KR20180045142A - An ultrasonic cleaning apparatus and ultrasonic cleaning system including the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to an ultrasonic cleaning apparatus which directly produces a cleaning agent corresponding to an object to be cleaned in the ultrasonic cleaning apparatus for usage. In addition, the ultrasonic cleaning apparatus is able to clean the object to be cleaned with a simple structure since a composition thereof required for producing and releasing the cleaning agent is simplified. The ultrasonic cleaning apparatus comprises: a distribution case; an accommodation case; an ultrasonic wave generator; a compact unit; and a porous nano-structure.

Description

초음파 세정 장치 및 이를 포함하는 세정 시스템{An ultrasonic cleaning apparatus and ultrasonic cleaning system including the same}[0001] The present invention relates to an ultrasonic cleaning apparatus and an ultrasonic cleaning apparatus including the ultrasonic cleaning apparatus,

본 발명은 초음파 세정 장치, 및 이를 포함하는 세정 시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 일반 산업용 기구 또는 반도체 기판 등을 세정하기 위한 초음파 세정 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an ultrasonic cleaning apparatus and a cleaning system including the ultrasonic cleaning apparatus. More particularly, the present invention relates to an ultrasonic cleaning apparatus for cleaning a general industrial instrument or a semiconductor substrate.

일반적인 산업용 세척기, 공업용 세척기는 기계가공, 부품제조 또는 채석 등에 의해 가공, 제조된 부품 또는 광물 (이하 '피세정물'이라고 함)들을 세척시켜 상기 피세정물에 묻어있는 이물질 또는 오일 등을 제거함으로써, 부품의 조립, 출고 포장 또는 제품가치성 향상시키는 데 사용되는 장치이다.In general industrial washing machines and industrial washing machines, parts or minerals (hereinafter referred to as "washed articles") processed and manufactured by machining, parts manufacturing or quarrying are washed to remove impurities or oil which are on the articles to be cleaned , Components used to assemble parts, packaging goods, or improving product value.

또한, 반도체 세척기는 반도체 기판을 세척시켜 반도체 기판에 묻어있는 이물질 또는 오일 등을 제거함으로써, 부품의 조립, 출고 포장 또는 제품가치성 향상시키는 데 사용되는 장치이다.In addition, the semiconductor washer is a device used to clean parts of a semiconductor substrate to remove foreign substances or oil, etc., on the semiconductor substrate, thereby assembling parts, packaging, or enhancing the product value.

산업용 세척기 또는 반도체 세척기는 세척 방법에 따라 세정액을 고압으로 분사하는 스프레이형 세척기, 또는 부품을 세정액에 담근 후 초음파 발생에 의해 세척되도록 하는 초음파형 세척기(이하, '초음파 세척기'라고 함) 등으로 구분된다.Industrial washing machines or semiconductor washing machines are classified into a spray type washing machine for spraying the washing liquid at a high pressure according to a washing method or an ultrasonic washing machine for washing the components by ultrasonic wave after immersing the washing liquid in a washing liquid (hereinafter referred to as an ultrasonic washing machine) do.

이와 관련된 기술로서, US 4659014 A에서는 피세정물에 평행하게 도달하는 유체를 진동시키기 위한 진동수단, 피세정물에 유체를 평행하게 전달하는 전달수단, 상기 진동수단에 전위를 주기적으로 생성하여 피세정물에 도달하는 진동 진폭을 주기적으로 증가, 감소시키는 발전수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파 노즐을 제시하였다.As a related art, US Pat. No. 4,659,014 A discloses a cleaning device comprising a vibration means for vibrating a fluid reaching the object to be cleaned in parallel, a transmission means for delivering the fluid in parallel to the object to be cleaned, And an electric power generating means for periodically increasing or decreasing the vibration amplitude reaching the water.

그러나 종래기술은 초음파가 인가된 유체가 피세정물에 평행하게 도달함으로써, 초음파가 인가된 유체가 피세정물에 도달하는 조건이 매우 까다로운 문제점이 있다.However, in the prior art, the fluid to which the ultrasonic waves have been applied reaches parallel to the object to be cleaned, so that the condition in which the fluid to which the ultrasonic waves are applied reaches the object to be cleaned is very difficult.

좀 더 상세하게, 피세정물의 표면에 초음파가 인가된 유체가 평행하게 도달하게 하기 위해서는 초음파의 진동 진폭, 유체의 분무속도, 분무량을 매우 정교하게 조절하여야 하므로 매우 까다로운 문제점이 있다.More specifically, in order to allow the fluid to be applied to the surface of the object to be cleaned in parallel to reach the surface of the object to be cleaned, the vibration amplitude of the ultrasonic wave, the spraying speed of the fluid, and the spraying amount must be very precisely adjusted.

따라서 상술한 문제점을 해결하기 위한 다양한 초음파 세정 장치, 이를 이용한 세정 시스템의 개발이 필요한 실정이다.Therefore, various ultrasonic cleaning apparatuses and a cleaning system using the same are required to solve the above-mentioned problems.

US 4659014 A (1987.04.21)US 4659014 A (Apr. 21, 1987) KR 1599214 B1 (2014.07.28)KR 1599214 B1 (2014.07.28) KR 1544504 B1 (2013.10.14)KR 1544504 B1 (October 13, 2014)

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 세정액이 피세정물에 도달하는 조건을 간편화할 수 있는 초음파 세정 장치을 제공하기 위한 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an ultrasonic cleaning apparatus which can simplify a condition in which a cleaning liquid reaches a material to be cleaned.

본 발명의 실시예 1에 따른 초음파 세정 장치는 내부에 수납부(310)가 형성되고 상기 수납부의 중심에 제1 유통부(330)가 형성되는 유통케이스(300); 상기 제1 유통부(330)의 하단과 연통되는 제1 수용부(420)를 포함하는 수용케이스(400); 상기 수납부(310)에 위치되며 상기 제1 수용부(420)를 향해 초음파를 방출하는 초음파 발생기(600); 상기 제1 유통부(330)에 구비되며, 상기 제1 수용부(420)로 세정액 생성을 위한 액체와 기체를 공급하는 컴팩트유닛(200); 및 상기 제1 수용부(420) 하측에 결합되며, 상기 제1 수용부(420)에서 생성된 세정액이 피세정물로 분출되는 다수의 분출홀(720)이 형성되는 다공성나노구조체(700); 를 포함하는 것을 특징으로 한다.The ultrasonic cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention includes a flow case 300 in which a storage part 310 is formed and a first flow part 330 is formed at the center of the storage part; A receiving case 400 including a first receiving part 420 communicating with a lower end of the first circulating part 330; An ultrasonic generator (600) positioned at the receiving part (310) and emitting ultrasonic waves toward the first receiving part (420); A compact unit 200 provided in the first circulation unit 330 and supplying liquid and gas for generating a cleaning liquid to the first storage unit 420; A porous nanostructure 700 coupled to a lower side of the first accommodating portion 420 and having a plurality of ejection holes 720 through which a cleaning liquid generated in the first accommodating portion 420 is ejected as an object to be cleaned; And a control unit.

