KR20180003779A - Substrate treating apparatus and tank - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 기판 처리 장치 및 탱크에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus and a tank.
반도체 소자 또는 액정 디스플레이를 제조하기 위해서, 기판에 포토리소그라피, 식각, 애싱, 이온주입, 박막 증착, 그리고 세정 등의 다양한 공정들이 수행된다. 이 중 사진 공정은 기판 상에 원하는 회로 패턴을 형성하기 위한 공정으로, 도포 공정, 노광 공정, 그리고 현상 공정가 순차적으로 진행된다. 도포 공정에는 기판 상에 포토 레지스트와 같은 감광액을 도포하고, 노광 공정에는 감광막이 형성된 기판 상에 회로 패턴을 노광 하며, 현상 공정에는 기판 상에 노광 처리된 영역을 선택적으로 현상 처리한다.To fabricate semiconductor devices or liquid crystal displays, various processes such as photolithography, etching, ashing, ion implantation, thin film deposition, and cleaning are performed on the substrate. The photolithography process is a process for forming a desired circuit pattern on a substrate, and the application process, the exposure process, and the development process are sequentially performed. In the coating step, a photosensitive liquid such as a photoresist is coated on the substrate. In the exposure step, a circuit pattern is exposed on the substrate having the photosensitive film. In the developing step, the exposed region is selectively developed on the substrate.
일반적으로 현상 공정은 크게 케미칼 처리 단계 및 린스 처리 단계가 순차적으로 수행된다. 케미칼 처리 단계에는 감광막이 형성된 기판 상에 현상액을 공급하고, 린스 처리 단계에는 기판 상에 순수와 같은 린스액을 공급한다. 린스액은 기판 상에 잔류된 현상액 및 공정 부산물을 세정 처리한다.Generally, the development process is largely performed in a chemical treatment stage and a rinsing treatment stage. In the chemical treatment step, a developer is supplied onto a substrate having a photosensitive film formed thereon, and a rinsing liquid such as pure water is supplied onto the substrate in a rinsing step. The rinsing liquid cleans the developer and the process by-products remaining on the substrate.
본 발명은 기판을 효율적으로 처리 할 수 있는 기판 처리 장치 및 탱크를 제공하기 위한 것이다.The present invention is to provide a substrate processing apparatus and a tank capable of efficiently processing a substrate.
또한, 본 발명은 복수의 액 처리 부재로 액을 효율적으로 공급할 수 있는 기판 처리 장치 및 탱크를 제공하기 위한 것이다.The present invention also provides a substrate processing apparatus and a tank capable of efficiently supplying a liquid to a plurality of liquid processing members.
본 발명의 일 측면에 따르면, 액을 이용하여 기판을 처리 하는 액 처리 부재; 및 상기 액 처리 부재로 상기 액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되, 상기 액 공급 유닛은, 내부에 액 수용 공간을 형성하는 하우징 및 상기 하우징의 내측에 위치되어 상기 액 수용 공간과 구획된 복수의 액 배출 공간들을 형성하는 보조 하우징을 포함하는 탱크; 상기 탱크에 연결되어 상기 액 수용 공간으로 상기 액을 공급하는 액 보충라인; 및 상기 액 배출 공간들 가운데 하나와 상기 액 처리 부재를 연결하는 공급 라인을 포함하는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a liquid processing apparatus comprising: a liquid processing member for processing a substrate using a liquid; And a liquid supply unit for supplying the liquid with the liquid processing member, wherein the liquid supply unit includes: a housing defining a liquid containing space therein; and a plurality of liquid containing units located inside the housing and partitioned from the liquid containing space A tank including an auxiliary housing defining liquid discharge spaces; A liquid replenishing line connected to the tank to supply the liquid to the liquid containing space; And a supply line connecting one of the liquid discharge spaces and the liquid processing member.
