KR100875202B1 - Functional environment-friendly stone, method of manufacturing functional environment-friendly stone and apparatus for manufacturing functional environment-friendly stone - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 친환경 기능성 석재, 친환경 기능성 석재의 제조방법 및 친환경 기능성 석재의 제조장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 자정 세정 능력을 갖는 광촉매 코팅막이 적용된 친환경 기능성 석재, 친환경 기능성 석재의 제조방법 및 친환경 기능성 석재의 제조장치에 관한 것이다.The present invention relates to an eco-friendly functional stone, a method for manufacturing an eco-friendly functional stone and an apparatus for producing an eco-friendly functional stone, and more particularly, an eco-friendly functional stone applied with a photocatalytic coating film having a self-cleaning ability, a method for producing an eco-friendly functional stone, and eco-friendly functional materials. The present invention relates to a stone manufacturing apparatus.
석재는 1종 또는 1종 이상의 광물이 자연의 작용으로 모여서 괴석 또는 집합체로 형성된 견고한 돌이나 바위인 암석을 건축·토목 및 기타 목적으로 제작되었다. 일반적으로 석재는 다른 재료에 비해 재질이 견고하고 내구성과 산성비에 대한 내후성이 좋으며, 무늬와 색상이 균일하고 습기와 결로를 차단하는 능력이 우수하여 건축물 외장재나 바닥재로 주로 사용된다. 그러나 천연 석재는 다공성 기재이기 때문에 우천시 또는 인위적인 수분 침투로 인하여 석질의 박리 및 변색이 발생된다. 또한, 최근 환경오염으로 인한 대기 중의 다양한 오염 물질들은 건축 외장석 재 표면에 퇴적되고, 이는 강우에 의해 물과 함께 표면을 타고 흐르면서 건조 후 외장 석재 표면에 얼룩 모양의 더러움을 발생시킨다. Stones are made for the construction, civil engineering, and other purposes of rock, which is a solid stone or rock formed of lumps or aggregates by one or more minerals gathered by natural action. In general, the stone is used mainly as a building exterior material or flooring material because it is more durable than other materials, durable and weather resistance against acid rain, uniform pattern and color, and excellent ability to block moisture and condensation. However, since natural stone is a porous substrate, stone peeling and discoloration occur due to rain or artificial water penetration. In addition, various pollutants in the air due to the recent environmental pollution are deposited on the surface of the building exterior stone, which flows through the surface with water by the rainfall, causing staining dirt on the surface of the exterior stone after drying.
기존에는 이러한 문제점을 방지하기 위해 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE)과 같은 발수성 도료가 건축물 외장재에 사용되었다. 그러나 최근의 도시 먼지의 일반적인 오염원인 유기물과 유기물이 바인더 역할을 하여 먼지나 흙이 부착된 오염원이 대단히 많이 발생하므로 석재 표면에 친수성을 나타내는 막을 형성하여 우천시 대기 중의 유기 오염물과 먼지들이 빗물과 함께 쓸려 내려가도록 하는 도료가 널리 사용되고 있다. 친수성 도료로는 아크릴 수지, 아크릴-실리콘 수지, 수성 실리콘, 실리콘 수지와 아크릴 수지의 블록 중합체, 아크릴-스티렌 수지, 소르비탄 지방산 에틸렌 산화물, 소르비탄 지방산 에스테르, 우레탄계 아세테이트, 풀리카르보네이트디올 및 폴리이소시아네이트의 가교형 우레탄, 또는 알킬에스테르 폴리아크릴레이트 가교체 등이 있다. 그러나 상기 친수성 도료로 형성된 코팅막의 경우, 물과의 접촉각이 수십 도( °)를 나타내어 도시 먼지에 포함된 많은 양의 유기물을 효과적으로 방지할 수 없다. In order to prevent this problem, water-repellent paints such as polytetrafluoroethylene (PTFE) have been used for building exterior materials. However, since organic materials and organic materials, which are common sources of urban dust, act as binders and generate a lot of pollutants with dust or dirt, organic hydrophilic substances and dusts in the air during rainy weather are washed away with rain water. Paints that allow them to descend are widely used. Hydrophilic paints include acrylic resins, acrylic-silicone resins, aqueous silicones, block polymers of silicone resins and acrylic resins, acrylic-styrene resins, sorbitan fatty acid ethylene oxides, sorbitan fatty acid esters, urethane acetates, polycarbonate diols, and poly And crosslinked urethanes of isocyanates or alkyl ester polyacrylate crosslinked products. However, in the case of the coating film formed of the hydrophilic paint, the contact angle with water is several tens of degrees (°), so that a large amount of organic matter contained in urban dust cannot be effectively prevented.
이에 따라, 고도의 친수성(물과의 접촉각이 10°이하)을 갖는 광촉매 이산화티타늄 코팅막을 석재 표면에 형성시켜 유기화합물을 분해시키고 먼지와 같은 오염물질을 쉽게 제거하는 자정기능(Self-cleaning)을 갖는 친환경 기능석재의 개발이 요구되고 있다. Accordingly, a photocatalytic titanium dioxide coating film having a high hydrophilicity (contact angle with water of 10 ° or less) is formed on the stone surface to decompose organic compounds and to easily remove dust, such as self-cleaning. Development of environmentally friendly functional stone is required.
상술한 목적을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 석재의 질감과 무늬를 유지하면서 우수한 친수기능, 유기물분해기능을 갖는 광촉매 코팅막을 포함하는 친환경 기능성 석재를 제공하는데 있다.An object of the present invention for solving the above object is to provide an eco-friendly functional stone including a photocatalyst coating film having an excellent hydrophilic function, organic decomposition, while maintaining the texture and pattern of the stone.
또한, 본 발명의 다른 목적은 석재의 질감과 무늬를 유지하면서 우수한 친수기능, 유기물분해기능을 갖는 광촉매 코팅막을 포함하는 친환경 기능성 석재의 제조방법을 제공하는데 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a method for producing an eco-friendly functional stone including a photocatalyst coating film having an excellent hydrophilic function, organic decomposition, while maintaining the texture and pattern of the stone.
또한, 본 발명의 또 다른 목적은 석재의 질감과 무늬를 유지하면서 우수한 친수기능, 유기물분해기능을 갖는 광촉매 코팅막을 포함하는 친환경 기능성 석재를 제조하는 장치를 제공하는데 있다.In addition, another object of the present invention is to provide an apparatus for producing an eco-friendly functional stone including a photocatalyst coating film having an excellent hydrophilic function, organic decomposition, while maintaining the texture and pattern of the stone.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 친환경 기능성 석재는 건축·토목용 자재로 사용되는 석재 및 상기 석재에 친수성, 유기물분해능 및 항균 기능을 부여하며, 가시광 투과율이 90% 내지 98%인 광촉매 코팅막을 포함한다. 이러한 구성을 갖는 친환경 기능성 석재는 물과의 접촉각이 10°이하가 됨으로써 강우 시 빗물에 의해 석재 표면의 오물들이 쉽게 제거될 뿐만 아니라 항균효과까지 갖는다.Eco-friendly functional stone according to an embodiment of the present invention for achieving the above object is to give a hydrophilicity, organic material resolution and antibacterial function to the stone and the stone used as a building and civil engineering materials, visible light transmittance of 90% to 98 It comprises a photocatalyst coating film which is%. Eco-friendly functional stone having such a configuration is that the contact angle with the water is less than 10 ° to easily remove dirt on the surface of the stone by rainwater during rain, as well as to have an antibacterial effect.
또한, 상술한 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 친환경 기능성 석재를 제조하기 위해서는, 먼저 석재 표면에 잔류하는 이물질을 세척제 거 한다. 이어서, 적외선 가열방식으로 석재 표면을 활성화시킨 후 표면이 활성화된 석재의 표면에 광촉매 코팅제를 코팅한다. 이후, 광촉매 코팅제를 경화시켜 6H이상의 고강도를 갖는 광촉매 코팅막을 형성한다. 그 결과, 물과의 접촉각이 10° 이하이며, 유기물 분해능 및 항균효과를 갖는 친환경 기능성 석재가 제조될 수 있다.In addition, in order to manufacture the eco-friendly functional stone according to an embodiment of the present invention for achieving the above-mentioned other objects, first remove the foreign substances remaining on the stone surface. Subsequently, after activating the stone surface by the infrared heating method, a photocatalyst coating agent is coated on the surface of the activated stone. Thereafter, the photocatalyst coating agent is cured to form a photocatalyst coating film having a high strength of 6H or more. As a result, a contact angle with water is 10 ° or less, and an eco-friendly functional stone having organic substance resolution and antibacterial effect can be produced.
일 예로서, 상기 친환경 기능성 석재의 제조에서 상기 세척 제거는 석재를 20 내지 40 kHz의 초음파를 발진시켜 흐르는 물로 세척 또는 0.2 내지 2.0 kgf/㎠의 고압 수로 세척하는 단계 및 2.0 내지 6.0 kgf/㎠의 고압 공기로 분출(blowing)세척하는 단계를 포함할 수 있다. As an example, the washing removal in the production of the eco-friendly functional stone is a step of washing the stone with running water by oscillating ultrasonic wave of 20 to 40 kHz or washing with high pressure water of 0.2 to 2.0 kgf / ㎠ and 2.0 to 6.0 kgf / ㎠ And flushing with high pressure air.
상기 활성화는 상기 석재의 표면온도를 30 내지 50℃로 유지시키는 것 일 수 있고, 상기 코팅은 상기 광촉매 코팅제를 0.5 내지 6.0 kgf/㎠의 분사압으로 분사시켜 50 내지 500㎎/㎡의 피막량으로 형성할 수 있는 것이며, 상기 경화는 80 내지 250℃의 적외선 가열로에서 3 내지 10분간 열처리할 수 있는 것이다. The activation may be to maintain the surface temperature of the stone at 30 to 50 ℃, the coating is sprayed at a spray pressure of 0.5 to 6.0 kgf / ㎠ the photocatalyst coating agent in a coating amount of 50 to 500 mg / ㎡ It is possible to form, and the curing can be heat-treated for 3 to 10 minutes in an infrared heating furnace of 80 to 250 ℃.
또한, 상술한 또 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 친환경 기능성 석재의 제조장치의 경우 이송 테이블, 수 세척기, 적외선 건조기, 광촉매 코팅기 및 적외선 열처리기를 포함할 수 있다. 상기 이송 테이블은 건축·토목용 자재로 가공된 석재를 기능성 석재로 가공될 수 있도록 이송하는 역할을 한다. 상기 수세척기는 이송되는 가공된 석재의 표면에 잔류하는 이물질을 제거한다. 상기 적외선 건조기는 세척된 석재를 건조시켜 그 표면을 활성화시킨다. 광촉매 코팅기는 활성화된 석재의 표면에 광촉매 코팅제를 코팅한다. 상기 적외선 열처리기 는 광촉매 코팅제를 경화시켜 광촉매 코팅막을 형성한다. 상술한 구성을 갖는 친환경 기능성 석재의 제조장치는 석재의 우수한 질감과 무늬를 유지하며 물과의 접촉각이 10° 이하이며, 유기물 분해능 및 항균효과를 갖는 친환경 기능성 석재를 염가로 제조할 수 있다. In addition, in the case of manufacturing an eco-friendly functional stone according to an embodiment of the present invention for achieving the above object may include a transfer table, water washer, infrared dryer, photocatalyst coating machine and infrared heat treatment machine. The transfer table serves to transfer the stone processed as a building and civil engineering material to be processed as a functional stone. The water washer removes foreign matter remaining on the surface of the processed stone being transported. The infrared dryer dries the washed stone to activate its surface. The photocatalyst coater coats the photocatalyst coating on the surface of the activated stone. The infrared heat treatment machine cures the photocatalyst coating agent to form a photocatalyst coating film. The manufacturing apparatus of the eco-friendly functional stone having the above-described configuration maintains the excellent texture and pattern of the stone, the contact angle with the water is 10 ° or less, it can be produced at low cost eco-friendly functional stone having an organic resolution and antibacterial effect.
일 예로, 상기 제조 장치에 있어서 수세척기와 상기 적외선 건조기 사이에 구비되고, 상기 석재의 표면에 2.0 내지 6.0 kgf/㎠의 압력의 공기를 분출(blowing)시키는 에어 분출기를 더 포함할 수 있다. For example, the manufacturing apparatus may further include an air ejector provided between the water washer and the infrared dryer, and blowing air at a pressure of 2.0 to 6.0 kgf / cm 2 on the surface of the stone.
상기 수세척기는 위치조절이 가능하고, 0.2 내지 2.0 kgf/㎠의 수압으로 물을 분출시켜 상기 석재를 입체적으로 세척하는 세척 노즐들을 포함하는 구성을 가질 수 있고, 상기 코팅기는 위치조절이 가능하고, 0.5 내지 6.0 kgf/㎠의 압력으로 광촉매 코팅제를 분사시켜 상기 석재를 입체적으로 코팅하는 스프레이 건들을 포함하는 구성을 가질 수 있다.The water washer is adjustable in position, may have a configuration including washing nozzles for washing the stone in three dimensions by ejecting water at a water pressure of 0.2 to 2.0 kgf / ㎠, the coater is adjustable position, It may have a configuration including a spray gun for spraying the photocatalyst coating agent at a pressure of 0.5 to 6.0 kgf / ㎠ and three-dimensionally coating the stone.
상술한 방법으로 제조되는 친환경 기능성 석재는 형성된 광촉매 코팅막에 의해 물과의 접촉각이 10°이하가 됨으로써 강우 시 빗물에 의해 석재 표면의 이물질들이 쉽게 제거되는 효과를 가질 수 있다. 또한, 다량의 유성 오염물질들이 바인더 역할을 하여 대기 중의 먼지를 고착시키는 것을 방지함으로써 석재의 색상, 무늬 및 광택이 손상되는 것을 방지할 수 있었다. 또한, 기존의 광촉매 코팅막의 적용에 있어서 문제점이 되었던 불투명한 코팅막이 아닌 가시광의 투과율이 90% 이상을 가짐으로서 석재의 색상, 무늬 및 광택이 손상되는 것을 방지할 수 있었다. The eco-friendly functional stone manufactured by the above-described method may have an effect of removing foreign substances on the surface of the stone easily by rain water when the contact angle with water is 10 ° or less by the formed photocatalyst coating film. In addition, by preventing a large amount of oily contaminants to act as a binder to fix the dust in the air to prevent the color, pattern and gloss of the stone is damaged. In addition, since the transmittance of visible light is 90% or more, rather than the opaque coating film, which was a problem in the application of the conventional photocatalyst coating film, it was possible to prevent the color, pattern and gloss of the stone from being damaged.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예들에 따른 친환경 기능성 석재, 이의 제조방법 및 이의 제조 장치를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 하지만, 본 발명이 하기의 실시예들에 제한되는 것은 아니며, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다. 첨부된 도면에 있어서, 층(막), 기기, 유닛 또는 장치들은 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. 본 발명에 있어서, 층(막), 기기, 유닛 또는 장치들이 각 층(막), 기기, 유닛 또는 장치들의 "상에", "상부에" 또는 "하부"에 형성되는 것으로 언급되는 경우에는 각 층(막), 기기, 유닛 또는 장치들이 직접 층(막), 기기, 유닛 또는 장치들 위에 형성되거나 아래에 위치하는 것을 의미할 수 있다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, eco-friendly functional stone, a manufacturing method thereof and a manufacturing apparatus thereof according to preferred embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and those skilled in the art may implement the present invention in various other forms without departing from the technical spirit of the present invention. In the accompanying drawings, the layers (membrane), the device, the unit or the devices are shown in larger scale than actual for clarity of the invention. In the present invention, when a layer (film), device, unit or device is referred to as being formed "on", "upper" or "lower" of each layer, device, unit or device, each A layer (membrane), device, unit or devices may be directly formed on or below the layer (membrane), device, unit or devices.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 친환경 기능성 석재를 나타내는 단면도이다. 1 is a cross-sectional view showing an environmentally friendly functional stone according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하며, 본 실시예의 친환경 기능성 석재(100)는 석재(110)와 고강도의 광촉매 코팅막(120)을 포함하는 구성을 갖는다. Referring to Figure 1, the eco-friendly
상기 석재(110)는 건축·토목 자재로 사용되는 자재로서 화강석, 대리석을 가공한 판재석, 경계석 등을 포함하고, 건축, 토목 자재로 사용될 수 있도록 가공된 상태를 갖는다. 상기 석재는 그 표면에 미세한 공동들이 형성되어 있어 바깥 환경에서 장시간 노출시 오염될 수 있다.The
상기 광촉매 코팅막은 상기 석재의 표면에 형성되어 상기 석재에 친수성, 유 기물분해능 및 항균 기능을 부여하며, 90 내지 98%의 가시광선 투과율을 갖는 투명한 코팅막이다. 여기서, 상기 광촉매 코팅막은 6H 이상의 강한 경도를 갖는 동시에 물과의 접촉각이 10° 이하를 가짐으로서 강우 시 빗물에 의해 석재 표면의 흡착되는 오물들이 쉽게 제거되는 효과를 부여한다. 더욱이 상기 코팅막은 그 투명성 때문에 코팅막이 존재함에도 물구하고 천연 석재의 색상, 무늬 및 그 광택의 손상을 방지한다. The photocatalyst coating film is formed on the surface of the stone to impart hydrophilicity, organic resolution and antibacterial function to the stone, and is a transparent coating film having a visible light transmittance of 90 to 98%. Here, the photocatalyst coating film has a strong hardness of 6H or more and at the same time has a contact angle with water of 10 ° or less, thereby giving an effect of easily removing dirt adsorbed on the stone surface by rain during rainfall. In addition, the coating film prevents damage to the color, pattern, and gloss of the natural stone even in the presence of the coating film due to its transparency.