또한, 상기 유통케이스(300)는 상기 수납부(310)와 외주면 사이에 세정액이 공급되는 제2 유통부(320)가 형성되고, 상기 수용케이스(400)는 상기 제2 유통부(320)의 하단과 연통되는 제2 수용부(410)가 형성되며, 상기 제2 수용부(410)에 위치되는 세정액을 피세정물로 안내하는 분사부(710)를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The case 300 is formed with a second circulation part 320 through which the cleaning liquid is supplied between the receiving part 310 and the outer circumferential surface of the second circulation part 320, And a jetting part 710 formed with a second receiving part 410 communicating with the lower end and guiding the cleaning liquid located in the second receiving part 410 to the object to be cleaned.

또한, 상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 제1 수용부(410)로 액체를 공급하는 액체공급관(210)과, 상기 제1 수용부(410)로 기체를 공급하는 기체공급관(220)과, 상기 기체공급관(220)에서 상기 제1 수용부(410)로 공급되는 기체를 미세 입자로 분리하는 스파저(230)를 포함하는 것을 특징으로 한다.The compact unit 200 includes a liquid supply pipe 210 for supplying liquid to the first accommodating portion 410, a gas supply pipe 220 for supplying gas to the first accommodating portion 410, And a sparger (230) for separating the gas supplied from the gas supply pipe (220) to the first accommodating part (410) into fine particles.

또한, 상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 제1 수용부(420)의 공간을 초과하는 세정액을 배출하기 위한 액체배출관(240)과, 상기 제1 수용부(420)에 위치되는 기체의 양을 제어하는 기체배출관(250)을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The compact unit 200 further includes a liquid discharge pipe 240 for discharging the cleaning liquid exceeding the space of the first accommodating portion 420 and a second accommodating portion And a gas discharge pipe (250) for controlling the gas discharge pipe (250).

또한, 상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 액체공급관(210), 기체공급관(220), 액체배출관(240), 기체배출관(250)이 일체로 결합되는 것을 특징으로 한다.The compact unit 200 is characterized in that the liquid supply pipe 210, the gas supply pipe 220, the liquid discharge pipe 240, and the gas discharge pipe 250 are integrally coupled.

또한, 상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 액체배출관(240) 내부에 상기 액체공급관(210)이 삽입되고, 상기 기체배출관(250)의 내부에 상기 기체공급관(220)이 삽입되는 것을 특징으로 한다.The compact unit 200 is characterized in that the liquid supply pipe 210 is inserted into the liquid discharge pipe 240 and the gas supply pipe 220 is inserted into the gas discharge pipe 250 .

또한, 상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 액체공급관(210), 기체공급관(220), 액체배출관(240), 기체배출관(250)이 서로 일정간격 이격되게 내부에 삽입되는 통합관(260)을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The compact unit 200 includes an integrated pipe 260 into which the liquid supply pipe 210, the gas supply pipe 220, the liquid discharge pipe 240, and the gas discharge pipe 250 are inserted at predetermined intervals And further comprising:

본 발명의 실시예 2에 따른 초음파 세정 장치는 내부에 용해부(110)가 형성되고, 상기 용해부(110)와 외주면 사이에 세정액이 공급되는 유입부(120)가 형성되는 용해케이스(100); 상기 용해부(110)로 기체 및 액체를 공급하여 세정액을 생성하는 컴팩트유닛(200); 내부에 수납부(310)와, 상기 유입부(120)의 하단과 연통되는 제2 유통부(320)와, 상기 용해부(110)와 연통되는 제1 유통부(330)가 형성되는 유통케이스(300); 상기 제1 유통부(330)의 하단과 연통되며 세정액이 수용되는 제1 수용부(420)와, 상기 제2 유통부(320)의 하단과 연통되는 제2 수용부(410)가 형성되는 수용케이스(400); 상기 수납부(310)에 위치되어 상기 용해부(110)로 초음파를 인가하는 선초음파발생기(500); 상기 수납부(310)에 위치되어 상기 제1 수용부(420)로 초음파를 방출하는 초음파 발생기(600) 상기 제1 수용부(420) 하측에 결합되며, 상기 제1 수용부(420)에 위치하는 세정액이 피세정물로 분출되는 다수의 분출홀(720)이 형성되는 다공성나노구조체(700); 및 상기 제2 수용부(410)에 위치되는 세정액을 피세정물로 안내하는 분사부(710)를 포함하는 특징으로 한다.The ultrasonic cleaning apparatus according to the second embodiment of the present invention includes a dissolution unit 110 in which a dissolution unit 110 is formed and an inflow unit 120 through which the cleaning solution is supplied between the dissolution unit 110 and the outer circumferential surface, ; A compact unit 200 for supplying a gas and a liquid to the dissolving unit 110 to generate a cleaning liquid; And a second flow unit 320 communicating with the lower end of the inflow unit 120. The first flow unit 330 communicates with the dissolution unit 110. [ (300); A first accommodating part 420 communicating with a lower end of the first circulating part 330 and containing a cleaning liquid and a second accommodating part 410 communicating with a lower end of the second circulating part 320, A case 400; A pre-ultrasound generator (500) positioned at the storage part (310) and applying ultrasonic waves to the dissolving part (110); An ultrasonic generator 600 positioned at the receiving part 310 and emitting ultrasound to the first receiving part 420 is coupled to the lower side of the first receiving part 420 and is disposed at the first receiving part 420 A porous nanostructure 700 in which a plurality of ejection holes 720 are formed in which a cleaning liquid is ejected as an object to be cleaned; And a jetting part (710) for guiding the cleaning liquid located in the second receiving part (410) to the object to be cleaned.

또한, 상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 용해부(110)로 액체를 공급하는 액체공급관과, 상기 용해부(110)로 기체를 공급하는 기체공급관(220)과, 상기 기체공급관(220)을 통해 상기 용해부(110)로 공급되는 기체를 미세 입자로 분리하는 스파저(230)를 포함하는 것을 특징으로 한다.The compact unit 200 includes a liquid supply pipe for supplying liquid to the dissolving unit 110, a gas supply pipe 220 for supplying a gas to the dissolving unit 110, And a sparger (230) for separating the gas supplied to the dissolution part (110) into fine particles.

또한, 상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 용해부(110)의 공간을 초과하는 세정액을 배출하는 액체배출관(240)과, 상기 용해부(110)에 위치되는 기체의 양을 제어하는 기체배출관(250)을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The compact unit 200 further includes a liquid discharge pipe 240 for discharging the cleaning liquid exceeding the space of the dissolving unit 110 and a gas discharge pipe for controlling the amount of gas located in the dissolving unit 110 250). ≪ / RTI >

또한, 상기 컴팩트유닛(200)은 상기 액체공급관(210), 상기 기체공급관(220), 상기 액체배출관(240), 상기 기체배출관(250)이 일체로 결합되는 것을 특징으로 한다.The compact unit 200 is characterized in that the liquid supply pipe 210, the gas supply pipe 220, the liquid discharge pipe 240, and the gas discharge pipe 250 are integrally coupled.

또한, 상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 액체배출관의 내부에 상기 액체공급관이 삽입되고, 상기 기체배출관의 내부에 상기 기체공급관이 삽입되는 것을 특징으로 한다.In the compact unit 200, the liquid supply pipe is inserted into the liquid discharge pipe, and the gas supply pipe is inserted into the gas discharge pipe.

