KR20170133311A - Composition - Google Patents

Composition Download PDF

Info

Publication number
KR20170133311A
KR20170133311A KR1020177011479A KR20177011479A KR20170133311A KR 20170133311 A KR20170133311 A KR 20170133311A KR 1020177011479 A KR1020177011479 A KR 1020177011479A KR 20177011479 A KR20177011479 A KR 20177011479A KR 20170133311 A KR20170133311 A KR 20170133311A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
compound
composition
mass
parts
epoxy compound
Prior art date
Application number
KR1020177011479A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102563226B1 (en
Inventor
에리 혼마
카즈히코 마츠도
Original Assignee
가부시키가이샤 아데카
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 아데카 filed Critical 가부시키가이샤 아데카
Publication of KR20170133311A publication Critical patent/KR20170133311A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102563226B1 publication Critical patent/KR102563226B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • C09J11/06Non-macromolecular additives organic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J163/00Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Polyethers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

본원 발명은, 접착성, 내열성 및 액 보존 안정성이 뛰어난 조성물을 제공하는 것이며, 구체적으로는 양이온 중합성 화합물의 혼합물(1)을 포함하여 이루어지고, 상기 혼합물(1)이, 하기 일반식(I)로 나타내는 방향환 함유 에폭시 화합물(1A)를 주성분으로 함유하며, 또한 지방족 에폭시 화합물(1B), 지환식 에폭시 화합물(1C) 및 옥세탄 화합물(1D)로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물을 제공하는 것이다.

Figure pct00011

(식 중, R1, R2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자 수 1~5의 알킬기, 탄소 원자 수 1~8의 알콕시기, 탄소 원자 수 2~5의 알케닐기 또는 할로겐 원자를 나타내고, m은 0~10의 정수이다.)The present invention provides a composition having excellent adhesiveness, heat resistance and liquid storage stability, and more specifically, a composition comprising a mixture (1) of a cationic polymerizable compound, wherein the mixture (1) (1B), an alicyclic epoxy compound (1C), and an oxetane compound (1D), as a main component, and an aromatic ring-containing epoxy compound By weight of the composition.
Figure pct00011

(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkene having 2 to 5 carbon atoms A halogen atom or a halogen atom, and m is an integer of 0 to 10.)

Description

조성물{COMPOSITION} Composition {COMPOSITION}

본 발명은 조성물 및 상기 조성물에 활성 에너지선을 조사함으로써 얻어지는 경화물에 관한 것이다. 상기 조성물은 특히 접착제에 유용하다. The present invention relates to a composition and a cured product obtained by irradiating the composition with active energy rays. The composition is particularly useful for adhesives.

양이온 중합성 조성물은 잉크, 도료, 각종 코팅제, 접착제, 광학 부재 등의 분야에서 사용되고 있다. The cationic polymerizable composition is used in the fields of inks, paints, various coating agents, adhesives, optical members and the like.

예를 들면, 하기 특허문헌 1~3에는 다양한 양이온 중합성 조성물이 개시되어 있다. For example, the following Patent Documents 1 to 3 disclose various cationic polymerizable compositions.

그러나 이들 문헌에 기재된 양이온 중합성 조성물의 경화물은 접착성 또는 내열성에서 충분하지 않았다. However, the cured product of the cationic polymerizable composition described in these documents is not sufficient in adhesiveness or heat resistance.

일본 공개특허공보 평10-279658호Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-279658 일본 공개특허공보 2003-313274호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-313274 일본 공개특허공보 2010-229392호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-229392

본 발명의 목적은 접착성, 내열성 및 액 보존 안정성이 뛰어난 조성물을 제공하는 것에 있다. An object of the present invention is to provide a composition excellent in adhesiveness, heat resistance and liquid storage stability.

본 발명은, 상기 지견에 기초하여 이루어진 것으로, 양이온 중합성 화합물의 혼합물(1)을 포함하여 이루어지고, 상기 혼합물(1)이, 하기 일반식(I)로 나타내는 방향환 함유 에폭시 화합물(1A)를 주성분으로 함유하며, 또한 지방족 에폭시 화합물(1B), 지환식 에폭시 화합물(1C) 및 옥세탄 화합물(1D)로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물을 제공함으로써, 상기 목적을 달성한 것이다. The present invention is based on the above finding and comprises a mixture (1) of a cationic polymerizable compound, wherein the mixture (1) comprises an aromatic ring-containing epoxy compound (1A) represented by the following general formula (I) And at least one selected from an aliphatic epoxy compound (1B), an alicyclic epoxy compound (1C), and an oxetane compound (1D) as a main component. It is.

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 중, R1, R2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자 수 1~5의 알킬기, 탄소 원자 수 1~8의 알콕시기, 탄소 원자 수 2~5의 알케닐기 또는 할로겐 원자를 나타내고, m은 0~10의 정수이다.) (Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkene having 2 to 5 carbon atoms A halogen atom or a halogen atom, and m is an integer of 0 to 10.)

또한, 본 발명은 상기 조성물로 이루어지는 접착제를 제공하는 것이다. The present invention also provides an adhesive comprising the above composition.

본 발명의 조성물은 접착성 및 내열성이 뛰어나기 때문에, 접착제 용도로서 특히 유용한 것이다. Since the composition of the present invention is excellent in adhesiveness and heat resistance, it is particularly useful as an adhesive.

이하, 본 발명의 조성물 및 상기 조성물로 이루어지는 접착제에 대해 바람직한 실시형태에 기초하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, the composition of the present invention and the adhesive comprising the composition will be described in detail based on preferred embodiments.

본 발명에 사용하는 상기 양이온 중합성 화합물의 혼합물(1)에서, 상기 혼합물을 구성하는 양이온 중합성 화합물은, 광(光) 조사에 의해 활성화된 양이온 중합 개시제에 의해 고분자화 또는 가교(架橋) 반응을 일으키는 화합물이며, 양이온 중합성 화합물로 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 환상(環狀) 락톤 화합물, 환상 아세탈 화합물, 환상 티오에테르 화합물, 스피로오르토에스테르 화합물, 비닐에테르 등을 사용할 수 있지만, 상기 일반식(I)로 나타내는 방향환 함유 에폭시 화합물(1A)를 주성분으로 함유하고 있는 것이 필수이다. 이에 더하여, 지방족 에폭시 화합물(1B), 지환식 에폭시 화합물(1C) 및 옥세탄 화합물(1D)의 적어도 1종을 함유하고 있는 것이 필수이다. 또한, 주성분이란, 양이온 중합성 화합물을 수 종류 섞어, 동일한 종류의 양이온 중합성 화합물의 합계 질량이 가장 많은 것을 말한다. In the mixture (1) of the cationic polymerizable compound used in the present invention, the cationic polymerizable compound constituting the mixture is polymerized or crosslinked (crosslinked) by a cationic polymerization initiator activated by light An epoxy compound, an oxetane compound, a cyclic lactone compound, a cyclic acetal compound, a cyclic thioether compound, a spiroorthoester compound, a vinyl ether, and the like can be used as the cationic polymerizable compound. Containing epoxy compound (1A) represented by the general formula (I) as a main component. In addition, it is essential that it contains at least one of aliphatic epoxy compound (1B), alicyclic epoxy compound (1C) and oxetane compound (1D). The main component is a mixture of several kinds of cationic polymerizable compounds, which means that the total mass of the same kind of cationic polymerizable compounds is the largest.

상기 일반식(I)로 나타내는 방향환 함유 에폭시 화합물(1A)에서, 상기 일반식(I) 중, R1, R2, R3 및 R4로 나타내는 탄소 원자 수 1~5의 알킬기로는 메틸, 에틸, 프로필, iso-프로필, 부틸, sec-부틸, tert-부틸, iso-부틸, 아밀, iso-아밀, tert-아밀 등을 들 수 있고, In the aromatic ring-containing epoxy compound (1A) represented by the general formula (I), the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in the general formula (I) Butyl, isobutyl, amyl, iso-amyl, tert-amyl, and the like, and examples thereof include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-

R1, R2, R3 및 R4로 나타내는 탄소 원자 수 1~8의 알콕시기로는 메톡시, 에톡시, 프로필옥시, iso-프로필옥시, 부톡시, 펜틸옥시, iso-펜틸옥시, 헥실옥시, 헵틸옥시, 옥틸옥시, 2-에틸헥실옥시 등을 들 수 있으며, Examples of the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 include methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butoxy, pentyloxy, iso-pentyloxy, hexyloxy Heptyloxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy and the like,

R1, R2, R3 및 R4로 나타내는 탄소 원자 수 2~5의 알케닐기로는 비닐, 알릴, 부테닐, 프로페닐 등을 들 수 있고, Examples of the alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 include vinyl, allyl, butenyl, and propenyl.

R1, R2, R3 및 R4로 나타내는 할로겐 원자로는 불소, 염소, 브롬, 요오드를 들 수 있다. 또한, 본 명세서 중에서의 할로겐 원자는 모두 이것과 동일하다. Examples of the halogen atom represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 include fluorine, chlorine, bromine and iodine. The halogen atoms in this specification are all the same.

