KR20170010357A

KR20170010357A - 살균 충전식 얼굴용 브러시

Info

Publication number: KR20170010357A
Application number: KR1020167032054A
Authority: KR
Inventors: 라이언 몽간; 시몬 가하리
Original assignee: 타오클린, 엘엘씨
Priority date: 2014-05-02
Filing date: 2015-05-04
Publication date: 2017-01-31
Also published as: US9717325B2; KR102291016B1; CN106413658A; JP6663152B2; JP2017514607A; EP3137036A1; US20150313354A1; EP3137036A4; CN106413658B; WO2015168694A1

Abstract

일 예에서, 피부를 세정하기 위한 얼굴용 브러시 또는 신체용 브러시를 위한 방법 및 시스템을 기술한다. 일 예에서, 상기 방법 및 시스템은 구별되는 부품, 즉, 진동 및 회전 설정 모두를 제공하는 성능을 갖는 전동식 얼굴용 브러시 핸들, 재료 및 구성이 변화되는 제거가능한 브러시 헤드, 및 보호 살균 UVC 위생 및 건조 챔버를 구비한 충전식 베이스 스테이션을 이용한다. 사용자의 편의는 또한 본 발명의 해결책에서 중점 사항이다. 일 예에서 브러시 핸들 및 브러시 헤드가 보호 살균 UVC 위생 및 가열 챔버 내에 배치될 때 이 챔버의 기능적인 작용 모두가 작동된다. 모드 제어는 사용자가 사용자를 위한 올바른 설정을 선택하는 것을 허용하여 민감성 피부에 대해 마일드 설정 그리고 균형잡힌 피부 타입에 대해 노말 설정을 제공한다. 브러시 작동의 설정된 지속 시간은 사용자가 완전한 세정을 조율하는 것을 허용한다. 다양한 예 및 변형예가 존재한다.

Description

살균 충전식 얼굴용 브러시{RECHARGEABLE FACIAL BRUSH WITH STERILIZATION}

관련 출원

본 출원은 출원인이 동일하고 2014년 05월 02일에 출원된 사전의 (가출원) 미국 특허 출원 SN 61/987,930호에 관한 것으로, 이의 우선일 및 출원일의 이익을 주장한다. 가출원의 경우의 사상들 모두가 인용에 의해 본원에 포함될 뿐만 아니라 2015년 1월 25일에 출원되고 발명의 명칭이 "칫솔 살균 시스템"인 SN 14/604,729호인 본 출원의 다른 사상들도 또한 인용에 의해 본원에 포함된다.

[00001] 개인 세정은 종교 의식의 일부로서 수메르의 고대 평판에 제일 먼저 기록되어 있다. 비누의 증거는 기원전(BCE) 약 2800년에서 바빌론 및 이집트에서 발견되었지만, 비누는 대부분 직물과 같은 재료를 세정하기 위해 사용된 것으로 추측된다. 비누가 인체를 세정하기 위해 효과적이고 널리 사용된 것은 많은 시간이 흐른 뒤였다. 그 사이에, 스트리절(strigil)로 알려진 장치가 그리스인에 의해 개발된 것으로 추측된다. 이때로부터 몇몇 기록들이 존재하지만, 스트리절 유물은 기원전 6세기로 추정된 장소들로부터 발견되기 시작하였다.

[00002] 스트리절은 피부를 긁기 위해 사용되었던 금속의 곡선형 블레이드이다. 올리브 오일 및 모래(또는 때때로 부석 또는 재)의 혼합물을 피부에 대고 문지르고난 다음 피부를 긁어서 세정하기 위해 스트리절이 사용되었다. 이는 땀 및 먼지를 제거할 뿐만 아니라 또한 각질를 제거하고 모공을 열었기 때문에 효과적인 피부 박리 수단이었다. 기록 및 조각물들은 대중에 초점이 맞추어지지 않았기 때문에 스트리절이 대중에 의해 사용되었는지는 알려지지 않았다. 스트리절의 사용은 일반적으로 레슬러와 같은 운동 선수와 관련이 있었다. 스트리절 사용의 가장 유명한 초기 이미지 중 하나는 기원전 330년 전에 만든 바티칸의 Lysippus가 조각한 Apoxyomenos이다.

[00003] 로마인들은 로마 욕실의 중요한 일상으로서 스트리절을 채택하고 계속해서 사용하였다. 욕실에서의 스트리절의 사용은 기원전 1세기까지 기록되어 있는데, 욕실에서 통상적으로 물에 들어가지 전에 피부를 컨디셔닝하기 위해 사용되었다. 다작의 그리스 의사/철학자 Galen(기원후(ACE) 130년 ~ 200년)은 피부 컨디셔닝 및 세정 장치로서의 스트리절 및 이의 유익한 용도에 대해 광범위하게 기술하였다.

[00004] George Cheyne의 1754년 저작물 "건강과 장수의 에세이"에서 새로운 용어, 플레시 브러시(Flesh Brush)가 주목된다. 여기에는 단어 브러시가 포함되지만, 아마도 오늘날의 브러시와 유사한 강모는 포함되지 않았을 것이다. 이 브러시는 고대의 스트리절과 더 유사한 것으로 보이는데, 이는 그의 저작물에서, 동물 말빗과 동의어로 사용되었기 때문이다. 이러한 저작물들은 또한 인간의 건강에 유익한 것으로서 장치를 묘사한다. 이때에도, 강모로 된 브러시는 여전히 희귀하였다. 최초의 헤어 브러시 제작업자는 Kent Brushes일 것으로 여겨지며 이는 1777년에 형성되었다. 강모로 된 브러시는 그 당시에 고가 품목이었으며 하나의 브러시를 완성하기 위하여 무려 12명의 작업자가 필요하였다.

[00005] MacMicking의 1851년 저작물 "마닐라와 필리핀의 회상"에서, 저자는 비누와 플레시-브러시를 사용한 목욕을 언급하고 있다. 이 경우, 강모가 언급된다. 이때문에, 용어 플레시 브러시가 브레이드 도구용 브러시로부터 강모를 갖는 브러시로 변화하거나 이러한 변화가 있는 것으로 가정된다. 1880년대 및 1890년대까지, 플레시 브러시에 대한 특허들이 미국 특허청에서 출현하고 있다. 이 특허들은 강모를 가진 브러시를 묘사하였고 당업계에서 널리 참조되었다.

[00006] 오늘날, 프레시 브러시는 사용되지 않고 있다. 동일한 목적, 즉, 깊은 피부 세정과 박피의 목적을 달성하는 브러시는 신체용 브러시 및 얼굴용 브러시로 불린다. 피부 치료를 위한 초기 전동 브러시는 Friedmann의 제 3,272,200호 및 Shjoi의 제 3,906,940호에 의해 교시되었다. 대중적인 전원으로서 배터리의 출현으로, 이러한 전동 브러시는 다시 휴대용 품목이 되었다. Abura의 제 4,203,431호는 이를 증명한다. 이러한 브러시는 회전 브러시를 교시하지만 진동(Pilcher의 제 7,302,691호) 및 조합 운동(Gutelius의 제 6,253,405호)과 같은 다른 운동이 또한 종래 기술에서 교시된다.

[00007] 일반적으로 드라이를 사용하는 헤어 브러시 및 이발소용 먼지 제거 브러시와 달리, 이러한 신체용 및 얼굴용 브러시는 클렌저와 함께 사용되거나 젖은 상태로 사용되는 것이 의도된다. 다수의 브러시는 완전 방수가 되며 목욕하는 동안 사용된다. 강모 다발이 근접하게 놓이기 때문에, 브러시 헤드는 물뿐만 아니라 피부 입자, 체액, 및 병원균을 보유할 수 있다. 이는 스트리절이 갖는 문제점이 아니었다. 스트리절은 강모를 포함하지 않았으며 신속히 건조되었다. 현재의 신체용 및 얼굴용 브러시는 사용 후 상당한 시간 동안 젖은 상태로 유지되기 때문에, 신체용 및 얼굴용 브러시는 광범위의 곰팡이, 세균, 기생충 및 바이러스 물질의 온상이 될 수 있다. 표피가 일반적으로 이러한 문제들의 매우 우수한 방어체가 되지만, 이러한 브러시의 목적은 피부를 벗기는 것이다. 이러한 브러시는 사용자에게 피부염, 두드러기, 혈관 부종, 입병, 괴사성 근막염, 봉와직염, 감염성 근염 등을 포함하여 다양한 문제들을 일으킬 수 있다.

[00008] 브러시 헤드는 또한 매개체로서 작용할 수 있어 반복적으로 세균과 같은 병원균들을 운반하여 단일 사용자에게 노출되거나 만약 장치가 공유된다면, 한 사람으로부터 다른 사람에게 노출된다. 현재의 전동식 얼굴용 브러시는 브러시를 깨끗하게 유지하고 사용과 사용 중간에 준비된 것을 확인하도록 브러시 헤드에 커버를 씌우거나 살균하는 것을 제안하지 않았다. 이는 브러시를 환경에 노출된 상태로 두었다. 이는 사용자가 분별하여야 하기 때문에, 장치의 대중적인 장소, 즉 욕실 때문에 특히 문제가 될 수 있다. 이러한 환경은 전형적으로 다수의 물의 유동원(예를 들면, 싱크, 샤워, 화장실 및 목욕통)을 갖는다. 이러한 수원은 물 방울을 에어로졸화한다. 이러한 물 방울은 욕실 전체에 걸쳐 소변, 침, 및 배설물과 같은 다른 요소를 운반할 수 있다. 물 방울은 또한 욕실이 속하는 환경 내에서 통상적으로 사용되는 탈취제 또는 공기 청정제와 같은 에어로졸로부터의 공기 중의 화학 오염 물질에 노출될 수 있다. 강모가 이러한 환경에 노출되기 때문에, 강모는 부주의하게 오염될 수 있다. 브러시 헤드가 보관되지 않고 확실히 세정되지 않는 경우, 브러시의 사용 이익을 무효화할 뿐만 아니라 박테리아를 피부에 옮기는 것에 의한 감염과 같은 새로운 문제점을 유발할 수 있다. 이는 원래 해결하고자 설계된 전제 조건을 악화시킬 수 있다.

[00009] 지난 십년 동안, 전동식 얼굴용 브러시는 개인 관리를 위해 대중화되었다. 얼굴용 클렌저 및 비누의 조합에서, 전동식 브러시 헤드는 종래의 손 세정보다 더 많은 피지 및 여드름을 제거하여 더 효율적으로 모공을 세정하여, 사용자의 개인 청결 일상을 강화하고 있다.

[00010] 시장 동향에 따라, 브러시는 하우징, 하나의 손으로 홀딩할 수 있는 핸들, 및 브러시 헤드를 포함한다. 핸들은 브러시 헤드를 구동하기 위한 모터 및 파워를 제어하기 위한 전기 회로, 온/오프 스위치(ON/OFF switch), 그리고 일부의 경우 모터의 세기를 조절하기 위한 속도 또는 파워 모드, 및 제어 스위치를 포함한다. 브러시는 외부 전원에 코드 연결되거나 내부 전원을 포함한다. 내부 전원은 일회용 배터리이거나 충전식 배터리 또는 커패시터와 같은 충전식 전원일 수 있다. 충전식 버전은 또한 일부 경우 브러시 스탠드로서 이중으로 사용되는 충전 베이스로 이루어진다. 브러시 헤드 자체는 전형적으로 다양한 두께의 강모 면으로부터 외측으로 연장하는 복수의 나일론 강모를 수용하는 원형 브러시 헤드로 이루어지는 종래의 브러시 타입 또는 작업 표면이 부드럽고 매끄러운 폐쇄형 포옴 구조 타입이다. 전통적으로, 진동하는 브러시는 포옴 기반 헤드를 구동한다. 대부분의 경우, 강모 또는 포옴 헤드 타입은 제거 가능하고 교체 가능하고 브러시 모터에 동일 평면상의 축선 상에서 경사 각도로 기울어져 작동 가능하게 연결된다.

[00011] 이러한 전동식 브러시는 현재 이용가능한 두 개의 버전 중 하나로 분류될 수 있다. 첫번째 버전은 진동 모터를 포함하는 브러시용이다. 이는 브러시 헤드 후방 및 전방을 매우 빠른 속도로 공진화하도록 고 주파수 상에서 작동하여 헤드를 진동시킨다. 두번째 버전은 로터리 작동식이며, 이는 작동될 때 브러시 헤드를 하나의 방향으로 연속적으로 스핀시킨다. 두 버전 모두 장점을 가지며 주로 사용자 경험상의 선호에 따라 변경된다. 로터리는 더 강력하게 인식되지만 진동은 민감 피부를 갖는 사람들에게 인기가 더 많다.

[00012] 전형적인 사용자는 먼저 얼굴과 목 영역에 물로 수분을 공급하고나서 수분이 공급된 피부 또는 축축한 브러시 헤드에 클렌저를 직접 도포한다. 사용자는 이어서 먼저 이용가능한 경우 원하는 속도 및 파워 모드를 선택하고나서 얼굴용 브러시를 턴 온(turn on)하기 위해 온/오프 버튼을 누른다. 사용자는 이어서 브러시 헤드를 수분이 공급된 얼굴 및 목 영역 주위로 이동시킨다. 사용 후, 브러시는 자동적으로 턴 오프(turn off)되거나 사용자가 온/오프 버튼을 누르고 브러시 헤드를 세척하고 보통 욕실 영역 내 또는 세정 과정이 시작되었던 장소에 매우 근접한 수동 또는 충전 스탠드, 카운터 상부 또는 샤워 랙에 놓아서 보관한다.

