KR20180105226A - The laminate - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 중량 평균 분자량이 5만 내지 100만인 유기 압전 재료를 포함하고, 마이크로파 투과형 분자 배향계로 측정되는 기준 두께를 50㎛라고 하였을 때의 규격화 분자 배향 MORc가 1.0 내지 15.0이고, DSC법으로 얻어지는 결정화도가 20% 내지 80%이고, 가시광선에 대한 내부 헤이즈가 50% 이하인 고분자 필름 (A)와, 상기 고분자 필름 (A)의 한쪽의 주면에 접하는 박리 가능한 보호 필름 (B)를 갖고, 상기 보호 필름 (B)의 상기 고분자 필름 (A)와 접하는 면의 측을 나노인덴테이션법에 의해 측정하였을 때의 최대 압입 깊이 hmax가 53nm 내지 100nm인, 적층체이다.The present invention includes an organic piezoelectric material having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 and has a normalized molecular orientation MORc of 1.0 to 15.0 when a reference thickness measured with a microwave transmission type molecular alignment meter is 50 mu m, (A) having a degree of crystallinity of 20% to 80% and an internal haze with respect to visible light of 50% or less and a peelable protective film (B) in contact with one main surface of the polymer film (A) And the maximum penetration depth hmax when the side of the film (B) in contact with the polymer film (A) is measured by the nanoindentation method is 53 nm to 100 nm.

Description

적층체The laminate

본 발명은 적층체에 관한 것이다.The present invention relates to a laminate.

압전성을 갖는 유기 재료가 알려져 있으며, 그 예로서는 광학 활성을 갖는 헬리컬 키랄 고분자(예를 들어 폴리락트산계 고분자)를 사용한 고분자 재료가 있다.An organic material having piezoelectricity is known, and examples thereof include a polymer material using a helical chiral polymer having optical activity (for example, a polylactic acid-based polymer).

예를 들어, 폴리락트산의 성형물을 연신 처리함으로써, 상온에서, 10pC/N 정도의 압전율을 나타내는 고분자 압전체가 개시되어 있다(예를 들어, 일본 특허 공개 평5-152638호 공보 참조).For example, a polymer piezoelectric substance exhibiting a piezoelectric constant of about 10 pC / N at room temperature by stretching a molded product of polylactic acid has been disclosed (see, for example, JP-A-5-152638).

또한, 폴리락트산 결정을 고배향으로 하기 위해, 단조법이라고 불리는 특수한 배향 방법에 의해 18pC/N 정도의 높은 압전성을 생성하는 것도 보고되어 있다(예를 들어, 일본 특허 공개 제2005-213376호 공보 참조).It has also been reported that a highly oriented polylactic acid crystal has a high degree of piezoelectricity of 18 pC / N by a special orientation method called a forging method (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-213376 ).

그런데, 고분자 필름을 각종 디바이스의 제조에 이용하는 경우, 고분자 필름에 대한 흠집의 발생, 및 이물의 부착 등에 기인하여 디바이스(제품)의 외관이 손상되는 경우가 있다.However, when the polymer film is used in the production of various devices, appearance of the device (product) may be damaged due to occurrence of scratches on the polymer film, adhesion of foreign matter, and the like.

한편, 고분자 필름 상에는, 고분자 필름의 보호를 목적으로 하여, 보호 필름을 형성하는 경우가 있다. 이에 의해, 고분자 필름을 디바이스의 제조에 사용할 때까지, 롤상으로 권취한 권중체로서 보관하는 것이나 이송하는 것이 가능해져, 핸들링 시에 있어서의 고분자 필름에 대한 흠집의 발생 등도 억제할 수 있다.On the other hand, a protective film may be formed on the polymer film for the purpose of protecting the polymer film. Thereby, the polymer film can be stored or transported as a rolled-up roll until it is used in the production of a device, and occurrence of scratches on the polymer film at the time of handling can be suppressed.

실제로 고분자 필름을 이용하여 각종 디바이스를 제조할 때, 공정의 직전에 보호 필름을 박리하여 사용하는 경우가 있다. 이 경우, 보호 필름과 고분자 필름의 점착력이 강하면, 보호 필름의 일부가 고분자 필름의 표면에 남는 경우가 있다.In practice, when various devices are manufactured using a polymer film, a protective film may be peeled off immediately before the process. In this case, if the adhesion between the protective film and the polymer film is strong, a part of the protective film may remain on the surface of the polymer film.

또한, 본 발명자들은, 검토 결과, 보호 필름을 유기 압전 재료를 포함하는 고분자 필름의 표면에 남기지 않고 박리할 수 있는 경우라도, 박리 후의 상기 고분자 필름의 표면이 오렌지 필이 되는 경우가 있음을 발견하였다. 이것은 유기 압전 재료가 일반적으로 변형되기 쉬운 성질을 갖는 것, 또한 유기 압전 재료가 매우 대전되기 쉽기 때문에 보호 필름의 첩합 시에 보호 필름과 상기 고분자 필름의 사이에 미소한 이물이 흡착되고, 상기 고분자 필름의 표면이 이물에 의해 변형되는 것에 따른 것이라고 생각된다. 이러한 경우, 상기 고분자 필름 자체의 품질이 저하될 우려가 있고, 나아가 상기 고분자 필름을 사용하여 제조되는 디바이스의 외관 및 품질도 저하될 우려가 있다.Further, the inventors of the present invention have found that, even when the protective film can be peeled off without leaving it on the surface of the polymer film containing an organic piezoelectric material, the inventors have found that the surface of the polymer film after peeling becomes orange peel . This is because the organic piezoelectric material generally has a property of being easily deformed, and since the organic piezoelectric material is highly charged, minute foreign matter is adsorbed between the protective film and the polymer film at the time of adhesion of the protective film, Is deformed by the foreign object. In this case, the quality of the polymer film itself may be deteriorated, and further, the appearance and quality of a device manufactured using the polymer film may be deteriorated.

본 발명에 있어서는 상기 사정을 감안하여, 유기 압전 재료를 포함하는 고분자 필름과 보호 필름을 갖는 적층체이며, 보호 필름을 박리한 후의 고분자 필름의 외관 악화가 억제되는 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다.In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to provide a laminate having a polymer film containing an organic piezoelectric material and a protective film, wherein the deterioration of the appearance of the polymer film after the protective film is peeled is suppressed .

과제를 해결하기 위한 구체적 수단은 이하와 같다.Specific means for solving the problems are as follows.

<1> 중량 평균 분자량이 5만 내지 100만인 유기 압전 재료를 포함하고, 마이크로파 투과형 분자 배향계로 측정되는 기준 두께를 50㎛라고 하였을 때의 규격화 분자 배향 MORc가 1.0 내지 15.0이고, DSC법으로 얻어지는 결정화도가 20% 내지 80%이고, 가시광선에 대한 내부 헤이즈가 50% 이하인 고분자 필름 (A)와,<1> An organic electroluminescent device comprising an organic piezoelectric material having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 and having a standardized molecular orientation MORc of 1.0 to 15.0 when a reference thickness measured with a microwave transmission type molecular alignment meter is 50 m, Of the polymer film (A) is 20% to 80%, and the internal haze with respect to visible light is 50%

상기 고분자 필름 (A)의 한쪽의 주면에 접하는 박리 가능한 보호 필름 (B)를 갖고,(B) which is in contact with one main surface of the polymer film (A)

상기 보호 필름 (B)의 상기 고분자 필름 (A)와 접하는 면의 측을 나노인덴테이션법에 의해 측정하였을 때의 최대 압입 깊이 hmax가 53nm 내지 100nm인, 적층체.And the maximum penetration depth hmax when the side of the protective film (B) contacting the polymer film (A) is measured by the nanoindentation method is 53 nm to 100 nm.

<2> 상기 최대 압입 깊이 hmax는 53nm 내지 60nm인, <1>에 기재된 적층체.&Lt; 2 > The laminate according to < 1 >, wherein the maximum indentation depth hmax is 53 nm to 60 nm.

<3> 상기 보호 필름 (B)가, 기재층과, 상기 기재층의 상기 고분자 필름 (A)에 대향하는 측의 주면 상에 형성된 점착층을 갖고,(3) The protective film (B) has a base layer and an adhesive layer formed on the main surface of the base layer opposite to the polymer film (A)

상기 최대 압입 깊이 hmax는, 상기 보호 필름 (B)의 상기 점착층의 측을 측정하였을 때의 최대 압입 깊이인, <1> 또는 <2>에 기재된 적층체.Wherein the maximum indentation depth hmax is a maximum indentation depth at the time of measuring the side of the adhesive layer of the protective film (B).

<4> 상기 점착층의 산가가 10mgKOH/g 이하인, <3>에 기재된 적층체.&Lt; 4 > The laminate according to < 3 >, wherein the acid value of the adhesive layer is 10 mgKOH / g or less.

<5> 상기 기재층이 폴리올레핀계 수지 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지로 이루어지고, 상기 점착층이 아크릴계 점착제를 포함하는, <3> 또는 <4>에 기재된 적층체.<5> The laminate according to <3> or <4>, wherein the substrate layer is made of a polyolefin resin or a polyethylene terephthalate resin, and the pressure-sensitive adhesive layer comprises an acrylic pressure-sensitive adhesive.

<6> 상기 고분자 필름 (A)와 상기 보호 필름 (B)의 T형 박리 강도가 0.07N/50mm 내지 1N/50mm인, <1> 내지 <5> 중 어느 하나에 기재된 적층체.<6> The laminate according to any one of <1> to <5>, wherein the T-shaped peel strength of the polymer film (A) and the protective film (B) is 0.07 N / 50 mm to 1 N / 50 mm.

<7> 상기 고분자 필름 (A)는, 가시광선에 대한 내부 헤이즈가 40% 이하이며, 또한 25℃에 있어서 응력-전하법으로 측정한 압전 상수 d14가 1pC/N 이상인, <1> 내지 <6> 중 어느 하나에 기재된 적층체.<7> The polymer film (A) has an internal haze of not more than 40% with respect to visible light and a piezoelectric constant d 14 measured by a stress-charge method at 25 ° C of not less than 1 pC / N, 6>.

<8> 상기 내부 헤이즈가 1% 이하인, <7>에 기재된 적층체.&Lt; 8 > The laminate according to < 7 >, wherein the internal haze is 1% or less.

<9> 상기 고분자 필름 (A)는, 상기 규격화 분자 배향 MORc가 3.5 내지 15.0이고, 상기 규격화 분자 배향 MORc와 상기 결정화도의 곱이 70 내지 700인, <1> 내지 <8> 중 어느 하나에 기재된 적층체.<9> The polymer film (A) according to any one of <1> to <8>, wherein the normalized molecular orientation MORc is 3.5 to 15.0 and the product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity is 70 to 700. sieve.

<10> 상기 유기 압전 재료는 광학 활성을 갖는 헬리컬 키랄 고분자 (X)인, <1> 내지 <9> 중 어느 하나에 기재된 적층체.<10> The laminate according to any one of <1> to <9>, wherein the organic piezoelectric material is a helical chiral polymer (X) having optical activity.

<11> 상기 헬리컬 키랄 고분자 (X)가, 하기 식 (1)로 표시되는 반복 단위를 포함하는 주쇄를 갖는 폴리락트산계 고분자인, <10>에 기재된 적층체.<11> The laminate according to <10>, wherein the helical chiral polymer (X) is a polylactic acid-based polymer having a main chain containing a repeating unit represented by the following formula (1).

Figure pct00001
Figure pct00001

<12> 상기 헬리컬 키랄 고분자 (X)는, 광학 순도가 95.00%ee 이상인, <10> 또는 <11>에 기재된 적층체.<12> The laminate according to <10> or <11>, wherein the helical chiral polymer (X) has an optical purity of 95.00% ee or more.

<13> 상기 고분자 필름 (A) 중에 있어서의 상기 헬리컬 키랄 고분자 (X)의 함유량이 80질량% 이상인, <10> 내지 <12> 중 어느 하나에 기재된 적층체.<13> The laminate according to any one of <10> to <12>, wherein the content of the helical chiral polymer (X) in the polymer film (A) is 80 mass% or more.

<14> 상기 고분자 필름 (A)가, 카르보디이미드기, 에폭시기 및 이소시아네이트기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종류 이상의 관능기를 갖는 중량 평균 분자량이 200 내지 60000인 안정화제 (Y1), 그리고 이미노에테르기를 갖는 안정화제 (Y2)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 안정화제 (Y)를, 상기 헬리컬 키랄 고분자 (X) 100질량부에 대하여 0.01질량부 내지 10질량부 포함하는, <10> 내지 <13> 중 어느 하나에 기재된 적층체.(14) The polymer film (A) as described in any one of (1) to (10), wherein the polymer film (A) contains at least one functional group selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group and an isocyanate group and has a weight average molecular weight of 200 to 60000 (10) to (13), wherein at least one stabilizer (Y) selected from the group consisting of a stabilizer (Y2) having a hydroxyl group and a hydroxyl group is contained in an amount of 0.01 part by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the helical chiral polymer &Lt; / RTI >

<15> 상기 보호 필름 (B)의 탄성률과, 고분자 필름 (A)의 탄성률이, 이하의 관계식 (F):(15) The elastic film of the protective film (B) and the elastic film of the polymer film (A) satisfy the following relational expression (F):

보호 필름 (B)의 탄성률/고분자 필름 (A)의 탄성률≥0.1 (식 F)The elastic modulus of the protective film (B) / the elastic modulus of the polymer film (A) (Formula F)

를 만족하는, <1> 내지 <14> 중 어느 하나에 기재된 적층체.The laminate according to any one of < 1 > to < 14 >

본 발명에 따르면, 헬리컬 키랄 고분자를 포함하는 고분자 필름과 보호 필름을 갖는 적층체이며, 보호 필름을 박리한 후의 고분자 필름의 외관 악화가 억제되는 적층체가 제공된다.According to the present invention, there is provided a laminate having a polymer film including a helical chiral polymer and a protective film, wherein the polymer film after peeling off the protective film is prevented from deteriorating in appearance.

도 1은, 본 개시에 관한 적층체의 제1 양태를 도시하는 단면도이다.
도 2는, 본 개시에 관한 적층체의 제2 양태를 도시하는 단면도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of a laminate according to the present disclosure; FIG.
2 is a cross-sectional view showing a second embodiment of the laminate according to the present disclosure.

이하, 본 발명의 실시 형태에 대하여 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described.

본 명세서에 있어서, 「내지」를 사용하여 표시되는 수치 범위는, 「내지」의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.In the present specification, the numerical range indicated by using &quot; to &quot; means a range including numerical values before and after &quot; to &quot; as a lower limit value and an upper limit value.

또한, 본 명세서에 있어서, 「고분자 필름」은, 고분자 시트를 포함하는 개념이다.In the present specification, the term &quot; polymer film &quot; is a concept including a polymer sheet.

또한, 본 명세서에 있어서, 필름의 주면이란, 필름의 두께 방향으로 대향하는 면(바꿔 말하면, 길이 방향 및 폭 방향을 포함하는 면)을 의미한다. 또한, 「주면」을 간단히 「면」이라고도 칭하는 경우가 있다.In the present specification, the main surface of the film means a surface facing the thickness direction of the film (in other words, a surface including the longitudinal direction and the width direction). Also, the &quot; main surface &quot; may be simply referred to as &quot; surface &quot;.

본 명세서에 있어서, 부재의 「면」은, 특별히 언급이 없는 한, 부재의 「주면」을 의미한다.In this specification, &quot; face &quot; of a member means &quot; main face &quot; of the member unless otherwise specified.

본 명세서에 있어서, 「MD 방향」이란 필름이 흐르는 방향(Machine Direction), 즉 연신 방향이며, 「TD 방향」이란, 상기 MD 방향과 직교하고, 필름의 주면과 평행인 방향(Transverse Direction)이다.In the present specification, the term "MD direction" is a machine direction, that is, a stretching direction, and the term "TD direction" is a direction transverse to the MD direction and parallel to the main surface of the film.

≪적층체≫«Laminate»

본 개시에 관한 적층체는, 중량 평균 분자량이 5만 내지 100만인 광학 활성을 갖는 유기 압전 재료를 포함하고, 마이크로파 투과형 분자 배향계로 측정되는 기준 두께를 50㎛라고 하였을 때의 규격화 분자 배향 MORc가 1.0 내지 15.0이고, DSC법으로 얻어지는 결정화도가 20% 내지 80%이고, 가시광선에 대한 내부 헤이즈가 50% 이하인 고분자 필름 (A)와,The laminate according to the present disclosure includes an organic piezoelectric material having an optically active weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 and has a normalized molecular orientation MORc of 1.0 占 퐉 when a reference thickness measured with a microwave transmission type molecular alignment meter is 50 占 퐉, To 15.0, a degree of crystallinity obtained by the DSC method is 20% to 80%, and an internal haze with respect to visible light is 50%

고분자 필름 (A)의 한쪽의 주면에 접하는 박리 가능한 보호 필름 (B)를 갖고,(B) which is in contact with one principal surface of the polymer film (A)

보호 필름 (B)의 상기 고분자 필름 (A)와 접하는 면의 측을 나노인덴테이션법에 의해 측정하였을 때의 최대 압입 깊이 hmax가 53nm 내지 100nm이다.The maximum indentation depth hmax when the side of the protective film (B) in contact with the polymer film (A) is measured by the nanoindentation method is 53 nm to 100 nm.

또한, 본 개시에 관한 적층체는, 고분자 필름 (A)의 다른 쪽의 주면에 접하는 박리 가능한 다른 보호 필름을 더 가져도 된다.Further, the laminate according to the present disclosure may further include another peelable protective film in contact with the other main surface of the polymer film (A).

본 발명자들의 검토에 의해, 유기 압전 재료를 포함하는 고분자 필름과, 박리 가능한 보호 필름을 갖는 적층체에 있어서, 보호 필름을 적층체로부터 박리하면, 보호 필름의 일부가 고분자 필름의 표면에 남기 쉽고, 또한 보호 필름이 고분자 필름의 표면에 남지 않는 경우라도, 당해 고분자 필름의 표면이 오렌지 필(Orange Peel Texture)이 되기 쉬움이 판명되었다.The present inventors have found that when a protective film is peeled from a laminate in a laminate having a polymer film containing an organic piezoelectric material and a peelable protective film, a part of the protective film tends to remain on the surface of the polymer film, Further, even when the protective film is not left on the surface of the polymer film, it has been found that the surface of the polymer film tends to become orange peel texture.

여기서, 「오렌지 필」이란, 유자의 껍질과 같이, 표면에 주름 또는 요철(단차)이 발생하였음을 의미한다. 오렌지 필의 각 오목부의 폭은 수 mm 정도이고, 깊이는 수 ㎛ 내지 수십 ㎛ 정도이다.Here, &quot; orange fill &quot; means that the surface of the citron has wrinkles or irregularities (steps) as in the citron peel. The width of each concave portion of the orange fill is about several millimeters, and the depth is about several mu m to several tens of mu m.

그래서, 본 발명자들은, 상기 유기 압전 재료를 포함하며, 또한 상기 특성을 갖는 고분자 필름 (A)와, 보호 필름 (B)를 조합한 층 구성을 갖는 적층체를 채용한 후에, 추가로 보호 필름 (B)의 고분자 필름 (A)와 접하는 면의 측을 나노인덴테이션법에 의해 측정하였을 때의 최대 압입 깊이 hmax를 상기 범위로 조정하였다. 이에 의해, 보호 필름 (B)를 박리한 후의 고분자 필름 (A)의 외관 악화를 억제할 수 있음을 발견하고, 본 발명을 완성시켰다.Thus, the present inventors have employed a laminate having a layered structure in which a polymer film (A) containing the organic piezoelectric material and having the aforementioned characteristics is combined with a protective film (B), and further, a protective film B) of the side contacting the polymer film (A) was measured by the nanoindentation method, the maximum indentation depth hmax was adjusted to the above range. Thus, it was found that deterioration of the appearance of the polymer film (A) after peeling the protective film (B) can be suppressed, and the present invention was accomplished.

본 개시에 있어서, 상기 최대 압입 깊이 hmax가 53nm 이상이면, 보호 필름 (B)를 박리한 후에, 보호 필름 (B)의 일부가 고분자 필름 (A)의 표면에 남는 것, 및 고분자 필름 (A)의 표면이 오렌지 필이 되는 것이 억제된다.In the present disclosure, when the maximum penetration depth hmax is 53 nm or more, a part of the protective film (B) remains on the surface of the polymer film (A) after peeling off the protective film (B) Is prevented from being orange peeled.

또한, 상기 최대 압입 깊이 hmax가 100nm 이하이면, 보호 필름 (B)를 적층체로부터 박리하기 쉬워진다. 즉, 보호 필름 (B)의 박리성이 양호해진다.Further, when the maximum penetration depth hmax is 100 nm or less, the protective film (B) can be easily peeled from the laminate. That is, the peelability of the protective film (B) is improved.

따라서, 상기 최대 압입 깊이 hmax를 상기 범위로 함으로써, 보호 필름 (B)를 박리한 후의 고분자 필름 (A)의 외관 악화가 억제된다.Therefore, by setting the maximum indentation depth hmax within the above range, deterioration of the appearance of the polymer film (A) after the protective film (B) is peeled is suppressed.

이하, 본 개시에 관한 적층체의 바람직한 양태에 대하여 설명한다.Preferred embodiments of the laminate according to the present disclosure will be described below.

본 개시에 있어서는, 상기 유기 압전 재료는, 헬리컬 키랄 고분자(이하, 헬리컬 키랄 고분자 (X)라고 칭하는 경우가 있음)여도 되고, 헬리컬 키랄 고분자 이외의 유기 압전 재료여도 된다.In the present disclosure, the organic piezoelectric material may be a helical chiral polymer (hereinafter sometimes referred to as a helical chiral polymer (X)), or may be an organic piezoelectric material other than a helical chiral polymer.

본 개시에 관한 적층체에 있어서, 상기 최대 압입 깊이 hmax는 53nm 내지 60nm인 것이 바람직하다.In the laminate according to the present disclosure, it is preferable that the maximum indentation depth hmax is 53 nm to 60 nm.

상술한 바와 같이, 상기 최대 압입 깊이 hmax가 53nm 이상이면, 보호 필름 (B)를 박리한 후에, 고분자 필름 (A)의 표면이 오렌지 필이 되는 것이 억제된다.As described above, when the maximum penetration depth hmax is 53 nm or more, the surface of the polymer film (A) is prevented from becoming orange peel after peeling off the protective film (B).

또한, 상기 최대 압입 깊이 hmax가 60nm 이하이면, 보호 필름 (B)의 일부가 고분자 필름 (A)의 표면에 남는 것을 억제할 수 있고, 또한 보호 필름 (B)의 박리성이 보다 양호해진다.If the maximum indentation depth hmax is 60 nm or less, a part of the protective film (B) can be prevented from remaining on the surface of the polymer film (A), and the peelability of the protective film (B) is further improved.

따라서, 상기 최대 압입 깊이 hmax를 상기 범위로 함으로써, 보호 필름 (B)를 박리한 후의 고분자 필름 (A)의 외관 악화가 보다 억제된다.Therefore, by setting the maximum indentation depth hmax within the above range, deterioration of the appearance of the polymer film (A) after the protective film (B) is peeled is further suppressed.

본 개시에 관한 적층체에 있어서, 상기 보호 필름 (B)는, 기재층과, 상기 기재층의 상기 고분자 필름 (A)에 대향하는 측의 주면 상에 형성된 점착층을 갖고,In the laminate according to the present disclosure, the protective film (B) has a base layer and an adhesive layer formed on the main surface of the base layer opposite to the polymer film (A)

상기 최대 압입 깊이 hmax는, 상기 보호 필름 (B)의 상기 점착층의 측을 측정하였을 때의 최대 압입 깊이인 것이 바람직하다.It is preferable that the maximum indentation depth hmax is a maximum indentation depth when the side of the adhesive layer of the protective film (B) is measured.

이에 의해, 보호 필름 (B)와 고분자 필름 (A)가 점착층을 개재시켜 점착되기 때문에, 양 필름간의 점착력이 높아진다.As a result, since the protective film (B) and the polymer film (A) are adhered via the adhesive layer, the adhesive strength between the two films becomes high.

또한, 보호 필름 (B)의 최대 압입 깊이 hmax, 즉 점착층의 최대 압입 깊이 hmax가 53nm 이상이면, 보호 필름 (B)를 박리한 후에, 점착층의 일부가 고분자 필름 (A)의 표면에 남는 것, 및 고분자 필름 (A)의 표면이 오렌지 필이 되는 것이 억제된다.When the maximum penetration depth hmax of the protective film B, that is, the maximum penetration depth hmax of the adhesive layer is 53 nm or more, a part of the adhesive layer remains on the surface of the polymer film A after peeling off the protective film (B) And the surface of the polymer film (A) are inhibited from being orange peel.

또한, 상기 최대 압입 깊이 hmax가 100nm 이하이면, 보호 필름 (B)를 적층체로부터 박리하기 쉬워진다. 즉, 보호 필름 (B)의 박리성이 양호해진다.Further, when the maximum penetration depth hmax is 100 nm or less, the protective film (B) can be easily peeled from the laminate. That is, the peelability of the protective film (B) is improved.

본 개시에 관한 적층체에 있어서, 상기 점착층의 산가는 10mgKOH/g 이하인 것이 바람직하다.In the laminate according to the present disclosure, the acid value of the adhesive layer is preferably 10 mgKOH / g or less.

이에 의해, 고분자 필름 (A)에 포함되는 유기 압전 재료, 예를 들어 헬리컬 키랄 고분자 (X)의 분자량의 저하가 억제되기 때문에, 고분자 필름 (A)의 안정성이 향상된다.As a result, the decrease in the molecular weight of the organic piezoelectric material, for example, the helix chiral polymer (X) contained in the polymer film (A) is suppressed, and the stability of the polymer film (A) is improved.

본 개시에 관한 적층체에 있어서, 상기 기재층은 폴리올레핀계 수지 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지로 이루어지고, 상기 점착층은 아크릴계 점착제를 포함하는 것이 바람직하다.In the laminate according to the present disclosure, it is preferable that the base layer is made of a polyolefin resin or a polyethylene terephthalate resin, and the pressure-sensitive adhesive layer includes an acrylic pressure-sensitive adhesive.

이에 의해, 기재층과 점착층의 밀착력이 높아지기 때문에, 보호 필름 (B)를 적층체로부터 박리하기 쉬워진다.As a result, the adhesive strength between the base layer and the adhesive layer becomes high, so that the protective film (B) can be easily peeled from the laminate.

본 개시에 관한 적층체에 있어서, 상기 고분자 필름 (A)와 상기 보호 필름 (B)의 T형 박리 강도가 0.07N/50mm 내지 1N/50mm인 것이 바람직하다.In the laminate according to the present disclosure, the T-shaped peel strength of the polymer film (A) and the protective film (B) is preferably 0.07 N / 50 mm to 1 N / 50 mm.

T형 박리 강도가 0.07N/50mm 이상이면, 고분자 필름 (A)와 보호 필름 (B)의 점착력이 확보된다.When the T-shaped peel strength is 0.07 N / 50 mm or more, the adhesive strength between the polymer film (A) and the protective film (B) is secured.

T형 박리 강도가 1N/50mm 이하이면, 보호 필름 (B)의 박리성이 확보된다.When the T-type peel strength is 1 N / 50 mm or less, the peelability of the protective film (B) is secured.

본 개시에 관한 적층체에 있어서, 상기 고분자 필름 (A)는, 가시광선에 대한 내부 헤이즈가 40% 이하이며, 또한 25℃에 있어서 응력-전하법으로 측정한 압전 상수 d14가 1pC/N 이상인 것이 바람직하다.In the laminate according to the present disclosure, the polymer film (A) has an internal haze of not more than 40% with respect to visible light and a piezoelectric constant d 14 measured at 25 캜 by a stress-charge method of not less than 1 pC / N .

상기 고분자 필름 (A)는, 투명성을 갖는 압전 필름이다. 이에 의해, 고분자 필름 (A)를 각종 압전 디바이스에 적용할 수 있다.The polymer film (A) is a piezoelectric film having transparency. Thereby, the polymer film (A) can be applied to various piezoelectric devices.

본 개시에 관한 적층체에 있어서, 고분자 필름 (A)의 투명성을 향상시킨다는 관점에서, 상기 내부 헤이즈는 1% 이하인 것이 바람직하다.In the laminate according to the present disclosure, from the viewpoint of improving the transparency of the polymer film (A), the internal haze is preferably 1% or less.

본 개시에 관한 적층체에 있어서, 상기 고분자 필름 (A)는, 상기 규격화 분자 배향 MORc가 3.5 내지 15.0이고, 상기 규격화 분자 배향 MORc와 상기 결정화도의 곱이 70 내지 700인 것이 바람직하다.In the laminate according to the present disclosure, it is preferable that the polymer film (A) has a normalized molecular orientation MORc of 3.5 to 15.0, and a product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity of 70 to 700. [

상기 고분자 필름 (A)는, 압전 필름이다.The polymer film (A) is a piezoelectric film.

따라서, 상기 규격화 분자 배향 MORc가 상기 범위이며, 또한 상기 곱이 상기 범위이면, 고분자 필름 (A)의 압전성이 향상된다.Therefore, when the normalized molecular orientation MORc is in the above range and the product is in the above range, the piezoelectric film of the polymer film (A) improves.

본 개시에 관한 적층체에 있어서, 상기 헬리컬 키랄 고분자 (X)는, 고분자 필름 (A)를 압전 필름으로서 사용하였을 때에는 압전성을 보다 향상시킨다는 관점에서, 하기 식 (1)로 표시되는 반복 단위를 포함하는 주쇄를 갖는 폴리락트산계 고분자인 것이 바람직하다.When the polymer film (A) is used as a piezoelectric film, the helical chiral polymer (X) in the laminate according to the present disclosure contains a repeating unit represented by the following formula (1) from the viewpoint of further improving piezoelectricity Is a polylactic acid-based polymer having a backbone chain.

본 개시에 관한 적층체에 있어서, 상기 헬리컬 키랄 고분자 (X)는, 고분자 필름 (A)를 압전 필름으로서 사용하였을 때에는 압전성을 보다 향상시킨다는 관점에서, 광학 순도가 95.00%ee 이상인 것이 바람직하다.When the polymer film (A) is used as a piezoelectric film in the laminate according to the present disclosure, the optical purity is preferably 95.00% ee or more from the viewpoint of further improving piezoelectricity.

본 개시에 관한 적층체에 있어서, 상기 고분자 필름 (A) 중에 있어서의 상기 유기 압전 재료의 함유량은, 80질량% 이상인 것이 바람직하다. 예를 들어, 상기 유기 압전 재료가 헬리컬 키랄 고분자 (X)인 경우, 상기 고분자 필름 (A) 중에 있어서의 상기 헬리컬 키랄 고분자 (X)의 함유량은, 80질량% 이상인 것이 바람직하다.In the laminate according to the present disclosure, the content of the organic piezoelectric material in the polymer film (A) is preferably 80 mass% or more. For example, when the organic piezoelectric material is a helical chiral polymer (X), the content of the helical chiral polymer (X) in the polymer film (A) is preferably 80 mass% or more.

본 개시에 관한 적층체에 있어서, 상기 고분자 필름 (A)는, 고분자 필름 (A)의 내습열성을 향상시킨다는 관점에서, 카르보디이미드기, 에폭시기 및 이소시아네이트기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종류 이상의 관능기를 갖는 중량 평균 분자량이 200 내지 60000인 안정화제 (Y1), 그리고 이미노에테르기를 갖는 안정화제 (Y2)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 안정화제 (Y)를, 상기 유기 압전 재료 100질량부에 대하여 0.01질량부 내지 10질량부 포함하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 상기 유기 압전 재료가 헬리컬 키랄 고분자 (X)인 경우, 카르보디이미드기, 에폭시기 및 이소시아네이트기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종류 이상의 관능기를 갖는 중량 평균 분자량이 200 내지 60000인 안정화제 (Y1), 그리고 이미노에테르기를 갖는 안정화제 (Y2)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 안정화제 (Y)를, 상기 헬리컬 키랄 고분자 (X) 100질량부에 대하여 0.01질량부 내지 10질량부 포함하는 것이 바람직하다.In the laminate according to the present disclosure, the polymer film (A) preferably contains at least one functional group selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group and an isocyanate group, from the viewpoint of improving the heat and humidity resistance of the polymer film (A) (Y) selected from the group consisting of a stabilizer (Y1) having a weight average molecular weight of 200 to 60000 and a stabilizer (Y2) having an imino ether group is added to 100 parts by mass of the organic piezoelectric material Is preferably 0.01 part by mass to 10 parts by mass. For example, when the organic piezoelectric material is a helical chiral polymer (X), a stabilizer (Y1) having a weight average molecular weight of 200 to 60000 having at least one functional group selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group and an isocyanate group ) And at least one stabilizer (Y2) having an imino ether group in an amount of 0.01 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the above-mentioned helix chiral polymer (X) .

이하, 본 개시에 관한 적층체에 대하여, 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the laminate according to the present disclosure will be described in more detail.

<고분자 필름 (A)>&Lt; Polymer film (A) >

[유기 압전 재료][Organic piezoelectric material]

상기 유기 압전 재료는, 중량 평균 분자량이 5만 내지 100만인 유기 압전 재료를 함유한다.The organic piezoelectric material contains an organic piezoelectric material having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000.

본 개시에 있어서의 유기 압전 재료는, 저분자 재료, 고분자 재료를 불문하고 채용할 수 있으며, 예를 들어 폴리불화비닐리덴 혹은 폴리불화비닐리덴계 공중합체, 폴리시안화비닐리덴 혹은 시안화비닐리덴계 공중합체, 나일론 9 혹은 나일론 11 등의 홀수 나일론, 방향족 나일론, 지환족 나일론, 폴리우레아, 폴리락트산 등의 헬리컬 키랄 고분자나, 폴리히드록시부티레이트 등의 폴리히드록시카르복실산, 셀룰로오스계 유도체, 폴리펩티드 등을 들 수 있다.The organic piezoelectric material in the present disclosure can be employed regardless of a low-molecular material or a high-molecular material, and examples thereof include polyvinylidene fluoride or polyvinylidene fluoride copolymer, polyvinylidene cyanide or cyanide vinylidene copolymer , Nylon 9 and nylon 11, aromatic nylon, alicyclic nylon, polyurea and polylactic acid, polyhydroxycarboxylic acids such as polyhydroxybutyrate, cellulose derivatives, polypeptides and the like .

양호한 압전 특성, 가공성, 입수 용이성 등의 관점에서, 고분자의 유기 압전 재료, 특히 광학 활성을 갖는 헬리컬 키랄 고분자 (X)인 것이 바람직하다.From the viewpoints of good piezoelectric properties, processability, availability and the like, it is preferable to use an organic piezoelectric material of a polymer, particularly a helix chiral polymer (X) having optical activity.

-헬리컬 키랄 고분자 (X)-- Helical chiral polymer (X) -

본 개시에 있어서의 고분자 필름 (A)가, 헬리컬 키랄 고분자를 함유하는 경우, 헬리컬 키랄 고분자는, 중량 평균 분자량이 5만 내지 100만이며 광학 활성을 갖는 헬리컬 키랄 고분자이다(본 명세서에 있어서는, 헬리컬 키랄 고분자 (X)라고도 함).When the polymer film (A) in the present disclosure contains a helical chiral polymer, the helical chiral polymer is a helical chiral polymer having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 and an optical activity (in the present specification, Also referred to as chiral polymer (X)).

여기서, 「광학 활성을 갖는 헬리컬 키랄 고분자」란, 분자 구조가 나선 구조이며 분자 광학 활성을 갖는 고분자를 가리킨다.Here, the &quot; helical chiral polymer having optical activity &quot; refers to a polymer having a molecular structure having a spiral structure and having a molecular optical activity.

본 개시에 있어서의 헬리컬 키랄 고분자 (X)는, 상기의 「광학 활성을 갖는 헬리컬 키랄 고분자」 중, 중량 평균 분자량이 5만 내지 100만인 고분자이다.The helical chiral polymer (X) in the present disclosure is a polymer having a weight average molecular weight of 50,000 to 1,000,000 among the above-mentioned &quot; optically active helix chiral polymer &quot;.

헬리컬 키랄 고분자 (X)로서는, 예를 들어 폴리락트산계 고분자, 폴리(β-히드록시부티르산) 등을 들 수 있다.Examples of the helical chiral polymer (X) include a polylactic acid-based polymer and poly (beta -hydroxybutyric acid).

헬리컬 키랄 고분자 (X)는, 광학 순도가 95.00%ee 이상인 것이 바람직하고, 96.00%ee 이상인 것이 보다 바람직하고, 99.00%ee 이상인 것이 더욱 바람직하고, 99.99%ee 이상인 것이 보다 더 바람직하다. 바람직하게는 100.00%ee이다.The optical purity of the helix chiral polymer (X) is preferably 95.00% ee or more, more preferably 96.00% ee or more, further preferably 99.00% ee or more, and still more preferably 99.99% ee or more. It is preferably 100.00% ee.

헬리컬 키랄 고분자 (X)의 광학 순도를 상기 범위로 함으로써, 고분자 필름 (A) 중에서의 고분자 결정의 결정화도 및 패킹성이 높아진다. 그 결과, 예를 들어 고분자 필름 (A)를 압전 필름으로서 사용하였을 때에는, 압전성(압전 상수)을 보다 향상시킬 수 있다.By setting the optical purity of the helical chiral polymer (X) within the above range, crystallinity and packing property of the polymer crystal in the polymer film (A) are enhanced. As a result, for example, when the polymer film (A) is used as a piezoelectric film, the piezoelectricity (piezoelectric constant) can be further improved.

여기서, 헬리컬 키랄 고분자 (X)의 광학 순도는, 하기 식으로 산출한 값이다.Here, the optical purity of the helical chiral polymer (X) is a value calculated by the following formula.

광학 순도(%ee)=100×|L체량-D체량|/(L체량+D체량)Optical purity (% ee) = 100 x | L body weight-D body weight | / (L body weight + D body weight)

즉, 헬리컬 키랄 고분자 (X)의 광학 순도는,That is, the optical purity of the helical chiral polymer (X)

『「헬리컬 키랄 고분자 (X)의 L체의 양[질량%]과 헬리컬 키랄 고분자 (X)의 D체의 양[질량%]의 양차(절댓값)」를 「헬리컬 키랄 고분자 (X)의 L체의 양[질량%]과 헬리컬 키랄 고분자 (X)의 D체의 양[질량%]의 합계량」으로 나눈(제산한) 수치』에, 『100』을 곱한(승산한) 값이다.(Absolute value) of the amount of the L-form of the helical chiral polymer (X) [mass%] and the amount of the D form of the helical chiral polymer (X) (Sum) of the amount [mass%] of the helix chiral polymer (X) and the amount [amount of mass%] of the helix chiral polymer (X) "is a value obtained by multiplying" 100 "

또한, 헬리컬 키랄 고분자 (X)의 L체의 양[질량%]과 헬리컬 키랄 고분자 (X)의 D체의 양[질량%]은, 고속 액체 크로마토그래피(HPLC)를 사용한 방법에 의해 얻어지는 값을 사용한다. 측정 방법은 이하와 같다.The amount [mass%] of the L-form of the helical chiral polymer X and the amount [mass%] of the D-form of the helix chiral polymer X are determined by a method using a high-performance liquid chromatography use. The measurement method is as follows.

50mL의 삼각 플라스크에 1.0g의 샘플(고분자 필름 (A))을 칭량하여 넣고, IPA(이소프로필알코올) 2.5mL와, 5.0mol/L 수산화나트륨 용액 5mL를 첨가한다. 이어서, 샘플 용액이 들어간 상기 삼각 플라스크를, 온도 40℃의 수욕에 넣고, 헬리컬 키랄 고분자 (X)가 완전히 가수분해될 때까지, 약 5시간 교반한다.A 1.0 g sample (polymer film (A)) was weighed into a 50 mL Erlenmeyer flask, and 2.5 mL of IPA (isopropyl alcohol) and 5 mL of 5.0 mol / L sodium hydroxide solution were added. Subsequently, the Erlenmeyer flask containing the sample solution is placed in a water bath at 40 DEG C and stirred for about 5 hours until the helical chiral polymer (X) is completely hydrolyzed.

상기 샘플 용액을 실온까지 냉각한 후, 1.0mol/L 염산 용액을 20mL 첨가하여 중화하고, 삼각 플라스크를 밀전하여 잘 뒤섞는다. 샘플 용액의 1.0mL를 25mL의 메스플라스크에 나누어 넣고, 이동상으로 25mL로서 HPLC 시료 용액 1을 조제한다. HPLC 시료 용액 1을, HPLC 장치에 5μL 주입하고, 하기 HPLC 조건에서, 헬리컬 키랄 고분자 (X)의 D/L체 피크 면적을 구하여, L체의 양과 D체의 양을 산출한다.After the sample solution is cooled to room temperature, it is neutralized by adding 20 mL of a 1.0 mol / L hydrochloric acid solution, and the Erlenmeyer flask is tightly mixed. Add 1.0 mL of the sample solution into a 25 mL volumetric flask, and prepare 25 mL of the mobile phase as the HPLC sample solution 1. 5 μL of the HPLC sample solution 1 is injected into the HPLC apparatus, and the D / L body peak area of the helical chiral polymer (X) is determined under the following HPLC conditions to calculate the amount of the L-form and the amount of the D-form.

-HPLC 측정 조건--HPLC measurement conditions -

ㆍ칼럼ㆍ Column

광학 분할 칼럼, (주)스미카 분세키 센터제 SUMICHIRAL OA5000Optical split column, SUMICHIRAL OA5000 manufactured by Sumika Center Co., Ltd.

ㆍ측정 장치ㆍ Measuring device

닛폰 분코사제 액체 크로마토그래피Liquid chromatography, manufactured by Nippon Bunko Co.,

ㆍ칼럼 온도ㆍ Column temperature

25℃25 ℃

ㆍ이동상ㆍ Mobile phase

1.0mM-황산구리(II) 완충액/IPA=98/2(V/V)1.0 mM-copper sulfate (II) buffer / IPA = 98/2 (V / V)

황산구리(II)/IPA/물=156.4mg/20mL/980mLCopper sulfate (II) / IPA / water = 156.4 mg / 20 mL / 980 mL

ㆍ이동상 유량ㆍ Mobile flow rate

1.0㎖/분1.0 ml / min

ㆍ검출기ㆍ Detector

자외선 검출기(UV 254nm)UV detector (UV 254nm)

상기 헬리컬 키랄 고분자 (X)로서는, 고분자 필름 (A)를 압전 필름으로서 사용하였을 때에는 압전성을 보다 향상시킨다는 관점에서, 하기 식 (1)로 표시되는 반복 단위를 포함하는 주쇄를 갖는 화합물이 바람직하다.As the above-mentioned helical chiral polymer (X), a compound having a main chain containing a repeating unit represented by the following formula (1) is preferable from the viewpoint of further improving the piezoelectricity when the polymer film (A) is used as a piezoelectric film.

Figure pct00002
Figure pct00002

상기 식 (1)로 표시되는 반복 단위를 주쇄로 하는 화합물 중에서도, 폴리락트산계 고분자가 바람직하다.Among the compounds having a repeating unit represented by the above formula (1) as a main chain, a polylactic acid-based polymer is preferable.

여기서, 폴리락트산계 고분자란, 「폴리락트산(L-락트산 및 D-락트산으로부터 선택되는 단량체 유래의 반복 단위만으로 이루어지는 고분자)」, 「L-락트산 또는 D-락트산과, 상기 L-락트산 또는 D-락트산과 공중합 가능한 화합물의 공중합체」, 또는 양자의 혼합물을 말한다.Here, the polylactic acid polymer refers to a polylactic acid (a polymer comprising only a monomer-derived repeating unit selected from L-lactic acid and D-lactic acid), L-lactic acid or D- A copolymer of lactic acid and a compound capable of copolymerization &quot;, or a mixture of both.

폴리락트산계 고분자 중에서도, 폴리락트산이 바람직하고, L-락트산의 단독 중합체(PLLA) 또는 D-락트산의 단독 중합체(PDLA)가 가장 바람직하다.Of the polylactic acid-based polymers, polylactic acid is preferable, and a homopolymer of L-lactic acid (PLLA) or a homopolymer of D-lactic acid (PDLA) is most preferable.

폴리락트산은, 락트산이 에스테르 결합에 의해 중합하여, 길게 연결된 고분자이다.The polylactic acid is a long-chain linked polymer obtained by polymerizing lactic acid by an ester bond.

폴리락트산은, 락티드를 경유하는 락티드법; 용매 중에서 락트산을 감압 하 가열하고, 물을 제거하면서 중합시키는 직접 중합법; 등에 의해 제조할 수 있음이 알려져 있다.The polylactic acid may be produced by a lactide method via lactide; A direct polymerization method in which lactic acid is heated under reduced pressure in a solvent and polymerization is carried out while removing water; And the like.

폴리락트산으로서는, L-락트산의 단독 중합체, D-락트산의 단독 중합체, L-락트산 및 D-락트산 중 적어도 한쪽의 중합체를 포함하는 블록 공중합체, 및 L-락트산 및 D-락트산 중 적어도 한쪽의 중합체를 포함하는 그래프트 공중합체를 들 수 있다.Examples of the polylactic acid include a homopolymer of L-lactic acid, a homopolymer of D-lactic acid, a block copolymer containing at least one polymer of L-lactic acid and D-lactic acid, and a polymer of at least one of L-lactic acid and D- And the like.

상기 「L-락트산 또는 D-락트산과 공중합 가능한 화합물」로서는, 글리콜산, 디메틸글리콜산, 3-히드록시부티르산, 4-히드록시부티르산, 2-히드록시프로판산, 3-히드록시프로판산, 2-히드록시발레르산, 3-히드록시발레르산, 4-히드록시발레르산, 5-히드록시발레르산, 2-히드록시카프로산, 3-히드록시카프로산, 4-히드록시카프로산, 5-히드록시카프로산, 6-히드록시카프로산, 6-히드록시메틸카프로산, 만델산 등의 히드록시카르복실산; 글리콜리드, β-메틸-δ-발레로락톤, γ-발레로락톤, ε-카프로락톤 등의 환상 에스테르; 옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 아젤라산, 세바스산, 운데칸이산, 도데칸이산, 테레프탈산 등의 다가 카르복실산 및 이들의 무수물; 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2,3-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 테트라메틸렌글리콜, 1,4-헥산디메탄올 등의 다가 알코올; 셀룰로오스 등의 다당류; α-아미노산 등의 아미노카르복실산; 등을 들 수 있다.Examples of the compound copolymerizable with L-lactic acid or D-lactic acid include glycolic acid, dimethyl glycolic acid, 3-hydroxybutyric acid, 4-hydroxybutyric acid, 2-hydroxypropanoic acid, Hydroxycaproic acid, 4-hydroxycaproic acid, 5- hydroxycaproic acid, 3-hydroxybutyric acid, 5-hydroxybutyric acid, Hydroxycarboxylic acids such as hydroxycaproic acid, 6-hydroxycaproic acid, 6-hydroxymethylcaproic acid, mandelic acid and the like; Cyclic esters such as glycolide,? -Methyl-? -Valerolactone,? -Valerolactone and? -Caprolactone; Polyvalent carboxylic acids such as oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, dodecanedioic acid and terephthalic acid, and anhydrides thereof; Ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, Polyhydric alcohols such as 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol, tetramethylene glycol and 1,4-hexanedimethanol; Polysaccharides such as cellulose; aminocarboxylic acids such as? -amino acids; And the like.

상기 「L-락트산 또는 D-락트산과, 상기 L-락트산 또는 D-락트산과 공중합 가능한 화합물의 공중합체」로서는, 나선 결정을 생성 가능한 폴리락트산 시퀀스를 갖는, 블록 공중합체 또는 그래프트 공중합체를 들 수 있다.Examples of the "copolymer of L-lactic acid or D-lactic acid and the compound copolymerizable with L-lactic acid or D-lactic acid" include block copolymers or graft copolymers having a polylactic acid sequence capable of generating spiral crystals have.

또한, 헬리컬 키랄 고분자 (X) 중에 있어서의 공중합체 성분으로부터 유래하는 구조의 농도는 20mol% 이하인 것이 바람직하다.The concentration of the structure derived from the copolymer component in the helical chiral polymer (X) is preferably 20 mol% or less.

예를 들어, 헬리컬 키랄 고분자 (X)가 폴리락트산계 고분자인 경우, 폴리락트산계 고분자 중에 있어서의, 락트산으로부터 유래하는 구조와, 락트산과 공중합 가능한 화합물(공중합체 성분)로부터 유래하는 구조의 몰수의 합계에 대하여, 공중합체 성분으로부터 유래하는 구조의 농도가 20mol% 이하인 것이 바람직하다.For example, when the helical chiral polymer (X) is a polylactic acid-based polymer, it is preferable that the molar ratio of the structure derived from lactic acid and the structure derived from a compound (copolymer component) copolymerizable with lactic acid in the polylactic acid- It is preferable that the concentration of the structure derived from the copolymer component is 20 mol% or less with respect to the total.

폴리락트산계 고분자는, 예를 들어 일본 특허 공개 소59-096123호 공보 및 일본 특허 공개 평7-033861호 공보에 기재되어 있는 락트산을 직접 탈수 축합하여 얻는 방법; 미국 특허 2,668,182호 및 4,057,357호 등에 기재되어 있는 락트산의 환상 이량체인 락티드를 사용하여 개환 중합시키는 방법; 등에 의해 제조할 수 있다. Examples of the polylactic acid-based polymer include a method in which the lactic acid described in JP-A-59-096123 and JP-A-7-033861 is directly dehydrated and condensed; Ring-opening polymerization using a cyclic excess chain lactide of lactic acid described in U.S. Patent Nos. 2,668,182 and 4,057,357; And the like.

또한, 상기 각 제조 방법에 의해 얻어진 폴리락트산계 고분자는, 광학 순도를 95.00%ee 이상으로 하기 위해, 예를 들어 폴리락트산을 락티드법으로 제조하는 경우, 정석 조작에 의해 광학 순도를 95.00%ee 이상의 광학 순도로 향상시킨 락티드를 중합하는 것이 바람직하다.In order to make the optical purity of the polylactic acid polymer obtained by each of the above-mentioned production methods 95.00% ee or more, for example, when polylactic acid is produced by the lactide method, the optical purity is 95.00% ee It is preferable to polymerize the lactide which has been improved to the above optical purity.

-중량 평균 분자량-- Weight average molecular weight -

유기 압전 재료의 중량 평균 분자량(Mw)은, 전술한 바와 같이 5만 내지 100만이다.The weight average molecular weight (Mw) of the organic piezoelectric material is 50,000 to 1,000,000 as described above.

유기 압전 재료의 Mw가 5만 이상이면, 고분자 필름 (A)의 기계적 강도가 향상된다. 상기 Mw는, 10만 이상인 것이 바람직하고, 20만 이상인 것이 더욱 바람직하다.If the Mw of the organic piezoelectric material is 50,000 or more, the mechanical strength of the polymer film (A) is improved. The Mw is preferably 100,000 or more, more preferably 200,000 or more.

한편, 유기 압전 재료의 Mw가 100만 이하이면, 성형(예를 들어 압출 성형)에 의해 고분자 필름 (A)를 얻을 때의 성형성이 향상된다. 상기 Mw는, 80만 이하인 것이 바람직하고, 30만 이하인 것이 더욱 바람직하다.On the other hand, if the Mw of the organic piezoelectric material is less than 1,000,000, the moldability when the polymer film (A) is obtained by molding (for example, extrusion molding) is improved. The Mw is preferably 800,000 or less, more preferably 300,000 or less.

또한, 유기 압전 재료의 분자량 분포(Mw/Mn)는, 고분자 필름 (A)의 강도의 관점에서, 1.1 내지 5인 것이 바람직하고, 1.2 내지 4인 것이 보다 바람직하다. 1.4 내지 3인 것이 더욱 바람직하다.The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the organic piezoelectric material is preferably 1.1 to 5, more preferably 1.2 to 4 in view of the strength of the polymer film (A). More preferably 1.4 to 3.

또한, 유기 압전 재료의 중량 평균 분자량 Mw 및 분자량 분포(Mw/Mn)는, 겔 침투 크로마토그래프(GPC)를 사용하여 측정된 값을 가리킨다. 여기서 Mn은, 유기 압전 재료의 수 평균 분자량이다.The weight average molecular weight Mw and the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the organic piezoelectric material refer to values measured using a gel permeation chromatograph (GPC). Where Mn is the number average molecular weight of the organic piezoelectric material.

이하, GPC에 의한 유기 압전 재료의 Mw 및 Mw/Mn의 측정 방법의 일례를 나타낸다.An example of a method for measuring Mw and Mw / Mn of an organic piezoelectric material by GPC is shown below.

-GPC 측정 장치-- GPC measuring device -

Waters사제 GPC-100GPC-100 manufactured by Waters

-칼럼--column-

쇼와 덴코사제, Shodex LF-804Shodex LF-804 manufactured by Showa Denko Co., Ltd.

-샘플의 조제-- Preparation of sample -

고분자 필름 (A)를 40℃에서 용매(예를 들어, 클로로포름)에 용해시켜, 농도 1mg/ml의 샘플 용액을 준비한다.A sample solution having a concentration of 1 mg / ml is prepared by dissolving the polymer film (A) in a solvent (for example, chloroform) at 40 占 폚.

-측정 조건--Measuring conditions-

샘플 용액 0.1ml를 용매 [클로로포름], 온도 40℃, 1㎖/분의 유속으로 칼럼에 도입한다.0.1 ml of the sample solution is introduced into a column at a flow rate of 1 ml / min at a temperature of 40 ° C in a solvent [chloroform].

칼럼에서 분리된 샘플 용액 중의 샘플 농도를 시차 굴절계로 측정한다.The sample concentration in the sample solution separated from the column is measured with a differential refractometer.

폴리스티렌 표준 시료에서 유니버설 검량선을 작성하고, 유기 압전 재료의 중량 평균 분자량(Mw) 및 분자량 분포(Mw/Mn)를 산출한다.A universal calibration curve is prepared from a polystyrene standard sample and the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the organic piezoelectric material are calculated.

유기 압전 재료의 예인 폴리락트산계 고분자는, 헬리컬 키랄 고분자이며, 시판 중인 폴리락트산을 사용할 수 있다.The polylactic acid polymer which is an example of the organic piezoelectric material is a helical chiral polymer, and commercially available polylactic acid can be used.

시판품으로서는, 예를 들어 PURAC사제의 PURASORB(PD, PL), 미쓰이 가가쿠사제의 LACEA(H-100, H-400), NatureWorks LLC사제의 IngeoTM biopolymer 등을 들 수 있다.Examples of commercially available products include PURASORB (PD, PL) manufactured by PURAC, LACEA (H-100, H-400) manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., Ingeo TM biopolymer and the like.

유기 압전 재료로서 폴리락트산계 고분자를 사용할 때, 폴리락트산계 고분자의 중량 평균 분자량(Mw)을 5만 이상으로 하기 위해서는, 락티드법 또는 직접 중합법에 의해 폴리락트산계 고분자를 제조하는 것이 바람직하다.When the polylactic acid polymer is used as the organic piezoelectric material, the polylactic acid polymer is preferably produced by a lactide method or a direct polymerization method in order to obtain a weight average molecular weight (Mw) of 50,000 or more of the polylactic acid polymer .

본 개시에 있어서의 고분자 필름 (A)는, 전술한 유기 압전 재료를, 1종만 함유하고 있어도 되고, 2종 이상 함유하고 있어도 된다.The polymer film (A) in the present disclosure may contain only one kind of the above-mentioned organic piezoelectric material, or two or more kinds thereof.

고분자 필름 (A) 중에 있어서의 유기 압전 재료의 함유량(2종 이상인 경우에는 총 함유량)은, 고분자 필름 (A)의 전체량에 대하여, 80질량% 이상이 바람직하다. 예를 들어, 상기 유기 압전 재료가 헬리컬 키랄 고분자 (X)인 경우, 고분자 필름 (A) 중에 있어서의 헬리컬 키랄 고분자 (X)의 함유량(2종 이상인 경우에는 총 함유량)은, 고분자 필름 (A)의 전체량에 대하여, 80질량% 이상이 바람직하다.The content (the total content in the case of two or more kinds) of the organic piezoelectric material in the polymer film (A) is preferably 80% by mass or more based on the total amount of the polymer film (A). For example, when the organic piezoelectric material is a helical chiral polymer (X), the content of the helical chiral polymer (X) in the polymer film (A) (the total content in the case of two or more species) Is preferably 80% by mass or more.

[안정화제 (Y)][Stabilizer (Y)]

고분자 필름 (A)는, 추가로, 1분자 중에, 카르보디이미드기, 에폭시기 및 이소시아네이트기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종류 이상의 관능기를 갖는 중량 평균 분자량이 200 내지 60000인 안정화제 (Y1), 그리고 이미노에테르기를 갖는 안정화제 (Y2)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 안정화제 (Y)를 함유하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 고분자 필름 (A)의 내습열성을 향상시킬 수 있다.The polymer film (A) further includes a stabilizer (Y1) having one or more functional groups selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group and an isocyanate group in a molecule and having a weight average molecular weight of 200 to 60000, And at least one stabilizer (Y) selected from the group consisting of a stabilizer having a non-ether group (Y2). As a result, the heat and humidity resistance of the polymer film (A) can be improved.

고분자 필름 (A)가 안정화제 (Y)를 포함하는 경우, 즉 고분자 필름 (A)가 안정화제 (Y1) 및 안정화제 (Y2)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 안정화제 (Y)를 포함하는 경우, 안정화제 (Y)의 함유량은, 유기 압전 재료 100질량부에 대하여, 0.01질량부 내지 10질량부인 것이 바람직하고, 0.01질량부 내지 5질량부인 것이 보다 바람직하고, 0.1질량부 내지 3질량부인 것이 더욱 바람직하고, 0.5질량부 내지 2질량부인 것이 특히 바람직하다. 예를 들어 유기 압전 재료가 헬리컬 키랄 고분자 (X)인 경우, 안정화제 (Y)의 함유량은, 헬리컬 키랄 고분자 (X) 100질량부에 대하여, 0.01질량부 내지 10질량부인 것이 바람직하고, 0.01질량부 내지 5질량부인 것이 보다 바람직하고, 0.1질량부 내지 3질량부인 것이 더욱 바람직하고, 0.5질량부 내지 2질량부인 것이 특히 바람직하다.In the case where the polymer film (A) contains the stabilizer (Y), that is, the polymer film (A) contains at least one stabilizer (Y) selected from the group consisting of the stabilizer (Y1) and the stabilizer , The content of the stabilizer (Y) is preferably 0.01 parts by mass to 10 parts by mass, more preferably 0.01 parts by mass to 5 parts by mass, more preferably 0.1 parts by mass to 3 parts by mass relative to 100 parts by mass of the organic piezoelectric material More preferably 0.5 part by mass to 2 parts by mass. For example, when the organic piezoelectric material is a helical chiral polymer (X), the content of the stabilizer (Y) is preferably 0.01 parts by mass to 10 parts by mass relative to 100 parts by mass of the helical chiral polymer (X) More preferably from 0.1 part by mass to 3 parts by mass, and particularly preferably from 0.5 part by mass to 2 parts by mass.

상기 함유량이 0.01질량부 이상이면, 고분자 필름 (A)의 내습열성이 보다 향상된다.When the content is 0.01 part by mass or more, the moisture resistance and heat resistance of the polymer film (A) is further improved.

또한, 상기 함유량이 10질량부 이하이면, 투명성의 저하가 보다 억제된다.When the content is 10 parts by mass or less, the lowering of transparency is further suppressed.

또한, 상기 함유량은, 안정화제 (Y)를 2종 이상 병용하는 경우, 그것들의 총량을 나타낸다.The above content represents the total amount of two or more stabilizing agents (Y) when they are used in combination.

(안정화제 (Y1))(Stabilizer (Y1))

안정화제 (Y1)로서는, 국제 공개 제2013/054918호 팸플릿의 단락 0039 내지 0055에 기재된 「안정화제 (B)」를 사용할 수 있다.As the stabilizer (Y1), "stabilizer (B)" described in paragraphs 0039 to 0055 of International Publication No. 2013/054918 pamphlet can be used.

안정화제 (Y1)로서 사용할 수 있는, 1분자 중에 카르보디이미드기를 포함하는 화합물(카르보디이미드 화합물)로서는, 모노카르보디이미드 화합물, 폴리카르보디이미드 화합물, 환상 카르보디이미드 화합물을 들 수 있다.Examples of the compound (carbodiimide compound) having a carbodiimide group in one molecule which can be used as the stabilizer (Y1) include a monocarbodiimide compound, a polycarbodiimide compound and a cyclic carbodiimide compound.

모노카르보디이미드 화합물로서는, 디시클로헥실카르보디이미드, 비스-2,6-디이소프로필페닐카르보디이미드 등이 바람직하다.As the monocarbodiimide compound, dicyclohexylcarbodiimide, bis-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide and the like are preferable.

또한, 폴리카르보디이미드 화합물로서는, 여러 가지 방법으로 제조된 것을 사용할 수 있다. 종래의 폴리카르보디이미드의 제조 방법(예를 들어, 미국 특허 제2941956호 명세서, 일본 특허 공고 소47-33279호 공보, 문헌 [J. 0rg. Chem. 28, 2069-2075(1963)], 문헌 [Chemical Review 1981, Vol.81 No.4, p619-621])에 의해, 제조된 것을 사용할 수 있다. 구체적으로는 일본 특허 제4084953호 공보에 기재된 카르보디이미드 화합물을 사용할 수도 있다.As the polycarbodiimide compound, those produced by various methods can be used. (Japanese Patent Publication No. 2941956, Japanese Patent Publication No. 47-33279, J. 0rg. Chem. 28, 2069-2075 (1963)), a method of producing a conventional polycarbodiimide [Chemical Review 1981, Vol.81 No.4, p619-621]) can be used. Specifically, the carbodiimide compound described in Japanese Patent No. 4084953 may be used.

폴리카르보디이미드 화합물로서는, 폴리(4,4'-디시클로헥실메탄카르보디이미드), 폴리(N,N'-디-2,6-디이소프로필페닐카르보디이미드), 폴리(1,3,5-트리이소프로필페닐렌-2,4-카르보디이미드) 등을 들 수 있다.Examples of the polycarbodiimide compound include poly (4,4'-dicyclohexylmethanecarbodiimide), poly (N, N'-di-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide), poly , 5-triisopropylphenylene-2,4-carbodiimide), and the like.

환상 카르보디이미드 화합물은, 일본 특허 공개 제2011-256337호 공보에 기재된 방법 등에 기초하여 합성할 수 있다.The cyclic carbodiimide compound can be synthesized based on the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-256337.

카르보디이미드 화합물로서는, 시판품을 사용해도 되며, 예를 들어 도쿄 가세이제, B2756(상품명), 닛신보 케미컬사제, 카르보딜라이트 LA-1, 라인 케미사제, Stabaxol P, Stabaxol P400, Stabaxol I(모두 상품명) 등을 들 수 있다.As the carbodiimide compound, a commercially available product may be used. For example, a commercially available product such as B2756 (trade name), Nippon Chemical Co., Carbodilite LA-1, Rene Chemie, Stabaxol P, Stabaxol P400, Stabaxol I Trade name).

안정화제 (Y1)로서 사용할 수 있는, 1분자 중에 이소시아네이트기를 포함하는 화합물(이소시아네이트 화합물)로서는, 이소시안산3-(트리에톡시실릴)프로필, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, m-페닐렌디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 2,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 2,2'-디페닐메탄디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 크실릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등을 들 수 있다.Examples of the compound (isocyanate compound) having an isocyanate group in one molecule which can be used as the stabilizer (Y1) include 3- (triethoxysilyl) propyl isocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, Diisocyanate, m-phenylenediisocyanate, p-phenylenediisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 2,4'-diphenylmethane diisocyanate, 2,2'-diphenylmethane diisocyanate, Xylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, and the like.

안정화제 (Y1)로서 사용할 수 있는, 1분자 중에 에폭시기를 포함하는 화합물(에폭시 화합물)로서는, 페닐글리시딜에테르, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 비스페놀 A-디글리시딜에테르, 수소 첨가 비스페놀 A-디글리시딜에테르, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지, 에폭시화 폴리부타디엔 등을 들 수 있다.Examples of the compound (epoxy compound) containing an epoxy group in one molecule which can be used as the stabilizer (Y1) include phenyl glycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, bisphenol A-diglycidyl ether, Bisphenol A-diglycidyl ether, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, and epoxidized polybutadiene.

안정화제 (Y1)의 중량 평균 분자량으로서는, 상술한 바와 같이 200 내지 60000이 바람직하고, 200 내지 30000이 보다 바람직하고, 300 내지 18000이 더욱 바람직하다.The weight average molecular weight of the stabilizer (Y1) is preferably 200 to 60000, more preferably 200 to 30,000, and still more preferably 300 to 18000 as described above.

분자량이 상기 범위 내라면, 안정화제 (Y1)이 보다 이동하기 쉬워지고, 고분자 필름 (A)의 내습열성이 향상된다.If the molecular weight is within the above range, the stabilizer (Y1) is more likely to move and the moisture resistance of the polymer film (A) is improved.

안정화제 (Y1)의 중량 평균 분자량은, 200 내지 900인 것이 특히 바람직하다. 또한, 중량 평균 분자량 200 내지 900은, 수 평균 분자량 200 내지 900과 거의 일치한다. 또한, 중량 평균 분자량 200 내지 900의 경우, 분자량 분포가 1.0인 경우가 있으며, 이 경우에는 「중량 평균 분자량 200 내지 900」을, 간단히 「분자량 200 내지 900」으로 바꿔 말할 수도 있다.The weight average molecular weight of the stabilizer (Y1) is particularly preferably 200 to 900. [ In addition, the weight average molecular weight of 200 to 900 almost coincides with the number average molecular weight of 200 to 900. In the case of a weight average molecular weight of 200 to 900, the molecular weight distribution may be 1.0. In this case, the &quot; weight average molecular weight 200 to 900 &quot; may be simply referred to as &quot; molecular weight 200 to 900 &quot;.

고분자 필름 (A)가 안정화제 (Y1)을 함유하는 경우, 상기 고분자 필름 (A)는, 안정화제 (Y1)을 1종만 함유해도 되고, 2종 이상 함유해도 된다.When the polymer film (A) contains the stabilizer (Y1), the polymer film (A) may contain only one type of stabilizer (Y1) or two or more types of the stabilizer (Y1).

안정화제 (Y1)의 바람직한 양태로서는, 카르보디이미드기, 에폭시기 및 이소시아네이트기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종류 이상의 관능기를 갖고, 또한 수 평균 분자량이 200 내지 900인 안정화제 (Y1a)와, 카르보디이미드기, 에폭시기 및 이소시아네이트기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종류 이상의 관능기를 1분자 내에 2 이상 갖고, 또한 중량 평균 분자량이 1000 내지 60000인 안정화제 (Y1b)를 병용한다고 하는 양태를 들 수 있다. 또한, 수 평균 분자량이 200 내지 900인 안정화제 (Y1a)의 중량 평균 분자량은, 대략 200 내지 900이며, 안정화제 (Y1a)의 수 평균 분자량과 중량 평균 분자량은 거의 동일한 값이 된다.As a preferred embodiment of the stabilizer (Y1), a stabilizer (Y1a) having at least one functional group selected from the group consisting of carbodiimide groups, epoxy groups and isocyanate groups and having a number average molecular weight of 200 to 900 and a carbodiimide (Y1b) having two or more functional groups selected from the group consisting of an epoxy group, an epoxy group and an isocyanate group in one molecule and having a weight average molecular weight of 1000 to 60000 are also used. The weight average molecular weight of the stabilizer (Y1a) having a number average molecular weight of 200 to 900 is approximately 200 to 900, and the number average molecular weight and the weight average molecular weight of the stabilizer (Y1a) are approximately the same value.

안정화제로서 안정화제 (Y1a)와 안정화제 (Y1b)를 병용하는 경우, 안정화제 (Y1a)를 많이 포함하는 것이 투명성 향상의 관점에서 바람직하다.When the stabilizer (Y1a) and the stabilizer (Y1b) are used in combination as the stabilizer, it is preferable that the stabilizer (Y1a) is included in a large amount from the viewpoint of improvement of transparency.

구체적으로는, 안정화제 (Y1a) 100질량부에 대하여, 안정화제 (Y1b)가 10질량부 내지 150질량부의 범위인 것이, 투명성과 내습열성의 양립이라고 하는 관점에서 바람직하고, 50질량부 내지 100질량부의 범위인 것이 보다 바람직하다.Specifically, it is preferable that the stabilizer (Y1b) is in the range of 10 parts by mass to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the stabilizer (Y1a) from the viewpoint of compatibility between transparency and moist heat resistance, And more preferably in the range of the mass part.

이하, 안정화제 (Y1)의 구체예(안정화제 Y-1 내지 Y-3)를 나타낸다.Specific examples (stabilizers Y-1 to Y-3) of the stabilizer (Y1) are shown below.

Figure pct00003
Figure pct00003

이하, 상기 안정화제 Y-1 내지 Y-3에 대하여, 화합물명, 시판품 등을 나타낸다.Hereinafter, the above-mentioned stabilizers Y-1 to Y-3 are given the names of the compounds and commercial products.

