KR20180016950A - Polyimide, polyamic acid, polyamic acid solution, and polyimide film - Google Patents

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제이엑스티지 에네루기 가부시키가이샤
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Abstract

The present invention relates to a polyimide film, comprising: a repeating unit (A) represented by a specific general formula; and a repeating unit (B) represented by a specific general formula, wherein a content of the repeating unit (A) with respect to a total amount of the repeating units (A) and (B) is 5-35 mol%. An object of the present invention is to provide a polyimide which is able to evenly achieve a sufficiently high total light transmittance, a sufficiently low yellow color, and a sufficiently low coefficient of linear expansion to a higher level, and the polyimide film having the polyimide.

Description

폴리이미드, 폴리아미드산, 폴리아미드산 용액 및 폴리이미드 필름{POLYIMIDE, POLYAMIC ACID, POLYAMIC ACID SOLUTION, AND POLYIMIDE FILM}POLYAMIDE ACID, POLYAMIC ACID SOLUTION, AND POLYIMIDE FILM} BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyimide film,

본 발명은 폴리이미드, 폴리아미드산, 폴리아미드산 용액 및 폴리이미드 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a polyimide, a polyamic acid, a polyamic acid solution and a polyimide film.

유기 일렉트로루미네센스 소자를 사용한 디스플레이나 액정 디스플레이 등의 디스플레이 기기의 분야 등에 있어서는, 그의 기판 등에 이용하는 재료로서 광 투과성이 높고, 가볍고 유연한 재료의 출현이 요구되어 왔다. 그리고, 이러한 용도 등에 사용하는 재료로서 가볍고 유연한 폴리이미드를 포함하는 필름이 주목받고 있다. 이러한 폴리이미드에 관하여, 최근에는 충분한 광 투과성을 갖는 지환식 폴리이미드의 개발이 진행되고 있는데, 예를 들어 국제 공개 제2011/099518호(특허문헌 1)에 있어서는, 특정한 일반식으로 기재되는 반복 단위를 갖는 폴리이미드가 개시되어 있다.In the field of display devices using organic electroluminescence devices and display devices such as liquid crystal displays, the emergence of light and flexible materials having high light transmittance has been demanded as a material used for substrates thereof and the like. A film containing light and flexible polyimide has attracted attention as a material for such applications. With respect to such polyimide, recently, aliphatic polyimide having sufficient light transmittance has been developed. For example, in International Publication No. 2011/099518 (Patent Document 1), it is known that a repeating unit ≪ / RTI > is disclosed.

국제 공개 제2011/099518호International Publication No. 2011/099518

상기 특허문헌 1에 기재된 폴리이미드는, 충분히 고도의 투명성을 갖는 것이었다. 그러나, 상기 특허문헌 1에 기재된 폴리이미드는, 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 보다 고도의 수준으로 골고루 발휘한다는 관점에서는 반드시 충분한 것은 아니었다. 이와 같이, 종래의 폴리이미드는, 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 보다 고도의 수준으로 골고루 발휘한다는 점에서는, 반드시 충분한 것은 아니었다.The polyimide described in Patent Document 1 has a sufficiently high transparency. However, the polyimide described in Patent Document 1 is not always sufficient from the viewpoint of sufficiently exhibiting a sufficiently low yellow color and a sufficiently low coefficient of linear expansion to a higher level. Thus, the conventional polyimide is not necessarily sufficient in that it sufficiently exhibits sufficiently high total light transmittance, sufficiently low yellow color and sufficiently low coefficient of linear expansion to a higher level.

본 발명은 상기 종래 기술이 갖는 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 보다 고도의 수준으로 골고루 갖는 것을 가능하게 하는 폴리이미드, 그 폴리이미드를 효율적으로 형성하는 것을 가능하게 하는 폴리아미드산, 그 폴리아미드산의 용액 및 상기 폴리이미드를 포함하는 폴리이미드 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a polyimide which can sufficiently attain a high total light transmittance, a sufficiently low yellow color and a sufficiently low coefficient of linear expansion to a higher level, , A solution of the polyamic acid, and a polyimide film containing the polyimide.

본 발명자들은, 상기 목적을 달성하기 위해 예의 연구를 거듭한 결과, 폴리이미드를, 하기 일반식 (1)로 표시되는 반복 단위 (A)와 하기 일반식 (2)로 표시되는 반복 단위 (B)를, 이러한 반복 단위 (A) 및 (B)의 총량에 대한 반복 단위 (A)의 함유 비율이 5 내지 35몰%이 되도록 함유하는 것으로 함으로써, 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 보다 고도의 수준으로 골고루 갖는 것으로 하는 것이 가능해짐을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve the above object and as a result have found that the polyimide can be produced by mixing the polyimide with the repeating unit (A) represented by the following general formula (1) and the repeating unit (B) (A) relative to the total amount of the repeating units (A) and (B) is 5 to 35 mol%, the total light transmittance is sufficiently high, the sufficiently low yellow color and the sufficiently low The present invention has been accomplished on the basis of finding that the coefficient of linear expansion can be uniformly maintained at a higher level.

즉, 본 발명의 폴리이미드는, 하기 일반식 (1):That is, the polyimide of the present invention has the following general formula (1):

Figure pat00001
Figure pat00001

[식 (1) 중 R1, R2, R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 불소 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 1종을 나타내고, R10은 불소 함유 치환기를 갖는 탄소수 6 내지 40의 아릴렌기를 나타내고, n은 0 내지 12의 정수를 나타낸다]R 1 , R 2 and R 3 in the formula (1) each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a fluorine atom, and R 10 is a group having a fluorine-containing substituent An arylene group having 6 to 40 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12,

로 표시되는 반복 단위 (A)와,(A) represented by the formula

하기 일반식 (2):(2): < EMI ID =

Figure pat00002
Figure pat00002

[식 (2) 중 R10은 불소 함유 치환기를 갖는 탄소수 6 내지 40의 아릴렌기를 나타낸다][In the formula (2), R 10 represents an arylene group having 6 to 40 carbon atoms and having a fluorine-containing substituent]

로 표시되는 반복 단위 (B)를 함유하며, 또한 상기 반복 단위 (A) 및 (B)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (A)의 함유량이 5 내지 35몰%인 것이다., And the content of the repeating unit (A) in the total amount of the repeating units (A) and (B) is 5 to 35 mol%.

또한, 상기 본 발명의 폴리이미드로서는, 상기 일반식 (1) 및 (2) 중의 R10이 모두 하기 일반식 (3):As the polyimide of the present invention, it is preferable that all of R 10 in the general formulas (1) and (2)

Figure pat00003
Figure pat00003

[식 (3) 중 R5는 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기를 나타낸다][In the formula (3), R 5 represents a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms]

으로 표시되는 기인 것이 바람직하다.Is preferably a group represented by

또한, 상기 본 발명의 폴리이미드로서는, 상기 반복 단위 (A) 및 (B)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (A)의 함유량이 5 내지 25몰%인 것이 바람직하다.As the polyimide of the present invention, it is preferable that the content of the repeating unit (A) relative to the total amount of the repeating units (A) and (B) is 5 to 25 mol%.

또한, 본 발명의 폴리아미드산은, 하기 일반식 (4):In addition, the polyamic acid of the present invention is represented by the following general formula (4):

Figure pat00004
Figure pat00004

[식 (4) 중 R1, R2, R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 불소 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 1종을 나타내고, R10은 불소 함유 치환기를 갖는 탄소수 6 내지 40의 아릴렌기를 나타내고, n은 0 내지 12의 정수를 나타낸다]Wherein R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a fluorine atom, and R 10 is a group having a fluorine-containing substituent An arylene group having 6 to 40 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12,

로 표시되는 반복 단위 (C)와,(C) represented by the general formula

하기 일반식 (5):(5): < EMI ID =

Figure pat00005
Figure pat00005

[식 (5) 중 R10은 불소 함유 치환기를 갖는 탄소수 6 내지 40의 아릴렌기를 나타낸다][In the formula (5), R 10 represents an arylene group having 6 to 40 carbon atoms and having a fluorine-containing substituent]

로 표시되는 반복 단위 (D)를 함유하며, 또한 상기 반복 단위 (C) 및 (D)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (C)의 함유량이 5 내지 35몰%인 것이다., And the content of the repeating unit (C) relative to the total amount of the repeating units (C) and (D) is 5 to 35 mol%.

또한, 본 발명의 폴리아미드산 용액은, 상기 본 발명의 폴리아미드산과, 유기 용매를 포함하는 것이다.Further, the polyamic acid solution of the present invention comprises the polyamic acid of the present invention and an organic solvent.

또한, 본 발명의 폴리이미드 필름은 상기 본 발명의 폴리이미드를 포함하는 것이다.In addition, the polyimide film of the present invention includes the polyimide of the present invention.

본 발명에 따르면, 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 보다 고도의 수준으로 골고루 갖는 것을 가능하게 하는 폴리이미드, 그 폴리이미드를 효율적으로 형성하는 것을 가능하게 하는 폴리아미드산, 그 폴리아미드산의 용액 및 상기 폴리이미드를 포함하는 폴리이미드 필름을 제공하는 것이 가능해진다.According to the present invention, there is provided a polyimide which makes it possible to uniformly maintain a sufficiently high total light transmittance, a sufficiently low yellow color and a sufficiently low coefficient of linear expansion to a higher level, a polyamide acid , A solution of the polyamic acid and a polyimide film containing the polyimide.

도 1은 실시예 1에서 얻어진 폴리이미드의 IR 스펙트럼을 나타내는 그래프.1 is a graph showing the IR spectrum of the polyimide obtained in Example 1. Fig.

이하, 본 발명을 그의 적합한 실시 형태에 입각하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail based on its preferred embodiments.

[폴리이미드][Polyimide]

본 발명의 폴리이미드는, 하기 일반식 (1):The polyimide of the present invention has the following general formula (1):

Figure pat00006
Figure pat00006

[식 (1) 중 R1, R2, R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 불소 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 1종을 나타내고, R10은 불소 함유 치환기를 갖는 탄소수 6 내지 40의 아릴렌기를 나타내고, n은 0 내지 12의 정수를 나타낸다]R 1 , R 2 and R 3 in the formula (1) each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a fluorine atom, and R 10 is a group having a fluorine-containing substituent An arylene group having 6 to 40 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12,

로 표시되는 반복 단위 (A)와,(A) represented by the formula

하기 일반식 (2):(2): < EMI ID =

Figure pat00007
Figure pat00007

[식 (2) 중 R10은 불소 함유 치환기를 갖는 탄소수 6 내지 40의 아릴렌기를 나타낸다][In the formula (2), R 10 represents an arylene group having 6 to 40 carbon atoms and having a fluorine-containing substituent]

로 표시되는 반복 단위 (B)를 함유하며, 또한 상기 반복 단위 (A) 및 (B)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (A)의 함유량이 5 내지 35몰%인 것이다., And the content of the repeating unit (A) in the total amount of the repeating units (A) and (B) is 5 to 35 mol%.

상기 반복 단위 (A)에 관하여, 일반식 (1) 중의 R1, R2, R3으로서 선택될 수 있는 알킬기는, 탄소수가 1 내지 10인 알킬기이다. 이러한 탄소수가 10을 초과하면 유리 전이 온도가 저하되고, 각종 기판 재료 등에 이용할 때에 필요한 충분히 고도의 수준의 내열성을 달성할 수 없게 된다. 또한, 이러한 R1, R2, R3으로서 선택될 수 있는 알킬기의 탄소수로서는, 정제가 보다 용이해진다는 관점에서, 1 내지 6인 것이 바람직하고, 1 내지 5인 것이 보다 바람직하고, 1 내지 4인 것이 더욱 바람직하고, 1 내지 3인 것이 특히 바람직하다. 또한, 이러한 R1, R2, R3으로서 선택될 수 있는 알킬기는 직쇄상이어도 분지쇄상이어도 된다. 또한, 이러한 알킬기로서는 정제의 용이함의 관점에서, 메틸기, 에틸기가 보다 바람직하다.Regarding the repeating unit (A), the alkyl group which may be selected as R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (1) is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. When the number of carbon atoms exceeds 10, the glass transition temperature is lowered and heat resistance at a sufficiently high level required for use in various substrate materials and the like can not be achieved. The number of carbon atoms of the alkyl group which can be selected as R 1 , R 2 and R 3 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 5, and most preferably 1 to 4, from the viewpoint of easier purification. , More preferably from 1 to 3 carbon atoms. The alkyl group which may be selected as R 1 , R 2 , and R 3 may be linear or branched. As the alkyl group, a methyl group and an ethyl group are more preferable from the viewpoint of easiness of purification.

또한, 상기 일반식 (1) 중의 R1, R2, R3으로서는, 폴리이미드를 제조했을 때에, 보다 고도의 내열성이 얻어진다는 관점에서, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기인 것이 보다 바람직하고, 그 중에서도, 원료의 입수가 용이한 점이나 정제가 보다 용이하다는 관점에서, 각각 독립적으로, 수소 원자, 메틸기, 에틸기, n-프로필기 또는 이소프로필기인 것이 보다 바람직하고, 수소 원자 또는 메틸기인 것이 특히 바람직하다. 또한, 이러한 식 중의 복수의 R1, R2, R3은 정제의 용이함 등의 관점에서, 동일한 것이 특히 바람직하다.R 1 , R 2 and R 3 in the above general formula (1) are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, More preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group or an isopropyl group, independently from each other, from the viewpoints of easy availability of raw materials and easier purification, Or a methyl group. A plurality of R 1 , R 2 and R 3 in this formula are particularly preferably the same in terms of ease of purification and the like.

또한, 상기 일반식 (1) 중의 R10은, 불소 함유 치환기를 갖는 탄소수 6 내지 40의 아릴렌기(불소계 아릴렌기)이다. 여기에서 말하는 불소 함유 치환기로서는, 불소를 함유하는 것이면 되고, 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 불소 원자 자체, 또는 적어도 일부가 불소 원자로 치환된 알킬기(플루오로알킬기) 등을 들 수 있다. 이러한 불소 함유 치환기 중에서도, 보다 고도의 내열성이 얻어진다는 관점에서, 탄소수가 1 내지 10인 플루오로알킬기(예를 들어, 불화메틸기, 디플루오로메틸기, 트리플루오로메틸기, 트리플루오로에틸기, 펜타플루오로에틸기, 헵타플루오로-n-프로필기, 헵타플루오로이소프로필기, 노나플루오로-n-부틸기, 노나플루오로-sec-부틸기, 노나플루오로이소부틸기, 노나플루오로-t-부틸기, 퍼플루오로펜틸기, 퍼플루오로헥실기, 퍼플루오로헵틸기, 퍼플루오로옥틸기, 퍼플루오로노닐기, 퍼플루오로데실기 등의 불화알킬기)가 바람직하고, 그 중에서도, 탄소수가 1 내지 5(보다 바람직하게는 1 내지 3)인 플루오로알킬기가 보다 바람직하다. 또한, 이러한 불소 함유 치환기로서는, 원료의 입수성의 관점에서는, 탄소수가 1 내지 5(보다 바람직하게는 1 내지 3)인 플루오로알킬기가 보다 바람직하다. 이와 같이, 상기 R10에 관하여, 상기 아릴렌기가 갖는 불소 함유 치환기로서는, 탄소수가 1 내지 3(보다 바람직하게는 1 내지 2)인 플루오로알킬기(특히 바람직하게는 퍼플루오로알킬기)가 더욱 바람직하다. 또한, 여기에 있어서 「플루오로알킬기」란, 알킬기의 수소 원자의 일부 또는 전부가 불소 원자로 치환되어 이루어지는 기를 의미하며(또한, 이러한 기는 알킬기의 적어도 일부의 수소 원자가 불소 원자로 치환되어 있으면 되고, 알킬기의 일부 수소 원자가 불소 원자 이외의 치환기(예를 들어 불소 원자 이외의 할로겐 원자, 수산기, 알콕시기, 페녹시기, 중수소 등)로 더 치환되어 있어도 된다), 또한 「퍼플루오로알킬기」란, 알킬기의 수소 원자 전부가 불소 원자로 치환되어 이루어지는 기를 의미한다.R 10 in the general formula (1) is an arylene group having 6 to 40 carbon atoms (fluorine-containing arylene group) having a fluorine-containing substituent. The fluorine-containing substituent referred to herein is not particularly limited as long as it contains fluorine, and examples thereof include a fluorine atom itself or an alkyl group (fluoroalkyl group) in which at least a part of the fluorine atom is substituted with a fluorine atom. Among such fluorine-containing substituents, from the viewpoint of obtaining a higher degree of heat resistance, fluoroalkyl groups having 1 to 10 carbon atoms (e.g., methyl, fluoromethyl, trifluoromethyl, trifluoroethyl, N-propyl group, heptafluoroisopropyl group, nonafluoro-n-butyl group, nonafluoro-sec-butyl group, nonafluoroisobutyl group, nonafluoro-t- A perfluorohexyl group, a perfluorohexyl group, a perfluorooctyl group, a perfluorononyl group, and a perfluorodecyl group) are preferable, and among them, More preferred is a fluoroalkyl group having 1 to 5 (more preferably 1 to 3) carbon atoms. The fluorine-containing substituent is more preferably a fluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms (more preferably 1 to 3 carbon atoms) from the viewpoint of availability of the starting material. As to the R 10 , the fluorine-containing substituent of the arylene group is more preferably a fluoroalkyl group (particularly preferably a perfluoroalkyl group) having 1 to 3 (more preferably 1 to 2) carbon atoms Do. The term "fluoroalkyl group" as used herein means a group in which a part or all of the hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with fluorine atoms (the group may be such that at least a part of the hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with fluorine atoms, Some hydrogen atoms may be further substituted with a substituent other than a fluorine atom (for example, a halogen atom other than a fluorine atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, a phenoxy group, a deuterium, etc.), and a "perfluoroalkyl group" Means a group in which all of the atoms are substituted with fluorine atoms.

상기 일반식 (1) 중의 R10으로서 선택될 수 있는, 불소 함유 치환기를 갖는 아릴렌기에 관한 것이며, 상기 아릴렌기의 탄소수(또한, 이러한 탄소수는 아릴렌기 자체의 탄소의 수를 의미하고, 그 탄소수로부터는 상기 불소 함유 치환기 중의 탄소의 수는 제외된다)는 6 내지 40이다. 또한, 이러한 아릴렌기의 탄소수로서는 6 내지 30인 것이 바람직하고, 12 내지 20인 것이 보다 바람직하다. 이러한 탄소수가 상기 상한을 초과하면 내열성이 저하되는 경향이 있다. 이러한 아릴렌기로서는, 예를 들어 페닐렌기, 비페닐렌기, 터페닐렌기, 나프틸렌기, 안트라세닐렌기, 플루오레닐렌기, 페난트릴렌기, 크리세닐렌기, 인데닐렌기, 피레닐렌기 또는 벤조안트라세닐렌기 등을 들 수 있지만, 그 중에서도, 입수성의 관점에서, 비페닐렌기, 페닐렌기, 나프틸렌기가 바람직하고, 비페닐렌기, 페닐렌기가 보다 바람직하다.The present invention relates to an arylene group having a fluorine-containing substituent which can be selected as R 10 in the above-mentioned general formula (1), wherein the carbon number of the arylene group (the number of carbon atoms means the number of carbon atoms of the arylene group itself, The number of carbon atoms in the fluorine-containing substituent is excluded) is 6 to 40. [ The number of carbon atoms of the arylene group is preferably 6 to 30, more preferably 12 to 20. If the carbon number exceeds the upper limit, the heat resistance tends to decrease. Examples of the arylene group include a phenylene group, a biphenylene group, a terphenylene group, a naphthylene group, an anthracenylene group, a fluorenylene group, a phenanthrylene group, a chrysenylene group, an indenylene group, a pyrenylene group, A phenylene group and a naphthylene group are preferable, and a biphenylene group and a phenylene group are more preferable from the viewpoint of availability.

또한, 상기 일반식 (1) 중의 R10으로서 선택될 수 있는, 불소 함유 치환기를 갖는 아릴렌기로서는, 내열성이나 입수성의 관점에서, 하기 일반식 (3):The arylene group having a fluorine-containing substituent which can be selected as R 10 in the general formula (1) is preferably an arylene group having a fluorine-containing substituent represented by the following general formula (3):

Figure pat00008
Figure pat00008

[식 (3) 중 R5는 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기(보다 바람직하게는 퍼플루오로알킬기)를 나타낸다][In the formula (3), R 5 represents a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms (more preferably a perfluoroalkyl group)

으로 표시되는 기인 것이 바람직하고, 그 중에서도, 하기 일반식 (3-I)Is preferably a group represented by the following general formula (3-I)

Figure pat00009
Figure pat00009

로 표시되는 기인 것이 특히 바람직하다.Is particularly preferable.

또한, 본 발명의 폴리이미드에 있어서는, 상기 반복 단위 (A)로서, R10의 종류 등이 상이한 복수종의 반복 단위 (A)를 조합하여 이용해도 된다.In the polyimide of the present invention, plural kinds of repeating units (A) having different kinds of R 10 and the like may be used in combination as the repeating unit (A).

또한, 상기 반복 단위 (B)에 관하여, 상기 일반식 (2) 중의 R10은, 상기 일반식 (1) 중의 R10과 동의이다(그의 적합한 것도 상기 일반식 (1) 중의 R10과 마찬가지이다). 또한, 본 발명의 폴리이미드에 있어서는, 상기 반복 단위 (B)로서, R10의 종류 등이 상이한 복수종의 반복 단위 (B)를 조합하여 이용해도 된다.Regarding the repeating unit (B), R 10 in the general formula (2) is synonymous with R 10 in the general formula (1) (the preferred examples thereof are the same as those of R 10 in the general formula (1) ). In the polyimide of the present invention, plural kinds of repeating units (B) having different kinds of R 10 and the like may be used in combination as the repeating unit (B).

또한, 본 발명의 폴리이미드에 있어서는, 충분한 수준의 내열성을 갖는 것으로 하면서, 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 보다 고도의 수준으로 골고루 발현시킨다는 관점에서는, 상기 반복 단위 (A) 및 (B) 중의 모든 R10이 동일한 것이 바람직하다.From the viewpoint that the polyimide of the present invention has a sufficient level of heat resistance and exhibits sufficiently high total light transmittance, sufficiently low yellow color and sufficiently low coefficient of linear expansion to a higher level, the repeating unit It is preferable that all R 10 in A) and (B) are the same.

또한, 본 발명의 폴리이미드에 있어서는, 상기 일반식 (1)로 표시되는 반복 단위 (A) 및 상기 일반식 (2)로 표시되는 반복 단위 (B)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (A)의 함유량은, 몰량을 기준으로 하여 5 내지 35몰%이다. 이러한 일반식 (1)로 표시되는 반복 단위 (A)의 함유량이 상기 하한 미만이면, 충분히 고도의 전체 광선 투과율(보다 바람직하게는 83.0% 이상의 전체 광선 투과율)을 갖는 것으로 하는 것이 곤란해지는 경향이 있고, 게다가 충분히 낮은 선팽창 계수(바람직하게는 -20ppm/K 내지 20ppm/K의 선팽창 계수)를 갖는 것으로 하는 것이 곤란해져, 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 고도의 수준으로 골고루 갖는 것으로 할 수 없게 된다. 한편, 상기 반복 단위 (A)의 함유량이 상기 상한을 초과하면, 이 경우에도 충분히 낮은 선팽창 계수(바람직하게는 -20ppm/K 내지 20ppm/K의 선팽창 계수)를 갖는 것으로 할 수 없게 되어, 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 고도의 수준으로 골고루 갖는 것으로 할 수 없게 된다.In the polyimide of the present invention, the content of the repeating unit (A) relative to the total amount of the repeating unit (A) represented by the general formula (1) and the repeating unit (B) The content is 5 to 35 mol% based on the molar amount. If the content of the repeating unit (A) represented by the general formula (1) is less than the lower limit described above, it tends to be difficult to have a sufficiently high total light transmittance (more preferably, 83.0% or more of the total light transmittance) (Preferably a coefficient of linear expansion of -20 ppm / K to 20 ppm / K), so that it is possible to achieve a sufficiently high total light transmittance, a sufficiently low yellow color and a sufficiently low coefficient of linear expansion to a high level It is not possible to have it evenly. On the other hand, when the content of the recurring unit (A) exceeds the upper limit, it is impossible to have a sufficiently low linear expansion coefficient (preferably, a coefficient of linear expansion of -20 ppm / K to 20 ppm / K) The yellow color and the sufficiently low coefficient of linear expansion can not be uniformly maintained at a high level.

또한, 본 발명의 폴리이미드에 있어서는, 충분히 고도의 전체 광선 투과율을 가지면서, 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 더욱 고도의 수준으로 골고루 갖는 것으로 한다는 관점에서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 반복 단위 (A) 및 상기 일반식 (2)로 표시되는 반복 단위 (B)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (A)의 함유 비율은 5 내지 25몰%인 것이 보다 바람직하고, 10 내지 20몰%인 것이 더욱 바람직하고, 12.5 내지 17.5몰%인 것이 특히 바람직하다. 또한, 마찬가지의 관점에서, 상기 반복 단위 (A) 및 상기 반복 단위 (B)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (B)의 함유량은, 몰량을 기준으로 하여 95 내지 65몰%일 필요가 있고, 95 내지 75몰%인 것이 보다 바람직하고, 90 내지 80몰%인 것이 더욱 바람직하고, 87.5 내지 82.5몰%인 것이 특히 바람직하다.From the viewpoint that the polyimide of the present invention has a sufficiently high total light transmittance and a sufficiently low yellow color and a sufficiently low linear expansion coefficient to a higher level, The content of the repeating unit (A) relative to the total amount of the repeating unit (A) and the repeating unit (B) represented by the general formula (2) is more preferably 5 to 25 mol%, more preferably 10 to 20 mol% , And particularly preferably 12.5 to 17.5 mol%. From the same viewpoint, the content of the repeating unit (B) relative to the total amount of the repeating unit (A) and the repeating unit (B) is 95 to 65 mol% based on the molar amount, and 95 , More preferably from 90 mol% to 75 mol%, still more preferably from 90 mol% to 80 mol%, particularly preferably from 87.5 mol% to 82.5 mol%.

또한, 본 발명의 폴리이미드에 있어서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에 있어서, 다른 반복 단위를 함유하고 있어도 된다. 이러한 다른 반복 단위로서는, 특별히 제한되지 않고, 폴리이미드를 구성하는 것이 가능한 공지의 반복 단위를 적절히 이용할 수 있다. 또한, 본 발명의 폴리이미드에 있어서는, 다른 반복 단위를 함유하는 경우, 상기 일반식 (1)로 표시되는 반복 단위 (A) 및 상기 일반식 (2)로 표시되는 반복 단위 (B)의 총량이, 폴리이미드 중의 전체 반복 단위에 대하여 50몰% 이상(보다 바람직하게는 70몰% 이상)이 되도록, 상기 반복 단위 (A) 및 (B)를 함유하고 있는 것이 바람직하다. 또한, 이러한 폴리이미드 중의 전체 반복 단위에 대한 상기 반복 단위 (A) 및 상기 반복 단위 (B)의 총량의 함유 비율로서는, 80 내지 100몰%인 것이 보다 바람직하고, 90 내지 100몰%인 것이 더욱 바람직하다. 이러한 폴리이미드 중의 전체 반복 단위에 대한 반복 단위 (A) 및 (B)의 총량의 함유 비율이, 상기 하한 미만이면, 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 골고루 갖는 것으로 하는 것이 곤란해지는 경향이 있다. 또한, 더 효율적으로 폴리이미드를 형성한다는 관점에서는, 본 발명의 폴리이미드가, 실질적으로 반복 단위 (A) 및 (B)를 포함하는 것(실질적으로 다른 반복 단위를 포함하지 않는 것, 보다 바람직하게는 상기 반복 단위 (A) 및 상기 반복 단위 (B)의 총량이 95몰% 이상인 것, 더욱 바람직하게는 98몰% 이상인 것, 특히 바람직하게는 99몰% 이상인 것)이 바람직하다.In the polyimide of the present invention, other repeating units may be contained in such a range that the effect of the present invention is not impaired. Such another repeating unit is not particularly limited, and a known repeating unit capable of forming a polyimide can be appropriately used. When the polyimide of the present invention contains other repeating units, the total amount of the repeating unit (A) represented by the general formula (1) and the repeating unit (B) represented by the general formula (2) (A) and (B) so as to be at least 50 mol% (more preferably at least 70 mol%) based on the total repeating units in the polyimide. The content ratio of the total amount of the repeating unit (A) and the repeating unit (B) to the total repeating units in the polyimide is more preferably 80 to 100 mol%, further preferably 90 to 100 mol% desirable. If the content ratio of the total amount of the repeating units (A) and (B) to the total repeating units in the polyimide is less than the lower limit described above, it tends to be difficult to uniformly provide sufficiently low yellow color and sufficiently low linear expansion coefficient. From the viewpoint of forming the polyimide more efficiently, it is preferable that the polyimide of the present invention contains substantially the repeating units (A) and (B) (substantially no other repeating units, more preferably Is preferably at least 95 mol%, more preferably at least 98 mol%, particularly preferably at least 99 mol%, of the total amount of the repeating unit (A) and the repeating unit (B).

또한, 이러한 폴리이미드로서는, 선팽창 계수가 -20ppm/K 내지 20ppm/K인 것이 보다 바람직하고, -10 내지 10ppm/K인 것이 보다 바람직하고, -5 내지 5ppm/K인 것이 더욱 바람직하다. 이러한 선팽창 계수가 상기 상한을 초과하면, 선팽창 계수의 범위가 5 내지 20ppm/K인 금속이나 무기물과 조합하여 복합화한 경우에 열 이력으로 박리가 발생하기 쉬워지는 경향이 있고, 마이크로일렉트로닉스의 기판으로서 이용한 경우에, 마이크로일렉트로닉스의 최종 제품(예를 들어, 유기 EL 디스플레이, 터치 패널, 반도체용 보호막(버퍼 코팅), 층간 절연막, 포토레지스트, 이미지 센서용 마이크로렌즈 등)을 수율 높게 제조하는 것이 곤란해진다. 한편, 상기 선팽창 계수가 상기 하한 미만이 되면, 무기물을 적층했을 때에, 박리나 컬이 발생하기 쉬워지는 경향이 있다. 또한, 폴리이미드를 포함하는 필름의 상층 또는 하층에 디바이스를 제조하는 경우에 있어서 디바이스가 무기 화합물인 경우, 필름의 컬이나 제조 시의 변형의 발생을 억제한다는 관점에서, 무기 화합물과 동등 정도의 충분히 낮은 선팽창 계수를 갖는 폴리이미드를 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 관점에서도, 본 발명의 폴리이미드는, 그 선팽창 계수를 상기 범위로 하는 것이 바람직하다.The polyimide preferably has a coefficient of linear expansion of from -20 ppm / K to 20 ppm / K, more preferably from -10 ppm / K to 10 ppm / K, even more preferably from -5 ppm / K to 5 ppm / K. When the coefficient of linear expansion exceeds the upper limit, there is a tendency that peeling easily occurs due to thermal hysteresis in the case of combining with a metal or an inorganic material having a coefficient of linear expansion in the range of 5 to 20 ppm / K and using it as a substrate for microelectronics It becomes difficult to manufacture final products of microelectronics (for example, organic EL displays, touch panels, protective films for semiconductors (buffer coatings), interlayer insulating films, photoresists, microlenses for image sensors, etc.) with high yield. On the other hand, when the coefficient of linear expansion is less than the lower limit described above, there is a tendency that peeling or curling tends to occur when inorganic materials are laminated. When the device is an inorganic compound in the case of producing a device in an upper layer or a lower layer of a film containing polyimide, from the viewpoint of suppressing curling of the film and deformation during production, It is preferable to use polyimide having a low linear expansion coefficient. From this point of view, the polyimide of the present invention preferably has a linear expansion coefficient within the above range.

또한, 본 발명에 있어서, 폴리이미드의 선팽창 계수값으로서는 이하의 값을 채용한다. 즉, 우선 측정 대상으로서의 폴리이미드에 관하여, 그 폴리이미드를 포함하는 세로: 20㎜, 가로: 5㎜, 두께: 13㎛의 크기의 필름을 형성한다. 그 후, 해당 필름을 진공 건조(120℃에서 1시간)하고, 질소 분위기 하에서 200℃에서 1시간 열 처리하여, 건조 필름을 얻는다. 그리고, 이와 같이 하여 얻어진 건조 필름을 시료로서 사용하고, 측정 장치로서 열 기계적 분석 장치(리가크제의 상품명 「TMA8310」)를 이용하고, 질소 분위기 하에서, 인장 모드(49mN), 승온 속도 5℃/분의 조건을 채용하고, 50℃ 내지 200℃에 있어서의 상기 시료의 세로 방향의 길이의 변화를 측정하여, 50℃ 내지 200℃의 온도 범위에 있어서의 1℃(1K)당 길이의 변화의 평균값을 구한다. 그리고, 이와 같이 하여 구해진 상기 평균값을, 본 발명의 폴리이미드의 선팽창 계수의 값으로서 채용한다(두께가 13㎛인 경우의 폴리이미드 필름의 선팽창 계수의 값을, 본 발명의 폴리이미드의 선팽창 계수의 값으로서 채용한다).In the present invention, the following values are adopted as the coefficient of linear expansion of the polyimide. That is, first, a film having a size of 20 mm in length, 5 mm in width, and 13 m in thickness containing the polyimide is formed with respect to the polyimide as an object to be measured. Thereafter, the film is vacuum dried (at 120 DEG C for 1 hour) and heat-treated at 200 DEG C for 1 hour in a nitrogen atmosphere to obtain a dried film. The film thus obtained was used as a sample, and a tensile mode (49 mN) and a temperature raising rate of 5 deg. C / min. Were carried out under a nitrogen atmosphere using a thermomechanical analyzer (trade name "TMA8310" , And the change in length in the longitudinal direction of the sample at 50 to 200 DEG C was measured to find an average value of the change in length per 1 DEG C (1K) in the temperature range of 50 DEG C to 200 DEG C I ask. The average value thus obtained is adopted as the value of the coefficient of linear expansion of the polyimide of the present invention (the value of the coefficient of linear expansion of the polyimide film when the thickness is 13 탆 is set to the value of the coefficient of linear expansion of the polyimide of the present invention Value).

또한, 이러한 폴리이미드로서는, 5% 중량 감소 온도(Td 5%)가 400℃ 이상인 것이 바람직하고, 450 내지 550℃인 것이 보다 바람직하다. 이러한 5% 중량 감소 온도가 상기 하한 미만이면, 마이크로일렉트로닉스의 제품용의 기판으로서 이용하기 위하여 충분한 내열성을 얻는 것이 곤란해지는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 초과하면, 그러한 특성을 갖는 폴리이미드를 제조하는 것이 곤란해지는 경향이 있다. 또한, 이러한 5% 중량 감소 온도는, 질소 가스 분위기 하에서, 질소 가스를 흘리면서, 주사 온도를 30℃ 내지 550℃로 설정하고, 승온 속도: 10℃/min.의 조건에서 가열하여, 사용한 시료의 중량이 5% 감소하는 온도를 측정함으로써 구할 수 있다. 또한, 이러한 측정에는, 측정 장치로서, 예를 들어 열 중량 분석 장치(SII·나노테크놀로지 가부시끼가이샤제의 「TG/DTA220」)를 이용할 수 있다.The polyimide preferably has a weight reduction temperature of 5% (Td 5%) of 400 캜 or higher, more preferably 450 to 550 캜. If the 5% weight reduction temperature is less than the lower limit described above, it tends to be difficult to obtain sufficient heat resistance for use as a substrate for a product of microelectronics. On the other hand, if the upper limit is exceeded, It tends to be difficult to do. The 5% weight reduction temperature was obtained by heating under the conditions of a scanning temperature of 30 to 550 DEG C and a heating rate of 10 DEG C / min while flowing a nitrogen gas in a nitrogen gas atmosphere, Can be obtained by measuring the temperature at which the temperature is reduced by 5%. For this measurement, for example, a thermogravimetric analyzer (" TG / DTA220 " made by SII Nanotechnology Co., Ltd.) may be used as the measuring apparatus.

또한, 이러한 폴리이미드로서는, 유리 전이 온도(Tg)가 300℃ 이상인 것이 바람직하고, 350 내지 500℃인 것이 보다 바람직하다. 이러한 유리 전이 온도(Tg)가 상기 하한 미만이면 마이크로일렉트로닉스의 제품용의 기판으로서 이용하기 때문에 충분한 내열성을 얻는 것이 곤란해지는(예를 들어, 태양 전지나 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치의 투명 전극용의 기판으로서 폴리이미드를 사용한 경우에 있어서, 그 제품의 제조 과정에 있어서의 가열 공정에 있어서, 이러한 폴리이미드(기판)의 품질의 열화(깨짐의 발생 등)를 충분히 억제하는 것이 곤란해지는) 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 초과하면 그러한 특성을 갖는 폴리이미드를 제조하는 것이 곤란해지는 경향이 있다. 또한, 이러한 유리 전이 온도(Tg)는 측정 장치로서 열 기계적 분석 장치(리가크제의 상품명 「TMA8311」)를 사용하여, 연화 온도 측정과 동일한 방법으로 동시에 측정할 수 있다. 또한, 이러한 유리 전이 온도의 측정 시에는, 승온 속도: 5℃/분의 조건에서, 질소 분위기 하에서, 30℃ 내지 550℃의 범위를 주사함으로써 측정을 행하는 것이 바람직하다.The polyimide preferably has a glass transition temperature (Tg) of 300 ° C or higher, more preferably 350 ° C to 500 ° C. When the glass transition temperature (Tg) is less than the lower limit described above, it is difficult to obtain sufficient heat resistance because it is used as a substrate for a product of microelectronics (for example, for solar cells, liquid crystal display devices, There is a tendency that in the case of using polyimide as the substrate, it is difficult to adequately suppress deterioration (such as cracking) of the quality of the polyimide (substrate) in the heating process in the production process of the product On the other hand, when the upper limit is exceeded, it tends to be difficult to produce polyimide having such properties. The glass transition temperature (Tg) can be measured at the same time by using a thermomechanical analyzer (trade name "TMA8311" manufactured by Rigaku Corporation) as a measuring apparatus and measuring the softening temperature. In order to measure the glass transition temperature, it is preferable to carry out the measurement by scanning in the range of 30 ° C to 550 ° C under the nitrogen atmosphere at the temperature raising rate of 5 ° C / min.

또한, 이러한 폴리이미드로서는, 연화 온도(연화점)가 300 내지 550℃인 것이 바람직하고, 320 내지 550℃인 것이 보다 바람직하고, 340 내지 510℃인 것이 더욱 바람직하다. 이러한 연화 온도가 상기 하한 미만이면 내열성이 저하되는데, 예를 들어 태양 전지나 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치의 투명 전극용의 기판으로서, 이러한 폴리이미드를 포함하는 필름을 사용한 경우에 있어서, 그 제품의 제조 과정에 있어서, 이러한 필름(기판)의 품질의 열화(깨짐의 발생 등)를 충분히 억제하는 것이 곤란해지는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 초과하면 폴리이미드를 제조할 때에 폴리아미드산의 열 폐환 축합 반응과 동시에 충분한 고상 중합 반응이 진행되지 않아, 필름을 형성한 경우에 취성이 되는 경향이 있다. 또한, 이러한 폴리이미드의 연화 온도는 이하와 같이 하여 측정할 수 있다. 즉, 측정 시료로서 세로 5㎜, 가로 5㎜, 두께 0.013㎜(13㎛)의 크기의 폴리이미드를 포함하는 필름을 준비하고, 측정 장치로서 열 기계적 분석 장치(리가크제의 상품명 「TMA8311」)를 사용하고, 질소 분위기 하에서, 승온 속도 5℃/분의 조건을 채용하고, 30℃ 내지 550℃의 온도 범위의 조건에서 필름에 투명 석영제 핀(선단의 직경: 0.5㎜)을 500mN의 압력으로 침입(針入)시킴으로써 유리 전이 온도(Tg)와 동시에 측정할 수 있다(소위 페네트레이션(침입)법에 의해 측정할 수 있다). 또한, 이러한 측정 시에는, JIS K 7196(1991년)에 기재된 방법에 준거하여, 측정 데이터에 기초하여 연화 온도를 계산한다.The polyimide preferably has a softening temperature (softening point) of 300 to 550 占 폚, more preferably 320 to 550 占 폚, and still more preferably 340 to 510 占 폚. When the softening temperature is lower than the lower limit, the heat resistance is lowered. For example, when a film containing such a polyimide is used as a substrate for a transparent electrode of a solar cell, a liquid crystal display device, or an organic EL display device, There is a tendency that it is difficult to sufficiently suppress the deterioration (such as cracking) of the quality of such a film (substrate) in the manufacturing process. On the other hand, when the upper limit is exceeded, when the polyimide is produced, Sufficient solid phase polymerization reaction does not proceed at the same time as the condensation reaction, and the film tends to become brittle when the film is formed. The softening temperature of such a polyimide can be measured in the following manner. That is, a film containing polyimide having a size of 5 mm in length, 5 mm in width and 0.013 mm (13 m) in thickness was prepared as a measurement sample, and a thermomechanical analyzer (trade name "TMA8311" A transparent quartz pin (diameter at the tip: 0.5 mm) was infiltrated into the film at a pressure of 500 mN under the condition of a temperature range of 30 ° C to 550 ° C by employing the conditions of a temperature raising rate of 5 ° C / (Tg) can be measured at the same time (can be measured by the so-called penetration method). In this measurement, the softening temperature is calculated based on the measurement data in accordance with the method described in JIS K 7196 (1991).

또한, 이러한 폴리이미드는 용제에 용해시켜 분자량을 측정하는 것이 곤란하기 때문에, 그의 전구체인 폴리아미드산(폴리아믹산)의 분자량(수 평균 분자량이나 중량 평균 분자량)이나 분자량 분포를 지표로 하여, 그의 적합한 것을 검토하는 것이 바람직하다. 이러한 폴리이미드의 전구체인 상기 폴리아미드산(폴리아믹산)의 수 평균 분자량(Mn)으로서는, 폴리스티렌 환산으로 1000 내지 1000000인 것이 바람직하고, 10000 내지 500000인 것이 보다 바람직하다. 이러한 수 평균 분자량이 상기 하한 미만이면 충분한 내열성이 달성 곤란해질 뿐만 아니라, 효율적으로 폴리이미드를 얻는 것이 곤란해지는 경향이 있고, 한편 상기 상한을 초과하면, 점성이 증대되어, 여과 공정에 장시간을 요하거나, 점성 조정용의 희석 용제를 대량으로 필요로 하기 때문에, 가공이 곤란해지는 경향이 있다.Further, it is difficult to dissolve such a polyimide in a solvent to measure the molecular weight. Therefore, the molecular weight (number average molecular weight or weight average molecular weight) and molecular weight distribution of polyamic acid (polyamic acid) . The number average molecular weight (Mn) of the polyamic acid (polyamic acid) which is a precursor of the polyimide is preferably 1000 to 1000000 in terms of polystyrene, and more preferably 10000 to 500000. If the number average molecular weight is less than the lower limit described above, not only sufficient heat resistance becomes difficult to achieve but also it is difficult to obtain polyimide efficiently. On the other hand, when the number average molecular weight is more than the upper limit, viscosity is increased, , A large amount of a diluting solvent for viscosity adjustment is required, which tends to make processing difficult.

또한, 이러한 폴리이미드의 전구체인 상기 폴리아미드산(폴리아믹산)의 중량 평균 분자량(Mw)으로서는, 폴리스티렌 환산으로 1000 내지 5000000인 것이 바람직하다. 또한, 이러한 중량 평균 분자량(Mw)의 수치 범위의 하한값으로서는 5000인 것이 보다 바람직하고, 10000인 것이 더욱 바람직하고, 20000인 것이 특히 바람직하다. 또한, 중량 평균 분자량(Mw)의 수치 범위의 상한값으로서는 5000000인 것이 보다 바람직하고, 500000인 것이 더욱 바람직하고, 100000인 것이 특히 바람직하다. 이러한 중량 평균 분자량이 상기 하한 미만이면 충분한 내열성이 달성 곤란해질 뿐만 아니라, 효율적으로 폴리이미드를 얻는 것이 곤란해지는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 초과하면 점성이 증대되어, 여과 공정에 장시간을 요하거나, 점성 조정용의 희석 용제를 대량으로 필요로 하기 때문에, 가공이 곤란해지는 경향이 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the polyamic acid (polyamic acid) which is a precursor of such a polyimide is preferably 1,000 to 5,000,000 in terms of polystyrene. The lower limit of the numerical value range of the weight average molecular weight (Mw) is more preferably 5000, further preferably 10000, particularly preferably 20,000. The upper limit value of the numerical value range of the weight average molecular weight (Mw) is more preferably 5,000,000, more preferably 500,000, and particularly preferably 100,000. When the weight average molecular weight is less than the lower limit, sufficient heat resistance tends to be difficult to achieve, and it tends to be difficult to obtain polyimide efficiently. On the other hand, if the weight average molecular weight is more than the upper limit, viscosity tends to increase, , A large amount of a diluting solvent for viscosity adjustment is required, which tends to make processing difficult.

또한, 이러한 폴리이미드의 전구체인 상기 폴리아미드산(폴리아믹산)의 분자량 분포(Mw/Mn)는 1.1 내지 5.0인 것이 바람직하고, 1.5 내지 3.0인 것이 보다 바람직하다. 이러한 분자량 분포가 상기 하한 미만이면 제조하는 것이 곤란해지는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 초과하면 필름을 형성한 경우에 균일한 필름을 얻는 것이 곤란해지는 경향이 있다. 또한, 이러한 폴리이미드의 분자량(Mw 또는 Mn)이나 분자량의 분포(Mw/Mn)는, 측정 장치로서 겔 투과 크로마토그래피(GPC) 측정 장치(도소(TOSOH)제 EcoSEC HLC-8320GPC, 칼럼: 도소제 GPC 칼럼 TSKgel Super AW2500, 3000, 4000, 칼럼 온도: 40℃, 전개 용매: 10mM의 LiBr을 첨가한 디메틸아세트아미드 용매(유속 0.5mL/min.))를 사용하여 측정한 데이터를 폴리스티렌으로 환산하여 구할 수 있다.The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polyamic acid (polyamic acid) which is a precursor of such a polyimide is preferably 1.1 to 5.0, more preferably 1.5 to 3.0. If the molecular weight distribution is less than the lower limit described above, it tends to be difficult to produce. On the other hand, when the upper limit is exceeded, it tends to be difficult to obtain a uniform film when the film is formed. The molecular weight (Mw or Mn) and the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polyimide were measured by a gel permeation chromatography (GPC) measuring device (EcoSEC HLC-8320GPC manufactured by TOSOH, column: (GPC column: TSKgel Super AW2500, 3000, 4000, column temperature: 40 DEG C, developing solvent: dimethylacetamide solvent (flow rate: 0.5 mL / min) containing 10 mM LiBr) was used to obtain polystyrene .

또한, 이러한 폴리이미드로서는, 황색도(YI)의 적합한 값(16 이하)과의 관계로, 투명 디스플레이, 태양 전지, 터치 패널, 프론트 필름, 투명 FPC 등의 유리 대체 플렉시블 투명 재료의 용도에 이용했을 때에 요구되는 고도의 시인성을 확보한다는 관점에서, 전체 광선 투과율이 83% 이상(더욱 바람직하게는 85% 이상, 특히 바람직하게는 87% 이상)인 것이 보다 바람직하다. 이러한 전체 광선 투과율이 상기 하한 미만이면, 황색도가 16 이하여도, 그 황색도의 값에 따라서는 각종 용도에 이용할 때에 요구되는 투명성(시인성)을 발휘하는 것이 곤란해진다.As such polyimide, it has been used for the use of a flexible transparent material such as a transparent display, a solar cell, a touch panel, a front film, and a transparent FPC in place of a suitable value (not more than 16) of the yellowness index It is more preferable that the total light transmittance is not less than 83% (more preferably not less than 85%, particularly preferably not less than 87%) from the viewpoint of ensuring a high visibility required at the time of use. If the total light transmittance is less than the lower limit described above, even if the yellowness is 16 or less, it becomes difficult to exhibit the transparency (visibility) required for various applications depending on the value of the yellowness.

또한, 이러한 폴리이미드로서는, 보다 고도의 투명성을 얻는다는 관점에서, 헤이즈(탁도)가 5 이하(더욱 바람직하게는 4 이하, 특히 바람직하게는 3 이하)인 것이 보다 바람직하다.It is more preferable that such a polyimide has a haze (turbidity) of 5 or less (more preferably 4 or less, particularly preferably 3 or less) from the viewpoint of obtaining a higher degree of transparency.

또한, 이러한 폴리이미드로서는, 보다 고도의 투명성을 얻는다는 관점에서, 황색도(YI)가 16.0 이하(더욱 바람직하게는 11.0 이하, 특히 바람직하게는 10.5 이하)인 것이 보다 바람직하다. 또한, 이러한 황색도가 상기 상한을 초과하면, 당해 용도에 필요한 고도의 색상, 명도, 채도, 휘도, 톤, 콘트라스트, 색도, 투명성(시인성)을 확보하는 것이 곤란해지기 때문에, 비록 전체 광선 투과율이 83% 이상이라도 각종 용도에 이용할 때에 요구되는 성능을 발휘하는 것이 곤란해진다.It is more preferable that such a polyimide has a yellowness degree (YI) of not more than 16.0 (more preferably not more than 11.0, particularly preferably not more than 10.5) from the viewpoint of obtaining a higher degree of transparency. If the yellowness exceeds the upper limit, it becomes difficult to secure a high color, brightness, saturation, brightness, tone, contrast, chromaticity and transparency (visibility) necessary for the application, Even if it is 83% or more, it is difficult to exhibit the performance required for use in various applications.