[00013] 브러시는 사용자의 손과 세정하는 얼굴 영역 사이의 방벽으로서 작용한다. 이 방벽은 손으로부터 얼굴 영역으로 박테리아 또는 먼지가 옮겨질 가능성을 없앤다. 이는 막힌 모공 또는 여드름과 같은 악성의 만성 피부 질환을 회피하는데 특히 유용하다. 그러나, 브러시 보관은 문제가 될 수 있다. 현재의 얼굴용 브러시는 브러시가 깨끗하게 유지하고 사용과 사용 중간에 준비되 것을 확인하도록 브러시 헤드에 커버를 씌우거나 살균하는 것을 제안하지 않았다. 이는 브러시를 환경에 노출된 상태로 둔다. 이는 사용자가 분별하여야 하기 때문에, 장치의 대중적인 장소, 즉 욕실 때문에 특히 문제가 될 수 있다. 이러한 환경은 전형적으로 다수의 물의 유동원(예를 들면, 싱크, 샤워, 화장실 및 목욕통)을 갖는다. 이러한 수원은 물 방울을 에어로졸화한다. 이러한 물 방울은 욕실 전체에 걸쳐 소변, 침, 및 배설물과 같은 다른 요소를 운반할 수 있다. 물 방울은 또한 욕실이 속하는 환경에서 통상적으로 사용되는 탈취제 또는 공기 청정제와 같은 에어로졸로부터의 공기 중의 화학 오염 물질에 노출될 수 있다. 강모가 이러한 환경에 노출되기 때문에, 강모는 부주의하게 오염될 수 있다. 브러시 헤드가 보관되지 않고 확실히 세정되지 않는 경우, 브러시의 사용 이익을 무효화할 뿐만 아니라 박테리아를 피부에 옮기는 것에 의한 감염과 같은 새로운 문제점을 유발할 수 있다. 이는 원래 해결하고자 설계된 전제 조건을 악화시킬 수 있다.

[00014] 더욱이, 다수의 얼굴용 브러시 제조자는 얼굴용 브러시의 과용을 무시하도록 강화하거나 선택하는데 실패하였다. 과용 또는 오용은 피부의 민감한 얼굴 영역을 악화시키거나 손상시킬 수 있어 소중한 오일을 벗겨서 박테리아, 감염 및 염증에 대한 노출을 초래한다. 이는 얼굴용 브러시 자체의 긍정적인 특성을 무력화할 수 있어 얼굴용 브러시를 보습제, 화장 또는 선 케어 로션과 같은 사후 각질 제거 피부 처방이 따르는 제품에 대한 민감성을 사용자에게 노출시키는 파괴 도구가 되게 한다. 일부 사용자에서 피부의 이러한 자양분을 벗김으로써 피부 표면이 태양에 더 손상되게 하여 사용자가 UV 손상 또는 일광 손상에 더 취약하게 할 수 있어 흑색증을 초래할 수 있다. 이전 피부 상태가 존재하는 일부 경우에는, 피부 상태를 악화시킬 뿐만 아니라 문제점을 상당히 장기화할 수 있다.

[00015] 대부분의 얼굴용 브러시 제조자는 사용자의 피부에 대한 세정 표면을 제공할 때 하나의 크기에 모든 상태를 맞추어 적용한다. 그러나, 이는 피부 타입이나 인종에 대해서는 적절한 경우가 아니며 이 피부 파입이나 인종은 경성(hard) 타입 또는 정상 타입 또는 민감성 타입 또는 초-민감성 타입의 범위에 있을 수 있다. 이는 특히 염증이나 자극 피부를 세정하거나 가질 때 특별한 관리를 필요로 하는 기존의 피부 상태를 갖는 사용자의 요구에 대응할 때 적용된다.

[00016] 이는 우리에게 상기 문제점에 대응하기 위한 해결책을 중심으로 이루어진 발명을 만들도록 한다. 본 발명은, 진동 및 회전 설정 모두를 제공하는 성능을 갖는 전동식 얼굴용 브러시 핸들, 재료 및 구성을 변화시키는 제거가능한 브러시 헤드, 및 보호 살균 UVC 위생 및 건조 챔버를 구비한 충전식 베이스 스테이션을 두 개의 별개의 부분으로서 이용한다.

[00017] 사용자의 편의는 또한 우리의 해결책에 필수적이다. 브러시 핸들 및 브러시 헤드가 보호 살균 UVC 위생 및 가열 챔버 내에 배치될 때 이 챔버의 기능적인 작용 모두가 작동된다.

[00018] 비록 본 발명은 주로 얼굴용 브러시 헤드 세정, 살균 및 충전을 유지하는데 관한 것이지만, 브러시 장치를 작동시킬 때 사용자의 경험은 좋은 습관을 권장한다. 일상적인 사용을 위해, 모드 제어는 사용자가 사용자를 위한 올바른 설정을 선택하는 것을 허용하여 민감성 피부에 대해 마일드 설정(mild setting) 그리고 균형잡힌 피부 타입에 노말 설정(normal)을 제공한다. 브러시 장치의 진동 운동은 이러한 일상 모드를 전달하는 반면 회전 운동은 우리가 가끔 사용할 것을 권고하는 깊은 각질 제거를 위한 더 강력한 설정을 작동시킨다.

[00019] 브러시 작동의 설정된 지속 시간은 사용자가 최적 세정 시간 내에 얼굴 영역의 완전한 세정을 조율하는 것을 허용한다. 최적 세정 시간은 사용자를 위한 작동 패턴과 관련하는 시간 세그먼트로 분리된 설정 지속 시간이다. 얼굴 및 목의 영역에 대한 각각의 세그먼트 및 간단한 일시 정지는 사용자가 하나의 영역으로부터 다른 영역으로 이동하는 것을 촉구하여 얼굴 및 목 영역의 완전한 세정을 보장한다. 이러한 절차는 타이머가 최적 결과를 위해 피부의 하나의 섹션을 오래하거나 짧게 하는 것을 방지할 때, 사용자에게 하나의 섹션이 종료되고 다른 섹션으로 갈 것을 경고하거나 통지하기 위하여 경고음을 울리고 광을 점멸하여 사용자가 하나의 영역으로부터 다른 영역으로 이동하는 것을 권장하는 각각의 일시 정지를 하는, 예를 들면 얼굴 및 목에 대한 사분면에 대응하는 브러시 모터 작동의 시간 패턴이다.

[00020] 해결책의 일 부분은 설정을 보완하고 특별한 피부 타입 또는 상태를 다루는 브러시 헤드의 범위를 개선하는 것이었다. 우리는 향상된 각질 제거 일상의 장기적 효율성을 염두에 두고 청결의 사고 방식을 관찰하였고 우리의 연구 결과와 함께 사용하는 특정 브러시 헤드 타입을 설계하였다.

실제 고려 사항:

[00021] 일 실시예에서, 보호 살균 UVC 위생 및 건조 챔버(베이스 스테이션)는 사용자가 얼굴용 브러시 핸들 및 브러시 헤드(브러시 장치)를 보호하고 세정하고 충전하는 것을 허용한다.

[00022] 우리의 현 발명은 통합형 충전 스테이션, 살균 및 건조 챔버를 포함한다. 이러한 베이스 스테이션은 AC 파워로 코드 연결하거나 이의 자체 내부 배터리 또는 커패시터로 작동한다. 베이스 스테이션은 장치의 상부 중앙에 위치된 내부 살균 UV 위생 챔버로의 오목화된 입구를 포함한다. 충전 베이스의 외부 재료는 유리, 무 BPA 플라스틱, 또는 수지 기반 재료일 수 있다. 오목화된 베이스 스테이션 입구(암형)는 브러시 장치 및 브러시 헤드 설계의 저부(수형)에 대응한다.

[00023] 일 실시예에서, 선택적으로, 베이스 스테이션의 내부 벽에 대한 재료는 석영 유리 또는 UVC 투명 열가소성 재료일 수 있어, 살균 UVC 레이의 교란되지 않은 분포를 허용한다. UVC 광원이 투명한 방벽 뒤에 있기 때문에, 우리는 사용자가 이에 직접 접촉할 가능성을 최소화한다. 또 다른 옵션은 노출된 살균 UVC 전구 또는 다른 살균 UVC 광원에 대한 것이다. 베이스 스테이션은 세척, 유지 보수 또는 교체를 위해 용이하게 접근될 수 있고 완전히 방수될 수 있다.

[00024] 일단 브러시 헤드가 베이스 스테이션에 삽입되면, 브러시 헤드는 환경으로부터 제거되고 이는 사용과 사용 중간에 외부에 놓이는 것보다 더 깨끗하게 유지되고 더 많은 살균을 수행한다. 이는 위에서 언급된 현 기술에서 발생되는 사안을 해결하는 것을 돕는다. 브러시 장치는 브러시 헤드 단부 근처에 내부 충전 코일을 갖는다. 이는 베이스 스테이션에서 이러한 코일과 유사 코일 사이의 비-접촉 유도 커플링을 형성한다. 선택적으로, 브러시 장치와 베이스 스테이션 사이의 직접적인 전기 접속 접촉부들은 이러한 충전 커플링을 형성할 수 있다. 베이스가 얼굴용 브러시의 존재를 검출하면, 충전이 시작하고 살균 및 선택적 가열 사이클을 시작한다. 베이스 스테이션 내의 히터는 건조 사이클을 생성한다. 이는 굴뚝 효과(stack effect)에 의해 연도 가스를 외부 환경으로 전달하는 굴뚝과 같이 작용하는 내부 챔버 설계를 이용한다.

[00025] 순환 공기는 브러시 헤드의 건조 과정을 돕거나 가속시킨다. 실온 공기는 베이스 스테이션 챔버 아래의 작은 간격을 이용하여 유입된다. 공기는 베이스 스테이션과 브러시 장치 사이의 작은 갭을 통해 배출된다. 베이스 스테이션 내에 내부 전동식 팬의 추가는 기류의 교환을 증가시키고 브러시 헤드의 건조 시간을 줄이도록 한다. 브러시 핸들과 챔버의 오목형 목부 사이의 위에서 언급된 갭은 내부 챔버 입구 벽의 내부 상에 전략적으로 배치된 핀을 통하여 달성된다. 이는 브러시 장치가 핸들과 내부 베이스 스테이션 벽 사이의 균일한 거리를 가지고 갭을 형성하는 핀 상에 지지되는 것을 허용한다.

[00026] 또한, 일단 베이스 스테이션의 오목부 내에 배치되면, 브러시 장치는 안정되게 유지된다. 설계의 두 개의 구별되는 형상들이 서로 맞추어진다. 테이퍼진 원통형 핸들 및 챔버의 플루트형 통공은 대다수의 개구 및 얼굴용 브러시 헤드를 막는 브러시가 덮이는 것을 허용한다. 이는 또한 그 안의 UVC 소스의 살균 광 주파수로부터 작동된 스트레이 UVC 레이(stray UVC lay)에 의해 유발된, 누출된 오염을 감소시킨다. 또한, 브러시 장치가 베이스 스테이션 내로 삽입되면, 현 설계는 브러시 헤드가 광원과 접촉하는 것을 방지하도록 하는 것이다.

[00027] 두 개의 부분들 사이의 이러한 슬립 핏(slip fit)은 두 개의 장점을 생성한다. 하나는, 사용자가 한 손으로 브러시 핸들을 제거하는 것을 허용한다는 것이다. 베이스는 누르거나, 고정하거나 그렇지 않으면 과도하게 중량이 나갈 필요가 없으며, 두번째는 챔버 베이스로부터 누출되는 수증기에 대한 경로이다. 이는 얼굴용 브러시 헤드를 건조하고 접촉 링 상의 어떠한 물도 건조시키는 것을 보조하는데 유리하다. 갭 없이, 물은 두 개의 부분들 사이에 포획된다.

[00028] 살균은 베이스 스테이션 내 UVC 광원에 의해 수행된다. 이러한 UVC 광원은 브러시 헤드를 둘러싸서 브러시 헤드를 침지하고 브러시 헤드의 전체 표면으로 향하는 그림자를 제거하고 임의의 보유 병원체(예를 들어, 바이러스, 박테리아, 프리온, 기생충, 또는 곰팡이)를 그 안에 포획한다. 이러한 링 광은 수은 증기 튜브 광일 수 있다. 또한 예를 들면 UVC LED 또는 레이저 소스와 같은, 브러시 헤드 주위를 둘러싸는 일련의 포인트 광원일 수 있다. 이러한 광은 예를 들면 거의 약 240 nm에 중심이 맞추어진 스펙트럼 파장을 갖는다. UVC 광의 파장 범위는 예를 들면 100 내지 280 nm이다. 광원이 이러한 범위 밖의 광을 예를 들면 가시 스펙트럼으로 방사할 수 있지만, 살균 효과를 갖는 이러한 범위 내의 광이다. 선택적으로, 부가적인 UVC 소스는 노출된 표면을 최대화하기 위해 브러시 헤드 하우징의 베이스 위의 브러시 장치 내에 배치될 수 있어, 그림자 내에 더 작은 표면을 가지며 결론적으로 소독, 살균 자외선 레이에 노출되는 표면을 최대화한다.

[00029] 그럼자의 제거를 더 보조하기 위하여, 베이스 스테이션 살균 챔버의 내부는 반사되게 제조되어 브러시 헤드로의 빔의 균일한 분포를 보조한다. UVC 광원 리플렉터는 내부 반사 표면을 갖는 오목체로 이루어질 수 있다. 이러한 반사 표면은 방사된 광을 UVC 소스로부터 다시 브러시 헤드로 재지향시킨다. 이는 브러시 헤드 상으로의 광의 세기를 증가시켜 효율을 개선한다. 광이 반사 없이는 접근할 수 없는 브러시 헤드의 영역들 내로 지향되는 것을 가능하게 한다. 선택적으로, 살균 광원의 반사 범위를 더 최대화하도록, 브러시 헤드 자체는 강모 뒤에 반사 패널을 가질 수 있다. 이는 광이 강모 자체의 샤프트의 아래 및 브러시 헤드의 하부를 통하여 다시 반사되는 것을 허용한다. 더욱이, 살균 UVC 램프의 부산물, 오존은 베이스 스테이션 내에서 박테리아를 산화시켜 박테리아, 곰팡이, 알레르기 및 기타 냄새의 원인이 되는 물질을 탈취하고 소독하고 파괴한다.

[00030] 선택적으로 리플렉터의 재료는 UVC 광의 반사를 매우 효율적으로 최대화하는 것으로 보여지는 알루미늄 또는 금속 또는 광택 표면 또는 코팅 또는 금속 증착 또는 스퍼터링 또는 금속 도금을 포함할 수 있다.

[00031] 전원과 살균 광원 사이에 전기적으로 커플링된 타이머는 센서 시스템 또는 근접 스위치에 의해 ON을 작동시켜 미리 결정된 시간 동안 램프에 파워를 공급하고 그 후 타이머가 카운트 다운하여 OFF될 때 램프로부터 파워를 단속한다. 시간의 양은 얼굴용 브러시가 마지막 세정 이후로 통과하는 브러시 사이클의 개수를 기초로 하여 변화될 수 있다. 선택적으로 브러시 핸들은 사용 트랙을 유지할 수 있고 이러한 정보는 RFID 트랙킹 또는 블루투스 통신 또는 안테나 또는 유선 수단과 같은 수단을 통해 베이스 스테이션과 통신될 수 있다. 브러시와 베이스 스테이션 사이에 통신 링크가 있을 수 있기 때문에, 브러시 및 베이스 스테이션 중 어느 하나가 사용자에 대한 정보를 통신하기 위해 디스플레이를 가질 수 있다. 이러한 디스플레이는 남은 충전 시간, 남은 살균 시간, 완료된 브러싱 사이클 횟수, 남아 있는 브러시 헤드 수명, 평균 브러싱 기간과 같은 것을 보여줄 수 있다.

[00032] 설계의 챔버는 워터 트랩이 될 수 있는 틈이 없다. 물이 브러시 헤드에서 떨어지면, 물은 장치를 통하여 챔버의 저부 내의 개구를 통하여 떨어진다. 또한, 챔버가 양 단부가 개방되고 틈이 없기 때문에, 챔버는 세척하기가 매우 용이하다. 이는 병원균(예를 들면, 바이러스, 박테리아, 프리온, 기생충, 또는 곰팡이) 배양 몰드 또는 잘못된 소독과 관련된 박테리아가 갖는 어떠한 문제점들도 해결한다. 이러한 물은 물이 증발될 때까지 카운터 상부 상에 놓일 수 있다. 대안적으로, 챔버 아래 배치되는 친수성 패드일 수 있다. 이러한 패드는 이의 용적 전체에 걸쳐 또는 이의 표면을 따라 물을 빨아들일 수 있다. 물이 퍼지기 때문에, 더 큰 증발 표면적을 가지며 상당히 가속된 속도로 환경에서 제거된다. 선택적으로, 이러한 패드는 브러시 헤드를 향한 UVC 광 반사 및 지향을 추가로 최적화할 수 있는 반사 표면과 같은 추가 기능을 가질 수 있다. 더욱이, 또 다른 선택으로서, 패드 또는 베이스 스테이션 설계는 브러시 헤드 아래 놓인 부가 UVC 광원을 포함할 수 있다.

[00033] 브러시가 베이스에 삽입되면, 모든 작동이 자동적으로 시작한다. 이는 사용자에게 달성하기 위한 추가 노력을 요구되지 않기 때문에, 편리함을 제공한다.

[00034] 일 실시예에서, 브러시 장치는 핸들을 갖는 인체공학적 설계의 하우징을 포함하고 한 손으로 잡을 수 있으며, 또한 상기 하우징은 제거가능한 브러시 헤드를 홀딩하기 위한 기구를 포함한다. 이는 사용자가 자신이 브러시 헤드를 선택하는 것을 허용한다. 브러시 장치의 외부 재료는 유리, 무 BPA 플라스틱, 또는 수지 기반 재료일 수 있다. 핸들은 또한 충전식 배터리 또는 배터리들, 파워를 제어하기 위한 전기 회로 및 온/오프 스위치를 통하여 브러시 헤드 및 전원을 구동하기 위한 모터를 포함한다. 본 브러시 장치 설계는 방수가 된다.

[00035] 본 브러시 장치는 브러시 헤드 단부 근처에 내부 충전 코일을 갖는다. 이는 베이스 스테이션에서 이러한 코일과 유사 코일 사이의 비-접촉 유도 커플링을 형성한다. 이는 또한 모터의 세기를 조절하고자 하는 사용자를 위한 파워 모드 버튼을 포함할 수 있다. 이러한 모드 버튼은 변화하는 피부 타입, 속도, 감각, 또는 일상의 변화에 대응하여 설정을 변경할 수 있어 사용자가 자신의 원하는 설정을 인식하기가 쉽다. 일 실시예에서, 모터는 진동으로부터 회전 작용으로 변경되는 능력을 갖는다. 이러한 작용은 모터가 전후 진동으로부터 완전 회전으로 변경되는 것을 허용하는 기어링 시스템 또는 제어 회로 조절 파워 이동을 통해 이루어질 수 있다. 선택적으로, 브러시 장치는 두 개의 모터를 포함할 수 있으며, 하나의 모터는 각각의 진동 또는 회전 작용에 대한 전용 모터이고 그 사이에서 스위칭하는 선택 기구를 갖는다. 모드 버튼 상에서 설정을 선택할 때, 사용자는 이러한 변화를 매끄럽게 해석할 것이다.

[00036] 브러시 장치 사용 주파수를 고려하고 우리의 사용자의 피부 타입의 요구에 응답하여, 우리는 선택적인 제거가능한 브러시 헤드의 범위를 개발하였다. 이러한 설계는 모터 작용, 모드 선택 및 사용 주파수를 보완한다. 하나의 이같은 브러시 형상은 얼굴 영역의 윤곽 및 주름을 보완한다. 브러시의 각도 특성은 코 및 윗입술 영역과 같은 얼굴의 이러한 구역에 도달하도록 설계되어 종래의 원형 브러시 헤드 하나만으로는 달성하기가 어려운 더 세밀한 각질 제거를 효율적으로 수행하도록 한다.

[00037] 사용자 경험은 작동을 활성화하는 내장된 간단 적용 프롬프트(simple-to-follow prompt)를 통하여 브러시 장치를 작동할 때 좋은 습관을 권장한다. 첫번째는 브러시 모터의 시간에 맞춘 작동 사용인데, 이는 사용자가 최적 세정 시간 내에 얼굴 영역의 완전한 세정을 조율하는 것을 허용한다. 선택적 세정 시간은 예를 들면 1 분이고 예를 들면 우리는 이것을 15초의 4개의 시간 세그먼트로 나눈다. 사용자에 대한 작업 패턴에 이를 관련시키기 위하여, 우리는 얼굴을 예를 들면 4개의 사분면으로 분할하였으며 순서대로, 이마, 빰, 코 및 턱 영역이고 마지막으로 목이다. 각각의 연속적인 시간 세그먼트를 표시하기 위한 간단한 일시 정지는 사용자에게 하나의 영역으로부터 다른 영역으로 옮길 것을 재촉하여 얼굴 및 목 영역의 완전한 세정을 보장한다. 사용자를 이러한 방식으로 이끄는 것은 사용자가 하나의 영역의 과도한 세정을 피하도록 하는데, 특히 더 깊이 박리를 제거하는 브러시 헤드를 사용할 때 도움이 된다.

[00038] 도 1(a)는 본 시스템의 일 실시예에 대한 것으로, 일 예로서 그 위에 브러시 헤드가 도킹된 베이스 스테이션의 도면이다.
[00039] 도 1(b)는 본 시스템의 일 실시예에 대한 것으로, 일 예로서 내부 구성요소 중 일부를 구비한 베이스 스테이션 플러스 브러시 장치의 도면이다.
[00040] 도 2는 일 예로서, 본 브러시의 일 실시예에 대한 것이다.
[00041] 도 3은 일 예로서, 본 시스템의 도면의 일 실시예에 대한 것이다.
[00042] 도 4는 일 예로서, 본 시스템의 도면의 일 실시예에 대한 것이다.
[00043] 도 5는 일 예로서, 본 시스템의 도면의 일 실시예에 대한 것이다.
[00044] 도 6은 일 예로서, 본 시스템의 도면의 일 실시예에 대한 것이다.

[00045] 오늘날의 자동화된 얼굴용 및 신체용 브러시의 이러한 단점을 해결하기 위하여, 본 발명은 살균기 및 브러시의 시스템으로 이루어진다. 사용과 사용 중간에, 사용자는 브러시를 살균기에 도킹한다. 브러시(강모를 포함하는)의 작동 단부는 살균기 내에 놓이고 처리된다. 브러시의 핸들은 살균기 외부에 놓여 있어 사용자가 상기 장치를 용이하게 빼내어 이용할 수 있다. 환경으로부터 브러시 헤드를 제거함으로써, 사용과 사용 중간에 외부에 놓이는 것보다 더 청결하게 유지된다. 위에서 언급된 현 기술에서 발생되는 사안을 해결하는 것을 돕는다. 일 실시예에서, 살균기는 자외선 램프로 이루어진다. 또한 가시적 스펙트럼에서 약간의 배출을 하지만, (살균 효과를 생성하는) 램프의 기능적 범위는 약 240 nm의 파장을 중심으로 한다. 자외선(UV) 광의 직접적인 살균 효과에 부가하여, 자외선 램프는 또한 오존을 생성한다. 이는 오존의 존재 하에서 박테리아를 산화함으로써 박테리아, 곰팡이, 알레르기 및 기타 냄새의 원인이 되는 물질을 탈취하고 살균하고 파괴하는데 도움이 된다.

[00046] 살균을 위한 다른 전략(가스 또는 액체 침지, 오토 클레이브, 진공, 또는 신속한 건조)이 있지만, UV 살균은 간단하고 비용 효율적이다. UV 살균은 부품 수가 적고 조용하고 용이하게 포함할 수 있고 유지가능하다. UV 살균이 다른 해결책들 중 일부에 대해 갖는 하나의 단점은 광(light)을 이용한다는 것이며, 광은 그림자를 형성한다는 것이다. 살균을 위해 의도된 브러시 헤드의 일 부분이 그럼자 내에 있는 경우, 살균의 효능이 상당히 감소될 것이다. 종래 기술의 살균 UV 위생기 중 일부(예를 들면, Milligan의 제 US 20120074334 A1호)는 더 큰 적용 범위를 얻기 위한 해결책으로서 다중 UV 램프를 언급한다. 이는 물론 직접적으로 제조 비용을 증가시키고 완전한 범위를 달성하도록 상당히 많은 수의 전구를 요구할 것이다. 다른 종래 기술(예를 들면, Nevin의 제 4,698,206호)은 챔버의 내부에 반사 표면을 도입함으로써 이러한 단점을 해결한다. 이는 또한 제조 비용을 증가시키고 완전하고 균일한 적용 범위가 보장되지 않는다.

[00047] 이와 같은 표면을 생성하기 위한 전형적인 방법은 성형된 플라스틱 표면상에 금속을 스퍼터링하는 것이다. 효율적이지만, 이와 같은 복합 부품은 재생하기가 어렵다. 본 발명에서, 우리는 단일 램프를 보여주지만 이 램프는 종래 기술에 비해 유일한 링 형상(그렇지 않으면 고리형, 원환형, 또는 도넛형으로서 공지됨)이다. 브러시는 링 내에 배치되어 광이 더 많은 개수의 각도로부터 브러시에 접근하고 그림자가 매우 감소되거나 제거된다. 실제로, 램프의 단부 상태 때문에, 링이 간섭된다. 그러나, 이러한 간섭은 최소이고 대부분의 램프는 토로이달 형상 및 이의 장점을 보유한다. 대안적인 실시예에서, 광원은 예를 들면 UV-C LED와 같이, 브러시 헤드 둘레를 감싸는 일련의 포인트 광원일 수 있다.

