KR20180097095A - Method for manufacturing 3d cover glass - Google Patents

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KR20180097095A
KR20180097095A KR1020170023801A KR20170023801A KR20180097095A KR 20180097095 A KR20180097095 A KR 20180097095A KR 1020170023801 A KR1020170023801 A KR 1020170023801A KR 20170023801 A KR20170023801 A KR 20170023801A KR 20180097095 A KR20180097095 A KR 20180097095A
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조형식
김정겸
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크루셜텍 (주)
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Abstract

An embodiment of the present invention provides a manufacturing method of 3D cover glass, which comprises the following steps: providing a protective layer on one or both sides of a glass substrate; and molding the glass substrate provided with the protective layer. The 3D cover glass, the protective layer protects the glass substrate from a molded body when molding the glass substrate.

Description

3D 커버 글라스의 제조방법{METHOD FOR MANUFACTURING 3D COVER GLASS}METHOD FOR MANUFACTURING 3D COVER GLASS [0002]

본 발명은 3D 커버 글라스의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 유리기판의 성형시, 성형체로부터 유리기판의 손상을 방지하며, 미세 패턴 형성이 가능한 3D 커버 글라스의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a 3D cover glass, and more particularly, to a method of manufacturing a 3D cover glass capable of preventing damage to a glass substrate from a molded body and forming a fine pattern during molding of the glass substrate.

정보통신의 발달로 휴대폰, 스마트폰, 휴대정보단말기(PDA; Personal Digital Assistant), 휴대용 멀티미디어 플레이어(PMP; Portable Multimedia Player), 노트북 등과 같은 휴대 단말기에 대한 보급이 확대되고 있다.BACKGROUND ART [0002] With the development of information communication, the spread of portable terminals such as mobile phones, smart phones, personal digital assistants (PDAs), portable multimedia players (PMPs), notebooks,

이러한 휴대 단말기는 사용자가 시간과 장소에 관계없이 자유롭게 무선통신을 할 수 있도록 개발된 이동통신수단으로, 전화통화 기능 이외에도 다양한 기능들을 수행하고 있다. 예를 들어, 게임, MP3 청취, 인터넷 및 TV 시청 등의 기능을 수행하기도 한다.Such a mobile terminal is a mobile communication means developed to allow a user to freely perform wireless communication regardless of time and place, and performs various functions in addition to a telephone communication function. For example, they can play games, listen to MP3s, watch the Internet and watch TV.

이와 같은, 휴대 단말기에는 대개 터치 스크린이 구비되어 사용자는 터치 스크린의 조작을 통해 각종 정보를 입력하고, 그에 따른 화면을 볼 수 있다.In such a portable terminal, a touch screen is usually provided so that the user can input various information through the operation of the touch screen, and can view the screen accordingly.

이러한 터치 스크린은 크게 커버 글라스를 일정한 압력으로 눌러서 신호를 입력하는 감압식과, 커버 글라스의 표면에 손가락을 살짝 대어 인체에 흐르는 미세한 전류를 이용하여 신호를 입력하는 정전용량식이 있다. 최근에는 터치감이 우수하고 반응성이 뛰어난 정전용량식의 터치 스크린의 공급이 증가되고 있다.Such a touch screen is largely a depressurization type in which a cover glass is pressed at a constant pressure to input a signal, and a capacitive type in which a signal is input using a minute current flowing through the human body while slightly touching the surface of the cover glass. In recent years, capacitive touch screens having excellent touch and excellent reactivity have been increasingly supplied.

이러한 터치 스크린의 외층에는 커버 글라스가 배치되어, 터치 스크린을 외부로부터 보호하게 된다. 이와 같은, 커버 글라스는 휴대 단말기의 디자인이 점차 개선됨에 따라 종래 평판형태의 커버 글라스에서 곡면을 갖는 3D 커버 글라스로 디자인이 변화되고 있다. 즉, 커버 글라스는 일부 또는 전체가 곡면 형태를 이루는 3D 커버 글라스로 디자인이 변화되고 있다.A cover glass is disposed on the outer layer of the touch screen to protect the touch screen from the outside. As the design of the portable terminal is gradually improved, the cover glass has been changed from a conventional cover glass to a 3D cover glass having a curved surface. In other words, the cover glass is changed into a 3D cover glass whose shape is partially or entirely curved.

도 1은 종래의 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.1 is an exemplary view showing a conventional method of manufacturing a 3D cover glass.

도 1을 참고하면, 평판형태의 커버 글라스(10)는 성형체(20)를 통해 3D 커버 글라스(30)로 제조될 수 있다. 여기서 성형체(20)는 3D 커버 글라스(30)를 제조하기 위한 금형 또는 지그가 될 수 있다. 이때, 성형체(20)의 내측면에는 코팅층(미도시)이 형성되어 있어, 커버 글라스(10)의 가압 과정에서 커버 글라스(10)가 성형체(20)에 달라붙는 것이 방지될 수 있다.Referring to Fig. 1, a cover glass 10 in the form of a flat plate can be manufactured as a 3D cover glass 30 through a molded body 20. Here, the molded body 20 may be a mold or a jig for manufacturing the 3D cover glass 30. At this time, a coating layer (not shown) is formed on the inner surface of the molded body 20, so that the cover glass 10 can be prevented from sticking to the molded body 20 during the pressing of the cover glass 10.

종래의 3D 커버 글라스(30)의 제조과정을 살펴보면, 먼저 평판형태의 커버 글라스(10)를 미리 정해진 온도로 가열하게 된다.A conventional process of manufacturing the 3D cover glass 30 will be described. First, the cover glass 10 in a flat plate shape is heated to a predetermined temperature.

다음으로, 평판형태의 커버 글라스(10)는 성형체(20)에 의해 가압되며 곡면 형태의 3D 커버 글라스(30)로 성형된다.Next, the cover glass 10 in the form of a flat plate is pressed by the molding 20 and molded into a 3D cover glass 30 in the form of a curved surface.

그러나 이와 같은, 종래의 3D 커버 글라스(30)는 성형체(20)가 커버 글라스(10)를 가압하는 과정에서 성형체(20)에 의해 커버 글라스(10)에는 찍힘, 눌림 및 스크래치 등의 표면 불량이 발생될 수 있다.However, in the conventional 3D cover glass 30 as described above, when the molded body 20 is pressed against the cover glass 10 by the molded body 20 in the process of pressing the cover glass 10, surface defects such as scratches, Lt; / RTI >

이렇게 3D 커버 글라스(30)에 표면 불량이 발생된 경우, 작업자는 폴리싱(polishing) 등의 추가 공정을 통해 3D 커버 글라스(30)의 표면 불량을 제거하게 된다.In the case where a surface defect occurs in the 3D cover glass 30, the operator removes the surface defects of the 3D cover glass 30 through an additional process such as polishing.

그러나 이러한 종래 방식으로 제조되는 3D 커버 글라스(30)는 표면 불량률이 50%를 넘기에, 3D 커버 글라스(30)의 양산 수율이 현저히 떨어지는 문제가 있다.However, the 3D cover glass 30 manufactured by the conventional method has a problem that the mass production yield of the 3D cover glass 30 is remarkably low because the surface defect ratio exceeds 50%.

한편, 종래의 커버 글라스는 커버 글라스의 일면에 글라스 패턴을 형성함에 있어 글라스 패턴이 정밀하게 형성되지 못하는 문제가 있다.On the other hand, the conventional cover glass has a problem that the glass pattern can not be precisely formed in forming the glass pattern on one side of the cover glass.

도 2는 종래의 커버 글라스에 패턴을 형성하는 과정을 보여주는 예시도이다.2 is an exemplary view showing a process of forming a pattern in a conventional cover glass.

도 2를 참고하면, 먼저 커버 글라스(10)의 일면에 레지스트층(11)을 형성한다. 이러한 레지스트층(11)은 포토레지스트(photoresist) 잉크 또는 감광성 필름(DFR, Dry Film Photoresist)이 될 수 있다. 즉, 커버 글라스(10)의 일면에는 포토레지스트 잉크가 도포되거나 감광성 필름이 부착될 수 있다.Referring to FIG. 2, a resist layer 11 is first formed on one side of the cover glass 10. The resist layer 11 may be a photoresist ink or a dry film photoresist (DFR). That is, on one side of the cover glass 10, a photoresist ink may be applied or a photosensitive film may be adhered thereto.

다음으로, 마스킹 공정을 통해 레지스트층(11)을 노광하게 된다. 즉, 레지스트층(11)의 상측에는 마스크 패턴(M)이 배치된 상태에서 마스크 패턴(M)으로 UV 광을 조사하여 레지스트층(11)을 노광하게 된다.Next, the resist layer 11 is exposed through a masking process. That is, the resist layer 11 is exposed by irradiating the mask pattern M with UV light in a state where the mask pattern M is arranged on the upper side of the resist layer 11. [

다음으로, 노광이 이루어진 레지스트층(11)에 대해 현상 작업을 진행하게 된다. 이러한 현상 작업을 통해 레지스트층(11)에는 현상 패턴(12)이 형성될 수 있다.Next, the developing operation is performed on the exposed resist layer 11. The development pattern 12 may be formed in the resist layer 11 through such a developing operation.

마지막으로, 강산계 또는 불산계 에칭액(etchant)을 이용하여 커버 글라스(10)의 일면에 글라스 패턴(13)을 형성한 후, 레지스트층(11)을 박리하게 된다.Finally, after the glass pattern 13 is formed on one surface of the cover glass 10 using a strong acid or hydrofluoric acid etchant, the resist layer 11 is peeled off.

그러나 이와 같은, 종래의 커버 글라스(10)는 커버 글라스(10)의 에칭 과정에서 강산계 또는 불산계 에칭액이 커버 글라스(10)만을 에칭하는 것이 아니라, 일부의 레지스트층(11)도 함께 에칭하는 문제가 있다. 이에, 커버 글라스(10)에 형성되는 글라스 패턴(13)은 정밀하게 형성되지 못하며, 미세 패턴 형성에도 어려움이 있다.However, in the conventional cover glass 10, the strong acid or hydrofluoric acid etching solution does not etch only the cover glass 10 during the etching process of the cover glass 10, there is a problem. Thus, the glass pattern 13 formed on the cover glass 10 can not be precisely formed, and it is difficult to form a fine pattern.

선행문헌 1 : 한국등록특허공보 제1545866호(2015.08.13.)Prior Art 1: Korean Patent Registration No. 1545866 (Aug.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 기술적 과제는, 유리기판의 성형시, 성형체로부터 유리기판의 손상을 방지하며, 미세 패턴 형성이 가능한 3D 커버 글라스의 제조방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a 3D cover glass capable of preventing damage to a glass substrate from a molded body and forming a fine pattern when a glass substrate is molded.

상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는 유리기판의 일면 또는 양면에 보호층을 구비하는 단계; 및 상기 보호층이 구비된 상기 유리기판을 성형하는 단계를 포함하며, 상기 유리기판의 성형시, 상기 보호층은 성형체로부터 상기 유리기판을 보호하는 것인 3D 커버 글라스의 제조방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a glass substrate, comprising: providing a protective layer on one side or both sides of a glass substrate; And molding the glass substrate provided with the protective layer, wherein, when the glass substrate is molded, the protective layer protects the glass substrate from the molded body.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 유리기판을 성형하는 단계 이후로, 상기 보호층을 박리하는 단계를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, after the step of molding the glass substrate, the step of peeling the protective layer may be further included.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 보호층은 NCVM(Non-Conductive Vacuum Metallizing) 공정으로 상기 유리기판에 구비될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the protective layer may be provided on the glass substrate by a non-conductive vacuum metallizing process.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 보호층은 크롬층으로 이루어질 수 있다.In an embodiment of the present invention, the protective layer may be formed of a chromium layer.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 유리기판에 보호층을 구비하는 단계 이후로, 상기 유리기판의 일면에 구비된 상기 보호층의 상면에 레지스트층을 구비하는 단계; 상기 레지스트층을 노광하여 노광 패턴을 형성하는 단계; 상기 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴을 형성하는 단계; 상기 보호층을 에칭하여 상기 현상 패턴과 동일한 패턴을 이루는 보호층 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 유리기판을 에칭하여 상기 보호층 패턴과 동일한 패턴을 이루는 글라스 패턴을 상기 유리기판의 일면에 음각으로 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the method may further include the step of providing a resist layer on the upper surface of the protective layer on one side of the glass substrate, after the step of providing the protective layer on the glass substrate. Exposing the resist layer to form an exposure pattern; Developing the exposure pattern to form a development pattern; Forming a protective layer pattern having the same pattern as the development pattern by etching the protective layer; And etching the glass substrate to form a glass pattern having the same pattern as that of the protective layer pattern on a surface of the glass substrate at a recessed angle.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 유리기판을 성형하는 단계 이후로, 상기 레지스트층 및 보호층을 박리하는 단계를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, after the step of molding the glass substrate, the step of peeling the resist layer and the protective layer may be further included.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 보호층 패턴을 형성한 이후로, 상기 레지스트층을 박리하는 단계를 더 포함하고, 상기 유리기판을 성형하는 단계 이후로, 상기 보호층을 박리하는 단계를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the method further comprises peeling the resist layer after forming the protective layer pattern, wherein after the step of forming the glass substrate, the step of peeling the protective layer is further performed .

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 유리기판을 성형하는 단계 이후로, 상기 유리기판의 일면에 구비된 상기 보호층의 상면에 레지스트층을 구비하는 단계; 상기 레지스트층을 노광하여 노광 패턴을 형성하는 단계; 상기 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴을 형성하는 단계; 상기 보호층을 에칭하여 상기 현상 패턴과 동일한 패턴을 이루는 보호층 패턴을 형성하는 단계; 상기 유리기판을 에칭하여 상기 보호층 패턴과 동일한 패턴을 이루는 글라스 패턴을 상기 유리기판의 일면에 음각으로 형성하는 단계; 및 상기 레지스트층 및 보호층을 박리하는 단계를 더 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a glass substrate, comprising the steps of: providing a resist layer on an upper surface of the protective layer provided on one surface of the glass substrate; Exposing the resist layer to form an exposure pattern; Developing the exposure pattern to form a development pattern; Forming a protective layer pattern having the same pattern as the development pattern by etching the protective layer; Etching the glass substrate to form a glass pattern having the same pattern as the protective layer pattern on a surface of the glass substrate at an oblique angle; And peeling off the resist layer and the protective layer.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 유리기판에 보호층을 구비하는 단계 이후로, 상기 유리기판의 일면에 구비된 상기 보호층의 상면에 레지스트층을 구비하는 단계를 더 포함하고, 상기 유리기판을 성형하는 단계 이후로, 상기 레지스트층을 노광하여 노광 패턴을 형성하는 단계; 상기 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴을 형성하는 단계; 상기 보호층을 에칭하여 상기 현상 패턴과 동일한 패턴을 이루는 보호층 패턴을 형성하는 단계; 상기 유리기판을 에칭하여 상기 보호층 패턴과 동일한 패턴을 이루는 글라스 패턴을 상기 유리기판의 일면에 음각으로 형성하는 단계; 및 상기 레지스트층 및 보호층을 박리하는 단계를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the method further includes the step of providing a resist layer on the upper surface of the protective layer provided on one side of the glass substrate, after the step of providing the protective layer on the glass substrate, Exposing the resist layer to form an exposure pattern; Developing the exposure pattern to form a development pattern; Forming a protective layer pattern having the same pattern as the development pattern by etching the protective layer; Etching the glass substrate to form a glass pattern having the same pattern as the protective layer pattern on a surface of the glass substrate at an oblique angle; And peeling off the resist layer and the protective layer.

본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 유리기판을 성형하는 단계 이후로, 상기 유리기판의 일면에 구비된 상기 보호층의 상면에 레지스트층을 구비하는 단계; 상기 레지스트층을 노광하여 노광 패턴을 형성하는 단계; 상기 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴을 형성하는 단계; 상기 보호층을 에칭하여 상기 현상 패턴과 동일한 패턴을 이루는 보호층 패턴을 형성하는 단계; 상기 레지스트층을 박리하는 단계; 상기 유리기판을 에칭하여 상기 보호층 패턴과 동일한 패턴을 이루는 글라스 패턴을 상기 유리기판의 일면에 음각으로 형성하는 단계; 및 상기 보호층을 박리하는 단계를 더 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a glass substrate, comprising the steps of: providing a resist layer on an upper surface of the protective layer provided on one surface of the glass substrate; Exposing the resist layer to form an exposure pattern; Developing the exposure pattern to form a development pattern; Forming a protective layer pattern having the same pattern as the development pattern by etching the protective layer; Peeling the resist layer; Etching the glass substrate to form a glass pattern having the same pattern as the protective layer pattern on a surface of the glass substrate at an oblique angle; And peeling off the protective layer.

본 발명의 일실시예는 유리기판의 일면 또는 양면에 보호층을 구비하는 단계; 상기 유리기판의 일면에 구비된 상기 보호층의 상면에 레지스트층을 구비하는 단계; 상기 레지스트층을 노광하여 노광 패턴을 형성하는 단계; 상기 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴을 형성하는 단계; 상기 보호층을 에칭하여 상기 현상 패턴과 동일한 패턴을 이루는 보호층 패턴을 형성하는 단계; 상기 유리기판을 성형하는 단계; 상기 유리기판을 에칭하여 상기 보호층 패턴과 동일한 패턴을 이루는 글라스 패턴을 상기 유리기판의 일면에 음각으로 형성하는 단계; 및 상기 레지스트층 및 보호층을 박리하는 단계를 포함하며, 상기 유리기판의 성형시, 상기 보호층은 성형체로부터 상기 유리기판을 보호하는 것인 3D 커버 글라스의 제조방법을 제공한다.One embodiment of the present invention is a method of manufacturing a glass substrate, comprising: providing a protective layer on one side or both sides of a glass substrate; Providing a resist layer on an upper surface of the protective layer on one side of the glass substrate; Exposing the resist layer to form an exposure pattern; Developing the exposure pattern to form a development pattern; Forming a protective layer pattern having the same pattern as the development pattern by etching the protective layer; Molding the glass substrate; Etching the glass substrate to form a glass pattern having the same pattern as the protective layer pattern on a surface of the glass substrate at an oblique angle; And peeling off the resist layer and the protective layer, wherein, when the glass substrate is molded, the protective layer protects the glass substrate from the molded body.

본 발명의 일실시예는 유리기판의 일면 또는 양면에 보호층을 구비하는 단계; 상기 유리기판의 일면에 구비된 상기 보호층의 상면에 레지스트층을 구비하는 단계; 상기 레지스트층을 노광하여 노광 패턴을 형성하는 단계; 상기 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴을 형성하는 단계; 상기 보호층을 에칭하여 상기 현상 패턴과 동일한 패턴을 이루는 보호층 패턴을 형성하는 단계; 상기 유리기판을 성형하는 단계; 상기 레지스트층을 박리하는 단계; 상기 유리기판을 에칭하여 상기 보호층 패턴과 동일한 패턴을 이루는 글라스 패턴을 상기 유리기판의 일면에 음각으로 형성하는 단계; 및 상기 보호층을 박리하는 단계를 포함하며, 상기 유리기판의 성형시, 상기 보호층은 성형체로부터 상기 유리기판을 보호하는 것인 3D 커버 글라스의 제조방법을 제공한다.One embodiment of the present invention is a method of manufacturing a glass substrate, comprising: providing a protective layer on one side or both sides of a glass substrate; Providing a resist layer on an upper surface of the protective layer on one side of the glass substrate; Exposing the resist layer to form an exposure pattern; Developing the exposure pattern to form a development pattern; Forming a protective layer pattern having the same pattern as the development pattern by etching the protective layer; Molding the glass substrate; Peeling the resist layer; Etching the glass substrate to form a glass pattern having the same pattern as the protective layer pattern on a surface of the glass substrate at an oblique angle; And peeling off the protective layer, wherein, when the glass substrate is molded, the protective layer protects the glass substrate from the molded body.

본 발명의 일실시예는 글라스 패턴이 형성된 유리기판의 일면 또는 양면에 보호층을 구비하는 단계; 상기 보호층이 구비된 상기 유리기판을 성형하는 단계; 및 상기 보호층을 박리하는 단계를 포함하며, 상기 유리기판의 성형시, 상기 보호층은 성형체로부터 상기 유리기판을 보호하는 것인 3D 커버 글라스의 제조방법을 제공한다.One embodiment of the present invention provides a method of manufacturing a glass substrate, comprising: providing a protective layer on one side or both sides of a glass substrate on which a glass pattern is formed; Molding the glass substrate provided with the protective layer; And peeling off the protective layer, wherein, when the glass substrate is molded, the protective layer protects the glass substrate from the molded body.

상기에서 설명한 본 발명에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법의 효과를 설명하면 다음과 같다.Effects of the 3D cover glass manufacturing method according to the present invention described above will be described as follows.

본 발명에 따르면, 유리기판의 일면 또는 양면에는 보호층이 구비된 상태에서 유리기판의 성형이 이루어진다. 이에, 유리기판의 성형시, 성형체로부터 유리기판에 손상이 발생되는 것이 방지될 수 있다. 즉, 보호층은 성형 과정에서 성형체에 의해 유리기판에 찍힘, 눌림, 스크래치 등의 손상이 발생되는 것을 방지하게 된다. 따라서, 3D 커버 글라스의 불량률을 줄일 수 있다.According to the present invention, a glass substrate is molded in a state that a protective layer is provided on one side or both sides of the glass substrate. Thus, when the glass substrate is molded, damage to the glass substrate from the molded body can be prevented. That is, the protective layer prevents the glass substrate from being stuck on the glass substrate by the molded body during the molding process, causing damage such as pressing and scratching. Therefore, the defective rate of the 3D cover glass can be reduced.

본 발명에 따르면, 보호층은 포토레지스트 잉크 또는 감광성 필름의 레지스트층에 비해 내산성이 우수하여, 유리기판의 에칭 과정에서 정밀한 글라스 패턴 형성이 가능하다. 즉, 미세 선폭을 갖는 글라스 패턴의 형성이 가능하다.According to the present invention, the protective layer is excellent in acid resistance as compared with the resist layer of the photoresist ink or the photosensitive film, and it is possible to form a precise glass pattern in the etching process of the glass substrate. That is, it is possible to form a glass pattern having a fine line width.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood that the effects of the present invention are not limited to the above effects and include all effects that can be deduced from the detailed description of the present invention or the configuration of the invention described in the claims.

도 1은 종래의 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.
도 2는 종래의 커버 글라스에 패턴을 형성하는 과정을 보여주는 예시도이다.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.
도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.
도 6은 본 발명의 제4 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.
도 7은 본 발명의 제5 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.
도 8은 본 발명의 제6 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.
도 9는 본 발명의 제7 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.
도 10은 본 발명의 제8 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.
도 11은 본 발명의 제9 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.1 is an exemplary view showing a conventional method of manufacturing a 3D cover glass.
2 is an exemplary view showing a process of forming a pattern in a conventional cover glass.
3 is an exemplary view showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to a first embodiment of the present invention.
4 is an exemplary view showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to a second embodiment of the present invention.
5 is an exemplary view showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to a third embodiment of the present invention.
6 is an exemplary view showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to a fourth embodiment of the present invention.
7 is an exemplary view showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to a fifth embodiment of the present invention.
8 is an exemplary view showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to a sixth embodiment of the present invention.
9 is an exemplary view showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to a seventh embodiment of the present invention.
10 is an exemplary view showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to an eighth embodiment of the present invention.
11 is an exemplary view showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to a ninth embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and similar parts are denoted by like reference characters throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is referred to as being "connected" to another part, it includes not only "directly connected" but also "indirectly connected" . Also, when an element is referred to as "comprising ", it means that it can include other elements, not excluding other elements unless specifically stated otherwise.

이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에서, 3D 커버 글라스는 윈도우 글라스(Window Glass)를 포함하여 각종의 유리기판 모두를 포함할 수 있다. 3D 커버 글라스는 윈도우 글라스 또는 배터리 케이스와 같이 휴대 단말기의 전면 또는 후면 전체를 덮는 것일 수 있다. 또한, 3D 커버 글라스는 휴대 단말기의 전면 일부 또는 후면 일부에 배치될 수 있다.In the present invention, the 3D cover glass may include all kinds of glass substrates including a window glass. The 3D cover glass may cover the entire front or back of the portable terminal, such as a window glass or a battery case. In addition, the 3D cover glass may be disposed on a front part or a rear part of the portable terminal.

이때, 3D 커버 글라스는 카메라 윈도우, 기능 버튼, 각종 장식부 등에 적용될 수 있다. 3D 커버 글라스가 카메라 윈도우로 적용되는 경우, 카메라 윈도우는 휴대 단말기의 카메라 모듈을 덮으며 카메라의 렌즈를 노출시킬 수 있다.At this time, the 3D cover glass can be applied to a camera window, a function button, various decorations, and the like. When the 3D cover glass is applied as a camera window, the camera window covers the camera module of the portable terminal and exposes the lens of the camera.

그리고 3D 커버 글라스가 기능 버튼으로 적용되는 경우, 기능 버튼의 표면이 되도록 배치될 수 있다. 상기 각종 장식부는 휴대 단말기의 외관에서 장식 효과를 갖도록 배치되는 모든 유리기판일 수 있으며, 일례로 카메라 윈도우를 둘러싸고 있는 것일 수 있다.And when the 3D cover glass is applied as a function button, it can be arranged to be the surface of the function button. The various decorating units may be all glass substrates arranged to have a decorative effect on the external appearance of the portable terminal, for example, one surrounding the camera window.

이러한 유리기판은 소다라임 유리기판, 무알칼리 유리기판 또는 강화유리기판 등의 유리소재일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.Such a glass substrate may be a glass material such as a soda lime glass substrate, an alkali-free glass substrate, or a tempered glass substrate, but is not limited thereto.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이고, 도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.FIG. 3 is a view illustrating a method of manufacturing a 3D cover glass according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 4 is an exemplary view showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to a second embodiment of the present invention.

도 3과 도 4는 동일한 형태로 제조되는 3D 커버 글라스를 보여주는 예시도이다. 다만, 3D 커버 글라스(1000)를 제조함에 있어, 도 3은 유리기판(100)의 양면(일면과 타면)에 보호층(200)이 구비된 상태에서 유리기판(100)의 성형이 이루는 것이고, 도 4는 유리기판(100)의 일면에만 보호층(200)이 구비된 상태에서 유리기판(100)의 성형이 이루는 차이만 있을 뿐이다.FIGS. 3 and 4 are illustrations showing a 3D cover glass manufactured in the same form. 3 is a view illustrating a process of forming the glass substrate 100 in a state where the protective layer 200 is provided on both sides (one surface and the other surface) of the glass substrate 100, 4 shows only the difference in the molding of the glass substrate 100 in a state where the protective layer 200 is provided on only one side of the glass substrate 100.

여기서 유리기판(100)의 일면은 사용자의 손가락 터치가 이루어지는 면으로, 제품에 적용이 되었을 때 외부로 노출되는 면이 된다.Here, one surface of the glass substrate 100 is a surface on which a user's finger is touched, and is a surface exposed to the outside when applied to a product.

이와 같이, 유리기판(100)을 성형함에 있어, 작업자는 성형체(20)의 형태에 따라 유리기판(100)에 일면 또는 양면에 보호층(200)을 선택적으로 구비시킨 상태에서 유리기판(100)의 성형작업을 진행할 수 있다. 즉, 유리기판(100)을 곡면으로 성형함에 있어, 유리기판(100)의 양면에 찍힘, 눌림, 스크래치 등의 불량 발생률이 높은 경우에는 유리기판(100)의 양면에 보호층(200)을 구비시킨 상태에서 유리기판(100)의 성형작업을 진행하게 된다.In this way, when the glass substrate 100 is molded, the operator can selectively remove the glass substrate 100 from the glass substrate 100 by selectively providing the protective layer 200 on one side or both sides of the glass substrate 100, Can be performed. That is, when the glass substrate 100 is formed into a curved surface, if the glass substrates 100 are stuck on both sides of the glass substrate 100 and the occurrence rate of defects such as pressing and scratches is high, the protective layer 200 is provided on both surfaces of the glass substrate 100 The molding operation of the glass substrate 100 proceeds.

이와 달리, 3D 커버 글라스(1000)를 제조함에 있어, 유리기판(100)의 일면에만 찍힘, 눌림, 스크래치 등의 불량 발생률이 높은 경우에는 비용적인 측면을 고려하여 유리기판(100)에 일면에만 보호층(200)을 구비시킨 상태에서 유리기판(100)의 성형작업을 진행할 수도 있음은 물론이다.In contrast, in manufacturing the 3D cover glass 1000, when the occurrence rate of defects such as being stuck on only one side of the glass substrate 100, the occurrence of scratches and the like is high, the glass substrate 100 is protected only on one side The forming operation of the glass substrate 100 may be performed while the layer 200 is provided.

도 3과 도 4는 보호층(200)이 유리기판(100)의 일면 또는 양면에 구비되는 차이만 있으므로, 도 3의 유리기판(100)의 양면에 보호층(200)이 구비된 형태를 예로 설명하기로 한다.3 and 4 are different from each other only in that the protective layer 200 is provided on one side or both sides of the glass substrate 100. The protective layer 200 is provided on both sides of the glass substrate 100 of FIG. I will explain.

도 3을 참고하면, 먼저 유리기판(100)의 양면에는 보호층(200)이 구비된다.Referring to FIG. 3, a protective layer 200 is provided on both sides of the glass substrate 100.

이러한 보호층(200)은 NCVM(Non-Conductive Vacuum Metallizing) 공정을 통해 유리기판(100)에 구비될 수 있다. 이와 같이, NCVM 공정을 통해 유리기판(100) 상에 보호층(200)이 구비될 경우, 유리기판(100) 상에 구비되는 보호층(200)은 전체적으로 균일한 두께를 이룰 수 있다. 따라서, 유리기판(100)은 보호층(200)이 구비된 상태에서도 정밀한 성형이 이루어질 수 있다.The protective layer 200 may be provided on the glass substrate 100 through a non-conductive vacuum metallizing process. As described above, when the protective layer 200 is provided on the glass substrate 100 through the NCVM process, the protective layer 200 provided on the glass substrate 100 can have a uniform thickness as a whole. Therefore, the glass substrate 100 can be precisely formed even in a state where the protective layer 200 is provided.

이러한 NCVM 공정을 통해 형성되는 보호층(200)은 선택적인 두께 조절이 가능하여 작업자는 성형체(20)의 형상 등에 따라 보호층(200)의 두께를 선택적으로 조절할 수 있다.The thickness of the protective layer 200 formed through the NCVM process can be selectively adjusted, so that the operator can selectively control the thickness of the protective layer 200 according to the shape of the formed body 20 or the like.

아울러, NCVM 공정으로 제조되는 보호층(200)은 유리기판(100)과의 밀착력이 높기에 보호층(200)의 강도는 높아질 수 있다. 이와 같이, 보호층(200)은 높은 강도를 가짐에 따라 유리기판(100)에 보호층(200)이 구비된 상태에서 성형이 이루어질 시, 유리기판(100)에 찍힘, 눌림, 스크래치 등의 불량 발생이 방지될 수 있다.In addition, since the protective layer 200 manufactured by the NCVM process has high adhesion to the glass substrate 100, the strength of the protective layer 200 can be increased. When the protective layer 200 is formed in a state that the protective layer 200 is provided on the glass substrate 100 as the protective layer 200 has a high strength, the glass substrate 100 may be damaged, Occurrence can be prevented.

여기서 유리기판(100)의 양면에 구비되는 보호층(200)은 반드시 NCVM 공정을 통해서만 구비되는 것은 아니며, NCVM 공정 이외에 다양한 공정 작업을 통해 유리기판(100)에 구비될 수도 있음은 물론이다.Here, the protective layer 200 provided on both sides of the glass substrate 100 is not necessarily provided only through the NCVM process, and may be provided on the glass substrate 100 through various process operations other than the NCVM process.

이와 같이, 유리기판(100)에 구비되는 보호층(200)은 내산성이 우수한 소재로 이루어짐이 바람직하다. 이는, 유리기판(100)의 에칭 과정에서 정밀한 글라스 패턴(110, 도 5참조)을 형성하기 위함이다. 이러한 유리기판(100)의 에칭 과정에 대한 내용은 후술하여 설명하기로 한다.As described above, it is preferable that the protective layer 200 provided on the glass substrate 100 is made of a material having excellent acid resistance. This is for forming a precise glass pattern 110 (see FIG. 5) in the etching process of the glass substrate 100. The etching process of the glass substrate 100 will be described later.

여기서 유리기판(100)에 글라스 패턴(110, 도 5참조)을 형성하지 않는 제1 실시예와 제2 실시예의 보호층(200)은 내산성이 우수한 소재로 한정되지 않아도 된다. 즉, 보호층(200)은 유리기판(100)을 성형하는 과정에서 유리기판(100)의 파손을 방지할 수 있는 어떠한 소재라도 사용 가능하다.Here, the protective layer 200 of the first embodiment and the second embodiment in which the glass pattern 110 (see FIG. 5) is not formed on the glass substrate 100 is not limited to a material having excellent acid resistance. That is, the protective layer 200 may be formed of any material capable of preventing breakage of the glass substrate 100 during the process of forming the glass substrate 100.

다음으로, 보호층(200)이 구비된 평판형태의 유리기판(100)은 성형을 위한 예열 과정이 진행된다. 이러한 예열 과정은 성형하는 과정에서 급격한 온도 변화로 인해 유리기판(100)이 파손되는 것을 방지하게 된다.Next, the glass substrate 100 in the form of a flat plate having the protective layer 200 is preheated for molding. This preheating process prevents the glass substrate 100 from being damaged due to a rapid temperature change during the molding process.

다음으로, 유리기판(100)을 미리 정해진 온도 범위로 가열하게 된다. 이때, 미리 정해진 온도 범위는 유리기판(100)의 풀림점(annealing point) 이상의 온도가 될 수 있다.Next, the glass substrate 100 is heated to a predetermined temperature range. At this time, the predetermined temperature range may be a temperature higher than the annealing point of the glass substrate 100.

여기서 유리기판(100)을 가열하는 바람직한 온도는 풀림점 이상으로 하되, 풀림점 근처의 온도 범위 내일 수 있다. 이처럼 유리기판(100)을 풀림점 이상의 온도로 가열함으로써 압축으로 인한 형성 공정 시에 유리기판(100) 내부의 잔류 응력을 줄일 수 있으며, 이를 통해, 유리기판(100)에 압력이 가해질 때 유리기판(100)에 생길 수 있는 부스러기(chipping)나 균열(crack)의 발생을 방지할 수 있다.Here, the preferable temperature for heating the glass substrate 100 is not less than the releasing point but may be within the temperature range near the releasing point. By heating the glass substrate 100 to a temperature not lower than the releasing point, residual stress inside the glass substrate 100 can be reduced during the forming process due to compression. Thus, when pressure is applied to the glass substrate 100, It is possible to prevent the occurrence of chipping or cracks that may occur in the substrate 100.

다음으로, 보호층(200)이 구비된 평판형태의 유리기판(100)을 성형하게 된다.Next, the glass substrate 100 in the form of a flat plate provided with the protective layer 200 is formed.

여기서 유리기판(100)을 성형하는 성형체(20)는 금형 또는 지그가 될 수 있다.Here, the molded body 20 for molding the glass substrate 100 may be a mold or a jig.

제1 실시예에서는 성형체(20)가 상부 금형(21)과 하부 금형(22)으로 이루어진 형태로 설명하고 있으며, 보호층(200)이 구비된 유리기판(100)은 상부 금형(21)과 하부 금형(22)에 의해 가압되며 곡면 형태의 3D 커버 글라스(1000)로 성형된다.The glass substrate 100 provided with the protective layer 200 is formed of the upper mold 21 and the lower mold 22. The upper mold 21 and the lower mold 22 are formed in the same manner as in the first embodiment, Pressed by the mold 22 and molded into a curved surface 3D cover glass 1000. [

다음으로, 성형된 유리기판(100)을 서냉시키게 된다. 이는, 유리기판(100)의 서냉 과정을 통해 예열 시와 마찬가지로 급격한 온도변화로 인한 유리기판(100)의 파손을 방지하기 위함이다.Next, the molded glass substrate 100 is slowly cooled. This is to prevent breakage of the glass substrate 100 due to abrupt temperature change as in preheating through the slow cooling process of the glass substrate 100.

마지막으로, 에칭을 통해 보호층(200)을 박리하며 최종적인 3D 커버 글라스(1000)를 제조하게 된다.Finally, the protective layer 200 is peeled off through etching to produce the final 3D cover glass 1000.

도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.5 is an exemplary view showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to a third embodiment of the present invention.

도 5의 제3 실시예에 따른 3D 커버 글라스(1100)는 제1 실시예 및 제2 실시예의 3D 커버 글라스(1000)와 달리 3D 커버 글라스(1100)에 글라스 패턴(110)이 형성된다.The 3D cover glass 1100 according to the third embodiment of FIG. 5 differs from the 3D cover glass 1000 of the first and second embodiments in that a glass pattern 110 is formed on a 3D cover glass 1100.

도 5를 참조하면, 먼저 유리기판(100)의 양면에 보호층(200)이 구비된다. 여기서 제3 실시예는 유리기판(100)의 양면에 보호층(200)이 구비된 형태를 예로 설명하고 있으나, 보호층(200)은 유리기판(100)의 일면에만 구비된 상태로 3D 커버 글라스(1100)가 제조될 수도 있음은 물론이다.Referring to FIG. 5, a protective layer 200 is provided on both sides of a glass substrate 100. Although the protective layer 200 is provided on only one surface of the glass substrate 100, the protective layer 200 may be provided on both sides of the glass substrate 100, (1100) may be manufactured.

다음으로, 유리기판(100)의 일면에 구비된 보호층(200)의 상면에 레지스트층(300)을 구비하게 된다. 이러한 레지스트층(300)은 포토레지스트(photoresist) 잉크 또는 감광성 필름(DFR, Dry Film Photoresist)일 수 있다.Next, a resist layer 300 is formed on the upper surface of the protective layer 200 provided on one surface of the glass substrate 100. The resist layer 300 may be a photoresist ink or a dry film photoresist (DFR).

여기서 포토레지스트 잉크에는 에폭시계 수지, 실리콘계 수지, 아크릴계 수지 또는 우레탄계 수지 중 적어도 하나의 수지 성분이 더 포함될 수 있고, 이 상태에서 경화제 및 도료가 더 포함될 수도 있다. 이때, 경화제가 미리 정해진 함량 % 이상으로 첨가될 경우에는 경화가 너무 빨리 진행되어 포토레지스트 잉크가 제 위치에 형성되지 못하게 되고, 경화제가 미리 정해진 함량 % 미만으로 첨가될 경우에는 경화가 너무 느리게 진행되어 원하는 패턴이 오버 사이즈로 나오는 경우가 발생될 수 있다. 이에, 경화제는 미리 정해진 함량 % 범위로 포함됨이 바람직하다.Here, the photoresist ink may further contain at least one resin component of an epoxy resin, a silicone resin, an acrylic resin or a urethane resin, and in this state, a hardener and a paint may be further included. At this time, when the curing agent is added at a predetermined amount or more, the curing proceeds too quickly, so that the photoresist ink is not formed in place, and when the curing agent is added at a predetermined amount or less, the curing proceeds too slowly A desired pattern may be oversized. Therefore, it is preferable that the curing agent is contained in a predetermined content range.

이러한 레지스트층(300)은 포지티브 타입(positive type)과 네가티브 타입(negative type)이 있다.The resist layer 300 has a positive type and a negative type.

여기서 포지티브 타입은 레지스트층(300)에 광이 조사되면 광이 조사된 부분은 연화되어 현상과정에서 제거되도록 이루어진 것이다. 이와 달리, 네가티브 타입은 레지스트층(300)에 광이 조사되면, 광이 조사된 부분은 경화되고, 광이 조사되지 않은 부분은 현상과정에서 제거되도록 이루어진 것이다.Here, in the positive type, when the resist layer 300 is irradiated with light, a portion irradiated with light is softened and removed in the developing process. On the other hand, in the negative type, when the resist layer 300 is irradiated with light, a portion irradiated with light is cured, and a portion irradiated with no light is removed in the developing process.

본 발명에서는 포지티브 타입인 레지스트층(300)을 예로 설명하기로 한다. 이와 같이, 보호층(200)의 상면에 레지스트층(300)이 구비된 상태에서 마스킹 공정을 통해 레지스트층(300)을 노광하게 된다. 즉, 레지스트층(300)의 상측에는 마스크 패턴(M)을 배치한 상태에서 마스크 패턴(M)으로 광을 조사하여 레지스트층(300)을 노광하며 노광 패턴을 형성하게 된다. 이때, 마스크 패턴(M)으로 조사되는 광은 UV 광일 수 있다.In the present invention, the positive resist layer 300 will be described as an example. In this way, the resist layer 300 is exposed on the top surface of the passivation layer 200 through the masking process. That is, light is irradiated on the mask pattern M in a state that the mask pattern M is disposed on the upper side of the resist layer 300, thereby exposing the resist layer 300 to form an exposure pattern. At this time, the light irradiated by the mask pattern M may be UV light.

여기서 노광 패턴은 현상과정에서 레지스트층(300)의 제거되는 부분과 제거되지 않는 부분을 구획하게 된다.Here, the exposure pattern defines a portion where the resist layer 300 is removed and a portion where the resist layer 300 is not removed in the developing process.

다음으로, 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴(310)을 형성하게 된다. 즉, 현상 패턴(310)은 레지스트층(300)만을 제거하는 에칭액을 이용하여 레지스트층(300)의 노광된 부분을 제거함으로써 형성된다.Next, the exposure pattern is developed to form the development pattern 310. That is, the development pattern 310 is formed by removing an exposed portion of the resist layer 300 using an etching liquid that removes only the resist layer 300.

다음으로, 현상 패턴(310)을 통해 외부로 노출된 보호층(200)을 에칭하며 현상 패턴(310)과 동일한 패턴 형상의 보호층 패턴(210)을 형성하게 된다. 이때, 보호층 패턴(210)은 보호층(200)만을 제거하는 에칭액을 이용하여 보호층(200)을 에칭함으로써 형성될 수 있다.Next, the protective layer 200 exposed to the outside through the development pattern 310 is etched to form a protective layer pattern 210 having the same pattern as the development pattern 310. At this time, the protective layer pattern 210 may be formed by etching the protective layer 200 using an etchant that removes only the protective layer 200.

여기서 보호층(200)은 상술된 바와 같이, NCVM 공정을 통해 유리기판(100)의 상에 구비될 수 있다. 이러한 보호층(200)은 크롬층으로 이루어질 수도 있다.Here, the protective layer 200 may be provided on the glass substrate 100 through the NCVM process, as described above. The protective layer 200 may be made of a chromium layer.

이와 같이, 보호층(200)이 크롬층으로 이루어진 경우, 크롬층은 내산성이 우수하여 보호층 패턴(210)을 통해 유리기판(100)에 글라스 패턴(110)을 형성하는 과정에서 에칭되지 않는다. 따라서, 정밀한 글라스 패턴(110)의 형성이 가능하다.When the protective layer 200 is made of a chromium layer, the chromium layer is excellent in acid resistance and is not etched in the process of forming the glass pattern 110 on the glass substrate 100 through the protective layer pattern 210. Therefore, it is possible to form a precise glass pattern 110.

이렇게 본 발명의 3D 커버 글라스(1100)의 제조방법은 종래의 커버 글라스의 제조방법과 달리, 유리기판(100)과 레지스트층(300)의 사이에 보호층(200)이 구비됨으로써, 정밀한 글라스 패턴(110)이 가능하다.The method of manufacturing the 3D cover glass 1100 of the present invention is different from the conventional method of manufacturing the cover glass in that the protective layer 200 is provided between the glass substrate 100 and the resist layer 300, (110) is possible.

즉, 종래의 커버 글라스의 경우, 글라스 패턴을 형성하는 과정에서 강산계 또는 불산계 에칭액이 레지스트층의 일부를 함께 에칭하게 되어, 글라스 패턴이 정밀하게 형성되지 못한 문제가 있었다.That is, in the case of the conventional cover glass, a strong acid or hydrofluoric acid etchant etches a part of the resist layer in the process of forming the glass pattern, and the glass pattern can not be formed precisely.

이에 반해, 본 발명의 3D 커버 글라스(1100)는 강산계 또는 불산계 에칭액에 대한 내산성이 강한 크롬층으로 이루어진 보호층(200)이 구비된 상태에서 커버 글라스(100)의 에칭이 이루어지기에, 보호층(200)이 에칭되는 문제가 없다. 이에, 글라스 패턴(110)은 10㎛ 이하의 정밀한 미세 선폭 형성이 가능하다.In contrast, in the 3D cover glass 1100 of the present invention, the cover glass 100 is etched in a state where the protective layer 200 made of a chromium layer having a strong acid resistance against a strong acid or hydrofluoric acid etchant is provided, There is no problem that the protective layer 200 is etched. Thus, the glass pattern 110 can form fine line widths of 10 mu m or less.

다음으로, 보호층 패턴(210)을 통해 외부로 노출된 유리기판(100)의 일측면을 에칭함으로써 글라스 패턴(110)을 형성하게 된다. 이러한 글라스 패턴(110)은 보호층 패턴(210)과 동일한 패턴을 이루며 유리기판(100)의 일면에 음각으로 형성될 수 있다.Next, one side of the glass substrate 100 exposed to the outside through the protective layer pattern 210 is etched to form the glass pattern 110. The glass pattern 110 has the same pattern as that of the protective layer pattern 210 and may be formed at an obtuse angle on one side of the glass substrate 100.

다음으로, 상술된 제1 실시예와 제2 실시예와 같이 유리기판(100)은 예열 및 가열 과정을 거친 후, 성형체(20)로부터 곡면으로 성형된다.Next, as in the first and second embodiments described above, the glass substrate 100 is formed into a curved surface from the molded body 20 after undergoing the preheating and heating process.

마지막으로, 레지스트 에칭액을 이용하여 레지스트층(300)을 박리한 후, 보호층 에칭액을 이용하여 보호층(200)을 박리하여 최종의 3D 커버 글라스(1100)를 제조하게 된다.Finally, the resist layer 300 is peeled off using a resist etchant, and then the protective layer 200 is peeled off using a protective layer etchant to produce the final 3D cover glass 1100.

도 6은 본 발명의 제4 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도로, 본 발명의 제3 실시예와는 레지스트층(300)의 박리 단계에 있어 차이가 있다.FIG. 6 is an illustration showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to a fourth embodiment of the present invention, and there is a difference in the stripping step of the resist layer 300 from the third embodiment of the present invention.

도 6을 참고하면, 본 발명의 제4 실시예는 보호층 패턴(210)을 형성한 이후로, 레지스트층(300)을 박리한 상태에서 유리기판(100)의 일면에 글라스 패턴(110)을 형성하게 된다.6, a glass pattern 110 is formed on one surface of a glass substrate 100 in a state in which the resist layer 300 is peeled off after the protective layer pattern 210 is formed. Respectively.

이와 같이, 유리기판(100) 상에 레지스트층(300)이 없이 보호층(200)만 구비된 상태에서 글라스 패턴(110)을 형성하는 경우, 글라스 패턴(110)의 라인성이 개선될 수 있다. 즉, 유리기판(100)을 에칭하는 과정에서 레지스트층(300)의 간섭이 없기에, 글라스 패턴(110)은 더욱더 정밀한 미세 선폭을 가질 수 있다.When the glass pattern 110 is formed on the glass substrate 100 without the resist layer 300 and only the protective layer 200 is formed, the line property of the glass pattern 110 can be improved . That is, since there is no interference of the resist layer 300 in the process of etching the glass substrate 100, the glass pattern 110 can have a finer line width.

이렇게 유리기판(100)에 글라스 패턴(110)을 형성한 후, 유리기판(100)은 성형체(20)로부터 곡면으로 성형된다.After the glass pattern 110 is formed on the glass substrate 100, the glass substrate 100 is formed into a curved surface from the formed body 20. [

마지막으로, 보호층(200)을 박리하여 최종의 3D 커버 글라스(1100)를 제조하게 된다.Finally, the protective layer 200 is peeled off to produce the final 3D cover glass 1100.

도 7은 본 발명의 제5 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.7 is an exemplary view showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to a fifth embodiment of the present invention.

도 7의 (a)는 레지스트층(300)이 보호층(200)에 함께 구비된 상태에서 유리기판(100)의 성형이 이루어지는 것이고, 도 7의 (b)는 유리기판(100) 상에 보호층(200)만 구비된 상태에서 유리기판(100)의 성형이 이루어진 후, 보호층(200)의 상부에 레지스트층(300)을 구비하는 차이만 있다.7A is a view illustrating a state in which the glass substrate 100 is molded in a state where the resist layer 300 is provided together with the protective layer 200. FIG. Only the difference is that the resist layer 300 is provided on the protective layer 200 after the glass substrate 100 is formed with the layer 200 only.

도 7을 참조하면, 먼저 유리기판(100)의 양면에 보호층(200)을 구비하게 된다. 여기서 제5 실시예는 유리기판(100)의 양면에 보호층(200)이 구비된 형태를 예로 설명하고 있으나, 보호층(200)은 유리기판(100)의 일면에만 구비된 상태로 3D 커버 글라스(1100)를 제조할 수도 있음은 물론이다.Referring to FIG. 7, the protective layer 200 is provided on both sides of the glass substrate 100. In this embodiment, the protective layer 200 is provided on both sides of the glass substrate 100. However, the protective layer 200 may be provided on only one side of the glass substrate 100, It is needless to say that it is also possible to manufacture the antenna 1100.

다음으로, 도 7의 (a)와 같이, 보호층(200)의 상면에 레지스트층(300)을 구비한 상태에서 유리기판(100)을 곡면으로 성형할 수도 있고, 도 7의 (b)와 같이, 유리기판(100) 상에 보호층(200)만 구비된 상태에서 유리기판(100)을 곡면으로 성형한 후, 곡면 성형된 보호층(200)의 상면에 레지스트층(300)를 구비시킬 수도 있음은 물론이다. 여기서 유리기판(100)의 곡면 성형 과정은 상술된 바 구체적인 설명은 생략하기로 한다.Next, as shown in FIG. 7A, the glass substrate 100 may be formed into a curved surface with the resist layer 300 provided on the upper surface of the protective layer 200, The protective layer 200 is formed on the glass substrate 100 and the resist layer 300 is formed on the top surface of the curved protective layer 200 Of course it is possible. Here, the process of forming the curved surface of the glass substrate 100 has been described above, and a detailed description thereof will be omitted.

이때, 레지스트층(300)은 포토레지스트 잉크 또는 감광성 필름이 될 수 있다. 이러한 레지스트층(300)에 대한 내용 역시 상술된 바 구체적인 내용은 생략하기로 한다.At this time, the resist layer 300 may be a photoresist ink or a photosensitive film. The detailed contents of the resist layer 300 will be omitted.

이와 같이, 보호층(200)의 상면에 레지스트층(300)이 구비된 상태에서 마스킹 공정을 통해 레지스트층(300)을 노광하며 노광 패턴을 형성하게 된다.In this way, the resist layer 300 is provided on the upper surface of the passivation layer 200, and the resist layer 300 is exposed through the masking process to form an exposure pattern.

다음으로, 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴(310)을 형성하게 된다. 즉, 현상 패턴(310)은 레지스트층(300)만을 제거하는 에칭액을 이용하여 레지스트층(300)의 노광된 부분을 제거함으로써 형성된다.Next, the exposure pattern is developed to form the development pattern 310. That is, the development pattern 310 is formed by removing an exposed portion of the resist layer 300 using an etching liquid that removes only the resist layer 300.

다음으로, 현상 패턴(310)을 통해 외부로 노출된 보호층(200)을 에칭하며 현상 패턴(310)과 동일한 형상의 보호층 패턴(210)을 형성하게 된다. 이러한 보호층(200)은 NCVM 공정을 통해 크롬층으로 이루어질 수도 있다.Next, the protective layer 200 exposed to the outside through the development pattern 310 is etched to form a protective layer pattern 210 having the same shape as the development pattern 310. The protective layer 200 may be made of a chromium layer through an NCVM process.

다음으로, 보호층 패턴(210)을 통해 외부로 노출된 유리기판(100)의 일측면을 에칭함으로써 글라스 패턴(110)을 형성하게 된다. 이러한 글라스 패턴(110)은 보호층 패턴(210)과 동일한 패턴을 이루며 유리기판(100)의 일면에 음각으로 형성될 수 있다.Next, one side of the glass substrate 100 exposed to the outside through the protective layer pattern 210 is etched to form the glass pattern 110. The glass pattern 110 has the same pattern as that of the protective layer pattern 210 and may be formed at an obtuse angle on one side of the glass substrate 100.

다음으로, 레지스트 에칭액을 이용하여 레지스트층(300)을 박리한 후, 보호층 에칭액을 이용하여 보호층(200)을 박리하여 최종의 3D 커버 글라스(1100)를 제조하게 된다.Next, after the resist layer 300 is peeled off using a resist etchant, the protective layer 200 is peeled off using a protective layer etchant to produce the final 3D cover glass 1100.

도 8은 본 발명의 제6 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도로, 본 발명의 제5 실시예와는 레지스트층(300)의 박리 단계에 있어 차이가 있다.FIG. 8 is an illustration showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to a sixth embodiment of the present invention, and there is a difference in the peeling step of the resist layer 300 from the fifth embodiment of the present invention.

그리고 도 8의 (a)는 보호층(200)의 상면에 레지스트층(300)을 구비한 상태에서 유리기판(100)을 곡면으로 성형하는 것이고, 도 8의 (b)는 유리기판(100) 상에 보호층(200)만 구비된 상태에서 유리기판(100)을 곡면으로 성형한 후, 곡면 성형된 보호층(200)의 상면에 레지스트층(300)를 구비시킨 차이만 있다.8A is a view of forming the glass substrate 100 into a curved surface with the resist layer 300 provided on the upper surface of the protective layer 200. FIG. Only the protective layer 200 is provided on the protective layer 200 and the resist layer 300 is provided on the top surface of the curved protective layer 200 after the glass substrate 100 is formed into a curved surface.

도 8을 참고하면, 본 발명의 제6 실시예는 보호층 패턴(210)을 형성한 이후로, 레지스트층(300)을 박리한 상태에서 유리기판(100)의 일면에 글라스 패턴(110)을 형성하게 된다.8, after forming the protective layer pattern 210, the glass pattern 110 is formed on one side of the glass substrate 100 in a state where the resist layer 300 is peeled off. Respectively.

이와 같이, 유리기판(100) 상에 레지스트층(300)이 없이 보호층(200)만 구비된 상태에서 글라스 패턴(110)을 형성하는 경우, 글라스 패턴(110)의 라인성이 개선될 수 있다. 즉, 유리기판(100)을 에칭하는 과정에서 레지스트층(300)의 간섭이 없기에, 글라스 패턴(110)은 더욱더 정밀한 미세 선폭을 가질 수 있다.When the glass pattern 110 is formed on the glass substrate 100 without the resist layer 300 and only the protective layer 200 is formed, the line property of the glass pattern 110 can be improved . That is, since there is no interference of the resist layer 300 in the process of etching the glass substrate 100, the glass pattern 110 can have a finer line width.

이렇게 유리기판(100)에 글라스 패턴(110)이 형성된 후, 보호층(200)을 박리하여 최종적인 3D 커버 글라스(1100)를 제조하게 된다.After the glass pattern 110 is formed on the glass substrate 100, the protective layer 200 is peeled off to produce the final 3D cover glass 1100.

도 9는 본 발명의 제7 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.9 is an exemplary view showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to a seventh embodiment of the present invention.

도 9를 참조하면, 먼저 유리기판(100)의 양면에 보호층(200)을 구비하게 된다. 여기서 제7 실시예는 유리기판(100)의 양면에 보호층(200)이 구비된 형태를 예로 설명하고 있으나, 보호층(200)은 유리기판(100)의 일면에만 구비된 상태로 3D 커버 글라스(1100)가 제조될 수도 있음은 물론이다.Referring to FIG. 9, the protective layer 200 is provided on both sides of the glass substrate 100. In the seventh embodiment, the protective layer 200 is provided on both sides of the glass substrate 100. However, the protective layer 200 may be provided on only one side of the glass substrate 100, (1100) may be manufactured.

다음으로, 유리기판(100)의 일면에 구비된 보호층(200)의 상면에 레지스트층(300)을 구비하게 된다. 여기서 레지스트층(300)은 포토레지스트 잉크 또는 감광성 필름이 될 수 있다. 이러한 레지스트층(300)에 대한 내용은 상술된 바 구체적인 내용은 생략하기로 한다.Next, a resist layer 300 is formed on the upper surface of the protective layer 200 provided on one surface of the glass substrate 100. Here, the resist layer 300 may be a photoresist ink or a photosensitive film. The specific details of the resist layer 300 will be omitted.

다음으로, 보호층(200)의 상면에 레지스트층(300)이 구비된 상태에서 마스킹 공정을 통해 레지스트층(300)을 노광하며 노광 패턴을 형성하게 된다.Next, in the state that the resist layer 300 is provided on the upper surface of the protective layer 200, the resist layer 300 is exposed through a masking process to form an exposure pattern.

다음으로, 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴(310)을 형성하게 된다. 즉, 현상 패턴(310)은 레지스트층(300)만을 제거하는 에칭액을 이용하여 레지스트층(300)의 노광된 부분을 제거함으로써 형성된다.Next, the exposure pattern is developed to form the development pattern 310. That is, the development pattern 310 is formed by removing an exposed portion of the resist layer 300 using an etching liquid that removes only the resist layer 300.

다음으로, 현상 패턴(310)을 통해 외부로 노출된 보호층(200)을 에칭하며 현상 패턴(310)과 동일한 형상의 보호층 패턴(210)을 형성하게 된다. 이러한 보호층(200)은 NCVM 공정을 통해 크롬층으로 이루어질 수도 있다.Next, the protective layer 200 exposed to the outside through the development pattern 310 is etched to form a protective layer pattern 210 having the same shape as the development pattern 310. The protective layer 200 may be made of a chromium layer through an NCVM process.

다음으로, 보호층 패턴(210)이 형성된 유리기판(100)을 곡면으로 성형하게 된다.Next, the glass substrate 100 on which the protective layer pattern 210 is formed is formed into a curved surface.

다음으로, 보호층 패턴(210)을 통해 외부로 노출된 유리기판(100)의 일측면을 에칭함으로써 글라스 패턴(110)을 형성하게 된다. 이러한 글라스 패턴(110)은 보호층 패턴(210)과 동일한 패턴을 이루며 유리기판(100)의 일면에 음각으로 형성될 수 있다.Next, one side of the glass substrate 100 exposed to the outside through the protective layer pattern 210 is etched to form the glass pattern 110. The glass pattern 110 has the same pattern as that of the protective layer pattern 210 and may be formed at an obtuse angle on one side of the glass substrate 100.

다음으로, 레지스트 에칭액을 이용하여 레지스트층(300)을 박리한 후, 보호층 에칭액을 이용하여 보호층(200)을 박리하여 최종적인 3D 커버 글라스(1100)를 제조하게 된다.Next, after the resist layer 300 is peeled off using a resist etching solution, the protective layer 200 is peeled off using a protective layer etchant to produce the final 3D cover glass 1100.

도 10은 본 발명의 제8 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도로, 본 발명의 제7 실시예와는 레지스트층(300)의 박리 단계에 있어 차이가 있다.FIG. 10 is an illustration showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to an eighth embodiment of the present invention, and there is a difference in the stripping step of the resist layer 300 from the seventh embodiment of the present invention.

도 10을 참고하면, 본 발명의 제8 실시예는 글라스 패턴(110)을 형성하기 이전에 레지스트층(300)을 박리한 상태에서 유리기판(100)의 일면에 글라스 패턴(110)을 형성하게 된다.10, the glass pattern 110 may be formed on one side of the glass substrate 100 in a state where the resist layer 300 is peeled off before the glass pattern 110 is formed do.

이와 같이, 유리기판(100) 상에 레지스트층(300)이 없이 보호층(200)만 구비된 상태에서 글라스 패턴(110)을 형성하는 경우, 글라스 패턴(110)의 라인성이 개선될 수 있다. 즉, 유리기판(100)을 에칭하는 과정에서 레지스트층(300)의 간섭이 없기에, 글라스 패턴(110)은 더욱더 정밀한 미세 선폭을 가질 수 있다.When the glass pattern 110 is formed on the glass substrate 100 without the resist layer 300 and only the protective layer 200 is formed, the line property of the glass pattern 110 can be improved . That is, since there is no interference of the resist layer 300 in the process of etching the glass substrate 100, the glass pattern 110 can have a finer line width.

이렇게 유리기판(100)에 글라스 패턴(110)이 형성된 후, 보호층(200)을 박리하여 최종의 3D 커버 글라스(1100)를 제조하게 된다.After the glass pattern 110 is formed on the glass substrate 100, the protective layer 200 is peeled off to produce the final 3D cover glass 1100.

도 11은 본 발명의 제9 실시예에 따른 3D 커버 글라스의 제조방법을 보여주는 예시도이다.11 is an exemplary view showing a method of manufacturing a 3D cover glass according to a ninth embodiment of the present invention.

본 발명의 제3 실시예 내지 제8 실시예는 3D 커버 글라스(1100)를 제조하는 과정에서 유리기판(100)에 글라스 패턴(110)을 형성함과 동시에 유리기판(100)을 곡면으로 성형하도록 이루어진다.In the third to eighth embodiments of the present invention, glass substrate 110 is formed on glass substrate 100 in the course of manufacturing 3D cover glass 1100, and glass substrate 100 is formed into a curved surface .

본 발명의 제9 실시예는 글라스 패턴(110)이 미리 형성된 평판형태의 유리기판(100)을 곡면 성형하는 방법으로, 도 11을 참조하면, 유리기판(100)의 양면에 보호층(200)을 구비하게 된다. 여기서 보호층(200)은 유리기판(100)의 일면에만 구비될 수도 있음은 물론이다.A ninth embodiment of the present invention is a method of forming a flat glass substrate 100 on which a glass pattern 110 has been previously formed by curvilinear molding. Referring to FIG. 11, a protective layer 200 is formed on both surfaces of a glass substrate 100, . Here, the protective layer 200 may be provided only on one side of the glass substrate 100.

이러한 보호층(200)은 유리기판(100)을 성형하는 과정에서 유리기판(100)의 파손을 방지할 수 있는 어떠한 소재라도 사용 가능하다. 이때, 보호층(200)은 NCVM 공정을 통해 유리기판(100) 상에 보호층(200)이 구비될 수도 있다.The protective layer 200 may be formed of any material capable of preventing breakage of the glass substrate 100 during the process of forming the glass substrate 100. At this time, the passivation layer 200 may be provided on the glass substrate 100 through the NCVM process.

여기서 유리기판(100)의 양면에 구비되는 보호층(200)은 반드시 NCVM 공정을 통해서만 구비되는 것은 아니다. 즉, NCVM 공정 이외에 다양한 공정 작업을 통해 유리기판(100)에 구비될 수 있음은 물론이다.Here, the protective layer 200 provided on both sides of the glass substrate 100 is not necessarily provided only through the NCVM process. That is, it is needless to say that it can be provided on the glass substrate 100 through various process operations other than the NCVM process.

다음으로, 보호층(200)이 구비된 평판형태의 유리기판(100)은 예열 과정을 거친 후, 미리 정해진 온도 범위로 가열된 상태에서 성형체(20)에 의해 곡면으로 성형된다.Next, the glass substrate 100 in the form of a flat plate provided with the protective layer 200 is formed into a curved surface by the molded body 20 in a state of being preheated and heated to a predetermined temperature range.

마지막으로, 에칭을 통해 보호층(200)을 박리하며 최종적인 3D 커버 글라스(1000')를 제조하게 된다.Finally, the protective layer 200 is peeled off through etching to produce the final 3D cover glass 1000 '.

다만, 이는 본 발명의 바람직한 일실시예에 불과할 뿐, 본 발명의 권리 범위가 이러한 실시예의 기재 범위에 의하여 제한되는 것은 아니다.It should be understood, however, that the scope of the present invention is not limited by the scope of the present invention.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.It will be understood by those skilled in the art that the foregoing description of the present invention is for illustrative purposes only and that those of ordinary skill in the art can readily understand that various changes and modifications may be made without departing from the spirit or essential characteristics of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. For example, each component described as a single entity may be distributed and implemented, and components described as being distributed may also be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is defined by the appended claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present invention.

100: 유리기판 110: 글라스 패턴
200: 보호층 210: 보호층 패턴
300: 레지스트층 310: 현상 패턴
1000, 1000', 1100: 3D 커버 글라스100: glass substrate 110: glass pattern
200: protective layer 210: protective layer pattern
300: resist layer 310: development pattern
1000, 1000 ', 1100: 3D cover glass

Claims (16)

유리기판의 일면 또는 양면에 보호층을 구비하는 단계; 및
상기 보호층이 구비된 상기 유리기판을 성형하는 단계를 포함하며,
상기 유리기판의 성형시, 상기 보호층은 성형체로부터 상기 유리기판을 보호하는 것인 3D 커버 글라스의 제조방법.
Providing a protective layer on one or both sides of the glass substrate; And
And molding the glass substrate provided with the protective layer,
Wherein when the glass substrate is molded, the protective layer protects the glass substrate from the molded body.
제1항에 있어서,
상기 유리기판을 성형하는 단계 이후로,
상기 보호층을 박리하는 단계를 더 포함하는 3D 커버 글라스의 제조방법.
The method according to claim 1,
After the step of molding the glass substrate,
And peeling off the protective layer.
제1항에 있어서,
상기 보호층은 NCVM(Non-Conductive Vacuum Metallizing) 공정으로 상기 유리기판에 구비되는 것인 3D 커버 글라스의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the protective layer is provided on the glass substrate by a NCVM (Non-Conductive Vacuum Metallizing) process.
제3항에 있어서,
상기 보호층은 크롬층으로 이루어진 것인 3D 커버 글라스의 제조방법.
The method of claim 3,
Wherein the protective layer comprises a chromium layer.
제1항에 있어서,
상기 유리기판에 보호층을 구비하는 단계 이후로,
상기 유리기판의 일면에 구비된 상기 보호층의 상면에 레지스트층을 구비하는 단계;
상기 레지스트층을 노광하여 노광 패턴을 형성하는 단계;
상기 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴을 형성하는 단계;
상기 보호층을 에칭하여 상기 현상 패턴과 동일한 패턴을 이루는 보호층 패턴을 형성하는 단계; 및
상기 유리기판을 에칭하여 상기 보호층 패턴과 동일한 패턴을 이루는 글라스 패턴을 상기 유리기판의 일면에 음각으로 형성하는 단계를 더 포함하는 3D 커버 글라스의 제조방법.
The method according to claim 1,
After the step of providing the protective layer on the glass substrate,
Providing a resist layer on an upper surface of the protective layer on one side of the glass substrate;
Exposing the resist layer to form an exposure pattern;
Developing the exposure pattern to form a development pattern;
Forming a protective layer pattern having the same pattern as the development pattern by etching the protective layer; And
And etching the glass substrate to form a glass pattern having the same pattern as that of the protective layer pattern on one surface of the glass substrate at a recessed angle.
제5항에 있어서,
상기 유리기판을 성형하는 단계 이후로,
상기 레지스트층 및 보호층을 박리하는 단계를 더 포함하는 3D 커버 글라스의 제조방법.
6. The method of claim 5,
After the step of molding the glass substrate,
And peeling off the resist layer and the protective layer.
제5항에 있어서,
상기 보호층 패턴을 형성한 이후로,
상기 레지스트층을 박리하는 단계를 더 포함하고
상기 유리기판을 성형하는 단계 이후로,
상기 보호층을 박리하는 단계를 더 포함하는 3D 커버 글라스의 제조방법.
6. The method of claim 5,
After forming the protective layer pattern,
Further comprising peeling the resist layer
After the step of molding the glass substrate,
And peeling off the protective layer.
제1항에 있어서,
상기 유리기판을 성형하는 단계 이후로,
상기 유리기판의 일면에 구비된 상기 보호층의 상면에 레지스트층을 구비하는 단계;
상기 레지스트층을 노광하여 노광 패턴을 형성하는 단계;
상기 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴을 형성하는 단계;
상기 보호층을 에칭하여 상기 현상 패턴과 동일한 패턴을 이루는 보호층 패턴을 형성하는 단계;
상기 유리기판을 에칭하여 상기 보호층 패턴과 동일한 패턴을 이루는 글라스 패턴을 상기 유리기판의 일면에 음각으로 형성하는 단계; 및
상기 레지스트층 및 보호층을 박리하는 단계를 더 포함하는 3D 커버 글라스의 제조방법.
The method according to claim 1,
After the step of molding the glass substrate,
Providing a resist layer on an upper surface of the protective layer on one side of the glass substrate;
Exposing the resist layer to form an exposure pattern;
Developing the exposure pattern to form a development pattern;
Forming a protective layer pattern having the same pattern as the development pattern by etching the protective layer;
Etching the glass substrate to form a glass pattern having the same pattern as the protective layer pattern on a surface of the glass substrate at an oblique angle; And
And peeling off the resist layer and the protective layer.
제1항에 있어서,
상기 유리기판에 보호층을 구비하는 단계 이후로,
상기 유리기판의 일면에 구비된 상기 보호층의 상면에 레지스트층을 구비하는 단계를 더 포함하고,
상기 유리기판을 성형하는 단계 이후로,
상기 레지스트층을 노광하여 노광 패턴을 형성하는 단계;
상기 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴을 형성하는 단계;
상기 보호층을 에칭하여 상기 현상 패턴과 동일한 패턴을 이루는 보호층 패턴을 형성하는 단계;
상기 유리기판을 에칭하여 상기 보호층 패턴과 동일한 패턴을 이루는 글라스 패턴을 상기 유리기판의 일면에 음각으로 형성하는 단계; 및
상기 레지스트층 및 보호층을 박리하는 단계를 더 포함하는 3D 커버 글라스의 제조방법.
The method according to claim 1,
After the step of providing the protective layer on the glass substrate,
Further comprising the step of providing a resist layer on the upper surface of the protective layer on one side of the glass substrate,
After the step of molding the glass substrate,
Exposing the resist layer to form an exposure pattern;
Developing the exposure pattern to form a development pattern;
Forming a protective layer pattern having the same pattern as the development pattern by etching the protective layer;
Etching the glass substrate to form a glass pattern having the same pattern as the protective layer pattern on a surface of the glass substrate at an oblique angle; And
And peeling off the resist layer and the protective layer.
제1항에 있어서,
상기 유리기판을 성형하는 단계 이후로,
상기 유리기판의 일면에 구비된 상기 보호층의 상면에 레지스트층을 구비하는 단계;
상기 레지스트층을 노광하여 노광 패턴을 형성하는 단계;
상기 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴을 형성하는 단계;
상기 보호층을 에칭하여 상기 현상 패턴과 동일한 패턴을 이루는 보호층 패턴을 형성하는 단계;
상기 레지스트층을 박리하는 단계;
상기 유리기판을 에칭하여 상기 보호층 패턴과 동일한 패턴을 이루는 글라스 패턴을 상기 유리기판의 일면에 음각으로 형성하는 단계; 및
상기 보호층을 박리하는 단계를 더 포함하는 3D 커버 글라스의 제조방법.
The method according to claim 1,
After the step of molding the glass substrate,
Providing a resist layer on an upper surface of the protective layer on one side of the glass substrate;
Exposing the resist layer to form an exposure pattern;
Developing the exposure pattern to form a development pattern;
Forming a protective layer pattern having the same pattern as the development pattern by etching the protective layer;
Peeling the resist layer;
Etching the glass substrate to form a glass pattern having the same pattern as the protective layer pattern on a surface of the glass substrate at an oblique angle; And
And peeling off the protective layer.
유리기판의 일면 또는 양면에 보호층을 구비하는 단계;
상기 유리기판의 일면에 구비된 상기 보호층의 상면에 레지스트층을 구비하는 단계;
상기 레지스트층을 노광하여 노광 패턴을 형성하는 단계;
상기 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴을 형성하는 단계;
상기 보호층을 에칭하여 상기 현상 패턴과 동일한 패턴을 이루는 보호층 패턴을 형성하는 단계;
상기 유리기판을 성형하는 단계;
상기 유리기판을 에칭하여 상기 보호층 패턴과 동일한 패턴을 이루는 글라스 패턴을 상기 유리기판의 일면에 음각으로 형성하는 단계; 및
상기 레지스트층 및 보호층을 박리하는 단계를 포함하며,
상기 유리기판의 성형시, 상기 보호층은 성형체로부터 상기 유리기판을 보호하는 것인 3D 커버 글라스의 제조방법.
Providing a protective layer on one or both sides of the glass substrate;
Providing a resist layer on an upper surface of the protective layer on one side of the glass substrate;
Exposing the resist layer to form an exposure pattern;
Developing the exposure pattern to form a development pattern;
Forming a protective layer pattern having the same pattern as the development pattern by etching the protective layer;
Molding the glass substrate;
Etching the glass substrate to form a glass pattern having the same pattern as the protective layer pattern on a surface of the glass substrate at an oblique angle; And
And peeling the resist layer and the protective layer,
Wherein when the glass substrate is molded, the protective layer protects the glass substrate from the molded body.
유리기판의 일면 또는 양면에 보호층을 구비하는 단계;
상기 유리기판의 일면에 구비된 상기 보호층의 상면에 레지스트층을 구비하는 단계;
상기 레지스트층을 노광하여 노광 패턴을 형성하는 단계;
상기 노광 패턴을 현상하여 현상 패턴을 형성하는 단계;
상기 보호층을 에칭하여 상기 현상 패턴과 동일한 패턴을 이루는 보호층 패턴을 형성하는 단계;
상기 유리기판을 성형하는 단계;
상기 레지스트층을 박리하는 단계;
상기 유리기판을 에칭하여 상기 보호층 패턴과 동일한 패턴을 이루는 글라스 패턴을 상기 유리기판의 일면에 음각으로 형성하는 단계; 및
상기 보호층을 박리하는 단계를 포함하며,
상기 유리기판의 성형시, 상기 보호층은 성형체로부터 상기 유리기판을 보호하는 것인 3D 커버 글라스의 제조방법.
Providing a protective layer on one or both sides of the glass substrate;
Providing a resist layer on an upper surface of the protective layer on one side of the glass substrate;
Exposing the resist layer to form an exposure pattern;
Developing the exposure pattern to form a development pattern;
Forming a protective layer pattern having the same pattern as the development pattern by etching the protective layer;
Molding the glass substrate;
Peeling the resist layer;
Etching the glass substrate to form a glass pattern having the same pattern as the protective layer pattern on a surface of the glass substrate at an oblique angle; And
And peeling the protective layer,
Wherein when the glass substrate is molded, the protective layer protects the glass substrate from the molded body.
제11항 또는 제12항에 있어서,
상기 보호층은 NCVM(Non-Conductive Vacuum Metallizing) 공정으로 상기 유리기판에 구비되는 것인 3D 커버 글라스의 제조방법.
13. The method according to claim 11 or 12,
Wherein the protective layer is provided on the glass substrate by a NCVM (Non-Conductive Vacuum Metallizing) process.
제13항에 있어서,
상기 보호층은 크롬층으로 이루어진 것인 3D 커버 글라스의 제조방법.
14. The method of claim 13,
Wherein the protective layer comprises a chromium layer.
글라스 패턴이 형성된 유리기판의 일면 또는 양면에 보호층을 구비하는 단계;
상기 보호층이 구비된 상기 유리기판을 성형하는 단계; 및
상기 보호층을 박리하는 단계를 포함하며,
상기 유리기판의 성형시, 상기 보호층은 성형체로부터 상기 유리기판을 보호하는 것인 3D 커버 글라스의 제조방법.
Providing a protective layer on one side or both sides of a glass substrate on which a glass pattern is formed;
Molding the glass substrate provided with the protective layer; And
And peeling the protective layer,
Wherein when the glass substrate is molded, the protective layer protects the glass substrate from the molded body.
제15항에 있어서,
상기 보호층은 NCVM(Non-Conductive Vacuum Metallizing) 공정으로 상기 유리기판에 구비되는 것인 3D 커버 글라스의 제조방법.16. The method of claim 15,
Wherein the protective layer is provided on the glass substrate by a NCVM (Non-Conductive Vacuum Metallizing) process.
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