또한, 이러한 전체 광선 투과율, 헤이즈(탁도) 및 황색도(YI)는, 측정 장치로서, 닛본 덴쇼쿠 고교 가부시끼가이샤제의 상품명 「헤이즈미터 NDH-5000」 또는 닛본 덴쇼쿠 고교 가부시끼가이샤제의 상품명 「분광 색채계 SD6000」을 사용하고(닛본 덴쇼쿠 고교 가부시끼가이샤제의 상품명 「헤이즈미터 NDH-5000」으로 전체 광선 투과율과 헤이즈를 측정하고, 닛본 덴쇼쿠 고교 가부시끼가이샤제의 상품명 「분광 색채계 SD6000」으로 황색도를 측정한다), 두께가 10 내지 15㎛(바람직하게는 13㎛)인 폴리이미드를 포함하는 필름을 측정용의 시료로서 사용하여 측정한 값을 채용할 수 있다. 단, 황색도(YI)에 대해서는, 이하에 기재한 바와 같이, 13㎛의 두께의 필름의 측정값 또는 13㎛의 두께의 필름의 값으로 환산한 환산값을 채용한다. 즉, 전체 광선 투과율 및 헤이즈(탁도)는, 두께가 10 내지 15㎛인 폴리이미드를 포함하는 필름이면, 두께가 충분히 얇아, 측정값에 영향이 없는 점에서, 동일한 폴리이미드로부터는 동일한 값을 측정할 수 있다. 한편, 황색도(YI)에 대해서는 막 두께의 영향을 받는 경향이 있기 때문에, 본 발명에 있어서는, 상기 범위(10 내지 15㎛)의 두께를 갖는 필름을 측정용의 시료로서 이용하는 데 있어서, 황색도(YI)의 값으로서는 13㎛의 두께의 필름의 값으로 환산한 값(또한, 13㎛의 두께의 필름을 이용하여 측정한 경우에는 그의 측정값)을 채용한다. 이와 같이, 본 발명에 있어서는, 황색도(YI)의 값은 13㎛의 두께의 필름의 측정값 또는 13㎛의 두께를 갖는 필름의 값으로 환산한 값을 채용한다. 이러한 관점(황색도는 13㎛의 두께의 필름의 값으로 환산한 값을 채용할 수 있는 점)에서, 전체 광선 투과율, 헤이즈(탁도) 및 황색도(YI)의 측정에는, 상기 범위(10 내지 15㎛의 범위)의 두께를 갖는 필름을 이용할 수 있다(또한, 13㎛ 이외의 두께를 갖는 필름을 측정용의 시료로서 이용하여 YI를 측정한 경우에는, 전술한 바와 같이 13㎛의 두께의 값으로 환산할 필요가 있다. 그로 인해, 그러한 환산이 불필요해진다는 관점에서는, 두께가 13㎛인 폴리이미드를 포함하는 필름을 측정용의 시료로서 준비하여 이용하는 것이 바람직하다). 또한, 측정 시료의 세로, 가로의 크기는, 상기 측정 장치의 측정 부위에 배치할 수 있는 사이즈이면 되고, 세로, 가로의 크기는 적절히 변경해도 된다. 또한, 이러한 전체 광선 투과율은 JIS K7361-1(1997년 발행)에 준거한 측정을 행함으로써 구하고, 헤이즈(탁도)는 JIS K7136(2000년 발행)에 준거한 측정을 행함으로써 구하고, 황색도(YI)는 ASTM E313-05(2005년 발행)에 준거한 측정을 행함으로써 구한다.The total light transmittance, haze, and yellowness (YI) were measured using a haze meter NDH-5000 (trade name, manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Kagaku Co., Ltd., The total light transmittance and haze were measured with a trade name " Spectral Color Spectrometer SD6000 " (trade name " Hazemeter NDH-5000 ", manufactured by Nippon Denshoku Kogyo K.K.) Color meter SD6000 ") and a film containing polyimide having a thickness of 10 to 15 mu m (preferably 13 mu m) as a sample for measurement. However, regarding the yellowness index (YI), a conversion value converted into a value of a film having a thickness of 13 mu m or a value of a film having a thickness of 13 mu m is adopted as described below. That is, the total light transmittance and the haze (turbidity) can be measured with the same polyimide from the same polyimide because the thickness is sufficiently thin and there is no influence on the measured value if the film contains polyimide having a thickness of 10 to 15 m can do. On the other hand, since the yellowness index (YI) tends to be influenced by the film thickness, in the present invention, in using the film having the thickness in the above range (10 to 15 mu m) as a sample for measurement, (YI) is converted into a value of a film having a thickness of 13 mu m (or a measured value thereof when the film is measured using a film having a thickness of 13 mu m). Thus, in the present invention, the value of the yellowness index (YI) is a value converted into a value of a film having a thickness of 13 mu m or a value of a film having a thickness of 13 mu m. For the measurement of the total light transmittance, the haze (turbidity) and the yellowness (YI) in this viewpoint (the yellowness value can be converted into the value of the film having a thickness of 13 mu m) (Further, when YI is measured using a film having a thickness other than 13 占 퐉 as a sample for measurement, a value of a thickness of 13 占 퐉 as described above It is preferable that a film containing polyimide having a thickness of 13 占 퐉 is prepared and used as a sample for measurement) from the viewpoint that such conversion becomes unnecessary. The length and width of the measurement specimen may be any size that can be disposed on the measurement site of the measurement apparatus, and the length and width may be appropriately changed. The total light transmittance was determined by measurement in accordance with JIS K7361-1 (published in 1997), and haze (turbidity) was measured by measurement in accordance with JIS K7136 (published in 2000) ) Is obtained by carrying out measurements in accordance with ASTM E313-05 (issued in 2005).

또한, 이러한 폴리이미드를 제조하기 위하여 적합하게 이용 가능한 방법에 대해서는 후술한다.Methods which can be suitably used for producing such a polyimide will be described later.

[폴리아미드산][Polyamide acid]

본 발명의 폴리아미드산은, 하기 일반식 (4):The polyamic acid of the present invention is represented by the following general formula (4):

Figure pat00010
Figure pat00010

[식 (4) 중 R1, R2, R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 불소 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 1종을 나타내고, R10은 불소 함유 치환기를 갖는 탄소수 6 내지 40의 아릴렌기를 나타내고, n은 0 내지 12의 정수를 나타낸다]Wherein R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a fluorine atom, and R 10 is a group having a fluorine-containing substituent An arylene group having 6 to 40 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12,

로 표시되는 반복 단위 (C)와,(C) represented by the general formula

하기 일반식 (5):(5): < EMI ID =

Figure pat00011
Figure pat00011

[식 (5) 중 R10은 불소 함유 치환기를 갖는 탄소수 6 내지 40의 아릴렌기를 나타낸다][In the formula (5), R 10 represents an arylene group having 6 to 40 carbon atoms and having a fluorine-containing substituent]

로 표시되는 반복 단위 (D)를 함유하며, 또한 상기 반복 단위 (C) 및 (D)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (C)의 함유량이 5 내지 35몰%인 것이다., And the content of the repeating unit (C) relative to the total amount of the repeating units (C) and (D) is 5 to 35 mol%.

이러한 폴리아미드산은, 상기 본 발명의 폴리이미드를 제조할 때에 적합하게 이용하는 것이 가능한 것이다(본 발명의 폴리이미드를 제조할 때의 반응 중간체(전구체)로서 얻을 수 있는 것이 가능한 것이다). 이러한 일반식 (4) 중의 R1, R2, R3, R10 및 n은 상기 일반식 (1) 중의 R1, R2, R3, R10 및 n과 마찬가지의 것이며, 그의 적합한 것도 상기 일반식 (1) 중의 R1, R2, R3, R10 및 n과 마찬가지이다. 또한, 이러한 일반식 (5) 중의 R10은 상기 일반식 (2) 중의 R10과 마찬가지의 것이며(즉, 상기 일반식 (1) 중의 R10과 마찬가지의 것이며), 그의 적합한 것도 상기 일반식 (2) 중의 R10과 마찬가지이다.Such a polyamic acid can be suitably used in the production of the polyimide of the present invention (it can be obtained as a reaction intermediate (precursor) in producing the polyimide of the present invention). This formula (4) in the R 1, R 2, R 3, R 10 and n have the above general formula (1) of R 1, R 2, R 3, R 10 and n and those of the same, even his right the Are the same as R 1 , R 2 , R 3 , R 10 and n in the general formula (1). Further, the general formula (5) in R 10 is the formula (2) in R 10 and those of the same (that is, the formula (1) in R 10 and those of the same), a group of the formula: also his right of the general ( 2) the same as those of R 10.

또한, 본 발명의 폴리아미드산에 있어서는, 상기 일반식 (4)로 표시되는 반복 단위 (C) 및 상기 일반식 (5)로 표시되는 반복 단위 (D)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (C)의 함유량이 몰량을 기준으로 하여 5 내지 35몰%이다. 이러한 일반식 (4)로 표시되는 반복 단위 (C)의 함유량이 상기 하한 미만이면, 이러한 폴리아미드산을 사용하여 폴리이미드를 제조했을 때에, 충분히 고도의 전체 광선 투과율(바람직하게는 83.0% 이상의 전체 광선 투과율)을 갖는 것으로 하는 것이 곤란해지는 경향이 있음과 함께, 충분히 낮은 선팽창 계수(바람직하게는 -20ppm/K 내지 20ppm/K의 선팽창 계수)를 갖는 것으로 하는 것이 곤란해져, 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 고도의 수준으로 골고루 갖는 폴리이미드를 얻을 수 없게 된다. 한편, 상기 반복 단위 (C)의 함유량이 상기 상한을 초과하면, 이 경우에도 이러한 폴리아미드산을 사용하여 폴리이미드를 제조했을 때에, 충분히 낮은 선팽창 계수(바람직하게는 -20ppm/K 내지 20ppm/K의 선팽창 계수)를 갖는 폴리이미드를 얻을 수 없게 되어, 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수와 같은 특성을 고도의 수준으로 골고루 갖는 폴리이미드를 제조할 수 없게 된다.In the polyamic acid of the present invention, the content of the repeating unit (C) relative to the total amount of the repeating unit (C) represented by the general formula (4) and the repeating unit (D) Is 5 to 35 mol% based on the molar amount. When the content of the repeating unit (C) represented by the general formula (4) is less than the lower limit described above, when the polyimide is produced using such a polyamic acid, the total light transmittance at a sufficiently high total light transmittance (preferably not less than 83.0% It is difficult to have a sufficiently high coefficient of linear expansion (preferably, a coefficient of linear expansion of -20 ppm / K to 20 ppm / K), and a sufficiently high total light transmittance And a polyimide having sufficiently low yellow color and sufficiently low coefficient of linear expansion to a high level can not be obtained. On the other hand, when the content of the recurring unit (C) exceeds the upper limit, in this case also, when the polyimide is produced by using such a polyamic acid, a sufficiently low linear expansion coefficient (preferably -20 ppm / K to 20 ppm / K The polyimide having a sufficiently high total light transmittance, a sufficiently low yellow color and a sufficiently low coefficient of linear expansion can not be produced at a high level even at a high level.

또한, 본 발명의 폴리아미드산에 있어서는, 이러한 폴리아미드산을 사용하여, 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 보다 고도의 수준으로 골고루 갖는 폴리이미드를 얻는다는 관점에서, 상기 반복 단위 (C) 및 상기 반복 단위 (D)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (C)의 함유 비율은 5 내지 25몰%인 것이 보다 바람직하고, 10 내지 20몰%인 것이 더욱 바람직하고, 12.5 내지 17.5몰%인 것이 특히 바람직하다.In the polyamic acid of the present invention, from the viewpoint of obtaining a polyimide having sufficiently low yellow color and sufficiently low linear expansion coefficient at a higher level by using such polyamic acid, the repeating units (C) and The content of the repeating unit (C) relative to the total amount of the repeating unit (D) is more preferably from 5 to 25 mol%, still more preferably from 10 to 20 mol%, even more preferably from 12.5 to 17.5 mol% desirable.

또한, 본 발명의 폴리아미드산에 있어서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에 있어서, 다른 반복 단위를 함유하고 있어도 된다. 이러한 다른 반복 단위로서는, 특별히 제한되지 않고, 폴리아미드산을 구성하는 것이 가능한 공지의 반복 단위를 적절히 이용할 수 있다. 또한, 본 발명의 폴리아미드산에 있어서는, 다른 반복 단위를 함유하는 경우, 일반식 (4)로 표시되는 반복 단위 (C) 및 상기 일반식 (5)로 표시되는 반복 단위 (D)의 총량이, 폴리아미드산 중의 전체 반복 단위에 대하여 50몰% 이상(보다 바람직하게는 70몰% 이상)이 되도록, 반복 단위 (C) 및 (D)를 함유하고 있는 것이 바람직하다. 또한, 이러한 폴리아미드산 중의 전체 반복 단위에 대한 상기 반복 단위 (C) 및 상기 반복 단위 (D)의 총량의 함유 비율로서는, 80 내지 100몰%인 것이 보다 바람직하고, 90 내지 100몰%인 것이 더욱 바람직하다. 이러한 반복 단위 (C) 및 (D)의 총량의 함유 비율이 상기 하한 미만이면, 충분히 고도의 전체 광선 투과율과, 충분히 낮은 황색도와, 충분히 낮은 선팽창 계수를 골고루 갖는 폴리이미드를 제조하는 것이 곤란해지는 경향이 있다. 또한, 이러한 폴리아미드산을 사용하여, 보다 효율적으로 폴리이미드를 형성한다는 관점에서, 본 발명의 폴리아미드산이, 실질적으로 반복 단위 (C) 및 (D)를 포함하는 것(실질적으로 다른 반복 단위를 포함하지 않는 것, 보다 바람직하게는 상기 반복 단위 (C) 및 (D)의 총량이 95몰% 이상인 것, 더욱 바람직하게는 98몰% 이상인 것, 특히 바람직하게는 99몰% 이상인 것)이 바람직하다.In the polyamic acid of the present invention, other repeating units may be contained in the range not impairing the effect of the present invention. Such another repeating unit is not particularly limited, and a known repeating unit capable of forming a polyamic acid can be appropriately used. In the polyamic acid of the present invention, in the case of containing other repeating units, the total amount of the repeating unit (C) represented by the general formula (4) and the repeating unit (D) represented by the general formula (C) and (D) so as to be at least 50 mol% (more preferably at least 70 mol%) based on the total repeating units in the polyamic acid. The content ratio of the total amount of the repeating unit (C) and the repeating unit (D) to the total repeating units in the polyamic acid is preferably 80 to 100 mol%, more preferably 90 to 100 mol% More preferable. When the content ratio of the total amount of the repeating units (C) and (D) is less than the above lower limit, it tends to be difficult to produce a polyimide having a sufficiently high total light transmittance, sufficiently low yellow color and sufficiently low linear expansion coefficient . From the standpoint of forming polyimide more efficiently by using such a polyamic acid, it is preferable that the polyamic acid of the present invention contains substantially repeating units (C) and (D) (C) and (D) is 95 mol% or more, more preferably 98 mol% or more, and particularly preferably 99 mol% or more) is preferable Do.

또한, 이러한 폴리아미드산으로서는, 고유 점도[η]가 0.05 내지 3.0dL/g인 것이 바람직하고, 0.1 내지 2.0dL/g인 것이 보다 바람직하다. 이러한 고유 점도[η]가 0.05dL/g보다 작으면, 이를 사용하여 필름상의 폴리이미드를 제조했을 때에, 얻어지는 필름이 취성이 되는 경향이 있고, 한편, 3.0dL/g을 초과하면, 점도가 너무 높아 가공성이 저하되어, 예를 들어 필름을 제조한 경우에 균일한 필름을 얻는 것이 곤란해진다. 또한, 이러한 고유 점도[η]는, 이하와 같이 하여 측정할 수 있다. 즉, 우선, 용매로서 테트라메틸우레아(TMU)를 사용하여, 그 테트라메틸우레아(TMU) 중에 상기 폴리아미드산을 농도가 0.5g/dL로 되도록 하여 용해시켜, 측정 시료(용액)를 얻는다. 이어서, 상기 측정 시료를 사용하여, 30℃의 온도 조건 하에서 동점도계를 사용하여, 상기 측정 시료의 점도를 측정하여, 구해진 값을 고유 점도[η]로서 채용한다. 또한, 이러한 동점도계로서는, 리고사제의 자동 점도 측정 장치(상품명 「VMC-252」)를 사용한다.The polyamic acid preferably has an intrinsic viscosity [?] Of 0.05 to 3.0 dL / g, more preferably 0.1 to 2.0 dL / g. When the intrinsic viscosity [?] Is less than 0.05 dL / g, the obtained film tends to become brittle when the polyimide on the film is produced using the same, while when it exceeds 3.0 dL / g, The processability is lowered, and it becomes difficult to obtain a uniform film, for example, when a film is produced. The inherent viscosity [?] Can be measured as follows. That is, first, the polyamidic acid is dissolved in the tetramethylurea (TMU) to a concentration of 0.5 g / dL using tetramethylurea (TMU) as a solvent to obtain a measurement sample (solution). Next, the viscosity of the sample to be measured is measured using a dynamic viscometer under the temperature condition of 30 占 폚 by using the sample to be measured, and the obtained value is adopted as intrinsic viscosity [?]. As this dynamic viscometer, an automatic viscosity measuring device (trade name: VMC-252) manufactured by LIGO Co., Ltd. is used.

이하, 이러한 폴리아미드산을 제조하기 위하여 적합하게 이용하는 것이 가능한 방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, a method which can be suitably used for producing such a polyamic acid will be described.

(폴리아미드산을 제조하기 위하여 적합하게 이용 가능한 방법)(A method suitably usable for producing a polyamic acid)

이러한 폴리아미드산을 제조하기 위하여 적합하게 이용 가능한 방법으로서는, 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들어 하기 일반식 (10):A method that can be suitably used for producing such a polyamic acid is not particularly limited, and for example, the following general formula (10):

Figure pat00012
Figure pat00012

[식 (10) 중 R1, R2, R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 불소 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 1종을 나타내고, n은 0 내지 12의 정수를 나타낸다]Wherein R 1 , R 2 and R 3 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom, and n is an integer of 0 to 12, Indicates]

으로 표시되는 화합물 (A) 및 하기 일반식 (11):(A) represented by the following general formula (11):

Figure pat00013
Figure pat00013

로 표시되는 화합물 (B)를 함유하며, 또한 상기 화합물 (A) 및 (B)의 총량에 대한 상기 화합물 (A)의 함유량이 5 내지 35몰%인 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I))과,(I) having a content of the compound (A) of 5 to 35 mol% based on the total amount of the compounds (A) and (B) )and,

하기 일반식 (12):(12): < EMI ID =

Figure pat00014
Figure pat00014

[식 (12) 중 R10은 불소 함유 치환기를 갖는 탄소수 6 내지 40의 아릴렌기를 나타낸다][In the formula (12), R 10 represents an arylene group having 6 to 40 carbon atoms and having a fluorine-containing substituent]

로 표시되는 화합물을 함유하는 디아민 화합물(화합물 (Ⅱ))을, 유기 용매의 존재 하에서 반응시킴으로써,(Compound (II)) containing a compound represented by the general formula (II) in the presence of an organic solvent,

상기 반복 단위 (C) 및 상기 반복 단위 (D)를 함유하며, 또한 상기 반복 단위 (C) 및 (D)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (C)의 함유량이 5 내지 35몰%인 폴리아미드산을 얻는 방법을 적합하게 이용할 수 있다. 또한, 상기 반복 단위 (C)는 상기 화합물 (A)와 상기 일반식 (12)로 표시되는 화합물에서 유래하여 형성되고, 상기 반복 단위 (D)는 상기 화합물 (B)와 상기 일반식 (12)로 표시되는 화합물에서 유래하여 형성된다.Wherein the content of the repeating unit (C) relative to the total amount of the repeating units (C) and (D) is 5 to 35 mol%, and the content of the repeating unit (C) Can be suitably used. The repeating unit (C) is formed from the compound (A) and the compound represented by the general formula (12), and the repeating unit (D) Lt; / RTI >

이러한 폴리아미드산의 제조 방법에 사용하는, 일반식 (10)으로 표시되는 화합물 (A) 중의 R1, R2, R3 및 n은, 상기 일반식 (1) 중의 R1, R2, R3 및 n과 동의이다(그의 적합한 것도 상기 일반식 (1) 중의 R1, R2, R3 및 n과 마찬가지이다). 또한, 상기 일반식 (12)로 표시되는 화합물 중의 R10은 상기 일반식 (1) 및 (2) 중의 R10과 동의이다(그의 적합한 것도 상기 일반식 (1) 및 (2) 중의 R10과 마찬가지이다).R 1 , R 2 , R 3 and n in the compound (A) represented by the general formula (10) used in the process for producing the polyamic acid are represented by R 1 , R 2 , R 3, and n (the corresponding ones are the same as R 1 , R 2 , R 3 and n in the general formula (1)). Further, R 10 in the compound represented by the above general formula 12 is R 10 and copper in the formula (1) and (2) (R 10 in the even his right above general formula (1) and (2), and The same).

이러한 일반식 (10)으로 표시되는 화합물 (A)를 제조하는 방법으로서는, 특별히 제한되지 않고, 공지의 방법(예를 들어 국제 공개 제2011/099518호에 기재되어 있는 방법 등)을 적절히 이용할 수 있다.The method for producing the compound (A) represented by the general formula (10) is not particularly limited and a known method (for example, a method described in International Publication No. 2011/099518) can be suitably used .

또한, 상기 일반식 (11)로 표시되는 화합물 (B)를 제조하기 위한 방법으로서는, 특별히 제한되지 않고, 공지의 방법을 적절히 이용할 수 있다. 또한, 이러한 화합물 (B)는, 피로멜리트산 무수물(1,2,4,5-벤젠테트라카르복실산 이무수물, 무수 피로멜리트산)이며, 이러한 화합물로서는 시판하는 것을 적절히 사용해도 된다.The method for producing the compound (B) represented by the general formula (11) is not particularly limited and a known method can be appropriately used. Such compound (B) is pyromellitic anhydride (1,2,4,5-benzenetetracarboxylic acid dianhydride, pyromellitic anhydride), and commercially available compounds may be suitably used.

또한, 상기 일반식 (12)로 표시되는 화합물을 제조하기 위한 방법으로서는 특별히 제한되지 않고, 공지의 방법을 적절히 채용할 수 있다. 또한, 이러한 일반식 (12)로 표시되는 화합물로서는 시판하는 것을 적절히 사용해도 된다.The method for producing the compound represented by the above general formula (12) is not particularly limited and a known method can be suitably employed. As the compound represented by the general formula (12), a commercially available compound may be suitably used.

또한, 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I))은, 해당 화합물 (I) 중의 상기 화합물 (A) 및 (B)의 총량에 대한 상기 화합물 (A)의 함유량이 5 내지 35몰%인 것을 이용할 필요가 있다. 이러한 화합물 (A)의 함유량이 상기 하한 미만인 경우 및 상기 상한을 초과하는 경우에는, 상기 반복 단위 (C) 및 (D)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (C)의 함유량을 원하는 범위(5 내지 35몰%의 범위)로 할 수 없게 된다. 또한, 상기 화합물 (I)에 있어서는, 마찬가지의 관점에서, 상기 화합물 (A) 및 (B)의 총량에 대한 상기 화합물 (A)의 함유 비율은 5 내지 25몰%인 것이 보다 바람직하고, 10 내지 20몰%인 것이 더욱 바람직하고, 12.5 내지 17.5몰%인 것이 특히 바람직하다.The tetracarboxylic dianhydride (compound (I)) is preferably a compound represented by the formula (I) in which the content of the compound (A) relative to the total amount of the compounds (A) and (B) . When the content of the compound (A) is lower than the lower limit and exceeds the upper limit, the content of the repeating unit (C) relative to the total amount of the repeating units (C) and (D) Mol%) can not be formed. In the compound (I), from the same viewpoint, the content ratio of the compound (A) to the total amount of the compounds (A) and (B) is more preferably 5 to 25 mol% More preferably 20 mol%, and particularly preferably 12.5 to 17.5 mol%.