또한, 상기 보조 하우징은 상기 탱크의 상부의 중앙 부분에 상기 액 수용 공간의 일부가 위치되고, 그 둘레에 상기 액 배출 공간들이 위치되도록 제공될 수 있다.Further, the auxiliary housing may be provided such that a part of the liquid accommodation space is located at a central portion of the upper portion of the tank, and the liquid discharge spaces are located around the auxiliary housing.
또한, 상기 보조 하우징에는 상기 액 배출 공간들 각각을 상기 액 수용 공간과 연결하고, 오리피스 기능을 수행하는 홀들이 형성될 수 있다.The auxiliary housing may be formed with holes for connecting each of the liquid discharge spaces with the liquid accommodation space and performing an orifice function.
또한, 상기 액 배출 공간들 각각에 연결되어 불활성 가스를 공급하는 가스 주입 라인; 및 상기 액 배출 공간들 각각에 연결되어 액을 배출하는 공급 라인을 더 포함할 수 있다.A gas injection line connected to each of the liquid discharge spaces to supply an inert gas; And a supply line connected to each of the liquid discharge spaces to discharge the liquid.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 내부에 액 수용 공간을 형성하는 하우징; 상기 하우징의 내측에 위치되어 상기 액 수용 공간과 구획된 복수의 액 배출 공간들을 형성하는 보조 하우징; 상기 액 배출 공간들 각각에 연결되고 불활성 가스가 유입되는 가스 포트들; 상기 액 배출 공간들 각각에 연결되고 액이 배출되는 공급 포트들; 상기 액 수용 공간에 연결되고, 상기 액이 유입되는 액 보충 포트를 포함하는 탱크가 제공될 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a liquid container comprising: a housing defining a liquid containing space therein; An auxiliary housing positioned inside the housing to form a plurality of liquid discharge spaces partitioned from the liquid storage space; Gas ports connected to each of the liquid discharge spaces and into which an inert gas is introduced; Supply ports connected to each of the liquid discharge spaces and discharging liquid; A tank connected to the liquid accommodation space and including a liquid replenishment port into which the liquid is introduced may be provided.
또한, 상기 보조 하우징에는 상기 액 배출 공간들 각각을 상기 액 수용 공간과 연결하고, 오리피스 기능을 수행하는 홀들이 형성될 수 있다.The auxiliary housing may be formed with holes for connecting each of the liquid discharge spaces with the liquid accommodation space and performing an orifice function.
또한, 상기 보조 하우징은 상기 하우징의 상부의 중앙 부분에 상기 액 수용 공간의 일부가 위치되고, 그 둘레에 상기 액 배출 공간들이 위치될 수 있다.In addition, the auxiliary housing may have a portion of the liquid accommodation space located in a central portion of the upper portion of the housing, and the liquid discharge spaces may be located around the auxiliary housing.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판을 효율적으로 처리 할 수 있는 기판 처리 장치 및 탱크가 제공될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, a substrate processing apparatus and a tank capable of efficiently processing a substrate can be provided.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 복수의 액 처리 부재로 액을 효율적으로 공급할 수 있는 기판 처리 장치 및 탱크가 제공될 수 있다.Further, according to an embodiment of the present invention, a substrate processing apparatus and a tank capable of efficiently supplying a liquid to a plurality of liquid processing members can be provided.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 도면이다.
도 2는 액 공급 유닛을 나타내는 도면이다.
도 3은 도2의 탱크의 사시도이다.
도 4는 도 3의 A-A에 따른 단면도이다.
도 5는 도 3의 B-B에 따른 단면도이다.1 is a view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a view showing a liquid supply unit.
Figure 3 is a perspective view of the tank of Figure 2;
4 is a cross-sectional view taken along line AA in Fig.
5 is a sectional view taken along line BB of Fig.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments of the present invention can be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more fully describe the present invention to those skilled in the art. Thus, the shape of the elements in the figures has been exaggerated to emphasize a clearer description.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 도면이다.1 is a view showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 액 처리 부재(10) 및 액 공급 유닛(20)을 포함한다.Referring to Fig. 1, the
액 처리 부재(10)는 액을 이용하여 기판을 처리 한다. 예를 들어, 액 처리 부재(10)는 기판에 기판의 표면을 소수성으로 변환하기 위한 액상의 화합물을 도포하는 공정을 수행할 수 있다. 또한, 액 처리 부재(10)는 기판을 세정, 린스 처리 하기 위한 약액, 린스액을 기판에 도포하는 공정을 수행할 수 있다.The
액 공급 유닛(20)은 액 처리 부재(10)에서 기판의 처리에 사용되는 액을 공급한다. 액 공급 유닛(20)은 2개 이상의 액 처리 부재(10)에 연결되어 하나의 액 처리 부재(10)에 액을 공급하거나, 2개 이상의 액 처리 부재(10)에 동시에 액을 공급한다.The
도 2는 액 공급 유닛을 나타내는 도면이고, 도 3은 도 2의 탱크의 사시도이고, 도 4는 도 3의 A-A에 따른 단면도이다.Fig. 2 is a view showing the liquid supply unit, Fig. 3 is a perspective view of the tank of Fig. 2, and Fig. 4 is a sectional view taken along line A-A of Fig.
도 2 내지 도 4를 참조하면, 액 공급 유닛(20)은 탱크(100), 액 보충라인(210), 드레인 라인(220), 순환라인(230), 공급 라인(240) 및 가스 주입 라인(250)을 포함한다.2 to 4, the
탱크(100)는 설정량의 액을 수용한 상태에서 액을 배출한다. 탱크(100)는 하우징(110) 및 보조 하우징(120)을 포함한다.The
하우징(110)은 내부에 설정 체적의 액 수용 공간(111)을 갖는다. 일 예로, 하우징(110)은 상하부가 차폐된 원통, 다각형 통 형상 등으로 제공될 수 있다.The
액 보충라인(210)은 탱크(100)에 액을 공급한다. 액 보충라인(210)은 액 수용 공간(111)과 연결되도록 하우징(110)의 외면 일측에 제공되는 액 보충 포트(131)에 연결된다. 일 예로, 액 보충 포트(131)는 하우징(110)의 상면, 측면 또는 하면에 위치될 수 있다.The
드레인 라인(220)은 탱크(100)에 수용된 액을 배출한다. 드레인 라인(220)은 액 수용 공간(111)과 연결되도록 하우징(110)의 외면 일측에 제공되는 드레인 포트(132)에 연결된다. 일 예로, 드레인 포트(132)는 하우징(110)의 상면, 하면 또는 측면에 위치될 수 있다.The
순환라인(230)은 탱크(100)에 수용된 액을 순환시킨다. 순환라인(230)의 양단은 액 수용 공간(111)과 연결되도록 하우징(110)의 외면에 제공되는 제1순환 포트(133) 및 제2순환 포트(134)에 연결된다. 일 예로, 제1순환 포트(133) 및 제2순환 포트(134)는 하우징(110)의 상면, 하면 또는 측면에 위치될 수 있다. 또한, 제1순환 포트(133) 및 제2순환 포트(134)는 하우징(110)에서 서로 동일한 면 또는 상이한 면에 위치될 수 있다. 일 예로, 제1순환 포트(133) 및 제2순환 포트(134)는 하우징(110)에서 서로 마주보도록 하우징(110)의 상면 및 하면에 위치될 수 있다.The
도 5는 도 3의 B-B에 따른 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along the line B-B in Fig.
도 5를 참조하면, 보조 하우징(120)은 하우징(110)의 내측에 위치되어, 액 수용 공간(111)과 구획된 복수의 액 배출 공간(122)을 형성한다. 도면에는 액 배출 공간(122)들이 8개 제공되는 경우로 예로 도시되었다. 보조 하우징(120)은 중앙에 액 수용 공간(111)의 상부의 일부를 두고, 그 둘레에 링 형상으로 복수의 액 배출 공간(122)들이 배열되도록 제공될 수 있다. 그에 따라, 탱크(100)의 상부에는 중앙 부분에 액 수용 공간(111)의 일부가 위치되고, 그 둘레에 액 배출 공간(122)들이 위치될 수 있다. 그리고, 탱크(100)의 하부에는 액 수용 공간(111)이 위치될 수 있다.Referring to FIG. 5, the
보조 하우징(120)에는 각각의 액 배출 공간(122)이 액 수용 공간(111)과 연결되는 홀(121)들이 형성된다. 일 예로, 보조 하우징(120)의 하면에는 보조 하우징(120)의 아래쪽에 위치된 액 수용 공간(111)과 연결되는 홀(121)들이 형성될 수 있다. 홀(121)들은 이동하는 액에 오리피스 기능을 부여 할 수 있도록 설정 면적을 가질 수 있다. 따라서, 액 공급 유닛(20)이 액 처리 부재(10)에 액을 공급하는 과정에서 복수의 액 배출 공간(122)들 가운데 하나 또는 일부의 압력 변화가 액 수용 공간(111) 및 나머지 액 배출 공간(122)의 압력에 미치는 영향이 차단되거나 감소될 수 있다. 따라서, 액 공급 유닛(20)은 복수의 액 처리 부재(10)에 원하는 유량 및 압력으로 액을 공급할 수 있다.The
각각의 공급 라인(240)은 서로 구획된 액 배출 공간(122)들 가운데 하나에서 액 처리 부재(10)로 액을 공급한다. 하우징(110)의 외면에는 액 배출 공간(122)들 각각에 연결되는 복수의 공급 포트(141)가 제공된다. 일 예로, 공급 포트(141)는 하우징(110)의 상면 또는 측면에 위치될 수 있다. 그리고 각각의 공급 라인(240)은 액 배출 공간(122)들 가운데 하나와 연결되도록 공급 포트(141)들 가운데 하나에 연결된다.Each of the
각각의 가스 주입 라인(250)은 탱크(100)에 불활성 가스를 공급한다. 일 예로, 가스 주입 라인(250)은 탱크(100)에 질소 가스를 공급할 수 있다. 하우징(110)의 외면에는 액 배출 공간(122)들 각각에 연결되는 복수의 가스 포트(142)가 제공된다. 일 예로, 가스 포트(142)는 하우징(110)의 상면 또는 측면에 위치될 수 있다. 그리고 각각의 가스 주입 라인(250)은 액 배출 공간(122)들 가운데 하나와 연결되도록 가스 포트(142)들 가운데 하나에 연결된다. Each
가스 주입 라인(250)을 통해 공급된 가스는 액 배출 공간(122)의 액을 증기 또는 미세한 알갱이 형태로 변화된 후 공급 포트(141)를 통해 배출되게 한다. 이때, 각각의 가스 주입 라인(250)은 각각의 액 배출 공간(122)에 개별적으로 가스를 공급함에 따라, 각각의 액 배출 공간(122)에서 배출되는 액의 양, 각각의 액 배출 공간(122)의 압력 등을 다른 액 배출 공간(122)에 영향을 미치지 아니하고 개별적으로 조절할 수 있다.The gas supplied through the
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The foregoing detailed description is illustrative of the present invention. In addition, the foregoing is intended to illustrate and explain the preferred embodiments of the present invention, and the present invention may be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, it is possible to make changes or modifications within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, within the scope of the disclosure, and / or within the skill and knowledge of the art. The embodiments described herein are intended to illustrate the best mode for implementing the technical idea of the present invention and various modifications required for specific applications and uses of the present invention are also possible. Accordingly, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. It is also to be understood that the appended claims are intended to cover such other embodiments.
10: 액 처리 부재
20: 액 공급 유닛
100: 탱크
110: 하우징
120: 보조 하우징
210: 액 보충라인
220: 드레인 라인
230: 순환라인
240: 공급 라인10: Liquid treatment member 20: Liquid supply unit
100: tank 110: housing
120: auxiliary housing 210: liquid replenishment line
220: drain line 230: circulation line
240: Supply line
Claims (7)
상기 액 처리 부재로 상기 액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되,
상기 액 공급 유닛은,
내부에 액 수용 공간을 형성하는 하우징 및 상기 하우징의 내측에 위치되어 상기 액 수용 공간과 구획된 복수의 액 배출 공간들을 형성하는 보조 하우징을 포함하는 탱크;
상기 탱크에 연결되어 상기 액 수용 공간으로 상기 액을 공급하는 액 보충라인; 및
상기 액 배출 공간들 가운데 하나와 상기 액 처리 부재를 연결하는 공급 라인을 포함하는 기판 처리 장치.A liquid processing member for processing the substrate using the liquid; And
And a liquid supply unit for supplying the liquid to the liquid processing member,
The liquid supply unit includes:
A tank including a housing defining a liquid containing space therein and an auxiliary housing located inside the housing to form a plurality of liquid discharge spaces partitioned from the liquid containing space;
A liquid replenishing line connected to the tank to supply the liquid to the liquid containing space; And
And a supply line connecting one of the liquid discharge spaces and the liquid processing member.
상기 보조 하우징은 상기 탱크의 상부의 중앙 부분에 상기 액 수용 공간의 일부가 위치되고, 그 둘레에 상기 액 배출 공간들이 위치되도록 제공되는 기판 처리 장치.The method according to claim 1,
Wherein the auxiliary housing is provided with a portion of the liquid accommodation space in a central portion of an upper portion of the tank, and the liquid discharge spaces are provided around the portion.
상기 보조 하우징에는 상기 액 배출 공간들 각각을 상기 액 수용 공간과 연결하고, 오리피스 기능을 수행하는 홀들이 형성되는 기판 처리 장치.The method according to claim 1,
Wherein the auxiliary housing connects each of the liquid discharge spaces to the liquid containing space and has holes for performing an orifice function.
상기 액 배출 공간들 각각에 연결되어 불활성 가스를 공급하는 가스 주입 라인; 및
상기 액 배출 공간들 각각에 연결되어 액을 배출하는 공급 라인을 더 포함하는 기판 처리 장치.The method according to claim 1,
A gas injection line connected to each of the liquid discharge spaces to supply an inert gas; And
And a supply line connected to each of the liquid discharge spaces to discharge the liquid.
상기 하우징의 내측에 위치되어 상기 액 수용 공간과 구획된 복수의 액 배출 공간들을 형성하는 보조 하우징;
상기 액 배출 공간들 각각에 연결되고 불활성 가스가 유입되는 가스 포트들;
상기 액 배출 공간들 각각에 연결되고 액이 배출되는 공급 포트들;
상기 액 수용 공간에 연결되고, 상기 액이 유입되는 액 보충 포트를 포함하는 탱크. A housing defining a liquid containing space therein;
An auxiliary housing positioned inside the housing to form a plurality of liquid discharge spaces partitioned from the liquid storage space;
Gas ports connected to each of the liquid discharge spaces and into which an inert gas is introduced;
Supply ports connected to each of the liquid discharge spaces and discharging liquid;
And a liquid replenishment port connected to the liquid containing space for introducing the liquid.
상기 보조 하우징에는 상기 액 배출 공간들 각각을 상기 액 수용 공간과 연결하고, 오리피스 기능을 수행하는 홀들이 형성되는 탱크.6. The method of claim 5,
Wherein the auxiliary housing connects each of the liquid discharge spaces with the liquid accommodation space and has holes for performing an orifice function.
상기 보조 하우징은 상기 하우징의 상부의 중앙 부분에 상기 액 수용 공간의 일부가 위치되고, 그 둘레에 상기 액 배출 공간들이 위치되도록 제공되는 탱크.6. The method of claim 5,
Wherein the auxiliary housing is provided such that a part of the liquid accommodation space is located at a central portion of an upper portion of the housing and the liquid discharge spaces are placed around the auxiliary housing.
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KR (1) | KR102139618B1 (en) |
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2016
- 2016-07-01 KR KR1020160083320A patent/KR102139618B1/en active IP Right Grant
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