KR20160036981A - Manufacturing method for transparent conductive substrate, transparent conductive substrate and touch panel using nanowires - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 금속 나노와이어를 이용하여 도전성 패턴이 형성되는 투명 전극 기판 제조방법과 이를 이용한 투명 전극 기판 및 터치패널에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
최근 은나노와이어(Ag Nano Wire or Siver Nano Wire)는 기존 ITO(Indium doped Tin Oxide)가 극복하지 못하는 저저항 및 고투과도를 갖는 유연터치패널 등의 영역에서 ITO 대비 경쟁력을 보이며, ITO를 대체하는 투명 전극 재료로 적극 개발, 상용화되고 있다.In recent years, Ag Nano Wire or Siver Nano Wire has shown a competitive edge compared to ITO in areas such as flexible touch panels with low resistance and high transmittance that can not be overcome by conventional indium-doped tin oxide (ITO) It has been actively developed and commercialized as an electrode material.
일반적으로, 나노와이어를 이용한 투명 전극은, 도 1과 같이 투명한 기판(1) 상에 도전층(2)과 보호층(3)을 순차적으로 코팅한 후 보호필름(4)을 부착하여 투명 전극 필름 형태로 판매된다.In general, a transparent electrode using a nanowire is formed by sequentially coating a
구체적으로, 은나노와이어와 분산과 점도를 효과적으로 맞추기 위한 고분자 바인더(Binder) 및 기타 첨가제를 물이나 알코올 계통용매에서 적절히 분산시켜 기판에 습식 코팅(Wet Coating)을 진행하며, 두께 150nm 전후의 도전층을 형성한다. 이때 코팅은 통상적으로 슬롯다이(Slot Die) 코팅 또는 마이크로 그라비어(Micro Gravure) 코팅 등을 사용한다.Specifically, a polymer binder and other additives for appropriately dispersing and viscosity of the silver nanowire are appropriately dispersed in a water or alcohol solvent, wet coating is performed on the substrate, and a conductive layer having a thickness of about 150 nm is formed . In this case, a coating such as a slot die coating or a micro gravure coating is usually used.
이때, 도전층은 은나노와이어가 포함된 액상의 약액(Chemical)으로 코팅을 한 후 큐어링(Curing) 공정을 거치는데, 이때 기본 용매와 같은 액상의 재료는 증발되고 은나노와이어가 표면에 노출되는데 이는 필름을 권취할 때 배면과의 접촉 및 슬립(Slip)으로 인한 스크래치를 유발하며, 노출시 은나노와이어의 산화를 촉진한다At this time, the conductive layer is coated with a liquid chemical containing silver nano wire, and then subjected to a curing process. At this time, the liquid material such as the basic solvent evaporates and the silver nano wire is exposed on the surface. It causes contact with the back surface and scratches due to slip when the film is wound, and promotes oxidation of the silver wire upon exposure
이를 방지하기 위해 노출된 은나노와이어 위에 보호층으로서의 자외선 경화형 오버 코팅(Over Coating)층을 형성하여 은나노와이어의 표면 노출을 최대한 억제한다.In order to prevent this, an overcoating layer as an ultraviolet ray curing type is formed on the exposed silver wire to minimize the surface exposure of the silver wire.
위와 같은 방법으로 제작된 투명 전극 필름은 산화와 스크래치 등으로부터 도전층을 보호하기 위해 PE와 같은 보호 필름을 부착한다.The transparent electrode film manufactured by the above method is attached with a protective film such as PE to protect the conductive layer from oxidation and scratch.
위와 같이 제작된 투명 전극 필름은, 보호필름을 제거한 후 포토 레지스트를 도포한 후 레이저(건식), 케미칼(습식) 공정을 이용하여 패터닝 공정을 진행하여 도전성 패턴을 형성한다. 도전성 패턴이 형성된 투명 전극 기판은, PDP(플라즈마 디스플레이 판넬), 광학필터, 전자차폐제, 유기발광다이오드(OLED), 태양전지, LCD(liquid crystal display), 터치스크린, 휴대폰용 EL 키패드 등 전기, 자기, 광학 소자 및 센서 등에 광범위하게 적용할 수 있다.After the protective film is removed, a photoresist is coated on the transparent electrode film, and a conductive pattern is formed by performing a patterning process using a laser (dry) process or a chemical (wet) process. The transparent electrode substrate on which the conductive pattern is formed can be used as a transparent electrode substrate in a variety of fields such as a PDP (plasma display panel), an optical filter, an electromagnetic shielding material, an organic light emitting diode (OLED), a solar cell, a liquid crystal display , Optical elements, and sensors.
