KR20170105005A - Uv 광 경화 시스템 및 이를 설계 및 작동하는 방법 - Google Patents

Uv 광 경화 시스템 및 이를 설계 및 작동하는 방법 Download PDF

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KR20170105005A
KR20170105005A KR1020177018048A KR20177018048A KR20170105005A KR 20170105005 A KR20170105005 A KR 20170105005A KR 1020177018048 A KR1020177018048 A KR 1020177018048A KR 20177018048 A KR20177018048 A KR 20177018048A KR 20170105005 A KR20170105005 A KR 20170105005A
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reflector
enclosure
secondary reflector
light
curing system
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KR1020177018048A
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Inventor
다린 레온하르트
윌리엄 커티스 하퍼
Original Assignee
헤라우스 노블라이트 아메리카 엘엘씨
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Abstract

UV 광 경화 시스템이 제공된다. UV 광 경화 시스템은: UV 광원; UV 광원에 의해 방출된 광을 인클로저 방향으로 반사시키기 위한 일차 반사체로서, 인클로저는 관심 객체를 적어도 부분적으로 둘러싸는, 상기 일차 반사체; 및 일차 반사체에 대하여 인클로저의 반대측 상의 이차 반사체로서, 인클로저의 길이의 일부를 따라 위치되고, 인클로저의 길이의 일부로 인클로저의 적어도 40%를 둘러싸는, 상기 이차 반사체를 포함한다.

Description

UV 광 경화 시스템 및 이를 설계 및 작동하는 방법{UV LIGHT CURING SYSTEMS AND METHODS OF DESIGNING AND OPERATING UV LIGHT CURING SYSTEMS}
관련 출원의 전후 참조
본 출원은 2015년 1월 15일에 출원된 미국 가 특허 출원 제62/103,947호 및 2016년 1월 13일에 출원된 미국 특허 출원 제14/994,747호에 대한 혜택을 주장하며, 이 양자의 내용은 전체적으로 참조로서 본 출원에 통합된다.
기술분야
본 발명은 UV 경화 시스템들, 그리고 보다 상세하게는 개선된 반사체들을 갖는 UV 경화 시스템들 및 그러한 UV 경화 시스템들을 설계하는 방법들에 관한 것이다.
자외선 광 경화(본 출원에서 UV 경화 및 UV 광 경화로 지칭됨)는 해당 기술분야에, 예를 들어 미국 특허 제4,710,638호(명칭 "Apparatus for Treating Coatings"), 미국 특허 제8,872,137호(명칭 "Dual Elliptical Reflector with a Co-Located Foci for Curing Optical Fibers”), 및 미국 특허 출원 공보 제2011/0147356호(명칭 "UV LED Based Lamp for Compact UV Curing Lamp Assemblies")에 설명된 바와 같이, 주지되어 있다.
특정한 종래 UV 경화 적용들(예를 들어, 이중 타원 지오메트리 기반 시스템들, 및 다른 종래 UV 경화 시스템들 등을 사용하는)에서, 경화를 위해(예를 들어, 광중합을 통해) UV 에너지원에 의해 제공되는 UV 에너지의 대부분은 실제로는 타겟을 벗어난다.
그에 따라, 개선된 UV 경화 시스템들 및 그러한 UV 경화 시스템들을 설계하는 방법들을 제공하는 것이 바람직할 것이다.
본 발명의 대표적인 실시예에 따르면, UV 광 경화 시스템이 제공된다. 상기 UV 광 경화 시스템은: UV 광원; 상기 UV 광원에 의해 방출된 광을 인클로저 방향으로 반사시키기 위한 일차 반사체로서, 상기 인클로저는 관심 객체를 적어도 부분적으로 둘러싸는, 상기 일차 반사체; 및 상기 일차 반사체에 대하여 상기 인클로저의 반대측 상의 이차 반사체로서, 상기 인클로저의 길이의 일부를 따라 위치되고, 상기 인클로저의 상기 길이의 상기 일부로 상기 인클로저의 적어도 40%를 둘러싸는, 상기 이차 반사체를 포함한다.
본 발명의 다른 대표적인 실시예에 따르면, UV 광 경화 시스템이 제공된다. 상기 UV 광 경화 시스템은: UV 광원; 상기 UV 광원에 의해 방출된 광을 타겟 방향으로 반사시키기 위한 일차 반사체; 상기 일차 반사체에 대해 상기 타겟의 반대측 상의 이차 반사체; 및 상기 일차 반사체 및 상기 타겟 사이에 위치되는 적어도 하나의 삼차 반사체로서, 상기 이차 반사체로부터의 광을 다시 상기 타겟을 향해 반사시키는, 상기 삼차 반사체를 포함한다.
본 발명의 다른 대표적인 실시예에 따르면, UV 광 경화 시스템을 설계하는 방법의 방법이 제공된다. 상기 방법은: 주어진 UV 광 발생원 크기 및 분산으로 미리 결정된 타겟 위치에 원하는 광 조사(예를 들어, 미리 결정된 빔 폭의, 최대 또는 미리 결정된 조사 레벨)를 제공하도록 일차 반사체를 설계하는 단계; 및 상기 미리 결정된 타겟 위치에 전체 조사의 증가를 제공하기 위해, 상기 일차 반사체로부터의 광을 반사시키도록 구성된 이차 반사체를 설계하는 단계를 포함한다.
본 발명은 첨부 도면들과 관련하여 읽을 때 다음 상세한 설명으로부터 가장 잘 이해된다. 일반적 관례에 따라, 도면들의 다양한 피처는 일정한 비율이 아님이 강조된다. 오히려, 다양한 피처의 치수들이 명확성을 위해 임의로 확대 또는 축소된다. 다음 도면들이 도면에 포함된다:
도 1은 본 발명의 대표적인 실시예에 따른 UV 광 경화 시스템의 블록도이다;
도 2는 본 발명의 대표적인 실시예에 따른 일차 반사체 및 이차 반사체에 대한 방사 조도 대 빔 폭을 나타내는 그래프이다;
도 3은 본 발명의 대표적인 실시예에 따른 UV 광 경화 시스템의 일부의 블록도이다;
도 4는 본 발명의 대표적인 실시예에 따른 다른 UV 광 경화 시스템의 일부의 블록도이다;
도 5는 본 발명의 대표적인 실시예에 따른 복수의 서브 시스템을 포함하는, 다른 UV 광 경화 시스템의 일부의 블록도이다; 그리고
도 6은 본 발명의 대표적인 실시예에 따른 UV 광 경화 시스템을 설계하는 방법을 나타내는 흐름도이다.
본 출원에서 사용될 때, 용어 "복합 곡선"은 그것의 종래 정의에 따라 폭 넓게 정의되도록 의도되고, 반사체, 이를테면 일차 반사체, 이차 반사체, 및/또는 삼차 반사체의 반사 표면(즉, 광학 표면)에 의해 정의되는 곡선에 적용된다. 바람직하게는, 이러한 반사 표면의 곡선은 반경 길이를 달리하는 복수의 타원호 또는 원호를 포함한다.
본 발명에 따른 UV 경화 시스템들은 특정한 좁은 타겟 UV 경화 적용예들과 관련되어 특정 적용예를 갖는다. 이러한 좁은 타겟 UV 경화 적용들의 예들은 광 섬유 클래딩, 광 섬유 컬러링, 케이블 컬러링, 와이어 컬러링 등을 포함한다.
본 발명의 특정 실시예들은 하나 이상의 반사체(들) 이를테면 이차 반사체(때때로 후방 반사체로서 지칭되는)의 반사/광학 표면들을 정의하기 위해 복합 곡선을 사용한다. 그러한 복합 곡선들은 좁은 타겟에의 광학 방사 조도를 현저하게 증가시키기 위해 반사체(들)의 설계에 포함될 수 있다.
작은 UV LED 광원(예를 들어, 개별적인 LED들)을 사용하는 본 발명의 특정 실시예들에 따르면, 좁은 타겟의 다양한 표면에 훨씬 더 높은 피크 전력을 제공하기 위해 광학 시스템의 빛이 퍼지는 속성(entendue)(집광 및 광 이용 효율)이 크게 개선될 수 있다. 나아가, 타겟에의 광 이용 효율을 증가시킴으로써, 동일한 경화 결과들을 얻는데 보다 낮은 입력 전력이 사용되고, 그렇게 함으로써 에너지 소모를 낮춘다. 더 나아가, 타겟에의 보다 높은 피크 방사 조도가 얻어질 수 있어, 이점들 이를테면 처리 속도 증가, 배합물에서 광개시제(가장 비싼 성분인 경향이 있는) 함유량 감소, 비용 감소, 및 처리 동안 처리 실행 시간을 제한하고 오염시키는 경향이 있는 휘발성 배합물 감소를 제공할 수 있다.
본 발명의 실시예들은 간단하지 않은 타원 반사 표면들(예를 들어, 복합 곡선들)이 타겟에서 피크 전력(방사 조도)을 최적화하기 위해 사용될 수 있는 UV 경화 시스템들(및 관련 설계 방법들)에 관한 것이다. 본 발명은 개선된/최적화된 설계 파라미터들(이를테면 타겟에서의 개선된/최대 피크 강도)을 제공하기 위해, UV 경화 시스템 설계(UV 경화 시스템의 광학 소자들의 설계를 포함)와 관련된 광학 시스템 시뮬레이션들의 사용을 수반할 수 있다.
보다 구체적으로는, UV 광원(이를테면 UV LED 광원) 방출 특성들, 재료들의 굴절률들, 및 표면 반사 속성들을 정확하게 묘사하는 실물 크기의 광학 시뮬레이션들이 UV 경화 시스템들의 설계를 위해 이용될 수 있다. 그러한 광학 시뮬레이션들은 반사체(들)의 복합 곡선 형상의 반사 표면들, 또는 다른 복합 반사/광학 표면들의 통합을 가능하게 한다. 그러한 시뮬레이션들에서, 광학 설계가 타겟(예를 들어, 광 섬유가 인선되는 1 mm 내지 2 mm 폭 면적)에의 방사 조도를 최대화하도록 최적화될 수 있다. 반사체 설계(예를 들어, 일차 반사체, 이차 반사체, 및/또는 삼차 반사체 등의)를 최적화함으로써, 기존 자본 설비를 사용하면서 개선된 처리 속도 및 개선된 UV 에너지 효율을 이룰 수 있다.
좁은 타겟(예를 들어, 광 섬유)에 대한 피크 방사 조도를 개선함으로써, 추가 이점들(개선된 처리 속도 및 UV 에너지 효율 이외)이 제공된다. 예를 들어, 타겟(예를 들어, 코팅된 광 섬유)을 제조하는 것의 직접 비용이 감소된다. 나아가, 작은 광원 크기(예를 들어, 작은 LED들)는 보다 큰 광원들(예를 들어, 마이크로파 유리알들) 또는 LED들 간에 비교적 큰 공간을 갖는 LED 소스들과 비교할 때, 개선된 집광 및 좁은 타겟에 대한 전향을 가능하게 한다.
이제 도면들을 참조하면, 도 1은 자외선(UV) 광 경화 시스템(100)을 도시한다. UV 광 경화 시스템(100)은 램프 헤드(104)(예를 들어, UV 광원, 본 출원에서 때때로 UV 광 발생원으로서 지칭되는)에 전력을 제공하도록 구성된 전원(102)(예를 들어, 전원 공급 기구)을 포함한다. 램프 헤드(104)는 광 발생 소자들(106)(예를 들어, UV LED들)을 포함한다. 램프 헤드(104)의 추가 세부 사항들은 간단함을 위해 생략된다.
일차 반사체(108)는 램프 헤드(104)에 접속되고, 개구(109)를 포함하며 이를 통해 광 발생 소자들(106)에 의해 (타겟 윈도우(110)에) 방출되는 광이 일차 반사체(108)에 의해 반사되고 인클로저(112)로 지향된다.
타겟(114)(예를 들어, 램프 헤드(104), 이를테면 광 섬유, 리본, 파이프 등으로부터의 광을 사용하여 조사될 관심 객체)은 인클로저(112)에 제공된다. 인클로저(112)는 타겟을 하우징하는 투명 튜브 또는 파이프일 수 있다. 이차 반사체(116)는 일차 반사체(108)에 대해 인클로저(112)의 반대측 상에 제공된다. 이차 반사체(116)는 조사하기 위해(예를 들어, 타겟(114) 상의 코팅을 경화하기 위해) 램프 헤드(104)로부터의 광을 인클로저(112) 내 타겟(114)으로 다시 반사시키도록 구성된다.
본 발명에 따르면, 타겟(114)의 위치에 미리 결정된 폭에 대한 높은 그리고/또는 효율적인(예를 들어, 최대화된) 조사 레벨을 제공하는 것이 바람직할 수 있다. 즉, 타겟(114)이 좁은 폭을 가질 수 있다. 그러한 타겟의 예는 약 1 mm의 폭을 갖는 코팅된 광 섬유이다. 그러한 좁은 타겟에 원하는 조사 레벨(및 그러한 조사의 대응하는 효율적인, 또는 "친환경(green)" 사용을 제공하기 위해, 램프 헤드(104)로부터의 조사(일차 반사체(108)에 의해 반사된)를 타겟을 향해 좁은 경로에 지향시키는 것이 바람직하다. 그에 따라, 일차 반사체(108)는 타겟 위치에 높은 조사 레벨을 제공하고(요인들 이를테면 램프 헤드 사양, 램프 헤드 및 타겟 간 위치 관계, LED 소스들의 위치 및 방출 특성 등을 고려하여), 원하는 폭을 갖도록 설계되어야 한다. 예를 들어, 원하는 폭은 타겟 폭과 관련이 있을 수 있다(예를 들어, 원하는 폭은 타겟 폭의 배수이도록 설계될 수 있는 등이다). 유사하게, 이차 반사체(116)는 유사한 결과들을 제공하도록(예를 들어, 램프 헤드(104) 및 일차 반사체(108)로부터의 입사 광선들을 고려하여, 이차 반사체(116)에 의해 수용되는 광이 원하는 폭의 타겟 위치에 다시 효율적으로 반사되도록) 설계되어야 한다. 도 1에서 아주 흥미로운 것은 이차 반사체(116)(적어도 이차 반사체(116)의 내부 반사 표면(116'))가 복합 곡선에 의해 정의되는 형상을 갖는다는 것이다.
도 1에서의 UV 광 경화 시스템(100)의 일반적인 레이아웃은 또한 대응하는 도 3, 도 4, 및 도 5에 대한 설명에서 아래에서 상세하게 나열될 바와 같이, 시스템들(100a, 100b, 및 500)에도 적용될 수 있다. 즉, 도 3, 도 4, 및 도 5에서 - 전원, 광원(램프 헤드), 및 일차 반사체의 부분을 포함하여 다양한 소자가 간단함을 위해 생략되었다.
위에서 설명된(그리고 본 출원에, 예를 들어, 도 6을 참조하여 더 설명될) 일차 및 이차 반사체들의 설계에서, 반사체들의 각각으로부터의 방사 조도가 원하는 레벨을 충족한다는 것, 그리고 타겟 위치에서, 원하는 폭을 커버한다는 것을 확인하는 것이 바람직하다. 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 일차 반사체 및 이차 반사체의 방사 조도를 나타내는 도표가 제공된다. 예를 들어, 타겟이 본 발명에 따른 UV 경화 시스템을 사용하여 경화된 코팅을 갖는 1 mm 광섬유라고 가정하자. 그러한 좁은 타겟에 대해, 일차 및 이차 반사체들의 각각에 의해 제공되는 피크 방사 조도가 타겟 위치에서 대응하는 폭을 점유하는 것이 바람직할 수 있다. 그러한 대응하는 폭(1 mm 광 섬유에 대해)은 예를 들어, 1.5 mm, 2 mm, 2.5 mm, 3 mm 등일 수 있으며 - 바람직하게는 빔 중심이 광 섬유의 중간 지점에 초점이 맞춰진다. 동일한 예에 대해, 타겟 빔 폭(도 2에 도시될 때 WT)이 3 mm라고 가정하자(여기서 3 mm는 x-축 상의 -1.5 내지 1.5에 걸쳐 이어진다).
다시 도 2를 참조하면, 일차 반사체는 대략 3 mm의 타겟 폭을 갖기 위해 타겟 위치에 가장 높은 조사 레벨들을 제공하도록 설계될 수 있다. 즉, 조사 곡선이 WT 대역에서 가장 높다. 유사하게, 이차 반사체는 대략 3 mm의 타겟 폭을 갖기 위해 타겟 위치에 가장 높은 조사 레벨들을 제공하도록 설계될 수 있다. 그러한 설계에서, 바람직하게는, 타겟은 UV 광원(램프 헤드)으로부터 출력되는 UV 에너지를 효율적으로 사용하는 방식으로 경화되어야 한다.
도 3은 다른 UV 경화 시스템(100a)의 일부의 블록도이다. 일차 반사체(108a)의 개구(108a1)는 UV 광원(미도시)에 의해 방출된 광을 인클로저(112a)(예를 들어, 투명 튜브, 파이프 등) 방향으로 반사한다. 인클로저(112a)는 적어도 부분적으로 조사될 관심 객체(즉, 타겟(114a))를 둘러싼다. 도 3의 경우, 관심 객체는 광 섬유(114a)이고, 인클로저(112a)가 UV광원에 의해 조사되는 인클로저(112a)의 일부로 광 섬유(114a)를 둘러싼다. 이차 반사체(116a)(일차 반사체(108a)에 대하여 인클로저(112a)의 반대측 상의)는 인클로저(112a)의 길이의 부분을 따라 위치된다. 이차 반사체(116a)의 내부 반사 표면(116a1)은 도 3에 도시된 바와 같이 제1 단부에서 제2 단부로 연장되는 곡선 경로(복합 곡선 경로일 수 있는)를 따른다. 이러한 단부들은 도 3에서 가상선 "IL"에 의해 연결된다. 이차 반사체(116a)가 인클로저(112a)의 길이의 관련 부분의 인클로저(112a)를 둘러싸는 비율은 도 3에서 인클로저(112a) 대 가상선 "IL" 우측의 면적 비율을 계산함으로써 결정될 수 있다. 본 발명의 대표적인 실시예에 따르면, 그러한 비율은 적어도 40%, 적어도 50% 등일 수 있다. 도 3에 도시된 예에서, 비율을 대략 50%이다.
도 4는 도 1 및 도 3에 도시된 것들과 유사한 다양한 요소를 포함하는, 다른 UV 경화 시스템(100b)의 일부의 블록도이다. 일차 반사체(108b)의 개구(108b1)는 UV 광원(도 4에서 미도시)에 의해 방출된 광을 인클로저(112b)(여기서 인클로저(112b)는 타겟(114b)을 적어도 부분적으로 둘러싼다) 방향으로 반사한다. 이차 반사체(116b)(일차 반사체(108b)에 대하여 인클로저(112b)의 반대측 상의)는 인클로저(112b)의 길이의 부분을 따라 위치된다. 이차 반사체(116b)의 내부 반사 표면(116b1)은 도 4에 도시된 바와 같이 제1 단부에서 제2 단부로 연장되는 곡선 경로(복합 곡선 경로일 수 있는)를 따르며, 여기서 이러한 단부들은 도 4에서 가상선 "IL"에 의해 연결된다. 이차 반사체(116b)가 인클로저(112b)의 길이의 관련 부분의 인클로저(112a)를 둘러싸는 비율은 도 4에서 인클로저(112b) 대 가상선 "IL" 우측의 면적 비율을 계산함으로써 결정될 수 있다. 도 4에 도시된 예에서, 비율을 대략 50%이다.
본 발명의 다양한 대표적인 실시예에 따르면, UV 경화 시스템을 훨씬 더 효율적으로 설계하기 위해, 하나 이상의 삼차 반사체가 일차 반사체 및 타겟 사이(또는 인클로저가 제공되는 경우, 타겟을 하우징하는 인클로저)에 제공될 수 있으며, 여기서 그러한 삼차 반사체는 이차 반사체로부터의 광을 타겟/인클로저를 향해 다시 반사시킨다. 삼차 반사체는 기계적으로 일차 반사체의 확장일 수 있다; 즉, 삼차 반사체는 제조 또는 조립을 간단히 하기 위해 물리적으로 일차 반사체의 부분일 수 있다.
도 4에 도시된 UV 광 경화 시스템(100b)은 두 개의 삼차 반사체(118a 및 118b)를 갖는 예를 예시한다. 이차 반사체(116b)의 내부 표면(116b1)으로부터 반사되는 광의 일정 부분은 삼차 반사체(118a, 118b)의 내부 (반사) 표면들(118a1, 118b1)에 의해 수신되고, 인클로저(112b)(및 타겟(114b))를 향해 다시 반사된다. 그에 따라, 타겟(114b)을 조사하는 광원(도 4에서 미도시)에 의해 전달되는 광의 비율이 증가되고, 그렇게 함으로써 시스템 효율을 증가시킨다. 물론, 도 4에 두 개의 삼차 반사체가 도시되지만, 임의의 수의 그러한 삼차 반사체는 소정의 적용예에서 원하는 대로 제공될 수 있다.
본 발명이 타겟의 길이(부분)를 조사하기 위해, 주로 개별적인 광원들, 개별적인 일차 반사체들, 개별적인 이차 반사체들(후방 반사체들) 등에 대해 설명되었지만, 본 발명의 교시 내용은 UV 광원, 일차 반사체, 이차 반사체, 삼차 반사체들 등 중 하나 이상의 복수를 포함하는 UV 경화 시스템에 소정의 적용예에서 원하는 대로 적용될 수 있다. 예를 들어, 그러한 요소들은 인클로저의 길이의 각각의 부분들을 따라 그룹들로 제공될 수 있다. 도 5는 그러한 구성의 예이다.
도 5는 경화 동작을 위해 구성된 UV 광 경화 시스템(500)을 도시한다. 도 5에 도시된 예에서, 타겟은 인클로저(예를 들어, 투명 튜브)(112c) 내 광 섬유(120)이다. 예를 들어, 광 섬유(120)는 코팅(도 5에 도시된 의도된 조사 직전에 도포된)을 포함할 수 있으며, 여기서 코팅은 UV 광 경화 시스템(500)을 사용하여 경화될 것이다. 광 섬유(120)는 리스풀링을 위해 인클로저(112c)를 통과해 스풀로 이동될 수 있다. 광 섬유(120)가 UV 경화 시스템(500)을 통과할 때, 코팅이 경화된다.
UV 경화 시스템(500)은 복수의 UV 경화 서브 시스템(100c1, 100c2, 100c3, 100c4, 100cn - 각각 도 1, 도 3, 및 도 4와 관련하여 도시되고 설명된 것들과 같은 요소들을 포함함)을 포함한다. 예를 들어, 서브 시스템(100c1)은 광원(104c1)(예를 들어, 복수의 UV LED를 포함하는 램프 헤드), 광을 인클로저(112c)(및 타겟 광 섬유(120))를 향해 반사시키기 위한 일차 반사체(108c1), 및 이차 반사체(116c1)를 포함한다. 이차 반사체(116c1)는 인클로저(112c)의 일부를 (예를 들어, 적어도 40%, 적어도 50% 등등 만큼) 부분적으로 둘러싼다. 도 5에는 어떠한 삼차 반사체(도 4에 도시된 삼차 반사체(118a, 118b)와 유사한)도 도시되지 않지만, 그것들은 도 5에 도시된 본 발명의 범위 내로 고려된다.
추가 서브 시스템들(100c2, 100c3, 100c4, 100cn)은 서브 시스템(100c1)에 대하여 위에서 설명된 것들과 유사한 요소들을 포함한다. 구체적으로: 서브 시스템(100c2)은 광원(104c2), 일차 반사체(라벨링되지 않음), 및 이차 반사체(116c2)를 포함하고; 서브 시스템(100c3)은 광원(104c3), 일차 반사체(라벨링되지 않음), 및 이차 반사체(116c3)를 포함하고; 서브 시스템(100c4)은 광원(104c4), 일차 반사체(라벨링되지 않음), 및 이차 반사체(116c4)를 포함하며; 그리고 서브 시스템(100cn)은 광원(104cn), 일차 반사체(108cn), 및 이차 반사체(116cn)를 포함한다.
도 6은 본 발명의 특정 대표적인 실시예들에 따른 흐름도이다. 해당 기술분야의 통상의 기술자들에 의해 이해되는 바와 같이, 흐름도에 포함되는 특정 단계들은 생략될 수 있고; 특정 추가 단계들이 추가될 수 있으며; 그리고 단계들의 순서는 예시된 순서에서 변경될 수 있다.
구체적으로 도 6의 흐름도를 참조하면, UV 경화 시스템을 설계하는 방법이 제공된다. 단계 600에서, UV 광원(예를 들어, 도 1에 도시된 램프 헤드(104))이 제공된다. 예를 들어, UV 광원은 하나 이상의 광 발생 소자(예를 들어, UV LED)를 포함한다. 단계 602에서, UV 광원 및 UV 광원을 사용하여 조사될 타겟(예를 들어, 다른 것들 중에서도, 광 섬유, 리본, 파이프) 간 위치 관계가 제공된다. 그러한 위치 관계는 거리 정보, 방향 정보 등을 포함할 수 있고, 타겟 그 자체 및/또는 타겟을 둘러싸는 인클로저에 대한 것일 수 있다.
단계 604에서, 일차 반사체(예를 들어, 일차 반사체들(다양한 도면에 도시된 108, 108a, 108b, 108c1, 108cn 등)은 타겟에 대해 미리 결정된 위치에 원하는 폭을 갖는 광의 피크 방사 조도를 제공하도록 설계된다(예를 들어, 소정의 UV 광 발생원 크기 및 분산에 따라). 즉, 일차 반사체를 설계하기 위해 다양한 요인이 고려된다. 그러한 요인들은 광원, 위에서 언급된 위치 관계, 타겟을 조사하기 위해 사용되는 광 빔의 원하는 폭, 타겟 및/또는 인클로저의 미리 결정된 위치에의 원하는 조사 레벨 등의 사양 및 물리적 지오메트리(예를 들어, LED 레이아웃)를 포함한다. 다양한 기술이 다른 기술들 중에서도, 일차 반사체의 설계, 예를 들어, 예시적인 일차 반사체들의 미리 결정된 위치에서의 시뮬레이션 소프트웨어, 조사 시험에 사용될 수 있다. 위에서 설명된 바와 같이, 도 2는 일차 반사체의 조사 프로필의 예를 (실선으로) 도시한다 - 여기서 그러한 조사 프로필이 일차 반사체의 설계와 관련하여 사용될 수 있다.
단계 606에서, 일차 반사체로부터의 광을 반사하도록 구성된 이차 반사체(예를 들어, 이차 반사체들(다양한 도면에 도시된 116, 116a, 116b, 116c1 내지 116cn 등)가 설계되며, 여기서 이차 반사체는 미리 결정된 위치에 원하는 폭으로 원하는 조사 레벨을 제공하도록 설계된다. 단계(608)에서, 적어도 하나의 삼차 반사체(도 4에 도시된 삼차 반사체들(118a, 118b))가 설계되며, 여기서 적어도 하나의 삼차 반사체는 일차 반사체 및 타겟 사이에 위치되고, 이차 반사체로부터의 광을 다시 미리 결정된 위치에 타겟을 향해 반사시키도록 설계된다. 이차 반사체, 및 삼차 반사체들을 설계하기 위한 기술들은 일차 반사체의 설계와 관련하여 본 출원에 설명된 것들과 동일할 수 있다.
도 6에 예시된 방법은 또한 UV 경화 시스템의 타겟의 길이에 따른 복수의 서브 시스템의 각각(예를 들어, 이를테면 도 5에 도시된, 타겟, 및 대응하는 서브 시스템들)에 대한 위치를 결정하는 단계를 포함할 수 있다. 복수의 서브 시스템의 각각은 각각의 UV 광 발생원, 단계 604에서 설계된 일차 반사체의 각각의 일차 반사체, 단계 606에서 설계된 이차 반사체의 각각의 이차 반사체, 및 단계 608에서 설계된 각각의 삼차 반사체(또는 복수의 삼차 반사체)를 포함할 수 있다.
본 발명이 좁은 타겟 적용예들(예를 들어, 광 섬유들 상의 코팅들의 UV 경화와 같은 적용예들, 여기서 코팅을 경화하기 위해 사용되는 광 빔이 바람직하게는 좁고 조사 레벨이 높다)에 대한 특정한 응용 가능성을 갖지만, 본 발명은 그것으로 한정되지 않는다.
본 발명이 주로 UV 경화 시스템들에 대하여 설명되지만, 본 출원에서의 교시 내용들은 UV 경화 적용예들 외의 다른 유형들의 광 시스템들, 및 상이한 유형들의 적용예들에 적용될 수 있다.
본 발명이 구체적인 실시예들을 참조하여 본 출원에 예시되고 설명되지만, 본 발명은 제시된 세부 사항들로 한정되도록 의도되지 않는다. 오히려, 청구항들의 범위 및 균등물 범위 내에서 그리고 본 발명에서 벗어나지 않고 세부 사항들에서 변경이 이루어질 수 있다.

Claims (20)

  1. UV 광 경화 시스템으로서,
    UV 광원;
    상기 UV 광원에 의해 방출된 광을 인클로저 방향으로 반사시키기 위한 일차 반사체로서, 상기 인클로저는 관심 객체를 적어도 부분적으로 둘러싸는, 상기 일차 반사체; 및
    상기 일차 반사체에 대하여 상기 인클로저의 반대측 상의 이차 반사체로서, 상기 인클로저의 길이의 일부를 따라 위치되고, 상기 인클로저의 상기 길이의 상기 일부로 상기 인클로저의 적어도 40%를 둘러싸는, 상기 이차 반사체를 포함하는, UV 광 경화 시스템.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 인클로저는 투명 튜브이고, 상기 이차 반사체는 상기 이차 반사체의 제1 단부로부터 상기 이차 반사체의 제2 단부까지 곡선 경로를 따르는, UV 광 경화 시스템.
  3. 청구항 2에 있어서, 상기 이차 반사체가 상기 인클로저의 상기 길이의 상기 일부로 상기 인클로저를 둘러싸는 비율은 상기 제1 단부 및 상기 제2 단부를 연결하는 가상선에 의해 결정될 수 있는, UV 광 경화 시스템.
  4. 청구항 3에 있어서, 상기 이차 반사체는 상기 인클로저의 상기 길이의 상기 일부로 상기 인클로저의 적어도 50%를 둘러싸는, UV 광 경화 시스템.
  5. 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 있어서, 상기 일차 반사체 및 상기 인클로저 사이에 위치되는 적어도 하나의 삼차 반사체를 더 포함하되, 상기 적어도 하나의 삼차 반사체는 상기 이차 반사체로부터의 광을 다시 상기 인클로저를 향해 반사시키는, UV 광 경화 시스템.
  6. 청구항 1 내지 5 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이차 반사체의 반사 표면은 복합 곡선에 의해 정의되는 형상을 갖는, UV 광 경화 시스템.
  7. 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 있어서, 상기 UV 광원, 상기 일차 반사체, 및 상기 이차 반사체의 각각의 복수를 포함하되, 상기 UV 광 경화 시스템은 상기 인클로저의 상기 길이의 각각의 부분들을 따라 제공되는 복수의 서브 시스템을 포함하며, 상기 복수의 서브 시스템의 각각은 상기 UV 광원, 상기 일차 반사체, 및 상기 이차 반사체의 각각을 포함하는, UV 광 경화 시스템.
  8. UV 광 경화 시스템으로서,
    UV 광원;
    상기 UV 광원에 의해 방출된 광을 타겟 방향으로 반사시키기 위한 일차 반사체;
    상기 일차 반사체에 대해 상기 타겟의 반대측 상의 이차 반사체; 및
    상기 일차 반사체 및 상기 타겟 사이에 위치되는 적어도 하나의 삼차 반사체로서, 상기 이차 반사체로부터의 광을 다시 상기 타겟을 향해 반사시키는, 상기 삼차 반사체를 포함하는, UV 광 경화 시스템.
  9. 청구항 8에 있어서, 상기 타겟은 투명 튜브 내에 하우징되는 관심 객체를 포함하고, 상기 이차 반사체는 상기 이차 반사체의 제1 단부로부터 상기 이차 반사체의 제2 단부까지 곡선 경로를 따르는, UV 광 경화 시스템.
  10. 청구항 9에 있어서, 상기 이차 반사체가 상기 투명 튜브의 길이의 일부로 상기 투명 튜브를 둘러싸는 비율은 상기 제1 단부 및 상기 제2 단부를 연결하는 가상선에 의해 결정될 수 있고, 상기 이차 반사체는 상기 투명 튜브의 상기 길이의 상기 일부로 상기 투명 튜브의 적어도 40%를 둘러싸는, UV 광 경화 시스템.
  11. 청구항 8 내지 10 중 어느 한 항에 있어서, 상기 UV 광원, 상기 일차 반사체, 상기 이차 반사체, 및 상기 적어도 하나의 삼차 반사체의 각각의 복수를 포함하되, 복수의 서브 시스템이 상기 타겟의 길이의 각각의 부분들을 따라 제공되며, 상기 복수의 서브 시스템의 각각은 상기 UV 광원, 상기 일차 반사체, 상기 이차 반사체, 및 상기 적어도 하나의 삼차 반사체의 각각을 포함하는, UV 광 경화 시스템.
  12. 청구항 8 내지 11 중 어느 한 항에 있어서, 상기 타겟은 투명 튜브 내에 하우징되는 광 섬유를 포함하는, UV 광 경화 시스템.
  13. 청구항 8 내지 12 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이차 반사체의 반사 표면은 복합 곡선에 의해 정의되는 형상을 갖는, UV 광 경화 시스템.
  14. 청구항 8 내지 13 중 어느 한 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 삼차 반사체의 반사 표면은 복합 곡선에 의해 정의되는 형상을 갖는, UV 광 경화 시스템.
  15. UV 광 경화 시스템을 설계하는 방법으로서,
    (a) 주어진 UV 광 발생원 크기 및 분산으로 미리 결정된 타겟 위치에 원하는 광 조사를 제공하도록 일차 반사체를 설계하는 단계; 및
    (b) 상기 미리 결정된 타겟 위치에 전체 조사의 증가를 제공하기 위해, 상기 일차 반사체로부터의 광을 반사시키도록 구성된 이차 반사체를 설계하는 단계를 포함하는, 방법.
  16. 청구항 15에 있어서, 단계 (b)는 상기 미리 결정된 타겟 위치의 타겟을 봉입하는 인클로저의 적어도 일부를 둘러싸도록 상기 이차 반사체를 설계하는 단계를 포함하되, 상기 이차 반사체는 상기 이차 반사체의 제1 단부로부터 상기 이차 반사체의 제2 단부까지 곡선 경로를 따르고, 상기 이차 반사체가 상기 인클로저를 둘러싸는 비율은 상기 이차 반사체의 상기 제1 단부를 상기 이차 반사체의 상기 제2 단부를 연결하는 가상선에 의해 결정될 수 있고, 상기 이차 반사체는 상기 인클로저의 길이의 일부를 따라 위치되도록 구성되며, 상기 이차 반사체는 상기 인클로저의 상기 길이의 상기 일부로 상기 인클로저의 적어도 40%를 둘러싸도록 구성되는, 방법.
  17. 청구항 16에 있어서, 상기 이차 반사체는 상기 인클로저의 상기 길이의 상기 일부로 상기 인클로저의 적어도 40%를 둘러싸도록 구성되는, 방법.
  18. 청구항 15 내지 17 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (b)는 복합 곡선에 의해 정의되는 형상을 갖는 반사 표면을 포함하도록 상기 이차 반사체를 설계하는 단계를 포함하는, 방법.
  19. 청구항 15 내지 18 중 어느 한 항에 있어서, 상기 일차 반사체 및 상기 미리 결정된 타겟 위치 사이에 위치되도록 구성된 적어도 하나의 삼차 반사체를 설계하는 단계를 더 포함하되, 상기 적어도 하나의 삼차 반사체는 상기 이차 반사체로부터의 광을 다시 상기 미리 결정된 타겟 위치를 향해 반사시키도록 구성되는, 방법.
  20. 청구항 15 내지 19 중 어느 한 항에 있어서, 상기 UV 경화 시스템의 타겟의 길이를 따라 복수의 서브 시스템의 각각에 대한 위치를 결정하는 단계를 포함하되, 상기 복수의 서브 시스템의 각각은 각각의 UV 광 발생원, 단계 (a)에서 설계된 상기 일차 반사체의 각각, 및 단계 (b)에서 설계된 상기 이차 반사체의 각각을 포함하는, 방법.
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