KR20180022074A - polarizing variable device and manufacturing method thereof - Google Patents
polarizing variable device and manufacturing method thereof Download PDFInfo
- Publication number
- KR20180022074A KR20180022074A KR1020160106921A KR20160106921A KR20180022074A KR 20180022074 A KR20180022074 A KR 20180022074A KR 1020160106921 A KR1020160106921 A KR 1020160106921A KR 20160106921 A KR20160106921 A KR 20160106921A KR 20180022074 A KR20180022074 A KR 20180022074A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- polarization
- substrate
- region
- conductive
- metal line
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/28—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising
- G02B27/286—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising for controlling or changing the state of polarisation, e.g. transforming one polarisation state into another
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
Description
본 출원은 편광 가변형 소자, 이의 용도 및 이의 제조방법에 대한 것이다. The present application relates to a polarization variable element, its use, and a method of manufacturing the same.
선격자 편광자는 비편광된 빛을 특정 진동방향을 갖는 직선 편광으로 유도하는 광학소자의 일종이다. 일반적으로 선격자 편광자는 광 투과성 기판 상에 복수의 스트라이프 패턴이 서로 평행하게 배열된 구조를 가지며, 상기 스트라이프 패턴의 피치가 입사광의 파장보다 충분히 짧은 경우, 입사광 중에서 상기 스트라이프 패턴에 직교하는 전기장 벡터를 갖는 성분(즉, p 편광)은 투과되고, 상기 스트라이프 패턴과 평행한 전기장 벡터를 갖는 성분(즉, s 편광)은 반사 또는 흡수되어 편광이 유도되게 된다.A line grating polarizer is a type of optical element that guides unpolarized light into linearly polarized light having a specific vibration direction. In general, a line grating polarizer has a structure in which a plurality of stripe patterns are arranged parallel to each other on a light-transmitting substrate. When the pitch of the stripe patterns is sufficiently shorter than the wavelength of incident light, an electric field vector orthogonal to the stripe pattern (I.e., p-polarized light) is transmitted, and a component having an electric field vector parallel to the stripe pattern (i.e., s-polarized light) is reflected or absorbed so that polarization is induced.
종래에는 이러한 선격자 편광자로 주로 알루미늄을 이용한 선격자 편광자가 사용되어 왔다. 이러한 알루미늄을 이용한 선격자 편광자에 관한 종래기술의 예로는 한국공개특허 제2002-0035587호(특허문헌1)가 있다. Conventionally, a line grating polarizer using mainly aluminum has been used as such a grating polarizer. An example of a prior art related to a linear grating polarizer using aluminum is Korean Patent Publication No. 2002-0035587 (Patent Document 1).
이러한 선격자 편광자는 금속 와이어의 주기(피치)가 입사광의 파장에 비하여 상당히 짧아야 편광 소멸비가 높아지는데, 금속 와이어의 주기가 짧을수록 제작이 어려워 지금까지의 와이어 그리드 편광판은 주로 마이크로파 또는 적외선 영역에서 사용되어 왔다. 그러나, 최근 반도체 제조 장비와 노광 기술의 발달로 미세 패턴의 제작이 가능해짐에 따라 가시광선에서 동작하는 나노 와이어 그리드 편광판의 제조가 가능해지고 있으나, 여전히 그 제조공정 상의 어려움이나 제반 문제들이 존재한다. In the case of such a wire grid polarizer, the period of the metal wire (pitch) should be considerably shorter than the wavelength of the incident light so that the extinction ratio of the polarizer becomes higher. However, the shorter the period of the metal wire is, Has come. However, with the recent development of semiconductor manufacturing equipment and exposure technology, it becomes possible to manufacture fine patterns, and it is possible to manufacture a nanowire grid polarizer that operates in visible light. However, there are still difficulties and problems in the manufacturing process.
본 출원은 외부 전계의 인가 조건에 따라 목적하는 파장 대역의 선택적 편광 분리가 가능한, 편광 가변형 소자 및 이의 제조방법을 제공한다.The present invention provides a polarization variable element and a method of manufacturing the same, which are capable of selective polarization separation in a desired wavelength band according to application conditions of an external electric field.
본 출원은 또한, 상기 편광 가변형 소자의 용도를 제공한다. The present application also provides the use of the above-mentioned polarization variable element.
본 출원은 편광 가변형 소자 및 이의 제조방법에 대한 것이다.The present application relates to a polarization variable element and a method of manufacturing the same.
본 출원은 편광 분리층의 금속선이 형성되어 있지 않은 영역에, 외부 전계가 인가되는 경우 금속선 쪽으로 이동 가능한 도전성 광 차단 입자를 위치시켜, 외부 전계의 인가 여부에 따라 금속선의 두께가 변화하는 것과 동일한 효과를 달성함으로써, 목적하는 파장대역을 선택적으로 반사 및 편광 분리 할 수 있는 편광 가변 소자 및 이의 제조방법을 제공할 수 있다.The present application is based on the idea that a conductive light blocking particle capable of moving toward a metal line when an external electric field is applied is placed in a region where a metal line of the polarization separation layer is not formed and the same effect It is possible to provide a polarization variable element capable of selectively separating a desired wavelength band by reflection and polarization, and a method of manufacturing the same.
본 출원에 따른 편광 가변형 소자를 이용하는 경우, 단순히 외부 전계의 인가 여부나 전계 범위를 설정함에 따라 통상 차단 모드 또는 편광 모드를 효과적으로 구현할 수 있으며, 특히 금속선의 피치를 가깝게 설계 하기 위한 복잡한 공정 없이도, 가시광 대역 및 적외선 영역의 파장을 선택적으로 반사할 수 있는 이점이 있다.In the case of using the polarization variable element according to the present application, it is possible to effectively implement the cut-off mode or the polarization mode effectively by merely setting the external field application or the electric field range. In particular, without complicated processes for designing the pitches of the metal lines, There is an advantage that the wavelengths of the band and the infrared region can be selectively reflected.
상기에서 용어 「통상 차단 모드」는 외부 전계가 인가되지 아니한 편광 가변형 소자의 구동 모드를 의미하는 것으로써, 예를 들면 400 nm 이상의 파장을 가지는 광의 상기 편광 가변형 소자에 대한 투과도가 30% 이하, 20% 이하, 10%이하 또는 5% 이하인 모드를 의미할 수 있다. The term " normal cut-off mode " means a drive mode of a polarization variable element to which no external electric field is applied. For example, the transmittance of light having a wavelength of 400 nm or more to the polarization variable element is 30% Or less, 10% or less, or 5% or less.
상기에서 용어 「편광 모드」는 외부 전계가 인가되는 편광 가변형 소자의 구동 모드를 의미하는 것으로써, 예를 들면 하기 수식 1로 계산되는 편광도가 0.3 이상, 0.4 이상 또는 0.5 이상인 모드를 의미할 수 있다.The term " polarization mode " used herein means a drive mode of a polarization variable element to which an external electric field is applied, and may mean, for example, a mode in which the polarization degree calculated by the following equation 1 is 0.3 or more, 0.4 or more, or 0.5 or more .
[수식 1][Equation 1]
D1 = (Tc1-Tp1)/(Tc1+Tp1)D 1 = (Tc 1 -Tp 1 ) / (Tc 1 + Tp 1 )
상기 수식 1에서 Tc1는 금속선과 직교하는 방향으로 편광된 파장이 400 nm 이상인 광의 상기 편광 가변형 소자에 대한 투과도이고, Tp1는 상기 금속선과 평행한 방향으로 편광된 파장이 400 nm 이상인 광의 상기 편광 가변형 소자에 대한 투과도이다.Wherein Tc 1 is a transmittance of the light having a wavelength of 400 nm or more polarized in a direction orthogonal to the metal line to the polarization variable element and Tp 1 is a transmittance of the light having a wavelength of 400 nm or more polarized in a direction parallel to the metal line, And the transmittance for the variable element.
도 1은 본 출원의 편광 가변형 소자의 구조를 개략적으로 도시한 것이다.Fig. 1 schematically shows the structure of the polarization variable element of the present application.
도 1 에 도시된 바와 같이, 본 출원에 따른 편광 가변형 소자는 제 1 기판(100)과 제 2 기판(300); 및 상기 제 1 기판(100) 및 제 2 기판(300) 사이에 존재하고, 1㎛ 내지 100㎛의 피치를 가지며 배치되어 있는 금속선을 포함하는 제 1 영역(201) 및 도전성 광 차단 입자를 포함하는 제 2 영역(202)을 포함하는 편광 분리층(200)을 포함한다. 도 1과 같은 구조의 편광 가변형 소자는 외부 전계의 인가 여부에 따라 통상 차단 모드와 편광 모드를 선택적으로 구현할 수 있다.As shown in FIG. 1, the polarization variable element according to the present application includes a
본 출원의 제 1 기판은, 상부에 편광 분리층을 형성되기 위한 지지체 역할을 수행하는 것으로써, 그 종류는 예를 들면 고분자 필름 또는 유리 필름 등 가시광 영역에 대한 투과도가 60% 이상 또는 70% 이상인 필름 등이 예시될 수 있다.The first substrate of the present application serves as a support for forming a polarized light separation layer on the upper portion. The first substrate may have a transmittance of 60% or more or 70% or more for a visible light region such as a polymer film or a glass film Film or the like can be exemplified.
보다 구체적으로, 상기 고분자 필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름,폴리카보네이트 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리 스티렌 필름, 폴리 에폭시 필름, 고리형 올레핀계 중합체(COP) 필름, 고리형 올레핀계 공중합체(COC) 필름 및 상기 필름을 구성하는 성분의 조합으로 이루어진 필름 중 선택되는 어느 하나 일 수 있다.More specifically, the polymer film may be a polyethylene terephthalate film, a polycarbonate film, a polypropylene film, a polyethylene film, a polystyrene film, a polyepoxy film, a cyclic olefin polymer (COP) film, a cyclic olefin copolymer ) Film and a film composed of a combination of components constituting the film.
또한, 상기 유리 필름은 석영 필름이나 자외선 차단 유리 등이 예시될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. The glass film may be a quartz film, an ultraviolet blocking glass, or the like, but is not limited thereto.
상기 제 1 기판의 두께는, 예를 들면 1㎛ 내지 100㎛, 3㎛ 내지 80㎛ 또는 5㎛ 내지 50㎛의 범위 내에 있을 수 있다. The thickness of the first substrate may be in the range of, for example, 1 탆 to 100 탆, 3 탆 to 80 탆, or 5 탆 to 50 탆.
제 2 기판은, 후술하는 전극층을 지지하는 역할을 수행하며, 상기 제 1 기판과 합지되는 것으로써, 예를 들면 상기 제 1 기판의 고분자 필름에 이용되는 재료가 제한 없이 채택되어 이용될 수 있다. The second substrate serves to support an electrode layer, which will be described later, and is laminated with the first substrate. For example, the material used for the polymer film of the first substrate can be adopted without any limitations.
본 출원에 따른 편광 가변형 소자는 제 1 기판과 제 2 기판의 사이에 편광 분리층을 포함한다.The polarization variable element according to the present application includes a polarization separation layer between a first substrate and a second substrate.
편광 분리층은 또한, 금속선을 포함하는 제 1 영역 및 도전성 광 차단 입자를 포함하는 제 2 영역을 포함한다.The polarized light separating layer further includes a first region including a metal line and a second region including the conductive light blocking particles.
도 1에 구체적으로 도시된 바와 같이, 편광 분리층의 제 1 영역은 복수의 금속선으로 이루어질 수 있으며, 상기 제 1 영역 이외에 제 2 기판의 합지에 의해 형성된 빈 공간의 영역들이 제 2 영역일 수 있다. 상기 제 2 영역에는 도전성 광 차단 입자가 포함된다.1, the first region of the polarization separation layer may be composed of a plurality of metal lines, and the regions of the void space formed by the joints of the second substrate in addition to the first region may be the second region . The second region includes conductive light blocking particles.
본 출원에 따른 편광 가변형 소자는, 편광 분리층의 상기 제 2 영역에 도전성 광 차단 입자를 포함하여, 외부 전계의 인가 여부에 따라 상기 도전성 광 차단 입자가 제 2 영역 내에서 무작위 적으로 분포되어 있거나, 또는 금속선 부근으로 부착될 수 있으며, 이를 통해 통상 차단 모드 또는 편광 모드를 선택적으로 구현할 수 있다.The polarization variable element according to the present application is characterized in that the conductive light blocking particles are contained in the second region of the polarized light separating layer and the conductive light blocking particles are randomly distributed in the second region depending on whether an external electric field is applied , Or near a metal line, through which a normally cut-off or polarization mode can be selectively implemented.
편광 분리층은 금속선을 포함한다. 상기 금속선은, 입사되는 광 중 상기 금속선과 평행한 방향의 편광 성분은 반사시키고, 금속선과 직교한 방향의 편광 성분을 투과시키는 역할을 수행하는 것으로써, 그 소재는 통상적으로 와이드 그리드 편광자에서 이용되는 편광 분리층의 금속선을 형성하는 소재가 제한 없이 이용될 수 있다.The polarized light separating layer includes a metal wire. The metal line reflects a polarized component in a direction parallel to the metal line among the incident light and transmits a polarized component in a direction orthogonal to the metal line. The material is typically used in a wide grid polarizer Materials forming the metal lines of the polarization separation layer can be used without limitation.
하나의 예시에서, 금속선은 알루미늄, 구리, 크롬, 백금, 금, 은, 니켈 및 이들의 합금으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 금속을 포함할 수 있다. In one example, the metal wire may comprise any metal selected from the group consisting of aluminum, copper, chromium, platinum, gold, silver, nickel, and alloys thereof.
상기 금속선은 편광 분리 기능을 수행하기 위해, 소정의 피치, 높이 및 선폭을 가진 상태로 편광 분리층에 존재할 수 있다.The metal line may be present in the polarization separation layer with a predetermined pitch, height and line width to perform the polarization splitting function.
본 출원에서 용어 피치(p)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 복수의 금속선 사이 간격과 금속선 선폭의 합을 의미할 수 있고, 용어 높이(h)는 제 1 기판과 접하는 부분에서부터, 금속선 최상단까지 측정되는 금속선의 두께를 의미할 수 있고, 용어 선폭(w)은 금속선의 가로 방향의 길이를 의미할 수 있다. The term pitch (p) in the present application may mean the sum of the spacing between the plurality of metal lines and the line width of the metal line, as shown in Fig. 2, and the term height h may range from the portion in contact with the first substrate, , And the term line width (w) may mean the length of the metal wire in the transverse direction.
하나의 예시에서, 금속선의 피치는 1㎛ 내지 100㎛의 범위 내에 있을 수 있다. 본 출원에 따른 편광 가변형 소자의 경우, 가시광 영역 이상의 파장을 선택적으로 편광 분리하기 위한 소자이기 때문에, 상기 범위 중 어느 한 피치를 가지도록 금속선을 배치할 수 있다. 다른 예시에서, 금속선의 피치는 1 ㎛ 내지 50㎛, 1㎛ 내지 30㎛, 1 내지 15㎛ 또는 1 내지 10㎛의 범위 내에 있을 수 있다. In one example, the pitch of the metal lines may be in the range of 1 占 퐉 to 100 占 퐉. In the case of the polarization variable element according to the present application, the metal wire can be arranged so as to have any pitch in the above range because it is an element for selectively polarizing and separating the wavelengths of the visible light region or more. In another example, the pitch of the metal lines may be in the range of 1 占 퐉 to 50 占 퐉, 1 占 퐉 to 30 占 퐉, 1 to 15 占 퐉, or 1 to 10 占 퐉.
하나의 예시에서, 금속선의 높이는 10nm 내지 5,000nm, 20nm 내지 1,000nm 또는 30nm 내지 500nm의 범위 내에 있을 수 있다. 상기 금속선의 높이가 지나치게 높을 경우, 피치 대 높이의 비율이 가시광 이상의 파장을 선택적으로 편광 시키기 적합하지 않을 수 있고, 높이가 지나치게 작을 경우 제작상의 문제가 발생할 수 있으며, 또한 편광 효율이 저해될 수 있다. In one example, the height of the metal line may be in the range of 10 nm to 5,000 nm, 20 nm to 1,000 nm, or 30 nm to 500 nm. If the height of the metal line is excessively high, the pitch-to-height ratio may not be suitable for selectively polarizing the wavelength of visible light, and if the height is too small, problems in fabrication may arise and polarization efficiency may be impaired .
하나의 예시에서, 금속선의 선폭은 10nm 내지 2,000nm, 10nm 내지 1,000nm 또는 10nm 내지 500nm의 범위 내에 있을 수 있다. 금속선의 선폭이 지나치게 두꺼울 경우, 동일한 피치 값 하에 외부 전계의 인가 여부에 따른 선택적 편광 기능이 제대로 발현되지 않을 수 있고, 또한 지나치게 얇은 선폭의 금속선은 제작의 용이성을 떨어뜨릴 수 있다. In one example, the line width of the metal line may be in the range of 10 nm to 2,000 nm, 10 nm to 1,000 nm, or 10 nm to 500 nm. If the line width of the metal wire is too thick, the selective polarization function depending on whether an external electric field is applied or not may not be properly developed under the same pitch value, and a metal wire having an excessively thin line width may deteriorate the manufacturing easiness.
상기 금속선의 피치, 높이 및 선폭 이외에, 종횡비 라던가 또는 필 펙터(fill factor) 등의 수치는 금속선을 포함하는 편광 분리층을 포함하는 편광 가변형 소자가 목적하는 가시광 파장 이상의 편광 특성을 확보할 수 있도록 하는 범위이고, 상기 피치, 높이 및 선폭을 만족하는 범위 내에서 당업자가 자유롭게 설계 변경 수 있다. In addition to the pitch, height, and line width of the metal line, the numerical values such as the aspect ratio or the fill factor are set such that the polarization variable element including the polarization separation layer including the metal line can secure a polarization characteristic of a desired visible light wavelength or more Range, and can be freely designed and changed by those skilled in the art within a range that satisfies the pitch, height, and line width.
편광 분리층은 또한, 제 2 영역을 포함한다. 상기 제 2 영역은 도전성 광 차단 입자를 포함한다. The polarized light separating layer also includes a second region. The second region includes conductive light blocking particles.
도 1에 도시된 바와 같이, 제 2 영역은 전극층이 형성된 제 2 기판이 제 1 기판과 합지하여 형성된 영역을 지칭하며, 또한 편광 분리층 내 금속선을 포함하는 제 1 영역 이외의 빈 공간을 의미할 수 있다.As shown in FIG. 1, the second region refers to a region where the second substrate formed with the electrode layer is joined to the first substrate, and also refers to an empty space other than the first region including the metal line in the polarization separation layer .
상기에서 용어 「도전성 광 차단 입자」는, 가시광 이상의 파장에 대한 투과율이 30% 이하인 입자로써, 그 표면이 음전하 또는 양전하를 띄고 있어, 후술하는 전극층과 금속선을 매개로 외부 전계를 인가하는 경우, 상기 금속선 부근으로 이동하여 금속선이 실질적으로 두꺼워 지는 것과 동일한 효과를 구현하게 하는 역할을 수행하는 입자를 의미한다. The term " conductive light-shielding particles " as used herein refers to particles having a transmittance of 30% or less with respect to a wavelength of visible light or more, and the surface thereof is negatively charged or positively charged. When an external electric field is applied via an electrode layer and a metal wire Means a particle which moves to the vicinity of a metal line and plays a role of realizing the same effect as a metal wire is substantially thickened.
하나의 예시에서, 상기 도전성 광 차단 입자는 제 2 영역 내에 분산된 상태로 존재할 수 있다. In one example, the conductive light blocking particles may be dispersed in the second region.
전술한 바와 같이, 도전성 광 차단 입자는 그 표면이 음전하 또는 양전하로 대전되어 있기 때문에, 그 자체의 인력 또는 척력에 의해 뭉치거나 흩어질 수 있는데, 본 출원에 따른 제 2 영역에 포함되는 도전성 광 차단 입자는 동일한 전하 특성을 가지고 있는 것으로써, 자체 척력에 의해 소정 간격을 두고 분산되어 있을 수 있다.As described above, since the surface of the conductive light-shielding particles is negatively charged or positively charged, they may be aggregated or scattered by their own attractive or repulsive force. The conductive light-shielding particles included in the second region according to the present application May have the same charge characteristics and may be dispersed at a predetermined interval by self repulsive force.
하나의 예시에서, 도전성 광 차단 입자는 음전하 또는 양전하를 띄고 있는 입자일 수 있다.In one example, the conductive light blocking particles may be negatively charged or positively charged particles.
상기 도전성 광 차단 입자가 음전하 또는 양전하를 띄게 하는 방법은, 예를 들면 광 차단 입자에 음전하 또는 양전하 특성을 부여할 수 있는 물질을 코팅하는 것을 포함할 수 있다.The method of making the electroconductive light blocking particles negative or positive may include, for example, coating a material capable of imparting negative charge or positive charge characteristics to the light blocking particles.
구체적인 예시에서, 도전성 광 차단 입자는, 광 차단 물질을 포함하는 코어와 상기 코어를 둘러쌓고 있으며, 양전하 또는 음전하를 띄고 있는 유기 화합물 또는 배위 화합물이 존재하는 쉘을 포함하는 코어/쉘 구조의 입자일 수 있다. 상기 유기 화합물은, 예를 들면 카복실기, 에스터기, 또는 아실기 등을 포함할 수 있으며, 상기 배위 화합물은 아민기, 티올기, 또는 포스핀 등을 포함할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. In a specific example, the conductive light-shielding particles comprise a core comprising a light-shielding material and a particle of a core / shell structure surrounding the core and comprising a shell in which an organic compound or a coordination compound is positively or negatively charged. . The organic compound may include, for example, a carboxyl group, an ester group, or an acyl group, and the coordination compound may include, but is not limited to, an amine group, a thiol group, or a phosphine group.
상기 도전성 광 차단 입자는 그 입경이, 1㎛ 이하일 수 있다. 도전성 광 차단 입자의 입경이 1㎛를 초과할 경우, 입자들이 제 2 영역 내에 고르게 분산되어 있을 수 없으며, 그에 따라 편광 가변형 소자의 구동 자체가 불가할 수 있는 문제가 있을 수 있다.The conductive light blocking particles may have a particle diameter of 1 mu m or less. When the particle diameter of the conductive light blocking particles is more than 1 탆, the particles can not be uniformly dispersed in the second region, and thus the driving of the polarization variable element may not be possible.
다른 예시에서, 상기 도전성 광 차단 입자의 입경은 0.001 ㎛ 내지 0.1㎛ 또는 0.001 ㎛ 내지 0.01㎛의 범위 내에 있을 수 있다.In another example, the particle diameter of the conductive light blocking particles may be in the range of 0.001 mu m to 0.1 mu m or 0.001 mu m to 0.01 mu m.
이러한 도전성 광 차단 입자는, 예를 들면 도전성 카본 블랙, 도전성 그라파이트 또는 도전성 탄소 나노 튜브 등이 예시될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. Examples of the conductive light blocking particles include, but are not limited to, conductive carbon black, conductive graphite, or conductive carbon nanotubes.
상기 도전성 카본 블랙, 도전성 그라파이트 또는 도전성 탄소 나노 튜브는, 예를 들면 공지의 카본 블랙, 그라파이트 또는 탄소 나노 튜브 상에 전술한 유기 화합물 또는 배위 화합물 등의 양전하 또는 음전하 특성을 부여할 수 있는 화합물을 코팅하는 방법 등으로 그 표면에 대전성이 부여된 것일 수 있다.The conductive carbon black, the conductive graphite or the conductive carbon nanotube may be coated on a known carbon black, graphite or carbon nanotube, for example, by coating a compound capable of imparting positive or negative charge characteristics, such as the organic compound or coordination compound, Or the like may be imparted with a chargeability on the surface thereof.
도전성 광 차단 입자는, 제 2 영역 내에 소정 부피 비율로 포함되어 있을 수 있다. 상기 도전성 광 차단 입자의 부피가 제 2 영역의 빈 공간을 지나치게 많이 차지할 경우, 외부 전계의 인가 여부에 상관없이 통상 차단 모드가 구현되어 목적하는 편광 분리 특성을 확보할 수 없다. 또한, 상기 도전성 광 차단 입자의 부피가 제 2 영역의 빈 공간을 지나치게 적게 차지할 경우, 목적하는 파장 대역에 대한 편광도가 크게 저하될 수 있다.The conductive light blocking particles may be contained in the second region at a predetermined volume ratio. If the volume of the conductive light blocking particles occupies an excessively large amount of voids in the second region, a normal blocking mode is implemented irrespective of whether an external electric field is applied or not, and desired polarization separation characteristics can not be secured. In addition, when the volume of the conductive light blocking particles occupies an excessively small space in the second region, the degree of polarization with respect to a desired wavelength band may be greatly reduced.
하나의 예시에서, 도전성 광 차단 입자는 편광 분리층 내 제 2 영역의 전체 부피 대비 0.5% 내지 30%의 부피 비율을 차지할 수 있는 양으로 제 2 영역 내에 존재할 수 있다. 상기 부피 비율 범위 내에서 외부 전계의 인가 여부에 따라 목적하는 파장 대역, 구체적으로 가시광 이상의 파장 대역에 대한 편광 분리 특성을 확보할 수 있다. 특히, 도전성 광 차단 입자를 상기 부피 비율 범위 내로 제 2 영역에 포함시키는 경우, 낮은 외부 전계 인가 조건에서도, 목적하는 가시광 이상의 파장 대역에 대한 편광 분리 특성을 확보할 수 있다는 이점이 있을 수 있다. In one example, the conductive light blocking particles may be present in the second region in an amount that can occupy a volume ratio of 0.5% to 30% of the total volume of the second region in the polarization separation layer. Polarized light separation characteristics for a desired wavelength band, specifically, a wavelength band of visible light or more can be ensured according to whether an external electric field is applied within the volume ratio range. Particularly, when the conductive light-shielding particles are included in the second region within the volume ratio range, there may be an advantage that the polarization separation characteristics with respect to the wavelength band of the desired visible light or higher can be secured even under a low external electric field application condition.
다른 예시에서, 도전성 광 차단 입자는 편광 분리층 내 제 2 영역의 전체 부피 대비 0.5% 내지 25% 또는 0.5% 내지 20%의 부피 비율을 차지할 수 있는 양으로 제 2 영역 내에 존재할 수 있다.In another example, the conductive light blocking particles may be present in the second region in an amount that can account for 0.5% to 25% or 0.5% to 20% by volume of the total volume of the second region in the polarization separation layer.
편광 분리층의 제 2 영역은 또한, 도전성 광 차단 입자를 분산시키기 위한 분산매를 추가로 포함할 수 있다. The second region of the polarized light separating layer may further include a dispersion medium for dispersing the conductive light blocking particles.
상기 분산매는 도전성 광 차단 입자를 제 2 영역 내에서 분산시키기 위한 구성으로써, 그 종류는 상기 역할을 수행할 수 있는 공지의 용매가 제한 없이 이용될 수 있다.The dispersion medium is a composition for dispersing the conductive light shielding particles in the second region, and the kind thereof can be used without limitation as a known solvent capable of performing the above-mentioned role.
하나의 예시에서, 분산매는 제 2 영역의 도전성 광 차단 입자가 제 2 영역 내에서 효과적으로 분산되어 있을 수 있도록 에멀젼 상태의 용액을 형성할 수 있는 용매, 예를 들면 폴리 에틸렌 글리콜 또는 폴리 프로필렌 글리콜 등이 예시될 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. In one example, the dispersion medium is a solvent capable of forming a solution in an emulsion state such that the conductive light shielding particles of the second region may be effectively dispersed in the second region, for example, polyethylene glycol or polypropylene glycol or the like But is not limited thereto.
본 출원에 따른 편광 가변형 소자는 또한, 전극층을 추가로 포함한다. 상기 전극층은 또한 편광 분리층과 접하고 있을 수 있다. The polarization variable element according to the present application further includes an electrode layer. The electrode layer may also be in contact with the polarization separation layer.
보다 구체적으로, 도 1에 도시된 바와 같이 전극층(400)은 제 2 기판(300)의 하면에 형성되어 있으며, 편광 분리층(200)과 접하고 있을 수 있다. 또한, 상기 편광 분리층(200)과 전극층(400)의 접함으로 인하여, 제 2 영역(202)이 형성될 수 있다.More specifically, as shown in FIG. 1, the
상기 전극층은 금속선과 함께 양극 또는 음극의 역할을 수행하는 것으로써, 예를 들면 전도성 고분자, 전도성 금속, 전도성 나노와이어 또는 ITO(Indium Tin Oxide)을 포함할 수 있다. The electrode layer serves as an anode or a cathode together with a metal wire, and may include, for example, a conductive polymer, a conductive metal, a conductive nanowire, or ITO (Indium Tin Oxide).
상기 전극층은, 예를 들면 전술한 물질들 중 어느 한 물질을 코팅하여 형성한 코팅층이거나 또는 전술한 물질들 중 어느 한 물질을 증착하여 형성한 증착층 일 수 있다. The electrode layer may be, for example, a coating layer formed by coating any one of the above materials, or a deposition layer formed by depositing any one of the above materials.
구체적인 예시에서, 전극층은 ITO를 포함하는 증착층 일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.In a specific example, the electrode layer may be, but is not limited to, a deposition layer comprising ITO.
상기 전극층은 전술한 편광 분리층 내 금속선과 전극으로 역할을 수행하며, 편광 가변형 소자에 외부 전계를 인가하는 역할을 수행할 수 있다. 또한, 외부 전계의 세기에 따라 도전성 광 차단 입자가 금속선에 부착되는 양이 달라지고, 이에 따라 금속선의 두께가 실질적으로 변경되는 것과 동일한 효과를 달성할 수 있으며, 궁극적으로 목적하는 파장 대역의 광을 선택적으로 편광 분리 할 수 있다.The electrode layer serves as a metal line and an electrode in the above-described polarization separation layer, and is capable of applying an external electric field to the polarization variable element. In addition, the amount of the conductive light blocking particles adhering to the metal wire is changed according to the intensity of the external electric field, thereby achieving the same effect as substantially changing the thickness of the metal wire, and ultimately, It is possible to selectively perform polarization separation.
하나의 예시에서, 본 출원에 따른 편광 가변형 소자는 외부 전계가 10V 내지 1000V의 범위 내로 인가되는 경우, 하기 수식 2로 계산되는 편광도가 0.50 내지 0.98의 범위 내에 있을 수 있다.In one example, the polarization variable element according to the present application may have a polarization degree calculated from the following equation (2) in the range of 0.50 to 0.98 when the external electric field is applied within a range of 10V to 1000V.
[수식 2][Equation 2]
D2 = (Tc2-Tp2)/(Tc2+Tp2)D 2 = (Tc 2 -Tp 2 ) / (Tc 2 + Tp 2 )
상기 수식 1에서 Tc2는 금속선과 직교하는 방향으로 편광된 400 nm 이상의 파장의 광의 상기 편광 가변형 소자에 대한 투과도이고, Tp2는 상기 금속선과 평행한 방향으로 편광된 400 nm 이상의 파장의 광의 상기 편광 가변형 소자에 대한 투과도이다.Wherein Tc 2 is the transmittance of the light having a wavelength of 400 nm or more polarized in a direction orthogonal to the metal line to the polarization variable element and Tp 2 is the transmittance of the light having a wavelength of 400 nm or more polarized in a direction parallel to the metal line, And the transmittance for the variable element.
다른 예시에서, 상기 수식 2로 계산되는 편광도는 0.60 내지 0.98 또는 0.70 내지 0.98의 범위 내에 있을 수 있다. In another example, the degree of polarization calculated by equation (2) may be in the range of 0.60 to 0.98 or 0.70 to 0.98.
본 출원에 따른 편광 가변형 소자는, 편광 분리층의 제 2 영역에 소정 함량의 도전성 광 차단 입자를 포함시킴으로써, 낮은 구동 전압, 예를 들면 10V 내지 100V 범위 내의 외부 전계 조건에서 상기와 같은 편광도를 달성할 수 있다. By including the predetermined amount of the conductive light blocking particles in the second region of the polarized light separating layer according to the present application, it is possible to achieve the above-described polarization degree under a low driving voltage, for example, an external electric field within a range of 10 V to 100 V can do.
본 출원은 또한, 편광 가변형 소자의 제조방법에 대한 것이다. 본 출원에 따른 편광 가변형 소자의 제조방법에 따르면 외부 전계의 인가 여부에 따라 통상 차단 모드와 편광 모드를 선택적으로 구현할 수 있는 편광 가변형 소자가 제조될 수 있으며, 이러한 편광 가변형 소자는, 예를 들면 스마트 윈도우 등에 적용될 수 있다.The present application also relates to a method of manufacturing a polarization variable element. According to the method for manufacturing a polarization variable element according to the present application, a polarization variable element capable of selectively implementing a normal blocking mode and a polarization mode can be manufactured depending on whether an external electric field is applied. Such a polarization variable element is, for example, Window or the like.
즉, 본 출원은 제 1 기판 상에 형성되어 있고, 금속선이 형성되어 있는 제 1 영역 및 상기 제 1 영역 이외에 형성되어 있는 제 2 영역을 포함하는 편광 분리층의 상기 제 2 영역에 도전성 광 차단 입자을 위치시키는 단계를 포함하고, 외부 전계의 인가 여부에 따라 통상 차단 모드 또는 편광 모드를 구현하는 편광 가변형 소자의 제조방법에 대한 것이다.That is, the present application is directed to a light-emitting device comprising a first substrate, a first substrate on which a metal line is formed, and a second region of the polarization separation layer including a second region other than the first region, And a method of manufacturing a polarization variable element which realizes a normally cutoff mode or a polarization mode depending on whether an external electric field is applied or not.
본 출원에 따른 편광 가변형 소자의 제조방법은, 편광 분리층의 금속선이 형성되어 있지 않은 제 2 영역에 도전성 광 차단 입자를 위치시키는 단계를 포함함으로써, 외부 전계의 인가 여부에 따라 통상 차단 모드 또는 편광 모드를 구현할 수 있다.The method of manufacturing a polarization variable element according to the present application includes the step of positioning a conductive light blocking particle in a second region of the polarization separation layer where a metal line is not formed, Mode can be implemented.
상기 도전성 광 차단 입자를 편광 분리층의 제 2 영역에 위치시키는 방법은, 예를 들면 제 1 기판 상에 금속선을 형성한 후, 상기 금속선이 형성되어 있지 않은 영역에 도전성 광 차단 입자를 포함하는 용액을 위치시키는 것을 포함할 수 있다.The method of positioning the conductive light blocking particles in the second region of the polarized light separating layer includes, for example, forming a metal line on the first substrate and then forming a solution containing the conductive light blocking particles in a region where the metal line is not formed Lt; / RTI >
다른 예시에서, 상기 도전성 광 차단 입자를 편광 분리층의 제 2 영역에 위치시키는 방법은, 제 1 기판 상에 금속선을 형성하고, 제 2 기판 상에 전극층을 형성한 후, 상기 제 1 기판 및 제 2 기판을 합지한 상태에서 도전성 광 차단 입자를 포함하는 용액을 주입하는 것을 포함할 수 있다.In another example, a method of positioning the conductive light blocking particles in the second region of the polarization splitting layer includes forming a metal line on the first substrate, forming an electrode layer on the second substrate, 2 substrate with the conductive light blocking particles in a state of being joined together.
상기 도전성 광 차단 입자를 포함하는 용액 내 도전성 광 차단 입자의 함량은, 예를 들면 0.5wt% 내지 30wt%의 범위 내에 있을 수 있다. The content of the conductive light blocking particles in the solution containing the conductive light blocking particles may be, for example, in the range of 0.5 wt% to 30 wt%.
다른 예시에서, 도전성 광 차단 입자를 포함하는 용액 내 도전성 광 차단 입자의 함량은, 예를 들면 0.5wt% 내지 25wt% 또는 0.5wt% 내지 20wt%의 범위 내에 있을 수 있다. In another example, the content of the conductive light blocking particles in the solution containing the conductive light blocking particles may be, for example, in the range of 0.5 wt% to 25 wt% or 0.5 wt% to 20 wt%.
본 출원에 따른 편광 가변형 소자의 제조방법은 편광 분리층이 형성되어 있는 제 1 기판과 전극층이 형성되어 있는 제 2 기판을 합지하는 단계를 더 포함할 수 있다. The method of manufacturing a polarization-variable element according to the present application may further comprise the step of joining a first substrate on which a polarization separation layer is formed and a second substrate on which an electrode layer is formed.
상기 합지하는 단계는 편광 분리층의 제 2 영역에 도전성 광 차단 입자를 위치시키기 전 또는 위치시킨 후에 수행될 수 있다. The laminating step may be performed before or after placing the conductive light blocking particles in the second region of the polarized light separating layer.
또한, 상기 합지하는 단계 이전에 제 1 기판 상에 금속선을 형성하여, 금속선을 포함하는 제 1 영역 및 상기 제 1 영역 이외에 형성되어 있는 제 2 영역을 포함하는 편광 분리층을 형성하는 단계 또는 제 2 기판 상에 전극층을 형성하는 단계 등이 수행될 수 있다. Forming a metal line on the first substrate before the lapping step to form a polarized light separation layer including a first region including a metal line and a second region formed in addition to the first region, Forming an electrode layer on the substrate, and so on.
상기 제 1 기판 상에 편광 분리 특성을 가지는 금속선을 형성하는 방법은 공지이며, 예를 들면 국제 공개 특허 공보 WO2013-095062 등에 개시되어 있는 방법은 제한 없이 이용할 수 있다. A method of forming a metal line having a polarization separating characteristic on the first substrate is known, and for example, a method disclosed in International Publication No. WO2013-095062 can be used without limitation.
상기와 같은 단계를 거치는 경우, 제 2 영역에 도전성 광 차단 입자가 위치할 수 있다. 또한 상기와 같이, 제 2 영역에 도전성 광 차단 입자를 위치시키는 경우, 편광 가변형 소자는 통상 차단 모드와 편광 모드를 선택적으로 구현할 수 있다. When the above steps are performed, the conductive light blocking particles may be located in the second region. In addition, when the conductive light blocking particles are positioned in the second region as described above, the polarization variable element can selectively implement the blocking mode and the polarization mode.
보다 구체적으로, 외부 전계가 인가되지 않는 경우 제 2 영역에 도전성 광 차단 입자는 그 자체의 척력으로 제 2 영역 내에서 분산되어 있을 수 있고, 상기 광 차단 입자의 광 차단 특성에 기인하여, 편광 가변형 소자를 투과하는 광을 차단함으로써, 편광 가변형 소자의 통상 차단 모드가 구현될 수 있다.More specifically, in the case where an external electric field is not applied, the conductive light blocking particles may be dispersed in the second region by the repulsive force of the second region, and due to the light blocking property of the light blocking particles, By blocking light transmitted through the device, a normal blocking mode of the polarization variable element can be realized.
또한, 전극층 및 금속선을 매개로 외부 전계가 인가되는 경우, 상기 도전성 광 차단 입자는 금속선 부근으로 이동하여, 금속선 사이의 피치가 실질적으로 작아지는 것과 동일한 효과를 구현할 수 있으며, 이로 인해 편광 가변형 소자의 편광 모드가 구현될 수 있다. In addition, when an external electric field is applied via the electrode layer and the metal line, the conductive light blocking particles move to the vicinity of the metal line, and the same effect as that in which the pitch between the metal lines is substantially reduced can be realized. A polarization mode can be realized.
하나의 예시에서, 상기와 같은 방법에 따라 제조된 편광 가변형 소자는 외부 전계가 10V 내지 100V의 범위 내로 인가되는 경우, 하기 수식 2로 계산되는 편광도가 0.50 내지 0.98의 범위 내에 있을 수 있다. In one example, when the external electric field is applied within a range of 10 V to 100 V, the polarization variable element produced according to the above method may have a polarization degree calculated by the following formula 2 within the range of 0.50 to 0.98.
[수식 2][Equation 2]
D2 = (Tc2-Tp2)/(Tc2+Tp2)D 2 = (Tc 2 -Tp 2 ) / (Tc 2 + Tp 2 )
상기 수식 2에서 Tc2는 금속선과 직교하는 방향으로 편광된 400 nm 이상의 파장의 광의 상기 편광 가변형 소자에 대한 투과도이고, Tp2는 상기 금속선과 평행한 방향으로 편광된 400 nm 이상의 파장의 광의 상기 편광 가변형 소자에 대한 투과도이다.Tc 2 is the transmittance of the light having a wavelength of 400 nm or more polarized in a direction orthogonal to the metal line to the polarization variable element and Tp 2 is the transmittance of the light having a wavelength of 400 nm or more polarized in the direction parallel to the metal line, And the transmittance for the variable element.
본 출원에 따른 편광 가변형 소자의 제조방법은 또한, 제 1 기판과 제 2 기판을 합지 한 후, 측면을 실링하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.The method of manufacturing a polarization variable element according to the present application may further include the step of sealing the side surface after laminating the first substrate and the second substrate.
본 출원은 또한, 편광 가변형 소자의 용도, 예를 들면 편광 가변형 소자를 포함하는 스마트 윈도우에 대한 것이다. The present application is also directed to the use of a polarization variable element, for example a smart window comprising a polarization variable element.
본 출원에 따른 편광 가변형 소자 외부 전계의 인가 여부에 따라, 목적하는 파장 대역의 광을 편광 분리할 수 있다.The light of a desired wavelength band can be polarized and separated according to whether or not the external light-receiving element of the polarization-changing element according to the present application is applied.
특히, 본 출원에 따른 편광 가변형 소자는 복합한 편광 분리층의 설계 공정 없이 단순히 전계의 인가를 통해, 가시광 대역 파장 이상의 광을 선택적으로 편광 분리할 수 있다. In particular, the polarization variable element according to the present application can selectively polarize and split light having a wavelength in the visible light band through application of an electric field without designing a complex polarization separation layer.
도 1은 본 출원에 따른 편광 가변형 소자의 구조를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 출원에 따른 편광 분리층 내 금속선의 피치, 높이 및 선폭을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은, 구동 전압 20V에서의 광 가변형 소자의 현미경 사진을 도시한 것이다.
도 4는, 구동 전압 40V에서의 광 가변형 소자의 현미경 사진을 도시한 것이다. BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a diagram showing a structure of a polarization variable element according to the present application. FIG.
2 is a view for explaining the pitch, the height and the line width of the metal lines in the polarization separation layer according to the present application.
3 shows a photomicrograph of a light-variable element at a driving voltage of 20V.
Fig. 4 shows a photomicrograph of a light-variable element at a driving voltage of 40V.
이하, 본 출원에 따른 편광 가변형 소자에 대하여, 실시예 및 비교예를 들어 보다 구체적으로 설명하나 하기 예시는 본 출원에 따른 일례에 불과할 뿐, 본 출원의 기술적 사상을 제한하는 것이 아님은 이 기술분야의 통상의 지식을 가진 사람에게 자명하다.Hereinafter, the polarization variable element according to the present application will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the following examples are only examples according to the present application, and the technical idea of the present application is not limited. To those of ordinary skill in the art.
실시예Example 1 - 편광 가변형 소자의 제조 1 - Fabrication of polarization-variable device
ITO가 증착된 PET 기재와 알루미늄 전극선이 약 5㎛ 피치를 가지고 형성되어 있는 석영 기재를 합지시키고, 상기 두 기재 사이에 표면이 음전하를 띄는 카본 블랙 입자를 포함하는 용액(용매 : Isopar G, 카본 블랙 입자 함량 : 3.5 wt%)을 주입한 후 측면을 실런트로 밀봉하여, 도 1과 같은 구조의 편광 가변형 소자를 제조하였다. 편광 가변형 소자 내 알루미늄 전극선의 높이는 1㎛이고, 폭은 50nm이다. A PET substrate on which ITO was deposited and a quartz substrate on which an aluminum electrode line was formed with a pitch of about 5 mu m were laminated and a solution (carbon black: Isopar G, carbon black) containing carbon black particles whose surfaces were negatively charged Particle content: 3.5 wt%) was injected, and the side was sealed with a sealant to prepare a polarization variable element having the structure as shown in Fig. The height of the aluminum electrode line in the polarization variable element is 1 mu m and the width is 50 nm.
실험예Experimental Example 1. 구동 전압에 따른 편광 가변형 소자의 현미경 사진 1. Microphotograph of the polarization-variable device according to driving voltage
실시예 1에 따른 편광 가변형 소자의 구동 전압에 따라, 도전성 광 차단 입자가 금속선 주위로 몰려드는지 여부를 관찰하기 위하여, 각각 20V 및 40V에서의 현미경 이미지를 측정하였고, 그 결과를 도 3 및 도 4에 도시하였다. In order to observe whether or not the conductive light blocking particles were gathered around the metal line according to the driving voltage of the polarization variable element according to Example 1, microscope images at 20 V and 40 V were measured respectively, and the results are shown in Figs. 3 and 4 Respectively.
도 3 및 4에 도시된 바와 같이, 구동 전압에 증가할수록, 금속선 주위로 음전하를 띄는 카본블랙 입자가 모여드는 것을 확인할 수 있어, 전압이 증가함에 따라, 금속선의 피치 값이 줄어드는 것과 실질적으로 동일한 효과를 달성할 수 있음을 확인할 수 있었다. As shown in FIGS. 3 and 4, as the driving voltage is increased, it is confirmed that the carbon black particles having negative charges are gathered around the metal line, and as the voltage increases, substantially the same effect as the pitch value of the metal line decreases Can be achieved.
100 : 제 1 기판
200 : 편광 분리층
201 : 제 1 영역
202 : 제 2 영역
300 : 제 2 기판100: first substrate
200: polarization separating layer
201: first region
202: second region
300: second substrate
Claims (15)
상기 제 1 기판 및 제 2 기판 사이에 존재하고, 1㎛ 내지 100㎛의 피치를 가지며 배치되어 있는 금속선을 포함하는 제 1 영역 및 도전성 광 차단 입자를 포함하는 제 2 영역을 포함하는 편광 분리층을 포함하고, 외부 전계의 인가 여부에 따라 통상 차단 모드 또는 편광 모드를 구현하는 편광 가변형 소자.A first substrate and a second substrate; And
A polarized light separating layer disposed between the first substrate and the second substrate and including a first region including a metal line disposed at a pitch of 1 탆 to 100 탆 and a second region including conductive light blocking particles, , And which implements a normal blocking mode or a polarization mode depending on whether an external electric field is applied or not.
금속선의 피치는 1㎛ 내지 50㎛의 범위 내에 있는 편광 가변형 소자.The method according to claim 1,
And the pitch of the metal wire is in the range of 1 占 퐉 to 50 占 퐉.
금속선의 선폭은 10nm 내지 2,000nm의 범위 내에 있는 편광 가변형 소자.The method according to claim 1,
Wherein the line width of the metal line is in the range of 10 nm to 2,000 nm.
금속선은 알루미늄, 구리, 크롬, 백금, 금, 은, 니켈 및 이들의 합금으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 금속을 포함하는 편광 가변형 소자.The method according to claim 1,
Wherein the metal line comprises any one metal selected from the group consisting of aluminum, copper, chromium, platinum, gold, silver, nickel, and alloys thereof.
도전성 광 차단 입자는 도전성 카본 블랙, 그라파이트 또는 탄소 나노 튜브인 편광 가변형 소자.The method according to claim 1,
Wherein the conductive light blocking particles are conductive carbon black, graphite or carbon nanotubes.
도전성 광 차단 입자는 입경이 1㎛ 이하인 편광 가변형 소자.The method according to claim 1,
Wherein the conductive light blocking particles have a particle diameter of 1 占 퐉 or less.
도전성 광 차단 입자는 편광 분리층 내 제 2 영역의 전체 부피 대비 0.1% 내지 30%의 부피 비율을 차지할 수 있는 양으로 제 2 영역 내에 존재하는 편광 가변형 소자.The method according to claim 1,
Wherein the conductive light blocking particles are present in the second region in an amount that can occupy a volume ratio of 0.1% to 30% of the total volume of the second region in the polarization separation layer.
제 2 영역은 도전성 광 차단 입자를 분산시키기 위한 분산매를 추가로 포함하는 편광 가변형 소자.The method according to claim 1,
And the second region further comprises a dispersion medium for dispersing the conductive light blocking particles.
제 1 기판 및 제 2 기판 사이에 존재하는 전극층을 추가로 포함하고, 상기 전극층은 편광 분리층가 접하고 있는 편광 가변형 소자. The method according to claim 1,
Further comprising an electrode layer existing between the first substrate and the second substrate, wherein the electrode layer is in contact with the polarization separation layer.
전극층은 전도성 고분자, 전도성 금속, 전도성 나노와이어 또는 ITO(Indium Tin Oxide)를 포함하는 증착층인 편광 가변형 소자.10. The method of claim 9,
The electrode layer is a deposition layer comprising a conductive polymer, a conductive metal, a conductive nanowire, or ITO (Indium Tin Oxide).
외부 전계가 10V 내지 100V의 범위 내로 인가되는 경우, 하기 수식 2로 계산되는 편광도가 0.50 내지 0.98의 범위 내에 있는 편광 가변형 소자:
[수식 2]
D2 = (Tc2-Tp2)/(Tc2+Tp2)
상기 수식 1에서 Tc2는 금속선과 직교하는 방향으로 편광된 400 nm 이상의 파장의 광의 상기 편광 가변형 소자에 대한 투과도이고, Tp2는 상기 금속선과 평행한 방향으로 편광된 400 nm 이상의 파장의 광의 상기 편광 가변형 소자에 대한 투과도이다.The method according to claim 1,
Wherein a polarization degree calculated by the following formula 2 is within a range of 0.50 to 0.98 when an external electric field is applied within a range of 10 V to 100 V:
[Equation 2]
D 2 = (Tc 2 -Tp 2 ) / (Tc 2 + Tp 2 )
Wherein Tc 2 is the transmittance of the light having a wavelength of 400 nm or more polarized in a direction orthogonal to the metal line to the polarization variable element and Tp 2 is the transmittance of the light having a wavelength of 400 nm or more polarized in a direction parallel to the metal line, And the transmittance for the variable element.
편광 분리층이 형성되어 있는 제 1 기판과 전극층이 형성되어 있는 제 2 기판을 합지하는 단계를 포함하는 편광 가변형 소자의 제조방법.13. The method of claim 12,
And joining a first substrate on which a polarization separation layer is formed and a second substrate on which an electrode layer is formed.
외부 전계가 10V 내지 100V의 범위 내로 인가되는 경우, 하기 수식 2로 계산되는 편광도가 0.50 내지 0.98의 범위 내에 있는 편광 가변형 소자의 제조방법:
[수식 2]
D2 = (Tc2-Tp2)/(Tc2+Tp2)
상기 수식 1에서 Tc2는 금속선과 직교하는 방향으로 편광된 400 nm 이상의 파장의 광의 상기 편광 가변형 소자에 대한 투과도이고, Tp2는 상기 금속선과 평행한 방향으로 편광된 400 nm 이상의 파장의 광의 상기 편광 가변형 소자에 대한 투과도이다.13. The method of claim 12,
Wherein a polarization degree calculated by the following formula 2 is within a range of 0.50 to 0.98 when an external electric field is applied within a range of 10 V to 100 V:
[Equation 2]
D 2 = (Tc 2 -Tp 2 ) / (Tc 2 + Tp 2 )
Wherein Tc 2 is the transmittance of the light having a wavelength of 400 nm or more polarized in a direction orthogonal to the metal line to the polarization variable element and Tp 2 is the transmittance of the light having a wavelength of 400 nm or more polarized in a direction parallel to the metal line, And the transmittance for the variable element.
A smart window comprising the polarization variable element of claim 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020160106921A KR102056097B1 (en) | 2016-08-23 | 2016-08-23 | polarizing variable device and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020160106921A KR102056097B1 (en) | 2016-08-23 | 2016-08-23 | polarizing variable device and manufacturing method thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20180022074A true KR20180022074A (en) | 2018-03-06 |
KR102056097B1 KR102056097B1 (en) | 2020-01-22 |
Family
ID=61727346
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020160106921A KR102056097B1 (en) | 2016-08-23 | 2016-08-23 | polarizing variable device and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102056097B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3936909A1 (en) * | 2020-07-10 | 2022-01-12 | Facebook Technologies, LLC | Switchable dimming element and switchable polarizer |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020035587A (en) | 1999-09-07 | 2002-05-11 | 추후보정 | Improved wire-grid polarizing beam splitter |
JP2003533736A (en) * | 2000-05-16 | 2003-11-11 | ザ ユニバーシティ オブ ロチェスター | Electrically switchable polymer liquid crystals and polymer birefringent flakes in liquid host systems and optical devices utilizing the same |
JP2013033074A (en) * | 2011-08-01 | 2013-02-14 | Hitachi Chem Co Ltd | Suspension particle device, dimmer using suspension particle device, and drive method of the same |
-
2016
- 2016-08-23 KR KR1020160106921A patent/KR102056097B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020035587A (en) | 1999-09-07 | 2002-05-11 | 추후보정 | Improved wire-grid polarizing beam splitter |
JP2003533736A (en) * | 2000-05-16 | 2003-11-11 | ザ ユニバーシティ オブ ロチェスター | Electrically switchable polymer liquid crystals and polymer birefringent flakes in liquid host systems and optical devices utilizing the same |
JP2013033074A (en) * | 2011-08-01 | 2013-02-14 | Hitachi Chem Co Ltd | Suspension particle device, dimmer using suspension particle device, and drive method of the same |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3936909A1 (en) * | 2020-07-10 | 2022-01-12 | Facebook Technologies, LLC | Switchable dimming element and switchable polarizer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102056097B1 (en) | 2020-01-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103472578B (en) | Electrowetting display device and its manufacture method | |
CN102792247B (en) | Transparent conductive element, input media and display device | |
JP2018092937A (en) | Transparent conductor | |
US7576905B2 (en) | Electrostatically-controlled diffraction gratings using ionic electrophoresis | |
DE102015209064A1 (en) | Touch screen, method of making same, and display device | |
TW201230072A (en) | Grid and nanostructure transparent conductor for low sheet resistance applications | |
KR101672392B1 (en) | Apparatus for displaying photonic crystal | |
KR20140016292A (en) | Transparent electroconductive film, heater, touch panel, solar cell, organic el device, liquid crystal device, and electrical paper | |
CN107710119B (en) | Touch sensor with circular polarizing plate and image display device | |
CN103616787B (en) | Liquid crystal lens and stereo display device with same | |
US20140353003A1 (en) | Touch-screen conductive film and manufacturing method thereof | |
KR101477291B1 (en) | Transparent electrode and a production method therefor | |
TWI601162B (en) | Conductive films having low-visibility patterns and methods of producing the same | |
CN102645814B (en) | Liquid crystal lens and manufacturing and using methods thereof as well as optoelectronic device | |
KR20180010485A (en) | A Device having changeable transparency and a Smart Window | |
JP2014044839A (en) | Transparent electrode, method for producing conductive transparent thin film, and conductive transparent thin film | |
TWI508108B (en) | Nano-silver conductive films and touch panel using the same | |
CN104156110B (en) | Display device with touch function and preparation method thereof, display device | |
KR20180022074A (en) | polarizing variable device and manufacturing method thereof | |
TWI452396B (en) | An optical device with controllable voltage and the forming method thereof | |
JP2014513845A (en) | Conductive component and preparation method thereof | |
JP5701450B2 (en) | Conductive component and preparation method thereof | |
KR20160034121A (en) | Manufacturing method for transparent conductive substrate, transparent conductive substrate and touch panel using nanowires | |
KR20160034120A (en) | Manufacturing method for transparent conductive substrate, transparent conductive substrate and touch panel using nanowires | |
KR20050069535A (en) | Smart window using polymer dispersed liquid crystal |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |