KR20170119355A - Nozzle cleaning apparatus and dispensing apparatus including the same - Google Patents

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    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 세정 장치는, 제1 방향으로 도포 물질을 분사하는 노즐을 세정하는 장치로써, 상기 제1 방향과 교차하는 방향으로, 상기 노즐을 향해 세정 가스를 분사하는 복수 개의 분사부; 및 상기 복수 개의 분사부 중 적어도 하나의 분사부와 상기 제1 방향과 교차하는 방향으로 대향하도록 배치되며, 상기 세정 가스를 흡입하는, 적어도 하나의 흡입부;를 포함할 수 있다.A nozzle cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention is an apparatus for cleaning nozzles for spraying a coating material in a first direction and includes a plurality of nozzles for spraying a cleaning gas toward the nozzles in a direction crossing the first direction Jetting section; And at least one suction unit arranged to face the jetting unit of at least one of the plurality of jetting units in a direction crossing the first direction, and sucking the cleaning gas.

Description

노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 디스펜싱 장치{NOZZLE CLEANING APPARATUS AND DISPENSING APPARATUS INCLUDING THE SAME}Technical Field [0001] The present invention relates to a nozzle cleaning apparatus and a dispensing apparatus including the nozzle cleaning apparatus.

본 발명의 실시예들은 노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 디스펜싱 장치에 관한 것이다.Embodiments of the present invention relate to a nozzle cleaning apparatus and a dispensing apparatus including the nozzle cleaning apparatus.

최근 들어, 액정디스플레이(liquid crystal display, LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP), 유기발광다이오드(organic light emitting diodes, OLED)와 같이 가볍고 얇은 평판디스플레이(flat panel display, FPD)가 널리 보급되어 많이 사용되고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, a light and thin flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), and an organic light emitting diode And it is widely used.

여기에서, 액정디스플레이(LCD)에 적용되는 액정패널은 두 기판 사이의 간격을 유지하고 액정이 누출되는 것을 방지하기 위하여 두 기판 중 적어도 어느 한 기판에 페이스트 상태의 도포 물질을 도포하여 소정의 패턴을 형성한 다음, 두 기판 사이에 액정층을 형성하는 과정을 통하여 제조된다. 이 때, 기판 상에 패턴을 형성하는 과정에는 디스펜싱 장치가 이용된다.Here, in order to maintain the gap between the two substrates and prevent the liquid crystal from leaking, the liquid crystal panel applied to the liquid crystal display (LCD) is formed by applying a paste material in a paste state to at least one of the two substrates, And then forming a liquid crystal layer between the two substrates. At this time, in the process of forming a pattern on the substrate, a dispensing device is used.

디스펜싱 장치는, 기판이 로딩되는 스테이지 및 스테이지에 로딩된 기판 상에 페이스트 상태의 도포 물질을 도포하는 노즐을 포함할 수 있다. 노즐은 기판과 일정한 갭(gap)을 유지한 상태에서 수평 방향으로 이동하면서 기판 상에 소정의 패턴을 형성한다.The dispensing apparatus may include a stage for loading the substrate and a nozzle for applying the paste material in a paste state onto the substrate loaded on the stage. The nozzle moves in the horizontal direction while maintaining a constant gap with the substrate, and forms a predetermined pattern on the substrate.

이와 같은 디스펜싱 장치를 이용하여 기판 상에 소정의 패턴을 형성하는 공정에서, 노즐의 토출구 주변에 도포 물질이 묻을 수 있다. 노즐의 토출구 주변에 도포 물질이 묻으면, 노즐의 토출구가 그 주변에 묻은 도포 물질에 의하여 부분적 또는 전체적으로 폐색되어 도포 물질의 토출이 원활하지 않을 수 있다. 또한, 노즐의 토출구 주변에는 이물질이 묻을 수도 있는데, 이러한 경우에는 기판 상에 도포되는 도포 물질에 이물질이 혼입될 수 있다. 이에 따라, 소정의 패턴을 형성하는 과정은 노즐의 토출구 주변에 도포 물질이나 이물질이 묻었는지를 주기적으로 확인하고 노즐의 토출구 주변에 묻은 도포 물질이나 이물질을 제거하는 작업이 요구된다.In the step of forming a predetermined pattern on the substrate using such a dispensing apparatus, a coating material may be deposited around the discharge port of the nozzle. When the coating material is deposited around the discharge port of the nozzle, the discharge port of the nozzle may be partially or totally blocked by the coating material attached to the periphery of the nozzle, so that the discharge of the coating material may not be smooth. In addition, foreign matter may be adhered to the periphery of the ejection opening of the nozzle. In this case, foreign matter may be mixed into the coating material applied on the substrate. Accordingly, in the process of forming a predetermined pattern, it is required to periodically check whether a coating material or a foreign matter is present around the discharge port of the nozzle, and to remove the coating material or foreign matter adhering to the discharge port of the nozzle.

본 발명의 실시예들은 도포 물질을 분사하는 노즐을 세정 가스로 세정하는 노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 디스펜싱 장치를 제공한다.Embodiments of the present invention provide a nozzle cleaning apparatus for cleaning a nozzle for spraying a coating material with a cleaning gas and a dispensing apparatus including the nozzle cleaning apparatus.

본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 세정 장치는, According to an embodiment of the present invention,

제1 방향으로 도포 물질을 분사하는 노즐을 세정하는 장치로써,An apparatus for cleaning a nozzle for spraying a coating material in a first direction,

상기 제1 방향과 교차하는 방향으로, 상기 노즐을 향해 세정 가스를 분사하는 복수 개의 분사부; 및A plurality of jetting portions for jetting a cleaning gas toward the nozzles in a direction crossing the first direction; And

상기 복수 개의 분사부 중 적어도 하나의 분사부와 상기 제1 방향과 교차하는 방향으로 대향하도록 배치되며, 상기 세정 가스를 흡입하는, 적어도 하나의 흡입부;를 포함할 수 있다.And at least one suction unit arranged to face the jetting unit of at least one of the plurality of jetting units in a direction crossing the first direction and sucking the cleaning gas.

일 실시예에 있어서, 상기 복수 개의 분사부는 분사 방향이 서로 다르도록 배치될 수 있다.In one embodiment, the plurality of jetting portions may be arranged so that the jetting directions are different from each other.

일 실시예에 있어서, 링 형상을 가지는 제1 지지 프레임;을 더 포함하며, 상기 복수 개의 분사부는 상기 제1 지지 프레임의 제1 영역에 배치되며, 상기 흡입부는 상기 제1 지지 프레임의 제2 영역에 배치될 수 있다.In one embodiment, the apparatus further includes a first support frame having a ring shape, wherein the plurality of ejection portions are disposed in a first region of the first support frame, the suction portion includes a second region of the first support frame As shown in FIG.

일 실시예에 있어서, 상기 복수 개의 분사부는, 상기 제1 영역에 일정 간격으로 이격 배치될 수 있다.In one embodiment, the plurality of jetting portions may be spaced apart from each other at a predetermined interval in the first region.

일 실시예에 있어서, 상기 복수 개의 분사부의 작동 여부 및 분사 압력 중 적어도 하나를 개별적으로 제어하는 제어부;를 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the controller may further include a controller for individually controlling at least one of the operation of the plurality of injection units and the injection pressure.

일 실시예에 있어서, 상기 복수 개의 분사부의 일부 분사부는 제1 압력으로 세정 가스를 분사하며, 상기 복수 개의 분사부의 다른 일부 분사부는 상기 제1 압력과 다른 제2 압력으로 세정 가스를 분사할 수 있다.In one embodiment, the plurality of jetting portions of the plurality of jetting portions jet the cleaning gas to the first pressure, and the other jetting portions of the plurality of jetting portions jet the cleaning gas to the second pressure different from the first pressure .

일 실시예에 있어서, 상기 제1 지지 프레임은 상기 제1 방향과 평행한 방향으로 이동 가능할 수 있다.In one embodiment, the first support frame may be movable in a direction parallel to the first direction.

일 실시예에 있어서, 상기 제1 지지 프레임은 상기 제1 방향과 교차하는 방향으로 이동 가능할 수 있다.In one embodiment, the first support frame may be movable in a direction crossing the first direction.

일 실시예에 있어서, 링 형상을 가지는 복수의 제1 지지 프레임;을 더 포함하며, 상기 복수 개의 분사부 및 상기 적어도 하나의 흡입부는 상기 복수의 지지 프레임 각각에 배치될 수 있다.In one embodiment, the apparatus further includes a plurality of first support frames having a ring shape, and the plurality of ejector portions and the at least one suction portion may be disposed in each of the plurality of support frames.

일 실시예에 있어서, 장공을 가지는 제2 지지 프레임;을 더 포함하며, 상기 복수 개의 분사부 및 상기 적어도 하나의 흡입부는 상기 제2 지지 프레임에 배치될 수 있다.In one embodiment, the apparatus further includes a second support frame having a long hole, wherein the plurality of ejection portions and the at least one suction portion can be disposed in the second support frame.

일 실시예에 있어서, 상기 복수 개의 분사부는 홀수 개일 수 있다.In one embodiment, the plurality of jetting portions may be odd numbered.

일 실시예에 있어서, 상기 제1 방향은 중력 방향일 수 있다.In one embodiment, the first direction may be a gravitational direction.

본 발명의 다른 실시예에 따른 디스펜싱 장치는,According to another aspect of the present invention, there is provided a dispensing apparatus comprising:

제1 방향으로 도포 물질을 분사하는 노즐; 및A nozzle for spraying the coating material in a first direction; And

상기 노즐을 세정하며, 상술한 실시예에 따른 노즐 세정 장치;를 포함할 수 있다.And a nozzle cleaning apparatus according to the above-described embodiment for cleaning the nozzle.

전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다. Other aspects, features, and advantages will become apparent from the following drawings, claims, and detailed description of the invention.

이러한 일반적이고 구체적인 측면이 시스템, 방법, 컴퓨터 프로그램, 또는 어떠한 시스템, 방법, 컴퓨터 프로그램의 조합을 사용하여 실시될 수 있다.These general and specific aspects may be implemented by using a system, method, computer program, or any combination of systems, methods, and computer programs.

상술한 노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 디스펜싱 장치는, 노즐과 도포면 간의 간격 유지가 용이하며, 노즐의 주변으로 코안다 효과(coanda effect)에 따른 기류가 형성되게 함으로써 노즐의 세정 과정에서 이물질 등이 비산하는 것을 방지할 수 있다. The above-described nozzle cleaning apparatus and the dispensing apparatus including the nozzle cleaning apparatus can easily maintain the gap between the nozzle and the coating surface and form an air flow according to the coanda effect around the nozzle, It is possible to prevent scattering.

도 1은 일 실시예에 따른 디스펜싱 장치를 예시적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 실시예에 따른 디스펜싱 장치의 노즐 세정 장치를 나타낸 사시도이며,
도 3a는 실시예에 따른 디스펜싱 장치의 노즐 세정 장치를 나타낸 단면도이며, 도 3b는 실시예에 따른 디스펜싱 장치의 노즐 세정 장치를 나타낸 평면도이다.
도 4는 도 3b의 노즐의 외부 표면 주변에 나타나는 코안다 효과를 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 도 3a의 복수 개의 분사부를 설명하기 위한 도면이며,
도 6은 실시예에 따른 노즐 세정 장치의 작동 예를 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 실시예에 따른 노즐 세정 장치의 일 예를 나타낸 평면도이다.
도 8은 복수의 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치의 일 예를 설명하는 도면이며,
도 9는 복수의 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치의 다른 예를 설명하는 도면이며,
도 10은 복수의 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치의 또 다른 예를 설명하는 도면이다.1 is a diagram illustrating a dispensing apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.
2 is a perspective view showing a nozzle cleaning apparatus of a dispensing apparatus according to an embodiment,
FIG. 3A is a cross-sectional view illustrating a nozzle cleaning apparatus of a dispensing apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3B is a plan view of a nozzle cleaning apparatus of a dispensing apparatus according to an embodiment.
Fig. 4 is a view for explaining the Coanda effect appearing around the outer surface of the nozzle of Fig. 3b.
FIG. 5 is a view for explaining a plurality of injection units of FIG. 3A,
6 is a view for explaining an operation example of the nozzle cleaning apparatus according to the embodiment.
7 is a plan view showing an example of a nozzle cleaning apparatus according to the embodiment.
8 is a view for explaining an example of a nozzle cleaning apparatus for cleaning a plurality of nozzles,
9 is a view for explaining another example of a nozzle cleaning apparatus for cleaning a plurality of nozzles,
10 is a view for explaining another example of a nozzle cleaning apparatus for cleaning a plurality of nozzles.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. The effects and features of the present invention and methods of achieving them will be apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described below, but may be implemented in various forms.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to like or corresponding components throughout the drawings, and a duplicate description thereof will be omitted .

이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다. In the following embodiments, the terms first, second, and the like are used for the purpose of distinguishing one element from another element, not the limitative meaning.

이하의 실시예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. In the following examples, the singular forms "a", "an" and "the" include plural referents unless the context clearly dictates otherwise.

이하의 실시예에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다. In the following embodiments, terms such as inclusive or possessive are intended to mean that a feature, or element, described in the specification is present, and does not preclude the possibility that one or more other features or elements may be added.

도 1은 일 실시예에 따른 디스펜싱 장치(1)를 예시적으로 나타낸 도면이다. 도 1을 참조하면, 디스펜싱 장치(1)는 노즐(10)을 포함한다. 도면상 도시되지 않았지만, 디스펜싱 장치(1)는 기판을 지지하는 지지 장치(미도시)를 더 포함할 수 있다.1 is a diagram illustrating an example of a dispensing apparatus 1 according to an embodiment. Referring to FIG. 1, the dispensing apparatus 1 includes a nozzle 10. Although not shown in the drawing, the dispensing apparatus 1 may further include a supporting device (not shown) for supporting the substrate.

노즐(10)은 제1 방향, 예를 들어, 중력 방향(-Z 방향)으로 도포 물질(m)을 분사 또는 토출한다. 노즐(10)에서 분사된 도포 물질(m)은 기판(S) 상에 도포된다.The nozzle 10 ejects or discharges the coating material m in the first direction, for example, the gravity direction (-Z direction). The coating material m sprayed from the nozzle 10 is applied on the substrate S.

노즐(10)은 제1 방향과 교차하는 방향으로 이동할 수 있다. 그에 따라, 노즐(10)에서 분사된 도포 물질(m)이 기판(S) 상에 소정의 패턴을 가지도록 형성될 수 있다. The nozzle 10 can move in a direction crossing the first direction. Accordingly, the coating material m ejected from the nozzle 10 can be formed to have a predetermined pattern on the substrate S. [

노즐(10)은 수평 방향, 예를 들어 전후 방향(X 방향)으로 이동할 수 있다. 그에 따라, 기판(S) 상에 도포 물질(m)이 전후 방향(X 방향)으로 형성될 수 있다. 다만, 노즐(10)의 이동 방향은 전후 방향(X 방향)에 한정되지 않으며, 원하는 형상에 따라, 달라질 수 있음은 물론이다.The nozzle 10 can move in the horizontal direction, for example, in the forward and backward directions (X direction). Thereby, the coating material m can be formed on the substrate S in the front-back direction (X direction). However, it is needless to say that the moving direction of the nozzle 10 is not limited to the forward and backward directions (X direction) but may be varied depending on a desired shape.

상기와 같이, 노즐(10)에서 도포 물질(m)이 분사되는 과정에서 도포 물질(m)에 의해 노즐(10)의 토출구(11) 주변 또는 노즐(10)의 외부 표면이 오염될 수 있다. 또한, 노즐(10)에서 도포 물질(m)이 분사된 이후, 노즐(10)의 토출구(11) 주변에 맺힌 도포 물질(m)에 의해 노즐(10)의 단부가 오염될 수 있다. 그로 인해, 노즐(10)의 토출구(11)가 부분적 또는 전체적으로 폐색되어 도포 물질(m)의 분사가 원활하지 않을 수 있다. 또한, 노즐(10)의 토출구(11) 주변에는 이물질이 묻을 수도 있는데, 이러한 경우에는 기판(S) 상에 도포되는 도포 물질(m)에 이물질이 혼입될 수 있다. The periphery of the discharge port 11 of the nozzle 10 or the outer surface of the nozzle 10 may be contaminated by the coating material m in the process of spraying the coating material m at the nozzle 10. [ The end of the nozzle 10 may be contaminated by the coating material m formed around the discharge port 11 of the nozzle 10 after the coating material m is sprayed from the nozzle 10. As a result, the discharge port (11) of the nozzle (10) is partially or entirely blocked and the spraying of the coating material (m) may not be smooth. In addition, foreign matter may be adhered to the periphery of the discharge port 11 of the nozzle 10. In this case, a foreign substance may be mixed into the coating material m applied on the substrate S.

이러한 점을 고려하여, 실시예에 따른 디스펜싱 장치(1)는 노즐(10)의 내외부를 세정하기 위한 노즐 세정 장치(20)를 포함할 수 있다.In consideration of this point, the dispensing apparatus 1 according to the embodiment may include a nozzle cleaning apparatus 20 for cleaning the inside and the outside of the nozzle 10.

도 2는 실시예에 따른 디스펜싱 장치(1)의 노즐 세정 장치(20)를 나타낸 사시도이며, 도 3a는 실시예에 따른 디스펜싱 장치(1)의 노즐 세정 장치(20)를 나타낸 단면도이며, 도 3b는 실시예에 따른 디스펜싱 장치(1)의 노즐 세정 장치(20)를 나타낸 평면도이다.Fig. 2 is a perspective view showing the nozzle cleaning apparatus 20 of the dispensing apparatus 1 according to the embodiment. Fig. 3 (a) is a sectional view showing the nozzle cleaning apparatus 20 of the dispensing apparatus 1 according to the embodiment, 3B is a plan view showing the nozzle cleaning apparatus 20 of the dispensing apparatus 1 according to the embodiment.

도 2 및 도 3a를 참조하면, 실시예에 따른 디스펜싱 장치(1)는 노즐(10)을 세정하는 노즐 세정 장치(20)를 포함한다. 노즐 세정 장치(20)는 제1 지지 프레임(210), 제1 지지 프레임(210)에 배치된 복수 개의 분사부(230) 및 흡입부(250)를 포함한다.Referring to Figs. 2 and 3A, the dispensing apparatus 1 according to the embodiment includes a nozzle cleaning apparatus 20 for cleaning the nozzle 10. As shown in Fig. The nozzle cleaning apparatus 20 includes a first support frame 210, a plurality of jetting members 230 disposed on the first support frame 210, and a suction unit 250.

제1 지지 프레임(210)은 노즐(10)의 단부가 삽입 가능한 제1 삽입 구멍(2100)을 가진다. 예를 들어, 제1 지지 프레임(210)은 링 형상을 가지며, 제1 삽입 구멍(2100)은 원형일 수 있다.The first support frame 210 has a first insertion hole 2100 into which the end of the nozzle 10 can be inserted. For example, the first support frame 210 has a ring shape, and the first insertion hole 2100 may be circular.

복수 개의 분사부(230) 각각은 제1 방향과 교차하는 방향으로 노즐(10)을 향해 세정 가스를 분사할 수 있다. 여기서, 교차하는 방향이란 수직인 방향으로 제한되지 않으며, 평행하지 않은 방향으로 정의한다. 복수 개의 분사부(230) 각각은 제1 방향과 80도 ~ 100도를 이루는 방향으로 세정 가스를 분사할 수 있다. Each of the plurality of jetting portions 230 may jet a cleaning gas toward the nozzle 10 in a direction crossing the first direction. Here, the direction of intersection is not limited to the vertical direction, but is defined as the direction that is not parallel. Each of the plurality of jetting portions 230 may jet the cleaning gas in a direction of 80 ° to 100 ° from the first direction.

세정 가스는 공기, 비활성 가스, 및 도포 물질(m)에 반응하여 도포 물질(m)을 녹일 수 있는 반응 가스 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 여기서, 비활성 가스는 질소 가스, 아르곤 가스 등일 수 있다.The cleaning gas may include at least one of air, an inert gas, and a reactive gas capable of dissolving the coating material (m) in response to the coating material (m). Here, the inert gas may be nitrogen gas, argon gas, or the like.

실시예에 따른 노즐 세정 장치(20)는, 세정 가스를 분사하여 노즐(10)을 세정하는 비접촉 방식이기 때문에, 세정 테이프를 이용하여 세정하는 접촉 방식에 비해 균일한 세정이 가능하다. 세정액을 이용하는 세정 방식은 세정액 분사 후 세정액을 건조시키는 건조 공정이 필요한 반면, 실시예와 같이 세정 가스를 이용하는 세정 방식은 별도의 건조 공정이 불필요하기 때문에, 바로 다음 공정을 진행할 수 있다. Since the nozzle cleaning apparatus 20 according to the embodiment is a non-contact system that cleans the nozzle 10 by jetting a cleaning gas, it is possible to perform uniform cleaning as compared with a cleaning method using a cleaning tape. The cleaning method using the cleaning liquid requires a drying step for drying the cleaning liquid after the cleaning liquid is sprayed. On the other hand, since the cleaning method using the cleaning gas as in the embodiment does not require a separate drying step, the next step can be carried out immediately.

도 2 및 도 3b를 참조하면, 복수 개의 분사부(230)는, 세정 가스의 분사 방향이 서로 다르도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 복수 개의 분사부(230)의 분사 방향은 서로 교차하도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 복수 개의 분사부(230)는 링 형상의 제1 지지 프레임(210)의 제1 영역(211)에 배치될 수 있다. 복수 개의 분사부(230)는 제1 영역(211)에 일정 간격으로 이격 배치될 수 있다. Referring to FIGS. 2 and 3B, the plurality of jetting units 230 may be arranged such that the jetting directions of the cleaning gases are different from each other. For example, the ejecting directions of the plurality of ejecting portions 230 may be arranged to cross each other. For example, the plurality of jetting portions 230 may be disposed in the first region 211 of the ring-shaped first support frame 210. The plurality of jetting portions 230 may be spaced apart from each other at a predetermined interval in the first region 211.

복수 개의 분사부(230)는 홀수 개일 수 있다. 실시예에서는, 복수 개의 분사부(230)가 5개인 예를 설명하였으나, 이에 한정되지 아니하며, 3개 또는 7개 이상의 홀수일 수 있다. 도면상 도시하지 않았으나, 각각의 분사부(230)에는 세정 가스를 분사하는 한 개 또는 복수 개의 분사 구멍(미도시)이 형성된다. The plurality of jetting sections 230 may be odd-numbered. In the embodiment, the number of the plurality of jetting sections 230 is five, but the number of the jetting sections 230 is not limited to five, and may be three or seven or more. Although not shown in the drawing, one or a plurality of injection holes (not shown) for injecting the cleaning gas are formed in the respective injection portions 230.

흡입부(250)는 복수 개의 분사부(230)에서 분사된 세정 가스를 흡입한다. 흡입부(250)는 복수 개의 분사부(230) 중 적어도 하나의 분사부(230)와 제1 방향과 교차하는 방향으로 대향하도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 흡입부(250)는 복수 개의 분사부(230) 중 가운데에 위치한 분사부(230A)에 전후 방향으로 대향하도록 배치될 수 있다.The suction unit 250 sucks the cleaning gas injected from the plurality of jetting units 230. The suction unit 250 may be arranged to face at least one of the plurality of jetting units 230 in a direction intersecting the first direction. For example, the suction unit 250 may be arranged to face the jetting unit 230A located at the center of the plurality of jetting units 230 in the forward and backward directions.

흡입부(250)는 제1 지지 프레임(210)의 제2 영역(212)에 배치될 수 있다. 제2 영역(212)은 제1 영역(211)과 다른 영역이다. 제2 영역(212)은 제1 삽입 구멍(2100)에 삽입된 노즐(10)을 기준으로 제1 영역(211)의 적어도 일부 영역과 반대 방향에 배치될 수 있다.The suction portion 250 may be disposed in the second region 212 of the first support frame 210. The second area 212 is an area different from the first area 211. The second region 212 may be disposed in a direction opposite to at least a partial region of the first region 211 with respect to the nozzle 10 inserted in the first insertion hole 2100.

다시 도 2 및 도 3a를 참조하면, 분사부(230)와 흡입부(250)가 제1 방향과 교차하는 방향으로 배치되기 때문에, 노즐 세정 장치(20)의 두께(T)를 작게 할 수 있다. 예를 들어, 노즐 세정 장치(20)의 두께(T)는 50 mm 이하일 수 있다. 바람직하게는, 노즐 세정 장치(20)의 두께(T)는 30 mm 이하일 수 있다. 다만, 노즐 세정 장치(20)의 두께(T)는 분사부(230)의 분사 구멍의 크기를 고려하여 1 mm 이상일 수 있다.2 and 3A, since the jetting unit 230 and the suction unit 250 are disposed in a direction crossing the first direction, the thickness T of the nozzle cleaning apparatus 20 can be reduced . For example, the thickness T of the nozzle cleaning apparatus 20 may be 50 mm or less. Preferably, the thickness T of the nozzle cleaning apparatus 20 may be 30 mm or less. However, the thickness T of the nozzle cleaning apparatus 20 may be 1 mm or more in consideration of the size of the jetting hole of the jetting unit 230.

노즐 세정 장치(20)의 두께(T)를 작게 함으로써, 세정을 위한 노즐(10)의 이동을 방지하거나, 세정을 위한 노즐(10)의 이동 시간을 줄일 수 있다. 또한, 중력 방향과 수직인 방향으로 흡입부(250)가 배치되기 때문에, 이물질 또는 도포 물질(m)이 의도치 않게 흡입부(250)에 침투하여, 흡입부(250)가 막히는 현상을 방지할 수 있다.By reducing the thickness T of the nozzle cleaning apparatus 20, movement of the nozzle 10 for cleaning can be prevented, or movement time of the nozzle 10 for cleaning can be reduced. In addition, since the suction unit 250 is disposed in a direction perpendicular to the gravity direction, the foreign matter or the coating material m unintentionally penetrates the suction unit 250 to prevent the suction unit 250 from being clogged .

다시 도 3b를 참조하면, 복수 개의 분사부(230)가 노즐(10)을 향해 세정 가스를 분사한다. 흡입부(250)는 노즐(10)을 사이에 두고 복수 개의 분사부(230)의 적어도 하나의 분사부(230A)와 반대 방향에 위치되어 있기 때문에, 노즐(10)에 부딪힌 세정 가스가 흡입부(250)를 향해 이동하도록 유도할 수 있다. 이러한 복수 개의 분사부(230)와 흡입부(250)에 의해, 세정 가스는 노즐(10)의 외부 표면에 밀착하여 흐르는 현상, 이른바 코안다 효과(coanda effect)가 발생할 수 있다.Referring again to FIG. 3B, a plurality of jetting units 230 jet a cleaning gas toward the nozzle 10. Since the suction unit 250 is positioned in the opposite direction to the at least one spray unit 230A of the plurality of spray units 230 with the nozzle 10 interposed therebetween, (Not shown). Such a plurality of jetting parts 230 and the suction part 250 may cause a phenomenon in which the cleaning gas flows in close contact with the outer surface of the nozzle 10, that is, a so-called coanda effect may occur.

도 4는 도 3b의 노즐(10)의 외부 표면의 주변에 나타나는 코안다 효과를 설명하기 위한 도면이다. 도 4를 참조하면, 노즐(10)을 향해 분사된 세정 가스는 노즐(10)의 외부 표면에 밀착하여 흐르는 기류를 형성할 수 있다. Fig. 4 is a view for explaining the Coanda effect appearing around the outer surface of the nozzle 10 of Fig. 3b. Referring to FIG. 4, the cleaning gas injected toward the nozzle 10 can form an airflow that closely contacts the outer surface of the nozzle 10.

만일, 본 실시예와 달리, 노즐(10)의 외부 표면의 주변으로 난류(turbulence)가 우세하게 나타날 경우, 제거하고자 하는 도포 물질(m)이나 이물질이 주변으로 비산하게 되며, 이는 노즐 세정 장치(20)의 품질 저하로 이어질 수 있다. 경우에 따라, 비산된 도포 물질(m)이나 이물질에 의해 노즐(10)이 막히거나 고착화될 수 있다.Unlike the present embodiment, when turbulence prevails around the outer surface of the nozzle 10, the coating material m or foreign matter to be removed is scattered around the nozzle, 20). ≪ / RTI > In some cases, the nozzle 10 may be clogged or fixed by the scattered coating material m or foreign matter.

그러나, 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20)에서는, 세정 가스가 노즐(10)의 외부 표면에 밀착하여 흐르는 기류를 형성하도록 함으로써, 제거 대상인 도포 물질(m)이나 이물질이 비산되지 않고 흡입부(250)로 흡입되며, 그에 따라 노즐 세정 장치(20)의 품질 저하를 방지할 수 있다.However, in the nozzle cleaning apparatus 20 according to the embodiment, the cleaning gas is in close contact with the outer surface of the nozzle 10 to form an airflow that flows, so that the coating material m to be removed or foreign matter is not scattered, 250, thereby preventing deterioration of the quality of the nozzle cleaning apparatus 20. [

도 3a를 다시 참조하면, 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20)는 이동부(260)를 더 포함할 수 있다. Referring again to FIG. 3A, the nozzle cleaning apparatus 20 according to the embodiment may further include a moving unit 260.

이동부(260)는 제1 지지 프레임(210)을 제1 방향과 평행한 방향, 예를 들어, 상하 방향(Z 방향)으로 이동시킬 수 있다. 그에 따라, 제1 지지 프레임(210)에 배치된 복수 개의 분사부(230)와 흡입부(250)가 상하 방향(Z 방향)으로 이동될 수 있다. The moving part 260 may move the first support frame 210 in a direction parallel to the first direction, for example, in a vertical direction (Z direction). Accordingly, the plurality of jetting units 230 and the suction unit 250 disposed in the first support frame 210 can be moved in the vertical direction (Z direction).

일 예로써, 복수 개의 분사부(230) 및 흡입부(250)가 하강하여, 세정 가스가 노즐(10)의 토출구(11) 주변에 밀착하여 흐르는 기류를 형성할 수 있다. 그에 따라, 노즐(10)의 토출구(11) 밖으로 맺힌 도포 물질(m)을 제거할 수 있다. 또한, 노즐(10)의 내부에 맺힌 도포 물질(m)의 일부를 제거할 수 있다.For example, the plurality of jetting units 230 and the suction unit 250 may be lowered to form a flow of the cleaning gas in close contact with the periphery of the discharge port 11 of the nozzle 10. Accordingly, the coating material m formed outside the discharge port 11 of the nozzle 10 can be removed. In addition, a part of the coating material m formed inside the nozzle 10 can be removed.

다른 예로써, 복수 개의 분사부(230)와 흡입부(250)가 상승하여, 세정 가스가 노즐(10)의 토출구(11)보다 상부 영역의 외부 표면에 밀착하여 흐르는 기류를 형성할 수 있다. 그에 따라, 노즐(10)의 외부 표면에 묻은 도포 물질(m)을 제거할 수 있다.As another example, the plurality of jetting sections 230 and the suction section 250 can be raised to form an airflow in which the cleaning gas flows in close contact with the outer surface of the upper region than the discharge port 11 of the nozzle 10. Thus, the coating material m adhering to the outer surface of the nozzle 10 can be removed.

도 5는 도 3a의 복수 개의 분사부(230)를 설명하기 위한 도면이며, 도 6은 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20)의 작동 예를 설명하기 위한 도면이다.FIG. 5 is a view for explaining the plurality of jetting units 230 of FIG. 3a, and FIG. 6 is a view for explaining an operation example of the nozzle cleaning apparatus 20 according to the embodiment.

도 5를 참조하면, 분사부(230)는 제1 지지 프레임(210; 도 6 참조)에 지지되는 지지 부분(231)과 세정 가스를 분사하는 분사 부분(233)을 포함한다. 지지 부분(231)은 제1 지지 프레임(210)에 고정되며, 분사 부분(233)을 힌지 축(A)을 기준으로 회전 가능하게 지지할 수 있다. 그에 따라, 분사 부분(233)은 힌지 축(A)을 기준으로 소정 각도만큼 회전이 가능하다.Referring to FIG. 5, the jetting unit 230 includes a support portion 231 supported by the first support frame 210 (see FIG. 6) and a jetting portion 233 jetting a cleaning gas. The support portion 231 is fixed to the first support frame 210 and can support the injection portion 233 rotatably with respect to the hinge axis A. [ Accordingly, the jetting portion 233 can be rotated by a predetermined angle with respect to the hinge axis A.

도 6을 참조하면, 분사부(230)는 분사 부분(233)이 힌지 축(A)을 기준으로 회전하여 노즐(10)의 토출구(11)를 향하여 세정 가스를 분사할 수 있다. 이 때, 분사부(230)의 분사 부분(233)은 노즐(10)의 토출구(11)보다 아래에 위치할 수 있다. 그에 따라, 노즐(10)의 내부에 맺힌 도포 물질(m)의 일부를 제거할 수 있다. Referring to FIG. 6, the jetting unit 230 can jet the cleaning gas toward the jetting port 11 of the nozzle 10 by rotating the jetting unit 233 with respect to the hinge axis A. At this time, the jetting portion 233 of the jetting portion 230 may be positioned below the jetting port 11 of the nozzle 10. [ Accordingly, a part of the coating material m formed inside the nozzle 10 can be removed.

한편, 도 5 및 도 6에서는 분사부(230)의 각도를 조정 가능한 실시예를 중심으로 설명하였다. 다만, 분사부(230)의 각도 조정을 위한 구조는 선택적인 것이므로, 필요에 따라 분사부(230)의 각도가 고정될 수 있다. 이 경우, 분사부(230)는 제1 지지 프레임(210)에 별도의 부재로 설치되지 않고 하나의 부재로 형성될 수도 있다.5 and 6, the embodiments in which the angle of the jetting unit 230 can be adjusted have been mainly described. However, since the structure for adjusting the angle of the jetting unit 230 is optional, the angle of the jetting unit 230 can be fixed as necessary. In this case, the jetting unit 230 may not be formed as a separate member on the first support frame 210, but may be formed of a single member.

도 7은 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20)의 일 예를 나타낸 평면도이다. 도 7을 참조하면, 노즐 세정 장치(20)는 복수 개의 분사부(230)에 연결된 제어부(270)를 더 포함할 수 있다.7 is a plan view showing an example of the nozzle cleaning apparatus 20 according to the embodiment. Referring to FIG. 7, the nozzle cleaning apparatus 20 may further include a controller 270 connected to the plurality of jetting units 230.

제어부(270)는 복수 개의 분사부(230)의 작동 및 분사 압력 중 적어도 하나를 개별적으로 제어할 수 있다. 예를 들어, 복수 개의 분사부(230)의 일부 분사부(230)는 제1 압력으로 세정 가스를 분사하고, 복수 개의 분사부(230)의 다른 분사부(230)는 제1 압력과 다른 제2 압력으로 세정 가스를 분사할 수 있다. 이와 같이, 복수 개의 분사부(230)에서 분사된 세정 가스의 분사 압력을 개별적으로 제어함으로써, 코안다 효과 및 그에 따른 세정 효과를 극대화할 수 있는 기류를 형성할 수 있다.The control unit 270 can individually control at least one of the operation of the plurality of jetting units 230 and the jetting pressure. For example, a part of the ejecting part 230 of the plurality of ejecting parts 230 ejects the cleaning gas at a first pressure, and the other ejecting part 230 of the plurality of ejecting parts 230 ejects the cleaning gas The cleaning gas can be injected with a pressure of 2. As described above, by separately controlling the jetting pressure of the cleaning gas jetted from the plurality of jetting sections 230, it is possible to form an airflow capable of maximizing the Coanda effect and the cleaning effect.

또한, 제어부(270)는 노즐(10)의 오염 상태에 따라 복수 개의 분사부(230)의 작동 및 분사 압력을 제어할 수 있다. 예를 들어, 노즐(10)의 외부 표면 중 일부 영역에만 도포 물질(m) 또는 이물질이 붙어있을 경우, 해당 일부 영역에 근접한 위치에 위치한 분사부(230)의 압력을 다른 분사부(230)의 압력보다 크게 할 수 있다. 그에 따라, 효율적인 세정 작업이 가능할 수 있다.In addition, the controller 270 can control the operation of the plurality of jetting units 230 and the jetting pressure according to the contamination state of the nozzle 10. [ For example, when a coating material m or a foreign substance adheres to only a part of the outer surface of the nozzle 10, the pressure of the jetting unit 230 located at a position close to the certain area may be applied to the other jetting unit 230 Can be made larger than the pressure. Accordingly, an efficient cleaning operation can be performed.

상술한 실시예들에서는, 노즐 세정 장치(20)가 원통 형상의 하나의 노즐(10)을 세정하는 예를 중심으로 설명하였다. 그러나, 본 발명은 이에 한정되지 아니하며, 복수의 노즐(10) 또는 슬릿 형상의 노즐(10)을 세정하는 데 사용될 수 있다.In the above-described embodiments, the nozzle cleaning apparatus 20 has been described focusing on an example in which one nozzle 10 in a cylindrical shape is cleaned. However, the present invention is not limited to this, and can be used to clean a plurality of nozzles 10 or slit-shaped nozzles 10. [

도 8은 복수의 노즐(10, 10a, 10b)을 세정하는 노즐 세정 장치(20a)의 일 예를 설명하는 도면이며, 도 9는 복수의 노즐(10, 10a, 10b)을 세정하는 노즐 세정 장치(20b)의 다른 예를 설명하는 도면이며, 도 10은 복수의 노즐(10, 10a, 10b)을 세정하는 노즐 세정 장치(20c)의 또 다른 예를 설명하는 도면이다. 설명의 편의상, 도 8 내지 도 10에서는 상술한 실시예들과 다른 점을 중심으로 도시하였다.Fig. 8 is a view for explaining an example of a nozzle cleaning apparatus 20a for cleaning a plurality of nozzles 10, 10a and 10b, and Fig. 9 is a view for explaining an example of a nozzle cleaning apparatus 20a for cleaning a plurality of nozzles 10, 10a, Fig. 10 is a view for explaining another example of the nozzle cleaning apparatus 20c for cleaning a plurality of nozzles 10, 10a, 10b. For convenience of explanation, FIG. 8 to FIG. 10 are focused on different points from the above-described embodiments.

도 8을 참조하면, 일 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20a)는 복수의 제1 지지 프레임(210, 210a, 210b) 및 복수의 제1 지지 프레임(210, 210a, 210b) 각각에 배치된 복수 개의 분사부(230)와 흡입부(250)를 포함할 수 있다. 분사부(230)와 흡입부(250)는 제1 방향과 교차하는 방향으로 대향하도록 배치될 수 있다. 일 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20a)에서는, 복수 개의 노즐(10, 10a, 10b)에 대한 세정 작업이 동시에 진행될 수 있다.8, a nozzle cleaning apparatus 20a according to an embodiment includes a plurality of first support frames 210, 210a and 210b, and a plurality of first support frames 210, 210a, and 210b And may include a jetting section 230 and a suction section 250. The jetting unit 230 and the suction unit 250 may be arranged to face each other in a direction crossing the first direction. In the nozzle cleaning apparatus 20a according to the embodiment, the cleaning operation for the plurality of nozzles 10, 10a, and 10b can be performed at the same time.

도 9를 참조하면, 다른 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20b)는 제1 지지 프레임(210) 및 제1 지지 프레임(210)에 배치된 복수 개의 분사부(230)와 흡입부(250)를 포함할 수 있다. 제1 지지 프레임(210)은 제1 방향과 교차하는 방향으로 이동할 수 있다. 다른 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20b)에서는, 복수 개의 노즐(10, 10a, 10b)에 대한 세정 작업이 순차적으로 진행될 수 있다.9, the nozzle cleaning apparatus 20b according to another embodiment includes a first support frame 210 and a plurality of jetting parts 230 and a suction part 250 disposed on the first support frame 210 . The first support frame 210 can move in a direction intersecting the first direction. In the nozzle cleaning apparatus 20b according to another embodiment, the cleaning operation for the plurality of nozzles 10, 10a, and 10b can be sequentially performed.

도 10을 참조하면, 또 다른 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20c)는 제2 지지 프레임(220) 및 제2 지지 프레임(220)에 배치된 복수 개의 분사부(230)와 복수 개의 흡입부(250)를 포함할 수 있다. 제2 지지 프레임(220)은 제1 방향과 교차하는 방향, 예를 들어, 좌우 방향으로 연장된 장공(2200)을 가진다. 10, the nozzle cleaning apparatus 20c according to another embodiment includes a plurality of jetting units 230 and a plurality of suction units 230 disposed in the second support frame 220 and the second support frame 220, 250). The second support frame 220 has a slot 2200 extending in a direction intersecting the first direction, for example, in the left-right direction.

또 다른 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20c)의 제2 지지 프레임(220)은 장공(2200)이 제1 지지 프레임(210)의 제1 삽입 구멍(2100)에 비해 크기 때문에, 다양한 노즐(10)의 세정 작업이 가능하다. 도 10에 개시된 것처럼, 복수 개의 노즐(10)에 대한 세정 작업이 가능할 뿐만 아니라, 슬릿 형상을 가지는 노즐(10)에 대한 세정 작업도 가능하다.Since the second support frame 220 of the nozzle cleaning apparatus 20c according to another embodiment has the long hole 2200 larger than the first insertion hole 2100 of the first support frame 210, ) Can be cleaned. As shown in Fig. 10, not only a cleaning operation for a plurality of nozzles 10 is possible, but also a cleaning operation for a nozzle 10 having a slit shape is possible.

한편, 이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the appended claims. I will understand. Accordingly, the true scope of the present invention should be determined by the technical idea of the appended claims.

1 : 디스펜싱 장치
10, 10a, 10b : 노즐
11 : 토출구
20, 20a, 20b, 20c : 노즐 세정 장치
210 : 제1 지지 프레임
2100 : 제1 삽입 구멍
211 : 제1 영역
212 : 제2 영역
220 : 제2 지지 프레임
2200 : 장공
230 : 분사부
231 : 지지 부분
233 : 분사 부분
250 : 흡입부
260 : 이동부
270 : 제어부1: Dispensing device
10, 10a, 10b: nozzle
11:
20, 20a, 20b, 20c: a nozzle cleaning device
210: first support frame
2100: first insertion hole
211: first region
212: second region
220: second support frame
2200: Slot
230:
231: Support portion
233: injection part
250: Suction part
260:
270:

Claims (13)

제1 방향으로 도포 물질을 분사하는 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치로써,
상기 제1 방향과 교차하는 방향으로, 상기 노즐을 향해 세정 가스를 분사하는 복수 개의 분사부; 및
상기 복수 개의 분사부 중 적어도 하나의 분사부와 상기 제1 방향과 교차하는 방향으로 대향하도록 배치되며, 상기 세정 가스를 흡입하는, 적어도 하나의 흡입부;를 포함하는, 노즐 세정 장치.A nozzle cleaning apparatus for cleaning a nozzle for spraying a coating material in a first direction,
A plurality of jetting portions for jetting a cleaning gas toward the nozzles in a direction crossing the first direction; And
And at least one suction unit arranged to face the jetting unit of at least one of the plurality of jetting units in a direction intersecting with the first direction and sucking the cleaning gas. 제1항에 있어서,
상기 복수 개의 분사부는 분사 방향이 서로 다르도록 배치된, 노즐 세정 장치.The method according to claim 1,
Wherein the plurality of ejecting portions are arranged so that the ejecting directions are different from each other. 제2항에 있어서,
링 형상을 가지는 제1 지지 프레임;을 더 포함하며,
상기 복수 개의 분사부는 상기 제1 지지 프레임의 제1 영역에 배치되며,
상기 흡입부는 상기 제1 지지 프레임의 제2 영역에 배치되는, 노즐 세정 장치.3. The method of claim 2,
And a first support frame having a ring shape,
Wherein the plurality of ejection portions are disposed in a first region of the first support frame,
Wherein the suction portion is disposed in a second region of the first support frame. 제3항에 있어서,
상기 복수 개의 분사부는, 상기 제1 영역에 일정 간격으로 이격 배치된, 노즐 세정 장치.The method of claim 3,
Wherein the plurality of jetting portions are spaced apart from each other at a predetermined interval in the first region. 제1항에 있어서,
상기 복수 개의 분사부의 작동 여부 및 분사 압력 중 적어도 하나를 개별적으로 제어하는 제어부;를 더 포함하는, 노즐 세정 장치.The method according to claim 1,
Further comprising: a control unit for individually controlling at least one of the operation of the plurality of injection units and the injection pressure. 제5항에 있어서,
상기 복수 개의 분사부의 일부 분사부는 제1 압력으로 세정 가스를 분사하며,
상기 복수 개의 분사부의 다른 일부 분사부는 상기 제1 압력과 다른 제2 압력으로 세정 가스를 분사하는, 노즐 세정 장치.6. The method of claim 5,
Wherein a part of jetting portions of the plurality of jetting portions jet a cleaning gas to a first pressure,
And the other part of jetting parts of the plurality of jetting parts jetting the cleaning gas to a second pressure different from the first pressure. 제3항에 있어서,
상기 제1 지지 프레임은 상기 제1 방향과 평행한 방향으로 이동 가능한, 노즐 세정 장치.The method of claim 3,
Wherein the first support frame is movable in a direction parallel to the first direction. 제3항에 있어서,
상기 제1 지지 프레임은 상기 제1 방향과 교차하는 방향으로 이동 가능한, 노즐 세정 장치.The method of claim 3,
Wherein the first support frame is movable in a direction crossing the first direction. 제1항에 있어서,
링 형상을 가지는 복수의 제1 지지 프레임;을 더 포함하며,
상기 복수 개의 분사부 및 상기 적어도 하나의 흡입부는 상기 복수의 제1 지지 프레임 각각에 배치된, 노즐 세정 장치.The method according to claim 1,
And a plurality of first support frames having a ring shape,
Wherein the plurality of jetting portions and the at least one suction portion are disposed in each of the plurality of first support frames. 제1항에 있어서,
장공을 가지는 제2 지지 프레임;을 더 포함하며,
상기 복수 개의 분사부, 는 상기 적어도 하나의 흡입부는 상기 제2 지지 프레임에 배치된, 노즐 세정 장치.The method according to claim 1,
And a second support frame having a long hole,
Wherein said at least one suction portion is disposed in said second support frame. 제1항에 있어서,
상기 복수 개의 분사부는 홀수 개인, 노즐 세정 장치.The method according to claim 1,
Wherein the plurality of jetting portions are odd-numbered. 제1항에 있어서,
상기 제1 방향은 중력 방향인, 노즐 세정 장치.The method according to claim 1,
Wherein the first direction is a gravity direction. 제1 방향으로 도포 물질을 분사하는 노즐; 및
상기 노즐을 세정하며, 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 노즐 세정 장치;를 포함하는, 디스펜싱 장치. A nozzle for spraying the coating material in a first direction; And
And a nozzle cleaning apparatus according to any one of claims 1 to 12 for cleaning the nozzle.
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