KR101865348B1 - Apparatus of megasonic cleaner - Google Patents

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이양래
임의수
김현세
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한국기계연구원
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Abstract

본 발명은 전달체를 이용하여 초음파의 음압을 균일하게 세정물질에 전달할 수 있을 뿐만 아니라, 정합층을 이용하여 초음파 전달 능력을 극대화 시켜, 세정 효율을 극대화 시킬 수 있는, 초음파 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an ultrasonic cleaning apparatus capable of maximizing the cleaning efficiency by maximizing the ultrasonic wave transmission capability by using the matching layer as well as transmitting the ultrasonic sound pressure uniformly to the cleaning substance using the carrier.

Description

초음파 세정 장치{APPARATUS OF MEGASONIC CLEANER}[0001] APPARATUS OF MEGASONIC CLEANER [0002]

본 발명은 초음파 분사 노즐에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 일반 산업용 기구 또는 반도체 기판을 세정하기 위한 초음파 분사 노즐에 관한 것이다.The present invention relates to an ultrasonic jet nozzle, and more particularly, to an ultrasonic jet nozzle for cleaning a general industrial instrument or a semiconductor substrate.

일반적인 산업용 세척기, 공업용 세척기는 기계가공, 부품제조 또는 채석 등에 의해 가공, 제조된 부품 또는 광물 (이하 '피세정물'이라고 함)들을 세척시켜 상기 피세정물에 묻어있는 이물질 또는 오일 등을 제거함으로써, 부품의 조립, 출고 포장 또는 제품가치성을 향상시키는 데 사용되는 장치이다.In general industrial washing machines and industrial washing machines, parts or minerals (hereinafter referred to as "washed articles") processed and manufactured by machining, parts manufacturing or quarrying are washed to remove impurities or oil which are on the articles to be cleaned , Components used to assemble parts, packaging goods, or improve product value.

또한, 반도체 세척기는 반도체 기판을 세척시켜 반도체 기판에 묻어있는 이물질 또는 오일 등을 제거함으로써, 부품의 조립, 출고 포장 또는 제품가치성을 향상시키는 데 사용되는 장치이다.In addition, the semiconductor washer is a device used to clean parts of a semiconductor substrate to remove impurities or oil, etc., on the semiconductor substrate, to assemble the parts, to deliver the packages, or to improve the product value.

산업용 세척기 또는 반도체 세척기는 세척 방법에 따라 세정액을 고압으로 분사하는 스프레이형 세척기, 또는 부품을 세정액에 담근 후 초음파 발생에 의해 세척되도록 하는 초음파형 세척기(이하, '초음파 세척기'라고 함) 등으로 구분된다.Industrial washing machines or semiconductor washing machines are classified into a spray type washing machine for spraying the washing liquid at a high pressure according to a washing method or an ultrasonic washing machine for washing the components by ultrasonic wave after immersing the washing liquid in a washing liquid (hereinafter referred to as an ultrasonic washing machine) do.

종래기술 한국공개특허 제2011-0090120호는 공급되는 세정액에 초음파를 부여하여 세정물에 분사함으로써 그 표면을 세정하도록 된 것으로서, 상기 세정액이 유입되는 유입부가 마련된 상부 노즐 하우징과, 상기 유입부와 대응되는 위치에 분사공이 마련되고, 일 측면에는 가스가 공급되기 위한 가스 공급부가 마련되는 하부 노즐 하우징으로 이루어진 노즐 하우징; 상기 유입부의 주변에 배치되어 초음파를 발생시키기 위한 압전세라믹; 및 상기 유입부로 유입된 세정액이 통과되어 상기 분사공으로 분사되도록 하기 위한 관통공을 구비하여 일측이 상기 압전세라믹에 접촉된 상태로 상기 노즐 하우징 내부에 배치되어 그 외측면과 상기 하부 노즐 하우징의 내측면 사이에 상기 분사공과 연결되는 통로를 형성하는 진동소자를 포함하고, 상기 유입부로 유입된 세정액이 상기 압전세라믹에 의해 진동하는 진동소자의 관통공을 통과하면서 초음파를 받음과 동시에 상기 가스 공급부로부터 통로를 통하여 공급되는 가스에 의해 상기 분사공을 통하여 세정물의 표면에 미세하게 분사되는 것을 특징으로 하는 초음파 세정 장치를 제시하였다.Korean Patent Laid-Open Publication No. 2011-0090120 discloses an apparatus for cleaning a surface of a cleaning liquid by supplying ultrasonic waves to the cleaning liquid and spraying the cleaning liquid on the surface of the cleaning liquid, comprising an upper nozzle housing provided with an inflow portion into which the cleaning liquid flows, And a lower nozzle housing having a gas supply part for supplying a gas to one side of the nozzle housing; A piezoelectric ceramic disposed around the inlet to generate ultrasonic waves; And a through hole for allowing the cleaning liquid introduced into the inflow portion to pass through and sprayed to the injection hole, wherein the through hole is disposed inside the nozzle housing in a state where one side is in contact with the piezoelectric ceramics, Wherein the cleaning liquid introduced into the inlet portion receives ultrasonic waves while passing through the through hole of the vibration element vibrating by the piezoelectric ceramic, and at the same time, the ultrasonic wave is transmitted from the gas supply portion to the passage And is finely sprayed to the surface of the cleaned object through the injection hole by the gas supplied through the nozzle.

그러나 종래기술은 압전세라믹에서 발생한 초음파가 진동소자의 관통공 내벽에 부딪혀 반사되는 반사파가 발생하여 초음파의 음압 분포가 불균일한 상태로 세정액에 전달됨으로써, 세정액에 전달되는 초음파의 음압 분포가 불균일하여 세정액의 세정 효율이 저하되는 문제점이 있었다.However, in the related art, reflected waves generated by the ultrasonic waves generated in the piezoelectric ceramics collide with the inner wall of the through hole of the vibration element are generated, so that the sound pressure distribution of the ultrasonic waves is transmitted to the cleaning liquid in a nonuniform distribution, so that the sound pressure distribution of the ultrasonic waves transmitted to the cleaning liquid is uneven, The cleaning efficiency of the cleaning blade is deteriorated.

따라서 상술한 문제점을 해결하기 위한 다양한 초음파 세정 장치의 개발이 필요한 실정이다.Therefore, it is necessary to develop various ultrasonic cleaning apparatuses to solve the above-mentioned problems.

