KR20180062371A - 홀로그래픽 광학 소자의 제조방법 - Google Patents

홀로그래픽 광학 소자의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 출원은 대면적의 홀로그램을 기록하는 방법에 관한 것이다. 본 출원에 따르면, 노이즈 발생 가능성이 낮고, 비교적 단시간 내에 경제적으로 대면적의 홀로그램을 기록하는 방법이 제공될 수 있다.

Description

홀로그래픽 광학 소자의 제조방법{Method for manufacturing a holographic optical element}
본 출원은 홀로그램을 기록하는 방법에 관한 것이다. 구체적으로, 본 출원은 홀로그래픽 광학 소자를 제조하는 방법에 관한 것이다.
일반적으로 홀로그램은 간섭성(coherent) 광원을 사용하여 영상정보를 포함하는 물체파(object wave)와 기준파(reference wave)의 간섭패턴을 감광재료에 기록하고, 간섭패턴이 기록된 감광재료에 기록 시 사용한 기준파를 조사함으로써, 감광재료에 기록된 영상정보를 재생하는 기술을 말한다. 간섭패턴이 기록된 감광재료는 반사나 굴절 대신 회절을 이용하여 영상정보를 재생하므로, 이러한 감광재료는 회절 광학소자(diffraction optical elements, DOEs)의 한 종류로 분류되기도 한다.
감광재료에 간섭 패턴을 기록하는 기준파로는 평면파(plane wave) 또는 구면파(spherical wave)가 사용될 수 있는데, 패턴 기록시 사용된 기준파와 동일한 형태의 기준파를 홀로그램 영상 재생시 소자에 조사하여야 기록된 영상정보가 재생될 수 있다. 구면파로 홀로그램을 기록할 경우 재생시 상이 왜곡될 수 있으므로, 평면파를 사용하는 것이 바람직하다.
대면적의 기록 매질(감광재료)에 대면적의 홀로그램을 기록하는 경우, 상의 왜곡을 줄이기 위해 대면적의 평면파가 필요하다. 그런데, 대면적의 평면파를 조사하기 위해서는 구면파를 평면파로 변환할 수 있는 대면적 광학 소자(거울 또는 렌즈 등)가 필요하고, 고출력 레이저 장치도 추가로 필요할 수 있기 때문에 비용이 증가한다. 또한, 추가 비용을 들여 대면적의 평면파를 만들더라도, 광의 인텐시티(intensity)가 작아지고, 그에 따라 홀로그램 기록에 소요되는 시간이 증가하면서 매질에 노이즈가 기록될 가능성이 커지는 문제가 있다.
본 출원의 일 목적은, 경제적으로 대면적의 홀로그램을 기록하는 방법을 제공하는 것이다.
본 출원의 다른 목적은, 홀로그램 기록시 노이즈 발생 가능성이 낮고, 비교적 단시간 내에 홀로그램을 기록할 수 있는 방법을 제공하는 것이다.
본 출원의 상기 목적 및 기타 그 밖의 목적은 하기 상세히 설명되는 본 출원에 의해 모두 달성될 수 있다.
이하, 본 출원의 일례에 따른 방법을, 첨부된 도면을 참고하여 상세히 설명한다. 설명의 편의를 위하여, 도시된 각 구성의 크기나 형상은 과장되거나 축소될 수 있다. 또한, 첨부된 도면에 표시된 광로는 예시적인 것이며, 본 출원의 보호범위를 제한하지 않는다.
본 출원에 관한 일례에서, 본 출원은 홀로그래픽 광학 소자를 제조하는 방법에 관한 것이다. 홀로그래픽 광학 소자의 제조는, 홀로그램을 기록함으로써 제조되며, 상기 홀로그램의 기록은 서로 간섭성(coherent)인 2개의 라인빔을 감광재료를 포함하는 시트에 조사하여 수행될 수 있다.
구체적으로, 본 출원에 따른 홀로그래픽 광학 소자의 제조방법은 감광재료를 포함하는 감광시트에, 2개의 광, 즉, 제1 레이저 라인빔 및 제2 레이저 라인빔을 조사하는 단계를 포함할 수 있다. 본 출원에서 라인빔이란, 어떤 평면에 레이저를 조사할 때 조사되는 영역이 선형인 경우, 즉 입사 평면 상에 선형 형태로 조사되는 레이저를 의미할 수 있다. 본 출원은 홀로그래픽 광학 소자의 제조에 있어서, 평면파를 사용하지 않고, 하기 설명되는 바와 같이 조사 영역이 이동될 수 있는 레이저 라인빔을 사용한다. 레이저 라인빔을 사용하여 대면적 홀로그램을 기록하는 경우, 대면적의 평면파를 사용하는 때 보다, 출력이 낮은 레이저를 사용하면서도 대면적의 홀로그래픽 광학소자를 제조할 수 있다. 디스플레에 사용되는 홀로그래픽 광학 소자를 예로 들어보면, 5 내지 6 인치 가량 소면적 모바일 기기용 광학 소자 제조시에는 종래의 방법을 통해 제조하더라도 큰 문제가 없다. 그러나, 약 15인치 가량의 노트북이나, 이보다 훨씬 큰 50 인치 이상의 텔레비전에 사용되는 광학소자의 경우에는, 대면적 평면파를 제공하기 위해 대면적의 광학소자가 필요하고, 이에 의해 대면적으로 조사되는 광의 인텐시티는 떨어질 수 밖에 없다. 본 출원은 이와 같이 종래 기술이 갖는 문제점을 해결할 수 있다.
상기와 같이 2개의 라인빔을 사용하는 본 출원의 방법은, 반사형 홀로그래픽 광학소자 및 투과형 홀로그래픽 광학소자의 제조에 모두 이용될 수 있다.
예를 들어 도 1은, 본 출원의 일례에 따라 반사형 홀로그래픽 광학소자를 제조하는 방법을 개략적으로 도시한 것이다. 반사형 홀로그래픽 광학소자는, 감광시트의 일면 상에 물체파를 조사하고, 상기 일면과 반대되는 감광시트의 일면 상에 기준파를 조사하는 방식으로 제조될 수 있다고 알려져 있다. 본 출원에서도, 도 1에서와 같이, 제 1 레이저 라인빔(11)을 상기 감광시트(13)의 일면 상에 조사하고, 상기 제 2 레이저 라인빔(12)을 상기 감광시트(13) 일면의 반대되는 일면 상에 조사하여, 반사형 홀로그래픽 광학소자를 제조할 수 있다.
도 2는, 본 출원의 다른 일례에 따라 투과형 홀로그래픽 광학소자를 제조하는 방법을 개략적으로 도시한 것이다. 투과형 홀로그래픽 광학소자는, 감광시트의 동일한 일면 상에 물체파와 기준파를 모두 조사하는 방식으로 제조될 수 있다고 알려져 있다. 본 출원에서도, 도 2에서와 같이, 제1 레이저 라인빔(11')과 상기 제2 레이저 라인빔(12') 모두를 상기 감광시트(13')의 동일한 일면에 조사하여, 투과형 홀로그래픽 광학소자를 제조할 수 있다.
상기 감광시트는 감광층을 포함하는 필름 형태일 수 있다. 또한, 감광층은 감광재료를 포함할 수 있다. 홀로그램 관련 분야에서는, 홀로그래픽 광학소자의 복제에 사용될 수 있는 다양한 종류의 감광재료가 공지되어 있으며, 이러한 재료가 제한없이 본 출원에서도 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 감광재료로는, 포토폴리머(photopolymer), 포토레지스트(photoresist), 실버 팔라이드 에멀젼(silver halide emulsion), 중크롬산 젤라틴(dichromated gelatin), 포토그래픽 에멀젼(photographic emulsion), 포토써모플라스틱(photothermoplastic) 또는 광회절(photorefractive) 재료 등이 사용될 수 있다. 상기 감광시트는, 감광층만을 포함할 수 있고, 또는 감광층과 상기 감광층에 대한 기재를 함께 포함할 수도 있다. 상기 기재는 광학적으로 투명하면서 이방성이 없는 필름일 수 있고, 예를 들어, 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 폴리에틸렌(PE), 폴리카보네이트(PC), 폴리프로필렌(PP), 폴리아미드(PA), 또는 폴리에틸렌 테르프탈레이트(PET) 등을 포함하는 기재일 수 있으나, 특별히 제한되지는 않는다.
상기 제1 레이저 라인빔, 및 제2 레이저 라인빔의 파장은 특별히 제한되지 않으며, 제조되는 홀로그래픽 광학 소자의 용도를 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 상기 레이저 라인빔은 어느 한 파장의 단일 레이저, 혹은 둘 이상의 서로 다른 파장의 레이저를 사용할 수 있다. 특히, 풀컬러(full color) 홀로그램 구현을 위해서는 적색(R), 녹색(G), 청색 영역(B)에 해당하는 세 파장의 레이저를 조합하여 사용할 수 있다. 홀로그래픽 광학 소자의 제조 분야에서 상기와 같은 레이저의 파장 선택에 관한 사항은 공지이다.
하나의 예시에서, 상기 제1 및/또는 제2 레이저 리인빔은 연속파(CW: continuous wave) 레이저일 수 있다. 연속파 레이저는 펄스 레이저(pulse laser)에 비하여 안정적인 출력을 가지므로, 감광재료의 노광영역에 광학 특성이 균일한 간섭 패턴을 기록할 수 있다.
또 하나의 예시에서, 상기 제1 및/또는 제2 레이저 라인빔은 단일 종모드(single longitudinal mode)의 레이저일 수 있다. 다중 모드 레이저를 사용하는 경우, 마스터를 통과한 빛과 회절한 빛의 간섭성(coherency)이 떨어질 수 있기 때문이다.
감광시트의 광 특성은 회절되는 레이저의 강도(intensity)에 따라 결정될 수 있다. 이러한 점을 고려할 때, 상기 레이저 라인빔은, 레이저 라인빔이 조사되는 감광 시트의 전 영역에서 동일한 강도(intensity)를 갖도록 조절되는 것이 바람직하다.
상기 제1 레이저 라인빔 및/또는 제 2 레이저 라인빔이 갖는 선폭은 특별히 제한되지 않는다. 본 출원에서 레이저 라인빔의 선폭이란, 레이저 라인빔을 평면상에 조사하였을 때 선형인 조사영역이 가지는 폭을 의미한다. 예를 들어, 조사되는 시간 동안 그리고 조사되는 영역에서 레이저 빔의 균일한 강도를 유지할 수 있도록 하려면, 선폭은 100 μm 내지 10 cm 범위에서 조절되는 것이 바람직하다. 그러나, 상기 범위에만 국한되는 것은 아니다.
상기 제1 레이저 라인빔, 및 제 2 레이저 라인빔은 감광시트에 조사될 때, 소정의 입사각을 가지도록 조사된다. 상기 레이저 라인빔의 감광시트에 대한 입사각은, 입사되는 평면의 법선에 대해 레이저 라인빔이 이루는 각도를 지칭할 수 있다. 상기 제1 레이저 라인빔, 및 제 2 레이저 라인빔의 입사각도는 특별히 제한되지 않으며, 감광시트에 기록하고자 하는 홀로그램 및 제조하고자 하는 홀로그래픽 광학 소자의 특성을 고려하여 결정될 수 있다.
상기 제1 레이저 라인빔, 및 제 2 레이저 라인빔은, 상기 감광시트의 감광층 내부에서 간섭이 일어나도록 조사된다. 홀로그래픽 광학 소자의 제조 분야에 있어서, 감광재료에 홀로그램을 기록하기 위해서는 간섭성인 물체파와 기준파가 사용되어야 하며, 상기 물체파와 기준파가 감광재료 내부에서 간섭하여 감광재료에 간섭패턴이 기록되도록 상기 물체파와 기준파가 감광재료에 조사되어야 한다는 것이 공지되어 있다. 본 출원의 방법에서도, 서로 간섭성인 제1 레이저 라인빔과 제 2 레이저 라인빔은 감광층 내부에서 간섭할 수 있도록 조사될 수 있다. 구체적으로, 상기 2개의 레이저 라인빔은, 각각이 조사되는 감광 시트의 선형 영역이 동일하거나 또는 반대되는 각 일면 상에서 서로 일치하도록 조사될 수 있다. 예를 들어, 도 1에서와 같이, 감광시트의 어느 한 일면에 제 1 레이저 라인빔(11)을 조사하고, 상기 면의 반대면에 제 2 레이저 라인빔(12)을 조사하는 경우, 상이한 반대 일면 상이지만, 제1 라인빔이 조사되는 영역과 제2 라인빔이 조사되는 영역은 각 일면에서 서로 대응되는 위치를 갖는다. 그에 따라, 감광시트에 포함된 감광층 내부에서 제 1 및 제 2 레이저 라인빔이 진행하는 각각의 광로가 서로 중첩되고, 간섭(14)이 일어날 수 있다. 또한, 도 2에서와 같이, 감광시트의 동일한 일면에 제 1 레이저 라인빔(11')과 제 2 레이저 라인빔(12')을 조사하는 경우에는, 제1 라인빔과 제2 라인빔은 동일한 일면에서 동일한 영역을 조사한다. 그에 따라, 감광시트에 포함된 감광층 내부에서 제 1 및 제 2 레이저 라인빔이 진행하는 각각의 광로가 서로 중첩되고, 간섭(14')이 일어날 수 있다.
본 출원에서, 상기 제 1 및 제 2 레이저 라인빔을 조사하는 단계에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 레이저 라인빔은, 각 레이저 라인빔이 조사되는 감광시트 면을 스캐닝 하는 방식으로 조사될 수 있다. 본 출원에 있어서 레이저 라인빔이 감광시트의 어느 면을 스캐닝하는 방식으로 조사된다는 것은, 레이저 라인빔이 조사되는 감광시트 일면의 조사 영역이 변화(이동)될 수 있다는 것을 의미한다. 이러한 조사 방식을 설명하기 위하여 도 3을 참고한다. 도 3에 도시한 것처럼, 감광시트(15)의 어느 일면에 제1 레이저 라인빔(11)이 조사될 경우, 제 1 레이저 라인빔의 조사영역(16)은 감광시트(15)의 일면 상에서 선형을 갖는다. 상기 조사영역의 폭은, 상술한 레이저 라인빔의 선폭에 해당한다. 이때, 소정의 조사영역(16)을 갖는 레이저 라인빔이 감광시트(15)의 일면을 스캐닝하기 위해서는, 조사영역(16)이 소정의 방향, 예를 들어 a 방향 또는 b 방향으로 이동될 수 있다. 상기와 같은 스캐닝 방식의 라인빔 조사를 통해, 라인빔이 조사되는 감광시트 일면의 일부 또는 전부가 노광될 수 있다. 상기와 같이 스캐닝 방식을 이용하여 감광시트를 노광할 경우, 동일한 면적에 대하여, 대면적의 평면파를 이용하는 경우와 비교할 때 보다 더 낮은 출력의 레이저를 이용할 수 있다는 장점이 있다.
상기와 같이 레이저 라인빔이 감광시트의 어느 일면을 스캐닝하도록 조사하게 하는 방법은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 상기 스캐닝 방식은 피조사체인 감광시트를 원하는 방향으로 이동시켜 수행될 수 있다. 또는, 감광시트는 고정된 상태로, 라인빔 제공 수단의 이동을 통해 레이저 라인빔 자체를 이동시켜 가며 수행될 수 있다. 후자의 경우, 각각의 라인빔이 이동하는 방향과 속도는 동일할 수 있다. 상기 스캐닝이 수행되는 동안에도, 레이저 라인빔은 균일한 강도를 갖도록 조절될 수 있다.
하나의 예시에서, 레이저 라인빔이 스캐닝하는 방식으로 조사되는 동안, 각 레이저 라인빔이 갖는 감광시트로의 입사각은 실질적으로 변하지 않고 유지될 수 있다. 조사영역이 변화되는 경우에도 입사각이 일정하게 유지된다면, 최종 제작된 홀로그래픽 광학 소자가 갖는 광학적 성질의 위치에 따른 편차가 최소화될 수 있기 때문이다. 그러나, 상기와 같은 경우에 제한되는 것은 아니며, 필요에 따라 입사각이 변화하면서 레이저 라인빔이 감광시트에 조사될 수도 있다.
본 출원에 관한 일례에서 본 출원은 상기 방법을 수행할 수 있도록 구성된 홀로그래픽 광학 소자를 제조하는 장치에 관한 것이다. 상기 장치는 2개의 간섭성인 레이저 라인빔을 조사할 수 있는 광학부를 포함할 수 있다. 홀로그램을 기록하는 기본적인 원리나, 기록에 사용되는 레이저 라인빔에 관한 특성은 상기 설명한 바와 동일하다.
하나의 예시에서, 상기 광학부는 레이저를 발생시킬 수 있는 광원 및 렌즈 어레이를 포함할 수 있다. 상기 렌즈 어레이는, 광원으로부터 제공된 레이저를 균일한 선형의 레이저 라인빔으로 변형해주는 구성을 의미한다. 상기 렌즈 어레이는, THORLABS社의 PL0130, PL0145, PL0160 또는 PL0175와 같은 소위 레이저 라인 제너레이터 렌즈(laser line generator lense)를 포함할 수 있다. 상기 레이저 어레이를 통과하면서 형성된 라인빔은 라인빔이 조사되는 영역에서 거의 동일할 정도의 균일한 강도(intensity)를 가질 수 있다. 상기와 같이 라인빔을 제공할 수 있도록 구성된 광학부는, 대면적 평면파를 사용하는 경우보다 소형화된 광학부를 사용할 수 있고, 낮은 출력(파워)만이 필요하므로, 홀로그램을 기록하는데 소요되는 비용을 절감할 수 있다.
하나의 예시에서 상기 광학부는 광분리 기능을 갖는 장치(bim spliter)일 수 있다. 상기 기능의 광학부는, 간섭성인 2개의 레이저 라인빔을 감광시트에 조사할 수 있다.
또 하나의 예시에서, 상기 광학부는, 제1 레이저 라인빔을 조사할 수 있는 제1 광학부 및 제2 레이저 라인빔을 조사할 수 있는 제2 광학부를 포함할 수 있다.
하나의 예시에서, 상기 장치는 스테이지를 추가로 포함할 수 있다. 상기 스테이지는 감광시트를 고정시킬 수 있는 구성을 의미하며, 그 구체적인 구성은 특별히 제한되지 않는다.
하나의 예시에서, 상기 장치는 2개의 레이저 라인빔이 조사되는 감광 시트의 영역이 변화될 수 있도록 마련될 수 있다. 예를 들어, 상기 스테이지는, 그 위치가 이동될 수 있게 마련될 수 있다. 또는, 상기 스테이지의 위치가 불변인 상태에서, 상기 광학부가 이동하면서 2개의 레이저 라인빔이 조사되는 감광 시트의 영역이 변화될 수 있다. 이때, 상기 광학부가 제1 및 제2 광학부를 포함하는 경우라면, 상기 2개 광학부의 이동속도는 동일할 수 있다.
본 출원에 따르면, 대면적의 평면파를 생성하기 위한 광학 물품 없이도, 노이즈 발생 가능성이 낮고, 비교적 단시간 내에 경제적으로 대면적의 홀로그램을 기록하는 방법이 제공될 수 있다.
도 1은, 본 출원의 일례에 따른 반사형 홀로그래픽 광학 소자의 제조 방법을 개략적을 도시한 것이다.
도 2는, 본 출원의 다른 일례에 따른 투과형 홀로그래픽 광학 소자의 제조 방법을 개략적을 도시한 것이다.
도 3은, 본 출원의 또 다른 일례에 따라, 레이저 라인빔이, 감광시트에 조사되는 방식을 개략적을 도시한 것이다.
도4는, 본 출원의 실시예를 수행하는 방법을 개략적을 도시한 것이다.
도 5는, 본 출원의 실시예에 따라 제조된 홀로그래픽 소자의 회절 기능을 측정한 결과이다.
이하, 실시예를 통해 본 출원을 상세히 설명한다. 그러나, 본 출원의 보호범위가 하기 설명되는 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
실시예
라인빔을 이용한 광학 소자의 제조: 도 2에 도시된 것과 같이, 스테이지에 고정된 감광시트에, 입사각이 약 0°인 제1 레이저 라인빔(11')과 입사각이 약 28°인 제2 레이저 라인빔(12')을 조사하여, 상기 감광시트(13')에 상기 제 1 및 제 2 레이저 라인빔의 간섭(14')이 기록되도록 하였다. 이때, 상기 제 1 레이저 라인빔 및 제 2 레이저 라인빔은 연속광 레이저이고, 단일 종모드 레이저이며, 파장은 532 nm이고, 선폭은 약 1 mm로 조절하였다. 구체적으로, 제 1 및 제 2 레이저 라인빔을 각각 조사하는 조사수단을 이동시키면서, 감광시트가 약 1.5 m/min의 속도로 스캔되도록 하면서 홀로그래픽 광학소자를 제조하였다.
제조된 광학 소자의 회절효율 측정: 도 4에 도시한 방법으로 제조된 홀로그래픽 광학소자의 회절효율을 측정하였다. 즉, 제조된 광학소자(24)에 소정의 입사각(A)으로 입사광(21)을 조사하고, 감광시트(24)를 거치면서 회절되는 회절광(22)과 투과광(23)의 세기를 포토다이오드(25)를 통해 각각 측정하였다. 측정결과는 도 5와 같다. 도 5의 가로축은 홀로그램이 기록된 감광재료에 입사된 입사광의 입사각 도(˚)이며, 세로축은 입사된 광에 대한 회절된 광의 회절효율(%)을 나타낸다. 회절 효율은 하기 식에 따라 계산하였다.
[식] 회절효율 = 회절광의 세기/(회절광의 세기+투과광의 세기)
도 5에서 확인되듯이, 제작된 홀로그래픽 광학소자는 약 28˚의 입사각도로 입사된 빛을 약 0˚의 각도로 회절시키는 회절광학소자로 기능하는 것을 알 수 있다. 따라서, 본 출원의 홀로그래픽 광학소자 제조방법은 평면파보다 저출력의 광원을 이용할 수 있는 레이저 라인빔을 이용하여 홀로그래픽 광학소자를 제조할 수 있다는 것을 알 수 있다.
11, 11': 제 1 레이저 라인빔
12, 12': 제 2 레이저 라인빔
13, 13': 감광시트
14, 14': 제1 레이저 라인빔 및 제 2 레이저 라인빔의 간섭
15: 감광시트
16: 제 1 레이저 라인빔의 조사영역
21: 입사광
22: 회절광
23: 투과광
24: 제조된 홀로그래픽 광학소자
25: 포토다이오드

Claims (10)

  1. 간섭성인 제1 레이저 라인빔 및 제2 레이저 라인빔을 감광시트에 조사하는 단계를 포함하는 홀로그래픽 광학 소자의 제조방법으로서,
    상기 2개의 레이저 라인빔은 감광 시트의 동일한 영역을 조사하도록 수행되는 홀로그래픽 광학 소자의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 2개의 라인빔이 조사되는 감광 시트의 영역이 변화될 수 있도록 수행되는 홀로그래픽 광학 소자의 제조방법.
  3. 제2항에 있어서, 2개의 라인빔이 조사되는 감광시트를 이동시킴으로써, 라인빔이 조사되는 감광 시트의 영역이 변화될 수 있도록 수행되는 홀로그래픽 광학 소자의 제조방법.
  4. 제2항에 있어서, 감광시트의 위치가 고정된 상태에서, 2개의 라인빔을 동시에 이동시켜 라인빔이 조사되는 감광 시트의 영역이 변화될 수 있도록 수행되는 홀로그래픽 광학 소자의 제조방법.
  5. 제2항에 있어서, 각각의 레이저 라인빔은, 레이저 라인빔이 조사되는 감광 시트의 전 영역에서 동일한 강도(intensity)를 갖도록 조절되는 홀로그래픽 광학 소자의 제조방법.
  6. 감광 시트의 어느 일면에 대하여 조사되는 제1 레이저 라인빔; 및 상기 제1 레이저 라인빔이 조사되는 감광시트의 일면 또는 그 반대 일면에 대하여, 상기 제1 레이저 라인빔과 간섭성인 제2 레이저 라인빔;을 조사할 수 있는 광학부를 포함하는 장치이고,
    상기 제1 레이저 라인빔이 조사되는 감광 시트의 영역과 동일한 영역을 상기 제2 레이저 라인빔도 조사할 수 있도록 마련되는 홀로그래픽 광학 소자를 제조하는 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 광학부는, 제1 레이저 라인빔을 조사하는 제1 광학부 및 제2 레이저 라인빔을 조사하는 제2 광학부를 포함하는 홀로그래픽 광학 소자를 제조하는 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 장치는 감광시트를 고정시키는 스테이지를 추가로 포함하는 홀로그래픽 광학 소자를 제조하는 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 2개의 레이저 라인빔이 조사되는 감광 시트의 영역이 변화될 수 있도록, 상기 스테이지는 그 위치를 이동할 수 있게 마련되는 홀로그래픽 광학 소자를 제조하는 장치.
  10. 제8항에 있어서, 상기 2개의 레이저 라인빔이 조사되는 감광 시트의 영역이 변화될 수 있도록, 상기 제1 광학부 및 제2 광학부는 동시에 이동할 수 있도록 마련되는 홀로그래픽 광학 소자를 제조하는 장치.
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