KR20180067588A - Liquid crystal display device and manufacturing method of liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device and manufacturing method of liquid crystal display device Download PDF

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Abstract

본 발명은, 시인 측에 컬러 필터를 마련한 경우이더라도 우수한 평탄성을 유지하고, 또한 고온 고습하에 노출된 경우에도 표시 성능이 양호한 액정 표시 장치 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다. 본 발명의 액정 표시 장치는, 시인 측으로부터, 제1 기판과, 액정층과, 제2 기판을 이 순서로 갖는 액정 표시 장치로서, 제1 기판이, 기재와, 배향 보호층을 구비하고, 제2 기판이, 기재와, 박막 트랜지스터와, 표시 전극과, 배향막을 구비하며, 배향 보호층이 액정층과 접하는 면을 갖고, 배향 보호층이 공유 결합을 통하여 서로 연결된 배향성기 및 가교 구조를 가지며, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석법으로 검출되는 배향성기에서 유래하는 프래그먼트에 대하여, 배향 보호층의 액정층에 접하는 면에 있어서의 프래그먼트의 강도 ELq와, 배향 보호층의 기재 측의 면에 있어서의 프래그먼트의 강도 ESub가 소정의 관계를 충족시키고, 가교 구조가 소정의 구조식으로 나타나는, 액정 표시 장치이다.An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device which maintains excellent flatness even in the case where a color filter is provided on the visual side and display performance is good even when exposed under high temperature and high humidity, and a manufacturing method thereof. A liquid crystal display device according to the present invention is a liquid crystal display device having a first substrate, a liquid crystal layer and a second substrate in this order from a viewer side, wherein the first substrate comprises a substrate and an orientation protection layer, 2 substrate comprises a substrate, a thin film transistor, a display electrode, and an alignment film, wherein the alignment protection layer has a surface in contact with the liquid crystal layer, the alignment protection layer has an aligning group and a cross- The fragments derived from the orienting group detected by the time-of-flight secondary ion mass spectrometry were measured for the intensity ELq of the fragments on the surface of the orientation-sensitive protective layer in contact with the liquid crystal layer and the fragments And the cross-linking structure is expressed by a predetermined structural formula.

Description

액정 표시 장치 및 액정 표시 장치의 제조 방법Liquid crystal display device and manufacturing method of liquid crystal display device

본 발명은, 액정 표시 장치 및 액정 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method of the liquid crystal display device.

액정 표시 장치(liquid crystal display: LCD)는, 저전압 및 저소비 전력으로 소형화 및 박막화가 가능한 등 다양한 이점에서 퍼스널 컴퓨터나 스마트폰 등의 모니터, 텔레비전 용도로 널리 이용되고 있다.BACKGROUND ART [0002] Liquid crystal displays (LCDs) are widely used for monitors and televisions in personal computers, smart phones, and the like in various advantages such as miniaturization and thinning with low voltage and low power consumption.

이와 같은 액정 표시 장치는, 액정 셀 및 액정 셀의 양측에 배치된 2매의 편광판을 갖고 있고, 또 액정 셀은, 액정층과 액정층을 사이에 두고 서로 대향하여 배치되는 2매의 기판을 갖고 있으며, 이 2매의 기판에는, 일반적으로 액정층을 구성하는 액정을 배향시키기 위하여 배향막이 마련되어 있다.Such a liquid crystal display device has two liquid crystal cells and two polarizing plates arranged on both sides of the liquid crystal cell and the liquid crystal cell has two substrates arranged so as to face each other with the liquid crystal layer and the liquid crystal layer interposed therebetween In these two substrates, an alignment film is generally provided to align the liquid crystal constituting the liquid crystal layer.

이와 같은 배향막을 형성하는 재료로서 예를 들면, 특허문헌 1에는, "제1 성분으로서 실리콘기 또는 불소 치환 알킬기 및 광배향성기를 갖는 폴리머와, 제2 성분으로서 메타크릴산 및 메타크릴산 에스터로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 단량체를 중합하여 얻어지는 비광배향성 폴리머를 함유하는 광배향성 고분자 조성물."이 기재되어 있다([청구항 1] [청구항 28]).As a material for forming such an alignment film, for example, Patent Document 1 discloses a method for producing a liquid crystal display device which comprises a step of forming a liquid crystal layer comprising a polymer having a silicone group or a fluorine-substituted alkyl group and a photo-orientable group as a first component and a polymer comprising a methacrylic acid and a methacrylic acid ester A photo-orientable polymer composition comprising a non-light-orienting polymer obtained by polymerizing a monomer containing at least one member selected from the group consisting of the following [1] to [28].

특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2013-177561호Patent Document 1: JP-A-2013-177561

그런데, 액정 표시 장치에는, 시인 측에 컬러 필터를 마련하는 것이 일반적이고, 또 이 컬러 필터에는, 컬러 필터로부터의 불순물의 투과를 방지하는 관점이나 컬러 필터의 단차를 평탄화시키는 관점에서, 보호층(오버코트층)을 마련하는 것이 알려져 있다.However, in the liquid crystal display device, it is common to provide a color filter on the viewer side. From the viewpoints of preventing the penetration of impurities from the color filter and planarizing the step of the color filter, An overcoat layer) is provided.

여기에서, 본 발명자들은, 시인 측에 컬러 필터를 마련한 경우에 보호층이 불필요해지는 배향막, 즉, 보호층과 배향막의 기능을 갖는 배향 보호층을 마련하는 것을 검토했다.Here, the present inventors have studied to provide an orientation film in which a protective layer is unnecessary when a color filter is provided on the visual side, that is, an orientation protection layer having a function of a protective layer and an orientation film.

또, 본 발명자들은, 이와 같은 배향 보호층으로서, 특허문헌 1에 기재된 배향막을 검토한바, 광배향성 고분자 조성물의 배합제에 따라서는 평탄성이 뒤떨어지는 경우가 있고, 또 액정 표시 장치가 고온 고습하에 노출된 경우에는 표시 성능이 뒤떨어지는 문제점이 있는 것을 밝혔다.The inventors of the present invention have studied the alignment film described in Patent Document 1 as such an alignment protection layer and found that the flatness may be inferior depending on the compounding agent of the photo-orientable polymer composition and that the liquid crystal display device is exposed to high temperature and high humidity The display performance is inferior.

따라서, 본 발명은, 시인 측에 컬러 필터를 마련한 경우이더라도 우수한 평탄성을 유지하고, 또한 고온 고습하에 노출된 경우에도 표시 성능이 양호한 액정 표시 장치 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device which maintains excellent flatness even when a color filter is provided on the visual side, and has good display performance even when exposed under high temperature and high humidity, and a manufacturing method thereof.

본 발명자들은, 상기 과제를 달성하기 위하여 예의 검토한 결과, 공유 결합을 통하여 서로 연결된 배향성기 및 가교 구조를 갖는 배향 보호층을 마련하고, 또한 배향성기를 액정층에 접하는 면 측에 편재시킴으로써, 시인 측에 컬러 필터를 마련한 경우이더라도 우수한 평탄성을 유지하고, 또한 고온 고습하에 노출된 경우에도 표시 성능이 양호해지는 것을 발견하여, 본 발명을 완성시켰다.The present inventors have intensively studied in order to achieve the above object, and as a result, they have found that an orientation protection layer having an oriented group and a cross-linked structure mutually connected through covalent bonds is provided and the oriented group is localized on the surface side in contact with the liquid crystal layer, The present inventors have found that excellent flatness is maintained even in the case of providing a color filter in a high-temperature and high-humidity environment, and display performance is improved even when exposed under high temperature and high humidity.

즉, 이하의 구성에 의하여 상기 과제를 달성할 수 있는 것을 발견했다.That is, it has been found that the above problems can be achieved by the following constitution.

[1] 시인 측으로부터, 제1 기판과, 액정층과, 제2 기판을 이 순서로 갖는 액정 표시 장치로서,[1] A liquid crystal display device having a first substrate, a liquid crystal layer, and a second substrate in this order from the viewer side,

제1 기판이, 기재와, 배향 보호층을 구비하고,Wherein the first substrate comprises a substrate and an orientation protection layer,

제2 기판이, 기재와, 박막 트랜지스터와, 표시 전극과, 배향막을 구비하며,Wherein the second substrate comprises a substrate, a thin film transistor, a display electrode, and an alignment film,

배향 보호층이, 액정층과 접하는 면을 갖고,The orientation protection layer has a surface in contact with the liquid crystal layer,

배향 보호층이, 공유 결합을 통하여 서로 연결된 배향성기 및 가교 구조를 가지며,The orientation-protecting layer has an oriented group and a cross-linked structure connected to each other through a covalent bond,

비행 시간형 2차 이온 질량 분석법으로 검출되는 배향성기에서 유래하는 프래그먼트에 대하여, 배향 보호층의 액정층에 접하는 면에 있어서의 배향성기에서 유래하는 프래그먼트의 질량 분석의 강도 ELq와, 배향 보호층의 기재 측의 면에 있어서의 배향성기에서 유래하는 프래그먼트의 질량 분석의 강도 ESub가, 하기 조건 1 또는 2를 충족시키고,For the fragment derived from the orienting group detected by the time-of-flight secondary ion mass spectrometry, the intensity ELq of the mass analysis of the fragment derived from the aligning group on the surface in contact with the liquid crystal layer of the orientation protective layer, The intensity ESub of the mass analysis of the fragment derived from the orienting group on the side of the substrate satisfies the following condition 1 or 2,

가교 구조가, 후술하는 식 (A-1)~(A-3)으로 나타나는 어느 하나의 구조를 포함하는, 액정 표시 장치.(A-1) to (A-3) described below, wherein the cross-linking structure comprises at least one of the following structures.

조건 1: 강도 ELq가 강도 ESub의 2배~20배이다.Condition 1: The intensity ELq is 2 to 20 times the intensity ESub.

조건 2: 강도 ELq가 유의(有意)하게 측정되고, 강도 ESub가 측정 한계 이하이다.Condition 2: The intensity ELq is measured significantly and the intensity ESub is below the measurement limit.

[2] 강도 ELq가, 강도 ESub의 5배~20배인, [1]에 기재된 액정 표시 장치.[2] The liquid crystal display device according to [1], wherein the intensity ELq is 5 to 20 times the intensity ESub.

[3] 배향성기가, 광배향성기를 광반응시켜 이루어지는 기인, [1] 또는 [2]에 기재된 액정 표시 장치.[3] The liquid crystal display device according to [1] or [2], wherein the oriented group is a group resulting from photo-reacting a photo aligning group.

[4] 배향 보호층의 막두께가 1~4μm인, [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 액정 표시 장치.[4] The liquid crystal display device according to any one of [1] to [3], wherein the thickness of the orientation protection layer is 1 to 4 μm.

[5] 액정층을 구성하는 액정이, 수평 배향 액정인, [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 액정 표시 장치.[5] The liquid crystal display according to any one of [1] to [4], wherein the liquid crystal constituting the liquid crystal layer is a horizontally aligned liquid crystal.

[6] 배향성기에서 유래하는 프래그먼트가, 신나메이트기 및 칼콘기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 광배향성기에서 유래하는 프래그먼트인, [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 액정 표시 장치.[6] The liquid crystal display according to any one of [1] to [5], wherein the fragment derived from the orienting group is a fragment derived from at least one photo aligning group selected from the group consisting of a cinnamate group and a chalcone group .

[7] 기재 상에, 배향성기를 갖는 구성 단위를 포함하는 중합체 P와, 배향성기를 갖는 구성 단위를 포함하지 않는 중합체 A를 함유하는 배향 보호층 형성용 조성물을 이용하여 보호층을 형성한 후에, 보호층에 대하여 배향 처리를 실시하여 배향 보호층을 형성하여, 제1 기판을 제작하는 제1 공정과,[7] A protective layer is formed on a substrate by using a composition for forming an orientation protection layer containing a polymer P containing a constituent unit having an oriented group and a polymer A containing no constituent unit having an oriented group, A first step of forming an orientation protection layer by performing orientation treatment on the layer,

기재, 박막 트랜지스터, 표시 전극 및 배향막을 구비하는 제2 기판과, 제1 기판을 첩합시켜 액정을 봉입하고, 제1 기판과 제2 기판의 사이에 액정층을 형성하여, 액정 표시 장치를 제작하는 제2 공정을 갖는 액정 표시 장치의 제조 방법.A liquid crystal display device is manufactured by bonding a first substrate and a second substrate including a substrate, a thin film transistor, a display electrode, and an alignment film to enclose the liquid crystal, and forming a liquid crystal layer between the first substrate and the second substrate And a second step of manufacturing the liquid crystal display device.

[8] 중합체 P가, 배향성기를 갖는 구성 단위로서 하기 s1에 나타나는 구성 단위를 포함하고,[8] The positive resist composition according to any one of [1] to [5], wherein the polymer P comprises a constituent unit represented by s1,

중합체 P 및 중합체 A가, 하기 조건 3 또는 4를 충족시키는, [7]에 기재된 액정 표시 장치의 제조 방법.The polymer P and the polymer A satisfy the following condition 3 or 4:

s1: 불소 치환 탄화 수소기, 실록세인 골격 및 탄소수 10~30의 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 부분 구조를 갖는 구성 단위와, 광배향성기를 갖는 구성 단위s1: a structural unit having at least one partial structure selected from the group consisting of a fluorine-substituted hydrocarbon group, a siloxane skeleton and an alkyl group having from 10 to 30 carbon atoms, and a structural unit having a photo-

조건 3: 중합체 P가, 가교성기를 갖는 구성 단위 a2를 포함하고, 또한 중합체 A가, 산기를 갖는 구성 단위 a3을 포함한다.Condition 3: Polymer P includes a structural unit a2 having a crosslinkable group, and the polymer A includes a structural unit a3 having an acid group.

조건 4: 중합체 P가, 산기를 갖는 구성 단위 a3을 포함하고, 또한 중합체 A가, 가교성기를 갖는 구성 단위 a2를 포함한다.Condition 4: Polymer P includes structural unit a3 having an acid group, and polymer A includes structural unit a2 having a crosslinkable group.

[9] 가교성기가, 옥시란일기, 3,4-에폭시사이클로헥실기, 및 옥세탄일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인, [8]에 기재된 액정 표시 장치의 제조 방법.[9] The process for producing a liquid crystal display device according to [8], wherein the crosslinkable group is at least one selected from the group consisting of an oxirane group, a 3,4-epoxycyclohexyl group and an oxetanyl group.

[10] 중합체 P 및 중합체 A의 합계 질량에 대한 중합체 P의 질량 비율이 10질량% 미만인, [7] 내지 [9] 중 어느 하나에 기재된 액정 표시 장치의 제조 방법.[10] The process for producing a liquid crystal display device according to any one of [7] to [9], wherein the mass ratio of the polymer P to the total mass of the polymer P and the polymer A is less than 10 mass%.

[11] 배향 보호층 형성용 조성물이, 분자량 5000 이하의 가교제 B를 더 함유하는, [7] 내지 [10] 중 어느 하나에 기재된 액정 표시 장치의 제조 방법.[11] The process for producing a liquid crystal display device according to any one of [7] to [10], wherein the composition for forming an alignment protective layer further contains a crosslinking agent B having a molecular weight of 5,000 or less.

[12] 가교제 B가, 에폭시기를 갖는 가교제를 포함하고,[12] The method according to any one of [1] to [12], wherein the crosslinking agent B comprises a crosslinking agent having an epoxy group,

가교제 B, 중합체 P 및 중합체 A의 합계 질량에 대한 가교제 B의 질량 비율이 30질량% 이하인, [11]에 기재된 액정 표시 장치의 제조 방법.Wherein the mass ratio of the crosslinking agent B to the total mass of the crosslinking agent B, the polymer P and the polymer A is 30 mass% or less.

[13] 배향성기가, 광배향성기이며,[13] The optical recording medium according to [

배향 처리가, 파장 365nm 이하의 광을 이용하는 광배향 처리인, [7] 내지 [12] 중 어느 하나에 기재된 액정 표시 장치의 제조 방법.The method for producing a liquid crystal display device according to any one of [7] to [12], wherein the alignment treatment is a photo alignment treatment using light having a wavelength of 365 nm or less.

[14] 제1 공정이, 배향 처리 전 또는 후에, 열처리를 실시하는 공정을 포함하는, [7] 내지 [13] 중 어느 하나에 기재된 액정 표시 장치의 제조 방법.[14] The method for manufacturing a liquid crystal display device according to any one of [7] to [13], wherein the first step includes a step of performing a heat treatment before or after the alignment treatment.

본 발명에 의하면, 시인 측에 컬러 필터를 마련한 경우이더라도 우수한 평탄성을 유지하고, 또한 고온 고습하에 노출된 경우에도 표시 성능이 양호한 액정 표시 장치 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal display device which maintains excellent flatness even when a color filter is provided on the viewer side, and has good display performance even when exposed under high temperature and high humidity, and a method of manufacturing the same.

도 1은, 본 발명의 액정 표시 장치의 실시양태의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an embodiment of a liquid crystal display device of the present invention.

이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

이하에 기재하는 구성 요건의 설명은, 본 발명의 대표적인 실시양태에 근거하여 이루어지는 경우가 있지만, 본 발명은 그와 같은 실시양태에 한정되는 것은 아니다.Descriptions of the constituent elements described below may be made based on representative embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments.

또한, 본 명세서에 있어서, "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.In the present specification, the numerical value range indicated by "~" means a range including numerical values written before and after "~" as a lower limit value and an upper limit value.

본 명세서에 있어서의 기(원자단)의 표기에 있어서, 치환 및 무치환을 기재하지 않은 표기는, 치환기를 갖지 않는 것과 함께 치환기를 갖는 것도 포함하는 것이다. 예를 들면, "알킬기"란, 치환기를 갖지 않는 알킬기(무치환 알킬기)뿐만 아니라, 치환기를 갖는 알킬기(치환 알킬기)도 포함하는 것이다.In the notation of the group (atomic group) in the present specification, the notation in which substitution and non-substitution are not described includes those having a substituent and having a substituent. For example, the "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (an unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).

본 명세서에 있어서, "(메트)아크릴레이트"는, "아크릴레이트" 또는 "메타크릴레이트"를 나타내는 표기이고, "(메트)아크릴"은, "아크릴" 또는 "메타크릴"을 나타내는 표기이며, "(메트)아크릴로일"은, "아크릴로일" 또는 "메타크릴로일"을 나타내는 표기이다.As used herein, "(meth) acrylate" is a notation for "acrylate" or "methacrylate", "(meth) acryl" is a notation for "acrylic" The term "(meth) acryloyl" refers to acryloyl or methacryloyl.

[액정 표시 장치][Liquid crystal display device]

본 발명의 액정 표시 장치는, 시인 측으로부터, 제1 기판과, 액정층과, 제2 기판을 이 순서로 갖는 액정 표시 장치로서, 제1 기판이, 기재와, 배향 보호층을 구비하고, 제2 기판이, 기재와, 박막 트랜지스터와, 표시 전극과, 배향막을 구비하는 것이다.A liquid crystal display device according to the present invention is a liquid crystal display device having a first substrate, a liquid crystal layer and a second substrate in this order from a viewer side, wherein the first substrate comprises a substrate and an orientation protection layer, 2 substrate includes a substrate, a thin film transistor, a display electrode, and an alignment film.

또, 본 발명의 액정 표시 장치에 있어서는, 배향 보호층이, 액정층과 접하는 면을 갖고, 또 배향성기 및 후술하는 식 (A-1)~(A-3)으로 나타나는 어느 하나의 구조를 포함하는 가교 구조를 가지며, 또한 배향성기 및 가교 구조가 공유 결합을 통하여 서로 연결된 구조를 갖고 있다.In the liquid crystal display device of the present invention, the alignment protective layer has a surface in contact with the liquid crystal layer and includes any one of the aligning groups and the structures represented by the following formulas (A-1) to (A-3) And has a structure in which an oriented group and a crosslinked structure are connected to each other via a covalent bond.

또한, 본 발명의 액정 표시 장치에 있어서는, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석법(Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry: TOF-SIMS)으로 검출되는 배향성기에서 유래하는 프래그먼트에 대하여, 배향 보호층의 액정층에 접하는 면에 있어서의 배향성기에서 유래하는 프래그먼트의 질량 분석의 강도 ELq와, 배향 보호층의 기재 측의 면에 있어서의 배향성기에서 유래하는 프래그먼트의 질량 분석의 강도 ESub가, 하기 조건 1 또는 2를 충족시키고 있다.Further, in the liquid crystal display device of the present invention, with respect to the fragments derived from the orienting group detected by the time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) The intensity ELq of the mass analysis of fragments derived from the aligning group on the surface in contact with the liquid crystal layer and the intensity ESub of the mass analysis of fragments derived from the aligning group on the substrate side surface of the orientation protective layer satisfy the following condition 1 Or 2, respectively.

조건 1: 강도 ELq가 강도 ESub의 2배~20배이다.Condition 1: The intensity ELq is 2 to 20 times the intensity ESub.

조건 2: 강도 ELq가 유의하게 측정되고, 강도 ESub가 측정 한계 이하이다.Condition 2: The intensity ELq is measured significantly and the intensity ESub is below the measurement limit.

<TOF-SIMS의 측정 조건><Measurement Conditions of TOF-SIMS>

본 발명에 있어서의 TOF-SIMS에 의한 측정은, 이하에 나타내는 바와 같이 측정한다.Measurement by TOF-SIMS in the present invention is performed as follows.

(1) 배향 보호층과 배향 보호층에 인접하는 인접층을 박리하고, 배향 보호층의 표면(액정층에 접하고 있는 면을 말한다. 이하, 동일) 및 배향 보호층의 이면(기재 또는 기재 측의 인접층과 접하고 있는 면을 말한다. 이하, 동일)을 노출시킬 수 있는 경우, 하기 (3)에 나타내는 장치 및 조건으로, 배향 보호층의 표면에 있어서의 배향성기에서 유래하는 프래그먼트의 질량 분석의 강도 ELq 및, 배향 보호층의 이면에 있어서의 배향성기에서 유래하는 프래그먼트의 질량 분석의 강도 ESub를 측정한다.(1) The orientation-protecting layer and the adjacent layer adjacent to the orientation-protecting layer are peeled off, and the surface of the orientation-protecting layer (the surface in contact with the liquid crystal layer, hereinafter the same) and the backside of the orientation- In the case where the same can be exposed in the following description), the intensity and the intensity of the mass analysis of a fragment derived from the orienting group on the surface of the orientation protection layer are measured by the apparatus and conditions shown in the following (3) ELq and the intensity ESub of the mass analysis of fragments derived from the orienting group on the back surface of the orientation protective layer are measured.

(2) 배향 보호층의 표면 및 이면을 노출시킬 수 없는 경우, 배향 보호층과 인접층을 갖는 적층체에 대하여, 사이카스법(Surface and Interfacial Cutting Analysis System: SAICAS)을 이용하여, 절삭면이 배향 보호층의 표면 및 이면에 이르도록 경사 방향으로 절삭하여, 배향 보호층의 단면을 노출시킨다.(2) When the front surface and the back surface of the orientation protection layer can not be exposed, a laminate having an orientation protection layer and an adjacent layer is subjected to surface and interfacial cutting analysis (SAICAS) And cut in an oblique direction so as to reach the front and back surfaces of the orientation protection layer to expose the end faces of the orientation protection layer.

노출시킨 단면에 대하여, 배향 보호층의 표면으로부터 깊이(두께) 방향으로 10nm의 영역을 하기 (3)에 나타내는 장치 및 조건으로 측정한 배향성기에서 유래하는 프래그먼트의 질량 분석의 강도를 강도 ELq로 하고, 배향 보호층의 이면으로부터 깊이(두께) 방향으로 2000nm의 영역을 하기 (3)에 나타내는 장치 및 조건으로 측정한 배향성기에서 유래하는 프래그먼트의 질량 분석의 강도를 강도 ESub로 한다.The intensity of the mass analysis of the fragments derived from the orienting group measured by the apparatus and the conditions shown in the following (3) as the region of 10 nm in the depth (thickness) direction from the surface of the orientation protection layer was determined as the intensity ELq , The intensity of the mass analysis of the fragment derived from the aligning group measured in the device (3) and the condition (2) in the region of 2000 nm in the depth (thickness) direction from the back surface of the orientation protection layer is defined as the intensity ESub.

(3) 이하의 장치 및 조건으로 측정한다.(3) Measure by the following equipment and conditions.

·장치: TOF-SIMS IV(ION-TOF사제)Device: TOF-SIMS IV (manufactured by ION-TOF)

·1차 이온: Bi3+(빔 직경 2μm)Primary ion: Bi 3+ (beam diameter 2 μm)

·측정 범위: 일 방향 및 그 직교 방향으로 각각 256개소씩 래스터 스캔· Measuring range: Raster scan in 256 directions in one direction and its orthogonal direction

·극성: posi, nega· Polarity: posi, nega

본 발명의 액정 표시 장치는, 상술한 배향 보호층을 마련함으로써, 시인 측에 컬러 필터를 마련한 경우이더라도 우수한 평탄성을 유지하고, 또한 고온 고습하에 노출된 경우에도 표시 성능이 양호해진다.The liquid crystal display device of the present invention can maintain excellent flatness even when a color filter is provided on the viewer side by providing the above-described alignment protection layer and display performance even when exposed under high temperature and high humidity.

이는, 상세하게는 분명하지 않지만, 본 발명자들은 이하와 같이 추측하고 있다.This is not clear in detail, but the present inventors assume as follows.

즉, 배향 보호층이, 배향성기 및 후술하는 식 (A-1)~(A-3)으로 나타나는 어느 하나의 구조를 포함하는 가교 구조를 갖고, 또 배향성기 및 가교 구조가 공유 결합을 통하여 서로 연결된 구조를 가지며, 또한 TOF-SIMS 측정에 의한 강도 ELq 및 강도 ESub가 상술한 조건 1 또는 2를 충족시킴으로써, 배향성기가 배향 보호층의 표면에 편재하고, 또한 배향성기가 배향 보호층을 구성하는 폴리머와 강고하게 결합되어 있다고 생각된다.That is, it is preferable that the orientation-protecting layer has a cross-linking structure including an aligning group and any one of the structures represented by the following formulas (A-1) to (A-3), and the aligning group and the cross- And the intensity ELq and the intensity ESub by the TOF-SIMS measurement satisfies the above-described condition 1 or 2, whereby the orientation group is localized on the surface of the orientation protection layer, and the orientation group is the orientation of the polymer constituting the orientation protection layer It is believed to be tightly coupled.

이로 인하여, 배향성기가 배향 보호층의 이면 측에 컬러 필터를 마련한 경우이더라도 평탄성을 해치지 않고, 또 고온 고습하에 노출된 경우에도 액정층의 배향을 유지할 수 있기 때문에 표시 성능이 양호해진다고 생각된다.This makes it possible to maintain the orientation of the liquid crystal layer even when the color filter is provided on the backside of the orientation protection layer without causing any flatness and even under exposure to high temperature and high humidity, and thus the display performance is considered to be good.

본 발명에 있어서는, 고온 고습하에 노출된 경우에도 표시 성능이 보다 양호해지는 이유에서, TOF-SIMS 측정에 의한 강도 ELq가, 강도 ESub의 5배~20배인 것이 바람직하다.In the present invention, it is preferable that the intensity ELq by the TOF-SIMS measurement is 5 to 20 times the intensity ESub for the reason that the display performance becomes better even when exposed under high temperature and high humidity.

다음으로, 도 1을 이용하여 본 발명의 액정 표시 장치의 구성의 개요를 설명한 후에, 본 발명의 액정 표시 장치가 갖는 제1 기판, 액정층 및 제2 기판에 대하여, 상세하게 설명한다.Next, the outline of the configuration of the liquid crystal display device of the present invention will be described with reference to Fig. 1, and then the first substrate, the liquid crystal layer and the second substrate of the liquid crystal display device of the present invention will be described in detail.

도 1은, 본 발명의 액정 표시 장치의 실시양태의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an embodiment of a liquid crystal display device of the present invention.

도 1에 나타내는 액정 표시 장치(10)는, 시인 측으로부터, 제1 기판(30)과, 액정층(20)과, 제2 기판(40)이 이 순서로 마련되어 있다.In the liquid crystal display device 10 shown in Fig. 1, a first substrate 30, a liquid crystal layer 20, and a second substrate 40 are provided in this order from the viewer side.

또, 제1 기판(30)은, 편광 필름이 첩부된 기재(15)와, 블랙 매트릭스를 배치한 RGB 컬러 필터(22)와, 액정층(20)과 접하는 면을 갖는 배향 보호층(21)이 마련되어 있다.The first substrate 30 includes a substrate 15 to which a polarizing film is attached, an RGB color filter 22 having a black matrix disposed thereon, an alignment protection layer 21 having a surface in contact with the liquid crystal layer 20, Respectively.

또, 제2 기판(40)은, 편광 필름이 첩부된 기재(14)와 박막 트랜지스터(16)의 소자가 배치되어 있다. 기재(14) 상에 형성된 각 소자에는, 경화막(17) 중에 형성된 콘택트 홀(18)을 통과시켜, 표시 전극을 형성하는 ITO 투명 전극(19)이 배선되어 있으며, ITO 투명 전극(19) 상에는, 배향막(23)이 마련되어 있다.In the second substrate 40, the base material 14 to which the polarizing film is attached and the elements of the thin film transistor 16 are arranged. Each element formed on the base material 14 is wired with an ITO transparent electrode 19 which forms a display electrode by passing the contact hole 18 formed in the cured film 17 and on the ITO transparent electrode 19 And an alignment film 23 are provided.

