KR20170116955A - Glass crack detection method, glass crack detector, glass plate polishing method, glass plate polishing device, and glass plate production method - Google Patents

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Abstract

초기 단계의 유리판 깨짐을 검지할 수 있는 유리 깨짐 검지 방법, 유리 깨짐 검지 장치, 유리판의 연마 방법, 유리판의 연마 장치, 및 유리판의 제조 방법을 제공한다.
유리 깨짐 검지 장치(1)는 유리판(G)에 액체(L)를 공급하는 액체 공급부(2)와, 액체(L)에 접촉하는 위치에 배치되는 AE 센서(4)와, 유리판(G)으로부터의 탄성파를 검지한 AE 센서(4)로부터 입력되는 AE 신호를 처리하는 신호 처리부(6)를 구비한다. 유리 깨짐 검지 장치(1)의 신호 처리부(6)는 AE 센서(4)로부터의 AE 신호가 소정의 역치를 초과함으로써, 유리판(G)의 깨짐을 판단한다.
A glass breakage detecting method, a glass breakage detecting apparatus, a glass sheet polishing method, a glass sheet polishing apparatus, and a glass sheet manufacturing method capable of detecting glass sheet breakage at an early stage are provided.
The glass breakage detecting apparatus 1 comprises a liquid supply section 2 for supplying a liquid L to a glass plate G, an AE sensor 4 disposed at a position for contacting the liquid L, And a signal processing section 6 for processing an AE signal input from the AE sensor 4 which detects the elastic wave of the AE sensor 4. The signal processing section 6 of the glass breakage detecting apparatus 1 judges the breaking of the glass plate G when the AE signal from the AE sensor 4 exceeds a predetermined threshold value.

Figure P1020170044179
Figure P1020170044179

Description

유리 깨짐 검지 방법, 유리 깨짐 검지 장치, 유리판의 연마 방법, 유리판의 연마 장치, 및 유리판의 제조 방법{GLASS CRACK DETECTION METHOD, GLASS CRACK DETECTOR, GLASS PLATE POLISHING METHOD, GLASS PLATE POLISHING DEVICE, AND GLASS PLATE PRODUCTION METHOD}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a glass crack detection method, a glass crack detection apparatus, a glass sheet polishing method, a glass sheet polishing apparatus, and a glass sheet manufacturing method. }

본 발명은 유리 깨짐 검지 방법, 유리 깨짐 검지 장치, 유리판의 연마 방법, 유리판의 연마 장치, 및 유리판의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a glass breakage detecting method, a glass breakage detecting apparatus, a glass sheet polishing method, a glass sheet polishing apparatus, and a glass sheet manufacturing method.

유리판의 제조 공정에서는, 절단, 모따기, 천공, 연마, 반송, 세정 등의 여러가지 처리가 유리판에 실시된다. 예를 들어, LCD(Liquid Crystal Display)나 OLED(Organic Light-Emitting Diode) 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD: Flat Panel Display)용에 사용되는 유리판은, 그 표면의 미소한 요철이나 굴곡이 화상에 영향을 주는 요인이 되기 때문에, 유리판의 표면의 일부 또는 전체를 연마 장치에 의해 연마하는 경우가 있다. In the manufacturing process of the glass plate, various processes such as cutting, chamfering, boring, polishing, conveying, cleaning and the like are performed on the glass plate. For example, a glass plate used for a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display (LCD) or an organic light-emitting diode (OLED) The surface of the glass plate may be partially or entirely polished by a polishing apparatus.

이러한 연마를 행하기 위해서, 유리판을 보유 지지하여 반송하는 이동 연마 헤드와, 이 연마 헤드의 하방에 배치된 복수의 연마 정반을 구비한 연마 장치가 알려져 있다. 이 연마 장치에 의하면, 이동 연마 헤드에 의해 유리판을 반송하고, 복수의 연마 정반에서 유리판을 순차 연마한다.In order to carry out such polishing, there is known a polishing apparatus having a moving polishing head for carrying and carrying a glass plate, and a plurality of polishing platens arranged below the polishing head. According to this polishing apparatus, the glass plate is transported by the moving polishing head, and the glass plates are sequentially polished in a plurality of polishing platens.

그런데, 연마 장치에 의한 유리판의 연마중에는, 유리판이 깨져버리는 경우가 드물게 있다. 그러한 경우, 유리판이 깨진 상태에서 연마 가공을 계속하면, 깨진 유리편에 의해 연마 패드가 손상된다. 또한, 생산 공정에서 복수의 유리판을 순차 연마해 가는 연속 연마 시에, 후속 유리판에 악영향을 준다는 문제가 발생한다. 이 때문에, 유리판의 깨짐을 조기에 검출하여, 연마 장치를 신속히 정지시킬 것이 요망되고 있다.However, during the polishing of the glass plate by the polishing apparatus, the glass plate is rarely broken. In such a case, if the polishing process is continued while the glass plate is broken, the polishing pad is damaged by the broken glass piece. Further, during continuous polishing in which a plurality of glass plates are successively polished in the production process, there arises a problem that the subsequent glass plate is adversely affected. For this reason, it is desired that the breaking of the glass plate is detected early and the polishing apparatus is quickly stopped.

특허문헌 1에는, 가공음을 이용하여, 연마 가공중의 유리판의 깨짐을 검출하는 깨짐 검출 장치가 개시되어 있다. 유리 깨짐 검출 장치는, 연마 가공중에 발생하는 가공음을 마이크로폰에 의해 집음함과 함께, 집음한 가공음으로부터 소정의 주파수(3kHz 이상)의 음파를 필터에 의해 추출하고, 이 추출한 음파에 대하여 현재의 음파 레벨과, 현재부터 과거 소정 시간 내에 있어서의 정상 음파 레벨을 비교함으로써, 유리판의 깨짐을 판정하고 있다.Patent Literature 1 discloses a break detection apparatus that detects breakage of a glass plate during polishing using a processed sound. The glass breakage detecting device collects processed sounds generated during polishing by a microphone, extracts acoustic waves of a predetermined frequency (3 kHz or more) from the collected processed sounds by a filter, The breakage of the glass plate is judged by comparing the sound wave level with the normal sound wave level in the past predetermined time from now.

특허문헌 2에는, 탄성파를 이용하여, 연마 가공중의 유리판의 깨짐을 검출하는 연마 장치가 개시되어 있다. 연마 장치는, 유리판으로부터의 탄성파를, 유리판과 연마 패드를 지지하는 테이블 등에 설치된 AE(Acoustic Emission) 센서에 의해 검출하고, AE 센서로부터의 출력 신호에 기초하여 연마중의 이상을 검지하고 있다.Patent Document 2 discloses a polishing apparatus for detecting breakage of a glass plate during polishing using an elastic wave. In the polishing apparatus, an acoustic wave from a glass plate is detected by an AE (Acoustic Emission) sensor provided on a glass plate and a table supporting a polishing pad, and an abnormality during polishing is detected based on an output signal from the AE sensor.

일본 특허 공개 제2006-035343호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-035343 국제 공개 제2010/067732호International Publication No. 2010/067732

특허문헌 1에 기재된 깨짐 검출 장치에서는, 유리판이 산산조각난 상태에서의 소리로밖에 검출할 수 없어, 깨짐 발생의 초기 단계(크랙 등의 미소 깨짐, 결손)의 소리는 검출하기가 어렵다. 또한, 주변의 음성 주파수 성분의 노이즈 영향을 받기 쉽다.In the breakage detecting device described in Patent Document 1, the glass plate can be detected only by sound in a scattered state, and it is difficult to detect the sound of the initial stage of cracking (microcracks such as cracks, defects). In addition, it is susceptible to the influence of noise of surrounding speech frequency components.

유리판이 자잘한 조각으로 되어서 깨지면, 상술한 바와 같이 연마 패드에 손상을 끼침과 함께, 그것을 제거하기 위한 청소 작업에 수 시간이 걸린다. 그로 인해, 복귀 작업에 요하는 시간, 생산 공정에 있어서의 연마 작업이 중단되므로, 가동률이 낮아진다는 결점이 있다.If the glass plate is broken into small pieces, it will damage the polishing pad as described above, and it takes several hours for cleaning to remove it. As a result, the time required for the return operation and the polishing operation in the production process are interrupted, resulting in a drawback that the operation rate is lowered.

특허문헌 2에 기재된 연마 장치에서는, 유리판으로부터의 탄성파를, 테이블, 플레이트 등 여러가지 부재를 통하여, AE 센서로 검출하기 때문에, 탄성파가 AE 센서에 전달되기 전에 감쇠되는 경우가 있다. 그로 인해, 깨짐 발생의 초기 단계에 발생하는 레벨 낮은 탄성파를 AE 센서에 의해 검지하기는 어렵다.In the polishing apparatus described in Patent Document 2, the elastic wave from the glass plate is detected by the AE sensor through various members such as a table and a plate, so that the elastic wave may be attenuated before being transmitted to the AE sensor. Therefore, it is difficult to detect the low-level seismic waves generated in the initial stage of the cracking by the AE sensor.

본 발명은 이러한 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 유리판의 깨짐 발생을 초기 단계에서 발견할 수 있는 유리 깨짐 검지 방법, 유리 깨짐 검지 장치, 유리판의 연마 방법, 유리판의 연마 장치, 및 유리판의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems and provides a glass breakage detecting method, a glass breakage detecting apparatus, a glass sheet polishing method, a glass sheet polishing apparatus, and a glass sheet manufacturing method capable of detecting breakage of a glass sheet at an early stage .

본 발명의 일 형태에 따르면, 유리 깨짐 검지 방법은, 유리판을 액체에 접촉시키고, 또한 상기 액체에 AE 센서를 접촉시킨 상태에서, 상기 AE 센서로부터의 AE 신호를 검지하는 검지 공정과, 상기 AE 신호가 소정의 역치를 초과함으로써 상기 유리판의 깨짐을 판단하는 판단 공정을 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a glass breakage detecting method comprising: a detecting step of detecting an AE signal from the AE sensor while bringing a glass plate into contact with a liquid and bringing the AE sensor into contact with the liquid; Of the glass plate exceeds a predetermined threshold value.

본 발명의 다른 형태에 따르면, 유리 깨짐 검지 장치는, 유리판에 액체를 공급하는 액체 공급부와, 상기 액체에 접촉하는 위치에 배치되는 AE 센서와, 상기 AE 센서로부터 입력되는 AE 신호를 처리하는 신호 처리부를 갖고, 상기 신호 처리부는, 상기 AE 신호가 소정의 역치를 초과함으로써 상기 유리판의 깨짐을 판단한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a glass breakage detecting apparatus comprising: a liquid supply unit for supplying a liquid to a glass plate; an AE sensor disposed at a position in contact with the liquid; and a signal processing unit for processing an AE signal input from the AE sensor And the signal processing unit determines that the glass plate is broken by the AE signal exceeding a predetermined threshold value.