본 실시예에서 언급된 상기 광촉매 코팅막은 약 10 내지 40㎚ 크기의 이산화티타늄 입자(TiO2) 0.1 내지 10중량%가 분산된 이산화티타늄 광촉매 졸을 석재 표면에 코팅 건조시켜 형성되는 이산화티타늄막인 것이 바람직하다.The photocatalyst coating film mentioned in this embodiment is a titanium dioxide film formed by coating and drying a titanium dioxide photocatalyst sol in which 0.1 to 10% by weight of titanium dioxide particles (TiO 2 ) having a size of about 10 to 40 nm is dispersed on a stone surface. desirable.
친환경 기능성 석재의 제조방법Manufacturing method of eco-friendly functional stone
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 친환경 기능성 석재의 제조방법을 나타내는 공정흐름도이다.Figure 2 is a process flow diagram showing a method for producing environmentally friendly functional stone according to an embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 먼저, 광촉매 코팅막을 형성하기 위해 적용되는 친수성 광촉매 코팅제를 마련한다(단계 S110).Referring to Figure 2, first, to prepare a hydrophilic photocatalyst coating applied to form a photocatalyst coating film (step S110).
이를 구체적으로 설명하면, 먼저 볼-밀 용기에 출발물질 티타늄 하이드레이트(Titamium hydrate; TiO(OH)2)와 용매를 1:50 내지 200의 무게비로 혼합한다. 용매는 물(H2O)과 에틸렌글리콜모노메틸에테르(Ethylene glycolmonomethyl ether; (CH3OCH2H4OH))를 1:1 내지 5의 무게비로 혼합한 것을 사용한다. 일 예로서, 티타늄 하이드레이트 80 내지 120 중량부, 혼합용액 200 내지 1000중량부를 혼합할 수 있 다. In detail, first, a starting material titanium hydrate (TiO (OH) 2 ) and a solvent are mixed in a ball-mill vessel at a weight ratio of 1:50 to 200. The solvent is a mixture of water (H 2 O) and ethylene glycol monomethyl ether (CH 3 OCH 2 H 4 OH) in a weight ratio of 1: 1 to 5. As an example, 80 to 120 parts by weight of titanium hydrate and 200 to 1000 parts by weight of the mixed solution may be mixed.
이어서, 상기 용기에 계면활성제와 분산제를 첨가 혼합하였다. 상기 계면활성제의 예로서는 폴리에틸렌글리콜(Polyethylene glycol; H(OCH2CH2)nOH), 이하 PEG)을 들 수 있고, 분산제의 예로서는 테트라에틸 암모늄하이드록사이드(Tetraethyl ammonium hydroxide 20% solution; (C2H5)4NOH, 이하 TEAOH)를 들 수 있다. 일 예로서, 계면활성제와 분산제는 볼-밀 공정시 입자가 응집되는 것을 방지하기 위해 사용되는 첨가제로서 본 발명을 한정하는 요소는 아니다. Subsequently, a surfactant and a dispersant were added and mixed in the vessel. Examples of the surfactant include polyethylene glycol (H (OCH 2 CH 2 ) nOH), hereinafter PEG), and examples of the dispersant are
이후, 상기 혼합물에 광촉매 활성 및 광촉매 반응에 이용되는 광원을 자외선과 더불어 가시광선 영역으로 확장시키기 위해 Mo, Bi, Co, V, Ag, Cu, Ru, Tl, Nb, Ni, Pt, Fe 등의 전이금속을 포함하는 전구체를 투입 1차 혼합하여 1차 혼합물을 형성한다. 상기 전구체는 TiO(OH)2 사용량의 약 15 내지 25중량% 정도 사용한다. Then, Mo, Bi, Co, V, Ag, Cu, Ru, Tl, Nb, Ni, Pt, Fe and the like to extend the light source used for the photocatalytic activity and photocatalytic reaction to the visible light region in addition to the ultraviolet ray to the mixture Precursor containing the transition metal is first mixed to form a primary mixture. The precursor is used in about 15 to 25% by weight of the TiO (OH) 2 usage.
이어서 상기 1차 혼합물을 알루미나 볼을 이용하여 2시간동안 볼-밀 한 후, 석재와 광촉매 코팅막 간의 결합강도를 향상시키기 위한 바인더 물질인 실리콘산화물, 지르코늄산화물, 알루미늄산화물 등의 물질을 추가 혼합하여 2차 혼합물을 제조하였다. 여기서, 상기 바인더는 상기 TiO(OH)2 사용량의 약 60 내지 90중량% 정도 사용하고, 바람직하게는 약 70 내지 80중량%를 사용할 수 있다. 이때, 상기 바인더의 사용량이 그 범위를 벗어날 경우 강도가 너무 낮아지거나 광촉매 활성이 나타나지 않을 수 있다. Subsequently, the primary mixture was ball-milled for 2 hours using an alumina ball, and then additionally mixed with materials such as silicon oxide, zirconium oxide, and aluminum oxide, which are binder materials for improving the bonding strength between the stone and the photocatalyst coating film. A tea mixture was prepared. Here, the binder may be used about 60 to 90% by weight of the TiO (OH) 2 usage, preferably about 70 to 80% by weight. At this time, when the amount of the binder used is out of the range, the strength may be too low or the photocatalytic activity may not appear.
이어서, 원심분리를 통해 2차 혼합물 내에 존재하는 TiO2의 거대입자(50nm 이상의 크기)를 제거시키고, 회전증발을 통해 2차 혼합물에 포함된 일부 암모니아 성분을 제거하여 TiO2 입자의 결정화를 진행시켜 예비 광촉매 코팅제를 제조한다. 상기 예비 광촉매 코팅제를 제조한 후 그 농도와 투명도를 측정한 다음 용매를 추가 투여하여 교반시킴으로써 최종용액의 농도를 결정할 수 있다. Subsequently, centrifugation removes the TiO 2 macroparticles (50 nm or more) present in the secondary mixture, and by rotating evaporation to remove some ammonia components in the secondary mixture to proceed with the crystallization of TiO 2 particles A preliminary photocatalyst coating is prepared. After preparing the preliminary photocatalyst coating, the concentration and the transparency may be measured, and then the concentration of the final solution may be determined by stirring by further adding a solvent.
이후 , 상기 예비 광촉매 코팅제를 스프레이 코팅에 적당한 약 10~40 nm크기를 갖는 이산화 티타늄 입자가 0.1 내지 10중량%가 분산된 석재용 광촉매 코팅제(졸)를 제조할 수 있다. 바람직하게는 상기 광촉매 코팅제는 TiO2 0.1 내지 5 중량%, 전이금속 0 내지 2 중량%, 비정질 실리카 0.1 내지 5중량% 및 여분의 용매를 포함할 수 있고 보다 바람직하게는 TiO2 0.1 내지 3 중량%, 전이금속 0.1 내지 1 중량%, 비정질 실리카 0.5 내지 2중량% 및 여분의 용매를 포함할 수 있다.Thereafter, the photocatalyst coating agent (sol) for dispersing 0.1 to 10% by weight of titanium dioxide particles having a size of about 10 to 40 nm suitable for spray coating may be prepared. Preferably the photocatalyst coating agent may comprise 0.1 to 5% by weight of TiO 2 , 0 to 2% by weight of transition metal, 0.1 to 5% by weight of amorphous silica and extra solvent, and more preferably 0.1 to 3% by weight of TiO 2. , 0.1-1% by weight of transition metal, 0.5-2% by weight of amorphous silica, and excess solvent.
상기 S110 단계 이후 석재 표면에 잔존하는 석분, 먼지 등의 오물을 제거하는 세척공정을 수행한다(단계 S120). After the step S110 to perform a washing process to remove dirt, such as stone powder, dust remaining on the stone surface (step S120).
일반적으로 광촉매 코팅시 모재(母材) 표면을 활성화하기 위하여 사용하는 세정제는 계면활성제, 연마재 그리고 산 및 염기로 이루어진 용액이 주로 사용되고 있다. 그러나 계면활성제나 산 또는 염기성 용액을 세정제로 사용하는 화학적인 세정법의 경우, 세정 후 표면에 세정제가 잔류하지 않아야 하기 때문에 다량의 세척수가 요구되며, 세척 후 발생하는 폐수를 정화하는 장비가 반드시 필요하다. 또한, 세리아 등의 연마제를 이용하는 세정법은 경도가 높은 미세한 분말을 이용하여 물 리적인 방법으로 표면을 연마하여 세척 및 표면활성 효과가 우수하나, 연마제의 가격이 비싸고 모재의 표면상태에 따라 적용에 한계를 있다. 즉, 친환경 기능석재 제조에 사용되는 석재는 기공이 많고, 표면조도가 거친 특성을 가지고 있어 연마제에 의한 물리적 세정이 어려우며 계면활성제나 산·염기성 용액을 사용하는 화학적 세정 방법은 기공으로 스며든 세정제를 제거하기 어려운 문제점과 석재와 세정제 사이의 화학적 반응으로 석재의 기계적 물성 변화를 초래하는 문제점이 발생된다.In general, the cleaning agent used to activate the substrate surface during photocatalyst coating is mainly a surfactant, an abrasive and a solution composed of an acid and a base. However, in the chemical cleaning method using a surfactant or an acid or basic solution as a cleaning agent, a large amount of washing water is required because no cleaning agent remains on the surface after cleaning, and equipment for purifying wastewater generated after cleaning is necessary. . In addition, the cleaning method using an abrasive such as ceria is excellent in cleaning and surface activation effect by polishing the surface by physical method using fine powder with high hardness, but the price of the abrasive is high and the application is limited according to the surface state of the base material. There is. In other words, the stone used for the production of eco-friendly functional stone has many pores and rough surface properties, making it difficult to physically clean it with abrasives.The chemical cleaning method using surfactants or acid / basic solutions uses a detergent that has been impregnated with pores. Problems that are difficult to remove and chemical reactions between the stone and the cleaning agent cause a change in the mechanical properties of the stone.
따라서 본 발명에서는 이러한 문제점을 해결하기 위하여 물리적인 연마나 화학적 세정법 대신 석재를 물에 침지시키고 약 15~45 kHz의 초음파를 10분간 발진시켜 흐르는 물로 세척하여 석재 표면에 잔류하는 오염물질을 제거할 수 있다. 상기 초음파를 이용한 수세척은 초음파 발진이 약 15 kHz 미만일 경우 석재 표면에 부분적으로 미세한 먼지가 존재하는 문제점이 발생되고, 약 45 kHz를 초과할 경우 석재 표면이 박리되는 문제점이 발생된다. 이에 따라, 상기 초음파 수 세척은 15 내지 45 kHz의 초음파에서 수행하고 바람직하게는 약 20 내지 40 kHz 초음파에서 수행한다. Therefore, in order to solve this problem, the present invention can remove the contaminants remaining on the surface of the stone by immersing the stone in water instead of physical polishing or chemical cleaning and oscillating ultrasonic waves of about 15 to 45 kHz for 10 minutes to wash with running water. have. The water washing using the ultrasonic wave causes a problem that the fine dust is partially present on the stone surface when the ultrasonic wave is less than about 15 kHz, and the surface of the stone is peeled off when the ultrasonic wave exceeds about 45 kHz. Accordingly, the ultrasonic water wash is performed at an ultrasound of 15 to 45 kHz and preferably at about 20 to 40 kHz.
다른 예로서, 상기 세척은 약 0.2 내지 2.0 kgf/㎠의 고압 수로 세척하여 석재 표면에 잔류하는 오염물질을 제거할 수 있다. 상기 고압 수 세척은 세척 수압이 0.2 kgf/㎠ 미만일 때 석재표면에 석분 등의 이물질이 존재하는 문제점이 발생되고, 세척 수압이 2.0 kgf/㎠를 초과할 경우 그 수압을 유지시키기 위해 고가의 장비가 요구된다. 이에 따라, 상기 수 세척은 0.2 내지 2.0 kgf/㎠의 수압에서 수행하고 바람직하게는 약 0.5 내지 1.5kgf/㎠의 수압에서 수행한다. As another example, the wash may be washed with high pressure water of about 0.2 to 2.0 kgf / cm 2 to remove contaminants remaining on the stone surface. The high pressure water washing has a problem that foreign matter such as stone powder is present on the stone surface when the washing water pressure is less than 0.2 kgf / ㎠, and expensive equipment is maintained to maintain the water pressure when the washing water pressure exceeds 2.0 kgf / ㎠. Required. Accordingly, the water washing is carried out at a water pressure of 0.2 to 2.0 kgf / cm 2 and preferably at a water pressure of about 0.5 to 1.5 kgf / cm 2.
상술한 초음파를 발진하는 세척방법과 고압 세척수를 이용한 세척방법 모두 효과적으로 석재 표면의 이물질을 제거할 수 있으나 건축·토목용 자재로 사용되는 석재의 부피와 무게를 고려할 경우 본 발명에서는 고압의 세척수를 이용한 세척공정을 수행하는 것이 바람직하다.Both the cleaning method using the above-mentioned ultrasonic oscillation and the washing method using high pressure washing water can effectively remove foreign substances on the surface of the stone, but considering the volume and weight of the stone used as building and civil engineering materials, the present invention uses high pressure washing water. It is preferable to carry out the washing process.
상기 S120 단계 이후 석재 표면에 잔류하는 이물질과 물을 제거하기 위한 고압 공기를 분출시켜 세정하는 공정을 더 수행한다(단계 S130). After the step S120 is further carried out a step of cleaning by blowing a high-pressure air for removing foreign matter and water remaining on the stone surface (step S130).
상기 고압 공기의 분출 세정은 물을 이용한 세척 공정 이후 석재의 표면과 기공 사이에 남아 있는 수분과 이물질을 효과적으로 제거하는 역할을 한다. 상기 공기 세정은 고압의 공기를 분출시키는 에어-건을 석재 표면에 근접된 상태로 왕복운동시킴으로서 수행된다. 이때, 에어-건과 석재 사이의 간격에 따라 차이는 있지만 10㎝의 간격에서 공기압이 2.0 kgf/㎠ 미만일 경우 석재 표면의 수분이 건조가 빠른 시간 내에 이루어지지 되지 않는다.The jet cleaning of the high pressure air serves to effectively remove moisture and foreign matter remaining between the surface of the stone and the pores after the washing process using water. The air cleaning is performed by reciprocating an air-gun that ejects high pressure air in a state in proximity to the stone surface. At this time, there is a difference depending on the interval between the air-gun and the stone, but if the air pressure is less than 2.0 kgf / ㎠ in the interval of 10cm the moisture of the stone surface is not made in a quick time to dry.
상기 S130 단계 이후에 석재 표면을 적외선 가열하여 상기 석재 표면을 활성화시킨다(단계 S140). After the step S130, the stone surface is infrared heated to activate the stone surface (step S140).
상기 적외선 가열을 이용한 석재 표면의 활성화는 상기 공기압을 이용한 세정단계 이후 석재의 미세 공동에 잔류하는 수분을 완전히 제거하는 동시에 이후 광촉매 코팅제가 상기 석재 표면에서 최적의 상태로 도포될 수 있도록 하기 위한 공정이다. 즉, 적외선을 발생하는 건조기에 석재를 위치시킨 후 석재의 표면 온도가 30 내지 50℃의 온도를 갖도록 가열-유지시킴으로서 남아있는 수분을 완전히 제거하여 광촉매 코팅제를 석재 표면에 분사할 때 코팅제가 직접 석재 표면에 부착되도 록 함과 아울러 3 내지 4회 반복되어 분사 코팅되는 과정에서 코팅제가 석재와 접합한 후에 코팅제에 포함된 수분과 알코올을 효과적으로 제거하여 코팅막이 건조되는 과정에서 이산화티타늄 입자의 뭉침을 제어하는 역할을 한다. 이 때 석재 표면의 온도가 30℃ 이하이면 광촉매 코팅제의 분사 코팅시 엉킴 현상이 발생하며, 50℃ 이상으로 가열하면 분사된 광촉매 코팅제가 석재 표면에서 급격히 건조되어 석재에 코팅이 완전하지 않게 된다. Activation of the stone surface using the infrared heating is a process for completely removing the water remaining in the fine cavity of the stone after the cleaning step using the air pressure and at the same time the photocatalyst coating can be applied to the optimal state on the stone surface. . In other words, by placing the stone in a dryer that generates infrared rays and heat-maintaining the surface temperature of the stone to have a temperature of 30 to 50 ° C. to completely remove the remaining moisture, when the photocatalyst coating is sprayed on the stone surface, the coating material directly It adheres to the surface and the coating is bonded to the stone in the process of spray coating repeated 3 to 4 times, and then effectively removes water and alcohol contained in the coating to control agglomeration of titanium dioxide particles during the drying of the coating film. It plays a role. At this time, if the temperature of the stone surface is 30 ℃ or less, entanglement phenomenon occurs during the spray coating of the photocatalyst coating, and when heated to 50 ℃ or more, the sprayed photocatalyst coating is rapidly dried on the stone surface and the coating on the stone is not complete.
상기 S140 단계 이후에 활성화된 석재 표면에 광촉매 코팅제를 코팅한다(단계 S150). After the step S140 to coat the photocatalyst coating on the activated stone surface (step S150).
상기 광촉매 코팅제의 코팅의 예로서는 스프레이 코팅(Spray coating), 침적도장(Dip coating), 정전도장, 전착도장, 커텐플로, 로울러 방법 등을 들 수 있다. 본 실시예에서 사용되는 석재는 투광성 모재가 아니며, 코팅층 두께의 제어범위가 상대적으로 넓기 때문에 상기 코팅 방법 중에서 양산성이 뛰어난 스프레이 코팅을 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 본 실시예에서는 석재 고유의 질감과 무늬에 영향을 주지 않기 위해서는 가능한 균일한 코팅막의 형성이 중요하기 때문에 스프레이 코팅 공정시 스프레이건의 압력조정 범위를 0.5 내지 6.0 kgf/㎠으로 설정하고, 스프레이건의 이동방향과 속도 제어가 가능하면서 석재를 3면에서 동시에 코팅하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 코팅되는 석재 표면과 스프레이 노즐 사이의 거리를 약 100 내지 500 ㎜로 조절하고, 공기압은 1.0 내지 5.0 kgf/cm2로 하고, 코팅횟수를 2 내지 6회 실시하여 피막량이 약 50 내지 500 ㎎/㎡를 갖도록 상기 광촉 매 코팅제를 코팅한다. 상기 코팅 공정시 피막량이 50 ㎎/㎡ 이하일 경우, 유기물분해능과 친수성이 급격히 감소하며, 피막량이 500 ㎎/㎡를 초과할 경우 불투명한 코팅막을 형성하여 석재의 천연색상과 무늬를 손상시키는 문제가 발생된다.Examples of the coating of the photocatalyst coating agent include spray coating, dip coating, electrostatic coating, electrodeposition coating, curtain flow, roller method, and the like. The stone used in the present embodiment is not a translucent base material, and since the control range of the coating layer thickness is relatively wide, it is preferable to use a spray coating excellent in mass productivity among the coating methods. In particular, in this embodiment, in order to avoid affecting the texture and pattern of the stone, it is important to form a uniform coating film as much as possible. It is desirable to coat the stone simultaneously on three sides while controlling the direction of movement and speed. More preferably, the distance between the stone surface to be coated and the spray nozzle is adjusted to about 100 to 500 mm, the air pressure is 1.0 to 5.0 kgf / cm 2 , and the coating amount is performed 2 to 6 times so that the coating amount is about 50 to The photocatalyst coating agent is coated to have 500 mg / m 2. When the coating amount is 50 mg / m 2 or less during the coating process, organic matter resolution and hydrophilicity are rapidly reduced, and when the coating amount exceeds 500 mg / m 2, an opaque coating film is formed to damage the natural color and pattern of the stone. do.
상기 S150 단계이후에 코팅된 광촉매 코팅제를 경화시켜 광촉매 코팅막으로 형성한다(단계 S160). After the step S150, the coated photocatalyst coating is cured to form a photocatalyst coating film (step S160).
상기 코팅막 경화 공정은 표면에 광촉매 코팅제를 경화시켜 우수한 강도를 갖는 광촉매 코팅막을 형성하기 위한 단계로서, 상기 광촉매 코팅제가 코팅된 석재를 약 80 내지 250℃의 적외선 가열로에서 3 내지 10분간 열처리하여 용매를 휘발시킴으로서 균열이 없고 강도가 6H 이상인 광촉매 코팅막을 제조할 수 있다. 상기 광촉매 코팅막이 형성됨으로서 상기 석재는 친환경 기능성 석재로 제조된다. 본 실시예의 광촉매 코팅막은 엑스선 회절분석법에 의해 도 3에 도시된 바와 같은 결정 구조를 갖는 것을 확인할 수 있었다.The coating film curing process is a step for forming a photocatalyst coating film having excellent strength by curing the photocatalyst coating on the surface, heat treatment of the stone coated with the photocatalyst coating agent in an infrared heating furnace of about 80 to 250 ℃ 3 to 10 minutes By volatilizing, there is no crack and a photocatalyst coating film having a strength of 6H or more can be prepared. As the photocatalyst coating film is formed, the stone is made of environmentally friendly functional stone. It was confirmed that the photocatalyst coating film of this example had a crystal structure as shown in FIG. 3 by X-ray diffraction analysis.
친환경 기능성 석재의 제조장치Eco-friendly Functional Stone Manufacturing Equipment
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 친환경 기능성 석재의 제조 장치를 나타내는 개념도이고, 도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른 친환경 기능성 석재의 제조 장치를 나타내는 평면도이다.Figure 4a is a conceptual diagram showing an apparatus for producing environmentally friendly functional stone according to an embodiment of the present invention, Figure 4b is a plan view showing an apparatus for producing an environmentally friendly functional stone according to an embodiment of the present invention.