ㆍ안정화제 Y-1 … 화합물명은 비스-2,6-디이소프로필페닐카르보디이미드이다. 중량 평균 분자량(이 예에서는, 단순한 「분자량」과 동등함)은 363이다. 시판품으로서는, 라인 케미사제 「Stabaxol I」, 도쿄 가세이사제 「B2756」을 들 수 있다.ㆍ Stabilizer Y-1 ... The compound is bis-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide. The weight average molecular weight (equivalent to a simple &quot; molecular weight &quot; in this example) is 363. Commercially available products include "Stabaxol I" manufactured by Rhein Chemie, and "B2756" manufactured by Tokyo Kasei Kasei.

ㆍ안정화제 Y-2 … 화합물명은 폴리(4,4'-디시클로헥실메탄카르보디이미드)이다. 시판품으로서는, 중량 평균 분자량 약 2000의 것으로서, 닛신보 케미컬사제 「카르보딜라이트 LA-1」을 들 수 있다.ㆍ Stabilizer Y-2 ... The compound is poly (4,4'-dicyclohexylmethanecarbodiimide). As a commercially available product, "Carbodilite LA-1" manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd., having a weight-average molecular weight of about 2000, may be mentioned.

ㆍ안정화제 Y-3 … 화합물명은 폴리(1,3,5-트리이소프로필페닐렌-2,4-카르보디이미드)이다. 시판품으로서는, 중량 평균 분자량 약 3000의 것으로서, 라인 케미사제 「Stabaxol P」를 들 수 있다. 또한, 중량 평균 분자량 20000의 것으로서, 라인 케미사제 「Stabaxol P400」을 들 수 있다.ㆍ Stabilizer Y-3 ... The compound is poly (1,3,5-triisopropylphenylene-2,4-carbodiimide). Commercially available products include "Stabaxol P" manufactured by Rhein Chemie, having a weight average molecular weight of about 3000. Further, "Stabaxol P400" manufactured by Rhein Chemicals Co., Ltd., having a weight average molecular weight of 20,000 can be mentioned.

(안정화제 (Y2))(Stabilizer (Y2))

이미노에테르기를 갖는 안정화제 (Y2)로서는, 1분자 중에 이미노에테르기를 포함하는 화합물(이미노에테르 화합물)을 사용할 수 있다. 이미노에테르 화합물로서는, 하기 일반식 (1)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.As the stabilizer (Y2) having an imino ether group, a compound (iminoether compound) containing an imino ether group in one molecule can be used. Examples of the imino ether compound include compounds represented by the following general formula (1).

Figure pct00004
Figure pct00004

일반식 (1) 중, R2는 치환기를 가져도 되는 알킬기, 치환기를 가져도 되는 시클로알킬기, 치환기를 가져도 되는 아릴기 또는 치환기를 가져도 되는 알콕시기를 나타내고, R3은 하기 일반식 (2)로 표시되는 알킬기, 또는 하기 일반식 (3)으로 표시되는 아릴기를 나타내고, R11, R12 및 R13은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 알킬기 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기를 나타낸다. 또한, R2, R3, R11, R12 및 R13은 서로 결합하여 환을 형성해도 된다. 단, R3이 하기 일반식 (2)로 표시되는 경우, R11 내지 R13 중 적어도 하나와 R31 내지 R33 중 적어도 하나가 형성하는 결합은 연결 원자수가 2 이상인 결합이다.R 2 represents an alkyl group which may have a substituent, a cycloalkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent or an alkoxy group which may have a substituent, and R 3 represents a group represented by the following general formula (2) R 11 , R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent (s), or an aryl group represented by the following formula . R 2 , R 3 , R 11 , R 12 and R 13 may be bonded to each other to form a ring. When R 3 is represented by the following general formula (2), the bond formed by at least one of R 11 to R 13 and at least one of R 31 to R 33 is a bond having two or more connecting atoms.

Figure pct00005
Figure pct00005

Figure pct00006
Figure pct00006

일반식 (2) 중, R31, R32 및 R33은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다. R31, R32 및 R33은 서로 연결하여 환을 형성해도 된다. 일반식 (3) 중, R41은 치환기를 나타내며, R41이 복수 존재하는 경우에는 동일해도 되고, 상이해도 된다. 또한, n은 0 내지 5의 정수를 나타낸다. 또한, 일반식 (2) 및 (3)에 있어서 *는, 질소 원자와 결합하는 위치를 나타낸다.In the general formula (2), R 31 , R 32 and R 33 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. R 31 , R 32 and R 33 may be connected to each other to form a ring. In the general formula (3), R 41 represents a substituent, and when a plurality of R 41 s exist, they may be the same or different. N represents an integer of 0 to 5; In the formulas (2) and (3), * represents a position at which the compound bonds to the nitrogen atom.

일반식 (1)에 있어서, R2로 표시되는 알킬기는, 탄소수 1 내지 20의 알킬기인 것이 바람직하고, 탄소수 1 내지 12의 알킬기인 것이 보다 바람직하다. R2가 나타내는 알킬기는 직쇄여도 되고 분지쇄여도 된다. 또한, R2로 표시되는 알킬기는 시클로알킬기여도 된다. R2가 나타내는 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, iso-부틸기, n-펜틸기, sec-펜틸기, iso-펜틸기, n-헥실기, sec-헥실기, iso-헥실기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다. 그 중에서도 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, iso-부틸기, 시클로헥실기로 하는 것이 보다 바람직하다.In the general formula (1), the alkyl group represented by R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. The alkyl group represented by R 2 may be straight chain or branched chain. The alkyl group represented by R &lt; 2 &gt; may also be a cycloalkyl group. Examples of the alkyl group represented by R 2 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a tert- , iso-pentyl group, n-hexyl group, sec-hexyl group, iso-hexyl group and cyclohexyl group. Among them, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, an iso-butyl group and a cyclohexyl group are more preferable.

R2가 나타내는 알킬기는 치환기를 더 가져도 된다. 치환기로서는, 상기 알킬기, 아릴기, 알콕시기, 할로겐 원자, 니트로기, 아미드기, 히드록실기, 에스테르기, 에테르기, 알데히드기 등을 들 수 있다. 또한, R2가 나타내는 알킬기의 탄소수는, 치환기를 포함하지 않는 탄소수를 나타낸다.The alkyl group represented by R 2 may further have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group and an aldehyde group. The number of carbon atoms of the alkyl group represented by R 2 represents the number of carbon atoms not containing a substituent.

R2로 표시되는 아릴기는, 탄소수 6 내지 20의 아릴기인 것이 바람직하고, 탄소수 6 내지 12의 아릴기인 것이 보다 바람직하다. R2가 나타내는 아릴기로서는, 페닐기, 나프틸기 등을 들 수 있고, 그 중에서도 페닐기가 특히 바람직하다. R2가 나타내는 아릴기는 치환기를 더 가져도 된다. 또한, 치환기로서는, 상기 치환기를 동일하게 예시할 수 있다. 또한, R2가 나타내는 아릴기의 탄소수는, 치환기를 포함하지 않는 탄소수를 나타낸다.The aryl group represented by R 2 is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, more preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. As the aryl group represented by R 2 , a phenyl group, a naphthyl group and the like can be mentioned. Of these, a phenyl group is particularly preferable. The aryl group represented by R 2 may further have a substituent. As the substituent, the above substituents can be exemplified. The carbon number of the aryl group represented by R 2 represents the number of carbon atoms not containing a substituent.

R2로 표시되는 알콕시기는, 탄소수 1 내지 20의 알콕시기인 것이 바람직하고, 탄소수 1 내지 12의 알콕시기인 것이 보다 바람직하고, 탄소수 2 내지 6의 알콕시기인 것이 특히 바람직하다. R2가 나타내는 알콕시기는 직쇄여도 되고 분지여도 되고 환상이어도 된다. R2가 나타내는 알콕시기의 바람직한 예로서는, R2가 나타내는 알킬기의 말단에 -O-가 연결된 기를 들 수 있다. R2가 나타내는 알콕시기는 치환기를 더 가져도 된다. 또한, 치환기로서는, 상기 치환기를 동일하게 예시할 수 있다. 또한, R2가 나타내는 알콕시기의 탄소수는, 치환기를 포함하지 않는 탄소수를 나타낸다.The alkoxy group represented by R 2 is preferably an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably an alkoxy group having 2 to 6 carbon atoms. The alkoxy group represented by R 2 may be straight chain, branched or cyclic. Preferable examples of the alkoxy group represented by R 2 include a group in which -O- is connected to the terminal of the alkyl group represented by R 2 . The alkoxy group represented by R 2 may further have a substituent. As the substituent, the above substituents can be exemplified. The carbon number of the alkoxy group represented by R 2 represents the number of carbon atoms not containing a substituent.

R3은 상기 일반식 (2)로 표시되는 알킬기, 또는 상기 일반식 (3)으로 표시되는 아릴기를 나타낸다. 일반식 (2) 중, R31, R32 및 R33은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다. R31, R32 및 R33이 치환기인 경우, 서로 연결하여 환을 형성해도 된다. 치환기로서는, 상기 알킬기, 아릴기, 알콕시기, 할로겐 원자, 니트로기, 아미드기, 히드록실기, 에스테르기, 에테르기, 알데히드기 등을 들 수 있다. R31, R32 및 R33은 모두가 수소 원자이거나 또는 동일한 치환기여도 되고, 상이한 치환기여도 된다. 또한, 일반식 (2)로 표시되는 알킬기는, 직쇄여도 되고 분지여도 된다. 또한, 일반식 (2)로 표시되는 알킬기는 시클로알킬기여도 된다.R 3 represents an alkyl group represented by the general formula (2) or an aryl group represented by the general formula (3). In the general formula (2), R 31 , R 32 and R 33 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. When R 31 , R 32 and R 33 are substituents, they may be connected to form a ring. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a halogen atom, a nitro group, an amide group, a hydroxyl group, an ester group, an ether group and an aldehyde group. R 31 , R 32 and R 33 are all hydrogen atoms, or they may be the same or different substituents. The alkyl group represented by the general formula (2) may be linear or branched. The alkyl group represented by the general formula (2) may also be a cycloalkyl group.

일반식 (3) 중, R41은 치환기를 나타내고, n은 0 내지 5의 정수를 나타낸다. n이 2 이상인 경우, R41은 동일해도 되고, 상이해도 된다. 또한, 치환기로서는, 상기 치환기를 동일하게 예시할 수 있다. 또한, n은 0 내지 3인 것이 보다 바람직하고, 0 내지 2인 것이 더욱 바람직하다.In the general formula (3), R 41 represents a substituent and n represents an integer of 0 to 5. When n is 2 or more, R 41 may be the same or different. As the substituent, the above substituents can be exemplified. Further, n is more preferably 0 to 3, and still more preferably 0 to 2.

R11, R12 및 R13은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 알킬기 또는 치환기를 가져도 되는 아릴기를 나타낸다. 알킬기 및 아릴기로서는, R2가 취할 수 있는 알킬기 및 아릴기를 동일하게 예시할 수 있다.R 11 , R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent. As the alkyl group and aryl group, the alkyl group and the aryl group which R 2 can take are the same.

R2, R3, R11, R12 및 R13은 서로 결합하여 환을 형성하지 않는 것이 바람직하지만, R2, R3, R11, R12 및 R13은 서로 결합하여 환을 형성해도 된다. 예를 들어, R3이 상기 일반식 (3)으로 표시되는 경우, R41과 R11 내지 R13 중 적어도 하나가 결합하여 환을 형성해도 되고, 벤젠환과, R11 내지 R13 중 어느 하나를 포함하는 환이 축합환을 형성해도 된다. R3이 상기 일반식 (3)으로 표시되는 경우, R41과 R11 내지 R13 중 적어도 하나가 결합하여 환을 형성하지 않는 것이 바람직하다. R 2, R 3, R 11 , R 12 and R 13 are preferably does not form a ring by combining to each other, however, R 2, R 3, R 11, R 12 and R 13 are bonded to form a ring . For example, when R 3 is represented by the general formula (3), at least one of R 41 and R 11 to R 13 may be bonded to form a ring, or a benzene ring and any one of R 11 to R 13 Containing ring may form a condensed ring. When R 3 is represented by the above general formula (3), it is preferable that at least one of R 41 and R 11 to R 13 is not bonded to form a ring.

단, R3이 상기 일반식 (2)로 표시되는 경우, R11 내지 R13 중 적어도 하나와 R31 내지 R33 중 적어도 하나가 형성하는 결합은 연결 원자수가 2 이상인 결합이다. R3이 상기 일반식 (2)로 표시되는 경우, R11 내지 R13 중 하나와 R31 내지 R33 중 하나가 형성하는 결합은 연결 원자수가 2 이상인 결합이며, 또한 이중 결합인 것이 바람직하다. R3이 상기 일반식 (2)로 표시되는 경우, R11 내지 R13 중 적어도 하나와 R31 내지 R33 중 적어도 하나가 결합하여 환을 형성하지 않는 것이 바람직하다.When R 3 is represented by the general formula (2), the bond formed by at least one of R 11 to R 13 and at least one of R 31 to R 33 is a bond having two or more connecting atoms. When R 3 is represented by the general formula (2), the bond formed by one of R 11 to R 13 and one of R 31 to R 33 is a bond having two or more connecting atoms, and is preferably a double bond. When R 3 is represented by the general formula (2), it is preferable that at least one of R 11 to R 13 and at least one of R 31 to R 33 are not bonded to form a ring.

일반식 (1)은 반복 단위를 포함하고 있어도 된다. 이 경우, R2, R3 또는 R11 내지 R13 중 적어도 하나가 반복 단위이며, 이 반복 단위에는 이미노에테르기가 포함되는 것이 바람직하다.The general formula (1) may contain a repeating unit. In this case, it is preferable that at least one of R 2 , R 3, or R 11 to R 13 is a repeating unit, and the repeating unit includes an imino ether group.

안정화제 (Y2)의 이미노에테르기당 분자량은 1000 이하인 것이 바람직하고, 750 이하인 것이 보다 바람직하고, 500 이하인 것이 더욱 바람직하다.The molecular weight of the stabilizer (Y2) per iminoether group is preferably 1000 or less, more preferably 750 or less, still more preferably 500 or less.

안정화제 (Y2)의 분자량, 즉 이미노에테르 화합물 전체의 분자량은, 280 이상인 것이 바람직하고, 300 이상인 것이 보다 바람직하다.The molecular weight of the stabilizer (Y2), that is, the molecular weight of the entire iminoether compound is preferably 280 or more, and more preferably 300 or more.

고분자 필름 (A)가 안정화제 (Y2)를 함유하는 경우, 상기 고분자 필름 (A)는, 안정화제 (Y2)를 1종만 함유해도 되고, 2종 이상 함유해도 된다.When the polymer film (A) contains the stabilizer (Y2), the polymer film (A) may contain only one kind of the stabilizer (Y2) or two or more kinds of the stabilizer (Y2).

또한, 일반식 (1)로 표시되는 화합물에 대해서는, 국제 공개 제2015/194661호 팸플릿의 단락 0015 내지 0063의 기재를 참조할 수 있다.Further, for the compound represented by the general formula (1), reference can be made to the description in paragraphs 0015 to 0063 of International Publication No. 2015/194661 pamphlet.

[그 밖의 성분][Other components]

고분자 필름 (A)는, 필요에 따라, 그 밖의 성분을 함유해도 된다.The polymer film (A) may contain other components as necessary.

그 밖의 성분으로서는, 폴리에틸렌 수지, 폴리스티렌 수지 등의 공지의 수지; 실리카, 히드록시아파타이트, 몬모릴로나이트 등의 공지의 무기 필러; 프탈로시아닌 등의 공지의 결정핵제; 안정화제 (Y) 이외의 안정화제; 등을 들 수 있다.Other components include known resins such as polyethylene resin and polystyrene resin; Inorganic fillers such as silica, hydroxyapatite, and montmorillonite; A known nucleating agent such as phthalocyanine; Stabilizers other than stabilizers (Y); And the like.

무기 필러 및 결정핵제로서는, 국제 공개 제2013/054918호 팸플릿의 단락 0057 내지 0058에 기재된 성분을 들 수도 있다.As inorganic fillers and crystal nucleating agents, there may be mentioned the components described in paragraphs 0057 to 0058 of International Publication No. 2013/054918 pamphlet.

<고분자 필름 (A)의 물성>&Lt; Physical Properties of Polymer Film (A) >

[규격화 분자 배향 MORc][Standardized molecular orientation MORc]

본 개시에 관한 고분자 필름 (A)는, 규격화 분자 배향 MORc가 1.0 내지 15.0이며, 2.0 내지 15.0인 것이 바람직하고, 3.5 내지 15.0인 것이 보다 바람직하고, 3.5 내지 10.0인 것이 더욱 바람직하고, 4.0 내지 8.0인 것이 보다 더 바람직하다.The polymer film (A) according to the present disclosure has a normalized molecular orientation MORc of 1.0 to 15.0, preferably 2.0 to 15.0, more preferably 3.5 to 15.0, further preferably 3.5 to 10.0, and more preferably 4.0 to 8.0 Is more preferable.

규격화 분자 배향 MORc는, 유기 압전 재료의 배향의 정도를 나타내는 지표인 「분자 배향도 MOR」에 기초하여 정해지는 값이다.The normalized molecular orientation MORc is a value determined based on the &quot; molecular orientation degree MOR &quot; which is an index indicating the degree of orientation of the organic piezoelectric material.

규격화 분자 배향 MORc가 1.0 내지 15.0의 범위에 있으면, 필름(고분자 필름 (A))의 강도를 높게 유지하며, 또한 특정 방향(예를 들어, 주된 연신 방향과 필름의 면 내에서 직교하는 방향)의 필름의 강도의 저하가 억제된다.When the normalized molecular orientation MORc is in the range of 1.0 to 15.0, the strength of the film (polymer film (A)) is kept high, and the strength of the film in the specific direction (for example, The lowering of the strength of the film is suppressed.

또한, MORc가 2.0 내지 15.0의 범위에 있으면, 연신 방향으로 배열되는 유기 압전 재료의 분자쇄가 많아진다. 그 결과, 고분자 필름 (A)를 압전 필름으로서 사용하였을 때에는, 배향 결정의 생성률이 높아지고, 높은 압전성을 발현하는 것이 가능해진다.When the MORc is in the range of 2.0 to 15.0, the number of molecular chains of the organic piezoelectric material arranged in the stretching direction is increased. As a result, when the polymer film (A) is used as a piezoelectric film, the generation rate of oriented crystals increases and it becomes possible to exhibit high piezoelectricity.

여기서, 분자 배향도 MOR(Molecular Orientation Ratio)은, 이하와 같은 마이크로파 측정법에 의해 측정된다. 즉, 고분자 필름 (A)를, 주지의 마이크로파 투과형 분자 배향계(마이크로파 분자 배향도 측정 장치라고도 함)의 마이크로파 공진 도파관 중에, 마이크로파의 진행 방향에 고분자 필름 (A)의 면(필름면)이 수직으로 되도록 배치한다. 그리고, 진동 방향이 한 방향으로 치우친 마이크로파를 시료에 연속적으로 조사한 상태에서, 고분자 필름 (A)를 마이크로파의 진행 방향과 수직인 면 내에서 0 내지 360°회전시켜, 시료를 투과한 마이크로파 강도를 측정함으로써 분자 배향도 MOR을 구한다.Here, the molecular orientation MOR (Molecular Orientation Ratio) is measured by the following microwave measurement method. That is, when the polymer film (A) is laminated in a microwave resonance waveguide of a well-known microwave transmission type molecular alignment system (also referred to as a microwave molecular orientation measuring apparatus) in such a manner that the surface (film surface) of the polymer film (A) Respectively. Then, the polymer film (A) is rotated in the plane perpendicular to the traveling direction of the microwave by 0 to 360 占 with the microwave whose direction of vibration is shifted in one direction continuously, and the intensity of the microwave transmitted through the sample is measured Thereby obtaining the molecular orientation MOR.

규격화 분자 배향 MORc는, 기준 두께 tc를 50㎛라고 하였을 때의 분자 배향도 MOR이며, 하기 식에 의해 구할 수 있다.The normalized molecular orientation MORc is a molecular orientation degree MOR when the reference thickness tc is 50 m, and can be obtained by the following formula.

MORc=(tc/t)×(MOR-1)+1MORc = (tc / t) x (MOR-1) +1

(tc: 보정하고 싶은 기준 두께, t: 고분자 필름 (A)의 두께)(tc: reference thickness to be corrected, t: thickness of the polymer film (A)),

규격화 분자 배향 MORc는, 공지의 분자 배향계, 예를 들어 오지 게이소쿠 기키 주식회사제 마이크로파 방식 분자 배향계 MOA-2012A나 MOA-6000 등에 의해, 4GHz 혹은 12GHz 근방의 공진 주파수에서 측정할 수 있다.Standardized molecular alignment MORc can be measured at a resonance frequency of about 4 GHz or 12 GHz by a known molecular alignment system, for example, a microwave molecular alignment system MOA-2012A or MOA-6000 manufactured by Oji Keisoku Kiki Co.,

규격화 분자 배향 MORc는, 예를 들어 고분자 필름 (A)가 연신 필름인 경우에는, 연신 전의 가열 처리 조건(가열 온도 및 가열 시간), 연신 조건(연신 온도 및 연신 속도) 등에 의해 제어될 수 있다.The normalized molecular orientation MORc can be controlled by, for example, heat treatment conditions (heating temperature and heating time) before stretching, stretching conditions (stretching temperature and stretching speed) and the like in the case where the polymer film (A) is a stretched film.

또한, 규격화 분자 배향 MORc는, 위상차량(리타데이션)을 필름의 두께로 나눈 복굴절률 Δn으로 변환할 수도 있다. 구체적으로는, 리타데이션은 오쓰카 덴시 주식회사제 RETS100을 사용하여 측정할 수 있다. 또한, MORc와 Δn은 대략, 직선적인 비례 관계에 있으며, 또한 Δn이 0인 경우, MORc는 1이 된다.The normalized molecular orientation MORc can also be converted into a birefringence? N obtained by dividing the phase vehicle (retardation) by the film thickness. Specifically, the retardation can be measured using RETS100 manufactured by Otsuka Denshi Co., Ltd. Also, MORc and DELTA n are approximately in a linear proportional relationship, and when DELTA n is 0, MORc is 1. [

예를 들어, 유기 압전 재료가 폴리락트산계 고분자이며, 또한 고분자 필름 (A)의 복굴절률 Δn을 측정 파장 550nm에서 측정한 경우, 규격화 분자 배향 MORc가 2.0이면, 복굴절률 Δn 0.005로 변환할 수 있고, 규격화 분자 배향 MORc가 4.0이면, 복굴절률 Δn 0.01로 변환할 수 있다.For example, when the organic piezoelectric material is a polylactic acid polymer and the birefringence? N of the polymer film (A) is measured at a measurement wavelength of 550 nm, when the normalized molecular orientation MORc is 2.0, the birefringence? N can be converted to 0.005 , And the normalized molecular orientation MORc is 4.0, the birefringence index can be converted into? N 0.01.

[결정화도][Crystallinity]

본 개시에 있어서의 고분자 필름 (A)의 결정화도는, DSC법에 의해 측정되는 값이다. 본 개시에 있어서의 고분자 필름 (A)의 결정화도는, 20% 내지 80%이며, 바람직하게는 20% 내지 70%, 더욱 바람직하게는 20% 내지 50%이다.The degree of crystallization of the polymer film (A) in the present disclosure is a value measured by the DSC method. The degree of crystallinity of the polymer film (A) in the present disclosure is 20% to 80%, preferably 20% to 70%, and more preferably 20% to 50%.

결정화도가 20% 이상이면, 필름(고분자 필름 (A))의 강도가 확보된다. 결정화도가 80% 이하이면, 필름의 투명성이 높게 유지된다. 또한, 상기 범위에 결정화도가 있으면, 필름을 연신할 때, 백화나 파단이 일어나기 어려워 제조하기 쉽다.When the crystallinity is 20% or more, the strength of the film (polymer film (A)) is secured. When the degree of crystallinity is 80% or less, transparency of the film is kept high. Further, if the crystallinity is in the above-mentioned range, whitening or breakage hardly occurs when the film is stretched, so that it is easy to produce.

또한, 고분자 필름 (A)의 결정화도가 20% 이상인 것은, 내열성을 향상시킨다는 점이나, 고분자 필름 (A)를 압전 필름으로서 사용하는 경우에 있어서, 압전성(압전 상수)을 향상시킨다는 점에서도 유리하다.The polymer film (A) having a crystallinity of 20% or more is advantageous in that it improves heat resistance, but also improves the piezoelectricity (piezoelectric constant) when the polymer film (A) is used as a piezoelectric film.

[규격화 분자 배향 MORc와 결정화도의 곱][Product of normalized molecular orientation MORc and crystallinity]

본 개시에 있어서의 고분자 필름 (A)는, 마이크로파 투과형 분자 배향계로 측정되는 기준 두께를 50㎛라고 하였을 때의 규격화 분자 배향 MORc와 DSC법으로 얻어지는 결정화도의 곱이 바람직하게는 20 내지 700, 보다 바람직하게는 40 내지 700, 더욱 바람직하게는 70 내지 700, 보다 더 바람직하게는 75 내지 680, 보다 더 바람직하게는 90 내지 660, 보다 더 바람직하게는 100 내지 650, 보다 더 바람직하게는 100 내지 350이다.In the polymer film (A) of the present disclosure, the product of the normalized molecular orientation MORc and the degree of crystallinity obtained by the DSC method when the reference thickness measured with the microwave transmission type molecular alignment system is 50 mu m is preferably 20 to 700, Is from 40 to 700, more preferably from 70 to 700, even more preferably from 75 to 680, even more preferably from 90 to 660, even more preferably from 100 to 650, still more preferably from 100 to 350. [

상기 규격화 분자 배향 MORc와, DSC법으로 얻어지는 결정화도의 곱이 20 내지 700의 범위에 있으면, 투명성 및 치수 안정성이 적합하게 유지된다.When the product of the normalized molecular orientation MORc and the degree of crystallinity obtained by the DSC method is in the range of 20 to 700, transparency and dimensional stability are suitably maintained.

또한, 상기 규격화 분자 배향 MORc와, DSC법으로 얻어지는 결정화도의 곱이 40 내지 700(바람직하게는 70 내지 700)의 범위에 있으면, 고분자 필름 (A)를 압전 필름으로서 사용하는 경우에는, 압전성이 적합하게 유지된다.When the product of the normalized molecular orientation MORc and the degree of crystallinity obtained by the DSC method is in the range of 40 to 700 (preferably 70 to 700), when the polymer film (A) is used as a piezoelectric film, maintain.

[투명성(내부 헤이즈)][Transparency (internal haze)]

본 개시에 있어서의 고분자 필름 (A)는, 가시광선에 대한 내부 헤이즈(이하, 간단히 「내부 헤이즈」라고도 함)가 50% 이하이며, 40% 이하인 것이 바람직하고, 20% 이하인 것이 보다 바람직하고, 15% 이하인 것이 더욱 바람직하고, 13% 이하인 것이 보다 더 바람직하고, 5% 이하인 것이 보다 더 바람직하고, 1% 이하인 것이 보다 더 바람직하다. 또한, 고분자 필름 (A)의 내부 헤이즈는, 투명성의 관점에서는 낮으면 낮을수록 좋으며, 그 하한에는 특별히 제한은 없지만, 본 개시에 있어서의 내부 헤이즈는 예를 들어 0.1% 이상으로 할 수 있다.The polymer film (A) in the present disclosure has an internal haze (hereinafter, simply referred to as "internal haze") of not more than 50%, preferably not more than 40%, more preferably not more than 20% More preferably 15% or less, still more preferably 13% or less, still more preferably 5% or less, still more preferably 1% or less. The inner haze of the polymer film (A) is preferably as low as possible from the viewpoint of transparency, and the lower limit is not particularly limited. However, the internal haze in the present disclosure can be 0.1% or more, for example.

내부 헤이즈가 0.1% 이상인 것은, 예를 들어 고분자 필름 (A)를 압전 필름으로서 사용하는 경우에 있어서, 압전 상수를 보다 높게 한다는 관점에서 보아 적합하다.The internal haze of 0.1% or more is suitable from the viewpoint of increasing the piezoelectric constant when the polymer film (A) is used as a piezoelectric film, for example.

본 개시에 있어서, 「내부 헤이즈」란, 고분자 필름 (A)의 외표면의 형상에 의한 헤이즈를 제외한 헤이즈를 가리킨다.In the present disclosure, "internal haze" refers to haze excluding haze due to the shape of the outer surface of the polymer film (A).

또한, 여기서 말하는 「내부 헤이즈」는, 고분자 필름 (A)에 대하여, JIS-K7105에 준거하여, 25℃에서 측정하였을 때의 값이다.The term "internal haze" referred to herein is a value measured at 25 ° C. in accordance with JIS-K7105 for the polymer film (A).

내부 헤이즈의 측정 방법의 예에 대해서는, 실시예에 있어서 후술한다.Examples of the method of measuring the internal haze will be described later in Examples.

[압전 상수(응력-전하법)][Piezoelectric constant (stress-charge method)]

본 개시에 있어서의 고분자 필름 (A)는, 예를 들어 압전 필름으로서 적합하게 사용된다.The polymer film (A) in the present disclosure is suitably used, for example, as a piezoelectric film.

고분자 필름 (A)를 압전 필름으로서 사용하는 경우에는, 고분자 필름 (A)(압전 필름)의 압전 상수는, 다음과 같이 하여 측정되는 값을 말한다.When the polymer film (A) is used as a piezoelectric film, the piezoelectric constant of the polymer film (A) (piezoelectric film) refers to a value measured as follows.

우선, 고분자 필름 (A)를, 고분자 필름 (A)의 연신 방향(예를 들어 MD 방향)에 대하여 45°이루는 방향으로 150mm, 45°이루는 방향에 직교하는 방향으로 50mm로 커트하여, 직사각형의 시험편을 제작한다. 이어서, 쇼와 신쿠 SIP-600의 시험대에 얻어진 시험편을 세팅하고, Al의 증착 두께가 약 50nm로 되도록, 시험편의 한쪽의 면에 Al을 증착한다. 이어서 시험편의 다른 쪽의 면에도 동일하게 하여 Al을 증착한다. 이상과 같이 하여, 시험편의 양면에 Al의 도전층을 형성한다.First, the polymer film (A) was cut into 150 mm in a direction forming 45 degrees with respect to the stretching direction (e.g., the MD direction) of the polymer film (A) and 50 mm in a direction perpendicular to the direction making 45 DEG, . Subsequently, the obtained test piece is set on a test stand of SIP-600, Showa Shinku, and Al is deposited on one surface of the test piece so that the Al deposition thickness is about 50 nm. Subsequently, Al is similarly deposited on the other side of the test piece. As described above, a conductive layer of Al is formed on both surfaces of the test piece.

양면에 Al의 도전층이 형성된 150mm×50mm의 시험편(고분자 필름 (A))을, 고분자 필름 (A)의 연신 방향(예를 들어 MD 방향)에 대하여 45°이루는 방향으로 120mm, 45°이루는 방향에 직교하는 방향으로 10mm로 커트하여, 120mm×10mm의 직사각형의 필름을 잘라낸다. 이것을, 압전 상수 측정용 샘플로 한다.A test piece (polymer film (A)) of 150 mm x 50 mm in which a conductive layer of Al was formed on both surfaces of the polymer film (A) was stretched 120 mm in a direction forming 45 degrees with respect to the stretching direction (MD direction, for example) And cut out a rectangular film of 120 mm x 10 mm. This is used as a sample for measuring the piezoelectric constant.

얻어진 샘플을, 척간 거리 70mm로 한 인장 시험기(AND사제, TENSILON RTG-1250)에, 느슨해지지 않도록 세팅한다. 크로스 헤드 속도가 5mm/min이고, 인가력이 4N과 9N의 사이를 왕복하도록 주기적으로 힘을 가한다. 이때 인가력에 따라 샘플에 발생하는 전하량을 측정하기 위해, 정전 용량 Qm(F)의 콘덴서를 샘플에 병렬로 접속하고, 이 콘덴서 Cm(95nF)의 단자간 전압 Vm을, 버퍼 증폭기를 통하여 측정한다. 발생 전하량 Q(C)는, 콘덴서 용량 Cm과 단자간 전압 Vm의 곱으로서 계산한다. 압전 상수 d14는 하기 식에 의해 계산된다.The obtained sample is set on a tensile tester (manufactured by AND Co., Ltd., TENSILON RTG-1250) with a chuck distance of 70 mm so as not to be loosened. The crosshead speed is 5 mm / min, and the application force is periodically applied so as to reciprocate between 4N and 9N. At this time, in order to measure the amount of charge generated in the sample in accordance with the applied force, a capacitor of the capacitance Qm (F) is connected in parallel to the sample, and the inter-terminal voltage Vm of the capacitor Cm (95nF) is measured through the buffer amplifier . The generated charge quantity Q (C) is calculated as the product of the capacitor capacity Cm and the terminal voltage Vm. The piezoelectric constant d 14 is calculated by the following equation.

d14=(2×t)/L×CmㆍΔVm/ΔFd 14 = (2 x t) / L x Cm? Vm /? F

t: 샘플 두께(m)t: sample thickness (m)

L: 척간 거리(m)L: Distance between chucks (m)

Cm: 병렬 접속 콘덴서 용량(F)Cm: Parallel connection capacitor capacity (F)

ΔVm/ΔF: 힘의 변화량에 대한, 콘덴서 단자간의 전압 변화량비[Delta] Vm / [Delta] F: the ratio of change in voltage between the capacitor terminals

압전 상수는 높으면 높을수록, 고분자 필름 (A)에 인가되는 전압에 대한 상기 필름의 변위가 커지고, 또한 반대로 고분자 필름 (A)에 인가되는 힘에 대하여 발생하는 전압이 커져, 고분자 필름 (A)로서는 유용하다.The higher the piezoelectric constant, the larger the displacement of the film relative to the voltage applied to the polymer film (A), and conversely the higher the voltage generated against the force applied to the polymer film (A) useful.

구체적으로는, 25℃에 있어서의 응력-전하법으로 측정한 압전 상수 d14는 1pC/N 이상이 바람직하고, 3pC/N 이상이 보다 바람직하고, 4pC/N 이상이 더욱 바람직하다. 또한, 압전 상수의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 후술하는 투명성 등의 밸런스의 관점에서는, 유기 압전 재료를 사용한 고분자 필름 (A)에서는, 50pC/N 이하가 바람직하고, 30pC/N 이하가 보다 바람직하다.Specifically, the piezoelectric constant d 14 measured by the stress-charge method at 25 캜 is preferably 1 pC / N or more, more preferably 3 pC / N or more, and even more preferably 4 pC / N or more. The upper limit of the piezoelectric constant is not particularly limited, but is preferably 50 pC / N or less, more preferably 30 pC / N or less in the polymer film (A) using an organic piezoelectric material from the viewpoint of balance of transparency and the like .

또한, 동일하게, 투명성과의 밸런스의 관점에서는, 응력-전하법으로 측정한 압전 상수 d14가 15pC/N 이하인 것이 바람직하다.Also, from the viewpoint of balance with transparency, it is preferable that the piezoelectric constant d 14 measured by the stress-charge method is 15 pC / N or less.

여기서, 본 개시에 있어서의 고분자 필름 (A)는, 가시광선에 대한 내부 헤이즈가 40% 이하이며, 또한 25℃에 있어서 응력-전하법으로 측정한 압전 상수 d14가 1pC/N 이상인 것이 바람직하다. 또한, 가시광선에 대한 내부 헤이즈, 및 25℃에 있어서 응력-전하법으로 측정한 압전 상수 d14의 각각의 바람직한 범위는 상술한 바와 같다.Here, the polymer film (A) of the present disclosure preferably has an internal haze of not more than 40% with respect to visible light and a piezoelectric constant d 14 measured by a stress-charge method at 25 캜 of 1 pC / N or more . The preferable range of the internal haze for the visible light and the piezoelectric constant d 14 measured at 25 캜 by the stress-charge method are as described above.

또한, 본 개시에 있어서의 고분자 필름 (A)는, 단층 필름이어도 되고, 적층 필름이어도 된다.The polymer film (A) in the present disclosure may be a single layer film or a laminated film.

[두께][thickness]

본 개시에 있어서의 고분자 필름 (A)의 두께에는 특별히 제한은 없지만, 예를 들어 10㎛ 내지 1000㎛로 할 수 있으며, 10㎛ 내지 400㎛가 바람직하고, 20㎛ 내지 200㎛가 보다 바람직하고, 20㎛ 내지 100㎛가 더욱 바람직하고, 30㎛ 내지 80㎛가 특히 바람직하다.The thickness of the polymer film (A) in the present disclosure is not particularly limited, but may be, for example, 10 mu m to 1000 mu m, preferably 10 mu m to 400 mu m, more preferably 20 mu m to 200 mu m, More preferably from 20 탆 to 100 탆, and particularly preferably from 30 탆 to 80 탆.

단, 고분자 필름 (A)가 복수층으로 이루어지는 적층 필름인 경우에는, 상기 두께는 적층 필름 전체에 있어서의 두께를 나타낸다.However, in the case where the polymer film (A) is a laminated film composed of a plurality of layers, the thickness indicates the total thickness of the laminated film.

<고분자 필름 (A)의 제조 방법>&Lt; Production method of polymer film (A)

본 개시에 있어서의 고분자 필름 (A)의 제조 방법에는 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 고분자 필름 (A)의 원료(이미 설명한 폴리락트산계 고분자 등의 헬리컬 키랄 고분자 (X) 등의 유기 압전 재료)와, 필요에 따라 다른 성분(안정화제 (Y), 무기 필러 등)을 혼합하여, 혼합물을 제막기에 의해 압출 제막함으로써 제조할 수 있다.The production method of the polymer film (A) in the present disclosure is not particularly limited. For example, a raw material of the polymer film (A) (an organic piezoelectric material such as a helical chiral polymer (X) such as a polylactic acid polymer ), And other components (stabilizer (Y), inorganic filler, etc.) as required, and extrusion-forming the mixture by a film-forming machine.

또한, 고분자 필름 (A)로서 압전 필름을 제조하는 제조 방법에도 특별히 제한은 없지만, 예를 들어 국제 공개 제2013/054918호 팸플릿의 단락 0065 내지 0099의 기재를 적절하게 참조할 수 있다.The production method for producing the piezoelectric film as the polymer film (A) is not particularly limited. For example, reference may be made to paragraphs 0065 to 0099 of International Publication No. 2013/054918 brochure as appropriate.

예를 들어, 고분자 필름 (A)(압전 필름)의 바람직한 제조 방법으로서는, 고분자 필름 (A)의 원료를 포함하는 예비 결정화 필름을 얻는 제1 공정과, 예비 결정화 필름을 주로 하여 1축 방향으로 연신하는 제2 공정을 포함하는(필요에 따라, 어닐링 처리를 하는 공정을 추가로 포함하는), 고분자 필름 (A)의 제조 방법을 들 수 있다.For example, as a preferable production method of the polymer film (A) (piezoelectric film), there are a first step of obtaining a pre-crystallized film containing a raw material of the polymer film (A), a first step of stretching in a uniaxial direction (Further comprising a step of carrying out an annealing treatment as occasion demands, including a second step of carrying out the above-mentioned annealing treatment).

또한, 다른 바람직한 제조 방법으로서는, 고분자 필름 (A)의 원료를 포함하는 필름을 주로 1축 방향으로 연신하는 공정과, 어닐링 처리를 하는 공정을 이 순서대로 포함하는 고분자 필름 (A)의 제조 방법을 들 수 있다.Another preferred production method is a production method of a polymer film (A) comprising a step of primarily stretching a film containing a raw material of the polymer film (A) in a uniaxial direction and a step of performing an annealing treatment in this order .

<보호 필름 (B)>&Lt; Protective Film (B) >

본 개시에 관한 적층체는, 고분자 필름 (A)의 한쪽의 주면에 접하는 박리 가능한 보호 필름 (B)를 갖는다.The laminate according to the present disclosure has a peelable protective film (B) in contact with one main surface of the polymer film (A).

전술한 바와 같이, 본 개시에 관한 적층체는, 고분자 필름 (A)의 다른 쪽의 주면에 접하는 박리 가능한 다른 보호 필름을 더 가져도 된다.As described above, the laminate according to the present disclosure may further include another peelable protective film in contact with the other main surface of the polymer film (A).

보호 필름 (B)의 재료로서는, 예를 들어 폴리올레핀계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지, 폴리에스테르 수지(단, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 제외함), 나일론 수지, 폴리비닐알코올 수지, 폴리염화비닐리덴 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리카르보네이트 수지, 폴리메틸메타크릴레이트 수지, 폴리우레탄 수지, 불소 수지, 폴리아크릴로니트릴 수지, 폴리부텐 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아릴레이트 수지, 아세틸셀룰로오스 수지 등을 들 수 있다.As the material of the protective film (B), for example, a polyolefin resin, a polyethylene terephthalate resin, a polyester resin (except for polyethylene terephthalate resin), a nylon resin, a polyvinyl alcohol resin, A resin, a polystyrene resin, a polyvinyl chloride resin, a polycarbonate resin, a polymethyl methacrylate resin, a polyurethane resin, a fluororesin, a polyacrylonitrile resin, a polybutene resin, a polyimide resin, Cellulose resin and the like.

이들 수지는, 1종 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.These resins may be used singly or in combination of two or more kinds.

이들 수지 중에서도, 보호 필름 (B)를 박리한 후의 고분자 필름 (A)의 외관 악화를 억제한다는 관점에서, 폴리올레핀계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지가 바람직하다. 이들 수지는, 1종류 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.Of these resins, a polyolefin resin and a polyethylene terephthalate resin are preferable from the viewpoint of suppressing deterioration of the appearance of the polymer film (A) after the protective film (B) is peeled off. These resins may be used singly or in combination of two or more.

또한, 보호 필름 (B)는, 이들 수지의 층의 다층체여도 된다.The protective film (B) may be a multilayer body of these resin layers.

폴리올레핀계 수지로서는, 올레핀의 단독 중합체, 2종 이상의 올레핀의 공중합체, 또는 올레핀과 다른 단량체의 공중합체를 들 수 있다.Examples of the polyolefin-based resin include homopolymers of olefins, copolymers of two or more olefins, and copolymers of olefins and other monomers.

올레핀의 단독 중합체로서는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리부텐, 폴리메틸펜텐 등의 α-폴리올레핀 중합체; 환상 폴리올레핀 중합체를 들 수 있다. 2종 이상의 올레핀 공중합체로서는, 에틸렌/프로필렌 공중합체, 프로필렌/에틸렌/부틸렌 공중합체, 에틸렌-1-부텐 공중합체 등을 들 수 있다.Examples of homopolymers of olefins include?-Polyolefin polymers such as polyethylene, polypropylene, polybutene and polymethylpentene; And cyclic polyolefin polymers. Examples of the two or more olefin copolymers include ethylene / propylene copolymer, propylene / ethylene / butylene copolymer, and ethylene-1-butene copolymer.

폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지로서는, 예를 들어 테레프탈산과 에틸렌글리콜의 중축합에 의해 생성되는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 테레프탈산과 테트라메틸렌글리콜의 중축합에 의해 생성되는 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지, 테레프탈산과 1,4-시클로헥산디메탄올의 중축합에 의해 생성되는 폴리시클로헥산디메틸렌테레프탈레이트 수지, 테레프탈산과 이소프탈산과 에틸렌글리콜의 공중축합에 의해 생성되는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 테레프탈산과 에틸렌글리콜과 1,4-시클로헥산디메탄올의 공중축합에 의해 생성되는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 테레프탈산과 이소프탈산과 에틸렌글리콜과 프로필렌글리콜의 공중축합에 의해 생성되는 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지를 들 수 있다. 또한, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지에는, 다른 단량체로부터 유도되는 구조 단위가 포함되어 있어도 된다.Examples of the polyethylene terephthalate resin include a polyethylene terephthalate resin produced by polycondensation of terephthalic acid and ethylene glycol, a polybutylene terephthalate resin produced by polycondensation of terephthalic acid and tetramethylene glycol, Polycyclohexanedimethylene terephthalate resin produced by polycondensation of cyclohexane dimethanol, polyethylene terephthalate resin produced by the air condensation of terephthalic acid, isophthalic acid and ethylene glycol, terephthalic acid and ethylene glycol and 1,4-cyclo A polyethylene terephthalate resin produced by the air condensation of hexane dimethanol, and a polyethylene terephthalate resin produced by the air condensation of terephthalic acid, isophthalic acid, ethylene glycol and propylene glycol. The polyethylene terephthalate resin may also contain structural units derived from other monomers.

[기재층][Base layer]

보호 필름 (B)는, 기재층과, 기재층의 고분자 필름 (A)에 대향하는 측의 주면 상에 형성된 점착층을 갖는 것이 바람직하다.The protective film (B) preferably has a base layer and an adhesive layer formed on the main surface of the base layer opposite to the polymer film (A).

기재층의 재료의 예시로서는, 상술한 보호 필름 (B)의 재료와 동일한 것을 들 수 있다. 상기 수지 중에서도, 기재층의 재료로서는, 보호 필름 (B)를 박리한 후의 고분자 필름 (A)의 외관 악화를 억제한다는 관점에서, 폴리올레핀계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지가 바람직하다. 즉, 기재층은, 폴리올레핀계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지로 이루어지는 것이 바람직하다.Examples of the material of the base layer include the same materials as those of the above-mentioned protective film (B). Among the resins, a polyolefin resin and a polyethylene terephthalate resin are preferable as the material of the base layer from the viewpoint of suppressing deterioration of the appearance of the polymer film (A) after the protective film (B) is peeled off. That is, the substrate layer is preferably made of a polyolefin resin or a polyethylene terephthalate resin.

이들 수지는, 1종류 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.These resins may be used singly or in combination of two or more.

또한, 기재층은, 이들 수지의 층의 다층체여도 된다.The substrate layer may be a multilayer body of these resin layers.

[점착층][Adhesive layer]

점착층의 재료로서는, 예를 들어 에틸렌-아세트산비닐 공중합체(EVA)계 점착제, 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 폴리올레핀계 점착제(예를 들어 폴리에틸렌 올리고머 점착제 등), 셀룰로오스계 점착제(예를 들어 풀 등), 실리콘계 점착제, 우레탄계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 폴리비닐알코올계 점착제, 폴리비닐피롤리돈계 점착제, 폴리아크릴아미드계 점착제 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 점착층의 재료로서는, 보호 필름 (B)를 박리한 후의 고분자 필름 (A)의 외관 악화를 억제한다는 관점에서, 아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 실리콘계 점착제가 바람직하다. 특히, 점착층은, 아크릴계 점착제를 포함하는 것이 바람직하다.As the material of the adhesive layer, there can be used, for example, an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) -based adhesive, an acrylic adhesive, a rubber adhesive, a polyolefin adhesive (for example, a polyethylene oligomer adhesive), a cellulosic adhesive , A silicone type pressure sensitive adhesive, a urethane pressure sensitive adhesive, a vinyl alkyl ether pressure sensitive adhesive, a polyvinyl alcohol pressure sensitive adhesive, a polyvinyl pyrrolidone pressure sensitive adhesive, and a polyacrylamide pressure sensitive adhesive. Among them, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a urethane pressure-sensitive adhesive, and a silicone-based pressure-sensitive adhesive are preferred as the material of the pressure-sensitive adhesive layer from the viewpoint of suppressing deterioration of the appearance of the polymer film (A) after the protective film (B) is peeled off. In particular, the adhesive layer preferably includes an acrylic adhesive.

이들 점착제는, 1종류 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.These pressure-sensitive adhesives may be used alone or in combination of two or more.

또한, 점착층은 다층체여도 된다.The adhesive layer may be a multilayer body.

또한, 점착층에는 박리 대전을 방지할 목적으로, 대전 방지제가 첨가되어 있어도 된다.An antistatic agent may be added to the adhesive layer in order to prevent peeling electrification.

아크릴계 점착제의 점착성 중합체로서는, 예를 들어 아크릴산2-에틸헥실, 아크릴산부틸, 아크릴산이소옥틸, 메타크릴산부틸, 메타크릴산프로필 등의 알킬기의 탄소수가 1 내지 10인 (메트)아크릴산에스테르와, 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 푸마르산, 아크릴산히드록시에틸, 메타크릴산히드록시에틸 등의 관능기 함유 불포화 단량체를 포함하는 공중합체를 적합하게 들 수 있다.Examples of the pressure-sensitive adhesive polymer of the acrylic pressure-sensitive adhesive include (meth) acrylic acid esters having an alkyl group of 1 to 10 carbon atoms such as 2-ethylhexyl acrylate, butyl acrylate, isooctyl acrylate, butyl methacrylate and propyl methacrylate, , A copolymer containing a functional group-containing unsaturated monomer such as methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, hydroxyethyl acrylate, and hydroxyethyl methacrylate.

여기서, 본 개시에 관한 적층체는, 보호 필름 (B)를 박리한 후의 고분자 필름 (A)의 외관 악화를 억제한다는 관점에서, 기재층이 폴리올레핀계 수지 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지로 이루어지고, 점착층이 아크릴계 점착제를 포함하는 것이 바람직하다.Here, from the viewpoint of suppressing deterioration of the appearance of the polymer film (A) after the protective film (B) is peeled off, the laminate according to the present disclosure is characterized in that the base layer is made of a polyolefin resin or a polyethylene terephthalate resin, It is preferred that the layer comprises an acrylic adhesive.

[점착층의 산가][Acid value of adhesive layer]

점착층의 산가는, 10mgKOH/g 이하가 바람직하고, 0.01mgKOH/g 내지 10mgKOH/g이 보다 바람직하고, 0.05mgKOH/g 내지 5mgKOH/g이 더욱 바람직하고, 0.1mgKOH/g 내지 1mgKOH/g이 더욱 바람직하다.The acid value of the adhesive layer is preferably 10 mgKOH / g or less, more preferably 0.01 mgKOH / g to 10 mgKOH / g, still more preferably 0.05 mgKOH / g to 5 mgKOH / g, more preferably 0.1 mgKOH / g to 1 mgKOH / g desirable.

점착층의 산가가 0mgKOH/g을 초과하면 점착층의 극성기와 고분자 필름 (A)의 극성기의 상호 작용이 발생하기 때문에, 점착층과 고분자 필름 (A)의 점착력이 높아진다.If the acid value of the pressure-sensitive adhesive layer exceeds 0 mgKOH / g, the polar group of the pressure-sensitive adhesive layer interacts with the polar group of the polymer film (A), so that the adhesive strength between the pressure-sensitive adhesive layer and the polymer film (A) increases.

점착층의 산가가 10mgKOH/g 이하이면 고분자 필름 (A)에 포함되는 유기 압전 재료의 분자량의 저하가 억제되기 때문에, 고분자 필름 (A)의 안정성이 향상된다.If the acid value of the pressure-sensitive adhesive layer is 10 mgKOH / g or less, the decrease in the molecular weight of the organic piezoelectric material contained in the polymer film (A) is suppressed and the stability of the polymer film (A) is improved.

본 개시에 관한 적층체에 있어서, 점착층의 산가는, 점착층 1g 중의 유리산을 중화하는 데 요하는 KOH의 양(mg)을 가리킨다. 이 KOH의 양(mg)은, 용매에 용해 또는 팽윤시킨 점착층을, 페놀프탈레인을 지시약으로 하여 0.005M KOH(수산화칼륨)에탄올 용액에 의해 적정함으로써 측정된다.In the laminate according to the present disclosure, the acid value of the adhesive layer indicates the amount (mg) of KOH required to neutralize the free acid in 1 g of the adhesive layer. The amount (mg) of KOH is measured by titrating the adhesive layer dissolved or swollen in a solvent with 0.005 M KOH (potassium hydroxide) ethanol solution using phenolphthalein as an indicator.

<보호 필름 (B)의 특성>&Lt; Properties of protective film (B) >

[최대 압입 깊이 hmax][Maximum indentation depth hmax]

본 개시에 있어서, 보호 필름 (B)의 고분자 필름 (A)와 접하는 면의 측을 나노인덴테이션법에 의해 측정하였을 때의 최대 압입 깊이 hmax는, 보호 필름 (B)를 박리한 후의 고분자 필름 (A)의 외관 악화를 억제한다는 관점에서, 53nm 내지 100nm이다. 또한, 나노인덴테이션법에 의한 최대 압입 깊이 hmax의 측정은, ISO 14577-1(계장화 압입 경도)에 준거하여 행한다. 측정 방법의 상세는 실시예에 있어서 상세하게 설명한다.In the present disclosure, the maximum indentation depth hmax when the side of the protective film (B) that is in contact with the polymer film (A) is measured by the nanoindentation method is a value obtained by dividing the protective film (B) Is from 53 nm to 100 nm from the viewpoint of suppressing deterioration of the appearance of the resin (A). The measurement of the maximum indentation depth hmax by the nanoindentation method is performed in accordance with ISO 14577-1 (Instrumented indentation hardness). Details of the measurement method will be described in detail in Examples.

상기 최대 압입 깊이 hmax는, 상술한 바와 같이 53nm 내지 100nm이지만, 바람직하게는 53nm 이상 80mm 이하, 보다 바람직하게는 53nm 이상 60mm 이하이다.As described above, the maximum indentation depth hmax is 53 nm to 100 nm, but is preferably 53 nm or more and 80 mm or less, and more preferably 53 nm or more and 60 mm or less.

또한, 샘플로서는 고분자 필름 (A)의 주면 상에 배치하기(라미네이트하기) 전의 보호 필름 (B)를 사용해도 되고, 보호 필름 (B)를 적층체로부터 박리한 후의 보호 필름 (B)를 사용해도 되지만, 어느 쪽의 경우도, 상기 최대 압입 깊이 hmax는, 보호 필름 (B)의 고분자 필름 (A)와 접하는 면의 측을 측정한다.As the sample, a protective film (B) before (laminate) the main surface of the polymer film (A) may be used, or the protective film (B) after peeling the protective film (B) from the laminate may be used In either case, the maximum indentation depth hmax is measured on the side of the protective film (B) in contact with the polymer film (A).

또한, 보호 필름 (B)가 기재층과 점착층을 갖고, 점착층을 개재시켜 보호 필름 (B)와 고분자 필름 (A)가 점착되는 경우, 보호 필름 (B)의 최대 압입 깊이 hmax는, 보호 필름 (B)의 점착층의 측을 측정하였을 때의 최대 압입 깊이이다. 이 경우, 상기 최대 압입 깊이 hmax란, 점착층의 최대 압입 깊이 hmax로 간주한다.When the protective film (B) has the base layer and the adhesive layer and the protective film (B) and the polymer film (A) are adhered via the adhesive layer, the maximum indentation depth hmax of the protective film (B) Is the maximum indentation depth when the side of the adhesive layer of the film (B) is measured. In this case, the maximum indentation depth hmax is regarded as the maximum indentation depth hmax of the adhesive layer.

[T형 박리 강도][T-type peel strength]

본 개시에 있어서, 보호 필름 (B)와 고분자 필름 (A)의 T형 박리 강도는, 보호 필름 (B)를 박리한 후의 고분자 필름 (A)의 외관 악화를 억제한다는 관점에서, 0.07N/50mm 내지 1N/50mm가 바람직하고, 0.07N/50mm 내지 0.5N/50mm가 보다 바람직하고, 0.10N/50mm 내지 0.3N/50mm가 더욱 바람직하다.In the present disclosure, the T type peel strength of the protective film (B) and the polymer film (A) is 0.07 N / 50 mm (A) from the viewpoint of suppressing deterioration of the appearance of the polymer film (A) More preferably 0.07 N / 50 mm to 0.5 N / 50 mm, and even more preferably 0.10 N / 50 mm to 0.3 N / 50 mm.

또한, 「T형 박리 강도」는, 인장 시험기(AND사제, TENSILON RTG-1250)를 사용하여, JIS K6854-3(1999)에 준거하여, 25℃에서 측정하였을 때의 값이다. 측정 방법의 상세는 실시예에 있어서 상세하게 설명한다.The "T-type peel strength" is a value measured at 25 ° C in accordance with JIS K6854-3 (1999) using a tensile tester (TENSILON RTG-1250, manufactured by AND Co.). Details of the measurement method will be described in detail in Examples.

[두께][thickness]

보호 필름 (B)의 두께는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 보호 기능을 높인다는 관점에서, 두께는, 5㎛ 이상의 범위가 바람직하고, 10㎛ 내지 100㎛의 범위가 보다 바람직하고, 20㎛ 내지 80㎛가 더욱 바람직하고, 30㎛ 내지 50㎛의 범위가 특히 바람직하다.The thickness of the protective film (B) is not particularly limited, but from the viewpoint of enhancing the protective function, the thickness is preferably in the range of 5 탆 or more, more preferably in the range of 10 탆 to 100 탆, Mu m, and particularly preferably in the range of 30 mu m to 50 mu m.

보호 필름 (B)가 기재층과 점착층을 갖는 경우, 기재층의 두께는, 9㎛ 내지 99㎛의 범위가 바람직하고, 19㎛ 내지 79㎛의 범위가 보다 바람직하고, 29㎛ 내지 49㎛의 범위가 더욱 바람직하다.When the protective film (B) has a base layer and an adhesive layer, the thickness of the base layer is preferably in the range of 9 탆 to 99 탆, more preferably in the range of 19 탆 to 79 탆, Range is more preferable.

한편, 점착층의 두께는, 1㎛ 내지 20㎛의 범위가 바람직하고, 3㎛ 내지 10㎛의 범위가 보다 바람직하다.On the other hand, the thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 1 탆 to 20 탆, more preferably in the range of 3 탆 to 10 탆.

본 개시에 있어서의 보호 필름 (B)는, 단층 필름이어도 되고, 예를 들어 상술한 바와 같이, 기재층과 점착층을 갖는 적층 필름이어도 된다.The protective film (B) in the present disclosure may be a single-layer film, for example, a laminated film having a base layer and an adhesive layer as described above.

또한, 보호 필름 (B)가 단층 필름인 경우, 보호 필름 (B)는, 예를 들어 보호 필름 (B) 자체의 점착성, 또는 정전 인력에 의해 고분자 필름 (A)에 점착된다.When the protective film (B) is a single-layer film, the protective film (B) is adhered to the polymer film (A) by, for example, adhesion or electrostatic attraction of the protective film (B) itself.

보호 필름 (B)가 적층 필름인 경우, 보호 필름 (B)는 기능층을 가져도 된다.When the protective film (B) is a laminated film, the protective film (B) may have a functional layer.

기능층으로서는, 예를 들어 이접착층, 하드 코팅층, 대전 방지층, 안티 블록층, 보호층, 올리고머 블록층, 전극층을 들 수 있다. 이들 기능층은, 목적에 따라, 고분자 필름 (A)에 대향하는 측의 보호 필름 (B)의 주면 상에 배치해도 되고, 보호 필름 (B)의 고분자 필름 (A)와는 반대측의 주면 상에 배치해도 된다. 또한, 보호 필름 (B)는, 기능층을 2개 이상 가져도 된다.Examples of the functional layer include an adhesive layer, a hard coating layer, an antistatic layer, an anti-blocking layer, a protective layer, an oligomer block layer and an electrode layer. These functional layers may be disposed on the main surface of the protective film B on the side opposite to the polymer film A or on the main surface opposite to the polymer film A of the protective film B, You can. The protective film (B) may have two or more functional layers.

본 개시에 관한 적층체에 있어서, 상기 보호 필름 (B)의 탄성률과, 고분자 필름 (A)의 탄성률은, 이하의 관계식 (F)를 만족하는 것이 바람직하다.In the laminate according to the present disclosure, it is preferable that the elastic modulus of the protective film (B) and the elastic modulus of the polymer film (A) satisfy the following relational expression (F).

보호 필름 (B)의 탄성률/고분자 필름 (A)의 탄성률≥0.1 (식 F)The elastic modulus of the protective film (B) / the elastic modulus of the polymer film (A) (Formula F)

보호 필름을 붙인 유기 압전 재료를 포함하는 고분자 필름은, 롤 상태로 장기 보관되는 경우가 있다. 유기 압전 재료를 포함하는 고분자 필름은, 압전성을 부여하기 위해 한 방향으로 연신되어 있기 때문에, 롤 상태로 장기 보관하면 연신 방향으로 약간 수축되고, 필름의 평면성이 저하된다는 것을 본 발명자들은 발견하였다. 이 평면성의 저하에 의해, 나아가 고분자 필름을 사용하여 제조되는 디바이스의 외관 및 품질도 저하될 우려가 있다.The polymer film containing an organic piezoelectric material having a protective film attached thereto may be stored for a long period of time in a roll state. The inventors of the present invention have found that a polymer film containing an organic piezoelectric material is stretched in one direction for imparting piezoelectricity, and therefore, when stored for a long period of time in a roll state, is slightly shrunk in the stretching direction and the film flatness is lowered. The lowering of planarity may further deteriorate the appearance and quality of a device manufactured using the polymer film.

그러나, 상기 식 F로 표시되는 바와 같이 보호 필름 (B)의 탄성률의 고분자 필름 (A)의 탄성률에 대한 비를 0.1 이상으로 함으로써, 1년 이상의 장기에 걸쳐 본 개시에 관한 적층체를 롤체로 보관한 후에 보호 필름 (B)를 박리하는 경우라도, 고분자 필름 (A)가 수축되어 변형되는 것이 억제되고, 평면성의 저하가 억제된다는 것을, 본 발명자들은 발견하였다.However, when the ratio of the modulus of elasticity of the protective film (B) to the modulus of elasticity of the polymer film (A) is 0.1 or more as represented by the formula (F), the laminate relating to the present disclosure is stored The inventors of the present invention have found that, even when the protective film (B) is peeled off after the polymer film (A) is peeled off, the polymer film (A) is prevented from being shrunk and deformed.

바꿔 말하면, 상기 식 F를 만족함으로써, 롤 상태로 장기 보관 후에 보호 필름을 박리해도, 고분자 필름이 수축되어 변형되지 않고, 필름의 평면성을 유지할 수 있다고 하는 한층 더한 효과가 얻어진다.In other words, by satisfying the above formula (F), even when the protective film is peeled off after a long-term storage in the roll state, the polymer film is not shrunk and deformed, and the planarity of the film can be maintained.

또한, 보호 필름 (B)의 탄성률의 고분자 필름 (A)의 탄성률에 대한 비가 10 이하이면, 보호 필름 (B)를 박리할 때의 박리점이 안정되고, 고분자 필름 (A)의 외관 품질이 더 양호해진다. 또한, 보호 필름 (B)의 탄성률의 고분자 필름 (A)의 탄성률에 대한 비가 0.3 이상이면, 평면성의 저하가 보다 강하게 억제된다.When the ratio of the modulus of elasticity of the protective film (B) to the modulus of elasticity of the polymer film (A) is 10 or less, the peeling point when the protective film (B) is peeled is stable and the appearance quality of the polymer film It becomes. Further, when the ratio of the modulus of elasticity of the protective film (B) to the modulus of elasticity of the polymer film (A) is 0.3 or more, the lowering of the planarity is more strongly suppressed.

여기서, 보호 필름 (B)가 기재층과 점착층을 갖는 적층 필름인 경우, 상기 식 F에 있어서의 보호 필름 (B)의 탄성률은, 상기 보호 필름 (B)에 있어서의 상기 기재층과 점착층의 복합적인 탄성률인 것이 바람직하다.Here, when the protective film (B) is a laminated film having a base layer and an adhesive layer, the modulus of elasticity of the protective film (B) in the formula (F) Is a composite elasticity modulus of elasticity.

본 개시에 있어서, 각 필름의 탄성률은, JIS K7127(1999)에 기초한 탄성률 측정에 의해 얻어지는 값을 의미한다. 구체적으로는, 탄성률은, 적층체에 대하여, 유기 압전 재료를 포함하는 고분자 필름의 주된 연신 방향으로 100mm, 고분자 압전 필름의 주된 연신 방향과 수직 방향으로 20mm의 샘플을 잘라내고, 잘라낸 샘플을 고분자 압전 필름과 보호 필름으로 박리하고, 고분자 압전 필름과 보호 필름 각각에 대하여 인장 시험기(AND사제, TENSILON RTG-1250(상품명))를 사용하여, 척간 70mm, 속도 50mm/min의 조건에서 JIS K7127(1999)에 기초하여 측정할 수 있다. 유기 압전 재료를 포함하는 고분자 필름은, 연신에 따른 이방성이 존재할 수 있지만, 본 개시에서는 주된 연신 방향에 있어서의 탄성률을 측정하였다.In the present disclosure, the elastic modulus of each film means a value obtained by measuring the elastic modulus based on JIS K7127 (1999). Specifically, the modulus of elasticity is determined by cutting out a sample of 100 mm in the main stretching direction of the polymer film containing the organic piezoelectric material and 20 mm in the direction perpendicular to the main stretching direction of the polymer piezoelectric film with respect to the laminate, (1999), using a tensile tester (TENSILON RTG-1250 (trade name) manufactured by AND Co., Ltd.) for each of the polymer piezoelectric film and the protective film. Can be measured. The polymer film including the organic piezoelectric material may have anisotropy upon stretching, but in the present disclosure, the elastic modulus in the main stretching direction is measured.

평면성의 저하를 보다 강하게 억제한다는 관점에서는, 본 개시의 적층체에 있어서, 보호 필름 (B)가 기재층과 점착층을 갖는 적층 필름이며, 상기 기재층은 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지로 이루어지고, 상기 점착층은 아크릴계 점착제를 포함하는 것이 바람직하다.From the viewpoint that the lowering of planarity is suppressed more strongly, it is preferable that in the laminate of the present disclosure, the protective film (B) is a laminated film having a base layer and an adhesive layer, the base layer is made of a polyethylene terephthalate- The adhesive layer preferably includes an acrylic adhesive.

이러한 구성을 채용함으로써, 필름의 강성이 높아지기 때문에, 1년 이상의 장기에 걸쳐 상기 적층체를 롤체로 보관한 후에, 보호 필름 (B)를 박리하는 경우라도, 고분자 필름 (A)의 수축에 의한 변형을 억제하고, 평면성의 저하가 억제된다.By adopting such a constitution, the rigidity of the film becomes high. Therefore, even if the protective film (B) is peeled off after the laminate is stored in a roll for a long term of one year or longer, the deformation due to shrinkage of the polymer film (A) And the lowering of planarity is suppressed.

<보호 필름 (B)의 형성 방법>&Lt; Method of forming protective film (B) >

보호 필름 (B)를 형성하는 방법으로서는, 종래 일반적으로 사용되고 있던 공지의 방법을 적절하게 사용할 수 있다. 예를 들어, 보호 필름 (B)를 형성하는 수지를 제막기에 의해 압출 제막함으로써 보호 필름 (B)를 형성할 수 있다.As a method of forming the protective film (B), a conventionally known known method can be appropriately used. For example, the protective film (B) can be formed by extrusion-forming the resin forming the protective film (B) by a film-forming machine.

또한, 보호 필름 (B)가 기재층과 점착층을 포함하는 복수층으로 이루어지는 다층 필름인 경우, 예를 들어 제막한 기재층과, 제막한 점착층과, 필요에 따라 다른 층(예를 들어 기능층)을 접착함으로써 다층 필름을 형성해도 되고, 제막한 기재층 상에, 점착층 및 다른 층을 압출 제막하여 다층 필름을 형성해도 된다. 또한, 기재층을 구성하는 재료와, 점착층을 구성하는 재료 등을 다층 제막기에 의해 공압출 제막하여 다층 필름을 형성해도 된다. 또한, 기재층 상에 웨트 코팅법에 의해 점착층을 형성해도 된다. 이 경우, 점착층을 형성하기 위한 재료(수지, 첨가제 등)가 분산 또는 용해된 코팅액(점착층용 도포 시공액)을 기재층 상에 도포함으로써 점착층을 형성할 수 있다.In the case where the protective film (B) is a multilayer film comprising a plurality of layers including a base layer and an adhesive layer, for example, the formed base layer, the formed pressure-sensitive adhesive layer, and other layers Layer) may be adhered to form a multilayer film, or a multilayer film may be formed by extrusion-forming an adhesive layer and another layer on the formed base layer. Further, a multilayer film may be formed by co-extruding a material constituting the base layer and a material constituting the pressure-sensitive adhesive layer by a multi-layer film-forming machine. Further, an adhesive layer may be formed on the base layer by a wet coating method. In this case, a pressure-sensitive adhesive layer can be formed by applying a coating liquid (coating liquid for a pressure-sensitive adhesive layer) in which a material (resin, additive, etc.) for forming the pressure-sensitive adhesive layer is dispersed or dissolved.

또한, 보호 필름 (B)의 박리성을 향상시킨다는 관점에서, 코로나 처리나 이트로 처리, 오존 처리, 플라스마 처리 등에 의해 보호 필름 (B)의 표면을 처리해도 된다.From the viewpoint of improving the peeling property of the protective film (B), the surface of the protective film (B) may be treated by corona treatment, etch treatment, ozone treatment, plasma treatment or the like.

보호 필름 (B)의 시판품으로서는, 예를 들어 주식회사 선에이 가켄의 PAC 시리즈, JA 시리즈, KD 시리즈, MA 시리즈, NSA 시리즈; 세키스이 가가쿠 고교 주식회사의 622 시리즈; 다이오 가코시 고교 주식회사의 FM 시리즈; 주식회사 스미론의 V 시리즈; 닛토덴코 주식회사의 E-MASK 시리즈; 미쓰이 가가쿠 토셀로 주식회사의 미쓰이 마스킹 테이프; 도요 호자이 주식회사의 프로텍트 필름 시리즈; 린텍 주식회사의 공업용 점착 테이프 미점착 테이프 시리즈; 히가시야마 필름 주식회사의 EM 시리즈; 주식회사 기모토의 Prosave 시리즈 등을 들 수 있다.Examples of commercially available products of the protective film (B) include PAC series, JA series, KD series, MA series, NSA series, 622 series of Sekisui Kagaku Kogyo Co., Ltd.; FM series of Daio Kagoshima Kogyo Co., Ltd.; Sumiron's V series; E-MASK series of Nitto Denko Corporation; Mitsui Masking Tape of Mitsui Kagaku Tosell Corporation; Protect film series of Toyo Hoshi Co., Ltd.; Lintec Co., Ltd. industrial adhesive tape non-adhesive tape series; EM series of Higashiyama Film Co., Ltd.; And Prosave series of Kimoto Co., Ltd.

<다른 보호 필름><Other protective film>

전술한 바와 같이, 본 개시에 관한 적층체는, 고분자 필름 (A)의 다른 쪽의 주면에 접하는 박리 가능한 다른 보호 필름을 더 가져도 된다.As described above, the laminate according to the present disclosure may further include another peelable protective film in contact with the other main surface of the polymer film (A).

본 개시에 관한 적층체가, 고분자 필름 (A)의 다른 쪽의 주면에 접하는 박리 가능한 다른 보호 필름을 더 갖는 경우, 다른 보호 필름으로서는, 보호 필름 (B)와 동일한 것을 사용할 수 있다.When the laminate according to the present disclosure has another peelable protective film which is in contact with the other main surface of the polymer film (A), the same protective film as the protective film (B) can be used as the other protective film.

또한, 다른 보호 필름과 보호 필름 (B)는, 동일해도 되고, 상이한 것이어도 된다.The other protective film and protective film (B) may be the same or different.

<제1 양태><First Aspect>

도 1에, 본 개시에 관한 적층체의 제1 양태의 단면도를 도시한다. 제1 양태의 적층체(10)는, 고분자 필름(12)과, 보호 필름(14)을 갖는다. 제1 양태의 적층체(10)에서는, 보호 필름(14)은, 보호 필름(14) 자체의 점착성, 또는 정전 인력에 의해 고분자 필름(12)에 점착되어 있다. 이에 의해, 고분자 필름(12)의 표면을 보호할 수 있다.1 shows a cross-sectional view of a first embodiment of a laminate according to the present disclosure. The laminate (10) of the first embodiment has a polymer film (12) and a protective film (14). In the laminate 10 of the first embodiment, the protective film 14 is adhered to the polymer film 12 by the tackiness of the protective film 14 itself, or electrostatic attraction. Thereby, the surface of the polymer film 12 can be protected.

또한, 제1 양태의 적층체(10)에서는, 보호 필름(14)의 최대 압입 깊이 hmax가 53nm 내지 100nm의 범위로 조정되어 있다.In the laminate 10 of the first embodiment, the maximum penetration depth hmax of the protective film 14 is adjusted to be in the range of 53 nm to 100 nm.

따라서, 제1 양태의 적층체(10)에 따르면, 보호 필름(14)을 박리한 후의 고분자 필름(12)의 외관 악화가 억제된다.Therefore, according to the laminate 10 of the first embodiment, deterioration of the appearance of the polymer film 12 after the protective film 14 is peeled is suppressed.

<제2 양태><Second Aspect>

도 2에, 본 개시에 관한 적층체의 제2 양태의 단면도를 도시한다. 제2 양태의 적층체(10A)는, 고분자 필름(12)과, 점착층(16)과, 기재층(18)을 이 순서대로 갖는다. 제2 양태의 적층체(10A)에서는, 보호 필름(14A)이, 점착층(16)과 기재층(18)으로 구성되어 있다. 또한, 제2 양태의 적층체(10A)에서는, 보호 필름(14A)이, 점착층(16)을 개재시켜 고분자 필름(12)에 점착되어 있기 때문에, 보호 필름(14A)과 고분자 필름(12)의 점착력이 높아진다.Fig. 2 shows a cross-sectional view of a second embodiment of the laminate according to the present disclosure. The laminate 10A of the second embodiment has the polymer film 12, the adhesive layer 16, and the base layer 18 in this order. In the layered product 10A of the second embodiment, the protective film 14A is composed of the adhesive layer 16 and the base layer 18. [ In the laminate 10A of the second embodiment, since the protective film 14A is adhered to the polymer film 12 via the adhesive layer 16, the protective film 14A and the polymer film 12, The adhesive force of the adhesive is increased.

게다가, 제2 양태의 적층체(10A)에서는, 보호 필름(14A)의 최대 압입 깊이 hmax, 즉 점착층(16)의 최대 압입 깊이 hmax가 53nm 내지 100nm의 범위로 조정되어 있다.Further, in the laminate 10A of the second embodiment, the maximum indentation depth hmax of the protective film 14A, that is, the maximum indentation depth hmax of the adhesive layer 16 is adjusted to be in the range of 53 nm to 100 nm.

따라서, 제2 양태의 적층체(10A)에 따르면, 보호 필름(14A)을 박리한 후의 고분자 필름(12)의 외관 악화가 억제된다.Therefore, according to the layered product 10A of the second embodiment, deterioration of the appearance of the polymer film 12 after the protective film 14A is peeled is suppressed.

<적층체의 용도>&Lt; Use of laminate >

본 개시에 관한 적층체가 고분자 필름 (A)로서, 압전성을 갖는 압전 필름(이하, 「압전 필름 (A1)」이라고 칭함)을 갖는 경우, 본 개시에 관한 적층체로부터 보호 필름 (B)를 박리한 후의 압전 필름 (A1)은, 스피커, 헤드폰, 터치 패널, 액추에이터, 리모트 컨트롤러, 마이크로폰, 수중 마이크로폰, 초음파 트랜스듀서, 초음파 응용 계측기, 압전 진동자, 기계적 필터, 압전 트랜스, 지연 장치, 센서, 힘 센서, 가속도 센서, 충격 센서, 진동 센서, 감압 센서, 촉각 센서, 전계 센서, 음압 센서, 디스플레이, 팬, 펌프, 가변 초점 미러, 차음 재료, 방음 재료, 키보드, 음향 기기, 정보 처리기, 계측 기기, 의료용 기기 등의 다양한 분야에서 이용할 수 있다.When the laminate according to the present disclosure has a piezoelectric film having piezoelectricity (hereinafter referred to as &quot; piezoelectric film (A1) &quot;) as the polymer film (A), the protective film (B) The piezoelectric film A1 after the piezoelectric film A1 can be used as a piezoelectric film for a piezoelectric element such as a speaker, a headphone, a touch panel, an actuator, a remote controller, a microphone, an underwater microphone, an ultrasonic transducer, an ultrasonic applied instrument, a piezoelectric transducer, Accelerometer, shock sensor, vibration sensor, decompression sensor, tactile sensor, electric field sensor, sound pressure sensor, display, fan, pump, variable focus mirror, sound insulating material, soundproofing material, keyboard, sound device, information processor, measuring device, medical device And the like.

이때, 압전 필름 (A1)은, 적어도 2개의 면을 갖고, 당해 면에는 전극이 구비된 압전 소자로서 사용되는 것이 바람직하다. 전극은, 압전 필름 (A1)의 적어도 2개의 면에 구비되어 있으면 된다. 상기 전극으로서는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 ITO, ZnO, IZO(등록 상표), 도전성 중합체 등이 사용된다.At this time, it is preferable that the piezoelectric film (A1) has at least two surfaces and is used as a piezoelectric element provided with electrodes on the surface. The electrodes may be provided on at least two surfaces of the piezoelectric film A1. The electrode is not particularly limited, and for example, ITO, ZnO, IZO (registered trademark), conductive polymer, or the like is used.

또한, 압전 필름 (A1)과 전극을 반복하여 겹쳐 적층 압전 소자로서 사용할 수도 있다. 예로서는 전극과 압전 필름 (A1)의 유닛을 반복하여 겹치고, 마지막으로 전극으로 덮여 있지 않은 압전 필름 (A1)의 주면을 전극으로 덮은 것을 들 수 있다. 구체적으로는 유닛의 반복이 2회인 것은, 전극, 압전 필름 (A1), 전극, 압전 필름 (A1), 전극을 이 순서대로 겹친 적층 압전 소자이다. 적층 압전 소자에 사용되는 압전 필름 (A1)은 그 중 1층의 압전 필름 (A1)이 본 개시에 있어서의 압전 필름 (A1)이면 되며, 그 밖의 층은 본 개시에 있어서의 압전 필름 (A1)이 아니어도 된다.Further, the piezoelectric film (A1) and the electrode may be repeatedly used as stacked piezoelectric elements. As an example, the electrode and the unit of the piezoelectric film A1 are repeatedly overlapped, and finally the main surface of the piezoelectric film A1 not covered with the electrode is covered with the electrode. Concretely, the repetition of the unit is two times in the laminated piezoelectric element in which the electrode, the piezoelectric film (A1), the electrode, the piezoelectric film (A1) and the electrode are stacked in this order. The piezoelectric film (A1) used in the laminated piezoelectric element is one piezoelectric film (A1) of the piezoelectric film (A1) in the present disclosure, and the other layers are the piezoelectric film (A1) .

또한, 적층 압전 소자에 복수의 압전 필름 (A1)이 포함되고, 유기 압전 재료가 헬리컬 키랄 고분자 (X)인 경우에는, 어떠한 층의 압전 필름 (A1)에 포함되는 헬리컬 키랄 고분자 (X)의 광학 활성이 L체라면, 다른 층의 압전 필름 (A1)에 포함되는 헬리컬 키랄 고분자 (X)는 L체여도 되고 D체여도 된다. 압전 필름 (A1)의 배치는 압전 소자의 용도에 따라 적절하게 조정할 수 있다.When the laminated piezoelectric element includes a plurality of piezoelectric films A1 and the organic piezoelectric material is the helix chiral polymer X, the optical properties of the helix chiral polymer X contained in the piezoelectric film A1, If the active polymer is active, the helical chiral polymer (X) contained in the piezoelectric film (A1) of the other layer may be L-shaped or D-shaped. The arrangement of the piezoelectric film (A1) can be appropriately adjusted in accordance with the use of the piezoelectric element.

예를 들어, L체의 헬리컬 키랄 고분자 (X)를 주된 성분으로서 포함하는 압전 필름 (A1)의 제1 층이 전극을 개재시켜 L체의 헬리컬 키랄 고분자 (X)를 주된 성분으로서 포함하는 제2 압전 필름 (A1)과 적층되는 경우에는, 제1 압전 필름 (A1)의 1축 연신 방향(주된 연신 방향)을, 제2 압전 필름 (A1)의 1축 연신 방향(주된 연신 방향)과 교차, 바람직하게는 직교시키면, 제1 압전 필름 (A1)과 제2 압전 필름 (A1)의 변위의 방향을 일치시킬 수 있고, 적층 압전 소자 전체로서의 압전성이 높아지므로 바람직하다.For example, a first layer of a piezoelectric film (A1) containing an L-shaped helix chiral polymer (X) as a main component is bonded to a second layer containing an L-form helix chiral polymer (X) It is preferable that the uniaxial stretching direction (main stretching direction) of the first piezoelectric film A1 intersects with the uniaxial stretching direction (main stretching direction) of the second piezoelectric film A1 when the piezoelectric film A1 is laminated with the piezoelectric film A1, It is preferable that the directions of displacement of the first piezoelectric film A1 and the second piezoelectric film A1 are made coincident with each other and the piezoelectric properties of the laminated piezoelectric element as a whole become high.

한편, L체의 헬리컬 키랄 고분자 (X)를 주된 성분으로서 포함하는 압전 필름 (A1)의 제1 층이 전극을 개재시켜 D체의 헬리컬 키랄 고분자 (X)를 주된 성분으로서 포함하는 제2 압전 필름 (A1)과 적층되는 경우에는, 제1 압전 필름 (A1)의 1축 연신 방향(주된 연신 방향)을, 제2 압전 필름 (A1)의 1축 연신 방향(주된 연신 방향)과 대략 평행이 되도록 배치하면 제1 압전 필름 (A1)과 제2 압전 필름 (A1)의 변위의 방향을 일치시킬 수 있고, 적층 압전 소자 전체로서의 압전성이 높아지므로 바람직하다.On the other hand, the first layer of the piezoelectric film (A1) containing the L-shaped helix chiral polymer (X) as a main component is sandwiched between the second piezoelectric film (Main stretching direction) of the first piezoelectric film A1 is substantially parallel to the uniaxial stretching direction (main stretching direction) of the second piezoelectric film A1 when the first piezoelectric film A1 is laminated with the first piezoelectric film A1, It is possible to make the directions of displacement of the first piezoelectric film A1 and the second piezoelectric film A1 coincident with each other and to increase the piezoelectricity of the laminated piezoelectric element as a whole.

특히 압전 필름 (A1)의 주면에 전극을 구비하는 경우에는, 투명성이 있는 전극을 구비하는 것이 바람직하다. 여기서, 전극에 대하여, 투명성이 있다는 것은, 구체적으로는 내부 헤이즈가 50% 이하 또한 전체 광선 투과율이 50% 이상인 것을 말한다.Particularly, when an electrode is provided on the main surface of the piezoelectric film (A1), it is preferable to provide an electrode having transparency. Here, the fact that the electrode has transparency means that the internal haze is 50% or less and the total light transmittance is 50% or more.

본 개시에 있어서의 압전 필름 (A1)을 사용한 상기 압전 소자는, 스피커나 터치 패널 등, 상술한 여러 가지 압전 디바이스에 응용할 수 있다. 특히, 투명성이 있는 전극을 구비한 압전 소자는, 스피커, 터치 패널, 액추에이터 등으로의 응용에 적합하다.The piezoelectric device using the piezoelectric film A1 in the present disclosure can be applied to various piezoelectric devices described above such as a speaker and a touch panel. Particularly, a piezoelectric element having an electrode having transparency is suitable for application to a speaker, a touch panel, an actuator, and the like.

본 개시에 관한 적층체를 사용한 상기 압전 소자는, 스피커나 터치 패널 등, 상술한 여러 가지 압전 디바이스에 응용할 수 있다. 특히, 투명성이 있는 전극을 구비한 압전 소자는, 스피커, 터치 패널, 액추에이터 등으로의 응용에 적합하다.The piezoelectric element using the laminate according to the present disclosure can be applied to various piezoelectric devices described above such as a speaker and a touch panel. Particularly, a piezoelectric element having an electrode having transparency is suitable for application to a speaker, a touch panel, an actuator, and the like.

또한, 본 개시에 관한 적층체가 고분자 필름 (A)로서, 압전성을 갖지 않는 고분자 필름(이하, 「고분자 필름 (A2)」라고 칭함)을 갖는 경우, 본 개시에 관한 적층체로부터 보호 필름 (B)를 박리한 후의 고분자 필름 (A2)는 표시 장치 등에 사용되는 광학 필름 등으로서 적합하게 사용할 수 있다.When the laminate according to the present disclosure has a polymer film (hereinafter referred to as &quot; polymer film (A2) &quot;) as the polymer film (A), the protective film (B) The polymer film A2 can be suitably used as an optical film or the like used in a display device or the like.

<적층체의 제조 방법>&Lt; Method for producing laminate >

본 개시에 관한 적층체의 제조 방법에는 특별히 한정은 없지만, 예를 들어 상술한 방법에 의해 고분자 필름 (A)를 제조하여, 전술한 방법에 의해 형성한 보호 필름 (B)와 첩합함으로써 제조할 수 있다.The method for producing the laminate according to the present disclosure is not particularly limited, and for example, a polymer film (A) can be produced by the above-mentioned method, and the polymer film (A) can be produced by bonding with a protective film have.

또한, 고분자 필름 (A), 보호 필름 (B)는, 공지의 방법으로 제조한 것이어도 되고, 미리 제조된 것이어도 된다.The polymer film (A) and the protective film (B) may be produced by a known method or may be produced in advance.

<실시예><Examples>

이하, 본 발명의 실시 형태를 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 개시의 주지를 초과하지 않는 한, 실시 형태는 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the embodiments are not limited to the following examples unless the scope of the present disclosure is exceeded.

<고분자 압전 필름의 제작>&Lt; Production of a polymer piezoelectric film &

유기 압전 재료로서, 헬리컬 키랄 고분자 (X)인 NatureWorks LLC사제의 폴리락트산(품명: IngeoTM biopolymer, 상표: 4032D)을 준비하였다. 그리고, 폴리락트산 100질량부에 대하여, 안정화제 (Y)로서 후술하는 첨가제 Z를 1.0질량부 첨가하고, 드라이 블렌드하여, 원료를 제작하였다.As the organic piezoelectric material, a polylactic acid (trade name: Ingeo TM , manufactured by NatureWorks LLC, a helical chiral polymer (X) biopolymer, trade mark: 4032D). Then, 1.0 part by mass of Additive Z described later as a stabilizer (Y) was added to 100 parts by mass of the polylactic acid, followed by dry blending to prepare a raw material.

제작한 원료를 압출 성형기 호퍼에 넣어, 210℃로 가열하면서 T 다이로부터 압출하고, 50℃의 캐스트 롤에 0.3분간 접촉시켜, 두께 150㎛의 예비 결정화 시트를 제막하였다(예비 결정화 공정). 상기 예비 결정화 시트의 결정화도를 측정한바 6%였다.The prepared raw material was placed in an extruder hopper, extruded from a T die while being heated to 210 DEG C, and contacted with a cast roll at 50 DEG C for 0.3 minute to form a pre-crystallized sheet having a thickness of 150 mu m (preliminary crystallization step). The crystallinity of the pre-crystallized sheet was measured to be 6%.

얻어진 예비 결정화 시트를 70℃로 가열하면서 롤 투 롤에서, 연신 속도 10m/분으로 연신을 개시하고, 3.5배까지 MD 방향으로 1축 연신하였다(연신 공정).The preliminarily crystallized sheet was heated at 70 占 폚 and stretched at a stretching speed of 10 m / min on a roll-to-roll basis, and uniaxially stretched to 3.5 times in the MD direction (stretching step).

그 후, 1축 연신한 필름을, 롤 투 롤에서, 145℃로 가열한 롤 상에 15초간 접촉시켜 어닐링 처리하여, 고분자 필름 (A)로서 고분자 압전 필름을 제작하였다(어닐링 처리 공정). 얻어진 고분자 압전 필름의 두께는 47.2㎛였다.Thereafter, the uniaxially stretched film was brought into contact with a roll heated at 145 占 폚 for 15 seconds in a roll-to-roll state and annealed to produce a polymer piezoelectric film as the polymer film (A) (annealing process step). The thickness of the obtained polymer piezoelectric film was 47.2 占 퐉.

-첨가제 Z-- Additive Z-

첨가제 Z로서는, 라인 케미사제 Stabaxol P400(10질량부), 라인 케미사제 Stabaxol I(70질량부) 및 닛신보 케미컬사제 카르보딜라이트 LA-1(20질량부)의 혼합물을 사용하였다.As the additive Z, a mixture of Stabaxol P400 (10 parts by mass) manufactured by Rhein Chemie, Stabaxol I (70 parts by mass) manufactured by Rhein Chemie, and Carbodilate LA-1 (20 parts by mass) manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd. was used.

상기 혼합물에 있어서의 각 성분의 상세는 이하와 같다.Details of each component in the mixture are as follows.

Stabaxol I: 비스-2,6-디이소프로필페닐카르보디이미드(분자량(=중량 평균 분자량): 363)Stabaxol I: bis-2,6-diisopropylphenylcarbodiimide (molecular weight (= weight average molecular weight): 363)

Stabaxol P400: 폴리(1,3,5-트리이소프로필페닐렌-2,4-카르보디이미드)(중량 평균 분자량: 20000)Stabaxol P400: poly (1,3,5-triisopropylphenylene-2,4-carbodiimide) (weight average molecular weight: 20,000)

카르보딜라이트 LA-1: 폴리(4,4'-디시클로헥실메탄카르보디이미드)(중량 평균 분자량: 약 2000)Carbodilate LA-1: Poly (4,4'-dicyclohexylmethanecarbodiimide) (weight average molecular weight: about 2000)

<폴리락트산의 물성 측정>&Lt; Measurement of physical properties of polylactic acid &

고분자 압전 필름에 포함되는 폴리락트산에 대하여, 이미 설명한 방법으로, 광학 순도, 중량 평균 분자량(Mw) 및 분자량 분포(Mw/Mn)를 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.The optical purity, weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polylactic acid contained in the polymer piezoelectric film were measured by the method described previously. The results are shown in Table 1.

<고분자 압전 필름의 물성 측정>&Lt; Measurement of Physical Properties of Polymer Piezoelectric Film &

상기 고분자 압전 필름에 대하여, 이하의 방법으로, 융점 Tm, 결정화도 및 내부 헤이즈를 측정하였다. 또한, 이미 설명한 방법으로 압전 상수 d14(응력-전하법) 및 규격화 분자 배향 MORc를 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.The polymer piezoelectric film was measured for melting point Tm, crystallinity and internal haze by the following method. In addition, the piezoelectric constant d 14 (stress-charge method) and the normalized molecular orientation MORc were measured by the method already described. The results are shown in Table 1.

[융점 Tm 및 결정화도][Melting point Tm and degree of crystallization]

고분자 압전 필름을 10mg 정확하게 칭량하고, 시차 주사형 열량계(퍼킨 엘머사제 DSC-1)를 사용하여, 승온 속도 10℃/분의 조건에서 측정하여, 융해 흡열 곡선을 얻었다. 얻어진 융해 흡열 곡선으로부터, 융점 Tm 및 결정화도를 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.The polymer piezoelectric film was precisely weighed in an amount of 10 mg and measured at a temperature raising rate of 10 캜 / min using a differential scanning calorimeter (DSC-1, manufactured by Perkin Elmer) to obtain a melting endothermic curve. From the obtained melting endothermic curve, melting point Tm and degree of crystallization were obtained. The results are shown in Table 1.

[내부 헤이즈][Internal Hayes]

이하의 방법에 의해, 상기 고분자 압전 필름의 내부 헤이즈(이하, 내부 헤이즈 (H1)이라고도 함)를 얻었다. 결과를 표 1에 나타낸다.The internal haze (hereinafter also referred to as internal haze H1) of the polymer piezoelectric film was obtained by the following method. The results are shown in Table 1.

우선, 미리 유리판 2매의 사이에, 실리콘 오일(신에쓰 가가쿠 고교 주식회사제 신에쓰 실리콘(상표), 형번: KF96-100CS)만을 끼워 헤이즈 (H2)(%)를 측정하였다. 이어서, 실리콘 오일로 표면을 균일하게 칠한 상기 고분자 압전 필름을 상기 유리판 2매 사이에 끼워 헤이즈 (H3)(%)을 측정하였다.First, haze (H2) (%) was measured by sandwiching only silicon oil (Shin-Etsu Silicone (trademark) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., model number: KF96-100CS) in advance between two glass plates. Then, the above-mentioned polymer piezoelectric film whose surface was uniformly coated with silicone oil was sandwiched between two glass plates, and the haze (H3) (%) was measured.

이어서, 하기 식과 같이 이들의 차를 취함으로써, 상기 고분자 압전 필름의 내부 헤이즈 (H1)(%)을 얻었다.Subsequently, the internal haze (H1) (%) of the polymer piezoelectric film was obtained by taking the difference between them as shown in the following formula.

내부 헤이즈 (H1)=헤이즈 (H3)-헤이즈 (H2)Internal Haze (H1) = Haze (H3) - Haze (H2)

헤이즈 (H2) 및 헤이즈 (H3)(모두 단위는 %)은, 각각, 하기 측정 조건 하에서 하기 장치를 사용하여 측정하였다.Haze (H2) and haze (H3) (all units are%) were measured using the following apparatus under the following measurement conditions, respectively.

측정 장치: 도쿄 덴쇼쿠사제, HAZE METER TC-HIIIDPKMeasuring apparatus: manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd., HAZE METER TC-HIIIDPK

시료 사이즈: 폭 30mm×길이 30mmSample size: Width 30mm × length 30mm

측정 조건: JIS-K7136(2000)에 준거Measurement conditions: According to JIS-K7136 (2000)

측정 온도: 실온(25℃)Measuring temperature: room temperature (25 캜)

Figure pct00007
Figure pct00007

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

상기 방법으로 제작한 고분자 압전 필름의 주면에 대하여, 라미네이터를 사용하여, 롤 투 롤에서, 보호 필름 (B)로서, 기재층(PET 기재)/점착층(아크릴계 점착제)의 층 구성을 갖는 보호 필름(두께 50㎛)을, 점착층과 고분자 압전 필름의 주면이 대향하는 방향에서 고분자 압전 필름에 첩합하여, 기재층/점착층/고분자 압전 필름의 층 구성을 갖는 적층체를 제작하였다. 또한, 상기 보호 필름은, 선에이 가켄사제의 NSA33T를 사용하였다.A protective film (B) having a layer structure of a base layer (PET substrate) / adhesive layer (acrylic pressure-sensitive adhesive) as a protective film (B) was formed on the main surface of the polymer piezoelectric film produced by the above method using a laminator, (Thickness: 50 占 퐉) was laminated on the polymer piezoelectric film in the direction in which the main faces of the adhesive layer and the polymer piezoelectric film were opposed to each other to prepare a laminate having a layer structure of base layer / adhesive layer / polymer piezoelectric film. As the protective film, NSA33T manufactured by Sun Ai Kagaku Co., Ltd. was used.

<특성 측정><Characteristic measurement>

보호 필름의 최대 압입 깊이 hmax, 그리고 고분자 압전 필름 및 보호 필름의 T형 박리 강도를 이하의 방법으로 측정하였다.The maximum penetration depth hmax of the protective film, and the T type peel strength of the polymer piezoelectric film and the protective film were measured by the following methods.

[최대 압입 깊이 hmax][Maximum indentation depth hmax]

실시예 1에서 제작한 적층체로부터 보호 필름을 박리하고, 박리한 보호 필름에 대하여, 보호 필름의 고분자 압전 필름과 접해 있던 면의 측을 나노인덴테이션법에 의해 측정하고, 보호 필름의 최대 압입 깊이 hmax를 측정하였다.The protective film was peeled from the laminate produced in Example 1 and the side of the protective film that was in contact with the polymer piezoelectric film of the protective film was measured by the nanoindentation method, The depth hmax was measured.

보다 상세하게는, AFM 제어부로서 SII사제 SPI3800을 사용하고, 나노인덴트 모듈부로서 Hysitron사제 TriboScope를 사용하고, 압자로서 다이아몬드로 만든 Berkovich형(삼각추상: 꼭지각 142.3°)을 사용하여, 압입 제어 선형 하중 부가 방식에 의해 최대 하중 10μN의 조건에서, 상기 압자를 보호 필름에 압입함으로써, 상기 최대 압입 깊이 hmax를 측정하였다.More specifically, using a SPI3800 manufactured by SII as an AFM control unit, a TriboScope manufactured by Hysitron Corporation as a nanoindent module unit, and a Berkovich type (triangular abstraction: apex angle 142.3 deg.) Made of diamond as an indenter, The maximum indentation depth hmax was measured by press-fitting the indenter into a protective film under the condition of a maximum load of 10 占 에 by the load addition method.

측정은 실온(25℃)에서 9개소 행하고, 9개소의 측정값 중, 최댓값 및 최솟값을 제외한 7개소의 평균값을 보호 필름의 최대 압입 깊이 hmax로 하였다.The measurement was carried out at room temperature (25 占 폚) at 9 positions, and the average value of seven portions excluding the maximum value and the minimum value among the nine measured values was defined as the maximum indentation depth hmax of the protective film.

또한, 측정은 실온(25℃)에서 행하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.The measurement was carried out at room temperature (25 캜). The results are shown in Table 2.

[T형 박리 강도][T-type peel strength]

실시예 1에서 제작한 적층체를 1개월 실온에서 보존한 후, TD 방향으로 50mm, MD 방향으로 150mm의 샘플을 잘라냈다. 보호 필름과 고분자 압전 필름을 MD 방향으로 30mm 박리하여 인장 시험기(AND사제, TENSILON RTG-1250)에 세팅하고, 고분자 압전 필름과 보호 필름의 T형 박리 강도를 JIS K6854-3(1999)에 준거하여 측정하였다.After the laminate prepared in Example 1 was stored at room temperature for one month, a sample of 50 mm in the TD direction and 150 mm in the MD direction was cut out. The protective film and the polymer piezoelectric film were peeled 30 mm in the MD direction and set on a tensile tester (TENSILON RTG-1250 manufactured by AND Co.). The T-type peel strength of the polymer piezoelectric film and the protective film was measured according to JIS K6854-3 (1999) Respectively.

측정은 실온(25℃)에서 5회 행하고, 그의 평균값을 T형 박리 강도로 하였다. 결과를 표 2에 나타낸다. 또한, 표 2에 있어서, 「대압전 필름 T형 박리 강도」는, 상기 T형 박리 강도를 나타낸다.The measurement was carried out five times at room temperature (25 캜), and the average value thereof was taken as the T-type peel strength. The results are shown in Table 2. In Table 2, &quot; Tape Peel Strength of Large Piezoelectric Film &quot; indicates the T type peel strength.

[탄성률][Modulus of elasticity]

실시예 1에서 작성한 적층체에 대하여, 고분자 압전 필름의 주된 연신 방향으로 100mm, 고분자 압전 필름의 주된 연신 방향과 수직 방향으로 20mm의 샘플을 잘라냈다. 잘라낸 샘플을 고분자 압전 필름과 보호 필름으로 박리하고, 고분자 압전 필름과 보호 필름 각각에 대하여 인장 시험기(AND사제, TENSILON RTG-1250)를 사용하여, 척간 70mm, 속도 50mm/min의 조건에서 JIS K7127(1999)에 기초하여 탄성률을 측정하였다.A sample of 100 mm in the main stretching direction of the polymer piezoelectric film and 20 mm in the direction perpendicular to the main stretching direction of the polymer piezoelectric film was cut out of the laminate prepared in Example 1. The cut samples were peeled off with a polymer piezoelectric film and a protective film. Using a tensile tester (TENSILON RTG-1250 manufactured by AND Co.), each of the polymer piezoelectric film and the protective film was peeled off under the conditions of JIS K7127 1999). &Lt; / RTI &gt;

[탄성률비][Modulus of elasticity ratio]

상기 측정에서 얻어진 고분자 압전 필름의 탄성률과 보호 필름의 탄성률로부터, 보호 필름의 탄성률/고분자 압전 필름의 탄성률의 비의 값을 구하고, 탄성률비로 하였다. 또한, 실시예 1의 고분자 압전 필름의 탄성률은 6.2GPa이었다.The value of the ratio of the elastic modulus of the protective film / the elastic modulus of the polymer piezoelectric film was determined from the elastic modulus of the polymer piezoelectric film and the elastic modulus of the protective film obtained in the above measurement. The elastic modulus of the polymer piezoelectric film of Example 1 was 6.2 GPa.

<평가><Evaluation>

[보호 필름 박리 후의 외관(오렌지 필) 평가][Evaluation of appearance after peeling of protective film (orange peel)] [

실시예 1에서 제작한 적층체를 1개월 실온에서 보존한 후, TD 방향으로 300mm, MD 방향으로 300mm의 샘플을 잘라냈다. 이어서, 적층체로부터 보호 필름을 박리한 후, 고분자 압전 필름의 보호 필름을 라미네이트하고 있던 면(보호 필름과의 점착면)의 외관을 이하의 기준으로 판정하였다.After the laminate prepared in Example 1 was stored at room temperature for one month, a sample of 300 mm in the TD direction and 300 mm in the MD direction was cut out. Subsequently, the protective film was peeled from the laminate, and then the appearance of the surface (adhesive surface with protective film) on which the protective film of the polymer piezoelectric film was laminated was judged by the following criteria.

-평가 기준--Evaluation standard-

A: 오렌지 필이 전혀 발생하지 않았음A: No orange peel occurred at all

B: 약간 오렌지 필이 발생하였음B: A little orange peel occurred.

C: 전체면에 오렌지 필이 강하게 발생하였음C: Strong orange peel on the entire surface

[장기 보관 후의 평면성 평가][Evaluation of planarity after long-term storage]

실시예 1에서 제작한 적층체를 1년간 실온에서 보존한 후, 적층체로부터 보호 필름을 박리하였다. 고분자 압전 필름을 평면인 금속판 상에 두고 외관을 이하의 기준으로 판정하였다.After the laminate produced in Example 1 was stored at room temperature for one year, the protective film was peeled from the laminate. The polymer piezoelectric film was placed on a flat metal plate, and appearance was judged according to the following criteria.

-평가 기준--Evaluation standard-

A: 평면성을 유지하고 있음A: Maintains planarity.

B: 부분적으로 평면성이 없음B: Partially non-planar

C: 전체면에 평면성이 없음C: The entire surface is not planar.

또한, 이 평가에서 관찰한 평면성은, 고분자 압전 필름의 10㎝ 스케일의 굴곡이다. 이 때문에, 평면성의 평가는, 수 mm 스케일의 요철의 평가인 오렌지 필 평가와는 상이한 외관 평가이다.In addition, the planarity observed in this evaluation is the flexure of the polymer piezoelectric film at 10 cm scale. Therefore, the evaluation of the planarity is an appearance evaluation which is different from the orange peel evaluation which is an evaluation of the irregularity of several mm scale.

<실시예 2>&Lt; Example 2 >

보호 필름으로서, 기재층(폴리올레핀 기재)/점착층(아크릴계 점착제)의 층 구성을 갖는 보호 필름(선에이 가켄사제 JA13K, 두께 35㎛)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 조작을 행하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.The same operation as in Example 1 was carried out except that a protective film (JA13K made by Sun Ai Kagaku Co., Ltd., thickness: 35 mu m) having a layer structure of a base layer (polyolefin base) / adhesive layer (acrylic adhesive) was used as a protective film. The results are shown in Table 2.

<실시예 3>&Lt; Example 3 >

보호 필름으로서, 기재층(폴리올레핀 기재)/점착층(아크릴계 점착제)의 층 구성을 갖는 보호 필름(선에이 가켄사제 KD23K, 두께 35㎛)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 조작을 행하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.The same operation as in Example 1 was carried out except that a protective film having a layer structure of a substrate layer (polyolefin substrate) / adhesive layer (acrylic pressure-sensitive adhesive) (KD23K manufactured by Sun Ai Kagaku Co., Ltd., thickness: 35 m) was used as the protective film. The results are shown in Table 2.

<비교예 1>&Lt; Comparative Example 1 &

보호 필름으로서, 기재층(LDPE 기재)/점착층(EVA계 점착제)의 층 구성을 갖는 보호 필름(선에이 가켄사제 PAC-3-70, 두께 70㎛)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 조작을 행하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.Except that a protective film (PAC-3-70 made by Sunei Kagaku Co., Ltd., thickness 70 mu m) having a layer structure of a substrate layer (LDPE substrate) / adhesive layer (EVA adhesive) was used as the protective film . The results are shown in Table 2.

<비교예 2>&Lt; Comparative Example 2 &

보호 필름으로서, 기재층(LDPE 기재)/점착층(특수 폴리올레핀 점착제)의 층 구성을 갖는 보호 필름(선에이 가켄사제 PAC-3-50THK, 두께 50㎛)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 조작을 행하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.Except that a protective film (PAC-3-50 THK made by Sun Ai Kagaku Co., Ltd., thickness 50 탆) having a layer structure of a substrate layer (LDPE substrate) / adhesive layer (special polyolefin adhesive) was used as the protective film . The results are shown in Table 2.

<비교예 3>&Lt; Comparative Example 3 &

보호 필름으로서, 기재층(폴리에틸렌 기재)/점착층(합성 고무계 점착제)의 층 구성을 갖는 보호 필름(닛토덴코사제 SPV-3643F, 두께 45㎛)을 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일한 조작을 행하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.The same operation as in Example 1 was carried out except that a protective film (SPV-3643F manufactured by Nitto Denko Co., Ltd., thickness: 45 m) having a layer structure of base layer (polyethylene base) / adhesive layer (synthetic rubber adhesive) . The results are shown in Table 2.

Figure pct00008
Figure pct00008

-표 2의 설명-- Explanation of Table 2 -

ㆍPET는, 폴리에틸렌테레프탈레이트임을 나타낸다.ㆍ PET represents polyethylene terephthalate.

ㆍLDPE는, 저밀도 폴리에틸렌임을 나타낸다.ㆍ LDPE indicates low density polyethylene.

ㆍEVA는, 에틸렌/아세트산비닐 공중합체임을 나타낸다.EVA represents an ethylene / vinyl acetate copolymer.

ㆍ표 2 중의 「100<」은, 후술하는 바와 같이, 보호 필름의 최대 압입 깊이 hmax가 100nm를 초과할 것이 추정됨을 나타내는 표시이다.&Quot; 100 &quot; in Table 2 indicates that it is estimated that the maximum indentation depth hmax of the protective film exceeds 100 nm as described later.

표 2에 나타내는 바와 같이, 최대 압입 깊이 hmax가 53nm 내지 100nm의 범위에 있는 보호 필름을 사용한 실시예 1 내지 3은, 오렌지 필의 발생이 억제되어 있음을 알 수 있었다.As shown in Table 2, in Examples 1 to 3 using the protective film having the maximum indentation depth hmax in the range of 53 nm to 100 nm, it was found that the occurrence of orange peel was suppressed.

한편, 최대 압입 깊이 hmax가 53nm 미만인 보호 필름을 사용한 비교예 1, 2는, 오렌지 필이 발생하였음이 확인되었다.On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2 using a protective film having a maximum indentation depth hmax of less than 53 nm, it was confirmed that orange peel occurred.

또한, 비교예 3에서는, 보호 필름을 박리하기가 어렵고, 보호 필름을 박리한 후의 고분자 압전 필름의 표면은 울퉁불퉁한 상태로 되었다. 이것은, 보호 필름과 고분자 압전 필름의 박리 강도가 지나치게 강한 것이 요인이다. 이 결과로부터, 비교예 3에서는, 보호 필름의 최대 압입 깊이 hmax가 100nm를 초과할 것으로 추정된다.In Comparative Example 3, it was difficult to peel off the protective film, and the surface of the polymer piezoelectric film after peeling off the protective film became uneven. This is because the peeling strength between the protective film and the polymer piezoelectric film is excessively strong. From this result, in Comparative Example 3, it is estimated that the maximum penetration depth hmax of the protective film exceeds 100 nm.

따라서, 본 실시예의 적층체에서는, 보호 필름을 박리한 후의 고분자 필름의 외관 악화(오렌지 필)가 억제됨을 알 수 있었다.Therefore, it was found that the deterioration of appearance (orange peel) of the polymer film after the protective film was peeled off was suppressed in the laminate of this example.

또한, 탄성률비가 0.1 미만인 실시예 2 및 실시예 3에 비하여, 탄성률비가 0.1 이상인 실시예 1에서는, 장기 보관 후의 고분자 필름의 평면성이 향상됨을 알 수 있었다.In addition, in Example 1 in which the modulus of elasticity ratio was 0.1 or more, the flatness of the polymer film after long-term storage was improved compared to Examples 2 and 3 in which the modulus of elasticity ratio was less than 0.1.

2016년 3월 9일에 출원된 일본 특허 출원 제2016-046183호의 개시는, 그 전체가 참조에 의해 본 명세서에 원용된다.The disclosure of Japanese Patent Application No. 2016-046183 filed on March 9, 2016 is incorporated herein by reference in its entirety.

본 명세서에 기재된 모든 문헌, 특허 출원 및 기술 규격은, 개개의 문헌, 특허 출원 및 기술 규격이 참조에 의해 원용되는 것이 구체적이고 또한 개별적으로 기재된 경우와 동일한 정도로, 본 명세서 중에 참조에 의해 원용된다.All publications, patent applications, and technical specifications described in this specification are herein incorporated by reference to the same extent as if each individual publication, patent application, and technical specification were specifically and individually indicated to be incorporated by reference.

10, 10A: 적층체
12: 고분자 필름
14, 14A: 보호 필름
16: 점착층
18: 기재층
10, 10A:
12: polymer film
14, 14A: protective film
16: Adhesive layer
18: Base layer

Claims (15)

중량 평균 분자량이 5만 내지 100만인 유기 압전 재료를 포함하고, 마이크로파 투과형 분자 배향계로 측정되는 기준 두께를 50㎛라고 하였을 때의 규격화 분자 배향 MORc가 1.0 내지 15.0이고, DSC법으로 얻어지는 결정화도가 20% 내지 80%이고, 가시광선에 대한 내부 헤이즈가 50% 이하인 고분자 필름 (A)와,
상기 고분자 필름 (A)의 한쪽의 주면에 접하는 박리 가능한 보호 필름 (B)를 갖고,
상기 보호 필름 (B)의 상기 고분자 필름 (A)와 접하는 면의 측을 나노인덴테이션법에 의해 측정하였을 때의 최대 압입 깊이 hmax가 53nm 내지 100nm인, 적층체.
Wherein the standardized molecular orientation MORc is 1.0 to 15.0 when the reference thickness measured with the microwave transmission type molecular alignment meter is 50 m and the crystallinity obtained by the DSC method is 20% To 80% and an internal haze with respect to visible light of not more than 50%
(B) which is in contact with one main surface of the polymer film (A)
And the maximum penetration depth hmax when the side of the protective film (B) contacting the polymer film (A) is measured by the nanoindentation method is 53 nm to 100 nm.
제1항에 있어서, 상기 최대 압입 깊이 hmax는 53nm 내지 60nm인, 적층체.The laminate according to claim 1, wherein the maximum indentation depth hmax is 53 nm to 60 nm. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 보호 필름 (B)가, 기재층과, 상기 기재층의 상기 고분자 필름 (A)에 대향하는 측의 주면 상에 형성된 점착층을 갖고,
상기 최대 압입 깊이 hmax는, 상기 보호 필름 (B)의 상기 점착층의 측을 측정하였을 때의 최대 압입 깊이인, 적층체.
The optical film according to claim 1 or 2, wherein the protective film (B) has a base layer and an adhesive layer formed on the main surface of the base layer opposite to the polymer film (A)
And the maximum indentation depth hmax is a maximum indentation depth when the side of the adhesive layer of the protective film (B) is measured.
제3항에 있어서, 상기 점착층의 산가가 10mgKOH/g 이하인, 적층체.The laminate according to claim 3, wherein the adhesive layer has an acid value of 10 mgKOH / g or less. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 기재층이 폴리올레핀계 수지 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지로 이루어지고, 상기 점착층이 아크릴계 점착제를 포함하는, 적층체.The laminate according to claim 3 or 4, wherein the substrate layer is made of a polyolefin resin or a polyethylene terephthalate resin, and the pressure-sensitive adhesive layer comprises an acrylic pressure-sensitive adhesive. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고분자 필름 (A)와 상기 보호 필름 (B)의 T형 박리 강도가 0.07N/50mm 내지 1N/50mm인, 적층체.The laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein the T-shaped peel strength of the polymer film (A) and the protective film (B) is 0.07 N / 50 mm to 1 N / 50 mm. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고분자 필름 (A)는, 가시광선에 대한 내부 헤이즈가 40% 이하이며, 또한 25℃에 있어서 응력-전하법으로 측정한 압전 상수 d14가 1pC/N 이상인, 적층체.The polymer film (A) according to any one of claims 1 to 6, wherein the polymer film (A) has an internal haze of not more than 40% with respect to visible light and a piezoelectric constant d 14 Is 1 pC / N or more. 제7항에 있어서, 상기 내부 헤이즈가 1% 이하인, 적층체.The laminate according to claim 7, wherein the internal haze is 1% or less. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고분자 필름 (A)는, 상기 규격화 분자 배향 MORc가 3.5 내지 15.0이고, 상기 규격화 분자 배향 MORc와 상기 결정화도의 곱이 70 내지 700인, 적층체.9. The polymer film according to any one of claims 1 to 8, wherein the polymer film (A) has a normalized molecular orientation MORc of 3.5 to 15.0, a product of the normalized molecular orientation MORc and the crystallinity of 70 to 700, . 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유기 압전 재료는 광학 활성을 갖는 헬리컬 키랄 고분자 (X)인, 적층체.The laminate according to any one of claims 1 to 9, wherein the organic piezoelectric material is a helical chiral polymer (X) having optical activity. 제10항에 있어서, 상기 헬리컬 키랄 고분자 (X)가, 하기 식 (1)로 표시되는 반복 단위를 포함하는 주쇄를 갖는 폴리락트산계 고분자인, 적층체.
Figure pct00009
The laminate according to claim 10, wherein the helical chiral polymer (X) is a polylactic acid polymer having a main chain containing a repeating unit represented by the following formula (1).
Figure pct00009
제10항 또는 제11항에 있어서, 상기 헬리컬 키랄 고분자 (X)는, 광학 순도가 95.00%ee 이상인, 적층체.12. The laminate according to claim 10 or 11, wherein the helical chiral polymer (X) has an optical purity of 95.00% ee or more. 제10항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고분자 필름 (A) 중에 있어서의 상기 헬리컬 키랄 고분자 (X)의 함유량이 80질량% 이상인, 적층체.The laminate according to any one of claims 10 to 12, wherein the content of the helical chiral polymer (X) in the polymer film (A) is 80 mass% or more. 제10항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고분자 필름 (A)가, 카르보디이미드기, 에폭시기 및 이소시아네이트기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종류 이상의 관능기를 갖는 중량 평균 분자량이 200 내지 60000인 안정화제 (Y1), 그리고 이미노에테르기를 갖는 안정화제 (Y2)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 안정화제 (Y)를, 상기 헬리컬 키랄 고분자 (X) 100질량부에 대하여 0.01질량부 내지 10질량부 포함하는, 적층체.14. The polymer film according to any one of claims 10 to 13, wherein the polymer film (A) has at least one functional group selected from the group consisting of a carbodiimide group, an epoxy group and an isocyanate group and has a weight average molecular weight of 200 to 60000 (Y) selected from the group consisting of a stabilizer (Y1) having an imino group and a stabilizer (Y2) having an imino ether group in an amount of 0.01 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the helical chiral polymer (X) Mass part. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 보호 필름 (B)의 탄성률과, 고분자 필름 (A)의 탄성률이, 이하의 관계식 (F):
보호 필름 (B)의 탄성률/고분자 필름 (A)의 탄성률≥0.1 (식 F)
를 만족하는, 적층체.
The method according to any one of claims 1 to 14, wherein the modulus of elasticity of the protective film (B) and the modulus of elasticity of the polymer film (A)
The elastic modulus of the protective film (B) / the modulus of elasticity of the polymer film (A)
.
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