[00048] 일 실시예에서, 그럼자의 제거를 더 보조하기 위하여, 베이스 스테이션 살균 챔버의 내부는 반사되게 제조되어 브러시 헤드로의 빔의 균일한 분배를 보조한다. 일 실시예에서, UV-C 광원 리플렉터는 내부 반사 표면을 갖는 오목체로 이루어질 수 있다. 이러한 반사 표면은 UV-C 소스로부터 방사된 광을 다시 브러시 헤드로 재지향시킨다. 이는 브러시 헤드 상으로의 광의 세기를 증가시켜 효율을 개선한다. 또한 광이 반사 없이는 접근할 수 없는 브러시 헤드의 영역들 내로 지향되는 것을 가능하게 한다. 일 실시예에서, 선택적으로, 살균 광원의 반사 범위를 더 최대화하도록, 브러시 헤드 자체는 강모 뒤에 반사 패널을 가질 수 있다. 이는 광이 강모 자체의 샤프트의 아래 및 브러시 헤드의 하부를 통하여 다시 반사되는 것을 허용한다.

[00049] 옵션으로서, 일 실시예에서, 브러시 장치 모터 작동 사이클은 브러시 헤드에 대해 가해진 힘의 감각에 의해 활성화될 수 있다. 힘이 소정의 한계치를 초과하면, 모터는 센서, 소형 스위치, 기계적 장치, MEMS, 또는 압전 재료를 사용하여 작동한다. 선택적으로, 힘이 한계치 아래로 감소하면, 모터는 중지된다.

[00050] 하나 초과의 옵션이 모터 작동 사이클의 작동의 수단으로서 브러시 장치의 전체 표면 또는 선택된 세그먼트를 이용한다. 사용자는 브러시 장치 핸들에 대해 가해진 힘의 감각의 적용을 통하여, 모터 작동 사이클을 시작할 수 있다. 이러한 작용은 일 예로서 모터 작동 사이클을 중단하기 위한 수단으로서 반복될 수 있다.

[00051] 선택적으로, 이러한 동일한 개념은 브러시 장치 모터의 파워 모드를 제어하기 위한 수단으로서 작용할 수 있다. 브러시 장치 핸들 표면 또는 선택된 세그먼트에 대해 가해진 힘의 감각의 적용을 통하여, 모터의 출력 파워 속도가 가속되거나, 감속되거나 모드를 변경할 수 있다. 이러한 개념은, 유해하게 사용되는 경우, 브러시 장치의 정확한 사용을 보장하기 위해, 이를 블능하게 하기 위해 사용될 수 있다. 너무 큰 힘은 피부를 손상시킬 수 있다. 힘이 미리 결정된 한계치를 초과하면, 모터는 턴 오프되거나 힘을 감소하도록 유도하기 위해 사용자에게 신호를 송신할 수 있다.

[00052] 선택적으로, 일 예로서, 브러시 장치가 단지 ON/OFF 버튼에 의해 하나의 속도로 될 수 있고 교체가능한 배터리 또는 베이스 스테이션의 외부에 별개의 동력원을 가질 수 있다.

[00053] 일 실시예에서, 베이스 스테이션의 전원과 살균 광원 사이에 전기적으로 커플링된 타이머는 센서 시스템 또는 근접 스위치에 의해 ON을 작동시켜 미리 결정된 시간 동안 램프에 파워를 공급하고 그 후 타이머가 카운트 다운하여 OFF될 때 램프로부터 파워를 단속한다. 시간의 양은 브러시 장치가 마지막 세정 이후로 통과하는 브러시 사이클의 개수를 기초로 하여 변환될 수 있다. 일 실시예에서, 선택적으로, 브러시 핸들은 사용 트랙을 유지할 수 있고 이러한 정보는 RFID 트랙킹 또는 블루투스 통신과 같은 수단을 통해 베이스 스테이션과 통신될 수 있다. 브러시 및 베이스 스테이션 사이의 통신 링크이 있을 수 있기 때문에, 브러시 및 베이스 스테이션 중 어느 하나(또는 둘 모두)가 사용자에게 정보를 통신하기 위해 디스플레이를 가질 수 있다. 이러한 디스플레이는 남은 충전 시간, 남은 살균 시간, 완료된 브러싱 사이클 횟수, 남아 있는 브러시 헤드 수명, 평균 브러싱 기간, 등 같은 것을 보여줄 수 있다.

[00054] 일 실시예에서, 살균기는 브러시와 결코 접촉하지 않으며 브러시 면 바로 아래 존재하지 않는다. 임의의 유체 방울이 브러시 헤드로 떨어진 경우, 유체 방울은 완전히 베이스 스테이션을 통하여 완전히 떨어져 베이스 스테이션이 놓이는 카운터 상에 있게 될 것이다. 이는 미립자를 제거하지는 못하지만, 접근하기가 어렵거나 청소하기가 어려울 수 있는 유체가 챔버 내에 남아 있지 않은 것을 보장한다. 모든 미립자는 정기적인 카운터 세정 루틴 동안 카운터 상부로부터 제거될 수 있다. 일 실시예에서, 대안적으로, 챔버 아래 배치되는 친수성 패드가 있을 수 있다. 이러한 패드는 이의 용적 전체에 걸쳐 또는 이의 표면을 따라 물을 빨아들일 수 있다. 물이 퍼지기 때문에, 더 큰 증발 표면적을 가지며 상당히 가속화된 속도로 환경으로부터 제거된다. 일 실시예에서, 선택적으로, 이러한 패드는 브러시 헤드를 향한 UVC 광 반사 및 지향을 추가로 최적화할 수 있는 반사 표면과 같은 추가 기능을 가질 수 있다. 더욱이, 또 다른 선택으로서, 패드 또는 베이스 스테이션 설계는 브러시 헤드 아래 놓인 부가 UVC 광원을 포함할 수 있다.

[00055] 브러시 장치가 베이스 스테이션과 도킹되는 동안, 브러시 장치가 또한 충전된다. 일 실시예는 베이스 스테이션의 상단부에 유도 코일을 보여준다. 브러시 장치 내 정합 코일이 베이스 스테이션의 코일에 근접될 때, 에너지는 베이스 스테이션으로부터 브러시 장치로 전달될 수 있다. 이러한 에너지는 배터리를 충전할 수 있거나 커패시터와 통전하고 이 중 어느 하나가 브러시 핸들 전원으로서 작용할 수 있다. 선택적으로, 브러시 장치와 베이스 스테이션 사이의 직접적인 전기 접속 접촉부들은 이러한 충전 커플링을 형성할 수 있다.

[00056] 일 실시예에서, 브러시 드라이어는 살균기 베이스에 포함될 수 있다. 브러시 헤드가 젖어 있는 동안, 브러시 헤드는 미생물의 성장을 지원할 수 있는 배지로서 작용할 수 있다. 신속하게 건조하는 경우, 이러한 배지는 파괴되어 성장이 중단된다. 건조기는 베이스 스테이션 내의 히터로 이루어진다. 이러한 히터는 브러시 주위의 공기의 온도를 상승시킨다. 이러한 증가된 공기 온도는 물을 더 신속하게 휘발시켜 또한 기류를 활발하게 일으킨다. 따뜻해진 공기는 상승되어 베이스 스테이션과 브러시 장치 사이의 작은 갭을 통하여 베이스 스테이션의 밖으로 통과한다. 이러한 갭은 도킹된 브러시 장치로부터 접촉되는 베이스 스테이션 내의 소형 리브를 통해 유지된다. 이러한 소형 갭은 또한 이러한 영역 내에 유체가 포획되지 않고 건조되는 것을 허용한다. 생성된 공기(유출되는 따뜻한 공기를 대체하는 공기)는 하부로부터 베이스 스테이션으로 들어간다. 소형 갭은 살균 베이스 및 살균 베이스가 놓이는 표면 사이에 존재한다. 공기는 이어서 가열되고 공정이 자체적으로 반복된다.

[00057] 일 실시예에서, 살균 스테이션 내에 내부 전동식 팬의 추가는 기류의 교환을 증가시키고 브러시 헤드의 건조 시간을 줄이도록 한다. 높은 습도(젖은 표면)가 감지될 때 이러한 팬은 연속적으로 또는 듀티 사이클로 작동할 수 있거나 습도 센서에 연결된 제어기에 의해 작동될 수 있어, 팬을 턴온시킨다. 자동화 브러시에 대해, 브러시 헤드는 자체적으로 공기 이동기로서 작용할 수 있고 공기를 순환시킬 수 있다. 센서(예를 들면, 회로를 완성하고 도킹 위치를 감지하기 위한 스위치로서)를 통해 브러시 장치가 도킹된 것을 알고 있는 브러시 핸들은 브러시 헤드를 주기적으로 스핀시켜 공기를 챔버 내에서 교반시킴으로써 건조 시간을 추가로 감소시킨다.

[00058] 일 실시예에서, 브러시를 작동시킬 때 좋은 습관이 그의 작동이 내장된 간단 적용 프롬프트를 통하여 권장된다. 첫번째는 브러시 모터의 시간에 따른 작동 사용인데, 이는 사용자가 최적 세정 시간 내에 얼굴 영역의 완전한 세정을 조율하는 것을 허용한다. 세정 시간은 1분일 수 있고 이는 15초의 4개의 시간 세그먼트로 나누고 일 예로서, T 초의 N 세그먼트로 나누며 여기서 NT=1 분이다. 사용자에 대한 작업 패턴에 이를 관련시키기 위하여, 우리는 얼굴을 4개의 사분면으로 분할하였으며 이마, 빰, 코 및 턱 영역이고 마지막으로 목이다. 각각의 연속적인 시간 세그먼트를 표시하기 위해 간단한 일시 정지 또는 광 점멸 또는 경고음 소리는 사용자에게 하나의 영역으로부터 다른 영역으로 옮길 것을 재촉하여 얼굴 및 목 영역의 완전한 세정을 보장한다. 사용자를 이러한 방식으로 이끄는 것은 사용자가 하나의 영역의 과도한 세정을 피하도록 하는데, 특히 더 깊이 박리를 제거하는 브러시 헤드를 사용할 때 도움이 된다. 일 실시예에서, 다른 신체 영역이 동일한 장치로 세정된다.

[00059] 일 실시예에서, 우리는 아래의 시스템 및 특징을 갖는다:

도 1(a)는 본 시스템의 일 실시예에 대한 것으로, 일 예로서 그 위에 브러시 장치가 도킹된 베이스 스테이션의 도면이다. 도 1(b)는 본 시스템의 일 실시예이며, 일 예로서 베이스와 챔버 내에 부품들, 즉 브러시, 브러시 헤드, 리플렉터, UV 광, 제어 회로, 챔버, 반사면, 레그를 구비한 베이스 스테이션 플러스 브러시 장치의 도면이다. 더 자세한 내부 챔버 및 베이스에 대해, 부록 4 도면들을 참조하시오.

[00060] 도 2는 일 예로서, 파워 및 모드 스위치를 구비한 제어 회로, 추가 모터, 배터리 소스, 하우징, 충전 코일, 및 브러시 헤드를 구비한 본 발명의 브러시의 일 실시예에 대한 것이다. 더 자세하게는, 부록 4 도면들을 참조하시오.

[00061] 도 3은 본 시스템의 도면의 일 실시예에 대한 것으로, 일 예로서 중앙 프로세서에 의해 설정된 UV 광을 구비하고, RFID, 블루투스, 또는 브러시용 안테나를 통한 통신, 추가 메뉴, 수동 버튼 및 유저 인터페이스를 위한 디스플레이, 사용자에게 알리기 위한 추가 충전 및 세정 광 인디케이터를 구비한다. 프로세서에 의해 사용된 세정 룰(rule)(예를 들면, 적절한 세정을 위해 필요한 최소 세기 및 시간에 대해 룰 엔진에 저장된 세정 룰)을 기초로 하여 적절한 세정을 위한 UV 광에 대한 시간 및 세기를 결정하기 위하여, 브러시용 용도의 히스토리 및 주파수를 사용한다. 프로세서는 또한 속도, 방향을 위한 모터 제어 및 ON/OFF 스위치를 통하여 모터를 제어한다.

[00062] 도 4는 본 발명의 시스템 도면의 일 실시예에 대한 것으로, 일 예로서, 모터 속도 및 회전/진동 모터를 지휘하는 모터 제어기를 구비한다. 히스토리 로그는 브러시를 위한 작동 시간을 기록하고, 이로부터 프로세서를 사용하여 룰 엔진을 기초로 하여, 다음 세정을 위한 스케쥴을 최적화하도록, 세정 절차들 사이에서 작동하는 총 시간을 계산한다. 이는 UV 광(들)에 대한 시간 및 세기뿐만 아니라 UV 광(들)에 대한 스케쥴에 대한 주기 및 시간 테이블을 설정할 것이다. 이는 또한 UV 광을 작동시키는 다른 이벤트를 설정한다. 팬에 의한 공기 순환 및 건조 기능은 예를 들면 팬 속도 및 방향 또는 속도의 램핑 업(ramping up) 또는 램핑 다운(ramping down)을 위해 팬 제어기에 의해 제어된다. 예를 들면, 브러시 헤드를 건조시키기 위한 요구를 보여주는, 팬을 시동하기 위한 정보는 습도 센서, 또는 다른 소스로부터 나온다.

[00063] 도 5는 본 발명의 시스템 도면의 일 실시예에 대한 것으로, 일 예로서, 예를 들면 베이스 스테이션에 대한 완전한 도킹을 표시하기 위하여 브러시의 몸체 상의 금속 조각을 사용하여 센서 또는 스위치에 의해 감지된 도킹, 또는 전기 회로 개폐를 갖는 우리의 시스템 도면의 일 실시예에 대한 것이다. 이는 예를 들면 팬을 사용하여 세정 공정, 충전 공정, 또는 기류 공정을 작동시킬 것이다. 세정 옵티마이저(cleaning optimizer)는 적절한 개수의 광을 이용하여, 광에 대한 적절한 UV 세기 및 주기를 설정한다. 물/습도 센서는 팬 기능을 위한 팬 제어기를 작동시킬 뿐만 아니라 원격 히터 또는 램프 히터 기능을 위해 히터 제어기를 작동시킨다.

[00064] 도 6은 본 발명의 시스템 도면의 일 실시예에 대한 것으로, 일 예로서, 배터리, 코일, 유도, 케이블, 또는 금속 커넥터를 사용하는 충전 제어기를 구비한다. 특정화된 시간, 세기, 및 주기와 함께 다수의 UV 광을 사용하여 세정 절차를 최적화한다. 시스템에 대한 리플렉터의 위치 또는 장소를 조정하고, 최소 에너지를 소모하면서, 예를 들면, 브러시 헤드 상에 광을 더 잘 집속하기 위해 볼록 또는 오목 거울 또한 렌즈를 사용하여, 최고의 가능한 세정을 위해 브러시 상에 최대 UV 반사를 하며, 상대적 위치를 이동하거나 조정하고, 렌즈 또는 거울의 초점 또는 거리를 설정하기 위하여 옵티마이저를 또한 사용한다.

[00065] 일 실시예에서, 우리는 얼굴용 브러시 구성요소 및 설계를 위해 부록 4로부터 아래의 시스템 및 특징을 갖는다. 도 1은 다양한 헤드 및 핸들 또는 몸체를 구비한 다양한 얼굴용 브러시 배치(landscape)를 보여준다. 도 2는 다양한 브러시 모터 기능, 회전 및 진동을 보여준다. 도 3은 상이한 측면 및 도면으로부터 브러시가 있거나 브러시가 없는 얼굴용 브러시 장치의 직교 투영도이다. 도 4는 상이한 측면 및 도면으로부터 챔버를 구비한 베이스 스테이션에 대한 직교 투영도이다.

[00066] 부록 4의 도 5는 상이한 측면 및 도면으로부터 함께 놓이는 챔버를 구비한 얼굴용 브러시 장치 및 베이스 스테이션에 대한 직교 투영도이다. 도 6은 수직 및 수평 분할(횡단면)로부터, 상이한 측면 및 도면으로부터의 얼굴용 브러시 장치를 내부로부터 보여주며, 이는 파워 및 모드 스위치를 구비한 제어 회로, 모터(들), 배터리 소스, 얼굴용 브러시 하우징, 충전 코일, 및 브러시 헤드를 보여준다.

[00067] 부록 4의 도 7은 도면에서 두 개의 상황 1 및 2 사이에서 표시된 바와 같은, 내부 베이스에서의 세팅으로서, 베이스와 맞물리는 얼굴용 브러시 장치를 보여준다. 또한 도 7은 충전 코일, UV 광원, 제어 회로, 챔버, 및 장치 및 베이스의 나머지 구성요소들에 대한 내측으로부터의 횡단면도이다. 도 7은 UVC 시퀀스의 작동을 유발하는 브러시 장치를 배치하는, 브러시 장치 대 베이스 스테이션 도킹을 도시한다. 상기 챔버는 자외선 레이를 사용하는 세정 장치이며, 이 세정 장치는 광원 및 완전 침지 및 최대 세정 효과를 위해 브러시 헤드를 세척하도록 균일한 광원으로부터 자외선 레이를 전달할 수 있는 광 가이드 부재를 포함하는 포물선형 광 가속 챔버 내에서 강화된다. 세정 장치는 시간에 따라 작동되어 자외선 빔을 활성화하는 시간에 맞춘 작동을 하며 브러시 장치의 충전 스테이션으로서 작동한다.

[00068] 부록 4의 도 8은 도면에서 두 개의 상황 1 및 2 사이에서 표시된 바와 같은, 내부 베이스에서의 세팅으로서, 베이스와 맞물리는 얼굴용 브러시 장치를 보여준다. 도 8은 또한 얼굴용 브러시 충전 코일, 베이스 스테이션 충전 코일, 및 상기 장치 및 베이스의 나머지 구성요소들의 내측으로부터의 횡단면도이다. 또한, 도 8은 브러시 장치가 브러시 장치용 회로의 충전을 작동할 수 있게 배치되는 브러시 장치 대 베이스 스테이션 도킹을 도시한다.

[00069] 부록 4의 도 9는 내부 베이스에서의 세팅으로서, 베이스와 맞물리는 브러시 장치를 도시하며, 리플렉터 및 UV 광원을 위한 내측으로부터의 횡단면도이며 내측 챔버를 상세하게 도시한다. 포물선형 광 가속 챔버는 완전 침지 및 최대 살균 효과를 위해 브러시 헤드를 세척하도록 균일한 광원을 포함한다.

[00070] 부록 4의 도 10은 내부 베이스에서의 설정으로서, 베이스와 맞물리는 브러시 장치를 도시하며, 리플렉터, UV 광원, 제어 회로, 챔버, 및 반사 표면에 대한 내측으로부터의 횡단면도이며, 상세하게 도시된다. 선택적으로, 도면에 도시된 바와 같이 이러한 리플렉터 패드는 브러시 헤드를 향한 UVC 광 반사 및 지향을 추가로 최적화할 수 있는 반사 표면과 같은 추가 기능을 가질 수 있다.

[00071] 도 11은 내부 베이스에서의 설정으로서, 베이스와 맞물리는 브러시 장치를 도시하며, 리플렉터, UV 광원, 제어 회로, 챔버, 및 부가 UVC 소스에 대한 내측으로부터의 횡단면도이며, 상세하게 도시된다. 선택적으로, 부가 UVC 소스는 도면에서 도시된 바와 같이, 더 많은 적용 범위 및 더 넓은 시각을 위해 브러시 헤드 아래 배치될 수 있다.

[00072] 부록 4의 도 12는 도면에서 두 개의 상황 1 및 2 사이에서 표시된 바와 같은, 내부 베이스에서의 설정으로서, 베이스와 맞물리는 브러시 장치를 보여준다. 도 12는 또한 다양한 측면도들과 함께, 챔버 및 베이스의 내측으로부터의 평면도를 도시하며, 내측을 상세하게 도시한다. 도 12는 브러시 대 베이스 스테이션 도킹을 도시하며, 브러시 핸들과 챔버의 목부 주위의 작은 갭이 도면에서 도시된 바와 같이, 내부 챔버 입구 벽의 내측 상에 전략적으로 배치된 핀을 통하여 달성된다. 이는 브러시 핸들이 핀 상에 지지되는 것을 허용하여 핸들과 내부 챔버 벽 사이에 균일한 거리를 가지고 갭을 형성한다.

[00073] 부록 4의 도 13은 도면에서 두 개의 상황 1 및 2 사이에서 표시된 바와 같은, 내부 베이스에서의 설정으로서, 베이스와 맞물리는 브러시 장치를 보여준다. 이는 기능 3(건조 기능)을 보여준다. 얼굴용 브러시 배치의 간단한 시퀀스는 얼굴용 브러시 헤드용 건조 시컨스를 작동시킨다. 도 13은 또한 원격 히터 및 램프 히터를 사용한 시스템의 다양한 다른 구성요소를 구비한, 기류 및 브러시 헤드를 구비한 시스템의 횡단면을 도시하며, 챔버 및 브러시 주위의 기류의 횡단면도를 도시한다. 원격 히터의 예는 아래와 같다: 1) 원격 히터, 2) 베이스 스테이션 챔버 입구의 갭, 3) 베이스 스테이션 챔버, 및 4) 챔버 기부. 램프 히터의 예는 아래와 같다: 1) 램프 히터, 2) 베이스 스테이션 챔버 입구의 갭, 3) 베이스 스테이션 챔버, 및 4) 챔버 기부.

[00074] 부록 4의 도 14는 다양한 작업 및 기호에 대한 다양한 형상을 갖는, 다양한 제거가능한 브러시 헤드를 구비한 브러시 헤드를 도시한다. 도 14는 사용자가 헤드에 대한 구성을 변경하는 것을 보여준다. 부록 4의 도 15는 변화 공정이 충분히 도시된, LCD 충전 스크린의 시각적 시퀀스를 위한 베이스 스테이션의 측면도를 도시한다.

[00075] 부록 4의 도 16은 최근에 사용된 또는 전체적으로 장치의 시간 및 삽입 주기를 기초로 하여, 다양한 세정 세기 및 시간과 함께, 브러시 없이 사이클 상에서 자체 세정하는, LCD 세정 스크린의 시각적 시퀀스에 대한 베이스 스테이션의 측면도를 도시한다. 이러한 기준은 또한 브러시 세정을 위해 사용될 수 있다.

[00076] 일 실시예에서, 우리는 아래의 시스템 및 특징을 갖는다: 피부 브러시 세정 시스템은

● 소형 피부 처리 장치,

● 모터 및 전원을 포함하는 케이싱,

● 모터에 의해 기계적으로 이동되는 피부 접촉 요소,

● 자립형(free-standing) 살균기, 및

● 살균 수단을 포함하는 하우징을 포함하며,

● 상기 소형 피부 처리 장치는 상기 자립형 살균기와 도킹하며,

● 상기 피부 접촉 요소는 상기 케이싱의 일 부분이 상기 하우징의 외부에 놓이는 동안 상기 살균 수단에 노출된다.

[00077] 일 실시예에서, 우리는 아래의 시스템 및 특징을 갖는다: 피부 브러시 세정 시스템은

● 소형 피부 처리 장치,

● 모터 및 전원을 포함하는 케이싱,

● 상기 모터에 의해 기계적으로 이동되는 피부 접촉 요소,

● 자립형 살균기, 및

● 살균 수단을 포함하는 하우징을 포함하며,

● 상기 살균 수단은 광을 자외선 스펙트럼으로 광을 방사하는 적어도 하나의 램프를 포함하며,

● 램프들 중 적어도 하나는 단일 광원이며, 여기서 대다수의 램프의 기하학적 형상은 환형체로서 설명될 수 있다.

[00078] 일 실시예에서, 우리는 아래의 시스템 및 특징을 갖는다:

피부 브러시 세정 시스템은

● 소형 피부 처리 장치,

● 모터 및 전원을 포함하는 케이싱,

● 상기 모터에 의해 기계적으로 이동되는 피부 접촉 요소,

● 자립형 살균기, 및

● 살균 수단을 포함하는 하우징을 포함하며,

● 소형 피부 처리 장치는 상기 자립형 살균기와 도킹하며,

● 도킹하는 동안, 부스러기가 상기 피부 접촉 요소로부터 떨어지는 경우, 상기 부스러기는 상기 자립형 살균기의 어떠한 부분과도 접촉하지 않는다.

[00079] 다른 실시예에서, 우리는 아래의 시스템 및 특징을 갖는다:

● 전원 = 배터리 또는 커패시터

● 피부 접촉 요소 = 강모 터프트, 거품, 경석의 배열체

● 살균 수단 = UV 램프 또는 건조기

● 건조기(습기를 제거하기 위한 히터 및/또는 공기 이동기)

● 피부 접촉 요소는 제거가능하고 교체 가능하다.

● 소형 피부 처리 장치는 장치가 턴온되는 것에 응답하여, 경과 시간의 간격의 연속적인 표시를 생성하기 위한, 시간 맞춤 수단이며, 여기서, 경과 시간의 간격은 목표 또는 대상의 세트로서, 피부의 부분을 처리하기 위한 원하는 시간과 관련된다.

● 살균기 베이스의 내부 부분은 반사성을 가져서 UV 광의 적용 범위를 증가시킨다.

● 피부 접촉 요소의 부분은 반사성을 가져서 UV 광의 적용 범위를 증가시킨다.

[00080] 실시예들 모두는 서로 조합될 수 있으며, 위에서 언급된 또는 본 개시물에서의 특징을 혼합하거나 추가하기 위한 조합 수를 제한하지 않는다.

[00081] 아래 부분은 최근에 출원된 칫솔 시스템에 대한 다른 관련된 발명을 설명한다. 사상 및 특징 중 일부는 여기서 현 발명의 사상 및 특징과 공통점이 있다(이전의 출원은 발명의 명칭이 "칫솔 살균 시스템"이고 2015년 1월 25일에 출원된, 제 14/604,729호이며, 이의 사상은 또한 인용에 의해 본원에 포함된다).

칫솔 살균 시스템

[00082] 칫솔은 개인의 일반 건강 및 치아 건강을 위해 중요한 것으로 증명된다. 사용자가 이러한 특별한 제품을 공유하는 친밀감 때문에, 칫솔은 질병을 촉진하거나 확대하는 인자일 수 있다. 칫솔의 빈번히 습한 특성 때문에, 사용자가 자신의 입 안에 대는 브러시의 부분은 병원체가 번식할 수 있다. 건강한 개인에 의해 전용으로 사용된 브러시조차 일정 기간 동안 해로운 세균이 축적될 수 있다. 이 같은 세균은 사용자 자신의 입으로부터 및/또는 칫솔이 사용과 사용 중간에 보관되는 환경으로부터 나올 수 있다.

[00083] 대부분의 칫솔은 욕실에 보관되고 이는 종종 세균이 번식할 수 있는 환경이 된다. 습한 환경 외에, 사용 후 브러시로부터 극소량의 음식 입자 모두를 제거하는 것은 어렵다. 이러한 유기 입자는 곰팡이 및 박테리아의 번식을 위한 배양물로서 기능할 수 있다. 사용 청결 상태 사이에 부가하여, 브러시의 처음 사용 전에 브러시가 청결하게 되는 것을 보장하기 위한 요구가 있다. 포장 및 판매 전에 칫솔의 특별한 수준의 살균 또는 위생을 요구하는 규제는 현재 존재하지 않는다.

[00084] 따라서, 소비자에 의한 사용 전 그리고 사용들 사이에 칫솔을 효과적으로 살균하는 장치에 대한 상당한 요구가 있다. 그리고, 사실, 이를 달성하기 위해 시도하는 발명은 한 세기에 걸쳐 논문에서 공지되어 왔다. 대부분의 이러한 발명은 칫솔 및 챔버를 포함한다. 사용자는 사용과 사용 중간에 브러시를 챔버로 복귀시킨다. 챔버 내에 살균 수단이 제공된다. 수년에 걸쳐, 이러한 살균 수단의 정확한 특성은 때때로 기술 진보에 의해, 반면에 다른 때에는, 안전성, 제조 비용 또는 편의에 의해 변경되었다.

아래 표는 전형적인 다양한 살균 수단인 수 개의 발명들을 열거한다.

특허 번호 또는 일련번호	발행일 또는 공고일	발명자	살균 수단
615357	1898년 12월 6일	Guilfoyle	가스 블랭킷
757885	1903년 8월 3일	Cochkane	액체 침지
2579242	51년 12월 18일	Pask	자외선 램프
3342544	63년 9월 18일	Raymond	에어로졸 또는 액체 스프레이
3884635	75년 5월 20일	Sloan	건조기
4400357	83년 8월 23일	Hoffman	오토클레이브
5725091	94년 3월 9일	Knoebel	진공

[00085] 종래 기술의 몇몇의 하나의 바람직하지 않은 양태는 칫솔이 브러시의 강모 또는 사용자의 입으로 다시 들어가고 삽입, 추출, 또는 살균 공정 동안 살균 챔버의 일부 부분 상에 터치하는 강모에 매우 근접한 브러시의 일 부분을 필요로 하는 것이다. 이러한 바람직하지 않은 접촉은 병원체 또는 이물질을 챔버로부터 다시 브러시로 그리고 그 반대로 전달할 수 있다. 이는 시스템 내에 항상 남아 있는 몇몇의 잔류 병원체 또는 이물질과의 서로 오가는 교차 오염을 유발한다. 이러한 타입의 발명의 일 예는 Athon의 미국 특허 제 1,696,706호에서 볼 수 있다. 이러한 발명은 브러시가 빠지는 것을 방지하기 위하여, 챔버의 내부와 마찰 접촉되는 강모에 의존한다. 유사하게, Farrar의 미국 특허 제 2,592,131호는 강모가 놓이는 립(lip)을 생성한다.

[00086] 다수의 종래 기술의 발명은 사용자가 브러시를 챔버 내에 놓거나, 브러시를 제거하거나 살균 사이클을 작동시키기 위하여 부가 액션을 수행할 것이 필요하다. 예를 들면, Fowler의 US 1,074,169호는 브러시를 충분히 개시하는 개시물을 교시한다. 브러시를 삽입하거나 브러시를 제거하기 위하여, 사용자가 접근하기 위해 도어를 개방하는 것을 요구한다. 이는 사용자가 이미 한 손으로 치약 용기를 잡고있는 경우 불편할 수 있다. Thompson의 US 1,553,648호는 도어를 개방하지 않으면서 브러시가 접근할 수 있는 전형적인 일종의 해결책이다. 이러한 해결책에서, 챔버와 브러시 조립체 사이의 밀봉은 유연한 스토퍼 또는 유연한 챔버의 사용에 의해 달성된다. 이때 사용자는 브러시를 빼내는 동안 챔버를 안전하게 하도록 챔버를 잡고 있거나 챔버가 고정된 표면, 예를 들면, 벽으로 장착되는 것이 필요하다. 장착은 많은 환경에서 불편하거나 비실용적일 수 있는 부가 액션이다. MacShane의 US 1,708,423호는 살균 공정을 시작하도록 사용자가 분리 액션을 수행할 것을 요구한다.

[00087] Hecker의 U S6,123,477호는 챔버를 포함하지 않는 살균기를 교시한다. 본 발명에서, 제 2 브러시는 칫솔의 강모를 닦아내기 위해 사용된다. 이는 칫솔이 챔버 내에서 보호되는 대신 살균들 사이에 대기 환경에 노출되는 것은 명백한 단점이 된다. 게다가, 그 효과는 사용자의 테크닉에 상당히 종속되는 것으로 보여진다. 또한 사용자의 입으로 들어갈 표면들 모두의 컨디셔닝이 아닌 강모의 살균에만 집중하고 있다.

아래 표는 자납식 칫솔 살균을 교시하고 위에서 설명된 단점을 갖는 발명들을 열거한다.

특허 번호 또는 일련 번호	발행일 또는 공고일	발명자
2527741	50년 10월 31일	Lamonde
5832940	98년 11월 10일	Embry
6123477	00년 9월 26일	Hecker
6669390	03년 12월 30일	Porter
8168963	12년 5월 1일	Ratcliffe

[00088] Lamonde, Embry, 및 Porter는 살균을 교시하지 않는다. 이 발명들은 치약 또는 구강 청결제를 제시한다. 그러나, 살균 유체는 치약의 대체물로서 구상될 수 있다.

[00089] 살균 챔버를 포함하는 종래 발명들 모두에서, 사용자가 자신의 입 안으로 넣는(전술됨) 칫솔의 요소들 사이에 접촉이 있거나 입으로 들어가는 강모 및 칫솔 샤프트 바로 아래 챔버의 부분이 존재한다. 이러한 종래 발명이 갖는 단점은 유체 또는 입자가 브러시로부터 결국 챔버 내부에 떨어진다는 것이다. 브러시가 사용 후 즉시 챔버 내로 놓이기 때문에, 브러시는 특정 양의 물이 묻게 된다. 이러한 두 개의 물의 방울이 브러시로부터 떨어질 수 있는데, 이 물 방울과 함께 음식 입자, 치약, 또는 심지어 사용자의 입 또는 브러시 주위의 환경으로부터 나오는 병원체도 같이 떨어진다.

[00090] 발명들 중 일부는 챔버로부터 물을 제거하기 위한 건조기의 존재를 허용한다(예를 들면, Choi의 제 U S5,487,877호). 물이 챔버로부터 제거되더라도, 물 내에 포함되는 입자는 남게 될 것이다. 기껏해야, 이는 챔버 내에 미립자의 증가를 초래하게 되어 번번한 세정을 요구한다. 최악의 경우, 이는 세균에 대한 번식 근거지가 될 수 있어 브러시가 챔버 내에 결코 들어간 적이 없는 경우보다 더 불리한 환경에 노출한다. 종래 기술들 중 다수는 살균 수단이 주변 환경에 노출되지 않는 것을 보장하기 위하여 완전하게 폐쇄된 챔버에 의존한다(예를 들면, Hurley의 제 US 1,364,557호, Eckhardt의 제 US 6,461,568호, 및 Barham의 제 US 6,966,441호). 따라서, 요약하면, 종래 기술은 본 개시물에서 설명된 우리의 발명과 매우 상이하다.

[00091] 우리의 발명에 대해, 일 실시예에서, 사용자의 입으로 들어가는 브러시 헤드 및 샤프트가 결코 챔버와 접촉되지 않는 방법 및 시스템을 설명한다. 또한, 브러시 헤드 및 샤프트 아래에는 챔버가 없다. 임의의 물 방울이 브러시 헤드로 떨어진 경우, 물 방울은 항상 챔버를 통하여 떨어져 챔버가 놓이는 카운터 상에 있게 될 것이다. 이는 미립자를 제거하지는 못하지만, 접근하기가 어렵거나 청소하기가 어려운 미립자는 챔버 내에 남아 있지 않은 것을 보장한다. 모든 미립자는 정기적인 카운터 세정 루틴 동안 카운터로부터 제거될 수 있다.

[00092] 본 발명의 일 실시예에서, 우리의 살균 수단은 UV-C 램프이다. 이러한 선택은 다른 살균 수단에 비해 장점을 갖는다. 이들 중 일부는 다음과 같다 : 유체의 흘림이 없음(액체 및 스프레이 살균에 비해), 대기 내로 위험한 물질의 누출이 없음(가스 블랭킹 살균에 비해), 고온 표면이 없음(오토클레이브 살균에 비해), 신속함(건조기 살균에 비해), 및 조용함(진공 살균에 비해). UV 살균이 다른 해결책들 중 일부에 대해 갖는 하나의 단점은 광을 이용한다는 것이며, 광은 항상 고유 그림자(inherent shadow)와 관련된다. 즉, 살균을 위해 의도된 브러시 헤드의 일 부분이 그럼자 내에 있는 경우, 살균 효과가 상당히 감소될 것이다. 종래 기술 중 일부(예를 들면, Pinsky의 제 US7,213,603호)는 더 큰 적용 범위를 얻기 위한 해결책으로서 다중 UV 램프를 언급한다. 이는 물론 직접적으로 제조 비용을 증가시키고 균일한 범위를 달성하도록 상당히 많은 전구를 요구할 것이다. 다른 종래 기술은 챔버의 내부에 반사 표면을 도입함으로써 이러한 단점을 해결한다. 이는 또한 제조 비용을 증가시킨다. 이와 같은 표면을 생성하기 위한 전형적인 방법은 성형된 플라스틱 표면상에 금속을 스퍼터링하는 것이다. 효율적이지만, 이와 같은 복합 부품은 재생하기가 어렵다.

[00093] 본 발명에서, 우리는 단일 램프를 보여주지만 이 램프는 종래 기술에 비해 유일한 링 형상(그렇지 않으면 고리형, 원환형, 또는 도넛형으로서 공지됨)이다. 칫솔의 브러시 단부는 링 내에 배치되어 광이 더 많은 개수의 각도로부터 브러시 헤드에 접근하고 그림자가 매우 감소되거나 제거된다. 실제로, 램프의 단부 상태 때문에, 링이 간섭된다. 그러나, 이러한 간섭은 최소(작은 거리)이고 대부분의 램프가 토로이드 형상 및 이의 장점을 갖는다(모든 각도들로부터 칫솔의 우수한 적용 범위를 가짐). 여기서, 우리는 칫솔 시스템/장치에 대해 더 자세하게 설명한다:

[00094] 첨부된 발명은 소비자에 의해 사용되는 전동 칫솔 살균 시스템을 설명한다. 본 발명은 개선된 세정, 편의, 및 강성을 위해 허용하는 다수의 새로운 피처를 포함한다. 칫솔 살균 시스템은 산업계에서 공지되며 꽤 오랫동안 이용가능하였다. 원래는, 칫솔은 수동형이고 단지 핸들 및 강모로 구성된다. 살균원은 수년에 걸쳐 변경되었다.

[00095] 원래는, 브러시는 브러시에 존재하는 세균을 죽이기 위해 살균 유체에 침지되었다. 이러한 기술의 종래 기술은 1904년 만큼 오래된 기술이다. 이후(~1918년), 가스(예를 들면, 포름알데히드)가 사용되었다. 또한 열 기반 가열 방법 및 에어로졸 사용의 증거가 있다. 이후(~1940년대), 편의 및 효율 때문에, 살균원은 광의 살균원으로 변경되었으며 광은 UVC 범위에서 광으로 칫솔을 세척시킨다. 이러한 광은 거의 약 240 nm에 중심이 맞추어진 스펙트럼 파장을 갖는다. UVC 광의 파장 범위는 100 내지 280 nm이다. 광원이 이러한 범위 밖의 광(예를 들면 가시 스펙트럼 내로)을 방사할 수 있지만, 살균 효과를 갖는 이러한 범위 내의 광이다.

[00096] 1950년 대에, 첫번째 전동 칫솔이 도입되었다. 이 전송 칫솔은 초기에 축소된 모터 기술을 가지고 사용자를 목표로 삼았다. 나중에, 다수의 이러한 장치들이 이를 닦을 때 수동 브러시에 비해 더 큰 효과를 갖는 것이 명백하게 되었다. 초기의 브러시는 AC 콘센트 내로 플로깅되었다. 그러나, 1960년에, 배터리 전력 공급 버전이 도입되어 널리 적용되기 시작되었다.

[00097] 전동 칫솔은 강모가 구동되는 운동에 따라 두 개의 그룹으로 분류될 수 있다. 하나의 그룹은 진동을 사용한다. 이러한 진동 칫솔의 대부분은 오늘날 초음파 칫솔로 불리고, 강모의 진동이 약 20 kHz 초과이다(이는 사람의 청력의 상한이다).

[00098] 전동 칫솔의 제 2 주요 범주는 회전이다. 이에 의해, 강모는 축을 중심으로 하는 회전 방식으로 연속적으로 회전하거나 진동한다.

[00099] 전동 칫솔을 살균하는 제품은 또한 소정의 시간 동안 공지되었다. 이러한 시스템에서, 배터리를 칫솔 핸들에 완전히 충전한 상태로 유지하는 충전 회로가 있다. 게다가, 강모를 비추는 UVC 광원이 있다. 우리가 알고 있는 현재 선적하는 제품 모두에서, 브러시 헤드는 살균 공정을 위해 핸들로부터 분리된다. (브러시 헤드로서 본 명세서에서 총괄하여 정의되는) 짧은 섹션의 샤프트와 함께 강모는 UVC 광원을 포함하는 별도의 챔버 내로 배치되고 광이 활성화된다.

[000100] 현재 최신 전동 칫솔 살균 시스템의 단점이 아래에서 설명된다:

[000101] (1) 사용자가 자신의 이를 딱는 것을 마무리할 때, 핸들은 충전 스테이션으로 복귀된다. 이는 스테이션이 제품을 위한 약간의 카운터 상부 구역을 보유할 때 매우 편리하고, 사용자가 다시 제품을 사용할 때 제품의 위치를 정확히 알게 된다. 그러나, 실제로 강모를 살균하기 위해서, 브러시 헤드를 핸들로부터 분리하여 이 브러시 헤드를 살균 챔버 내에 배치하기 위한 특별한 노력이 요구된다. 이는 매우 특별한 작업은 아니지만, 다수의 사용자가 각각의 칫솔질 후 브러시 헤드를 살균하지 않는 선택을 하는 것으로 판명되었다. 이는 병원체가 브러시의 젖은 헤드 상에서 성장하는 기회를 만들었으며 이는 끔찍한 결과이다.

[000102] (2) 브러시 헤드가 핸들로부터 제거되어 살균 용기 내에 배치될 때, 칫솔은 즉시 사용 준비가 되지 않는다. 핸들이 존재하지만 핸들에 부착되는 브러시 헤드가 없다. 브러시 헤드는 살균 용기로부터 제거되어 핸들에 재부착될 것이 필요하다.

[000103] (3) 브러시 헤드가 사용후 핸들에 부착되어 있고 살균 챔버 내에 배치되지 않을 때, 환경에 노출된다. 이러한 환경은 전형적으로 다수의 물의 유동원(예를 들면, 싱크, 샤워, 화장실 및 목욕통)을 가지는 욕실 환경이다. 이러한 수원은 물 방울을 에어로졸화한다. 이러한 물 방울은 욕실을 통하여 소변, 침, 및 배설물과 같은 다른 요소를 운반할 수 있다. 강모가 이러한 환경에 노출되기 때문에, 강모는 부주의에 의해 오염될 수 있다.

[000104] (4) 존재하는 장치에서, 살균 챔버는 브러시 헤드가 삽입되고 제거되는 하나의 개구를 갖는 폐쇄된 저부를 갖는다. 게다가, 이러한 챔버는 종종 다양한 부품들 내 그리고 그 사이에(즉, 구석 구석) 다수의 내부 예각을 갖는다. 이러한 환경에 배치되는 강모는 젖어 있다(사용되지 얼마 되지 않은 상태). 이러한 물은 강모로부터 떨어질 수 있거나 떨어져서 챔버 내 후방에 머무른다. UVC 광원에 대한 직접적인 시선 내에 있지 않은 경우, 이러한 물의 풀(pool)은 썩을 수 있고 병원체의 군락으로 성장할 수 있다.

[000105] (5) 존재하는 살균 챔버 내의 광원은 포인트 광원이거나 라인 광원이다. 이는 언제나 강모 영역에서 그림자를 생성하며 여기서 광은 강모 전체를 세척시키지 않기 때문에 효과적이지 않다.

[000106] (6) 존재하는 시스템은 브러시가 세정들 사이에서 사용하는 횟수와 관계없이 동일한 세정 사이클을 수행한다.

[000107] (7) 살균 챔버는 세정하기가 매우 어렵다.

[000108] (8) 존재하는 시스템 내의 광원은 사용자에게 매우 접근 가능하다. 사실, 사용자는 부득이하게 자신의 손 또는 브러시 헤드로 광원을 터치할 수 있다. 이는 광의 표면에 오염물(예를 들면, 오일 또는 미립자 물질)을 묻일 수 있어, 광의 방출 및 효능을 감소시킨다.

[000109] 현 발명의 하나의 실시예는 통합된 충전 스테이션 및 살균 챔버를 포함한다. 이러한 베이스 스테이션은 AC 파워로 코드 연결하거나 이의 자체 내부 배터리로 작동한다. 전동 칫솔은 브리시 헤드 단부를 아래로 하여 베이스 스테이션 내로 삽입된다. 일단 삽입되면, 브러시 헤드는 환경으로부터 제거되고 이는 솔질들 사이에 환경에 놓이는 것보다 더 깨끗하게 유지되고 더 많은 살균을 할 수 있다. 상기 섹션에서 언급된 바와 같이, 현 기술에서 발생되는 사안을 해결하는 것을 돕는다.

[000110] 칫솔은 브러시 헤드 단부 근처에 내부 충전 코일을 갖는다. 이는 베이스에서 이러한 코일과 유사 코일 사이의 비-접촉 유도 커플링을 생성한다. 베이스가 칫솔의 존재를 검출하면, 충전이 시작하고 살균 사이클을 시작한다. 살균은 충전 스테이션 내 UVC 광원에 의해 수행된다. 이러한 UVC 광원은 기술 분야의 현 상태와 유사한 포인트 또는 라인 소스일 수 있다. 일 실시예에서, 브러시 헤드 둘레를 감싸서 상기 섹션에서 언급된 그림자를 제거하는 광원이다.

[000111] 이러한 링 광은 수은 증기 튜브 광일 수 있다. 또한 브러시 헤드 주위를 둘러싸는 일련의 포인트 광원일 수 있다. 대안적으로, 광 파이프를 통해 브러시 헤드까지 올려서 둘러싸는 단일 광원일 수 있다. 그럼자의 제거시 추가로 보조하도록, 살균 챔버의 내부가 반사되게 제조될 수 있다. 알루미늄 코팅은 UVC 광을 매우 효과적으로 반사시키는 것이 도시되어 있다. 살균 사이클 동안, UVC 광은 미리 결정된 양의 시간 동안 턴 온된다. 시간의 양은 칫솔이 마지막 세정 이후로 통과하는 브러시 사이클의 개수를 기초로 하여 변환될 수 있다. 이는 위의 섹션의 문제점을 해결한다.

[000112] 브러시 핸들은 사용 트랙을 유지할 수 있고 이러한 정보는 RFID 트랙킹 또는 블루투스 통신과 같은 수단을 통해 베이스 스테이션과 통신될 수 있다. 브러시가 베이스에 삽입되면, 살균 사이클이 시작한다. 이는 사용자로부터 달성하기 위한 부가 노력을 취하지 않기 때문에, 위의 섹션들에서 참조된 현 제품의 단점을 해결한다.

[000113] 설계의 바람직한 챔버는 워터 트랩이 될 수 있는 틈이 없다. 물이 브러시 헤드에서 떨어지면, 물은 장치를 통하여 챔버의 저부 내의 개구를 통하여 떨어진다. 이는 위의 섹션의 현 문제점을 해결한다. 이러한 물은 이 물이 증발될 때까지 카운터 톱 상에 남아 있을 수 있다.

[000114] 대안적으로, 챔버 아래 배치되는 친수성 패드가 있을 수 있다. 이러한 패드는 이의 용적 전체에 걸쳐 또는 이의 표면을 따라 물을 빨아들일 수 있다. 물이 퍼지기 때문에, 더 큰 증발 표면적을 가지며 상당히 가속된 속도로 환경으로부터 제거된다. 이러한 패드는 유닛을 잡아 주어서 유닛이 뒤집어 지는 것을 방지하는 다른 기능을 가질 수 있다. 챔버의 양단부가 개방되고 틈이 없기 때문에, 젖병 세정기, 칫솔에 대한 부착물, 또는 심지어 수건과 같은 장치를 세정하기가 용이하고, 위의 섹션의 문제를 해결한다.

[000115] 브러시 및 베이스 스테이션 사이의 통신 링크일 수 있기 때문에, 브러시 및 베이스 스테이션 중 어느 하나가 사용자에 대한 정보를 통신하기 위해 디스플레이를 가질 수 있다. 이러한 디스플레이는 남은 충전 시간, 남은 살균 시간, 완료된 브러싱 사이클 횟수, 남아 있는 브러시 헤드 수명, 평균 브러싱 기간, 등 같은 것을 보여줄 수 있다

[000116] 브러시가 베이스 스테이션 내로 삽입될 때, 이 설계는 강모가 광원과 접촉하는 것을 방지하는 것이다. 광원은 또한 챔버 내로 깊게 묻혀서 사용자가 광원과 직접 접촉하는 가능성을 최소화한다. 이는 위에서 언급된 섹션 (8)의 문제점을 해결한다.

[000117] 전술된 것 모두가 수동 및 전동 칫솔에 적용될 수 있다.

[000118] 부록 1은 아래의 내용을 포함한다: 도 9는 UV 전구 및 챔버 또는 케이싱 내의 그림자진 영역을 도시한다. 도 10은 상이한 도면으로부터 챔버를 도시한다. 도 11은 브러시 대 챔버 도킹, 배치, 및 갭을 도시한다. 도 12는 RFID 칩을 도시하고 브러시의 횡단면을 도시한다. 도 13은 UV 광원 및 챔버 내부를 도시한다. 도 14는 최대 효과를 위한 거울과 같은 반사 표면을 구비한 챔버 내부를 도시한다. 도 15는 원형인 곡률을 갖는 UV 전구를 도시한다. 도 16은 챔버 패드, 챔버 패드의 형상, 챔버 패드의 사용 뿐만 아니라 사용자에 대한 경고 또는 정보, 예를 들면 장치 상의 충전 잔량, 및 브러싱 시간의 양 또는 주기를 위해 챔버의 외측 표면상의 표시 등 및/또는 디스플레이 옵션, 예를 들면 다수의 등 또는 다이오드, 또는 바 형상 라이트 또는 표시기, 또는 슬라이딩 스케일 표시기, 또는 컬러 광, 또는 표시된 매개변수의 값에 비례하여 세기를 변화시키는 광, 예를 들면 배터리 상의 충전 잔량에 비례하는 광 세기, 또는 낮은 충전 표시에 대한 경고로서 적색 등을 사용하는 것을 도시한다. 도 17은 챔버 세정 브러시를 도시한다. 도 20은 브러시 대 챔버 작동을 도시한다. 도 22는 자체 세정을 위한, 세정 사이클 시퀀스를 도시한다. 도 23은 충전 사이클 시퀀스를 도시한다. 도 24는 다른 챔버/칫솔 시스템 및 이들의 설계/매개변수/구성요소의 장점 및 설명을 도시한다. 도 25는 세정 절차(기능 1)를 도시한다. 도 26은 충전 절차(기능 2)를 도시한다. 도 27은 상이한 각도로 구성요소를 구비한 진보된 소닉 브러시를 도시한다. 도 28은 내부 챔버의 상세를 도시한다. 도 29는 UV 광원 링을 구비한 내부 챔버를 도시한다. 도 30은 작동 중의 브러시 배치를 도시한다. 도 31은 챔버 내부의 광 파이프를 도시한다. 도 32는 컴팩트한 세정 설정을 위한 시스템에 대한 인입가능한(retractable) 케이블 또는 와이어를 도시하며 예를 들면, 챔버의 내부 바닥에 위치된 와이어를 인입하기 위한 선택적 스프링을 구비하고 인입 공정을 위한 스프링을 해제하기 위한 선택적 후크를 구비한다. 도 33은 옵션으로서, 대류, 전도, 또는 방사 메커니즘으로, 열 에너지, 방사 에너지로, 증가된 기류로, 챔버의 레그 또는 저부 주위의 갭으로부터 나오는 약간의 공기로, 건조 공정에 대한 갭을 가지고 건조 절차/시컨스(도 3)를 도시한다. 열 에너지 또는 방사 에너지에 대한 유닛 또는 장치는 가동 부품으로서 챔버 공동(cavity)의 중간 내로 삽입될 수 있거나 상기 유닛 또는 장치는 챔버의 벽 또는 중간에 고정될 수 있다.

[000119] 부록 2, 1 내지 11 페이지는 챔버 및 칫솔을 더 상세하게 도시한 상이한 도면들 및 횡단면도를 도시한다.

[000120] 일 실시예에서, 예를 들면 칫솔을 위한 공통 전원 또는 배터리 백업 및 UV 광원을 구비한 다수의 칫솔을 (홀딩하기) 위한 유닛 상에 다수의 챔버를 갖는다. 일 실시예에서, 동일 챔버 내에 UV 광원에 대한 다수의 링을 갖는다. 일 실시예에서, UV 광원에 대한 다수의 링이 서로 평행하다. 지면 또는 카운터 상부에 평행한 UV 광원에 대한 다수의 링을 갖는다. 일 실시예에서, 수평 지면 또는 카운터 상부에 대한 각도로 수평 지면에 대해 예를 들면, 15, 30, 40, 45, 55, 60, 또는 80도로 UV 광원에 대한 다수의 링을 갖는다.

[000121] 일 실시예에서, 칫솔이 각각의 사용후 챔버 내에 세팅될 때 향상된 건조 공정 및 물의 향상된 배출을 위해 챔버의 내측 바디 상에 및/또는 칫솔 핸들 상에 (또는 둘 모두 상에) 약간의 핀, 또는 트랙 또는 그루브를 가져서 칫솔과 내측 챔버 사이의 일부 갭에서 공기가 유동하게 된다(예를 들면, 도 11, 부록 1 참조)

[000122] 일 실시예에서, 칫솔 몸체 내부에 배터리 및 충전 코일을 가지며, RFID(능동 및 수동)의 양 버전에 대한, 컴퓨터, 스마트 폰, 및 챔버와의 통신을 위한, 예를 들면, 사용 시간, 장치의 충전 잔량 등을 위한 예를 들면, 테이터의 전송, 인증 및 식별을 위한 RFID 칩이 시스템 상에 또는 시스템 내부에 장착된다(예를 들면, 도 12, 부록 1 참조). 일 실시예에서, 짧은 범위 통신을 위한 블루투스 장치를 가지며 이 블루투스 장치는 칫솔 및/또는 챔버에 설치된다.

[000123] 일 실시예에서, UV의 소스는 챔버 내부에 있다. 일 실시예에서, UV의 소스는 챔버 외부에 있고 예를 들면 UV가 광 섬유 또는 도파관으로부터 챔버로 전달된다. 일 실시예에서, 광은 세정될 대상의 향상된 적용 범위를 위해 스플리터에 의해 광의 경로 상에서 다수의 레이(ray)로 분할된다. (예를 들면, 도 31, 부록 1 참조). 일 실시예에서, 예를 들면 금속 코팅을 사용하는, 오목형 거울 또는 표면으로서 챔버 내부에 거울 또는 거울 세트 또는 반사 표면 또는 예를 들면 구형 또는 원통형 또는 원추형상의 곡선형 반사 표면이 있어, 광을 집중시키거나 광을 세정을 위한 칫솔 상으로 지향시킨다(예를 들면, 도 13, 부록 1 참조).

[000124] 일 실시예에서, 초점 영역은 거울의 초점 상에 있다. 일 실시예에서, 상기 소스는 링 또는 두꺼운 링 또는 다수의 링 또는 평행한 링, 수평방향 링 또는 링의 어레이 또는 UV 범위(또는 다이오드, 레이저 또는 다른 광원)에서 다양한 파장을 갖는 링일 수 있다(예를 들면, 도 14, 부록 1 참조).

[000125] 일 실시예에서, 장치 또는 칫솔 몸체 또는 별개의 로드 또는 스틱 상에서 교체 가능한, 다수의 브러시 헤드를 구비한 챔버 세정 브러시가 사용자에 의해 챔버를 세정하기 위해 사용된다(예를 들면, 도 17, 부록 1 참조). 향상된 세정을 위해 상이한 형상을 갖는, 동일한 스틱 또는 바 또는 로드 상에 다수의 브러시를 가질 수 있다.

[000126] 일 실시예에서, 챔버 등, 메뉴, 또는 디스플레이는 기능성에 대한 사용자에 대한 선택이, 예를 들면 사용자에 의한 데이터 입력에 의해 제공할 수 있고, 경고하는 적색 광을 사용하여 칫솔에 대한 충전 단계, 또는 구성요소의 오동작을 표시하기 위하여 컬러 광 또는 다이오드를 사용하여 사용자에게 정보 또는 경고를 제공할 수 있다(예를 들면, 도 20, 부록 1 참조).

[000127] 도 21, 부록 1은 세정 사이클 시퀀스를 도시한다. 선택적인 세정 세기는 브러시 삽입의 빈도(frequency)를 기초로 한다. 예를 들면, 아래와 같다: 빈도가 많을 수록, 세기가 강해진다. 이러한 세기(I)는 상이한 실시예에 대해 빈도 값(f)에 대해 선형적으로 비례될 수 있거나(계수로서 k를 가짐) 빈도 값(f)에 대해 비선형적으로 비례될 수 있다. 예를 들면 하나의 케이스는 아래와 같다: (I = k*f), 여기서 I는 광의 세기이고, F는 브러싱의 빈도 또는 회수 또는 단위 시간 당, 예를 들면, 주당, 월당, 일당 브러싱의 시간의 길이(또는 평균 값, 또는 작동 평균, 또는 누적 값)이고, 여기서 *는 곱셈 연산을 나타낸다. 세기는 아래의 사항을 기초로 할 수 있다: 스테라디언(steradian) 당 와트(W/sr)로 측정된 방사 세기, 또는 스테라디언 당 루멘(lm/sr)으로 측정된 광도, 또는 제곱 미터당 와트(W/m²)로 측정된 칸델라(candela; cd), 또는 조도 또는 세기, 또는 (W·sr-1·m-2)로 측정된 레디언스(Radiance).

[000128] 일 실시예에서, 충전은 직접 금속 접촉 및 백업 배터리 또는 재충전식 배터리와의 접속에 의해 수행된다. 일 실시예에서, 충전은 직접적이거나 금속 접촉이 아닌 유도 코일로 원격으로 수행된다. 챔버의 재료는 종래 기술에서와 같이 임의의 합성 또는 천연 재료, 예를 들면 플라스틱일 수 있다. 일 실시예에서, 내부 챔버의 브러시 및 외형은 이 브러시 및 외형이 접촉되지 않거나 교차 오염되지 않도록 설계된다. (예를 들면, 도 30, 부록 1 참조).

[000129] 부록 3의 도 1 내지 도 11은 부록 2의 다양한 특징 및 도면에 대응한다. 도 5는 챔버의 도면에 대한 일 예로서 우리의 장치의 일 실시예에 대한 것이다. 도 1 내지 도 4, 도 8 내지 도 10은 본 장치의 일 실시예에 대한 것으로, 일 예로서 칫솔을 갖는 챔버의 도면에 대한 것이다. 도 6(또는 도 7)은 횡단면도로서, 본 장치의 일 실시예에 대한 것으로, 일 예로서 그 안에 칫솔을 구비한 챔버의 도면에 대한 것이다. 도 11은 본 장치의 일 실시예에 대한 것으로, 일 예로서 칫솔의 도면에 대한 것이다.

[000130] 부록 5는 시스템의 일 실시예, 일 예로서, 시스템의 구성요소의 도면에 대한 것으로 상기 구성요소는 메뉴, 수동 버튼, 및 디스플레이; RFID, 블루투스, 및 안테나; 사용자-인터페이스, 인디케이터 등, 및 경고 등; 사용 주파수, 사용 히스토리, 평균 모듈(지금까지의 기준값에 대한 또는 히스토리 또는 성능 값에 대한 비교를 위한 평균 값), 및 메모리; 모터 제어부; UV 램프; 브러시 건조기; 모드 등, 충전 회로, 및 외부 전원을 포함한다.

이들의 변형 및 예를 갖는 다른 실시예는 아래와 같다:

[000131] 치아 위생 시스템은 아래의 구성을 포함한다:

● 일 단에 핸들, 선단에 입 관리 엔드 이펙터, 및 상기 핸들과 엔드 이펙터 사이에 샤프트를 구비한 구강 관리 도구.

● 입 관리 엔드 이펙터 및 상기 샤프트가 정상 사용 동안 사용자의 입으로 들어간다.

● 상기 구강 관리 도구를 저장하기 위한 자립형 챔버.

● 상기 챔버는 살균 수단을 포함한다.

● 저장하는 동안 또는 살균 동안, 이물질이 상기 입 관리 엔드 이펙터 또는 상기 샤프트로부터 떨어진 경우, 상기 이물질은 상기 챔버의 어느 부분과도 접촉하지 않는다.

● 보관되는 동안, 상기 입 관리 엔드 이펙터는 상기 핸들 아래에 놓인다.

● 상기 엔드 이펙터로부터 습기를 제거하기 위한 히터.

● 구강 관리 도구는 전기 및 배터리 전력 공급형이다.

● 상기 챔버는 상기 구강 관리 도구의 배터리들을 충전하기 위한 충전 회로를 포함한다.

[000132] 치아 위생 시스템은 아래의 구성을 포함한다:

● 상기 입 관리 엔드 이펙터 및 상기 샤프트가 정상 사용 동안 사용자의 입으로 들어간다.

● 상기 구강 관리 도구를 보관하기 위한 자립형 챔버로서, 상기 입 관리 엔드 이펙터 및 상기 샤프트는 챔버 내부에 놓이는 반면, 상기 핸들의 적어도 일 부분은 챔버 외부에 놓인다.

● 상기 챔버는 살균 수단을 포함한다.

● 상기 챔버는 삽입, 제거 또는 상기 챔버 내부에 보관할 때, 상기 입 관리 엔드 이펙터와 접촉하지 않거나 상기 샤프트와 접촉하지 않는다.

● 상기 구강 관리 도구는 상기 챔버 또는 상기 구강 관리 도구에 수행되는 부가 액션 없이 상기 챔버에 삽입되거나 제거될 수 있다.

● 상기 챔버는 살균 및 보관 동안 상기 입 관리 엔드 이펙터 및 상기 샤프트 아래 환경(중력)에 개방된다.

● 상기 엔드 이펙터로부터 습기를 제거하기 위한 히터.

● 구강 관리 도구는 전기 및 배터리 전력 공급형이다.

[000133] 치아 위생 시스템은 아래의 구성을 포함한다:

● 구강 관리 도구.

● 상기 구강 관리 도구를 저장하기 위한 자립형 챔버.

● 상기 챔버는 살균 수단을 포함한다.

● 상기 살균 수단은 광을 자외선 스펙트럼으로 광을 방사하는 적어도 하나의 램프를 포함한다.

● 상기 램프들 중 적어도 하나의 단일 광원이며, 여기서 대다수의 램프의 기하학적 형상은 환형체로서 설명될 수 있다.

[000134] 상기 교시의 어떠한 변형도 본 특허 출원에 의해 커버되도록 의도된다. 임의의 2 개 이상의 실시예가 또한 상기 예로부터, 칫솔 및/또는 얼굴용 브러시 둘 모두를 위해 서로 조합되고 부가될 수 있다.

Claims

베이스 스테이션으로서, 상기 베이스 스테이션은 챔버를 포함하고, 상기 챔버는 상기 베이스 스테이션 중간의 공동(cavity)이며, 상기 챔버는 상기 베이스 스테이션의 상부로부터 상기 베이스 스테이션의 저부까지 신장되는, 베이스 스테이션; 및
브러시 장치로서, 상기 브러시 장치는 브러시 헤드를 포함하고, 상기 브러시 장치는 상기 베이스 스테이션의 상부에 놓이며, 상기 브러시 헤드의 적어도 일 부분이 상기 챔버 내에 배치되는, 브러시 장치;를 포함하는,
얼굴용 또는 신체용 세정 브러시 시스템.
베이스 스테이션으로서, 상기 베이스 스테이션은 챔버를 포함하고, 상기 챔버는 상기 베이스 스테이션 중간의 공동이며, 상기 챔버는 상기 베이스 스테이션의 상부로부터 상기 베이스 스테이션의 저부까지 신장되는, 베이스 스테이션;
브러시 헤드를 포함하는 브러시 장치; 및
자외선을 방사하는 광원으로서, 상기 자외선은 상기 공동의 적어도 일 부분에 존재하는, 광원;을 포함하는,
얼굴용 또는 신체용 세정 브러시 시스템.
베이스 스테이션으로서, 상기 베이스 스테이션은 챔버를 포함하고, 상기 챔버는 상기 베이스 스테이션 중간의 공동이며, 상기 챔버는 상기 베이스 스테이션의 상부로부터 상기 베이스 스테이션의 바닥까지 신장되는, 베이스 스테이션;
브러시 헤드를 포함하는 브러시 장치; 및
공기를 상기 공동 내측으로 이동시키는 팬;을 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 팬을 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 세정 옵티마이저(cleaning optimizer) 및 세정 스케쥴러(cleaning scheduler)를 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 하나 또는 둘 이상의 자외선을 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 하나 또는 둘 이상의 모터를 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 하나 또는 둘 이상의 리플렉터를 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 습도 센서를 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 모터 제어기를 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 회전 및 진동 모터 작용 옵션을 갖는 모터를 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 교체가능한 브러시 팁 또는 브러시 헤드를 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 충전 코일 모듈을 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 배터리를 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 오목 또는 볼록 렌즈, 거울, 또는 리플렉터를 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 공기가 내부로 유입되도록 상기 베이스 스테이션 아래에 있는 적어도 하나의 레그를 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 공기가 내부로 유입되도록 상기 챔버 내부에 그루브, 핀 또는 갭을 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 원격 히터 또는 램프 히터를 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 충전 표시 디스플레이를 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 시스템은 세정 표시 디스플레이를 포함하는,
얼굴용 및 신체용 세정 브러시 시스템.