KR20180057821A - 윈도우 패널, 이를 포함하는 표시장치 및 제조방법 - Google Patents

윈도우 패널, 이를 포함하는 표시장치 및 제조방법 Download PDF

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KR20180057821A
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Abstract

본 발명의 일 실시예는, 베이스 기재 및상기 베이스 기재의 적어도 일부에 배치된 베젤부을 포함하며, 상기 베젤부는 상기 베이스 기재 상에 배치된 제1 차광층, 상기 베이스 기재 상에 배치되며 상기 제1 차광층의 적어도 일부를 덮는 증착 패턴 및 상기 제1 차광층 및 상기 증착 패턴 상에 배치된 제2 차광층을 포함하고, 상기 증착 패턴은 5nm 내지 500nm의 두께를 갖는 윈도우 패널을 제공한다.

Description

윈도우 패널, 이를 포함하는 표시장치 및 제조방법{WINDOW PAENL, DISPLAY DEVICE HAVING THE WINDOW PANEL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명은 증착 패턴을 갖는 윈도우 패널, 이러한 윈도우 패널을 포함하는 표시장치, 및 윈도우 패널의 제조방법에 대한 것이다.
유기발광 표시장치나 액정 표시장치와 같은 평판 표시장치는 복수 쌍의 전기장 생성 전극과 그 사이에 배치된 전기광학(electro-optical) 활성층을 포함한다. 유기발광 표시장치는 전기 광학 활성층으로 유기 발광층을 포함하고, 액정 표시장치는 전기 광학 활성층으로 액정층을 포함한다.
일반적으로, 표시장치는 영상을 생성하여 표시하는 표시패널 및 표시패널 상에 배치되어 표시패널을 보호하는 윈도우 패널을 포함한다. 표시패널에서 생성된 영상은 윈도우 패널을 투과하여 관찰자에게 제공될 수 있다. 이러한 윈도우 패널은 베젤부를 포함할 수 있다. 베젤부는 영상이 표시되지 않는 비표시 영역에 배치되어, 베젤부의 하부가 사용자에게 시인되는 것을 방지한다.
본 발명의 일 실시예는 증착 패턴을 갖는 베젤부를 포함하는 윈도우 패널 및 그 제조방법을 제공하고자 한다.
또한, 본 발명의 다른 일 실시예는, 이러한 윈도우 패널을 포함하는 표시장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시예는, 베이스 기재; 및 상기 베이스 기재의 적어도 일부에 배치된 베젤부;를 포함하며, 상기 베젤부는, 상기 베이스 기재 상에 배치된 제1 차광층; 상기 베이스 기재 상에 배치되며, 상기 제1 차광층의 적어도 일부를 덮는 증착 패턴; 및 상기 제1 차광층 및 상기 증착 패턴 상에 배치된 제2 차광층;을 포함하며, 상기 증착 패턴은 5nm 내지 500nm의 두께를 갖는 윈도우 패널을 제공한다.
상기 제1 차광층과 상기 증착 패턴은 동일층에 배치된다.
상기 증착 패턴은 금속을 포함한다.
상기 윈도우 패널은 상기 베이스 기재와 상기 증착 패턴 사이에 배치된 데코층을 더 포함한다.
상기 베젤부는 센서 홀을 포함한다.
상기 윈도우 패널은 상기 센서 홀에 배치된 적외선 투과성 코팅층을 더 포함한다.
본 발명의 다른 일 실시예는, 베이스 기재 상에 투광 영역과 차광 영역을 정의하는 제1 차광층을 형성하는 단계; 상기 투광 영역에 마스크를 배치하는 단계; 상기 마스크로부터 노출된 상기 베이스 기재의 표면을 포함하는 상기 베이스 기재의 전면에 증착층을 형성하는 단계; 상기 마스크를 제거하여 증착 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 제1 차광층 및 상기 증착 패턴 상에 제2 차광층을 형성하는 단계;를 포함하는 윈도우 패널의 제조방법을 제공한다.
상기 증착층은 상기 제1 차광층의 적어도 일부를 도포한다.
상기 증착층은 5nm 내지 500nm의 두께를 갖는다.
상기 증착층은 금속을 포함한다.
상기 마스크는 고분자 필름이다.
상기 마스크는 가용성(soluble) 잉크이다.
상기 증착층을 형성하는 단계 전에, 상기 베이스 기재 상에 데코층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 제1 차광층을 형성하는 단계는, 상기 베이스 기재 상에 센서 홀 영역을 정의하는 단계를 더 포함한다.
상기 제2 차광층을 형성하는 단계 후, 센서 홀을 형성하는 단계를 더 포함한다.
본 발명의 또 다른 일 실시예는, 표시부와 비표시부를 갖는 표시패널; 및 상기 표시패널 상에 배치된 윈도우 패널;을 포함하며, 상기 윈도우 패널은, 베이스 기재; 및 상기 표시패널의 상기 비표시부와 중첩되어 베이스 기재 상에 배치된 베젤부;를 포함하며, 상기 베젤부는, 상기 베이스 기재 상에 배치된 제1 차광층; 상기 베이스 기재 상에 배치되며, 상기 제1 차광층의 적어도 일부를 덮는 증착 패턴; 및 상기 제1 차광층 및 상기 증착 패턴 상에 배치된 제2 차광층;을 포함하며, 상기 증착 패턴은 5nm 내지 500nm의 두께를 갖는 표시장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 윈도우 패널의 증착 패턴 형성 과정에서 마스크가 사용되며 에칭 공정이 적용되지 않는다. 그에 따라, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 증착 패턴 형성 과정에서 에칭 불량이 발생되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 사시도이다.
도 2는 도 1의 I-I'를 따라 자른 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 윈도우 패널의 평면도이다.
도 4는 도 3의 II-II'를 따라 자른 단면도이다.
도 5는 도 3의 III-III'를 따라 자른 단면도이다.
도 6은 도 3의 IV-IV'를 따라 자른 단면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 윈도우 패널의 단면도이다.
