KR20170041325A - Liquid Crystal Display Device And Method Of Fabricating The Same - Google Patents

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Abstract

The present invention provides a manufacturing method of a liquid crystal display device, comprising the following steps of: forming a first alignment film on an upper portion of a first substrate, and a second alignment film on an upper portion of a second substrate; aligning the first and the second alignment film; cleaning at least one of the first and the second substrate having the first and the second alignment film by using a cleaning solution mixed with a radical remover; forming a liquid crystal layer on at least one of the first and the second substrate; and bonding the first and the second substrate with the liquid crystal layer interposed therebetween. By cleaning a substrate after a step of forming alignment films and a step of aligning by using the cleaning solution mixed with the radical remover, free radicals generated in the alignment films and the liquid crystal layer are removed to prevent an afterimage, thereby improving reliability of the liquid crystal display device.

Description

액정표시장치 및 그 제조방법 {Liquid Crystal Display Device And Method Of Fabricating The Same} [0001] The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly,

본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 잔상 및 신뢰성이 개선된 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device with improved afterimage and reliability and a method of manufacturing the same.

사회가 본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라 대량의 정보를 처리 및 표시하는 디스플레이(display) 분야가 급속도로 발전해 왔고, 이에 부응하여 액정표시장치(liquid crystal display device: LCD), 플라즈마 표시장치(plasma display panel: PDP), 전계방출 표시장치(field emission display device: FED), 유기발광다이오드 표시장치(organic light emitting diode display device: OELD) 등과 같은 다양한 평판표시장치가 개발되어 각광받고 있다. [0002] As the society becomes a full-fledged information age, a display field for processing and displaying a large amount of information has been rapidly developed. In response to this, a liquid crystal display device (LCD), a plasma display various flat panel display devices such as a PDP, a field emission display (FED), and an organic light emitting diode (OLED) display device have been developed.

이 중에서, 액정표시장치는 액정층의 광학적 이방성과 분극성질을 이용하여 구동되는데, 액정분자는 구조가 가늘고 길기 때문에 배열에 방향성을 가지고 있으며, 인위적으로 액정층에 전기장을 인가하여 액정분자의 배열방향을 제어할 수 있다. 따라서, 액정층에 임의의 전기장을 인가하면, 액정분자의 배열방향이 변하게 되고, 광학적 이방성에 의해 액정분자의 배열방향으로 빛이 굴절하여 영상정보를 표시할 수 있다.Among them, the liquid crystal display device is driven by using the optical anisotropy and the polarizing property of the liquid crystal layer. Since the liquid crystal molecules are thin and long in structure, the liquid crystal molecules have a directionality in arrangement, and an electric field is artificially applied to the liquid crystal layer, Can be controlled. Therefore, when an arbitrary electric field is applied to the liquid crystal layer, the arrangement direction of the liquid crystal molecules is changed, and light is refracted in the arrangement direction of the liquid crystal molecules due to optical anisotropy, so that image information can be displayed.

일반적으로, 액정표시장치는 서로 마주하는 2개의 기판과, 2개의 기판 사이에 개재된 액정층을 포함하는데, 2개의 기판 내면에는 각각 전기장 형성을 위한 화소전극 및 공통전극이 형성된다. In general, a liquid crystal display device includes two substrates facing each other and a liquid crystal layer sandwiched between two substrates. Pixel electrodes and a common electrode are formed on inner surfaces of two substrates, respectively, for forming an electric field.

이러한 액정표시장치는 공공장소 등에서 유사한 패턴의 영상을 표시하는 이른바 퍼블릭 디스플레이(public display)로 널리 사용되고 있는데, 퍼블릭 디스플레이의 경우 장시간 유사한 패턴의 영상을 표시하여야 하기 때문에 표시되는 영상이 잔상으로 남아 액정표시장치의 신뢰성이 저하된다. Such a liquid crystal display device is widely used as a so-called public display in which images of similar patterns are displayed in a public place. In the case of a public display, since a similar pattern image should be displayed for a long time, The reliability of the apparatus is deteriorated.

이러한 잔상에 의한 액정표시장치의 신뢰성 저하는, 장시간 동작에 의하여 화소전극 및 공통전극에 축적된 전하가 빠져나가거나 중화되지 못하여 발생한다. This decrease in reliability of the liquid crystal display device due to the afterimage occurs because the charges accumulated in the pixel electrode and the common electrode can not be escaped or neutralized by the long time operation.

이를 개선하기 위하여, 화소전극 및 공통전극의 배치를 변경하는 방법, 화소전극 및 공통전극에 인가되는 전압의 극성을 프레임 마다 및/또는 화소 마다 변경하는 방법, 기생 커패시턴스 및 스토리지 커패시턴스가 서로 보상되도록 하여 화소전압 변동량을 최소화하는 방법 등이 제안되었다.In order to improve this, a method of changing the arrangement of the pixel electrodes and the common electrodes, a method of changing the polarity of the voltage applied to the pixel electrodes and the common electrode for each frame and / or for each pixel, the parasitic capacitance and the storage capacitance And a method of minimizing the pixel voltage fluctuation have been proposed.

그러나, 이러한 방법은 DC잔상만 해결하는 것으로, 근본적인 해결방안이 아니며, 불순물에 의한 액정분자의 복원력 저하 및 배향막의 기능 저하에 의한 잔상은 해결할 수 없는 문제가 있다. However, this method solves only the DC after-image, which is not a fundamental solution, and there is a problem that the after-image due to the degradation of the restoring force of the liquid crystal molecules due to impurities and the deterioration of the function of the alignment film can not be solved.

이에 따라, 액정층 또는 배향막에 첨가제를 혼합하는 방법이 제안되었으나, 액정층 또는 배향막의 재료에 직접 첨가제를 혼합하므로, 액정층 또는 배향막의 특성 저하를 방지하면서 첨가제의 기능 저하를 방지할 수 있는 공정을 확보해야 하는 문제가 있다.Thus, although a method of mixing an additive into a liquid crystal layer or an orientation film has been proposed, it is possible to prevent the deterioration of the properties of the liquid crystal layer or the orientation film while preventing the function of the additive from deteriorating by directly mixing the additive into the material of the liquid crystal layer or the orientation film. There is a problem that it is required to secure

예를 들어, 첨가제 혼합에 의하여 적하된 액정물질의 퍼짐특성이 저하되어 얼룩이 발행하거나, 소형 모델에서 첨가제가 씰패턴과 반응하여 얼룩이 발생하거나 씰패턴의 광개시제가 액정층으로 용출되어 은하수와 같은 다수의 휘점이 발생하거나, 후속 고온공정에 의하여 첨가제가 분해되어 기능이 저하될 수 있다. For example, the spreading property of the liquid crystal material dropped by the additive mixture is lowered to cause unevenness, or the additive in the small model reacts with the seal pattern to cause unevenness, or the photoinitiator of the seal pattern is eluted into the liquid crystal layer, Or a function may be deteriorated due to decomposition of the additive by a subsequent high temperature process.

본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위하여 제시된 것으로, 라디칼 제거제를 배향막 형성 이후의 세정용액에 혼합하여 기판을 세정함으로써, 배향막과 액정층에서 생성되는 라디칼이 제거되는 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Disclosure of the Invention The present invention has been proposed in order to solve such problems and provides a liquid crystal display device in which radicals generated in an alignment film and a liquid crystal layer are removed by mixing a radical scavenger in a cleaning solution after formation of an alignment film to clean the substrate, .

그리고, 본 발명은, 라디칼 제거제가 혼합된 세정용액으로 배향막이 형성된 기판을 세정함으로써, 잔상이 방지되고 신뢰성이 개선되는 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 다른 목적으로 한다. Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, in which after-image is prevented and reliability is improved by cleaning a substrate on which an alignment film is formed with a cleaning solution mixed with a radical scavenger.

위와 같은 과제의 해결을 위해, 본 발명은, 제1기판 상부에 제1배향막을 형성하고, 제2기판 상부에 제2배향막을 형성하는 단계와, 상기 제1 및 제2배향막을 배향하는 단계와, 라디칼 제거제가 혼합된 세정용액을 이용하여 상기 제1 및 제2배향막을 갖는 상기 제1 및 제2기판 중 적어도 하나를 세정하는 단계와, 상기 제1 및 제2기판 중 적어도 하나에 액정층을 형성하는 단계와, 상기 액정층을 사이에 두고 상기 제1 및 제2기판을 합착하는 단계를 포함하는 액정표시장치의 제조방법을 제공한다.In order to solve the above problems, the present invention provides a method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: forming a first alignment film on a first substrate and forming a second alignment film on a second substrate; aligning the first and second alignment films; Cleaning at least one of the first and second substrates having the first and second alignment layers using a cleaning solution mixed with a radical scavenger, and forming a liquid crystal layer on at least one of the first and second substrates And bonding the first and second substrates to each other with the liquid crystal layer interposed therebetween.

그리고, 상기 라디칼 제거제는, 양 및 음의 불순물 중 적어도 하나 또는 양 및 음의 라디칼 중 적어도 하나와 반응하는 첨가제를 포함할 수 있다.And, the radical scavenger may comprise an additive that reacts with at least one of positive and negative impurities and at least one of negative and negative radicals.

또한, 상기 라디칼 제거제는, HALS(hindered amine light stabilizer)를 포함할 수 있다.In addition, the radical scavenger may include a hindered amine light stabilizer (HALS).

그리고, 상기 라디칼 제거제는, 상기 세정용액에 대하여 0중량부 초과 50중량부 이하의 비율로 혼합될 수 있다.The radical scavenger may be mixed with the cleaning solution at a ratio of not less than 0 parts by weight and not more than 50 parts by weight.

또한, 상기 세정용액은, 이소프로필알콜(isopropyl alcohol: IPA), 아세톤(acetone), 클로로포름(chloroform), 에탄올(ethanol), 에틸아세테이트(ethyl acetate), 노말헥산(n-hexane), 메탄올(methanol), 메틸렌클로라이드(methylene chloride), 톨루엔(toluene) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.In addition, the cleaning solution may be prepared by dissolving or dispersing in a solvent selected from the group consisting of isopropyl alcohol (IPA), acetone, chloroform, ethanol, ethyl acetate, n-hexane, ), Methylene chloride, and toluene.

그리고, 상기 액정표시장치의 제조방법은, 상기 제1 및 제2배향막을 배향하는 단계와 상기 제1 및 제2기판 중 적어도 하나를 세정하는 단계 사이에, 상기 제1 및 제2배향막을 러빙 또는 광배향 하는 단계를 더 포함할 수 있다.The manufacturing method of the liquid crystal display device may further include a step of aligning the first and second alignment films and a step of cleaning at least one of the first and second substrates, And then photo-aligning.

또한, 상기 액정표시장치의 제조방법은, 상기 제1기판 상부에 박막트랜지스터 및 화소전극을 형성하는 단계와, 상기 제2기판 상부에 블랙매트릭스, 컬러필터층 및 공통전극을 형성하는 단계와, 상기 제1 및 제2기판 중 적어도 하나의 가장자리에 씰패턴을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. The manufacturing method of the liquid crystal display device may further include the steps of forming a thin film transistor and a pixel electrode on the first substrate, forming a black matrix, a color filter layer, and a common electrode on the second substrate, And forming a seal pattern on an edge of at least one of the first substrate and the second substrate.

한편, 본 발명은, 서로 마주보며 이격되는 제1 및 제2기판과, 상기 제1기판 내면에 배치되는 제1배향막과, 상기 제2기판 내면에 배치되는 제2배향막과, 상기 제1 및 제2기판 사이에 배치되는 액정층과, 상기 제1배향막과 상기 액정층 사이의 계면과 상기 제2배향막과 상기 액정층 사이의 계면 중 적어도 하나에 잔존하는 라디칼 제거제를 포함하는 액정표시장치를 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising first and second substrates facing each other, a first alignment film disposed on an inner surface of the first substrate, a second alignment film disposed on an inner surface of the second substrate, And a radical scavenger remaining in at least one of an interface between the first alignment film and the liquid crystal layer and an interface between the second alignment film and the liquid crystal layer, the liquid crystal display comprising: .

그리고, 상기 라디칼 제거제는, HALS(hindered amine light stabilizer)를 포함할 수 있다.The radical scavenger may include a hindered amine light stabilizer (HALS).

본 발명은, 라디칼 제거제를 배향막 형성 이후의 세정용액에 혼합하여 기판을 세정함으로써, 배향막과 액정층에서 생성되는 라디칼이 제거되는 효과를 갖는다.The present invention has the effect of removing the radicals generated in the alignment film and the liquid crystal layer by cleaning the substrate by mixing the radical scavenger in the cleaning solution after formation of the alignment film.

그리고, 본 발명은, 라디칼 제거제가 혼합된 세정용액으로 배향막이 형성된 기판을 세정함으로써, 잔상이 방지되고 신뢰성이 개선되는 효과를 갖는다. Further, the present invention has an effect that the afterimage is prevented and the reliability is improved by cleaning the substrate on which the alignment film is formed with the cleaning solution mixed with the radical scavenger.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 액정패널을 도시한 단면도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정 흐름도.
도 3은 도 2의 셀공정을 구체화한 공정 흐름도.
도 4는 도 3의 배향단계를 구체화한 공정 흐름도.
도 5a는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 액정층의 전압유지율을 나타내는 그래프.
도 5b는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 액정층의 이온밀도비율을 나타내는 그래프.
1 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal panel of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device.
3 is a process flow chart embodying the cell process of FIG.
Figure 4 is a process flow diagram embodying the orientation step of Figure 3;
5A is a graph showing a voltage holding ratio of a liquid crystal layer of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
5B is a graph showing the ion density ratio of the liquid crystal layer of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention.

첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명에 따른 액정표시장치 및 그 제조방법을 설명한다. A liquid crystal display device and a manufacturing method thereof according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 액정패널을 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal panel of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 액정패널(10)은, 서로 마주보며 이격되는 제1 및 제2기판(20, 50)과, 제1 및 제2기판(20, 50) 사이에 개재되는 액정층(70)을 포함한다.1, a liquid crystal panel 10 of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention includes first and second substrates 20 and 50 which are spaced apart from each other and first and second substrates 20 and 50, And a liquid crystal layer (70) interposed between the first and second substrates (20, 50).

구체적으로, 제1기판(20)의 내면의 각 화소영역(P)에는 게이트전극(22)이 형성되고, 게이트전극(22) 상부의 제1기판(20) 전면에는 게이트절연층(24)이 형성된다. Specifically, a gate electrode 22 is formed in each pixel region P on the inner surface of the first substrate 20, and a gate insulating layer 24 is formed on the entire surface of the first substrate 20 above the gate electrode 22 .

게이트전극(22)에 대응되는 게이트절연층(24) 상부에는 반도체층(26)이 형성되고, 반도체층(26) 상부에는 서로 이격되는 소스전극(28) 및 드레인전극(30)이 형성된다.A semiconductor layer 26 is formed on the gate insulating layer 24 corresponding to the gate electrode 22 and a source electrode 28 and a drain electrode 30 are formed on the semiconductor layer 26.

소스전극(28) 및 드레인전극(30) 상부의 제1기판(20) 전면에는 보호층(32)이 형성되는데, 보호층(32)은 드레인전극(30)을 노출하는 콘택홀을 갖는다.A protective layer 32 is formed on the entire surface of the first substrate 20 above the source electrode 28 and the drain electrode 30. The protective layer 32 has a contact hole exposing the drain electrode 30.

여기서, 게이트전극(22), 반도체층(26), 소스전극(28) 및 드레인전극(30)은 박막트랜지스터(T)를 구성한다.Here, the gate electrode 22, the semiconductor layer 26, the source electrode 28, and the drain electrode 30 constitute the thin film transistor T.

보호층(32) 상부의 각 화소영역(P)에는 화소전극(34)이 형성되는데, 화소전극(34)은 콘택홀을 통하여 드레인전극(30)에 연결된다.A pixel electrode 34 is formed in each pixel region P above the passivation layer 32. The pixel electrode 34 is connected to the drain electrode 30 through a contact hole.

화소전극(34) 상부의 제1기판(20) 전면에는 제1배향막(36)이 형성된다.A first alignment layer 36 is formed on the entire surface of the first substrate 20 above the pixel electrode 34.

제2기판(50) 내면에는 화소영역(P)의 경계와 박막트랜지스터(T)에 대응되는 블랙매트릭스(52)가 형성되고, 블랙매트릭스(52) 하부의 각 화소영역(P)에는 컬러필터층(54)이 형성된다. A black matrix 52 corresponding to the boundary of the pixel region P and the thin film transistor T is formed on the inner surface of the second substrate 50 and a color filter layer 54 are formed.

컬러필터층(54) 하부의 제2기판(50) 전면에는 공통전극(56)이 형성되고, 공통전극(56) 하부의 제2기판(50) 전면에는 제2배향막(58)이 형성된다.A common electrode 56 is formed on the entire surface of the second substrate 50 under the color filter layer 54 and a second alignment layer 58 is formed on the entire surface of the second substrate 50 under the common electrode 56.

제1 및 제2배향막(36, 58) 사이에는 액정층(70)이 형성된다. A liquid crystal layer 70 is formed between the first and second alignment films 36 and 58.

도시하지는 않았지만, 액정패널(10) 하부에는 액정패널(10)에 빛을 공급하는 백라이트유닛이 배치되고, 액정패널(10)은 타이밍제어부, 데이터구동부, 게이트구동부와 같은 구동회로에 연결되며, 액정패널(10), 백라이트유닛, 구동회로는 액정표시장치를 구성한다.Although not shown, a backlight unit for supplying light to the liquid crystal panel 10 is disposed under the liquid crystal panel 10, and the liquid crystal panel 10 is connected to a driving circuit such as a timing controller, a data driver, and a gate driver, The panel 10, the backlight unit, and the drive circuit constitute a liquid crystal display device.

여기서, 제1 및 제2배향막(36, 58)과 액정층(70) 사이의 계면에는 라디칼 제거제가 존재한다.Here, a radical scavenger is present at the interface between the first and second alignment films 36 and 58 and the liquid crystal layer 70.

즉, 제1 및 제2기판(20, 50) 상부에 제1 및 제2배향막(36, 58)을 각각 형성한 후, 라디칼 제거제가 혼합된 세정용액으로 제1 및 제2배향막(36, 58)이 형성된 제1 및 제2기판(20, 50) 중 적어도 하나를 세정하고, 이후 제1 및 제2배향막(36, 58)이 형성된 제1 및 제2기판(20, 50) 중 하나의 상부에 액정층(70)을 형성하고, 제1 및 제2기판(20, 50)을 합착하여 액정패널을 완성하는데, 세정용액에 혼합된 라디칼 제거제에 의하여 소성공정 또는 배향공정에서 생성된 자유라디칼(free radical)이 제거되고, 제1배향막(36)과 액정층(70) 사이의 계면과 제2배향막(58)과 액정층(70) 사이 계면 중 적어도 하나에 잔존하는 라디칼 제거제에 의하여 지속적인 자유라디칼 생성이 방지된다. That is, first and second alignment layers 36 and 58 are formed on the first and second substrates 20 and 50, respectively, and then the first and second alignment layers 36 and 58 The first and second substrates 20 and 50 on which the first and second alignment films 36 and 58 are formed are then cleaned, A liquid crystal layer 70 is formed on the first and second substrates 20 and 50. The first and second substrates 20 and 50 are bonded together to complete the liquid crystal panel. The free radicals generated in the firing process or the alignment process free radical is removed and the radical scavenger remaining in at least one of the interface between the first alignment layer 36 and the liquid crystal layer 70 and the interface between the second alignment layer 58 and the liquid crystal layer 70 provides a continuous free radical Generation is prevented.

이에 따라, 액정층(70)의 특성 저하가 방지되고 잔상이 방지되어 액정표시장치의 신뢰성이 개선된다.Thus, the deterioration of the characteristics of the liquid crystal layer 70 is prevented and the afterimage is prevented, thereby improving the reliability of the liquid crystal display device.

예를 들어, 라디칼 제거제는 피페리딘 유도체로서 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트(bis(2,2,6,6,-tetramethyl-4-piperidyl)sebaceate), 비스-(엔-옥틸옥시-테트라메틸)피페리디닐세바케이트(bis-(N-octyloxy-tetramethyl)piperidinyl sebacate), 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트(bis(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl)sebacate), 메틸-1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜세바케이트(methyl 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl sebacate), 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)부탄-1,2,3,4-테트라카르복실레이트(tetrakis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)butane-1,2,3,4-tetracarboxylate)와 같은 HALS(hindered amine light stabilizer)를 포함할 수 있으며, HALS는 라디칼 스캐빈저(radical scavenger)로 불리기도 한다. For example, the radical scavenger can be bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate (bis (2,2,6,6, -tetramethyl-4- ) sebaceate, bis- (N-octyloxy-tetramethyl) piperidinyl sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl- Bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate), methyl-1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl sebacate (Methyl 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl sebacate), tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butane-1,2,3,4 Hindered amine light stabilizers such as tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) butane-1,2,3,4-tetracarboxylate, and HALS May also be referred to as radical scavengers.

이러한 자유라디칼의 발생 및 제거과정에 대하여 상세히 설명한다.The generation and removal of free radicals will be described in detail.

제1 및 제2배향막(36, 58)은 전구체인 폴리아믹산(polyamic acid: PAA)의 코팅 및 소성을 통하여 형성될 수 있다. The first and second alignment layers 36 and 58 may be formed by coating and firing a precursor of polyamic acid (PAA).

즉, 아래의 화학반응식1에 따라 약 200도 내지 약 250도의 소성공정을 통하여 폴리아믹산으로부터 폴리아믹산 고분자(polyamic acid polymer)가 형성되고, 아래의 화학반응식2에 따라 열적 이미드화 반응(thermal imidization reaction)을 통하여 폴리아믹산 고분자로부터 제1 및 제2배향막(36, 58)이 형성된다. That is, a polyamic acid polymer is formed from polyamic acid through a firing process at about 200 ° C. to about 250 ° C. according to the following chemical reaction formula 1, and a thermal imidization reaction The first and second alignment layers 36 and 58 are formed from the polyamic acid polymer.

[화학반응식1][Chemical reaction formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

[화학반응식2][Chemical reaction formula 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

이때, 소성공정 동안 폴리아믹산이 100% 반응을 하는 것이 아니므로, 폴리아믹산 고분자 사이에 미경화 단분자가 존재할 수 있으며, 이러한 미경화 단분자는 신뢰성 저하의 원인이 될 수 있다. At this time, since the polyamic acid does not react 100% during the firing process, there may be an un-cured monolayer between the polyamic acid polymer and the un-cured monolayer may cause the reliability to deteriorate.

그리고, 열 이미드화 반응 전에 폴리아믹산 고분자에 카르복실기(-COOH)가 잔류할 경우, 불순물, 수분, 자외선 등의 외부자극에 의하여 카르복실기(-COOH)로부터 자유라디칼이 생성되고, 이러한 자유라디칼은 신뢰성 저하의 원인이 될 수 있다. When the carboxyl group (-COOH) remains in the polyamic acid polymer before the thermal imidization reaction, free radicals are generated from the carboxyl group (-COOH) by external stimuli such as impurities, water and ultraviolet rays, . ≪ / RTI >

즉, 아래의 화학반응식3에 따라 폴리아믹산 고분자로부터 생성되는 카르복실기(-COOH)의 자유라디칼이 액정분자의 알케닐 싱글(alkenyl single) 또는 액정분자의 이중결합 또는 삼중결합과 반응하여 다수의 자유라디칼이 생성되며, 이러한 다수의 자유라디칼이 폴리아믹산 고분자와 반응하여 다시 카르복실기(-COOH)가 생성되며, 이러한 과정이 지속적으로 재순환(recycle)되어 액정층(70)의 특성이 저하될 수 있다. That is, the free radical of the carboxyl group (-COOH) generated from the polyamic acid polymer is reacted with the alkenyl single of the liquid crystal molecule or the double bond or the triple bond of the liquid crystal molecule according to the following chemical reaction formula 3, And a large number of free radicals react with the polyamic acid polymer to generate a carboxyl group (-COOH). Such a process is continuously recycled, and the characteristics of the liquid crystal layer 70 may be deteriorated.

[화학반응식3][Chemical reaction formula 3]

Figure pat00003
Figure pat00003

본 발명의 실시예에서는 아래의 화학식1로 표시되는 HALS를 라디칼 제거제로 사용하여 자유라디칼의 지속적 생성을 차단한다. In the examples of the present invention, HALS represented by the following formula (1) is used as a radical scavenger to block the continuous generation of free radicals.

[화학식1][Chemical Formula 1]

Figure pat00004
Figure pat00004

즉, 아래의 화학반응식4에 따라 세정용액에 포함되어 있거나 제1 및 제2배향막(36, 58)과 액정층(70) 사이의 계면에 잔존하는 R* 또는 ROO*와 같은 자유라디칼이 라디칼 제거제에 의하여 제거되거나 중성화된다. That is, free radicals such as R * or ROO * contained in the cleaning solution or remaining at the interface between the first and second alignment layers 36 and 58 and the liquid crystal layer 70 according to the following chemical reaction formula 4, ≪ / RTI >

[화학반응식4][Chemical reaction formula 4]

Figure pat00005
Figure pat00005

화학반응식1 내지 화학반응식4에서 R, R', R"는 탄소와 수소로 이루어진 원자단을 의미한다.In the chemical reaction equations 1 to 4, R, R ', and R "denote atomic groups composed of carbon and hydrogen.

이와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치에서는, 제1 및 제2배향막(36, 58) 형성 및 배향 후 라디칼 제거제가 혼합된 세정용액으로 제1 및 제2기판(20, 50) 중 적어도 하나를 세정함으로써, 소성공정 및 배향공정에서 생성된 자유라디칼을 제거하고 후속공정에서의 자유라디칼의 지속적 생성을 차단할 수 있으며, 그 결과 액정층(70)의 특성 저하가 방지되어 액정표시장치의 잔상이 방지되고 신뢰성이 개선된다.As described above, in the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention, the cleaning solution mixed with the radical scavenging agent after formation and orientation of the first and second alignment films 36 and 58 The free radicals generated in the firing step and the alignment step can be removed and the continuous generation of free radicals in the subsequent step can be prevented. As a result, deterioration of the properties of the liquid crystal layer 70 can be prevented, The afterimage is prevented and the reliability is improved.

특히, 소정공정을 포함하는 제1 및 제2배향막(36, 58) 형성단계와 적하공정을 포함하는 액정층(70) 형성단계 사이의 세정공정에서 라디칼 제거제를 사용하므로, 배향막의 소정공정에 의한 라디칼 제거제의 분해가 방지되고, 액정물질의 퍼짐특성의 저하가 방지되고, 라디칼 제거제와 씰패턴의 반응 및 라디칼 제거제에 의한 씰패턴의 광개시제의 용출이 방지된다.Particularly, since the radical scavenger is used in the cleaning step between the formation of the first and second alignment films 36 and 58 including the predetermined process and the formation of the liquid crystal layer 70 including the dropping process, The decomposition of the radical scavenger is prevented, the deterioration of the spreading property of the liquid crystal material is prevented, the reaction of the radical scavenger and the seal pattern, and the elution of the sealant pattern of the seal pattern by the radical scavenger are prevented.

이러한 액정표시장치의 제조방법을 도면을 참조하여 설명한다. A manufacturing method of such a liquid crystal display device will be described with reference to the drawings.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정 흐름도이고, 도 3은 도 2의 셀공정을 구체화한 공정 흐름도이고, 도 4는 도 3의 배향단계를 구체화한 공정 흐름도로서, 도 1을 함께 참조하여 설명한다.FIG. 2 is a process flow chart for explaining a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a process flow chart embodying the cell process of FIG. 2, and FIG. As a process flow chart, Fig. 1 will be described together.

도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치는, 어레이공정(st100), 컬러필터공정(st200), 셀공정(st300), 모듈공정(st400)을 통하여 제조된다. 2, the liquid crystal display according to the embodiment of the present invention is manufactured through an array process (st100), a color filter process (st200), a cell process (st300), and a module process (st400).

어레이공정(st100)에서는, 사진식각공정(photolithographic process)을 통하여 제1기판(20) 상부에 게이트전극(22), 게이트절연층(24), 반도체층(26), 소스전극(28), 드레인전극(30), 보호층(32), 화소전극(34)을 형성한다.In the array process (st100), a gate electrode 22, a gate insulating layer 24, a semiconductor layer 26, a source electrode 28, a drain (not shown) are formed on a first substrate 20 through a photolithographic process. The electrode 30, the protective layer 32, and the pixel electrode 34 are formed.

컬러필터공정(st200)에서는, 사진식각공정을 통하여 제2기판(50) 상부에 블랙매트릭스(52), 컬러필터층(54), 공통전극(58)을 형성한다. In the color filter process st200, a black matrix 52, a color filter layer 54, and a common electrode 58 are formed on the second substrate 50 through a photolithography process.

셀공정(st300)에서는, 어레이공정(st100)이 완료된 제1기판(20)과 컬러필터공정(st200)이 완료된 제2기판(50) 상부에 각각 제1 및 제2배향막(36, 58)을 형성하고, 제1 및 제2배향막(36, 58) 사이에 액정층(70)을 형성하고, 제1 및 제2기판(50)을 합착하여 액정패널(10)을 완성한다.In the cell process (st300), first and second alignment layers 36 and 58 are formed on the first substrate 20 on which the array process st100 is completed and the second substrate 50 on which the color filter process st200 is completed A liquid crystal layer 70 is formed between the first and second alignment films 36 and 58 and the first and second substrates 50 are bonded together to complete the liquid crystal panel 10.

이때, 제1 및 제2배향막(36, 58) 형성 후 액정층(70) 형성 전에, 라디칼 제거제가 혼합된 세정용액으로 제1 및 제2기판(20, 50) 중 적어도 하나를 세정함으로써, 소성공정 및 배향공정에서 생성된 자유라디칼을 제거하고 자유라디칼의 지속적 생성을 차단한다.At least one of the first and second substrates 20 and 50 is cleaned with a cleaning solution containing a radical scavenger before forming the liquid crystal layer 70 after the first and second alignment films 36 and 58 are formed, Removes the free radicals produced in the process and orientation process and blocks the continuous production of free radicals.

모듈공정(st400)에서는, 셀공정(st300)이 완료된 액정패널(10)에 구동회로를 부착하고, 액정패널(10) 하부에 백라이트유닛을 배치하여 모듈화 함으로써, 액정표시장치를 완성한다. In the module process (st400), a driving circuit is attached to the liquid crystal panel 10 in which the cell process (st300) is completed, and a backlight unit is disposed under the liquid crystal panel 10 to modularize the liquid crystal panel.

구체적으로, 셀공정(300)은, 도 3에 도시한 바와 같이, 배향막 형성 단계(st310), 배향 단계(st320), 씰패턴 형성 단계(st330), 액정층 형성 단계(st340), 합착 단계(st350), 절단 단계(st360)를 포함한다. 3, the cell process 300 includes an alignment film forming step (st310), an alignment step (st320), a seal pattern forming step (st330), a liquid crystal layer forming step (st340) st350), and a cutting step (st360).

배향막 형성 단계(st310)에서는, 어레이공정(st100)이 완료된 제1기판(20)과 컬러필터공정(st200)이 완료된 제2기판(50) 상부에 폴리아믹산을 코팅하여 각각 제1 및 제2배향물질층을 형성하고, 제1 및 제2배향물질층에 대하여 약 200도 내지 약 250도의 소성공정을 수행하여 제1 및 제2배향막(36, 58)을 형성한다. In the alignment film formation step (st310), polyamic acid is coated on the first substrate 20 on which the array process (st100) is completed and on the second substrate 50 on which the color filter process (st200) is completed to form first and second orientations And a first and second alignment layers 36 and 58 are formed by performing a firing process of about 200 to about 250 degrees with respect to the first and second alignment material layers.

소성공정에 의하여 제1 및 제2배향물질층의 폴리아믹산은 폴리아믹산 고분자가 되고, 계속해서 열적 이미드화 반응을 통하여 제1 및 제2배향막(36, 58)이 형성된다. The polyamic acid of the first and second alignment material layers becomes the polyamic acid polymer by the firing process, and the first and second alignment films 36 and 58 are formed through the thermal imidization reaction.

배향 단계(st320)에서는, 러빙(rubbing) 또는 자외선(UV) 조사와 같은 광배향에 의하여 제1 및 제2배향막(36, 58)에 일정한 방향성을 부여한다. In the alignment step st320, the first and second alignment films 36 and 58 are given a predetermined direction by optical alignment such as rubbing or ultraviolet (UV) irradiation.

이때, 제1 및 제2배향막(36, 58)에 대한 배향이 완료된 후, 라디칼 제거제가 혼합된 세정용액으로 제1 및 제2기판(20, 50) 중 적어도 하나를 세정함으로써, 소성공정 및 배향공정에서 생성된 자유라디칼을 제거하고 자유라디칼의 지속적 생성을 차단한다. At this time, after the orientation of the first and second alignment films 36 and 58 is completed, at least one of the first and second substrates 20 and 50 is cleaned with the cleaning solution mixed with the radical scavenger, Removes the free radicals produced in the process and blocks the continuous production of free radicals.

그리고, 소성공정을 통한 제1 및 제2배향막(36, 58)의 형성 후 라디칼 제거제가 사용되므로, 라디칼 제거제의 분해가 방지된다. Since radical scavengers are used after formation of the first and second alignment films 36 and 58 through the firing process, decomposition of the radical scavenger is prevented.

씰패턴 형성 단계(st330)에서는, 배향 단계(st320)가 완료된 제1 및 제2기판(20, 50) 중 하나의 가장자리에 씰패턴을 형성한다. In the seal pattern forming step (st330), a seal pattern is formed at the edge of one of the first and second substrates 20 and 50 in which the alignment step st320 is completed.

이때, 세정용액에 혼합되어 사용된 라디칼 제거제는 제1 및 제2배향막(36, 58) 상부에 일부만 잔존하므로, 라디칼 제거제와 씰패턴의 반응 및 라디칼 제거제에 의한 씰패턴의 광개시제의 용출은 최소화된다. At this time, since the radical scavenger mixed and used in the cleaning solution partially remains on the first and second alignment films 36 and 58, the reaction of the radical scavenger and the seal pattern and the release of the photoinitiator of the seal pattern by the radical scavenger are minimized .

액정층 형성 단계(st340)에서는 제1 및 제2기판(20, 50) 중 씰패턴이 형성된 하나의 상부에 액정물질을 적하(dropping, dotting)하여 액정층(70)을 형성한다. In the liquid crystal layer forming step (st340), the liquid crystal layer 70 is formed by dropping and dotting a liquid crystal material on one of the first and second substrates 20 and 50 where the seal pattern is formed.

이때, 라디칼 제거제는 액정층(70) 형성 이전의 세정용액에 혼합되어 사용되고, 액정물질에는 라디칼 제거제가 혼합되어 있지 않으므로, 적하된 액정물질의 퍼짐특성 저하가 방지된다. At this time, the radical scavenger is mixed with the cleaning solution prior to the formation of the liquid crystal layer 70. Since the radical scavenger is not mixed with the liquid crystal material, deterioration of the spreading property of the dropped liquid crystal material is prevented.

합착 단계(st350)에서는, 액정층(70)을 개재한 상태로 씰패턴을 이용하여 제1 및 제2기판(20, 50)을 합착한다. In the adhesion step (st 350), the first and second substrates 20 and 50 are bonded together using the seal pattern with the liquid crystal layer 70 interposed therebetween.

절단 단계(st360)에서는 합착된 제1 및 제2기판(20, 50)을 셀 단위로 절단하여 액정패널을 완성한다. In the cutting step (st360), the bonded first and second substrates 20 and 50 are cut in cell units to complete the liquid crystal panel.

구체적으로, 배향 단계(st320)는, 도 4에 도시한 바와 같이, 러빙 또는 광배향 단계(st321), 용액 세정 단계(st322), 순수 세정 단계(st323), 브러쉬 세정 단계(st324), 초음파 세정 단계(st325), 건조 단계(st326)를 포함한다. Specifically, the orientation step st320 includes, as shown in Fig. 4, a rubbing or photo alignment step st321, a solution cleaning step st322, a pure cleaning step st323, a brush cleaning step st324, A step (st325), and a drying step (st326).

러빙 또는 광배향 단계(st321)에서는, 배향막 형성 단계(st310)를 통하여 제1 및 제2기판(20, 50) 상부에 형성된 제1 및 제2배향막(36, 58)에 대하여 러빙 또는 광배향을 수행하여 일정한 방향성을 부여한다. In the rubbing or photo alignment step st321, rubbing or photo alignment is performed on the first and second alignment films 36 and 58 formed on the first and second substrates 20 and 50 through the alignment film formation step st310 To give a certain directionality.

용액 세정 단계(st322)에서는, 라디칼 제거제가 혼합된 세정용액을 이용하여 러빙 또는 광배향 단계(st321)가 완료된 제1 및 제2배향막(36, 58)을 갖는 제1 및 제2기판(20, 50) 중 적어도 하나를 세정함으로써, 소성공정 및 배향공정에서 생성된 자유라디칼을 제거하고 자유라디칼의 지속적 생성을 차단한다. In the solution cleaning step (st322), the cleaning solution mixed with the radical scavenger is used to form the first and second substrates 20, 20 having the first and second alignment films 36, 58 in which the rubbing or photo- 50) to remove free radicals generated in the firing and orientation processes and to prevent the continuous production of free radicals.

예를 들어, 제1기판(20)은 라디칼 제거제가 혼합된 세정용액을 이용하여 세정하고 제2기판(50)은 라디칼 제거제가 혼합되지 않은 세정용액을 이용하여 세정하거나, 제1기판(20)은 라디칼 제거제가 혼합되지 않은 세정용액을 이용하여 세정하고 제2기판(50)은 라디칼 제거제가 혼합된 세정용액을 이용하여 세정하거나, 제1 및 제2기판(20, 50) 모두 라디칼 제거제가 혼합된 세정용액을 이용하여 세정할 수 있다.For example, the first substrate 20 may be cleaned using a cleaning solution mixed with a radical scavenger, the second substrate 50 may be cleaned using a cleaning solution not mixed with a radical scavenger, The second substrate 50 may be cleaned using a cleaning solution in which a radical scavenger is mixed or the radical scavengers may be mixed in the first and second substrates 20 and 50, The cleaning solution may be used.

이때, 라디칼 제거제는 양 및/또는 음의 불순물(impurity) 또는 양 및/또는 음의 라디칼과 용이하게 반응하는 첨가제를 포함할 수 있으며, 예를 들어 라디칼 제거제는 HALS를 포함할 수 있다. At this time, the radical scavenger may comprise an additive that readily reacts with a positive and / or negative impurity or an amount and / or a negative radical, for example the radical scavenger may comprise HALS.

그리고, 세정용액은, 라디칼 제거제를 녹일 수 있는 용매를 포함할 수 있으며, 예를 들어 세정용액은, 이소프로필알콜(isopropyl alcohol: IPA), 아세톤(acetone), 클로로포름(chloroform), 에탄올(ethanol), 에틸아세테이트(ethyl acetate), 노말헥산(n-hexane), 메탄올(methanol), 메틸렌클로라이드(methylene chloride), 톨루엔(toluene) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The cleaning solution may include a solvent capable of dissolving the radical scavenger. For example, the cleaning solution may include isopropyl alcohol (IPA), acetone, chloroform, ethanol, At least one of ethyl acetate, n-hexane, methanol, methylene chloride, and toluene.

그리고, 세정용액은 순수(deionized water: DI water)에 희석된 용액일 수 있는데, 예를 들어 세정용액은 이소프로필알콜이 약 30중량부 내지 약 50중량부로 순수에 희석된 용액일 수 있다. And, the cleaning solution may be a solution diluted with deionized water (DI water), for example, the cleaning solution may be a solution diluted with pure water to about 30 parts by weight to about 50 parts by weight of isopropyl alcohol.

또한, 라디칼 첨가제는 세정용액 100중량부에 대하여 0중량부 초과 약 50중량부 이하의 비율로 혼합될 수 있으며, 바람직하게는 세정용액 100중량부에 대하여 0.1중량부 초과 약 50중량부 이하의 비율로 혼합될 수 있다. The radical additive may be mixed in an amount of more than 0 parts by weight and less than 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the cleaning solution. Preferably, the proportion of the radical additives is more than 0.1 parts by weight to less than 50 parts by weight ≪ / RTI >

이러한 라디칼 제거제가 혼합된 세정용액에 의한 용액 세정 단계(st322)는 1회 이상 반복될 수 있다. The solution cleaning step (st322) with the cleaning solution mixed with such radical scavenger may be repeated one or more times.

순수 세정 단계(st323)에서는, 순수(deionized water: DI water)를 이용하여 용액 세정 단계(st322)가 완료된 제1 및 제2기판(20, 50)을 세정한다.In the pure cleaning step st323, the first and second substrates 20 and 50, which have completed the solution cleaning step st322, are cleaned using deionized water (DI water).

브러쉬 세정 단계(st324)에서는, 브러쉬를 이용하여 순수 세정 단계(st323)가 완료된 제1 및 제2기판(20, 50)을 세정한다.In the brush cleaning step (st324), the first and second substrates 20 and 50, which have been subjected to the pure cleaning step st323, are cleaned using a brush.

초음파 세정 단계(st325)에서는, 캐비테이션 제트(cavitation jet) 또는 메가소닉(megasonic)을 이용하는 초음파로 브러쉬 세정 단계(st324)가 완료된 제1 및 제2기판(20, 50)을 세정한다.In the ultrasonic cleaning step (st325), the first and second substrates 20 and 50, which have completed the brush cleaning step st324, are cleaned by ultrasonic waves using a cavitation jet or megasonic.

건조 단계(st326)에서는, 에어 나이프(air knife)와 같은 수단을 이용하여 초음파 세정 단계(st325)가 완료된 제1 및 제2기판(20, 50)을 건조함으로써, 배향 단계(st320)를 완료한다. In the drying step st326, the orientation step st320 is completed by drying the first and second substrates 20 and 50, which have completed the ultrasonic cleaning step st325, by means such as an air knife .

이러한 제조방법을 통하여 제조된 액정표시장치의 액정층의 특성을 도면을 참조하여 설명한다.The characteristics of the liquid crystal layer of the liquid crystal display device manufactured through such a manufacturing method will be described with reference to the drawings.

도 5a 및 도 5b는 각각 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 액정층의 전압유지율 및 이온밀도비율을 나타내는 그래프로서, 도 1을 함께 참조하여 설명한다. 5A and 5B are graphs showing the voltage holding ratio and the ion density ratio of the liquid crystal layer of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention, respectively, and will be described with reference to FIG.

도 5a 및 도 5b에서, 기준예는 라디칼 제거제 혼합 없이 제조된 액정표시장치의 액정층을 나타내고, 비교예는 액정층에 직접 라디칼 제거제를 혼합하여 제조된 액정표시장치의 액정층을 나타내고, 실시예1 내지 3은 각각 이소프로필의 세정용액에 라디칼 제거제를 약 500ppm, 약 750ppm, 약 1000ppm의 비율로 혼합하여 제조된 액정표시장치의 액정층을 나타낸다.5A and 5B, the reference example shows a liquid crystal layer of a liquid crystal display device manufactured without mixing radical scavenger, and the comparative example shows a liquid crystal layer of a liquid crystal display device manufactured by mixing a radical scavenger directly with a liquid crystal layer, 1 to 3 each represent a liquid crystal layer of a liquid crystal display manufactured by mixing a radical scavenger at a ratio of about 500 ppm, about 750 ppm, and about 1000 ppm to a cleaning solution of isopropyl.

도 5a에 도시한 바와 같이, 기준예에 비하여 비교예 및 실시예1 내지 3에서 전압유지율(voltage holding ratio: VHR)이 증가하는데, 특히 실시예3이 비교예 및 실시예1, 2보다 우수한 전압유지율 특성을 가지며, 이로부터 액정표시장치의 액정층의 전압유지 특성이 개선되어 액정표시장치의 신뢰성이 개선됨을 알 수 있다. As shown in FIG. 5A, the voltage holding ratio (VHR) increases in the comparative example and the first to third embodiments as compared with the reference example. In particular, as compared with the reference example, the voltage holding ratio Retention characteristics. From this, it can be seen that the voltage holding characteristics of the liquid crystal layer of the liquid crystal display device are improved and the reliability of the liquid crystal display device is improved.

도 5b에 도시한 바와 같이, 기준예의 이온밀도(ion density)에 대한 비교예와 실시예1 내지 3의 이온밀도의 비율(ion density ratio)은 모두 1 이상인데, 특히 실시예3이 비교예와 실시예1, 2보다 우수한 이온밀도 특성을 가지며, 이로부터 액정표시장치의 액정층의 전하 축적 특성이 개선되어 액정표시장치의 잔상이 방지되고 신뢰성이 개선됨을 알 수 있다.As shown in FIG. 5B, the ion density of the reference example and the ion density ratio of the ion density ratios of the first to third embodiments are all 1 or more. In particular, It is understood that they have better ion density characteristics than those of Examples 1 and 2 and that the charge accumulation characteristics of the liquid crystal layer of the liquid crystal display device are improved to prevent the afterimage of the liquid crystal display device and improve the reliability.

즉, 액정층의 저항은 액정층의 이온밀도에 반비례하므로, 액정층의 이온밀도가 높을수록 화소전극 및 공통전극에 인접한 액정층에 축적된 전하가 쉽게 제거될 수 있으며, 이는 잔상이 방지됨을 의미한다. That is, since the resistance of the liquid crystal layer is inversely proportional to the ion density of the liquid crystal layer, the charge accumulated in the liquid crystal layer adjacent to the pixel electrode and the common electrode can be easily removed as the ion density of the liquid crystal layer is higher, do.

이상과 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치에서는, 제1 및 제2배향막(36, 58) 형성 및 배향 후 라디칼 제거제가 혼합된 세정용액으로 제1 및 제2기판(20, 50) 중 적어도 하나를 세정함으로써, 소성공정 및 배향공정에서 생성된 자유라디칼을 제거하고 후속공정에서의 자유라디칼의 지속적 생성을 차단할 수 있으며, 그 결과 액정층(70)의 특성 저하가 방지되어 액정표시장치의 잔상이 방지되고 신뢰성이 개선된다. As described above, in the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention, the first and second substrates 20 and 50 are formed of the cleaning solution mixed with the radical scavenging agent after the formation of the first and second alignment films 36 and 58, The free radicals generated in the firing step and the alignment step can be removed and the continuous generation of the free radicals in the subsequent step can be prevented. As a result, deterioration of the properties of the liquid crystal layer 70 can be prevented, And the reliability is improved.

특히, 소정공정을 포함하는 제1 및 제2배향막(36, 58) 형성단계와 적하공정을 포함하는 액정층(70) 형성단계 사이의 세정공정에서 라디칼 제거제를 사용하므로, 배향막의 소정공정에 의한 라디칼 제거제의 분해가 방지되고, 액정물질의 퍼짐특성의 저하가 방지되고, 라디칼 제거제와 씰패턴의 반응 및 라디칼 제거제에 의한 씰패턴의 광개시제의 용출이 방지된다.Particularly, since the radical scavenger is used in the cleaning step between the formation of the first and second alignment films 36 and 58 including the predetermined process and the formation of the liquid crystal layer 70 including the dropping process, The decomposition of the radical scavenger is prevented, the deterioration of the spreading property of the liquid crystal material is prevented, the reaction of the radical scavenger and the seal pattern, and the elution of the sealant pattern of the seal pattern by the radical scavenger are prevented.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the appended claims. It can be understood that

10: 액정패널 20: 제1기판
36: 제1배향막 50: 제2기판
58: 제2배향막 70: 액정층
10: liquid crystal panel 20: first substrate
36: first alignment layer 50: second substrate
58: second orientation film 70: liquid crystal layer

Claims (9)

제1기판 상부에 제1배향막을 형성하고, 제2기판 상부에 제2배향막을 형성하는 단계와;
상기 제1 및 제2배향막을 배향하는 단계와;
라디칼 제거제가 혼합된 세정용액을 이용하여 상기 제1 및 제2배향막을 갖는 상기 제1 및 제2기판 중 적어도 하나를 세정하는 단계와;
상기 제1 및 제2기판 중 적어도 하나에 액정층을 형성하는 단계와;
상기 액정층을 사이에 두고 상기 제1 및 제2기판을 합착하는 단계
를 포함하는 액정표시장치의 제조방법.
Forming a first alignment layer on the first substrate and a second alignment layer on the second substrate;
Orienting the first and second alignment layers;
Cleaning at least one of the first and second substrates having the first and second alignment films using a cleaning solution mixed with a radical scavenger;
Forming a liquid crystal layer on at least one of the first and second substrates;
Attaching the first and second substrates together with the liquid crystal layer interposed therebetween
And the second electrode is electrically connected to the second electrode.
제 1 항에 있어서,
상기 라디칼 제거제는, 양 및 음의 불순물 중 적어도 하나 또는 양 및 음의 라디칼 중 적어도 하나와 반응하는 첨가제를 포함하는 액정표시장치의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the radical scavenger comprises an additive that reacts with at least one of positive and negative impurities and at least one of negative and negative radicals.
제 1 항에 있어서,
상기 라디칼 제거제는, HALS(hindered amine light stabilizer)를 포함하는 액정표시장치의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the radical scavenger comprises a hindered amine light stabilizer (HALS).
제 1 항에 있어서,
상기 라디칼 제거제는, 상기 세정용액 100중량부에 대하여 0중량부 초과 50중량부 이하의 비율로 혼합되는 액정표시장치의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the radical scavenger is mixed in an amount of 0 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the cleaning solution.
제 1 항에 있어서,
상기 세정용액은, 이소프로필알콜(isopropyl alcohol: IPA), 아세톤(acetone), 클로로포름(chloroform), 에탄올(ethanol), 에틸아세테이트(ethyl acetate), 노말헥산(n-hexane), 메탄올(methanol), 메틸렌클로라이드(methylene chloride), 톨루엔(toluene) 중 적어도 하나를 포함하는 액정표시장치의 제조방법.
The method according to claim 1,
The cleaning solution may be a solvent such as isopropyl alcohol (IPA), acetone, chloroform, ethanol, ethyl acetate, n-hexane, methanol, And at least one of methylene chloride, toluene, and the like.
제 1 항에 있어서,
상기 제1 및 제2배향막을 배향하는 단계와 상기 제1 및 제2기판 중 적어도 하나를 세정하는 단계 사이에, 상기 제1 및 제2배향막을 러빙 또는 광배향 하는 단계를 더 포함하는 액정표시장치의 제조방법.
The method according to claim 1,
Further comprising a step of rubbing or photo-aligning the first and second alignment films between the step of orienting the first and second alignment films and the step of cleaning at least one of the first and second substrates, ≪ / RTI >
제 1 항에 있어서,
상기 제1기판 상부에 박막트랜지스터 및 화소전극을 형성하는 단계와;
상기 제2기판 상부에 블랙매트릭스, 컬러필터층 및 공통전극을 형성하는 단계와;
상기 제1 및 제2기판 중 적어도 하나의 가장자리에 씰패턴을 형성하는 단계
를 더 포함하는 액정표시장치의 제조방법.
The method according to claim 1,
Forming a thin film transistor and a pixel electrode on the first substrate;
Forming a black matrix, a color filter layer, and a common electrode on the second substrate;
Forming a seal pattern on an edge of at least one of the first and second substrates
The method comprising the steps of:
서로 마주보며 이격되는 제1 및 제2기판과;
상기 제1기판 내면에 배치되는 제1배향막과;
상기 제2기판 내면에 배치되는 제2배향막과;
상기 제1 및 제2기판 사이에 배치되는 액정층과;
상기 제1배향막과 상기 액정층 사이의 계면과 상기 제2배향막과 상기 액정층 사이의 계면 중 적어도 하나에 잔존하는 라디칼 제거제
를 포함하는 액정표시장치.
First and second substrates spaced apart from each other;
A first alignment layer disposed on the inner surface of the first substrate;
A second alignment layer disposed on the inner surface of the second substrate;
A liquid crystal layer disposed between the first and second substrates;
A radical remover remaining on at least one of an interface between the first alignment layer and the liquid crystal layer and an interface between the second alignment layer and the liquid crystal layer,
And the liquid crystal display device.
제 8 항에 있어서,
상기 라디칼 제거제는, HALS(hindered amine light stabilizer)를 포함하는 액정표시장치.
9. The method of claim 8,
Wherein the radical scavenger comprises a hindered amine light stabilizer (HALS).
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