또, 도 1에 나타내는 액정 표시 장치(10)는, 배면에 백라이트 유닛(12)을 갖고 있으며, 백라이트의 광원으로서는, 특별히 한정되지 않고 공지의 광원을 이용할 수 있다. 예를 들면, 백색 LED(light emitting diode), 청색, 적색, 녹색 등의 다색 LED, 형광등(냉음극관), 유기 일렉트로 루미네선스 등을 들 수 있다.The liquid crystal display device 10 shown in Fig. 1 has a backlight unit 12 on its back surface, and a light source of a backlight is not particularly limited and a known light source can be used. For example, a white LED (light emitting diode), a multicolor LED such as blue, red, and green, a fluorescent lamp (cold cathode tube), and an organic electroluminescence.

또, 액정 표시 장치는, 3D(입체적)형인 것으로 하거나, 터치 패널형인 것으로 하는 것도 가능하다. 또한 플렉시블형으로 하는 것도 가능하고, 일본 공개특허공보 2011-145686호의 제2 상간 절연막(48)이나, 일본 공개특허공보 2009-258758호의 상간 절연막(520)으로서 이용할 수 있다.The liquid crystal display device may be a 3D (three dimensional) type or a touch panel type. It can also be used as a flexible type, and can be used as a second interlayer insulating film 48 of JP-A-2011-145686 or an inter-phase insulating film 520 of JP-A-2009-258758.

〔제1 기판〕[First substrate]

본 발명의 액정 표시 장치가 갖는 제1 기판은, 후술하는 액정층보다 시인 측에 마련되는 기판이며, 기재와 배향 보호층을 구비한다. 또한, 배향 보호층은, 후술하는 액정층과 접하는 면을 갖기 때문에, 제1 기판은, 시인 측으로부터 기재와 배향 보호층을 이 순서로 구비하는 것이다.The first substrate of the liquid crystal display device of the present invention is a substrate provided on the viewer side of a later-described liquid crystal layer, and includes a substrate and an orientation protection layer. Further, since the alignment protection layer has a surface in contact with the liquid crystal layer described later, the first substrate is provided with the substrate and the alignment protection layer in this order from the viewing side.

또, 본 발명의 액정 표시 장치가 시인 측에 임의의 컬러 필터를 마련하는 경우에는, 제1 기판은, 기재와 컬러 필터와 배향 보호층을 이 순서로 구비한다.When an arbitrary color filter is provided on the visual side of the liquid crystal display device of the present invention, the first substrate includes a substrate, a color filter, and an alignment protection layer in this order.

<기재><Description>

상기 기재로서는, 종래 공지의 액정 표시 장치의 액정 셀에 이용되는 투명 기판을 이용할 수 있고, 예를 들면 유리 기판, 석영 기판, 투명 수지 기판 등을 이용할 수 있다. 그 중에서도, 유리 기판을 이용하는 것이 바람직하다.As the substrate, a transparent substrate used for a liquid crystal cell of a conventionally known liquid crystal display device can be used. For example, a glass substrate, a quartz substrate, a transparent resin substrate, or the like can be used. Among them, it is preferable to use a glass substrate.

<배향 보호층>&Lt; Alignment protection layer &

상기 배향 보호층은, 상술한 바와 같이, 후술하는 액정층과 접하는 면을 갖고, 또 배향성기 및 후술하는 식 (A-1)~(A-3)으로 나타나는 어느 하나의 구조를 포함하는 가교 구조를 가지며, 또한 배향성기 및 가교 구조가 공유 결합을 통하여 서로 연결된 구조를 갖고 있다.As described above, the above-mentioned orientation protection layer has a cross-linked structure having a surface in contact with the liquid crystal layer, which will be described later, and an orientation unit and any one of the structures represented by the following formulas (A-1) to (A- And has a structure in which an oriented group and a crosslinked structure are connected to each other via a covalent bond.

(배향성기)(Oriented group)

상기 배향 보호층이 갖는 배향성기는, 액정성 화합물을 배향시키는 기능을 갖는 관능기를 배향시킨 기이면 특별히 한정되지 않지만, 본 발명에 있어서는, 배향 보호층의 형성 시에 표면에 접촉하지 않고, 면 형상 악화를 방지하는 것이 가능해지는 이유에서, 광배향성기를 광반응시켜 이루어지는 기인 것이 바람직하다.The oriented group of the alignment protection layer is not particularly limited as long as it is a group capable of orienting a functional group having a function of aligning the liquid crystalline compound. In the present invention, the alignment protective layer does not contact the surface at the time of forming the alignment protection layer, It is preferable that the photo-induced group is a group formed by photo-reaction.

여기에서, 광배향성기란, 광이량화 반응, 광이성화 반응 및 광분해 반응 중 어느 하나에 의하여, 배향성을 부여하는 광반응성기를 말한다.Here, the photo-orientable group refers to a photoreactive group which imparts an orientation property by any one of a photo-dimerization reaction, a photo-isomerization reaction and a photo-degradation reaction.

또, 광이량화 반응에 의하여 배향성을 부여하는 기로서는, 예를 들면 말레이미드 유도체, 신남산 유도체 및 쿠마린 유도체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 유도체로부터 도입되는 기 등을 들 수 있고, 구체적으로는 신나메이트기, 칼콘기를 적합하게 들 수 있다.Examples of the group to which the orientation is imparted by the photo-dimerization reaction include groups introduced from at least one kind of derivative selected from the group consisting of maleimide derivatives, cinnamic acid derivatives and coumarin derivatives, Include a cinnamate group and a chalcone group.

또한, 신나메이트기, 및 칼콘기로서는 예를 들면, 이하의 구조(하기 식 중, *는 폴리머쇄에 대한 연결 부위를 나타내고, R은 수소 원자 또는 1가의 유기기를 나타냄)를 도입할 수 있고, 또 *로 나타나는 폴리머쇄에 대한 연결 부위는, 폴리머의 주쇄에 직결되어 있어도 되며, 2가의 연결기를 통하여 결합하고 있어도 된다. R이 나타내는 1가의 유기기로서는, 알킬기 또는 아릴기가 바람직하다. 또, R이 나타내는 1가의 유기기의 탄소수는 1~10이 바람직하고, 1~7이 보다 바람직하다.Examples of the cinnamate group and the chalcone group may include the following structures (in the following formulas, * represents a connecting site to the polymer chain and R represents a hydrogen atom or a monovalent organic group) The connecting site to the polymer chain represented by * may be directly bonded to the main chain of the polymer or may be bonded via a divalent linking group. As the monovalent organic group represented by R, an alkyl group or an aryl group is preferable. The number of carbon atoms in the monovalent organic group represented by R is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 7.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

한편, 광의 작용에 의하여 이성화하는 반응성기로서는, 구체적으로는 예를 들면, 아조벤젠 화합물, 스틸벤 화합물 및 스파이로피란 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물의 골격으로 이루어지는 기 등을 적합하게 들 수 있다.On the other hand, specific examples of the reactive groups which are isomerized by the action of light include a group consisting of a skeleton of at least one compound selected from the group consisting of an azobenzene compound, a stilbene compound and a spiropyran compound .

또, 광의 작용에 의하여 분해하는 반응성기로서는, 구체적으로는 예를 들면, 사이클로뷰테인 화합물의 골격으로 이루어지는 기 등을 적합하게 들 수 있다.Specific examples of the reactive group decomposable by the action of light include groups composed of a skeleton of a cyclobutane compound and the like.

이들 중, 반응의 불가역성의 이유에서, 보다 단파광에서 반응하는 광이량화 반응에 의하여 배향성을 부여하는 기인 것이 바람직하고, 신나메이트기 및 칼콘기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 보다 바람직하다.Of these, for reasons of irreversibility of the reaction, it is preferable that the group which gives orientation by the light dimerization reaction which reacts in the shortwave light, more preferably at least one selected from the group consisting of a cinnamate group and a chalcone group.

(가교 구조)(Crosslinked structure)

상기 배향 보호층이 갖는 가교 구조는, 하기 식 (A-1)~(A-3)으로 나타나는 어느 하나의 구조를 포함하는 가교 구조이다.The crosslinking structure of the alignment protection layer is a crosslinking structure comprising any one of the structures represented by the following formulas (A-1) to (A-3).

[화학식 2](2)

Figure pct00002
Figure pct00002

상기 식 (A-1)~(A-3) 중, *는 결합 위치를 나타내고, 상기 식 (A-3) 중, R1은, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.In the formulas (A-1) to (A-3), * represents a bonding position, and in the formula (A-3), R 1 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, tert-뷰틸기, 헥실기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl and hexyl.

여기에서, 상기 식 (A-1)~(A-3)으로 나타나는 구조를 포함하는 가교 구조로서는 예를 들면, 가교성기(예를 들면, 에폭시기, 옥세탄일기 등)와 산기(예를 들면, 카복실기 등)의 반응에 의하여 발생하는 가교 구조를 들 수 있고, 구체적으로는 하기 식 (A-1-1), 식 (A-2-1) 및 식 (A-3-1)로 나타나는 가교 구조를 들 수 있다.Examples of the crosslinking structure including the structure represented by the above formulas (A-1) to (A-3) include a crosslinking group (for example, epoxy group, oxetane- (A-1), (A-2-1) and (A-3-1) represented by the following formulas Structure.

또한, 하기 식 (A-1-1), 식 (A-2-1) 및 식 (A-3-1) 중, *는 결합 위치를 나타내고, 하기 식 (A-3-1) 중, R1은, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.In the following formulas (A-1-1), (A-2-1) and (A-3-1), * represents a bonding position, 1 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

[화학식 3](3)

Figure pct00003
Figure pct00003

상기 배향 보호층은, 상술한 바와 같이, 상기 배향성기 및 상기 가교 구조가 공유 결합을 통하여 서로 연결된 구조를 갖는다.The alignment protection layer has a structure in which the aligning group and the crosslinking structure are linked to each other via a covalent bond, as described above.

이로 인하여, 본 발명에 있어서는, 후술하는 가교성기(예를 들면, 에폭시기, 옥세탄일기 등)를 갖는 구성 단위를 포함하는 중합체, 및/또는, 후술하는 산기(예를 들면, 카복실기 등)를 갖는 구성 단위를 포함하는 중합체가, 상기 배향성기를 갖는 구성 단위를 더 포함하고 있는 것이 바람직하다.Accordingly, in the present invention, a polymer comprising a constituent unit having a crosslinkable group (for example, an epoxy group, an oxetanyl group, etc.) and / or an acid group (for example, a carboxyl group or the like) It is preferable that the polymer containing the structural unit further contains the structural unit having the above-mentioned orientation group.

본 발명에 있어서는, 상기 배향 보호층의 막두께가 1~4μm인 것이 바람직하고, 2~3μm인 것이 보다 바람직하다.In the present invention, the thickness of the alignment protection layer is preferably 1 to 4 mu m, more preferably 2 to 3 mu m.

<컬러 필터><Color filter>

본 발명의 액정 표시 장치가 갖는 제1 기판은, 상술한 기재와 배향 보호층의 사이에, 컬러 필터를 구비하고 있어도 된다.The first substrate of the liquid crystal display device of the present invention may include a color filter between the substrate and the orientation protection layer.

상기 컬러 필터로서는 특별히 한정되지 않고 예를 들면, 일반적으로 액정 표시 장치의 컬러 필터로서 공지의 것을 이용할 수 있다.The color filter is not particularly limited and, for example, a color filter commonly known as a color filter of a liquid crystal display device can be used.

이와 같은 컬러 필터는, 통상, 적색, 녹색 및 청색의 각 색의 투명 착색 패턴으로 구성되고, 그들 각 투명 착색 패턴은, 착색제가 용해 또는 분산, 바람직하게는 안료 미립자가 분산된 수지 조성물로 구성된다.Such a color filter usually comprises transparent coloring patterns of red, green and blue colors, and each transparent coloring pattern thereof is composed of a resin composition in which a coloring agent is dissolved or dispersed, preferably pigment microparticles are dispersed .

또한, 상기 컬러 필터의 형성은, 소정의 색으로 착색한 잉크 조성물을 조제하고, 착색 패턴마다 인쇄함으로써 행해도 되지만, 소정의 색의 착색제를 함유한 도료 타입의 감광성 수지 조성물을 이용하여, 포토리소그래피법에 의하여 행하는 것이 보다 바람직하다.The color filter may be formed by preparing an ink composition colored with a predetermined color and printing it on a color pattern basis. However, by using a paint type photosensitive resin composition containing a coloring agent of a predetermined color, It is more preferable to perform it by the method.

〔액정층〕[Liquid crystal layer]

본 발명의 액정 표시 장치가 갖는 액정층은, 상술한 제1 기판과 후술하는 제2 기판으로 협지되는 액정층이다.The liquid crystal layer included in the liquid crystal display device of the present invention is a liquid crystal layer sandwiched between the above-described first substrate and a second substrate to be described later.

또, 이 액정층은, 상술한 바와 같이, 상술한 제1 기판이 구비하는 배향 보호층과 접하도록 마련된다.The liquid crystal layer is provided so as to be in contact with the alignment protection layer of the first substrate as described above.

본 발명의 액정 표시 장치에 이용되는 액정층을 구동시키기 위한 구동 방식으로서는, TN(Twisted Nematic) 방식, VA(Vertical Alignment) 방식, IPS(In-Plane-Switching) 방식, FFS(Fringe Field Switching) 방식, OCB(Optically Compensated Bend) 방식 등을 들 수 있다.As a driving method for driving the liquid crystal layer used in the liquid crystal display of the present invention, a twisted nematic (TN) method, a VA (Vertical Alignment) method, an IPS (In-Plane-Switching) method, an FFS , An OCB (Optically Compensated Bend) method, and the like.

이들 구동 방식 중에서도 IPS 방식인 것이 바람직하다.Among these driving methods, an IPS method is preferable.

IPS 방식의 액정 셀은, 봉상 액정 분자가 기판에 대하여 실질적으로 평행하게 배향하고 있으며, 기판면에 평행한 전계가 인가됨으로써 액정 분자가 평면적으로 응답한다. 즉, IPS 방식에 있어서는, 액정층을 구성하는 액정이 수평 배향 액정이다. IPS 방식은 전계 무인가 상태로 흑색 표시가 되고, 상하 한 쌍의 편광판의 흡수축은 직교하고 있다.In the IPS mode liquid crystal cell, the rod-like liquid crystal molecules are oriented substantially parallel to the substrate, and the liquid crystal molecules respond in a planar manner by applying an electric field parallel to the substrate surface. That is, in the IPS system, the liquid crystal constituting the liquid crystal layer is horizontally aligned liquid crystal. In the IPS system, black display is performed in an electric field-free state, and the absorption axes of the upper and lower pair of polarizing plates are orthogonal.

〔제2 기판〕[Second substrate]

본 발명의 액정 표시 장치가 갖는 제2 기판은, 상술한 액정층의 제1 기판과 반대 측(백라이트 측)에 마련되는 기판이며, 기재와, 박막 트랜지스터와, 표시 전극과, 배향막을 구비한다.The second substrate of the liquid crystal display of the present invention is a substrate provided on the side opposite to the first substrate (backlight side) of the above-described liquid crystal layer and includes a substrate, a thin film transistor, a display electrode, and an alignment film.

<기재><Description>

제2 기판이 구비하는 기재로서는, 상술한 제1 기판과 동일하게, 종래 공지의 액정 표시 장치의 액정 셀에 이용되는 투명 기판을 이용할 수 있고 예를 들면, 유리 기판, 석영 기판, 투명 수지 기판 등을 이용할 수 있다. 그 중에서도, 유리 기판을 이용하는 것이 바람직하다.As the substrate provided for the second substrate, a transparent substrate used for a liquid crystal cell of a conventionally known liquid crystal display device can be used, for example, a glass substrate, a quartz substrate, a transparent resin substrate, etc. Can be used. Among them, it is preferable to use a glass substrate.

<박막 트랜지스터><Thin Film Transistor>

제2 기판이 구비하는 박막 트랜지스터(thin film transistor: TFT)로서는, 공지의 액정 표시 장치에서 사용되고 있는 것이 적절히 이용 가능하며, 그 구성은, 특별히 한정되지 않고, 톱 게이트형이어도 되고, 보텀 게이트형이어도 된다.As a thin film transistor (TFT) provided in the second substrate, those used in known liquid crystal display devices can be suitably used, and the structure thereof is not particularly limited, and may be a top gate type, a bottom gate type do.

상기 박막 트랜지스터의 구체예로서는, 어모퍼스 실리콘-TFT, 저온 폴리실리콘-TFT, 산화물 반도체 TFT 등을 들 수 있다.Specific examples of the thin film transistor include an amorphous silicon TFT, a low temperature polysilicon TFT, and an oxide semiconductor TFT.

<표시 전극><Display electrode>

제2 기판이 구비하는 표시 전극으로서는, 공지의 액정 표시 장치에서 사용되고 있는 것이 적절히 이용 가능하고, 그 구성 재료로서는 예를 들면, 산화 인듐 주석(Indium Tin Oxide: ITO), 산화 아연 알루미늄(Aluminum doped Zinc Oxide: AZO), 산화 인듐 아연(Indium Zinc oxide: IZO) 등의 투명한 도전 재료를 이용할 수 있다.As the display electrode included in the second substrate, those used in known liquid crystal display devices can be suitably used. As the constituent material thereof, for example, indium tin oxide (ITO), aluminum doped zinc A transparent conductive material such as indium zinc oxide (AZO) and indium zinc oxide (IZO) can be used.

<배향막><Orientation film>

제2 기판이 구비하는 배향막으로서는, 일반적으로는 폴리머를 주성분으로 하는, 공지의 액정 표시 장치에서 사용되고 있는 것이 적절히 이용 가능하다,As the alignment film provided by the second substrate, those which are generally used in a known liquid crystal display device containing a polymer as a main component are suitably usable.

배향막용 폴리머 재료로서는, 다수의 문헌에 기재가 있으며, 다수의 시판품을 입수할 수 있다.As polymer materials for alignment films, there is a description in many documents, and a large number of commercially available products are available.

본 발명에 있어서 이용되는 폴리머 재료는, 폴리바이닐알코올 또는 폴리이미드, 및 그 유도체가 바람직하다. 특히 변성 또는 미변성의 폴리바이닐알코올이 바람직하다.The polymer material used in the present invention is preferably a polyvinyl alcohol or a polyimide and a derivative thereof. Particularly, modified or unmodified polyvinyl alcohol is preferable.

본 발명에 사용 가능한 배향막에 대해서는 예를 들면, 국제 공개공보 제01/88574호의 43페이지 24행~49페이지 8행에 기재된 배향막; 일본 특허공보 제3907735호의 단락 [0071]~[0095]에 기재된 변성 폴리바이닐알코올; 일본 공개특허공보 2012-155308호에 기재된 액정 배향제에 의하여 형성되는 액정 배향막; 등을 들 수 있다.Examples of the alignment film usable in the present invention include the alignment film described in International Patent Publication No. 01/88574, page 43, line 24 to page 49, line 8; Denatured polyvinyl alcohol described in paragraphs [0071] to [0095] of Japanese Patent Publication No. 3907735; A liquid crystal alignment film formed by the liquid crystal aligning agent described in JP-A-2012-155308; And the like.

액정 표시 장치의 다른 구성(예를 들면, 편광판, 백라이트 등)에 대해서는, 일본 공개특허공보 2007-328210호 및 일본 공개특허공보 2014-238438호의 기재를 참조할 수 있고, 이 내용은 본 명세서에 원용되는 것으로 한다.With regard to other configurations of the liquid crystal display device (for example, a polarizing plate, a backlight, and the like), reference can be made to Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2007-328210 and Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-238438, .

[액정 표시 장치의 제조 방법][Manufacturing Method of Liquid Crystal Display Device]

본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법은, 기재 상에, 배향성기를 갖는 구성 단위를 포함하는 중합체 P와, 배향성기를 갖는 구성 단위를 포함하지 않는 중합체 A를 함유하는 배향 보호층 형성용 조성물을 이용하여 보호층을 형성한 후에, 보호층에 대하여 배향 처리를 실시하여 배향 보호층을 형성하여, 제1 기판을 제작하는 제1 공정을 갖는다.A method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention is a method of manufacturing a liquid crystal display device using a composition for forming an orientation protection layer containing a polymer P containing a constituent unit having an aligning group and a polymer A containing no constituent unit having an aligning group And a first step of forming an orientation protection layer on the protective layer after the protective layer is formed to manufacture a first substrate.

또, 본 발명의 액정 표시 장치의 제조 방법은, 기재, 박막 트랜지스터, 표시 전극 및 배향막을 구비하는 제2 기판과, 제1 기판을 첩합시켜 액정을 봉입하고, 제1 기판과 제2 기판의 사이에 액정층을 형성하여, 액정 표시 장치를 제작하는 제2 공정을 갖는다.A method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention is a method for manufacturing a liquid crystal display device comprising a step of bonding a first substrate with a second substrate provided with a substrate, a thin film transistor, a display electrode and an alignment film to seal the liquid crystal, And a second step of manufacturing a liquid crystal display device.

〔제1 공정〕[First Step]

제1 공정은, 기재 상에, 배향성기를 갖는 구성 단위를 포함하는 중합체 P와, 배향성기를 갖는 구성 단위를 포함하지 않는 중합체 A를 함유하는 배향 보호층 형성용 조성물을 이용하여 보호층을 형성한 후에, 보호층에 대하여 배향 처리를 실시하여 배향 보호층을 형성하여, 제1 기판을 제작하는 공정이다.In the first step, a protective layer is formed on a substrate by using a composition for forming an orientation protection layer containing a polymer P containing a constituent unit having an oriented group and a polymer A containing no constituent unit having an orientation group , And an orientation treatment is applied to the protective layer to form an orientation protection layer, thereby manufacturing a first substrate.

또한, 제1 공정에 있어서의 기재는, 본 발명의 액정 표시 장치의 제1 기판이 구비하는 기재와 동일하다.The substrate in the first step is the same as the substrate provided in the first substrate of the liquid crystal display device of the present invention.

<배향 보호층 형성용 조성물>&Lt; Composition for forming an alignment protective layer >

상기 배향 보호층 형성용 조성물은, 배향 보호층의 위상차를 낮게 하고, 투명성을 높여, 배향 보호층에 있어서 상술한 가교 구조가 형성되기 쉬워지는 이유에서, 상기 중합체 P가, 상기 배향성기를 갖는 구성 단위로서 하기 s1에 나타나는 구성 단위를 포함하고, 상기 중합체 P 및 상기 중합체 A가, 하기 조건 3 또는 4를 충족시키고 있는 것이 바람직하다.The composition for forming an alignment protective layer has a structure in which the polymer P has the structural unit having the above-mentioned orientation-sensitive group, for the reason that the retardation of the alignment protection layer is lowered and the transparency is increased, , And the polymer P and the polymer A satisfy the following condition 3 or 4: &quot; (1) &quot;

s1: 불소 치환 탄화 수소기, 실록세인 골격 및 탄소수 10~30의 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 부분 구조를 갖는 구성 단위와, 광배향성기를 갖는 구성 단위s1: a structural unit having at least one partial structure selected from the group consisting of a fluorine-substituted hydrocarbon group, a siloxane skeleton and an alkyl group having from 10 to 30 carbon atoms, and a structural unit having a photo-

조건 3: 중합체 P가, 가교성기를 갖는 구성 단위 a2를 포함하고, 또한 중합체 A가, 산기를 갖는 구성 단위 a3을 포함한다.Condition 3: Polymer P includes a structural unit a2 having a crosslinkable group, and the polymer A includes a structural unit a3 having an acid group.

조건 4: 중합체 P가, 산기를 갖는 구성 단위 a3을 포함하고, 또한 중합체 A가, 가교성기를 갖는 구성 단위 a2를 포함한다.Condition 4: Polymer P includes structural unit a3 having an acid group, and polymer A includes structural unit a2 having a crosslinkable group.

본 발명에 있어서는, 배향 보호층에 있어서 상술한 가교 구조가 더 형성되기 쉬워지는 이유에서, 상기 중합체 P 및/또는 상기 중합체 A가 갖는 가교성기가, 옥시란일기, 3,4-에폭시사이클로헥실기, 및 옥세탄일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다.In the present invention, the reason why the above-mentioned crosslinked structure is more easily formed in the orientation protective layer is that the polymer P and / or the crosslinkable group possessed by the polymer A is an oxirane group, a 3,4-epoxycyclohexyl group , And an oxetanyl group is preferable.

이하에, 상기 배향 보호층 형성용 조성물이 함유하는 중합체 P 및 중합체 A의 구체예와 임의의 첨가제 등에 대하여 상세하게 설명한다.Specific examples of the polymer P and the polymer A contained in the composition for forming an alignment protective layer and optional additives and the like are described below in detail.

(중합체 P)(Polymer P)

상기 중합체 P로서는, 상술한 바와 같이, 하기 s1에 나타나는 구성 단위(이하, "구성 단위 s1"이라고도 함)를 포함하는 중합체를 바람직하게 들 수 있다.As the above-mentioned polymer P, a polymer containing a constitutional unit (hereinafter also referred to as "constituent unit s1") shown below in s1 as described above is preferably exemplified.

s1: 불소 치환 탄화 수소기, 실록세인 골격 및 탄소수 10~30의 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 부분 구조(이하, "편재성기"라고도 함)를 갖는 구성 단위와, 광배향성기를 갖는 구성 단위s1: a structural unit having at least one partial structure (hereinafter also referred to as "ubiquitous group") selected from the group consisting of a fluorine-substituted hydrocarbon group, a siloxane skeleton and an alkyl group having 10 to 30 carbon atoms, unit

<<불소 치환 탄화 수소기의 부분 구조를 갖는 구성 단위>>&Lt; Structural unit having a partial structure of fluorine-substituted hydrocarbon group &gt; >

불소 치환 탄화 수소기란, 적어도 1개의 불소 원자에 의하여 치환된 탄화 수소기이면 되고, 알킬기 또는 알킬렌기(이하, 본 단락에 있어서는 "알킬기 등"으로 약기함)에 있어서의 적어도 1개의 수소 원자를 불소 원자에 치환한 알킬기 등을 들 수 있으며, 알킬기 등의 모든 수소 원자를 불소 원자에 치환한 알킬기 등이 보다 바람직하다.The fluorine-substituted hydrocarbon group may be a hydrocarbon group substituted by at least one fluorine atom, and at least one hydrogen atom in an alkyl group or an alkylene group (hereinafter abbreviated as "an alkyl group etc. & An alkyl group substituted with an atom, and the like, and an alkyl group in which all hydrogen atoms such as an alkyl group are substituted with fluorine atoms are more preferable.

이와 같은 불소 치환 탄화 수소기는, 편재성의 관점에서, 하기 식 (I)로 나타나는 기인 것이 바람직하다.Such a fluorine-substituted hydrocarbon group is preferably a group represented by the following formula (I) from the viewpoint of ellipticity.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

상기 식 (I) 중, R2는 수소 원자 또는 탄소수 1~4개의 알킬기를 나타내고, *는 폴리머쇄에 대한 연결 부위를 나타낸다. X는 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, m은 1~3의 정수를 나타내며, n은 1 이상의 정수를 나타내고, r은 0 또는 1~2의 정수를 나타낸다. 또한, m이 1인 경우, 복수의 R2는 각각 동일해도 되고 달라도 된다.In the formula (I), R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and * represents a connecting site to the polymer chain. X represents a single bond or a divalent linking group, m represents an integer of 1 to 3, n represents an integer of 1 or more, and r represents 0 or an integer of 1 to 2. When m is 1, a plurality of R 2 s may be the same or different.

상기 식 (I)에 있어서의 m은, 1~3의 정수를 나타내고, 1 또는 2인 것이 바람직하다.M in the formula (I) represents an integer of 1 to 3, preferably 1 or 2.

상기 식 (I)에 있어서의 n은, 1 이상의 정수를 나타내고, 1~10의 정수인 것이 바람직하며, 1~4의 정수인 것이 보다 바람직하고, 1 또는 2인 것이 특히 바람직하다.N in the formula (I) represents an integer of 1 or more, preferably an integer of 1 to 10, more preferably an integer of 1 to 4, and particularly preferably 1 or 2.

일반식 I에 있어서의 r은, 0 또는 1~2의 정수를 나타내고, 1 또는 2인 것이 바람직하며, 2인 것이 보다 바람직하다.R in the general formula I represents 0 or an integer of 1 to 2, preferably 1 or 2, and more preferably 2.

또, *로 나타나는 폴리머쇄에 대한 연결 부위는, 상술한 중합체 A1-1 등 중합체의 주쇄에 직결되어 있어도 되고, 폴리옥시알킬렌기, 알킬렌기, 에스터기, 유레테인기, 헤테로 원자를 포함해도 되는 환상 알킬렌기, 폴리(카프로락톤), 아미노기, 등의 2가의 연결기를 통하여 결합하고 있어도 된다. 폴리옥시알킬렌기를 통하여 결합하고 있는 것이 바람직하다.The connecting site to the polymer chain represented by * may be directly bonded to the main chain of the polymer such as the above-mentioned polymer A1-1 or may be a polyoxyalkylene group, an alkylene group, an ester group, a urethane group, A cyclic alkylene group, a poly (caprolactone), an amino group, or the like. And it is preferable that they are bonded through a polyoxyalkylene group.

상기 식 (I)에 있어서 R2로 나타나는 탄소수 1~4개의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, tert-뷰틸기 등을 들 수 있고, 바람직하게는, 수소 원자, 또는 메틸기이며, 보다 바람직하게는 수소 원자이다.Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by R 2 in the formula (I) include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group and a tert- Is a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a hydrogen atom.

상기 식 (I)에 있어서, X가 단결합인 경우는, 폴리머 주쇄와, R2가 결합하고 있는 탄소 원자가 직접 연결되어 있는 것을 의미한다.In the formula (I), when X is a single bond, it means that the polymer main chain and the carbon atom to which R 2 is bonded are directly connected.

또, X가 2가의 연결기인 경우에는, 그 연결기로서는, -O-, -S-, -N(R4)-, -CO- 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 -O-가 보다 바람직하다. 여기에서, R4는, 수소 원자 또는 탄소수 1~4개의 알킬기를 나타낸다. 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, tert-뷰틸기 등을 들 수 있고, 바람직하게는, 수소 원자, 메틸기이다.When X is a divalent linking group, examples of the linking group include -O-, -S-, -N (R 4 ) -, -CO-, and the like. Of these, -O- is more preferable. Here, R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group and a tert-butyl group.

불소 치환 탄화 수소기를 중합체에 도입하는 방법으로서는, 고분자 반응에 의하여 불소 치환 탄화 수소기를 중합체에 도입하는 방법; 불소 치환 탄화 수소기를 갖는 모노머(이하, "불소 치환 탄화 수소기 함유 모노머"라고 칭함)를 공중합하여, 중합체에 불소 치환 탄화 수소기를 갖는 구성 단위를 도입하는 방법; 등을 들 수 있다.Examples of the method of introducing the fluorine-substituted hydrocarbon group into the polymer include a method of introducing the fluorine-substituted hydrocarbon group into the polymer by a polymer reaction; A method of copolymerizing a monomer having a fluorine-substituted hydrocarbon group (hereinafter referred to as a "fluorine-substituted hydrocarbon group-containing monomer") to introduce a structural unit having a fluorine-substituted hydrocarbon group into the polymer; And the like.

불소 치환 탄화 수소기 함유 모노머를 공중합하여, 중합체에 불소 치환 탄화 수소기를 갖는 구성 단위를 도입하는 방법에 있어서의, 불소 치환 탄화 수소기 함유 모노머로서는, 하기 식 (II)로 나타나는 모노머를 바람직한 것으로서 들 수 있다.As the fluorine-substituted hydrocarbon group-containing monomer in the method of copolymerizing the fluorine-substituted hydrocarbon group-containing monomer and introducing the constituent unit having the fluorine-substituted hydrocarbon group into the polymer, the monomer represented by the following formula (II) .

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

상기 식 (II) 중, R1은 수소 원자, 할로젠 원자, 치환기를 가져도 되는 메틸기, 또는 치환기를 가져도 되는 에틸기를 나타낸다. 또, R2, X, m, n 및 r은 모두, 일반식 I에 있어서의 R2, X, m, n 및 r과 동의이며, 바람직한 예도 동일하다.In the formula (II), R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a methyl group which may have a substituent, or an ethyl group which may have a substituent. In addition, R 2, all of X, m, n and r, and R 2, X, m, n, and r and copper in the formula I, preferred examples are the same.

또한, 상기 식 (II)에 있어서 R1로 나타나는 할로젠 원자로서는 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자를 들 수 있다.Examples of the halogen atom represented by R 1 in the formula (II) include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom.

또한, 이와 같은 불소 치환 탄화 수소기 함유 모노머의 제조법에 관해서는 예를 들면, "불소 화합물의 합성과 기능"(감수: 이시카와 노부오, 발행: 가부시키가이샤 씨엠씨, 1987)의 117~118페이지나, "Chemistry of Organic Fluorine Compounds II"(Monograph 187, Ed by Milos Hudlicky and Attila E. Pavlath, American Chemical Society 1995)의 747~752페이지에 기재되어 있다.The production method of such fluorine-substituted hydrocarbon group-containing monomers is described in, for example, pages 117 to 118 of "Synthesis and function of fluorine compounds" (supervised by Nobu Ishikawa, published by CMC, 1987) &Quot; Chemistry of Organic Fluorine Compounds II "(Monograph 187, Ed. By Milos Hudlicky and Attila E. Pavlath, American Chemical Society 1995), pp. 747-752.

또, 상기 식 (II)로 나타나는 모노머의 구체예로서는, 하기 식 (IIa)로 나타나는 테트라플루오로아이소프로필메타크릴레이트, 하기 식 (IIb)로 나타나는 헥사플루오로아이소프로필메타크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the monomer represented by the formula (II) include tetrafluoroisopropyl methacrylate represented by the following formula (IIa) and hexafluoroisopropyl methacrylate represented by the following formula (IIb) .

또, 그 외의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-18728호의 단락 번호 〔0058〕~〔0061〕에 기재된 화합물을 들 수 있다. 이들 중 폴리옥시알킬렌기에 불소 치환 탄화 수소기가 결합한 구조가 바람직하다.As other specific examples, the compounds described in paragraphs [0058] to [0061] of JP-A No. 2010-18728 can be mentioned. Among them, a structure in which a fluorine-substituted hydrocarbon group is bonded to a polyoxyalkylene group is preferable.

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

<<실록세인 골격의 부분 구조를 갖는 구성 단위>><< Constitutional Unit Having Partial Structure of Siloxane Skeleton >>

실록세인 골격이란, "-Si-O-Si-"를 갖고 있으면, 특별히 제한은 없고, 폴리옥시알킬렌기를 포함하는 것이 바람직하다.The siloxane skeleton is not particularly limited as long as it has "-Si-O-Si- ", and preferably includes a polyoxyalkylene group.

본 발명에 있어서는, 실록세인 골격은, 편재성의 관점에서, (메트)아크릴로일옥시기와 알콕시실릴기를 갖는 화합물을 공중합하여, 중합체에 실록세인 골격의 부분 구조를 갖는 구성 단위에 도입하는 것이 바람직하다.In the present invention, it is preferable that the siloxane skeleton is introduced into a structural unit having a partial structure of a siloxane skeleton in the polymer by copolymerizing a compound having a (meth) acryloyloxy group and an alkoxysilyl group from the viewpoint of ellipticity .

여기에서, 알콕시실릴기로서는 예를 들면, 하기 식 (X)로 나타나는 기가 바람직하다.Here, examples of the alkoxysilyl group include groups represented by the following formula (X).

[화학식 7](7)

Figure pct00007
Figure pct00007

상기 식 (X) 중, R3~R5는, 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 할로젠 원자, 알킬기 또는, 알콕시기를 나타내고, 적어도 1개는 알콕시기이다. *는, 결합 위치를 나타낸다.In the formula (X), R 3 to R 5 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and at least one of them is an alkoxy group. * Indicates a bonding position.

상기 식 (X) 중, R3~R5 중 적어도 1개는 알콕시기이며, 알콕시기로서는, 탄소수 1~15의 알콕시기인 것이 바람직하고, 탄소수 1~8의 알콕시기인 것이 보다 바람직하며, 탄소수 1~4의 알콕시기인 것이 더 바람직하고, 에톡시기 또는 메톡시기인 것이 특히 바람직하다.In the formula (X), at least one of R 3 to R 5 is an alkoxy group, and the alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms, more preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, More preferably an alkoxy group of 1 to 4 carbon atoms, and particularly preferably an ethoxy group or a methoxy group.

본 발명에 있어서는, R3~R5 중, 2개가 알콕시기 및 1개가 알킬기인 경우 또는, 3개가 알콕시기인 경우가 바람직하다. 그 중에서도, 3개가 알콕시기인 양태, 즉, 트라이알콕시실릴기인 것이 보다 바람직하다.In the present invention, it is preferable that two of R 3 to R 5 are an alkoxy group and one is an alkyl group, or three are alkoxy groups. Among them, it is more preferable that the three are alkoxy groups, that is, a trialkoxysilyl group.

이와 같은 알콕시실릴기와 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물로서는, 구체적으로는 예를 들면, 3-(메트)아크릴옥시프로필메틸다이메톡시실레인, 3-(메트)아크릴옥시프로필트라이메톡시실레인, 3-(메트)아크릴옥시프로필메틸다이에톡시실레인, 3-(메트)아크릴옥시프로필트라이에톡시실레인 등을 들 수 있다.Specific examples of such a compound having an alkoxysilyl group and a (meth) acryloyloxy group include 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxy Silane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldiethoxysilane, and 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane.

또, 본 발명에 있어서는, 실록세인 골격은, 편재성의 관점에서, 하기 구조식 (A)로 나타나는 화합물(이하, "특정 실록세인 화합물"이라고도 함)을 중합하여, 실록세인 골격을 중합체에 도입하는 것이 바람직하다.In the present invention, the siloxane skeleton is obtained by polymerizing a compound represented by the following structural formula (A) (hereinafter also referred to as "specific siloxane compound") from the viewpoint of ellipticity and introducing a siloxane skeleton into the polymer desirable.

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

상기 구조식 (A) 중, R7은, 수산기, 아민기, 할로젠 원자 등의 치환기를 가져도 되는 탄소수가 2~6의 직쇄 혹은 분기의 알킬렌기 또는, 하기 구조식 (B)로 나타나는 2가의 연결기를 나타낸다.In the structural formula (A), R 7 represents a linear or branched alkylene group having 2 to 6 carbon atoms which may have a substituent such as a hydroxyl group, an amine group or a halogen atom, or a divalent linking group represented by the following structural formula (B) .

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

상기 구조식 (B) 중, R4는, 수소 원자, 메틸기, 에틸기를 나타낸다. n1, n2, 및 n3은, 각각 독립적으로 0~100의 정수이다. 여기에서, R4는 구조식 (B) 중에 2개 이상 존재하지만, 각각 달라도 되고 또, 동일해도 된다.In the structural formula (B), R 4 represents a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group. n1, n2, and n3 are each independently an integer of 0 to 100; Here, R &lt; 4 &gt; is present in two or more of the structural formulas (B), but may be different or may be the same.

상기 구조식 (A) 중, x1, x2, 및 x3은, 이들의 합계가 1~100을 충족시키는 정수이다.In the structural formula (A), x1, x2, and x3 are integers satisfying the sum of 1 to 100.

또, y1은 1~30의 정수이다.In addition, y1 is an integer of 1 to 30.

상기 구조식 (A) 중, X2는 단결합, 또는 하기 구조식 (C)로 나타나는 2가의 기이다.In the structural formula (A), X 2 is a single bond or a divalent group represented by the following structural formula (C).

[화학식 10][Chemical formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

상기 구조식 (C) 중, R8은, 수산기, 아민기, 할로젠 원자 등의 치환기를 가져도 되는 탄소수가 1~6의 직쇄 혹은 분기의 알킬렌기를 나타내고, Q1, 및 Q2는, 산소 원자, 황 원자, 또는 -NRB-를 나타내며, Q1, Q2는, 각각 달라도 되고 또, 동일해도 된다. RB는, 수소 원자, 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.In the structural formula (C), R 8 represents a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent such as a hydroxyl group, an amine group or a halogen atom, Q 1 and Q 2 each represent an oxygen An atom, a sulfur atom, or -NRB-, and Q 1 and Q 2 may be the same or different. RB represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

상기 구조식 (C) 중, Q2는, 상기 구조식 (A)에 있어서의 R7에 결합한다.In the structural formula (C), Q 2 is bonded to R 7 in the structural formula (A).

상기 구조식 (A) 중, Y2는, 하기 구조식 (D)~하기 구조식 (F)로 나타나는 1가의 기를 나타낸다.In the structural formula (A), Y 2 represents a monovalent group represented by the following structural formulas (D) to (F).

[화학식 11](11)

Figure pct00011
Figure pct00011

상기 구조식 (D)~(F) 중, R5는, 수소 원자, 또는 탄소수 1~6의 직쇄상 혹은 분지 쇄상의 알킬기를 나타낸다.In the structural formulas (D) to (F), R 5 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

상기 구조식 (A) 중, Z1, Z2, Z3은 각각 독립적으로 하기 구조식 (G)로 나타나는 1가의 기를 나타낸다.In the structural formula (A), Z 1 , Z 2 and Z 3 each independently represent a monovalent group represented by the following structural formula (G).

[화학식 12][Chemical Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

상기 구조식 (G) 중, R6은 탄소수 1~4의 무치환의 알킬기를 나타내고, y2는 1~100의 정수를 나타내며, 바람직하게는 1~50의 정수, 보다 바람직하게는 1~20의 정수이다.In the structural formula (G), R 6 represents an unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, y 2 represents an integer of 1 to 100, preferably an integer of 1 to 50, more preferably an integer of 1 to 20 to be.

또, 실록세인 골격으로서는, 일본 공개특허공보 2010-18728호의 단락 번호 〔0092〕~〔0094〕에 기재된 구조를 상기의 식 (A)의 구체예로서 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.As the siloxane skeleton, the structure described in paragraphs [0092] to [0094] of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2010-18728 can be given as a concrete example of the above formula (A), but is not limited thereto.

이들 중 폴리옥시알킬렌기를 통하여 실록세인 구조가 폴리머에 결합한 구조가 바람직하다.Among them, a structure in which a siloxane structure is bonded to a polymer via a polyoxyalkylene group is preferable.

<<탄소수 10~30의 알킬기의 부분 구조를 갖는 구성 단위>><< Structural unit having a partial structure of an alkyl group having 10 to 30 carbon atoms >>

탄소수 10~30의 알킬기는, 분기 구조 또는 환상 구조를 포함하고 있어도 되지만, 직쇄 구조의 부분의 탄소수가 10~30의 범위에 있는 것이 바람직하고, 모두 직쇄 구조인 것이 보다 바람직하다.The alkyl group having from 10 to 30 carbon atoms may contain a branched structure or a cyclic structure, but it is preferable that the number of carbon atoms in the straight-chain structure portion is in the range of 10 to 30, more preferably all linear structures.

또, 알킬기의 탄소수는, 10~20인 것이 바람직하다.The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably from 10 to 20.

구체적으로는, 중합체의 측쇄에, 하기 일반식 (a3-1)로 나타나는 기를 갖는 것이 바람직하다.Specifically, it is preferable that the side chain of the polymer has a group represented by the following general formula (a3-1).

[화학식 13][Chemical Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

상기 일반식 (a3-1)에 있어서, na3은 10~30의 정수를 나타내고, *는 폴리머의 주쇄 또는 측쇄와 연결하는 위치를 나타낸다. na3은 10~20의 정수인 것이 바람직하다.In the general formula (a3-1), n a3 represents an integer of 10 to 30, and * represents a position connecting to the main chain or side chain of the polymer. and n a3 is preferably an integer of 10 to 20.

상기 일반식 (a3-1)의 구조를 중합체의 주쇄 또는 측쇄에 도입하는 수법에 특별히 한정은 없지만 예를 들면, 합성 시에 (a3-1)의 구조를 갖는 모노머를 적절히 선택하여 적용하면, 얻어지는 폴리머의 반복 단위 중에 (a3-1)의 구조를 도입할 수 있다.There is no particular limitation on the method for introducing the structure of the general formula (a3-1) into the main chain or side chain of the polymer. For example, when a monomer having the structure (a3-1) is appropriately selected and applied at the time of synthesis, The structure of (a3-1) can be introduced into the repeating unit of the polymer.

또, 상기 일반식 (a3-1)의 구조를 갖는 모노머는, 시판 중인 화합물을 이용할 수 있지만, (a3-1)의 구조를 갖지 않는 시판 중인 모노머에 대하여 (a3-1)에 포함되는 원하는 구조를 적절히 도입하여 이용해도 된다. 시판 중인 모노머에 (a3-1)의 구조를 도입하는 수법에 한정은 없고, 공지의 수법을 적절히 적용하면 된다.The monomer having the structure of the general formula (a3-1) may be a commercially available compound, but it may be a monomer having a desired structure (a3-1) contained in the monomer (a3-1) May be appropriately introduced and used. The method of introducing the structure of (a3-1) into a commercially available monomer is not limited, and a known method may be appropriately applied.

상기 일반식 (a3-1)의 구조를 갖는 모노머는, 중합체의 주쇄 구조에 따라 적절히 선택할 수 있고 예를 들면, 주쇄에 (메트)아크릴 구조를 갖는 폴리머이면, 하기 일반식 (a3-2)로 나타나는 모노머를 이용하는 것이 바람직하다.The monomer having the structure of the general formula (a3-1) can be appropriately selected according to the main chain structure of the polymer. For example, in the case of a polymer having a (meth) acrylic structure in the main chain, the monomer represented by the general formula (a3-2) It is preferable to use an appearing monomer.

[화학식 14][Chemical Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

상기 일반식 (a3-2) 중, R32는 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 할로젠 원자를 나타내고, X31은 2가의 연결기를 나타내며, R33은, 단결합, 또는 알킬렌옥시기를 나타낸다. 또, na3은 상기 일반식 (a3-1)과 바람직한 범위도 포함하여 동의이다.In the general formula (a3-2), R 32 represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a halogen atom, X 31 represents a divalent linking group, and R 33 represents a single bond or an alkyleneoxy group. Also, n a3 is a synonym including the above general formula (a3-1) and a preferable range.

상기 일반식 (a3-2)에 있어서, R32는 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 또는 할로젠 원자이고, 보다 바람직하게는, 수소 원자, 또는 메틸기이며, 더 바람직하게는, 메틸기이다.In the general formula (a3-2), R 32 is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a halogen atom, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a methyl group.

상기 일반식 (a3-2)에 있어서, X31로서의 2가의 연결기로서는, -O-, -S-, -N(R4)-, 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 -O-가 보다 바람직하다.In the general formula (a3-2), examples of the divalent linking group as X 31 include -O-, -S-, -N (R 4 ) -, and the like. Of these, -O- is more preferable.

여기에서, R4는, 수소 원자, 또는 탄소수 1~4개의 알킬기를 나타낸다. 알킬기로서는, 직쇄 구조여도 되고, 분기 구조여도 되며, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, tert-뷰틸기 등을 들 수 있고, 바람직하게는, 수소 원자, 메틸기이다.Here, R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group may be a straight chain structure or a branched structure and includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group and a tert-butyl group, Methyl group.

또, R33의 알킬렌옥시기로서는, 탄소수 1~4인 것이 바람직하다. 알킬렌옥시기는, 분기 구조를 갖고 있어도 된다. 또, 치환기를 갖고 있어도 되고, 무치환이어도 된다. 갖고 있어도 되는 치환기로서는, 할로젠 원자 등을 들 수 있다. 알킬렌옥시기의 구체예로서는, 메틸렌옥시기, 에틸렌옥시기, 프로필렌옥시기, 뷰틸렌옥시기, 등을 예시할 수 있다.The alkyleneoxy group represented by R 33 preferably has 1 to 4 carbon atoms. The alkyleneoxy group may have a branched structure. It may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent which may be contained include a halogen atom and the like. Specific examples of the alkyleneoxy group include a methyleneoxy group, an ethyleneoxy group, a propyleneoxy group, a butyleneoxy group and the like.

이들 중에서도, R33은 탄소수 1~4의 무치환의 직쇄 알킬렌옥시기, 또는 단결합인 것이 바람직하고, 단결합인 것이 보다 바람직하다.Among them, R 33 is preferably an unsubstituted straight-chain alkyleneoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a single bond, more preferably a single bond.

상기 일반식 (a3-2)로 나타나는 모노머를 이용함으로써, 하기 일반식 (U-a3-1)로 나타나는 반복 단위를 갖는 중합체를 얻을 수 있다.By using the monomer represented by the formula (a3-2), a polymer having a repeating unit represented by the following formula (U-a3-1) can be obtained.

이와 같은 중합체는, 하기 일반식 (U-a3-1)로 나타나는 반복 단위를 갖는 것이 바람직한 형태의 하나이다.Such a polymer is one of preferable forms having a repeating unit represented by the following general formula (U-a3-1).

[화학식 15][Chemical Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

상기 일반식 (U-a3-1)에 있어서, na3은 상기 일반식 (a3-1)과 바람직한 범위도 포함하여 동의이고, R32, X31, 및 R33은, 상기 일반식 (a3-2)와 바람직한 범위도 포함하여 동의이다.In the general formula (U-a3-1), n a3 is the same as the general formula (a3-1) including the preferred range and R 32 , X 31 , and R 33 are the same as those in the general formula (a3- 2) and the preferred scope.

이하, 상기 일반식 (a3-2)로 나타나는 모노머의 구체예를 나타낸다. 단, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the monomer represented by the above general formula (a3-2) are shown below. However, the present invention is not limited thereto.

[화학식 16][Chemical Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

<<광배향성기를 갖는 구성 단위>><< Constituent Unit Having Photo Orientation Group >>

중합체 P는, 상술한, 불소 치환 탄화 수소기, 실록세인 골격 및 탄소수 10~30의 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 부분 구조를 갖는 구성 단위와 함께, 광배향성기를 갖는 구성 단위를 갖는 중합체이다.Polymer P is a polymer having a structural unit having at least one partial structure selected from the group consisting of a fluorine-substituted hydrocarbon group, a siloxane skeleton and an alkyl group having 10 to 30 carbon atoms, to be.

여기에서, 광배향성기는, 상기 배향성기에 있어서 설명한 것과 동일하다.Here, the photo-orientable group is the same as that described in the above-mentioned oriented group.

광배향성기를 갖는 구성 단위를 갖는 중합체는, 그 주쇄 골격은 특별히 한정되지 않지만, 측쇄의 분자 설계가 다양해지고, 에틸렌성 불포화 화합물의 라디칼 중합 반응에 의한 주쇄 형성이 간편한 이유에서, 하기 식 (III)으로 나타나는 반복 단위를 갖는 폴리머인 것이 바람직하다.The main chain structure of the polymer having a photo-orientable group is not particularly limited. However, since the molecular design of the side chain is varied and the main chain formation by the radical polymerization reaction of the ethylenically unsaturated compound is easy, Is a polymer having a repeating unit represented by the following formula

[화학식 17][Chemical Formula 17]

Figure pct00017
Figure pct00017

여기에서, 상기 식 (III) 중, R1은 수소 원자 또는 알킬기를 나타낸다. X는 아릴렌기, -(C=O)-O-, 또는 -(C=O)-NR-(R은 수소 원자 또는 탄소수 1~4개의 알킬기를 나타냄)을 나타낸다. L은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, P는 광배향성기를 나타낸다.In the formula (III), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group. X represents an arylene group, - (C = O) -O-, or - (C = O) -NR- (R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). L represents a single bond or a divalent linking group, and P represents a photo-orientable group.

상기 식 (III) 중, R1은, 수소 원자 또는 알킬기를 나타내고, 알킬기로서는 탄소수 1~4의 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기 등)가 바람직하다. R1은, 수소 원자 또는 메틸기인 것이 바람직하다.In the formula (III), R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group, an alkyl group, the alkyl group having from 1 to 4 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, n- propyl group, isopropyl group, n- view group and the like) . R 1 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.

또, 상기 식 (III) 중, L은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, 2가의 연결기로서는 -O-, -S-, 알킬렌기, 아릴렌기, 또는 이들을 복수 조합하여 이루어지는 기가 바람직하다. L이 나타내는 알킬렌기로서는 직쇄, 분기, 또는 환상 구조여도 되지만, 직쇄 구조인 것이 바람직하다. L이 나타내는 알킬렌기의 탄소수는 1~10이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 2~4가 더 바람직하다. 또, L이 나타내는 아릴렌기로서는, 페닐렌기, 톨릴렌기, 자일릴렌기 등을 들 수 있고, 페닐렌기가 바람직하다.In the formula (III), L represents a single bond or a divalent linking group, and the divalent linking group is preferably a group formed by -O-, -S-, an alkylene group, an arylene group, or a combination thereof. The alkylene group represented by L may be a straight chain, branched or cyclic structure, but is preferably a straight chain structure. The number of carbon atoms of the alkylene group represented by L is preferably from 1 to 10, more preferably from 1 to 6, still more preferably from 2 to 4. Examples of the arylene group represented by L include a phenylene group, a tolylene group and a xylylene group, and a phenylene group is preferable.

상기 식 (III) 중, P는 광배향성기를 나타내고, 그 구체예로서는, 칼콘기, 신나메이트기, 스틸베닐기, 말레이미드기, 아조벤질기를 적합하게 들 수 있다. 그 중에서도, 칼콘기, 신나메이트기가 보다 바람직하다. 또, P가 나타내는 광배향성기는, 광배향성을 잃지 않는 한 치환기를 갖고 있어도 된다. 구체적인 치환기로서는 예를 들면, 할로제노기, 알킬기, 아릴기 등을 들 수 있고, 알킬기 또는 아릴기인 것이 바람직하다. 상기의 알킬기 또는 아릴기의 탄소수는 1~10이 바람직하고, 1~7이 보다 바람직하다.In the formula (III), P represents a photo-orientable group, and specific examples thereof include a chalconic group, a cinnamate group, a stilbenyl group, a maleimide group and an azobenzyl group. Among them, a calcicon group and a cinnamate group are more preferable. The photo-orientable group represented by P may have a substituent unless the photo-alignment property is lost. Specific examples of the substituent include a halogeno group, an alkyl group, an aryl group and the like, preferably an alkyl group or an aryl group. The alkyl group or aryl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 7 carbon atoms.

이하에 상기 식 (III)으로 나타나는 반복 단위를 갖는 중합체의 바람직한 구체예를 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Specific preferred examples of the polymer having a repeating unit represented by the formula (III) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

[화학식 18][Chemical Formula 18]

Figure pct00018
Figure pct00018

[화학식 19][Chemical Formula 19]

Figure pct00019
Figure pct00019

[화학식 20][Chemical Formula 20]

Figure pct00020
Figure pct00020

[화학식 21][Chemical Formula 21]

Figure pct00021
Figure pct00021

[화학식 22][Chemical Formula 22]

Figure pct00022
Figure pct00022

[화학식 23](23)

Figure pct00023
Figure pct00023

[화학식 24]&Lt; EMI ID =

Figure pct00024
Figure pct00024

Figure pct00025
Figure pct00025

[화학식 25](25)

Figure pct00026
Figure pct00026

상기 식 (I)로 나타나는 반복 단위를 갖는 중합체는, (a) 대응하는 모노머를 중합시켜 직접 광반응성기를 도입하는 방법으로 합성해도 되고, (b) 임의의 관능기를 갖는 모노머를 중합하여 얻어지는 폴리머에 고분자 반응에 의하여 광반응성기를 도입하는 방법으로 합성해도 된다. 또, (a) 및 (b)의 수법을 조합하여 합성할 수도 있다.The polymer having a repeating unit represented by the above formula (I) may be synthesized by (a) polymerizing a corresponding monomer to directly introduce a photoreactive group, (b) polymer obtained by polymerizing a monomer having an arbitrary functional group Or may be synthesized by a method in which a photoreactive group is introduced by a polymer reaction. It is also possible to combine the methods (a) and (b).

여기에서, 상술한 (a) 및 (b) 방법에 있어서 이용 가능한 중합 반응으로서는, 라디칼 중합, 양이온 중합 및 음이온 중합 등을 들 수 있다.Examples of the polymerization reaction that can be used in the above-mentioned methods (a) and (b) include radical polymerization, cationic polymerization, and anionic polymerization.

또, 상기 식 (I)로 나타나는 반복 단위를 갖는 중합체는, 복수 종류의 상기 식 (I)로 나타나는 반복 단위로 구성된 코폴리머여도 되고 또, 상기 식 (I) 이외의 반복 단위(예를 들면 에틸렌성 불포화기를 포함하지 않는 반복 단위)를 포함한 코폴리머여도 된다.The polymer having a repeating unit represented by the above formula (I) may be a copolymer composed of a plurality of repeating units represented by the above formula (I) and may be a repeating unit other than the above-mentioned formula (I) A repeating unit not containing a sulfonic acid group, or a repeating unit containing no unsaturated group).

{구성 단위 s1의 바람직한 양태}{Preferred Embodiment of Constituent Unit s1}

상기 구성 단위 s1은, 전체 중합체 성분의 구성 단위에 대하여, 0.01~10몰%가 바람직하고, 0.1~10몰%가 보다 바람직하며, 0.1~5몰%가 더 바람직하고, 0.1~3몰%가 특히 바람직하며, 0.5~3몰%가 가장 바람직하다.The constituent unit s1 is preferably from 0.01 to 10 mol%, more preferably from 0.1 to 10 mol%, still more preferably from 0.1 to 5 mol%, even more preferably from 0.1 to 3 mol%, based on the total structural units of the polymer component , And most preferably 0.5 to 3 mol%.

또, 상기 구성 단위 s1 중에서, 편재성기를 갖는 구성 단위의 함유량은, 0.01~3몰%가 바람직하고, 0.1~3몰%가 보다 바람직하며, 0.5~3몰%가 더 바람직하다.The content of the constituent unit having a ubiquitous group in the constituent unit s1 is preferably 0.01 to 3 mol%, more preferably 0.1 to 3 mol%, and still more preferably 0.5 to 3 mol%.

또, 상기 구성 단위 s1 중에서, 광배향성기를 갖는 구성 단위의 함유량은, 0.01~5몰%가 바람직하고, 0.1~5몰%가 보다 바람직하며, 1~3몰%가 더 바람직하다.The content of the structural unit having a photo-orientable group in the structural unit s1 is preferably from 0.01 to 5 mol%, more preferably from 0.1 to 5 mol%, still more preferably from 1 to 3 mol%.

상기 구성 단위 s1을 갖는 중합체에 있어서, 구성 단위 s1의 함유량은, 상기 중합체의 전체 구성 단위에 대하여, 20~90몰%가 바람직하고, 20~80몰%가 보다 바람직하며, 20~70몰%가 더 바람직하다. 이 경우에 있어서, 편재성기를 갖는 구성 단위의 함유량은, 1~50몰%가 바람직하고, 5~30몰%가 보다 바람직하며, 10~20몰%가 더 바람직하다. 또, 광배향성기를 갖는 구성 단위의 함유량은, 1~70몰%가 바람직하고, 10~60몰%가 보다 바람직하며, 20~50몰%가 더 바람직하다.In the polymer having the constituent unit s1, the content of the constituent unit s1 is preferably 20 to 90 mol%, more preferably 20 to 80 mol%, and still more preferably 20 to 70 mol%, based on the total constituent units of the polymer. Is more preferable. In this case, the content of the constituent unit having a urethane group is preferably 1 to 50 mol%, more preferably 5 to 30 mol%, and still more preferably 10 to 20 mol%. The content of the photo-alignable group-containing structural unit is preferably from 1 to 70 mol%, more preferably from 10 to 60 mol%, still more preferably from 20 to 50 mol%.

또한, 본 발명에 있어서, "구성 단위"의 함유량을 몰비로 규정하는 경우, "구성 단위"는 "모노머 단위"와 동의인 것으로 한다. 또, 본 발명에 있어서 "모노머 단위"는, 고분자 반응 등에 의하여 중합 후에 수식되어 있어도 된다. 이하에 있어서도 동일하다.In the present invention, when the content of the "constituent unit" is defined as a molar ratio, "constituent unit" In the present invention, the "monomer unit" may be modified after polymerization by a polymer reaction or the like. The same goes for the following.

<<다른 구성 단위>><< Other building blocks >>

상기 중합체 P로서는 예를 들면, 상술한 구성 단위 s1 이외에, 산기가 산분해성기로 보호된 기를 갖는 구성 단위 a1, 가교성기를 갖는 구성 단위 a2, 산기를 갖는 구성 단위 a3, 이들 이외의 구성 단위 a4를 갖고 있어도 된다.Examples of the polymer P include, in addition to the aforementioned constituent unit s1, a constituent unit a1 having an acid group protected with an acid-decomposable group, a constituent unit a2 having a crosslinkable group, a constituent unit a3 having an acid group, .

이들 구성 단위 중, 상술한 바와 같이, 배향 보호층에 있어서 상술한 가교 구조를 형성하기 쉬운 이유에서, 가교성기를 갖는 구성 단위 a2 및/또는 산기를 갖는 구성 단위 a3을 갖고 있는 것이 바람직하다.Among these structural units, as described above, it is preferable that the structural unit a2 having a crosslinkable group and / or the structural unit a3 having an acid group are contained in the orientation protection layer for the reason that the above-mentioned crosslinked structure is easily formed.

<<<구성 단위 a1>>><<< Configuration unit a1 >>>

구성 단위 a1은, 산기가 산분해성기로 보호된 기를 갖는 구성 단위(이하, 구성 단위 a1이라고도 함)이다.The structural unit a1 is a structural unit having an acid group protected by an acid-decomposable group (hereinafter also referred to as structural unit a1).

본 발명에 있어서의 "산기가 산분해성기로 보호된 기"는, 산을 촉매(또는 개시제)로 하여 탈보호 반응을 일으켜, 산기와 재생된 산으로 분해된 구조를 발생하는 기를 의미한다.The term "a group protected with an acid-decomposable group" in the present invention means a group which causes a deprotection reaction with an acid as a catalyst (or an initiator) to generate a structure decomposed by an acid group and a regenerated acid.

본 발명에 있어서의 "산기가 산분해성기로 보호된 기"는, 산기 및 산분해성기로서 공지의 것을 사용할 수 있고, 특별히 한정되지 않는다.The "group in which the acid group is protected with an acid-decomposable group" in the present invention may be any of those known as an acid group and an acid decomposable group, and is not particularly limited.

산기로서는 예를 들면, 카복실기, 페놀성 수산기 등을 바람직하게 들 수 있다.As the acid group, for example, a carboxyl group, a phenolic hydroxyl group and the like are preferably exemplified.

또, 산분해성기로서는, 산에 의하여 비교적 분해되기 쉬운 기(예를 들면, 에스터 구조, 테트라하이드로피란일에스터기 또는, 테트라하이드로퓨란일에스터기 등의 아세탈계 관능기)나, 산에 의하여 비교적 분해되기 어려운 기(예를 들면, tert-뷰틸에스터기 등의 제3급 알킬기, tert-뷰틸카보네이트기 등의 제3급 알킬카보네이트기) 등을 들 수 있다.Examples of the acid decomposable group include groups which are relatively easily decomposed by an acid (for example, an ester structure, an acetal functional group such as a tetrahydropyranyl ester group or a tetrahydrofuranyl ester group) (For example, a tertiary alkyl group such as a tert-butyl ester group, a tertiary alkylcarbonate group such as a tert-butylcarbonate group), and the like.

산기가 산분해성기로 보호된 기를 갖는 구성 단위 a1은, 카복실기가 산분해성기로 보호된 보호 카복실기를 갖는 구성 단위(이하, "산분해성기로 보호된 보호 카복실기를 갖는 구성 단위"라고도 함) 또는, 페놀성 수산기가 산분해성기로 보호된 보호 페놀성 수산기를 갖는 구성 단위(이하, "산분해성기로 보호된 보호 페놀성 수산기를 갖는 구성 단위"라고도 함)인 것이 바람직하다.The constituent unit a1 having a group protected by an acid-decomposable group is a constituent unit in which a carboxyl group is protected by an acid-decomposable group (hereinafter also referred to as " constituent unit having a protected carboxyl group protected with an acid-decomposable group & (Hereinafter, also referred to as " a structural unit having a protective phenolic hydroxyl group protected with an acid-decomposable group ") protected with an acid-decomposable group.

이하, 산분해성기로 보호된 보호 카복실기를 갖는 구성 단위 a1-1과, 산분해성기로 보호된 보호 페놀성 수산기를 갖는 구성 단위 a1-2에 대하여, 순서대로 각각 설명한다.Hereinafter, the structural unit a1-1 having a protected carboxyl group protected with an acid-decomposable group and the constituent unit a1-2 having a protected phenolic hydroxyl group protected with an acid-decomposable group will be described in order.

{산분해성기로 보호된 보호 카복실기를 갖는 구성 단위 a1-1}{Structural unit a1-1 having a protected carboxyl group protected with an acid-decomposable group}

상기 산분해성기로 보호된 보호 카복실기를 갖는 구성 단위 a1-1은, 카복실기를 갖는 구성 단위의 카복실기가, 이하에서 상세하게 설명하는 산분해성기에 의하여 보호된 보호 카복실기를 갖는 구성 단위이다.The structural unit a1-1 having a protected carboxyl group protected with an acid-decomposable group is a structural unit having a carboxyl group of the structural unit having a carboxyl group and having a protected carboxyl group protected by an acid-decomposable group described in detail below.

상기 산분해성기로 보호된 보호 카복실기를 갖는 구성 단위 a1-1에 이용할 수 있는 상기 카복실기를 갖는 구성 단위로서는, 특별히 제한은 없고 공지의 구성 단위를 이용할 수 있다. 예를 들면, 불포화 모노카복실산, 불포화 다이카복실산, 불포화 트라이카복실산 등의, 분자 중에 적어도 1개의 카복실기를 갖는 불포화 카복실산 등에서 유래하는 구성 단위 a1-1-1이나, 에틸렌성 불포화기와 산무수물 유래의 구조를 함께 갖는 구성 단위 a1-1-2를 들 수 있다.The structural unit having a carboxyl group which can be used for the structural unit a1-1 having a protected carboxyl group protected with an acid-decomposable group is not particularly limited and a known structural unit can be used. Examples of the constitutional unit a1-1-1 derived from an unsaturated carboxylic acid having at least one carboxyl group in the molecule such as an unsaturated monocarboxylic acid, an unsaturated dicarboxylic acid and an unsaturated tricarboxylic acid, or a structure derived from an ethylenic unsaturated group and an acid anhydride Containing structural units a1-1-2.

이하, 상기 카복실기를 갖는 구성 단위로서 이용되는 a1-1-1 분자 중에 적어도 1개의 카복실기를 갖는 불포화 카복실산 등에서 유래하는 구성 단위와, a1-1-2 에틸렌성 불포화기와 산무수물 유래의 구조를 함께 갖는 구성 단위에 대하여, 각각 순서대로 설명한다.Hereinafter, structural units derived from an unsaturated carboxylic acid or the like having at least one carboxyl group in the molecule a1-1-1 used as the structural unit having a carboxyl group, and structural units derived from a1-1-2 ethylenically unsaturated group and acid anhydride- Constituent units will be described in order.

{{분자 중에 적어도 1개의 카복실기를 갖는 불포화 카복실산 등에서 유래하는 구성 단위 a1-1-1}}{(Structural unit a1-1-1 derived from an unsaturated carboxylic acid or the like having at least one carboxyl group in the molecule)

상기 분자 중에 적어도 1개의 카복실기를 갖는 불포화 카복실산 등에서 유래하는 구성 단위 a1-1-1로서 본 발명에서 이용되는 불포화 카복실산으로서는 예를 들면, 일본 공개특허공보 2014-238438호의 단락 0043에 기재된 화합물을 들 수 있다.Examples of the unsaturated carboxylic acid used in the present invention as the constituent unit a1-1-1 derived from an unsaturated carboxylic acid having at least one carboxyl group in the molecule include the compounds described in paragraph 0043 of JP-A No. 2014-238438 have.

그 중에서도, 현상성의 관점에서, 상기 구성 단위 a1-1-1을 형성하기 위해서는, 아크릴산, 메타크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸-석신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 또는 불포화 다가 카복실산의 무수물 등을 이용하는 것이 바람직하고, 아크릴산, 메타크릴산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산을 이용하는 것이 보다 바람직하다.Among them, from the viewpoint of developability, in order to form the aforementioned structural unit a1-1-1, acrylic acid, methacrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl-succinic acid, 2- (meth) acryloyloxy (Meth) acryloyloxyethylphthalic acid, or an anhydride of an unsaturated polycarboxylic acid, and the like, and acrylic acid, methacrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, It is more preferable to use them.

상기 분자 중에 적어도 1개의 카복실기를 갖는 불포화 카복실산 등에서 유래하는 구성 단위 a1-1-1은, 1종 단독으로 구성되어 있어도 되고, 2종 이상으로 구성되어 있어도 된다.The constituent unit a1-1-1 derived from an unsaturated carboxylic acid or the like having at least one carboxyl group in the molecule may be composed of one kind alone or two or more kinds.

{{에틸렌성 불포화기와 산무수물 유래의 구조를 함께 갖는 구성 단위 a1-1-2}}{{Structural units a1-1-2 having an ethylenic unsaturated group and a structure derived from an acid anhydride together}}

에틸렌성 불포화기와 산무수물 유래의 구조를 함께 갖는 구성 단위 a1-1-2는, 에틸렌성 불포화기를 갖는 구성 단위 중에 존재하는 수산기와 산무수물을 반응시켜 얻어진 모노머에서 유래하는 단위인 것이 바람직하다.The constituent unit a1-1-2 having both the ethylenically unsaturated group and the structure derived from an acid anhydride is preferably a unit derived from a monomer obtained by reacting a hydroxyl group and an acid anhydride which are present in the constituent unit having an ethylenic unsaturated group.

상기 산무수물로서는, 공지의 것을 사용할 수 있고 구체적으로는, 무수 말레산, 무수 석신산, 무수 이타콘산, 무수 프탈산, 테트라하이드로 무수 프탈산, 헥사하이드로 무수 프탈산, 무수 클로렌드산 등의 이염기산 무수물; 무수 트라이멜리트산, 무수 파이로멜리트산, 벤조페논테트라카복실산 무수물, 바이페닐테트라카복실산 무수물 등의 산무수물을 들 수 있다. 이들 중에서는, 현상성의 관점에서, 무수 프탈산, 테트라하이드로 무수 프탈산 또는, 무수 석신산이 바람직하다.As the acid anhydride, known dicarboxylic acid anhydrides such as maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride and anhydrous chloric anhydride; Acid anhydrides such as trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic acid anhydride and biphenyltetracarboxylic acid anhydride. Of these, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, or succinic anhydride are preferable from the viewpoint of developability.

상기 산무수물의 수산기에 대한 반응률은, 현상성의 관점에서, 바람직하게는 10~100몰%, 보다 바람직하게는 30~100몰%이다.The reaction rate of the acid anhydride with respect to the hydroxyl group is preferably 10 to 100 mol%, more preferably 30 to 100 mol% from the viewpoint of developability.

(구성 단위 a1-1에 이용할 수 있는 산분해성기)(An acid-decomposable group usable in the structural unit a1-1)

상기 산분해성기로 보호된 보호 카복실기를 갖는 구성 단위 a1-1에 이용할 수 있는 상기 산분해성기로서는 상술한 산분해성기를 이용할 수 있다.As the acid decomposable group usable in the structural unit a1-1 having a protected carboxyl group protected with the acid decomposable group, the acid decomposable group described above can be used.

이들 산분해성기 중에서도 카복실기가 아세탈의 형태로 보호된 보호 카복실기인 것이, 수지 조성물의 기본 물성, 특히 감도나 패턴 형상, 콘택트 홀의 형성성, 수지 조성물의 보존 안정성의 관점에서 바람직하다. 또한 산분해성기 중에서도 카복실기가 하기 식 (a1-10)으로 나타나는 아세탈의 형태로 보호된 보호 카복실기인 것이, 감도의 관점에서 보다 바람직하다. 또한, 카복실기가 하기 식 a1-10으로 나타나는 아세탈의 형태로 보호된 보호 카복실기인 경우, 보호 카복실기의 전체로서는, -(C=O)-O-CR101R102(OR103)의 구조로 되어 있다.Among these acid decomposable groups, the carboxyl group is preferably a protected carboxyl group protected in the form of an acetal from the viewpoints of the basic physical properties of the resin composition, particularly from the viewpoints of sensitivity and pattern shape, the formation of contact holes, and the storage stability of the resin composition. Among the acid decomposable groups, from the viewpoint of sensitivity, it is more preferable that the carboxyl group is a protected carboxyl group protected in the form of an acetal represented by the following formula (a1-10). Further, as the whole of the carboxyl group, if the formula protected carboxyl group protected in the form of an acetal represented by a1-10, protected carboxyl group, - a structure of a (C = O) -O-CR 101 R 102 (OR 103) have.

[화학식 26](26)

Figure pct00027
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상기 식 (a1-10) 중, R101 및 R102는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄화 수소기를 나타내고, 단, R101과 R102가 함께 수소 원자인 경우를 제외한다. R103은, 알킬기를 나타낸다. R101 또는 R102와, R103이 연결되어 환상 에터를 형성해도 된다.In the formula (a1-10), R 101 and R 102 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group, provided that R 101 and R 102 are not hydrogen atoms at the same time. R 103 represents an alkyl group. R 101 or R 102 and R 103 may be connected to form a cyclic ether.

상기 식 (a1-10) 중, R101 및 R102는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 알킬기를 나타내고, 상기 알킬기는 직쇄상, 분기쇄상, 환상 중 어느 것이어도 된다. 여기에서, R101 및 R102의 쌍방이 수소 원자를 나타내는 경우는 없고, R101 및 R102 중 적어도 한쪽은 알킬기를 나타낸다.In the formula (a1-10), R 101 and R 102 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and the alkyl group may be any of linear, branched and cyclic. Here, in the case where both of R 101 and R 102 represent a hydrogen atom is not, at least one of R 101 and R 102 represents an alkyl group.

상기 식 (a1-10)에 있어서, R101, R102 및 R103이 알킬기를 나타내는 경우, 상기 알킬기는 직쇄상, 분기쇄상 또는 환상 중 어느 것이어도 된다.When R 101 , R 102 and R 103 in the formula (a1-10) represent an alkyl group, the alkyl group may be any of linear, branched or cyclic.

상기 직쇄상의 알킬기로서는, 탄소수 1~12인 것이 바람직하고, 탄소수 1~6인 것이 보다 바람직하며, 탄소수 1~4인 것이 더 바람직하다. 분기쇄상으로서는, 탄소수 3~6인 것이 보다 바람직하고, 탄소수 3 또는 4인 것이 더 바람직하다. 구체적으로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-뷰틸기, i-뷰틸기, sec-뷰틸기, tert-뷰틸기, n-펜틸기, 네오펜틸기, n-헥실기, 텍실기(2,3-다이메틸-2-뷰틸기), n-헵틸기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, n-노닐기, n-데실기 등을 들 수 있다.The straight-chain alkyl group preferably has 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and more preferably 1 to 4 carbon atoms. The branched chain is more preferably 3 to 6 carbon atoms, and more preferably 3 or 4 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, an i-butyl group, a sec-butyl group, a tert- N-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group and the like.

상기 환상 알킬기로서는, 탄소수 3~12인 것이 바람직하고, 탄소수 4~8인 것이 보다 바람직하며, 탄소수 4~6인 것이 더 바람직하다. 상기 환상 알킬기로서는, 예를 들면 사이클로프로필기, 사이클로뷰틸기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기, 사이클로헵틸기, 사이클로옥틸기, 노보닐기, 아이소보닐기 등을 들 수 있다.The cyclic alkyl group preferably has 3 to 12 carbon atoms, more preferably 4 to 8 carbon atoms, and more preferably 4 to 6 carbon atoms. Examples of the cyclic alkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group, and an isobonyl group.

상기 알킬기는 치환기를 갖고 있어도 되고, 치환기로서는, 할로젠 원자, 아릴기, 알콕시기를 예시할 수 있다. 치환기로서 할로젠 원자를 갖는 경우, R101, R102, R103은 할로알킬기가 되고, 치환기로서 아릴기를 갖는 경우, R101, R102, R103은 아랄킬기가 된다.The alkyl group may have a substituent, and examples of the substituent include a halogen atom, an aryl group, and an alkoxy group. When R 101 , R 102 and R 103 are a haloalkyl group and have an aryl group as a substituent, R 101 , R 102 and R 103 are an aralkyl group when they have a halogen atom as a substituent.

상기 할로젠 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자가 예시되고, 이들 중에서도, 불소 원자 또는 염소 원자가 바람직하다.Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and among them, a fluorine atom or a chlorine atom is preferable.

또, 상기 아릴기로서는, 탄소수 6~20의 아릴기가 바람직하고, 탄소수 6~12의 아릴기가 보다 바람직하다. 구체적으로는, 페닐기, α-메틸페닐기, 나프틸기 등을 예시할 수 있고, 아릴기로 치환된 알킬기 전체, 즉, 아랄킬기로서는, 벤질기, α-메틸벤질기, 펜에틸기, 나프틸메틸기 등을 예시할 수 있다.The aryl group is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and more preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Specific examples thereof include a phenyl group, an? -Methylphenyl group and a naphthyl group. Examples of the alkyl group substituted with an aryl group, that is, an aralkyl group include a benzyl group, an? -Methylbenzyl group, a phenethyl group, For example.

상기 알콕시기로서는, 탄소수 1~6의 알콕시기가 바람직하고, 탄소수 1~4의 알콕시기가 보다 바람직하며, 메톡시기 또는 에톡시기가 더 바람직하다.The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a methoxy group or an ethoxy group.

또, 상기 알킬기가 사이클로알킬기인 경우, 상기 사이클로알킬기는 치환기로서 탄소수 1~10의 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬기를 갖고 있어도 되고, 알킬기가 직쇄상 또는 분기쇄상의 알킬기인 경우에는, 치환기로서 탄소수 3~12의 사이클로알킬기를 갖고 있어도 된다.When the alkyl group is a cycloalkyl group, the cycloalkyl group may have a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms as a substituent. When the alkyl group is a straight chain or branched chain alkyl group, To 12 cycloalkyl groups.

이들 치환기는, 상기 치환기에 의하여 추가로 치환되어 있어도 된다.These substituents may be further substituted by the substituents described above.

상기 식 (a1-10)에 있어서, R101, R102 및 R103이 아릴기를 나타내는 경우, 상기 아릴기는 탄소수 6~12인 것이 바람직하고, 탄소수 6~10인 것이 보다 바람직하다. 상기 아릴기는 치환기를 갖고 있어도 되고, 상기 치환기로서는 탄소수 1~6의 알킬기를 바람직하게 예시할 수 있다. 아릴기로서는 예를 들면, 페닐기, 톨릴기, 자일릴기, 큐멘일기, 1-나프틸기 등을 예시할 수 있다.When R 101 , R 102 and R 103 in the formula (a1-10) represent an aryl group, the aryl group preferably has 6 to 12 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms. The aryl group may have a substituent, and as the substituent, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms may be preferably exemplified. Examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a cumene group, and a 1-naphthyl group.

또, R101, R102 및 R103은 서로 결합하여, 그들이 결합하고 있는 탄소 원자와 함께 하나가 되어 환을 형성할 수 있다. R101과 R102, R101과 R103 또는 R102와 R103이 결합한 경우의 환구조로서는, 예를 들면 사이클로뷰틸기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기, 사이클로헵틸기, 테트라하이드로퓨란일기, 아다만틸기 및 테트라하이드로피란일기 등을 들 수 있다.Further, R 101 , R 102 and R 103 may combine with each other to form a ring together with the carbon atoms to which they are bonded. Examples of the ring structure in the case where R 101 and R 102 , R 101 and R 103, or R 102 and R 103 are bonded include a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a tetrahydrofuranyl group, A t-butyl group and a tetrahydropyranyl group.

또한, 상기 식 (a1-10)에 있어서, R101 및 R102 중 어느 한쪽이, 수소 원자 또는 메틸기인 것이 바람직하다.In the formula (a1-10), it is preferable that either R 101 or R 102 is a hydrogen atom or a methyl group.

상기 식 (a1-10)으로 나타나는 보호 카복실기를 갖는 구성 단위를 형성하기 위하여 이용되는 라디칼 중합성 단량체는, 시판 중인 것을 이용해도 되고, 공지의 방법으로 합성한 것을 이용할 수도 있다. 예를 들면, 일본 공개특허공보 2011-221494호의 단락 0037~0040에 기재된 합성 방법 등으로 합성할 수 있다.As the radically polymerizable monomer used for forming the constituent unit having a protective carboxyl group represented by the above formula (a1-10), commercially available ones may be used, or those synthesized by known methods may be used. For example, it can be synthesized by a synthesis method described in paragraphs 0037 to 0040 of Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2011-221494.

상기 산분해성기로 보호된 보호 카복실기를 갖는 구성 단위 a1-1의 제1 바람직한 양태는, 하기 식으로 나타나는 구성 단위이다.A first preferred embodiment of the structural unit a1-1 having a protected carboxyl group protected with an acid-decomposable group is a structural unit represented by the following formula.

[화학식 27](27)

Figure pct00028
Figure pct00028

식 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, 적어도 R1 및 R2 중 어느 한쪽이 알킬기 또는 아릴기이며, R3은, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, R1 또는 R2와, R3이 연결되어 환상 에터를 형성해도 되며, R4는, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, X는 단결합 또는 아릴렌기를 나타낸다.Wherein R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, at least one of R 1 and R 2 is an alkyl group or an aryl group, R 3 is an alkyl group or an aryl group, and R 1 Or R 2 and R 3 may be connected to form a cyclic ether, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, and X represents a single bond or an arylene group.

R1 및 R2가 알킬기인 경우, 탄소수는 1~10의 알킬기가 바람직하다. R1 및 R2가 아릴기인 경우, 페닐기가 바람직하다. R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~4의 알킬기가 바람직하다.When R 1 and R 2 are alkyl groups, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable. When R 1 and R 2 are aryl groups, a phenyl group is preferred. R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

R3은, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고, 탄소수 1~10의 알킬기가 바람직하며, 1~6의 알킬기가 보다 바람직하다.R 3 represents an alkyl group or an aryl group, preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

X는, 단결합 또는 아릴렌기를 나타내고, 단결합이 바람직하다.X represents a single bond or an arylene group, preferably a single bond.

상기 산분해성기로 보호된 보호 카복실기를 갖는 구성 단위 a1-1의 제2 바람직한 양태는, 하기 식으로 나타나는 구성 단위이다.A second preferred embodiment of the structural unit a1-1 having a protected carboxyl group protected with an acid-decomposable group is a structural unit represented by the following formula.

[화학식 28](28)

Figure pct00029
Figure pct00029

식 중, R121은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, L1은 카보닐기를 나타내며, R122~R128은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타내고, 수소 원자가 바람직하다.In the formula, R 121 represents a hydrogen atom or a methyl group, L 1 represents a carbonyl group, R 122 to R 128 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably a hydrogen atom.

상기 산분해성기로 보호된 보호 카복실기를 갖는 구성 단위 a1-1의 바람직한 구체예로서는, 하기의 구성 단위를 예시할 수 있다. 또한, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.Preferable specific examples of the structural unit a1-1 having a protected carboxyl group protected with an acid-decomposable group include the following structural units. R represents a hydrogen atom or a methyl group.

[화학식 29][Chemical Formula 29]

Figure pct00030
Figure pct00030

{산분해성기로 보호된 보호 페놀성 수산기를 갖는 구성 단위 a1-2}{Structural unit a1-2 having a protected phenolic hydroxyl group protected with an acid-decomposable group}

상기 산분해성기로 보호된 보호 페놀성 수산기를 갖는 구성 단위 a1-2로서는, 하이드록시스타이렌계 구성 단위나 노볼락계의 수지에 있어서의 구성 단위를 들 수 있다.Examples of the structural unit a1-2 having a protected phenolic hydroxyl group protected by the acid-decomposable group include a constituent unit in a hydroxystyrene-based structural unit and a novolac-based resin.

이들 중, 하이드록시스타이렌, 또는 α-메틸하이드록시스타이렌에서 유래하는 구성 단위가, 감도의 관점에서 바람직하다.Of these, a structural unit derived from hydroxystyrene or? -Methylhydroxystyrene is preferable from the viewpoint of sensitivity.

또, 페놀성 수산기를 갖는 구성 단위로서, 일본 공개특허공보 2014-238438호의 단락 0065~0073에 기재된 구성 단위도, 감도의 관점에서 바람직하다.As the constituent unit having a phenolic hydroxyl group, a constituent unit described in paragraphs 0065 to 0073 of JP-A No. 2014-238438 is also preferable from the viewpoint of sensitivity.

<<<구성 단위 a2>>><<< Configuration unit a2 >>>

구성 단위 a2는, 가교성기를 갖는 구성 단위(이하, 구성 단위 a2라고도 함)이다.The structural unit a2 is a structural unit having a crosslinkable group (hereinafter also referred to as a structural unit a2).

상기 가교성기는, 가열 처리로 경화 반응을 발생시키는 기이면 특별히 한정은 되지 않는다.The crosslinkable group is not particularly limited so long as it is a group which generates a curing reaction by a heat treatment.

바람직한 가교성기를 갖는 구성 단위의 양태로서는, 에폭시기(예를 들면, 옥시란일기, 3,4-에폭시사이클로헥실기 등), 옥세탄일기, -NH-CH2-O-R(R은 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타냄)로 나타나는 기, 에틸렌성 불포화기, 및 블록 아이소사이아네이트기로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1개를 포함하는 구성 단위를 들 수 있고, 에폭시기, 옥세탄일기, -NH-CH2-O-R(R은 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타냄)로 나타나는 기, (메트)아크릴로일기, 및 블록 아이소사이아네이트기로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종을 포함하는 구성 단위인 것이 바람직하며, 에폭시기, 옥세탄일기, 및 -NH-CH2-O-R(R은 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타냄)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종을 포함하는 구성 단위인 것이 보다 바람직하다.Preferred examples of the structural unit having a crosslinkable group include an epoxy group (e.g., an oxiranyl group, a 3,4-epoxycyclohexyl group, etc.), an oxetanyl group, -NH-CH 2 -OR (R is a hydrogen atom, An ethylenically unsaturated group, and a block isocyanate group, and examples thereof include an epoxy group, an oxetanyl group, an -NH- CH 2 -OR a structural unit containing at least one member selected from the group, a (meth) acryloyl group and a block isocyanate group represented by the group consisting of (R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms) is preferred, an epoxy group, an oxetane group, and a -NH-CH 2 -OR configuration, including at least one member selected from the group consisting of a group represented by (R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms) unit It is more preferable.

{에폭시기 및/또는 옥세탄일기를 갖는 구성 단위 a2-1}{Structural unit a2-1 having an epoxy group and / or oxetanyl group}

중합체 성분 A1은, 에폭시기 및/또는 옥세탄일기를 갖는 구성 단위 a2-1을 갖는 중합체를 함유하는 것이 바람직하다. 또한, 3원환의 환상 에터기는 에폭시기라고도 불리고, 4원환의 환상 에터기는 옥세탄일기라고도 불린다.The polymer component A1 preferably contains a polymer having the structural unit a2-1 having an epoxy group and / or an oxetanyl group. The cyclic group of a three-membered ring is also referred to as an epoxy group, and the cyclic group of a four-membered ring is also referred to as an oxetanyl group.

상기 에폭시기 및/또는 옥세탄일기를 갖는 구성 단위 a2-1은, 1개의 구성 단위 중에 에폭시기 또는 옥세탄일기를 적어도 1개 갖고 있으면 되고, 1개 이상의 에폭시기 및 1개 이상 옥세탄일기, 2개 이상의 에폭시기 또는, 2개 이상의 옥세탄일기를 갖고 있어도 되며, 특별히 한정되지 않지만, 에폭시기 및/또는 옥세탄일기를 합계 1~3개 갖는 것이 바람직하고, 에폭시기 및/또는 옥세탄일기를 합계 1 또는 2개 갖는 것이 보다 바람직하며, 에폭시기 또는 옥세탄일기를 1개 갖는 것이 더 바람직하다.The structural unit a2-1 having an epoxy group and / or an oxetanyl group may have at least one epoxy group or oxetanyl group in one structural unit, and may contain at least one epoxy group and at least one oxetanyl group, An epoxy group or two or more oxetanyl groups, and it is not particularly limited, but it is preferable that a total of 1 to 3 epoxy groups and / or oxetanyl groups are contained, and a total of 1 or 2 epoxy groups and / or oxetanyl groups More preferably one having an epoxy group or oxetanyl group.

에폭시기를 갖는 구성 단위를 형성하기 위하여 이용되는 라디칼 중합성 단량체의 구체예로서는 예를 들면, 아크릴산 글리시딜, 메타크릴산 글리시딜, α-에틸아크릴산 글리시딜, α-n-프로필아크릴산 글리시딜, α-n-뷰틸아크릴산 글리시딜, 아크릴산-3,4-에폭시뷰틸, 메타크릴산-3,4-에폭시뷰틸, 아크릴산-3,4-에폭시사이클로헥실메틸, 메타크릴산-3,4-에폭시사이클로헥실메틸, α-에틸아크릴산-3,4-에폭시사이클로헥실메틸, o-바이닐벤질글리시딜에터, m-바이닐벤질글리시딜에터, p-바이닐벤질글리시딜에터, 일본 특허공보 제4168443호의 단락 0031~0035에 기재된 지환식 에폭시 골격을 함유하는 화합물 등을 들 수 있고, 이들 내용은 본원 명세서에 원용된다.Specific examples of the radical polymerizable monomer used for forming the structural unit having an epoxy group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl? -Ethyl acrylate, glycidyl? -N-propyl acrylate Dicumyl acrylate, glycidyl alpha-n-butyl acrylate, 3,4-epoxycutyl acrylate, methacrylic acid-3,4-epoxybutyl acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate, -Epoxy cyclohexylmethyl,? -Ethylacrylic acid-3,4-epoxycyclohexylmethyl, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, p-vinyl benzyl glycidyl ether, Compounds containing an alicyclic epoxy skeleton described in paragraphs 0031 to 0035 of Japanese Patent Publication No. 4168443, and the like, and these contents are incorporated herein by reference.

옥세탄일기를 갖는 구성 단위를 형성하기 위하여 이용되는 라디칼 중합성 단량체의 구체예로서는 예를 들면, 일본 공개특허공보 2001-330953호의 단락 0011~0016에 기재된 옥세탄일기를 갖는 (메트)아크릴산 에스터 등을 들 수 있고, 이들 내용은 본원 명세서에 원용된다.Specific examples of the radical polymerizable monomer used for forming the constituent unit having an oxetanyl group include (meth) acrylate ester having an oxetanyl group described in paragraphs 0011 to 0016 of JP-A No. 2001-330953 , The contents of which are incorporated herein by reference.

상기 에폭시기 및/또는 옥세탄일기를 갖는 구성 단위 a2-1을 형성하기 위하여 이용되는 라디칼 중합성 단량체의 구체예로서는, 메타크릴산 에스터 구조를 함유하는 모노머, 아크릴산 에스터 구조를 함유하는 모노머인 것이 바람직하다.Specific examples of the radically polymerizable monomer used for forming the structural unit a2-1 having an epoxy group and / or an oxetanyl group are monomers containing a methacrylic acid ester structure and monomers containing an acrylic acid ester structure .

이들 중에서도 바람직한 것은, 메타크릴산 글리시딜, 아크릴산 3,4-에폭시사이클로헥실메틸, 메타크릴산 3,4-에폭시사이클로헥실메틸, 아크릴산(3-에틸옥세탄-3-일)메틸, 및 메타크릴산(3-에틸옥세탄-3-일)메틸이다. 이들 구성 단위는, 1종 단독 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Among these, glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, methyl (3-ethyloxetan-3-yl) (3-ethyloxetan-3-yl) methyl. These constituent units may be used alone or in combination of two or more.

에폭시기 및/또는 옥세탄일기를 갖는 구성 단위 a2-1의 바람직한 구체예로서는, 하기의 구성 단위를 예시할 수 있다. 또한, R은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.Preferable specific examples of the structural unit a2-1 having an epoxy group and / or an oxetanyl group include the following structural units. R represents a hydrogen atom or a methyl group.

[화학식 30](30)

Figure pct00031
Figure pct00031

{에틸렌성 불포화기를 갖는 구성 단위 a2-2}{Structural unit a2-2 having an ethylenically unsaturated group}

상기 가교성기를 갖는 구성 단위 a2의 다른 예로서는, 에틸렌성 불포화기를 갖는 구성 단위 a2-2를 들 수 있다. 상기 에틸렌성 불포화기를 갖는 구성 단위 a2-2로서는, 측쇄에 에틸렌성 불포화기를 갖는 구성 단위가 바람직하고, 말단에 에틸렌성 불포화기를 가지며, 탄소수 3~16의 측쇄를 갖는 구성 단위가 보다 바람직하다.Another example of the structural unit a2 having a crosslinkable group is a structural unit a2-2 having an ethylenic unsaturated group. The structural unit a2-2 having an ethylenically unsaturated group is preferably a structural unit having an ethylenically unsaturated group in its side chain and a structural unit having an ethylenic unsaturated group at its terminal and having a side chain of 3 to 16 carbon atoms.

그 외, 에틸렌성 불포화기를 갖는 구성 단위 a2-2에 대해서는, 일본 공개특허공보 2011-215580호의 단락 0072~0090의 기재, 및 일본 공개특허공보 2008-256974호의 단락 0013~0031의 기재를 참조할 수 있고, 이들 내용은 본원 명세서에 원용된다.In addition, for the structural unit a2-2 having an ethylenic unsaturated group, reference can be made to the description of paragraphs 0072 to 0090 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-215580 and the description of paragraphs 0013 to 0031 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2008-256974 , The contents of which are incorporated herein by reference.

{-NH-CH2-O-R(R은 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타냄)로 나타나는 기를 갖는 구성 단위 a2-3}{-NH-CH 2 -OR configuration having represented by (R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms)} unit a2-3

상기 가교성기를 갖는 구성 단위 a2의 다른 예로서는, -NH-CH2-O-R(R은 수소 원자 또는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타냄)로 나타나는 기를 갖는 구성 단위 a2-3도 바람직하다. 구성 단위 a2-3을 가짐으로써, 완만한 가열 처리로 경화 반응을 일으킬 수 있고, 모든 특성이 우수한 경화막을 얻을 수 있다. 여기에서, R은 탄소수 1~20의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~9의 알킬기가 보다 바람직하며, 탄소수 1~4의 알킬기가 더 바람직하다. 또, 알킬기는, 직쇄, 분기 또는 환상의 알킬기 중 어느 것이어도 되지만, 직쇄 또는 분기의 알킬기인 것이 바람직하다. 구성 단위 a2-3은, 하기 식 (a2-30)으로 나타나는 기를 갖는 구성 단위인 것이 보다 바람직하다.Another example of the structural unit a2 having a crosslinkable group is also a structural unit a2-3 having a group represented by -NH-CH 2 -OR (R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms). By having the constituent unit a2-3, a curing reaction can be caused by a gentle heat treatment, and a cured film excellent in all properties can be obtained. Here, R is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group may be any of linear, branched or cyclic alkyl groups, but is preferably a linear or branched alkyl group. The structural unit a2-3 is more preferably a structural unit having a group represented by the following formula (a2-30).

[화학식 31](31)

Figure pct00032
Figure pct00032

상기 식 (a2-30) 중, R31은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R32는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다.In the formula (a2-30), R 31 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 32 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.

R32는, 탄소수 1~9의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~4의 알킬기가 더 바람직하다. 또, 알킬기는, 직쇄, 분기 또는 환상의 알킬기 중 어느 것이어도 되지만, 바람직하게는, 직쇄 또는 분기의 알킬기이다.R 32 is preferably an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group may be any of linear, branched or cyclic alkyl groups, but is preferably a straight chain or branched alkyl group.

R32의 구체예로서는, 메틸기, 에틸기, n-뷰틸기, i-뷰틸기, 사이클로헥실기, 및 n-헥실기를 들 수 있다. 그 중에서도, i-뷰틸기, n-뷰틸기, 메틸기가 바람직하다.Specific examples of R 32 include a methyl group, an ethyl group, an n-butyl group, an i-butyl group, a cyclohexyl group, and an n-hexyl group. Of these, an i-butyl group, an n-butyl group and a methyl group are preferable.

<<<구성 단위 a3>>><<< Configuration unit a3 >>>

구성 단위 a3은, 산기를 갖는 구성 단위(이하, 구성 단위 a3라고도 함)이다.The constituent unit a3 is a constituent unit having an acid group (hereinafter also referred to as a constituent unit a3).

본 발명에 있어서의 산기란, pKa가 11보다 작은 프로톤 해리성기를 의미한다.The acid group in the present invention means a proton dissociable group having a pKa of less than 11.

본 발명에서 이용되는 산기로서는, 카복실산기, 설폰아마이드기, 포스폰산기, 설폰산기, 페놀성 수산기, 설폰아마이드기, 설폰일이미드기와, 이들 산기의 산무수물기, 및 이들 산기를 중화하여 염 구조로 한 기 등이 예시되며, 카복실산기 및/또는 페놀성 수산기가 바람직하다. 상기 염으로서는 특별히 제한은 없지만, 알칼리 금속염, 알칼리 토류 금속염, 및 유기 암모늄염을 바람직하게 예시할 수 있다.Examples of the acid group used in the present invention include a carboxylic acid group, a sulfonamide group, a phosphonic acid group, a sulfonic acid group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonamide group, a sulfonylimide group, an acid anhydride group of these acid groups, And the like, and a carboxylic acid group and / or a phenolic hydroxyl group are preferable. The salt is not particularly limited, but an alkali metal salt, an alkaline earth metal salt, and an organic ammonium salt can be preferably exemplified.

본 발명에서 이용되는 산기를 포함하는 구성 단위는, 스타이렌에서 유래하는 구성 단위나, 바이닐 화합물에서 유래하는 구성 단위, (메트)아크릴산 및/또는 그 에스터에서 유래하는 구성 단위인 것이 보다 바람직하다. 예를 들면, 일본 공개특허공보 2012-88459호의 단락 0021~0023 및 단락 0029~0044 기재의 화합물을 이용할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다. 그 중에서도, p-하이드록시스타이렌, (메트)아크릴산, 말레산, 무수 말레산에서 유래하는 구성 단위가 바람직하다.The constituent unit containing an acid group used in the present invention is more preferably a constituent unit derived from styrene, a constituent unit derived from a vinyl compound, or a constituent unit derived from (meth) acrylic acid and / or an ester thereof. For example, compounds described in paragraphs 0021 to 0023 and paragraphs 0029 to 0044 of JP-A-2012-88459 can be used, the contents of which are incorporated herein by reference. Among them, a constituent unit derived from p-hydroxystyrene, (meth) acrylic acid, maleic acid and maleic anhydride is preferable.

산기를 갖는 구성 단위 a3으로서는, 감도의 관점에서, 카복실기를 갖는 구성 단위 또는, 페놀성 수산기를 갖는 구성 단위가 바람직하고, 카복실기를 갖는 구성 단위가 보다 바람직하다.As the structural unit a3 having an acid group, from the viewpoint of sensitivity, a structural unit having a carboxyl group or a structural unit having a phenolic hydroxyl group is preferable, and a structural unit having a carboxyl group is more preferable.

산기를 갖는 구성 단위 a3으로서 구체적으로는, 상술한 분자 중에 적어도 1개의 카복실기를 갖는 불포화 카복실산 등에서 유래하는 구성 단위 a1-1-1, 에틸렌성 불포화기와 산무수물 유래의 구조를 함께 갖는 구성 단위 a1-1-2, 페놀성 수산기를 갖는 구성 단위 a1-2-1을 들 수 있고, 바람직한 양태도 동일하다.Specific examples of the structural unit a3 having an acid group include a structural unit a1-1-1 derived from an unsaturated carboxylic acid or the like having at least one carboxyl group in the above-mentioned molecule, a structural unit a1-1-1 having an ethylenic unsaturated group and a structure derived from an acid anhydride, 1-2, and a structural unit a1-2-1 having a phenolic hydroxyl group, and preferred embodiments thereof are also the same.

그 중에서도, 산기를 갖는 구성 단위 a3으로서는, 메타크릴산, 아크릴산 및 p-하이드록시스타이렌으로 이루어지는 군으로부터 선택된 화합물 유래의 구성 단위〔하기 식 (a3-1)~식 (a3-3) 중 어느 하나로 나타나는 구성 단위〕인 것이 바람직하고, 메타크릴산 유래의 구성 단위〔하기 식 (a3-1)로 나타나는 구성 단위〕 또는 아크릴산 유래의 구성 단위〔하기 식 (a3-2)로 나타나는 구성 단위〕인 것이 보다 바람직하며, 메타크릴산 유래의 구성 단위〔하기 식 (a3-1)로 나타나는 구성 단위〕인 것이 더 바람직하다.Among them, the structural unit a3 having an acid group is preferably a structural unit derived from a compound selected from the group consisting of methacrylic acid, acrylic acid and p-hydroxystyrene [any of the following formulas (a3-1) to (a3-3) Is a constitutional unit derived from methacrylic acid [constitutional unit represented by the following formula (a3-1)] or an acrylic acid-derived constitutional unit [constitutional unit represented by the following formula (a3-2)] , More preferably a structural unit derived from methacrylic acid (structural unit represented by the following formula (a3-1)).

[화학식 32](32)

Figure pct00033
Figure pct00033

<<<구성 단위 a4>>><<< Configuration unit a4 >>>

상술한 구성 단위 s1, 구성 단위 a1, 구성 단위 a2 및 구성 단위 a3 이외의 구성 단위 a4가 되는 모노머로서는, 특별히 제한은 없고 예를 들면, 스타이렌류, (메트)아크릴산 알킬에스터, (메트)아크릴산 환상 알킬에스터, (메트)아크릴산 아릴에스터, 불포화 다이카복실산 다이에스터, 바이사이클로 불포화 화합물류, 말레이미드 화합물류, 불포화 방향족 화합물을 들 수 있다.Examples of the monomer to be the constituent unit a4 other than the above-mentioned constituent unit s1, constituent unit a1, constituent unit a2 and constituent unit a3 include, but not limited to, styrene, alkyl (meth) acrylate, Alkyl esters, (meth) acrylic acid aryl esters, unsaturated dicarboxylic acid diesters, bicyclo unsaturated compounds, maleimide compounds, and unsaturated aromatic compounds.

그 외의 구성 단위 a4를 형성하는 모노머는, 1종 단독 또는 2종류 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The monomers forming the other constituent unit a4 may be used singly or in combination of two or more.

그 외의 구성 단위 a4는, 구체적으로는, 스타이렌, 메틸스타이렌, α-메틸스타이렌, 아세톡시스타이렌, 메톡시스타이렌, 에톡시스타이렌, 클로로스타이렌, 바이닐벤조산 메틸, 바이닐벤조산 에틸, 4-하이드록시벤조산(3-메타크릴로일옥시프로필)에스터, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 n-프로필, (메트)아크릴산 아이소프로필, (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산 2-하이드록시프로필, (메트)아크릴산 벤질, (메트)아크릴산 아이소보닐, 아크릴로나이트릴, 에틸렌글라이콜모노아세트아세테이트모노(메트)아크릴레이트 등에 의한 구성 단위를 들 수 있다. 이 외에, 일본 공개특허공보 2004-264623호의 단락 0021~0024에 기재된 화합물을 들 수 있다.Specific examples of the other structural unit a4 include styrene, methylstyrene,? -Methylstyrene, acetoxystyrene, methoxystyrene, ethoxystyrene, chlorostyrene, methyl vinylbearate, vinyl vinyl benzoate (Meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, acrylonitrile and ethylene glycol monoacetate mono Unit. In addition, compounds described in paragraphs 0021 to 0024 of JP-A-2004-264623 can be mentioned.

또, 그 외의 구성 단위 a4로서는, 스타이렌류 또는, 지방족환식 골격을 갖는 모노머 유래의 구성 단위가, 전기 특성의 관점에서 바람직하다. 구체적으로는 스타이렌, 메틸스타이렌, α-메틸스타이렌, 다이사이클로펜탄일(메트)아크릴레이트, 사이클로헥실(메트)아크릴레이트, 아이소보닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As the other structural unit a4, styrene or a structural unit derived from a monomer having an alicyclic cyclic skeleton is preferable from the viewpoint of electrical characteristics. Specific examples include styrene, methylstyrene,? -Methylstyrene, dicyclopentanyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, benzyl .

또한, 그 외의 구성 단위 a4로서는, (메트)아크릴산 알킬에스터 유래의 구성 단위가, 밀착성의 관점에서 바람직하다. 구체적으로는 (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 프로필, (메트)아크릴산 n-뷰틸 등을 들 수 있고, (메트)아크릴산 메틸이 보다 바람직하다. 중합체를 구성하는 전체 구성 단위 중, 상기의 구성 단위 a4의 함유율은, 60몰% 이하가 바람직하고, 50몰% 이하가 보다 바람직하며, 40몰% 이하가 더 바람직하다. 하한값으로서는, 0몰%여도 되지만 예를 들면, 1몰% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 5몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하다. 상기의 수치의 범위 내이면, 수지 조성물로부터 얻어지는 경화막의 모든 특성이 양호해진다.As the other structural unit a4, a structural unit derived from a (meth) acrylic acid alkyl ester is preferable from the viewpoint of adhesion. Specific examples include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, and n-butyl (meth) acrylate. More preferred is methyl (meth) acrylate. The content of the structural unit a4 in the total structural units constituting the polymer is preferably 60 mol% or less, more preferably 50 mol% or less, further preferably 40 mol% or less. The lower limit value may be 0 mol%, but is preferably 1 mol% or more, for example, and is more preferably 5 mol% or more. Within the range of the above-mentioned numerical values, all the properties of the cured film obtained from the resin composition become good.

(중합체 A)(Polymer A)

상기 중합체 A로서는 예를 들면, 상술한 구성 단위 s1을 포함하지 않고, 상술한 구성 단위 a1~구성 단위 a4 중 어느 1개 이상을 포함하는 중합체를 들 수 있고, 그 중에서도, 상술한 바와 같이, 배향 보호층에 있어서 상술한 가교 구조를 형성하기 쉬운 이유에서, 가교성기를 갖는 구성 단위 a2 및/또는 산기를 갖는 구성 단위 a3을 갖는 중합체인 것이 바람직하다.As the polymer A, for example, there can be mentioned a polymer containing at least any one of the above-mentioned constituent units a1 to a4, which does not include the constituent unit s1 described above. Among them, It is preferable that the polymer is a polymer having a structural unit a2 having a crosslinkable group and / or a structural unit a3 having an acid group for the reason that the above-mentioned crosslinked structure is easily formed in the protective layer.

<<분자량>><< MOLECULAR >>

상술한 중합체 P 및 중합체 A의 분자량은, 폴리스타이렌 환산 중량 평균 분자량으로, 바람직하게는 1,000~200,000, 보다 바람직하게는 2,000~50,000, 더 바람직하게는 10,000~20,000의 범위이다. 상기의 수치의 범위 내이면, 모든 특성이 양호하다. 수평균 분자량 Mn과 중량 평균 분자량 Mw의 비(분산도, Mw/Mn)는 1.0~5.0이 바람직하고, 1.5~3.5가 보다 바람직하다.The above-mentioned polymer P and polymer A have a molecular weight in terms of polystyrene equivalent weight average molecular weight, preferably 1,000 to 200,000, more preferably 2,000 to 50,000, and still more preferably 10,000 to 20,000. If it is within the range of the above-mentioned numerical values, all characteristics are good. The ratio (dispersion degree, Mw / Mn) of the number average molecular weight Mn to the weight average molecular weight Mw is preferably 1.0 to 5.0, more preferably 1.5 to 3.5.

또한, 본 발명에 있어서의 중량 평균 분자량이나 수평균 분자량의 측정은, 젤 침투 크로마토그래피(GPC)법에 의하여 측정하는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서의 젤 침투 크로마토그래피법에 의한 측정은, HLC-8020GPC(도소(주)제)를 이용하고, 칼럼으로서 TSKgel Super HZM-H, TSK gel Super HZ4000, TSKgel Super HZ200(도소(주)제, 4.6mmID×15cm)을, 용리액으로서 THF(테트라하이드로퓨란)를 이용하는 것이 바람직하다.The measurement of the weight average molecular weight and the number average molecular weight in the present invention is preferably carried out by gel permeation chromatography (GPC). TSK gel Super HZM-H, TSK gel Super HZ4000, and TSKgel Super HZ200 (manufactured by TOSOH CORPORATION) were used as the columns by using gel permeation chromatography method in the present invention using HLC-8020GPC (manufactured by TOSOH CORPORATION) 4.6 mm ID x 15 cm), and THF (tetrahydrofuran) is preferably used as the eluent.

<<조제 방법>><< Preparation Method >>

상술한 중합체 P 및 중합체 A의 합성법에 대해서도, 다양한 방법이 알려져 있지만, 일례를 들면, 상술한 각 구성 단위를 형성하기 위하여 이용되는 라디칼 중합성 단량체를 포함하는 라디칼 중합성 단량체 혼합물을 유기 용제 중, 라디칼 중합 개시제를 이용하여 중합함으로써 합성할 수 있다. 또, 이른바 고분자 반응으로 합성할 수도 있다.Various methods are also known for the synthesis of the polymer P and the polymer A described above. For example, a method in which a radically polymerizable monomer mixture containing a radically polymerizable monomer used for forming the respective constituent units described above is dissolved in an organic solvent, Can be synthesized by polymerization using a radical polymerization initiator. It is also possible to synthesize by a so-called polymer reaction.

본 발명에 있어서는, 두께 방향의 리타데이션(Rth)을 낮게 유지하는 이유에서, 상술한 중합체 P 및 중합체 A의 합계 질량에 대한 중합체 P의 질량 비율이 10질량% 미만인 것이 바람직하고, 0.1~5질량%인 것이 보다 바람직하다.In the present invention, the mass ratio of the polymer P to the total mass of the polymer P and the polymer A is preferably less than 10 mass%, more preferably 0.1 to 5 mass% % Is more preferable.

(가교제 B)(Crosslinking agent B)

본 발명에 있어서는, 시인 측에 컬러 필터를 마련한 경우의 평탄성이 향상되고, 고온 고습하에 노출된 후의 표시 성능도 보다 양호해지는 이유에서, 상기 배향 보호층은, 분자량 5000 이하의 가교제 B를 함유하고 있는 것이 바람직하다.In the present invention, for the reason that the flatness when the color filter is provided on the visual side is improved and the display performance after exposure under high temperature and high humidity becomes better, the orientation protection layer contains the crosslinking agent B having a molecular weight of 5,000 or less .

가교제 B로서는, 열에 의하여 가교 반응이 일어나는 것이면 제한없이 사용할 수 있다.The crosslinking agent B can be used without limitation as long as it causes a crosslinking reaction by heat.

예를 들면, 이하에 설명하는 분자 내에 2개 이상의 에폭시기 또는 옥세탄일기를 갖는 화합물, 블록 아이소사이아네이트 화합물(보호된 아이소사이아네이트기를 갖는 화합물), 알콕시메틸기 함유 화합물, 또는 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중 결합(에틸렌성 불포화기)으로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종인 것이 바람직하고, 분자 내에 2개 이상의 에폭시기 또는 옥세탄일기를 갖는 화합물, 블록 아이소사이아네이트 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 1종인 것이 보다 바람직하다.For example, a compound having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in the molecule, a block isocyanate compound (compound having a protected isocyanate group), an alkoxymethyl group-containing compound, or at least one ethylene At least one member selected from the group consisting of an unsaturated double bond (ethylenic unsaturated group), a compound having at least two epoxy groups or an oxetanyl group in the molecule, and at least one member selected from the group consisting of a block isocyanate compound Is more preferable.

이하에, 본 발명에 있어서 바람직하게 사용되는 가교제 B에 대하여 설명한다.Hereinafter, the crosslinking agent B preferably used in the present invention will be described.

<<분자 내에 2개 이상의 에폭시기 또는 옥세탄일기를 갖는 화합물>>&Lt; Compounds having two or more epoxy groups or oxetanyl groups in the molecule &gt;

가교제 B로서 예를 들면, 다관능의 소원환 환상 에터 화합물을 들 수 있다.As the crosslinking agent B, there can be mentioned, for example, a multifunctional ring-shaped cyclic ether compound.

즉, 1분자 내에, 에폭시기 및/또는 옥세탄일기를 2개 이상 갖는 화합물인 것을 의미한다.That is, a compound having two or more epoxy groups and / or oxetanyl groups in one molecule.

분자 내에 2개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물의 구체예로서는, 지방족 에폭시 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound having two or more epoxy groups in the molecule include aliphatic epoxy compounds and the like.

이들은 시판품으로서 입수할 수 있다. 예를 들면, 데나콜 EX-611, EX-612, EX-614, EX-614B, EX-622, EX-512, EX-521, EX-411, EX-421, EX-313, EX-314, EX-321, EX-211, EX-212, EX-810, EX-811, EX-850, EX-851, EX-821, EX-830, EX-832, EX-841, EX-911, EX-941, EX-920, EX-931, EX-212L, EX-214L, EX-216L, EX-321L, EX-850L, DLC-201, DLC-203, DLC-204, DLC-205, DLC-206, DLC-301, DLC-402(이상 나가세 켐텍스(주)제), 셀록사이드 2021P, 2081, 3000, EHPE3150, 에폴리드 GT400, 셀비너스 B0134, B0177((주)다이셀제), 등을 들 수 있다.These are available as commercial products. For example, Denacol EX-611, EX-612, EX-614, EX-614B, EX-622, EX- EX-810, EX-821, EX-821, EX-832, EX-841, EX- DLC-204, DLC-204, DLC-204, EX-920, EX-931, EX-212L, EX-214L, EX-216L, EX- DLC-301, DLC-402 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation), Celloxide 2021P, 2081, 3000, EHPE3150, EPOLED GT400, Cell Venus B0134, B0177 have.

이들은 1종 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These may be used alone or in combination of two or more.

분자 내에 2개 이상의 옥세탄일기를 갖는 화합물의 구체예로서는, 아론 옥세테인 OXT-121, OXT-221, OX-SQ, PNOX(이상, 도아 고세이(주)제)를 이용할 수 있다.As specific examples of the compound having two or more oxetane groups in the molecule, AOXTENE OXT-121, OXT-221, OX-SQ and PNOX (manufactured by DOA Corporation) can be used.

또, 옥세탄일기를 포함하는 화합물은, 단독으로 또는 에폭시기를 포함하는 화합물과 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.The oxetanyl group-containing compound is preferably used alone or in combination with a compound containing an epoxy group.

<<블록 아이소사이아네이트 화합물>><< Block isocyanate compound >>

가교제 B로서, 블록 아이소사이아네이트계 화합물도 바람직하게 채용할 수 있다.As the crosslinking agent B, a block isocyanate-based compound can also be preferably employed.

블록 아이소사이아네이트 화합물은, 아이소사이아네이트기가 화학적으로 보호된 블록 아이소사이아네이트기를 갖는 화합물이면 특별히 제한은 없지만, 경화성의 관점에서, 1분자 내에 2 이상의 블록 아이소사이아네이트기를 갖는 화합물인 것이 바람직하다.The block isocyanate compound is not particularly limited so long as the isocyanate group is a compound having a block isocyanate group chemically protected. From the viewpoint of curability, a compound having two or more block isocyanate groups in one molecule .

또한, 본 발명에 있어서의 블록 아이소사이아네이트기란, 열에 의하여 아이소사이아네이트기를 생성하는 것이 가능한 기이며, 예를 들면 블록제와 아이소사이아네이트기를 반응시켜 아이소사이아네이트기를 보호한 기를 바람직하게 예시할 수 있다. 또, 상기 블록 아이소사이아네이트기는, 90℃~250℃의 열에 의하여 아이소사이아네이트기를 생성하는 것이 가능한 기인 것이 바람직하다.In addition, the block isocyanate group in the present invention is a group capable of generating an isocyanate group by heat, and for example, a group in which a block agent and an isocyanate group are reacted to protect an isocyanate group is preferable . The block isocyanate group is preferably a group capable of generating an isocyanate group by heat at 90 ° C to 250 ° C.

또, 블록 아이소사이아네이트 화합물로서는, 그 골격은 특별히 한정되지 않고, 1분자 중에 아이소사이아네이트기를 2개 갖는 것이면 어떠한 것이어도 되고, 지방족, 지환족 또는 방향족의 폴리아이소사이아네이트여도 되지만, 예를 들면 2,4-톨릴렌다이아이소사이아네이트, 2,6-톨릴렌다이아이소사이아네이트, 아이소포론다이아이소사이아네이트, 1,6-헥사메틸렌다이아이소사이아네이트, 1,3-트라이메틸렌다이아이소사이아네이트, 1,4-테트라메틸렌다이아이소사이아네이트, 2,2,4-트라이메틸헥사메틸렌다이아이소사이아네이트, 2,4,4-트라이메틸헥사메틸렌다이아이소사이아네이트, 1,9-노나메틸렌다이아이소사이아네이트, 1,10-데카메틸렌다이아이소사이아네이트, 1,4-사이클로헥세인다이아이소사이아네이트, 2,2'-다이에틸에터다이아이소사이아네이트, 다이페닐메테인-4,4'-다이아이소사이아네이트, o-자일렌다이아이소사이아네이트, m-자일렌다이아이소사이아네이트, p-자일렌다이아이소사이아네이트, 메틸렌비스(사이클로헥실아이소사이아네이트), 사이클로헥세인-1,3-다이메틸렌다이아이소사이아네이트, 사이클로헥세인-1,4-다이메틸렌다이아이소사이아네이트, 1,5-나프탈렌다이아이소사이아네이트, p-페닐렌다이아이소사이아네이트, 3,3'-메틸렌다이톨릴렌-4,4'-다이아이소사이아네이트, 4,4'-다이페닐에터다이아이소사이아네이트, 테트라클로로페닐렌다이아이소사이아네이트, 노보네인다이아이소사이아네이트, 수소화 1,3-자일릴렌다이아이소사이아네이트, 수소화 1,4-자일릴렌다이아이소사이아네이트 등의 아이소사이아네이트 화합물 및 이들 화합물로부터 파생하는 프리폴리머형 골격의 화합물을 적합하게 이용할 수 있다. 이들 중에서도, 톨릴렌다이아이소사이아네이트(TDI)나, 다이페닐메테인다이아이소사이아네이트(MDI), 헥사메틸렌다이아이소사이아네이트(HDI), 아이소포론다이아이소사이아네이트(IPDI)가 특히 바람직하다.The skeleton of the block isocyanate compound is not particularly limited and may be any of those having two isocyanate groups in one molecule and may be an aliphatic, alicyclic or aromatic polyisocyanate, For example, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, isophoronediisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 1,3 -Trimethylene diisocyanate, 1,4-tetramethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate Hexamethylene diisocyanate, 1,9-nonamethylene diisocyanate, 1,10-decamethylene diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate, 2,2'-diethyl ether diisocyanate Cyanate, da Phenylmethane-4,4'-diisocyanate, o-xylene diisocyanate, m-xylene diisocyanate, p-xylene diisocyanate, methylene bis (cyclohexyl Isocyanate), cyclohexane-1,3-dimethylene diisocyanate, cyclohexane-1,4-dimethylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, p - phenylene diisocyanate, 3,3'-methyleneditholylene-4,4'-diisocyanate, 4,4'-diphenyl ether isocyanate, tetrachlorophenylene diisocyanate Isocyanate compounds such as cyanate, norbornane diisocyanate, hydrogenated 1,3-xylylene diisocyanate and hydrogenated 1,4-xylylene diisocyanate, and compounds derived from these compounds The compound of the prepolymer type skeleton Can be used together. Among them, tolylene diisocyanate (TDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), hexamethylene diisocyanate (HDI) and isophoronediisocyanate (IPDI) Particularly preferred.

블록 아이소사이아네이트 화합물의 모구조(母構造)로서는, 뷰렛형, 아이소사이아누레이트형, 어덕트형, 2관능 프리폴리머형 등을 들 수 있다.Examples of the parent structure (mother structure) of the block isocyanate compound include buret type, isocyanurate type, adduct type, bifunctional prepolymer type and the like.

상기 블록 아이소사이아네이트 화합물의 블록 구조를 형성하는 블록제로서는, 옥심 화합물, 락탐 화합물, 페놀 화합물, 알코올 화합물, 아민 화합물, 활성 메틸렌 화합물, 피라졸 화합물, 머캅탄 화합물, 이미다졸계 화합물, 이미드계 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 옥심 화합물, 락탐 화합물, 페놀 화합물, 알코올 화합물, 아민 화합물, 활성 메틸렌 화합물, 피라졸 화합물로부터 선택되는 블록제가 특히 바람직하다.Examples of the block agent for forming the block structure of the block isocyanate compound include oxime compounds, lactam compounds, phenol compounds, alcohol compounds, amine compounds, active methylene compounds, pyrazole compounds, mercaptan compounds, imidazole compounds, And the like. Among them, a block agent selected from an oxime compound, a lactam compound, a phenol compound, an alcohol compound, an amine compound, an active methylene compound, and a pyrazole compound is particularly preferable.

상기 옥심 화합물로서는, 옥심, 및 케톡심을 들 수 있고, 구체적으로는 아세톡심, 폼알독심, 사이클로헥세인옥심, 메틸에틸케톤옥심, 사이클로헥산온옥심, 벤조페논옥심, 아세톡심 등을 예시할 수 있다.Examples of the oxime compounds include oxime and ketoxime. Specific examples thereof include acetoxime, formaldehyde, cyclohexane oxime, methyl ethyl ketone oxime, cyclohexanone oxime, benzophenone oxime, and acetoxime. .

상기 락탐 화합물로서는 ε-카프로락탐, γ-뷰티로락탐 등을 예시할 수 있다.Examples of the lactam compound include? -Caprolactam,? -Butyrolactam, and the like.

상기 페놀 화합물로서는, 페놀, 나프톨, 크레졸, 자일렌올, 할로젠 치환 페놀 등을 예시할 수 있다.Examples of the phenol compound include phenol, naphthol, cresol, xylenol, halogen-substituted phenol, and the like.

상기 알코올 화합물로서는, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 뷰탄올, 사이클로헥산올, 에틸렌글라이콜모노알킬에터, 프로필렌글라이콜모노알킬에터, 락트산 알킬 등을 예시할 수 있다.Examples of the alcohol compound include methanol, ethanol, propanol, butanol, cyclohexanol, ethylene glycol monoalkyl ether, propylene glycol monoalkyl ether, alkyl lactate and the like.

상기 아민 화합물로서는, 1급 아민 및 2급 아민을 들 수 있고, 방향족 아민, 지방족 아민, 지환족 아민 중 어느 것이어도 되며, 아닐린, 다이페닐아민, 에틸렌이민, 폴리에틸렌이민 등을 예시할 수 있다.Examples of the amine compound include a primary amine and a secondary amine, and may be an aromatic amine, an aliphatic amine, or an alicyclic amine, and examples thereof include aniline, diphenylamine, ethyleneimine, and polyethyleneimine.

상기 활성 메틸렌 화합물로서는, 말론산 다이에틸, 말론산 다이메틸, 아세토아세트산 에틸, 아세토아세트산 메틸 등을 예시할 수 있다. 상기 피라졸 화합물로서는, 피라졸, 메틸피라졸, 다이메틸피라졸 등을 예시할 수 있다.Examples of the active methylene compound include diethyl malonate, dimethyl malonate, ethyl acetoacetate, and methyl acetoacetate. Examples of the pyrazole compound include pyrazole, methylpyrazole, dimethylpyrazole, and the like.

상기 머캅탄 화합물로서는, 알킬머캅탄, 아릴머캅탄 등을 예시할 수 있다.Examples of mercaptan compounds include alkyl mercaptans, aryl mercaptans, and the like.

블록 아이소사이아네이트 화합물은, 시판품으로서 입수 가능하고, 예를 들면 코로네이트 AP 스테이블 M, 코로네이트 2503, 2515, 2507, 2513, 2555, 밀리오네이트 MS-50(이상, 닛폰 폴리유레테인 고교(주)제), 타케네이트 B-830, B-815N, B-820NSU, B-842N, B-846N, B-870N, B-874N, B-882N(이상, 미쓰이 가가쿠(주)제), 듀라네이트 17B-60PX, 17B-60P, TPA-B80X, TPA-B80E, MF-B60X, MF-B60B, MF-K60X, MF-K60B, E402-B80B, SBN-70D, SBB-70P, K6000(이상, 아사히 가세이 케미컬즈(주)제), 데스모듈 BL1100, BL1265 MPA/X, BL3575/1, BL3272MPA, BL3370MPA, BL3475BA/SN, BL5375MPA, VPLS2078/2, BL4265SN, PL340, PL350, 스미듈 BL3175(이상, 스미카 바이엘 유레테인(주)제) 등을 바람직하게 사용할 수 있다.The block isocyanate compound is commercially available, for example, Coronate AP Stable M, Coronate 2503, 2515, 2507, 2513, 2555, Millionate MS-50 B-872N, B-874N, and B-882N (all manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), B-815N, B-820NSU, B- B40B, MF-K60X, MF-K60B, E402-B80B, SBN-70D, SBB-70P, K6000 (Manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.), desmodule BL1100, BL1265 MPA / X, BL3575 / 1, BL3272MPA, BL3370MPA, BL3475BA / SN, BL5375MPA, VPLS2078 / 2, BL4265SN, PL340, PL350, , Manufactured by Sumika Bayer Co., Ltd.), and the like can be preferably used.

<<알콕시메틸기 함유 가교제>><< Crosslinking agent containing alkoxymethyl group >>

알콕시메틸기 함유 화합물로서는, 알콕시메틸화 멜라민, 알콕시메틸화 벤조구아나민, 알콕시메틸화 글라이콜우릴 및 알콕시메틸화 요소 등이 바람직하다. 이들은, 각각 메틸올화 멜라민, 메틸올화 벤조구아나민, 메틸올화 글라이콜우릴 또는, 메틸올화 요소의 메틸올기를 알콕시메틸기로 변환함으로써 얻어진다. 이 알콕시메틸기의 종류에 대해서는 특별히 한정되지 않고 예를 들면, 메톡시메틸기, 에톡시메틸기, 프로폭시메틸기, 뷰톡시메틸기 등을 들 수 있지만, 아웃 가스의 발생량의 관점에서, 메톡시메틸기가 특히 바람직하다.As the alkoxymethyl group-containing compound, alkoxymethylated melamine, alkoxymethylated benzoguanamine, alkoxymethylated glycoluril and alkoxymethylated urea are preferable. These are obtained by converting the methylol group of methylol melamine, methylol benzoguanamine, methylol glycolluryl or methylol group into an alkoxymethyl group, respectively. The type of the alkoxymethyl group is not particularly limited, and examples thereof include a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a propoxymethyl group, and a butoxymethyl group. From the viewpoint of the amount of generated outgas, a methoxymethyl group is particularly preferable Do.

이들 화합물 중, 알콕시메틸화 멜라민, 알콕시메틸화 벤조구아나민, 알콕시메틸화 글라이콜우릴을 바람직한 화합물로서 들 수 있고, 투명성의 관점에서, 알콕시메틸화 글라이콜우릴이 특히 바람직하다.Of these compounds, alkoxymethylated melamine, alkoxymethylated benzoguanamine and alkoxymethylated glycoluril are preferable compounds, and from the viewpoint of transparency, alkoxymethylated glycoluril is particularly preferable.

알콕시메틸기 함유 가교제도 그 분자량이, 1,000 이하인 화합물을 경화성 조성물에 사용한다.A compound having an alkoxymethyl group-containing crosslinking agent whose molecular weight is 1,000 or less is used in the curable composition.

이들 알콕시메틸기 함유 화합물은, 시판품으로서 입수 가능하고, 예를 들면 사이멜 300, 301, 303, 370, 325, 327, 701, 266, 267, 238, 1141, 272, 202, 1156, 1158, 1123, 1170, 1174, UFR65, 300(이상, 미쓰이 사이안아미드제), 니카락 MX-750, -032, -706, -708, -40, -31, -270, -280, -290, 니카락 MS-11, 니카락 MW-30HM, -100LM, -390(이상, (주)산와 케미컬제) 등을 바람직하게 사용할 수 있다.These alkoxymethyl group-containing compounds are commercially available and are commercially available, for example, from Cymel 300, 301, 303, 370, 325, 327, 701, 266, 267, 238, 1141, 272, 202, 1156, 1158, 1123, 1170, 1174, UFR65, 300 (manufactured by Mitsui Cyanamid), NIKARAK MX-750, -032, -706, -708, -40, -31, -270, -280, -290, -11, NIKARAK MW-30HM, -100 LM, -390 (manufactured by SANWA CHEMICAL CO., LTD.) And the like can be preferably used.

본 발명에 있어서는, 가교제 B로서, 에폭시기를 갖는 가교제를 이용하는 것이 바람직하다.In the present invention, as the crosslinking agent B, it is preferable to use a crosslinking agent having an epoxy group.

또, 가교제 B를 함유하는 경우의 함유량은, 가교제 B, 중합체 P 및 중합체 A의 합계 질량에 대하여 30질량% 이하인 것이 바람직하고, 10~30질량%인 것이 보다 바람직하다.The content of the crosslinking agent B in the case of containing the crosslinking agent B is preferably 30 mass% or less, more preferably 10 to 30 mass%, based on the total mass of the crosslinking agent B, the polymer P and the polymer A.

(유기 용제)(Organic solvent)

상기 보호층 형성용 조성물은, 상술한 중합체 이외에, 유기 용제를 함유하는 것이 바람직하다.The composition for forming the protective layer preferably contains an organic solvent in addition to the above-mentioned polymer.

유기 용제로서는, 공지의 유기 용제를 이용할 수 있고, 에틸렌글라이콜모노알킬에터류, 에틸렌글라이콜다이알킬에터류, 에틸렌글라이콜모노알킬에터아세테이트류, 프로필렌글라이콜모노알킬에터류, 프로필렌글라이콜다이알킬에터류, 프로필렌글라이콜모노알킬에터아세테이트류, 다이에틸렌글라이콜다이알킬에터류, 다이에틸렌글라이콜모노알킬에터아세테이트류, 다이프로필렌글라이콜모노알킬에터류, 뷰틸렌글라이콜다이아세테이트류, 다이프로필렌글라이콜다이알킬에터류, 다이프로필렌글라이콜모노알킬에터아세테이트류, 알코올류, 에스터류, 케톤류, 아마이드류, 락톤류 등을 예시할 수 있다. 이들 유기 용제의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2009-098616호의 단락 0062를 참조할 수 있다.As the organic solvent, a known organic solvent can be used. Examples of the organic solvent include ethylene glycol monoalkyl ethers, ethylene glycol dialkyl ethers, ethylene glycol monoalkyl ether acetates, propylene glycol monoalkyl ethers , Propylene glycol dialkyl ethers, propylene glycol monoalkyl ether acetates, diethylene glycol dialkyl ethers, diethylene glycol monoalkyl ether acetates, dipropylene glycol monoalkyl Propylene glycol diacetate, dipropylene glycol monoalkyl ether acetate, alcohols, esters, ketones, amides, lactones and the like can be exemplified . As specific examples of these organic solvents, reference can be made to paragraph 0062 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2009-098616.

바람직한 구체예에는, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트, 다이에틸렌글라이콜다이에틸에터, 다이에틸렌글라이콜에틸메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 1,3-뷰틸렌글라이콜다이아세테이트, 메톡시프로필아세테이트, 사이클로헥산올아세테이트, 프로필렌글라이콜다이아세테이트, 테트라하이드로퓨퓨릴알코올을 들 수 있다.Preferred specific examples include propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, propylene glycol monomethyl ether, 1,3-butylene glycol Methoxypropyl acetate, cyclohexanol acetate, propylene glycol diacetate, tetrahydrofurfuryl alcohol, and the like.

유기 용제의 비점은, 도포성의 관점에서 100℃~300℃가 바람직하고, 120℃~250℃가 보다 바람직하다.The boiling point of the organic solvent is preferably 100 占 폚 to 300 占 폚, and more preferably 120 占 폚 to 250 占 폚, from the viewpoint of coatability.

본 발명에 이용할 수 있는 유기 용제는, 1종 단독 또는, 2종 이상을 병용할 수 있다. 비점이 다른 용제를 병용하는 것도 바람직하다.The organic solvents usable in the present invention may be used alone or in combination of two or more. It is also preferable to use a solvent having a different boiling point.

유기 용제를 함유하는 경우의 함유량은, 도포에 적합한 점도로 조정한다는 관점에서, 조성물의 전체 고형분 100질량부당, 100~3,000질량부인 것이 바람직하고, 200~2,000질량부인 것이 보다 바람직하며, 250~1,000질량부인 것이 더 바람직하다.The content of the organic solvent is preferably from 100 to 3,000 parts by mass, more preferably from 200 to 2,000 parts by mass, more preferably from 250 to 1,000 parts by mass, per 100 parts by mass of the total solid content of the composition, More preferably, it is in the mass part.

조성물의 고형분 농도로서는, 3~50질량%가 바람직하고, 20~40질량%인 것이 보다 바람직하다.The solid content concentration of the composition is preferably from 3 to 50 mass%, and more preferably from 20 to 40 mass%.

(계면활성제)(Surfactants)

상기 보호층 형성용 조성물은, 계면활성제를 함유해도 된다.The composition for forming the protective layer may contain a surfactant.

계면활성제로서는, 음이온계, 양이온계, 비이온계, 또는 양성 중 어느 것이라도 사용할 수 있지만, 바람직한 계면활성제는 비이온계 계면활성제이다. 계면활성제로서는, 비이온계 계면활성제가 바람직하고, 불소계 계면활성제가 보다 바람직하다.As the surfactant, any of anionic, cationic, nonionic or amphoteric surfactants can be used, but preferred surfactants are nonionic surfactants. As the surfactant, a nonionic surfactant is preferable, and a fluorinated surfactant is more preferable.

제1 양태에 이용할 수 있는 계면활성제로서는 예를 들면, 시판품인, 메가팍 F142D, 동 F172, 동 F173, 동 F176, 동 F177, 동 F183, 동 F479, 동 F482, 동 F554, 동 F780, 동 F781, 동 F781-F, 동 R30, 동 R08, 동 F-472SF, 동 BL20, 동 R-61, 동 R-90(DIC(주)제), 플루오라드 FC-135, 동 FC-170C, 동 FC-430, 동 FC-431, Novec FC-4430(스미토모 3M(주)제), 아사히가드 AG7105, 7000, 950, 7600, 서프론 S-112, 동 S-113, 동 S-131, 동 S-141, 동 S-145, 동 S-382, 동 SC-101, 동 SC-102, 동 SC-103, 동 SC-104, 동 SC-105, 동 SC-106(아사히 글라스(주)제), 에프톱 EF351, 동 352, 동 801, 동 802(미쓰비시 머티리얼 덴시 가세이(주)제), 프터젠트 250(네오스(주)제)을 들 수 있다. 또, 상기 이외에도, KP(신에쓰 가가쿠 고교(주)제), 폴리플로(교에이샤 가가쿠(주)제), 에프톱(미쓰비시 머티리얼 덴시 가세이(주)제), 메가팍(DIC(주)제), 플루오라드(스미토모 3M(주)제), 아사히가드, 서프론(아사히 글라스(주)제), PolyFox(OMNOVA제) 등의 각 시리즈를 들 수 있다.Examples of the surfactant that can be used in the first embodiment include Megapak F142D, Dong F172, Dong F173, Dong F176, Dong F177, Dong F183, Dong F479, Dong F482, Dong F554, Dong F780, Dong F781 (F), FC-135, FC-170C, FC (FC), FC-170, FC (FC) S-113, S-131, S-131, S-131, S-131, S- 141, S-145, S-382, SC-101, SC-102, SC-103, SC-104, SC-105 and SC-106 (manufactured by Asahi Glass Co., (Available from Mitsubishi Material Denshi Kasei Co., Ltd.) and Fotogen 250 (manufactured by Neos Co., Ltd.). In addition to the above, other materials such as KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyfluor (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Epson (manufactured by Mitsubishi Material Denshi Kasei Co., (Manufactured by Sumitomo 3M Ltd.), Asahi Guard, Surfron (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), PolyFox (manufactured by OMNOVA), and the like.

또, 계면활성제로서는, 일본 공개특허공보 2014-238438호의 단락 0151~0155에 기재된 화합물도 바람직한 예로서 들 수 있다.As the surfactant, the compounds described in paragraphs 0151 to 0155 of Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2014-238438 are also preferable.

계면활성제를 함유하는 경우의 함유량은, 조성물의 전체 고형분 중 100질량부에 대하여, 0.001~5.0질량부가 바람직하고, 0.01~2.0질량부가 보다 바람직하다.The content of the surfactant is preferably 0.001 to 5.0 parts by mass, more preferably 0.01 to 2.0 parts by mass, per 100 parts by mass of the total solid content of the composition.

계면활성제는, 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The surfactant may be contained only in one kind or in two or more kinds. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

(밀착 개량제)(Adhesion improving agent)

상기 보호층 형성용 조성물은, 밀착 개량제를 함유해도 된다.The composition for forming the protective layer may contain an adhesion improver.

밀착 개량제로서는 알콕시실레인 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the adhesion improver include alkoxysilane compounds and the like.

알콕시실레인 화합물은, 기재가 되는 무기물 예를 들면, 실리콘, 산화 실리콘, 질화 실리콘 등의 실리콘 화합물, 금, 구리, 몰리브데넘, 타이타늄, 알루미늄 등의 금속과 절연막의 밀착성을 향상시키는 화합물인 것이 바람직하다.The alkoxysilane compound is a compound which improves the adhesion of an inorganic material to be a substrate such as a silicon compound such as silicon, silicon oxide, or silicon nitride, a metal such as gold, copper, molybdenum, titanium, desirable.

밀착 개량제의 구체예로서는 예를 들면, γ-아미노프로필트라이메톡시실레인, γ-아미노프로필트라이에톡시실레인, γ-글리시독시프로필트라이메톡시실레인, γ-글리시독시프로필트라이에톡시실레인, γ-글리시독시프로필메틸다이메톡시실레인, γ-메타크릴옥시프로필메틸다이에톡시실레인, γ-메타크릴옥시프로필트라이에톡시실레인, γ-클로로프로필트라이메톡시실레인, γ-머캅토프로필트라이메톡시실레인, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실레인, 바이닐트라이메톡시실레인 등을 들 수 있다. 이들 중, γ-글리시독시프로필트라이메톡시실레인, γ-메타크릴옥시프로필트라이메톡시실레인이 바람직하고, γ-글리시독시프로필트라이메톡시실레인이 보다 바람직하다. 이들은 1종 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the adhesion improver include, for example,? -Aminopropyltrimethoxysilane,? -Aminopropyltriethoxysilane,? -Glycidoxypropyltrimethoxysilane,? -Glycidoxypropyltriethoxy Silane,? -Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane,? -Methacryloxypropylmethyldiethoxysilane,? -Methacryloxypropyltriethoxysilane,? -Chloropropyltrimethoxysilane ,? -mercaptopropyltrimethoxysilane,? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, and the like. Of these,? -Glycidoxypropyltrimethoxysilane and? -Methacryloxypropyltrimethoxysilane are preferable, and? -Glycidoxypropyltrimethoxysilane is more preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

밀착 개량제의 함유량은, 조성물의 전체 고형 성분 100질량부에 대하여, 0.001~15질량부인 것이 바람직하고, 0.005~10질량부인 것이 보다 바람직하다. 밀착 개량제는, 1종류만 이용해도 되고, 2종류 이상 이용해도 된다. 2종류 이상 이용하는 경우는, 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The content of the adhesion improver is preferably 0.001 to 15 parts by mass, more preferably 0.005 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the total solid component of the composition. The adhesion improver may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used, it is preferable that the total amount is in the above range.

(감광제)(Photosensitive agent)

상기 보호층 형성용 조성물은, 감광제를 함유해도 된다.The composition for forming the protective layer may contain a photosensitizer.

감광제로서는 예를 들면, 광산발생제, 퀴논다이아자이드 화합물, 광라디칼 개시제 등을 들 수 있다.Examples of the photosensitizer include photoacid generators, quinone diazide compounds, photo radical initiators, and the like.

<보호층의 형성><Formation of Protective Layer>

기재 상에 보호층을 형성하는 방법은 특별히 제한되지 않지만 예를 들면, 기재 상에 상기 보호층 형성용 조성물을 도포하는 방법을 들 수 있다.The method for forming the protective layer on the substrate is not particularly limited. For example, a method of applying the composition for forming the protective layer onto the substrate can be mentioned.

(도포)(apply)

보호층 형성용 조성물을 기재 상에 도포하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 구체적으로는 예를 들면, 인쇄법(예를 들면, 그라비아 인쇄법, 스크린 인쇄법, 플렉소 인쇄법, 잉크젯 인쇄법, 임프린트법 등), 스핀 코팅법, 슬릿 코팅법, 슬릿 앤드 스핀 코팅법, 딥 코팅법, 커튼 코팅법 등을 들 수 있다.The method of applying the composition for forming a protective layer on a substrate is not particularly limited and specific examples include a printing method (for example, a gravure printing method, a screen printing method, a flexographic printing method, an inkjet printing method, A spin coating method, a slit coating method, a slit and spin coating method, a dip coating method, and a curtain coating method.

(용매 제거)(Solvent removal)

본 발명에 있어서는, 상술한 도포 후에 있어서, 후술하는 배향 처리 공정의 전에, 보호층 형성용 조성물에 포함되는 임의의 용매를 피막으로부터 제거하는 용매 제거 공정을 갖고 있어도 된다.In the present invention, after the above-described application, a solvent removing step for removing any solvent contained in the protective layer forming composition from the coating film may be provided before the orientation treatment step described later.

용매 제거 공정은, 용매의 종류나 양에 의하여 처리 조건이 다르지만 예를 들면, 용매로서 NMP를 이용한 경우에는, 80~150℃ 정도에서, 0.5~3분 정도 가열하는 공정인 것이 바람직하고, 90~120℃ 정도에서, 0.5~2분 정도 가열하는 공정인 것이 보다 바람직하다.For example, when NMP is used as a solvent, the solvent removal step is preferably a step of heating at about 80 to 150 DEG C for about 0.5 to 3 minutes, More preferably about 120 deg. C for 0.5 to 2 minutes.

<배향 보호층의 형성(배향 처리)>&Lt; Formation of alignment protection layer (alignment treatment) >

배향 처리로서는 예를 들면, 러빙 처리법, 광배향 처리, 자기(磁氣) 배향 등의 비접촉형 배향법 등을 들 수 있다.As the alignment treatment, for example, a non-contact alignment method such as a rubbing treatment method, a photo alignment treatment, and a magnetic alignment can be given.

(광배향 처리)(Photo-alignment treatment)

본 발명에 있어서는, 배향성기가 광배향성기인 경우, 배향 처리는, 파장 365nm 이하의 광을 이용하는 광배향 처리인 것이 바람직하다.In the present invention, when the aligning group is a photo aligning group, the aligning treatment is preferably a photo aligning treatment using light having a wavelength of 365 nm or less.

광배향 처리는, 파장 365nm 이하의 광을 이용하는 것 이외에는 특별히 한정되지 않지만, 편광한 자외선을 이용하는 것이 균일한 배향을 얻는 데에 있어서 바람직하다. 이 경우, 편광한 자외선을 조사하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 또한, 편광으로서는 특별히 제한은 없고 예를 들면, 직선 편광, 원편광, 타원 편광 등을 들 수 있고, 그 중에서도, 직선 편광이 바람직하다.The photo-alignment treatment is not particularly limited, except that light having a wavelength of 365 nm or less is used, but it is preferable to use polarized ultraviolet rays to obtain a uniform orientation. In this case, a method of irradiating polarized ultraviolet rays is not particularly limited. The polarized light is not particularly limited, and examples thereof include linearly polarized light, circularly polarized light, elliptically polarized light and the like, among which linearly polarized light is preferable.

또, 실질적으로 편광이 얻어지면 되고, 무편광의 광을 박막의 법선으로부터 일정 각도 기울여 조사해도 된다. 바꾸어 말하면, 박막 표면의 경사 방향으로부터 비편광을 조사해도 된다. "기울여 조사"란, 박막 표면의 법선 방향에 대하여 극각(極角) θ(0<θ<90°) 기울인 방향인 한, 특별히 제한은 없고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, θ이 20~80°인 것이 바람직하다.In addition, as long as substantially polarized light can be obtained, non-polarized light may be irradiated at a predetermined angle from the normal to the thin film. In other words, unpolarized light may be irradiated from the oblique direction of the thin film surface. Is not particularly limited as long as it is in a direction in which the polar angle? (0 &lt;? &Lt; 90 °) is inclined with respect to the normal direction of the surface of the thin film, Deg.].

사용되는 광의 광원으로서는 예를 들면, 제논 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈할라이드 램프 등을 들 수 있다.Examples of the light source for the light to be used include a xenon lamp, a high-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, and a metal halide lamp.

이와 같은 광원으로부터 얻은 자외선에 대하여, 간섭 필터나 색 필터 등을 이용함으로써, 조사하는 파장 범위를 제한할 수 있다. 또, 이들 광원으로부터의 광에 대하여, 편광 필터나 편광 프리즘을 이용함으로써, 직선 편광을 얻을 수 있다.The wavelength range to be irradiated can be limited by using an interference filter, a color filter, or the like for ultraviolet rays obtained from such a light source. Linearly polarized light can be obtained by using a polarization filter or a polarization prism for the light from these light sources.

<열처리><Heat treatment>

본 발명에 있어서는, 박막 트랜지스터의 신뢰성을 높이는 관점에서, 제1 공정이, 상기 배향 처리 전 또는 후에 열처리를 실시하는 공정인 것이 바람직하다.In the present invention, from the viewpoint of enhancing the reliability of the thin film transistor, it is preferable that the first step is a step of performing heat treatment before or after the alignment treatment.

열처리를 실시하는 방법으로서는 예를 들면, 보호층 또는 배향 처리가 실시된 배향 보호층을 180~350℃의 온도, 바람직하게는 200~300℃의 온도에서, 20~60분간, 가열하는 방법 등을 적합하게 들 수 있다.As the method of performing the heat treatment, for example, a method of heating the protective layer or the orientation protection layer subjected to the orientation treatment at a temperature of 180 to 350 占 폚, preferably 200 to 300 占 폚 for 20 to 60 minutes Can be suitably selected.

또, 열처리는, 핫플레이트나 오븐 등의 가열 장치를 이용하여 행하는 것이 바람직하다. 또, 열처리를 질소 분위기하에서 행함으로써, 투명성을 보다 향상시킬 수도 있다.The heat treatment is preferably performed using a heating apparatus such as a hot plate or an oven. In addition, transparency can be further improved by performing the heat treatment in a nitrogen atmosphere.

〔제2 공정〕[Second Step]

제2 공정은, 기재, 박막 트랜지스터, 표시 전극 및 배향막을 구비하는 제2 기판과, 제1 기판을 첩합시켜 액정을 봉입하고, 제1 기판과 제2 기판의 사이에 액정층을 형성하여, 액정 표시 장치를 제작하는 공정을 갖는다.A second step is a step of forming a liquid crystal layer between a first substrate and a second substrate by bonding a second substrate comprising a substrate, a thin film transistor, a display electrode and an alignment film to a first substrate, And a step of manufacturing a display device.

또한, 제2 공정에 있어서의 제2 기판은, 본 발명의 액정 표시 장치의 제2 기판과 동일하고, 그 제작 방법은 특별히 한정되지 않는다.The second substrate in the second step is the same as the second substrate in the liquid crystal display device of the present invention, and the manufacturing method thereof is not particularly limited.

제2 공정에 있어서의 액정의 봉입 방법은 특별히 한정되지 않고 예를 들면, 상술한 제1 기판 및 제2 기판과의 사이에 스페이서를 끼워 넣어 공간을 형성한 후에, 형성한 공간에 액정을 봉입하는 방법을 들 수 있다.The method of encapsulating the liquid crystal in the second step is not particularly limited. For example, after a space is formed by interposing a spacer between the first substrate and the second substrate, liquid crystal is sealed in the formed space Method.

실시예Example

이하에 실시예에 근거하여 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 순서 등은, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 한 적절히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 실시예에 의하여 한정적으로 해석되어야 하는 것은 아니다. 또한, 특별히 설명이 없는 한, "부", "%"는 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. The materials, the amounts used, the ratios, the processing contents, the processing procedures, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed to be limited by the following embodiments. Unless otherwise stated, "part" and "%" are based on mass.

〔광배향성기를 갖는 구성 단위(모노머 a-1)의 합성〕[Synthesis of structural unit (monomer a-1) having photo aligning group]

trans-4-하이드록시 신남산 메틸(도쿄 가세이 고교(주)제, 12.5g, 0.07mol)과 트라이에틸아민(와코 준야쿠 고교(주)제, 7.79g, 0.07mol)을 테트라하이드로퓨란(이하, "THF"라고 약칭함) 100mL에 용해시켜 두고, 0℃로 냉각한 후에, 메타크릴산 클로라이드(도쿄 가세이 고교(주)제, 7.33g, 0.07mol)를 서서히 적하했다.(7.79 g, 0.07 mol) of methyl trans-4-hydroxycinnamate (12.5 g, 0.07 mol, manufactured by Tokyo Kasei Kogyo K.K.) and triethylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were dissolved in tetrahydrofuran , Hereinafter abbreviated as "THF"). After cooling to 0 占 폚, methacrylic acid chloride (7.33 g, 0.07 mol, manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) was gradually added dropwise.

이어서, 백탁한 반응계(反應系)에 대하여, 물 500g을 넣고, 1시간 교반한 후에, 여과하여, 광배향성기로서 신나메이트기를 갖는 모노머 a-1을 14g 얻었다. 구조를 NMR(nuclear magnetic resonance)로 확인했다.Subsequently, 500 g of water was added to a cloudy reaction system (reaction system), stirred for 1 hour, and then filtered to obtain 14 g of a monomer a-1 having a cinnamate group as a photo-aligning group. The structure was confirmed by NMR (nuclear magnetic resonance).

〔광배향성기를 갖는 구성 단위(모노머 a-2)의 합성〕[Synthesis of constituent unit (monomer a-2) having photo aligning group]

4-하이드록시-3-메톡시 신남산 에틸(도쿄 가세이 고교(주)제, 22.2g, 0.1mol)을 다이메틸아세트아마이드 150mL에 용해시켜 두고, 탄산 칼륨(와코 준야쿠 고교(주)제, 30g, 0.22mol)을 첨가하여, 90℃로 온도를 올렸다.(22.2 g, 0.1 mol) of ethyl 4-hydroxy-3-methoxycinnamate (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo K.K.) was dissolved in 150 mL of dimethylacetamide, and potassium carbonate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, 30 g, 0.22 mol) was added and the temperature was raised to 90 占 폚.

이어서, 4-클로로뷰탄올(와코 준야쿠 고교(주)제, 21.6g, 0.2mol)을 적하하고, 3시간 교반했다.Then, 4-chlorobutanol (21.6 g, 0.2 mol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise and stirred for 3 hours.

그 후, 반응 용액을 물 1L에 따르고, 2NHCl로 중화시킨 후에, 아세트산 에틸 700mL로 추출하고, 포화 식염수로 세정하여, 농축을 행했다.Thereafter, the reaction solution was poured into 1 L of water, neutralized with 2N HCl, extracted with 700 mL of ethyl acetate, washed with saturated brine, and concentrated.

이어서, 실리카젤 컬럼 크로마토그래피에 의하여 분취하여, 중간체 화합물을 23g 얻었다.Then, the product was collected by silica gel column chromatography to obtain 23 g of an intermediate compound.

그 중간체 화합물 15g(0.05mol)과 트라이에틸아민(와코 준야쿠 고교(주)제, 5.6g, 0.056mol)을 THF 100mL에 용해시키고, 0℃로 냉각했다.15 g (0.05 mol) of the intermediate compound and 5.6 g (0.056 mol) of triethylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were dissolved in 100 mL of THF and cooled to 0 占 폚.

이어서, 메타크릴산 클로라이드(도쿄 가세이 고교(주)제, 5.8g, 0.056mol)를 적하하고, 3시간 교반한 후, 반응 용액을 물 500g에 따르고, 아세트산 에틸로 추출한 후, 농축했다.Subsequently, methacrylic acid chloride (5.8 g, 0.056 mol, manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added dropwise and stirred for 3 hours. The reaction solution was extracted with ethyl acetate (500 g), and then concentrated.

이어서, 실리카젤 컬럼 크로마토그래피에 의하여 분취하여, 광배향성기로서 신나메이트기를 갖는 모노머 a-2를 20g 얻었다.Subsequently, this was fractionated by silica gel column chromatography to obtain 20 g of monomer a-2 having a cinnamate group as a photo-aligning group.

〔광배향성기를 갖는 구성 단위(모노머 a-3)의 합성〕[Synthesis of constituent unit (monomer a-3) having photo aligning group]

하이드로퀴논(와코 준야쿠 고교(주)제, 63.8g, 0.58mol)을 다이메틸아세트아마이드 500mL에 용해시켜 두고, 탄산 칼륨(와코 준야쿠 고교(주)제, 40g, 0.29mol)을 첨가하여, 90℃로 온도를 올렸다.Hydroquinone (63.8 g, 0.58 mol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was dissolved in 500 mL of dimethylacetamide and potassium carbonate (40 g, 0.29 mol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) The temperature was raised to 90 占 폚.

이어서, 메타크릴산 4-클로로뷰틸(와코 준야쿠 고교(주)제, 25.6g, 0.145mol)을 적하하고, 3시간 교반했다.Subsequently, 4-chlorobutyl methacrylate (25.6 g, 0.145 mol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise and stirred for 3 hours.

그 후, 반응 용액을 물 1L에 따르고, 2NHCl로 중화 후, 아세트산 에틸 700mL로 추출하고, 포화 식염수로 세정하여, 농축을 행했다. 조결정(粗結晶)을 취출하고, 실리카젤 컬럼 크로마토그래피에 의하여 분취하여, 중간체 화합물 18g을 얻었다.Thereafter, the reaction solution was neutralized with 2N HCl in 1 L of water, extracted with ethyl acetate (700 mL), washed with saturated brine, and concentrated. Crude crystals (crude crystals) were collected and collected by silica gel column chromatography to obtain 18 g of an intermediate compound.

그 중간체 화합물 18g과 트라이에틸아민(와코 준야쿠 고교(주)제, 7.79g, 0.07mol)을 THF 100mL에 용해시키고, 0℃로 냉각했다.18 g of the intermediate compound and 7.79 g (0.07 mol) of triethylamine (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were dissolved in 100 mL of THF and cooled to 0 占 폚.

이어서, 신나모일 클로라이드(도쿄 가세이 고교(주)제, 13.1g, 0.07mol)를 적하하고, 3시간 교반한 후, 반응 용액을 물 500g에 붓고, 아세트산 에틸로 추출한 후, 농축했다.Then, cinnamoyl chloride (13.1 g, 0.07 mol, manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) was added dropwise and stirred for 3 hours. The reaction solution was poured into 500 g of water, extracted with ethyl acetate and concentrated.

이어서, 실리카젤 컬럼 크로마토그래피에 의하여 분취하여, 광배향성기로서 칼콘기를 갖는 모노머 a-3을 22g 얻었다.Subsequently, this was fractionated by silica gel column chromatography to obtain 22 g of a monomer a-3 having a chalcone group as a photo-aligning group.

〔광배향성기를 갖는 구성 단위(모노머 a-4)의 합성〕[Synthesis of constituent unit (monomer a-4) having photo aligning group]

Macromolecules 2004, Vol. 37, #7, p.2572와 동일하게 하여, 광배향성기로서 아조기를 갖는 모노머 a-4를 합성했다.Macromolecules 2004, Vol. 37, # 7, and p.2572, a monomer a-4 having an azo group as a photo-alignable group was synthesized.

〔광배향성기를 갖는 구성 단위(모노머 a-5)의 합성〕[Synthesis of constituent unit (monomer a-5) having photo aligning group]

Jounal of Polymer Science, Part A: Polymer Chemistry, 2010, Vol. 48, #19, 4323과 동일하게 하여, 광배향성기로서 쿠마린기를 갖는 모노머 a-5를 합성했다.Jounal of Polymer Science, Part A: Polymer Chemistry, 2010, Vol. 48, # 19, and 4323, a monomer a-5 having a coumarin group was synthesized as a photo-alignable group.

〔산기가 산분해성기로 보호된 구성 단위(모노머 e-1)의 합성〕[Synthesis of constituent unit (monomer e-1) protected with an acid-decomposable group at an acid]

메타크릴산(와코 준야쿠 고교(주)제, 86g, 1mol)을 15℃로 냉각해 두고, 캄퍼설폰산(도쿄 가세이 고교(주)제, 4.6g, 0.02mol)을 첨가했다.Methacrylic acid (86 g, 1 mol, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was cooled to 15 캜, and camphorsulfonic acid (4.6 g, 0.02 mol, manufactured by Tokyo Kasei Kogyo K.K.) was added.

이어서, 반응 용액에, 2-다이하이드로퓨란(가와켄 파인 케미컬(주)제, 71g, 1mol, 1.0당량)을 적하했다.Then, 2-dihydrofuran (71 g, 1 mol, 1.0 equivalent) made by Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd. was added dropwise to the reaction solution.

1시간 교반한 후에, 포화 탄산 수소 나트륨(500mL)을 첨가하고, 아세트산 에틸(500mL)로 추출했다.After stirring for 1 hour, saturated sodium hydrogencarbonate (500 mL) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate (500 mL).

이어서, 황산 마그네슘으로 건조시킨 후, 불용물을 여과 후 40℃ 이하에서 감압 농축하고, 또한 잔사의 황색 유상물(油狀物)을 감압 증류함으로써, 모노머 e-1로서, 비점(bp.) 54~56℃/3.5mmHg 유분(留分)의 메타크릴산 테트라하이드로-2H-퓨란-2-일을 무색 유상물로서 125g 얻었다(수율 80%).Subsequently, after drying with magnesium sulfate, the insoluble material was filtered and concentrated under reduced pressure at 40 ° C or lower, and the yellow oily matter of the residue was subjected to vacuum distillation to obtain a monomers e-1 having a boiling point (bp) of 54 125 g of methacrylic acid tetrahydro-2H-furan-2-yl in 56 ° C / 3.5 mmHg fraction (yield) was obtained (yield 80%) as a colorless oil.

〔구성 단위 s1을 갖는 중합체 (P1)의 합성〕[Synthesis of polymer (P1) having constituent unit s1]

다이에틸렌글라이콜메틸에틸에터(이하, "HS-EDM"이라고 약칭함) 22g을, 질소 기류하, 70℃로 가열 교반했다. 합성한 모노머 a-1(11.1g, 45mol%), 헥사플루오로아이소프로필메타크릴레이트(이하, "HFIP"라고 약칭함)(도쿄 가세이 고교(주)제, 3.5g, 15mol%), 메타크릴산(이하, "MAA"라고 약칭함)(와코 준야쿠 고교(주)제, 1.7g, 20mol%), 글리시딜메타크릴레이트(이하, "GMA"라고 약칭함)(와코 준야쿠 고교(주)제, 2.8g, 20mol%), 라디칼 중합 개시제(V-65, 와코 준야쿠 고교(주)제) 497mg(2mol%), 및 PGMEA(30g)의 혼합 용액을 2시간 동안 적하했다. 적하가 종료된 후, 추가로 70℃에서 4시간 반응시킴으로써, 구성 단위 s1을 갖는 중합체 P1의 PGMEA 용액(고형분 농도: 27%)을 얻었다.22 g of diethylene glycol methyl ethyl ether (hereinafter abbreviated as "HS-EDM") was heated and stirred at 70 ° C. in a stream of nitrogen. (11 g, 45 mol%), hexafluoroisopropyl methacrylate (hereinafter abbreviated as "HFIP") (3.5 g, 15 mol%, manufactured by TOKYO KASEI KOGYO CO., LTD.), Methacrylic (Hereinafter abbreviated as "MAA") (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 1.7 g, 20 mol%), glycidyl methacrylate (hereinafter abbreviated as "GMA" (2 mol%) of a radical polymerization initiator (V-65, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and PGMEA (30 g) was added dropwise over 2 hours. After completion of the dropwise addition, the mixture was further reacted at 70 DEG C for 4 hours to obtain a PGMEA solution (solid content concentration: 27%) of the polymer P1 having the constituent unit s1.

〔구성 단위 s1을 갖는 중합체 (P2~P11)의 합성〕[Synthesis of polymer (P2-P11) having constituent unit s1]

모노머, 개시제 및 용매의 종류를, 하기 제1 표에 따라 변경한 것 이외에는, 중합체 P1과 동일한 방법으로, 중합체 P2~P11을 합성했다. 또한, 하기 제1 표의 각 단량체 성분의 란에 기재한 수치는, 단량체 성분의 총량에 대한 각각의 단량체의 사용량(mol%)이다. 또, 중합 개시제의 란에 기재한 수치는, 단량체 성분의 총량을 100mol%로 한 경우의, mol%이다. 또, 실시예에서 이용하고 있는 약어는, 이하와 같다.Polymers P2 to P11 were synthesized in the same manner as Polymer P1, except that the kind of monomer, initiator and solvent was changed according to Table 1 below. In the column of each monomer component in the following Table 1, the numerical value is the amount (mol%) of each monomer relative to the total amount of the monomer components. The numerical values described in the column of the polymerization initiator are mol% when the total amount of the monomer components is 100 mol%. The abbreviations used in the examples are as follows.

<약어><Abbreviation>

·HFIP: 헥사플루오로아이소프로필메타크릴레이트(도쿄 가세이 고교(주)제)HFIP: Hexafluoroisopropyl methacrylate (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.)

·6FM: 트라이플루오로에틸메타크릴레이트(오사카 유키 가가쿠 고교(주)제)6FM: Trifluoroethyl methacrylate (manufactured by Osaka Yuki Kagaku Kogyo Co., Ltd.)

·KBM-503: 3-메타크릴옥시프로필트라이메톡시실레인(신에쓰 가가쿠 고교(주)제)KBM-503: 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

·C18MA: 옥타데케인메타크릴레이트(도쿄 가세이 고교(주)제)C18MA: octadecane methacrylate (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.)

·MAA: 메타크릴산(와코 준야쿠 고교(주)제)MAA: methacrylic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

·MMA: 메타크릴산 메틸(와코 준야쿠 고교(주)제)MMA: Methyl methacrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

·St: 스타이렌(와코 준야쿠 고교(주)제)St: Styrene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

·AA: 아크릴산(와코 준야쿠 고교(주)제)AA: Acrylic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

·GMA: 글리시딜메타크릴레이트(도쿄 가세이 고교(주)제)GMA: glycidyl methacrylate (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.)

·OXE-30: (3-에틸옥세탄-3-일)메틸메타크릴레이트(오사카 유키 가가쿠 고교(주)제)OXE-30: (3-ethyloxetan-3-yl) methyl methacrylate (manufactured by Osaka Yuki Kagaku Kogyo Co., Ltd.)

·사이클로머 M100: (3,4-에폭시사이클로헥실)메틸메타크릴레이트(다이셀 가가쿠 고교(주)제)Cyclomer M100: (3,4-epoxycyclohexyl) methyl methacrylate (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)

·DCPM: 다이사이클로펜탄일메타크릴레이트(판크릴 FA-513M, 히타치 가세이(주)제)DCPM: Dicyclopentanyl methacrylate (Pancuril FA-513M, manufactured by Hitachi Kasei Corporation)

·NBMA: N-뷰톡시메틸아크릴아마이드(미쓰비시 레이온(주)제)NBMA: N-Butoxymethylacrylamide (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)

·V-601: 라디칼 중합 개시제(와코 준야쿠 고교(주)제)V-601: Radical polymerization initiator (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

·V-65: 라디칼 중합 개시제(와코 준야쿠 고교(주)제)V-65: Radical polymerization initiator (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

·PGMEA: 메톡시프로필렌글라이콜아세테이트((주)다이셀제)PGMEA: Methoxypropylene glycol acetate (Daicel Co., Ltd.)

·HS-EDM: 다이에틸렌글라이콜메틸에틸에터(도호 가가쿠 고교(주)제)· HS-EDM: Diethylene glycol methyl ethyl ether (manufactured by Tohoku Kagaku Kogyo Co., Ltd.)

[표 1][Table 1]

Figure pct00034
Figure pct00034

〔다른 광배향성 폴리머의 합성〕[Synthesis of other photo-orientable polymer]

<중합체 P12의 합성>&Lt; Synthesis of Polymer P12 >

일본 공개특허공보 2013-177561호의 [0161] 단락(조제예 1)에 기재된 광배향성 폴리머 (A-1)과 동일한 방법으로, 중합체 P12를 합성했다.Polymer P12 was synthesized in the same manner as the photo-orientable polymer (A-1) described in [0161] (Preparation Example 1) of JP-A-2013-177561.

<중합체 P13의 합성>&Lt; Synthesis of Polymer P13 >

WO2010/150748의 [0084] 단락(합성예 1)에 기재된 특정 공중합체 P1과 동일한 방법으로, 중합체 P13을 합성했다.A polymer P13 was synthesized in the same manner as the specific copolymer P1 described in the paragraph (Synthesis Example 1) of WO2010 / 150748.

〔다른 구성 단위를 갖는 중합체 A의 조제〕[Preparation of polymer A having another constituent unit]

<산기가 산분해성기로 보호된 기를 갖는 구성 단위 a1 및 가교성기를 갖는 구성 단위 a2를 포함하는 중합체 A-1의 합성>&Lt; Synthesis of polymer A-1 comprising a structural unit a1 having a group protected by an acid-decomposable group and a structural unit a2 having a crosslinkable group >

HS-EDM(82부)을 질소 기류하, 90℃로 가열 교반했다.HS-EDM (82 parts) was heated and stirred in a nitrogen stream at 90 占 폚.

이어서, 모노머 e-1로서 합성한 메타크릴산 테트라하이드로-2H-퓨란-2-일(43부(전체 단량체 성분 중의 40.5mol%에 상당)), OXE-30(48부(전체 단량체 성분 중의 37.5mol%에 상당)), MAA(6부(전체 단량체 성분 중의 9.5mol%에 상당)), 하이드록시에틸메타크릴레이트(와코 준야쿠 고교(주)제, 11부(전체 단량체 성분 중의 12.5mol%에 상당)), 라디칼 중합 개시제 V-601(4.3부), 및 PGMEA(82부)의 혼합 용액을 2시간 동안 적하하고, 추가로 2시간 90℃에서 반응시킴으로써, 중합체 A-1의 용액(고형분 농도: 40%)을 얻었다.Then, 43 parts (corresponding to 40.5 mol% in total monomer components) of methacrylic acid tetrahydro-2H-furan-2-yl methacrylate synthesized as monomer e-1, 48 parts of OXE-30 (corresponding to 9.5 mol% of the total monomer components), 11 parts of hydroxyethyl methacrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 12.5 mol% , A solution of Polymer A-1 (corresponding to a solid content (hereinafter referred to as &quot; Polymer A-1 &quot;)), a mixed solution of a radical polymerization initiator V-601 (4.3 parts) and PGMEA (82 parts) Concentration: 40%).

또한, 얻어진 중합체 A-1의 젤 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의하여 측정한 중량 평균 분자량은, 15,000이었다.The polymer A-1 thus obtained had a weight average molecular weight of 15,000 as measured by gel permeation chromatography (GPC).

<산기가 산분해성기로 보호된 기를 갖는 구성 단위 a1을 포함하는 중합체 A-2의 합성>&Lt; Synthesis of polymer A-2 containing structural unit a1 having a group protected with an acid-decomposable group &

PGMEA(238g)를 질소 기류하, 90℃로 가열 교반했다.PGMEA (238 g) was heated and stirred in a nitrogen stream at 90 占 폚.

이어서, 모노머 e-1로서 합성한 메타크릴산 테트라하이드로-2H-퓨란-2-일(240g(전체 단량체 성분 중의 61.1mol%에 상당)), MAA(50.4g(전체 단량체 성분 중의 17.6mol%에 상당)), MMA(27.9g(전체 단량체 성분 중의 21.3mol%에 상당)), 라디칼 중합 개시제 V-601(14.7g), 및 PGMEA(238g)의 혼합 용액을 2시간 동안 적하하고, 추가로 2시간 90℃에서 반응시켜, 냉각 후에 PGMEA(42g)를 추가함으로써, 중합체 A-2의 용액(고형분 농도: 38%)을 얻었다.Subsequently, 240 g (corresponding to 61.1 mol% of the total monomer components) of methacrylic acid tetrahydro-2H-furan-2-yl methacrylate synthesized as the monomer e-1, 50.4 g (MA of 17.6 mol% ), MMA (27.9 g, corresponding to 21.3 mol% of the total monomer components), radical polymerization initiator V-601 (14.7 g) and PGMEA (238 g) The reaction was carried out at 90 占 폚 for a time, and after cooling, PGMEA (42 g) was added to obtain a solution of polymer A-2 (solid concentration: 38%).

얻어진 중합체 A-2의 젤 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의하여 측정한 중량 평균 분자량은, 15,000이었다.The polymer A-2 thus obtained had a weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC) of 15,000.

<가교성기를 갖는 구성 단위 a2를 포함하는 중합체 A-3의 합성>&Lt; Synthesis of polymer A-3 containing the structural unit a2 having a crosslinkable group >

HS-EDM(145g)을 질소 기류하, 70℃로 가열 교반했다.The HS-EDM (145 g) was heated and stirred in a nitrogen stream at 70 占 폚.

이어서, GMA(144.7g(67.9mol%)), MAA(16.7g(12.9mol%)), St(28.1g(18.0mol%)), DCPM(3.87g(1.17mol%), 라디칼 중합 개시제 V-65(20.8g(5.6mol% 모노머양 환산)), 및 HS-EDM(145g)의 혼합 용액을 2시간 동안 적하했다.Subsequently, GMA (144.7 g (67.9 mol%)), MAA (16.7 g (12.9 mol%), St (28.1 g, 18.0 mol%), DCPM (3.87 g 65 (20.8 g (5.6 mol% in terms of monomer amount)) and HS-EDM (145 g) was added dropwise over 2 hours.

적하가 종료된 후, 70℃에서 4시간 반응시킴으로써, 중합체 A-3의 PGMEA 용액(고형분 농도: 35%)을 얻었다.After completion of the dropwise addition, the mixture was reacted at 70 DEG C for 4 hours to obtain a PGMEA solution (solid content concentration: 35%) of Polymer A-3.

<산기를 갖는 구성 단위 a3 및 가교성기를 갖는 구성 단위 a2를 포함하는 중합체 A-4><Polymer A-4 comprising the constituent unit a3 having an acid group and the constituent unit a2 having a crosslinkable group>

PGMEA(268부)를 질소 기류하, 90℃로 가열 교반했다.PGMEA (268 parts) was heated and stirred in a nitrogen stream at 90 占 폚.

이어서, 모노머 e-1로서 합성한 메타크릴산 테트라하이드로-2H-퓨란-2-일(143.4부(전체 단량체 성분 중의 40.1mol%에 상당)), 사이클로머 M100(168.4부(전체 단량체 성분 중의 37.5mol%에 상당)), MAA(19.5부(전체 단량체 성분 중의 9.9mol%에 상당)), 하이드록시에틸메타크릴레이트(와코 준야쿠 고교(주)제, 37.2부(전체 단량체 성분 중의 12.5mol%에 상당)), 라디칼 중합 개시제 V-601(5.5부), 및 PGMEA(268부)의 혼합 용액을 2시간 동안 적하하고, 추가로 2시간 90℃에서 반응시킴으로써, 중합체 A-4의 용액(고형분 농도: 40%)을 얻었다.Then, 143.4 parts (corresponding to 40.1 mol% in total monomer components) of methacrylic acid tetrahydro-2H-furan-2-yl methacrylate synthesized as monomer e-1, 168.4 parts of Cyclomer M100 (37.5 (corresponding to 9.9 mol% of the total monomer components), 37.2 parts (12.5 mol% of all monomer components) of hydroxyethyl methacrylate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) , A mixed solution of a radical polymerization initiator V-601 (5.5 parts) and PGMEA (268 parts) was added dropwise over 2 hours, and the mixture was further reacted at 90 DEG C for 2 hours to obtain a solution of the polymer A- Concentration: 40%).

또한, 얻어진 중합체 A-4의 젤 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의하여 측정한 중량 평균 분자량은, 16,000이었다.The polymer A-4 thus obtained had a weight average molecular weight of 16,000 as measured by gel permeation chromatography (GPC).

<산기를 갖는 구성 단위 a3 및 가교성기를 갖는 구성 단위 a2를 포함하는 중합체 A-5>&Lt; Polymer A-5 comprising structural unit a3 having an acid group and structural unit a2 having a crosslinkable group >

플라스크 내를 질소 치환한 후, 2,2'-아조비스아이소뷰티로나이트릴 9.0g을 용해한 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터 용액을 459.0g 도입했다.After the inside of the flask was purged with nitrogen, 459.0 g of a diethylene glycol dimethyl ether solution in which 9.0 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile was dissolved was introduced.

이어서, St(22.5g), MAA(45.0g), DCPM(67.5g), 및 GMA(90.0g)를 도입한 후, 천천히 교반을 시작했다.Subsequently, St (22.5 g), MAA (45.0 g), DCPM (67.5 g), and GMA (90.0 g) were introduced and stirring was started slowly.

이어서, 용액의 온도를 80℃로 상승시켜, 이 온도를 5시간 유지한 후, 90℃에서 1시간 가열시켜 중합을 종결시켰다.Subsequently, the temperature of the solution was raised to 80 DEG C, the temperature was maintained for 5 hours, and the polymerization was terminated by heating at 90 DEG C for 1 hour.

그 후, 반응 생성 용액을 다량의 물에 적하하여 반응물을 응고시켰다. 이 응고물을 수세 후, THF(200g)로 재용해하고, 다량의 물로 재차, 응고시켰다.Thereafter, the reaction product solution was added dropwise to a large amount of water to solidify the reaction product. After washing the solidified product with water, the solidified product was redissolved in THF (200 g) and solidified again with a large amount of water.

이 재용해 및 응고의 조작을 합계 3회 행한 후, 얻어진 응고물을 60℃에서 48시간 감압 건조하여, 중합체 A-5를 얻었다. 그 후, 고형분 농도가 25질량%가 되도록 다이에틸렌글라이콜을 이용하여 중합체 A-5 용액으로 했다.This redissolving and coagulation operation was carried out three times in total, and the resulting coagulum was dried under reduced pressure at 60 DEG C for 48 hours to obtain polymer A-5. Thereafter, a polymer A-5 solution was prepared by using diethylene glycol so that the solid concentration became 25 mass%.

<중합체 A-6><Polymer A-6>

일본 공개특허공보 2013-177561호의 [0165] 단락(조제예 5)에 기재된 비배향성 폴리머 (E-1)과 동일한 방법으로, 중합체 A-6을 합성했다.Polymer A-6 was synthesized in the same manner as in the non-oriented polymer (E-1) described in [0165] (Preparation Example 5) of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-177561.

〔가교제 B〕[Crosslinking agent B]

가교제 B로서 이하에 나타내는 것을 사용했다.The following crosslinking agent B was used.

<B-1><B-1>

분자량 5,000 이하의 가교제 B-1로서, 다관능 에폭시 화합물(옥솔 EG, 오사카 가스(주)제)을 이용했다.As the crosslinking agent B-1 having a molecular weight of 5,000 or less, a polyfunctional epoxy compound (Oxol EG, manufactured by Osaka Gas Co., Ltd.) was used.

<B-2><B-2>

분자량 5,000 이하의 가교제 B-2로서, 다관능 에폭시 화합물(EX-321L, 나가세 켐텍스(주)제)를 이용했다.As the crosslinking agent B-2 having a molecular weight of 5,000 or less, a polyfunctional epoxy compound (EX-321L, manufactured by Nagase ChemteX Corporation) was used.

<B-3><B-3>

분자량 5,000 이하의 가교제 B-3으로서, 다관능 에폭시 화합물(JER57S65, 재팬 에폭시 레진(주)제)을 이용했다.As the crosslinking agent B-3 having a molecular weight of 5,000 or less, a polyfunctional epoxy compound (JER57S65, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) was used.

〔그 외의 성분〕[Other components]

<F-554><F-554>

계면활성제로서, 퍼플루오로알킬기 함유 비이온 계면활성제(F-554, DIC(주)제)를 사용했다.As the surfactant, a perfluoroalkyl group-containing nonionic surfactant (F-554, manufactured by DIC) was used.

<KBM-403><KBM-403>

밀착 개량제로서, γ-글리시독시프로필트라이메톡시실레인(KBM-403, 신에쓰 가가쿠 고교(주)제)을 사용했다.As the adhesion improver,? -Glycidoxypropyltrimethoxysilane (KBM-403, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was used.

〔실시예 1~24 및 비교예 1~6〕[Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 to 6]

하기 제2 표에 나타내는 각 성분을 용제(PGMEA)에 고형분 농도가 18질량%가 될 때까지 용해 혼합하고, 구경 0.2μm의 폴리테트라플루오로에틸렌제 필터로 여과하여, 각 실시예 및 비교예의 수지 조성물을 조제했다. 또한, 표 중의 첨가량은 각 성분의 고형분에 의한 첨가량을 나타내고, 단위는 질량부이다.Each component shown in Table 2 below was dissolved and mixed in a solvent (PGMEA) until the solid content concentration reached 18 mass%, and the solution was filtered with a polytetrafluoroethylene filter having a pore size of 0.2 m to obtain a resin A composition was prepared. The addition amount in the table indicates the amount added by the solid content of each component, and the unit is parts by mass.

얻어진 수지 조성물을, 유리 기판 상에 스핀 코트법에 의하여 도포하고, 80℃의 핫플레이트 상에서 1분간 예비 건조시킨 후, 230℃의 클린 오븐 중에서 60분간 소성하여, 3μm의 오버코트층의 경화막을 형성했다.The obtained resin composition was applied on a glass substrate by a spin coat method, preliminarily dried on a hot plate at 80 DEG C for 1 minute, and then fired in a clean oven at 230 DEG C for 60 minutes to form a cured film of an overcoat layer of 3 mu m .

형성한 경화막을 표면·계면 절삭 장치(DN-20S형, 다이플라·윈테스사제)에 의하여 경사 절삭을 행하여, 단면을 노출시켰다.The formed cured film was subjected to oblique cutting by a surface and interfacial cutting apparatus (DN-20S type, made by Dypler &amp; Wints) to expose a cross section.

노출시킨 단면에 대하여, 상술한 측정 장치 및 조건에 의하여, 배향성기에서 유래하는 프래그먼트의 질량 분석의 강도 ELq 및, 강도 ESub를 측정하여, 이들 강도비(강도 ELq/강도 ESub)를 측정하고, 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 제2 표에 나타낸다. 또한, 동일한 시험을, 후술하는 표시 장치를 제작한 후에 배향 보호층에 대하여 행했지만, 결과는 동일했다.The intensity ratio ELq and the intensity ESub of the mass analysis of fragments derived from the aligning group were measured and the intensity ratio (intensity ELq / intensity ESub) of the exposed cross section was measured by the above-mentioned measuring apparatus and conditions, . The results are shown in Table 2 below. Further, the same test was performed on the alignment protection layer after the display device described later was fabricated, but the results were the same.

A: 강도비가 10배 이상 또는 강도 Esub가 측정 한계 이하A: When the intensity ratio is 10 times or more, or the intensity Esub is below the measurement limit

B: 강도비가 8배 이상~10배 미만B: Intensity ratio is more than 8 times to less than 10 times

C: 강도비가 5배 이상~8배 미만C: Intensity ratio is more than 5 times to less than 8 times

D: 강도비가 2배 이상~5배 미만D: intensity ratio more than 2 times to less than 5 times

E: 강도비가 2배 미만E: intensity ratio less than 2 times

F: 프래그먼트 피크 없음F: No fragment peak

[표 2][Table 2]

Figure pct00035
Figure pct00035

〔평가〕〔evaluation〕

<배향성><Orientation>

무알칼리 유리 기판 상에, 조제한 각 수지 조성물을 스핀 코터(스피너)에 의하여 도포한 후, 100℃의 핫플레이트 상에서 2분간 프리베이크함으로써 막두께 4.0μm의 도막을 형성했다.Each of the prepared resin compositions was coated on a non-alkali glass substrate by a spin coater (spinner), and then prebaked on a hot plate at 100 캜 for 2 minutes to form a coating film having a film thickness of 4.0 탆.

이어서, 얻어진 도막에 고압 수은 램프를 이용하여 노광량 1000J/m2로서 방사선 조사를 행하고 이어서, 오븐 중에서 230℃의 경화 온도 및 30분간의 경화 시간으로 포스트베이크함으로써 보호층을 형성했다.Subsequently, the resulting coating film was irradiated with a high-pressure mercury lamp at an exposure dose of 1000 J / m 2 , and then post-baked at a curing temperature of 230 캜 and a curing time of 30 minutes in an oven to form a protective layer.

형성한 보호층에 대하여 자외선 편광 노광 장치(HC-2150PUFM, 란 테크니컬 서비스(주)제)를 이용하여, 편향광을 750mJ/cm2를 조사하고 광배향 처리를 실시하여, 배향 보호층을 형성했다.The formed protective layer was irradiated with deflected light at 750 mJ / cm 2 and photo-alignment treatment using an ultraviolet ray polarizing exposure apparatus (HC-2150PUFM, manufactured by Lan Technical Service Co., Ltd.) to form an alignment protection layer .

그 후, 수평 배향 액정을 도포하고, 배향 상태를 편광 현미경으로 배율 20배로 관찰했다. 장소를 바꾸어, 5개의 시야(약 1평방μm)로 관찰하고, 이하의 기준으로 평가했다. 결과를 하기 제3 표에 나타낸다.Thereafter, horizontally aligned liquid crystal was applied, and the alignment state was observed with a polarization microscope at a magnification of 20 times. The place was changed and observed with five fields of view (about 1 square m), and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 3 below.

A: 문제 없음A: No problem

B: 농담이 확인되지만, 실용상 문제가 없는 레벨B: Level where there is no problem in practice although the joke is confirmed.

C: 결함 있음, 휘점이 관찰됨C: Defective, bright spot observed

D: 전혀 배향되지 않음D: Not aligned at all

<리타데이션(Rth)>&Lt; Retardation (Rth) >

무알칼리 유리 기판 상에, 조제한 각 수지 조성물을 스핀 코터에 의하여 도포한 후, 100℃의 핫플레이트 상에서 2분간 프리베이크함으로써 막두께 4.0μm의 도막을 형성했다.Each of the prepared resin compositions was coated on a non-alkali glass substrate by a spin coater and then pre-baked on a hot plate at 100 캜 for 2 minutes to form a coating film having a film thickness of 4.0 탆.

이어서, 얻어진 도막에 고압 수은 램프를 이용하여 노광량 1000J/m2로서 방사선 조사를 행하고 이어서, 오븐 중에서 230℃의 경화 온도 및 30분간의 경화 시간으로 포스트베이크함으로써 보호층을 형성했다.Subsequently, the resulting coating film was irradiated with a high-pressure mercury lamp at an exposure dose of 1000 J / m 2 , and then post-baked at a curing temperature of 230 캜 and a curing time of 30 minutes in an oven to form a protective layer.

이 보호층에 대하여 위상차 측정 장치 KOBRA-WFD(오지 게이소쿠 기키 가부시키가이샤제)를 이용하여 복굴절을 평가했다. 결과를 제3 표에 나타낸다. 또한, 복굴절은 표시의 각도 어긋남에 기인하기 때문에, 30nm를 넘지 않으면 실용상 문제가 없지만, 낮은 수치가 바람직하다.The birefringence of the protective layer was evaluated using a phase difference measuring apparatus KOBRA-WFD (manufactured by Oji Scientific Co., Ltd.). The results are shown in Table 3. Further, the birefringence is caused by the angle deviation of the display, and therefore, there is no practical problem if it is not more than 30 nm, but a low value is preferable.

<평탄성><Flatness>

높이 1μm, 폭 10μm의 L/S 패턴(L/S폭의 비가 1:1)을 작성하고, 그 위에 수지 조성물을 스핀 코터로 도포하고, 90℃/120초로 프리베이크 후, 오븐에서 230℃/30분으로 열경화시켜, 2μm의 경화막을 얻었다.(L / S width ratio of 1: 1) having a height of 1 mu m and a width of 10 mu m was prepared. The resin composition was applied thereon with a spin coater and pre-baked at 90 DEG C for 120 seconds. And then thermally cured for 30 minutes to obtain a cured film of 2 m.

얻어진 경화막의 평탄성을 하기 식으로 정의하여, 산출했다. 결과를 하기 제3 표에 나타낸다. 또한, 평탄성은, 수치가 100에 가까울수록 평탄화 능력이 높고, 실용상은 70% 이상이 요구된다.The flatness of the obtained cured film was defined and calculated. The results are shown in Table 3 below. In addition, the planarity is higher as the value is closer to 100, the planarization capability is higher, and the practical value is required to be 70% or more.

평탄성(%)=(1-Δd/H)×100Flatness (%) = (1 -? D / H) x 100

여기에서, 상기 식 중, Δd는, L/S 패턴 상부의 경화막의 막두께와 경화막의 막두께(2μm)의 차분(μm)을 의미하고, H는, 하지(下地)의 L/S 패턴의 막두께(μm)를 의미한다.Here,? D means the difference (μm) between the film thickness of the cured film on the L / S pattern and the film thickness (2 μm) of the cured film, and H denotes the difference Means the film thickness (μm).

<표시 특성><Display characteristics>

(1) 어레이 기판의 제조(1) Fabrication of array substrate

국제 공개공보(WO)2009/025386호의 실시예 42의 기재에 따라, 어레이 기판 상에 콘택트 홀이 형성된 절연막을 형성했다.According to the description of Example 42 of International Publication No. WO 2009/025386, an insulating film having a contact hole formed on an array substrate was formed.

이어서, 절연막이 형성된 기판에 대하여, 스퍼터링법을 이용하여, 절연막 상에 ITO로 이루어지는 투명 도전층을 형성했다. 다음으로, 포토리소그래피법을 이용하여 투명 도전층을 에칭하고, 절연막 상에 공통 전극을 형성했다.Subsequently, a transparent conductive layer made of ITO was formed on the insulating film by sputtering on the substrate having the insulating film formed thereon. Next, the transparent conductive layer was etched by photolithography, and a common electrode was formed on the insulating film.

그 후, 스퍼터링법을 이용하여, SiN의 절연층을 형성했다. 다음으로 포토리소그래피법을 이용하여 SiN층을 에칭하고, 공통 전극의 형성된 기판의 표면에 패터닝된 SiN의 절연막을 형성했다.Thereafter, an insulating layer of SiN was formed by sputtering. Next, the SiN layer was etched by photolithography to form a patterned SiN insulating film on the surface of the substrate on which the common electrode was formed.

다음으로, 스퍼터링법을 이용하여, 층간 절연막 상에, ITO로 이루어지는 투명 도전층을 형성했다. 이어서, 포토리소그래피법을 이용하여 이 투명 도전층을 에칭하고, 무기 절연막 상에 빗살 형상의 화소 전극을 형성했다.Next, a transparent conductive layer made of ITO was formed on the interlayer insulating film by sputtering. Subsequently, the transparent conductive layer was etched by photolithography to form a comb-shaped pixel electrode on the inorganic insulating film.

이상과 같이 하여, 본 실시예의 어레이 기판을 제조했다. 얻어진 본 실시예의 어레이 기판에서는, 절연막의 원하는 위치에 원하는 사이즈의 콘택트 홀이 형성되어 있으며, 화소 전극과 능동 소자의 소스-드레인 전극의 전기적인 접속이 실현되어 있었다.Thus, the array substrate of this embodiment was manufactured. In the obtained array substrate of the present embodiment, a contact hole of a desired size was formed at a desired position of the insulating film, and electrical connection was made between the pixel electrode and the source-drain electrode of the active element.

어레이 기판의 투명 전극 상에, 광배향성기를 갖는 감방사선성 중합체를 포함하는 액정 배향제로서, 국제 공개공보(WO)2009/025386호의 실시예 6에 기재된 액정 배향제 A-1을 스피너에 의하여 도포한다. 이어서, 80℃의 핫플레이트로 1분간 프리베이크를 행한 후, 내부를 질소 치환한 오븐에서, 180℃에서 1시간 가열하여 막두께 80nm의 도막을 형성했다. 이어서, 이 도막 표면에, Hg-Xe 램프 및 글랜 테일러 프리즘을 이용하여 313nm의 휘선을 포함하는 편광 자외선 200J/m2를, 기판 표면에 수직인 방향에 대하여 40° 경사진 방향으로부터 조사하여, 액정 배향막을 갖는 어레이 기판을 제조했다.As a liquid crystal aligning agent containing a radiation-sensitive polymer having a photo-orientable group, a liquid crystal aligning agent A-1 described in Example 6 of International Publication No. WO 2009/025386 was coated on a transparent electrode of an array substrate by a spinner do. Subsequently, pre-baking was performed with a hot plate at 80 DEG C for 1 minute, and then the coated film was heated at 180 DEG C for 1 hour in an oven where the inside was replaced with nitrogen to form a coating film having a thickness of 80 nm. Subsequently, a polarizing ultraviolet ray 200 J / m 2 containing a bright line of 313 nm was irradiated onto the surface of the coating film from a direction inclined by 40 ° with respect to a direction perpendicular to the substrate surface using an Hg-Xe lamp and a Glane Taylor prism, An array substrate having an orientation film was produced.

(2) 대향 기판의 제조(2) Fabrication of counter substrate

먼저, 공지의 방법에 의하여 제조된 컬러 필터 기판을 준비했다. 이 컬러 필터 기판은, 투명 기판 상에, 적색, 녹색 및 청색의 3색의 미소한 착색 패턴과, 블랙 매트릭스가 격자 형상으로 배치되어 있다. 다음으로, 컬러 필터 기판의 착색 패턴과 블랙 매트릭스 상에, 상기 제2 표에 나타내는 실시예 1~24 및 비교예 1~6의 수지 조성물을 이용하여 도막을 형성하고, 90℃/120초로 프리베이크한 후, 오븐에서 230℃/30분으로 열경화시켜, 보호막을 제작했다. 이어서, 보호막에 대하여, 자외선 편광 노광 장치(HC-2150PUFM, 란 테크니컬 서비스(주)제)를 이용하여, 편향광을 750mJ/cm2를 조사하는 광배향 처리를 실시하고, 2μm의 배향 보호막을 형성하여, 대향 기판을 제조했다.First, a color filter substrate manufactured by a known method was prepared. In this color filter substrate, a minute colored pattern of three colors of red, green, and blue and a black matrix are arranged in a lattice pattern on a transparent substrate. Next, a coating film was formed on the coloring pattern of the color filter substrate and the black matrix using the resin compositions of Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 to 6 shown in Table 2, and prebaked at 90 DEG C / 120 seconds And then thermally cured in an oven at 230 DEG C for 30 minutes to prepare a protective film. Subsequently, the protective film was subjected to photo alignment treatment for irradiating deflected light at 750 mJ / cm 2 using an ultraviolet ray polarizing exposure apparatus (HC-2150PUFM, manufactured by Lan Technical Service Co., Ltd.) to form an orientation protective film of 2 μm To prepare a counter substrate.

(3) 표시 장치의 제조(3) Manufacturing of display devices

얻어진 배향 보호막 부착 대향 기판과, 어레이 기판에 의하여, 액정층을 협지하여 컬러 액정 표시 소자를 제조했다. 액정층으로서는, 네마틱 액정으로 이루어지며, 기판면에 평행으로 배향하는 것을 이용했다. 이들 액정 표시 소자에 대하여 표시 특성과 신뢰성을 평가했다.A color liquid crystal display element was produced by sandwiching the liquid crystal layer by the obtained alignment substrate with an alignment protective film and an array substrate. As the liquid crystal layer, those made of nematic liquid crystal and aligned in parallel to the substrate surface were used. The display characteristics and reliability of these liquid crystal display devices were evaluated.

(4) 평가(4) Evaluation

액정 표시 소자를 온도 60℃/습도 90%의 오븐에 1주간 정치하고, 재차 구동시키는 평가를 행했다. 결과를 하기 제3 표에 나타낸다.The liquid crystal display device was allowed to stand in an oven at a temperature of 60 占 폚 / humidity of 90% for 1 week, and evaluated again for driving. The results are shown in Table 3 below.

A: 전혀 표시 불량이 발생하지 않았던 것A: No display defect occurred at all

B: 화소의 1% 이상~10% 미만으로 표시 불량이 발생했지만, 실용상은 문제가 없는 것B: Display failure occurred at 1% or more and less than 10% of the pixels, but there was no problem in practical use

C: 화소의 10% 이상으로 표시 불량이 발생한 것C: A display failure occurred at 10% or more of the pixels

D: 제조 직후에도 표시할 수 없었던 것D: What could not be displayed immediately after manufacturing

[표 3][Table 3]

Figure pct00036
Figure pct00036

제1 표~ 제3 표에 나타내는 결과로부터, 배향 보호층이, 배향성기를 갖지 않은 경우에는, 배향성기에서 유래하는 프래그먼트가 검출되지 않아, 제작 직후의 액정 표시 소자여도 표시 특성이 뒤떨어지는 것을 알 수 있었다(비교예 1~2).From the results shown in Tables 1 to 3, when the alignment protection layer does not have an orientation group, fragments derived from the aligning group are not detected, and the display characteristics are poor even after the liquid crystal display element immediately after preparation (Comparative Examples 1 and 2).

또, 비교예 3 및 4에서는, 배향 보호층의 배향성기에서 유래하는 프래그먼트의 강도 ELq가 강도 ESub의 2배 이상이었지만, 공유 결합을 통하여 서로 연결된 배향성기 및 가교 구조를 갖지 않기 때문에, 고온 고습하에 노출된 후의 표시 특성이 뒤떨어지는 것을 알 수 있었다(비교예 3~4).In addition, in Comparative Examples 3 and 4, the strength ELq of the fragment derived from the aligning group of the orientation protection layer was at least twice the strength ESub, but since it did not have an orienting group and a crosslinking structure connected to each other via covalent bonds, And the display characteristics after exposure were inferior (Comparative Examples 3 to 4).

또한, 배향성기를 편재시키기 위한 편재성기를 갖지 않는 중합체를 이용한 경우는, 형성되는 배향 보호층의 배향성기에서 유래하는 프래그먼트의 강도 ELq가 강도 ESub의 2배 미만이 되어, 제작 직후의 액정 표시 소자여도 표시 특성이 뒤떨어지는 것을 알 수 있었다(비교예 5~6).When a polymer having no ubiquitous group for localizing an oriented group is used, the strength ELq of the fragment derived from the aligning group of the orientation-protective layer to be formed becomes less than twice the intensity ESub, (Comparative Examples 5 to 6).

한편, 구성 단위 s1 및 구성 단위 a2 등을 갖는 중합체와, 구성 단위 s1을 갖지 않고, 구성 단위 a3 등을 갖는 중합체를 이용한 경우는, 형성되는 배향 보호층이, 공유 결합을 통하여 서로 연결된 배향성기 및 가교 구조를 갖고 또, 배향성기에서 유래하는 프래그먼트의 질량 분석의 강도 ELq 및 강도 ESub의 강도비(강도 ELq/강도 ESub)가 소정의 조건을 충족시키고 있으면, 우수한 평탄성을 유지하고, 또한 고온 고습하에 노출된 경우에도 표시 성능이 양호하다는 것을 알 수 있었다(실시예 1~24).On the other hand, when a polymer having a constituent unit s1 and a constituent unit a2 or the like and a polymer having no constituent unit s1 and having a constituent unit a3 or the like is used, it is preferable that the formed orientation- It is possible to maintain excellent flatness while maintaining a good flatness even under a high temperature and high humidity if the strength ratio ELq of the fragment analysis derived from the orienting group and the intensity ratio (intensity ELq / intensity ESub) It was found that the display performance was good even when exposed (Examples 1 to 24).

특히, 실시예 1과 실시예 24의 대비로부터, 분자량 5000 이하의 가교제 B를 배합하면, 평탄성이 향상하고 또, 표시 성능도 보다 양호해지는 것을 알 수 있었다.In particular, from the comparison of Example 1 and Example 24, it was found that blending of the cross-linking agent B having a molecular weight of 5,000 or less improves the flatness and the display performance becomes better.

10: 액정 표시 장치
12: 백라이트 유닛
14, 15: 기재
16: 박막 트랜지스터
17: 경화막
18: 콘택트 홀
19: ITO 투명 전극
20: 액정층
21: 배향 보호층
22: 컬러 필터
23: 배향막
30: 제1 기판
40: 제2 기판
10: Liquid crystal display
12: Backlight unit
14, 15: substrate
16: Thin film transistor
17:
18: Contact hole
19: ITO transparent electrode
20: liquid crystal layer
21: orientation protection layer
22: Color filter
23:
30: first substrate
40: second substrate

Claims (14)

시인 측으로부터, 제1 기판과, 액정층과, 제2 기판을 이 순서로 갖는 액정 표시 장치로서,
상기 제1 기판이, 기재와, 배향 보호층을 구비하고,
상기 제2 기판이, 기재와, 박막 트랜지스터와, 표시 전극과, 배향막을 구비하며,
상기 배향 보호층이, 상기 액정층과 접하는 면을 갖고,
상기 배향 보호층이, 공유 결합을 통하여 서로 연결된 배향성기 및 가교 구조를 가지며,
비행 시간형 2차 이온 질량 분석법으로 검출되는 상기 배향성기에서 유래하는 프래그먼트에 대하여, 상기 배향 보호층의 상기 액정층에 접하는 면에 있어서의 상기 배향성기에서 유래하는 프래그먼트의 질량 분석의 강도 ELq와, 상기 배향 보호층의 상기 기재 측의 면에 있어서의 상기 배향성기에서 유래하는 프래그먼트의 질량 분석의 강도 ESub가, 하기 조건 1 또는 2를 충족시키고,
상기 가교 구조가, 하기 식 (A-1)~(A-3)으로 나타나는 어느 하나의 구조를 포함하는, 액정 표시 장치.
조건 1: 강도 ELq가 강도 ESub의 2배~20배이다.
조건 2: 강도 ELq가 유의하게 측정되고, 강도 ESub가 측정 한계 이하이다.
[화학식 1]
Figure pct00037

여기에서, 상기 식 (A-1)~(A-3) 중, *는 결합 위치를 나타내고, 상기 식 (A-3) 중, R1은, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
A liquid crystal display device having a first substrate, a liquid crystal layer, and a second substrate in this order from the viewer side,
Wherein the first substrate comprises a substrate and an alignment protection layer,
Wherein the second substrate includes a substrate, a thin film transistor, a display electrode, and an alignment film,
Wherein the alignment protection layer has a surface in contact with the liquid crystal layer,
Wherein the alignment protection layer has an oriented group and a cross-linked structure connected to each other via a covalent bond,
The intensity ELq of the mass analysis of the fragment derived from the orienting group on the surface of the orientation-protective layer which is in contact with the liquid crystal layer, and the intensity ELq of the mass spectrum of the fragment derived from the orienting group, The intensity ESub of the mass analysis of the fragment derived from the orienting group on the substrate side of the orientation protection layer satisfies the following condition 1 or 2,
Wherein the cross-linking structure comprises any one of structures represented by the following formulas (A-1) to (A-3).
Condition 1: The intensity ELq is 2 to 20 times the intensity ESub.
Condition 2: The intensity ELq is measured significantly and the intensity ESub is below the measurement limit.
[Chemical Formula 1]
Figure pct00037

In the formulas (A-1) to (A-3), * represents a bonding position, and in the formula (A-3), R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
청구항 1에 있어서,
상기 강도 ELq가 상기 강도 ESub의 5배~20배인, 액정 표시 장치.
The method according to claim 1,
And the intensity ELq is 5 to 20 times the intensity ESub.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 배향성기가 광배향성기를 광반응시켜 이루어지는 기인, 액정 표시 장치.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein the orienting group is a group formed by photo-reacting a photo aligning group.
청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 배향 보호층의 막두께가 1~4μm인, 액정 표시 장치.
The method according to any one of claims 1 to 3,
And the thickness of the orientation protection layer is 1 to 4 占 퐉.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 액정층을 구성하는 액정이 수평 배향 액정인, 액정 표시 장치.
The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the liquid crystal constituting the liquid crystal layer is a horizontally aligned liquid crystal.
청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
상기 배향성기에서 유래하는 프래그먼트가, 신나메이트기 및 칼콘기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 광배향성기에서 유래하는 프래그먼트인, 액정 표시 장치.
The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the fragment derived from the aligning group is a fragment derived from at least one photo aligning group selected from the group consisting of a cinnamate group and a chalcone group.
기재 상에, 배향성기를 갖는 구성 단위를 포함하는 중합체 P와, 배향성기를 갖는 구성 단위를 포함하지 않는 중합체 A를 함유하는 배향 보호층 형성용 조성물을 이용하여 보호층을 형성한 후에, 상기 보호층에 대하여 배향 처리를 실시하여 배향 보호층을 형성하여, 제1 기판을 제작하는 제1 공정과,
기재, 박막 트랜지스터, 표시 전극 및 배향막을 구비하는 제2 기판과, 상기 제1 기판을 첩합시켜 액정을 봉입하고, 상기 제1 기판과 상기 제2 기판의 사이에 액정층을 형성하여, 액정 표시 장치를 제작하는 제2 공정을 갖는 액정 표시 장치의 제조 방법.
After forming a protective layer on a substrate using a composition P for forming an orientation protection layer containing a polymer P containing a constituent unit having an oriented group and a polymer A containing no constituent unit having an oriented group, A first step of forming an alignment protection layer by performing alignment treatment on the first substrate,
A liquid crystal display device comprising: a first substrate; a second substrate provided with a substrate, a thin film transistor, a display electrode and an alignment film; and a liquid crystal sealed between the first substrate and the second substrate, And a second step of manufacturing the liquid crystal display device.
청구항 7에 있어서,
상기 중합체 P가, 상기 배향성기를 갖는 구성 단위로서 하기 s1에 나타나는 구성 단위를 포함하고,
상기 중합체 P 및 상기 중합체 A가, 하기 조건 3 또는 4를 충족시키는, 액정 표시 장치의 제조 방법.
s1: 불소 치환 탄화 수소기, 실록세인 골격 및 탄소수 10~30의 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 부분 구조를 갖는 구성 단위와, 광배향성기를 갖는 구성 단위
조건 3: 상기 중합체 P가, 가교성기를 갖는 구성 단위 a2를 포함하고, 또한 상기 중합체 A가, 산기를 갖는 구성 단위 a3을 포함한다.
조건 4: 상기 중합체 P가, 산기를 갖는 구성 단위 a3을 포함하고, 또한 상기 중합체 A가, 가교성기를 갖는 구성 단위 a2를 포함한다.
The method of claim 7,
Wherein the polymer P comprises a constituent unit having the above-mentioned orientation group,
Wherein the polymer P and the polymer A satisfy the following Condition 3 or 4:
s1: a structural unit having at least one partial structure selected from the group consisting of a fluorine-substituted hydrocarbon group, a siloxane skeleton and an alkyl group having from 10 to 30 carbon atoms, and a structural unit having a photo-
Condition 3: the polymer P comprises a structural unit a2 having a crosslinkable group, and the polymer A comprises a structural unit a3 having an acid group.
Condition 4: the polymer P comprises the constituent unit a3 having an acid group, and the polymer A comprises the constituent unit a2 having a crosslinkable group.
청구항 8에 있어서,
상기 가교성기가, 옥시란일기, 3,4-에폭시사이클로헥실기, 및 옥세탄일기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인, 액정 표시 장치의 제조 방법.
The method of claim 8,
Wherein the crosslinkable group is at least one selected from the group consisting of an oxiranyl group, a 3,4-epoxycyclohexyl group, and an oxetanyl group.
청구항 7 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서,
상기 중합체 P 및 상기 중합체 A의 합계 질량에 대한 상기 중합체 P의 질량 비율이 10질량% 미만인, 액정 표시 장치의 제조 방법.
The method according to any one of claims 7 to 9,
Wherein the mass ratio of the polymer P to the total mass of the polymer P and the polymer A is less than 10 mass%.
청구항 7 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
상기 배향 보호층 형성용 조성물이, 분자량 5000 이하의 가교제 B를 더 함유하는, 액정 표시 장치의 제조 방법.
The method according to any one of claims 7 to 10,
Wherein the composition for forming an alignment protective layer further contains a crosslinking agent B having a molecular weight of 5,000 or less.
청구항 11에 있어서,
상기 가교제 B가, 에폭시기를 갖는 가교제를 포함하고,
상기 가교제 B, 상기 중합체 P 및 상기 중합체 A의 합계 질량에 대한 상기 가교제 B의 질량 비율이 30질량% 이하인, 액정 표시 장치의 제조 방법.
The method of claim 11,
Wherein the crosslinking agent B comprises a crosslinking agent having an epoxy group,
Wherein the mass ratio of the crosslinking agent B to the total mass of the crosslinking agent B, the polymer P and the polymer A is 30 mass% or less.
청구항 7 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 있어서,
상기 배향성기가 광배향성기이며,
상기 배향 처리가, 파장 365nm 이하의 광을 이용하는 광배향 처리인, 액정 표시 장치의 제조 방법.
The method according to any one of claims 7 to 12,
Wherein the orienting group is a photo aligning group,
Wherein the alignment treatment is an optical alignment treatment using light having a wavelength of 365 nm or less.
청구항 7 내지 청구항 13 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 공정이, 상기 배향 처리 전 또는 후에, 열처리를 실시하는 공정을 포함하는, 액정 표시 장치의 제조 방법.
The method according to any one of claims 7 to 13,
Wherein the first step includes a step of performing a heat treatment before or after the alignment treatment.
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