도 4를 참조하면, 본 실시예에 따른 친환경 기능성 석재의 제조장치(200)의 경우 이송 테이블(210), 수 세척기(220), 적외선 건조기(240), 광촉매 코팅기(250) 및 적외선 열처리기(260)를 포함한다.Referring to Figure 4, in the case of the eco-friendly functional
상기 이송 테이블(210)은 건축·토목용 자재로 사용가능한 크기 및 모양을 갖는 석재를 유기물 분해능 및 항균효과를 갖는 친환경 기능성 석재로 가공될 수 있도록 이송시키는 역할을 한다. 즉, 상기 이송 테이블은 상기 석재가 수 세척기(220), 적외선 건조기(240), 광촉매 코팅기(250) 및 적외선 열처리기(260)를 각각 통과하여 가공될 수 있도록 석재를 이송시키는 역할을 한다. 상기 이송 테이블(210)의 예로서는 스테인리스 롤을 갖는 컨베이어를 들 수 있다.The transfer table 210 serves to transfer the stone having a size and shape that can be used as a building and civil engineering material to be processed into an eco-friendly functional stone having organic decomposition and antibacterial effect. That is, the transfer table serves to transfer the stone so that the stone can be processed by passing through the
상기 수세척기(220)는 상기 이송테이블(210) 상에 구비되고, 상기 이송테이블(210)에 의해 이송되는 석재의 표면에 잔류하는 석분, 먼지 등의 이물질을 제거하는 장치이다. 상기 수세척기는 약 15 내지45 kHz의 초음파를 발진시켜 흐르는 물로 세척하여 석재 표면에 잔류하는 오염물질을 제거할 수 있는 수 세척기 또는 약 0.2 내지 2.0 kgf/㎠의 수압으로 물을 분출시켜 상기 석재를 입체적으로 세척하는 수세척기로 구분될 수 있다. 상술한 초음파 수 세척기 및 고압 세척하는 수 세척기 모두 효과적으로 석재 표면의 이물질을 제거할 수 있으나 건축·토목용 자재로 사용되는 석재의 부피와 무게를 고려할 경우 본 발명에서는 고압의 세척수를 이용한 세척공정을 수행할 수 있는 수 세척기를 적용하는 것이 바람직하다.The
구체적으로, 상기 고압의 세척수를 적용하는 수 세척기는 위치조절이 가능하고, 약 0.2 내지 2.0 kgf/㎠의 수압으로 물을 분출시켜 상기 석재를 입체적으로 수 세척하는 세척 노즐들을 구비한다. 상기 세척 노즐들은 상기 석재의 상면과 양 측면을 고압의 물을 분출시켜 세척할 수 있도록 구비되며, 상기 석재의 이송방향으로 왕복 운동이 가능한 구조를 갖는다.Specifically, the water washing machine applying the high pressure washing water is adjustable in position, and has washing nozzles for three-dimensionally washing the stone by ejecting water at a water pressure of about 0.2 to 2.0 kgf / cm 2. The washing nozzles are provided to wash the upper surface and both sides of the stone by ejecting high pressure water, and have a structure capable of reciprocating in the transport direction of the stone.
상기 적외선 건조기(240)는 상기 이송테이블(210) 상에 구비되고, 상기 적외 선을 이용하여 석재의 미세 공동에 잔류하는 수분을 완전히 제거하는 동시에 이후 광촉매 코팅제가 상기 석재 표면에서 최적의 상태로 도포될 수 있도록 일정온도로 유지시켜 그 표면을 활성화시키는 유닛이다. 즉, 상기 적외선 건조기(240) 석재를 수용시킨 이후 석재의 표면 온도가 약 30 내지 50℃의 온도를 갖도록 가열-유지시키는 적외선 가열부(미도시)를 포함하는 구성을 갖는다.The
일 예로서, 본 실시예의 친환경 기능성 석재의 제조장치는 상기 수세척기(220)와 상기 적외선 건조기(240) 사이에 구비되고, 상기 석재의 표면에 2.0 내지 6.0 kgf/㎠의 압력의 공기를 분출(blowing)시키는 에어 분출기(230)를 더 포함할 수 있다. 구체적으로 상기 에어 분출기(230)는 고압의 공기를 분출시켜 상기 석재의 표면에 존재하는 수분과 상기 수 세척공정 이후 잔류하는 이물질을 완전히 제거하기 위한, 에어 건들을 포함한다. 상기 에어 건들은 상기 석재의 상면과 양 측면을 고 압의 공기를 분출시켜 세정할 수 있도록 구비되며, 상기 석재의 이송방향으로 왕복 운동이 가능하다.As an example, the eco-friendly functional stone manufacturing apparatus of the present embodiment is provided between the
상기 광촉매 코팅기(250)는 상기 이송테이블(210) 상에 구비되고, 활성화된 석재의 표면에 광촉매 코팅제를 균일한 두께로 코팅하는 유닛이다. 상기 광촉매 코팅기(250)는 위치조절이 가능하고, 0.5 내지 6.0 kgf/㎠의 압력으로 광촉매 코팅제를 분사시켜 상기 석재를 입체적으로 코팅할 수 있는 스프레이들을 포함하는 구성을 갖는다. 상기 스프레이 건들은 상기 석재의 상면과 양 측면에서 이격된 상태로 상기 광촉매 코팅제를 분사시켜 균일하게 코팅될 수 있도록 구비되며, 상기 석재의 표면에 일정 두께의 광촉매 코팅막을 형성하기 위한 반복 코팅을 수행하기 위해 상 기 석재의 이송방향으로 왕복운동이 가능하다.The
상기 적외선 열처리기(260)는 상기 이송테이블(210) 상에 구비되고, 상기 석재의 표면에 코팅된 광촉매 코팅제를 경화시켜 광촉매 코팅막을 형성하는 유닛이다. 상기 적외선 열처리기는 상기 열을 발생시키는 적외선 열처리기를 포함하며, 온풍기 등을 더 포함할 수 있다.The infrared
상술한 구성을 갖는 친환경 기능성 석재의 제조장치는 석재의 우수한 질감과 무늬를 유지하며 물과의 접촉각이 10° 이하이며, 강도가 6H 이상인 유기물 분해능 및 항균효과를 갖는 광촉매 코팅막을 형성할 수 있어 친환경 기능성 석재를 염가로 제조할 수 있다.The manufacturing apparatus of eco-friendly functional stone having the above-described structure maintains the excellent texture and pattern of the stone, the contact angle with water is 10 ° or less, and can form a photocatalyst coating film having an organic substance resolution and antibacterial effect of 6H or more, which is eco-friendly. Functional stone can be manufactured at low cost.
이하, 제조예 및 평가예로서 본 발명을 더욱 상세히 설명하나 본 발명의 범위가 한정되는 것이 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail as production examples and evaluation examples, but the scope of the present invention is not limited.
이산화티타늄이 분산된 광촉매 코팅제 제조 1Production of Photocatalyst Coatings Dispersed Titanium Dioxide 1
볼-밀 용기에 출발물질 Titanium hydrate TiO(OH)2 와 혼합용매(물과 에틸렌 글리콜모노메틸 에테르가 2:8 비율로 혼합됨)가 약 1 :80의 무게비율로 혼합된 혼합액에 계면활성제와 분산제를 TiO(OH)2 질량의 10%, 2% 각각 첨가하고 Ammonium metatungstate hydrate((NH4)6H2W12O40·xH2O, 이하 AMT)를 TiO(OH)2의 질량에 대하여 20% 첨가하여 이 혼합물을 알루미나 볼을 사용하여 볼-밀을 2시간동안 함으로써 1차 혼합한 후 SiO2 바인더를 TiO(OH)2 대하여 질량비로 80중량% 첨가하고 24시간 볼-밀 공정을 통해 2차 혼합하였다. 상기의 용액을 원심분리를 통해 초기용액 내의 TiO2 거대입자를 제거시키고 회전증발을 통해 용액에 포함된 일부 암모니아 성분을 제거하며 TiO2를 결정화시켜 중간 용액을 제조하였다. 그 후, 감압여과 공정을 수행함으로서 최종 TiO2 입자 크기가 10~40nm 인 이산화티타늄 입자가 2.0 중량%, 전이금속(W) 0.6 중량%, 비정질 실리카 1.5 중량% 및 여분의 용매를 포함하는 광촉매 코팅제(졸)를 제조하였다.In a ball-mill vessel, the surfactant Titanium hydrate TiO (OH) 2 and a mixed solvent (water and ethylene glycol monomethyl ether were mixed in a 2: 8 ratio) in a mixed solution at a weight ratio of about 1:80 adding the TiO (OH) 10% of the second mass, and 2%, respectively, dispersing agent and Ammonium metatungstate hydrate ((NH 4) 6 H 2 W 12
이산화티타늄이 분산된 Titanium dioxide dispersed 광촉매Photocatalyst 코팅제 제조 2 Coating Preparation 2
상기 제조예 1에서 제조한 중간용액을 물과 에틸렌글리콜모노메틸에테르의 혼합용매를 투여하여 2배 희석시킴으로써 최종 TiO2 입자 크기가 10~40nm 인 이산화티타늄 입자가 1.0 중량%, 전이금속(W) 0.4 중량%, 비정질 실리카 1.3 중량% 및 여분의 용매를 포함하는 광촉매 코팅제(졸)를 제조하였다.The intermediate solution prepared in Preparation Example 1 was diluted twice by administering a mixed solvent of water and ethylene glycol monomethyl ether, so that the final TiO 2 particles had a particle size of 10 to 40 nm, 1.0 wt%, and transition metal (W). A photocatalyst coating (sol) was prepared comprising 0.4% by weight, 1.3% by weight of amorphous silica and excess solvent.
