KR20180093094A - 광학 적층체, 편광판 및 표시 장치 - Google Patents

광학 적층체, 편광판 및 표시 장치 Download PDF

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나오키 세리자와
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가부시키가이샤 도판 도모에가와 옵티컬 필름
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Abstract

투광성 기체 상에 광학 기능층이 적어도 1층 이상 적층되어 이루어지는 광학 적층체이며, 광학 기능층 중 적어도 한쪽 면에 요철 형상이 형성되어 있고, 광학 기능층이 2 종류의 무기 미립자와 수지 입자를 함유하고, 광학 적층체가 이하의 조건식 (1) 내지 (4)을 만족하는 내부 헤이즈(X)와, 전체 헤이즈(Y)를 갖고, (1) Y>X, (2) Y≤X+17, (3) Y≤57, (4) 19≤X≤40, 0.5mm 폭의 광학 빗을 사용한 투과상 선명도가 30 내지 70％이며, 광학 기능층의 최표면의 요철 형상을 광간섭 방식으로 계측했을 경우, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 수가 측정 면적 1mm2 당 600개 이상인 것을 특징으로 하는, 광학 적층체.

Description

광학 적층체, 편광판 및 표시 장치
본 발명은 방현성 필름에 적합한 광학 적층체, 그리고 이를 사용한 편광판 및 표시 장치에 관한 것이다.
방현성 필름은, 그 표면의 요철 구조에서 외광을 산란시킴으로써 방현성을 발휘한다. 방현성 필름의 표면 요철 구조는, 수지층 내에 입자(필러)를 응집시킴으로써 형성된다.
방현성 필름에는, 방현성 이외에 내 번쩍임성, 고 콘트라스트 등의 기능이 요구된다. 종래, 입자(필러)의 형상, 입경, 굴절률, 도료 물성(점도), 도포 시공 프로세스 등의 조정에 의해, 표면의 요철 구조(외부 산란)와 내부 산란의 최적화를 도모하고, 방현성, 내 번쩍임성, 콘트라스트의 개선이 도모되어 왔다. 단, 방현성, 내 번쩍임성 및 콘트라스트는, 상반된 관계에 있다.
방현성은, 입경이 큰 필러의 사용, 필러 첨가량의 증량, 필러의 응집을 강화함으로써 높아진다. 이 경우, 요철 사이즈가 커짐으로써 방현성은 높아지지만, 렌즈 효과의 증가에 의해 내 번쩍임성이 악화된다.
내 번쩍임성은, 수지와의 굴절률 차가 큰 필러의 사용이나 필러 첨가량의 증량에 의한 내부 산란의 증가에 의해 양호화되지만, 확산 광이 증가되기 때문에, 콘트라스트는 저하된다.
콘트라스트는, 내부 산란을 저하시킴으로써 양호화되지만, 내 번쩍임성은 악화된다. 또한, 저반사층을 형성함으로써도 콘트라스트는 양호화되지만, 다층 구성으로 되기 때문에 비용면에서 불리해진다.
국제 공개 제2008/093769호 국제 공개 제2007/111026호 일본 특허 공개 제2011-232683호 공보
근년의 화상 패널의 고정밀화에 의해, 기존의 방현성 필름의 내 번쩍임성은 불충분해서, 방현성과 콘트라스트를 유지하면서, 내 번쩍임성을 향상시킨 방현성 필름이 요구되고 있다.
그 때문에, 본 발명은 화상 표시 패널, 특히, 200ppi 이상의 고정밀의 화상 표시 패널에 적용되는 경우에, 방현성 및 콘트라스트를 유지하면서, 번쩍임을 억제할 수 있는 광학 적층체, 그리고 이를 사용한 편광판 및 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 투광성 기체 상에 광학 기능층이 적어도 1층 이상 적층되어 이루어지는 광학 적층체에 관한 것이다. 당해 광학 적층체의 광학 기능층 중 적어도 한쪽 면에 요철 형상이 형성되어 있고, 광학 기능층이 2 종류의 무기 미립자와 수지 입자를 함유하고, 광학 적층체가 이하의 조건식 (1) 내지 (4)를 만족하는 내부 헤이즈 X와, 전체 헤이즈 Y를 갖고,
Y>X … (1)
Y≤X+17 … (2)
Y≤57 … (3)
19≤X≤40 … (4)
0.5mm 폭의 광학 빗을 사용한 투과상 선명도가 30 내지 70％이며, 광학 기능층의 최표면의 표면 요철 형상을 광간섭 방식으로 계측했을 경우, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 수가 측정 면적 1mm2 당 600개 이상이다.
본 발명에 따르면, 200ppi 이상의 고정밀한 화상 표시 패널에 적용되는 경우에도, 방현성 및 콘트라스트를 유지하면서, 번쩍임을 억제할 수 있는 광학 적층체, 그리고 이를 사용한 편광판 및 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
도 1은, 실시 형태에 따른 광학 적층체의 개략 구성을 도시하는 단면도이다.
도 2는, 실시 형태에 따른 편광판의 개략 구성을 도시하는 단면도이다.
도 3은, 실시 형태에 따른 표시 장치의 개략 구성을 도시하는 단면도이다.
도 4는, 표 1에 기재된 수지 입자(유기 필러)의 첨가량과, 얻어진 광학 적층체의 내부 헤이즈의 관계를 플롯한 그래프이다.
도 5는, 실시예 1 내지 14 및 비교예 1 내지 10에 따른 광학 적층체의 투과상 선명도와, 높이 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 측정 면적 1mm2 당의 수를 플롯한 그래프이다.
도 6은, 실시예 4, 6 및 비교예 4에 따른 광학 적층체의 광학 기능층 표면의 요철 형상을 도시하는 도면이다.
도 7은, 표 3에 나타낸 실시예 1 내지 14 및 비교예 1 내지 10에 있어서의 수지 입자의 첨가량과, 콜로이달 실리카의 첨가량을 플롯한 그래프이다.
