KR20180092323A - 셀레늄 포토멀티플라이어 및 이의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

필드 형상 멀티-웰 포토멀티플라이어 및 이의 제조방법이 제공된다. 포토멀티플라이어는 하부 절연체, a-Se 광전도층 및 상부 절연체를 포함하는 필드-형성 멀티-웰 애벌란시 검출기를 포함한다. a-Se 광전도층은 하부 절연체와 상부 절연체 사이에 위치한다. 포토멀티플라이어의 길이를 따라 빛 상호작용 영역, 애벌란시 영역, 및 수집영역이 제공되고, 빛 상호작용 영역 및 수집영역은 애벌란시 영역의 반대편 상에 위치한다.

Description

셀레늄 포토멀티플라이어 및 이의 제조방법
우선권
본 출원은 2016년 1월 7일에 미국 특허청에 제출된 미국 가특허출원 제 62/275,927 호의 우선권을 주장하며, 그 내용은 본 명세서에 참조로 통합되었다.
1. 발명의 분야:
본 발명은 일반적으로 고체-상태 방사선 이미지 검출기 분야에 관한 것이고, 특히, 필드-형성 멀티-웰 검출기 구조를 갖는 비정질 셀레늄 방사선 검출기에 관한 것이다.
2. 관련 기술의 설명:
핵 의학 분야 및 이의 진단 이미지에서의 응용은 빠르게 성장하고 있고, 단일 요소(single element) 또는 픽셀 어레이(array) 검출기 형태의 고체-상태 포토멀티플라이어의 사용은 종래의 포토멀티플라이어 튜브(photomultiplier tube, PMT)와 유사한 성능 특성을 산출하기 위해 연구 중에 있다. 고체-상태 기술의 장점은 견고성, 소형 사이즈, 및 자기장에 대한 둔감성이다. 지금까지, 애벌란시 포토다이오드(avalanche photodiode, APD) 어레이로 제작된 실리콘 포토멀티플라이어(silicon photomultipliers, SiPMs)는 양전자 단층촬영(positron emission tomography, PET) 및 단일-광자 단층촬영(single-photon emission computed tomography, SPECT) 이미지에서 PMTs를 대체할 수 있는 유일한 후보인 것으로 보이며 빠르게 발전 중이다. 그러나, PMTs와 대조적으로, SiPMs는 선형 모드에서는 작동하지 않고, 낮은 광자 검출 효율, 작은 면적, 높은 비용, 불균일성 및 낮은 수율로 어려움을 겪고 있다.
약 106의 PMT와 유사한 애벌란시 이득(gav)를 달성하기 위해, SiPMs는 광학 크로스토크(optical crosstalk)를 초래하는 비-선형 가이거-모드(non-linear Geiger-mode)의 방전을 넘어서 작동된다. 선형-모드 장치인 고이득(high gain) APDs의 경우, 충격 이온화로 인한 애벌란시 증배 프로세스(multiplication process)는 확률적이며 과도한 잡음을 생성한다.
전기장(F)을 증가시킴으로써 APDs에서의 증배 계수(multiplication factor, M)가 증가함에 따라, 애벌란시 이득의 변동이 점점 더 악화된다. M 대 F의 기울기는 두 캐리어의 이온화 속도(k)의 비율에 대한 강력한 함수이며, 여기서 실제 반도체 물질의 경우라도 단일-캐리어 증배의 이상적인 상황은 거의 없으며, 전자와 정공(electrons and holes)이 충격 이온화를 가질 수 있다면, 1 ≤ k < 0이다. [1] 결정질 실리콘의 높은 k 값은 APDs 및 SiPMs의 균일성과 수율 문제에 기여한다. 사진복사 기계를 위해 종래에 개발된, 비정질 셀레늄(a-Se)은 이러한 기준의 유일한 예외이다.
a-Se는 결정성 고체에 비해 실질적으로 낮은 비용으로 넓은 영역에 걸쳐 균일하게 잘 생성되고, a-Se는 높은 필드에서 애벌란시를 생성하는 유일한 비정질 물질이다. 이러한 충격 이온화 프로세스의 핵심적인 특징은 오로지 정공(holes)이 핫 캐리어가 되고 애벌란시 증배를 겪는다는 것이다. 결과적으로, 애벌란시 셀레늄 장치는 매우 낮은 k값을 갖는 선형-모드 디바이스이다. 상업적으로, a-Se에서의 애벌란시 이득은 사람의 시력보다 감도가 더 뛰어난 최초의 광학 카메라를 개발하는 것을 가능하게 하였으며, 예를 들어, 오로라 및 일식과 같은 천문 현상을 캡쳐할 수 있게 하였다. [2] a-Se는 청색 파장에서 ~90%의 검출 효율을 가지며, 이는 고에너지 방사선 검출을 위한 청색-방출 신틸레이터(scintillators)와 결합하는 것이 이상적이다. a-Se는 높은 필드에서도 넓은 밴드 갭 및 매우 낮은 누설 전류(leakage current)를 갖는 실온 반도체이다.
직접 변환(conversion) a-Se FPDs의 한계는 Se에서 전자-정공 쌍을 생성하는데 필요한 에너지가 10V/미크론에서 50eV이기 때문에, 전자 노이즈로 인한 저선량(low-dose) 이미지 성능의 저하를 포함한다. 더 높은 변환율을 갖는 다른 광전도성 물질이 연구되었으나, 직접 변환 a-Se FPDs는 전하 트래핑 및 제조 문제로 인해 상업화와는 거리가 멀게 되었다. s-Se의 개선된 변환은 전기장을 30V/미크론 이상, 즉, 1000 미크론층에서 30,000V로 증가시킴으로써 가능하다. 그러나, 이 전기장의 증가는 신뢰할 수 있는 검출기 구성 및 작동을 위해 극도로 어려운 일이고, 실용적이지 못하다.
비정질 고체, 즉 무질서한 비결정성 고체는 낮은 캐리어 유동성 및 통과-시간(transit-time)이 제한된 펄스 반응으로 인한 낮은 주기 해상도, 그리고 고에너지 방사선의 전하에 대한 낮은 변환 이득 때문에 광자-계수 모드에서 실행 가능한 방사선 이미지 검출기가 배제되었다. 별도의 흡수 및 애벌란시 영역을 갖는 직접 변환 a-Se 층이 제안되었으나, 상당한 장애들은 별도의 흡수 및 애벌란시 영역을 갖는 직접 변환 a-Se층의 실제 구현을 방해한다.
프리쉬(Frisch) 그리드가 있는 단극성(unipolar) 고체-상태 검출기가 제안되었다. 그러나, 그러한 검출기 구조는 웰 내의 가장 높은 전기장이 반도체와 픽셀 전극 사이의 계면(interface)에서 발생하기 때문에 직접 변환 애벌란시 이득에 실용적이지 않고, 큰 전하 주입 및 검출기에 잠재적으로 돌이킬 수 없는 손상으로 인해 높은 암전류를 초래한다.
단극성 시간-격차(unipolar time-differential, UTD) 고체 상태 검출기는 높은 입상도(granularity )의 마이크로 패턴 멀티-웰 구조, 즉 멀티-웰 고체 상태 검출기(multi-well solid-state detector, MWSD)를 사용하여 제조되었다. 또한 UTD 전하 감지 및 애벌란시 증배 이득을 기반으로 하는 수직 검출기 구조, 즉 필드-형성 멀티-웰 애벌란시 검출기(SWAD) 및 나노-전극 멀티-웰 하이-이득 애벌란시 러싱 광검출기(nano-electrode multi-well high-gain avalanche rushing photodetector, NEW-HARP)가 제안되었다[5-6].
발명의 요약
본 명세서는 종래 시스템의 단점을 극복하는 멀티-웰 셀레늄 검출기 및 이의 제조방법을 제공하며, 이는 광-유도 캐리어 패킷의 확산(spreading)에 의해 설정된 신호 상승 시간을 개선한다.
따라서, 본 발명의 견지는 상기 문제들 및 단점들을 해결하고, 이하에서 설명되는 장점을 제공한다. 본 발명의 일 견지는 신틸레이팅 결정(scintillating crystals)에 결합될 때 간접 x-선 및 감마선 검출 능력을 갖는 광전도성 물질로서 비정질 셀레늄(a-Se)를 사용하는 단일-캐리어 고체-상태 포토멀티플라이어 장치 구조를 제공한다.
본 발명의 일 견지는 하부 절연체; a-Se 광전도층; 및 상부 절연체를 포함하는 필드-형성 멀티-웰 애벌란시 검출기를 갖는 포토멀티플라이어를 제공한다. s-Se 광전도층은 하부 절연체 및 상부 절연체 사이에 있다. 빛 상호작용(light interaction) 영역, 애벌란시(avalanche) 영역, 및 수집(collection) 영역은 포토멀티플라이어의 길이를 따라 제공되고, 빛 상호작용 영역 및 수집 영역은 애벌란시 영역의 반대편 상에 위치한다.
본 발명의 또 다른 견지는 절연체, 절연체에 인접한 a-Se 광전도층, 빛 상호작용 영역, 애벌란시 영역 및 수집영역을 포함하는 필드-형성 멀티-웰 애벌란시 검출기를 갖는 포토멀티플라이어를 제공한다. 빛 상호작용 영역, 애벌란시 영역 및 수집영역은 포토멀티플라이어의 길이를 따라 제공되고, 빛 상호작용 영역 및 수집영역은 애벌란시 영역의 반대편 상에 위치한다.
본 발명의 특정 구현예의 상기 및 다른 견지들, 특징들 및 장점들은 첨부된 도면들과 관련된 다음의 상세한 설명으로부터 보다 명확해질 것이다.
도 1은 본 발명에 개시된 일 구현예에 따른 멀티-웰 셀레늄 포토멀티플라이어(Se-PM)의 측면도이다.
도 2는 도 1의 Se-PM에서 필드 강도를 도시한 것이다.
도 3은 본 발명에 개시된 또 다른 구현예에 따른 멀티-웰 Se-PM의 측면도이다.
도 4는 도 3의 Se-PM에서 필드 강도를 도시한 것이다.
도 5는 본 발명에 개시된 가중 전위(weighting potential) 대 거리를 보여주는 그래프이다.
도 6(a)는 본 발명에 개시된 필드 전압 대 거리의 그래프이다.
도 6(b)는 본 발명에 개시된 이득(gain) 대 거리의 그래프이다.
본 발명의 특정 구현예에 대한 다음의 상세한 설명은 첨부된 도면을 참조하여 이루어진다. 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명의 개념을 명확히 이해를 위해, 당해 기술 분야에 알려진 관련 기능 및 구성에 대한 설명은 생략하며, 불필요한 세부사항으로 본 발명을 모호하게 하는 것을 피한다.
본 명세서는 광전도층으로서 비정질 물질을 사용한, 고체-상태 애벌란시 방사선 검출기 및 이의 제조방법을 개시한다. 고체-상태 애벌란시 방사선 검출기는 복수의 저전압 영역들 사이에서 하이-필드 애벌란시 영역을 로컬라이즈(localizing)시킴으로써 필드-형성을 기반으로, Sauli의 장치를 개선하며 [7], Lee 등의 미국특허 제 6,437,339호, A. H. Goldan 등의 미국특허 제 8,129,688호, A. H. Goldan 등의 미국특허출원 제 14,888,879호의 미국특허공개 제 2016/0087113 Al호 및 A. H. Goldan 등의 미국특허출원 제 14/414,607호의 미국특허공개 제 2015/0171232 Al호는 각 내용이 본 명세서에 참조로 통합되었다.
도 1은 본 발명에 개시된 일 구현예 따른 멀티-웰 셀레늄 포토멀티플라이어(Se-PM)의 측면도이다. 도 2는 도 1의 Se-PM의 작동 동안 도 1의 Se-PM에서 필드 강도를 도시한 것이다.
도 1 및 도 2에 보여지는 바와 같이, 층계형 측면(cascaded lateral), 즉 수평의 SWAD 구조(100), 하부 절연체(112), a-Se 광전도층(130) 및 상부 절연체(114)를 갖는 포토멀티플라이어 장치가 제공된다. a-Se 광전도층(130)은 하부 절연체(112)와 상부 절연체(114) 사이에 위치한다. 유전체는 절연체와 상호 교환 가능하다. 빛 상호작용 영역(140), 애벌란시 영역(150) 및 수집 영역(180)은 층계형 측면의 SWAD 구조(100)의 길이를 따라 제공된다. 빛 상호작용 영역(140) 및 수집 영역(180)은 애벌란시 영역(150)의 반대편 상에 인접하여 위치한다.
애벌란시 영역(150)은 종래 장치에서와 같이 수직 필름 두께에 의하지 않고 포토리소그래피(photolithography)를 통해, 종 방향(longitudinal direction)으로, 즉 수평 배향을 따라 형성된다. 포토리소그래피를 통해 애벌란시 영역(150)을 정의하는 것은 안정하고, 신뢰성 있고, 반복 가능한 검출기 구조를 생성한다.
빛 상호작용 영역(140)은 층계형 측면의 SWAD 구조(100)으로부터 각각 제 1 빛(144) 및 제 2 빛(146) 입력을 위한, 상부, 즉 전방 광학창(141) 및 하부, 즉 후방 광학창(142)을 갖는다.
빛 상호작용 영역(140)의 말단부에 고전압원(149)이 제공되고, 수집기(182)는 상기 수집 영역(180)의 말단부에 제공되며, 고전압원(149) 및 수집기(182)는 층계형 측면의 SWAD 구조(100)의 반대 수평단부 상에 제공된다.
a-Se 광전도층(130)은 하부 절연체(112)와 상부 절연체(114) 사이에 위치한다. 하부 절연체(112)는 바람직하게 폴리이미드이고 상부 절연체(114)는 바람직하게 수분 및 유전체 배리어, 예를 들어 파리렌(Parylene)을 제공하는 화학 증기 증착된 폴리(p-크실렌) 중합체이다. 하부 절연체(112)는 바람직하게 유리 기판인 기판 (110) 상에 인접하게 위치한다.
층계형 측면의 SWAD 구조(100)의 애벌란시 영역(150)의 수평 길이를 따라 미리 결정된 간격으로 복수의 그리드(152, 154, 156, 158), 즉, 측면의 프리쉬(Frisch) 그리드가 제공되며, 복수의 그리드(152, 154, 156, 158)의 각 그리드는 복수의 그리드(152, 154, 156, 158)에 인접한 또 다른 그리드로부터 하나 이상의 미리 결정된 거리에 제공된다.
도 1의 멀티-웰 Se-PM에서, 복수의 그리드의 각 그리드는 반대되는 제 1 파트 및 제 2 파트를 갖는다. 즉, 그리드(152)는 상부 절연체(114) 및 하부 절연체(112) 상에 각각 형성된 제 1 파트(152a) 및 제 2 파트(152b)를 포함한다. 그리드(154)는 제 1 파트(154a) 및 제 2 파트(154b)를 포함하며, 그리드(156)는 제 1 파트(156a) 및 제 2 파트(156b)를 포함하고, 그리드(158)은 제 1 파트(156a) 및 제 2 파트(156b)를 포함하며, 이는 비슷하게 위치한다. 그리드 전극은 각각의 절연체 내에 또는 그 위에 형성될 수 있다. 전기장이 낮기 때문에, 상기 그리드 전극은 절연체 내에 캡슐화 될 필요가 없다.
하이-필드 영역은 복수의 그리드(152, 154, 156, 158)의 각 그리드의 전극을 편향시킴(biasing)으로써 생성되며, 이에 따라 멀티-스테이지 애벌란시 이득(gain)을 달성한다. 따라서, 실용적인 Se-PM은 a-Se 내부에 필드 핫-스팟의 형성을 제거하고 또한 금속에서 반도체로의 전하 주입을 제거하는 절연 블록킹층이 제공되며, 모든 그리드 전극은 유전체/절연체로 캡슐화된다.
도 2는 복수의 그리드들 각각 사이에 형성된 네 개의 증폭 스테이지(172, 174, 176, 178)를 보여준다. 도 2는 a-Se 내의 필드 핫-스팟이 없는 전압 변화를 보여준다. 애벌란시 영역(150)의 전체 크기에 대한 상부 및 하부 창(141, 142)의 비율을 증가시키는 것은 더 낮은 시간-해상도를 희생하면서, 증폭 스테이지로 인한 필 팩터(fill factor)를 감소시킨다.
그리드의 수를 감소시키면 이득이 감소한다. 대안적으로, 그리드 수를 늘리면 해당 이득이 증가한다. 기본적으로 그리드 수를 늘림으로써 무제한적인 이득을 얻을 수 있다. 그리드는 포토리소그래피에 의해 수평 배향으로 추가되기 때문에, 이득은 수직 두께를 증가시키지 않고 제공된다.
도 3은 본 발명에 개시된 또 다른 구현예에 따른 멀티-웰 Se-PM의 측면도이다. 도 4는 도 3의 Se-PM 작동 동안 도 3의 Se-PM에서의 필드 강도를 도시한다.
도 3 및 도 4에 보여지는 바와 같이, 층계형 측면의 SWAD 구조(300)는 상호작용 영역(340) 내에 위치한 복수의 그리드(352, 354, 356, 358)가 제공되고, 복수의 고전압 디바이더(divider)(349a, 349b, 349c, 349d)는 빛 상호작용 영역(340)에 위치한다. 복수의 그리드(352, 354, 356, 358)는 오로지 하부 절연체(312) 상에 위치한다. 수집 영역(380)은 수집기(382)가 제공된다. 도 3의 다른 구성은 도 1의 작동에 대응하고, 이의 설명은 간결함을 위해 여기에서 반복하지 않는다.
도 4는 그리드(352)와 그리드(354) 사이의 이득 스테이지(372)에서; 그리드(354)와 그리드(356) 사이의 이득 스테이지(374)에서; 그리드(356)와 그리드(358) 사이의 이득 스테이지(376)에서, 하이-필드 애벌란시 영역을 로컬라이즈(localizing)시킴으로써, 측면의 SWAD의 가우시안(Gaussian) 전기장 형상을 보여주며, 이에 의해 그리드 평면들 사이의 애벌란시 증배를 제한하고 금속 전극으로부터의 전하 주입을 제거한다. 이러한 수평 멀티-스테이지 필드 형상은 단일-스테이지 수직 애벌란시 장치로는 불가능한 이득 레벨을 달성한다.
도 3 및 도 4는 측면의 SWAD의 그리드가 수집기 바로 근처에서 매우 강한 니어-필드(near-field) 효과를 제공하는, Se-PM에 대한 가중 전위의 분포를 보여준다. 도 4에 도시된 바와 같이, 신호는 애벌란시 정공(holes)이 최종 그리드 전극을 드리프트 패스하고(drift pass) 수집기에 도달할 때만 판독되는 전자 장치에 의해 유도되고 감지된다. 따라서, 거의 이상적인 UTD 전하 감지는 전하 클라우드의 공간 폭에서 검출기의 시간 해상도에 물리적인 제한만으로 제공된다.
도 4에 보여지는 바와 같이, 이득 스테이지(372)에 가장 가까운 그리드(352)의 측면, 그리드 스테이지(374)에 가까운 그리드(354)의 측면, 그리드(356)의 양 측면, 그리고 이득 스테이지(378)에 가장 가까운 그리드(358)의 한 측면 상에 핫 스팟이 형성된다.
도 5는 본 발명의 가중 전위 대 거리를 보여주는 그래프이다. 도 5는 본 발명의 수평 포토멀티플라이어의 작동 동안 정공-전용(hole-only) 전하 수집의 가중 전위 분포를 도시한다.
도 6(a)는 본 발명의 4개의 이득 스테이지를 갖는 측면의 SWAD를 사용하는 층계형 가우시안 필드-형성 영역의 필드 전압 대 거리의 그래프이다. 도 6(b)는 n=4인 Se-PM에 대해 ~106[V/V]의 시뮬레이션된(simulated) 애벌란시 이득 gav를 보여주는, 본 발명의 이득 대 거리의 그래프이다.
본 발명은 그 특정 견지를 참조하여 보여주고 설명하였지만, 당업자라면, 첨부된 청구범위 및 이의 균등물로 정의된 본 발명의 사상 및 범주를 벗어나지 않는, 형태 및 세부 사항의 다양한 변형을 이해할 수 있을 것이다.
참조
[1] P. P. Webb, R. J. Mclntyre, and J. Conrad, RCA review 35, p. 234 (1974).
[2] H. Shimamoto, T. Yamashita et al., IEEE Micro 31, p. 51 (2011).
[3] A. H. Goldan, O. Tousignant et al., Appl. Phys. Lett. 101, p. 213503 (2012).
[4] A. H. Goldan, J. A. Rowlands, O. Tousignant et al., J. Appl. Phys. 113 (2013).
[5] A. H. Goldan and W. Zhao, Med. Phys. 40, p. 010702 (2013).
[6] A. H. Goldan, J. A. Rowlands, M. Lu, and W. Zhao, Proc. Conf. Rec. IEEE NSS/MIC N32-4, Seattle, WA (2014).
[7] F. Sauli, GEM: A new concept for electron amplification in gas detectors. Nucl. Instr. and Meth. A, 386(2-3):531-534, 1997.

Claims (20)

  1. 필드 형상의 멀티-웰 애벌란시(avalanche) 검출기를 갖는 포토멀티플라이어로서,
    하부 절연체;
    a-Se 광전도층; 및
    상부 절연체를 포함하며,
    상기 a-Se 광전도층은 상기 하부 절연체와 상기 상부 절연체 사이에 있으며,
    상기 포토멀티플라이어의 길이를 따라 빛 상호작용(light interaction) 영역, 애벌란시(avalanche) 영역, 및 수집(collection) 영역이 제공되고,
    상기 빛 상호작용 영역 및 상기 수집 영역은 상기 애벌란시 영역의 반대편 상에 위치하는, 포토멀티플라이어.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 a-Se 광전도층은 상기 하부 절연체와 상기 상부 절연체 사이에 위치한, 포토멀티플라이어.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 애벌란시 영역은 수평 배향(horizontal orientation)으로 형성되고,
    상기 a-Se 광전도층 및 상기 상부 절연체는 하부 절연체 상에 수직 배향(vertical orientation)으로 형성되는, 포토멀티플라이어.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 애벌란시 영역은 포토리소그래피(photolithography)를 통해 형성되는, 포토멀티플라이어.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 빛 상호작용 영역은 상부 광학 창 및 하부 광학 창을 포함하며,
    상기 상부 광학 창은 상기 검출기 위로부터 제 1 빛의 입력을 위해 구성되고,
    상기 하부 광학 창은 상기 검출기 아래로부터 제 2 빛의 입력을 위해 구성되는, 포토멀티플라이어.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 빛 상호작용 영역의 말단부에 위치한 고전압원; 및
    상기 수집 영역의 말단부에 위치한 수집기를 더 포함하며,
    상기 고전압원 및 상기 수집기는 그 사이에 전기장을 형성하기 위해 상기 검출기의 반대 수평단부에 위치하는, 포토멀티플라이어.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 애벌란시 영역의 수평 길이를 따라 미리 결정된 간격으로 위치한 복수의 그리드(grids)를 더 포함하는, 포토멀티플라이어.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 복수의 그리드의 각 그리드는 상기 복수의 그리드에 인접한 또 다른 그리드로부터 미리 결정된 거리로 제공되는, 포토멀티플라이어.
  9. 제 7항에 있어서,
    상기 복수의 그리드는 그 사이에 복수의 증폭 스테이지를 갖는 복수의 측면의 프리쉬 그리드(lateral Frisch grids)를 형성하는, 포토멀티플라이어.
  10. 제 7항에 있어서,
    상기 복수의 그리드는 하이-필드 영역을 생성하도록 편향되어(biased), a-Se 내부의 필드 핫 스팟(hot spot)의 형성을 제거하고, 하이-필드 금속-반도체 인터페이스로부터 주입된 전하를 제거하는 멀티-스테이지 애벌란시 이득을 제공하는, 포토멀티플라이어.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 멀티-스테이지 애벌란시 이득(gain)은 상기 복수의 그리드의 그리드 평면들 사이로 한정되고, 금속 전극으로부터 주입된 전하는 제거되는, 포토멀티플라이어.
  12. 필드 형상의 멀티-웰 애벌란시(avalanche) 검출기를 갖는 포토멀티플라이어로서,
    절연체;
    상기 절연체에 인접한 a-Se 광전도층;
    빛 상호작용 영역;
    애벌란시 영역; 및
    수집 영역을 포함하며,
    상기 빛 상호작용 영역, 상기 애벌란시 영역, 및 상기 수집 영역은 포토멀티플라이어의 길이를 따라 제공되고,
    상기 빛 상호작용 영역 및 상기 수집 영역은 상기 애벌란시 영역의 반대편 상에 위치한, 포토멀티플라이어.
  13. 제 12항에 있어서,
    상기 애벌란시 영역은 수평 배향으로 형성되고, 상기 a-Se 광전도층은 하부 절연체 상에 수직 배향으로 형성되는, 포토멀티플라이어.
  14. 제 12항에 있어서,
    상기 애벌란시 영역은 포토리소그래피를 통해 형성되는, 포토멀티플라이어.
  15. 제 12항에 있어서,
    상기 빛 상호작용 영역은 검출될 빛의 입력을 위해 구성된 광학 창을 포함하는, 포토멀티플라이어.
  16. 제 12항에 있어서,
    상기 빛 상호작용 영역 내에 위치한 복수의 고전압 디바이더(dividers); 및
    상기 수집 영역의 말단부에 위치한 수집기를 더 포함하는, 포토멀티플라이어.
  17. 제 12항에 있어서,
    상기 애벌란시 영역의 수평 길이를 따라 복수의 그리드를 더 포함하는, 포토멀티플라이어.
  18. 제 17항에 있어서,
    상기 복수의 그리드의 각 그리드는 상기 복수의 그리드에 인접한 또 다른 그리드로부터 미리 결정된 거리로 제공되는, 포토멀티플라이어.
  19. 제 17항에 있어서,
    상기 복수의 그리드는 그 사이에 복수의 증폭 스테이지를 갖는 복수의 횡 방향 그리드를 형성하고,
    멀티-스테이지 애벌란시 이득은 복수의 그리드 사이에 한정되고, 금속 전극으로부터 주입된 전하는 제거되는, 포토멀티플라이어.
  20. 제 17항에 있어서,
    상기 복수의 그리드는 하이-필드 영역을 생성하도록 편향되어, a-Se 내부의 필드 핫 스팟(hot spot)의 형성을 제거하고 하이-필드 금속-반도체 인터페이스로부터 주입된 전하를 제거하는 멀티-스테이지 애벌란시 ?득을 제공하는, 포토멀티플라이어.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA3010845C (en) 2016-01-07 2023-09-19 Amirhossein Goldan Selenium photomultiplier and method for fabrication thereof

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014015285A2 (en) * 2012-07-19 2014-01-23 The Research Foundation Field-shaping multi-well avalanche detector for direct conversion amorphous selenium
WO2014194071A1 (en) * 2013-05-29 2014-12-04 The Research Foundation For The State University Of New York Nano-electrode milti-well high-gain avalanche rushing photoconductor
WO2015058199A1 (en) * 2013-10-19 2015-04-23 Kla-Tencor Corporation Bias-variant photomultiiplier tube
KR20160134533A (ko) * 2015-05-14 2016-11-23 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 광전 변환 소자, 촬상 장치

Family Cites Families (65)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5023058B1 (ko) 1970-12-23 1975-08-05
JPS5250165U (ko) 1975-10-08 1977-04-09
US4586068A (en) 1983-10-07 1986-04-29 Rockwell International Corporation Solid state photomultiplier
JPS6159723U (ko) 1984-09-25 1986-04-22
US5146296A (en) 1987-12-03 1992-09-08 Xsirius Photonics, Inc. Devices for detecting and/or imaging single photoelectron
EP0592400B1 (en) 1990-11-08 1998-08-19 Xsirius Scientific Corporation Silicon avalanche photodiode array
US5475227A (en) 1992-12-17 1995-12-12 Intevac, Inc. Hybrid photomultiplier tube with ion deflector
US5326978A (en) 1992-12-17 1994-07-05 Intevac, Inc. Focused electron-bombarded detector
JPH07320681A (ja) 1993-07-14 1995-12-08 Intevac Inc 高感度ハイブリッド・フォトマルチプライア・チューブ
JP2945253B2 (ja) 1993-10-19 1999-09-06 シャープ株式会社 音声切替装置
WO1997029507A1 (en) 1996-02-12 1997-08-14 University Of Akron, The Multimedia detectors for medical imaging
US6204087B1 (en) 1997-02-07 2001-03-20 University Of Hawai'i Fabrication of three-dimensional architecture for solid state radiation detectors
US6011265A (en) 1997-10-22 2000-01-04 European Organization For Nuclear Research Radiation detector of very high performance
ES2277395T3 (es) 1997-10-22 2007-07-01 European Organization For Nuclear Research Detector de radiacion de rendimiento muy elevado y sensor de imagenes de rayos x libre de paralaje planisferico.
DE69911012T2 (de) 1998-06-11 2004-06-17 Petr Viscor Flacher elektronenemitter
FR2790100B1 (fr) 1999-02-24 2001-04-13 Commissariat Energie Atomique Detecteur bidimensionnel de rayonnements ionisants et procede de fabrication de ce detecteur
US6492657B1 (en) 2000-01-27 2002-12-10 Burle Technologies, Inc. Integrated semiconductor microchannel plate and planar diode electron flux amplifier and collector
FR2827966B1 (fr) 2001-07-26 2003-09-12 Commissariat Energie Atomique Detecteur de rayonnements ionisants, a lame solide de conversion des rayonnements, et procede de fabrication de ce detecteur
CA2396325C (en) 2001-09-06 2010-03-30 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Zn1-xmgxsyse1-y pin photodiode and zn1-xmgxsyse1-y avalanche-photodiode
US6828730B2 (en) 2002-11-27 2004-12-07 Board Of Trustees Of The University Of Illinois Microdischarge photodetectors
US7256402B1 (en) * 2004-04-15 2007-08-14 Denny Lee Flat panel X-ray imager with a grid structure
US7332726B2 (en) 2004-06-19 2008-02-19 Integrated Sensors, Llc Plasma panel based ionizing radiation detector
US7482667B2 (en) 2005-02-23 2009-01-27 Georgia Tech Research Corporation Edge viewing photodetecter
WO2007044068A2 (en) 2005-06-16 2007-04-19 Integrated Sensors, Llc Plasma panel based ionizing-photon radiation detector
JP4819437B2 (ja) * 2005-08-12 2011-11-24 浜松ホトニクス株式会社 光電子増倍管
CN101379615B (zh) 2006-02-01 2013-06-12 皇家飞利浦电子股份有限公司 盖革式雪崩光电二极管
WO2007098493A2 (en) 2006-02-22 2007-08-30 The Regents Of The University Of California Large-area flat-panel photon detector with hemispherical pixels and full area coverage
US8173519B2 (en) * 2006-03-03 2012-05-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing semiconductor device
CN101405618A (zh) * 2006-04-04 2009-04-08 株式会社岛津制作所 放射线检测器
US7928317B2 (en) 2006-06-05 2011-04-19 Translucent, Inc. Thin film solar cell
US7683340B2 (en) 2006-10-28 2010-03-23 Integrated Sensors, Llc Plasma panel based radiation detector
GB2447054B (en) 2007-02-27 2011-05-18 Toshiba Res Europ Ltd A photon detector
WO2008140627A1 (en) 2007-04-18 2008-11-20 Translucent Photonics, Inc. Thin film solar cell
KR20100015849A (ko) * 2007-04-26 2010-02-12 파나소닉 주식회사 Ｘ선 촬상 디바이스 및 ｘ선 촬영 장치
US7652257B2 (en) 2007-06-15 2010-01-26 General Electric Company Structure of a solid state photomultiplier
JP5102580B2 (ja) 2007-10-18 2012-12-19 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線応用装置
WO2009090570A2 (en) 2008-01-15 2009-07-23 Koninklijke Philips Electronics N.V. Solid state radiation detector elements magnetic hard silicon photomultipliers
ITTO20080045A1 (it) 2008-01-18 2009-07-19 St Microelectronics Srl Schiera di fotodiodi operanti in modalita' geiger reciprocamente isolati e relativo procedimento di fabbricazione
US20100108893A1 (en) 2008-11-04 2010-05-06 Array Optronix, Inc. Devices and Methods for Ultra Thin Photodiode Arrays on Bonded Supports
IT1392366B1 (it) 2008-12-17 2012-02-28 St Microelectronics Rousset Fotodiodo operante in modalita' geiger con resistore di soppressione integrato e controllabile, schiera di fotodiodi e relativo procedimento di fabbricazione
CA2759820C (en) * 2009-04-23 2017-08-08 Amirhossein Goldan Method and apparatus for a lateral radiation detector
US8669533B2 (en) 2009-10-01 2014-03-11 Vladimir Bashkirov Ion induced impact ionization detector and uses thereof
KR101127982B1 (ko) 2010-05-28 2012-03-29 한국과학기술원 배면 입사 구조를 갖는 실리콘 광전자증배관, 그 제조방법 및 이를 이용한 방사선 검출기
GB201014843D0 (en) 2010-09-08 2010-10-20 Univ Edinburgh Single photon avalanche diode for CMOS circuits
WO2012034178A1 (en) 2010-09-17 2012-03-22 University Of Wollongong Radiation detector method and apparatus
KR101711087B1 (ko) 2010-12-07 2017-02-28 한국전자통신연구원 실리콘 포토멀티플라이어 및 그 제조 방법
KR101648023B1 (ko) 2010-12-21 2016-08-12 한국전자통신연구원 트렌치 분리형 실리콘 포토멀티플라이어
EP2518755B1 (en) 2011-04-26 2014-10-15 FEI Company In-column detector for particle-optical column
DE102011052738A1 (de) 2011-08-16 2013-02-21 Leica Microsystems Cms Gmbh Detektorvorrichtung
US8975715B2 (en) 2011-09-14 2015-03-10 Infineon Technologies Ag Photodetector and method for manufacturing the same
US8872159B2 (en) 2011-09-29 2014-10-28 The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy Graphene on semiconductor detector
US10197501B2 (en) 2011-12-12 2019-02-05 Kla-Tencor Corporation Electron-bombarded charge-coupled device and inspection systems using EBCCD detectors
DE102012214690B4 (de) 2012-08-17 2015-12-17 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Hybrider Detektor zum Detektieren elektromagnetischer Strahlung und Verfahren zu seiner Herstellung
JP5925711B2 (ja) 2013-02-20 2016-05-25 浜松ホトニクス株式会社 検出器、ｐｅｔ装置及びｘ線ｃｔ装置
EP2987186B1 (en) 2013-04-19 2020-07-01 Lightspin Technologies, Inc. Integrated avalanche photodiode arrays
US10748730B2 (en) 2015-05-21 2020-08-18 Kla-Tencor Corporation Photocathode including field emitter array on a silicon substrate with boron layer
US10422888B1 (en) 2015-07-17 2019-09-24 Triad National Security, Llc Scintillation detectors
FR3041817B1 (fr) 2015-09-30 2017-10-13 Commissariat Energie Atomique Photodiode de type spad
KR102255739B1 (ko) 2016-01-07 2021-05-27 더 리서치 파운데이션 포 더 스테이트 유니버시티 오브 뉴욕 멀티-웰 셀레늄 장치 및 이의 제조방법
CA3010845C (en) 2016-01-07 2023-09-19 Amirhossein Goldan Selenium photomultiplier and method for fabrication thereof
US10177267B2 (en) 2017-03-03 2019-01-08 Bolb Inc. Photodetector
US10624593B2 (en) 2017-10-04 2020-04-21 General Electric Company Systems for a photomultiplier
US10854768B2 (en) 2018-12-20 2020-12-01 Hewlett Packard Enterprise Development Lp Optoelectronic component with current deflected to high-gain paths comprising an avalanche photodiode having an absorbing region on a p-doped lateral boundary, an n-doped lateral boundary and an amplifying region
US10797194B2 (en) 2019-02-22 2020-10-06 Hewlett Packard Enterprise Development Lp Three-terminal optoelectronic component with improved matching of electric field and photocurrent density
EP4141939A4 (en) 2020-04-24 2023-10-11 Sony Semiconductor Solutions Corporation LIGHT DETECTOR AND ELECTRONIC INSTRUMENT

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014015285A2 (en) * 2012-07-19 2014-01-23 The Research Foundation Field-shaping multi-well avalanche detector for direct conversion amorphous selenium
US20150171232A1 (en) * 2012-07-19 2015-06-18 The Research Foundation For The State University Of New York Field-shaping multi-well avalanche detector for direct conversion amorphous selenium
WO2014194071A1 (en) * 2013-05-29 2014-12-04 The Research Foundation For The State University Of New York Nano-electrode milti-well high-gain avalanche rushing photoconductor
WO2015058199A1 (en) * 2013-10-19 2015-04-23 Kla-Tencor Corporation Bias-variant photomultiiplier tube
KR20160134533A (ko) * 2015-05-14 2016-11-23 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 광전 변환 소자, 촬상 장치

Non-Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
A. Reznik. Applications of avalanche multiplication in amorphous selenium to flat panel detectors for medical applications, 2009 공개 *
James R Scheuermann 외 3명. Development of solid-state avalanche amorphous selenium for medical imaging, 2015 공개 *
M. M. Wronski. A solid-state amorphous selenium avalanche technology for low photon flux imaging applications. 2010 공개 *
Oleksandr Bubon 외. Electroded avalanche amorphous selenium (a-Se) photosensor, 2012. 5. 공개 *
Salman M.Arbab. A Novel Amorphous Selenium Avalanche Detector Structure for Low Dose Medical X-Ray Imaging, 2019. 8. 공개 *

Also Published As

Publication number Publication date
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