이산화티타늄이 분산된 Titanium dioxide dispersed 광촉매Photocatalyst 코팅제 제조 3 Coating Preparation 3
상기 제조예 1에서 제조한 중간용액을 물과 에틸렌글리콜모노메틸에테르의 혼합용매를 투여하여 20배 희석시킴으로써 최종 TiO2 입자 크기가 10~40nm 인 이산화티타늄 입자가 0.1 중량%, 전이금속(W) 0.15 중량%, 비정질 실리카 0.8 중량% 및 여분의 용매를 포함하는 광촉매 코팅제(졸)를 제조하였다.The intermediate solution prepared in Preparation Example 1 was diluted 20-fold by administering a mixed solvent of water and ethylene glycol monomethyl ether, and thus 0.1 wt% of titanium dioxide particles having a final TiO 2 particle size of 10 to 40 nm and a transition metal (W). A photocatalyst coating (sol) was prepared comprising 0.15% by weight, 0.8% by weight of amorphous silica and excess solvent.
광촉매Photocatalyst 코팅막의Of coating film 접촉각Contact angle 평가 evaluation
길이 300 ㎜, 폭 300 ㎜, 높이 30 ㎜ 크기로 가공된 판재석(연마 및 잔다듬)들에 제조예 1 내지 3에서 제조된 광촉매 코팅제를 각각 코팅/건조시켜 광촉매 코 팅막들을 형성하였다. 이후 각각의 광촉매 코팅막에 물을 뿌려 물방울과 광촉매 코팅막의 접촉각을 측정하였다. 그 결과가 하기 도 5에 개시되어 있다. Photocatalyst coating films were formed by coating / drying the photocatalyst coating agents prepared in Preparation Examples 1 to 3 on the plate stones (polishing and polishing) processed to a length of 300 mm, a width of 300 mm, and a height of 30 mm. Thereafter, water was sprayed on each photocatalyst coating film to measure the contact angle between the water droplet and the photocatalyst coating film. The results are shown in FIG. 5 below.
도 5를 참조하면, TiO(OH)2와 혼합용매의 혼합비율에서 TiO(OH)2의 사용량이 증가할수록 물의 접촉이 크게 낮아지는 것을 확인할 수 있었다. 따라서 광촉매 코팅제의 제조시 TiO(OH)2와 혼합용매의 사용비율을 5:95 이하로 하는 것이 바람직하다는 것을 확인할 수 있었다.Referring to FIG. 5, it was confirmed that the contact of water was significantly lowered as the amount of TiO (OH) 2 increased in the mixing ratio of TiO (OH) 2 and the mixed solvent. Therefore, it was confirmed that the use ratio of TiO (OH) 2 and the mixed solvent was 5:95 or less when preparing the photocatalyst coating agent.
광촉매Photocatalyst 코팅막의Of coating film 투명성 평가 Transparency Assessment
길이 300 ㎜, 폭 300 ㎜, 높이 30 ㎜ 크기로 가공된 유리판에 제조예 1 내지 3에서 제조된 광촉매 코팅제를 각각 코팅/건조시켜 광촉매 코팅막들을 형성하였다. 이후 각각의 광촉매 코팅막의 투명도를 측정하였다. 그 결과가 하기 도 6에 개시되어 있다. Photocatalyst coating films were formed by coating / drying the photocatalyst coating agents prepared in Preparation Examples 1 to 3 on glass plates processed to a length of 300 mm, a width of 300 mm, and a height of 30 mm. Thereafter, the transparency of each photocatalyst coating film was measured. The results are shown in Figure 6 below.
도 6을 참조하면, TiO(OH)2와 혼합용매의 혼합비율에서 TiO(OH)2의 사용량이 증가할수록 코팅막의 투명도가 감소되는 것을 확인할 수 있었다. 따라서 광촉매 코팅제의 제조시 TiO(OH)2와 혼합용매의 사용비율을 2:8 이상으로 하는 것이 바람직하다는 것을 확인할 수 있었다.Referring to FIG. 6, the transparency of the coating film was decreased as the amount of TiO (OH) 2 increased in the mixing ratio of TiO (OH) 2 and the mixed solvent. Therefore, it was confirmed that the use ratio of TiO (OH) 2 and the mixed solvent in the preparation of the photocatalyst coating agent was 2: 8 or more.
광촉매Photocatalyst 코팅막의Of coating film 항균성 평가 Antimicrobial Evaluation
제조예 2의 광촉매 코팅제가 코팅/건조된 광촉매 코팅막이 형성된 시료를 형성하였다. 이후 대장균을 투입하여 광촉매 코팅막의 항균성을 평가하였다. 그 결과가 도 7의 사진에 개시되어 있다. 도 7의 사진을 참조하면 광촉매 코팅막에 존재하 는 대장균이 2시간 이후에 완전히 제거된 것이 확인된바 상기 광촉매 코팅막은 우수한 항균성을 갖는 것이 확인되었다. A photocatalyst coating film coated with the photocatalyst coating agent of Preparation Example 2 was formed. E. coli was then added to evaluate the antimicrobial activity of the photocatalyst coating film. The result is shown in the photograph of FIG. Referring to the photograph of FIG. 7, it was confirmed that E. coli present in the photocatalyst coating film was completely removed after 2 hours. The photocatalyst coating film was confirmed to have excellent antimicrobial properties.
석재 표면 처리방법에 따른 표면 상태 평가Surface condition evaluation according to stone surface treatment method
건축·토목 자재로 사용되는 판재석(연마 및 잔다듬)을 길이 300 ㎜, 폭 300 ㎜, 높이 30 ㎜ 크기로 가공하여 고압 세척법으로 표면을 세척하였다. 세척건은 석재 표면으로부터 100 ㎜ 위에 위치하도록 세척 장비를 설정한 다음, 수압을 각각 (a) 0.15 kgf/㎠ (b) 0.2 kgf/㎠ (c) 0.5 kgf/㎠로 조정하여 왕복 3회에 걸쳐 세척하였다. 수세를 마친 석재는 4 kgf/㎠의 공기압으로 왕복 2회 Air-blowing 하여 건조한 후 현미경을 통하여 석재 표면의 상태를 확인하였다. 그 결과가 도 8의 사진에 개시되어 있다. 도 8의 사진을 참조하면, 수압이 0.15 kgf/㎠인 경우, 세척 후에도 석분이 일부 존재하고 있어 적어도 0.2 kgf/㎠ 이상의 수압으로 세척을 실시해야 함을 확인할 수 있었다.Plate stone (polishing and fine grinding), which is used for building and civil engineering materials, was processed to a size of 300 mm in length, 300 mm in width and 30 mm in height, and the surface was washed by high pressure washing. The washing gun was set to 100 mm above the surface of the stone, and then the water pressure was adjusted to (a) 0.15 kgf / cm 2 (b) 0.2 kgf / cm 2 (c) 0.5 kgf / cm 2 respectively. Washed. After washing with water, the stone was dried by air-blowing twice with reciprocating air pressure of 4 kgf / cm 2 and dried to check the state of the stone surface through a microscope. The result is shown in the photograph of FIG. 8. Referring to the photograph of FIG. 8, when the water pressure was 0.15 kgf / cm 2, it was confirmed that some stone powder exists even after washing, so that the washing should be performed at a water pressure of at least 0.2 kgf / cm 2 or more.
광촉매Photocatalyst 코팅층을 형성하기 전 석재 표면 처리방법에 따른 코팅 상태 Coating status according to stone surface treatment method before forming coating layer
0.2 kgf/㎠의 수압으로 세척된 석재를 60~80℃의 적외선 건조기에서 5분간 건조한 후 그 표면온도를 각각 (a) 25℃ (b) 30℃ (c) 50℃ (d) 60℃가 되도록 유지시킨 후 피막량 500 ㎎/㎡의 조건으로 광촉매 코팅제를 코팅한 후 피막의 균일도를 평가하였다. 그 결과가 하기 표 1에 개시되어 있다. The stone washed with 0.2 kgf / ㎠ water pressure was dried in an infrared dryer at 60 ~ 80 ℃ for 5 minutes, and the surface temperature of each was (a) 25 ℃ (b) 30 ℃ (c) 50 ℃ (d) 60 ℃. After maintaining, the photocatalyst coating agent was coated under the condition of the coating amount of 500 mg / m 2, and then the uniformity of the coating was evaluated. The results are shown in Table 1 below.
[표 1]TABLE 1
(■: 피막두께가 낮음, △ : 피막의 균일하지 않음, ○ : 피막이 균일한 두께를 가짐)(■: film thickness is low, △: film is not uniform, ○: film has a uniform thickness)
표 1을 참조하면, 표면온도가 20℃인 (a)석재는 1회 코팅시 코팅재가 건조가 끝나기 전에 2회 코팅이 진행되어 최종 코팅 피막의 표면은 광촉매 졸에 의한 얼룩이 남아 있었으며, 표면온도가 60℃인 (d)석재 코팅제가 석재에 닿기도 전에 건조되어 최종 석재 표면에 광촉매 피막량이 매우 낮은 것을 확인하였다.Referring to Table 1, in the case of (a) stone having a surface temperature of 20 ° C., the coating was carried out twice before the coating material was dried in one coating, and the surface of the final coating film remained stained by photocatalyst sol. The (d) stone coating agent at 60 ° C. was dried before it even reached the stone, and it was confirmed that the amount of the photocatalytic coating was very low on the final stone surface.
스프레이 코팅법을 이용하여 Using spray coating 광촉매Photocatalyst 코팅제를 코팅하는 방법 How to coat the coating
0.2 kgf/㎠의 수압의 표면세척, 30℃로 활성화된 석재와 유리에 광촉매 코팅제를 스프레이 코팅법으로 코팅하였다. 구체적으로 석재와 유리 표면으로부터 125 ㎜ 위에 스프레이 건의 노즐이 위치하도록 코팅 장비를 설정한 다음, 3 kgf/㎠의 공기압으로 코팅용액을 분사하여 코팅하였다. 코팅제의 토출량을 조절하여 피막량이 (a) 30 ㎎/㎡, (b) 50 ㎎/㎡ (c) 500 ㎎/㎡ (d) 700 ㎎/㎡이 되도록 광촉매 코팅제를 도포한 후 150℃ 적외선 열 처리기에서 5분 동안 열처리를 수행하여 광촉매 코팅막을 형성하였다. 이후 형성된 코팅막의 물 접촉각과 투명도를 평가하여 그 결과를 표 2 및 표 3에 개시하였다. A photocatalyst coating agent was coated on the stone and glass activated at 30 ° C. with a surface pressure of 0.2 kgf / cm 2 and spray coating. Specifically, the coating equipment was set so that the nozzle of the spray gun was positioned 125 mm above the stone and glass surface, and then coated by spraying the coating solution at an air pressure of 3 kgf / cm 2. 150 ° C infrared heat treatment device after coating the photocatalyst coating agent by adjusting the discharge amount of the coating agent so that the coating amount is (a) 30 mg / m 2, (b) 50 mg / m 2 (c) 500 mg / m 2 (d) 700 mg / m 2 Heat treatment was performed for 5 minutes at to form a photocatalyst coating film. Thereafter, the water contact angle and transparency of the formed coating film were evaluated, and the results are shown in Tables 2 and 3.
[표 2]TABLE 2
표2를 참조하면, 피막량이 50, 500, 700 ㎎/㎡ 조건에서 형성된 광촉매 코팅막의 경우 접촉각이 8° 이하로 친수성을 나타내는데 반해 30 ㎎/㎡의 조건에서 형성된 광촉매 코팅막의 경우 접촉각이 13°로 높은 값을 나타내는 것으로 친수성이 발현되지 않음을 확인할 수 있었다. Referring to Table 2, the contact angle of the photocatalyst coating film formed under the conditions of 50, 500, and 700 mg / m 2 showed hydrophilicity of 8 ° or less, whereas the contact angle of the photocatalyst coating film formed under the condition of 30 mg / m 2 was 13 °. It was confirmed that hydrophilicity was not expressed by showing a high value.
[표 3]TABLE 3
표 3을 참조하면, 피막량이 30, 50, 500 ㎎/㎡ 조건에서 유리기판 상에 형성된 광촉매 코팅막의 경우 가시광 파장영역에서의 투명도가 90% 이상이었고, 피막량이 700 ㎎/㎡ 조건에서 유리기판상에 형성된 광촉매 코팅막의 경우 가시광 파장영역에서의 투명도가 약 80%로 투명성이 다소 떨어져 석재의 무늬와 질감에 영향을 미치는 것으로 확인되었다.Referring to Table 3, the photocatalyst coating film formed on the glass substrate at 30, 50, and 500 mg / m 2 conditions had a transparency of 90% or more in the visible wavelength range, and the coating amount on the glass substrate at 700 mg / m 2. In the case of the formed photocatalyst coating film, the transparency in the visible light wavelength region was about 80%, indicating that the transparency was somewhat reduced, affecting the pattern and texture of the stone.
본 발명에 따라 제조된 친환경 기능성 석재는 형성된 광촉매 코팅막에 의해 물과의 접촉각이 10°이하가 됨으로써 강우 시 빗물에 의해 석재 표면의 이물질들이 쉽게 제거되는 효과를 가질 수 있다. 또한, 다량의 유성 오염물질들이 바인더 역할을 하여 대기 중의 먼지를 고착시키는 것을 방지함으로써 석재의 색상, 무늬 및 광택이 손상되는 것을 방지할 수 있었다. 더욱이, 기존의 광촉매 코팅막의 적용에 있어서 문제점이 되었던 불투명성을 갖는 것이 아닌 가시광의 투과율이 90% 이상을 가짐으로서 석재의 색상, 무늬 및 광택이 손상되는 것을 방지할 수 있었다.Eco-friendly functional stone manufactured according to the present invention has an effect that the contact angle with water by the formed photocatalyst coating film is less than 10 ° can be easily removed foreign matters on the stone surface by rain water during rainfall. In addition, by preventing a large amount of oily contaminants to act as a binder to fix the dust in the air to prevent the color, pattern and gloss of the stone is damaged. In addition, since the transmittance of visible light is not less than 90%, which is not a problem in the application of the conventional photocatalyst coating film, the color, pattern, and gloss of the stone can be prevented from being damaged.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 친환경 기능성 석재를 나타내는 단면도이다. 1 is a cross-sectional view showing an environmentally friendly functional stone according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 친환경 기능성 석재의 제조방법을 나타내는 공정흐름도이다.Figure 2 is a process flow diagram showing a method for producing environmentally friendly functional stone according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 광촉매 코팅막의 엑스선 회절분석 그래프를 나타내는 도이다.3 is a diagram illustrating an X-ray diffraction graph of a photocatalyst coating film according to an embodiment of the present invention.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 친환경 기능성 석재의 제조 장치를 나타내는 개념도이다.Figure 4a is a conceptual diagram showing an apparatus for producing environmentally friendly functional stone according to an embodiment of the present invention.
도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른 친환경 기능성 석재의 제조 장치를 나타내는 평면도이다.Figure 4b is a plan view showing an apparatus for producing environmentally friendly functional stone according to an embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 광촉매 코팅막의 물 접촉각을 나타내는 그래프이다.5 is a graph showing the water contact angle of the photocatalyst coating film prepared according to an embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 광촉매 코팅막의 광 투과율을 나타내는 그래프이다.Figure 6 is a graph showing the light transmittance of the photocatalyst coating film prepared according to an embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 광촉매 코팅막의 항균성을 나타내는 사진이다.Figure 7 is a photograph showing the antimicrobial activity of the photocatalyst coating film prepared according to an embodiment of the present invention.
도 8은 본 발명의 수세적 압력에 따른 석재 표면의 상태를 나타내는 사진이다.8 is a photograph showing the state of the stone surface according to the flush pressure of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
100 : 친환경 기능성 석재 110 : 석재100: eco-friendly functional stone 110: stone
120 : 광촉매 코팅막 210 : 이송테이블120: photocatalyst coating film 210: transfer table
220 : 수 세척기 230 : 에어 분출기220: water washer 230: air jet
240 : 적외선 건조기 250 : 광촉매 코팅기240: infrared dryer 250: photocatalyst coating machine
260 : 적외선 열처리기260: Infrared Heat Treater
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