도 8a 내지 도 8e는 본 발명의 일 실시예에 따른 윈도우 패널의 제조 공정도이다.
도 9a 내지 도 9f는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 윈도우 패널의 제조 공정도이다.
도 10은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 윈도우 패널의 단면도이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시패널의 화소 배치에 대한 평면도이다.
도 12는 도 11의 V-V'를 따라 자른 단면도이다.
도 13은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 표시패널의 단면도이다.
도 14는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 표시패널의 화소 배치에 대한 평면도이다.
도 15는 도 14의 VI-VI'를 따라 자른 단면도이다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명은 다양한 변경이 가능하고, 여러 가지 형태로 실시될 수 있는 바, 특정의 실시예만이 도면에 예시되고 이를 중심으로 본 발명이 설명된다. 그렇다고 하여 본 발명의 범위가 이러한 특정한 실시예로 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 또는 대체물은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 이해되어야 한다.
도면에서 각 구성요소와 그 형상 등이 간략하게 그려지거나 또는 과장되어 그려지기도 하며, 실제 제품에 있는 구성요소가 표현되지 않고 생략되기도 한다. 따라서, 도면은 발명의 이해를 돕기 위한 것으로 해석되어야 한다. 또한, 동일한 기능을 하는 구성요소는 동일한 부호로 표시된다.
어떤 층이나 구성요소가 다른 층이나 구성요소의 '상'에 있다 라고 기재되는 것은 어떤 층이나 구성요소가 다른 층이나 구성요소와 직접 접촉하여 배치된 경우뿐 아니라, 그 사이에 제3의 층이 개재되어 배치된 경우까지 모두 포함하는 의미이다.
어떤 부분이 다른 부분과 연결되어 있다고 할 때, 이는 직접적으로 연결되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 구성요소를 두고 전기적으로 연결되어 있는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 포함한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
본 명세서에서 제1, 제2, 제3 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용되지만, 구성요소들이 이러한 용어들에 의해 한정되는 것은 아니다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소들로부터 구별하는 목적으로 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 벗어나지 않고, 제1 구성요소가 제2 또는 제3 구성요소 등으로 명명될 수 있으며, 유사하게 제2 또는 제3 구성요소도 교호적으로 명명될 수 있다. 예를 들어, "A"라는 구성요소는 "제1 A", "제2 A" 또는 "제3 A"로 표현될 수 있다.
공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성요소들과 다른 소자 또는 구성요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below, beneath)"에 배치된 것으로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 소자는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않은 한 과도하게 해석되지 않는다.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해 설명과 관계없는 부분은 생략되었으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호가 붙여진다.
이하, 도 1 내지 도 6를 참조하여 본 발명의 일 실시예를 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치(101)의 사시도이고, 도 2는 도 1의 I-I'를 따라 자른 단면도이다.
도 1 및 도 2에 도시된 표시장치(101)는 윈도우 패널(501), 윈도우 패널(501)과 결합되어 수납공간을 형성하는 케이스(530) 및 윈도우 패널(501)과 케이스(530)에 의해 만들어진 공간에 배치된 표시패널(110)을 포함한다.
표시패널(110)은 지지부(540)와 함께 케이스(530)에 장착된다. 지지부(540)는 예를 들어, 쿠션부재일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 지지부(540)에 표시패널(110)의 구동을 위한 소재들, 예를 들어, 배터리 등이 배치될 수도 있다.
표시패널(110)은 표시부(DA)와 비표시부(NDA)를 갖는다. 표시부(DA)는 화상이 표시되는 부분이다. 비표시부(NDA)는, 예를 들어, 표시부(DA)를 둘러싸는 형태를 가질 수 있다. 표시패널(110)로, 예를 들어, 액정 표시패널, 유기발광 표시패널 등이 있다. 표시패널(110)의 상세한 구조는 후술된다.
도 2를 참조하면, 표시패널(110)과 윈도우 패널(501) 사이에 터치 패널(570)과 점착층(560)이 배치될 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 윈도우 패널(501)의 평면도이고, 도 4는 도 3의 II-II'를 따라 자른 단면도이고, 도 5는 도 3의 III-III'를 따라 자른 단면도이고, 도 6은 도 3의 IV-IV'를 따라 자른 단면도이다.
윈도우 패널(501)은 베이스 기재(510) 및 베이스 기재(510)의 적어도 일부에 배치된 베젤부(520)를 포함한다.
베이스 기재(510)는 유리, 플라스틱 등의 광투과성 부재로 만들어질 수 있다. 베이스 기재(510)는 제1면(510a)과 제2면(510b)을 갖는다.
도 2를 참조하면, 베이스 기재(510)의 제1면(510a)은 사용자를 향하고, 제2면(510b)은 표시패널(110)을 항한다. 반면, 도 4 내지 도 6에서, 표시패널(110)을 향하는 베이스 기재(510)의 제2면(510b)이 도면의 상부에 위치하고, 사용자를 향하는 베이스 기재(510)의 제1면(510a)이 도면이 하부에 위치한다.
베젤부(520)는 베이스 기재(510)의 제2면(510b)에 배치된다. 또한, 도 2 내지 도 6을 참조하면, 베젤부(520)은 베이스 기재(510)의 가장자리에 배치된다.
구체적으로, 베젤부(520)는 표시패널(110)의 비표시부(NDA)와 중첩하도록 베이스 기재(510) 상에 배치된다. 베젤부(520)는 불투명층으로 광을 차단한다. 그에 따라, 베젤부(520)의 하부는 사용자에게 시인되지 않는다.
베젤부(520)는 베이스 기재(510)의 투광 영역(511)과 차광 영역(512)을 정의할 수 있다. 베젤부(520)가 배치된 부분이 차광 영역(512)이 되며, 베젤부(520)가 배치되지 않은 부분이 투광 영역(511)이 된다. 표시패널(110)에서 생성된 영상은 윈도우 패널(501)의 투광 영역(511)을 통하여 사용자에게 시인된다.
베젤부(520)는 베이스 기재(510) 상에 배치된 제1 차광층(521), 증착 패턴(525) 및 제2 차광층(522)을 포함한다.
제1 차광층(521)은, 평면을 기준으로, 표시부(DA)의 가장자리를 따라 표시부(DA)의 바깥에 배치된다. 예를 들어, 제1 차광층(521)은 표시패널(110)의 표시부(DA)와 비표시부(NDA)의 경계와 평행한 라인 형태를 가질 수 있다.
제1 차광층(521)은 베이스 기재(510)의 투광 영역(511)을 정의하며, 차광 영역(512)의 경계선 역할을 한다.
잉크를 이용하는 인쇄 방법에 의하여 제1 차광층(521)이 만들어질 수 있다. 제1 차광층(521)은 0.1㎛ 내지 100㎛의 두께 및 1㎛ 내지 100㎛의 폭을 가질 수 있다. 그러나, 제1 차광층(521)의 두께와 폭이 이에 한정되는 것은 아니며, 윈도우 패널(501)의 크기에 따라 제1 차광층(521)의 두께와 폭이 달라질 수 있다.
증착 패턴(525)은 베이스 기재(510) 상에 배치되며, 제1 차광층(521)의 적어도 일부를 덮는다. 증착 패턴(525)의 일부는 제1 차광층(521)과 동일층에 배치된다. 증착 패턴(525)은 제1 차광층(521)과 인접하여 배치되며, 제1 차광층(521)의 측면을 도포한다. 또한, 증착 패턴(525)은 제1 차광층(521)의 측면과 상면의 일부를 도포할 수도 있다. 증착 패턴(525)이 제1 차광층(521)의 측면과 상면의 전부를 도포할 수도 있다.
증착 패턴(525)은 증착에 의하여 형성된다. 증착 패턴(525)은 5nm 내지 500nm의 두께를 가질 수 있다. 그러나 본 발명의 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 증착 패턴(525)은 5nm 미만의 두께를 가질 수도 있고, 500nm를 초과하는 두께를 가질 수도 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 증착 패턴(525)은 금속을 포함한다. 즉, 금속의 증착에 의하여 증착 패턴(525)이 만들어질 수 있다. 금속으로 만들어진 증착 패턴(525)은 금속과 동일한 시감을 나타낼 수 있다. 그에 따라, 베젤부(520)가 금속으로 만들어진 것과 같은 외관을 가질 수 있다. 증착 패턴(525) 형성에 사용되는 금속의 종류에 제한이 있는 것은 아니다. 증착이 가능한 금속이면 제한없이 증착 패턴(525) 형성에 사용될 수 있다. 예를 들어, 은(Ag), 금(Au), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 티타늄(Ti), 니켈(Ni) 등이 증착 패턴(525) 형성에 사용될 수 있다.
제1 차광층(521)과 증착 패턴(525)에 의하여 베젤부(520) 영역이 정의될 수 있다. 또한, 제1 차광층(521)과 증착 패턴(525)이 배치된 부분은 차광 영역(512)이 되며, 제1 차광층(521)과 증착 패턴(525)이 배치되지 않은 부분이 투광 영역(511)이 된다.
제2 차광층(522)은 증착 패턴(525) 및 제1 차광층(521) 상에 배치된다.
제2 차광층(522)에 의해 베젤부(520)를 통한 광투과가 차단된다.
증착 패턴(525)이 얇은 두께를 갖기 때문에, 빛이 증착 패턴(525)을 통과할 수 있다. 따라서, 증착 패턴(525) 상에 제2 차광층(522)이 배치되지 않는 경우, 증착 패턴(525)을 통해 표시패널(110)의 비표시부(NDA)가 사용자에게 시인될 수 있다. 증착 패턴(525) 상에 제2 차광층(522)이 배치되는 경우, 베젤부(520)를 통한 광투과가 차단되어 표시패널(110)의 비표시부(NDA)가 사용자에게 시인되는 것이 방지된다.
제2 차광층(522)은 잉크를 이용하는 인쇄 방법에 의하여 만들어질 수 있다. 제2 차광층(522)은 베젤부(520)와 동일한 폭을 가질 수 있으며, 0.5㎛ 내지 100㎛의 두께를 가질 수 있다. 그러나, 제2 차광층(522)의 두께와 폭이 이에 한정되는 것은 아니며, 윈도우 패널(501)의 크기에 따라 제2 차광층(522)의 두께와 폭이 달라질 수 있다.
베젤부(520)는 센서 홀(551, 552)을 가질 수 있다. 센서 홀(551, 552)은 베젤부(520) 영역 중 제1 차광층(521), 제2 차광층(522) 및 증착 패턴(525)가 배치되지 않은 부분이다. 이러한 센서 홀(551, 552)을 통해 광이 투과될 수 있다.
센서 홀(551, 552) 하부에 카메라 렌즈 또는 적외선 센서 등이 배치될 수 있다. 이 경우, 센서 홀(551, 552)을 통해 카메라를 이용한 촬영 또는 적외선 통신 등이 가능하다.
도 5에 제1 센서 홀(551)의 단면이 도시되어 있다. 제1 센서 홀(551)에 의해 베이스 기재(510)가 노출된다. 제1 센서 홀(551) 하부에, 예를 들어, 카메라 렌즈가 배치될 수 있다.
도 6에 제2 센서 홀(552)의 단면이 도시되어 있다. 제2 센서 홀(552)에는 코팅층(529)이 배치되어 있다. 코팅층(529)으로, 예를 들어, 적외선 투과막이 배치될 수 있다. 적외선 투과막은 적외선을 통과시키지만 가시광선을 차단한다.. 이러한 제2 센서 홀(552)의 하부에, 예를 들어, 적외선 센서가 배치될 수 있다.
도 7은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 윈도우 패널(502)의 단면도이다.
도 7에 도시된 윈도우 패널(502)은 베이스 기재(510)와 증착 패턴(525) 사이에 배치된 데코층(526)을 더 포함한다. 도 7을 참조하면, 베젤부(5202)는 제1 차광층(521), 데코층(526), 증착 패턴(525) 및 제2 차광층(522)을 포함한다.
