KR20170088179A - 커브드형 회로기판 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 커브드형 회로기판을 개시한 것으로, 이러한 본 발명은 일정곡률의 굴곡성을 유지하는 커브드형 회로기판을 구성함에 있어, 그 회로기판을 다단 적층 구조를 이루는 시트부재로 제작하되, 다단 적층되는 시트부재에 각각 함유되는 경화성수지의 함지율(RC)을 차별화시킨 것이며, 이에따라 회로기판을 일정곡률의 굴곡성이 일정하게 유지되도록 제작한 후 이를 가전기기 등에 적용시 공간 활용도를 극대화시킬 수 있고, 더불어 다단 적층 구조를 이루는 시트부재 사이에 열가소성 수지로 이루어진 보강시트를 추가 구성하여, 일정비율의 함지율을 가지는 시트부재내 경화성수지의 유실로 인해 커브드형 회로기판의 굴곡성이 변형되는 것을 방지하도록 한 것이다.
Description
본 발명은 커브드형 회로기판(Curved type PCB)에 관한 것으로, 보다 상세하게는 다단으로 이루어진 시트부재의 적층을 통해 기판 제작시, 다단 적층되는 시트부재들의 함지율(RC; Resin Content)을 차별화시켜 일정곡률의 굴곡성을 유지하게 되는 커브드형 회로기판에 관한 것이다.
일반적으로, 전자기기의 소형화, 고밀도화에 따라 다층의 회로기판이 강하게 요망되고 있으며, 이러한 회로기판은 플렉시블한 특성을 가지는 것으로, 이는 공개특허공보 제 10-2007-0087981 호(공개일 2007.08.29), 등록특허공보 제 10-0737057 호(공고일 2007.07.06)호에 개시되어 있다.
그러나, 상기와 같은 회로기판은 플렉시블한 특성을 가지는 것으로, 그 회로기판이 일정곡률의 굴곡성을 일정하게 유지하지는 못하였다.
즉, 상기의 회로기판들은 플렉시블한 특성으로 인해 굽힘이 가능한 것이지만, 그 굽힘상태가 일정하게 유지되는 것은 아니다.
이에 본원출원인은 권리이전을 통해 취득한 등록특허공보 제 10-1460475 호(공고일 2014.11.10, 이하 선행특허1 이라함)는 물론, 등록특허공보 제 10-1554304 호(공고일 2015.09.18, 이하 선행특허2 이라함)를 통해, 일정곡률의 굴곡성을 유지하는 커브드형 리지드 기판을 개시하였고, 본 발명은 이러한 선행특허1,2를 개량한 것이다.
본 발명은 일정곡률의 굴곡성을 유지하는 커브드형 회로기판을 구성함에 있어, 그 회로기판을 다단 적층 구조를 이루는 시트부재로 제작하되, 다단 적층되는 시트부재에 각각 함유되는 경화성수지의 함지율(RC; Resin Content)을 차별화시킴으로써, 일정곡률의 굴곡성을 일정하게 유지하는 커브드형 회로기판을 제공함에 그 목적이 있는 것이다.
본 발명의 다른 목적으로는, 다단 적층 구조를 이루는 시트부재의 사이에 열가소성 수지로 이루어진 보강시트를 구성하여, 일정비율의 함지율을 가지는 시트부재내 경화성수지의 유실로 인해 커브드형 회로기판의 굴곡성이 변형되는 것을 방지할 수 있도록 하는 커브드형 회로기판을 제공하려는 것이다.
상기 목적 달성을 위한 본 발명의 커브드형 회로기판은, 경화성수지가 함유된 시트부와 회로형성부의 적층 구조로 이루어진 기준 시트층; 경화성수지가 함유된 시트부와 회로형성부의 적층 구조로 이루어지며, 상기 기준 시트층에 적층되어 접합되는 제 1 시트층; 및, 경화성수지가 함유된 시트부와 회로형성부의 적층 구조로 이루어지며, 상기 제 1 시트층에 적층되어 접합되는 제 2 시트층; 을 포함하여 구성하고, 상기 기준 시트층과 상기 제 1,2 시트층이 적층시 일정곡률의 굴곡성이 유지되도록, 상기 기준 시트층을 이루는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율은 일정비율로 설정하고, 상기 제 1 시트층을 이루는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율은 상기 기준 시트층을 이루는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율보다 낮은 비율을 가지도록 설정하며, 상기 제 2 시트층을 이루는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율은 상기 기준 시트층을 이루는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율보다는 낮은 비율로 설정하고, 상기 제 1 시트층을 이루는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율과 같거나 높은 비율로 설정 구성한 것이다.
또한, 상기 기준 시트층은 단수 또는 복수층으로 구성한 것이다.
또한, 상기 제 1,2 시트층은 복수층으로 구성한 것이다.
또한, 상기 기준 시트층과 상기 제 1,2 시트층에 포함되는 시트부는 경화성수지를 함유하는 프리프레그이고, 상기 회로형성부는 금속재의 포일시트이며, 상기 함지율은 상기 프리프레그내에 함유되는 상기 경화성수지의 질량비율인 것이다.
또한, 상기 기준 시트층에 포함되는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율은 70%∼75% 범위내의 질량 비율인 것이다.
또한, 상기 제 1 시트층에 포함되는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율은 40%∼70% 범위내의 질량 비율인 것이다.
또한, 상기 제 2시트층에 포함되는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율은 50%∼70% 범위내의 질량 비율인 것이다.
또한, 상기 기준 시트층과 상기 제 1,2 시트층을 적층 구성시 일정곡률의 굴곡성 유지를 위해 일정시간동안 경화시키되, 그 경화시간은 165∼175℃ 의 온도범위내에서 일정시간동안 경화시키는 것이다.
또한, 상기 프리프레그는 격자 구조를 가지도록 구성하되, 상기 격자 구조는 기준 시트층과 제 1,2 시트층의 적층 구조로 이루어지는 회로기판에 대한 일정곡률의 굴곡성 유지를 보강하도록 0.3∼0.7㎜ 범위내의 간격으로 구성한 것이다.
또한, 상기 기준시트층과 제 1 시트층 또는 상기 제 1 시트층과 상기 제 2 시트층의 사이에는 상기 기준시트층과 제 1,2 시트층에 포함되는 시트부에 각각 함유된 경화성수지의 유실로 함지율이 변화되어 회로기판에 대한 굴곡성이 변형되는 것을 방지시키도록 굴곡성 유지용의 보강시트를 적층 구성하는 것이다.
또한, 상기 보강시트는 열가소성 수지인 것이다.
또한, 상기 열가소성 수지는 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate) 또는 폴리이미드(Polyimide)인 것이다.
이와 같이, 본 발명은 일정곡률의 굴곡성을 유지하는 커브드형 회로기판을 구성함에 있어, 그 회로기판을 다단 적층 구조를 이루는 시트부재로 제작하되, 다단 적층되는 시트부재에 각각 함유되는 경화성수지의 함지율(RC)을 차별화시킨 것으로, 이를 통해 회로기판을 일정곡률의 굴곡성이 일정하게 유지되도록 제작하면서, 이를 가전기기 등에 적용시 공간 활용도를 극대화시키는 효과를 기대할 수 있고, 더불어 다단 적층 구조를 이루는 시트부재 사이에 열가소성 수지로 이루어진 보강시트를 추가 구성하여, 일정비율의 함지율을 가지는 시트부재내 경화성수지의 유실로 인해 커브드형 회로기판의 굴곡성이 변형되는 것을 방지할 수 있도록 하는 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예로 커브드형 회로기판의 구조를 보인 개략적인 사시도.
도 2는 본 발명의 실시예로 커브드형 회로기판의 적층 구조를 보인 단면 구조도.
도 3은 본 발명의 다른실시예로 보강시트를 적용한 커브드형 회로기판의 적층 구조를 보인 단면 구조도.
도 2는 본 발명의 실시예로 커브드형 회로기판의 적층 구조를 보인 단면 구조도.
도 3은 본 발명의 다른실시예로 보강시트를 적용한 커브드형 회로기판의 적층 구조를 보인 단면 구조도.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명 기술적 사상의 실시예에 있어서 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명 기술적 사상의 실시예에 있어서 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다.
본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
또한, 본 명세서에서 기술하는 실시 예들은 본 발명의 이상적인 예시도인 단면도 및/또는 평면도들을 참고하여 설명될 것이다. 도면들에 있어서, 막 및 영역들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. 따라서, 제조 기술 및/또는 허용 오차 등에 의해 예시도의 형태가 변형될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되거나 필요한 형태의 변화도 포함하는 것이다. 예를 들면, 직각으로 도시된 영역은 라운드 지거나 소정 곡률을 가지는 형태일 수 있다. 따라서, 도면에서 예시된 영역들은 개략적인 속성을 가지며, 도면에서 예시된 영역들의 모양은 장치의 영역의 특정 형태를 예시하기 위한 것이며 발명의 범주를 제한하기 위한 것이 아니다.
명세서 전문에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 따라서, 동일한 참조 부호 또는 유사한 참조 부호들은 해당 도면에서 언급 또는 설명되지 않았더라도, 다른 도면을 참조하여 설명될 수 있다. 또한, 참조 부호가 표시되지 않았더라도, 다른 도면들을 참조하여 설명될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 실시예로 커브드형 회로기판의 구조를 보인 개략적인 사시도이고, 도 2는 본 발명의 실시예로 커브드형 회로기판의 적층 구조를 보인 단면 구조도를 도시한 것이다.
첨부된 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 커브드형 기판(A)은, 단수 또는 복수층으로 이루어진 기준시트층(10 및/또는 10'), 그리고 복수층으로 이루어지는 제 1 시트층(20,20')과 제 2 시트층(30,30')을 포함하는 것이다.
여기서, 상기 기준시트층(10 및/또는 10')과 제 1,2 시트층(20,20')(30,30')은 동일한 구성요소로서, 경화성수지를 함유한 프리프레그(prepreg)인 시트부와 구리 금속재의 포일시트로 이루어진 회로형성부의 적층 구조를 가지는 것이다.
즉, 상기 기준 시트층(10)은 단수층으로 구성시, 단수층을 이루는 기준 시트층(10)은 경화성수지를 함유한 프리프레그인 시트부(S1)에 구리 금속재의 포일시트인 회로형성부(P1)를 적층하여 구성한 것이다.
그리고, 상기 기준 시트층(10,10')을 복수층으로 구성시, 복수층을 이루는 하나의 기준 시트층(10)은 경화성수지를 함유한 프리프레그인 시트부(S1)에 구리 금속재의 포일시트인 회로형성부(P1)를 적층하여 구성한 것이고, 다른 하나의 기준 시트층(10')은 경화성수지를 함유한 프리프레그인 시트부(S2)에 구리 금속재의 포일시트인 회로형성부(P2)를 적층하여 구성한 것이다.
여기서, 상기 기준 시트층(10,10')을 복수층으로 구성시, 복수층을 이루는 상기 기준 시트층(10,10')은 적층 구조를 이루는 것이고, 적층시 시트부(S1), 회로형성부(P1), 시트부(S2), 회로형성부(P2)의 순서로 적층이 이루어지도록 구성하여둔 것이다.
상기 제 1 시트층(20,20')은 복수층으로 구성되며, 하나의 제 1 시트층(20)은 경화성수지를 함유한 프리프레그인 시트부(S3)에 구리 금속재의 포일시트인 회로형성부(P3)를 적층하여 구성한 것이고, 다른 하나의 제 1 시트층(20')은 경화성수지를 함유한 프리프레그인 시트부(S4)에 구리 금속재의 포일시트인 회로형성부(P4)를 적층하여 구성하여둔 것이다.
여기서, 상기 제 1 시트층(20,20')은 단수 또는 복수층을 이루는 상기 기준 시트층(10 및/또는 10')의 양면에 적층되는 것으로, 상기 기준 시트층(10 및/또는 10')의 평면에는 하나의 상기 제 1 시트층(20)이 적층 구성되고, 저면에는 다른 하나의 상기 제 1 시트층(20')이 적층되도록 구성하여둔 것이다.
즉, 상기 기준 시트층(10)이 단수층인 경우, 상기 시트부(S1)를 기준으로 하여 평면 방향으로는 회로형성부(P1)와 시트부(S3) 및 회로형성부(P3)의 순서로 적층 구조를 이루며, 상기 시트부(S1)를 기준으로 하여 저면방향으로는 회로형성부(P4)와 시트부(S4)의 순서로 적층 구조를 이루는 것이다.
그리고, 상기 기준 시트층(10)이 복수층인 경우, 상기 시트부(S1)를 기준으로 하여 평면 방향으로는 회로형성부(P1)와 시트부(S3) 및 회로형성부(P3)의 순서로 적층 구조를 이루며, 상기 시트부(S1)를 기준으로 하여 저면방향으로는 회로형성부(P2), 시트부(S2), 회로형성부(P4), 시트부(S4)의 순서로 적층 구조를 이루는 것이다.
상기 제 2 시트층(30,30')은 복수층으로 구성되며, 하나의 제 3 시트층(30)은 경화성수지를 함유한 프리프레그인 시트부(S5)에 구리 금속재의 포일시트인 회로형성부(P5)를 적층하여 구성한 것이고, 다른 하나의 제 2 시트층(30')은 경화성수지를 함유한 프리프레그인 시트부(S6)에 구리 금속재의 포일시트인 회로형성부(P6)를 적층하여 구성하여둔 것이다.
여기서, 상기 제 2 시트층(30,30')은 상기 제 1 시트층(20,20')에 적층되는 것으로, 하나의 상기 제 1 시트층(20)에는 하나의 상기 제 2 시트층(30)이 적층 구성되고, 다른 하나의 상기 제 1 시트층(20')에는 다른 하나의 상기 제 2 시트층(30')이 적층되도록 구성하여둔 것이며, 상기 제 2 시트층(30')에는 외부에 회로형성부(P7)를 더 포함하는 것이다.
한편, 상기와 같이 단수 또는 복수층을 이루는 기준시트층(10 및/또는 10')과 제 1,2 시트층(20,20')(30,30')이 적층 구조를 이룬 상태에서, 상기 적층 구조를 경화시켜 회로기판(A)을 제작시, 적층 구조를 이루는 상기 기준시트층(10 및/또는 10')과 제 1,2 시트층(20,20')(30,30')에 각각 포함되는 프리프레그인 상기 시트부(S1 및/또는 S2)(S3,S4)(S5,S6)내에 각각 함유되는 경화성수지의 함지율(RC)을 서로 다르게 설정하였으며, 상기와 같은 서로 다른 함지율(RC)을 통해 상기 회로기판(A)에 대한 일정곡률의 굴곡성을 일정하게 유지시킬 수 있도록 구성하여둔 것이다.
즉, 상기 기준 시트층(10 및/또는 10')을 이루는 시트부(S1 및/또는 S2)에 함유된 경화성수지의 함지율(RC)은 프리그레그의 질량비율 100%에 대하여 70%∼75% 범위내에서 경화성 수지의 질량 비율을 설정한다.
그리고, 상기 제 1 시트층(20,20')을 이루는 시트부(S3,S4)에 함유된 경화성수지의 함지율(RC)은 상기 기준 시트층(10 및/또는 10')을 이루는 시트부(S1 및/또는 S2)에 함유된 경화성수지의 함지율(RC)보다 낮은 프리프레그의 질량비율 100%에 대하여 40%∼70% 범위내에서 경화성수지의 질량비율을 설정하여둔 것이다.
또한, 상기 제 2 시트층(30,30')을 이루는 시트부(S5,S6)에 함유된 경화성수지의 함지율(RC)은 상기 기준 시트층(10 및/또는 10')을 이루는 시트부(S1 및/또는 S2)에 함유된 경화성수지의 함지율(RC)보다는 낮은 비율이고, 상기 제 1 시트층(20,20')을 이루는 시트부(S3,S4)에 함유된 경화성수지의 함지율(RC)와는 같거나 높은 비율로서 프리프레그의 질량비율 100%에 대하여 50%∼70% 범위내에서 경화성수지의 질량비율을 설정하여둔 것이다.
즉, 상기 기준시트층(10 및/또는 10')과 제 1,2 시트층(20,20)(30,30')에 포함되는 시트부(S1 및/또는 S2)(S3,S4)(S5)(S6)에 함유된 경화성수지의 함지율(RC)을 상기 설명과 같이 서로 다르게 설정한 상태에서, 상기 기준시트층(10 및/또는 10')과 제 1,2 시트층(20,20)(30,30')을 적층하여 경화시키면, 서로 다른 경화성수지의 함지율(RC)로부터, 적층 구조를 이루는 상기 기준시트층(10 및/또는 10')의 경화에 따른 성형 상태와, 상기 제 1 시트층(20,20)의 경화에 따른 성형 상태, 그리고 상기 제 2 시트층(30,30')의 경화에 따른 성형 상태가 각각 다르게 나타나면서, 상기 기준시트층(10 및/또는 10')과 제 1,2 시트층(20,20)(30,30')의 적층 구조로 이루어진 회로기판(A)은 일정곡률의 굴곡성을 가지는 커브드 형상으로 제작할 수 있는 것이다.
여기서, 상기 경화에 따른 성형상태라 함은, 프리프레그에 포함되는 경화성수지의 질량비율(또는 두께 또는 무게)이 서로 다르게 나타나게 성형하는 것을 설명하는 것이고, 그 두께 또는 무게의 변화량으로부터 회로기판(A)이 플렉시블한 상태로서 원래의 형태로 복원되는 것이 아니라 일정곡률의 굴곡성을 항상 일정하게 유지할 수 있도록 하기 위함인 것이다.
이때, 상기와 같이 커브드형 회로기판(A)을 이루기 위해 적층되는 상기 기준시트층(10 및/또는 10')과 제 1,2 시트층(20,20)(30,30')의 경화시, 그 경화시간은 165∼175℃ 범위(바람직하게는 171℃)내에서 일정시간(예; 125sec)동안 진행하는 것이 가장 좋지만, 반드시 이러한 온도와 시간에 한정하지는 않는다.
또한, 상기 시트부(S1 및/또는 S2)(S3,S4)(S5,S6)를 이루는 프리프레그내에서 일정비율의 함지율(RC)을 가지도록 함유되는 경화성수지는 그 질량비율에 따라 묽거나 짙거나 하는 액체성 흐름을 가지는 것이며, 그 액체성 흐름은 100%의 액체성에 대하여 40%의 비율을 유지하는 액체성을 가지도록 한 것이다.
더불어, 상기 프리프레그는 격자 구조를 가지도록 구성하되, 상기 격자 구조는 기준 시트층(10 및/또는 10')과 제 1,2 시트층(20,20')(30.30')의 적층 구조로 이루어지는 커브드형 회로기판(A)에 대한 일정곡률의 굴곡성 유지를 보강하도록 0.3∼0.7㎜ 범위(바람직하게는 0.5㎜)내의 간격을 유지하도록 구성하여둔 것이다.
여기서, 상기와 같이 격자구조의 간격을 촘촘하게 하는 것은, 상기 커브드형 회로기판(A)의 굴곡성을 더욱 향상시킬 수 있기 때문인 것이다.
또한, 상기에서 설명하는 회로형성부(P1 및/또는 P2)(P3,P4)(P5,P6)는 금속재(예; CU)의 포일시트(Foil Sheet)로, 이는 에칭 공정을 통해 회로패턴을 형성할 수 있는 것이다.
한편, 첨부된 도 3은 본 발명의 다른실시예로, 이는 상기 기준시트층(10 또는 10')과 제 1 시트층(20,20')의 사이 또는 상기 제 1 시트층(20,20')과 상기 제 2 시트층(30,30')의 사이에 각각 선택적으로 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate) 또는 폴리이미드(Polyimide)로 이루어진 열가소성 수지의 보강시트(40)를 적층 구성한 것이다.
즉, 본 발명의 다른실시예는, 상기 기준시트층(10 또는 10')과 제 1,2 시트층(20,20'(30,30')에 포함되는 시트부(S1 또는 S2)(S3,S4)(S5,S6)에 각각 함유된 경화성수지의 유실되면서 그 함지율이 설정된 범위를 벗어나, 커브드형 회회로기판(A)의 굴곡성이 일정하게 유지되지 못하고 변형되는 것을 방지하기 위함인 것이다.
일예로, 열경화성 수지는 점성을 가지는 것인데, 이러한 열경화성 수지를 함유한 시트부(S1 또는 S2)(S3,S4)(S5,S6)를 패턴형성부(P1 또는 P2)(P3,P4)(P5,P6)과 함께 다단 적층시키면서 커브드형 회로기판(A)을 제작하고 이를 사용시, 상기 열경화성 수지가 유실되는 문제가 발생할 수 있다.
이에, 본 발명의 다른실시예에서는, 열경화성 수지의 유실로 인해 시트부(S1 또는 S2)(S3,S4)(S5,S6)내의 열경화성 수지에 대한 함지율이 회로기판(A)을 초기 제작시 설정된 함지율을 유지하지 못하면서 커브드형 회로기판(A)의 굴곡성 유지가 어려워지는 문제를 감안하여, 열가소성 수지로 제작되는 보강시트(40)를 상기 기준시트층(10 또는 10')과 제 1 시트층(20,20')의 사이 또는 상기 제 1 시트층(20,20')과 상기 제 2 시트층(30,30')의 사이에 각각 선택적으로 적층 구성함으로써, 상기 보강시트(40)가 열경화성 수지의 유실에 따른 회로기판(A)의 굴곡성을 보완할 수 있도록 하는 것이다.
이상에서 본 발명의 커브드형 회로기판에 대한 기술사상을 첨부도면과 함께 서술하였지만, 이는 본 발명의 가장 양호한 실시예를 예시적으로 설명한 것이지 본 발명을 한정하는 것은 아니다.
따라서, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와같은 변경은 청구범위 기재의 범위내에 있게 된다.
10,10; 기준 시트층
20,20'; 제 1 시트층
30,30'; 제 2 시트층
40; 보강시트
A; 커브드형 회로기판
S1,S2,S3,S4,S5,S6; 시트부
P1,P2,P3,P4,P5,P6,P7; 회로형성부
20,20'; 제 1 시트층
30,30'; 제 2 시트층
40; 보강시트
A; 커브드형 회로기판
S1,S2,S3,S4,S5,S6; 시트부
P1,P2,P3,P4,P5,P6,P7; 회로형성부
Claims (12)
- 경화성수지가 함유된 시트부와 회로형성부의 적층 구조로 이루어진 기준 시트층; 경화성수지가 함유된 시트부와 회로형성부의 적층 구조로 이루어지며, 상기 기준 시트층에 적층되어 접합되는 제 1 시트층; 및, 경화성수지가 함유된 시트부와 회로형성부의 적층 구조로 이루어지며, 상기 제 1 시트층에 적층되어 접합되는 제 2 시트층; 을 포함하여 구성하고,
상기 기준 시트층을 이루는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율은 일정비율로 설정하고,
상기 제 1 시트층을 이루는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율은 상기 기준 시트층을 이루는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율보다 낮은 비율을 가지도록 설정하며,
상기 제 2 시트층을 이루는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율은 상기 기준 시트층을 이루는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율보다는 낮은 비율이고, 상기 제 1 시트층을 이루는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율과 같거나 높은 비율로 설정 구성하는 것을 특징으로 하는 커브드형 회로기판. - 제 1 항에 있어서, 상기 기준 시트층은 단수 또는 복수층으로 구성하는 것을 특징으로 하는 커브드형 회로기판.
- 제 2 항에 있어서, 상기 제 1,2 시트층은 복수층으로 구성하는 것을 특징으로 하는 커브드형 회로기판.
- 제 2 항에 있어서,
상기 기준 시트층과 상기 제 1,2 시트층에 포함되는 시트부는 경화성수지를 함유하는 프리프레그이고,
상기 회로형성부는 금속재의 포일시트이며,
상기 함지율은 상기 프리프레그내에 함유되는 상기 경화성수지의 질량비율인 것을 특징으로 하는 커브드형 회로기판. - 제 2 항에 있어서, 상기 기준 시트층에 포함되는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율은 70%∼75% 범위내의 질량 비율인 것을 특징으로 하는 커브드형 회로기판.
- 제 2 항에 있어서, 상기 제 1 시트층에 포함되는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율은 40%∼70% 범위내의 질량 비율인 것을 특징으로 하는 커브드형 회로기판.
- 제 2 항에 있어서, 상기 제 2시트층에 포함되는 시트부에 함유된 경화성수지의 함지율은 50%∼70% 범위내의 질량 비율인 것을 특징으로 하는 커브드형 회로기판.
- 제 2 항에 있어서, 상기 기준 시트층과 상기 제 1,2 시트층을 적층 구성시 일정곡률의 굴곡성 유지를 위해 일정시간동안 경화시키되, 그 경화시간은 165∼175℃ 의 온도범위내에서 일정시간동안 경화시키는 것을 특징으로 하는 커브드형 회로기판.
- 제 4 항에 있어서, 상기 프리프레그는 격자 구조를 가지도록 구성하되, 상기 격자 구조는 기준 시트층과 제 1,2 시트층의 적층 구조로 이루어지는 회로기판에 대한 일정곡률의 굴곡성 유지를 보강하도록 0.3∼0.7㎜ 범위내의 간격으로 구성하는 것을 특징으로 하는 커브드형 회로기판.
- 제 1 항에 있어서,
상기 기준시트층과 제 1 시트층 또는 상기 제 1 시트층과 상기 제 2 시트층의 사이에는 상기 기준시트층과 제 1,2 시트층에 포함되는 시트부에 각각 함유된 경화성수지의 유실로 함지율이 변화되어 회로기판에 대한 굴곡성이 변형되는 것을 방지시키도록 굴곡성 유지용의 보강시트를 적층 구성하는 것을 특징으로 하는 커브드형 회로기판. - 제 10 항에 있어서, 상기 보강시트는 열가소성 수지인 것을 특징으로 하는 커브드형 회로기판.
- 제 11 항에 있어서, 상기 열가소성 수지는 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate) 또는 폴리이미드(Polyimide)인 것을 특징으로 하는 커브드형 회로기판.
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