한국공개특허 제2011-0090120호 (2011.08.10)Korean Patent Publication No. 2011-0090120 (2011.08.10) 한국등록특허 제1599214호 (2014.07.28)Korean Patent No. 1599214 (2014.07.28) 한국등록특허 제1544504호 (2013.10.14)Korean Patent No. 1544504 (Oct. 14, 2013)

본 발명의 목적은 초음파발생장치에서 방출된 초음파를 세정물질로 음압 분포가 균일해진 상태로 전달하여, 피세정물의 세정 효율을 극대화할 수 있는 초음파 세정 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an ultrasonic cleaning apparatus capable of maximizing cleaning efficiency of an object to be cleaned by transmitting ultrasonic waves emitted from an ultrasonic wave generator in a state in which a sound pressure distribution is uniformized by a cleaning material.

본 발명에 따른 초음파 세정 장치는 내부에 수납부(110), 제1 유통부(130)가 각각 형성되는 유통케이스(100); 상기 제1 유통부(130)의 하단과 연통되는 제1 수용부(220)가 형성되는 수용케이스(200); 상기 제1 유통부(130)에 설치되며 상기 제1 수용부(220)로 세정물질을 공급하는 컴팩트유닛(300); 상기 수납부(110)에 위치되며 상기 제1 수용부(220)를 향해 초음파를 인가하는 초음파발생장치(410)와, 상기 초음파발생장치(410)의 하측에 밀착 결합되며 상기 제1 수용부(220)로 초음파를 전달하는 전달체(420)를 포함하는 초음파 인가부(400); 및 상기 제 1 수용부(220)의 하단에 결합되며 상기 제1 수용부(220)에 위치된 세정물질을 피세정물로 분출하는 다수의 분출홀(620)이 형성된 다공성나노구조체(600); 를 포함하는 것을 특징으로 한다.The ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention includes a flow case 100 in which a receiving portion 110 and a first flow portion 130 are formed, respectively; A receiving case 200 in which a first receiving part 220 communicating with a lower end of the first circulating part 130 is formed; A compact unit 300 installed at the first circulation unit 130 and supplying cleaning material to the first storage unit 220; An ultrasonic wave generating device 410 positioned at the receiving part 110 and applying ultrasonic waves toward the first receiving part 220 and a second receiving part 440 closely fitted to the lower side of the ultrasonic wave generating device 410, An ultrasound application unit 400 including a carrier 420 for transmitting ultrasound to the ultrasound probe 220; And a plurality of ejection holes (620) coupled to a lower end of the first accommodating part (220) and ejecting a cleaning material located in the first accommodating part (220) to the object to be cleaned; And a control unit.

또한, 상기 전달체(420)는 상하 높이방향 길이가 좌우 및 전후 길이보다 길게 형성되는 것을 특징으로 한다.The length of the carrier 420 in the up-and-down direction is longer than that in the left-right direction and the back-and-forth direction.

또한, 상면이 상기 전달체(420)의 하측에 결합되며 하측이 상기 제1 수용부(220)까지 연장 형성되는 정합층(700)을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.And a matching layer 700 having an upper surface coupled to the lower side of the carrier 420 and a lower side extended to the first receiving portion 220.

또한, 상기 컴팩트유닛(300)은 상기 제1 수용부(220)로 액체를 공급하는 액체공급관(310)과, 제1 수용부(220)로 기체를 공급하는 기체공급관(320)과, 상기 기체공급관(320)에서 상기 제1 수용부(220)로 공급되는 기체를 미세 입자로 분리하는 스파저(330)를 포함하는 것을 특징으로 한다.The compact unit 300 includes a liquid supply pipe 310 for supplying liquid to the first accommodating unit 220, a gas supply pipe 320 for supplying gas to the first accommodating unit 220, And a sparger (330) for separating the gas supplied from the supply pipe (320) into the first storage part (220) into fine particles.

또한, 상기 컴팩트유닛(300)은, 상기 제1 수용부(220)의 공간을 초과하는 세정물질을 배출하기 위한 액체배출관(340)과, 상기 제1 수용부(220)에 위치되는 기체의 양을 제어하는 기체배출관(350)을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The compact unit 300 may further include a liquid discharge pipe 340 for discharging the cleaning material that exceeds the space of the first accommodating part 220 and an amount of gas located in the first accommodating part 220 And a gas discharge pipe (350) for controlling the gas discharge pipe (350).

또한, 상기 컴팩트유닛(300)은, 상기 액체공급관(310)과, 기체공급관(320)과, 액체배출관(340)과, 기체배출관(350)이 서로 일체로 결합되는 것을 특징으로 한다.The compact unit 300 is characterized in that the liquid supply pipe 310, the gas supply pipe 320, the liquid discharge pipe 340, and the gas discharge pipe 350 are integrally coupled to each other.

또한, 상기 컴팩트유닛(300)은 상기 액체배출관(340)의 내부에 상기 액체공급관(310)이 삽입되고, 상기 기체배출관(350)의 내부에 상기 기체공급관(320)이 삽입되는 것을 특징으로 한다.The compact unit 300 is characterized in that the liquid supply pipe 310 is inserted into the liquid discharge pipe 340 and the gas supply pipe 320 is inserted into the gas discharge pipe 350 .

또한, 상기 컴팩트유닛(300)은 상기 액체공급관(310), 기체공급관(320), 액체배출관(340), 기체배출관(350)이 내부에 일정간격 이격 삽입되는 통합관(360)을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The compact unit 300 further includes an integration pipe 360 in which the liquid supply pipe 310, the gas supply pipe 320, the liquid discharge pipe 340, and the gas discharge pipe 350 are inserted at predetermined intervals .

또한, 상기 정합층(700)은 음향 임피던스값이 상기 전달체(420) 보다 낮고 상기 제1 수용부(220)에 위치되는 유체보다 높은 매질인 것을 특징으로 한다.The matching layer 700 is characterized in that the acoustic impedance is lower than that of the carrier 420 and is higher than that of the fluid located in the first receiving portion 220.

또한, 상기 유통케이스(100)에 형성되는 제2 유통부(120)와, 상기 수용케이스(200)에 형성되며 상기 제2 유통부(120)의 하단과 연통되는 제2 수용부(210)와, 상기 제2 수용부(210)에 위치된 세정액을 피세정물로 안내하는 분사부(610)를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.A second accommodating portion 210 formed in the accommodating case 200 and communicating with a lower end of the second accommodating portion 120; , And a jetting unit (610) for guiding the cleaning liquid located in the second accommodating unit (210) to the object to be cleaned.

본 발명에 따른 초음파 세정 장치는 초음파 발생장치에서 발생된 초음파를 전달체를 이용하여 제1 수용부 상에 위치되는 세정물질에 음압이 균일해진 상태로 전달하여, 세정 효율을 극대화 하는 것이다.The ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention maximizes the cleaning efficiency by transmitting the ultrasonic waves generated from the ultrasonic wave generating device to the cleaning material positioned on the first receiving portion in a state in which the negative pressure is uniform.

또한, 전달체와 제1 수용부 사이에 정합층을 위치시켜, 전달체와 제1 수용부에 위치되는 세정물질의 음향 임피던스 값이 차이가 클 경우 초음파가 유체에 잘 절달되지 않는 문제점을 해소하는 것이다.In addition, the matching layer is positioned between the carrier and the first accommodating portion, thereby eliminating the problem that ultrasonic waves are not easily transmitted to the fluid when the acoustic impedance values of the carrier and the cleaning material located in the first accommodating portion are large.

따라서, 제1 수용부에 위치되는 세정물질에 일정한 음압을 가할 수 있을 뿐만 아니라, 세정물질에 대응하여 초음파를 전달하는 물질의 음향 임피던스 값을 제어할 수 있으므로, 세정대상과 세정방법에 대응하여 세정에 사용되는 물질을 가변할 수 있는 장점이 있다.Therefore, it is possible not only to apply a constant negative pressure to the cleaning material located in the first accommodating portion but also to control the acoustic impedance value of the substance that transmits the ultrasonic wave in accordance with the cleaning material, It is possible to vary the material used in the process.

즉, 세정 물질로 액체, 기체, 기체 입자가 함유된 액체 등 서로 다른 성질을 가지는 물질을 선택 사용 가능한 것이다.That is, a substance having different properties such as a liquid, a gas, and a liquid containing gas particles can be selectively used as a cleaning substance.

도 1은 본 발명에 따른 초음파 세정 장치의 개략도
도 2 내지 도 3은 본 발명에 따른 컴팩트유닛의 실시예 1을 나타낸 사시도
도 4는 본 발명에 따른 컴팩트유닛의 실시예 2를 나타낸 사시도
도 5는 본 발명에 따른 컴팩트유닛의 실시예 3을 나타낸 사시도
도 6은 본 발명에 따른 초음파 세정 장치에 사용될 수 있는 높이조절부를 나타낸 사시도.1 is a schematic view of an ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention;
2 to 3 are perspective views showing a first embodiment of a compact unit according to the present invention.
4 is a perspective view showing a second embodiment of the compact unit according to the present invention.
5 is a perspective view showing a third embodiment of the compact unit according to the present invention.
FIG. 6 is a perspective view illustrating a height adjusting unit that can be used in the ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention. FIG.

이하, 본 발명의 기술적 사상을 첨부된 도면을 사용하여 더욱 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the technical idea of the present invention will be described more specifically with reference to the accompanying drawings.

첨부된 도면은 본 발명의 기술적 사상을 더욱 구체적으로 설명하기 위하여 도시한 일예에 불과하므로 본 발명의 기술적 사상이 첨부된 도면의 형태에 한정되는 것은 아니다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are included to provide a further understanding of the technical concept of the present invention, are incorporated in and constitute a part of the specification, and are not intended to limit the scope of the present invention.

본 발명의 방향표시에 있어서, 도면의 상측을 상측, 도면의 하측을 하측으로 정의하기로 한다.In the direction display of the present invention, the upper side of the drawing is defined as the upper side, and the lower side of the drawing is defined as the lower side.

도 1은 본 발명에 따른 초음파 세정 장치의 개략도이다.1 is a schematic view of an ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention.

도 1을 참조하여 설명하면, 본 발명인 초음파 세정 장치(1000)는 내부에 수납부(110), 제1 유통부(130), 제2 유통부(120)가 형성되는 유통케이스(100)와, 상기 제1 유통부(130)의 하단과 연통되는 제1 수용부(220)와, 상기 제2 유통부(120)의 하단과 연통되는 제2 수용부(210)가 형성되는 수용케이스(200)와, 상기 제1 유통부(130)에 설치되며 상기 제1 수용부(220)로 세정물질을 공급하는 컴팩트유닛(300)과, 상기 수납부(110)에 위치되며 상기 제1 수용부(220)를 향해 초음파를 인가하는 초음파발생장치(410)와, 상기 초음파발생장치(410)의 하측에 밀착 결합되며, 상기 제1 수용부(220)로 초음파를 전달하는 전달체(420)를 포함하는 초음파 인가부(400)와, 상기 제1 수용부(220)의 하단에 결합되며 상기 제1 수용부(220)에 위치된 유체를 피세정물로 분출하는 다수의 분출홀(620)이 형성된 다공성나노구조체(600) 및 상기 제2 수용부(210)에 위치된 세정액을 피세정물로 안내하는 분사부(610)를 포함하여 이루어진다.1, the ultrasonic cleaning apparatus 1000 according to the present invention includes a flow case 100 in which a receiving portion 110, a first flow portion 130, and a second flow portion 120 are formed, A receiving case 200 having a first receiving part 220 communicating with a lower end of the first circulating part 130 and a second receiving part 210 communicating with a lower end of the second circulating part 120, A compact unit 300 installed at the first circulation unit 130 and supplying cleaning material to the first storage unit 220 and a second storage unit 220 located at the storage unit 110, And a transducer 420 which is tightly coupled to the lower side of the ultrasonic wave generator 410 and transmits the ultrasonic wave to the first receiver 220. The ultrasonic wave generator 410 applies ultrasound waves to the ultrasonic wave generator 410, A plurality of ejection holes 620 are formed which are connected to the lower end of the first accommodating portion 220 and eject the fluid located in the first accommodating portion 220 to the object to be cleaned Castle comprises the nanostructure 600 and the ejecting portion 610 for guiding the washing liquid located in the second receiving portion 210 to the object to be cleaned.

상세히 설명하면, 상기 수용케이스(200) 내부에 형성된 상기 제1 수용부(220)에 액체와 기체 중 선택되는 어느 하나 이상을 공급하여, 피세정물을 세정하는 세정물질로 사용하고, 세정물질에 상기 초음파발생장치(410)에서 초음파를 인가하여, 세정물질이 상기 다공성나노구조체(600)에 형성된 분출홀(620)을 통해 피세정물로 분출되어, 피세정물을 세정하는 것이다.More specifically, at least one selected from a liquid and a gas may be supplied to the first accommodating portion 220 formed in the accommodating case 200 to be used as a cleaning material for cleaning the object to be cleaned, Ultrasonic waves are applied by the ultrasonic generator 410 to spray the cleaning material through the spray holes 620 formed in the porous nanostructure 600 to the object to be cleaned.

이때, 상기 세정물질은 상기 컴팩트유닛(300)을 통해 공급되는 액체, 기체, 액체와 기체가 혼합된 세정액 등이 가능하므로 한정하지 않는다.At this time, the cleaning material is not limited to a liquid, a gas supplied through the compact unit 300, a cleaning liquid mixed with a liquid and a gas, and the like.

즉, 상기 액체는 초순수, 기능수 등일 수 있고, 상기 기체는 질소, 수소, 산소 등일 수 있으며, 상기 세정액은 초순수, 화학액 등과 질소, 수소, 산소 등이 혼합된 혼합액일 수 있는 것이다.That is, the liquid may be ultrapure water, functional water or the like, and the gas may be nitrogen, hydrogen, oxygen, or the like, and the cleaning liquid may be a mixture of ultra pure water, chemical liquid, and nitrogen, hydrogen,

따라서, 본 발명인 초음파 세정장치는 세정대상에 대응하여 상기 제1 수용부(220)에 기체를 공급하여 건식 세정을 행할 수 있을 뿐만 아니라, 액체 또는 액체와 기체를 모두 공급하여 습식 세정 또한 가능하다.Therefore, in the ultrasonic cleaning apparatus of the present invention, not only the dry cleaning can be performed by supplying the gas to the first accommodating portion 220 corresponding to the object to be cleaned, but also the liquid or the liquid and the gas can be supplied for wet cleaning.

그리고, 상기 제1 수용부(220)에 위치되는 세정물질은 수 나노 내지 마이크로 크기의 직경을 가지는 상기 분출홀(620)을 통과하여 피세정물질로 균일하게 분출될 수 있음은 물론이다.It is a matter of course that the cleaning material located in the first accommodating part 220 can be uniformly ejected through the ejection hole 620 having a diameter of several nanometers to a micro size with the material to be cleaned.

또한, 본 발명인 초음파 세정 장치는 상기 초음파발생장치(410)에서 발생한 초음파가 상기 전달체(420)를 통해 상기 제1 수용부(220)에 위치되는 세정물질로 인가되므로, 세정물질에 인가되는 초음파의 음압을 일정하게 할 수 있다.In the ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention, the ultrasonic waves generated in the ultrasonic wave generator 410 are applied to the first accommodating part 220 through the carrier 420, The sound pressure can be made constant.

상세히 설명하면, 초음파가 세정물질로 이동하는 거리가 짧을 경우 초음파가 일정 지역에 집중되어 제1 수용부(220)에 위치되는 세정물질에 압력이 일정하지 않게 가해져, 피세정물로 방출되는 세정물질의 세기가 위치별로 일정하지 않는 문제가 발생할 수 있다.Specifically, when the distance traveled by the ultrasonic waves to the cleaning material is short, the ultrasonic waves are concentrated in a certain area, the pressure is not constantly applied to the cleaning material located in the first accommodating part 220, There is a problem that the intensity of the light is not constant for each position.

따라서, 상기 초음파발생장치(410)에서 상기 세정물질을 향하여 이동하는 초음파의 이동경로에 일정 이상의 경도를 가지며, 상하 높이방향 길이가 좌우 및 전후 길이방향보다 길게 형성된 전달체(420)를 위치시켜, 초음파의 음압이 전달체(420)를 통해 이동하며 조절되게 되게 한 것이다.Accordingly, a carrier 420 having a hardness of at least a certain level in the movement path of the ultrasonic waves moving toward the cleaning material in the ultrasonic wave generator 410 and having a length in the vertical direction is longer than that in the vertical direction, So that the sound pressure of the sound is shifted and adjusted through the carrier 420.

다시한번 설명하면, 초음파발생장치(410)에서 발생한 초음파는 상기 전달체(420)에서 니어필드(Near Field)와 파필드(Far Field) 형태로 진행한다.The ultrasound generated in the ultrasonic wave generator 410 travels in the form of a near field and a far field in the carrier 420.

니어필드는 압전소자와 근거리음장에서 발생하는 것으로 직진성을 가지는 구간을 말하며, 파필드는 초음파가 니어필드가 끝나고 초음파가 소정의 각도로 확산되어 진행하는 구간을 말한다.The near field refers to a section that occurs in a piezoelectric element and a near field sound field and has a straight line. A far field refers to a section in which ultrasonic waves propagate after the near field ends and the ultrasonic waves propagate at a predetermined angle.

이 때, 상기 전달체(420)에서 초음파의 음압분포는 니어필드보다 일정길이 이상의 파필드에서 좀 더 균일해지므로, 상기 초음파발생장치(410)에서 발생한 초음파가 니어필드를 거쳐서 파필드에 이른 후 세정물질에 도달하게 하기 위하여, 전달체(420)의 높이방향 길이를 좌우 및 전후 길이보다 길게 형성한 것이다.At this time, since the sound pressure distribution of the ultrasonic waves in the carrier 420 becomes more uniform in the wave field longer than the near field, the ultrasonic waves generated in the ultrasonic wave generator 410 reach the wave field through the near field, The height direction length of the carrier 420 is longer than the left and right and front and rear lengths so as to reach the material.

그리고, 상기 전달체(420)는 상측 단부가 상기 초음파발생장치(410)의 하측에 밀착되고, 하측이 상기 세정물질이 위치되는 상기 제1 수용부(220)까지 연장 형성될 수 있으며, 필요에 따라 상기 전달체(420)의 하측에 정합층(700)을 더 결합할 수도 있다.The upper end of the carrier 420 may be closely attached to the lower side of the ultrasonic generator 410 and the lower side may extend to the first receiving portion 220 where the cleaning material is located. The matching layer 700 may further be coupled to the lower side of the carrier 420.

상세히 설명하면, 본 발명인 초음파 세정 장치는 세정 대상과 세정 방법에 대응하여 상기 세정물질이 액체, 기체, 기체입자가 용해된 액체 등 다양한 특성을 가지는 물질로 가변될 수 있다.In detail, in the ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention, the cleaning substance may be changed into a substance having various properties such as a liquid, a gas, and a liquid in which gas particles are dissolved, corresponding to a cleaning object and a cleaning method.

이때, 액체의 경우 기체에 비하여 음향 임피던스 값이 크고, 기체의 경우 음향 임피던스 값이 액체에 비하여 상대적으로 낮으므로, 일정한 음향 임피던스 값을 가지는 상기 전달체(420)와 차이가 발생하여 초음파가 잘 전달되지 않을 수 있다.At this time, since the acoustic impedance value of the liquid is larger than that of the gas and the acoustic impedance value of the gas is relatively lower than that of the liquid, the difference is generated between the transmitter 420 having a constant acoustic impedance value and the ultrasonic wave is not transmitted .

따라서, 본 발명에는 상기 전달체(420)의 하측에 세정물질에 초음파가 잘 전달될 수 있는 상기 정합층(700)을 형성하여, 세정물질이 가변되어도 초음파의 전달이 잘 이루어질 수 있게 한 것이다.Accordingly, in the present invention, the matching layer 700 capable of transmitting ultrasonic waves to the cleaning material is formed on the lower side of the carrier 420, so that the ultrasonic wave can be transmitted well even if the cleaning material is varied.

그리고, 상기 정합층(700)은 음향 임피던스값이 상기 전달체(420) 보다 낮고 상기 제1 수용부(220)에 위치되는 세정물질보다 높거나 같은 매질인 것은 물론이며, 정합층(700)은 서로 음향 임피던스값이 다른 복수개의 정합층 유닛으로 구성되고, 각각의 정합층 유닛은 상기 정합층(420)에서 제1 수용부(220)로 가까워 질수록 음향 임피던스값이 낮아질 수 있다.Of course, the matching layer 700 is a medium having an acoustic impedance value lower than that of the carrier 420 and higher than or equal to a cleaning material positioned in the first accommodation portion 220, The acoustic impedance value may be lowered as the matching layer unit is closer to the first receiving portion 220 in the matching layer 420. In this case,

아울러, 상기 제2 유통부(120)는 외부에서 기능수, 버블수, 초순수 등을 포함하는 세정액을 공급받아 상기 제2 수용부(210)와 상기 분사부(610)를 통해 피세정물로 세정액을 안내한다.In addition, the second circulation unit 120 receives the cleaning liquid including the functional water, bubble water, ultrapure water, and the like from the outside, and supplies the cleaning liquid through the second storage unit 210 and the jetting unit 610 to the cleaning liquid .

상세히 설명하면, 일반적으로 피세정물을 세정할 경우 상기 분출홀(620)을 통해 피세정물로 방출되는 세정물질만 사용하여도 충분하지만, 세정 과정에서 추가적인 세정이 필요하거나, 린스공정이 필요한 경우 상기 제2 유통부(120)와 상기 제2 수용부(210) 및 상기 분사부(610)를 통해 필요한 공정에 대응되는 세정액을 방출하여, 본 발명인 초음파 세정 장치를 통하여 다양한 방식의 세정공정이 가능하게 한 것이다.In general, when cleaning the object to be cleaned, it is sufficient to use only the cleaning material that is discharged through the blowhole 620 as the object to be cleaned. However, if additional cleaning is required in the cleaning process, or a rinse process is required The cleaning liquid corresponding to a necessary process is discharged through the second circulation part 120, the second storage part 210 and the jet part 610, and various cleaning processes can be performed through the ultrasonic cleaning device of the present invention .

이하, 본 발명에 따른 컴팩트유닛의 다양한 실시예에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, various embodiments of the compact unit according to the present invention will be described.

<컴팩트유닛(300)의 실시예 1>&Lt; Embodiment 1 of the compact unit 300 >

도 2 내지 도 5는 본 발명에 따른 컴팩트유닛(300)의 제1 실시예를 나타내고 있다.2 to 5 show a first embodiment of the compact unit 300 according to the present invention.

도 2 내지 도 5를 참조하여 설명하면, 상기 컴팩트유닛(300)은 상기 제1 수용부(220)로 액체를 공급하는 액체공급관(310)과, 상기 제1 수용부(220)로 기체를 공급하는 기체공급관(320)과, 액체배출관(340)과, 기체배출관(350)을 포함하며, 도 1에 도시된 바와 같이 상기 기체공급관(320)에서 상기 제1 수용부(220)로 공급되는 기체를 미세 입자로 분리하는 스파저(330)를 포함하여 이루어질 수 있다.2 to 5, the compact unit 300 includes a liquid supply pipe 310 for supplying a liquid to the first accommodating unit 220, 1, the gas supply pipe 320 includes a gas supply pipe 320, a liquid discharge pipe 340, and a gas discharge pipe 350. The gas supply pipe 320 is connected to the first storage unit 220, And a sparger 330 for separating the fine particles into fine particles.

상세히 설명하면, 상기 액체공급관(310)이 상기 제1 수용부(220)로 액체를 공급하여 액체를 세정물질로 사용할 수 있고, 상기 기체공급관(320)이 제1 수용부(220)로 기체를 공급하여 기체를 세정물질로 사용할 수 있으며, 상기 액체공급관(310)이 상기 제1 수용부(220)로 액체를 공급하고 상기 기체공급관(320)이 상기 제1 수용부(220)로 기체를 공급하여 제1 수용부(220)에서 세정액을 형성하여 세정물질로 사용하되, 기체공급관(320)을 통해 제1 수용부(220)로 기체 공급 시 상기 스파저(330)를 통과하게 함으로서, 기체가 스파저(330)를 통과하며 미세 기체 입자 상태로 액체공급관(310)에서 공급된 액체에 용해될 수 있게 한 것이다.In detail, the liquid supply pipe 310 may supply liquid to the first accommodating part 220 to use a liquid as a cleaning material, and the gas supply pipe 320 may supply gas to the first accommodating part 220 The liquid supply pipe 310 supplies the liquid to the first accommodating unit 220 and the gas supply pipe 320 supplies the gas to the first accommodating unit 220, The cleaning liquid is used as a cleaning material in the first accommodating part 220 and is allowed to pass through the sparger 330 when the gas is supplied to the first accommodating part 220 through the gas supply pipe 320, And can be dissolved in the liquid supplied from the liquid supply pipe 310 in the state of fine gaseous particles passing through the sparger 330.

이때, 상기 스파저(330)는 통과하는 액체를 미세 기체 입자로 분리할 수 있으면 충분하므로 다양한 구조 및 형상을 가질 수 있으나, 나노 마이크로 구조체인 것을 권장하며, 나노 마이크로 구조체는 나노 또는 마이크로 크기의 공극이 형성된 메쉬 형상일 수 있음은 물론이다.At this time, the sparger 330 may have various structures and shapes because it is enough to separate the liquid passing through it into fine gas particles. However, it is recommended that the sparger 330 is a nano microstructure, and the nano microstructure may have nano- or micro- It is a matter of course that the mesh shape may be formed.

그리고, 상기 액체배출관(340)은 상기 제1 수용부(220)의 공간을 초과하는 세정액 또는 액체를 배출할 수 있으며, 상기 기체배출관(350)은 상기 제1 수용부(220)에 위치되는 기체의 양을 제어할 수 있다.The liquid discharge pipe 340 may discharge a cleaning liquid or a liquid exceeding the space of the first accommodating part 220. The gas exhaust pipe 350 may be disposed in the first accommodating part 220, Can be controlled.

상세히 설명하면, 상기 액체공급관(310)과 상기 기체공급관(320)을 통해 외부에서 액체와 기체 중 어느 하나 이상이 지속적으로 공급될 경우, 제1 수용부(220)의 부피를 초과하는 액상의 세정물질 또는 액상의 세정물질에 미세 기체 입자가 용해된 세정액이 제1 수용부(220)에 위치되어, 제1 수용부(220) 외부로 방출되는 문제가 발생할 수 있으므로, 상기 액체배출관(340)을 통해 제1 수용부(420)에 위치되는 액체 및 세정액의 양을 제어하는 것이다.More specifically, when at least one of the liquid and the gas is continuously supplied from the outside through the liquid supply pipe 310 and the gas supply pipe 320, a liquid cleaning process that exceeds the volume of the first storage unit 220 The cleaning liquid in which the fine gas particles are dissolved in the cleaning substance of the substance or the liquid may be located in the first accommodating portion 220 and may be discharged to the outside of the first accommodating portion 220. Therefore, The amount of the liquid and the amount of the cleaning liquid located in the first accommodating portion 420 is controlled.

이때, 상기 기체배출관(350)은 제1 수용부(220)에 위치되는 세정액에 용해된 기체의 양 또한 제어할 수 있음은 물론이다.In this case, it is needless to say that the gas exhaust pipe 350 can also control the amount of gas dissolved in the cleaning liquid located in the first accommodating portion 220.

또한, 본 발명에서 상기 컴팩트유닛(200)은 도 2에 도시된 바와 같이 상기 액체공급관(310)과, 상기 기체공급관(320)과, 상기 액체배출관(340) 및 상기 기체배출관(350)이 부채꼴 형상으로 이루어져 서로 일체로 결합될 수 있으며, 이 외에도 도 3에 도시된 바와 같이 각각의 공급관 및 배출관이 원형의 단면 형상을 가지며 외주면이 연결되는 일체형으로 형성될 수 있다. 그리고, 이외에도 이하에서 개시하는 다양한 구조를 가지는 것이 가능하다.2, the compact unit 200 according to the present invention includes the liquid supply pipe 310, the gas supply pipe 320, the liquid discharge pipe 340, and the gas discharge pipe 350, And each of the supply pipes and the discharge pipes may have a circular cross-sectional shape as shown in FIG. 3, and the outer peripheral surfaces may be connected to each other. In addition, it is possible to have various structures disclosed below.

<컴팩트유닛(300)의 실시예 2>&Lt; Embodiment 2 of the compact unit 300 >

도 4를 참조하면, 컴팩트유닛(300)은 상기 액체배출관(340) 내부에 상기 액체공급관(310)이 삽입되고, 상기 기체배출관(350)의 내부에 상기 기체공급관(320)이 삽입되는 구조로 형성될 수 있으며, 상기 액체배출관(340)과 기체배출관(350)은 외주면이 서로 연결된 결합 형태일 수 있다.4, the compact unit 300 has a structure in which the liquid supply pipe 310 is inserted into the liquid discharge pipe 340 and the gas supply pipe 320 is inserted into the gas discharge pipe 350 And the liquid discharge pipe 340 and the gas discharge pipe 350 may have an outer peripheral surface connected to each other.

<컴팩트유닛(300)의 실시예 3>&Lt; Embodiment 3 of the compact unit 300 >

도 5를 참조하면, 컴팩트유닛(300)은 통합관(360)을 더 포함하고, 상기 통합관(360)의 내부에 상기 액체공급관(310)과, 상기 기체공급관(320)과, 상기 액체배출관(340)과, 상기 기체배출관(350)이 서로 일정간격 이격 배치될 수 있다. 5, the compact unit 300 further includes an integration pipe 360, and the liquid pipe 310, the gas supply pipe 320, the liquid discharge pipe 320, (340), and the gas discharge pipe (350) may be spaced apart from each other by a predetermined distance.

또한, 도 6을 참조하여 설명하면 본 발명인 초음파 세정 장치는 피세정물로 도포되는 세정액의 두께를 일정하게 하기 위한 세정액 높이조절부(10)가 더 구비될 수 있다.Referring to FIG. 6, the ultrasonic cleaning apparatus of the present invention may further include a cleaning liquid height adjusting unit 10 for uniformizing the thickness of the cleaning liquid applied by the object to be cleaned.

상세히 설명하면, 세정액을 피세정물에 도포할 경우 피세정물에 도포되는 세정액의 두께가 일정하지 않게 되므로, 상기 분출홀(620)을 통해 방출되는 세정물질에 의해 발생하는 압력파가 일정하지 않아, 피세정물의 세정이 불균일하게 될 수 있으므로, 세정액 높이조절부(10)를 이용하여 피세정물에 도포되는 세정액의 두께를 균일하게 하여 주는 것이다.In detail, when the cleaning liquid is applied to the object to be cleaned, the thickness of the cleaning liquid applied to the object to be cleaned becomes uneven, so that the pressure wave generated by the cleaning material discharged through the ejection hole 620 is not constant , The cleaning of the object to be cleaned may become uneven, so that the thickness of the cleaning liquid applied to the object to be cleaned is made uniform by using the cleaning liquid height adjusting portion 10.

이때, 상기 높이조절부(10)는 상기 유통케이스(100), 상기 수용케이스(200) 또는 어떠한 임의의 대상물에 결합되어, 피세정물의 상측에 일정한 거리 이격된 상태로 고정되며, 상기 분사부(610)를 통해 방출되는 세정액이 높이조절부(10)의 내측에 형성된 공간(11)으로 유입된다.At this time, the height adjusting unit 10 is coupled to the flow case 100, the case 200, or any arbitrary object, is fixed at a predetermined distance above the object to be cleaned, 610 are introduced into the space 11 formed inside the height adjusting portion 10. [0051]

즉, 상기 높이조절부(10)는 피세정물에 대응하는 원형 또는 다각 형상을 가지되 상하 방향으로 일정한 두께를 가져, 분사부(610)에서 피세정물에 도포하는 세정액이 높이조절부(10)의 두께만큼 일정하게 도포되는 것이다.That is, the height adjusting unit 10 has a circular or polygonal shape corresponding to the object to be cleaned and has a predetermined thickness in the vertical direction, and the cleaning liquid applied to the object to be cleaned in the jetting unit 610 is supplied to the height adjusting unit 10 Of the thickness of the coating layer.

따라서, 피세정물의 표면에 형성된 미세 패턴이 파손되는 것을 방지하고, 세정이 균일하게 이루어질 수 있다.Therefore, the fine pattern formed on the surface of the object to be cleaned is prevented from being broken, and the cleaning can be made uniform.

그리고, 상기 높이조절부(10)는 상측에 형성된 연결부(12)를 통해 외부 대상과 결합될 수 있고, 세정액이 넘치는 상면이 일정한 높이를 가져야 함은 물론이다.The height adjuster 10 may be coupled to an external object through a connecting portion 12 formed on the upper side, and the upper surface overflowing with the washing liquid must have a constant height.

아울러, 본 발명인 초음파 세정 장치는 도면상에서 상기 제2 유통부(120)와, 상기 제2 수용부(210)와 상기 분사부(610)가 유통케이스(100)와 수용케이스(200)의 가장자리에 형성된 것을 도시하였지만, 이러한 구성은 습식 세정에 용이한 대표적 구성이며, 건식 세정 시 상기 제2 유통부(120)와 제2 수용부(210)와 상기 분사부(610)가 형성되지 않을 수 있다.The ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention is characterized in that the second circulation part 120 and the second reception part 210 and the jet part 610 are disposed at the edges of the circulation case 100 and the case 200 The second housing portion 210 and the jetting portion 610 may not be formed during the dry cleaning operation. [0051] As shown in FIG.

본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 적용범위가 다양함은 물론이고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이다.It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

1000 : 본 발명에 따른 초음파 세정 장치
100 : 유통케이스
110 : 수납부
120 : 제2유통부
130 : 제1유통부
200 : 수용케이스
210 : 제2수용부
220 : 제1수용부
300 : 컴팩트유닛
310 : 액체공급관
320 : 기체공급관
330 : 스파저
340 : 액체배출관
350 : 기체배출관
360 : 통합관
400 : 초음파 인가부
410 : 초음파발생장치
420 : 전달체
600 : 다공성나노구조체
610 : 분사부
620 : 분출홀
700 : 정합층1000: The ultrasonic cleaning apparatus according to the present invention
100: Distribution case
110:
120: Second Distribution Section
130: first distribution section
200: housing case
210:
220: first accommodating portion
300: Compact unit
310: liquid supply pipe
320: gas supply pipe
330: Spas
340: liquid discharge pipe
350: gas discharge pipe
360: Integration Tube
400: ultrasonic wave applying unit
410: Ultrasonic generator
420: Carrier
600: Porous nanostructure
610:
620: Spout hole
700: matching layer

Claims (10)

삭제delete 내부에 수납부(110), 제1 유통부(130)가 각각 형성되는 유통케이스(100);
상기 제1 유통부(130)의 하단과 연통되는 제1 수용부(220)가 형성되는 수용케이스(200);
상기 제1 유통부(130)에 설치되며 상기 제1 수용부(220)로 세정물질을 공급하는 컴팩트유닛(300);
상기 수납부(110)에 위치되며 상기 제1 수용부(220)를 향해 초음파를 인가하는 초음파발생장치(410)와, 상기 초음파발생장치(410)의 하측에 밀착 결합되며 상기 제1 수용부(220)로 초음파를 전달하는 전달체(420)를 포함하는 초음파 인가부(400); 및
상기 제 1 수용부(220)의 하단에 결합되며 상기 제1 수용부(220)에 위치된 세정물질을 피세정물로 분출하는 다수의 분출홀(620)이 형성된 다공성나노구조체(600); 를 포함하되,
상기 전달체(420)는 상하 높이방향 길이가 좌우 및 전후 길이보다 길게 형성되는 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.
A flow case (100) in which a storage portion (110) and a first flow portion (130) are formed, respectively;
A receiving case 200 in which a first receiving part 220 communicating with a lower end of the first circulating part 130 is formed;
A compact unit 300 installed at the first circulation unit 130 and supplying cleaning material to the first storage unit 220;
An ultrasonic wave generating device 410 positioned at the receiving part 110 and applying ultrasonic waves toward the first receiving part 220 and a second receiving part 440 closely fitted to the lower side of the ultrasonic wave generating device 410, An ultrasound application unit 400 including a carrier 420 for transmitting ultrasound to the ultrasound probe 220; And
A porous nanostructure 600 coupled to a lower end of the first accommodating part 220 and having a plurality of ejection holes 620 for ejecting a cleaning material located in the first accommodating part 220 into a material to be cleaned; , &Lt; / RTI &
Wherein the length of the carrier 420 in the up-and-down height direction is longer than the length of the left-right direction and the back-and-forth direction.
내부에 수납부(110), 제1 유통부(130)가 각각 형성되는 유통케이스(100);
상기 제1 유통부(130)의 하단과 연통되는 제1 수용부(220)가 형성되는 수용케이스(200);
상기 제1 유통부(130)에 설치되며 상기 제1 수용부(220)로 세정물질을 공급하는 컴팩트유닛(300);
상기 수납부(110)에 위치되며 상기 제1 수용부(220)를 향해 초음파를 인가하는 초음파발생장치(410)와, 상기 초음파발생장치(410)의 하측에 밀착 결합되며 상기 제1 수용부(220)로 초음파를 전달하는 전달체(420)를 포함하는 초음파 인가부(400); 및
상기 제 1 수용부(220)의 하단에 결합되며 상기 제1 수용부(220)에 위치된 세정물질을 피세정물로 분출하는 다수의 분출홀(620)이 형성된 다공성나노구조체(600); 를 포함하되,
상면이 상기 전달체(420)의 하측에 결합되며 하측이 상기 제1 수용부(220)까지 연장 형성되는 정합층(700)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.
A flow case (100) in which a storage portion (110) and a first flow portion (130) are formed, respectively;
A receiving case 200 in which a first receiving part 220 communicating with a lower end of the first circulating part 130 is formed;
A compact unit 300 installed at the first circulation unit 130 and supplying cleaning material to the first storage unit 220;
An ultrasonic wave generating device 410 positioned at the receiving part 110 and applying ultrasonic waves toward the first receiving part 220 and a second receiving part 440 closely fitted to the lower side of the ultrasonic wave generating device 410, An ultrasound application unit 400 including a carrier 420 for transmitting ultrasound to the ultrasound probe 220; And
A porous nanostructure 600 coupled to a lower end of the first accommodating part 220 and having a plurality of ejection holes 620 for ejecting a cleaning material located in the first accommodating part 220 into a material to be cleaned; , &Lt; / RTI &
Further comprising a matching layer (700) having an upper surface coupled to a lower side of the carrier (420) and a lower side extended to the first receiving portion (220).
내부에 수납부(110), 제1 유통부(130)가 각각 형성되는 유통케이스(100);
상기 제1 유통부(130)의 하단과 연통되는 제1 수용부(220)가 형성되는 수용케이스(200);
상기 제1 유통부(130)에 설치되며 상기 제1 수용부(220)로 세정물질을 공급하는 컴팩트유닛(300);
상기 수납부(110)에 위치되며 상기 제1 수용부(220)를 향해 초음파를 인가하는 초음파발생장치(410)와, 상기 초음파발생장치(410)의 하측에 밀착 결합되며 상기 제1 수용부(220)로 초음파를 전달하는 전달체(420)를 포함하는 초음파 인가부(400); 및
상기 제 1 수용부(220)의 하단에 결합되며 상기 제1 수용부(220)에 위치된 세정물질을 피세정물로 분출하는 다수의 분출홀(620)이 형성된 다공성나노구조체(600); 를 포함하되,
상기 컴팩트유닛(300)은 상기 제1 수용부(220)로 액체를 공급하는 액체공급관(310)과, 제1 수용부(220)로 기체를 공급하는 기체공급관(320)과, 상기 기체공급관(320)에서 상기 제1 수용부(220)로 공급되는 기체를 미세 입자로 분리하는 스파저(330)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.
A flow case (100) in which a storage portion (110) and a first flow portion (130) are formed, respectively;
A receiving case 200 in which a first receiving part 220 communicating with a lower end of the first circulating part 130 is formed;
A compact unit 300 installed at the first circulation unit 130 and supplying cleaning material to the first storage unit 220;
An ultrasonic wave generating device 410 positioned at the receiving part 110 and applying ultrasonic waves toward the first receiving part 220 and a second receiving part 440 closely fitted to the lower side of the ultrasonic wave generating device 410, An ultrasound application unit 400 including a carrier 420 for transmitting ultrasound to the ultrasound probe 220; And
A porous nanostructure 600 coupled to a lower end of the first accommodating part 220 and having a plurality of ejection holes 620 for ejecting a cleaning material located in the first accommodating part 220 into a material to be cleaned; , &Lt; / RTI &
The compact unit 300 includes a liquid supply pipe 310 for supplying liquid to the first accommodating portion 220, a gas supply pipe 320 for supplying gas to the first accommodating portion 220, And a sparger (330) for separating the gas supplied to the first accommodating part (220) into fine particles.
제 4항에 있어서,
상기 컴팩트유닛(300)은, 상기 제1 수용부(220)의 공간을 초과하는 액상의 세정물질을 배출하기 위한 액체배출관(340)과, 상기 제1 수용부(220)에 위치되는 기체의 양을 제어하는 기체배출관(350)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.
5. The method of claim 4,
The compact unit 300 includes a liquid discharge pipe 340 for discharging a liquid cleaning substance exceeding a space of the first accommodating unit 220 and a liquid discharge pipe Further comprising a gas exhaust pipe (350) for controlling the gas exhaust pipe (350).
제 5항에 있어서,
상기 컴팩트유닛(300)은, 상기 액체공급관(310)과, 기체공급관(320)과, 액체배출관(340)과, 기체배출관(350)이 서로 일체로 결합되는 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.
6. The method of claim 5,
Wherein the compact unit 300 is integrally coupled to the liquid supply pipe 310, the gas supply pipe 320, the liquid discharge pipe 340, and the gas discharge pipe 350.
제 6항에 있어서,
상기 컴팩트유닛(300)은 상기 액체배출관(340)의 내부에 상기 액체공급관(310)이 삽입되고, 상기 기체배출관(350)의 내부에 상기 기체공급관(320)이 삽입되는 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.
The method according to claim 6,
The compact unit 300 is characterized in that the liquid supply pipe 310 is inserted into the liquid discharge pipe 340 and the gas supply pipe 320 is inserted into the gas discharge pipe 350. Cleaning device.
제 6항에 있어서,
상기 컴팩트유닛(300)은 상기 액체공급관(310), 기체공급관(320), 액체배출관(340), 기체배출관(350)이 내부에 일정간격 이격 삽입되는 통합관(360)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.
The method according to claim 6,
The compact unit 300 further includes an integrated pipe 360 in which the liquid supply pipe 310, the gas supply pipe 320, the liquid discharge pipe 340, and the gas discharge pipe 350 are inserted at predetermined intervals, And an ultrasonic cleaning device.
제 3항에 있어서,
상기 정합층(700)은 음향 임피던스값이 상기 전달체(420) 보다 낮고 상기 제1 수용부(220)에 위치되는 세정물질보다 높거나 같은 매질인 것을 특징으로 하는, 초음파 세정 장치.
The method of claim 3,
Wherein the matching layer (700) is a medium having an acoustical impedance value lower than that of the carrier (420) and higher than or equal to a cleaning material located in the first accommodating portion (220).
내부에 수납부(110), 제1 유통부(130)가 각각 형성되는 유통케이스(100);
상기 제1 유통부(130)의 하단과 연통되는 제1 수용부(220)가 형성되는 수용케이스(200);
상기 제1 유통부(130)에 설치되며 상기 제1 수용부(220)로 세정물질을 공급하는 컴팩트유닛(300);
상기 수납부(110)에 위치되며 상기 제1 수용부(220)를 향해 초음파를 인가하는 초음파발생장치(410)와, 상기 초음파발생장치(410)의 하측에 밀착 결합되며 상기 제1 수용부(220)로 초음파를 전달하는 전달체(420)를 포함하는 초음파 인가부(400); 및
상기 제 1 수용부(220)의 하단에 결합되며 상기 제1 수용부(220)에 위치된 세정물질을 피세정물로 분출하는 다수의 분출홀(620)이 형성된 다공성나노구조체(600); 를 포함하되,
상기 유통케이스(100)에 형성되는 제2 유통부(120)와, 상기 수용케이스(200)에 형성되며 상기 제2 유통부(120)의 하단과 연통되는 제2 수용부(210)와, 상기 제2 수용부(210)에 위치된 세정액을 피세정물로 안내하는 분사부(610)를 더 포함하는, 초음파 세정 장치.A flow case (100) in which a storage portion (110) and a first flow portion (130) are formed, respectively;
A receiving case 200 in which a first receiving part 220 communicating with a lower end of the first circulating part 130 is formed;
A compact unit 300 installed at the first circulation unit 130 and supplying cleaning material to the first storage unit 220;
An ultrasonic wave generating device 410 positioned at the receiving part 110 and applying ultrasonic waves toward the first receiving part 220 and a second receiving part 440 closely fitted to the lower side of the ultrasonic wave generating device 410, An ultrasound application unit 400 including a carrier 420 for transmitting ultrasound to the ultrasound probe 220; And
A porous nanostructure 600 coupled to a lower end of the first accommodating part 220 and having a plurality of ejection holes 620 for ejecting a cleaning material located in the first accommodating part 220 into a material to be cleaned; , &Lt; / RTI &
A second accommodating portion 210 formed in the accommodating case 200 and communicating with a lower end of the second accommodating portion 120; Further comprising a jetting section (610) for guiding the cleaning liquid located in the second containing section (210) to the object to be cleaned.
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