상기 일반식(I)로 나타내는 방향환 함유 에폭시 화합물(1A)로는, 에폭시 당량이 작아지는 점에서 R1, R2, R3 및 R4가 수소 또는 메틸기인 것이 바람직하고, 수소인 것이 특히 바람직하다. As the aromatic ring-containing epoxy compound (1A) represented by the general formula (I), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are preferably hydrogen or a methyl group in view of reducing the epoxy equivalent, Do.

상기 지방족 에폭시 화합물(1B)로는 지방족 알코올의 글리시딜에테르화물, 알킬카르복실산의 글리시딜에스테르 등의 단관능 에폭시 화합물이나, 지방족 다가 알코올 또는 그 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리글리시딜에테르화물, 지방족 장쇄 다염기산의 폴리글리시딜에스테르 등의 다관능 에폭시 화합물을 들 수 있다. 대표적인 화합물로 알릴글리시딜에테르, 부틸글리시딜에테르, sec-부틸페닐글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르, C12~13 혼합 알킬글리시딜에테르, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린의 트리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판의 트리글리시딜에테르, 소르비톨의 테트라글리시딜에테르, 디펜타에리트리톨의 헥사글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜의 디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜의 디글리시딜에테르 등의 다가 알코올의 글리시딜에테르, 또한 프로필렌글리콜, 트리메틸올프로판, 글리세린 등의 지방족 다가 알코올에 1종 또는 2종 이상의 알킬렌옥사이드를 부가함으로써 얻어지는 폴리에테르폴리올의 폴리글리시딜에테르화물, 지방족 장쇄 이염기산의 디글리시딜에스테르를 들 수 있다. 또한, 지방족 고급 알코올의 모노글리시딜에테르나 고급 지방산의 글리시딜에스테르, 에폭시화 대두유, 에폭시스테아르산옥틸, 에폭시스테아르산부틸, 에폭시화 대두유, 에폭시화 폴리부타디엔 등을 들 수 있다. Examples of the aliphatic epoxy compound (1B) include monofunctional epoxy compounds such as glycidyl ether compounds of aliphatic alcohols and glycidyl esters of alkylcarboxylic acids, polyglycidyl ether compounds of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof , Polyglycidyl esters of aliphatic long chain polybasic acids, and other polyfunctional epoxy compounds. Representative compounds include allyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, sec-butylphenyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, C12-13 mixed alkyl glycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether Cydyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, triglycidyl ether of glycerin, triglycidyl ether of trimethylol propane, tetraglycidyl ether of sorbitol, hexaglycidyl ether of dipentaerythritol , Neopentyl glycol diglycidyl ether, diglycidyl ether of polyethylene glycol, diglycidyl ether of polyhydric alcohol such as polyglycidyl ether of polypropylene glycol, aliphatic alcohols such as propylene glycol, trimethylol propane, glycerin and the like A polyglycidyl ether compound of a polyether polyol obtained by adding one or more alkylene oxides to a polyhydric alcohol, a diglycidyl ether of an aliphatic long chain dibasic acid It may be an ester. Also, monoglycidyl ethers of aliphatic higher alcohols, glycidyl esters of higher fatty acids, epoxidized soybean oil, octyl stearate, butyl stearate, epoxidized soybean oil, epoxidized polybutadiene and the like can be given.

상기 지방족 에폭시 화합물(1B)로는, 접착제의 점도 및 경화물의 내열성의 점에서 탄소 원자 수 1~6의 지방족 디올의 디글리시딜에테르가 바람직하다. As the aliphatic epoxy compound (1B), a diglycidyl ether of an aliphatic diol having 1 to 6 carbon atoms is preferable in view of the viscosity of the adhesive and the heat resistance of the cured product.

상기 지방족 에폭시 화합물(1B)로는 시판품의 것을 사용할 수 있고, 예를 들면, 데나콜 EX-121, 데나콜 EX-171, 데나콜 EX-192, 데나콜 EX-211, 데나콜 EX-212, 데나콜 EX-313, 데나콜 EX-314, 데나콜 EX-321, 데나콜 EX-411, 데나콜 EX-421, 데나콜 EX-512, 데나콜 EX-521, 데나콜 EX-611, 데나콜 EX-612, 데나콜 EX-614, 데나콜 EX-622, 데나콜 EX-810, 데나콜 EX-811, 데나콜 EX-850, 데나콜 EX-851, 데나콜 EX-821, 데나콜 EX-830, 데나콜 EX-832, 데나콜 EX-841, 데나콜 EX-861, 데나콜 EX-911, 데나콜 EX-941, 데나콜 EX-920, 데나콜 EX-931(나가세케무텍쿠스사 제품); 에포라이트 M-1230, 에포라이트 40E, 에포라이트 100E, 에포라이트 200E, 에포라이트 400E, 에포라이트 70P, 에포라이트 200P, 에포라이트 400P, 에포라이트 1500NP, 에포라이트 1600, 에포라이트 80MF, 에포라이트 100MF(교에이샤카가쿠사 제품) 등을 들 수 있다. Examples of the aliphatic epoxy compound (1B) include commercially available products such as Denacol EX-121, Denacol EX-171, Denacol EX-192, Denacol EX-211, Denacol EX- Denacol EX-411, Denacol EX-411, Denacol EX-421, Denacol EX-512, Denacol EX-521, Denacol EX-611, Denacol EX-411, Denacol EX-821, Denacol EX-811, Denacol EX-850, Denacol EX-851, Denacol EX-821, Denacol EX-830 Denacol EX-932, Denacol EX-932, Denacol EX-932, Denacol EX-832, Denacol EX-841, Denacol EX-861, Denacol EX-911, Denacol EX- ; Epolite M-1230, Epolite 40E, Epolite 100E, Epolite 200E, Epolite 400E, Epolite 70P, Epolite 200P, Epolite 400P, Epolite 1500NP, Epolite 1600, Epolite 80MF, Epolite 100MF ( Manufactured by Kyoeisha Kagaku Co., Ltd.).

상기 지환식 에폭시 화합물(1C)로는 적어도 1개의 지환식환을 가지는 다가 알코올의 폴리글리시딜에테르화물 또는 시클로헥센이나 시클로펜텐환 함유 화합물을 산화제로 에폭시화함으로써 얻어지는 시클로헥센옥사이드나 시클로펜텐옥사이드 함유 화합물을 들 수 있다. 예를 들면, 수소 첨가 비스페놀A디글리시딜에테르, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-1-메틸시클로헥실-3,4-에폭시-1-메틸헥산카르복실레이트, 6-메틸-3,4-에폭시시클로헥실메틸-6-메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-3-메틸시클로헥실메틸-3,4-에폭시-3-메틸시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시-5-메틸시클로헥실메틸-3,4-에폭시-5-메틸시클로헥산카르복실레이트, 2-(3,4-에폭시시클로헥실-5,5-스피로-3,4-에폭시)시클로헥산-메타디옥산, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트, 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실카르복실레이트, 메틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산), 프로판-2,2-디일-비스(3,4-에폭시시클로헥산), 2,2-비스(3,4-에폭시시클로헥실)프로판, 디시클로펜타디엔디에폭사이드, 에틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트), 에폭시헥사하이드로프탈산디옥틸, 에폭시헥사하이드로프탈산디-2-에틸헥실, 1-에폭시에틸-3,4-에폭시시클로헥산, 1,2-에폭시-2-에폭시에틸시클로헥산 등을 들 수 있다. As the alicyclic epoxy compound (1C), a polyglycidyl ether compound of a polyhydric alcohol having at least one alicyclic ring or a cyclohexene oxide or a cyclopentene oxide-containing compound obtained by epoxidizing a cyclohexene or cyclopentane ring- . For example, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexyl- Epoxy-1-methylhexanecarboxylate, 6-methyl-3,4-epoxycyclohexylmethyl-6-methyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4- -3,4-epoxy-3-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-5-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-5-methylcyclohexanecarboxylate, 2- -Epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-methadioxane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylcarb Bis (3,4-epoxycyclohexyl) propane, propane-2,2-diyl-bis (3,4-epoxycyclohexane) Dicyclopentadiene diepoxide, ethylene bis (3,4-epoxyoxy Epoxyhexahydrophthalic acid di-2-ethylhexyl, 1-epoxyethyl-3,4-epoxycyclohexane, 1,2-epoxy-2-epoxyethylcyclohexane And the like.

상기 지환식 에폭시 화합물(1C)로는, 접착제의 점도 및 경화물의 내열성의 점에서 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트가 바람직하다. As the alicyclic epoxy compound (1C), 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate is preferable in view of the viscosity of the adhesive and the heat resistance of the cured product.

상기 지환식 에폭시 화합물(1C)로는 시판품의 것을 사용할 수 있고, 예를 들면, 셀록사이드 2021P, 셀록사이드 2081, 셀록사이드 2000, 셀록사이드 3000(다이셀사 제품) 등을 들 수 있다. As the alicyclic epoxy compound (1C), a commercially available product can be used. Examples of the alicyclic epoxy compound (1C) include Celloxide 2021P, Celloxide 2081, Celloxide 2000, and Celloxide 3000 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.).

