KR20170109321A

KR20170109321A - 하폐수 고도처리 시스템

Info

Publication number: KR20170109321A
Application number: KR1020160033281A
Authority: KR
Inventors: 오지현; 윤태범; 이한샘; 김슬기; 이상엽; 이대영; 배휘웅; 진우람
Original assignee: 현대건설주식회사; 현대엔지니어링 주식회사
Priority date: 2016-03-21
Filing date: 2016-03-21
Publication date: 2017-09-29

Abstract

본 발명은 하폐수가 유입되며, 무산소분위기에서 탈질산화 반응이 진행되는 제1무산소조, 제1무산소조에서 처리된 처리수가 유입되며, 혐기성 상태에서 처리수의 인방출 반응이 진행되는 혐기조, 혐기조에서 처리된 처리수가 유입되며, 호기분위기에서 처리수의 인의 과잉섭취 및 질산화 반응이 진행되는 호기조, 호기조에서 처리된 처리수가 유입되며, 무산소분위기에서 처리수의 탈진산화 반응이 진행되는 제2무산소조 및 제2무산소조에서 처리된 처리수가 유입되며, 처리수를 여과하는 분리막조를 포함하는 하폐수 고도처리 시스템을 제공한다.
따라서 질소처리효율을 향상시킬 수 있음은 물론, 혐기조 내 인의 방출이 더울 잘 일어나도록 하여 인의 제거효율을 향상시킬 수 있으며, 에너지절감을 향상시킬 수 있다.

Description

하폐수 고도처리 시스템 {Advanced wastewater treatment system}

본 발명은 하폐수 고도처리 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 질소처리효율 및 인의 제거효율을 향상시킬 수 있는 하폐수 고도처리 시스템에 관한 것이다.

일반적으로 하수 중에 포함된 오염물질은 크게 유기물, 질소, 인으로 구분된다. 이 중 오폐수 및 하수에 포함되는 질소, 인을 제거하기 위한 공정개발이 활발하게 진행 중이며, 최근에는 T-N기준이 20mg/L이며 T-P기준이 최대0,2mg/L 이나, 향후 5mg/L이하, 0.1mg/L이하까지 하수방류수질이 점차 강화되는 추세이다. 이에, 하수처리의 고도처리인 질소, 인을 고효율로 처리할 수 있는 기술의 요구가 계속 증가하고 있으며, 또한 수계에 질소. 인으로 인한 부영양화 및 조류발생 등의 문제가 심각해지면서 수계의 질소와 인의 농도는 지속적으로 문제가 될 것으로서 예상되고 있다.

한편, 상기한 하수 처리시설에 대한 기술의 예로 대한민국 공개특허 제10-2012-0079899호는, 혐기조와, 제1무산소조와, 전호기조와, 제2무산소조와, 막분리조와, 상기 막분리조 내에 설치되어 폐수의 고액 분리를 위한 분리막과, 상기 제1무산소조 내의 활성슬러지를 상기 혐기조로 반송시키는 제1반송라인과 상기 제2무산소조 또는 상기 전호기조 내의 활성슬러지를 상기 제1무산소조로 반송시키는 제2반송라인과, 상기 막분리조 내의 활성슬러지가 상기 전호기조로 반송되는 제3반송라인을 포함하는 개선된 MBR 폐수처리장치가 개시된 바 있다.

그런데, 상기한 종래의 하수 처리시설은 반송라인이 많이 필요하여 전체 공정이 복잡해지는 문제점이 있으며, 제1무산소조에서 유기물이 부족하여 충분한 탈질이 이루어지지 않을 수 있어 제1무산소조의 탈질효율이 낮아지고, 이로 인한 혐기조 반송 시 질산성질소에 의한 방해로 인 처리효율이 낮아지는 문제점이 있다.

또한, 상기한 하수 처리시설에 대한 기술의 다른 실시예로 대한민국 공개특허 제10-2015-0050741호는, 막분리조에 공기와 함께 입자성 물질을 투입하고 막에 공기와 입자성 물질이 동시에 충돌하게 함으로써 막 파울링을 줄일 수 있는 막 파울링 저감형 하수 고도 처리장치 및 그 운영방법이 개시된 바 있다.