데코층(526)은 베젤부(5202)의 심미감을 향상시키기 위한 층이다. 데코층(526)은 다양한, 색상, 패턴, 장식 등을 가질 수 있다. 데코층(526)은 증착 또는 인쇄 방법에 의하여 만들어질 수 있다.
이하 도 8a 내지 8e를 참조하여 윈도우 패널(501)의 제조 방법을 설명한다. 도 8a 내지 도 8e는 본 발명의 일 실시예에 따른 윈도우 패널(501)의 제조 공정도이다.
도 8a를 참조하면, 베이스 기재(510) 상에 제1 차광층(521)이 형성된다. 제1 차광층(521)은 윈도우 패널(501)의 투광 영역(511)와 차광 영역(512)를 정의한다. 이 때, 제1 센서 홀 영역(551a) 및 제2 센서홀 영역(미도시) 역시 제1 차광층(521)에 의하여 정의된다.
제1 차광층(521)은 잉크를 이용하는 인쇄 방법에 의하여 만들어질 수 있으며, 베이스 기재(510)의 제2면(510b)에 형성된다.
도 8b를 참조하면, 투광 영역(511)에 마스크(610)가 배치된다. 제1 센서홀 영역(551a)에도 마스크(610)가 배치된다.
마스크(610)로 고분자 필름이 사용될 수 있다. 고분자 필름으로 이루어진 마스크(610)는 약한 접착력을 가지며, 증착 공정 후 용이하게 제거될 수 있다.
이와 달리, 가용성 잉크에 의하여 마스크(610)가 형성될 수 있다. 가용성 잉크로, 예를 들어, 베이스 기재(510)와의 결합력이 약한 수용성 잉크가 있다. 이러한 잉크는 증착 공정 후, 물과 같은 용매에 용해되어 제거될 수 있다.
도 8c를 참조하면, 마스크(610)로부터 노출된 베이스 기재(510)의 제2면(510b)을 포함하는 베이스 기재(510)의 전면에 증착층(528)이 형성된다. 증착층(528)은 제1 차광층(521)의 적어도 일부를 도포한다.
증착층(528)은 5nm 내지 500nm의 두께를 가질 수 있다.
증착층(528)은 증착 재료를 이용한 증착 방법에 의하여 만들어질 수 있다. 증착 재료에 제한이 있는 것은 아니다. 증착 재료로 금속이 사용될 수 있다. 예를 들어, 은(Ag), 금(Au), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 티타늄(Ti), 니켈(Ni) 등이 증착 재료로 사용될 수 있다. 유기물이 증착 재료로 사용될 수도 있다.
도 8d를 참조하면, 마스크(610) 및 마스크(610) 상에 배치된 증착층(528)이 제거된다. 마스크(610) 상에 배치된 증착층(528)이 제거되어 증착 패턴(525)이 만들어진다.
도 8e를 참조하면, 제1 차광층(521) 및 증착 패턴(525) 상에 제2 차광층(522)이 형성되어, 윈도우 패널(501)이 만들어진다.
제2 차광층(522)은 잉크를 이용하는 인쇄 방법에 의하여 만들어질 수 있다. 제2 차광층(522)은 베젤부(520)와 동일한 폭을 가질 수 있다.
도시되지 않았지만, 제2 센서 홀(552)은 제1 센서 홀(551)과 동일한 방법으로 만들어질 수 있다. 제2 센서 홀(552)에 코팅층(529)이 더 배치될 수 있다.
또한, 도 8c에 도시된 증착층을 형성하는 단계 전에, 베이스 기재(510) 상에 데코층(526)이 형성될 수 있다. 그에 따라, 도 7에 도시된 윈도우 패널(502)이 만들어질 수 있다.
도 9a 내지 도 9f는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 윈도우 패널의 제조 공정도이다.
도 9a를 참조하면, 베이스 기재(510) 상에 윈도우 패널(501)의 투광 영역(511)와 차광 영역(512)를 정의하는 제1 차광층(521)이 형성된다.
도 9b를 참조하면, 투광 영역(511)에 마스크(610)가 배치된다.
도 9c를 참조하면, 마스크(610)로부터 노출된 베이스 기재(510)의 표면을 포함하는 베이스 기재(510)의 전면에 증착층(528)이 형성된다. 이 ‹š, 증착층(528)은 제1 차광층(521)의 적어도 일부를 도포한다.
도 9d를 참조하면, 마스크(610) 및 마스크(610) 상에 배치된 증착층(528)이 제거된다. 마스크(610) 및 마스크(610) 상에 배치된 증착층(528)이 제거되어 증착 패턴(525)이 만들어진다.
도 9e를 참조하면, 제1 차광층(521) 및 증착 패턴(525) 상에 제2 차광층(522)이 배치된다.
다음, 도 9f를 참조하면, 센서홀(551, 552)이 형성된다. 구체적으로, 증착 패턴(525) 및 제2 차광층(522)이 부분적으로 제거되어 제1 센서 홀(551)이 형성된다. 제2 센서 홀(552)은 제1 센서 홀(551)과 동일한 방법에 의하여 만들어질 수 있다.
도 10은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 윈도우 패널(503)의 단면도이다. 도 10에 도시된 윈도우 패널(503)은 제2 센서 홀(552)에 배치된 코팅층(529)을 포함한다. 예를 들어, 도 9f에서 제조된 제2 센서 홀(552)에 코팅층(529)이 더 배치될 수 있다. 코팅층(529)으로, 적외선 투과성 인쇄층이 배치될 수 있다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시패널(110)의 화소 배치에 대한 평면도이고, 도 12는 도 11의 V-V'를 따라 자른 단면도이다.
구체적으로, 도 11 및 도 12에 도시된 표시패널(110)은 유기발광 표시패널이다. 유기발광 표시패널은 제1 기판(211), 구동 회로부(230) 및 유기 발광 소자(310)를 포함한다.
제1 기판(211)은 유리, 석영, 세라믹, 및 플라스틱 등으로 이루어진 군에서 선택된 절연성 재료로 만들어질 수 있다. 제1 기판(211)으로 고분자 필름이 사용될 수도 있다.
제1 기판(211) 상에 버퍼층(220)이 배치된다. 버퍼층(220)은 다양한 무기막들 및 유기막들 중에서 선택된 하나 이상의 막을 포함할 수 있다. 버퍼층(220)은 생략될 수도 있다.
구동 회로부(230)는 버퍼층(220) 상에 배치된다. 구동 회로부(230)는 복수의 박막트랜지스터들(10, 20)을 포함하며, 유기 발광 소자(310)를 구동한다. 즉, 유기 발광 소자(310)는 구동 회로부(230)로부터 전달받은 구동 신호에 따라 빛을 방출하여 화상을 표시한다.
도 11 및 도 12에, 하나의 화소에 두 개의 박막트랜지스터(TFT)(10, 20)와 하나의 축전 소자(capacitor)(80)가 구비된 2Tr-1Cap 구조의 능동 구동(active matrix, AM)형 유기발광 표시패널이 도시되어 있다. 그러나, 본 발명의 일 실시예가 이러한 구조로 한정되는 것은 아니다. 예컨대, 유기발광 표시패널은 하나의 화소에 셋 이상의 박막트랜지스터와 둘 이상의 축전 소자를 포함할 수 있으며, 별도의 배선을 더 포함할 수 있다. 여기서, 화소는 화상을 표시하는 최소 단위를 말하며, 유기발광 표시패널은 복수의 화소들을 통해 화상을 표시한다.
하나의 화소는 스위칭 박막트랜지스터(10), 구동 박막트랜지스터(20), 축전 소자(80), 및 유기 발광 소자(organic light emitting diode, OLED)(310)를 포함한다. 또한, 일 방향을 따라 연장되는 게이트 라인(251)과, 게이트 라인(251)과 절연 교차되는 데이터 라인(271) 및 공통 전원 라인(272)도 구동 회로부(230)에 배치된다. 하나의 화소는 게이트 라인(251), 데이터 라인(271) 및 공통 전원 라인(272)을 경계로 정의될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 화소 정의막(290) 또는 블랙 매트릭스에 의하여 화소가 정의될 수도 있다.
유기 발광 소자(310)는 제1 전극(311), 제1 전극(311) 상에 배치된 유기 발광층(312), 및 유기 발광층(312) 상에 배치된 제2 전극(313)을 포함한다. 유기 발광층(312)은 저분자 유기물 또는 고분자 유기물로 이루어진다. 제1 전극(311) 및 제2 전극(313)으로부터 각각 정공과 전자가 유기 발광층(312) 내부로 주입되고, 이와 같이 주입된 정공과 전자가 결합되어 형성된 엑시톤(exiton)이 여기상태로부터 기저상태로 떨어질 때 발광이 이루어진다.
축전 소자(80)는 층간 절연막(260)을 사이에 두고 배치된 한 쌍의 축전판(258, 278)을 포함한다. 여기서, 층간 절연막(260)은 유전체가 된다. 축전 소자(80)에서 축전된 전하와 양 축전판(258, 278) 사이의 전압에 의해 축전용량이 결정된다.
스위칭 박막트랜지스터(10)는 스위칭 반도체층(231), 스위칭 게이트 전극(252), 스위칭 소스 전극(273), 및 스위칭 드레인 전극(274)을 포함한다. 구동 박막트랜지스터(20)는 구동 반도체층(232), 구동 게이트 전극(255), 구동 소스 전극(276), 및 구동 드레인 전극(277)을 포함한다. 반도체층(231, 232)과 게이트 전극(252, 255)은 게이트 절연막(240)에 의하여 절연된다.
스위칭 박막트랜지스터(10)는 발광시키고자 하는 화소를 선택하는 스위칭 소자로 사용된다. 스위칭 게이트 전극(252)은 게이트 라인(251)에 연결된다. 스위칭 소스 전극(273)은 데이터 라인(271)에 연결된다. 스위칭 드레인 전극(274)은 스위칭 소스 전극(273)으로부터 이격 배치되며 어느 한 축전판(258)과 연결된다.
구동 박막트랜지스터(20)는 선택된 화소 내의 유기 발광 소자(310)의 유기 발광층(312)을 발광시키기 위한 구동 전원을 화소 전극인 제1 전극(311)에 인가한다. 구동 게이트 전극(255)은 스위칭 드레인 전극(274)과 연결된 축전판(258)과 연결된다. 구동 소스 전극(276) 및 다른 한 축전판(278)은 각각 공통 전원 라인(272)과 연결된다. 구동 드레인 전극(277)은 평탄화막(265)에 구비된 컨택홀(contact hole)을 통해 유기 발광 소자(310)의 제1 전극(311)과 연결된다.
이와 같은 구조에 의하여, 스위칭 박막트랜지스터(10)는 게이트 라인(251)에 인가되는 게이트 전압에 의해 작동되어 데이터 라인(271)에 인가되는 데이터 전압을 구동 박막트랜지스터(20)로 전달하는 역할을 한다. 공통 전원 라인(272)으로부터 구동 박막트랜지스터(20)에 인가되는 공통 전압과 스위칭 박막트랜지스터(10)로부터 전달된 데이터 전압의 차에 해당하는 전압이 축전 소자(80)에 저장되고, 축전 소자(80)에 저장된 전압에 대응하는 전류가 구동 박막트랜지스터(20)를 통해 유기 발광 소자(310)로 흘러 유기 발광 소자(310)가 발광한다.
제1 전극(311)은 광투과성을 갖는 투광성 전극일 수도 있으며, 광반사성을 갖는 반사 전극일 수도 있다. 제2 전극(313)은 반투과막으로 형성될 수도 있고, 반사막으로 형성될 수도 있다.
도 12를 참조하면, 제1 전극(311)은 반사 전극이며, 제2 전극(313)은 반투과 전극이다. 유기 발광층(312)에서 발생된 빛은 제2 전극(313)을 통과해 방출된다. 그러나, 본 발명의 일 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 제1 전극(311)은 광투과성 전극이고, 제2 전극(313)은 반사 전극이며, 유기 발광층(312)에서 발생된 빛은 제1 전극(311)을 통과해 방출될 수도 있다.
제1 전극(311)과 유기 발광층(312) 사이에 정공 주입층(hole injection layer; HIL) 및 정공 수송층(hole transporting layer; HTL) 중 적어도 하나가 더 배치될 수 있으며, 유기 발광층(312)과 제2 전극(313) 사이에 전자 수송층(electron transporting layer; ETL) 및 전자 주입층(electron injection layer; EIL) 중 적어도 하나가 더 배치될 수 있다. 유기 발광층(312), 정공 주입층(HIL), 정공 수송층(HTL), 전자 수송층(ETL) 및 전자 주입층(EIL)은 유기 물질로 만들어질 수 있기 때문에, 이들을 유기층이라고도 한다.
화소 정의막(290)은 개구부를 갖는다. 화소 정의막(290)의 개구부는 제1 전극(311)의 일부를 드러낸다. 화소 정의막(290)의 개구부에서 제1 전극(311) 상에 유기 발광층(312) 및 제2 전극(313)이 차례로 적층된다. 여기서, 상기 제2 전극(313)은 유기 발광층(312) 뿐만 아니라 화소 정의막(290) 위에도 형성된다. 유기 발광 소자(310)는 화소 정의막(290)의 개구부 내에 위치한 유기 발광층(312)에서 빛을 발생시킨다. 이와 같이, 화소 정의막(290)은 발광 영역을 정의할 수도 있다.
외부 환경으로부터 유기 발광 소자(310)를 보호하기 위해 제2 전극(313)상에 캡핑층(미도시)이 배치될 수도 있다.
도 12를 참조하면, 제2 전극(313) 상에 박막 봉지층(350)이 배치된다.
박막 봉지층(350)은 하나 이상의 무기막(351, 353) 및 하나 이상의 유기막(352)을 포함하며, 수분이나 산소와 같은 외기가 유기 발광 소자(310)로 침투하는 것을 방지한다.
박막 봉지층(350)은 무기막(351, 353)과 유기막(352)이 교호적으로 적층된 구조를 갖는다. 도 12에 도시된 박막 봉지층(350)은 2개의 무기막(351, 353)과 1개의 유기막(352)을 포함하고 있으나, 박막 봉지층(350)의 구조가 이에 한정되는 것은 아니다.
무기막(351, 353)은 Al2O3, TiO2, ZrO, SiO2, AlON, AlN, SiON, Si3N4, ZnO, 및 Ta2O5 중 하나 이상의 무기물을 포함할 수 있다. 무기막(351, 353)은 화학증착(chemical vapor deposition, CVD)법 또는 원자층 증착(atomic layer depostion, ALD)법을 통해 형성된다. 무기막(351, 353)은 해당 기술 분야의 종사자에게 공지된 다양한 방법을 통해 형성될 수 있다.
유기막(352)은 고분자(polymer) 계열의 소재로 만들어진다. 여기서, 고분자 계열의 소재는 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 폴리이미드, 및 폴리에틸렌 등을 포함한다. 또한, 유기막(352)은 열증착 공정을 통해 형성된다. 유기막(352)을 형성하기 위한 열증착 공정은 유기 발광 소자(310)를 손상시키지 않는 온도 범위 내에서 진행된다. 유기막(352)은 해당 기술 분야의 종사자에게 공지된 다양한 방법을 통해 형성될 수 있다.
박막의 밀도가 치밀하게 형성된 무기막(351, 353)이 주로 수분 또는 산소의 침투를 억제한다. 대부분의 수분 및 산소는 무기막(351, 353)에 의해 유기 발광 소자(310)로의 침투가 차단된다.
무기막(351, 353)을 통과한 수분 및 산소는 유기막(352)에 의해 다시 차단된다. 유기막(352)은 투습 억제 외에, 무기막(351, 353)들 사이에서 각층들 간의 응력을 줄여주는 완충층의 역할도 수행한다. 또한, 유기막(352)은 평탄화 특성을 가지므로, 박막 봉지층(350)의 최상부면이 평탄해질 수 있다.
박막 봉지층(350)은 10㎛ 이하의 얇은 두께를 가질 수 있다. 따라서, 유기발광 표시패널 역시 얇은 두께를 가질 수 있다. 이러한 박막 봉지층(350)이 적용됨으로써, 유기발광 표시패널이 플렉서블 특성을 가질 수 있다.
도 13은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 표시패널의 단면도이다.
도 13을 참조하면, 유기 발광 소자(310)를 보호하기 위해 제2 전극(313) 상에 제2 기판(212)이 배치된다. 제2 기판(212)은 제1 기판(211)과 함께 유기 발광 소자(310)를 밀봉하는 역할을 한다. 제2 기판(212)은 제1 기판(211)과 마찬가지로 유리, 석영, 세라믹, 및 플라스틱 등으로 이루어진 군에서 선택된 절연성 재료로 만들어질 수 있다. 또한, 유기 발광 소자(310)와 제2 기판(212) 사이에 충진제가 배치될 수도 있다.
도 14는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 표시패널의 화소 배치에 대한 평면도이고, 도 15는 도 14의 VI-VI'를 따라 자른 단면도이다. 구체적으로, 도 14와 도 15는 액정 표시패널을 도시하고 있다.
도 14 및 15에 도시된 액정 표시패널은 표시기판(410), 대향기판(420) 및 표시기판(410)과 대향기판(420) 사이에 배치된 액정층(LC)을 포함한다.
표시기판(410)은 제1 기판(111), 박막트랜지스터(TFT), 화소 전극(PE), 게이트 절연막(131) 및 보호층(132)을 포함한다. 박막트랜지스터(TFT)는 반도체층(SM), 저항성 접촉층(OC), 게이트 전극(GE), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함한다.
제1 기판(111)은 투명한 유리 또는 플라스틱 등으로 이루어진다.
제1 기판(111) 상에 복수의 게이트 라인(GL) 및 게이트 전극(GE)이 배치된다. 게이트 전극(GE)은 게이트 라인(GL)과 연결된다. 게이트 라인(GL) 및 게이트 전극(GE)은 알루미늄(Al)이나 알루미늄 합금과 같은 알루미늄 계열의 금속, 은(Ag)이나 은 합금과 같은 은 계열의 금속, 구리(Cu)나 구리 합금과 같은 구리 계열의 금속, 몰리브덴(Mo)이나 몰리브덴 합금과 같은 몰리브덴 계열의 금속, 크롬(Cr), 탄탈륨(Ta) 및 티타늄(Ti) 중 어느 하나로 만들어질 수 있다. 게이트 라인(GL) 및 게이트 전극(GE) 중 적어도 하나는 물리적 성질이 다른 적어도 두 개의 도전막을 포함하는 다중막 구조를 가질 수도 있다.
게이트 절연막(131)은 게이트 라인(GL) 및 게이트 전극(GE)을 포함한 제1 기판(111)의 전면(全面)에 배치된다. 게이트 절연막(131)은 질화 규소(SiNx) 또는 산화 규소(SiOx) 등으로 만들어질 수 있다. 또는, 게이트 절연막(131)은 물리적 성질이 다른 적어도 두 개의 절연층들을 포함하는 다중막 구조를 가질 수 있다.
반도체층(SM)은 게이트 절연막(131) 상에 배치된다. 이 때, 반도체층(SM)은 게이트 절연막(131)의 하부에 위치한 게이트 전극(GE)과 중첩한다. 반도체층(SM)은 비정질 규소 또는 다결정 규소 등으로 만들어질 수 있다. 반도체층(SM)은 산화물 반도체로 이루어질 수도 있다.
저항성 접촉층(OC)은 반도체층(SM) 상에 배치된다. 예를 들어, 저항성 접촉층(OC)은 채널 부분 이외의 반도체층(SM) 상에 배치된다.
또한, 게이트 절연막(131) 상에 복수의 데이터 라인(DL)이 배치된다. 데이터 라인(DL)은 게이트 라인(GL)과 교차한다. 소스 전극(SE)은 데이터 라인(DL)과 연결되며, 저항성 접촉층(OC) 상에 배치된다. 드레인 전극(DE)은 소스 전극(SE)과 이격되어 저항성 접촉층(OC) 상에 배치되며, 화소 전극(PE)에 연결된다.
데이터 라인(DL), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE) 중 적어도 하나는 몰리브덴, 크롬, 탄탈륨 및 티타늄 등 내화성 금속(refractory metal) 또는 이들의 합금으로 만들어질 수 있다. 또는, 데이터 라인(DL), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE) 중 적어도 하나는 내화성 금속막과 저저항 도전막을 포함하는 다중막 구조를 가질 수 있다.
게이트 절연막(131), 반도체층(SM), 데이터 라인(DL), 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)을 포함한 제1 기판(111)의 전면에 층간 절연막(169)이 배치된다. 층간 절연막(169)은 절연성 재료로 만들어질 수 있으며, 특히, 반도체층(SM)의 노출 부위인 채널 영역을 보호한다.
층간 절연막(169) 상에 보호층(132)이 배치된다. 보호층(132)은 박막트랜지스터(TFT)의 상부를 평탄화하는 역할을 한다. 따라서, 보호층(132)은 평탄화막이라고도 불려진다.
보호층(132)은 질화 규소(SiNx) 또는 산화 규소(SiOx)와 같은 무기 절연물로 만들어질 수 있다. 이와 달리, 보호층(132)은 유기막으로 만들어질 수도 있다. 보호층(132)은 하부 무기막과 상부 유기막으로 된 이중막 구조를 가질 수도 있다.
화소 전극(PE)은 보호층(132) 상에 배치된다. 이때, 화소 전극(PE)은 보호층(132) 및 층간 절연막(169)을 관통하여 형성된 콘택홀(CH)을 통해 드레인 전극(DE)과 연결된다. 화소 전극(PE)은 ITO(Indium tin oxide) 또는 IZO(Indium zinc oxide) 등의 투명한 도전성 물질로 만들어질 수 있다.
대향기판(420)은 제2 기판(121), 컬러필터층(170) 및 공통 전극(CE)을 포함한다.
제2 기판(121)은 투명한 유리 또는 플라스틱 등으로 이루어진다.
제2 기판(121) 상에 차광부(BM)가 배치된다. 차광부(BM)는 복수의 개구부들을 갖는다. 개구부는 제1, 제2 및 제3 화소(PX1, PX2, PX3)의 각 화소 전극(PE)에 대응하여 배치된다. 차광부(BM)는 개구부들을 제외한 부분에서의 광을 차단한다. 예를 들어, 차광부(BM)는 박막트랜지스터(TFT), 게이트 라인(GL) 및 데이터 라인(DL) 상에 위치하여 이들을 통과한 광이 외부로 방출되는 것을 차단한다. 차광부(BM)는 반드시 필요한 것은 아니며, 생략될 수도 있다.
컬러필터층(170)은 제2 기판(121) 상에 배치되며, 백라이트부(미도시)로부터 입사된 광의 파장을 선택적으로 차단한다.
컬러필터층(170)은 컬러필터를 포함한다. 보다 구체적으로, 컬러필터층(170)은 제1 컬러필터(CF1), 제2 컬러필터(CF2) 및 제3 컬러필터(CF3)를 포함할 수 있다.
제1, 제2 및 제3 컬러필터(CF1, CF2, CF3)는 차광부(BM)에 의하여 서로 구분될 수 있다. 도 14 및 도 15를 참조하면, 제1, 제2 및 제3 컬러필터(CF1, CF2, CF3)는 각각 화소(PX1, PX2, PX3)와 중첩하여 배치된다. 제1, 제2 및 제3 컬러필터(CF1, CF2, CF3)는 각각 적색, 녹색, 청색 중 어느 하나의 색을 표현할 수 있다. 컬러필터층(170)은 백색 컬러필터(미도시)를 포함할 수도 있으며, 적색, 녹색, 청색 이외의 다른 색을 갖는 컬러필터를 포함할 수도 있다.
컬러필터층(170)과 공통 전극(CE) 사이에 패시베이션막(150)이 배치될 수 있다. 패시베이션막(150)은 생략될 수 있다.
공통 전극(CE)은 패시베이션막(150) 상에 배치된다. 예를 들어, 공통 전극(CE)은 제2 기판(121)의 전면에 위치할 수 있다. 공통 전극(CE)은 ITO 또는 IZO 등의 투명한 도전물질로 이루어질 수 있다.
공통 전극(CE)은 화소 전극(PE)과 함께 액정층(LC)에 전계를 인가한다.
도시되지 않았지만, 화소 전극(PE) 상에 하부 배향막이 배치될 수 있다. 하부 배향막은 수직 배향막일 수 있고, 광반응 물질을 포함할 수 있다. 마찬가지로 도시되지 않았지만, 공통 전극(CE) 상에 상부 배향막이 배치될 수 있다. 상부 배향막은 하부 배향막과 동일한 물질로 만들어질 수 있다.
제1 기판(111)과 제2 기판(121) 사이의 마주보는 면들을 각각 해당 기판의 상부면으로 정의하고, 그 상부면들의 반대편에 위치한 면들을 각각 해당 기판의 하부면으로 정의할 때, 제1 기판(111)의 하부면과 제2 기판(121)의 하부면에 각각 편광판이 배치될 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
DA: 표시부 NDA: 비표시부
GL: 게이트 라인 DL: 데이터 라인
SM: 반도체층 TFT: 박막 트랜지스터
101: 표시장치 110: 표시 패널
501, 502, 503: 윈도우 패널 510: 베이스 기재
511: 투광 영역 512: 차광 영역
520, 5202: 베젤부 521: 제1 차광층
522: 제2 차광층 525: 증착 패턴
526: 데코층 528: 증착층
551: 제1 센서 홀 552: 제2 센서 홀
530: 케이스 540: 지지부
560: 점착층 570: 터치 패널
610: 마스크

Claims (16)

  1. 베이스 기재; 및
    상기 베이스 기재의 적어도 일부에 배치된 베젤부;를 포함하며,
    상기 베젤부는,
    상기 베이스 기재 상에 배치된 제1 차광층;
    상기 베이스 기재 상에 배치되며, 상기 제1 차광층의 적어도 일부를 덮는 증착 패턴; 및
    상기 제1 차광층 및 상기 증착 패턴 상에 배치된 제2 차광층;을 포함하며,
    상기 증착 패턴은 5nm 내지 500nm의 두께를 갖는 윈도우 패널.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 차광층과 상기 증착 패턴은 동일층에 배치된 윈도우 패널.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 증착 패턴은 금속을 포함하는 윈도우 패널.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 베이스 기재와 상기 증착 패턴 사이에 배치된 데코층을 더 포함하는 윈도우 패널.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 베젤부는 센서 홀을 포함하는 윈도우 패널.
  6. 제5항에 있어서, 상기 센서 홀에 배치된 적외선 투과성 코팅층을 더 포함하는 윈도우 패널.
  7. 베이스 기재 상에 투광 영역과 차광 영역을 정의하는 제1 차광층을 형성하는 단계;
    상기 투광 영역에 마스크를 배치하는 단계;
    상기 마스크로부터 노출된 상기 베이스 기재의 표면을 포함하는 상기 베이스 기재의 전면에 증착층을 형성하는 단계;
    상기 마스크를 제거하여 증착 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 제1 차광층 및 상기 증착 패턴 상에 제2 차광층을 형성하는 단계;
    를 포함하는 윈도우 패널의 제조방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 증착층은 상기 제1 차광층의 적어도 일부를 도포하는 윈도우 패널의 제조방법.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 증착층은 5nm 내지 500nm의 두께를 갖는 윈도우 패널의 제조방법.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 증착층은 금속을 포함하는 윈도우 패널의 제조방법.
  11. 제7항에 있어서,
    상기 마스크는 고분자 필름인 윈도우 패널의 제조방법.
  12. 제7항에 있어서,
    상기 마스크는 가용성(soluble) 잉크인 윈도우 패널의 제조방법.
  13. 제7항에 있어서,
    상기 증착층을 형성하는 단계 전에, 상기 베이스 기재 상에 데코층을 형성하는 단계를 더 포함하는 윈도우 패널의 제조방법.
  14. 제7항에 있어서,
    상기 제1 차광층을 형성하는 단계는, 상기 베이스 기재 상에 센서 홀 영역을 정의하는 단계를 더 포함하는 윈도우 패널의 제조방법.
  15. 제7항에 있어서,
    상기 제2 차광층을 형성하는 단계 후, 센설 홀을 형성하는 단계를 더 포함하는 윈도우 패널의 제조방법.
  16. 표시부와 비표시부를 갖는 표시패널; 및
    상기 표시패널 상에 배치된 윈도우 패널;을 포함하며,
    상기 윈도우 패널은,
    베이스 기재; 및
    상기 표시패널의 상기 비표시부와 중첩되어 베이스 기재 상에 배치된 베젤부;를 포함하며,
    상기 베젤부는,
    상기 베이스 기재 상에 배치된 제1 차광층;
    상기 베이스 기재 상에 배치되며, 상기 제1 차광층의 적어도 일부를 덮는 증착 패턴; 및
    상기 제1 차광층 및 상기 증착 패턴 상에 배치된 제2 차광층;을 포함하며,
    상기 증착 패턴은 5nm 내지 500nm의 두께를 갖는 표시장치.
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