도전성 패턴이 형성된 투명 전극 기판을 터치패널에 적용하는 경우, 그 구조와 방식에 따라 투명광학 접착제(OCA) 또는 투명광학 레진(OCR)를 통해 라미네이션(Lamination)되며 최종적으로 커버 윈도우와 결합된다.When a transparent electrode substrate on which a conductive pattern is formed is applied to a touch panel, it is laminated through a transparent optical adhesive (OCA) or a transparent optical resin (OCR) according to its structure and method, and finally bonded to a cover window.
정전용량 방식의 터치패널은 통상적으로 각 센서채널에 전압이 인가되어 센서구동을 수행하게 되는데, 은나노와이어를 이용한 정전용량 터치패널의 경우, 습기, 자외선 및 내부 전압에 의해 은나노와이어의 산화 또는 마이그레이션(Migration)이 촉진되어 채널간 전기적 단락(Short)이나 절연파괴의 원인이 되었다. 또한 은나노와이어가 포함된 전극은 정전기가 발생한 경우 은나노와이어의 네트워크가 손상되기 쉽다는 문제점이 있었다.In a capacitive touch panel, voltage is applied to each sensor channel to drive a sensor. In the case of a capacitive touch panel using silver nano wire, oxidation or migration of silver nano wire by moisture, ultraviolet rays, and internal voltage Migration has been promoted to cause electrical short or dielectric breakdown between channels. In addition, the electrode including the silver nano wire has a problem that when the static electricity is generated, the network of the silver nano wire is easily damaged.
특히 은나노와이어를 이용하여 모바일 기기로 사용되는 정전용량 터치패널은 에지부에서 특히 신뢰성이 낮다는 치명적인 문제점이 있었다.Particularly, the capacitive touch panel used as a mobile device using silver nano wire has a fatal problem that the reliability is particularly low at the edge portion.
상술한 배경 기술 상의 문제를 해결하기 위한 본 발명은 습기, 자외선, 정전기 및 장치의 내부 전압으로부터 신뢰성을 유지할 수 있는 투명 전극 기판 제조방법을 제공함에 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a transparent electrode substrate capable of maintaining reliability from moisture, ultraviolet rays, static electricity, and internal voltages of devices.
본 발명의 또 다른 목적은, 상술한 투명 전극 기판 제조방법을 이용하여 투명 전극 및 이를 이용한 터치패널을 제공함에 또 다른 목적이 있다.It is still another object of the present invention to provide a transparent electrode and a touch panel using the transparent electrode by using the above-described method for manufacturing a transparent electrode substrate.
상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 투명 전극 기판 제조방법은, 금속 나노와이어를 이용한 투명 전극 기판 제조방법에 있어서, 기판 상에 금속 나노와이어를 포함하는 도전층을 형성하는 도전층 형성 단계; 및 상기 도전층 상에 상기 금속 나노와이어의 네트워크 형태를 유지하는 바인더를 포함하는 보호층을 형성하는 보호층 형성 단계;를 포함하되, 상기 도전층 또는 상기 보호층은, 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a transparent electrode substrate using metal nanowires, the method including: forming a conductive layer including metal nanowires on a substrate; And forming a protective layer on the conductive layer, the protective layer including a binder that maintains a network form of the metal nanowire, wherein the conductive layer or the protective layer comprises at least one of an ultraviolet screening agent and a UV stabilizer Quot;
바람직하게, 상기 금속은, 은(Ag)이다. 상기 자외선 차단제는, TiO2, WO3, ZnO, CeO, SiC, SnO2 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물이다. 그리고 상기 자외선 안정제는, 벤조페논계(Benzophenone), 벤조트라이졸계(Benzotriazole), 포스파이트(Phosphite)계, 페놀(Phenol)계 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물이다.Preferably, the metal is silver (Ag). The ultraviolet screening agent is any one or a mixture of two or more of TiO 2 , WO 3 , ZnO, CeO 2 , SiC and SnO 2 . The UV stabilizer is any one or a mixture of two or more of benzophenone, benzotriazole, phosphite, and phenol.
바람직하게, 상기 도전층 또는 상기 보호층은, 도전성의 정전기 방지제를 더 포함한다. 이때, 상기 정전기 방지제는, 탄소나노튜브, 환원된 그래핀 옥사이드, 전도성 고분자 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물이다.Preferably, the conductive layer or the protective layer further comprises a conductive antistatic agent. At this time, the antistatic agent is any one or a mixture of two or more of carbon nanotubes, reduced graphene oxide, and conductive polymer.
바람직하게, 상기 도전층 형성 단계 이후에, 상기 도전층에 열을 공급하거나 빛을 조사하는 큐어링 단계; 를 더 포함한다.Preferably, the method may further include: a curing step of supplying heat or irradiating light to the conductive layer after the conductive layer forming step; .
본 발명의 다른 측면에 해당하는 투명 전극 기판은 상술한 투명 제조 방법에 의하여 제조되는 것을 특징으로 한다.The transparent electrode substrate according to another aspect of the present invention is manufactured by the above-described transparent manufacturing method.
본 발명의 다른 과제를 해결하기 위한 터치패널은, 투명 전극 기판을 이용한 터치패널에 있어서, 하부 투명 전극 기판; 상기 하부 투명 전극 기판과 투명 윈도우 사이에 배치되는 상부 투명 전극 기판; 상기 하부 투명 전극 기판과 상기 상부 투명 전극 기판을 결합하는 제1 접착층; 및 상기 상부 투명 전극 기판과 투명 윈도우를 결합하는 제2 접착층; 을 포함하고, 상기 상, 하부 투명 전극 기판 중 적어도 어느 하나는 상술한 본 발명의 투명 전극 기판으로 이루어진다.According to another aspect of the present invention, there is provided a touch panel using a transparent electrode substrate, comprising: a lower transparent electrode substrate; An upper transparent electrode substrate disposed between the lower transparent electrode substrate and the transparent window; A first adhesive layer for bonding the lower transparent electrode substrate and the upper transparent electrode substrate; And a second adhesive layer for joining the upper transparent electrode substrate and the transparent window; And at least one of the upper and lower transparent electrode substrates comprises the above-described transparent electrode substrate of the present invention.
바람직하게, 상기 제1, 제2 접착층 중 적어도 어느 하나는 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 포함한다.Preferably, at least one of the first and second adhesive layers includes at least one of an ultraviolet screening agent and a UV stabilizer.
본 발명에 의하면, 기판 상의 도전층과 보호층 중 적어도 어느 하나에 자외선 차단제나 자외선 안정제를 포함함으로써 자외선에 의한 금속 나노와이어의 마이그레이션을 방지하여 신뢰성을 높일 수 있다.According to the present invention, migration of metal nanowires by ultraviolet rays is prevented by including an ultraviolet screening agent and / or an ultraviolet stabilizer in at least one of the conductive layer and the protective layer on the substrate, thereby enhancing reliability.
또한 본 발명은 도전층 또는 보호층에 도전성의 정전기 방지제를 포함으로써 정전기에 의한 나노와이어의 네트워크 손상을 방지할 수 있다.The present invention also includes a conductive antistatic agent in the conductive layer or the protective layer to prevent network damage of the nanowire by static electricity.
도 1은 종래의 필름 형태의 투명 전극 기판의 구성도.
도 2는 본 발명이 적용되는 터치패널의 구성도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram of a conventional transparent electrode substrate in the form of a film.
2 is a configuration diagram of a touch panel to which the present invention is applied.
이하에서는 본 발명의 실시예들에 대하여 도면을 참고하여 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
도면들에 있어서 각 층이나 장치의 크기 및 두께는 설명의 편의상 과장이나 축소되어 표현될 수 있으며, 동일한 기능과 작용을 하는 구성요소에 대해서는 도면 부호를 동일하게 사용한다. 그리고 발명의 설명에 있어서, 구성요소의 위치관계를 설명하는 용어로 사용되는 '상', '상부' 및 '하부'는 접촉하고 있는 상부 또는 하부를 지칭하는 이외에, 중간에 다른 구성요소를 게재하는 경우를 포함한다.In the drawings, the size and thickness of each layer or device may be exaggerated or reduced for convenience of description, and the same reference numerals are used for components having the same function and function. In the description of the present invention, the terms "upper", "upper" and "lower" used in the description of the positional relationship of the constituent elements refer to upper or lower portions in contact with each other, ≪ / RTI >
이하에서는 본 발명에 실시예에 따른 투명 전극 기판 제조방법을 설명한 후, 이를 이용한 터치패널에 대하여 설명한다. 그리고 각 실시예는 은 나노와이어를 중심으로 설명하였으나 도전성의 다른 금속 나노와이어에도 적용될 수 있음은 물론이다.Hereinafter, a method of manufacturing a transparent electrode substrate according to an embodiment of the present invention will be described, and then a touch panel using the method will be described. Although the embodiments have been described with reference to silver nanowires, it is needless to say that the present invention can be applied to other conductive metal nanowires.
1. 투명 전극 기판 제조방법1. Method of manufacturing transparent electrode substrate
투명 전극 기판 제조방법은 도 1과 같이 기판(1) 상에 도전층(2)과 보호층(3)을 차례로 형성한 다음, 보호필름(4)을 부착하는 단계를 포함한다. 이하에서는 각 단계별로 구체적으로 설명한다.A method of manufacturing a transparent electrode substrate includes the steps of sequentially forming a
1) 도전층 형성 단계1) Conductive layer forming step
직경 20~30nm, 길이 10~30㎛을 갖는 은나노와이어와 고분자 바인더 및 첨가제로서 물 또는 알코올 계통의 용매에서 적절히 분산한 코팅액을 PET 또는 PC로 이루어진 유연성의 투명 기판 상에 슬롯 다이 또는 마이크로 그라이버 코팅 방법으로 코팅하여 도전층을 형성한다.A silver nano wire having a diameter of 20 to 30 nm and a length of 10 to 30 占 퐉, a polymeric binder and an additive, which are appropriately dispersed in a water or alcohol solvent, is coated on a flexible transparent substrate made of PET or PC by a slot die or a micro- To form a conductive layer.
도전층을 건조시키거나 열처리 또는 광을 조사하는 큐어링 과정을 거쳐 용매와 같은 액상의 제료가 증발하면서 은나노와이어 일부가 표면에 노출된다.The conductive layer is dried, cured by heat treatment or light irradiation, and a portion of the silver nano wire is exposed on the surface as a liquid material such as a solvent evaporates.
2) 보호층 형성 단계2) Step of forming protective layer
큐어링한 도전층의 표면으로 노출된 은나노와이어의 네트워크를 보호하면서 은나노와이어의 표면 노출을 최소화 하기 위하여 보호층을 형성한다. 이때 보호층은 용매, 바인더, 광경화제 등을 포함한다. 이에 의해 은나노와이어의 네트워크 형태가 유지할 수 있다. A protective layer is formed to protect the network of silver nano wires exposed to the surface of the cured conductive layer while minimizing the surface exposure of the silver nano wires. The protective layer includes a solvent, a binder, a photocuring agent, and the like. Whereby the network form of the silver wire can be maintained.
상술한 도전층 또는 보호층은 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 바람직하게는 보호층에 자외선 차단제와 자외선 안정제를 포함한다.The conductive layer or the protective layer may include at least one of an ultraviolet screening agent and a UV stabilizer. Preferably, the protective layer comprises an ultraviolet light stabilizer and an ultraviolet light stabilizer.
자외선 차단제로서 TiO2, WO3, ZnO, CeO, SiC, SnO2 등으로 이루어진 기능성 분말 중 어느 하나 또는 2 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이에 의해 자외선에 의하여 에지부에서 발생하는 도전층(12)의 네트워크 손상을 방지할 수 있다.Functional ultraviolet light blocking agents such as TiO 2 , WO 3 , ZnO, CeO 2 , SiC, and SnO 2 may be used. As a result, the network damage of the
자외선 안정제로서 벤조페논계(Benzophenone), 벤조트라이졸계(Benzotriazole), 포스파이트(Phosphite)계, 페놀(Phenol)계 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물을 사용할 수 있다. 이에 의해 자외선을 흡수하여 열에너지로 분산시킴으로써 도전층(12)을 안정화시킬 수 있다.As ultraviolet stabilizer, any one or a mixture of two or more of benzophenone, benzotriazole, phosphite and phenol can be used. As a result, the
또한 도전층(12) 또는 보호층(13)은 정전기를 방지하기 위하여, 도전성의 정전기 방지제를 포함할 수 있다. 이러한 정전기 방지제로서 탄소나노튜브, 환원된 그래핀 옥사이드, 전도성 고분자 중에서 어느 하나 또는 2 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이에 의해 정전기에 의한 나노와이어 네트워크의 손상을 방지할 수 있다.The
3) 보호필름 부착 단계3) Step of attaching protective film
보호층의 구성물질로서 광경화제를 포함시키고, 자외선을 조사하여 보호층을 경화시킨 후 보호층 상에 보호필름을 부착하여 투명 기판 전극 재료로 판매될 수 있다.The protective layer may be sold as a transparent substrate electrode material by including a photo-curing agent as a constituent material of the protective layer, curing the protective layer by irradiating ultraviolet rays, and attaching a protective film on the protective layer.
이러한 투명 기판 전극 재료는 보호필름을 제거한 후, 원하는 도전성 패턴을 형성한 후, 배선전극층, 절연층 등을 형성하여 제작된 필름 형태의 투명 전극 기판은, PDP(플라즈마 디스플레이 판넬), 광학필터, 전자차폐제, 유기발광다이오드(OLED), 태양전지, LCD(liquid crystal display), 터치스크린, 휴대폰용 EL 키패드 등 전기, 자기, 광학 소자 및 센서 등에 광범위하게 적용 가능하다.
The transparent electrode substrate of the film type formed by forming the wiring electrode layer, the insulating layer, etc. after forming the desired conductive pattern after removing the protective film is formed on the PDP (plasma display panel), the optical filter, It can be widely applied to electric, magnetic, optical devices and sensors such as shielding agents, organic light emitting diodes (OLED), solar cells, liquid crystal displays (LCDs), touch screens, and EL keypads for mobile phones.
2. 터치패널2. Touch panel
상술한 방법에 의하여 제작된 투명 전극 기판은 도 2와 같이 터치패널에 적용될 수 있다.The transparent electrode substrate manufactured by the above-described method can be applied to a touch panel as shown in FIG.
구체적으로, 투명 전극 기판으로서 상술한 제조방법에 의하여 제조된 투명 전극 기판을 터치패널을 구성하는 하부 기판(10)과 상부 기판(20) 중 어느 하나로 사용하고, 하부 기판(10)과 상부 기판(20) 사이에 이들을 결합하는 제1 접착층(30)을 형성하고, 상부 기판(20)과 터치 영역에 해당하는 투명 윈도우(50)를 결합하는 제2 접착층(40)을 구비할 수 있다.Specifically, the transparent electrode substrate manufactured by the above-described manufacturing method is used as the transparent electrode substrate as one of the
제1, 제2접착층(30, 40)으로 OCA(Optically Clear Adhesive), OCR(Optically Clear Resin) 등을 사용할 수 있다.Optically Clear Adhesive (OCA), Optically Clear Resin (OCR), or the like can be used as the first and second
하부 기판(10)과 상부 기판(20) 각각은 제1, 제2 기판(11, 21), 제1, 제2 도전층(12, 22) 및 제1, 제2 보호층(13, 23)이 형성된다.Each of the
이때, 제1, 제2 접착층(30, 40) 중 적어도 어느 하나는 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있으며, 이는 상술한 도전층과 보호층에 사용된 자외선 차단제와 자외선 안정제를 사용할 수 있다.At this time, at least one of the first and second
이상에서는 실시예와 도면을 중심으로 본 발명에 대하여 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 특허청구범위를 중심으로 판단되어야 하며, 특허청구범위의 기재뿐만 아니라 그 변형물 또는 균등물에까지 그 효력이 미침은 자명하다.While the present invention has been described with reference to exemplary embodiments and drawings, it is to be understood that the scope of the present invention should be determined with reference to the appended claims and should not be construed as limiting the scope of the appended claims to the appended claims. It is self-evident.
1 : 기판
2 : 도전층
3 : 보호층
4 : 보호필름
10, 20 : 하부, 상부 기판
11, 21 : 제1, 제2 기판
12, 22 : 제1, 제2 도전층
13, 23 : 제1, 제2 보호층
30, 40 : 제1, 제2 접착층
50 : 투명 윈도우1: substrate 2: conductive layer
3: Protective layer 4: Protective film
10, 20: lower and
12, 22: first and second
30, 40: first and second adhesive layers 50: transparent window
Claims (10)
기판 상에 금속 나노와이어를 포함하는 도전층을 형성하는 도전층 형성 단계; 및
상기 도전층 상에 상기 금속 나노와이어의 네트워크 형태를 유지하는 바인더를 포함하는 보호층을 형성하는 보호층 형성 단계;를 포함하되,
상기 도전층 또는 상기 보호층은, 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.A method of manufacturing a transparent electrode substrate using metal nanowires,
A conductive layer forming step of forming a conductive layer including metal nanowires on a substrate; And
And forming a protective layer on the conductive layer, the protective layer including a binder that maintains a network shape of the metal nanowires,
Wherein the conductive layer or the protective layer comprises at least one of an ultraviolet screening agent and a UV stabilizer.
상기 금속은, 은(Ag)인 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method according to claim 1,
Wherein the metal is silver (Ag).
상기 자외선 차단제는, TiO2, WO3, ZnO, CeO, SiC, SnO2 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method according to claim 1,
Wherein the ultraviolet screening agent is any one or a mixture of two or more of TiO 2 , WO 3 , ZnO, CeO 2 , SiC, and SnO 2 .
상기 자외선 안정제는, 벤조페논계(Benzophenone), 벤조트라이졸계(Benzotriazole), 포스파이트(Phosphite)계, 페놀(Phenol)계 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method according to claim 1,
Wherein the ultraviolet light stabilizer is at least one of benzophenone, benzotriazole, phosphite, and phenol, or a mixture of two or more of the benzophenone, benzophenone, benzophenone, benzophenone, benzotriazole, phosphite and phenol.
상기 도전층 또는 상기 보호층은, 도전성의 정전기 방지제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method according to claim 1,
Wherein the conductive layer or the protective layer further comprises a conductive antistatic agent.
상기 정전기 방지제는, 탄소나노튜브, 환원된 그래핀 옥사이드, 전도성 고분자 중 어느 하나 또는 2 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method of claim 5,
Wherein the antistatic agent is at least one of carbon nanotubes, reduced graphene oxide, and a conductive polymer, or a mixture of two or more thereof.
상기 도전층 형성 단계 이후에,
상기 도전층에 열을 공급하거나 빛을 조사하는 큐어링 단계;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 기판 제조방법.The method according to claim 1,
After the conductive layer forming step,
A curing step of supplying heat or irradiating light to the conductive layer;
And forming a transparent electrode on the transparent electrode substrate.
하부 투명 전극 기판;
상기 하부 투명 전극 기판과 투명 윈도우 사이에 배치되는 상부 투명 전극 기판;
상기 하부 투명 전극 기판과 상기 상부 투명 전극 기판을 결합하는 제1 접착층; 및
상기 상부 투명 전극 기판과 투명 윈도우를 결합하는 제2 접착층;
을 포함하고,
상기 상, 하부 투명 전극 기판 중 적어도 어느 하나는 청구항 8의 투명 전극 기판으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 터치패널.In a touch panel using a transparent electrode substrate,
A lower transparent electrode substrate;
An upper transparent electrode substrate disposed between the lower transparent electrode substrate and the transparent window;
A first adhesive layer for bonding the lower transparent electrode substrate and the upper transparent electrode substrate; And
A second adhesive layer for bonding the transparent upper electrode substrate and the transparent window;
/ RTI >
Wherein at least one of the upper and lower transparent electrode substrates comprises the transparent electrode substrate of claim 8.
상기 제1, 제2 접착층 중 적어도 어느 하나는 자외선 차단제와 자외선 안정제 중 적어도 어느 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널.The method of claim 9,
Wherein at least one of the first and second adhesive layers further comprises at least one of an ultraviolet screening agent and a UV stabilizer.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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KR20160036981A true KR20160036981A (en) | 2016-04-05 |
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CN107358989A (en) * | 2017-09-05 | 2017-11-17 | 张家港康得新光电材料有限公司 | A kind of nano-silver conductive film and preparation method thereof |
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