그런데, 상기한 종래의 하수 처리시설은 분리막조에 입자성 물질 주입 시 막의 손상이 발생할 수 있으며, 호기조 내 막 침지 시 막의 세정을 위한 계외세정을 실시해야하기 때문에 유지관리의 어려움이 큰 문제점이 있으며, 막분리조 입자성물질 부유를 위하여 많은 에너지 소모가 필요하고, 질소처리 및 인 처리 효율이 낮은 문제점이 있다.

대한민국 공개특허 제10-2012-0079899호 대한민국 공개특허 제10-2015-0050741호

본 발명은, 질소처리효율 및 인의 제거효율을 향상시킬 수 있는 하폐수 고도처리 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 일 측면에 의하면, 본 발명은 하폐수가 유입되며, 무산소분위기에서 탈질산화 반응이 진행되는 제1무산소조; 상기 제1무산소조에서 처리된 처리수가 유입되며, 혐기성 상태에서 상기 처리수의 인방출 반응이 진행되는 혐기조; 상기 혐기조에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 호기분위기에서 상기 처리수의 인의 과잉섭취 및 질산화 반응이 진행되는 호기조; 상기 호기조에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 무산소분위기에서 상기 처리수의 탈진산화 반응이 진행되는 제2무산소조; 및 상기 제2무산소조에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 상기 처리수를 여과하는 분리막조를 포함하는 하폐수 고도처리 시스템을 제공한다.

본 발명의 다른 측면에 의하면, 본 발명은 하폐수가 유입되며, 무산소분위기에서 탈질산화 반응이 진행되는 제1무산소조; 상기 제1무산소조에서 처리된 처리수가 유입되며, 혐기성 상태에서 상기 처리수의 인방출 반응이 진행되는 혐기조; 상기 혐기조에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 호기분위기에서 상기 처리수의 인의 과잉섭취 및 질산화 반응이 진행되는 호기조; 상기 호기조에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 무산소분위기에서 상기 처리수의 탈진산화 반응이 진행되는 제2무산소조; 상기 제2무산소조에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 상기 처리수를 여과하는 분리막조; 및 상기 분리막조로부터 상기 처리수를 공급받아 저류시킨 후 상기 제1무산소조로 상기 처리수를 공급하는 탈기조를 포함하는 하폐수 고도처리 시스템을 제공한다.

본 발명에 따른 하폐수 고도처리 시스템은 다음과 같은 효과를 제공한다.

첫째, 무산소조를 제1무산소조와 제2무산소조로 구성하여 질소 강화처리를 구현할 수 있다.

둘째, 혐기조의 전단에 제1무산소조를 배치 구성하여, 제1무산소조에서 미리 질산성질소를 제거한 후 혐기조로 유입되게 함으로써 혐기조 내 인의 방출이 더울 잘 일어나도록 하여 인의 제거효율을 향상시킬 수 있다.

셋째, 제1무산소조와 혐기조로 각각 하폐수를 분할 유입되게 하여 혐기조에서 인 방출이 보다 잘 일어날 수 있도록 할 수 있으며, 제1무산소조와 혐기조의 특성에 대응하여 유기물의 분배율을 조절하여 제1무산소조 내의 탈질과 혐기조 내의 인방출이 최적으로 이루어지게 할 수 있다.

셋째, 분리막조의 높은 용존산소를 호기조에서 재활용할 수 있어, 호기조에서 송풍기를 통해서 보내는 공기량을 줄일 수 있음은 물론, 반송되는 용존산소를 활용하여 유기물을 제거하거나 질산화를 수행할 수 있어 에너지절감 효과를 제공할 수 있다.

넷째, 반송라인이 많이 필요하지 않아 전체 공정이 복잡하지 않고 공정의 간소화를 이룰 수 있으며, 이에 따라 유지관리의 편의성을 향상시킬 수 있다.

다섯째, 상기 호기조와 분리막조를 분리하여 구분함으로써, 분리막조의 분리막을 세정 시 분리막을 꺼낼 필요 없이 약품을 넣어 그 상태에서 세정할 수 있는 계내세정을 실시할 수 있어 유지관리가 편리하다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 하폐수 고도처리 시스템의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 하폐수 고도처리 시스템의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 3은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 하폐수 고도처리 시스템의 구성을 나타내는 블록도이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.

먼저, 도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 하폐수 고도처리 시스템(710)은, 제1무산소조(100)와, 혐기조(200)와, 호기조(300)와, 제2무산소조(400)와, 분리막조(500)를 포함하여, 상기한 구성들이 순차적으로 연결되어 있다.

상기 제1무산소조(100)는, 무산소분위기에서 탈질산화 반응이 진행되는데, 하폐수공급라인(10)을 통하여 하폐수가 유입되고, 제1무산소조 반송라인(30)으로부터 상기 호기조(300)에서 처리된 처리수가 유입되어, 하폐수의 유기물과 상기 호기조(300)로부터 반송되는 질산성질소가 반응하고 탈질미생물에 의하여 질소가스로 변환하여 탈질화가 이루어진다.

상기 혐기조(200)는, 상기 제1무산소조(100)의 후방에 배치되어 혐기성 상태에서 상기 처리수의 인방출 반응이 진행된다. 상기 혐기조(200)는 상기 제1무산소조(100)에서 처리된 처리수와, 제2공급라인(12)을 통하여 상기 하폐수가 유입되어, 유입되는 유기물과 인축적미생물(PAO)에 의해 인이 방출된다.

한편, 상기 혐기조(200)는, 상기 호기조(300)의 전단에 배치되어 상기 호기조(300)에서 인이 과잉 섭취되도록 하고, 상기 호기조(300)에서 미생물이 원래 구성하는 인 보다 과잉으로 섭취 할 수 있도록 유도한다.

상기한 바와 같이, 상기 하폐수 고도처리 시스템(710)은 상기 제1무산조소(100)를 상기 혐기조(200)의 전단에 배치하여, 상기 제1무산소조(100)에서 질산성질소(NO₃-N)를 질소가스(N₂)로 탈질시켜 질산성질소를 미리 제거한 후 이를 상기 혐기조(200)로 유입되게 함으로써, 상기 혐기조(200) 내에서 인의 방출이 더욱 잘 일어날 수 있게 한다.

또한, 상기 하폐수 고도처리 시스템(710)은 상기 하폐수 공급라인(10)을 분기하여 상기 제1무산소조(100)로 상기 하폐수를 공급하는 제1공급라인(11)과, 상기 제1공급라인(11)으로부터 분기되어 상기 혐기조(200)로 상기 하폐수를 공급하는 제2공급라인(12)을 포함하도록 구성하여, 상기 하폐수가 상기 제1무산소조(100)와 상기 혐기조(200)로 각각 분할 유입되게 함으로써, 상기 혐기조(200)에서 인 방출이 보다 잘 일어날 수 있도록 한다.

한편, 상기 하폐수 고도처리 시스템(710)은, 도시하지 않았지만 상기 제1공급라인(11)과 상기 제2공급라인(12)의 하폐수 유량을 조절하도록 공급조절부를 구비하여, 상기 제1공급라인(11)과 상기 제2공급라인(12)으로 각각 유입되는 상기 하폐수의 유량을 조절할 수 있도록 하고, 이에 상기 제1무산소조(100)와 상기 혐기조(200)로 공급되는 유기물의 양을 조절할 수 있다.

이에 따라, 상기 하폐수 고도처리 시스템(710)은, 상기 제1무산소조(100)와 상기 혐기조(200) 각각의 조건과 특성에 맞도록 하폐수를 분할 유입하여 상기 제1무산소조(100)와 상기 혐기조(200) 각각의 유기물 분배율을 달리함으로써, 상기 제1무산소조(100) 내의 탈질과 상기 혐기조(200)내의 인방출이 최적으로 이루어지게 할 수 있다.

상기 호기조(300)는, 상기 혐기조(200)의 후방에 배치되어 상기 혐기조(200)에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 호기분위기에서 상기 처리수의 인의 과잉섭취 및 암모니아가 NO₂, NO₃로 질산화 반응이 진행된다. 여기서, 상기 호기조(200)에서 질산화된 것은 상기 제1무산소조(100)로 반송되어 상기 제1무산소조(100)에서 탈질이 일어날 수 있도록 한다.

상기 제2무산소조(400)는, 상기 호기조(300)의 후방에 배치되어 상기 호기조(300)에서 처리된 상기 처리수가 유입되면 이를 무산소분위기에서 탈진산화 한다. 여기서, 상기 제2무산소조(400)는 상기 호기조(300)를 거친 처리수의 추가 탈질을 수행하는 역할을 하는데, 이는 상기 호기조(300)가 상기 제1무산소조(100)로 처리수를 반송 하지만 후단으로 유동하는 유량이 있기 때문에 100% 탈질은 일어날 수 가 없는 것을 감안하여 추가 탈질을 수행하기 위함이다.

한편, 상기 제2무산소조(400)는 전 공정에서 유기물을 거의 다 써버렸기 때문에 유기물이 없어 원래 내생탈질로 자체의 오래된 죽은 세포를 유기물로 활용해서 탈질을 하게 되는데, 이렇게 되면 효율이 낮아지게 된다. 때문에, 상기 하폐수 고도처리 시스템(710)은, 상기 제2무산소조(400)의 추가 질소처리를 위하여 상기 제2무산소조(400)로 탈질산화를 위한 외부탄소원을 주입하여 처리수질을 강화하는 것이 바람직하다. 이때, 상기 외부탄소원은 외부탄소 주입부(50)를 통하여 주입될 수 있으며, 상기 외부탄소 주입부(50)는 공지의 주입노즐과 주입라인을 포함할 수 있으며, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.

이렇게, 상기 제2무산소조(400)로 주입하는 외부탄소원은 매우 쉽게 사용 가능한 유기물이기 때문에 적은 양으로도 빠른 탈질이 가능해지도록 할 수 있으며, 이에 따라 상기 제2무산소조(400)의 용량이 줄어들 수 있도록 할 수 있다.

상기 분리막조(500)는, 상기 제2무산소조(400)에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 유입된 상기 처리수의 부유물질을 여과하여, 잉여슬러지를 배출한다. 상기 분리막조(500)는 공지의 여과 스크린 등을 포함할 수 있으며, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.

상기한 바와 같이, 상기 하폐수 고도처리 시스템(710)은, 상기 호기조(300)와 상기 분리막조(500)를 구분함으로써, 상기 분리막조(500)의 분리막을 세정을 실시할 때 분리막을 꺼낼 필요 없이 약품을 넣어 그 상태에서 세정할 수 있는 계내세정을 실시할 수 있어 유지관리가 편리하다.

한편, 상기 하폐수 고도처리 시스템(710)은, 상기 분리막조(500)의 상기 처리수가 상기 호기조(300)로 반송되게 하여 상기 분리막조(500)의 용존산소를 상기 호기조(300)로 공급하는 호기조 반송라인(20)을 포함한다. 상기 호기조 반송라인(20)은 상기 분리막조(500)의 높은 용존산소를 상기 호기조(300)로 보내어 용존산소를 제거할 필요가 없도록 하며, 상기 호기조(300)에서 송풍기를 통해서 보내는 공기량을 줄일 수 있음은 물론, 상기 호기조(300)는 상기 분리막조(500)에서 반송되는 용존산소를 활용하여 유기물을 제거하거나 질산화를 수행할 수 있어 에너지를 절감할 수 있다.

또한, 상기 하폐수 고도처리 시스템(710)은, 상기 호기조(300)의 상기 처리수 일부를 상기 제1무산소조(100)로 반송시키는 제1무산소조 반송라인(30)을 포함하여, 상기 호기조(300)의 탈진산화를 도모할 수 있다.

상기한 바와 같이, 상기 하폐수 고도처리 시스템(710)은, 무산소조를 각각 상기 제1무산소조(100)와 상기 제2무산소조(400)로 구분하여 구서아고, 상기 제1무산소조(100)는 상기 호기조(300)에서 반송하는 질산성질소를 처리하고, 상기 제2무산소조(400)는 잔존하는 질산성질소를 제거함으로써 질산성질소를 공정 내에 완벽히 제거할 수 있으며, 상기 분리막조(500)에서 이를 유입하여 처리수로 보낼 수 있도록 되어 있다.

또한, 상기 하폐수 고도처리 시스템(710)은, 상기한 바와 같이 호기조 반송라인(20)을 통하여 상기 분리막조(500)의 용존산소를 호기조(300)에서 재활용할 수 있도록 하고, 상기 호기조(300)에서 상기 제1무산소조(100)로 반송시키는 상기 제1무산소조 반송라인(30)을 통하여 탈질을 강화할 수 있다.

도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 하폐수 고도처리 시스템(720)을 나타내는 블록도이다. 도면을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 하폐수 고도처리 시스템(720)은, 제1무산소조(100)와, 혐기조(200)와, 호기조(300)와, 제2무산소조(400)와, 분리막조(500)와, 탈기조(600)를 포함한다. 여기서, 상기 제1무산소조(100)와, 혐기조(200)와, 호기조(300)와, 제2무산소조(400)와, 분리막조(500)의 구성은 도 1의 구성과 실질적으로 동일하므로 상세한 설명은 생략하기로 하며 이하에서는 이와 대별되는 구성을 중점적으로 살펴보기로 한다.

상기 탈기조(600)는, 상기 분리막조(500)로부터 상기 처리수를 공급받아 저류시킨 후 상기 제1무산소조(100)로 상기 처리수를 공급하는 역할을 한다. 여기서, 상기 탈기조(600)는 상기 분리막조(500)에서 반송되는 상기 처리수의 DO가 4~5mg/L 이상으로 매우 높을 수 있는데, 이에 상기 처리수를 일정시간(예:30분 내외) 체류시키면서 DO가 자연스럽게 제거되도록 하고 이를 상기 제1무산소조(100)로 유입되게 한다.

한편, 상기 하폐수 고도처리 시스템(720)은 상기 탈기조(600)를 상기 분리막조(500)의 후단으로 구성하지 않고 상기 분리막조(500)의 전단공정으로 배치하고 있다. 이는, 상기 탈기조(600)에서 용존산소를 저감시켜 이를 상기 제1무산소조(100)로 유입되게 하여, 상기 제1무산소조(100)의 탈질이 최대한 잘 일어날 수 있도록 하기 위함이며, 또한 상기 분리막조(500)의 슬러지 배출펌프 하나로도 전단계 공정으로 반송하거나 잉여슬러지 배출을 수행할 수 있어 설비비용을 줄일 수 있으고, 반송라인이 탈기조 반송라인(40) 하나로 이루어져 도 1의 실시예와 비교하여 반송라인을 줄여 유지관리가 편리하다.

도 3은, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 하폐수 고도처리 시스템을 나타낸 블록도이다. 도면을 참조하면, 상기 하폐수 고도처리 시스템(730)은 도 1의 분리막조(500)를 복수개로 분할시킨 복수개의 분리막조(510,520,530)를 포함하고 있다. 여기서, 상기 하폐수 고도처리 시스템(730)은, 도 1과 비교하여 상기 제1무산소조(100)와, 상기 혐기조(200)와, 상기 호기조(300)와, 상기 제2무산소조(400)와, 상기 제1무산소조 반송라인(30)의 구성이 실질적으로 유사하므로 이에 대한 설명은 생략하기로 하며, 이하에서는 이와 대별되는 구성만을 중점적으로 살펴보기로 한다.

상기 하폐수 고도처리 시스템(730)은 복수개의 분리막조(510,520,530)가 서로 병렬로 배치되어, 상기 분리막조(510,520,530)는 각각 상기 제2무산소조(400)로부터 처리수가 분할되어 유입 된다.

한편, 상기 분리막조(510,520,530)는 각각 상기 처리수가 상기 호기조(300)로 반송되게 하여 상기 분리막조(510,520,530) 각각의 용존산소를 상기 호기조(300)로 공급하는 호기조 반송라인(21,22,23)을 포함한다.

상기한 바와 같이 상기 하폐수 고도처리 시스템(730)은, 복수개의 상기 분리막조(510,520,530)를 포함하여, 상기 제2무산소조(400)로부터 처리된 상기 처리수가 각각 유입되게 하여, 상기 분리막조(510,520,530) 중 일부가 세정 중일 때 나머지 분리막조(510,520,530)에서 해당유량을 처리할 수 있다.

또한, 상기 하폐수 고도처리 시스템(730)은 상기 분리막조(510,520,530)가 세정 중일 때 상기 제1무산소조 반송라인(30)을 통하여 무방류(Closed loop) 방식으로 계속 순환시켜 정체가 일어나지 않고 유입수가 재 유입시작할 때 충격을 감소할 수 있으며, 활성슬러지의 활성도를 높일 수 있다.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.

10... 하폐수 공급라인 11... 제1공급라인
12... 제2공급라인 20,21,22,23... 호기조 반송라인
30... 제1무산소조 반송라인 40... 탈기조 반송라인
100... 제1무산소조 200... 혐기조
300... 호기조 400... 제2무산소조
500,510,520,530... 분리막조 600... 탈기조
710,720,730... 하폐수 고도처리 시스템

Claims

하폐수가 유입되며, 무산소분위기에서 탈질산화 반응이 진행되는 제1무산소조;
상기 제1무산소조에서 처리된 처리수가 유입되며, 혐기성 상태에서 상기 처리수의 인방출 반응이 진행되는 혐기조;
상기 혐기조에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 호기분위기에서 상기 처리수의 인의 과잉섭취 및 질산화 반응이 진행되는 호기조;
상기 호기조에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 무산소분위기에서 상기 처리수의 탈진산화 반응이 진행되는 제2무산소조; 및
상기 제2무산소조에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 상기 처리수를 여과하는 분리막조를 포함하는 하폐수 고도처리 시스템.
청구항 1에 있어서,
상기 하폐수를 공급 하는 하폐수공급라인을 포함하며,
상기 하폐수 공급라인은,
상기 제1무산소조로 상기 하폐수를 공급하는 제1공급라인과,
상기 제1공급라인으로부터 분기되어 상기 혐기조로 상기 하폐수를 공급하는 제2공급라인을 포함하는 하폐수 고도처리 시스템.
청구항 2에 있어서,
상기 제1공급라인과 상기 제2공급라인으로 유입되는 상기 하폐수의 유량을 각각 조절하여 상기 제1무산소조와 상기 혐기조로 각각 공급되는 유기물의 양을 조절하는 공급조절부를 더 포함하는 하폐수 고도처리 시스템.
청구항 1에 있어서,
상기 제2무산소조의 탈진산화를 위하여 상기 제2무산소조로 외부탄소원을 주입하는 외부탄소 주입부를 더 포함하는 하폐수 고도처리 시스템.
청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분리막조의 상기 처리수가 상기 호기조로 반송되게 하여 상기 분리막조의 용존산소를 상기 호기조로 공급하는 호기조 반송라인을 더 포함하는 하폐수 고도처리 시스템.
청구항 5에 있어서,
상기 호기조의 탈진산화를 위하여 상기 호기조의 상기 처리수 일부를 상기 제1무산소조로 반송시키는 제1무산소조 반송라인을 포함하는 하폐수 고도처리 시스템.
하폐수가 유입되며, 무산소분위기에서 탈질산화 반응이 진행되는 제1무산소조;
상기 제1무산소조에서 처리된 처리수가 유입되며, 혐기성 상태에서 상기 처리수의 인방출 반응이 진행되는 혐기조;
상기 혐기조에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 호기분위기에서 상기 처리수의 인의 과잉섭취 및 질산화 반응이 진행되는 호기조;
상기 호기조에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 무산소분위기에서 상기 처리수의 탈진산화 반응이 진행되는 제2무산소조;
상기 제2무산소조에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 상기 처리수를 여과하는 분리막조; 및
상기 분리막조로부터 상기 처리수를 공급받아 저류시킨 후 상기 제1무산소조로 상기 처리수를 공급하는 탈기조를 포함하는 하폐수 고도처리 시스템.
청구항 7에 있어서,
상기 하폐수를 공급하는 하폐수공급라인을 포함하며,
상기 하폐수 공급라인은,
상기 제1무산소조로 상기 하폐수를 공급하는 제1공급라인과,
상기 제1공급라인으로부터 분기되어 상기 혐기조로 상기 하폐수를 공급하는 제2공급라인을 포함하는 하폐수 고도처리 시스템.
청구항 8에 있어서,
상기 제1공급라인과 상기 제2공급라인으로 유입되는 상기 하폐수의 유량을 각각 조절하여 상기 제1무산소조와 상기 혐기조로 각각 공급되는 유기물의 양을 조절하는 공급조절부를 더 포함하는 하폐수 고도처리 시스템.
청구항 7에 있어서,
상기 제2무산소조의 탈진산화를 위하여 상기 제2무산소조로 외부탄소원을 주입하는 외부탄소 주입부를 더 포함하는 하폐수 고도처리 시스템.
청구항 7에 있어서,
상기 분리막조는,
복수개가 병렬로 배치되어 상기 제2무산소조로부터 처리된 상기 처리수가 분할되어 유입되는 하폐수 고도처리 시스템.