KR20170072721A

KR20170072721A - Flexible Organic Light Emitting Display Device

Info

Publication number: KR20170072721A
Application number: KR1020150181229A
Authority: KR
Inventors: 정해윤; 김은아; 김미애
Original assignee: 엘지디스플레이 주식회사
Priority date: 2015-12-17
Filing date: 2015-12-17
Publication date: 2017-06-27
Also published as: KR102456351B1

Abstract

본 발명은, 기판 상에서 구비된 버퍼층, 상기 버퍼층 상에 구비된 회로 소자층, 및 상기 회로 소자층 상에 구비된 발광 소자층을 포함하고, 상기 버퍼층은 홀을 구비하고 있는 플렉시블 유기 발광 표시 장치를 제공한다. The present invention relates to a flexible organic light emitting display device including a buffer layer provided on a substrate, a circuit element layer provided on the buffer layer, and a light emitting element layer provided on the circuit element layer, to provide.

Description

Technical Field [0001] The present invention relates to a flexible organic light emitting display device,

본 발명은 유기 발광 표시 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 플렉시블(flexible) 유기 발광 표시 장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic light emitting display, and more particularly, to a flexible organic light emitting display.

유기 발광 표시 장치는 전자(electron)를 주입하는 음극(cathode)과 정공(hole)을 주입하는 양극(anode) 사이에 발광층이 형성된 구조를 가지며, 음극에서 발생된 전자 및 양극에서 발생된 정공이 발광층 내로 주입되면 주입된 전자 및 정공이 결합하여 엑시톤(exciton)이 생성되고, 생성된 엑시톤이 여기상태(excited state)에서 기저상태(ground state)로 떨어지면서 발광을 하는 원리를 이용한 표시 장치이다. The OLED display has a structure in which a light emitting layer is formed between a cathode for injecting electrons and an anode for injecting holes, and electrons generated in the cathode and holes generated in the anode are injected into the light- Injected electrons and holes combine to form an exciton, and the generated exciton emits light while falling from an excited state to a ground state.

플렉시블 유기 발광 표시 장치는 종이처럼 구부리거나 감을 수 있기 때문에 휴대성 및 보관성 등의 이점으로 차세대 표시 장치로서 꾸준한 연구가 진행되고 있다. 이와 같은 플렉시블 유기 발광 표시 장치는 플렉시블한 기판 상에 회로 소자층과 발광 소자층을 형성하여 제조되므로, 플렉시블한 기판이 여러 공정 장비들로 이송되어 로딩 및 언로딩이 반복적으로 수행되게 된다. Since the flexible organic light emitting display device can bend or wind like a paper, it is being studied as a next generation display device due to its portability and storage stability. Since the flexible organic light emitting display device is manufactured by forming the circuit element layer and the light emitting element layer on a flexible substrate, the flexible substrate is transported to various process equipments so that loading and unloading are repeatedly performed.

그런데, 플렉시블한 기판을 일반적인 이송기구를 이용하여 이송하는 것은 용이하지 않고, 그에 따라 운반 등의 편의를 위해서 플렉시블한 기판을 견고한 유리 기판 상에 형성한 상태에서 각종 공정을 수행하고 공정이 완료된 후 상기 유리 기판을 분리함으로써, 최종적으로 플렉시블 유기 발광 표시 장치를 제조하는 방법이 제안되었다. However, it is not easy to transfer a flexible substrate using a common transfer mechanism. For convenience of transportation, various processes are performed in a state where a flexible substrate is formed on a rigid glass substrate, A method of finally manufacturing a flexible organic light emitting display device by separating the glass substrate has been proposed.

이하, 도면을 참조로 종래의 플렉시블 유기 발광 표시 장치에 대해서 설명하기로 한다. Hereinafter, a conventional flexible organic light emitting display device will be described with reference to the drawings.

도 1a 내지 도 1e는 종래의 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 제조 공정도이다. 1A to 1E are schematic manufacturing steps of a conventional flexible organic light emitting display.

우선, 도 1a에서 알 수 있듯이, 유리 기판(1) 상에 플렉시블 기판(10)을 형성한다. 상기 플렉시블 기판(10)으로는 폴리이미드가 주로 이용된다. First, as can be seen from Fig. 1A, the flexible substrate 10 is formed on the glass substrate 1. Fig. As the flexible substrate 10, polyimide is mainly used.

다음, 도 1b에서 알 수 있듯이, 상기 플렉시블 기판(10) 상에 버퍼층(20)을 형성한다. 상기 플렉시블 기판(10)으로 이용되는 폴리이미드는 내열 특성 및 내화학적 특성은 우수하지만 수분 침투에는 취약하다. 후술하는 발광 소자층(40)에 수분이 침투하게 되면 발광 소자층(40)이 쉽게 열화되어 수명이 단축되는 문제가 발생할 수 있다. 따라서, 상기 플렉시블 기판(10) 상에 상기 버퍼층(20)을 형성함으로써, 상기 발광 소자층(40)으로 수분이 침투하는 것을 방지하게 된다. 즉, 상기 버퍼층(20)은 상기 발광 소자층(40)으로 수분이 침투하는 것을 방지하는 역할을 한다. Next, as shown in FIG. 1B, a buffer layer 20 is formed on the flexible substrate 10. The polyimide used as the flexible substrate 10 is excellent in heat resistance and chemical resistance but vulnerable to moisture penetration. If moisture permeates into the light emitting element layer 40 to be described later, the light emitting element layer 40 may be easily deteriorated and the lifetime may be shortened. Therefore, by forming the buffer layer 20 on the flexible substrate 10, moisture can be prevented from penetrating into the light emitting element layer 40. That is, the buffer layer 20 prevents moisture from penetrating into the light emitting device layer 40.

다음, 도 1c에서 알 수 있듯이, 상기 버퍼층(20) 상에 회로 소자층(30)을 형성한다. 상기 회로 소자층(30)은 스위칭 박막 트랜지스터, 구동 박막 트랜지스터 및 커패시터를 포함하여 이루어진다. Next, as shown in FIG. 1C, a circuit element layer 30 is formed on the buffer layer 20. The circuit element layer 30 includes a switching thin film transistor, a driving thin film transistor, and a capacitor.

다음, 도 1d에서 알 수 있듯이, 상기 회로 소자층(30) 상에 발광 소자층(40)을 형성한다. 상기 발광 소자층(40)은 양극, 음극, 및 상기 양극과 음극 사이에 구비된 발광층을 포함하여 이루어진다. 1D, a light emitting device layer 40 is formed on the circuit element layer 30. Next, as shown in FIG. The light emitting device layer 40 includes an anode, a cathode, and a light emitting layer provided between the anode and the cathode.

다음, 도 1e에서 알 수 있듯이, 상기 플렉시블 기판(10)에서 상기 유리 기판(1)을 분리하여, 상기 플렉시블 기판(10) 상에 버퍼층(20), 회로 소자층(30) 및 발광 소자층(40)이 차례로 적층된 플렉시블 유기 발광 표시 장치가 완성된다. 1E, the glass substrate 1 is separated from the flexible substrate 10, and a buffer layer 20, a circuit element layer 30, and a light emitting element layer (not shown) are formed on the flexible substrate 10 40 are stacked in this order on the flexible organic light emitting display device.

그러나, 이와 같은 종래의 플렉시블 유기 발광 표시 장치는 다음과 같은 문제점이 있다. However, such a conventional flexible organic light emitting display has the following problems.

도 2는 종래의 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 문제점을 설명하기 위한 것으로서, 도 2에서 알 수 있듯이, 유리 기판(1) 상에 플렉시블 기판(10)을 형성하고 이어서 상기 플렉시블 기판(10) 상에 버퍼층(20)을 형성한다. 2, a flexible substrate 10 is formed on a glass substrate 1, and then a buffer layer 10 is formed on the flexible substrate 10, (20).

이때, 상기 플렉시블 기판(10)은 상기 유리 기판(1) 상에 액체 상태의 폴리이미드를 코팅한 후 경화 공정을 통해서 형성한다. 상기 경화 공정에 의해서 대부분의 용매(solvent)는 제거되지만 일부 용매가 상기 경화 공정 이후에도 상기 플렉시블 기판(10) 내에 잔류할 수 있다. At this time, the flexible substrate 10 is formed by coating polyimide in a liquid state on the glass substrate 1 and then curing. Most of the solvent is removed by the curing process, but some of the solvent may remain in the flexible substrate 10 after the curing process.

이와 같이 일부 용매가 상기 플렉시블 기판(10) 내에 잔류하게 되면 상기 버퍼층(20)을 형성한 이후 후속 고온 공정에서 상기 플렉시블 기판(10) 내에 잔류하던 일부 용매가 기화하여 가스가 방출된다(outgassing). 그에 따라, 상기 유리 기판(1)과 상기 플렉시블 기판(10) 사이 영역 및 상기 플렉시블 기판(10)과 상기 버퍼층(20) 사이 영역으로 가스가 방출되어 상기 버퍼층(20)이 상기 플렉시블 기판(10)으로부터 벗겨질 수 있고(peeling), 심하면 상기 버퍼층(20)에 크랙(crack)이 발생하는 문제가 있다. When some of the solvent remains in the flexible substrate 10, some of the remaining solvent in the flexible substrate 10 is vaporized and gas is released in the subsequent high temperature process after the buffer layer 20 is formed. As a result, gas is discharged between the glass substrate 1 and the flexible substrate 10 and between the flexible substrate 10 and the buffer layer 20 so that the buffer layer 20 is exposed to the surface of the flexible substrate 10, The buffer layer 20 may be peeled off, and cracks may occur in the buffer layer 20.

본 발명은 전술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 고안된 것으로서, 본 발명은 플렉시블 기판 내에 일부 용매가 잔류한다 하여도 외부로의 가스 방출을 용이하게 함으로써, 가스 방출로 인해서 플렉시블 기판에서 버퍼층이 벗겨지거나 버퍼층에 크랙이 발생하는 것을 방지할 수 있는 플렉시블 유기 발광 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention has been devised to overcome the above-described problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a flexible substrate which facilitates gas discharge even if some solvent remains in the flexible substrate, Which can prevent cracks from occurring in the organic EL display panel.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해서, 기판 상에서 구비된 버퍼층, 상기 버퍼층 상에 구비된 회로 소자층, 및 상기 회로 소자층 상에 구비된 발광 소자층을 포함하고, 상기 버퍼층은 홀을 구비하고 있는 플렉시블 유기 발광 표시 장치를 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention provides a light emitting device comprising a buffer layer provided on a substrate, a circuit element layer provided on the buffer layer, and a light emitting element layer provided on the circuit element layer, A flexible organic light emitting display device is provided.

이상과 같은 본 발명에 따르면 다음과 같은 효과가 있다. According to the present invention as described above, the following effects can be obtained.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 버퍼층에 홀이 형성되어 있기 때문에, 기판에서 생성되는 가스가 상기 홀을 통해서 외부로 용이하게 배출될 수 있다. 따라서, 잔류하는 용매에 의해 생성되는 가스로 인해서 기판에서 상기 버퍼층이 벗겨지는 문제가 방지되고 또한 상기 버퍼층에 크랙이 발생하는 문제도 방지될 수 있다. According to an embodiment of the present invention, since holes are formed in the buffer layer, gas generated in the substrate can be easily discharged to the outside through the holes. Therefore, the problem that the buffer layer is peeled off from the substrate due to the gas generated by the remaining solvent can be prevented, and the problem of cracking in the buffer layer can also be prevented.

도 1a 내지 도 1e는 종래의 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 제조 공정도이다.
도 2는 종래의 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 문제점을 설명하기 위한 도면이다.
도 3a 내지 도 3e는 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 제조 공정도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 평면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 회로도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 평면도이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다 .
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도이다.1A to 1E are schematic manufacturing steps of a conventional flexible organic light emitting display.
2 is a view for explaining a problem of a conventional flexible organic light emitting diode display.
FIGS. 3A to 3E are schematic manufacturing process diagrams of a flexible organic light emitting display according to an embodiment of the present invention.
4 is a schematic plan view of a flexible organic light emitting display according to an embodiment of the present invention.
5 is a circuit diagram of a flexible organic light emitting display according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic cross-sectional view of a flexible organic light emitting display according to an embodiment of the present invention.
7 is a schematic cross-sectional view of a flexible organic light emitting display according to another embodiment of the present invention.
8 is a schematic plan view of a flexible organic light emitting display according to another embodiment of the present invention.
9 is a schematic cross-sectional view of a flexible organic light emitting display according to another embodiment of the present invention.
10 is a schematic cross-sectional view of a flexible organic light emitting display according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention, and the manner of achieving them, will be apparent from and elucidated with reference to the embodiments described hereinafter in conjunction with the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. Is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급한 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, and the like disclosed in the drawings for describing the embodiments of the present invention are illustrative, and thus the present invention is not limited thereto. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail. In the case where the word 'includes', 'having', 'done', etc. are used in this specification, other parts can be added unless '~ only' is used. Unless the context clearly dictates otherwise, including the plural unless the context clearly dictates otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the constituent elements, it is construed to include the error range even if there is no separate description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship between two parts is described as 'on', 'on top', 'under', and 'next to' Or " direct " is not used, one or more other portions may be located between the two portions.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, if the temporal relationship is described by 'after', 'after', 'after', 'before', etc., May not be continuous unless they are not used.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.The first, second, etc. are used to describe various components, but these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Therefore, the first component mentioned below may be the second component within the technical spirit of the present invention.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다. It is to be understood that each of the features of the various embodiments of the present invention may be combined or combined with each other, partially or wholly, technically various interlocking and driving, and that the embodiments may be practiced independently of each other, It is possible.

이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 3a 내지 도 3e는 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 제조 공정도이다. FIGS. 3A to 3E are schematic manufacturing process diagrams of a flexible organic light emitting display according to an embodiment of the present invention.

우선, 도 3a에서 알 수 있듯이, 유리 기판(1) 상에 플렉시블 기판(100)을 형성한다. First, as can be seen from Fig. 3A, the flexible substrate 100 is formed on the glass substrate 1. Fig.

상기 플렉시블 기판(100)은 폴리이미드와 같은 투명 고분자로 이루어질 수 있다. 상기 플렉시블 기판(100)은 상기 유리 기판(1) 상에 코팅액을 도포한 후 도포한 코팅액을 경화하는 공정을 통해 형성할 수 있다. The flexible substrate 100 may be made of a transparent polymer such as polyimide. The flexible substrate 100 may be formed by applying a coating liquid on the glass substrate 1 and then curing the applied coating liquid.

다음, 도 3b에서 알 수 있듯이, 상기 플렉시블 기판(100) 상에 버퍼층(200)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 3B, the buffer layer 200 is formed on the flexible substrate 100.

상기 버퍼층(200)은 후술하는 발광 소자층(400)으로 수분이 침투하는 것을 방지하는 역할을 하는 것으로서, 당업계에 공지된 다양한 수분 침투 방지용 무기 물질로 이루어질 수 있다. The buffer layer 200 serves to prevent moisture from penetrating into the light emitting device layer 400, which will be described later, and may be made of various inorganic materials for preventing moisture permeation known in the art.

상기 버퍼층(200)은 후속의 고온 공정에서 상기 플렉시블 기판(100)에서 생성되는 가스가 외부로 배출될 수 있도록 가스 배출 홀(FH)을 구비하도록 패턴 형성된다. 즉, 상기 가스 배출 홀(FH)에 의해서 상기 플렉시블 기판(100)의 상면이 노출된다. The buffer layer 200 is patterned to have a gas discharge hole FH so that gas generated in the flexible substrate 100 can be discharged to the outside in a subsequent high-temperature process. That is, the upper surface of the flexible substrate 100 is exposed by the gas discharge holes FH.

전술한 도 3a 공정에서 경화 공정 이후에 상기 플렉시블 기판(100) 내에 용매(solvent)가 잔류할 수 있고 이 경우 후속의 고온 공정에서 잔류하는 용매가 기화하면서 상기 플렉시블 기판(100)으로부터 가스가 방출될 수 있다. 이때, 상기 버퍼층(200)에 상기 가스 배출 홀(FH)이 형성되어 있기 때문에, 상기 플렉시블 기판(100)에서 생성되는 가스가 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해서 외부로 용이하게 배출될 수 있다. 따라서, 상기 잔류하는 용매에 의해 생성되는 가스로 인해서 상기 플렉시블 기판(100)에서 상기 버퍼층(200)이 벗겨지는 문제가 방지되고 또한 상기 버퍼층(200)에 크랙이 발생하는 문제도 방지될 수 있다. 3A, after the curing process, a solvent may remain in the flexible substrate 100. In this case, when the solvent remaining in the subsequent high-temperature process is vaporized, the gas is discharged from the flexible substrate 100 . At this time, since the gas discharge hole FH is formed in the buffer layer 200, the gas generated in the flexible substrate 100 can be easily discharged to the outside through the gas discharge hole FH. Therefore, the problem that the buffer layer 200 is peeled off from the flexible substrate 100 due to the gas generated by the residual solvent can be prevented, and cracks can be prevented from occurring in the buffer layer 200.

또한, 상기 가스 배출 홀(FH)을 가지도록 상기 버퍼층(200)을 패턴 형성할 경우 후속의 고온 열처리 공정에서 상기 버퍼층(200)에 가해지는 스트레스(stress)가 완화(release)되는 효과도 있다. In addition, when the buffer layer 200 is patterned to have the gas discharge holes FH, the stress applied to the buffer layer 200 in a subsequent high-temperature heat treatment process is released.

이와 같은 가스 배출 홀(FH)은 많이 형성될수록 상기 벗겨짐 문제 및 크랙 문제의 방지에 유리할 수 있다. 따라서, 상기 가스 배출 홀(FH)은 화소 별로 적어도 1개씩 형성될 수 있다. 이와 같은 가스 배출 홀(FH)의 위치 등과 같은 구체적인 내용은 후술하는 실시예에서 보다 상세히 설명하기로 한다.The greater the number of such gas discharge holes FH, the more favorable the prevention of the peeling-off problem and the cracking problem. Therefore, at least one gas discharge hole FH may be formed for each pixel. Details of such a position of the gas discharge hole FH and the like will be described in more detail in the following embodiments.

다음, 도 3c에서 알 수 있듯이, 상기 버퍼층(200) 상에 회로 소자층(300)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 3C, the circuit element layer 300 is formed on the buffer layer 200.

상기 회로 소자층(300)은 후술하는 발광 소자층(400)을 구동하기 위한 것이다. 상기 회로 소자층(300)에는 화소를 정의하기 위한 게이트 라인(gate line), 데이터 라인(data line), 및 전원 라인(power line)과 같은 다수의 신호 라인이 형성되어 있고, 상기 신호 라인에 의해 정의되는 개별 화소 내에는 스위칭 박막 트랜지스터(switching thin film transistor) 및 구동 박막 트랜지스터(driving thin film transistor)와 같은 다수의 박막 트랜지스터, 및 커패시터(capacitor)가 형성되어 있다. 또한, 상기 게이트 라인, 데이터 라인, 및 전원 라인 이외에 센싱 라인(sensing line) 및/또는 기준 라인(reference line)이 추가로 구성될 수도 있고, 상기 스위칭 및 구동 박막 트랜지스터 이외에 센싱 박막 트랜지스터(sensing thin film transistor)가 추가로 구성될 수도 있다. 이와 같은 회로 소자층(300)의 구성은 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경될 수 있다. The circuit element layer 300 is for driving the light emitting element layer 400 described later. A plurality of signal lines such as a gate line, a data line, and a power line for defining pixels are formed in the circuit element layer 300, A plurality of thin film transistors, such as a switching thin film transistor and a driving thin film transistor, and a capacitor are formed in the individual pixels to be defined. In addition to the gate line, the data line, and the power line, a sensing line and / or a reference line may be additionally formed. In addition to the switching and driving thin film transistors, a sensing thin film transistor transistor may be additionally configured. The constitution of the circuit element layer 300 may be changed into various forms known in the art.

상기 회로 소자층(300)을 구성하는 구성 일부, 구체적으로 무기 절연막은 상기 가스 배출 홀(FH)을 막아 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해서 수분이 침투하는 것을 방지할 수 있다. 즉, 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해서 상기 플렉시블 기판(100)에서 생성되는 가스가 외부로 용이하게 배출될 수 있지만, 상기 가스 배출 홀(FH)을 계속해서 방치할 경우 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해서 외부의 수분이 발광 소자층(400)으로 이동할 수 있다. Part of the constituent elements of the circuit element layer 300, specifically, the inorganic insulating film may block the gas discharge holes FH to prevent moisture from penetrating through the gas discharge holes FH. That is, the gas generated in the flexible substrate 100 can easily be discharged to the outside through the gas discharge hole FH. However, when the gas discharge hole FH is continuously left, the gas discharge hole FH The external moisture can be transferred to the light emitting element layer 400 through the through holes.

따라서, 적절한 시점, 예를 들어 상기 플렉시블 기판(100)에서 생성되는 가스가 외부로 배출된 이후에 상기 가스 배출 홀(FH)을 막아 상기 플렉시블 기판(100)의 노출되는 면을 가리는 것이 바람직하다. 이와 같이 상기 가스 배출 홀(FH)을 막기 위한 상기 회로 소자층(300)의 구성에 대해서는 후술하는 실시예에서 상세히 설명하기로 한다. Therefore, it is preferable to cover the exposed surface of the flexible substrate 100 at an appropriate time, for example, after the gas generated in the flexible substrate 100 is discharged to the outside, by closing the gas discharge hole FH. The structure of the circuit element layer 300 for blocking the gas discharge holes FH will be described in detail in the following embodiments.

다음, 도 3d에서 알 수 있듯이, 상기 회로 소자층(300) 상에 발광 소자층(400)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 3D, the light emitting device layer 400 is formed on the circuit element layer 300. Next, as shown in FIG.

상기 발광 소자층(400)은 양극(Anode), 음극(Cathode), 및 상기 양극과 음극 사이에 구비된 발광층(Emission layer)을 포함하여 이루어진다. 이와 같은 발광 소자층(400)의 구성은 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경될 수 있다. The light emitting device layer 400 includes an anode, a cathode, and an emission layer disposed between the anode and the cathode. The structure of the light emitting device layer 400 may be changed into various forms known in the art.

한편, 도시하지는 않았지만, 상기 발광 소자층(400) 상에 수분 침투를 방지하기 위한 봉지층(Encapsulation Layer)을 추가로 형성한다. 상기 봉지층은 복수 층의 무기 절연층으로 이루어질 수도 있고 금속층으로 이루어질 수도 있다. 이와 같은 봉지층도 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경될 수 있다. Meanwhile, although not shown, an encapsulation layer is additionally formed on the light emitting device layer 400 to prevent moisture penetration. The sealing layer may be composed of a plurality of inorganic insulating layers or a metal layer. Such an encapsulating layer can also be modified into various forms known in the art.

다음, 도 3e에서 알 수 있듯이, 상기 플렉시블 기판(100)에서 상기 유리 기판(1)을 분리하여, 상기 플렉시블 기판(100) 상에 버퍼층(200), 회로 소자층(300) 및 발광 소자층(400)이 차례로 적층된 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치가 완성된다. 3E, the glass substrate 1 is separated from the flexible substrate 100 and a buffer layer 200, a circuit element layer 300, and a light emitting element layer (not shown) are formed on the flexible substrate 100 400 are stacked in this order on a flexible organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention.

이하에는 전술한 제조 공정에 의해 제조될 수 있는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치에 대해서 설명하기로 한다. Hereinafter, a flexible organic light emitting display according to various embodiments of the present invention, which can be manufactured by the above-described manufacturing process, will be described.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 평면도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 회로도이다. FIG. 4 is a schematic plan view of a flexible organic light emitting display according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a circuit diagram of a flexible organic light emitting display according to an embodiment of the present invention.

도 4에서 알 수 있듯이, 기판(100) 상에는 가로 방향으로 제1 신호 라인(330)이 배열되고 세로 방향으로 제2 신호 라인(350)이 배열된다. 이와 같이 서로 교차하는 제1 신호 라인(330)과 제2 신호 라인(350)에 의해서 화소(P)가 정의된다. 4, the first signal lines 330 are arranged in the horizontal direction and the second signal lines 350 are arranged in the vertical direction on the substrate 100. As shown in FIG. The pixel P is defined by the first signal line 330 and the second signal line 350 intersecting with each other in this manner.

상기 제1 신호 라인(330)은 게이트 라인으로 이루어질 수 있다. 다만, 경우에 따라 상기 제1 신호 라인(330)은 센싱 라인으로 이루어질 수도 있다. 이 경우 게이트 라인과 센싱 라인이 서로 수평을 이루면서 기판(100)의 상측에서 하측으로 배열될 수 있다. 한편, 상기 게이트 라인이 센싱 라인으로서의 역할을 수행할 수도 있으며, 이 경우에는 게이트 라인과 구분되는 별도의 센싱 라인은 형성되지 않는다. The first signal line 330 may be a gate line. However, the first signal line 330 may be a sensing line. In this case, the gate line and the sensing line may be arranged horizontally from the top to the bottom of the substrate 100. Meanwhile, the gate line may serve as a sensing line. In this case, a separate sensing line is not formed which is different from the gate line.

상기 제2 신호 라인(350)은 데이터 라인으로 이루어질 수 있다. 다만, 경우에 따라 상기 제2 신호 라인(350)은 전원 라인 또는 기준 라인으로 이루어질 수도 있다. 이 경우, 데이트 라인, 전원 라인, 및 기준 라인이 서로 수평을 이루면서 기판(100)의 좌측에서 우측으로 배열될 수 있다. The second signal line 350 may be a data line. However, in some cases, the second signal line 350 may be a power line or a reference line. In this case, the date line, the power supply line, and the reference line may be arranged from the left side to the right side of the substrate 100 in a horizontal direction.

도면에는 화소(P)와 화소(P) 사이에 가로 방향으로 하나의 제1 신호 라인(330)이 배열된 모습을 도시하였지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니고, 화소(P)와 화소(P) 사이에 가로 방향으로 2개의 제1 신호 라인(330), 예를 들어 게이트 라인과 센싱 라인이 함께 배열될 수도 있다. Although the first signal line 330 is arranged in the horizontal direction between the pixel P and the pixel P in the figure, the first signal line 330 is not necessarily limited to the pixel P, Two first signal lines 330, for example, a gate line and a sensing line may be arranged in the horizontal direction.

또한, 도면에는 화소(P)와 화소(P) 사이에 세로 방향으로 하나의 제2 신호 라인(350)이 배열된 모습을 도시하였지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니고, 화소(P)와 화소(P) 사이에 세로 방향으로 2개의 제2 신호 라인(350), 예를 들어 2개의 데이터 라인이 함께 배열될 수도 있다. In the figure, one second signal line 350 is arranged in the vertical direction between the pixel P and the pixel P. However, the present invention is not limited to this, and the pixel P and the pixel P Two second signal lines 350, for example, two data lines may be arranged together in the longitudinal direction.

이와 같은 화소(P)를 정의하는 제1 신호 라인(330)과 제2 신호 라인(350)의 구체적인 구성은 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경될 수 있다. The specific configuration of the first signal line 330 and the second signal line 350 defining the pixel P may be changed into various forms known in the art.

개별 화소(P) 내에는 발광 영역(EA)과 회로 영역(CA)이 구비된다. 상기 발광 영역(EA)에는 전술한 발광 소자층(400) 내의 발광층이 위치하여 상기 발광층에 의해서 발광이 이루어진다. 상기 회로 영역(CA)에는 전술한 회로 소자층(300) 내의 박막 트랜지스터와 커패시터가 위치하여 상기 발광 영역(EA)의 발광을 조절한다. In the individual pixel P, a light emitting area EA and a circuit area CA are provided. In the light emitting region EA, the light emitting layer in the light emitting element layer 400 is located, and light is emitted by the light emitting layer. In the circuit region CA, a thin film transistor and a capacitor in the circuit element layer 300 described above are positioned to control light emission of the light emitting region EA.

보텀 에미션(Bottom Emission) 방식의 경우 상기 발광 영역(EA)에서 발광된 광이 하부 방향으로 방출된다. 이때, 발광 소자층(400)의 아래에 위치하는 회로 소자층(300)에 의해서 광 방출이 방해받지 않도록 하기 위해서, 도시된 바와 같이 상기 발광 영역(EA)과 상기 회로 영역(CA)은 서로 오버랩되지 않는다. 다만, 탑 에미션(Top Emission) 방식의 경우 상기 발광 영역(EA)에서 발광된 광이 상부 방향으로 방출된다. 이 경우는 발광 소자층(400)의 아래에 위치하는 회로 소자층(300)에 의해서 광 방출이 방해받지 않기 때문에, 상기 발광 영역(EA)과 상기 회로 영역(CA)이 서로 오버랩되어도 무방하다. In the bottom emission mode, light emitted from the light emitting region EA is emitted in a downward direction. The light emitting region EA and the circuit region CA overlap each other to prevent light emission from being disturbed by the circuit element layer 300 located below the light emitting element layer 400. In this case, It does not. However, in the case of the top emission type, light emitted from the light emitting region EA is emitted upward. In this case, since the light emission is not disturbed by the circuit element layer 300 located under the light emitting element layer 400, the light emitting area EA and the circuit area CA may overlap each other.

도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치는 게이트 라인(GL), 센싱 라인(SL), 데이터 라인(DL), 전원 라인(VDD), 기준 라인(Ref), 스위칭 박막 트랜지스터(T1), 구동 박막 트랜지스터(T2), 센싱 박막 트랜지스터(T3), 커패시터(C), 및 발광 다이오드(OLED)를 포함하여 이루어진다. 5, a flexible organic light emitting display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a gate line GL, a sensing line SL, a data line DL, a power supply line VDD, a reference line Ref, A switching thin film transistor T1, a driving thin film transistor T2, a sensing thin film transistor T3, a capacitor C, and a light emitting diode OLED.

상기 스위칭 박막 트랜지스터(T1)는 상기 게이트 라인(GL)에 공급되는 게이트 신호에 따라 스위칭되어 상기 데이터 라인(DL)으로부터 공급되는 데이터 전압을 상기 구동 박막 트랜지스터(T2)에 공급한다. The switching thin film transistor T1 is switched according to a gate signal supplied to the gate line GL to supply a data voltage supplied from the data line DL to the driving thin film transistor T2.

상기 구동 박막 트랜지스터(T2)는 상기 스위칭 박막 트랜지스터(T1)로부터 공급되는 데이터 전압에 따라 스위칭되어 상기 전원 라인(VDD)에서 공급되는 전원으로부터 데이터 전류를 생성하여 상기 발광 다이오드(OLED)에 공급한다. The driving TFT T2 is switched according to a data voltage supplied from the switching TFT T1 to generate a data current from a power source supplied from the power source line VDD and supplies the generated data current to the light emitting diode OLED.

상기 센싱 박막 트랜지스터(T3)는 화질 저하의 원인이 되는 상기 구동 박막 트랜지스터(T2)의 문턱 전압 편차를 센싱하기 위한 것으로서, 이와 같은 문턱 전압 편차의 센싱은 센싱 모드에서 수행한다. 이와 같은 센싱 박막 트랜지스터(T3)는 상기 센싱 라인(SL)에서 공급되는 센싱 제어 신호에 응답하여 상기 구동 박막 트랜지스터(T2)의 전류를 상기 기준 라인(Ref)으로 공급한다.The sensing thin film transistor T3 senses a threshold voltage deviation of the driving thin film transistor T2 that causes a deterioration in image quality. The sensing of the threshold voltage deviation is performed in the sensing mode. The sensing thin film transistor T3 supplies the current of the driving thin film transistor T2 to the reference line Ref in response to a sensing control signal supplied from the sensing line SL.

상기 커패시터(C)는 상기 구동 박막 트랜지스터(T2)에 공급되는 데이터 전압을 한 프레임 동안 유지시키는 것으로서, 상기 구동 박막 트랜지스터(T2)의 게이트 단자 및 소스 단자에 각각 연결된다. The capacitor C holds the data voltage supplied to the driving TFT T2 for one frame and is connected to the gate and source terminals of the driving TFT T2.

상기 발광 다이오드(OLED)는 상기 구동 박막 트랜지스터(T2)에서 공급되는 데이터 전류에 따라 소정의 광을 발광한다. 상기 발광 다이오드(OLED)는 상기 구동 박막 트랜지스터(T2)의 소스 전극에 연결된 양극, 및 상기 양극 위에 차례로 형성된 유기 발광층과 음극을 포함하여 이루어진다. 상기 발광 다이오드(OLED)의 음극은 저전원 라인(VSS)과 연결된다. The light emitting diode OLED emits a predetermined light according to a data current supplied from the driving TFT T2. The light emitting diode OLED includes a cathode connected to a source electrode of the driving TFT T2, and an organic light emitting layer and a cathode sequentially formed on the anode. The cathode of the light emitting diode OLED is connected to the low power line VSS.

다시 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 세로 방향으로 배열된 제2 신호 라인(350)과 오버랩되는 영역에 전술한 가스 배출 홀(FH)이 형성되어 있다. Referring to FIG. 4 again, according to an embodiment of the present invention, the above-described gas discharge hole FH is formed in an area overlapping with the second signal line 350 arranged in the longitudinal direction.

즉, 상기 가스 배출 홀(FH)은 제2 신호 라인(350)을 구성하는 데이터 라인(DL), 전원 라인(VDD), 및 기준 라인(Ref) 중 적어도 하나에 오버랩되도록 형성된다. That is, the gas discharge hole FH is formed to overlap with at least one of the data line DL, the power supply line VDD, and the reference line Ref that constitute the second signal line 350.

이와 같이 가스 배출 홀(FH)이 제2 신호 라인(350)과 오버랩되도록 형성됨으로써, 상기 제2 신호 라인(350)이 수분 침투를 방지하는 역할을 수행할 수 있다. 이를 위해서, 상기 가스 배출 홀(FH) 전체가 상기 제2 신호 라인(350)에 오버랩되도록 형성되는 것이 바람직하다. 즉, 상기 가스 배출 홀(FH)의 폭은 상기 제2 신호 라인(350)의 폭보다 작은 것이 바람직하다. In this way, the gas discharge hole FH is formed to overlap with the second signal line 350, so that the second signal line 350 can prevent water infiltration. For this purpose, it is preferable that the entire gas discharge hole FH is formed to overlap with the second signal line 350. That is, the width of the gas discharge hole (FH) is preferably smaller than the width of the second signal line (350).

상기 제2 신호 라인(350)은 상기 가스 배출 홀(FH)로 수분이 침투하는 것을 방지하는 이차 구성이며 실제로 상기 가스 배출 홀(FH)로 수분이 침투하는 것을 방지하는 일차 구성은 상기 제2 신호 라인(350)의 아래에 형성되는 층간 절연막으로서 이에 대해서는 후술하는 단면도를 참조하여 보다 상세히 설명하기로 한다. The second signal line 350 is a secondary structure that prevents moisture from penetrating into the gas discharge hole FH. In fact, a primary structure for preventing moisture from penetrating into the gas discharge hole FH is a second structure, The interlayer insulating film formed below the line 350 will be described in more detail with reference to the cross-sectional views to be described later.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도로서, 이는 도 4와 같이 가스 배출 홀(FH)이 제2 신호 라인(350)과 오버랩된 경우에 해당한다. 6 is a schematic cross-sectional view of a flexible organic light emitting display according to an embodiment of the present invention, which corresponds to the case where the gas discharge hole FH overlaps with the second signal line 350 as shown in FIG.

도 6에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치는 플렉시블 기판(100), 버퍼층(200), 회로 소자층(300) 및 발광 소자층(400)을 포함하여 이루어진다. 6, the flexible organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a flexible substrate 100, a buffer layer 200, a circuit element layer 300, and a light emitting element layer 400.

상기 플렉시블 기판(100)은 폴리이미드와 같은 플렉시블한 재료로 이루어진다. The flexible substrate 100 is made of a flexible material such as polyimide.

상기 버퍼층(200)은 상기 플렉시블 기판(100)의 상면 상에 형성되어 있다. 이때, 상기 버퍼층(200)은 가스 배출 홀(FH)을 구비하도록 패턴 형성되어 있다. The buffer layer 200 is formed on the upper surface of the flexible substrate 100. At this time, the buffer layer 200 is patterned to have a gas discharge hole FH.

상기 회로 소자층(300)은 상기 버퍼층(200)의 상면 상에 형성되어 있다. 상기 회로 소자층(300)은 액티브층(310), 게이트 절연막(320), 게이트 전극(331), 층간 절연막(340), 소스 전극(351)과 드레인 전극(352), 제2 신호 라인(350), 패시베이션층(360), 및 평탄화층(370)을 포함하여 이루어진다. The circuit element layer 300 is formed on the upper surface of the buffer layer 200. The circuit element layer 300 includes an active layer 310, a gate insulating film 320, a gate electrode 331, an interlayer insulating film 340, a source electrode 351 and a drain electrode 352, a second signal line 350 ), A passivation layer 360, and a planarization layer 370.

상기 액티브층(310)은 상기 버퍼층(200)의 상면 상에 형성된다. 상기 액티브층(310)은 산화물 반도체로 이루어질 수 있으며, 이 경우 산화물 반도체를 증착한 후 고온의 열처리 공정을 통해 상기 액티브층(310)을 형성할 수 있다. 이와 같이 상기 액티브층(310)을 형성하기 위한 고온의 열처리 공정에서 상기 플렉시블 기판(100) 내에 잔류하는 용매가 기화하여 가스가 발생할 수 있다. The active layer 310 is formed on the upper surface of the buffer layer 200. The active layer 310 may be formed of an oxide semiconductor. In this case, the active layer 310 may be formed by depositing an oxide semiconductor and then performing a high-temperature heat treatment process. As described above, in the high-temperature heat treatment process for forming the active layer 310, the solvent remaining in the flexible substrate 100 may be vaporized and gas may be generated.

이때, 상기 가스는 상기 버퍼층(200)에 구비된 가스 배출 홀(FH)을 통해 외부로 배출될 수 있다. 즉, 상기 액티브층(310)을 형성하는 공정 중에는 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해 상기 플렉시블 기판(100)의 상면이 노출되어 있기 때문에, 상기 액티브층(310)을 형성하는 공정 중에 발생하는 가스는 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해 외부로 용이하게 배출될 수 있다. 따라서, 전술한 종래와 같은 버퍼층(200)의 벗겨짐이나 크랙 발생 문제가 방지될 수 있다. At this time, the gas may be discharged to the outside through a gas discharge hole (FH) provided in the buffer layer (200). That is, since the upper surface of the flexible substrate 100 is exposed through the gas discharge hole FH during the process of forming the active layer 310, the gas generated during the process of forming the active layer 310 Can be easily discharged to the outside through the gas discharge hole (FH). Therefore, the problem of peeling and cracking of the buffer layer 200 as described above can be prevented.

상기 게이트 절연막(320)은 상기 액티브층(310)의 상면 상에 형성된다. 구체적으로, 상기 게이트 절연막(320)은 상기 액티브층(310)과 상기 게이트 전극(331) 사이에 형성되어 상기 게이트 전극(331)과 상기 액티브층(310)을 서로 절연시킨다. The gate insulating layer 320 is formed on the upper surface of the active layer 310. Specifically, the gate insulating layer 320 is formed between the active layer 310 and the gate electrode 331 to insulate the gate electrode 331 from the active layer 310 from each other.

상기 게이트 전극(331)은 상기 게이트 절연막(320)의 상면 상에 형성된다. The gate electrode 331 is formed on the upper surface of the gate insulating layer 320.

상기 층간 절연막(340)은 상기 게이트 전극(331)의 상면 상에 형성된다. 구체적으로, 상기 층간 절연막(340)은 상기 게이트 전극(331)과 상기 소스/드레인 전극(351, 352) 사이에 형성되어 상기 게이트 전극(331)과 상기 소스/드레인 전극(351, 352)을 서로 절연시킨다. The interlayer insulating layer 340 is formed on the upper surface of the gate electrode 331. Specifically, the interlayer insulating layer 340 is formed between the gate electrode 331 and the source / drain electrodes 351 and 352 so that the gate electrode 331 and the source / drain electrodes 351 and 352 are connected to each other. Insulated.

상기 층간 절연막(340)은 상기 버퍼층(200)에 구비된 가스 배출 홀(FH) 내에 형성되어 상기 가스 배출 홀(FH)을 가린다. 따라서, 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해 노출된 플렉시블 기판(100)의 상면은 상기 층간 절연막(340)에 의해서 가려진다. 이와 같은 층간 절연막(340)은 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해 수분이 침투하는 것을 방지하는 일차막으로 기능한다. 따라서, 상기 층간 절연막(340)은 투습 방지를 위한 무기 절연막으로 이루어진다. The interlayer insulating layer 340 is formed in a gas discharge hole FH provided in the buffer layer 200 to cover the gas discharge hole FH. Therefore, the upper surface of the flexible substrate 100 exposed through the gas discharge holes FH is covered with the interlayer insulating film 340. The interlayer insulating film 340 functions as a primary film for preventing moisture from penetrating through the gas discharge holes FH. Accordingly, the interlayer insulating layer 340 is formed of an inorganic insulating layer for preventing moisture permeation.

상기 소스/드레인 전극(351, 352)은 상기 층간 절연막(340)의 상면 상에 형성된다. 상기 소스/드레인 전극(351, 352) 각각은 상기 층간 절연막(340)에 구비된 콘택홀을 통해서 상기 액티브층(310)과 연결된다. The source / drain electrodes 351 and 352 are formed on the upper surface of the interlayer insulating layer 340. Each of the source / drain electrodes 351 and 352 is connected to the active layer 310 through a contact hole provided in the interlayer insulating layer 340.

상기 제2 신호 라인(350)은 상기 층간 절연막(340)의 상면 상에 형성된다. 상기 제2 신호 라인(350)은 상기 소스/드레인 전극(351, 352)과 동일한 층에서 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 상기 제2 신호 라인(350)은 상기 가스 배출 홀(FH)과 오버랩되도록 형성되어 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해 수분이 침투하는 것을 방지하는 이차막으로 기능한다. The second signal line 350 is formed on the upper surface of the interlayer insulating layer 340. The second signal line 350 may be formed of the same material in the same layer as the source / drain electrodes 351 and 352. The second signal line 350 is formed to overlap with the gas discharge hole FH and functions as a secondary film to prevent moisture from penetrating through the gas discharge hole FH.

상기 패시베이션층(360)은 상기 소스/드레인 전극(351, 352) 및 상기 제2 신호 라인(350)의 상면 상에 형성되어 그 하부의 박막 트랜지스터를 보호한다. The passivation layer 360 is formed on the upper surfaces of the source / drain electrodes 351 and 352 and the second signal line 350 to protect the underlying thin film transistors.

상기 평탄화층(370)은 상기 패시베이션층(360)의 상면 상에 형성되어 유기 발광 표시 장치의 표면을 평탄화시킨다. The planarization layer 370 is formed on the upper surface of the passivation layer 360 to planarize the surface of the OLED display.

상기 발광 소자층(400)은 상기 회로 소자층(300)의 상면 상에 형성된다. 상기 발광 소자층(400)은 제1 전극(410), 유기 발광층(420), 제2 전극(430) 및 뱅크층(440)을 포함하여 이루어진다. The light emitting element layer 400 is formed on the upper surface of the circuit element layer 300. The light emitting device layer 400 includes a first electrode 410, an organic light emitting layer 420, a second electrode 430, and a bank layer 440.

상기 제1 전극(410)은 상기 평탄화층(370) 상에 형성된다. 특히, 상기 제1 전극(410)은 화소 별로 패턴 형성된다. 상기 제1 전극(410)은 상기 평탄화층(370)과 상기 패시베이션층(360)에 구비된 콘택홀을 통해서 상기 소스 전극(351)과 연결되어 있다. 경우에 따라서 상기 제1 전극(410)은 상기 평탄화층(370)과 상기 패시베이션층(360)에 구비된 콘택홀을 통해서 상기 드레인 전극(352)과 연결될 수도 있다. 이와 같은 제1 전극(410)은 양극(anode)으로 기능한다. The first electrode 410 is formed on the planarization layer 370. In particular, the first electrode 410 is pattern-formed for each pixel. The first electrode 410 is connected to the source electrode 351 through a contact hole formed in the planarization layer 370 and the passivation layer 360. The first electrode 410 may be connected to the drain electrode 352 through a contact hole formed in the planarization layer 370 and the passivation layer 360. The first electrode 410 functions as an anode.

상기 유기 발광층(420)은 상기 제1 전극(410)의 상면 상에 형성되어 있다. 상기 유기 발광층(420)은 구체적으로 도시하지는 않았지만 정공주입층(Hole Injecting Layer), 정공수송층(Hole Transporting Layer), 발광층(Emitting Layer), 전자수송층(Electron Transporting Layer), 및 전자주입층(Electron Injecting Layer)이 차례로 적층된 구조로 형성될 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니고, 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경될 수 있다. The organic light emitting layer 420 is formed on the upper surface of the first electrode 410. The organic light emitting layer 420 may include a hole injecting layer, a hole transporting layer, an emitting layer, an electron transporting layer, and an electron injecting layer (not shown) Layer may be stacked in this order. However, the present invention is not limited thereto, and may be changed into various forms known in the art.

상기 유기 발광층(420)은 백색(W) 광을 방출하도록 구성될 수 있다. 이와 같은 백색 광을 방출하는 유기 발광층(420)은 적색 발광층, 녹색 발광층, 및 청색 발광층을 포함하여 이루어질 수도 있고, 오렌지색 발광층과 청색 발광층을 포함하여 이루어질 수도 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. 상기 유기 발광층(420)이 백색(W) 광을 방출한 경우에는 광이 이동 경로 상에 컬러 필터가 추가로 형성될 수 있다. The organic light emitting layer 420 may be configured to emit white light. The organic light emitting layer 420 emitting white light may include a red light emitting layer, a green light emitting layer, and a blue light emitting layer, or may include an orange light emitting layer and a blue light emitting layer, but the present invention is not limited thereto. When the organic light emitting layer 420 emits white light, a color filter may be additionally formed on the light path.

상기 제2 전극(430)은 상기 유기 발광층(420) 상에 형성되어 있다. 이와 같은 제2 전극(430)은 음극(cathode)으로 기능한다. 상기 제2 전극(430)에는 공통 전압이 인가될 수 있고, 따라서, 상기 제2 전극(430)은 화소 별로 패턴 형성되지 않고 상기 유기 발광층(420)과 상기 뱅크층(440)의 상면 상에 전체적으로 형성될 수 있다. The second electrode 430 is formed on the organic light emitting layer 420. The second electrode 430 functions as a cathode. A common voltage may be applied to the second electrode 430 so that the second electrode 430 may be formed on the upper surface of the organic light emitting layer 420 and the bank layer 440 as a whole .

상기 뱅크층(440)은 상기 평탄화층(370)의 상면 상에 형성된다. 상기 뱅크층(370)은 발광 영역 이외의 영역을 가리도록 형성될 수 있다. 따라서, 상기 뱅크층(370)은 상기 제2 신호 라인(350)과 오버랩되도록 형성되며, 결국 상기 가스 배출 홀(FH)과도 오버랩되도록 형성된다. The bank layer 440 is formed on the upper surface of the planarization layer 370. The bank layer 370 may be formed to cover an area other than the light emitting area. Accordingly, the bank layer 370 overlaps with the second signal line 350, and is formed to overlap with the gas discharge hole FH.

도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도로서, 이는 버퍼층(200)이 제1 버퍼층(210)과 제2 버퍼층(220)의 조합으로 이루어지고 제1 버퍼층(210)과 제2 버퍼층(220) 사이에 차광층(light shielding layer)(150)이 추가로 형성된 것을 제외하고 전술한 도 6에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치와 동일하다. 따라서, 동일한 구성에 대해서 동일한 도면부호를 부여하였고, 이하에서는 상이한 구성에 대해서만 설명하기로 한다. 7 is a schematic cross-sectional view of a flexible organic light emitting diode display according to another embodiment of the present invention. The buffer layer 200 is formed of a combination of a first buffer layer 210 and a second buffer layer 220, 6 except that a light shielding layer 150 is additionally formed between the first buffer layer 210 and the second buffer layer 220. In this case, Therefore, the same reference numerals are assigned to the same components, and only the different components will be described below.

도 7에서 알 수 있듯이, 플렉시블 기판(100)의 상면 상에 제1 버퍼층(210)이 형성되어 있고, 상기 제1 버퍼층(210)의 상면 상에 차광층(150)이 형성되어 있고, 상기 차광층(150)의 상면 상에 제2 버퍼층(220)이 형성되어 있다. 7, the first buffer layer 210 is formed on the upper surface of the flexible substrate 100, the light shielding layer 150 is formed on the upper surface of the first buffer layer 210, The second buffer layer 220 is formed on the upper surface of the layer 150.

상기 차광층(150)은 액티브층(310)으로 광이 입사되는 것을 방지하는 역할을 한다. 따라서, 상기 차광층(150)은 상기 액티브층(310)과 오버랩되면서 상기 액티브층(310)보다 넓은 면적으로 가지도록 형성된다. The light shielding layer 150 serves to prevent light from being incident on the active layer 310. Therefore, the light shielding layer 150 overlaps the active layer 310 and is formed to have a larger area than the active layer 310.

상기 제1 버퍼층(210)과 상기 제2 버퍼층(220)은 수분 침투를 방지하는 역할을 하며, 전술한 바와 마찬가지로 상기 제1 버퍼층(210)과 상기 제2 버퍼층(220)에는 가스 배출 홀(FH)이 구비되어 있다. 또한, 층간 절연막(340)이 상기 가스 배출 홀(FH) 내에 형성되어 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해 수분이 침투하는 것을 방지하는 일차막으로 기능하고, 제2 신호 라인(350)이 상기 가스 배출 홀(FH)과 오버랩되도록 형성되어 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해 수분이 침투하는 것을 방지하는 이차막으로 기능한다. The first buffer layer 210 and the second buffer layer 220 serve to prevent moisture infiltration. The first buffer layer 210 and the second buffer layer 220 are formed with gas discharge holes FH . An interlayer insulating film 340 functions as a primary film formed in the gas discharge hole FH to prevent moisture from penetrating through the gas discharge hole FH, And functions as a secondary film which overlaps with the discharge hole FH to prevent water from penetrating through the gas discharge hole FH.

상기 제2 버퍼층(220)은 상기 차광층(150)과 상기 액티브층(310)을 절연시키는 역할도 수행하며, 그에 따라 상기 차광층(150)은 금속과 같은 도전물로 이루어질 수 있다. The second buffer layer 220 also insulates the light-shielding layer 150 from the active layer 310. The light-shielding layer 150 may be made of a conductive material such as metal.

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 평면도로서, 이는 가스 배출 홀(FH)이 제2 신호 라인(350)과 오버랩되지 않고 그 대신에 제1 신호 라인(330)과 오버랩된 것을 제외하고 전술한 도 4에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치와 동일하다. 따라서, 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하였고, 이하에서는 상이한 구성에 대해서만 설명하기로 한다.FIG. 8 is a schematic plan view of a flexible organic light emitting diode display according to another embodiment of the present invention, in which the gas discharge hole FH does not overlap with the second signal line 350, but instead the first signal line 330 The organic light emitting display according to the present invention is the same as the flexible organic light emitting display according to FIG. Therefore, the same reference numerals are assigned to the same components, and only the different components will be described below.

도 8에서 알 수 있듯이, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 가로 방향으로 배열된 제1 신호 라인(330)과 오버랩되는 영역에 가스 배출 홀(FH)이 형성되어 있다. 따라서, 상기 가스 배출 홀(FH)은 제1 신호 라인(330)을 구성하는 게이트 라인(GL) 또는 센싱 라인(SL)에 오버랩되도록 형성된다. As shown in FIG. 8, according to another embodiment of the present invention, a gas discharge hole FH is formed in a region overlapping with the first signal line 330 arranged in the lateral direction. Therefore, the gas discharge hole FH is formed to overlap the gate line GL or the sensing line SL constituting the first signal line 330.

이와 같이 가스 배출 홀(FH)이 제1 신호 라인(330)과 오버랩되도록 형성됨으로써, 상기 제1 신호 라인(330)이 수분 침투를 방지하는 역할을 수행할 수 있다. 이를 위해서, 상기 가스 배출 홀(FH) 전체가 상기 제1 신호 라인(330)에 오버랩되도록 형성되는 것이 바람직하다. 즉, 상기 가스 배출 홀(FH)의 폭은 상기 제1 신호 라인(330)의 폭보다 작은 것이 바람직하다. 상기 제1 신호 라인(330)은 상기 가스 배출 홀(FH)로 수분이 침투하는 것을 방지하는 이차 구성이며 실제로 상기 가스 배출 홀(FH)로 수분이 침투하는 것을 방지하는 일차 구성은 상기 제1 신호 라인(330)의 아래에 형성되는 게이트 절연막으로서 이에 대해서는 후술하는 단면도를 참조하여 보다 상세히 설명하기로 한다. In this way, the gas discharge hole FH is formed to overlap the first signal line 330, so that the first signal line 330 can prevent water infiltration. For this purpose, it is preferable that the entire gas discharge hole (FH) is formed to overlap with the first signal line (330). That is, the width of the gas discharge hole (FH) is preferably smaller than the width of the first signal line (330). The first signal line 330 is a secondary structure for preventing moisture from penetrating into the gas discharge hole FH. In fact, the primary structure for preventing water from penetrating into the gas discharge hole FH is a first structure, The gate insulating film formed below the line 330 will be described in more detail with reference to the cross-sectional views to be described later.

도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도로서, 이는 도 8과 같이 가스 배출 홀(FH)이 제1 신호 라인(330)과 오버랩된 경우에 해당한다. 9 is a schematic cross-sectional view of a flexible organic light emitting display according to another embodiment of the present invention, which corresponds to the case where the gas discharge hole FH overlaps with the first signal line 330 as shown in FIG.

도 9에서 알 수 있듯이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치는 플렉시블 기판(100), 버퍼층(200), 회로 소자층(300) 및 발광 소자층(400)을 포함하여 이루어진다. 9, the flexible organic light emitting display according to another embodiment of the present invention includes a flexible substrate 100, a buffer layer 200, a circuit element layer 300, and a light emitting element layer 400.

상기 플렉시블 기판(100)은 플렉시블한 재료로 이루어지고, 상기 버퍼층(200)은 상기 플렉시블 기판(100)의 상면 상에서 가스 배출 홀(FH)을 구비하도록 패턴 형성되어 있다. The flexible substrate 100 is made of a flexible material and the buffer layer 200 is patterned to have a gas discharge hole FH on the upper surface of the flexible substrate 100.

상기 회로 소자층(300)은 상기 버퍼층(200)의 상면 상에 형성되어 있다. 상기 회로 소자층(300)은 액티브층(310), 게이트 절연막(320), 게이트 전극(331), 제1 신호 라인(330), 층간 절연막(340), 소스 전극(351)과 드레인 전극(352), 패시베이션층(360), 및 평탄화층(370)을 포함하여 이루어진다. The circuit element layer 300 is formed on the upper surface of the buffer layer 200. The circuit element layer 300 includes an active layer 310, a gate insulating film 320, a gate electrode 331, a first signal line 330, an interlayer insulating film 340, a source electrode 351 and a drain electrode 352 ), A passivation layer 360, and a planarization layer 370.

상기 액티브층(310)은 상기 버퍼층(200)의 상면 상에 형성된다. 전술한 실시예와 마찬가지로 상기 액티브층(310)을 형성하는 공정 중에는 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해 상기 플렉시블 기판(100)의 상면이 노출되어 있기 때문에, 상기 액티브층(310)을 형성하는 공정 중에 발생하는 가스는 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해 외부로 용이하게 배출될 수 있다. The active layer 310 is formed on the upper surface of the buffer layer 200. Since the upper surface of the flexible substrate 100 is exposed through the gas discharge hole FH during the step of forming the active layer 310 as in the above-described embodiment, the step of forming the active layer 310 Can be easily discharged to the outside through the gas discharge hole (FH).

상기 게이트 절연막(320)은 상기 액티브층(310)의 상면 상에 형성된다. 이때, 상기 게이트 절연막(320)은 상기 버퍼층(200)에 구비된 가스 배출 홀(FH) 내에 형성되어 상기 가스 배출 홀(FH)을 가린다. 따라서, 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해 노출된 플렉시블 기판(100)의 상면은 상기 게이트 절연막(320)에 의해서 가려진다. 이와 같은 게이트 절연막(320)은 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해 수분이 침투하는 것을 방지하는 일차막으로 기능한다. 따라서, 상기 게이트 절연막(320)은 투습 방지를 위한 무기 절연막으로 이루어진다. The gate insulating layer 320 is formed on the upper surface of the active layer 310. At this time, the gate insulating layer 320 is formed in a gas discharge hole FH provided in the buffer layer 200 to cover the gas discharge hole FH. Therefore, the upper surface of the flexible substrate 100 exposed through the gas discharge hole FH is covered with the gate insulating film 320. The gate insulating layer 320 functions as a primary layer for preventing water from penetrating through the gas discharge holes FH. Therefore, the gate insulating layer 320 is formed of an inorganic insulating layer for preventing moisture permeation.

상기 제1 신호 라인(330)은 상기 게이트 절연막(320)의 상면 상에 형성된다. 상기 제1 신호 라인(330)은 상기 게이트 전극(331)과 동일한 층에서 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 상기 제1 신호 라인(330)은 상기 가스 배출 홀(FH)과 오버랩되도록 형성되어 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해 수분이 침투하는 것을 방지하는 이차막으로 기능한다. The first signal line 330 is formed on the upper surface of the gate insulating layer 320. The first signal line 330 may be formed of the same material as the gate electrode 331 in the same layer. The first signal line 330 is formed to overlap with the gas discharge hole FH and functions as a secondary film to prevent moisture from penetrating through the gas discharge hole FH.

상기 층간 절연막(340)은 상기 게이트 전극(331)과 상기 제1 신호 라인(330)의 상면 상에 형성된다. The interlayer insulating layer 340 is formed on the upper surface of the gate electrode 331 and the first signal line 330.

상기 소스/드레인 전극(351, 352)은 상기 층간 절연막(340)의 상면 상에 형성된다. 상기 소스/드레인 전극(351, 352) 각각은 상기 층간 절연막(340)과 상기 게이트 절연막(320)에 구비된 콘택홀을 통해서 상기 액티브층(310)과 연결된다. The source / drain electrodes 351 and 352 are formed on the upper surface of the interlayer insulating layer 340. Each of the source / drain electrodes 351 and 352 is connected to the active layer 310 through a contact hole formed in the interlayer insulating layer 340 and the gate insulating layer 320.

상기 패시베이션층(360)은 상기 소스/드레인 전극(351, 352)의 상면 상에 형성되어 그 하부의 박막 트랜지스터를 보호한다. The passivation layer 360 is formed on the upper surfaces of the source / drain electrodes 351 and 352 to protect the underlying thin film transistors.

상기 발광 소자층(400)은 상기 회로 소자층(300)의 상면 상에 형성된다. 상기 발광 소자층(400)은 제1 전극(410), 유기 발광층(420), 제2 전극(430) 및 뱅크층(440)을 포함하여 이루어진다. 상기 제1 전극(410), 유기 발광층(420), 제2 전극(430) 및 뱅크층(440) 각각은 전술한 실시예와 동일하므로 반복 설명은 생략한다. The light emitting element layer 400 is formed on the upper surface of the circuit element layer 300. The light emitting device layer 400 includes a first electrode 410, an organic light emitting layer 420, a second electrode 430, and a bank layer 440. Each of the first electrode 410, the organic light emitting layer 420, the second electrode 430, and the bank layer 440 is the same as that of the above-described embodiment, and thus a repetitive description thereof will be omitted.

도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치의 개략적인 단면도로서, 이는 버퍼층(200)이 제1 버퍼층(210)과 제2 버퍼층(220)의 조합으로 이루어지고 제1 버퍼층(210)과 제2 버퍼층(220) 사이에 차광층(light shielding layer)(150)이 추가로 형성된 것을 제외하고 전술한 도 9에 따른 플렉시블 유기 발광 표시 장치와 동일하다. 따라서, 동일한 구성에 대해서 동일한 도면부호를 부여하였고, 이하에서는 상이한 구성에 대해서만 설명하기로 한다. FIG. 10 is a schematic cross-sectional view of a flexible organic light emitting display according to another embodiment of the present invention, in which a buffer layer 200 is formed of a combination of a first buffer layer 210 and a second buffer layer 220, 9 except that a light shielding layer 150 is additionally formed between the first buffer layer 210 and the second buffer layer 220. In this case, Therefore, the same reference numerals are assigned to the same components, and only the different components will be described below.

도 10에서 알 수 있듯이, 플렉시블 기판(100)의 상면 상에 제1 버퍼층(210)이 형성되어 있고, 상기 제1 버퍼층(210)의 상면 상에 차광층(150)이 형성되어 있고, 상기 차광층(150)의 상면 상에 제2 버퍼층(220)이 형성되어 있다. 10, a first buffer layer 210 is formed on the upper surface of the flexible substrate 100, a light shielding layer 150 is formed on the upper surface of the first buffer layer 210, The second buffer layer 220 is formed on the upper surface of the layer 150.

상기 제1 버퍼층(210)과 상기 제2 버퍼층(220)은 수분 침투를 방지하는 역할을 하며, 상기 제1 버퍼층(210)과 상기 제2 버퍼층(220)에는 가스 배출 홀(FH)이 구비되어 있다. 또한, 게이트 절연막(320)이 상기 가스 배출 홀(FH) 내에 형성되어 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해 수분이 침투하는 것을 방지하는 일차막으로 기능하고, 제1 신호 라인(330)이 상기 가스 배출 홀(FH)과 오버랩되도록 형성되어 상기 가스 배출 홀(FH)을 통해 수분이 침투하는 것을 방지하는 이차막으로 기능한다. The first buffer layer 210 and the second buffer layer 220 prevent water infiltration and the gas discharge holes FH are formed in the first buffer layer 210 and the second buffer layer 220, have. The gate insulating film 320 functions as a primary film formed in the gas discharge hole FH to prevent moisture from penetrating through the gas discharge hole FH, And functions as a secondary film which overlaps with the discharge hole FH to prevent water from penetrating through the gas discharge hole FH.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 보호 범위는 청구 범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다 Although the embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the accompanying drawings, it is to be understood that the present invention is not limited to those precise embodiments, and various modifications may be made without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are intended to illustrate rather than limit the scope of the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of protection of the present invention should be construed according to the claims, and all technical ideas within the scope of the same should be interpreted as being included in the scope of the present invention

100: 기판 200, 210, 220: 버퍼층, 제1, 제2 버퍼층
300: 회로 소자층 400: 발광 소자층100: substrate 200, 210, 220: buffer layer, first and second buffer layers
300: circuit element layer 400: light emitting element layer

Claims

Board;
A buffer layer patterned to have holes on the substrate;
A circuit element layer provided on the buffer layer; And
And a light emitting element layer provided on the circuit element layer.

In the first aspect,
And the circuit element layer includes an inorganic insulating layer provided in the hole to cover the hole.

In the second aspect,
Wherein the inorganic insulating layer comprises an interlayer insulating film provided between a gate electrode and a source electrode provided in the circuit element layer.

In the second aspect,
Wherein the inorganic insulating layer comprises a gate insulating film provided between an active layer and a gate electrode provided in the circuit element layer.

In the second aspect,
And a signal line arranged to overlap the hole on the inorganic insulating layer.

In the fifth aspect,
Wherein the signal line comprises a data line arranged vertically on the substrate.

In the fifth aspect,
Wherein the signal line comprises a gate line arranged in a lateral direction on the substrate.

In the fifth aspect,
Wherein a width of the signal line is larger than a width of the hole.

The method according to claim 1,
Wherein the buffer layer comprises a first buffer layer provided on an upper surface of the substrate and a second buffer layer provided on an upper surface of the first buffer layer, and a light shielding layer is additionally provided between the first buffer layer and the second buffer layer Wherein the flexible organic light emitting display device comprises: