KR20180095272A - 바닥재의 제조방법 및 이로부터 제조된 바닥재 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 표면 광택의 조절을 용이하게 할 수 있는 바닥재의 제조방법 및 상기 제조방법으로 제조된 바닥재에 관한 것이다.

Description

바닥재의 제조방법 및 이로부터 제조된 바닥재{METHOD FOR MANUFACTURING FLOOR MATEIAL AND FLOOR MATERIAL MANUFACTURED THEREFROM}
본 발명은 바닥재의 표면 광택을 용이하게 조절할 수 있는 바닥재의 제조방법 및 이로부터 제조된 바닥재에 관한 것이다.
일반적으로 주거용 바닥재 제조 시 내오염성을 높이고 표면 광택을 조절하여 인쇄선명성을 부여하기 위해 바닥재 원료의 표면에 도료를 코팅 및 경화하여 표면층을 형성하는 과정을 거치게 된다.
여기서 표면층의 광택이 너무 낮을 경우에는 바닥재의 내오염성을 유지하기 어렵거나 유분 자국이 발생할 수 있고, 반대로 표면층의 광택이 너무 높을 경우에는 바닥재의 고급스러움이 떨어질 수 있다. 이에 따라 바닥재의 내오염성, 인쇄선명성, 고급스러움 등을 높이기 위해 표면층의 광택도는 6 내지 15 범위 내인 것이 적절하다.
상기 표면층의 광택도는 표면층을 형성하는 도료에 포함된 소광제의 부양 정도에 따라 달라질 수 있으며, 상기 소광제의 부양 정도는 바닥재 원료의 온도에 따른 소광제의 활성도 변화, 또는 도료의 경화 조건 등에 영향을 받을 수 있다. 이에 따라 소광제의 부양 정도를 조절하여 요구되는 범위의 광택도를 얻기 위해서는 바닥재 원료의 온도가 일정하거나 도료의 경화 조건이 제어되어야 한다. 그런데, 바닥재 원료는 제조과정에서 형성하고자 하는 두께에 따라 바닥재 원료에 가해지는 열량이 달라져 그 온도 변화의 폭이 크기 때문에 소광제의 부양 정도를 조절하는 것은 쉽지 않다.
따라서 바닥재가 요구되는 범위의 광택도를 갖도록 하기 위해서는 바닥재 원료의 두께에 따라 표면층을 형성하는 도료를 변경하여 소광제의 부양 정도를 조절해야 하는 번거로움이 있으며, 이는 바닥재의 생산성을 저하시키는 요인으로 작용하고 있다.
대한민국 공개특허공보 제2014-0091277호
본 발명은 하나의 도료 조성물을 사용하여 표면층을 형성하더라도 요구되는 범위의 광택도를 갖도록 할 수 있는 바닥재의 제조방법을 제공하고자 한다.
또한 본 발명은 상기 제조방법으로 제조된 바닥재를 제공하고자 한다.
본 발명은, 발포층을 포함하는 바닥 원료부를 형성하며, 상기 발포층이 발포하도록 열을 가한 후, 상기 바닥 원료부의 온도를 소정 범위 내로 제어하며, 상기 온도가 제어된 바닥 원료부 상에 소광제를 포함하는 도료 조성물을 도포하며, 상기 도료 조성물을 80 내지 160 W/㎠ 범위의 광도 출력으로 경화시켜 상기 바닥 원료부 상에 표면층을 형성하는 것을 포함하는 바닥재의 제조방법을 제공한다.
또한 본 발명은 발포층을 포함하는 바닥 원료부, 및 상기 바닥 원료부 상에 구비되고, 소광제를 함유하는 표면층을 포함하고, 상기 표면층은 소정 온도 범위 내로 제어된 상기 바닥 원료부 상에 도료 조성물을 도포한 후 80 내지 160 W/㎠ 범위의 광도 출력으로 경화시켜 형성된 것인 바닥재를 제공한다.