또한, 상기 컴팩트유닛은, 상기 액체공급관(210), 기체공급관(220), 액체배출관(240), 기체배출관(250)이 서로 일정간격 이격되게 내부에 삽입되는 통합관(260)을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The compact unit may further include an integration pipe 260 into which the liquid supply pipe 210, the gas supply pipe 220, the liquid discharge pipe 240, and the gas discharge pipe 250 are inserted at predetermined intervals .

또한, 상기 제1유통부(330) 상에 설치되어 통과하는 세정액의 압력을 제어하고, 세정액에 용해되어 있는 기체 입자를 일정한 크기 이하로 선별하는 보조다공성나노구조체(800)를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The auxiliary porous nanostructure 800 may further include a second porous nanostructure 800 disposed on the first circulation part 330 to control the pressure of the cleaning liquid passing through the first circulation part 330 and to sort the gas particles dissolved in the cleaning liquid to a predetermined size or less. .

이에 따라, 본 발명에 따른 초음파 세정 장치는 세정액이 다공성나노구조체를 통해 피세정물로 분사되는 세정액의 이동 경로를 간소화 하여, 세정액이 피세정물에 도달하는 조건을 최소화 하는 장점이 있다.Accordingly, the ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention has an advantage of minimizing a condition in which the cleaning liquid reaches the object to be cleaned by simplifying the moving path of the cleaning liquid sprayed to the object to be cleaned through the porous nanostructure.

또한, 컴팩트유닛을 이용하여 피세정물의 세정에 최적화된 성질을 가지는 세정액을 제조하여 사용할 수 있으므로, 세정 능력을 극대화 할 수 있는 장점이 있다.Further, since a cleaning liquid having a property optimized for washing of the object to be cleaned can be manufactured and used by using the compact unit, there is an advantage that the cleaning ability can be maximized.

도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 초음파 세정 장치의 사시도
도 2 내지 도 3은 본 발명의 실시예 1에 따른 초음파 세정 장치에서 컴팩트유닛의 실시예 1을 나타낸 사시도
도 4는 본 발명의 실시예 1에 따른 초음파 세정 장치에서 컴팩트유닛의 실시예 2를 나타낸 사시도
도 5는 본 발명의 실시예 1에 따른 초음파 세정 장치에서 컴팩트유닛의 실시예 3을 나타낸 사시도
도 6은 본 발명의 실시예 2에 따른 초음파 세정 장치의 사시도
도 7은 본 발명의 높이조절부를 나타낸 사시도.1 is a perspective view of an ultrasonic cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention;
2 to 3 are perspective views showing a first embodiment of a compact unit in the ultrasonic cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention.
4 is a perspective view showing the second embodiment of the compact unit in the ultrasonic cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention.
5 is a perspective view showing a third embodiment of a compact unit in the ultrasonic cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention.
6 is a perspective view of the ultrasonic cleaning apparatus according to the second embodiment of the present invention.
7 is a perspective view illustrating a height adjusting portion of the present invention.

이하, 본 발명의 기술적 사상을 첨부된 도면을 사용하여 더욱 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the technical idea of the present invention will be described more specifically with reference to the accompanying drawings.

첨부된 도면은 본 발명의 기술적 사상을 더욱 구체적으로 설명하기 위하여 도시한 일예에 불과하므로 본 발명의 기술적 사상이 첨부된 도면의 형태에 한정되는 것은 아니다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are included to provide a further understanding of the technical concept of the present invention, are incorporated in and constitute a part of the specification, and are not intended to limit the scope of the present invention.

<초음파 세정 장치(1000)의 실시예 1>&Lt; Embodiment 1 of Ultrasonic Cleaning Device 1000 >

도 1에서는 본 발명의 제1 실시예를 도시하고 있다.Fig. 1 shows a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하여 별명하면, 본 발명인 초음파 세정 장치는 내부에 수납부(310)가 형성되고, 상기 수납부(310)와 외주면 사이에 세정액이 공급되는 제2 유통부(320)가 형성되며, 상기 수납부의 중심에 제1 유통부(330)가 형성되는 유통케이스(300)와, 상기 제1 유통부(330)의 하단과 연통되는 제1 수용부(420)와 상기 제2 유통부(320)의 하단과 연통되는 제2 수용부(410)를 포함하는 수용케이스(400)와, 상기 수납부(310)에 위치되며 상기 제1 수용부(420)를 향해 초음파를 방출하는 초음파 발생기(600)와, 상기 제1 유통부(330)에 구비되며, 상기 제1 수용부(420)로 세정액 생성을 위한 액체와 기체를 공급하는 컴팩트유닛(200)과, 상기 제1 수용부(420) 하측에 결합되며, 상기 제1 수용부(420)에서 생성된 세정액이 피세정물로 분출되는 다수의 분출홀(720)이 형성되는 다공성나노구조체(700) 및 상기 제2 수용부(410)에 위치되는 세정액을 피세정물로 안내하는 분사부(710)를 포함하여 구성된다.1, the ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention includes a receiving part 310 formed therein, a second circulating part 320 formed between the receiving part 310 and the outer circumferential surface thereof to supply a cleaning liquid, A first accommodating portion 420 communicating with a lower end of the first circulating portion 330 and a second accommodating portion 420 communicating with a lower end of the first circulating portion 330, And a second receiving part 410 communicating with a lower end of the first receiving part 420. The receiving case 400 includes a receiving part 400 and an ultrasonic generator A compact unit 200 provided in the first circulation unit 330 and supplying liquid and gas for generating a cleaning liquid to the first storage unit 420; The porous nanostructure 7 (7) is coupled to the lower side and has a plurality of ejection holes 720 through which the cleaning liquid generated in the first accommodating part 420 is ejected as an object to be cleaned. 00) and a jetting part 710 for guiding the cleaning liquid, which is located in the second accommodating part 410, to the object to be cleaned.

상세히 설명하면, 상기 수용케이스(400) 내부에 형성된 제1 수용부(420)로 상기 컴팩트유닛(200)이 액체와 기체를 공급하여, 제1 수용부(420) 상에서 액체와 기체가 혼합된 세정액을 생성하고, 생성된 세정액에 상기 초음파 발생기(600)에서 초음파를 인가하여, 세정액이 상기 다공성나노구조체(700)에 형성된 분출홀(720)을 통해 피세정물로 분출되어, 피세정물을 세정하는 것이다.In detail, the compact unit 200 supplies liquid and gas to the first accommodating portion 420 formed in the accommodating case 400, and the liquid containing the liquid and the gas is mixed on the first accommodating portion 420 And ultrasonic waves are applied to the generated cleaning liquid by the ultrasonic generator 600. The cleaning liquid is ejected through the ejection holes 720 formed in the porous nanostructure 700 into the object to be cleaned, .

이때, 상기 컴팩트유닛(200)은 상기 제1 수용부(420)로 세정액 생성에 사용되는 다양한 종류의 액체와, 기체를 공급할 수 있으며, 상기 액체공급관(210)을 통해 공급되는 액체는 초순수일 수 있고, 상기 기체공급관(220)을 통해 공급되는 기체는 질소, 수소, 산소 등일 수 있다.At this time, the compact unit 200 can supply various kinds of liquid and gas used for generating the cleaning liquid to the first accommodating unit 420, and the liquid supplied through the liquid supply pipe 210 can be ultra- And the gas supplied through the gas supply pipe 220 may be nitrogen, hydrogen, oxygen, or the like.

