copolymerized with bistrifluoromethyldiaminophenyl ether (6FODA) and an aromatic dianhydride monomer to form a first block, and then an aromatic diamine series resin Monomer and 1,4-CHDC to form a second block.

상기 제1 블록 및 제2 블록을 공중합시키는 공정은 디아민과 디안하이드라이드 모노머, 즉 비스 트리플루오로메틸 디아미노페닐 에테르(6FODA) 및 방향족 디안하이드라이드계 모노머의 당량비를 1:1로, 방향족 디아민계 모노머 및 1,4-CHDC의 당량비를 1:1로 각각 혼합하여 반응온도 -10 ~ 100℃, 반응시간 2 ~ 48시간 동안, 질소 또는 아르곤 분위기에서 중합하여 폴리아믹산을 제조한다. The step of copolymerizing the first block and the second block may be carried out in such a manner that the equivalent ratio of the diamine and the dianhydride monomer, that is, bistrifluoromethyldiaminophenyl ether (6FODA) and the aromatic dianhydride monomer is 1: 1, Based monomer and 1,4-CHDC in an equivalent ratio of 1: 1, and the mixture is polymerized in a nitrogen or argon atmosphere at a reaction temperature of -10 to 100 ° C and a reaction time of 2 to 48 hours to prepare a polyamic acid.

상기 용매의 함량에 대하여 특별히 한정되지는 않으나, 적절한 폴리아믹산 용액의 분자량과 점도를 얻기 위하여 중합용 용매(제1 용매)의 함량은 전체 폴리아믹산 용액 중 50 ~ 95중량%가 바람직하고, 더욱 좋게는 70 ~ 90중량%인 것이 보다 바람직하다. 이와 같이 제조된 폴리아믹산 용액을 이미드화하여 폴리이미드 수지를 제조할 수 있다. Although the content of the solvent is not particularly limited, the content of the solvent for polymerization (first solvent) in the polyamic acid solution is preferably 50 to 95% by weight, more preferably, More preferably 70 to 90% by weight. The polyamic acid solution thus prepared can be imidized to produce a polyimide resin.

이때, 상기 제2 블록을 형성하는 공정에서 cis의 함량이 70중량% 이상으로 포함된 1,4-CHDC를 첨가하여 실시하는 것이 바람직하다. At this time, it is preferable to add 1,4-CHDC having a cis content of 70 wt% or more in the step of forming the second block.

이를 구체적으로 설명하면, 상기 제2 블록을 형성하는데 사용되는 1,4-CHDC는 cis와 trans 구조를 가지는 혼합물로 사용될 수 있는데, 1,4-CHDC의 cis 구조를 가지는 1,4-CHDC의 함량이 전체 1,4-CHDC 중에 높으면 높을수록 사슬내 입체장애가 감소하여 수지 전체의 중합도가 높아지는 점에서 좋고, 적어도 70중량% 이상, 바람직하게는 80 내지 100중량%, 더욱 바람직하게는 90 내지 100중량%로 포함되어야 중합도를 낮추는 사슬내 입체장애를 감소시키는 효과를 가질 수 있다. Specifically, 1,4-CHDC used to form the second block can be used as a mixture having a cis and trans structure. The content of 1,4-CHDC having a cis structure of 1,4-CHDC The higher the 1,4-CHDC, the higher the degree of polymerization of the resin as a whole, and the higher the degree of polymerization of the whole resin. The higher the 1,4-CHDC, the more preferably 80 to 100% %, It may have an effect of reducing the intra-chain steric hindrance which lowers the degree of polymerization.

상기 cis와 trans 구조를 가지는 혼합물 형태로 사용되는 1,4-CHDC 모노머가 제2 블록을 형성하는 경우, 최종물질인 폴리이미드 수지의 제2 블록의 구조에서도 1,4-CHDC로부터 유래된 단위구조가 cis와 trans의 구조를 가질 수 있으며, 상기 제2 블록에 포함되는 1,4-CHDC로 유래된 단위구조도 제2 블록 내에서 전체 1,4-CHDC의 100중량% 중에 적어도 70중량% 이상, 바람직하게는 80 내지 90중량%, 더욱 바람직하게는 90 내지 100중량%로 포함되어 기판용도로 활용되기 위해 충분한 분자량을 갖는 수지를 얻을 수 있다.When the 1,4-CHDC monomer used in the form of a mixture having the cis and trans structures forms the second block, the structure of the second block of the polyimide resin as the final material also has a unit structure derived from 1,4-CHDC May have a structure of cis and trans, and the unit structure derived from 1,4-CHDC contained in the second block may have a structure of at least 70% by weight or more By weight, preferably 80 to 90% by weight, and more preferably 90 to 100% by weight, to obtain a resin having a sufficient molecular weight to be utilized as a substrate.

이어서, 상기 제조된 폴리아믹산 용액을 이미드화하여 폴리이미드 수지를 제조하는데 있어서, 적용되는 이미드화법으로는 열이미드화법, 화학이미드화법, 또는 열이미드화법 혹은 화학이미드화법을 병용하여 적용할 수 있다. Then, in the preparation of the polyimide resin by imidizing the polyamic acid solution, the imidization method to be applied is a thermal imidization method, a chemical imidization method, a thermal imidization method or a chemical imidation method in combination Can be applied.

본 발명의 다른 일 구현예에 따르면, 상술한 폴리이미드 수지를 포함하는 폴리이미드 필름을 제공하는 것이다. According to another embodiment of the present invention, there is provided a polyimide film comprising the above-mentioned polyimide resin.

본 발명에 따른 폴리이미드 필름 제조방법에 있어서, 상술한 중합된 폴리아믹산을 지지체에 캐스팅하여 이미드화하는 단계에서, 통상적으로 알려진 방법인 열이미드화법, 화학이미드화법, 또는 열이미드화법 혹은 화학이미드화법을 병용하여 적용할 수 있다. In the method for producing a polyimide film according to the present invention, in the step of casting and polymerizing the above-mentioned polymerized polyamic acid in a support, a known method such as a thermal imidation method, a chemical imidation method, The chemical imidation method can be used in combination.

상기 열이미드화법은 폴리아믹산 용액을 지지체상에 캐스팅하여 40 ~ 280℃의 온도범위에서 서서히 승온시키면서 1 ~ 8시간 가열하여 폴리이미드 필름을 얻는 방법이다.The thermal imidation method is a method in which a polyamic acid solution is cast on a support and heated for 1 to 8 hours while gradually heating the solution in a temperature range of 40 to 280 ° C to obtain a polyimide film.

상기 화학이미드화법은 폴리아믹산 용액에 아세트산무수물 등의 산무수물로 대표되는 탈수제와 이소퀴놀린, β-피콜린, 피리딘 등의 3급 아민류 등으로 대표되는 이미드화 촉매를 투입하는 방법이다. 이러한, 화학이미드화법에 열이미드화법 또는 열이미드화법을 병용하는 경우, 폴리아믹산 용액의 가열 조건은 폴리아믹산 용액의 종류, 제조되는 폴리이미드 필름의 두께 등에 의하여 변동될 수 있다.In the chemical imidation method, a dehydrating agent represented by an acid anhydride such as acetic anhydride and a imidation catalyst represented by tertiary amines such as isoquinoline, β-picoline, and pyridine are added to the polyamic acid solution. When the thermal imidation method or the thermal imidization method is used in combination with the chemical imidation method, the heating conditions of the polyamic acid solution may be varied depending on the type of the polyamic acid solution, the thickness of the polyimide film to be produced, and the like.

상기 열이미드화법과 화학이미드화법을 병용하는 경우의 폴리이미드 필름 제조예를 보다 구체적으로 설명하면, 폴리아믹산 용액에 탈수제 및 이미드화 촉매를 투입하여 지지체상에 캐스팅한 후 80 ~ 200℃, 바람직하게는 100 ~ 180℃에서 가열하여 탈수제 및 이미드화 촉매를 활성화함으로써 부분적으로 경화 및 건조한 후, 200 ~ 280℃에서 5 ~ 400초간 가열함으로써 폴리이미드 필름을 얻을 수 있다.More specifically, a polyimide film production example in which the thermal imidation method and the chemical imidization method are used in combination is described. More specifically, a polyimamic acid solution is loaded with a dehydrating agent and an imidation catalyst, cast on a support, Preferably 100 to 180 占 폚 to activate the dehydrating agent and the imidation catalyst to partially cure and dry it, and then heated at 200 to 280 占 폚 for 5 to 400 seconds to obtain a polyimide film.

한편, 본 발명에서는 상기 수득된 폴리아믹산 용액으로부터 다음과 같이 폴리이미드 필름을 제조할 수도 있다. 즉, 수득된 폴리아믹산 용액을 이미드화한 후, 이미드화한 용액을 제2 용매에 투입하고 침전, 여과 및 건조하여 폴리이미드 수지의 고형분을 수득하고, 수득된 폴리이미드 수지 고형분을 제1 용매에 용해시킨 폴리이미드 용액을 이용하여 제막공정을 통하여 얻을 수 있다.In the present invention, a polyimide film may be prepared from the polyamic acid solution as follows. Namely, after the obtained polyamic acid solution is imidized, the imidized solution is put into a second solvent, followed by precipitation, filtration and drying to obtain a solid content of the polyimide resin, and the solid content of the obtained polyimide resin is added to the first solvent Can be obtained through a film-forming process using a dissolved polyimide solution.

상기 제1 용매는 폴리아믹산 용액 중합시 사용한 용매와 동일한 용매를 사용할 수 있으며, 상기 제2 용매는 폴리이미드 수지의 고형분을 수득하기 위하여 제1 용매보다 극성이 낮은 것을 사용하며, 구체적으로는 물, 알코올류, 에테르류 및 케톤류 중 선택된 1종 이상인 것일 수 있다. 이때 상기 제2 용매의 함량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 폴리아믹산 용액의 중량 대비 5 ~ 25중량%인 것이 바람직하다.The first solvent may be the same solvent as that used in the polymerization of the polyamic acid solution. The second solvent may be one having a lower polarity than the first solvent in order to obtain the solid content of the polyimide resin, Alcohols, ethers, and ketones. At this time, the content of the second solvent is not particularly limited, but is preferably 5 to 25% by weight based on the weight of the polyamic acid solution.

전술된 바와 같이 수득된 폴리이미드 수지 고형분을 여과한 후 건조하는 조건은 제2 용매의 끓는점을 고려하여 온도는 50 ~ 120℃, 시간은 3 ~ 24시간인 것이 바람직하다. 이후 제막공정에서 폴리이미드 수지 고형분이 용해되어 있는 폴리이미드 용액을 지지체상에 캐스팅하여 40 ~ 280℃의 온도범위에서 서서히 승온시키면서 10분 ~ 8시간 가열하여 폴리이미드 필름을 얻는다. It is preferable that the polyimide resin solids obtained as described above are filtered and dried by considering the boiling point of the second solvent at a temperature of 50 to 120 ° C and a time of 3 to 24 hours. Thereafter, the polyimide solution in which the polyimide resin solids are dissolved is cast on a support and heated at a temperature in the range of 40 to 280 DEG C for 10 minutes to 8 hours to obtain a polyimide film.

이상에서 설명한 바와 같은 방법으로 얻어지는 폴리이미드 필름은 극성 용매에 5분간 침지시켰을 때, 분해나 팽윤, 백탁 등의 현상이 일어나지 않고, 침지 전후의 두께변화나 헤이즈(Haze)의 변화가 없는 특성을 가진다. The polyimide film obtained by the method as described above has such characteristics that no phenomenon such as decomposition, swelling, and cloudiness occurs when immersed in a polar solvent for 5 minutes, and there is no change in thickness or haze before and after immersion .

즉, 상기 폴리이미드 필름은 하기 방법을 측정된 내용제성 지수가 2.0% 이하로 낮을수록 바람직하고, 1.90%, 0.58%, 0.49%, 0.48%, 0.45% 등의 수치 이하로 내용제성 지수를 가질 수 있다. That is, the polyimide film is preferably as low as 2.0% or less as measured according to the following method, and has a solvent resistance index below 1.90%, 0.58%, 0.49%, 0.48%, 0.45% have.

<내용제성 지수 측정방법><Method of measuring solvent resistance index>

폴리이미드 필름을 5cm × 5cm 시편으로 채취하여 80℃ 진공오븐에서 1시간 건조하고 필름의 임의 5지점으로부터 두께 평균값을 측정하여 이 값을 T0으로 정의하였다. 이어서 D.I Water로 세척후 80℃ 진공오븐에서 1시간 건조하여 필름의 임의 5지점으로부터 두께 평균값을 측정하여 이 값을 T1으로 정의하였다. The polyimide film was taken in a 5 cm × 5 cm sample, dried in a vacuum oven at 80 ° C. for 1 hour, and the average thickness was measured from five arbitrary points on the film, and this value was defined as T 0 . Then, the film was washed with DI Water, dried in a vacuum oven at 80 ° C for 1 hour, and an average thickness was measured from five arbitrary points on the film. The value was defined as T 1 .

상기 얻어진 T0 및 T1 값을 이용하여 침지 전과 후에서의 두께 편차로 정의되는 하기 식 1로부터 내용제성 지수를 계산하였다.Using the values of T 0 and T 1 obtained above, the solvent resistance index was calculated from the following Equation 1, which is defined as the thickness deviation before and after immersion.

<식 1><Formula 1>

(T0 - T1 ) / T0 × 100(%)(T 0 - T 1 ) / T 0 × 100 (%)

또한, 본 발명에 따른 폴리이미드 필름은 필름 두께 10 ~ 15㎛를 기준으로 열변형해석법(TMA-Method)에 의해 50~250℃에서 2회 반복하여 측정한 선형 열팽창 계수(CTE)가 50ppm/℃ 이하로 낮을수록 바람직하며, 41.2ppm/℃, 43.3ppm/℃, 45.5ppm/℃, 45.7 ppm/℃, 47.2ppm/℃, 47.8ppm/℃, 48.7ppm/℃ 등의 수치 이하의 열팽창계수를 가질 수 있다.The polyimide film according to the present invention has a linear thermal expansion coefficient (CTE) of 50 ppm / ° C, measured repeatedly at 50 to 250 ° C twice by a thermal deformation analysis method (TMA-Method) And has a coefficient of thermal expansion of not higher than 41.2 ppm / ° C, 43.3 ppm / ° C, 45.5 ppm / ° C, 45.7 ppm / ° C, 47.2 ppm / ° C, 47.8 ppm / .

또한, 본 발명에 따른 폴리이미드 필름은 필름 두께 10 ~ 15㎛를 기준으로 550nm에서 측정한 투과도가 90% 이상으로 높을수록 바람직하며, 90.1%, 90.3%, 90.5%, 90.7% 등의 수치 이상으로 투과도를 가질 수 있다.Also, the polyimide film according to the present invention preferably has a transmittance of at least 90%, preferably 90.1%, 90.3%, 90.5% and 90.7% It can have transparency.

또한, 본 발명에 따른 폴리이미드 필름은 필름 두께 10 ~ 15㎛를 기준으로 황색도가 4.0 이하로 낮을수록 바람직하며, 1.98, 2.41, 2.62, 2.77, 2.91, 2.94, 2.95 등의 수치 이하로 황색도를 가질 수 있다.The polyimide film according to the present invention preferably has a yellowing degree of less than 4.0 and a yellowing degree of 1.98, 2.41, 2.62, 2.77, 2.91, 2.94, 2.95, Lt; / RTI &gt;

또한, 본 발명에 따른 폴리이미드 필름은 ASTM D882(필름 두께 10 ~ 50㎛)를 기준으로 측정한 연신율이 10% 이상으로 높을수록 바람직하며, 15.7%, 17.2%, 17.5%, 18.1%, 21.8%, 22.7%, 25.2% 등의 수치 이상으로 연신율을 가질 수 있다.Also, the polyimide film according to the present invention is preferred as the elongation measured with ASTM D882 (film thickness 10 to 50 탆) as high as 10% or more, 15.7%, 17.2%, 17.5%, 18.1%, 21.8% , 22.7%, and 25.2%, respectively.

상술한 투과도, 황색도, 열팽창계수 등의 물성은 이를 측정시 필름의 두께가 10~15㎛ 범위 내에 있는 필름, 예를 들어 11㎛, 12㎛, 13㎛, … 15㎛ 등의 두께를 가지는 필름으로 측정될 수 있으며, 상기 두께 내에 있는 필름을 각각 측정 시 상기 물성 범위를 모두 만족할 수 있다. 또한, 이와 마찬가지로 상술한 연신율의 물성은 이를 측정시 필름의 두께가 10~15㎛ 범위 내에 있는 필름, 예를 들어 11㎛, 12㎛, 13㎛, … 15㎛ 등의 두께를 가지는 필름으로 측정될 수 있으며, 상기 두께 내에 있는 필름을 각각 측정 시 상기 물성 범위를 모두 만족할 수 있다. 이때, 상기 필름의 두께범위는 상기 물성을 측정하기 위한 측정방법에 해당하는 것이며, 특별한 언급이 없는 한 필름의 두께를 한정하는 의미는 아니다. The physical properties such as transmittance, yellowness, thermal expansion coefficient, and the like are measured when the film has a thickness in the range of 10 to 15 mu m, for example, 11 mu m, 12 mu m, 13 mu m, 15 [mu] m, and the film within the thickness can be measured to satisfy all of the physical properties. Similarly, the physical properties of the elongation described above can be measured by measuring a film having a thickness in the range of 10 to 15 mu m, for example, 11 mu m, 12 mu m, 13 mu m, 15 [mu] m, and the film within the thickness can be measured to satisfy all of the physical properties. At this time, the thickness range of the film corresponds to a measuring method for measuring the physical properties, and does not mean to limit the thickness of the film unless specifically mentioned.

또한, 본 발명에 따른 폴리이미드 필름은 상기 물성, 즉 내용제성, 투과도, 황색도, 열팽창계수, 연신율 각각의 범위를 모두 만족하는 것을 특징으로 한다. In addition, the polyimide film according to the present invention is characterized by satisfying all of the above physical properties, that is, the solvent resistance, the transmittance, the yellowness degree, the thermal expansion coefficient and the elongation.

본 발명의 폴리이미드 필름을 플렉시블 디스플레이와 같은 영상 표시소자용 기판에 적용함으로써 내용제성이 우수해 공정적용성이 용이하고, 우수한 광학특성 및 고내열 고신율성의 특성을 갖는 무색투명한 기판을 얻을 수 있다는 좋은 이점이 있다.By applying the polyimide film of the present invention to a substrate for an image display device such as a flexible display, it is possible to obtain a colorless transparent substrate having excellent solvent resistance, easy processability, excellent optical characteristics and high heat resistance high- There is a good advantage.

실시예Example

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명 하고자 한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 이에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. These examples are for the purpose of illustrating the present invention more specifically, and the present invention is not limited thereto.

<< 실시예Example 1>  1>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 299.489g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 6FODA 8.070g(0.024mol)을 용해하였다. 6FODA 용해가 완료된 후 BPDA 6.991g(0.02376mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 TFDB 17.933g(0.056mol)을 넣고, TFDB 용해가 완료된 후 14CHDC 11.758g(0.05624mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 240poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 299.489 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and 8.070 g (0.024 mol) of 6FODA, . After 6FODA dissolution was completed, 6.991g (0.02376mol) of BPDA was added, dissolved and allowed to react for 24 hours. After 24 hours, 17.933 g (0.056 mol) of TFDB was added, and 11.758 g (0.05624 mol) of 14CHDC was added after the TFDB dissolution was completed. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 ° C., and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid content of 13% by weight and a viscosity of 240 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 실시예Example 2>  2>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 294.073g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 6FODA 5.380g(0.016mol)을 용해하였다. 6FODA 용해가 완료된 후 BPDA 4.637g(0.01576mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 TFDB 20.495g(0.064mol)을 넣고, TFDB 용해가 완료된 후 14CHDC 13.431g(0.06424mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 290poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 294.073 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and 5.380 g (0.016 mol) of 6FODA, . After the dissolution of 6FODA was completed, 4.637g (0.01576mol) of BPDA was added and dissolved, followed by reaction for 24 hours. After 24 hours, 20.495 g (0.064 mol) of TFDB was added and 13.431 g (0.06424 mol) of 14CHDC was added after the TFDB dissolution was completed. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 ° C., and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of 13% by weight and a viscosity of 290 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 실시예Example 3>  3>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 282.927g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 6FODA 9.061g(0.021mol)을 용해하였다. 6FODA 용해가 완료된 후 6FDA 9.236g(0.02079mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 TFDB 15.691g(0.049mol)을 넣고, TFDB 용해가 완료된 후 14CHDC 10.288g(0.04921mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 180poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 11㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 282.927 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen through the reactor, and 9.061 g (0.021 mol) of 6FODA, . After 6FODA dissolution was completed, 9.236g (0.02079mol) of 6FDA was added and dissolved, followed by reaction for 24 hours. After 24 hours, 15.691 g (0.049 mol) of TFDB was added, and 10.288 g (0.04921 mol) of 14 CHDC was added after the completion of TFDB dissolution. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 DEG C, and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of 13 wt% and a viscosity of 180 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 11 탆 was prepared.

<< 실시예Example 4>  4>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 302.030g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 6FODA 8.070g(0.024mol)을 용해하였다. 6FODA 용해가 완료된 후 44ODPA 7.370g(0.02376mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 TFDB 17.933g(0.056mol)을 넣고, TFDB 용해가 완료된 후 14CHDC 11.758g(0.05624mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 210poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 302.030 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen through the reactor, and 8.070 g (0.024 mol) of 6FODA, . After the dissolution of 6FODA was completed, 7.370 g (0.02376 mol) of 44 ODPA was added and dissolved, followed by reaction for 24 hours. After 24 hours, 17.933 g (0.056 mol) of TFDB was added, and 11.758 g (0.05624 mol) of 14CHDC was added after the TFDB dissolution was completed. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 DEG C and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid content of 13 wt% and a viscosity of 210 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 실시예Example 5>  5>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 309.675g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 6FODA 8.070g(0.024mol)을 용해하였다. 6FODA 용해가 완료된 후 DSDA 8.513g(0.02376mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 TFDB 17.933g(0.056mol)을 넣고, TFDB 용해가 완료된 후 14CHDC 11.758g(0.05624mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 110poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 309.675 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and 8.070 g (0.024 mol) of 6FODA, . After 6FODA dissolution was completed, 8.513g (0.02376mol) of DSDA was added and dissolved, followed by reaction for 24 hours. After 24 hours, 17.933 g (0.056 mol) of TFDB was added, and 11.758 g (0.05624 mol) of 14CHDC was added after the TFDB dissolution was completed. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 DEG C, and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of 13 wt% and a viscosity of 110 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 실시예Example 6> 6>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 272.531g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 6FODA 8.070g(0.024mol)을 용해하였다. 6FODA 용해가 완료된 후 BPDA 6.991g(0.02376mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 3DDS 13.905g(0.056mol)을 넣고, 3DDS 용해가 완료된 후 14CHDC 11.758g(0.05624mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 70poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 272.531 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and 8.070 g (0.024 mol) of 6FODA, . After 6FODA dissolution was completed, 6.991g (0.02376mol) of BPDA was added, dissolved and allowed to react for 24 hours. After 24 hours, 13.905 g (0.056 mol) of 3DDS was added, and after dissolution of 3DDS, 14.758 g (0.05624 mol) of 14CHDC was added. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 DEG C and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid content of 13 wt% and a viscosity of 70 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 실시예Example 7> 7>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 272.531g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채6FODA 8.070g(0.024mol)을 용해하였다. 6FODA 용해가 완료된 후 BPDA 6.991g(0.02376mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 4DDS 13.905g(0.056mol)을 넣고, 4DDS 용해가 완료된 후 14CHDC 11.758g(0.05624mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 95poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 272.531 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and 8.070 g (0.024 mol) of 6FODA, . After 6FODA dissolution was completed, 6.991g (0.02376mol) of BPDA was added, dissolved and allowed to react for 24 hours. After 24 hours, 13,905 g (0.056 mol) of 4DDS was added, and after dissolution of 4 DDS was completed, 14 CHDC (11.758 g, 0.05624 mol) was added. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 DEG C, and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of 13 wt% and a viscosity of 95 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 비교예Comparative Example 1>  1>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 283.379g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 TFDB 25.618g(0.08mol)을 용해하였다. TFDB 용해가 완료된 후 14CHDC 16.726g(0.08mol)을 넣고 용해한 후 용액의 온도를 25도로 유지하여 24시간동안 반응시켰다. 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 355poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.283.379 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged into a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser while passing nitrogen, and 25.618 g (0.08 mol) of TFDB, . After the dissolution of TFDB was completed, 16.726 g (0.08 mol) of 14CHDC was added and dissolved, and the temperature of the solution was maintained at 25 ° C for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of 13% by weight and a viscosity of 355 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 비교예Comparative Example 2>  2>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 303.667g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 6FODA 28.580g(0.085mol)을 용해하였다. 6FODA 용해가 완료된 후 BPDA 25.009g(0.085mol)을 넣고 용해한 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간동안 반응시켰다. 그 결과 고형분의 농도가 15 중량%이고, 점도가 385poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.Into a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 303.667 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, 28.580 g (0.085 mol) of 6FODA, . After completion of 6FODA dissolution, 25.009g (0.085mol) of BPDA was added and dissolved. The temperature of the solution was maintained at 25 ° C and the reaction was allowed to proceed for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of 15% by weight and a viscosity of 385 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 비교예Comparative Example 3>  3>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 309.590g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 6FODA 23.536g(0.070mol)을 용해하였다. 6FODA 용해가 완료된 후 6FDA 31.098g(0.070mol)을 넣고 용해한 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간동안 반응시켰다. 그 결과 고형분의 농도가 15 중량%이고, 점도가 143poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 309.590 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, 23.536 g (0.070 mol) of 6FODA, . After 6FODA dissolution was completed, 31.098g (0.070mol) of 6FDA was added and dissolved, and the temperature of the solution was maintained at 25 ° C and reacted for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of 15% by weight and a viscosity of 143 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 비교예Comparative Example 4>  4>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 312.345g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 44ODA 5.405g(0.027mol)을 용해하였다. 44ODA 용해가 완료된 후 BPDA 7.865g(0.02673mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 TFDB 20.174g(0.063mol)을 넣고, TFDB 용해가 완료된 후 14CHDC 13.228g(0.06327mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 720poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 11㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 312.345 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and 5.405 g (0.027 mol) of 44ODA, . After completion of the dissolution of 44 ODA, 7.865 g (0.02673 mol) of BPDA was added, dissolved, and reacted for 24 hours. After 24 hours, 20.174 g (0.063 mol) of TFDB was added, and 13.228 g (0.06327 mol) of 14 CHDC was added after the completion of TFDB dissolution. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 ° C., and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of 13% by weight and a viscosity of 720 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 11 탆 was prepared.

<< 비교예Comparative Example 5>  5>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 301.496g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 44ODA 4.805g(0.024mol)을 용해하였다. 44ODA 용해가 완료된 후 6FDA 10.555g(0.02376mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 TFDB 17.933g(0.056mol)을 넣고, TFDB 용해가 완료된 후 14CHDC 11.758g(0.05624mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 327poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 301.496 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and 4.805 g (0.024 mol) of 44ODA, . After completion of the dissolution of 44ODA, 10.555g (0.02376mol) of 6FDA was added and dissolved, followed by reaction for 24 hours. After 24 hours, 17.933 g (0.056 mol) of TFDB was added, and 11.758 g (0.05624 mol) of 14CHDC was added after the TFDB dissolution was completed. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 DEG C and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid content of 13 wt% and a viscosity of 327 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 비교예Comparative Example 6>  6>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 285.366g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 4DDS 5.959g(0.024mol)을 용해하였다. 4DDS 용해가 완료된 후 BPDA 6.991g(0.02376mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 TFDB 17.933g(0.056mol)을 넣고, TFDB 용해가 완료된 후 14CHDC 11.758g(0.05624mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 113poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 285.366 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and then 5.959 g (0.024 mol) of 4DDS, . After dissolution of 4DDS was completed, 6.991 g (0.02376 mol) of BPDA was added and dissolved, followed by reaction for 24 hours. After 24 hours, 17.933 g (0.056 mol) of TFDB was added, and 11.758 g (0.05624 mol) of 14CHDC was added after the TFDB dissolution was completed. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 degrees, and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid content of 13 wt% and a viscosity of 113 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 비교예Comparative Example 7>  7>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 309.222g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 4DDS 5.959g(0.024mol)을 용해하였다. 4DDS 용해가 완료된 후 6FDA 10.555g(0.02376mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 TFDB 17.933g(0.056mol)을 넣고, TFDB 용해가 완료된 후 14CHDC 11.758g(0.05624mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 72poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 309.222 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and then 5.959 g (0.024 mol) of 4DDS, . After dissolution of 4DDS was completed, 10.555g (0.02376mol) of 6FDA was added and dissolved, followed by reaction for 24 hours. After 24 hours, 17.933 g (0.056 mol) of TFDB was added, and 11.758 g (0.05624 mol) of 14CHDC was added after the TFDB dissolution was completed. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 DEG C, and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid content of 13 wt% and a viscosity of 72 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 비교예Comparative Example 8>  8>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 296.804g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 tCHD 3.083g(0.027mol)을 용해하였다. tCHD 용해가 완료된 후 BPDA 7.865g(0.02673mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 TFDB 20.174g(0.063mol)을 넣고, TFDB 용해가 완료된 후 14CHDC 13.228g(0.06327mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 395poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 11㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 296.804 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and then 3.083 g (0.027 mol) of tCHD, . After completion of the tCHD dissolution, 7.865 g (0.02673 mol) of BPDA was added, dissolved and reacted for 24 hours. After 24 hours, 20.174 g (0.063 mol) of TFDB was added, and 13.228 g (0.06327 mol) of 14 CHDC was added after the completion of TFDB dissolution. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 DEG C, and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of 13 wt% and a viscosity of 395 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 11 탆 was prepared.

<< 비교예Comparative Example 9>  9>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 287.682g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 tCHD 2.741g(0.024mol)을 용해하였다. tCHD 용해가 완료된 후 6FDA 10.555g(0.02376mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 TFDB 17.933g(0.056mol)을 넣고, TFDB 용해가 완료된 후 14CHDC 11.758g(0.05624mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 105poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 287.682 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and 2.741 g (0.024 mol) of tCHD, . After the tCHD dissolution was completed, 10.555 g (0.02376 mol) of 6FDA was added and dissolved, followed by reaction for 24 hours. After 24 hours, 17.933 g (0.056 mol) of TFDB was added, and 11.758 g (0.05624 mol) of 14CHDC was added after the TFDB dissolution was completed. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 ° C., and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of 13% by weight and a viscosity of 105 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 비교예Comparative Example 10> 10>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 297.211g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 6FODA 8.070g(0.024mol)을 용해하였다. 6FODA 용해가 완료된 후 BPDA 6.991g(0.02376mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 TFDB 17.933g(0.056mol)을 넣고, TFDB 용해가 완료된 후 TPC 11.418g(0.05624mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 557poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 297.211 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and 8.070 g (0.024 mol) of 6FODA, . After 6FODA dissolution was completed, 6.991g (0.02376mol) of BPDA was added, dissolved and allowed to react for 24 hours. After 24 hours, 17.933 g (0.056 mol) of TFDB was added, and 11.418 g (0.05624 mol) of TPC was added after completion of TFDB dissolution. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 DEG C, and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of 13 wt% and a viscosity of 557 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 비교예Comparative Example 11> 11>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 297.211g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 6FODA 8.070g(0.024mol)을 용해하였다. 6FODA 용해가 완료된 후 BPDA 6.991g(0.02376mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 TFDB 17.933g(0.056mol)을 넣고, TFDB 용해가 완료된 후 IPC 11.418g(0.05624mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 210poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 11㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 297.211 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and 8.070 g (0.024 mol) of 6FODA, . After 6FODA dissolution was completed, 6.991g (0.02376mol) of BPDA was added, dissolved and allowed to react for 24 hours. After 24 hours, 17.933 g (0.056 mol) of TFDB was added, and 11.418 g (0.05624 mol) of IPC was added after TFDB dissolution was completed. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 DEG C and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid content of 13 wt% and a viscosity of 210 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 11 탆 was prepared.

<< 비교예Comparative Example 12> 12>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 299.625g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 6FODA 8.070g(0.024mol)과 TFDB 17.933g(0.056mol)을 넣고 용해하였다. 6FODA와 TFDB의 용해가 완료된 후 BPDA 7.061g(0.024mol)와 14CHDC 11.708g(0.056mol)을 넣고 25도로 유지한 채 24시간 동안 반응시켰다. 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 172poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 11㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 299.625 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and 8.070 g (0.024 mol) of 6FODA, And 17.933 g (0.056 mol) of TFDB were added and dissolved. After the dissolution of 6FODA and TFDB was completed, 7.061g (0.024mol) of BPDA and 11.708g (0.056mol) of 14CHDC were added and reacted for 24 hours while maintaining 25 ° C. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of 13 wt% and a viscosity of 172 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 11 탆 was prepared.

<< 비교예Comparative Example 13> 13>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 323.722g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 6FODA 8.070g(0.024mol)과 TFDB 17.933g(0.056mol)을 넣고 용해하였다. 6FODA와 TFDB의 용해가 완료된 후 6FDA 10.662g(0.024mol)와 14CHDC 11.708g(0.056mol)을 넣고 25도로 유지한 채 24시간 동안 반응시켰다. 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 115poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 323.722 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and 8.070 g (0.024 mol) of 6FODA, And 17.933 g (0.056 mol) of TFDB were added and dissolved. After dissolution of 6FODA and TFDB was completed, 10.662g (0.024mol) of 6FDA and 11.708g (0.056mol) of 14CHDC were added and reacted for 24 hours while maintaining 25 ° C. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of 13% by weight and a viscosity of 115 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 비교예Comparative Example 14>  14>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 292.449g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 6FODA 4.573g(0.0136mol)을 용해하였다. 6FODA 용해가 완료된 후 BPDA 3.931g(0.01336mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 TFDB 21.263g(0.0664mol)을 넣고, TFDB 용해가 완료된 후 14CHDC 13.932g(0.06664mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 315poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 292.449 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and 4.573 g (0.0136 mol) of 6FODA, . After 6FODA dissolution was completed, 3.931 g (0.01336 mol) of BPDA was added and dissolved, followed by reaction for 24 hours. After 24 hours, 21.263 g (0.0664 mol) of TFDB was added and 13.932 g (0.06664 mol) of 14 CHDC was added after the TFDB dissolution was completed. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 DEG C and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of 13 wt% and a viscosity of 315 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

<< 비교예Comparative Example 15> 15>

반응기로써 교반기, 질소주입장치, 적하깔때기, 온도조절기 및 냉각기를 부착한 500ml 반응기에 질소를 통과시키면서 디메틸아세트아미드(DMAc) 301.113g을 채운 후에 온도를 25도로 유지한 채 6FODA 8.876g(0.0264mol)을 용해하였다. 6FODA 용해가 완료된 후 BPDA 7.697g(0.02616mol)을 넣고 용해한후 24시간동안 반응시켰다. 24시간 뒤에 TFDB 17.164g(0.0536mol)을 넣고, TFDB 용해가 완료된 후 14CHDC 11.256g(0.05384mol)을 넣었다. 그 후 용액의 온도를 25도로 유지한 후 24시간 반응하였고, 그 결과 고형분의 농도가 13 중량%이고, 점도가 218poise인 폴리아믹산 용액을 수득하였다. 반응이 종료된 후 수득된 용액을 스테인레스판에 도포한 후, 10~20㎛로 캐스팅하고 80℃의 열풍으로 20분, 120℃에서 20분, 280℃에서 등온 10분 열풍으로 건조한 후, 서서히 냉각해 판으로부터 분리하여 두께가 10㎛인 폴리이미드 필름을 제조하였다.In a 500 ml reactor equipped with a stirrer, a nitrogen injector, a dropping funnel, a temperature controller and a condenser, 301.113 g of dimethylacetamide (DMAc) was charged while passing nitrogen, and 8.876 g (0.0264 mol) of 6FODA, . After 6FODA dissolution was completed, 7.697g (0.02616mol) of BPDA was added and dissolved, followed by reaction for 24 hours. After 24 hours, 17.164 g (0.0536 mol) of TFDB was added, and 11.256 g (0.05384 mol) of 14CHDC was added after the completion of TFDB dissolution. Thereafter, the temperature of the solution was maintained at 25 DEG C, and the reaction was carried out for 24 hours. As a result, a polyamic acid solution having a solid concentration of 13 wt% and a viscosity of 218 poise was obtained. After the reaction was completed, the obtained solution was applied to a stainless steel plate, cast to 10 to 20 占 퐉, dried by hot air at 80 占 폚 for 20 minutes, at 120 占 폚 for 20 minutes and at 280 占 폚 for 10 minutes by hot air, And a polyimide film having a thickness of 10 탆 was prepared.

상기 실시예 및 비교예로 제조된 폴리이미드 필름을 하기의 방법으로 물성을 평가하였으며, 그 결과를 하기 표 1과 표2에 나타내었다.The properties of the polyimide films prepared in Examples and Comparative Examples were evaluated by the following methods. The results are shown in Tables 1 and 2 below.

측정방법How to measure

상기 실시예 및 비교예로 제조된 폴리이미드 필름을 하기의 방법으로 물성을 평가하였으며, 그 결과를 하기 표 1 및 표 2에 나타내었다.The properties of the polyimide films prepared in Examples and Comparative Examples were evaluated by the following methods. The results are shown in Tables 1 and 2 below.

(1) 투과도 측정(1) Measurement of permeability

UV분광계(코티카 미놀타 CM-3700d)를 이용하여 550nm에서 투과도를 3번 측정 하여 평균값을 표 1에 기재하였다.The transmittance was measured three times at 550 nm using a UV spectrometer (Kotikaminolta CM-3700d) and the average values are shown in Table 1.

(2) Haze측정(2) Haze measurement

Hazemeter(Murakami Color Research Laboratory, HM-150)를 이용하여 3번 측정하여 평균값을 측정하였다. The mean value was measured three times using Hazemeter (Murakami Color Research Laboratory, HM-150).

(3) 황색도(Y.I.) 측정(3) Yellowness (Y.I.) measurement

UV분광계 (Konita Minolta, CM-3700d)를 이용하여 ASTM E313규격으로 황색도를 측정하였다.Yellowness was measured according to ASTM E313 standard using a UV spectrometer (Konita Minolta, CM-3700d).

(4) 열팽창 계수(CTE) 측정(4) Coefficient of thermal expansion (CTE) measurement

TMA(TA Instrument사, Q400)을 이용하여 TMA- Method에 따라 2번에 걸쳐 50~250에서의 선형 열팽창 계수를 측정하였다. 시편의 크기는 4mm×24mm, 하중은 0.02N으로 승온 속도는 10/min으로 하였다.Using TMA (TA Instrument, Q400), linear thermal expansion coefficients were measured twice at 50 ~ 250 according to the TMA-method. The size of the specimen was 4 mm × 24 mm, the load was 0.02 N, and the rate of temperature rise was 10 / min.

필름을 제막하고 열처리를 통하여 필름 내에 잔류 응력이 남아 있을 수 있기 때문에 첫 번째 작동(Run)으로 잔류응력을 완전히 제거 후, 두 번째 값을 실측정치로 제시하였다.Since the residual stress may remain in the film through the film formation and heat treatment, the residual stress is completely removed in the first run and the second value is presented as the measured value.

(5) 연신율 (Elongation)(%) 측정(5) elongation (%) measurement

Instron사의 5967을 사용하여 ASTM-D882의 기준에 맞추어 측정하였다. 시편의 크기는 15mm×30mm, Load cell 1KN, Tension rate를 10mm/min으로 측정하였다. Measured according to ASTM-D882 standard using 5967 from Instron. The size of the specimen was measured as 15 mm × 30 mm, Load cell 1 KN, and Tension rate 10 mm / min.

(6) 내용제성 측정(6) Solvent resistance measurement

실시예 및 비교예에서 제조된 폴리이미드 필름을 5cm × 5cm 시편으로 채취하여 80℃ 진공오븐에서 1시간 건조하고 필름의 임의 5지점으로부터 두께 평균값을 측정하여 이 값을 T0으로 정의하였다. 이어서 100% DMAC용액에 5분간 침지(Dipping)하여 육안으로 필름의 분해를 확인하였고 분해가 되지 않은 필름에 한해 D.I Water로 세척후 80℃ 진공오븐에서 1시간 건조하여 필름의 임의 5지점으로부터 두께 평균값을 측정하여 이 값을 T1으로 정의하였다. The polyimide films prepared in Examples and Comparative Examples were taken with a 5 cm × 5 cm sample, dried in a vacuum oven at 80 ° C. for 1 hour, and the average thickness was measured from five arbitrary points on the film, and this value was defined as T 0 . Subsequently, the film was dipped in a 100% DMAC solution for 5 minutes to confirm the decomposition of the film. The film was washed with DI Water only for the undissolved film, and then dried in a vacuum oven at 80 ° C for 1 hour. And this value was defined as T 1 .

상기 얻어진 T0 및 T1 값을 이용하여 침지 전과 후에서의 두께 편차로 정의되는 하기 식 1로부터 내용제성 지수를 계산하였다.Using the values of T 0 and T 1 obtained above, the solvent resistance index was calculated from the following Equation 1, which is defined as the thickness deviation before and after immersion.

<침지 후 필름의 육안 검사 결과>&Lt; Visually inspected result of film after immersion >

O : 필름의 분해 혹은 팽윤 및 백탁현상이 발생하지 않음.O: No decomposition, swelling or clouding of the film occurs.

X : 필름이 분해되거나, 팽윤 및 백탁현상이 발생함. X: The film is decomposed, swelling or clouding occurs.

<식 1><Formula 1>

(T0 - T1 ) / T0 × 100(%)(T 0 - T 1 ) / T 0 × 100 (%)

구분division 성분ingredient 구조rescue 14CHD
Cis함량
(중량%)
14CHD
Cis content
(weight%)
제1 블록 1몰에 대한 제2 블록의 몰비The mole ratio of the second block to one mole of the first block 필름
두께
(㎛)
film
thickness
(탆)
Y.IY.I. 550nm
투과도
550 nm
Permeability
CTE
(ppm/℃)
CTE
(ppm / DEG C)
연신율
(%)
Elongation
(%)
제1 블록The first block 제2 블록The second block 실시예
1
Example
One
6FODA-BPDA6FODA-BPDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC BlockBlock 7070 2.32.3 1010 2.952.95 90.190.1 43.343.3 22.722.7
실시예
2
Example
2
6FODA-BPDA6FODA-BPDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC BlockBlock 7070 4.04.0 1010 2.412.41 90.590.5 41.241.2 25.225.2
실시예
3
Example
3
6FODA-6FDA6FODA-6FDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC BlockBlock 7070 2.32.3 1111 1.981.98 90.790.7 48.748.7 17.517.5
실시예
4
Example
4
6FODA-4,4'ODPA6FODA-4,4'ODPA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC BlockBlock 7070 2.32.3 1010 2.772.77 90.390.3 45.545.5 21.821.8
실시예
5
Example
5
6FODA-DSDA6FODA-DSDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC BlockBlock 7070 2.32.3 1010 2.622.62 90.390.3 47.847.8 18.118.1
실시예
6
Example
6
6FODA-BPDA6FODA-BPDA 3DDS-14CHDC3DDS-14CHDC BlockBlock 7070 2.32.3 1010 2.912.91 90.190.1 47.247.2 15.715.7
실시예
7
Example
7
6FODA-BPDA6FODA-BPDA 4DDS-14CHDC4DDS-14CHDC BlockBlock 7070 4.04.0 1010 2.942.94 90.190.1 45.745.7 17.217.2
비교예
1
Comparative Example
One
-- TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC -- 7070 -- 1010 1.011.01 90.890.8 28.528.5 35.735.7
비교예
2
Comparative Example
2
6FODA-BPDA6FODA-BPDA -- -- -- -- 1010 6.906.90 88.888.8 5656 18.118.1
비교예
3
Comparative Example
3
6FODA-6FDA6FODA-6FDA -- -- -- -- 1010 2.702.70 89.889.8 67.867.8 9.579.57
비교예
4
Comparative Example
4
44ODA-BPDA44ODA-BPDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC BlockBlock 7070 2.32.3 1111 5.885.88 88.588.5 43.143.1 24.524.5
비교예
5
Comparative Example
5
44ODA-6FDA44ODA-6FDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC BlockBlock 7070 2.32.3 1010 5.315.31 88.688.6 47.547.5 18.218.2
비교예
6
Comparative Example
6
4DDS-BPDA4DDS-BPDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC BlockBlock 7070 2.32.3 1010 5.125.12 88.588.5 44.244.2 13.513.5
비교예
7
Comparative Example
7
4DDS-6FDA4DDS-6FDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC BlockBlock 7070 2.32.3 1010 4.984.98 88.588.5 48.748.7 11.211.2
비교예
8
Comparative Example
8
tCHD-BPDAtCHD-BPDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC BlockBlock 7070 2.32.3 1111 1.151.15 90.490.4 28.828.8 34.334.3
비교예
9
Comparative Example
9
tCHD-6FDAtCHD-6FDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC BlockBlock 7070 2.32.3 1010 1.021.02 90.890.8 42.542.5 28.128.1
비교예
10
Comparative Example
10
6FODA-BPDA6FODA-BPDA TFDB-TPCTFDB-TPC BlockBlock -- 2.32.3 1010 2.302.30 90.290.2 33.533.5 27.527.5
비교예
11
Comparative Example
11
6FODA-BPDA6FODA-BPDA TFDB-IPCTFDB-IPC BlockBlock -- 2.32.3 1111 2.122.12 90.590.5 56.756.7 14.714.7
비교예
12
Comparative Example
12
6FODA 3 : TFDB 7 -
BPDA 3 : 14CHDC 7
6FODA 3: TFDB 7 -
BPDA 3: 14CHDC 7
RandomRandom 7070 -- 1111 6.276.27 88.388.3 41.241.2 11.511.5
비교예
13
Comparative Example
13
6FODA 3 : TFDB 7 -
6FDA 3 : 14CHDC 7
6FODA 3: TFDB 7 -
6FDA 3: 14CHDC 7
RandomRandom 7070 -- 1010 4.454.45 89.589.5 48.748.7 9.89.8
비교예
14
Comparative Example
14
6FODA-BPDA6FODA-BPDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC BlockBlock 7070 4.884.88 1010 2.272.27 90.590.5 40.940.9 25.425.4
비교예
15
Comparative Example
15
6FODA-BPDA6FODA-BPDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC BlockBlock 7070 2.032.03 1010 3.213.21 89.589.5 45.745.7 20.520.5

구분division 성분ingredient 침지전
Haze(%)
Before immersion
Haze (%)
침지후
Haze(%)
After immersion
Haze (%)
내용제성Solvent resistance
제1 블록The first block 제2 블록The second block 분해 팽윤 백탁Decomposition swelling cloudiness 내용제성 지수Solvent resistance index 실시예
1
Example
One
6FODA-BPDA6FODA-BPDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC 0.60.6 0.60.6 OO 0.490.49
실시예
2
Example
2
6FODA-BPDA6FODA-BPDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC 0.80.8 0.80.8 OO 1.901.90
실시예
3
Example
3
6FODA-6FDA6FODA-6FDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC 0.50.5 0.50.5 OO 0.450.45
실시예
4
Example
4
6FODA-4,4'ODPA6FODA-4,4'ODPA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC 0.60.6 0.60.6 OO 0.480.48
실시예
5
Example
5
6FODA-DSDA6FODA-DSDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC 0.60.6 0.60.6 OO 0.480.48
실시예
6
Example
6
6FODA-BPDA6FODA-BPDA 3DDS-14CHDC3DDS-14CHDC 0.50.5 0.50.5 OO 0.480.48
실시예
7
Example
7
6FODA-BPDA6FODA-BPDA 4DDS-14CHDC4DDS-14CHDC 0.50.5 0.50.5 OO 0.580.58
비교예
1
Comparative Example
One
-- TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC 1.51.5 -
(측정불가)
-
(Measurement impossible)
X
(분해)
X
(decomposition)
100100
비교예
2
Comparative Example
2
6FODA-BPDA6FODA-BPDA -- 0.40.4 0.40.4 OO 0.470.47
비교예
3
Comparative Example
3
6FODA-6FDA6FODA-6FDA -- 0.30.3 0.30.3 OO 0.950.95
비교예
4
Comparative Example
4
44ODA-BPDA44ODA-BPDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC 0.60.6 0.60.6 OO 0.630.63
비교예
5
Comparative Example
5
44ODA-6FDA44ODA-6FDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC 0.60.6 0.60.6 OO 0.960.96
비교예
6
Comparative Example
6
4DDS-BPDA4DDS-BPDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC 0.50.5 5.75.7 X
(백탁,팽윤)
X
(Cloudiness, swelling)
9.529.52
비교예
7
Comparative Example
7
4DDS-6FDA4DDS-6FDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC 0.50.5 4.54.5 X
(백탁,팽윤)
X
(Cloudiness, swelling)
17.7517.75
비교예
8
Comparative Example
8
tCHD-BPDAtCHD-BPDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC 1.11.1 20.120.1 X
(백탁,팽윤)
X
(Cloudiness, swelling)
61.2661.26
비교예
9
Comparative Example
9
tCHD-6FDAtCHD-6FDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC 0.90.9 -
(측정불가)
-
(Measurement impossible)
X
(분해)
X
(decomposition)
100100
비교예
10
Comparative Example
10
6FODA-BPDA6FODA-BPDA TFDB-TPCTFDB-TPC 1.41.4 -
(측정불가)
-
(Measurement impossible)
X
(분해)
X
(decomposition)
100100
비교예
11
Comparative Example
11
6FODA-BPDA6FODA-BPDA TFDB-IPCTFDB-IPC 1.31.3 1.31.3 OO 0.890.89
비교예
12
Comparative Example
12
6FODA 3 : TFDB 7 -
BPDA 3 : 14CHDC 7
6FODA 3: TFDB 7 -
BPDA 3: 14CHDC 7
0.90.9 0.90.9 OO 1.801.80
비교예
13
Comparative Example
13
6FODA 3 : TFDB 7 -
6FDA 3 : 14CHDC 7
6FODA 3: TFDB 7 -
6FDA 3: 14CHDC 7
1.11.1 1.11.1 OO 2.772.77
비교예
14
Comparative Example
14
6FODA-BPDA6FODA-BPDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC 1.01.0 2.72.7 X
(백탁,팽윤)
X
(Cloudiness, swelling)
5.765.76
비교예
15
Comparative Example
15
6FODA-BPDA6FODA-BPDA TFDB-14CHDCTFDB-14CHDC 0.60.6 0.60.6 OO 0.660.66

상기 표 1 및 2에 나타난 바와 같이 실시예 1 내지 5의 폴리이미드 필름을 비교예 1 내지 15와 비교하면, 고신율 저CTE의 단위Block과 내용제성을 갖는 단위Block의 Block 비가 적절한 값을 가졌을 때 영상표시소자의 기판으로 사용되기에 적절한 광학, 내열, 기계적 물성 및 내용제성을 가짐을 알수 있다. As shown in Tables 1 and 2, when the polyimide films of Examples 1 to 5 were compared with Comparative Examples 1 to 15, when the block ratio of the unit block of the high elongation low CTE and the unit block having the solvent resistance was proper Heat resistance, mechanical properties and solvent resistance suitable for use as a substrate of an image display device.

비교예 1 내지 3의 결과를 통해 TFDB-14CHDC 단위Block은 내용제성 문제로 단독사용이 불가하고 6FODA-방향족 이무수물의 단위Blcok은 광학 및 내열성의 문제로 단독사용이 불가함을 알 수 있다. 비교예 14, 15의 결과를 통해 Block비가 적절한 값을 갖지 못할 때 최종필름의 내용제성이 하락하거나(비교예 14의 경우), 광학 및 내열성의 하락(비교예 15의 경우)이 있을 수 있음을 확인하였다. It can be seen from the results of Comparative Examples 1 to 3 that the TFDB-14 CHDC unit block can not be used solely because of the solvent resistance problem, and the unit Blcok of the 6FODA-aromatic dianhydride can not be used alone due to the problem of optical and heat resistance. The results of Comparative Examples 14 and 15 show that when the Block ratio does not have an appropriate value, the solvent resistance of the final film is lowered (in the case of Comparative Example 14), or the optical and heat resistance is lowered (in the case of Comparative Example 15) Respectively.

또한, 비교예 4 내지 9의 결과를 통해 내용제성을 갖는 단위 Block의 방향족 디아민계 모노머인 6FDOA를 -CF3 Group이 없는 원료인 44ODA, 4DDS, tCHD등의 원료로 대체하였을 때, 광학특성이 눈에 띄게 하락함을 확인할 수 있다. 특히 술폰기를 가지고 있는 DDS계열의 방향족 디아민계 모노머나 지환족 디아민계 모노머를 사용할 경우 최종필름의 내용제성을 확보할 수 없었다. 6FODA원료의 경우, 에테르기를 가져 굽은 구조를 하고 있으며 -CF3 Group을 포함하고 있어 내용제성 및 광학성특성, 신율등의 개선에 장점을 가지고 있기 때문에 비교예와의 대조를 통해 다시한번 확인할 수 있었다. Also, the results of Comparative Examples 4 to 9 show that when 6FDOA, which is an aromatic diamine monomer of a solvent block having solvent resistance, is replaced by a raw material such as 44ODA, 4DDS, tCHD, which is a raw material without -CF 3 Group, As shown in Fig. In particular, when a DDS-based aromatic diamine monomer having a sulfone group or an alicyclic diamine-based monomer is used, the solvent resistance of the final film can not be ensured. In the case of 6FODA raw materials, since the ether group has a bent structure and -CF 3 Group is included, it has advantages in improving the solvent resistance, optical properties and elongation, so that it can be confirmed once again by comparison with the comparative example .

비교예 12 내지 13의 결과를 통해 Block구조와 Random구조로 중합된 폴리이미드 필름의 비교를 할수 있고, Random구조일때 최종필름의 내용제성 확보는 동일하였으나 황색도, 광투과성, 내열성, 신율등 전 특성이 Block구조일때보다 하락됨을 알 수 있다. 이는 각 원료간의 반응성 차이로 인하여 원하는 Block구조를 만들어 낼 수 없기 때문에 구조가 Random하게 배열되어 일어난 결과라 할 수 있다. The results of Comparative Examples 12 to 13 show that the polyimide films polymerized in a block structure and a random structure can be compared with each other. In the case of a random structure, the solvent resistance of the final film is the same, but all properties such as yellowness, light transmittance, heat resistance and elongation Is lower than that of the block structure. This is a result of random arrangement of the structure because the desired block structure can not be created due to the difference in reactivity between the raw materials.

비교예 10 내지 11의 결과를 통해 고신율 저CTE구조의 디카르보닐 디클로라이드 모노머를 지환족에서 방향족으로 변경하였을시, 내용제성의 하락(비교예 10의 경우)이 있거나 내열성의 하락(비교예 11의 경우)등이 있음을 알 수 있다. The results of Comparative Examples 10 to 11 show that when the dicarbonyl dichloride monomer having a high elongation CTE structure is changed from alicyclic to aromatic, there is a decrease in solvent resistance (in the case of Comparative Example 10) or a decrease in heat resistance 11), and the like.

Claims (11)

비스 트리플루오로메틸 디아미노페닐 에테르(6FODA)로 유래된 단위구조 및 1종의 방향족 디안하이드라이드계 모노머로 유래된 단위구조를 포함하는 제1 블록; 및
1종의 방향족 디아민계 모노머로 유래된 단위구조 및 사이클로헥산디카보닐 디클로라이드(1,4-CHDC)로 유래된 단위구조를 포함하는 제2 블록을 포함하는 폴리이미드 수지.
A first block comprising a unit structure derived from bistrifluoromethyldiaminophenyl ether (6FODA) and a unit structure derived from one aromatic dianhydride monomer; And
A second block comprising a unit structure derived from one kind of aromatic diamine monomer and a unit structure derived from cyclohexanedicarbonyl dichloride (1,4-CHDC).
제1항에 있어서, 상기 제2 블록은 상기 제1 블록 1몰에 대하여 2.3 내지 4.0의 몰비로 포함되는 것을 특징으로 하는 폴리이미드 수지.
The polyimide resin according to claim 1, wherein the second block is contained at a molar ratio of 2.3 to 4.0 with respect to 1 mole of the first block.
제1항에 있어서, 상기 방향족 디안하이드라이드계 모노머는 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(ODPA), 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA), 비페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(BPDA) 및 3,3'4,4'-디페닐설폰 테트라카르복실릭 디안하이드라이드(DSDA) 중에서 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 수지.
The method of claim 1, wherein the aromatic dianhydride monomer is selected from the group consisting of oxydiphthalic dianhydride (ODPA), 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanediamine hydrate (6FDA) Wherein the polyimide resin is one selected from the group consisting of phenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) and 3,3'4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride (DSDA).
제1항에 있어서, 상기 방향족 디아민계 모노머는 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB), 비스(3-아미노페닐)설폰(3DDS) 및 비스(4-아미노페닐)설폰(4DDS) 중에서 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 수지.
The method of claim 1, wherein the aromatic diamine monomer is one selected from the group consisting of bistrifluoromethylbenzidine (TFDB), bis (3-aminophenyl) sulfone (3DDS), and bis And a polyimide resin.
비스 트리플루오로메틸 디아미노페닐 에테르(6FODA) 및 1종의 방향족 디안하이드라이드계 모노머를 포함하여 공중합시켜 제1 블록을 형성한 후, 1종의 방향족 디아민계 모노머 및 사이클로헥산-1,4-디카르보닐 디클로라이드(1,4-CHDC)를 포함하여 공중합시켜 제2 블록을 형성하는 공정을 포함하는 폴리이미드 수지의 제조방법.
(6FODA) and one aromatic dianhydride-based monomer to form a first block, and then one aromatic diamine-based monomer and a cyclohexane-1,4- (1,4-CHDC) to form a second block. &Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 11. &lt; / RTI &gt;
제5항에 있어서, 상기 제2 블록을 형성하는 공정에서 cis의 함량이 70중량% 이상으로 포함된 1,4-사이클로헥산디카보닐 디클로라이드(1,4-CHDC)를 첨가하여 실시하는 것을 특징으로 하는 폴리이미드 수지의 제조방법.
6. The method according to claim 5, wherein 1,4-cyclohexanedicarbonyl dichloride (1,4-CHDC) having a cis content of not less than 70% by weight is added in the step of forming the second block By weight based on the total weight of the polyimide resin.
제5항에 있어서, 상기 방향족 디안하이드라이드계 모노머는 옥시디프탈릭 디안하이드라이드(ODPA), 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)헥사플루오로프로판 디안하이드라이드(6FDA), 비페닐테트라카르복실릭 디안하이드라이드(BPDA) 및 3,3'4,4'-디페닐설폰 테트라카르복실릭 디안하이드라이드(DSDA) 중에서 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 수지의 제조방법.
The method of claim 5, wherein the aromatic dianhydride monomer is selected from the group consisting of oxydiphthalic dianhydride (ODPA), 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanediamine hydrate (6FDA) Wherein the polyimide resin is one selected from the group consisting of phenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) and 3,3'4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride (DSDA).
제5항에 있어서, 상기 방향족 디아민계 모노머는 비스 트리플루오로메틸벤지딘(TFDB), 비스(3-아미노페닐)설폰(3DDS) 및 비스(4-아미노페닐)설폰(4DDS) 중에서 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 수지의 제조방법.
6. The method of claim 5, wherein the aromatic diamine-based monomer is one selected from the group consisting of bistrifluoromethylbenzidine (TFDB), bis (3-aminophenyl) sulfone (3DDS), and bis &Lt; / RTI &gt;
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 폴리이미드 수지를 포함하는 폴리이미드 필름.
A polyimide film comprising a polyimide resin according to any one of claims 1 to 4.
제9항에 있어서, 상기 폴리이미드 필름은 필름 두께 10 ~ 15㎛를 기준으로 550nm에서 측정한 투과도가 90% 이상이며, 하기 방법을 측정된 내용제성 지수가 2.0% 이하인 것을 특징으로 하는 폴리이미드 필름.
<내용제성 지수 측정방법>
폴리이미드 필름을 5cm × 5cm 시편으로 채취하여 80℃ 진공오븐에서 1시간 건조하고 필름의 임의 5지점으로부터 두께 평균값을 측정하여 이 값을 T0으로 정의하였다. 이어서 D.I Water로 세척후 80℃ 진공오븐에서 1시간 건조하여 필름의 임의 5지점으로부터 두께 평균값을 측정하여 이 값을 T1으로 정의하였다.
상기 얻어진 T0 및 T1 값을 이용하여 침지 전과 후에서의 두께 편차로 정의되는 하기 식 1로부터 내용제성 지수를 계산하였다.
<식 1>
(T0 - T1 ) / T0 × 100(%)
The polyimide film according to claim 9, wherein the polyimide film has a transmittance of 90% or more measured at 550 nm on the basis of a film thickness of 10 to 15 占 퐉 and a measured solvent resistance index of not more than 2.0% .
<Method of measuring solvent resistance index>
The polyimide film was taken in a 5 cm × 5 cm sample, dried in a vacuum oven at 80 ° C. for 1 hour, and the average thickness was measured from five arbitrary points on the film, and this value was defined as T 0 . Then, the film was washed with DI Water, dried in a vacuum oven at 80 ° C for 1 hour, and an average thickness was measured from five arbitrary points on the film. The value was defined as T 1 .
Using the values of T 0 and T 1 obtained above, the solvent resistance index was calculated from the following Equation 1, which is defined as the thickness deviation before and after immersion.
<Formula 1>
(T 0 - T 1 ) / T 0 × 100 (%)
제9항 내지 제10항 중 어느 한 항의 폴리이미드 필름을 포함하는 영상 표시소자.
An image display device comprising the polyimide film according to any one of claims 9 to 10.
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