본 발명은 바닥 원료부의 온도를 특정 범위 내로 조절하고, 도료 조성물을 경화시켜 표면층 형성 시 특정 조건의 광도 출력을 적용하여 바닥재를 제조함에 따라 표면층 형성 시 하나의 도료 조성물을 사용하더라도 요구되는 광택도를 갖는 바닥재를 용이하게 제조할 수 있다.
도 1 내지 도 3은 본 발명의 바닥재를 설명하기 위한 참고도이다.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
1. 바닥재의 제조방법
본 발명은 표면층을 형성하는데 사용되는 도료 조성물을 변경하지 않고 하나의 도료 조성물을 사용하더라도 요구되는 범위 내의 광택도를 갖는 표면층을 포함하는 바닥재를 제조할 수 있는 바닥재의 제조방법에 관한 것으로, 이에 대해 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
a) 바닥 원료부 형성
먼저, 발포층을 포함하는 바닥 원료부를 제조한다. 상기 바닥 원료부는 바닥재를 이루는 주 성분으로 발포층과 더불어 복수의 층을 포함할 수 있다.
구체적으로, 도 1을 참조하면 바닥 원료부는 발포층(10), 글라스파이버층(20), 인쇄층(30) 및 투명층(40)을 포함할 수 있다.
상기 바닥 원료부에 포함되는 발포층(10)은 바닥재의 내충격성 및 보행감을 높이는 역할을 한다. 이러한 발포층(10)은 폴리염화비닐 수지 100 중량부에 가소제 45 내지 55 중량부, 발포제 1 내지 10 중량부 및 발포안정제 1 내지 5 중량부를 포함하는 발포 수지 조성물로 형성될 수 있다. 구체적으로, 발포층(10)은 상기 발포 수지 조성물을 코팅 및 경화시켜 형성하거나, 상기 발포 수지 조성물로 제조된 발포시트가 발포층(10)으로 적용될 수 있다.
상기 발포 수지 조성물에 포함되는 폴리염화비닐 수지의 중합도는 1000 내지 1400일 수 있다. 이외에 상기 발포 수지 조성물에 포함되는 각 성분은 통상적으로 공지된 성분일 수 있다.
상기 바닥 원료부에 포함되는 글라스파이버층(20)는 바닥 원료부의 기계적 강도를 높이는 역할을 한다. 이러한 글라스파이버층(20)은 글라스파이버(glass fiber)에 제1 폴리염화비닐 수지 조성물을 함침시키는 과정으로 형성할 수 있다. 상기 제1 폴리염화비닐 수지 조성물은 폴리염화비닐 수지 100 중량부에 1차 가소제 60 내지 80 중량부, 2차 가소제 1 내지 3 중량부, 내열안정제 1 내지 3 중량부, 백색안료 10 내지 20 중량부 및 기타첨가제 1 내지 5 중량부가 혼합된 것일 수 있다.
상기 제1 폴리염화비닐 수지 조성물에 포함되는 폴리염화비닐 수지의 중합도는 1000 내지 1400일 수 있다. 이외에 상기 제1 폴리염화비닐 수지 조성물에 포함되는 각 성분은 통상적으로 공지된 성분일 수 있다.
여기서 발포 수지 조성물로 제조된 발포시트를 발포층(10)으로 적용할 경우, 발포층(10)과 글라스파이버층(20)은 동시에 형성될 수 있다. 구체적으로 상기 글라스파이버에 제1 폴리염화비닐 수지 조성물을 함침하고 겔화시키는 동시에 글라스파이버의 일면에 발포 수지 조성물로 제조된 발포시트를 합판하여 발포층(10)과 글라스파이버층(20)을 형성할 수 있다.
또한 발포 수지 조성물을 코팅 및 경화시켜 발포층(10)을 형성할 경우, 바닥재의 경도 및 압입량을 높이기 위해 글라스파이버층(20)과 보강시트층(70)을 형성한 후 발포층(10)이 형성될 수 있다. 구체적으로, 상기 글라스파이버에 제3 폴리염화비닐 수지 조성물을 함침하고 겔화시키는 동시에 일면에 보강시트를 합판하여 글라스파이버층(20)과 보강시트층(70)을 형성하고, 상기 보강시트층(70) 하에 발포 수지 조성물을 코팅하여 발포층(10)을 형성할 수 있다. 이때, 발포층(10)은 글라스파이버층(20) 상에 인쇄층(30)과 투명층(40)을 형성한 후 보강시트층(70) 하에 형성될 수 있다. 한편 상기 제3 폴리염화비닐 수지 조성물에 대한 설명은 상기 제1 폴리염화비닐 수지 조성물에 대한 설명과 동일하므로 생략한다. 또한 상기 보강시트와 보강시트층(70)에 대한 설명은 후술한다.
상기 바닥 원료부에 포함되는 인쇄층(30)은 글라스파이버층(20) 상에 형성되며, 바닥재에 심미감을 부여하는 역할을 한다. 이러한 인쇄층(30)은 기재(예를 들어, 두께가 16 내지 25 ㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 시트)에 인쇄된 무늬(예를 들어, 나무결 무늬)를 상기 글라스파이버층(20)에 전사시키는 과정으로 형성할 수 있다.
상기 바닥 원료부에 포함되는 투명층(40)은 인쇄층(30) 상에 형성되며, 인쇄층(30)을 보호하고 바닥재의 내구성을 높이는 역할을 한다. 이러한 투명층(40)은 폴리염화비닐 수지 100 중량부에 1차 가소제 25 내지 35 중량부, 2차 가소제 1 내지 3 중량부, 내열안정제 1 내지 5 중량부, 자외선 흡수제 0.1 내지 1 중량부를 포함하는 투명 수지 조성물로 형성될 수 있다. 상기 투명 수지 조성물에 포함되는 폴리염화비닐 수지의 중합도는 900 내지 1000일 수 있다. 이외에 상기 투명 수지 조성물에 포함되는 각 성분은 통상적으로 공지된 성분일 수 있다.
이러한 바닥 원료부는 그 두께에 따라 하부층(60) 또는 보강시트층(70)을 선택적으로 더 포함할 수 있다.
구체적으로, 도 2를 참조하면, 상기 바닥 원료부에 더 포함되는 하부층(60)는 발포층(10) 하에 형성되며, 발포층(10)의 보호 및 안착성을 높이는 역할을 한다. 이러한 하부층(60)은 폴리염화비닐 수지 100 중량부에 1차 가소제 60 내지 80 중량부, 2차 가소제 1 내지 3 중량부, 내열안정제 1 내지 3 중량부, 안료 10 내지 20 중량부 및 기타첨가제 1 내지 5 중량부를 포함하는 제2 폴리염화비닐 수지 조성물로 형성될 수 있다.
상기 제2 폴리염화비닐 수지 조성물에 포함되는 폴리염화비닐 수지의 중합도는 1500 내지 1900일 수 있다. 이외에 상기 제2 폴리염화비닐 수지 조성물에 포함되는 각 성분은 통상적으로 공지된 성분일 수 있다.
또한, 도 3을 참조하면, 상기 바닥 원료부에 더 포함되는 보강시트층(70)은 발포층(10)과 글라스파이버층(20) 사이에 형성되고, 바닥재의 경도와 압입량을 높이는 역할을 한다. 이러한 보강시트층(70)은 폴리염화비닐 수지를 포함하는 수지 조성물로 제조된 보강시트가 적용될 수 있다.
이와 같은 복수의 층을 포함하는 바닥 원료부는 발포층(10)이 발포되도록 열처리하는 과정을 거친 후, 후술되는 온도 제어 과정을 거칠 수 있다. 이때, 바닥 원료부의 표면 질감을 높이기 위해 열처리된 바닥 원료부에 포함된 투명층(40)을 엠보 가공하는 과정을 더 거칠 수 있다. 구체적으로 인쇄층(30)의 무늬(예를 들어, 나무결 무늬)에 입체감을 부여하기 위해 투명층(40)을 엠보롤로 가압하는 방법으로 엠보 가공을 실시할 수 있다.
이러한 바닥 원료부의 두께는 1.8 내지 6 ㎜ 범위 내일 수 있다. 상기 바닥 원료부의 두께가 1.8 ㎜ 미만일 경우에는 바닥재가 가져야 할 두께를 만족시키기 어려울 수 있고, 6 ㎜를 초과할 경우에는 하나의 도료 조성물로 표면층(50)을 형성할 경우, 표면층(50)의 광택도를 요구되는 범위 내로 조절하기 어려울 수 있다.
b) 바닥 원료부의 온도 제어
상기 발포층(10)이 발포되도록 바닥 원료부에 열을 가한 후, 바닥 원료부의 온도를 소정 범위 내로 제어한다. 구체적으로, 바닥 원료부에 포함된 발포층(10)을 발포시키기 위해 오븐을 통과시키는 열처리 과정을 거침에 따라 바닥 원료부의 온도는 통상 60 내지 90 ℃를 나타내어 이를 45 내지 55 ℃ 범위로 쿨링하는 것이다. 이와 같이 바닥 원료부의 온도를 45 내지 55 ℃ 범위로 제어함에 따라 표면층(50) 형성 시 하나의 도료 조성물을 사용하더라도 형성된 표면층(50)이 요구되는 범위 내의 광택도를 나타낼 수 있다.
즉, 바닥재에 포함된 표면층의 광택도는 표면층 형성 시 사용되는 도료 조성물에 포함된 소광제가 도막 표면에 부양되는 정도에 따라 조절되는데, 이때, 소광제가 부양되는 정도를 조절하기 위해서는 바닥 원료부의 온도가 일정 온도 범위 내에 있어야 한다. 이에 따라 소광제의 부양 정도를 조절하고 도료 조성물의 물성에 영향을 미치지 않도록 하기 위해 본 발명은 바닥 원료부의 온도를 45 내지 55 ℃로 조절한 것으로, 이로 인해 하나의 도료 조성물을 사용하더라도 소광제의 부양 정도가 조절되어 요구되는 범위의 광택도를 갖는 표면층(50)을 형성할 수 있다.
상기 바닥 원료부의 온도를 소정 범위 내로, 즉, 45 내지 55 ℃로 제어하는 방법으로는 경질 크롬이 도금된 롤(roll)과 접촉시키는 방법을 들 수 있다. 이때, 상기 롤의 폭은 2200 내지 2400 ㎜일 수 있고, 롤에 주입되는 냉각수(Chilling Water)의 온도는 13 내지 23 ℃이고, 압력은 1 내지 3 ㎏/㎠일 수 있다.
c) 표면층 형성
상기 온도가 제어된 바닥 원료부 상에 소광제를 포함하는 도료 조성물을 도포하고, 80 내지 160 W/㎠ 범위의 광도 출력으로 경화시켜 표면층(50)을 형성한다.
상기 도료 조성물은 우레탄 아크릴레이트계 수지 40 내지 50 중량부, 아크릴레이트계 모노머 30 내지 40 중량부, 광개시제 1 내지 5 중량부, 첨가제 1 내지 10 중량부 및 소광제 1 내지 5 중량부를 포함하는 도료 조성물일 수 있다.
상기 도료 조성물에 포함되는 우레탄 아크릴레이트계 수지는 표면층(50)의 내스크래치성, 내열성 및 경도를 높이는 역할을 한다. 이러한 우레탄 아크릴레이트계 수지는 이소시아네이트의 화합물과 중합 가능한 불포화 그룹을 분자당 2개 이상 함유하는 아크릴레이트 모노머를 반응시켜 얻어진 것일 수 있다.
상기 우레탄 아크릴레이트계 수지의 함량은 도료 조성물 100 중량부를 기준으로 40 내지 50 중량부일 수 있다. 상기 우레탄 아크릴레이트계 수지의 함량이 40 중량부 미만일 경우에는 표면층(50)의 내열성 및 경도가 저하될 수 있고, 50 중량부를 초과할 경우에는 과도한 경화밀도에 의해 표면층(50)의 내크랙성이 저하될 수 있다.
상기 도료 조성물에 포함되는 아크릴레이트계 모노머는 표면층(50)의 내구성, 부착성 및 유연성을 높이는 역할을 한다. 이러한 아크릴레이트계 모노머는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 이소데실아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 또는 옥틸아크릴레이트일 수 있고, 이를 단독 또는 혼합 사용할 수 있다.
상기 아크릴레이트계 모노머의 함량은 도료 조성물 100 중량부를 기준으로 30 내지 40 중량부일 수 있다. 상기 아크릴레이트계 모노머의 함량이 30 중량부 미만일 경우에는 표면층(50)의 부착성 및 유연성이 저하될 수 있고, 50 중량부를 초과할 경우에는 표면층(50)의 내크랙성이 저하될 수 있다.
상기 도료 조성물에 포함되는 광개시제는 상기 우레탄 아크릴레이트계 수지와 상기 아크릴레이트계 모노머의 경화 반응을 매개하는 역할을 한다. 이러한 광개시제는 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 2,4,6-트리메틸 벤조일-디페닐 포스핀 옥사이드, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로판온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-하이드록시-2-메틸-1-온, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]-2-하이드록시-2-메틸-프로판-1-온 또는 2,2-디에톡시-1-페닐-에타논일 수 있고, 이를 단독 또는 혼합 사용할 수 있다.
상기 광개시제의 함량은 도료 조성물 100 중량부를 기준으로, 1 내지 5 중량부일 수 있다. 상기 광개시제의 함량이 1 중량부 미만일 경우에는 도료 조성물의 미경화로 인해 표면층(50)의 외관이 불량해질 수 있고, 5 중량부를 초과할 경우에는 미반응된 광개시제가 잔류되어 표면층(50)의 내크랙성 및 부착성이 저하될 수 있다.
상기 도료 조성물에 포함되는 첨가제는 표면층(50)의 물성을 보다 높이는 역할을 한다. 이러한 첨가제는 레벨링제, 커플링제, 안료, 분산제, 소포제 및 점도 조절제일 수 있고, 이를 단독 또는 혼합 사용할 수 있다.
상기 첨가제의 함량은 도료 조성물 100 중량부를 기준으로 1 내지 10 중량부일 수 있다. 상기 첨가제의 함량이 1 중량부 미만일 경우에는 표면층(50)의 물성을 높이는 효과를 얻기 어려울 수 있고, 10 중량부를 초과할 경우에는 표면층(50)의 물성을 저하시키거나 경제성이 떨어질 수 있다.
상기 도료 조성물에 포함되는 소광제는 표면층(50)의 광택을 조절하는 역할을 한다. 이러한 소광제는 통상적으로 공지된 성분(예를 들어, 실리카)을 사용할 수 있다.
상기 소광제의 함량은 도료 조성물 100 중량부를 기준으로 1 내지 5 중량부일 수 있다. 상기 소광제의 함량이 상기 범위를 벗어날 경우 표면층(50)의 광택도를 요구되는 범위 내로 조절하기 어려울 수 있다.
이러한 도료 조성물을 상기 바닥 원료부 상에 도포하는 방법으로는 에어압 코팅, 스핀(spin) 코팅, 롤(roll) 코팅, 스프레이 코팅, 딥(dip) 코팅, 바(bar) 코팅 등을 들 수 있다.
상기 도료 조성물 도포 후 80 내지 160 W/㎠ 범위의 광도 출력으로 경화시켜 표면층(50)을 형성함에 따라 본 발명은 광택도가 6 내지 15 범위 내(구체적으로 8 내지 13 범위 내)인 표면층(50)을 형성할 수 있다. 여기서 도포된 도료 조성물의 경화 시 조사되는 빛의 파장은 250 내지 420 ㎚일 수 있고, 가해지는 광량 에너지는 600 내지 1000 mJ/㎠ 범위일 수 있다. 또한 도료 조성물에 광량 에너지가 도달하는 시간은 3 내지 12초일 수 있다.
상기 과정으로 형성된 표면층(50)의 두께는 15 내지 22 ㎛일 수 있다.
이와 같은 경화 조건으로 표면층(50)을 형성함에 따라 본 발명은 하나의 도료 조성물을 사용하더라도 표면층(50)의 광택도가 요구되는 범위인 6 내지 15를 나타내도록 표면층(50)을 형성할 수 있다. 따라서 본 발명은 소광제의 부양 정도를 조절하기 위해 도료 조성물을 변경해야 했던 종래의 번거로움 없이 표면층(50)의 광택도를 요구되는 범위 내로 조절할 수 있기 때문에 바닥재의 제조효율을 높일 수 있다.
2. 바닥재
본 발명은 상술한 제조방법으로 제조된 바닥재를 제공한다. 구체적으로, 상기 바닥재는 발포층(10), 글라스파이버층(20), 인쇄층(30) 및 투명층(40)을 포함하는 바닥 원료부와 상기 투명층(40) 상에 형성된 표면층(50)을 포함할 수 있다. 또한 바닥 원료부의 두께에 따라 본 발명의 바닥재는 하부층(60)과 보강시트층(70)을 선택적으로 더 포함할 수 있다.
이러한 본 발명의 바닥재는 상술한 제조방법으로 제조됨에 따라 바닥재에 포함된 표면층(50)의 광택도가 6 내지 15(구체적으로 8 내지 13)를 나타낼 수 있다. 상기 표면층(50)의 광택도가 6 내지 15임에 따라 본 발명의 바닥재는 내오염성 및 인쇄선명성 등이 우수하고 고급스러움을 나타낼 수 있다. 이에 따라 본 발명의 바닥재는 주거 공간의 바닥 시공 시 유용하게 사용될 수 있다.
이하 본 발명을 실시예를 통하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
[ 실시예 1]
중합도 1200의 폴리염화비닐(PVC) 수지 100 중량부에 1차 가소제인 디옥틸테레프탈레이트(Dioctyl Telephthalate) 70 중량부, 2차 가소제인 에폭시(Epoxy) 수지 2 중량부, 내열안정제(바륨카복실레이트) 2 중량부, 백색안료(이산화타이타늄) 15 중량부, 기타첨가제 3 중량부를 혼합하여 제1 폴리염화비닐 수지 조성물을 제조하였다. 제조된 폴리염화비닐 수지 조성물을 35-55g의 글라스파이버에 함침시켰다.
중합도 900 내지 1000의 폴리염화비닐(PVC) 수지 100 중량부에 가소제인 디옥틸테레프탈레이트(Dioctyl Telephthalate) 11 중량부, 발포제(아조다이카보나마이드) 11 중량부, 발포안정제(바륨카복실레이트) 3 중량부를 혼합한 후 180 ℃ 정도의 카렌다 롤을 이용하여 폴리염화비닐 발포시트를 제조하였다. 상기 폴리염화비닐 수지 조성물이 함침된 글라스파이버를 겔화/경화시킴과 동시에 상기 폴리염화비닐 발포시트가 합판되도록 180 ℃ 정도의 드럼에 통과시켜 글라스파이버층과 발포층을 형성하였다.
다음, 폴리에틸렌테레프탈레이트 시트에 인쇄된 인쇄 무늬를 상기 글라스파이버층 상에 전사하여 인쇄층을 형성하였다.
그 다음, 중합도 900 내지 1000의 폴리염화비닐(PVC) 수지 100 중량부에 1차 가소제인 디옥틸테레프탈레이트(Dioctyl Telephthalate) 30 중량부, 2차 가소제인 에폭시(Epoxy) 수지 2 중량부, 내열안정제(바륨카복실레이트) 3 중량부, 자외선 흡수제(2-Hydroxy-4-(N-octoxy)benzophenone) 0.5 중량부가 혼합된 투명 수지 조성물로 제조된 투명 시트를 상기 인쇄층 상에 열합판하여 투명층을 형성하였다.
다음, 상기 제1 폴리염화비닐 수지 조성물에 유색안료(이산화티타늄)를 첨가하고 이를 상기 발포층의 하부에 코팅하여 하부층을 형성하였다. 그 다음, 200-210 ℃의 오븐에 통과시켜 발포층이 발포된 바닥 원료부를 얻었다.
다음, 400 내지 450 ㎛의 표면 엠보롤을 이용하여 상기 투명층 상에 엠보 가공을 실시하는 과정을 거쳐 두께가 2 ㎜인 바닥 원료부를 제조하였다.
제조된 바닥 원료부의 온도는 90 ℃로 측정되었으며, 이를 크롬 도금 롤에 통과시키면서 냉각수로 쿨링하는 과정을 거쳐 바닥 원료부의 온도를 51 ℃로 제어(조절)하였다.
이후, 온도가 제어된 바닥 원료부의 투명층 상에 우레탄 아크릴레이트계 수지 50 중량부, 아크릴레이트계 모노머 39 중량부, 광개시제 3 중량부, 첨가제 5 중량부 및 소광제 3 중량부가 혼합된 도료 조성물을 도포하고, 340 ㎚ 파장의 빛을 조사하면서, 광도 출력 140 W/㎠, 광량 에너지 700 mJ/㎠, 광량 에너지 도달 시간 8초의 조건으로 경화시켜 두께가 17 ㎛인 표면층을 형성하는 과정을 거쳐 바닥재를 제조하였다.
[ 실시예 2]
바닥 원료부의 온도를 45 ℃로 제어한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 과정을 거쳐 바닥재를 제조하였다.
[실시예 3]
바닥 원료부의 온도를 55 ℃로 제어한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 과정을 거쳐 바닥재를 제조하였다.
[실시예 4]
표면층 형성 시 광도 출력을 90 W/㎠으로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 과정을 거쳐 바닥재를 제조하였다.
[실시예 5]
표면층 형성 시 광도 출력을 120 W/㎠으로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 과정을 거쳐 바닥재를 제조하였다.
[실시예 6]
바닥 원료부의 온도를 35 ℃로 조절한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 과정을 거쳐 바닥재를 제조하였다.
[실시예 7]
바닥 원료부의 온도를 65 ℃로 조절한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 과정을 거쳐 바닥재를 제조하였다.
[비교예 1]
표면층 형성 시 광도 출력을 70 W/㎠으로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 과정을 거쳐 바닥재를 제조하였다.
[비교예 2]
표면층 형성 시 광도 출력을 170 W/㎠으로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 과정을 거쳐 바닥재를 제조하였다.
[실험예]
실시예 및 비교예에서 제조된 바닥재(표면층)의 광택도를 Gloss Checker기(광택도 %로 측정)를 사용하여 바닥재의 좌측, 중간, 우측에 해당하는 지점의 광택도를 각각 측정하였으며, 측정된 값을 평균화하여 하기 표 1에 나타내었다.
구분 쿨링 후
바닥 원료부의 온도		 광도 출력 광량 에너지 광택도
실시예 1 51 ℃ 140 W/㎠ 700 mJ/㎠ 9.8
실시예 2 45 ℃ 140 W/㎠ 700 mJ/㎠ 10.4
실시예 3 55 ℃ 140 W/㎠ 700 mJ/㎠ 9.3
실시예 4 51 ℃ 90 W/㎠ 700 mJ/㎠ 7.9
실시예 5 51 ℃ 120 W/㎠ 700 mJ/㎠ 9.5
실시예 6 35 ℃ 140 W/㎠ 700 mJ/㎠ 14.8
실시예 7 65 ℃ 140 W/㎠ 700 mJ/㎠ 6.3
비교예 1 51 ℃ 70 W/㎠ 700 mJ/㎠ 5.5
비교예 2 51 ℃ 170 W/㎠ 700 mJ/㎠ 16.4
상기 표 1을 참고하면 본 발명의 제조방법으로 바닥재를 제조함에 따라 광택도가 요구되는 범위인 6 내지 15 사이로 나타남을 확인할 수 있다. 그러나 비교예 1 및 2는 광택도가 요구되는 범위를 벗어나는 것을 확인할 수 있으며, 이에 따라 소광제의 부양 정도의 조절을 통해 광택도를 조절하기 위해 표면층을 형성하는 도료 조성물의 변경이 요구되어 바닥재의 제조효율이 떨어질 것을 예상할 수 있다.
10: 발포층
20: 글라스파이버층
30: 인쇄층
40: 투명층
50: 표면층
60: 하부층
70: 보강시트층

Claims (16)

  1. 발포층을 포함하는 바닥 원료부를 형성하며,
    상기 발포층이 발포하도록 열을 가한 후, 상기 바닥 원료부의 온도를 소정 범위 내로 제어하며,
    상기 온도가 제어된 바닥 원료부 상에 소광제를 포함하는 도료 조성물을 도포하며,
    상기 도료 조성물을 80 내지 160 W/㎠ 범위의 광도 출력으로 경화시켜 상기 바닥 원료부 상에 표면층을 형성하는 것을 포함하는 바닥재의 제조방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 바닥 원료부는 45 내지 55 ℃의 범위로 온도가 제어되는 것인 바닥재의 제조방법
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 경화 시 250 내지 420 ㎚ 범위의 파장의 빛이 조사되는 것인 바닥재의 제조방법.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 경화 시 600 내지 1000 mJ/㎠ 범위의 광량 에너지가 가해지는 것인 바닥재의 제조방법.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 도료 조성물에 상기 광량 에너지가 도달하는 시간이 3 내지 12초인 것인 바닥재의 제조방법.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 표면층은 광택도가 6 내지 15인 것인 바닥재의 제조방법.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 발포층을 포함하는 바닥 원료부는,
    글라스파이버에 제1 폴리염화비닐 수지 조성물을 함침하고 겔화시키는 동시에 글라스파이버의 일면에 발포시트를 합판하여 글라스파이버층과 발포층을 형성하고,
    상기 글라스파이버층 상에 인쇄층을 형성하며,
    상기 인쇄층 상에 투명층을 형성하는 과정을 거쳐 형성되는 것인 바닥재의 제조방법.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 발포층 하에 제2 폴리염화비닐 수지 조성물을 코팅하여 하부층을 형성하는 것을 더 포함하는 것인 바닥재의 제조방법.
  9. 청구항 7에 있어서,
    상기 투명층을 엠보 가공하는 것을 더 포함하는 것인 바닥재의 제조방법.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 발포층을 포함하는 바닥 원료부는,
    글라스파이버에 제3 폴리염화비닐 수지 조성물을 함침하고 겔화시키는 동시에 일면에 보강시트를 합판하여 글라스파이버층과 보강시트층을 형성하고,
    상기 글라스파이버층 상에 인쇄층을 형성하며,
    상기 인쇄층 상에 투명층을 형성하고,
    상기 보강시트층 하에 발포 수지 조성물을 코팅하여 발포층을 형성하는 과정을 거쳐 형성되는 것인 바닥재의 제조방법.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 투명층을 엠보 가공하는 것을 더 포함하는 것인 바닥재의 제조방법.
  12. 발포층을 포함하는 바닥 원료부, 및
    상기 바닥 원료부 상에 구비되고, 소광제를 함유하는 표면층을 포함하고,
    상기 표면층은 소정 온도 범위 내로 제어된 상기 바닥 원료부 상에 도료 조성물을 도포한 후 80 내지 160 W/㎠ 범위의 광도 출력으로 경화시켜 형성된 것인 바닥재.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 바닥 원료부는,
    상기 발포층,
    상기 발포층 상에 구비되는 글라스파이버층,
    상기 글라스파이버층 상에 구비되는 인쇄층,
    상기 인쇄층 상에 구비되는 투명층을 포함하는 것인 바닥재.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 발포층 하에 구비되는 하부층을 더 포함하는 것인 바닥재.
  15. 청구항 13에 있어서,
    상기 발포층과 상기 글라스파이버층 사이에 구비되는 보강시트층을 더 포함하는 것인 바닥재.
  16. 청구항 12에 있어서,
    상기 표면층은 광택도가 6 내지 15인 것인 바닥재.
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