즉, 세정 대상에 대응하여 상기 제1 수용부(420)에서 다양한 기능을 가지는 세정액을 생성하여 사용할 수 있는 것이다.That is, a cleaning liquid having various functions can be generated and used in the first accommodating portion 420 corresponding to the object to be cleaned.

그리고, 상기 액체공급관(210)을 통해 공급되는 액체는 초순수 이외에도 화학 세정액 등 다양한 액체일 수 있으므로, 한정하지 않는다.The liquid supplied through the liquid supply pipe 210 may be various liquids such as a chemical cleaning liquid in addition to ultrapure water.

또한, 본 발명인 초음파 세정 장치는 상기 분출홀(720)이 수 나노 내지 수 마이크로 크기의 직경을 가지므로, 통과하는 세정액을 균일하게 분할하여 피세정물로 분출시켜, 세정능력을 극대화 시킬수 있을 뿐만 아니라, 피세정물의 표면에 형성된 미세 패턴 파괴를 방지할 수 있음은 물론이다.In addition, since the ultrasonic cleaning apparatus of the present invention has a diameter of several nanometers to several microns, the jetting hole 720 can uniformly divide the cleaning liquid passing through it and eject it into the object to be cleaned, thereby maximizing the cleaning ability , It is of course possible to prevent breakage of the fine pattern formed on the surface of the object to be cleaned.

아울러, 상기 제2 유통부(320)는 외부에서 기능수, 버블수, 초순수 등을 포함하는 세정액을 공급받아 상기 제2 수용부(410)와 상기 분사부(710)를 통해 피세정물로 세정액을 안내한다.The second circulation unit 320 receives the cleaning liquid including the functional water, the bubble water, the ultrapure water, and the like from the outside. The second circulation unit 320 receives the cleaning liquid through the second storage unit 410 and the jetting unit 710, .

상세히 설명하면, 일반적으로 피세정물을 세정할 경우 상기 분출홀(720)을 통해 피세정물로 방출되는 세정액만 사용하여도 충분하지만, 세정 과정에서 추가적인 세정이 필요하거나, 린스공정이 필요할 경우 상기 제2 유통부(320)와, 상기 제2 수용부(410) 및 상기 분사부(710)를 통해 필요한 공정에 대응되는 세정액을 방출하여 본 초음파 세정 장치를 통하여 다양한 방식의 세정공정이 가능하게 한 것이다.In general, when cleaning the object to be cleaned, it is sufficient to use only the cleaning liquid which is discharged to the object to be cleaned through the discharge hole 720. However, if it is necessary to perform additional cleaning in the cleaning process, The cleaning liquid is discharged through the second circulation part 320, the second storage part 410 and the jet part 710 to perform a cleaning process in various ways through the ultrasonic cleaning device will be.

<초음파 세정 장치(1000)의 실시예 1에서 컴팩트유닛(200)의 실시예 1><Example 1 of the Compact Unit 200 in Embodiment 1 of the Ultrasonic Cleaning Device 1000>

도2 내지 도3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 초음파 세정 장치에서 컴팩트유닛의 제1 실시예를 나타내고 있다.2 to 3 show a first embodiment of a compact unit in the ultrasonic cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention.

도2 내지 도3을 참조하여 설명하면, 상기 컴팩트유닛(200)은 상기 제1 수용부(420)로 액체를 공급하는 액체공급관(210)과, 상기 제1 수용부(420)로 기체를 공급하는 기체공급관(220)과, 액체배출관(240)과, 기체배출관(250)과, 상기 기체공급관(220)에서 상기 제1 수용부(420)로 공급되는 기체를 미세 입자로 분리하는 스파저(230)를 포함하여 이루어질 수 있다.2 to 3, the compact unit 200 includes a liquid supply pipe 210 for supplying a liquid to the first accommodating portion 420, A liquid discharge pipe 240, a gas discharge pipe 250 and a sparger (not shown) for separating the gas supplied to the first storage part 420 from the gas supply pipe 220 into fine particles 230).

상세히 설명하면, 상기 액체공급관(210)이 상기 제1 수용부(420)로 액체를 공급하고 상기 기체공급관(220)이 상기 제1 수용부(420)로 기체를 공급하여 제1 수용부(420)에서 세정액을 형성하되, 기체공급관(220)을 통해 제1 수용부(420)로 기체 공급 시 상기 스파저(230)를 통과하게 함으로서, 기체가 스파저(230)를 통과하며 미세 기체입자 상태로 액체공급관(210)에서 공급된 액체에 용해될 수 있게 한 것이다.The liquid supply pipe 210 supplies the liquid to the first accommodating part 420 and the gas supply pipe 220 supplies the gas to the first accommodating part 420 so that the first accommodating part 420 The gas is passed through the sparger 230 when the gas is supplied to the first accommodating part 420 through the gas supply pipe 220 so that the gas passes through the sparger 230, So that it can be dissolved in the liquid supplied from the liquid supply pipe 210.

이때, 상기 스파저(230)는 통과하는 액체를 미세 기체 입자로 분리할 수 있으면 충분하므로 다양한 구조 및 형상을 가질 수 있으나, 나노 마이크로 구조체인 것을 권장하며, 나노 마이크로 구조체는 나노 또는 마이크로 크기의 공극이 형성된 메쉬 형상일 수 있음은 물론이다.At this time, the sparger 230 may have various structures and shapes because it is sufficient to separate the liquid passing through the micro-gaseous particles. However, it is recommended that the sponge 230 is a nano-microstructure, and the nano- It is a matter of course that the mesh shape may be formed.

그리고, 상기 액체배출관(240)은 상기 제1 수용부(420)의 공간을 초과하는 세정액을 배출할 수 있으며, 상기 기체배출관(250)은 상기 제1 수용부(420)에 위치되는 기체의 양을 제어할 수 있다.The liquid discharge pipe 240 may discharge a cleaning liquid exceeding the space of the first accommodating part 420 and the gas exhaust pipe 250 may be connected to the first accommodating part 420, Can be controlled.

상세히 설명하면, 상기 액체공급관(210)과 상기 기체공급관(220)을 통해 외부에서 액체 및 기체가 지속적으로 공급될 경우, 제1 수용부(420)의 부피를 초과하는 세정액이 생성되어 제1 수용부(420) 외부로 방출되는 문제가 발생할 수 있으므로, 상기 액체배출관(240)을 통해 제1 수용부(420)에 위치되는 세정액의 양을 제어하는 것이다.More specifically, when liquid and gas are continuously supplied from the outside through the liquid supply pipe 210 and the gas supply pipe 220, a cleaning liquid exceeding the volume of the first accommodation portion 420 is generated, The amount of the cleaning liquid located in the first accommodating portion 420 through the liquid discharge pipe 240 is controlled.

이때, 상기 기체배출관(250)은 제1 수용부(420)에 세정액에 용해된 기체의 양 또한 제어할 수 있음은 물론이다.In this case, it is needless to say that the gas discharge pipe 250 can also control the amount of gas dissolved in the cleaning liquid in the first accommodating portion 420.