본 발명의 다른 형태에 따르면, 유리판의 연마 방법은, 연마 패드와 유리판 사이에 연마액을 공급하면서 연마 패드에 의해 상기 유리판의 표면을 연마하는 유리판의 연마 방법이며, 상기 연마액을 상기 액체로서 적용하는 상술한 유리 깨짐 검지 방법에 의한 깨짐 검지 공정을 포함한다.According to another aspect of the present invention, a glass plate polishing method is a glass plate polishing method for polishing a surface of a glass plate by a polishing pad while supplying an abrasive liquid between a polishing pad and a glass plate, And a crack detection process by the above-described glass breakage detection method.

본 발명의 다른 형태에 따르면, 유리판의 연마 장치는, 유리판에 연마액을 공급하는 액체 공급부와, 상기 유리판의 표면을 연마하는 연마 패드를 갖는 유리판의 연마 장치이며, 상기 연마액을 상기 액체로서 적용하는 상술한 유리 깨짐 검지 장치를 구비한다.According to another aspect of the present invention, a polishing apparatus for a glass plate is a polishing apparatus for a glass plate having a liquid supply section for supplying a polishing liquid to a glass plate and a polishing pad for polishing the surface of the glass plate, Described glass breakage detecting device.

본 발명의 다른 형태에 따르면, 유리판의 제조 방법은, 용융 유리로부터 판상의 유리로 성형하는 공정과, 상기 판상의 유리를 절단하여 유리판으로 잘라내는 공정과, 상술한 유리 깨짐 검지 방법에 의한 깨짐 검지 공정을 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a glass plate, comprising the steps of: forming the glass plate from molten glass into plate-shaped glass; cutting the plate-shaped glass into a glass plate; Process.

본 발명의 유리 깨짐 검지 방법, 유리 깨짐 검지 장치, 유리판의 연마 방법, 유리판의 연마 장치, 및 유리판의 제조 방법에 의하면, 초기 단계의 유리판 깨짐을 검지할 수 있다.According to the glass breakage detecting method, the glass breakage detecting apparatus, the glass sheet polishing method, the glass sheet polishing apparatus, and the glass sheet manufacturing method of the present invention, breakage of the glass sheet in the initial stage can be detected.

도 1은 유리 깨짐 검지 장치의 구성도이다.
도 2의 (A)는 노이즈에 의한 AE 신호의 파형이며, (B)는 유리 깨짐에 기인하는 탄성파에 의한 AE 신호의 파형이다.
도 3은 AE 센서의 사시도이다.
도 4는 낱장식 연마 장치의 구성도이다.
도 5는 연속식 연마 장치의 구성도이다.
도 6은 연속식 연마 장치의 평면도이다.
1 is a configuration diagram of a glass breakage detecting apparatus.
2 (A) is a waveform of an AE signal due to noise, and Fig. 2 (B) is a waveform of an AE signal caused by an acoustic wave caused by glass breakage.
3 is a perspective view of the AE sensor.
4 is a configuration diagram of the single-piece polishing apparatus.
5 is a configuration diagram of the continuous polishing apparatus.
6 is a plan view of the continuous polishing apparatus.

이하, 첨부 도면에 따라서 본 발명의 실시 형태에 대하여 설명한다. 본 발명은 이하의 실시 형태에 의해 설명된다. 단, 본 발명의 범위를 일탈하지 않고, 많은 방법에 의해 변경을 행할 수 있고, 설명된 실시 형태 이외의 다른 실시 형태를 이용할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위 내에 있어서의 모든 변경이 특허 청구 범위에 포함된다. 여기서, 도면 중, 동일한 기호로 나타나는 부분은, 기본적으로, 동일한 기능을 갖는 동일한 요소이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The present invention is described by the following embodiments. However, the present invention can be modified in many ways without deviating from the scope of the present invention, and other embodiments other than the described embodiments can be used. Accordingly, all modifications within the scope of the present invention are included in the claims. Here, in the drawings, portions indicated by the same symbols are basically the same elements having the same function.

(유리 깨짐 검지 장치, 및 검지 방법)(Glass breakage detecting device, and detection method)

도 1은, 유리 깨짐 검지 장치의 개략 구성도이다. 유리 깨짐 검지 장치(1)는 유리판(G)에 액체(L)를 공급하는 액체 공급부(2)와, 액체(L)에 접촉하는 위치에 배치되는 AE 센서(4)와, AE 센서(4)로부터 입력되는 AE 신호를 처리하는 신호 처리부(6)를 적어도 구비하고 있다.1 is a schematic block diagram of a glass breakage detecting apparatus. The glass breakage detecting apparatus 1 includes a liquid supply portion 2 for supplying a liquid L to a glass plate G, an AE sensor 4 disposed at a position in contact with the liquid L, an AE sensor 4, And a signal processing unit 6 for processing an AE signal inputted from the AE signal processing unit.

액체 공급부(2)는 유리판(G)에 액체(L)를 공급할 수 있기만 하면, 특별히 한정되지 않는다. 액체 공급부(2)로서, 예를 들어, 노즐 등을 적용할 수 있다.The liquid supply portion 2 is not particularly limited as long as it can supply the liquid L to the glass plate G. [ As the liquid supply portion 2, for example, a nozzle or the like can be applied.

AE 센서(4)는 유리판(G)으로부터 발생하는 탄성파를 검지할 수 있는 센서를 의미하고, 탄성파를 검지할 수 있기만 하면, 특별히 한정되지 않는다. AE 센서(4)는 예를 들어, 압전 소자를 갖고, 그 압전 소자에 의해 탄성파를 검지할 수 있다.The AE sensor 4 means a sensor capable of detecting an elastic wave generated from the glass plate G and is not particularly limited as long as it can detect an elastic wave. The AE sensor 4 has, for example, a piezoelectric element, and the acoustic wave can be detected by the piezoelectric element.

AE 신호란, AE 센서(4)로부터 출력되어, 신호 처리부(6)에 입력되는 전기 신호를 의미한다. AE 신호는, AE 센서(4)로부터의 전기 신호, 증폭된 및/또는 필터링된 전기 신호를 포함한다.The AE signal means an electric signal that is output from the AE sensor 4 and input to the signal processing unit 6. [ The AE signal includes an electrical signal from the AE sensor 4, an amplified and / or filtered electrical signal.

또한, AE(Acoustic Emission: 음향 방출)란, 고체가 변형 또는 파괴될 때에 발생하는 소리를 탄성파로서 방출하는 현상을 의미한다.In addition, AE (acoustic emission) means a phenomenon in which a sound generated when a solid is deformed or broken is released as an acoustic wave.

AE 센서(4)는 액체(L)에 접촉하는 위치에 배치된다. 액체(L)에 접촉하는 위치란, 유리판(G)과 AE 센서(4)가 액체(L)를 통하여 접촉하고, 유리판(G)과 AE 센서(4)가 접촉하지 않은 상태를 의미한다.The AE sensor 4 is disposed at a position in contact with the liquid L. The position of contact with the liquid L means a state in which the glass plate G and the AE sensor 4 are in contact with each other through the liquid L and the glass plate G and the AE sensor 4 are not in contact with each other.

본 실시 형태에서는, 유리판(G)으로부터 발생하는 탄성파를, 액체(L)를 통하여 AE 센서(4)에 의해 검지하는 것을 특징으로 하고 있다. 종래, AE 센서는, 고체 중에서 전해지는 탄성파를 계측하는 것으로서, AE 센서를 직접 피측정물에 밀착시켜서 측정할 필요가 있었다. 본 실시 형태에서는, 도 1에 도시되는 바와 같이, 유리판(G)과 AE 센서(4) 사이의 탄성파의 경로가 액체(L)만으로 형성되어 있으므로, 유리판(G)과 AE 센서 사이에 기체가 개재하지 않아, 밀착한 상태와 마찬가지의 상태로 할 수 있어, AE 센서(4)에서 수신되는 탄성파의 감쇠를 억제할 수 있다. 즉, 유리판(G)의 깨짐 발생에 기인하는 초기 단계의 레벨 낮은 탄성파가 감쇠되지 않는다. 따라서, AE 센서(4)에 의해 유리판(G)의 깨짐에 기인하는 초기 단계의 레벨 낮은 탄성파를 검지하는 것이 가능하게 된다. 또한 유리판(G)이 액체에 접촉하고 있으면 유리판(G)이 이동해도 탄성파의 검지가 가능하다. 본원 명세서에서는, 유리판(G)의 깨짐은, 유리판(G)에 발생하는 크랙 등의 미소 깨짐, 결손, 및 깨짐을 포함하고 있다.In the present embodiment, the elastic wave generated from the glass plate G is detected by the AE sensor 4 through the liquid L. Conventionally, an AE sensor measures an elastic wave transmitted in a solid state, and it has been necessary to measure the AE sensor by bringing the AE sensor into direct contact with the object to be measured. 1, since the path of an acoustic wave between the glass plate G and the AE sensor 4 is formed solely of the liquid L, a gas is interposed between the glass plate G and the AE sensor, It is possible to suppress the attenuation of the acoustic wave received by the AE sensor 4, That is, the low-level seismic waves at the initial stage due to the cracking of the glass plate G are not attenuated. Therefore, the AE sensor 4 can detect an elastic wave of low level in the initial stage due to the breakage of the glass plate G. Also, if the glass plate G is in contact with the liquid, it is possible to detect the acoustic waves even if the glass plate G moves. In the present specification, cracking of the glass plate (G) includes micro cracks, defects, and cracks such as cracks generated in the glass plate (G).

탄성파의 경로를 형성할 수 있다면, 액체(L)로서, 유리판의 제조 공정에서 사용되는, 연마액, 세정액, 물 등을 사용하는 것이 바람직하다.If it is possible to form a path of an acoustic wave, it is preferable to use, as the liquid L, a polishing liquid, a cleaning liquid, water or the like used in the production process of the glass plate.

본 실시 형태에서는, AE 센서(4)와 신호 처리부(6)는, PLC(Power Line Communication) 케이블(10)에 의해 전기적으로 접속되고, AE 신호가 고속 통신 방식을 이용하여 신호 처리부(6)에 입력된다. 또한, 본 실시 형태에 있어서, AE 센서(4)와 신호 처리부(6)를 접속하는 PLC 케이블(10)에, 프리앰프(12)와, 디스크리미네이터(14)가, 바람직하게는, 이 순서로 설치된다.In the present embodiment, the AE sensor 4 and the signal processing unit 6 are electrically connected by a PLC (Power Line Communication) cable 10, and the AE signal is supplied to the signal processing unit 6 . In the present embodiment, the preamplifier 12 and the disc remover 14 are preferably connected to the PLC cable 10 connecting the AE sensor 4 and the signal processing unit 6, Respectively.

프리앰프(12)는 AE 센서(4)로부터의 미약한 AE 신호를 증폭할 수 있으므로, PLC 케이블(10)에 설치하는 것이 바람직하다. 프리앰프(12)를 PLC 케이블(10)에 설치하는 경우에 대하여 설명하지만, 이것에 한정되지 않고, 프리앰프 내장의 AE 센서를 사용할 수도 있다. 이에 의해, 부품 개수를 저감시키는 것이 가능해진다.Since the preamplifier 12 can amplify a weak AE signal from the AE sensor 4, it is preferable that the preamplifier 12 is provided on the PLC cable 10. The case where the preamplifier 12 is installed in the PLC cable 10 is explained, but the present invention is not limited to this, and an AE sensor with a built-in preamplifier can be used. As a result, the number of parts can be reduced.

또한, 디스크리미네이터(14)는, 신호 처리부(6)에 입력되기 전에 AE 신호를 변별하고, 깨짐의 검지에 필요한 주파수 범위로 필터링할 수 있는 필터이며, 디스크리미네이터(14)는 PLC 케이블(10)에 설치되는 것이 바람직하다.The disc remover 14 is a filter capable of discriminating the AE signal before being input to the signal processing unit 6 and filtering the signal in a frequency range necessary for detection of breakage. The disc remover 14 is a PLC cable 10).

AE 센서(4)로서, 유리판(G)의 초기 단계의 깨짐을 양호하게 검출하기 위해서, 공진 주파수가 140kHz 이상 150kHz 이하인 주파수대의 탄성파를 검출할 수 있는 AE 센서를 사용하는 것이 바람직하다. 공진 주파수는, 검출해야 할 주파수 대역의 대략 중앙 부근에 설정되는 것이 바람직하다.As the AE sensor 4, it is preferable to use an AE sensor capable of detecting acoustic waves having a resonance frequency of 140 kHz or more and 150 kHz or less in order to satisfactorily detect breakage in the initial stage of the glass plate G. [ The resonance frequency is preferably set near the center of the frequency band to be detected.

AE 센서(4)로부터 신호 처리부(6)에 입력되는 AE 신호의 주파수 대역은, 예를 들어, 디스크리미네이터(14)에 의해 100kHz 이상 200kHz 이하의 범위로 설정되어 있는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 120kHz 이상 180kHz 이하의 범위이다.It is preferable that the frequency band of the AE signal input from the AE sensor 4 to the signal processing unit 6 is set in the range of 100 kHz to 200 kHz by the disc remover 14, for example. And more preferably in the range of 120 kHz to 180 kHz.

유리판(G)의 제조 공정의 주변에는, 절단 장치, 모따기 장치, 천공 장치, 연마 장치, 반송 장치, 세정 장치 등 여러가지 장치가 설치되어 있다. 이들 장치로부터의 기계적 진동에 기인하는 100kHz 미만의 주파수의 탄성파를 배제하는 것이 필요한 경우가 있다. 또한, 전기적 노이즈에 기인하는 200kHz를 초과하는 주파수의 탄성파를 배제하는 것이 필요해지는 경우가 있다.Various devices such as a cutting device, a chamfering device, a punching device, a polishing device, a transporting device, and a cleaning device are installed around the manufacturing process of the glass plate G. [ It may be necessary to exclude acoustic waves having a frequency of less than 100 kHz due to mechanical vibrations from these devices. In addition, it may be necessary to exclude acoustic waves having a frequency exceeding 200 kHz due to electrical noise.

본 실시 형태에서는, AE 센서(4)로부터 신호 처리부(6)에 입력되는 주파수 대역의 하한값을 100kHz로 했으므로, 기계적 진동의 탄성파에 기인하는 오검출을 방지할 수 있다. 또한, 상한값을 200kHz로 했으므로, 전기적 노이즈의 탄성파에 기인하는 오검출을 방지할 수 있다. 이와 같이, 대상으로 하는 주파수 대역을 선택하고, 소정의 필터를 설정함으로써, 주위의 노이즈 성분과의 변별을 하는 것이 바람직하다.In the present embodiment, since the lower limit value of the frequency band inputted from the AE sensor 4 to the signal processing section 6 is set to 100 kHz, erroneous detection due to acoustic waves of mechanical vibration can be prevented. Further, since the upper limit value is set to 200 kHz, erroneous detection due to acoustic waves of electrical noise can be prevented. In this manner, it is preferable to discriminate the surrounding noise component by selecting a frequency band of interest and setting a predetermined filter.

또한, 본 실시 형태의 유리 깨짐 검지 장치(1)는 테이블(16)과, 테이블(16) 상에 배치된 테이블 패드(18)를 구비하고 있다. 이 테이블 패드(18) 상에 유리판(G)이 적재된다. 테이블(16)은 유리판(G)을 적재할 수 있기만 하면, 특별히 한정되지 않는다. 테이블(16)의 유리판(G)을 적재하는 면은 평탄면인 것이 바람직하다. 테이블 패드(18)는 예를 들어 발포 우레탄으로 제작되어, 유리판(G)을 고정하기 위하여 사용된다.The glass breakage detecting apparatus 1 of the present embodiment includes a table 16 and a table pad 18 disposed on the table 16. [ A glass plate G is stacked on the table pad 18. The table 16 is not particularly limited as long as the glass plate G can be loaded. The surface on which the glass plate G of the table 16 is mounted is preferably a flat surface. The table pad 18 is made of, for example, foamed urethane, and is used for fixing the glass plate G. [

AE 센서(4)로부터의 AE 신호가 신호 처리부(6)에 입력된다. 신호 처리부(6)는 각종 연산을 행하는 연산부, 각종 프로그램, 및 데이터 등이 저장된 기억부 등(도시하지 않음)을 구비한다. 유리 깨짐 검지 장치(1)에 있어서는, 유리판(G)으로부터 발생하는 탄성파는, 액체(L)를 통하여 AE 센서(4)에 의해 검지된다. AE 센서(4)로부터 AE 신호가 신호 처리부(6)에 입력된다.The AE signal from the AE sensor 4 is input to the signal processing unit 6. [ The signal processing unit 6 includes an arithmetic unit for performing various arithmetic operations, various programs, and a storage unit (not shown) storing data and the like. In the glass breakage detecting apparatus 1, the elastic wave generated from the glass plate G is detected by the AE sensor 4 through the liquid L. The AE signal is input from the AE sensor 4 to the signal processing unit 6. [

신호 처리부(6)는 유리판(G)의 깨짐이 발생했다고 인정되는 역치(예를 들어, 전압)를 미리 설정할 수 있고, 그 역치를 기억부에 기억시킬 수 있다. 신호 처리부(6)의 연산부는, 입력된 AE 신호와 설정된 소정의 역치를 비교할 수 있다. 신호 처리부(6)는 소정의 역치를 초과한 AE 신호를 검지함으로써, 유리판(G)의 깨짐을 판단할 수 있다.The signal processing section 6 can set in advance a threshold value (e.g., voltage) that is considered to have caused the breaking of the glass plate G, and can store the threshold value in the storage section. The operation unit of the signal processing unit 6 can compare the input AE signal with a preset threshold value. The signal processing section 6 can detect the breakage of the glass plate G by detecting the AE signal exceeding the predetermined threshold value.

이어서, 본 실시 형태의 유리 깨짐 검지 장치(1)에 의한 유리 깨짐 검지 방법에 대하여 설명한다.Next, a glass breakage detecting method by the glass breakage detecting apparatus 1 of the present embodiment will be described.

테이블(16) 상의 테이블 패드(18) 상에 유리판(G)이 배치된다. 유리판(G)이 테이블 패드(18)에 의해, 유리판(G)의 2개의 주면 중 어느 한쪽 면이 흡착 보유 지지된다. 액체 공급부(2)로부터 유리판(G)을 향하여 액체(L)가 공급되어, 유리판(G)과 액체(L)가 접촉하는 상태가 된다. 소정량의 액체(L)를 유리판(G)에 공급함으로써, 액체(L)의 액면이 상승하여, 액체(L)와 AE 센서(4)가 접촉하는 상태로 된다. 따라서, 유리판(G)과 AE 센서(4)가 액체(L)를 통하여 접촉된다.A glass plate G is disposed on the table pad 18 on the table 16. [ The glass sheet G is attracted and held by either one of the two main surfaces of the glass sheet G by the table pad 18. [ The liquid L is supplied from the liquid supply portion 2 toward the glass plate G to bring the glass plate G and the liquid L into contact with each other. A predetermined amount of liquid L is supplied to the glass plate G so that the liquid level of the liquid L rises and the liquid L and the AE sensor 4 come into contact with each other. Therefore, the glass plate G and the AE sensor 4 are in contact through the liquid L.

또한, AE 센서(4)를 유리판(G)의 상방에 배치한 경우, 유리판(G)과 AE 센서(4)의 거리는 0.5mm 이상 5mm 이하인 것이 바람직하다. 이 범위라면, 유리판(G)으로부터의 탄성파를 감도 좋게 AE 센서(4)에 의해 검지할 수 있다. 또한, 거리를 1mm 이상으로 함으로써 유리판(G)과 AE 센서(4)가 접촉하는 것을 회피할 수 있으므로 바람직하다. 또한, 거리를 2mm 이하로 함으로써, 액체(L)의 과잉 사용을 피할 수 있으므로 바람직하다.When the AE sensor 4 is disposed above the glass plate G, the distance between the glass plate G and the AE sensor 4 is preferably 0.5 mm or more and 5 mm or less. In this range, the AE sensor 4 can detect the elastic waves from the glass plate G with sensitivity. It is also preferable that the distance is set to 1 mm or more because the glass plate G and the AE sensor 4 can be prevented from coming into contact with each other. It is also preferable that the distance is 2 mm or less because excessive use of the liquid L can be avoided.

또한, AE 센서(4)를 유리판(G)의 측방에 배치해도 된다. AE 센서(4)를 측방에 배치함으로써, 유리판(G)의 표면에 대하여 가공 등의 처리를 행하는 경우, 그 처리 장치와 AE 센서(4)의 간섭을 피하기 쉬워진다. 이 경우, 유리판(G)과 AE 센서(4)의 거리는 0.5mm 이상 150mm 이하인 것이 바람직하다. 150mm 이하이면 유리판(G)으로부터의 탄성파를 AE 센서(4)에 의해 검지할 수 있다. 바람직하게는 120mm 이하이다.Further, the AE sensor 4 may be arranged on the side of the glass plate G. By arranging the AE sensor 4 on the side, interference between the processing device and the AE sensor 4 can be easily avoided when processing such as machining is performed on the surface of the glass plate G. In this case, the distance between the glass plate G and the AE sensor 4 is preferably 0.5 mm or more and 150 mm or less. 150 mm, the elastic wave from the glass plate G can be detected by the AE sensor 4. Preferably 120 mm or less.

유리판(G)에 대하여 예를 들어, 유리판(G)의 제조에 필요한 처리(절단, 모따기, 천공, 연마, 반송, 세정 등)가 실시된다. 검지 공정에서는, 유리판(G)으로부터 발생하는 탄성파가 액체(L)를 통하여 AE 센서(4)에 의해 검지된다. AE 센서(4)로부터의 AE 신호는 신호 처리부(6)에 입력된다. 유리판(G)의 처리 시에, 유리판(G)에 깨짐이 발생한 경우, 유리판(G)에 탄성파가 발생한다.(Such as cutting, chamfering, boring, polishing, transporting, cleaning, etc.) necessary for manufacturing the glass plate G is performed on the glass plate G, for example. In the detection step, the AE sensor 4 detects the elastic wave generated from the glass plate G through the liquid L. The AE signal from the AE sensor 4 is input to the signal processing unit 6. [ When the glass plate G is cracked during the processing of the glass plate G, an elastic wave is generated in the glass plate G.

이 탄성파는, 유리판(G)의 깨짐 기점, 유리판(G) 전체면, 및 액체(L)를 경유하여 AE 센서(4)에 전달된다. 그 때, 본 실시 형태에서는, 탄성파의 전달 경로에는, 액체(L)밖에 개재되지 않으므로, 탄성파는 거의 감쇠되지 않는다. 따라서, 탄성파의 레벨이 낮은 경우에도, 탄성파를 감도 좋게 AE 센서(4)로 검지하는 것이 가능해진다. AE 센서(4)에 의해 유리판(G)의 깨짐 발생의 초기 단계에 발생하는 레벨 낮은 탄성파를 검지할 수 있다.This elastic wave is transmitted to the AE sensor 4 via the breaking point of the glass plate G, the entire surface of the glass plate G, and the liquid L. At this time, in the present embodiment, since only the liquid L is interposed in the propagation path of the acoustic wave, the acoustic wave is hardly attenuated. Therefore, even when the level of the acoustic wave is low, it is possible to detect the acoustic wave with the AE sensor 4 with high sensitivity. The AE sensor 4 can detect a low-level elastic wave occurring at the initial stage of the cracking of the glass plate G. [

유리판(G)으로부터 발생하는 탄성파를 검지한 AE 센서(4)는 AE 신호를 출력한다. 본 실시 형태에서는 AE 센서(4)로부터의 AE 신호가, 프리앰프(12), 및 디스크리미네이터(14)를 거쳐서, PLC 케이블(10)을 통하여, 신호 처리부(6)에 입력된다.The AE sensor 4 which detects an elastic wave generated from the glass plate G outputs an AE signal. The AE signal from the AE sensor 4 is input to the signal processing unit 6 via the PLC cable 10 via the preamplifier 12 and the disc remover 14.

신호 처리부(6)의 기억부에는 상술한 역치가 기억되어 있다. 신호 처리부(6)의 연산부는, 항상 입력되는 AE 신호와 소정의 역치를 비교한다. 판단 공정에서는, 신호 처리부(6)는 AE 센서(4)로부터의 AE 신호가 소정의 역치를 초과함으로써, 유리판(G)의 깨짐을 판단한다.The above-described threshold value is stored in the storage section of the signal processing section 6. [ The operation unit of the signal processing unit 6 compares the always inputted AE signal with a predetermined threshold value. In the judging process, the signal processing section 6 judges that the glass plate G is broken by the AE signal from the AE sensor 4 exceeding the predetermined threshold value.

신호 처리부(6)는 AE 신호가 소정의 역치를 초과하였는지 여부로 유리판(G)의 깨짐을 판단한다. 역치는 환경에 맞춰서 적절히 설정된다. 소정의 역치의 설정 방법으로서, 이하의 방법을 예시할 수 있다. 예를 들어, 실험치 또는 경험치에 기초하여 얻어진 값을, 소정의 역치로서 신호 처리부(6)에 기억시킬 수 있다.The signal processing unit 6 determines whether the glass plate G is broken by determining whether the AE signal exceeds a predetermined threshold value. The threshold value is appropriately set in accordance with the environment. As a method for setting a predetermined threshold value, the following method can be exemplified. For example, a value obtained based on an experimental value or experience value can be stored in the signal processing section 6 as a predetermined threshold value.

또한, 자동 역치 조정 기능에 의해 산출된 값을 소정의 역치로서 신호 처리부(6)에 기억시킬 수 있다. 신호 처리부(6)의 연산부에 자동 역치 조정 기능을 편입시킬 수 있다. 자동 역치 조정 기능은, 예를 들어, 입력되는 AE 신호와 시간을 신호 처리부(6)의 기억부에 기억하고, 입력되는 AE 신호와 시간에 기초하여, 소정 시간 내에 있어서의 AE 신호의 평균값을 산출하고, AE 신호의 평균값의 1.5배가 되는 값을 역치로 설정할 수 있다. 레벨 낮은 탄성파를 검지하고자 하는 경우에는, AE 신호의 평균값의 1.2배가 되는 값을 역치로 해도 되고, 검지하는 신호에 따라 임의로 설정할 수 있다. AE 신호의 평균값을 산출하기 위한 시간은 임의로 설정할 수 있다.Further, it is possible to store the value calculated by the automatic threshold value adjusting function in the signal processing section 6 as a predetermined threshold value. It is possible to incorporate the automatic threshold value adjustment function into the operation section of the signal processing section 6. [ The automatic threshold value adjustment function stores the input AE signal and time in the storage unit of the signal processing unit 6 and calculates the average value of the AE signal within a predetermined time based on the input AE signal and time And a value that is 1.5 times the average value of the AE signal can be set as a threshold value. When it is desired to detect a low-level seismic wave, a value that is 1.2 times the average value of the AE signal may be a threshold value or may be set arbitrarily according to a detection signal. The time for calculating the average value of the AE signal can be arbitrarily set.

본 실시 형태에서는, AE 센서(4)에 의해 레벨 낮은 탄성파를 검지할 수 있다. 따라서, 신호 처리부(6)에 설정되는 소정의 역치를 낮게 할 수 있다. 한편, AE 센서(4)는 유리 깨짐에 기인하지 않는다고 생각되는 탄성파나 외란 등에 의한 진동(이하: 노이즈)도 검지하는 경우가 있다. 신호 처리부(6)에 설정되는 소정의 역치를 낮게 하면, 유리 깨짐에 기인하는 탄성파와 노이즈를 구별하는 것이 곤란해지는 경우가 있다.In the present embodiment, the AE sensor 4 can detect low-level elastic waves. Therefore, the predetermined threshold value set in the signal processing section 6 can be lowered. On the other hand, the AE sensor 4 may also detect a vibration (hereinafter, noise) caused by an acoustic wave or a disturbance which is considered to be not caused by glass breakage. If the predetermined threshold value set in the signal processing section 6 is made low, it may be difficult to distinguish acoustic waves and noise caused by glass breakage.

발명자는 유리 깨짐에 기인하는 탄성파와 노이즈를 예의 검토한 바, 도 2에 도시된 바와 같이, AE 센서(4)로부터 신호 처리부(6)에 입력되는 AE 신호의 파형이, 유리 깨짐에 기인하는 탄성파와 노이즈에서는 상이함을 알아냈다.The inventors of the present invention have studied the elastic waves and noise caused by glass breakage. As shown in Fig. 2, the waveform of the AE signal input from the AE sensor 4 to the signal processing unit 6 is a wave of elasticity And noise.

도 2는 AE 신호의 파형 그래프이며, 종축은 전압을 나타내고 있고, 횡축은 시간을 나타내고 있다. 도 2의 (A)는 노이즈에 의한 AE 신호의 파형을 나타내고, 도 2의 (B)는 유리 깨짐에 기인하는 탄성파에 의한 AE 신호의 파형을 나타내고 있다. 도 2의 (A)에 도시하는 노이즈에 의한 AE 신호의 파형과, 도 2의 (B)에 도시하는 유리 깨짐에 기인하는 탄성파에 의한 AE 신호의 파형을 비교하면, AE 신호 발생부터 AE 신호 수렴까지의 계속 시간이 상이하다. 유리 깨짐에 기인하는 탄성파에 의한 AE 신호의 계속 시간 t2가, 노이즈에 의한 계속 시간 t1보다도 긴 것을 이해할 수 있다.2 is a waveform graph of an AE signal, wherein the vertical axis represents voltage, and the horizontal axis represents time. 2 (A) shows the waveform of the AE signal due to the noise, and Fig. 2 (B) shows the waveform of the AE signal due to the acoustic wave caused by glass breakage. Comparing the waveform of the AE signal caused by the noise shown in Fig. 2A and the waveform of the AE signal caused by the acoustic wave caused by the glass breakage shown in Fig. 2B, The duration of time until It can be understood that the continuation time t2 of the AE signal due to the acoustic wave caused by glass breakage is longer than the continuation time t1 due to the noise.

이 계속 시간의 길이의 차이를 이용함으로써, 유리 깨짐에 기인하는 탄성파와 노이즈를 구별하는 것이 가능하게 된다. 유리 깨짐에 기인하는 탄성파에 의한 AE 신호의 계속 시간 t2가 길므로, 소정의 역치를 초과하는 AE 신호가 연속적으로 신호 처리부(6)에 입력된다. 한편, 노이즈에 의한 AE 신호의 계속 시간 t1은 짧기 때문에, 소정의 역치를 초과하는 AE 신호가, 유리 깨짐에 기인하는 탄성파와 비교하여 단발적으로 신호 처리부(6)에 입력된다. 따라서, 신호 처리부(6)는 AE 신호가 연속하여 소정의 역치를 초과한 경우에 깨짐에 기인하는 탄성파라고 판단할 수 있고, AE 신호가 단발적으로 소정의 역치를 초과했을 뿐이라면 노이즈라고 판단한다. 따라서, 유리 깨짐에 기인하는 탄성파와 노이즈를 구별할 수 있다. 신호 처리부(6)에 있어서, 감도 좋고, 유리 깨짐에 기인하는 탄성파를 검지할 수 있고, 그 결과, 초기 단계의 유리 깨짐을 판단할 수 있다.By using the difference in length of the continuous time, it becomes possible to distinguish acoustic waves and noise caused by glass breakage. Since the continuous time t2 of the AE signal due to the acoustic wave caused by the glass breakage is long, the AE signal exceeding the predetermined threshold value is continuously input to the signal processing unit 6. [ On the other hand, since the continuous time t1 of the AE signal due to the noise is short, the AE signal exceeding the predetermined threshold value is inputted to the signal processing unit 6 in a short time compared with the acoustic wave caused by the glass breakage. Therefore, the signal processing section 6 can judge that it is an elastic wave caused by breakage when the AE signal continuously exceeds the predetermined threshold value, and judges that it is noise if the AE signal only temporarily exceeds the predetermined threshold value . Therefore, it is possible to distinguish acoustic waves and noise caused by glass breakage. In the signal processing section 6, it is possible to detect an acoustic wave caused by glass breakage with good sensitivity, and as a result, it is possible to judge breakage of the glass in the initial stage.

신호 처리부(6)에 있어서, AE 신호가 어느 정도의 시간 연속하여 역치를 초과한 경우에 깨짐이라고 판단할지를 설정할 수 있고, AE 신호를 연속하여 계측하는 시간을 신호 처리부(6)의 기억부에 기억시킬 수 있다. 예를 들어, 신호 처리부(6)에, 150msec 연속하여 소정의 역치를 초과한 때에 깨짐이라고 판단시킬 수 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 150msec이라면, 예를 들어, 소정의 역치를 1.000(V)로 한 경우, 노이즈에 의한 AE 신호는 일시적으로 소정의 역치를 상회하지만, 150msec 가 경과되지 않은 가운데 역치를 하회하고, 한편, 유리 깨짐에 기인하는 탄성파에 의한 AE 신호는 150msec 이상의 동안, 소정의 역치를 초과하는 것을 이해할 수 있다.It is possible to set whether or not the AE signal is judged to be broken when the AE signal exceeds the threshold value continuously for a certain period of time in the signal processing section 6. The time for continuously measuring the AE signal is stored in the storage section of the signal processing section 6 . For example, it can be determined that the signal processing unit 6 is broken when the predetermined threshold value is continuously exceeded for 150 msec. 2, for example, when the predetermined threshold value is set to 1.000 (V), the AE signal due to noise temporarily exceeds a predetermined threshold value. However, when 150 msec is not elapsed, It is understood that the AE signal caused by the acoustic wave caused by the glass breakage exceeds the predetermined threshold value for 150 msec or more.

역치와 시간을 적절히 설정함으로써, 유리 깨짐에 기인하는 탄성파와 노이즈를 용이하게 구별할 수 있다. 여기서 단발적과 연속적이란, 단발적이 연속적과 비교하여 시간이 짧은 것을 의미하고, 단발적은 1회만을 의미하는 것은 아니다.By appropriately setting the threshold value and the time, it is possible to easily distinguish acoustic waves and noise caused by glass breakage. Here, the term " continuous " means that the time is shorter than that of continuous, and the term " continuous "

또한, 상술에 있어서는, AE 신호를 연속하여 소정의 역치(전압)를 초과한 경우에 깨짐이라고 판단했지만, 검지하고자 하는 유리판(G)의 깨짐의 상태에 따라 적절히 설정할 수 있기 때문에, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, AE 신호를 소정 시간마다(예를 들어, 30msec) 계측하고, 소정의 역치(예를 들어, 전압)를 초과하는 AE 신호의 발생수를 카운트한다. 미리, 연속되는 발생수의 역치(예를 들어, 5회)를 설정한다. 소정의 역치(전압)를 초과하는 AE 신호의 연속 발생수가, 연속 발생수의 역치(예를 들어, 5회)를 초과한 경우에, 깨짐이라고 판단할 수도 있다. AE 신호에 대한 소정의 역치(전압)와 연속 발생수에 대한 역치를 적절히 설정함으로써, 유리 깨짐에 기인하는 탄성파와 노이즈를 용이하게 구별할 수 있다.In the above description, it is determined that the AE signal is broken when the AE signal continues to exceed the predetermined threshold (voltage). However, since it can be set appropriately according to the state of breakage of the glass plate G to be detected, Do not. For example, the AE signal is measured every predetermined time (for example, 30 msec) and the number of generated AE signals exceeding a predetermined threshold value (for example, voltage) is counted. (For example, five times) of the number of consecutive occurrences is set in advance. It may be determined that the number of consecutive occurrences of the AE signal exceeding a predetermined threshold value (voltage) exceeds the threshold value (for example, five times) of consecutive occurrences. By appropriately setting a predetermined threshold value (voltage) for the AE signal and a threshold value for the number of consecutive occurrences, it is possible to easily distinguish acoustic waves and noise caused by glass breakage.

유리판(G)의 깨짐의 초기 단계에서는, 상술한 바와 같이 레벨 낮은 탄성파가 연속적으로 발생한다. 한편, 유리판(G)의 깨짐의 정도가 커서, 예를 들어, 부서지는 경우, 레벨이 높은 탄성파가 단발적으로 발생하는 경우가 있다. 이러한 단발적으로 발생하는 레벨이 높은 탄성파를 검지하는 것이 필요한 상황도 있을 수 있다.In the initial stage of breaking of the glass plate G, as described above, low-level elastic waves are continuously generated. On the other hand, when the degree of breakage of the glass plate G is large, for example, when the glass plate G is broken, there is a case where a high-level seismic wave occurs occasionally. There may be a situation in which it is necessary to detect a seismic wave having such a high level that occurs at a short time.

그러한 경우에 대응하기 위해서, 유리판(G)에 깨짐이 발생했다고 인정되는 역치로서, 낮은 레벨의 제1 역치와, 높은 레벨의 제2 역치를 설정하는 것이 바람직하다.In order to cope with such a case, it is desirable to set the first threshold value at a low level and the second threshold value at a high level as a threshold at which cracking of the glass plate G is recognized.

제1 역치를 초과하고, 제2 역치를 초과하지 않는 AE 신호가 신호 처리부(6)에 입력되었을 때에, 신호 처리부(6)는 AE 신호를 연속적으로 검지한 경우에 깨짐이라고 판단한다. 한편, 제2 역치를 초과한 AE 신호가 신호 처리부(6)에 입력되었을 때에, 신호 처리부(6)는 AE 신호를 단발적으로 검지한 경우에도 깨짐이라고 판단하는 것이 바람직하다. 낮은 레벨의 제1 역치와, 높은 레벨의 제2 역치를 설정함으로써, 유리판(G)의 깨짐의 정도에 따라 유리판(G)의 깨짐을 판단하는 것이 가능하게 된다.When the AE signal exceeding the first threshold value and not exceeding the second threshold value is input to the signal processing section 6, the signal processing section 6 determines that the AE signal is broken when the AE signal is continuously detected. On the other hand, when the AE signal exceeding the second threshold value is inputted to the signal processing section 6, it is preferable that the signal processing section 6 judges that even if the AE signal is detected once, it is broken. By setting the first threshold value of the low level and the second threshold value of the high level, it is possible to determine the breaking of the glass plate G according to the degree of cracking of the glass plate G. [

이어서, 유리 깨짐 검지 장치(1)에 사용되는 AE 센서(4)의 바람직한 형태에 대하여 설명한다. 도 3은 AE 센서(4)의 사시도이다. AE 센서(4)는 탄성파를 검지하는 수신판(4A)과, 수신판(4A)에 설치된 압전 소자(도시하지 않음)와, 압전 소자를 둘러싸는 도전성의 케이싱(4B)과, 압전 소자와 PLC 케이블(10)을 전기적으로 접속하는, 케이싱(4B)에 설치되는 커넥터(4C)를 포함하고 있다.Next, a preferred embodiment of the AE sensor 4 used in the glass breakage detecting apparatus 1 will be described. 3 is a perspective view of the AE sensor 4. Fig. The AE sensor 4 includes a receiving plate 4A for detecting an elastic wave, a piezoelectric element (not shown) provided on the receiving plate 4A, a conductive casing 4B surrounding the piezoelectric element, And a connector 4C provided on the casing 4B for electrically connecting the cable 10 to each other.

AE 센서(4)와 액체(L)를 접촉시켰을 때, 케이싱(4B)과 액체(L)의 도통에 의해, 노이즈가 발생할 가능성이 있다. 전기적인 노이즈를 방지하기 위해서, AE 센서(4)와 액체(L)를 전기적으로 절연하는 것이 바람직하다. 본 실시 형태에서는, 도 3에 도시된 바와 같이, 절연성의 플레이트(20)(예를 들어, 세라믹 플레이트)를 수신판(4A)에 설치할 수 있다. 수신판(4A)과 절연성 플레이트(20)를 실리콘 그리스(Grease)나 순간 접착제 등을 사용하여 밀착시킨다. 이렇게 밀착시킴으로써, 수신판(4A)과 절연성 플레이트(20) 사이에 기체가 개재되지 않아, AE 신호의 감쇠를 감소시킬 수 있다. 케이싱(4B)을 절연성의 수지제 튜브(22)(예를 들어, 실리콘 튜브)로 덮을 수 있고, 또한, 커넥터(4C)를 절연성의 수지제 튜브(24)(예를 들어, 실리콘 튜브)로 덮을 수 있다. AE 센서(4)의 수신판(4A)의 반대면에도 절연성의 플레이트(26)를 설치할 수 있다. 절연성의 플레이트(20, 26)와 수지제 튜브(24)를 절연성의 시일재(실리콘 수지)로 시일할 수 있다.There is a possibility that noise may be generated by conduction between the casing 4B and the liquid L when the AE sensor 4 and the liquid L come into contact with each other. It is preferable to electrically isolate the AE sensor 4 and the liquid L in order to prevent electrical noise. In this embodiment, as shown in Fig. 3, an insulating plate 20 (for example, a ceramic plate) can be provided on the receiving plate 4A. The receiving plate 4A and the insulating plate 20 are closely contacted with each other using a grease or an instant adhesive. As a result, the gas does not intervene between the receiving plate 4A and the insulating plate 20, and the attenuation of the AE signal can be reduced. The casing 4B can be covered with an insulating resin tube 22 (for example, a silicone tube) and the connector 4C can be covered with an insulating resin tube 24 (for example, a silicone tube) Can be covered. An insulating plate 26 may be provided on the opposite side of the receiving plate 4A of the AE sensor 4. [ The insulating plates 20 and 26 and the resin tube 24 can be sealed with an insulating sealing material (silicone resin).

AE 센서(4)와 액체(L)를 전기적으로 절연함으로써, 전기적인 노이즈의 발생을 억제할 수 있으므로, 바람직하다.It is preferable that the AE sensor 4 and the liquid L are electrically insulated from each other so that generation of electrical noise can be suppressed.

(유리판의 연마 장치, 및 연마 방법)(A polishing apparatus for a glass plate, and a polishing method)

이어서, 유리 깨짐을 검지할 수 있는 유리판의 연마 장치, 및 연마 방법에 대하여 설명한다.Next, a glass plate polishing apparatus capable of detecting glass breakage and a polishing method will be described.

도 4는, 낱장식의 유리판의 연마 장치의 구성도이다. 연마 장치(30)는 예를 들어, 직사각 형상으로 제조된 유리판(G){예를 들어, 1변이 2000×2200mm 내지 2200×2600mm, 두께 0.7mm, FPD 용도의 무알칼리 유리계 재료를 포함하는 플로트법으로 제조된 연마 전의 유리판(예를 들어, AN100)}을 액정 디스플레이용 유리판에 필요한 평탄도에 도달할 때까지 유리판의 표면을 연마하는 연마 장치이다.4 is a configuration diagram of a single-piece glass plate polishing apparatus. The polishing apparatus 30 is, for example, a glass plate G made in a rectangular shape (for example, a float including 2000 x 2200 mm to 2200 x 2600 mm in one side and 0.7 mm in thickness, including a non-alkali glass- (For example, AN100) manufactured by a conventional method is used to polish the surface of the glass plate until the flatness required for the glass plate for liquid crystal display is reached.

유리판(G)의 연마면과 반대면이, 테이블(16) 상에 배치되어 테이블 패드(18)에 흡착 보유 지지된다. 연마 패드(32)는 유리판(G)의 연마면에 대향하도록 연마 헤드(34)의 하면에 설치되어 있다. 연마 헤드(34)의 상면은 회전축(36)에 고정되어 있다.The surface opposite to the polishing surface of the glass plate G is disposed on the table 16 and is attracted and held on the table pad 18. [ The polishing pad 32 is provided on the lower surface of the polishing head 34 so as to face the polishing surface of the glass plate G. [ The upper surface of the polishing head 34 is fixed to the rotary shaft 36.

회전축(36)에는 회전 승강 장치(38)가 연결되어 있다. 회전 승강 장치(38)는 연마 장치(30) 전체를 통괄 제어하는 제어부(40)에 의해, 테이블(16)에 의한 유리판(G)의 반송 타이밍에 동기하여 회전 및 승강 동작이 제어된다.A rotating elevating device 38 is connected to the rotating shaft 36. The rotating and elevating device 38 controls the rotation and elevating operation in synchronism with the conveying timing of the glass plate G by the table 16 by the control section 40 that controls the entire polishing device 30 as a whole.

연마 헤드(34) 및 회전축(36)에는, 관통 구멍에 의해 형성된 액체 공급부인 연마액 공급부(42)가 설치되어 있다. 연마액 공급부(42)로부터 연마액(44)을 유리판(G)에 공급할 수 있다. 연마액(44)으로서, 예를 들어, 산화세륨 수용액 등의 연마 슬러리를 사용할 수 있다. 또한, 회전 승강 장치(38)에 의해, 연마 패드(32)와 연마 헤드(34)를 자전시키고, 또한 공전시킬 수 있다.The polishing head 34 and the rotary shaft 36 are provided with an abrasive liquid supply portion 42 which is a liquid supply portion formed by a through hole. The polishing liquid 44 can be supplied to the glass plate G from the polishing liquid supply portion 42. [ As the polishing liquid 44, for example, a polishing slurry such as a cerium oxide aqueous solution can be used. Further, the polishing pad 32 and the polishing head 34 can be rotated and revolved by the rotary elevating device 38. [

본 실시 형태의 연마 장치(30)는 AE 센서(4)와, AE 센서(4)에 전기적으로 접속되는 신호 처리부(6)를 구비하고 있다. 또한, 신호 처리부(6)는 기능의 일부로서 제어부(40)에 포함되어 있다. 이 AE 센서(4)는 연마액(44)에 접촉하는 위치에 배치된다. 또한, 테이블(16)측에 연마 패드를 설치하고, 헤드측에 흡착 패드를 설치하여 유리판(G)을 흡착시켜서, 도 4와는 상하 반대의 형태로 해도 된다.The polishing apparatus 30 of the present embodiment includes an AE sensor 4 and a signal processing unit 6 electrically connected to the AE sensor 4. [ The signal processing unit 6 is included in the control unit 40 as a part of the function. The AE sensor 4 is disposed at a position where it contacts the polishing liquid 44. [ A polishing pad may be provided on the table 16 side and a suction pad may be provided on the head side so as to adsorb the glass plate G so as to form a shape opposite to that of Fig.

이어서, 본 실시 형태의 연마 장치(30)에 의한, 바람직한 유리판의 연마 방법에 대하여 설명한다.Next, a preferable method of polishing the glass plate by the polishing apparatus 30 of the present embodiment will be described.

테이블(16) 상의 테이블 패드(18) 상에 유리판(G)이 배치된다. 유리판(G)이 테이블 패드(18)에 의해, 유리판(G)의 연마면과 반대의 면이 흡착 보유 지지된다.A glass plate G is disposed on the table pad 18 on the table 16. [ The surface of the glass plate G opposite to the polishing surface of the glass plate G is attracted and held by the table pad 18.

연마액 공급부(42)로부터 유리판(G)을 향하여 연마액(44)이 공급되어, 유리판(G)과 연마액(44)이 접촉하는 상태가 된다. 소정량의 연마액(44)을 유리판(G)에 공급함으로써, 연마액(44)의 액면이 상승하고, 연마액(44)과 AE 센서(4)가 접촉하는 상태로 된다. 따라서, 유리판(G)과 AE 센서(4)가 연마액(44)을 통하여 접촉된다.The polishing liquid 44 is supplied from the polishing liquid supply unit 42 toward the glass plate G so that the glass plate G and the polishing liquid 44 come into contact with each other. The liquid level of the polishing liquid 44 rises and the polishing liquid 44 comes into contact with the AE sensor 4 by supplying a predetermined amount of the polishing liquid 44 to the glass plate G. Therefore, the glass plate G and the AE sensor 4 are brought into contact with each other through the polishing liquid 44.

연마액(44)을 공급하면서, 회전 승강 장치(38)에 의해, 예를 들어, 연마 패드(32) 및 연마 헤드(34)를 자전시키고, 또한 공전시켜, 연마 패드(32)에 의해 유리판(G)의 표면(연마면)이 연마된다. 회전 승강 장치(38)는 연마 장치(30) 전체를 통괄 제어하는 제어부(40)에 의해, 유리판(G)의 연마에 바람직한 회전수 및 하강 동작(가압력)이 제어된다.The polishing pad 32 and the polishing head 34 are rotated by the rotary elevating device 38 while the abrasive liquid 44 is being supplied and the wafer is revolved to be polished by the polishing pad 32 G) is polished. The rotation and elevation device 38 controls the rotation speed and the descending operation (pressing force) suitable for polishing the glass plate G by the control section 40 that controls the entire polishing device 30 in a general manner.

AE 센서(4)는 유리판(G)으로부터의 탄성파를, 연마액(44)을 통하여 검지하고 있다. 유리판(G)을 연마하고 있을 때에, 유리판(G)의 깨짐이 발생한 경우, 유리판(G)에 탄성파가 발생한다.The AE sensor 4 detects the elastic wave from the glass plate G through the polishing liquid 44. [ When cracking of the glass plate G occurs while the glass plate G is being polished, an elastic wave is generated in the glass plate G.

이 탄성파는, 유리판(G)의 깨짐 기점, 유리판(G) 전체면, 및 연마액(44)을 경유하여 AE 센서(4)에 전달된다. 그 때, 본 실시 형태에서는, 탄성파의 전달 경로에는, 연마액(44)밖에 개재되지 않으므로, 탄성파는 거의 감쇠되지 않는다. 따라서, 유리 깨짐에 기인하는 탄성파의 레벨이 낮은 경우에도, 탄성파를 감도 좋게 AE 센서(4)로 검지하는 것이 가능해진다. AE 센서(4)로부터의 AE 신호가, 제어부(40)의 신호 처리부(6)에 입력된다. 신호 처리부(6)는 AE 센서(4)로부터의 AE 신호가 소정의 역치를 초과함으로써, 유리판(G)의 깨짐을 판단한다. AE 센서(4)에 의해 연마 시에 발생하는 유리판(G)의 깨짐 발생의 초기 단계에 발생하는 레벨 낮은 탄성파를 검지할 수 있으므로, 초기 단계의 유리판(G)의 깨짐을 판단할 수 있다.This elastic wave is transmitted to the AE sensor 4 via the breaking point of the glass plate G, the entire surface of the glass plate G, and the polishing liquid 44. At this time, in the present embodiment, since only the polishing liquid 44 is interposed in the propagation path of the acoustic wave, the acoustic wave is hardly attenuated. Therefore, even when the level of the acoustic wave caused by glass breakage is low, it is possible to detect the acoustic wave with sensitivity by the AE sensor 4. The AE signal from the AE sensor 4 is input to the signal processing unit 6 of the control unit 40. [ The signal processing unit 6 judges that the glass plate G is broken because the AE signal from the AE sensor 4 exceeds a predetermined threshold value. It is possible to detect the low level of elastic waves generated in the initial stage of the cracking of the glass plate G which is generated at the time of polishing by the AE sensor 4 so that breakage of the glass plate G in the initial stage can be judged.

이어서, 연속식의 유리판 연마 장치에 대하여 설명한다. 도 5는, 연속식 연마 장치의 구성도이며, 도 6은, 연속식 연마 장치의 평면도이다. 또한, 도 6의 평면도에 있어서는, 모든 테이블(16) 상에 유리판(G)이 적재되어 있다. 도 4와 동일한 구성에는 동일 부호를 붙여서 설명을 생략하는 경우가 있다.Next, a continuous glass plate polishing apparatus will be described. Fig. 5 is a configuration diagram of the continuous polishing apparatus, and Fig. 6 is a plan view of the continuous polishing apparatus. Further, in the plan view of Fig. 6, glass plates G are mounted on all the tables 16. Fig. 4 are denoted by the same reference numerals and the description thereof may be omitted.

도 5 및 6에 도시된 바와 같이, 연마 장치(50)는 예를 들어, 직사각 형상으로 제조된 유리판(G){예를 들어, 1변이 2000×2200mm 내지 2200×2600mm, 두께 0.7mm, FPD 용도의 무알칼리 유리계 재료를 포함하는 플로트법으로 제조된 연마 전의 유리판(예를 들어, AN100)}을, 테이블(16) 상의 테이블 패드(18)에 적재하고, 그 테이블(16)을 연속 반송하면서, 그 반송로를 따라서 배치된 복수대의 연마 패드(32, 32…)에 의해, 테이블(16) 상의 유리판(G)의 연마면을 연속적으로 연마한다. 연속적 연마에 의해, 연마 장치(50)는 유리판(G)의 연마 대상면의 미소한 요철이나 굴곡을 연마 제거하여, 액정 디스플레이용 유리판에서 요구되는 평탄도를 충족한 유리판을 제조한다.As shown in Figs. 5 and 6, the polishing apparatus 50 may be a glass plate G (for example, one side is 2000 x 2200 mm to 2200 x 2600 mm, a thickness is 0.7 mm, (For example, AN100) prepared by a float method including a non-alkali glass-based material (for example, AN 100)) is placed on a table pad 18 on a table 16, and the table 16 is continuously transported , The polishing surface of the glass plate G on the table 16 is continuously polished by a plurality of polishing pads 32, 32 ... arranged along the conveying path. By the continuous polishing, the polishing apparatus 50 polishes and removes minute unevenness and curvature of the surface to be polished of the glass plate G to produce a glass plate that satisfies the flatness required in the glass plate for liquid crystal display.

테이블(16)은 도시하지 않은 반송 장치에 의해 화살표가 나타내는 수평 방향으로 레일(도시하지 않음)을 따라서 연속 반송할 수 있다. 테이블(16)의 반송 중에 반송로에 대향하는 위치에, 복수의 연마 패드(32)가 유리판(G)의 연마면에 대향하도록 복수의 연마 헤드(34)의 하면에 각각 설치되어 있다. 각각의 연마 패드(32)에 의해 유리판(G)의 연마면을, 액정 디스플레이용 유리판에서 요구되는 평탄도로 연마할 수 있다.The table 16 can be continuously transported along a rail (not shown) in the horizontal direction indicated by the arrow by a transporting device (not shown). A plurality of polishing pads 32 are provided on the lower surface of the plurality of polishing heads 34 so as to face the polishing surface of the glass plate G at positions opposed to the conveying path during the transportation of the table 16. The polishing surface of the glass plate G can be polished by the respective polishing pads 32 to the flatness required by the glass plate for liquid crystal display.

각각의 연마 헤드(34) 및 회전축(36)에는, 관통 구멍에 의해 형성된 액체 공급부인 연마액 공급부(42)가 설치되어 있다. 연마액 공급부(42)로부터 연마액(44)을 유리판(G)에 공급할 수 있다. 연마액(44)으로서, 예를 들어, 산화세륨 수용액 등의 연마 슬러리를 사용할 수 있다. 또한, 회전 승강 장치(38)에 의해, 각각의 연마 패드(32)와 연마 헤드(34)를 자전시키고, 또한 공전시킬 수 있다.Each of the polishing head 34 and the rotary shaft 36 is provided with a polishing liquid supply portion 42 which is a liquid supply portion formed by a through hole. The polishing liquid 44 can be supplied to the glass plate G from the polishing liquid supply portion 42. [ As the polishing liquid 44, for example, a polishing slurry such as a cerium oxide aqueous solution can be used. Each of the polishing pad 32 and the polishing head 34 can be rotated and revolved by the rotary elevating device 38. [

본 실시 형태의 연마 장치(50)는 복수의 AE 센서(4)와, AE 센서(4)에 전기적으로 접속되는 신호 처리부(6)를 구비하고 있다. 또한, 신호 처리부(6)는 기능의 일부로서 제어부(40)에 포함되어 있다. AE 센서(4)는 연마액(44)에 접촉하는 위치에 배치된다.The polishing apparatus 50 of the present embodiment includes a plurality of AE sensors 4 and a signal processing unit 6 electrically connected to the AE sensor 4. [ The signal processing unit 6 is included in the control unit 40 as a part of the function. The AE sensor 4 is disposed at a position where it contacts the polishing liquid 44. [

본 실시 형태에서는, 도 5 및 6에 도시된 바와 같이, 복수의 AE 센서(4)가 각각의 연마 헤드(34)에 대응하는 위치에 배치되어 있다. 즉, 하나의 연마 헤드(34)와 하나의 AE 센서(4)가 하나의 조를 구성하고 있다. AE 센서(4)는 연마 헤드(34)를 통과할 때에 연마 패드(32)에 의해 연마되는 유리판(G)의 탄성파를 검지한다.In the present embodiment, as shown in Figs. 5 and 6, a plurality of AE sensors 4 are arranged at positions corresponding to the respective polishing heads 34. In Fig. That is, one polishing head 34 and one AE sensor 4 constitute one set. The AE sensor 4 detects an elastic wave of the glass plate G which is polished by the polishing pad 32 when passing through the polishing head 34.

AE 센서(4)로부터의 AE 신호가, 제어부(40)의 신호 처리부(6)에 입력된다. 신호 처리부(6)는 AE 센서(4)로부터의 AE 신호가 소정의 역치를 초과함으로써, 유리판(G)의 깨짐을 판단한다. AE 센서(4)에 의해 연마 시에 발생하는 유리판(G)의 깨짐 발생의 초기 단계에 발생하는 레벨 낮은 탄성파를 검지할 수 있으므로, 신호 처리부(6)에 의해 초기 단계의 유리판(G)의 깨짐을 판단할 수 있다.The AE signal from the AE sensor 4 is input to the signal processing unit 6 of the control unit 40. [ The signal processing unit 6 judges that the glass plate G is broken because the AE signal from the AE sensor 4 exceeds a predetermined threshold value. It is possible to detect the low level elastic waves generated in the initial stage of the cracking of the glass plate G generated during the polishing by the AE sensor 4, Can be determined.

유리판(G)의 연마 공정의 하나의 스테이지에 있어서, 유리판(G)의 깨짐이 판단된 경우에는, 경보를 내서 연마 장치(50)를 정지시킨다. 유리판(G)의 깨짐이 판단되지 않는 경우에는, 연속적으로 유리판(G)을 적재한 테이블(16)이 수평 방향으로 다음 스테이지로 반송된다. 연마 공정의 다음 스테이지에 있어서, 연마 헤드(34)에 설치된 연마 패드(32)에 의해 유리판(G)이 연마된다. 유리판(G)이 연마될 때, AE 센서(4)는 연마액(44)에 접촉된다. AE 센서(4)는 연마액(44)을 통하여 유리판(G)으로부터 탄성파를 검지한다. AE 센서(4)로부터의 AE 신호가 제어부(40)의 신호 처리부(6)에 입력된다. 신호 처리부(6)에 의해, AE 센서(4)로부터의 AE 신호가 소정의 역치를 초과함으로써, 유리판(G)의 깨짐을 판단할 수 있다.When it is determined that the glass plate G is broken in one stage of the polishing process of the glass plate G, an alarm is given to stop the polishing apparatus 50. [ When the breakage of the glass plate G is not judged, the table 16 on which the glass plate G is continuously carried is conveyed to the next stage in the horizontal direction. In the next stage of the polishing process, the glass plate G is polished by the polishing pad 32 provided on the polishing head 34. When the glass plate G is polished, the AE sensor 4 is brought into contact with the polishing liquid 44. The AE sensor 4 detects a seismic wave from the glass plate G through the polishing liquid 44. The AE signal from the AE sensor 4 is input to the signal processing unit 6 of the control unit 40. [ The signal processing unit 6 can judge that the glass plate G is broken by the AE signal from the AE sensor 4 exceeding the predetermined threshold value.

본 실시 형태에서는 하나의 연마 헤드(34)와 하나의 AE 센서(4)가 하나의 조를 구성하고 있으므로, 연속식 연마 장치(50)에 있어서, 어느 스테이지에 있어서 유리판(G)의 깨짐이 발생했는지를 검지할 수 있다.In this embodiment, since one polishing head 34 and one AE sensor 4 constitute one set, in the continuous polishing apparatus 50, the glass plate G is cracked at any stage Can be detected.

단, 연마 헤드(34)와 AE 센서(4)의 수는, 반드시 일치할 필요는 없고, 2개의 연마 헤드(34)와 1개의 AE 센서(4)가 하나의 조를 구성하는 경우여도 된다. 또한, AE 센서(4)로부터의 AE 신호의 소정의 역치는, 각 스테이지의 센서마다 설정할 수 있고, 센서마다 다른 역치를 설정해도 된다.The number of the polishing heads 34 and the number of the AE sensors 4 does not necessarily coincide with each other and may be a case where the two polishing heads 34 and one AE sensor 4 constitute one set. Further, the predetermined threshold value of the AE signal from the AE sensor 4 can be set for each sensor of each stage, and a different threshold value may be set for each sensor.

이어서, AE 센서(4)의 바람직한 배치에 대하여 도 6을 참조하여 설명한다. 도 6에 도시된 바와 같이, AE 센서(4)는 평면에서 보아 연마 헤드(34)를 통과하는 유리판(G)과 겹치는 위치에 배치되는 것이 바람직하다. 유리판(G)과 AE 센서(4)의 거리를 근접시킬 수 있으므로, 유리판(G)으로부터 발생하는 탄성파가 감쇠되는 일 없이 검지할 수 있다.Next, a preferred arrangement of the AE sensor 4 will be described with reference to Fig. As shown in FIG. 6, the AE sensor 4 is preferably disposed at a position overlapping with the glass plate G passing through the polishing head 34 in a plan view. The distance between the glass plate G and the AE sensor 4 can be made close to each other, so that the acoustic waves generated from the glass plate G can be detected without being attenuated.

또한, AE 센서(4)는 유리판(G)의 폭 방향의 중앙에 배치되는 것이 바람직하다. AE 센서(4)를 폭 방향의 중앙에 배치함으로써, 유리판(G)의 어느 부분에서 깨짐이 발생해도, 그 탄성파를 검지하는 것이 가능하게 된다. 유리판(G)의 폭 방향이란, 평면에서 보아, 유리판(G)의 반송 방향에 직교하는 방향을 의미한다.It is preferable that the AE sensor 4 is disposed at the center of the glass plate G in the width direction. By arranging the AE sensor 4 at the center in the width direction, it is possible to detect the seismic wave even if any part of the glass plate G is broken. The width direction of the glass plate G means a direction orthogonal to the conveying direction of the glass plate G as seen from a plane.

본 실시 형태의 낱장식 및 연속식의 유리판 연마 장치, 및 연마 방법에, 상술한 유리 깨짐 검지 장치, 및 검지 방법의 기술을, 모두 적용하는 것이 가능하다.It is possible to apply both the glass breakage detecting apparatus and the detection method described above to the single sheet and continuous glass sheet polishing apparatus and the polishing method of the present embodiment.

또한, 신호 처리부(6)가 유리 깨짐을 판단한 경우에, 경고를 발하는 경고 발생부를 제어부(40)에 설치하는 것이 바람직하다. 또한, 제어부(40)에 의해 연마를 정지시키는 것이 바람직하다. 신호 처리부(6)에 의해 유리판(G)의 깨짐의 초기 단계를 판단할 수 있기 때문에, 유리판(G)이 산산조각으로 파쇄되기 전에 유리판(G)의 깨짐을 판단하여, 연마 장치(30, 50)를 정지시킬 수 있다. 연마 패드(32)의 피해나 청소 작업 등에 기인하는 중단 시간을 최소한으로 억제할 수 있다.In addition, when the signal processing unit 6 determines that the glass breaks, it is preferable to provide a warning generating unit in the control unit 40 for issuing a warning. In addition, it is preferable that the polishing is stopped by the control unit (40). It is possible to judge the breakage of the glass plate G before the glass plate G is shattered by the shattering angle and to detect the breakage of the glass plate G by the signal processing unit 6, Can be stopped. The downtime caused by the damage of the polishing pad 32 and the cleaning operation can be minimized.

(유리판의 제조 방법)(Production method of glass plate)

상술한 유리 깨짐 검지 방법에 의한 깨짐 검지 공정을, 용융 유리로부터 판상의 유리로 성형하는 공정과, 판상의 유리를 절단하여 유리판을 잘라내는 공정을 적어도 포함하는 유리판의 제조 방법에 적용할 수 있다. 유리판의 제조 방법은, 절단 공정 이외에, 모따기 공정, 천공 공정, 연마 공정, 반송 공정, 세정 공정을 가질 수 있다. 이들 공정에 있어서 액체를 사용함으로써, 유리판의 깨짐에 기인하는 탄성파를 검지할 수 있어, 초기 단계의 유리판 깨짐을 판단할 수 있다.The present invention can be applied to a glass plate manufacturing method including at least the step of forming a broken glass from a molten glass into a glass plate and cutting the glass plate to cut the glass plate. The manufacturing method of the glass plate may have a chamfering step, a boring step, a polishing step, a transporting step, and a cleaning step in addition to the cutting step. By using a liquid in these processes, it is possible to detect an elastic wave caused by breaking of the glass plate, and it is possible to judge breakage of the glass plate in the initial stage.

특히, 절단 공정, 모따기 공정, 천공 공정, 연마 공정과 같이, 공구와 유리판(G)이 접촉하는 공정에 있어서, 유리판(G)에 깨짐이 발생하기 쉬운 상황에 있다. 따라서, 상술한 깨짐 검지 공정을 절단 공정, 모따기 공정, 천공 공정, 연마 공정에 마련하는 것이 바람직하다. 그 중에서도, 연마 공정에 깨짐 검지 공정을 마련하는 것이 특히 바람직하다.Particularly, in a process in which a tool and a glass plate G are in contact with each other, such as a cutting process, a chamfering process, a punching process, and a polishing process, the glass plate G is likely to be cracked. Therefore, it is preferable that the aforementioned crack detection step is provided in the cutting step, the chamfering step, the perforating step, and the polishing step. Among them, it is particularly preferable to provide a crack detection step in the polishing step.

1: 유리 깨짐 검지 장치
2: 액체 공급부
4: AE 센서
6: 신호 처리부
10: PLC 케이블
12: 프리앰프
14: 디스크리미네이터
16: 테이블
18: 테이블 패드
20: 플레이트
22: 수지제 튜브
24: 수지제 튜브
26: 플레이트
30, 50: 연마 장치
32: 연마 패드
34: 연마 헤드
36: 회전축
38: 회전 승강 장치
40: 제어부
42: 연마액 공급부
44: 연마액
G: 유리판
L: 액체
1: glass break detector
2:
4: AE sensor
6: Signal processor
10: PLC cable
12: Preamplifier
14: Discriminator
16: Table
18: Table pad
20: Plate
22: Resin tube
24: Resin tube
26: Plate
30, 50: Polishing device
32: Polishing pad
34: Polishing head
36:
38: Rotary lifting device
40:
42: abrasive liquid supply part
44: abrasive liquid
G: Glass plate
L: liquid

Claims (14)

유리판을 액체에 접촉시키고, 또한 상기 액체에 AE 센서를 접촉시킨 상태에서, 상기 AE 센서로부터의 AE 신호를 검지하는 검지 공정과,
상기 AE 신호가 소정의 역치를 초과함으로써 상기 유리판의 깨짐을 판단하는 판단 공정
을 포함하는 유리 깨짐 검지 방법.
A detecting step of detecting an AE signal from the AE sensor in a state in which the glass plate is brought into contact with the liquid and the AE sensor is brought into contact with the liquid;
Determining a breakage of the glass plate when the AE signal exceeds a predetermined threshold value
The glass breakage detecting method comprising:
제1항에 있어서, 상기 판단 공정은, 상기 AE 신호가 연속적으로 상기 역치를 초과한 때에 깨짐이라고 판단하는, 유리 깨짐 검지 방법.The glass breaking detection method according to claim 1, wherein the determining step determines that the AE signal is broken when the AE signal continuously exceeds the threshold value. 제2항에 있어서, 상기 판단 공정은, 상기 AE 신호가 150msec 연속하여 상기 역치를 초과한 때에 깨짐이라고 판단하는, 유리 깨짐 검지 방법.3. The method according to claim 2, wherein the determining step determines that the AE signal is broken when the AE signal exceeds the threshold value for 150 msec successively. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 검지 공정은, 100kHz 이상 200kHz 이하의 범위의 주파수 대역의 상기 AE 신호를 검지하는, 유리 깨짐 검지 방법.The glass breakage detecting method according to any one of claims 1 to 3, wherein the detecting step detects the AE signal in a frequency band in a range from 100 kHz to 200 kHz. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 AE 센서가 상기 액체에 대하여 전기적으로 절연되어 있는, 유리 깨짐 검지 방법.The glass breakage detecting method according to any one of claims 1 to 4, wherein the AE sensor is electrically insulated from the liquid. 유리판에 액체를 공급하는 액체 공급부와,
상기 액체에 접촉하는 위치에 배치되는 AE 센서와,
상기 AE 센서로부터 입력되는 AE 신호를 처리하는 신호 처리부를 갖고,
상기 신호 처리부는, 상기 AE 신호가 소정의 역치를 초과함으로써 상기 유리판의 깨짐을 판단하는, 유리 깨짐 검지 장치.
A liquid supply portion for supplying liquid to the glass plate,
An AE sensor disposed at a position in contact with the liquid;
And a signal processing unit for processing the AE signal input from the AE sensor,
Wherein the signal processing unit determines that the glass plate is cracked when the AE signal exceeds a predetermined threshold value.
제6항에 있어서, 상기 신호 처리부는, 상기 AE 신호가 연속적으로 상기 역치를 초과한 때에 깨짐이라고 판단하는, 유리 깨짐 검지 장치.7. The glass breakage determination apparatus according to claim 6, wherein the signal processing section determines that the AE signal is broken when the AE signal continuously exceeds the threshold value. 제7항에 있어서, 상기 신호 처리부는, 상기 AE 신호가 150msec 연속하여 상기 역치를 초과한 때에 깨짐이라고 판단하는, 유리 깨짐 검지 장치.8. The glass breakage determination apparatus according to claim 7, wherein the signal processing section determines that the AE signal is broken when the AE signal exceeds the threshold value continuously for 150 msec. 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 AE 신호를 100kHz 이상 200kHz 이하의 범위의 주파수 대역으로 필터링하는 필터를 갖는 유리 깨짐 검지 장치.9. The glass breakage detecting apparatus according to any one of claims 6 to 8, having a filter for filtering the AE signal in a frequency band in a range from 100 kHz to 200 kHz. 제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 AE 센서가 상기 액체에 대하여 전기적으로 절연되어 있는, 유리 깨짐 검지 장치.10. The glass breakage determination device according to any one of claims 6 to 9, wherein the AE sensor is electrically insulated from the liquid. 연마 패드와 유리판 사이에 연마액을 공급하면서 연마 패드에 의해 상기 유리판의 표면을 연마하는 유리판의 연마 방법이며,
상기 연마액을 상기 액체로서 적용하는 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 유리 깨짐 검지 방법에 의한 깨짐 검지 공정을 포함하는, 유리판의 연마 방법.
A polishing method of a glass plate polishing a surface of the glass plate by a polishing pad while supplying a polishing liquid between the polishing pad and the glass plate,
The method of polishing a glass plate according to any one of claims 1 to 5, wherein the polishing liquid is applied as the liquid.
유리판에 연마액을 공급하는 액체 공급부와,
상기 유리판의 표면을 연마하는 연마 패드를 갖는 유리판의 연마 장치이며,
상기 연마액을 상기 액체로서 적용하는 제6항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 유리 깨짐 검지 장치를 구비하는 유리판의 연마 장치.
A liquid supply unit for supplying a polishing liquid to the glass plate,
A polishing apparatus for a glass plate having a polishing pad for polishing a surface of the glass plate,
The glass breakage detecting apparatus according to any one of claims 6 to 10, wherein the polishing liquid is applied as the liquid.
용융 유리로부터 판상의 유리로 성형하는 공정과, 상기 판상의 유리를 절단하여 유리판을 잘라내는 공정과, 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 유리 깨짐 검지 방법에 의한 깨짐 검지 공정을 포함하는 유리판의 제조 방법.A step of forming a glass plate from the molten glass into a plate glass, a step of cutting the glass plate by cutting the plate glass, and a crack detection step by the glass breakage detecting method according to any one of claims 1 to 5 Of the glass plate. 제13항에 있어서, 상기 유리판의 표면을 연마하는 연마 공정을 더 갖고, 상기 깨짐 검지 공정이 상기 연마 공정에 마련된 유리판의 제조 방법.The method of manufacturing a glass plate according to claim 13, further comprising a polishing step of polishing the surface of the glass plate, wherein the breaking detection step is provided in the polishing step.
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