KR20180029064A - Color composition, fluorescence sensor and method for manufacturing fluorescence sensor - Google Patents
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Abstract
검출 감도가 우수한 형광 센서를 얻는 것이 가능한 착색 조성물, 검출 감도가 우수한 형광 센서, 및 검출 감도가 우수한 형광 센서의 제조 방법을 제공한다.
형광 센서의 이미션 필터 형성용 착색 조성물로서, 컬러 인덱스 피그먼트 레드 144, 및 컬러 인덱스 피그먼트 레드 166으로부터 선택되는 적어도 1종의 적색 안료와, 수지와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제와, 용제를 포함한다.Provided are a coloring composition capable of obtaining a fluorescence sensor having excellent detection sensitivity, a fluorescence sensor having excellent detection sensitivity, and a method of manufacturing a fluorescence sensor having excellent detection sensitivity.
A coloring composition for forming an emission filter of a fluorescent sensor, comprising at least one red pigment selected from Color Index Pigment Red 144 and Color Index Pigment Red 166, a resin, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, .
Description
본 발명은 착색 조성물, 형광 센서 및 형광 센서의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a coloring composition, a fluorescence sensor and a method for producing a fluorescence sensor.
DNA(데옥시리보 핵산) 등의 시료를 시약과 반응시키고, 이 시료에 여기광을 조사하여 그로부터 발광되는 형광을 검출함으로써, 시료의 검사를 행하는 형광 센서가 있다.There is a fluorescence sensor in which a sample such as DNA (deoxyribonucleic acid) or the like is reacted with a reagent, excitation light is irradiated on the sample, and fluorescence emitted from the excitation light is detected.
형광 센서에 의한 검사는, 시료에 대하여 여기광을 조사하여, 시료로부터 발생한 형광을, 이미션 필터를 통하여 소정 파장의 형광을 투과시켜, 이미션 필터를 투과한 형광을 관찰하여 행하고 있다.In the inspection by the fluorescence sensor, the excitation light is irradiated on the sample, and the fluorescence generated from the sample is transmitted through the emission filter through the emission filter to observe the fluorescence transmitted through the emission filter.
형광 센서의 이미션 필터로서, 예를 들면, 적색 안료를 이용한 필터가 사용되고 있다. 적색 안료로서는, 종래부터 컬러 인덱스 피그먼트 레드 254가 사용되고 있다.As an emissive filter of a fluorescent sensor, for example, a filter using a red pigment is used. As the red pigment, color index pigment red 254 is conventionally used.
한편, 특허문헌 1에는, 크로모프탈 레드 BRN(컬러 인덱스 피그먼트 레드 144)과, 감광성 수지를 포함하는 조성물을 이용하여, 화상 표시 장치용 적색 컬러 필터를 제조하는 것이 기재되어 있다.On the other hand,
또 특허문헌 2에는, 컬러 인덱스 피그먼트 레드 144와, 폴리바이닐알코올과, 계면활성제와, 물을 포함하는 조성물을 이용하여, 화상 표시 장치용 적색 컬러 필터를 제조하는 것이 기재되어 있다.
본 발명자가 형광 센서에 대하여 예의 검토한바, 컬러 인덱스 피그먼트 레드 254를 사용한 이미션 필터는, 여기광에 의하여 형광이 발생하기 쉽고, 형광 센서의 검출 감도가 저하되기 쉬운 것을 알 수 있었다.As a result of intensive investigation of the fluorescence sensor by the present inventor, it has been found that the emission filter using the color index pigment red 254 easily generates fluorescence by the excitation light, and the detection sensitivity of the fluorescence sensor is apt to be deteriorated.
한편, 특허문헌 1, 2는, 형광 센서에 관한 기재나 시사는 없다.On the other hand,
따라서 본 발명의 목적은, 검출 감도가 우수한 형광 센서를 얻는 것이 가능한 착색 조성물, 검출 감도가 우수한 형광 센서, 및 형광 센서의 제조 방법을 제공하는 것에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a coloring composition capable of obtaining a fluorescence sensor having excellent detection sensitivity, a fluorescence sensor having excellent detection sensitivity, and a method for producing a fluorescence sensor.
본 발명자는 형광 센서의 이미션 필터 형성용 착색 조성물에 대하여 예의 검토한 결과, 컬러 인덱스 피그먼트 레드 144, 및 컬러 인덱스 피그먼트 레드 166은, 여기광에 의하여 형광이 발생하기 어려운 안료인 것을 발견했다. 그리고, 착색 조성물에 대하여 검토를 진행시킨바, 착색 조성물을 이용하여 형성한 두께 3.0μm의 막의, 파장 534nm의 광으로 여기했을 때의 파장 600~700nm 범위의 형광의 적분 강도를, 컬러 인덱스 피그먼트 레드 254를 함유하는 후술하는 경화막의, 파장 534nm의 광으로 여기했을 때의 파장 600~700nm의 범위의 형광의 적분 강도로 나눈 값이 0.5 이하인 착색 조성물을 이용하는 것으로도, 검출 감도가 우수한 형광 센서를 얻을 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 본 발명은 이하를 제공한다.The present inventors have intensively studied a coloring composition for forming an emission filter of a fluorescence sensor, and as a result, found that color index pigment red 144 and color index pigment red 166 are pigments in which fluorescence is hardly generated by excitation light . When the coloring composition was examined, the integrated intensity of fluorescence in the wavelength range of 600 to 700 nm when the film having a thickness of 3.0 탆 formed by using the coloring composition was excited with light having a wavelength of 534 nm was measured using Color Index Pigment A fluorescent sensor having an excellent detection sensitivity can be obtained by using a coloring composition having a value of 0.5 or less divided by the integrated intensity of fluorescence in a wavelength range of 600 to 700 nm when the cured film containing red 254 is excited by light having a wavelength of 534 nm And have reached the present invention. The present invention provides the following.
<1> 형광 센서의 이미션 필터 형성용 착색 조성물로서,≪ 1 > A colored composition for forming an emulsion filter of a fluorescence sensor,
적색 안료와, 수지와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제와, 용제를 포함하고,A red pigment, a resin, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent,
착색 조성물을 이용하여 형성한, 두께 3.0μm의 막의, 파장 534nm의 광으로 여기했을 때의 파장 600~700nm 범위의 형광의 적분 강도를,The integrated intensity of fluorescence in a wavelength range of 600 to 700 nm when a film having a thickness of 3.0 탆 formed by using a coloring composition was excited by light having a wavelength of 534 nm,
컬러 인덱스 피그먼트 레드 254를 전체 고형분 중에 40질량% 함유하는, 두께 3.0μm의 경화막 A의, 파장 534nm의 광으로 여기했을 때의 파장 600~700nm의 범위의 형광의 적분 강도로 나눈 값이 0.5 이하인, 착색 조성물.A value obtained by dividing the cured film A having a thickness of 3.0 占 퐉 and containing the color pigment Pigment Red 254 by 40% by mass in the total solid content divided by the integral intensity of fluorescence in a wavelength range of 600 to 700 nm when excited by light of 534 nm wavelength was 0.5 ≪ / RTI >
<2> 형광 센서의 이미션 필터 형성용 착색 조성물로서,≪ 2 > A colored composition for forming an emulsion filter of a fluorescence sensor,
컬러 인덱스 피그먼트 레드 144, 및 컬러 인덱스 피그먼트 레드 166으로부터 선택되는 적어도 1종의 적색 안료와, 수지와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제와, 용제를 포함하는 착색 조성물.Color Index Pigment Red 144, and Color Index Pigment Red 166, a resin, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.
<3> 적색 안료의 평균 입경이 5~500nm인, <1> 또는 <2>에 기재된 착색 조성물.<3> The coloring composition according to <1> or <2>, wherein the average particle diameter of the red pigment is 5 to 500 nm.
<4> 중합성 화합물이, 중합성 모노머인, <1> 내지 <3> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<4> The coloring composition according to any one of <1> to <3>, wherein the polymerizable compound is a polymerizable monomer.
<5> 중합성 모노머가, 라디칼 중합성기를 3개 이상 갖는, <4>에 기재된 착색 조성물.<5> The coloring composition according to <4>, wherein the polymerizable monomer has three or more radically polymerizable groups.
<6> 중합성 모노머가, 알킬렌옥시기를 갖는, <4> 또는 <5>에 기재된 착색 조성물.<6> The coloring composition according to <4> or <5>, wherein the polymerizable monomer has an alkyleneoxy group.
<7> 중합성 모노머가, 알킬렌옥시기를 반복 단위로서 2 이상 포함하는 쇄를 갖는, <6>에 기재된 착색 조성물.<7> The coloring composition according to <6>, wherein the polymerizable monomer has a chain containing at least two alkyleneoxy groups as repeating units.
<8> 수지가, 그래프트 공중합체를 포함하는, <1> 내지 <7> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<8> The coloring composition according to any one of <1> to <7>, wherein the resin comprises a graft copolymer.
<9> 수지가, 하기 식 (1)~(4) 중 어느 하나로 나타나는 반복 단위를 포함하는 수지를 포함하는, <1> 내지 <8> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물;<9> The colored composition according to any one of <1> to <8>, wherein the resin comprises a resin containing a repeating unit represented by any one of the following formulas (1) to (4)
[화학식 1][Chemical Formula 1]
식 (1)~식 (4)에 있어서, W1, W2, W3, 및 W4는 각각 독립적으로 산소 원자, 또는 NH를 나타내고,In the formulas (1) to (4), W 1 , W 2 , W 3 and W 4 each independently represent an oxygen atom or NH,
X1, X2, X3, X4, 및 X5는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 1가의 유기기를 나타내며,X 1 , X 2 , X 3 , X 4 , and X 5 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group,
Y1, Y2, Y3, 및 Y4는 각각 독립적으로 2가의 연결기를 나타내고,Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 each independently represent a divalent linking group,
Z1, Z2, Z3, 및 Z4는 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내며,Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 each independently represent a monovalent organic group,
R3은 알킬렌기를 나타내고,R 3 represents an alkylene group,
R4는 수소 원자 또는 1가의 유기기를 나타내며,R 4 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group,
n, m, p, 및 q는 각각 독립적으로 1~500의 정수를 나타내고,n, m, p, and q each independently represent an integer of 1 to 500,
j 및 k는 각각 독립적으로 2~8의 정수를 나타내며,j and k each independently represent an integer of 2 to 8,
식 (3)에 있어서, p가 2~500일 때, 복수 존재하는 R3은 서로 동일해도 되고 달라도 되며,In the formula (3), when p is 2 to 500, plural R 3 may be the same or different,
식 (4)에 있어서, q가 2~500일 때, 복수 존재하는 X5 및 R4는 서로 동일해도 되고 달라도 된다.In the formula (4), when q is 2 to 500, a plurality of X 5 and R 4 present may be the same or different.
<10> <1> 내지 <9> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물을 이용한 이미션 필터를 갖는 형광 센서.<10> A fluorescent sensor having an emission filter using the coloring composition according to any one of <1> to <9>.
<11> 형광 센서가, 시료에 대하여, 여기광을 조사하여 이용하는 것인, <10>에 기재된 형광 센서.≪ 11 > The fluorescence sensor according to < 10 >, wherein the fluorescence sensor irradiates the sample with excitation light.
<12> 형광 센서가 DNA 센서인, <10> 또는 <11>에 기재된 형광 센서.<12> The fluorescence sensor according to <10> or <11>, wherein the fluorescence sensor is a DNA sensor.
<13> <1> 내지 <9> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물을 이용하여 이미션 필터를 형성하는 공정을 갖는 형광 센서의 제조 방법.≪ 13 > A method for producing a fluorescent sensor having a step of forming an emissive filter using the coloring composition according to any one of < 1 > to < 9 >.
본 발명에 의하면, 검출 감도가 우수한 형광 센서를 얻는 것이 가능한 착색 조성물, 검출 감도가 우수한 형광 센서, 및 검출 감도가 우수한 형광 센서의 제조 방법을 제공하는 것이 가능해졌다.According to the present invention, it is possible to provide a coloring composition capable of obtaining a fluorescence sensor having excellent detection sensitivity, a fluorescence sensor having excellent detection sensitivity, and a method of manufacturing a fluorescence sensor having excellent detection sensitivity.
도 1은 본 발명의 형광 센서의 일 실시형태의 개략 구성도이다.
도 2는 본 발명의 형광 센서의 다른 실시형태의 개략 구성도이다.1 is a schematic configuration diagram of an embodiment of a fluorescence sensor of the present invention.
2 is a schematic configuration diagram of another embodiment of the fluorescence sensor of the present invention.
본 명세서에 있어서, 전체 고형분이란, 조성물의 전체 성분으로부터 용제를 제외한 성분의 총 질량을 말한다. 또 고형분이란, 25℃에 있어서의 고형분을 말한다.As used herein, the term "total solid content" refers to the total mass of components excluding the solvent from the total components of the composition. The solid content refers to the solid content at 25 占 폚.
본 명세서에 있어서의 기(원자단)의 표기에 있어서, 치환 및 무치환을 기재하지 않은 표기는, 치환기를 갖지 않는 것과 함께 치환기를 갖는 것도 포함하는 것이다. 예를 들면 "알킬기"란, 치환기를 갖지 않는 알킬기(무치환 알킬기)뿐만 아니라, 치환기를 갖는 알킬기(치환 알킬기)도 포함하는 것이다.In the notation of the group (atomic group) in the present specification, the notation in which substitution and non-substitution are not described includes those having a substituent and having a substituent. For example, the "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (an unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
본 명세서 중에 있어서의 "방사선"이란, 예를 들면 수은등의 휘선 스펙트럼, 엑시머 레이저로 대표되는 원자외선, 극자외선(EUV광), X선, 전자선 등을 의미한다. 또 본 발명에 있어서 광이란, 활성광선 또는 방사선을 의미한다. 본 명세서 중에 있어서의 "노광"이란, 특별히 설명하지 않는 한, 수은등, 엑시머 레이저로 대표되는 원자외선, X선, EUV광 등에 의한 노광뿐만 아니라, 전자선, 이온빔 등의 입자선에 의한 묘화도 노광에 포함시킨다.The term "radiation " in the present specification means, for example, a line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet ray, extreme ultraviolet ray (EUV light) represented by an excimer laser, X-ray or electron ray. In the present invention, light means an actinic ray or radiation. The term "exposure" in this specification refers to not only exposure by deep ultraviolet rays such as mercury lamps and excimer lasers, X-rays, EUV light, etc., but also imaging by particle beams such as electron beams and ion beams, .
본 명세서에 있어서, "(메트)아크릴레이트"는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 쌍방, 또는 어느 하나를 나타내고, “(메트)아크릴”은 아크릴 및 메타크릴의 쌍방, 또는 어느 하나를 나타내며, "(메트)아크릴로일"은 아크릴로일 및 메타크릴로일의 쌍방, 또는 어느 하나를 나타내고, "(메트)알릴"은 알릴 및 메탈릴의 쌍방, 또는 어느 하나를 나타낸다.As used herein, the term " (meth) acrylate "refers to both or either of acrylate and methacrylate, and " (Meth) acryloyl "represents either or both acryloyl and methacryloyl, and" (meth) allyl "represents either or both of allyl and methallyl.
본 명세서에 있어서, 화학식 중의 Me는 메틸기를, Et는 에틸기를, Pr은 프로필기를, Bu는 뷰틸기를, Ph는 페닐기를 각각 나타낸다.In the present specification, Me in the formula represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Pr indicates a propyl group, Bu indicates a butyl group, and Ph indicates a phenyl group.
본 명세서에 있어서 "공정"이라는 말은, 독립적인 공정뿐만 아니라, 다른 공정과 명확하게 구별할 수 없는 경우이더라도 그 공정의 소기의 작용이 달성되면, 본 용어에 포함된다.In the present specification, the term " process "is included in this term, not only in the independent process but also in the case where the desired action of the process is achieved even if it can not be clearly distinguished from other processes.
본 명세서에 있어서, 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량은, 젤 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC) 측정에서의 폴리스타이렌 환산값으로서 정의된다. 본 명세서에 있어서, 중량 평균 분자량(Mw) 및 수평균 분자량(Mn)은, 예를 들면 HLC-8220(도소(주)제)을 이용하여, 칼럼으로서 TSKgel Super AWM-H(도소(주)제, 6.0mmID(내경)×15.0cm)를, 용리액으로서 10mmol/L 리튬 브로마이드 NMP(N-메틸피롤리딘온) 용액을 이용함으로써 구할 수 있다.In the present specification, the weight average molecular weight and the number average molecular weight are defined as polystyrene reduced values in Gel Permeation Chromatography (GPC) measurement. In this specification, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) can be measured by using, for example, HLC-8220 (manufactured by TOSOH CORPORATION) as a column, TSKgel Super AWM- , 6.0 mm ID (inner diameter) x 15.0 cm) can be obtained by using 10 mmol / L lithium bromide NMP (N-methylpyrrolidinone) solution as an eluent.
본 발명에 이용되는 안료는, 용제에 용해되기 어려운 불용성의 색소 화합물을 의미한다. 전형적으로는, 조성물 중에 입자로서 분산된 상태로 존재하는 색소 화합물을 의미한다. 여기에서, 용제란, 임의의 용제를 들 수 있고, 예를 들면 후술하는 용제의 란에서 예시하는 용제를 들 수 있다. 본 발명에 이용되는 안료는, 예를 들면 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트 및 물 중 어느 것에 대해서도, 25℃에 있어서의 용해도가 0.1g/100g Solvent 이하가 바람직하다.The pigment used in the present invention means an insoluble dye compound which is hardly soluble in a solvent. Typically, it refers to a pigment compound present as dispersed as particles in a composition. Here, examples of the solvent include any solvent, and examples thereof include solvents exemplified in the column of the solvent to be described later. The pigment used in the present invention preferably has a solubility of 0.1 g / 100 g Solvent or less at 25 DEG C, for example, propylene glycol monomethyl ether acetate and water.
<착색 조성물><Coloring composition>
본 발명의 착색 조성물은, 형광 센서의 이미션 필터 형성용 착색 조성물로서, 이하의 (1) 또는 (2)의 요건을 충족시키는 착색 조성물이다.The coloring composition of the present invention is a coloring composition for forming an emission filter of a fluorescence sensor and satisfies the following requirements (1) or (2).
(1): 적색 안료와, 수지와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제와, 용제를 포함하고, 착색 조성물을 이용하여 형성한, 두께 3.0μm의 막을, 파장 534nm의 광으로 여기했을 때의 파장 600~700nm 범위의 형광의 적분 강도를, 컬러 인덱스 피그먼트 레드 254를 전체 고형분 중에 40질량% 함유하는, 두께 3.0μm의 경화막 A의, 파장 534nm의 광으로 여기했을 때의 파장 600~700nm의 범위의 형광의 적분 강도로 나눈 값이 0.5 이하이다.(1): A film having a thickness of 3.0 m formed by using a coloring composition containing a red pigment, a resin, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent was irradiated with light having a wavelength of 534 nm, The integrated intensity of the fluorescence in the range of 1 to 700 nm was measured in a range of a wavelength of 600 to 700 nm when the cured film A having a thickness of 3.0 m and excited by light of a wavelength of 534 nm containing 40% by mass of the color index pigment red 254 in the total solid content Of the fluorescence intensity is 0.5 or less.
경화막 A는, 평균 입경 50nm의 컬러 인덱스 피그먼트 레드 254를 5질량%와, 식 D-1로 나타나는 수지를 1.5질량%와, 식 PZ-1로 나타나는 안료 유도체를 0.075질량%와, 식 M-1로 나타나는 중합성 화합물을 0.7질량%와, 식 B-2로 나타나는 수지를 4.925질량%와, 식 I-1로 나타나는 광중합 개시제를 0.3질량%를 포함하며, 잔부가 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트인 조성물을 유리 기재 상에 경화 후의 막두께가 3.0μm가 되도록 도포하고, 도포막을 100℃에서 건조한 후, i선을 1000mJ/cm2의 노광량으로 노광하여 얻어진 경화막인 것이 바람직하다. 또한 D-1의 중량 평균 분자량은 38000이며, 각 반복 단위(주쇄)에 병기한 수치는, 각 반복 단위의 함유량(질량비)을 나타내고, 측쇄의 반복 부위에 병기되는 수치는, 반복 부위의 반복 수를 나타낸다. 또 B-2의 중량 평균 분자량은 12000이며, 각 반복 단위(주쇄)에 병기한 수치는, 각 반복 단위의 함유량(질량비)을 나타낸다.The cured film A was obtained by mixing 5% by mass of Color Index Pigment Red 254 having an average particle diameter of 50 nm, 1.5% by mass of a resin represented by Formula D-1, 0.075% by mass of a pigment derivative represented by Formula PZ- -1, 0.7% by mass of a polymerizable compound represented by the formula B-2, 4.925% by mass of a resin represented by the formula B-2 and 0.3% by mass of a photopolymerization initiator represented by the formula I-1, the remainder being propylene glycol monomethyl after drying in ether acetate so that the coating thickness 3.0μm after curing the composition on the glass substrate, and the
[화학식 2](2)
(2): 컬러 인덱스 피그먼트 레드 144, 및 컬러 인덱스 피그먼트 레드 166으로부터 선택되는 적어도 1종의 적색 안료와, 수지와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제와, 용제를 포함한다.(2): color index pigment red 144, and color index pigment red 166, a resin, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.
본 발명에 의하면, 상기 (1) 또는 (2)의 착색 조성물을 이용함으로써, 여기광에 대하여 낮은 형광성을 갖는 이미션 필터를 형성하는 것이 가능해졌다.According to the present invention, it is possible to form an emissive filter having low fluorescence with respect to the excitation light by using the color composition of (1) or (2).
또 컬러 인덱스 피그먼트 레드 144, 및 컬러 인덱스 피그먼트 레드 166은, 여기광에 대하여 특히 낮은 형광성을 갖고, 나아가서는, 내열성도 우수하기 때문에, 여기광에 대하여 보다 낮은 형광성을 가지며, 나아가서는, 내열성이 우수한 이미션 필터를 형성할 수 있다.The color index pigment red 144 and the color index pigment red 166 have particularly low fluorescence with respect to the excitation light and further have excellent heat resistance and therefore have a lower fluorescence with respect to the excitation light, This excellent emissive filter can be formed.
그리고, 본 발명의 착색 조성물을 이용한 이미션 필터는, 여기광에 대하여 낮은 형광성을 갖기 때문에, 본 발명의 착색 조성물을 이용한 이미션 필터를 갖는 형광 센서는, 이미션 필터에 기인하는 형광에 의한 영향이 작아, 검출 감도가 우수하다.Since the emissive filter using the coloring composition of the present invention has low fluorescence with respect to the excitation light, the fluorescence sensor having an emissive filter using the coloring composition of the present invention is capable of suppressing the influence of fluorescence The detection sensitivity is excellent.
이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.
<착색 조성물><Coloring composition>
<<적색 안료>><< Red pigment >>
본 발명의 착색 조성물은, 적색 안료를 함유한다. 적색 안료는, 아조 골격을 갖는 적색 안료가 바람직하다. 아조 골격을 갖는 적색 안료로서는, 식 R-1로 나타나는 구조를 갖는 화합물이 바람직하다.The coloring composition of the present invention contains a red pigment. The red pigment is preferably a red pigment having an azo skeleton. As the red pigment having an azo skeleton, a compound having a structure represented by the formula R-1 is preferable.
[화학식 3](3)
식 중 R1~R14는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 할로젠 원자를 나타낸다. 할로젠 원자는, 염소 원자, 불소 원자, 브로민 원자 등을 들 수 있고, 염소 원자가 바람직하다.In the formula, R 1 to R 14 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom. The halogen atom includes a chlorine atom, a fluorine atom and a bromine atom, and a chlorine atom is preferable.
R1~R5 중 적어도 2개는, 할로젠 원자이며, 나머지는 수소 원자인 것이 바람직하다. R1~R5 중 2개가, 할로젠 원자이며, 나머지는 수소 원자인 것이 보다 바람직하다. 특히, R1 및 R4가 할로젠 원자이며, R2, R3 및 R5가 수소 원자인 것이 바람직하다.It is preferable that at least two of R 1 to R 5 are a halogen atom and the rest are hydrogen atoms. It is more preferable that two out of R 1 to R 5 are a halogen atom and the rest are hydrogen atoms. Particularly, it is preferable that R 1 and R 4 are halogen atoms, and R 2 , R 3 and R 5 are hydrogen atoms.
R10~R14 중 적어도 2개는, 할로젠 원자이며, 나머지는 수소 원자인 것이 바람직하다. R10~R14 중 2개가, 할로젠 원자이며, 나머지는 수소 원자인 것이 보다 바람직하다. 특히, R10 및 R13이 할로젠 원자이며, R11, R12 및 R14가 수소 원자인 것이 바람직하다.At least two of R 10 to R 14 are preferably a halogen atom and the remainder are hydrogen atoms. It is more preferable that two out of R 10 to R 14 are a halogen atom and the rest are hydrogen atoms. In particular, it is preferable that R 10 and R 13 are halogen atoms, and R 11 , R 12 and R 14 are hydrogen atoms.
R6~R9는, 모두 수소 원자여도 되고, R6~R9 중 적어도 하나가 할로젠 원자이며, 나머지가 수소 원자여도 된다. R6~R9 중 적어도 하나가 할로젠 원자를 나타내는 경우, R7이 할로젠 원자이며, 나머지가 수소 원자 또는 할로젠 원자인 것이 바람직하고, 수소 원자인 것이 더 바람직하다.R 6 to R 9 may all be hydrogen atoms, at least one of R 6 to R 9 may be a halogen atom, and the remainder may be a hydrogen atom. When at least one of R 6 to R 9 represents a halogen atom, it is preferable that R 7 is a halogen atom and the remainder is a hydrogen atom or a halogen atom, more preferably a hydrogen atom.
본 발명에 있어서, 적색 안료는, C. I. 피그먼트 레드 144, 및 C. I. 피그먼트 레드 166으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. C. I. 피그먼트 레드 144, 및 C. I. 피그먼트 레드 166은, 여기광에 대하여 낮은 형광성을 가지므로, 여기광에 대하여 낮은 형광성을 갖는 이미션 필터를 형성할 수 있다.In the present invention, it is preferable that the red pigment contains at least one kind selected from CI Pigment Red 144 and CI Pigment Red 166. C. I. Pigment Red 144, and C.I. Pigment Red 166 have low fluorescence with respect to the excitation light, so that an emissive filter having low fluorescence with respect to the excitation light can be formed.
본 발명에 있어서, 적색 안료의 평균 입경은, 5~1000nm가 바람직하고, 5~500nm가 보다 바람직하다. 상한은 400nm 이하가 바람직하고, 350nm 이하가 더 바람직하며, 300nm 이하가 특히 바람직하다. 본 발명자의 검토에 의하면, 적색 안료의 입경을 작게함으로써, 여기광에 대하여 낮은 형광성을 갖는 경향이 있는 것을 발견했다. 적색 안료의 평균 입경이 상기 범위이면, 여기광에 대하여 보다 더 낮은 형광성을 갖는 이미션 필터를 형성하기 쉽다.In the present invention, the average particle diameter of the red pigment is preferably 5 to 1000 nm, more preferably 5 to 500 nm. The upper limit is preferably 400 nm or less, more preferably 350 nm or less, and particularly preferably 300 nm or less. According to the study by the present inventors, it has been found that by decreasing the particle diameter of the red pigment, there tends to be a low fluorescence with respect to the excitation light. When the average particle diameter of the red pigment is within the above range, it is easy to form an emissive filter having lower fluorescence with respect to the excitation light.
또한 본 발명에 있어서, 적색 안료의 "평균 입경"이란, 적색 안료의 1차 입자가 집합한 2차 입자에 대한 평균 입경이며, 동적 광산란법 등의 방법으로 측정한 값이다.In the present invention, the "average particle diameter" of the red pigment is an average particle diameter of the secondary particles in which the primary particles of the red pigment are aggregated, and is a value measured by a dynamic light scattering method or the like.
본 발명의 착색 조성물에 있어서, 적색 안료의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 10~90질량%가 바람직하다. 하한은 20질량% 이상이 보다 바람직하며, 30질량% 이상이 더 바람직하다. 상한은 80질량% 이하가 보다 바람직하며, 70질량% 이하가 더 바람직하다.In the coloring composition of the present invention, the content of the red pigment is preferably from 10 to 90% by mass relative to the total solid content of the coloring composition. The lower limit is more preferably 20% by mass or more, and more preferably 30% by mass or more. The upper limit is more preferably 80 mass% or less, and still more preferably 70 mass% or less.
또 적색 안료 전체 질량 중에 있어서의, C. I. 피그먼트 레드 144, 및 C. I. 피그먼트 레드 166의 합계 함유량은, 50~100질량%가 바람직하다. 하한은 60질량% 이상이 보다 바람직하고, 70질량% 이상이 더 바람직하며, 80질량% 이상이 특히 바람직하다.The total content of C.I. Pigment Red 144 and C.I. Pigment Red 166 in the total mass of the red pigment is preferably 50 to 100% by mass. The lower limit is more preferably 60 mass% or more, still more preferably 70 mass% or more, and particularly preferably 80 mass% or more.
또 적색 안료는, 실질적으로 C. I. 피그먼트 레드 144, 및 C. I. 피그먼트 레드 166만으로 구성되어 있는 것도 바람직하다. 또한 적색 안료가, 실질적으로 C. I. 피그먼트 레드 144, 및 C. I. 피그먼트 레드 166만으로 구성되어 있는 경우는, 적색 안료 질량 중에, C. I. 피그먼트 레드 144 및 C. I. 피그먼트 레드 166을 합계로 99질량% 이상 함유하고 있는 것이 바람직하고, 99.9질량% 이상이 보다 바람직하다.It is also preferable that the red pigment is substantially composed of only C. I. Pigment Red 144 and C. I. Pigment Red 166. When the red pigment is substantially composed only of CI Pigment Red 144 and CI Pigment Red 166, the total amount of CI Pigment Red 144 and CI Pigment Red 166 in the red pigment mass is 99 mass% or more in total , More preferably not less than 99.9% by mass.
본 발명은 적색 안료로서, 이하에 나타내는 안료를 이용할 수도 있다. 적색 안료가 C. I. 피그먼트 레드 144, 및 C. I. 피그먼트 레드 166 중 어느 것도 포함하지 않은 경우, 착색 조성물이 상술한 (1)의 요건을 충족시키도록, 하기 안료로부터 1종류 이상을 선택하여 이용할 수 있다. 또 하기의 안료는, C. I. 피그먼트 레드 144, 및/또는 C. I. 피그먼트 레드 166과 병용할 수도 있다.As the red pigment, the following pigments may be used in the present invention. When the red pigment does not contain any of CI Pigment Red 144 and CI Pigment Red 166, one or more of the following pigments may be selected and used so that the coloring composition satisfies the requirement (1) . The following pigments may also be used in combination with C. I. Pigment Red 144 and / or C. I. Pigment Red 166.
컬러 인덱스(C. I.) 피그먼트 레드 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49, 49:1, 49:2, 52:1, 52:2, 53:1, 57:1, 60:1, 63:1, 66, 67, 81:1, 81:2, 81:3, 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 146, 149, 150, 155, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184, 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 270, 272, 279Color Index (CI)
-안료의 미세화-- Minification of pigments -
본 발명에 있어서는, 적색 안료는, 미세하고 또한 정립화된 안료를 이용하는 것이 바람직하다. 안료의 미세화는, 안료와 수용성 유기 용제와 수용성 무기 염류와 함께 고점도인 액상 조성물을 조제하고, 습식 분쇄 장치 등을 사용하여, 응력을 부가하여 마쇄하는 공정을 거침으로써 달성된다.In the present invention, it is preferable that the red pigment is a finely and formulated pigment. The fineness of the pigment is achieved by preparing a liquid composition having a high viscosity together with the pigment, the water-soluble organic solvent and the water-soluble inorganic salt, and performing the step of crushing by adding stress using a wet grinding apparatus or the like.
안료의 미세화 공정에 사용되는 수용성 유기 용제로서는, 메탄올, 에탄올, 아이소프로판올, n-프로판올, 아이소뷰탄올, n-뷰탄올, 에틸렌글라이콜, 다이에틸렌글라이콜, 다이에틸렌글라이콜모노메틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노에틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터, 프로필렌글라이콜, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트 등을 들 수 있다.Examples of the water-soluble organic solvent to be used in the process of refining the pigment include methanol, ethanol, isopropanol, n-propanol, isobutanol, n-butanol, ethylene glycol, diethylene glycol, diethylene glycol monomethyl Ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether acetate, and the like.
또 소량 이용함으로써 안료에 흡착하여, 폐수 중에 유실되지 않는 한에 있어서는, 수용성은 낮거나, 혹은, 수용성을 갖지 않는 다른 용제, 예를 들면 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠, 클로로벤젠, 나이트로벤젠, 아닐린, 피리딘, 퀴놀린, 테트라하이드로퓨란, 다이옥세인, 아세트산 에틸, 아세트산 아이소프로필, 아세트산 뷰틸, 헥세인, 헵테인, 옥테인, 노네인, 데케인, 운데케인, 도데케인, 사이클로헥세인, 메틸사이클로헥세인, 할로젠화 탄화 수소, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아이소뷰틸케톤, 사이클로헥산온, 다이메틸폼아마이드, 다이메틸설폭사이드, N-메틸피롤리돈 등을 이용해도 된다.Further, as long as it is adsorbed to the pigment by a small amount and is not lost in the wastewater, other solvents having low water solubility or having no water solubility such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, chlorobenzene, The organic solvent may be selected from the group consisting of benzene, aniline, pyridine, quinoline, tetrahydrofuran, dioxane, ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, hexane, heptane, octane, nonene, decane, undecane, Methyl cyclohexane, halogenated hydrocarbon, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, dimethyl formamide, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone and the like may be used.
안료의 미세화 공정에 사용하는 용제는, 1종만이어도 되고, 필요에 따라 2종류 이상을 혼합하여 사용해도 된다.The solvent to be used in the pigment refining step may be one kind or two or more kinds of them may be mixed as necessary.
안료의 미세화 공정에 사용되는 수용성 무기염으로서는, 염화 나트륨, 염화 칼륨, 염화 칼슘, 염화 바륨, 황산 나트륨 등을 들 수 있다.Examples of the water-soluble inorganic salt used in the process of refining the pigment include sodium chloride, potassium chloride, calcium chloride, barium chloride, sodium sulfate and the like.
미세화 공정에 있어서의 수용성 무기염의 사용량은, 안료의 1~50질량 배가 바람직하다. 수용성 무기염의 사용량은, 많은 쪽이 마쇄 효과는 있지만, 보다 바람직한 양은 생산성의 점에서 1~10질량 배이다. 또 수분이 1% 이하인 무기 염류를 이용하는 것이 바람직하다.The amount of the water-soluble inorganic salt to be used in the micronization step is preferably 1 to 50 times by mass of the pigment. The amount of the water-soluble inorganic salt to be used is effective in many cases of grinding, but a more preferable amount is 1 to 10 times in terms of productivity. It is also preferable to use inorganic salts having a water content of 1% or less.
미세화 공정에 있어서의 수용성 유기 용제의 사용량은, 안료 100질량부에 대하여 50~300질량부가 바람직하고, 100~200질량부가 보다 바람직하다.The amount of the water-soluble organic solvent used in the micronization process is preferably 50 to 300 parts by mass, more preferably 100 to 200 parts by mass, per 100 parts by mass of the pigment.
안료의 미세화 공정에 있어서의 습식 분쇄 장치의 운전 조건에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 분쇄 미디어에 의한 마쇄를 효과적으로 진행시키기 위하여, 장치가 니더인 경우의 운전 조건은, 장치 내의 블레이드의 회전수는, 10~200rpm가 바람직하고, 또 2축의 회전비가 상대적으로 큰 쪽이 마쇄 효과가 크고 바람직하다. 운전 시간은 건식 분쇄 시간과 아울러 1시간~8시간이 바람직하고, 장치의 내온은 50~150℃가 바람직하다. 또 분쇄 미디어인 수용성 무기염은 분쇄 입도가 5~50μm로 입자경의 분포가 샤프하고, 또한 구형(球形)이 바람직하다.The operating conditions of the wet grinding apparatus in the pigment refining step are not particularly limited, but in order to effectively carry out the grinding by the grinding media, the operating condition in the case where the apparatus is a kneader is that the number of rotations of the blades in the apparatus is 10 To 200 rpm is preferable, and the rotation ratio of the two axes is relatively large, the milling effect is large and it is preferable. The operating time is preferably from 1 hour to 8 hours together with the dry grinding time, and the inner temperature of the apparatus is preferably from 50 to 150 ° C. In addition, the water-soluble inorganic salt as the pulverizing medium has a particle size of 5 to 50 mu m and preferably has a sharp particle size distribution and a spherical shape.
<<다른 유채색 착색제>><< Other coloring agents >>
본 발명의 착색 조성물은, 적색 안료 이외의 다른 유채색 착색제를 포함하고 있어도 된다. 다른 유채색 착색제로서는, 안료여도 되고, 염료여도 된다. 다른 착색제는, 1종이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.The coloring composition of the present invention may contain a chromatic colorant other than the red pigment. The other chromatic colorants may be pigments or dyes. One kind of the other coloring agents may be used, or two or more kinds thereof may be used.
다른 유채색 착색제로서는, 파장 300~400nm의 투과율을 낮출 목적으로 황색 안료가 바람직하다. 황색 안료는 시판 중인 것에서 입수할 수 있는 것이면 특별히 제한은 없다.As other chromatic coloring agents, yellow pigments are preferable for the purpose of lowering the transmittance at a wavelength of 300 to 400 nm. The yellow pigment is not particularly limited as long as it is available on the market.
또한 본 발명에 있어서, 유채색 착색제란, 백색 착색제 및 흑색 착색제 이외의 착색제를 의미한다. 유채색 착색제는, 파장 400~700nm의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는 착색제가 바람직하다. 또 "파장 400~700nm의 범위에 극대 흡수 파장을 갖는"이란, 흡수 스펙트럼에 있어서, 파장 400~700nm의 범위에 최대의 흡광도를 나타내는 파장을 갖는 것을 의미한다. 예를 들면, 파장 350~1300nm의 범위에 있어서의 흡수 스펙트럼에 있어서, 파장 400~700nm의 범위에 최대의 흡광도를 나타내는 파장을 갖는 것이 바람직하다.In the present invention, the chromatic coloring agent means a coloring agent other than the white coloring agent and the black coloring agent. The chromatic coloring agent is preferably a coloring agent having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 400 to 700 nm. The term "having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 400 to 700 nm" means that the absorption spectrum has a wavelength exhibiting the maximum absorbance in the wavelength range of 400 to 700 nm. For example, in the absorption spectrum in the wavelength range of 350 to 1300 nm, it is preferable that the wavelength exhibits the maximum absorbance in the wavelength range of 400 to 700 nm.
안료로서는, 종래 공지의 다양한 안료를 들 수 있다. 또 안료는, 고투과율인 것이 바람직한 것을 고려하면, 평균 입경이 가능한 한 작은 안료의 사용이 바람직하고, 핸들링성도 고려하면, 안료의 평균 입경은, 0.01~0.1μm가 바람직하며, 0.01~0.05μm가 보다 바람직하다.As the pigment, various conventionally known pigments can be mentioned. Considering that a high transmittance is preferable, it is preferable to use a pigment having an average particle diameter as small as possible, and considering the handling property, the average particle size of the pigment is preferably 0.01 to 0.1 mu m, more preferably 0.01 to 0.05 mu m More preferable.
안료로서 이하의 것을 들 수 있다. 단 본 발명은, 이들에 한정되는 것은 아니다.As the pigment, the following may be mentioned. However, the present invention is not limited thereto.
C. I. 피그먼트 옐로 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35:1, 36, 36:1, 37, 37:1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 179, 180, 181, 182, 185, 187, 188, 193, 194, 199, 213, 214 등,CI pigment yellow 1, 2,3,4,5,6,10,11,12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34,35,35: 1, 36, 36, 37, 37, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 128, 129, 137, 138, 128, 129, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 117, 118, 119, 169, 170, 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 166, 167, 168, 169, 179, 180, 181, 182, 185, 187, 188, 193, 194, 199, 213,
C. I. 피그먼트 오렌지 2, 5, 13, 16, 17:1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 71, 73 등,
C. I. 피그먼트 그린 7, 10, 36, 37, 58, 59C. I.
C. I. 피그먼트 바이올렛 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42C. I.
C. I. 피그먼트 블루 1, 2, 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 64, 66, 79, 8015: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64, 66, 79, 80
염료로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 소64-90403호, 일본 공개특허공보 소64-91102호, 일본 공개특허공보 평1-94301호, 일본 공개특허공보 평6-11614호, 일본 특허 2592207호, 미국 특허공보 4808501호, 미국 특허공보 5667920호, 미국 특허공보 505950호, 일본 공개특허공보 평5-333207호, 일본 공개특허공보 평6-35183호, 일본 공개특허공보 평6-51115호, 일본 공개특허공보 평6-194828호 등에 개시되어 있는 색소를 사용할 수 있다. 화학 구조로서 구분하면, 피라졸아조 화합물, 피로메텐 화합물, 아닐리노아조 화합물, 트라이아릴메테인 화합물, 안트라퀴논 화합물, 벤질리덴 화합물, 옥소놀 화합물, 피라졸로트라이아졸아조 화합물, 피리돈아조 화합물, 사이아닌 화합물, 페노싸이아진 화합물, 피롤로피라졸아조메타인 화합물 등을 사용할 수 있다. 또 염료로서는 색소 다량체를 이용해도 된다. 색소 다량체로서는, 일본 공개특허공보 2011-213925호, 일본 공개특허공보 2013-041097호에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있다.As the dyes, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 64-90403, Japanese Unexamined Patent Publication No. 64-91102, Japanese Unexamined Patent Publication No. 1-94301, Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-11614, Japanese Patent No. 2592207 , U.S. Patent No. 4808501, U.S. Patent No. 5667920, U.S. Patent No. 5,05950, JP-A-5-333207, JP-A-6-35183, JP-A-6-51115, A dye disclosed in JP-A-6-194828 can be used. As a chemical structure, a pyrazole compound, a pyromethene compound, an anilino compound, a triarylmethane compound, an anthraquinone compound, a benzilidene compound, an oxolin compound, a pyrazolotriazole compound, a pyridone azo compound, A cyanine compound, a phenothiazine compound, a pyrrolopyrazolequamethane compound, and the like can be used. As the dye, a dye multimer may be used. Examples of the pigment multimer include the compounds described in JP-A-2011-213925 and JP-A-2013-041097.
본 발명의 착색 조성물이 다른 유채색 착색제를 함유하는 경우, 착색 조성물 중의 전체 고형분에 대한 다른 유채색 착색제의 함유량은, 1~60질량%가 바람직하다. 하한은 5질량% 이상이 보다 바람직하며, 10질량% 이상이 더 바람직하다. 상한은 50질량% 이하가 보다 바람직하다.When the coloring composition of the present invention contains another chromatic coloring agent, the content of the other chromatic coloring agent to the total solid content in the coloring composition is preferably 1 to 60% by mass. The lower limit is more preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more. The upper limit is more preferably 50 mass% or less.
<<수지>><< Resin >>
본 발명의 착색 조성물은 수지를 함유한다. 수지는, 예를 들면 안료를 조성물 중에서 분산시키는 용도, 바인더의 용도로 배합된다. 또한 주로 안료를 분산시키기 위하여 이용되는 수지를 분산제라고도 한다. 단, 수지의 이와 같은 용도는 일례이며, 이와 같은 용도 이외를 목적으로 사용할 수도 있다.The coloring composition of the present invention contains a resin. The resin is used, for example, for dispersing the pigment in the composition and for the binder. The resin mainly used for dispersing the pigment is also referred to as a dispersant. However, such use of the resin is merely an example, and the resin may be used for other purposes.
수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 2,000~2,000,000이 바람직하다. 상한은 1,000,000 이하가 바람직하고, 500,000 이하가 보다 바람직하다. 하한은 3,000 이상이 바람직하고, 5,000 이상이 보다 바람직하다.The weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 2,000 to 2,000,000. The upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less. The lower limit is preferably 3,000 or more, more preferably 5,000 or more.
수지의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분의 1~80질량%인 것이 바람직하다. 하한은 5질량% 이상이 바람직하고, 10질량% 이상이 보다 바람직하다. 상한은 70질량% 이하가 바람직하고, 60질량% 이하가 보다 바람직하다. 본 발명의 착색 조성물은, 수지를 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The content of the resin is preferably 1 to 80% by mass of the total solid content of the coloring composition. The lower limit is preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more. The upper limit is preferably 70 mass% or less, and more preferably 60 mass% or less. The coloring composition of the present invention may contain only one kind of resin or two or more kinds of resins. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.
본 발명의 착색 조성물은, 수지로서 분산제를 함유할 수 있다.The coloring composition of the present invention may contain a dispersant as a resin.
분산제는, 산기 및 염기성기로부터 선택되는 적어도 1종을 갖는 수지가 바람직하고, 산기를 갖는 수지가 보다 바람직하다. 수지가 갖는 산기로서는, 예를 들면 카복시기, 인산기, 설폰산기, 페놀성 수산기 등을 들 수 있다. 수지가 갖는 염기성기로서는, 아미노기 등을 들 수 있다. 또 본 발명에서는, 분산제로서, 산기 및 염기성기를 갖지 않는 수지를 이용할 수도 있다.As the dispersing agent, a resin having at least one kind selected from an acid group and a basic group is preferable, and a resin having an acid group is more preferable. Examples of the acid group of the resin include a carboxy group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and a phenolic hydroxyl group. Examples of the basic group of the resin include an amino group and the like. In the present invention, as the dispersing agent, a resin having neither an acid group nor a basic group may be used.
수지가 산기를 갖는 경우, 수지의 산가는, 30~300mgKOH/g이 바람직하다. 하한은 30mgKOH/g 이상이 보다 바람직하고, 40mgKOH/g 이상이 더 바람직하며, 50mgKOH/g 이상이 보다 더 바람직하다. 상한은 300mgKOH/g 이하가 보다 바람직하며, 200mgKOH/g 이하가 더 바람직하다.When the resin has an acid group, the acid value of the resin is preferably 30 to 300 mgKOH / g. The lower limit is more preferably 30 mgKOH / g or more, more preferably 40 mgKOH / g or more, and still more preferably 50 mgKOH / g or more. The upper limit is more preferably 300 mgKOH / g or less, and more preferably 200 mgKOH / g or less.
본 발명에 있어서, 수지는 그래프트 공중합체를 포함하는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서, 그래프트 중합체는, 적색 안료의 분산제로서 바람직하게 이용할 수 있다. 또한 본 발명에 있어서, 그래프트 공중합체란, 그래프트쇄를 갖는 수지를 의미한다. 또 그래프트쇄란, 폴리머의 주쇄의 근원으로부터, 주쇄로부터 분기되어 있는 기의 말단까지를 나타낸다.In the present invention, it is preferable that the resin includes a graft copolymer. In the present invention, the graft polymer can be preferably used as a dispersing agent for a red pigment. In the present invention, the graft copolymer means a resin having a graft chain. The graft chain indicates from the origin of the main chain of the polymer to the end of the group branched from the main chain.
그래프트 공중합체로서는, 수소 원자를 제외한 원자수가 40~10000의 범위인 그래프트쇄를 갖는 수지가 바람직하다. 또 그래프트쇄 1개당의 수소 원자를 제외한 원자수는, 40~10000이 바람직하고, 50~2000이 보다 바람직하며, 60~500이 더 바람직하다.As the graft copolymer, a resin having a graft chain in which the number of atoms excluding hydrogen atoms is in the range of 40 to 10000 is preferable. The number of atoms excluding the hydrogen atom per one graft chain is preferably 40 to 10000, more preferably 50 to 2000, and still more preferably 60 to 500.
그래프트 공중합체의 주쇄 구조로서는, (메트)아크릴 수지, 폴리에스터 수지, 폴리유레테인 수지, 폴리유레아 수지, 폴리아마이드 수지, 폴리에터 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도, (메트)아크릴 수지가 바람직하다.Examples of the main chain structure of the graft copolymer include a (meth) acrylic resin, a polyester resin, a polyurethane resin, a polyurea resin, a polyamide resin, and a polyether resin. Among them, a (meth) acrylic resin is preferable.
그래프트 공중합체의 그래프트쇄로서는, 그래프트 부위와 용제의 상호 작용성을 향상시키고, 이로써 분산성을 높이기 위하여, 폴리(메트)아크릴, 폴리에스터, 또는 폴리에터를 갖는 그래프트쇄인 것이 바람직하고, 폴리에스터 또는 폴리에터를 갖는 그래프트쇄인 것이 보다 바람직하다.The graft chain of the graft copolymer is preferably a graft chain having a poly (meth) acrylate, a polyester or a polyether in order to improve the interactivity of the graft region and the solvent and thereby improve the dispersibility, More preferably a graft chain having an ester or polyether.
그래프트 공중합체의 중량 평균 분자량(Mw)은, 5000~100000이 바람직하고, 10000~50000이 보다 바람직하며, 10000~30000이 더 바람직하다. 그래프트 공중합체의 수평균 분자량(Mn)은, 2500~50000이 바람직하고, 5000~30000이 보다 바람직하며, 5000~15000이 더 바람직하다.The weight average molecular weight (Mw) of the graft copolymer is preferably from 5,000 to 100,000, more preferably from 10,000 to 50,000, and even more preferably from 10,000 to 30,000. The number average molecular weight (Mn) of the graft copolymer is preferably from 2500 to 50,000, more preferably from 5,000 to 30,000, and still more preferably from 5,000 to 15,000.
그래프트 공중합체를 라디칼 중합으로 제조할 때에 이용하는 매크로모노머로서는, 공지의 매크로모노머를 이용할 수 있고, 도아 고세이(주)제의 매크로모노머 AA-6(말단기가 메타크릴로일기인 폴리메타크릴산 메틸), AS-6(말단기가 메타크릴로일기인 폴리스타이렌), AN-6S(말단기가 메타크릴로일기인 스타이렌과 아크릴로나이트릴의 공중합체), AB-6(말단기가 메타크릴로일기인 폴리아크릴산 뷰틸), (주)다이셀제의 플락셀 FM5(메타크릴산 2-하이드록시에틸의 ε-카프로락톤 5몰 당량 부가품), FA10L(아크릴산 2-하이드록시에틸의 ε-카프로락톤 10몰 당량 부가품), 및 일본 공개특허공보 평2-272009호에 기재된 폴리에스터계 매크로모노머 등을 들 수 있다.Known macromonomers can be used as the macromonomers used when the graft copolymer is produced by radical polymerization. Macromonomer AA-6 (polymethacryloylmethyl group whose terminal group is methacryloyl group) manufactured by DOKOSEI CO., LTD. , AN-6S (a copolymer of styrene and acrylonitrile having a terminal group of methacryloyl group), AB-6 (poly (meth) acrylate having a terminal group of methacryloyl group), AS-6 (polystyrene in which the terminal group is methacryloyl group) Butyl acrylate), Flaccel FM5 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) (5-molar equivalent of 2-hydroxyethyl methacrylate), FA10L (10 molar equivalents of? -Caprolactone of 2-hydroxyethyl acrylate And the polyester-based macromonomers described in JP-A-2-272009.
본 발명에 있어서, 수지는 하기 식 (1)~(4) 중 어느 하나로 나타나는 반복 단위를 포함하는 그래프트 공중합체를 이용할 수도 있다.In the present invention, the resin may be a graft copolymer including a repeating unit represented by any one of the following formulas (1) to (4).
[화학식 4][Chemical Formula 4]
식 (1)~식 (4)에 있어서, W1, W2, W3, 및 W4는 각각 독립적으로 산소 원자, 또는 NH를 나타내고,In the formulas (1) to (4), W 1 , W 2 , W 3 and W 4 each independently represent an oxygen atom or NH,
X1, X2, X3, X4, 및 X5는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 1가의 유기기를 나타내며,X 1 , X 2 , X 3 , X 4 , and X 5 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group,
Y1, Y2, Y3, 및 Y4는 각각 독립적으로 2가의 연결기를 나타내고,Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 each independently represent a divalent linking group,
Z1, Z2, Z3, 및 Z4는 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내며,Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 each independently represent a monovalent organic group,
R3은 알킬렌기를 나타내고,R 3 represents an alkylene group,
R4는 수소 원자 또는 1가의 유기기를 나타내며,R 4 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group,
n, m, p, 및 q는 각각 독립적으로 1~500의 정수를 나타내고,n, m, p, and q each independently represent an integer of 1 to 500,
j 및 k는 각각 독립적으로 2~8의 정수를 나타내며,j and k each independently represent an integer of 2 to 8,
식 (3)에 있어서, p가 2~500일 때, 복수 존재하는 R3은 서로 동일해도 되고 달라도 되고,In the formula (3), when p is 2 to 500, plural R 3 s may be the same or different,
식 (4)에 있어서, q가 2~500일 때, 복수 존재하는 X5 및 R4는 서로 동일해도 되고 달라도 된다.In the formula (4), when q is 2 to 500, a plurality of X 5 and R 4 present may be the same or different.
식 (1)~식 (4)에 있어서, W1, W2, W3, 및 W4는 각각 독립적으로 산소 원자 또는 NH를 나타낸다. W1, W2, W3, 및 W4는 산소 원자인 것이 바람직하다.In the formulas (1) to (4), W 1 , W 2 , W 3 and W 4 each independently represent an oxygen atom or
식 (1)~식 (4)에 있어서, X1, X2, X3, X4, 및 X5는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 1가의 유기기를 나타낸다. X1, X2, X3, X4, 및 X5로서는, 합성상의 제약의 관점에서는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기인 것이 바람직하고, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기인 것이 보다 바람직하며, 메틸기가 특히 바람직하다.In the formulas (1) to (4), X 1 , X 2 , X 3 , X 4 and X 5 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group. X 1 , X 2 , X 3 , X 4 , and X 5 are each preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and independently of each other, a hydrogen atom or a methyl group More preferably a methyl group is particularly preferable.
식 (1)~식 (4)에 있어서, Y1, Y2, Y3, 및 Y4는, 각각 독립적으로 2가의 연결기를 나타내고, 연결기는 특별히 구조상 제약되지 않는다. Y1, Y2, Y3, 및 Y4로 나타나는 2가의 연결기로서 구체적으로는, 하기의 (Y-1)~(Y-21)의 연결기 등을 예로서 들 수 있다. 하기에 나타낸 구조에 있어서, A, B는 각각, 식 (1)~식 (4)에 있어서의 좌말단기, 우말단기와의 결합 부위를 의미한다.In formulas (1) to (4), Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 each independently represent a divalent linking group, and the linking group is not particularly limited in structure. Specific examples of the divalent linking group represented by Y 1 , Y 2 , Y 3 and Y 4 include linking groups represented by the following (Y-1) to (Y-21). In the structures shown below, A and B each represent a bonding site with the terminal groups in the formulas (1) to (4).
[화학식 5][Chemical Formula 5]
식 (1)~식 (4)에 있어서, Z1, Z2, Z3, 및 Z4는, 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타낸다. 1가의 유기기의 구조는, 특별히 한정되지 않지만, 구체적으로는 알킬기, 수산기, 알콕시기, 아릴옥시기, 헤테로아릴옥시기, 알킬싸이오에터기, 아릴싸이오에터기, 헤테로아릴싸이오에터기, 및 아미노기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, Z1, Z2, Z3, 및 Z4로 나타나는 유기기로서는, 특히 분산성 향상의 관점에서, 입체 반발 효과를 갖는 것이 바람직하고, 각각 독립적으로 탄소수 5~24의 알킬기 또는 알콕시기가 바람직하며, 그 중에서도, 특히 각각 독립적으로 탄소수 5~24의 분기 알킬기, 탄소수 5~24의 환상 알킬기, 또는 탄소수 5~24의 알콕시기가 바람직하다. 또한 알콕시기 중에 포함되는 알킬기는 직쇄상, 분기쇄상, 환상 중 어느 것이어도 된다.In the formulas (1) to (4), Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 each independently represent a monovalent organic group. The structure of the monovalent organic group is not specifically limited, but specifically includes an alkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, an alkylthioether group, an arylthioether group, a heteroarylthioether group, And the like. Among them, as an organic group represented by Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 , from the viewpoint of improving the dispersibility, it is preferable to have a steric repulsion effect, and each independently an alkyl group or an alkoxy group having 5 to 24 carbon atoms Among them, branched alkyl groups having 5 to 24 carbon atoms, cyclic alkyl groups having 5 to 24 carbon atoms, and alkoxy groups having 5 to 24 carbon atoms are particularly preferable. The alkyl group contained in the alkoxy group may be any of linear, branched and cyclic.
식 (1)~식 (4)에 있어서, n, m, p, 및 q는, 각각 독립적으로 1~500의 정수이다. 또 식 (1) 및 식 (2)에 있어서, j 및 k는, 각각 독립적으로 2~8의 정수를 나타낸다. 식 (1) 및 식 (2)에 있어서의 j 및 k는, 분산 안정성, 현상성의 관점에서, 4~6의 정수가 바람직하고, 5가 가장 바람직하다.In the formulas (1) to (4), n, m, p and q are each independently an integer of 1 to 500. In the formulas (1) and (2), j and k each independently represent an integer of 2 to 8. J and k in formulas (1) and (2) are preferably an integer of 4 to 6 and most preferably 5 from the viewpoints of dispersion stability and developability.
식 (3) 중, R3은 알킬렌기를 나타내고, 탄소수 1~10의 알킬렌기가 바람직하며, 탄소수 2 또는 3의 알킬렌기가 보다 바람직하다. p가 2~500일 때, 복수 존재하는 R3은 서로 동일해도 되고 달라도 된다.In the formula (3), R 3 represents an alkylene group, preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms. When p is 2 to 500, plural R 3 may be the same or different.
식 (4) 중, R4는 수소 원자 또는 1가의 유기기를 나타낸다. 1가의 유기기로서는 특별히 구조상 한정은 되지 않는다. R4로서 바람직하게는, 수소 원자, 알킬기, 아릴기, 및 헤테로아릴기를 들 수 있고, 더 바람직하게는, 수소 원자, 또는 알킬기이다. R4가 알킬기인 경우, 탄소수 1~20의 직쇄 알킬기, 탄소수 3~20의 분기 알킬기, 또는 탄소수 5~20의 환상 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~20의 직쇄 알킬기가 보다 바람직하며, 탄소수 1~6의 직쇄 알킬기가 특히 바람직하다. 식 (4)에 있어서, q가 2~500일 때, 그래프트 공중합체 중에 복수 존재하는 X5 및 R4는 서로 동일해도 되고 달라도 된다.In the formula (4), R 4 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group. The structure of the monovalent organic group is not particularly limited. R 4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group. When R 4 is an alkyl group, a straight chain alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 20 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 5 to 20 carbon atoms is preferable, a straight chain alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is more preferable, A straight chain alkyl group of 6 is particularly preferred. When q is 2 to 500 in the formula (4), a plurality of X 5 and R 4 existing in the graft copolymer may be the same or different.
그래프트 중합체는, 분산 안정성, 현상성의 관점에서, 하기 식 (1A)로 나타나는 반복 단위 및 하기 식 (2A)로 나타나는 반복 단위로부터 선택되는 적어도 1종을 함유하는 것이 바람직하다.The graft polymer preferably contains at least one kind selected from repeating units represented by the following formula (1A) and repeating units represented by the following formula (2A) from the viewpoints of dispersion stability and developability.
[화학식 6][Chemical Formula 6]
식 (1A) 중, X1, Y1, Z1 및 n은 식 (1)에 있어서의 X1, Y1, Z1 및 n과 동의이며, 바람직한 범위도 동일하다.Formula (1A) of the, X 1, Y 1, Z 1 and n is 1, X, Y 1, Z 1 and n and the consent of the formula (1), are also the same preferable range.
식 (2A) 중, X2, Y2, Z2 및 m은 식 (2)에 있어서의 X2, Y2, Z2 및 m과 동의이며, 바람직한 범위도 동일하다.In the
상기 그래프트 중합체는, 상술한 식 (1)~(4)로 나타나는 반복 단위 외에, 산기를 갖는 반복 단위를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 산기로서는, 예를 들면 카복시기, 설폰산기, 인산기, 및 페놀성 수산기 등을 들 수 있고, 카복시기, 페놀성 수산기가 바람직하다. 산기를 갖는 반복 단위의 함유량은, 그래프트 수지의 전체 질량에 대하여, 5~95질량%가 바람직하고, 10~95질량%가 보다 바람직하다.The graft polymer preferably contains a repeating unit having an acid group in addition to the repeating units represented by the above-mentioned formulas (1) to (4). Examples of the acid group include a carboxy group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, and a phenolic hydroxyl group, and a carboxy group and a phenolic hydroxyl group are preferable. The content of the repeating unit having an acid group is preferably from 5 to 95 mass%, more preferably from 10 to 95 mass%, based on the total mass of the graft resin.
상기 그래프트 중합체는, 상기 그래프트쇄 및 산기 이외의, 안료와 상호 작용을 형성할 수 있는 관능기를 갖는 반복 단위를 더 갖고 있어도 된다. 상술한 관능기를 갖는 반복 단위는, 특별히 구조상 한정되지 않지만, 예를 들면 염기성기를 갖는 반복 단위, 배위성기를 갖는 반복 단위, 반응성을 갖는 기를 갖는 반복 단위 등을 들 수 있다.The graft polymer may further have a repeating unit having a functional group capable of forming an interaction with the pigment other than the graft chain and the acid group. The above-mentioned repeating unit having a functional group is not particularly limited in its structure, but examples thereof include a repeating unit having a basic group, a repeating unit having a coordinating group, and a repeating unit having a group having a reactivity.
염기성기로서는, 예를 들면 제1급 아미노기, 제2급 아미노기, 제3급 아미노기, N원자를 포함하는 헤테로환, 아마이드기 등을 들 수 있다. 배위성기, 반응성을 갖는 기로서는, 예를 들면 아세틸아세톡시기, 트라이알콕시실릴기, 아이소사이아네이트기, 산무수물 잔기, 산염화물 잔기 등을 들 수 있다. 그래프트 중합체는, 상술한 관능기를 갖는 반복 단위를 함유해도 되고 하지 않아도 되지만, 함유하는 경우, 그래프트 수지의 전체 질량에 대하여, 0.1~50질량%가 바람직하고, 0.1~30질량%가 보다 바람직하다.Examples of the basic group include a primary amino group, a secondary amino group, a tertiary amino group, a heterocyclic ring containing an N atom, an amide group, and the like. Examples of the group having a coordinating group and a reactive group include an acetyl acetoxy group, a trialkoxysilyl group, an isocyanate group, an acid anhydride residue, and an acid chloride residue. The graft polymer may or may not contain a repeating unit having the above-described functional group, but if contained, it is preferably 0.1 to 50 mass%, more preferably 0.1 to 30 mass%, based on the total mass of the graft resin.
상기 그래프트 중합체는, 상술한 식 (1)~(4)로 나타나는 반복 단위 외에, 소수성 반복 단위를 갖는 것도 바람직하다. 소수성 반복 단위는, 바람직하게는, ClogP값이 1.2 이상인 화합물(모노머)에서 유래하는(대응하는) 반복 단위이며, 보다 바람직하게는, ClogP값이 1.2~8인 화합물에서 유래하는 반복 단위이다.The graft polymer preferably has a hydrophobic repeating unit in addition to the repeating units represented by the above-mentioned formulas (1) to (4). The hydrophobic repeating unit is preferably a (corresponding) repeating unit derived from a compound (monomer) having a ClogP value of 1.2 or more, and more preferably a repeating unit derived from a compound having a ClogP value of 1.2 to 8.
ClogP값은, Daylight Chemical Information System, Inc.로부터 입수할 수 있는 프로그램 "CLOGP"로 계산된 값이다. 이 프로그램은, Hansch, Leo의 프래그먼트 어프로치(하기 문헌 참조)에 의하여 산출되는 "계산 logP"의 값을 제공한다. 프래그먼트 어프로치는 화합물의 화학 구조에 근거하고 있으며, 화학 구조를 부분 구조(프래그먼트)로 분할하고, 그 프래그먼트에 대하여 할당된 logP 기여분을 합계함으로써 화합물의 logP값을 추산하고 있다. 그 상세는 이하의 문헌에 기재되어 있다. 본 발명에서는, 프로그램 CLOGP v4.82에 의하여 계산한 ClogP값을 이용한다.The ClogP value is a value calculated by the program "CLOGP" available from Daylight Chemical Information System, Inc. This program provides the value of "computed logP" calculated by Hansch, Leo's fragment approach (see below). The fragment approach is based on the chemical structure of the compound and estimates the logP value of the compound by dividing the chemical structure into partial structures (fragments) and summing the logP contributions assigned to the fragments. The details thereof are described in the following documents. In the present invention, the ClogP value calculated by the program CLOGP v 4.82 is used.
A. J. Leo, Comprehensive Medicinal Chemistry, Vol. 4, C. Hansch, P. G. Sammes, J. B. Taylor and C. A. Ramsden, Eds., p. 295, Pergamon Press, 1990; C. Hansch & A. J. Leo. Substituent Constants For Correlation Analysisin Chemistry and Biology. John Wiley & Sons. ; A. J. Leo. Calculating log Poct from structure. Chem. Rev., 93, 1281-1306, 1993.A. J. Leo, Comprehensive Medicinal Chemistry, Vol. 4, C. Hansch, P. G. Sammes, J. B. Taylor and C. A. Ramsden, Eds., P. 295, Pergamon Press, 1990; C. Hansch & A. J. Leo. Substituent Constants for Correlation Analysis < RTI ID = 0.0 > Chemistry & John Wiley &Sons.; A. J. Leo. Calculating log Poct from structure. Chem. Rev., 93, 1281-1306,1993.
logP는, 분배 계수 P(Partition Coefficient)의 상용 대수를 의미하며, 어느 유기 화합물이 오일(일반적으로는 1-옥탄올)과 물의 2상계의 평형에서 어떻게 분배되는지를 정량적인 수치로서 나타내는 물성값이며, 이하의 식으로 나타난다.log P means a common logarithm of the partition coefficient P, and is a physical property value indicating how an organic compound is distributed in an equilibrium of a two-phase system of oil (generally, 1-octanol) and water as a quantitative value, Is expressed by the following equation.
logP=log(Coil/Cwater)logP = log (Coil / Cwater)
식 중, Coil은 유상(油相) 중의 화합물의 몰 농도를, Cwater는 수상(水相) 중의 화합물의 몰 농도를 나타낸다.In the formula, Coil represents the molar concentration of the compound in the oil phase and Cwater represents the molar concentration of the compound in the aqueous phase.
logP의 값이 0을 기준으로 플러스로 커지면 유용성(油溶性)이 증가하고, 마이너스로 절댓값이 커지면 수용성이 증가하는 것을 의미하며, 유기 화합물의 수용성과 부(負)의 상관이 있고, 유기 화합물의 친소수성을 평가하는 파라미터로서 널리 이용되고 있다.When the value of logP is increased to 0 on the positive side, the oil solubility is increased and when the negative value is increased, the water solubility is increased. The water solubility of the organic compound is negatively correlated with that of the organic compound. And is widely used as a parameter for evaluating the hydrophilicity.
그래프트 공중합체는, 소수성 반복 단위로서, 하기 식 (i)~(iii)으로 나타나는 모노머에서 유래하는 반복 단위로부터 선택된 1종 이상의 반복 단위를 갖는 것이 바람직하다.The graft copolymer preferably has at least one repeating unit selected from the repeating units derived from the monomer represented by the following formulas (i) to (iii) as the hydrophobic repeating unit.
[화학식 7](7)
상기 식 (i)~(iii) 중, R1, R2, 및 R3은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로젠 원자(예를 들면 불소, 염소, 브로민 등), 또는 탄소 원자수가 1~6인 알킬기(예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기 등)를 나타낸다. R1, R2, 및 R3은, 보다 바람직하게는 수소 원자, 또는 탄소 원자수가 1~3인 알킬기이며, 가장 바람직하게는, 수소 원자 또는 메틸기이다. R2 및 R3은, 수소 원자인 것이 특히 바람직하다.In the formulas (i) to (iii), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, fluorine, chlorine or bromine) (For example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.). R 1 , R 2 and R 3 are more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and most preferably a hydrogen atom or a methyl group. It is particularly preferable that R 2 and R 3 are hydrogen atoms.
X는, 산소 원자(-O-) 또는 이미노기(-NH-)를 나타내고, 산소 원자인 것이 바람직하다.X represents an oxygen atom (-O-) or an imino group (-NH-), preferably an oxygen atom.
L은 단결합 또는 2가의 연결기이다. 2가의 연결기로서는, 2가의 지방족기(예를 들면 알킬렌기, 치환 알킬렌기, 알켄일렌기, 치환 알켄일렌기, 알카인일렌기, 치환 알카인일렌기), 2가의 방향족기(예를 들면 아릴렌기, 치환 아릴렌기), 2가의 복소환기, 산소 원자(-O-), 황 원자(-S-), 이미노기(-NH-), 치환 이미노기(-NR31-, 여기에서 R31은 지방족기, 방향족기 또는 복소환기), 카보닐기(-CO-), 또는 이들의 조합 등을 들 수 있다.L is a single bond or a divalent linking group. Examples of the divalent linking group include a divalent aliphatic group (e.g., an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, a substituted alkenylene group, an alkenylene group, a substituted alkenylene group), a divalent aromatic group (-O-), a sulfur atom (-S-), an imino group (-NH-), a substituted imino group (-NR 31 -, wherein R 31 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted arylene group), a divalent heterocyclic group, An aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group), a carbonyl group (-CO-), or a combination thereof.
L은, 단결합, 알킬렌기 또는 옥시알킬렌 구조를 포함하는 2가의 연결기인 것이 바람직하다. 옥시알킬렌 구조는, 옥시에틸렌 구조 또는 옥시프로필렌 구조인 것이 보다 바람직하다. 또 L은, 옥시알킬렌 구조를 2 이상 반복하여 포함하는 폴리옥시알킬렌 구조를 포함하고 있어도 된다. 폴리옥시알킬렌 구조로서는, 폴리옥시에틸렌 구조 또는 폴리옥시프로필렌 구조가 바람직하다. 폴리옥시에틸렌 구조는, -(OCH2CH2)n-으로 나타나고, n은 2 이상의 정수가 바람직하며, 2~10의 정수인 것이 보다 바람직하다.L is preferably a divalent linking group containing a single bond, an alkylene group or an oxyalkylene structure. The oxyalkylene structure is more preferably an oxyethylene structure or an oxypropylene structure. L may contain a polyoxyalkylene structure containing two or more repeating oxyalkylene structures. As the polyoxyalkylene structure, a polyoxyethylene structure or a polyoxypropylene structure is preferable. The polyoxyethylene structure is represented by - (OCH 2 CH 2 ) n -, and n is preferably an integer of 2 or more, more preferably an integer of 2 to 10.
Z로서는, 지방족기(예를 들면 알킬기, 치환 알킬기, 불포화 알킬기, 치환 불포화 알킬기), 방향족기(예를 들면 아릴기, 치환 아릴기), 복소환기, 산소 원자(-O-), 황 원자(-S-), 이미노기(-NH-), 치환 이미노기(-NR31-, 여기에서 R31은 지방족기, 방향족기 또는 복소환기), 카보닐기(-CO-), 또는 이들의 조합 등을 들 수 있다.Z is preferably an aliphatic group (for example, an alkyl group, a substituted alkyl group, an unsaturated alkyl group, a substituted unsaturated alkyl group), an aromatic group (e.g., an aryl group or a substituted aryl group), a heterocyclic group, -S-), an imino group (-NH-), a substituted imino group (-NR 31 -, wherein R 31 is an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group), a carbonyl group (-CO-) .
지방족기는, 환상 구조 또는 분기 구조를 갖고 있어도 된다. 지방족기의 탄소 원자수는, 1~20이 바람직하고, 1~15가 보다 바람직하며, 1~10이 더 바람직하다. 지방족기에는, 환 집합 탄화 수소기, 가교환식 탄화 수소기가 더 포함되고, 환 집합 탄화 수소기의 예로서는, 바이사이클로헥실기, 퍼하이드로나프탈렌일기, 바이페닐기, 4-사이클로헥실페닐기 등이 포함된다. 가교환식 탄화 수소환으로서 예를 들면 피네인, 보네인, 노피네인, 노보네인, 바이사이클로옥테인환(바이사이클로[2.2.2]옥테인환, 바이사이클로[3.2.1]옥테인환 등) 등의 2환식 탄화 수소환, 호모블레데인, 아다만테인, 트라이사이클로[5.2.1.02,6]데케인, 트라이사이클로[4.3.1.12,5]운데케인환 등의 3환식 탄화 수소환, 테트라사이클로[4.4.0.12,5.17,10]도데케인, 퍼하이드로-1,4-메타노-5,8-메타노나프탈렌환 등의 4환식 탄화 수소환 등을 들 수 있다. 또 가교환식 탄화 수소환에는, 축합환식 탄화 수소환, 예를 들면 퍼하이드로나프탈렌(데칼린), 퍼하이드로안트라센, 퍼하이드로페난트렌, 퍼하이드로아세나프텐, 퍼하이드로플루오렌, 퍼하이드로인덴, 퍼하이드로페날렌환 등의 5~8원 사이클로알케인환이 복수 개 축합된 축합환도 포함된다. 지방족기는 불포화 지방족기보다 포화 지방족기인 것이 바람직하다. 또 지방족기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기의 예는, 할로젠 원자, 방향족기 및 복소환기를 들 수 있다. 단, Z로 나타나는 지방족기는 치환기로서 산기를 갖지 않는다.The aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. The number of carbon atoms of the aliphatic group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, and even more preferably 1 to 10. The aliphatic group further includes a cyclic hydrocarbon group and a crosslinked cyclic hydrocarbon group. Examples of the cyclic hydrocarbon groups include a bicyclohexyl group, a perhydronaphthalene group, a biphenyl group, and a 4-cyclohexylphenyl group. As the bridged cyclic hydrocarbon ring, there may be mentioned, for example, phenane, bonene, nopine, novone, bicyclooctane ring (bicyclo [2.2.2] octane ring, bicyclo [3.2.1] , Etc.), tricyclic [5.2.1.0 2,6 ] decane, and tricyclo [4.3.1.1 2,5 ] undecane ring, such as homocyclododecane, homocyclododecane, Tetracyclo [4.4.0.1 2,5 .1 7,10 ] dodecane, and perhydro-1,4-methano-5,8-methanonaphthalene ring, and the like can be given . Examples of the bridged cyclic hydrocarbon ring include condensed cyclic hydrocarbon rings such as perhydro- naphthalene (decalin), perhydroanthracene, perhydro-phenanthrene, perhydro-acenaphthene, perhydrofluorene, perhydroindene, And a condensed ring in which a plurality of 5- to 8-membered cycloalkene rings such as a benzene ring are condensed. The aliphatic group is preferably a saturated aliphatic group rather than an unsaturated aliphatic group. The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an aromatic group and a heterocyclic group. Provided that the aliphatic group represented by Z does not have an acid group as a substituent.
방향족기의 탄소 원자수는, 6~20이 바람직하고, 6~15가 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다. 또 방향족기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기의 예는, 할로젠 원자, 지방족기, 방향족기 및 복소환기를 들 수 있다. 단, Z로 나타나는 방향족기는 치환기로서 산기를 갖지 않는다.The number of carbon atoms in the aromatic group is preferably from 6 to 20, more preferably from 6 to 15, and even more preferably from 6 to 10. The aromatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an aliphatic group, an aromatic group and a heterocyclic group. Provided that the aromatic group represented by Z does not have an acid group as a substituent.
복소환기는, 복소환으로서 5원환 또는 6원환을 갖는 것이 바람직하다. 복소환에 다른 복소환, 지방족환 또는 방향족환이 축합되어 있어도 된다. 또 복소환기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기의 예로서는, 할로젠 원자, 하이드록시기, 옥소기(=O), 싸이옥소기(=S), 이미노기(=NH), 치환 이미노기(=N-R32, 여기에서 R32는 지방족기, 방향족기 또는 복소환기), 지방족기, 방향족기 및 복소환기를 들 수 있다. 단, Z로 나타나는 복소환기는 치환기로서 산기를 갖지 않는다.The heterocyclic group preferably has a 5-membered ring or a 6-membered ring as a heterocyclic ring. The heterocycle may be condensed with another heterocycle, an aliphatic ring or an aromatic ring. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent, a halogen atom, a hydroxyl group, an oxo group (= O), Im oxo group (= S), imino group (= NH), a substituted imino group (= NR 32, where R 32 be an aliphatic group, An aromatic group or a heterocyclic group), an aliphatic group, an aromatic group and a heterocyclic group. Provided that the heterocyclic group represented by Z does not have an acid group as a substituent.
상기 식 (iii) 중, R4, R5, 및 R6은, 각각 독립적으로 수소 원자, 할로젠 원자(예를 들면 불소, 염소, 브로민 등), 또는 탄소 원자수가 1~6인 알킬기(예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기 등), Z, 또는 -L-Z를 나타낸다. 여기에서 L 및 Z는, 상기에 있어서의 것과 동의이다. R4, R5, 및 R6으로서는, 수소 원자, 또는 탄소수가 1~3인 알킬기가 바람직하고, 수소 원자가 보다 바람직하다.In the formula (iii), R 4 , R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom (for example, fluorine, chlorine or bromine), or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms For example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.), Z, or -LZ. Wherein L and Z are the same as those in the above. As R 4 , R 5 , and R 6 , a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is preferable, and a hydrogen atom is more preferable.
식 (i)~(iii)으로 나타나는 대표적인 화합물의 예로서는, 아크릴산 에스터류, 메타크릴산 에스터류, 스타이렌류 등으로부터 선택되는 라디칼 중합성 화합물을 들 수 있다. 또한 식 (i)~(iii)으로 나타나는 화합물의 예로서는, 일본 공개특허공보 2013-249417호의 단락 번호 0089~0093에 기재된 화합물을 참조할 수 있고, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.Examples of representative compounds represented by the formulas (i) to (iii) include radically polymerizable compounds selected from acrylic acid esters, methacrylic acid esters, styrene, and the like. As examples of the compounds represented by formulas (i) to (iii), reference can be made to the compounds described in paragraphs 0089 to 0093 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-249417, the contents of which are incorporated herein.
상기 그래프트 공중합체의 구체예로서는, 예를 들면 이하를 들 수 있다. 또 일본 공개특허공보 2012-255128호의 단락 번호 0072~0094에 기재된 수지를 이용할 수 있다.Specific examples of the graft copolymer include, for example, the following. It is also possible to use resins described in paragraphs 0072 to 0094 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-255128.
[화학식 8][Chemical Formula 8]
분산제(수지)는, 시판품으로서도 입수 가능하고, 그와 같은 구체예로서는, BYKChemie사제 "Disperbyk-101(폴리아마이드아민 인산염), 107(카복실산 에스터), 110, 111(산기를 포함하는 공중합물), 130(폴리아마이드), 161, 162, 163, 164, 165, 166, 170(고분자 공중합물)", "BYK-P104, P105(고분자량 불포화 폴리카복실산)", EFKA사제 "EFKA4047, 4050~4165(폴리유레테인계), EFKA4330~4340(블록 공중합체), 4400~4402(변성 폴리아크릴레이트), 5010(폴리에스터아마이드), 5765(고분자량 폴리카복실산염), 6220(지방산 폴리에스터), 6745(프탈로사이아닌 유도체), 6750(아조 안료 유도체)", 아지노모토 파인 테크노사제 "아지스퍼 PB821, PB822, PB880, PB881", 교에이샤 가가쿠사제 "플로렌 TG-710(유레테인 올리고머)", "폴리플로 No. 50E, No. 300(아크릴계 공중합체)", 구스모토 가세이사제 "디스파론 KS-860, 873SN, 874, #2150(지방족 다가 카복실산), #7004(폴리에터에스터), DA-703-50, DA-705, DA-725", 가오사제 "데몰 RN, N(나프탈렌설폰산 포말린 중축합물), MS, C, SN-B(방향족 설폰산 포말린 중축합물)", "호모게놀 L-18(고분자 폴리카복실산)", "에멀겐 920, 930, 935, 985(폴리옥시에틸렌노닐페닐에터)", "아세타민 86(스테아릴아민아세테이트)", 니혼 루브리졸(주)제 "솔스퍼스 5000(프탈로사이아닌 유도체), 22000(아조 안료 유도체), 13240(폴리에스터아민), 3000, 17000, 27000(말단부에 기능부를 갖는 고분자), 24000, 28000, 32000, 38500(그래프트형 고분자)", 닛코 케미컬즈사제 "닛콜 T106(폴리옥시에틸렌소비탄모노올리에이트), MYS-IEX(폴리옥시에틸렌모노스테아레이트)", 가와켄 파인 케미컬(주)제 "히노액트 T-8000E", 모리시타 산교(주)제 "EFKA-46, EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA 폴리머 100, EFKA 폴리머 400, EFKA 폴리머 401, EFKA 폴리머 450", 산노프코(주)제 "디스퍼스에이드 6, 디스퍼스에이드 8, 디스퍼스에이드 15, 디스퍼스에이드 9100", (주)ADEKA제 "아데카 플루로닉 L31, F38, L42, L44, L61, L64, F68, L72, P95, F77, P84, F87, P94, L101, P103, F108, L121, P-123", 및 산요 가세이(주)제 "이오넷 S-20" 등을 들 수 있다.Specific examples thereof include Disperbyk-101 (polyamide amine phosphate), 107 (carboxylic acid ester), 110 and 111 (copolymers containing an acid group), 130 (maleic anhydride), BYKChemie Quot; BYK-P104, P105 (high molecular weight unsaturated polycarboxylic acid) ", EFKA "EFKA 4047, 4050 to 4165 (polyamide), 161, 162, 163, 164, 165, 166, EFKA 4330 to 4340 (block copolymer), 4400 to 4402 (modified polyacrylate), 5010 (polyester amide), 5765 (high molecular weight polycarboxylic acid salt), 6220 (fatty acid polyester), 6745 (Azo pigment), 6750 (azo pigment derivative), Ajinomoto Pine Techno Co., Ltd., Ajisper PB821, PB822, PB880, PB881, Kyoeisha Kagaku Corp. "Floren TG-710 (uretene oligomer) &Quot; Polyfluron No. 50E, No. 300 (acrylic copolymer) ", manufactured by Kusumoto Chemical Industry Co., Ltd., Diparron KS-860, 873SN, 874, # 2150 (Polyetherester), DA-703-50, DA-705, DA-725 ", Daido RN, N (naphthalenesulfonic acid-formaldehyde polycondensate), MS, C, SN , "Emeralgen 920, 930, 935, 985 (polyoxyethylene nonylphenyl ether)", "Acetamine (polyoxyethylene nonylphenyl ether)", 22000 (azo pigment derivative), 13240 (polyester amine), 3000, 17000, 27000 (terminal part), " NIKKOL T106 (polyoxyethylene sorbitan monooleate), MYS-IEX (polyoxyethylene monostearate), manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd., 47, EFKA-47EA, EFKA Polymer 100, EFKA Polymer 400, EFKA Polymer 401, EFKA Polymer 401, EFKA Polymer 40, EFKA Polymer 40, Polymer 45 Disupuse Aid 6, Disperse Aid 8, Disperse Aid 15, Disperse Aid 9100 ", manufactured by ADEKA, Adeka Fluoronic L31, F38, L42, L44 , L61, L64, F68, L72, P95, F77, P84, F87, P94, L101, P103, F108, L121, P-123 "available from Sanyo Chemical Industries, Ltd. and" Ionet S-20 " have.
이들 수지는, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.These resins may be used alone, or two or more resins may be used in combination.
또 수지로서, (메트)아크릴산 공중합체, 이타콘산 공중합체, 크로톤산 공중합체, 말레산 공중합체, 부분 에스터화 말레산 공중합체 등과, 측쇄에 카복실산을 갖는 산성 셀룰로스 유도체, 수산기를 갖는 폴리머에 산무수물을 부가한 수지 등의 산기를 갖는 수지를 이용할 수도 있다. 또 일본 공개특허공보 평10-300922호에 기재된 N위 치환 말레이미드 모노머 공중합체, 일본 공개특허공보 2004-300204호에 기재된 에터 다이머 공중합체도 수지로서 바람직하게 이용할 수 있다.As the resin, it is also possible to use, as the resin, (meth) acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer and the like, acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid in the side chain, A resin having an acid group such as a resin added with an anhydride may be used. Also, the N-substituted maleimide monomer copolymer described in JP-A-10-300922 and the ether dimer copolymer disclosed in JP-A-2004-300204 can be preferably used.
또 본 발명에 있어서, 수지는 측쇄에 카복시기를 갖는 폴리머를 이용할 수도 있다. 이들 폴리머는 분산제로서 이용해도 되고, 바인더로서 이용해도 된다. 측쇄에 카복시기를 갖는 폴리머로서는, 메타크릴산 공중합체, 아크릴산 공중합체, 이타콘산 공중합체, 크로톤산 공중합체, 말레산 공중합체, 부분 에스터화 말레산 공중합체, 노볼락형 수지 등의 알칼리 가용성 페놀 수지 등과, 측쇄에 카복시기를 갖는 산성 셀룰로스 유도체, 하이드록시기를 갖는 폴리머에 산무수물을 부가시킨 것을 들 수 있다. 특히, (메트)아크릴산과, 이것과 공중합 가능한 다른 모노머의 공중합체가 바람직하다. (메트)아크릴산과 공중합 가능한 다른 모노머로서는, 알킬(메트)아크릴레이트, 아릴(메트)아크릴레이트, 바이닐 화합물 등을 들 수 있다. 알킬(메트)아크릴레이트 및 아릴(메트)아크릴레이트로서는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 뷰틸(메트)아크릴레이트, 아이소뷰틸(메트)아크릴레이트, 펜틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 옥틸(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 톨릴(메트)아크릴레이트, 나프틸(메트)아크릴레이트, 사이클로헥실(메트)아크릴레이트 등, 바이닐 화합물로서는, 스타이렌, α-메틸스타이렌, 바이닐톨루엔, 글리시딜메타크릴레이트, 아크릴로나이트릴, 바이닐아세테이트, N-바이닐피롤리돈, 테트라하이드로퓨퓨릴메타크릴레이트, 폴리스타이렌 매크로모노머, 폴리메틸메타크릴레이트 매크로모노머 등을 들 수 있다. 또 다른 모노머는, 일본 공개특허공보 평10-300922호에 기재된 N위 치환 말레이미드 모노머(예를 들면 N-페닐말레이미드, N-사이클로헥실말레이미드 등)를 들 수 있다. 또한 이들 (메트)아크릴산과 공중합 가능한 다른 모노머는 1종뿐이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.In the present invention, a resin having a carboxy group in its side chain may also be used. These polymers may be used as a dispersant or as a binder. Examples of the polymer having a carboxy group in the side chain include an alkali soluble phenol such as a methacrylic acid copolymer, an acrylic acid copolymer, an itaconic acid copolymer, a crotonic acid copolymer, a maleic acid copolymer, a partially esterified maleic acid copolymer, Resins and the like, acidic cellulose derivatives having a carboxy group in a side chain, and acid anhydrides added to a polymer having a hydroxy group. Particularly, copolymers of (meth) acrylic acid and other monomers copolymerizable therewith are preferable. Examples of other monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid include alkyl (meth) acrylate, aryl (meth) acrylate, and vinyl compounds. Examples of the alkyl (meth) acrylate and aryl (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (Meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl , And cyclohexyl (meth) acrylate. Examples of the vinyl compound include styrene,? -Methylstyrene, vinyltoluene, glycidyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, Furfuryl methacrylate, polystyrene macromonomer, polymethyl methacrylate macromonomer, and the like. Other monomers include N-substituted maleimide monomers described in JP-A No. 10-300922 (for example, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, etc.). These monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid may be used singly or in combination of two or more.
또 본 발명에 있어서 수지는, 벤질(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산 공중합체, 벤질(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트 공중합체, 벤질(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/다른 모노머로 이루어지는 다원 공중합체를 바람직하게 이용할 수 있다. 또 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트를 공중합한 것, 일본 공개특허공보 평7-140654호에 기재된, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트/폴리스타이렌 매크로모노머/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로모노머/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트/폴리스타이렌 매크로모노머/메틸메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트/폴리스타이렌 매크로모노머/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체 등도 바람직하게 이용할 수 있다.In the present invention, the resin may be at least one selected from the group consisting of benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / 2- ) Acrylate / (meth) acrylic acid / other monomers can be preferably used. (Meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylate copolymer as described in JP-A-7-140654, a copolymer of 2-hydroxyethyl Acid copolymer, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / methyl Methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, and the like can also be preferably used.
수지는, 하기 식 (ED1)로 나타나는 화합물 및/또는 일본 공개특허공보 2010-168539호의 일반식 (1)로 나타나는 화합물(이하, 이들 화합물을 “에터 다이머”라고 칭하는 경우도 있음)을 포함하는 모노머 성분을 중합하여 이루어지는 폴리머 (a)를 포함하는 것도 바람직하다.The resin may be a monomer containing a compound represented by the following formula (ED1) and / or a compound represented by the general formula (1) of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2010-168539 (hereinafter sometimes referred to as an "ether dimer" (A) which is obtained by polymerizing the component (a).
[화학식 9][Chemical Formula 9]
식 (ED) 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 1~25의 탄화 수소기를 나타낸다.In the formula (ED), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group of 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
식 (ED1) 중, R1 및 R2로 나타나는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~25의 탄화 수소기로서는, 특별히 제한은 없지만, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, 아이소뷰틸, tert-뷰틸, tert-아밀, 스테아릴, 라우릴, 2-에틸헥실 등의 직쇄 또는 분기의 알킬기; 페닐 등의 아릴기; 사이클로헥실, tert-뷰틸사이클로헥실, 다이사이클로펜타다이엔일, 트라이사이클로데칸일, 아이소보닐, 아다만틸, 2-메틸-2-아다만틸 등의 지환식기; 1-메톡시에틸, 1-에톡시에틸 등의 알콕시로 치환된 알킬기; 벤질 등의 아릴기로 치환된 알킬기; 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히, 메틸, 에틸, 사이클로헥실, 벤질 등과 같은 산이나 열로 탈리되기 어려운 1급 또는 2급 탄소의 치환기가 내열성의 점에서 바람직하다.In the formula (ED1), the hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent represented by R 1 and R 2 is not particularly limited, and examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, , Isobutyl, tert-butyl, tert-amyl, stearyl, lauryl, 2-ethylhexyl and the like; An aryl group such as phenyl; Alicyclic groups such as cyclohexyl, tert-butylcyclohexyl, dicyclopentadienyl, tricyclodecanyl, isobornyl, adamantyl and 2-methyl-2-adamantyl; An alkyl group substituted by alkoxy such as 1-methoxyethyl or 1-ethoxyethyl; An alkyl group substituted with an aryl group such as benzyl; And the like. Of these, an acid such as methyl, ethyl, cyclohexyl, benzyl and the like, or a substituent of a primary or secondary carbon which is difficult to be desorbed by heat, is preferable from the viewpoint of heat resistance.
에터 다이머의 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 번호 0317의 기재를 참조할 수 있고, 이 내용은 본 명세서에 원용된다. 에터 다이머는, 1종뿐이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.As a concrete example of the ether dimer, reference can be made, for example, to the disclosure of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-29760, paragraph number 0317, which is incorporated herein by reference. The ether dimer may be one kind or two or more kinds.
수지는, 하기 식 (X)로 나타나는 화합물에서 유래하는 반복 단위를 포함하고 있어도 된다.The resin may contain a repeating unit derived from a compound represented by the following formula (X).
[화학식 10][Chemical formula 10]
식 (X)에 있어서, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 탄소수 2~10의 알킬렌기를 나타내며, R3은 수소 원자 또는 벤젠환을 포함해도 되는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다. n은 1~15의 정수를 나타낸다.In formula (X), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and R 3 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hydrogen atom or a benzene ring . n represents an integer of 1 to 15;
상기 식 (X)에 있어서, R2의 알킬렌기의 탄소수는 2~3이 바람직하다. 또 R3의 알킬기의 탄소수는 1~20이지만, 보다 바람직하게는 1~10이며, R3의 알킬기는 벤젠환을 포함해도 된다. R3으로 나타나는 벤젠환을 포함하는 알킬기로서는, 벤질기, 2-페닐(아이소)프로필기 등을 들 수 있다.In the formula (X), the number of carbon atoms of the alkylene group of R 2 is preferably 2 to 3. The alkyl group of R 3 has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and the alkyl group of R 3 may include a benzene ring. Examples of the alkyl group containing a benzene ring represented by R 3 include a benzyl group and a 2-phenyl (isopropyl) group.
수지는, 일본 공개특허공보 2012-208494호의 단락 번호 0558~0571(대응하는 미국 특허출원 공개공보 제2012/0235099호의 단락 번호 0685~0700)의 기재를 참조할 수 있고, 이들 내용은 본원 명세서에 원용된다.Resin can refer to the description of Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2012-208494, paragraphs 0558 to 0571 (corresponding US Patent Application Publication No. 2012/0235099, paragraphs 0685 to 0700), which are incorporated herein by reference do.
또한, 일본 공개특허공보 2012-32767호의 단락 번호 0029~0063에 기재된 공중합체 (B) 및 실시예에서 이용되고 있는 알칼리 가용성 수지, 일본 공개특허공보 2012-208474호의 단락 번호 0088~0098에 기재된 바인더 수지 및 실시예에서 이용되고 있는 바인더 수지, 일본 공개특허공보 2012-137531호의 단락 번호 0022~0032에 기재된 바인더 수지 및 실시예에서 이용되고 있는 바인더 수지, 일본 공개특허공보 2013-024934호의 단락 번호 0132~0143에 기재된 바인더 수지 및 실시예에서 이용되고 있는 바인더 수지, 일본 공개특허공보 2011-242752호의 단락 번호 0092~0098 및 실시예에서 이용되고 있는 바인더 수지, 일본 공개특허공보 2012-032770호의 단락 번호 0030~0072에 기재된 바인더 수지를 이용할 수도 있다. 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.The copolymer (B) described in paragraphs [0029] to [0063] of JP-A No. 2012-32767 and the alkali-soluble resin used in the examples, the binder resin described in paragraphs 0088 to 0098 of JP-A No. 2012-208474 And the binder resin used in the examples, the binder resin described in paragraphs 0022 to 0032 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-137531 and the binder resin used in the examples, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-024934, paragraphs 0132 to 0143 And binder resins used in the examples, paragraphs 0092 to 0098 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-242752 and binder resins used in the examples, paragraphs 0030 to 0072 of JP-A No. 2012-032770 May also be used. The contents of which are incorporated herein by reference.
본 발명에 있어서, 수지는 중합성기를 갖는 수지를 이용할 수도 있다. 중합성기를 갖는 수지의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분의 1~80질량%인 것이 바람직하다. 하한은, 2질량% 이상이 바람직하며, 3질량% 이상이 보다 바람직하다. 상한은 70질량% 이하가 바람직하고, 60질량% 이하가 보다 바람직하다.In the present invention, a resin having a polymerizable group may be used. The content of the resin having a polymerizable group is preferably 1 to 80 mass% of the total solid content of the coloring composition. The lower limit is preferably 2% by mass or more, and more preferably 3% by mass or more. The upper limit is preferably 70 mass% or less, and more preferably 60 mass% or less.
중합성기를 갖는 수지의 중량 평균 분자량은, 2,000~2,000,000이 바람직하다. 상한은 1,000,000 이하가 바람직하고, 500,000 이하가 보다 바람직하다. 하한은 3,000 이상이 바람직하고, 5,000 이상이 보다 바람직하다.The weight average molecular weight of the resin having a polymerizable group is preferably 2,000 to 2,000,000. The upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less. The lower limit is preferably 3,000 or more, more preferably 5,000 or more.
중합성기를 갖는 수지는, 측쇄에 라디칼 중합성기를 갖는 폴리머가 바람직하다. 중합성기를 갖는 수지는, 측쇄에 라디칼 중합성기를 갖는 반복 단위를 포함하는 것이 바람직하고, 식 (1)로 나타나는 반복 단위를 갖는 폴리머가 보다 바람직하다.The resin having a polymerizable group is preferably a polymer having a radical polymerizable group in its side chain. The resin having a polymerizable group preferably contains a repeating unit having a radically polymerizable group in its side chain, and more preferably a polymer having a repeating unit represented by the formula (1).
[화학식 11](11)
식 중, R1은 수소 원자 또는 알킬기를 나타내고, L1은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며, P1은 라디칼 중합성기를 나타낸다.In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and P 1 represents a radical polymerizable group.
R1이 나타내는 알킬기는, 탄소수 1~3의 알킬기가 바람직하고, 메틸기가 바람직하다. R1은, 수소 원자 또는 메틸기인 것이 바람직하다.The alkyl group represented by R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and is preferably a methyl group. R 1 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
L1은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. 2가의 연결기로서는, 탄소수 1~30의 알킬렌기, 탄소수 6~12의 아릴렌기, 이들과 -CO-, -OCO-, -O-, -NH- 및 -SO2-로부터 선택되는 1종을 조합하여 이루어지는 기를 들 수 있다. 알킬렌기 및 아릴렌기는, 치환기를 갖고 있어도 되고, 무치환이어도 된다. 치환기로서는, 할로젠 원자, 알킬기, 아릴기, 하이드록시기, 카복시기, 알콕시기, 아릴옥시기 등을 들 수 있다. 하이드록시기가 바람직하다.L 1 represents a single bond or a divalent linking group. Examples of the divalent linking group include an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, and a combination thereof selected from -CO-, -OCO-, -O-, -NH- and -SO 2 - And the like. The alkylene group and the arylene group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group, a carboxy group, an alkoxy group, and an aryloxy group. Hydroxy groups are preferred.
P1은 라디칼 중합성기를 나타낸다. 라디칼 중합성기로서는, 바이닐기, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기 등의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 기를 들 수 있다.P 1 represents a radical polymerizable group. Examples of the radical polymerizable group include groups having an ethylenic unsaturated bond such as a vinyl group, (meth) allyl group, or (meth) acryloyl group.
중합성기를 갖는 수지는, 측쇄에 라디칼 중합성기를 갖는 반복 단위의 함유량이, 전체 반복 단위의 5~100질량%인 것이 바람직하다. 하한은 10질량% 이상이 보다 바람직하며, 15질량% 이상이 더 바람직하다. 상한은 95질량% 이하가 보다 바람직하며, 90질량% 이하가 더 바람직하다.In the resin having a polymerizable group, the content of the repeating unit having a radically polymerizable group in the side chain is preferably 5 to 100% by mass of the total repeating units. The lower limit is more preferably 10% by mass or more, and more preferably 15% by mass or more. The upper limit is more preferably 95 mass% or less, and further preferably 90 mass% or less.
중합성기를 갖는 수지는, 상기 식 (1)로 나타나는 반복 단위 외에, 다른 반복 단위를 포함하고 있어도 된다. 다른 반복 단위는, 산기 등의 관능기를 포함하고 있어도 된다. 관능기를 포함하지 않아도 된다.The resin having a polymerizable group may contain other repeating units in addition to the repeating units represented by the above formula (1). The other repeating unit may contain a functional group such as an acid group. It is not necessary to include a functional group.
산기로서는, 카복시기, 설폰산기, 인산기가 예시된다. 산기는 1종류만 포함되어 있어도 되고, 2종류 이상 포함되어 있어도 된다.Examples of the acid group include a carboxy group, a sulfonic acid group and a phosphoric acid group. The acid group may be contained only in one kind or in two or more kinds.
산기를 갖는 반복 단위의 비율은, 수지를 구성하는 전체 반복 단위의 0~50질량%인 것이 바람직하다. 하한은 1질량% 이상이 보다 바람직하며, 3질량% 이상이 더 바람직하다. 상한은 35질량% 이하가 보다 바람직하며, 30질량% 이하가 더 바람직하다.The proportion of the repeating unit having an acid group is preferably 0 to 50 mass% of the total repeating units constituting the resin. The lower limit is more preferably 1% by mass or more, and still more preferably 3% by mass or more. The upper limit is more preferably 35 mass% or less, and still more preferably 30 mass% or less.
그 외의 관능기로서 락톤, 산무수물, 아마이드, 사이아노기 등의 현상 촉진기, 장쇄 및 환상 알킬기, 아랄킬기, 아릴기, 폴리알킬렌옥사이드기, 하이드록시기, 말레이미드기, 아미노기 등을 들 수 있고, 적절히 도입할 수 있다.Examples of other functional groups include a development promoter such as lactone, acid anhydride, amide and cyano group, long chain and cyclic alkyl group, aralkyl group, aryl group, polyalkylene oxide group, hydroxyl group, maleimide group and amino group , And can be introduced properly.
또 상술한 에터 다이머에서 유래하는 반복 단위나, 상술한 수지에서 설명한 식 (X)로 나타나는 화합물에서 유래하는 반복 단위 등을 포함해도 된다.It may also contain a repeating unit derived from the above-mentioned ether dimer and a repeating unit derived from a compound represented by the formula (X) described in the above resin.
중합성을 갖는 수지의 구체예를 나타내지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the polymerizable resin are shown, but the present invention is not limited thereto.
[화학식 12][Chemical Formula 12]
중합성을 갖는 수지의 시판품으로서는, 다이아날 NR 시리즈(미쓰비시 레이온 가부시키가이샤제), Photomer6173(COOH 함유 polyurethane acrylic oligomer. Diamond Shamrock Co., Ltd.제), 비스코트 R-264, KS 레지스트 106(모두 오사카 유키 가가쿠 고교 가부시키가이샤제), 사이클로머 P 시리즈(예를 들면 ACA 230AA), 플락셀 CF200 시리즈(모두 (주)다이셀제), Ebecryl3800(다이셀 유시비 가부시키가이샤제), 아크리큐어 RD-F8(닛폰 쇼쿠바이사제) 등을 들 수 있다.(Manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Photomer 6173 (COOH-containing polyurethane acrylic oligomer, manufactured by Diamond Shamrock Co., Ltd.), Viscot R-264, KS Resist 106 (All ACA 230AA), FLACCEL CF200 series (all available from DAICEL Co., Ltd.), Ebecryl 3800 (manufactured by DAICEL CO., LTD.), ARC (trade name, manufactured by BASF CORPORATION) And Liqueur RD-F8 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.).
<<중합성 화합물>><< Polymerizable compound >>
본 발명의 착색 조성물은, 중합성 화합물을 함유한다. 중합성 화합물로서는, 라디칼에 의하여 가교 가능한 공지의 화합물을 이용할 수 있다. 예를 들면 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 기 등의 라디칼 중합성기를 갖는 화합물(라디칼 중합성 화합물)을 들 수 있다. 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 기로서는, 바이닐기, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기 등을 들 수 있고, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기가 바람직하다.The coloring composition of the present invention contains a polymerizable compound. As the polymerizable compound, a known compound that can be crosslinked by a radical can be used. For example, a compound having a radically polymerizable group such as a group having an ethylenic unsaturated bond (a radically polymerizable compound). Examples of the group having an ethylenic unsaturated bond include a vinyl group, a (meth) allyl group and a (meth) acryloyl group, and a (meth) allyl group and a (meth) acryloyl group are preferable.
본 발명에 있어서, 중합성 화합물은, 예를 들면 모노머, 프리폴리머, 즉 2량체, 3량체 및 올리고머, 또는 그들의 혼합물과 그들의 다량체 등의 화학적 형태 중 어느 것이어도 된다. 모노머가 바람직하다.In the present invention, the polymerizable compound may be, for example, a monomer, a prepolymer, that is, a chemical form such as a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a multimer thereof. Monomers are preferred.
모노머 타입의 중합성 화합물(중합성 모노머)은, 분자량이 100~3000인 것이 바람직하다. 상한은 2000 이하가 바람직하고, 1500 이하가 더 바람직하다. 하한은 150 이상이 바람직하고, 250 이상이 더 바람직하다.The monomer-type polymerizable compound (polymerizable monomer) preferably has a molecular weight of 100 to 3000. The upper limit is preferably 2000 or less, more preferably 1500 or less. The lower limit is preferably 150 or more, and more preferably 250 or more.
중합성 화합물의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분의 1~80질량%인 것이 바람직하다. 하한은, 5질량% 이상이 바람직하고, 10질량% 이상이 보다 바람직하다. 상한은 70질량% 이하가 바람직하고, 60질량% 이하가 보다 바람직하다.The content of the polymerizable compound is preferably 1 to 80 mass% of the total solid content of the coloring composition. The lower limit is preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more. The upper limit is preferably 70 mass% or less, and more preferably 60 mass% or less.
중합성 모노머의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분의 1~80질량%인 것이 바람직하다. 하한은, 2질량% 이상이 바람직하고, 3질량% 이상이 보다 바람직하다. 상한은 70질량% 이하가 바람직하고, 60질량% 이하가 보다 바람직하며, 50질량% 이하가 더 바람직하다.The content of the polymerizable monomer is preferably 1 to 80% by mass of the total solid content of the coloring composition. The lower limit is preferably not less than 2% by mass, more preferably not less than 3% by mass. The upper limit is preferably 70 mass% or less, more preferably 60 mass% or less, and most preferably 50 mass% or less.
또 중합성 모노머와 중합성기를 갖는 수지를 병용하는 경우, 양자의 질량비는, 중합성 모노머:중합성기를 갖는 수지=1:1~20이 바람직하고, 1:1~15가 보다 바람직하며, 1:5~15가 더 바람직하다.When a polymerizable monomer and a resin having a polymerizable group are used in combination, the mass ratio of the polymerizable monomer and the polymerizable group is preferably 1: 1 to 20, more preferably 1: 1 to 15, : 5 to 15 is more preferable.
본 발명의 착색 조성물은, 중합성 화합물을, 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain only one kind of polymerizable compound, or may contain two or more kinds of polymerizable compounds. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.
(중합성 모노머)(Polymerizable monomer)
본 발명에 있어서, 중합성 모노머는, 라디칼 중합성기를 3개 이상 갖는 화합물이 바람직하고, 라디칼 중합성기를 3~15개 이상 갖는 화합물이 보다 바람직하며, 라디칼 중합성기를 3~6개 이상 갖는 화합물이 더 바람직하다.In the present invention, the polymerizable monomer is preferably a compound having three or more radically polymerizable groups, more preferably a compound having 3 to 15 or more radically polymerizable groups, and a compound having 3 to 6 or more radically polymerizable groups Is more preferable.
이들의 구체적인 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2009-288705호의 단락 번호 〔0095〕~〔0108〕, 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 번호 0227, 일본 공개특허공보 2008-292970호의 단락 번호 0254~0257에 기재된 화합물을 참조할 수 있고, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.Specific examples of these compounds are described in paragraphs [0095] to [0108] of JP-A No. 2009-288705, paragraphs 0227 and 027 of JP-A No. 2013-29760, paragraphs 0254 to 0257 of JP-A No. 2008-292970 Reference may be made to the disclosed compounds, the contents of which are incorporated herein by reference.
중합성 모노머는, 알킬렌옥시기를 갖는 화합물이 바람직하고, 알킬렌옥시기를 반복 단위로서 2 이상 포함하는 쇄(알킬렌옥시쇄)를 갖는 화합물이 더 바람직하다. 알킬렌옥시쇄는, 알킬렌옥시기의 반복 단위수가 2~30인 것이 바람직하고, 2~20이 보다 바람직하며, 2~10이 더 바람직하다.The polymerizable monomer is preferably a compound having an alkyleneoxy group, more preferably a compound having a chain (alkyleneoxy chain) containing two or more alkyleneoxy groups as repeating units. The alkyleneoxy group preferably has 2 to 30, more preferably 2 to 20, and more preferably 2 to 10, repeating units of the alkyleneoxy group.
알킬렌옥시기의 탄소수는, 2 이상이 바람직하고, 2~10이 보다 바람직하며, 2~4가 더 바람직하고, 2가 특히 바람직하다. 즉, 에틸렌옥시기가 특히 바람직하다The number of carbon atoms of the alkyleneoxy group is preferably 2 or more, more preferably 2 to 10, still more preferably 2 to 4, and particularly preferably 2. That is, the ethyleneoxy group is particularly preferable
알킬렌옥시쇄는, "-((CH2)a-O)b-"로 나타나는 것이 바람직하다. 식 중, a는 2 이상이 바람직하고, 2~10이 보다 바람직하며, 2~4가 더 바람직하고, 2가 특히 바람직하다. b는, 2~30인 것이 바람직하고, 2~20이 보다 바람직하며, 2~10이 더 바람직하다.The alkyleneoxy chain is preferably represented by "- ((CH 2 ) a -O) b -". In the formula, a is preferably 2 or more, more preferably 2 to 10, still more preferably 2 to 4, and particularly preferably 2. b is preferably 2 to 30, more preferably 2 to 20, and even more preferably 2 to 10.
본 발명에 있어서, 알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물로서는, 예를 들면 하기 식 (Z-4) 또는 (Z-5)로 나타나는 화합물의 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 이용할 수도 있다.In the present invention, as the polymerizable compound having an alkyleneoxy group, at least one member selected from the group of compounds represented by the following formula (Z-4) or (Z-5) may be used.
[화학식 13][Chemical Formula 13]
식 (Z-4) 및 (Z-5) 중, E는 각각 독립적으로 -((CH2)yCH2O)-, 또는 -((CH2)yCH(CH3)O)-를 나타내고, y는 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내며, X는 각각 독립적으로 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 수소 원자, 또는 카복시기를 나타낸다.In the formulas (Z-4) and (Z-5), each E independently represents - ((CH 2 ) y CH 2 O) - or - ((CH 2 ) y CH (CH 3 ) , y each independently represents an integer of 0 to 10, and each X independently represents an acryloyl group, a methacryloyl group, a hydrogen atom, or a carboxy group.
식 (Z-4) 중, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기의 합계는 3개 또는 4개이고, m은 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내며, m중 적어도 하나는 1~10의 정수를 나타내고, 각 m의 합계는 1~40의 정수이다.In the formula (Z-4), the sum of the acryloyl group and the methacryloyl group is 3 or 4, m is independently an integer of 0 to 10, at least one of m represents an integer of 1 to 10 , The sum of each m is an integer of 1 to 40.
식 (Z-5) 중, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기의 합계는 5개 또는 6개이고, n은 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내며, n 중 적어도 하나는 1~10의 정수를 나타내고, 각 n의 합계는 1~60의 정수이다.In the formula (Z-5), the sum of the acryloyl group and the methacryloyl group is 5 or 6, each n independently represents an integer of 0 to 10, at least one of n represents an integer of 1 to 10 , And the sum of each n is an integer of 1 to 60.
식 (Z-4) 중, m은 0~6의 정수가 바람직하고, 0~4의 정수가 보다 바람직하다. 또 각 m의 합계는, 2~40의 정수가 바람직하고, 2~16의 정수가 보다 바람직하며, 4~8의 정수가 특히 바람직하다.In the formula (Z-4), m is preferably an integer of 0 to 6, more preferably an integer of 0 to 4. The sum of m is preferably an integer of 2 to 40, more preferably an integer of 2 to 16, and an integer of 4 to 8 is particularly preferable.
식 (Z-5) 중, n은 0~6의 정수가 바람직하고, 0~4의 정수가 보다 바람직하다. 또 각 n의 합계는, 3~60의 정수가 바람직하고, 3~24의 정수가 보다 바람직하며, 6~12의 정수가 특히 바람직하다.In the formula (Z-5), n is preferably an integer of 0 to 6, more preferably an integer of 0 to 4. The sum of each n is preferably an integer of 3 to 60, more preferably an integer of 3 to 24, and particularly preferably an integer of 6 to 12.
또 식 (Z-4) 또는 식 (Z-5) 중의 -((CH2)yCH2O)- 또는 -((CH2)yCH(CH3)O)-는, 산소 원자 측의 말단이 X에 결합하는 형태가 바람직하다.The - ((CH 2 ) y CH 2 O) - or - ((CH 2 ) y CH (CH 3 ) O) - in the formula (Z-4) or the formula (Z- The form of bonding to X is preferred.
식 (Z-4) 또는 식 (Z-5)로 나타나는 화합물은 1종 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상 병용해도 된다. 특히, 식 (Z-5)에 있어서, 6개의 X 모두가 아크릴로일기인 형태가 바람직하다.The compounds represented by the formula (Z-4) or (Z-5) may be used singly or in combination of two or more. Particularly, in the formula (Z-5), it is preferable that all of the six X's are acryloyl groups.
식 (Z-4) 또는 식 (Z-5)로 나타나는 화합물은, 종래 공지의 공정인, 펜타에리트리톨 또는 다이펜타에리트리톨에 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드를 개환 부가 반응에 의하여 개환 골격을 결합하는 공정과, 개환 골격의 말단 수산기에, 예를 들면 (메트)아크릴로일 클로라이드를 반응시켜 (메트)아크릴로일기를 도입하는 공정으로 합성할 수 있다. 각 공정은 잘 알려진 공정이며, 당업자는 용이하게 식 (Z-4) 또는 식 (Z-5)로 나타나는 화합물을 합성할 수 있다.The compound represented by the formula (Z-4) or (Z-5) can be produced by a process known in the art, such as pentaerythritol or dipentaerythritol, in which ethylene oxide or propylene oxide is subjected to ring- And a step of introducing a (meth) acryloyl group by reacting a terminal hydroxyl group of the ring-opening skeleton with, for example, (meth) acryloyl chloride. Each process is a well-known process, and a person skilled in the art can easily synthesize a compound represented by the formula (Z-4) or (Z-5).
식 (Z-4) 또는 식 (Z-5)로 나타나는 화합물 중에서도, 펜타에리트리톨 유도체 및/또는 다이펜타에리트리톨 유도체가 보다 바람직하다.Among the compounds represented by the formula (Z-4) or (Z-5), pentaerythritol derivatives and / or dipentaerythritol derivatives are more preferred.
알킬렌옥시기를 갖는 중합성 모노머의 구체예로서는, 하기 화합물을 들 수 있다. 또한 M-2는, 왼쪽식의 화합물과 오른쪽식의 화합물이 질량비로 7:3의 혼합물이다.Specific examples of the polymerizable monomer having an alkyleneoxy group include the following compounds. M-2 is a mixture of the left-handed compound and the right-handed compound in a mass ratio of 7: 3.
[화학식 14][Chemical Formula 14]
알킬렌옥시기를 갖는 중합성 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면 사토머사제의 에틸렌옥시기를 4개 갖는 4관능 아크릴레이트인 SR-494, 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제의 펜틸렌옥시기를 6개 갖는 6관능 아크릴레이트인 DPCA-60, 아이소뷰틸렌옥시기를 3개 갖는 3관능 아크릴레이트인 TPA-330 등을 들 수 있다.Examples of commercially available products of alkyleneoxy group-containing polymerizable compounds include SR-494, a tetrafunctional acrylate having four ethyleneoxy groups, manufactured by Satomaru Co., Ltd., and 6-pentadienyloxy groups having 6 pentyleneoxy groups, manufactured by Nippon Kayaku Co., DPCA-60, which is a functional acrylate, and TPA-330, which is a trifunctional acrylate having three isobutyleneoxy groups.
본 발명에서는, 중합성 화합물로서 다이펜타에리트리톨트라이아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-330; 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제), 다이펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-320; 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제), 다이펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-310; 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제), 다이펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD DPHA; 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제, A-DPH-12E; 신나카무라 가가쿠 고교(주)제), 및 이들의 (메트)아크릴로일기가 에틸렌글라이콜, 프로필렌글라이콜 잔기를 통하여 결합되어 있는 구조(예를 들면 사토머사로부터 시판되고 있는, SR454, SR499)를 바람직하게 이용할 수 있다. 이들의 올리고머 타입도 사용할 수 있다. 또 KAYARAD RP-1040, DPCA-20(닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제), NK 에스터 A-TMMT(펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 신나카무라 가가쿠 고교(주)제) 등을 사용할 수도 있다.In the present invention, dipentaerythritol triacrylate (KAYARAD D-330, Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha) and dipentaerythritol tetraacrylate (KAYARAD D-320, Nippon Kayaku Co., (KAYARAD D-310 manufactured by Nippon Kayaku K.K.), dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (commercially available as KAYARAD DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol penta (meth) A-DPH-12E manufactured by Shin-Nakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.), and a structure in which these (meth) acryloyl groups are bonded through ethylene glycol and propylene glycol residues (For example, SR454, SR499 commercially available from Satorcom) can be preferably used. These oligomer types can also be used. Further, KAYARAD RP-1040, DPCA-20 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), NK Ester A-TMMT (pentaerythritol tetraacrylate, manufactured by Shin Nakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
중합성 화합물은, 카복시기, 설폰산기, 인산기 등의 산기를 갖고 있어도 된다. 시판품으로서는, 예를 들면 도아 고세이 가부시키가이샤제의 M-305, M-510, M-520 등을 들 수 있다.The polymerizable compound may have an acid group such as a carboxy group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group. Commercially available products include, for example, M-305, M-510, and M-520 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
산기를 갖는 중합성 화합물의 바람직한 산가로서는, 0.1~40mgKOH/g이며, 특히 바람직하게는 5~30mgKOH/g이다. 중합성 화합물의 산가가 0.1mgKOH/g 이상이면, 현상 용해 특성이 양호하고, 40mgKOH/g 이하이면, 제조나 취급상 유리하다. 나아가서는, 광중합 성능이 양호하고, 경화성이 우수하다.The acid value of the polymerizable compound having an acid group is preferably from 0.1 to 40 mg KOH / g, particularly preferably from 5 to 30 mg KOH / g. If the acid value of the polymerizable compound is 0.1 mgKOH / g or more, the development and dissolution characteristics are good, and if it is 40 mgKOH / g or less, it is advantageous in terms of production and handling. Further, the photopolymerization performance is good and the curability is excellent.
중합성 화합물은, 카프로락톤 구조를 갖는 화합물도 바람직한 양태이다.The polymerizable compound is also a preferred embodiment of the compound having a caprolactone structure.
카프로락톤 구조를 갖는 중합성 화합물은, 예를 들면 닛폰 가야쿠(주)로부터 KAYARAD DPCA 시리즈로서 시판되고 있고, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120 등을 들 수 있다.The polymerizable compound having a caprolactone structure is commercially available, for example, as KAYARAD DPCA series from Nippon Kayaku Co., Ltd. and includes DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120 and the like.
중합성 화합물은, 일본 공고특허공보 소48-41708호, 일본 공개특허공보 소51-37193호, 일본 공고특허공보 평2-32293호, 일본 공고특허공보 평2-16765호에 기재되어 있는 바와 같은, 유레테인아크릴레이트류나, 일본 공고특허공보 소58-49860호, 일본 공고특허공보 소56-17654호, 일본 공고특허공보 소62-39417호, 일본 공고특허공보 소62-39418호에 기재된 에틸렌옥사이드계 골격을 갖는 유레테인 화합물류도 적합하다. 또 일본 공개특허공보 소63-277653호, 일본 공개특허공보 소63-260909호, 일본 공개특허공보 평1-105238호에 기재되는, 분자 내에 아미노 구조나 설파이드 구조를 갖는 부가 중합성 화합물류를 이용함으로써, 매우 감광 스피드가 우수한 착색 조성물을 얻을 수 있다.The polymerizable compound is preferably a polymerizable compound as described in JP-A-48-41708, JP-A-51-37193, JP-A-2-32293 or JP-A-2-16765 , Urethane acrylates, Japanese Patent Publication No. 58-49860, Japanese Examined Patent Publication No. 56-17654, Japanese Examined Patent Publication No. 62-39417, Japanese Examined Patent Publication No. 62-39418, ethylene Yutein compounds having an oxide-based skeleton are also suitable. Further, addition polymerizable compounds having an amino structure or sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909 and JP-A-1-105238 Whereby a coloring composition having an extremely high photosensitive speed can be obtained.
시판품으로서는, 유레테인 올리고머 UAS-10, UAB-140(산요 고쿠사쿠 펄프사제), UA-7200(신나카무라 가가쿠 고교(주)제), DPHA-40H(닛폰 가야쿠사제), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600(교에이샤 가가쿠(주)제) 등을 들 수 있다.UA-7200 (manufactured by Shin Nakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) , UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600 and AI-600 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).
<<광중합 개시제>><< Photopolymerization initiator >>
본 발명의 착색 조성물은, 광중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator.
광중합 개시제로서는, 중합성 화합물의 중합을 개시하는 능력을 갖는 한, 특별히 제한은 없고, 공지의 광중합 개시제 중에서 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면 자외선 영역으로부터 가시 영역의 광선에 대하여 감광성을 갖는 것이 바람직하다.The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has the ability to initiate polymerization of the polymerizable compound, and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, it is preferable to have photosensitivity to light rays in the visible region from the ultraviolet ray region.
중합성 화합물로서 라디칼 중합성 화합물을 이용하는 경우, 광중합 개시제는, 광라디칼 중합 개시제가 바람직하다.When a radically polymerizable compound is used as the polymerizable compound, the photopolymerization initiator is preferably a photo radical polymerization initiator.
또 광중합 개시제는, 약 300nm~800nm(330nm~500nm가 보다 바람직함)의 범위 내에 적어도 약 50의 몰 흡광 계수를 갖는 화합물을, 적어도 1종 함유하고 있는 것이 바람직하다.The photopolymerization initiator preferably contains at least one compound having a molar absorptivity of at least about 50 within a range of about 300 nm to 800 nm (more preferably, 330 nm to 500 nm).
광중합 개시제로서는, 예를 들면 할로젠화 탄화 수소 유도체(예를 들면 트라이아진 골격을 갖는 것, 옥사다이아졸 골격을 갖는 것 등), 아실포스핀옥사이드 등의 아실포스핀 화합물, 헥사아릴바이이미다졸, 옥심 유도체 등의 옥심 화합물, 유기 과산화물, 싸이오 화합물, 케톤 화합물, 방향족 오늄염, 케톡심에터, 아미노아세토페논 화합물, 하이드록시아세토페논 등을 들 수 있다. 트라이아진 골격을 갖는 할로젠화 탄화 수소 화합물로서는, 예를 들면 와카바야시 등 저, Bull. Chem. Soc. Japan, 42, 2924(1969)에 기재된 화합물, 영국 특허공보 1388492호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 소53-133428호에 기재된 화합물, 독일 특허공보 3337024호에 기재된 화합물, F. C. Schaefer 등에 의한 J. Org. Chem.; 29, 1527(1964)에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 소62-58241호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 평5-281728호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 평5-34920호에 기재된 화합물, 미국 특허공보 제4212976호에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include halogenated hydrocarbon derivatives (such as those having a triazine skeleton and an oxadiazole skeleton), acylphosphine compounds such as acylphosphine oxide, , Oxime compounds such as oxime derivatives, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ketoxime ethers, aminoacetophenone compounds, and hydroxyacetophenones. As the halogenated hydrocarbon compound having a triazine skeleton, for example, Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. Compounds described in GB-A-5313428, compounds described in German Patent Publication No. 3337024, compounds described in J. Org., ≪ RTI ID = 0.0 > . Chem .; 29, 1527 (1964), compounds described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 62-58241, compounds described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 5-281728, compounds described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 5-34920, Compounds described in Japanese Patent Publication No. 4212976, and the like.
또 노광 감도의 관점에서, 트라이할로메틸트라이아진 화합물, 벤질다이메틸케탈 화합물, α-하이드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물, 아실포스핀 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 메탈로센 화합물, 옥심 화합물, 트라이아릴이미다졸 다이머, 오늄 화합물, 벤조싸이아졸 화합물, 벤조페논 화합물, 아세토페논 화합물 및 그 유도체, 사이클로펜타다이엔-벤젠-철 착체 및 그 염, 할로메틸옥사다이아졸 화합물, 3-아릴 치환 쿠마린 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 화합물이 바람직하다.From the viewpoint of exposure sensitivity, a trihalomethyltriazine compound, a benzyldimethylketal compound, an? -Hydroxyketone compound, an? -Amino ketone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, a metallocene compound, oxime Benzophenone compounds and derivatives thereof, cyclopentadiene-benzene-iron complexes and salts thereof, halomethyloxadiazole compounds, 3- (3-methylphenyl) pyridine compounds, triarylimidazole dimers, onium compounds, benzothiazole compounds, Aryl-substituted coumarin compounds are preferable.
광중합 개시제는, 트라이할로메틸트라이아진 화합물, α-아미노케톤 화합물, 아실포스핀 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 옥심 화합물, 트라이알릴이미다졸 다이머, 오늄 화합물, 벤조페논 화합물, 아세토페논 화합물이며, 트라이할로메틸트라이아진 화합물, α-아미노케톤 화합물, 옥심 화합물, 트라이알릴이미다졸 다이머, 벤조페논 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물이 바람직하다.The photopolymerization initiator is a trihalomethyltriazine compound, an? -Amino ketone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, an oxime compound, a triallylimidazole dimer, an onium compound, a benzophenone compound, At least one compound selected from the group consisting of a trihalomethyltriazine compound, an? -Amino ketone compound, an oxime compound, a triallylimidazole dimer, and a benzophenone compound is preferable.
광중합 개시제의 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 번호 0265~0268의 기재를 참조할 수 있고, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.As specific examples of the photopolymerization initiator, reference may be made, for example, to paragraphs 0265 to 0268 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760, the contents of which are incorporated herein by reference.
광중합 개시제로서는, 하이드록시아세토페논 화합물, 아미노아세토페논 화합물, 및 아실포스핀 화합물도 적합하게 이용할 수 있다. 보다 구체적으로는, 예를 들면 일본 공개특허공보 평10-291969호에 기재된 아미노아세토페논계 개시제, 일본 특허공보 제4225898호에 기재된 아실포스핀계 개시제도 이용할 수 있다.As the photopolymerization initiator, a hydroxyacetophenone compound, an aminoacetophenone compound, and an acylphosphine compound can also be suitably used. More specifically, for example, the aminoacetophenone-based initiator described in JP-A-10-291969 and the acylphosphine-based initiator disclosed in Japanese Patent Publication No. 4225898 can be used.
하이드록시아세토페논계 개시제로서는, IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, IRGACURE-127(상품명: 모두 BASF사제)을 이용할 수 있다.As the hydroxyacetophenone-based initiator, IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959 and IRGACURE-127 (all trade names, manufactured by BASF) can be used.
아미노아세토페논계 개시제로서는, 시판품인 IRGACURE-907, IRGACURE-369, 및 IRGACURE-379EG(상품명: 모두 BASF사제)를 이용할 수 있다. 아미노아세토페논계 개시제는, 365nm 또는 405nm 등의 파광원에 극대 흡수 파장이 매칭된 일본 공개특허공보 2009-191179호에 기재된 화합물도 이용할 수 있다.As the aminoacetophenone-based initiator, commercially available IRGACURE-907, IRGACURE-369, and IRGACURE-379EG (all trade names, manufactured by BASF) can be used. As the aminoacetophenone-based initiator, compounds described in JP-A-2009-191179 in which the maximum absorption wavelength is matched to a wave source such as 365 nm or 405 nm can be used.
아실포스핀계 개시제로서는, 시판품인 IRGACURE-819나 DAROCUR-TPO(상품명: 모두 BASF사제)를 이용할 수 있다.As the acylphosphine-based initiator, commercially available IRGACURE-819 and DAROCUR-TPO (all trade names, all manufactured by BASF) can be used.
광중합 개시제로서, 보다 바람직하게는 옥심 화합물을 들 수 있다.The photopolymerization initiator is more preferably an oxime compound.
옥심 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2001-233842호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2000-80068호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2006-342166호에 기재된 화합물을 이용할 수 있다.As specific examples of the oxime compounds, compounds described in JP 2001-233842 A, compounds described in JP-A 2000-80068, and JP 2006-342166 A can be used.
본 발명에 있어서, 적합하게 이용할 수 있는 옥심 화합물로서는, 예를 들면 3-벤조일옥시이미노뷰탄-2-온, 3-아세톡시이미노뷰탄-2-온, 3-프로피온일옥시이미노뷰탄-2-온, 2-아세톡시이미노펜탄-3-온, 2-아세톡시이미노-1-페닐프로판-1-온, 2-벤조일옥시이미노-1-페닐프로판-1-온, 3-(4-톨루엔설폰일옥시)이미노뷰탄-2-온, 및 2-에톡시카보닐옥시이미노-1-페닐프로판-1-온 등을 들 수 있다.Examples of oxime compounds that can be suitably used in the present invention include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan- , 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino- 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, and the like.
또 J. C. S. Perkin II(1979년) pp. 1653-1660), J. C. S. Perkin II(1979년) pp. 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology(1995년, pp. 202-232), 일본 공개특허공보 2000-66385호, 일본 공개특허공보 2000-80068호, 일본 공표특허공보 2004-534797호, 일본 공개특허공보 2006-342166호의 각 공보에 기재된 화합물 등도 들 수 있다.J. C. S. Perkin II (1979) pp. 1653-1660), J. C. S. Perkin II (1979) pp. (1995) pp. 202-232, JP-A 2000-66385, JP-A 2000-80068, JP-A 2004-534797, JP, And the compounds described in the respective publications of Patent Publication 2006-342166.
시판품으로는 IRGACURE-OXE01(BASF사제), IRGACURE-OXE02(BASF사제)도 적합하게 이용된다. 또 TR-PBG-304(창저우 강력 전자 신재료 유한공사(Changzhou Tronly New Electronic Materials Co., Ltd.)제), 아데카 아클즈 NCI-831 및 아데카 아클즈 NCI-930(ADEKA사제)도 이용할 수 있다.As commercial products, IRGACURE-OXE01 (manufactured by BASF) and IRGACURE-OXE02 (manufactured by BASF) are suitably used. Also, TR-PBG-304 (manufactured by Changzhou Tronly New Electronic Materials Co., Ltd.), Adeka Aches NCI-831 and Adeka Aches NCI-930 (manufactured by ADEKA) Can be used.
또 상기 기재 이외의 옥심 화합물로서, 카바졸환의 N위에 옥심이 연결된 일본 공표특허공보 2009-519904호에 기재된 화합물, 벤조페논 부위에 헤테로 치환기가 도입된 미국 특허공보 제7626957호에 기재된 화합물, 색소 부위에 나이트로기가 도입된 일본 공개특허공보 2010-15025호 및 미국 특허공개공보 2009-292039호에 기재된 화합물, 국제 공개공보 WO2009/131189호에 기재된 케톡심 화합물, 트라이아진 골격과 옥심 골격을 동일 분자 내에 함유하는 미국 특허공보 7556910호에 기재된 화합물, 405nm에 극대 흡수를 갖고, 또한 g선 광원에 대하여 양호한 감도를 갖는 일본 공개특허공보 2009-221114호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2014-137466호의 단락 번호 0076~0079에 기재된 화합물 등을 이용해도 된다.As oxime compounds other than the above-mentioned materials, compounds described in Japanese Patent Publication No. 2009-519904 in which oxime is linked to N of a carbazole ring, compounds described in U.S. Patent No. 7626957 in which a hetero substituent is introduced into a benzophenone moiety, Compounds disclosed in JP-A-2010-15025 and U.S. Patent Publication No. 2009-292039 wherein nitroxide groups are introduced, ketoxime compounds described in WO2009 / 131189, triazine skeletons and oxime skeletons in the same molecule A compound described in U.S. Patent Publication No. 7556910, a compound described in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2009-221114 which has a maximum absorption at 405 nm and a good sensitivity to a g-ray light source, a compound disclosed in Japanese Patent Application Publication No. 2014-137466 The compounds described in the above-mentioned publications may be used.
바람직하게는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 번호 0274~0275를 참조할 수 있고, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.Preferably, for example, refer to Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-29760, paragraphs 0274 to 0275, the content of which is incorporated herein by reference.
구체적으로는, 옥심 화합물로서는, 하기 식 (OX-1)로 나타나는 화합물이 바람직하다. 또한 옥심의 N-O 결합이 (E)체의 옥심 화합물이어도 되고, (Z)체의 옥심 화합물이어도 되며, (E)체와 (Z)체의 혼합물이어도 된다.Specifically, the oxime compound is preferably a compound represented by the following formula (OX-1). The N-O bond of the oxime may be an oxime compound of the (E) form, an oxime compound of the (Z) form, or a mixture of the form (E) form and the form (Z) form.
[화학식 15][Chemical Formula 15]
식 (OX-1) 중, R 및 B는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내고, A는 2가의 유기기를 나타내며, Ar은 아릴기를 나타낸다.In the formula (OX-1), R and B each independently represent a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, and Ar represents an aryl group.
식 (OX-1) 중, R로 나타나는 1가의 치환기로서는, 1가의 비금속 원자단인 것이 바람직하다.In the formula (OX-1), the monovalent substituent represented by R is preferably a monovalent non-metallic atomic group.
1가의 비금속 원자단으로서는, 알킬기, 아릴기, 아실기, 알콕시카보닐기, 아릴옥시카보닐기, 복소환기, 알킬싸이오카보닐기, 아릴싸이오카보닐기 등을 들 수 있다. 또 이들 기는, 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 된다. 또 상술한 치환기는, 또 다른 치환기로 치환되어 있어도 된다.Examples of the monovalent nonmetal atomic group include an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a heterocyclic group, an alkylthiocarbonyl group, and an arylthiocarbonyl group. These groups may have one or more substituents. The substituent described above may be substituted with another substituent.
치환기로서는 할로젠 원자, 아릴옥시기, 알콕시카보닐기 또는 아릴옥시카보닐기, 아실옥시기, 아실기, 알킬기, 아릴기 등을 들 수 있다.Examples of the substituent include a halogen atom, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acyl group, an alkyl group, and an aryl group.
식 (OX-1) 중, B로 나타나는 1가의 치환기로서는, 아릴기, 복소환기, 아릴카보닐기, 또는 복소환 카보닐기가 바람직하다. 이들 기는 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 상술한 치환기를 예시할 수 있다.In the formula (OX-1), the monovalent substituent represented by B is preferably an aryl group, a heterocyclic group, an arylcarbonyl group or a heterocyclic carbonyl group. These groups may have one or more substituents. As the substituent, the above-mentioned substituent can be exemplified.
식 (OX-1) 중, A로 나타나는 2가의 유기기로서는, 탄소수 1~12의 알킬렌기, 사이클로알킬렌기, 알카인일렌기가 바람직하다. 이들 기는 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 상술한 치환기를 예시할 수 있다.In the formula (OX-1), the divalent organic group represented by A is preferably an alkylene group, a cycloalkylene group or an alkane-ylene group having 1 to 12 carbon atoms. These groups may have one or more substituents. As the substituent, the above-mentioned substituent can be exemplified.
옥심 화합물은, 350nm~500nm의 파장 영역에 극대 흡수 파장을 갖는 것이 바람직하고, 360nm~480nm의 파장 영역에 흡수 파장을 갖는 것이 보다 바람직하며, 365nm 및 405nm의 흡광도가 높은 것이 특히 바람직하다.The oxime compound preferably has a maximum absorption wavelength in a wavelength region of 350 nm to 500 nm, more preferably has an absorption wavelength in a wavelength region of 360 nm to 480 nm, and particularly preferably has a high absorbance at 365 nm and 405 nm.
옥심 화합물은, 365nm 또는 405nm에 있어서의 몰 흡광 계수는, 감도의 관점에서, 1,000~300,000인 것이 바람직하고, 2,000~300,000인 것이 보다 바람직하며, 5,000~200,000인 것이 특히 바람직하다.The molar extinction coefficient of the oxime compound at 365 nm or 405 nm is preferably 1,000 to 300,000, more preferably 2,000 to 300,000, and particularly preferably 5,000 to 200,000 from the viewpoint of sensitivity.
화합물의 몰 흡광 계수는, 공지의 방법을 이용하여 측정할 수 있다. 예를 들면 자외 가시 분광 광도계(Varian사제 Cary-5 spectrophotometer)로, 아세트산 에틸 용매를 이용하여 0.01g/L의 농도에서 측정하는 것이 바람직하다.The molar extinction coefficient of the compound can be measured by a known method. For example, the measurement is preferably performed at a concentration of 0.01 g / L using an ultraviolet visible spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian) using an ethyl acetate solvent.
본 발명에 있어서 바람직하게 사용되는 옥심 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the oxime compounds preferably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[화학식 16][Chemical Formula 16]
본 발명은 광중합 개시제로서, 불소 원자를 갖는 옥심 화합물을 이용할 수도 있다. 불소 원자를 갖는 옥심 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-262028호에 기재된 화합물, 일본 공표특허공보 2014-500852호에 기재된 화합물 24, 36~40, 일본 공개특허공보 2013-164471호에 기재된 화합물 (C-3) 등을 들 수 있다. 이 내용은 본 명세서에 원용된다.The present invention can also use an oxime compound having a fluorine atom as a photopolymerization initiator. Specific examples of the fluorine atom-containing oxime compounds include compounds described in JP-A-2010-262028, compounds 24, 36 to 40 described in JP-A No. 2014-500852, compounds described in JP-A-2013-164471 (C-3), and the like. The contents of which are incorporated herein by reference.
광중합 개시제의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여 0.1~50질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5~30질량%이며, 더 바람직하게는 1~20질량%이다. 이 범위에서, 보다 양호한 감도와 패턴 형성성이 얻어진다. 착색 조성물은, 광중합 개시제를 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The content of the photopolymerization initiator is preferably from 0.1 to 50 mass%, more preferably from 0.5 to 30 mass%, and still more preferably from 1 to 20 mass%, based on the total solid content of the coloring composition. Within this range, more excellent sensitivity and pattern formability can be obtained. The coloring composition may contain only one type of photopolymerization initiator or two or more types of photopolymerization initiators. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.
<<안료 유도체>><< Pigment Derivatives >>
본 발명의 착색 조성물은, 안료 유도체를 함유하는 것이 바람직하다. 안료 유도체는, 유기 안료의 일부분을, 산성기, 염기성기 또는 프탈이미드메틸기로 치환한 구조를 갖는 화합물이 바람직하다. 안료 유도체는, 분산성 및 분산 안정성의 관점에서, 산성기 또는 염기성기를 갖는 안료 유도체가 바람직하다.The coloring composition of the present invention preferably contains a pigment derivative. The pigment derivative is preferably a compound having a structure in which a part of the organic pigment is substituted with an acidic group, a basic group or a phthalimide methyl group. The pigment derivative is preferably a pigment derivative having an acidic group or a basic group from the viewpoints of dispersibility and dispersion stability.
안료 유도체를 구성하기 위한 유기 안료로서는, 다이케토피롤로피롤계 안료, 아조계 안료, 프탈로사이아닌계 안료, 안트라퀴논계 안료, 퀴나크리돈계 안료, 다이옥사진계 안료, 페린온계 안료, 페릴렌계 안료, 싸이오인디고계 안료, 아이소인돌린계 안료, 아이소인돌린온계 안료, 퀴노프탈론계 안료, 트렌계 안료, 금속 착체계 안료 등을 들 수 있다.Examples of the organic pigments for constituting the pigment derivative include pigments such as diketopyrrolopyrrole pigments, azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, perynone pigments, , Thioindigo pigments, isoindolin pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, trene pigments, metal complex pigments, and the like.
또 안료 유도체가 갖는 산성기로서는, 설폰산기, 카복실산기 및 그 염이 바람직하고, 카복실산기 및 설폰산기가 더 바람직하며, 설폰산기가 특히 바람직하다. 안료 유도체가 갖는 염기성기로서는 아미노기가 바람직하고, 특히 3급 아미노기가 바람직하다.The acid group of the pigment derivative is preferably a sulfonic acid group, a carboxylic acid group or a salt thereof, more preferably a carboxylic acid group or a sulfonic acid group, and particularly preferably a sulfonic acid group. As the basic group of the pigment derivative, an amino group is preferable, and a tertiary amino group is particularly preferable.
안료 유도체로서는, 특히, 퀴놀린계, 벤즈이미다졸온계 및 아이소인돌린계의 안료 유도체가 바람직하고, 퀴놀린계 및 벤즈이미다졸온계의 안료 유도체가 더 바람직하다. 또 안료 유도체는, 하기 구조를 갖는 안료 유도체가 바람직하다.As the pigment derivative, a quinoline-based, benzimidazoline-based, and isoindoline-based pigment derivative is preferable, and a quinoline-based or benzimidazoline-based pigment derivative is more preferable. The pigment derivative is preferably a pigment derivative having the following structure.
[화학식 17][Chemical Formula 17]
식 (PZ) 중, A는, 하기 식 (PA-1)~(PA-3)으로부터 선택되는 구조를 나타내고,In the formula (PZ), A represents a structure selected from the following formulas (PA-1) to (PA-3)
B는 단결합, 또는 (t+1)가의 연결기를 나타내며,B represents a single bond or a linking group of (t + 1)
C는, 단결합, -NH-, -CONH-, -CO2-, -SO2NH-, -O-, -S-, 또는 -SO2-를 나타내고,C represents a single bond, -NH-, -CONH-, -CO 2 -, -SO 2 NH-, -O-, -S-, or -SO 2 -
D는, 단결합, 알킬렌기, 또는 아릴렌기를 나타내며,D represents a single bond, an alkylene group, or an arylene group,
E는, -SO3H 혹은 그 염, -CO2H 혹은 그 염, 또는 -N(Rpa)(Rpb)를 나타내고,E represents -SO 3 H or a salt thereof, -CO 2 H or a salt thereof, or -N (Rpa) (Rpb)
Rpa 및 Rpb는, 각각 독립적으로 알킬기 또는 아릴기를 나타내며, Rpa 및 Rpb는 서로 연결하여 환을 형성해도 되고,Rpa and Rpb each independently represent an alkyl group or an aryl group, Rpa and Rpb may be connected to each other to form a ring,
t는 1~5의 정수를 나타낸다; t represents an integer of 1 to 5;
[화학식 18][Chemical Formula 18]
Rp1은, 탄소수 1~5의 알킬기 또는 아릴기를 나타내고,Rp1 represents an alkyl group or an aryl group having 1 to 5 carbon atoms,
Rp2는, 할로젠 원자, 알킬기 또는 하이드록시기를 나타내며,Rp2 represents a halogen atom, an alkyl group or a hydroxy group,
Rp3은, 단결합, -NH-, -CONH-, -CO2-, -SO2NH-, -O-, -S-, 또는 -SO2-를 나타내고,Rp3 is a single bond, -NH-, -CONH-, -CO 2 - , -SO 2 NH-, -O-, -S-, or -SO 2 - represents,
s는, 0~4의 정수를 나타내며, s가 2 이상인 경우, 복수의 Rp2는, 서로 같아도 되고, 달라도 되며,s represents an integer of 0 to 4, and when s is 2 or more, plural Rp2 may be the same or different,
*는 B와의 연결부를 나타낸다.* Denotes the connection with B
Rp1은, 메틸기 또는 페닐기가 바람직하고, 메틸기가 보다 바람직하다.Rp1 is preferably a methyl group or a phenyl group, more preferably a methyl group.
Rp2는, 할로젠 원자가 바람직하고, 염소 원자가 보다 바람직하다.Rp2 is preferably a halogen atom, more preferably a chlorine atom.
식 (PZ) 중, B로 나타나는(t+1)가의 연결기로서는, 예를 들면 알킬렌기, 아릴렌기 및 헤테로아릴렌기를 들 수 있다. 알킬렌기로서는, 직쇄, 분기, 환상을 들 수 있다.In the formula (PZ), the linking group of (t + 1) represented by B includes, for example, an alkylene group, an arylene group and a heteroarylene group. Examples of the alkylene group include straight chain, branched and cyclic groups.
(t+1)가의 연결기는, 특히, 하기 구조식 (PA-4)~(PA-9)로 나타나는 연결기가 바람직하다. *는 A 및 C와의 연결부를 나타낸다.(t + 1) is preferably a linking group represented by the following structural formulas (PA-4) to (PA-9). * Represents the connection with A and C.
[화학식 19][Chemical Formula 19]
식 (PA-4)~(PA-9) 중에서도, 특히 B로서, 구조식 (PA-5) 또는 (PA-8)로 나타나는 연결기를 갖는 안료 유도체가, 분산성이 보다 우수한 점에서 바람직하다.Of the formulas (PA-4) to (PA-9), a pigment derivative having a linking group represented by the structural formula (PA-5) or (PA-8) is particularly preferred because of better dispersibility.
식 (PZ) 중, D로 나타나는 알킬렌기 및 아릴렌기로서는, 예를 들면 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 뷰틸렌기, 펜틸렌기, 헥실렌기, 데실렌기, 사이클로프로필렌기, 사이클로뷰틸렌기, 사이클로펜틸렌기, 사이클로헥실렌기, 사이클로옥실렌기, 사이클로데실렌기, 페닐렌기, 나프틸렌기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, D로서는, 직쇄 알킬렌기가 바람직하고, 탄소수 1~5의 직쇄 알킬렌기가 보다 바람직하다.Examples of the alkylene group and the arylene group represented by D in the formula (PZ) include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a pentylene group, a hexylene group, a decylene group, a cyclopropylene group, a cyclobutylene group, A cyclopentylene group, a cyclohexylene group, a cyclooxylene group, a cyclodecylene group, a phenylene group, and a naphthylene group. Among them, D is preferably a straight chain alkylene group, more preferably a straight chain alkylene group having 1 to 5 carbon atoms.
식 (PZ) 중, E가 -N(Rpa)(Rpb)를 나타내는 경우, Rpa 및 Rpb에 있어서의 알킬기 및 아릴기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, 뷰틸기, sec-뷰틸기, tert-뷰틸기, 펜틸기, 아이소펜틸기, 네오펜틸기, 헥실기, 옥틸기, 데실기, 사이클로프로필기, 사이클로뷰틸기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기, 사이클로옥틸기, 사이클로데실기, 페닐기, 나프틸기 등을 들 수 있다. Rpa 및 Rpb로서는, 특히 직쇄 또는 분기의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~5의 직쇄 또는 분기의 알킬기가 가장 바람직하다.In the formula (PZ), when E represents -N (Rpa) (Rpb), examples of the alkyl group and the aryl group in Rpa and Rpb include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, A cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclooctyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexyl group, a cyclohexyl group, A decyl group, a phenyl group, and a naphthyl group. Rpa and Rpb are preferably a straight chain or branched alkyl group, and most preferably a straight chain or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
식 (PZ) 중, E가, -SO3H의 염, 또는 -CO2H의 염을 나타내는 경우, 염을 형성하는 원자 또는 원자단으로서는, 리튬 원자, 나트륨 원자, 칼륨 원자 등의 알칼리 금속, 암모늄, 테트라알킬암모늄 등이 바람직하다.In the formula (PZ), when E represents a salt of -SO 3 H or a salt of -CO 2 H, examples of the atom or atom to form a salt include an alkali metal such as lithium atom, sodium atom, potassium atom, , Tetraalkylammonium and the like are preferable.
상기 t는 1 또는 2가 바람직하다.T is preferably 1 or 2.
안료 유도체의 구체예로서는, 이하를 들 수 있다.Specific examples of the pigment derivative include the following.
[화학식 20][Chemical Formula 20]
안료 유도체의 함유량은, 안료의 전체 질량에 대하여, 1~50질량%가 바람직하고, 3~30질량%가 더 바람직하다. 안료 유도체는 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The content of the pigment derivative is preferably from 1 to 50% by mass, more preferably from 3 to 30% by mass, based on the total mass of the pigment. The pigment derivative may be used alone or in combination of two or more.
<<용제>><< Solvent >>
본 발명의 착색 조성물은 용제를 함유할 수 있다. 용제로서는 유기 용제를 들 수 있다. 용제는, 각 성분의 용해성이나 조성물의 도포성을 만족하면 기본적으로는 특별히 제한은 없지만, 조성물의 도포성, 안전성을 고려하여 선택되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain a solvent. As the solvent, organic solvents can be mentioned. The solvent is not particularly limited so long as the solubility of each component and the coating property of the composition are satisfied, but it is preferable that the solvent is selected in consideration of coating property and safety of the composition.
유기 용제의 예로서는, 예를 들면 이하의 것을 들 수 있다.Examples of the organic solvent include the following.
에스터류로서, 예를 들면 아세트산 에틸, 아세트산-n-뷰틸, 아세트산 아이소뷰틸, 아세트산 사이클로헥실, 폼산 아밀, 아세트산 아이소아밀, 아세트산 아이소뷰틸, 프로피온산 뷰틸, 뷰티르산 아이소프로필, 뷰티르산 에틸, 뷰티르산 뷰틸, 락트산 메틸, 락트산 에틸, 알킬옥시아세트산 알킬(예를 들면 알킬옥시아세트산 메틸, 알킬옥시아세트산 에틸, 알킬옥시아세트산 뷰틸(예를 들면 메톡시아세트산 메틸, 메톡시아세트산 에틸, 메톡시아세트산 뷰틸, 에톡시아세트산 메틸, 에톡시아세트산 에틸 등)), 3-알킬옥시프로피온산 알킬에스터류(예를 들면 3-알킬옥시프로피온산 메틸, 3-알킬옥시프로피온산 에틸 등(예를 들면 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸 등)), 2-알킬옥시프로피온산 알킬에스터류(예를 들면 2-알킬옥시프로피온산 메틸, 2-알킬옥시프로피온산 에틸, 2-알킬옥시프로피온산 프로필 등(예를 들면 2-메톡시프로피온산 메틸, 2-메톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시프로피온산 프로필, 2-에톡시프로피온산 메틸, 2-에톡시프로피온산 에틸)), 2-알킬옥시-2-메틸프로피온산 메틸 및 2-알킬옥시-2-메틸프로피온산 에틸(예를 들면 2-메톡시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산 에틸 등), 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소뷰탄산 메틸, 2-옥소뷰탄산 에틸 등을 들 수 있다. 에터류로서, 예를 들면 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 테트라하이드로퓨란, 에틸렌글라이콜모노메틸에터, 에틸렌글라이콜모노에틸에터, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 다이에틸렌글라이콜모노메틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노에틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트, 프로필렌글라이콜모노에틸에터아세테이트, 프로필렌글라이콜모노프로필에터아세테이트 등을 들 수 있다. 케톤류로서, 예를 들면 메틸에틸케톤, 사이클로헥산온, 사이클로펜탄온, 2-헵탄온, 3-헵탄온 등을 들 수 있다. 방향족 탄화 수소류로서, 예를 들면 톨루엔, 자일렌 등을 들 수 있다.Examples of the esters include ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, cyclohexyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, , Methyl lactate, ethyl lactate, alkyloxyacetate (e.g., alkyloxyacetate, alkyloxyacetate, alkyloxyacetate (e.g., methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, ethoxy (For example, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, etc.) Ethyl methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, etc.)), 2-alkyloxypropionic acid Alkyl esters such as methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, 2-methoxypropionate, Ethyl propionate, ethyl 2-ethoxypropionate), methyl 2-alkyloxy-2-methylpropionate and ethyl 2-alkyloxy-2-methylpropionate (for example, 2-methoxy- Methyl propionate, ethyl 2-ethoxy-2-methyl propionate and the like), methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2- . As ethers, for example, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate , Diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, Propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, and the like. Examples of the ketones include methyl ethyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, 2-heptanone, 3-heptanone and the like. As the aromatic hydrocarbon, for example, toluene, xylene and the like can be mentioned.
유기 용제는, 1종 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다.The organic solvents may be used alone or in combination of two or more.
유기 용제를 2종 이상 조합하여 이용하는 경우, 특히 바람직하게는, 상기의 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에틸셀로솔브아세테이트, 락트산 에틸, 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 아세트산 뷰틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 2-헵탄온, 사이클로헥산온, 에틸카비톨아세테이트, 뷰틸카비톨아세테이트, 프로필렌글라이콜메틸에터, 및 프로필렌글라이콜메틸에터아세테이트로부터 선택되는 2종 이상으로 구성되는 혼합 용액이다.When two or more kinds of organic solvents are used in combination, it is particularly preferable to use methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethylcellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether 2-heptanone, cyclohexanone, ethylcarbitol acetate, butylcarbitol acetate, propylene glycol methyl ether, and propylene glycol methyl ether acetate. It is a mixed solution composed of two or more kinds.
본 발명에 있어서, 유기 용제는, 과산화물의 함유율이 0.8mmol/L 이하인 것이 바람직하고, 과산화물을 실질적으로 포함하지 않는 것이 보다 바람직하다.In the present invention, the organic solvent preferably has a peroxide content of 0.8 mmol / L or less, and more preferably substantially no peroxide.
용제의 함유량은, 착색 조성물의 전체량에 대하여, 10~95질량%인 것이 바람직하다. 하한은 20질량% 이상이 보다 바람직하며, 30질량% 이상이 더 바람직하다. 상한은 90질량% 이하가 보다 바람직하다.The content of the solvent is preferably 10 to 95% by mass with respect to the total amount of the coloring composition. The lower limit is more preferably 20% by mass or more, and more preferably 30% by mass or more. The upper limit is more preferably 90 mass% or less.
<<중합 금지제>><< Polymerization inhibitor >>
본 발명의 착색 조성물은, 착색 조성물의 제조 중 또는 보존 중에 있어서, 경화성 화합물의 불필요한 열중합을 저지하기 위하여, 중합 금지제를 함유시켜도 된다.The coloring composition of the present invention may contain a polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the curing compound during or during the production of the coloring composition.
중합 금지제로서는, 하이드로퀴논, 파라메톡시페놀, 다이-tert-뷰틸-파라크레졸, 파이로갈롤, tert-뷰틸카테콜, 벤조퀴논, 4,4'-싸이오비스(3-메틸-6-tert-뷰틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-tert-뷰틸페놀), N-나이트로소페닐하이드록시아민 제1 세륨염 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 파라메톡시페놀이 바람직하다.Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, para-methoxyphenol, di-tert-butyl-paracresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'- -Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), and N-nitrosophenylhydroxyamine cerium salt. Among them, para-methoxyphenol is preferable.
중합 금지제의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 0.01~5질량%가 바람직하다.The content of the polymerization inhibitor is preferably 0.01 to 5% by mass relative to the total solid content of the coloring composition.
<<계면활성제>><< Surfactant >>
본 발명의 착색 조성물은, 도포성을 보다 향상시키는 관점에서, 각종 계면활성제를 함유시켜도 된다. 계면활성제로서는, 불소계 계면활성제, 비이온계 계면활성제, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등의 각종 계면활성제를 사용할 수 있다.The coloring composition of the present invention may contain various surfactants in order to further improve the applicability. As the surfactant, various surfactants such as a fluorine surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone surfactant can be used.
상기 조성물에 불소계 계면활성제를 함유시킴으로써, 도포액으로서 조제했을 때의 액특성(특히, 유동성)이 보다 향상되어, 도포 두께의 균일성이나 성액성(省液性)을 보다 개선할 수 있다.By containing the fluorosurfactant in the composition, the liquid property (particularly, the fluidity) when it is prepared as a coating liquid is further improved, and uniformity of coating thickness and liquidity can be further improved.
즉, 불소계 계면활성제를 함유하는 조성물을 적용한 도포액을 이용하여 막형성하는 경우에 있어서는, 피도포면과 도포액의 계면 장력이 저하되어, 피도포면에 대한 습윤성이 개선되고, 피도포면에 대한 도포성이 향상된다. 이로 인하여, 두께 편차가 작은 균일 두께의 막형성을 보다 적합하게 행할 수 있다.That is, in the case of forming a film by using a coating liquid to which a composition containing a fluorine-containing surfactant is applied, the interfacial tension between the surface to be coated and the coating liquid is lowered and the wettability to the surface to be coated is improved, . This makes it possible to more appropriately form a film having a uniform thickness with a small thickness deviation.
불소계 계면활성제 중의 불소 함유율은, 3~40질량%가 적합하고, 보다 바람직하게는 5~30질량%이며, 특히 바람직하게는 7~25질량%이다. 불소 함유율이 이 범위 내인 불소계 계면활성제는, 도포막의 두께의 균일성이나 성액성의 점에서 효과적이며, 조성물 중에 있어서의 용해성도 양호하다.The fluorine content in the fluorine surfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 7 to 25% by mass. The fluorine-containing surfactant having a fluorine content within this range is effective from the viewpoint of the uniformity of the thickness of the coating film and the lyophobic property, and the solubility in the composition is also good.
불소계 계면활성제로서는, 예를 들면 메가팍 F171, 동 F172, 동 F173, 동 F176, 동 F177, 동 F141, 동 F142, 동 F143, 동 F144, 동 R30, 동 F437, 동 F475, 동 F479, 동 F482, 동 F554, 동 F780, RS-72-K(이상, DIC(주)제), 플루오라드 FC430, 동 FC431, 동 FC171(이상, 스미토모 3M(주)제), 서프론 S-382, 동 SC-101, 동 SC-103, 동 SC-104, 동 SC-105, 동 SC1068, 동 SC-381, 동 SC-383, 동 S393, 동 KH-40(이상, 아사히 글라스(주)제), PF636, PF656, PF6320, PF6520, PF7002(OMNOVA사제) 등을 들 수 있다. 불소계 계면활성제로서 블록 폴리머를 이용할 수도 있고, 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2011-89090호에 기재된 화합물을 들 수 있다.Examples of the fluorine-based surfactant include Megapak F171, Dong F172, Dong F173, Dong F176, Dong F177, Dong F141, Dong F142, Dong F143, Dong F144, Dong R30, Dong F437, Dong F475, Dong F479, Dong F482 (Manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Surflon S-382, Copper SC-422 (manufactured by DIC Corporation), Fluorad FC430, Copper FC431, Copper FC171 (Manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), PF636 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), SC-103, SC-104, SC-105, SC- , PF656, PF6320, PF6520 and PF7002 (manufactured by OMNOVA). As the fluorine-based surfactant, a block polymer may be used. Specific examples thereof include the compounds described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-89090.
불소계 계면활성제는, 불소 원자를 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물에서 유래하는 반복 단위와, 알킬렌옥시기(바람직하게는 에틸렌옥시기, 프로필렌옥시기)를 2 이상(바람직하게는 5 이상) 갖는 (메트)아크릴레이트 화합물에서 유래하는 반복 단위를 포함하는 함불소 고분자 화합물도 바람직하게 이용할 수 있고, 하기 화합물도 본 발명에서 이용되는 불소계 계면활성제로서 예시된다.The fluorine-containing surfactant is preferably a fluorine-containing surfactant having two or more (preferably five or more) repeating units derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and an alkyleneoxy group (preferably an ethyleneoxy group and a propyleneoxy group) ) Acrylate compounds, and the following compounds are also exemplified as the fluorinated surfactants used in the present invention.
[화학식 21][Chemical Formula 21]
상기의 화합물의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 3,000~50,000이며, 예를 들면 14,000이다. 또 에틸렌성 불포화기를 측쇄에 갖는 함불소 중합체를 불소계 계면활성제로서 이용할 수도 있다. 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-164965호 0050~0090 단락 및 0289~0295 단락에 기재된 화합물, 예를 들면 DIC사제의 메가팍 RS-101, RS-102, RS-718K 등을 들 수 있다.The weight average molecular weight of the above compound is preferably 3,000 to 50,000, for example, 14,000. A fluorine-containing polymer having an ethylenic unsaturated group in its side chain may also be used as a fluorine-containing surfactant. Specific examples thereof include compounds described in Japanese Laid-Open Patent Publication Nos. 2010-164965, 0050 to 0090 and 0289 to 0295, for example, Megapark RS-101, RS-102 and RS-718K manufactured by DIC.
또 불소계 계면활성제는 하기 화합물을 이용할 수도 있다.The fluorine-based surfactant may also be the following compounds.
[화학식 22][Chemical Formula 22]
비이온계 계면활성제로서 구체적으로는, 글리세롤, 트라이메틸올프로페인, 트라이메틸올에테인과 그들의 에톡실레이트 및 프로폭실레이트(예를 들면 글리세롤프로폭실레이트, 글리세롤에톡실레이트 등), 폴리옥시에틸렌라우릴에터, 폴리옥시에틸렌스테아릴에터, 폴리옥시에틸렌올레일에터, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에터, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에터, 폴리에틸렌글라이콜다이라우레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이스테아레이트, 소비탄 지방산 에스터(BASF사제의 플루로닉 L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2, 테트로닉 304, 701, 704, 901, 904, 150R1), 솔스퍼스 20000(니혼 루브리졸(주)제) 등을 들 수 있다. 또 와코 준야쿠 고교사제의, NCW-101, NCW-1001, NCW-1002를 사용할 수도 있다.Specific examples of the nonionic surfactant include glycerol, trimethylol propane, trimethylol ethane and their ethoxylates and propoxylates (for example, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate and the like), polyoxyethylene Polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol di-laurate, polyethylene glycol di Lactic acid esters such as stearate and consumptive fatty acid ester (Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2, Tetronic 304, 701, 704, 901, 904 and 150R1 manufactured by BASF) Ltd.) and the like. NCW-101, NCW-1001 and NCW-1002 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. may also be used.
양이온계 계면활성제로서 구체적으로는, 프탈로사이아닌 유도체(상품명: EFKA-745, 모리시타 산교(주)제), 오가노실록세인 폴리머 KP-341(신에쓰 가가쿠 고교(주)제), (메트)아크릴산계 (공)중합체 폴리플로 No. 75, No. 90, No. 95(교에이샤 가가쿠(주)제), W001(유쇼(주)제) 등을 들 수 있다.Specific examples of the cationic surfactants include phthalocyanine derivatives (trade name: EFKA-745, manufactured by Morishita Sangyo Co., Ltd.), organosiloxane polymer KP-341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Meth) acrylic acid-based (co) polymer Polyflu No. 75, No. 90, No. 95 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and W001 (manufactured by Yusoh Co., Ltd.).
음이온계 계면활성제로서 구체적으로는, W004, W005, W017(유쇼(주)제), 산뎃트 BL(산요 가세이(주)제) 등을 들 수 있다.Specific examples of the anionic surfactant include W004, W005, W017 (manufactured by Yusoh Corp.), and Santett BL (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.).
실리콘계 계면활성제로서는, 예를 들면 도레이 실리콘 DC3PA, 도레이 실리콘 SH7PA, 도레이 실리콘 DC11PA, 도레이 실리콘 SH21PA, 도레이 실리콘 SH28PA, 도레이 실리콘 SH29PA, 도레이 실리콘 SH30PA, 도레이 실리콘 SH8400(이상, 도레이·다우코닝(주)제), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452(이상, 모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사제), KP-341, KF6001, KF6002(이상, 신에쓰 실리콘 가부시키가이샤제), BYK307, BYK323, BYK330(이상, 빅케미사제) 등을 들 수 있다.Examples of silicone based surfactants include TORAY silicone DC3PA, TORAY silicone SH7PA, TORAY silicone DC11PA, TORAY silicone SH21PA, TORAY silicone SH28PA, TORAY silicone SH29PA, TORAY silicone SH30PA, TORAY silicone SH8400 (manufactured by Toray Dow Corning Co., ), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460 and TSF-4452 (manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd.), KP-341, KF6001 and KF6002 (all manufactured by Shin-Etsu Silicones Co., BYK307, BYK323, BYK330 (manufactured by BICKEMI Co., Ltd.), and the like.
계면활성제는 1종만을 이용해도 되고, 2종류 이상을 조합해도 된다.Only one surfactant may be used, or two or more surfactants may be combined.
계면활성제의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 0.001~2.0질량%가 바람직하고 0.005~1.0질량%가 보다 바람직하다.The content of the surfactant is preferably 0.001 to 2.0% by mass, more preferably 0.005 to 1.0% by mass, based on the total solid content of the coloring composition.
<<그 외 성분>><< Other ingredients >>
본 발명의 착색 조성물은, 아조계 화합물이나 과산화물계 화합물 등의 열중합 개시제, 열중합 성분, 알콕시벤조페논 등의 자외선 흡수제, 다이옥틸프탈레이트 등의 가소제, 저분자량 유기 카복실산 등의 현상성 향상제, 그 외 충전제, 산화 방지제, 응집 방지제 등의 각종 첨가물을 함유할 수 있다.The coloring composition of the present invention can be suitably used in combination with a coloring composition such as a thermal polymerization initiator such as an azo compound or a peroxide compound, a thermopolymerization component, an ultraviolet absorber such as alkoxybenzophenone, a plasticizer such as dioctyl phthalate, An external filler, an antioxidant, an anti-aggregation agent, and the like.
이용하는 원료 등에 따라 조성물 중에 금속 원소가 포함되는 경우가 있지만, 결함 발생 억제 등의 관점에서, 착색 조성물 중의 제2족 원소(칼슘, 마그네슘 등)의 함유량은 50ppm 이하인 것이 바람직하고, 0.01~10ppm으로 제어하는 것이 바람직하다. 또 착색 조성물 중의 무기 금속염의 총량은 100ppm 이하인 것이 바람직하고, 0.5~50ppm으로 제어하는 것이 보다 바람직하다.The content of the second group element (calcium, magnesium, etc.) in the coloring composition is preferably 50 ppm or less, more preferably 0.01 to 10 ppm in terms of suppressing the generation of defects, . The total amount of the inorganic metal salt in the coloring composition is preferably 100 ppm or less, more preferably 0.5 to 50 ppm.
<착색 조성물의 조제 방법>≪ Preparation method of colored composition >
본 발명의 착색 조성물은, 상술한 성분을 혼합하여 조제할 수 있다.The coloring composition of the present invention can be prepared by mixing the above-mentioned components.
착색 조성물의 조제 시에는, 각 성분을 일괄 배합해도 되고, 각 성분을 용제에 용해·분산한 후에 축차 배합해도 된다. 또 배합할 때의 투입 순서나 작업 조건은 특별히 제약을 받지 않는다. 예를 들면 전체 성분을 동시에 용제에 용해·분산하여 조성물을 조제해도 되고, 필요에 따라서는, 각 성분을 적절히 2개 이상의 용액·분산액으로 해 두고, 사용 시(도포 시)에 이들을 혼합하여 조성물로서 조제해도 된다.When the coloring composition is prepared, each component may be blended at one time, or each component may be dissolved and dispersed in a solvent and then blended in succession. The order of addition and the working conditions at the time of compounding are not particularly limited. For example, the composition may be prepared by dissolving and dispersing the entire components in a solvent at the same time. If necessary, the components may be appropriately prepared as two or more solutions and dispersions, and they may be mixed at the time of use .
또 적색 안료를 필요에 따라, 수지, 유기 용제, 안료 유도체 등의 그 외의 성분 등과 함께 분산시켜, 안료 분산액을 조제하고, 얻어진 안료 분산액을, 착색 조성물의 그 외의 성분과 혼합하여 조제하는 것이 바람직하다.It is also preferable to prepare a pigment dispersion by dispersing the red pigment together with other components such as a resin, an organic solvent and a pigment derivative, if necessary, and mixing the obtained pigment dispersion with other components of the coloring composition .
착색 조성물의 제조에 있어서, 이물의 제거나 결함의 저감 등의 목적으로, 필터로 여과하는 것이 바람직하다. 필터로서는, 종래부터 여과 용도 등에 이용되고 있는 것이면 특별히 한정되지 않고 이용할 수 있다. 예를 들면 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 등의 불소 수지, 나일론(예를 들면 나일론-6, 나일론-6,6) 등의 폴리아마이드계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌(PP) 등의 폴리올레핀 수지(고밀도, 초고분자량의 폴리올레핀 수지를 포함함) 등의 소재를 이용한 필터를 들 수 있다. 이들 소재 중에서도 폴리프로필렌(고밀도 폴리프로필렌을 포함함) 및 나일론이 바람직하다.In the production of the colored composition, it is preferable to filter with a filter for the purpose of eliminating foreign matters or reducing defects. The filter is not particularly limited as long as it is conventionally used for filtration and the like. For example, fluororesin such as polytetrafluoroethylene (PTFE), polyamide resin such as nylon (e.g., nylon-6, nylon-6,6), polyolefin resin such as polyethylene, polypropylene (PP) High-density, ultra-high molecular weight polyolefin resin), and the like. Of these materials, polypropylene (including high-density polypropylene) and nylon are preferred.
필터의 구멍 직경은, 0.01~7.0μm 정도가 적합하고, 바람직하게는 0.01~3.0μm 정도, 더 바람직하게는 0.05~0.5μm 정도이다. 이 범위로 함으로써, 후공정에 있어서 균일 및 평활한 조성물의 조제를 저해하고, 미세한 이물을 확실히 제거하는 것이 가능해진다. 또 파이버 형상의 여과재를 이용하는 것도 바람직하고, 여과재로서는 예를 들면 폴리프로필렌 파이버, 나일론 파이버, 글래스 파이버 등을 들 수 있으며, 구체적으로는 로키 테크노사제의 SBP 타입 시리즈(SBP008 등), TPR 타입 시리즈(TPR002, TPR005 등), SHPX 타입 시리즈(SHPX003 등)의 필터 카트리지를 이용할 수 있다.The pore diameter of the filter is preferably about 0.01 to 7.0 mu m, preferably about 0.01 to 3.0 mu m, and more preferably about 0.05 to 0.5 mu m. By setting this range, it is possible to inhibit the preparation of a uniform and smooth composition in a subsequent step, and it is possible to reliably remove minute foreign matter. Examples of the filter material include polypropylene fiber, nylon fiber, and glass fiber. Specific examples thereof include SBP type series (SBP008, etc.), TPR type series TPR002, TPR005, etc.), and SHPX type series (SHPX003, etc.) filter cartridges can be used.
필터를 사용할 때, 다른 필터를 조합해도 된다. 그때, 제1 필터에 의한 필터링은, 1회만이어도 되고, 2회 이상 행해도 된다.When using a filter, other filters may be combined. At this time, the filtering by the first filter may be performed once, or may be performed twice or more.
또 상술한 범위 내에서 상이한 구멍 직경의 제1 필터를 조합해도 된다. 여기에서의 구멍 직경은, 필터 제조 회사의 공칭값을 참조할 수 있다. 시판 중인 필터로서는, 예를 들면 니혼 폴 가부시키가이샤(DFA4201NXEY 등), 어드밴텍 도요 가부시키가이샤, 니혼 인테그리스 가부시키가이샤(구 니혼 마이크롤리스 가부시키가이샤) 또는 가부시키가이샤 키츠 마이크로 필터 등이 제공하는 각종 필터 중에서 선택할 수 있다.It is also possible to combine the first filters having different pore diameters within the above-mentioned range. The hole diameter here can refer to the nominal value of the filter manufacturer. Examples of commercially available filters include those available from Nippon Oil Corporation (DFA4201NXEY and the like), Advantech Toyobo Co., Ltd., Nippon Integrity Corporation (formerly Nippon Mica Roller Co., Ltd.) You can choose from various filters.
제2 필터는, 상술한 제1 필터와 동일한 재료 등으로 형성된 것을 사용할 수 있다.The second filter may be formed of the same material as the first filter described above.
예를 들면 제1 필터에 의한 필터링은, 분산액만으로 행하고, 다른 성분을 혼합한 후에, 제2 필터링을 행해도 된다.For example, the filtering with the first filter may be performed only with the dispersion, and the second filtering may be performed after mixing the other components.
<착색 조성물의 물성>≪ Physical Properties of Coloring Composition >
본 발명의 착색 조성물은, 본 발명의 착색 조성물을 이용하여 형성한, 두께 3.0μm의 막의, 파장 534nm의 광으로 여기했을 때의 파장 600~700nm 범위의 형광의 적분 강도를, 상술한 두께 3.0μm의 경화막 A의, 파장 534nm의 광으로 여기했을 때의 파장 600~700nm의 범위의 형광의 적분 강도로 나눈 값이 0.5 이하인 것이 바람직하고, 0.3 이하가 보다 바람직하며, 0.2 이하가 더 바람직하고, 0.1 이하가 특히 바람직하다.The coloring composition of the present invention is characterized in that the integral intensity of fluorescence in the wavelength range of 600 to 700 nm when the film having a thickness of 3.0 탆 is excited by light having a wavelength of 534 nm formed using the coloring composition of the present invention is set to the above- Of the cured film A divided by the integral intensity of fluorescence in the wavelength range of 600 to 700 nm when the cured film A is excited by light having a wavelength of 534 nm is preferably 0.5 or less, more preferably 0.3 or less, still more preferably 0.2 or less, 0.1 or less is particularly preferable.
<이미션 필터><Emission filter>
본 발명의 이미션 필터는, 상술한 본 발명의 착색 조성물을 이용하여 이루어지는 것이다. 본 발명의 이미션 필터는, 형광 센서의 이미션 필터로서 이용하는 것이 바람직하다.The emulsion filter of the present invention is made using the above-described coloring composition of the present invention. The emissive filter of the present invention is preferably used as an emissive filter of a fluorescent sensor.
본 발명의 이미션 필터는, 파장 534nm의 광으로 여기했을 때의 파장 600~700nm 범위의 형광의 적분 강도가, 0.5~0.0001인 것이 바람직하고, 0.3~0.001이 보다 바람직하다.The emissive filter of the present invention preferably has an integrated intensity of fluorescence in a wavelength range of 600 to 700 nm when excited by light having a wavelength of 534 nm of 0.5 to 0.0001, more preferably 0.3 to 0.001.
본 발명의 이미션 필터의 막두께는, 10000~50000nm가 바람직하고, 10000~35000nm가 보다 바람직하다.The film thickness of the emissive filter of the present invention is preferably 10000 to 50000 nm, more preferably 10000 to 35000 nm.
본 발명의 이미션 필터는, 파장 400~450nm의 범위에 있어서의 투과율이 20% 이하인 것이 바람직하고, 10% 이하인 것이 보다 바람직하며, 5% 이하인 것이 더 바람직하다.The emissive filter of the present invention preferably has a transmittance of 20% or less in a wavelength range of 400 to 450 nm, more preferably 10% or less, and further preferably 5% or less.
본 발명의 이미션 필터는, 파장 550~600nm의 범위에 있어서의 투과율이 40% 이상인 것이 바람직하고, 45% 이상인 것이 보다 바람직하며, 50% 이상인 것이 더 바람직하다.The emissive filter of the present invention preferably has a transmittance of 40% or more in a wavelength range of 550 to 600 nm, more preferably 45% or more, and more preferably 50% or more.
<형광 센서><Fluorescent Sensor>
다음으로, 본 발명의 형광 센서에 대하여 설명한다.Next, the fluorescence sensor of the present invention will be described.
본 발명의 형광 센서는, 본 발명의 착색 조성물을 이용한 이미션 필터를 갖는 구성이면 특별히 한정은 없다.The fluorescence sensor of the present invention is not particularly limited as long as it has an emissive filter using the coloring composition of the present invention.
형광 센서로서는, 시료에 대하여 여기광을 조사하여 이용하는 것을 들 수 있다. 시료로서는, 특별히 한정은 없고, 여기광을 조사함으로써, 형광을 발생하는 것 등을 들 수 있다. 예를 들면 단백질, 핵산(DNA(데옥시리보 핵산), RNA(리보 핵산) 등), 세포, 미생물 등을 들 수 있다.As the fluorescence sensor, a sample may be irradiated with excitation light. The sample is not particularly limited, and fluorescence may be generated by irradiating excitation light. For example, proteins, nucleic acids (DNA (deoxyribonucleic acid), RNA (ribonucleic acid), etc.), cells, microorganisms and the like.
본 발명의 형광 센서는, DNA 센서로서 바람직하게 이용할 수 있다.The fluorescence sensor of the present invention can be preferably used as a DNA sensor.
본 발명의 형광 센서의 일 실시형태에 대하여, 도 1을 이용하여 설명한다. 또한 본 발명의 형광 센서는 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니다.One embodiment of the fluorescence sensor of the present invention will be described with reference to Fig. Further, the fluorescent sensor of the present invention is not limited to the following embodiments.
도 1에 나타내는 형광 센서는, 낙하형의 형광 센서이다. 도 1에 나타내는 형광 센서는, 광원(1)과, 여기 필터(2)와, 빔 스플리터(3)와, 대물 렌즈(4)와, 시료 홀더(5)와, 이미션 필터(6)와, 접안부(7)를 갖는다. 이미션 필터(6)는, 본 발명의 착색 조성물로 구성되어 있다. 도면 중의 화살표는, 광(여기광, 형광 등)의 진행 방향을 나타내고 있다.The fluorescence sensor shown in Fig. 1 is a drop type fluorescence sensor. The fluorescence sensor shown in Fig. 1 has a
도 1에 나타내는 형광 센서는, 광원(1)으로부터 조사된 광이, 여기 필터(2)에 의하여 여기 파장의 광에 제한되어 여기광이 된다.In the fluorescence sensor shown in Fig. 1, the light irradiated from the
광원(1)으로서는 특별히 한정은 없다. 예를 들면 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 케미컬 램프, 제논 램프, 자외선 발광 다이오드(자외선 LED), 엑시머 레이저 발생 장치 등을 이용할 수 있다.The
여기 필터(2)는, 목적으로 하는 여기광의 종류에 따라, 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면 파장 534nm의 광을 여기광으로서 사용하는 경우는, 파장 534nm의 광을 투과하고 그 이외의 파장의 광을 차광하는 필터를 이용하는 것이 바람직하다.The
여기광은, 빔 스플리터(3)에서 반사되어 대물 렌즈(4)를 통과하여, 시료 홀더(5) 상의 시료(100)에 조사된다. 시료(100)에 여기광이 조사되면, 시료로부터 발생한 형광과, 시료에 의하여 산란된 여기광이, 대물 렌즈(4)를 통과하여 빔 스플리터(3)로 유도된다. 빔 스플리터(3)로 유도된 광 중, 형광 성분을 포함하는 광은, 빔 스플리터(3)를 직진하여 이미션 필터(6)로 유도된다. 이미션 필터(6)에서는, 빔 스플리터(3)를 직진한 광 중, 목적으로 하는 형광의 파장만을 투과시켜, 목적으로 하는 형광의 파장을 접안부(7)로 유도한다. 접안부로 유도된 형광은, 육안 관찰이나, 카메라 등으로 관측할 수 있다.The excitation light is reflected by the
본 발명의 형광 센서는, 이미션 필터(6)가, 여기광에 대하여 낮은 형광성을 갖기 때문에, 이미션 필터에 기인하는 형광에 의한 영향을 억제할 수 있어, 검출 감도가 우수하다.In the fluorescence sensor of the present invention, since the
본 발명의 형광 센서의 다른 실시형태에 대하여, 도 2를 이용하여 설명한다.Another embodiment of the fluorescence sensor of the present invention will be described with reference to Fig.
도 2에 나타내는 형광 센서는 투과형의 형광 센서이다. 도 2에 나타내는 형광 센서는, 광원(11)과, 여기 필터(12)와, 미러(13)와, 시료 홀더(14)와, 대물 렌즈(15)와, 이미션 필터(16)와, 접안부(17)를 갖는다. 이미션 필터(16)는, 본 발명의 착색 조성물로 구성되어 있다.The fluorescence sensor shown in Fig. 2 is a transmission type fluorescence sensor. 2 includes a
도 2에 나타내는 형광 센서는, 광원(11)으로부터 조사된 광이, 여기 필터(12)에 의하여 여기 파장의 광에 제한되어 여기광이 된다. 여기광은, 미러(13)에서 반사되어 시료 홀더(14) 상의 시료(101)에 조사된다. 시료(101)에 여기광이 조사되면, 시료로부터 발생한 형광과, 시료에 의하여 산란된 여기광이, 대물 렌즈(15)를 통과하여, 이미션 필터(16)로 유도된다. 이미션 필터(16)에서는, 목적으로 하는 형광의 파장만을 투과시켜, 목적으로 하는 형광의 파장을 접안부(17)로 유도한다. 접안부로 유도된 형광은, 육안 관찰이나, 카메라 등으로 관측할 수 있다.In the fluorescence sensor shown in Fig. 2, the light irradiated from the
<형광 센서의 제조 방법>≪ Method of manufacturing fluorescent sensor &
본 발명의 형광 센서의 제조 방법은, 본 발명의 착색 조성물을 이용하여 이미션 필터를 형성하는 공정을 갖는다.The method for producing a fluorescent sensor of the present invention has a step of forming an emissive filter using the coloring composition of the present invention.
구체적으로는, 본 발명의 착색 조성물을 이용하여, 지지체 상에 착색 조성물층을 형성하는 공정, 착색 조성물층을 경화하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다. 또 패턴을 형성하는 공정을 더 행해도 된다. 이하, 각 공정에 대하여 설명한다.Specifically, the coloring composition of the present invention can be used to prepare a coloring composition layer on a support, and to cure the coloring composition layer. Further, a step of forming a pattern may be further performed. Hereinafter, each process will be described.
먼저, 본 발명의 착색 조성물을 이용하여, 지지체 상에 착색 조성물층을 형성한다. 지지체로서는 특별히 한정은 없다. 유리, 실리콘 웨이퍼, 고분자 수지(에폭시 수지 등) 등의 투명 기판을 들 수 있다. 지지체 상으로의 조성물의 적용 방법으로서는, 슬릿 도포, 잉크젯법, 회전 도포, 유연(流延) 도포, 롤 도포, 스크린 인쇄법 등의 각종 방법을 이용할 수 있다.First, a coloring composition layer is formed on a support using the coloring composition of the present invention. The support is not particularly limited. Glass, a silicon wafer, and a polymer resin (epoxy resin, etc.). As the application method of the composition onto the support, various methods such as slit coating, ink jetting, spin coating, casting, roll coating, screen printing and the like can be used.
지지체 상에 형성한 착색 조성물층은 프리베이크 해도 된다. 프리베이크를 행하는 경우 프리베이크 온도는, 150℃ 이하가 바람직하고, 120℃ 이하가 보다 바람직하며, 110℃ 이하가 더 바람직하다. 하한은 예를 들면, 50℃ 이상으로 할 수 있고, 80℃ 이상으로 할 수도 있다. 프리베이크 시간은, 10초~300초가 바람직하고, 40~250초가 보다 바람직하며, 80~220초가 더 바람직하다. 건조는 핫플레이트, 오븐 등으로 행할 수 있다.The colored composition layer formed on the support may be pre-baked. When prebaking is performed, the prebake temperature is preferably 150 占 폚 or lower, more preferably 120 占 폚 or lower, and even more preferably 110 占 폚 or lower. For example, the lower limit may be 50 ° C or higher, and may be 80 ° C or higher. The prebake time is preferably 10 seconds to 300 seconds, more preferably 40 seconds to 250 seconds, and even more preferably 80 seconds to 220 seconds. Drying can be performed by a hot plate, an oven, or the like.
다음으로, 지지체 상에 형성한 착색 조성물층에 대하여, 경화 처리를 행하여 경화한다. 경화 처리로서는 노광 처리가 바람직하다.Next, the colored composition layer formed on the support is cured by curing. The curing treatment is preferably an exposure treatment.
노광 시에 이용할 수 있는 방사선(광)으로서는, g선, i선 등의 자외선이 바람직하게(특히 바람직하게는 i선) 이용된다. 조사량(노광량)은, 예를 들면 0.03~2.5J/cm2가 바람직하고, 0.05~1.0J/cm2가 보다 바람직하며, 0.08~0.5J/cm2가 가장 바람직하다.As the radiation (light) usable at the time of exposure, ultraviolet rays such as g-line and i-line are preferably used (particularly preferably i-line). Irradiation dose (exposure dose) of, for example 0.03 ~ 2.5J / cm 2 are preferred, 0.05 ~ 1.0J / cm 2 is more preferred, 0.08 ~ 0.5J / cm 2 is most preferred.
노광 시에 있어서의 산소 농도에 대해서는 적절히 선택할 수 있고, 대기하에서 행하는 것 이외에, 예를 들면 산소 농도가 19체적% 이하인 저산소 분위기하(예를 들면 15체적%, 5체적%, 실질적으로 무산소)에서 노광해도 되며, 산소 농도가 21체적%를 초과하는 고산소 분위기하(예를 들면 22체적%, 30체적%, 50체적%)에서 노광해도 된다. 또 노광 조도는 적절히 설정하는 것이 가능하고 통상, 1000W/m2~100000W/m2(예를 들면 5000W/m2, 15000W/m2, 35000W/m2)의 범위로부터 선택할 수 있다. 산소 농도와 노광 조도는 적절히 조건을 조합해도 되고, 예를 들면 산소 농도 10체적%에서 조도 10000W/m2, 산소 농도 35체적%에서 조도 20000W/m2 등으로 할 수 있다.The oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected. In addition to being performed under the atmosphere, for example, in a low oxygen atmosphere (for example, 15 vol%, 5 vol%, substantially anoxic) in which the oxygen concentration is 19 vol% or less Or may be exposed in a high oxygen atmosphere (for example, 22 vol%, 30 vol%, or 50 vol%) in which the oxygen concentration exceeds 21 vol%. Further exposure illumination may be possible to appropriately set and selected from the range of usually, 1000W / m 2 ~ 100000W / m 2 ( for example, 5000W / m 2, 15000W / m 2, 35000W / m 2). Oxygen concentration and exposure illuminance may be combined as appropriate, and the conditions, for example, roughness on the oxygen concentration of 10 volume% 10000W / m 2, 20000W roughness in oxygen concentration 35 vol% / m 2 and the like.
노광 처리를 행한 후, 추가로 가열 처리(포스트베이크)를 행할 수도 있다. 포스트베이크는, 막의 경화를 완전한 것으로 하기 위한 현상 후의 가열 처리이다. 포스트베이크를 행하는 경우, 포스트베이크 온도는 예를 들면 100~240℃가 바람직하다. 막 경화의 관점에서 200~230℃가 보다 바람직하다. 포스트베이크는, 현상 후의 막을, 상기 조건이 되도록 핫플레이트나 컨벡션 오븐(열풍 순환식 건조기), 고주파 가열기 등의 가열 수단을 이용하여, 연속식 혹은 배치(batch)식으로 행할 수 있다.After performing the exposure process, a further heat treatment (post-baking) may be performed. The post-baking is post-development heat treatment to make the film completely cured. When the post-baking is carried out, the post-baking temperature is preferably 100 to 240 ° C, for example. From the viewpoint of film hardening, 200 to 230 캜 is more preferable. The post-baking can be carried out continuously or batchwise using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot-air circulation type drier), or a high-frequency heater so as to achieve the above conditions.
이와 같이 하여, 이미션 필터를 제조할 수 있다. 이와 같이 하여 얻어진 이미션 필터를, 형광 센서에 도입함으로써, 형광 센서를 제조할 수 있다.In this way, an emissive filter can be manufactured. The fluorescence sensor can be manufactured by introducing the emulsion filter thus obtained into a fluorescence sensor.
실시예Example
이하, 본 발명을 실시예에 의하여 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 주지를 넘지 않는 한, 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 특별히 설명이 없는 한, "부", "%"는, 질량 기준이다. 또 이하에 있어서, 1인치는 2.54cm이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it is beyond the ordinary knowledge. Unless otherwise stated, "part" and "%" are based on mass. In the following, one inch is 2.54 cm.
(안료의 평균 입경의 측정 방법)(Method of measuring average particle diameter of pigment)
안료의 평균 입자경은 동적 광산란법에 따라 측정했다. 구체적으로는 DLS-8000 series(오쓰카 덴시제)를 이용하여 측정했다.The average particle size of the pigment was measured by a dynamic light scattering method. Specifically, it was measured using DLS-8000 series (manufactured by Otsuka Electronics).
(사용 원료)(Raw materials used)
실시예 및 비교예의 착색 조성물로 사용한 성분은 이하이다.The components used in the coloring compositions of Examples and Comparative Examples are as follows.
·적색 안료· Red pigment
PR144: C. I. 피그먼트 레드 144PR144: C. I. Pigment Red 144
PR166: C. I. 피그먼트 레드 166PR166: C. I. Pigment Red 166
PR254: C. I. 피그먼트 레드 254PR254: C.I. Pigment Red 254
·수지·Suzy
(수지 1)(Resin 1)
D-1: 하기 구조(중량 평균 분자량 38000, 각 반복 단위(주쇄)에 병기한 수치는, 각 반복 단위의 함유량(질량비)을 나타낸다. 측쇄의 반복 부위에 병기되는 수치는, 반복 부위의 반복 수를 나타냄)D-1: The following structure (weight average molecular weight: 38000, numerical value given in each repeating unit (main chain) represents the content (mass ratio) of each repeating unit. Lt; / RTI >
[화학식 23](23)
D-2: 하기 구조(중량 평균 분자량 20000, 각 반복 단위(주쇄)에 병기한 수치는, 각 반복 단위의 함유량(질량비)을 나타낸다. 측쇄의 반복 부위에 병기되는 수치는, 반복 부위의 반복 수를 나타냄)D-2: The following structure (weight average molecular weight: 20000, numerical value given in each repeating unit (main chain) represents content (mass ratio) of each repeating unit. Lt; / RTI >
[화학식 24]≪ EMI ID =
D-3: 하기 구조(중량 평균 분자량 24000, 각 반복 단위(주쇄)에 병기한 수치는, 각 반복 단위의 함유량(질량비)을 나타낸다. 측쇄의 반복 부위에 병기되는 수치는, 반복 부위의 반복 수를 나타냄)D-3: The following structure (weight average molecular weight: 24000, numerical value given in each repeating unit (main chain) represents the content (mass ratio) of each repeating unit. Lt; / RTI >
[화학식 25](25)
(수지 2)(Resin 2)
B-1: 하기 구조(중량 평균 분자량 11000, 각 반복 단위(주쇄)에 병기한 수치는, 각 반복 단위의 함유량(질량비)을 나타냄)B-1: The following structure (weight average molecular weight: 11000, numerical value given in each repeating unit (main chain) represents the content (mass ratio) of each repeating unit)
[화학식 26](26)
B-2: 하기 구조(중량 평균 분자량 12000, 각 반복 단위(주쇄)에 병기한 수치는, 각 반복 단위의 함유량(질량비)을 나타냄)B-2: The following structure (weight average molecular weight: 12000, numerical value given in each repeating unit (main chain) represents the content (mass ratio) of each repeating unit)
[화학식 27](27)
B-3: 하기 구조(중량 평균 분자량 40000, 각 반복 단위(주쇄)에 병기한 수치는, 각 반복 단위의 함유량(질량비)을 나타냄)B-3: The following structure (weight average molecular weight: 40000, numerical value given in each repeating unit (main chain) represents the content (mass ratio) of each repeating unit)
[화학식 28](28)
·안료 유도체· Pigment derivatives
PZ-1: 하기 구조PZ-1: Structure
[화학식 29][Chemical Formula 29]
·중합성 화합물· Polymerizable compound
M-1~M-3: 하기 구조. 또한 M-2는, 왼쪽식의 화합물과 오른쪽식의 화합물이 질량비로 7:3의 혼합물이다. M-3의 n은 1~3이며, 4개의 n의 합계는 12 이하이다.M-1 to M-3: The following structure. M-2 is a mixture of the left-handed compound and the right-handed compound in a mass ratio of 7: 3. N of M-3 is 1 to 3, and the sum of 4 n is 12 or less.
[화학식 30](30)
M-4: NK 에스터 A-TMMT(펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 신나카무라 가가쿠 고교(주)제)M-4: NK Ester A-TMMT (pentaerythritol tetraacrylate, manufactured by Shin Nakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
·광중합 개시제· Photopolymerization initiator
I-1~I-2: 하기 구조I-1 to I-2: The following structures
[화학식 31](31)
·계면활성제·Surfactants
W-1: 하기 혼합물(Mw=14000, 10% PGMEA 용액)W-1: The following mixture (Mw = 14000, 10% PGMEA solution)
[화학식 32](32)
W-2: 하기 구조W-2: Structure
[화학식 33](33)
(착색 조성물의 조제)(Preparation of coloring composition)
표 1에 나타내는 성분의 착색 조성물을 이용하여 평가했다.The coloring composition of the components shown in Table 1 was used.
(조성비)(Composition ratio)
안료: 5질량%Pigment: 5 mass%
수지(수지 1): 1.5질량%Resin (resin 1): 1.5 mass%
안료 유도체: 0.075질량%Pigment derivative: 0.075 mass%
중합 개시제: 0.3질량%Polymerization initiator: 0.3 mass%
중합성 화합물: 0.7질량%Polymerizable compound: 0.7 mass%
수지(수지 2): 4.925질량%Resin (resin 2): 4.925 mass%
계면활성제: 0.001질량%Surfactant: 0.001 mass%
용제(프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA)): 잔부Solvent (propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA)): balance
착색 조성물은, 안료와 수지 1과 안료 유도체를 혼합하여 안료 분산액을 조제하고, 안료 분산액에 나머지 성분을 배합하여 상기 조성의 착색 조성물을 제조했다.The coloring composition was prepared by mixing a pigment, a
[표 1][Table 1]
(형광 강도 측정)(Fluorescence intensity measurement)
유리 기판 상에 각 착색 조성물을 도포하여 착색 조성물층을 형성했다. 막두께는, 경화막의 파장 500nm의 투과율이 5%가 되도록 조정했다.Each coloring composition was applied onto a glass substrate to form a coloring composition layer. The film thickness was adjusted so that the transmittance of the cured film at a wavelength of 500 nm was 5%.
다음으로, 100℃에서 2분간 프리베이크를 행한 후, 1000mJ/cm2의 조건으로 노광을 행하고, 220℃에서 5분간 포스트베이크를 행하여, 경화막을 제조했다.Next, there were prepared after carrying out pre-bake for 2 minutes at 100 ℃, subjected to exposure under the condition of 1000mJ / cm 2, post-baking is performed for 5 minutes at 220 ℃, cured film.
얻어진 경화막에 대하여, 히타치 하이테크사제 F4500을 이용하여 여기 파장은 534nm, 여기 슬릿 5nm, 형광 슬릿 5nm, 포토멀티플라이어관 전압 950V의 조건으로, 파장 600~700nm의 범위의 형광의 적분 강도를 측정했다. 또한 형광 강도의 측정에 있어서, 미광(迷光) 억제를 위하여 광원 측에 530nm의 밴드 패스 필터, 산란광 억제를 위하여 검출 측에 샤프 차단 필터를 이용하여 측정을 행했다. 얻어진 형광 스펙트럼의 600~700nm의 적분값을 이용하여, 비교예 1의 착색 조성물의 결과로 나눈 값을 형광 강도비로서 산출했다.With respect to the obtained cured film, the integrated intensity of fluorescence in a wavelength range of 600 to 700 nm was measured under the conditions of an excitation wavelength of 534 nm, an excitation slit of 5 nm, a fluorescent slit of 5 nm, and a photomultiplier tube voltage of 950 V using F4500 manufactured by Hitachi High- . Further, in the measurement of fluorescence intensity, a band-pass filter of 530 nm was provided on the light source side and a sharp cut filter was used on the detection side to suppress stray light for suppressing stray light. Using the integrated value of the obtained fluorescence spectrum of 600 to 700 nm, the value obtained by dividing the result of the coloring composition of Comparative Example 1 was calculated as the fluorescence intensity ratio.
(분산 안정성 평가)(Evaluation of dispersion stability)
각 착색 조성물을, 50℃의 항온조에 보관하고 1주일 후에 분광을 측정했다. 보관 전후의 400~800nm의 분광을 측정하여, 보관 전후의 분광 변동이 최대의 파장을 이하 조건으로 판단했다.Each coloring composition was stored in a thermostatic chamber at 50 DEG C and spectroscopy was measured after one week. The spectra of 400 to 800 nm before and after storage were measured, and it was judged that the spectral fluctuation before and after storage was not more than the maximum wavelength.
5: 분광 변동이 보관 전후로 1% 이하5: 1% or less before and after storage
4: 분광 변동이 보관 전후로 1%를 초과 3% 이하4: Spectroscopic fluctuations exceed 1% before and after
3: 분광 변동이 보관 전후로 3%를 초과 5% 이하3: The spectral fluctuation is more than 3% and less than 5% before and after storage
2: 분광 변동이 보관 전후로 5%를 초과 10% 이하2: Spectral fluctuations exceed 5% before and after storage 10% or less
1: 분광 변동이 보관 전후로 10%를 초과1: Spectral fluctuations exceed 10% before and after storage
(내광성 평가)(Evaluation of light resistance)
형광 강도를 측정한 기판을, 제논 램프를 이용하여, 1.0×105룩스의 조도로 50시간 조사하여 내광성을 측정했다. 처리 전후의 400~800nm의 분광을 측정하여, 처리 전후의 분광 변동이 최대의 파장을 이하 조건으로 판단했다.The substrate on which the fluorescence intensity was measured was irradiated with a xenon lamp at an illuminance of 1.0 x 10 5 lux for 50 hours to measure the light resistance. The spectra of 400 to 800 nm before and after the treatment were measured, and it was judged that the spectral fluctuation before and after the treatment was the maximum wavelength or less.
5: 분광 변동이 처리 전후로 1% 이하5: 1% or less before and after treatment
4: 분광 변동이 처리 전후로 1%를 초과 3% 이하4: Spectroscopic fluctuation exceeding 1% to 3% before and after treatment
3: 분광 변동이 처리 전후로 3%를 초과 5% 이하3: Spectroscopic fluctuation exceeding 3% and not more than 5% before and after treatment
2: 분광 변동이 처리 전후로 5%를 초과 10% 이하2: Spectroscopic fluctuation exceeding 5% and before 10% before and after treatment
1: 분광 변동이 처리 전후로 10%를 초과1: Spectral fluctuations exceed 10% before and after treatment
(해상성 평가)(Evaluation of Resolution)
형광 강도를 측정하는 기판에서 노광 시에 패턴을 갖는 포토마스크를 올려 노광을 행했다. 그 후, 2.5질량% TMAH(수산화 테트라메틸암모늄) 수용액에서 현상 처리를 행했다. 현상 후에 제작 가능한 패턴 형상의 한계 사이즈를 이하 조건으로 판단했다.On the substrate for measuring the fluorescence intensity, a photomask having a pattern was placed upon exposure to perform exposure. Thereafter, development processing was performed in an aqueous solution of 2.5 mass% TMAH (tetramethylammonium hydroxide). The limit size of a pattern shape that can be manufactured after development was determined as the following conditions.
5: 한계 해상도가 1.4μm 이하5: Limit resolution is 1.4μm or less
4: 한계 해상도가, 1.4μm를 초과 1.7μm 이하4: The limiting resolution exceeds 1.4 탆 and 1.7 탆 or less
3: 한계 해상도가, 1.7μm를 초과 2μm 이하3: The limiting resolution is more than 1.7 탆 and less than 2 탆
2: 한계 해상도가, 2μm를 초과 3μm 이하2: The limiting resolution is more than 2 탆 and less than 3 탆
1: 리소성 없음1: No recrystallization
(잔사 결함 평가)(Residual defect evaluation)
형광 강도를 측정한 기판을 어플라이드 머티리얼사제 ComPlus로 솔리드막의 결함수를 측정했다. 측정 결과를 이하 조건으로 판단했다. 1μm 이상의 재료 유래라고 판단되는 이물을 솔리드막의 결함으로서 판단했다.The number of defects of the solid film was measured with a ComPlus manufactured by Applied Materials, the substrate having the fluorescence intensity measured. The measurement results were judged as the following conditions. Foreign matter judged to be originated from a material having a thickness of 1 m or more was judged to be a defect of the solid film.
5: 8인치 웨이퍼당 결함수가 100개 이하5: No more than 100 defects per 8-inch wafer
4: 8인치 웨이퍼당 결함수가 100개를 초과 300개 이하4: More than 100 defects per 8-inch wafer and less than 300
3: 8인치 웨이퍼당 결함수가 300개를 초과 500개 이하3: More than 300 defects per 8-inch wafer less than 500
2: 8인치 웨이퍼당 결함수가 500개를 초과 1000개 이하2: Number of defects per 8-inch wafer is more than 500 and less than 1000
1: 8인치 웨이퍼당 결함수가 1000개를 초과1: More than 1000 defects per 8-inch wafer
[표 2][Table 2]
상기 표에 나타내는 바와 같이 실시예는, 형광 강도비가 작았다. 또 실시예의 경화막을 이미션 필터로서 이용한 형광 센서는, 검출 감도가 우수했다.As shown in the above table, the fluorescent intensity ratio of the examples was small. The fluorescence sensor using the cured film of the Example as an emission filter was excellent in detection sensitivity.
한편, 비교예의 경화막을 이미션 필터로서 이용한 형광 센서는, 검출 감도가 뒤떨어져 있었다.On the other hand, the fluorescence sensor using the cured film of the comparative example as an emissive filter was inferior in detection sensitivity.
또 실시예 1~38, 비교예 1~5의 경화막을, 형광 센서의 이미션 필터로서 도입하고, 시료에 파장 534nm의 여기광을 조사하여 형광 검출을 행한바, 실시예 1~38은, 비교예 1~5보다 검출 감도가 우수했다.The cured films of Examples 1 to 38 and Comparative Examples 1 to 5 were introduced as an emission filter of a fluorescence sensor and fluorescence was detected by irradiating excitation light having a wavelength of 534 nm to the sample. In Examples 1 to 38, Detection sensitivity was superior to Examples 1 to 5.
1 광원
2 여기 필터
3 빔 스플리터
4 대물 렌즈
5 시료 홀더
6 이미션 필터
7 접안부
11 광원
12 여기 필터
13 미러
14 시료 홀더
15 대물 렌즈
16 이미션 필터
17 접안부1 light source
2 excitation filter
3 beam splitter
4 objective lens
5 Sample holder
6 Emission filter
7 Eyepiece
11 light source
12 excitation filter
13 Mirror
14 Sample holder
15 objective lens
16 Emission Filters
17 eyepiece
Claims (13)
적색 안료와, 수지와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제와, 용제를 포함하고,
상기 착색 조성물을 이용하여 형성한, 두께 3.0μm의 막의, 파장 534nm의 광으로 여기했을 때의 파장 600~700nm 범위의 형광의 적분 강도를,
컬러 인덱스 피그먼트 레드 254를 전체 고형분 중에 40질량% 함유하는, 두께 3.0μm의 경화막 A의, 파장 534nm의 광으로 여기했을 때의 파장 600~700nm의 범위의 형광의 적분 강도로 나눈 값이 0.5 이하인, 착색 조성물.As a coloring composition for forming an emulsion filter of a fluorescent sensor,
A red pigment, a resin, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent,
The integrated intensity of fluorescence in a wavelength range of 600 to 700 nm when the film of 3.0 μm thick formed using the above colored composition was excited by light having a wavelength of 534 nm,
A value obtained by dividing the cured film A having a thickness of 3.0 占 퐉 and containing the color pigment Pigment Red 254 by 40% by mass in the total solid content divided by the integral intensity of fluorescence in a wavelength range of 600 to 700 nm when excited by light of 534 nm wavelength was 0.5 ≪ / RTI >
컬러 인덱스 피그먼트 레드 144, 및 컬러 인덱스 피그먼트 레드 166으로부터 선택되는 적어도 1종의 적색 안료와, 수지와, 중합성 화합물과, 광중합 개시제와, 용제를 포함하는 착색 조성물.As a coloring composition for forming an emulsion filter of a fluorescent sensor,
Color Index Pigment Red 144, and Color Index Pigment Red 166, a resin, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.
상기 적색 안료의 평균 입경이 5~500nm인, 착색 조성물.The method according to claim 1 or 2,
Wherein the red pigment has an average particle diameter of 5 to 500 nm.
상기 중합성 화합물이 중합성 모노머인, 착색 조성물.The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the polymerizable compound is a polymerizable monomer.
상기 중합성 모노머가 라디칼 중합성기를 3개 이상 갖는, 착색 조성물.The method of claim 4,
Wherein the polymerizable monomer has three or more radically polymerizable groups.
상기 중합성 모노머가 알킬렌옥시기를 갖는, 착색 조성물.The method according to claim 4 or 5,
Wherein the polymerizable monomer has an alkyleneoxy group.
상기 중합성 모노머가, 알킬렌옥시기를 반복 단위로서 2 이상 포함하는 쇄를 갖는, 착색 조성물.The method of claim 6,
Wherein the polymerizable monomer has a chain containing two or more alkyleneoxy groups as repeating units.
상기 수지가 그래프트 공중합체를 포함하는, 착색 조성물.The method according to any one of claims 1 to 7,
Wherein the resin comprises a graft copolymer.
상기 수지가, 하기 식 (1)~(4) 중 어느 하나로 나타나는 반복 단위를 포함하는 수지를 포함하는, 착색 조성물;
[화학식 1]
식 (1)~식 (4)에 있어서, W1, W2, W3, 및 W4는 각각 독립적으로 산소 원자, 또는 NH를 나타내고,
X1, X2, X3, X4, 및 X5는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 1가의 유기기를 나타내며,
Y1, Y2, Y3, 및 Y4는 각각 독립적으로 2가의 연결기를 나타내고,
Z1, Z2, Z3, 및 Z4는 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내며,
R3은 알킬렌기를 나타내고,
R4는 수소 원자 또는 1가의 유기기를 나타내며,
n, m, p, 및 q는 각각 독립적으로 1~500의 정수를 나타내고,
j 및 k는 각각 독립적으로 2~8의 정수를 나타내며,
식 (3)에 있어서, p가 2~500일 때, 복수 존재하는 R3은 서로 동일해도 되고 달라도 되며,
식 (4)에 있어서, q가 2~500일 때, 복수 존재하는 X5 및 R4는 서로 동일해도 되고 달라도 된다.The method according to any one of claims 1 to 8,
Wherein the resin comprises a resin comprising a repeating unit represented by any one of the following formulas (1) to (4);
[Chemical Formula 1]
In the formulas (1) to (4), W 1 , W 2 , W 3 and W 4 each independently represent an oxygen atom or NH,
X 1 , X 2 , X 3 , X 4 , and X 5 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent organic group,
Y 1 , Y 2 , Y 3 , and Y 4 each independently represent a divalent linking group,
Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 each independently represent a monovalent organic group,
R 3 represents an alkylene group,
R 4 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group,
n, m, p, and q each independently represent an integer of 1 to 500,
j and k each independently represent an integer of 2 to 8,
In the formula (3), when p is 2 to 500, plural R 3 may be the same or different,
In the formula (4), when q is 2 to 500, a plurality of X 5 and R 4 present may be the same or different.
상기 형광 센서가, 시료에 대하여, 여기광을 조사하여 이용하는 것인, 형광 센서.The method of claim 10,
Wherein the fluorescence sensor irradiates the sample with excitation light.
상기 형광 센서가 DNA 센서인, 형광 센서.The method according to claim 10 or 11,
Wherein the fluorescence sensor is a DNA sensor.
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X701 | Decision to grant (after re-examination) |