또한, 상기 화합물 (I)로서는, 본 발명의 폴리아미드산에 다른 반복 단위를 함유시키기 위하여, 화합물 (A) 및 (B) 이외의 다른 테트라카르복실산 이무수물을 혼합하여 이용해도 된다. 또한, 이러한 화합물 (A) 및 (B) 이외의 다른 테트라카르복실산 이무수물로서는, 폴리이미드의 제조에 이용하는 것이 가능한 공지의 다른 테트라카르복실산 이무수물을 적절히 이용할 수 있다. 이 경우에 있어서는, 화합물 (A) 및 (B) 이외의 다른 테트라카르복실산 이무수물의 사용량은, 얻어지는 폴리아미드산에 있어서의 반복 단위 (C) 및 (D)의 함유량이 원하는 범위(상술한 적합한 함유량의 범위 등)로 되도록, 적절히 조정하면 된다. 또한, 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I))로서는, 충분한 수준의 내열성을 갖는 것으로 하면서, 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 보다 고도의 수준으로 골고루 발현시킨다는 관점에서, 화합물 (I)이 실질적으로 상기 화합물 (A) 및 (B)를 포함하는 것(화합물 (I)이 실질적으로 화합물 (A) 및 (B) 이외의 다른 테트라카르복실산 이무수물을 포함하지 않는 것, 화합물 (I)에 있어서, 보다 바람직하게 상기 화합물 (A) 및 (B)의 총량이 95몰% 이상인 것, 더욱 바람직하게는 98몰% 이상인 것, 특히 바람직하게는 99몰% 이상인 것, 가장 바람직하게는 100몰%인 것)이 바람직하다.As the compound (I), tetracarboxylic dianhydrides other than the compounds (A) and (B) may be mixed and used in order to contain other repeating units in the polyamic acid of the present invention. As other tetracarboxylic acid dianhydrides other than the compounds (A) and (B), known tetracarboxylic dianhydrides which can be used for the production of polyimides can be suitably used. In this case, the amount of the tetracarboxylic dianhydride other than the compounds (A) and (B) to be used is such that the content of the repeating units (C) and (D) in the polyamic acid to be obtained falls within a desired range The range of the amount of the content, and the like). Further, the tetracarboxylic dianhydride (compound (I)) is required to have a sufficiently high level of heat resistance and to exhibit a sufficiently high total light transmittance, a sufficiently low yellow color and a sufficiently low coefficient of linear expansion to a higher level The compound (I) contains substantially the above-mentioned compounds (A) and (B) (the compound (I) contains substantially the tetracarboxylic dianhydride other than the compounds (A) and (B) (A) and (B) in the compound (I) is 95 mol% or more, more preferably 98 mol% or more, particularly preferably 99 mol% or more , Most preferably 100 mol%) is preferable.

또한, 상기 화합물 (Ⅱ)로서는, 본 발명의 폴리아미드산에 다른 반복 단위를 함유시키기 위하여, 상기 일반식 (12)로 표시되는 화합물 이외의 다른 디아민 화합물(다른 방향족 디아민 및 지환식 디아민 등)을 적절히 함유시키는 것이 가능하다. 이러한 다른 디아민 화합물로서는, 폴리이미드의 제조에 이용하는 것이 가능한 공지의 다른 디아민 화합물을 적절히 이용할 수 있다. 이러한 다른 디아민 화합물로서는, 예를 들어 양 말단 아미노 변성 실록산 등을 적합하게 사용 가능하다. 그러한 양 말단 아미노 변성 실록산의 구체예로서는, 1,3-비스(3-아미노프로필)테트라메틸디실록산, 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제 아미노 변성 실리콘 오일(예를 들어, PAM-E, KF-8010, X-22-161A, X-22-161B, KF-8012, KF-8008, X-22-1660B-3, X-22-9409 등), 젤레스트(Gelest)사제 디메틸실록산형 디아민(예를 들어, DMS-A11, DMS-A12, DMS-A15, DMS-A21, DMS-A31, DMS-A32, DMS-A32R, DMS-A35 등) 등을 들 수 있다. 또한, 이러한 화합물 (Ⅱ)에 있어서의 상기 일반식 (12)로 표시되는 화합물 이외의 다른 디아민 화합물의 사용량은, 얻어지는 폴리아미드산에 있어서의 반복 단위 (C) 및 (D)의 함유량이 원하는 범위(상술한 적합한 함유량의 범위 등)로 되도록, 적절히 조정할 필요가 있다. 또한, 디아민 화합물(화합물 (Ⅱ))로서는, 충분한 수준의 내열성을 갖는 것으로 하면서, 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 보다 고도의 수준으로 골고루 발현시킨다는 관점에서, 화합물 (Ⅱ)가 실질적으로 상기 일반식 (12)로 표시되는 화합물을 포함하는 것(화합물 (Ⅱ)가 실질적으로 다른 디아민 화합물을 포함하지 않는 것, 화합물 (Ⅱ)에 있어서, 보다 바람직하게는 상기 일반식 (12)로 표시되는 화합물의 총량이 95몰% 이상인 것, 더욱 바람직하게는 98몰% 이상인 것, 특히 바람직하게는 99몰% 이상인 것, 가장 바람직하게는 100몰%인 것)이 바람직하다.As the compound (II), other diamine compounds (such as other aromatic diamines and alicyclic diamines) other than the compound represented by the general formula (12) may be added to the polyamide acid of the present invention in order to contain other repeating units. It can be appropriately contained. As these other diamine compounds, other known diamine compounds that can be used for the production of polyimide can be suitably used. As such other diamine compounds, for example, both terminal amino-modified siloxanes and the like can be suitably used. Specific examples of such a two-terminal amino-modified siloxane include 1,3-bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, amino-modified silicone oil from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (for example, PAM- X-22-161A, X-22-161B, KF-8012, KF-8008, X-22-1660B-3 and X-22-9409), dimethylsiloxane diamines from Gelest DMS-A11, DMS-A12, DMS-A15, DMS-A21, DMS-A31, DMS-A32, DMS-A32R and DMS-A35). The amount of the diamine compound other than the compound represented by the general formula (12) in the compound (II) is such that the content of the repeating units (C) and (D) in the polyamide acid to be obtained falls within a desired range (The range of the above-mentioned appropriate content, etc.). From the viewpoint of sufficiently exhibiting a sufficiently high total light transmittance, a sufficiently low yellow color and a sufficiently low coefficient of linear expansion to a higher level, the diamine compound (compound (II)) has a sufficient level of heat resistance, (II) substantially does not contain a diamine compound substantially different from the compound represented by the general formula (12), and the compound (II) is more preferably a compound represented by the general formula (12) is 95 mol% or more, more preferably 98 mol% or more, particularly preferably 99 mol% or more, and most preferably 100 mol%).

또한, 상기 유기 용매로서는, 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I))과 상기 디아민 화합물(화합물 (Ⅱ))의 양자를 용해하는 것이 가능한 유기 용매인 것이 바람직하다. 이러한 유기 용매로서는, 예를 들어 N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸술폭시드, γ-부티로락톤, 프로필렌카르보네이트, 에틸렌카르보네이트, 테트라메틸요소(테트라메틸우레아(TMU)), 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 헥사메틸포스포릭트리아미드, 피리딘 등의 비프로톤계 극성 용매; m-크레졸, 크실레놀, 페놀, 할로겐화페놀 등의 페놀계 용매; 테트라하이드로푸란, 디옥산, 셀로솔브, 글라임 등의 에테르계 용매; 시클로펜타논, 시클로헥사논이나 시클로헵타논 등의 케톤계 용매; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족계 용매; 등을 들 수 있다. 이러한 유기 용매는, 1종을 단독으로 혹은 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.The organic solvent is preferably an organic solvent capable of dissolving both the tetracarboxylic dianhydride (compound (I)) and the diamine compound (compound (II)). Examples of such organic solvents include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide,? -Butyrolactone, A non-protonic polar solvent such as a carbonate, tetramethyl urea (tetramethyl urea (TMU)), 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, hexamethylphosphoric triamide and pyridine; phenol-based solvents such as m-cresol, xylenol, phenol, and halogenated phenol; Ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, cellosolve and glyme; Ketone solvents such as cyclopentanone, cyclohexanone and cycloheptanone; Aromatic solvents such as benzene, toluene and xylene; And the like. These organic solvents may be used singly or in a mixture of two or more kinds.

또한, 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I))과 상기 디아민 화합물(화합물 (Ⅱ))의 사용 비율은, 상기 디아민 화합물(화합물 (Ⅱ))이 갖는 아미노기 1당량에 대하여, 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I)) 중의 산 무수물 기를 0.2 내지 2당량으로 하는 것이 바람직하고, 0.8 내지 1.2당량으로 하는 것이 보다 바람직하다. 이러한 사용 비율이 상기 하한 미만이면 중합 반응이 효율적으로 진행하지 않아, 고분자량의 폴리아미드산을 얻지 못하는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 초과하면 상기와 마찬가지로 고분자량의 폴리아미드산을 얻지 못하는 경향이 있다.The ratio of the tetracarboxylic dianhydride (compound (I)) to the diamine compound (compound (II)) is such that the amount of the tetracarboxylic dianhydride (compound (II) The acid anhydride group in the compound (I) is preferably 0.2 to 2 equivalents, more preferably 0.8 to 1.2 equivalents. If the use ratio is less than the lower limit described above, the polymerization reaction does not progress efficiently and a high molecular weight polyamic acid tends not to be obtained. On the other hand, when the upper limit is exceeded, a tendency of not obtaining a high molecular weight polyamic acid .

또한, 상기 유기 용매의 사용량으로서는, 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I))과 상기 디아민 화합물(화합물 (Ⅱ))의 총량이, 반응 용액의 전량에 대하여 1 내지 50질량%(보다 바람직하게는 10 내지 30질량%)가 되는 양인 것이 바람직하다. 이러한 유기 용매의 사용량이 상기 하한 미만이면 효율적으로 폴리아미드산을 얻을 수 없게 되는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 초과하면 고점도화에 의해 교반이 곤란해지는 경향이 있다.The amount of the organic solvent to be used is preferably from 1 to 50% by weight (more preferably from 1 to 50% by weight, based on the total amount of the reaction solution) of the tetracarboxylic dianhydride (compound (I)) and the diamine compound (compound By mass to 10% by mass to 30% by mass). If the amount of the organic solvent used is less than the lower limit, the polyamic acid can not be efficiently obtained. On the other hand, if the amount exceeds the upper limit, stirring tends to be difficult due to high viscosity.

또한, 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I))과 상기 디아민 화합물(화합물 (Ⅱ))을 반응시킬 때, 반응 속도 향상과 고중합도의 폴리아미드산을 얻는다는 관점에서, 상기 유기 용매 중에 염기성 화합물을 더 첨가해도 된다. 이러한 염기성 화합물로서는 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 트리에틸아민, 테트라부틸아민, 테트라헥실아민, 1,8-디아자비시클로[5.4.0]-운데센-7, 피리딘, 이소퀴놀린, α-피콜린 등을 들 수 있다. 또한, 이러한 염기성 화합물의 사용량은, 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I)) 1당량에 대하여, 0.001 내지 10당량으로 하는 것이 바람직하고, 0.01 내지 0.1당량으로 하는 것이 보다 바람직하다. 이러한 염기 화합물의 사용량이 상기 하한 미만이면 첨가 효과가 저하되는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 초과하면, 착색 등의 원인이 되는 경향이 있다.From the viewpoint of obtaining a polyamic acid having an improved reaction rate and a high degree of polymerization when the tetracarboxylic dianhydride (compound (I)) is reacted with the diamine compound (compound (II)), A basic compound may be further added. Examples of such basic compounds include, but are not limited to, triethylamine, tetrabutylamine, tetrahexylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7, pyridine, isoquinoline, Choline and the like. The amount of the basic compound to be used is preferably 0.001 to 10 equivalents, more preferably 0.01 to 0.1 equivalents based on 1 equivalent of the tetracarboxylic acid dianhydride (compound (I)). If the amount of the base compound used is less than the lower limit described above, the effect of addition tends to be lowered. On the other hand, if the amount exceeds the upper limit, the base compound tends to cause coloration or the like.

또한, 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I))과 상기 디아민 화합물(화합물 (Ⅱ))을 반응시킬 때의 반응 온도는, 이들 화합물을 반응시키는 것이 가능한 온도로 적절히 조정하면 되며, 특별히 제한되지 않지만, -20℃ 내지 200℃로 하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I))과 상기 디아민 화합물(화합물 (Ⅱ))을 반응시키는 방법으로서는, 테트라카르복실산 이무수물과 디아민 화합물의 중합 반응을 행하는 것이 가능한 공지의 방법을 적절히 이용할 수 있고, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 대기압 중, 질소, 헬륨, 아르곤 등의 불활성 분위기 하에서, 디아민 화합물을 용매에 용해시킨 후, 상기 반응 온도에 있어서 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I))을 첨가하고, 그 후, 10 내지 48시간 반응시키는 방법을 적절히 채용해도 된다. 이러한 반응 온도나 반응 시간이 상기 하한 미만이면 충분히 반응시키는 것이 곤란해지는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 초과하면 중합물을 열화시키는 물질(산소 등)의 혼입 확률이 높아져 분자량이 저하되는 경향이 있다.The reaction temperature for the reaction of the tetracarboxylic dianhydride (compound (I)) with the diamine compound (compound (II)) may be suitably adjusted to a temperature at which these compounds can be reacted, But it is preferably -20 캜 to 200 캜. As a method for reacting the tetracarboxylic dianhydride (compound (I)) with the diamine compound (compound (II)), a known method capable of carrying out a polymerization reaction of a tetracarboxylic dianhydride and a diamine compound And the diamine compound is dissolved in a solvent in an inert atmosphere such as nitrogen, helium, or argon at atmospheric pressure, and then the tetracarboxylic acid dianhydride ( The compound (I)) is added, and then the reaction is carried out for 10 to 48 hours. If the reaction temperature or the reaction time is less than the lower limit, it tends to be difficult to sufficiently react. On the other hand, if the reaction temperature or the reaction time exceeds the upper limit, the probability of incorporation of a substance (oxygen or the like) deteriorating the polymer is increased and the molecular weight tends to decrease.

이와 같이 하여, 유기 용매의 존재 하에서, 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I))과 상기 디아민 화합물(화합물 (Ⅱ))을 반응시킴으로써, 상기 본 발명의 폴리아미드산을 얻을 수 있다. 이와 같이 하여 폴리아미드산을 제조한 후에, 상기 유기 용매 중으로부터 상기 본 발명의 폴리아미드산을 단리하는 경우, 그 단리 방법은 특별히 제한되지 않고, 폴리아미드산을 단리하는 것이 가능한 공지의 방법을 적절히 채용할 수 있는데, 예를 들어 재침전물로서 단리하는 방법 등을 채용해도 된다.Thus, the polyamic acid of the present invention can be obtained by reacting the tetracarboxylic acid dianhydride (compound (I)) with the diamine compound (compound (II)) in the presence of an organic solvent. When the polyamic acid of the present invention is isolated from the organic solvent after the production of the polyamic acid in such a manner, the method for isolating the polyamic acid of the present invention is not particularly limited, and a known method capable of isolating polyamic acid is suitably used For example, a method of isolation as a re-precipitate may be adopted.

[폴리아미드산 용액][Polyamic acid solution]

본 발명의 폴리아미드산 용액은, 상기 본 발명의 폴리아미드산과 유기 용매를 포함하는 것이다. 이러한 폴리아미드산 용액에 사용하는 유기 용매로서는, 상술한 폴리아미드산을 제조하기 위하여 적합하게 이용 가능한 방법에 사용하는 유기 용매와 마찬가지의 것을 적합하게 이용할 수 있다. 그로 인해, 본 발명의 폴리아미드산 용액은, 상술한 폴리아미드산을 제조하기 위하여 적합하게 이용 가능한 방법을 실시하고, 반응 후에 얻어진 반응액을 그대로 폴리아미드산 용액으로 함으로써 제조해도 된다. 즉, 본 발명의 폴리아미드산 용액은, 상기 유기 용매의 존재 하에서, 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I))과, 상기 디아민 화합물(화합물 (Ⅱ))을 반응시켜, 폴리아미드산을 제조하고, 상기 폴리아미드산과 상기 유기 용매를 함유하는 용액을 얻음으로써 제조해도 된다.The polyamic acid solution of the present invention comprises the above polyamic acid of the present invention and an organic solvent. As the organic solvent to be used in such a polyamic acid solution, the same organic solvents as those used in a method suitably usable for producing the aforementioned polyamic acid can be suitably used. Therefore, the polyamic acid solution of the present invention may be produced by a method suitably usable for producing the above-mentioned polyamic acid, and the reaction solution obtained after the reaction is directly converted into a polyamic acid solution. That is, the polyamic acid solution of the present invention can be prepared by reacting the tetracarboxylic dianhydride (compound (I)) with the diamine compound (compound (II)) in the presence of the organic solvent, , And then obtaining a solution containing the polyamic acid and the organic solvent.

이러한 폴리아미드산 용액에 있어서의 상기 폴리아미드산의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 1 내지 50질량%인 것이 바람직하고, 10 내지 30질량%인 것이 보다 바람직하다. 이러한 함유량이 상기 하한 미만이면 폴리아미드산의 분자량이 저하되는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 초과하면 폴리이미드의 제조가 곤란해지는 경향이 있다. 또한, 이러한 폴리아미드산 용액은, 상기 본 발명의 폴리이미드 제조에 적합하게 이용할 수 있다.The content of the polyamic acid in the polyamic acid solution is not particularly limited, but is preferably 1 to 50% by mass, and more preferably 10 to 30% by mass. When the content is less than the above lower limit, the molecular weight of the polyamic acid tends to decrease. On the other hand, when the content exceeds the upper limit, the production of polyimide tends to be difficult. Such a polyamic acid solution can be suitably used for producing the polyimide of the present invention.

또한, 이러한 폴리아미드산 용액은, 그것을 폴리이미드의 제조에 이용하는 경우, 폴리이미드의 제조에 이용하는 것이 가능한 각종 첨가제(고분자량화나 이미드화의 촉진제, 열화 방지제, 산화 방지제, 광 안정제, 자외선 흡수제, 개질제, 대전 방지제, 난연제, 가소제, 조핵제, 안정제, 밀착 향상제, 활제, 이형제, 염료, 발포제, 소포제, 표면 개질제, 하드 코팅제, 레벨링제, 계면 활성제, 충전제(유리 섬유, 필러, 탈크, 마이카, 실리카 등) 등)를 적절히 첨가하여 이용해도 된다. 또한, 이러한 첨가제를 사용하는 경우에 관하여, 폴리아미드산 용액 중의 첨가제의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 0.0001 내지 80질량%(보다 바람직하게는 0.1 내지 50질량%) 정도로 하는 것이 바람직하다.When such a polyamic acid solution is used in the production of polyimide, various kinds of additives (high molecular weight or imidization accelerators, deterioration inhibitors, antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, modifiers A surface modifier, a hardening agent, a leveling agent, a surfactant, a filler (a glass fiber, a filler, a talc, a mica, a silica, a filler, Etc.) may be suitably added and used. With respect to the case of using such an additive, the content of the additive in the polyamic acid solution is not particularly limited, but it is preferably about 0.0001 to 80 mass% (more preferably 0.1 to 50 mass%).

(폴리이미드를 제조하기 위하여 적합하게 이용 가능한 방법)(A method suitably available for producing polyimide)

본 발명의 폴리이미드를 제조하기 위하여 적합하게 이용 가능한 방법으로서는, 특별히 제한되지 않지만, 상기 본 발명의 폴리아미드산을 이미드화함으로써,A method that can be suitably used for producing the polyimide of the present invention is not particularly limited, but by imidizing the polyamic acid of the present invention,

상기 반복 단위 (A)와 상기 반복 단위 (B)를 함유하며, 또한 상기 반복 단위 (A) 및 (B)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (A)의 함유량이 5 내지 35몰%인 폴리이미드를 얻는 방법을 적합하게 이용하는 것이 가능하다. 또한, 상기 반복 단위 (A)는 상기 반복 단위 (C)에서 유래하여 형성되고, 상기 반복 단위 (B)는 상기 반복 단위 (D)에서 유래하여 형성되는 것이다.A polyimide containing the repeating unit (A) and the repeating unit (B) and containing the repeating unit (A) in an amount of 5 to 35 mol% based on the total amount of the repeating units (A) and (B) It is possible to suitably use the method of obtaining the same. The repeating unit (A) is formed from the repeating unit (C), and the repeating unit (B) is formed from the repeating unit (D).

이러한 폴리아미드산의 이미드화 방법은, 폴리아미드산을 이미드화할 수 있는 방법이면 되고, 특별히 제한되지 않고, 공지의 방법을 적절히 채용할 수 있는데, 예를 들어 상기 본 발명의 폴리아미드산을 60 내지 450℃(보다 바람직하게는 80 내지 400℃)의 온도 조건에서 가열 처리를 실시함으로써 이미드화하는 방법이나, 소위 「이미드화제」를 사용하여 이미드화하는 방법을 채용하는 것이 바람직하다.Such a method for imidizing a polyamic acid can be any method capable of imidizing a polyamic acid, and there is no particular limitation, and a known method can be suitably employed. For example, when the polyamic acid of the present invention is used in an amount of 60 To a temperature of from 450 to 450 DEG C (more preferably from 80 to 400 DEG C), or a method of imidizing by using a so-called " imidizing agent " is preferably employed.

이러한 가열 처리를 실시함으로써 이미드화하는 방법을 채용하는 경우에 있어서, 상기 가열 온도가 60℃ 미만이면 반응의 진행이 지연되는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 초과하면 착색되거나, 열 분해에 의한 분자량 저하 등이 일어나거나 하는 경향이 있다. 또한, 가열 처리를 실시함으로써 이미드화하는 방법을 채용하는 경우의 반응 시간(가열 시간)은 0.5 내지 5시간으로 하는 것이 바람직하다. 이러한 반응 시간이 상기 하한 미만이면 충분히 이미드화되는 것이 곤란해지는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 초과하면 착색되거나, 열 분해에 의한 분자량 저하 등이 일어나는 경향이 있다. 또한, 상기 본 발명의 폴리아미드산은, 대기 중과 같은 산소를 함유하는 조건 하에서 가열하여 이미드화된 경우에 있어서도, 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 골고루 갖는 폴리이미드를 제조하는 것이 가능한 것이기 때문에, 가열할 때의 분위기 조건은 특별히 제한되지 않고, 불활성 가스 중이어도 대기 중이어도 된다. 또한, 대기 중에 있어서, 가열하여 제조하는 경우에는, 보다 간편한 설비 등에 있어서 폴리이미드를 제조할 수 있을 뿐만 아니라, 분위기 가스를 제어하지 않고 폴리이미드를 제조할 수 있기 때문에, 최종 제품의 제조 효율을 보다 향상시키는 것도 가능해진다. 또한, 가열하여 이미드화하는 경우에 있어서는, 고분자량화나 이미드화를 촉진시키기 위하여, 소위 촉진제(첨가제)를 이용해도 된다. 이러한 촉진제로서는, 공지의 반응 촉진제(예를 들어, 이미다졸계 화합물, 피리딘계 화합물, 트리에틸아민 등의 3급 아민계 화합물, 아미노산계 화합물 등)를 적절히 이용해도 된다. 이러한 촉진제의 사용량으로서는, 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 폴리아미드산 용액 중의 고형분(폴리아미드산) 100질량부에 대하여 1 내지 60질량부이며, 바람직하게는 5 내지 50질량부이다.In the case of employing the imidization process by applying such a heat treatment, the progress of the reaction tends to be retarded when the heating temperature is lower than 60 DEG C, while if the heating temperature exceeds the upper limit, the molecular weight And the like tend to occur. The reaction time (heating time) in the case of adopting the imidization method by conducting the heat treatment is preferably 0.5 to 5 hours. If the reaction time is less than the lower limit described above, it tends to be difficult to imidize sufficiently. On the other hand, when the upper limit is exceeded, there is a tendency that coloration occurs or molecular weight decreases due to thermal decomposition. Since the polyamic acid of the present invention can produce polyimide having sufficiently low yellow color and sufficiently low coefficient of linear expansion even when imidized by heating under oxygen containing conditions such as in the atmosphere, Is not particularly limited, and may be in an inert gas atmosphere or in an atmospheric condition. In addition, in the case of producing by heating in the air, polyimide can be produced in a simpler facility or the like, and polyimide can be produced without controlling atmospheric gas, Can be improved. Further, in the case of imidization by heating, a so-called accelerator (additive) may be used in order to promote high molecular weight or imidization. As such accelerators, known reaction accelerators (for example, imidazole compounds, pyridine compounds, tertiary amine compounds such as triethylamine, amino acid compounds, etc.) may be suitably used. The amount of such promoter to be used is not particularly limited and is, for example, 1 to 60 parts by mass, and preferably 5 to 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of the solid content (polyamic acid) in the polyamic acid solution.

또한, 소위 「이미드화제」를 이용하여 폴리아미드산을 이미드화하는 방법을 채용하는 경우, 이미드화제의 존재 하에서, 용매 중에서 상기 본 발명의 폴리아미드산을 이미드화하는 것이 바람직하다. 이러한 용매로서는 상기 본 발명의 폴리이미드산의 제조 방법에 사용하는 유기 용매와 마찬가지의 것을 적합하게 사용할 수 있다.In the case of employing a method of imidizing a polyamic acid using a so-called " imidizing agent ", it is preferable to imidize the polyamic acid of the present invention in a solvent in the presence of an imidizing agent. As such a solvent, those similar to the organic solvent used in the process for producing a polyimide acid of the present invention may be suitably used.

이러한 이미드화제로서는, 공지의 이미드화제를 적절히 이용할 수 있는데, 예를 들어 무수 아세트산, 무수 프로피온산, 무수 트리플루오로아세트산 등의 산 무수물, 피리딘, 콜리딘, 루티딘, 트리에틸아민, N-메틸피페리딘 등의 3급 아민 등을 들 수 있다. 또한, 이미드화제를 첨가하여 이미드화하는 경우에 있어서의 이미드화 시의 반응 온도는, 0 내지 200℃인 것이 바람직하고, 30 내지 150℃인 것이 보다 바람직하다. 또한, 반응 시간은 0.1 내지 48시간으로 하는 것이 바람직하다. 이러한 반응 온도나 시간이 상기 하한 미만이면 충분히 이미드화되는 것이 곤란해지는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 초과하면 중합물을 열화시키는 물질(산소 등)의 혼입 확률이 높아져 분자량이 저하되거나 색상이 악화되거나 하는 경향이 있다. 또한, 이러한 이미드화제의 사용량으로서는, 특별히 제한되지 않고, 폴리아미드산 중의 상기 일반식 (5)로 표시되는 반복 단위 1몰에 대하여 수 밀리몰 내지 수 몰(바람직하게는 0.01 내지 4.0몰 정도)로 하면 된다.As the imidization agent, a known imidization agent can be appropriately used. Examples thereof include acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, trifluoroacetic anhydride, pyridine, collidine, lutidine, triethylamine, N- And tertiary amines such as methylpiperidine. Further, in the case of imidization by adding an imidization agent, the reaction temperature at imidization is preferably 0 to 200 캜, more preferably 30 to 150 캜. The reaction time is preferably 0.1 to 48 hours. If the reaction temperature or time is less than the lower limit described above, it tends to be difficult to imidize sufficiently. On the other hand, if the reaction temperature or time exceeds the upper limit, the probability of incorporation of a substance (oxygen or the like) deteriorating the polymerized material tends to increase, . The amount of the imidization agent to be used is not particularly limited and may be in the range of from several millimoles to several moles (preferably about 0.01 to 4.0 moles) relative to 1 mole of the repeating unit represented by the formula (5) in the polyamic acid .

또한, 본 발명의 폴리이미드를 제조하기 위하여 적합하게 이용 가능한 방법으로서는, 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I))과, 상기 디아민 화합물(화합물 (Ⅱ))을 유기 용매의 존재 하에서 반응시킴으로써, 상기 반복 단위 (C) 및 상기 반복 단위 (D)를 함유하며, 또한 상기 반복 단위 (C) 및 (D)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (C)의 함유량이 5 내지 35몰%인 폴리아미드산(상기 본 발명의 폴리아미드산)을 얻는 공정 (I)과;As a method which can be suitably used for producing the polyimide of the present invention, the tetracarboxylic acid dianhydride (compound (I)) and the diamine compound (compound (II)) are reacted in the presence of an organic solvent , The repeating unit (C) and the repeating unit (D), and the content of the repeating unit (C) relative to the total amount of the repeating units (C) and (D) is 5 to 35 mol% (I) of obtaining an acid (the polyamic acid of the present invention);

상기 폴리아미드산을 이미드화함으로써, 상기 반복 단위 (A)와 상기 반복 단위 (B)를 함유하며, 또한 상기 반복 단위 (A) 및 (B)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (A)의 함유량이 5 내지 35몰%인 폴리이미드(상기 본 발명의 폴리이미드)를 얻는 공정 (Ⅱ);Wherein the content of the repeating unit (A) relative to the total amount of the repeating units (A) and (B) is at least one kind selected from the group consisting of the repeating units (A) (II) of obtaining a polyimide having 5 to 35 mol% (the polyimide of the present invention);

를 포함하는 방법인 것이 바람직하다. 이와 같이, 본 발명의 폴리이미드를 제조하는 방법으로서 공정 (I) 및 공정 (Ⅱ)를 포함하는 방법을 채용한 경우에는, 일련의 공정에서 폴리이미드를 제조하는 것이 가능하다.And the like. As described above, when the method including the step (I) and the step (II) is adopted as the method for producing the polyimide of the present invention, it is possible to produce the polyimide in a series of steps.

또한, 이러한 공정 (I) 및 공정 (Ⅱ)를 포함하는 방법을 이용하는 경우이며, 상기 이미드화 시에 가열 처리를 실시함으로써 이미드화하는 방법을 채용하는 경우에는, 상기 공정 (I)을 실시한 후에, 상기 본 발명의 폴리아미드산을 단리하지 않고, 유기 용매 중에 있어서 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I))과 상기 디아민 화합물(화합물 (Ⅱ))을 반응시켜 얻어진 반응액(상기 본 발명의 폴리아미드산을 함유하는 반응액)을, 그대로 사용하거나 혹은 상기 촉진제를 첨가하여 사용하고, 그 반응액에 대하여 용매를 증발 제거하는 처리(용매 제거 처리)를 실시하여 용매를 제거한 후, 상기 가열 처리를 실시함으로써 이미드화하는 방법을 채용해도 된다. 이러한 용매를 증발 제거하는 처리를 실시함으로써, 상기 본 발명의 폴리아미드산을, 필름상 등의 형태로 하여 단리하고, 그 후, 가열 처리를 실시하는 것 등이 가능해진다. 이러한 용매를 증발 제거하는 처리의 방법에 있어서의 온도 조건에서는 0 내지 180℃인 것이 바람직하고, 30 내지 150℃인 것이 보다 바람직하다. 이러한 용매를 증발 제거하는 처리에 있어서의 온도 조건이 상기 하한 미만이면 용매를 충분히 증발시켜 제거하는 것이 곤란해지는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 초과하면 용매가 비등하여 기포나 보이드를 포함하는 필름이 되는 경향이 있다. 이 경우에 있어서, 예를 들어 필름상의 폴리이미드를 제조하는 경우에 있어서는, 얻어진 반응액을 그대로 기재(예를 들어 유리판) 위에 도포하고, 상기 용매를 증발 제거하는 처리 및 가열 처리를 실시하면 충분히 간편한 방법으로 필름상의 폴리이미드를 제조하는 것이 가능해진다. 또한, 이러한 반응액의 도포 방법으로서는 특별히 제한되지 않고, 공지의 방법(캐스트법 등)을 적절히 채용할 수 있다. 또한, 상기 반응액으로부터 상기 본 발명의 폴리아미드산을 단리하여 이용하는 경우, 그 단리 방법으로서는 특별히 제한되지 않고, 폴리아미드산을 단리하는 것이 가능한 공지의 방법을 적절히 채용할 수 있는데, 예를 들어 재침전물로 하여 단리하는 방법 등을 채용해도 된다.In the case of employing the method including the steps (I) and (II), and adopting the imidization by performing the heat treatment at the time of imidization, after the step (I) The reaction solution obtained by reacting the tetracarboxylic dianhydride (compound (I)) with the diamine compound (compound (II)) in an organic solvent without isolating the polyamic acid of the present invention (Reaction liquid containing a polyamic acid) is used as it is or the above-mentioned promoter is added to the reaction solution, and the reaction solution is subjected to a treatment for removing the solvent by evaporation (solvent removal treatment) to remove the solvent, A method of imidization may be employed. By subjecting the solvent to evaporation removal treatment, the polyamide acid of the present invention can be isolated in the form of a film or the like, and then heat treatment can be performed. In the process of evaporating and removing the solvent, the temperature is preferably 0 to 180 ° C, more preferably 30 to 150 ° C. If the temperature is lower than the lower limit in the process of evaporating and removing such a solvent, there is a tendency that it is difficult to sufficiently evaporate the solvent to remove the solvent. On the other hand, when the upper limit is exceeded, a film containing bubbles or voids . In this case, for example, in the case of producing a film-like polyimide, the reaction solution obtained is directly applied on a substrate (for example, a glass plate), and the process of evaporating and removing the solvent and the heat treatment are carried out, It is possible to prepare a film-like polyimide. The method of applying such a reaction liquid is not particularly limited, and a known method (casting method, etc.) can be suitably employed. When the polyamic acid of the present invention is isolated from the reaction solution and used, isolation is not particularly limited and a known method capable of isolating polyamic acid can be suitably employed. For example, And a method of isolating it as a precipitate may be employed.

또한, 공정 (I) 및 공정 (Ⅱ)를 포함하는 방법을 이용하는 경우이며, 「이미드화제」를 이용하여 이미드화하는 방법을 채용하는 경우, 더 효율적으로 필름상의 폴리이미드를 형성한다는 관점에서는, 유기 용매 중에 있어서 상기 테트라카르복실산 이무수물(화합물 (I))과 상기 디아민 화합물(화합물 (Ⅱ))을 반응시켜 얻어진 반응액을 그대로 사용하여(공정 (I)을 실시한 후에 상기 반응액으로부터 상기 본 발명의 폴리아미드산을 단리하지 않고, 상기 반응액을 그대로 사용하여), 상기 반응액에 이미드화제를 첨가하여 이미드화가 충분히 진행되지 않는 동안에, 상기 반응액을 유리 등의 기판에 도포하여, 기판 위에서 이미드화를 실시하는 방법을 적합하게 채용할 수 있다.Further, in the case of using the method including the steps (I) and (II), in the case of employing the imidization method using the " imidization agent ", from the viewpoint of forming the polyimide on the film more efficiently, The reaction liquid obtained by reacting the tetracarboxylic acid dianhydride (compound (I)) with the diamine compound (compound (II)) in an organic solvent is used as it is (step (I) The polyamide acid of the present invention is not isolated and the above reaction solution is used as it is), an imidizing agent is added to the reaction solution, and the reaction solution is applied to a substrate such as glass while the imidization does not sufficiently proceed , A method of imidizing on the substrate can be suitably employed.

[폴리이미드 필름][Polyimide film]

본 발명의 폴리이미드 필름은, 상기 본 발명의 폴리이미드를 포함하는 것이다.The polyimide film of the present invention comprises the polyimide of the present invention.

이러한 폴리이미드 필름의 형태는, 필름상이면 되고, 특별히 제한되지 않고, 각종 형상(원반상, 원통상(필름을 통상으로 가공한 것) 등)으로 적절히 설계할 수 있다.The shape of such a polyimide film is not particularly limited and may be appropriately designed in various shapes (such as a disc shape, a cylindrical shape (a film is processed normally), etc.).

또한, 본 발명의 폴리이미드 필름의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 1 내지 500㎛인 것이 바람직하고, 10 내지 200㎛인 것이 보다 바람직하다. 이러한 두께가 상기 하한 미만이면 강도가 저하되어 취급이 곤란해지는 경향이 있고, 한편, 상기 상한을 초과하면, 복수회의 도공이 필요한 경우가 발생하거나, 가공이 복잡화되는 경우가 발생하는 경향이 있다.The thickness of the polyimide film of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1 to 500 占 퐉, more preferably 10 to 200 占 퐉. If the thickness is less than the lower limit described above, the strength tends to be lowered and handling becomes difficult. On the other hand, when the thickness exceeds the upper limit, there is a tendency that a plurality of coatings are required or processing is complicated.

이러한 폴리이미드 필름은, 상술한 폴리이미드를 제조하기 위하여 적합하게 이용 가능한 방법으로서 설명한 방법을 채용하면서, 얻어지는 폴리이미드의 형태가 원하는 형상(필름상)이 되도록 도공 방법 등을 적절히 조정함으로써 제조하는 것이 가능하다.Such a polyimide film is produced by suitably adjusting the coating method or the like so that the shape of the obtained polyimide is in a desired shape (film form) while employing the method described as a method that can be suitably used for producing the above-mentioned polyimide It is possible.

이상, 본 발명의 폴리이미드, 폴리아미드산, 폴리아미드산 용액 및 폴리이미드 필름에 대하여 설명했지만, 이러한 본 발명의 폴리이미드 및 폴리이미드 필름은, 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 고도의 수준으로 골고루 갖는 것으로 되는 점에서, 금속 기판 등에 적층한 경우에 있어서도 열에 의해 필름의 박리 등이 발생하는 것을 충분히 억제할 수 있음과 함께 충분한 시인성을 겸비하는 점에서, 각종 용도, 예를 들어 플렉시블 배선 기판용 필름, 내열 절연 테이프, 전선 에나멜, 반도체의 보호 코팅제, 액정 배향막, 유기 EL용 투명 도전성 필름, 디스플레이의 기판 재료(TFT 기판, 투명 전극 기판(예를 들어, 유기 EL용 투명 전극 기판, 전자 페이퍼의 투명 전극 기판 등) 등의 디스플레이용 기판), 태양 전지용 투명 전극 기판, 유기 EL 조명용 필름, 플렉시블 기판 필름, 플렉시블 유기 EL용 기판 필름, 플렉시블 투명 도전성 필름, 유기 박막형 태양 전지용 투명 도전성 필름, 색소 증감형 태양 전지용 투명 도전성 필름, 플렉시블 가스 배리어 필름, 터치 패널용의 기판 재료(터치 패널용 필름 등), 플렉시블 디스플레이용 프론트 필름, 플렉시블 디스플레이용 백 필름, 복사기용 심리스 폴리이미드 벨트(소위 전사 벨트), 층간 절연막, 센서 기판 등의 재료로서 특히 유용하다. 또한, 본 발명의 폴리이미드는, 그의 선팽창 계수에서 유래하고, 상술한 바와 같은 용도 중에서도, 디스플레이의 기판 재료(TFT 기판, 투명 전극 기판 등의 디스플레이용 기판)나 터치 패널용의 기판 재료(터치 패널용 필름 등) 등의 용도에 사용한 경우에, 최종 제품(예를 들어 유기 EL 소자 등)의 수율을 보다 개선하는 것이 가능하다.Although the polyimide, polyamic acid, polyamic acid solution and polyimide film of the present invention have been described above, the polyimide and polyimide films of the present invention are sufficiently high in overall light transmittance, sufficiently low in yellow, It is possible to sufficiently suppress the occurrence of film peeling or the like due to heat even when the film is laminated on a metal substrate or the like and to have sufficient visibility, For example, a film for a flexible wiring board, a heat-resistant insulating tape, a wire enamel, a protective coating for a semiconductor, a liquid crystal alignment film, a transparent conductive film for an organic EL, A transparent electrode substrate, a transparent electrode substrate of an electronic paper, etc.), a solar cell Flexible substrate films for flexible organic EL, flexible transparent conductive films, transparent conductive films for organic thin film solar cells, transparent conductive films for dye-sensitized solar cells, flexible gas barrier films, touch panels (A so-called transfer belt), an interlayer insulating film, a sensor substrate, and the like, for a substrate material for a touch panel, a front film for a flexible display, a back film for a flexible display, In addition, the polyimide of the present invention originates from its linear expansion coefficient and can be used as a substrate material for a display (a substrate for a display such as a TFT substrate or a transparent electrode substrate) or a substrate material for a touch panel Film, etc.), it is possible to further improve the yield of a final product (for example, an organic EL device).

또한, 이러한 본 발명의 폴리이미드 특성으로부터, 예를 들어 마이크로일렉트로닉스(유기 EL 디스플레이, 액정 디스플레이, 터치 패널, 플렉시블 디스플레이 패널, 고휘도 LED 웨이퍼, 극박 실리콘 웨이퍼, 삼차원 반도체 패키지, 반도체용 보호막(버퍼 코팅), 층간 절연막, 포토레지스트, 이미지 센서용 마이크로렌즈 등)의 제품에 이용하는 기판의 재료에 본 발명의 폴리이미드를 사용한 경우에는, 장치의 대형화에 대응 가능할 뿐만 아니라, 그 선팽창 계수에서 유래하여, 제조 시의 가열 공정에서의 깨짐이나 컬 등을 충분히 방지하여 최종 제품의 높은 수율을 달성할 수 있고, 또한 생산 효율 향상, 처리 능력 향상에 공헌할 수 있기 때문에 저비용으로 제품을 제조하는 것도 가능해진다.From the polyimide characteristics of the present invention, it is possible to use a polyimide film for a semiconductor device such as a microelectronic (an organic EL display, a liquid crystal display, a touch panel, a flexible display panel, a high brightness LED wafer, a thin silicon wafer, a three- In the case of using the polyimide of the present invention as a material of a substrate used for a product of a semiconductor device, an interlayer insulating film, a photoresist, a microlens for an image sensor, etc., it is possible not only to cope with the enlargement of the device, It is possible to sufficiently prevent the cracks and curls in the heating step of the product, thereby achieving a high yield of the final product, and contributing to the improvement of the production efficiency and the improvement of the processing ability.

[실시예][Example]

이하, 실시예 및 비교예에 기초하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

우선, 각 실시예, 각 비교예에 있어서 얻어진 폴리이미드 필름 등의 특성의 평가 방법에 대하여 설명한다.First, a method for evaluating properties of the polyimide film and the like obtained in each of the examples and comparative examples will be described.

<분자 구조의 동정><Identification of Molecular Structure>

각 실시예 및 각 비교예에 의해 얻어진 화합물의 분자 구조의 동정은, IR 측정기(니혼분코 가부시끼가이샤제, 상품명: FT/IR-4100)를 사용하여, IR 측정함으로써 행했다.The molecular structures of the compounds obtained by the respective Examples and Comparative Examples were identified by IR measurement using an IR measuring device (trade name: FT / IR-4100, manufactured by Nihon Bunko KK).

<고유 점도[η]의 측정>&Lt; Measurement of intrinsic viscosity [?]

각 실시예 및 각 비교예에 있어서 중간체로서 얻어진 폴리아미드산의 고유 점도[η]의 값(단위: dL/g)은, 리고사제의 자동 점도 측정 장치(상품명 「VMC-252」)를 사용하고, 테트라메틸우레아(TMU)를 용매로 한 농도 0.5g/dL의 측정 시료를 사용하여 30℃의 온도 조건 하에서 측정했다.The value (unit: dL / g) of the intrinsic viscosity [?] Of the polyamic acid obtained as an intermediate in each of the Examples and Comparative Examples was measured using an automatic viscosity meter (trade name "VMC-252" , And tetramethylurea (TMU) as a solvent at a concentration of 0.5 g / dL under a temperature condition of 30 캜.

<유리 전이 온도(Tg) 및 연화 온도의 측정>&Lt; Measurement of Glass Transition Temperature (Tg) and Softening Temperature >

각 실시예 및 각 비교예에서 얻어진 폴리이미드의 유리 전이 온도(Tg) 및 연화 온도의 값(단위: ℃)은, 각 실시예 및 각 비교예에서 제조한 폴리이미드를 포함하는 필름을 사용하고, 세로 5㎜, 가로 5㎜, 두께 0.013㎜(13㎛)의 크기의 측정 시료를 준비하고, 측정 장치로서 열 기계적 분석 장치(리가크제의 상품명 「TMA8311」를 사용하여, 질소 분위기 하에서, 승온 속도 5℃/분, 30℃ 내지 550℃의 온도 범위(주사 온도)의 조건에서 필름에 투명 석영제 핀(선단의 직경: 0.5㎜)을 500mN압으로 침입함으로써 측정했다(소위 페네트레이션(침입)법에 의한 측정). 또한, 연화 온도의 측정 시에는, 상기 측정 시료를 이용하는 것 이외는, JIS K7196(1991년)에 기재된 방법에 준거하여, 측정 데이터에 기초하여 연화 온도(연화점)를 계산했다.The values of the glass transition temperature (Tg) and the softening temperature (unit: ° C) of the polyimide obtained in each of the Examples and Comparative Examples were measured using a film containing the polyimide prepared in each of the Examples and Comparative Examples, A measurement sample having a size of 5 mm in length, 5 mm in width and 0.013 mm in thickness (13 탆) was prepared. Using a thermomechanical analyzer (trade name "TMA8311" manufactured by Rigaku Corporation) (Diameter of tip: 0.5 mm) at 500 mN pressure onto the film under the conditions of a temperature of from room temperature (캜) / 캜 to a temperature of 30 캜 to 550 캜 (scanning temperature) The softening temperature (softening point) was calculated on the basis of measurement data in accordance with the method described in JIS K7196 (1991), except that the measurement sample was used for measuring the softening temperature.

<5% 중량 감소 온도(Td 5%)의 측정><Measurement of 5% weight reduction temperature (Td 5%)>

각 실시예 및 각 비교예에서 얻어진 폴리이미드의 5% 중량 감소 온도(Td 5%)의 값(단위: ℃)은, 각 실시예 및 각 비교예에서 제조한 폴리이미드 필름을 사용하고, 열 중량 분석 장치(SII·나노테크놀로지 가부시끼가이샤제의 「TG/DTA220」)를 사용하고, 주사 온도를 30℃ 내지 550℃로 설정하고, 질소 분위기 하에서, 질소 가스를 흘리면서 10℃/min.의 조건에서 가열하고, 사용한 시료의 중량이 5% 감소하는 온도를 측정함으로써 구했다.The values (unit: 占 폚) of the 5% weight reduction temperature (Td 5%) of the polyimide obtained in each of the Examples and Comparative Examples were obtained by using the polyimide films prepared in each of the Examples and Comparative Examples, (TG / DTA220, manufactured by SII, Nanotechnology Co., Ltd.) was used, and the scanning temperature was set to 30 to 550 DEG C, and nitrogen gas was flown under a nitrogen atmosphere at a rate of 10 DEG C / min And measuring the temperature at which the weight of the used sample was reduced by 5%.

<전체 광선 투과율, 헤이즈(탁도) 및 황색도(YI)의 측정>&Lt; Measurement of total light transmittance, haze (turbidity) and yellowness (YI)

각 실시예 및 각 비교예에서 얻어진 폴리이미드의 전체 광선 투과율의 값(단위: %), 헤이즈(탁도: HAZE) 및 황색도(YI)는, 각 실시예 등에서 얻어진 필름을 그대로 측정용의 시료로서 사용하고, 측정 장치로서 닛본 덴쇼쿠 고교 가부시끼가이샤제의 상품명 「헤이즈미터 NDH-5000」 또는 닛본 덴쇼쿠 고교 가부시끼가이샤제의 상품명 「분광 색채계 SD6000」을 사용하여, 각각 측정을 행함으로써 구했다. 또한, 닛본 덴쇼쿠 고교 가부시끼가이샤제의 상품명 「헤이즈미터 NDH-5000」으로 전체 광선 투과율과 헤이즈를 측정하고, 닛본 덴쇼쿠 고교 가부시끼가이샤제의 상품명 「분광 색채계 SD6000」으로 황색도를 측정했다. 또한, 전체 광선 투과율은, JIS K7361-1(1997년 발행)에 준거한 측정을 행함으로써 구하고, 헤이즈(탁도)는, JIS K7136(2000년 발행)에 준거한 측정을 행함으로써 구하고, 색도(YI)는 ASTM E313-05(2005년 발행)에 준거한 측정을 행함으로써 구했다.The values (unit:%), haze (turbidity: HAZE) and yellowness (YI) of the total light transmittance of the polyimide obtained in each of the Examples and Comparative Examples were measured as the samples for measurement , And the measurement was carried out using a measuring device "Hazemeter NDH-5000" manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd. or "spectrophotometer SD6000" available from Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd. . Further, the total light transmittance and haze were measured with a trade name &quot; Hazemeter NDH-5000 &quot;, manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd., and the degree of yellowness was measured with a trade name &quot; Spectral Color Spectrometer SD6000 &quot;, manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., did. The total light transmittance was determined by performing measurement in accordance with JIS K7361-1 (published in 1997), and the haze (turbidity) was obtained by performing measurement in accordance with JIS K7136 (published in 2000) ) Was obtained by carrying out measurements in accordance with ASTM E313-05 (published in 2005).

<선팽창 계수(CTE)의 측정>&Lt; Measurement of coefficient of linear expansion (CTE) >

선팽창 계수는, 각 실시예 및 각 비교예에서 얻어진 폴리이미드(필름 형상의 폴리이미드)로부터 세로: 20㎜, 가로: 5㎜, 두께: 13㎛의 크기의 필름을 형성한 후에, 그 필름을 진공 건조(120℃, 1시간(Hr))하고, 질소 분위기 하에서 200℃에서 1시간(Hr) 열 처리하여 얻어진 시료(건조 필름)를 각각 사용하고, 측정 장치로서 열 기계적 분석 장치(리가크제의 상품명 「TMA8310」)를 이용하고, 질소 분위기 하에서, 인장 모드(49mN), 승온 속도 5℃/분의 조건을 채용하고, 50℃ 내지 200℃에 있어서의 상기 시료의 길이 변화를 측정하고, 100℃ 내지 200℃의 온도 범위에 있어서의 1℃당 길이의 변화의 평균값을 구함으로써 측정했다.The coefficient of linear expansion was obtained by forming films having a size of 20 mm in length, 5 mm in width, and 13 m in thickness from the polyimide (film-shaped polyimide) obtained in each example and each comparative example, (Dry film) obtained by drying (120 ° C, 1 hour (Hr)) and heat treatment at 200 ° C for 1 hour (Hr) in a nitrogen atmosphere were respectively used. A thermomechanical analyzer Under the conditions of a tensile mode (49 mN) and a temperature raising rate of 5 deg. C / min under the nitrogen atmosphere and measuring the change in length of the sample at 50 deg. C to 200 deg. C, And the average value of the change in length per 1 DEG C in the temperature range of 200 DEG C was determined.

(실시예 1)(Example 1)

<CpODA의 준비 공정>&Lt; Preparation process of CpODA &

국제 공개 제2011/099518호의 합성예 1, 실시예 1 및 실시예 2에 기재된 방법에 준거하여, 하기 일반식 (13):According to the method described in Synthesis Example 1, Example 1 and Example 2 of International Patent Publication No. 2011/099518, a compound represented by the following general formula (13):

Figure pat00015
Figure pat00015

으로 표시되는 화합물(노르보르난-2-스피로-α-시클로펜타논-α'-스피로-2"-노르보르난-5,5",6,6"-테트라카르복실산 이무수물: CpODA)을 준비했다.Spiro-? -Cyclopentanone-? '- spiro-2 "-norbornane-5,5", 6,6 "-tetracarboxylic acid dianhydride: CpODA) .

<폴리아미드산의 제조 공정>&Lt; Production process of polyamic acid >

우선, 30ml의 삼구 플라스크를 히트 건으로 가열하여 충분히 건조시켰다. 이어서, 충분히 건조시킨 상기 삼구 플라스크 내의 분위기 가스를 질소로 치환하여, 상기 삼구 플라스크 내를 질소 분위기로 했다. 계속해서, 상기 삼구 플라스크 내에, 방향족 디아민(디아민 화합물)으로서, 하기 일반식 (14):First, a 30 ml three-necked flask was sufficiently dried by heating with a heat gun. Subsequently, the atmosphere gas in the sufficiently dried three-necked flask was replaced with nitrogen, and the atmosphere in the three-way flask was changed to nitrogen atmosphere. Subsequently, as the aromatic diamine (diamine compound), the following general formula (14):

Figure pat00016
Figure pat00016

로 표시되는 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 4.8035g(15.00mmol: 세이카 가부시끼가이샤제)을 첨가한 후, 테트라메틸우레아(TMU)를 33.8g(반응액 중의 폴리아미드산의 농도가 20mass%(질량%)가 되는 양) 더 첨가하고, 교반함으로써, 상기 테트라메틸우레아 중에 방향족 디아민(TFMB)을 용해시켜 용해액을 얻었다.(15.00 mmol, manufactured by Seika Chemical Co., Ltd.) represented by the following formula (1) was added, and then 33.8 g of tetramethylurea (TMU) (poly (Amount of the amide acid was 20 mass% (mass%)) was further added and stirred to obtain a dissolution liquid by dissolving aromatic diamine (TFMB) in the tetramethylurea.

이어서, 상기 용해액을 함유하는 삼구 플라스크 내에, 질소 분위기 하에서, 테트라카르복실산 이무수물로서, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(무수 피로멜리트산: PMDA: 도쿄 가세이 고교 가부시끼가이샤제) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 첨가하고, 질소 분위기 하에서, 실온(25℃)에서 12시간 교반하여 반응액을 얻었다. 이와 같이 하여 반응액 중에 폴리아미드산을 형성했다.Then, 0.8650 g (2.25 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and the compound represented by the general formula (11) as the tetracarboxylic acid dianhydride were mixed in a three- (2.75 g, 12.75 mmol) of pyromellitic anhydride (anhydrous pyromellitic acid: PMDA: manufactured by TOKYO KASEI KOGYO CO., LTD.) Was added to the mixture, and the mixture was stirred at room temperature (25 ° C) for 12 hours under a nitrogen atmosphere, Solution. Thus, a polyamic acid was formed in the reaction solution.

또한, 이러한 반응액(폴리아미드산의 테트라메틸우레아 용액: 폴리아미드산 용액)의 일부를 이용하여, 폴리아미드산의 농도가 0.5g/dL로 되는 테트라메틸우레아 용액을 제조하고, 상술한 바와 같이 하여, 반응 중간체인 폴리아미드산의 고유 점도[η]를 측정한바, 폴리아미드산의 고유 점도[η]는 0.76dL/g이었다.A part of the reaction solution (tetramethylurea solution of polyamic acid: polyamic acid solution) was used to prepare a tetramethylurea solution having a polyamic acid concentration of 0.5 g / dL. As described above, The intrinsic viscosity [?] Of the polyamic acid as the reaction intermediate was measured, and the intrinsic viscosity [?] Of the polyamic acid was 0.76 dL / g.

<폴리이미드를 포함하는 필름의 제조 공정: 공정 (i) 내지 (ⅲ)>&Lt; Process for producing polyimide-containing film: Processes (i) to (iii)

(공정 (i): 용매 제거 처리)(Process (i): solvent removal treatment)

유리 기판으로서 무알칼리 유리(코닝사제의 상품명 「이글 XG」, 세로: 100㎜, 가로 100㎜, 두께 0.7㎜)를 준비하고, 상술한 바와 같이 하여 얻어진 반응액(폴리아미드산 용액)을, 상기 유리 기판의 표면 위에, 가열 경화 후의 도막의 두께가 13㎛로 되도록 스핀 코팅하여, 상기 유리 기판 위에 도막을 형성했다. 그 후, 상기 도막이 형성된 유리 기판을 60℃의 핫 플레이트 위에 얹고 2시간 정치하고, 상기 도막으로부터 용매를 증발시켜 제거했다(용매 제거 처리).Alkali glass (trade name: Eagle XG, length: 100 mm, width: 100 mm, thickness: 0.7 mm, made by Corning Inc.) was prepared as a glass substrate and the reaction solution (polyamic acid solution) On the surface of the glass substrate, a coating film was formed on the glass substrate by spin coating so that the thickness of the coated film after heat curing became 13 占 퐉. Thereafter, the glass substrate on which the coating film was formed was placed on a hot plate at 60 DEG C and allowed to stand for 2 hours, and the solvent was removed by evaporation (solvent removal treatment).

(공정 (ⅱ): 용매 제거 처리를 실시한 후의 가열 공정)(Step (ii): heating step after solvent removal treatment)

상술한 바와 같이 하여 용매 제거 처리를 실시한 후, 상기 도막이 형성된 유리 기판을 3L/분의 유량으로 질소가 흐르고 있는 이너트 오븐에 투입하고, 이너트 오븐 내에서, 질소 분위기 하에서, 25℃의 온도 조건에서 0.5시간 정치한 후, 135℃의 온도 조건에서 0.5시간 가열하고, 또한 최종적으로 350℃의 온도 조건(이하, 경우에 따라 「최종 가열 온도 조건」이라고 칭한다)에서 1시간 가열하고, 상기 도막을 경화시켜, 상기 유리 기판 위에 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)이 코팅된 폴리이미드 코팅 유리를 얻었다.After the solvent removal treatment as described above, the glass substrate on which the coating film was formed was placed in an inert gas oven in which nitrogen flowed at a flow rate of 3 L / min. In an inert gas oven, Heated for 0.5 hour at a temperature condition of 135 占 폚 and finally heated for one hour at a temperature condition of 350 占 폚 (hereinafter referred to as &quot; final heating temperature condition &quot; according to circumstances) And cured to obtain a polyimide-coated glass on which a thin film (polyimide film) containing polyimide was coated on the glass substrate.

(공정 (ⅲ): 필름의 회수 공정)(Process (iii): process for recovering the film)

이어서, 이와 같이 하여 얻어진 폴리이미드 코팅 유리를, 90℃의 끓인 물 속에 침지하여, 상기 유리 기판으로부터 폴리이미드 필름을 박리함으로써, 폴리이미드 필름(세로: 100㎜, 가로 100㎜, 두께 13㎛의 크기의 필름)을 회수하여, 폴리이미드를 포함하는 필름을 얻었다.The thus obtained polyimide-coated glass was immersed in boiled water at 90 DEG C and the polyimide film was peeled off from the glass substrate to obtain a polyimide film (length: 100 mm, width 100 mm, thickness 13 mu m ) Was recovered to obtain a film containing polyimide.

또한, 이와 같이 하여 얻어진 필름을 형성하는 화합물의 분자 구조를 동정하기 위하여, IR 측정기(니혼분코 가부시끼가이샤제, 상품명: FT/IR-4100)를 사용하여, IR 스펙트럼을 측정했다. 이러한 측정의 결과로서 IR 스펙트럼을 도 1에 도시한다. 도 1에 도시하는 결과로부터도 명백한 바와 같이, 실시예 1에 있어서 형성된 필름을 구성하는 화합물에는, 이미드카르보닐의 C=O 신축 진동이 1715.3㎝-1에서 관찰되었다. 이러한 결과 등에 기초하여 동정된 분자 구조로부터, 얻어진 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다.Further, in order to identify the molecular structure of the compound forming the thus obtained film, IR spectrum was measured using an IR measuring device (trade name: FT / IR-4100, manufactured by Nihon Bunko K.K.). The IR spectrum as a result of this measurement is shown in Fig. As apparent from the results shown in Fig. 1, in the compound constituting the film formed in Example 1, C = O stretching vibration of imidocarbonyl was observed at 1715.3 cm -1 . From the molecular structure identified based on these results and the like, it was confirmed that the obtained film contained polyimide.

이와 같이 하여 얻어진 폴리이미드는, 사용한 단량체의 종류나 그의 양비로부터, 상기 일반식 (1)로 표시되는 반복 단위에 상당하는 반복 단위(반복 단위 (A)에 상당하는 반복 단위)와, 상기 일반식 (2)로 표시되는 반복 단위에 상당하는 반복 단위(반복 단위 (B)에 상당하는 반복 단위)를 함유하는 것이 되며, 또한 이들 반복 단위의 함유 비율은 몰비([반복 단위 (A)에 상당하는 반복 단위]:[반복 단위 (B)에 상당하는 반복 단위])로 15:85가 된다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.The polyimide obtained in this way is a polymer obtained by polymerizing a repeating unit (repeating unit corresponding to the repeating unit (A)) corresponding to the repeating unit represented by the general formula (1) and a repeating unit (The repeating unit corresponding to the repeating unit (B)) corresponding to the repeating unit represented by the formula (2), and the content ratio of these repeating units is such that the molar ratio Repeating unit]: [repeating unit corresponding to repeating unit (B)]) is 15:85. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

(실시예 2)(Example 2)

테트라카르복실산 이무수물로서, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하는 대신, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 1.1534g(3.00mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.6172g(12.00mmol)의 혼합물을 사용하며, 또한(2.75 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 2.7810 g (12.75 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) as the tetracarboxylic dianhydride, Instead of using a mixture of 1.1534 g (3.00 mmol) of the compound (CpODA) represented by the above general formula (13) and 2.6172 g (12.00 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) Mixture, and also

테트라메틸우레아(TMU)의 사용량을 33.8g으로부터 34.30g(반응액 중의 폴리아미드산의 농도가 20mass%가 되는 양)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Except that the amount of tetramethylurea (TMU) used was changed from 33.8 g to 34.30 g (the amount of the polyamic acid in the reaction liquid became 20 mass%), a thin film containing polyimide Polyimide film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

또한, 얻어진 폴리이미드는, 사용한 단량체의 종류나 그의 양비로부터, 상기 일반식 (1)로 표시되는 반복 단위에 상당하는 반복 단위(반복 단위 (A)에 상당하는 반복 단위)와, 상기 일반식 (2)로 표시되는 반복 단위에 상당하는 반복 단위(반복 단위 (B)에 상당하는 반복 단위)를 함유하는 것이 되며, 또한 이들 반복 단위의 함유 비율은 몰비([반복 단위 (A)에 상당하는 반복 단위]:[반복 단위 (B)에 상당하는 반복 단위])로 20:80이 된다.The obtained polyimide can be obtained by using the kind of the monomers used or the ratio thereof and the number of repeating units (repeating units corresponding to the repeating units (A)) corresponding to the repeating units represented by the general formula (1) (The repeating unit corresponding to the repeating unit (B)) corresponding to the repeating unit represented by the formula (2), and the content ratio of these repeating units is a mole ratio Unit]: [repeating unit corresponding to repeating unit (B)]) is 20:80.

(실시예 3)(Example 3)

테트라카르복실산 이무수물로서, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하는 대신, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.5766g(1.50mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.9446g(13.50mmol)의 혼합물을 사용하며, 또한(2.75 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 2.7810 g (12.75 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) as the tetracarboxylic dianhydride, (1.50 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 2.9446 g (13.50 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) Mixture, and also

테트라메틸우레아(TMU)의 사용량을 33.8g으로부터 33.30g(반응액 중의 폴리아미드산의 농도가 20mass%가 되는 양)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Except that the amount of tetramethylurea (TMU) used was changed from 33.8 g to 33.30 g (the amount of the polyamic acid in the reaction liquid became 20 mass%), a thin film containing polyimide Polyimide film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

또한, 얻어진 폴리이미드는, 사용한 단량체의 종류나 그의 양비로부터, 상기 일반식 (1)로 표시되는 반복 단위에 상당하는 반복 단위(반복 단위 (A)에 상당하는 반복 단위)와, 상기 일반식 (2)로 표시되는 반복 단위에 상당하는 반복 단위(반복 단위 (B)에 상당하는 반복 단위)를 함유하는 것이 되며, 또한 이들 반복 단위의 함유 비율은 몰비([반복 단위 (A)에 상당하는 반복 단위]:[반복 단위 (B)에 상당하는 반복 단위])로 10:90이 된다.The obtained polyimide can be obtained by using the kind of the monomers used or the ratio thereof and the number of repeating units (repeating units corresponding to the repeating units (A)) corresponding to the repeating units represented by the general formula (1) (The repeating unit corresponding to the repeating unit (B)) corresponding to the repeating unit represented by the formula (2), and the content ratio of these repeating units is a mole ratio Unit]: [repeating unit corresponding to repeating unit (B)]) is 10:90.

(실시예 4)(Example 4)

테트라카르복실산 이무수물로서, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하는 대신, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 1.7297g(4.50mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.2903g(10.50mmol)의 혼합물을 사용하여 반응액 중의 폴리아미드산 농도가 20mass%가 되는 양의 TMU를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.(2.75 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 2.7810 g (12.75 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) as the tetracarboxylic dianhydride, (4.50 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 2.2903 g (10.50 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) (Polyimide film) containing polyimide was obtained in the same manner as in Example 1, except that TMU in an amount such that the concentration of polyamic acid in the reaction liquid became 20 mass% was used. Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

또한, 얻어진 폴리이미드는, 사용한 단량체의 종류나 그의 양비로부터, 상기 일반식 (1)로 표시되는 반복 단위에 상당하는 반복 단위(반복 단위 (A)에 상당하는 반복 단위)와, 상기 일반식 (2)로 표시되는 반복 단위에 상당하는 반복 단위(반복 단위 (B)에 상당하는 반복 단위)를 함유하는 것이 되며, 또한 이들 반복 단위의 함유 비율은 몰비([반복 단위 (A)에 상당하는 반복 단위]:[반복 단위 (B)에 상당하는 반복 단위])로 30:70이 된다.The obtained polyimide can be obtained by using the kind of the monomers used or the ratio thereof and the number of repeating units (repeating units corresponding to the repeating units (A)) corresponding to the repeating units represented by the general formula (1) (The repeating unit corresponding to the repeating unit (B)) corresponding to the repeating unit represented by the formula (2), and the content ratio of these repeating units is a mole ratio Unit]: [repeating unit corresponding to repeating unit (B)]) is 30:70.

(실시예 5)(Example 5)

폴리이미드를 포함하는 필름의 제조 공정의 공정 (ⅱ)에 있어서 채용하는 최종 가열 온도 조건을 350℃로부터 300℃로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Except that the final heating temperature condition adopted in the step (ii) of the production process of the film containing polyimide was changed from 350 占 폚 to 300 占 폚, a thin film containing polyimide (polyimide Film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

(실시예 6)(Example 6)

폴리이미드를 포함하는 필름의 제조 공정의 공정 (i)에 사용하는 반응액(폴리아미드산 용액)을, 폴리아미드산의 제조 공정을 실시하여 얻어진 반응액 42.25g(폴리아미드산 20mass% 용액)에 하기 일반식 (15):(Polyamic acid solution) used in the step (i) of the production process of the polyimide-containing film was mixed with 42.25 g (20 mass% solution of polyamic acid) of the reaction solution obtained by performing the production process of polyamic acid (15): &lt; EMI ID =

Figure pat00017
Figure pat00017

로 표시되는 이미다졸계 화합물을 포함하는 촉진제(도쿄 오까 고교 가부시끼가이샤제)를 0.8450g(폴리아미드산 용액 중의 고형분(폴리아미드산) 100질량부에 대하여 10질량부가 되는 양) 용해시켜 얻어지는 용해액(상기 촉진제를 첨가한 반응액(폴리아미드산 용액))으로 변경하고,0.8 parts by weight of an accelerator (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo K.K.) containing an imidazole-based compound represented by the following formula (1) in an amount of 10 parts by weight based on 100 parts by weight of a solid component (polyamic acid) in a polyamic acid solution) (Reaction solution (polyamic acid solution) to which the above promoter was added)

또한, 폴리이미드를 포함하는 필름의 제조 공정의 공정 (ⅱ)에 있어서 채용하는 최종 가열 온도 조건을 350℃로부터 300℃로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Further, in the same manner as in Example 1 except that the final heating temperature condition employed in the step (ii) of the production process of the film containing polyimide was changed from 350 캜 to 300 캜, a thin film containing polyimide Polyimide film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

(실시예 7)(Example 7)

폴리이미드를 포함하는 필름의 제조 공정의 공정 (i)에 사용하는 반응액(폴리아미드산 용액)을, 폴리아미드산의 제조 공정을 실시하여 얻어진 반응액 42.25g(폴리아미드산 20mass% 용액)에 상기 일반식 (15)로 표시되는 이미다졸계 화합물을 포함하는 촉진제(도쿄 오까 고교 가부시끼가이샤제)를 0.8450g(폴리아미드산 용액 중의 고형분(폴리아미드산) 100질량부에 대하여 10질량부가 되는 양) 용해시켜 얻어지는 용해액(상기 촉진제를 첨가한 반응액(폴리아미드산 용액))으로 변경하고,(Polyamic acid solution) used in the step (i) of the production process of the polyimide-containing film was mixed with 42.25 g (20 mass% solution of polyamic acid) of the reaction solution obtained by performing the production process of polyamic acid 0.8450 g of an accelerator (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) containing an imidazole-based compound represented by the above general formula (15) (10 parts by mass to 100 parts by mass of a solid component (polyamic acid) in a polyamic acid solution (Polyamic acid solution) added with the above-mentioned accelerator,

폴리이미드를 포함하는 필름의 제조 공정의 공정 (ⅱ)에 있어서 채용하는 최종 가열 온도 조건을 소성 온도를 350℃로부터 300℃로 변경하고,The final heating temperature condition employed in the step (ii) of the production process of the film containing polyimide was changed from 350 캜 to 300 캜,

또한, 폴리이미드를 포함하는 필름의 제조 공정의 공정 (ⅱ)에 있어서 채용하는 분위기 가스를 질소부터 공기로 변경한(이너트 오븐 내에 흐르게 하는 가스를 질소부터 공기로 변경하고, 공기 중에 있어서 가열 공정을 실시한) 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Further, in the step (ii) of the production process of a film containing polyimide, the atmosphere gas used is changed from nitrogen to air (the gas flowing in the inner oven is changed from nitrogen to air, , A thin film (polyimide film) containing polyimide was obtained in the same manner as in Example 1. Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

(실시예 8)(Example 8)

방향족 디아민으로서, 상기 일반식 (14)로 표시되는 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 4.8035g(15.00mmol: 세이카 가부시끼가이샤제)을 단독으로 사용하는 대신, 상기 일반식 (14)로 표시되는 화합물(TFMB) 4.7074g(14.7mmol)과 아미노 변성 실리콘 오일(신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤제의 상품명 「X-22-9409」) 0.4020g(0.3mmol 상당)의 혼합물을 사용하고,Instead of using 4.8035 g (15.00 mmol: manufactured by Seika Kagaku Co., Ltd.) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) represented by the above general formula (14) as an aromatic diamine alone, 4.7074 g (14.7 mmol) of the compound (TFMB) represented by the formula (14) and 0.4020 g (corresponding to 0.3 mmol) of an amino-modified silicone oil (trade name "X-22-9409" available from Shin-Etsu Chemical Co., The mixture was used,

테트라메틸우레아(TMU)의 사용량을 33.8g으로부터 35.02g(반응액 중의 폴리아미드산의 농도가 20mass%가 되는 양)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Except that the amount of tetramethylurea (TMU) used was changed from 33.8 g to 35.02 g (the amount of the polyamic acid in the reaction liquid became 20 mass%), a thin film containing polyimide Polyimide film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

또한, 얻어진 폴리이미드는, 사용한 단량체의 종류나 그의 양비로부터, 상기 일반식 (1)로 표시되는 반복 단위에 상당하는 반복 단위(반복 단위 (A)에 상당하는 반복 단위)와, 상기 일반식 (2)로 표시되는 반복 단위에 상당하는 반복 단위(반복 단위 (B)에 상당하는 반복 단위)를 함유하는 것이 되며, 또한 이들 반복 단위의 함유 비율은 몰비([반복 단위 (A)에 상당하는 반복 단위]:[반복 단위 (B)에 상당하는 반복 단위])로 15:85가 된다.The obtained polyimide can be obtained by using the kind of the monomers used or the ratio thereof and the number of repeating units (repeating units corresponding to the repeating units (A)) corresponding to the repeating units represented by the general formula (1) (The repeating unit corresponding to the repeating unit (B)) corresponding to the repeating unit represented by the formula (2), and the content ratio of these repeating units is a mole ratio Unit]: [repeating unit corresponding to repeating unit (B)]) is 15:85.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

테트라카르복실산 이무수물로서, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하는 대신, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 2.3063g(6.00mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 1.9631g(9.00mmol)의 혼합물을 사용하며, 또한(2.75 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 2.7810 g (12.75 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) as the tetracarboxylic dianhydride, (6.00 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 1.9631 g (9.00 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) Mixture, and also

테트라메틸우레아(TMU)의 사용량을 33.8g으로부터 36.3g(반응액 중의 폴리아미드산의 농도가 20mass%가 되는 양)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Except that the amount of tetramethylurea (TMU) used was changed from 33.8 g to 36.3 g (the amount of the polyamic acid in the reaction liquid was 20 mass%), a thin film containing polyimide Polyimide film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

또한, 얻어진 폴리이미드는, 사용한 단량체의 종류나 그의 양비로부터, 상기 일반식 (1)로 표시되는 반복 단위에 상당하는 반복 단위(반복 단위 (A)에 상당하는 반복 단위)와, 상기 일반식 (2)로 표시되는 반복 단위에 상당하는 반복 단위(반복 단위 (B)에 상당하는 반복 단위)를 함유하는 것이 되며, 또한 이들 반복 단위의 함유 비율은 몰비([반복 단위 (A)에 상당하는 반복 단위]:[반복 단위 (B)에 상당하는 반복 단위])로 40:60이 된다.The obtained polyimide can be obtained by using the kind of the monomers used or the ratio thereof and the number of repeating units (repeating units corresponding to the repeating units (A)) corresponding to the repeating units represented by the general formula (1) (The repeating unit corresponding to the repeating unit (B)) corresponding to the repeating unit represented by the formula (2), and the content ratio of these repeating units is a mole ratio Unit]: [repeating unit corresponding to repeating unit (B)]) is 40:60.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

테트라카르복실산 이무수물로서, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하는 대신, 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 3.2718g(15.00mmol)을 단독으로 사용하며, 또한(2.75 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 2.7810 g (12.75 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) as the tetracarboxylic dianhydride, , 3.2718 g (15.00 mmol) of pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the above-mentioned general formula (11) was used alone,

테트라메틸우레아(TMU)의 사용량을 33.8g으로부터 32.3g(반응액 중의 폴리아미드산의 농도가 20mass%가 되는 양)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다. 또한, 얻어진 폴리이미드는, 사용한 단량체의 종류나 그의 양비로부터, 상기 일반식 (2)로 표시되는 반복 단위에 상당하는 반복 단위(반복 단위 (B)에 상당하는 반복 단위)의 함유 비율이 100몰%의 것이 된다.Except that the amount of tetramethylurea (TMU) used was changed from 33.8 g to 32.3 g (the amount of the polyamic acid in the reaction liquid was 20 mass%), a thin film containing polyimide Polyimide film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1. The content of the repeating unit (repeating unit corresponding to the repeating unit (B)) corresponding to the repeating unit represented by the above-mentioned general formula (2) is 100 moles %.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

테트라카르복실산 이무수물로서, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하는 대신, 하기 일반식 (16):(2.75 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 2.7810 g (12.75 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) as the tetracarboxylic dianhydride, Instead of using a mixture of the following general formula (16):

Figure pat00018
Figure pat00018

으로 표시되는 화합물(4,4'-비프탈산 무수물: BPDA: 도쿄 가세이 고교 가부시키가이샤제) 4.4133g(15.00mmol)을 단독으로 사용하며, 또한4.4133 g (15.00 mmol) of a compound (4,4'-biphthalic anhydride: BPDA: manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) represented by the following formula

테트라메틸우레아(TMU)의 사용량을 33.8g으로부터 36.9g(반응액 중의 폴리아미드산의 농도가 20mass%가 되는 양)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Except that the amount of tetramethylurea (TMU) used was changed from 33.8 g to 36.9 g (the amount of the polyamic acid in the reaction liquid became 20 mass%), a thin film containing polyimide Polyimide film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

테트라카르복실산 이무수물로서, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하는 대신, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과, 상기 일반식 (16)으로 표시되는 화합물(4,4'-비프탈산 무수물: BPDA: 도쿄 가세이 고교 가부시끼가이샤제) 3.7513g(12.75mmol)의 혼합물(CpODA와 BPDA의 몰비(CpODA:BPDA)는 15:85)을 사용하고,(2.75 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 2.7810 g (12.75 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) as the tetracarboxylic dianhydride, , 0.8650 g (2.25 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 4,4'-biphthalic anhydride (BPDA: (CpODA: BPDA = 15:85) of 3.7513 g (12.75 mmol) of CpODA and BPDA (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.)

테트라메틸우레아(TMU)의 사용량을 33.8g으로부터 37.7g(반응액 중의 폴리아미드산의 농도가 20mass%가 되는 양)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Except that the amount of tetramethylurea (TMU) used was changed from 33.8 g to 37.7 g (the amount of the polyamic acid in the reaction liquid became 20 mass%), a thin film containing polyimide Polyimide film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

(비교예 5)(Comparative Example 5)

테트라카르복실산 이무수물로서, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하는 대신, 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 3.2718g(15.00mmol)을 단독으로 사용하고, 방향족 디아민으로서, 상기 일반식 (14)로 표시되는 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 4.8035g(15.00mmol: 세이카 가부시끼가이샤제)을 사용하는 대신, 하기 일반식 (17):(2.75 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 2.7810 g (12.75 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) as the tetracarboxylic dianhydride, , 3.2718 g (15.00 mmol) of pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the above-mentioned general formula (11) was used alone and the aromatic diamine represented by the general formula (14) Instead of using 4.8035 g (15.00 mmol: manufactured by Seika Chemical Co., Ltd.) of 2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB)

Figure pat00019
Figure pat00019

로 표시되는 화합물(m-톨리딘: m-Tol: 도쿄 가세이 고교 가부시끼가이샤제) 3.1844g(15.00mmol)을 사용하며, 또한, 3.1844 g (15.00 mmol) of a compound represented by the following formula (m-tolidine: m-Tol: manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.)

테트라메틸우레아(TMU)의 사용량을 33.8g으로부터 25.8g(반응액 중의 폴리아미드산의 농도가 20mass%가 되는 양)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Except that the amount of tetramethylurea (TMU) used was changed from 33.8 g to 25.8 g (the amount of the polyamic acid in the reaction liquid became 20 mass%), a thin film containing polyimide Polyimide film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

(비교예 6)(Comparative Example 6)

테트라카르복실산 이무수물로서, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하는 대신 상기 일반식 (16)으로 표시되는 화합물(4,4'-비프탈산 무수물: BPDA: 도쿄 가세이 고교 가부시끼가이샤제) 4.4133g(15.00mmol)을 단독으로 사용하고,(2.75 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 2.7810 g (12.75 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) as the tetracarboxylic dianhydride, , 4.4133 g (15.00 mmol) of the compound represented by the above general formula (16) (4,4'-biphthalic anhydride: BPDA: manufactured by TOKYO KASEI KOGYO CO., LTD.) Was used alone,

방향족 디아민으로서, 상기 일반식 (14)로 표시되는 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 4.8035g(15.00mmol: 세이카 가부시끼가이샤제)을 사용하는 대신, 상기 일반식 (17)로 표시되는 화합물(m-Tol) 3.1844g(15.00mmol)을 사용하며, 또한Instead of using 4.8035 g (15.00 mmol: manufactured by Seika Chemical Co., Ltd.) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) represented by the above general formula (14) as an aromatic diamine, 3.1844 g (15.00 mmol) of the compound (m-Tol) represented by the formula (17)

테트라메틸우레아(TMU)의 사용량을 33.8g으로부터 30.4g(반응액 중의 폴리아미드산의 농도가 20mass%가 되는 양)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Except that the amount of tetramethylurea (TMU) used was changed from 33.8 g to 30.4 g (the amount of the polyamic acid in the reaction liquid became 20 mass%), a thin film containing polyimide Polyimide film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

(비교예 7)(Comparative Example 7)

테트라카르복실산 이무수물로서, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하는 대신, 하기 일반식 (18):(2.75 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 2.7810 g (12.75 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) as the tetracarboxylic dianhydride, (18): &lt; EMI ID =

Figure pat00020
Figure pat00020

로 표시되는 화합물(1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 이무수물: CHDA) 0.5044g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하며, 또한(2.25 mmol) of a compound (1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride: CHDA) represented by the general formula (11) and 2.7810 g of pyromellitic anhydride (PMDA) 12.75 mmol), and

테트라메틸우레아(TMU)의 사용량을 33.8g으로부터 32.4g(반응액 중의 폴리아미드산의 농도가 20mass%가 되는 양)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Except that the amount of tetramethylurea (TMU) used was changed from 33.8 g to 32.4 g (the amount of the polyamic acid in the reaction liquid was 20% by mass), a thin film containing polyimide Polyimide film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

(비교예 8)(Comparative Example 8)

테트라카르복실산 이무수물로서, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하는 대신, 하기 일반식 (19):(2.75 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 2.7810 g (12.75 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) as the tetracarboxylic dianhydride, (19): &lt; EMI ID =

Figure pat00021
Figure pat00021

로 표시되는 화합물(1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르복실산 이무수물: CPDA) 0.4728g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하며, 또한, 0.4728 g (2.25 mmol) of a compound (1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride: CPDA) represented by the general formula (11) and 2.7810 g of pyromellitic anhydride (PMDA) 12.75 mmol), and

테트라메틸우레아(TMU)의 사용량을 33.8g으로부터 32.2g(반응액 중의 폴리아미드산의 농도가 20mass%가 되는 양)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Except that the amount of tetramethylurea (TMU) used was changed from 33.8 g to 32.2 g (the amount of the polyamic acid in the reaction liquid was 20 mass%), a thin film containing polyimide Polyimide film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

(비교예 9)(Comparative Example 9)

테트라카르복실산 이무수물로서, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하는 대신, 하기 일반식 (20):(2.75 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 2.7810 g (12.75 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) as the tetracarboxylic dianhydride, (20): &lt; EMI ID =

Figure pat00022
Figure pat00022

으로 표시되는 화합물(1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물: CBDA) 0.4412g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하며, 또한(2.25 mmol) of a compound (1,2,3,4-cyclobutane tetracarboxylic acid dianhydride: CBDA) represented by the general formula (11) and 2.7810 g of pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) 12.75 mmol), and

테트라메틸우레아(TMU)의 사용량을 33.8g으로부터 32.1g(반응액 중의 폴리아미드산의 농도가 20mass%가 되는 양)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Except that the amount of tetramethylurea (TMU) used was changed from 33.8 g to 32.1 g (the amount of the polyamic acid in the reaction liquid was 20% by mass), a thin film containing polyimide Polyimide film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

(비교예 10)(Comparative Example 10)

방향족 디아민으로서, 상기 일반식 (14)로 표시되는 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 4.8035g(15.00mmol: 세이카 가부시끼가이샤제)을 사용하는 대신, 상기 일반식 (17)로 표시되는 화합물(m-Tol) 3.1844g(15.00mmol)을 사용하며, 또한Instead of using 4.8035 g (15.00 mmol: manufactured by Seika Chemical Co., Ltd.) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) represented by the above general formula (14) as an aromatic diamine, 3.1844 g (15.00 mmol) of the compound (m-Tol) represented by the formula (17)

테트라메틸우레아(TMU)의 사용량을 33.8g으로부터 27.3g(반응액 중의 폴리아미드산의 농도가 20mass%가 되는 양)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Except that the amount of tetramethylurea (TMU) used was changed from 33.8 g to 27.3 g (the amount of the polyamic acid in the reaction liquid was 20 mass%), a thin film containing polyimide Polyimide film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

(비교예 11)(Comparative Example 11)

테트라카르복실산 이무수물로서, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과 상기 일반식 (11)로 표시되는 피로멜리트산 무수물(PMDA) 2.7810g(12.75mmol)의 혼합물을 사용하는 대신, 상기 일반식 (13)으로 표시되는 화합물(CpODA) 0.8650g(2.25mmol)과, 상기 일반식 (16)으로 표시되는 화합물(4,4'-비프탈산 무수물: BPDA: 도쿄 가세이 고교 가부시끼가이샤제) 3.7513g(12.75mmol)의 혼합물(CpODA와 BPDA의 몰비(CpODA:BPDA)는 15:85)을 사용하고,(2.75 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 2.7810 g (12.75 mmol) of the pyromellitic anhydride (PMDA) represented by the general formula (11) as the tetracarboxylic dianhydride, , 0.8650 g (2.25 mmol) of the compound (CpODA) represented by the general formula (13) and 4,4'-biphthalic anhydride (BPDA: (CpODA: BPDA = 15:85) of 3.7513 g (12.75 mmol) of CpODA and BPDA (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.)

방향족 디아민으로서, 상기 일반식 (14)로 표시되는 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 4.8035g(15.00mmol: 세이카 가부시끼가이샤제)을 사용하는 대신, 상기 일반식 (17)로 표시되는 화합물(m-Tol) 3.1844g(15.00mmol)을 사용하며, 또한Instead of using 4.8035 g (15.00 mmol: manufactured by Seika Chemical Co., Ltd.) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) represented by the above general formula (14) as an aromatic diamine, 3.1844 g (15.00 mmol) of the compound (m-Tol) represented by the formula (17)

테트라메틸우레아(TMU)의 사용량을 33.8g으로부터 31.2g(반응액 중의 폴리아미드산의 농도가 20mass%가 되는 양)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 폴리이미드를 포함하는 박막(폴리이미드 필름)을 얻었다. 또한, 얻어진 필름에 관하여 IR 스펙트럼을 측정한바, 이러한 필름은 폴리이미드를 포함하는 것임이 확인되었다. 또한, 얻어진 폴리이미드에 관한 것이며, 특성의 평가 결과(상술한 특성의 평가 방법에 의해 구한 Tg나 연화 온도 등)를 표 1에 나타낸다.Except that the amount of tetramethylurea (TMU) used was changed from 33.8 g to 31.2 g (the amount of the polyamic acid in the reaction liquid was 20 mass%), a thin film containing polyimide Polyimide film). Further, the IR spectrum of the obtained film was measured, and it was confirmed that such a film contains polyimide. The evaluation results of properties (Tg and softening temperature obtained by the above evaluation method of properties, etc.) are shown in Table 1.

Figure pat00023
Figure pat00023

표 1에 나타내는 결과로부터도 명백한 바와 같이, 본 발명의 폴리이미드(실시예 1 내지 8)를 포함하는 필름은 모두, 전체 광선 투과율이 85% 이상으로 되어 있어, 투명성이 충분히 높은 것임을 알 수 있다. 또한, 본 발명의 폴리이미드(실시예 1 내지 8)를 포함하는 필름은 모두 황색도(YI)가 16 이하(질소 분위기 하에서 가열하여 얻어진 폴리이미드(실시예 1 내지 6 및 8)를 포함하는 필름에서는 11 이하)로 되어 있음과 함께, CTE가 -20ppm/K 내지 20ppm/K로 되어 있었다. 이와 같이, 본 발명의 폴리이미드(실시예 1 내지 8)를 포함하는 필름은 모두 시인성이 요구되는 용도에 이용 가능할 정도의 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도를 가짐과 함께, 유리나 구리 등의 무기물과 동등 정도의 선팽창 계수를 갖고 있음이 확인되었다. 즉, 본 발명의 폴리이미드(실시예 1 내지 8)를 포함하는 필름은 모두 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 보다 고도의 수준으로 골고루 갖는 것임이 확인되었다. 또한, 표 1에 나타내는 결과로부터도 명백한 바와 같이, 본 발명의 폴리이미드(실시예 1 내지 8)는, 300℃ 이상의 Tg, 300℃ 이상의 연화 온도(연화점), 400℃ 이상(바람직하게는 450℃ 이상)의 Td 5%를 갖고 있으며, 충분히 높은 수준의 내열성을 갖는 것임도 알 수 있다. 또한, 본 발명의 폴리이미드(실시예 1 내지 8)는, 헤이즈(탁도: HAZE)가 모두 5 이하인 값(1.1 이하의 값)이며, 헤이즈가 충분히 낮은 것임도 알 수 있다.As is evident from the results shown in Table 1, all of the films comprising the polyimide of the present invention (Examples 1 to 8) have a total light transmittance of 85% or more, indicating that the transparency is sufficiently high. The films including the polyimides of the present invention (Examples 1 to 8) were all films having a yellowness index (YI) of 16 or less (Examples 1 to 6 and 8 obtained by heating in a nitrogen atmosphere) 11 or less), and the CTE was -20 ppm / K to 20 ppm / K. As described above, the films including the polyimides of the present invention (Examples 1 to 8) all have a sufficiently high total light transmittance and a sufficiently low yellowing degree to such an extent that they can be used for applications requiring visibility, It has been confirmed that it has the same coefficient of linear expansion as that of the inorganic material of. That is, it has been confirmed that the films comprising the polyimides of the present invention (Examples 1 to 8) all have a sufficiently high total light transmittance, a sufficiently low yellow color and a sufficiently low coefficient of linear expansion to a higher level. As apparent from the results shown in Table 1, the polyimide of the present invention (Examples 1 to 8) has Tg of 300 DEG C or higher, softening temperature of 300 DEG C or higher (softening point), 400 DEG C or higher Or more) and has a sufficiently high level of heat resistance. It is also seen that the polyimides of the present invention (Examples 1 to 8) have a haze (turbidity: HAZE) of 5 or less (a value of 1.1 or less) and a sufficiently low haze.

이에 반하여, 비교예 1 내지 2에서 얻어진 폴리이미드는, 선팽창 계수가 20ppm/K를 초과하는 높은 값으로 되어 있어, 충분히 낮은 선팽창 계수를 갖는 것으로는 되지 않았다. 또한, 비교예 2에서 얻어진 폴리이미드는 전체 광선 투과율도 83.0보다도 작은 값으로 되어 있으며, 본 발명의 폴리이미드로 달성되고 있는 매우 고도의 수준의 광의 투과성(전체 광선 투과율이 바람직하게는 83.0 이상, 보다 바람직하게는 85.0 이상으로 되는 투과성)까지는 갖고 있지 않음도 알 수 있다.On the other hand, the polyimides obtained in Comparative Examples 1 and 2 had a high coefficient of linear expansion exceeding 20 ppm / K, and did not have a sufficiently low linear expansion coefficient. The polyimide obtained in Comparative Example 2 has a total light transmittance of less than 83.0, and has a very high level of light transmittance (the total light transmittance is preferably not less than 83.0, Permeability of not less than 85.0, preferably not less than 85.0).

이러한 결과와, 실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 2에서 얻어진 폴리이미드의 구조(비교예 1에서 얻어진 폴리이미드가 상기 반복 단위 (A) 및 (B)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (A)의 함유량이 40몰%이며, 비교예 2에서 얻어진 폴리이미드가 상기 반복 단위 (B)의 함유량이 100몰%이다(상기 반복 단위 (A)의 함유량이 0몰%이다))를 아울러 감안하면, 상기 반복 단위 (A) 및 (B)를 함유하며 또한 상기 반복 단위 (A) 및 (B)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (A)의 비율이 5 내지 35몰%가 되는 폴리이미드에 의해, 충분히 고도의 전체 광선 투과율(바람직하게는 83.0 이상, 보다 바람직하게는 85.0 이상의 전체 광선 투과율)과 충분히 낮은 황색도(바람직하게는 16 이하의 YI)와 충분히 낮은 선팽창 계수(바람직하게는 -20ppm/K 내지 20ppm/K의 범위의 CTE)를 보다 고도의 수준으로 골고루 갖는 것으로 됨을 알 수 있다.These results and the structure of the polyimide obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2 (in which the polyimide obtained in Comparative Example 1 contains the repeating unit (A) relative to the total amount of the repeating units (A) and (B) And the content of the repeating unit (B) is 100 mol% (the content of the repeating unit (A) is 0 mol%)), and the polyimide obtained in Comparative Example 2, The polyimide containing the repeating units (A) and (B) and having the proportion of the repeating unit (A) relative to the total amount of the repeating units (A) and (B) is 5 to 35 mol% (Preferably, a total light transmittance of not less than 83.0, more preferably not less than 85.0) and a sufficiently low yellowness (preferably YI of not more than 16) and a sufficiently low coefficient of linear expansion (preferably -20 ppm / CTE in the range of 20 ppm / K) to a higher level It can be seen that as having base.

또한, 실시예 1과 대비하여, 테트라카르복실산 이무수물의 혼합물에 있어서, PMDA(방향족계 테트라카르복실산 이무수물) 대신 BPDA(방향족계 테트라카르복실산 이무수물)를 사용한 경우(비교예 4)에는, 전체 광선 투과율을 충분히 고도의 것으로 할 수 없을 뿐만 아니라, YI의 값이 18.2로 되어 있어, 황색도를 충분히 낮은 값으로 할 수도 없었다. 또한, BPDA(방향족계 테트라카르복실산 이무수물)를 사용한 경우(비교예 4)에는, 선팽창 계수도 60.7ppm/K로 되어 있어, 선팽창 계수를 충분히 낮은 값으로 할 수도 없었다. 이와 같이, 테트라카르복실산 이무수물의 혼합물에 있어서, PMDA(방향족계 테트라카르복실산 이무수물) 대신 BPDA(방향족계 테트라카르복실산 이무수물)를 사용한 경우(비교예 4)에는, 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 달성할 수 없음을 알 수 있다. 또한, 테트라카르복실산 이무수물을 BPDA만으로 한 경우(비교예 3)와 대비해도, 테트라카르복실산 이무수물을 BPDA와 CpODA의 혼합물로 한 경우(비교예 4)에는 황색도(YI)의 값이 상승되어 있는 점에서, CpODA와 조합하는 방향족계의 테트라카르복실산 이무수물의 종류가 PMDA 이외인 경우에는, 반드시 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 보다 고도의 수준으로 골고루 갖는 것으로 할 수는 없음을 알 수 있다.Further, as compared with Example 1, in the case of using BPDA (aromatic tetracarboxylic acid dianhydride) instead of PMDA (aromatic tetracarboxylic acid dianhydride) in the mixture of tetracarboxylic dianhydride (Comparative Example 4) , The total light transmittance could not be made sufficiently high, and the value of YI was 18.2, so that the yellowness could not be made sufficiently low. In addition, in the case of using BPDA (aromatic tetracarboxylic acid dianhydride) (Comparative Example 4), the linear expansion coefficient was 60.7 ppm / K, and the coefficient of linear expansion could not be made sufficiently low. Thus, in the case of using BPDA (aromatic tetracarboxylic acid dianhydride) instead of PMDA (aromatic tetracarboxylic dianhydride) in the mixture of tetracarboxylic dianhydride (Comparative Example 4), the sufficiently low yellow color It can be understood that a sufficiently low coefficient of linear expansion can not be achieved. In contrast to the case where the tetracarboxylic acid dianhydride was solely composed of BPDA (Comparative Example 3), when the tetracarboxylic dianhydride was a mixture of BPDA and CpODA (Comparative Example 4), the value of the yellowness index (YI) When the kind of the aromatic tetracarboxylic dianhydride to be combined with CpODA is other than PMDA, it is necessary to sufficiently increase the total light transmittance, the sufficiently low yellow color and the sufficiently low linear expansion coefficient to a higher level It can be understood that it can not be equally distributed.

또한, 실시예 1과 대비하여, 테트라카르복실산 이무수물의 혼합물에 있어서, CpODA(지방족계의 테트라카르복실산 이무수물) 대신에 CHDA, CPDA 또는 CBDA(지방족계의 테트라카르복실산 이무수물)를 사용한 경우(CHDA: 비교예 7, CPDA: 비교예 8, CBDA: 비교예 9)에 있어서는, 전체 광선 투과율이 83% 미만으로 되어, 83% 이상의 충분히 고도의 수준의 전체 광선 투과율을 얻을 수 없음을 알 수 있다.Further, in contrast to Example 1, in the mixture of the tetracarboxylic dianhydride, CHDA, CPDA or CBDA (aliphatic tetracarboxylic dianhydride) was used instead of CpODA (aliphatic tetracarboxylic dianhydride) , The total light transmittance was less than 83% and the total light transmittance at a sufficiently high level of 83% or more could not be obtained in the case of using (CHDA: Comparative Example 7, CPDA: Comparative Example 8, CBDA: Comparative Example 9) Able to know.

또한, 실시예 1과 대비하여, 방향족 디아민으로서, 불소계의 치환기를 갖는 TFMB를 사용하는 대신 불소계의 치환기를 갖고 있지 않은 m-Tol을 이용한 경우(비교예 10)에는, YI의 값이 44.6으로 되어 있어, 황색도를 충분히 낮은 값(16 이하의 YI)으로 할 수 없었다. 또한 전체 광선 투과율의 값이 75.4%로 되어 있어, 83% 이상의 충분히 고도의 수준의 전체 광선 투과율을 얻을 수 없음을 알 수 있다. 마찬가지로, 방향족 산 이무수물로서, PMDA를 사용하는 대신 BPDA를 이용하고, 방향족 디아민으로서, 불소계의 치환기를 갖는 TFMB를 사용하는 대신 불소계의 치환기를 갖고 있지 않은 m-Tol을 이용한 경우(비교예 11)에는, YI의 값이 23.2로 되어 있어, 황색도를 충분히 낮은 값(16 이하의 YI)으로 할 수 없었다. 또한 전체 광선 투과율의 값이 79.6%로 되어 있어, 83% 이상의 충분히 고도의 수준의 전체 광선 투과율을 얻을 수 없음을 알 수 있다.Further, as compared with Example 1, in the case of using m-Tol having no fluorine-based substituent (Comparative Example 10) instead of using TFMB having a fluorine-based substituent as an aromatic diamine, the value of YI was 44.6 And the yellowness degree could not be made sufficiently low (YI of 16 or less). And the value of the total light transmittance is 75.4%, which means that the total light transmittance at a sufficiently high level of 83% or more can not be obtained. Likewise, in the case of using m-Tol having no fluorine-based substituent (Comparative Example 11) instead of using TFA in which BPDA was used instead of PMDA as an aromatic dianhydride and TFMB having a fluorine-based substituent was used as an aromatic diamine, , The value of YI was 23.2, and the yellowness value could not be made sufficiently low (YI of 16 or less). And the total light transmittance is 79.6%, which means that the total light transmittance at a sufficiently high level of 83% or more can not be obtained.

또한, 비교예 2와 비교예 5를 대비하면, 폴리이미드의 제조 시에 이용한 방향족 디아민의 종류가 상이한 것으로 되어 있지만, 그 방향족 디아민의 종류로부터 불소 함유 치환기(테트라플루오로메틸기)를 갖는 아릴렌기가 반복 단위에 도입되어 있는 경우(비교예 2)에, 폴리이미드의 황색도(YI)의 값이 보다 낮은 값으로 되어 있음을 확인할 수 있었다. 마찬가지로, 비교예 3과 비교예 6을 대비하면, 폴리이미드의 제조 시에 이용한 방향족 디아민의 종류가 상이한 것으로 되어 있지만, 그 방향족 디아민의 종류로부터, 불소 함유 치환기(테트라플루오로메틸기)를 갖는 아릴렌기가 반복 단위에 도입되어 있는 경우(비교예 3)에, 폴리이미드의 황색도(YI)의 값이 보다 낮은 값으로 되어 있음을 확인할 수 있었다. 또한, 비교예 4와 비교예 11을 대비하면, 폴리이미드의 제조 시에 이용한 방향족 디아민의 종류가 상이한 것으로 되어 있지만, 그 방향족 디아민의 종류로부터 불소 함유 치환기(테트라플루오로메틸기)를 갖는 아릴렌기가 반복 단위에 도입되어 있는 경우(비교예 4)에, 폴리이미드의 황색도(YI)의 값이 보다 낮은 값으로 되어 있음을 확인할 수 있었다.In contrast to Comparative Example 2 and Comparative Example 5, the types of aromatic diamines used in the production of the polyimide are different. From the kind of the aromatic diamine, an arylene group having a fluorine-containing substituent (tetrafluoromethyl group) It was confirmed that the value of yellowness (YI) of the polyimide was lower than that of the polyimide when it was introduced into the repeating unit (Comparative Example 2). Likewise, in comparison with Comparative Example 3 and Comparative Example 6, the types of aromatic diamines used in the production of the polyimide are different. From the kind of the aromatic diamine, it is possible to use arylene having a fluorine-containing substituent (tetrafluoromethyl group) It was confirmed that the value of yellowness (YI) of the polyimide was lower in the case where the group was introduced into the repeating unit (Comparative Example 3). In contrast to Comparative Example 4 and Comparative Example 11, the type of aromatic diamine used in the production of the polyimide is different. From the kind of the aromatic diamine, an arylene group having a fluorine-containing substituent (tetrafluoromethyl group) It was confirmed that the value of yellowness (YI) of the polyimide was lower than that of the polyimide when it was introduced into the repeating unit (Comparative Example 4).

이러한 방향족 디아민의 종류에 의한 효과의 차이(경향)와, 실시예 1 내지 4의 결과를 아울러 고려하면, 본원과 같이 상기 반복 단위 (A) 및 (B)를 함유하며, 또한 상기 반복 단위 (A) 및 (B)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (A)의 비율을 5 내지 35몰%로 한 폴리이미드에 의해, 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 보다 고도의 수준으로 골고루 갖는 것으로 됨을 알 수 있다.Considering the difference (tendency) of the effect due to the kind of aromatic diamine and the results of Examples 1 to 4, it is preferable that the composition contains the repeating units (A) and (B) ) And the proportion of the repeating unit (A) relative to the total amount of the repeating unit (A) and the repeating unit (B) is 5 to 35 mol%, a sufficiently high total light transmittance, a sufficiently low yellow color and a sufficiently low coefficient of linear expansion As shown in FIG.

또한, 실시예 7에서 얻어진 폴리이미드는, 가열 공정에서의 분위기 가스에 공기를 이용한 것 이외는 실시예 6과 마찬가지로 하여 얻어진 것이다(본 발명의 폴리아미드산을 이용하여 얻어진 것이다). 여기에 있어서, 일반적으로 지방족계의 산 이무수물을 이용하여 폴리이미드를 제조하는 경우이며 300℃ 정도의 고온에서의 가열(소성)이 필요한 경우, 공기 중이나 적어도 500ppm 이상(경우에 따라 1000ppm 이상)의 산소를 함유하는 활성 가스 분위기 하에서 폴리아미드산을 소성하여 폴리이미드를 제조하면, 산소산화에 의해, 폴리이미드가 노랗게 변색되거나, 산소산화에 의한 중합체 주쇄 절단에 수반하는 분자량 저하에 의해 취화되는 경향이 있음이 알려져 있다. 그로 인해, 통상 지방족계의 산 이무수물을 이용하여 투명성이 높은 폴리이미드를 제조하는 경우에는, 보다 고도의 시인성 등을 담보하기 위하여 불활성 가스 분위기 하(예를 들어 불활성 가스를 함유하며 또한 산소 농도가 100ppm 이하인 분위기 하)에 있어서 폴리아미드산을 소성하여 폴리이미드를 얻는 것이 일반적이다. 이에 반하여, 실시예 7에서 얻어진 본 발명의 폴리이미드는, 공기 중에서 폴리아미드산을 가열(소성)하여 얻어진 것임에도 불구하고, 전체 광선 투과율이 86% 이상으로 되어 매우 고도의 투명성을 가질 뿐만 아니라, 폴리이미드의 황색도(YI)가 16 이하로 되어 있음을 알 수 있다. 이러한 결과로부터, 본 발명의 폴리아미드산(실시예 1 내지 8)은, 제조 프로세스상, 공기 소성이 필요 불가결한 분야나, 제조 시나 사용 시에 고산소 농도 조건(예를 들어 산소 농도가 500ppm 이상으로 되는 조건) 및 산소가 발생하는 조건을 채용할 필요가 있는 분야 등의 제품에 이용하는 폴리이미드를 제조한 경우에 있어서도, 제조 후나 사용 시에 있어서도 폴리이미드를 충분한 시인성을 갖게 하는 것이 가능하여, 상술한 바와 같은 분야의 제품에 이용하는 폴리이미드의 제조에 특히 유용한 것이 명확해졌다. 또한, 실시예 7에서 얻어진 본 발명의 폴리이미드는, 선팽창 계수가 질소 중에서 소성을 행한 실시예 6이나 실시예 1과 동등 정도로 되어 있어(CTE: 1.2ppm/K), 질소 중에서 소성을 행한 것과 마찬가지로 충분히 낮은 선팽창 계수를 갖는 것임도 알 수 있다. 또한, 표 1에 나타내는 결과로부터, 실시예 7에서 얻어진 본 발명의 폴리이미드는, 공기 중에서 폴리아미드산을 가열(소성)하여 얻어진 것임에도 불구하고, 전술한 바와 같이 300℃ 이상의 Tg, 300℃ 이상의 연화 온도(연화점), 400℃ 이상(바람직하게는 450℃ 이상)의 Td 5%를 갖고 있으며, 충분히 높은 수준의 내열성을 갖는 것임도 알 수 있다.The polyimide obtained in Example 7 was obtained in the same manner as in Example 6 except that air was used as the atmosphere gas in the heating step (obtained by using the polyamic acid of the present invention). Here, in general, when polyimide is produced using an aliphatic acid dianhydride and heating (firing) at a high temperature of about 300 DEG C is required, it is preferable to use a polyimide having a weight of at least 500 ppm or more When a polyimide is produced by firing a polyamic acid in an atmosphere containing an oxygen, the polyimide tends to be discolored by oxygen oxidation or be brittle due to a decrease in molecular weight accompanied by the main chain cleavage of the polymer by oxygen oxidation Is known. Therefore, in the case of producing a polyimide having high transparency by using an aliphatic acid dianhydride, in order to ensure higher visibility and the like, an inert gas (for example, an inert gas containing an inert gas and having an oxygen concentration of In an atmosphere of 100 ppm or less), polyamide acid is generally fired to obtain polyimide. On the contrary, although the polyimide of the present invention obtained in Example 7 was obtained by heating (firing) the polyamic acid in the air, the total light transmittance was 86% or more and not only had a very high transparency, It can be seen that the yellowness index (YI) of the polyimide is 16 or less. From these results, it is found that the polyamic acid of the present invention (Examples 1 to 8) has a high oxygen concentration condition (for example, an oxygen concentration of 500 ppm or more In the case of producing a polyimide for use in a product such as a field in which it is necessary to adopt a condition in which oxygen is generated, and the like, it is possible to make the polyimide sufficiently visible even after the production or use, It has become clear that it is particularly useful for the production of polyimides for use in products in the same fields as the above. In addition, the polyimide of the present invention obtained in Example 7 has a coefficient of linear expansion equal to that of Example 6 or Example 1 in which firing is performed in nitrogen (CTE: 1.2 ppm / K) It can be seen that it has a sufficiently low coefficient of linear expansion. It is understood from the results shown in Table 1 that although the polyimide of the present invention obtained in Example 7 was obtained by heating (firing) the polyamic acid in the air, as described above, the Tg of 300 deg. It has a softening point (softening point) of 400 ° C or higher (preferably 450 ° C or higher) and a Td of 5%, and it has a sufficiently high level of heat resistance.

이러한 결과로부터, 본 발명의 폴리아미드산(실시예 1 내지 8)은, 가열(소성) 시의 분위기에 관계없이, 예를 들어 질소 분위기 하에서 소성한 경우(실시예 1 내지 6 및 8)에도 혹은 공기 중에서 소성한 경우(실시예 7)에도, 얻어지는 폴리이미드의 착색을 충분히 억제할 수 있어, 황색도의 상승을 충분히 억제하면서, 투명성이 높으며, 또한 선팽창 계수가 충분히 낮은 폴리이미드를 얻는 것이 가능함도 알 수 있다.From these results, it was found that the polyamic acid of the present invention (Examples 1 to 8) can be used even in the case of firing in a nitrogen atmosphere (Examples 1 to 6 and 8), regardless of the atmosphere during heating (firing) It is possible to sufficiently suppress the coloration of the obtained polyimide even when the polyimide is fired in air (Example 7), to obtain a polyimide having a high transparency and a sufficiently low coefficient of linear expansion while sufficiently suppressing an increase in yellowness Able to know.

<실시예 1 내지 8에서 얻어지는 폴리이미드 필름의 레이저 박리성에 대하여><Laser peelability of the polyimide films obtained in Examples 1 to 8>

폴리이미드를 포함하는 필름의 제조 공정에 있어서, 공정 (ⅲ)(필름의 회수 공정: 폴리이미드 코팅 유리를, 90℃의 끓인 물 속에 침지하여, 상기 유리 기판으로부터 폴리이미드 필름을 박리함으로써, 폴리이미드 필름을 얻는 공정)을 실시하지 않는 것 이외는, 각각 실시예 1 내지 8에 기재된 공정과 마찬가지의 공정을 채용하여, 폴리이미드 코팅 유리를 각각 제조했다. 이어서, 각 폴리이미드 코팅 유리에 레이저를 조사하여, 그 박리의 가부 등에 관한 측정을 행했다. 즉, 레이저 발진 장치로서 Light Machinery사제의 상품 「pm848(엑시머 레이저 XeCl, 308㎚, 최대 펄스 에너지 320mJ/㎠)」을 사용하여, 레이저의 조사 에너지 밀도를 50 내지 320mJ/㎠(낮은 에너지 밀도(50mJ/㎠)로부터, 박리가 확인될 때까지 에너지 밀도를 10mJ/㎠마다 순차적으로 올려 가, 박리가 확인되는 조사 에너지 밀도를 이용했다)로 하고, 펄스폭을 20 내지 30ns로 하고, 오버랩률(겹침률)을 50%로 하고, 레이저 반복 주파수(반복률)를 30㎐로 하고, 레이저광의 조사면 형상을 세로 14㎜, 가로 30㎜의 직사각형으로 하는 조건에서, 각 폴리이미드 코팅 유리에 대하여, 유리 기판측으로부터 레이저광을 조사하여, 폴리이미드를 포함하는 필름의 박리 가부(뉴턴 링이 보인 경우에 박리 가능하다고 판단한다)와, 착색의 유무, 샷 불균일의 유무를 눈으로 판단했다.In the process for producing a polyimide-containing film, the step (iii) (the recovery step of the film: the polyimide-coated glass is immersed in boiling water at 90 캜 and the polyimide film is peeled off from the glass substrate, Except that the step of obtaining a film was carried out in the same manner as in Examples 1 to 8, respectively. Then, each of the polyimide-coated glasses was irradiated with a laser, and measurements regarding the peeling and the like of the peeling were made. That is, the irradiation energy density of the laser was set to 50 to 320 mJ / cm 2 (low energy density (50 mJ / cm 2)) using a product "pm848 (excimer laser XeCl, 308 nm, maximum pulse energy 320 mJ / / Cm &lt; 2 &gt;), the energy density was gradually raised every 10 mJ / cm &lt; 2 &gt; until peeling was confirmed and the irradiation energy density at which the peeling was confirmed was used), the pulse width was set to 20 to 30 ns, Of the surface of the polyimide-coated glass was set to 50%, the laser repetition frequency (repetition rate) was set to 30 Hz, and the irradiation surface shape of the laser beam was set to be a rectangle of 14 mm long and 30 mm wide, (Judged to be peelable when Newton rings were seen), presence or absence of coloration, and presence or absence of shot unevenness were visually determined.

그 결과, 실시예 1 내지 8에 기재된 공정과 마찬가지의 공정을 채용하여 얻어진 폴리이미드 코팅 유리는 모두, 140mJ/㎠의 조사 에너지 밀도로 오버랩률(겹침률) 50%이고, 폴리이미드 필름에 착색이나 샷 불균일 없이 박리할 수 있음(뉴턴 링을 확인할 수 있음)을 알 수 있다. 이러한 결과로부터, 본 발명의 폴리이미드를 포함하는 필름은, 유리 위에 적층한 상태로 한 경우(유리 기판 위의 적층물로 한 경우)에, 레이저를 조사함으로써 품질의 변화를 충분히 억제하면서 박리하는 것이 가능함도 알 수 있다. 또한, 이러한 결과로부터, 유리 기판(소위 캐리어 기판 등) 위에 본 발명의 폴리이미드를 포함하는 필름을 적층한 후에, 그 필름 위에 박막 트랜지스터 등을 직접 실장하고, 소위 레이저 리프트 오프 가공에 의해 상기 유리 기판으로부터 폴리이미드를 포함하는 필름을 박리하는 것이 가능한 것은 명확하며, 본 발명의 폴리이미드를 포함하는 필름은, 박막 트랜지스터 등이 실장된 디스플레이 등을 제조하는 방법 등에 적합하게 응용 가능함도 알 수 있다.As a result, all of the polyimide-coated glasses obtained by employing the steps similar to those of Examples 1 to 8 were found to have an overlapping ratio (overlapping ratio) of 50% at an irradiation energy density of 140 mJ / It can be peeled off without shots (Newton ring can be confirmed). From these results, it was found that the film comprising the polyimide of the present invention was peeled while sufficiently suppressing the change in quality by irradiating a laser beam when the film was laminated on glass (in the case of a laminate on a glass substrate) It is also possible to know. From these results, it can be seen that a film including the polyimide of the present invention is laminated on a glass substrate (so-called carrier substrate or the like), and then a thin film transistor or the like is directly mounted on the film, It is also apparent that the film containing the polyimide of the present invention can be suitably applied to a method of manufacturing a display or the like on which a thin film transistor or the like is mounted.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 보다 고도의 수준으로 골고루 갖는 것을 가능하게 하는 폴리이미드, 그 폴리이미드를 효율적으로 형성하는 것을 가능하게 하는 폴리아미드산, 그 폴리아미드산의 용액 및 상기 폴리이미드를 포함하는 폴리이미드 필름을 제공하는 것이 가능해진다.INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, according to the present invention, it is possible to efficiently form a polyimide and a polyimide thereof, which makes it possible to uniformly obtain a sufficiently high total light transmittance, a sufficiently low yellow color and a sufficiently low coefficient of linear expansion to a higher level , A solution of the polyamic acid, and a polyimide film containing the polyimide.

이러한 본 발명의 폴리이미드는, 충분히 고도의 전체 광선 투과율과 충분히 낮은 황색도와 충분히 낮은 선팽창 계수를 보다 고도의 수준으로 골고루 갖는 것으로 되는 점에서, 예를 들어 플렉시블 배선 기판용 필름, 내열 절연 테이프, 전선 에나멜, 반도체의 보호 코팅제, 액정 배향막, 유기 EL(유기 일렉트로루미네센스)용 투명 도전성 필름, 유기 EL 조명용 필름, 플렉시블 기판 필름, 플렉시블 유기 EL용 기판 필름, 플렉시블 투명 도전성 필름, 유기 박막형 태양 전지용 투명 도전성 필름, 색소 증감형 태양 전지용 투명 도전성 필름, 플렉시블 가스 배리어 필름, 터치 패널용 필름, 플렉시블 디스플레이용 프론트 필름, 플렉시블 디스플레이용 백 필름, 플렉시블 디스플레이용 TFT 기판, 반도체용 보호막(버퍼 코팅), 층간 절연막, 포토레지스트, 이미지 센서용 마이크로렌즈 등의 재료로서 특히 유용하다.The polyimide of the present invention has a sufficiently high total light transmittance, a sufficiently low yellow color and a sufficiently low coefficient of linear expansion to a higher level, so that it can be used as a film for a flexible wiring substrate, A transparent conductive film for organic electroluminescence (EL), an organic EL lighting film, a flexible substrate film, a flexible substrate film for flexible organic EL, a flexible transparent conductive film, an organic thin film solar cell transparent A conductive film, a transparent conductive film for a dye-sensitized solar cell, a flexible gas barrier film, a film for a touch panel, a front film for a flexible display, a back film for a flexible display, a TFT substrate for a flexible display, , A photoresist, an image sensor It is particularly useful as a material such as a micro lens.

Claims (6)

하기 일반식 (1):
Figure pat00024

[식 (1) 중 R1, R2, R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 불소 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 1종을 나타내고, R10은 불소 함유 치환기를 갖는 탄소수 6 내지 40의 아릴렌기를 나타내고, n은 0 내지 12의 정수를 나타낸다]
로 표시되는 반복 단위 (A)와,
하기 일반식 (2):
Figure pat00025

[식 (2) 중 R10은 불소 함유 치환기를 갖는 탄소수 6 내지 40의 아릴렌기를 나타낸다]
로 표시되는 반복 단위 (B)를 함유하며, 또한 상기 반복 단위 (A) 및 (B)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (A)의 함유량이 5 내지 35몰%인, 폴리이미드.
(1): &lt; EMI ID =
Figure pat00024

R 1 , R 2 and R 3 in the formula (1) each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a fluorine atom, and R 10 is a group having a fluorine-containing substituent An arylene group having 6 to 40 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12,
(A) represented by the formula
(2): &lt; EMI ID =
Figure pat00025

[In the formula (2), R 10 represents an arylene group having 6 to 40 carbon atoms and having a fluorine-containing substituent]
, And the content of the repeating unit (A) relative to the total amount of the repeating units (A) and (B) is 5 to 35 mol%.
제1항에 있어서, 상기 일반식 (1) 및 (2) 중의 R10이 모두 하기 일반식 (3):
Figure pat00026

[식 (3) 중 R5는 탄소수 1 내지 10의 플루오로알킬기를 나타낸다]
으로 표시되는 기인, 폴리이미드.
The compound according to claim 1, wherein R 10 in the general formulas (1) and (2)
Figure pat00026

[In the formula (3), R 5 represents a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms]
Is polyimide.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 반복 단위 (A) 및 (B)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (A)의 함유량이 5 내지 25몰%인, 폴리이미드.The polyimide according to claim 1 or 2, wherein the content of the repeating unit (A) relative to the total amount of the repeating units (A) and (B) is 5 to 25 mol%. 하기 일반식 (4):
Figure pat00027

[식 (4) 중 R1, R2, R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 내지 10의 알킬기 및 불소 원자로 이루어지는 군에서 선택되는 1종을 나타내고, R10은 불소 함유 치환기를 갖는 탄소수 6 내지 40의 아릴렌기를 나타내고, n은 0 내지 12의 정수를 나타낸다]
로 표시되는 반복 단위 (C)와,
하기 일반식 (5):
Figure pat00028

[식 (5) 중 R10은 불소 함유 치환기를 갖는 탄소수 6 내지 40의 아릴렌기를 나타낸다]
로 표시되는 반복 단위 (D)를 함유하며, 또한 상기 반복 단위 (C) 및 (D)의 총량에 대한 상기 반복 단위 (C)의 함유량이 5 내지 35몰%인, 폴리아미드산.
(4): &lt; EMI ID =
Figure pat00027

Wherein R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a fluorine atom, and R 10 is a group having a fluorine-containing substituent An arylene group having 6 to 40 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 12,
(C) represented by the general formula
(5): &lt; EMI ID =
Figure pat00028

[In the formula (5), R 10 represents an arylene group having 6 to 40 carbon atoms and having a fluorine-containing substituent]
, And the content of the repeating unit (C) relative to the total amount of the repeating units (C) and (D) is 5 to 35 mol%.
제4항에 기재된 폴리아미드산과, 유기 용매를 포함하는, 폴리아미드산 용액.A polyamic acid solution comprising the polyamic acid according to claim 4 and an organic solvent. 제1항 또는 제2항에 기재된 폴리이미드를 포함하는, 폴리이미드 필름.A polyimide film comprising the polyimide according to any one of claims 1 to 12.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200123172A (en) * 2018-02-21 2020-10-28 에네오스 가부시키가이샤 Polyimide precursor resin composition

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3330320B1 (en) * 2015-08-07 2019-04-24 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Polyimide precursor composition
JP7375749B2 (en) * 2018-05-10 2023-11-08 三菱瓦斯化学株式会社 Polyamide-imide resin, polyamide-imide varnish and polyamide-imide film
JP6503508B2 (en) * 2018-08-03 2019-04-17 Jxtgエネルギー株式会社 Tetracarboxylic acid dianhydride, polyimide precursor resin, polyimide, polyimide precursor resin solution, polyimide solution and polyimide film
WO2020031932A1 (en) * 2018-08-07 2020-02-13 三菱ケミカル株式会社 Optical film, film laminate, and display unit
CN111499893B (en) * 2019-01-31 2023-12-22 住友化学株式会社 Optical film, flexible display device, and resin composition
KR102097431B1 (en) * 2019-05-13 2020-04-07 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 Polyimide and method for preparing the same
CN112143227A (en) * 2019-06-27 2020-12-29 住友化学株式会社 Optical film, flexible display device, and method for manufacturing optical film
CN113372554B (en) * 2021-06-10 2022-08-16 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 Semi-alicyclic polyimide and application of film thereof in gas separation
CN113429785B (en) * 2021-06-16 2022-05-20 浙江中科玖源新材料有限公司 Low-birefringence polyimide film and preparation method thereof

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011099518A1 (en) 2010-02-09 2011-08-18 Jx日鉱日石エネルギー株式会社 Norbornane-2-spiro-α-cycloalkanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cycloalkanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acid and ester thereof, method for producing norbornane-2-spiro-α-cycloalkanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, polyimide obtained using same, and method for producing polyimide
WO2013179727A1 (en) * 2012-05-28 2013-12-05 宇部興産株式会社 Polyimide precursor and polyimide
WO2015122032A1 (en) * 2014-02-14 2015-08-20 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Polyimide precursor and resin composition containing same
JP2016132686A (en) * 2015-01-15 2016-07-25 Jxエネルギー株式会社 Polyimide, method for producing polyimide, polyimide solution and polyimide film

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104769012B (en) * 2012-09-10 2017-10-03 宇部兴产株式会社 Polyimide precursor, polyimides, varnish, polyimide film and substrate
CN107001662B (en) * 2014-10-23 2020-05-05 宇部兴产株式会社 Polyimide film, polyimide precursor, and polyimide
JP6492934B2 (en) * 2015-04-27 2019-04-03 宇部興産株式会社 Polyamic acid solution composition and polyimide film
US20190161581A1 (en) * 2016-05-06 2019-05-30 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Polyimide resin

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011099518A1 (en) 2010-02-09 2011-08-18 Jx日鉱日石エネルギー株式会社 Norbornane-2-spiro-α-cycloalkanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2-spiro-α-cycloalkanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic acid and ester thereof, method for producing norbornane-2-spiro-α-cycloalkanone-α'-spiro-2''-norbornane-5,5'',6,6''-tetracarboxylic dianhydride, polyimide obtained using same, and method for producing polyimide
KR20120128138A (en) * 2010-02-09 2012-11-26 가코호진 도쿄 코게이 다이가쿠 Norbornane-2-spiro-a-cycloalkanone-a'-spiro-2'-norbornane-5,5',6,6'-tetracarboxylic dianhydride, norbornane-2-spiro-a-cycloalkanone-a'-spiro-2'-norbornane-5,5',6,6'-tetracarboxylic acid and ester thereof, method for producing norbornane-2-spiro-a-cycloalkanone-a'-spiro-2'-norbornane-5,5',6,6'-tetracarboxylic dianhydride, polyimide obtained using same, and method for producing polyimide
WO2013179727A1 (en) * 2012-05-28 2013-12-05 宇部興産株式会社 Polyimide precursor and polyimide
WO2015122032A1 (en) * 2014-02-14 2015-08-20 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Polyimide precursor and resin composition containing same
JP2016132686A (en) * 2015-01-15 2016-07-25 Jxエネルギー株式会社 Polyimide, method for producing polyimide, polyimide solution and polyimide film

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200123172A (en) * 2018-02-21 2020-10-28 에네오스 가부시키가이샤 Polyimide precursor resin composition

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