KR20180082304A - 코팅유리 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 유리 기판; 상기 유리 기판 상에 순차적으로 형성된 제 1 유전체층, 제 1 기능성 전도 금속층, 제 2 유전체층, 제 2 기능성 전도 금속층, 제 3 유전체층, 제 3 기능성 전도 금속층 및 제 4 유전체층을 포함하는 코팅유리 및 그 제조방법을 제공한다.
Description
본 발명은 코팅유리 및 그 제조방법에 관한 것이다.
유리에 대한 투명 발열 코팅 기술은 겨울철과 같이 실내 및 실외 온도 차이에 의한 김서림 및 외축 유리의 결빙으로 인한 시인성 확보의 어려움으로부터 발생하는 사고 문제를 해결하기 위해 사용되고 있다.
상대적으로 큰 유리를 가열하기 위하여는 예를 들어 1 Ω/sq 이하의 더욱 낮은 면 저항이 요구된다. 이는 통상적으로 3 개의 은 층을 갖는 코팅유리의 개별 은 층의 두께를 증가시킴으로써 달성할 수 있다. 그러나, 은 층의 두께 증가는 가시광 투과율 저하 또는 비용 상승을 초래할 수 있다[대한민국 공개특허 제10-2014-0099548호 참조].
이에, 은 층과 같은 기능성 전도 금속층의 전체 두께가 일정 수준으로 확보되면서도 가시광 투과율의 저하가 최소화될 수 있어 건축용 또는 자동차용 창유리 등의 다양한 용도의 코팅유리로 실용화하기에 적합한 낮은 저항 및 높은 가시광 투과율을 가지는 코팅유리의 개발이 요구되고 있다.
본 발명은 은 층과 같은 기능성 전도 금속층의 전체 두께가 일정 수준으로 확보되면서도 가시광 투과율의 저하가 최소화될 수 있어 건축용 또는 자동차용 창유리 등의 다양한 용도의 코팅유리로 실용화하기에 적합한 낮은 저항 및 높은 가시광 투과율을 가지는 코팅유리를 제공한다.
한편으로, 본 발명은 유리 기판, 상기 유리 기판 상에 순차적으로 형성된 제 1 유전체층, 제 1 기능성 전도 금속층, 제 2 유전체층, 제 2 기능성 전도 금속층, 제 3 유전체층, 제 3 기능성 전도 금속층 및 제 4 유전체층을 포함하고, 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층의 전체 두께에 대한 제 1 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 25 내지 30%이며, 상기 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께에 대한 상기 제 2 및 3 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 각각 35 내지 37.5%이고, 상기 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께는 34 내지 40nm이며, 상기 제 1 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제 4 유전체층의 광학적 두께 비는 0.9 내지 1.2이며, 상기 제 2 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제 3 유전체층의 광학적 두께 비는 1.0 내지 1.2인, 코팅유리를 제공할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 코팅유리는 열처리 가능한 것일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 코팅유리는 가시광 투과율이 72% 이상일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 코팅유리는 면 저항이 1.0 Ω/sq 이하일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 코팅유리는 상기 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층 중 적어도 하나의 상부에 위치하는 기능성 흡수 금속 보호층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기 제 1, 2, 3 및 제 4 유전체층 중 적어도 하나는 각각, Si계 질화물 또는 Ti계 산화물을 포함하는 메인 유전체층 및 Zn계 산화물을 포함하는 적어도 하나의 서브 유전체층을 포함할 수 있다.
다른 한편으로, 본 발명은 유리 기판을 제공하는 단계, 상기 유리 기판 상에 순차적으로 제 1 유전체층, 제 1 기능성 전도 금속층, 제 2 유전체층, 제 2 기능성 전도 금속층, 제 3 유전체층, 제 3 기능성 전도 금속층 및 제 4 유전체층을 형성하는 단계를 포함하고, 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층의 전체 두께에 대한 제 1 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 25 내지 30%이며, 상기 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께에 대한 상기 제 2 및 3 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 각각 35 내지 37.5%이고, 상기 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께는 34 내지 40nm이며, 상기 제 1 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제 4 유전체층의 광학적 두께 비는 0.9 내지 1.2이고, 상기 제 2 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제 3 유전체층의 광학적 두께 비는 1.0 내지 1.2이며, 상기 각 층들의 형성은 스퍼터링 증착에 의해 수행되는, 코팅유리의 제조방법을 제공한다.
본 발명은 은 층과 같은 기능성 전도 금속층의 전체 두께가 일정 수준으로 확보되면서도 가시광 투과율의 저하가 최소화될 수 있어 건축용 또는 자동차용 창유리 등의 다양한 용도의 코팅유리로 실용화하기에 적합한 낮은 저항 및 높은 가시광 투과율을 가지는 코팅유리를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 코팅유리의 관통도이다.
도 2은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 코팅유리의 관통도이다.
도 2은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 코팅유리의 관통도이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 코팅유리의 관통도이다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 코팅유리(1)는 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13) 및 제 1, 2, 3 및 4 유전체층(3, 7, 11 및 15)를 포함할 수 있고, 상술된 각각의 기능성 전도 금속층들의 물리적 두께 비율이 특정 비율을 갖고 각각의 유전체층들 간의 광학적 두께 비가 특정 비를 갖는 것을 특징으로 하는 코팅유리일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 따른 코팅유리는 가시광 투과율이 72% 이상이고, 면 저항이 1.0 Ω/sq 이하일 수 있다. 특히, 본 발명의 일 실시형태에 따른 코팅유리는 380 내지 780nm의 D65광 표준 광원 하에서 가시광 투과율이 72% 이상이고, 면 저항이 1.0 Ω/sq 이하일 수 있다.
유리 기판(2)은 건축용 혹은 자동차용으로 사용되는 통상의 유리, 예를 들어 소다라임 유리가 사용될 수 있다. 또한 사용목적에 따라 2 내지 12mm의 두께를 갖는 유리를 사용할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
코팅유리(1)는 유리 기판(2) 상에 순차적으로 제 1 유전체층(3), 제 1 기능성 전도 금속층(5), 제 2 유전체층(7), 제 2 기능성 전도 금속층(9), 제 3 유전체층(11), 제 3 기능성 전도 금속층(13) 및 제4 유전체층(15)이 코팅된 유리일 수 있다.
코팅유리(1)는 유전체층 사이에 각각 코팅되며, 태양광 가시광선을 선택적으로 투과시키며 투과율 대비 높은 전도성을 제공하는 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)을 포함할 수 있다. 상기 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층은 Ag, Au, Cu 및 이들의 조합으로부터 선택되는 재료로 이루어질 수 있으며, 바람직하게는 상기 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층 중 적어도 하나는 Ag를 포함할 수 있다. Ag는 가시광선 영역에서의 높은 투과율 및 우수한 전도성에 가장 잘 부합한다.
제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층은 가시광선 투과 및 전기 전도성을 가지고, 전체 물리적 두께는 바람직하게 합이 34 내지 40nm일 수 있다.
제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 전체 물리적 두께에 대한 제 1 기능성 전도 금속층(5)의 물리적 두께 비율이 25 내지 30%일 수 있다. 또한, 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 전체 물리적 두께에 대한 제 2 및 3 기능성 전도 금속층(9 및 13)의 물리적 두께 비율은 각각 35 내지 37.5%일 수 있다.
제 1 유전체층(3)의 광학적 두께에 대한 제 4 유전체층(15)의 광학적 두께 비는 0.9 내지 1.2일 수 있고, 제 2 유전체층(7)의 광학적 두께에 대한 제3 유전체층(11)의 광학적 두께 비는 1.0 내지 1.2일 수 있다. 이 경우, 제3 유전체층(11)의 광학적 두께가 제 2 유전체층(7)의 광학적 두께 보다 두꺼울 수 있다. 이러한 유전체층들 간의 두께 비 범위 내에서 열처리 후 낮은 면 저항(전기 전도성)과 높은 가시광 투과율을 나타낼 수 있다.
예를 들어, 제 1 유전체층(3) 및 제 4 유전체층(15)은 코팅유리(1)의 하부 및 상부에 위치하며, 제 1 및 제 4 유전체층의 각각의 광학적 두께는 38 내지 100nm, 예를 들어, 59 내지 96nm의 범위이고, 이들의 전체 두께는 76 내지 200 nm일 수 있다. 또한, 제 1 유전체층(3)과 제 4 유전체층(15) 사이에 제 2, 3 유전체층(7 및 11)이 위치하며, 상기 제 2, 3 유전체층(7 및 11)의 각각의 광학적 두께는 80 내지 200nm, 예를 들어, 148 내지 192nm이고, 이들의 전체 두께는 160 내지 400 nm일 수 있다.
본 발명에서 사용되는 용어 "광학적 두께"는 "해당 층의 물리적 두께 × 해당 층에 사용된 물질의 굴절률"로 얻어지는 두께이다. 유전체층에 사용된 물질에 따라 굴절률이 상이하고, 이에 따라 상기 광학적 두께 범위를 만족하기 위하여 유전체층에 사용된 물질에 따라 유전체층의 물리적 두께가 조절된다. 예를 들어, SiNx(1.0≤x≤1.5)의 굴절률은 1.99이고, TiOx(0<x≤2.5)의 굴절률은 2.43이다.
도 2은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 코팅유리의 관통도이다. 도 2를 참조하면, 본 발명의 코팅유리(1)는 제1, 2 및 3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)과 제1, 2, 3 및 4 유전체층(3, 7, 11 및 15) 외에, 다른 코팅층을 더 포함할 수 있으며, 본 발명의 기재에 한정되지 않는다.
구체적으로, 본 발명의 코팅유리(1)는 유리 기판(2) 상에 메인 유전체층(3.1, 7.1, 11.1 및 15.1), 서브 유전체층(3.2, 7.2, 7.3, 11.2, 11.3 및 15.2), 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13), 기능성 흡수 금속 보호층(6, 10 및 14, 및 최상부보호층(미기재)이 코팅된 것일 수 있다.
제 1, 2, 3 및 4 유전체층은 각각 Si계 질화물 또는 Ti계 산화물을 포함하는 메인 유전체층(3.1, 7.1, 11.1 및 15.1) 및 Zn계 산화물을 포함하는 하나 이상의 서브 유전체층(3.2, 7.2, 7.3, 11.2, 11.3 및 15.2)을 포함할 수 있다. 이 경우, 메인 유전체층은 서브 유전체층보다 두께가 두꺼울 수 있다. 본 발명에서는 제 1 유전체층에 포함된 메인 유전체층과 서브 유전체층을 각각 제 1 메인 유전체층과 제 1 서브 유전체층으로 기재한다.
제 1 내지 4 메인 유전체층(3.1, 7.1, 11.1 및 15.1)은 강화 및 굽힘 등을 위한 열처리 시에 하부 소다라임 유리에서 확산되어 넘어오는 Na+을 차단하고, 기능성 전도 금속층으로 전달되는 산소 또는 이온을 차단할 수 있다.
상기 Si계 질화물은 추가로 Zr, Sn, Nb, Al, Sb, Mo, Cr, Ti 및 Ni으로부터 선택된 하나 이상의 원소가 더 포함될 수 있다. 예를 들어, 상기 Si계 질화물은 Al이 함유된 Si계 질화물일 수 있다. 또한, 상기 Ti계 산화물은 추가로 Sn, Nb, Al, Sb, Mo, Cr 및 Ni으로부터 선택된 하나 이상의 원소가 더 포함될 수 있다.
코팅유리(1)는 제 1 메인 유전체층(3.1)의 상부, 제 2 메인 유전체층(7.1)의 상부과 하부, 제 3 메인 유전체층(11.1)의 상부과 하부 및 제 4 메인 유전체층(15.1)의 하부에 위치하며, Zn계 산화물을 포함하는 제 1 내지 제 6 서브 유전체층(3.2, 7.2, 7.3, 11.2, 11.3 및 15.2)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 내지 제 6 서브 유전체층은 Sn, Nb, Al, Sb, Mo, Cr, Ti 및 Ni 중 선택된 적어도 하나의 원소가 더 함유된 Zn계 산화물, 예를 들어, Al이 함유된 Zn계 산화물을 포함할 수 있다.
각 서브 유전체층은 기능성 전도 금속층의 상, 하부에 증착되어 기능성 전도 금속층의 결정화가 잘 이루어질 수 있도록 유도하는 역할을 수행하며, 또한 기능성 전도 금속층이 열처리될 경우 열처리된 기능성 전도 금속층의 상하부에 위치하는 유전체층으로 산소 가스가 확산되는 것을 방지하고, 뭉침과 같은 광학적 결함이 발생하는 것을 억제할 수 있다.
제 1 메인 유전체층(3.1)의 상부에 제 1 서브 유전체층(3.2)이 위치하고, 제 2 메인 유전체층(7.1)의 상부 및 하부에 각각 제 2 서브 유전체층(7.2) 및 제 3 서브 유전체층(7.3)이 위치하며, 제 3 메인 유전체층(11.1)의 상부 및 하부에 각각 제 4 및 5 서브 유전체층(11.2 및 11.3)이 위치하며, 제 4 메인 유전체층(15.1)의 하부에 제 6 서브 유전체층(15.2)이 위치 할 수 있다. 특별히 한정하지 않으나 각 서브 유전체층의 각각의 물리적 두께는 5 내지 20 nm 일 수 있다. 상술된 두께가 상기 범위를 벗어나는 경우 기능성 전도 금속층의 결정화가 잘 이루어지지 않을 수 있다.
코팅유리(1)는 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층(5, 9 및 13)의 각 상부에 위치하며, Ni, Cr, Ni-Cr 합금 및 NiCrNx 중 적어도 하나, 예를 들어, Ni-Cr 합금을 포함하는 제 1 내지 제3 기능성 흡수 금속 보호층(6, 10 및 14)을 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 x는 0.1 내지 10일 수 있다. 각 기능성 흡수 금속 보호층의 각각의 물리적 두께는 0.1 내지 5nm일 수 있다.
기능성 흡수 금속 보호층(6, 10 및 14)은 강화 및 굽힘 등을 위한 열처리 시에 공기 중의 O2의 이동을 방해하는 장벽 역할과 기능성 전도 금속층이 높은 열처리 조건에서도 안정적인 거동이 가능하도록 도울 수 있다.
코팅유리(1)의 제 4 유전체층(15)의 상부에 위치하며, TiOxNy(0 <x ≤ 2.5, 0 < y ≤ 0.6, 단, y/x<1)를 포함하는 최상부보호층(미도시)을 포함할 수 있다. 최상부 보호층은 TiOx(0<x≤2.5) 세라믹 재료를 사용한 TiOxNy를 포함하며, 여기서 0 <x ≤ 2.5이고, 0 < y ≤ 0.6이며, y/x<1이고, 예를 들어, x : y는, x 와 y의 합 100몰%를 기준으로, 100몰% : 0몰% 내지 75몰% : 25몰%일 수 있다.
최상부보호층은 표면 거칠기를 감소시켜며 내스크래치성을 증대시키고, 코팅유리(1)의 기계적 및 화학적 내구성을 증대시킬 수 있다. 최상부보호층의 물리적 두께는 2 내지 15nm, 바람직하게, 2 내지 9nm일 수 있다. 최상부보호층의 두께가 2nm 미만이면 내구성이 저하될 우려가 있고, 15nm를 초과하면 투과율이 저하되거나 흐림을 발생시키는 원인이 될 수 있다.
본 발명의 코팅유리(1)는 각 코팅막을 적층 형성하기 위한 박막 형성 방법으로서 진공 스퍼터링 방식을 이용하여 제조될 수 있다.
즉, 본 발명의 다른 측면에 따르면, 유리 기판을 제공하는 단계; 유리 기판 상에 순차적으로 제 1 유전체층, 제 1 기능성 전도 금속층, 제 2 유전체층, 제 2 기능성 전도 금속층, 제 3 유전체층, 제 3 기능성 전도 금속층 및 제 4 유전체층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 각 층들의 형성이 스퍼터링 증착에 의해 수행되는, 코팅유리의 제조방법이 제공된다.
이에 한정되는 것은 아니나, 본 발명의 구체 예에 따르면 본 발명의 코팅유리는 다음과 같은 절차에 의하여 제조될 수 있다. 먼저, 유리 기판을 진공 챔버 내에 넣고 진공도가 5 × 10-7 내지 9 × 10-6 torr가 될 때까지 배기하여 진공을 형성시킬 수 있다. 이후 진공 챔버 내에 아르곤(Ar), 산소(O2), 질소(N2) 가스 등을 주입한 뒤 2개의 전극 간에 직류 또는 교류 전압을 가하면 방전이 일어나게 되고, 기체의 플라즈마가 생김에 따라 기판상에 적층시키고자 하는 금속 타겟이 설치된 음극에 기체 이온이 충돌하면서 금속 타겟으로부터 원자가 방출되어 기판상에 적층될 수 있다. 적층하고자 하는 코팅막의 종류에 따라 적절한 기체를 도입하고, 각 코팅막의 증착속도 및 스퍼터링 공정에 노출되는 시간을 적절히 조절하여 성막하고자 하는 코팅막의 두께를 적절히 제어할 수 있다. 이때, 기판의 온도에는 특별한 제한이 없다.
본 발명의 코팅유리는 관형 마그네트론(Magnetron) 스퍼터 코팅기를 사용하여 기능성 층들을 유리 기판 위에 순차적으로 코팅함으로써 제조될 수 있다. 아르곤과 질소를 사용하여 질화막을 코팅할 경우, SiAl 메탈 타겟을 사용하며 혼합 기체 내 질소의 비율은 45 내지 60부피%인 것이 적당할 수 있다. 질소의 비율이 너무 높으면 막의 증착 속도가 저하되며, 너무 낮으면 흡수율(Extinction Coefficient)이 높아져 높은 투과율을 구현할 수 없게 될 수 있다. 아르곤과 산소를 사용하여 산화막을 코팅할 경우, ZnAl 메탈 타겟을 사용하여 혼합기체 내 산소의 비율은 80 내지 90부피% 혹은 ZnAlOx 세라믹 타겟을 사용하여 혼합 기체 내 산소의 비율은 5 내지 20부피%인 것이 적당할 수 있다. 산소의 비율이 너무 높으면 코팅 과정 중 기능성 전도 금속층(예: Ag 층)이 산화될 수 있으며, 산소 비율이 너무 낮으면 부분 산화 막이 아닌, 금속 막으로 코팅될 수도 있다.
본 발명의 일 실시형태에서, 상기와 같이 제조된 코팅유리는 열처리될 수 있다.
상기 열처리는 650 내지 750℃의 온도에서 10 내지 20분 동안 수행할 수 있다.
이하, 실시예 및 비교예를 통해 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명의 범위는 이들 실시예로 한정되지 않는다.
실시예
1 내지 5 및
비교예
1 내지 3: 코팅유리의 제조
스퍼터 코팅기를 사용하여, 2.1 mm 두께의 유리 기판 상에 하기 표 1에 나타낸 조성 및 두께를 갖는 층들을 형성시켜 코팅유리를 제조하였다. 이때, SiNx에서 x는 1.0 내지 1.5이고, ZnOx에서 x는 1.5 내지 2.0이며, TiOxNy에서 x는 0 <x ≤ 2.5이고 y는 0 < y ≤ 0.6이었다. 실시예 1 내지 5에 따라 제조된 코팅유리는 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께에 대한 제 1 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 25 내지 30%이고, 상기 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께에 대한 상기 제 2 및 3 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 각각 35 내지 37.5%이며, 상기 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께는 34 내지 40nm이며, 상기 제 1 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제 4 유전체층의 두께 광학적 비는 0.9 내지 1.2이고, 상기 제 2 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제 3 유전체층의 광학적 두께 비는 1.0 내지 1.2인 코팅막 구조를 갖고 있다.
반면, 비교예 1 및 2에 따라 제조된 코팅유리는 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율이 상기 범위를 벗어났으며, 비교예 3에 따라 제조된 코팅유리는 유전체층의 광학적 두께 비가 상기 범위를 벗어났다.
막 종류(막 두께: nm) | |
실시예 1 | Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3) |
실시예 2 | Glass/TiOx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/TiOx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/TiOx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/TiOx(68.8)/TiOxNy(3) |
비교예 1 | Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(10.2)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(10.2)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(14)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3) |
비교예 2 | Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(13.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(7.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(13.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3) |
비교예 3 | Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(100.0)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3) |
실시예 3 | Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/TiOx(68.8)/TiOxNy(3) |
실시예 4 | Glass/SiNx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/ TiOx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3) |
실시예 5 | Glass/TiOx(63.8)/ZnOx(7)/Ag(9.6)/NiCr(0.2)/ZnOx(7)/SiNx(151.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.2)/ ZnOx(7)/SiNx(159.5)/ZnOx(7)/Ag(12.4)/NiCr(0.36)/ZnOx(7)/SiNx(68.8)/TiOxNy(3) |
실험예
1: 열처리 후 가시광 투과율 및 면 저항 측정
상기 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 3에 따라 제조된 코팅유리의 열처리 후 면 저항 및 가시광 투과율을 각각 하기와 같이 측정하여, 그 결과를 하기 표 2 에 나타내었다.
상기 열처리는 700℃의 온도에서 15분 동안 수행하였다.
가시광 투과율은 380 내지 780nm의 D65광 표준 광원으로 KS L 2514에 따라 측정하였다.
면 저항은 상온에서 비접촉 면 저항 측정기(717B, Delcom 사)로 측정하였다.
가시광 투과율(%) | 면 저항(Ω/sq) | |
실시예 1 | 74.9 | 0.96 |
실시예 2 | 79.3 | 0.98 |
비교예 1 | 71.8 | 0.97 |
비교예 2 | 61.4 | 0.98 |
비교예 3 | 66.3 | 0.99 |
실시예 3 | 74.2 | 0.97 |
실시예 4 | 76.0 | 0.96 |
실시예 5 | 75.7 | 0.98 |
상기 표 2의 결과로부터 알 수 있듯이, 실시예 1 내지 5의 코팅유리는 비교예 1 내지 3의 코팅유리에 비하여 동일 면저항 대비 더욱 높은 가시광선 투과율(D65광)을 나타내는 것을 확인할 수 있었다.
1: 코팅유리
2: 유리 기판
3: 제 1 유전체층
3.1: 제 1 메인 유전체층
3.2: 제 1 서브 유전체층
5: 제 1 기능성 전도 금속층
6: 제 1 기능성 흡수 금속 보호층
7: 제 2 유전체층
7.1: 제 2 메인 유전체층
7.2: 제 2 서브 유전체층
7.3: 제 3 서브 유전체층
9: 제 2 기능성 전도 금속층
10: 제 2 기능성 흡수 금속 보호층
11: 제 3 유전체층
11.1: 제 3 메인 유전체층
11.2: 제 4 서브 유전체층
11.3: 제 5 서브 유전체층
13: 제 3 기능성 전도 금속층
14: 제 3 기능성 흡수 금속 보호층
15: 제 4 유전체층
15.1: 제 4 메인 유전체층
15.2: 제 6 서브 유전체층
2: 유리 기판
3: 제 1 유전체층
3.1: 제 1 메인 유전체층
3.2: 제 1 서브 유전체층
5: 제 1 기능성 전도 금속층
6: 제 1 기능성 흡수 금속 보호층
7: 제 2 유전체층
7.1: 제 2 메인 유전체층
7.2: 제 2 서브 유전체층
7.3: 제 3 서브 유전체층
9: 제 2 기능성 전도 금속층
10: 제 2 기능성 흡수 금속 보호층
11: 제 3 유전체층
11.1: 제 3 메인 유전체층
11.2: 제 4 서브 유전체층
11.3: 제 5 서브 유전체층
13: 제 3 기능성 전도 금속층
14: 제 3 기능성 흡수 금속 보호층
15: 제 4 유전체층
15.1: 제 4 메인 유전체층
15.2: 제 6 서브 유전체층
Claims (1)
- 유리 기판, 상기 유리 기판 상에 순차적으로 형성된 제 1 유전체층, 제 1 기능성 전도 금속층, 제 2 유전체층, 제 2 기능성 전도 금속층, 제 3 유전체층, 제 3 기능성 전도 금속층 및 제 4 유전체층을 포함하고,
제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층의 전체 두께에 대한 제 1 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 25 내지 30%이며, 상기 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께에 대한 상기 제 2 및 3 기능성 전도 금속층의 물리적 두께 비율은 각각 35 내지 37.5%이고, 상기 제 1, 2 및 3 기능성 전도 금속층의 전체 물리적 두께는 34 내지 40nm이며,
상기 제 1 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제 4 유전체층의 광학적 두께 비는 0.9 내지 1.2이며, 상기 제 2 유전체층의 광학적 두께에 대한 상기 제 3 유전체층의 광학적 두께 비는 1.0 내지 1.2인, 코팅유리.
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