KR20160034121A - Manufacturing method for transparent conductive substrate, transparent conductive substrate and touch panel using nanowires - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 금속 나노와이어를 이용하여 도전성 패턴이 형성된 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a transparent electrode substrate on which conductive patterns are formed by using metal nanowires, and a transparent electrode substrate and a touch panel using the same.
최근 은나노와이어(Ag Nano Wire or Siver Nano Wire)는 기존 ITO(Indium doped Tin Oxide)가 극복하지 못하는 저저항 및 고투과도를 갖는 유연터치패널 등의 영역에서 ITO 대비 경쟁력을 보이며, ITO를 대체하는 투명 전극 재료로 적극 개발, 상용화되고 있다.In recent years, Ag Nano Wire or Siver Nano Wire has shown a competitive edge compared to ITO in areas such as flexible touch panels with low resistance and high transmittance that can not be overcome by conventional indium-doped tin oxide (ITO) It has been actively developed and commercialized as an electrode material.
일반적으로, 나노와이어를 이용한 투명 전극은, 도 1과 같이 투명한 기판 상에 도전층(1)과 보호층(2)을 순차적으로 코팅한 후 보호필름(3)을 부착하여 투명 전극 필름 형태로 판매된다.In general, a transparent electrode using nanowires is formed by sequentially coating a
구체적으로, 은나노와이어와 분산과 점도를 효과적으로 맞추기 위한 고분자 바인더(Binder) 및 기타 첨가제를 물이나 알코올 계통용매에서 적절히 분산시켜 기판에 습식 코팅(Wet Coating)을 진행하며, 두께 150nm 전후의 도전층을 형성한다. 이때 코팅은 통상적으로 슬롯다이(Slot Die) 코팅 또는 마이크로 그라비어(Micro Gravure) 코팅 등을 사용한다.Specifically, a polymer binder and other additives for appropriately dispersing and viscosity of the silver nanowire are appropriately dispersed in a water or alcohol solvent, wet coating is performed on the substrate, and a conductive layer having a thickness of about 150 nm is formed . In this case, a coating such as a slot die coating or a micro gravure coating is usually used.
이때, 도전층은 은나노와이어가 포함된 액상의 약액(Chemical)으로 코팅을 한 후 큐어링(Curing) 공정을 거치는데, 이때 기본 용매와 같은 액상의 재료는 증발되고 은나노와이어가 표면에 노출되는데 이는 필름을 권취할 때 배면과의 접촉 및 슬립(Slip)으로 인한 스크래치를 유발하며, 노출시 은나노와이어의 산화를 촉진한다At this time, the conductive layer is coated with a liquid chemical containing silver nano wire, and then subjected to a curing process. At this time, the liquid material such as the basic solvent evaporates and the silver nano wire is exposed on the surface. It causes contact with the back surface and scratches due to slip when the film is wound, and promotes oxidation of the silver wire upon exposure
이를 방지하기 위해 노출된 은나노와이어 위에 보호층으로서의 자외선 경화형 오버 코팅(Over Coating)층을 형성하여 은나노와이어의 표면 노출을 최대한 억제한다.In order to prevent this, an overcoating layer as an ultraviolet ray curing type is formed on the exposed silver wire to minimize the surface exposure of the silver wire.
위와 같은 방법으로 제작된 투명 전극 필름은 산화와 스크래치 등으로부터 도전층을 보호하기 위해 PE와 같은 보호 필름을 부착한다.The transparent electrode film manufactured by the above method is attached with a protective film such as PE to protect the conductive layer from oxidation and scratch.
위와 같이 제작된 투명 전극 필름은, 보호필름을 제거한 후 포토 레지스트를 도포한 후 레이저(건식), 케미칼(습식) 공정을 이용하여 패터닝 공정을 진행하여 도전성 패턴을 형성한다. 도전성 패턴이 형성된 투명 전극 기판은, PDP(플라즈마 디스플레이 판넬), 광학필터, 전자차폐제, 유기발광다이오드(OLED), 태양전지, LCD(liquid crystal display), 터치스크린, 휴대폰용 EL 키패드 등 전기, 자기, 광학 소자 및 센서 등에 광범위하게 적용할 수 있다.After the protective film is removed, a photoresist is coated on the transparent electrode film, and a conductive pattern is formed by performing a patterning process using a laser (dry) process or a chemical (wet) process. The transparent electrode substrate on which the conductive pattern is formed can be used as a transparent electrode substrate in a variety of fields such as a PDP (plasma display panel), an optical filter, an electromagnetic shielding material, an organic light emitting diode (OLED), a solar cell, a liquid crystal display , Optical elements, and sensors.
그러나 위와 같은 종래의 방법으로 도전성 패턴이 형성된 투명 전극 기판을 제조하는 경우, 보호필름 부착을 위해 별도의 공정이 필요하며, 패턴 형성을 위해서는 다시 보호필름을 제거하는 공정이 요구되어 제조 단가의 상승 요인이 될 뿐만 아니라, 제조 시간이 많이 소요된다는 문제점이 있었다.However, in the case of manufacturing a transparent electrode substrate having a conductive pattern formed by the above-described conventional method, a separate process is required for attaching a protective film. In order to form a pattern, a process for removing the protective film is required again, But also requires a long manufacturing time.
또한 보호필름 제거 후 포토 레지스트를 이용한 식각 공정이 요구되므로, 그에 따라 공정시간이 지연되고 식각액 처리를 위한 비용이 추가적으로 소요된다는 문제점이 있었다.Further, since the etching process using the photoresist is required after removing the protective film, there is a problem that the process time is delayed and the cost for the etching process is additionally required.
한편, 도전성 패턴이 형성된 투명 전극 기판을 터치패널에 적용하는 경우, 그 구조와 방식에 따라 투명광학 접착제(OCA) 또는 투명광학 레진(OCR)를 통해 라미네이션(Lamination)되며 최종적으로 커버 윈도우와 결합된다.On the other hand, when a transparent electrode substrate having a conductive pattern is applied to a touch panel, it is laminated through a transparent optical adhesive (OCA) or a transparent optical resin (OCR) according to its structure and method, .
정전용량 방식의 터치패널은 통상적으로 각 센서채널에 전압이 인가되어 센서구동을 수행하게 되는데, 은나노와이어를 이용한 정전용량 터치패널의 경우, 습기, 자외선 및 내부 전압에 의해 은나노와이어의 산화 또는 마이그레이션(Migration)이 촉진되어 채널간 전기적 단락(Short)이나 절연파괴의 원인이 되었다. 또한 은나노와이어가 포함된 전극은 정전기에 매우 취약하다는 문제점이 있었다.In a capacitive touch panel, voltage is applied to each sensor channel to drive a sensor. In the case of a capacitive touch panel using silver nano wire, oxidation or migration of silver nano wire by moisture, ultraviolet rays, and internal voltage Migration has been promoted to cause electrical short or dielectric breakdown between channels. In addition, there is a problem that the electrode including the silver nano wire is very vulnerable to static electricity.
특히 은나노와이어를 이용하여 모바일 기기로 사용되는 정전용량 터치패널은 에지부에서 특히 신뢰성이 낮다는 치명적인 문제점이 있었다.Particularly, the capacitive touch panel used as a mobile device using silver nano wire has a fatal problem that the reliability is particularly low at the edge portion.
상술한 배경 기술 상의 문제를 해결하기 위한 본 발명의 목적은 건식 또는 습식 시각에 의한 패턴 형성 공정이 필요없는 도전성 패턴이 형성된 필름 형태의 투명 전극 기판 제조방법을 제공함에 있다.An object of the present invention to solve the above-described problems of the background art is to provide a method of manufacturing a transparent electrode substrate in the form of a film on which a conductive pattern is formed which does not require a pattern formation step by dry or wet visual observation.
또한 본 발명은, 습기, 자외선, 정전기 및 장치의 내부 전압으로부터 신뢰성을 유지할 수 있는 투명 전극 기판 제조방법을 제공함에 다른 목적이 있다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a transparent electrode substrate capable of maintaining reliability from moisture, ultraviolet rays, static electricity, and internal voltages of the apparatus.
또한 본 발명은, 투명 전극 기판의 시인성을 향상시키는 것을 목적으로 하고 있다.The present invention also aims to improve the visibility of the transparent electrode substrate.
또한 본 발명은, 상술한 투명 전극 기판 제조방법을 이용하여 투명 전극 및 이를 이용한 터치패널을 제공함에 또 다른 목적이 있다.Another object of the present invention is to provide a transparent electrode and a touch panel using the transparent electrode by using the above-described method of manufacturing a transparent electrode substrate.
상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 투명 전극 기판 제조방법은, 금속 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법에 있어서, 기판 상에 금속 나노와이어를 포함하는 도전층을 형성하는 도전층 형성 단계; 상기 도전층 상에 자외선 경화형 보호층을 선택적으로 형성하는 보호층 패턴 형성 단계; 자외선을 조사하여 상기 보호층을 경화시키는 경화 단계; 및 상기 보호층이 형성되지 않은 도전층을 세정하여 도전층 패턴을 형성하는 도전층 패턴 형성 단계; 를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a transparent electrode substrate using metal nanowires, the method including: forming a conductive layer including metal nanowires on a substrate; A protective layer pattern forming step of selectively forming an ultraviolet curable protective layer on the conductive layer; A curing step of curing the protective layer by irradiating ultraviolet rays; And forming a conductive layer pattern by cleaning the conductive layer in which the protective layer is not formed; .
바람직하게, 상기 금속은, 은(Ag)이다.Preferably, the metal is silver (Ag).
바람직하게, 상기 도전층 또는 상기 보호층은, 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 더 포함한다.Preferably, the conductive layer or the protective layer further comprises at least one of an ultraviolet screening agent and a UV stabilizer.
바람직하게, 상기 도전층 또는 상기 보호층은, 도전성의 정전기 방지제를 더 포함한다. 이때, 상기 정전기 방지제는, 탄소나노튜브, 환원된 그래핀 옥사이드, 전도성 고분자 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물이다.Preferably, the conductive layer or the protective layer further comprises a conductive antistatic agent. At this time, the antistatic agent is any one or a mixture of two or more of carbon nanotubes, reduced graphene oxide, and conductive polymer.
바람직하게, 상기 도전층 형성 단계 이후에, 상기 도전층에 열을 공급하거나 빛을 조사하는 큐어링 단계; 를 더 포함한다.Preferably, the method may further include: a curing step of supplying heat or irradiating light to the conductive layer after the conductive layer forming step; .
바람직하게, 상기 보호층 패턴 형성 단계는, 스크린 프린팅 방법으로 상기 보호층 패턴을 형성한다.Preferably, the protective layer pattern forming step forms the protective layer pattern by a screen printing method.
바람직하게, 상기 도전층 패턴 형성 단계는, 탈이온수 또는 약알칼리 세정액으로 세정한다.Preferably, the conductive layer pattern forming step is performed with deionized water or weakly alkaline cleaning liquid.
바람직하게, 상기 도전층 패턴 형성 단계 이후에, 상기 도전성 패턴이 형성된 기판 상에 배선전극층을 선택적으로 형성하는 배선전극층 형성 단계; 를 더 포함한다. 이때, 상기 배선전극층은, 은 페이스트를 포함한다.Preferably, a wiring electrode layer forming step of forming a wiring electrode layer on the substrate on which the conductive pattern is formed, after the forming of the conductive layer pattern; . At this time, the wiring electrode layer includes a silver paste.
바람직하게, 상기 배선전극층 형성 단계 이후에, 상기 배선전극층이 형성된 기판 상에 절연층을 형성하는 절연층 형성 단계; 를 더 포함한다. 이때, 상기 절연층은, 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 포함한다.Forming an insulating layer on the substrate on which the wiring electrode layer is formed after the wiring electrode layer forming step; . At this time, the insulating layer includes at least one of an ultraviolet screening agent and a UV stabilizer.
바람직하게, 상기 자외선 차단 물질은, TiO2, WO3, ZnO, CeO, SiC, SnO2 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물이며, 상기 자외선 안정제는, 벤조페논계(Benzophenone), 벤조트라이졸계(Benzotriazole), 포스파이트(Phosphite)계, 페놀(Phenol)계 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물이다.Preferably, the ultraviolet shielding material is at least one selected from the group consisting of TiO 2 , WO 3 , ZnO, CeO 2 , SiC and SnO 2 , and the UV stabilizer is selected from the group consisting of benzophenone, benzotriazole, , A phosphite-based compound, and a phenol-based compound, or a mixture of two or more thereof.
바람직하게, 상기 절연층은, 상기 도전층과 상기 보호층 간의 인덱스 매칭 물질을 포함한다. 이때, 상기 절연층은, 평탄하게 형성된 것을 특징으로 한다.Preferably, the insulating layer includes an index matching material between the conductive layer and the protective layer. At this time, the insulating layer is formed to be flat.
본 발명의 다른 측면에 해당하는 투명 전극 기판은 상술한 투명 제조 방법에 의하여 제조되는 것을 특징으로 한다.The transparent electrode substrate according to another aspect of the present invention is manufactured by the above-described transparent manufacturing method.
본 발명의 다른 과제를 해결하기 위한 본 발명의 터치패널은, 투명 전극 기판을 이용한 터치패널에 있어서, 하부 투명 전극 기판; 상기 하부 투명 전극 기판과 투명 윈도우 사이에 배치되는 상부 투명 전극 기판; 상기 하부 투명 전극 기판과 상기 상부 투명 전극 기판을 결합하는 제1 접착층; 및 상기 상부 투명 전극 기판과 투명 윈도우를 결합하는 제2 접착층; 을 포함하고, 상기 상, 하부 투명 전극 기판 중 적어도 어느 하나는 상술한 투명 전극 기판으로 이루어진다.According to another aspect of the present invention, there is provided a touch panel using a transparent electrode substrate, comprising: a lower transparent electrode substrate; An upper transparent electrode substrate disposed between the lower transparent electrode substrate and the transparent window; A first adhesive layer for bonding the lower transparent electrode substrate and the upper transparent electrode substrate; And a second adhesive layer for joining the upper transparent electrode substrate and the transparent window; And at least one of the upper and lower transparent electrode substrates comprises the above-described transparent electrode substrate.
바람직하게, 상기 제1, 제2 접착층 중 적어도 어느 하나는 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 포함한다.Preferably, at least one of the first and second adhesive layers includes at least one of an ultraviolet screening agent and a UV stabilizer.
본 발명에 의하면, 투명 전극 기판 제조에 있어서 도전층 상부에 광경화성 보호층 패턴을 형성한 후 경화시켜 도전성 패턴을 형성할 수 있어 별도의 포토 레지스트 도포와 스트립 공정이 생략되어 공정 단순화를 도모할 수 있고 생산성을 향상할 수 있다.According to the present invention, in the production of a transparent electrode substrate, a photocurable protective layer pattern is formed on a conductive layer and then cured to form a conductive pattern, thereby omitting a separate photoresist application and strip process, And productivity can be improved.
또한 본 발명은 도전성 패턴이 형성된 투명 전극 기판을 하나의 부품으로 패키지화함으로써 투명 전극이 요구되는 터치패널을 비롯한 많은 전자부품에 활용이 가능하다.In addition, the present invention can be applied to many electronic components including a touch panel requiring a transparent electrode by forming a transparent electrode substrate having a conductive pattern formed thereon as a single component.
또한 본 발명은 도전층, 보호층 및 절연층 중 어느 하나에 자외선 차단제 및/또는 자외선 안정제를 포함하여 자외선에 의한 나노와이어의 도전성 네트워크 손상을 방지하여 신뢰성을 높일 수 있다.In addition, the present invention can prevent damage to the conductive network of nanowires caused by ultraviolet rays by including an ultraviolet screening agent and / or a UV stabilizer in any one of the conductive layer, the protective layer and the insulating layer, thereby enhancing reliability.
또한 본 발명은 도전층 또는 보호층에 도전성의 정전기 방지제를 포함하여 정전기로부터 나노와이어의 네트워크 손상을 방지할 수 있다.The present invention also includes a conductive antistatic agent in the conductive layer or the protective layer to prevent network damage of the nanowire from static electricity.
또한 본 발명은 절연층에 인덱스 매칭 물질을 포함하여 시인성을 향상시킬 수 있다.Further, the present invention can improve the visibility by including an index matching material in the insulating layer.
도 1은 종래의 필름 형태의 투명 전극 기판의 구성도.
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 공정 순서를 나타낸 플로차트.
도 3 내지 7은 본 발명의 실시예에 의한 제조 공정 순서에 따른 투명 전극 기판의 구성도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram of a conventional transparent electrode substrate in the form of a film.
2 is a flowchart showing a process sequence according to an embodiment of the present invention.
FIGS. 3 to 7 are views showing a structure of a transparent electrode substrate according to a manufacturing process sequence according to an embodiment of the present invention; FIG.
이하에서는 본 발명의 실시예들에 대하여 도면을 참고하여 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
도면들에 있어서 각 층이나 장치의 크기 및 두께는 설명의 편의상 과장이나 축소되어 표현될 수 있으며, 동일한 기능과 작용을 하는 구성요소에 대해서는 도면 부호를 동일하게 사용한다. 그리고 발명의 설명에 있어서, 구성요소의 위치관계를 설명하는 용어로 사용되는 '상', '상부' 및 '하부'는 접촉하고 있는 상부 또는 하부를 지칭하는 이외에, 중간에 다른 구성요소를 게재하는 경우를 포함한다.In the drawings, the size and thickness of each layer or device may be exaggerated or reduced for convenience of description, and the same reference numerals are used for components having the same function and function. In the description of the present invention, the terms "upper", "upper" and "lower" used in the description of the positional relationship of the constituent elements refer to upper or lower portions in contact with each other, ≪ / RTI >
본 발명에 따른 투명 전극 기판의 실시예들은, 도전성 패턴 형성 방법에 관한 발명을 제1실시예로 설명하고, 이를 이용한 터치패널은 제2 실시예로서 설명한다. 그리고 각 실시예는 은 나노와이어를 중심으로 설명하였으나 도전성의 다른 금속 나노와이어에도 적용될 수 있음은 물론이다.Embodiments of the transparent electrode substrate according to the present invention will be described as a first embodiment of a method for forming a conductive pattern, and a touch panel using the same will be described as a second embodiment. Although the embodiments have been described with reference to silver nanowires, it is needless to say that the present invention can be applied to other conductive metal nanowires.
1. 제1 실시예에 의한 투명 전극 기판 제조방법1. Method for manufacturing a transparent electrode substrate according to the first embodiment
제1 실시예에 의한 투명 전극 기판 제조방법을 도 2의 플로차트와 도전성 패턴 형성 순서를 나타낸 도 3 내지 도 7을 참고하여 설명한다.A method of manufacturing a transparent electrode substrate according to the first embodiment will be described with reference to the flow chart of FIG. 2 and the steps of forming a conductive pattern, with reference to FIG. 3 to FIG.
1) 도전층 형성 단계1) Conductive layer forming step
직경 20~50nm, 길이 10~100㎛을 갖는 은나노와이어와 고분자 바인더 및 첨가제를 물 또는 알코올 계통의 용매에서 적절히 분산한 코팅액을 PET 또는 PC로 이루어진 유연성의 투명 기판(11) 상에 슬롯 다이 또는 마이크로 그라이버 코팅 방법으로 코팅하여 도전층(12)을 형성한다.A coating liquid obtained by appropriately dispersing a silver nanowire having a diameter of 20 to 50 nm and a length of 10 to 100 占 퐉, a polymeric binder and an additive in a water or alcohol-based solvent is applied onto a flexible
도전층(12)을 건조시키거나 열처리 또는 광을 조사하는 큐어링 과정을 거쳐 용매와 같은 액상의 재료가 증발하면서 은나노와이어 일부가 표면에 노출된다.A part of the silver nano wire is exposed on the surface while the
2) 보호층 패턴 형성 단계2) Protective layer pattern formation step
도 3과 같이, 큐어링한 도전층(12) 중 도전성 패턴 형성이 필요한 도전 영역에 대하여 스크린(13) 프린팅 방법 등으로 광경화성의 보호층(14) 패턴을 형성한다. 이에 의해 도전층(12) 표면으로 노출된 은나노와이어의 네트워크를 보호하면서 은나노와이어의 표면 노출을 최소화한다. 이러한 보호층(14)은 바인더, 광경화제 등을 포함한다.As shown in FIG. 3, a photocurable
상술한 도전층(12) 또는 보호층(14)은 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The
자외선 차단제로서 TiO2, WO3, ZnO, CeO, SiC, SnO2 등으로 이루어진 기능성 분말 중 어느 하나 또는 2 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이에 의해 자외선에 의하여 에지부에서 발생하는 도전층(12)의 네트워크 손상을 방지할 수 있다.Functional ultraviolet light blocking agents such as TiO 2 , WO 3 , ZnO, CeO 2 , SiC, and SnO 2 may be used. As a result, the network damage of the
자외선 안정제로서 벤조페논계(Benzophenone), 벤조트라이졸계(Benzotriazole), 포스파이트(Phosphite)계, 페놀(Phenol)계 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물을 사용할 수 있다. 이에 의해 자외선을 흡수하여 열에너지로 분산시킴으로써 도전층(12)을 안정화시킬 수 있다.As ultraviolet stabilizer, any one or a mixture of two or more of benzophenone, benzotriazole, phosphite and phenol can be used. As a result, the
또한 도전층(12) 또는 보호층(14)은 정전기를 방지하기 위하여, 도전성의 정전기 방지제를 포함할 수 있다. 이러한 정전기 방지제로서 탄소나노튜브, 환원된 그래핀 옥사이드, 전도성 고분자 중에서 어느 하나 또는 2 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The
3) 경화 단계3) Curing step
보호층(14)이 경화되지 않은 상태에서 도 4와 같이 기판 전체에 대하여 자외선을 조사한다. 이를 통해 보호층(14) 패턴을 경화시킨다.When the
4) 도전층 패턴 형성 단계4) Conductive layer pattern formation step
경화된 보호층(14)과 그 하부의 도전층(12)을 제외한 비도전 영역에 해당하는 도전층(12)의 제거를 위하여 탈이온수 또는 약칼리성을 갖는 세정액 등을 이용하여 세정함으로써 도전성 패턴을 얻을 수 있다.In order to remove the
이에 의해 보호층 패턴을 형성한 상태에서 세정만으로 도전성 패턴을 형성시킬 수 있게 된다. 따라서 종래에 레이저(건식) 또는 케미칼(습식) 식각에 의한 패터닝 공정을 생략할 수 있어 공정을 단순화하여 생산량을 높일 수 있다.As a result, the conductive pattern can be formed only by cleaning in a state where the protective layer pattern is formed. Therefore, it is possible to omit the patterning process by laser (dry) or chemical (wet) etching conventionally, thereby simplifying the process and increasing the production amount.
5) 배선전극층 형성 단계5) Wiring electrode layer forming step
도전성 패턴이 형성된 기판(11) 상에 은 페이스트와 같은 메탈 페이스트를 스크린 프린팅 방법을 이용하여 선택적으로 코팅함으로써 배선전극층(15)을 형성할 수 있다. 이러한 방법 이외에 배선전극층(15)은 광경화성 메탈 페이스트를 이용하거나, 증착시켜 형성할 수도 있다.The
6) 절연층 형성 단계6) Insulating layer forming step
배선전극층(15)이 형성된 기판(11) 상에 상부면이 평탄하도록 절연층(16)을 형성한다. 절연층(16)은 상술한 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.The insulating
또한 절연층(16)은 도전층(12)과 보호층(14) 간의 굴절률 차이로 인한 시인성 악화를 방지하기 위하여 인덱스 매칭 물질을 포함할 수 있다.The insulating
상술한 절연층(16)에 자외선 차단제, 자외선 안정제 및 인덱스 매칭 물질을 함께 포함시키는 경우 투명 전극의 신뢰성 및 시인성을 동시에 확보할 수 있다.When the ultraviolet ray blocking agent, the ultraviolet stabilizer, and the index matching material are included in the insulating
이러한 절연층(16)은 평탄하게 형성하며, 상부면에 보호필름을 부착하여 필름 형태의 투명 전극 기판으로 판매가 가능하다.The insulating
상술한 일련의 단계에 의하여 제1 실시예의 투명 전극 기판(10)을 제조할 수 있으며, 이와 같이 제작된 필름 형태의 투명 전극 기판(10)은, PDP(플라즈마 디스플레이 판넬), 광학필터, 전자차폐제, 유기발광다이오드(OLED), 태양전지, LCD(liquid crystal display), 터치스크린, 휴대폰용 EL 키패드 등 전기, 자기, 광학 소자 및 센서 등에 광범위하게 적용 가능하다.
The
2. 제2 실시예에 의한 터치패널2. The touch panel according to the second embodiment
상술한 제1 실시예의 투명 전극 기판(10)은 터치패널에 적용될 수 있다.The
구체적으로, 제1 실시예의 투명 전극 기판(10)을 터치패널을 구성하는 하부 기판과 상부 기판 중 어느 하나로 이용하고, 하부 기판과 상부 기판 사이에 이들을 결합하는 제1 접착층을 형성하고, 상부 기판과 터치 영역에 해당하는 투명 윈도우를 결하는 제2 접착층을 구비할 수 있다.Specifically, the
이때, 제1, 제2 접착층 중 적어도 어느 하나는 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있으며, 이는 상술한 제1, 제2 실시예의 절연층(16, 26)에 사용된 자외선 차단제와 자외선 안정제를 사용할 수 있다.
At this time, at least one of the first and second adhesive layers may include at least one of an ultraviolet screening agent and a ultraviolet ray stabilizer. This is because the ultraviolet ray blocking agent used in the insulating
이상에서는 실시예와 도면을 중심으로 본 발명에 대하여 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 특허청구범위를 중심으로 판단되어야 하며, 특허청구범위의 기재뿐만 아니라 그 변형물 또는 균등물에까지 그 효력이 미침은 자명하다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments and drawings, it is to be understood that the scope of the present invention should be determined with reference to the appended claims and should not be construed as limiting the scope of the appended claims to the appended claims. It is self-evident.
10 : 투명 전극 기판
11 : 기판
12 : 도전층
13 : 마스크
14 : 보호층
15 : 배선전극층
16 : 절연층
10: transparent electrode substrate 11: substrate
12: conductive layer 13: mask
14: protection layer 15: wiring electrode layer
16: Insulation layer
Claims (19)
기판 상에 금속 나노와이어를 포함하는 도전층을 형성하는 도전층 형성 단계;
상기 도전층 상에 자외선 경화형 보호층을 선택적으로 형성하는 보호층 패턴 형성 단계;
자외선을 조사하여 상기 보호층을 경화시키는 경화 단계; 및
상기 보호층이 형성되지 않은 도전층을 세정하여 도전층 패턴을 형성하는 도전층 패턴 형성 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.A method of manufacturing a transparent electrode substrate using metal nanowires,
A conductive layer forming step of forming a conductive layer including metal nanowires on a substrate;
A protective layer pattern forming step of selectively forming an ultraviolet curable protective layer on the conductive layer;
A curing step of curing the protective layer by irradiating ultraviolet rays; And
Forming a conductive layer pattern by cleaning the conductive layer on which the protective layer is not formed;
And forming a transparent electrode on the transparent electrode substrate.
상기 금속은, 은(Ag)인 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method according to claim 1,
Wherein the metal is silver (Ag).
상기 도전층 또는 상기 보호층은, 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method according to claim 1,
Wherein the conductive layer or the protective layer further comprises at least one of an ultraviolet screening agent and a UV stabilizer.
상기 도전층 또는 상기 보호층은, 도전성의 정전기 방지제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method according to claim 1,
Wherein the conductive layer or the protective layer further comprises a conductive antistatic agent.
상기 정전기 방지제는, 탄소나노튜브, 환원된 그래핀 옥사이드, 전도성 고분자 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method of claim 4,
Wherein the antistatic agent is at least one of carbon nanotubes, reduced graphene oxide, and a conductive polymer, or a mixture of two or more thereof.
상기 도전층 형성 단계 이후에,
상기 도전층에 열을 공급하거나 빛을 조사하는 큐어링 단계;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method according to claim 1,
After the conductive layer forming step,
A curing step of supplying heat or irradiating light to the conductive layer;
And forming a transparent electrode on the transparent electrode substrate.
상기 보호층 패턴 형성 단계는, 스크린 프린팅 방법으로 상기 보호층 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method according to claim 1,
Wherein the protective layer pattern forming step forms the protective layer pattern by a screen printing method.
상기 도전층 패턴 형성 단계는, 탈이온수 또는 약알칼리 세정액으로 세정하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method according to claim 1,
Wherein the conductive layer pattern forming step is performed by cleaning with a deionized water or weakly alkaline cleaning liquid.
상기 도전층 패턴 형성 단계 이후에,
상기 도전성 패턴이 형성된 기판 상에 배선전극층을 선택적으로 형성하는 배선전극층 형성 단계;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method according to claim 1,
After the conductive layer pattern forming step,
A wiring electrode layer forming step of selectively forming a wiring electrode layer on the substrate on which the conductive pattern is formed;
And forming a transparent electrode on the transparent electrode substrate.
상기 배선전극층은, 은 페이스트를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method of claim 9,
Wherein the wiring electrode layer includes a silver paste.
상기 배선전극층 형성 단계 이후에,
상기 배선전극층이 형성된 기판 상에 절연층을 형성하는 절연층 형성 단계;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method of claim 9,
After the wiring electrode layer forming step,
Forming an insulating layer on the substrate on which the wiring electrode layer is formed;
And forming a transparent electrode on the transparent electrode substrate.
상기 절연층은, 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method of claim 11,
Wherein the insulating layer comprises at least one of an ultraviolet screening agent and a UV stabilizer.
상기 자외선 차단 물질은, TiO2, WO3, ZnO, CeO, SiC, SnO2 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method according to claim 3 or 12,
Wherein the ultraviolet shielding material is any one or a mixture of two or more of TiO 2 , WO 3 , ZnO, CeO 2 , SiC, and SnO 2 .
상기 자외선 안정제는, 벤조페논계(Benzophenone), 벤조트라이졸계(Benzotriazole), 포스파이트(Phosphite)계, 페놀(Phenol)계 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method according to claim 3 or 12,
Wherein the ultraviolet light stabilizer is at least one of benzophenone, benzotriazole, phosphite, and phenol, or a mixture of two or more of the benzophenone, benzophenone, benzophenone, benzophenone, benzotriazole, phosphite and phenol.
상기 절연층은, 상기 도전층과 상기 보호층 간의 인덱스 매칭 물질을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method of claim 11,
Wherein the insulating layer further comprises an index matching material between the conductive layer and the passivation layer.
상기 절연층은, 평탄하게 형성된 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method of claim 11,
Wherein the insulating layer is formed flat.
하부 투명 전극 기판;
상기 하부 투명 전극 기판과 투명 윈도우 사이에 배치되는 상부 투명 전극 기판;
상기 하부 투명 전극 기판과 상기 상부 투명 전극 기판을 결합하는 제1 접착층; 및
상기 상부 투명 전극 기판과 투명 윈도우를 결합하는 제2 접착층;
을 포함하고,
상기 상, 하부 투명 전극 기판 중 적어도 어느 하나는 청구항 11의 투명 전극 기판으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 터치패널.In a touch panel using a transparent electrode substrate,
A lower transparent electrode substrate;
An upper transparent electrode substrate disposed between the lower transparent electrode substrate and the transparent window;
A first adhesive layer for bonding the lower transparent electrode substrate and the upper transparent electrode substrate; And
A second adhesive layer for bonding the transparent upper electrode substrate and the transparent window;
/ RTI >
Wherein at least one of the upper and lower transparent electrode substrates comprises the transparent electrode substrate of claim 11.
상기 제1, 제2 접착층 중 적어도 어느 하나는 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널.19. The method of claim 18,
Wherein at least one of the first and second adhesive layers further comprises at least one of an ultraviolet screening agent and a UV stabilizer.
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|---|---|---|---|---|
| CN108334243A (en) * | 2018-04-27 | 2018-07-27 | 南京银纳新材料科技有限公司 | A kind of Grazing condition transparent touch system |
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| CN108334243B (en) * | 2018-04-27 | 2024-02-06 | 南京银纳新材料科技有限公司 | Full-flexible transparent touch system |
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