도 1은, 실시 형태에 따른 광학 적층체의 개략 구성을 도시하는 단면도이다. 실시 형태에 따른 광학 적층체(100)는 투광성 기체(1)와, 투광성 기체(1)에 적층된 적어도 1층의 광학 기능층(2)을 구비한다. 광학 기능층(2)의 표면에는, 미세한 요철이 형성되어 있다. 이 요철이 외광을 난반사시킴으로써 광학 기능층(2)이 방현성을 발휘한다.
투광성 기체로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리카르보네이트(PC), 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리비닐알코올(PVA), 폴리염화비닐(PVC), 시클로올레핀 공중합체(COC), 노르보르넨 함유 수지, 폴리에테르술폰, 셀로판, 방향족 폴리아미드 등의 각종 수지 필름을 적합하게 사용할 수 있다.
투광성 기체의 전체 광선 투과율(JIS K7105)은 80％ 이상인 것이 바람직하고, 90％ 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 투광성 기체의 두께는, 광학 적층체의 생산성이나 핸들링성을 고려하면, 1 내지 700㎛인 것이 바람직하고, 25 내지 250㎛인 것이 보다 바람직하다.
투광성 기체에는, 광학 기능층과의 밀착성을 향상시키기 위해서, 표면 개질 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 표면 개질 처리로서는, 알칼리 처리, 코로나 처리, 플라스마 처리, 스퍼터 처리, 계면 활성제나 실란 커플링제 등의 도포, Si 증착 등을 예시할 수 있다.
광학 기능층은, 기재 수지와, 수지 입자(유기 필러)와, 2 종류의 무기 미립자를 함유한다. 광학 기능층은, 전리 방사선 또는 자외선의 조사에 의해 경화되는 기재 수지와, 수지 입자와, 2 종류의 무기 미립자를 혼합한 수지 조성물을 투광성 기체에 도포하고, 도막을 경화시킴으로써 형성된다.
이하, 광학 기능층의 형성에 사용하는 수지 조성물의 구성 성분에 대하여 설명한다.
기재 수지로서는, 전리 방사선 또는 자외선의 조사에 의해 경화되는 수지를 사용할 수 있다.
전리 방사선의 조사에 의해 경화되는 수지 재료로서는, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기 등의 라디칼 중합성 관능기나, 에폭시기, 비닐에테르기, 옥세탄기 등의 양이온 중합성 관능기를 갖는 단량체, 올리고머, 프리폴리머를 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 단량체로서는, 아크릴산 메틸, 메틸메타크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌 메타크릴레이트, 시클로헥실 메타크릴레이트, 페녹시에틸 메타크릴레이트, 에틸렌글리콜 디메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 등을 예시할 수 있다. 올리고머, 프리폴리머로서는, 폴리에스테르아크릴레이트, 폴리우레탄아크릴레이트, 다관능 우레탄 아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트, 알키드 아크릴레이트, 멜라민 아크릴레이트, 실리콘 아크릴레이트 등의 아크릴레이트 화합물, 불포화 폴리에스테르, 테트라메틸렌글리콜 디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜 디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜 디글리시딜에테르, 비스페놀 A 디글리시딜에테르나 각종 지환식 에폭시 등의 에폭시계 화합물, 3-에틸-3-히드록시메틸 옥세탄, 1, 4-비스 {[(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시]메틸}벤젠, 디[1-에틸(3-옥세타닐)]메틸에테르 등의 옥세탄 화합물을 예시할 수 있다.
상술한 수지 재료는, 광중합 개시제의 첨가를 조건으로 하여, 자외선의 조사에 의해 경화될 수 있다. 광중합 개시제로서는, 아세토페논계, 벤조페논계, 티오크산톤계, 벤조인, 벤조인 메틸에테르 등의 라디칼 중합 개시제, 방향족 디아조늄염, 방향족 술포늄염, 방향족 요오도늄염, 메탈로센 화합물 등의 양이온 중합 개시제를 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수 있다.
광학 기능층에 첨가하는 수지 입자(유기 필러)는 기재 수지 속에서 응집하고, 광학 기능층의 표면에 미세한 요철 구조를 형성한다. 수지 입자로서는, 아크릴 수지, 폴리스티렌 수지, 스티렌-아크릴 공중합체, 폴리에틸렌 수지, 에폭시 수지, 실리콘 수지, 폴리불화비닐리덴, 폴리 불화에틸렌계 수지 등의 투광성 수지 재료로 이루어지는 것을 사용할 수 있다. 수지 입자 재료의 굴절률은, 1.40 내지 1.75인 것이 바람직하다. 굴절률이나 수지 입자의 분산성을 조정하기 위해서, 재질(굴절률)이 다른 2 종류 이상의 수지 입자를 혼합하여 사용해도 된다.
또한, 수지 입자의 굴절률 nf 및 기재 수지의 굴절률 nz는, 이하의 조건 (α)를 만족하는 것이 바람직하고, 이하의 조건 (β)를 만족하는 것이 보다 바람직하다.
|nz-nf|≥0.025 … (α)
|nz-nf|≥0.035 … (β)
기재가 되는 수지 재료의 굴절률 nz와, 수지 입자의 굴절률 nf가, 조건 (α)를 만족하지 않을 경우, 원하는 내부 헤이즈를 얻기 위해서는 수지 입자의 첨가량을 많게 할 필요가 있고, 화상 선명성이 악화된다.
수지 입자의 평균 입경은, 0.3 내지 10.0㎛인 것이 바람직하고, 1.0 내지 7.0㎛인 것이 보다 바람직하다. 수지 입자의 평균 입경이 0.3㎛ 미만인 경우, 방현성이 저하된다. 한편, 수지 입자의 평균 입경이 10.0㎛를 초과하면, 광학 기능층 표면의 요철 높이의 면적비를 제어할 수 없고, 내 번쩍임성이 악화된다.
광학 기능층의 기재 수지에는, 2 종류의 무기 미립자로서, 제1 무기 미립자 및 제2 무기 미립자를 첨가한다.
제1 무기 미립자로서는, 콜로이달 실리카, 알루미나, 산화 아연을 단독으로 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 제1 무기 미립자를 첨가함으로써, 수지 입자의 과잉 응집이 억제되어, 광학 기능층의 표면에 형성되는 요철 구조를 균일화, 즉, 국소적으로 요철이 커지는 것을 억제할 수 있다. 제1 무기 미립자의 첨가에 의해, 방현성 및 고 콘트라스트를 유지한 채, 내 번쩍임성을 향상할 수 있다.
제1 무기 미립자는, 평균 입경이 10 내지 100nm의 무기 나노 입자인 것이 바람직하다. 제1 무기 미립자로서 콜로이달 실리카를 사용하는 경우에는, 평균 입경이 20nm 정도인 것이 보다 바람직하고, 제1 무기 미립자로서 알루미나 또는 산화 아연을 사용하는 경우에는, 평균 입경이 40nm 정도인 것이 보다 바람직하다. 제1 무기 미립자의 첨가량은, 광학 기능층 형성용 수지 조성물의 전체 중량에 대하여0.05 내지 10％인 것이 바람직하고, 0.1 내지 5.0％인 것이 보다 바람직하다. 제1 무기 미립자의 첨가량이 이 범위를 벗어나면, 광학 기능층 표면의 요철 높이의 면적비를 제어할 수 없고, 내 번쩍임성이 악화된다.
제2 무기 미립자는, 평균 입경이 10 내지 200nm의 무기 나노 입자인 것이 바람직하다. 제2 무기 미립자의 첨가량은, 0.1 내지 5.0％인 것이 바람직하다. 제2 무기 미립자로서는, 예를 들어 팽윤성 점토를 사용할 수 있다. 팽윤성 점토는, 양이온 교환능을 갖고, 해당 팽윤성 점토의 층간에 용매를 도입하여 팽윤하는 것이면 되고, 천연물이어도 합성물(치환체, 유도체를 포함함)이어도 된다. 또한, 천연물과 합성물의 혼합물이어도 된다. 팽윤성 점토로서는, 예를 들어 운모, 합성 운모, 버미큘라이트, 몬모릴로나이트, 철 몬모릴로나이트, 바이델라이트, 사포나이트, 헥토라이트, 스티븐사이트, 논트로나이트, 마가디아이트, 아이라라이트, 가네마이트, 층상 티타늄산, 스멕타이트, 합성 스멕타이트 등을 들 수 있다. 이들 팽윤성 점토는, 1종을 사용해도 되고, 복수를 혼합하여 사용해도 된다.
제2 무기 미립자로서는, 층상 유기 점토가 보다 바람직하다. 본 발명에 있어서, 층상 유기 점토란, 팽윤성 점토의 층간에 유기 오늄 이온을 도입한 것을 말한다. 유기 오늄 이온은, 팽윤성 점토의 양이온 교환성을 이용하여 유기화할 수 있는 것이라면 제한되지 않는다. 제2 무기 미립자로서, 예를 들어 합성 스멕타이트(층상 유기 점토 광물)를 사용할 수 있다. 합성 스멕타이트는, 광학 기능층 형성용 수지 조성물의 점성을 증가시키는 증점제로서 기능한다. 증점제로서의 합성 스멕타이트의 첨가는, 수지 입자 및 제1 무기 미립자의 침강을 억제하고, 광학 기능층의 표면의 요철 구조 형성에 기여한다.
또한, 제1 무기 미립자와 제2 무기 미립자를 병용한 경우, 광학 기능층 속에 제1 무기 미립자와 제2 무기 미립자가 응집체를 형성한다. 이 응집체가 수지 입자의 응집을 억제하고, 광학 기능층 표면의 요철 형상의 요철 높이가 평준화됨으로써, 광학 기능층 표면에서의 광의 산란이 균일화되어, 내 번쩍임성을 향상할 수 있다.
또한, 광학 기능층 형성용 수지 조성물에는, 레벨링제를 첨가해도 된다. 레벨링제는, 건조 과정의 도막 표면에 배향하여, 도막의 표면 장력을 균일화하고, 도막의 표면 결함을 저감시키는 기능을 갖는다.
또한, 광학 기능층 형성용 수지 조성물에는, 적절히 유기 용제를 첨가해도 된다. 유기 용제로서는, 알코올류, 에스테르류, 케톤류, 에테르류, 방향족 탄화수소 등을 예시할 수 있다.
광학 기능층의 막 두께는, 1.0 내지 12.0㎛인 것이 바람직하고, 3.0 내지 10.0㎛인 것이 더욱 바람직한다. 광학 기능층의 막 두께가 1㎛ 미만인 경우, 산소 저해에 의한 경화 불량이 발생하고, 광학 기능층의 내찰상성이 저하되기 쉬워진다. 한편, 광학 기능층의 막 두께가 12.0㎛를 초과하면, 기재 수지층의 경화 수축에 의한 컬이 강해지기 때문에 바람직하지 않다.
또한, 광학 기능층의 막 두께는, 수지 입자의 평균 입경의 110 내지 300％인 것이 바람직하고, 120 내지 250％인 것이 보다 바람직하다. 광학 기능층의 막 두께가 수지 입자의 평균 입경의 110％ 미만인 경우, 허연 빛이 두드러지는 품위가 낮은 방현성이 되어 버린다. 한편, 광학 기능층의 막 두께가 수지 입자의 평균 입경의 300％를 초과하면, 방현성이 부족하기 때문에 바람직하지 않다.
또한, 본 실시 형태에 따른 광학 적층체는, 내부 헤이즈 X 및 전체 헤이즈 Y는, 이하의 조건 (1) 내지 (4)를 동시에 만족한다.
Y>X … (1)
Y≤X+17 … (2)
Y≤57 … (3)
19≤X≤40 … (4)
내부 헤이즈 X가 조건식 (4)를 만족하지 않고, 19％ 미만인 경우, 내 번쩍임성이 부족하다. 한편, 내부 헤이즈 X가 조건식 (4)를 만족하지 않고, 40％를 초과하는 경우, 콘트라스트가 악화된다.
내부 헤이즈 X가 이하의 조건식 (4)'를 만족하는 것이 보다 바람직하다. 내부 헤이즈 X가 조건식 (4)'를 만족할 경우, 내 번쩍임성과 콘트라스트 양쪽을 보다 향상시킬 수 있다.
25≤X≤35 … (4)'
또한, 전체 헤이즈 Y가 조건식 (3)을 만족하지 않고, 57％를 초과하는 경우, 광학 기능층 표면의 요철이 크고, 내 번쩍임성이 부족하다.
본 실시 형태에 따른 광학 적층체의 투과상 선명도는, 0.5mm 폭의 광학 빗을 사용하여 측정한 측정값이 30 내지 70％이다. 투과상 선명도가 30％ 미만인 경우, 내 번쩍임성이 악화된다. 한편, 투과상 선명도가 70％를 초과하면, 방현성이 악화된다.
본 실시 형태에 따른 광학 기능층 표면의 요철 형상을 광간섭 방식으로 계측했을 경우, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 수가 측정 면적 1mm2 당 600개 이상이다. 여기서, 요철 높이란, 측정면의 모든 요철 높이의 평균 레벨(높이 0)을 기준으로 한, 측정면에 대하여 직교하는 방향의 오목부 및 볼록부의 레벨 차를 말한다. 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 수가 측정 면적 1mm2 당 600개 미만인 경우, 수지 입자의 응집에 의해 1개의 볼록 부분이 차지하는 면적이 커지기 때문에, 200ppi 이상의 화상 표시 장치의 방현성 필름으로서 광학 적층체를 사용한 경우에 내 번쩍임성이 악화된다.
광학 기능층의 최표면의 요철 형상을 광간섭 방식으로 계측했을 경우, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분 중, 면적이 100㎛2 미만인 볼록 부분의 수가, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 수의 65％ 이상인 것이 바람직하다. 여기서, 볼록 부분의 면적이란, 피측정면(광학 기능층 표면)을 평면에서 보았을 때에, 볼록 부분이 피측정면 상에 차지하는 영역의 면적을 말한다. 면적이 100㎛2 미만인 볼록 부분의 수가, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 수의 65％ 미만인 경우, 단위 면적당의 볼록부의 수가 적어지고, 요철이 국재화되기 때문에, 내 번쩍임성이 악화된다.
또한, 본 실시 형태에 따른 광학 기능층 표면의 요철 형상을 광간섭 방식으로 계측했을 경우, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 모든 볼록 부분의 평균 면적이 500㎛2 이하이다. 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 수가 1mm2 당 600개 이상이고, 또한, 볼록 부분의 평균 면적이 500㎛2 이하인 경우, 볼록 부분 각각의 면적이 작아져, 요철 표면이 정밀화되기 때문에, 내 번쩍임성이 향상된다.
종래, 과잉된 필러 응집을 억제하기 위해서, 도료 점도를 조정하는 방법이나, 도포 시공시의 도료 고형분 농도를 높게 하는 방법이나, 휘발 속도가 빠른 용제를 사용하여 건조 시의 대류를 억제하는 방법이 채용되어 왔지만, 이들 방법을 채용한 경우, 도포 시공 얼룩 등의 면 형상 고장이 발생하기 쉬워진다는 문제가 있다. 이에 비해, 상기 실시 형태에서 설명한 바와 같이, 2 종류의 무기 미립자를 첨가하는 방법이라면, 도료 물성이나 건조 속도에 영향을 주지 않기 때문에, 도포 시공 적성을 유지한 채 내 번쩍임성의 향상이 가능하게 된다.
도 2는, 실시 형태에 따른 편광판의 개략 구성을 도시하는 단면도이다. 편광판(110)은 광학 적층체(100)와 편광 필름(11)을 구비한다. 광학 적층체(100)는 도 1에 도시한 것이며, 투광성 기체(1)의 광학 기능층(2)이 설치되어 있지 않은 측의 면에, 편광 필름(편광 기체)(11)이 설치되어 있다. 편광 필름(11)은 투명 기재(3)와 편광층(4)과 투명 기재(5)를 이 순서대로 적층한 것이다. 투명 기재(3 및 5), 편광층(4)의 재질은 특별히 한정되는 것은 아니고, 통상, 편광 필름에 사용되는 것을 적절히 사용할 수 있다.
도 3은, 실시 형태에 따른 표시 장치의 개략 구성을 도시하는 단면도이다. 표시 장치(120)는 광학 적층체(100)와, 편광 필름(11)과, 액정 셀(13)과, 편광 필름(편광 기체)(12)과, 백라이트 유닛(14)을 이 순서대로 적층한 것이다. 편광 필름(12)은 투명 기재(6)와 편광층(7)과 투명 기재(8)를 이 순서대로 적층한 것이다. 투명 기재(6 및 8), 편광층(7)의 재질은 특별히 한정되는 것은 아니고, 통상, 편광 필름에 사용되는 것을 적절히 사용할 수 있다. 액정 셀(13)은 투명 전극을 갖는 한 쌍의 투명 기재 사이에 액정 분자가 봉입된 액정 패널과, 컬러 필터를 구비하고, 투명 전극간에 인가된 전압에 따라서 액정 분자의 배향을 변화시킴으로써, 각 화소의 광 투과율을 제어하여 상을 형성하는 장치이다. 백라이트 유닛(14)은 광원과 광 확산판(모두 도시하지 않음)을 구비하고, 광원으로부터 출사된 광을 균일하게 확산시켜서 출사면으로부터 출사하는 조명 장치이다.
또한, 도 3에 도시된 표시 장치(120)는 확산 필름, 프리즘 시트, 휘도 향상 필름이나, 액정 셀이나 편광판의 위상차를 보상하기 위한 위상차 필름, 터치 센서를 더 구비하고 있어도 된다.
본 실시 형태에 따른 광학 적층체는, 번쩍임을 억제하는 광학 기능층에 부가하여, 또한, 저굴절률층 등의 굴절률 조정층, 대전 방지층, 방오층 중 적어도 1층을 갖고 있어도 된다.
저굴절률층은, 번쩍임을 억제하는 광학 기능층 상에 설치되고, 표면의 굴절률을 저하시킴으로써 반사율을 저감하기 위한 기능층이다. 저굴절률층은, 폴리에스테르 아크릴레이트계 단량체, 에폭시 아크릴레이트계 단량체, 우레탄 아크릴레이트계 단량체, 폴리올 아크릴레이트계 단량체 등의 전리 방사선 경화성 재료와 중합 개시제를 포함하는 도액을 도포하고, 도막을 중합에 의해 경화시켜서 형성할 수 있다. 저굴절률층에는, 저굴절 입자로서는, LiF, MgF, 3NaF·AlF 또는 AlF(모두, 굴절률 1.4) 또는, Na3AlF6(빙정석, 굴절률 1.33) 등의 저굴절 재료로 이루어지는 저굴절률 미립자를 분산시켜도 된다. 또한, 저굴절률 미립자로서는, 입자 내부에 공극을 갖는 입자를 적합하게 사용할 수 있다. 입자 내부에 공극을 갖는 입자에 있어서는, 공극의 부분을 공기의 굴절률(≒1)로 할 수 있기 때문에, 매우 낮은 굴절률을 구비하는 저굴절률 입자로 할 수 있다. 구체적으로는, 내부에 공극을 갖는 저굴절률 실리카 입자를 사용함으로써, 굴절률을 낮출 수 있다.
대전 방지층은, 폴리에스테르 아크릴레이트계 단량체, 에폭시 아크릴레이트계 단량체, 우레탄 아크릴레이트계 단량체, 폴리올 아크릴레이트계 단량체 등의 전리 방사선 경화성 재료와, 중합 개시제와, 대전 방지제를 포함하는 도액을 도포하고, 중합에 의해 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 대전 방지제로서는, 예를 들어 안티몬을 도핑한 산화 주석(ATO), 주석을 도핑한 산화 인듐(ITO) 등의 금속 산화물계 미립자, 고분자형 도전성 조성물이나, 4급 암모늄염 등을 사용할 수 있다. 대전 방지층은, 광학 적층체의 최표면에 설치되어도 되고, 번쩍임을 억제하는 광학 기능층과 투광성 기체 사이에 설치되어도 된다.
방오층은, 광학 적층체의 최표면에 설치되고, 광학 적층체에 발수성 및/또는 발유성을 부여함으로써, 방오성을 높이는 것이다. 방오층은, 규소 산화물, 불소 함유 실란 화합물, 플루오로알킬 실라잔, 플루오로알킬 실란, 불소 함유 규소계 화합물, 퍼플루오로 폴리에테르기 함유 실란 커플링제 등을 드라이 코팅 또는 웨트 코팅함으로써 형성할 수 있다.
상술한 저굴절률층, 대전 방지층, 방오층 이외에 또는, 저굴절률층, 대전 방지층, 방오층에 부가하여, 적외선 흡수층, 자외선 흡수층, 색보정층 등 중 적어도 1 층을 형성해도 된다.
실시예
이하, 실시 형태에 따른 광학 적층체를 구체적으로 실시한 실시예를 설명한다.
(광학 적층체의 제조 방법)
투광성 기체로서, 두께 40㎛의 트리아세틸 셀룰로오스 필름을 사용하였다. 투광성 기체 상에 이하의 광학 기능층 형성용 도포 시공액을 도포하고, 건조(용매를 휘발)시킨 후, 도막을 중합에 의해 경화시킴으로써, 광학 기능층을 형성하였다.
[광학 기능층 형성용 도포 시공액]
·기재 수지: UV/EB 경화성 수지 라이트 아크릴레이트 PE-3A(펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 교에샤 가가꾸 가부시키가이샤 제조), 굴절률 1.52
·수지 입자(유기 필러): 가교 스티렌 단분산 입자 SX350H(소껭 가가꾸 가부시키가이샤 제조) 평균 입경 3.5㎛, 굴절률 1.595
·콜로이달 실리카: 오르가노 실리카졸 MEK-ST-40(닛산 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 제조) 평균 입경 10 내지 15nm
·합성 스멕타이트: 루센타이트 SAN(코프 케미컬 가부시키가이샤 제조)
·불소계 레벨링제: 메가팩 F-471(DIC 가부시키가이샤 제조) 0.1％
·용제: 톨루엔
또한, 수지 입자(유기 필러), 제1 무기 미립자(콜로이달 실리카) 및 제2 무기 미립자(합성 스멕타이트)의 광학 기능층 형성용 도포 시공액에의 첨가 비율은 이하의 실시예 및 비교예의 설명에서 후술한다. 또한, 각 성분의 첨가 비율은, 광학 기능층 형성용 도포 시공액의 전체 고형분 질량에 차지하는 비율(질량％)이다. 여기서, 광학 기능층 형성용 도포 시공액의 전체 고형분이란, 용제를 제외한 성분을 가리킨다. 따라서, 광학 기능층 형성용 도포 시공액의 전 고형분 중의 수지 입자, 제1 무기 미립자, 제2 무기 미립자의 배합 비율(질량％)과, 광학 기능층 형성용 도포 시공액의 경화막인 광학 기능층 속의 수지 입자, 제1 무기 미립자, 제2 무기 미립자의 함유 비율(질량％)은 동등하다.
광학 적층체의 투과상 선명도, 헤이즈값, 막 두께, 광학 기능층의 최표면의 요철 형상의 측정 방법은 이하와 같다.
[투과상 선명도]
투과상 선명도는, JIS K7105에 따라, 사상성 측정기(ICM-1T, 스가 시켄키 가부시키가이샤 제조)를 사용하여, 광학 빗 폭 0.5mm로 측정하였다.
[헤이즈값]
헤이즈값은, JIS K7105에 따라, 헤이즈 미터(NDH2000, 닛본 덴쇼꾸 고교 가부시끼가이샤 제조)를 사용하여 측정하였다. 여기서, 광학 적층 필름의 헤이즈값을 전체 헤이즈로 하였다. 또한, 광학 적층 필름의 미세 요철 형상이 형성된 표면에 점착제 부착 투명성 시트를 접합하여 측정한 헤이즈값으로부터, 점착제 부착 투명성 시트의 헤이즈값을 뺀 값을, 내부 헤이즈로 하였다. 또한, 점착재 부착 투명성 시트로서, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(두께 38㎛)에, 아크릴계 점착재(두께 10㎛)를 도포한 것을 사용하였다.
[막 두께]
광학 기능층의 막 두께는, 리니어 게이지(D-10HS, 가부시키가이샤 오자키세이사쿠쇼 제조)를 사용하여 측정하였다.
<1. 수지 입자와 내부 헤이즈의 관계>
먼저, 내 번쩍임성 및 콘트라스트 양쪽을 양호하게 하는 내부 헤이즈(19 내지 40％)를 얻기 위하여 필요한 수지 입자(유기 필러)의 첨가량을 조사하였다. 수지 입자 및 2 종류의 무기 미립자를 표 1에 기재된 첨가량으로 첨가한 광학 기능층 형성용 도포 시공액을 조정하고, 상술한 제작 방법에 따라서 광학 적층체를 제작하였다. 제작된 광학 적층체의 내부 헤이즈를 구하였다.
표 1에, 수지 입자 및 2 종류의 무기 미립자의 첨가량과, 얻어진 광학 적층체의 내부 헤이즈의 값을 나타낸다.
Figure pct00001
도 4는, 표 1에 기재된 수지 입자(유기 필러)의 첨가량과, 얻어진 광학 적층체의 내부 헤이즈의 관계를 플롯한 그래프이다. 도 4에 도시하는 직선은, 플롯으로부터 얻어지는 회귀 직선이다.
도 4에 도시된 회귀 직선에서, 기재 수지와 수지 입자의 굴절률 차가 0.075일 경우, 내부 헤이즈의 값을 19 내지 40％로 하기 위해서는, 수지 입자의 첨가량을 7 내지 15％로 하면 되는 것을 알 수 있다.
<2. 실시예 1 내지 14, 비교예 1 내지 10>
이어서, 수지 입자 및 2 종류의 무기 미립자를 하기의 표 3에 기재된 첨가량으로 첨가한 광학 기능층 형성용 도포 시공액을 사용하여, 실시예 1 내지 14 및 비교예 1 내지 10에 따른 광학 적층체를 제작하였다.
얻어진 실시예 1 내지 12 및 비교예 1 내지 17에 따른 광학 적층체 각각에 대해서, 상술한 시험 방법에 의해, 헤이즈값, 투과상 선명도 및 막 두께를 측정하였다. 또한, 얻어진 광학 기능층의 최표면에 존재하는, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 수를 다음 방법에 의해 측정하였다.
[요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 수의 측정 방법]
광학 기능층의 최표면의 요철 형상은, 비접촉 표면·층 단면 형상 계측 시스템(측정 장치: 버트 스캔 R3300FL-Lite-AC, 해석 소프트웨어: VertScan4, 가부시키가이샤 료까 시스템 제조)을 사용하여, 광간섭 방식에 의해 측정하였다. 측정 데이터를 장치의 해석 소프트웨어를 사용하여 해석하고, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 수를 해석 소프트웨어로 계측하였다.
표 2에, 당해 계측 시스템의 측정 조건 및 해석 조건을 나타낸다.
Figure pct00002
방현성, 내 번쩍임성, 휘도비에 대해서는, 이하의 평가 방법에 따라서 평가하였다.
[방현성의 평가 방법과 평가 기준]
방현성은 각 실시예 및 각 비교예의 광학 적층체를 투명한 점착층을 개재하여 흑색 아크릴판(스미펙스 960 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 제조)에 접합한 후, 흑색 아크릴판의 중심으로부터 수직으로 50cm 이격된 장소에서 조도 250lx의 조건 하에서 본 경우의 자신의 상(얼굴)의 흑색 아크릴판으로의 투영의 유무를 임의의 100명의 목시 판정에 의해 평가하였다. 평가 결과는, 투영을 느끼지 못한 사람이 70명 이상인 경우를 「○」, 30명 이상 70명 미만인 경우를 「△」, 30명 미만인 경우를 「×」로 하였다.
[내 번쩍임성의 평가 방법과 평가 기준]
내 번쩍임성은, 각 실시예 및 각 비교예의 광학 적층체를 투명한 점착층을 개재하여 액정 모니터(iPad3(제3 세대) 애플 인코포레이티드 제조, 264ppi, 「iPad」는 등록 상표)의 화면 표면에 접합한 후, 액정 모니터를 녹색 표시 상태로 하고, 암실 하에서 화면 표면의 중심으로부터 수직으로 50cm 이격된 장소에서 액정 모니터를 본 경우의 번쩍임 유무를 임의의 100명의 목시 판정에 의해 평가하였다. 평가 결과는, 번쩍임을 느끼지 못한 사람이 70명 이상인 경우를 「○」, 30명 이상 70명 미만인 경우를 「△」, 30명 미만인 경우를 「×」로 하였다.
[휘도비의 평가 방법과 평가 기준]
휘도비는, 각 실시예 및 각 비교예의 광학 적층체와 투광성 기체를 투명한 점착층을 개재하여 액정 모니터(iPad3(제3 세대) 애플 인코포레이티드 제조, 264ppi, 「iPad」는 등록 상표)의 화면 표면에 접합한 후, 액정 모니터를 백색 표시 상태로 하고, 암실 하에서 화면 표면의 중심으로부터 수직으로 70cm 이격된 장소에서 분광방사계(SU-UL1R 가부시키가이샤 탑콘 제조)로 휘도를 측정하였다. 투광성 기체의 휘도를 100％로 하여, 93％ 이상인 경우를 「○」, 93％ 미만인 경우를 「×」로 하였다.
표 3에, 수지 입자 및 2 종류의 무기 미립자의 첨가량과, 얻어진 광학 적층체의 전체 헤이즈, 내부 헤이즈, 투과상 선명도 및 막 두께의 측정값과, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 측정 면적 1mm2 당의 수와, 내 번쩍임성, 방현성 및 휘도비의 평가 결과를 나타낸다.
Figure pct00003
또한, 도 5에, 실시예 1 내지 14 및 비교예 1 내지 10에 따른 광학 적층체의 투과상 선명도와, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 측정 면적 1mm2 당의 수를 플롯한 그래프를 나타낸다. 도 5에 있어서는, 실시예를 검은 동그라미로 플롯하고, 비교예를 ×표로 플롯하였다.
실시예 1 내지 12에 따른 광학 적층체의 전체 헤이즈(Y) 및 내부 헤이즈(X)는 상술한 조건식 (1) 내지 (4)를 모두 만족하고, 투과상 선명도도 30 내지 70％의 범위 내이며, 또한, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 측정 면적 1mm2 당의 수도 600개 이상이었다. 그로 인해, 실시예 1 내지 12에 따른 광학 적층체는, 내 번쩍임성, 방현성 및 휘도비 모두 양호하였다.
이에 비해, 비교예 1에 따른 광학 적층체에서는, 수지 입자의 첨가량이 너무 적기 때문에, 내부 헤이즈가 19％ 미만으로 된 것과, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 측정 면적 1mm2 당의 수가 600개 미만으로 된 것에 의해, 내 번쩍임성이 불충분하였다.
비교예 2 및 4에 따른 광학 적층체에서는, 제1 무기 미립자를 첨가하지 않은 것에 의해, 수지 입자의 응집이 억제되지 않고, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 측정 면적 1mm2 당의 수가 600개 미만으로 되었다. 이 결과, 내 번쩍임성이 악화되었다.
비교예 3, 5 및 6에 따른 광학 적층체에서는, 투과상 선명도가 70％를 초과한 것에 의해, 방현성이 불충분하였다.
비교예 7 내지 10에 따른 광학 적층체에서는, 수지 입자의 첨가량이 너무 많기 때문에, 내부 헤이즈가 40％를 초과하고, 휘도비(콘트라스트)가 악화되었다. 또한, 비교예 7 내지 10에 따른 광학 적층체에서는, 외부 헤이즈가 57％를 초과한 것에 의해 내 번쩍임성도 악화되었다.
도 6은, 실시예 4, 6 및 비교예 4에 따른 광학 적층체를 상술한 비접촉 표면·층 단면 형상 계측 시스템을 사용하여 광간섭 방식에 의해 측정하고, 광학 기능층 표면의 요철 형상을 화상으로서 출력한 것이다. 보다 상세하게는, 도 6의 좌열에 나타내는 화상은, 광학 기능층 표면의 요철 형상을 3차원 화상으로서 출력한 것이며, 농담이 짙은 부분이 기준면에 비하여 요철이 큰 부분에 상당한다. 도 6의 우열에 도시된 화상은, 광학 기능층 표면에 있어서의, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분 분포를 도시하는 화상이며, 농담이 짙은 부분이 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분을 도시하고 있다. 또한, 도 6의 (a), 도 6의 (b) 및 도 6의 (c)는 각각, 실시예 6, 실시예 4 및 비교예 4에 대응한다.
도 6에 도시된 화상을 대비하면, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 단위 면적당의 수가 증가하면, 각 볼록 부분의 면적이 작아짐과 함께 볼록 부분의 분포가 균일화되고, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 단위 면적당의 수가 적어지면, 각 볼록 부분의 면적이 커지기 때문에, 국소적으로 요철이 큰 부분(도 6에 있어서 색이 짙은 개소)이 많아지는 것을 알 수 있다. 실시예 1 내지 10에 따른 광학 적층체에서는, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 수가 측정 면적 1mm2 당 600개 이상인 것에 의해, 볼록 부분이 국재화되지 않고 균일하게 분포하고, 이 결과, 내 번쩍임성이 향상되었다고 생각된다.
표 4에, 실시예 2 내지 8, 13, 비교예 4 및 7 내지 10에 따른 광학 적층체의 표면에 형성된 볼록 부분의 면적 분포와, 평균 면적을 나타낸다. 보다 상세하게는, 표 4의 수치는, 상술한 비접촉 표면·층 단면 형상 계측 시스템을 사용하여 광간섭 방식에 의해, 소정의 기준 면적 내에 존재하는 높이 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 면적을 측정하고, 100㎛2의 면적 범위마다 출현 빈도를 집계한 것이다. 또한, 표 4에 있어서의 면적 범위의 기재 「a 내지 b」는, a 이상 b 미만을 의미한다. 예를 들어, 면적 범위 「0 내지 100」은, 0 이상 100 미만을 의미한다. 또한, 표 4의 평균 면적은, 상술한 비접촉 표면·층 단면 형상 계측 시스템을 사용하여, 높이 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 면적 및 개수를 측정하고, 이들 측정값으로부터 산출한 것이다.
Figure pct00004
표 4에 나타낸 바와 같이, 실시예 2 내지 8 및 13에 따른 광학 적층체에서는, 높이 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 수 중, 100㎛2 미만인 면적을 갖는 볼록부의 비율이 65％ 이상이다. 이에 비해, 비교예 4 및 7 내지 10에 따른 광학 적층체에서는, 높이 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 수 중, 100㎛2 미만인 면적을 갖는 볼록부의 비율이 65％ 미만이다. 표 4에 나타낸 해석 결과로부터도, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 단위 면적당의 수가 증가하면, 각 볼록 부분의 면적이 작아져, 볼록 부분이 균일하게 분포하는 것을 알 수 있다.
또한, 실시예 2 내지 8 및 13에 따른 광학 적층체에서는, 높이 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 평균 면적이 600개 이상이고, 또한, 높이 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 평균 면적이 500㎛2 이상이다. 실시예 2 내지 8 및 13에서는, 볼록 부분의 평균 사이즈가 작아진 것에 의해, 광학 기능층 표면의 요철 형상이 정밀해져서, 이 결과, 내 번쩍임성이 향상되었다고 생각된다. 이에 비해, 비교예 4 및 7 내지 10에 따른 광학 적층체에서는, 높이 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 평균 면적이 600개 미만이며, 높이 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 평균 면적이 500㎛2를 초과하고 있다. 비교예 4 및 7 내지 10에서는, 볼록 부분의 평균 사이즈가 크고, 단위 면적당의 볼록 부분의 수도 적어진 것에 의해, 광학 기능층 표면의 요철 형상이 거칠어져, 내 번쩍임성이 불충분하다고 생각된다.
도 7은, 표 3에 나타낸 실시예 1 내지 14 및 비교예 1 내지 10에 있어서의 수지 입자의 첨가량과, 콜로이달 실리카의 첨가량을 플롯한 그래프이다. 도 7에 있어서도, 실시예를 검은 동그라미로 플롯하고, 비교예를 ×표로 플롯하였다.
도 7에 도시된 바와 같이, 실시예 1 내지 14에 있어서의 수지 입자의 첨가량 및 콜로이달 실리카의 첨가량의 플롯이, 도 7의 실선으로 도시된 직선 이하의 영역(단, 횡축상을 제외함)이며, 또한, 수지 입자의 첨가량이 7 내지 15％인 영역 내에 있는 경우에, 200ppi 이상의 고정밀의 화상 표시 장치의 방현성 필름으로서 사용한 경우에도, 내 번쩍임성과 방현성과 콘트라스트 모두에 있어서 우수한 성능이 얻어지는 것이 확인되었다. 즉, 광학 기능층 형성용 수지 조성물 속의 수지 입자의 함유량을 A(％)라고 하고 콜로이달 실리카의 함유량을 B(％)라고 했을 때, 이하의 조건식 (5) 및 (6)을 동시에 만족했을 경우에, 내 번쩍임성과 방현성과 콘트라스트 모두 우수하다는 것을 알았다. 이하의 조건식 (5)는 실시예 2 및 14에 있어서의 수지 입자의 첨가량 및 콜로이달 실리카의 첨가량 플롯의 양쪽을 통과하는 직선이다. 또한, 이하의 조건식 (6)은 도 4에서 설명한 바와 같이, 본 실시예의 구성에 있어서, 내부 헤이즈의 값을 19 내지 40％의 범위 내로 하기 위하여 필요한 조건이다.
0<B≤0.5A-0.0225 … (5)
7.0≤A≤15.0 … (6)
조건식 (5) 및 (6)을 동시에 만족하지 않는 경우, 표 3으로부터 알 수 있는 바와 같이, 내 번쩍임성, 방현성, 콘트라스트 중 어느 것인가가 악화되기 때문에, 200ppi 이상의 고정밀의 화상 표시 장치의 방현성 필름으로서의 용도에는 적합하지 않았다.
이상 설명한 바와 같이, 실시예 1 내지 14에 따른 광학 적층체는, 200ppi 이상의 고정밀의 화상 표시 장치의 방현성 필름으로서 사용된 경우에도, 내 번쩍임성과 방현성과 콘트라스트 모두에 있어서 우수한 성능을 발휘할 수 있다는 점이 확인되었다.
본 발명에 따른 광학 적층체는, 고정밀(예를 들어, 200ppi 이상)의 화상 표시 장치에 사용되는 방현 필름으로서 이용할 수 있다.
1: 투광성 기체
2: 광학 기능층
3, 5, 6, 8: 투명 기재
4, 7: 편광층
11, 12: 편광판
13: 액정 셀
14: 백라이트 유닛
100: 광학 적층체
110: 편광판
120: 표시 장치

Claims (10)

  1. 투광성 기체 상에 광학 기능층이 적어도 1층 이상 적층되어 이루어지는 광학 적층체이며,
    상기 광학 기능층 중 적어도 한쪽 면에 요철 형상이 형성되어 있고,
    상기 광학 기능층이 2 종류의 무기 미립자와 수지 입자를 함유하고,
    상기 광학 적층체가 이하의 조건식 (1) 내지 (4)를 만족하는 내부 헤이즈 X와, 전체 헤이즈 Y를 갖고,
    Y>X … (1)
    Y≤X+17 … (2)
    Y≤57 … (3)
    19≤X≤40 … (4)
    0.5mm 폭의 광학 빗을 사용한 투과상 선명도가 30 내지 70％이며,
    상기 광학 기능층의 최표면의 요철 형상을 광간섭 방식으로 계측했을 경우, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 볼록 부분의 수가 측정 면적 1mm2 당 600개 이상인 것을 특징으로 하는, 광학 적층체.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 광학 기능층의 최표면의 요철 형상을 광간섭 방식으로 계측했을 경우, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 모든 볼록 부분의 수 중, 면적이 100㎛2 미만인 볼록 부분의 수가 65％ 이상인 것을 특징으로 하는, 광학 적층체.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 광학 기능층의 최표면의 요철 형상을 광간섭 방식으로 계측했을 경우, 요철 높이가 0.1㎛ 이상인 모든 볼록 부분의 평균 면적이 500㎛2 이하인 것을 특징으로 하는, 광학 적층체.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 광학 기능층이 함유하는 2 종류의 무기 미립자가, 무기 나노 입자와 팽윤성 점토인 것을 특징으로 하는, 광학 적층체.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 광학 기능층 속의 상기 수지 입자의 함유 비율 A(％)와, 상기 무기 나노 입자의 함유 비율 B(％)가 이하의 조건식 (5) 및 (6)을 만족하는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체.
    0<B≤0.50A-0.0225 … (5)
    7.0≤A≤15.0 … (6)
  6. 제1항에 있어서,
    상기 광학 기능층이, 방사선 경화형 수지 조성물을 주성분으로 하는 1층 이상의 광학 기능층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 광학 기능층이 함유하는 2 종류의 무기 미립자가 응집체를 형성하고 있는 것을 특징으로 하는, 광학 적층체.
  8. 제1항에 있어서,
    굴절률 조정층, 대전 방지층, 방오층 중 적어도 1층을 더 구비하는, 광학 적층체.
  9. 제1항에 기재된 광학 적층체를 구성하는 상기 투광성 기체 상에, 편광 기체가 적층되어 이루어지는 것을 특징으로 하는, 편광판.
  10. 제1항에 기재된 광학 적층체를 구비하는 것을 특징으로 하는, 표시 장치.
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