KR20170133717A - Light emitting device - Google Patents

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Abstract

Provided is a display device which comprises: a pixel array; and a control unit. The display device can reduce the thickness, and can increase visibility. An embodiment of the present invention relates to the pixel array which comprises: a substrate; and a plurality of light emitting elements arranged in a matrix form by separating from each other on the substrate. Each of the light emitting elements includes: a light emitting structure including a first conductive semiconductor layer, an active layer, and a second conductive semiconductor layer; an insulating layer arranged under the second conductive semiconductor layer; first and second electrode pads arranged by separating from each other under the insulating layer, and arranged on the substrate; a first electrode passing through the light emitting structure and the insulating layer, and connected to the first electrode pad; a second electrode arranged between the second conductive semiconductor layer and the second electrode pad; and a passivation layer arranged between the first electrode and the light emitting structure. The first electrode passes through the passivation layer so as to be in contact with the first conductive semiconductor layer.

Description

발광 소자{LIGHT EMITTING DEVICE}[0001] LIGHT EMITTING DEVICE [0002]

실시 예는 발광 소자에 관한 것이다.An embodiment relates to a light emitting element.

발광 다이오드(Light Emitting Diode: LED)는 화합물 반도체의 특성을 이용하여 전기를 적외선 또는 빛으로 변환시켜서 신호를 주고 받거나, 광원으로 사용되는 반도체 소자의 일종이다.BACKGROUND ART Light emitting diodes (LEDs) are a kind of semiconductor devices that convert the electric power to infrared rays or light using the characteristics of compound semiconductors, exchange signals, or use as a light source.

Ⅲ-Ⅴ족 질화물 반도체(Group Ⅲ-Ⅴ nitride semiconductor)는 물리적, 화학적 특성으로 인해 발광 다이오드(LED) 또는 레이저 다이오드(LD) 등의 발광 소자의 핵심 소재로 각광을 받고 있다.Group III-V nitride semiconductors have been spotlighted as core materials for light emitting devices such as light emitting diodes (LEDs) or laser diodes (LD) due to their physical and chemical properties.

이러한 발광 다이오드는 백열등과 형광등 등의 기존 조명 기구에 사용되는 수은(Hg)과 같은 환경 유해물질이 포함되어 있지 않아 우수한 친환경성을 가지며, 긴 수명, 저전력 소비특성 등과 같은 장점이 있기 때문에 기존의 광원들을 대체하고 있다.Since such a light emitting diode does not contain environmentally harmful substances such as mercury (Hg) used in conventional lighting devices such as incandescent lamps and fluorescent lamps, it has excellent environmental friendliness, and has advantages such as long life and low power consumption characteristics. .

실시 예는 두께를 줄일 수 있고, 시감도를 높일 수 있는 디스플레이 장치를 제공한다.Embodiments provide a display device capable of reducing the thickness and increasing the visibility.

실시 예에 따른 화소 어레이는 기판; 및 상기 기판 상에 서로 이격하여 매트릭스 형태로 배치되는 복수의 발광 소자들을 포함하며, 상기 발광 소자들 각각은 제1 도전형 반도체층, 활성층, 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광 구조물; 상기 제2 도전형 반도체층 아래에 배치되는 절연층; 상기 절연층 아래에 서로 이격하여 배치되며, 상기 기판 상에 배치되는 제1 전극 패드 및 제2 전극 패드; 상기 발광 구조물 및 상기 절연층을 관통하고, 상기 제1 전극 패드에 연결되는 제1 전극; 및 상기 제2 도전형 반도체층과 상기 제2 전극 패드 사이에 배치되는 제2 전극; 상기 제1 전극과 상기 발광 구조물 사이에 배치되는 패시베이션층을 포함하며, 상기 제1 전극은 상기 패시베이션층을 관통하여 상기 제1 도전형 반도체층에 접촉한다.An exemplary pixel array includes a substrate; And a plurality of light emitting devices disposed on the substrate in a matrix form, the light emitting devices each including a first conductive semiconductor layer, an active layer, and a second conductive semiconductor layer; An insulating layer disposed under the second conductive type semiconductor layer; A first electrode pad and a second electrode pad disposed on the substrate and spaced apart from each other below the insulating layer; A first electrode penetrating the light emitting structure and the insulating layer and connected to the first electrode pad; And a second electrode disposed between the second conductive semiconductor layer and the second electrode pad; And a passivation layer disposed between the first electrode and the light emitting structure, wherein the first electrode contacts the first conductive semiconductor layer through the passivation layer.

다른 실시 예에 따른 화소 어레이는 기판; 및 상기 기판 상에 서로 이격하여 매트릭스 형태로 배치되는 복수의 발광 소자들을 포함하며, 상기 발광 소자들 각각은 제1 도전형 반도체층, 활성층, 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광 구조물; 상기 제1 도전형 반도체층 상에 배치되는 패시베이션층; 상기 패시베이션층 상에 배치되고, 일단은 상기 패시베이션층을 관통하여 상기 제1 도전형 반도체층에 접촉되고, 타 단은 상기 발광 구조물의 측부 방향으로 확장되어 상기 발광 구조물의 하단 아래까지 확장되는 제1 전극; 상기 제2 도전형 반도체층 아래에 배치되는 제2 전극; 상기 제2 전극 아래에 배치되는 전극 패드; 및 상기 발광 구조물의 측면에 배치되는 절연층을 포함하며, 상기 제1 전극의 타단은 상기 발광 구조물의 측면에 배치되는 절연층으로부터 이격한다.A pixel array according to another embodiment includes a substrate; And a plurality of light emitting devices disposed on the substrate in a matrix form, the light emitting devices each including a first conductive semiconductor layer, an active layer, and a second conductive semiconductor layer; A passivation layer disposed on the first conductive semiconductor layer; A first conductive semiconductor layer disposed on the passivation layer and having one end contacting the first conductive semiconductor layer through the passivation layer and the other end extending toward a side of the light emitting structure, electrode; A second electrode disposed below the second conductive semiconductor layer; An electrode pad disposed under the second electrode; And an insulating layer disposed on a side surface of the light emitting structure, wherein the other end of the first electrode is spaced apart from an insulating layer disposed on a side surface of the light emitting structure.

다른 실시 예에 따른 화소 어레이는 기판; 및 상기 기판 상에 서로 이격하여 매트릭스 형태로 배치되는 복수의 발광 소자들을 포함하며, 상기 발광 소자들 각각은 제1 도전형 반도체층, 활성층, 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광 구조물을 포함하고, 서로 이격하는 복수의 발광 셀들; 상기 발광 셀들의 제2 도전형 반도체층 아래에 배치되는 절연층; 인접하는 2개의 발광 셀들 사이에 배치되고, 상기 인접하는 2개의 발광 셀들의 제1 도전형 반도체층들에 접촉되는 적어도 하나의 제1 전극; 상기 절연층 아래에 서로 이격하여 배치되는 제1 전극 패드 및 제2 전극 패드들; 및 상기 적어도 하나의 제1 전극과 상기 복수의 발광 셀들의 발광 구조물의 측면 사이에 배치되는 패시베이션층을 포함하며, 상기 전극의 일단은 상기 패시베이션층을 관통하여 상기 제1 도전형 반도체층에 접촉하고, 상기 제1 전극의 타단은 상기 발광 구조물, 및 상기 절연층을 통과하여 상기 적어도 하나의 제1 전극 패드와 연결된다.A pixel array according to another embodiment includes a substrate; And a plurality of light emitting devices disposed on the substrate in a matrix form, the light emitting devices each including a first conductive semiconductor layer, an active layer, and a second conductive semiconductor layer A plurality of light emitting cells spaced apart from each other; An insulating layer disposed under the second conductive type semiconductor layer of the light emitting cells; At least one first electrode disposed between two adjacent light emitting cells and contacting the first conductive semiconductor layers of the adjacent two light emitting cells; A first electrode pad and a second electrode pad spaced apart from each other below the insulating layer; And a passivation layer disposed between the at least one first electrode and a side surface of the light emitting structure of the plurality of light emitting cells, wherein one end of the electrode is in contact with the first conductive semiconductor layer through the passivation layer And the other end of the first electrode is connected to the at least one first electrode pad through the light emitting structure and the insulating layer.

상기 발광 소자들은 청색광을 발생하는 발광 소자, 적색광을 발생하는 발광 소자, 및 녹색광을 발생하는 발광 소자를 포함하며, 상기 매트릭스의 행 방향 및 열 방향 각각으로 상기 적색광을 발생하는 발광 소자, 상기 녹색광을 발생하는 발광 소자, 및 상기 청색광을 발생하는 발광 소자가 반복하여 배열될 수 있다.Wherein the light emitting elements include a light emitting element that emits red light in a row direction and a column direction of the matrix, a light emitting element that emits blue light, a light emitting element that generates red light, and a light emitting element that generates green light, The light emitting element that generates light and the light emitting element that generates the blue light may be repeatedly arranged.

상기 발광 소자들은 청색광을 발생하는 발광 소자, 적색광을 발생하는 발광 소자 또는 녹색광을 발생하는 발광 소자를 포함하며, 상기 매트릭스의 열 방향으로 제1 페어(pair) 및 제2 페어가 교대로 배치되고, 상기 제1 페어는 차례로 배열되는 청색광을 발생하는 발광 소자 및 녹색광을 발생하는 발광 소자로 이루어지고, 상기 제2 페어는 차례로 배열되는 적색광을 발생하는 발광 소자와 녹색광을 발생하는 발광 소자로 이루어질 수 있다.Wherein the light emitting elements include a light emitting element that generates blue light, a light emitting element that generates red light, or a light emitting element that generates green light, wherein a first pair and a second pair are alternately arranged in the column direction of the matrix, The first pair may include a light emitting element that generates blue light and blue light that are sequentially arranged, and a light emitting element that generates green light. The second pair may include a light emitting element that generates red light and a light emitting element that generates green light, .

상기 발광 소자들은 상기 행 방향으로는 청색광을 발생하는 발광 소자와 적색광을 발생하는 발광 소자가 교대로 배치되는 제1 배열, 및 녹색광을 발생하는 발광 소자들만 배치되는 제2 배열을 포함하고, 상기 제1 배열은 짝수 행 및 홀수 행 중 어느 하나이고, 상기 제2 배열은 짝수 행 및 홀수 행 중 다른 어느 하나일 수 있다.Wherein the light emitting elements include a first array in which light emitting elements for generating blue light and light emitting elements for generating red light are alternately arranged in the row direction and a second array in which only light emitting elements for generating green light are arranged, 1 array may be either an even row or an odd row, and the second array may be any one of an even row and an odd row.

상기 발광 소자들 각각은 청색광을 발생하는 제1 발광 셀, 녹색광을 발생하는 제2 발광 셀, 및 적색광을 발생하는 제3 발광 셀을 포함하며, 상기 제1 내지 제3 발광 셀들은 상기 매트릭스의 행 방향 및 열 방향 각각으로 상기 제1 발광 셀, 상기 제2 발광 셀, 및 상기 제3 발광 순서로 반복하여 배치될 수 있다.Each of the light emitting devices includes a first light emitting cell for generating blue light, a second light emitting cell for generating green light, and a third light emitting cell for generating red light, and the first to third light emitting cells include a row The first light emitting cell, the second light emitting cell, and the third light emitting order in the first direction, the second direction, and the column direction, respectively.

상기 발광 소자들은 청색광을 발생하는 제1 발광 셀 및 녹색광을 발생하는 제2 발광 셀을 포함하는 제1 발광 소자 및 적색광을 발생하는 제3 발광 셀 및 녹색광을 발생하는 제4 발광 셀을 포함하는 제2 발광 소자를 포함하며, 상기 제1 및 제2 발광 소자는 상기 매트릭스의 열 방향 및 행 방향 각각으로 교대로 배치될 수 있다.The light emitting devices include a first light emitting device including a first light emitting cell for generating blue light and a second light emitting cell for generating green light, a third light emitting cell for generating red light, and a fourth light emitting cell for generating green light. And the first and second light emitting devices may be alternately arranged in the column direction and the row direction of the matrix, respectively.

상기 발광 소자들은 청색광을 발생하는 제1 발광 셀 및 녹색광을 발생하는 제2 발광 셀을 포함하는 제1 발광 소자 및 적색광을 발생하는 제3 발광 셀 및 녹색광을 발생하는 제4 발광 셀을 포함하는 제2 발광 소자를 포함하며, 상기 매트릭스의 열 방향으로는 상기 제1 내지 상기 제4 발광 셀들이 순차적으로 반복하여 배열되고, 상기 매트릭스의 행 방향으로는 상기 제1 발광 셀과 상기 제3 발광 셀이 교대로 배열될 수 있다.The light emitting devices include a first light emitting device including a first light emitting cell for generating blue light and a second light emitting cell for generating green light, a third light emitting cell for generating red light, and a fourth light emitting cell for generating green light. Wherein the first to fourth light emitting cells are sequentially and repeatedly arranged in a column direction of the matrix and the first and third light emitting cells are arranged in a row direction of the matrix, Can be alternately arranged.

상기 녹색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적 및 상기 적색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적은 상기 청색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적보다 클 수 있다.The area of the light emitting area of the light emitting device that generates the green light and the area of the light emitting area of the light emitting device that generates the red light may be larger than the area of the light emitting area of the light emitting device that generates the blue light.

상기 녹색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적은 상기 청색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적, 및 상기 적색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적보다 작을 수 있다.The area of the light emitting area of the light emitting device that generates the green light may be smaller than the area of the light emitting area of the light emitting device that generates the blue light and the area of the light emitting area of the light emitting device that generates the red light.

상기 화소 어레이는 상기 기판을 관통하여 상기 제1 전극 패드와 연결되는 제1 배선 전극; 및 상기 기판을 관통하여 상기 제2 전극 패드와 연결되는 제2 배선 전극을 더 포함할 수 있다.The pixel array includes a first wiring electrode connected to the first electrode pad through the substrate; And a second wiring electrode connected to the second electrode pad through the substrate.

상기 발광 소자들은 청색광을 발생하는 제1 발광 소자, 적색광을 발생하는 제2 발광 소자, 및 녹색광을 발생하는 제3 발광 소자를 포함하며, 상기 제1 내지 제3 발광 소자들의 제1 전극들 각각은 상기 기판 상에 배치되는 공통 접속 전극에 공통 접속되고, 상기 제1 내지 제3 발광 소자들의 제2 전극 패드들은 상기 기판 상에 서로 이격하여 배치될 수 있다.Wherein the light emitting elements include a first light emitting element for generating blue light, a second light emitting element for generating red light, and a third light emitting element for generating green light, wherein each of the first electrodes of the first to third light emitting elements And the second electrode pads of the first to third light emitting elements may be disposed on the substrate so as to be spaced apart from each other.

상기 화소 어레이는 상기 기판을 관통하여 상기 공통 접속 전극에 연결되는 제1 배선 전극; 및 상기 기판을 관통하여 상기 제2 전극 패드들 중 대응하는 어느 하나와 접속하는 제2 배선 전극들을 더 포함할 수 있다.The pixel array including: a first wiring electrode penetrating the substrate and connected to the common connection electrode; And second wiring electrodes passing through the substrate and connected to a corresponding one of the second electrode pads.

상기 발광 소자들은 청색광을 발생하는 제1 발광 소자, 적색광을 발생하는 제2 발광 소자, 및 녹색광을 발생하는 제3 발광 소자를 포함하며, 상기 제1 내지 제3 발광 소자들의 제1 전극들은 상기 기판 상에 서로 이격하여 배치되고, 상기 제1 내지 제3 발광 소자들의 제2 전극 패드들은 상기 기판 상에 서로 이격하여 배치될 수 있다.Wherein the light emitting elements include a first light emitting element for generating blue light, a second light emitting element for generating red light, and a third light emitting element for generating green light, and the first electrodes of the first to third light emitting elements, And the second electrode pads of the first to third light emitting elements may be disposed on the substrate so as to be spaced apart from each other.

상기 화소 어레이는 상기 기판을 관통하여 상기 제1 전극들 각각에 접속되는 제1 배선 전극; 및 상기 기판을 관통하여 상기 제2 전극 패드들 중 대응하는 어느 하나에 접속되는 제2 배선 전극들을 더 포함할 수 있다. 상기 제1 배선 전극은 상기 매트릭스의 행 방향 또는 열 방향과 평행한 제1 방향으로 연장되는 제1 연장 부분들을 포함하고, 상기 제2 배선 전극들 각각은 상기 제1 방향 또는 상기 제1 방향과 반대 방향으로 연장되는 제2 연장 부분들을 포함하고, 상기 제1 연장 부분들과 상기 제2 연장 부분들은 상기 제1 방향과 수직한 방향으로 서로 교대로 배치되고, 상기 제1 연장 부분들은 상기 제2 연장 부분들 사이에 배치될 수 있다.The pixel array including a first wiring electrode connected to the first electrodes through the substrate; And second wiring electrodes passing through the substrate and connected to a corresponding one of the second electrode pads. Wherein the first wiring electrode includes first extending portions extending in a first direction parallel to a row direction or a column direction of the matrix, and each of the second wiring electrodes is opposite to the first direction or the first direction Wherein the first extending portions and the second extending portions are alternately arranged in a direction perpendicular to the first direction, and the first extending portions are arranged alternately with the second extending portions Or < / RTI >

상기 제2 배선 전극들 중 어느 하나는 중앙에 위치하고, 상기 어느 하나를 제외한 나머지 제2 배선 전극들은 직경이 서로 다른 링 형상을 가지며, 중앙에 위치한 상기 어느 하나의 제2 배선 전극을 기준으로 동심원으로 이루도록 배치될 수 있다.One of the second wiring electrodes is located at the center, and the remaining second wiring electrodes have a ring shape having a different diameter from each other, and concentrically with respect to any one of the second wiring electrodes positioned at the center Respectively.

실시 예에 따른 디스플레이 장치는 상술한 화소 어레이; 및 상기 화소 어레이의 발광 소자들의 구동을 제어하는 제어부를 포함한다.The display device according to the embodiment includes the pixel array described above; And a controller for controlling driving of the light emitting elements of the pixel array.

실시 예는 두께를 줄일 수 있고, 시감도를 높일 수 있다.The embodiment can reduce the thickness and increase the visibility.

도 1은 실시 예에 따른 발광 소자의 상측 평면도를 나타낸다.
도 2는 도 1에 도시된 발광 소자의 하측 평면도를 나타낸다.
도 3은 도 1 및 도 2에 도시된 발광 소자의 AB 방향의 단면도를 나타낸다.
도 4는 도 1 및 도 2에 도시된 발광 소자의 CD 방향의 단면도를 나타낸다.
도 5a는 도 3에 도시된 제1 전극의 일 실시 예를 나타낸다.
도 5b는 도 3에 도시된 제1 전극의 다른 실시 예를 나타낸다.
도 6은 다른 실시 예에 따른 발광 소자의 단면도를 나타낸다.
도 7a는 다른 실시 예에 따른 발광 소자의 상측 평면도를 나타낸다.
도 7b는 도 7a에 도시된 발광 소자의 하측 평면도를 나타낸다.
도 8a는 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자의 상측 평면도를 나타낸다.
도 8b는 도 8a에 도시된 발광 소자의 하측 평면도를 나타낸다.
도 9는 도 8a 및 도 8b에 도시된 발광 소자의 Ⅰ-Ⅱ 절단 단면도를 나타낸다.
도 10은 실시 예에 따른 조명 장치의 단면도를 나타낸다.
도 11은 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자의 상측 평면도를 나타낸다.
도 12는 도 11에 도시된 발광 소자의 하측 평면도를 나타낸다.
도 13은 도 11 및 도 12에 도시된 발광 소자의 AB 방향의 단면도를 나타낸다.
도 14는 도 11 및 도 12에 도시된 발광 소자의 CD 방향의 단면도를 나타낸다.
도 15a는 도 13에 도시된 제1 전극의 일 실시 예를 나타낸다.
도 15b는 도 13에 도시된 제1 전극의 다른 일 실시 예를 나타낸다.
도 16은 다른 실시 예에 따른 발광 소자의 단면도를 나타낸다.
도 17a는 다른 실시 예에 따른 발광 소자의 상측 평면도를 나타낸다.
도 17b는 도 17a에 도시된 발광 소자의 하측 평면도를 나타낸다.
도 18a는 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자의 상측 평면도를 나타낸다.
도 18b는 도 8a에 도시된 발광 소자의 하측 평면도를 나타낸다.
도 19는 도 18a 및 도 8b에 도시된 발광 소자의 Ⅰ-Ⅱ 방향의 단면도를 나타낸다.
도 20a는 다른 실시 예에 따른 발광 소자의 상측 평면도를 나타낸다.
도 20b는 도 20a에 도시된 발광 소자의 하측 평면도를 나타낸다.
도 21은 또 다른 실시 예에 따른 조명 장치의 단면도를 나타낸다.
도 22는 실시 예에 따른 발광 소자의 상측 평면도를 나타낸다.
도 23은 도 22에 도시된 발광 소자의 하측 평면도를 나타낸다.
도 24는 도 22 및 도 23에 도시된 발광 소자의 AB 방향의 단면도를 나타낸다.
도 25a는 도 24에 도시된 제1 전극의 일 실시 예를 나타낸다.
도 25b는 도 24에 도시된 제1 전극의 다른 실시 예를 나타낸다.
도 26a은 다른 실시 예에 따른 발광 소자의 단면도를 나타낸다.
도 26b는 다른 실시 예에 다른 발광 소자의 단면도를 나타낸다
도 26c는 다른 실시 예에 다른 발광 소자의 단면도를 나타낸다
도 27a는 다른 실시 예에 따른 발광 소자의 상측 평면도를 나타낸다.
도 27b는 도 27a에 도시된 발광 소자의 하측 평면도를 나타낸다.
도 28a는 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자의 상측 평면도를 나타낸다.
도 28b는 도 28a에 도시된 발광 소자의 하측 평면도를 나타낸다.
도 29a는 도 28a 및 도 28b에 도시된 발광 소자의 Ⅰ-Ⅱ 방향의 일 실시 예에 따른 단면도를 나타낸다.
도 29b는 도 29a에 도시된 도 28a 및 도 28b에 도시된 발광 소자의 Ⅰ-Ⅱ 방향의 다른 실시 예에 따른 단면도를 나타낸다.
도 30a는 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자의 상측 평면도를 나타낸다.
도 30b는 도 30a에 도시된 발광 소자의 하측 평면도를 나타낸다.
도 30c는 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자의 상측 평면도를 나타낸다.
도 31a는 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자의 상측 평면도를 나타낸다
도 31b는 도 31a에 도시된 발광 소자의 하측 평면도를 나타낸다.
도 32a는 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자의 상측 평면도를 나타낸다.
도 32b는 도 32a에 도시된 발광 소자의 하측 평면도를 나타낸다.
도 33a는 도 32a에 도시된 발광 소자의 EF 방향의 단면도를 나타낸다.
도 33b는 도 32a에 도시된 발광 소자의 GH 방향의 단면도를 나타낸다.
도 34는 실시 예에 따른 조명 장치의 단면도를 나타낸다.
도 35는 또 실시 예에 따른 조명 장치의 단면도를 나타낸다
도 36은 실시 예에 따른 디스플레이 장치의 평면도를 나타낸다.
도 37은 도 36에 도시된 디스플레이 장치의 AA' 방향의 일 실시 예에 따른 단면도를 나타낸다.
도 38은 도 36에 도시된 디스플레이 장치의 AA' 방향의 다른 실시 예에 따른 단면도를 나타낸다.
도 39a는 도 36 및 도 37에 도시된 하나의 이미지 화소를 이루는 발광 소자들의 제1 전극들, 및 제2 전극 패드들의 배치 관계를 나타낸다.
도 39b는 도 39a에 도시된 제1 전극들 및 제2 전극 패드들과 연결되는 제1 배선 전극, 및 제2 배선 전극들을 나타낸다.
도 40a는 도 36 및 도 37에 도시된 하나의 이미지 화소를 이루는 발광 소자들의 제1 전극들, 및 제2 전극 패드들의 다른 실시 예를 나타낸다.
도 40b는 도 40a에 도시된 제1 전극들 및 제2 전극 패드들과 연결되는 제1 배선 전극 및 제2 배선 전극들의 다른 실시 예를 나타낸다.
도 41a는 도 36 및 도 37에 도시된 하나의 이미지 화소를 이루는 발광 소자들의 제1 전극들, 및 제2 전극 패드들의 또 다른 실시 예를 나타낸다.
도 41b는 도 41a에 도시된 제1 전극들 및 제2 전극 패드들과 연결되는 제1 배선 전극 및 제2 배선 전극들의 다른 실시 예를 나타낸다.
도 42a 내지 도 42g는 실시 예에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법을 나타낸다.
도 43은 다른 실시 예에 따른 디스플레이 장치의 평면도를 나타낸다.
도 44는 도 43에 도시된 디스플레이 장치의 BB' 방향의 일 실시 예에 따른 단면도를 나타낸다.
도 45는 도 43에 도시된 디스플레이 장치의 BB' 방향의 다른 실시 예에 따른 단면도를 나타낸다.
도 46은 다른 실시 예에 따른 디스플레이 장치의 평면도를 나타낸다.
도 47은 도 46에 도시된 디스플레이 장치의 CC' 방향의 일 실시 예에 따른 단면도를 나타낸다.
도 48은 실시 예에 따른 휴대용 단말기의 사시도를 나타낸다.
도 49는 도 48에 도시된 휴대용 단말기의 구성도를 나타낸다.
1 is a top plan view of a light emitting device according to an embodiment.
2 is a bottom plan view of the light emitting device shown in Fig.
3 is a sectional view of the light emitting device shown in Figs. 1 and 2 in the AB direction.
4 is a sectional view of the light emitting device shown in Figs. 1 and 2 in the CD direction.
5A shows an embodiment of the first electrode shown in FIG.
5B shows another embodiment of the first electrode shown in FIG.
6 is a sectional view of a light emitting device according to another embodiment.
7A is a top plan view of a light emitting device according to another embodiment.
7B is a bottom plan view of the light emitting device shown in FIG. 7A.
8A is a top plan view of a light emitting device according to another embodiment.
8B is a bottom plan view of the light emitting device shown in FIG. 8A.
9 is a cross-sectional view taken along the line I-II of the light emitting device shown in Figs. 8A and 8B.
10 shows a cross-sectional view of a lighting device according to an embodiment.
11 is a top plan view of a light emitting device according to another embodiment.
12 is a bottom plan view of the light emitting device shown in Fig.
13 is a cross-sectional view of the light emitting device shown in Figs. 11 and 12 in the AB direction.
Fig. 14 shows a cross-sectional view of the light emitting device shown in Figs. 11 and 12 in the CD direction.
Fig. 15A shows an embodiment of the first electrode shown in Fig.
Fig. 15B shows another embodiment of the first electrode shown in Fig.
16 is a sectional view of a light emitting device according to another embodiment.
17A is a top plan view of a light emitting device according to another embodiment.
17B is a bottom plan view of the light emitting device shown in Fig. 17A. Fig.
18A is a top plan view of a light emitting device according to another embodiment.
Fig. 18B is a bottom plan view of the light emitting device shown in Fig. 8A. Fig.
Fig. 19 is a cross-sectional view taken along the line I-II of the light emitting device shown in Figs. 18A and 8B.
20A is a top plan view of a light emitting device according to another embodiment.
20B is a bottom plan view of the light emitting device shown in Fig. 20A. Fig.
21 shows a cross-sectional view of a lighting device according to another embodiment.
22 is a top plan view of the light emitting device according to the embodiment.
23 is a bottom plan view of the light emitting device shown in Fig.
24 is a cross-sectional view of the light emitting device shown in Figs. 22 and 23 in the AB direction.
Fig. 25A shows an embodiment of the first electrode shown in Fig.
Fig. 25B shows another embodiment of the first electrode shown in Fig.
26A is a cross-sectional view of a light emitting device according to another embodiment.
26B shows a cross-sectional view of a light emitting device according to another embodiment
26C shows a cross-sectional view of a light emitting device according to another embodiment
27A is a top plan view of a light emitting device according to another embodiment.
27B is a bottom plan view of the light emitting device shown in Fig. 27A. Fig.
28A is a top plan view of a light emitting device according to another embodiment.
28B is a bottom plan view of the light emitting device shown in Fig. 28A. Fig.
29A is a cross-sectional view of the light emitting device shown in Figs. 28A and 28B according to one embodiment of the I-II direction.
FIG. 29B shows a cross-sectional view of another embodiment of the light emitting device shown in FIGS. 28A and 28B shown in FIG. 29A in the I-II direction.
30A is a top plan view of a light emitting device according to another embodiment.
30B is a bottom plan view of the light emitting device shown in FIG.
30C is a top plan view of a light emitting device according to another embodiment.
31A is a top plan view of a light emitting device according to another embodiment
FIG. 31B shows a bottom plan view of the light emitting device shown in FIG. 31A. FIG.
32A is a top plan view of a light emitting device according to another embodiment.
32B is a bottom plan view of the light emitting device shown in Fig. 32A. Fig.
Fig. 33A shows a cross-sectional view in the EF direction of the light emitting element shown in Fig. 32A.
Fig. 33B shows a cross-sectional view in the GH direction of the light emitting element shown in Fig. 32A.
34 shows a cross-sectional view of a lighting apparatus according to an embodiment.
35 shows a cross-sectional view of a lighting apparatus according to another embodiment
36 is a plan view of a display device according to the embodiment.
37 shows a cross-sectional view of the display device shown in FIG. 36 according to one embodiment in the direction AA '.
38 shows a cross-sectional view according to another embodiment in the direction AA 'of the display device shown in Fig.
FIG. 39A shows the arrangement relationship of the first electrodes and the second electrode pads of the light emitting elements constituting one image pixel shown in FIGS. 36 and 37. FIG.
FIG. 39B shows a first wiring electrode and a second wiring electrode connected to the first electrodes and the second electrode pads shown in FIG. 39A.
40A shows another embodiment of the first electrodes and the second electrode pads of the light emitting elements constituting one image pixel shown in Figs. 36 and 37. Fig.
FIG. 40B shows another embodiment of the first wiring electrode and the second wiring electrode connected to the first electrodes and the second electrode pads shown in FIG. 40A.
41A shows another embodiment of the first electrodes and the second electrode pads of the light emitting elements constituting one image pixel shown in Figs. 36 and 37. Fig.
FIG. 41B shows another embodiment of the first wiring electrode and the second wiring electrode connected to the first electrodes and the second electrode pads shown in FIG. 41A.
42A to 42G show a manufacturing method of a display device according to the embodiment.
43 is a plan view of a display device according to another embodiment.
Fig. 44 shows a cross-sectional view according to one embodiment of the direction of the BB 'of the display device shown in Fig.
Fig. 45 shows a cross-sectional view according to another embodiment of the direction of the BB 'of the display device shown in Fig.
46 is a plan view of a display device according to another embodiment.
Fig. 47 shows a cross-sectional view according to an embodiment in the CC 'direction of the display device shown in Fig. 46;
48 is a perspective view of the portable terminal according to the embodiment.
Fig. 49 shows a configuration diagram of the portable terminal shown in Fig. 48. Fig.

이하, 실시 예들은 첨부된 도면 및 실시 예들에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다. 실시 예의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 "상/위(on)"에 또는 "하/아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상/위(on)"와 "하/아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 층을 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한, 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. 또한 동일한 참조번호는 도면의 설명을 통하여 동일한 요소를 나타낸다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG. In the description of the embodiments, it is to be understood that each layer (film), region, pattern or structure may be referred to as being "on" or "under" a substrate, each layer It is to be understood that the terms " on "and " under" include both " directly "or" indirectly " do. In addition, the criteria for the top / bottom or bottom / bottom of each layer will be described with reference to the drawings. The same reference numerals denote the same elements throughout the description of the drawings.

도 1은 실시 예에 따른 발광 소자(100)의 상측 평면도를 나타내고,도 2는 도 1에 도시된 발광 소자(100)의 하측 평면도를 나타내고, 도 3은 도 1 및 도 2에 도시된 발광 소자(100)의 AB 방향의 단면도를 나타내고, 도 4는 도 1 및 도 2에 도시된 발광 소자(100)의 CD 방향의 단면도를 나타낸다.1 is a top plan view of the light emitting device 100 according to the embodiment, FIG. 2 is a bottom plan view of the light emitting device 100 shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a cross- FIG. 4 is a cross-sectional view of the light emitting device 100 shown in FIG. 1 and FIG. 2 in the CD direction.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 발광 소자(100)는 발광 구조물(110), 패시베이션층(passivation layer, 120), 제1 전극(130), 제1 전극 패드(135), 제2 전극(140), 제2 전극 패드(145), 및 절연층(insulation layer, 150)을 포함한다.1 to 4, the light emitting device 100 includes a light emitting structure 110, a passivation layer 120, a first electrode 130, a first electrode pad 135, a second electrode 140 A second electrode pad 145, and an insulation layer 150.

발광 구조물(110)은 제1 도전형 반도체층(112), 제2 도전형 반도체층(116), 및 제1 도전형 반도체층(112)과 제2 도전형 반도체층(116) 사이에 배치되는 활성층(114)을 포함한다. 예컨대, 발광 구조물(110)은 위에서 아래로 제1 도전형 반도체층(112), 활성층(114), 및 제2 도전형 반도체층(116)이 순차적으로 배치되는 구조일 수 있다.The light emitting structure 110 is disposed between the first conductivity type semiconductor layer 112 and the second conductivity type semiconductor layer 116 and between the first conductivity type semiconductor layer 112 and the second conductivity type semiconductor layer 116 And an active layer 114. For example, the light emitting structure 110 may have a structure in which the first conductivity type semiconductor layer 112, the active layer 114, and the second conductivity type semiconductor layer 116 are sequentially arranged from top to bottom.

예컨대, 발광 구조물(110)의 직경은 제1 도전형 반도체층(112)에서 제2 도전형 반도체층(116) 방향으로 갈수록 감소할 수 있으며, 발광 구조물(110)의 측면은 역경사면을 가질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the diameter of the light emitting structure 110 may decrease from the first conductivity type semiconductor layer 112 toward the second conductivity type semiconductor layer 116, and the side surface of the light emitting structure 110 may have a reverse However, the present invention is not limited thereto.

투광성 기판 또는 지지 기판을 구비하는 일반적인 발광 소자와 달리, 실시 예에 따른 발광 소자(100)는 투광성 기판 또는 지지 기판을 구비하지 않는다. 이로 인하여 발광 소자의 칩 사이즈(예컨대, 직경), 또는 부피가 줄어들기 때문에, 실시 예에 따른 발광 소자가 사용되는 애플리케이션, 예컨대, 디스플레이 장치 등의 두께, 또는 사이즈를 줄일 수 있다.Unlike a general light emitting device having a light transmitting substrate or a supporting substrate, the light emitting device 100 according to the embodiment does not have a light transmitting substrate or a supporting substrate. Because the chip size (for example, diameter) or volume of the light emitting device is reduced, the thickness or size of an application in which the light emitting device according to the embodiment is used, for example, a display device or the like can be reduced.

제1 도전형 반도체층(112)은 3족-5족, 2족-6족 등의 반도체 화합물일 수 있고, 제1 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다.The first conductive semiconductor layer 112 may be a semiconductor compound such as a group III-V element, a group II-VI element, or the like, and may be doped with a first conductive type dopant.

예컨대, 제1 도전형 반도체층(112)은 InxAlyGa1 -x- yN(0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 가지는 반도체일 수 있으며, n형 도펀트(예: Si, Ge, Se, Te 등)가 도핑될 수 있다.For example, the first conductivity type semiconductor layer 112 may be a semiconductor semiconductor having a composition formula of In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + And an n-type dopant (e.g., Si, Ge, Se, Te, etc.) may be doped.

광 추출을 높이기 위하여 제1 도전형 반도체층(112)의 상면에는 광 추출 구조, 예컨대, 요철(112a)이 형성될 수 있다.In order to increase light extraction, a light extracting structure, for example, irregularities 112a, may be formed on the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 112.

활성층(114)은 제1 도전형 반도체층(112)과 제2 도전형 반도체층(116)으로부터 제공되는 전자(electron)와 정공(hole)의 재결합(recombination) 과정에서 발생하는 에너지에 의해 광을 생성할 수 있다.The active layer 114 is formed by energy generated during the recombination of electrons and holes provided from the first conductivity type semiconductor layer 112 and the second conductivity type semiconductor layer 116, Can be generated.

활성층(114)은 3족-5족, 2족-6족의 화합물 반도체일 수 있으며, 단일 우물 구조, 다중 우물 구조, 양자 선(Quantum-Wire) 구조, 양자 점(Quantum Dot), 또는 양자 디스크(Quantum Disk) 구조를 가질 수 있다.The active layer 114 may be a compound semiconductor of Group 3-Group 5 or Group 2-Group 6 and may be a single well structure, a multi-well structure, a Quantum-Wire structure, a Quantum Dot, (Quantum Disk) structure.

활성층(114)은 InxAlyGa1 -x- yN(0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 가질 수 있다. 활성층(114)이 양자우물구조인 경우, 활성층(114)은 InxAlyGa1 -x- yN(0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 우물층(미도시) 및 InaAlbGa1 -a- bN(0≤a≤1, 0≤b≤1, 0≤a+b≤1)의 조성식을 갖는 장벽층(미도시)을 포함할 수 있다.The active layer 114 may have a composition formula of In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + y? In the case where the active layer 114 is a quantum well structure, the active layer 114 is formed of In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + And a barrier layer (not shown) having a composition formula of In a Al b Ga 1 -a- b N (0? A? 1, 0? B ? 1, 0? A + ).

활성층(114)의 우물층의 에너지 밴드 갭은 장벽층의 에너지 밴드 갭보다 낮을 수 있다. 우물층 및 장벽층은 적어도 1회 이상 교대로 적층될 수 있다.The energy band gap of the well layer of the active layer 114 may be lower than the energy band gap of the barrier layer. The well layer and the barrier layer may be alternately laminated at least once.

제2 도전형 반도체층(116)은 3족-5족, 2족-6족 등의 반도체 화합물일 수 있고, 제2 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다.The second conductive semiconductor layer 116 may be a semiconductor compound such as Group 3-Group 5, Group 2-Group 6, or the like, and may be doped with a second conductive type dopant.

예컨대, 제2 도전형 반도체층(116)은 InxAlyGa1 -x- yN(0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 가지는 반도체일 수 있으며, p형 도펀트(예: Mg, Zn, Ca,Sr, Ba)가 도핑될 수 있다.For example, the second conductivity type semiconductor layer 116 may be a semiconductor semiconductor having a composition formula of In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + , And a p-type dopant (e.g., Mg, Zn, Ca, Sr, Ba) can be doped.

예컨대, 발광 구조물(110)은 적색광, 녹색광, 또는 청색광 중 어느 하나를 발생할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다양한 파장대의 가시 광선을 발생하거나 또는 자외선을 발생할 수도 있다.For example, the light emitting structure 110 may generate any one of red light, green light, and blue light, but it is not limited thereto, and may generate visible light of various wavelengths or generate ultraviolet light.

예컨대, 적색광을 발생하는 발광 구조물(110)의 제1 도전형 반도체층은 InxAlyGa1-x-yP (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1) 또는 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질, 예컨대, AlGaP, InGaP, AlInGaP, InP, GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN,AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있으며, n형 도펀트를 포함할 수 있다.For example, the first conductivity type semiconductor layer of the light emitting structure 110 that generates red light may be In x Al y Ga 1-xy P (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + in x Al y Ga 1 -x- y N semiconductor materials having a composition formula of (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x + y≤1 ), e.g., AlGaP, InGaP, AlInGaP, InP , GaN , InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, and GaP, and may include an n-type dopant.

또한 예컨대, 적색광을 발생하는 발광 구조물(110)의 활성층은 GaInP/AlGaInP, GaP/AlGaP, InGaP/AlGaP, InGaN/GaN, InGaN/InGaN, GaN/AlGaN, InAlGaN/GaN, GaAs/AlGaAs, InGaAs/AlGaAs 중 어느 하나 이상의 페어 구조로 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. For example, the active layer of the light emitting structure 110 for generating red light may be formed of GaInP / AlGaInP, GaP / AlGaP, InGaP / AlGaP, InGaN / GaN, InGaN / InGaN, GaN / AlGaN, InAlGaN / GaN, GaAs / AlGaAs, But the present invention is not limited thereto.

또한 적색광을 발생하는 발광 구조물의 활성층의 양자 우물층의 조성은 (AlpGa1-p)qIn1-qP층(단, 0≤p≤1, 0≤q≤1)일 수 있으며, 양자 장벽층의 조성은 (Alp1Ga1-p1)q1In1-q1P층(단, 0≤p1≤1, 0≤q1≤1)일 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The composition of the quantum well layer of the active layer of the light emitting structure that generates red light may be (Al p Ga 1-p ) q In 1-q P layer (where 0? P? 1, 0? Q? 1 ) the composition of the quantum barrier layer may be, but (Al p1 Ga 1-p1) q1 q1 in 1-P layer (where, 0≤p1≤1, 0≤q1≤1) but is not limited to such.

또한 예컨대, 적색광을 발생하는 발광 구조물의 제2 도전형 반도체층은 InxAlyGa1-x-yP (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1) 또는 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질로 형성될 수 있으며, p형 도펀트를 포함할 수 있다.For example, the second conductivity type semiconductor layer of the light emitting structure that generates red light may be In x Al y Ga 1-xy P (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + May be formed of a semiconductor material having a composition formula of Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y ? 1, 0? X + y? 1) and may include a p-type dopant .

도 3 및 도 4에는 도시되지 않았지만, 제1 도전형 반도체층(112)으로부터 활성층(114)으로 주입되는 전자가 제2 도전형 반도체층(116)으로 넘어가는 것을 방지하여 발광 효율을 높이기 위하여, 발광 구조물(110)은 활성층(114)과 제2 도전형 반도체층(116) 사이에 배치되는 전자 차단층을 더 구비할 수 있다. 이때 전자 차단층의 에너지 밴드 갭은 활성층(114)의 장벽층의 에너지 밴드 갭보다 크다.Although not shown in FIGS. 3 and 4, in order to prevent the electrons injected from the first conductivity type semiconductor layer 112 into the active layer 114 into the second conductivity type semiconductor layer 116, The light emitting structure 110 may further include an electron blocking layer disposed between the active layer 114 and the second conductive semiconductor layer 116. At this time, the energy band gap of the electron blocking layer is larger than the energy band gap of the barrier layer of the active layer 114.

제1 전극(130)은 발광 구조물(110), 및 발광 구조물(110) 아래에 배치되는 절연층(150)을 관통한다.The first electrode 130 penetrates the light emitting structure 110 and the insulating layer 150 disposed below the light emitting structure 110.

제1 전극(130)은 발광 구조물(110)의 일면, 예컨대, 상면 상에 위치하며, 발광 구조물(110)을 관통 또는 통과하여 발광 구조물(110)의 다른 일면, 예컨대, 하면으로 노출된다.The first electrode 130 is located on one side of the light emitting structure 110 and is exposed on the other side of the light emitting structure 110, for example, the bottom surface of the light emitting structure 110.

발광 구조물(110)은 제1 도전형 반도체층(112), 활성층(114), 및 제2 도전형 반도체층(116)을 관통하는 제1 관통 홀(301)을 포함할 수 있으며, 제1 전극(130)의 일부는 제1 관통 홀(301) 내에 배치될 수 있다.The light emitting structure 110 may include a first through hole 301 penetrating the first conductive semiconductor layer 112, the active layer 114, and the second conductive semiconductor layer 116, A part of the through hole 130 may be disposed in the first through hole 301.

제1 전극(130)의 일단은 제1 도전형 반도체층(112)과 접촉한다.One end of the first electrode 130 is in contact with the first conductive semiconductor layer 112.

발광 구조물(110)을 관통 또는 통과한 제1 전극(130)의 타단은 발광 구조물(110)의 다른 일면으로 노출되고, 제1 전극 패드(135)에 연결된다.The other end of the first electrode 130 penetrating or passed through the light emitting structure 110 is exposed to the other surface of the light emitting structure 110 and connected to the first electrode pad 135.

예컨대, 제1 전극(130)은 제1 도전형 반도체층(112)의 상면에 배치되며, 발광 구조물(110)을 관통 또는 통과하여 제2 도전형 반도체층(116)의 하면으로 노출될 수 있고, 제1 전극(130)의 일단은 제1 도전형 반도체층(112)의 상면과 접촉할 수 있고, 제1 전극(130)의 타단은 제2 도전형 반도체층(116)의 하면으로 노출될 수 있다.For example, the first electrode 130 may be disposed on the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 112 and may be exposed through the lower surface of the second conductivity type semiconductor layer 116 through the light emitting structure 110 One end of the first electrode 130 may be in contact with the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 112 and the other end of the first electrode 130 may be exposed in the lower surface of the second conductivity type semiconductor layer 116 .

패시베이션층(120)은 발광 구조물(110)을 관통하는 제1 전극(130)의 일 부분과 제1 관통홀(301)의 내측면 사이에 배치되며, 제1 전극(130)과 발광 구조물(110)의 제1 관통홀(301)의 내측면의 전기적인 접촉을 방지하여, 양자를 절연시키는 역할을 한다.The passivation layer 120 is disposed between a portion of the first electrode 130 that penetrates the light emitting structure 110 and the inner surface of the first through hole 301 and includes a first electrode 130 and a light emitting structure 110 Through the first through hole 301 of the first through hole 301, thereby insulating the both.

예컨대, 제1 전극(130)은 관통 전극(132), 상부 전극(134), 및 접촉 전극(136)을 포함한다.For example, the first electrode 130 includes a penetrating electrode 132, an upper electrode 134, and a contact electrode 136.

관통 전극(132)은 발광 구조물(110)의 제1 관통홀(301) 내에 배치되며, 발광 구조물(110)을 관통 또는 통과한다. 관통 전극(132)의 일단은 상부 전극(134)의 하면과 연결 또는 접촉하고, 관통 전극(132)의 타단은 제1 전극 패드(135)와 연결 또는 접촉될 수 있다.The penetrating electrode 132 is disposed in the first through hole 301 of the light emitting structure 110 and penetrates or passes through the light emitting structure 110. One end of the penetrating electrode 132 may be connected to or contacted with the lower surface of the upper electrode 134 and the other end of the penetrating electrode 132 may be connected to or contact with the first electrode pad 135.

관통 전극(132)의 직경은 제1 도전형 반도체층(112)에서 제2 도전형 반도체층(116)을 향하는 방향으로 진행할수록 점차 감소할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시 예에서 관통 전극(132)의 직경은 증가하거나 또는 일정할 수도 있다.The diameter of the penetrating electrode 132 may gradually decrease as it goes from the first conductivity type semiconductor layer 112 to the second conductivity type semiconductor layer 116. However, The diameter of the electrode 132 may be increased or constant.

도 3에서는 하나의 제1 관통홀(301), 하나의 관통 전극(132), 및 하나의 제1 전극 패드(135)를 예시하나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시 예에서는 2개 이상의 관통홀들, 이에 대응하는 관통 전극들, 및 제1 전극 패드들을 구비할 수 있다. 이 경우 제1 관통홀들은 서로 이격할 수 있고, 관통 전극들은 서로 이격할 수 있다. 또한 제1 전극 패드들은 서로 이격하거나 서로 연결될 수도 있다.3 illustrates one through hole 301, one through electrode 132, and one first electrode pad 135, but the present invention is not limited thereto. In another embodiment, two or more through holes 301, , Corresponding through electrodes, and first electrode pads. In this case, the first through holes may be spaced from each other, and the through electrodes may be spaced from each other. The first electrode pads may be spaced apart from each other or may be connected to each other.

상부 전극(134)은 관통 전극(132) 및 관통 전극(132)에 인접하여 위치하는 제1 도전형 반도체층(112)의 상면 상에 배치된다. 상부 전극(134)의 하면은 관통 전극(132)의 일단과 연결 또는 접촉한다.The upper electrode 134 is disposed on the upper surface of the first conductive semiconductor layer 112 located adjacent to the penetrating electrode 132 and the penetrating electrode 132. The lower surface of the upper electrode 134 is connected to or contacts with one end of the penetrating electrode 132.

접촉 전극(136)은 일단이 상부 전극(134)과 연결되고, 타단이 제1 도전형 반도체층(112)의 상면과 접촉된다.One end of the contact electrode 136 is connected to the upper electrode 134 and the other end is in contact with the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 112.

예컨대, 접촉 전극(136)은 상부 전극(134)의 하면에서 제1 도전형 반도체층(112)의 상면 방향으로 연장될 수 있고, 제1 도전형 반도체층(112)의 상면과 오믹 접촉할 수 있다.For example, the contact electrode 136 may extend from the lower surface of the upper electrode 134 toward the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 112 and may be in ohmic contact with the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 112 have.

패시베이션층(120)은 제1 관통홀(301)의 측면과 관통 전극(132) 사이에 배치되는 제1 패시베이션층(122)을 포함할 수 있다. 즉 제1 패시베이션층(122)은 관통 전극(132)에 의하여 관통된 발광 구조물(110)의 부분과 관통 전극(132) 사이에 배치될 수 있다.The passivation layer 120 may include a first passivation layer 122 disposed between the side of the first through hole 301 and the penetrating electrode 132. The first passivation layer 122 may be disposed between the portion of the light emitting structure 110 penetrated by the penetrating electrode 132 and the penetrating electrode 132.

또한 패시베이션층(120)은 상부 전극(134)과 제1 도전형 반도체층(112)의 상면 사이에 배치되는 제2 패시베이션층(124)을 더 포함할 수도 있다.The passivation layer 120 may further include a second passivation layer 124 disposed between the upper electrode 134 and the upper surface of the first conductive semiconductor layer 112.

예컨대, 제2 베시베이션층(124)은 제1 도전형 반도체층(112)의 상면에 배치될 수 있고, 상부 전극(134)은 제2 베시베이션층(124) 상에 배치될 수 있으며, 접촉 전극(136)은 제2 패시베이션층(124)을 관통하여 제1 도전형 반도체층(112)의 상면과 접촉하도록 확장될 수 있다.For example, the second dielectric layer 124 may be disposed on the upper surface of the first conductive semiconductor layer 112, the upper electrode 134 may be disposed on the second dielectric layer 124, The electrode 136 may extend through the second passivation layer 124 to contact the upper surface of the first conductive semiconductor layer 112.

예컨대, 접촉 전극(136)은 관통 전극(132)과 상부 전극(134)이 접촉 또는 연결되는 부분으로부터 이격되어 위치할 수 있으며, 관통 전극(132)과 상부 전극(134)이 접촉 또는 연결되는 부분 및 접촉 전극(136) 사이에는 제2 패시베이션층(124)이 위치할 수 있다.For example, the contact electrode 136 may be spaced apart from a portion where the penetrating electrode 132 and the upper electrode 134 are in contact with or connected to each other, and the contact electrode 136 may be located at a portion where the penetrating electrode 132 and the upper electrode 134 are in contact with or connected to each other And the second passivation layer 124 may be positioned between the contact electrode 136 and the second passivation layer 124.

제2 패시베이션층(124)에 의하여 접촉 전극(136)은 관통 전극(132)과 상부 전극(134)이 접촉 또는 연결되는 부분으로부터 이격하여 위치하기 때문에, 관통 전극(132)을 통하여 유입되는 전류를 발광 구조물(110)에 분산시켜 제공할 수 있다. 따라서 제2 패시베이션(124)은 전류를 분산시켜 발광 구조물(110)에 제공하는 역할을 할 수 있다.The contact electrode 136 is separated from the portion where the penetrating electrode 132 and the upper electrode 134 are in contact with or connected to each other by the second passivation layer 124. Therefore, And may be dispersed and provided in the light emitting structure 110. Thus, the second passivation 124 may serve to disperse the current and provide it to the light emitting structure 110.

도 3에서 제2 패시베이션층(124)은 제1 도전형 반도체층(112)의 상면의 일 부분을 노출할 수 있다.In FIG. 3, the second passivation layer 124 may expose a portion of the top surface of the first conductive semiconductor layer 112.

패시베이션층(120)은 투광성의 절연 물질, 예컨대, SiO2, SiOx, Si3N4, TiO2, SiNx, SiOxNy, 또는 Al2O3로 이루어질 수 있다.The passivation layer 120 may be formed of the transparent insulating material, for example, SiO 2, SiOx, Si 3 N 4, TiO 2, SiNx, SiO x N y, or Al 2 O 3.

도 5a는 도 3에 도시된 제1 전극(130)의 일 실시 예를 나타낸다.FIG. 5A shows an embodiment of the first electrode 130 shown in FIG.

도 5a를 참조하면, 제1 전극(130)은 관통 전극(132), 상부 전극(134), 및 관통 전극(132) 주위를 감싸는 링 형상의 접촉 전극(136)을 포함할 수 있다. 예컨대, 접촉 전극(136)은 원형의 링 형상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다각형 또는 타원형일 수도 있다.Referring to FIG. 5A, the first electrode 130 may include a penetrating electrode 132, an upper electrode 134, and a ring-shaped contact electrode 136 surrounding the penetrating electrode 132. For example, the contact electrode 136 may be in the form of a circular ring, but is not limited thereto, and may be polygonal or elliptical.

도 5b는 도 3에 도시된 제1 전극(130)의 다른 실시 예(130a)를 나타낸다.FIG. 5B shows another embodiment 130a of the first electrode 130 shown in FIG.

도 5b를 참조하면, 제1 전극(130a)은 관통 전극(132), 상부 전극(134), 및 관통 전극(132) 주위에 서로 이격하여 배치되는 복수의 접촉 전극들(136-1 내지 136-4)을 포함할 수 있다.5B, the first electrode 130a includes a plurality of contact electrodes 136-1 to 136-N disposed around the penetrating electrode 132, the upper electrode 134, and the penetrating electrode 132, 4).

복수의 접촉 전극들(136-1 내지 136-4) 각각은 상부 전극(134)의 하면에 접촉 또는 연결되며, 제2 패시베이션층(124)을 관통하여 제1 도전형 반도체층(112)의 상면에 접촉될 수 있다. 예컨대, 복수의 접촉 전극들(136-1 내지 136-4) 각각의 형상은 원형일 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니며, 다각형 또는 타원형일 수도 있다.Each of the plurality of contact electrodes 136-1 to 136-4 is in contact with or connected to the lower surface of the upper electrode 134 and penetrates through the second passivation layer 124 to cover the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 112 As shown in FIG. For example, the shape of each of the plurality of contact electrodes 136-1 to 136-4 may be circular, but is not limited thereto, and may be polygonal or elliptic.

제1 전극 패드(135)는 발광 구조물(110) 아래에 배치되며, 제1 전극(130)의 관통 전극(132)의 타단과 연결 또는 접촉된다.The first electrode pad 135 is disposed under the light emitting structure 110 and is connected to or in contact with the other end of the penetrating electrode 132 of the first electrode 130.

예컨대, 제1 전극 패드(135)는 관통 전극(132)에 인접하여 위치하는 제2 도전형 반도체층(116)의 하면 상에 배치될 수 있다. 예컨대, 제1 전극 패드(135)의 중앙은 관통 전극(132)의 중앙에 정렬될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the first electrode pad 135 may be disposed on the lower surface of the second conductivity type semiconductor layer 116 located adjacent to the penetrating electrode 132. For example, the center of the first electrode pad 135 may be aligned with the center of the penetrating electrode 132, but is not limited thereto.

본딩(bonding)을 위하여 제1 전극 패드(135)의 두께는 제1 전극(130)의 상부 전극(134)의 두께보다 두꺼울 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The thickness of the first electrode pad 135 may be thicker than the thickness of the upper electrode 134 of the first electrode 130 for bonding, but the present invention is not limited thereto.

도 2에 도시된 바와 같이, 제1 전극 패드(135)의 평면 형상은 원형이나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시 예에서는 타원형 또는 다각형 형상일 수도 있다.2, the planar shape of the first electrode pad 135 is circular, but it is not limited thereto. In other embodiments, the first electrode pad 135 may have an elliptical shape or a polygonal shape.

제2 전극(140)은 발광 구조물(110) 아래에 배치되며, 제2 도전형 반도체층(116)과 접촉한다. 예컨대, 제2 전극(140)은 발광 구조물(110)의 하면, 예컨대, 제2 도전형 반도체층(116)의 하면 상에 배치될 수 있다.The second electrode 140 is disposed under the light emitting structure 110 and contacts the second conductive type semiconductor layer 116. For example, the second electrode 140 may be disposed on the lower surface of the light emitting structure 110, for example, on the lower surface of the second conductivity type semiconductor layer 116.

제2 전극(140)은 제2 도전형 반도체층(116)과 제2 전극 패드(145) 사이에 배치되며, 제2 전극(140)과 제2 도전형 반도체층(116)은 오믹 접촉될 수 있다.The second electrode 140 is disposed between the second conductive semiconductor layer 116 and the second electrode pad 145 and the second electrode 140 and the second conductive semiconductor layer 116 may be in ohmic contact with each other. have.

제2 전극(140)은 제2 도전형 반도체층(116)의 하면으로부터 노출되는 관통 전극(132)의 타단으로부터 이격하는 제2 도전형 반도체층(116)의 하면 상에 배치될 수 있다.The second electrode 140 may be disposed on the lower surface of the second conductive type semiconductor layer 116 spaced apart from the other end of the penetrating electrode 132 exposed from the lower surface of the second conductive type semiconductor layer 116.

예컨대, 제2 전극(140)은 제2 도전형 반도체층(116)의 하면으로부터 노출되는 관통 전극(132)의 타단을 감싸도록 배치될 수 있다.For example, the second electrode 140 may be disposed to surround the other end of the penetrating electrode 132 exposed from the lower surface of the second conductive type semiconductor layer 116.

제1 전극(130)은 제1 도전형 반도체층(112)과 오믹 접촉을 위한 오믹 접촉층, 및 반사층을 포함할 수 있다. 예컨대, 제1 전극(130)은 Pb, Sn, Au, Ge, Cu, Bi, Cd, Zn, Ag, Ni, Ti, 또는 이들 중 적어도 하나를 포함하는 합금으로 이루어질 수 있으며, 단층 또는 복수의 층들로 이루어질 수 있다.The first electrode 130 may include an ohmic contact layer for ohmic contact with the first conductive semiconductor layer 112, and a reflective layer. For example, the first electrode 130 may be made of an alloy containing at least one of Pb, Sn, Au, Ge, Cu, Bi, Cd, Zn, Ag, Ni, Ti, ≪ / RTI >

제2 전극(140)은 제2 도전형 반도체층(116)과 오믹 접촉을 위한 오믹 접촉층, 및 반사층을 포함할 수 있다. The second electrode 140 may include an ohmic contact layer for ohmic contact with the second conductive semiconductor layer 116, and a reflective layer.

예컨대, 제2 전극(140)의 오믹 접촉층은 ITO와 같은 투명 전도성 산화물, 또는 Ni, Cr일 수 있다. 예컨대, 제2 전극(140)의 반사층은 Ag, Al, 또는 Rh를 포함하거나, 또는 Ag, Al, 또는 Rh를 포함하는 합금이거나 또는 Cu, Re, Bi, Al, Zn, W, Sn, In, 또는 Ni 중 선택된 적어도 하나와 은(Ag)과의 합금일 수 있다.For example, the ohmic contact layer of the second electrode 140 may be a transparent conductive oxide such as ITO, or Ni, Cr. For example, the reflective layer of the second electrode 140 may include Ag, Al, or Rh, or an alloy containing Ag, Al, or Rh, or an alloy including Cu, Re, Bi, Al, Zn, Or Ni and an alloy of silver (Ag).

또한 제2 전극(140)은 확산 방지층, 또는 본딩층 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다. 예컨대, 제2 전극(140)은 Ni, Cr, Ti, Pd, Pt, W, Co, 또는 Cu 중 적어도 하나를 포함하는 확산 방지층을 더 포함할 수 있다. 또한 예컨대, 제2 전극(140)은 금(Au), 은(Ag), 또는 Au 함금으로 이루어지는 본딩층을 더 포함할 수 있다.The second electrode 140 may further include at least one of a diffusion prevention layer and a bonding layer. For example, the second electrode 140 may further include a diffusion preventing layer including at least one of Ni, Cr, Ti, Pd, Pt, W, Co, or Cu. In addition, for example, the second electrode 140 may further include a bonding layer made of gold (Au), silver (Ag), or Au alloy.

제1 및 제2 전극 패드들(135, 145) 각각은 패키지 바디(package body), 서브 마운트(submount), 또는 기판 등과 본딩되는 부분으로 전기적 통전을 유지할 수 있는 전도성 금속일 수 있다. 예컨대, 제1 및 제2 전극 패드들(135, 145) 각각은 Au, Ni, Cu, 또는 Al 중 적어도 하나를 포함하거나, 또는 이들 중 적어도 하나를 포함하는 합금으로 이루어질 수 있고, 단층 또는 복수의 층으로 형성될 수 있다.Each of the first and second electrode pads 135 and 145 may be a conductive metal capable of maintaining electrical conduction to a portion bonded to a package body, a submount, or a substrate. For example, each of the first and second electrode pads 135 and 145 may include at least one of Au, Ni, Cu, or Al, or an alloy including at least one of them, Layer.

또한 예컨대, 패키지 바디(package body), 서브 마운트(submount), 또는 기판 등과의 본딩시, 작은 사이즈(예컨대, 100 마이크로 미만의 직경)를 갖는 발광 소자의 자기 정렬(self-assembly)을 위하여 제1 및 제2 전극 패드들(135, 145) 각각은 Co, Ni, 또는 Fe 중 적어도 하나를 포함하거나, 또는 이들 중 적어도 하나를 포함하는 합금으로 이루어질 수 있다.Also, for bonding, for example, to a package body, submount, or substrate, for self-assembly of a light emitting device having a small size (e.g., less than 100 microns) And the second electrode pads 135 and 145 may include at least one of Co, Ni, and Fe, or an alloy including at least one of them.

절연층(150)은 발광 구조물(110)의 측면 또는 하면 중 적어도 하나에 배치된다.The insulating layer 150 is disposed on at least one of a side surface and a bottom surface of the light emitting structure 110.

절연층(150)은 제2 도전형 반도체층(116) 아래에 배치될 수 있다. 예컨대, 절연층(150)은 제2 도전형 반도체층(116)의 하면에 배치되는 제1 절연층(152)을 포함할 수 있다. The insulating layer 150 may be disposed under the second conductive semiconductor layer 116. For example, the insulating layer 150 may include a first insulating layer 152 disposed on the lower surface of the second conductive type semiconductor layer 116.

예컨대, 제1 절연층(152)은 제2 전극(140)이 배치되는 영역을 제외한 제2 도전형 반도체층(116)의 하면의 나머지 영역에 배치될 수 있다. 또한 예컨대, 제1 절연층(152)은 제2 도전형 반도체층(116)의 하면에 배치되는 제2 전극(140)의 하면의 가장 자리 영역에도 배치될 수 있으며, 제2 전극(140)의 하면의 일부 영역을 노출할 수 있다.For example, the first insulating layer 152 may be disposed in a remaining region of the lower surface of the second conductive semiconductor layer 116 except for a region where the second electrode 140 is disposed. For example, the first insulating layer 152 may be disposed in the edge region of the lower surface of the second electrode 140 disposed on the lower surface of the second conductive type semiconductor layer 116, It is possible to expose a part of the lower surface.

제1 전극 패드(135) 및 제2 전극 패드(145)는 제1 절연층(152) 아래에 서로 이격하여 배치될 수 있다.The first electrode pad 135 and the second electrode pad 145 may be spaced apart from each other under the first insulating layer 152.

제1 절연층(152)은 제2 도전형 반도체층(116)의 하면과 제1 전극 패드(135) 사이에 배치될 수 있으며, 제2 도전형 반도체층(116)과 제1 전극 패드(135) 간의 전기적 접촉을 방지할 수 있다.The first insulating layer 152 may be disposed between the lower surface of the second conductive semiconductor layer 116 and the first electrode pad 135 and may include a second conductive semiconductor layer 116 and a first electrode pad 135 Can be prevented.

또한 제1 절연층(152)은 제1 전극 패드(135)와 제2 전극 패드(145) 사이에 배치될 수 있으며, 제1 전극 패드(135)와 제2 전극 패드(145) 사이의 전기적 접촉을 방지할 수 있다.The first insulating layer 152 may be disposed between the first electrode pad 135 and the second electrode pad 145 and may have an electrical contact between the first electrode pad 135 and the second electrode pad 145. [ Can be prevented.

패키지 바디(package body), 서브 마운트(submount), 또는 기판 등과의 다이 본딩(die bonding)을 하기 위하여, 제1 전극 패드(135)의 하면과 제2 전극 패드(146)의 하면은 동일 평면 상에 위치할 수 있다.The lower surface of the first electrode pad 135 and the lower surface of the second electrode pad 146 are formed on the same plane so as to perform die bonding with a package body, a submount, Lt; / RTI >

제1 전극 패드(135)는 관통 전극(132)과 수직 방향으로 정렬되거나 오버랩되도록 제1 절연층(152) 아래에 배치될 수 있으며, 관통 전극(132)은 제1 절연층(152)을 관통 또는 통과하여 제1 전극 패드(135)와 연결 또는 접촉될 수 있다. 여기서 수직 방향은 발광 구조물(110)의 제2 도전형 반도체층(116)에서 제1 도전형 반도체층(112)으로 향하는 방향일 수 있다.The first electrode pad 135 may be disposed under the first insulating layer 152 so as to be vertically aligned or overlapped with the penetrating electrode 132. The penetrating electrode 132 may penetrate the first insulating layer 152 Or may be in contact with or contact with the first electrode pad 135. Here, the vertical direction may be a direction from the second conductivity type semiconductor layer 116 of the light emitting structure 110 to the first conductivity type semiconductor layer 112.

제2 전극 패드(145)는 제1 절연층(152)에 의하여 노출되는 제2 전극(140)의 하면의 일부 영역 아래에 배치될 수 있으며, 제2 전극(140)의 노출되는 부분과 연결 또는 접촉될 수 있다.The second electrode pad 145 may be disposed under a portion of the lower surface of the second electrode 140 exposed by the first insulating layer 152 and may be connected to the exposed portion of the second electrode 140 Can be contacted.

예컨대, 제1 절연층(152)은 제2 전극 패드(145)의 측면의 상측 일부만을 감쌀 수 있다. 그리고 제2 전극 패드(145)의 가장 자리가 제1 절연층(152)의 하면과 접할 수 있고, 제1 절연층(152)의 하면 아래에 위치하도록 수평 방향으로 확장되는 구조를 가질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the first insulating layer 152 may cover only a part of the upper side of the side surface of the second electrode pad 145. The edge of the second electrode pad 145 may be in contact with the lower surface of the first insulating layer 152 and may extend in the horizontal direction so as to be positioned below the lower surface of the first insulating layer 152, But is not limited thereto.

예컨대, 제2 전극 패드(145)는 제2 도전형 반도체층(116)에서 제1 도전형 반도체층(112)으로 향하는 방향으로 볼록하게 절곡된 구조일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the second electrode pad 145 may be convexly curved in the direction from the second conductivity type semiconductor layer 116 to the first conductivity type semiconductor layer 112, but the present invention is not limited thereto.

다른 실시 예에서는 제1 절연층(152)이 제2 전극 패드(145)의 측면을 전부 감싸고, 제1 절연층의 하면, 제1 전극 패드(135)의 하면, 및 제2 전극 패드(146)의 하면은 동일 평면 상에 위치할 수도 있다.The lower surface of the first electrode pad 135 and the lower surface of the second electrode pad 146 may be covered with the first insulating layer 152, And the lower surface of the substrate may be located on the same plane.

절연층(150)은 발광 구조물(110)의 측면에 배치되는 제2 절연층(154)을 더 포함할 수 있다. 예컨대, 제2 절연층(154)은 제1 도전형 반도체층(112)의 측면, 활성층(114)의 측면, 및 제2 도전형 반도체층(116)의 측면에 배치될 수 있다.The insulating layer 150 may further include a second insulating layer 154 disposed on a side surface of the light emitting structure 110. For example, the second insulating layer 154 may be disposed on the side surfaces of the first conductive type semiconductor layer 112, the active layer 114, and the second conductive type semiconductor layer 116.

예컨대, 제2 절연층(154)의 일단은 제1 도전형 반도체층(112)의 상면의 가장 자리까지 확장되어 패시베이션층(120)과 연결 또는 접촉될 수 있고, 제2 절연층(154)의 타단은 제1 절연층(152)과 연결 또는 접촉될 수 있다.For example, one end of the second insulating layer 154 may extend to the edge of the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 112 to be connected to or in contact with the passivation layer 120, And the other end may be connected to or in contact with the first insulating layer 152.

절연층(150)은 절연 물질, 예컨대, SiO2, SiOx, Si3N4, TiO2, SiNx, SiOxNy, 또는 Al2O3 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.Insulating layer 150 is an insulating material, e.g., SiO 2, SiOx, Si 3 N 4, TiO 2, SiNx, SiO x N y, or Al 2 O 3 Or the like.

절연층(150)은 굴절률이 서로 다른 적어도 두 개의 층을 적어도 1회 이상 교대로 적층한 복층 구조를 가지는 분산 브래그 반사층(Distributed Bragg Reflective layer)일 수 있다.The insulating layer 150 may be a distributed Bragg reflective layer having a multilayer structure in which at least two layers having different refractive indexes are alternately laminated at least once.

절연층(150)은 제1 굴절률을 갖는 제1층, 및 제1 굴절률보다 작은 제2 굴절률을 갖는 제2층이 교대로 1회 이상 적층된 구조일 수 있다.The insulating layer 150 may have a structure in which a first layer having a first refractive index and a second layer having a second refractive index smaller than the first refractive index are alternately stacked one or more times.

예컨대, 절연층(150)은 TiO2층/SiO2층이 1회 이상 적층된 구조일 수 있고, 제1층 및 제2층 각각의 두께는 λ/4일 수 있고, λ은 발광 구조물(110)에서 발생하는 광의 파장을 의미할 수 있다.For example, the insulating layer 150 may be a structure in which the TiO 2 layer / SiO 2 layer is laminated one or more times, the thickness of each of the first and second layers may be lambda / 4, The wavelength of light emitted from the light source can be expressed by the following equation.

도 6은 다른 실시 예에 따른 발광 소자(100-1)의 단면도를 나타낸다. 도 3과 동일한 도면 부호는 동일한 구성을 나타내며, 동일한 구성에 대해서는 설명을 간략하게 하거나 생략한다.6 shows a cross-sectional view of a light emitting device 100-1 according to another embodiment. The same reference numerals as those in FIG. 3 denote the same components, and a description of the same components will be simplified or omitted.

도 3의 패시베이션층(120)은 제1 도전형 반도체층(112)의 상면의 일부를 노출한다. 반면에, 도 6의 발광 소자(100-1)의 패시베이션층(120-1)은 접촉 전극(136)과 접촉되기 위하여 노출되는 제1 도전형 반도체층(112)의 상면의 일부분을 제외하고는, 제1 도전형 반도체층(112)의 상면을 노출하지 않을 수 있다. 예컨대, 제2 패시베이션층(124a)은 접촉 전극(136)과 접촉되는 제1 도전형 반도체층(112)의 상면의 일 부분을 제외하고는, 제1 도전형 반도체층(112)의 상면을 전부 덮을 수 있고, 제2 절연층(154)과 연결 또는 접촉될 수 있다.The passivation layer 120 of FIG. 3 exposes a portion of the top surface of the first conductivity type semiconductor layer 112. The passivation layer 120-1 of the light emitting device 100-1 of FIG. 6 may be formed in the same manner as the passivation layer 120-1 except for a portion of the upper surface of the first conductive semiconductor layer 112 exposed to be in contact with the contact electrode 136 , The upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 112 may not be exposed. For example, the second passivation layer 124a may be formed on the entire upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 112, except for a part of the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 112 in contact with the contact electrode 136. [ And may be in contact with or in contact with the second insulating layer 154.

도 7a는 다른 실시 예에 따른 발광 소자(100-2)의 상측 평면도를 나타내고, 도 7b는 도 7a에 도시된 발광 소자(100-2)의 하측 평면도를 나타낸다. 도 7a 및 도 7b는 도 6의 제2 패시베이션층(124a)을 포함하는 실시 예일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 도 3에 도시된 발광 소자(100)에도 동일하게 적용될 수 있다.FIG. 7A is a top plan view of the light emitting device 100-2 according to another embodiment, and FIG. 7B is a bottom plan view of the light emitting device 100-2 shown in FIG. 7A. 7A and 7B may be an embodiment including the second passivation layer 124a of FIG. 6. However, the present invention is not limited thereto, and the same can be applied to the light emitting device 100 shown in FIG.

도 3, 및 도 6에서는 제1 전극(130)이 발광 구조물(110)의 상면의 중앙과 하면의 중앙에 정렬되도록 위치하는 반면에, 도 7a 및 도 7b에 도시된 실시 예의 제1 전극(130b)은 발광 구조물(110)의 측면들 중 어느 일 측면에 인접하여 위치할 수 있다.3 and 6, the first electrode 130 is positioned to align with the center of the upper surface of the upper surface of the light emitting structure 110, while the first electrode 130b of the embodiment shown in FIGS. 7A and 7B May be located adjacent to one side of the sides of the light emitting structure 110. [

도 3 및 도 6에서의 제1 전극(130)의 배치가 도 7a 및 도 7b의 제1 전극(130b)의 배치에 비하여, 전류 분산 효율을 향상시킬 수 있지만, 제1 전극과 본딩되는 패키지 바디(package body), 서브 마운트(submount), 또는 기판의 도전층의 배치 및 구조에 따라서 제1 전극은 다양한 위치에 배치될 수 있다.The arrangement of the first electrode 130 in FIGS. 3 and 6 can improve the current dispersion efficiency compared with the arrangement of the first electrode 130b in FIGS. 7A and 7B, but the package body the first electrode may be disposed at various positions depending on the arrangement and structure of the package body, the submount, or the conductive layer of the substrate.

예컨대, 발광 구조물(110)은 서로 마주보는 제1 및 제2 측면들(110-1, 110-2)과 서로 마주보는 제3 및 제4 측면들(110-3, 110-4)을 포함할 수 있으며, 제1 전극(130b)은 제1 측면(110-1)보다 제2 측면(110-2)에 더 인접하여 위치할 수 있다.For example, the light emitting structure 110 includes first and second side faces 110-1 and 110-2 facing each other and third and fourth side faces 110-3 and 110-4 facing each other And the first electrode 130b may be positioned closer to the second side 110-2 than the first side 110-1.

제1 측면(110-1)과 제1 전극(130b)의 관통 전극(132) 간의 최단 거리는 제2 측면(110-2)과 관통 전극(132) 간의 최단 거리와 다를 수 있다. 예컨대, 제1 측면(110-1)과 제1 전극(130b)의 관통 전극(132) 간의 최단 거리는 제2 측면(110-2)과 관통 전극(132) 간의 최단 거리보다 클 수 있다The shortest distance between the first side surface 110-1 and the penetrating electrode 132 of the first electrode 130b may be different from the shortest distance between the second side surface 110-2 and the penetrating electrode 132. [ For example, the shortest distance between the first side 110-1 and the penetrating electrode 132 of the first electrode 130b may be greater than the shortest distance between the second side 110-2 and the penetrating electrode 132

제1 및 제2 측면들(110-1, 110-2)은 단측면일 수 있고, 제3 및 제4 측면들(110-3,110-4)은 장측면일 수 있다. 예컨대, 제1 및 제2 측면들(110-1, 110-2) 각각의 수평 방향의 길이는 제3 및 제4 측면들(110-3,110-4) 각각의 수평 방향의 길이보다 짧을 수 있다.The first and second sides 110-1 and 110-2 may be short sides and the third and fourth sides 110-3 and 110-4 may be long sides. For example, the horizontal length of each of the first and second side surfaces 110-1 and 110-2 may be shorter than the horizontal length of each of the third and fourth side surfaces 110-3 and 110-4.

또한 예컨대, 제3 측면(110-3)으로부터 제1 전극(130b), 예컨대, 관통 전극(132)까지의 최단 거리는 제4 측면(110-4)으로부터 제1 전극(130b), 예컨대, 관통 전극(132)까지의 최단 거리와 동일할 수 있다.For example, the shortest distance from the third side surface 110-3 to the first electrode 130b, for example, the penetrating electrode 132 may be the distance from the fourth side surface 110-4 to the first electrode 130b, (132).

도 3, 도 6, 도 7a 및 도 7b에 도시된 발광 소자(100, 100-1, 100-2)는 칩 사이즈(예컨대, 칩의 최대 직경)가 100 마이크로 미터 미만일 수 있다. 이와 같이 직경이 100 마이크로 미만인 발광 소자는 와이어 본딩을 위한 본딩 패드의 형성이 용이하지 않다. 실시 예에 따른 발광 소자는 발광 구조물(110) 및 절연층(150)을 모두 관통하는 제1 전극(130)을 구비함으로써, 적은 사이즈의 면적을 갖는 발광 구조물(110)의 동일 측에 플립 칩 본딩 또는 다이 본딩을 위한 제1 전극 패드(예컨대, n형 전극 패드) 및 제2 전극 패드(예컨대, p형 전극 패드)를 용이하게 구현할 수 있다.The light emitting devices 100, 100-1 and 100-2 shown in FIGS. 3, 6, 7A and 7B may have a chip size (for example, a maximum diameter of a chip) of less than 100 micrometers. In the light emitting device having a diameter of less than 100 microns, it is not easy to form a bonding pad for wire bonding. The light emitting device according to the embodiment includes the first electrode 130 that penetrates both the light emitting structure 110 and the insulating layer 150 so that the light emitting structure 110 having a small size area is flip- (For example, an n-type electrode pad) and a second electrode pad (for example, a p-type electrode pad) for die bonding can be easily implemented.

도 8a는 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자(100-3)의 상측 평면도를 나타내고, 도 8b는 도 8a에 도시된 발광 소자(100-3)의 하측 평면도를 나타내고, 도 9는 도 8a 및 도 8b에 도시된 발광 소자(100-3)의 Ⅰ-Ⅱ 절단 단면도를 나타낸다.8A is a top plan view of the light emitting device 100-3 according to another embodiment, FIG. 8B is a bottom plan view of the light emitting device 100-3 shown in FIG. 8A, and FIG. 9 is a cross- 8B is a sectional view taken along the line I-II of the light emitting device 100-3.

도 8a, 도 8b, 및 도 9를 참조하면, 발광 소자(100-3)는 발광 구조물(110'), 패시베이션층(124a), 제1 전극(130-1), 제1 전극 패드(135'), 제2 전극(140a), 제2 전극 패드(145'), 및 절연층(150a)을 포함한다.8A, 8B and 9, the light emitting device 100-3 includes a light emitting structure 110 ', a passivation layer 124a, a first electrode 130-1, a first electrode pad 135' , A second electrode 140a, a second electrode pad 145 ', and an insulating layer 150a.

발광 구조물(110')은 제1 도전형 반도체층(112), 활성층(114), 및 제2 도전형 반도체층(116)을 포함하지만, 도 3에 도시된 발광 구조물(110)과 달리 제1 관통홀(301)을 구비하지 않는다. 제1 도전형 반도체층(112), 활성층(114), 및 제2 도전형 반도체층(116)에 대해서는 도 1 내지 도 3의 설명이 동일하게 적용될 수 있다.The light emitting structure 110 'includes the first conductive semiconductor layer 112, the active layer 114, and the second conductive semiconductor layer 116, but unlike the light emitting structure 110 shown in FIG. 3, The through hole 301 is not provided. The description of FIGS. 1 to 3 may be applied to the first conductive semiconductor layer 112, the active layer 114, and the second conductive semiconductor layer 116.

제2 전극(140a)은 제2 도전형 반도체층(116)의 하면 상에 배치되며, 제2 도전형 반도체층(116)과 오믹 접촉할 수 있다. 제2 전극(140a)의 재질에 대해서는 제2 전극(140)에 대한 설명이 동일하게 적용될 수 있다.The second electrode 140a is disposed on the lower surface of the second conductive type semiconductor layer 116 and can be in ohmic contact with the second conductive type semiconductor layer 116. [ As for the material of the second electrode 140a, the description of the second electrode 140 may be applied equally.

절연층(150a)은 발광 구조물(110')의 측면 및 하면에 배치된다. 예컨대, 절연층(150a)은 제2 도전형 반도체층(116)의 하면에 배치되는 제1 절연층(152a), 및 발광 구조물(110')의 측면에 배치되는 제2 절연층(154a)을 포함할 수 있다.The insulating layer 150a is disposed on the side surfaces and the bottom surface of the light emitting structure 110 '. For example, the insulating layer 150a may include a first insulating layer 152a disposed on the lower surface of the second conductive type semiconductor layer 116 and a second insulating layer 154a disposed on the side surface of the light emitting structure 110 ' .

예컨대, 제1 절연층(150a)은 제2 도전형 반도체층(116)의 하면에 배치되는 제2 전극(140a)의 하면의 가장 자리 영역에도 배치될 수 있으며, 제2 전극(140a)의 하면의 일부 영역을 노출할 수 있다.For example, the first insulating layer 150a may be disposed in the edge region of the lower surface of the second electrode 140a disposed on the lower surface of the second conductive semiconductor layer 116, And the like.

도 3의 제1 절연층(152)에 대한 설명은 도 9의 제1 절연층(152a)에 적용될 수 있으며, 도 3의 제2 절연층(154)에 대한 설명이 도 9의 제2 절연층(154)에 적용될 수 있다.The description of the first insulating layer 152 of FIG. 3 may be applied to the first insulating layer 152a of FIG. 9, and the description of the second insulating layer 154 of FIG. Lt; RTI ID = 0.0 > 154 < / RTI >

제2 전극 패드(145')는 제1 절연층(152a)에 의하여 노출되는 제2 전극(140a)의 하면의 일부 영역 아래에 배치될 수 있으며, 제2 전극(140a)의 노출되는 부분과 연결 또는 접촉될 수 있다.The second electrode pad 145 'may be disposed below a portion of the lower surface of the second electrode 140a exposed by the first insulating layer 152a and may be connected to the exposed portion of the second electrode 140a Or may be contacted.

제1 전극 패드(135')는 제1 절연층(152a) 아래에 배치되며, 제1 절연층(152a)에 의하여 제2 도전형 반도체층(116)과 전기적 접촉이 방지될 수 있다.The first electrode pad 135 'is disposed under the first insulating layer 152a and can be prevented from being in electrical contact with the second conductive semiconductor layer 116 by the first insulating layer 152a.

예컨대, 제1 전극(130-1)과의 연결을 용이하게 하기 위하여 제1 전극 패드(135')는 제1 절연층(152a)과 제2 절연층(154a)이 만나는 부분에 인접하거나 또는 접하도록 위치할 수 있다.For example, in order to facilitate connection with the first electrode 130-1, the first electrode pad 135 'may be adjacent to a portion where the first insulating layer 152a and the second insulating layer 154a meet, Lt; / RTI >

제1 전극 패드(135)에 대한 설명이 도 9에 도시된 바에 따라 제1 전극 패드(135')에 적용될 수 있다.The description of the first electrode pad 135 may be applied to the first electrode pad 135 'as shown in FIG.

패시베이션층(124a)은 제1 도전형 반도체층(112)의 상면에 배치된다.The passivation layer 124a is disposed on the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 112. [

제1 전극(130-1)은 패시베이션층(124a) 및 제2 절연층(154a) 상에 배치된다.The first electrode 130-1 is disposed on the passivation layer 124a and the second insulating layer 154a.

제1 전극(130-1)의 일단은 패시베이션층(124a)을 관통하여 제1 도전형 반도체층(112)의 상면과 접촉될 수 있고, 타단은 제1 전극 패드(135')에 연결 또는 접촉될 수 있다.One end of the first electrode 130-1 may be in contact with the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 112 through the passivation layer 124a and the other end may be connected to or contacted with the first electrode pad 135 ' .

예컨대, 제1 전극(130-1)은 패시베이션층(124a) 상에 배치되는 상부 전극(134a), 패시베이션층(124a)을 관통하여 제1 도전형 반도체층(112)의 상면과 접촉하도록 상부 전극(134a)의 하면으로부터 연장되는 접촉 전극(136a), 및 제2 절연층(154a) 상에 배치되고 상부 전극(134a)과 제1 전극 패드(135')를 연결하는 연결 전극(132a)을 포함한다.For example, the first electrode 130-1 may pass through the upper electrode 134a and the passivation layer 124a disposed on the passivation layer 124a to be in contact with the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 112, A contact electrode 136a extending from the lower surface of the first electrode pad 134a and a connection electrode 132a disposed on the second insulation layer 154a and connecting the upper electrode 134a and the first electrode pad 135 ' do.

상부 전극(134a)은 발광 구조물(110)의 가장 자리와 수직 방향으로 정렬되거나 또는 오버랩될 수 있다. 또한 상부 전극(134a)은 제1 전극 패드(135')와 수직 방향으로 정렬되거나 또는 오버랩될 수 있다.The upper electrode 134a may be aligned or overlapped with the edge of the light emitting structure 110 in the vertical direction. The upper electrode 134a may be vertically aligned or overlapped with the first electrode pad 135 '.

예컨대, 접촉 전극(135a)은 제1 전극 패드(135')와 수직 방향으로 정렬되거나 또는 오버랩될 수 있다. 수직 방향으로 접촉 전극(135a)과 제1 전극 패드(135')를 오버랩되도록 배치시킴으로써, 발광 소자(100)의 수평 방향으로의 직경을 감소시킬 수 있고, 발광 소자(100)의 사이즈를 감소시킬 수 있다.For example, the contact electrode 135a may be vertically aligned or overlapped with the first electrode pad 135 '. The diameter of the light emitting element 100 in the horizontal direction can be reduced and the size of the light emitting element 100 can be reduced by disposing the contact electrode 135a and the first electrode pad 135 ' .

도 3에서는 발광 구조물(110)을 관통하는 관통 전극(132)에 의하여 상부 전극(134)과 제1 전극 패드(135)가 연결되지만, 도 9에서는 발광 구조물(110')을 관통하지 않고, 발광 구조물(110')의 측면에 배치된 제2 절연층(154a) 상에 배치되는 연결 전극(132a)에 의하여 상부 전극(134a)과 제1 전극 패드(135')가 연결될 수 있다.In FIG. 3, the upper electrode 134 and the first electrode pad 135 are connected by the penetrating electrode 132 passing through the light emitting structure 110, but in FIG. 9, the light emitting structure 110 ' The upper electrode 134a and the first electrode pad 135 'may be connected by the connection electrode 132a disposed on the second insulation layer 154a disposed on the side surface of the structure 110'.

도 9의 제1 전극(130-1)은 발광 구조물(110')의 측면에 배치된 제2 절연층(154a) 상에 배치되는 연결 전극(132a)에 의하여 상부 전극(134a)과 제1 전극 패드(135')가 연결되기 때문에, 도 9에 도시된 실시 예는 발광 면적을 증가시킬 수 있고, 광 추출 효율을 향상시킬 수 있다.The first electrode 130-1 of FIG. 9 is electrically connected to the upper electrode 134a and the first electrode 130a by a connection electrode 132a disposed on the second insulation layer 154a disposed on the side surface of the light emitting structure 110 ' Since the pad 135 'is connected, the embodiment shown in Fig. 9 can increase the light emitting area and improve the light extraction efficiency.

도 10은 실시 예에 따른 조명 장치(200)의 단면도를 나타낸다.10 shows a cross-sectional view of a lighting device 200 according to an embodiment.

도 10을 참조하면, 조명 장치(200)는 기판(510), 몸체(520), 적어도 하나의 발광 소자(예컨대, 530-1 내지 530-5), 및 투광성 부재(540)를 포함한다.10, the lighting device 200 includes a substrate 510, a body 520, at least one light emitting device (e.g., 530-1 to 530-5), and a light transmitting member 540. [

기판(510)은 제1 및 제2 배선층들(512,514) 및 절연층(515)을 포함하는 인쇄회로기판일 수 있다. 예컨대, 기판(510)은 연성회로기판일 수 있다.The substrate 510 may be a printed circuit board including the first and second wiring layers 512 and 514 and the insulating layer 515. For example, the substrate 510 may be a flexible circuit substrate.

제1 및 제2 배선층들(512, 514)은 기판(510) 상에 서로 이격하여 배치될 수 있으며, 절연층(515)은 제1 및 제2 배선층들(512, 514) 사이의 기판(510)의 상면 상에 배치되어 제1 및 제2 배선층들(512, 514) 간을 전기적으로 절연시킬 수 있다. 또는 다른 실시 예에서는 절연층(515)은 생략될 수도 있다.The first and second wiring layers 512 and 514 may be spaced apart from each other on the substrate 510 and the insulating layer 515 may be disposed on the substrate 510 between the first and second wiring layers 512 and 514. [ So that the first and second wiring layers 512 and 514 can be electrically insulated from each other. Or in other embodiments, the insulating layer 515 may be omitted.

적어도 하나의 발광 소자(예컨대, 530-1 내지 530-5)는 기판(510) 상에 배치되며, 제1 및 제2 배선층들(512,514)과 전기적으로 연결된다. 적어도 하나의 발광 소자(예컨대, 530-1 내지 530-5)는 상술한 실시 예에 따른 발광 소자들(100, 100-1 내지 100-3) 중 어느 하나일 수 있다.At least one light emitting device (e.g., 530-1 to 530-5) is disposed on the substrate 510 and electrically connected to the first and second wiring layers 512 and 514. At least one light emitting device (e.g., 530-1 to 530-5) may be any one of the light emitting devices 100, 100-1 to 100-3 according to the above-described embodiment.

몸체(520)는 기판(510) 상에 배치되며, 적어도 하나의 발광 소자(예컨대, 530-1 내지 530-5)로부터 조사되는 빛을 반사시킨다.The body 520 is disposed on the substrate 510 and reflects light emitted from at least one light emitting device (e.g., 530-1 to 530-5).

예컨대, 몸체(520)는 캐비티를 가지며, 적어도 하나의 발광 소자(예컨대, 530-1 내지 530-5)는 캐비티 내에 배치될 수 있다. For example, the body 520 has a cavity, and at least one light emitting device (e.g., 530-1 to 530-5) may be disposed in the cavity.

예컨대, 몸체(520)는 발광 소자들의 개수에 대응하는 수의 캐비티들을 포함할 수 있으며, 캐비티들 각각에는 발광 소자들 중 대응하는 어느 하나가 배치될 수 있다.For example, the body 520 may include a number of cavities corresponding to the number of light emitting elements, and each corresponding one of the light emitting elements may be disposed in each of the cavities.

또한 몸체(520)는 적어도 하나의 발광 소자(예컨대, 530-1 내지 530-5)의 주위를 감싸는 격벽(520a)을 가질 수 있다. 격벽(520)의 측면은 기판(510)의 상부면에 대하여 기울어진 경사면일 수 있으며, 적어도 하나의 발광 소자(예컨대, 530-1 내지 530-5)로부터 조사되는 빛을 반사시킬 수 있다.The body 520 may also have a partition 520a surrounding the periphery of at least one light emitting device (e.g., 530-1 through 530-5). The side surface of the barrier rib 520 may be an inclined surface inclined with respect to the upper surface of the substrate 510 and may reflect light emitted from at least one light emitting device (e.g., 530-1 to 530-5).

도 10에서 발광 소자의 수는 5개이나, 이에 한정되는 것은 아니다. 조명 장치(200)가 복수 개의 발광 소자들을 구비할 경우, 조명 장치는 발광 모듈로 구현될 수 있다.10, the number of light emitting elements is five, but the present invention is not limited thereto. When the illumination device 200 includes a plurality of light emitting devices, the illumination device may be implemented as a light emitting module.

또한 예컨대, 다른 실시 예에서 발광 소자의 수는 1개일 수 있으며, 몸체(520)는 발광 소자가 배치되는 1개의 캐비티를 가질 수 있으며, 실시 예에 따른 조명 장치(100)는 발광 소자 패키지 형태로 구현될 수 있다.For example, in another embodiment, the number of the light emitting devices may be one, and the body 520 may have one cavity in which the light emitting devices are disposed. Can be implemented.

또한 예컨대, 조명 장치(200)가 복수 개의 발광 소자들을 구비하고, 복수 개의 발광 소자들이 청색광, 적색광, 또는 녹색광을 발생하는 경우에는, 이미지를 표현하는 디스플레이 장치의 광원으로 구현될 수도 있다.For example, when the illumination device 200 includes a plurality of light emitting devices, and the plurality of light emitting devices generate blue light, red light, or green light, the light source may be implemented as a light source of a display device that displays an image.

실시 예에 따른 발광 소자들은 두께를 줄일 수 있기 때문에, 이를 포함하는 디스플레이 장치는 크기 예컨대, 두께를 줄일 수 있다.Since the light emitting devices according to the embodiments can reduce the thickness, the display device including the same can reduce the size, for example, the thickness.

일반적인 수평형 발광 소자는 성장 기판(예컨대, 사파이어 기판)을 포함하지만, 실시 예의 발광 소자들(예컨대, 530-1 내지 530-5)은 성장 기판을 포함하지 않아 두께를 줄일 수 있다.A typical horizontal light emitting device includes a growth substrate (for example, a sapphire substrate), but the light emitting devices (for example, 530-1 to 530-5) of the embodiment do not include a growth substrate and can be reduced in thickness.

일반적인 수직형 발광 소자는 제1 전극 패드와 제2 전극 패드가 발광 구조물의 서로 반대 측에 배치되는 반면에, 실시 예의 발광 소자들(예컨대, 530-1 내지 530-5)은 제1 및 제2 전극 패드들(135,145)이 발광 구조물의 동일 측에 위치하기 때문에 두께를 줄일 수 있다.In the general vertical type light emitting device, the first electrode pad and the second electrode pad are disposed on the opposite sides of the light emitting structure, whereas the light emitting elements (e.g., 530-1 to 530-5) Since the electrode pads 135 and 145 are located on the same side of the light emitting structure, the thickness can be reduced.

투광성 부재(540)는 발광 소자(530-2 내지 530-5)를 감싸도록 몸체(520)의 캐비티 내에 배치된다. 투광성 부재(540)는 외부의 충격에 의한 발광 소자의 파손을 방지할 수 있고, 습기로 인한 발광 소자(530-2 내지 530-5)의 변색을 방지할 수 있다. 다른 실시 예에서는 투광성 부재(540)가 생략될 수도 있다.The light transmitting member 540 is disposed in the cavity of the body 520 to surround the light emitting elements 530-2 to 530-5. The light transmissive member 540 can prevent breakage of the light emitting element due to an external impact and can prevent discoloration of the light emitting elements 530-2 to 530-5 due to moisture. In other embodiments, the light-transmissive member 540 may be omitted.

도 11은 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자(1000)의 상측 평면도를 나타내고, 도 12는 도 11에 도시된 발광 소자(1000)의 하측 평면도를 나타내고, 도 13은 도 11 및 도 12에 도시된 발광 소자(1000)의 AB 방향의 단면도를 나타내고, 도 14는 도 11 및 도 12에 도시된 발광 소자(1000)의 CD 방향의 단면도를 나타낸다.11 is a top plan view of a light emitting device 1000 according to another embodiment, Fig. 12 is a bottom plan view of the light emitting device 1000 shown in Fig. 11, and Fig. 13 is a cross- Sectional view of the light-emitting device 1000 in the AB direction, and Fig. 14 is a cross-sectional view of the light-emitting device 1000 shown in Figs. 11 and 12 in the CD direction.

도 11 내지 도 14를 참조하면, 발광 소자(1000)는 발광 구조물(1110), 패시베이션층(passivation layer, 1120), 제1 전극(1130), 제2 전극(1140), 제2 전극 패드(1145), 및 절연층(insulation layer, 1150)을 포함한다.11 to 14, the light emitting device 1000 includes a light emitting structure 1110, a passivation layer 1120, a first electrode 1130, a second electrode 1140, a second electrode pad 1145 ), And an insulation layer (1150).

발광 구조물(1110)은 제1 도전형 반도체층(1112), 제2 도전형 반도체층(1116), 및 제1 도전형 반도체층(1112)과 제2 도전형 반도체층(1116) 사이에 배치되는 활성층(1114)을 포함한다. 예컨대, 발광 구조물(1110)은 위에서 아래로 제1 도전형 반도체층(1112), 활성층(1114), 및 제2 도전형 반도체층(1116)이 순차적으로 배치되는 구조일 수 있다.The light emitting structure 1110 is disposed between the first conductivity type semiconductor layer 1112 and the second conductivity type semiconductor layer 1116 and between the first conductivity type semiconductor layer 1112 and the second conductivity type semiconductor layer 1116 And an active layer 1114. For example, the light emitting structure 1110 may have a structure in which a first conductivity type semiconductor layer 1112, an active layer 1114, and a second conductivity type semiconductor layer 1116 are sequentially arranged from top to bottom.

예컨대, 발광 구조물(1110)의 직경은 제1 도전형 반도체층(1112)에서 제2 도전형 반도체층(1116) 방향으로 갈수록 감소할 수 있으며, 발광 구조물(1110)의 측면은 역경사면을 가질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the diameter of the light emitting structure 1110 may decrease from the first conductivity type semiconductor layer 1112 toward the second conductivity type semiconductor layer 1116, and the side surface of the light emitting structure 1110 may have a reverse However, the present invention is not limited thereto.

도 3의 발광 구조물(110)의 구성 및 조성에 대한 설명은 도 13의 발광 구조물(1110)에 적용될 수 있다.The structure and composition of the light emitting structure 110 of FIG. 3 can be applied to the light emitting structure 1110 of FIG.

투광성 기판 또는 지지 기판을 구비하는 일반적인 발광 소자와 달리, 실시 예에 따른 발광 소자(1000)는 투광성 기판 또는 지지 기판을 구비하지 않는다. 이로 인하여 발광 소자의 칩 사이즈(예컨대, 직경), 또는 부피가 줄어들기 때문에, 실시 예에 따른 발광 소자가 사용되는 애플리케이션, 예컨대, 디스플레이 장치 등의 두께, 또는 사이즈를 줄일 수 있다.Unlike a general light emitting device having a light transmitting substrate or a supporting substrate, the light emitting device 1000 according to the embodiment does not have a light transmitting substrate or a supporting substrate. Because the chip size (for example, diameter) or volume of the light emitting device is reduced, the thickness or size of an application in which the light emitting device according to the embodiment is used, for example, a display device or the like can be reduced.

제1 전극(1130)은 발광 구조물(1110) 상에 배치되며, 일단은 제1 도전형 반도체층(1112)에 접촉하고, 타단은 발광 구조물(1110)의 측부 방향으로 확장되어 발광 구조물(1110)의 하단 아래까지 확장된다.The first electrode 1130 is disposed on the light emitting structure 1110 and has one end contacting the first conductive semiconductor layer 1112 and the other end extending toward the side of the light emitting structure 1110, As shown in FIG.

패시베이션층(1120)은 제1 도전형 반도체층(1112) 상에 배치된다. 패시베이션층(1120)은 제1 도전형 반도체층(1112)의 상면과 제1 전극(1130) 하면 사이에 배치될 수 있다. 또한 예컨대, 패시베이션층(1120)은 제2 절연층(1154) 상에도 배치될 수 있다.The passivation layer 1120 is disposed on the first conductivity type semiconductor layer 1112. The passivation layer 1120 may be disposed between the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 1112 and the lower surface of the first electrode 1130. Also, for example, the passivation layer 1120 may also be disposed on the second insulating layer 1154.

예컨대, 제1 전극(1130)은 상부 전극(1134), 접촉 전극(1136), 및 확장 전극(1132)을 포함한다.For example, the first electrode 1130 includes an upper electrode 1134, a contact electrode 1136, and an extension electrode 1132.

상부 전극(1134)은 제1 도전형 반도체층(1112) 및 제2 절연층(1154) 상에 배치되는 패시베이션층(1120) 상에 배치된다.The upper electrode 1134 is disposed on the passivation layer 1120 disposed on the first conductive type semiconductor layer 1112 and the second insulating layer 1154.

도 11에서 상부 전극(1134)은 제1 도전형 반도체층(1121)의 가장 자리, 예컨대, 제1 도전형 반도체층(1112)의 상면의 모서리에 인접하여 배치될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 제1 도전형 반도체층(1112)의 상면의 변의 중앙에 배치될 수도 있다.11, the upper electrode 1134 may be disposed at the edge of the first conductivity type semiconductor layer 1121, for example, adjacent to an edge of the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 1112, but is not limited thereto And the center of the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 1112 may be disposed.

도 11에 도시된 상부 전극(1134)의 평면 형상은 사각형이나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시 예에서 상부 전극(1134)의 평면 형상은 원형, 타원형 또는 다각형일 수 있다.The planar shape of the upper electrode 1134 shown in FIG. 11 is rectangular, but not limited thereto. In another embodiment, the planar shape of the upper electrode 1134 may be circular, oval, or polygonal.

접촉 전극(1136)은 상부 전극(1134)의 하면으로부터 확장되며, 패시베이션층(1120)을 관통하여 제1 도전형 반도체층(1112)의 상면에 접촉한다.The contact electrode 1136 extends from the lower surface of the upper electrode 1134 and contacts the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 1112 through the passivation layer 1120.

예컨대, 접촉 전극(1136)은 상부 전극(1134)의 하면에서 제1 도전형 반도체층(1112)의 상면 방향으로 연장될 수 있고, 제1 도전형 반도체층(1112)의 상면과 오믹 접촉할 수 있다.For example, the contact electrode 1136 may extend from the lower surface of the upper electrode 1134 toward the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 1112, and may be in ohmic contact with the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 1112 have.

접촉 전극(1136)은 상부 전극(1134)과 확장 전극(1132)이 만나는 부분과 이격하여 위치할 수 있다. 이로 인하여 확장 전극(1132)을 통하여 유입되는 전류를 발광 구조물(1110)에 분산시켜 제공하여 발광 소자(1000)의 광 효율을 향상시킬 수 있다.The contact electrode 1136 may be spaced apart from the portion where the upper electrode 1134 and the extended electrode 1132 meet. The current flowing through the extension electrode 1132 may be dispersed in the light emitting structure 1110 to improve the light efficiency of the light emitting device 1000.

확장 전극(1132)의 일단은 상부 전극(1134)의 일단과 연결되며, 타단은 상부 전극(1134)으로부터 발광 구조물(1110)의 제2 도전형 반도체층(1116)의 하면 아래까지 확장된다.One end of the extension electrode 1132 is connected to one end of the upper electrode 1134 and the other end extends from the upper electrode 1134 to below the lower surface of the second conductivity type semiconductor layer 1116 of the light emitting structure 1110.

확장 전극(1132)은 제1 확장부(1132a), 및 제1 확장부(1132a)와 연결되는 제2 확장부(1132b)를 포함할 수 있다.The extension electrode 1132 may include a first extension portion 1132a and a second extension portion 1132b connected to the first extension portion 1132a.

제1 확장부(1132a)는 상부 전극(1134)과 연결되고, 패시베이션층(1120)의 가장 자리와 접촉할 수 있다.The first extension portion 1132a may be connected to the upper electrode 1134 and may be in contact with the edge of the passivation layer 1120.

제2 확장부(1132b)는 일단이 제1 확장부(1132a)와 연결되고 제1 도전형 반도체층(1112)에서 제2 도전형 반도체층(1116)으로 향하는 방향으로 확장되며, 발광 구조물(1110)과 수직 방향으로 오버랩되지 않는다. 또한 제2 확장부(1132b)는 수직 방향으로 접촉 전극(1136)과 오버랩되지 않는다. 여기서 수직 방향으로 제1 도전형 반도체층(1112)의 상면과 수직한 방향일 수 있다.The second extension part 1132b is connected to the first extension part 1132a at one end and extends in the direction from the first conductivity type semiconductor layer 1112 toward the second conductivity type semiconductor layer 1116, In the vertical direction. Also, the second extension part 1132b does not overlap with the contact electrode 1136 in the vertical direction. And may be perpendicular to the upper surface of the first conductive semiconductor layer 1112 in the vertical direction.

제2 확장부(1132b)의 하단은 발광 구조물(1110)의 하단, 예컨대, 제2 도전형 반도체층(1116)의 하면 아래까지 확장될 수 있다. 예컨대, 제2 확장부(1132b)의 하단의 하면은 제2 전극 패드(1145)의 하면과 동일 평면 상에 위치하도록 발광 구조물의 하단까지 확장될 수 있다. 이는 패키지 바디(package body), 서브 마운트(submount), 또는 기판 등과 다이 본딩 또는 플립 칩 본딩을 하기 위해서이다.The lower end of the second extension portion 1132b may extend to a lower end of the light emitting structure 1110, for example, below the lower surface of the second conductivity type semiconductor layer 1116. [ For example, the lower surface of the second extension portion 1132b may extend to the lower end of the light emitting structure so as to be located on the same plane as the lower surface of the second electrode pad 1145. This is for die bonding or flip chip bonding with a package body, submount, or substrate.

도 3에서 패시베이션층(1120)은 제1 도전형 반도체층(1112)의 상면의 일 부분을 노출할 수 있다.In FIG. 3, the passivation layer 1120 may expose a portion of the top surface of the first conductivity type semiconductor layer 1112.

패시베이션층(1120)의 재질은 도 3의 패시베이션층(120)의 재질과 동일할 수 있다.The material of the passivation layer 1120 may be the same as the material of the passivation layer 120 of FIG. have.

도 15a는 도 13에 도시된 제1 전극(1130)의 일 실시 예를 나타낸다.Fig. 15A shows an embodiment of the first electrode 1130 shown in Fig.

도 15a를 참조하면, 제1 전극(1130)은 상부 전극(1134), 접촉 전극(1136), 및 확장 전극(1132)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 15A, the first electrode 1130 may include an upper electrode 1134, a contact electrode 1136, and an extension electrode 1132.

예컨대, 접촉 전극(136)은 하나의 직선의 라인(line) 형상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 상부 전극(1134)의 평면 형상에 따라서 원형, 타원형, 또는 다각형일 수도 있다.For example, the contact electrode 136 may be in the form of a straight line, but is not limited thereto, and may be circular, elliptical, or polygonal depending on the planar shape of the upper electrode 1134.

도 15b는 도 13에 도시된 제1 전극(1130)의 다른 실시 예(1130a)를 나타낸다.Fig. 15B shows another embodiment 1130a of the first electrode 1130 shown in Fig.

도 15b를 참조하면, 제1 전극(1130a)은 상부 전극(1134), 서로 이격하여 배치되는 복수의 접촉 전극들(1136-1 내지 1136-4), 및 확장 전극(1132)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 15B, the first electrode 1130a may include an upper electrode 1134, a plurality of contact electrodes 1136-1 to 1136-4 disposed apart from each other, and an extension electrode 1132 .

복수의 접촉 전극들(1136-1 내지 1136-4) 각각은 상부 전극(1134)의 하면에 접촉 또는 연결되며, 패시베이션층(1120)을 관통하여 제1 도전형 반도체층(1112)의 상면에 접촉될 수 있다. 예컨대, 복수의 접촉 전극들(1136-1 내지 1136-4)의 형상은 사각형일 수 있으나, 이에 한정하지 않으며, 원형 또는 다각형 형상일 수도 있다.Each of the plurality of contact electrodes 1136-1 to 1136-4 is in contact with or connected to the lower surface of the upper electrode 1134 and contacts the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 1112 through the passivation layer 1120 . For example, the shape of the plurality of contact electrodes 1136-1 to 1136-4 may be a rectangular shape, but is not limited thereto, and may be a circular shape or a polygonal shape.

제2 전극(1140)은 발광 구조물(1110) 아래에 배치되며, 제2 도전형 반도체층(1116)과 접촉한다. 예컨대, 제2 전극(1140)은 발광 구조물(1110)의 하면, 예컨대, 제2 도전형 반도체층(1116)의 하면 상에 배치될 수 있다.The second electrode 1140 is disposed under the light emitting structure 1110 and contacts the second conductive type semiconductor layer 1116. For example, the second electrode 1140 may be disposed on the lower surface of the light emitting structure 1110, for example, on the lower surface of the second conductivity type semiconductor layer 1116.

제2 전극(1140)은 제2 도전형 반도체층(1116)과 제2 전극 패드(1145) 사이에 배치되며, 제2 전극(1140)과 제2 도전형 반도체층(1116)은 오믹 접촉될 수 있다.The second electrode 1140 is disposed between the second conductive type semiconductor layer 1116 and the second electrode pad 1145 and the second electrode 1140 and the second conductive type semiconductor layer 1116 may be in ohmic contact with each other. have.

제1 전극(1130), 제2 전극(1140), 제1 전극 패드(1135), 및 제2 전극 패드(1145)의 재질 및 구성은 도 3의 제1 전극(130), 제2 전극(140), 제1 전극 패드(135), 및 제2 전극 패드(145)에 대한 설명이 적용될 수 있다.The material and configuration of the first electrode 1130, the second electrode 1140, the first electrode pad 1135 and the second electrode pad 1145 are the same as those of the first electrode 130, the second electrode 140 ), The first electrode pad 135, and the second electrode pad 145 may be applied.

절연층(1150)은 발광 구조물(1110)의 측면 또는 하면 중 적어도 하나에 배치된다.The insulating layer 1150 is disposed on at least one of a side surface and a bottom surface of the light emitting structure 1110.

절연층(1150)은 제2 도전형 반도체층(1116) 아래에 배치될 수 있다.The insulating layer 1150 may be disposed under the second conductive type semiconductor layer 1116.

예컨대, 절연층(1150)은 제2 도전형 반도체층(1116)의 하면에 배치되는 제1 절연층(1152)을 포함할 수 있다. For example, the insulating layer 1150 may include a first insulating layer 1152 disposed on the lower surface of the second conductive type semiconductor layer 1116.

예컨대, 제1 절연층(1152)은 제2 전극(1140)이 배치되는 영역을 제외한 제2 도전형 반도체층(1116)의 하면의 나머지 영역에 배치될 수 있다. 또한 예컨대, 제1 절연층(1152)은 제2 도전형 반도체층(1116)의 하면에 배치되는 제2 전극(1140)의 하면의 가장 자리 영역에도 배치될 수 있으며, 제2 전극(1140)의 하면의 일부 영역을 노출할 수 있다.For example, the first insulating layer 1152 may be disposed in a remaining region of the lower surface of the second conductive type semiconductor layer 1116 except for a region where the second electrode 1140 is disposed. The first insulating layer 1152 may be disposed in the edge region of the lower surface of the second electrode 1140 disposed on the lower surface of the second conductivity type semiconductor layer 1116, It is possible to expose a part of the lower surface.

제2 전극 패드(1145)는 제1 절연층(1152) 및 제2 전극(1145) 아래에 배치될 수 있다.The second electrode pad 1145 may be disposed under the first insulating layer 1152 and the second electrode 1145.

패키지 바디(package body), 서브 마운트(submount), 또는 기판 등과의 다이 본딩(die bonding)을 하기 위하여, 제2 전극 패드(1145)의 하면과 제2 확장부(1132b)의 하면은 동일 평면(305) 상에 위치할 수 있다.The lower surface of the second electrode pad 1145 and the lower surface of the second extension portion 1132b are formed in the same plane (for example, the lower surface of the second electrode pad 1145 and the lower surface of the second extension portion 1132b) for die bonding with a package body, a submount, 305). ≪ / RTI >

제2 전극 패드(1145)는 제1 절연층(1152)에 의하여 노출되는 제2 전극(1140)의 하면의 일부 영역 아래에 배치될 수 있으며, 제2 전극(1140)의 노출되는 부분과 연결 또는 접촉될 수 있다.The second electrode pad 1145 may be disposed under a portion of the lower surface of the second electrode 1140 exposed by the first insulating layer 1152 and may be connected to the exposed portion of the second electrode 1140 Can be contacted.

예컨대, 제1 절연층(1152)은 제2 전극 패드(1145)의 측면의 상측 일부만을 감쌀 수 있다. 그리고 제2 전극 패드(1145)는 제1 절연층(1152)에 의하여 노출되는 제2 전극(1140)의 하면 아래에 배치될 수 있다. 제2 전극 패드(1145)의 가장 자리는 제1 절연층(1152)의 하면과 접하도록 제1 절연층(1152)의 하면 아래까지 수평 방향으로 확장되는 구조를 가질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the first insulating layer 1152 may cover only a part of the upper side of the side surface of the second electrode pad 1145. The second electrode pad 1145 may be disposed under the lower surface of the second electrode 1140 exposed by the first insulating layer 1152. The edge of the second electrode pad 1145 may extend horizontally to the bottom of the first insulating layer 1152 so as to be in contact with the bottom surface of the first insulating layer 1152. However, .

예컨대, 제2 전극 패드(1145)는 제2 도전형 반도체층(1116)에서 제1 도전형 반도체층(1112)으로 향하는 방향으로 볼록하게 절곡된 구조일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the second electrode pad 1145 may be convexly curved in the direction from the second conductivity type semiconductor layer 1116 to the first conductivity type semiconductor layer 1112, but the present invention is not limited thereto.

다른 실시 예에서는 제1 절연층이 제2 전극 패드(1145)의 측면을 전부 감싸고, 제1 절연층의 하면, 제2 전극 패드(1145)의 하면, 및 제2 확장부(1132b)의 하면은 동일 평면 상에 위치할 수도 있다.The lower surface of the second electrode pad 1145 and the lower surface of the second extension portion 1132b may be formed to have the same shape as that of the first insulation layer, They may be located on the same plane.

절연층(1150)은 발광 구조물(1110)의 측면에 배치되는 제2 절연층(1154)을 더 포함할 수 있다. 예컨대, 제2 절연층(1154)은 제1 도전형 반도체층(1112)의 측면, 활성층(1114)의 측면, 및 제2 도전형 반도체층(1116)의 측면에 배치될 수 있다.The insulating layer 1150 may further include a second insulating layer 1154 disposed on a side surface of the light emitting structure 1110. For example, the second insulating layer 1154 may be disposed on a side surface of the first conductive semiconductor layer 1112, a side surface of the active layer 1114, and a side surface of the second conductive type semiconductor layer 1116.

예컨대, 제2 절연층(1154)의 일단은 제1 도전형 반도체층(1112)의 상면의 가장 자리까지 확장되어 패시베이션층(1120)과 연결 또는 접촉될 수 있으며, 제2 절연층(1154)의 타단은 제1 절연층(1152)과 연결 또는 접촉될 수 있다.For example, one end of the second insulating layer 1154 may extend to the edge of the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 1112 and may be connected to or contacted with the passivation layer 1120, And the other end may be connected to or in contact with the first insulating layer 1152.

절연층(1150)의 재질은 도 3의 절연층(150)과 동일할 수 있다.The material of the insulating layer 1150 may be the same as the insulating layer 150 of FIG.

도 13에 도시된 바와 같이, 제1 전극(1130)의 제2 확장부(1132b)는 활성층(1114) 및 제2 도전형 반도체층(1116)의 측면 상에 위치하는 제2 절연층(1154)의 일부와 이격하여 위치할 수 있다.13, the second extension 1132b of the first electrode 1130 includes a second insulating layer 1154 located on the sides of the active layer 1114 and the second conductivity type semiconductor layer 1116, As shown in FIG.

또한 제2 확장부(1132b)의 최하단은 제1 및 제2 절연층들(1152,1154)으로부터 이격하여 위치할 수 있다. 이는 패키지 바디(package body), 서브 마운트(submount), 또는 기판 등과의 본딩시, 제2 확장부(1132b)와 제2 전극 패드(1145) 간의 전기적인 단락을 방지하기 위함이다. In addition, the lowermost end of the second extension part 1132b may be spaced apart from the first and second insulating layers 1152 and 1154. This is to prevent an electrical short between the second extension part 1132b and the second electrode pad 1145 when bonding with a package body, a submount, or a substrate.

예컨대, 제2 확장부(1132b)는 수직선(1301)을 기준으로 경사지도록 확장될 수 있으며, 수직선(1301)은 제1 도전형 반도체층의 상면과 수직이고, 제1 확장부(1132a)와 제2 확장부(1132b)가 만나는 부분을 지나는 가상의 직선일 수 있다.For example, the second extension part 1132b may be extended to be inclined with respect to the vertical line 1301, the vertical line 1301 may be perpendicular to the upper surface of the first conductive type semiconductor layer, the first extension part 1132a, 2 extension part 1132b.

예컨대, 수직선(1301)과 제2 확장부(1132b)의 내측면 간의 내각(θ)은 0°이상이고, 30°보다 작을 수 있다. θ가 0°보다 작을 경우에는 제2 확장부(1132b)의 하단과 제2 전극 패드(1145) 간의 이격 거리가 짧아, 양자 간의 전기적인 단락이 발생할 수 있다. 또한 θ가 30°이상일 경우에는 제2 확장부(1132b)의 형성이 용이하지 않고, 단선될 수 있다.For example, the internal angle [theta] between the vertical line 1301 and the inner surface of the second extending portion 1132b may be 0 or more and less than 30 [deg.]. the distance between the lower end of the second extending portion 1132b and the second electrode pad 1145 is short, and electrical short-circuiting may occur between the two. Further, when? Is 30 or more, the formation of the second extension part 1132b is not easy and can be broken.

θ가 0°인 경우는 제2 확장부(1132b)의 내측면이 수직선(301)과 평행한 경우이고, θ가 양수인 경우는 제2 확장부(1132b)의 내측면이 수직선(301)의 우측에 위치하는 경우이고, θ가 음수인 경우는 수직선(301)을 기준으로 제2 확장부(1132b)의 내측면이 수직선의 좌측(301)에 위치하는 경우일 수 있다.the inner surface of the second extension 1132b is parallel to the vertical line 301 when θ is 0 ° and the inner surface of the second extension 1132b is the right side of the vertical line 301 when θ is a positive number, In the case where? Is negative, the inner side of the second extension 1132b may be located on the left side 301 of the vertical line with respect to the vertical line 301.

또는 예컨대, 제2 확장부(1132b)의 하단과 제2 전극 패드(1145) 간의 단락 방지 및 제2 확장부(1132b)의 단선 방지를 안정적으로 확보하기 위하여, 수직선(1301)과 제2 확장부(1132b) 사이의 내각(θ)은 0°~ 15°일 수도 있다. 또한 예컨대, θ는 5°초과이고 15°이하일 수도 있다. For example, in order to stably secure short-circuit between the lower end of the second extension part 1132b and the second electrode pad 1145 and to prevent breakage of the second extension part 1132b, the vertical line 1301, And the inner angle &thetas; between the inner wall 1132a and the outer wall 1132b may be 0 DEG to 15 DEG. Also, for example, &thetas; may be more than 5 DEG and less than 15 DEG.

예컨대, 제2 확장부(1132b)와 제2 절연층(1154) 간의 이격 거리(D1)는 제1 도전형 반도체층(1112)에서 제2 도전형 반도체층(1116) 방향으로 갈수록 증가할 수 있다.For example, the distance D1 between the second extension 1132b and the second insulation layer 1154 may increase from the first conductivity type semiconductor layer 1112 toward the second conductivity type semiconductor layer 1116 .

제2 확장부(1132b)의 최하단과 제2 전극 패드(1145) 사이의 이격 거리(D2)는 2nm ~ 5nm일 수 있다.The distance D2 between the lowermost end of the second extension part 1132b and the second electrode pad 1145 may be 2 nm to 5 nm.

D2가 2nm 미만일 경우에는 패키지 바디(package body), 서브 마운트(submount), 또는 기판 등과의 본딩시, 제2 확장부(1132b)와 제2 전극 패드(1145) 간의 전기적인 단락 위험이 있을 수 있다.When D2 is less than 2 nm, there is a risk of electrical short circuit between the second extension portion 1132b and the second electrode pad 1145 during bonding with a package body, a submount, or a substrate or the like .

D2가 5nm 초과할 경우에는 제1 전극(1130)의 상부 전극(1134)과 확장 전극(1132)의 연결이 끊어지거나 또는 확장 전극(1132)이 단선될 수 있다.When D2 exceeds 5 nm, the connection between the upper electrode 1134 and the extended electrode 1132 of the first electrode 1130 may be broken or the extended electrode 1132 may be broken.

도 16은 다른 실시 예에 따른 발광 소자(1000-1)의 단면도를 나타낸다. 도 13과 동일한 도면 부호는 동일한 구성을 나타내며, 동일한 구성에 대해서는 설명을 간략하게 하거나 생략한다.16 is a cross-sectional view of a light emitting device 1000-1 according to another embodiment. The same reference numerals as those in FIG. 13 denote the same components, and a description of the same components will be simplified or omitted.

도 13의 패시베이션층(1120a)은 제1 도전형 반도체층(1112)의 상면의 일부를 노출한다. 반면에, 도 16의 발광 소자(1000-1)의 패시베이션층(1120a)은 접촉 전극(1136)과 접촉을 위하여 노출되는 제1 도전형 반도체층(1112)의 상면의 일 부분을 제외하고는 제1 도전형 반도체층(1112)의 상면을 노출하지 않을 수 있다.The passivation layer 1120a of FIG. 13 exposes a part of the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 1112. [ On the other hand, the passivation layer 1120a of the light emitting device 1000-1 of FIG. 16 is formed of the same material as the first conductive semiconductor layer 1112 except for a part of the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 1112 exposed for contact with the contact electrode 1136 The upper surface of the one conductivity type semiconductor layer 1112 may not be exposed.

예컨대, 패시베이션층(1120a)은 접촉 전극(1136)과 접촉하는 제1 도전형 반도체층(1112)의 상면의 일 부분을 제외하고는 제1 도전형 반도체층(1112)의 상면을 전부 덮을 수 있고, 제2 절연층(1154)과 연결 또는 접촉될 수 있다.For example, the passivation layer 1120a may entirely cover the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 1112 except for a part of the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 1112 in contact with the contact electrode 1136 The second insulating layer 1154, or the like.

도 17a는 다른 실시 예에 따른 발광 소자(1000-2)의 상측 평면도를 나타내고, 도 17b는 도 17a에 도시된 발광 소자(1000-2)의 하측 평면도를 나타낸다. 도 17a 및 도 17b는 도 16의 패시베이션층(1120a)을 포함하는 실시 예일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 도 13에 도시된 발광 소자(1000)에도 동일하게 적용될 수 있다.17A is a top plan view of the light emitting device 1000-2 according to another embodiment, and FIG. 17B is a bottom plan view of the light emitting device 1000-2 shown in FIG. 17A. 17A and 17B may be an embodiment including the passivation layer 1120a of FIG. 16, but the present invention is not limited thereto, and the same can be applied to the light emitting device 1000 shown in FIG.

도 17a 및 도 17b를 참조하면, 제1 전극(1130a)은 발광 구조물(1110)의 상면의 측변들(1110-1 내지 1110-4) 중 어느 한 측변(예컨대, 1110-3)에 인접하여 위치할 수 있다.17A and 17B, the first electrode 1130a is disposed adjacent to one side (e.g., 1110-3) of the side surfaces 1110-1 to 1110-4 on the upper surface of the light emitting structure 1110 can do.

도 18a는 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자(1000-3)의 상측 평면도를 나타내고, 도 18b는 도 8a에 도시된 발광 소자(1000-3)의 하측 평면도를 나타내며, 도 19는 도 18a 및 도 8b에 도시된 발광 소자(1000-3)의 Ⅰ-Ⅱ 방향의 단면도를 나타낸다.18A is a top plan view of the light emitting device 1000-3 according to another embodiment, FIG. 18B is a bottom plan view of the light emitting device 1000-3 shown in FIG. 8A, FIG. 19 is a cross- Sectional view of the light emitting device 1000-3 shown in Fig.

도 18a, 도 18b, 및 도 19는 도 16의 패시베이션층(1120a)을 포함하는 실시 예일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 도 13에 도시된 발광 소자(100)에도 동일하게 적용될 수 있다.18A, 18B and 19 may be embodiments including the passivation layer 1120a of FIG. 16, but are not limited thereto, and may be similarly applied to the light emitting device 100 shown in FIG.

도 18a, 도 18b, 및 도 19를 참조하면, 발광 소자(1000-3)는 2개의 제1 전극들(1130b1, 1130b2)를 가질 수 있다.18A, 18B, and 19, the light emitting device 1000-3 may have two first electrodes 1130b1 and 1130b2.

예컨대, 제1-1 전극(1130b1)은 발광 구조물(1110)의 상면의 측변들(1110-1 내지 1110-4) 중 제1 측변(예컨대, 1110-1)에 인접하여 위치할 수 있고, 제1-2 전극(1130b2)은 발광 구조물(1110)의 상면의 측변들(1110-1 내지 1110-4) 중 제1 측변(예컨대, 1110-1)과 마주보는 제2 측변(예컨대, 1110-2)에 인접하여 위치할 수 있다.For example, the 1-1 electrode 1130b1 may be positioned adjacent to the first side (e.g., 1110-1) of the side surfaces 1110-1 to 1110-4 on the upper surface of the light emitting structure 1110, The 1-2 electrode 1130b2 is connected to a second side (e.g., 1110-2) facing the first side (e.g., 1110-1) of the side surfaces 1110-1 to 1110-4 on the upper surface of the light emitting structure 1110 ). ≪ / RTI >

제1-1 및 제1-2 전극들(1130b1,1130b2) 각각의 구조는 상술한 도 13 또는 도 19의 제1 전극(1130)에 대한 설명이 동일하게 적용될 수 있다.The structure of each of the 1-1 and 1-2 electrodes 1130b1 and 1130b2 may be the same as that of the first electrode 1130 of FIG. 13 or FIG. 19 described above.

도 17a 및 도 17b의 실시 예와 비교할 때, 발광 소자(1000-3)는 2개의 제1 전극들을 구비함으로써, 전류 분산 효율을 향상시킬 수 있다.Compared with the embodiment of Figs. 17A and 17B, the light emitting device 1000-3 includes two first electrodes, thereby improving the current dispersion efficiency.

도 18a, 도 18b, 및 도 19에서는 2개의 제1 전극들을 예시하나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시 예에서 제1 전극들의 수는 3개 이상일 수 있다. 또한 다른 실시 예에서는 제1 전극들은 발광 구조물(1110)의 상면의 측변들(1110-1 내지 1110-4) 중 서로 마주보지 않은 측면들에 배치될 수도 있다.18A, 18B, and 19 illustrate two first electrodes, but are not limited thereto. In other embodiments, the number of first electrodes may be three or more. In other embodiments, the first electrodes may also be disposed on opposite sides of the side surfaces 1110-1 through 1110-4 on the top surface of the light emitting structure 1110. [

도 20a는 다른 실시 예에 따른 발광 소자(1000-4)의 상측 평면도를 나타내고, 도 20b는 도 20a에 도시된 발광 소자(1000-4)의 하측 평면도를 나타낸다. 도 20a 및 도 20b는 도 16의 패시베이션층(1120a)을 포함하는 실시 예일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 도 13에 도시된 발광 소자(1000)에도 동일하게 적용될 수 있다.20A is a top plan view of the light emitting device 1000-4 according to another embodiment, and FIG. 20B is a bottom plan view of the light emitting device 1000-4 shown in FIG. 20A. 20A and 20B may be an embodiment including the passivation layer 1120a of FIG. 16, but the present invention is not limited thereto, and the same can be applied to the light emitting device 1000 shown in FIG.

도 20a 및 도 20b를 참조하면, 발광 소자(1000-4)는 발광 구조물(1110)의 상면의 가장 자리 영역 상에 위치하는 제1 전극(1130c)을 가질 수 있다.Referring to FIGS. 20A and 20B, the light emitting device 1000-4 may have a first electrode 1130c positioned on the edge region of the upper surface of the light emitting structure 1110. FIG.

예컨대, 제1 전극(1130c)은 발광 구조물(1110)의 상면의 측변들(1110-1 내지 1110-4)에 인접하는 가장 자리에 위치할 수 있다. 발광 소자들(1000-1 내지 1000-3)과 비교할 때, 도 20a 및 도 20b에 도시된 실시 예는 제1 전극(1130c)이 발광 구조물의 상면의 측변들에 인접하는 가장 자리에 위치하기 때문에, 전류 분산에 따른 광효율을 더욱 향상시킬 수 있다.For example, the first electrode 1130c may be located at the edge adjacent to the side surfaces 1110-1 to 1110-4 on the upper surface of the light emitting structure 1110. [ Compared with the light emitting devices 1000-1 to 1000-3, the embodiment shown in Figs. 20A and 20B is different from the light emitting devices 1000-1 to 1000-3 in that the first electrode 1130c is located at the edge adjacent to the side surfaces of the upper surface of the light emitting structure , The light efficiency according to the current dispersion can be further improved.

다른 실시 예에서 제1 전극과 본딩되는 패키지 바디(package body), 서브 마운트(submount), 또는 기판의 도전층의 배치 및 구조에 따라서 제1 전극은 다양한 위치에 배치될 수 있다.In other embodiments, the first electrode may be disposed at various locations depending on the arrangement and configuration of the package body, submount, or conductive layer of the substrate being bonded to the first electrode.

도 13, 도 16, 도 19, 도 17a 및 도 17b, 도 20a 및 도 20b에 도시된 발광 소자(1000, 1000-1 내지 1000-4)는 칩 사이즈(예컨대, 칩의 최대 직경)가 100 마이크로 미터 미만일 수 있다. 이와 같이 직경이 100 마이크로 미만인 발광 소자는 와이어 본딩을 위한 본딩 패드의 형성이 용이하지 않다.The light emitting devices 1000 and 1000-1 to 1000-4 shown in FIGS. 13, 16, 19, 17A and 17B and FIGS. 20A and 20B have chip sizes (for example, Lt; / RTI > In the light emitting device having a diameter of less than 100 microns, it is not easy to form a bonding pad for wire bonding.

패키지 바디(package body), 서브 마운트(submount), 또는 기판의 도전층과 다이 본딩 또는 플립 칩 본딩되는 제1 전극(1130)의 제2 확장부(1132b)의 일단을 발광 구조물과 이격하여 위치시킴으로써, 실시 예는 작은 사이즈의 면적을 갖는 발광 구조물(1110)의 동일 측에 플립 칩 본딩 또는 다이 본딩을 위한 전극 패드를 용이하게 구현할 수 있다.One end of the second extension portion 1132b of the first electrode 1130 that is die-bonded or flip-chip bonded to the package body, submount, or conductive layer of the substrate is placed apart from the light emitting structure , The embodiment can easily implement electrode pads for flip chip bonding or die bonding on the same side of the light emitting structure 1110 having a small size area.

도 21은 또 다른 실시 예에 따른 조명 장치(1200)의 단면도를 나타낸다.21 shows a cross-sectional view of a lighting device 1200 according to yet another embodiment.

도 21을 참조하면, 조명 장치(1200)는 기판(1510), 몸체(1520), 적어도 하나의 발광 소자(예컨대, 1530-1 내지 1530-5), 및 투광성 부재(1540)를 포함한다.21, illumination device 1200 includes a substrate 1510, a body 1520, at least one light emitting device (e.g., 1530-1 through 1530-5), and a light transmissive member 1540.

기판(1510)은 제1 및 제2 배선층들(1512, 1514) 및 절연층(1515)을 포함하는 인쇄회로기판일 수 있다. 예컨대, 기판(1510)은 연성회로기판일 수 있다.The substrate 1510 may be a printed circuit board including first and second wiring layers 1512 and 1514 and an insulating layer 1515. [ For example, the substrate 1510 may be a flexible circuit substrate.

제1 및 제2 배선층들(1512, 1514)은 기판(1510) 상에 서로 이격하여 배치될 수 있으며, 절연층(1515)은 제1 및 제2 배선층들(1512, 1514) 사이의 기판(1510)의 상면 상에 배치되어 제1 및 제2 배선층들(1512, 1514) 간을 전기적으로 절연시킬 수 있다. 또는 다른 실시 예에서는 절연층(1515)은 생략될 수도 있다.The first and second wiring layers 1512 and 1514 may be spaced apart from each other on the substrate 1510 and the insulating layer 1515 may be formed on the substrate 1510 between the first and second wiring layers 1512 and 1514 So that the first and second wiring layers 1512 and 1514 can be electrically insulated from each other. Or in other embodiments the insulating layer 1515 may be omitted.

적어도 하나의 발광 소자(예컨대, 1530-1 내지 1530-5)는 기판(1510) 상에 배치되며, 제1 및 제2 배선층들(1512, 1514)과 전기적으로 연결된다. 적어도 하나의 발광 소자(예컨대, 1530-1 내지 1530-5)는 상술한 실시 예에 따른 발광 소자들(1000, 1000-1 내지 1000-4) 중 어느 하나일 수 있다.At least one light emitting device (e.g., 1530-1 to 1530-5) is disposed on the substrate 1510, and is electrically connected to the first and second wiring layers 1512 and 1514. At least one light emitting device (e.g., 1530-1 to 1530-5) may be any one of the light emitting devices 1000, 1000-1 to 1000-4 according to the above-described embodiment.

도 10의 몸체(520), 및 투광성 부재(540)에 대한 설명은 도 21의 몸체(1520) 및 투광성 부재(1540)에 적용될 수 있다.The description of the body 520 and the light-transmissive member 540 in Fig. 10 can be applied to the body 1520 and the light-transmissive member 1540 in Fig.

도 21에서 발광 소자의 수는 5개이나, 이에 한정되는 것은 아니다. 조명 장치(1200)가 복수 개의 발광 소자들을 구비할 경우, 조명 장치는 발광 모듈로 구현될 수 있다.In Fig. 21, the number of light emitting elements is five, but the present invention is not limited thereto. When the illumination device 1200 includes a plurality of light emitting devices, the illumination device may be implemented as a light emitting module.

또한 예컨대, 다른 실시 예에서 발광 소자의 수는 1개일 수 있으며, 몸체(1520)는 발광 소자가 배치되는 1개의 캐비티를 가질 수 있으며, 실시 예에 따른 조명 장치(1200)는 발광 소자 패키지 형태로 구현될 수 있다.Also, for example, in another embodiment, the number of light emitting elements may be one, and the body 1520 may have one cavity in which the light emitting elements are disposed, and the lighting apparatus 1200 according to the embodiment may be a light emitting element package Can be implemented.

또한 예컨대, 조명 장치(1200)가 복수 개의 발광 소자들을 구비하고, 복수 개의 발광 소자들이 청색광, 적색광, 또는 녹색광을 발생하는 경우에는, 발광 모듈 또는 이미지를 표현하는 디스플레이 장치의 광원으로 구현될 수도 있다.For example, when the illumination device 1200 includes a plurality of light emitting devices, and the plurality of light emitting devices generate blue light, red light, or green light, the light may be implemented as a light source of a display device that displays a light emitting module or an image .

실시 예에 따른 발광 소자들은 두께를 줄일 수 있기 때문에, 이를 포함하는 발광 모듈 또는 디스플레이 장치는 크기 예컨대, 두께를 줄일 수 있다.Since the light emitting devices according to the embodiments can reduce the thickness, the light emitting module or the display device including the same can reduce the size, for example, the thickness.

일반적인 수평형 발광 소자는 성장 기판(예컨대, 사파이어 기판)을 포함하지만, 실시 예의 발광 소자들(예컨대, 1530-1 내지 1530-5)은 성장 기판을 포함하지 않아 두께를 줄일 수 있다.A typical horizontal light emitting device includes a growth substrate (e.g., sapphire substrate), but the light emitting devices (e.g., 1530-1 to 1530-5) of the embodiment do not include a growth substrate and can be reduced in thickness.

일반적인 수직형 발광 소자는 제1 전극 패드와 제2 전극 패드가 발광 구조물의 서로 반대 측에 배치되는 반면에, 실시 예의 발광 소자들(예컨대, 1530-1 내지 1530-5)은 제2 전극 패드(1145) 및 제1 전극(1130)의 제2 확장부(1132b)가 발광 구조물(1110)의 동일 측에 위치하기 때문에 두께를 줄일 수 있다.In the general vertical type light emitting device, the first electrode pad and the second electrode pad are disposed on opposite sides of the light emitting structure, whereas the light emitting devices (e.g., 1530-1 to 1530-5) 1145 of the first electrode 1130 and the second extension 1132b of the first electrode 1130 are located on the same side of the light emitting structure 1110.

도 22는 실시 예에 따른 발광 소자(2000)의 상측 평면도를 나타내고, 도 23은 도 22에 도시된 발광 소자(2000)의 하측 평면도를 나타내고, 도 24는 도 22 및 도 23에 도시된 발광 소자(2000)의 AB 방향의 단면도를 나타낸다.22 is a top plan view of the light emitting device 2000 according to the embodiment, Fig. 23 is a bottom plan view of the light emitting device 2000 shown in Fig. 22, and Fig. (2000) in the AB direction.

도 22 내지 도 24를 참조하면, 발광 소자(2000)는 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2), 패시베이션층(passivation layer, 2120), 제1 전극(2130), 제1 전극 패드(2135), 제2 전극들(2140-1, 2140-2), 제2 전극 패드들(2145-1,2145-2), 및 절연층(insulation layer, 2150)을 포함한다.22 to 24, the light emitting device 2000 includes a plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2, a passivation layer 2120, a first electrode 2130, a first electrode pad Second electrodes 2140-1 and 2140-2, second electrode pads 2145-1 and 2145-2, and an insulation layer 2150. The second electrodes 2140-1 and 2140-2 are electrically connected to each other.

복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각은 서로 이격 또는 분리되며, 발광 구조물(2110-1, 2110-2)을 포함한다.Each of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 is separated or separated from each other and includes the light emitting structures 2110-1 and 2110-2.

복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각의 발광 구조물(2110-1,2110-2)은 제1 도전형 반도체층(2112-1, 2112-2), 제2 도전형 반도체층(2116-1,2116-2), 및 제1 도전형 반도체층(2112-1, 2112-2)과 제2 도전형 반도체층(2116-1, 2116-2) 사이에 배치되는 활성층(2114-1, 2114-2)을 포함한다.Each of the light emitting structures 2110-1 and 2110-2 of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 includes first conductive semiconductor layers 2112-1 and 2112-2, 2116-1 and 2116-2 disposed between the first conductivity type semiconductor layers 2112-1 and 2112-2 and the second conductivity type semiconductor layers 2116-1 and 2116-2, , 2114-2.

예컨대, 발광 구조물들(2110-1,2110-2) 각각은 위에서 아래로 제1 도전형 반도체층(2112-1, 2112-2), 활성층(2114-1, 2114-2), 및 제2 도전형 반도체층(2116-1, 2116-2)이 순차적으로 배치되는 구조일 수 있다.For example, each of the light emitting structures 2110-1 and 2110-2 may include first conductive semiconductor layers 2112-1 and 2112-2, active layers 2114-1 and 2114-2, Type semiconductor layers 2116-1 and 2116-2 are sequentially arranged.

투광성 기판 또는 지지 기판을 구비하는 일반적인 발광 소자와 달리, 실시 예에 따른 발광 소자(1000)는 투광성 기판 또는 지지 기판을 구비하지 않는다. 이로 인하여 발광 소자의 칩 사이즈(예컨대, 직경), 또는 부피가 줄어들기 때문에, 실시 예에 따른 발광 소자가 사용되는 애플리케이션, 예컨대, 디스플레이 장치 등의 두께, 또는 사이즈를 줄일 수 있다.Unlike a general light emitting device having a light transmitting substrate or a supporting substrate, the light emitting device 1000 according to the embodiment does not have a light transmitting substrate or a supporting substrate. Because the chip size (for example, diameter) or volume of the light emitting device is reduced, the thickness or size of an application in which the light emitting device according to the embodiment is used, for example, a display device or the like can be reduced.

도 3의 발광 구조물(2110-1)의 조성에 대한 설명은 도 24의 발광 구조물(2110-1, 2110-2)에 적용될 수 있다.The description of the composition of the light emitting structure 2110-1 of FIG. 3 can be applied to the light emitting structures 2110-1 and 2110-2 of FIG.

예컨대, 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각의 활성층(2114-1, 2114-2)은 적색광, 녹색광, 또는 청색광 중 어느 하나를 발생할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다양한 파장대의 가시 광선을 발생하거나 또는 자외선을 발생할 수도 있다.For example, the active layers 2114-1 and 2114-2 of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 may generate any one of red light, green light, and blue light, but the present invention is not limited thereto, Or may generate ultraviolet rays.

복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각은 서로 다른 파장 범위를 갖는 광을 발생할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Each of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 may generate light having a different wavelength range, but is not limited thereto.

예컨대, 제1 발광 셀(2100-1)은 적색광, 녹색광, 또는 청색광 중 어느 하나를 발생할 수 있고, 제2 발광 셀(2100-2)은 적색광, 녹색광, 또는 청색광 중 다른 어느 하나를 발생할 수 있다.For example, the first light emitting cell 2100-1 can generate any one of red light, green light, and blue light, and the second light emitting cell 2100-2 can emit any one of red light, green light, and blue light .

이와 같이 복수의 발광 셀들(2100-1,2100-2)이 서로 다른 범위의 파장을 갖는 광을 발생할 경우, 복수의 발광 셀들(2100-1,2100-2)의 발광 구조물들의 조성은 서로 다를 수 있다.When the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 generate light having a wavelength in a different range, the composition of the light emitting structures of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 may be different from each other have.

예컨대, 복수의 발광 셀들(2100-1,2100-2)의 제1 도전형 반도체층들(2112-1,2112-2)의 조성, 제2 도전형 반도체층들(2116-1, 2116-2)의 조성, 또는 활성층들(2114-1, 2114-2)의 조성 중 적어도 하나는 서로 다를 수 있다.For example, the composition of the first conductivity type semiconductor layers 2112-1 and 2112-2 of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2, the composition of the second conductivity type semiconductor layers 2116-1 and 2116-2 ) Or the composition of the active layers 2114-1 and 2114-2 may be different from each other.

다른 실시 예에서는 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각은 서로 동일한 파장 범위를 갖는 광을 발생할 수 있다. 예컨대, 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각은 적색광, 녹색광, 또는 청색광 중 어느 하나를 발생할 수 있다.In another embodiment, each of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 may generate light having the same wavelength range with respect to each other. For example, each of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 may generate any one of red light, green light, and blue light.

제1 전극(2130)은 서로 이격되는 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 사이에 배치되며, 발광 셀들(2110-1, 2110-2) 아래에 배치되는 절연층(2150)을 관통 또는 통과한다.The first electrode 2130 is disposed between the light emitting cells 2100-1 and 2100-2 which are spaced apart from each other and penetrates or passes through the insulating layer 2150 disposed below the light emitting cells 2110-1 and 2110-2 do.

제1 전극(2130)은 복수의 발광 셀들(2100-1,2100-2) 각각의 발광 구조물(2110)의 일면, 예컨대, 상면 상에 위치하며, 서로 이격하는 발광 셀들(2100-1,2100-2)의 발광 구조물들(2110)의 서로 마주보는 측면 사이에 배치된다.The first electrode 2130 is located on one surface of the light emitting structure 2110 of each of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 and is formed on the upper surface of the light emitting cells 2100-1 and 2100-2, 2) of the light emitting structures 2110. The light emitting structures 2110 of FIG.

제1 도전형 반도체층(2112), 활성층(2114), 및 제2 도전형 반도체층(2116)을 관통하는 관통 홈 또는 관통 트랜치(2301)에 의하여, 복수의 발광 셀들(2110-1,2110-2)은 서로 이격 또는 분리될 수 있다.A plurality of light emitting cells 2110-1 and 2110-2 are formed by through grooves or through trenches 2301 penetrating the first conductivity type semiconductor layer 2112, the active layer 2114 and the second conductivity type semiconductor layer 2116. [ 2 may be spaced apart or separated from each other.

제1 전극(2130)의 일단은 인접하는 발광 셀들(2100-1,2100-2) 각각의 제1 도전형 반도체층(2112-1,2112-2)과 접촉한다.One end of the first electrode 2130 is in contact with the first conductivity type semiconductor layers 2112-1 and 2112-2 of the adjacent light emitting cells 2100-1 and 2100-2.

복수의 발광 셀들(2100-1,2100-2) 사이에 배치되는 제1 전극(2130)의 타단은 발광 구조물(2110)의 다른 일면으로 노출되고, 제1 전극 패드(2135)에 연결된다.The other end of the first electrode 2130 disposed between the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 is exposed to the other surface of the light emitting structure 2110 and connected to the first electrode pad 2135. [

예컨대, 제1 전극(2130)은 복수의 발광 셀들(2100-1,2100-2) 각각의 제1 도전형 반도체층(2112-1,2112-2)의 상면, 및 발광 셀들(2100-1,2100-2)의 발광 구조물들(2110-1,2110-2)의 서로 마주보는 측면들 사이에 배치될 수 있고, 제1 전극(2130)의 일단은 발광 셀들(2100-1,2100-2) 각각의 제1 도전형 반도체층(2112-1, 2112-2)의 상면과 접촉할 수 있고, 제1 전극(2130)의 타단은 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 아래에 배치되는 절연층(2150)을 관통하여, 절연층(2150) 밖으로 노출될 수 있다.For example, the first electrode 2130 may be formed on the upper surfaces of the first conductivity type semiconductor layers 2112-1 and 2112-2 of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 and the upper surfaces of the light emitting cells 2100-1 and 2100-2, 2100-2 and 2100-2, and one end of the first electrode 2130 may be disposed between the light emitting cells 2100-1 and 2100-2, And the other end of the first electrode 2130 can be in contact with the upper surface of each of the first conductivity type semiconductor layers 2112-1 and 2112-2 that is disposed below the light emitting cells 2100-1 and 2100-2 Layer 2150, and may be exposed to the outside of the insulating layer 2150.

패시베이션층(2120)은 제1 전극(2130)과 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각의 제1 도전형 반도체층의 상면 사이, 및 제1 전극(2130)과 발광 구조물들(2110-1,2110-2)의 측면 사이에 배치되며, 제1 전극(2130)과 발광 셀들(2100-1,2100-2)의 발광 구조물들(2110-1,2110-2)의 측면들 사이의 전기적인 접촉을 방지하여, 양자를 절연시키는 역할을 한다.The passivation layer 2120 is formed between the first electrode 2130 and the upper surfaces of the first conductivity type semiconductor layers of the light emitting cells 2100-1 and 2100-2 and between the first electrode 2130 and the light emitting structures 2110- And 2110-2 between the first electrode 2130 and the side surfaces of the light emitting structures 2110-1 and 2110-2 of the light emitting cells 2100-1 and 2100-2, Thereby preventing insufficient contact, and insulating the two.

예컨대, 패시베이션층(2120)은 제1 전극(2130)과 발광 구조물들(2110-1,2110-2)의 측면들 사이에 배치되는 제1 패시베이션층(2122), 및 발광 셀들(2100-1,2100-2) 각각의 제1 도전형 반도체층(2112-1,2112-2) 상면 상에 배치되는 제2 패시베이션층(2124)을 포함할 수 있다.For example, the passivation layer 2120 may include a first passivation layer 2122 disposed between the first electrode 2130 and the side surfaces of the light emitting structures 2110-1 and 2110-2, and a light emitting cell 2100-1, And a second passivation layer 2124 disposed on the upper surfaces of the first conductive type semiconductor layers 2112-1 and 2112-2.

제1 전극(2130)은 관통 전극(2132), 상부 전극(2134), 및 접촉 전극(2136)을 포함한다.The first electrode 2130 includes a penetrating electrode 2132, an upper electrode 2134, and a contact electrode 2136.

상부 전극(2134)은 발광 셀들(2100-1,2100-2) 각각의 제2 패시베이션층(2124) 상에 배치된다.The upper electrode 2134 is disposed on the second passivation layer 2124 of each of the light emitting cells 2100-1 and 2100-2.

관통 전극(2132)은 발광 셀들(2100-1,2100-2)의 발광 구조물들(2110-1,2110-2)의 서로 마주보는 측면들 사이에 배치되며, 관통 전극(2132)의 일단은 상부 전극(2134)의 하면과 연결 또는 접촉하고, 관통 전극(2132)의 타단은 발광 셀들(2100-1,2100-2) 아래에 배치되는 절연층(2150)을 관통하여 제1 전극 패드(2135)와 연결 또는 접촉될 수 있다.The penetrating electrode 2132 is disposed between opposing side surfaces of the light emitting structures 2110-1 and 2110-2 of the light emitting cells 2100-1 and 2100-2, And the other end of the penetrating electrode 2132 penetrates through the insulating layer 2150 disposed under the light emitting cells 2100-1 and 2100-2 and is connected to the first electrode pad 2135, As shown in FIG.

관통 전극(2132)의 직경은 발광 셀들(2100-1,2100-2)의 제1 도전형 반도체층(2112-1, 2112-2)에서 제2 도전형 반도체층(2116-1, 2116-2)을 향하는 방향으로 진행할수록 점차 감소할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시 예에서 관통 전극(2132)의 직경은 증가하거나 또는 일정할 수도 있다.The diameter of the penetrating electrode 2132 is larger than the diameter of the second conductivity type semiconductor layers 2116-1 and 2116-2 in the first conductivity type semiconductor layers 2112-1 and 2112-2 of the light emitting cells 2100-1 and 2100-2 However, the diameter of the penetrating electrode 2132 may be increased or decreased in other embodiments.

도 24에서는 2개의 분할된 발광 셀들, 하나의 관통 전극(2132), 및 하나의 제1 전극 패드(2135)를 예시하나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시 예에서는 3개 이상의 분할된 발광 셀들, 이에 대응하는 2개 이상의 관통 전극들, 및 제1 전극 패드들을 구비할 수도 있다. 이 경우 2개 이상의 관통 전극들은 서로 이격할 수 있다. 또한 2개 이상의 제1 전극 패드들은 서로 이격하거나 서로 연결될 수도 있다.Although FIG. 24 illustrates two divided light emitting cells, one penetrating electrode 2132, and one first electrode pad 2135, the present invention is not limited thereto. In another embodiment, three or more divided light emitting cells, Two or more through electrodes corresponding thereto, and first electrode pads. In this case, the two or more penetrating electrodes may be spaced from each other. Also, the two or more first electrode pads may be spaced apart from each other or connected to each other.

상부 전극(2134)은 관통 전극(2132), 및 관통 전극(2132)에 인접하여 위치하는 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각의 제1 도전형 반도체층(2112-1, 2112-2)의 상면 상에 배치될 수 있다. 상부 전극(2134)의 하면은 관통 전극(2132)의 일단과 연결 또는 접촉한다.The upper electrode 2134 is electrically connected to the first conductivity type semiconductor layers 2112-1 and 2112-2 of the light emitting cells 2100-1 and 2100-2 located adjacent to the penetrating electrode 2132 and the penetrating electrode 2132. [ As shown in FIG. The lower surface of the upper electrode 2134 is connected to or contacts with one end of the penetrating electrode 2132.

접촉 전극(2136)은 일단이 상부 전극(2134)과 연결되고, 타단이 제2 패시베이션층(2124)을 관통하여 제1 도전형 반도체층(2112)의 상면과 접촉된다.One end of the contact electrode 2136 is connected to the upper electrode 2134 and the other end of the contact electrode 2136 is in contact with the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 2112 through the second passivation layer 2124.

예컨대, 접촉 전극(2136)은 상부 전극(2134)의 하면에서 제1 도전형 반도체층(2112)의 상면 방향으로 연장될 수 있고, 제1 도전형 반도체층(2112)의 상면과 오믹 접촉할 수 있다.For example, the contact electrode 2136 may extend in the direction of the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 2112 from the lower surface of the upper electrode 2134, and may be in ohmic contact with the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 2112 have.

예컨대, 제1 전극(2130)은 발광 셀들(2100-1, 2100-2)의 수에 대응하는 만큼의 접촉 전극을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the first electrode 2130 may include as many contact electrodes as the number of the light emitting cells 2100-1 and 2100-2, but is not limited thereto.

예컨대, 접촉 전극(2136)은 관통 전극(2132)과 상부 전극(2134)이 접촉 또는 연결되는 부분으로부터 이격되어 위치할 수 있으며, 관통 전극(2132)과 상부 전극(2134)이 접촉 또는 연결되는 부분 및 접촉 전극(2136) 사이에는 제2 패시베이션층(2124)이 위치할 수 있다.For example, the contact electrode 2136 may be spaced apart from a portion where the penetrating electrode 2132 and the upper electrode 2134 are in contact with or connected to each other, and the contact electrode 2136 may be located at a portion where the penetrating electrode 2132 and the upper electrode 2134 are in contact with or connected to each other And the second passivation layer 2124 may be located between the contact electrode 2136 and the contact electrode 2136.

제2 패시베이션층(2124)에 의하여 접촉 전극(2136)은 관통 전극(2132)과 상부 전극(2134)이 접촉 또는 연결되는 부분으로부터 이격하여 위치하기 때문에, 관통 전극(2132)을 통하여 유입되는 전류를 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각에 분산시켜 제공할 수 있다. 따라서 제2 패시베이션(2124)은 발광 셀들(2100-1,2100-2) 각각에 분산시켜 제공함으로써 발광 소자(2000)의 광 효율을 향상시킬 수 있다.The contact electrode 2136 is separated by the second passivation layer 2124 from the portion where the penetrating electrode 2132 and the upper electrode 2134 are in contact with or connected to each other so that the current flowing through the penetrating electrode 2132 is Emitting cells 2100-1 and 2100-2, respectively. Accordingly, the second passivation 2124 may be dispersed in each of the light emitting cells 2100-1 and 2100-2 to improve the light efficiency of the light emitting device 2000. [

도 24에서 제2 패시베이션층(2124)은 발광 셀들(2100-1,2100-2) 각각의 제1 도전형 반도체층(2112)의 상면의 일 부분을 노출할 수 있다. 패시베이션층(2120)의 재질은 도 3의 패시베이션층(120)과 동일할 수 있다.In FIG. 24, the second passivation layer 2124 may expose a portion of the top surface of the first conductivity type semiconductor layer 2112 of each of the light emitting cells 2100-1 and 2100-2. The material of the passivation layer 2120 may be the same as the passivation layer 120 of FIG.

예컨대, 도 24의 실시 예는 서로 다른 파장 범위를 갖는 2개의 광을 발생할 수 있으며, 인접하는 2개의 발광 셀들(2100-1, 2100-2)이 하나의 n형 전극인 제1 전극(2130) 및 하나의 n형 전극 패드인 제1 전극 패드(2135)를 서로 공유할 수 있다. For example, the embodiment of FIG. 24 can generate two lights having different wavelength ranges, and the two adjacent light emitting cells 2100-1 and 2100-2 are the first electrode 2130, which is an n-type electrode, And the first electrode pad 2135, which is an n-type electrode pad, can be shared with each other.

도 25a는 도 24에 도시된 제1 전극(2130)의 일 실시 예를 나타낸다.Fig. 25A shows an embodiment of the first electrode 2130 shown in Fig.

도 25a를 참조하면, 제1 전극(2130)은 상부 전극(2134), 상부 전극(2134)과 연결되는 관통 전극(2132), 관통 전극(2132)의 일 측에 위치하는 제1 접촉 전극(2136-1), 및 관통 전극(2132)의 타 측에 위치하는 제2 접촉 전극(2136)-2)을 포함할 수 있다.25A, the first electrode 2130 includes an upper electrode 2134, a penetrating electrode 2132 connected to the upper electrode 2134, a first contact electrode 2136 located at one side of the penetrating electrode 2132, -1), and a second contact electrode 2136-2 located on the other side of the penetrating electrode 2132. [

예컨대, 제1 접촉 전극(2136-1)은 관통 전극(2132)의 좌측에 위치하며, 제2 패시베이션층(2124)을 관통하여 제1 발광 셀(2100-1)의 제1 도전형 반도체층(2112-1)의 상면에 접촉할 수 있다.The first contact electrode 2136-1 is located on the left side of the penetrating electrode 2132 and penetrates the second passivation layer 2124 to form the first conductive semiconductor layer 2100-1 of the first light emitting cell 2100-1 2112-1.

제2 접촉 전극(2136-2)은 관통 전극(2132)의 우측에 위치하며, 제2 패시베이션층(2124)을 관통하여 제2 발광 셀(2100-2)의 제1 도전형 반도체층(2112-2)의 상면에 접촉할 수 있다.The second contact electrode 2136-2 is located on the right side of the penetrating electrode 2132 and penetrates the second passivation layer 2124 to form the first conductive semiconductor layer 2112- 2).

제1 및 제2 접촉 전극들(2136-1, 2136-2) 각각은 하나의 직선의 라인 형상일 수 있으나, 이 에 한정되는 것은 아니다.Each of the first and second contact electrodes 2136-1 and 2136-2 may be in the form of a straight line, but is not limited thereto.

도 25b는 도 24에 도시된 제1 전극(2130)의 다른 실시 예(2130a)를 나타낸다.FIG. 25B shows another embodiment 2130a of the first electrode 2130 shown in FIG.

도 25b를 참조하면, 제1 전극(2130a)은 상부 전극(2134), 상부 전극(2134)과 연결되는 관통 전극(2132), 관통 전극(2132)의 일 측에 위치하는 복수의 제1 관통 전극들(2136a-1 내지 2136a-6), 및 관통 전극(2132)의 타 측에 위치하는 복수의 제2 관통 전극들(2136b-1 내지 2136b-6)을 포함할 수 있다.25B, the first electrode 2130a includes an upper electrode 2134, a penetrating electrode 2132 connected to the upper electrode 2134, a plurality of first penetrating electrodes 2132 located at one side of the penetrating electrode 2132, And a plurality of second penetrating electrodes 2136b-1 to 2136b-6 located on the other side of the penetrating electrode 2132. The first through-hole electrodes 2136a-1 to 2136a-6 and the second through-

복수의 제1 접촉 전극들(2136a-1 내지 2136a-6)은 관통 전극(2132)의 좌측에 서로 이격하여 위치하며, 제2 패시베이션층(2124)을 관통하여 제1 발광 셀(2100-1)의 제1 도전형 반도체층(2112-1)의 상면에 접촉할 수 있다.The plurality of first contact electrodes 2136a-1 to 2136a-6 are spaced apart from each other on the left side of the penetrating electrode 2132 and extend through the second passivation layer 2124 to form the first light emitting cell 2100-1. Of the first conductivity type semiconductor layer 2112-1.

복수의 제2 접촉 전극들(2136b-1 내지 2136b-6)은 관통 전극(2132)의 우측에 서로 이격하여 위치하며, 제2 패시베이션층(2124)을 관통하여 제2 발광 셀(2100-2)의 제1 도전형 반도체층(2112-2)의 상면에 접촉할 수 있다.The second contact electrodes 2136b-1 to 2136b-6 are located on the right side of the penetrating electrode 2132 and are spaced apart from each other. The second contact electrodes 2136b-1 to 2136b- Of the first conductivity type semiconductor layer 2112-2.

제1 접촉 전극들(2136a-1 내지 2136a-6) 각각의 평면 형상 및 제2 접촉 전극들(2136b-1 내지 2136b-6)) 각각의 평면 형상은 원형, 타원형, 또는 다각형(예컨대, 사각형)일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다양한 형상으로 구현될 수 있다.The planar shape of each of the first contact electrodes 2136a-1 to 2136a-6 and the second contact electrodes 2136b-1 to 2136b-6 may be circular, elliptical, or polygonal (e.g., However, the present invention is not limited thereto, and may be embodied in various shapes.

제1 전극(2130)은 복수의 발광 셀들(2100-1,2100-2) 각각의 제1 도전형 반도체층(2112-1, 2112-2)에 공통 접속될 수 있다.The first electrode 2130 may be commonly connected to the first conductivity type semiconductor layers 2112-1 and 2112-2 of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2.

제1 전극 패드(2135)는 발광 구조물(2110) 아래에 배치되는 절연층(2150) 아래에 배치되며, 제1 전극(2130)의 관통 전극(2132)의 타단과 연결 또는 접촉된다.The first electrode pad 2135 is disposed under the insulating layer 2150 disposed under the light emitting structure 2110 and is connected to or in contact with the other end of the penetrating electrode 2132 of the first electrode 2130.

예컨대, 제1 전극 패드(2135)는 제1 절연층(2152) 아래에 배치되며, 제1 절연층(2152)을 관통하는 관통 전극(2132)의 타단과 연결 또는 접촉할 수 있다.For example, the first electrode pad 2135 may be disposed under the first insulating layer 2152 and may connect or contact with the other end of the penetrating electrode 2132 passing through the first insulating layer 2152.

예컨대, 제1 전극 패드(2135)의 중앙은 관통 전극(2132)의 중앙에 정렬될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the center of the first electrode pad 2135 may be aligned with the center of the penetrating electrode 2132, but is not limited thereto.

본딩(bonding)을 위하여 제1 전극 패드(2135)의 두께는 제1 전극(2130)의 상부 전극(2134)의 두께보다 두꺼울 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The thickness of the first electrode pad 2135 may be thicker than the thickness of the upper electrode 2134 of the first electrode 2130 for bonding, but the present invention is not limited thereto.

도 23에 도시된 바와 같이, 제1 전극 패드(2135)의 평면 형상은 직사각형 형상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시 예에서는 원형, 타원형 또는 다각형 형상일 수도 있다.As shown in FIG. 23, the first electrode pad 2135 may have a rectangular shape, but the present invention is not limited thereto. In other embodiments, the first electrode pad 2135 may have a circular shape, an elliptical shape, or a polygonal shape.

복수의 제2 전극들(2140-1, 2140-2) 각각은 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 중 대응하는 어느 하나의 제2 도전형 반도체층(2116-1, 2116-2) 아래에 배치되며, 대응하는 제2 도전형 반도체층(2116-1, 2116-2)과 접촉한다. 복수의 제2 전극들(2140-1, 2140-2)은 서로 이격하며, 전기적으로 분리될 수 있다.Each of the second electrodes 2140-1 and 2140-2 is electrically connected to one of the corresponding one of the second conductivity type semiconductor layers 2116-1 and 2116-2 of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 And is in contact with the corresponding second conductivity type semiconductor layers 2116-1 and 2116-2. The plurality of second electrodes 2140-1 and 2140-2 are spaced apart from each other and can be electrically separated.

예컨대, 제2-1 전극(2140-1)은 제1 발광 셀(2100-1)의 제2 도전형 반도체층(2116-1)의 하면 아래에 배치될 수 있고, 제2 도전형 반도체층(2116-1)의 하면과 접촉할 수 있다.For example, the second-first electrode 2140-1 may be disposed below the lower surface of the second conductive semiconductor layer 2116-1 of the first light emitting cell 2100-1, and the second conductive semiconductor layer 2116-1.

제2-2 전극(2140-2)은 제2 발광 셀(2100-2)의 제2 도전형 반도체층(2116-2)의 하면 아래에 배치될 수 있고, 제2 도전형 반도체층(2116-2)의 하면과 접촉할 수 있다.The second -2 electrode 2140-2 may be disposed below the lower surface of the second conductivity type semiconductor layer 2116-2 of the second light emitting cell 2100-2 and the second conductivity type semiconductor layer 2116- 2).

예컨대, 복수의 제2 전극들(2140-1, 2140-2) 각각은 제1 절연층(2152)을 관통하는 관통 전극(2132)의 타단으로부터 이격될 수 있다.For example, each of the plurality of second electrodes 2140-1 and 2140-2 may be spaced apart from the other end of the penetrating electrode 2132 passing through the first insulating layer 2152. [

제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2) 각각은 복수의 제2 전극들(2140-1, 2140-2) 중 대응하는 어느 하나 아래에 배치되며, 대응하는 어느 하나와 연결되거나 또는 오믹 접촉될 수 있다.Each of the second electrode pads 2145-1 and 2145-2 is disposed under a corresponding one of the plurality of second electrodes 2140-1 and 2140-2 and is connected to a corresponding one of the plurality of second electrodes 2140-1 and 2140-2, Can be contacted.

예컨대, 제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2) 각각은 제1 전극 패드(2135)로부터 이격하여 위치할 수 있다.For example, each of the second electrode pads 2145-1 and 2145-2 may be located apart from the first electrode pad 2135. [

제1 전극(2130), 제2 전극(2140), 제1 전극 패드(2135), 및 제2 전극 패드(2145)의 재질 및 구성은 도 3의 제1 전극(130), 제2 전극(140), 제1 전극 패드(135), 및 제2 전극 패드(145)에 대한 설명이 적용될 수 있다.The material and configuration of the first electrode 2130, the second electrode 2140, the first electrode pad 2135 and the second electrode pad 2145 are the same as those of the first electrode 130, the second electrode 140 ), The first electrode pad 135, and the second electrode pad 145 may be applied.

절연층(2150)은 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각의 발광 구조물(2110-1, 2110-2)의 측면 또는 하면 중 적어도 하나에 배치된다.The insulating layer 2150 is disposed on at least one of a side surface or a bottom surface of the light emitting structures 2110-1 and 2110-2 of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2.

절연층(2150)은 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각의 제2 도전형 반도체층(2116) 아래에 배치될 수 있다. 예컨대, 절연층(2150)은 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각의 제2 도전형 반도체층(2116)의 하면에 배치되는 제1 절연층(2152)을 포함할 수 있다. The insulating layer 2150 may be disposed below the second conductivity type semiconductor layer 2116 of each of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2. For example, the insulating layer 2150 may include a first insulating layer 2152 disposed on the lower surface of the second conductivity type semiconductor layer 2116 of each of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2.

예컨대, 제1 절연층(2152)은 제2 전극들(2140-1, 2140-2)이 배치되는 영역을 제외한 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각의 제2 도전형 반도체층(2116-1, 2116-2)의 하면의 나머지 영역에 배치될 수 있다.For example, the first insulating layer 2152 may be formed on the second conductive type semiconductor layer 2102 of each of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 except for the region where the second electrodes 2140-1 and 2140-2 are disposed. (2116-1, 2116-2).

또한 예컨대, 제1 절연층(2152)은 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각의 제2 도전형 반도체층(2116-1, 2116-2)의 하면에 배치되는 제2 전극들(2140-1, 2140-2) 각각의 하면의 가장 자리 영역에도 배치될 수 있으며, 제2 전극들(2140) 각각의 하면의 일부 영역을 노출할 수 있다.For example, the first insulating layer 2152 may be formed on the second conductive type semiconductor layers 2116-1 and 2116-2 of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2, The first electrodes 2140-1 and the second electrodes 2140-2 may be disposed in the edge regions of the lower surfaces of the first and second electrodes 2140-1 and 2140-2.

제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2) 각각은 제1 전극 패드(2135)와 이격되도록 제1 절연층(2152) 아래에 배치될 수 있다.Each of the second electrode pads 2145-1 and 2145-2 may be disposed below the first insulating layer 2152 to be spaced apart from the first electrode pad 2135. [

제1 절연층(2152)은 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각의 제2 도전형 반도체층(2116-1, 2116-2)의 하면과 제1 전극 패드(2135) 사이에 배치될 수 있으며, 제2 도전형 반도체층(2116-1, 2116-2)과 제1 전극 패드(2135) 간의 전기적 접촉을 방지할 수 있다.The first insulating layer 2152 is formed between the lower surface of the second conductivity type semiconductor layers 2116-1 and 2116-2 of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 and the first electrode pad 2135 And electrical contact between the second conductivity type semiconductor layers 2116-1 and 2116-2 and the first electrode pad 2135 can be prevented.

또한 제1 절연층(2152)은 제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2) 각각과 제1 전극 패드(2135) 사이에 배치될 수 있으며, 제1 전극 패드(2135)와 제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2) 간의 전기적 접촉을 방지할 수 있다.The first insulating layer 2152 may be disposed between each of the second electrode pads 2145-1 and 2145-2 and the first electrode pad 2135 and may be disposed between the first electrode pad 2135 and the second electrode 2135. [ It is possible to prevent electrical contact between the pads 2145-1 and 2145-2.

패키지 바디(package body), 서브 마운트(submount), 또는 기판 등과의 다이 본딩(die bonding)을 하기 위하여, 제1 전극 패드(2135)의 하면과 제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2) 각각의 하면은 동일 평면(305) 상에 위치할 수 있다.The lower surface of the first electrode pad 2135 and the lower surface of the second electrode pads 2145-1 and 2145-2 are bonded to each other in order to perform die bonding with a package body, a submount, ) May be located on the same plane 305. [

제1 전극 패드(2135)는 관통 전극(2132)과 수직 방향으로 정렬되거나 오버랩되도록 배치될 수 있으며, 관통 전극(2132)은 제1 절연층(2152)을 관통 또는 통과하여 제1 전극 패드(2135)와 연결 또는 접촉될 수 있다. 여기서 수직 방향은 발광 구조물(2110-1, 2110-2)의 제2 도전형 반도체층(2116-1, 2116-2)에서 제1 도전형 반도체층(2112-1, 2112-2)으로 향하는 방향일 수 있다.The first electrode pad 2135 may be arranged to be vertically aligned or overlapped with the penetrating electrode 2132. The penetrating electrode 2132 may penetrate or pass through the first insulating layer 2152, ). ≪ / RTI > Here, the vertical direction is a direction from the second conductivity type semiconductor layers 2116-1 and 2116-2 of the light emitting structures 2110-1 and 2110-2 toward the first conductivity type semiconductor layers 2112-1 and 2112-2 Lt; / RTI >

제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2) 각각은 제1 절연층(2152)에 의하여 노출되는 제2 전극들(2140) 중 대응하는 어느 하나의 아래에 배치될 수 있으며, 대응하는 어느 하나의 노출되는 부분과 연결 또는 접촉될 수 있다.Each of the second electrode pads 2145-1 and 2145-2 may be disposed under a corresponding one of the second electrodes 2140 exposed by the first insulating layer 2152, And can be connected or contacted with one exposed portion.

예컨대, 제1 절연층(2152)은 제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2) 각각의 측면의 상측 일부만을 감쌀 수 있다. 그리고 제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2) 각각의 가장 자리가 제1 절연층(2152)의 하면과 접할 수 있다. 제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2) 각각의 가장 자리는 제1 절연층(2152)의 하면 아래에 위치하도록 수평 방향으로 확장되는 구조를 가질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the first insulating layer 2152 may cover only a part of the upper side of each of the second electrode pads 2145-1 and 2145-2. The edge of each of the second electrode pads 2145-1 and 2145-2 may be in contact with the lower surface of the first insulating layer 2152. [ The edge of each of the second electrode pads 2145-1 and 2145-2 may extend horizontally so as to be positioned below the lower surface of the first insulating layer 2152. However, the present invention is not limited thereto.

예컨대, 제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2) 각각은 제2 도전형 반도체층(2116)에서 제1 도전형 반도체층(2112)으로 향하는 방향으로 볼록하게 절곡된 구조일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, each of the second electrode pads 2145-1 and 2145-2 may be convexly bent in a direction from the second conductivity type semiconductor layer 2116 toward the first conductivity type semiconductor layer 2112, But is not limited thereto.

다른 실시 예에서는 제1 절연층이 제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2) 각각의 측면을 전부 감싸고, 제1 절연층의 하면, 제1 전극 패드(2135)의 하면, 및 제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2) 각각의 하면은 동일 평면 상에 위치할 수도 있다.In another embodiment, the first insulating layer entirely covers the side surfaces of each of the second electrode pads 2145-1 and 2145-2, and the lower surface of the first insulating layer, the lower surface of the first electrode pad 2135, The lower surfaces of the electrode pads 2145-1 and 2145-2 may be located on the same plane.

절연층(2150)은 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각의 발광 구조물(2110-1, 2110-2)의 외측면들에 배치되는 제2 절연층(2154)을 더 포함할 수 있다.The insulating layer 2150 further includes a second insulating layer 2154 disposed on the outer surfaces of the light emitting structures 2110-1 and 2110-2 of the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 .

예컨대, 발광 구조물(2110-1, 2110-2)의 외측면은 서로 다른 발광 셀들(2100-1, 2100-2)의 측면들 중 서로 마주보는 측면들을 제외한 나머지 측면들일 수 있다.For example, the outer surfaces of the light emitting structures 2110-1 and 2110-2 may be other side surfaces of the side surfaces of the light emitting cells 2100-1 and 2100-2, respectively, except opposite side surfaces.

예컨대, 제2 절연층(2154)은 제1 도전형 반도체층(2112)의 외측면, 활성층(2114)의 외측면, 및 제2 도전형 반도체층(2116)의 외측면에 배치될 수 있다.For example, the second insulating layer 2154 may be disposed on the outer surface of the first conductivity type semiconductor layer 2112, the outer surface of the active layer 2114, and the outer surface of the second conductivity type semiconductor layer 2116.

예컨대, 제2 절연층(2154)의 일단은 제1 도전형 반도체층(2112)의 상면의 가장 자리까지 확장될 수 있으며, 제2 절연층(2154)의 타단은 제1 절연층(2152)과 연결 또는 접촉될 수 있다. 절연층(2150)의 재질은 절연층(150)과 동일할 수 있다.For example, one end of the second insulating layer 2154 may extend to the edge of the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 2112, and the other end of the second insulating layer 2154 may extend to the edge of the first insulating layer 2152 Connected or contacted. The material of the insulating layer 2150 may be the same as that of the insulating layer 150.

도 26a은 다른 실시 예에 따른 발광 소자(2000-1)의 단면도를 나타낸다. 도 24과 동일한 도면 부호는 동일한 구성을 나타내며, 동일한 구성에 대해서는 설명을 간략하게 하거나 생략한다.26A is a cross-sectional view of a light emitting device 2000-1 according to another embodiment. The same reference numerals as in Fig. 24 denote the same components, and a description of the same components will be simplified or omitted.

도 24의 패시베이션층(2120)은 제1 도전형 반도체층(2112)의 상면의 일부를 노출한다. 반면에, 도 26a의 발광 소자(2100-1)의 패시베이션층(2120-1)은 제1 및 제2 접촉 전극들(2136-1,2136-2)과 접촉되기 위하여 노출되는 제1 도전형 반도체층(2112)의 상면의 일 부분을 제외하고는, 제1 도전형 반도체층(2112)의 상면을 노출하지 않을 수 있다.The passivation layer 2120 of FIG. 24 exposes a part of the upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 2112. On the other hand, the passivation layer 2120-1 of the light emitting device 2100-1 of FIG. 26A is formed of a first conductive semiconductor layer 2120-1 exposed to be in contact with the first and second contact electrodes 2136-1 and 2136-2, The upper surface of the first conductivity type semiconductor layer 2112 may not be exposed except for a part of the upper surface of the layer 2112. [

예컨대, 도 26a의 제2 패시베이션층(2124a)은 제1 및 제2 접촉 전극들(2136-1,2136-2)과 접촉되기 위하여 노출되는 제1 도전형 반도체층(2112)의 상면의 일 부분을 제외하고는 제1 도전형 반도체층(2112)의 상면을 전부 덮을 수 있고, 제2 절연층(2154)과 연결 또는 접촉될 수 있다.For example, the second passivation layer 2124a of FIG. 26A may include a portion of the upper surface of the first conductive type semiconductor layer 2112 exposed to be in contact with the first and second contact electrodes 2136-1 and 2136-2 The first conductive semiconductor layer 2112 may completely cover the upper surface of the first conductive semiconductor layer 2112 and may be connected to or contacted with the second insulating layer 2154. [

도 26b는 다른 실시 예에 다른 발광 소자(2000-1')의 단면도를 나타낸다. 도 26a와 동일한 도면 부호는 동일한 구성을 나타내며, 동일한 구성에 대해서는 설명을 간략하게 하거나 생략한다.FIG. 26B shows a cross-sectional view of a light emitting device 2000-1 'according to another embodiment. The same reference numerals as those in FIG. 26A denote the same components, and a description of the same components will be simplified or omitted.

도 26b를 참조하면, 발광 소자(2000-1')의 발광 셀들(2100-1', 2100-2') 각각은 서로 동일한 파장의 빛을 발생한다. 예컨대, 제1 및 제2 발광 셀(2100-1', 2100-2')들 각각은 제1 도전형 반도체층(2112-1'), 활성층(2114-1'), 제2 도전형 반도체층(2116-1')을 포함하는 발광 구조물(2110-1')을 포함할 수 있으며, 동일한 파장의 빛, 예컨대, 적색광, 녹색광, 또는 청색광을 발생할 수 있다. Referring to FIG. 26B, each of the light emitting cells 2100-1 'and 2100-2' of the light emitting device 2000-1 'generates light having the same wavelength. For example, each of the first and second light emitting cells 2100-1 'and 2100-2' may include a first conductive semiconductor layer 2112-1 ', an active layer 2114-1' The light emitting structure 2110-1 'including the light emitting structure 2116-1', and may emit light of the same wavelength, for example, red light, green light, or blue light.

발광 소자(2000-1')는 발광 셀들(2100-1', 2100-2') 각각의 제2 패시베이션층(2124a) 상에 배치되는 형광체층(2160)을 포함할 수 있다.The light emitting device 2000-1 'may include a phosphor layer 2160 disposed on the second passivation layer 2124a of each of the light emitting cells 2100-1' and 2100-2 '.

예컨대, 형광체층(2160)은 황색 형광체, 녹색 형광체, 또는 적색 형광체 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the phosphor layer 2160 may include at least one of a yellow phosphor, a green phosphor, and a red phosphor, but is not limited thereto.

형광체층(2160)은 발광 셀들(2100-1', 2100-2')로부터 발생하는 빛의 파장을 변화시킬 수 있다. 형광체층(2160)에 의하여 변환된 발광 셀들(2100-1', 2100-2')의 광은 동일한 파장의 광일 수 있다.The phosphor layer 2160 can change the wavelength of light generated from the light emitting cells 2100-1 'and 2100-2'. The light of the light emitting cells 2100-1 'and 2100-2' converted by the phosphor layer 2160 may be light of the same wavelength.

예컨대, 발광 셀들(2100-1', 2100-2')은 청색광을 발생할 수 있으며, 형광체층(2160)은 적색 형광체 또는 녹색 형광체 중 적어도 하나를 포함할 수 있고, 발광 셀들(2100-1', 2100-2')에 의해 발생하는 청색광을 적색광, 녹색광, 또는 백색광으로 변환시킬 수 있다.For example, the light emitting cells 2100-1 'and 2100-2' may emit blue light, and the phosphor layer 2160 may include at least one of a red phosphor or a green phosphor, and the light emitting cells 2100-1 ' 2100-2 'can be converted into a red light, a green light, or a white light.

도 26c는 다른 실시 예에 다른 발광 소자(2000-1')의 단면도를 나타낸다. 도 26b와 동일한 도면 부호는 동일한 구성을 나타내며, 동일한 구성에 대해서는 설명을 간략하게 하거나 생략한다.26C shows a cross-sectional view of a light emitting device 2000-1 'according to another embodiment. The same reference numerals as those in Fig. 26B denote the same constituent elements, and a description of the same constituent elements will be simplified or omitted.

도 26c를 참조하면, 형광체층(2160-1)은 발광 셀들(2100-1', 2100-2') 중 어느 하나(예컨대, 2100-2')에 대응하는 제2 패시베이션층(2124a) 상에 배치될 수 있다.Referring to FIG. 26C, the phosphor layer 2160-1 is formed on the second passivation layer 2124a corresponding to any one of the light emitting cells 2100-1 'and 2100-2' (for example, 2100-2 ') .

예컨대, 형광체층(2160-1)은 황색 형광체, 녹색 형광체, 또는 적색 형광체 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the phosphor layer 2160-1 may include at least one of a yellow phosphor, a green phosphor, and a red phosphor, but is not limited thereto.

형광체층(2160-1)은 대응하는 어느 하나의 발광 셀(예컨대, 2100-2')로부터 발생하는 빛의 파장을 변화시킬 수 있다. 따라서 발광 소자(2000-1")는 발광 셀들(2100-1', 2100-2')이 발생하는 광, 및 형광체층(2160-1)의 종류에 따라서 서로 다른 파장을 갖는 빛들을 발생할 수 있다.The phosphor layer 2160-1 can change the wavelength of light generated from any one of the corresponding light emitting cells (e.g., 2100-2 '). Accordingly, the light emitting device 2000-1 "can emit light having different wavelengths depending on the light generated by the light emitting cells 2100-1 'and 2100-2' and the type of the phosphor layer 2160-1 .

예컨대, 발광 셀들(2100-1', 2100-2')은 청색광을 발생할 수 있다.For example, the light emitting cells 2100-1 'and 2100-2' can emit blue light.

예컨대, 형광체층(2160-1)은 적색 형광체 또는 녹색 형광체를 포함할 수 있고, 제2 발광 셀(2100-2')에 의해 발생하는 청색광을 적색광 또는 녹색광으로 변환시킬 수 있다. 이로 인하여 발광 소자(2000-1")는 청색광 및 적색광을 동시에 구현하거나, 또는 청색광 및 녹색광을 동시에 구현할 수 있다.For example, the phosphor layer 2160-1 may include a red phosphor or a green phosphor, and blue light generated by the second light emitting cell 2100-2 'may be converted into red light or green light. Thus, the light emitting device 2000-1 "can simultaneously realize blue light and red light, or simultaneously realize blue light and green light.

다른 실시 예에서는 발광 셀들(2100-1', 2100-2')은 서로 다른 파장의 광을 발생할 수 있다. 형광체층(2160-1)은 발광 셀들(2100-1', 2100-2')이 발생하는 광의 파장과 다른 파장을 갖는 광으로 변환시킬 수 있다.In another embodiment, the light emitting cells 2100-1 'and 2100-2' may emit light of different wavelengths. The phosphor layer 2160-1 can be converted into light having a wavelength different from that of the light generated by the light emitting cells 2100-1 'and 2100-2'.

예컨대, 제1 발광 셀(2100-1')은 청색광을 발생할 수 있고, 제2 발광 셀(2100-2')은 녹색광을 발생할 수 있으며, 형광체층(2160-1)은 적색 형광체를 포함할 수 있으며, 제2 발광 셀의 녹색광을 적색광으로 변환시킬 수 있다.For example, the first light emitting cell 2100-1 'may emit blue light, the second light emitting cell 2100-2' may emit green light, and the phosphor layer 2160-1 may include a red phosphor And the green light of the second light emitting cell can be converted into the red light.

도 27a는 다른 실시 예에 따른 발광 소자(2100-2)의 상측 평면도를 나타내고, 도 27b는 도 27a에 도시된 발광 소자(2100-2)의 하측 평면도를 나타낸다. 도 27a 및 도 27b는 도 27a의 제2 패시베이션층(2124a)을 포함하는 실시 예일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 도 24에 도시된 발광 소자(2100)에도 동일하게 적용될 수 있다.FIG. 27A is a top plan view of the light emitting device 2100-2 according to another embodiment, and FIG. 27B is a bottom plan view of the light emitting device 2100-2 shown in FIG. 27A. 27A and 27B may be an embodiment including the second passivation layer 2124a of FIG. 27A, but the present invention is not limited thereto, and the same can be applied to the light emitting device 2100 shown in FIG.

도 27a 및 도 27b에 도시된 실시 예(2000-2)는 제1 및 제2 발광 셀들(2100a-1, 2100a-2), 패시베이션층(미도시), 제1 전극(2130'), 제1 전극 패드(2135'), 제2 전극들(미도시), 절연층(제1 절연층(2152')만 도시), 제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2)을 포함할 수 있다. The embodiment 2000-2 shown in FIGS. 27A and 27B includes first and second light emitting cells 2100a-1 and 2100a-2, a passivation layer (not shown), a first electrode 2130 ' May include an electrode pad 2135 ', second electrodes (not shown), an insulating layer (only the first insulating layer 2152' is shown), and second electrode pads 2145-1 and 2145-2 .

발광 구조물(2110)의 상면은 제1변들과 제1변들 사이에 위치하는 제2변들을 포함할 수 있다. 예컨대, 제1변들 각각의 길이는 제2변들 각각의 길이보다 길 수 있다.The top surface of the light emitting structure 2110 may include second sides located between the first sides and the first sides. For example, the length of each of the first sides may be greater than the length of each of the second sides.

도 24, 및 도 26a에서는 제1 전극(2130)의 상부 전극(2134)의 길이 방향, 제1 전극 패드(2135)의 길이 방향, 및 제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2)의 길이 방향 각각이 발광 구조물(2110)의 상면의 제1변과 평행한 방향일 수 있다.24 and 26A, the longitudinal direction of the upper electrode 2134 of the first electrode 2130, the longitudinal direction of the first electrode pad 2135, and the longitudinal direction of the second electrode pads 2145-1 and 2145-2 And each of the longitudinal directions may be a direction parallel to the first side of the upper surface of the light emitting structure 2110.

예컨대, 제1 전극(2130)의 상부 전극(2134)의 제1 방향의 길이가 제2 방향의 길이보다 더 길고, 제1 전극 패드(2135)의 제1 방향의 길이가 제2 방향의 길이보다 더 길고, 제2 전극 패드들(2145-1,2145-2) 각각의 제1 방향의 길이가 제2 방향의 길이보다 더 길 수 있다. 이때 제1 방향은 발광 구조물(2110)의 상면의 제1변과 평행한 방향이고, 제2 방향은 발광 구조물(2110)의 상면의 제2변과 평행한 방향일 수 있다.For example, the length of the upper electrode 2134 of the first electrode 2130 in the first direction is longer than the length of the second direction, and the length of the first electrode pad 2135 in the first direction is longer than the length of the second direction And the length of each of the second electrode pads 2145-1 and 2145-2 in the first direction may be longer than the length of the second direction. The first direction may be parallel to the first side of the upper surface of the light emitting structure 2110 and the second direction may be parallel to the second side of the upper surface of the light emitting structure 2110.

반면에, 도 27a 및 도 27b에 도시된 실시 예(2000-2)의 제1 전극(2130')의 상부 전극(2134')의 길이 방향, 제1 전극 패드(2135')의 길이 방향, 및 제2 전극 패드들(2145-1',2145-2')의 길이 방향 각각은 발광 구조물(2110)의 상면의 제2변과 평행한 방향일 수 있다.On the other hand, the longitudinal direction of the upper electrode 2134 'of the first electrode 2130' of the embodiment 2000-2 shown in FIGS. 27A and 27B, the longitudinal direction of the first electrode pad 2135 ' Each of the longitudinal direction of the second electrode pads 2145-1 'and 2145-2' may be parallel to the second side of the upper surface of the light emitting structure 2110.

예컨대, 제1 전극(2130')의 상부 전극(2134')의 제2 방향의 길이가 제1 방향의 길이보다 더 길고, 제1 전극 패드(2135')의 제2 방향의 길이가 제1 방향의 길이보다 더 길고, 제2 전극 패드들(2145-1', 2145-2') 각각의 제2 방향의 길이가 제1 방향의 길이보다 더 길 수 있다.For example, the length of the upper electrode 2134 'of the first electrode 2130' in the second direction is longer than the length of the first direction, and the length of the first electrode pad 2135 ' And the length of each of the second electrode pads 2145-1 'and 2145-2' in the second direction may be longer than the length of the first direction.

도 28a는 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자(2100-3)의 상측 평면도를 나타내고, 도 28b는 도 28a에 도시된 발광 소자(2000-3)의 하측 평면도를 나타내고, 도 29a는 도 28a 및 도 28b에 도시된 발광 소자(2000-3)의 Ⅰ-Ⅱ 방향의 일 실시 예에 따른 단면도를 나타낸다.28A is a top plan view of the light emitting device 2100-3 according to another embodiment, FIG. 28B is a bottom plan view of the light emitting device 2000-3 shown in FIG. 28A, FIG. 29A is a plan view Sectional view taken along the line I-II of the light emitting device 2000-3 shown in FIG. 28B.

도 28a, 도 28b, 및 도 29a을 참조하면, 발광 소자(2000-3)는 3개의 발광 셀들(2100b-1 내지 2100b-3), 패시베이션층(2120b), 2개의 제1 전극들(2130-1, 2130-2), 제1 전극 패드들(2135a-1, 2135a-2), 제2 전극들(2140-1, 2140-2), 제2 전극 패드들(2145-1 내지 2145-3), 및 절연층(2150)을 포함한다.Referring to FIGS. 28A, 28B and 29A, the light emitting device 2000-3 includes three light emitting cells 2100b-1 to 2100b-3, a passivation layer 2120b, two first electrodes 2130- The first electrode pads 2135a-1 and 2135a-2, the second electrodes 2140-1 and 2140-2, the second electrode pads 2145-1 to 2145-3, And an insulating layer 2150.

예컨대, 제2 전극들(2140-1, 2140-2)의 개수, 및 전극 패드들(2145-1 내지 2145-3)의 개수는 발광 셀들의 개수와 동일할 수 있다. 또한 제1 전극들(2130-1, 2130-2)의 개수는 발광 셀들(2100b-1 내지 2100b-3)의 개수보다 적을 수 있고, 제1 전극 패드들(2135a-1, 2135a-2)의 개수는 제1 전극들의 개수와 동일하거나 적을 수 있다.For example, the number of the second electrodes 2140-1 and 2140-2 and the number of the electrode pads 2145-1 to 2145-3 may be equal to the number of the light emitting cells. The number of the first electrodes 2130-1 and 2130-2 may be smaller than the number of the light emitting cells 2100b-1 to 2100b-3, and the number of the first electrode pads 2135a-1 and 2135a- The number may be equal to or less than the number of the first electrodes.

발광 셀들(2100b-1 내지 2100b-3)은 서로 이격하여 위치하며, 발광 셀들(2100b-1 내지 2100b-3)은 각각은 발광 구조물(2110a-1 내지 2110a-3)을 포함할 수 있다. 복수의 발광 셀들(2100b-1 내지 2100b-3) 각각은 서로 다른 파장 범위를 갖는 광을 발생할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시 예에서는 서로 동일한 파장 범위를 갖는 광을 발생할 수도 있다.The light emitting cells 2100b-1 to 2100b-3 are spaced apart from each other, and each of the light emitting cells 2100b-1 to 2100b-3 may include the light emitting structures 2110a-1 to 2110a-3. Each of the plurality of light emitting cells 2100b-1 to 2100b-3 may generate light having a different wavelength range, but it is not limited thereto. In other embodiments, light having the same wavelength range may be generated.

예컨대, 제1 발광 셀(2100b-1)은 적색광을 발생할 수 있고, 제2 발광 셀(2100b-2)은 녹색광을 발생할 수 있고, 제3 발광 셀(2100b-3)은 청색광을 발생할 수 있다.For example, the first light emitting cell 2100b-1 may emit red light, the second light emitting cell 2100b-2 may emit green light, and the third light emitting cell 2100b-3 may emit blue light.

제1 전극들(2130-1, 2130-2) 각각은 서로 이격되는 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 사이에 배치되며, 발광 셀들(2110-1, 2110-2) 아래에 배치되는 절연층(2150)을 통과한다. 제1 전극들(2130-1, 2130-2) 각각은 인접하는 2개의 발광 셀들(2100b-1과 2100b-2, 2100b2와 2100b-3)의 제1 도전형 반도체층들(2112a-1과 2112a-2, 2112a-2와 2112a-3)에 공통으로 접촉 또는 연결될 수 있으며, 제1 전극 패드들 중 대응하는 어느 하나와 연결 또는 접촉될 수 있다.Each of the first electrodes 2130-1 and 2130-2 is disposed between the light emitting cells 2100-1 and 2100-2 that are spaced apart from each other and the first electrodes 2130-1 and 2130-2 are disposed below the light emitting cells 2110-1 and 2110-2, Lt; / RTI > Each of the first electrodes 2130-1 and 2130-2 is connected to the first conductivity type semiconductor layers 2112a-1 and 2112a-2 of the adjacent two light emitting cells 2100b-1 and 2100b-2, 2100b2 and 2100b- -2, 2112a-2, and 2112a-3, and may be connected or connected to any one of the first electrode pads.

도 29a에서는 제1 전극(2130-1)은 제1 상부 전극(2134a-1), 제1 관통 전극(2132a-1), 및 제1 및 제2 접촉 전극들(2136c-1,2136c-2)을 포함하고, 제1 전극(2130-2)은 제2 상부 전극(2134a-2), 제2 관통 전극(2132a-2), 및 제3 및 제4 접촉 전극들(2136c-3,2136c-4)을 포함할 수 있다.29A, the first electrode 2130-1 includes a first upper electrode 2134a-1, a first penetrating electrode 2132a-1, and first and second contact electrodes 2136c-1 and 2136c-2. The first and second electrodes 2134a-2 and 2132a-2 and the third and fourth contact electrodes 2136c-3 and 2136c-4, respectively, ).

도 29a에서는 제1 전극들(2130-1, 2130-2) 각각이 인접하는 2개의 발광 셀들의 제1 도전형 반도체층들(1112a-1과 1112a-2, 1112a-2와 1112a-3)에 모두 접촉할 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다.In FIG. 29A, the first electrodes 2130-1 and 2130-2 are connected to the first conductive semiconductor layers 1112a-1 and 1112a-2, 1112a-2 and 1112a-3 of two adjacent light emitting cells, But it is not limited thereto.

다른 실시 예에서는 제1 전극들(2130-1, 2130-2) 중 어느 하나(예컨대, 2130-1)는 어느 인접하는 2개의 발광 셀들(2100b-1, 2100b-2)의 제1 도전형 반도체층들(2112a-1,2112a-2)에 모두 접촉하고, 나머지 다른 하나(예컨대, 2130-2)는 다른 인접하는 2개의 발광 셀들(2100b-1, 2100b-2) 중 다른 하나(예컨대, 2100b-3)의 제1 도전형 반도체층(2112a-3)에만 접촉할 수 있다.In another embodiment, any one of the first electrodes 2130-1 and 2130-2 (e.g., 2130-1) may be connected to any one of the adjacent two light emitting cells 2100b-1 and 2100b- The other one (e.g., 2130-2) contacts the other of the two adjacent light emitting cells 2100b-1 and 2100b-2 (e.g., 2100b-1 and 2100b- -3) of the first conductivity type semiconductor layer 2112a-3.

도 24의 제1 전극(2130)과 제1 전극 패드(2135)에 대한 설명이 도 29a에 도시된 바에 따라 제1 전극들(2130-1, 2130-2) 및 제1 전극 패드들(2135a-1, 2135a-2)에 적용될 수 있다.The description of the first electrode 2130 and the first electrode pad 2135 in FIG. 24 is similar to that of the first electrodes 2130-1 and 2130-2 and the first electrode pads 2135a- 1, 2135a-2).

패시베이션층(2120b)은 제1 전극들(2130-1, 2130-2)과 발광 구조물들(2110-1,2110-2)의 측면들 사이에 배치되는 제1 패시베이션층(2122b), 및 발광 셀들(2100b-1 내지 2100b-3) 각각의 제1 도전형 반도체층(2112a-1 내지 2112a-3) 상면 상에 배치되는 제2 패시베이션층(2124b)을 포함할 수 있다.The passivation layer 2120b includes a first passivation layer 2122b disposed between the first electrodes 2130-1 and 2130-2 and the side surfaces of the light emitting structures 2110-1 and 2110-2, And a second passivation layer 2124b disposed on the upper surfaces of the first conductivity type semiconductor layers 2112a-1 to 2112a-3, respectively, of the first conductivity type semiconductor layers 2100b-1 to 2100b-3.

도 24의 패시베이션층(2120)에 대한 설명이 도 29a에 도시된 바에 따라 패시베이션층(2120b)에 적용될 수 있다.The description of the passivation layer 2120 in Fig. 24 can be applied to the passivation layer 2120b as shown in Fig. 29A.

제2 전극들(2140a-1 내지 2140a-3) 각각은 발광 셀들(2100b-1 내지 2100b-3) 중 대응하는 어느 하나의 제2 도전형 반도체층(2116a-1, 2116a-2, 또는 2116a-3) 아래에 배치되며, 대응하는 제2 도전형 반도체층(2116a-1, 2116a-2, 또는 2116a-3)과 접촉한다. 도 3의 제2 전극들(2140-1, 2140-2)에 대한 설명이 도 29a에 도시된 바에 따라 제2 전극들(2140a-1 내지 2140a-3)에 적용될 수 있다.Each of the second electrodes 2140a-1 to 2140a-3 is electrically connected to one of the corresponding one of the second conductivity type semiconductor layers 2116a-1, 2116a-2, or 2116a-3 among the light emitting cells 2100b-1 to 2100b- 3 and is in contact with the corresponding second conductivity type semiconductor layer 2116a-1, 2116a-2, or 2116a-3. The description of the second electrodes 2140-1 and 2140-2 of FIG. 3 may be applied to the second electrodes 2140a-1 to 2140a-3 as shown in FIG. 29A.

제2 전극 패드들(2145a-1 내지 2145a-3) 각각은 제2 전극들(2140a-1 내지 2140a-3) 중 대응하는 어느 하나 아래에 배치되며, 대응하는 어느 하나와 연결되거나 또는 오믹 접촉될 수 있다. 도 24의 제2 전극 패드들(2145-1, 2145-2)에 대한 설명이 도 8a에 도시된 바에 따라 제2 전극 패드(2145a-1 내지 2145a-3)에 적용될 수 있다.Each of the second electrode pads 2145a-1 to 2145a-3 is disposed under a corresponding one of the second electrodes 2140a-1 to 2140a-3, and is connected to any one of the corresponding one of the second electrodes 2140a-1 to 2140a- . The description of the second electrode pads 2145-1 and 2145-2 in Fig. 24 can be applied to the second electrode pads 2145a-1 to 2145a-3 as shown in Fig. 8A.

절연층(2150a)은 제2 전극들(2140a-1 내지 2140a-3)이 배치되는 영역을 제외한 발광 셀들(2100b-1 내지 2100b-3) 각각의 제2 도전형 반도체층(2116a-1 내지 2116a-3)의 하면의 나머지 영역에 배치되는 제1 절연층(1252a), 및 발광 셀들(2100b-1 내지 2100b-3) 각각의 발광 구조물(2110a-1 내지 2110a-3)의 외측면들에 배치되는 제2 절연층(2154a)을 포함할 수 있다.The insulating layer 2150a is formed on the second conductivity type semiconductor layers 2116a-1 to 2116a-2 of the light emitting cells 2100b-1 to 2100b-3 except for the region where the second electrodes 2140a-1 to 2140a- The first insulating layer 1252a disposed on the lower surface of the lower surface of the light emitting structure 2100b-1 to 2100b-3 and the first insulating layer 1252b disposed on the outer surfaces of the light emitting structures 2110a-1 to 2110a-3 of the light emitting cells 2100b- The second insulating layer 2154a may be formed.

도 24의 절연층(2150)에 대한 설명이 도 29a에 도시된 바에 따라 절연층(2150a)에 적용될 수 있다.The description of the insulating layer 2150 in Fig. 24 can be applied to the insulating layer 2150a as shown in Fig. 29A.

예컨대, 도 29a의 실시 예는 서로 다른 파장 범위를 갖는 3개의 광을 발생할 수 있으며, 인접하는 2개의 발광 셀들(2100b-1과 2100b-2, 또는 2100b-2와 2100b-3)이 하나의 n형 전극인 제1 전극(2130-1, 또는 2130-2) 및 하나의 n형 전극 패드인 제1 전극 패드(2135a-1 또는 2135a-2)를 서로 공유할 수 있다. For example, the embodiment of FIG. 29A can generate three lights having different wavelength ranges, and two adjacent light emitting cells 2100b-1 and 2100b-2, or 2100b-2 and 2100b-3, The first electrodes 2130-1 and 2130-2 and the first electrode pads 2135a-1 and 2135a-2, which are n-type electrode pads, can be shared with each other.

도 29b는 도 29a에 도시된 도 28a 및 도 28b에 도시된 발광 소자(2100-3)의 Ⅰ-Ⅱ 방향의 다른 실시 예에 따른 단면도를 나타낸다. 도 29a와 동일한 도면 부호는 동일한 구성을 나타내며, 동일한 구성에 대해서는 설명을 간략하게 하거나 생략한다.29B shows a cross-sectional view according to another embodiment of the light emitting device 2100-3 shown in Figs. 28A and 28B shown in Fig. 29A in the I-II direction. The same reference numerals as those in FIG. 29A denote the same components, and a description of the same components will be simplified or omitted.

도 29b를 참조하면, 발광 소자(2000-3')의 발광 셀들(2100b-1' 내지 2100b-3') 각각은 서로 동일한 파장의 빛을 발생한다. 예컨대, 제1 내지 제3 발광 셀(2100b-1' 내지 2100b-3')들 각각은 제1 도전형 반도체층(2112a-1'), 활성층(2114a-1'), 제2 도전형 반도체층(2116a-1')을 포함하는 발광 구조물(2110a-1')을 포함할 수 있으며, 동일한 파장의 빛, 예컨대, 적색광, 녹색광, 또는 청색광을 발생할 수 있다.Referring to FIG. 29B, each of the light emitting cells 2100b-1 'to 2100b-3' of the light emitting device 2000-3 'emits light of the same wavelength. For example, each of the first to third light emitting cells 2100b-1 'to 2100b-3' includes a first conductive semiconductor layer 2112a-1 ', an active layer 2114a-1' May include a light emitting structure 2110a-1 'including a light emitting structure 2116a-1', and may emit light of the same wavelength, for example, red light, green light, or blue light.

발광 소자(2000-1')는 발광 셀들(2100b-1' 내지 2100b-2') 중 적어도 하나의 발광 셀(예컨대, 2100b-2' 및 2100b-3')에 대응하는 제2 패시베이션층(2124b) 상에 배치되는 적어도 하나의 형광체층(2170-1, 2170-2)을 포함할 수 있다.The light emitting device 2000-1 'includes a second passivation layer 2124b corresponding to at least one of the light emitting cells 2100b-2' and 2100b-3 'of the light emitting cells 2100b-1' to 2100b-2 ' And at least one phosphor layer 2170-1, 2170-2 disposed on the phosphor layer 2170-2.

예컨대, 형광체층들(2170-1, 2170-2)은 발광 셀들 중 적어도 하나를 제외한 나머지 발광 셀들에 대응하여 제2 패시베이션층(2124b) 상에 서로 이격하여 배치될 수 있다.For example, the phosphor layers 2170-1 and 2170-2 may be spaced apart from each other on the second passivation layer 2124b corresponding to the light emitting cells except at least one of the light emitting cells.

예컨대, 형광체층들(2170-1, 2170-2) 각각은 발광 셀들(2100b-1' 내지 2100b-2')로부터 발생하는 빛을 다른 파장의 빛으로 변환시킬 수 있다.For example, each of the phosphor layers 2170-1 and 2170-2 can convert light generated from the light emitting cells 2100b-1 'to 2100b-2' into light having a different wavelength.

예컨대, 형광체층들(2170-1, 2170-2) 각각은 황색 형광체, 녹색 형광체, 또는 적색 형광체 중 어느 하나를 포함할 수 있으며, 서로 다른 형광체를 포함할 수 있다.For example, each of the phosphor layers 2170-1 and 2170-2 may include any one of a yellow phosphor, a green phosphor, and a red phosphor, and may include different phosphors.

예컨대, 발광 셀들(2100b-1' 내지 2100b-3')은 청색광을 발생할 수 있다. 그리고 제1 형광체층(2170-1)은 녹색 형광체를 포함할 수 있고 제2 발광 셀(2100b-2')에 의해 발생하는 청색광을 녹색광으로 변환시킬 수 있다. 제2 형광체층(2170-2)은 적색 형광체를 포함할 수 있고, 제3 발광 셀(2100b-3)에 의해 발생하는 청색광을 적색광으로 변환시킬 수 있다. 따라서 발광 소자(2000-3')는 적색광, 청색광, 및 녹색광을 모두 발생할 수 있다.For example, the light emitting cells 2100b-1 'to 2100b-3' can emit blue light. The first phosphor layer 2170-1 may include a green phosphor and may convert blue light generated by the second light emitting cell 2100b-2 'into green light. The second phosphor layer 2170-2 may include a red phosphor and the blue light generated by the third light emitting cell 2100b-3 may be converted into red light. Accordingly, the light emitting device 2000-3 'can generate both red light, blue light, and green light.

즉 발광 소자(2000-3')는 발광 셀들(2100b-1' 내지 2100b-3')이 발생하는 광, 및 형광체층들(2170-1,2170-2)의 종류에 따라서 적색광, 청색광, 및 녹색광을 모두 발생할 수 있다.That is, the light emitting device 2000-3 'may emit red light, blue light, and blue light depending on the light generated by the light emitting cells 2100b-1' to 2100b-3 'and the types of the phosphor layers 2170-1 and 2170-2 Green light can be generated.

도 28a, 도 29a, 및 도 29b의 발광 셀들(2100b-1 내지 2100b-3, 2100b-1' 내지 2100b-3') 각각의 발광 면적은 서로 동일하지만, 이에 한정되는 것은 아니며, 발광 셀들(2100b-1 내지 2100b-3, 2100b-1' 내지 2100b-3') 각각의 발광 면적은 서로 다를 수 있다, 여기서 발광 면적은 발광 구조물의 상면, 예컨대, 제1 도전형 반도체층의 상면, 또는 활성층의 상면의 면적일 수 있다.The light emitting areas of the light emitting cells 2100b-1 to 2100b-3, 2100b-1 'to 2100b-3' in FIGS. 28A, 29A and 29B are the same, but are not limited thereto. 1 to 2100b-3, 2100b-1 'to 2100b-3') may be different from each other. Here, the light emitting area may be an upper surface of the light emitting structure, for example, an upper surface of the first conductivity type semiconductor layer, May be the area of the upper surface.

예컨대, 전체적인 시감도 및 휘도를 고려할 때, 시감도가 가장 민감한 녹색광을 발생하는 발광 셀, 또는 녹색 형광체를 포함하는 제1 형광체층(2170-1)에 대응하는 발광 셀(2100b-2')의 발광 면적이 가장 클 수 있다For example, in consideration of the overall luminosity and luminance, the light emitting cell 2100b-2 'corresponding to the first phosphor layer 2170-1 including the green phosphor or the light emitting cell generating the most sensitive green light, Can be the largest

또한 형광체층에 의하여 청색광에 비하여 적색광이 효율이 더 저하되기 때문에, 적색 형광체를 포함하는 제2 형광체층(2170-2)에 대응하는 발광 셀(2100b-3')의 발광 면적이 청색광을 발생하는 발광 셀(예컨대, 2100b-1')의 발광 면적보다 더 클 수 있다.Further, since the efficiency of red light is further lowered by the phosphor layer compared to the blue light, the light emitting area of the light emitting cell 2100b-3 'corresponding to the second phosphor layer 2170-2 including the red phosphor generates blue light May be larger than the light emitting area of the light emitting cell (e.g., 2100b-1 ').

도 30a는 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자(2100-4)의 상측 평면도를 나타내고, 도 30b는 도 30a에 도시된 발광 소자(2100-4)의 하측 평면도를 나타낸다.FIG. 30A is a top plan view of the light emitting device 2100-4 according to another embodiment, and FIG. 30B is a bottom plan view of the light emitting device 2100-4 shown in FIG. 30A.

도 30a 및 도 30b를 참조하면, 발광 소자(2100-1)는 4개의 발광 셀들(2100c-1 내지 2100-4), 패시베이션층(2120c), 제1 전극(2130"), 제1 전극 패드(2135"), 제2 전극들(미도시), 제2 전극 패드들(2145b-1 내지 2145b-4), 및 절연층(2150b)을 포함한다.30A and 30B, the light emitting device 2100-1 includes four light emitting cells 2100c-1 to 2100-4, a passivation layer 2120c, a first electrode 2130 ", a first electrode pad Second electrodes (not shown), second electrode pads 2145b-1 to 2145b-4, and an insulating layer 2150b.

발광 소자(2100-1)의 4개의 발광 셀들(2100c-1 내지 2100-4)은 하나의 제1 전극(2130") 및 하나의 제1 전극 패드(2135")를 공유할 수 있다. 제1 전극(2130")의 상부 전극(2134"), 및 제1 전극 패드(2135")는 십자가 형상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한 제1 전극(2130")의 관통 전극(미도시)은 십자가 형상일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The four light emitting cells 2100c-1 to 2100-4 of the light emitting device 2100-1 can share one first electrode 2130 " and one first electrode pad 2135 ". The upper electrode 2134 "and the first electrode pad 2135" of the first electrode 2130 "may have a cross shape, but are not limited thereto. Hour) may be in the form of a cross, but is not limited thereto.

도 30c는 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자(2000-4')의 상측 평면도를 나타낸다. 도 30a와 동일한 도면 부호는 동일한 구성을 나타내며, 동일한 구성에 대해서는 설명을 간략하게 하거나 생략한다.30C is a top plan view of the light emitting device 2000-4 'according to another embodiment. The same reference numerals as in Fig. 30A denote the same components, and a description of the same components will be simplified or omitted.

도 30c의 실시 예는 도 30a의 실시 예에 제1 내지 제3 형광체층들(2180-1 내지 2180-3)을 더 포함할 수 있다. 도 30a의 실시 예에서는 제1 내지 제4 발광 셀들(2100c-1 내지 2100c-4)의 발광 면적이 서로 동일하지만, 도 30c의 실시 예에서는 제1 내지 제4 발광 셀들(2100c-1' 내지 2100c-3')의 발광 면적들이 서로 다를 수 있다.The embodiment of FIG. 30C may further include first to third phosphor layers 2180-1 to 2180-3 in the embodiment of FIG. 30A. In the embodiment of FIG. 30A, the light emitting areas of the first to fourth light emitting cells 2100c-1 to 2100c-4 are the same, but in the embodiment of FIG. 30c, the first to fourth light emitting cells 2100c-1 ' -3 ') may be different from each other.

제1 내지 제3 형광체층들(2180-1 내지 2180-3) 각각은 제1 내지 제4 발광 셀들(2100c-1' 내지 2100c-3') 중 어느 하나(예컨대, 2100ㅊ-3')를 제외한 나머지 발광 셀들(예컨대, 2100c-1', 2100c-2',2100c-4')에 대응하도록 제2 패시베이션층(2120c) 상에 배치된다.Each of the first to third phosphor layers 2180-1 to 2180-3 may include any one of the first to fourth light emitting cells 2100c-1 'to 2100c-3' (e.g., 2100 to -3 ' Is disposed on the second passivation layer 2120c to correspond to the remaining light emitting cells (e.g., 2100c-1 ', 2100c-2', 2100c-4 ').

제1 내지 제4 발광 셀들(2100c-1' 내지 2100c-3') 각각은 동일한 파장의 빛(예컨대, 청색광)을 발생할 있다.Each of the first to fourth light emitting cells 2100c-1 'to 2100c-3' generates light of the same wavelength (e.g., blue light).

예컨대, 제1 형광체층(2180-1)은 적색 형광체, 및 녹색 형광체를 포함할 수 있고, 제1 발광 셀(2100c-1')에 의해 발생한 청색광은 제1 형광체층(2180-1)에 의하여 백색광으로 변환될 수 있다.For example, the first phosphor layer 2180-1 may include a red phosphor and a green phosphor. Blue light generated by the first light emitting cell 2100c-1 'may be emitted by the first phosphor layer 2180-1 It can be converted into white light.

제2 형광체층(2180-2)은 적색 형광체를 포함할 수 있고, 제2 발광 셀(2100c-2')에 의해 발생한 청색광은 제2 형광체층(2180-2)에 의하여 적색광으로 변환될 수 있다.The second phosphor layer 2180-2 may include a red phosphor and the blue light generated by the second light emitting cell 2100c-2 'may be converted into red light by the second phosphor layer 2180-2 .

제3 형광체층(2180-3)은 녹색 형광체를 포함할 수 있고, 제4 발광 셀(2100c-4')에 의해 발생한 청색광은 제3 형광체층(2180-2)에 의하여 녹색광으로 변환될 수 있다.The third phosphor layer 2180-3 may include a green phosphor and the blue light generated by the fourth light emitting cell 2100c-4 'may be converted into green light by the third phosphor layer 2180-2 .

제1 발광 셀(2100c-1')의 발광 면적은 제2 내지 제3 발광 셀들(2100c-2' 내지 2100c-3') 각각의 발광 면적보다 작을 수 있다. 이는 제1 형광체층(2180-1으로부터 발생하는 백색광이 제2 형광체층(2180-2)에 의한 적색광, 제3 발광 셀(2100c-3')로부터 발생하는 청색광, 및 제3 형광체층(2180-3)에 의한 녹색광의 혼합으로 인한 백색광보다 더 강하기 때문이다.The light emitting area of the first light emitting cell 2100c-1 'may be smaller than the light emitting area of each of the second to third light emitting cells 2100c-2' to 2100c-3 '. This is because the white light generated from the first phosphor layer 2180-1 is reflected by the second phosphor layer 2180-2, the blue light generated from the third light emitting cell 2100c-3 ', and the third phosphor layer 2180- 3) is stronger than the white light due to the mixing of green light.

또한 예컨대, 전체적인 시감도 및 휘도를 고려할 때, 시감도가 가장 민감한 녹색광을 발생하는 제1 형광체층(2180-1)에 대응하는 발광 셀(2100c-1')의 발광 면적이 가장 클 수 있다Further, for example, in consideration of the overall visual sensitivity and luminance, the light emitting area of the light emitting cell 2100c-1 'corresponding to the first phosphor layer 2180-1 generating the most sensitive green light may be largest

또한 형광체층에 의하여 청색광에 비하여 적색광이 효율이 더 저하되기 때문에, 적색 형광체를 포함하는 제2 형광체층(2180-2)에 대응하는 발광 셀(2100c-2')의 발광 면적이 청색광을 발생하는 발광 셀(예컨대, 2100c-3')의 발광 면적보다 더 클 수 있다.Further, since the efficiency of the red light is further lowered by the phosphor layer as compared with the blue light, the light emitting area of the light emitting cell 2100c-2 'corresponding to the second phosphor layer 2180-2 including the red phosphor generates blue light May be larger than the light emitting area of the light emitting cell (e.g., 2100c-3 ').

도 31a는 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자(2100-5)의 상측 평면도를 나타내고, 도 31b는 도 31a에 도시된 발광 소자(2100-5)의 하측 평면도를 나타낸다.FIG. 31A is a top plan view of the light emitting device 2100-5 according to another embodiment, and FIG. 31B is a bottom plan view of the light emitting device 2100-5 shown in FIG. 31A.

또한 도 31a 및 도 31b의 CD 방향의 단면도는 도 29a에 도시된 바와 동일할 수 있으며, 도 31a 및 도 31b의 CD 방향의 단면도는 도 29a를 참조한다. 이 경우 도 31a의 제1 전극들(2134a-1, 2134a-2)은 도 29a의 제1 전극들(2130-1,2130-2)에 대응할 수 있고, 도 31a의 패시베이션층(2120d)는 도 29a의 패시베이션층(2120b)에 대응할 수 있다.31A and 31B may be the same as those shown in Fig. 29A, and cross-sectional views in the CD direction in Figs. 31A and 31B refer to Fig. 29A. In this case, the first electrodes 2134a-1 and 2134a-2 in FIG. 31A can correspond to the first electrodes 2130-1 and 2130-2 in FIG. 29A, and the passivation layer 2120d in FIG. The passivation layer 2120b of FIG.

도 31a 및 도 31b에 도시된 발광 소자(2100-5)는 3개의 발광 셀들(2100d-1 내지 2100d-3), 패시베이션층(2120d), 제1 전극들(2130a-1, 2130a-2), 제1 전극 패드(2135b), 제2 전극들(미도시), 제2 전극 패드들(2145c-1 내지 2145c-3), 및 절연층(2150c)을 포함한다. 도 31a 및 도 31b의 실시 예의 제2 전극들은 도 29a의 제2 전극들(2140a-1 내지 2140a-3)에 대응하지만, 그 형상은 다를 수 있다.The light emitting device 2100-5 shown in FIGS. 31A and 31B includes three light emitting cells 2100d-1 to 2100d-3, a passivation layer 2120d, first electrodes 2130a-1 and 2130a-2, (Not shown), second electrode pads 2145c-1 to 2145c-3, and an insulating layer 2150c. The first electrode pad 2135b, second electrodes (not shown) The second electrodes of the embodiment of Figs. 31A and 31B correspond to the second electrodes 2140a-1 to 2140a-3 of Fig. 29A, but the shapes thereof may be different.

3개의 발광 셀들(2100d-1 내지 2100d-3), 패시베이션층(2120d), 제1 전극들(2130a-1 내지 2130a-3)은 도 28a 및 도 29a에서 설명한 바와 유사한 구조를 가질 수 있다.The three light emitting cells 2100d-1 to 2100d-3, the passivation layer 2120d, and the first electrodes 2130a-1 to 2130a-3 may have a structure similar to that described with reference to Figs. 28A and 29A.

도 28a 및 도 29a의 실시 예(2000-3)에서는 제2 전극 패드들(2145a-1 내지 2145a-3) 각각이 발광 셀들(2100b-1 내지 2100b-3) 중 대응하는 어느 하나의 하면 아래에 배치될 수 있다. 즉 제2 전극 패드들(2145a-1 내지 2145a-3) 각각은 발광 셀들(2100b-1 내지 2100b-3) 중 대응하지 않는 발광 셀과는 수직 방향으로 오버랩되지 않는다. 여기서 수직 방향은 발광 셀의 제1 도전형 반도체층에서 제2 도전형 반도체층으로 향하는 방향일 수 있다.In the embodiment 2000-3 of Figs. 28A and 29A, each of the second electrode pads 2145a-1 to 2145a-3 is formed under one of the corresponding one of the light emitting cells 2100b-1 to 2100b-3 . That is, each of the second electrode pads 2145a-1 to 2145a-3 does not overlap in the vertical direction with the non-corresponding light emitting cells 2100b-1 to 2100b-3. Here, the vertical direction may be a direction from the first conductive semiconductor layer of the light emitting cell to the second conductive semiconductor layer.

반면에, 도 31b의 실시 예(2000-5)에서는 제2 전극 패드들(2145c-1 내지 2145c-3) 각각은 발광 셀들(2100d-1 내지 2100d-3) 중 대응하는 어느 하나의 하면 아래에 배치될 수 있으며, 제2 전극 패드들(2145c-1 내지 2145c-3) 중 적어도 하나는 발광 셀들(2100d-1 내지 2100d-3) 중 대응하지 않는 어느 하나의 하면 아래까지 확장될 수 있다. On the other hand, in the embodiment 2000-5 of FIG. 31B, each of the second electrode pads 2145c-1 to 2145c-3 is formed under one of the corresponding one of the light emitting cells 2100d-1 to 2100d-3 And at least one of the second electrode pads 2145c-1 to 2145c-3 may extend below any one of the light-emitting cells 2100d-1 to 2100d-3, which are not corresponding to each other.

예컨대, 제2 전극 패드들(2145c-1 내지 2145c-3) 중 적어도 하나는 발광 셀들(2100d-1 내지 2100d-3) 중 대응하지 않는 발광 셀과 수직 방향으로 오버랩될 수 있다.For example, at least one of the second electrode pads 2145c-1 to 2145c-3 may vertically overlap with a corresponding one of the light emitting cells 2100d-1 to 2100d-3.

또한 도 28a, 도 28b, 및 도 29a의 실시 예에서는 제1 전극들(2130-1, 2130-2)이 서로 이격하여 분리되고, 제1 전극들(2130-1, 2130-2) 중 대응하는 어느 하나와 연결되는 제1 전극 패드들(2135a-1, 2135a-2)이 서로 이격되어 분리될 수 있다.In the embodiment of FIGS. 28A, 28B and 29A, the first electrodes 2130-1 and 2130-2 are separated from each other, and the corresponding one of the first electrodes 2130-1 and 2130-2 The first electrode pads 2135a-1 and 2135a-2 connected to any one of them may be separated from each other.

반면에, 도 31a 및 도 31b의 실시 예에서는 제1 전극들(2130a-1, 2130a-2)은 서로 이격하여 분리되지만, 제1 전극들(2130a-1, 2130a-2)은 하나의 제1 전극 패드(2135b)에 공통 접속될 수 있다.On the other hand, in the embodiment of FIGS. 31A and 31B, the first electrodes 2130a-1 and 2130a-2 are separated from each other, but the first electrodes 2130a-1 and 2130a- And may be commonly connected to the electrode pad 2135b.

예컨대, 제1 전극들(2130a-1, 2130a-2)의 관통 전극들(예컨대, 도 29a의 2132a-1, 2132a-2)은 제1 전극 패드(2135b)에 공통 접속될 수 있다.For example, the through electrodes (for example, 2132a-1 and 2132a-2 in FIG. 29A) of the first electrodes 2130a-1 and 2130a-2 may be connected in common to the first electrode pad 2135b.

예컨대, 제1 전극 패드(2135b)는 제1 패드부(2135b1) 및 제1 패드부(2135b1)로부터 확장되고, 제1 전극들(2130a-1, 2130a-2)의 관통 전극들(예컨대, 도 29a의 2132a-1, 2132a-2)과 연결 또는 접촉되는 제1 확장 패드부들(2135b2, 2135b3)을 포함할 수 있다.For example, the first electrode pad 2135b extends from the first pad portion 2135b1 and the first pad portion 2135b1, and extends through the through electrodes (e.g., the first electrode pad 2135a) of the first electrodes 2130a-1 and 2130a- And first extension pad portions 2135b2 and 2135b3 connected to or in contact with the first extension pad portions 2132a-1 and 2132a-2.

제1 패드부(2135b1)는 발광 구조물의 하면의 모서리들 중 어느 하나에 인접하여 배치될 수 있다. 전류 분산을 위하여, 제1 패드부(2135b1)는 절연층(2150c)에 의하여 관통 전극 및 발광 구조물로부터 절연될 수 있다.The first pad portion 2135b1 may be disposed adjacent to any one of the bottom edges of the light emitting structure. For current dispersion, the first pad portion 2135b1 may be insulated from the penetrating electrode and the light emitting structure by an insulating layer 2150c.

제1 확장 패드부들(2135b2, 2135b3) 각각은 발광 구조물의 하면의 제1변에서 제2 변으로 향하는 방향으로 연장되는 제1 연장 부분을 포함할 수 있다. 이때 제1 변과 제2 변은 서로 마주보는 면일 수 있다.Each of the first extension pad portions 2135b2 and 2135b3 may include a first extending portion extending in a direction from the first side to the second side of the lower surface of the light emitting structure. At this time, the first side and the second side may be faces facing each other.

제2 전극 패드들(2145c-1 내지 2145c-3) 각각은 제2 패드부(2145c1, 2145c3, 2145c5), 및 제2 패드부(2145c1, 2145c3, 2145c5)로부터 확장되는 제2 확장 패드부(2145c2, 2145c4, 2145c6)를 포함할 수 있다.Each of the second electrode pads 2145c-1 to 2145c-3 includes a second pad portion 2145c1, 2145c3, and 2145c5 and a second extension pad portion 2145c2 extending from the second pad portions 2145c1, 2145c3, , 2145c4, 2145c6).

제2 패드부들(2145c1, 2145c3, 2145c5)은 발광 구조물의 하면의 모서리들 중 나머지 모서리들에 인접하여 배치될 수 있다.The second pad portions 2145c1, 2145c3, and 2145c5 may be disposed adjacent to the remaining one of the lower edges of the light emitting structure.

전류 분산을 위하여, 제2 패드부들(2145c1, 2145c3, 2145c5)은 절연층(2150c)에 의하여 제2 전극들(도 8a의 2140a-1 내지 2140a-3) 및 발광 구조물로부터 절연될 수 있다.For current dispersion, the second pad portions 2145c1, 2145c3, and 2145c5 may be insulated from the second electrodes (2140a-1 to 2140a-3 in FIG. 8A) and the light emitting structure by an insulating layer 2150c.

제2 확장 패드부들(2145c2, 2145c4, 2145c6) 각각은 제2 전극들(도 8a의 2140a-1 내지 2140a-3) 중 대응하는 어느 하나와 연결 또는 접촉될 수 있다.Each of the second extension pad portions 2145c2, 2145c4, and 2145c6 may be connected to or contact with any one of the second electrodes (2140a-1 to 2140a-3 in FIG. 8A).

제2 확장 패드부들(2145c2, 2145c4, 2145c6) 각각은 발광 구조물의 하면의 제1변에서 제2 변으로 향하는 방향, 또는 그 반대 방향으로 연장되는 제2 연장 부분을 포함할 수 있다.Each of the second extension pad portions 2145c2, 2145c4, and 2145c6 may include a second extending portion extending in a direction from the first side to the second side of the lower surface of the light emitting structure, or vice versa.

제1 확장 패드부들(2135b2, 2135b3)의 제1 연장 부분들 및 제2 확장 패드부들(2145c2, 2145c4, 2145c6)의 제2 연장 부분들 발광 구조물의 하면의 제1변에서 제2 변으로 향하는 방향과 수직한 방향으로 서로 교대로 배치될 수 있다. The first extension portions of the first extension pad portions 2135b2 and 2135b3 and the second extension portions of the second extension pad portions 2145c2, 2145c4, and 2145c6 extend in the direction from the first side to the second side of the lower surface of the light emitting structure And can be alternately arranged in the direction perpendicular to the direction of the arrow.

제1 전극 패드를 발광 셀들(2100d-1 내지 2100d-3)에 대한 공통 n형 전극으로 사용하기 때문에, 실시 예(2000-5)는 작은 사이즈를 갖는 발광 구조물에 전극 패드의 형성이 용이할 수 있다. 또한 제1 확장 패드부들(2135b2, 2135b3) 및 제2 확장 패드부들(2145c2, 2145c4, 2145c6)이 서로 교번하여 배치되기 때문에 실시 예(2000-5)는 전류 분산을 통하여 발광 소자(2000-5)의 광 효율을 향상시킬 수 있다.Since the first electrode pad is used as a common n-type electrode for the light emitting cells 2100d-1 to 2100d-3, the embodiment 2000-5 can easily form electrode pads in the light emitting structure having a small size have. Since the first extension pad portions 2135b2 and 2135b3 and the second extension pad portions 2145c2, 2145c4, and 2145c6 are alternately arranged, the embodiment 2000-5 includes the light emitting device 2000-5 through current dispersion, It is possible to improve the light efficiency.

도 32a는 또 다른 실시 예에 따른 발광 소자(2100-6)의 상측 평면도를 나타내고, 도 32b는 도 32a에 도시된 발광 소자(2100-6)의 하측 평면도를 나타내고, 도 33a는 도 32a에 도시된 발광 소자(2000-6)의 EF 방향의 단면도를 나타내고, 도 33b는 도 32a에 도시된 발광 소자(2000-6)의 GH 방향의 단면도를 나타낸다.32A is a top plan view of the light emitting device 2100-6 according to yet another embodiment, Fig. 32B is a bottom plan view of the light emitting device 2100-6 shown in Fig. 32A, Fig. FIG. 33B shows a cross-sectional view in the GH direction of the light emitting device 2000-6 shown in FIG. 32A. FIG.

도 32a 내지 도 33b를 참조하면, 발광 소자(2000-6)는 발광 셀들(2100e-1 내지 2100e-3), 패시베이션층(2120e), 제1 전극들(2130e1 내지 2130e4), 제1 전극 패드(2135e), 제2 전극들(2140e1 내지 21440e3), 제2 전극 패드들(2145e1 내지 2145e3), 및 절연층(2150c)을 포함한다.32A to 33B, the light emitting device 2000-6 includes the light emitting cells 2100e-1 to 2100e-3, the passivation layer 2120e, the first electrodes 2130e1 to 2130e4, the first electrode pad Second electrodes 2140e1 to 21440e3, second electrode pads 2145e1 to 2145e3, and an insulating layer 2150c.

도 24, 도 27a, 도 28a, 도 30a, 도 31a에서는 인접하는 2개의 발광 셀들의 제1 도전형 반도체층을 연결 또는 접촉하는 상부 전극 및 관통 전극이 하나인 반면에, 도 32a 및 도 33a에서는 인접하는 2개의 발광 셀들(2110e-1과 2110e-2, 및 2110e-2와 2110e-3)의 제1 도전형 반도체층에 연결 또는 접촉하는 상부 전극 및 관통 전극 각각의 개수는 복수(예컨대, 2개)일 수 있다.In FIGS. 24, 27A, 28A, 30A, and 31A, there is one upper electrode and a through electrode for connecting or contacting the first conductive semiconductor layers of two adjacent light emitting cells, whereas in FIGS. 32A and 33A The number of upper electrodes and the number of through electrodes connected to or in contact with the first conductivity type semiconductor layers of the two adjacent light emitting cells 2110e-1 and 2110e-2, and 2110e-2 and 2110e-3 are plural ).

서로 이격하는 제1 전극들(예컨대, 2130e1 및 2130e3) 각각은 어느 인접하는 2개의 발광 셀들(예컨대, 2110e-1과 2110e-2)의 제1 도전형 반도체층에 공통 연결 또는 접촉될 수 있다.Each of the first electrodes (e.g., 2130e1 and 2130e3) that are spaced apart from each other may be commonly connected or contacted with the first conductive type semiconductor layer of two adjacent light emitting cells (e.g., 2110e-1 and 2110e-2).

패시베이션층(2120e)은 제1 전극들(2130e1, 2130e2)과 발광 구조물들(2110-1,2110-2)의 측면들 사이, 및 발광 셀들의 발광 구조물들의 측면들 중 서로 마주보는 측면들 사이에 배치되는 제1 패시베이션층(2122e), 및 발광 셀들(2100-1,2100-2) 각각의 제1 도전형 반도체층(2112-1,2112-2) 상면 상에 배치되는 제2 패시베이션층(2124e)을 포함할 수 있다.The passivation layer 2120e is formed between the first electrodes 2130e1 and 2130e2 and the side surfaces of the light emitting structures 2110-1 and 2110-2 and between the side surfaces of the light emitting structures facing each other And a second passivation layer 2124e disposed on the upper surfaces of the first conductivity type semiconductor layers 2112-1 and 2112-2 of the light emitting cells 2100-1 and 2100-2, ).

제1 전극들(2130e1 내지 2130e4) 각각은 상부 전극(2134e1,2134e2), 관통 전극(2132e1,2132e2), 및 접촉 전극들(2136e1와 2136e2, 2136e3와 2136e4)을 포함할 수 있다. Each of the first electrodes 2130e1 to 2130e4 may include upper electrodes 2134e1 and 2134e2, through electrodes 2132e1 and 2132e2 and contact electrodes 2136e1 and 2136e2, 2136e3 and 2136e4.

절연층(2150e)은 발광 셀들(2100b-1 내지 2100b-3) 각각의 제2 도전형 반도체층(2116a-1 내지 2116a-3)의 하면에 배치되는 제1 절연층(2152e), 및 발광 셀들(2100e-1 내지 2100e-3) 각각의 발광 구조물의 외측면들에 배치되는 제2 절연층(2154e)을 포함할 수 있다.The insulating layer 2150e includes a first insulating layer 2152e disposed on the lower surfaces of the second conductivity type semiconductor layers 2116a-1 to 2116a-3 of the light emitting cells 2100b-1 to 2100b-3, And a second insulating layer 2154e disposed on the outer surfaces of the respective light emitting structures 2100e-1 to 2100e-3.

도 32b를 참조하면, 제1 전극 패드(2135e)는 제1 절연층(2152e) 아래에 배치되며, 제1 절연층(2152e)을 관통하는 제1 전극들(2130e1 내지 2130e4)의 관통 전극들(2132e1,2132e2)과 연결 또는 접촉될 수 있다.Referring to FIG. 32B, the first electrode pad 2135e is disposed under the first insulating layer 2152e and penetrates through the first electrodes 2130e1 to 2130e4 penetrating the first insulating layer 2152e 2132e1, 2132e2, respectively.

예컨대, 제1 전극 패드(2135e)는 발광 셀들 각각의 발광 구조물의 외측면에 인접하는 가장 자리 아래에 위치하는 제1 절연층(2152e) 아래에 배치될 수 있으며, 관통 전극들(2132e1,2132e2)과 수직 방향으로 오버랩될 수 있다.For example, the first electrode pad 2135e may be disposed under the first insulating layer 2152e located at the edge of the light emitting structure of the light emitting structure adjacent to the outer surface of the light emitting structure, and the penetrating electrodes 2132e1, 2132e2, In the vertical direction.

제2 전극들(2140e1 내지 2140e3) 각각은 발광 셀들 중 대응하는 어느 하나의 제2 도전형 반도체층의 하면 상에 배치된다.Each of the second electrodes 2140e1 to 2140e3 is disposed on the lower surface of the corresponding one of the light emitting cells.

제2 전극 패드들(2145e1 내지 2145e3)은 제2 전극들 중 대응하는 어느 하나 아래에 배치될 수 있다.And the second electrode pads 2145e1 to 2145e3 may be disposed under a corresponding one of the second electrodes.

도 32b를 참조하면, 제2 전극 패드들(2145e1 내지 2145e3) 중 어느 하나(예컨대, 2145e2)는 발광 셀들(2100e-1 내지 2100e-3) 중 중앙에 위치하는 어느 하나와 수직 방향으로 오버랩되도록 배치될 수 있다. 그리고 나머지 제2 전극 패드들(예컨대, 2145e1, 2145e3)은 직경이 서로 다른 링 형상을 가질 수 있으며, 발광 셀들(2100e-1 내지 2100e-3) 중 중앙에 위치하는 어느 하나를 기준으로 동심원을 이루도록 배치될 수 있다.Referring to FIG. 32B, one of the second electrode pads 2145e1 to 2145e3 (for example, 2145e2) is arranged to vertically overlap with any one of the light emitting cells 2100e-1 to 2100e-3 . The second electrode pads 2145e1 and 2145e3 may have a ring shape having different diameters and may be formed concentrically with respect to any one of the light emitting cells 2100e-1 to 2100e-3 located at the center of the light emitting cells 2100e-1 to 2100e-3. .

제1 전극 패드(2135e)와 제2 전극 패드들(2145e3) 사이 및 제2 전극 패드들 (2145e1 내지 2145e3) 사이에는 제2 절연층(2152e)이 배치될 수 있다.A second insulating layer 2152e may be disposed between the first electrode pad 2135e and the second electrode pads 2145e3 and between the second electrode pads 2145e1 through 2145e3.

제2 전극 패드들(예컨대, 2145e1, 2145e3)이 동심원을 이루도록 배치되고, 제1 전극 패드(2135e)가 최외곽에 위치하는 제2 전극 패드(2145e3)를 감싸도록 제2 전극 패드(2145e)의 바깥쪽에 배치됨으로 인하여, The second electrode pads 2145e1 and 2145e3 are arranged concentrically and the first electrode pads 2135e surround the second electrode pads 2145e3 located at the outermost positions, Because of its placement on the outside,

발광 소자(2000-6)를 패키지 바디(package body), 서브 마운트(submount), 또는 기판 등에 실장할 때, 방향성의 관점에서 배치가 용이함과 동시에 자유로울 수 있다.When the light emitting device 2000-6 is mounted on a package body, a submount, or a substrate, the arrangement is easy and free from the viewpoint of directionality.

또한 발광 소자의 제1 및 제2 전극 패드들(2135e, 2145e1 내지 2145e3)과 패키지 바디(package body), 서브 마운트(submount), 또는 기판 등의 도전층들의 정렬이 일부 틀어지더라도, 접촉 불량 또는 쇼트 발생을 억제할 수 있다. Even if the first and second electrode pads 2135e and 2145e1 to 2145e3 of the light emitting device are partially misaligned with the conductive layers such as the package body, submount, or substrate, The occurrence of short can be suppressed.

도 24, 도 26a, 도 27a 및 도 27b, 도 29a, 도 30a 및 도 30b, 도 31a 및 도 31b, 도 32a 및 도 32b에 도시된 발광 소자(2100, 2100-1 내지 2100-6)는 칩 사이즈(예컨대, 칩의 최대 직경)가 100 마이크로 미터 미만일 수 있다. 이와 같이 직경이 100 마이크로 미만인 발광 소자(2100, 2100-1 내지 2100-6)는 와이어 본딩을 위한 본딩 패드의 형성이 용이하지 않다.The light emitting devices 2100 and 2100-1 to 2100-6 shown in FIGS. 24, 26A, 27A and 27B, 29A, 30A and 30B, 31A and 31B, The size (e.g., maximum diameter of the chip) may be less than 100 micrometers. In the light emitting devices 2100 and 2100-1 to 2100-6 having a diameter of less than 100 micrometers, it is not easy to form a bonding pad for wire bonding.

실시 예에 따른 발광 소자(2100, 2100-1 내지 2100-6)는 발광 구조물 및 절연층을 모두 통과하는 제1 전극을 구비하고, 플립 칩 본딩 또는 다이 본딩을 위한 제1 전극 패드(예컨대, n형 전극 패드) 및 제2 전극 패드(예컨대, p형 전극 패드)가 발광 구조물의 동일 측에 배치됨으로써, 칩 사이즈(예컨대, 칩의 최대 직경)가 100 마이크로 미터 미만인 경우에도 제1 및 제2 전극 패드들을 용이하게 구현할 수 있다.The light emitting devices 2100 and 2100-1 to 2100-6 according to the embodiment include a first electrode passing through both the light emitting structure and the insulating layer and the first electrode pads for flip chip bonding or die bonding (For example, a maximum diameter of a chip) of less than 100 micrometers is disposed on the same side of the light emitting structure, the first and second electrodes (e.g., the first electrode pad and the second electrode pad) Pads can be easily implemented.

도 34는 실시 예에 따른 조명 장치(2200)의 단면도를 나타낸다.34 shows a cross-sectional view of a lighting device 2200 according to an embodiment.

도 34를 참조하면, 조명 장치(2200)는 기판(2510), 몸체(2520), 적어도 하나의 발광 소자(예컨대, 2530-1 내지 2530-5), 및 투광성 부재(2540)를 포함한다.34, the illumination device 2200 includes a substrate 2510, a body 2520, at least one light emitting device (e.g., 2530-1 to 2530-5), and a light transmitting member 2540. [

기판(2510)은 제1 내지 제3 배선층들(2512, 2514-1, 2514-2), 및 절연층(2515)을 포함하는 인쇄회로기판일 수 있다. 예컨대, 기판(2510)은 연성회로기판일 수 있다.The substrate 2510 may be a printed circuit board including the first to third wiring layers 2512, 2514-1, and 2514-2, and the insulating layer 2515. [ For example, the substrate 2510 may be a flexible circuit board.

제1 내지 제3 배선층들(2512, 2514-1, 2514-2)은 기판(2510) 상에 서로 이격하여 배치될 수 있으며, 절연층(2515)은 제1 내지 제3 배선층들(2512, 2514-1, 2514-2) 사이의 기판(2510)의 상면 상에 배치되어 제1 내지 제3 배선층들(2512, 2514-1, 2514-2) 간을 전기적으로 절연시킬 수 있다. 또는 다른 실시 예에서는 절연층(2515)은 생략될 수도 있다.The first to third wiring layers 2512, 2514-1 and 2514-2 may be spaced apart from each other on the substrate 2510 and the insulating layer 2515 may include first to third wiring layers 2512 and 2514 -1, and 2514-2 on the upper surface of the substrate 2510 to electrically insulate the first to third wiring layers 2512, 2514-1, and 2514-2 from each other. Or in other embodiments the insulating layer 2515 may be omitted.

적어도 하나의 발광 소자(예컨대, 2530-1 내지 2530-5)는 기판(2510) 상에 배치되며, 제1 내지 제2 배선층들(2512, 2514-1, 2514-2)과 전기적으로 연결된다.At least one light emitting device (e.g., 2530-1 to 2530-5) is disposed on the substrate 2510 and electrically connected to the first to second wiring layers 2512, 2514-1, and 2514-2.

적어도 하나의 발광 소자(예컨대, 2530-1 내지 2530-5)는 상술한 실시 예에 따른 발광 소자들(2000, 2000-1 내지 2000-6) 중 어느 하나일 수 있다.At least one light emitting device (e.g., 2530-1 to 2530-5) may be any one of the light emitting devices 2000, 2000-1 to 2000-6 according to the above-described embodiment.

도 10의 몸체(520), 및 투광성 부재(540)에 대한 설명은 도 34의 몸체(2520) 및 투광성 부재(2540)에 적용될 수 있다.The description of the body 520 and the light-transmissive member 540 in Fig. 10 can be applied to the body 2520 and the light-transmissive member 2540 in Fig.

또한 예컨대, 조명 장치(2200)가 복수 개의 발광 소자들(예컨대, 2530-1 내지 2530-5)을 구비하고, 복수 개의 발광 소자들(예컨대, 2530-1 내지 2530-5) 각각은 2개 이상의 서로 다른 파장을 갖는 광들(2601, 2602)을 발생할 수 있다.For example, the illumination device 2200 may include a plurality of light emitting elements (e.g., 2530-1 to 2530-5), and each of the plurality of light emitting elements (e.g., 2530-1 to 2530-5) It is possible to generate lights 2601 and 2602 having different wavelengths.

예컨대, 도 34의 실시 예의 복수의 발광 소자들(예컨대, 2530-1 내지 2530-5) 각각은 도 24, 도 26a, 또는 도 27a의 실시 예일 수 있으며, 2개의 발광 셀들(2100-1 내지 2100-2, 2100a-1 내지 2100a-2) 각각은 적색광, 녹색광, 또는 청색광 중에서 선택된 2개의 광들(2601, 2602)을 발생할 수 있으며, 실시 예는 이미지를 표현하는 디스플레이 장치의 광원, 예컨대, 화소로 구현될 수도 있다.For example, each of the plurality of light emitting elements (e.g., 2530-1 to 2530-5) of the embodiment of FIG. 34 may be the embodiment of FIG. 24, FIG. 26A, or FIG. 27A and two light emitting cells 2100-1 to 2100 2, and 2100a-1 to 2100a-2 may generate two lights 2601 and 2602 selected from red light, green light, and blue light, and the embodiment may include a light source of a display device that displays an image, .

실시 예에 따른 발광 소자들은 두께를 줄일 수 있기 때문에, 이를 포함하는 디스플레이 장치는 크기 예컨대, 두께를 줄일 수 있다.Since the light emitting devices according to the embodiments can reduce the thickness, the display device including the same can reduce the size, for example, the thickness.

도 35는 또 실시 예에 따른 조명 장치(2200-1)의 단면도를 나타낸다. 도 34와 동일한 도면 부호는 동일한 구성을 나타내며, 동일한 구성에 대해서는 설명을 간략하게 하거나 생략한다.Fig. 35 shows a cross-sectional view of a lighting apparatus 2200-1 according to another embodiment. The same reference numerals as those in FIG. 34 denote the same components, and a description of the same components will be simplified or omitted.

도 35에 도시된 조명 장치(2200-1)의 발광 소자들(2531 내지 2531-5) 각각은 도 29a, 도 31a, 또는 도 32a의 실시 예들 중 어느 하나일 수 있다.Each of the light emitting elements 2531 to 2531-5 of the illumination device 2200-1 shown in Fig. 35 may be any of the embodiments of Figs. 29A, 31A, or 32A.

발광 소자들(2531 내지 2531-5) 각각의 제1 전극 패드들은 서로 이격하는 배선층들(2512-1, 2512-2) 중 대응하는 어느 하나와 본딩될 수 있고, 발광 소자들(2531 내지 2531-5) 각각의 제2 전극 패드들은 서로 이격하는 배선층들(2514a-1 내지 2514a-3) 중 대응하는 어느 하나와 본딩될 수 있다.The first electrode pads of each of the light emitting elements 2531 to 2531-5 may be bonded to any one of the wiring layers 2512-1 and 2512-2 which are spaced apart from each other and the light emitting elements 2531 to 2531- 5) Each of the second electrode pads may be bonded to any one of the wiring layers 2514a-1 to 2514a-3 spaced from each other.

발광 소자들(2531 내지 2531-5) 각각의 3개의 발광 셀들(2100b-1 내지 2100b-3, 2100d-1 내지 2100d-3, 2100e-1 내지 2100e-3)은 적색광(Red, 2701), 녹색광(Green, 2702) 및 청색광(Blue, 2703)을 발생할 수 있으며, 실시 예는 이미지를 표현하는 디스플레이 장치의 광원, 예컨대, 화소로 구현될 수도 있다.The three light emitting cells 2100b-1 to 2100b-3, 2100d-1 to 2100d-3 and 2100e-1 to 2100e-3 of the light emitting elements 2531 to 2531-5 are respectively connected to the red light 2701, (Green) 2702 and blue light (Blue) 2703, and the embodiment may be implemented with a light source of a display device that displays an image, for example, a pixel.

도 36은 실시 예에 따른 디스플레이 장치(3000)의 평면도를 나타내고, 도 37은 도 36에 도시된 디스플레이 장치의 AA' 방향의 일 실시 예에 따른 단면도를 나타낸다.FIG. 36 shows a plan view of a display device 3000 according to the embodiment, and FIG. 37 shows a cross-sectional view according to an embodiment of the display device shown in FIG.

도 36의 디스플레이 장치(3000)에는 휴대폰, 스마트 폰(smart phone), 노트북 컴퓨터, 디지털 방송용 단말기, PDA(Personal Digital Assistants), PMP(Portable Miltimedia Player), 네비게이션, 슬레이트 피시(Slate PC), 테블릿(Tablet) PC, 디지털 TV, 및 데스크탑 컴퓨터 등이 포함될 수 있으며, 평판 디스플레이 또는 플렉서블 디스플레이(flexible display)로 구현될 수도 있다. 또한 디스플레이 장치(3000)는 화소 어레이 또는 디스플레이 패널로 구현될 수도 있다.The display device 3000 shown in FIG. 36 includes a mobile phone, a smart phone, a notebook computer, a digital broadcasting terminal, a PDA (Personal Digital Assistants), a PMP (Portable Miltimedia Player), a navigation device, a slate PC, A tablet PC, a digital TV, and a desktop computer, and may be implemented as a flat panel display or a flexible display. The display device 3000 may also be implemented as a pixel array or a display panel.

디스플레이 장치(3000)에 의해 표현되는 시각 정보는 매트릭스 형태로 배치되는 단위 화소(sub-pixel)의 발광이 제어됨으로써 구현될 수 있다. 이때 단위 화소는 R(Red), G(Green), B(Blue)의 조합에 의하여 형성되는 하나의 색을 구현하기 위한 최소 단위일 수 있다. 상술한 실시 예에 따른 발광 소자는 디스플레이 장치(3000)의 단위 화소의 역할을 할 수 있다.The time information represented by the display device 3000 can be realized by controlling the emission of a unit pixel (sub-pixel) arranged in a matrix form. In this case, the unit pixel may be a minimum unit for implementing one color formed by a combination of R (Red), G (Green), and B (Blue). The light emitting device according to the above-described embodiment may serve as a unit pixel of the display device 3000.

도 36 및 도 37을 참조하면, 디스플레이 장치(3000)는 기판(3100), 제1 배선 전극(3112), 제2 배선 전극(3114), 격벽(3520a)을 갖는 몸체(3520), 및 복수의 발광 소자들(예컨대, 3530-1 내지 3530-5)을 포함하는 매트릭스 형태의 단위 화소들 (P11 내지 Pnm, n,m>1인 자연수), 및 투광성 부재(3540)를 포함할 수 있다.36 and 37, the display device 3000 includes a substrate 3100, a first wiring electrode 3112, a second wiring electrode 3114, a body 3520 having a partition wall 3520a, and a plurality of (A natural number of P11 to Pnm, n, m> 1) in the form of a matrix including light emitting elements (for example, 3530-1 to 3530-5), and a light transmitting member 3540.

예컨대, 디스플레이 장치(3000)는 기판(3100) 및 매트릭스 형태의 단위 화소들 (P11 내지 Pnm, n,m>1인 자연수)을 포함하는 화소 어레이로 구현될 수도 있다.For example, the display device 3000 may be implemented as a pixel array including a substrate 3100 and unit pixels (P11 to Pnm, n, m> 1) in the form of a matrix.

기판(3100)은 플렉서블 기판일 수 있다.The substrate 3100 may be a flexible substrate.

예컨대, 기판(3100)은 도전형 물질, 예컨대, Cu, Ni 등일 수 있고, 플레이트(plate) 형태로 붙이거나, 도금 등의 성장을 통하여 형성될 수 있다.For example, the substrate 3100 can be a conductive material, such as Cu, Ni, etc., and can be attached in the form of a plate, or formed through growth such as plating.

또한 예컨대, 기판(3100)은 절연성을 위하여 절연 재질, 예컨대, SiO2, TiO2, Al2O3, 폴리머(예컨대, 폴리이미드(Polyimide)), EMC, 세라믹 재질, PEN(Polyethylene Naphthalate), 또는 PET(Polyethylene Terephthalate) 등을 포함할 수 있으며, 플레이트 형태로 붙이거나, 성장 방법에 의하여 형성할 수 있다. 예컨대, 기판(3100)의 재질이 EMC, 또는 세라믹 재질일 경우에는 코팅의 방법으로 기판(3100) 형성이 가능하다.In addition, for example, the substrate 3100 is an insulating material, e.g., SiO 2, TiO2, Al 2 O 3, polymer (e.g., polyimide (Polyimide)), EMC, ceramic materials, PEN (Polyethylene Naphthalate), for insulation, or PET (Polyethylene terephthalate), etc., and they can be formed in a plate form or can be formed by a growth method. For example, when the material of the substrate 3100 is EMC or a ceramic material, the substrate 3100 can be formed by a coating method.

또한 예컨대, 기판(3100)은 투광성일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시 예에서는 불투광성일 수도 있다.Also, for example, the substrate 3100 may be transmissive, but is not limited thereto, and may be opaque in other embodiments.

복수의 발광 소자들(예컨대, 3530-1 내지 3530-5)은 기판(3100) 상에 m×n 매트릭스 형태로 배치될 수 있다. 도 37에는 5개의 발광 소자만을 도시하나, 디스플레이 장치(3000)의 발광 소자들의 수는 m×n 매트릭스에 포함된 개수일 수 있다.A plurality of light emitting elements (e.g., 3530-1 to 3530-5) may be disposed on the substrate 3100 in the form of an mxn matrix. 37 shows only five light emitting devices, but the number of light emitting devices of the display device 3000 may be a number included in the mxn matrix.

격벽(3520a)은 복수의 발광 소자들(예컨대, 3530-1 내지 3530-5) 사이에 배치되며, 디스플레이 장치(3000)의 목적에 따라 콘트라스트(contrast)를 높이기 위하여 블랙(Black) 절연체를 포함하거나 또는 반사성을 높이기 위하여 화이트(white) 절연체를 포함할 수 있다. The barrier ribs 3520a are disposed between the plurality of light emitting devices 3530-1 to 3530-5 and include a black insulator to enhance the contrast according to the purpose of the display device 3000 Or a white insulator to enhance reflectivity.

도 10의 격벽(520a), 몸체(520), 투광성 부재(540)에 대한 설명이 격벽(3520a), 몸체(3520), 투광성 부재(3540)에 적용될 수 있다.The description of the partition 520a, the body 520 and the light transmitting member 540 in Fig. 10 can be applied to the partition wall 3520a, the body 3520, and the light transmitting member 3540. [

발광 소자들(예컨대, 3530-1 내지 3530-5) 각각은 도 13, 도 16, 도 17a, 도 18a, 및 도 20a에 도시된 실시 예들 중 어느 하나일 수 있다.Each of the light emitting elements (e.g., 3530-1 to 3530-5) may be any of the embodiments shown in Figs. 13, 16, 17A, 18A, and 20A.

제1 배선 전극(3112)은 기판(3100)의 하면에 배치되고, 기판(3100)을 관통하여 발광 소자들(예컨대, 3530-1 내지 3530-5) 각각의 제1 전극(1130)의 일단, 예컨대, 확장 전극(1132)의 일단과 연결 또는 본딩된다.The first wiring electrode 3112 is disposed on the lower surface of the substrate 3100 and passes through the substrate 3100 and is connected to one end of the first electrode 1130 of each of the light emitting devices 3530-1 to 3530-5, For example, one end of the extension electrode 1132.

제2 배선 전극(3114)은 기판(3100)의 하면에 제1 배선 전극(3114)과 이격하여 배치되고, 기판(3100)을 관통하여 발광 소자들(예컨대, 3530-1 내지 3530-5) 각각의 제2 전극 패드(1145)에 연결 또는 본딩된다.The second wiring electrode 3114 is disposed on the lower surface of the substrate 3100 so as to be spaced apart from the first wiring electrode 3114 and passes through the substrate 3100 to form light emitting elements 3530-1 to 3530-5 The second electrode pad 1145 of the second electrode pad 1145 is connected or bonded.

제1 및 제2 배선 전극들(3112,3114) 각각은 기판(3100)의 하면으로부터 노출될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한 도 37에서는 제1 및 제2 배선 전극들(3112,3114)이 기판(3100)을 관통하지만, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시 예에서는 제1 및 제2 배선 전극들(3112,3114)은 기판(3100)을 관통하지 않고, 기판(3100) 상에 위치할 수도 있다.Each of the first and second wiring electrodes 3112 and 3114 may be exposed from the lower surface of the substrate 3100, but is not limited thereto. Although the first and second wiring electrodes 3112 and 3114 pass through the substrate 3100 in FIG. 37, the first and second wiring electrodes 3112 and 3114 are not limited thereto. In other embodiments, But may be located on the substrate 3100 without passing through the substrate 3100. [

도 36 및 도 37에는 도시되지 않았지만, 제1 및 제2 배선 전극들(3112,3114)의 전기적인 단락을 방지하기 위하여 실시 예는 제1 및 제 배선 전극들(3112,3114) 사이의 기판(3100) 하면 상에 절연층을 더 구비할 수 있다.Although not shown in FIGS. 36 and 37, in order to prevent an electrical short-circuit of the first and second wiring electrodes 3112 and 3114, the embodiment includes a substrate (not shown) between the first and the wiring electrodes 3112 and 3114 3100), it is possible to further include an insulating layer.

발광 소자들(예컨대, 3530-1 내지 3530-5) 각각은 청색광을 발생하는 발광 소자, 적색광을 발생하는 발광 소자, 및 녹색광을 발생하는 발광 소자를 포함하며, 행 방향 및 열 방향 각각으로 적색광을 발생하는 발광 소자, 녹색광을 발생하는 발광 소자, 및 청색광을 발생하는 발광 소자가 순차적으로 반복하여 배치될 수 있다. 이때 적색광, 녹색광, 청색광을 발생하는 발광 소자들, 예컨대, 단위 화소들이 하나의 이미지 화소(image pixel)을 이룰 수 있다.Each of the light emitting elements 3530-1 to 3530-5 includes a light emitting element that generates blue light, a light emitting element that generates red light, and a light emitting element that generates green light, and emits red light in the row direction and column direction, respectively A light emitting element for generating green light, and a light emitting element for generating blue light may be sequentially and repeatedly arranged. In this case, the light emitting elements, e.g., unit pixels, that emit red light, green light, and blue light may form one image pixel.

단위 화소 어레이에서 적색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역(이하 "적색 발광 영역"이라 함)의 면적, 녹색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역(이하 "녹색 발광 영역"이라 함)의 면적, 및 청색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역(이하 "청색 발광 영역"이라 함)의 면적은 서로 다를 수 있다. 예컨대, 발광 효율이 상대적으로 낮은 녹색 발광 영역의 면적과 적색 발광 영역의 면적이 청색 발광 영역의 면적보다 클 수 있다.(Hereinafter referred to as "green luminescent region") of the light emitting element that emits green light, and a blue light region (hereinafter referred to as " green luminescent region " (Hereinafter referred to as "blue light emitting region") of the light emitting element that emits light can be different from each other. For example, the area of the green light emitting region and the area of the red light emitting region, which have relatively low light emitting efficiency, may be larger than the area of the blue light emitting region.

예컨대, 녹색 발광 영역의 면적은 청색 발광 영역의 면적의 1배 ~ 4배일 수 있고, 적색 발광 영역의 면적은 청색 발광 영역의 면적의 1배 ~ 3 배일 수 있다.For example, the area of the green luminescent region may be 1 to 4 times the area of the blue luminescent region, and the area of the red luminescent region may be 1 to 3 times the area of the blue luminescent region.

또한 예컨대, 다른 실시 예에서는 적색 발광 영역 및 녹색 발광 영역의 면적은 서로 동일할 수도 있다.For example, in another embodiment, the areas of the red light emitting region and the green light emitting region may be equal to each other.

예컨대, 청색 발광 영역의 면적, 적색 발광 영역의 면적, 녹색 발광 영역의 면적의 비율은 1:2:3 또는 1:3:3일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the ratio of the area of the blue light emitting region, the area of the red light emitting region, and the area of the green light emitting region may be 1: 2: 3 or 1: 3: 3, but is not limited thereto.

도 38은 도 36에 도시된 디스플레이 장치의 AA' 방향의 다른 실시 예(3000-1)에 따른 단면도를 나타낸다.Fig. 38 shows a cross-sectional view along the AA 'direction of another embodiment (3000-1) of the display device shown in Fig.

도 38을 참조하면, 디스플레이 장치(3000-1)에 포함된 복수의 발광 소자들(예컨대, 3530-1' 내지 3530-5') 각각은 도 3, 도 6, 도 7a, 및 도 8a에 도시된 실시 예들 중 어느 하나일 수 있으며, 행 방향 및 열 방향 각각으로 적색광을 발생하는 발광 소자, 녹색광을 발생하는 발광 소자, 및 청색광을 발생하는 발광 소자가 순차적으로 반복하여 배치될 수 있다.Referring to FIG. 38, each of the plurality of light emitting devices (for example, 3530-1 'to 3530-5') included in the display device 3000-1 is shown in FIGS. 3, 6, 7A, And a light emitting element for generating red light, a light emitting element for generating green light, and a light emitting element for generating blue light may be sequentially and repeatedly arranged in the row direction and the column direction, respectively.

이때 제1 배선 전극(3112a)은 기판(3100)을 관통하여 발광 소자들(예컨대, 3530-1' 내지 3530-5')의 제1 전극 패드(135)와 본딩될 수 있고, 제2 배선 전극(3114a)은 기판(3100)을 관통하여 제2 전극 패드(145)와 본딩될 수 있다.At this time, the first wiring electrode 3112a may be bonded to the first electrode pad 135 of the light emitting devices (for example, 3530-1 'to 3530-5') through the substrate 3100, The first electrode pad 3114a may be bonded to the second electrode pad 145 through the substrate 3100. [

도 39a는 도 36 및 도 37에 도시된 하나의 이미지 화소(22)를 이루는 발광 소자들(예컨대, 3530-1 내지 3530-3)의 제1 전극들(3130-1 내지 3130-3), 및 제2 전극 패드들(3145-1 내지 3145-3)의 배치 관계를 나타내고, 도 39b는 도 39a에 도시된 제1 전극들(3130-1 내지 3130-3) 및 제2 전극 패드들(3145-1 내지 3145-3)과 연결되는 제1 배선 전극(3112), 및 제2 배선 전극들(3114-1 내지 3114-3)을 나타낸다.39A shows the first electrodes 3130-1 to 3130-3 of the light emitting elements (e.g., 3530-1 to 3530-3) constituting one image pixel 22 shown in Figs. 36 and 37, and Fig. 39B shows the arrangement relationship of the second electrode pads 3145-1 to 3145-3, and FIG. 39B shows the arrangement relationship of the first electrodes 3130-1 to 3130-3 and the second electrode pads 3145- 1 to 3145-3, and second wiring electrodes 3114-1 to 3114-3, respectively.

도 39a 및 도 39b를 참조하면, 발광 소자들(예컨대, 3530-1 내지 3530-3)의 제1 전극들(3130-1 내지 3130-3) 각각은 기판(3100) 상에 배치되는 하나의 공통 접속 전극(3130a)에 공통 접속도록 배치될 수 있다.39A and 39B, each of the first electrodes 3130-1 to 3130-3 of the light emitting elements (for example, 3530-1 to 3530-3) includes a common electrode (not shown) disposed on the substrate 3100 And may be disposed so as to be connected to the connection electrode 3130a in common.

발광 소자들(예컨대, 3530-1 내지 3530-3)의 제1 전극 패드들(3145-1 내지 3145-3)은 서로 이격하여 기판(3100) 상에 배치될 수 있다.The first electrode pads 3145-1 to 3145-3 of the light emitting elements (e.g., 3530-1 to 3530-3) may be disposed on the substrate 3100 so as to be spaced apart from each other.

제1 배선 전극(3112)은 공통 접속 전극(3130a)에 대응하여 위치하며, 기판(3100)을 관통하여 공통 접속 전극(3130a)에 접속될 수 있다.The first wiring electrode 3112 is located corresponding to the common connection electrode 3130a and can be connected to the common connection electrode 3130a through the substrate 3100. [

제2 배선 전극들(3114-1 내지 3114-3) 각각은 기판(3100)을 관통하여 발광 소자들(예컨대, 3530-1 내지 3530-3)의 제2 전극 패드들(3145-1 내지 3145-3) 중 대응하는 어느 하나와 접속될 수 있다.Each of the second wiring electrodes 3114-1 through 3114-3 penetrates through the substrate 3100 and is electrically connected to the second electrode pads 3145-1 through 3145-3 of the light emitting devices 3530-1 through 3530-3, 3). ≪ / RTI >

도 40a는 도 36 및 도 37에 도시된 하나의 이미지 화소(22)를 이루는 발광 소자들의 제1 전극들, 및 제2 전극 패드들의 다른 실시 예를 나타내고, 도 40b는 도 40a에 도시된 제1 전극들 및 제2 전극 패드들과 연결되는 제1 배선 전극 및 제2 배선 전극들의 다른 실시 예를 나타낸다.40A shows another embodiment of the first electrodes and second electrode pads of the light emitting elements constituting one image pixel 22 shown in Figs. 36 and 37, Fig. 40B shows another embodiment of the first electrode pads of the first And the first wiring electrode and the second wiring electrode connected to the electrodes and the second electrode pads.

도 40a 및 도 40b를 참조하면, 발광 소자들(3530a-1 내지 3530a-1)의 제1 전극들(3130a-1 내지 3130a-3)은 서로 이격하여 기판(3100) 상에 배치되고, 발광 소자들(3530a-1 내지 3530a-1)의 제2 전극 패드들(3145a-1 내지 3145a-3)은 서로 이격하여 기판(3100) 상에 배치된다.40A and 40B, the first electrodes 3130a-1 to 3130a-3 of the light emitting devices 3530a-1 to 3530a-1 are disposed on the substrate 3100 so as to be spaced apart from each other, The second electrode pads 3145a-1 to 3145a-3 of the first and second electrodes 3530a-1 to 3530a-1 are disposed on the substrate 3100 so as to be spaced apart from each other.

제1 배선 전극(3112a)은 기판(3100)을 관통하여 제1 전극들(3130a-1 내지 3130a-3) 각각에 본딩된다. 예컨대, 제1 배선 전극(3112a)은 기판(3100)을 관통하여 제1 전극들(3130a-1 내지 3130a-3) 각각에 본딩되는 제1 콘택부들(41,42,43)을 가질 수 있다.The first wiring electrodes 3112a pass through the substrate 3100 and are bonded to the first electrodes 3130a-1 to 3130a-3, respectively. For example, the first wiring electrode 3112a may have first contact portions 41, 42, and 43 that are penetrated through the substrate 3100 and bonded to the first electrodes 3130a-1 to 3130a-3, respectively.

제2 배선 전극들(3114a-1 내지 3114a-3)은 서로 이격하며, 제2 배선 전극들 각각은 기판(3100)을 관통하여 발광 소자들(3530a-1 내지 3530a-1)의 제2 전극 패드들(3145a-1 내지 3145a-3) 중 대응하는 어느 하나와 본딩된다.The second wiring electrodes 3114a-1 to 3114a-3 are spaced apart from each other and each of the second wiring electrodes passes through the substrate 3100 and is electrically connected to the second electrode pads of the light emitting elements 3530a-1 to 3530a- 3145a-1 to 3145a-3.

예컨대, 제2 배선 전극들(3114a-1 내지 3114a-3) 각각은 기판(3100)을 관통하여 제2 전극 패드들(3145a-1 내지 3145a-3) 중 대응하는 어느 하나와 본딩되는 제2 콘택부들을 가질 수 있다.For example, each of the second wiring electrodes 3114a-1 to 3114a-3 may be connected to a corresponding one of the second electrode pads 3145a-1 to 3145a-3 through the substrate 3100, You can have wealth.

예컨대, 기판(3100)에 이미지 화소(22)가 위치하는 영역을 이미지 화소 영역이라하고, 이미지 화소 영역이 도 40a 및 도 40b와 같이 사각형이라 할 때, 제1 배선 전극(3112a)은 화소 영역의 제1 모서리에 인접하여 배치되는 제1 배선 패드부(3112a-1), 및 제1 배선 패드부(3112a-1)로부터 확장되는 제1 배선 확장부들(3112a-2, 3112a-3)을 포함할 수 있다.For example, when the region where the image pixel 22 is located on the substrate 3100 is referred to as an image pixel region, and the image pixel region is a rectangle as shown in Figs. 40A and 40B, A first wiring pad portion 3112a-1 disposed adjacent to the first edge and first wiring extension portions 3112a-2 and 3112a-3 extending from the first wiring pad portion 3112a-1 .

또한 제2 배선 전극들(3114-1 내지 ) 각각은 제1 모서리를 제외한 화소 영역의 나머지 모서리들 중 대응하는 어느 하나에 인접하여 배치되는 제2 배선 패드부(61a,61b,61c), 및 제2 배선 패드부(61a,61b,61c)로부터 확장되는 제2 배선 확장부(62a, 62b,62c)를 포함할 수 있다.Each of the second wiring electrodes 3114-1 to 3114-1 includes second wiring pad portions 61a, 61b, and 61c disposed adjacent to any one of the remaining corners of the pixel region except for the first corner, 62b, 62c extending from the first and second wiring pads 61a, 61b, 61c.

제1 배선 확장부들(3112a-2, 3112a-2) 각각은 단위 화소 어레이의 행(column) 방향 또는 열 방향(row)과 평행한 제1 방향으로 연장되는 제1 연장 부분을 포함할 수 있다.Each of the first wiring extensions 3112a-2 and 3112a-2 may include a first extending portion extending in a first direction parallel to the column direction or the row direction of the unit pixel array.

제2 배선 확장부들(62a, 62b,62c) 각각은 상기 제1 방향 또는 상기 제1 방향과 반대 방향으로 연장되는 제2 연장 부분을 포함할 수 있다.Each of the second wiring extensions 62a, 62b, 62c may include a second extending portion extending in the first direction or in a direction opposite to the first direction.

제1 배선 확장부들(3112a-2, 3112a-2)의 제1 연장 부분들과 제2 배선 확장부들(62a, 62b,62c)의 제2 연장 부분들은 상기 제1 방향과 수직한 방향으로 서로 교대로 배치될 수 있고, 제1 연장 부분들은 제2 연장 부분들 사이에 배치될 수 있다.The first extending portions of the first wire extensions 3112a-2 and 3112a-2 and the second extending portions of the second wire extensions 62a, 62b and 62c are alternately arranged in the direction perpendicular to the first direction, And the first extending portions may be disposed between the second extending portions.

도 41a는 도 36 및 도 37에 도시된 하나의 이미지 화소(22)를 이루는 발광 소자들의 제1 전극들, 및 제2 전극 패드들의 또 다른 실시 예를 나타내고, 도 41b는 도 41a에 도시된 제1 전극들 및 제2 전극 패드들과 연결되는 제1 배선 전극 및 제2 배선 전극들의 다른 실시 예를 나타낸다.41A shows another embodiment of the first electrodes and the second electrode pads of the light emitting elements constituting one image pixel 22 shown in Figs. 36 and 37, and Fig. 41B is a cross- The first wiring electrode and the second wiring electrode connected to the first electrodes and the second electrode pads.

도 41a 및 도 41b를 참조하면, 발광 소자들(3530b-1 내지 3530b-1)의 제1 전극들(3130b-1 내지 3130b-3) 각각은 서로 이격하여 기판(3100) 상에 배치되고, 제2 전극 패드들(3145b-1 내지 3145b-3)은 서로 이격하여 기판(3100) 상에 배치된다.41A and 41B, the first electrodes 3130b-1 to 3130b-3 of the light emitting devices 3530b-1 to 3530b-1 are disposed on the substrate 3100 so as to be spaced apart from each other, The two-electrode pads 3145b-1 to 3145b-3 are disposed on the substrate 3100 so as to be spaced apart from each other.

제2 배선 전극들(3114b-1 내지 3114b-3) 중 어느 하나(3114b-1)는 이미지 화소 영역의 중앙에 위치하고, 나머지 제2 배선 전극들(3114b-2, 3114b-3)은 직경이 서로 다른 링 형상을 가질 수 있으며, 중앙에 위치한 어느 하나의 제2 배선 전극(3114b-1)을 기준으로 동심원으로 이루도록 배치될 수 있다.One of the second wiring electrodes 3114b-1 to 3114b-3 is located at the center of the image pixel region and the remaining second wiring electrodes 3114b-2 and 3114b-3 have the same diameter And may be arranged concentrically with respect to any one second wiring electrode 3114b-1 located at the center.

제1 배선 전극(3112b)은 제2 배선 전극들(3114b-1 내지 3114b-3) 중 최외곽에 위치하는 제2 배선 전극(3114b-3) 주위를 감싸도록 배치될 수 있다.The first wiring electrode 3112b may be arranged so as to surround the second wiring electrode 3114b-3 located at the outermost one of the second wiring electrodes 3114b-1 to 3114b-3.

제1 배선 전극(3112b)은 기판(3100)을 관통하여 발광 소자들(3530b-1 내지 3530b-1)의 제1 전극들 중 대응하는 어느 하나에 본딩되는 제2 콘택들을 가질 수 있다.The first wiring electrode 3112b may have second contacts passing through the substrate 3100 and being bonded to a corresponding one of the first electrodes of the light emitting devices 3530b-1 to 3530b-1.

제2 배선 전극들(3114b-1 내지 3114b-3) 각각은 기판(3100)을 관통하여 발광 소자들(3530b-1 내지 3530b-1)의 제2 전극 패드들 중 대응하는 어느 하나에 본딩되는 제2 콘택들을 가질 수 있다.Each of the second wiring electrodes 3114b-1 to 3114b-3 may be connected to a corresponding one of the second electrode pads of the light emitting devices 3530b-1 to 3530b-1 through the substrate 3100 2 < / RTI > contacts.

다른 실시 예에서는 도 39a 및 도 39b, 도 40a 및 도 40b, 41a 및 도 41b의 발광 소자들(예컨대, 3530-1 내지 3530-3, 3530a-1 내지 3530a-3, 3530b-1 내지 3530b-3) 대신에, 도 3, 도 6, 도 7a, 및 도 8a에 도시된 실시 예들 중 어느 하나일 수도 있으며, 이 경우 제1 배선 전극(3112) 및 제2 배선 전극들(3114-1 내지 3114-3)은 발광 소자의 제1 전극 패드(135)와 제2 전극 패드(145)의 개수 및 위치에 따라 변형될 수 있다.In other embodiments, the light emitting devices (e.g., 3530-1 to 3530-3, 3530a-1 to 3530a-3, 3530b-1 to 3530b-3) of FIGS. 39A and 39B, 40A and 40B, 41A, 3, 6, 7A, and 8A. In this case, the first wiring electrode 3112 and the second wiring electrodes 3114-1 through 3114- 3 may be modified according to the number and position of the first electrode pad 135 and the second electrode pad 145 of the light emitting device.

도 42a 내지 도 42g는 실시 예에 따른 디스플레이 장치의 제조 방법을 나타낸다.42A to 42G show a manufacturing method of a display device according to the embodiment.

도 42a를 참조하면, 성장 기판(1410) 상에 제1 도전형 반도체층(1112), 활성층(1114), 및 제2 도전형 반도체층(1116)을 포함하는 발광 구조물을 형성한다.Referring to FIG. 42A, a light emitting structure including a first conductivity type semiconductor layer 1112, an active layer 1114, and a second conductivity type semiconductor layer 1116 is formed on a growth substrate 1410.

발광 구조물(1110)과 성장 기판(1410) 간의 격자 상수의 차이에 의한 스트레스를 완화하기 위하여 성장 기판(3410)과 발광 구조물(1110) 사이에 버퍼층(buffer layer) 또는 언도프드 반도체층(undoped-semiconductor layer), 예컨대, 언도프드 GaN층을 더 형성할 수도 있다.A buffer layer or an undoped semiconductor layer may be interposed between the growth substrate 3410 and the light emitting structure 1110 in order to alleviate the stress caused by the difference in lattice constant between the light emitting structure 1110 and the growth substrate 1410. [ layer, for example, an undoped GaN layer may be further formed.

발광 구조물에 아이솔레이션(isolation) 공정을 수행하여, 단위 화소들을 위한 서로 분리되는 발광 구조물들(1110)을 형성한다.An isolation process is performed on the light emitting structure to form mutually separated light emitting structures 1110 for unit pixels.

그리고 서로 분리된 발광 구조물들(1110) 각각의 제2 도전형 반도체층(1116) 상에 제2 전극(1140)을 형성하고, 발광 구조물들(1110) 각각의 측면 및 제2 도전형 반도체층(1116) 상에 절연 물질을 증착하여 절연층(1150)을 형성한다.A second electrode 1140 is formed on the second conductive type semiconductor layer 1116 of each of the light emitting structures 1110 separated from each other and the side surface of each of the light emitting structures 1110 and the side surface of the second conductive type semiconductor layer 1110 The insulating layer 1150 is formed by depositing an insulating material on the insulating layer 1116. [

그리고 서로 분리된 발광 구조물들(1110) 각각의 제2 전극(1140) 상에 제2 전극 패드(1145)를 형성한다.A second electrode pad 1145 is formed on the second electrode 1140 of each of the light emitting structures 1110 separated from each other.

그리고 서로 분리된 발광 구조물들(1110) 각각의 제2 전극 패드(1145)의 상면에 접하는 기판(3100)을 형성한다. 예컨대, 증착을 통하여 제2 전극 패드(1145)의 상면에 기판을 형성하거나 또는 제작 완료된 기판을 제2 전극 패드의 상면에 부착하는 방식으로 형성될 수 있다.A substrate 3100 is formed to be in contact with the upper surface of the second electrode pad 1145 of each of the light emitting structures 1110 separated from each other. For example, a substrate may be formed on the upper surface of the second electrode pad 1145 through deposition, or a substrate may be formed on the upper surface of the second electrode pad.

다음으로 도 42b를 참조하면, 기판(3100)을 관통하여 제2 전극 패드(1145)의 상면을 노출하는 제1 비아 홀(3301), 및 제1 비아 홀(3301)로부터 이격되고 발광 구조물(1110)과 수직 방향으로 오버랩되지 않으며, 기판(3100)을 관통하는 제2 비아 홀(3302)을 형성한다.Referring to FIG. 42B, a first via hole 3301 that exposes the upper surface of the second electrode pad 1145 through the substrate 3100, and a second via hole 3301 that is spaced apart from the first via hole 3301, And the second via hole 3302 penetrating through the substrate 3100 is formed.

다음으로 도 42c를 참조하면, 제1 및 제2 비아 홀들(3301)을 채우도록 도전성 물질을 기판(3100) 상에 증착한 후에 증착된 도전성 물질을 패터닝함으로써, 제2 전극 패드(1145)와 접촉하는 제1 배선 전극(3112), 및 제1 배선 전극(3112)과 이격하고, 발광 구조물(1110)과 수직 방향으로 오버랩되지 않는 제2 배선 전극(3114)을 형성한다.Next, referring to FIG. 42C, a conductive material is deposited on the substrate 3100 to fill the first and second via-holes 3301, and then the deposited conductive material is patterned to contact the second electrode pad 1145 The second wiring electrode 3114 which is spaced apart from the first wiring electrode 3112 and the first wiring electrode 3112 and does not overlap with the light emitting structure 1110 in the vertical direction is formed.

다음으로 도 42d를 참조하면, 제1 및 제2 배선 전극(3112, 3114)이 형성된 기판(3100) 상에 지지 보드(supporting board, 3101)를 형성한다. 지지 보드(3101)는 접착 테이프 또는 수지 등에 의하여 기판(3100)에 본딩될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Next, referring to FIG. 42D, a supporting board 3101 is formed on the substrate 3100 having the first and second wiring electrodes 3112 and 3114 formed thereon. The supporting board 3101 may be bonded to the substrate 3100 by an adhesive tape or a resin, but is not limited thereto.

다음으로 도 42e를 참조하면, 레이저 리프트 오프(Laser Lift Off, LLO) 공정에 의하여 성장 기판(3410)을 발광 구조물(1110)로부터 분리 또는 제거한다. 도 42e 이후에서는 도 42d에 도시된 발광 구조물(1110)을 180° 회전하여 도시한다.Next, referring to FIG. 42E, the growth substrate 3410 is separated or removed from the light emitting structure 1110 by a laser lift off (LLO) process. In FIG. 42E and later, the light emitting structure 1110 shown in FIG. 42D is rotated by 180 degrees.

다음으로 도 42f를 참조하면, 발광 구조물(1110)과 성장 기판(3410) 사이에 형성되었던 버퍼층 또는 언도프드 반도체층을 식각 등을 통하여 제거한다. 그리고 성장 기판(3410)의 제거에 의하여 노출되는 제1 도전형 반도체층(1112)의 표면에 식각 등을 통하여 광 추출 구조(1112a)를 형성한다.Next, referring to FIG. 42F, the buffer layer or the undoped semiconductor layer formed between the light emitting structure 1110 and the growth substrate 3410 is removed by etching or the like. The light extracting structure 1112a is formed on the surface of the first conductive type semiconductor layer 1112 exposed by the removal of the growth substrate 3410 through etching or the like.

그리고 성장 기판(3410)의 제거에 의하여 노출되는 제1 도전형 반도체층(1112)의 표면에 투광성 절연 물질을 증착하여 패시베이션층(1120a)을 형성한다. 그리고 패시베이션층(1120a)의 일부를 식각하여, 제1 도전형 반도체층(1112)의 표면의 일부를 노출하는 관통홀(3303)을 형성한다.The passivation layer 1120a is formed by depositing a light-transmitting insulating material on the surface of the first conductivity type semiconductor layer 1112 exposed by the removal of the growth substrate 3410. A part of the passivation layer 1120a is etched to form a through hole 3303 exposing a part of the surface of the first conductivity type semiconductor layer 1112. [

다음으로 도 42g를 참조하면, 관통홀(3303)을 채우도록 도전성 물질을 패시베이션층(1120a)에 증착한다. 이때 패시베이션층(1120a) 상에 형성되는 도전성 물질을 발광 구조물(1110)의 일 측의 기판(3100)에 상면까지 확장되도록 증착시킨다. 이때 증착된 도전성 물질은 제2 배선 전극(3114)과 접촉할 수 있다.Next, referring to FIG. 42G, a conductive material is deposited on the passivation layer 1120a so as to fill the through-hole 3303. FIG. At this time, a conductive material formed on the passivation layer 1120a is deposited on the substrate 3100 on one side of the light emitting structure 1110 so as to extend to the upper surface. At this time, the deposited conductive material may contact the second wiring electrode 3114.

그리고 패시베이션층(1120a) 상에 형성되는 도전성 물질을 패터닝함으로써, 제1 전극(1130)을 형성한다. 이때 관통홀(3303)에 채워진 도전성 물질은 제1 도전형 반도체층(1112)의 표면과 접촉할 수 있다.The first electrode 1130 is formed by patterning a conductive material formed on the passivation layer 1120a. At this time, the conductive material filled in the through hole 3303 may contact the surface of the first conductive type semiconductor layer 1112.

도면에는 도시되지 않았지만 화학적 식각 등을 이용하여 지지 보드(3101)를 제거하고, 기판(3100) 상에 격벽(3520)을 구비한 몸체(3520), 및 투광성 부재(3540)를 형성함으로써, 실시 예에 따른 디스 플레이 장치(3000)를 얻을 수 있다.Although not shown in the drawing, the supporting board 3101 is removed by chemical etching or the like, the body 3520 having the partition 3520 on the substrate 3100, and the light-transmitting member 3540 are formed, The display device 3000 according to the present invention can be obtained.

도 42a 내지 도 42g에 의한 방법에 의하여 웨이퍼 레벨에서 단위 화소용 발광 소자들을 형성할 수 있으며, 이는 패키지 형태의 발광 소자들을 기판에 실장하는 방법에 비하여 공정의 수를 줄일 수 있고, 디자인이 자유로우며, 얇은 두께를 구현할 수 있다.42A to 42G, it is possible to reduce the number of processes compared with the method of mounting the light emitting elements in a packaged form on a substrate, , A thin thickness can be realized.

도 43은 다른 실시 예에 따른 디스플레이 장치(3000-2)의 평면도를 나타내고, 도 44는 도 43에 도시된 디스플레이 장치의 BB' 방향의 일 실시 예에 따른 단면도를 나타낸다.FIG. 43 shows a plan view of a display device 3000-2 according to another embodiment, and FIG. 44 shows a cross-sectional view according to an embodiment of the BB 'direction of the display device shown in FIG.

도 43 및 도 44를 참조하면, 단위 화소 어레이(P11 내지 Pnm)의 발광 소자들(예컨대, 3530-1 내지 3530-5)은 열 방향으로 제1 페어(pair) 및 제2 페어가 교대로 배치될 수 있다. 제1 페어는 차례로 배열되는 청색광을 발생하는 발광 소자 및 녹색광을 발생하는 발광 소자로 이루어질 수 있고, 제2 페어는 차례로 배열되는 적색광을 발생하는 발광 소자와 녹색광을 발생하는 발광 소자로 이루어질 수 있다.43 and 44, the light emitting elements (for example, 3530-1 to 3530-5) of the unit pixel arrays P11 to Pnm are arranged such that a first pair and a second pair are arranged alternately in the column direction . The first pair may consist of a light emitting element which generates blue light and green light which are arranged in order, and the second pair may be composed of a light emitting element which generates red light arranged in turn and a light emitting element which generates green light.

또한 단위 화소 어레이(P11 내지 Pnm)의 발광 소자들(예컨대, 3530-1 내지 3530-5)은 행 방향으로는 청색광을 발생하는 발광 소자와 적색광을 발생하는 발광 소자가 교대로 배치되는 제1 배열, 및 녹색광을 발생하는 발광 소자들만 배치되는 제2 배열을 포함할 수 있으며, 제1 배열은 짝수 행 및 홀수 행 중 어느 하나일 수 있고, 제2 배열은 짝수 행 및 홀수 행 중 다른 어느 하나일 수 있다. 이때 제1 페어 및 제2 페어에 포함되는 발광 소자들이 하나의 이미지 화소를 이룰 수 있다.The light emitting elements 3530-1 to 3530-5 of the unit pixel arrays P11 to Pnm (for example, 3530-1 to 3530-5) have a first arrangement in which light emitting elements for generating blue light and light emitting elements for generating red light are alternately arranged in the row direction And a second array in which only light emitting elements that emit green light are arranged, the first array may be either an even row or an odd row, and the second array may be any one of an even row row and an odd row row . At this time, the light emitting elements included in the first pair and the second pair can form one image pixel.

예컨대, 도 43 및 도 44에 도시된 단위 화소 어레이는 청색광을 발생하는 발광 소자의 개수, 및 적색광을 발생하는 발광 소자의 개수에 비하여, 녹색광을 발생하는 발광 소자의 개수가 가장 많기 때문에, 균일한 시감도를 위하여 녹색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적은 청색광을 발생하는 발광 소자의 발광 면적, 및 적색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적보다 작을 수 있다.For example, in the unit pixel arrays shown in Figs. 43 and 44, the number of light emitting elements that emit green light is larger than the number of light emitting elements that generate blue light and the number of light emitting elements that generate red light, The area of the light emitting area of the light emitting device that generates green light for visual sensitivity may be smaller than the light emitting area of the light emitting device that generates blue light and the area of the light emitting area of the light emitting device that generates red light.

또한 예컨대, 청색광을 발생하는 발광 소자의 개수와 적색광을 발생하는 발광 소자의 개수의 동일하지만, 청색광을 발생하는 발광 소자보다 적색광을 발생하는 발광 소자의 발광 효율이 더 낮기 때문에, 적색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적이 청색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적보다 더 클 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Further, for example, since the number of light emitting elements that generate blue light is the same as the number of light emitting elements that generate red light, but the luminous efficiency of the light emitting element that generates red light is lower than that of the light emitting element that generates blue light, The area of the light emitting region of the device may be larger than the area of the light emitting region of the light emitting device that generates blue light, but is not limited thereto.

도 45는 도 43에 도시된 디스플레이 장치의 BB' 방향의 다른 실시 예(3000-3)에 따른 단면도를 나타낸다.Fig. 45 shows a cross-sectional view along the BB 'direction of another embodiment (3000-3) of the display device shown in Fig.

도 45를 참조하면, 디스플레이 장치(3000-3)에 포함된 복수의 발광 소자들(예컨대, 3530-1' 내지 3530-5') 각각은 도 3, 도 6, 도 7a, 및 도 8a에 도시된 실시 예들 중 어느 하나일 수 있으며, 도 43 및 도 44에 설명한 바와 동일한 방법으로 R, G, B의 배치가 이루어질 수 있다.45, each of a plurality of light emitting elements (for example, 3530-1 'to 3530-5') included in the display device 3000-3 includes a plurality of light emitting elements 3530-1 'to 3530-5' shown in FIGS. 3, 6, 7A, And the arrangement of R, G, and B can be made in the same manner as described in Figs. 43 and 44. Fig.

도 46은 다른 실시 예에 따른 디스플레이 장치(3000-4)의 평면도를 나타내고, 도 47은 도 46에 도시된 디스플레이 장치의 CC' 방향의 일 실시 예에 따른 단면도를 나타낸다.FIG. 46 shows a plan view of a display device 3000-4 according to another embodiment, and FIG. 47 shows a cross-sectional view according to an embodiment of the CC 'direction of the display device shown in FIG.

도 46 및 도 47을 참조하면, 화소 어레이(P11 내지 Pnm)의 발광 소자들(예컨대, 3530-1" 내지 3530-5") 각각은 도 22, 도 26a 내지 도 26c, 및 도 27a에 도시된 실시 예들(2000, 2000-1, 2000-1', 2000-1", 2000-2) 중 어느 하나일 수 있다.46 and 47, each of the light emitting elements (for example, 3530-1 "to 3530-5") of the pixel arrays P11 to Pnm includes the light emitting elements 3530-1 to 3530-5 shown in Figs. 22, 26A to 26C, May be any of the embodiments (2000, 2000-1, 2000-1 ', 2000-1 ", 2000-2).

제1 배선 전극(3112b)은 기판(3100)의 하면에 배치되고, 기판(3100)을 관통하여 발광 소자들(예컨대, 3530-1" 내지 3530-5") 각각의 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2)의 공통 전극인 제1 전극 패드(2135)와 연결 또는 본딩된다.The first wiring electrode 3112b is disposed on the lower surface of the substrate 3100 and passes through the substrate 3100 to form a plurality of light emitting cells 2100- 1, and 2100-2. The first electrode pad 2135 is a common electrode.

제2 배선 전극들(3114b1, 2114b2)은 기판(3100)의 하면에 제1 배선 전극(3112b)과 이격하여 배치되고, 기판(3100)을 관통하여 발광 소자들(예컨대, 3530-1" 내지 3530-5")의 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2) 각각에 배치되는 제2 전극 패드들(1145-1, 1145-2) 중 대응하는 어느 하나에 연결 또는 본딩된다.The second wiring electrodes 3114b1 and 2114b2 are disposed on the lower surface of the substrate 3100 so as to be spaced apart from the first wiring electrode 3112b and pass through the substrate 3100 to emit light from the light emitting elements 3530-1 to 3530 And the second electrode pads 1145-1 and 1145-2 disposed in the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 of the first and second light emitting cells 1100-1 and 1150-2.

발광 소자들(예컨대, 3530-1" 내지 3530-5") 각각의 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2)은 청색광 및 녹색광을 발생하거나 또는 적색광 및 녹색광을 발생할 수 있다.The plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 of each of the light emitting elements (e.g., 3530-1 "to 3530-5") can emit blue light and green light, or generate red light and green light.

예컨대, 발광 소자들(예컨대, 3530-1" 내지 3530-5")은 청색광을 발생하는 제1 발광 셀 및 녹색광을 발생하는 제2 발광 셀을 포함하는 제1 발광 소자(이하 "BG 발광 소자"라 한다), 및 적색광을 발생하는 제3 발광 셀 및 녹색광을 발생하는 제4 발광 셀을 포함하는 제2 발광 소자(이하 "RG 발광 소자"라 한다)를 포함할 수 있으며, 매트릭스의 열 방향 및 행 방향 각각으로 BG 발광 소자와 RG 발광 소자가 교대로 배치될 수 있다. 이때 BG 발광 소자와 RG 발광 소자가 하나의 이미지 화소를 이룰 수 있다. 또한 예컨대, 매트릭스의 열 방향으로 제1 내지 제4 발광 셀들이 순차적으로 반복하여 배열될 수 있고, 행 방향으로는 제1 발광 셀과 제3 발광 셀이 교대로 배열될 수 있다.For example, the light emitting devices 3530-1 "to 3530-5" include a first light emitting device including a first light emitting cell for generating blue light and a second light emitting cell for generating green light (hereinafter, (Hereinafter referred to as "RG light emitting device") including a third light emitting cell for generating red light and a fourth light emitting cell for generating green light, The BG light emitting element and the RG light emitting element can be alternately arranged in the row direction. At this time, the BG light emitting device and the RG light emitting device can form one image pixel. In addition, for example, the first through fourth light emitting cells may be sequentially and repeatedly arranged in the column direction of the matrix, and the first light emitting cell and the third light emitting cell may be alternately arranged in the row direction.

도 43 및 도 44에 도시된 실시 예(3000-3)는 4개의 발광 소자들이 하나의 이미지 화소를 이루는데 비하여, 도 46 및 도 47에 도시된 실시 예(3000-4)는 2개의 발광 소자들이 하나의 이미지 화소를 이룰 수 있다. 도 43 및 도 44에 도시된 실시 예(3000-3)에 비하여, 실시 예(3000-4)는 더 높은 해상도의 이미지를 구현할 수 있다.In the embodiment 3000-3 shown in FIGS. 43 and 44, the four light emitting devices form one image pixel, whereas the embodiment 3000-4 shown in FIGS. 46 and 47 includes two light emitting devices Can form one image pixel. Compared to the embodiment (3000-3) shown in Figs. 43 and 44, the embodiment (3000-4) can realize a higher resolution image.

도 47에서는 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2)이 서로 다른 파장의 광을 발생하지만, 이에 한정되는 것은 아니며, 다른 실시 예에서는 발광 소자들(예컨대, 3530-1" 내지 3530-5") 각각의 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2)은 서로 동일한 파장을 갖는 광을 발생할 수 있다. 예컨대, 발광 소자들(예컨대, 3530-1" 내지 3530-5") 각각의 복수의 발광 셀들(2100-1, 2100-2)은 청색광을 발생하거나, 녹색광을 발생하거나, 또는 적색광을 발생할 수도 있으며, 이 경우, 도 38에서 설명한 바와 같이, R, G, B 배열이 이루어지거나, 또는 도 43에서 설명한 바와 같이, RG,BG 배열이 이루어질 수 있다.In Fig. 47, the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 generate light of different wavelengths, but the present invention is not limited thereto. In another embodiment, the light emitting devices (e.g., 3530-1 " Quot;) can emit light having the same wavelength as each other. For example, the plurality of light emitting cells 2100-1 and 2100-2 of each of the light emitting elements (for example, 3530-1 to 3530-5) may generate blue light, generate green light, or generate red light In this case, RG, B, and B arrangements may be made as described in FIG. 38, or RG and BG arrangements may be made as described in FIG.

또한 도 47에서는 발광 소자들 각각은 2개의 발광 셀들을 포함하고, 발광 셀들 각각은 청색광 및 녹색광을 발생하거나, 또는 적색광 및 녹색광을 발생하지만, 이에 한정되는 것은 아니다.In FIG. 47, each of the light emitting devices includes two light emitting cells, and each of the light emitting cells generates blue light and green light, or generates red light and green light, but is not limited thereto.

즉 다른 실시 예에서는 발광 소자들(예컨대, 3530-1" 내지 3530-5")은 3개의 발광 셀들을 포함할 수 있으며, 3개의 발광 셀들 중 어느 하나는 청색광을 발생하고, 다른 하나의 발광 셀은 녹색광을 발생하고, 나머지 다른 하나의 발광 셀은 적색광을 발생할 수도 있으며, 이 경우는 발광 소자들에 포함되는 발광 셀들이 도 38에서 설명한 바와 같이 R, G, B 배열이 이루어질 수 있다.In other embodiments, the light emitting devices (e.g., 3530-1 "to 3530-5") may include three light emitting cells, one of the three light emitting cells generates blue light, And the other light emitting cell may emit red light. In this case, the light emitting cells included in the light emitting devices may be arranged in R, G, and B as described in FIG.

예컨대, 행 방향 및 열 방향 각각으로 적색광을 발생하는 발광 셀, 녹색광을 발생하는 발광 셀, 및 청색광을 발생하는 발광 셀이 순차적으로 반복하여 배치될 수 있다.For example, a light emitting cell for generating red light, a light emitting cell for generating green light, and a light emitting cell for generating blue light may be sequentially and repeatedly arranged in the row direction and the column direction, respectively.

도 48은 실시 예에 따른 휴대용 단말기(200A)의 사시도를 나타내고, 도 49는 도 48에 도시된 휴대용 단말기의 구성도를 나타낸다.FIG. 48 shows a perspective view of the portable terminal 200A according to the embodiment, and FIG. 49 shows a configuration diagram of the portable terminal shown in FIG.

도 48 및 도 49를 참조하면, 휴대용 단말기(200A, 이하 "단말기"라 한다.)는 몸체(850), 무선 통신부(710), A/V 입력부(720), 센싱부(740), 입/출력부(750), 메모리부(760), 인터페이스부(770), 제어부(780), 및 전원 공급부(790)를 포함할 수 있다.48 and 49, the portable terminal 200A includes a body 850, a wireless communication unit 710, an A / V input unit 720, a sensing unit 740, an input / An output unit 750, a memory unit 760, an interface unit 770, a control unit 780, and a power supply unit 790.

도 48에 도시된 몸체(850)는 바(bar) 형태이지만, 이에 한정되지 않고, 2개 이상의 서브 몸체(sub-body)들이 상대 이동 가능하게 결합하는 슬라이드 타입, 폴더 타입, 스윙(swing) 타입, 스위블(swirl) 타입 등 다양한 구조일 수 있다.The body 850 shown in FIG. 48 is of a bar shape, but is not limited thereto. The body 850 may be a slide type, a folder type, a swing type, or a swing type in which two or more sub- , A swirl type, and the like.

몸체(850)는 외관을 이루는 케이스(케이싱, 하우징, 커버 등)를 포함할 수 있다. 예컨대, 몸체(850)는 프론트(front) 케이스(851)와 리어(rear) 케이스(852)로 구분될 수 있다. 프론트 케이스(851)와 리어 케이스(852)의 사이에 형성된 공간에는 단말기의 각종 전자 부품들이 내장될 수 있다.The body 850 may include a case (casing, housing, cover, etc.) which forms an appearance. For example, the body 850 can be divided into a front case 851 and a rear case 852. Various electronic components of the terminal may be installed in the space formed between the front case 851 and the rear case 852. [

무선 통신부(710)는 단말기(200A)와 무선 통신시스템 사이 또는 단말기(200A)와 단말기(200A)가 위치한 네트워크 사이의 무선 통신을 가능하게 하는 하나 이상의 모듈을 포함하여 구성될 수 있다. 예를 들어, 무선 통신부(710)는 방송 수신 모듈(711), 이동통신 모듈(712), 무선 인터넷 모듈(713), 근거리 통신 모듈(714) 및 위치 정보 모듈(715)을 포함하여 구성될 수 있다.The wireless communication unit 710 may include one or more modules that enable wireless communication between the terminal 200A and the wireless communication system or between the terminal 200A and the network in which the terminal 200A is located. For example, the wireless communication unit 710 may include a broadcast receiving module 711, a mobile communication module 712, a wireless Internet module 713, a short distance communication module 714, and a location information module 715 have.

A/V(Audio/Video) 입력부(720)는 오디오 신호 또는 비디오 신호 입력을 위한 것으로, 카메라(721) 및 마이크(722) 등을 포함할 수 있다.The A / V (Audio / Video) input unit 720 is for inputting an audio signal or a video signal and may include a camera 721 and a microphone 722.

센싱부(740)는 단말기(200A)의 개폐 상태, 단말기(200A)의 위치, 사용자 접촉 유무, 단말기(200A)의 방위, 단말기(200A)의 가속/감속 등과 같이 단말기(200A)의 현 상태를 감지하여 단말기(200A)의 동작을 제어하기 위한 센싱 신호를 발생시킬 수 있다. 예를 들어, 단말기(200A)가 슬라이드 폰 형태인 경우 슬라이드 폰의 개폐 여부를 센싱할 수 있다. 또한, 전원 공급부(790)의 전원 공급 여부, 인터페이스부(770)의 외부 기기 결합 여부 등과 관련된 센싱 기능을 담당한다.The sensing unit 740 senses the current state of the terminal 200A such as the open / close state of the terminal 200A, the position of the terminal 200A, the presence of the user, the orientation of the terminal 200A, And generate a sensing signal for controlling the operation of the terminal 200A. For example, when the terminal 200A is in the form of a slide phone, it is possible to sense whether the slide phone is opened or closed. In addition, it is responsible for a sensing function related to the power supply of the power supply unit 790, whether the interface unit 770 is connected to an external device, and the like.

입/출력부(750)는 시각, 청각 또는 촉각 등과 관련된 입력 또는 출력을 발생시키기 위한 것이다. 입/출력부(750)는 단말기(200A)의 동작 제어를 위한 입력 데이터를 발생시킬 수 있으며, 또한 단말기(200A)에서 처리되는 정보를 표시할 수 있다.The input / output unit 750 is for generating an input or an output related to a visual, auditory or tactile sense. The input / output unit 750 can generate input data for controlling the operation of the terminal 200A and display information processed by the terminal 200A.

입/출력부(750)는 키 패드부(730), 디스플레이 모듈(751), 음향 출력 모듈(752), 및 터치 스크린 패널(753)을 포함할 수 있다. 키 패드부(730)는 키 패드 입력에 의하여 입력 데이터를 발생시킬 수 있다. The input / output unit 750 may include a keypad unit 730, a display module 751, an audio output module 752, and a touch screen panel 753. [ The keypad unit 730 may generate input data by inputting a keypad.

디스플레이 모듈(751)은 제어부(780)에 의해 제어되는 전기적 신호에 따라 색이 변화하는 실시 예에 따른 디스플레이 장치들(3000, 3000-1 내지 3000-4) 중 어느 하나 또는 디스플레이 장치들(3000, 3000-1 내지 3000-4) 중 어느 하나에 포함된 화소 어레이를 포함할 수 있다.The display module 751 may display any one of the display devices 3000, 3000-1 to 3000-4 according to the embodiment in which the color changes according to an electrical signal controlled by the controller 780, 3000 - 1 to 3000 - 4).

예컨대, 디스플레이 모듈(751)은 액정 디스플레이(liquid crystal display), 박막 트랜지스터 액정 디스플레이(thin film transistor-liquid crystal display), 유기 발광 다이오드(organic light-emitting diode), 플렉시블 디스플레이(flexible display), 3차원 디스플레이(3D display) 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다.For example, the display module 751 may be a liquid crystal display, a thin film transistor-liquid crystal display, an organic light-emitting diode, a flexible display, And a display (3D display).

음향 출력 모듈(752)은 호(call) 신호 수신, 통화 모드, 녹음 모드, 음성 인식 모드, 또는 방송 수신 모드 등에서 무선 통신부(710)로부터 수신되는 오디오 데이터를 출력하거나, 메모리부(760)에 저장된 오디오 데이터를 출력할 수 있다.The audio output module 752 outputs audio data received from the wireless communication unit 710 in a call signal reception mode, a call mode, a recording mode, a voice recognition mode, or a broadcast reception mode, Audio data can be output.

터치 스크린 패널(753)은 터치 스크린의 특정 영역에 대한 사용자의 터치에 기인하여 발생하는 정전 용량의 변화를 전기적인 입력 신호로 변환할 수 있다.The touch screen panel 753 may convert a change in capacitance caused by a user's touch to a specific area of the touch screen into an electrical input signal.

메모리부(760)는 제어부(780)의 처리 및 제어를 위한 프로그램이 저장될 수도 있고, 입/출력되는 데이터들(예를 들어, 전화번호부, 메시지, 오디오, 정지영상, 사진, 동영상 등)을 임시 저장할 수 있다. 예컨대, 메모리부(760)는 카메라(721)에 의해 촬영된 이미지, 예컨대, 사진 또는 동영상을 저장할 수 있다.The memory unit 760 may store programs for processing and controlling the control unit 780 and may store input / output data (e.g., telephone directory, message, audio, still image, You can save it temporarily. For example, the memory unit 760 may store an image, e.g., a photograph or a moving image, photographed by the camera 721. [

인터페이스부(770)는 단말기(200A)에 연결되는 외부 기기와의 연결되는 통로 역할을 한다. 인터페이스부(770)는 외부 기기로부터 데이터를 전송받거나, 전원을 공급받아 단말기(200A) 내부의 각 구성 요소에 전달하거나, 단말기(200A) 내부의 데이터가 외부 기기로 전송되도록 한다. 예컨대, 인터페이스부(770)는 유/무선 헤드셋 포트, 외부 충전기 포트, 유/무선 데이터 포트, 메모리 카드(memory card) 포트, 식별 모듈이 구비된 장치를 연결하는 포트, 오디오 I/O(Input/Output) 포트, 비디오 I/O(Input/Output) 포트, 및 이어폰 포트 등을 포함할 수 있다.The interface unit 770 serves as a path for connection to an external device connected to the terminal 200A. The interface unit 770 receives data from an external device or supplies power to each component in the terminal 200A or allows data in the terminal 200A to be transmitted to an external device. For example, the interface unit 770 may include a wired / wireless headset port, an external charger port, a wired / wireless data port, a memory card port, a port for connecting a device equipped with the identification module, Output port, a video input / output (I / O) port, and an earphone port.

제어부(controller, 780)는 단말기(200A)의 전반적인 동작을 제어할 수 있다. 예를 들어 제어부(780)는 음성 통화, 데이터 통신, 화상 통화 등을 위한 관련된 제어 및 처리를 수행할 수 있다.The controller 780 can control the overall operation of the terminal 200A. For example, the control unit 780 may perform related control and processing for voice call, data communication, video call, and the like.

제어부(780)는 도 1에 도시된 터치 스크린 패널 구동부의 패널 제어부(144)를 포함하거나, 패널 제어부(144)의 기능을 수행할 수 있다.The control unit 780 may include the panel control unit 144 of the touch screen panel driving unit shown in FIG. 1 or may perform the function of the panel control unit 144.

제어부(780)는 멀티 미디어 재생을 위한 멀티미디어 모듈(781)을 구비할 수 있다. 멀티미디어 모듈(781)은 제어부(180) 내에 구현될 수도 있고, 제어부(780)와 별도로 구현될 수도 있다. The control unit 780 may include a multimedia module 781 for multimedia playback. The multimedia module 781 may be implemented in the control unit 180 or may be implemented separately from the control unit 780.

제어부(780)는 터치스크린 상에서 행해지는 필기 입력 또는 그림 그리기 입력을 각각 문자 및 이미지로 인식할 수 있는 패턴 인식 처리를 행할 수 있다.The control unit 780 can perform a pattern recognition process for recognizing handwriting input or drawing input performed on the touch screen as characters and images, respectively.

예컨대, 제어부(780)는 실시 예에 따른 디스플레이 장치들(3000, 3000-1 내지 3000-4)의 화소 어레이의 발광 소자들의 구동, 예컨대, 발광 소자들의 턴 온 또는 턴 오프 동작을 제어할 수 있다.For example, the control unit 780 can control the driving of the light emitting elements of the pixel array of the display devices 3000, 3000-1 to 3000-4 according to the embodiment, for example, the turn-on or turn-off operation of the light emitting elements .

전원 공급부(790)는 제어부(780)의 제어에 의해 외부의 전원, 또는 내부의 전원을 인가받아 각 구성 요소들의 동작에 필요한 전원을 공급할 수 있다.The power supply unit 790 can supply external power or internal power under the control of the controller 780 and supply power required for operation of each component.

이상에서 실시 예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시 예에 포함되며, 반드시 하나의 실시 예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시 예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시 예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시 예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The features, structures, effects and the like described in the embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to one embodiment. Further, the features, structures, effects, and the like illustrated in the embodiments can be combined and modified by other persons having ordinary skill in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

110: 발광 구조물 120: 패시베이션층
130: 제1 전극 135: 제1 전극 패드
140: 제2 전극 145: 제2 전극 패드
150: 절연층.
110: light emitting structure 120: passivation layer
130: first electrode 135: first electrode pad
140: second electrode 145: second electrode pad
150: Insulation layer.

Claims (19)

기판; 및
상기 기판 상에 서로 이격하여 매트릭스 형태로 배치되는 복수의 발광 소자들을 포함하며,
상기 발광 소자들 각각은,
제1 도전형 반도체층, 활성층, 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광 구조물;
상기 제2 도전형 반도체층 아래에 배치되는 절연층;
상기 절연층 아래에 서로 이격하여 배치되며, 상기 기판 상에 배치되는 제1 전극 패드 및 제2 전극 패드;
상기 발광 구조물 및 상기 절연층을 관통하고, 상기 제1 전극 패드에 연결되는 제1 전극; 및
상기 제2 도전형 반도체층과 상기 제2 전극 패드 사이에 배치되는 제2 전극;
상기 제1 전극과 상기 발광 구조물 사이에 배치되는 패시베이션층을 포함하며,
상기 제1 전극은 상기 패시베이션층을 관통하여 상기 제1 도전형 반도체층에 접촉하는 화소 어레이.
Board; And
And a plurality of light emitting elements arranged on the substrate in a matrix form to be spaced apart from each other,
Each of the light-
A light emitting structure including a first conductive semiconductor layer, an active layer, and a second conductive semiconductor layer;
An insulating layer disposed under the second conductive type semiconductor layer;
A first electrode pad and a second electrode pad disposed on the substrate and spaced apart from each other below the insulating layer;
A first electrode penetrating the light emitting structure and the insulating layer and connected to the first electrode pad; And
A second electrode disposed between the second conductive semiconductor layer and the second electrode pad;
And a passivation layer disposed between the first electrode and the light emitting structure,
Wherein the first electrode is in contact with the first conductivity type semiconductor layer through the passivation layer.
기판; 및
상기 기판 상에 서로 이격하여 매트릭스 형태로 배치되는 복수의 발광 소자들을 포함하며,
상기 발광 소자들 각각은,
제1 도전형 반도체층, 활성층, 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광 구조물;
상기 제1 도전형 반도체층 상에 배치되는 패시베이션층;
상기 패시베이션층 상에 배치되고, 일단은 상기 패시베이션층을 관통하여 상기 제1 도전형 반도체층에 접촉되고, 타 단은 상기 발광 구조물의 측부 방향으로 확장되어 상기 발광 구조물의 하단 아래까지 확장되는 제1 전극;
상기 제2 도전형 반도체층 아래에 배치되는 제2 전극;
상기 제2 전극 아래에 배치되는 전극 패드; 및
상기 발광 구조물의 측면에 배치되는 절연층을 포함하며,
상기 제1 전극의 타단은 상기 발광 구조물의 측면에 배치되는 절연층으로부터 이격하는 화소 어레이.
Board; And
And a plurality of light emitting elements arranged on the substrate in a matrix form to be spaced apart from each other,
Each of the light-
A light emitting structure including a first conductive semiconductor layer, an active layer, and a second conductive semiconductor layer;
A passivation layer disposed on the first conductive semiconductor layer;
A first conductive semiconductor layer disposed on the passivation layer and having one end contacting the first conductive semiconductor layer through the passivation layer and the other end extending toward a side of the light emitting structure, electrode;
A second electrode disposed below the second conductive semiconductor layer;
An electrode pad disposed under the second electrode; And
And an insulating layer disposed on a side surface of the light emitting structure,
Wherein the other end of the first electrode is spaced apart from an insulating layer disposed on a side surface of the light emitting structure.
기판; 및
상기 기판 상에 서로 이격하여 매트릭스 형태로 배치되는 복수의 발광 소자들을 포함하며,
상기 발광 소자들 각각은,
제1 도전형 반도체층, 활성층, 및 제2 도전형 반도체층을 포함하는 발광 구조물을 포함하고, 서로 이격하는 복수의 발광 셀들;
상기 발광 셀들의 제2 도전형 반도체층 아래에 배치되는 절연층;
인접하는 2개의 발광 셀들 사이에 배치되고, 상기 인접하는 2개의 발광 셀들의 제1 도전형 반도체층들에 접촉되는 적어도 하나의 제1 전극;
상기 절연층 아래에 서로 이격하여 배치되는 제1 전극 패드 및 제2 전극 패드들; 및
상기 적어도 하나의 제1 전극과 상기 복수의 발광 셀들의 발광 구조물의 측면 사이에 배치되는 패시베이션층을 포함하며,
상기 전극의 일단은 상기 패시베이션층을 관통하여 상기 제1 도전형 반도체층에 접촉하고, 상기 제1 전극의 타단은 상기 발광 구조물, 및 상기 절연층을 통과하여 상기 적어도 하나의 제1 전극 패드와 연결되는 화소 어레이.
Board; And
And a plurality of light emitting elements arranged on the substrate in a matrix form to be spaced apart from each other,
Each of the light-
A plurality of light emitting cells including a light emitting structure including a first conductivity type semiconductor layer, an active layer, and a second conductivity type semiconductor layer;
An insulating layer disposed under the second conductive type semiconductor layer of the light emitting cells;
At least one first electrode disposed between two adjacent light emitting cells and contacting the first conductive semiconductor layers of the adjacent two light emitting cells;
A first electrode pad and a second electrode pad spaced apart from each other below the insulating layer; And
And a passivation layer disposed between the at least one first electrode and a side surface of the light emitting structure of the plurality of light emitting cells,
Wherein one end of the electrode is in contact with the first conductive type semiconductor layer through the passivation layer and the other end of the first electrode is connected to the at least one first electrode pad through the insulating layer, / RTI >
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 발광 소자들은 청색광을 발생하는 발광 소자, 적색광을 발생하는 발광 소자, 및 녹색광을 발생하는 발광 소자를 포함하며,
상기 매트릭스의 행 방향 및 열 방향 각각으로 상기 적색광을 발생하는 발광 소자, 상기 녹색광을 발생하는 발광 소자, 및 상기 청색광을 발생하는 발광 소자가 반복하여 배열되는 화소 어레이.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the light emitting elements include a light emitting element that generates blue light, a light emitting element that generates red light, and a light emitting element that generates green light,
Wherein the light emitting element for generating the red light, the light emitting element for generating the green light, and the light emitting element for generating the blue light are arranged repeatedly in the row direction and the column direction of the matrix, respectively.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 발광 소자들은 청색광을 발생하는 발광 소자, 적색광을 발생하는 발광 소자 또는 녹색광을 발생하는 발광 소자를 포함하며,
상기 매트릭스의 열 방향으로 제1 페어(pair) 및 제2 페어가 교대로 배치되고, 상기 제1 페어는 차례로 배열되는 청색광을 발생하는 발광 소자 및 녹색광을 발생하는 발광 소자로 이루어지고, 상기 제2 페어는 차례로 배열되는 적색광을 발생하는 발광 소자와 녹색광을 발생하는 발광 소자로 이루어지는 화소 어레이.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The light emitting devices include a light emitting device that generates blue light, a light emitting device that generates red light, or a light emitting device that generates green light,
Wherein a first pair and a second pair are alternately arranged in the column direction of the matrix, the first pair comprises a light emitting element for generating blue light arranged in turn and a light emitting element for generating green light, Wherein the pair comprises a light emitting element for generating red light arranged in order and a light emitting element for generating green light.
제5항에 있어서,
상기 발광 소자들은 상기 행 방향으로는 청색광을 발생하는 발광 소자와 적색광을 발생하는 발광 소자가 교대로 배치되는 제1 배열, 및 녹색광을 발생하는 발광 소자들만 배치되는 제2 배열을 포함하고, 상기 제1 배열은 짝수 행 및 홀수 행 중 어느 하나이고, 상기 제2 배열은 짝수 행 및 홀수 행 중 다른 어느 하나인 화소 어레이.
6. The method of claim 5,
Wherein the light emitting elements include a first array in which light emitting elements for generating blue light and light emitting elements for generating red light are alternately arranged in the row direction and a second array in which only light emitting elements for generating green light are arranged, 1 array is any one of an even-numbered row and an odd-numbered row, and the second array is any one of an even-numbered row and an odd-numbered row.
제3항에 있어서,
상기 발광 소자들 각각은 청색광을 발생하는 제1 발광 셀, 녹색광을 발생하는 제2 발광 셀, 및 적색광을 발생하는 제3 발광 셀을 포함하며,
상기 제1 내지 제3 발광 셀들은 상기 매트릭스의 행 방향 및 열 방향 각각으로 상기 제1 발광 셀, 상기 제2 발광 셀, 및 상기 제3 발광 순서로 반복하여 배치되는 화소 어레이.
The method of claim 3,
Each of the light emitting devices includes a first light emitting cell for generating blue light, a second light emitting cell for generating green light, and a third light emitting cell for generating red light,
Wherein the first to third light emitting cells are repeatedly arranged in the first light emitting cell, the second light emitting cell, and the third light emitting order in the row direction and the column direction of the matrix, respectively.
제3항에 있어서, 상기 발광 소자들은,
청색광을 발생하는 제1 발광 셀 및 녹색광을 발생하는 제2 발광 셀을 포함하는 제1 발광 소자 및
적색광을 발생하는 제3 발광 셀 및 녹색광을 발생하는 제4 발광 셀을 포함하는 제2 발광 소자를 포함하며,
상기 제1 및 제2 발광 소자는 상기 매트릭스의 열 방향 및 행 방향 각각으로 교대로 배치되는 화소 어레이.
The light emitting device according to claim 3,
A first light emitting element including a first light emitting cell for generating blue light and a second light emitting cell for generating green light;
A third light emitting cell for generating red light, and a fourth light emitting cell for generating green light,
Wherein the first and second light emitting elements are alternately arranged in the column direction and the row direction of the matrix.
제3항에 있어서,
상기 발광 소자들은 청색광을 발생하는 제1 발광 셀 및 녹색광을 발생하는 제2 발광 셀을 포함하는 제1 발광 소자 및
적색광을 발생하는 제3 발광 셀 및 녹색광을 발생하는 제4 발광 셀을 포함하는 제2 발광 소자를 포함하며,
상기 매트릭스의 열 방향으로는 상기 제1 내지 상기 제4 발광 셀들이 순차적으로 반복하여 배열되고, 상기 매트릭스의 행 방향으로는 상기 제1 발광 셀과 상기 제3 발광 셀이 교대로 배열되는 화소 어레이.
The method of claim 3,
The light emitting devices include a first light emitting device including a first light emitting cell for generating blue light and a second light emitting cell for generating green light,
A third light emitting cell for generating red light, and a fourth light emitting cell for generating green light,
Wherein the first to fourth light emitting cells are sequentially and repeatedly arranged in a column direction of the matrix, and the first light emitting cell and the third light emitting cell are alternately arranged in a row direction of the matrix.
제4항에 있어서,
상기 녹색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적 및 상기 적색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적은 상기 청색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적보다 큰 화소 어레이.
5. The method of claim 4,
Wherein the area of the light emitting region of the light emitting element that generates the green light and the area of the light emitting region of the light emitting element that generates the red light are larger than the area of the light emitting region of the light emitting element that generates the blue light.
제5항에 있어서,
상기 녹색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적은 상기 청색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적, 및 상기 적색광을 발생하는 발광 소자의 발광 영역의 면적보다 작은 화소 어레이.
6. The method of claim 5,
Wherein the area of the light emitting region of the light emitting element that generates the green light is smaller than the area of the light emitting region of the light emitting element that generates the blue light and the area of the light emitting region of the light emitting element that generates the red light.
제1항 또는 제3항에 있어서,
상기 기판을 관통하여 상기 제1 전극 패드와 연결되는 제1 배선 전극; 및
상기 기판을 관통하여 상기 제2 전극 패드와 연결되는 제2 배선 전극을 더 포함하는 화소 어레이.
The method according to claim 1 or 3,
A first wiring electrode connected to the first electrode pad through the substrate; And
And a second wiring electrode connected to the second electrode pad through the substrate.
제2항에 있어서,
상기 발광 소자들은 청색광을 발생하는 제1 발광 소자, 적색광을 발생하는 제2 발광 소자, 및 녹색광을 발생하는 제3 발광 소자를 포함하며,
상기 제1 내지 제3 발광 소자들의 제1 전극들 각각은 상기 기판 상에 배치되는 공통 접속 전극에 공통 접속되고,
상기 제1 내지 제3 발광 소자들의 제2 전극 패드들은 상기 기판 상에 서로 이격하여 배치되는 화소 어레이.
3. The method of claim 2,
The light emitting devices include a first light emitting device for generating blue light, a second light emitting device for generating red light, and a third light emitting device for generating green light,
Wherein each of the first electrodes of the first through third light emitting elements is commonly connected to a common connection electrode disposed on the substrate,
And the second electrode pads of the first to third light emitting elements are arranged on the substrate so as to be spaced apart from each other.
제13항에 있어서,
상기 기판을 관통하여 상기 공통 접속 전극에 연결되는 제1 배선 전극; 및
상기 기판을 관통하여 상기 제2 전극 패드들 중 대응하는 어느 하나와 접속하는 제2 배선 전극들을 더 포함하는 화소 어레이.
14. The method of claim 13,
A first wiring electrode connected to the common connection electrode through the substrate; And
And second wiring electrodes passing through the substrate and connected to a corresponding one of the second electrode pads.
제2항에 있어서,
상기 발광 소자들은 청색광을 발생하는 제1 발광 소자, 적색광을 발생하는 제2 발광 소자, 및 녹색광을 발생하는 제3 발광 소자를 포함하며,
상기 제1 내지 제3 발광 소자들의 제1 전극들은 상기 기판 상에 서로 이격하여 배치되고,
상기 제1 내지 제3 발광 소자들의 제2 전극 패드들은 상기 기판 상에 서로 이격하여 배치되는 화소 어레이.
3. The method of claim 2,
The light emitting devices include a first light emitting device for generating blue light, a second light emitting device for generating red light, and a third light emitting device for generating green light,
Wherein the first electrodes of the first through third light emitting elements are disposed on the substrate so as to be spaced apart from each other,
And the second electrode pads of the first to third light emitting elements are arranged on the substrate so as to be spaced apart from each other.
제15항에 있어서,
상기 기판을 관통하여 상기 제1 전극들 각각에 접속되는 제1 배선 전극; 및
상기 기판을 관통하여 상기 제2 전극 패드들 중 대응하는 어느 하나에 접속되는 제2 배선 전극들을 더 포함하는 화소 어레이.
16. The method of claim 15,
A first wiring electrode connected to the first electrodes through the substrate; And
And second wiring electrodes penetrating through the substrate and connected to a corresponding one of the second electrode pads.
제16항에 있어서,
상기 제1 배선 전극은 상기 매트릭스의 행 방향 또는 열 방향과 평행한 제1 방향으로 연장되는 제1 연장 부분들을 포함하고,
상기 제2 배선 전극들 각각은 상기 제1 방향 또는 상기 제1 방향과 반대 방향으로 연장되는 제2 연장 부분들을 포함하고,
상기 제1 연장 부분들과 상기 제2 연장 부분들은 상기 제1 방향과 수직한 방향으로 서로 교대로 배치되고, 상기 제1 연장 부분들은 상기 제2 연장 부분들 사이에 배치되는 화소 어레이.
17. The method of claim 16,
The first wiring electrode includes first extending portions extending in a first direction parallel to a row direction or a column direction of the matrix,
Each of the second wiring electrodes includes second extending portions extending in the first direction or in a direction opposite to the first direction,
Wherein the first extending portions and the second extending portions are alternately arranged in a direction perpendicular to the first direction, and the first extending portions are disposed between the second extending portions.
제16항에 있어서,
상기 제2 배선 전극들 중 어느 하나는 중앙에 위치하고,
상기 어느 하나를 제외한 나머지 제2 배선 전극들은 직경이 서로 다른 링 형상을 가지며, 중앙에 위치한 상기 어느 하나의 제2 배선 전극을 기준으로 동심원으로 이루도록 배치되는 화소 어레이.
17. The method of claim 16,
Wherein one of the second wiring electrodes is located at the center,
Wherein the second wiring electrodes have a ring shape having a different diameter and are disposed concentrically with respect to any one of the second wiring electrodes located at the center.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 화소 어레이; 및
상기 화소 어레이의 발광 소자들의 구동을 제어하는 제어부를 포함하는 디스 플레이 장치.
A pixel array according to any one of claims 1 to 3; And
And a control unit for controlling driving of the light emitting elements of the pixel array.
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