또한, 본 발명에서 상기 컴팩트유닛(200)은 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 액체공급관(210)과, 상기 기체공급관(220)과, 상기 액체배출관(240) 및 상기 기체배출관(250)이 부채꼴 형상으로 이루어져 서로 일체로 결합될 수 있고, 이 외에도 도 3에 도시된 바와 같이 각각의 공급관 및 배출관이 원형의 단면 형상을 가지되 외주면이 연결되어 일체형으로 형성될 수 있으며, 더불어 이하에서 다양한 구조를 가지는 것이 가능하다.2, the compact unit 200 according to the present invention includes the liquid supply pipe 210, the gas supply pipe 220, the liquid discharge pipe 240, and the gas discharge pipe 250, 3, each of the supply pipes and the discharge pipes may have a circular cross-sectional shape, and the outer peripheral surfaces may be connected to each other to form a unitary shape. In addition, as shown in FIG. 3, .

<초음파 세정 장치(1000)의 실시예 1에서 컴팩트유닛(200)의 실시예 2>&Lt; Embodiment 2 of the compact unit 200 in Embodiment 1 of the ultrasonic cleaning apparatus 1000 &

도 4를 참조하면, 컴팩트유닛(200)은 상기 액체배출관(240) 내부에 상기 액체공급관(210)이 삽입되고, 상기 기체배출관(250)의 내부에 상기 기체공급관(220)이 삽입되는 구조로 형성될 수 있으며, 상기 액체배출관(240)과 기체배출관(250)은 외주면이 서로 연결된 결합 형태일 수 있다.4, the compact unit 200 has a structure in which the liquid supply pipe 210 is inserted into the liquid discharge pipe 240 and the gas supply pipe 220 is inserted into the gas discharge pipe 250 And the liquid discharge pipe 240 and the gas discharge pipe 250 may have an outer peripheral surface connected to each other.

<초음파 세정 장치(1000)의 실시예 1에서 컴팩트유닛(200)의 실시예 3>&Lt; Embodiment 3 of the compact unit 200 in the first embodiment of the ultrasonic cleaning apparatus 1000 >

도 5를 참조하면, 컴팩트유닛(200)은 통합관(260)을 더 포함하고, 상기 통합관(260)의 내부에 상기 액체공급관(210)과, 상기 기체공급관(220)과, 상기 액체배출관(240)과, 상기 기체배출관(250)이 서로 일정간격 이격 배치될 수 있다.5, the compact unit 200 further includes an integration pipe 260, and the liquid pipe 210, the gas supply pipe 220, the liquid discharge pipe 220, (240), and the gas discharge pipe (250) may be spaced apart from each other by a predetermined distance.

<초음파 세정 장치(1000)의 실시예 2>&Lt; Embodiment 2 of ultrasonic cleaning apparatus 1000 >

아울러, 본 발명인 초음파 세정 장치(1000)는 도 6에 도시된 구조로 형성되는 것도 가능하다.In addition, the ultrasonic cleaning apparatus 1000 of the present invention may be formed with the structure shown in FIG.

도 6을 참조하면 제2 실시예에 따른 초음파 세정 장치(1000)는 내부에 용해부(110)가 형성되고, 상기 용해부(110)와 외주면 사이에 세정액이 공급되는 유입부(120)가 형성되는 용해케이스(100)와, 상기 용해부(110)로 기체 및 액체를 공급하여 세정액을 생성하는 컴팩트유닛(200)과, 내부에 수납부(310)와, 상기 유입부(120)의 하단과 연통되는 제2 유통부(320)와, 상기 용해부(110)와 연통되는 제1 유통부(330)가 형성되는 유통케이스(300)와, 상기 제1 유통부(330)의 하단과 연통되며 세정액이 수용되는 제1 수용부(420)와, 상기 제2 유통부(320)의 하단과 연통되는 제2 수용부(410)가 형성되는 수용케이스(400)와, 상기 수납부(310)에 위치되어 상기 용해부(110)로 초음파를 인가하는 선초음파발생기(500)와, 상기 수납부(310)에 위치되어 상기 제1 수용부(420)로 초음파를 방출하는 초음파 발생기(600)와, 상기 제1 수용부(420) 하측에 결합되며, 상기 제1 수용부(420)에 위치하는 세정액이 피세정물로 분출되는 다수의 분출홀(720)이 형성되는 다공성나노구조체(700) 및 상기 제2 수용부(410)에 위치되는 세정액을 피세정물로 안내하는 분사부(710)를 포함하여 이루어진다.Referring to FIG. 6, the ultrasonic cleaning apparatus 1000 according to the second embodiment includes a dissolving unit 110 formed therein and an inflow unit 120 through which the cleaning liquid is supplied between the dissolving unit 110 and the outer circumferential surface A compact unit 200 for supplying a gas and a liquid to the dissolving unit 110 to generate a cleaning liquid, a storage unit 310 in the interior, a lower end of the inflow unit 120, A flow case 300 in which a second flow portion 320 communicating with the first flow portion 330 and a first flow portion 330 communicating with the dissolution portion 110 are formed; A housing case 400 in which a first accommodating part 420 accommodating the cleaning liquid and a second accommodating part 410 communicating with the lower end of the second circulating part 320 are formed; An ultrasound generator 500 positioned at the receiving part 310 and applying ultrasonic waves to the dissolving part 110; And a plurality of ejection holes 720 which are coupled to the lower side of the first accommodating part 420 and in which the cleaning liquid located in the first accommodating part 420 is ejected as an object to be cleaned, And a jetting part 710 for guiding the cleaning liquid, which is located in the structure 700 and the second receiving part 410, to the object to be cleaned.

상세히 설명하면, 상기 용해부(110)는 상기 컴팩트유닛(200)을 통해 공급되는 기체와 액체를 이용하여 원하는 임의의 성질을 가지는 세정액을 형성하고, 용해부(110)에서 생성된 세정액은 상기 제1 유통부(330)를 통해 상기 제1 수용부(420)로 이동된 후 상기 초음파발생기(600)에서 인가되는 초음파에 대응하여 상기 분출홀(720)을 거쳐 피세정물로 방출되는 것이다.In detail, the dissolving unit 110 forms a cleaning liquid having desired properties using gas and liquid supplied through the compact unit 200, and the cleaning liquid generated in the dissolving unit 110 is used as the cleaning liquid 1 flow unit 330 to the first receiving unit 420 and then discharged as the object to be washed through the jet hole 720 corresponding to the ultrasonic wave applied from the ultrasonic generator 600. [

이때, 본 발명인 초음파 세정 장치는 상기 제1 실시예에서 설명한 바와 같이 상기 컴팩트유닛(200)은 액체공급관(210)과, 기체공급관(220)과, 액체배출관(240)과, 기체배출관(250)을 포함하여 이루어질 수 있으며, 다양한 결합구조를 가지는 것 또한 가능하다.As described in the first embodiment, the compact unit 200 includes a liquid supply pipe 210, a gas supply pipe 220, a liquid discharge pipe 240, a gas discharge pipe 250, And it is also possible to have various coupling structures.

그리고, 제2 실시예에 따른 본 발명인 초음파 세정 장치는 상기 수납부(310)에 선초음파발생기(500)가 더 구비될 수 있다.In the ultrasonic cleaning apparatus according to the second embodiment of the present invention, the ultrasound generator 500 may further be provided in the storage unit 310.

상세히 설명하면, 제2 실시예에 따른 초음파 세정 장치는 제1 실시예에 따른 초음파 세정 장치와 다르게 용해케이스(100)가 더 구비되고, 상기 용해부(110)에서 세정액을 형성한 후 상기 제1 수용부(420)로 이송하여 사용한다.The ultrasonic cleaning apparatus according to the second embodiment of the present invention further includes a dissolution case 100 different from the ultrasonic cleaning apparatus according to the first embodiment. The ultrasonic cleaning apparatus according to the second embodiment further comprises a dissolution case 100, And is transported to the accommodating portion 420 for use.

이때, 상기 선초음파발생기(600)에서 상기 용해부(110)로 초음파를 방출하여, 상기 액체공급관(210)을 통해 유입되는 액체상에 상기 기체공급관(220)에 결합된 상기 스파저(230)를 통해 용해부(110)로 유입되는 미세 기체 입자가 잘 용해될 수 있게 하는 것이다.At this time, ultrasonic waves are emitted from the linear ultrasonic generator 600 to the dissolving unit 110, and the sparger 230 coupled to the gas supply pipe 220 is introduced into the liquid phase flowing through the liquid supply pipe 210 So that the fine gas particles flowing into the dissolution part 110 can be dissolved well.

그리고, 상기 선초음파발생기(500)는 용해부(110)에 위치되는 미세 기체 입자를 더욱 작은 미세 기체 입자로 용해시킬 수 있을 뿐만 아니라, 미세 기체 입자가 서로 다시 합쳐져 큰 기체 입자가 되는 것을 방지할 수 있음은 물론이다.The pre-ultrasound generator 500 can dissolve the fine gas particles located in the dissolution part 110 into smaller fine gas particles, and also prevents the fine gas particles from re-joining together to become large gas particles Of course.

아울러, 본 발명인 초음 파 세정 장치는 상기 제1 유통부(330) 상에 제1 유통부(330)를 통과하는 세정액의 압력을 제어하고, 통과하는 세정액 상에 용해되어 있는 기체 입자를 일정한 크기 이하로 선별하는 보조다공성나노구조체(800)가 더 구비될 수 있다.In addition, the ultrasonic wave cleaning apparatus of the present invention controls the pressure of the cleaning liquid passing through the first circulation unit 330 on the first circulation unit 330, and the gas particles dissolved on the passing liquid to be passed therethrough And the auxiliary porous nanostructure 800 may be further provided.

상세히 설명하면, 상기 용해부(110)에서 상기 제1 수용부(420)로 세정액이 강한 힘으로 이동될 경우, 제1 수용부(420)에 위치되는 세정액이 용해부(110)에서 제1 수용부(420)로 이동하는 세정액의 압력에 의해 피세정물로 방출될 수 있으므로, 상기 초음파발생기(600)를 이용하여 방출되는 세정액의 세기와 단속을 제어할 수 없어, 세정액에 의해 피세정물에 형성된 미세 패턴이 파괴되는 문제가 발생할 수 있다.When the cleaning liquid is moved from the dissolution part 110 to the first storage part 420 with a strong force, the cleaning liquid located in the first storage part 420 is discharged from the dissolution part 110 to the first storage part 420. [ The intensity of the cleaning liquid discharged using the ultrasonic generator 600 and the intermittent speed can not be controlled by the pressure of the cleaning liquid moving to the portion 420, A problem may occur that the formed fine pattern is destroyed.

따라서, 상기 보조다공성나노구조체(800)를 용해부(110)에서 제1 수용부(420)로 세정액이 이동하는 제1 유통부(330)에 위치시켜, 세정액의 압력을 제어하는 것이다.Accordingly, the auxiliary porous nanostructure 800 is positioned in the first flow-in part 330 through which the cleaning liquid moves from the dissolution part 110 to the first storage part 420, thereby controlling the pressure of the cleaning liquid.

이때, 상기 보조다공성나노구조체(800)는 단순히 제1 유통부(330)를 통과하는 세정액의 압력을 제어할 경우 감압밸브일 수 있으나, 나노다공판 또는 나노다공질판으로 이루어져 제1 유통부(330)를 통과하는 세정액에 용해되어 있는 기체의 입자 크기를 제어할 수 있다.At this time, the auxiliary porous nanostructure 800 may be a pressure reducing valve when controlling the pressure of the cleaning liquid passing through the first circulation part 330, but it may be a nanoporous plate or a nano porous plate, The particle size of the gas dissolved in the cleaning liquid passing through the substrate can be controlled.

즉, 상기 보조다공성나노구조체(800)를 나노 크기의 홀이 형성된 나노다공판 또는 나노다공질판으로 구성하여 홀 이상의 직경을 가지는 세정액에 용해되어 있는 기체 입자의 이동을 제한하는 것이다.That is, the auxiliary porous nanostructure 800 is formed of a nano porous plate or a nano porous plate having a nano-sized hole, thereby restricting the movement of gas particles dissolved in the cleaning liquid having a diameter equal to or larger than the hole.

이때, 보조다공성나노구조체(800)를 이용하여 기체 입자를 일정 크기 이하로 선별할 경우, 상기 제1 수용부(420)에 위치된 세정액에 용해되어 있는 기체 입자의 크기가 일정하게 되어, 피세정물의 세정이 더욱 신뢰성 있게 진행될 수 있음은 물론이다.At this time, when the gas particles are sorted to a certain size or less by using the auxiliary porous nano structure 800, the size of the gas particles dissolved in the cleaning liquid located in the first containing part 420 becomes constant, It goes without saying that the washing of water can proceed more reliably.

또한, 도 7을 참조하여 설명하면 본 발명인 초음파 세정 장치는 피세정물로 도포되는 세정액의 두께를 일정하게 하기 위한 세정액 높이조절부(10)가 더 구비될 수 있다.Referring to FIG. 7, the ultrasonic cleaning apparatus of the present invention may further include a cleaning liquid height adjusting unit 10 for uniformizing the thickness of the cleaning liquid applied by the object to be cleaned.

상세히 설명하면, 세정액을 피세정물에 도포할 경우 피세정물에 도포되는 세정액의 두께가 일정하지 않게 되므로, 상기 분출홀(720)을 통해 방출되는 세정액에 의해 발생하는 압력파가 일정하지 않아, 피세정물의 세정이 불균일하게 될 수 있으므로, 세정액 높이조절부(10)를 이용하여 피세정물에 도포되는 세정액의 두께를 균일하게 하여 주는 것이다.In detail, when the cleaning liquid is applied to the object to be cleaned, the thickness of the cleaning liquid applied to the object to be cleaned becomes uneven, so that the pressure wave generated by the cleaning liquid discharged through the ejection hole 720 is not constant, Since the cleaning of the object to be cleaned can be made non-uniform, the thickness of the cleaning liquid applied to the object to be cleaned is uniformized by using the cleaning liquid height adjusting portion 10.

이때, 상기 높이조절부(10)는 상기 용해케이스(100), 상기 유통케이스(300), 상기 수용케이스(400) 또는 어떠한 임의의 대상물에 결합되어, 피세정물의 상측에 일정한 거리 이격된 상태로 고정되며, 상기 분사부(710)를 통해 방출되는 세정액이 높이조절부(10)의 내측에 형성된 공간(11)으로 유입된다.At this time, the height adjusting unit 10 is coupled to the dissolution case 100, the flow case 300, the case 400, or any arbitrary object, and is spaced apart from the upper side of the object to be cleaned by a predetermined distance And the cleaning liquid discharged through the jetting part 710 flows into the space 11 formed inside the height adjusting part 10.

즉, 상기 높이조절부(10)는 피세정물에 대응하는 원형 또는 다각 형상을 가지되 상하 방향으로 일정한 두께를 가져, 분사부(710)에서 피세정물에 도포하는 세정액이 높이조절부(10)의 두께만큼 일정하게 도포되는 것이다.That is, the height adjusting unit 10 has a circular or polygonal shape corresponding to the object to be cleaned and has a predetermined thickness in the vertical direction, and the cleaning liquid applied to the object to be cleaned in the jetting unit 710 is supplied to the height adjusting unit 10 Of the thickness of the coating layer.

따라서, 피세정물의 표면에 형성된 미세 패턴이 파손되는 것을 방지하고, 세정이 균일하게 이루어질 수 있다.Therefore, the fine pattern formed on the surface of the object to be cleaned is prevented from being broken, and the cleaning can be made uniform.

그리고, 상기 높이조절부(10)는 상측에 형성된 연결부(12)를 통해 유통케이스(300), 수용케이스(400) 또는 임의의 외부 대상물과 결합될 수 있으며, 타 대상물과 결합 시 상면이 일정한 높이를 가져 공간(11)에 위치되는 세정액의 두께를 일정하게 유지해야 함은 물론이다.The height adjuster 10 may be coupled with the flow case 300, the case 400, or any external object through a connecting portion 12 formed on the upper side. When the upper case is engaged with another object, The thickness of the cleaning liquid located in the space 11 must be kept constant.

본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 적용범위가 다양함은 물론이고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이다.It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

1000 : 본 발명에 따른 초음파 세정 장치
10 : 높이조절부
100 : 용해케이스
110 : 용해부
120 : 유입부
200 : 컴팩트유닛
210 : 액체공급관
220 : 기체공급관
230 : 스파저
240 : 액체배출관
250 : 기체배출관
260 : 통합관
300 : 유통케이스
310 : 수납부
320 : 제2 유통부
330 : 제1 유통부
400 : 수용케이스
410 : 제2 수용부
420 : 제1 수용부
500 : 선초음파발생기
600 : 초음파발생기
700 : 다공성나노구조체
710 : 분사부
720 : 분출홀
800 : 보조다공성나노구조체1000: The ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention
10:
100: melting case
110: dissolution
120: inlet
200: Compact unit
210: liquid supply pipe
220: gas supply pipe
230: Spas
240: liquid discharge pipe
250: gas discharge pipe
260: Integration Tube
300: Distribution case
310:
320:
330: first distribution section
400: housing case
410: second accommodating portion
420: first accommodating portion
500: Line Ultrasonic Generator
600: Ultrasonic generator
700: Porous nanostructure
710:
720: Spout hole
800: Auxiliary porous nanostructure

Claims (16)

내부에 수납부(310)가 형성되고 상기 수납부의 중심에 제1 유통부(330)가 형성되는 유통케이스(300);
상기 제1 유통부(330)의 하단과 연통되는 제1 수용부(420)를 포함하는 수용케이스(400);
상기 수납부(310)에 위치되며 상기 제1 수용부(420)를 향해 초음파를 방출하는 초음파 발생기(600);
상기 제1 유통부(330)에 구비되며, 상기 제1 수용부(420)로 세정액 생성을 위한 액체와 기체를 공급하는 컴팩트유닛(200); 및
상기 제1 수용부(420) 하측에 결합되며, 상기 제1 수용부(420)에서 생성된 세정액이 피세정물로 분출되는 다수의 분출홀(720)이 형성되는 다공성나노구조체(700); 를 포함하는, 초음파 세정 장치.
A flow case 300 in which a housing part 310 is formed and a first flow part 330 is formed in the center of the housing part;
A receiving case 400 including a first receiving part 420 communicating with a lower end of the first circulating part 330;
An ultrasonic generator (600) positioned at the receiving part (310) and emitting ultrasonic waves toward the first receiving part (420);
A compact unit 200 provided in the first circulation unit 330 and supplying liquid and gas for generating a cleaning liquid to the first storage unit 420; And
A porous nanostructure 700 coupled to a lower side of the first accommodating portion 420 and having a plurality of ejection holes 720 through which a cleaning liquid generated in the first accommodating portion 420 is ejected as an object to be cleaned; And an ultrasonic cleaning device.
제1항에 있어서,
상기 유통케이스(300)는 상기 수납부(310)와 외주면 사이에 세정액이 공급되는 제2 유통부(320)가 형성되고, 상기 수용케이스(400)는 상기 제2 유통부(320)의 하단과 연통되는 제2 수용부(410)가 형성되며, 상기 제2 수용부(410)에 위치되는 세정액을 피세정물로 안내하는 분사부(710)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.
The method according to claim 1,
The second case 300 is formed with a second case 320 through which the cleaning liquid is supplied between the case 310 and the outer circumferential surface of the case 300. The case 400 includes a lower end of the second case 320, Further comprising a jetting part (710) formed with a second receiving part (410) communicating with the second receiving part (410) and guiding the cleaning liquid located in the second receiving part (410) to the object to be cleaned.
제1항 또는 제 2항에 있어서,
상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 제1 수용부(420)로 액체를 공급하는 액체공급관(210)과, 상기 제1 수용부(420)로 기체를 공급하는 기체공급관(220)과, 상기 기체공급관(220)에서 상기 제1 수용부(420)로 공급되는 기체를 미세 입자로 분리하는 스파저(230)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.

3. The method according to claim 1 or 2,
The compact unit 200 includes a liquid supply pipe 210 for supplying liquid to the first accommodating unit 420, a gas supply pipe 220 for supplying gas to the first accommodating unit 420, And a sparger (230) for separating the gas supplied to the first accommodating part (420) from the supply pipe (220) into fine particles.

제3항에 있어서,
상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 제1 수용부(420)의 공간을 초과하는 세정액을 배출하기 위한 액체배출관(240)과, 상기 제1 수용부(420)에 위치되는 기체의 양을 제어하는 기체배출관(250)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.
The method of claim 3,
The compact unit 200 includes a liquid discharge pipe 240 for discharging the cleaning liquid exceeding the space of the first accommodating portion 420 and a liquid discharge pipe 240 for controlling the amount of gas located in the first accommodating portion 420 Further comprising a gas exhaust pipe (250).
제4항에 있어서,
상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 액체공급관(210), 기체공급관(220), 액체배출관(240), 기체배출관(250)이 일체로 결합되는 것을 특징으로 하는 초음파 세정 장치.
5. The method of claim 4,
Wherein the compact unit (200) is integrally coupled to the liquid supply pipe (210), the gas supply pipe (220), the liquid discharge pipe (240), and the gas discharge pipe (250).
제4항에 있어서,
상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 액체배출관(240) 내부에 상기 액체공급관(210)이 삽입되고, 상기 기체배출관(250)의 내부에 상기 기체공급관(220)이 삽입되는 것을 특징으로 하는 초음파 세정 장치.
5. The method of claim 4,
The compact unit 200 is characterized in that the liquid supply pipe 210 is inserted into the liquid discharge pipe 240 and the gas supply pipe 220 is inserted into the gas discharge pipe 250. Device.
제4항에 있어서,
상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 액체공급관(210), 기체공급관(220), 액체배출관(240), 기체배출관(250)이 서로 일정간격 이격되게 내부에 삽입되는 통합관(260)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파 세정 장치.
5. The method of claim 4,
The compact unit 200 further includes an integrated pipe 260 into which the liquid supply pipe 210, the gas supply pipe 220, the liquid discharge pipe 240, and the gas discharge pipe 250 are inserted at predetermined intervals from each other Wherein the ultrasonic cleaning device comprises:
제4항 내지 제7항 중 선택되는 어느 한 항에 의한 초음파 세정 장치를 포함하는 세정 시스템.
A cleaning system comprising an ultrasonic cleaning device according to any one of claims 4 to 7.
내부에 용해부(110)가 형성되고, 상기 용해부(110)와 외주면 사이에 세정액이 공급되는 유입부(120)가 형성되는 용해케이스(100);
상기 용해부(110)로 기체 및 액체를 공급하여 세정액을 생성하는 컴팩트유닛(200);
내부에 수납부(310)와, 상기 유입부(120)의 하단과 연통되는 제2 유통부(320)와, 상기 용해부(110)와 연통되는 제1 유통부(330)가 형성되는 유통케이스(300);
상기 제1 유통부(330)의 하단과 연통되며 세정액이 수용되는 제1 수용부(420)와, 상기 제2 유통부(320)의 하단과 연통되는 제2 수용부(410)가 형성되는 수용케이스(400);
상기 수납부(310)에 위치되어 상기 용해부(110)로 초음파를 인가하는 선초음파발생기(500);
상기 수납부(310)에 위치되어 상기 제1 수용부(420)로 초음파를 방출하는 초음파 발생기(600)
상기 제1 수용부(420) 하측에 결합되며, 상기 제1 수용부(420)에 위치하는 세정액이 피세정물로 분출되는 다수의 분출홀(720)이 형성되는 다공성나노구조체(700); 및
상기 제2 수용부(410)에 위치되는 세정액을 피세정물로 안내하는 분사부(710)를 포함하는, 초음파 세정 장치.
A dissolution case 110 in which a dissolution part 110 is formed, and an inflow part 120 through which the cleaning solution is supplied is formed between the dissolution part 110 and the outer circumferential surface;
A compact unit 200 for supplying a gas and a liquid to the dissolving unit 110 to generate a cleaning liquid;
And a second flow unit 320 communicating with the lower end of the inflow unit 120. The first flow unit 330 communicates with the dissolution unit 110. [ (300);
A first accommodating part 420 communicating with a lower end of the first circulating part 330 and containing a cleaning liquid and a second accommodating part 410 communicating with a lower end of the second circulating part 320, A case 400;
A pre-ultrasound generator (500) positioned at the storage part (310) and applying ultrasonic waves to the dissolving part (110);
An ultrasonic generator 600 positioned in the storage part 310 and emitting ultrasound to the first storage part 420,
A porous nanostructure 700 coupled to a lower side of the first accommodating portion 420 and having a plurality of ejection holes 720 through which a cleaning liquid located in the first accommodating portion 420 is ejected as an object to be cleaned; And
And a jetting part (710) for guiding the cleaning liquid located in the second containing part (410) to the object to be cleaned.
제9항에 있어서,
상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 용해부(110)로 액체를 공급하는 액체공급관(210)과, 상기 용해부(110)로 기체를 공급하는 기체공급관(220)과, 상기 기체공급관(220)을 통해 상기 용해부(110)로 공급되는 기체를 미세 입자로 분리하는 스파저(230)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.
10. The method of claim 9,
The compact unit 200 includes a liquid supply pipe 210 for supplying liquid to the dissolving unit 110, a gas supply pipe 220 for supplying gas to the dissolving unit 110, And a sparger (230) for separating the gas supplied to the dissolution part (110) into fine particles.
제10항에 있어서,
상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 용해부(110)의 공간을 초과하는 세정액을 배출하는 액체배출관(240)과, 상기 용해부(110)에 위치되는 기체의 양을 제어하는 기체배출관(250)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.
11. The method of claim 10,
The compact unit 200 includes a liquid discharge pipe 240 for discharging a cleaning liquid exceeding a space of the dissolving unit 110 and a gas discharge pipe 250 for controlling the amount of gas located in the dissolving unit 110. [ Further comprising: an ultrasonic cleaning device for cleaning the ultrasonic cleaning device.
제11항에 있어서,
상기 컴팩트유닛(200)은 상기 액체공급관(210), 상기 기체공급관(220), 상기 액체배출관(240), 상기 기체배출관(250)이 일체로 결합되는 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.
12. The method of claim 11,
Wherein the compact unit (200) is integrally coupled to the liquid supply pipe (210), the gas supply pipe (220), the liquid discharge pipe (240), and the gas discharge pipe (250).
제11항에 있어서,
상기 컴팩트유닛(200)은, 상기 액체배출관의 내부에 상기 액체공급관이 삽입되고, 상기 기체배출관의 내부에 상기 기체공급관이 삽입되는 것을 특징으로 하는 초음파 세정 장치.
12. The method of claim 11,
Wherein the compact unit (200) has the liquid supply pipe inserted into the liquid discharge pipe, and the gas supply pipe is inserted into the gas discharge pipe.
제11항에 있어서,
상기 컴팩트유닛은, 상기 액체공급관(210), 기체공급관(220), 액체배출관(240), 기체배출관(250)이 서로 일정간격 이격되게 내부에 삽입되는 통합관(260)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.
12. The method of claim 11,
The compact unit may further include an integration pipe 260 into which the liquid supply pipe 210, the gas supply pipe 220, the liquid discharge pipe 240, and the gas discharge pipe 250 are inserted at predetermined intervals from each other And an ultrasonic cleaning device.
제9항에 있어서,
상기 제1유통부(330) 상에 설치되어 통과하는 세정액의 압력을 제어하고, 세정액에 용해되어 있는 기체 입자를 일정한 크기 이하로 선별하는 보조다공성나노구조체(800)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.
10. The method of claim 9,
The auxiliary porous nanostructure (800) further includes a second porous portion (330) disposed on the first circulation portion (330) to control the pressure of the cleaning liquid passing through the first circulation portion (330) and sorting the gas particles dissolved in the cleaning liquid to a predetermined size or less , An ultrasonic cleaning device.
제9항 내지 제1항 중 선택되는 어느 한 항에 의한 초음파 세정 장치를 포함하는 세정 시스템.A cleaning system comprising an ultrasonic cleaning device according to any one of claims 9 to 11.
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