상기 옥세탄 화합물(1D)로는 예를 들면, 3,7-비스(3-옥세타닐)-5-옥사-노난, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]벤젠, 1,2-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]에탄, 1,3-비스[(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)메틸]프로판, 에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 트리에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 테트라에틸렌글리콜비스(3-에틸-3-옥세타닐메틸)에테르, 1,4-비스(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)부탄, 1,6-비스(3-에틸-3-옥세타닐메톡시)헥산 등의 2관능 지방족 옥세탄 화합물, 3-에틸-3-[(페녹시)메틸]옥세탄, 3-에틸-3-(헥실옥시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-(하이드록시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-(클로로메틸)옥세탄 등의 단관능 옥세탄 화합물을 들 수 있고, 그 중에서도 2관능 지방족 옥세탄이 반응성, 경화성의 점에서 바람직하다. Examples of the oxetane compound (1D) include 3,7-bis (3-oxetanyl) -5-oxa-nonane, 1,4-bis [ ] Benzene, 1,2-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] ethane, 1,3-bis [ (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, triethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetraethylene glycol bis Bifunctional aliphatic oxetane compounds such as 1,4-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) butane and 1,6-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) Ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- ( (Hydroxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (chloromethyl) oxetane, and the like. Of these, bifunctional aliphatic oxetane is preferred in view of reactivity and curability. Preferable.

상기 옥세탄 화합물(1D)로는, 접착제의 점도 및 경화물의 내열성의 점에서 3-에틸-{[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]메틸}옥세탄이 특히 바람직하다. As the oxetane compound (1D), 3-ethyl - {[(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] methyl} oxetane is particularly preferable in view of the viscosity of the adhesive and the heat resistance of the cured product.

상기 옥세탄 화합물(1D)로는 시판품을 사용할 수 있고, 예를 들면, 아론옥세탄 EXOH, POX, OXA, OXT-101, OXT-211, OXT-212, OXT-221(도아고세이사 제품) 등을 들 수 있다. As the oxetane compound (1D), a commercially available product can be used. Examples of the oxetane compound (1D) include oxides such as arox oxetane EXOH, POX, OXA, OXT-101, OXT-211, OXT-212 and OXT- .

상기 양이온 중합성 화합물의 혼합물(1)에서, 상기 일반식(I)로 나타내는 방향족 에폭시 화합물(1A), 지방족 에폭시 화합물(1B), 지환식 에폭시 화합물(1C) 및 옥세탄 화합물(1D)의 혼합 비율은, 상기 양이온 중합성 화합물의 혼합물(1) 100질량부 중, 상기 방향족 다관능 에폭시 화합물(1A)가 20~80질량부, 바람직하게는 30~70질량부, 보다 바람직하게는 30~60질량부이며, 상기 지방족 에폭시 화합물(1B)가 0~70질량부, 바람직하게는 5~60질량부, 보다 바람직하게는 10~50질량부이고, 상기 지환식 에폭시 화합물(1C)가 0~20질량부, 바람직하게는 0.5~15질량부, 보다 바람직하게는 1~10질량부이며, 상기 옥세탄 화합물(1D)가 0~70질량부, 바람직하게는 5~60질량부, 보다 바람직하게는 10~50질량부인 것이 바람직하다. 단, 상기 일반식(I)로 나타내는 방향족 에폭시 화합물(1A)는 주성분이기 때문에 그 함유량은 다른 화합물에 비해 가장 많은 값을 취한다. A mixture of an aromatic epoxy compound (1A), an aliphatic epoxy compound (1B), an alicyclic epoxy compound (1C) and an oxetane compound (1D) represented by the general formula (I) The proportion of the aromatic polyfunctional epoxy compound (1A) is 20 to 80 parts by mass, preferably 30 to 70 parts by mass, more preferably 30 to 60 parts by mass, in 100 parts by mass of the mixture (1) of the cationic polymerizable compound (1C) is 0 to 70 parts by mass, preferably 5 to 60 parts by mass, more preferably 10 to 50 parts by mass, and the alicyclic epoxy compound (1C) is 0 to 70 parts by mass, More preferably 1 to 10 parts by mass, and the oxetane compound (1D) is contained in an amount of 0 to 70 parts by mass, preferably 5 to 60 parts by mass, more preferably 5 to 60 parts by mass, It is preferably 10 to 50 parts by mass. However, since the aromatic epoxy compound (1A) represented by the general formula (I) is the main component, its content is the largest as compared with other compounds.

상기 양이온 중합성 화합물로는, 상기 일반식(I)로 나타내는 방향환 함유 에폭시 화합물(1A) 이외의 방향환 함유 에폭시 화합물을, 상기 일반식(I)로 나타내는 방향환 함유 에폭시 화합물(1A)와 병용할 수 있다. 상기 방향환 함유 에폭시 화합물로는 예를 들면, 페놀, 크레졸, 부틸페놀 등, 적어도 1개의 방향족환을 가지는 1가 페놀 또는, 그 알킬렌옥사이드 부가물의 글리시딜에테르화물, 예를 들면 비스페놀A, 비스페놀F, 또는 이들에 또한 알킬렌옥사이드를 부가한 화합물의 글리시딜에테르화물이나 에폭시노볼락 수지; 레조르시놀이나 하이드로퀴논, 카테콜 등의 2개 이상의 페놀성 수산기를 가지는 방향족 화합물의 글리시딜에테르; 벤젠디메탄올이나 벤젠디에탄올, 벤젠디부탄올 등의 알코올성 수산기를 2개 이상 가지는 방향족 화합물의 모노/폴리글리시딜에테르화물; 프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산 등의 2개 이상의 카르복실산을 가지는 다염기산 방향족 화합물의 글리시딜에스테르, 안식향산이나 톨루산, 나프토산 등의 안식향산류의 글리시딜에스테르, 스티렌옥사이드 또는 디비닐벤젠의 에폭시화물 등을 들 수 있다. 이 경우, 상기 일반식(I)로 나타내는 방향환 함유 에폭시 화합물(1A) 이외의 방향환 함유 에폭시 화합물의 함유량은, 상기 일반식(I)로 나타내는 방향환 함유 에폭시 화합물(1A) 100질량부에 대하여 바람직하게는 90질량부 이하, 보다 바람직하게는 60질량부 이하로 한다. As the cationic polymerizable compound, an aromatic ring-containing epoxy compound other than the aromatic ring-containing epoxy compound (1A) represented by the general formula (I) can be obtained by reacting an aromatic ring-containing epoxy compound (1A) represented by the general formula (I) Can be used together. Examples of the aromatic ring-containing epoxy compound include monohydric phenols having at least one aromatic ring such as phenol, cresol, and butylphenol, or glycidyl ether compounds of the alkylene oxide adduct thereof, such as bisphenol A, Glycidyl ether compounds or epoxy novolac resins of bisphenol F, or compounds obtained by addition of alkylene oxide thereto; Glycidyl ethers of aromatic compounds having two or more phenolic hydroxyl groups such as resorcinol, hydroquinone, and catechol; Mono / polyglycidyl ether compounds of aromatic compounds having two or more alcoholic hydroxyl groups such as benzene dimethanol, benzene diethanol and benzene dibutanol; Glycidyl esters of polybasic acid aromatic compounds having two or more carboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid and trimellitic acid, glycidyl esters of benzoic acids such as benzoic acid, tolylic acid and naphthoic acid, styreneses such as styrene oxide or divinylbenzene And an epoxy compound. In this case, the content of the aromatic ring-containing epoxy compound other than the aromatic ring-containing epoxy compound (1A) represented by the above-mentioned general formula (I) is preferably 100 parts by mass or more per 100 parts by mass of the aromatic ring- Is preferably 90 parts by mass or less, more preferably 60 parts by mass or less.

본 발명의 조성물은, 또한 양이온 중합 개시제(2)를 함유하여도 된다. The composition of the present invention may further contain a cationic polymerization initiator (2).

본 발명에 사용하는 상기 양이온 중합 개시제(2)란, 에너지선 조사에 의해 산을 발생시키는 것이 가능한 화합물이면 어떠한 것이라도 지장을 주지 않지만, 바람직하게는, 에너지선의 조사에 의해 루이스산을 방출하는 오늄염인 복염, 또는 그 유도체이다. 이러한 화합물의 대표적인 것으로는 하기 일반식, The cationic polymerization initiator (2) used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound capable of generating an acid upon irradiation with energy rays. Preferably, the cationic polymerization initiator (2) Or a derivative thereof. Representative of such compounds are compounds of the general formula < RTI ID = 0.0 >

p[A]q +·s[B]t-(A는 양이온종을 나타내고, B은 음이온종을 나타내며, q 및 t는 각각 독립적으로 1 또는 2를 나타내고, p 및 s는 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.)로 나타내는 양이온과 음이온의 염을 들 수 있다. p [A] q + s [B] t- (wherein A represents a cationic species, B represents an anionic species, q and t each independently represent 1 or 2, p and s represent a charge neutral , And salts of anions and cations represented by the following formulas.

여기서 양이온 [A]q+는 오늄인 것이 바람직하고, 그 구조는 예를 들면, 하기 일반식, Here, the cation [A] q + is preferably onium, and its structure is, for example,

[(R10)aQ]q+ [(R 10) a Q] q +

로 나타낼 수 있다. .

