KR20190054500A - Hybrid flexible circuit board and chip package comprising the same - Google Patents

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Abstract

An integrated flexible printed circuit board according to an embodiment comprises: a first insulating layer including a first region and a second region; a first circuit pattern layer disposed on the first region and the second region of the first insulating layer; a first protective layer disposed on the first region of the first insulating layer and including at least one open region; a second insulating layer disposed on the second region of the first insulating layer; a second circuit pattern layer disposed on the second insulating layer; and a second protective layer disposed on the second insulating layer and including at least one open region. The first circuit pattern layer includes a plurality of first conductive patterns disposed on the first region of the first insulating layer and a plurality of second conductive patterns disposed on the second region of the first insulating layer. The first conductive pattern has the width smaller than the second conductive pattern. Different types of first and second chips can be mounted on one substrate, thereby improving reliability.

Description

통합형 연성 회로기판 및 이를 포함하는 칩 패키지{HYBRID FLEXIBLE CIRCUIT BOARD AND CHIP PACKAGE COMPRISING THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a flexible circuit board,

실시 예는, 통합형 연성 회로기판 및 이를 포함하는 칩 패키지, 및 이를 포함하는 전자 디바이스에 관한 것이다.Embodiments relate to an integrated flexible circuit board and a chip package including the same, and an electronic device including the same.

자세하게, 상기 통합형 연성 회로기판은 디스플레이 패널과 연결되는 칩 온 필름용 연성 회로기판과, 메인 보드와 연결되는 경-연성 인쇄회로기판을 하나로 통합한 통합형 연성 회로기판 및 이를 포함하는 칩 패키지, 이를 포함하는 전자 디바이스일 수 있다.In detail, the integrated flexible circuit board includes a flexible circuit board for a chip-on-film connected to a display panel, a light-flexible printed circuit board connected to the main board, and a chip package including the integrated flexible circuit board Lt; / RTI >

최근 다양한 전자 제품이 얇고, 소형화, 경량화되고 있다. 이에 따라, 전자 디바이스의 좁은 영역에 고밀도로 반도체 칩을 실장하기 위한 다양한 연구가 진행되고 있다.Recently, a variety of electronic products are becoming thinner, smaller, and lighter. Accordingly, various studies for mounting a semiconductor chip at a high density in a narrow region of an electronic device have been carried out.

그 중에서도, COF(Chip On Film) 방식은 플렉서블 기판을 사용하기 때문에, 평판 디스플레이 및 플렉서블 디스플레이에 모두 적용될 수 있다. 즉, COF 방식은 다양한 웨어러블 전자기기에 적용될 수 있다는 점에서 각광받고 있다. 또한, COF 방식은 미세한 피치를 구현할 수 있기 때문에, 화소수의 증가에 따른 고해상도(QHD)의 디스플레이를 구현하는데 사용될 수 있다.Among them, since a COF (Chip On Film) method uses a flexible substrate, it can be applied to both a flat panel display and a flexible display. That is, the COF method is attracting attention because it can be applied to various wearable electronic devices. Further, since the COF method can realize a fine pitch, it can be used to realize a display of high resolution (QHD) as the number of pixels increases.

COF(Chip On Film)는 반도체 칩을 얇은 필름 형태의 연성 회로기판에 장착하는 방식이다. 예를 들어, 반도체 칩은 직접회로(Integrated Circuit, IC) 칩 또는 대규모 직접회로(Large Scale Integrated circuit, LSI) 칩일 수 있다.COF (Chip On Film) is a method of mounting a semiconductor chip on a flexible circuit board in the form of a thin film. For example, the semiconductor chip may be an integrated circuit (IC) chip or a large scale integrated circuit (LSI) chip.

그러나, COF 연성 회로기판은 디스플레이 패널과 메인보드 사이에 직접 연결될 수 없다. However, the COF flexible circuit board can not be directly connected between the display panel and the main board.

즉, 디스플레이 패널과 메인보드 사이에는 적어도 2개의 인쇄회로기판이 요구된다.That is, at least two printed circuit boards are required between the display panel and the main board.

디스플레이부를 가지는 전자 디바이스는 복수의 인쇄회로기판이 요구됨에 따라, 두께가 증가되는 문제점이 있다. 또한, 복수의 인쇄회로기판의 크기는 전자 디바이스의 소형화에 제약이 될 수 있다. 또한, 복수의 인쇄회로기판의 접합 불량은 전자 디바이스의 신뢰성을 저하시킬 수 있다. An electronic device having a display portion has a problem in that the thickness thereof increases as a plurality of printed circuit boards are required. In addition, the size of a plurality of printed circuit boards may be a limitation to miniaturization of electronic devices. In addition, poor bonding of a plurality of printed circuit boards may lower the reliability of the electronic device.

따라서, 이와 같은 문제를 해소할 수 있는 새로운 연성 회로기판이 요구된다.Therefore, a new flexible circuit board capable of solving such a problem is required.

실시 예는, 디스플레이 패널과 연결되는 칩 온 필름용 연성 회로기판과, 메인 보드와 연결되는 인쇄회로기판을 하나로 통합한 새로운 구조의 통합형 연성 회로기판 및 이를 포함하는 칩 패키지, 및 이를 포함하는 전자 디바이스를 제공하고자 한다.An embodiment provides an integrated flexible circuit board having a novel structure in which a flexible circuit board for a chip-on-film connected to a display panel and a printed circuit board connected to a main board are integrated into one, a chip package including the integrated flexible circuit board, ≪ / RTI >

제안되는 실시 예에서 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 제안되는 실시 예가 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.It is to be understood that the technical objectives to be achieved by the embodiments are not limited to the technical matters mentioned above and that other technical subjects not mentioned are apparent to those skilled in the art to which the embodiments proposed from the following description belong, It can be understood.

실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판은 제 1 영역 및 제 2 영역을 포함하는 제 1 절연층; 상기 제 1 절연층의 상기 제 1 영역 및 제 2 영역 상에 배치되는 제 1 회로 패턴층; 상기 제 1 절연층의 상기 제 1 영역 상에 배치되고, 적어도 하나의 오픈 영역을 포함하는 제 1 보호층; 상기 제 1 절연층의 상기 제 2 영역 상에 배치되는 제 2 절연층; 상기 제 2 절연층 상에 배치되는 제 2 회로 패턴층; 상기 제 2 절연층 상에 배치되고, 적어도 하나의 오픈 영역을 포함하는 제 2 보호층을 포함하고, 상기 제 1 회로 패턴층은, 상기 제 1 절연층의 상기 제 1 영역 상에 배치되는 복수의 제 1 전도성 패턴과, 상기 제 1 절연층의 상기 제 2 영역 상에 배치되는 복수의 제 2 전도성 패턴을 포함하며, 상기 제 1 전도성 패턴은, 상기 제 2 전도성 패턴보다 작은 폭을 가진다.An integrated flexible printed circuit board according to an embodiment includes a first insulation layer including a first region and a second region; A first circuit pattern layer disposed on the first region and the second region of the first insulating layer; A first passivation layer disposed on the first region of the first insulating layer and including at least one open region; A second insulating layer disposed on the second region of the first insulating layer; A second circuit pattern layer disposed on the second insulating layer; And a second protective layer disposed on the second insulating layer and including at least one open region, wherein the first circuit pattern layer includes a plurality of first insulating layers disposed on the first region of the first insulating layer A first conductive pattern and a plurality of second conductive patterns disposed on the second region of the first insulating layer, wherein the first conductive pattern has a smaller width than the second conductive pattern.

또한, 상기 제 2 절연층을 관통하는 적어도 하나의 제 1 비아를 더 포함하고, 상기 제 2 전도성 패턴은, 상기 비아와 직접 접촉하는 제 2-1 전도성 패턴과, 상기 제 2-1 전도성 패턴을 제외한 제 2-2 전도성 패턴을 포함하고, 상기 제 2-1 전도성 패턴은, 상기 제 1 전도성 패턴보다 큰 폭을 가진다.Further comprising at least one first via passing through the second insulating layer, wherein the second conductive pattern comprises a second-1 conductive pattern in direct contact with the via, and a second-1 conductive pattern in direct contact with the via, And the second-1 conductive pattern has a greater width than the first conductive pattern.

또한, 상기 제 2-2 전도성 패턴은, 상기 제 1 전도성 패턴의 폭과 상기 제 2-1 전도성 패턴의 폭 중 어느 하나와 동일하다.The 2-2 conductive pattern is the same as either the width of the first conductive pattern or the width of the 2-1 conductive pattern.

또한, 상기 제 2-2 전도성 패턴은, 상기 제 1 전도성 패턴의 폭보다는 크고, 상기 제 2-1 전도성 패턴의 폭보다는 작은 폭을 가진다.The second-2 conductive pattern is larger than the width of the first conductive pattern and has a width smaller than the width of the second-1 conductive pattern.

또한, 상기 제 1 전도성 패턴은, 상기 제 1 보호층의 제 1 오픈 영역 상에 배치되며, 제 1 칩이 실장되는 제 1-1 전도성 패턴과, 상기 제 1 보호층의 제 2 오픈 영역 상에 배치되며, 디스플레이 패널과 연결되는 제 1-2 전도성 패턴을 포함하며, 상기 제 1-1 전도성 패턴은, 상기 제 1-2 전도성 패턴보다 작은 폭을 가진다.The first conductive pattern may include a first conductive pattern disposed on the first open region of the first protective layer and on which the first chip is mounted and a second conductive pattern on the second open region of the first protective layer, And a 1-2 conductive pattern connected to the display panel, wherein the 1-1 conductive pattern has a smaller width than the 1-2 conductive pattern.

또한, 상기 제 2 회로 패턴층은, 상기 제 2 보호층의 제 3 오픈 영역 상에 배치되며, 제 1 칩과는 다른 제 2 칩이 실장되는 제3 전도성 패턴과, 상기 제 2 보호층의 제4 오픈 영역 상에 배치되며, 메인 보드와 연결되는 제 4 전도성 패턴을 포함한다.The second circuit pattern layer may include a third conductive pattern disposed on a third open region of the second protective layer and having a second chip different from the first chip mounted thereon, And a fourth conductive pattern disposed on the fourth open area and connected to the main board.

또한, 상기 제 1-1 전도성 패턴과, 상기 제 1-2 전도성 패턴 상에 배치되는 제 1 도금층; 및 상기 제 3 및 4 전도성 패턴 상에 배치되는 제 2 도금층을 더 포함한다.A first plating layer disposed on the first conductive pattern; And a second plating layer disposed on the third and fourth conductive patterns.

또한, 상기 제 1 및 2 도금층은, 주석(Sn), 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 니켈-크롬 합금(Ni-Cr) 중 어느 하나의 동일한 금속 물질로 형성된다.The first and second plating layers may be formed of the same metal material selected from Sn, Au, Ag, Ni, and Ni-Cr.

또한, 상기 제 1 및 2 도금층은 서로 다른 금속 물질을 포함하며, 상기 서로 다른 금속 물질은, 금(Au)/주석(Sn), 은(Ag)/주석(Sn), 니켈(Ni)/주석(Sn), 니켈-크롬 합금(Ni-Cr)/주석(Sn), 니켈(Ni)/크롬(Cr), 금(Au)/은(Ag), 금(Au)/크롬(Cr), 및 니켈-크롬 합금(Ni-Cr)/금(Au) 중 어느 하나를 포함한다.The first and second plating layers include different metal materials, and the different metal materials include Au / Sn, Ag / Sn, Ni / (Sn), nickel-chromium alloy (Ni-Cr) / tin (Sn), nickel (Ni) / chromium (Cr), gold (Au) / silver (Ag) Nickel-chromium alloy (Ni-Cr) / gold (Au).

또한, 상기 제 1 회로 패턴층은, 상기 제 1 절연층의 상면 및 하면에 각각 배치되며, 상기 제 1 절연층을 관통하며, 상기 제 1 절연층의 상면 및 하면에 각각 배치된 상기 제 1 회로 패턴층을 연결하는 제 2 비아를 더 포함하고, 상기 제 2 비아는, 상기 제 1 비아보다 작은 폭을 가진다.The first circuit pattern layer may be disposed on the upper surface and the lower surface of the first insulating layer and may extend through the first insulating layer and may be disposed on the upper surface and the lower surface of the first insulating layer, And a second via connecting the pattern layer, wherein the second via has a smaller width than the first via.

또한, 상기 제 1 영역은, 상기 제 1 절연층의 제 1 외곽 영역 및 상기 제 1 외곽 영역과 반대되는 제 2 외곽 영역을 포함하고, 상기 제 1-1 전도성 패턴 및 상기 제 1-2 전도성 패턴은 상기 제 1 외곽 영역에 배치되며, 상기 제 1 전도성 패턴은, 상기 제 2 외곽 영역 상에 배치되며, 상기 제 1 보호층의 제 3 오픈 영역을 통해 노출되며, 메인 보드와 연결되는 제 1-3 전도성 패턴을 더 포함한다.The first region includes a first outer region of the first insulating layer and a second outer region opposite to the first outer region, and the first 1-1 conductive pattern and the 1-2 first conductive pattern Wherein the first conductive pattern is disposed on the second outer area and is exposed through a third open area of the first protective layer, and the first conductive pattern is disposed on the first outer area, 3 < / RTI > conductive pattern.

한편, 실시 예에 따른 칩 패키지는 제 1 영역 및 제 2 영역을 포함하는 제 1 절연층; 상기 제 1 절연층의 상기 제 1 영역 및 제 2 영역 상에 배치되는 제 1 회로 패턴층; 상기 제 1 절연층의 상기 제 1 영역 상에 배치되고, 적어도 하나의 오픈 영역을 포함하는 제 1 보호층; 상기 제 1 절연층의 상기 제 2 영역 상에 배치되는 제 2 절연층; 상기 제 2 절연층 상에 배치되는 제 2 회로 패턴층; 상기 제 2 절연층 상에 배치되고, 적어도 하나의 오픈 영역을 포함하는 제 2 보호층을 포함하는 통합형 연성 회로기판; 상기 제 1 보호층의 제 1 오픈 영역 상에 배치되는 제 1 칩; 및 상기 제 2 보호층의 제 2 오픈 영역 상에 배치되며, 상기 제 1 칩과는 다른 제 2 칩을 포함하고, 상기 제 1 회로 패턴층은, 상기 제 1 절연층의 상기 제 1 영역 상에 배치되는 복수의 제 1 전도성 패턴과, 상기 제 1 절연층의 상기 제 2 영역 상에 배치되는 복수의 제 2 전도성 패턴을 포함하며, 상기 제 1 전도성 패턴은, 상기 제 2 전도성 패턴보다 작은 폭을 가진다.According to another aspect of the present invention, there is provided a chip package including: a first insulating layer including a first region and a second region; A first circuit pattern layer disposed on the first region and the second region of the first insulating layer; A first passivation layer disposed on the first region of the first insulating layer and including at least one open region; A second insulating layer disposed on the second region of the first insulating layer; A second circuit pattern layer disposed on the second insulating layer; An integrated flexible printed circuit board disposed on the second insulating layer and including a second protective layer including at least one open area; A first chip disposed on a first open region of the first passivation layer; And a second chip disposed on a second open region of the second passivation layer and different from the first chip, wherein the first circuit pattern layer is formed on the first region of the first insulation layer And a plurality of second conductive patterns disposed on the second region of the first insulating layer, wherein the first conductive pattern has a width smaller than the width of the second conductive pattern I have.

또한, 상기 제 1 전도성 패턴 상에는 제 1 접속부가 배치되고, 상기 제 2 회로 패턴층 상에는 제 2 접속부가 배치되며, 상기 제 1 칩은 상기 제 1 접속부 상에 배치되고, 상기 제 2 칩은 상기 제 2 접속부 상에 배치된다.The first conductive pattern may have a first connection portion, the second circuit pattern layer may have a second connection portion, the first chip may be disposed on the first connection portion, 2 connection.

또한, 상기 제 1 칩은 구동 IC 칩(Drive IC chip)이고, 상기 제 2 칩은 다이오드 칩, 전원 IC 칩, 터치센서 IC 칩, MLCC 칩, BGA 칩, 칩 콘덴서 중 적어도 하나이다.The first chip may be a drive IC chip, and the second chip may be at least one of a diode chip, a power IC chip, a touch sensor IC chip, an MLCC chip, a BGA chip, and a chip capacitor.

한편, 실시 예에 따른 전자 디바이스는 제 1 영역 및 제 2 영역을 포함하는 제 1 절연층; 상기 제 1 절연층의 상기 제 1 영역 및 제 2 영역 상에 배치되는 제 1 회로 패턴층; 상기 제 1 절연층의 상기 제 1 영역 상에 배치되고, 적어도 하나의 오픈 영역을 포함하는 제 1 보호층; 상기 제 1 절연층의 상기 제 2 영역 상에 배치되는 제 2 절연층; 상기 제 2 절연층 상에 배치되는 제 2 회로 패턴층; 상기 제 2 절연층 상에 배치되고, 적어도 하나의 오픈 영역을 포함하는 제 2 보호층을 포함하는 통합형 연성 회로기판; 상기 통합형 연성 회로 기판의 일단과 연결되는 디스플레이 패널; 및 상기 통합형 연성 회로 기판의 타단과 연결되는 메인 보드를 포함하고, 상기 제 1 회로 패턴층은, 상기 제 1 절연층의 상기 제 1 영역 상에 배치되는 복수의 제 1 전도성 패턴과, 상기 제 1 절연층의 상기 제 2 영역 상에 배치되는 복수의 제 2 전도성 패턴을 포함하며, 상기 제 1 전도성 패턴은, 상기 제 2 전도성 패턴보다 작은 폭을 가진다.An electronic device according to an embodiment includes a first insulating layer including a first region and a second region; A first circuit pattern layer disposed on the first region and the second region of the first insulating layer; A first passivation layer disposed on the first region of the first insulating layer and including at least one open region; A second insulating layer disposed on the second region of the first insulating layer; A second circuit pattern layer disposed on the second insulating layer; An integrated flexible printed circuit board disposed on the second insulating layer and including a second protective layer including at least one open area; A display panel connected to one end of the integrated flexible printed circuit board; And a main board connected to the other end of the integrated flexible printed circuit board, wherein the first circuit pattern layer includes: a plurality of first conductive patterns disposed on the first region of the first insulation layer; And a plurality of second conductive patterns disposed on the second region of the insulating layer, wherein the first conductive pattern has a smaller width than the second conductive pattern.

또한, 상기 제 1 전도성 패턴은, 상기 제 1 보호층의 제 1 오픈 영역 상에 배치되며, 제 1 칩이 실장되는 제 1-1 전도성 패턴과, 상기 제 1 보호층의 제 2 오픈 영역 상에 배치되며, 상기 디스플레이 패널과 연결되는 제 1-2 전도성 패턴을 포함하며, 상기 제 2 회로 패턴층은, 상기 제 2 보호층의 제 3 오픈 영역 상에 배치되며, 상기 제 1 칩과는 다른 제 2 칩이 실장되는 제3 전도성 패턴과, 상기 제 2 보호층의 제4 오픈 영역 상에 배치되며, 상기 메인 보드와 연결되는 제 4 전도성 패턴을 포함한다.The first conductive pattern may include a first conductive pattern disposed on the first open region of the first protective layer and on which the first chip is mounted and a second conductive pattern on the second open region of the first protective layer, And a second conductive pattern connected to the display panel, wherein the second circuit pattern layer is disposed on a third open region of the second passivation layer, And a fourth conductive pattern disposed on the fourth open region of the second passivation layer and connected to the main board.

또한, 상기 제 1 영역은, 상기 제 1 절연층의 제 1 외곽 영역 및 상기 제 1 외곽 영역과 반대되는 제 2 외곽 영역을 포함하고, 상기 제 1 전도성 패턴은, 상기 제 1 외곽 영역 상에 배치되며, 제 1 칩이 실장되는 제 1-1 전도성 패턴과, 상기 제 1 외곽 영역 상에 배치되며, 상기 디스플레이 패널과 연결되는 제 1-2 전도성 패턴을 포함하며, 상기 제 2 외곽 영역 상에 배치되며, 상기 메인 보드와 연결되는 제 1-3 전도성 패턴을 포함한다.In addition, the first region may include a first outer region of the first insulating layer and a second outer region opposite to the first outer region, and the first conductive pattern may be disposed on the first outer region A first conductive pattern on which a first chip is mounted; a first conductive pattern disposed on the first outer conductive area and connected to the display panel; and a second conductive pattern disposed on the second outer conductive area, And a third conductive pattern connected to the main board.

실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판은 하나의 기판상에 서로 다른 종류의 제 1 칩 및 제 2 칩을 실장할 수 있어, 향상된 신뢰성을 가지는 통합형 연성 회로기판을 칩 패키지를 제공할 수 있다. The integrated flexible printed circuit board according to the embodiment can mount different types of first chip and second chip on one substrate, thereby providing an integrated flexible circuit board chip package with improved reliability.

또한, 실시 예에 따른 하나의 통합형 연성 회로기판은 디스플레이 패널과 메인보드를 직접 연결할 수 있다. 이에 따라, 디스플레이 패널로부터 발생하는 신호를 메인보드까지 전달하기 위한 연성 회로기판의 크기 및 두께를 감소할 수 있다.In addition, one integrated flexible circuit board according to the embodiment can directly connect the display panel and the main board. Accordingly, the size and thickness of the flexible circuit board for transmitting signals generated from the display panel to the main board can be reduced.

이에 따라, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판은 및 이를 포함하는 칩 패키지, 및 이를 포함하는 전자 디바이스는 다른 부품의 공간 및/또는 배터리 공간을 확장시킬 수 있다.Accordingly, the integrated flexible circuit board according to the embodiment, and the chip package including the same, and the electronic device including the same can expand the space and / or the battery space of other parts.

또한, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로 기판은 전자 디바이스 내에서 메인 보드와 디스플레이 패널 사이에서 복수의 인쇄회로기판의 연결이 요구되지 않으므로, 공정의 편의성 및 전기적인 연결의 신뢰성이 향상될 수 있다. In addition, since the integrated flexible printed circuit board according to the embodiment does not require connection of a plurality of printed circuit boards between the main board and the display panel in the electronic device, the convenience of the process and the reliability of the electrical connection can be improved.

이에 따라, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판 및 이를 포함하는 칩 패키지, 및 이를 포함하는 전자 디바이스는 고해상도의 디스플레이부를 가지는 전자 디바이스에 적합할 수 있다.Accordingly, the integrated flexible printed circuit board, the chip package including the integrated flexible circuit board, and the electronic device including the integrated flexible circuit board according to the embodiments may be suitable for an electronic device having a high-resolution display portion.

도 1a는 기존의 인쇄회로기판을 포함하는 디스플레이부를 구비한 전자디바이스의 단면도이다.
도 1b는 도 1a에 따른 인쇄회로기판이 절곡된 형태에서의 단면도이다.
도 1c는 도 1a에 따른 인쇄회로기판이 절곡된 형태에서의 평면도이다.
도 2a는 실시예에 따른 통합형 연성 회로기판을 포함하는 디스플레이부를 구비한 전자디바이스의 단면도이다.
도 2b는 도 2a에 따른 통합형 연성 회로기판이 절곡된 형태에서의 단면도이다.
도 2c는 도 2a에 도시된 디스플레이부가 절곡된 형태에서의 단면도이다.
도 2d는 도 2a에 따른 통합형 연성 회로기판이 절곡된 형태에서의 평면도이다.
도 3은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판의 단면도이다.
도 4a는 도 3의 연성 영역(FA)을 확대한 단면도이다.
도 4b는 도 3의 경성 영역(RA)을 확대한 단면도이다.
도 5a 내지 도 5j는 도 3에 도시된 통합형 연성 회로기판(300)의 제조 방법을 공정 순으로 나타낸 단면도이다.
도 6은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판의 단면도이고, 도 7은 도 6에 도시된 통합형 연성 회로기판의 평면도를 간략하게 나타낸 도면이다.
도 8은 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판의 단면도이다.
도 9a는 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판의 단면도이다.
도 9b는 도 9a에 도시된 통합형 연성 회로 기판의 변형 예를 나타낸 단면도이다.
도 9c는 도 9a에 도시된 통합형 연성 회로기판의 다른 변형 예를 나타낸 단면도이다.
도 10은 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판의 단면도이다.
도 11은 내지 도 15는 통합형 연성 회로기판을 포함하는 다양한 전자 디바이스의 도면들이다.
1A is a cross-sectional view of an electronic device having a display portion including a conventional printed circuit board.
FIG. 1B is a cross-sectional view of the printed circuit board according to FIG. 1A in a bent form. FIG.
1C is a plan view of the printed circuit board according to FIG. 1A in a bent form.
2A is a cross-sectional view of an electronic device having a display portion including an integrated flexible circuit board according to an embodiment.
FIG. 2B is a cross-sectional view of the integrated flexible printed circuit board according to FIG. 2A in a bent form. FIG.
FIG. 2C is a sectional view of the display portion shown in FIG. 2A in a folded form. FIG.
FIG. 2D is a plan view of the integrated flexible circuit board according to FIG. 2A in a bent form. FIG.
3 is a cross-sectional view of an integrated flexible printed circuit board according to a first embodiment of the present invention.
4A is an enlarged cross-sectional view of the soft region FA of FIG.
4B is an enlarged cross-sectional view of the hard area RA of FIG.
5A to 5J are cross-sectional views showing the manufacturing method of the integrated flexible circuit board 300 shown in FIG. 3 in the order of process.
FIG. 6 is a cross-sectional view of an integrated flexible printed circuit board according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a simplified plan view of the integrated flexible printed circuit board shown in FIG.
8 is a cross-sectional view of an integrated flexible printed circuit board according to a third embodiment of the present invention.
9A is a cross-sectional view of an integrated flexible printed circuit board according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 9B is a cross-sectional view showing a modified example of the integrated flexible circuit board shown in FIG. 9A.
9C is a cross-sectional view showing another modified example of the integrated flexible circuit board shown in FIG. 9A.
10 is a cross-sectional view of an integrated flexible printed circuit board according to a fifth embodiment of the present invention.
11 to 15 are views of various electronic devices including an integrated flexible circuit board.

실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.In the description of the embodiments, it is to be understood that each layer (film), area, pattern or structure may be referred to as being "on" or "under / under" Quot; includes all that is formed directly or through another layer. The criteria for top / bottom or bottom / bottom of each layer are described with reference to the drawings.

또한, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Also, when a part is referred to as being "connected" to another part, it includes not only a case of being "directly connected" but also a case of being "indirectly connected" with another member in between. Also, when an element is referred to as " comprising ", it means that it can include other elements, not excluding other elements unless specifically stated otherwise.

도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다.The thickness or the size of each layer (film), region, pattern or structure in the drawings may be modified for clarity and convenience of explanation, and thus does not entirely reflect the actual size.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1a 내지 도 1c를 참조하여, 비교 예에 따른 인쇄회로기판을 설명한다. A printed circuit board according to a comparative example will be described with reference to Figs. 1A to 1C.

디스플레이부를 가지는 전자 디바이스는 디스플레이 패널의 신호를 메인보드까지 전달하기 위해서 적어도 2개의 인쇄회로기판이 요구된다. An electronic device having a display portion requires at least two printed circuit boards in order to transmit signals of the display panel to the main board.

비교 예에 따른 디스플레이부를 포함하는 전자디바이스에 포함되는 인쇄회로 기판은 적어도 2개일 수 있다.The electronic device including the display unit according to the comparative example may have at least two printed circuit boards.

비교 예에 따른 디스플레이부를 포함하는 전자디바이스는 제 1 인쇄회로기판(10) 및 제 2 인쇄회로기판(20)을 포함할 수 있다.The electronic device including the display unit according to the comparative example may include the first printed circuit board 10 and the second printed circuit board 20. [

상기 제 1 인쇄회로기판(10)은 연성 인쇄회로기판일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 인쇄회로기판(10)은 칩 온 필름(COF, Chip on Film)용 연성 인쇄회로기판일 수 있다. 상기 제 1 인쇄회로기판(10)은 제 1 칩(C1)이 실장되는 COF용 연성 인쇄회로기판일 수 있다. 더 자세하게, 상기 제 1 인쇄회로기판(10)은 구동 IC 칩(Drive IC chip)을 배치하기 위한 COF용 연성 인쇄회로기판일 수 있다. The first printed circuit board 10 may be a flexible printed circuit board. In detail, the first printed circuit board 10 may be a flexible printed circuit board for a chip on film (COF). The first printed circuit board 10 may be a COF flexible printed circuit board on which the first chip C1 is mounted. More specifically, the first printed circuit board 10 may be a flexible printed circuit board for a COF for disposing a drive IC chip.

상기 제 2 인쇄회로기판(20)은 인쇄회로기판(Printed Circuit Board)일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 인쇄회로기판(20)은 상기 제 1 칩(C1)과 서로 다른 종류의 제 2 칩(C2)을 배치하기 위한 인쇄회로기판일 수 있다. 여기에서, 상기 제 2 칩(C2)은 구동 IC 칩(Drive IC chip) 이외의 것으로서, 구동 IC 칩(Drive IC chip)을 제외한 다른 칩, 반도체 소자, 소켓 등 인쇄회로기판상에 전기적 연결을 위해 배치되는 다양한 칩을 의미할 수 있다. 상기 제 2 인쇄회로기판(20)은 복수 개의 제 2 칩(C2)을 배치하기 인쇄회로기판(Printed Circuit Board)일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 인쇄회로기판(20)은 서로 다른 종류의 복수 개의 제 2 칩(C2a, C2b)을 배치하기 위한 인쇄회로기판일 수 있다. The second printed circuit board 20 may be a printed circuit board. In detail, the second printed circuit board 20 may be a printed circuit board for disposing a second chip C2 of a different kind from the first chip C1. Here, the second chip C2 may be a device other than a drive IC chip, and may be electrically connected to a printed circuit board such as another chip, a semiconductor device, or a socket except a drive IC chip May refer to the various chips being deployed. The second printed circuit board 20 may be a printed circuit board for disposing a plurality of second chips C2. For example, the second printed circuit board 20 may be a printed circuit board for disposing a plurality of second chips C2a and C2b of different kinds.

비교 예에 따른 디스플레이부를 구비한 전자 디바이스는 디스플레이 패널과 메인보드 사이에 제 1 및 제 2 인쇄회로기판이 요구되기 때문에, 전자 디바이스의 전체적인 두께가 증가할 수 있다. 자세하게, 비교 예에 따른 디스플레이부를 구비한 전자 디바이스는 상, 하로 적층되는 제 1 및 제 2 인쇄회로기판이 요구되기 때문에, 전자 디바이스의 전체적인 두께가 증가할 수 있다.Since the first and second printed circuit boards are required between the display panel and the main board, the electronic device having the display unit according to the comparative example can increase the overall thickness of the electronic device. In detail, since the electronic device having the display portion according to the comparative example requires the first and second printed circuit boards stacked on and under, the overall thickness of the electronic device can be increased.

상기 제 1 인쇄회로기판(10) 및 상기 제 2 인쇄회로기판(20)은 서로 다른 공정으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 인쇄회로기판(10)은 롤-투-롤(roll to roll) 공정에 의해서 제조될 수 있다. 상기 제 2 인쇄회로기판(20)은 시트(sheet) 방식으로 제조될 수 있다. The first printed circuit board 10 and the second printed circuit board 20 may be formed in different processes. For example, the first printed circuit board 10 may be manufactured by a roll-to-roll process. The second printed circuit board 20 may be manufactured by a sheet method.

상기 제 1 인쇄회로기판(10) 및 상기 제 2 인쇄회로기판(20) 상에는 각각 서로 다른 종류의 칩이 배치되며, 각각의 칩과 연결되기 위한 전도성 패턴부의 간격(pitch)이 서로 다를 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 인쇄회로기판(20) 상에 배치되는 전도성 패턴부의 간격(pitch)은 상기 제 1 인쇄회로기판(10) 상에 배치되는 전도성 패턴부의 간격(pitch)보다 클 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 인쇄회로기판(20) 상에 배치되는 전도성 패턴부의 간격(pitch)은 100㎛ 이상이고, 상기 제 1 인쇄회로기판(10) 상에 배치되는 전도성 패턴부의 간격(pitch)은 100㎛ 미만일 수 있다. Different types of chips may be disposed on the first printed circuit board 10 and the second printed circuit board 20 and pitches of the conductive pattern portions to be connected to the respective chips may be different from each other. For example, the pitch of the conductive pattern portions disposed on the second printed circuit board 20 may be greater than the pitch of the conductive pattern portions disposed on the first printed circuit board 10. For example, the pitch of the conductive pattern portions disposed on the second printed circuit board 20 is 100 탆 or more, the pitch of the conductive pattern portions disposed on the first printed circuit board 10, May be less than 100 mu m.

자세하게, 미세한 간격(fine pitch)으로 배치되는 전도성 패턴부를 가지는 상기 제 1 인쇄회로기판(10)은 롤-투-롤 공정을 통해 제조하는 것이 공정 효율적이며 공정 비용을 저감시킬 수 있다. 한편, 100㎛ 이상의 간격으로 배치되는 전도성 패턴부를 가지는 상기 제 2 인쇄회로기판(20)은 롤-투-롤 공정으로 다루는 것이 어렵기 때문에, 시트 공정을 사용하는 것이 일반적이었다. In detail, the first printed circuit board 10 having a conductive pattern portion arranged at a fine pitch can be manufactured through a roll-to-roll process, which is process efficient and can reduce the process cost. On the other hand, since the second printed circuit board 20 having the conductive pattern portion disposed at intervals of 100 mu m or more is difficult to be handled by the roll-to-roll process, it is common to use the sheet process.

비교 예에 따른 제 1, 제 2 인쇄회로기판은 각각 서로 다른 공정으로 형성되므로, 공정 효율이 저하될 수 있다. Since the first and second printed circuit boards according to the comparative example are formed by different processes, the process efficiency may be lowered.

또한, 비교 예에 따른 연성회로기판을 포함하는 칩 패키지는 서로 다른 종류의 칩을 하나의 기판상에 배치하는 공정의 난이성이 있으므로, 별도의 제 1 및 제 2 인쇄회로기판이 요구된다. In addition, since the chip package including the flexible circuit board according to the comparative example has a difficulty in arranging different types of chips on one substrate, separate first and second printed circuit boards are required.

또한, 비교 예에 따른 연성회로기판을 포함하는 칩 패키지는 서로 다른 종류의 칩을 하나의 기판상에서 접속시키기 어려운 문제점이 있다. In addition, the chip package including the flexible circuit board according to the comparative example has a problem that it is difficult to connect different kinds of chips on one substrate.

즉, 기존의 디스플레이 패널과 메인보드 사이에는 제 1 및 제 2 인쇄회로기판이 배치될 수 있다. That is, the first and second printed circuit boards may be disposed between the conventional display panel and the main board.

디스플레이 패널(30)로부터 발생하는 R,G,B 신호를 제어, 처리 또는 전달하기 위하여 제 1 인쇄회로기판(10)은 디스플레이 패널(30)과 연결되고, 제 1 인쇄회로기판(10)은 다시 제 2 인쇄회로기판(20)과 연결되고, 제 2 인쇄회로기판(20)은 메인보드(40)에 연결될 수 있다. The first printed circuit board 10 is connected to the display panel 30 to control, process, or transfer the R, G, and B signals generated from the display panel 30, And the second printed circuit board 20 may be connected to the main board 40. The second printed circuit board 20 may be connected to the second printed circuit board 20,

상기 제 1 인쇄회로기판(10)의 일단은 디스플레이 패널(30)과 연결될 수 있다. 디스플레이 패널(30)은 접착층(50)에 의해서 상기 제 1 인쇄회로기판(10)과 연결될 수 있다. One end of the first printed circuit board 10 may be connected to the display panel 30. The display panel 30 may be connected to the first printed circuit board 10 by an adhesive layer 50.

상기 제 1 인쇄회로기판(10)의 상기 일단과 반대되는 타단은 제 2 인쇄회로기판(20)과 연결될 수 있다. 상기 제 1 인쇄회로기판(10)은 상기 접착층(50)에 의해서 상기 제 2 인쇄회로기판(20)과 연결될 수 있다. The other end opposite to the one end of the first printed circuit board 10 may be connected to the second printed circuit board 20. The first printed circuit board 10 may be connected to the second printed circuit board 20 by the adhesive layer 50.

상기 제 2 인쇄회로기판(20)의 일단은 상기 제 1 인쇄회로기판(10)과 연결되고, 상기 제 2 인쇄회로기판(20)의 상기 일단과 반대되는 타단은 메인보드(40)와 연결될 수 있다. 상기 제 2 인쇄회로기판(20)은 상기 접착층(50)에 의해서 메인보드(40)와 연결될 수 있다.One end of the second printed circuit board 20 is connected to the first printed circuit board 10 and the other end opposite to the one end of the second printed circuit board 20 is connected to the main board 40 have. The second printed circuit board (20) may be connected to the main board (40) by the adhesive layer (50).

비교 예에 따른 디스플레이부를 구비한 전자 디바이스는 상기 디스플레이 패널(30)과 상기 제 1 인쇄회로기판(10)의 사이, 상기 제 1 인쇄회로기판(10)과 상기 제 2 인쇄회로기판(20)의 사이, 상기 제 2 인쇄회로기판(20)과 상기 메인보드(40)의 사이에 각각 별도의 접착층(50)이 요구될 수 있다. 즉, 비교 예에 따른 디스플레이부를 구비한 전자 디바이스는 다수 개의 접착층이 요구되므로, 접착층의 연결불량으로 인하여 전자 디바이스의 신뢰성이 저하될 수 있는 문제점을 가진다. 다시 말해서, 비교 예에 따른 디스플레이부를 구비한 전자 디바이스는 다수의 접착층(50)이 요구되기 때문에, 상기 접착층에서 발생하는 노이즈에 의해 신호 퍼포먼스(signal performance)가 감소할 수 있다. 또한, 상, 하로 연결되는 상기 제 1 인쇄회로기판(10) 및 상기 제 2 인쇄회로기판(20)의 사이에 배치되는 접착층은 전자 디바이스의 두께를 증가시킬 수 있다. The electronic device having the display unit according to the comparative example is disposed between the display panel 30 and the first printed circuit board 10 and between the first printed circuit board 10 and the second printed circuit board 20 A separate adhesive layer 50 may be required between the second printed circuit board 20 and the main board 40, respectively. That is, since the electronic device having the display unit according to the comparative example requires a plurality of adhesive layers, the reliability of the electronic device may deteriorate due to poor connection of the adhesive layer. In other words, since the electronic device having the display unit according to the comparative example requires a plurality of adhesive layers 50, the signal performance can be reduced by the noise generated in the adhesive layer. In addition, the adhesive layer disposed between the first printed circuit board 10 and the second printed circuit board 20 connected in an up-and-down direction can increase the thickness of the electronic device.

도 1 b 및 도 1c를 참조하여, 비교 예에 따른 전자 디바이스 내에 하우징되는 제 1 인쇄회로기판(10), 제 2 인쇄회로기판(20), 디스플레이 패널(30), 및 메인보드(40)를 설명한다. 1B and 1C, a first printed circuit board 10, a second printed circuit board 20, a display panel 30, and a main board 40 housed in an electronic device according to a comparative example Explain.

도 1b는 도 1a에 따른 인쇄회로기판이 절곡된 형태에서의 단면도이며, 도 1c는 도 1b의 하면에서의 평면도이다. FIG. 1B is a cross-sectional view of the printed circuit board according to FIG. 1A in a bent form, and FIG. 1C is a plan view of the lower surface of FIG. 1B.

상기 디스플레이 패널(30) 및 상기 메인보드(40)는 대향되어 배치될 수 있다. 서로 마주보며 배치되는 상기 디스플레이 패널(30) 및 상기 메인보드(40)의 사이에는 절곡(bending) 영역을 포함하는 제 1 인쇄회로기판(10)이 배치될 수 있다. The display panel 30 and the main board 40 may be disposed to face each other. A first printed circuit board 10 including a bending area may be disposed between the display panel 30 and the main board 40 which are disposed facing each other.

상기 제 1 인쇄회로기판(10)은 일 영역이 절곡되고, 절곡되지 않는 영역에 상기 제 1 칩(C1)이 배치될 수 있다. The first printed circuit board 10 is bent in one area, and the first chip C1 may be disposed in a region where the first printed circuit board 10 is not bent.

또한, 상기 제 2 인쇄회로기판(20)은 상기 디스플레이 패널(30)과 마주보며 배치될 수 있다. 상기 제 2 인쇄회로기판(20)의 절곡되지 않는 영역에 상기 제 2 칩(C2)이 배치될 수 있다. The second printed circuit board 20 may be disposed facing the display panel 30. And the second chip C2 may be disposed in an unbending region of the second printed circuit board 20. [

도 1c를 참조하면, 비교 예는 복수의 기판이 요구되므로, 일 방향에서의 길이(L1)는 각각의 상기 제 1 인쇄회로기판(10) 및 상기 제 2 인쇄회로기판(20)의 길이의 합일 수 있다. 상기 제 1 인쇄회로기판(10) 및 상기 제 2 인쇄회로기판(20)의 일 방향에서의 길이(L1)는 상기 제 1 인쇄회로기판(10)의 단변의 길이 및 상기 제 2 인쇄회로기판(20)의 단변의 길이의 합일 수 있다. 일례로, 상기 제 1 인쇄회로기판(10) 및 상기 제 2 인쇄회로기판(20)의 일 방향에서의 길이(L1)는 30㎜ 내지 40㎜일 수 있다. 다만, 실장하기 위한 칩의 종류, 전자 디바이스의 종류에 따라 상기 제 1 인쇄회로기판(10) 및 상기 제 2 인쇄회로기판(20)의 일 방향에서의 길이(L1)는 다양한 크기일 수 있다. Referring to FIG. 1C, since a plurality of substrates are required in the comparative example, the length L1 in one direction is the sum of the lengths of the first printed circuit board 10 and the second printed circuit board 20 . The length L1 of the first printed circuit board 10 and the second printed circuit board 20 in one direction is determined by the length of the short side of the first printed circuit board 10 and the length of the first printed circuit board 10 20). ≪ / RTI > For example, the length L1 of the first printed circuit board 10 and the second printed circuit board 20 in one direction may be 30 mm to 40 mm. However, the length L1 of the first printed circuit board 10 and the second printed circuit board 20 in one direction may vary according to the type of chip to be mounted and the type of the electronic device.

비교 예에 따른 전자 디바이스는 복수의 인쇄회로기판이 요구됨에 따라, 다른 부품을 실장하기 위한 공간 또는 배터리(60)를 배치하기 위한 공간이 축소될 수 있다.As the electronic device according to the comparative example requires a plurality of printed circuit boards, the space for mounting other components or the space for arranging the battery 60 can be reduced.

최근 스마트폰과 같은 전자 디바이스는 사용자의 편의성 내지 보안을 강화하기 위하여 다양한 기능을 가지는 부품이 추가되고 있다. 예를 들어, 스마트폰, 스마트 워치 등의 전자 디바이스에는 여러 개의 카메라 모듈(듀얼 카메라 모듈, dual camera module)이 탑재되거나, 홍채 인식, 가상현실(VR, Virtual Reality)과 같은 다양한 기능을 가지는 부품이 추가되고 있다. 이에 따라, 추가되는 부품을 실장하기 위한 공간의 확보가 중요하다.2. Description of the Related Art [0002] In recent years, electronic devices such as smart phones have been added with various functions to enhance user convenience and security. For example, electronic devices such as smart phones and smart watches are equipped with a plurality of camera modules (dual camera module, dual camera module) or components having various functions such as iris recognition and virtual reality (VR) Has been added. Accordingly, it is important to secure a space for mounting additional components.

또한, 웨어러블 디바이스를 비롯한 다양한 전자 디바이스는 사용자의 편의성 향상을 위해서, 배터리 공간의 확대가 요구된다. In addition, various electronic devices including a wearable device are required to have an expanded battery space for the convenience of the user.

따라서, 기존의 전자 디바이스에 사용된 복수의 인쇄회로기판을 하나의 인쇄회로기판으로 대체함에 따라, 새로운 부품을 실장하기 위한 공간 확보 또는 배터리 크기의 확대를 위한 공간 확보의 중요성이 대두된다. Therefore, replacing a plurality of printed circuit boards used in existing electronic devices with a single printed circuit board, the importance of securing a space for mounting new components or securing a space for enlarging the battery size becomes important.

비교 예에 따른 전자 디바이스는 서로 다른 종류의 제 1 칩 및 제 2 칩이 각각 별도의 제 1 인쇄회로기판(10) 및 제 2 인쇄회로기판(30)에 배치될 수 있다. 이에 따라, 제 1 인쇄회로기판(10) 및 제 2 인쇄회로기판(30)의 사이의 접착층(50)의 두께 및 상기 제 2 인쇄회로기판(30)의 두께는 전자 디바이스의 두께를 증가시키는 문제점이 있었다. In the electronic device according to the comparative example, the first chip and the second chip of different kinds may be disposed on the first printed circuit board 10 and the second printed circuit board 30, respectively. The thickness of the adhesive layer 50 between the first printed circuit board 10 and the second printed circuit board 30 and the thickness of the second printed circuit board 30 increase the thickness of the electronic device .

또한, 상기 제 2 인쇄회로기판(30)의 크기만큼 배터리 공간 내지 다른 부품을 실장하기 위한 공간이 축소되는 문제점이 있었다. In addition, there is a problem that the space for mounting the battery space or other parts is reduced by the size of the second printed circuit board 30.

또한, 제 1 및 제 2 인쇄회로기판의 접합불량은 전자 디바이스의 신뢰성을 저하시키는 문제점이 있었다. In addition, defective junctions of the first and second printed circuit boards have a problem of lowering the reliability of the electronic device.

실시 예는 이러한 문제점을 해소하기 위해서, 복수의 칩을 하나의 기판에 실장할 수 있는 새로운 구조의 통합형 연성 회로기판 및 이를 포함하는 칩 패키지, 및 이를 포함하는 전자 디바이스를 제공할 수 있다. 실시 예와 비교 예의 동일한 도면 부호는 동일한 구성요소를 나타내며, 앞서 설명한 비교 예와 중복되는 설명은 제외한다.In order to solve this problem, the embodiment can provide an integrated flexible circuit board having a novel structure capable of mounting a plurality of chips on one substrate, a chip package including the same, and an electronic device including the same. The same reference numerals in the embodiment and the comparative example denote the same components, and the description overlapping with the comparative example described above is excluded.

도 2a 내지 도 2d를 참조하여, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판을 포함하는 전자 디바이스를 설명한다. Referring to Figs. 2A to 2D, an electronic device including an integrated flexible circuit board according to an embodiment will be described.

실시 예에 따른 전자 디바이스는 디스플레이 패널의 신호를 메인보드까지 전달하기 위해서 하나의 인쇄회로기판을 사용할 수 있다. 실시예에 따른 디스플레이부를 포함하는 전자디바이스에 포함되는 인쇄회로기판은 하나의 연성 인쇄회로기판일 수 있다. 이에 따라, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)은 서로 대향되는 디스플레이부와 메인보드 사이에서 절곡(bending)되어 디스플레이부 및 메인보드를 연결할 수 있다. The electronic device according to the embodiment may use one printed circuit board to transmit signals of the display panel to the main board. The printed circuit board included in the electronic device including the display unit according to the embodiment may be one flexible printed circuit board. Accordingly, the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment is bended between the display part and the main board facing each other to connect the display part and the main board.

자세하게, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)은 서로 다른 종류의 복수 개의 칩을 배치하기 위한 하나의 기판일 수 있다. In detail, the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment may be a single substrate for arranging a plurality of chips of different kinds.

실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300) 연성 회로기판(100)은 서로 다른 종류의 제 1 칩(c1) 및 제 2 칩(c2)을 배치하기 위한 기판일 수 있다. Integrated Flexible Circuit Substrate 300 According to the Embodiment The flexible circuit board 100 may be a substrate for disposing first and second chips c1 and c2 of different kinds.

실시예에 따른 디스플레이부를 구비한 전자 디바이스는 디스플레이 패널과 메인보드 사이에 오직 하나의 통합형 연성 회로기판(300)이 요구되기 때문에, 전자 디바이스의 전체적인 두께를 감소시킬 수 있다. The electronic device having the display unit according to the embodiment can reduce the overall thickness of the electronic device because only one integrated flexible circuit board 300 is required between the display panel and the main board.

또한, 실시 예는 비교 예에 포함된 제 1 인쇄회로기판 및 제 2 인쇄회로기판 사이의 접착층(50)을 생략할 수 있어, 통합형 연성 회로기판(300)을 포함하는 칩 패키지 및 이를 포함하는 전자 디바이스의 전체적인 두께를 감소시킬 수 있다. In addition, the embodiment can omit the adhesive layer 50 between the first printed circuit board and the second printed circuit board included in the comparative example, so that the chip package including the integrated flexible circuit board 300 and the electronic package The overall thickness of the device can be reduced.

또한, 실시 예는 제 1 인쇄회로기판과 제 2 인쇄회로기판 사이의 접착층(50)을 생략할 수 있어, 접착 불량에 의한 문제점을 해소할 수 있으므로, 전자 디바이스의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, the embodiment can omit the adhesive layer 50 between the first printed circuit board and the second printed circuit board, thereby solving the problem caused by poor adhesion, thereby improving the reliability of the electronic device.

또한, 복수 개의 인쇄회로기판의 접착 공정을 생략할 수 있어, 공정 효율이 증가되고, 공정 비용이 저감될 수 있다. Further, since the step of adhering a plurality of printed circuit boards can be omitted, the process efficiency can be increased and the process cost can be reduced.

또한, 별도의 공정으로 관리되었던 기판을 하나의 공정으로 대체함에 따라, 공정 효율 및 제품 수율을 향상시킬 수 있다. In addition, by replacing the substrate that has been managed as a separate process with one process, the process efficiency and product yield can be improved.

실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)은 절곡 영역 및 비절곡 영역을 포함할 수 있다. 실시 예에 따른 칩 온 필름(chip on film)용 연성 회로기판(100)은 절곡 영역을 포함함에 따라, 서로 마주보며 배치되는 상기 디스플레이 패널(30) 및 상기 메인보드(40)를 서로 연결할 수 있다. The integrated flexible printed circuit board 300 according to an embodiment may include a bent region and a non-bent region. The flexible circuit board 100 for a chip on film according to the embodiment includes the bending regions and can connect the display panel 30 and the main board 40 which are disposed facing each other .

실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)의 비절곡(non-bending) 영역은 디스플레이 패널(30)과 서로 마주보며 배치될 수 있다. 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)의 비절곡 영역 상에는 제 1 칩(C1) 및 제 2 칩(C2)이 배치될 수 있다. 이에 따라, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)은 상기 제 1 칩(c1) 및 상기 제 2 칩(c2)의 안정적인 실장이 가능할 수 있다. The non-bending region of the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment may be disposed facing the display panel 30 with respect to each other. The first chip C1 and the second chip C2 may be disposed on the non-bending region of the integrated flexible circuit board 300 according to the embodiment. Accordingly, the integrated flexible circuit board 300 according to the embodiment can stably mount the first chip c1 and the second chip c2.

실시 예에 따른 디스플레이 패널(30)은 절곡 영역 및 비절곡 영역을 포함할 수 있다. 바람직하게, 상기 디스플레이 패널(30)은 제 1 기판부(31) 및 제 2 기판부(32)를 포함할 수 있다. 그리고, 상기 제 2 기판부(32)는 상기 제 1 기판부(31)의 하면에 배치되는 제 1 영역과, 상기 제 1 영역으로부터 연장되어 절곡되며, 상기 제 1 영역의 하부에 위치하는 제 2 영역을 포함할 수 있다.The display panel 30 according to the embodiment may include a bending region and a non-bending region. The display panel 30 may include a first substrate portion 31 and a second substrate portion 32. The second substrate portion 32 includes a first region disposed on a lower surface of the first substrate portion 31 and a second region extending from the first region and being bent at a second Region. ≪ / RTI >

그리고, 상기 제 2 기판부(32)의 상기 제 2 영역의 하부에는 접착층(50)이 배치되고, 상기 접착층(50)의 아래에 본 발명의 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)이 배치될 수 있다.An adhesive layer 50 is disposed under the second region of the second substrate portion 32 and an integrated flexible printed circuit board 300 according to an embodiment of the present invention is disposed below the adhesive layer 50 .

도 2d는 도 2b의 하면에서의 평면도이다. FIG. 2D is a plan view of the bottom of FIG. 2B.

도 2d를 참조하면, 실시 예는 하나의 기판이 요구되므로, 일 방향에서의 길이(L2)는 하나의 기판의 길이일 수 있다. 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)의 일 방향에서의 길이(L2)는 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)의 단변의 길이일 수 있다. 일례로, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)의 일 방향에서의 길이(L2)는 10㎜ 내지 50㎜일 수 있다. 예를 들어, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)의 일 방향에서의 길이(L2)는 10㎜ 내지 30㎜ 일 수 있다. 예를 들어, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)의 일 방향에서의 길이(L2)는 15㎜ 내지 25㎜일 수 있다. 다만, 실시 예가 이에 제한되는 것은 아니며, 배치하기 위한 칩의 종류 및/또는 개수, 전자 디바이스의 종류에 따라 다양한 크기로 설계될 수 있음은 물론이다.Referring to FIG. 2D, since the embodiment requires one substrate, the length L2 in one direction may be the length of one substrate. The length L2 in one direction of the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment may be the length of the short side of the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment. For example, the length L2 in one direction of the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment may be 10 mm to 50 mm. For example, the length L2 in one direction of the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment may be 10 mm to 30 mm. For example, the length L2 in one direction of the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment may be 15 mm to 25 mm. However, the embodiment is not limited thereto, and it is of course possible to design various sizes according to the type and / or number of chips to be arranged and the type of electronic device.

실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)의 일 방향에서의 길이(L2)는 비교예에 따른 복수의 제 1 및 제 2 인쇄회로기판의 일 방향에서의 길이(L1)의 50% 내지 70% 수준의 길이를 가질 수 있다. 예를 들어, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)의 일 방향에서의 길이(L2)는 비교 예에 따른 복수의 제 1 및 제 2 인쇄회로기판의 일 방향에서의 길이(L1)의 55% 내지 150% 수준의 길이를 가질 수 있다. 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)의 일 방향에서의 길이(L2)는 비교 예에 따른 복수의 제 1 및 제 2 인쇄회로기판의 일 방향에서의 길이(L1)의 60% 내지 70% 수준의 길이를 가질 수 있다. The length L2 in one direction of the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment is 50% to 70% of the length L1 in one direction of the plurality of first and second printed circuit boards according to the comparative example, Level length. ≪ / RTI > For example, the length L2 in one direction of the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment may be equal to or greater than the length L2 of the first and second printed circuit boards 100, % ≪ / RTI > to 150%. The length L2 in one direction of the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment is 60% to 70% of the length L1 in one direction of the first and second printed circuit boards according to the comparative example, Level length. ≪ / RTI >

이에 따라, 실시 예는 전자 디바이스 내의 통합형 연성 회로기판(300)을 포함하는 칩 패키지의 크기가 감소될 수 있어, 배터리(60)를 배치하기 위한 공간이 확대될 수 있다. 또한, 실시예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)을 포함하는 칩 패키지는 평면적이 감소될 수 있어, 다른 부품을 탑재시키기 위한 공간 확보가 가능할 수 있다. Accordingly, the embodiment can reduce the size of the chip package including the integrated flexible circuit board 300 in the electronic device, so that the space for disposing the battery 60 can be enlarged. In addition, the chip package including the integrated flexible circuit board 300 according to the embodiment can be reduced in planarity, and space for mounting other components can be secured.

이하에서는, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판 및 이의 칩 패키지를 설명한다.Hereinafter, an integrated flexible printed circuit board and its chip package according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판의 단면도이고, 도 4a는 도 3의 연성 영역(FA)을 확대한 단면도이며, 도 4b는 도 3의 경성 영역(RA)을 확대한 단면도이다.FIG. 3 is a cross-sectional view of the integrated flexible circuit board according to the first embodiment of the present invention, FIG. 4A is an enlarged cross-sectional view of the soft region FA of FIG. 3, Fig.

도 3, 도 4a 및 도 4b를 참조하면, 통합형 연성 회로기판(300)은 칩 온 필름용 연성회로기판(100)과, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100) 상에 배치되는 적층 기판(200)을 포함한다.3, 4A and 4B, the integrated flexible printed circuit board 300 includes a flexible circuit board 100 for a chip-on film, a laminated board 200 disposed on the chip-on-film flexible circuit board 100, ).

여기에서, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100) 및 상기 적층 기판(200)은 서로 다른 두께를 가질 수 있다. Here, the chip-on-film flexible circuit board 100 and the laminate board 200 may have different thicknesses.

상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)의 두께는 상기 적층 기판(200)의 두께보다 작을 수 있다. The thickness of the chip-on-film flexible circuit board 100 may be smaller than the thickness of the laminated board 200.

예를 들어, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)은 약 10㎛ 내지 100㎛의 두께일 수 있다. 상기 적층 기판(200)은 약 100㎛ 내지 300㎛의 두께일 수 있다. 예를 들어, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)과 상기 적층 기판(200)을 포함하는 통합형 연성 회로기판의 총 두께(t1)는 100㎛ 내지 400㎛일 수 있다.For example, the chip-on-film flexible printed circuit board 100 may have a thickness of about 10 μm to 100 μm. The laminated substrate 200 may have a thickness of about 100 μm to 300 μm. For example, the total thickness t1 of the integrated soft circuit board including the chip-on-film flexible circuit board 100 and the laminate board 200 may be 100 to 400 mu m.

바람직하게, 상기 통합형 연성 회로기판(300)은 제 1 영역과 제 2 영역으로 구분되며, 상기 적층 기판(200)은 상기 통합형 연성 회로기판(300)의 제 2 영역의 상하면에 적층된다. Preferably, the integrated flexible printed circuit board 300 is divided into a first area and a second area, and the laminated board 200 is stacked on the upper and lower surfaces of the second area of the integrated flexible printed circuit board 300.

상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)은 제 1 절연층(110), 상기 제 1 절연층(110)의 일면에 배치되는 제 1 회로 패턴층(120), 상기 제 1 회로 패턴층(120)의 표면에 배치되는 제 1 도금층(130), 상기 제 1 회로 패턴층(120) 및/또는 상기 제 1 도금층(130) 상에 배치되는 제 1 보호층(140)을 포함한다. The chip-on-film flexible circuit board 100 includes a first insulation layer 110, a first circuit pattern layer 120 disposed on one side of the first insulation layer 110, a first circuit pattern layer 120, And a first passivation layer 140 disposed on the first circuit pattern layer 120 and / or the first plating layer 130. The first plating layer 130 may be disposed on the first circuit pattern layer 120 and /

본 발명의 제 1 실시 예에서의 상기 통합형 연성 회로기판(300)에 포함된 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)은 일면 상에 전극 패턴부를 가지는 단면 칩 온 필름용 연성 회로기판일 수 있다.The chip-on-film flexible circuit board 100 included in the integrated flexible circuit board 300 in the first embodiment of the present invention may be a flexible circuit board for chip-on-film having an electrode pattern on one side.

상기 제 1 절연층(110)은 상기 제 1 회로 패턴층(120), 상기 제 1 도금층(130) 및 상기 제 1 보호층(140)을 지지하는 지지기판일 수 있다.The first insulating layer 110 may be a supporting substrate for supporting the first circuit pattern layer 120, the first plating layer 130, and the first passivation layer 140.

상기 제 1 절연층(110)은 절곡 영역 및 절곡 영역 이외의 영역을 포함할 수 있다. 즉, 상기 기판(110)은 절곡이 이루어지는 절곡 영역 및 절곡 영역 이외의 비절곡 영역을 포함할 수 있다.The first insulating layer 110 may include a region other than the bending region and the bending region. That is, the substrate 110 may include a bending region where bending is performed and a non-bending region other than the bending region.

상기 제 1 절연층(110)은 연성 기판일 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 절연층(110)은 부분적인 절곡이 가능할 수 있다. 즉, 상기 제 1 절연층(110)은 연성 플라스틱을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 절연층(110)은 폴리이미드(polyimide, PI) 기판일 수 있다. 다만, 실시 예는 이에 제한되지 않고, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthalate, PEN)과 같은 고분자 물질로 구성된 기판일 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 절연층(110)을 포함하는 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)은 곡선의 디스플레이 장치가 구비된 다양한 전자 디바이스에 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 절연층을 포함하는 칩 온 필름용 연성 회로기판은 플렉서블 특성이 우수함에 따라, 웨어러블 전자 디바이스의 반도체 칩을 실장하는데 적합할 수 있다. 자세하게, 실시 예는 곡면 디스플레이를 포함하는 전자 디바이스에 적합할 수 있다. The first insulating layer 110 may be a flexible substrate. Accordingly, the first insulating layer 110 may be partially bendable. That is, the first insulating layer 110 may include a soft plastic. For example, the first insulating layer 110 may be a polyimide (PI) substrate. However, the embodiment is not limited thereto, and may be a substrate made of a polymer material such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN). Accordingly, the chip-on-film flexible circuit board 100 including the first insulation layer 110 can be used in various electronic devices having a curved display device. For example, since the flexible circuit board for a chip-on film including the first insulating layer has excellent flexibility, it can be suitable for mounting a semiconductor chip of a wearable electronic device. In particular, embodiments may be suitable for electronic devices including a curved display.

상기 제 1 절연층(110)은 절연 기판일 수 있다. 즉, 상기 제 1 절연층(110)은 다양한 배선 패턴들을 지지하는 절연 기판일 수 있다. The first insulating layer 110 may be an insulating substrate. That is, the first insulating layer 110 may be an insulating substrate supporting various wiring patterns.

상기 제 1 절연층(110)은 20㎛ 내지 100㎛의 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 절연층(110)은 25㎛ 내지 50㎛의 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 절연층(100)은 30㎛ 내지 40㎛의 두께를 가질 수 있다. 상기 제 1 절연층(100)의 두께가 100㎛ 초과인 경우에는 전체적인 연성 회로기판의 두께가 증가할 수 있다. 상기 제 1 절연층(100)의 두께가 20㎛ 미만인 경우에는 제 1 칩(C1)을 배치하기 어려울 수 있다. 상기 제 1 절연층(110)의 두께가 20um 미만인 경우에는, 칩을 실장 하는 공정에서 상기 제 1 절연층(110)이 열/압력 등에 취약할 수 있어, 상기 적층 기판(200)을 적층하거나, 상기 제 1 칩(C1)을 배치하기 어려울 수 있다.상기 제 1 절연층(110) 상에는 배선이 배치될 수 있다. 상기 배선은 패턴화된 복수 개의 배선일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 절연층(110) 상에서 상기 복수 개의 배선들은 서로 이격되어 배치될 수 있다. 즉, 상기 기판(110)의 일면 상에는 제 1 회로 패턴층(120)이 배치될 수 있다.The first insulating layer 110 may have a thickness of about 20 탆 to about 100 탆. For example, the first insulating layer 110 may have a thickness of 25 to 50 탆. For example, the first insulating layer 100 may have a thickness of 30 to 40 탆. When the thickness of the first insulating layer 100 is more than 100 mu m, the overall thickness of the flexible circuit board may increase. If the thickness of the first insulating layer 100 is less than 20 mu m, it may be difficult to dispose the first chip C1. When the thickness of the first insulating layer 110 is less than 20 탆, the first insulating layer 110 may be vulnerable to heat / pressure during the step of mounting the chip, It may be difficult to arrange the first chip C1. Wiring may be disposed on the first insulating layer 110. [ The wiring may be a plurality of patterned wirings. For example, the plurality of wirings on the first insulating layer 110 may be spaced apart from each other. That is, the first circuit pattern layer 120 may be disposed on one side of the substrate 110.

상기 제 1 절연층(110)의 면적은 상기 제 1 회로 패턴층(120)의 면적보다 클 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 절연층(110)의 평면적은 상기 제 1 회로 패턴층(120)의 평면적보다 클 수 있다. 즉, 상기 제 1 절연층(110) 상에는 상기 제 1 회로 패턴층(120)이 부분적으로 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 회로 패턴층(120)의 하면은 상기 제 1 절연층(110)과 접촉하고, 상기 복수 개의 배선들 사이에는 상기 제 1 절연층(110)이 노출될 수 있다. 상기 제 1 회로 패턴층(120)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. The area of the first insulating layer 110 may be larger than the area of the first circuit pattern layer 120. In detail, the planar area of the first insulation layer 110 may be larger than the planar area of the first circuit pattern layer 120. That is, the first circuit pattern layer 120 may be partially disposed on the first insulating layer 110. For example, the lower surface of the first circuit pattern layer 120 may be in contact with the first insulating layer 110, and the first insulating layer 110 may be exposed between the plurality of wirings. The first circuit pattern layer 120 may include a conductive material.

예를 들어, 상기 제 1 회로 패턴층(120)은 전기 전도성이 우수한 금속 물질을 포함할 수 있다. 더 자세하게, 상기 제 1 회로 패턴층(120)은 구리(Cu)를 포함할 수 있다. 다만, 실시 예가 이에 제한되는 것은 아니고, 구리(Cu), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 은(Ag), 몰리브덴(Mo). 금(Au), 티타튬(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있음은 물론이다. For example, the first circuit pattern layer 120 may include a metal material having excellent electrical conductivity. More specifically, the first circuit pattern layer 120 may include copper (Cu). However, the embodiment is not limited thereto, and copper, aluminum, chromium, nickel, silver and molybdenum may be used. And may include at least one of gold (Au), titanium (Ti), and alloys thereof.

상기 제 1 회로 패턴층(120)은 1㎛ 내지 15㎛의 두께로 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 회로 패턴층(120)은 1㎛ 내지 10㎛의 두께로 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 회로 패턴층(120)은 2㎛ 내지 10㎛의 두께로 배치될 수 있다.The first circuit pattern layer 120 may be arranged to have a thickness of 1 탆 to 15 탆. For example, the first circuit pattern layer 120 may be arranged to have a thickness of 1 탆 to 10 탆. For example, the first circuit pattern layer 120 may have a thickness of 2 to 10 탆.

상기 제 1 회로 패턴층(120)의 두께가 1㎛ 미만인 경우에는 상기 제 1 회로 패턴층의 저항이 증가할 수 있다. 상기 제 1 회로 패턴층(120)의 두께가 10㎛ 초과인 경우에는 미세 패턴을 구현하기 어려울 수 있다.If the thickness of the first circuit pattern layer 120 is less than 1 mu m, the resistance of the first circuit pattern layer may increase. When the thickness of the first circuit pattern layer 120 is more than 10 mu m, it may be difficult to realize a fine pattern.

상기 제 1 회로 패턴층(120) 상에는 제 1 도금층(130)이 배치될 수 있다. 상기 제 1 도금층(130)은 복수의 도금층을 포함할 수 있다. 다시 말해서, 상기 제 1 도금층(130)은 상기 제 1 회로 패턴층(120) 위에 배치되는 제 1-1 도금층과, 상기 제 1-1 도금층 위에 배치되는 제 1-2 도금층을 포함할 수 있다.A first plating layer 130 may be disposed on the first circuit pattern layer 120. The first plating layer 130 may include a plurality of plating layers. In other words, the first plating layer 130 may include a 1-1 plating layer disposed on the first circuit pattern layer 120 and a 1-2 plating layer disposed on the 1-1 plating layer.

상기 제 1-1 도금층 및 상기 제 1-2 도금층을 포함하는 제 1 도금층(130)은 위스커(whisker - kr00000374075b1) 형성의 방지를 위해, 상기 제 1 회로 패턴층(120) 상에 2 층으로 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 회로 패턴층(120)의 패턴들 사이의 단락을 방지할 수 있다. 또한, 상기 제 1 회로 패턴층(120) 상에는 두 층의 도금층이 배치됨에 따라, 칩과의 본딩 특성이 향상될 수 있다. 상기 제 1 회로 패턴층(120)이 구리(Cu)를 포함하는 경우에는, 상기 제 1 회로 패턴층(120)이 제 1 칩(C1)과 직접 본딩될 수 없고, 별도로 접착을 위한 처리가 요구될 수 있다. 반면, 상기 제 1 회로 패턴층(120) 상에 배치되는 상기 제 1 도금층(130)의 복수의 층 중 하나가 주석(Sn)을 포함하는 경우에는, 상기 제 1 도금층(130)의 표면이 순수 주석층일 수 있어, 제 1 칩(C1)과 본딩이 용이할 수 있다. 이때, 제 1 칩(C1)과 연결되는 와이어는 순수 주석층과 열과 압력만으로 쉽게 연결될 수 있어, 칩 와이어 본딩의 정확성 및 제조 공정의 편의성을 향상시킬 수 있다.The first plating layer 130 including the first 1-1 plating layer and the 1-2 first plating layer may be formed as two layers on the first circuit pattern layer 120 to prevent formation of a whisker (kr00000374075b1) . Thus, it is possible to prevent a short circuit between the patterns of the first circuit pattern layer 120. In addition, since the two layers of plating layers are disposed on the first circuit pattern layer 120, the bonding characteristics with the chips can be improved. In the case where the first circuit pattern layer 120 includes copper (Cu), the first circuit pattern layer 120 can not be directly bonded to the first chip C1, . On the other hand, when one of the plurality of layers of the first plating layer 130 disposed on the first circuit pattern layer 120 includes tin (Sn), the surface of the first plating layer 130 is pure Tin layer, so that bonding with the first chip C1 can be facilitated. At this time, the wire connected to the first chip (C1) can be easily connected to the pure tin layer only by heat and pressure, so that the accuracy of the chip wire bonding and the convenience of the manufacturing process can be improved.

상기 제 1-1 도금층이 배치되는 영역은 상기 제 1-2 도금층이 배치되는 영역과 대응될 수 있다. 즉, 상기 제 1-1 도금층이 배치되는 면적은 상기 제 1-2 도금층이 배치되는 면적과 대응될 수 있다. The region where the 1-1 plating layer is disposed may correspond to the region where the 1-2 plating layer is disposed. That is, the area where the 1-1 coating layer is disposed may correspond to the area where the 1-2 coating layer is disposed.

상기 제 1 도금층(130)은 주석(Sn)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1-1 도금층 및 상기 제 1-2 도금층은 주석(Sn)을 포함할 수 있다. The first plating layer 130 may include tin (Sn). For example, the first 1-1 plating layer and the 1-2 first plating layer may include tin (Sn).

일례로, 상기 제 1 회로 패턴층(120)을 구리(Cu)로 배치하고, 상기 제 1-1 도금층 및 상기 제 1-2 도금층을 주석(Sn)으로 배치할 수 있다. 상기 제 1 도금층(130)이 주석을 포함하는 경우에는, 주석(Sn)의 내식성이 우수하기 때문에, 상기 제 1 회로 패턴층(120)의 산화를 방지할 수 있다. 한편, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 상기 제 1 도금층(130)은 상기 주석(Sn) 이외에도 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni) 및 니켈-크롬 합금(Ni-Cr)을 포함할 수 있으며, 전해 도금, 무전해 도금 방식 등을 이용하여 상기 제 1 회로 패턴층(120) 위에 배치될 수 있다.For example, the first circuit pattern layer 120 may be formed of copper (Cu), and the first 1-1 plating layer and the 1-2 plating layer may be formed of tin (Sn). When the first plating layer 130 includes tin, oxidation of the first circuit pattern layer 120 can be prevented because tin (Sn) has excellent corrosion resistance. The first plating layer 130 may include gold (Au), silver (Ag), nickel (Ni), and nickel-chromium alloy (Ni-Cr) in addition to the tin And may be disposed on the first circuit pattern layer 120 using electrolytic plating, electroless plating, or the like.

한편, 상기 제 1 도금층(130)의 물질은 상기 제 1 회로 패턴층(120)의 물질보다 전기 전도도가 낮을 수 있다. 상기 제 1 도금층(130)은 상기 제 1 회로 패턴층(120)과 전기적인 접속이 가능할 수 있다. Meanwhile, the material of the first plating layer 130 may be lower in electric conductivity than the material of the first circuit pattern layer 120. The first plating layer 130 may be electrically connected to the first circuit pattern layer 120.

상기 제 1-1 도금층 및 상기 제 1-2 도금층은 동일한 주석(Sn)으로 형성되나, 별도의 공정으로 형성될 수 있다. The first 1-1 plating layer and the first 1-2 plating layer are formed of the same tin (Sn), but they may be formed by a separate process.

실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)의 제조 공정에 열 경화와 같은 열처리 공정이 포함되는 경우에는, 상기 제 1 회로 패턴층(120)의 구리(Cu) 또는 상기 제 1 도금층(130)의 주석(Sn)의 확산 작용이 일어날 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 보호층(140)의 경화를 통해, 상기 제 1 회로 패턴층(120)의 구리(Cu) 또는 상기 제 1 도금층(130)의 주석(Sn)의 확산 작용이 일어날 수 있다.When the process of manufacturing the integrated flexible circuit board 300 according to the embodiment includes a heat treatment process such as thermal curing, the copper (Cu) of the first circuit pattern layer 120 or the copper (Cu) of the first plating layer 130 A diffusion action of tin Sn may occur. In detail, diffusion of copper (Cu) of the first circuit pattern layer 120 or tin (Sn) of the first plating layer 130 may occur through curing of the first protective layer 140.

이에 따라, 상기 제 1-1 도금층에서 상기 제 1-2 도금층의 표면으로 갈수록 구리(Cu)의 확산 농도가 낮아짐에 따라, 구리(Cu)의 함량이 연속적으로 작아질 수 있다. 한편, 상기 제 1-1 도금층에서 상기 제 1-2 도금층의 표면으로 갈수록 주석(Sn)의 함량은 연속적으로 커질 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 도금층(130)의 최상부는 순수한 주석을 포함할 수 있다. Accordingly, as the diffusion concentration of copper (Cu) decreases from the first 1-1 plating layer toward the surface of the 1-2 plating layer, the content of copper (Cu) can be continuously reduced. On the other hand, the content of tin (Sn) may continuously increase from the first 1-1 plating layer toward the surface of the 1-2 plating layer. Accordingly, the top of the first plating layer 130 may include pure tin.

즉, 상기 제 1 회로 패턴층(120) 및 상기 제 1 도금층(130)은 적층 계면에서의 화학작용에 의해, 상기 제 1 도금층(130)의 적어도 일부는 주석 및 구리의 합금일 수 있다. 상기 제 1 회로 패턴층(120) 상에 상기 제 1 도금층(130)을 형성한 후의 주석 및 구리의 합금의 두께보다, 상기 제 1 도금층(130) 상에 상기 제 1 보호층(140)을 경화시킨 후에 주석 및 구리의 합금의 두께는 증가할 수 있다. That is, at least a part of the first plating layer 130 may be an alloy of tin and copper due to a chemical action at the lamination interface of the first circuit pattern layer 120 and the first plating layer 130. The first protective layer 140 is hardened on the first plating layer 130 to a thickness of the tin and copper alloy after the first plating layer 130 is formed on the first circuit pattern layer 120 The thickness of the alloy of tin and copper may increase.

상기 제 1 도금층(130)의 적어도 일부에 포함된 주석 및 구리의 합금은 CuxSny의 화학식을 가지고, 0<x+y<12일 수 있다. 예를 들어, 상기 화학식에서, x와 y의 합은 4≤x+y≤11일 수 있다. 예를 들어, 상기 도금층(130)에 포함된 주석 및 구리의 합금은 Cu3Sn 및 Cu6Sn5 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1-1 도금층은 주석 및 구리의 합금층일 수 있다.The alloy of tin and copper contained in at least a part of the first plating layer 130 has a chemical formula of Cu x Sn y , and 0 <x + y <12. For example, in the above formula, the sum of x and y may be 4? X + y? 11. For example, the tin and copper alloy contained in the plating layer 130 may be Cu 3 Sn and Cu 6 Sn 5 Or the like. In detail, the first-1-1 plating layer may be an alloy layer of tin and copper.

또한, 상기 제 1-1 도금층 및 상기 제 1-2 도금층은 주석 및 구리의 함량이 서로 다를 수 있다. 상기 구리 배선 패턴층과 직접 접촉하는 상기 제 1-1 도금층은 상기 제 1-2 도금층보다 구리의 함량이 클 수 있다.In addition, the content of tin and copper may be different in the first 1-1 plating layer and the 1-2 first plating layer. The first 1-1 plating layer directly contacting the copper wiring pattern layer may have a copper content higher than that of the first 1-2 plating layer.

상기 제 1-2 도금층은 상기 제 1-1 도금층보다 주석의 함량이 클 수 있다. 상기 제 1-2 도금층은 순수 주석을 포함할 수 있다. 여기에서, 순수 주석이란 주석(Sn)의 함량이 50 원자% 이상인 것, 150 원자% 이상인 것, 90 원자% 이상인 것을 의미할 수 있다. 이때, 주석 이외의 원소는 구리일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1-2 도금층은 주석(Sn)의 함량이 50 원자% 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1-2 도금층은 주석(Sn)의 함량이 150 원자% 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1-2 도금층은 주석(Sn)의 함량이 90 원자% 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1-2 도금층은 주석(Sn)의 함량이 95 원자% 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1-2 도금층은 주석(Sn)의 함량이 98 원자% 이상일 수 있다.The first 1-2 plating layer may have a tin content higher than that of the first 1-1 plating layer. The first 1-2 plating layer may include pure tin. Here, pure tin may mean that the content of tin (Sn) is 50 atomic% or more, 150 atomic% or more, and 90 atomic% or more. At this time, the element other than tin may be copper. For example, the content of tin (Sn) may be 50 atomic% or more in the 1-2 plating layer. For example, the content of tin (Sn) in the first 1-2 plating layer may be 150 atomic% or more. For example, the tin (1-2) plating layer may have a tin (Sn) content of 90 atomic% or more. For example, the content of tin (Sn) may be 95 atomic% or more in the 1-2 coating layer. For example, the content of tin (Sn) may be 98 atomic% or more in the 1-2 coating layer.

실시 예에 따른 제 1 도금층(130)은 Cu/Sn의 확산현상으로 인해, 전기화학적 마이그레이션(Electrochemical Migration Resistance)을 방지하여, 금속 성장으로 인한 합선 불량을 차단할 수 있다. The first plating layer 130 according to the embodiment can prevent an electrochemical migration resistance due to the diffusion phenomenon of Cu / Sn and can prevent a short-circuit defect due to metal growth.

다만, 실시예는 이에 제한되지 않고, 상기 제 1 도금층(130)은 Ni/Au 합금, 금(Au), 무전해 니켈 금 도금(electroless nickel immersion gold, ENIG), Ni/Pd 합금, 유기화합물 도금(Organic Solderability Preservative, OSP) 중 어느 하나를 포함할 수 있음은 물론이다. However, the present invention is not limited to this example, and the first plating layer 130 may be formed of Ni / Au alloy, Au, electroless nickel immersion gold (ENIG), Ni / Pd alloy, (Organic Solderability Preservative, OSP).

상기 제 1-1 도금층은 상기 제 1-2 도금층은 서로 대응되거나, 서로 다른 두께를 가질 수 있다. 상기 제 1-1 도금층 및 상기 제 1-2 도금층의 전체 두께는 0.3㎛ 내지 1㎛일 수 있다. 상기 제 1-1 도금층 및 상기 제 1-2 도금층의 전체 두께는 0.3㎛ 내지 0.7㎛일 수 있다. 상기 제 1-1 도금층 및 상기 제 1-2 도금층의 전체 두께는 0.3㎛ 내지 0.5㎛일 수 있다. 상기 제 1-1 도금층 및 상기 제 1-2 도금층 중 어느 하나의 도금층은 0.05㎛ 내지 0.15㎛ 이하의 두께일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1-1 도금층 및 상기 제 1-2 도금층 중 어느 하나의 도금층은 0.07㎛ 내지 0.13㎛ 이하의 두께일 수 있다. The 1-2 plating layer may correspond to the first 1-2 plating layer, or may have different thicknesses. The total thickness of the first 1-1 plating layer and the 1-2 first plating layer may be 0.3 탆 to 1 탆. The total thickness of the first 1-1 plating layer and the 1-2 first plating layer may be 0.3 탆 to 0.7 탆. The total thickness of the first 1-1 plating layer and the 1-2 first plating layer may be 0.3 탆 to 0.5 탆. The plating layer of any one of the first 1-1 plating layer and the 1-2 first plating layer may have a thickness of 0.05 탆 to 0.15 탆 or less. For example, the plating layer of any one of the 1-1 plating layer and the 1-2 plating layer may have a thickness of 0.07 탆 to 0.13 탆 or less.

상기 제 1 보호층(140)은 상기 제 1 회로 패턴층(120) 상에 부분적으로 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 보호층(140)은 상기 제 1 회로 패턴층(120) 상의 상기 제 1 도금층(130) 상에도 배치될 수 있다. 상기 제 1 보호층(140)은 상기 제 1 도금층(130)을 덮을 수 있어, 상기 제 1 회로 패턴층(120) 및 상기 제 1 도금층(130)의 산화에 의한 손상 또는 탈막을 방지할 수 있다. The first passivation layer 140 may be partially disposed on the first circuit pattern layer 120. For example, the first passivation layer 140 may be disposed on the first plating layer 130 on the first circuit pattern layer 120. The first protective layer 140 may cover the first plating layer 130 to prevent damage or de-filming due to oxidation of the first circuit pattern layer 120 and the first plating layer 130 .

상기 제 1 보호층(140)은 상기 제 1 회로 패턴층(120) 및/또는 상기 제 1 도금층(130)이 디스플레이 패널(30), 메인보드(40), 제 1 칩(C1)과 전기적으로 연결되기 위한 영역을 제외한 영역에 부분적으로 배치될 수 있다. The first passivation layer 140 may be formed on the first circuit pattern layer 120 and / or the first plating layer 130 to be electrically connected to the display panel 30, the main board 40, And may be partially disposed in an area other than the area to be connected.

이에 따라, 상기 제 1 보호층(140)은 상기 제 1 회로 패턴층(120) 및/또는 상기 제 1 도금층(130)와 부분적으로 중첩될 수 있다.Accordingly, the first passivation layer 140 may be partially overlapped with the first circuit pattern layer 120 and / or the first plating layer 130.

상기 제 1 보호층(140)의 면적은 제 1 절연층(110)의 면적보다 작을 수 있다. 상기 제 1 보호층(140)은 기판의 끝단을 제외한 영역에 배치되며, 복수 개의 오픈 영역을 포함할 수 있다. The area of the first passivation layer 140 may be smaller than the area of the first insulation layer 110. The first passivation layer 140 may be disposed in a region other than an end of the substrate, and may include a plurality of open regions.

상기 제 1 보호층(140)은 홀과 같은 형상의 제 1 오픈 영역(OA1)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 오픈 영역(OA1)은 상기 제 1 회로 패턴층(120) 및/또는 상기 제 1 도금층(130)이 제 1 칩(C1)과 전기적으로 연결되기 상기 제 1 보호층(140)의 비배치 영역일 수 있다. The first passivation layer 140 may include a first open region OA1 having the same shape as a hole. The first open area OA1 is formed in a region where the first circuit layer 120 and / or the first plating layer 130 are electrically connected to the first chip C1, May be a placement area.

상기 제 1 보호층(140)은 상기 디스플레이 패널(30)과 전기적으로 연결되기 위한 제 1 회로 패턴층(120) 상에 배치되지 않을 수 있다. 실시 예는 상기 디스플레이 패널(30)과 전기적으로 연결되기 위한 제 1 회로 패턴층(120) 상의 상기 제 1 보호층(140)의 비배치 영역인 제 2 오픈 영역(OA2)을 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 오픈 영역(OA2)에서, 상기 제 1 회로 패턴층(120) 위에 배치된 제 1 도금층(130)은 외부로 노출될 수 있다. The first passivation layer 140 may not be disposed on the first circuit pattern layer 120 to be electrically connected to the display panel 30. The embodiment may include a second open area OA2 that is a non-layout area of the first passivation layer 140 on the first circuit pattern layer 120 to be electrically connected to the display panel 30. [ Accordingly, in the second open area OA2, the first plating layer 130 disposed on the first circuit pattern layer 120 may be exposed to the outside.

상기 제 2 오픈 영역(OA2)에서, 상기 제 1 도금층(130)의 구리의 함량은 50 원자% 이상일 수 있다. 또는, 상기 제 2 오픈 영역(OA2)에서, 상기 제 1 도금층(130)의 구리의 함량은 50 원자% 미만일 수 있다. 상기 제 2 오픈 영역(OA2)은 상기 제 1 오픈 영역(OA1)보다 기판의 외곽에 위치할 수 있다. In the second open region OA2, the content of copper in the first plating layer 130 may be 50 atomic% or more. Alternatively, in the second open area OA2, the content of copper in the first plating layer 130 may be less than 50 atomic%. The second open area OA2 may be located on the outer side of the substrate than the first open area OA1.

상기 제 1 오픈 영역(OA1)은 상기 제 2 오픈 영역(OA2)보다 기판의 중앙 영역에 위치할 수 있다. The first open area OA1 may be located in a central area of the substrate than the second open area OA2.

상기 제 1 보호층(140)은 절곡 영역에 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 보호층(140)은 절곡시 발생할 수 있는 응력을 분산시킬 수 있다. 따라서, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. The first passivation layer 140 may be disposed in the bending region. Accordingly, the first passivation layer 140 can disperse stress that may occur during bending. Therefore, the reliability of the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment can be improved.

상기 제 1 보호층(140)은 절연성 물질을 포함할 수 있다. 상기 제 1 보호층(140)은 상기 제 1 회로 패턴층(120)의 표면을 보호하기 위해 도포된 후 가열하여 경화될 수 있는 다양한 물질을 포함할 수 있다. 상기 제 1 보호층(140)은 레지스트(resist)층일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 보호층(140)은 유기 고분자 물질을 포함하는 솔더 레지스트층일 수 있다. 일례로, 상기 제 1 보호층(140)은 에폭시 아크릴레이트 계열의 수지를 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 보호층(140)은 수지, 경화제, 광개시제, 안료, 용매, 필러, 첨가제, 아크릴 계열의 모노머 등을 포함할 수 있다. 다만, 실시예는 이에 제한되지 않고, 상기 제 1 보호층(140)은 포토솔더 레지스트층, 커버 레이(cover-lay) 및 고분자 물질 중 어느 하나일 수 있음은 물론이다.The first passivation layer 140 may include an insulating material. The first passivation layer 140 may include various materials that are applied to protect the surface of the first circuit pattern layer 120 and then cured by heating. The first passivation layer 140 may be a resist layer. For example, the first passivation layer 140 may be a solder resist layer containing an organic polymer material. For example, the first passivation layer 140 may include an epoxy acrylate resin. In detail, the first passivation layer 140 may include a resin, a curing agent, a photoinitiator, a pigment, a solvent, a filler, an additive, an acrylic based monomer, or the like. However, the present invention is not limited thereto, and the first passivation layer 140 may be a photo-solder resist layer, a cover-lay, or a polymer material.

상기 제 1 보호층(140)의 두께는 1㎛ 내지 20㎛일 수 있다. 상기 제 1 보호층(140)의 두께는 1㎛ 내지 15㎛일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 보호층(140)의 두께는 5㎛ 내지 20㎛일 수 있다. 상기 제 1 보호층(140)의 두께가 20㎛ 초과인 경우에는 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)의 두께가 증가할 수 있다. 상기 제 1 보호층(140)의 두께가 1㎛ 미만인 경우에는 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)에 포함된 제 1 회로 패턴층(120)의 신뢰성이 저하될 수 있다. The thickness of the first passivation layer 140 may be between 1 탆 and 20 탆. The thickness of the first passivation layer 140 may be 1 탆 to 15 탆. For example, the first passivation layer 140 may have a thickness of 5 to 20 占 퐉. If the thickness of the first passivation layer 140 is more than 20 μm, the thickness of the chip-on-film flexible circuit board 100 may increase. If the thickness of the first passivation layer 140 is less than 1 탆, the reliability of the first circuit pattern layer 120 included in the chip-on-film FPCB 100 may be reduced.

상기와 같은, 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)은 제 1 절연층(110)의 일면 상에 배치되는 전도성 패턴부(CP) 및 상기 전도성 패턴부(CP) 상의 일 영역에 부분적으로 제 1 보호층(140)이 배치되어 영성되는 보호부(PP)를 포함할 수 있다. The chip-on-film flexible printed circuit board 100 may include a conductive pattern portion CP disposed on one side of the first insulating layer 110 and a conductive pattern portion CP partially disposed on one side of the conductive pattern portion CP, And a protective portion PP where the layer 140 is disposed and inspired.

상기 전도성 패턴부(CP)는 상기 제 1 회로 패턴층(120) 및 상기 제 1 도금층(130)을 포함할 수 있다. The conductive pattern portion CP may include the first circuit pattern layer 120 and the first plating layer 130.

상기 전도성 패턴부(CP) 상의 일 영역과 다른 영역 상에는 상기 보호부(PP)가 배치되지 않을 수 있다. 이에 따라, 상기 전도성 패턴부(CP) 상의 일 영역과 다른 영역 상에는 상기 전도성 패턴부(CP) 및 이격된 상기 전도성 패턴부(CP)사이의 상기 제 1 절연층(110)이 노출될 수 있다. 상기 전도성 패턴부(CP) 상의 일 영역과 다른 영역 상에는 제 1 접속부(150)가 각각 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 보호부(PP)가 배치되지 않는 상기 전도성 패턴부(CP)의 상면에는 제 1 접속부(150)가 배치될 수 있다.The protective portion PP may not be disposed on a region other than one region on the conductive pattern portion CP. Accordingly, the first insulating layer 110 between the conductive pattern CP and the spaced conductive pattern CP can be exposed on a region other than the one region on the conductive pattern CP. The first connection part 150 may be disposed on the conductive pattern part CP and on the other area. In detail, the first connection part 150 may be disposed on the upper surface of the conductive pattern part CP in which the protection part PP is not disposed.

상기 제 1 접속부(150) 상에는 상기 제 1 칩(C1)이 배치될 수 있다. 상기 제 1 접속부(150)는 전도성 물질을 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 접속부(150)는 상기 제 1 접속부(150)의 상면에 배치되는 상기 제 1 칩(C1) 및 상기 제 1 접속부(150)의 하면에 배치되는 상기 전도성 패턴부(CP)를 전기적으로 연결할 수 있다. The first chip C1 may be disposed on the first connection unit 150. [ The first connection part 150 may include a conductive material. The first connection part 150 may include the first chip C1 disposed on the upper surface of the first connection part 150 and the conductive pattern part CP disposed on the lower surface of the first connection part 150, Can be electrically connected.

상기 제 1 칩(C1)은 구동 IC 칩(Drive IC chip)을 포함할 수 있다. The first chip C1 may include a drive IC chip.

상기 칩 온 필름용 연성 회로 기판(100)의 일단은 디스플레이 패널(30)과 연결될 수 있다. 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)의 일단은 디스플레이 패널(30)과 접착층(50)에 의해서 연결될 수 있다. 자세하게, 상기 접착층(50)의 상면에는 상기 디스플레이 패널(30)이 배치되고, 상기 접착층(50)의 하면에는 상기 칩 온 필름용 연성 회로기판(100)이 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 디스플레이 패널(30) 및 상기 칩 온 필름용 연성 회로기판(100)은 상기 접착층(50)을 사이에 두고 상, 하로 합착될 수 있다. One end of the flexible circuit board 100 for the chip-on-film may be connected to the display panel 30. One end of the chip-on-film flexible circuit board 100 may be connected to the display panel 30 by an adhesive layer 50. The display panel 30 may be disposed on the upper surface of the adhesive layer 50 and the flexible circuit board 100 may be disposed on the lower surface of the adhesive layer 50. Accordingly, the display panel 30 and the flexible circuit board 100 for the chip-on-film can be bonded up and down with the adhesive layer 50 interposed therebetween.

상기 접착층(50)은 전도성 물질을 포함할 수 있다. 상기 접착층(50)은 전도성 입자가 접착 물질 내에 분산된 것일 수 있다. 예를 들어, 상기 접착층(50)은 이방성 전도성 필름(ACF)일 수 있다. The adhesive layer 50 may include a conductive material. The adhesive layer 50 may be one in which the conductive particles are dispersed in the adhesive material. For example, the adhesive layer 50 may be an anisotropic conductive film (ACF).

이에 따라, 상기 접착층(50)은 디스플레이 패널(30) 및 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)을 포함하는 통합형 연성 회로기판(300) 사이의 전기적인 신호를 전달함과 별도의 구성요소를 안정적으로 연결할 수 있다.Accordingly, the adhesive layer 50 transmits electrical signals between the display panel 30 and the integrated flexible circuit board 300 including the chip-on-film flexible circuit board 100, .

한편, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)은 제 1 영역과 제 2 영역으로 구분될 수 있다.On the other hand, the chip-on-film flexible circuit board 100 may be divided into a first area and a second area.

상기 제 1 영역은, 상기 제 1 칩(C1)이 배치되는 영역과, 상기 디스플레이 패널(30)과 연결되는 전도성 패턴부가 형성된 영역을 포함할 수 있다. 그리고, 상기 제 2 영역은 상기 제 1 영역을 제외한 나머지 영역일 수 있다.The first region may include a region where the first chip C1 is disposed and a region where a conductive pattern portion connected to the display panel 30 is formed. The second region may be a region other than the first region.

그리고, 상기 제 1 회로 패턴층(120)은 상기 제 1 영역에 배치되는 전도성 패턴과, 상기 제 2 영역에 배치되는 전도성 패턴을 포함할 수 있다. The first circuit pattern layer 120 may include a conductive pattern disposed in the first region and a conductive pattern disposed in the second region.

이때, 상기 제 1 회로 패턴층(120)을 구성하는 전도성 패턴은 영역별로 서로 다른 폭을 가질 수 있다. 바람직하게, 상기 제 1 영역 상에 배치되는 상기 제 1 회로 패턴층(120)은, 상기 제 1 칩(C1)이 부착되는 제 1 전도성 패턴(CP1)과, 디스플레이 패널과 연결되는 제 3 전도성 패턴(CP3)과, 상기 제 1 전도성 패턴(CP1) 및 상기 제 3 전도성 패턴(CP3) 사이에서의 신호 전달을 위한 제 2 전도성 패턴(CP2)을 포함할 수 있다. At this time, the conductive patterns constituting the first circuit pattern layer 120 may have different widths depending on the regions. Preferably, the first circuit pattern layer 120 disposed on the first region includes a first conductive pattern CP1 to which the first chip C1 is attached, and a second conductive pattern CP1 to which the first conductive pattern CP1 is connected, And a second conductive pattern CP2 for signal transmission between the first conductive pattern CP1 and the third conductive pattern CP3.

이때, 상기 제 1 내지 3 전도성 패턴(CP1, CP2, CP3)은 모두 동일한 폭으로 형성될 수 있다. 다만, 상기 제 3 전도성 패턴(CP3)은 실시 예에 따라 상기 제 1 전도성 패턴(CP1) 및 상기 제 2 전도성 패턴(CP2)과 다른 폭을 가질 수 있다.At this time, the first to third conductive patterns CP1, CP2, and CP3 may all have the same width. However, the third conductive pattern CP3 may have a width different from that of the first conductive pattern CP1 and the second conductive pattern CP2 according to the embodiment.

상기 제 1 전도성 패턴(CP1)은 제 1 폭(D1)을 가지고, 상기 제 2 전도성 패턴(CP2)은 제 2 폭(D2)을 가지며, 상기 제 3 전도성 패턴(CP3)은 제 3 폭(D3)을 가질 수 있다. 이때, 상기 제 1 폭(D1)과 상기 제 2 폭(D2)은 서로 동일할 수 있다. 바람직하게, 상기 제 1 폭(D1)과 상기 제 2 폭(D2)은 5~20um일 수 있다. 더욱 바람직하게, 상기 제 1 폭(D1)과 상기 제 2 폭(D2)은 8~12um일 수 있다.Wherein the first conductive pattern CP1 has a first width D1 and the second conductive pattern CP2 has a second width D2 and the third conductive pattern CP3 has a third width D3 ). At this time, the first width D1 and the second width D2 may be equal to each other. Preferably, the first width D1 and the second width D2 may be between 5 and 20 um. More preferably, the first width D1 and the second width D2 may be between 8 and 12 um.

그리고, 상기 제 3 전도성 패턴(CP3)이 가지는 제 3 폭(D3)은 상기 제 1 폭(D1) 및 상기 제 2 폭(D2)보다 클 수 있다. 바람직하게, 상기 제 3 폭(D3)은 5~20um일 수 있다. 더욱 바람직하게, 상기 제 3 폭(D3)은 8~12um일 수 있다. 이때, 상기 제 3 폭(D3)은 상기 범위 내에서, 상기 제 1 폭(D1) 및 상기 제 2 폭(D2)보다는 크게 형성되는 것이 바람직하다.The third width D3 of the third conductive pattern CP3 may be greater than the first width D1 and the second width D2. Preferably, the third width (D3) Can be from 5 to 20 um. More preferably, the third width D3 may be between 8 and 12 um. In this case, the third width D3 is preferably larger than the first width D1 and the second width D2 within the above range.

즉, 상기 제 1 전도성 패턴(CP1) 및 상기 제 2 전도성 패턴(CP2)는 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)에서, LCD나 pOLED와 같은 디스플레이용 드라이버 IC의 탑재를 위한 파인 피치로 구현된다. 다만, 상기 제 3 전도성 패턴(CP3)도 상기 제 1 전도성 패턴(CP1) 및 상기 제 2 전도성 패턴(CP2)과 동일 폭을 가지도록 할 수 있다. 다만, 본 발명의 실시 예에서는 상기 디스플레이 패널과의 연결 신뢰성을 높이기 위해, 상기 제 1 전도성 패턴(CP1) 및 상기 제 2 전도성 패턴(CP2)보다는 큰 폭을 가지도록 할 수 있다.That is, the first conductive pattern CP1 and the second conductive pattern CP2 are implemented at a fine pitch for mounting a display driver IC such as an LCD or a p-OLED in the chip-on-film flexible circuit board 100 . However, the third conductive pattern CP3 may have the same width as the first conductive pattern CP1 and the second conductive pattern CP2. However, in the embodiment of the present invention, the first conductive pattern CP1 and the second conductive pattern CP2 may have a greater width than the first conductive pattern CP1 and the second conductive pattern CP2 in order to increase the reliability of connection with the display panel.

또한, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)의 상기 제 2 영역 상에 배치되는 제 1 회로 패턴층(120)은 적층 기판(200) 상에 배치되는 비아(V1)와 직접 연결되는 제 4 전도성 패턴(CP4)과, 신호 전달을 위한 제 5 전도성 패턴(CP5)을 포함한다. The first circuit pattern layer 120 disposed on the second region of the chip-on-film flexible circuit board 100 may include a fourth conductive layer (not shown) directly connected to the via V1 disposed on the layered substrate 200, A pattern CP4, and a fifth conductive pattern CP5 for signal transmission.

이때, 상기 제 4 전도성 패턴(CP4)은 제 4 폭(D4)을 가지며, 상기 제 5 전도성 패턴(CP5)은 제 5 폭(D5)을 가진다. 이때, 상기 제 4 폭(D4)과 상기 제 5 폭(D5)은 서로 동일할 수 있다. 여기에서, 상기 제 4 폭(D4)과 상기 제 5 폭(D5)이 서로 동일하다면, 상기 제 4 폭(D4)과 상기 제 5 폭(D5)은 상기 제 1 폭(D1) 및 상기 제 2 폭(D2)보다는 크다.At this time, the fourth conductive pattern CP4 has a fourth width D4, and the fifth conductive pattern CP5 has a fifth width D5. At this time, the fourth width D4 and the fifth width D5 may be equal to each other. If the fourth width D4 and the fifth width D5 are equal to each other, the fourth width D4 and the fifth width D5 may be equal to each other between the first width D1 and the second width D5, Is greater than the width (D2).

한편, 상기 제 4 폭(D4)과 상기 제 5 폭(D5)은 서로 다를 수 있다. 여기에서, 상기 제 4 폭(D4)과 상기 제 5 폭(D5)이 서로 다르다면, 상기 제 4 폭(D4)은 상기 제 5 폭(D5)보다 크다. 또한, 상기 제 5 폭(D5)은 상기 제 1 폭(D1) 및 상기 제 2 폭(D2)과 동일할 수 있다.Meanwhile, the fourth width D4 and the fifth width D5 may be different from each other. Here, if the fourth width D4 and the fifth width D5 are different from each other, the fourth width D4 is larger than the fifth width D5. The fifth width D5 may be the same as the first width D1 and the second width D2.

다시 말해서, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)의 제 2 영역에는 상기 적층 기판(200)이 배치된다. 이때, 상기 적층 기판(200)에는 복수의 비아(V1)가 배치된다. 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)은 롤-투-롤(roll to roll) 공정에 의해서 제조될 수 있다. 그리고, 상기 적층 기판(200)은 상기 롤-투-롤에 의해 제조된 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)의 제 2 영역 상에 시트(sheet) 방식으로 적층하여 제조될 수 있다. In other words, the laminated substrate 200 is disposed in the second region of the chip-on-film flexible circuit board 100. At this time, a plurality of vias V1 are arranged in the laminated substrate 200. [ The chip-on-film flexible circuit board 100 may be manufactured by a roll-to-roll process. The laminated board 200 may be manufactured by laminating a second region of the chip-on-film flexible circuit board 100 manufactured by the roll-to-roll method in a sheet manner.

바람직하게, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)에 배치되는 전도성 패턴의 간격(pitch)은 상기 적층 기판(200)에 배치되는 전도성 패턴의 피치(pitch)나 비아(V1)의 간격(pitch)보다 작을 수 있다. The pitch of the conductive patterns disposed on the chip-on-film flexible circuit board 100 may be a pitch of the conductive patterns or pitches of the vias V1 disposed on the laminate substrate 200, .

이때, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)의 제 2 영역에 배치되는 전도성 패턴을 상기 제 1 영역에 배치되는 전도성 패턴과 같은 파인 피치로 형성한다면, 상기 적층 기판의 적층 공정에서, 상기 제 2 영역에서의 전도성 패턴과, 상기 비아(V1) 사이의 얼라인이 어려우며, 이에 따른 신뢰성에 문제가 발생할 수 있다.At this time, if the conductive pattern disposed in the second region of the chip-on-film flexible printed circuit board 100 is formed at a fine pitch such as a conductive pattern disposed in the first region, in the laminating process of the laminated substrate, The conductive pattern in the region and the alignment between the vias V1 are difficult, which may cause a problem in reliability.

다시 말해서, 상기 비아가 가질 수 있는 최소 폭은, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)의 전도성 패턴이 가질 수 있는 폭보다 상당히 크며, 이에 따라 상기 비아(V1)와 상기 전도성 패턴 사이의 얼라인이 미스매칭되어 그에 따른 회로 단락과 같은 문제가 발생할 수 있다.In other words, the minimum width that the vias can have is considerably larger than the width that the conductive pattern of the chip-on-film flexible circuit board 100 can have, so that the gap between the via V1 and the conductive pattern Mismatching may cause a problem such as a circuit short circuit.

이에 따라, 본 발명에서는 상기 제 2 영역에 배치되는 제 4 전도성 패턴(D4)의 폭을 상기 제 1 전도성 패턴(D1)이나 상기 제 2 전도성 패턴(D2)보다 큰 폭을 가지도록 하여, 이에 따른 상기 비아(V1)와의 얼라인에 문제가 없도록 한다.Accordingly, in the present invention, the width of the fourth conductive pattern D4 disposed in the second region is greater than the width of the first conductive pattern D1 or the second conductive pattern D2, So that there is no problem in alignment with the vias V1.

바람직하게, 상기 제 4 전도성 패턴(CP4)이 가지는 제 4 폭은 20~50um일 수 있다. 더욱 바람직하게, 상기 제 4 전도성 패턴(CP4)이 가지는 제 4 폭은 20~35um일 수 있다.Preferably, the fourth width of the fourth conductive pattern CP4 may be 20 to 50 mu m. More preferably, the fourth width of the fourth conductive pattern CP4 may be 20 to 35 um.

한편, 상기 제 5 전도성 패턴(CP5)의 폭은 선택적으로 형성될 수 있다. 바람직하게, 상기 제 5 전도성 패턴(CP5)은 비아(V1)와 직접적으로 연결되지 않음에 따라 파인 피치 구현을 위해 상기 제 1 폭(D1) 및 상기 제 2 폭(D2)과 동일한 제 5 폭(D5)을 가질 수 있다.Meanwhile, the width of the fifth conductive pattern CP5 may be selectively formed. Preferably, the fifth conductive pattern CP5 is not directly connected to the via V1 and therefore has a fifth width D2 equal to the first width D1 and the second width D2 for fine pitch implementation D5).

또한, 이와 다르게, 상기 제 5 전도성 패턴(CP5)은 상기 제 2 영역 상에 배치되는 전도성 패턴들의 통일성을 위하여, 상기 제 4 폭(D4)과 동일한 제 5 폭(D5)을 가질 수 있다.Alternatively, the fifth conductive pattern CP5 may have a fifth width D5 that is the same as the fourth width D4, for the uniformity of the conductive patterns disposed on the second region.

또한, 이와 다르게, 상기 제 5 전도성 패턴(CP5)는 상기 제 1 폭(D1) 및 상기 제 4 폭(D4) 사이에서의 차이로 인해, 신호 전달에 대한 임피던스 문제가 발생할 수 있으며, 이에 따른 매칭을 위해, 상기 제 1 폭(D1)보다는 크면서 상기 제 4 폭(D4)보다는 작은 제 5폭(D5)을 가질 수 있다.Alternatively, the fifth conductive pattern CP5 may have an impedance problem for signal transmission due to the difference between the first width D1 and the fourth width D4, (D5) that is greater than the first width (D1) but less than the fourth width (D4).

한편, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)의 제 2 영역의 상면 및 하면에는 적층 기판(200)이 배치된다.On the other hand, a laminated board 200 is disposed on the upper and lower surfaces of the second region of the chip-on-film flexible circuit board 100.

상기 적층 기판(200)은 상기 제 1 절연층(110)의 상기 제 2 영역의 상면 및 하면에 배치되는 각각 제 2 절연층(210)과, 상기 제 2 절연층(210) 상에 배치되는 제 3 절연층(220)과, 상기 제 3 절연층(220) 상에 배치되는 제 4 절연층(230)과 상기 제 2 절연층(210) 상에 배치되는 제 2 회로 패턴층(240)과, 상기 제 3 절연층(230)의 표면 상에 배치되는 제 3 회로 패턴층(250)과, 상기 제 3 회로 패턴층(250) 상에 부분적으로 배치되는 제 2 보호층(260)과, 상기 제 3 회로 패턴층(250) 상에 배치되는 제 2 도금층(2150)을 포함한다.The laminated substrate 200 includes a second insulating layer 210 disposed on upper and lower surfaces of the second region of the first insulating layer 110 and a second insulating layer 210 disposed on the second insulating layer 210, A third insulating layer 220 disposed on the second insulating layer 210, a fourth insulating layer 230 disposed on the third insulating layer 220, a second circuit pattern layer 240 disposed on the second insulating layer 210, A third circuit pattern layer 250 disposed on the surface of the third insulating layer 230, a second protective layer 260 partially disposed on the third circuit pattern layer 250, And a second plating layer 2150 disposed on the three-circuit pattern layer 250.

이때, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)은 상기 설명한 바와 같이 제 1 영역 및 제 2 영역으로 구분되며, 상기 제 1 영역은 상기 적층 기판(200)이 배치되지 않음에 따라 연성 영역(FA)이라 할 수 있고, 상기 제 2 영역은 상기 적층 기판(200)이 배치됨에 따라 경성 영역(RA)이라 할 수 있다.In this case, the chip-on-film flexible circuit board 100 is divided into a first region and a second region as described above, and the first region is divided into a soft region FA, And the second region may be referred to as a hard region RA as the laminated substrate 200 is disposed.

상기 제 2 절연층(210) 및 상기 제 4 절연층(230)은 프리프레그 일 수 있고, 상기 제 3 절연층(220)은 FCCL(Flexible Copper Clad Laminate)일 수 있다.The second insulating layer 210 and the fourth insulating layer 230 may be prepregs and the third insulating layer 220 may be a flexible copper clad laminate (FCCL).

상기 프리프레그(PPG)는 반경화 상태에서 흐름성 및 점착성이 좋고, 접착제 층 및 절연재 층으로 이용되는 섬유 강화 복합재료용의 중간 기재로 사용되는데, 강화섬유에 매트릭스 수지를 예비 함침한 성형 재료이다. 이러한 프리프레그를 적층하여 가열/가압하여 수지를 경화시킴으로써 성형품이 형성된다. 즉, 프리프레그(Prepreg)는 유리섬유(Glass fiber)에 수지(BT/Epoxy, FR4, FR5 등)가 함침되어 B-stage까지 경화된 재료를 말한다The prepreg (PPG) is a molding material preliminarily impregnated with a matrix resin in a reinforcing fiber, which is excellent in flowability and adhesiveness in a semi-cured state, and is used as an intermediate substrate for a fiber reinforced composite material used as an adhesive layer and an insulating material layer . These prepregs are laminated and heated / pressed to cure the resin to form a molded article. That is, a prepreg is a material that is impregnated with a glass fiber (BT / Epoxy, FR4, FR5, etc.) and cured to a B-stage

그리고, 상기 FCCL이란, 연성 동박 적층판이라고 할 수 있으며, 이는 폴리이미드 필름상에 내열 난연성 에폭시계 접착제가 코팅되고 그 위에 동박이 적층된 복합필름이며, 경박단소나 형태 형 장착이 요구되는 회로 기판용 재료로 사용된다.The FCCL refers to a flexible copper-clad laminate, which is a composite film in which a heat-resistant flame-retardant epoxy adhesive is coated on a polyimide film and a copper foil is laminated on the polyimide film, and a circuit board It is used as a material.

또한, 상기 제 1 내지 4 절연층(110, 210, 220, 230) 중 적어도 하나의 층을 관통하며 비아(V1)가 배치된다. 상기 비아(V1)는 상기 제 1 절연층(110)의 표면에 배치된 제 1 회로 패턴층(120)과, 상기 제 3 절연층(220)의 표면에 배치된 제 2 회로 패턴층(240), 그리고 상기 제 4 절연층(230)의 표면에 배치된 제 3 회로 패턴층(250)을 전기적으로 연결한다.Also, a via V1 is disposed through at least one of the first to fourth insulating layers 110, 210, 220, and 230. The via V1 includes a first circuit pattern layer 120 disposed on a surface of the first insulation layer 110 and a second circuit pattern layer 240 disposed on a surface of the third insulation layer 220. [ And the third circuit pattern layer 250 disposed on the surface of the fourth insulating layer 230 are electrically connected to each other.

상기 비아(V1)는 상기 제 1 내지 4 절연층(110, 210, 220, 230) 중 적어도 하나의 층을 관통하는 비아 홀의 내부에 전도성 물질을 채워서 형성할 수 있다. 비아홀의 내부에 채워지는 전도성 물질은 상기 회로 패턴층들과 서로 대응되거나 서로 다른 전도성 물질일 수 있다. 예를 들어, 비아 홀의 내부에 채워지는 전도성 물질은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 은(Ag), 몰리브덴(Mo). 금(Au), 티타튬(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다.The via V1 may be formed by filling a conductive material into a via hole passing through at least one of the first to fourth insulating layers 110, 210, 220, and 230. The conductive material filled in the via hole may be a conductive material corresponding to or different from the circuit pattern layers. For example, the conductive material filled in the via hole may be copper (Cu), aluminum (Al), chromium (Cr), nickel (Ni), silver (Ag), molybdenum (Mo). Gold (Au), titanium (Ti), and alloys thereof.

한편, 상기 제 2 도금층(2150)은 상기 제 1 도금층(130)과 같이 복수의 층(제 2-1 도금층과 제 2-2 도금층)을 포함할 수 있다.The second plating layer 2150 may include a plurality of layers (a second-1-plated layer and a second-2-plated layer) like the first plating layer 130.

한편, 상기 제 2 도금층(2150)은 상기 제 1 도금층(130)과 다른 물질의 이종 금속 도금에 의해 형성할 수 있다. 즉, 제 2 도금층(2150)/상기 제 1 도금층(130)을 구성하는 금속물질은 금/주석, 은/주석, 니켈/주석, 니켈-크롬/주석, 니켈/크롬, 금/은, 금/구리, 니켈-크롬/금 중 어느 하나의 이종 금속을 선택적으로 도금하여 형성할 수 있다.Meanwhile, the second plating layer 2150 may be formed by dissimilar metal plating of a material different from that of the first plating layer 130. That is, the metal material constituting the second plating layer 2150 / the first plating layer 130 may be at least one selected from the group consisting of gold / tin, silver / tin, nickel / tin, nickel-chromium / tin, nickel / chrome, Copper, and nickel-chromium / gold.

상기 제 2 보호층(260)은 홀과 같은 형상의 제 3 오픈 영역(OA3)을 포함할 수 있다. 상기 제 3 오픈 영역(OA3)은 상기 제 3 회로 패턴층(250) 및/또는 상기 제 2 도금층(2150)이 제 2 칩(C2)과 전기적으로 연결되기 상기 제 2 보호층(260)의 비배치 영역일 수 있다. The second passivation layer 260 may include a third open area OA3 having the same shape as a hole. The third open area OA3 may be formed in a region where the third circuit pattern layer 250 and / or the second plating layer 2150 are electrically connected to the second chip C2, May be a placement area.

한편, 상기 제 1 오픈 영역(OA1) 상에 배치되는 상기 제 1 도금층(140)의 구리 함량과, 상기 제 3 오픈 영역(OA3) 상에 배치되는 제 2 도금층(2150)의 구리 함량은 서로 다를 수 있다.The copper content of the first plating layer 140 disposed on the first open area OA1 and the copper content of the second plating layer 2150 disposed on the third open area OA3 are different from each other .

상기 제 3 오픈 영역(OA3)에서, 상기 제 2 도금층(2150)의 구리의 함량은 50 원자% 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 도금층(2150)에서의 구리의 함량은 60 원자% 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 도금층(2150)에서의 구리의 함량은 60 원자% 내지 280 원자% 일 수 있다. 자세하게, 상기 제 3 오픈 영역(OA3)에서 측정된 상기 제 2-1 도금층의 구리의 함량은 60 원자% 내지 280 원자% 일 수 있다.In the third open area OA3, the content of copper in the second plating layer 2150 may be 50 atomic% or more. For example, the content of copper in the second plating layer 2150 may be 60 atomic% or more. For example, the content of copper in the second plating layer 2150 may be 60 atom% to 280 atom%. In detail, the content of copper in the second-1 plated layer measured in the third open area OA3 may be 60 atom% to 280 atom%.

상기 제 2 보호층(260)은 상기 메인보드(40)와 전기적으로 연결되기 위한 전도성 패턴부 상에 배치되지 않을 수 있다. 실시 예는 상기 메인보드(40)와 전기적으로 연결되기 위한 전도성 패턴부 상의 상기 제 2 보호층(260)의 비배치 영역인 제 4 오픈 영역(OA4)을 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 제 4 오픈 영역(OA4)에서, 상기 제 2 도금층(2150)은 외부로 노출될 수 있다. The second passivation layer 260 may not be disposed on the conductive pattern portion to be electrically connected to the main board 40. The embodiment may include a fourth open area OA4 that is a non-layout area of the second protective layer 260 on the conductive pattern part to be electrically connected to the main board 40. [ Accordingly, in the fourth open area OA4, the second plating layer 2150 may be exposed to the outside.

상기 제 4 오픈 영역(OA4)에서, 상기 제 2 도금층(2150)의 구리의 함량은 50 원자% 이상일 수 있다. 또는, 상기 제 4 오픈 영역(OA4)에서, 상기 제 2 도금층(2150)의 구리의 함량은 50 원자% 미만일 수 있다. 상기 제 4 오픈 영역(OA4)은 상기 제 1 오픈 영역(OA1) 및 상기 제 3 오픈 영역(O3)보다 기판의 외곽에 위치할 수 있다. In the fourth open area OA4, the copper content of the second plating layer 2150 may be 50 atomic% or more. Alternatively, in the fourth open area OA4, the content of copper in the second plating layer 2150 may be less than 50 atomic%. The fourth open area OA4 may be located on the outer side of the substrate than the first open area OA1 and the third open area O3.

상기 제 1 오픈 영역(OA1) 및 상기 제 3 오픈 영역(OA3)은 상기 제 4 오픈 영역(OA4)보다 기판의 중앙 영역에 위치할 수 있다. The first open area OA1 and the third open area OA3 may be located in a central area of the substrate than the fourth open area OA4.

상기 제 2 보호층(260)은 절곡 영역에 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 제2 보호층(260)은 절곡시 발생할 수 있는 응력을 분산시킬 수 있다. 따라서, 실시예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. The second passivation layer 260 may be disposed in the bending region. Accordingly, the second passivation layer 260 can disperse stress that may occur during bending. Therefore, the reliability of the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment can be improved.

상기 적층 기판(200)에서 노출된 상기 제 4 오픈 영역(OA4)에서의 제 2 도금층(2150)은 메인보드(40)와 연결될 수 있다. 상기 통합형 연성 회로기판(300)의 상기 일단과 반대되는 타단은 메인보드(40)와 접착층(50)에 의해서 연결될 수 있다. 자세하게, 상기 접착층(50)의 상면에는 메인보드(40)가 배치되고, 상기 접착층(50)의 하면에는 상기 통합형 연성 회로기판(300)이 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 메인보드(40) 및 상기 통합형 연성 회로기판(300)은 상기 접착층(50)을 사이에 두고 상, 하로 합착될 수 있다.The second plating layer 2150 in the fourth open region OA4 exposed in the laminated substrate 200 may be connected to the main board 40. [ The other end opposite to the one end of the integrated flexible printed circuit board 300 may be connected to the main board 40 by an adhesive layer 50. The main board 40 may be disposed on the upper surface of the adhesive layer 50 and the integrated flexible printed circuit board 300 may be disposed on the lower surface of the adhesive layer 50. Accordingly, the main board 40 and the integrated flexible printed circuit board 300 may be bonded up and down with the adhesive layer 50 therebetween.

한편, 상기 제 3 오픈 영역(OA3) 상에는 제 2 접속부(2280)가 배치될 수 있다. 이때, 상기 제 1 접속부(150) 및 상기 제 2 접속부(280)는 서로 다른 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 접속부(150)는 육면체 형상일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 접속부(150)의 단면은 사각형 형상을 포함할 수 있다. 더 자세하게, 상기 제 1 접속부(150)의 단면은 직사각형 또는 정사각형 형상을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 접속부(280)는 구형 형상을 포함할 수 있다. 상기 제 2 접속부(280)의 단면은 원형 형상을 포함할 수 있다. 또는, 상기 제 2 접속부(280)는 부분적으로, 또는 전체적으로 라운드진 형상을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 2 접속부(280)의 단면 형상은 일 측면에서 평면이고, 상기 일 측면과 반대되는 타 측면에서 곡면인 것을 포함할 수 있다. On the other hand, the second connection part 2280 may be disposed on the third open area OA3. At this time, the first connection part 150 and the second connection part 280 may have different shapes. For example, the first connection part 150 may have a hexahedral shape. In detail, the cross section of the first connection part 150 may include a rectangular shape. More specifically, the cross section of the first connection part 150 may include a rectangular or square shape. For example, the second connection portion 280 may include a spherical shape. The cross section of the second connection part 280 may include a circular shape. Alternatively, the second connection portion 280 may include a partially or entirely rounded shape. For example, the cross-sectional shape of the second connection part 280 may be a flat surface on one side and a curved surface on the other side opposite to the one side surface.

상기 제 1 접속부(150) 및 상기 제 2 접속부(280)는 서로 다른 크기를 가질 수 있다. 상기 제 1 접속부(150)는 상기 제 2 접속부(280)보다 작을 수 있다. The first connection part 150 and the second connection part 280 may have different sizes. The first connection unit 150 may be smaller than the second connection unit 280.

상기 제 1 접속부(150) 및 상기 제 2 접속부(280)의 폭은 서로 다를 수 잇다. 예를 들어, 하나의 제 1 접속부(150)의 양 측면 사이의 폭(D6)은 하나의 제 2 접속부(280)의 양 측면 사이의 폭(D7)보다 작을 수 있다.The widths of the first connection part 150 and the second connection part 280 may be different from each other. For example, the width D6 between both sides of one first connection part 150 may be smaller than the width D7 between both sides of one second connection part 280. [

상기 제 2 접속부(280) 상에는 상기 제 2 칩(C2)이 배치될 수 있다. 상기 제 2 접속부(280)는 전도성 물질을 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 접속부(280)는 상기 제 2 접속부(280)의 상면에 배치되는 상기 제 2 칩(C2) 및 상기 제 2 접속부(280)의 하면에 배치되는 상기 제 3 회로 패턴층(250) 및 제 2 전도층(260)을 포함하는 전도성 패턴부(CP)를 전기적으로 연결할 수 있다.And the second chip C2 may be disposed on the second connection unit 280. [ The second connection part 280 may include a conductive material. The second connection part 280 is electrically connected to the third circuit pattern layer 241 disposed on the lower surface of the second chip C2 and the second connection part 280 disposed on the upper surface of the second connection part 280, 250 and the second conductive layer 260 may be electrically connected to each other.

실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)에서, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)의 연성 영역(FA) 상에는 제 1 칩(C1)이 배치되고, 경성 영역(RA) 상에는 상기 제 1 칩(C1)과는 다른 종류의 제 2 칩(C2)이 배치될 수 있다.In the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment, the first chip C1 is disposed on the soft region FA of the chip-on-film flexible circuit board 100 and the first chip C1 is disposed on the hard region RA. A second chip C2 of a different type from the first chip C2 may be disposed.

자세하게, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300) 상에는 하나의 상기 제 1 칩(C1) 및 복수 개의 제 2 칩(C2)이 배치될 수 있다. 이에 따라, 칩 패키징 공정의 효율을 향상시킬 수 있다. In detail, one of the first chip C1 and the plurality of second chips C2 may be disposed on the integrated flexible circuit board 300 according to the embodiment. Thus, the efficiency of the chip packaging process can be improved.

상기 제 2 칩(C2)은 구동 IC 칩(Drive IC chip)이외의 칩을 의미할 수 있다. 상기 제 2 칩(C2)은 구동 IC 칩(Drive IC chip) 이외의 소켓 또는 소자를 포함하는 다양한 칩을 의미할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 칩(C2)은 다이오드 칩, 전원 IC 칩, 터치센서 IC 칩, MLCC 칩, BGA 칩, 칩 콘덴서 중 적어도 하나인 것을 포함할 수 있다. The second chip C2 may refer to a chip other than a drive IC chip. The second chip C2 may refer to various chips including a socket or a device other than a drive IC chip. For example, the second chip C2 may include at least one of a diode chip, a power IC chip, a touch sensor IC chip, an MLCC chip, a BGA chip, and a chip capacitor.

통합형 연성 회로기판(300) 상에 배치되는 복수 개의 제 2 칩(C2)은 다이오드 칩, 전원 IC 칩, 터치센서 IC 칩, MLCC 칩, BGA 칩, 칩 콘덴서 중 적어도 하나가 여러 개 배치되는 것을 의미할 수 있다. 일례로, 통합형 연성 회로기판(300) 상에는 여러 개의 MLCC 칩이 배치될 수 있다. The plurality of second chips C2 disposed on the integrated flexible circuit board 300 mean that at least one of a diode chip, a power IC chip, a touch sensor IC chip, an MLCC chip, a BGA chip, and a chip capacitor is disposed can do. For example, a plurality of MLCC chips may be disposed on the integrated flexible circuit board 300.

또한, 상기 제 2 칩(C2)은 다이오드 칩, 전원 IC 칩, 터치센서 IC 칩, MLCC 칩, BGA 칩, 칩 콘덴서 중 적어도 둘을 포함할 수 있다. 즉, 통합형 연성 회로기판(300) 상에는 서로 다른 종류의 복수 개의 제 2 칩(C2a, C2b)이 배치될 수 있다. 예를 들어, 통합형 연성 회로기판(300) 상에는 다이오드 칩, 전원 IC 칩, 터치센서 IC 칩, MLCC 칩, BGA 칩, 칩 콘덴서 중 어느 하나의 제 2 칩(C2a) 및 다이오드 칩, 전원 IC 칩, 터치센서 IC 칩, MLCC 칩, BGA 칩, 칩 콘덴서 중 상기 어느 하나와 다른 하나의 제 2 칩(C2b)을 포함할 수 있다.The second chip C2 may include at least two of a diode chip, a power IC chip, a touch sensor IC chip, an MLCC chip, a BGA chip, and a chip capacitor. That is, a plurality of second chips C2a and C2b of different kinds may be disposed on the integrated flexible circuit board 300. [ For example, a second chip (C2a) of any one of a diode chip, a power IC chip, a touch sensor IC chip, an MLCC chip, a BGA chip, and a chip capacitor and a diode chip, a power IC chip, A touch sensor IC chip, an MLCC chip, a BGA chip, and a chip capacitor, and one second chip C2b.

자세하게, 통합형 연성 회로기판(300) 상에는 다이오드 칩, 전원 IC 칩, 터치센서 IC 칩, MLCC 칩, BGA 칩, 칩 콘덴서 중 어느 하나의 제 2 칩(C2a)이 복수 개로 배치될 수 있고, 다이오드 칩, 전원 IC 칩, 터치센서 IC 칩, MLCC 칩, BGA 칩, 칩 콘덴서 중 상기 어느 하나와 다른 하나의 제 2 칩(C2b)이 복수 개로 배치되는 것을 포함할 수 있다. 일례로, 통합형 연성 회로기판(300) 상에는 복수 개의 MLCC 칩(C2a) 및 복수 개의 전원 IC 칩(C2b)을 포함할 수 있다. 일례로, 통합형 연성 회로기판(300) 상에는 복수 개의 MLCC 칩(C2a) 및 복수 개의 다이오드 칩(C2b)을 포함할 수 있다. 일례로, 통합형 연성 회로기판(300) 상에는 복수 개의 MLCC 칩(C2a) 및 복수 개의 BGA 칩(C2b)을 포함할 수 있다.A plurality of second chips (C2a) of a diode chip, a power IC chip, a touch sensor IC chip, an MLCC chip, a BGA chip, and a chip capacitor may be arranged on the integrated flexible circuit board 300 in detail. , A power IC chip, a touch sensor IC chip, an MLCC chip, a BGA chip, and a chip capacitor, and a second chip (C2b) different from the first chip (C2b). For example, the integrated flexible circuit board 300 may include a plurality of MLCC chips C2a and a plurality of power IC chips C2b. For example, the integrated flexible circuit board 300 may include a plurality of MLCC chips C2a and a plurality of diode chips C2b. For example, the integrated flexible circuit board 300 may include a plurality of MLCC chips C2a and a plurality of BGA chips C2b.

실시 예에서 상기 제 2 칩의 종류가 2개로 제한되는 것은 아니며, 구동 IC 칩을 제외한 다양한 칩이 모두 제 2 칩에 포함될 수 있음은 물론이다. It is needless to say that the second chip is not limited to two types in the embodiment, and various chips other than the driving IC chip may be included in the second chip.

이하에서는 도 5a 내지 도 5j를 참조하여 도 3에 도시된 통합형 연성 회로기판(300)의 제조 방법에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing the integrated flexible printed circuit board 300 shown in FIG. 3 will be described with reference to FIGS. 5A to 5J.

먼저, 도 5a를 참조하면, 제 1 절연층(110)의 일면 상에 제 1 회로 패턴층(120)이 형성되고, 상기 제 1 회로 패턴층(120) 중 오픈 영역을 제외한 나머지 영역을 덮는 제 1 보호층(140)을 형성한 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)을 준비할 수 있다.5A, a first circuit pattern layer 120 is formed on one surface of a first insulating layer 110, a first circuit pattern layer 120 is formed on one surface of the first circuit pattern layer 120, 1 &lt; / RTI &gt; protection layer 140 can be prepared.

이때, 상기 설명한 바와 같이, 상기 제 1 절연층(110)은 제 1 영역 및 제 2 영역으로 구분되며, 상기 제 1 영역에 배치되는 상기 제 1 회로 패턴층(120)의 폭과, 상기 제 2 영역에 배치된 상기 제 1 회로 패턴층(120)의 폭은 서로 다르도록 한다. 다시 말해서, 상기 제 2 영역에 배치되는 제 1 회로 패턴층(120) 중 적층 기판(200)의 비아(V1)와 연결되는 제 4 전도성 패턴(CP4)은 나머지 다른 전도성 패턴보다 큰 폭을 가지도록 한다. 바람직하게, 상기 제 4 전도성 패턴(CP4)은 상기 비(V1)의 폭에 대응하는 폭을 가지도록 한다.As described above, the first insulating layer 110 is divided into a first region and a second region, and the width of the first circuit pattern layer 120 disposed in the first region and the width of the second circuit pattern layer 120, The widths of the first circuit pattern layers 120 disposed in the regions are different from each other. In other words, the fourth conductive pattern CP4 connected to the via V1 of the laminated substrate 200 among the first circuit pattern layers 120 disposed in the second region is formed to have a greater width than the other conductive patterns do. Preferably, the fourth conductive pattern CP4 has a width corresponding to the width of the ratio V1.

다음으로, 도 5b에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 절연층(110)의 제 2 영역 상에 상기 제 2 영역만을 덮는 제 2 절연층(210)을 형성한다. 이때, 상기 제 2 절연층(210)은 프레프레그로 형성될 수 있다.Next, as shown in FIG. 5B, a second insulating layer 210 covering only the second region is formed on the second region of the first insulating layer 110. Next, as shown in FIG. At this time, the second insulating layer 210 may be formed of a prepreg.

그리고, 상기 제 2 절연층(210) 위에 상기 제 1 절연층(210)의 상면을 덮으면서, 상기 제 1 절연층(110)의 제 1 영역의 상부 영역을 덮는 FCCL을 형성한다. 이때, 상기 FCCL은 제 3 절연층(220) 및 상기 제 3 절연층(220) 위에 배치되는 동박층(235)을 포함한다.The FCCL covering the upper region of the first region of the first insulating layer 110 is formed while covering the upper surface of the first insulating layer 210 on the second insulating layer 210. At this time, the FCCL includes a third insulating layer 220 and a copper foil layer 235 disposed on the third insulating layer 220.

다음으로, 도 5c에 도시된 바와 같이, 상기 동박층(235)을 패터닝하여, 상기 제 3 절연층(220)의 표면 상에 배치되는 제 2 회로 패턴층(240)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 5C, the copper foil layer 235 is patterned to form a second circuit pattern layer 240 disposed on the surface of the third insulating layer 220.

또한, 상기 제 1 절연층(110), 상기 제 2 절연층(210) 및 상기 제 3 절연층(220) 중 적어도 2개를 관통하는 비아(V1)를 형성한다. 이때, 상기 비아(V1)는 상기 제 1 절연층(110), 상기 제 2 절연층(210) 및 상기 제 3 절연층(220)을 공통으로 관통하며 배치되어, 상기 제 1 회로 패턴층(120)과 제 2 회로 패턴층(240)을 전기적으로 연결할 수 있다. 또한, 상기 비아(V1)는 상기 제 2 절연층(210) 및 상기 제 3 절연층(220)을 관통하여, 상기 제 1 회로 패턴층(120)과 상기 제 2 회로 패턴층(240)을 전기적으로 연결할 수 있다.A via V1 is formed through at least two of the first insulating layer 110, the second insulating layer 210, and the third insulating layer 220. At this time, the vias V1 are disposed to penetrate the first insulating layer 110, the second insulating layer 210, and the third insulating layer 220 in common, and the first circuit pattern layer 120 And the second circuit pattern layer 240 can be electrically connected to each other. The vias V1 may pass through the second insulating layer 210 and the third insulating layer 220 to electrically connect the first circuit pattern layer 120 and the second circuit pattern layer 240 to each other. .

다음으로 도 5d에 도시된 바와 같이, 상기 제 3 절연층(220) 위에 제 4 절연층(230) 및 상기 제 4 절연층(230) 위에 동박층(245)을 적층한다.5D, a fourth insulating layer 230 is formed on the third insulating layer 220, and a copper foil layer 245 is formed on the fourth insulating layer 230. Next, as shown in FIG.

그리고, 도 5e에 도시된 바와 같이, 상기 동박층(245)을 패터닝하여, 상기 제 4 절연층(230) 위에 배치되는 제 3 회로 패턴층(250)을 형성한다.5E, the copper foil layer 245 is patterned to form a third circuit pattern layer 250 disposed on the fourth insulating layer 230. Next, as shown in FIG.

또한, 상기 제 4 절연층(230)을 관통하는 비아 홀을 형성하고, 상기 형성된 비아 홀을 금속 물질로 충진하여, 상기 제 2 회로 패턴층(240)과 상기 제 3 회로 패턴층(250)을 전기적으로 연결하는 비아를 형성한다.The second circuit pattern layer 240 and the third circuit pattern layer 250 may be formed by filling the via hole formed through the fourth insulating layer 230 with the metal material, Thereby forming electrically connecting vias.

다음으로, 도 5f에 도시된 바와 같이, 상기 제 4 절연층(230) 위에 제 3 오픈 영역(OA3) 및 제 4 오픈 영역(OA4)을 포함하는 제 2 보호층(260)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 5F, a second passivation layer 260 including a third open region OA3 and a fourth open region OA4 is formed on the fourth insulating layer 230. Referring to FIG.

다음으로, 도 5g에 도시된 바와 같이, 상기 제 3 절연층(220) 및 제 4 절연층(230) 중 상기 제 1 절연층(110)의 제 1 영역 상부에 위치한 부분을 제거한다. 이때, 상기 제거는 레이저 드릴에 의해 이루어질 수 있다.Next, as shown in FIG. 5G, a portion of the third insulating layer 220 and the fourth insulating layer 230 located above the first region of the first insulating layer 110 is removed. At this time, the removal may be performed by a laser drill.

다음으로, 도 5h에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 보호층(140) 및 상기 제 2 보호층(260)을 통해 노출된 제 1 회로 패턴층(120) 및 상기 제 3 회로 패턴층(250) 상에 제 1 도금층(130) 및 제 2 도금층(2150)을 형성한다.5H, the first circuit pattern layer 120 and the third circuit pattern layer 250, which are exposed through the first passivation layer 140 and the second passivation layer 260, A first plating layer 130 and a second plating layer 2150 are formed.

이때, 상기 제 1 도금층(130) 및 제 2 도금층(2150)은 일종 금속 도금에 의해 동시에 형성될 수 있으며, 이와 다르게 이종 금속 도금에 의해 서로 다른 금속 물질로 각각 형성될 수 있다. 상기 일종 도금은 주석(Sn)을 포함할 수 있고, 상기 주석(Sn) 이외에도 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni) 및 니켈-크롬 합금(Ni-Cr)을 포함할 수 있으며, 전해 도금, 무전해 도금 방식 등을 이용하여 형성될 수 있다.At this time, the first plating layer 130 and the second plating layer 2150 may be simultaneously formed by metal plating, or they may be formed of different metal materials by different metal plating. The one kind of plating may include tin (Sn) and may include gold (Au), silver (Ag), nickel (Ni) and nickel-chromium alloy (Ni-Cr) Electroplating, electroless plating, or the like.

또한, 상기 이종 금속 도금은, 금/주석, 은/주석, 니켈/주석, 니켈-크롬/주석, 니켈/크롬, 금/은, 금/구리, 니켈-크롬/금을 포함할 수 있다.The dissimilar metal plating may also include gold / tin, silver / tin, nickel / tin, nickel-chromium / tin, nickel / chrome, gold / silver, gold / copper, nickel-chrome / gold.

다음으로, 도 5i 및 도 5j에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 보호층(140)의 제 1 오픈 영역(OA1)을 통해 노출된 전도성 패턴부 위에 제 1 접속부(150)를 형성한다. 또한, 상기 제 2 보호층(260)의 제 3 오픈 영역(OA3)을 통해 노출된 전도성 패턴부 위에 제 2 접속부(280)를 형성한다.Next, as shown in FIGS. 5I and 5J, the first connection part 150 is formed on the exposed conductive pattern part through the first open area OA1 of the first passivation layer 140. Next, as shown in FIGS. The second connection part 280 is formed on the conductive pattern part exposed through the third open area OA3 of the second passivation layer 260. [

즉, 상기 제 1 오픈 영역(OA1)에는 제 1 접속부(150)가 배치될 수 있다. 상기 제 1 오픈 영역(OA1)에서 상기 제 1 도금층(130)의 주석(Sn)의 함량은 50 원자% 이상일 수 있다. 상기 제 1 오픈 영역(OA1)에서 상기 제 1 도금층(130)은 순수 주석을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 오픈 영역(OA1)에서 상기 제 1 도금층(130)의 주석(Sn)의 함량은 150 원자% 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 오픈 영역(OA1)에서 상기 제 1도금층(130)의 주석(Sn)의 함량은 90 원자% 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 오픈 영역(OA1)에서 상기 제 1 도금층(130)의 주석(Sn)의 함량은 95 원자% 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 오픈 영역(OA1)에서 상기 제 1 도금층(130)의 주석(Sn)의 함량은 98 원자% 이상일 수 있다. 상기 제 1 오픈 영역(OA1)에서 상기 1 도금층(130)의 주석(Sn)의 함량이 50 원자% 미만인 경우에는 상기 제 1 접속부(150)에 의한 상기 제 1 도금층(130) 및 상기 제 1 칩(C1)의 연결이 어려울 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 오픈 영역(OA1)에서 상기 제 1 도금층(130)의 주석(Sn)의 함량이 50 원자% 미만인 경우에는 상기 접속부(150)에 의한 상기 제 1 도금층(130) 및 상기 제 1 칩(C1)의 본딩에 의한 연결이 어려울 수 있다. That is, the first connection part 150 may be disposed in the first open area OA1. The content of tin (Sn) in the first plating layer (130) in the first open area (OA1) may be 50 atomic% or more. In the first open area OA1, the first plating layer 130 may include pure tin. For example, the content of tin (Sn) in the first plating layer 130 in the first open area OA1 may be 150 atomic% or more. For example, the content of tin (Sn) in the first plating layer 130 in the first open area OA1 may be 90 atomic% or more. For example, the content of tin (Sn) in the first plating layer 130 in the first open area OA1 may be 95 atomic% or more. For example, the content of tin (Sn) in the first plating layer 130 in the first open area OA1 may be 98 atomic% or more. When the content of tin (Sn) in the first plating layer 130 in the first open region OA1 is less than 50 atomic%, the first plating layer 130 and the first chip 130, (C1) may be difficult to connect. When the content of tin (Sn) in the first plating layer 130 in the first open area OA1 is less than 50 atomic%, the first plating layer 130 and the first plating layer 130 The connection by the bonding of the chip C1 may be difficult.

상기 제 1 접속부(150)는 금(Au)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 접속부(150)는 골드 범프일 수 있다. The first connection part 150 may include gold (Au). The first connection part 150 may be a gold bump.

실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)에 하나의 제 1 칩(C1)을 배치하기 위해서는 복수 개의 상기 제 1 접속부(150)가 상기 제 1 칩(C1) 및 상기 제 1 도금층(130) 사이에 배치될 수 있다. A plurality of the first connection parts 150 may be formed between the first chip C1 and the first plating layer 130 in order to dispose one first chip C1 on the integrated flexible circuit board 300 according to the embodiment. As shown in FIG.

또한, 상기 제 2 보호층(260)의 제 3 오픈 영역(OA3)에는 제 2 접속부(280)가 배치된다. A second connection part 280 is disposed in the third open area OA3 of the second passivation layer 260. [

실시예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)에 제 2 칩(C2)을 배치하기 위해서는, 마스크(M)를 통해서 제 2 접속부(280)가 배치되는 영역과 대응되는 부분에만 선택적으로 열(H)을 공급할 수 있다. 자세하게, 실시 예는 선택적인 리플로우(selective reflow) 공정을 통해서 제 2 칩(C2)을 연결하기 위한 제 2 접속부(280)가 배치되는 영역에 선택적으로 열의 공급을 할 수 있다. In order to arrange the second chip C2 on the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment, only the portion H corresponding to the region where the second connection portion 280 is arranged is selectively opened through the mask M, Can be supplied. In detail, the embodiment can selectively supply heat to an area where the second connection part 280 for connecting the second chip C2 is disposed through an optional reflow process.

자세하게, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)은 상기 제 1 칩(C1)을 실장한 이후에 제 2 칩(C2)을 배치하는 경우에도, 선택적인 리플로우(selective reflow) 공정을 통한 부분적인 열공급이 가능할 수 있다. In detail, the integrated flexible circuit board 300 according to the embodiment has a function of preventing the portion (s) through selective reflow process even when the second chip C2 is disposed after mounting the first chip C1. Heat supply can be possible.

즉, 실시 예에 따른 제조 공정은 마스크를 통해 상기 제 1 오픈 영역(OA)이 열이 노출되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 오픈 영역(OA)에 배치되는 상기 제 1 도금층이 열 공급에 의하여 순수 주석으로부터 주석 및 구리의 합금층으로 변성되는 것을 방지할 수 있다. 이에 따라, 하나의 통합형 연성 회로기판(300) 상에 서로 다른 제 1 칩(C1) 및 제 2 칩(C2)을 실장하는 경우에도, 상기 제 1 오픈 영역에서 상기 제 1 도금층(130)의 주석(Sn)의 함량은 50 원자% 이상일 수 있어, 구동 IC 칩의 조립(assembly)이 우수할 수 있다. That is, the fabrication process according to the embodiment can prevent heat from being exposed to the first open region OA through the mask. Thus, the first plating layer disposed in the first open region OA can be prevented from being transformed from pure tin into an alloy layer of tin and copper by heat supply. Accordingly, even when the first chip C1 and the second chip C2, which are different from each other, are mounted on one integrated flexible circuit board 300, the tin of the first plating layer 130 in the first open region (Sn) may be 50 atomic% or more, and the assembly of the driving IC chip may be excellent.

한편, 상기 제 3 오픈 영역(OA3)과 대응되는 영역에 마스크의 홀이 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 3 오픈 영역(OA3)에서 열에 의해 노출되는 도금층은 주석 및 구리의 합금층으로 변성될 수 있다. On the other hand, a hole of a mask may be disposed in an area corresponding to the third open area OA3. Accordingly, the plating layer exposed by heat in the third open area OA3 may be denatured as an alloy layer of tin and copper.

자세하게, 마스크의 홀을 통해 열에 의해 노출되는 상기 제 2 도금층(270)의 일 부분은 주석/구리의 확산현상이 추가적으로 진행될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 3 오픈 영역(OA3)에서 상기 제 2 도금층(280)의 주석(Sn)의 함량은 50 원자% 미만일 수 있다. 상기 제 3 오픈 영역(OA3)에서 상기 제 2 도금층(280)은 구리(Cu) 및 주석(Sn)의 합금층일 수 있다. In detail, a part of the second plating layer 270 exposed by the heat through the hole of the mask may further undergo diffusion of tin / copper. Accordingly, the content of tin (Sn) in the second plating layer 280 in the third open area OA3 may be less than 50 atomic%. In the third open area OA3, the second plating layer 280 may be an alloy layer of copper (Cu) and tin (Sn).

상기 제 2 접속부(280)는 금(Au) 이외의 금속을 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 접속부(280)는 상기 제 2 접속부(280)의 하부에 위치한 상기 제 2 도금층(280)가 순수 주석이 아닌 경우에도, 상기 제 2 칩(C2)과의 조립 성능이 우수할 수 있다. 또한, 상기 제 2 접속부(280)는 금(Au) 이외의 금속을 포함할 수 있어, 제조 비용을 저감시킬 수 있다. The second connection unit 280 may include a metal other than Au. Therefore, even when the second plating layer 280 located below the second connection part 280 is not pure tin, the second connection part 280 can be easily assembled with the second chip C2 can do. In addition, the second connection portion 280 may include a metal other than gold (Au), so that the manufacturing cost can be reduced.

예를 들어, 상기 제 2 접속부(280)는 구리(Cu), 주석(Sn), 알루미늄(Al), 아연(Zn), 인듐(In), 납(Pb), 안티몬(Sb), 비스무트(bi), 은(Ag), 니켈(Ni) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. For example, the second connection unit 280 may include at least one of copper (Cu), tin (Sn), aluminum (Al), zinc (Zn), indium (In), lead (Pb), antimony (Sb), bismuth (bi ), Silver (Ag), and nickel (Ni).

상기 제 2 접속부(280)는 솔더 범프일 수 있다. 상기 제 2 접속부(280)는 솔더볼일 수 있다. 상기 리플로우 공정의 온도에서 솔더볼은 용융될 수 있다. The second connection unit 280 may be a solder bump. The second connection unit 280 may be a solder ball. The solder ball can be melted at the temperature of the reflow process.

실시예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)에 하나의 제 2 칩(C2)을 배치하기 위해서는 복수 개의 상기 제 2 접속부(280)가 상기 제 2 칩(C2) 및 상기 제 2 도금층(280) 사이에 배치될 수 있다. A plurality of second connection portions 280 may be formed between the second chip C2 and the second plating layer 280 so as to arrange one second chip C2 on the integrated flexible circuit board 300 according to the embodiment. As shown in FIG.

상기 리플로우 공정의 온도에서, 제 2 칩(C2)은 제 2 접속부(280)를 통해 상기 제 3 오픈 영역(OA3) 상의 제 2 도금층(280)과 우수한 본딩이 가능할 수 있다. At the temperature of the reflow process, the second chip C2 can be bonded with the second plating layer 280 on the third open area OA3 through the second connection part 280. [

실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)은 상기 제 1 오픈 영역에서 제 1 접속부(150)를 통해 상기 제 1 칩(C1)의 연결이 우수한 동시에, 제 3 오픈 영역에서 제 2 접속부(280)를 통해 상기 제 2 칩(C2)의 연결이 우수할 수 있다. The integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment is excellent in the connection of the first chip C1 through the first connection part 150 in the first open area and the second connection part 280 in the third open area, The connection of the second chip C2 may be excellent.

비교 예와 같이, 제 1 인쇄회로기판에 제 1 칩을 실장하고, 제 2 인쇄회로기판에 제 2 칩을 실장한 이후에, 제 1 칩을 구비한 제 1 인쇄회로기판과 제 2 칩을 구비한 제 2 인쇄회로기판을 접착층으로 본딩하는 경우에는 제 1 칩의 열적 변성에 의한 문제가 발생하지 않을 수 있다.As in the comparative example, after the first chip is mounted on the first printed circuit board and the second chip is mounted on the second printed circuit board, the first printed circuit board having the first chip and the second chip are provided In the case of bonding a second printed circuit board to an adhesive layer, there may be no problem caused by thermal degeneration of the first chip.

그러나, 실시 예와 같이 하나의 통합형 연성 회로기판(300) 상에 서로 다른 제 1 칩 및 제 2 칩을 실장하는 경우에는 제 1 칩을 연결하기 위한 보호층의 제 1 오픈 영역에서 제 2 도금층이 열에 의하여 변성됨에 따라, 제 1 접속부에 의한 제 1 칩의 조립이 어려운 문제점이 있었다. However, when the first and second chips different from each other are mounted on one integrated flexible circuit board 300 as in the embodiment, a second plating layer is formed in the first open area of the protective layer for connecting the first chip, There is a problem that it is difficult to assemble the first chip by the first connection portion.

발명자는 이와 같은 문제를 해결하기 위해서, 선택적인 리플로우 공정을 통해 통합형 연성 회로기판(300) 상에 제 1 칩 및 제 2 칩을 차례로 배치하였다. 이에 따라, 실시예에 따른 통합형 연성 회로기판(300) 및 이를 포함하는 칩 패키지는 제 1 오픈 영역에서의 상기 제 1 도금층의 주석의 함량과, 제 3 오픈 영역에서의 상기 제 2 도금층의 주석의 함량이 다를 수 있다. 따라서, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판(300)을 포함하는 칩 패키지는 서로 다른 상기 제 1 칩(C1) 및 상기 제 2 칩(C2)의 우수한 전기적 연결이 가능할 수 있다. In order to solve such a problem, the inventors arranged the first chip and the second chip sequentially on the integrated flexible circuit board 300 through an optional reflow process. Accordingly, the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment and the chip package including the same can be manufactured by a combination of the tin content of the first plated layer in the first open area and the tin content of the tin of the second plated layer in the third open area. Content may vary. Therefore, the chip package including the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment can enable excellent electrical connection between the first chip C1 and the second chip C2, which are different from each other.

상기 제 1 오픈 영역에서의 순수 주석을 포함하는 상기 제 1 도금층은 금(Au)을 포함하는 제 1 접속부를 통해 구동 IC 칩인 제 1 칩의 안정적인 실장이 가능할 수 있다. 또한, 상기 제 3 오픈 영역에서의 구리 및 주석 합금층을 포함하는 상기 제 2 도금층은 금(Au) 이외의 금속을 포함하는 제 2 접속부를 통해 다이오드 칩, 전원 IC 칩, 터치센서 IC 칩, MLCC 칩, BGA 칩, 칩 콘덴서 중 적어도 하나인 제 2 칩의 안정적인 실장이 가능할 수 있다.The first plating layer including pure tin in the first open region can be stably mounted on the first chip, which is a driving IC chip, through a first connection portion including gold (Au). The second plating layer including the copper and tin alloy layer in the third open region is electrically connected to the diode chip, the power IC chip, the touch sensor IC chip, the MLCC A stable mounting of a second chip, which is at least one of a chip, a BGA chip, and a chip capacitor, may be possible.

이에 따라, 실시예에 따른 통합형 연성 회로기판(300) 및 이를 포함하는 칩 패키지는 하나의 통합형 연성 회로기판(300) 상에 서로 다른 종류의 제 1 칩 및 제 2 칩의 실장이 우수한 수율로 가능할 수 있다. Accordingly, the integrated flexible printed circuit board 300 according to the embodiment and the chip package including the integrated flexible circuit board 300 can be mounted on one integrated flexible circuit board 300 with excellent yields of first and second chips of different kinds .

또한, 기존의 복수 개의 인쇄회로기판을 하나의 통합형 연성 회로기판(300)으로 대체할 수 있어, 디스플레이 패널과 메인보드를 연결하기 위한 통합형 연성 회로기판(300)의 소형화 및 박형화가 가능할 수 있다. In addition, since a plurality of existing printed circuit boards can be replaced with one integrated flexible circuit board 300, the integrated flexible circuit board 300 for connecting the display panel and the main board can be downsized and thinned.

따라서, 실시예의 통합형 연성 회로기판(300)을 포함하는 전자 디바이스는 카메라 모듈, 홍체 인식 모듈 등과 같이 다양한 기능부의 탑재가 용이할 수 있다. 또한, 실시예의 통합형 연성 회로기판(300)을 포함하는 전자 디바이스는 배터리 공간을 확장할 수 있다. Therefore, the electronic device including the integrated flexible circuit board 300 of the embodiment can easily mount various functional parts such as a camera module, an iris recognition module, and the like. Further, the electronic device including the integrated flexible printed circuit board 300 of the embodiment can expand the battery space.

도 6은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판의 단면도이고, 도 7은 도 6에 도시된 통합형 연성 회로기판의 평면도를 간략하게 나타낸 도면이다.FIG. 6 is a cross-sectional view of an integrated flexible printed circuit board according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a simplified plan view of the integrated flexible printed circuit board shown in FIG.

도 6을 참조하면, 통합형 연성 회로기판은 도 3에 도시된 통합형 연성 회로기판과 비교하여, 적층 기판이 배치되는 구조만이 상이할 뿐, 그 이외의 부분은 동일하다.Referring to FIG. 6, the integrated flexible printed circuit board differs from the integrated flexible circuit board shown in FIG. 3 only in the structure in which the laminated board is disposed, and the other parts are the same.

따라서, 도 6에 대한 설명에서는 상기 적층 기판의 적층 구조에 대해서만 구체적으로 설명하기로 한다.Therefore, in the description of FIG. 6, only the lamination structure of the laminated substrate will be described in detail.

도 1을 참조하면, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)은 제 1 영역과 제 2 영역으로 구분되며, 그에 따라 상기 적층 기판(200)은 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)은 상기 제 2 영역에 배치되었다. 이때, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)에서 제 1 보호층(140)에 의해 노출되는 영역은 제 1 칩(C1)이 배치되는 제 1 오픈 영역(OA1)과, 디스플레이 패널과 연결되는 전도성 패턴이 배치되는 제 2 오픈 영역(OA1)을 포함하였다. 이때, 상기 제 1 오픈 영역(OA1)과 제 2 오픈 영역(OA2) 사이의 영역에는 상기 적층 기판(200)이 배치되지 않았다.Referring to FIG. 1, the chip-on-film flexible circuit board 100 is divided into a first region and a second region, and the chip-on-film flexible circuit board 100 is divided into a first region and a second region, 2 area. The area exposed by the first passivation layer 140 in the chip-on-film flexible printed circuit board 100 may include a first open area OA1 where the first chip C1 is disposed, And a second open area OA1 in which the pattern is disposed. At this time, the laminated substrate 200 is not disposed in a region between the first open area OA1 and the second open area OA2.

반면, 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 2 실시 예에서의 통합형 연성 회로기판에서는, 상기 제 1 오픈 영역(OA1) 및 상기 제 2 오픈 영역(OA2)의 사이 영역에 상기 적층 기판(200)이 배치된다. 6, in the integrated flexible printed circuit board according to the second embodiment of the present invention, in the area between the first open area OA1 and the second open area OA2, 200 are disposed.

다시 말해서, 상기 적층 기판(200)은 상기 제 2 오픈 영역(OA2)을 노출하면서, 상기 제 1 오픈 영역(OA1)의 주위를 둘러싸며 배치된다. In other words, the laminated substrate 200 is disposed so as to surround the first open area OA1 while exposing the second open area OA2.

즉, 상기 적층 기판(200)은 상기 제 1 오픈 영역(OA1)을 노출하는 캐비티(C)를 포함하며, 이에 따라 상기 제 1 칩(C1)이 배치되는 영역의 주위는 상기 적층 기판(200)이 배치된다. 따라서, 본 발명에서는 상기 제 1 칩(C1)이 배치되는 영역의 주위에 대한 강도를 확보할 수 있으며, 이에 따른 동작 신뢰성을 더욱 향상시킬 수 있다.That is, the laminated substrate 200 includes the cavity C that exposes the first open area OA1, so that the periphery of the area where the first chip C1 is disposed is the same as that of the laminated substrate 200, . Therefore, in the present invention, the strength around the area where the first chip (C1) is arranged can be secured, and thus the operation reliability can be further improved.

따라서, 본 발명의 제 2 실시 예에 따르면, 상기 통합형 연성 회로기판은 상기 제 1 경성 영역(RA1), 제 2 경성 영역(RA2), 제 1 연성 영역(FA1) 및 제 2 연성 영역(FA2)을 포함할 수 있다. Therefore, according to the second embodiment of the present invention, the integrated flexible circuit board includes the first hard area RA1, the second hard area RA2, the first soft area FA1, and the second soft area FA2. . &Lt; / RTI &gt;

상기 제 1 경성 영역(RA1)은 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)의 제 1 영역이며, 상기 적층 기판(200)이 배치되는 상기 통합형 연성 회로기판의 좌측 영역이다. 상기 제 1 경성 영역(RA1)에는 도 3에서 설명한 바와 같이, 메인 보드와 연결되는 전도성 패턴이 배치된다.The first hard area RA1 is a first area of the chip-on-film flexible circuit board 100 and is a left area of the integrated flexible circuit board on which the laminated board 200 is disposed. As shown in FIG. 3, a conductive pattern connected to the main board is disposed in the first hard area RA1.

상기 제 2 경성 영역(RA2)은 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)에서 제 1 칩(C1)이 배치되는 영역과, 디스플레이 패널과 연결되는 전도성 패턴이 배치되는 영역의 사이 영역이다. 한편, 제 1 실시 예에서는 제 2 칩(C2)이 상기 메인 보드와 연결되는 전도성 패턴과 인접한 영역에 배치되었으나. 제 2 실시 예에서는 상기 제 2 경성 영역(RA2) 상에 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 칩(C1)과 상기 제 2 칩(C2) 사이의 간격을 최소화하여, 그에 따른 신호 감쇄를 최소화할 수 있다.The second hard area RA2 is a region between the area where the first chip C1 is arranged in the chip-on-film flexible circuit board 100 and the area where the conductive pattern connected with the display panel is arranged. In the first embodiment, the second chip C2 is disposed in a region adjacent to the conductive pattern connected to the main board. And may be disposed on the second hard area RA2 in the second embodiment. Accordingly, the interval between the first chip C1 and the second chip C2 can be minimized, thereby minimizing signal attenuation.

상기 제 1 연성 영역(FA1)은 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)에서 제 1 칩(C1)이 배치되는 영역이다. 이때, 상기 제 1 연성 영역(FA1)은 중앙 부분이 연성 영역으로 형성되며, 이의 가장자리 부분은 제 3 경성 영역(RA3)을 형성할 수 있다.The first soft region FA1 is a region where the first chip C1 is disposed on the chip-on-film flexible circuit board 100. [ At this time, the first soft region FA1 is formed as a soft region at the center portion, and the third hard region RA3 is formed at the edge portion thereof.

상기 제 2 연성 영역(FA2)을 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)에서 디스플레이 패널과 연결되는 전도성 패턴이 배치되는 영역이다.And the second soft area FA2 is a region where a conductive pattern connected to the display panel in the chip-on-film flexible circuit board 100 is disposed.

상기와 같이, 본 발명의 제 2 실시 예에서는 상기 제 1 칩(C1)이 배치되는 영역의 주위를 둘러싸며 상기 적층 기판(200)이 배치되도록 하며, 이에 따른 통합형 연성 회로기판의 강도를 확보할 수 있다.As described above, in the second embodiment of the present invention, the laminated substrate 200 is disposed to surround the periphery of the region where the first chip C1 is disposed, and thereby the strength of the integrated flexible circuit board is ensured .

한편, 도 3 및 도 6을 참조하면, 통합형 연성 회로기판은 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)을 포함하며, 이때 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)은 상면 및 하면 중 어느 하나의 면에만 전도성 패턴이 배치되는 단면 칩 온 필름 연성 회로 기판(100)이다. 그러나, 이와 같은 단면 칩 온 필름용 연성회로기판은 고해상도(QHD)를 가지는 회로를 구현하기 어려울 수 있다. 3 and 6, the integrated flexible printed circuit board includes a chip-on-film flexible printed circuit board 100, wherein the chip-on-film flexible printed circuit board 100 is formed on only one of the upper surface and the lower surface On-film flexible circuit board (100) in which a conductive pattern is disposed. However, such a flexible chip for a chip-on-film substrate may be difficult to realize a circuit having a high resolution (QHD).

최근, 스마트폰, 텔레비전, 모니터, 전자종이, 웨어러블 디바이스 등의 디스플레이부를 가지는 다양한 전자 디바이스는 고해상도 디스플레이를 구현이 요구된다. 이에 따라, 실시예에 따른 통합형 연성 회로기판은 양면 칩 온 필름용 연성회로기판을 포함할 수 있다. 2. Description of the Related Art Recently, various electronic devices having a display portion such as a smart phone, a television, a monitor, an electronic paper, and a wearable device are required to realize a high resolution display. Accordingly, the integrated flexible circuit board according to the embodiment may include a flexible circuit board for a double-sided chip-on film.

이때, 상기 양면 칩 온 필름용 연성회로기판은 고해상도 디스플레이를 구현하기 위해서, 전도성 패턴층이 기판의 양면에 위치할 수 있다. At this time, in the flexible circuit board for a double-sided chip-on-film, a conductive pattern layer may be disposed on both sides of the substrate to realize a high-resolution display.

도 8은 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판의 단면도이다.8 is a cross-sectional view of an integrated flexible printed circuit board according to a third embodiment of the present invention.

이때, 도 8에서의 통합형 연성 회로기판은 도 1과 비교하여, 칩 온 필름 연성 회로 기판의 구조만이 다를 뿐, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판 상에 배치되는 적층 기판의 구조는 동일하다. 이에 따라, 이하에서는 상기 통합형 연성 회로기판을 구성하는 양면 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)에 대해서는 구체적으로 설명하기로 한다.In this case, the integrated flexible printed circuit board of FIG. 8 is different from that of FIG. 1 only in the structure of the chip-on-film flexible circuit board, and the structure of the laminated board disposed on the chip-on film flexible circuit board is the same. Accordingly, the double-sided chip-on-film flexible circuit board 400 constituting the integrated flexible circuit board will be described in detail below.

상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)은 양면 상에 전극 패턴부를 가지는 양면 칩 온 필름용 연성 회로기판일 수 있다. The chip-on-film flexible circuit board 400 may be a flexible circuit board for a double-sided chip-on-film having electrode pattern portions on both sides.

실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판을 구성하는 칩 온 필름(chip on film)용 연성 회로기판(400)은 제 1 절연층(410), 상기 제 1 절연층(410) 상에 배치되는 회로 패턴층(420), 도금층(430) 및 보호층(440)을 포함할 수 있다. A flexible circuit board 400 for a chip on film constituting an integrated flexible circuit board according to an embodiment includes a first insulation layer 410, a circuit pattern layer 400 disposed on the first insulation layer 410, A metal layer 420, a plating layer 430, and a protective layer 440.

실시 예에 따른 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)은 제 1 절연층(410)의 일면 상에 회로 패턴층(420), 도금층(430) 및 보호층(440)을 배치한 후, 상기 일면과 반대되는 타면 상에 상기 회로 패턴층(420), 도금층(430) 및 보호층(440)을 추가로 배치하여 제조할 수 있다.The chip on film flexible circuit board 400 according to the embodiment may be manufactured by disposing the circuit pattern layer 420, the plating layer 430 and the protection layer 440 on one surface of the first insulating layer 410, And the circuit pattern layer 420, the plating layer 430, and the protective layer 440 may be additionally disposed on the opposite surface.

즉, 상기 회로 패턴층(420)은 상부 회로 패턴층과 하부 회로 패턴층을 포함할 수 있으며, 상기 상부 회로 패턴층과 상기 하부 회로 패턴층은 서로 대응되는 금속 물질을 포함할 수 있다. 이에 따라, 공정 효율이 향상될 수 있다. 다만, 실시예는 이에 제한되지 않고, 다른 전도성 물질을 포함할 수 있음은 물론이다. That is, the circuit pattern layer 420 may include an upper circuit pattern layer and a lower circuit pattern layer, and the upper circuit pattern layer and the lower circuit pattern layer may include metal materials corresponding to each other. Thus, the process efficiency can be improved. However, it should be understood that the embodiments are not limited thereto and may include other conductive materials.

상부 회로 패턴층의 두께는 하부 회로 패턴층의 두께와 서로 대응될 수 있다. 이에 따라, 공정 효율이 향상될 수 있다.The thickness of the upper circuit pattern layer may correspond to the thickness of the lower circuit pattern layer. Thus, the process efficiency can be improved.

상부 도금층은 하부 도금층과 서로 대응되는 금속 물질을 포함할 수 있다. 이에 따라, 공정 효율이 향상될 수 있다. 다만, 실시 예는 이에 제한되지 않고, 다른 전도성 물질을 포함할 수 있음은 물론이다.The upper plating layer may include a metal material corresponding to the lower plating layer. Thus, the process efficiency can be improved. However, it should be understood that the embodiments are not limited thereto and may include other conductive materials.

상부 도금층의 두께는 하부 도금층의 두께와 서로 대응될 수 있다. 이에 따라, 공정 효율이 향상될 수 있다.The thickness of the upper plating layer may correspond to the thickness of the lower plating layer. Thus, the process efficiency can be improved.

상기 제 1 절연층(410)은 관통 홀을 포함할 수 있다. 상기 제 1 절연층(410)은 복수 개의 관통홀을 포함할 수 있다. 상기 제 1 절연층(410)의 복수 개의 관통홀은 기계적인 공정 또는 화학적인 공정에 의해서 각각 또는 동시에 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 절연층(410)의 복수 개의 관통 홀은 드릴 공정 또는 식각 공정에 의해서 형성될 수 있다. 일례로, 상기 관통 홀은 레이저를 통한 펀칭 및 디스미어 공정을 통해 형성될 수 있다. 상기 디스미어 공정은 상기 관통 홀의 내측면에 부착된 폴리이미드 스미어를 제거하는 공정일 수 있다. 상기 디스미어 공정에 의해, 상기 제 1 절연층(410)에 형성되는 관통 홀의 내벽은 직선과 유사한 경사면을 가질 수 있다.The first insulating layer 410 may include through holes. The first insulating layer 410 may include a plurality of through holes. The plurality of through holes of the first insulating layer 410 may be formed by a mechanical process or a chemical process, respectively, or simultaneously. For example, the plurality of through holes of the first insulating layer 410 may be formed by a drilling process or an etching process. For example, the through holes may be formed through laser punching and desmearing processes. The desmearing step may be a step of removing the polyimide smear attached to the inner surface of the through hole. The inner wall of the through hole formed in the first insulating layer 410 may have an inclined surface similar to a straight line by the desmearing process.

상기 제 1 절연층(410) 상에는 회로 패턴층(420), 도금층(430), 및 보호층(440)이 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 절연층(410)의 양면 상에는 회로 패턴층(420), 도금층(430), 및 보호층(440)이 각각 차례대로 배치될 수 있다. A circuit pattern layer 420, a plating layer 430, and a protective layer 440 may be disposed on the first insulating layer 410. In detail, the circuit pattern layer 420, the plating layer 430, and the protective layer 440 may be sequentially disposed on both surfaces of the first insulating layer 410.

상기 회로 패턴층(420)은 증착(evaporation), 도금(plating), 스퍼터링(sputtering) 중 적어도 하나의 방법으로 형성될 수 있다. The circuit pattern layer 420 may be formed by at least one of evaporation, plating, and sputtering.

일례로, 회로를 형성하기 위한 패턴층은 스퍼터링 후 전해도금에 의하여 형성될 수 있다. 일례로, 회로를 형성하기 위한 패턴층은 무전해 도금에 의해 형성된 구리 도금층일 수 있다. 또는, 상기 패턴층은 무전해 도금에 및 전해 도금에 의해 형성된 구리 도금층일 수 있다. As an example, a pattern layer for forming a circuit can be formed by electroplating after sputtering. In one example, the pattern layer for forming the circuit may be a copper plated layer formed by electroless plating. Alternatively, the pattern layer may be a copper-plated layer formed by electroless plating and electroplating.

다음으로, 상기 패턴층 상에 드라이필름을 라미네이션한 다음, 노광, 현상 및 에칭 공정을 통해, 연성회로기판의 양면, 즉 상면과 하면에 패턴화된 배선층을 형성할 수 있다. 이에 따라, 상기 회로 패턴층(120)을 형성할 수 있다. Next, a patterned wiring layer can be formed on both sides of the flexible circuit board, that is, on the upper and lower surfaces of the flexible circuit board through the exposure, development and etching processes after laminating the dry film on the pattern layer. Thus, the circuit pattern layer 120 can be formed.

상기 제 1 절연층(410)을 관통하는 비아 홀(V1, V2, V3)의 내부에는 전도성 물질이 채워질 수 있다. 비아 홀의 내부에 채워지는 전도성 물질은 상기 회로 패턴층(420)과 서로 대응되거나 서로 다른 전도성 물질일 수 있다. 예를 들어, 비아홀의 내부에 채워지는 전도성 물질은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 은(Ag), 몰리브덴(Mo). 금(Au), 티타튬(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다. 상기 제 1 절연층(410)의 상면의 전도성 패턴의 전기적인 신호는 상기 비아 홀에 채워진 전도성 물질을 통해서 상기 제 1 절연층(410)의 하면의 전도성 패턴에 전달될 수 있다.Vias (V1, V2, V3) passing through the first insulating layer 410 may be filled with a conductive material. The conductive material filled in the via hole may be a conductive material corresponding to or different from the circuit pattern layer 420. For example, the conductive material filled in the via hole is copper (Cu), aluminum (Al), chromium (Cr), nickel (Ni), silver (Ag), molybdenum (Mo). Gold (Au), titanium (Ti), and alloys thereof. The electrical signal of the conductive pattern on the upper surface of the first insulating layer 410 may be transmitted to the conductive pattern of the lower surface of the first insulating layer 410 through the conductive material filled in the via hole.

그 다음으로, 상기 회로 패턴층(420) 상에는 도금층(430)이 형성될 수 있다. Next, a plating layer 430 may be formed on the circuit pattern layer 420.

그 이후에는, 상기 회로 패턴층(420) 및/또는 상기 도금층(430) 상에 보호부(PP)을 스크린 인쇄할 수 있다. Thereafter, the protective portion PP may be screen printed on the circuit pattern layer 420 and / or the plating layer 430.

상기 보호층(440)은 상기 제 1 절연층(410) 상에 직접 접촉하며 배치되거나, 상기 회로 패턴층(420) 상에 직접 접촉하며 배치되거나, 상기 도금층(430) 상에 직접 접촉하며 배치될 수 있다. The protective layer 440 may be disposed in direct contact with the first insulating layer 410 or in direct contact with the circuit pattern layer 420 or may be disposed in direct contact with the plating layer 430 .

또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 제 1 절연층(410)과 상기 회로 패턴층(420) 사이에는 상기 제 1 절연층(410)과 상기 제 회로 패턴층(420)의 밀착력을 향상하기 위한 금속 시드층을 더 포함할 수 있다. 이때, 금속 시드층은 스퍼터링에 의해 형성할 수 있다. 금속 시드층은 구리를 포함할 수 있다. The first insulating layer 410 and the circuit pattern layer 420 may be formed of a metal material for enhancing adhesion between the first insulating layer 410 and the circuit pattern layer 420, And a seed layer. At this time, the metal seed layer can be formed by sputtering. The metal seed layer may comprise copper.

한편, 상기 제 1 절연층(410) 일면에는 복수 개의 보호층(440)이 배치될 수 있다. 상기 보호층은 제 1 보호층 및 제 2 보호층을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 절연층(410) 일면 상에 제 1 보호층이 부분적으로 배치되고, 상기 보호층이 배치되는 영역 이외의 영역 상에 상기 회로 패턴층(420)이 배치될 수 있다. 그리고, 상기 제 1 보호층 상에는 상기 제 2 보호층이 배치될 수 있다. 다시 말해서, 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)에 배치되는 보호층(440)은 복수의 층으로 구성될 수 있다. Meanwhile, a plurality of protection layers 440 may be disposed on one surface of the first insulation layer 410. The protective layer may include a first protective layer and a second protective layer. For example, the first protective layer may be partially disposed on one surface of the first insulating layer 410, and the circuit pattern layer 420 may be disposed on a region other than a region where the protective layer is disposed. The second passivation layer may be disposed on the first passivation layer. In other words, the protective layer 440 disposed on the chip-on-film flexible circuit board 400 may be composed of a plurality of layers.

상기 제 2 보호층은 상기 제 1 보호층 및 상기 회로 패턴층(420)을 덮으며, 상기 제 1 보호층보다 큰 영역에 배치될 수 있다. The second passivation layer covers the first passivation layer and the circuit pattern layer 420 and may be disposed in a region larger than the first passivation layer.

상기 제 2 보호층은 상기 제 1 보호층의 상면을 감싸면서 상기 제 1 보호층과 대응되는 영역 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 보호층의 폭은 상기 보호층보다 클 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 보호층의 하면은 상기 회로 패턴층(420) 및 상기 제 1 보호층과 접촉할 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 보호층은 상기 제 1 보호층과 상기 회로 패턴층(420)의 계면에서 응력이 집중되는 것을 완화할 수 있다. 따라서, 실시예에 따른 통합형 연성 회로기판에 포함된 양면 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)의 벤딩시 발생할 수 있는 탈막 또는 크랙의 발생을 낮출 수 있다.The second protective layer may be disposed on a region corresponding to the first protective layer while covering an upper surface of the first protective layer. The width of the second protective layer may be larger than that of the protective layer. Accordingly, the lower surface of the second protective layer can contact the circuit pattern layer 420 and the first protective layer. Accordingly, the second protective layer can relieve the stress concentration at the interface between the first passivation layer and the circuit pattern layer 420. Accordingly, it is possible to reduce the occurrence of a film or crack that may occur when bending the double-sided chip-on-film flexible circuit board 400 included in the integrated flexible circuit board according to the embodiment.

한편, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)에서, 상기 보호층(440)이 형성되는 상기 보호층(440)의 배치 영역은 상기 보호부(PP)일 수 있다. 상기 보호층이 형성되지 않는 상기 보호부(PP) 이외의 영역에서 상기 전도성 패턴은 외부로 노출될 수 있다. 즉, 보호층의 오픈 영역 내지 전도성 패턴 상에 보호부가 배치되지 않는 영역에서 상기 전도성 패턴은 상기 제 1 칩(C1), 상기 디스플레이 패널(30)과 전기적으로 연결될 수 있다. On the other hand, in the chip-on-film flexible circuit board 400, the protection region 440 may be formed of the protective portion PP. The conductive pattern may be exposed to the outside in a region other than the protective portion PP where the protective layer is not formed. That is, the conductive pattern may be electrically connected to the first chip (C1) and the display panel (30) in a region where the protection portion is not disposed on the open region or the conductive pattern of the protection layer.

실시 예에 따른 칩 온 필름용 연성 회로기판의 리드 패턴부 및 테스트 패턴부는 보호부와 중첩되지 않을 수 있다. 즉, 상기 리드 패턴부 및 상기 테스트 패턴부는 보호층에 의해 덮여있지 않은 오픈 영역에 위치한 전도성 패턴을 의미할 수 있고, 기능에 따라서 리드 패턴부 및 테스트 패턴부로 구별될 수 있다. The lead pattern portion and the test pattern portion of the flexible circuit board for a chip on film according to the embodiment may not overlap with the protective portion. That is, the lead pattern portion and the test pattern portion may be a conductive pattern located in an open region not covered by a protective layer, and may be distinguished as a lead pattern portion and a test pattern portion according to functions.

상기 리드 패턴부는 상기 제 1 칩, 상기 디스플레이 패널과 연결되기 위한 전도성 패턴을 의미할 수 있다.The lead pattern portion may refer to a conductive pattern to be connected to the first chip and the display panel.

상기 테스트 패턴부는 실시 예에 따른 칩 온 필름용 연성 회로기판 및 이를 포함하는 칩 패지의 제품의 불량 여부를 확인하기 위한 전도성 패턴을 의미할 수 있다.The test pattern portion may mean a conductive pattern for confirming whether or not a product of the chip-on-film flexible circuit board and the chip package including the same is defective.

상기 리드 패턴부는 위치에 따라서 이너 리드 패턴부 및 아우터 리드 패턴부로 구별될 수 있다. 상기 제 1 칩(C1)과 상대적으로 가까이 놓여있고, 보호층에 의해 중첩되지 않는 전도성 패턴의 일 영역은 이너 리드 패턴부로 표현될 수 있다. 상기 제 1 칩(C1)과 상대적으로 멀리 놓여있고, 보호층에 의해 중첩되지 않는 전도성 패턴의 일 영역은 아우터 리드 패턴부로 표현될 수 있다.The lead pattern portion can be distinguished as an inner lead pattern portion and an outer lead pattern portion depending on the position. One region of the conductive pattern which lies relatively close to the first chip (C1), and which is not overlapped by the protective layer, can be represented by the inner lead pattern portion. One region of the conductive pattern that is relatively far from the first chip C1 and is not overlapped by the protective layer may be represented by an outer lead pattern portion.

실시예에 따른 칩 온 필름용 연성 회로기판(100)의 일면 상에 배치되는 상기 제 1 칩(C1)은 제 1 접속부(450)를 통해, 상기 이너 리드 패턴부와 연결될 수 있다. 상기 이너 리드 패턴부는 제 1 이너 리드 패턴부, 제 2 이너리드 패턴부 및 제 3 이너 리드 패턴부를 포함할 수 있다. The first chip C1 disposed on one surface of the flexible circuit board 100 for a chip on film according to the embodiment may be connected to the inner lead pattern portion through a first connection portion 450. [ The inner lead pattern portion may include a first inner lead pattern portion, a second inner lead pattern portion, and a third inner lead pattern portion.

그리고, 상기 제 1 접속부(450)는 위치 및/또는 기능에 따라, 제 1 서브 제 2 접속부(451), 제 2 서브 제 1 접속부(452) 및 제 3 서브 제 1 접속부(453)를 포함할 수 있다. The first connection unit 450 includes a first sub second connection unit 451, a second sub first connection unit 452, and a third sub first connection unit 453 according to the position and / .

실시 예에 따른 상기 제 1 칩(C1)은 상기 제 1 서브 제 1 접속부(451)를 통해 상기 제 1 이너 리드 패턴부와 전기적으로 연결될 수 있다.The first chip C1 according to the embodiment may be electrically connected to the first inner lead pattern portion through the first sub first connection portion 451. [

상기 제 1 이너 리드 패턴부는 상기 제 1 절연층(410)의 상면을 따라 제 2 비아홀(V2)과 인접한 전도성 패턴까지 전기적인 신호를 전달할 수 있다. The first inner lead pattern portion may transmit an electrical signal to a conductive pattern adjacent to the second via hole V2 along the upper surface of the first insulating layer 410. [

또한, 상기 제 1 이너 리드 패턴부는 상기 제 1 절연층(410)의 상면을 따라 제 2 비아홀(V2)까지 전기적으로 연결되고, 상기 제 2 비아홀(V2)에 충진된 전도성 물질을 통해 상기 제 1 절연층(410)의 하면을 따라 상기 제 2 비아홀(V2)에 인접한 전도성 패턴까지 전기적인 신호를 전달할 수 있다. The first inner lead pattern portion is electrically connected to the second via hole V2 along the upper surface of the first insulating layer 410 and electrically connected to the first via hole V2 through the conductive material filled in the second via hole V2. And may transmit an electrical signal to the conductive pattern adjacent to the second via hole V2 along the lower surface of the insulating layer 410. [

실시 예에 따른 상기 제 1 칩(C1)은 상기 제 2 서브 제 1 접속부(452)를 통해 상기 제 2 이너 리드 패턴부와 전기적으로 연결될 수 있다.The first chip C1 according to the embodiment may be electrically connected to the second inner lead pattern portion via the second sub first connection portion 452. [

상기 제 1 절연층(410)의 상면에 배치되는 상기 제 2 이너 리드 패턴부는 상기 제 2 이너 리드 패턴부의 하부에 위치한 제 1 비아홀(V1)에 충진된 전도성 물질을 통해 상기 제 1 절연층(410)의 하면을 따라 상기 제 1 비아홀(V1)과 전도성 패턴에 전기적인 신호를 전달할 수 있다. 이때, 상기 제 1 절연층(410)의 하면에 배치되는 전도성 패턴 중 적어도 하는 테스트 패턴을 포함하며, 그에 따라 상기 제 1 비아홀을 통해 전달되는 신호는 상기 테스트 패턴으로 전달될 수 있다.The second inner lead pattern portion disposed on the upper surface of the first insulating layer 410 is electrically connected to the first insulating layer 410 through a conductive material filled in the first via hole V1 located below the second inner lead pattern portion (V1) and the conductive pattern along the lower surface of the first via hole (V1). At this time, at least a test pattern among the conductive patterns disposed on the lower surface of the first insulating layer 410 is included, so that a signal transmitted through the first via hole can be transferred to the test pattern.

그리고, 상기 테스트 패턴은 상기 제 1 비아홀(V1)을 통해 전달될 수 있는 전기적인 신호의 불량을 확인할 수 있다. 예를 들어, 상기 테스트 패턴을 통해 전달되는 신호의 정확성을 확인할 수 있다. 자세하게, 상기 테스트 패턴에서 전압 또는 전류를 측정함에 따라, 상기 제 1 칩과 상기 디스플레이 패널 사이에 위치하는 전도성 패턴부의 단락이나 쇼트의 발생여부 내지 발생 위치를 확인할 수 있어, 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. In addition, the test pattern can confirm the failure of an electrical signal that can be transmitted through the first via hole V1. For example, the accuracy of a signal transmitted through the test pattern can be confirmed. In detail, by measuring a voltage or a current in the test pattern, it is possible to confirm whether or not a short circuit or a short-circuit occurs in the conductive pattern portion located between the first chip and the display panel, thereby improving the reliability of the product have.

실시 예에 따른 칩 온 필름용 연성 회로기판(400)의 일면 상에 배치되는 상기 제 1 칩(C1)은 상기 제 3 서브 제 1 접속부(453)를 통해 상기 제 3 이너 리드 패턴부와 전기적으로 연결될 수 있다.The first chip C1 disposed on one surface of the chip-on-film flexible circuit board 400 according to the embodiment is electrically connected to the third inner lead pattern portion through the third sub first connection portion 453 Can be connected.

상기 제 3 이너 리드 패턴부는 상기 제 1 절연층(410)의 상면을 따라 제 3 비아홀(V3)과 인접한 아우터 리드 패턴부까지 전기적인 신호를 전달할 수 있다. 여기에서 상기 아우터 리드 패턴부는 디스플레이 패널과 연결되는 패턴부일 수 있다.The third inner lead pattern portion may transmit an electrical signal to the outer lead pattern portion adjacent to the third via hole V3 along the upper surface of the first insulating layer 410. [ The outer lead pattern portion may be a pattern portion connected to the display panel.

또한, 상기 제 3 이너 리드 패턴부는 상기 기판(110)의 상면을 따라 제 3 비아홀(V3)까지 전기적으로 연결되고, 상기 제 3 비아홀(V3)에 충진된 전도성 물질을 통해 상기 제 1 절연층(410)의 하면을 따라 전기적인 신호를 전달 할 수 있다. The third inner lead pattern portion is electrically connected to the third via hole V3 along the upper surface of the substrate 110 and electrically connected to the first insulating layer V3 through the conductive material filled in the third via hole V3. 410 to transmit an electrical signal.

상기와 같이 본 발명이 실시 예에서는 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)을 양면 구조의 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)으로 형성함으로써, 고해상도(QHD)를 가지는 회로를 용이하게 구현할 수 있다.As described above, in the embodiment of the present invention, the chip-on-film flexible circuit board 400 is formed as a chip-on-film flexible circuit board 400 having a double-sided structure, so that a circuit having a high resolution (QHD) can be easily implemented.

한편, 상기 제 1 절연층(410) 상에 형성되는 비아 홀과, 상기 적층 기판(200) 상에 형성되는 비아 홀은 서로 다른 형상 및 크기를 가진다. 다시 말해서, 상기 제 1 절연층(410) 상에 형성되는 비아 홀은 측면이 직선과 유사한 경사면을 가질 수 있다. 반면에, 상기 적층 기판(200) 상에 형성되는 비아 홀은 주면에 대해 일정 경사각을 가지며, 이에 따라 사다리꼴 형상을 가질 수 있다.Meanwhile, the via-holes formed on the first insulating layer 410 and the via-holes formed on the laminated substrate 200 have different shapes and sizes. In other words, the via hole formed on the first insulating layer 410 may have an inclined surface whose side is similar to a straight line. On the other hand, the via holes formed on the laminated substrate 200 have a predetermined inclination angle with respect to the main surface, and thus can have a trapezoidal shape.

또한, 상기 제 1 절연층(410) 상에 형성되는 비아 홀은 15~50um 범위를 만족하는 폭을 가질 수 있다. 바람직하게, 상기 제 1 절연층(410) 상에 형성되는 비아 홀은 20~35um 범위를 만족하는 폭을 가질 수 있다.The via hole formed on the first insulating layer 410 may have a width that satisfies a range of 15 to 50 um. The via hole formed on the first insulating layer 410 may have a width that satisfies the range of 20 to 35 um.

이와 반면에, 상기 적층 기판(200) 상에 형성되는 비아 홀은 50~200um 범위를 만족하는 폭을 가질 수 있다. 바람직하게, 상기 적층 기판(200) 상에 형성되는 비아 홀은 70~100um 범위를 만족하는 폭을 가질 수 있다.On the other hand, the via-holes formed on the laminated substrate 200 may have a width that satisfies the range of 50 to 200 um. Preferably, the via-holes formed on the laminated substrate 200 may have a width that satisfies the range of 70 to 100 um.

한편, 상기 제 1 절연층(410)의 제 2 영역에도 비아 홀이 배치될 수 있다. 이때, 상기 제 1 절연층(410) 내에 배치되는 비아 홀과 연결되는 직접 연결되는 회로 패턴층(420)의 폭은, 직접 연결되는 추가적인 비아가 존재하는 지 여부에 따라 결정될 수 있다. 다시 말해서, 상기 회로 패턴층(420)이 적층 기판(200) 상에 배치되는 비아 홀과 직접 연결되는 경우, 상기 적층 기판(200) 상에 배치된 비아 홀의 폭에 대응하게 형성될 수 있다. 반면에, 상기 회로 패턴층(420)이 상기 적층 기판(200) 상에 배치되는 비아 홀과 직접 연결되지 않는 경우, 상기 제 1 절연층(410) 내에 배치되는 비아 홀에 대응하는 폭을 가질 수 있다.Meanwhile, a via hole may be formed in the second region of the first insulating layer 410. At this time, the width of the directly connected circuit pattern layer 420 connected to the via hole disposed in the first insulating layer 410 may be determined depending on whether or not there is an additional via connected directly. In other words, when the circuit pattern layer 420 is directly connected to the via hole disposed on the laminate substrate 200, the circuit pattern layer 420 may be formed corresponding to the width of the via hole disposed on the laminate substrate 200. On the other hand, when the circuit pattern layer 420 is not directly connected to the via hole disposed on the laminated substrate 200, the circuit pattern layer 420 may have a width corresponding to the via hole disposed in the first insulating layer 410 have.

도 9a는 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판의 단면도이다.9A is a cross-sectional view of an integrated flexible printed circuit board according to a fourth embodiment of the present invention.

도 9a를 참조하면, 통합형 연성 회로기판은 도 8에 도시된 통합형 연성 회로기판과 비교하여, 메인 보드와 연결되는 전도성 패턴(아우터 리드라 할 수 있음)이 배치되는 위치가 상이하다. 즉, 도 8에서는, 상기 메인 보드와 연결되는 전도성 패턴이 적층 기판(200) 상에 배치되었다. 반면에, 도 9a에 도시된 통합형 연성 회로기판에서는 상기 메인 보드와 연결되는 전도성 패턴이 칩 온 필름 연성 회로 기판(400) 상에 배치될 수 있다.Referring to FIG. 9A, the integrated flexible printed circuit board differs from the integrated flexible printed circuit shown in FIG. 8 in the position in which the conductive pattern (which may be referred to as an outer lead) is arranged to be connected to the main board. That is, in FIG. 8, a conductive pattern connected to the main board is disposed on the laminated board 200. On the other hand, in the integrated flexible printed circuit board shown in FIG. 9A, a conductive pattern connected to the main board can be disposed on the chip-on-film flexible circuit board 400.

즉, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)은 제 1 영역, 제2 영역 및 제 3 영역으로 구분될 수 있다. That is, the chip-on-film flexible circuit board 400 may be divided into a first region, a second region, and a third region.

그리고, 상기 제 2 영역에는 상기 적층 기판(200)이 배치될 수 있다. 이때, 상기 제 2 영역은, 상기 제 1 영역과 상기 제 3 영역의 사이 영역일 수 있다.In addition, the laminated substrate 200 may be disposed in the second region. In this case, the second region may be a region between the first region and the third region.

즉, 이전 실시 예에서는 상기 적층 기판(200)이 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)의 제 1 영역을 제외한 나머지 영역을 모두 덮으며 배치되었다. 반면에, 본 실시 예에서는 상기 적층 기판(200)이 상기 제 2 영역 중 가장자리 영역을 제외한 나머지 영역만을 덮으며 배치된다. That is, in the previous embodiment, the laminated board 200 covers all the remaining areas except for the first area of the chip-on-film flexible circuit board 400. On the other hand, in the present embodiment, the laminated substrate 200 is disposed so as to cover only the remaining region of the second region except the edge region.

다시 말해서, 상기 메인 보드와 연결되는 영역은, 상기 메인 보드의 위치나 디바이스의 사양에 따라 유연성을 가져야 한다. 이때, 상기와 같이 상기 메인 보드와 연결되는 전도성 패턴이 상기 적층 기판(200) 상에 배치되는 경우, 모든 디바이스에 적용되기 힘들 수 있다. 이에 따라, 실시 예에서는 상기 메인 보드와 연결되는 전도성 패턴을 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(400) 상에 배치하도록 한다.In other words, the area connected to the main board has flexibility according to the position of the main board or the specification of the device. At this time, when the conductive pattern connected to the main board is disposed on the laminated board 200 as described above, it may be difficult to apply to all devices. Accordingly, in the embodiment, a conductive pattern connected to the main board is disposed on the chip-on-film flexible circuit board 400.

이에 따라, 통합형 연성 회로기판은 상기 제 1 칩(C1)이 배치되는 영역과, 상기 디스플레이 패널이 연결되는 영역을 포함하는 제 1 연성 영역(FA1)과, 상기 적층 기판이 배치되는 경성 영역(RA)과, 상기 메인 보드가 연결되는 영역을 포함하는 제 2 연성 영역(FA2)을 포함할 수 있다.Accordingly, the integrated flexible printed circuit board includes a first soft region FA1 including a region where the first chip C1 is disposed, a region to which the display panel is connected, and a hard region RA And a second soft area FA2 including an area to which the main board is connected.

상기와 같이 실시 예에서는 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)의 일단 상에 상기 디스플레이 패널과 연결되는 전도성 패턴을 배치하고, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)의 상기 일단과 반대되는 타단에 상기 메인 보드와 연결되는 전도성 패턴을 배치한다. 이에 따라, 상기 통합형 연성 회로기판이 적용되는 디바이스의 사양이나 메인보드의 위치에 따라 상기 제 2 연성 영역(FA2)이 절곡되도록 함으로써, 상기 메인 보드와의 연결성을 향상시킬 수 있다.The conductive pattern connected to the display panel is disposed on one end of the chip-on-film flexible circuit board 400, and the conductive pattern connected to the other end of the chip-on-film flexible circuit board 400, And a conductive pattern connected to the main board is disposed. Accordingly, the second flexible region FA2 is bent according to the specification of the device to which the integrated flexible circuit board is applied and the position of the main board, thereby improving the connectivity with the main board.

도 9b 및 도 9c는 도 9a에 도시된 통합형 연성 회로기판의 변형 예를 나타낸 도면이다.9B and 9C are views showing a modified example of the integrated flexible circuit board shown in FIG. 9A.

도 9b에 도시된 바와 같이, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)의 제 2 연성 영역(FA2)의 하부에는 보강부(460)가 더 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 2 연성 영역(FA2)은 메인 보드에 연결되는 부분이며, 상기 메인 보드의 위치에 따라 곡률을 가지게 된다. 이때, 상기 제 2 연성 영역(FA2)의 강도가 약할 경우, 상기 메인 보드와 연결 이후에 단락되는 문제가 발생할 수 있다. 또한, 상기 제 2 연성 영역(FA2)의 강도가 약할 경우, 회로의 파손 등과 같은 문제가 발생할 수 있다. 따라서, 본 발명에서는 상기 제 2 연성 영역(FA2)의 하부에 보강부(460)를 추가로 배치하여, 이에 따른 강도가 확보될 수 있도록 gkse9B, a reinforcing portion 460 may be further disposed under the second soft region FA2 of the chip-on-film flexible circuit board 400. In addition, as shown in FIG. That is, the second soft area FA2 is connected to the main board and has a curvature according to the position of the main board. At this time, if the strength of the second soft area FA2 is weak, a short circuit may occur after connection with the main board. Further, if the strength of the second soft region FA2 is weak, a problem such as breakage of the circuit may occur. Accordingly, in the present invention, the reinforcing portion 460 is further disposed under the second soft region FA2, and the gkse

또한, 도 9c에 도시된 바와 같이, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)은 통합형 연성 회로기판의 코어층을 형성하지 않고, 다른 층을 형성할 수도 있다. 다시 말해서, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)은 통합형 연성 회로기판의 중앙에 배치되었다, 이와 다르게, 도 9c에 도시된 바와 같이, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)은 상기 통합형 연성 회로기판의 중앙이 아닌 다른 영역에 배치될 수 있다.Further, as shown in FIG. 9C, the chip-on-film flexible circuit board 400 may form another layer without forming the core layer of the integrated flexible circuit board. In other words, as shown in FIG. 9C, the chip-on-film flexible circuit board 400 is disposed at the center of the integrated flexible circuit board, And may be disposed in an area other than the center of the substrate.

도 9c를 참조하면, 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)을 중심으로, 상부에만 상기 적층 기판(200)이 배치될 수 있으며, 이와 다르게 하부에는 상기 적층 기판이 배치되지 않을 수 있다. Referring to FIG. 9C, the laminated substrate 200 may be disposed only on the upper portion of the chip-on-film flexible circuit substrate 400, and the laminated substrate may not be disposed on the lower portion.

또한, 이와 다르게, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)을 중심으로 상부 및 하부에 각각 적층 기판이 배치될 수 있는데, 상기 상부에 배치되는 적층 기판의 층 수와, 상기 하부에 배치되는 적층 기판의 층 수는 서로 다를 수 있다.Alternatively, the laminated boards may be disposed on the upper and lower sides of the chip-on-film flexible circuit board 400, respectively. The number of the laminated boards disposed on the upper portion and the laminated board disposed on the lower portion, May be different from each other.

도 10은 본 발명의 제 5 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판의 단면도이다.10 is a cross-sectional view of an integrated flexible printed circuit board according to a fifth embodiment of the present invention.

도 10을 참조하면, 통합형 연성 회로기판은 도 9에 도시된 통합형 연성 회로기판과 비교하여, 칩 온 필름 연성 회로 기판(400) 위에 배치되는 적층 기판(200)의 절연층 물질이 상이하다. 즉, 도 9를 포함한 이전 실시 예에서는, 상기 적층 기판(200)을 구성하는 제 2 절연층, 제 3 절연층 및 제 4 절연층 중 적어도 하나가 리지드 기판으로 형성되었다.Referring to FIG. 10, the integrated flexible printed circuit board differs from the integrated flexible printed circuit board shown in FIG. 9 in the insulation layer material of the laminated board 200 disposed on the chip-on-film flexible printed circuit board 400. That is, in the previous embodiment including FIG. 9, at least one of the second insulating layer, the third insulating layer, and the fourth insulating layer constituting the laminated substrate 200 is formed of the rigid substrate.

다만, 도 10에서는 상기 적층 기판을 구성하는 절연층은 모두 플렉서블 기판일 수 있다.However, in Fig. 10, all of the insulating layers constituting the laminated substrate may be a flexible substrate.

이를 위해, 적층 기판(500)은 상기 제 1 절연층(410)의 상면 및 하면 상에 각각 배치되는 제 1 접착 절연층(510)과, 상기 제 1 접착 절연층(510) 상에 배치되는 제 2 절연층(520)과, 상기 제 2 절연층(520) 상에 배치되는 제 2 접착 절연층(530)과, 상기 제 2 접착 절연층(530) 상에 배치되는 제 3 절연층(540)을 포함할 수 있다.The laminated substrate 500 includes a first adhesive insulating layer 510 disposed on the upper surface and a lower surface of the first insulating layer 410 and a second adhesive insulating layer 510 disposed on the first adhesive insulating layer 510. A second insulating layer 530 disposed on the second insulating layer 520 and a third insulating layer 540 disposed on the second insulating layer 530. The second insulating layer 530 may be formed on the second insulating layer 520, . &Lt; / RTI &gt;

이때, 상기 제 1 접착 절연층(510) 및 제 2 접착 절연층(530)은 제 2 절연층(520)과 상기 제 3 절연층(540)을 적층하기 위한 접착 필름일 수 있다.The first adhesive insulating layer 510 and the second adhesive insulating layer 530 may be an adhesive film for laminating the second insulating layer 520 and the third insulating layer 540.

그리고, 제 2 절연층(520)과 상기 제 3 절연층(540)은 플렉서블한 폴리이미드 필름일 수 있다. 즉, 상기 제 2 절연층(520)과 상기 제 3 절연층(540)은 상기 제 1 절연층(410)과 동일한 물질을 포함할 수 있다.The second insulating layer 520 and the third insulating layer 540 may be flexible polyimide films. That is, the second insulating layer 520 and the third insulating layer 540 may include the same material as the first insulating layer 410.

따라서, 본 발명의 제 5 실시 예에 따르면, 통합형 연성 회로기판은 상기 적층 기판(500)이 배치되는 영역되 연성 영역일 수 있다.Therefore, according to the fifth embodiment of the present invention, the integrated flexible printed circuit board may be a softened area in which the laminated board 500 is disposed.

또한, 칩 온 필름 연성 회로 기판(400)을 중심으로, 상부에만 상기 적층 기판(500)이 배치될 수 있으며, 이와 다르게 하부에는 상기 적층 기판이 배치되지 않을 수 있다. In addition, the laminated board 500 may be disposed only on the upper portion of the chip-on-film flexible circuit board 400, or may not be disposed on the lower portion thereof.

또한, 이와 다르게, 상기 칩 온 필름 연성 회로 기판(500)을 중심으로 상부 및 하부에 각각 적층 기판이 배치될 수 있는데, 상기 상부에 배치되는 적층 기판의 층 수와, 상기 하부에 배치되는 적층 기판의 층 수는 서로 다를 수 있다. Alternatively, the laminated boards may be disposed on the upper and lower portions of the chip-on-film flexible circuit board 500, respectively. The number of the laminated boards disposed on the upper portion and the laminated board disposed on the lower portion, May be different from each other.

실시예에 따른 통합형 연성 회로기판은 칩 온 필름 연성 회로 기판의 양면에 미세한 피치의 전도성 패턴을 구현할 수 있어, 고해상도의 디스플레이부를 가지는 전자 디바이스에 적합할 수 있다. The integrated flexible printed circuit board according to the embodiment can realize a fine pitch conductive pattern on both sides of the chip on film flexible circuit board and can be suitable for an electronic device having a high resolution display portion.

또한, 통합형 연성 회로기판은 플렉서블 하며, 크기가 작고, 두께가 얇기 때문에, 다양한 전자 디바이스에 사용될 수 있다.In addition, the integrated flexible circuit board is flexible, small in size, and thin in thickness, so that it can be used in various electronic devices.

예를 들어, 도 11을 참조하면, 실시예에 따른 통합형 연성 회로기판은 베젤을 축소할 수 있으므로, 에지 디스플레이에 사용될 수 있다.For example, referring to Fig. 11, the integrated flexible printed circuit board according to the embodiment can be used in an edge display since it can shrink the bezel.

예를 들어, 도 12를 참조하면, 실시예에 따른 통합형 연성 회로기판은 휘어지는 플렉서블(flexible) 전자 디바이스에 포함될 수 있다. 따라서, 이를 포함하는 터치 디바이스 장치는 플렉서블 터치 디바이스 장치일 수 있다. 따라서, 사용자가 손으로 휘거나 구부릴 수 있다. 이러한 플렉서블 터치 윈도우는 웨어러블 터치 등에 적용될 수 있다.For example, referring to FIG. 12, an integrated flexible circuit board according to an embodiment may be included in a flexible electronic device that is bent. Accordingly, the touch device device including the same may be a flexible touch device device. Therefore, the user can bend or bend by hand. Such a flexible touch window can be applied to a wearable touch or the like.

예를 들어, 도 13을 참조하면, 실시예에 따른 통합형 연성 회로기판은 폴더블 디스플레이 장치가 적용되는 다양한 전자 디바이스에 적용될 수 있다. 도 13a 내지 도 13c를 참조하면, 폴더블 디스플레이 장치는 폴더블 커버 윈도우가 접힐 수 있다. 폴더블 디스플레이 장치는 다양한 휴대용 전자제품에 포함될 수 있다. 자세하게, 폴더블 디스플레이 장치는 이동식 단말기(휴대폰), 노트북(휴대용 컴퓨터) 등에 포함될 수 있다. 이에 따라, 휴대용 전자제품의 디스플레이 영역은 크게 하면서도, 보관이나 이동시에는 장치의 크기를 줄일 수 있어, 휴대성을 높일 수 있다. 따라서, 휴대용 전자제품 사용자의 편의를 향상시킬 수 있다. 그러나, 실시예가 이에 제한되는 것은 아니고, 폴더블 디스플레이 장치는 다양한 전자 제품에 사용될 수 있음은 물론이다.For example, referring to FIG. 13, an integrated flexible circuit board according to an embodiment can be applied to various electronic devices to which a foldable display device is applied. 13A to 13C, the folder-type display device can fold the folder-cover window. Foldable display devices can be included in a variety of portable electronic products. In detail, the folder-type display device can be included in a mobile terminal (mobile phone), a notebook (portable computer), and the like. Accordingly, while the display area of the portable electronic product is large, it is possible to reduce the size of the device when storing or moving the portable electronic device, thereby increasing the portability. Therefore, the convenience of the user of the portable electronic device can be improved. However, the embodiment is not limited thereto, and it goes without saying that the folder-type display device can be used for various electronic products.

도 13a를 참조하면, 폴더블 디스플레이 장치는 화면 영역에서 하나의 접힘 영역을 포함할 수 있다. 예를 들어, 폴더블 디스플레이 장치는 접힌 형태에서 C형 형상을 가질 수 있다. 즉, 폴더블 디스플레이 장치는 일단 및 상기 일단과 반대되는 타단이 서로 포개어질 수 있다. 이때, 상기 일단과 상기 타단은 서로 가까이 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 일단과 상기 타단은 서로 마주보며 배치될 수 있다.Referring to FIG. 13A, the foldable display device may include one folded area in the screen area. For example, the foldable display device may have a C-shape in a folded configuration. That is, the folder-type display device may have one end and the other end opposite to the end. At this time, the one end and the other end may be disposed close to each other. For example, the one end and the other end may be disposed facing each other.

도 13b를 참조하면, 폴더블 디스플레이 장치는 화면 영역에서 두 개의 접힘 영역을 포함할 수 있다. 예를 들어, 폴더블 디스플레이 장치는 접힌 형태에서 G형 형상을 가질 수 있다. 즉, 폴더블 디스플레이 장치는 일단 및 상기 일단과 반대되는 타단이 서로 대응되는 방향으로 접힘에 따라, 서로 포개어질 수 있다. 이때, 상기 일단과 상기 타단은 서로 이격하여 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 일단과 상기 타단은 서로 평행하게 배치될 수 있다.Referring to FIG. 13B, the foldable display device may include two folding regions in the screen region. For example, the foldable display device may have a G shape in a folded form. That is, the foldable display device can be superposed on each other as the one end and the other end opposite to the one end are folded in the directions corresponding to each other. At this time, the one end and the other end may be spaced apart from each other. For example, the one end and the other end may be arranged parallel to each other.

도 13c를 참조하면, 폴더블 디스플레이 장치는 화면 영역에서 두 개의 접힘 영역을 포함할 수 있다. 예를 들어, 폴더블 디스플레이 장치는 접힌 형태에서 S형 형상을 가질 수 있다. 즉, 폴더블 디스플레이 장치는 일단 및 상기 일단과 반대되는 타단이 서로 다른 방향으로 접힐 수 있다. 이때, 상기 일단과 상기 타단은 서로 이격하여 배치될 수 있다. 예를 들어, 상기 일단과 상기 타단은 서로 평행하게 배치될 수 있다.Referring to FIG. 13C, the foldable display device may include two folding regions in the screen region. For example, the foldable display device may have an S-shaped configuration in a folded configuration. That is, the folder-type display device can be folded at one end and the other end opposite to the one end in different directions. At this time, the one end and the other end may be spaced apart from each other. For example, the one end and the other end may be arranged parallel to each other.

또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 실시예에 따른 통합형 연성 회로기판은 롤러블 디스플레이에 적용될 수 있음은 물론이다.In addition, although not shown in the drawing, it goes without saying that the integrated flexible printed circuit board according to the embodiment can be applied to a rollerable display.

도 14를 참조하면, 실시예에 따른 통합형 연성 회로기판은 곡면 디스플레이를 포함하는 다양한 웨어러블 터치 디바이스에 포함될 수 있다. 따라서, 실시예에 따른 통합형 연성 회로기판을 포함하는 전자 디바이스는 슬림화, 소형화 또는 경량화될 수 있다.Referring to FIG. 14, the integrated flexible circuit board according to the embodiment may be included in various wearable touch devices including a curved display. Therefore, the electronic device including the integrated flexible circuit board according to the embodiment can be made slimmer, smaller, or lighter.

도 15를 참조하면, 실시예에 따른 통합형 연성 회로기판은 TV, 모니터, 노트북과 같은 디스플레이 부분을 가지는 다양한 전자 디바이스에 사용될 수 있다. Referring to FIG. 15, the integrated flexible circuit board according to the embodiment can be used in various electronic devices having a display portion such as a TV, a monitor, and a notebook.

그러나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니고, 실시예에 따른 통합형 연성 회로기판은 평판 또는 곡선 형상의 디스플레이 부분을 가지는 다양한 전자 디바이스에 사용될 수 있음은 물론이다.However, the embodiment is not limited thereto, and it goes without saying that the integrated flexible circuit board according to the embodiment can be used in various electronic devices having a flat or curved display portion.

실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판은 하나의 기판상에 서로 다른 종류의 제 1 칩 및 제 2 칩을 실장할 수 있어, 향상된 신뢰성을 가지는 통합형 연성 회로기판을 칩 패키지를 제공할 수 있다. The integrated flexible printed circuit board according to the embodiment can mount different types of first chip and second chip on one substrate, thereby providing an integrated flexible circuit board chip package with improved reliability.

또한, 실시 예에 따른 하나의 통합형 연성 회로기판은 디스플레이 패널과 메인보드를 직접 연결할 수 있다. 이에 따라, 디스플레이 패널로부터 발생하는 신호를 메인보드까지 전달하기 위한 연성 회로기판의 크기 및 두께를 감소할 수 있다.In addition, one integrated flexible circuit board according to the embodiment can directly connect the display panel and the main board. Accordingly, the size and thickness of the flexible circuit board for transmitting signals generated from the display panel to the main board can be reduced.

이에 따라, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판은 및 이를 포함하는 칩 패키지, 및 이를 포함하는 전자 디바이스는 다른 부품의 공간 및/또는 배터리 공간을 확장시킬 수 있다.Accordingly, the integrated flexible circuit board according to the embodiment, and the chip package including the same, and the electronic device including the same can expand the space and / or the battery space of other parts.

또한, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로 기판은 전자 디바이스 내에서 메인 보드와 디스플레이 패널 사이에서 복수의 인쇄회로기판의 연결이 요구되지 않으므로, 공정의 편의성 및 전기적인 연결의 신뢰성이 향상될 수 있다. In addition, since the integrated flexible printed circuit board according to the embodiment does not require connection of a plurality of printed circuit boards between the main board and the display panel in the electronic device, the convenience of the process and the reliability of the electrical connection can be improved.

이에 따라, 실시 예에 따른 통합형 연성 회로기판 및 이를 포함하는 칩 패키지, 및 이를 포함하는 전자 디바이스는 고해상도의 디스플레이부를 가지는 전자 디바이스에 적합할 수 있다.Accordingly, the integrated flexible printed circuit board, the chip package including the integrated flexible circuit board, and the electronic device including the integrated flexible circuit board according to the embodiments may be suitable for an electronic device having a high-resolution display portion.

상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시 예에 포함되며, 반드시 하나의 실시 예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시 예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시 예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The features, structures, effects and the like described in the foregoing embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. Further, the features, structures, effects and the like illustrated in the embodiments can be combined and modified by other persons skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

또한, 이상에서 실시 예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시 예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the present invention. It can be seen that various modifications and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiments may be modified and implemented. It is to be understood that the present invention may be embodied in many other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

Claims (15)

제 1 영역 및 제 2 영역을 포함하는 제 1 절연층;
상기 제 1 절연층의 상기 제 1 영역 및 제 2 영역 상에 배치되는 제 1 회로 패턴층;
상기 제 1 절연층의 상기 제 1 영역 상에 배치되고, 적어도 하나의 오픈 영역을 포함하는 제 1 보호층;
상기 제 1 절연층의 상기 제 2 영역 상에 배치되는 제 2 절연층;
상기 제 2 절연층 상에 배치되는 제 2 회로 패턴층;
상기 제 2 절연층 상에 배치되고, 적어도 하나의 오픈 영역을 포함하는 제 2 보호층을 포함하고,
상기 제 1 회로 패턴층은,
상기 제 1 절연층의 상기 제 1 영역 상에 배치되는 복수의 제 1 전도성 패턴과,
상기 제 1 절연층의 상기 제 2 영역 상에 배치되는 복수의 제 2 전도성 패턴을 포함하며,
상기 제 1 전도성 패턴은,
상기 제 2 전도성 패턴보다 작은 폭을 가지는
통합형 연성 회로기판.
A first insulating layer including a first region and a second region;
A first circuit pattern layer disposed on the first region and the second region of the first insulating layer;
A first passivation layer disposed on the first region of the first insulating layer and including at least one open region;
A second insulating layer disposed on the second region of the first insulating layer;
A second circuit pattern layer disposed on the second insulating layer;
And a second protective layer disposed on the second insulating layer and including at least one open region,
Wherein the first circuit pattern layer comprises:
A plurality of first conductive patterns disposed on the first region of the first insulating layer,
And a plurality of second conductive patterns disposed on the second region of the first insulating layer,
The first conductive pattern may include:
A second conductive pattern having a smaller width than the second conductive pattern
Integrated flexible printed circuit board.
제 1항에 있어서,
상기 제 1 전도성 패턴은,
5um 이상 ~ 20um 미만 범위를 만족하는 폭을 가지고,
상기 제 2 전도성 패턴은,
20 이상 ~ 50um 미만 범위를 만족하는 폭을 가지는
통합형 연성 회로기판.
The method according to claim 1,
The first conductive pattern may include:
Has a width that satisfies a range of 5 mu m or more and less than 20 mu m,
Wherein the second conductive pattern comprises a first conductive pattern,
Having a width satisfying the range of 20 or more and less than 50um
Integrated flexible printed circuit board.
제 1항에 있어서,,
상기 제 2 절연층을 관통하는 적어도 하나의 제 1 비아를 더 포함하고,
상기 제 2 전도성 패턴은,
상기 비아와 직접 접촉하는 제 2-1 전도성 패턴과,
상기 제 2-1 전도성 패턴을 제외한 제 2-2 전도성 패턴을 포함하고,
상기 제 2-1 전도성 패턴은,
상기 제 1 전도성 패턴보다 큰 폭을 가지는
통합형 연성 회로기판.
The method of claim 1,
Further comprising at least one first via penetrating said second insulating layer,
Wherein the second conductive pattern comprises a first conductive pattern,
A second-1 conductive pattern in direct contact with the via,
And a second-2 conductive pattern excluding the second-first conductive pattern,
The second conductive pattern (2-1)
The first conductive pattern having a width larger than that of the first conductive pattern
Integrated flexible printed circuit board.
제 3항에 있어서,
상기 제 2-2 전도성 패턴은,
상기 제 1 전도성 패턴의 폭과 상기 제 2-1 전도성 패턴의 폭 중 어느 하나와 동일한
통합형 연성 회로기판.
The method of claim 3,
The second conductive pattern (2-2)
Is equal to either the width of the first conductive pattern or the width of the second-1 conductive pattern
Integrated flexible printed circuit board.
제 3항에 있어서,
상기 제 2-2 전도성 패턴은,
상기 제 1 전도성 패턴의 폭보다는 크고, 상기 제 2-1 전도성 패턴의 폭보다는 작은 폭을 가지는
통합형 연성 회로기판.
The method of claim 3,
The second conductive pattern (2-2)
A width of the second conductive pattern is larger than a width of the first conductive pattern,
Integrated flexible printed circuit board.
제 1항에 있어서,
상기 제 1 전도성 패턴은,
상기 제 1 보호층의 제 1 오픈 영역 상에 배치되며, 제 1 칩이 실장되는 제 1-1 전도성 패턴과,
상기 제 1 보호층의 제 2 오픈 영역 상에 배치되며, 디스플레이 패널과 연결되는 제 1-2 전도성 패턴을 포함하며,
상기 제 1-1 전도성 패턴은,
상기 제 1-2 전도성 패턴보다 작은 폭을 가지는
통합형 연성 회로기판.
The method according to claim 1,
The first conductive pattern may include:
A first conductive pattern disposed on the first open region of the first protective layer and on which the first chip is mounted,
A first conductive pattern disposed on a second open region of the first passivation layer and connected to the display panel,
The 1-1 conductive pattern may be formed by patterning,
And a second conductive pattern having a width smaller than the first conductive pattern
Integrated flexible printed circuit board.
제 6항에 있어서,
상기 제 2 회로 패턴층은,
상기 제 2 보호층의 제 3 오픈 영역 상에 배치되며, 제 1 칩과는 다른 제 2 칩이 실장되는 제3 전도성 패턴과,
상기 제 2 보호층의 제4 오픈 영역 상에 배치되며, 메인 보드와 연결되는 제 4 전도성 패턴을 포함하는
통합형 연성 회로기판.
The method according to claim 6,
Wherein the second circuit pattern layer comprises:
A third conductive pattern disposed on a third open region of the second passivation layer and on which a second chip different from the first chip is mounted,
And a fourth conductive pattern disposed on a fourth open region of the second passivation layer and connected to the main board,
Integrated flexible printed circuit board.
제 7항에 있어서,
상기 제 1-1 전도성 패턴과, 상기 제 1-2 전도성 패턴 상에 배치되는 제 1 도금층; 및
상기 제 3 및 4 전도성 패턴 상에 배치되는 제 2 도금층을 더 포함하는
통합형 연성 회로 기판.
8. The method of claim 7,
A first plating layer disposed on the first conductive pattern; And
And a second plating layer disposed on the third and fourth conductive patterns
Integrated flexible printed circuit board.
제 8항에 있어서,
상기 제 1 및 2 도금층은,
주석(Sn), 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 니켈-크롬 합금(Ni-Cr) 중 어느 하나의 동일한 금속 물질로 형성되는
통합형 연성 회로기판.
9. The method of claim 8,
Wherein the first and second plating layers are formed on the substrate,
(Au), silver (Ag), nickel (Ni), and nickel-chromium alloy (Ni-Cr)
Integrated flexible printed circuit board.
제 8항에 있어서,
상기 제 1 및 2 도금층은 서로 다른 금속 물질을 포함하며,
상기 서로 다른 금속 물질은,
금(Au)/주석(Sn), 은(Ag)/주석(Sn), 니켈(Ni)/주석(Sn), 니켈-크롬 합금(Ni-Cr)/주석(Sn), 니켈(Ni)/크롬(Cr), 금(Au)/은(Ag), 금(Au)/크롬(Cr), 및 니켈-크롬 합금(Ni-Cr)/금(Au) 중 어느 하나를 포함하는
통합형 연성 회로기판.
9. The method of claim 8,
Wherein the first and second plating layers comprise different metal materials,
The different metal materials may be,
(Ag) / tin (Sn), nickel (Ni) / tin (Sn), nickel-chromium alloy (Ni-Cr) / tin (Sn), nickel (Ni) (Au), gold (Au) / chrome (Cr), and a nickel-chromium alloy (Ni-Cr)
Integrated flexible printed circuit board.
제 3항에 있어서,
상기 제 1 회로 패턴층은,
상기 제 1 절연층의 상면 및 하면에 각각 배치되며,
상기 제 1 절연층을 관통하며, 상기 제 1 절연층의 상면 및 하면에 각각 배치된 상기 제 1 회로 패턴층을 연결하는 제 2 비아를 더 포함하고,
상기 제 2 비아는,
상기 제 1 비아보다 작은 폭을 가지는
통합형 연성 회로 기판.
The method of claim 3,
Wherein the first circuit pattern layer comprises:
A first insulating layer disposed on the upper surface and the lower surface of the first insulating layer,
Further comprising second vias passing through the first insulating layer and connecting the first circuit pattern layers disposed on the top and bottom surfaces of the first insulating layer,
Wherein the second via comprises:
And a second via having a width smaller than that of the first via
Integrated flexible printed circuit board.
제 11항에 있어서,
상기 제 1 비아는,
15um 이상 ~ 50um 미만 범위를 만족하는 폭을 가지고,
상기 제 2 비아는,
50um 이상 ~ 200 um 미만 범위를 만족하는 폭을 가지는
통합형 연성 회로기판.
12. The method of claim 11,
Wherein the first via comprises:
Having a width that satisfies the range of 15um to less than 50um,
Wherein the second via comprises:
Having a width that satisfies the range of 50um or more and less than 200um
Integrated flexible printed circuit board.
제 1 영역 및 제 2 영역을 포함하는 제 1 절연층; 상기 제 1 절연층의 상기 제 1 영역 및 제 2 영역 상에 배치되는 제 1 회로 패턴층; 상기 제 1 절연층의 상기 제 1 영역 상에 배치되고, 적어도 하나의 오픈 영역을 포함하는 제 1 보호층; 상기 제 1 절연층의 상기 제 2 영역 상에 배치되는 제 2 절연층; 상기 제 2 절연층 상에 배치되는 제 2 회로 패턴층; 상기 제 2 절연층 상에 배치되고, 적어도 하나의 오픈 영역을 포함하는 제 2 보호층을 포함하는 통합형 연성 회로기판;
상기 제 1 보호층의 제 1 오픈 영역 상에 배치되는 제 1 칩; 및
상기 제 2 보호층의 제 2 오픈 영역 상에 배치되며, 상기 제 1 칩과는 다른 제 2 칩을 포함하고,
상기 제 1 회로 패턴층은,
상기 제 1 절연층의 상기 제 1 영역 상에 배치되는 복수의 제 1 전도성 패턴과,
상기 제 1 절연층의 상기 제 2 영역 상에 배치되는 복수의 제 2 전도성 패턴을 포함하며,
상기 제 1 전도성 패턴은,
상기 제 2 전도성 패턴보다 작은 폭을 가지는
칩 패키지.
A first insulating layer including a first region and a second region; A first circuit pattern layer disposed on the first region and the second region of the first insulating layer; A first passivation layer disposed on the first region of the first insulating layer and including at least one open region; A second insulating layer disposed on the second region of the first insulating layer; A second circuit pattern layer disposed on the second insulating layer; An integrated flexible printed circuit board disposed on the second insulating layer and including a second protective layer including at least one open area;
A first chip disposed on a first open region of the first passivation layer; And
A second chip disposed on a second open region of the second protective layer and different from the first chip,
Wherein the first circuit pattern layer comprises:
A plurality of first conductive patterns disposed on the first region of the first insulating layer,
And a plurality of second conductive patterns disposed on the second region of the first insulating layer,
The first conductive pattern may include:
A second conductive pattern having a smaller width than the second conductive pattern
Chip package.
제 13항에 있어서,
상기 제 1 전도성 패턴 상에는 제 1 접속부가 배치되고,
상기 제 2 회로 패턴층 상에는 제 2 접속부가 배치되며,
상기 제 1 칩은 상기 제 1 접속부 상에 배치되고,
상기 제 2 칩은 상기 제 2 접속부 상에 배치되는
칩 패키지.
14. The method of claim 13,
A first connection portion is disposed on the first conductive pattern,
A second connection portion is disposed on the second circuit pattern layer,
Wherein the first chip is disposed on the first connection portion,
And the second chip is disposed on the second connection portion
Chip package.
제 14항에 있어서,
상기 제 1 칩은 구동 IC 칩(Drive IC chip)이고,
상기 제 2 칩은 다이오드 칩, 전원 IC 칩, 터치센서 IC 칩, MLCC 칩, BGA 칩, 칩 콘덴서 중 적어도 하나인
칩 패키지.
15. The method of claim 14,
The first chip is a drive IC chip,
The second chip may be at least one of a diode chip, a power IC chip, a touch sensor IC chip, an MLCC chip, a BGA chip, and a chip capacitor
Chip package.
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