KR20180060218A - A nail grinder having antibacterial effects - Google Patents

A nail grinder having antibacterial effects Download PDF

Info

Publication number
KR20180060218A
KR20180060218A KR1020160159463A KR20160159463A KR20180060218A KR 20180060218 A KR20180060218 A KR 20180060218A KR 1020160159463 A KR1020160159463 A KR 1020160159463A KR 20160159463 A KR20160159463 A KR 20160159463A KR 20180060218 A KR20180060218 A KR 20180060218A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
far
body portion
pattern
nail polish
antibacterial function
Prior art date
Application number
KR1020160159463A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101965331B1 (en
Inventor
서승완
곽은식
Original Assignee
주식회사 에스티라이프
서승완
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에스티라이프, 서승완 filed Critical 주식회사 에스티라이프
Priority to KR1020160159463A priority Critical patent/KR101965331B1/en
Publication of KR20180060218A publication Critical patent/KR20180060218A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101965331B1 publication Critical patent/KR101965331B1/en

Links

Images

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A45—HAND OR TRAVELLING ARTICLES
    • A45D—HAIRDRESSING OR SHAVING EQUIPMENT; EQUIPMENT FOR COSMETICS OR COSMETIC TREATMENTS, e.g. FOR MANICURING OR PEDICURING
    • A45D29/00—Manicuring or pedicuring implements
    • A45D29/11—Polishing devices for nails
    • A45D29/12—Polishing devices for nails manually operated
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A45—HAND OR TRAVELLING ARTICLES
    • A45D—HAIRDRESSING OR SHAVING EQUIPMENT; EQUIPMENT FOR COSMETICS OR COSMETIC TREATMENTS, e.g. FOR MANICURING OR PEDICURING
    • A45D29/00—Manicuring or pedicuring implements
    • A45D29/18—Manicure or pedicure sets, e.g. combinations without case, etui, or the like
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A45—HAND OR TRAVELLING ARTICLES
    • A45D—HAIRDRESSING OR SHAVING EQUIPMENT; EQUIPMENT FOR COSMETICS OR COSMETIC TREATMENTS, e.g. FOR MANICURING OR PEDICURING
    • A45D44/00—Other cosmetic or toiletry articles, e.g. for hairdressers' rooms
    • A45D44/02—Furniture or other equipment specially adapted for hairdressers' rooms and not covered elsewhere
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
    • A61L2/08—Radiation
    • A61L2/085—Infrared radiation

Abstract

Disclosed is a structure to which antibacterial properties are enhanced to a device used for nail care. To this end, the structure includes a body and a far-infrared ray-emitting polish pattern capable of eliminating contaminants or bacteria on hands or nails even after polishing surfaces of the nail by friction, thereby enabling hygienic and efficient nail care.

Description

항균성을 가지는 손발톱광택기구{A nail grinder having antibacterial effects}[0001] The present invention relates to a nail grinder having antibacterial effects,

본 발명은 손발톱의 미용에 이용되는 기구물에 항균 특성을 강화한 구조물에 대한 것이다.The present invention relates to a structure in which antibacterial properties are enhanced in an instrument used for the beauty of a nail.

손톱손질용구는 손톱을 다듬어 깨끗하게 함은 물론 손톱의 표면을 갈아 광택을 내는 미용도구의 일종으로 에머리보드(emery board), 네일 파일(nail pile) 및 네일 버퍼(nail buffer)라고도 한다. 최근에는 연마기능을 상실하지 않는 범위 내에서 손톱손질용구의 외관이 미려하도록 표면을 다양한 색상과 문양으로 인쇄하는 것이 일반적이다.Nail polish is a kind of beauty tool that polishes and cleans nails and polishes the surface of nails. It is also called emery board, nail pile and nail buffer. In recent years, it is common to print the surface of the nail polish with various colors and patterns so that the appearance of the nail polishers is good within a range that does not lose the polishing function.

도 1은 종래기술에 의한 손톱손질용구를 도시하는 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 B-B 단면도로, 도 1과 도2를 참조하여 종래의 손톱손질용구에 대해 살펴보면 다음과 같다.FIG. 1 is a perspective view showing a conventional nail polish tool, and FIG. 2 is a sectional view taken along line B-B of FIG. 1. Referring to FIGS. 1 and 2, a conventional nail polish will be described.

도 1과 도 2에 도시된 바와 같이, 종래의 손톱손질용구(N)는 작업 시 파지가 용이하도록 소정의 형상으로 형성되고 일정한 탄성과 강성을 갖는 플라스틱 플레이트(1)와, 상기 플레이트(1) 위에 접착되는 제1양면테이프(2)와, 작업 시 지나친 압력이 손톱으로 인가되지 않도록 압력을 완화하는 스펀지(3)와, 상기 스펀지(3) 위에 접착되는 제2양면테이프(4)와, 그림층을 형성하기 위한 전사지(5)와, 상기 전사지(5) 위에 도포 및 경화된 연마층(6) 또는 광택층(7)으로 구성된다. 이때, 상기 연마층(6)은 미세돌가루, 물, 본드, 향료 및 발포제의 혼합물로 이루어지고, 상기 광택층(7)은 실리콘, 물, 본드, 향료 및 발포제의 혼합물로 이루어진다.As shown in FIGS. 1 and 2, a conventional nail polish N has a plastic plate 1 having a predetermined elasticity and rigidity to facilitate gripping during operation, A second double-sided tape 2 adhered on the sponge 3, a sponge 3 for relieving the pressure so that excessive pressure is not applied to the nail during work, a second double-sided tape 4 adhered on the sponge 3, A transfer sheet 5 for forming a layer and an abrasive layer 6 or a gloss layer 7 applied on the transfer sheet 5 and cured. At this time, the polishing layer 6 is composed of a mixture of fine stone powder, water, a bond, a perfume and a foaming agent, and the polishing layer 7 is made of a mixture of silicone, water, a bond, a fragrance and a foaming agent.

상술한 바와 같이 구성된 종래의 손톱손질용구(1)는 롤코팅, 스프레이코팅 또는 실크인쇄의 방법으로 연마층(60) 또는 광택층(70) 혼합물을 도포하고, 60~80℃ 정도의 온도로 열건조하여 상기 혼합물을 경화시킨 후, 110~200℃에서 승화전사를 하여 그림층을 형성한다. 그런데 종래의 손톱손질용구(1)는 열건조 및 승화전사하는 과정에서 고온의 열을 가하게 되므로 그 열에 의해 그림층이 탈색되거나 변색되어 다양한 색상과 문양을 선명하게 표현할 수 없다는 단점이 있다.The conventional nail polish 1 constructed as described above is prepared by applying the polishing layer 60 or the gloss layer 70 mixture by the method of roll coating, spray coating or silk printing and heating Dried to cure the mixture, and then sublimed and transferred at 110 to 200 ° C to form a picture layer. However, since the conventional nail polishers 1 are subjected to heat at high temperature during the heat drying and sublimation transfer process, the picture layers are discolored or discolored due to the heat, so that various colors and patterns can not be expressed clearly.

상술한 단점을 보완하고자 최근에는 완충용 스펀지에 연마층 또는 광택층을 도포한 후 그 표면에 다양한 색상과 문양으로 그림층을 인쇄하였다. 그러나 소정의 탄성을 갖는 스펀지의 표면에 인쇄를 하기 위해서는 직접 잉크를 분사하는 잉크젯방식을 사용하여야 하는데, 이러한 잉크젯방식은 인쇄 속도가 느리고 및 건조 시 많은 시간이 소요되어 생산량이 감소하는 문제가 있다. 또한, 연마층 또는 광택층의 일부가 스며들어 단시간 내에 광택을 낼 수 있도록 일정 두께 이상의 스펀지가 사용되는 바, 이러한 스펀지는 폐기 시 재활용이 어렵고 공해를 유발하는 원인이 된다.In order to overcome the disadvantages described above, a polishing layer or a glossy layer is applied to a buffer sponge, and then a picture layer is printed on the surface with various colors and patterns. However, in order to perform printing on the surface of a sponge having a predetermined elasticity, an ink jet method for directly spraying ink must be used. Such an ink jet method has a problem that the printing speed is slow and the drying time is long and the production amount is reduced. In addition, a sponge having a certain thickness or more is used so that a part of the polishing layer or the polishing layer can permeate and luster in a short time, and such a sponge is difficult to recycle at the time of disposal and causes pollution.

특히, 종래의 손톱이나 발톱을 손빌하는 기구물의 경우, 손이나 손톱, 발이나 발톱에 상시 존재하는 미세 세균에 쉽게 노출되고 접촉하게 되어 그 위생성에 있어서 오염도가 매우 심각한 문제를 초래하게 된다. 이는 물세척이나 광, 열살균세척을 수시로 시행하여도 제품의 용도에 따른 오염은 항구적으로 내제하게 되어, 위생의 문제에 취약한 단점을 가지게 된다.In particular, in the case of a conventional device for nailing a nail or a toenail, it easily comes into contact with microbes which are always present in the hands, nails, feet or toenails and comes into contact with each other, thus causing a serious problem of contamination in hygiene. This is because even if water washing, light cleaning, or heat sterilization cleaning is performed from time to time, the contamination due to the use of the product is permanently incurred, and thus it is vulnerable to hygiene problems.

한국등록특허공보 제10-1043651호Korean Patent Registration No. 10-1043651

본 발명은 상술한 과제를 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 몸체부 내에 원적외선 물질을 방사하는 물질을 내재하고 있음으로 인해서, 항구적인 원적외선 방출의 효과를 유지할 수 있음은 물론, 나아가 몸체부 전체에 원적외선 가공처리를 통해 원적외선 방출량을 극대화함으로써, 별도의 소독이나 세척 작업 없이도 무균상태로 기구물을 보관할 수 있는 항균특성을 보유한 손발톱 광택기구물을 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a radiographic apparatus and a method for radiating far infrared rays, The present invention is to provide a nail polish device having antimicrobial properties that can maximize the amount of far-infrared rays emitted through a far-infrared ray processing process on the entire part thereof and thereby store the device in an aseptic state without any disinfection or washing operation.

상술한 과제를 해결하기 위한 수단으로서, 본 발명의 실시예에서는, 도 3 및 도 4에 도시된 것과 같이, 일표면과 상기 일면에 대향하는 타표면을 구비하는 입체 구조의 몸체부(10) 및 상기 일표면 또는 상기 타표면에 구현되는 다수의 단위 광택패턴을 다수 포함하는 광택패턴부(20)를 포함하며, 상기 몸체부의 내부에 원적외선 방출물질을 포함하는, 항균기능을 가지는 손발톱 광택기구를 제공할 수 있도록 한다.As a means for solving the above-mentioned problems, in the embodiment of the present invention, as shown in Figs. 3 and 4, a three-dimensional structure body 10 having one surface and another surface opposite to the one surface, (20) including a plurality of unit gloss patterns formed on the one surface or the other surface, and a far-infrared ray emitting material inside the body portion, the nail polisher having an antibacterial function is provided .

또한, 이 경우, 상술한 상기 광택패턴부의 단위 광택패턴은, 상기 몸체부(10)의 표면을 가공하여 구현되며, 상기 단위 광택패턴은 상기 몸체부의 표면에서의 높이가 0.01um~50um의 범위이며, 상기 몸체부의 표면에서 최상부는 첨부를 가지는 구조로 구현될 수 있다.In this case, the unit gloss pattern of the gloss pattern portion is realized by processing the surface of the body portion 10, and the height of the unit gloss pattern on the surface of the body portion is in the range of 0.01um to 50um And the uppermost portion on the surface of the body portion may have an attachment structure.

나아가, 상기 단위 광택패턴은, 상기 광택패턴부의 단위면적을 기준으로, 몸체부 표면의 노출면과 상기 단위광택패턴의 점유 비율인 패턴점유율이 80~90%의 범위를 가지도록 배치할 수 있다..Further, the unit gloss pattern may be arranged such that the occupancy rate of the unit gloss pattern, which is the occupation ratio of the exposed surface of the body portion and the unit gloss pattern, is 80 to 90% based on the unit area of the gloss pattern portion. .

또한, 본 발명의 실시예에 따른 항균기능을 가지는 손발톱 광택기구의 몸체부에 포함되는 상기 원적외선 방출물질은, 비취, 거장석, 견운모, 카오린, 벤토나이트, 장석, 엽낙석, 명반석, 사문암, 화강암, 석영, 반암, 편마암, 산성응회암, 유문압질 응회암, 황토, 백토, 스코리아, 참숯, 게르마늄, 맥반석, 토르말린 또는 세라믹 재질의 비드 구조물이며, 상기 몸체부를 구성하는 주원료물질을 기준으로 5~10중량부로 포함되도록 할 수 있다.The far infrared ray emitting material contained in the body portion of the nail polisher having antibacterial function according to the embodiment of the present invention may be at least one selected from the group consisting of jade, Bead structure of quartz, porphyry, gneiss, acid tuff, pyloric tuff tuff, loess, clay, scoria, charcoal, germanium, elvan, tourmaline or ceramics and 5 to 10 parts by weight based on the main raw material constituting the body part .

또한, 본 발명의 실시예에 따른 항균기능을 가지는 손발톱 광택기구의 상기 단위 광택패턴은, 원뿔형 방사구조물의 형태의 입체 구조물이며, 측면과 하면이 이루는 각도가 48도~52도이며, 상기 상부면과 접하는 면의 지름의 길이가 높이보다 크게 구현되는 돌출구조물로 구현될 수 있다.In addition, the unit gloss pattern of the nail polisher having antibacterial function according to the embodiment of the present invention is a three-dimensional structure in the form of a conical radiation structure, and the angle between the side surface and the bottom surface is 48 to 52 degrees, And the protruding structure having a diameter larger than the height of the surface of the protruding structure.

아울러, 상기 몸체부 및 상기 광택패턴부는, 고압의 인가가 가능한 밀폐형 챔버내에서, 5,000메시(mesh) 이상의 크기를 갖는 처리용 원적외선 방사 광물 분말과 함께 장입하고 상기 챔버 내부에 8기압 이상의 고압을 1시간 이상처리한 것을 적용하여 항균기능을 가지는 손발톱 광택기구로 구현될 수 있도록 함이 바람직하다.The body portion and the gloss pattern portion are charged together with a far ultraviolet ray emitting mineral powder for processing having a size of 5,000 mesh or more in a hermetically sealed chamber capable of applying a high pressure and a high pressure of 8 atm or higher is charged into the chamber It is preferable to be able to be embodied as a nail polish device having an antibacterial function by applying a treatment that has been treated for more than a certain period of time.

아울러, 상기 몸체부(10)는, 판상의 구조물로, 상기 광택패턴부(20)의 일측에 패턴이 제거된 손잡이부(25)를 구비하는 유리플레이트 구조물을 적용하여, 항균기능을 가지는 손발톱 광택기구를 구현할 수도 있다.The body part 10 is a plate-like structure, and a glass plate structure having a handle 25 with a pattern removed on one side of the luster pattern part 20 is applied, Mechanisms may also be implemented.

나아가, 상기 몸체부의 일표면에 구현되는 상기 단위 광택패턴은, 상기 몸체부를 직접 가공하여 구현되는 구조로 형성할 수 있다.Further, the unit gloss pattern formed on one surface of the body part may be formed by directly processing the body part.

아울러, 상기 몸체부의 표면에 지르코니아, 알루미나 코팅층을 구현하고, 상기 코팅층 상에 전이원소 산화물의 세라믹인 MnO2 , Fe2O3 , CuO의 물질이 코팅되는 구조로 구현될 수도 있다.In addition, a zirconia-alumina coating layer may be formed on the surface of the body portion, and materials such as MnO 2 , Fe 2 O 3 , and CuO, which are ceramics of transition element oxides, may be coated on the coating layer.

본 발명의 실시에에 따르면, 손톱의 표면과 마찰을 통해 광택 미용작업을 구현하고 난 이후에도, 손이나 손톱의 세균이나 오염원을 제거할 수 있는 원적외선 방사 타입의 광택패턴 및 몸체를 구비하여, 위생적이고 효율적인 손톱미용작업을 구현할 수 있는 효과가 있다.According to the embodiment of the present invention, it is possible to provide a far-infrared ray-type glossy pattern and a body that can remove bacteria or pollutants in the hands and nails even after the glossy beauty work is implemented through friction with the surface of the nail, It is possible to implement an effective nail-beauty work.

또한, 몸체부 내에 원적외선 물질을 방사하는 물질을 내재하고 있음으로 인해서, 항구적인 원적외선 방출의 효과를 유지할 수 있음은 물론, 나아가 몸체부 전체에 원적외선 가공처리를 통해 원적외선 방출량을 극대화함으로써, 별도의 소독이나 세척 작업 없이도 무균상태로 기구물을 보관할 수 있는 효과도 있다.In addition, since the substance that emits the far-infrared ray material is contained in the body portion, it is possible to maintain the effect of the long-distance infrared ray emission, and further, the far-infrared ray emission amount can be maximized through the far- It also has the effect of storing the equipment in aseptic condition without washing.

도 1 및 도 2는 종래의 손톱 광택 연마기구물의 구조를 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 항균기능을 가지는 손발톱 광택기구의 구조를 도시한 사시개념도이다.
도 4는 도 3의 'X'영역에서의 단위 광택패턴의 확대개념도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른, 도 3의 구조의 본 발명의 구조물에 대한 검사성적서이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 원적외선 처리장치의 측평면 개념도를 도시한 것이고, 도 7는 도 6의 측단면 개념도를 도시한 것이다. 도 8은 본 발명의 실시예에 따른 원적외선 처리장치의 실제 시스템 구현도면을 도시한 것이다.1 and 2 are views showing the structure of a conventional nail polish polishing apparatus.
3 is a perspective view illustrating a structure of a nail polish device having an antibacterial function according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is an enlarged conceptual view of the unit gloss pattern in the 'X' region of FIG. 3. FIG.
Figure 5 is an inspection report for the structure of the present invention having the structure of Figure 3, in accordance with an embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a schematic side view of a far-infrared ray processing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a conceptual diagram of a side sectional view of FIG. FIG. 8 illustrates an actual system implementation of a far-infrared ray processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시 예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명되는 실시 예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙여 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be readily apparent to those skilled in the art. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In order to clearly explain the present invention in the drawings, parts not related to the description are omitted, and similar parts are denoted by similar reference numerals throughout the specification.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 항균기능을 가지는 손발톱 광택기구(이하, '본 발명'이라 한다.)의 구조를 도시한 사시개념도이다. 도 4는 도 3의 'X'영역에서의 단위 광택패턴의 확대개념도이다.3 is a perspective view showing a structure of a nail polish device having antibacterial function according to an embodiment of the present invention (hereinafter referred to as 'the present invention'). FIG. 4 is an enlarged conceptual view of the unit gloss pattern in the 'X' region of FIG. 3. FIG.

도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명은 일표면(12)과 상기 일면에 대향하는 타표면(14)을 구비하는 입체 구조의 몸체부(10) 및 상기 일표면 또는 상기 타표면에 구현되는 다수의 단위 광택패턴을 다수 포함하는 광택패턴부(20)를 포함하며, 상기 몸체부의 내부에 원적외선 방출물질을 포함하는 것을 특징으로 한다.3 and 4, the present invention relates to a three-dimensional body portion 10 having one surface 12 and another surface 14 opposite to the one surface, and a body portion 10 formed on the one surface or the other surface And a glossy pattern unit 20 including a plurality of unit gloss patterns, and includes a far-infrared ray emitting material inside the body unit.

상기 몸체부(10)는 일표면에 다수의 단위 광택패턴(4)을 포함하는 광택패턴부(20)를 구비하는 입체 구조물은 본 발명의 실시예에 포함되는 것으로 볼 수 있으며, 특히, 본 실시예에서는 플레이트 구조물을 바람직한 실시예로 하여 설명하기로 한다.The body portion 10 may be a three-dimensional structure including a glossy pattern portion 20 including a plurality of unit gloss patterns 4 on one surface thereof, and may be considered to be included in the embodiment of the present invention. In the example, a plate structure will be described as a preferred embodiment.

상기 몸체부(10)은 유리 기판일 수 있으며, 더욱 상세히는 강화 유리기판으로 구현할 수도 있다. 경우에 따라서는 세라믹 소재의 물질을 더 포함하여 소성되는 재질로 구현될 수 있다. 특히 본 발명은, 상기 몸체부(10)를 가공하는 과정의 원료물질 내에, 원적외선 물질을 포함할 수 있도록 하는 것을 특징으로 한다.The body 10 may be a glass substrate, or more specifically, a tempered glass substrate. In some cases, the material may be formed of a material including a ceramic material. Particularly, the present invention is characterized in that a far infrared ray material can be contained in the raw material in the process of processing the body portion 10. [

상기 원적외선 물질은, 원적외선 방사율을 높이기 위해서 비취, 거장석, 견운모, 카오린, 벤토나이트, 장석, 엽낙석, 명반석, 사문암, 화강암, 석영, 반암, 편마암, 산성응회암, 유문압질 응회암, 황토, 백토, 스코리아, 참숯, 게르마늄, 맥반석, 토르말린 또는 세라믹 재질의 비드 구조물이며, 상기 몸체부를 구성하는 주원료물질을 기준으로 원적외선 물질의 함량을 5~10중량부로 포함될 수 있도록 한다. 원적외선 물질의 함량을 5~10중량부로 구현하는 것은, 기구물의 크기에 따라 원적외선 방출량을 일정하게 균일하여 투입 비용 대비 최적의 항균율을 확보하기 위함이며, 이 이상의 함량을 포함시키는 것도 가능하나, 항균력을 확보하는 기준에서는, 몸체부의 전체 중량대비, 5~10 중량부의 함유로도 충분한 원적외선 방출을 확보할 수 있다.The far-infrared ray material may be selected from the group consisting of jade, giant stone, sericite, kaolin, bentonite, feldspar, boulderite, auburnite, serpentinite, granite, quartz, porphyry, gneiss, acid tuff, pyloric tuff, , Charcoal, germanium, elvan, tourmaline or ceramics. The content of the far-infrared ray material may be 5 to 10 parts by weight based on the main raw material constituting the body part. The content of the far infrared ray material is preferably 5 to 10 parts by weight in order to uniformly emit the far-infrared ray according to the size of the equipment to secure an optimum antimicrobial rate against the input cost, The sufficient amount of far-infrared radiation can be ensured even if the content of the base body is 5 to 10 parts by weight based on the total weight of the body part.

이러한 원적외선 물질은 그 자체로 원적외선을 방출할 수 있는 물질로 ,본 발명의 바람직한 일 실시예에서는, 지름 0.01um~3um 비취 비드 입자를 적용하거나, 지름 0.01~7um의 일라이트 세라믹 입자 적용할 수 있다. The far infrared ray material itself can emit far-infrared rays. In one preferred embodiment of the present invention, the light ray ceramic particles having a diameter of 0.01 to 3 mu m or the diameter of 0.01 to 7 um can be applied .

특히, 본 발명은, 도 3 및 도 4에 도시된 것과 같이, 몸체부(10)의 표면에서 상부로 돌출되는 구조로 일체형으로 가공된 구조물로 구현될 수 있다. 더욱 구체적으로는, 상기 광택패턴부의 단위 광택패턴은, 상기 몸체부(10)의 표면을 가공하여 구현되며, 상기 단위 광택패턴은 상기 몸체부의 표면에서의 높이의 0.01um~50um의 범위로 구현될 수 있다. 상기 몸체부의 표면에서의 높이가 0.01um~50um의 범위를 초과하는 경우, 손톱의 광택효과가 현저하게 떨어지고, 손톱의 미세 손상이 갈 수 있으며, 이 범위 미만의 범주에서는 광택이나 마모 가공기능이 거의 없게 된다.3 and 4, the present invention can be embodied as a structure that is integrally formed with a structure protruding upward from the surface of the body 10. [ More specifically, the unit gloss pattern of the gloss pattern portion is realized by processing the surface of the body portion 10, and the unit gloss pattern is implemented in a range of 0.01 to 50 um of the height of the surface of the body portion . If the height of the surface of the body exceeds 0.01 袖 m to 50 袖 m, the glossiness of the fingernail is remarkably reduced and the fine damage of the fingernail may occur. In the category below this range, I will not.

나아가, 상기 몸체부의 표면에서 최상부는 첨부를 가지는 구조로 구현되도록 함이 바람직하다. 이러한 구조의 예로는, 원뿔형 방사구조물을 적용할 수 있다.Furthermore, it is preferable that the uppermost portion on the surface of the body portion is realized as a structure having an attachment. As an example of such a structure, a conical radiation structure can be applied.

도 4에 도시된 것과 같이, 상기 원뿔형 방사구조물(5)은 원뿔형 방사구조물의 측면과 하면이 이루는 각도가 48도~52도로 구현되는 원뿔형 구조물로 구현될 수 있도록 하며, 이러한 원뿔형 방사구조물은 본 발명의 방사장치 표면이나 내부의 원적외선 방사물질에서 방사되는 원적외선을 효과적으로 방출할 수 있도록 하는 기능을 수행하게 된다. 원뿔형 방사구조물(5)의 개수가 증가할 수록 원적외선의 방출율은 1개당 0.2~0.5배의 증가를 가져오는 효과가 있다. As shown in FIG. 4, the conical radiation structure 5 can be realized as a conical structure in which the angle between the side surface and the bottom surface of the conical radiation structure is 48 to 52 degrees, Infrared radiation emitted from the far-infrared radiation material on the surface of the radiation device of the apparatus or the inside thereof. As the number of the conical radiation structures (5) increases, the emission rate of the far-infrared rays is increased by 0.2 to 0.5 times per one.

아울러, 원뿔형 방사구조물(15)의 원뿔형 방사구조물의 측면과 하면이 이루는 각도가 48도~52도의 범위에서 벗어나는 경우에는, 동일한 원뿔구조에서도 방출효율이 50~60% 정도 떨어지게 된다.In addition, when the angle between the side surface and the bottom surface of the conical radiation structure of the conical radiation structure 15 is out of the range of 48 to 52 degrees, the emission efficiency is reduced by about 50 to 60% even in the same conical structure.

특히, 본 발명에서는, 상기 단위 광택패턴은, 상기 광택패턴부의 단위면적을 기준으로, 몸체부 표면의 노출면과 상기 단위광택패턴의 점유 비율인 패턴점유율이 80~90%의 범위로 구현할 수 있도록 함이 바람직하다. 이러한 패턴 밀도는 원적외선 방출효율을 극대화하면서도, 패턴과 패턴 사이에 이물질이 쉽게 탈루될 수 있도록 하는 기능을 발휘하게 된다.In particular, in the present invention, the unit gloss pattern may be formed so that the pattern occupancy rate, which is the ratio occupied by the exposed surface of the body portion and the unit gloss pattern, is in the range of 80 to 90% . Such a pattern density maximizes far-infrared emission efficiency, but also exhibits a function of allowing foreign matters to easily fall between the pattern and the pattern.

또한, 본 발명에서의 상기 몸체부(10)는, 판상의 구조물로, 상기 광택패턴부(20)의 일측에 패턴이 제거된 손잡이부(25)를 구비하는 유리플레이트 구조물로 구현할 수 있다. 이러한 손잡이부(25) 역시 몸체부의 일부인바, 손으로 잡고 작업을 하는 이후에도, 오염원을 자연스럽게 원적외선 방출에 의해 항균할 수 있게 된다.Also, the body 10 of the present invention may be realized as a glass plate structure having a plate-shaped structure and a handle 25 with a pattern removed on one side of the gloss pattern 20. Such a handle 25 is also a part of the body part, and even after the work is carried out by hand, the contamination source can be naturally antifungal by far-infrared ray emission.

나아가, 본 발명에서는, 상기 몸체부의 일표면에 구현되는 상기 단위 광택패턴은, 상기 몸체부를 직접 가공하여 구현되는 구조로 구현할 수 있다. 따라서, 단위 광택패턴 자체에도 원적외선 물질이 함유되는 구조인바, 원적외선 방출효율은 더욱 균일하게 증진할 수 있게 된다.Further, in the present invention, the unit gloss pattern formed on one surface of the body part may be realized by directly processing the body part. Therefore, the far-infrared ray emission efficiency can be more uniformly improved due to the structure that the far-infrared ray material is contained in the unit gloss pattern itself.

또한, 본 발명의 실시예에서는, 상기 몸체부의 표면에 지르코니아, 알루미나 이외에, 전이원소 산화물의 세라믹인 MnO2 , Fe2O3 , CuO의 물질이 코팅되는 구조로 처리하여 원적외선 방사율을 높일 수 있도록 할 수 도 있다. 이러한 코팅처리 물질로 산화아연, 산화칼륨, 산화칼슘, 산화붕소, 산화마그네슘, 산화알루미늄, 산화규소, 산화나트륨, 산화망간, 산화구리, 산화철, 산화지르코늄, 산화코발트, 산화니켈, 산화크롬, 산화티탄, 산화몰리브덴, 탄소계물질, 산화바륨, 산화리튬, 점토, Talc 및 이들 중 선택된 두 종류 이상의 복합체 중 적어도 하나가 적용될 수도 있다.In addition, in the embodiment of the present invention, the surface of the body portion may be treated with a structure in which substances such as MnO 2 , Fe 2 O 3 , and CuO, which are ceramics of transition element oxides, are coated on the surface of zirconia and alumina to increase the far- There is also water. As such a coating material, zinc oxide, potassium oxide, calcium oxide, boron oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, silicon oxide, manganese oxide, copper oxide, iron oxide, zirconium oxide, cobalt oxide, Titanium, molybdenum oxide, carbonaceous material, barium oxide, lithium oxide, clay, Talc, and combinations of two or more selected from these may be applied.

특히, 본 발명은, 몸체부 및 광택패턴부 전체를 고압의 인가가 가능한 밀폐형 챔버내에서, 5,000메시(mesh) 이상의 크기를 갖는 처리용 원적외선 방사 광물 분말과 함께 장입하고 상기 챔버 내부에 8기압 이상의 고압을 1시간 이상처리하여 원적외선의 방출율을 몸체부의 원재료, 즉, 유리재질의 표면에서도 발산될 수 있도록 한다.Particularly, the present invention relates to a method for manufacturing a high-pressure ultraviolet ray-emitting material, comprising the steps of charging the entire body portion and the gloss pattern portion together with a far ultraviolet ray-emitting mineral powder for processing having a size of 5,000 mesh or more in a hermetically- The high pressure is treated for 1 hour or more so that the emission rate of the far infrared ray can be emitted from the raw material of the body part, that is, the surface of the glass material.

도 5는 본 발명의 실시예에 따른, 도 3의 구조의 본 발명의 구조물에 대한 검사성적서이다. 이는, 몸체부의 가로*세로는 9cm*1.3cm의 규격으로 가공하고, 두깨는 2mm로 형성하였다. Figure 5 is an inspection report for the structure of the present invention having the structure of Figure 3, in accordance with an embodiment of the present invention. The width and length of the body portion were machined to a size of 9 cm * 1.3 cm and the thickness of the neck was 2 mm.

광택패턴부의 면적은 가로*세로의 범위가 6cm*1.3cm로 형성하였으며, 단위 광택패턴은 원뿔형 방사 구조물로 패턴점유율 85%로 구현하였다.(원뿔형 방사구조물의 측면과 하면이 이루는 각도가 52도로 형성하고, 지름 2.5um, 높이 5um로 형성함), 원료물질은 비취입자 2~3um를 함유하고, 원적외선 방사율을 측정한 것이다. The area of the gloss pattern area is 6cm * 1.3cm in width * length, and the unit gloss pattern is conical type radiation pattern, and the pattern occupancy rate is 85%. (The angle between the side and bottom of the conical radiation structure is 52 degrees Diameter, 2.5 μm in diameter, and 5 μm in height), the raw material contains 2 to 3 μm of non-woven particles, and the far-infrared emissivity is measured.

이는 사단법인 한국적외선협회 부설 한국원적외선응용평가원에 의뢰하여 측정한 결과로, 원적외선 방사율 및 방사에너지를 KIFA-FI-1005 시험방법을 통해 측정한 것이다. 측정은 37℃에서 이루어져 있으며, 결과 방사율은 0.922, 방사에너지는 3.55×102W/m2.㎛로 나타났다. 이러한 결과는 동일한 체적을 가지는 원통형 원적외선 방출율 금속 구조체의 경우에 비해(통상 0.6~0.7 정도 방사율) 매우 높은 방사율로 판단된다.It was measured by the KIFA-FI-1005 test method as a result of measurement by the Korea Far Infrared Application Evaluation Institute of the Korea Infrared Association. The measurement was performed at 37 ° C and the resulting emissivity was 0.922 and the radiant energy was 3.55 × 10 2 W / m 2 .mu.m. These results are judged to be very high emissivity (typically 0.6 to 0.7 emissivity) as compared to the case of the cylindrical far-infrared emissivity metal structure having the same volume.

도 6 내지 도 8은 본 발명의 실시예에 따른 손발톱 광택기구를 원적외선 처리를 수행하는 공정 및 장치를 설명하기 위한 도면이다.6 to 8 are views for explaining a process and an apparatus for performing far-infrared ray processing on a nail polisher according to an embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 원적외선 처리장치의 측평면 개념도를 도시한 것이고, 도 7는 도 6의 측단면 개념도를 도시한 것이다. 도 8은 본 발명의 실시예에 따른 원적외선 처리장치의 실제 시스템 구현도면을 도시한 것이다.FIG. 6 is a schematic side view of a far-infrared ray processing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a conceptual diagram of a side sectional view of FIG. FIG. 8 illustrates an actual system implementation of a far-infrared ray processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 6 내지 도 8을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 원적외선 처리장치는 외부와 밀폐되는 공간을 형성하며, 길이방향(y)의 폭과 높이 방향(x)의 폭을 구비하는 몸체(100), 상기 몸체(100)의 길이방향(y)의 일측 내부에 배치되며, 내부에 광물분말을 수용하여 회전하여 상기 몸체 내부에 길이방향(y)으로의 기체 외류를 발생시키는 와류형성부(140), 상기 와류형성부(140)의 일단과 회전축(132)을 통해 연결되며, 상기 몸체(100)의 외부에 배치되어 회전력을 인가하는 모터부(130), 상기 몸체(100)의 내부와 연통하며, 상기 몸체의 내부 기압이 설정 기압을 초과하면 압력공급을 중지하고 초과 압력을 안전밸드를 통해 외부로 방출하는 안전장치(110) 및 상기 몸체의 내부 기압을 제어하는 제어장치를 제공할 수 있도록 한다.6 to 8, the far-infrared ray processing apparatus according to the embodiment of the present invention includes a body 100 having a width in the longitudinal direction y and a width in the height direction x, A vortex forming part 140 disposed in one side of the longitudinal direction y of the body 100 and accommodating the mineral powder therein and generating a gas outflow in the longitudinal direction y inside the body, A motor part 130 connected to one end of the vortex forming part 140 through a rotation shaft 132 and disposed outside the body 100 to apply rotational force to the body part 100, A safety device 110 for stopping the supply of the pressure when the internal air pressure of the body exceeds the set air pressure and discharging the excess pressure to the outside through the safety bag and a control device for controlling the internal air pressure of the body do.

상기 몸체(100)는, 내부가 비어 있는 구조로 외부와 밀폐가 가능하며 5 기압이상의 고압을 견딜 수 있는 재질의 금속재질로 구현될 수 있으며, 몸체의 내 표면에는 원적외선 방사가 가능한 물질이 코팅되는 구조로 구현될 수 있다. 이는 본 발명의 실시예에서는, 후술하는 와류형성부(140)에서 방출되는 원적외선을 통해서 처리 대상체에 처리를 구현하나, 그 효율성을 높이기 위해서는 몸체 내부 표면에 원적외선 처리를 위한 코팅물질이 구현되도록 할 수도 있다. The body 100 may be made of a metal material having a hollow structure and capable of being hermetically sealed to the outside and capable of withstanding a high pressure of 5 atm or higher, and a material capable of emitting far-infrared rays is coated on the inner surface of the body 100 . ≪ / RTI > In the embodiment of the present invention, the processing object is processed through the far-infrared ray emitted from the vortex forming unit 140, which will be described later, but in order to increase the efficiency, the coating material for far- have.

이러한 코팅물질로는, 몸체(100)의 내표면에 지르코니아, 알루미나 이외에, 전이원소 산화물의 세라믹인 MnO2 , Fe2O3 , CuO의 물질이 코팅되는 구조로 처리하여 원적외선 방사율을 높일 수 있도록 할 수 도 있다. 이러한 코팅처리 물질로 산화아연, 산화칼륨, 산화칼슘, 산화붕소, 산화마그네슘, 산화알루미늄, 산화규소, 산화나트륨, 산화망간, 산화구리, 산화철, 산화지르코늄, 산화코발트, 산화니켈, 산화크롬, 산화티탄, 산화몰리브덴, 탄소계물질, 산화바륨, 산화리튬, 점토, Talc 및 이들 중 선택된 두 종류 이상의 복합체 중 적어도 하나가 적용될 수도 있다.As such a coating material, it is possible to increase the far-infrared ray emissivity by treating the inner surface of the body 100 with a structure in which substances of MnO 2 , Fe 2 O 3 , and CuO, which are ceramics of transition element oxides, are coated on the inner surface of the body 100 in addition to zirconia and alumina There is also water. As such a coating material, zinc oxide, potassium oxide, calcium oxide, boron oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, silicon oxide, manganese oxide, copper oxide, iron oxide, zirconium oxide, cobalt oxide, Titanium, molybdenum oxide, carbonaceous material, barium oxide, lithium oxide, clay, Talc, and combinations of two or more selected from these may be applied.

또한, 상기 몸체(100)의 내부에 배치되는 와류형성부(140)는 상기 몸체(100)의 길이방향(y)의 일측 내부에 배치되며, 내부에 광물분말을 수용하여 회전하여 상기 몸체 내부에 길이방향(y)으로의 기체 외류를 발생시키는 작용을 한다. 즉, 상기 와류형성부(140)은 상기 몸체(100)의 상부 방향이 아닌 측방향에 배치되어, 측면에서 측면으로 대류를 구현하도록 할 수 있다.The vortex forming part 140 disposed inside the body 100 is disposed inside one side of the longitudinal direction y of the body 100 and accommodates the mineral powder in the body 100 and rotates, And acts to generate gas outflow in the longitudinal direction (y). That is, the vortex forming part 140 may be disposed in a lateral direction rather than an upper direction of the body 100, so as to realize convection from the side to the side.

상기 몸체(100)의 상부 방향에 상기 와류형성부(140)가 배치되는 경우에도 원적외선 처리가 구현될 수 있지만, 이 경우 상부에서 하부로 대류가 일어나게 되며, 폭방향이 더욱 길게 구현되는 몸체의 구조 상 전체적인 원적외선 처리 효과는 측방향 배치보다 떨어지게 된다.Even if the vortex forming part 140 is disposed in the upper direction of the body 100, the far infrared ray processing can be realized. However, in this case, convection occurs from the upper part to the lower part, The effect of the entire far-infrared ray treatment is less than the lateral arrangement.

이를 위해, 상기 와류형성부(140)는, 내부에 광물을 수용할 수 있는 수용공간을 구비하는 원통형 구조로 구현되며, 상기 와류형성부(140)의 상부면(141)은 상기 몸체(100)의 길이방향(y)을 대면하는 구조로 배치되며, 상기 상부면(141)에 대향하는 하부면(142)은 상기 회전축(132)와 연결되며, 상기 하부면(142)을 제외한 상부면(141) 및 측면부(143)는 메쉬구조의 표면을 가지는 금속재질로 구현될 수 있도록 한다.The upper surface 141 of the vortex forming part 140 is formed in the body 100 and the upper surface 141 of the vortex forming part 140 is formed in a cylindrical shape having a receiving space for receiving minerals therein. And a lower surface 142 opposed to the upper surface 141 is connected to the rotation shaft 132. The lower surface 142 of the upper surface 141 And side portions 143 can be made of a metal material having a surface of a mesh structure.

또한, 상기 와류형성부(140)의 경우, 금속재질로 구현되는 상부면, 측면부의 표면에 지르코니아, 알루미나, 전이원소 산화물의 세라믹인 MnO2 , Fe2O3 , CuO의 물질이 코팅될 수 있도록 하여 원적외선 방사효율을 높일 수 있도록 할 수 있다.In addition, in the case of the vortex forming part 140, a material such as zirconia, alumina, transition element oxide ceramics such as MnO 2 , Fe 2 O 3 and CuO may be coated on the upper and side surfaces of the metal material. So that the far-infrared radiation efficiency can be increased.

또한, 본 발명의 실시예에서 상기 상부면의 폭(d)은, 상기 몸체의 폭(D)의 1/3~1/2의 범위로 구현될 수 있도록 한다. 상기 상부면의 폭(d)이 상기 몸체의 폭(D)의 1/3 미만으로 구현되는 경우에는 와류 형성의 효율이 극히 떨어져 원적외선 처리율이 크게 낮아지게 되며, 1/2를 초과하는 경우에는 몸체 내부의 측면 공간을 지나치게 많이 차지하여 공기의 이동을 저해하는 요소로 작용하게 된다.Also, in the embodiment of the present invention, the width d of the upper surface may be in the range of 1/3 to 1/2 of the width D of the body. When the width (d) of the upper surface is less than 1/3 of the width (D) of the body, the efficiency of vortex formation is extremely low and the far-infrared ray treatment rate is significantly lowered. It takes up too much of the internal side space and acts as an element that hinders the movement of the air.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 원적외선 처리장치의 경우, 제어장치의 제어기작에 따라 상기 몸체 내부의 공기를 외부로 배출하거나 내부로 유입하여 기압을 조절하는 공기흡입배출부(160)를 구비할 수 있다.Further, in the case of the far-infrared ray processing apparatus according to the embodiment of the present invention, the air suction / discharge unit 160 may be provided for discharging the air inside the body or controlling the air pressure .

나아가, 상기 와류형성부(140)는, 상기 몸체의 개폐문의 내측에 결합 배치되며, 상기 모터부와 상기 와류형성부가 상기 개폐문의 열림 동작에 외부로 노출되는 구조로 구현될 수 있도록 한다. 이는, 개폐문의 내측에 결합되는 구조로 상기 와류형성부(140)가 장착되고, 개폐문의 외부에 배치되는 모터와 연결되는 구조로 구현되는 경우, 처리 작업 후, 개폐문을 여는 경우, 상기 와류형성부(140)도 외부로 노출되어 나오게 되는바, 내부에 광물질을 투입하거나 수리하는 작업이 매우 용이하게 되어 작업효율을 크게 향상할 수 있게 된다.Further, the vortex forming unit 140 may be disposed inside the opening and closing door of the body, and the motor unit and the vortex forming unit may be exposed to the opening operation of the opening and closing door. In the case where the vortex forming part 140 is mounted on the inside of the opening and closing door and is connected to a motor disposed outside the opening and closing door, when the opening and closing door is opened after the processing operation, (140) is also exposed to the outside, so that it is very easy to insert or repair the inside of the apparatus, and the working efficiency can be greatly improved.

도 8은 본 발명의 실시예에 따른 원적외선 처리장치의 구조를 외부의 벨브나 공기 및 압력조절 라인을 표시한 계통도이다.FIG. 8 is a block diagram showing an outer valve, an air, and a pressure control line according to an embodiment of the present invention.

모터(M)에 연결되는 와류형성부가 몸체의 측면에 배치되는 구조는 상술한 바 있으며, 다수의 공기조절밸브(AOV)와 압력조절부(PG), 다수의 밸브(BV)가 배치되며, 이점쇄선은 물이동라인, 실선은 압려라인, 점선은 에어라인으로 구분될 수 있다.The structure in which the vortex forming part connected to the motor M is disposed on the side of the body has been described above and a plurality of air control valves AOV, a pressure regulating part PG and a plurality of valves BV are disposed, The dashed line can be divided into the water movement line, the solid line can be divided into the air line, and the dotted line can be divided into the air line.

이하에서는 도 6 내지 도 8에서 상술한 본 발명의 실시예에 따른 원적외선 처리장치를 적용하여 처리 대상물을 처리하는 방법을 설명하기로 한다.Hereinafter, a method of processing an object to be treated by applying a far-infrared ray processing apparatus according to an embodiment of the present invention described in FIGS. 6 to 8 will be described.

본 발명은 처리대상을 300메시(mesh) 이상의 크기를 갖는 원적외선 방사 광물 분말과 함께 밀폐용기에 장입하고 상기 밀폐용기 내부에 8기압 이상의 고압을 1시간 이상 가할 수 있도록 한다.In the present invention, the object to be treated is charged into a closed container together with a far-infrared emitting mineral powder having a size of 300 mesh or more, and a high pressure of 8 atm or higher can be applied to the closed container for 1 hour or more.

원적외선 방사체로 제조하고자 하는 처리대상과 원적외선 방사 광물 분말을 같은 밀폐된 공간에 놓고 이 밀폐된 공간에 압력을 가하면 본래 원적외선 방사 효과가 없는 물건이 원적외선 방사체로 제조되거나 방사 효과가 미미한 물건이 높은 방사 효과를 갖는 방사체로 제조된다. 이는 원적외선 방사 광물 분말이 물건에 직접 침투하거나 표면에 묻는 것이 아니라, 광물의 에너지가 가압 상태로 인해 물건에 전이되어 나타나는 것이라 판단된다. 원적외선 방사 광물 분말을 비닐 등으로 완전하게 감싸 대상 물건에 접촉하지 않는 조건에서도 방사체를 제조할 수 있음을 확인한 결과에 따른 것이다. 본 발명에서는 와류 형성부 내부에 광물분말을 배치할 수 있다.When the object to be manufactured by the far-infrared ray radiator and the far-infrared ray emitting mineral powder are placed in the same sealed space and pressure is applied to the sealed space, the object which is not originally produced by the far-infrared ray radiation effect is manufactured as a far- Lt; / RTI > It is considered that the far - infrared radiation powder does not directly penetrate the object or surface, but the mineral energy is transferred to the object due to the pressurized condition. It is as a result of confirming that the radiator can be manufactured under the condition that the far-infrared radiation mineral powder is completely wrapped with vinyl or the like and does not contact the object. In the present invention, the mineral powder may be disposed inside the vortex forming portion.

본 발명에서는 비취, 거장석, 견운모, 카오린, 벤토나이트, 장석, 엽낙석, 명반석, 사문암, 화강암, 석영, 반암, 편마암, 산성응회암, 유문압질 응회암, 황토, 백토, 스코리아, 참숯, 게르마늄, 맥반석, 토르말린 등을 상기 원적외선 방사 광물로 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니며 원적외선을 방사하는 광물이면 어느 것이나 사용할 수 있다. 하지만, 이러한 광물 중에서도 비취를 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, it is possible to use the gypsum, gypsum, sericite, kaolin, bentonite, feldspar, leaf rock, alabaster, serpentinite, granite, quartz, porphyry, gneiss, acid tuff, pyloric tuff, Tourmaline, and the like may be used as the far-infrared radiation minerals, but the present invention is not limited thereto, and any mineral that emits far-infrared rays can be used. However, it is preferable to use jade among these minerals.

본 발명에서는 밀폐용기 내부에 고압을 가하는데, 이때 압력이 높을수록 그리고 압력의 처리시간이 늘어날수록 효과가 높아지는 것으로 나타났다. 하지만, 압력에 의한 제품의 변형 및 공정 시간의 문제를 고려하여 8 내지 10기압의 압력과 1 내지 2시간의 처리시간을 적용하는 것이 바람직하다. 8기압으로 약 2시간, 9기압으로 약 90분, 10기압으로 약 1시간 정도 처리하는 것이 적당하다. 본 발명에 따르면 상기 압력조건 및 처리시간 조건하에서 실시할 경우 다른 조건에 비해 처리대상의 원적외선 방사 효과 또는 식품의 신선도 유지 효과와 공정효율성이 월등이 우수한 것으로 확인되었다.In the present invention, a high pressure is applied to the inside of the sealed container. At this time, the higher the pressure and the longer the processing time of the pressure, the higher the effect becomes. However, it is preferable to apply a pressure of 8 to 10 atm and a treatment time of 1 to 2 hours in consideration of the deformation of the product due to the pressure and the process time. It is appropriate to treat for about 2 hours at 8 atmospheres, about 90 minutes at 9 atmospheres, and about 1 hour at 10 atmospheres. According to the present invention, it was confirmed that the far infrared ray radiation effect or the food freshness maintenance effect and the process efficiency are superior to other conditions under the pressure condition and the treatment time condition.

본 발명에서는 상기 원적외선 방사 광물을 분말화하여 사용하며, 이때 분말의 입자크기를 300메시(mesh) 이상의 작은 크기로 한다. 본 발명에 따르면 분말의 입자크기가 작을수록 효과가 우수한 것으로 나타났다. 따라서 나노 단위의 작은 입자로 분말화하여 사용하는 것이 바람직하나, 입자의 크기를 작게 하기 위해서는 별도의 가공과정이나 장비가 필요하게 되는 등 문제점이 있으므로 효율성을 고려하여 300 내지 10,000메시의 크기로 하는 것이 적당하다.In the present invention, the far-infrared ray-emitting mineral is powdered and used, and the particle size of the powder is made to be 300 mesh or less. According to the present invention, the smaller the particle size of the powder, the better the effect. Therefore, although it is preferable to use powdered nanoparticles in small particles, there is a problem that a separate processing or equipment is required to reduce the size of the particles. Therefore, considering the efficiency, It is suitable.

본 발명에서 원적외선 방사 광물 분말은 투명한 재질의 밀폐수단으로 밀폐하여 사용하는 것이 바람직하다. 광물분말을 밀폐하지 않은 채 그대로 사용하면 고압으로 인해 광물 분말이 처리대상의 표면에 묻거나 침투할 수 있고, 이로 인해 처리대상의 품질이 저하되는 문제가 발생할 수 있다. In the present invention, the far-infrared ray-emitting mineral powder is preferably used in a sealed manner by a sealing means of a transparent material. If the mineral powder is used as it is without being hermetically sealed, the high pressure may cause the mineral powder to adhere to or penetrate the surface of the object to be treated, thereby causing a problem that the quality of the object to be treated deteriorates.

투명한 재질의 밀폐수단으로는 투명한 비닐재질의 주머니를 사용하는 것이 바람직하다. 이 밖에도 본 발명에서 사용하는 압력을 견딜 수 있으며, 광물 분말을 담았을 때 유출되지 않는 재질의 주머니나 용기 등을 사용할 수 있다. 또한 이러한 재질의 밀폐수단으로 광물 분말을 밀폐하더라도 고압에 의해 광물 분말이 유출될 가능성을 완전히 배제할 수 없을 경우, 물리적인 압력에 보다 강하면서 구멍이 형성되어 있어 원적외선과 같은 광물 에너지가 통과할 수 있는 섬유직물이나 부직포를 추가로 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들어 투명한 비닐주머니에 광물 분말을 담아 밀봉한 다음 이 비닐주머니를 섬유직물로 감싸 고정하는 방법을 사용할 수 있다.As a sealing means of a transparent material, it is preferable to use a bag made of a transparent vinyl material. In addition, a bag or a container made of a material that can withstand the pressure used in the present invention and does not leak when containing the mineral powder can be used. In addition, if the possibility of leakage of the mineral powder by high pressure can not be totally excluded even if the mineral powder is sealed by the sealing means of such a material, the hole is formed stronger than the physical pressure and the mineral energy such as far- It is preferable to further use a woven fabric or a nonwoven fabric. For example, a method may be used in which a mineral powder is sealed in a transparent plastic bag and the plastic bag is wrapped and fixed with a fiber fabric.

압력을 가하는 것은 밀폐된 공간에 기체를 주입하는 방식으로 수행할 수 있다. 이를 위해 콤프레셔와 같은 장치를 사용할 수 있다. 질소, 이산화탄소 등의 특수 기체를 사용하여 시도할 수는 있으나 작업의 용이성, 비용 등을 고려할 때 공기를 사용하는 것이 바람직하다. 압력의 정도는 압력센서를 사용하여 확인할 수 있으며, 콤프레셔의 작동을 통해 조절할 수 있다.Applying pressure can be done by injecting gas into the enclosed space. A device such as a compressor may be used for this purpose. Nitrogen, and carbon dioxide, it is preferable to use air in consideration of ease of operation and cost. The degree of pressure can be checked using a pressure sensor and can be adjusted through the operation of the compressor.

원적외선 방사 기능 또는 식품의 신선도 유지 효과를 처리대상에 충분히 부여하기 위해서는 밀폐용기 내부공간 1㎥ 당 100 ~ 500g의 비율로 상기 원적외선 방사 광물 분말을 장입하는 것이 바람직하다. In order to sufficiently impart the far-infrared ray radiation function or the food freshness-retaining effect to the object to be treated, it is preferable to charge the far-infrared ray-emitting mineral powder at a rate of 100 to 500 g per 1 m 3 of the space inside the closed container.

또한, 처리대상은 밀폐용기 내부공간의 부피를 기준으로 2/3 이하의 부피를 차지하도록 장입하는 것이 바람직하며, 2/3 ~ 1/3 정도가 적당하다. 이때 처리대상의 재질 자체가 원적외선이 투과될 수 있는 재질인 경우 별도의 처리없이 밀폐용기 내부에 쌓는 방식으로 장입할 수 있으나, 금속과 같이 원적외선 투과가 어려운 경우에는 각 처리대상의 표면과 표면 사이가 약 5㎜ 이상의 간격을 두도록 장입하는 것이 바람직하다.It is preferable that the object to be treated is charged so as to occupy a volume of 2/3 or less based on the volume of the space inside the closed container, and about 2/3 to 1/3 is suitable. In this case, if the material to be treated is a material through which far-infrared rays can be transmitted, it can be loaded in a sealed container without any additional treatment. However, when it is difficult to transmit far-infrared rays like metal, It is preferable to load them so as to leave an interval of about 5 mm or more.

또한 본 발명을 보다 효율적으로 수행하기 위해서는 광물 분말을 일축으로 회전하는 용기에 담고, 밀폐용기 내부에서 용기를 회전시켜 기체의 와류가 발생하도록 하는 것이 바람직하다. 원적외선 방사 광물이 담긴 용기를 회전시킨 경우와 고정시킨 경우를 비교한 결과 회전시킨 경우에 피사체의 원적외선 방사 효과 또는 식품 신선도 유지 효과가 월등히 우수한 것으로 나타났다.In order to more efficiently perform the present invention, it is preferable that the mineral powder is contained in a container rotating in one axis, and the container is rotated inside the container to generate a vortex of the gas. As a result of comparing the case where the container containing the far - infrared ray emitting mineral is rotated and the case where the container containing the far - infrared ray emitting mineral is rotated, the far - infrared radiation effect or the food freshness maintaining effect of the subject is remarkably excellent.

[실시예 1][Example 1]

300 ~ 10,000메시(mesh)의 비취분말 250 ~ 300g을 약 0.5㎜ 두께의 투명한 비닐 지퍼백에 담아 밀봉하고 면소재의 천으로 감싸 회전판에 위치시켰다. 몸체 내부에 도 3의 실시예의 구조물로 제조한 손톱광택기(소재: 강화유리)를 배치하고 약 1㎥ 를 채우고, 장치의 개폐문을 닫아 밀폐시킨 다음 내부 압력을 8 ~ 10기압으로 조절하면서 1 ~ 2시간 유지하였다.250-300 g of jade powder of 300 ~ 10,000 mesh was placed in a transparent vinyl zipper bag of about 0.5 mm in thickness, sealed with a cotton cloth, and placed on a rotating plate. A nail polisher (material: tempered glass) manufactured by the structure of the embodiment of FIG. 3 was placed inside the body and filled with about 1 m.sup.3, and the opening and closing door of the apparatus was closed to close the interior. Then, Time.

[실시예 2][Example 2]

상기 실시예 1과 동일하게 하되, 처리대상인 손발톱광택기구의 원적외선 방출물질을 게르마늄으로 동량을 함유한 사용하였다.In the same manner as in Example 1, the far-infrared ray emitting material of the nail polish device to be treated was used in the same amount as germanium.

[실시예 3][Example 3]

상기 실시예 1과 동일하게 하되, 처리대상으로 내부에 원적외선물질의 함유를 비취와 게르마늄 혼합물로 하여 동량을 형성하여 사용하였다.The same procedure as in Example 1 was carried out except that the same amount of far infrared ray material was used as a mixture in a mixture of jade and germanium.

[실시예 4][Example 4]

상기 실시예 1과 동일하게 하되, 처리대상으로 원적외선 방출물질을 함유하지 않은 상태의 것을 사용하였다.In the same manner as in Example 1, except that the material to be treated did not contain a far-infrared ray emitting material was used.

<실험 장치의 구조에 따른 측정결과>&Lt; Measurement results according to the structure of experimental apparatus >

도 6에서의 본 발명의 실시예에 따른 몸체의 측면부(개폐문)에 배치하여 처리한 결과(실시구조)를 아래의 표에 나타내었다. The following table shows the results of the treatment (arrangement structure) disposed on the side surface (opening and closing door) of the body according to the embodiment of the present invention in Fig.

측정대상Measured object 방사율(5~20um)-비교1Emissivity (5 ~ 20um) - Comparison 1 방사율(5~20um)-실시구조Emissivity (5 ~ 20um) - Implementation structure 방사에너지(W/m2.um, 37℃-비교1Radiant energy (W / m2.um, 37 ℃ - Comparison 1 방사에너지(W/m2.um, 37℃-실시구조Radiant energy (W / m2.um, 37 ℃ - Conducted structure 실시예 1Example 1 0.8860.886 0.8930.893 3.41×102
3.41 × 10 2
3.50×102 3.50 x 10 2 실시예 2Example 2 0.8830.883 0.8920.892 3.40×102
3.40 x 10 2
3.52×102 3.52 × 10 2 실시예 3Example 3 0.8930.893 0.8970.897 3.44×102
3.44 × 10 2
3.53×102 3.53 × 10 2 실시예 4Example 4 0.8500.850 0.8560.856 3.04×102
3.04 × 10 2
3.53×102 3.53 × 10 2

사단법인 한국원적외선협회 부설 한국원적외선응용평가연구원에 의뢰하여, 상기 실시예에서 제조한 각 샘플의 원적외선 방사율 및 방사에너지를 KFIA-FI-1005 시험방법을 사용하여 측정하였다. 측정은 37℃에서 이루어졌으며, FT-IR spectrometer를 이용한 BLACK BODY(방사율이 높은 양성대조군) 대비 측정결과로 나타냈다.The far infrared ray emissivity and radiant energy of each sample prepared in the above examples were measured using the KFIA-FI-1005 test method, with the Korean Far Infrared Application Evaluation Research Institute, which is affiliated with the Korean Far Infrared Ray Association. Measurements were made at 37 ° C and measured as a result of FT-IR spectrometer versus BLACK BODY (positive control with high emissivity).

이의 결과, 표 1에서와 같이 실시예 4에서 확인할 수 있는 것과 같이, 원적외선 방사 효과가 전혀 없는 제품에서 원적외선이 방사되는 것으로 나타났다.As a result, as shown in Table 1, as shown in Example 4, far-infrared rays were emitted from a product having no far-infrared radiation effect.

나아가, 본 발명의 실시예 1 내지 3에 따른 몸체부내에 원적외선 물질을 함유하는 경우, 실시예 4에서 원적외선 물질을 함유하지 않는 몸체부에서의 방사율과 방사에너지의 강도가 훨씬 더 효율적인 결과로 나타나게 됨을 확인할 수 있다.Further, when the far-infrared ray material is contained in the body part according to the embodiments 1 to 3 of the present invention, the emissivity and the radiant energy intensity in the body part that does not contain the far-infrared ray material in the embodiment 4 are much more effective Can be confirmed.

이상에서는 본 발명을 바람직한 실시예에 의거하여 설명하였으나, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 아니하고 청구항에 기재된 범위 내에서 변형이나 변경 실시가 가능함은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명백한 것이며, 그러한 변형이나 변경은 첨부된 특허청구범위에 속한다 할 것이다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, And such variations and modifications are intended to fall within the scope of the appended claims.

10: 몸체부
20: 광택패턴부
25: 손잡이부
100: 몸체
110: 안전장치
120: 기압계
130: 모터부
140: 와류형성부
150: 개폐문
160: 공기흡입배출부10:
20: Gloss pattern portion
25: Handle portion
100: Body
110: Safety device
120: Barometer
130:
140: vortex forming part
150: opening / closing door
160: Air suction / discharge unit

Claims (9)

일표면과 상기 일면에 대향하는 타표면을 구비하는 입체 구조의 몸체부(10); 및
상기 일표면 또는 상기 타표면에 구현되는 다수의 단위 광택패턴을 다수 포함하는 광택패턴부(20);를 포함하며,
상기 몸체부의 내부에 원적외선 방출물질을 포함하는,
항균기능을 가지는 손발톱 광택기구.
A body portion (10) of a three-dimensional structure having one surface and another surface facing the one surface; And
And a gloss pattern part (20) including a plurality of unit gloss patterns formed on the one surface or the other surface,
And a far-infrared ray emitting material inside the body portion,
A nail polish device with antibacterial function.
청구항 1에 있어서,
상기 광택패턴부의 단위 광택패턴은,
상기 몸체부(10)의 표면을 가공하여 구현되며,
상기 단위 광택패턴은 상기 몸체부의 표면에서의 높이가 0.01um~50um의 범위이며,
상기 몸체부의 표면에서 최상부는 첨부를 가지는 구조로 구현되는,
항균기능을 가지는 손발톱 광택기구.
The method according to claim 1,
The unit gloss pattern of the gloss pattern portion includes:
A surface of the body 10 is machined,
Wherein the unit gloss pattern has a height in a range of 0.01 to 50 mu from the surface of the body portion,
And the uppermost portion on the surface of the body portion is embodied as an attachment structure.
A nail polish device with antibacterial function.
청구항 2에 있어서,
상기 단위 광택패턴은,
상기 광택패턴부의 단위면적을 기준으로,
몸체부 표면의 노출면과 상기 단위광택패턴의 점유 비율인 패턴점유율이 80~90%의 범위인,
항균기능을 가지는 손발톱 광택기구.
The method of claim 2,
Wherein the unit gloss pattern
Based on a unit area of the gloss pattern portion,
Wherein the pattern occupancy ratio of the exposed surface of the body portion and occupied ratio of the unit gloss pattern is 80 to 90%
A nail polish device with antibacterial function.
청구항 3에 있어서,
상기 원적외선 방출물질은,
비취, 거장석, 견운모, 카오린, 벤토나이트, 장석, 엽낙석, 명반석, 사문암, 화강암, 석영, 반암, 편마암, 산성응회암, 유문압질 응회암, 황토, 백토, 스코리아, 참숯, 게르마늄, 맥반석, 토르말린 또는 세라믹 재질의 비드 구조물이며,
상기 몸체부를 구성하는 주원료물질을 기준으로 5~10중량부로 포함되는,
항균기능을 가지는 손발톱 광택기구.
The method of claim 3,
The far-infrared ray-
Gypsum, porphyry, porphyry, porphyry, gneiss, acid tuff, pyloric tuff, loess, clay, scoria, charcoal, germanium, quartz, tourmaline or ceramics Bead structure of material,
And 5 to 10 parts by weight, based on the main raw material constituting the body part,
A nail polish device with antibacterial function.
청구항 4에 있어서,
상기 단위 광택패턴은,
원뿔형 방사구조물의 형태의 입체 구조물이며,
측면과 하면이 이루는 각도가 48도~52도이며, 상기 상부면과 접하는 면의 지름의 길이가 높이보다 크게 구현되는 돌출구조물인,
항균기능을 가지는 손발톱 광택기구.
The method of claim 4,
Wherein the unit gloss pattern
Is a three-dimensional structure in the form of a conical radiating structure,
Wherein an angle between the side surface and the bottom surface is from 48 to 52 degrees and a length of a diameter of a surface in contact with the upper surface is greater than a height,
A nail polish device with antibacterial function.
청구항 5에 있어서,
상기 몸체부 및 상기 광택패턴부는,
고압의 인가가 가능한 밀폐형 챔버내에서,
5,000메시(mesh) 이상의 크기를 갖는 처리용 원적외선 방사 광물 분말과 함께 장입하고 상기 챔버 내부에 8기압 이상의 고압을 1시간 이상처리한 것을 특징으로 하는,
항균기능을 가지는 손발톱 광택기구.
The method of claim 5,
The body portion and the luster pattern portion may include:
In a hermetically sealed chamber capable of applying a high pressure,
Characterized in that it is charged together with the ultraviolet ray-emitting mineral powder for processing having a size of 5,000 mesh or more and a high pressure of 8 atmospheres or higher is treated in the chamber for 1 hour or more.
A nail polish device with antibacterial function.
청구항 6에 있어서,
상기 몸체부(10)는,
판상의 구조물로, 상기 광택패턴부(20)의 일측에 패턴이 제거된 손잡이부(25)를 구비하는 유리플레이트 구조물인,
항균기능을 가지는 손발톱 광택기구.
The method of claim 6,
The body portion (10)
A glass plate structure comprising a plate-like structure and a handle (25) with a pattern removed on one side of the luster pattern (20)
A nail polish device with antibacterial function.
청구항 8에 있어서,
상기 몸체부의 일표면에 구현되는 상기 단위 광택패턴은,
상기 몸체부를 직접 가공하여 구현되는,
항균기능을 가지는 손발톱 광택기구.
The method of claim 8,
The unit gloss pattern, which is formed on one surface of the body portion,
A body portion,
A nail polish device with antibacterial function.
청구항 9에 있어서,
상기 몸체부의 표면에 지르코니아, 알루미나 코팅층을 구현하고,
상기 코팅층 상에 전이원소 산화물의 세라믹인 MnO2 , Fe2O3 , CuO의 물질이 코팅되는,
항균기능을 가지는 손발톱 광택기구.The method of claim 9,
A zirconia-alumina coating layer is formed on the surface of the body portion,
Wherein the coating layer is coated with a material of MnO 2 , Fe 2 O 3 , and CuO, which are ceramics of transition element oxides,
A nail polish device with antibacterial function.
KR1020160159463A 2016-11-28 2016-11-28 A nail grinder having antibacterial effects KR101965331B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160159463A KR101965331B1 (en) 2016-11-28 2016-11-28 A nail grinder having antibacterial effects

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160159463A KR101965331B1 (en) 2016-11-28 2016-11-28 A nail grinder having antibacterial effects

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180060218A true KR20180060218A (en) 2018-06-07
KR101965331B1 KR101965331B1 (en) 2019-04-24

Family

ID=62621555

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160159463A KR101965331B1 (en) 2016-11-28 2016-11-28 A nail grinder having antibacterial effects

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101965331B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102300678B1 (en) * 2020-10-16 2021-09-09 주식회사 티엘 Inorganic Combined Sterilization Compound with Antibacteriality and its Manufacturing Method

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11318548A (en) * 1998-05-20 1999-11-24 Hideo Yamauchi File for nail or skin and its production
KR101043651B1 (en) 2008-08-27 2011-06-24 조중숙 Nail care article and method thereof
KR20150112727A (en) * 2014-03-27 2015-10-07 최영환 Nail care apparatus

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11318548A (en) * 1998-05-20 1999-11-24 Hideo Yamauchi File for nail or skin and its production
KR101043651B1 (en) 2008-08-27 2011-06-24 조중숙 Nail care article and method thereof
KR20150112727A (en) * 2014-03-27 2015-10-07 최영환 Nail care apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR101965331B1 (en) 2019-04-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20170045007A (en) Products comprising shungite and method for manufacturing the same
KR101965331B1 (en) A nail grinder having antibacterial effects
KR101523243B1 (en) Manufacturing method for far-infrared ray radiating materials
KR20180095492A (en) Multi-functional mask
KR20100027471A (en) Ceramic lightweight tile and manufacturing method thereof
US11572285B2 (en) Self-decontaminating antimicrobial compositions, articles, and structures, and methods of making and using the same
KR101894892B1 (en) Mask comprising shungite and natural fullerene
KR102057474B1 (en) Glaze composition for forming glaze layer having high contact angle and manufacturing method of ceramic tile using the composition
KR101880432B1 (en) Emission device of infrared rays
CN106904941A (en) A kind of bactericidal ceramic thin plate and its manufacturing process
KR100875202B1 (en) Functional environment-friendly stone, method of manufacturing functional environment-friendly stone and apparatus for manufacturing functional environment-friendly stone
KR102107344B1 (en) A glass decoration panel radiating far-infrared and manufacturing method thereof
KR20200070540A (en) Glaze composition for forming glaze layer having high contact angle and manufacturing method of ceramic tile using the composition
EP4335961A1 (en) Fiber coating method
KR100741174B1 (en) Negative ion coating thread manufacture machine and method
KR102398545B1 (en) Antibacterial treatment method of object
KR20070089741A (en) Ion-generating floor covering and method for forming same
JP2020529329A (en) Floor pad with variable abrasive distribution
CN114147842A (en) Multifunctional ceramic plate and manufacturing method thereof
KR102118217B1 (en) Manufacturing method of environment-friendly functional ceramics
JP3235649U (en) Antibacterial tile
KR20150052445A (en) ceramic ball composition having detergent function
KR102352357B1 (en) Manufacturing method of ceramic tile using the glaze composition for forming glaze layer having high contact angle and excellent hardness properties
KR100455862B1 (en) Far infrared ray emitting material coated fabrics
KR20080029295A (en) Method manufacturing of charcoal tile and charcoal tile glaze

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant