KR20170038055A - 면도날 코팅 - Google Patents
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Abstract
기판을 포함하는 면도날 기판은, 프로파일 기하학적 형상을 가진 칼날 에지부를 포함하며 적어도 칼날 에지부에서 면도날 기판에 증착되는 보강 코팅에 의해 커버된다. 상기 보강 코팅은 칼날 에지 선단부를 커버하고, 프로파일 기하학적 형상 및 칼날 에지 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 코팅 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 갖는다. 상기 보강 코팅은 티타늄 함유 및 붕소 함유 재료로 만들어진 보강층을 포함한다.
Description
본 발명은 면도날에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 면도날 에지를 구비한 면도날에 관한 것이다.
종래 기술에서 면도날이 제공되었다. 면도기 카트리지에 적절하게 배치됨으로써, 면도날은 털을 절단하는 궁극적인 기능을 제공한다.
과거에, 기판 및 면도날 에지에서 기판을 커버하는 보강 코팅을 구비한 면도날이 제공되었다. 일반적으로 보강 코팅은 금속 및/또는 탄소 함유 재료이고, 면도날의 예상 수명을 향상시키는 면도날 에지에 보강 강도를 제공한다.
때때로, 보강 코팅은 PTFE 코팅과 같은 윤활 코팅에 의해서 또한 코팅된다.
면도날 에지에 더욱 우수한 코팅을 제공하는 것이 과제이다. 첫째로, 면도날 기판 에지는 매우 독특한 기하학적 형상을 갖기 때문에, 절단 특성을 향상시키고 면도날 에지를 보강하는 것에 의해 적합한 코팅으로 작동할 수 있는 코팅을 증착하는 것은 매우 어렵다.
둘째로, 면도날은 대량 소비 상품이므로, 매우 신뢰할 수 있는 공정과 양립할 수 있는 코팅을 요구하는 높은 처리량(1일당 수백만 개)으로, 제품마다 매우 균일한 방식으로 코팅이 적용되어야만 한다.
셋째로, 면도날에 새로운 코팅을 증착하는 것이 가능한 경우라도, 종래 기술 제품에 대한 향상을 측정하는 것이 또한 매우 어렵다. 이것은 테스트 패널에 의해 면도 품질을 인지하는 것이 매우 주관적일 수 있기 때문이다.
따라서, 신규한 면도날 코팅의 개발은 다년간의 연구 및 개발 작업을 필요로 한다.
그럼에도 불구하고, 더욱 양호한 면도날 코팅을 제공하는 것에 의해 면도날을 향상시키는 것을 여전히 찾고 있다.
WO 2006/027016은 크롬 및 탄소를 포함하는 면도날 코팅을 교시하고 있다.
다른 종래 기술 문헌들은 면도날 코팅을 위해 적합한 것일 수 있는 많은 재료 목록을 제시한다. 이러한 문헌의 일례는 예컨대 EP 1287953이다. 상당히 많은 재료의 목록이 제공되어 있다는 점에서, 그 재료들 전부가 면도날 코팅 성분으로 실제로 시도되지는 않은 듯하며, 또한 그 재료들 중의 일부는 면도날 코팅 재료로 부적합한 것일 수 있다.
신규한 면도날 코팅을 개발할 때, 하나의 목표는 코팅 재료의 경도를 증가시키는 것이다. 크롬 및 탄소의 혼합물보다 강한 재료들이 많다. 크롬 및 탄소의 혼합물보다 강한 재료를 찾을 경우, 가능한 하나의 후보 재료는 이붕화 티타늄이다.
면도날 이외의 다른 코팅된 절단 툴이 있다는 것이 언급되어야 한다. 이 절단 툴은 자신의 고유한 조직 및 이 조직을 받아들이도록 설계된 구조를 갖는다. 예컨대, WO 2007/136777은 회전 툴의 블레이드 양면에 상이한 아키텍처를 구비한 다중 층 코팅으로 구성되는 안정적인 절단 에지를 얻는 것을 목표로 한다. 코팅 자체와 관련하여, 이것은 상부 세그먼트에서 내부 응력을 수용하며 전체 코팅 시스템의 가장 높은 인성을 확보하는 바닥의 다중 층 접합 코팅 서멧 세그먼트 위에 놓인 특수한 상부의 내마모성 저마찰 박마 저항성의 세그먼트를 포함한다. 이것은 '면도날'이 수술 도구 또는 치과용 도구로서 언급되고 있는 특수한 절단 응용에 대한 특수한 코팅이다.
다시 면도기 면도날로 돌아가서, 뜻밖에도 면도날 에지에 티타늄 및 붕소 함유 코팅을 증착하는 실험 중에, 본 발명자들은 면도날 코팅을 위해 탁월한 성질을 가진 코팅을 알아내었다.
본 발명은 칼날 에지부(blade edge portion)를 포함하는 면도날에 관한 것으로, 상기 면도날은 면도날 기판 및 보강 코팅을 포함하며,
- 면도날 기판은 면도날의 칼날 에지부에 기판 에지부를 가지며, 상기 기판 에지부는 프로파일 기하학적 형상(profiled geometry) 및 기판 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 기판 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상(tapering geometry)을 가지고,
- 보강 코팅은 적어도 칼날 에지부에서 면도날 기판에 증착되고, 상기 보강 코팅은 기판 선단부를 커버하고, 상기 보강 코팅은 프로파일 기하학적 형상 및 코팅 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 코팅 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 가지며,
상기 보강 코팅은 티타늄 농후 구역 및 붕소 농후 구역 중의 적어도 하나를 포함하는 티타늄과 붕소의 혼합물로 만들어진 보강 나노결정질 층을 포함하며,
여기에서, '농후'라는 용어는 화학량적인 TiB2 조성을 기준으로 사용한 것이다.
상기 면도날은 현저히 향상된 경도, 면도날 코팅을 위한 다른 요건, 공업적인 높은 제조 처리량(합리적인 비용으로)에서 신뢰할 수 있게 균일한 특성들을 충족시킬 수 있는 제조 가능성을 갖는다.
'티타늄 농후' 구역은 티타늄의 비율이 이붕화 티타늄(titanium diboride)에서의 티타늄보다 높은 구역을 가리킨다.
'붕소 농후' 구역은 붕소의 비율이 이붕화 티타늄에서의 붕소보다 높은 구역을 가리킨다.
일부 실시예에서, 이하에 설명하는 특성들 중의 하나 이상을 또한 이용할 수 있다:
- 보강층에서 붕소 및 티타늄 원자들의 평균 비율은 1.3:1 내지 2.3:1이다;
- 보강층에서 붕소 및 티타늄 원자들의 평균 비율은 2.01:1 내지 2.3:1인, 면도날;
- 보강층에서 붕소 및 티타늄 원자의 평균 비율은 1.3:1 내지 1.99:1이다.
- 나노결정질 층은 이붕화 티타늄 구역을 포함한다;
- 이붕화 티타늄의 구역이 비-주상 구조(non-columnar)인, 면도날;
- 보강 나노결정질 층은 나노결정질 구조을 포함하고, 나노결정의 원자들은 육방 격자 구조로 배열되어 있는, 면도날;
- 보강층은 2 내지 15 nm의 특성 크기를 갖는 평범한 결정영역(feaureless cystallite)을 포함하는, 면도날;
- 평평한 샘플에 증착될 때 밀도가 3.9 g/㎤ 초과인 코팅을 제공하는 조건하에서 보강층이 증착되는, 면도날;
- 코팅 선단부에서 5 ㎛의 거리를 두고, 칼날 에지부를 양분하는 라인에 직교하는 두 개의 코팅면 사이에서 측정되는 면도날 기판과 보강 코팅의 조합된 두께가 1.8 내지 2.5 ㎛, 바람직하게는 1.9 내지 2.4 ㎛인, 면도날;
- 코팅 선단부에서 20 ㎛의 거리를 두고, 칼날 에지부를 양분하는 라인에 직교하는 두 개의 코팅면 사이에서 측정되는 면도날 기판과 보강 코팅의 조합된 두께가 5.1 내지 7.3 ㎛, 바람직하게는 5.4 내지 7.1 ㎛인, 면도날;
- 면도날 기판이 스테인리스강으로 만들어진, 면도날;
- 보강 코팅이 면도날 기판과 보강층 사이에 중간층을 포함하는, 면도날;
- 중간층이 티타늄을 포함하는, 면도날;
- 중간층이 티타늄으로 만들어진, 면도날;
- 보강 코팅이 보강층 위에 금속 함유 오버코팅 층을 포함하는, 면도날;
- 오버코팅 층이 크롬을 포함하는, 면도날;
- 보강층이 보강 코팅의 유일한 층인, 면도날;
- 기판 측에 수직으로 측정된 보강층의 두께가 20 내지 400 nm, 예컨대 20 내지 150 nm 또는 40 내지 250 nm인, 면도날;
- 보강 코팅 위에 폴리머 코팅을 또한 포함하는, 면도날;
- 보강층이 티타늄 및 붕소 원자의 비율이 상이한 구역을 무질서하게 포함하는, 면도날로서,
적어도 하나의 구역에서, 붕소와 티타늄의 비율은 y:1 내지 z:1이고, 여기에서 y 및 z는 1.3 내지 1.99 범위에 포함되며 y가 z보다 작으며, 및/또는 적어도 하나의 구역에서, 붕소와 티타늄의 비율은 u:1 내지 v:1이고, 여기에서 u 및 v는 2.01 내지 2.3 범위에 포함되며 u가 v보다 작다.
다른 양태에 따르면, 본 발명은 카트리지 및 면도날을 포함하는 면도기 헤드에 관한 것이며, 상기 면도날은 상기 카트리지에 장착된다.
다른 양태에 따르면, 본 발명은 손잡이 및 면도기 헤드를 포함하는 면도기에 관한 것이며, 상기 면도기 헤드는 상기 손잡이에 부착된다.
특별한 일부 실시예에서, 코팅은 순수한 이붕화 티타늄 코팅이 아니다. 코팅은 티타늄 및 붕소를 포함한다. 하나 이상의 구역은 붕소 농후 구역 및/또는, 하나 이상의 구역은 티타늄 농후 구역이다. 특성의 손실로 이어질 수 있는 상부 문턱값 또는 하부 문턱값을 초과하지 않도록, 층 내에 티타늄 농도의 분산이 제어될 수 있다.
다른 양태에 따르면, 면도날은 면도날 기판 및 보강 코팅을 포함하며,
- 면도날 기판은 면도날의 칼날 에지부에 기판 에지부를 구비하고, 기판 에지부는 프로파일 기하학적 형상 및 기판 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 기판 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 가지며,
- 보강 코팅은 적어도 칼날 에지부에서 면도날 기판에 증착되고, 상기 보강 코팅은 기판 선단부를 커버하고, 상기 보강 코팅이 프로파일 기하학적 형상 및 코팅 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 코팅 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 가지며,
상기 보강 코팅은 티타늄 및 붕소의 혼합물을 포함하고,
평평한 샘플에 증착될 때 밀도가 3.9 g/㎤ 초과인 코팅을 제공하는 조건하에서 보강층이 증착된다.
다른 양태에 따르면, 면도날은 면도날 기판 및 보강 코팅을 포함하며,
- 면도날 기판은 면도날의 칼날 에지부에 기판 에지부를 구비하고, 기판 에지부는 프로파일 기하학적 형상 및 기판 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 기판 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 가지며,
- 보강 코팅은 적어도 칼날 에지부에서 면도날 기판에 증착되고, 상기 보강 코팅은 기판 선단부를 커버하고, 상기 보강 코팅이 프로파일 기하학적 형상 및 코팅 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 코팅 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 가지며,
상기 보강 코팅은 티타늄 및 붕소의 혼합물을 포함하고,
코팅 선단부에서 5 ㎛의 거리를 두고, 칼날 에지부를 양분하는 라인에 직교하는 두 개의 코팅면 사이에서 측정되는 면도날 기판과 보강 코팅의 조합된 두께가 1.8 내지 2.5 ㎛, 바람직하게는 1.9 내지 2.4 ㎛이다.
다른 양태에 따르면, 코팅 선단부에서 20 ㎛의 거리를 두고, 칼날 에지부를 양분하는 라인에 직교하는 두 개의 코팅면 사이에서 측정되는 면도날 기판과 보강 코팅의 조합된 두께가 5.1 내지 7.3 ㎛, 바람직하게는 5.4 내지 7.1 ㎛이다.
다른 양태에 따르면, 면도날은 면도날 기판 및 보강 코팅을 포함하며,
- 면도날 기판은 면도날의 칼날 에지부에 기판 에지부를 구비하고, 기판 에지부는 프로파일 기하학적 형상 및 기판 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 기판 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 가지며,
- 보강 코팅은 적어도 칼날 에지부에서 면도날 기판에 증착되고, 상기 보강 코팅은 기판 선단부를 커버하고, 상기 보강 코팅이 프로파일 기하학적 형상 및 코팅 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 코팅 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 가지며,
상기 보강 코팅은 티타늄 및 붕소의 혼합물을 포함하고,
코팅 선단부에서 20 ㎛의 거리를 두고, 칼날 에지부를 양분하는 라인에 직교하는 두 개의 코팅면 사이에서 측정되는 면도날 기판과 보강 코팅의 조합된 두께가 5.1 내지 7.3 ㎛, 바람직하게는 5.4 내지 7.1 ㎛이다.
다른 양태에 따르면, 코팅 선단부에서 5 ㎛의 거리를 두고, 칼날 에지부를 양분하는 라인에 직교하는 두 개의 코팅면 사이에서 측정되는 면도날 기판과 보강 코팅의 조합된 두께가 1.8 내지 2.5 ㎛, 바람직하게는 1.9 내지 2.4 ㎛이다.
본 발명의 다른 특징들과 이점들은 비-제한적인 예들로서 제공된 실시예들에 대한 이하의 설명 및 첨부 도면으로부터 분명해질 것이다.
도 1은 면도날 에지 프로파일을 단면도로 도시한 개략도.
도 2는 코팅한 샘플의 다크 필드 투과전자현미경 사진을 나타낸 도면.
도 3은 다양한 조건하에서 기판에 증착된 Ti 및 TiBx 층들의 X선 회절 스펙트럼을 나타낸 도면.
도 4는 코팅한 면도날 에지 프로파일을 단면도로 도시한 개략도.
도 5는 코팅한 면도날 에지 프로파일을 단면도로 도시한 개략도.
도 6은 코팅한 면도날 에지 프로파일을 단면도로 도시한 개략도.
도 7은 면도기의 개략도.
도 8은 기하학적 측정을 설명하는 면도날의 단면도.
도 9는 면도날을 제조하기 위해 유용한 증착 장치의 개략적인 평면도.
도 10은 도 9의 증착 장치의 개략적인 측면도.
도 2는 코팅한 샘플의 다크 필드 투과전자현미경 사진을 나타낸 도면.
도 3은 다양한 조건하에서 기판에 증착된 Ti 및 TiBx 층들의 X선 회절 스펙트럼을 나타낸 도면.
도 4는 코팅한 면도날 에지 프로파일을 단면도로 도시한 개략도.
도 5는 코팅한 면도날 에지 프로파일을 단면도로 도시한 개략도.
도 6은 코팅한 면도날 에지 프로파일을 단면도로 도시한 개략도.
도 7은 면도기의 개략도.
도 8은 기하학적 측정을 설명하는 면도날의 단면도.
도 9는 면도날을 제조하기 위해 유용한 증착 장치의 개략적인 평면도.
도 10은 도 9의 증착 장치의 개략적인 측면도.
상이한 도면들에서, 동일한 도면 부호는 유사하거나 비슷한 요소들을 나타낸다.
이하에서, 본 발명은 첨부 도면들을 참조하여 상세하게 설명된다. 일반적으로 면도날은 면도날 기판을 포함하는데, 이 면도날 기판은 칼날 본체 및 칼날 에지를 또한 포함한다. 도 1은 칼날 선단부(10c)에서 만나는 테이퍼진 측면(10a, 10b)을 포함하는 면도날 에지 기판(10)을 보여준다. 면도날 에지 기판(10)은 각진 형상 또는 아치 형상, 또는 이들의 조합 형상일 수 있다. 그러나, 면도날 에지 기판(10)의 특별한 기하학적 형상 및 재료는 일반적으로 면도 목적을 위한 충분한 경도를 제공하지 못하며, 칼날 에지의 경도를 증가시키고 이에 의해 면도 품질을 향상시키기 위해 면도날 에지 기판에 코팅층들이 실행된다. 코팅층들은 칼날 에지의 마모를 감소시키고, 전체적인 절단 특성을 향상시키며 면도날의 유용성을 연장시킬 수 있다.
도 1에서, 면도날 에지 기판(10)은 보강 코팅층(16)과 윤활층(17)으로 코팅되어 있다. 불소 중합체를 포함할 수 있는 윤활층은, 면도 중에 마찰을 감소시키기 위해 면도날의 분야에서 보편적으로 사용된다. 보강 코팅층(16)은 기계적 성질을 위해 사용된다. 보강 코팅층(16)은 티타늄 및 붕소를 포함한다. 더 정확하게는, 보강 코팅층(16)은 저 함량의 불순물을 갖는 티타늄 및 붕소로 만들어진다. 불순물의 함량은 경제적으로 실행가능하게 가급적 낮게 유지된다. 보강 코팅층(16)은 그 층 안에 다양한 비율의 티타늄과 붕소로 준비될 수 있다. 이는 이붕화 티타늄(TiB2) 및/또는, 티타늄 및/또는 붕소를 포함하는 다른 성분들의 혼합물이 있을 수 있다는 것을 의미한다. 코팅층(16)은 티타늄-농후(Ti-rich) 구역 및/또는 붕소-농후(B-rich) 구역을 포함할 수 있다. "농후"라는 용어는, TiB2에 대한 Ti 및 B의 정상적인 화학량론적 농도와 관련하여 사용된 것이다. 코팅층(16)을 구성하는 재료는 TiBx로 나타내어질 수 있다. 예컨대, 코팅층(16)은 이들 원소의 국부적으로 변화된 농도를 가질 수 있는데, 붕소 농후 구역은 B:Ti 원자비가 2 초과 2.3 이하이고(x는 2.01 과 2.3 사이에 포함됨), 티타늄 농후 구역은 B:Ti 원자비가 1.3 이상 2 미만(x는 1.3 과 1.99 사이에 포함됨)이다. 국부적인 변화는 층에 무작위로 배열될 수 있다. 티타늄, 붕소 및 이붕화 티타늄의 이러한 비율들은 면도날 에지 기판(10)의 전체 코팅에 대한 추가적인 향상을 제공할 수 있다. 따라서, 본 명세서에서 TiBx로 나타낸 것은, 위에서 설명한 것과 같은 코팅을 의미하는 것이다.
도 2를 참조하면, 코팅층 구성이 도시되어 있는데, 여기에서 기판(S)은 티타늄으로 만들어진 중간층(15)에 의해 커버되고, 중간층은 TiBx로 만들어진 보강층(16)에 의해 커버된다. 이러한 층 구성은 면도날 에지에 대한 코팅층 구성과 상응한다.
코팅된 칼날의 제조는 Ti 및 TiB2 타겟으로부터 스퍼터 증착에 의해 만들어질 수 있다. 도 9 및 도 10에서 알 수 있는 바와 같이, 면도날 기판(S)은 Ti 타겟(23)과 두 개의 TiB2 타겟(24a, 24b)을 포함하는 증착 챔버(22) 안의 베이오닛(21)에 로드된다. 일부 실시예에서, 증착 챔버는 Cr 타겟을 또한 포함할 수 있다. 예컨대, 4 개의 타겟이 (위에서 보았을 때) 정사각형의 4 개의 코너로서 제공된다. 예컨대, 두 개의 TiB2 타겟은 서로 마주한다. 증착하기 전에, 스퍼터 에칭 단계가 실행될 수 있다. 증착 챔버(22)는 진공 수단(26)을 사용하여 최대 10-5 토르의 기저 압력까지 소개된다. 다음에, Ar 가스 소스로부터 Ar 가스가 챔버(22) 내로 최대 8 밀리토르(8·10-3 토르)까지 채워진다. 공통 구조물(28)을 통해 함께 연결되어 있는 로드된 베이오닛을 모터를 사용하여 6 rpm의 일정 속도로 회전시킴으로써, 모든 타겟, 특히 Ti 및 TiB2 타겟들은 0.2 암페어의 직류 전류 제어하에서 작동된다. 200 내지 600 볼트의 직류 전압이 스테인리스강 칼날에 4 분 동안 적용된다. 스퍼터 에칭 단계 동안, 아르곤 이온의 충격을 통해 면도날 기판 및 타겟으로부터 불순물들이 제거된다.
티타늄 중간층(15)을 증착하기 위해, 스퍼터 에칭 단계의 종료 후에 챔버 압력은 3 밀리토르로 조절된다. Ti 및 TiB2 타겟들이 각각 3 암페어 및 0.2 암페어의 직류 전류 제어하에서 작동되는 동안 0 내지 100 볼트의 직류 전압이 회전하는 칼날에 적용된다. TiB2 타겟에 대한 전류(및 만약 존재하는 경우 Cr 타켓에 대한 전류)는 원소들이 이들 타겟에 증착하는 것을 방지하기 위해 사용된다. 증착 시간을 조절하여, 10 내지 100 nm, 예컨대 10 내지 50 nm의 Ti 층이 칼날 샘플의 에지에 증착된다.
TiBx 보강층(16)을 증착하기 위해, Ti 중간층(15)의 증착 후에 Cr, Ti 및 TiB2 타겟은 0.2 암페어로 설정된 Cr 타겟에 대한 전류와, 3 암페어로 조절된 Ti 타켓 및 TiB2 타겟에 대한 전류로 동시에 작동한다. Cr 타겟에 대한 전류는 그 타겟에 원소가 증착하는 것을 방지하기 위하여 사용된다. 또한, Ti 타켓 및 TiB2 타겟에 적용된 전류의 비는 목표하는 코팅 조성의 함수로서 조절된다. 0 내지 600 V의 직류 바이어스 전압이 회전하는 칼날에 적용된다. 증착 시간을 조절하여, Ti 층에 20 내지 150 nm의 TiBx 층이 증착된다. 대안으로, Ti 층에 40 내지 250 nm의 TiBx 층이 증착된다. 일반적으로, Ti 층에 20 내지 400 nm의 TiBx 층이 증착될 수 있다.
이하에 더욱 상세하게 설명하는 바와 같이, 금속 함유 오버코팅 층(20)이 보강층(16) 위에 제공될 수 있다. 예를 들면, TiBx 보강층(16)의 상부에 얇은 10 내지 50 nm 두께의 Cr 층(20)이 증착될 수 있으며, 이러한 층 구성이 도 6에 도시되어 있다. 이 단계를 위해, 코팅된 칼날은 다른 스퍼터 장치로 이동되거나, 또는 도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이 Cr 타겟을 포함하는 동일한 장치에서 실행될 수 있다. Cr 타겟에 대한 전류는 3 암페어로 설정되고 0 내지 450 V의 바이어스 전압이 칼날에 적용된다. 만약 동일한 스퍼터 장치에서 실행된다면, 작동 타겟으로부터의 오염으로부터 비-작동 타겟을 보호하고 각 단계에서 비-작동 타겟들의 작동을 방지하기 위한 조치가 제공될 수 있다.
도 2를 참조하면, 전술한 코팅층 구성이 도시되어 있고, 여기에서 기판(S)은 Ti 중간층(15)에 의해 커버된다. 또한 Ti 중간층(15)은 TiBx 보강층(16)에 의해 커버된다. 또한, 이러한 층(15 및 16)은 나노결정질 배열을 나타낸다. TiBx 층에서, 나노결정의 원자들은 육방 격자 구조로 배열된다. 나노결정질 배열을 나타내는 층은 또한 나노결정질 층으로 칭해진다. 나노결정은 적어도 하나의 크기, 특히 모든 3 개의 메인 크기가 100 나노미터(nm)보다 작은 크기를 갖는 결정 구조로 정의될 수 있다. Ti 나노결정은 성장 방향을 따라 얇은 주상(column)을 형성한다. 이 주상은 최대 10 내지 12 nm의 직경을 갖는다.
Ti 층(15)은 TiB2 나노결정질 구역을 포함하는 TiBx 보강층(16)에 의해 커버되는데, 나노결정의 원자들은 육방 격자 구조로 배열된다. 도 2에서 알 수 있는 바와 같이, TiBx 구조는 어떠한 주상 구조도 포함하지 않는다. 이러한 평범한 구조가 면도날 보강 코팅을 위한 흥미로운 특성을 나타낸다.
도 2에 도시된 기판(S) 상의 층 구조는 면도날 에지 기판(10) 상의 층 구조와 상응한다. TiBx 보강층(16)의 형성 중에 적용된 바이어스 전압 및 성장 조건들은 면도를 위한 바람직한 기계적 성질을 갖는 단단한 구조, 특히 TiB2 주상 구조에 비해 단단한 구조를 제공한다. 기판에 대한 바람직한 성장 조건 및 적용된 바이어스 전압은, 나노결정의 원자들은 육방 격자 구조로 배열되어 있는 TiB2 나노결정질 구역을 포함하는 TiBx 보강층(16)을 성장시키는 것을 가능하게 한다.
도 3에, 전술한 Ti 중간층(15) 및 TiBx 보강층(16)에 의해 커버되는 샘플(T179 - T185)에 대한 X선 회절 스텍트럼 측정이 도시되어 있는데, TiBx 층의 증착은 상이한 증착 조건하에서 실행되었다. 피크 P1는 TiBx 층에서 TiB2 (001) 방향을 나타낸다. 상이한 증착 조건들은 상이한 (001) 피크 P1를 초래한다. 즉, 증착 조건들은 TiBx 층의 육방정 나노결정질 배열의 상이한 구조를 초래한다. 도 3에 도시된 바와 같이, 피크들은 강도 및 폭과 관련하여 변할 수 있지만, 피크들의 각도 위치는 동일하게 남는다. 전술한 코팅을 달성하기 위해 면도날 에지 기판(10)에 적용된 바이어스 전압은 40V 내지 500V 이다. TiBx 나노결정질 보강층(16)의 밀도는 면도날 에지에서 측정될 수 없다. 평평한 샘플에 증착된 동일한 코팅은 3.9 g/㎤ 내지 4.4 g/㎤의 밀도는 갖는다. 증가한 밀도는 층의 증가한 강도와 관련이 있다.
Ti 중간층(15) 및 TiBx 보강층(16)의 두께의 샘플로서, 40 nm의 Ti 중간층(15)과 60 nm의 TiBx 보강층(16)이 고려될 수 있다. 그러나, 이들 층 모두에 대해 다른 치수의 두께가 고려될 수 있는데, 여기에서 Ti 중간층(15) 및 TiBx 보강층(16)의 전체 두께는 500 nm를 초과하지 않으며, 일부 경우에는 150 nm를 초과하지 않는다.
면도날, 더욱 구체적으로는 면도날 에지 기판(10)은 TiBx 만들어진 보강층(16)을 포함하는 보강 코팅(16)에 의해 커버된다. 다른 실시예에서, 보강 코팅(16)은 보강층(16) 및 Ti 중간층(15)를 포함할 수 있다. 보강층(16)은 티타늄 및 붕소 원자들의 상이한 비율을 갖는 구역들을 불규칙적으로 포함하며, 적어도 하나의 구역에서 붕소와 티타늄의 비율은 y:1 내지 z:1이고, 여기에서 y 및 z는 1.3 내지 1.99에 포함되는 것이며 y는 z보다 작으며, 그리고/또는 적어도 하나의 구역에서 붕소와 티타늄의 비율은 u:1 내지 v:1이고, 여기에서 u 및 v는 2.01 내지 2.3에 포함되는 것이며 u는 v보다 작다. 보강층(16)에서 붕소 및 티타늄 원자들의 평균 비율은 1.3:1 내지 2.3:1이다. 전반적인 티타늄 농후 코팅은 평균적으로 1.3 내지 1.99에 포함되는 x를 갖는다. 전술한 바와 같이, 면도날의 에지는 보강층(16)만을 포함하는 보강 코팅으로 코팅될 수 있다. 이러한 코팅층 구성은 도 4에 도시되어 있는데, 면도날 에지 기판(10)은 보강층(16)에 의해 커버된다. 보강층(16)은 폴리머 코팅(PTFE)(17)에 의해 커버된다. 면도날 에지를 포함하는 면도날 기판은 스테인리스강으로 제조된다. 적합한 스테인리스강은 주로 철과 중량 비율로,
- 탄소 0.62 내지 0.75%,
- 크롬 12.7 내지 13.7%,
- 망간 0.45 내지 0.75%,
- 실리콘 0.20 내지 0.50%,
- 검출 가능한 양보다 많지 않은 양의 몰리브덴을 포함한다.
다른 스테인리스강들이 본 발명에 사용될 수 있다.
면도날 에지 기판(10)의 코팅층 구성은 면도날 에지 기판(10)과 보강층(16) 사이에 중간층(15)을 또한 포함할 수 있다. 이 코팅층 구성은 도 5에 도시되어 있는데, 면도날 에지 기판(10)은 보강층(16)에 의해 커버되는 중간층(15)으로 커버된다. 중간층(15)은 티타늄일 수 있다. 티타늄 중간층(15)은 보강층(16)에 불리하게 영향을 미치지 않고, 주상 나노결정으로 만들어질 수 있다. 보강층(16)은 폴리머 코팅(PTFE)(17)에 의해 커버된다.
기판 측에 대해 수직으로 측정된 보강층(16)의 두께는 20 내지 150 nm 이다. 대안으로, 이 두께는 40 내지 250 nm이다. 일반적으로, 이 두께는 20 내지 400 nm일 수 있다.
또한, 보강 코팅은 보강층(16) 위에 금속 함유 오버코팅 층(20)을 포함할 수 있다. 예컨대, 금속 함유 오버코팅 층(20)은 크롬 층이다. 이러한 코팅층 구성은 도 6에 도시되어 있는데, 면도날 에지 기판(10)은 보강층(16)에 의해 커버되는 중간층(15)에 의해 커버된다. 보강층(16)은 폴리머 코팅(PTFE)(17)에 의해 커버되는 금속 함유 오버코팅 층(20)에 의해 커버된다. 금속 함유 오버코팅 층(20)은 면도날 에지 코팅의 전체적인 강도를 더욱 향상시킬 수 있다. 그리고/또는, 이것은 보강 코팅 상에 윤활층(17)의 부착을 보조하기 위해 사용될 수 있다.
이 신규한 칼날 코팅은 전형적인 기하학적 형상을 갖는 면도날에 사용될 수 있다. 그러나, 여전히 정확한 면도 성능을 나타내면서 새로운 기하학적 형상을 갖는 면도날을 코팅하기 위해 또한 사용될 수 있다.
코팅 선단부로부터 5 마이크로미터의 거리에서 면도날 에지부(도 8 참조)를 양분하는 라인과 직각인 두 개의 코팅면 사이에서 측정되는, (폴리머 코팅을 제외하고, 기판 및 보강 코팅을 고려한) 칼날의 두께(t5)는 공초점 현미경을 사용하여 측정한 경우 예컨대 1.8 마이크로미터 내지 2.5 마이크로미터, 바람직하게는 1.9 내지 2.4 마이크로미터일 수 있다.
코팅 선단부로부터 20 마이크로미터의 거리에서 면도날 에지부(도 8 참조)를 양분하는 라인과 직각인 두 개의 코팅면 사이에서 측정되는, (폴리머 코팅을 제외하고, 기판 및 보강 코팅을 고려한) 칼날의 두께(t5)는 예컨대 5.1 마이크로미터 내지 7.3 마이크로미터, 바람직하게는 5.4 내지 7.1 마이크로미터일 수 있다.
또한, 도 7은 면도용 면도기(200)를 형성하기 위해 면도기 손잡이(201)에 연결되는 면도기 헤드(110)를 형성하는 면도기 카트리지(105)에 장착되는, 두 개의 전술한 면도날을 도시한다.
전술한 보강 코팅을 구비한 면도날이 또한 테스트 되었다. 제1 테스트는 평평한 샘플에 증착된 코팅에 대해 실행되는 경도 측정을 포함한다. 전술한 바와 같이, 평평한 샘플에 TiBx 코팅의 증착은 동일한 평평한 샘플에 현재의 표준적인 코팅 증착에 대해 얻어지는 경도보다 훨씬 높은, 최대 15.8 GPa에 이르는 나노결정질 보강층(16)의 경도를 나타내었다. 따라서, 면도날 상의 코팅의 더욱 높은 경도가 예상될 수 있다.
전술한 코팅된 면도날들은 표준 제조 칼날과 또한 비교되었다. 전술한 바와 같이 티타늄, TiBx, 크롬 및 PTFE 층들에 의해 코팅된 칼날은 크롬, CrC 및 PTFE 층들에 의해 코팅된 표준 제조 칼날과 비교되었다. 기판의 재질 및 프로파일, 전체 무기 코팅 두께 및 PTFE 코팅의 두께는 본 발명에 따른 칼날에 대한 것과 표준 제조 칼날에 대한 것이 동일하였다. 특수한 테스트는 일련의 10회 절단을 위해 칼날에 대한 하중을 측정하기 위한 로드셀을 사용하여, 이동 펠트에 대한 칼날의 반복 절단 동작을 포함한다. 이 테스트는 표준 제조의 칼날의 하중보다 적어도 39% 낮은 최종(10번째) 절단을 위한 하중 범위를 나타내었다. 이러한 결과(표 1 참조)는 전술한 TiBx 함유 코팅을 구비한 칼날이 절단 동작 중에 더욱 효과적인 방식으로 그 절단 능력, 형상및 일관성을 보존한다는 것을 보여준다.
전술한 테스트 동안 10 절단 후에 칼날 에지에 부과되는 손상이 광학 현미경으로 또한 평가되었다. 면도날 에지 선단부에 대한 손상은 손실된 재료의 면적(즉, 에지로부터 파손 또는 제거된 재료) 및 집중 변형 면적으로 정량화되었다. TiBx 코팅 칼날은 표준 제조 칼날과 비교하여 손실 및/또는 집중 변형 재료의 90% 감소를 나타내었다. 이러한 결과(도 1 참조)는 전술한 TiBx 코팅을 구비하는 칼날의 증가한 내구성을 보여준다. 증가한 내구성은 유동성 및 전반적인 평가에서 제품의 면도 성능에 유리할 수 있는, 더욱 얇은 칼날 에지 프로파일을 면도날 제품에 채용할 수 있게 한다.
| 면도날 샘플 | 10번째 절단에서의 힘 (kg) |
손상 면적 (μ㎡) |
| 통상적인 코팅 | 3.19 | 51822 |
| TiBx 코팅 | 1.95 | 6169 |
위에서 일 실시예가 제시되었는데, 전반적인 Ti 농후한 TiBx 층은 Ti 타겟 및 TiB2 타겟의 동시 작업 중에 Ti 타겟과 TiB2 타겟의 현재 비율을 조절함으로써 증착될 수 있다. 그러나, 타겟에 적용되는 전류, 칼날 바이어스 전압, 칼날의 이동 속도, 챔버 내부 압력 등과 같은 작동 파라미터의 적절한 선택에 기초하여 전술한 코팅을 얻는 다른 방법들이 있을 수 있다. 특히, TiB2 타겟으로부터 티타늄과 붕소의 상이한 증착 수율로 인해, 붕소 농후한 구역이 얻어질 수 있다. 보강층(16)에서 붕소와 티타늄 원자들의 평균 비율은 2.01:1 내지 2.3:1이다.
원래의 청구항 1의 범위 밖에서, 이들 파라미터는 TiB2 코팅을 증착하기 위하여 조절될 수 있다. 비록 TiB2 코팅이 위에서 예시한 것과 같이 코팅을 면도날 코팅으로 특히 적합하게 하는 원래의 청구항 1의 조성을 나타내지 않지만, 몇몇 TiB2 코팅이 면도날 보강 코팅으로서 유익함을 나타낼 수 있음을 달성할 수 있다는 것이 또한 고려된다. 일부 예비적인 테스트는 전술한 바와 같은 특수한 프로파일을 구비한 면도날이 증가한 면도 성능을 위한 티타늄 함유 코팅 및 붕소 함유 코팅으로부터 유익할 수 있다는 것을 제안한다. 일부 예비적인 테스트는 전술한 바와 같은 농후한 티타늄 및 붕소 함유 코팅을 구비한 면도날이 증가한 면도 성능을 제공하는 것을 또한 제안한다.
보강 코팅의 층을 위한 두께 데이터는 오거 전자 분광법 깊이 프로파일링(AESDP : Auger Electron Spectroscopy Depth Profiling)에 의해 얻어질 수 있다. 측정은 면도날 자체에 대해 실행될 수 있다(예컨대, 폴리머 코팅을 제거한 후에, 또는 폴리머 코팅을 적용하기 전에).
오거 전자 분광법 깊이 프로파일링은 칼날 에지의 표면으로부터 오거 전자들이 방출되게 하는 정교하게 초점이 맞추어진 전자 빔으로 칼날 에지 표면을 여기(exciting) 시키는 것에 의해 달성된다. 이 전자들은 표면으로 대략 최대 5 nm 깊이에 위치한 재료와 관련되어 있다. 이 전자들은 에너지 분석기 및 전자 검출기 시스템으로 구성된 전자 분광기를 사용하여 검출된다. 오거 전자의 측정된 에너지는 분석된 물질의 대응하는 원소와 연관지어 질 수 있다.
선택된 원소의 기본적인 깊이 프로파일을 기록하기 위하여, 샘플 표면이 제거, 예컨대 Ar+ 이온으로 충격함으로써 스퍼터링 된다. 이러한 유형의 코팅에 대한 스퍼터링 공정의 제거 속도(나노미터/분)는 이전의 교정 측정으로부터 알려져 있다.
프로파일링 실험은 오거 전자 분광기가 메인 물질이 기판 재료(면도날의 분야에서 가장 흔한 스테인리스강)라는 것을 결정할 때 정지된다. 따라서, 코팅의 전체 두께를 알면, 어느 깊이에서 각각의 측정이 실행되었는지를 결정하는 것이 가능하다.
조사 스펙트럼 및 깊이 프로파일을 위한 분석 구역은 칼날의 선단부에 매우 가까이(에지 선단부로부터 5 내지 10 ㎛ 떨어져서) 배치될 수 있다. 그 크기는 10 ㎛ 수준의 자릿수이다(예컨대, 10 ㎛ x 10 ㎛의 정사각형 패치).
AES 분석 전에, 칼날 샘플은 샘플 홀더에 장착되며 오거 전자 분광기(AES)의 초고진공 챔버 내로 도입된다. 오거 조사 스펙트럼이, 칼날 에지의 박막에 위치한 원소를 찾는 프로파일링 강도에 따른 소정의 스퍼터 시간 후에 수신 표면에서 측정된다.
깊이 프로파일링은 스퍼터링에 의해, 예컨대 3 keV Ar+ 이온 에너지를 적용함으로써 실행될 수 있다. 사전 교정된 스퍼터 속도(즉, 시간의 함수로서 재료 두께 제거)를 적용함으로써, 정확한 깊이 규모 계량화가 가능하다. 이 스퍼터 속도는 분석되는 샘플과 동일한 코팅을 갖는 참조 표준에 대해 결정된다. 이 샘플들은 평평한 기판에 동일 조성의 박막을 증착하는 것에 의해, 그리고 칼날 에지 상의 층들과 동일한 조건하에서 증착되고 AES 방법을 교정하기 위하여 다른 프로파일링 방법에 의해 그 두께를 측정하는 것에 의해 준비되었다.
다른 프로파일링 방법은, 예컨대 코팅할 샘플에 마스크를 놓고, 추가로 증착하고, 남아있는 코팅 재료와 코팅 재료가 제거된 기판 사이에 단차부의 높이를 측정하기 위하여 상기 마스크가 놓여졌던 코팅 재료를 제거하는 것일 수 있다.
대안으로, 스퍼터 속도에 대한 근사값이 증명된 기준 재료 BCR-261T [Ta2O5(100 nm)/Ta - 시트]에 증착되는 코팅에 적용되는 알려진 스퍼터 속도로부터 결정될 수 있다.
그러므로, 하나의 양태에 따라 면도날 보강 코팅 조성을 결정하기 위한 방법을 적용하는데, 반복적으로 아래에 설명하는 것을 실행한다:
- 코팅의 표면 조성을 측정하고,
- 면도날 기판 또는 아래에 놓인 층에 도달할 때까지, 당해 스퍼터 제거 속도로 코팅으로부터 재료를 제거하고,
다른 측정 방법으로부터 코팅 및 전체 보강 코팅 두께에 대한 스퍼터 제거 속도 교정 데이터를 사용하여, 측정된 표면 조성을 코팅 내의 깊이에 결부시킨다,
이 측정 방법은 TiBx 코팅에 적용될 수 있으며, 마찬가지로 다른 보강 코팅에 적용될 수 있다.
Claims (30)
- 칼날 에지부를 포함하는 면도날에 있어서,
면도날은 면도날 기판 및 보강 코팅을 포함하며,
- 면도날 기판은 면도날의 칼날 에지부에 기판 에지부를 가지며, 상기 기판 에지부는 프로파일 기하학적 형상 및 기판 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 기판 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 가지고,
- 보강 코팅은 적어도 칼날 에지부에서 면도날 기판에 증착되고, 상기 보강 코팅은 기판 선단부를 커버하고, 상기 보강 코팅은 프로파일 기하학적 형상 및 코팅 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 코팅 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 가지며,
상기 보강 코팅은 화학량적인 TiB2 조성을 기준으로, 티타늄 농후 구역 및 붕소 농후 구역 중의 적어도 하나를 포함하는 티타늄과 붕소의 혼합물로 만들어진 보강 나노결정질 층을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 면도날. - 제1항에 있어서,
보강층에서 붕소와 티타늄 원자들의 평균 비율은 1.3:1 내지 2.3:1인 것을 특징으로 하는 면도날. - 제2항에 있어서,
보강층에서 붕소와 티타늄 원자들의 평균 비율은 2.01:1 내지 2.3:1인 것을 특징으로 하는 면도날. - 제2항에 있어서,
보강층에서 붕소와 티타늄 원자의 평균 비율은 1.3:1 내지 1.99:1인 것을 특징으로 하는 면도날. - 제1항 내지 제4항 어느 항에 있어서,
나노결정질 층은 이붕화 티타늄 구역을 포함하는 것을 특징으로 하는 면도날. - 제5항에 있어서,
이붕화 티타늄의 구역은 비-주상 구조인 것을 특징으로 하는 면도날. - 제1항 내지 제6항 중 어느 항에 있어서,
보강 나노결정질 층은 나노결정질 구조를 포함하고, 나노결정의 원자들은 육방 격자 구조로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 면도날. - 제1항 내지 제7항 중 어느 항에 있어서,
보강층은 2 내지 15 nm의 특성 크기를 갖는 평범한 결정영역을 포함하는
것을 특징으로 하는 면도날. - 제1항 내지 제8항 중 어느 항에 있어서,
보강층은 평평한 샘플에 증착될 때 밀도가 3.9 g/㎤ 초과인 코팅을 제공하는 조건하에서 증착되는 것을 특징으로 하는 면도날. - 제1항 내지 제9항 중 어느 항에 있어서,
코팅 선단부에서 5 ㎛의 거리를 두고, 칼날 에지부를 양분하는 라인에 직교하는 두 개의 코팅면 사이에서 측정되는 면도날 기판과 보강 코팅의 조합된 두께가 1.8 내지 2.5 ㎛, 바람직하게는 1.9 내지 2.4 ㎛인 것을 특징으로 하는 면도날. - 제1항 내지 제10항 중 어느 항에 있어서,
코팅 선단부에서 20 ㎛의 거리를 두고, 칼날 에지부를 양분하는 라인에 직교하는 두 개의 코팅면 사이에서 측정되는 면도날 기판과 보강 코팅의 조합된 두께가 5.1 내지 7.3 ㎛, 바람직하게는 5.4 내지 7.1 ㎛인 것을 특징으로 하는 면도날. - 제1항 내지 제11항 중 어느 항에 있어서,
면도날 기판이 스테인리스강으로 만들어진 것을 특징으로 하는 면도날. - 제1항 내지 제12항 중 어느 항에 있어서,
보강 코팅이 면도날 기판과 보강층 사이에 중간층을 포함하는 것을 특징으로 하는 면도날. - 제13항에 있어서,
중간층이 티타늄을 포함하는 것을 특징으로 하는 면도날. - 제14항에 있어서,
중간층이 티타늄으로 만들어진 것을 특징으로 하는 면도날. - 제1항 내지 제15항 중 어느 항에 있어서,
보강 코팅이 보강층 위에 금속 함유 오버코팅 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 면도날. - 제16항에 있어서,
오버코팅 층이 크롬을 포함하는 것을 특징으로 하는 면도날. - 제1항 내지 제12항 중 어느 항에 있어서,
보강층이 보강 코팅의 유일한 층인 것을 특징으로 하는 면도날. - 제1항 내지 제18항 중 어느 항에 있어서,
기판 측에 수직으로 측정된 보강층의 두께가 20 내지 400 nm인 것을 특징으로 하는 면도날. - 제19항에 있어서,
기판 측에 수직으로 측정된 보강층의 두께가 20 내지 150 nm인 것을 특징으로 하는 면도날. - 제19항에 있어서,
기판 측에 수직으로 측정된 보강층의 두께가 40 내지 250 nm인 것을 특징으로 하는 면도날. - 제1항 내지 제21항 중 어느 항에 있어서,
보강 코팅 위에 폴리머 코팅을 또한 포함하는 것을 특징으로 하는 면도날. - 제1항 내지 제22항 중 어느 항에 있어서,
보강층은 상이한 비율의 티타늄과 붕소 원자를 가진 구역들을 무질서하게 포함하며,
적어도 하나의 구역에서, 붕소와 티타늄의 비율은 y:1 내지 z:1이고, 여기에서 y 및 z는 1.3 내지 1.99 범위에 포함되고 y가 z보다 작으며, 및/또는
적어도 하나의 구역에서, 붕소와 티타늄의 비율은 u:1 내지 v:1이고, 여기에서 u 및 v는 2.01 내지 2.3 범위에 포함되고 u가 v보다 작은 것을 특징으로 하는 면도날. - 제1항 내지 제23항 중 어느 항에 따른 면도날과 카트리지를 포함하는 면도기 헤드로서,
상기 면도날이 상기 카트리지에 장착되는 것을 특징으로 하는 면도기 헤드. - 제24항에 따른 면도기 헤드와 손잡이를 포함하는 면도기로서,
상기 면도기 헤드가 상기 손잡이에 부착되는 것을 특징으로 하는 면도기. - 칼날 에지부를 포함하는 면도날에 있어서,
면도날은 면도날 기판 및 보강 코팅을 포함하며,
- 면도날 기판은 면도날의 칼날 에지부에 기판 에지부를 가지며, 상기 기판 에지부는 프로파일 기하학적 형상 및 기판 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 기판 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 가지고,
- 보강 코팅은 적어도 칼날 에지부에서 면도날 기판에 증착되고, 상기 보강 코팅은 기판 선단부를 커버하고, 상기 보강 코팅은 프로파일 기하학적 형상 및 코팅 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 코팅 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 가지며,
상기 보강 코팅은 티타늄 및 붕소의 혼합물을 포함하고,
보강층은 평평한 샘플에 증착될 때 밀도가 3.9 g/㎤ 초과인 코팅을 제공하는 조건하에서 증착되는 것을 특징으로 하는 면도날. - 칼날 에지부를 포함하는 면도날에 있어서,
면도날은 면도날 기판 및 보강 코팅을 포함하며,
- 면도날 기판은 면도날의 칼날 에지부에 기판 에지부를 가지며, 상기 기판 에지부는 프로파일 기하학적 형상 및 기판 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 기판 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 가지고,
- 보강 코팅은 적어도 칼날 에지부에서 면도날 기판에 증착되고, 상기 보강 코팅은 기판 선단부를 커버하고, 상기 보강 코팅은 프로파일 기하학적 형상 및 코팅 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 코팅 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 가지며,
상기 보강 코팅은 티타늄 및 붕소의 혼합물을 포함하고,
코팅 선단부에서 5 ㎛의 거리를 두고, 칼날 에지부를 양분하는 라인에 직교하는 두 개의 코팅면 사이에서 측정되는 면도날 기판과 보강 코팅의 조합된 두께가 1.8 내지 2.5 ㎛, 바람직하게는 1.9 내지 2.4 ㎛인 것을 특징으로 하는 면도날. - 제27항에 있어서,
코팅 선단부에서 20 ㎛의 거리를 두고, 칼날 에지부를 양분하는 라인에 직교하는 두 개의 코팅면 사이에서 측정되는 면도날 기판과 보강 코팅의 조합된 두께가 5.1 내지 7.3 ㎛, 바람직하게는 5.4 내지 7.1 ㎛인 것을 특징으로 하는 면도날. - 칼날 에지부를 포함하는 면도날에 있어서,
면도날은 면도날 기판 및 보강 코팅을 포함하며,
- 면도날 기판은 면도날의 칼날 에지부에 기판 에지부를 가지며, 상기 기판 에지부는 프로파일 기하학적 형상 및 기판 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 기판 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 가지고,
- 보강 코팅은 적어도 칼날 에지부에서 면도날 기판에 증착되고, 상기 보강 코팅은 기판 선단부를 커버하고, 상기 보강 코팅은 프로파일 기하학적 형상 및 코팅 선단부를 향해 수렴하는 두 개의 코팅 측면을 구비한 테이퍼 기하학적 형상을 가지며,
상기 보강 코팅은 티타늄 및 붕소의 혼합물을 포함하고,
코팅 선단부에서 20 ㎛의 거리를 두고, 칼날 에지부를 양분하는 라인에 직교하는 두 개의 코팅면 사이에서 측정되는 면도날 기판과 보강 코팅의 조합된 두께가 5.1 내지 7.3 ㎛, 바람직하게는 5.4 내지 7.1 ㎛인 것을 특징으로 하는 면도날. - 제29항에 있어서,
코팅 선단부에서 5 ㎛의 거리를 두고, 칼날 에지부를 양분하는 라인에 직교하는 두 개의 코팅면 사이에서 측정되는 면도날 기판과 보강 코팅의 조합된 두께가 1.8 내지 2.5 ㎛, 바람직하게는 1.9 내지 2.4 ㎛인 것을 특징으로 하는 면도날.
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