또한, 여기서 R10은 탄소 원자 수가 1~60이며, 탄소 원자 이외의 원자를 몇 개 포함하고 있어도 되는 유기의 기이다. a는 1~5라는 정수이다. a개의 R10은 각각 독립적으로, 동일하여도 되고 달라도 된다. 또한, 적어도 하나는 방향환을 가지는 상기와 같은 유기의 기인 것이 바람직하다. Q는 S, N, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl, F, N=N으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 원자 혹은 원자단이다. 또한, 양이온 [A]q+ 중의 Q의 원자가를 t로 했을 때, q=a-t라는 관계가 성립되는 것이 필요하다(단, N=N은 원자가 0으로 취급함). Here, R 10 is an organic group having 1 to 60 carbon atoms, which may contain several atoms other than carbon atoms. a is an integer between 1 and 5. a > R < 10 > may each independently be the same or different. It is also preferred that at least one is an organic group as described above having an aromatic ring. Q is an atom or atomic group selected from the group consisting of S, N, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl, Further, when the valence of Q in the cation [A] q + is t, it is necessary that q = at be satisfied (provided that N = N is treated as 0).

또한, 음이온 [B]t-는 할로겐화물 착체인 것이 바람직하고, 그 구조는 예를 들면, 하기 일반식, The anion [B] t- is preferably a halide complex, and its structure may be, for example,

[LXb]t- [LX b ] t-

로 나타낼 수 있다. .

또한, 여기서 L은 할로겐화물 착체의 중심 원자인 금속 또는 반금속(Metalloid)이며, B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co 등이다. X는 할로겐 원자이다. b는 3~7이라는 정수이다. 또한, 음이온 [B]t- 중의 L의 원자가를 p로 했을 때, r=b-p라는 관계가 성립되는 것이 필요하다. In this case, L is a metal or a metalloid, which is a central atom of the halide complex, and B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, , Mn, Co, and the like. X is a halogen atom. b is an integer from 3 to 7. Further, when the valence of L in the anion [B] t- is p, it is necessary that the relationship r = bp is established.

상기 일반식의 음이온 [LXb]t-의 구체예로는 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 테트라(3,5-디플루오로-4-메톡시페닐)보레이트, 테트라플루오로보레이트(BF4)-, 헥사플루오로포스페이트(PF6)-, 헥사플루오로안티모네이트(SbF6)-, 헥사플루오로아르세네이트(AsF6)-, 헥사클로로안티모네이트(SbCl6)- 등을 들 수 있다. Specific examples of the anion [LX b ] t- of the above general formula include tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tetra (3,5-difluoro-4-methoxyphenyl) borate, tetrafluoroborate 4) - or the like -, phosphate (PF 6) hexafluoro-, antimonate hexafluorophosphate (SbF 6) -, it is Senate hexafluorophosphate (AsF 6), hexachloro antimonate (SbCl 6) .

또한, 음이온 [B]t-는 하기 일반식, The anion [B] t- is represented by the following general formula,

[LXb - 1(OH)]t - [LX b - 1 (OH)] t -

로 나타내는 구조의 것도 바람직하게 사용할 수 있다. L, X, b는 상기와 동일하다. 또한, 그 외 사용할 수 있는 음이온으로는 과염소산 이온(ClO4)-, 트리플루오로메틸아황산 이온(CF3SO3)-, 플루오로술폰산 이온(FSO3)-, 톨루엔술폰산 음이온, 트리니트로벤젠술폰산 음이온, 캄퍼술포네이트, 노나플루오로부탄술포네이트, 헥사데카플루오로옥탄술포네이트, 테트라아릴보레이트, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등을 들 수 있다. Can also be preferably used. L, X, and b are as defined above. Other anions that can be used include perchlorate ion (ClO 4 ) - , trifluoromethyl sulfite ion (CF 3 SO 3 ) - , fluorosulfonate ion (FSO 3 ) - , toluenesulfonate anion, trinitrobenzenesulfonate anion , Camphorsulfonate, nonafluorobutanesulfonate, hexadecafluorooctanesulfonate, tetraarylborate, tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and the like.

본 발명에서는, 이와 같은 오늄염 중에서도 하기의 (가)~(다)의 방향족 오늄염을 사용하는 것이 특히 유효하다. 이들 중에서, 그 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. In the present invention, among these onium salts, it is particularly effective to use the following aromatic onium salts (a) to (c). Of these, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

(가) 페닐디아조늄헥사플루오로포스페이트, 4-메톡시페닐디아조늄헥사플루오로안티모네이트, 4-메틸페닐디아조늄헥사플루오로포스페이트 등의 아릴디아조늄염 (A) aryldiazonium salts such as phenyldiazonium hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyldiazonium hexafluoroantimonate and 4-methylphenyldiazonium hexafluorophosphate;

(나) 디페닐요오드늄헥사플루오로안티모네이트, 디(4-메틸페닐)요오드늄헥사플루오로포스페이트, 디(4-tert-부틸페닐)요오드늄헥사플루오로포스페이트, 트릴쿠밀요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등의 디아릴요오드늄염 (B) Diphenyliodonium hexafluoroantimonate, di (4-methylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, di (4-tert-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, trilumyl iodonium tetrakis Diaryl iodonium salts such as pentafluorophenylborate

(다) 하기 군 I 또는 군 II로 나타내는 술포늄 양이온과 헥사플루오로안티몬 이온, 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 이온 등의 술포늄염 (C) Sulfonium cations represented by the following Group I or Group II: sulfonium cations such as hexafluoroantimony ions and tetrakis (pentafluorophenyl)

Figure pct00002
Figure pct00002

Figure pct00003
Figure pct00003

또한, 그 외 바람직한 것으로는 (η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)〔(1,2,3,4,5,6-η)-(1-메틸에틸)벤젠〕-아이언-헥사플루오로포스페이트 등의 철-아렌 착체나, 트리스(아세틸아세토나토)알루미늄, 트리스(에틸아세토나토아세타토)알루미늄, 트리스(살리실알데히다토)알루미늄 등의 알루미늄 착체와 트리페닐실라놀 등의 실라놀류의 혼합물 등도 들 수 있다. Further, it is preferable that (η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl) [(1,2,3,4,5,6-η) - (1-methylethyl) benzene] Iron complexes such as tris (acetylacetonato) aluminum, tris (ethylacetonatoacetato) aluminum, tris (salicylaldehydato) aluminum, and triphenylsilanol And mixtures of silanols of the formula (I).

이들 중에서도 실용면과 광감도의 관점에서 방향족 요오드늄염, 방향족 술포늄염, 철-아렌 착체를 사용하는 것이 바람직하다. Of these, aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts and iron-arene complexes are preferably used from the viewpoints of practical use and photosensitivity.

상기 양이온 중합성 화합물의 혼합물(1)에 대한 양이온 중합 개시제(2)의 사용 비율은 특별히 한정되지 않고, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위 내에서 대강 통상의 사용 비율로 사용하면 되는데, 예를 들면, 양이온 중합성 화합물의 혼합물(1) 100질량부에 대하여, 양이온 중합 개시제(2)를 바람직하게는 0.1~20질량부, 보다 바람직하게는 0.5~10질량부로 할 수 있다. 지나치게 적으면 경화가 불충분해지기 쉽고, 지나치게 많으면 경화물의 흡수율(吸水率)이나 경화물 강도 등의 제(諸)물성에 악영향을 주는 경우가 있다. The ratio of the cationic polymerization initiator (2) to the mixture (1) of the cationic polymerizable compound is not particularly limited and may be generally used in a range of a normal use ratio within the range not hindering the object of the present invention. The amount of the cationic polymerization initiator (2) is preferably 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 0.5 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the mixture (1) of the cationic polymerizable compound. If the amount is too small, the curing tends to be insufficient, while if it is too large, adverse effects may be exerted on the physical properties such as the water absorption rate and the cured product strength of the cured product.

본 발명의 조성물은, 조성물 전량(단, 용매는 제외함)의 100질량부에 대하여 수분을 0.05~3질량부 포함하는 것이 바람직하다. The composition of the present invention preferably contains 0.05 to 3 parts by mass of water relative to 100 parts by mass of the total amount of the composition (excluding the solvent).

본 발명의 조성물에는, 필요에 따라 실란 커플링제를 사용할 수 있다. In the composition of the present invention, a silane coupling agent may be used if necessary.

실란 커플링제로는 예를 들면, 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 메틸에틸디메톡시실란, 메틸에틸디에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리메톡시실란 등의 알킬 관능성 알콕시실란, 비닐트리클로로실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 알릴트리메톡시실란 등의 알케닐 관능성 알콕시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 2-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시 관능성 알콕시실란, N-β(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란 등의 아미노 관능성 알콕시실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란 등의 메르캅토 관능성 알콕시실란, 티탄테트라이소프로폭시드, 티탄테트라노르말부톡시드 등의 티탄알콕시드류, 티탄디옥틸옥시비스(옥틸렌글리콜레이트), 티탄디이소프로폭시비스(에틸아세트아세테이트) 등의 티탄킬레이트류, 지르코늄테트라아세틸아세토네이트, 지르코늄트리부톡시모노아세틸아세토네이트 등의 지르코늄킬레이트류, 지르코늄트리부톡시모노스테아레이트 등의 지르코늄아실레이트류, 메틸트리이소시아네이트실란 등의 이소시아네이트실란류 등을 사용할 수 있다. Examples of the silane coupling agent include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, methylethyldimethoxysilane, methylethyldiethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyl Alkenyl functional alkoxysilanes such as vinyl trichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, and allyltrimethoxysilane, alkoxy functional alkoxysilanes such as trimethoxysilane, and 3-methacryloxypropyl tri Methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 2-methacryloxypropyltrimethoxysilane, Epoxyfunctional alkoxysilanes such as glycidoxypropyltrimethoxysilane,? -Glycidoxypropylmethyldiethoxysilane and? - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl ) -γ-aminopropyl Amino functional alkoxysilanes such as methoxysilane,? -Aminopropyltriethoxysilane and N-phenyl-? -Aminopropyltrimethoxysilane, mercapto functional alkoxysilanes such as? -Mercaptopropyltrimethoxysilane , Titanium alkoxides such as titanium tetraisopropoxide and titanium tetra n-butoxide, titanium chelates such as titanium dioctyloxybis (octylene glycolate) and titanium diisopropoxybis (ethylacetate), and zirconium tetra Zirconium chelates such as acetylacetonate and zirconium tributoxymonoacetylacetonate; zirconium acylates such as zirconium tributoxymonostearate; and isocyanate silanes such as methyltriisocyanate silane.

상기 실란 커플링제의 사용량은 특별히 한정되지 않지만, 통상, 조성물 중의 고형물의 전량 100질량부에 대하여 1~20질량부의 범위이다. The amount of the silane coupling agent to be used is not particularly limited, but is usually in the range of 1 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the solid matter in the composition.

본 발명의 조성물에는, 필요에 따라 열중합 개시제를 사용할 수 있다. In the composition of the present invention, a thermal polymerization initiator may be used if necessary.

열중합 개시제란, 가열에 의해 양이온종 또는 루이스산을 발생시키는 화합물로서, 술포늄염, 티오페늄염, 티오라늄염, 벤질암모늄, 피리디늄염, 하이드라지늄염 등의 염; 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌트리아민, 테트라에틸렌펜타민 등의 폴리알킬폴리아민류; 1,2-디아미노시클로헥산, 1,4-디아미노-3,6-디에틸시클로헥산, 이소포론디아민 등의 지환식 폴리아민류; m-크실릴렌디아민, 디아미노디페닐메탄, 디아미노디페닐술폰 등의 방향족 폴리아민류; 상기 폴리아민류와, 페닐글리시딜에테르, 부틸글리시딜에테르, 비스페놀A-디글리시딜에테르, 비스페놀F-디글리시딜에테르 등의 글리시딜에테르류 또는 카르복실산의 글리시딜에스테르류 등의 각종 에폭시 수지를 상법(常法)에 의해 반응시킴으로써 제조되는 폴리에폭시 부가 변성물; 상기 유기 폴리아민류와, 프탈산, 이소프탈산, 다이머산 등의 카르복실산류를 상법에 의해 반응시킴으로써 제조되는 아미드화 변성물; 상기 폴리아민류와 포름알데히드 등의 알데히드류 및 페놀, 크레졸, 크실레놀, 제3부틸페놀, 레조르신 등의 핵에 적어도 1개의 알데히드화 반응성 장소를 가지는 페놀류를 상법에 의해 반응시킴으로써 제조되는 만니히화 변성물; 다가 카르복실산(옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세바스산, 도데칸이산, 2-메틸숙신산, 2-메틸아디프산, 3-메틸아디프산, 3-메틸펜탄이산, 2-메틸옥탄이산, 3,8-디메틸데칸이산, 3,7-디메틸데칸이산, 수소 첨가 다이머산, 다이머산 등의 지방족 디카르복실산류; 프탈산, 테레프탈산, 이소프탈산, 나프탈렌디카르복실산 등의 방향족 디카르복실산류; 시클로헥산디카르복실산 등의 지환식 디카르복실산류; 트리멜리트산, 트리메스산, 피마자유 지방산의 3량체 등의 트리카르복실산류; 피로멜리트산 등의 테트라카르복실산류 등)의 산무수물; 디시안디아미드, 이미다졸류, 카르복실산에스테르, 술폰산에스테르, 아민이미드 등을 들 수 있다. The thermal polymerization initiator is a compound which generates a cationic species or a Lewis acid by heating, and includes salts of sulfonium salts, thiophenium salts, thioronium salts, benzylammonium, pyridinium salts and hydrazinium salts; Polyalkylpolyamines such as diethylenetriamine, triethylenetriamine, and tetraethylenepentamine; Alicyclic polyamines such as 1,2-diaminocyclohexane, 1,4-diamino-3,6-diethylcyclohexane and isophoronediamine; aromatic polyamines such as m-xylylenediamine, diaminodiphenylmethane and diaminodiphenylsulfone; The polyamines and glycidyl ethers such as phenyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, bisphenol A-diglycidyl ether, and bisphenol F-diglycidyl ether, or glycidyl esters of carboxylic acid Polyepoxy addition-modified products prepared by reacting various epoxy resins such as polyether polyols, polyether polyols, polyether polyols, An amidated modified product prepared by reacting the above organic polyamines with carboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid and dimeric acid by a conventional method; A method of reacting phenols having at least one aldehyde reactive site in the nuclei such as aldehydes such as polyamines and formaldehyde and phenol, cresol, xylenol, tert -butylphenol and resorcinol by a conventional method, Denatures; It is possible to use polycarboxylic acids such as oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, 2-methylsuccinic acid, Aliphatic dicarboxylic acids such as methyl adipic acid, 3-methylpentanedioic acid, 2-methyloctanedioic acid, 3,8-dimethyldecanedioic acid, 3,7-dimethyldecanedioic acid, hydrogenated dimer acid and dimer acid; , Aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid and naphthalene dicarboxylic acid, alicyclic dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid, and trimeric acid, trimesic acid, and trimer of castor fatty acid Tetracarboxylic acids such as pyromellitic acid and the like); Dicyandiamide, imidazoles, carboxylic acid esters, sulfonic acid esters, amine imides, and the like.

상기 열중합 개시제로는 시판품을 사용할 수도 있고, 예를 들면, 아데카옵톤 CP77, 아데카옵톤 CP66(ADEKA사 제품), CI-2639, CI-2624(니폰 소다사 제품), 선에이드 SI-60L, 선에이드 SI-80L, 선에이드 SI-100L(산신 카가쿠 코교사 제품) 등을 들 수 있다. As the thermal polymerization initiator, commercially available products may be used. Examples of the thermal polymerization initiator include Adekaoptone CP77, Adekaoptone CP66 (ADEKA), CI-2639, CI-2624 (Nippon Soda Co.) , Sun Aid SI-80L, Sun Aid SI-100L (manufactured by San-Shin Kagaku Kogyo Co., Ltd.), and the like.

상기 열중합 개시제의 사용량은 특별히 한정되지 않지만, 통상, 조성물 중의 고형물의 전량 100질량부에 대하여 0.001~10질량부의 범위이며, 상기 열중합 개시제를 사용하는 경우에는, 본 발명의 조성물을 경화시킬 때에 130~180℃에서 20분~1시간 가열하는 것이 바람직하다. The amount of the thermal polymerization initiator to be used is not particularly limited, but is usually in the range of 0.001 to 10 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the solid matter in the composition. When the thermal polymerization initiator is used, It is preferable to heat at 130 to 180 ° C for 20 minutes to 1 hour.

본 발명의 조성물에는, 필요에 따라 열가소성 유기 중합체를 사용함으로써 경화물의 특성을 개선할 수도 있다. 상기 열가소성 유기 중합체로는 예를 들면, 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 메틸메타크릴레이트-에틸아크릴레이트 공중합체, 폴리(메타)아크릴산, 스티렌-(메타)아크릴산 공중합체, (메타)아크릴산-메틸메타크릴레이트 공중합체, 글리시딜(메타)아크릴레이트-폴리메틸(메타)아크릴레이트 공중합체, 폴리비닐부티랄, 셀룰로오스에스테르, 폴리아크릴아미드, 포화 폴리에스테르 등을 들 수 있다. The composition of the present invention may also improve the properties of the cured product by using a thermoplastic organic polymer, if necessary. Examples of the thermoplastic organic polymer include polystyrene, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate-ethyl acrylate copolymer, poly (meth) acrylic acid, styrene- (meth) acrylic acid copolymer, Methacrylate copolymer, glycidyl (meth) acrylate-polymethyl (meth) acrylate copolymer, polyvinyl butyral, cellulose ester, polyacrylamide, and saturated polyester.

본 발명의 조성물에는, 특별히 제한되지 않고 통상 사용되는 상기 (1)~(4)의 각 성분을 용해 또는 분산할 수 있는 용매를 사용할 수 있고, 예를 들면, 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 디에틸케톤, 아세톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논 등의 케톤류; 에틸에테르, 디옥산, 테트라하이드로푸란, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르 등의 에테르계 용매; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산-n-프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산시클로헥실, 락트산에틸, 숙신산디메틸, 텍사놀 등의 에스테르계 용매; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 셀로솔브계 용매; 메탄올, 에탄올, 이소- 또는 n-프로판올, 이소- 또는 n-부탄올, 아밀알코올 등의 알코올계 용매; 에틸렌글리콜모노메틸아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸아세테이트, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트(PGMEA), 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 에톡시에틸프로피오네이트 등의 에테르에스테르계 용매; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 BTX계 용매; 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산 등의 지방족 탄화수소계 용매; 테레핀유, D-리모넨, 피넨 등의 테르펜계 탄화수소유; 미네랄 스피릿, 스와졸 #310(코스모 마츠야마 세키유(주)), 솔벳소 #100(엑손카가쿠(주)) 등의 파라핀계 용매; 사염화탄소, 클로로포름, 트리클로로에틸렌, 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄 등의 할로겐화 지방족 탄화수소계 용매; 클로로벤젠 등의 할로겐화 방향족 탄화수소계 용매; 프로필렌카보네이트, 카르비톨계 용매, 아닐린, 트리에틸아민, 피리딘, 아세트산, 아세토니트릴, 이황화탄소, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 물 등을 들 수 있고, 이들 용매는 1종 또는 2종 이상의 혼합 용매로 사용할 수 있다. No particular limitation is imposed on the composition of the present invention, and a solvent capable of dissolving or dispersing the components (1) to (4) can be used. Examples of the solvent include methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, Ketones such as ethyl ketone, acetone, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and 2-heptanone; Ether solvents such as ethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane, propylene glycol monomethyl ether and dipropylene glycol dimethyl ether; Esters such as methyl acetate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, cyclohexyl acetate, ethyl lactate, dimethyl succinate, and texanol; Cellosolve solvents such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; Alcohol-based solvents such as methanol, ethanol, iso-or n-propanol, iso- or n-butanol, and amyl alcohol; Propylene glycol monomethyl ether-2-acetate (PGMEA), dipropylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, ethoxyethyl propionate, etc. Ether-based solvent; BTX type solvents such as benzene, toluene and xylene; Aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, octane and cyclohexane; Terpene-based hydrocarbon oils such as terphenyl oil, D-limonene, and pinene; Paraffin solvents such as Mineral Spirit, Swazor # 310 (Kosomo Matsuyama Sekiyu Co., Ltd.), Solvesso # 100 (Exxon Chemical Co., Ltd.); Halogenated aliphatic hydrocarbon solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, trichlorethylene, methylene chloride, and 1,2-dichloroethane; Halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene; Propylene carbonate, carbitol-based solvent, aniline, triethylamine, pyridine, acetic acid, acetonitrile, carbon disulfide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide , And water. These solvents may be used singly or as a mixed solvent of two or more kinds.

본 발명의 조성물은 점도가 1~200mPa·s 이하인 것이, 경화성 및 도공성이 뛰어나기 때문에 바람직하다. The composition of the present invention preferably has a viscosity of 1 to 200 mPa · s or less because of excellent curability and coating properties.

본 발명의 조성물은, 롤 코터, 커튼 코터, 각종의 인쇄, 침지 등의 공지의 수단으로, 지지 기체(基體) 상에 적용된다. 또한, 일단 필름 등의 지지 기체 상에 입힌 후, 다른 지지 기체 상에 전사(轉寫)할 수도 있으며, 그 적용 방법에 제한은 없다. The composition of the present invention is applied on a supporting base by a known means such as a roll coater, a curtain coater, various printing, immersion or the like. In addition, it may be once transferred onto a support gas such as a film and then transferred onto another support gas, and there is no limitation on the application method thereof.

상기 지지 기체의 재료로는, 특별히 제한되지 않고 통상 사용되는 것을 사용할 수 있으며, 예를 들면, 유리 등의 무기 재료; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 프로피오닐셀룰로오스, 부티릴셀룰로오스, 아세틸프로피오닐셀룰로오스, 니트로셀룰로오스 등의 셀룰로오스에스테르; 폴리아미드; 폴리이미드; 폴리우레탄; 에폭시 수지; 폴리카보네이트; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부티렌테레프탈레이트, 폴리-1,4-시클로헥산디메틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-1,2-디페녹시에탄-4,4'-디카르복실레이트, 폴리부티렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르; 폴리스티렌; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐 등의 폴리올레핀; 폴리비닐알코올(PVA), 폴리아세트산비닐, 폴리염화비닐, 폴리불화비닐 등의 비닐 화합물; 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리아크릴산에스테르 등의 아크릴계 수지; 폴리카보네이트; 폴리술폰; 폴리에테르술폰; 폴리에테르케톤; 폴리에테르이미드; 폴리옥시에틸렌, 노보넨 수지, 시클로올레핀폴리머(COP) 등의 고분자 재료를 들 수 있다. As the material of the support base, there is no particular limitation, and those which are usually used can be used. For example, inorganic materials such as glass; Cellulose esters such as diacetylcellulose, triacetylcellulose (TAC), propionylcellulose, butyrylcellulose, acetylpropionylcellulose, and nitrocellulose; Polyamide; Polyimide; Polyurethane; Epoxy resin; Polycarbonate; Polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4'-dicarboxylate, Polyesters such as rheneterephthalate; polystyrene; Polyolefins such as polyethylene, polypropylene and polymethylpentene; Vinyl compounds such as polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl acetate, polyvinyl chloride, and polyvinyl fluoride; Acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polyacrylic acid ester; Polycarbonate; Polysulfone; Polyethersulfone; Polyether ketones; Polyetherimide; And polymer materials such as polyoxyethylene, norbornene resin and cycloolefin polymer (COP).

또한, 상기 지지 기체에, 코로나 방전 처리, 화염 처리, 자외선 처리, 고주파 처리, 글로우 방전 처리, 활성 플라스마 처리, 레이저 처리 등의 표면 활성화 처리를 실시하여도 된다. Further, the supporting substrate may be subjected to surface activation treatment such as corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet ray treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment and the like.

또한, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위(바람직하게는 조성물 중의 고형물의 전량 100질량부에 대하여 50질량부 이하)인 한, 필요에 따라 다른 모노머, 다른 양이온 중합성 중합 개시제, 라디칼 중합 개시제, 무기 필러, 유기 필러, 안료, 염료 등의 착색제, 광 증감제, 소포제, 증점제, 계면활성제, 레벨링제, 난연제, 칙소제, 희석제, 가소제, 안정제, 중합 금지제, 자외선 흡수제, 산화방지제, 정전방지제, 유동 조정제, 접착 촉진제 등의 각종 수지 첨가물 등을 첨가할 수 있다. In addition, as long as the effect of the present invention is not impaired (preferably 50 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the total amount of solids in the composition), other monomers, other cationic polymerizable polymerization initiators, A thickener, a surfactant, a leveling agent, a flame retardant, a stabilizer, a diluent, a plasticizer, a stabilizer, a polymerization inhibitor, an ultraviolet absorber, an antioxidant, an antistatic agent, a colorant, , A flow regulating agent, an adhesion promoter, and the like can be added.

본 발명의 조성물은 활성 에너지선의 조사에 의해 경화하는데, 활성 에너지선으로는 자외선, 전자선, X선, 방사선, 고주파 등을 들 수 있고, 자외선이 경제적으로 가장 바람직하다. 자외선의 광원으로는 자외선 레이저, 수은 램프, 크세논 레이저, 메탈할라이드 램프 등을 들 수 있다. The composition of the present invention is cured by irradiation with an active energy ray. Examples of the active energy ray include ultraviolet rays, electron rays, X rays, radiation, high frequency waves, and ultraviolet rays are most economically preferable. Examples of the ultraviolet light source include an ultraviolet laser, a mercury lamp, a xenon laser, and a metal halide lamp.

본 발명의 조성물의 구체적인 용도로는 안경, 촬상용 렌즈로 대표되는 광학재료, 도료, 코팅제, 라이닝제, 잉크, 레지스트, 액상 레지스트, 접착제, 인쇄판, 절연 바니쉬, 절연 시트, 적층판, 프린트 기반, 반도체 장치용·LED 패키지용·액정 주입구용·유기 EL용·광소자용·전기절연용·전자부품용·분리막용 등의 밀봉제, 성형재료, 퍼티, 유리섬유 함침제, 충전제, 반도체용·태양전지용 등의 패시베이션막(passivation film), 층간 절연막, 보호막, 액정 표시 장치의 백라이트에 사용되는 프리즘 렌즈 시트, 프로젝션 TV 등의 스크린에 사용되는 프레넬(fresnel) 렌즈 시트, 렌티큘러(lenticular) 렌즈 시트 등의 렌즈 시트의 렌즈부, 또는 이와 같은 시트를 사용한 백라이트 등, 마이크로 렌즈 등의 광학렌즈, 광학소자, 광 커넥터, 광도파로, 광학적 조형용 주형제 등을 들 수 있고, 예를 들면 코팅제로 적용할 수 있는 기재로는 금속, 목재, 고무, 플라스틱, 유리, 세라믹 제품 등을 들 수 있다. Specific examples of the application of the composition of the present invention include optical materials typified by glasses, image pickup lenses, paints, coating agents, lining agents, inks, resists, liquid resists, adhesives, printing plates, insulating varnishes, insulating sheets, Devices, LED packages, liquid crystal injection holes, organic EL devices, optical devices, electrical insulation materials, electronic parts, and separator films, molding materials, putties, glass fiber impregnants, fillers, semiconductors, solar cells A prism lens sheet used for a backlight of a liquid crystal display device, a fresnel lens sheet used for a screen of a projection TV or the like, a lenticular lens sheet, or the like A lens portion of a lens sheet, or an optical lens such as a backlight using such a sheet, a microlens, an optical element, an optical connector, an optical waveguide, For example, metal, wood, rubber, plastic, glass, ceramic products, and the like can be cited as examples of the substrate which can be applied as a coating agent.

실시예Example

이하, 본 발명의 조성물 및 상기 조성물을 경화하여 얻어지는 경화물에 관하여, 실시예, 평가예 및 비교예에 의해 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 실시예 등에 의해 제한되지 않는다. 또한, 실시예 및 비교예에서는 부는 질량부를 의미한다. Hereinafter, the composition of the present invention and the cured product obtained by curing the composition will be described in detail by way of examples, evaluation examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the examples and the like. In the examples and comparative examples, "parts" means parts by mass.

[실시예 1~16 및 비교예 1~4] [Examples 1 to 16 and Comparative Examples 1 to 4]

하기의 [표 1]~[표 4]에 나타내는 배합으로 각 성분을 충분히 혼합하여, 각각 실시 조성물 1~16, 비교 조성물 1~4를 얻었다. The components shown in [Table 1] to [Table 4] below were thoroughly mixed to obtain Practical Compositions 1 to 16 and Comparative Compositions 1 to 4, respectively.

양이온 중합성 화합물로는 하기의 화합물(1A-1) 및 (1A'-1)~(1A'-2), (1B-1)~(1B-3), (1C-1)~(1C-2), (1D-1)~(1D-2)를 사용했다. (1B-1) to (1B-3), (1C-1) to (1C-1) 2), (1D-1) to (1D-2) were used.

화합물 1A-1: EPOX-MK R1710(프린테크사 제품 비스페놀E형 에폭시 수지) Compound 1A-1: EPOX-MK R1710 (bisphenol E type epoxy resin manufactured by PRINTECH)

화합물 1A'-1: EP-4901L(ADEKA사 제품 비스페놀F형 에폭시 수지) Compound 1A'-1: EP-4901L (bisphenol F type epoxy resin manufactured by ADEKA)

화합물 1A'-2: EP-4100L(ADEKA사 제품 비스페놀A형 에폭시 수지) Compound 1A'-2: EP-4100L (bisphenol A type epoxy resin manufactured by ADEKA)

화합물 1B-1: 1,4-부탄디올디글리시딜에테르Compound 1B-1: 1,4-butanediol diglycidyl ether

화합물 1B-2: 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르 Compound 1B-2: Neopentyl glycol diglycidyl ether

화합물 1C-1: 셀록사이드 2021P(다이셀사 제품 지환식 에폭시 화합물) Compound 1C-1: Celloxide 2021P (alicyclic epoxy compound manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)

화합물 1C-2: (4R)-1,2-에폭시-4-(2-메틸옥시라닐)-1-메틸시클로헥산 Compound 1C-2: (4R) -1,2-epoxy-4- (2-methyloxylanyl) -1-methylcyclohexane

화합물 1D-1: 아론옥세탄 OXT-221(도아고세이사 제품) Compound 1D-1: Aronoxetane OXT-221 (product of Toagosei Co., Ltd.)

화합물 1D-2: 아론옥세탄 OXT-101(도아고세이사 제품) Compound 1D-2: Aronoxetane OXT-101 (product of Toagosei Co., Ltd.)

양이온 중합 개시제(2)로는 하기의 화합물(2-1)을 사용했다. As the cationic polymerization initiator (2), the following compound (2-1) was used.

화합물 2-1: 하기 첫 번째 화학식으로 나타내는 화합물 및 하기 두 번째 화학식으로 나타내는 화합물의 혼합물의 프로필렌카보네이트 50% 용액 Compound 2-1: A 50% solution of propylene carbonate in a mixture of the compound represented by the first chemical formula shown below and the compound represented by the second chemical formula shown below

Figure pct00004
Figure pct00004

Figure pct00005
Figure pct00005

Figure pct00006
Figure pct00006

Figure pct00007
Figure pct00007

Figure pct00008
Figure pct00008

Figure pct00009
Figure pct00009

[평가예 1~16 및 비교 평가예 1~4] [Evaluation Examples 1 to 16 and Comparative Evaluation Examples 1 to 4]

상기 실시예 1~16에서 얻어진 실시 조성물 및 비교예 1~4에서 얻어진 비교 조성물에 대해, 하기 평가를 실시했다. 결과를 상기 [표 1]~[표 4]에 나타낸다. The following evaluations were carried out on the composition obtained in Examples 1 to 16 and the comparative compositions obtained in Comparative Examples 1 to 4. The results are shown in [Table 1] to [Table 4].

(밀착성) (Adhesion)

얻어진 실시 조성물 1~16, 비교 조성물의 1~4의 각각을, 1매의 TAC 필름 또는 PMMA 필름에 도포한 후, 래미네이터를 이용하여 코로나 방전 처리를 실시한 COP(시클로올레핀폴리머) 필름과 붙이고, 콜드 미러형 고압 Hg 램프를 이용하여 1000mJ/㎠의 에너지를 조사하고 접착하여 시험편을 얻었다. 얻어진 시험편의 90도 필(peel) 시험을 실시했다. Each of the obtained Practical Compositions 1 to 16 and Comparative compositions 1 to 4 was applied to one piece of a TAC film or a PMMA film and then stuck to a COP (cycloolefin polymer) film subjected to a corona discharge treatment using a laminator, A cold-mirror type high-pressure Hg lamp was irradiated with energy of 1000 mJ / cm 2 and adhered to obtain a test piece. A 90-degree peel test of the obtained test piece was carried out.

(Tg) (Tg)

얻어진 실시 조성물 1~16, 비교 조성물의 1~4의 각각을 PET 필름 상에 바 코터(bar coater)로 3㎛의 두께로 도포하고, 콜드 미러형 고압 Hg 램프를 이용하여 2000mJ/㎠의 에너지를 조사했다. 24시간 후에 필름으로부터 접착제 경화물을 꺼내, (주)히다치 하이테크 사이언스 제품의 점탄성 측정 장치(DMA 7100)를 이용하여 Tg를 측정했다. 결과를 [표 1]~[표 4]에 나타낸다. Each of the obtained Practical Compositions 1 to 16 and Comparative Compositions 1 to 4 was coated on a PET film to a thickness of 3 탆 with a bar coater and irradiated with energy of 2000 mJ / cm 2 using a cold mirror type high pressure Hg lamp I investigated. After 24 hours, the adhesive cured product was taken out from the film, and Tg was measured using a viscoelasticity measuring apparatus (DMA 7100) manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. The results are shown in [Table 1] to [Table 4].

(점도) (Viscosity)

얻어진 실시 조성물의 1~16, 비교 조성물의 1~4의 각각을 25℃에서 E형 점도계로 점도를 측정했다. 결과를 [표 1]~[표 4]에 나타낸다. Viscosities of 1 to 16 of the obtained practical compositions and 1 to 4 of the comparative compositions were measured at 25 캜 using an E-type viscometer. The results are shown in [Table 1] to [Table 4].

[표 1]~[표 4]로부터, 본 발명의 조성물은 접착성 및 내열성이 뛰어난 것이 분명하다. From [Table 1] to [Table 4], it is clear that the composition of the present invention is excellent in adhesiveness and heat resistance.

Claims (6)

양이온 중합성 화합물의 혼합물(1)을 포함하여 이루어지고, 상기 혼합물(1)이, 하기 일반식(I)로 나타내는 방향환 함유 에폭시 화합물(1A)를 주성분으로 함유하며, 또한 지방족 에폭시 화합물(1B), 지환식 에폭시 화합물(1C) 및 옥세탄 화합물(1D)로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
Figure pct00010

(식 중, R1, R2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자 수 1~5의 알킬기, 탄소 원자 수 1~8의 알콕시기, 탄소 원자 수 2~5의 알케닐기 또는 할로겐 원자를 나타내고, m은 0~10의 정수이다.)
Wherein the mixture (1) contains an aromatic ring-containing epoxy compound (1A) represented by the following general formula (I) as a main component and further contains an aliphatic epoxy compound (1B) ), An alicyclic epoxy compound (1C), and an oxetane compound (1D).
Figure pct00010

(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkene having 2 to 5 carbon atoms A halogen atom or a halogen atom, and m is an integer of 0 to 10.)
제1항에 있어서,
상기 지방족 에폭시 화합물(1B)가, 탄소 원자 수 1~6의 지방족 디올의 디글리시딜에테르인 것을 특징으로 하는 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the aliphatic epoxy compound (1B) is a diglycidyl ether of an aliphatic diol having 1 to 6 carbon atoms.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 양이온 중합성 화합물의 혼합물(1) 100질량부에 대하여, 양이온 중합 개시제(2)를 0.1~20질량부 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the cationic polymerization initiator (2) is contained in an amount of 0.1 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the mixture (1) of the cationic polymerizable compound.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 양이온 중합 개시제가, p[A]q +·s[B]t-(A는 양이온종을 나타내고, B는 음이온종을 나타내며, q 및 t는 각각 독립적으로 1 또는 2를 나타내고, p 및 s는 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타낸다.)로 나타내는 양이온과 음이온의 염인 조성물.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the cationic polymerization initiator, p [A] q + · s [B] t- (A represents a cationic species, B represents an anion species, q and t independently represent 1 or 2, p and s Is a salt of a cation and an anion represented by the following formula (I).
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
조성물 전량(단, 용매는 제외함)의 100질량부에 대하여, 수분을 0.05~3질량부 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the composition contains 0.05 to 3 parts by mass of water relative to 100 parts by mass of the total amount of the composition (excluding the solvent).
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 조성물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 접착제. An adhesive comprising the composition according to any one of claims 1 to 5.
KR1020177011479A 2015-03-27 2016-03-18 Composition KR102563226B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015066954 2015-03-27
JPJP-P-2015-066954 2015-03-27
PCT/JP2016/058815 WO2016158522A1 (en) 2015-03-27 2016-03-18 Composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170133311A true KR20170133311A (en) 2017-12-05
KR102563226B1 KR102563226B1 (en) 2023-08-03

Family

ID=57006141

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020177011479A KR102563226B1 (en) 2015-03-27 2016-03-18 Composition

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6879903B2 (en)
KR (1) KR102563226B1 (en)
CN (1) CN107075082B (en)
TW (1) TWI764862B (en)
WO (1) WO2016158522A1 (en)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6688063B2 (en) * 2015-10-07 2020-04-28 アイカ工業株式会社 Photocurable resin composition and laminate
WO2017110951A1 (en) * 2015-12-25 2017-06-29 株式会社Adeka Curable composition, method for curing same, and cured product obtained thereby
US11171309B2 (en) 2016-12-09 2021-11-09 Lg Chem, Ltd. Encapsulating composition
JP6922638B2 (en) * 2016-12-28 2021-08-18 三菱ケミカル株式会社 Active energy ray-curable adhesive composition, polarizing plate adhesive composition, polarizing plate adhesive, and polarizing plate using the same.
JPWO2018159260A1 (en) * 2017-03-02 2020-04-23 東亞合成株式会社 Active energy ray-curable adhesive composition for plastic film or sheet
TWI760487B (en) * 2017-04-28 2022-04-11 南韓商Lg化學股份有限公司 Encapsulating composition
JP6810681B2 (en) * 2017-07-28 2021-01-06 株式会社ダイセル Monomer mixture and curable composition containing it
WO2019021934A1 (en) * 2017-07-28 2019-01-31 株式会社ダイセル Monomer mixture and curable composition containing same
KR101941649B1 (en) 2017-11-24 2019-01-23 주식회사 엘지화학 Polarizing plate and image display apparatus comprising the same
JP7128716B2 (en) * 2018-10-22 2022-08-31 アイカ工業株式会社 Photo cationic curable epoxy resin composition

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6287270A (en) * 1985-10-15 1987-04-21 Nissan Motor Co Ltd Wax coater
JPS62290718A (en) * 1986-06-11 1987-12-17 Hitachi Ltd Epoxy resin composition and production of flyback transformer using same
JPS6383174A (en) * 1986-09-26 1988-04-13 Mitsui Petrochem Ind Ltd Paint composition
JPS63130627A (en) * 1986-11-21 1988-06-02 Toshiba Corp Resin composition for optical disk
JPH01178571A (en) * 1988-01-06 1989-07-14 Mitsui Petrochem Ind Ltd Adhesive composition for vinyl halide resin
JPH03250042A (en) * 1990-02-28 1991-11-07 Yokohama Rubber Co Ltd:The Composition for rigid resin mold
JPH04126761A (en) * 1990-06-21 1992-04-27 Toray Ind Inc Thermosetting resin composition
JPH10195408A (en) * 1997-01-16 1998-07-28 Hitachi Chem Co Ltd Conductive resin paste composition and semiconductor device using the same
JPH10279658A (en) 1997-04-07 1998-10-20 Nippon Kayaku Co Ltd Active-energy-ray-curable resin composition and laminate prepared therefrom
JPH11199651A (en) * 1998-01-12 1999-07-27 Sumitomo Bakelite Co Ltd Ultraviolet light-curable adhesive resin composition for sealing hollow package for device
JP2000191751A (en) * 1998-12-25 2000-07-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd Ultraviolet light-curable type resin composition
JP2003313274A (en) 2002-04-25 2003-11-06 Dainippon Ink & Chem Inc Ultraviolet-curable composition and optical disk using the same
JP2010229392A (en) 2009-03-05 2010-10-14 Dic Corp Cationically polymerizable adhesive and polarizing plate obtained using the same
JP2013166893A (en) * 2012-02-16 2013-08-29 Jsr Corp Radiation-curable composition for stereophotolithography

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06136099A (en) * 1992-10-29 1994-05-17 Sanyo Chem Ind Ltd Resin composition for fiber-reinforced resin molding and molded product
JPH06287270A (en) * 1993-03-31 1994-10-11 Sanyo Chem Ind Ltd Resin composition for molding fiber-reinforced resin and molded article
JPH11181390A (en) * 1997-12-25 1999-07-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd Ultraviolet-curable adhesive for sealing device hollow package
JP5349854B2 (en) * 2008-06-30 2013-11-20 株式会社日立製作所 Fine structure and manufacturing method thereof
WO2010001538A1 (en) * 2008-06-30 2010-01-07 株式会社日立製作所 Fine structure and stamper for imprinting
JP5033867B2 (en) * 2009-12-28 2012-09-26 株式会社日立ハイテクノロジーズ Fine structure, method for producing fine structure, and polymerizable resin composition for producing fine structure
JP5736899B2 (en) * 2011-03-28 2015-06-17 日立化成株式会社 Film adhesive, adhesive sheet and semiconductor device
JP2015048457A (en) * 2013-09-04 2015-03-16 積水化学工業株式会社 Connection material, connection structure and method for manufacturing connection structure

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6287270A (en) * 1985-10-15 1987-04-21 Nissan Motor Co Ltd Wax coater
JPS62290718A (en) * 1986-06-11 1987-12-17 Hitachi Ltd Epoxy resin composition and production of flyback transformer using same
JPS6383174A (en) * 1986-09-26 1988-04-13 Mitsui Petrochem Ind Ltd Paint composition
JPS63130627A (en) * 1986-11-21 1988-06-02 Toshiba Corp Resin composition for optical disk
JPH01178571A (en) * 1988-01-06 1989-07-14 Mitsui Petrochem Ind Ltd Adhesive composition for vinyl halide resin
JPH03250042A (en) * 1990-02-28 1991-11-07 Yokohama Rubber Co Ltd:The Composition for rigid resin mold
JPH04126761A (en) * 1990-06-21 1992-04-27 Toray Ind Inc Thermosetting resin composition
JPH10195408A (en) * 1997-01-16 1998-07-28 Hitachi Chem Co Ltd Conductive resin paste composition and semiconductor device using the same
JPH10279658A (en) 1997-04-07 1998-10-20 Nippon Kayaku Co Ltd Active-energy-ray-curable resin composition and laminate prepared therefrom
JPH11199651A (en) * 1998-01-12 1999-07-27 Sumitomo Bakelite Co Ltd Ultraviolet light-curable adhesive resin composition for sealing hollow package for device
JP2000191751A (en) * 1998-12-25 2000-07-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd Ultraviolet light-curable type resin composition
JP2003313274A (en) 2002-04-25 2003-11-06 Dainippon Ink & Chem Inc Ultraviolet-curable composition and optical disk using the same
JP2010229392A (en) 2009-03-05 2010-10-14 Dic Corp Cationically polymerizable adhesive and polarizing plate obtained using the same
JP2013166893A (en) * 2012-02-16 2013-08-29 Jsr Corp Radiation-curable composition for stereophotolithography

Also Published As

Publication number Publication date
KR102563226B1 (en) 2023-08-03
CN107075082A (en) 2017-08-18
TW201700524A (en) 2017-01-01
CN107075082B (en) 2020-10-30
TWI764862B (en) 2022-05-21
JP6879903B2 (en) 2021-06-02
WO2016158522A1 (en) 2016-10-06
JPWO2016158522A1 (en) 2018-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102219443B1 (en) Cation-polymerizable composition
KR102563226B1 (en) Composition
KR102248332B1 (en) Cation-polymerizable composition
KR102631774B1 (en) Curable composition, method for producing cured product, and cured product of same
JP6284721B2 (en) Energy ray sensitive composition
TWI797078B (en) Curable composition, method for producing cured product, and cured product
KR102265025B1 (en) Curable composition, manufacturing method of cured product, and cured product thereof
KR20170133312A (en) Composition
JP6251894B2 (en) Energy ray sensitive composition
KR102278179B1 (en) Curable composition, manufacturing method of cured product, and cured product thereof
JP6817702B2 (en) Curable composition, its curing method, the resulting cured product and adhesive
JP2018172494A (en) Curable composition, method for producing cured product, cured product thereof, and adhesive using the same
JP2018012765A (en) Curable composition, method for producing cured product, cured product thereof, and adhesive
JP6705623B2 (en) Cationic polymerizable composition
JP2017179202A (en) Curable composition, manufacturing method of cured article and the cured article
JP6163043B2 (en) Energy ray sensitive composition
KR20180132071A (en) CURING COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING CURED PRODUCT, AND CURED PRODUCT

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant