KR20170084152A - Metal surface treatment liquid, method for producing surface-treated metal material, and surface-treated metal material - Google Patents

Metal surface treatment liquid, method for producing surface-treated metal material, and surface-treated metal material Download PDF

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Abstract

본 발명은, 내식성, 내가공성, 내약품성, 도막 밀착성 및 도장 후 내식성이 우수한 표면 처리 금속 재료를 얻을 수 있는 금속 표면 처리액을 제공한다. 본 발명의 금속 표면 처리액은, 블록제에 의해 블록된 이소시아네이트기를 갖고, 또한 이소시아누레이트 구조 및 폴리알킬렌옥시 사슬을 갖는 블록 이소시아네이트 (A) 와, 하이드록실기, 아미노기, 술포기 및 카르복실기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 관능기를 갖는 유기 수지 (B) 를 함유한다.The present invention provides a metal surface treatment liquid capable of obtaining a surface-treated metal material excellent in corrosion resistance, porosity, chemical resistance, coating film adhesion and corrosion resistance after coating. The metal surface treatment liquid of the present invention is characterized by comprising a block isocyanate (A) having an isocyanate group blocked by a blocking agent and having an isocyanurate structure and a polyalkyleneoxy chain, a hydroxyl group, an amino group, a sulfo group and a carboxyl group (B) having at least one functional group selected from the group consisting of an organic resin

Description

금속 표면 처리액, 표면 처리 금속 재료의 제조 방법, 표면 처리 금속 재료 {METAL SURFACE TREATMENT LIQUID, METHOD FOR PRODUCING SURFACE-TREATED METAL MATERIAL, AND SURFACE-TREATED METAL MATERIAL}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a metal surface treatment liquid, a method for producing a surface treatment metal material, a surface treatment metal material,

본 발명은 금속 표면 처리액, 표면 처리 금속 재료의 제조 방법, 및 표면 처리 금속 재료에 관한 것이다.The present invention relates to a metal surface treatment liquid, a method for producing a surface-treated metal material, and a surface-treated metal material.

가정 전화 제품, 자동차, 건축 재료 등의 각 분야에 있어서, 내식성이나 도막 밀착성의 부여를 목적으로 하여, 강판 등의 금속 재료에 크로메이트 처리를 실시하는 기술이 일반적으로 사용되고 있다. 그러나, 통상적으로 크로메이트 처리 피막은 환경 부하성이 높은 6 가의 크롬을 함유하므로, 최근, 피막의 6 가 크롬 프리화에 대한 요망이 높아지고 있으며, 여러 가지 기술이 제안되어 있다.BACKGROUND ART [0002] In the fields of home telephone products, automobiles, building materials and the like, a technique of performing chromate treatment on a metal material such as a steel sheet for the purpose of imparting corrosion resistance or coating film adhesion is generally used. However, chromate-treated films usually contain hexavalent chromium having a high environmental load. Recently, there has been a growing demand for hexavalent chromium-free films, and various techniques have been proposed.

예를 들어, 특허문헌 1 에 있어서는, 금속 재료 상에 폴리우레탄 수지를 주성분으로 하는 우레탄계 수지 피막을 갖는 도장 금속 재료가 개시되어 있고, 내식성이나 내가공성이 우수하다는 취지가 기재되어 있다.For example, Patent Document 1 discloses a coated metal material having a urethane-based resin coating mainly composed of a polyurethane resin on a metal material, and describes that it is excellent in corrosion resistance and porosity.

일본 공개특허공보 2007-075777호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-075777

한편, 최근, 각종 제품의 고기능화에 수반하여, 사용되는 금속 재료에 대한 요구 성능도 보다 높아지고 있다.On the other hand, in recent years, along with the enhancement of various kinds of products, the required performance for the metal material to be used is higher.

예를 들어, 특허문헌 1 에서 요구되는 특성이기도 한 내식성 및 내가공성의 보다 더 나은 향상이 요구되는 것 외에, 금속 재료 표면 상에 배치되는 도막의 밀착성 (도막 밀착성), 도막이 형성된 후의 내식성 (도장 후 내식성), 그리고 산이나 알칼리 등에 대한 내약품성 등이 우수할 것도 요구된다.For example, not only the corrosion resistance which is a characteristic required in Patent Document 1 and the better improvement of the porosity are required but also the adhesion property (film adhesion property) of the coating film disposed on the surface of the metal material and the corrosion resistance after the coating film is formed Corrosion resistance), and chemical resistance to acids and alkalis.

본 발명자들은 특허문헌 1 에 기재되어 있는 바와 같은 우레탄 수지를 사용하여 금속 재료의 표면 처리를 실시하고, 얻어진 표면 처리 금속 재료에 관해 각종 특성을 평가한 결과, 모든 항목을 작금의 요구 레벨에서 만족시키는 것은 없고, 추가적인 개량이 필요한 것을 지견하였다.The present inventors conducted surface treatment of a metal material using a urethane resin as described in Patent Document 1 and evaluated various properties of the obtained surface-treated metal material. As a result, it was found that all items were satisfied at a required level There is no such thing, and it is understood that further improvement is necessary.

본 발명은 상기 실정을 감안하여, 내식성, 내가공성, 내약품성, 도막 밀착성 및 도장 후 내식성이 우수한 표면 처리 금속 재료를 얻을 수 있는 금속 표면 처리액을 제공하는 것을 목적으로 한다.In view of the above-described circumstances, it is an object of the present invention to provide a metal surface treatment liquid which can obtain a surface-treated metal material excellent in corrosion resistance, porosity, chemical resistance, coating film adhesion and corrosion resistance after coating.

또, 본 발명은, 금속 표면 처리액을 사용한 표면 처리 금속 재료의 제조 방법, 및 표면 처리 금속 재료를 제공하는 것도 목적으로 한다.It is another object of the present invention to provide a method for producing a surface-treated metal material using a metal surface treatment liquid and a surface-treated metal material.

본 발명자들은 상기 과제에 대해 예의 검토를 실시한 결과, 소정의 구조를 함유하는 블록 이소시아네이트 및 소정의 관능기를 갖는 유기 수지를 함유하는 금속 표면 처리액을 사용함으로써, 원하는 효과가 얻어지는 것을 지견하였다.As a result of intensive studies on the above problems, the present inventors have found that a desired effect can be obtained by using a metal surface treatment liquid containing a block isocyanate containing a predetermined structure and an organic resin having a predetermined functional group.

보다 구체적으로는, 이하의 구성에 의해 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 알아내었다.More specifically, it has been found that the above object can be achieved by the following constitution.

(1) 블록제에 의해 블록된 이소시아네이트기를 갖고, 또한 이소시아누레이트 구조 및 폴리알킬렌옥시 사슬을 갖는 블록 이소시아네이트 (A) 와,(1) a block isocyanate (A) having an isocyanate group blocked by a blocking agent and having an isocyanurate structure and a polyalkyleneoxy chain, and

하이드록실기, 아미노기, 술포기 및 카르복실기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 관능기를 갖는 유기 수지 (B) 를 함유하는 금속 표면 처리액.An organic resin (B) having at least one functional group selected from the group consisting of a hydroxyl group, an amino group, a sulfo group and a carboxyl group.

(2) 블록 이소시아네이트 (A) 가 후술하는 식 (1) 로 나타내는 구조 단위, 및 후술하는 식 (2) 로 나타내는 구조 단위를 갖는, (1) 에 기재된 금속 표면 처리액.(2) The metal surface treatment liquid according to (1), wherein the block isocyanate (A) has a structural unit represented by the following formula (1) and a structural unit represented by the following formula (2).

(3) 추가로, 무기 인산, 무기 인산염, 유기 인산, 유기 인산염, 유기 포스폰산, 및 유기 포스폰산염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 인 함유 화합물 (D) 를 함유하는, 상기 (1) 또는 (2) 에 기재된 금속 표면 처리액.(3) The positive resist composition as described in (1) above, which further contains at least one phosphorus containing compound (D) selected from the group consisting of inorganic phosphoric acid, inorganic phosphate, organic phosphoric acid, organic phosphate, organic phosphonic acid and organic phosphonic acid salt. ) Or the metal surface treatment liquid according to (2).

(4) 인 함유 화합물 (D) 가, 무기 인산의 암모늄염, 및 유기 포스폰산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는, 상기 (3) 에 기재된 금속 표면 처리액.(4) The metal surface treatment liquid according to (3), wherein the phosphorus-containing compound (D) contains at least one member selected from the group consisting of ammonium salts of inorganic phosphoric acid and organic phosphonic acids.

(5) 블록 이소시아네이트 (A) 와 인 함유 화합물 (D) 의 질량비 (A/D) 가 0.1 ∼ 50 인, 상기 (3) 또는 (4) 에 기재된 금속 표면 처리액.(5) The metal surface treatment liquid according to the above (3) or (4), wherein the mass ratio (A / D) of the block isocyanate (A) and the phosphorus containing compound (D) is 0.1 to 50.

(6) 추가로, 지르코늄, 티탄, 바나듐, 세륨, 몰리브덴, 코발트, 니켈, 마그네슘, 칼슘, 세륨, 아연, 니오브, 이트륨, 알루미늄, 텅스텐, 크롬, 및 바륨으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 원소를 함유하는 금속 화합물 (C) 를 함유하는, 상기 (1) ∼ (5) 중 어느 하나에 기재된 금속 표면 처리액.(6) In addition, at least one selected from the group consisting of zirconium, titanium, vanadium, cerium, molybdenum, cobalt, nickel, magnesium, calcium, cerium, zinc, niobium, yttrium, aluminum, tungsten, chromium, The metal surface treatment liquid according to any one of (1) to (5) above, which contains a metal compound (C) containing an element.

(7) 금속 화합물 (C) 가 지르코늄 원소를 함유하는, 상기 (6) 에 기재된 금속 표면 처리액.(7) The metal surface treatment liquid according to (6), wherein the metal compound (C) contains a zirconium element.

(8) 금속 화합물 (C) 가 탄산지르코늄암모늄, 또는 지르코늄불화수소산 혹은 그 염인, 상기 (6) 또는 (7) 에 기재된 금속 표면 처리액.(8) The metal surface treatment liquid according to the above (6) or (7), wherein the metal compound (C) is zirconium ammonium carbonate, zirconium hydrofluoric acid or a salt thereof.

(9) 블록 이소시아네이트 (A) 에 함유되는 유효 이소시아네이트기의 농도 a (g/ℓ) 와, 유기 수지 (B) 에 함유되는 관능기의 농도 b (g/ℓ) 의 비 {a/b} 가 0.001 ∼ 30.0 인, 상기 (1) ∼ (8) 중 어느 하나에 기재된 금속 표면 처리액.(9) The ratio {a / b} of the effective isocyanate group concentration a (g / l) of the block isocyanate (A) to the concentration b (g / l) of the functional group contained in the organic resin (B) is 0.001 To (30), wherein the metal surface treatment liquid according to any one of (1) to (8) above is used.

(10) 블록 이소시아네이트 (A) 에 함유되는 유효 이소시아네이트기의 농도가 0.01 ∼ 20 g/ℓ 이고, 유기 수지 (B) 의 농도가 5 ∼ 100 g/ℓ 인, 상기 (1) ∼ (9) 중 어느 하나에 기재된 금속 표면 처리액.(10) The resin composition according to any one of (1) to (9), wherein the concentration of the effective isocyanate group in the block isocyanate (A) is 0.01 to 20 g / l and the concentration of the organic resin (B) is 5 to 100 g / A metal surface treatment liquid according to any one of the preceding claims.

(11) 블록 이소시아네이트 (A) 의 중량 평균 분자량이 400 ∼ 15000 인, 상기 (1) ∼ (10) 중 어느 하나에 기재된 금속 표면 처리액.(11) The metal surface treatment liquid according to any one of (1) to (10), wherein the block isocyanate (A) has a weight average molecular weight of 400 to 15000.

(12) 추가로, 규소 화합물 (E) 를 함유하는, 상기 (1) ∼ (11) 중 어느 하나에 기재된 금속 표면 처리액.(12) The metal surface treatment liquid according to any one of (1) to (11), further containing a silicon compound (E).

(13) 추가로, 리튬, 나트륨 및 칼륨으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 원소를 함유하는 무기 화합물 (F) 를 함유하는, 상기 (1) ∼ (12) 중 어느 하나에 기재된 금속 표면 처리액.(13) The metal surface treatment according to any one of (1) to (12), further comprising an inorganic compound (F) containing at least one element selected from the group consisting of lithium, sodium and potassium liquid.

(14) 상기 (1) ∼ (13) 중 어느 하나에 기재된 금속 표면 처리액을 금속 재료 표면에 접촉시키고, 가열 건조시켜 금속 재료 상에 피막을 형성하는 공정을 구비하는 표면 처리 금속 재료의 제조 방법.(14) A process for producing a surface-treated metal material, comprising the step of bringing the metal surface treatment liquid according to any one of (1) to (13) above into contact with the surface of a metal material and then heating and drying to form a film on the metal material .

(15) 금속 재료와, 금속 재료 상에 상기 (1) ∼ (13) 중 어느 하나에 기재된 금속 표면 처리액을 접촉시키고 가열 건조시켜 형성되는 피막을 구비하는, 표면 처리 금속 재료.(15) A surface-treated metal material comprising a metal material and a coating formed by contacting the metal surface treatment liquid according to any one of (1) to (13) above on a metal material and heating and drying.

본 발명에 의하면, 내식성, 내가공성, 내약품성, 도막 밀착성 및 도장 후 내식성이 우수한 표면 처리 금속 재료를 얻을 수 있는 금속 표면 처리액을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a metal surface treatment liquid capable of obtaining a surface-treated metal material excellent in corrosion resistance, porosity, chemical resistance, coating film adhesion, and corrosion resistance after coating.

또, 본 발명에 의하면, 금속 표면 처리액을 사용한 표면 처리 금속 재료의 제조 방법, 및 표면 처리 금속 재료를 제공할 수도 있다.According to the present invention, it is also possible to provide a method for producing a surface-treated metal material using a metal surface treatment liquid and a surface-treated metal material.

이하, 본 발명의 금속 표면 처리액, 표면 처리 금속 재료 및 그 제조 방법에 대해 상세히 서술한다. 본 발명의 금속 표면 처리액을 사용함으로써 원하는 효과가 얻어지는 이유는, 이하와 같이 추측된다.Hereinafter, the metal surface treatment liquid, the surface-treated metal material and the production method thereof of the present invention will be described in detail. The reason why a desired effect can be obtained by using the metal surface treatment liquid of the present invention is presumed as follows.

블록 이소시아네이트 (A) 는, 산소 원자나 질소 원자를 함유하는 이소시아누레이트 구조나, 산소 원자를 함유하는 폴리알킬렌옥시 사슬 등 분자 내에 많은 극성기를 갖는다. 이들 극성기는, 금속 재료 상의 수산기와 수소 결합을 형성하거나, 가열 건조에 의해 공유 결합을 형성하거나 하여, 결과적으로 피막이 금속 재료에 의해 강고하게 접착된다. 이 특성은, 부식 환경에서 피막하에서 일어나는, 용존 산소의 환원 반응을 거친 pH 상승에 의한 금속 재료와 피막의 결합 절단을 억제하는 작용을 갖는다. 또, 피막과 금속 재료의 계면에서의 접착점이 증가함으로써, 피막의 박리나 피막의 파괴를 억제하는 작용도 갖는다. 그 때문에, 내식성 등의 부식 억제에 유효하게 작용한다.The block isocyanate (A) has many polar groups in the molecule such as an isocyanurate structure containing an oxygen atom or a nitrogen atom, or a polyalkyleneoxy chain containing an oxygen atom. These polar groups form a hydrogen bond with the hydroxyl group on the metal material, or form a covalent bond by heating and drying, and as a result, the film is firmly adhered by the metal material. This property has an effect of inhibiting the bond breaking of the metal material and the film due to the increase in pH through the reduction reaction of dissolved oxygen occurring under the film in the corrosive environment. Further, since the adhesion point at the interface between the film and the metal material increases, the film also has an action of peeling off the coating film and suppressing the destruction of the film. Therefore, it effectively works to suppress corrosion such as corrosion resistance.

또, 금속 표면 처리액에 함유되는 블록 이소시아네이트 (A) 중의 블록제에 의해 블록된 이소시아네이트기 (블록화 이소시아네이트기) 의 대부분은, 가열 건조에 의해 해리되지만, 일부 잔존하는 것으로 생각된다. 이들 미반응의 블록화 이소시아네이트기는, 부식 환경에 있어서 알칼리 가수분해를 일으킬 수 있는 반면, 알칼리 촉매로서 작용하여, 공존하는 반응체와의 반응에 의해 상호 작용 및 새로운 결합을 형성할 수 있다. 그것은, 일종의 수복 (修復) 기능으로서 작용한다. 따라서, 상부 (傷部) 나 단면부 등의 도금의 노출된 지점에 대한 부식 억제능으로서 작용한다.Most of the isocyanate groups (blocked isocyanate groups) blocked by the blocking agent in the block isocyanate (A) contained in the metal surface treatment liquid are dissociated by heating and drying, but some are considered to remain. These unreacted blocked isocyanate groups can cause alkali hydrolysis in a corrosive environment, while they can act as an alkali catalyst and interact and form new bonds by reaction with coexisting reactants. It acts as a kind of restoration function. Therefore, it serves as a corrosion inhibiting ability to the exposed points of the plating such as the upper part (scratches) and the end faces.

또한 본 발명의 금속 표면 처리액으로 형성된 피막은, 극성기를 많이 함유하기 때문에 피막 상에 배치되는 도막과 우수한 밀착성을 발휘한다. 이 경우, 도막에 함유되는 관능기와 피막에 함유되는 관능기의 수소 결합 및/또는 공유 결합의 형성에 의해 우수한 도막 밀착성을 발휘한다.Further, since the coating film formed of the metal surface treatment liquid of the present invention contains a large amount of polar groups, it exhibits excellent adhesion with the coating film disposed on the coating film. In this case, excellent coating film adhesion is exhibited by a hydrogen bond and / or a covalent bond between the functional group contained in the coating film and the functional group contained in the coating film.

또한 본 발명의 금속 표면 처리액으로 형성되는 피막은, 내약품성 (내용제성이나 발수성) 도 효과적으로 작용한다. 이들은, 블록 이소시아네이트 (A) 와 공존하는 유기 수지 (B) 의 경화 반응에 의해 달성된다. 이것은, 경화 반응에 의해 피막 전체의 분자량이 증대되어, 피막 중에 형성되는 치밀한 구조에 의해 부식 인자의 침입 억제가 달성되기 때문이다.Further, the coating formed of the metal surface treatment liquid of the present invention effectively functions also in chemical resistance (solvent resistance and water repellency). These are achieved by the curing reaction of the organic resin (B) coexisting with the block isocyanate (A). This is because the molecular weight of the entire coating is increased by the curing reaction, and the intrusion of the corrosion factor is suppressed by the dense structure formed in the film.

금속 표면 처리액에는, 블록 이소시아네이트 (A) 와, 유기 수지 (B) 가 적어도 함유된다.The metal surface treatment liquid contains at least block isocyanate (A) and organic resin (B).

이하, 금속 표면 처리액에 함유되는 각종 성분에 대해 상세히 서술하고, 그 후, 표면 처리 금속 재료 및 그 제조 방법에 대해 상세히 서술한다.Hereinafter, various components contained in the metal surface treatment liquid will be described in detail, and then the surface-treated metal material and its production method will be described in detail.

<블록 이소시아네이트 (A)>&Lt; Block isocyanate (A) >

금속 표면 처리액에는, 블록제에 의해 블록된 이소시아네이트기 (블록화 이소시아네이트기) 를 갖고, 또한 이소시아누레이트 구조 및 폴리알킬렌옥시 사슬을 갖는 블록 이소시아네이트 (A) 가 함유된다.The metal surface treatment liquid contains a block isocyanate (A) having an isocyanate group (blocked isocyanate group) blocked by a block agent and also has an isocyanurate structure and a polyalkyleneoxy chain.

블록 이소시아네이트란, 이소시아네이트 화합물의 이소시아네이트기를 블록제와 반응시킨 것으로서, 가열함으로써 보호기 (블록제의 잔기) 가 해리되어 이소시아네이트기를 재생하는 것이다. 해리 온도가 낮은 블록 이소시아네이트일수록 비교적 저온에서 이소시아네이트기를 재생한다. 또한, 재생한 이소시아네이트기는, 후술하는 소정의 관능기를 갖는 유기 수지 (B) 와 가교 반응하여 결합을 형성한다.The block isocyanate is obtained by reacting an isocyanate group of an isocyanate compound with a blocking agent, and by heating, a protecting group (a block residue) is dissociated to regenerate the isocyanate group. Block isocyanates with low dissociation temperatures regenerate isocyanate groups at relatively low temperatures. In addition, the regenerated isocyanate group undergoes a crosslinking reaction with an organic resin (B) having a specific functional group to be described later to form a bond.

이소시아네이트기를 블록 (보호) 하기 위해서 사용되는 블록제의 종류는 특별히 제한되지 않고, 통상적으로 활성 수소를 분자 내에 1 개 갖는 화합물이 바람직하게 사용된다.The kind of blocking agent used for blocking (protecting) the isocyanate group is not particularly limited, and a compound having one active hydrogen in the molecule is usually used.

예를 들어, 페놀계 블록제 (예를 들어, 페놀, 크레졸), 락탐계 블록제 (예를 들어, 카프로락탐, 발레로락탐), 옥심계 블록제 (예를 들어, 포름아미드옥심, 아세트아미드옥심, 메틸에틸케톡심), 활성 메틸렌계 블록제 (예를 들어, 말론산디에틸, 말론산디메틸), 알코올계 블록제 (예를 들어, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜모노부틸에테르), 피라졸계 블록제 (예를 들어, 3,5-디메틸피라졸), 메르캅탄계 블록제 (예를 들어, 부틸메르캅탄), 산 아미드계 블록제 (예를 들어, 아세트아닐리드, 아세트산아미드), 이미다졸계 블록제 (예를 들어, 이미다졸), 아민계 블록제 (예를 들어, 디페닐아민, 아닐린), 이민계 블록제 (예를 들어, 에틸렌이민), 우레아계 블록제 (예를 들어, 우레아, 티오우레아) 를 들 수 있고, 옥심계 블록제, 활성 메틸렌계 블록제, 및 피라졸계 블록제를 바람직하게 들 수 있다.For example, a phenolic blocking agent (e.g., phenol, cresol), a lactam-based blocking agent (e.g., caprolactam, valerolactam), an oxime-based blocking agent (such as formamide oxime, Oxime, methyl ethyl ketoxime), active methylene blockers (e.g., diethyl malonate, dimethyl malonate), alcoholic blocking agents (e.g., methanol, ethanol, ethylene glycol monobutyl ether) (For example, 3,5-dimethylpyrazole), a mercapane-based blocking agent (for example, butyl mercaptan), an acid amide-based blocking agent (for example, acetanilide, acetic acid amide) (For example, imidazole), amine based blocking agents (e.g., diphenylamine, aniline), imine blocking agents (e.g., ethyleneimine), urea based blocking agents , Thiourea), and examples thereof include oxime type block agents, active methylene type block agents, and pyrazole type block agents There may be mentioned preferably.

그 중에서도, 1,3-디카르보닐 화합물 또는 함질소 고리형 화합물이 보다 바람직하다.Among them, a 1,3-dicarbonyl compound or a nitrogen-containing cyclic compound is more preferable.

블록제로는, 말로네이트류나 피라졸류 등의 전자 흡인성기를 갖는 블록제가 적합하고, 해리 온도를 저하시키는 효과를 갖는다.A block agent having an electron-withdrawing group such as malonate or pyrazole is suitable as the block-like agent and has an effect of lowering the dissociation temperature.

1 개의 블록제에 의해 모든 이소시아네이트기를 블록해도 되고, 2 종 이상의 블록제를 병용해도 된다.All the isocyanate groups may be blocked by one blocking agent, or two or more blocking agents may be used in combination.

블록 이소시아네이트 (A) 의 해리 온도 (블록화 이소시아네이트기가 해리되는 온도) 는 특별히 제한되지 않지만, 60 ∼ 180 ℃ 인 경우가 많고, 취급성의 점 및 내알칼리성, 도막 밀착성이 보다 우수한 점에서, 80 ∼ 120 ℃ 가 바람직하다.The dissociation temperature of the block isocyanate (A) (the temperature at which the blocked isocyanate group is dissociated) is not particularly limited, but is in the range of 60 to 180 캜 in many cases and is 80 to 120 캜 .

블록 이소시아네이트 (A) 중에 있어서의 블록제에 의해 블록된 이소시아네이트기의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 블록 이소시아네이트 (A) 중에 있어서의 유효 이소시아네이트기의 함유량은, 내식성, 내가공성, 내약품성, 도막 밀착성 및 도장 후 내식성의 적어도 1 개가 보다 우수한 점 (이후, 간단히 「본 발명의 효과가 보다 우수한 점」 이라고도 칭한다) 에서, 블록 이소시아네이트 (A) 전체 질량 중, 0.5 ∼ 10 질량% 가 바람직하고, 1 ∼ 7 질량% 가 보다 바람직하다.The content of the isocyanate group blocked by the blocking agent in the block isocyanate (A) is not particularly limited, but the content of the effective isocyanate group in the block isocyanate (A) is not particularly limited, and the content of the effective isocyanate group in the block isocyanate (A) is preferably from 0.5 to 10% by mass, more preferably from 1 to 7% by mass, in the total mass of the block isocyanate (A) in terms of at least one of the corrosion resistance after coating (hereinafter simply referred to as " % By mass is more preferable.

또한, 유효 이소시아네이트기의 함유량이란, 블록 이소시아네이트 (A) 에 있어서, 블록화 이소시아네이트기로부터 이소시아네이트기를 블록하는 블록기를 해리시킨 후의 이소시아네이트기의 함유량을 나타낸다.The content of the effective isocyanate group means the content of the isocyanate group in the block isocyanate (A) after the block group blocking the isocyanate group is released from the blocked isocyanate group.

유효 이소시아네이트기의 함유량 (농도) 은 이소시아네이트 당량으로 규정되어 있고, JIS K1603-1 에 규정된 방법에 준하여 측정한다. 이소시아네이트 당량은, 1 g 당량의 이소시아네이트기를 함유하는 블록 이소시아네이트 (A) 의 g 중량수이다. 이소시아네이트 당량은 150 ∼ 5000 인 것이 바람직하고, 300 ∼ 4500 인 것이 보다 바람직하고, 400 ∼ 4000 인 것이 더욱 바람직하다.The content (concentration) of the effective isocyanate group is specified by the isocyanate equivalent, and is measured in accordance with the method specified in JIS K1603-1. The isocyanate equivalent is g weight number of the block isocyanate (A) containing 1 g equivalent of isocyanate group. The isocyanate equivalent is preferably 150 to 5000, more preferably 300 to 4500, and even more preferably 400 to 4000.

블록 이소시아네이트 (A) 는, 이소시아누레이트 구조 (이소시아누레이트 고리 구조) 를 갖는다. 이소시아누레이트 구조란, 이하 식 (X) 로 나타내는 구조이다. * 는 결합 위치를 나타낸다.The block isocyanate (A) has an isocyanurate structure (isocyanurate ring structure). The isocyanurate structure is a structure represented by the following formula (X). * Indicates the binding position.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

상기 이소시아누레이트 구조는, 각종 디이소시아네이트 또는 트리이소시아네이트의 이소시아네이트기끼리를 고리화 3 량화하여 얻어진다.The isocyanurate structure is obtained by cyclization of isocyanate groups of various diisocyanates or triisocyanates.

디이소시아네이트로는, 1,4-테트라메틸렌디이소시아네이트, 에틸(2,6-디이소시아네이트)헥사노에이트, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,12-도데카메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4- 또는 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 지방족 디이소시아네이트 ; 1,3- 또는 1,4-비스(이소시아네이트메틸시클로헥산), 1,3- 또는 1,4-디이소시아네이트시클로헥산, 3-이소시아네이트-메틸-3,5,5-트리메틸시클로헥실이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트, 2,5- 또는 2,6-디이소시아네이트메틸노르보르난 등의 지환족 디이소시아네이트 ; m- 또는 p-페닐렌디이소시아네이트, 톨릴렌-2,4- 또는 2,6-디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 1,3-비스(2-이소시아네이트2-프로필)벤젠, 나프탈렌-1,5-디이소시아네이트, 디페닐-4,4'-디이소시아네이트, 4,4'-디이소시아네이트3,3'-디메틸디페닐, 3-메틸-디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 디페닐에테르-4,4'-디이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트 등을 들 수 있다.Examples of the diisocyanate include 1,4-tetramethylene diisocyanate, ethyl (2,6-diisocyanate) hexanoate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 1,12-dodecamethylene diisocyanate, Aliphatic diisocyanates such as 4- or 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate; 1,3- or 1,4-bis (isocyanatomethylcyclohexane), 1,3- or 1,4-diisocyanate cyclohexane, 3-isocyanate-methyl-3,5,5-trimethylcyclohexyl isocyanate, Alicyclic diisocyanates such as hexylmethane-4,4'-diisocyanate, 2,5- or 2,6-diisocyanatomethylnorbornane; m-or p-phenylenediisocyanate, tolylene-2,4- or 2,6-diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, 1,3-bis (2-isocyanate 2-propyl) , Naphthalene-1,5-diisocyanate, diphenyl-4,4'-diisocyanate, 4,4'-diisocyanate 3,3'-dimethyldiphenyl, 3-methyl- And aromatic diisocyanates such as diisocyanate and diphenyl ether-4,4'-diisocyanate.

또, 트리이소시아네이트로는, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이트4-이소시아네이트메틸옥탄, 2-이소시아네이트에틸(2,6-디이소시아네이트)헥사노에이트 등의 지방족 트리이소시아네이트 ; 2,5- 또는 2,6-디이소시아네이트메틸-2-이소시아네이트프로필노르보르난 등의 지환족 트리이소시아네이트 ; 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 트리스(이소시아네이트페닐)티오포스페이트 등의 방향족 트리이소시아네이트를 들 수 있다.Examples of the triisocyanate include aliphatic triisocyanates such as 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, 1,8-diisocyanate 4-isocyanate methyloctane and 2-isocyanate ethyl (2,6-diisocyanate) ; Cycloaliphatic triisocyanates such as 2,5- or 2,6-diisocyanatomethyl-2-isocyanate propyl norbornane; And aromatic triisocyanates such as triphenylmethane triisocyanate, tris (isocyanate phenyl) thiophosphate, and the like.

블록 이소시아네이트 (A) 중에 함유되는 이소시아누레이트 구조의 수는 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 1 ∼ 10 개가 바람직하고, 1 ∼ 4 개가 보다 바람직하다.The number of isocyanurate structures contained in the block isocyanate (A) is not particularly limited, but is preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 4, from the viewpoint of more excellent effects of the present invention.

블록 이소시아네이트 (A) 는, 폴리알킬렌옥시 사슬 (예를 들어, 폴리에틸렌옥시 사슬, 폴리프로필렌옥시 사슬) 을 갖는다.The block isocyanate (A) has a polyalkyleneoxy chain (for example, a polyethyleneoxy chain or a polypropylene oxy chain).

폴리알킬렌옥시 사슬이란, 식 (2) 로 나타내는 구조 단위 (반복 단위) 를 갖는 사슬이다.The polyalkyleneoxy chain is a chain having a structural unit (repeating unit) represented by formula (2).

식 (2) -(L-O)n-(2) - (LO) n -

상기 식 (2) 중, L 은 알킬렌기를 나타낸다. 알킬렌기 중에 함유되는 탄소 원자수는 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 2 ∼ 10 이 바람직하고, 2 ∼ 4 가 보다 바람직하다.In the above formula (2), L represents an alkylene group. The number of carbon atoms contained in the alkylene group is not particularly limited, but is preferably from 2 to 10, and more preferably from 2 to 4, because the effect of the present invention is more excellent.

n 으로 나타내는 구조 단위 (반복 단위) 의 수는 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 2 ∼ 1000 이 바람직하고 (2 ∼ 1000 의 정수가 바람직하고), 5 ∼ 400 이 보다 바람직하고, 10 ∼ 200 이 더욱 바람직하다.The number of the structural units (repeating units) represented by n is not particularly limited, but is preferably 2 to 1000 (preferably an integer of 2 to 1000), more preferably 5 to 400 , More preferably from 10 to 200.

폴리알킬렌옥시 사슬의 분자량은 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 100 ∼ 10000 이 바람직하고, 200 ∼ 5000 이 보다 바람직하다.The molecular weight of the polyalkyleneoxy chain is not particularly limited, but is preferably 100 to 10000, and more preferably 200 to 5000, from the viewpoint of more excellent effects of the present invention.

블록 이소시아네이트 (A) 중에 있어서의 폴리알킬렌옥시 사슬의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 블록 이소시아네이트 (A) 전체 질량 중, 10 ∼ 70 질량% 가 바람직하고, 20 ∼ 60 질량% 가 보다 바람직하다.The content of the polyalkyleneoxy chain in the block isocyanate (A) is not particularly limited, but is preferably 10 to 70% by mass, more preferably 20 to 70% by mass in the total mass of the block isocyanate (A) To 60% by mass is more preferable.

블록 이소시아네이트 (A) 의 중량 평균 분자량은 특별히 제한되지 않지만, 300 ∼ 20000 의 경우가 많고, 취급성이 우수하고, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 400 ∼ 15000 이 바람직하고, 1000 ∼ 7000 이 보다 바람직하다.The weight average molecular weight of the block isocyanate (A) is not particularly limited, but is preferably from 400 to 15000, more preferably from 1000 to 7000, more preferably from 300 to 20,000, More preferable.

또한, 블록 이소시아네이트 (A) 의 중량 평균 분자량은, 형성되는 피막의 물성에 영향을 미친다. 특히, 블록 이소시아네이트 (A) 의 중량 평균 분자량은, 피막에 우수한 탄성이나 강도를 부여하는 점에서, 고분자량 (바람직하게는, 중량 평균 분자량 400 ∼ 15000) 인 것이 바람직하다. 우수한 탄성이나 경도는, 피막에 내가공성, 보다 구체적으로는 내흠집성, 내마모성 등의 기계적 내성을 부여할 뿐만 아니라, 내약품성 등의 화학적 내성을 부여하는 것에도 유효하다. 이렇게 하여 얻어진 피막은, 블록 이소시아네이트 (A) 자체가 갖는 높은 극성에 의해 금속 재료와의 밀착성에 효과적으로 작용한다.The weight average molecular weight of the block isocyanate (A) influences the physical properties of the coating film to be formed. Particularly, the weight average molecular weight of the block isocyanate (A) is preferably a high molecular weight (preferably, a weight average molecular weight of 400 to 15000) from the viewpoint of imparting excellent elasticity and strength to the film. The excellent elasticity and hardness are effective not only in imparting mechanical resistance such as porosity, more specifically scratch resistance and abrasion resistance to the coating, but also imparting chemical resistance such as chemical resistance. The film thus obtained effectively acts on the adhesion with the metal material due to the high polarity of the block isocyanate (A) itself.

블록 이소시아네이트 (A) 는, 자기 유화형 (乳化型) 의 블록 이소시아네이트인 것이 바람직하다. 자기 유화형 블록 이소시아네이트란, 화합물 자신이 물과의 친화성을 갖고, 수중에서 유화 분산될 수 있는 것을 의도한다.It is preferable that the block isocyanate (A) is a self-emulsifying (emulsifying) block isocyanate. The self-emulsifying block isocyanate means that the compound itself has affinity for water and can be emulsified and dispersed in water.

후술하는 금속 표면 처리액 중에 있어서 블록 이소시아네이트 (A) 가 자기 유화되어 있는 경우, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 금속 표면 처리액 중에 있어서의 블록 이소시아네이트 (A) 의 입자의 입자경은 0.01 ∼ 1.0 ㎛ 가 바람직하고, 0.05 ∼ 0.5 ㎛ 가 보다 바람직하다.When the block isocyanate (A) is self-emulsified in the metal surface treatment liquid described later, the particle diameter of the block isocyanate (A) in the metal surface treatment liquid is preferably from 0.01 to 1.0 Mu m, more preferably 0.05 to 0.5 mu m.

(바람직한 양태)(Preferred embodiment)

블록 이소시아네이트 (A) 의 바람직한 양태로는, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 식 (1) 로 나타내는 구조 단위, 및 상기 식 (2) 로 나타내는 구조 단위를 갖는 양태를 들 수 있다. * 는 결합 위치를 나타낸다.Preferred embodiments of the block isocyanate (A) include those having a structural unit represented by the formula (1) and a structural unit represented by the formula (2) in that the effect of the present invention is more excellent. * Indicates the binding position.

[화학식 2](2)

Figure pct00002
Figure pct00002

식 (1) 중, X 는 각각 독립적으로 2 가의 탄화수소기를 나타낸다.In the formula (1), each X independently represents a divalent hydrocarbon group.

2 가의 탄화수소기에 함유되는 탄소 원자수는 특별히 제한되지 않고, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 1 ∼ 20 이 바람직하고, 2 ∼ 20 이 보다 바람직하고, 4 ∼ 12 가 더욱 바람직하다.The number of carbon atoms contained in the divalent hydrocarbon group is not particularly limited and is preferably from 1 to 20, more preferably from 2 to 20, and even more preferably from 4 to 12 from the viewpoint of more excellent effects of the present invention.

2 가의 탄화수소기로는, 2 가의 지방족 탄화수소기, 2 가의 방향족 탄화수소기, 또는 이들의 조합을 들 수 있다. 2 가의 지방족 탄화수소기로는, 직사슬형, 분기 사슬형, 또는 고리형 중 어느 것이어도 된다. 고리형으로는 단고리형 및 다고리형 중 어느 것이어도 되고, 단고리형의 지방족 탄화수소기로는 시클로헥산디일을 들 수 있고, 다고리형의 지방족 탄화수소기로는 아다만탄디일기, 노르보르난디일기 등을 들 수 있다.Examples of the divalent hydrocarbon group include a divalent aliphatic hydrocarbon group, a divalent aromatic hydrocarbon group, or a combination thereof. The bivalent aliphatic hydrocarbon group may be any of linear, branched, and cyclic. Examples of the cyclic aliphatic hydrocarbon group include monocyclic and polycyclic aliphatic hydrocarbon groups. Examples of monocyclic aliphatic hydrocarbon groups include cyclohexanediyl. Examples of polycyclic aliphatic hydrocarbon groups include adamantanediyl group and norbornanediyl group. have.

그 중에서도, 2 가의 탄화수소기로는, 탄소 원자수 1 ∼ 6 의 알킬렌기, 알킬기가 치환되어 있어도 되는 지방족 6 원자 고리기, 또는 알킬기가 치환되어 있어도 되는 자일릴렌기 등을 바람직하게 들 수 있다.Among them, preferred examples of the divalent hydrocarbon group include an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, an aliphatic six-membered ring group in which an alkyl group may be substituted, or a xylylenylene group in which an alkyl group may be substituted.

R1 은 블록제의 잔기를 나타낸다. 블록제의 잔기란, 이소시아네이트기와 반응 가능한 블록제로부터 수소 원자를 제거한 잔기를 의도한다. 블록제의 종류는, 상기 서술한 바와 같다.R 1 represents a residue of a blocking agent. The residues of the blocking agent are intended to be residues from which a hydrogen atom has been removed from a blocking agent capable of reacting with an isocyanate group. The type of block agent is as described above.

그 중에서도, 탄소 원자수 3 ∼ 8 의 알킬아미노기, 탄소 원자수 2 ∼ 8 의 1,3-디카르보닐기, 또는 탄소 원자수 2 ∼ 8 의 피라졸기 등을 바람직하게 들 수 있다.Among them, preferred are an alkylamino group having 3 to 8 carbon atoms, a 1,3-dicarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms, and a pyrazole group having 2 to 8 carbon atoms.

블록 이소시아네이트 (A) 중에 있어서의 식 (1) 로 나타내는 구조 단위의 수는 특별히 제한되지 않지만, 상기 서술한 이소시아누레이트 구조의 수와 동일한 의미이다.The number of the structural units represented by the formula (1) in the block isocyanate (A) is not particularly limited, but is the same as the number of the isocyanurate structures described above.

블록 이소시아네이트 (A) 의 제조 방법은 특별히 제한되지 않고 공지된 방법이 채용되지만, 예를 들어, 디이소시아네이트 등의 폴리이소시아네이트를 반응시켜, 이소시아누레이트 구조를 갖는 폴리이소시아네이트를 제조하고, 그 후, 블록제를 첨가하여 이소시아네이트기의 일부를 보호하고, 또한 폴리알킬렌옥시 화합물을 첨가하는 방법을 들 수 있다. 또한, 폴리알킬렌옥시 화합물은, 상기 서술한 식 (2) 로 나타내는 구조 단위 (반복 단위) 를 갖고, 말단 (바람직하게는, 양 말단) 에 하이드록실기 등의 이소시아네이트기와 반응 가능한 기를 갖는 화합물이다.The method of producing the block isocyanate (A) is not particularly limited, and a known method is employed. For example, a polyisocyanate such as a diisocyanate is reacted to prepare a polyisocyanate having an isocyanurate structure, A block agent is added to protect a part of the isocyanate group, and a polyalkyleneoxy compound is further added. The polyalkyleneoxy compound is a compound having a structural unit (repeating unit) represented by the above-mentioned formula (2) and having a group capable of reacting with an isocyanate group such as a hydroxyl group at the terminal (preferably at both terminals) .

이소시아누레이트 구조를 갖는 폴리이소시아네이트를 합성할 때에는, 필요에 따라, 촉매 (예를 들어, 염기성 촉매) 를 사용해도 된다. 촉매로는, 예를 들어, 테트라알킬암모늄의 하이드로옥사이드나, 알킬카르복실산의 예를 들어 주석, 아연, 납 등의 알킬 금속염이나, 나트륨, 칼륨 등의 금속 알코올레이트나, 헥사메틸디실라잔 등의 아미노실릴기 함유 화합물이나, 마니쉬 염기류나, 제 3 급 아민류와 에폭시 화합물의 병용이나, 트리부틸포스핀 등의 인계 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 1 종만을 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.When a polyisocyanate having an isocyanurate structure is synthesized, a catalyst (for example, a basic catalyst) may be used if necessary. Examples of the catalyst include hydroxides of tetraalkylammonium, alkylcarboxylic acids such as alkyl metal salts such as tin, zinc and lead, metal alcoholates such as sodium and potassium, and hexamethyldisilazane , A Manish base, a combination of a tertiary amine and an epoxy compound, and a phosphorous compound such as tributylphosphine. These may be used alone or in combination of two or more.

또한, 촉매로서 염기성 촉매를 사용한 경우에는, 필요에 따라, 산성 화합물로 중화시키는 것이 바람직하다. 산성 화합물은, 1 종만을 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.When a basic catalyst is used as the catalyst, neutralization with an acidic compound is preferably performed if necessary. The acidic compound may be used alone or in combination of two or more.

<유기 수지 (B)>&Lt; Organic resin (B) >

금속 표면 처리액에는, 하이드록실기, 아미노기, 술포기, 및 카르복실기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 관능기를 갖는 유기 수지 (B) 가 함유된다.The metal surface treatment liquid contains an organic resin (B) having at least one functional group selected from the group consisting of a hydroxyl group, an amino group, a sulfo group and a carboxyl group.

유기 수지 (B) 에는, 하이드록실기, 아미노기, 술포기, 및 카르복실기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 관능기가 함유되고, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 아미노기 또는 카르복실기가 바람직하다.The organic resin (B) is preferably an amino group or a carboxyl group because it contains at least one functional group selected from the group consisting of a hydroxyl group, an amino group, a sulfo group and a carboxyl group and is more excellent in the effect of the present invention.

유기 수지 (B) 의 수지 (수지 구조) 의 종류는 특별히 제한되지 않고, 상기 관능기를 가지고 있으면 되지만, 예를 들어, 상기 관능기를 갖는 에폭시 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지, 아크릴 수지, 아크릴-에틸렌 공중합체, 아크릴-스티렌 공중합체, 알키드 수지, 폴리에스테르 수지 등을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 물 매체 중에서도 분산 가능한 수성 유기 수지인 것이 바람직하다.The type of the resin (resin structure) of the organic resin (B) is not particularly limited and may be any of those having the above functional groups. For example, epoxy resin, urethane resin, phenol resin, acrylic resin, acryl- Acryl-styrene copolymer, an alkyd resin, a polyester resin and the like can be used. Among them, water-soluble organic resins that can be dispersed in water medium are preferred.

유기 수지 (B) 의 구체예로는, 예를 들어, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 비스페놀 S 형 에폭시 수지 등의 방향족형 에폭시 수지, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르 변성물, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르 변성물 등의 지방족 에폭시 수지를 들 수 있다. 이들 에폭시 수지는, 아미노기의 도입에 의한 카티온화, 카르복실기의 도입에 의한 아니온화, 에틸렌옥사이드 등의 논이온기의 도입에 의한 논이온화 등이 되어 있어도 되고, 수계화의 형태는 상관없다.Specific examples of the organic resin (B) include aromatic epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin and bisphenol S type epoxy resin, polyethylene glycol diglycidyl ether modified products, poly And aliphatic epoxy resins such as propylene glycol diglycidyl ether-modified products. These epoxy resins may be subjected to cationization by introduction of an amino group, anionization by introduction of a carboxyl group, nonionization by introducing a nonionic group such as ethylene oxide, or the like, and the form of hydration may be any form.

카티온성 우레탄 수지도 동일하게 수지 중에 아미노기, 카르복실기 및 에틸렌옥사이드기 중 적어도 1 종의 기의 도입에 의해 카티온화, 아니온화, 논이온화되어 있는 것이 바람직하다.It is also preferable that the cationic urethane resin is also cationized, anionized and nonionized by introducing at least one group selected from an amino group, a carboxyl group and an ethylene oxide group into the resin.

우레탄 수지를 구성하는 모노머로는, 황변형 이소시아네이트, 무황변형 이소시아네이트 모두 사용할 수 있다. 폴리올종에 있어서도, 방향족 구조, 지방족 구조 모두 가져도 된다.As the monomer constituting the urethane resin, sulfur-modified isocyanate and non-sulfur-modified isocyanate can be used. The polyol species may have both an aromatic structure and an aliphatic structure.

폴리에스테르 수지에 있어서도 동일하게 아미노기, 카르복실기 및 에틸렌옥사이드기 중 적어도 1 종의 기의 도입에 의해 카티온화, 아니온화, 논이온화되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 수지를 구성하는 모노머에 제한은 없다.In the polyester resin, it is also preferable that the polyester resin is also cationized, anionized, and non-ionized by the introduction of at least one of amino group, carboxyl group and ethylene oxide group. There is no limitation on the monomer constituting the resin.

페놀 수지는 노볼락형 페놀, 레조르형 페놀, 폴리비닐페놀 등의 주구조를 갖는 수지를 들 수 있다. 수계화에 있어서 아미노기, 카르복실기 및 에틸렌옥사이드기 중 적어도 1 종의 기의 도입에 의해 카티온화, 아니온화, 논이온화될 수 있다.The phenol resin may be a resin having a main structure such as novolac phenol, resorcinol phenol, or polyvinyl phenol. In the hydrosilation, cationization, anionization, and nonionization can be achieved by introduction of at least one group selected from the group consisting of an amino group, a carboxyl group and an ethylene oxide group.

아크릴 수지도 동일하게 아미노기, 카르복실기 및 에틸렌옥사이드기 중 적어도 1 종의 도입에 의해, 카티온화, 아니온화, 논이온화되고, 수계화될 수 있다. 또한, 수지를 구성하는 모노머에 제한은 없다.The acrylic resin can also be cationized, anionized, nonionized, and water-soluble by the introduction of at least one of an amino group, a carboxyl group and an ethylene oxide group. There is no limitation on the monomer constituting the resin.

유기 수지 (B) 는, 자기 유화법에 의해 수계화되어 있는 것이 바람직하지만, 카티온 계면 활성제, 논이온 계면 활성제, 아니온 계면 활성제나 반응성 유화제를 사용하여 수계화된 것이어도 상관없다. 모두 이들 1 종만을 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.It is preferable that the organic resin (B) is water-based by a self-emulsification method, but it may be water-based using a cationic surfactant, a nonionic surfactant, an anionic surfactant or a reactive emulsifier. All of these may be used alone or two or more of them may be used in combination.

또, 각종 유기 수지 (B) 는 그래프트 변성되어도 상관없다. 유기 수지 (B) 의 수산기가로는, 1 ∼ 1000 ㎎KOH/g 인 것이 바람직하다. 또, 유기 수지 (B) 의 아민가로는, 1 ∼ 800 ㎎KOH/g 인 것이 바람직하다. 또, 유기 수지 (B) 의 산가로는, 1 ∼ 100 ㎎KOH/g 인 것이 바람직하다.The various organic resins (B) may be graft-modified. The hydroxyl value of the organic resin (B) preferably ranges from 1 to 1000 mgKOH / g. The amine side of the organic resin (B) is preferably 1 to 800 mgKOH / g. The acid value of the organic resin (B) is preferably 1 to 100 mgKOH / g.

<그 밖의 임의 성분><Other optional components>

금속 표면 처리액에는, 상기 블록 이소시아네이트 (A) 및 유기 수지 (B) 이외의 다른 성분이 함유되어 있어도 된다. 이하, 임의 성분에 대해 상세히 서술한다.The metal surface treatment liquid may contain other components than the block isocyanate (A) and the organic resin (B). Hereinafter, the arbitrary components will be described in detail.

(금속 화합물 (C))(Metal compound (C))

금속 표면 처리액에는, 지르코늄, 티탄, 바나듐, 세륨, 몰리브덴, 코발트, 니켈, 마그네슘, 칼슘, 세륨, 아연, 니오브, 이트륨, 알루미늄, 텅스텐, 크롬, 및 바륨으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 원소를 함유하는 금속 화합물 (C) 가 함유되어 있어도 된다. 이들 화합물은 표면 처리 금속 재료의 내식성 향상에 유효하고, 블록화 이소시아네이트기의 해리 촉매, 나아가서는 이소시아네이트기와의 반응 조촉매로서 작용하여, 표면 처리 금속 재료 중의 피막의 성질에 영향을 미친다.The metal surface treatment liquid includes at least one kind selected from the group consisting of zirconium, titanium, vanadium, cerium, molybdenum, cobalt, nickel, magnesium, calcium, cerium, zinc, niobium, yttrium, aluminum, tungsten, chromium, The metal compound (C) containing an element may be contained. These compounds are effective for improving the corrosion resistance of the surface-treated metal material and function as dissociation catalysts for blocked isocyanate groups, and furthermore as catalysts for reaction with isocyanate groups, and affect the properties of the coating film in the surface-treated metal material.

지르코늄 화합물 (지르코늄 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 지르코늄의 탄산염, 염화물, 질산염, 황산염 등의 무기산염, 지르코늄 산화물 및 지르코늄의 유기산염, 지르코늄테트라이소프로폭사이드, 디이소프로폭시지르코늄디아세틸아세토나토, 디이소프로폭시지르코늄디트리에탄올아미네이트 등의 지르코늄알콕사이드, 지르코늄테트라아세틸아세토네이트, 지르코늄 원자를 함유하는 킬레이트 착물 등의 유기 지르코늄 화합물을 사용할 수 있다. 그 중에서도, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 탄산지르코늄암모늄, 또는 지르코늄불화수소산 혹은 그 염이 바람직하다.Examples of the zirconium compound (compound containing a zirconium element) include inorganic acid salts such as carbonate, chloride, nitrate and sulfate of zirconium, organic acid salts of zirconium oxide and zirconium, zirconium tetraisopropoxide, diisopropoxyzirconium Organic zirconium compounds such as zirconium alkoxide such as diacetyl acetonato and diisopropoxy zirconium ditriethanol aminate, zirconium tetraacetylacetonate and chelate complex containing zirconium atom can be used. Among them, zirconium ammonium carbonate or zirconium hydrofluoric acid or a salt thereof is preferable in that the effect of the present invention is more excellent.

티탄 화합물 (티탄 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 티탄알콕사이드, 티탄 원자를 함유하는 킬레이트 착물, 티탄의 무기염, 유기산염 및 유기 티탄 화합물이 바람직하다.As the titanium compound (compound containing a titanium element), for example, a titanium alkoxide, a chelate complex containing a titanium atom, an inorganic salt of titanium, an organic acid salt and an organic titanium compound are preferable.

바나듐 화합물 (바나듐 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 바나듐알콕사이드, 바나듐을 함유하는 킬레이트 착물, 바나듐의 무기염, 유기염 및 산화물이 바람직하고, 구체적으로는, 바나듐옥시아세틸아세토네이트, 메타바나드산, 메타바나드산나트륨, 메타바나드산칼륨, 메타바나드산암모늄, 바나듐비스아세틸아세토나토, 바나딜디아세틸아세토나토, 오산화바나듐, 삼산화바나듐, 불화바나듐, 인산바나듐, 황산바나듐, 옥살산바나듐, 바나듐옥시트리이소프로폭사이드, 바나듐옥시트리부톡사이드, 바나듐옥시트리이소부톡사이드, 바나듐옥시트리에탄올아미네이트 등을 들 수 있다.The vanadium compound (a compound containing a vanadium element) is preferably a vanadium alkoxide, a chelate complex containing vanadium, an inorganic salt, an organic salt and an oxide of vanadium, and specifically, vanadium oxyacetylacetonate, There may be mentioned a metal oxide such as vanadic acid, sodium metavanadate, potassium metavanadate, ammonium metavanadate, vanadium bisacetylacetonato, vanadyldiacetylacetonato, vanadium pentoxide, vanadium trioxide, vanadium fluoride, vanadium phosphate, vanadium sulfate, oxalic acid Vanadium oxytriisopropoxide, vanadium oxytributoxide, vanadium oxytriisobutoxide, vanadium oxytriethanolaminate, and the like can be given.

세륨 화합물 (세륨 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 세륨알콕사이드, 세륨을 함유하는 킬레이트 착물, 세륨의 무기염, 유기염 및 산화물이 바람직하다.As the cerium compound (compound containing a cerium element), for example, a cerium alkoxide, a chelate complex containing cerium, an inorganic salt, an organic salt and an oxide of cerium are preferable.

몰리브덴 화합물 (몰리브덴 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 몰리브덴알콕사이드, 몰리브덴을 함유하는 킬레이트 착물, 몰리브덴의 무기염, 유기염 및 산화물이 바람직하다.As the molybdenum compound (compound containing a molybdenum element), for example, a molybdenum alkoxide, a chelate complex containing molybdenum, an inorganic salt, an organic salt and an oxide of molybdenum are preferable.

코발트 화합물 (코발트 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 코발트알콕사이드, 코발트를 함유하는 킬레이트 착물, 코발트의 무기염, 유기염 및 산화물이 바람직하다.As the cobalt compound (compound containing a cobalt element), for example, a cobalt alkoxide, a chelate complex containing cobalt, an inorganic salt, an organic salt and an oxide of cobalt are preferable.

니켈 화합물 (니켈 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 니켈알콕사이드, 니켈을 함유하는 킬레이트 착물, 니켈의 무기염, 유기염 및 산화물이 바람직하다.As the nickel compound (compound containing nickel element), for example, nickel alkoxide, chelate complex containing nickel, inorganic salt of nickel, organic salt and oxide are preferable.

마그네슘 화합물 (마그네슘 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 마그네슘알콕사이드, 마그네슘을 함유하는 킬레이트 착물, 마그네슘의 무기염, 유기염 및 산화물이 바람직하다.As the magnesium compound (compound containing magnesium element), for example, a magnesium alkoxide, a chelate complex containing magnesium, an inorganic salt, an organic salt and an oxide of magnesium are preferable.

칼슘 화합물 (칼슘 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 탄산칼슘, 인산칼슘, 질산칼슘, 황산칼슘 등을 들 수 있다.Examples of the calcium compound (compound containing a calcium element) include calcium carbonate, calcium phosphate, calcium nitrate, calcium sulfate and the like.

세륨 화합물 (세륨 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 산화세륨, 아세트산세륨, 질산세륨 (III) 또는 (IV), 질산세륨암모늄, 황산세륨, 염화세륨 등을 들 수 있다.Examples of the cerium compound (compound containing a cerium element) include cerium oxide, cerium acetate, cerium (III) nitrate or (IV) nitrate, cerium nitrate, cerium sulfate, cerium chloride and the like.

아연 화합물 (아연 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 탄산아연, 인산아연, 질산아연, 황산아연, 아세트산아연, 불화아연, 산화아연, 염화아연, 징크테트라에틸레이트, 징크테트라프로필레이트, 징크테트라부틸레이트, 징크테트라아세틸아세토네이트, 징크모노아세틸아세토네이트, 징크라우레이트 등을 들 수 있다.Examples of the zinc compound (compound containing zinc element) include zinc carbonate, zinc phosphate, zinc nitrate, zinc sulfate, zinc acetate, zinc fluoride, zinc oxide, zinc chloride, zinc tetraethylate, zinc tetrapropylate, Zinc tetrabutylate, zinc tetraacetyl acetonate, zinc monoacetyl acetonate, and zinc lactate.

니오브 화합물 (니오브 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 니오브알콕사이드, 니오브를 함유하는 킬레이트 착물, 니오브의 무기염, 유기염 및 산화물이 바람직하고, 구체적으로는, 산화니오브, 수산화니오브, 질산니오브, 니오브산나트륨, 니오브산칼슘, 니오브산마그네슘, 니오브산, 불화니오브, 염화니오브, 메타니오브산나트륨, 산화니오브마그네슘, 니오브펜타에틸레이트, 니오브펜타부틸레이트 등을 들 수 있다.As the niobium compound (compound containing niobium element), for example, niobium alkoxide, chelate complex containing niobium, inorganic salt of niobium, organic salt and oxide are preferable, and specifically, niobium oxide, Niobium oxide, sodium niobate, magnesium niobium oxide, niobium pentafluorate, niobium pentabutylate, and the like can be given as examples of the niobium compound.

이트륨 화합물 (이트륨 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 이트륨알콕사이드, 이트륨을 함유하는 킬레이트 착물, 이트륨의 무기염, 유기염 및 산화물이 바람직하다.As the yttrium compound (a compound containing a yttrium element), for example, a yttrium alkoxide, a chelate complex containing yttrium, an inorganic salt, an organic salt and an oxide of yttrium are preferable.

알루미늄 화합물 (알루미늄 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 알루미늄알콕사이드, 알루미늄을 함유하는 킬레이트 착물, 알루미늄의 무기염, 유기염 및 산화물이 바람직하다.As the aluminum compound (a compound containing an aluminum element), for example, an aluminum alkoxide, a chelate complex containing aluminum, an inorganic salt, an organic salt and an oxide of aluminum are preferable.

텅스텐 화합물 (텅스텐 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 바나듐알콕사이드, 텅스텐을 함유하는 킬레이트 착물, 텅스텐의 무기염, 유기염 및 산화물이 바람직하다.As the tungsten compound (a compound containing a tungsten element), for example, a vanadium alkoxide, a chelate complex containing tungsten, an inorganic salt, an organic salt and an oxide of tungsten are preferable.

크롬 화합물 (크롬 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 크롬산, 중크롬산, 탄산크롬, 염화크롬, 인산크롬, 질산크롬, 불화크롬, 황산크롬, 크롬아세틸아세토네이트, 크롬산스트론튬 등을 들 수 있다.Examples of the chromium compound (a compound containing a chromium element) include chromic acid, bichromic acid, chromium carbonate, chromium chloride, chromium phosphate, chromium nitrate, chromium fluoride, chromium sulfate, chromium acetylacetonate and strontium chromate .

바륨 화합물 (바륨 원소를 함유하는 화합물) 로는, 예를 들어, 질산바륨, 탄산바륨, 산화바륨 등을 들 수 있다.Examples of the barium compound (compound containing a barium element) include barium nitrate, barium carbonate, barium oxide, and the like.

(인 함유 화합물 (D))(Phosphorus-containing compound (D))

금속 표면 처리액에는, 무기 인산, 무기 인산염, 유기 인산, 유기 인산염, 유기 포스폰산, 및 유기 포스폰산염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 인 함유 화합물 (D) 가 함유되어 있어도 된다. 이들 화합물은 다가 이온을 형성하기 쉽고, 공존하는 극성기와 상호 작용 (예를 들어, 이온 결합) 할 수 있다. 즉, 인 함유 화합물 (D) 는 피막 중에 있어서 의사적인 가교점으로서 작용하는 결과, 금속 표면 처리액으로 형성되는 피막의 성질에 영향을 미친다. 또한, 상기 서술한 금속 화합물 (C) 는, 인 함유 화합물 (D) 에는 함유되지 않는다.The metal surface treatment liquid may contain at least one phosphorus-containing compound (D) selected from the group consisting of inorganic phosphoric acid, inorganic phosphate, organic phosphoric acid, organic phosphate, organic phosphonic acid and organic phosphonic acid salt. These compounds are prone to form multivalent ions and can interact (for example, ionic bonds) with the coexisting polar groups. That is, the phosphorus-containing compound (D) acts as a pseudo crosslinking point in the coating film, and as a result, affects the properties of the coating film formed of the metal surface treatment solution. The above-mentioned metal compound (C) is not contained in the phosphorus-containing compound (D).

무기 인산 및 그 염으로는, 인산 (오르토 인산), 아인산, 3 인산, 차아인산, 차인산 등의 모노인산류, 모노인산의 유도체 및 염류, 메타인산, 트리폴리인산, 테트라인산, 헥사인산 등의 축합 인산류, 축합 인산류의 유도체 및 염류 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic phosphoric acid and its salt include monophosphoric acids such as phosphoric acid (orthophosphoric acid), phosphorous acid, triphosphoric acid, hypophosphoric acid and hypophosphorous acid, derivatives and salts of monophosphoric acid, metaphosphoric acid, tripolyphosphoric acid, tetraphosphoric acid, Condensed phosphoric acids, derivatives and salts of condensed phosphoric acids, and the like.

유기 인산 및 그 염으로는, 알킬인산, 인산모노에스테르 (예를 들어, 인산모노도데실 2 수소, 인산모노트리데실 2 수소 등) 및 그 염, 인산디에스테르 (예를 들어, 인산디도데실수소, 인산디트리데실수소 등) 및 그 염 등을 들 수 있다. 유기 인산의 구체예로는, 예를 들어, R10O-P(=O)(OR11)(OR12) 에 의해 나타내는 화합물을 들 수 있다. 또한, R10 은 유기기를 나타내고, R11 및 R12 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 유기기를 나타낸다. 유기기로는, 예를 들어, 탄화수소기 (예를 들어, 알킬기, 아릴기, 또는 이들을 조합한 기) 를 들 수 있다.Examples of the organic phosphoric acid and its salt include alkylphosphoric acid, phosphoric acid monoester (for example, monododecyl phosphate dihydrogen phosphate, monotridecyl phosphate dihydrogen phosphate and the like) and salt thereof, phosphoric acid diester (for example, Phosphoric acid ditridecyl ether, etc.) and salts thereof. Specific examples of the organic phosphoric acid include, for example, compounds represented by R 10 OP (= O) (OR 11 ) (OR 12 ). R 10 represents an organic group, and R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or an organic group. The organic group includes, for example, a hydrocarbon group (for example, an alkyl group, an aryl group, or a combination thereof).

유기 포스폰산 및 그 염으로는, 예를 들어, 하이드록시에틸리덴디포스폰산, 아미노트리(메틸렌포스폰산), 1-하이드록시에탄-1,1-디포스폰산, 에틸렌디아민-N,N,N',N'-테트라(메틸렌포스폰산), 헥사메틸렌디아민-N,N,N',N'-테트라(메틸렌포스폰산), 디에틸렌트리아민-N,N,N',N'',N''-펜타(메틸렌포스폰산), 2-포스포노부탄-1,2,4-트리카르복실산, 및 이들의 염을 들 수 있다. 유기 포스폰산의 구체예로는, 예를 들어, R10-P(=O)(OR11)(OR12) 에 의해 나타내는 화합물을 들 수 있다. 또한, R10 은 유기기를 나타내고, R11 및 R12 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 유기기를 나타낸다. 유기기로는, 예를 들어, 탄화수소기 (예를 들어, 알킬기, 아릴기, 또는 이들을 조합한 기) 를 들 수 있다.Organic phosphonic acids and salts thereof include, for example, hydroxyethylidene diphosphonic acid, aminotri (methylenephosphonic acid), 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, ethylenediamine-N, , N ', N'-tetra (methylenephosphonic acid), hexamethylenediamine-N, N, N', N'-tetra (methylenephosphonic acid), diethylenetriamine- , N "-penta (methylenephosphonic acid), 2-phosphonobutane-1,2,4-tricarboxylic acid, and salts thereof. Specific examples of the organic phosphonic acid include, for example, compounds represented by R 10 -P (= O) (OR 11 ) (OR 12 ). R 10 represents an organic group, and R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or an organic group. The organic group includes, for example, a hydrocarbon group (for example, an alkyl group, an aryl group, or a combination thereof).

또한, 무기 인산염 (무기 인산의 염), 유기 인산염 (유기 인산의 염), 유기 포스폰산염 (유기 포스폰산의 염) 등의 염류로는 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 알칼리 금속염, 암모늄염, 아민염을 들 수 있다. 알칼리 금속염을 구성하는 알칼리 금속 이온으로는, 리튬 이온, 나트륨 이온, 칼륨 이온을 들 수 있다. 또, 아민염을 구성하는 아민으로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 모노이소프로판올아민, 디이소프로판올아민, 트리이소프로판올아민 등의 알칸올아민 ; 디메틸에탄올아민, 디에틸에탄올아민, 2-아미노-2-메틸-프로판올아민 등의 알칸올알킬아민 ; 화학식 : R1NH2 (식 중, R1 은 탄소수 8 이상, 20 이하의 탄화수소기를 나타낸다) 로 나타내는 모노알킬 1 급 아민 ; 화학식 : R2NH(CH2)3NH2 (식 중, R2 는 탄소수 5 이상, 17 이하의 탄화수소기를 나타낸다) 로 나타내는 알킬디아미노프로판 등을 들 수 있다.The salts such as inorganic phosphates (salts of inorganic phosphoric acid), organic phosphates (salts of organic phosphoric acid) and organic phosphonates (salts of organic phosphonic acids) and the like are not particularly restricted but include, for example, alkali metal salts, Amine salts. Examples of the alkali metal ion constituting the alkali metal salt include lithium ion, sodium ion and potassium ion. Examples of the amine constituting the amine salt include, but are not limited to, alkanolamines such as monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine and triisopropanolamine; Alkanolalkylamines such as dimethylethanolamine, diethylethanolamine and 2-amino-2-methyl-propanolamine; A monoalkyl primary amine represented by the formula: R 1 NH 2 (wherein R 1 represents a hydrocarbon group having a carbon number of 8 or more and 20 or less); And alkyldiaminopropane represented by the formula: R 2 NH (CH 2 ) 3 NH 2 (wherein R 2 represents a hydrocarbon group having 5 or more carbon atoms and 17 or less).

그 중에서도, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 무기 인산, 무기 인산염, 유기 포스폰산, 또는 유기 포스폰산염이 바람직하고, 무기 인산염 (예를 들어, 무기 인산의 암모늄염, 무기 인산의 알칼리 금속염, 무기 인산의 아민염), 또는 유기 포스폰산이 보다 바람직하고, 무기 인산 (바람직하게는, 인산) 의 암모늄염, 또는 유기 포스폰산이 특히 바람직하다.Among them, inorganic phosphoric acid, inorganic phosphate, organic phosphonic acid or organic phosphonic acid salt is preferable, and inorganic phosphate (for example, ammonium salt of inorganic phosphoric acid, alkali metal salt of inorganic phosphoric acid, An amine salt of an inorganic phosphoric acid) or an organic phosphonic acid is more preferable, and an ammonium salt of an inorganic phosphoric acid (preferably phosphoric acid) or an organic phosphonic acid is particularly preferable.

(규소 화합물 (E))(Silicon compound (E))

금속 표면 처리액에는, 규소 화합물 (E) 가 함유되어 있어도 된다.The metal surface treatment liquid may contain a silicon compound (E).

규소 화합물 (E) 로는, 예를 들어, 알칼리 금속 규산염, 콜로이달 실리카 등의 무기 규소 화합물, 또는 실란 커플링제 등의 유기 규소 화합물의 적어도 1 종인 것이 바람직하다.The silicon compound (E) is preferably at least one of an inorganic silicon compound such as an alkali metal silicate and colloidal silica, or an organic silicon compound such as a silane coupling agent.

무기 규소 화합물로는, 예를 들어, 규산리튬, 규산나트륨, 규산칼륨, 콜로이달 실리카를 들 수 있다. 실란 커플링제로는, 예를 들어, 비닐트리클로로실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시실란), 비닐트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 3-(메타크릴로일옥시프로필)트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 테트라 또는 트리메톡시실란(테트라메톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 에틸트리메톡시실란, n-프로필트리메톡시실란 등) 등을 들 수 있다. 또, 테트라 혹은 트리메톡시실란과 글리시돌의 탈메탄올 반응에 의해 얻어지는 글리시딜기 함유 부분 축합물도 사용 가능하다.Examples of the inorganic silicon compound include lithium silicate, sodium silicate, potassium silicate, and colloidal silica. Examples of the silane coupling agent include vinyl trichlorosilane, vinyltris (2-methoxyethoxysilane), vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 3- (methacryloyloxypropyl) tri Methoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyl 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -Aminopropyltriethoxysilane, tetra or trimethoxysilane (tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, etc.) and the like. In addition, a glycidyl group-containing partial condensate obtained by a reaction between tetra or trimethoxysilane and glycidol in a demethanol may be used.

(무기 화합물 (F))(Inorganic compound (F))

금속 표면 처리액에는, 리튬, 나트륨, 및 칼륨으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 원소를 함유하는 무기 화합물 (F) 가 함유되어 있어도 된다. 또한, 무기 화합물 (F) 에는, 상기 서술한 금속 화합물 (C), 인 함유 화합물 (D) 및 규소 화합물 (E) 는 함유되지 않는다.The metal surface treatment liquid may contain an inorganic compound (F) containing at least one element selected from the group consisting of lithium, sodium, and potassium. The inorganic compound (F) does not contain the above-mentioned metal compound (C), the phosphorus-containing compound (D) and the silicon compound (E).

무기 화합물 (F) 로서 구체적으로는, 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨 등의 수산화물, 질산리튬 등의 질산염, 불화나트륨 등의 불화물, 황산나트륨 등의 황산염 등을 들 수 있다.Specific examples of the inorganic compound (F) include hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide, nitrates such as lithium nitrate, fluorides such as sodium fluoride, and sulfates such as sodium sulfate.

(디카르복실산디에스테르 (G))(Dicarboxylic acid diester (G))

금속 표면 처리액에는, 디카르복실산디에스테르 (G) 가 함유되어 있어도 된다. 이들은, 균일한 막을 형성하기 위한 막제조 보조제로서 작용한다.The dicarboxylic acid diester (G) may be contained in the metal surface treatment liquid. These act as a film-forming auxiliary agent for forming a uniform film.

디카르복실산디에스테르 (G) 로서 구체적으로는, 숙신산디에톡시에틸, 숙신산디옥틸 등의 숙신산디에스테르, 아디프산디이소프로필, 아디프산디이소부틸, 아디프산디에톡시에틸 등의 아디프산디에스테르, 세바크산디에틸, 세바크산디이소프로필, 세바크산디옥틸 등의 세바크산디에스테르를 들 수 있다.Specific examples of the dicarboxylic acid diester (G) include succinic acid diesters such as diethoxyethyl succinate and dioctyl succinate, diisopropyl adipate, diisobutyl adipate and diethoxyethyl adipate. Ester, sebacic acid diester such as diethyl sebacate, diisopropyl sebacate, di-octyl sebacate and the like.

(용매)(menstruum)

금속 표면 처리액에는, 용매로서 물이 함유되어 있어도 된다. 또, 후술하는 바와 같이, 유기 용매가 함유되어 있어도 된다.The metal surface treatment liquid may contain water as a solvent. As described later, an organic solvent may be contained.

(그 밖의 성분)(Other components)

금속 표면 처리액에는, 블록 이소시아네이트 (A) 의 해리, 또는 블록제의 해리된 이소시아네이트기와 유기 수지 (B) 중의 관능기의 반응을 촉진시키기 위해서, 상기 성분 이외의, 산성 촉매 (예를 들어, 염산, 황산, 질산, 인산), 염기성 촉매 (예를 들어, 암모니아, 트리메틸아민, 트리에틸아민), 또는 금속 촉매를 첨가할 수 있다.In order to accelerate the dissociation of the block isocyanate (A) or the reaction between the dissociated isocyanate group of the blocking agent and the functional group in the organic resin (B), an acidic catalyst (for example, hydrochloric acid, Sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid), a basic catalyst (for example, ammonia, trimethylamine, triethylamine), or a metal catalyst.

금속 표면 처리액에는, 막제조성의 향상이나 피막의 건조성을 개선하는 유기 용매, 젖음성을 향상시키는 계면 활성제, 피막량 조정을 위한 증점제, 발포를 억제하는 소포제, 용접성 향상을 위한 도전성 물질, 의장성 향상을 위해 착색 안료 등을, 금속 표면 처리액의 액 안정성이나 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 배합할 수 있다.The metal surface treatment liquids include organic solvents that improve film formability and improve dryness of the film, surfactants that improve wettability, thickeners to adjust the amount of coating, antifoaming agents that suppress foaming, conductive materials to improve weldability, A coloring pigment or the like can be compounded in a range that does not impair the liquid stability of the metal surface treatment liquid or the effect of the present invention.

<금속 표면 처리액><Metal surface treatment liquid>

금속 표면 처리액에는, 상기 서술한 각종 성분이 함유된다.The metal surface treatment liquid contains the various components described above.

금속 표면 처리액 중에 있어서의 블록 이소시아네이트 (A) 의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 금속 표면 처리액 중에 있어서의 블록 이소시아네이트 (A) 의 유효 이소시아네이트기의 농도가 0.01 ∼ 20 g/ℓ 인 것이 바람직하고, 0.01 ∼ 15 g/ℓ 인 것이 보다 바람직하고, 0.05 ∼ 10 g/ℓ 인 것이 더욱 바람직하다.Although the content of the block isocyanate (A) in the metal surface treatment liquid is not particularly limited, it is preferable that the effective isocyanate group concentration of the block isocyanate (A) in the metal surface treatment liquid is 0.01 To 20 g / l, more preferably 0.01 to 15 g / l, and still more preferably 0.05 to 10 g / l.

금속 표면 처리액 중에 있어서의 유기 수지 (B) 의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 5 ∼ 100 g/ℓ 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 100 g/ℓ 인 것이 보다 바람직하고, 15 ∼ 90 g/ℓ 인 것이 더욱 바람직하다.The content of the organic resin (B) in the metal surface treatment liquid is not particularly limited, but it is preferably 5 to 100 g / l, more preferably 10 to 100 g / l in view of better effects of the present invention More preferably 15 to 90 g / l.

금속 표면 처리액 중에 있어서의 블록 이소시아네이트 (A) 와 유기 수지 (B) 의 질량 함유비는 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 블록 이소시아네이트 (A) 중의 유효 이소시아네이트기의 농도 a (g/ℓ) 와 유기 수지 (B) 중의 상기 서술한 하이드록실기, 아미노기, 술포기, 및 카르복실기로 이루어지는 군에서 선택되는 관능기의 농도 b (g/ℓ) 의 비 (유효 이소시아네이트기의 농도 a/관능기의 농도 b) 가 0.001 ∼ 30.0 인 것이 바람직하고, 0.01 ∼ 30 인 것이 보다 바람직하고, 0.5 ∼ 30 인 것이 더욱 바람직하고, 1.0 ∼ 15 인 것이 특히 바람직하고, 2.5 ∼ 10 인 것이 가장 바람직하다.The ratio of the mass ratio of the block isocyanate (A) and the organic resin (B) in the metal surface treatment liquid is not particularly limited, but from the viewpoint of the effect of the present invention being more excellent, the concentration of the effective isocyanate group in the block isocyanate (A) (g / l) of the functional group selected from the group consisting of the hydroxyl group, the amino group, the sulfo group and the carboxyl group in the organic resin (B) (the concentration of the effective isocyanate group a (g / / Functional group concentration b) is preferably from 0.001 to 30.0, more preferably from 0.01 to 30, even more preferably from 0.5 to 30, particularly preferably from 1.0 to 15, most preferably from 2.5 to 10 .

또한, 상기 유효 이소시아네이트기의 농도 (g/ℓ) 는 금속 표면 처리액 (1 ℓ) 중에 있어서의 유효 이소시아네이트기의 양 (g) 을 나타내고, 상기 관능기의 농도 (g/ℓ) 는 금속 표면 처리액 (1 ℓ) 중에 있어서의 관능기의 양 (g) 을 나타낸다.The concentration (g / l) of the effective isocyanate group represents the amount (g / g) of the effective isocyanate group in the metal surface treatment liquid (1 l) (G) of the functional group in the molecule (1 liter).

금속 표면 처리액에 금속 화합물 (C) 가 함유되는 경우, 금속 표면 처리액 중에 있어서의 금속 화합물 (C) 의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 0.1 ∼ 50 g/ℓ 인 것이 바람직하고, 0.3 ∼ 10 g/ℓ 인 것이 보다 바람직하다.When the metal surface treatment liquid contains the metal compound (C), the content of the metal compound (C) in the metal surface treatment liquid is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 50 g / l, and more preferably 0.3 to 10 g / l.

금속 표면 처리액에 인 함유 화합물 (D) 가 함유되는 경우, 금속 표면 처리액 중에 있어서의 인 함유 화합물 (D) 의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 0.1 ∼ 50 g/ℓ 인 것이 바람직하고, 0.2 ∼ 30 g/ℓ 인 것이 보다 바람직하고, 0.3 ∼ 10 g/ℓ 인 것이 더욱 바람직하다.When the phosphorus-containing compound (D) is contained in the metal surface treatment liquid, the content of the phosphorus-containing compound (D) in the metal surface treatment liquid is not particularly limited, but from the standpoint of more excellent effects of the present invention, g / l, more preferably 0.2 to 30 g / l, and still more preferably 0.3 to 10 g / l.

금속 표면 처리액에 규소 화합물 (E) 가 함유되는 경우, 금속 표면 처리액 중에 있어서의 규소 화합물 (E) 의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 0.1 ∼ 50 g/ℓ 인 것이 바람직하고, 0.2 ∼ 30 g/ℓ 인 것이 보다 바람직하고, 0.3 ∼ 10 g/ℓ 인 것이 더욱 바람직하다.When the metal surface treatment liquid contains the silicon compound (E), the content of the silicon compound (E) in the metal surface treatment liquid is not particularly limited, but it is preferably from 0.1 to 50 g / l, more preferably 0.2 to 30 g / l, and even more preferably 0.3 to 10 g / l.

금속 표면 처리액에 무기 화합물 (F) 가 함유되는 경우, 금속 표면 처리액 중에 있어서의 무기 화합물 (F) 의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 0.1 ∼ 50 g/ℓ 인 것이 바람직하고, 0.5 ∼ 50 g/ℓ 인 것이 보다 바람직하다.When the metal surface treatment liquid contains the inorganic compound (F), the content of the inorganic compound (F) in the metal surface treatment liquid is not particularly limited, but it is preferably from 0.1 to 50 g / l, and more preferably 0.5 to 50 g / l.

금속 표면 처리액에 디카르복실산디에스테르 (G) 가 함유되는 경우, 금속 표면 처리액 중에 있어서의 디카르복실산디에스테르 (G) 의 함유량은 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 0.01 ∼ 50 g/ℓ 인 것이 바람직하고, 0.05 ∼ 10 g/ℓ 인 것이 보다 바람직하다.When the dicarboxylic acid diester (G) is contained in the metal surface treatment liquid, the content of the dicarboxylic acid diester (G) in the metal surface treatment liquid is not particularly limited, but the effect of the present invention is more excellent , Preferably 0.01 to 50 g / l, more preferably 0.05 to 10 g / l.

금속 표면 처리액에 금속 화합물 (C) 가 함유되는 경우, 금속 표면 처리액 중에 있어서의 블록 이소시아네이트 (A) 와 금속 화합물 (C) 의 질량비 (A/C) 는 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 0.1 ∼ 50 이 바람직하고, 0.1 ∼ 25 가 보다 바람직하고, 0.1 ∼ 10 이 더욱 바람직하다.When the metal surface treatment liquid contains the metal compound (C), the mass ratio (A / C) of the block isocyanate (A) and the metal compound (C) in the metal surface treatment liquid is not particularly limited, Is preferably from 0.1 to 50, more preferably from 0.1 to 25, and even more preferably from 0.1 to 10.

금속 표면 처리액에 인 함유 화합물 (D) 가 함유되는 경우, 금속 표면 처리액 중에 있어서의 블록 이소시아네이트 (A) 와 인 함유 화합물 (D) 의 질량비 (A/D) 는 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 0.1 ∼ 50 이 바람직하고, 0.2 ∼ 30 이 보다 바람직하고, 0.3 ∼ 10 이 더욱 바람직하고, 0.5 ∼ 10 이 특히 바람직하다.When the phosphorus-containing compound (D) is contained in the metal surface treatment liquid, the mass ratio (A / D) of the block isocyanate (A) and the phosphorus containing compound (D) in the metal surface treatment liquid is not particularly limited, Is preferably 0.1 to 50, more preferably 0.2 to 30, still more preferably 0.3 to 10, and particularly preferably 0.5 to 10, from the viewpoint that the effect of the present invention is better.

금속 표면 처리액에 규소 화합물 (E) 가 함유되는 경우, 금속 표면 처리액 중에 있어서의 블록 이소시아네이트 (A) 와 규소 화합물 (E) 의 질량비 (A/E) 는 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 0.1 ∼ 50 이 바람직하고, 0.2 ∼ 30 이 보다 바람직하다.When the metal surface treatment liquid contains the silicon compound (E), the mass ratio (A / E) of the block isocyanate (A) to the silicon compound (E) in the metal surface treatment liquid is not particularly limited, Is preferably from 0.1 to 50, more preferably from 0.2 to 30, from the viewpoint of more excellent transparency.

금속 표면 처리액에 무기 화합물 (F) 가 함유되는 경우, 금속 표면 처리액 중에 있어서의 블록 이소시아네이트 (A) 와 무기 화합물 (F) 의 질량비 (A/F) 는 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 0.1 ∼ 50 이 바람직하고, 0.5 ∼ 50 이 보다 바람직하다.When the metal surface treatment liquid contains the inorganic compound (F), the mass ratio (A / F) of the block isocyanate (A) and the inorganic compound (F) in the metal surface treatment liquid is not particularly limited, Is preferably from 0.1 to 50, and more preferably from 0.5 to 50, from the viewpoint of more excellent properties.

금속 표면 처리액에 디카르복실산디에스테르 (G) 가 함유되는 경우, 금속 표면 처리액 중에 있어서의 블록 이소시아네이트 (A) 와 디카르복실산디에스테르 (G) 의 질량비 (A/G) 는 특별히 제한되지 않지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 5 ∼ 100 이 바람직하다.When the dicarboxylic acid diester (G) is contained in the metal surface treatment liquid, the mass ratio (A / G) of the block isocyanate (A) to the dicarboxylic acid diester (G) in the metal surface treatment liquid is not particularly limited However, it is preferably 5 to 100 from the viewpoint that the effect of the present invention is more excellent.

금속 표면 처리액의 pH 는, 본 발명의 효과를 달성할 수 있는 한 특별히 제한은 없지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, pH3 ∼ 11 의 범위인 것이 바람직하다.The pH of the metal surface treatment liquid is not particularly limited as long as the effect of the present invention can be attained, but it is preferable that the pH is in the range of 3 to 11 in view of better effects of the present invention.

금속 표면 처리액의 고형분 농도에 대해서는, 본 발명의 효과를 달성할 수 있는 한 특별히 제한은 없지만, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 1 ∼ 40 질량% 의 범위인 것이 바람직하다.The solid content concentration of the metal surface treatment liquid is not particularly limited as long as the effect of the present invention can be attained, but it is preferably in the range of 1 to 40% by mass from the viewpoint of better effect of the present invention.

<표면 처리 금속 재료의 제조 방법>&Lt; Method for producing surface-treated metal material &

상기 서술한 금속 표면 처리액을 사용하여, 표면 처리 금속 재료를 제조하는 방법은 특별히 제한되지 않지만, 통상적으로 상기 서술한 금속 표면 처리액을 금속 재료 표면에 접촉시키고, 가열 건조시켜 금속 재료 상에 피막을 형성하는 공정을 갖는다.The method for producing the surface-treated metal material by using the above-described metal surface treatment liquid is not particularly limited, but usually the above-mentioned metal surface treatment liquid is brought into contact with the surface of the metal material and heated and dried to form a coating film .

이하에서는, 먼저, 피처리물인 금속 재료에 대해 상세히 서술하고, 그 후 공정의 순서에 대해 상세히 서술한다.Hereinafter, first, the metal material to be processed will be described in detail, and the order of the subsequent steps will be described in detail.

(금속 재료)(Metal material)

금속 재료의 종류는 특별히 제한되지 않고, 냉연 강판, 열연 강판, 아연 도금 강판, 알루미늄 함유 아연 도금 강판, 전기 아연 도금 강판, 합금화 아연 도금 강판, 아연니켈 도금 강판, 합금 강판 및 도금 강판 ; 알루미늄판, 구리판, 티탄판, 마그네슘판 등의 강판 이외의 금속판 등의 일반적으로 공지된 금속 재료를 사용할 수 있다. 특히 바람직한 금속 재료는, 아연 도금 강판, 알루미늄 함유 아연 도금 강판, 전기 아연 도금 강판, 합금화 아연 도금 강판, 아연니켈 도금 강판, 증착 아연 도금 강판 등의 아연계 도금 강판이다.The kind of the metal material is not particularly limited and may be selected from the group consisting of cold-rolled steel sheets, hot-rolled steel sheets, galvanized steel sheets, aluminum-containing galvanized steel sheets, electrogalvanized steel sheets, galvannealed steel sheets, zinc-nickel-plated steel sheets, alloy steel sheets and coated steel sheets; A metal plate other than a steel plate such as an aluminum plate, a copper plate, a titanium plate, and a magnesium plate may be used. Particularly preferable metal materials are zinc plated steel sheets such as galvanized steel sheets, aluminum-containing galvanized steel sheets, electrogalvanized steel sheets, galvanized steel sheets, zinc-nickel-coated steel sheets, and vapor-deposited galvanized steel sheets.

금속 표면 처리액에 의한 처리에 앞서, 필수는 아니지만 통상적으로 피처리물인 금속 재료에 부착된 유분, 오염을 제거하기 위해서, 탈지제에 의한 알칼리 세정, 탕세 (湯洗), 산세, 용제 세정 등을 적절히 조합하여 실시한다.Prior to the treatment with the metal surface treatment liquid, alkali cleaning, hot water washing, pickling, solvent washing and the like with a degreasing agent are suitably performed in order to remove oil and contamination adhered to the metal material, .

또, 통상 불필요하지만, 금속 표면 처리액에 의한 처리를 실시하기 전에, 금속 재료의 내식성 및 피막과 금속 재료의 밀착성을 더욱 향상시킬 목적으로, 하지 (下地) 처리를 실시할 수 있다. 하지 처리의 방법은 특별히 제한되지 않지만, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Mn, Zr, Ti 또는 V 등의 금속을 부착시키는 표면 조정 처리나, 화성 처리 등을 들 수 있다.In addition, it is not usually necessary to carry out the undercoating treatment for further improving the corrosion resistance of the metal material and the adhesion of the metal film to the metal material before the treatment with the metal surface treatment liquid. There are no particular limitations on the method of the undercoat treatment, but surface treatment such as application of a metal such as Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Mn, Zr, Ti or V, or chemical treatment may be mentioned.

상기 어느 처리의 경우도, 금속 재료 표면에 처리액이 잔류하지 않게 수세하는 것이 바람직하다.In any of the treatments described above, it is preferable to wash the surface of the metal material so that the treatment liquid does not remain on the surface of the metal material.

(순서)(order)

금속 재료에 대한 금속 표면 처리액의 접촉 방법은 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 롤 코터법, 침지법, 스프레이법, 바 코트법 등 도포 방법을 들 수 있다.The method of contacting the metal surface treatment liquid to the metal material is not particularly limited, and examples thereof include a roll coating method, a dipping method, a spraying method, and a bar coating method.

또, 접촉시의 처리액 온도에 대해서는, 특별히 제한은 없지만, 10 ∼ 60 ℃ 가 바람직하고, 15 ∼ 40 ℃ 가 보다 바람직하다.The temperature of the treatment liquid at the time of contact is not particularly limited, but is preferably 10 to 60 占 폚, more preferably 15 to 40 占 폚.

또한 금속 재료를 금속 표면 처리액과 접촉시킨 후, 금속 재료에 가열 건조 처리를 실시한다. 가열 건조 방법으로는 특별히 제한은 없고, 드라이어, 열풍로, 고주파 유도 가열로, 적외선로 등을 들 수 있다. 블록 이소시아네이트 (A) 및 유기 수지 (B) 의 경화 및 가교의 촉진에 의한 피복 효과를 높이기 위해서는, 열풍로, 유도 가열로, 전기로 등에 의한 가열 건조가 바람직하다. 가열 건조 온도는, 특별히 제한은 없지만, 건조시의 도달 금속 재료 온도가 50 ∼ 250 ℃ 인 것이 바람직하고, 70 ∼ 220 ℃ 인 것이 보다 바람직하다.Further, after bringing the metal material into contact with the metal surface treatment liquid, the metal material is subjected to heat drying treatment. The heating and drying method is not particularly limited, and examples thereof include a dryer, a hot air furnace, a high frequency induction heating furnace, and an infrared furnace. In order to enhance the coating effect by accelerating curing and crosslinking of the block isocyanate (A) and the organic resin (B), it is preferable to heat and dry by a hot air furnace, an induction heating furnace, an electric furnace or the like. The heating and drying temperature is not particularly limited, but the temperature of the metal material at the time of drying is preferably 50 to 250 ° C, more preferably 70 to 220 ° C.

상기 처리를 실시함으로써, 금속 재료와 그 표면에 배치된 피막을 갖는 표면 처리 금속 재료가 얻어진다.By carrying out the above treatment, a surface-treated metal material having a metal material and a coating disposed on the surface thereof is obtained.

피막의 부착량 (피막 질량) 은 특별히 제한되지 않고, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 0.05 ∼ 10.0 g/㎡ 가 바람직하고, 0.1 ∼ 8.0 g/㎡ 가 보다 바람직하고, 0.1 ∼ 5.0 g/㎡ 가 더욱 바람직하다.The coating amount (coating weight) of the coating film is not particularly limited and is preferably 0.05 to 10.0 g / m 2, more preferably 0.1 to 8.0 g / m 2, more preferably 0.1 to 5.0 g / m 2 Is more preferable.

피막의 기본 물성은 DMA (동적 점탄성 장치) 에 의해 통상적으로 측정되고, 저장 탄성률과 손실 탄성률로서 얻어진다. 저장 탄성률은, 스프링과 같이 부여된 응력에 대해 순발적으로 반응하는 탄성 성분을 나타내고, 한편, 손실 탄성률은 부여된 응력에 대해 느리게 반응하는 점성 성분을 나타낸다. 요컨대, 저장 탄성률은 피막의 강도에 직접 영향을 미치는 성분이고, 높은 저장 탄성률을 갖는 피막일수록 딱딱한 피막이라고 할 수 있다. 손실 탄성률은 유연함을 나타내는 성분이고, 손실 탄성률이 높은 피막은 보다 유연한 피막이라고 할 수 있다. 손실 탄성률이 극대값을 얻는 온도를 최대 손실 정접 Tanδ 로 나타내고, 이 온도가 지나치게 높은 경우, 피막은 무르고, 한편 지나치게 낮은 경우, 피막은 연질이 된다.The basic physical properties of the coating are conventionally measured by a DMA (dynamic viscoelastic device) and are obtained as storage elastic modulus and loss elastic modulus. The storage modulus represents an elastic component that reacts uniformly to the stress imparted, such as a spring, while the loss modulus represents a viscous component that reacts slowly to a given stress. In short, the storage elastic modulus is a component directly influencing the strength of the coating film, and the coating film having a high storage elastic modulus can be said to be a hard coating film. The loss elastic modulus is a component showing flexibility, and the coating having a high loss elastic modulus is a more flexible film. The temperature at which the loss elastic modulus attains the maximum value is expressed by the maximum loss tangent tan?, And when the temperature is too high, the coating is friable, while if too low, the coating becomes soft.

피막의 상온에 있어서의 저장 탄성률은, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 0.1 ∼ 5 ㎬ 인 것이 바람직하고, 0.2 ∼ 4 ㎬ 인 것이 보다 바람직하고, 0.5 ∼ 2 ㎬ 인 것이 더욱 바람직하다.The storage elastic modulus at room temperature of the coating film is preferably from 0.1 to 5 mm, more preferably from 0.2 to 4 mm, and further preferably from 0.5 to 2 mm, since the effect of the present invention is better.

또, 피막의 최대 손실 정접 Tanδ 를 나타내는 온도 (Tanδmax) 는, 본 발명의 효과가 보다 우수한 점에서, 25 ∼ 80 ℃ 인 것이 바람직하고, 30 ∼ 75 ℃ 인 것이 보다 바람직하고, 30 ∼ 70 ℃ 인 것이 더욱 바람직하다.The temperature (Tan? Max) showing the maximum loss tangent tan? Of the film is preferably 25 to 80 占 폚, more preferably 30 to 75 占 폚, and most preferably 30 to 70 占 폚 Is more preferable.

상기 서술한 표면 처리 금속 재료의 표면 상 (피막 상) 에는, 필요에 따라 도막을 형성해도 된다. 얻어진 도막은, 밀착성이나 내식성이 우수하다.A coating film may be formed on the surface (coating film) of the above-mentioned surface-treated metal material, if necessary. The resulting coating film is excellent in adhesion and corrosion resistance.

도료는, 수성 도료이어도 되고 용제계 도료이어도 상관없다. 경화 형식도 특별히 제한되지 않고, 열 경화이어도 되고 전자선 경화이어도 상관없다. 또, 본 발명의 표면 처리 금속 재료의 표면 상 (피막 상) 에는, 일반 도료뿐만 아니라, 라미네이트 등의 필름 코트를 실시해도 된다.The paint may be a water-based paint or a solvent-based paint. The curing type is not particularly limited and may be thermosetting or electron beam curing. In addition to the general coating material, a film coat such as a laminate may be applied to the surface of the surface-treated metal material of the present invention (coating film).

상기 서술한 표면 처리 금속 재료는, 각종 용도에 사용할 수 있고, 예를 들어, 가전이나 건재 용도의 부재 등을 들 수 있다.The above-mentioned surface-treated metal material can be used for various applications, and examples thereof include members for household appliances and building materials.

실시예Example

이하에 본 발명의 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples of the present invention, but the present invention is not limited to these Examples.

<1. 블록 이소시아네이트 (A) 의 합성><1. Synthesis of block isocyanate (A) >

1.1 폴리이소시아네이트의 조제1.1 Preparation of polyisocyanate

교반기가 부착된 반응 장치 (1 ℓ 세퍼러블 플라스크) 에 표 1 의 「이소시아네이트종」 란에 나타내는 각 이소시아네이트 300 g 을 첨가하고, 60 ℃ 에서의 교반하, 촉매로서 트리메틸벤질암모늄·하이드로옥사이드 0.1 g 을 첨가하였다. 4 시간 후, 반응액의 전화율이 38 % 가 된 시점에서 인산 0.2 g 을 첨가하여 반응을 정지시켰다.300 g of each isocyanate shown in the column of &quot; isocyanate species &quot; in Table 1 was added to a reactor (1 liter separable flask) equipped with a stirrer, and 0.1 g of trimethylbenzylammonium hydroxide as a catalyst . After 4 hours, when the conversion of the reaction solution reached 38%, 0.2 g of phosphoric acid was added to terminate the reaction.

2.2 블록 이소시아네이트의 조제2.2 Preparation of block isocyanate

이하에, 블록 이소시아네이트의 조제 방법을 서술한다. 또한, 각 합성예에 사용한 「폴리이소시아네이트」 는, 표 1 에 기재된 각 합성예의 「이소시아네이트종」 란에 기재된 이소시아네이트를 사용하여, 상기 순서로 하여 제조한 폴리이소시아네이트를 사용하였다.Hereinafter, a method for preparing a block isocyanate will be described. As the &quot; polyisocyanate &quot; used in each of the synthesis examples, the polyisocyanate prepared in the above procedure was used by using the isocyanate described in the &quot; isocyanate species &quot; column of each synthesis example shown in Table 1.

단, 후술하는 합성예 A10 에 있어서는, 단량체인 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 사용하였다.However, in Synthesis Example A10 to be described later, 1,6-hexamethylene diisocyanate, which is a monomer, was used.

또한, 이하 각 합성예에서 합성한 블록 이소시아네이트는, 이른바 자기 유화형의 블록 이소시아네이트였다.In addition, the block isocyanate synthesized in each Synthesis Example is a so-called self-emulsifying block isocyanate.

(합성예 A1)(Synthesis Example A1)

폴리이소시아네이트 (100 g), 디에틸말로네이트 (63.5 g) 및 나트륨메톡사이드 (1.0 g) 를 반응기에 장입 (裝入) 하고, 65 ∼ 70 ℃ 에서 가열하였다. 이어서, 폴리에틸렌글리콜 (188.4 g) (반복 단위의 수 (n) : 22) 을 반응액에 첨가하고, 반응액 온도를 70 ℃ 로 하고, 5 시간 유지하였다. 그 후, 반응액을 교반하면서 물 (430 g) 을 반응액에 첨가하여, 블록 이소시아네이트 유화액을 조제하였다.Polyisocyanate (100 g), diethyl malonate (63.5 g) and sodium methoxide (1.0 g) were charged to the reactor and heated at 65-70 ° C. Then, polyethylene glycol (188.4 g) (the number of repeating units (n): 22) was added to the reaction solution, and the temperature of the reaction solution was kept at 70 占 폚 and held for 5 hours. Then, while stirring the reaction solution, water (430 g) was added to the reaction solution to prepare a block isocyanate emulsion.

(합성예 A2, A6)(Synthesis Examples A2 and A6)

폴리이소시아네이트 (100 g), 3,5-디메틸피라졸 (28.8 g) 및 나트륨메톡사이드 (1.0 g) 를 반응기에 장입하고, 65 ∼ 70 ℃ 에서 가열하였다. 이어서, 폴리에틸렌글리콜 (188.4 g) 을 반응액에 첨가하고, 반응액 온도를 70 ℃ 로 하고, 5 시간 유지하였다. 그 후, 반응액을 교반하면서 물 (430 g) 을 반응액에 첨가하여, 블록 이소시아네이트 유화액을 조제하였다.Polyisocyanate (100 g), 3,5-dimethylpyrazole (28.8 g) and sodium methoxide (1.0 g) were charged to the reactor and heated at 65-70 ° C. Then, polyethylene glycol (188.4 g) was added to the reaction solution, and the reaction solution temperature was maintained at 70 占 폚 and held for 5 hours. Then, while stirring the reaction solution, water (430 g) was added to the reaction solution to prepare a block isocyanate emulsion.

또한, A2 및 A6 의 각 제조시에, 상기 폴리에틸렌글리콜의 종류를 변경하여, 표 1 에 나타내는 바와 같이 중량 평균 분자량이 얻어지도록 하였다. 구체적으로는, A2 의 합성시에는 폴리에틸렌글리콜 (반복 단위의 수 (n) : 22) 을, A6 의 합성시에는 폴리에틸렌글리콜 (반복 단위의 수 (n) : 180) 을 사용하였다.Further, at the time of manufacturing each of A2 and A6, the kind of the polyethylene glycol was changed so that the weight average molecular weight was obtained as shown in Table 1. Specifically, polyethylene glycol (number of repeating units (n): 22) was used for synthesis of A2, and polyethylene glycol (number of repeating units (n): 180) was used for synthesis of A6.

(합성예 A3)(Synthesis Example A3)

폴리에틸렌글리콜을 폴리프로필렌글리콜 (반복 단위의 수 (n) : 17) 로 변경한 것 이외에는, 합성예 A2 와 동일한 순서에 따라, 블록 이소시아네이트 유화액을 조제하였다.A block isocyanate emulsion was prepared in the same manner as in Synthesis Example A2 except that polyethylene glycol was changed to polypropylene glycol (number of repeating units (n): 17).

(합성예 4)(Synthesis Example 4)

폴리이소시아네이트 (100 g), 3,5-디메틸피라졸 (31.6 g) 및 나트륨메톡사이드 (1.0 g) 를 반응기에 장입하고, 65 ∼ 70 ℃ 에서 가열하였다. 이어서, 폴리에틸렌글리콜 (640 g) (반복 단위의 수 (n) : 91) 을 반응액에 첨가하고, 반응액 온도를 70 ℃ 로 승온시키고, 5 시간 유지하였다. 그 후, 반응액을 교반하면서 물 (1100 g) 을 반응액에 첨가하여, 블록 이소시아네이트 유화액을 조제하였다.Polyisocyanate (100 g), 3,5-dimethylpyrazole (31.6 g) and sodium methoxide (1.0 g) were charged to the reactor and heated at 65-70 ° C. Then, polyethylene glycol (640 g) (the number of repeating units (n): 91) was added to the reaction solution, the temperature of the reaction solution was raised to 70 캜 and held for 5 hours. Thereafter, while stirring the reaction solution, water (1100 g) was added to the reaction solution to prepare a block isocyanate emulsion.

(합성예 A5)(Synthesis Example A5)

폴리이소시아네이트 (100 g), 3,5-디메틸피라졸 (26.2 g) 및 나트륨메톡사이드 (1.0 g) 를 반응기에 장입하고, 65 ∼ 70 ℃ 에서 가열하였다. 이어서, 폴리에틸렌글리콜 (136.6 g) (반복 단위의 수 (n) : 68) 을 반응액에 첨가하고, 반응액 온도를 70 ℃ 로 하고, 5 시간 유지하였다. 그 후, 반응액을 교반하면서 물 (350 g) 을 반응액에 첨가하여, 블록 이소시아네이트 유화액을 조제하였다.Polyisocyanate (100 g), 3,5-dimethylpyrazole (26.2 g) and sodium methoxide (1.0 g) were charged to the reactor and heated at 65-70 ° C. Then, polyethylene glycol (136.6 g) (the number of repeating units (n): 68) was added to the reaction solution, and the temperature of the reaction solution was kept at 70 占 폚 and held for 5 hours. Thereafter, while stirring the reaction solution, water (350 g) was added to the reaction solution to prepare a block isocyanate emulsion.

(합성예 A7, A8)(Synthesis Examples A7 and A8)

3,5-디메틸피라졸을 메틸에틸케톡심 또는 에틸렌글리콜모노부틸에테르로 변경한 것 이외에는, 합성예 A2 와 동일한 순서에 따라, 블록 이소시아네이트 유화액을 조제하였다.A block isocyanate emulsion was prepared in the same manner as in Synthesis Example A2 except that 3,5-dimethylpyrazole was changed to methyl ethyl ketoxime or ethylene glycol monobutyl ether.

(합성예 A9)(Synthesis Example A9)

폴리이소시아네이트 (100 g), 3,5-디메틸피라졸 (26.2 g) 및 나트륨메톡사이드 (1.0 g) 를 반응기에 장입하고, 65 ∼ 70 ℃ 에서 가열하였다. 이어서, 폴리에틸렌글리콜 (3571 g) (반복 단위의 수 (n) : 409) 을 반응액에 첨가하고, 반응액 온도를 70 ℃ 로 하고, 5 시간 유지하였다. 그 후, 반응액을 교반하면서 물 (5600 g) 을 반응액에 첨가하여, 블록 이소시아네이트 유화액을 조제하였다.Polyisocyanate (100 g), 3,5-dimethylpyrazole (26.2 g) and sodium methoxide (1.0 g) were charged to the reactor and heated at 65-70 ° C. Then, polyethylene glycol (3571 g) (the number of repeating units (n): 409) was added to the reaction solution, and the temperature of the reaction solution was kept at 70 占 폚 and held for 5 hours. Thereafter, water (5600 g) was added to the reaction solution while stirring the reaction solution to prepare a block isocyanate emulsion.

(합성예 A10)(Synthesis Example A10)

이소시아네이트 (100 g), 디에틸말로네이트 (190.5 g) 및 나트륨메톡사이드 (1.0 g) 를 반응기에 장입하고, 반응액을 65 ∼ 70 ℃ 에서 가열하였다. 그 후, 반응액을 교반하면서 물 (530 g) 을 반응액에 첨가하여, 블록 이소시아네이트 유화액을 조제하였다.Isocyanate (100 g), diethyl malonate (190.5 g) and sodium methoxide (1.0 g) were charged into the reactor and the reaction was heated at 65-70 캜. Then, while stirring the reaction solution, water (530 g) was added to the reaction solution to prepare a block isocyanate emulsion.

(합성예 A11)(Synthesis Example A11)

폴리이소시아네이트 (100 g), 디에틸말로네이트 (95.2 g) 및 나트륨메톡사이드 (1.0 g) 를 반응기에 장입하고, 반응액을 65 ∼ 70 ℃ 에서 가열하였다. 그 후, 반응액을 교반하면서 물 (290 g) 을 반응액에 첨가하여, 블록 이소시아네이트 유화액을 조제하였다.Polyisocyanate (100 g), diethyl malonate (95.2 g) and sodium methoxide (1.0 g) were charged to the reactor and the reaction was heated at 65-70 ° C. Thereafter, while stirring the reaction solution, water (290 g) was added to the reaction solution to prepare a block isocyanate emulsion.

(합성예 A12)(Synthesis Example A12)

폴리이소시아네이트 (100 g), 디메틸피라졸 (75.7 g) 및 나트륨메톡사이드 (1.0 g) 를 반응기에 장입하고, 반응액을 65 ∼ 70 ℃ 에서 가열하였다. 그 후, 반응액을 교반하면서 물 (260 g) 을 반응액에 첨가하여, 블록 이소시아네이트 유화액을 조제하였다.Polyisocyanate (100 g), dimethyl pyrazole (75.7 g) and sodium methoxide (1.0 g) were charged into the reactor and the reaction was heated at 65-70 ° C. Thereafter, water (260 g) was added to the reaction solution while stirring the reaction solution to prepare a block isocyanate emulsion.

얻어진 블록 이소시아네이트의 중량 평균 분자량은, 블록 이소시아네이트의 상대 분자량 분포를 GPC (겔 침투 크로마토그래피) 에 의해 구하고, 폴리에틸렌글리콜 환산 중량 평균 분자량으로서 구하였다. GPC 의 측정 조건은 다음과 같다.The weight average molecular weight of the obtained block isocyanate was determined by GPC (gel permeation chromatography), and the weight average molecular weight in terms of polyethylene glycol was determined as the relative molecular weight distribution of the block isocyanate. The measurement conditions of GPC are as follows.

측정 기종 : 토소 (주) 제조 SC-8010 시스템Measuring apparatus: SC-8010 system manufactured by Tosoh Corporation

칼럼 : Shodex Ohpak SB-G + Ohpak SB-806MHQ × 2 개Column: Shodex Ohpak SB-G + Ohpak SB-806MHQ × 2

용해액 : DMF/0.06M LiBr/0.04M H3 PO3 Solution: DMF / 0.06 M LiBr / 0.04 MH 3 PO 3

온도 : 칼럼 항온조 40 ℃Temperature: Column constant temperature bath 40 ℃

유속 : 0.05 ㎖/분Flow rate: 0.05 ml / min

농도 : 0.1 wt/Vol%Concentration: 0.1 wt / Vol%

주입량 : 50 ㎕Injection amount: 50 μl

용해성 : 완전 용해Solubility: completely soluble

전처리 : 0.45 ㎛ 필터Pretreatment: 0.45 탆 filter

검출기 : 시차 굴절계Detector: differential refractometer

상기에서 합성된 A1 ∼ A9 에는 이소시아누레이트 구조 (식 (1) 로 나타내는 구조 단위) 와, 폴리알킬렌옥시 사슬 (식 (2) 로 나타내는 구조 단위) 이 함유되어 있었다.The isocyanurate structure (the structural unit represented by the formula (1)) and the polyalkyleneoxy chain (the structural unit represented by the formula (2)) were contained in the A1 to A9 synthesized above.

A10 에는 이소시아누레이트 구조 및 폴리알킬렌옥시 사슬이 함유되어 있지 않고, A11 및 A12 에는 폴리알킬렌옥시 사슬이 함유되어 있지 않았다.A10 did not contain an isocyanurate structure and a polyalkyleneoxy chain, and A11 and A12 contained no polyalkyleneoxy chain.

이하의 표 1 중, 「중합 형태」 란에 있어서, 「3 량체」 는 이소시아누레이트 구조가 함유되는 것을 의도하고, 「단량체」 는 이소시아네이트가 단량체 상태인 것을 의도한다.In the following Table 1, in the &quot; polymerization type &quot; column, &quot; trimer &quot; is intended to include an isocyanurate structure, and &quot; monomer &quot; is intended to mean isocyanate in a monomer state.

「해리 온도」 는, 블록화 이소시아네이트기의 해리 온도를 나타낸다.The &quot; dissociation temperature &quot; represents the dissociation temperature of the blocked isocyanate group.

「입자경」 은, 각 블록 이소시아네이트 유화액 중에 있어서의 블록 이소시아네이트의 입자경을 나타낸다.The "particle size" indicates the particle diameter of the block isocyanate in each block isocyanate emulsion.

「알킬렌옥시수」 는, 알킬렌옥시 유닛의 수 (식 (2) 중의 n) 를 나타낸다.The "alkyleneoxy group" represents the number of alkyleneoxy units (n in formula (2)).

「유효 NCO%」 는, 각 블록 이소시아네이트 중에 있어서의 유효 이소시아네이트기의 함유량 (질량%) 을 의도한다.&Quot; Effective NCO% &quot; is intended to mean the content (% by mass) of the effective isocyanate group in each block isocyanate.

Figure pct00003
Figure pct00003

또한, 상기 표 중의 각 기호는 이하를 나타낸다.Each symbol in the above table indicates the following.

HDI : 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트, IPDI : 3-이소시아네이트-메틸-3,5,5-트리메틸시클로헥실이소시아네이트, TMXDI : 1,3-비스(2-이소시아네이트2-프로필)벤젠, TDI : 톨릴렌-2,6-디이소시아네이트, PEG : 폴리에틸렌글리콜, PPG : 폴리프로필렌글리콜, DEM : 디에틸말로네이트, DMP : 3,5-디메틸피라졸, MEKO : 메틸에틸케톡심, EGB : 에틸렌글리콜모노부틸에테르HDI: 1,6-hexamethylene diisocyanate, IPDI: 3-isocyanate-methyl 3,5,5-trimethylcyclohexyl isocyanate, TMXDI: 1,3-bis (2-isocyanate 2-propyl) benzene, TDI: Ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ether

<2. 금속 표면 처리액의 조제><2. Preparation of metal surface treatment liquid>

표 1 에 나타내는 블록 이소시아네이트 (A) 를 사용하여, 표 2 ∼ 4 에 나타내는 조합 및 비율로, 블록 이소시아네이트 (A), 유기 수지 (B), 금속 화합물 (C), 인 함유 화합물 (D), 규소 화합물 (E), 무기 화합물 (F), 디카르복실산디에스테르 (G) 를 이 순서로 혼합하고, 탈이온수에 의해 농도를 조정함으로써, 실시예 및 비교예에 사용한 금속 표면 처리액을 조제하였다.(A), the organic resin (B), the metal compound (C), the phosphorus-containing compound (D), the silicon compound (B), and the silicon isocyanate (A) in the combinations and ratios shown in Tables 2 to 4 using the block isocyanate The metal surface treatment liquid used in the examples and the comparative examples was prepared by mixing the compound (E), the inorganic compound (F) and the dicarboxylic acid diester (G) in this order and adjusting the concentration by deionized water.

B1 : 에폭시 수지 (워터졸 EFD-5560, DIC) (함유 관능기의 종류 : 하이드록실기)B1: Epoxy resin (Water Sol EFD-5560, DIC) (type of functional group containing: hydroxyl group)

B2 : 우레탄 수지 (하이드란 COR-70, DIC) (함유 관능기의 종류 : 아미노기)B2: urethane resin (Hydran COR-70, DIC) (types of functional groups contained: amino group)

B3 : 아크릴 수지 (워터졸 S-701, DIC) (함유 관능기의 종류 : 카르복실기)B3: Acrylic resin (Water sol S-701, DIC) (type of functional group containing: carboxyl group)

C1 : 탄산지르코늄암모늄C1: Zirconium carbonate ammonium

C2 : 지르코늄불화수소산C2: Zirconium hydrofluoric acid

D1 : 인산암모늄D1: Ammonium phosphate

D2 : 하이드록시에틸리덴디포스폰산D2: Hydroxyethylidene diphosphonic acid

D3 : 인산트리에탄올아민D3: Triethanolamine phosphate

E1 : 3-글리시독시프로필트리메톡시실란E1: 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane

F1 : 수산화리튬F1: lithium hydroxide

G1 : 아디프산디이소부틸G1: diisobutyl adipate

<3. 표면 처리><3. Surface treatment>

이하, 용융 아연 도금 강판, 전기 아연 도금 강판 또는 냉연 강판을 공시재로 했을 경우에 대해, 표면 처리 방법, 평가 방법 및 평가 결과의 순서로 설명한다. 또한, 평가 결과는 표 2 ∼ 4 에 정리해서 나타낸다.Hereinafter, the surface treatment method, the evaluation method, and the evaluation result will be described in the order of the hot-dip galvanized steel sheet, the electro-galvanized steel sheet or the cold-rolled steel sheet. In addition, the evaluation results are summarized in Tables 2 to 4.

[1. 소재][One. Material]

GI : 용융 아연 도금 강판 (판두께 : 0.8 ㎜, 겉보기 중량 : 60 g/㎡)GI: Hot-dip galvanized steel sheet (plate thickness: 0.8 mm, apparent weight: 60 g / m 2)

EG : 전기 아연 도금 강판 (판두께 : 0.8 ㎜, 겉보기 중량 : 20 g/㎡)EG: Electro galvanized steel sheet (plate thickness: 0.8 mm, apparent weight: 20 g / m 2)

CRS : 냉연 강판 (판두께 : 0.8 ㎜)CRS: Cold rolled steel plate (plate thickness: 0.8 mm)

[2. 표면 처리 방법][2. Surface treatment method]

(1) 탈지(1) degreasing

닛폰 파카라이징 (주) 제조 알칼리 탈지제 파인 클리너 E6406 (20 g/ℓ 건욕 (建浴), 60 ℃, 10 초 스프레이, 스프레이압 0.5 ㎏/㎠) 으로 각 소재를 탈지한 후, 스프레이 수세를 10 초간 실시하였다.Each material was degreased with an alkali degreasing agent Fine Cleaner E6406 (20 g / l bath, 60 캜, 10 seconds spray, spray pressure 0.5 kg / cm 2) manufactured by Nippon Pharmaceutical Co., Respectively.

(2) 도포 및 건조(2) Application and drying

상기 (1) 에서 탈지한 각 소재에 각 금속 표면 처리액을 피막 질량이 1 g/㎡ 가 되도록 바 코트 도포하고, 150 ℃ (PMT) 로 건조시켜, 각 처리판 시료를 제조하였다.Each of the degreased materials obtained in (1) above was coated with a metal surface treatment liquid such that the coating weight was 1 g / m 2, and dried at 150 ° C (PMT) to prepare samples for each treatment plate.

[3. 평가 항목][3. Evaluation items]

(1) 내식성(1) Corrosion resistance

(1-1) GI 및 EG 에 관해(1-1) About GI and EG

실시예 및 비교예에 있어서 제조한 GI 및 EG 처리판 시료에 대해서는, 이하의 평면부 및 단면부의 내식성 시험을 실시하였다. 평가 방법은 다음과 같다.The GI and EG treated plate samples produced in the examples and comparative examples were subjected to the following corrosion resistance tests on the planar part and the cross section. The evaluation method is as follows.

(평면부)(Plane portion)

염수 분무 시험법 JIS-Z-2371 에 기초하여 염수 분무 240 시간 후의 백청 발생 면적률 (평면부 전체 면적에 대한 백청의 발생 면적의 비율) 을 구하고, 이하의 기준에 따라 평가하였다. 평면부 내식성에 대해서는 ◎ ∼ □ 를 합격으로 하였다.Based on the salt spray test method JIS-Z-2371, the white rust occurrence area ratio (the ratio of the white rust occurrence area to the total area of the flat part) after 240 hours of spraying with salt water was determined and evaluated according to the following criteria. As for the corrosion resistance on the flat surface, it was accepted as ◎ to □.

[평가 기준][Evaluation standard]

◎ : 백청 발생 면적률 10 % 미만◎: Less than 10% of white rust area

○ : 백청 발생 면적률 10 % 이상 20 % 미만○: White rust occurrence area ratio 10% or more and less than 20%

□ : 백청 발생 면적률 20 % 이상 30 % 미만□: Area of occurrence of white rust 20% or more and less than 30%

△ : 백청 발생 면적률 30 % 이상 60 % 미만△: area ratio of white rust is 30% or more and less than 60%

× : 백청 발생 면적률 60 % 이상X: Ratio of white rust area 60% or more

(단면부)(Section)

JIS-Z2371 에 규정된 염수 분무 시험을 48 시간 실시하여, 단면으로부터의 녹 폭을 육안 평가하고, 이하의 기준에 따라 평가하였다. 단면부 내식성에 대해서는 ◎ ∼ □ 를 합격으로 하였다.The salt spray test prescribed in JIS-Z2371 was conducted for 48 hours, and the rust width from the cross section was visually evaluated and evaluated according to the following criteria. As for the corrosion resistance of the cross section, ⊚ to 합 were accepted.

[평가 기준][Evaluation standard]

◎ : 녹 폭 5 ㎜ 미만◎: less than 5 mm rust width

○ : 녹 폭 5 ㎜ 이상 7 ㎜ 미만○: Rust width 5 mm or more and less than 7 mm

□ : 녹 폭 7 ㎜ 이상 8.5 ㎜ 미만□: Rust width 7 ㎜ or more and less than 8.5 ㎜

△ : 녹 폭 8.5 ㎜ 이상 10 ㎜ 미만△: Rust width 8.5 ㎜ or more and less than 10 ㎜

× : 녹 폭 10 ㎜ 이상×: Rust width of 10 mm or more

(1-2) CRS 에 관해(1-2) About CRS

실시예 및 비교예에 있어서 제조한 CRS 처리판 시료에 대해서는, 이하의 내식성 시험을 실시하였다. 평가 방법은 다음과 같다.The CRS treated plate samples produced in the examples and comparative examples were subjected to the following corrosion resistance test. The evaluation method is as follows.

(평면부)(Plane portion)

염수 분무 시험법 JIS-Z-2371 에 기초하여 염수 분무 72 시간 후의 백청 발생 면적률 (평면부 전체 면적에 대한 백청의 발생 면적의 비율) 을 구하고, 이하의 기준에 따라 평가하였다. 내식성에 대해서는 ◎ ∼ □ 를 합격으로 하였다.Based on the salt spray test method JIS-Z-2371, the white rust occurrence area ratio (the ratio of the white rust occurrence area to the total area of the plane portion) after 72 hours of salt water spraying was determined and evaluated according to the following criteria. For the corrosion resistance, ◎ ~ □ were accepted.

[평가 기준][Evaluation standard]

◎ : 백청 발생 면적률 10 % 미만◎: Less than 10% of white rust area

○ : 백청 발생 면적률 10 % 이상 20 % 미만○: White rust occurrence area ratio 10% or more and less than 20%

□ : 백청 발생 면적률 20 % 이상 30 % 미만□: Area of occurrence of white rust 20% or more and less than 30%

△ : 백청 발생 면적률 30 % 이상 60 % 미만△: area ratio of white rust is 30% or more and less than 60%

× : 백청 발생 면적률 60 % 이상X: Ratio of white rust area 60% or more

(2) 내가공성(2) I was siege

처리판 시료의 양면을 20 ㎜ × 50 ㎜ 의 평면 압자를 사용하여 10 kN 의 하중을 부여하면서 100 ㎜/min 의 속도로 인발 가공을 실시하고, 육안으로 시험편 (처리판 시료) 의 외관을 평가하여, 변색 면적의 비율 (인발 가공부의 면적에 대한 변색 면적의 비율) 을 구하고, 이하의 기준에 따라 평가하였다. 내가공성에 대해서는 ◎ ∼ □ 를 합격으로 하였다.Both sides of the treated plate sample were subjected to a drawing process at a rate of 100 mm / min while applying a load of 10 kN using a flat indenter having a size of 20 mm x 50 mm, and the appearance of the test piece (treated plate sample) was evaluated visually , The ratio of the discoloration area (the ratio of the discoloration area to the area of the drawn portion) was determined and evaluated according to the following criteria. I passed ◎ ~ □ for siege.

[평가 기준][Evaluation standard]

◎ : 전혀 변화 없음◎: No change at all

○ : 변색 면적의 비율이 0 % 초과 10 % 이하○: The ratio of discoloration area exceeds 0% to 10% or less

□ : 변색 면적의 비율이 10 % 초과 30 % 이하□: Percentage of discoloration area exceeds 10% and below 30%

△ : 변색 면적의 비율이 30 % 초과 50 % 이하?: The ratio of the discoloration area exceeds 30% to 50%

× : 변색 면적의 비율이 50 % 초과X: Percentage of discoloration area exceeds 50%

(3) 내약품성(3) Chemical resistance

(3-1) 내알칼리성(3-1) Alkalinity

처리판 시료에, 상기 탈지에서 사용한 탈지제를 65 ℃ 로 조정하고 2 분간 스프레이하였다. 그 후, 육안으로 시험편 (처리판 시료) 의 외관을 관찰하고, 이하의 기준에 따라 평가하였다. 내알칼리성에 대해서는 ◎ ∼ □ 를 합격으로 하였다.The degreasing agent used in the degreasing was adjusted to 65 캜 and sprayed on the treated plate for 2 minutes. Thereafter, the appearance of the test piece (treated plate sample) was visually observed and evaluated according to the following criteria. As for the alkali resistance, ⊚ to 합 were regarded as acceptable.

[평가 기준][Evaluation standard]

◎ : 전혀 변화 없음◎: No change at all

○ : 변색 면적의 비율이 0 % 초과 10 % 이하○: The ratio of discoloration area exceeds 0% to 10% or less

□ : 변색 면적의 비율이 10 % 초과 30 % 이하□: Percentage of discoloration area exceeds 10% and below 30%

△ : 변색 면적의 비율이 30 % 초과 50 % 이하?: The ratio of the discoloration area exceeds 30% to 50%

× : 변색 면적의 비율이 50 % 초과X: Percentage of discoloration area exceeds 50%

(3-2) 내산성(3-2) Acid resistance

처리판 시료를 1 % 황산 수용액에 5 시간 침지시켰다. 그 후, 육안으로 시험편 (처리판 시료) 의 외관을 관찰하고, 이하의 기준에 따라 평가하였다. 내산성에 대해서는 ◎ ∼ □ 를 합격으로 하였다.The treated plate samples were immersed in 1% aqueous sulfuric acid solution for 5 hours. Thereafter, the appearance of the test piece (treated plate sample) was visually observed and evaluated according to the following criteria. For acid resistance, ◎ to □ were accepted.

[평가 기준][Evaluation standard]

◎ : 전혀 변화 없음◎: No change at all

○ : 변색 면적의 비율이 0 % 초과 10 % 이하○: The ratio of discoloration area exceeds 0% to 10% or less

□ : 변색 면적의 비율이 10 % 초과 30 % 이하□: Percentage of discoloration area exceeds 10% and below 30%

△ : 변색 면적의 비율이 30 % 초과 50 % 이하?: The ratio of the discoloration area exceeds 30% to 50%

× : 변색 면적의 비율이 50 % 초과X: Percentage of discoloration area exceeds 50%

(4) 도막 밀착성(4) Coating film adhesion

멜라민알키드계 도료 (다이닛폰 도료 주식회사 제조 데리콘 #700) 를 사용하여, 각 처리판 시료를 도장 처리하였다. 도장은 바 코트 도포로 실시하고, 도장 후, 140 ℃ 에서 20 분간 베이킹을 실시하고, 건조 후 막두께 25 ㎛ 의 도막 (표면 처리물) 을 형성하였다.Each treated plate sample was painted using a melamine alkyd paint (DERICON # 700, manufactured by Dainippon Paint Co., Ltd.). The coating was carried out by applying a bar coat, and after coating, baking was carried out at 140 ° C for 20 minutes to form a coating film (surface-treated product) having a thickness of 25 μm after drying.

원판과 동일한 두께의 판을 2 장 사용하여, 도막 (표면 처리물) 을 사이에 끼우고 180 도 절곡 가공을 실시하고, 절곡부의 테이프 박리를 실시하여, 이하의 기준에 따라 평가하였다. 도막 밀착성에 대해서는 ◎ ∼ □ 를 합격으로 하였다.Two sheets of the same thickness as the original plate were used, and a coating film (surface treated product) was sandwiched therebetween and subjected to a 180 degree bending process. The tape was peeled off from the bent portion and evaluated according to the following criteria. As for the film adhesion, ⊚ to 합 passed.

[평가 기준][Evaluation standard]

◎ : 박리 없음◎: No peeling

○ : 박리 면적이 0 % 초과 10 % 이하○: peeled area exceeding 0% and not more than 10%

□ : 박리 면적이 10 % 초과 30 % 이하□: Peel area is over 10% and below 30%

△ : 박리 면적이 30 % 초과 50 % 이하?: Peeling area exceeding 30% and not more than 50%

× : 박리 면적이 50 % 초과X: Peel area exceeded 50%

(5) 도장 후 내식성(5) Corrosion resistance after painting

(5-1) GI 및 EG 에 관해(5-1) About GI and EG

상기 (4) 에서 얻어진 도막에 NT 커터 (엔티 주식회사 제조 A300 형) 로 크로스컷을 실시하고, JIS-Z2371 에 규정된 염수 분무 시험을 480 시간 실시하여, 크로스컷으로부터의 녹 폭을 육안 평가하고, 이하의 기준에 따라 평가하였다. 도장 후 내식성에 대해서는 ◎ ∼ □ 를 합격으로 하였다.The coating film obtained in the above (4) was subjected to crosscutting with an NT cutter (Type A300, manufactured by NIPPON KOGYO CO., LTD.) And subjected to a salt spray test prescribed in JIS-Z2371 for 480 hours. And evaluated according to the following criteria. The corrosion resistance after coating was rated as ◎ to □.

[평가 기준][Evaluation standard]

◎ : 녹 폭 5 ㎜ 미만◎: less than 5 mm rust width

○ : 녹 폭 5 ㎜ 이상 7 ㎜ 미만○: Rust width 5 mm or more and less than 7 mm

□ : 녹 폭 7 ㎜ 이상 8.5 ㎜ 미만□: Rust width 7 ㎜ or more and less than 8.5 ㎜

△ : 녹 폭 8.5 ㎜ 이상 10 ㎜ 미만△: Rust width 8.5 ㎜ or more and less than 10 ㎜

× : 녹 폭 10 ㎜ 이상×: Rust width of 10 mm or more

(5-2) CSR 에 관해(5-2) About CSR

상기 (4) 에서 얻어진 도막에 NT 커터 (엔티 주식회사 제조 A300 형) 로 크로스컷을 실시하고, JIS-Z2371 에 규정된 염수 분무 시험을 120 시간 실시하여, 크로스컷으로부터의 녹 폭을 육안 평가하고, 이하의 기준에 따라 평가하였다. 도장 후 내식성에 대해서는 ◎ ∼ □ 를 합격으로 하였다.The coated film obtained in the above (4) was subjected to crosscutting with an NT cutter (Type A300 manufactured by NIPPON KOGYO CO., LTD.) And subjected to a salt water spray test prescribed in JIS-Z2371 for 120 hours to visually evaluate the rust width from the cross- And evaluated according to the following criteria. The corrosion resistance after coating was rated as ◎ to □.

[평가 기준][Evaluation standard]

◎ : 녹 폭 3 ㎜ 미만◎: Less than 3 mm of rust width

○ : 녹 폭 3 ㎜ 이상 6 ㎜ 미만○: Rust width 3 mm or more and less than 6 mm

□ : 녹 폭 6 ㎜ 이상 7.5 ㎜ 미만□: Rust width 6 ㎜ or more and less than 7.5 ㎜

△ : 녹 폭 7.5 ㎜ 이상 10 ㎜ 미만?: Rust width not less than 7.5 mm and less than 10 mm

× : 녹 폭 10 ㎜ 이상×: Rust width of 10 mm or more

이하의 표 2 는 공시재로서 용융 아연 도금 강판 (GI) 을 사용한 결과를, 표 3 은 공시재로서 전기 아연 도금 강판 (EG) 을 사용한 결과를, 표 4 는 공시재로서 냉연 강판 (CRS) 을 사용한 결과를 나타낸다.Table 2 shows the results of using hot dip galvanized steel sheets (GI) as a specimen, Table 3 shows the results of using an electrogalvanized steel sheet (EG) as a specimen, and Table 4 shows the results of using cold rolled steel sheets (CRS) Indicates the used result.

또, 표 2 ∼ 4 중의 블록 이소시아네이트 (A) 의 농도란은, 금속 표면 처리액 중에 있어서의 블록 이소시아네이트 (A) 에 함유되는 유효 이소시아네이트기의 농도 (g/ℓ) 를 나타낸다. 또, 표 2 ∼ 4 중의 유기 수지 (B) 의 농도란은, 금속 표면 처리액 중에 있어서의 유기 수지 (B) 의 농도 (g/ℓ) 를 나타낸다.The concentration of the block isocyanate (A) in Tables 2 to 4 indicates the concentration (g / l) of the effective isocyanate group contained in the block isocyanate (A) in the metal surface treatment liquid. The concentration of the organic resin (B) in Tables 2 to 4 indicates the concentration (g / l) of the organic resin (B) in the metal surface treatment liquid.

표 2 ∼ 4 중, 「a/b」 는, 금속 표면 처리액 중에 있어서의 블록 이소시아네이트 (A) 에 함유되는 유효 이소시아네이트기의 농도 a (g/ℓ) 와, 유기 수지 (B) 에 함유되는 관능기 (하이드록실기, 아미노기, 술포기 및 카르복실기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 관능기) 의 농도 b (g/ℓ) 의 비 {a/b} 를 나타낸다.In the Tables 2 to 4, "a / b" represents the concentration (g / ℓ) of the effective isocyanate group contained in the block isocyanate (A) in the metal surface treatment liquid, (A / b) of the concentration b (g / l) of the hydroxyl group (at least one functional group selected from the group consisting of a hydroxyl group, an amino group, a sulfo group and a carboxyl group)

또, 표 2 ∼ 4 중의 「A/C」는 블록 이소시아네이트 (A) 의 질량과 금속 화합물 (C) 의 질량의 비를, 「A/D」 는 블록 이소시아네이트 (A) 의 질량과 인 함유 화합물 (D) 의 질량의 비를, 「A/E」 는 블록 이소시아네이트 (A) 의 질량과 규소 화합물 (E) 의 질량의 비를, 「A/F」 는 블록 이소시아네이트 (A) 의 질량과 무기 화합물 (F) 의 질량의 비를, 「A/G」 는 블록 이소시아네이트 (A) 의 질량과 디카르복실산디에스테르 (G) 의 질량의 비를 각각 나타낸다."A / C" in Tables 2 to 4 represents the ratio of the mass of the block isocyanate (A) to the mass of the metal compound (C), and "A / D" represents the mass of the block isocyanate (A) A is the ratio of the mass of the block isocyanate (A) to the mass of the silicon compound (E), and A / F is the mass of the block isocyanate (A) F), and "A / G" represents the ratio of the mass of the block isocyanate (A) to the mass of the dicarboxylic acid diester (G).

표 2 중의 「저장 탄성률」 「Tanδmax」 는, 각 실시예 및 각 비교예에서 제조되는 피막의 상온에 있어서의 저장 탄성률 및 최대 손실 정접 Tanδ 를 나타내는 온도를 나타낸다. 또한, 「저장 탄성률」 「Tanδmax」 는, RSA-G2 (TA 인스트루먼트) 에 의해 측정하였다.&Quot; Storage elastic modulus &quot; and &quot; Tanδmax &quot; in Table 2 indicate the storage elastic modulus and the temperature showing the maximum loss tangent Tan delta at room temperature of the coating films produced in the respective Examples and Comparative Examples. The &quot; storage elastic modulus &quot; and &quot; Tanδmax &quot; were measured by RSA-G2 (TA instrument).

Figure pct00004
Figure pct00004

Figure pct00005
Figure pct00005

Figure pct00006
Figure pct00006

Figure pct00007
Figure pct00007

Figure pct00008
Figure pct00008

표 2 ∼ 표 4 로부터 알 수 있는 바와 같이 본 발명의 금속 표면 처리액을 도공하여 얻어진 표면 처리 금속 재료는, 각종 우수한 특성을 나타내는 것이 확인되었다.As can be seen from Tables 2 to 4, it was confirmed that the surface-treated metal material obtained by applying the metal surface treatment liquid of the present invention exhibited various excellent properties.

그 중에서도, 실시예 A1 ∼ A14 의 비교로부터, 유효 이소시아네이트기의 농도 (g/ℓ)/유기 수지 (B) 중의 관능기의 농도 (g/ℓ) 의 비 (a/b) 가 0.01 ∼ 30 (바람직하게는 0.5 ∼ 30, 보다 바람직하게는 1.0 ∼ 15) 인 경우, 보다 우수한 효과가 얻어지는 것이 확인되었다.Among them, the comparison of Examples A1 to A14 shows that the ratio (a / b) of the concentration (g / l) of the effective isocyanate group / the concentration (g / l) of the functional group in the organic resin (B) , It is confirmed that a more excellent effect can be obtained in the case of 0.5 to 30, more preferably 1.0 to 15.

또, 실시예 A15 ∼ A19 의 비교로부터, 블록 이소시아네이트의 해리 온도가 120 ℃ 이하인 경우, 보다 우수한 효과가 얻어지는 것이 확인되었다.From the comparison of Examples A15 to A19, it was confirmed that more excellent effects were obtained when the dissociation temperature of the block isocyanate was 120 占 폚 or lower.

또, 실시예 A20 과 실시예 A17 의 비교로부터, 블록 이소시아네이트의 중량 평균 분자량이 400 ∼ 15000 인 범위에 있어서, 보다 우수한 효과가 얻어지는 것이 확인되었다.From the comparison between Example A20 and Example A17, it was confirmed that a more excellent effect was obtained in the range of the weight average molecular weight of the block isocyanate of 400 to 15,000.

또, 실시예 A21 ∼ A26 의 비교로부터, 블록 이소시아네이트 (A) 와 인 함유 화합물 (D) 의 함유량 (A/D) 이 0.5 ∼ 50 (바람직하게는 0.2 ∼ 30, 보다 바람직하게는 0.3 ∼ 10) 인 경우, 보다 우수한 효과가 얻어지는 것이 확인되었다.(A / D) of the block isocyanate (A) and the phosphorus-containing compound (D) is 0.5 to 50 (preferably 0.2 to 30, more preferably 0.3 to 10) , It was confirmed that a more excellent effect was obtained.

또, 실시예 A24, A28 과 A30 의 비교로부터, 인 함유 화합물 (D) 가 무기 인산의 암모늄염 또는 유기 포스폰산인 경우, 보다 우수한 효과가 얻어지는 것이 확인되었다.From the comparison between Examples A24 and A28 and A30, it was confirmed that a superior effect was obtained when the phosphorus-containing compound (D) was an ammonium salt of an inorganic phosphoric acid or an organic phosphonic acid.

한편, 소정의 요건을 만족시키지 않는 비교예에 기재된 금속 표면 처리액을 사용한 경우, 원하는 효과가 얻어지지 않는 것이 확인되었다.On the other hand, it was confirmed that when the metal surface treatment solution described in Comparative Example which did not satisfy the predetermined requirements was used, a desired effect could not be obtained.

Claims (15)

블록제에 의해 블록된 이소시아네이트기를 갖고, 또한 이소시아누레이트 구조 및 폴리알킬렌옥시 사슬을 갖는 블록 이소시아네이트 (A) 와,
하이드록실기, 아미노기, 술포기 및 카르복실기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 관능기를 갖는 유기 수지 (B) 를 함유하는 금속 표면 처리액.
A block isocyanate (A) having an isocyanate group blocked by a blocking agent and having an isocyanurate structure and a polyalkyleneoxy chain,
An organic resin (B) having at least one functional group selected from the group consisting of a hydroxyl group, an amino group, a sulfo group and a carboxyl group.
제 1 항에 있어서,
상기 블록 이소시아네이트 (A) 가, 식 (1) 로 나타내는 구조 단위, 및 식 (2) 로 나타내는 구조 단위를 갖는, 금속 표면 처리액.
[화학식 1]
Figure pct00009

(식 (1) 중, X 는 각각 독립적으로 2 가의 탄화수소기를 나타낸다. R1 은 상기 블록제의 잔기를 나타낸다. * 는 결합 위치를 나타낸다.)
식 (2) -(L-O)n-
(식 (2) 중, L 은 알킬렌기를 나타낸다. n 은 2 ∼ 1000 을 나타낸다.)
The method according to claim 1,
Wherein the block isocyanate (A) has a structural unit represented by formula (1) and a structural unit represented by formula (2).
[Chemical Formula 1]
Figure pct00009

(In the formula (1), each X independently represents a divalent hydrocarbon group, R 1 represents a residue of the blocking agent, and * represents a bonding position.)
(2) - (LO) n -
(In the formula (2), L represents an alkylene group, and n represents 2 to 1000.)
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
추가로, 무기 인산, 무기 인산염, 유기 인산, 유기 인산염, 유기 포스폰산, 및 유기 포스폰산염으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 인 함유 화합물 (D) 를 함유하는, 금속 표면 처리액.
3. The method according to claim 1 or 2,
(D) at least one phosphorus-containing compound selected from the group consisting of inorganic phosphoric acid, inorganic phosphate, organic phosphoric acid, organic phosphate, organic phosphonic acid, and organic phosphonic acid salt.
제 3 항에 있어서,
상기 인 함유 화합물 (D) 가, 무기 인산의 암모늄염, 및 유기 포스폰산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는, 금속 표면 처리액.
The method of claim 3,
Wherein the phosphorus-containing compound (D) contains at least one member selected from the group consisting of an ammonium salt of inorganic phosphoric acid and an organic phosphonic acid.
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 블록 이소시아네이트 (A) 와 상기 인 함유 화합물 (D) 의 질량비 (A/D) 가 0.1 ∼ 50 인, 금속 표면 처리액.
The method according to claim 3 or 4,
Wherein the mass ratio (A / D) of the block isocyanate (A) and the phosphorus-containing compound (D) is 0.1 to 50.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로, 지르코늄, 티탄, 바나듐, 세륨, 몰리브덴, 코발트, 니켈, 마그네슘, 칼슘, 세륨, 아연, 니오브, 이트륨, 알루미늄, 텅스텐, 크롬, 및 바륨으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 원소를 함유하는 금속 화합물 (C) 를 함유하는, 금속 표면 처리액.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
In addition, it is preferable to contain at least one element selected from the group consisting of zirconium, titanium, vanadium, cerium, molybdenum, cobalt, nickel, magnesium, calcium, cerium, zinc, niobium, yttrium, aluminum, tungsten, chromium, And the metal compound (C) is added to the metal surface treatment liquid.
제 6 항에 있어서,
상기 금속 화합물 (C) 가 지르코늄 원소를 함유하는, 금속 표면 처리액.
The method according to claim 6,
Wherein the metal compound (C) contains a zirconium element.
제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
상기 금속 화합물 (C) 가 탄산지르코늄암모늄, 또는 지르코늄불화수소산 혹은 그 염인, 금속 표면 처리액.
8. The method according to claim 6 or 7,
Wherein the metal compound (C) is zirconium ammonium carbonate, zirconium hydrofluoric acid or a salt thereof.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 블록 이소시아네이트 (A) 에 함유되는 유효 이소시아네이트기의 농도 a (g/ℓ) 와, 상기 유기 수지 (B) 에 함유되는 상기 관능기의 농도 b (g/ℓ) 의 비 {a/b} 가 0.001 ∼ 30.0 인, 금속 표면 처리액.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
The ratio {a / b} of the effective isocyanate group concentration a (g / l) of the block isocyanate (A) to the concentration b (g / l) of the functional group contained in the organic resin (B) is 0.001 To 30.0.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 블록 이소시아네이트 (A) 에 함유되는 유효 이소시아네이트기의 농도가 0.01 ∼ 20 g/ℓ 이고, 상기 유기 수지 (B) 의 농도가 5 ∼ 100 g/ℓ 인, 금속 표면 처리액.
10. The method according to any one of claims 1 to 9,
Wherein the concentration of the effective isocyanate group contained in the block isocyanate (A) is 0.01 to 20 g / l and the concentration of the organic resin (B) is 5 to 100 g / l.
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 블록 이소시아네이트 (A) 의 중량 평균 분자량이 400 ∼ 15000 인, 금속 표면 처리액.
11. The method according to any one of claims 1 to 10,
Wherein the block isocyanate (A) has a weight average molecular weight of 400 to 15000.
제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로, 규소 화합물 (E) 를 함유하는, 금속 표면 처리액.
12. The method according to any one of claims 1 to 11,
Further, a metal surface treatment liquid containing a silicon compound (E).
제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
추가로, 리튬, 나트륨 및 칼륨으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 원소를 함유하는 무기 화합물 (F) 를 함유하는, 금속 표면 처리액.
13. The method according to any one of claims 1 to 12,
Further, a metal surface treatment liquid containing an inorganic compound (F) containing at least one element selected from the group consisting of lithium, sodium and potassium.
제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 기재된 금속 표면 처리액을 금속 재료 표면에 접촉시키고, 가열 건조시켜 상기 금속 재료 상에 피막을 형성하는 공정을 구비하는 표면 처리 금속 재료의 제조 방법.A process for producing a surface-treated metal material, comprising the step of bringing the metal surface treatment liquid according to any one of claims 1 to 13 into contact with a surface of a metal material, followed by heating and drying to form a film on the metal material. 금속 재료와, 상기 금속 재료 상에 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 기재된 금속 표면 처리액을 접촉시키고 가열 건조시켜 형성되는 피막을 구비하는, 표면 처리 금속 재료.A surface treated metal material comprising a metal material and a coating formed by contacting the metal surface treatment liquid according to any one of claims 1 to 13 and heating and drying the metal material.
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