KR20180010890A - Flexible circuit board, cof module and electronic device comprising the same - Google Patents
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Abstract
Description
실시예는 연성 회로기판, COF 모듈 및 이를 포함하는 전자 디바이스에 관한 것이다. 자세하게, 상기 연성 회로기판은 다양한 전자 디바이스에 사용될 수 있는 COF용 연성인쇄회로기판일 수 있다.Embodiments relate to a flexible circuit board, a COF module and an electronic device including the same. In detail, the flexible circuit board can be a flexible printed circuit board for COF which can be used in various electronic devices.
최근 다양한 전자 제품이 얇고, 소형화, 경량화되고 있다. 이에 따라, 전자 디바이스의 좁은 영역에 고밀도로 반도체 칩을 실장하기 위한 다양한 연구가 진행되고 있다.Recently, a variety of electronic products are becoming thinner, smaller, and lighter. Accordingly, various studies for mounting a semiconductor chip at a high density in a narrow region of an electronic device have been carried out.
그 중에서도, COF(Chip On Film) 방식은 플렉서블 기판을 사용하기 때문에, 평판 디스플레이 및 플렉서블 디스플레이에 모두 적용될 수 있다. 즉, COF 방식은 다양한 웨어러블 전자기기에 적용될 수 있다는 점에서 각광받고 있다. 또한, COF 방식은 미세한 피치를 구현할 수 있기 때문에, 화소수의 증가에 따른 고해상도의 디스플레이를 구현하는데 사용될 수 있다.Among them, since a COF (Chip On Film) method uses a flexible substrate, it can be applied to both a flat panel display and a flexible display. That is, the COF method is attracting attention because it can be applied to various wearable electronic devices. In addition, since the COF method can realize a fine pitch, it can be used to realize a high resolution display as the number of pixels increases.
COF(Chip On Film)는 반도체 칩을 얇은 필름 형태의 연성 회로기판에 장착하는 방식이다. 예를 들어, 반도체 칩은 직접회로(Integrated Circuit, IC) 칩 또는 대규모 직접회로(Large Scale Integrated circuit, LSI) 칩일 수 있다.COF (Chip On Film) is a method of mounting a semiconductor chip on a flexible circuit board in the form of a thin film. For example, the semiconductor chip may be an integrated circuit (IC) chip or a large scale integrated circuit (LSI) chip.
그러나, COF 연성 회로기판은 연성 기판 상에 형성되는 회로 패턴의 반복되는 절곡(bending) 작용이나 절곡된 상태로 결합하는 과정에서 크랙(crack)이 발생하거나, 절곡시 발생하는 인장력으로 인해 파손되는 문제가 발생할 수 있는 문제점이 있다.However, the COF flexible circuit board has problems such as repeated bending of a circuit pattern formed on a flexible substrate, cracking in the process of bonding in a bent state, or breakage due to tensile force generated at bending There is a problem that can occur.
실시예는 신뢰성이 향상된 연성 회로기판, COF 모듈 및 이를 포함하는 전자 디바이스를 제공하고자 한다.The embodiments are intended to provide a flexible circuit board, a COF module and an electronic device including the same which have improved reliability.
실시예에 따른 연성 회로기판은, 벤딩 영역을 포함하는 기판; 상기 기판의 일면 상에 배치되는 배선 패턴층; 상기 배선 패턴층 상의 상기 벤딩 영역 이외의 영역에 배치되는 제 1 도금층; 상기 벤딩 영역 상의 상기 배선 패턴층의 상면 및 상기 제 1 도금층의 상면의 일부를 덮으며, 상기 벤딩 영역보다 넓게 배치되는 보호층; 및 상기 제 1 도금층 상에 배치되고, 상기 보호층이 배치된 영역 이외의 영역에 배치되는 제 2 도금층을 포함하고, 상기 보호층은 상기 제 2 도금층의 상면보다 높게 배치된다.A flexible circuit board according to an embodiment includes: a substrate including a bending region; A wiring pattern layer disposed on one surface of the substrate; A first plating layer disposed on a region other than the bending region on the wiring pattern layer; A protective layer covering the upper surface of the wiring pattern layer on the bending area and a part of the upper surface of the first plating layer and being wider than the bending area; And a second plating layer disposed on the first plating layer and disposed in a region other than the region where the protective layer is disposed, wherein the protective layer is disposed higher than the upper surface of the second plating layer.
실시예에 따른 연성 회로기판은 벤딩 영역을 포함하는 기판; 상기 기판의 일면 상에 배치되는 제 1 배선 패턴층; 상기 제 1 배선 패턴층 상의 상기 벤딩 영역 이외의 영역에 배치되는 제 1 도금층; 상기 벤딩 영역 상의 상기 제 1 배선 패턴층의 상면 및 상기 제 1 도금층의 상면의 일부를 덮으며, 상기 벤딩 영역보다 넓게 배치되는 제 1 보호층; 및 상기 제 1 도금층 상에 배치되고, 상기 제 1 보호층이 배치된 영역 이외의 영역에 배치되는 제 2 도금층을 포함하고, 상기 제 1 보호층은 상기 제 2 도금층의 상면보다 높게 배치되고, 상기 기판의 일면과 반대되는 타면 상에 배치되는 제 2 배선 패턴층; 상기 제 2 배선 패턴층 상에 배치되는 제 3 도금층; 상기 제 3 도금층 상에 배치되는 제 4 도금층; 및 상기 제 4 도금층 상에 배치되고, 상기 벤딩 영역 상에 배치되는 제 2 보호층을 포함한다.A flexible circuit board according to an embodiment includes a substrate including a bending region; A first wiring pattern layer disposed on one surface of the substrate; A first plating layer disposed on a region other than the bending region on the first wiring pattern layer; A first passivation layer covering a portion of the upper surface of the first wiring pattern layer and the upper surface of the first plating layer on the bending region and being wider than the bending region; And a second plating layer disposed on the first plating layer and disposed in a region other than a region where the first protective layer is disposed, wherein the first protective layer is disposed higher than the upper surface of the second plating layer, A second wiring pattern layer disposed on the other surface opposite to the one surface of the substrate; A third plating layer disposed on the second wiring pattern layer; A fourth plating layer disposed on the third plating layer; And a second protective layer disposed on the fourth plating layer and disposed on the bending area.
실시예에 따른 전자 디바이스는 연성 회로기판을 포함하고, 상기 연성회로기판은, 벤딩 영역을 포함하는 기판; 상기 기판의 일면 상에 배치되는 배선 패턴층; 상기 배선 패턴층 상의 상기 벤딩 영역 이외의 영역에 배치되는 제 1 도금층; 상기 벤딩 영역 상의 상기 배선 패턴층의 상면 및 상기 제 1 도금층의 상면의 일부를 덮으며, 상기 벤딩 영역보다 넓게 배치되는 보호층; 상기 제 1 도금층 상에 배치되고, 상기 보호층이 배치된 영역 이외의 영역에 배치되는 제 2 도금층을 포함하고, 상기 보호층은 상기 제 2 도금층의 상면보다 높게 배치되고, 상기 연성 회로기판의 일단과 연결되는 디스플레이 패널; 및 상기 연성 회로기판의 상기 일단과 반대되는 타단과 연결되는 인쇄회로기판을 포함한다.An electronic device according to an embodiment includes a flexible circuit board, the flexible circuit board including: a substrate including a bending area; A wiring pattern layer disposed on one surface of the substrate; A first plating layer disposed on a region other than the bending region on the wiring pattern layer; A protective layer covering the upper surface of the wiring pattern layer on the bending area and a part of the upper surface of the first plating layer and being wider than the bending area; And a second plating layer disposed on the first plating layer and disposed in a region other than a region where the protective layer is disposed, wherein the protective layer is disposed higher than the upper surface of the second plating layer, A display panel connected to the display panel; And a printed circuit board connected to the other end opposite to the one end of the flexible circuit board.
실시예에 따른 연성 회로기판의 제조방법은 12㎛ 내지 125㎛의 두께의 기판을 준비하는 단계; 상기 기판 상의 일면에 1㎛ 내지 20㎛의 두께의 배선 패턴층을 형성하는 단계; 상기 배선 패턴층 상의 벤딩 영역 이외의 영역에 0.1㎛ 이하의 두께를 가지는 제 1 도금층을 형성하는 단계; 상기 벤딩 영역 상의 배선 패턴층 및 상기 제 1 도금층의 일부를 덮도록 1㎛ 내지 20㎛ 두께의 보호층을 배치하는 단계; 상기 제 1 도금층 상의 상기 보호층이 배치된 영역 이외의 영역에 1㎛ 이하의 두께를 가지는 제 2 도금층을 배치하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a flexible circuit board according to an embodiment of the present invention includes: preparing a substrate having a thickness of 12 to 125 탆; Forming a wiring pattern layer having a thickness of 1 占 퐉 to 20 占 퐉 on one surface of the substrate; Forming a first plating layer having a thickness of 0.1 占 퐉 or less on a region other than a bending region on the wiring pattern layer; Disposing a protective layer having a thickness of 1 mu m to 20 mu m so as to cover the wiring pattern layer on the bending area and a part of the first plating layer; And disposing a second plating layer having a thickness of 1 占 퐉 or less on a region other than the region where the protective layer is disposed on the first plating layer.
실시예에 따른 연성 회로기판은 벤딩 영역을 포함하는 기판 상에 배선 패턴층이 배치되고, 상기 배선 패턴층 상의 상기 벤딩 영역 이외의 영역에 제 1 도금층이 배치될 수 있다. 이에 따라, 보호층은 상기 벤딩 영역 상의 배선 패턴층 상면과 상기 제 1 도금층 상면의 일부를 덮으며, 상기 벤딩 영역보다 넓게 배치될 수 있다. The flexible circuit board according to the embodiment may have a wiring pattern layer disposed on a substrate including a bending region and a first plating layer disposed on an area other than the bending region on the wiring pattern layer. Accordingly, the protective layer covers the upper surface of the wiring pattern layer on the bending area and a part of the upper surface of the first plating layer, and can be arranged wider than the bending area.
즉, 실시예는 보호층의 일면이 제 1 도금층과 접촉함에 따라, 연성 회로기판 및 이를 포함하는 COF(Chip On Film) 모듈을 접을 때 인장되는 부분에서 상기 배선 패턴층 및/또는 상기 도금층에 크랙이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 실시예에 따른 연성 회로기판 및 이를 포함하는 COF 모듈의 신뢰성이 향상될 수 있다. That is, according to the embodiment, as the one surface of the protection layer comes into contact with the first plating layer, cracks are formed on the wiring pattern layer and / or the plating layer at a portion stretched when the flexible circuit board and the chip on film (COF) Can be prevented. Accordingly, the reliability of the flexible circuit board and the COF module including the flexible circuit board according to the embodiment can be improved.
또한, 실시예는 배선 배턴층 상에 부분적으로 도금층을 배치함에 따라, 도금 공정에서 발생하는 금속 입자, 예를 들어 Sn 입자(particle)의 발생을 감소시켜, 연성회로기판 및 이를 포함하는 COF 모듈의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, in the embodiment, the plating layer is partially disposed on the wiring baton layer to reduce the generation of metal particles, for example, Sn particles generated in the plating process, Reliability can be improved.
또한, 실시예는 양면 COF 연성 회로기판의 제 1 보호층 및 제 2 보호층 중 적어도 하나의 보호층이 배선 패턴층과 접촉함에 따라, 벤딩시 인장력 변화로 인한 크랙 현상을 방지함은 물론, 전자 디바이스의 좁은 영역에 고밀도로 반도체 칩을 실장할 수 있고, 고해상도의 디스플레이를 구현할 수 있다. In addition, in the embodiment, as the protective layer of at least one of the first protective layer and the second protective layer of the double-sided COF flexible circuit board contacts the wiring pattern layer, cracks due to a change in tensile force at the time of bending are prevented, The semiconductor chip can be mounted in a narrow area of the device at a high density and a high resolution display can be realized.
도 1 내지 도 4는 실시예에 따른 연성 회로기판의 다양한 단면도들이다.
도 5 내지 도 7은 실시예에 따른 양면 연성 회로기판의 다양한 단면도들이다.
도 8 내지 도 11은 실시예에 따른 양면 연성 회로기판의 제조 공정에 대한 단면도들이다.
도 12는 실시예에 따른 연성 회로기판을 포함하는 COF 모듈의 연결관계를 도시한 단면도이다.
도 13 내지 도 15는 실시예에 따른 연성 회로기판을 포함하는 전자 디바이스에 관한 도면들이다.1 to 4 are various sectional views of a flexible circuit board according to an embodiment.
5 to 7 are various cross-sectional views of a double-sided flexible circuit board according to an embodiment.
8 to 11 are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a double-sided flexible circuit board according to an embodiment of the present invention.
12 is a cross-sectional view showing a connection relationship of a COF module including a flexible circuit board according to an embodiment.
13 to 15 are views relating to an electronic device including a flexible circuit board according to an embodiment.
실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.In the description of the embodiments, it is to be understood that each layer (film), area, pattern or structure may be referred to as being "on" or "under / under" Quot; includes all that is formed directly or through another layer. The criteria for top / bottom or bottom / bottom of each layer are described with reference to the drawings.
또한, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다. Also, when a part is referred to as being "connected" to another part, it includes not only a case of being "directly connected" but also a case of being "indirectly connected" with another member in between. Also, when an element is referred to as "comprising ", it means that it can include other elements, not excluding other elements unless specifically stated otherwise.
도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다.The thickness or the size of each layer (film), region, pattern or structure in the drawings may be modified for clarity and convenience of explanation, and thus does not entirely reflect the actual size.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1 내지 도 7을 참조하면, 실시예에 따른 연성 회로기판은 기판(100); 상기 기판(100) 상에 배치되는 배선 패턴층(200); 도금층(300) 및 보호층(400)을 포함할 수 있다.1 to 7, a flexible circuit board according to an embodiment includes a
상기 기판(100)은 상기 배선 패턴층(200); 도금층(300) 및 보호층(400)을 지지하는 지지기판일 수 있다. The
상기 기판(100)은 벤딩 영역(BA) 및 벤딩 영역 이외의 영역(NBA)을 포함할 수 있다. 즉, 상기 기판(100)은 절곡이 이루어지는 벤딩 영역(BA) 및 상기 벤딩 영역을 이외의 비벤딩 영역(NBA)을 포함할 수 있다. The
상기 기판(100)은 연성 기판일 수 있다. 즉, 상기 기판(100)은 연성 플라스틱을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 기판(100)은 폴리이미드(polyimide, PI) 기판일 수 있다. 다만, 실시예는 이에 재한되지 않고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthalate, PEN)과 같은 고분자 물질로 구성된 기판일 수 있다. 이에 따라, 상기 기판(100)을 포함하는 연성 회로기판은 곡선의 디스플레이 장치가 구비된 다양한 전자디바이스에 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 기판(100)을 포함하는 연성 회로기판은 플렉서블 특성이 우수함에 따라, 웨어러블 전자디바이스의 반도체 칩을 실장하는데 적합할 수 있다.The
상기 기판(100)은 절연 기판일 수 있다. 즉, 상기 기판(100)은 다양한 배선 패턴들을 지지하는 절연 기판일 수 있다. The
상기 기판(100)은 12㎛ 내지 125㎛의 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 기판(100)은 50㎛ 이하의 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 기판(100)은 20㎛ 내지 40㎛의 두께를 가질 수 있다. 상기 기판(100)의 두께가 125㎛ 초과인 경우에는 전체적인 연성 회로기판의 두께가 증가할 수 있다.The
상기 기판(100) 상에는 배선이 배치될 수 있다. 상기 배선은 패턴화된 복수 개의 배선일 수 있다. 예를 들어, 상기 기판(100) 상에서 상기 복수 개의 배선들은 서로 이격되어 배치될 수 있다. 즉, 상기 기판(100)의 일면 상에는 배선 패턴층(200)이 배치될 수 있다.Wiring may be disposed on the
상기 기판(100)의 면적은 상기 배선 패턴층(200)의 면적보다 클 수 있다. 자세하게, 상기 기판(100)의 평면적은 상기 배선 패턴층(200)의 평면적보다 클 수 있다. 즉, 상기 기판(100) 상에는 상기 배선 패턴층(200)이 부분적으로 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 배선 패턴층(200)의 하면은 상기 기판(100)과 접촉하고, 상기 복수 개의 배선들 사이에는 상기 기판(100)이 노출될 수 있다.상기 배선 패턴층(200)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 배선 패턴층(200)은 전기 전도성이 우수한 금속 물질을 포함할 수 있다. 더 자세하게, 상기 배선 패턴층(200)은 구리(Cu)를 포함할 수 있다. 다만, 실시예가 이에 제한되는 것은 아니고, 구리(Cu), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 은(Ag), 몰리브덴(Mo). 금(Au), 티타튬(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있음은 물론이다. The area of the
상기 배선 패턴층(200)은 1㎛ 내지 20㎛의 두께로 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 배선 패턴층(200)은 5㎛ 내지 20㎛의 두께로 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 배선 패턴층(200)은 5㎛ 내지 15㎛의 두께로 배치될 수 있다.The
상기 배선 패턴층(200)의 두께가 1㎛ 미만인 경우에는 배선 패턴층의 저항이 증가할 수 있다. 상기 배선 패턴층(200)의 두께가 20㎛ 초과인 경우에는 미세패턴을 구현하기 어려울 수 있다. If the thickness of the
상기 배선 패턴층(200) 상에는 도금층(300)이 배치될 수 있다. 상기 도금층(300)은 제 1 도금층(310) 및 제 2 도금층(320)을 포함할 수 있다.A
상기 제 1 도금층(310)은 상기 배선 패턴층(200) 상에 부분적으로 배치될 수 있다. 상기 제 1 도금층(310)은 상기 배선 패턴층(200) 상의 상기 벤딩 영역 이외의 영역(NBA) 상에 배치될 수 있다. The
즉, 상기 제 1 도금층(310)은 상기 배선 패턴층(200) 상의 벤딩 영역(BA) 상에 배치되지 않을 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 도금층(310)은 상기 벤딩 영역(BA)에서 제 1 오픈부(OA1)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 오픈부(OA1)의 폭은 상기 벤딩 영역(BA)의 폭과 대응될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 도금층(310)의 측면은 상기 벤딩 영역(BA) 및 상기 벤딩 영역 이외의 영역(NBA)의 경계 영역에 배치될 수 있다.That is, the
상기 제 1 도금층(310)은 상기 제 1 오픈부에 의해서 서로 이격될 수 있다. 예를 들어, 상기 벤딩 영역의 일단의 외측에서 상기 제 1 도금층(311)은 상기 벤딩 영역의 타단의 외측에서 상기 제 1 도금층(312)과 서로 연결되지 않을 수 있다.The first plating layers 310 may be spaced apart from each other by the first openings. For example, the
상기 제 2 도금층(320)은 상기 제 1 도금층(310) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 도금층(320)은 상기 제 1 도금층(310) 상에 부분적으로 배치될 수 있다. 상기 제 2 도금층(320)은 상기 제 1 도금층(310) 상의 상기 보호층(400)이 배치된 영역 이외의 영역에 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 2 도금층(320)은 상기 제 1 도금층(310) 상의 상기 보호층(400)이 배치된 영역 이외의 영역에 에 배치될 수 있다. The
상기 제 2 도금층(320)은 상기 제 1 도금층(310)의 벤딩 영역 이외의 영역(NBA) 상에 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 2 도금층(320)은 벤딩 영역(BA) 상에 배치되지 않을 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 도금층(320)은 제 2 오픈부(OA2)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 오픈부(OA2)의 폭은 상기 벤딩 영역(BA)의 폭보다 클 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 도금층(320)의 측면은 상기 벤딩 영역(BA) 및 상기 벤딩 영역 이외의 영역(NBA)의 경계 영역에서 이격될 수 있다. The
상기 제 2 도금층(320)은 상기 제 2 오픈부에 의해서 서로 이격될 수 있다. 예를 들어, 상기 벤딩 영역의 일단의 외측에서 상기 제 2 도금층(321)은 상기 벤딩 영역의 타단의 외측에서 상기 제 2 도금층(322)과 서로 연결되지 않을 수 있다.The
상기 제 1 오픈부(OA1)의 폭은 상기 제 2 오픈부(OA2)의 폭과 서로 다를 수 있다. 상기 제 1 오픈부(OA1)의 폭은 상기 제 2 오픈부(OA2)의 폭보다 작을 수 있다. The width of the first open portion OA1 may be different from the width of the second open portion OA2. The width of the first open portion OA1 may be smaller than the width of the second open portion OA2.
상기 제 2 도금층(320)의 면적은 상기 제 1 도금층(310)의 면적보다 작을 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 도금층(320)의 평면적은 상기 제 1 도금층(310)의 평면적보다 작을 수 있다.The area of the
상기 제 1 오픈부(OA1) 및 상기 제 2 오픈부(OA2)에는 보호층(400)이 배치될 수 있다. A
상기 제 1 오픈부(OA1)에 배치되는 상기 보호층(400)의 폭(W1)은 상기 제 2 오픈부(OA2)에 배치되는 상기 보호층(400)의 폭(W2)보다 작을 수 있다. The width W1 of the
상기 도금층(300)은 주석(Sn)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 도금층(310) 및 상기 제 2 도금층(320)은 주석(Sn)을 포함할 수 있다. The
일례로, 상기 배선 패턴층(200)을 구리(Cu)로 배치하고, 상기 제 1 도금층(310) 및 상기 제 2 도금층(320)을 주석(Sn)으로 배치할 수 있다. 즉, 상기 제 1 도금층(310) 및 상기 제 2 도금층(320)은 동일한 주석(Sn)으로 형성되나, 제 1 및 제 2 오픈부에 배치되는 보호층의 구조를 구현하기 위해서, 상기 제 1 도금층(310) 및 상기 제 2 도금층(320)은 별도의 공정으로 형성될 수 있다. For example, the
상기 제 1 도금층(310)은 주석(Sn)으로 도금한 후, 절연 패턴인 보호층(400)을 도포하고, 상기 제 2 도금층(320)이 주석(Sn)으로 도금하는 공정이 진행될 수 있다. The
예를 들어, 실시예에 따른 연성 회로기판의 제조 공정에 열경화와 같은 열처리 공정이 포함되는 경우에는, 상기 배선 패턴층(200)의 구리(Cu) 또는 상기 도금층(300)의 주석(Sn)의 확산 작용이 일어날 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 도금층(310)에서 상기 제 2 도금층(320)의 표면으로 갈수록 구리(Cu)의 확산 농도가 낮아짐에 따라, 구리(Cu)의 함량이 작아질 수 있다. 한편, 상기 제 1 도금층(310)에서 상기 제 2 도금층(320)의 표면으로 갈수록 주석(Sn)의 함량은 커질 수 있다.For example, when the manufacturing process of the flexible circuit board according to the embodiment includes a heat treatment process such as thermal curing, the copper (Cu) of the
즉, 상기 배선 패턴층(200) 및 상기 도금층(300)은 적층 계면에서의 화학작용에 의해, 상기 제 1 도금층(310)과 상기 제 2 도금층(320)은 주석 및 구리의 합금일 수 있다. 또한, 상기 제 1 도금층(310) 및 상기 제 2 도금층(320)은 주석 및 구리의 함량이 서로 다를 수 있다. 상기 구리 배선 패턴층과 직접 접촉하는 상기 제 1 도금층(310)은 상기 제 2 도금층(320)보다 구리의 함량이 클 수 있다. 또는, 상기 제 1 도금층(310)은 주석 및 구리의 합금이고, 상기 제 2 도금층(310)은 주석을 포함할 수 있다. 실시예에 따른 도금층은 Cu/Sn의 확산현상으로 인해, 전기화학적 마이그레이션(Electrochemical Migration Resistance)을 방지하여, 금속 성장으로 인한 합선 불량을 차단할 수 있다. That is, the first patterned
다만, 실시예는 이에 제한되지 않고, Ni/Au 합금, 금(Au), 무전해 니켈 금 도금(electroless nickel immersion gold, ENIG), Ni/Pd 합금, 유기화합물 도금(Organic Solderability Preservative, OSP) 중 어느 하나를 포함할 수 있음은 물론이다. However, the present invention is not limited to these examples, and examples thereof include a Ni / Au alloy, Au, electroless nickel immersion gold (ENIG), Ni / Pd alloy, and Organic Solderability Preservative It is of course possible to include any one of them.
상기 제 1 도금층(310)은 상기 제 2 도금층(320)과 서로 다른 두께를 가질 수 있다. 상기 제 1 도금층(310)의 두께(T1)은 상기 제 2 도금층(320)의 두께(T2)보다 작을 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 도금층(310)은 0.1㎛ 이하의 두께일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 도금층(320)은 1㎛ 이하의 두께일 수 있다. 즉, 상기 도금층(300)의 전체 두께는 1.1㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 도금층(310) 및 상기 제 2 도금층(320)의 두께는 1.1㎛ 이하일 수 있다.The
상기 보호층(400)은 상기 벤딩 영역(BA) 상의 상기 배선 패턴층(200)의 상면 및 상기 제 1 도금층(310)의 일부를 덮으며, 상기 벤딩 영역(BA)보다 넓게 배치될 수 있다. The
상기 보호층(400)은 상기 배선 패턴층(200), 상기 제 1 금속층(310) 및 상기 제 2 도금층(320)과 접촉할 수 있다. 상기 보호층(400)은 상기 벤딩 영역 상의 상기 배선 패턴층(200)의 상면, 상기 제 1 금속층(310)의 상면의 일부 및 상기 제 2 도금층(320)과 접촉할 수 있다. 자세하게, 상기 보호층(400)은 상기 벤딩 영역(BA) 내지 상기 제 1 오픈 영역(OA1)의 상기 배선 패턴층(200)의 상면, 상기 벤딩 영역(BA) 내지 상기 제 1 오픈 영역(OA1) 외측의 상기 제 1 도금층(310)의 상면과 측면 및 상기 제 2 도금층(320)의 측면과 직접 접촉할 수 있다. 즉, 실시예에 따른 보호층(400)은 상기 배선 패턴층(200), 상기 제 1 도금층(310) 및 상기 제 2 도금층(320)과 동시에 직접 접촉함에 따라, 보호층(400)의 탈막을 방지할 수 있어, 실시예에 따른 연성 회로기판의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 상기 보호층(400)은 상기 제 1 도금층(310)의 일 측면 및 상면을 감쌀 수 있다. The
즉, 상기 보호층(400)은 상기 벤딩 영역 이외의 영역(NBA)에서 상기 제 1 도금층(310)과 중첩될 수 있다. 상기 보호층(400)은 상기 벤딩 영역(BA)에서 상기 제 1 도금층(310)과 중첩되지 않을 수 있다. That is, the
실시예는 상기 벤딩 영역(BA)의 일단의 외측에서 상기 제 1 도금층(310)과 상기 보호층(400)이 접촉하는 제 1 중첩 영역(CA1) 및 상기 벤딩 영역(BA)의 타단의 외측에서 상기 제 1 도금층(310)과 상기 보호층(400)이 접촉되는 제 2 중첩 영역을 포함할 수 있다.The first overlapping area CA1 in which the
상기 제 1 중첩영역(CA1) 또는 상기 제 2 중첩영역(CA2)의 폭은 400㎛ 이상일 수 있다.The width of the first overlap region CA1 or the second overlap region CA2 may be 400 占 퐉 or more.
상기 제 1 중첩영역(CA1) 또는 상기 제 2 중첩영역(CA2)의 폭은 상기 벤딩 영역(BA)의 폭보다 작을 수 있다. 일례로, 상기 제 1 중첩영역(CA1) 및 상기 제 2 중첩영역(CA2)의 폭은 상기 벤딩 영역(BA)의 폭보다 작을 수 있다. The width of the first overlapping area CA1 or the width of the second overlapping area CA2 may be smaller than the width of the bending area BA. For example, the widths of the first overlapping area CA1 and the second overlapping area CA2 may be smaller than the width of the bending area BA.
상기 제 1 중첩영역(CA1) 및 상기 제 2 중첩영역(CA2)의 폭은 대응되거나 서로 다를 수 있다. The widths of the first overlapping area CA1 and the second overlapping area CA2 may be corresponding or different from each other.
예를 들어, 도 3을 참조하면, 상기 제 1 중첩 영역(CA1)의 폭은 상기 제 2 중첩 영역(CA2)의 폭과 동일 할 수 있다. For example, referring to FIG. 3, the width of the first overlap area CA1 may be equal to the width of the second overlap area CA2.
예를 들어, 도 4를 참조하면, 상기 제 1 중첩 영역(CA1)의 폭은 상기 제 2 중첩 영역(CA2)의 폭과 서로 다를 수 있다. 상기 제 1 중첩 영역(CA1)의 폭은 상기 제 2 중첩 영역(CA2)의 폭보다 작을 수 있다.For example, referring to FIG. 4, the width of the first overlap area CA1 may be different from the width of the second overlap area CA2. The width of the first overlapping area CA1 may be smaller than the width of the second overlapping area CA2.
상기 보호층(400)의 측면(410S)은 다양한 단면 형상을 가질 수 있다. 상기 보호층(400)의 측면(400S)은 경사면 또는 수직면을 포함할 수 있다. The side surface 410S of the
예를 들어, 도 1을 참조하면, 상기 보호층(400)의 측면(400S)은 경사면을 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 보호층(400)은 상기 제 2 도금층(320)과 접촉하는 면적이 넓어질 수 있어, 상기 보호층(400)의 탈막을 방지할 수 있다. For example, referring to FIG. 1, a
상기 보호층(400)의 측면(400S)은 곡선 형상의 경사면을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 보호층(400)의 측면(400S)은 상기 제 1 도금층(310)과의 경사각도가 상기 제 1 도금층(310)과 가까워질수록 증가할 수 있다. 자세하게, 상기 보호층(400)의 측면(400S)은 상기 제 1 도금층(310)과의 경사각도가 예각을 가질 수 있다. The
예를 들어, 도 2를 참조하면, 상기 보호층(400)의 측면(400S)은 경사면을 포함할 수 있다. 상기 보호층(400)의 측면(400S)은 직선 형상의 경사면을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 보호층(410)의 측면(410S)은 상기 제 1 도금층(310)과의 경사각도가 상기 제 1 도금층(310)과의 거리에 관계없이 일정할 수 있다. 자세하게, 상기 보호층(400)의 측면(400S)은 상기 제 1 도금층(310)과의 경사각도가 예각을 가질 수 있다. For example, referring to FIG. 2, the
예를 들어, 도 3 및 도 4를 참조하면, 상기 보호층(400)의 측면(400S)은 수직면을 포함할 수 있다. 상기 보호층(400)의 측면(400S)은 직선 형상의 경사면을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 보호층(400)의 측면(400S)은 상기 제 1 도금층(310)과의 경사각도가 90도 내지 이와 유사한 각도를 가질 수 있다. For example, referring to FIGS. 3 and 4, the
상기 보호층(400)은 절연성 물질을 포함할 수 있다. 상기 보호층(400)은 레지스트(resist)층일 수 있다. 예를 들어, 상기 보호층(400)은 유기고분자 물질을 포함하는 솔더 레지스트층일 수 있다. 일례로, 상기 보호층(400)은 에폭시 아크릴레이트 계열의 수지를 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 보호층(400)은 수지, 경화제, 광개시제, 안료, 용매, 필러, 첨가제, 아크릴 계열의 모노머 등을 포함할 수 있다. 다만, 실시예는 이에 제한되지 않고, 상기 보호층(400)은 포토솔더 레지스트층, 커버레이(cover-lay) 및 고분자 물질 중 어느 하나일 수 있음은 물론이다.The
상기 보호층(400)의 두께(T3)는 상기 제 2 도금층(320)의 두께(T2)보다 클 수 있다. 이에 따라, 상기 보호층(400)의 상면은 상기 제 2 도금층(320)의 상면보다 높게 배치될 수 있다. 즉, 상기 보호층(400)의 상면은 상기 제 2 도금층(320)의 상면보다 높게 배치됨에 따라, 상기 보호층(400)과 상기 제 2 도금층(320)은 단차를 가질 수 있다. The thickness T3 of the
상기 보호층(400)은 상기 벤딩 영역에서의 두께와 상기 벤딩 영역 이외의 영역에서의 두께가 서로 다를 수 있다. The thickness of the
상기 벤딩 영역 상의 상기 보호층(400)의 두께는 상기 제 1 중첩 영역(CA1) 상의 제 1 보호층(410)의 두께보다 클 수 있다. 또한, 상기 벤딩 영역 상의 상기 보호층(400)의 두께는 상기 제 2 중첩 영역(CA2) 상의 제 1 보호층(410)의 두께보다 클 수 있다.The thickness of the
상기 벤딩 영역에서 상기 보호층(400)의 두께(T3)는 1㎛ 내지 20㎛일 수 있다. 예를 들어, 상기 벤딩 영역에서 상기 보호층(400)의 두께(T3)는 5㎛ 내지 20㎛일 수 있다. The thickness T3 of the
상기 보호층(400)은 일체로 형성될 수 있다. 이에 따라, 실시예에 따른 보호층(400)의 탈막을 방지할 수 있어, 연성 회로기판의 신뢰성이 향상될 수 있다. 또한, 실시예에 따른 연성 회로기판을 벤딩할 경우, 인장에 의한 응력이 일체로 형성된 상기 보호층(400)에 전체적으로 분산될 수 있어, 신뢰성이 향상될 수 있다. 또한, 실시예에 따른 연성 회로기판 형성 공정 효율을 향상시킬 수 있다.The
도 5 내지 도 7을 참조하여, 실시예에 따른 양면 연성 회로기판을 구체적으로 설명한다. 실시예는 벤딩 영역을 포함하는 기판(100), 상기 기판의 일면 상에 배치되는 제 1 배선 패턴층(210), 상기 제 1 배선 패턴층 상의 상기 벤딩 영역 이외의 영역에 배치되는 제 1 도금층(310), 상기 벤딩 영역 상의 상기 제 1 배선 패턴층의 상면 및 상기 제 1 도금층의 상면의 일부를 덮으며, 상기 벤딩 영역보다 넓게 배치되는 제 1 보호층(410) 및 상기 제 1 도금층 상에 배치되고, 상기 제 1 보호층이 배치된 영역 이외의 영역에 배치되는 제 2 도금층(320)을 포함하고, 상기 제 1 보호층은 상기 제 2 도금층의 상면보다 높게 배치되고, 상기 기판의 일면과 반대되는 타면 상에 배치되는 제 2 배선 패턴층(320), 상기 제 2 배선 패턴층 상에 배치되는 제 3 도금층(330), 상기 제 3 도금층 상에 배치되는 제 4 도금층(340) 및 상기 제 4 도금층 상에 배치되고, 상기 벤딩 영역 상에 배치되는 제 2 보호층(420)을 포함할 수 있다.5 to 7, a double-sided flexible circuit board according to an embodiment will be described in detail. The embodiment includes a
즉, 상기 연성 기판(100)의 양면 상에는 상기 배선 패턴층(200)이 배치될 수 있다. 상기 배선 패턴층(200)은 제 1 배선 패턴층(210) 및 제 2 배선 패턴층(220)을 포함할 수 있다. 상기 연성 기판(100)의 일면 상에 상기 제 1 배선 패턴층(210)이 배치되고, 상기 연성 기판(100)의 상기 일면과 반대되는 타면 상에 상기 제 2 배선 패턴층(220)이 배치될 수 있다. That is, the
상기 제 1 배선 패턴층(210)의 두께는 상기 제 2 배선 패턴층(220)의 두께와 서로 대응될 수 있다. 상기 제 1 배선 패턴층(210)의 두께 및 상기 제 2 배선 패턴층(220)의 두께는 각각 1㎛ 내지 20㎛일 수 있다. The thickness of the first
상기 제 1 배선 패턴층(210) 상에는 제 1 도금층(310)이 배치될 수 있다. 또한, 상기 제 2 배선 패턴층(220) 상에는 제 3 도금층(330)이 배치될 수 있다. A
상기 제 1 도금층(310) 및 상기 제 3 도금층(330) 중 적어도 하나는 제 1 오픈부(OA1)를 포함할 수 있다. At least one of the
예를 들어, 도 5를 참조하면, 상기 제 1 도금층(310) 및 상기 제 3 도금층(330) 중 하나에 상기 제 1 오픈부(OA1)를 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 도금층(310)은 상기 제 1 오픈부(OA1)를 포함할 수 있다.For example, referring to FIG. 5, one of the
예를 들어, 도 6 및 도 7을 참조하면, 상기 제 1 도금층(310) 및 상기 제 3 도금층(330)에 각각 상기 제 1 오픈부(OA1)를 포함할 수 있다. For example, referring to FIGS. 6 and 7, the
즉, 도 6 및 도 7을 참조하면, 상기 제 3 도금층(330)은 상기 벤딩 영역 이외의 영역에 배치되고, 상기 제 2 보호층(420)은 상기 벤딩 영역 상의 상기 제 2 배선 패턴층(220) 및 상기 제 3 도금층의 상면의 일부를 덮으며, 상기 벤딩 영역보다 넓게 배치되고, 상기 제 4 도금층(440)은 상기 제 2 보호층이 배치된 영역 이외의 영역에 배치되고, 상기 제 2 보호층은 상기 제 4 도금층의 상면보다 높게 배치될 수 있다. 6 and 7, the
상기 제 1 도금층(310) 상에는 제 2 도금층(320)이 배치될 수 있다. 또한, 상기 제 3 도금층(330) 상에는 제 4 도금층(340)이 배치될 수 있다. A
상기 제 2 도금층(320) 및 상기 제 4 도금층(340) 중 적어도 하나는 제 2 오픈부(OA2)를 포함할 수 있다. At least one of the
예를 들어, 도 5를 참조하면, 상기 제 2 도금층(320) 및 상기 제 4 도금층(340) 중 하나에 상기 제 2 오픈부(OA2)를 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 도금층(320)은 상기 제 2 오픈부(OA2)를 포함할 수 있다. 상기 제 1 오픈부의 폭(W1)은 제 2 오픈부의 폭(W2)과 다를 수 있다. 상기 제 1 오픈부의 폭(W1)은 제 2 오픈부의 폭(W2)보다 작을 수 있다.For example, referring to FIG. 5, one of the
예를 들어, 도 6 및 도 7을 참조하면, 상기 제 2 도금층(320) 및 상기 제 4 도금층(340)에 각각 상기 제 2 오픈부(OA2)를 포함할 수 있다. For example, referring to FIGS. 6 and 7, the
상기 제 2 도금층(320) 상에는 제 1 보호층(410)이 배치될 수 있다. 또한, 상기 제 4 도금층(3400) 상에는 제 2 보호층(420)이 배치될 수 있다.The first
상기 제 1 보호층(410) 및 상기 제 2 보호층(420) 중 적어도 하나는 상면과 하면의 폭이 다른 것을 포함할 수 있다. At least one of the
예를 들어, 도 5를 참조하면, 상기 제 1 보호층(410) 및 상기 제 2 보호층(420) 중 하나의 보호층은 상면과 하면의 폭이 다를 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 보호층(410)은 상면에서의 폭(W2)과 하면에서의 폭(W1)이 다를 수 있다. 상기 제 1 보호층(410)은 상면에서의 폭(W2)이 하면에서의 폭(W1)보다 클 수 있다. For example, referring to FIG. 5, the protective layer of one of the first
예를 들어, 도 6 및 도 7을 참조하면, 상기 제 1 보호층(410) 및 상기 제 2 보호층(420)은 각각 상면과 하면의 폭이 다를 수 있다. 6 and 7, the widths of the upper surface and the lower surface of the
도 6을 참조하면, 상기 제 1 보호층(410)은 상면에서의 폭(W2)과 하면에서의 폭(W1)이 다를 수 있다. 상기 제 1 보호층(410)은 상면에서의 폭(W2)이 하면에서의 폭(W1)보다 클 수 있다. 또한, 상기 제 2 보호층(420)은 상면에서의 폭(W2)과 하면에서의 폭(W3)이 다를 수 있다. 상기 제 2 보호층(420)은 상면에서의 폭(W2)이 하면에서의 폭(W3)보다 클 수 있다. 이때, 상기 제 1 보호층(410)의 하면에서의 폭(W1)은 상기 제 2 보호층(420)의 하면에서의 폭(W3)과 서로 다를 수 있다. Referring to FIG. 6, the width W1 of the
도 7을 참조하면, 상기 제 1 보호층(410)은 상면에서의 폭(W2)과 하면에서의 폭(W1)이 다를 수 있다. 상기 제 1 보호층(410)은 상면에서의 폭(W2)이 하면에서의 폭(W1)보다 클 수 있다. 또한, 상기 제 2 보호층(420)은 상면에서의 폭(W2)과 하면에서의 폭(W1)이 다를 수 있다. 상기 제 2 보호층(420)은 상면에서의 폭(W2)이 하면에서의 폭(W1)보다 클 수 있다. 이때, 상기 제 1 보호층(410)의 하면에서의 폭(W1)은 상기 제 2 보호층(420)의 하면에서의 폭(W1)과 서로 대응될 수 있다. Referring to FIG. 7, the width W1 of the
상기 제 1 보호층(410) 및 상기 제 2 보호층(420) 중 적어도 하나는 상기 배선 패턴층과 접촉할 수 있다. At least one of the
예를 들어, 도 5를 참조하면, 상기 제 1 보호층(410) 및 상기 제 2 보호층(420) 중 하나의 보호층이 상기 배선 패턴층과 접촉할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 보호층(410)은 상기 배선 패턴층과 접촉할 수 있다. 이때, 상기 제 1 보호층(410)이 인장력을 받고, 상기 제 2 보호층(420)이 압축력을 받는 방향으로 절곡될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 보호층(410)의 일면이 상기 배선 패턴층과 접촉함에 따라, 상기 연성 회로기판을 접을 때 인장되는 부분에서 상기 제 1 패턴층(201), 상기 도금층(300)에 크랙이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 실시예에 따른 연성 회로기판은 신뢰성이 향상될 수 있다. For example, referring to FIG. 5, one of the
예를 들어, 도 6 및 도 7을 참조하면, 상기 제 1 보호층(410)은 상기 제 1 배선 패턴층(210)과 접촉하고, 상기 제 2 보호층(420)은 상기 제 2 배선 패턴층(220)과 각각 접촉할 수 있다. 이때, 상기 제 1 보호층(410) 또는 상기 제 2 보호층(420)이 인장력을 받는 방향으로 절곡될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 보호층(410)의 일면 또는 상기 제 2 보호층(420)의 일면이 상기 배선 패턴층과 접촉함에 따라, 상기 연성 회로기판을 접을 때 인장되는 부분에서 상기 제 1 또는 제 2 배선 패턴층(210, 220) 및/또는 상기 도금층(310, 320, 330, 340)에 크랙이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 실시예에 따른 연성 회로기판은 신뢰성이 향상될 수 있다. 6 and 7, the
상기 제 1 보호층(410)의 두께는 상기 제 2 보호층(420)의 두께와 서로 대응되거나 서로 다를 수 있다. 이때, 상기 보호층의 두께는 벤딩 영역에서 측정한 것을 의미할 수 있다. The thickness of the
예를 들어, 도 5를 참조하면, 상기 제 1 보호층(410)의 두께(T3)는 상기 제 2 보호층(420)의 두께(T4)와 서로 다를 수 있다. 상기 제 1 보호층(410)의 두께(T3)는 상기 제 2 보호층(420)의 두께(T4)보다 클 수 있다. 상기 제 1 보호층(410)의 두께는 10 내지 20㎛이고, 상기 제 2 보호층(420)의 두께는 5 내지 15㎛일 수 있다. 이때, 상기 제 1 보호층(410)이 인장력을 받고, 상기 제 2 보호층(420)이 압축력을 받는 방향으로 절곡될 수 있다. 즉, 인장력을 받는 제 1 보호층(410)은 압축력을 받는 상기 제 2 보호층(420)보다 큰 두께를 가짐에 따라, 상기 연성 회로기판을 접을 때 인장되는 부분에서 상기 제 1 배선 패턴층(210) 및/또는 상기 도금층(310, 320)에 크랙이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 실시예에 따른 연성 회로기판은 신뢰성이 향상될 수 있다. For example, referring to FIG. 5, the thickness T3 of the
예를 들어, 도 6 및 도 7을 참조하면, 상기 제 1 보호층(410)의 두께(T3)는 상기 제 2 보호층(420)의 두께(T3)와 서로 대응될 수 있다. 상기 제 1 보호층(410)의 두께는 1 내지 20㎛이고, 상기 제 2 보호층(420)의 두께는 1 내지 20㎛일 수 있다. 6 and 7, the thickness T3 of the
도면에는 도시하지 않았으나, 상기 제 1 보호층(410) 및 상기 제 2 보호층(420)은 각각 제 1 및 제 2 배선 패턴층(210, 220)과 접촉하고, 상기 제 1 보호층(410)의 두께는 10 내지 20㎛이고, 상기 제 2 보호층(420)의 두께는 5 내지 15㎛일 수 있다. 이때, 상기 제 1 보호층(410)이 인장력을 받고, 상기 제 2 보호층(420)이 압축력을 받는 방향으로 절곡될 수 있다. 즉, 인장력을 받는 제 1 보호층(410)은 압축력을 받는 상기 제 2 보호층(420)보다 큰 두께를 가짐에 따라, 상기 연성 회로기판을 접을 때 인장되는 부분에서 상기 제 1 배선 패턴층(210) 및/또는 상기 도금층(310, 320)에 크랙이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 실시예에 따른 연성 회로기판은 신뢰성이 향상될 수 있다.The
도 5 내지 도 7을 참조하면, 상기 벤딩 영역의 일단의 외측에서 상기 제 1 도금층과 상기 1 보호층이 접촉하는 제 1 중첩 영역 및 상기 벤딩 영역의 타단의 외측에서 상기 제 1 도금층과 상기 제 1 보호층이 접촉되는 제 2 중첩 영역을 포함할 수 있다.5 to 7, a first overlapping region in which the first plating layer and the one protection layer are in contact with each other at an outer side of one end of the bending region, and a second overlapping region in which the first plating layer and the first And a second overlap region in which the protective layer is in contact.
상기 제 1 중첩 영역의 폭은 상기 제 2 중첩 영역의 폭과 서로 대응되거나 서로 다를 수 있다.상기 벤딩 영역의 일단의 외측에서 상기 제 3 도금층과 상기 제 2 보호층이 접촉하는 제 3 중첩 영역 및 상기 벤딩 영역의 타단의 외측에서 상기 제 3 도금층과 상기 제 2 보호층이 접촉되는 제 4 중첩 영역을 포함할 수 있다.The width of the first overlap region may correspond to the width of the second overlap region or may be different from each other. A third overlap region in which the third plating layer and the second protection layer are in contact with each other at an outer side of one end of the bending region, And a fourth overlap region in which the third plating layer and the second protective layer are in contact with each other at an outer side of the other end of the bending region.
도 6을 참조하면, 상기 제 1 중첩영역(CA1)의 폭은 상기 제 2 중첩영역(CA2)의 폭과 대응될 수 있다. 상기 제 3 중첩영역(CA3)의 폭은 상기 제 4 중첩영역(CA4)의 폭과 대응될 수있다. Referring to FIG. 6, the width of the first overlapping area CA1 may correspond to the width of the second overlapping area CA2. The width of the third overlapping area CA3 may correspond to the width of the fourth overlapping area CA4.
상기 제 1 중첩영역(CA1)의 폭은 상기 제 3 중첩영역(CA3)의 폭보다 작을 수 있다. 상기 제 2 중첩영역(CA2)의 폭은 은 상기 제 4 중첩영역(CA4)의 폭보다 작을 수 있다.The width of the first overlapping area CA1 may be smaller than the width of the third overlapping area CA3. The width of the second overlapping area CA2 may be smaller than the width of the fourth overlapping area CA4.
도 7을 참조하면, 상기 제 1 중첩영역(CA1)의 폭은 상기 제 2 중첩영역(CA2)의 폭과 대응될 수 있다. 또한, 상기 제 1 중첩영역(CA1)의 폭은 상기 제 3 중첩영역(CA3)의 폭과 대응될 수 있다. 상기 제 2 중첩영역(CA2)의 폭은 은 상기 제 4 중첩영역(CA4)의 폭과 대응될 수 있다.Referring to FIG. 7, the width of the first overlapping area CA1 may correspond to the width of the second overlapping area CA2. The width of the first overlapping area CA1 may correspond to the width of the third overlapping area CA3. The width of the second overlapping area CA2 may correspond to the width of the fourth overlapping area CA4.
도 7을 참조하면, 상기 제 1 보호층(410) 및 상기 제 1 배선 패턴층(210)의 접촉 영역의 폭(W1)은 상기 제 2 보호층(420) 및 상기 제 2 배선 패턴층(220)의 접촉 영역의 폭(W1)과 동일할 수 있다. 이때, 상기 제 1 보호층(410)의 두께 및 상기 제 2 보호층(420)의 두께는 서로 동일한 것을 포함할 수 있다. 즉, 제 1 보호층 및 제 2 보호층은 대응되는 형상 및 두께를 가질 수 있다. 상기 기판의 일면 및 타면에서의 변형에 의한 스트레스를 최소화할 수 있다. 또한, 제 1 및 제 2 보호층과 배선 패턴층, 도금층과의 접촉면적을 향상시킴에 따라, 보호층의 탈막을 방지할 수 있다. 또한, 상기 제 1 및 제 2 보호층은 대응되는 형상을 가지므로, 공정 효율이 향상될 수 있다. 7, the width W1 of the contact area between the
즉, 실시예에 따른 양면 연성 회로기판은 인장력을 받는 쪽의 보호층이 배선 패턴층과 접촉할 수 있어, 벤딩에 의한 배선 패턴층 및/또는 도금층의 크랙이나 파손을 방지함에 따라, 신뢰성이 향상시킬 수 있다.That is, in the double-sided flexible circuit board according to the embodiment, the protective layer on the side receiving the tensile force can contact the wiring pattern layer, thereby preventing cracks and breakage of the wiring pattern layer and / or the plating layer due to bending, .
실시예에 따른 양면 연성 회로기판은 제 1 도금층(310)의 사이 및 제 2 도금층(320)의 사이에 배치된 제 1 보호층(410)을 포함할 수 있다. 즉, 실시예에 따른 양면 연성 회로기판은 제 1 도금층(310)의 사이 및 제 2 도금층(320) 사이에 일 부분이 매립된 제 1 보호층(410)의 구조를 포함할 수 있어, 벤딩 영역의 인장력을 완충시킬 수 있어, 배선 패틴층과 도금층의 크랙을 방지할 수 있다.The double-sided flexible circuit board according to the embodiment may include a first
또한, 실시예에 따른 양면 연성 회로기판은 제 1 보호층 및 제 2 보호층 중 적어도 하나의 보호층이 배선 패턴층과 접촉함에 따라, 벤딩시 인장력 변화로 인한 크랙 현상을 방지함은 물론, 전자 디바이스의 좁은 영역에 고밀도로 반도체 칩을 실장할 수 있고, 고해상도의 디스플레이를 구현할 수 있다. 또한, 실시예는 Sn 입자(particle)의 발생으로 인하여, 외관 불량, 신뢰성이 저하의 문제를 방지할 수 있다.In addition, in the double-sided FPCB according to the embodiment, as the protective layer of at least one of the first protective layer and the second protective layer contacts the wiring pattern layer, cracks due to a change in tensile force during bending are prevented, The semiconductor chip can be mounted in a narrow area of the device at a high density and a high resolution display can be realized. In addition, the embodiment can prevent the problems of poor appearance and reliability due to the generation of Sn particles.
이하, 도 8 내지 도 11을 참조하여, 실시예에 따른 양면 연성 회로기판의 제조 방법을 설명한다. Hereinafter, a method of manufacturing the double-sided flexible circuit board according to the embodiment will be described with reference to Figs. 8 to 11. Fig.
실시예에 따른 연성회로기판의 제조방법은, 12㎛ 내지 125㎛의 두께의 기판을 준비하는 단계; 상기 기판 상의 일면에 1㎛ 내지 20㎛의 두께의 배선 패턴층을 형성하는 단계; 상기 제 1 배선 패턴층 상의 벤딩 영역 이외의 영역에 0.1㎛ 이하의 두께를 가지는 제 1 도금층을 형성하는 단계; 상기 벤딩 영역 상의 제 1 배선 패턴층 및 상기 제 1 도금층의 일부를 덮도록 1㎛ 내지 20㎛ 두께의 보호층을 배치하는 단계; 및 상기 제 1 도금층 상의 상기 보호층이 배치된 영역 이외의 영역에 1㎛ 이하의 두께를 가지는 제 2 도금층을 배치하는 단계를 포함할 수 있다. A method of manufacturing a flexible circuit board according to an embodiment of the present invention includes: preparing a substrate having a thickness of 12 μm to 125 μm; Forming a wiring pattern layer having a thickness of 1 占 퐉 to 20 占 퐉 on one surface of the substrate; Forming a first plating layer having a thickness of 0.1 占 퐉 or less on a region other than a bending region on the first wiring pattern layer; Disposing a protective layer having a thickness of 1 mu m to 20 mu m so as to cover the first wiring pattern layer on the bending area and a part of the first plating layer; And disposing a second plating layer having a thickness of 1 占 퐉 or less on an area other than the area where the protective layer is disposed on the first plating layer.
자세하게, 상기 배선 패턴층 상의 벤딩 영역 이외의 영역에 제 1 도금층을 형성하는 단계는, 상기 배선 패턴층 상의 상기 벤딩 영역에 마스킹층 배치 단계; 상기 벤딩 영역 이외의 영역에 상기 제 1 도금층을 도금하는 단계; 및 상기 마스킹층을 제거하는 단계를 포함할 수 있다.In detail, the step of forming the first plating layer in a region other than the bending region on the wiring pattern layer includes: a step of arranging a masking layer in the bending region on the wiring pattern layer; Plating the first plating layer on an area other than the bending area; And removing the masking layer.
도 8을 참조하여, 드라이 필름 마스킹 공법 또는 포토솔더레지스트(PSR) 인쇄 공법에 따라 제조된 양면 연성 회로기판을 설명한다. Referring to Fig. 8, a double-sided flexible circuit board manufactured according to a dry film masking method or a photo solder resist (PSR) printing method will be described.
먼저, 기판(100)의 양면 상에 제 1 배선 패턴층(210) 및 제 2 배선 패턴층(220)을 준비한다. 즉, 기판(100)의 양면 상에 회로를 형성한다. 이때, 상기 기판(100)은 폴리이미드 연성 기판일 수 있고, 배선 패턴은 구리를 포함할 수 있다. First, a first
다음으로, 상기 제 1 배선 패턴층(210) 상에 드라이 필름을 라미네이션하거나 포토 솔더 레지스트층을 인쇄하여 상부 희생층(T1)을 형성할 수 있다. 또한, 상기 제 2 배선 패턴층(220) 상에 드라이 필름을 라미네이션하거나 포토 솔더 레지스트층을 인쇄하여 하부 희생층(B1)을 형성할 수 있다.Next, a dry film may be laminated on the first
다음으로, 상부 희생층(T1)과 하부 희생층(B1) 상에 마스크를 배치하고, 자외선을 노출하는 노광단계가 진행될 수 있다.Next, a mask may be disposed on the upper sacrificial layer (T1) and the lower sacrificial layer (B1), and an exposure step for exposing ultraviolet rays may be performed.
다음으로, 비노광된 상기 상부 희생층(T1)과 상기 하부 희생층(B1)을 제거하는 현상 단계가 진행될 수 있다. 이에 따라, 패턴화된 상부 희생층(P1) 및 패턴화된 하부 희생층(P2)을 형성할 수 있다. Next, a development step of removing the unexposed upper sacrificial layer (T1) and the lower sacrificial layer (B1) may be performed. Thus, the patterned upper sacrificial layer P1 and the patterned lower sacrificial layer P2 can be formed.
다음으로, 상기 패턴화된 상부 희생층(P1)의 주변 영역에 제 1 도금층(310)이 형성될 수 있다. 또한, 상기 패턴화된 하부 희생층(P2)의 주변 영역에 제 3 도금층(330)이 형성될 수 있다. Next, a
다음으로, 상기 패턴화된 상부 희생층(P1) 및 상기 패턴화된 하부 희생층(P2)을 박리할 수 있다. 이에 따라, 제 1 오픈부를 포함하는 제 1 도금층(310) 및 제 3 도금층(330)을 형성할 수 있다. 이때, 제 1 도금층(310) 및 제 3 도금층(330)은 각각 주석 도금일 수 있다.Next, the patterned upper sacrificial layer (P1) and the patterned lower sacrificial layer (P2) can be peeled off. Accordingly, the
다음으로, 상기 제 1 오픈부를 채우면서, 상기 제 1 도금층(310) 및 상기 제 3 도금층(330)의 측면 및 상면의 일부를 덮는 제 1 및 제 2 보호층(410, 420)이 배치될 수 있다. 상기 제 1 및 제 2 보호층(410, 420)의 상면은 상기 벤딩 영역보다 큰 폭을 가질 수 있다. Next, first and second
다음으로, 상기 제 1 및 제 2 보호층(410, 420)의 주변 영역에 제 2 및 제 4 도금층(320, 340)이 형성될 수 있다. 즉, 상기 제 1 및 제 2 보호층(410, 420)이 배치되지 않은 영역에 제 2 도금층, 제 4 도금층(320, 340)이 상기 보호층보다 낮은 두께로 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 및 제 2보호층(410, 420)의 측면은 상기 제 2 및 제 4 도금층(320, 340)과 접촉할 수 있다. 이때, 제 2 도금층(320) 및 제 4 도금층(340)은 각각 주석 도금일 수 있다.Next, second and fourth plating layers 320 and 340 may be formed in the peripheral region of the first and second
도 9를 참조하여, PET 마스킹 공법에 따라 제조된 양면 연성 회로기판을 설명한다. The double-sided flexible circuit board manufactured according to the PET masking method will be described with reference to Fig.
먼저, 연성 기판(100)의 양면 상에 제 1 배선 패턴층(210) 및 제 2 배선 패턴층(220)을 준비한다. 즉, 연성 기판(100)의 양면 상에 회로를 형성한다. 이때, 상기 연성 기판(100)은 폴리이미드 기판일 수 있고, 배선 패턴은 구리를 포함할 수 있다. First, a first
다음으로 PET 마스킹 필름을 펀칭하여, 관통홀을 가지는 PET 마스킹 필름을 준비할 수 있다. Next, a PET masking film is punched to prepare a PET masking film having a through-hole.
다음으로, 상기 제 1 배선 패턴층(210) 상에 관통홀을 가지는 PET 마스킹 필름을 라미네이션하여 패턴화된 상부 희생층(P1)을 형성할 수 있다. 또한, 상기 제 2 배선 패턴층(220) 상에 관통홀을 가지는 PET 마스킹 필름을 라미네이션하여 패턴화된 하부 희생층(P2)을 형성할 수 있다.Next, a patterned upper sacrificial layer (P1) may be formed by laminating a PET masking film having through holes on the first wiring pattern layer (210). In addition, a patterned lower sacrificial layer (P2) may be formed by laminating a PET masking film having through holes on the second wiring pattern layer (220).
다음으로, 상기 패턴화된 상부 희생층(P1)의 관통홀에 제 1 도금층(310)이 형성될 수 있다. 또한, 상기 패턴화된 하부 희생층(P2)의 관통홀에 제 3 도금층(330)이 형성될 수 있다.Next, a
다음으로, 상기 패턴화된 상부 희생층(P1) 및 상기 패턴화된 하부 희생층(P2)을 박리할 수 있다. 이에 따라, 제 1 오픈부를 포함하는 제 1 도금층(310) 및 제 3 도금층(330)을 형성할 수 있다. 이때, 제 1 도금층(310) 및 제 3 도금층(330)은 각각 주석 도금일 수 있다.Next, the patterned upper sacrificial layer (P1) and the patterned lower sacrificial layer (P2) can be peeled off. Accordingly, the
다음으로, 상기 제 1 오픈부를 채우면서, 상기 제 1 도금층, 제 3 도금층(310, 330)의 측면 및 상면의 일부를 덮는 보호층(410, 420)이 배치될 수 있다. 상기 보호층(410, 420)의 상면은 상기 벤딩 영역보다 큰 폭을 가질 수 있다. Next,
다음으로, 상기 제 1 및 제 2 보호층(410, 420)의 주변 영역에 제 2 및 제 4 도금층(320, 340)이 형성될 수 있다. 즉, 상기 보호층(410, 420)이 배치되지 않은 영역에 제 2 및 제 4 도금층(320, 340)이 상기 보호층보다 낮은 두께로 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 및 제 2 보호층(410, 420)의 측면은 상기 제 2 및 제 4 도금층(320, 340)과 접촉할 수 있다. 이때, 제 2 도금층(320) 및 제 4 도금층(340)은 각각 주석 도금일 수 있다.Next, second and fourth plating layers 320 and 340 may be formed in the peripheral region of the first and second
도 10을 참조하여, 포토레지스트(PR) 인쇄 또는 그라이비아 인쇄 공법에 따라 제조된 양면 연성 회로기판을 설명한다. Referring to Fig. 10, a double-sided flexible circuit board manufactured according to photoresist (PR) printing or gravure printing method will be described.
먼저, 연성 기판(100)의 양면 상에 제 1 배선 패턴층(210) 및 제 2 배선 패턴층(220)을 준비한다. 즉, 연성 기판(100)의 양면 상에 회로를 형성한다. 이때, 상기 연성 기판(100)은 폴리이미드 기판일 수 있고, 배선 패턴은 구리를 포함할 수 있다. First, a first
다음으로, 상기 제 1 배선 패턴층(210) 상에 포토레지스트 잉크를 도포하여 패턴화된 상부 희생층(P1)을 형성할 수 있다. 또한, 상기 제 2 배선 패턴층(220) 상에 포토레지스트 잉크를 인쇄하여 패턴화된 하부 희생층(P2)을 형성할 수 있다.Next, a photoresist ink may be applied on the first
다음으로, 상기 패턴화된 상부 희생층(P1)의 주변 영역에 제 1 도금층(310)이 형성될 수 있다. 또한, 상기 패턴화된 하부 희생층(P2)의 주변 영역에 제 3 도금층(330)이 형성될 수 있다. Next, a
다음으로, 상기 패턴화된 상부 희생층(P1) 및 상기 패턴화된 하부 희생층(P2)을 박리할 수 있다. 이에 따라, 제 1 오픈부를 포함하는 제 1 도금층(310) 및 제 3 도금층(330)을 형성할 수 있다. 이때, 제 1 도금층(310) 및 제 3 도금층(330)은 각각 주석 도금일 수 있다.Next, the patterned upper sacrificial layer (P1) and the patterned lower sacrificial layer (P2) can be peeled off. Accordingly, the
다음으로, 상기 제 1 오픈부를 채우면서, 상기 제 1 및 제 3 도금층(310, 330)의 측면 및 상면의 일부를 덮는 제 1 및 제 2 보호층(410, 420)이 배치될 수 있다. 상기 보호층의 상면은 상기 벤딩 영역보다 큰 폭을 가질 수 있다. Next, first and second
다음으로, 상기 제 1 및 제 2보호층의 주변 영역에 제 2 및 제 4 도금층(320, 340)이 형성될 수 있다. 즉, 상기 제 1 및 제 2 보호층이 배치되지 않은 영역에 제 2 및 제 4 도금층(320, 340)이 상기 보호층보다 낮은 두께로 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 보호층의 측면은 상기 제 2 및 제 4 도금층(320, 340)과 접촉할 수 있다. 이때, 제 2 도금층(320) 및 제 4 도금층(340)은 각각 주석 도금일 수 있다.Next, second and fourth plating layers 320 and 340 may be formed around the first and second protective layers. That is, the second and fourth plating layers 320 and 340 may be formed to have a lower thickness than the protective layer in a region where the first and second protective layers are not disposed. Accordingly, the side surfaces of the protective layer may contact the second and fourth plating layers 320 and 340. At this time, the
도 11을 참조하여, Spurt Jar 도금 공법에 따라 제조된 양면 연성 회로기판을 설명한다. Referring to Fig. 11, a double-sided flexible circuit board manufactured according to the Spurt Jar plating method will be described.
먼저, 연성 기판(100)의 양면 상에 제 1 배선 패턴층(210) 및 제 2 배선 패턴층(220)을 준비한다. 즉, 연성 기판(100)의 양면 상에 회로를 형성한다. 이때, 상기 연성 기판(100)은 폴리이미드 기판일 수 있고, 배선 패턴은 구리를 포함할 수 있다. First, a first
다음으로, Spurt Jar 도금하여, 벤딩영역과 대응되는 영역에 제 1 오픈부를 포함하는 제 1 도금층(310) 및 제 3 도금층(330)을 형성할 수 있다. 이때, 제 1 도금층(310) 및 제 3 도금층(330)은 각각 주석 도금일 수 있다.Next, the
다음으로, 상기 제 1 오픈부를 채우면서, 상기 제 1 및 제 3 도금층(310, 330)의 측면 및 상면의 일부를 덮는 보호층이 배치될 수 있다. 상기 보호층의 상면은 상기 벤딩 영역보다 큰 폭을 가질 수 있다. Next, a protective layer covering the side surfaces and a part of the upper surface of the first and third plating layers 310 and 330 may be disposed while filling the first open portion. The upper surface of the protective layer may have a width larger than the bending area.
다음으로, 상기 제 1 및 제 2 보호층(410, 420)의 주변 영역에 제 2 및 제 4 도금층(320, 340)이 형성될 수 있다. 즉, 상기 제 1 및 제 2 보호층(410, 420)이 배치되지 않은 영역에 제 2 및 제 4 도금층(320, 340)이 상기 보호층보다 낮은 두께로 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 보호층의 측면은 상기 제 2 및 제 4 도금층(320, 340)과 접촉할 수 있다. 이때, 제 2 도금층(320) 및 제 4 도금층(340)은 각각 주석 도금일 수 있다.Next, second and fourth plating layers 320 and 340 may be formed in the peripheral region of the first and second
다음으로, 실시예에 따른 연성 회로기판을 포함하는 COF 모듈을 설명한다. 실시예에 따른 연성 회로기판 상에 상기 배선 패턴층(200)과 전기적으로 연결될 수 있는 구동칩을 상기 배선 패턴층(200) 상에 배치함에 따라, 구동칩이 실장된 COF 모듈을 제조할 수 있다. Next, a COF module including a flexible circuit board according to an embodiment will be described. A COF module in which a driving chip is mounted can be manufactured by disposing a driving chip on the
도 12를 참조하면, 실시예에 따른 연성 회로기판은 앞서 설명한 벤딩 영역 및 비벤딩 영역을 포함하는 연성 기판(100); 상기 연성 기판 상에 배치되는 배선 패턴층(200); 상기 배선 패턴층 상의 비벤딩 영역 상에 배치되는 제 1 도금층(310); 상기 벤딩 영역 상의 배선 패턴층과 상기 제 1 도금층의 일부를 덮으며 상기 벤딩 영역보다 넓게 배치되는 보호층(400); 및 상기 제 1 도금층 상의 상기 보호층의 주변 영역에 배치되는 제 2 도금층(320)을 포함하고, 상기 보호층은 상기 제 2 도금층보다 높은 두께로 배치되고, 상기 보호층은 상기 배선 패턴층의 상면, 상기 제 1 도금층의 상면 및 상기 제 2 도금층과 접촉할 수 있다.Referring to FIG. 12, a flexible circuit board according to an embodiment includes a
실시예에 따른 COF(chip on film) 모듈(10)은 상기 연성 회로기판의 상기 비벤딩 영역 상에 구동 칩(40)이 배치되는 것을 포함할 수 있다. The chip on film (COF)
예를 들어, 상기 벤딩 영역(BA)에서 상기 연성 기판(100)은 C 형상과 유사한 형상을 가질 수 있다. 자세하게, 상기 벤딩 영역(BA)에서 상기 연성 기판(100)의 단면은 곡선 형상을 가질 수 있다. 상기 벤딩 영역(BA)은 상기 기판의 일면과 일면이 절곡되어 마주보거나, 상기 기판의 타면과 타면이 마주보는 영역을 의미할 수 있다. For example, in the bending area BA, the
예를 들어, 상기 비벤딩 영역(NBA)에서 상기 연성 기판(100)은 플레이트 형상과 유사한 형상을 가질 수 있다. 자세하게, 상기 비벤딩 영역(NBA)에서 상기 연성 기판(100)의 단면은 직선 형상을 가질 수 있다. 상기 비벤딩 영역은 상기 기판이 디스플레이 패널이나 별도의 회로기판과 연결하기 위해 부분적으로 절곡되는 영역을 포함할 수 있다. 즉, 상기 비벤딩 영역은 상기 기판의 일면과 일면이 마주보지 않는 영역일 수 있다.For example, in the non-bending region NBA, the
상기 벤딩 영역(BA)은 상기 비벤딩 영역(NBA) 사이에 배치될 수 있다. 즉, 상기 벤딩 영역(BA)은 상기 연성 회로기판을 디스플레이 패널 및 인쇄회로기판과 연결하기 위해서 절곡되는 일 부분일 수 있다. 상기 벤딩 영역(BA)의 단면적은 상기 비벤딩 영역(NBA)의 단면적보다 작을 수 있다. 이에 따라, 상기 연성 회로기판은 디스플레이 패널과 인쇄회로기판 사이에 배치될 수 있다. The bending area BA may be disposed between the non-bending areas NBA. That is, the bending area BA may be a part that is bent to connect the flexible circuit board to the display panel and the printed circuit board. The cross-sectional area of the bending area BA may be smaller than the cross-sectional area of the non-bending area NBA. Accordingly, the flexible circuit board may be disposed between the display panel and the printed circuit board.
상기 COF 모듈(10)은 디스플레이 패널(20)과 인쇄회로기판(30)의 사이에 위치하여 전기적인 신호를 연결할 수 있다. 이때, 상기 인쇄회로기판(30)은 리지드한 인쇄회로기판이거나 연성인쇄회로기판일 수 있다.The
실시예에 따른 연성 회로기판을 포함하는 COF 모듈(10)의 일단은 상기 디스플레이 패널(20)과 접촉함에 따라 전기적으로 연결되고, 상기 일단과 반대되는 타단은 상기 인쇄회로기판(30)과 접촉함에 따라 전기적으로 연결될 수 있다. 여기에서, 접촉은 직접적인 접촉을 의미할 수 있다. 또는, 이방성전도성필름(Anisotropic conductive film, ACF)을 사이에 두고 접촉되는 것을 의미할 수 있다. One end of the
일례로, 상기 COF 모듈(10)과 상기 인쇄회로기판(30)의 사이에는 상기 이방성 전도성필름이 배치될 수 있다. 상기 COF 모듈(10)과 상기 인쇄회로기판(30)은 상기 이방성 전도성필름에 의하여 접착이 되는 동시에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 이방성 전도성필름은 도전성 입자가 분산된 수지일 수 있다. 따라서, 상기 인쇄회로기판(30)에 의하여 연결되는 전기적인 신호는 상기 이방성 전도성필름에 포함된 상기 도전성 입자를 통하여 상기 COF 모듈(10)에 전달될 수 있다. For example, the anisotropic conductive film may be disposed between the
즉, 상기 연성 회로기판(10)은 디스플레이 패널(20)과 제 1 본딩영역(A1)에 의해서 연결될 수 있다. 또한, 상기 연성 회로기판(10)은 인쇄회로기판(30)과 제 2 본딩영역(A2)에 의해서 연결될 수 있다. 상기 제 1 본딩영역(A1) 및 상기 제 2 본딩영역(A2)은 비벤딩 영역의 일단 또는 타단일 수 있다. That is, the
상기 연성 회로기판(10)이 디스플레이 패널(20)과 연결되는 제 1 본딩영역(A1) 및 상기 연성 회로기판(10)이 인쇄회로기판(30)과 연결되는 제 2 본딩영역(A2)의 사이에 절곡되는 벤딩 영역(BA)이 위치할 수 있다. A first bonding area A1 in which the
상기 COF 모듈(10)은 연성 기판을 포함하기 때문에, 상기 디스플레이 패널(20)과 상기 인쇄회로기판(30)의 사이에서 리지드(rigid)한 형태 또는 구부러진(bneding) 형태를 가질 수 있다. Since the
상기 COF 모듈(10)은 서로 대향되며 배치되는 상기 디스플레이 패널(20)과 상기 기판(30) 사이를 구부러진 형태로 연결할 수 있으므로, 전자 디바이스의 두께를 감소시킬 수 있고, 설계의 자유도를 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 연성 기판을 포함하는 COF 모듈(10)은 구부러진 형태에서도 배선이 끊어지지 않을 수 있으므로, 상기 COF 모듈을 포함하는 전자 디바이스의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.Since the
상기 COF 모듈은 플렉서블하기 때문에, 다양한 전자디바이스에 사용될 수 있다. Because the COF module is flexible, it can be used in a variety of electronic devices.
예를 들어, 도 13을 참조하면, 상기 COF 모듈은 휘어지는 플렉서블(flexible) 터치 윈도우에 포함될 수 있다. 따라서, 이를 포함하는 터치 디바이스 장치는 플렉서블 터치 디바이스 장치일 수 있다. 따라서, 사용자가 손으로 휘거나 구부릴 수 있다. 이러한 플렉서블 터치 윈도우는 웨어러블 터치 등에 적용될 수 있다.For example, referring to FIG. 13, the COF module may be included in a flexible flexible touch window. Accordingly, the touch device device including the same may be a flexible touch device device. Therefore, the user can bend or bend by hand. Such a flexible touch window can be applied to a wearable touch or the like.
도 14를 참조하면, 상기 COF 모듈은 곡면 디스플레이를 포함하는 다양한 웨어러블 터치 디바이스에 포함될 수 있다. 따라서, 상기 COF 모듈을 포함하는 전자 디바이스는 슬림화 또는 경량화될 수 있다.Referring to FIG. 14, the COF module may be included in various wearable touch devices including a curved surface display. Therefore, the electronic device including the COF module can be made slimmer or lighter.
도 15을 참조하면, 상기 COF 모듈은 TV, 모니터, 노트북과 같은 디스플레이 부분을 가지는 다양한 전자디바이스에 사용될 수 있다. 이때, 상기 COF 모듈은 곡선 형상의 디스플레이 부분을 가지는 전자 디바이스에도 사용될 수 있다. Referring to FIG. 15, the COF module may be used in various electronic devices having a display portion such as a TV, a monitor, and a notebook. At this time, the COF module may be used in an electronic device having a curved display portion.
그러나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니고, 이러한 COF 연성 회로기판 및 이를 가공한 COF 모듈은 다양한 전자디바이스에 사용될 수 있음은 물론이다.However, the embodiment is not limited thereto, and it is a matter of course that such a COF flexible circuit board and the COF module processed therefrom can be used for various electronic devices.
상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The features, structures, effects and the like described in the foregoing embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. Further, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments may be combined or modified in other embodiments by those skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.
또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the present invention. It can be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments may be modified and implemented. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.
Claims (13)
상기 기판의 일면 상에 배치되는 배선 패턴층;
상기 배선 패턴층 상의 상기 벤딩 영역 이외의 영역에 배치되는 제 1 도금층;
상기 벤딩 영역 상의 상기 배선 패턴층의 상면 및 상기 제 1 도금층의 상면의 일부를 덮으며, 상기 벤딩 영역보다 넓게 배치되는 보호층; 및
상기 제 1 도금층 상에 배치되고, 상기 보호층이 배치된 영역 이외의 영역에 배치되는 제 2 도금층을 포함하고,
상기 보호층은 상기 제 2 도금층의 상면보다 높게 배치되는, 연성 회로기판.A substrate comprising a bending region;
A wiring pattern layer disposed on one surface of the substrate;
A first plating layer disposed on a region other than the bending region on the wiring pattern layer;
A protective layer covering the upper surface of the wiring pattern layer on the bending area and a part of the upper surface of the first plating layer and being wider than the bending area; And
And a second plating layer disposed on the first plating layer and disposed in a region other than a region where the protective layer is disposed,
And the protective layer is disposed higher than the upper surface of the second plating layer.
상기 보호층의 두께는 1㎛ 내지 20㎛ 인 것을 포함하는 연성 회로기판.The method according to claim 1,
Wherein the thickness of the protective layer is 1 占 퐉 to 20 占 퐉.
상기 보호층은 상기 배선 패턴층의 상면 및 상기 제 1 도금층의 상면과 직접 접촉하는 연성 회로기판.The method according to claim 1,
Wherein the protective layer is in direct contact with the upper surface of the wiring pattern layer and the upper surface of the first plating layer.
상기 보호층은 경사면을 포함하고,
상기 보호층은 상기 제 2 도금층의 측면과 직접 접촉하는 연성 회로기판.The method of claim 3,
Wherein the protective layer comprises an inclined surface,
Wherein the protective layer is in direct contact with a side surface of the second plating layer.
상기 보호층은 일체로 형성된 연성 회로기판.The method of claim 3,
Wherein the protective layer is integrally formed.
상기 벤딩 영역의 일단의 외측에서 상기 제 1 도금층과 상기 보호층이 접촉하는 제 1 중첩 영역 및 상기 벤딩 영역의 타단의 외측에서 상기 제 1 도금층과 상기 보호층이 접촉되는 제 2 중첩 영역을 포함하고,
상기 벤딩 영역 상의 보호층의 두께는, 상기 제 1 중첩영역 또는 상기 제 2 중첩영역 상의 보호층 두께보다 큰 연성 회로기판.The method according to claim 1,
And a second overlapping area in which the first plating layer and the protective layer are in contact with each other at a first overlapping area where the first plating layer and the protective layer are in contact with each other and outside the other end of the bending area outside the one end of the bending area, ,
Wherein a thickness of the protective layer on the bending region is larger than a thickness of the protective layer on the first overlap region or the second overlap region.
상기 기판의 일면 상에 배치되는 제 1 배선 패턴층;
상기 제 1 배선 패턴층 상의 상기 벤딩 영역 이외의 영역에 배치되는 제 1 도금층;
상기 벤딩 영역 상의 상기 제 1 배선 패턴층의 상면 및 상기 제 1 도금층의 상면의 일부를 덮으며, 상기 벤딩 영역보다 넓게 배치되는 제 1 보호층;
상기 제 1 도금층 상에 배치되고, 상기 제 1 보호층이 배치된 영역 이외의 영역에 배치되는 제 2 도금층을 포함하고,
상기 제 1 보호층은 상기 제 2 도금층의 상면보다 높게 배치되고,
상기 기판의 일면과 반대되는 타면 상에 배치되는 제 2 배선 패턴층;
상기 제 2 배선 패턴층 상에 배치되는 제 3 도금층;
상기 제 3 도금층 상에 배치되는 제 4 도금층; 및
상기 제 4 도금층 상에 배치되고, 상기 벤딩 영역 상에 배치되는 제 2 보호층을 포함하는 연성 회로기판.A substrate comprising a bending region;
A first wiring pattern layer disposed on one surface of the substrate;
A first plating layer disposed on a region other than the bending region on the first wiring pattern layer;
A first passivation layer covering a portion of the upper surface of the first wiring pattern layer and the upper surface of the first plating layer on the bending region and being wider than the bending region;
And a second plating layer disposed on the first plating layer and disposed in a region other than a region where the first protective layer is disposed,
Wherein the first protective layer is disposed higher than the upper surface of the second plating layer,
A second wiring pattern layer disposed on the other surface opposite to the one surface of the substrate;
A third plating layer disposed on the second wiring pattern layer;
A fourth plating layer disposed on the third plating layer; And
And a second protective layer disposed on the fourth plating layer and disposed on the bending region.
상기 제 1 보호층 및 상기 제 1 배선 패턴층의 접촉 영역의 폭은 상기 제 2 보호층 및 상기 제 2 배선 패턴층의 접촉 영역의 폭과 동일한 연성 회로기판.8. The method of claim 7,
Wherein a width of a contact area between the first protective layer and the first wiring pattern layer is equal to a width of a contact area between the second protective layer and the second wiring pattern layer.
상기 제 1 보호층의 두께 및 상기 제 2 보호층의 두께는 서로 동일한 것을 포함하는 연성 회로기판. 8. The method of claim 7,
Wherein the thickness of the first protective layer and the thickness of the second protective layer are the same.
상기 제 3 도금층은 상기 벤딩 영역 이외의 영역에 배치되고,
상기 제 2 보호층은 상기 벤딩 영역 상의 상기 제 2 배선 패턴층 및 상기 제 3 도금층의 상면의 일부를 덮으며, 상기 벤딩 영역보다 넓게 배치되고,
상기 제 4 도금층은 상기 제 2 보호층이 배치된 영역 이외의 영역에 배치되고,
상기 제 2 보호층은 상기 제 4 도금층의 상면보다 높게 배치되는, 연성 회로기판.8. The method of claim 7,
The third plating layer is disposed in an area other than the bending area,
Wherein the second protective layer covers a part of the upper surface of the second wiring pattern layer and the third plating layer on the bending region and is disposed wider than the bending region,
The fourth plating layer is disposed in a region other than the region where the second protective layer is disposed,
And the second protective layer is disposed higher than the upper surface of the fourth plating layer.
상기 연성 회로기판은,
벤딩 영역을 포함하는 기판;
상기 기판의 일면 상에 배치되는 배선 패턴층;
상기 배선 패턴층 상의 상기 벤딩 영역 이외의 영역에 배치되는 제 1 도금층;
상기 벤딩 영역 상의 상기 배선 패턴층의 상면 및 상기 제 1 도금층의 상면의 일부를 덮으며, 상기 벤딩 영역보다 넓게 배치되는 보호층;
상기 제 1 도금층 상에 배치되고, 상기 보호층이 배치된 영역 이외의 영역에 배치되는 제 2 도금층을 포함하고,
상기 보호층은 상기 제 2 도금층의 상면보다 높게 배치되고,
상기 연성 회로기판의 일단과 연결되는 디스플레이 패널; 및
상기 연성 회로기판의 상기 일단과 반대되는 타단과 연결되는 인쇄회로기판을 포함하는 전자 디바이스.A flexible circuit board,
The flexible circuit board includes:
A substrate comprising a bending region;
A wiring pattern layer disposed on one surface of the substrate;
A first plating layer disposed on a region other than the bending region on the wiring pattern layer;
A protective layer covering the upper surface of the wiring pattern layer on the bending area and a part of the upper surface of the first plating layer and being wider than the bending area;
And a second plating layer disposed on the first plating layer and disposed in a region other than a region where the protective layer is disposed,
The protective layer is disposed higher than the upper surface of the second plating layer,
A display panel connected to one end of the flexible circuit board; And
And a printed circuit board connected to the other end opposite to the one end of the flexible circuit board.
상기 기판 상의 일면에 1㎛ 내지 20㎛의 두께의 배선 패턴층을 형성하는 단계;
상기 배선 패턴층 상의 벤딩 영역 이외의 영역에 0.1㎛ 이하의 두께를 가지는 제 1 도금층을 형성하는 단계;
상기 벤딩 영역 상의 배선 패턴층 및 상기 제 1 도금층의 일부를 덮도록 1㎛ 내지 20㎛ 두께의 보호층을 배치하는 단계;
상기 제 1 도금층 상의 상기 보호층이 배치된 영역 이외의 영역에 1㎛ 이하의 두께를 가지는 제 2 도금층을 배치하는 단계를 포함하는 연성 회로기판의 제조방법.Preparing a substrate having a thickness of 12 탆 to 125 탆;
Forming a wiring pattern layer having a thickness of 1 占 퐉 to 20 占 퐉 on one surface of the substrate;
Forming a first plating layer having a thickness of 0.1 占 퐉 or less on a region other than a bending region on the wiring pattern layer;
Disposing a protective layer having a thickness of 1 mu m to 20 mu m so as to cover the wiring pattern layer on the bending area and a part of the first plating layer;
And disposing a second plating layer having a thickness of 1 占 퐉 or less on a region other than a region where the protective layer is disposed on the first plating layer.
상기 배선 패턴층 상의 벤딩 영역 이외의 영역에 제 1 도금층을 형성하는 단계는,
상기 배선 패턴층 상의 상기 벤딩 영역에 마스킹층 배치 단계;
상기 벤딩 영역 이외의 영역에 상기 제 1 도금층을 도금하는 단계; 및
상기 마스킹층을 제거하는 단계를 포함하는
연성 회로기판 제조방법.
13. The method of claim 12,
Forming a first plating layer in a region other than a bending region on the wiring pattern layer,
Disposing a masking layer on the bending region on the wiring pattern layer;
Plating the first plating layer on an area other than the bending area; And
And removing the masking layer
A method of manufacturing a flexible circuit board.
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