KR20170003274U - Backward flowing preventing apparatus of dry pump for manufacturing semiconductor wafer - Google Patents

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Abstract

반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치가 개시된다.
개시되는 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치는 반도체 웨이퍼가 내삽되는 챔버와, 상기 챔버 내부에 부압(negative pressure)를 걸어주기 위한 드라이 펌프와, 상기 챔버와 상기 드라이 펌프를 연결해주는 배관을 포함하는 반도체 웨이퍼 제조 설비에 적용되어, 파티클 역류를 방지하는 것으로서, 외부에서 인가되는 공압에 의해 상기 배관을 개폐시킬 수 있는 아이솔레이션 밸브; 및 상기 드라이 펌프의 작동 신호를 실시간(real time)으로 전달받는 것으로, 상기 드라이 펌프로의 전원 공급이 오프되면, 그러한 드라이 펌프로의 전원 공급 오프 신호를 실시간으로 전달받아, 상기 아이솔레이션 밸브로 공급되는 공압을 실시간으로 차단함으로써, 상기 드라이 펌프의 정지 즉시 상기 아이솔레이션 밸브가 상기 배관을 차단하도록 하는 펌프 신호 즉답 제어 부재;를 포함하고, 상기 펌프 신호 즉답 제어 부재는 상기 드라이 펌프가 최초 연결되면, 상기 드라이 펌프로부터 전달되는 신호값을 다양한 모델 형태의 드라이 펌프의 고유값들이 저장된 것인 미리 설정된 테이블값과 비교하여, 상기 드라이 펌프의 모델을 구분함으로써, 상기 드라이 펌프의 모델을 자동적으로 인식하여 상기 드라이 펌프가 작동 중지되는 조건값을 자동적으로 미리 파악하는 것을 특징으로 한다.
개시되는 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치에 의하면, 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치가 아이솔레이션 밸브와, 펌프 신호 즉답 제어 부재를 포함함에 따라, 드라이 펌프가 정전, 펌프 내부적 결함 등으로 인해 예기치않게 작동 중지되더라도, 그 즉시 드라이 펌프와 챔버 사이가 차단될 수 있게 되어, 파티클이 챔버로 역류되는 현상이 방지될 수 있고, 그에 따라 챔버 내의 반도체 웨이퍼 오염이 방지될 수 있고, 그러한 파티클 오염에 따른 챔버 크리닝 등의 작업이 요구되지 아니하게 되며, 터보 펌프에 역류로 인한 과도한 부하가 걸리는 현상이 방지될 수 있는 장점이 있다.A backflow prevention device for a dry pump for manufacturing a semiconductor wafer is disclosed.
A backflow prevention device for a dry pump for manufacturing a semiconductor wafer includes a chamber into which a semiconductor wafer is inserted, a dry pump for applying negative pressure inside the chamber, and a pipe connecting the chamber and the dry pump An isolation valve which is applied to a semiconductor wafer manufacturing facility to prevent particles from flowing backward and which is capable of opening and closing the pipe by an external applied air pressure; And an operation signal of the dry pump is received in real time. When the power supply to the dry pump is turned off, a power supply off signal to the dry pump is received in real time and supplied to the isolation valve And a pump signal response control member for blocking the air pressure in real time to cause the isolation valve to shut off the pipeline immediately after stopping the dry pump, wherein, when the dry pump is initially connected, The model of the dry pump is automatically recognized by comparing the signal value transmitted from the pump with a predetermined table value that is stored in the eigenvalues of the dry pump of various model types, Automatically stops the condition values that And the like.
According to the backflow prevention device of the dry pump for manufacturing a semiconductor wafer, since the backflow prevention device of the dry pump for manufacturing a semiconductor wafer includes the isolation valve and the pump signal answering control member, the dry pump is not expected to fail due to power failure, It is possible to immediately shut off the dry pump and the chamber so that the phenomenon that the particles are returned to the chamber can be prevented so that contamination of the semiconductor wafer in the chamber can be prevented, Chamber cleaning and the like are not required, and the phenomenon that the turbo pump is excessively loaded due to the back flow can be prevented.

Description

반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치{Backward flowing preventing apparatus of dry pump for manufacturing semiconductor wafer}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a backflow prevention device for dry pump for manufacturing semiconductor wafers,

본 고안은 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a backflow prevention device for a dry pump for manufacturing semiconductor wafers.

반도체 웨이퍼를 가공하여 제조하는 공정들에는 각종 챔버가 적용되고, 그러한 각종 챔버 내를 진공으로 만드는 등의 목적으로 드라이 펌프(dry pump)가 많이 적용된다.Various chambers are applied to processes for manufacturing semiconductor wafers, and a dry pump is often applied for the purpose of making vacuum in various chambers.

이러한 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 예로 제시될 수 있는 것이 아래 제시된 공개실용신안등록 제 10-2006-0123851호의 그것이다.An example of such a dry pump for semiconductor wafer fabrication is disclosed in the following published utility model registration No. 10-2006-0123851.

이러한 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프가 정전, 펌프 내부적 결함 등으로 인해 예기치않게 정지될 경우, 파티클이 챔버로 역류되어, 챔버 내에 있던 반도체 웨이퍼를 오염시키는 문제가 발생되었는데, 이러한 챔버 내로의 파티클 역류에 의한 반도체 웨이퍼 오염 방지를 위하여, 에이지브이(AGV, Auto gate shutoff valve)가 적용되었다.When such a dry pump for semiconductor wafer fabrication is stopped unexpectedly due to an electrostatic charge or an internal defect in the pump, there is a problem that the particles flow back to the chamber and contaminate the semiconductor wafer in the chamber. To prevent wafer contamination, AGV (Auto gate shutoff valve) was applied.

도 1은 종래의 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프 및 에이지브이가 적용된 모습을 보이는 도면이다.1 is a view showing a state where a conventional dry pump for semiconductor wafer production and an AGV are applied.

도 1을 참조하면, 드라이 펌프(60)와 챔버(10)가 배관(50)에 의해 연결되고, 그러한 배관(50) 상에 에이지브이(40)가 설치되는 구조였다. 도면 번호 30은 터보 펌프이고, 도면 번호 20은 상기 챔버(10)와 상기 터보 펌프(30)를 연결해주는 펌프 연결 밸브이다.1, there is shown a structure in which a dry pump 60 and a chamber 10 are connected by a pipe 50, and an AGV 40 is installed on such a pipe 50. Reference numeral 30 denotes a turbo pump, and reference numeral 20 denotes a pump connection valve for connecting the chamber 10 and the turbo pump 30.

종래에는 정전, 펌프 내부적 결함 등으로 인해 예기치않게 드라이 펌프(60)가 정지되는 경우, 그러한 드라이 펌프(60)의 정지 신호를 외부의 중앙 제어부(미도시)에서 전달받은 후, 그 중앙 제어부의 제어 신호가 상기 에이지브이(40)로 전달되어, 상기 에이지브이(40)가 상기 배관(50)을 막는 구조였다.Conventionally, when the dry pump 60 is stopped unexpectedly due to a power failure, an internal defect in the pump, etc., a stop signal of the dry pump 60 is received from an external central control unit (not shown) A signal is transmitted to the AGV 40, and the AGV 40 blocks the pipe 50. [

그러나, 이러한 종래의 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 작동 구조에 의하면, 정전, 펌프 내부적 결함 등의 발생과 함께 파티클은 배관(50)을 따라 빠르게 역류되어 버림에 반해, 드라이 펌프(60)의 정지 신호가 중앙 제어부로 전달된 다음 중앙 제어부로부터 제어 신호가 에이지브이(40)로 전달되기까지 딜레이 타임(delay time)이 발생될 수 밖에 없고, 배관(50) 내의 압력이 챔버(10) 내의 압력보다 높고 진공 상태에서는 기체의 흐름이 매우 빠르기 때문에 배관(50) 내부의 기체가 챔버(10)로 급속히 역류되며, 일반적으로 에이지브이(40)는 장비로부터 10 내지 20m 정도 이격되어 있어서, 중앙제어부로부터 제어 신호를 받은 에이지브이(40)가 배관(50)을 막도록 작동되더라도, 파티클은 역류하여 챔버(10) 내부의 반도체 웨이퍼를 이미 상당량 오염시킨 후가 되어, 챔버(10) 내의 반도체 웨이퍼를 전량 폐기하여야 함은 물론, 챔버(10) 크리닝 등의 작업이 추가로 요구되고, 그러한 챔버(10) 크리닝 등의 작업 수행 동안에는 반도체 웨이퍼 제조가 불가능한 단점이 있었다.However, according to such a conventional operating structure of the dry pump for manufacturing a semiconductor wafer, the particles are rapidly backwrapped along the pipe 50 with the occurrence of static electricity, internal defects in the pump, etc., while the stop signal of the dry pump 60 The delay time till the control signal is transmitted from the central control unit to the AGV 40 must be generated and the pressure in the pipe 50 is higher than the pressure in the chamber 10, The gas inside the piping 50 rapidly flows back into the chamber 10 because the flow of the gas is very fast and generally the AGV 40 is separated from the equipment by about 10 to 20 m so that the control signal from the central control unit Even if the received vane 40 is operated to block the piping 50, the particles are backflowed to contaminate the semiconductor wafer in the chamber 10 with considerable amount, There is a disadvantage that not only the whole semiconductor wafer in the chamber 10 has to be discarded but also an operation such as cleaning of the chamber 10 is further required and semiconductor wafer fabrication is impossible during the operation such as cleaning of the chamber 10.

이러한 파티클 역류를 방지하기 위한 구조로, 아래 제시된 등록실용신안등록 제 10-0859644호의 구조물이 제시되었으나, 스토리지박스를 더 설치하여야 하는 등 구조적으로 복잡해지는 단점이 있었다.As a structure for preventing the backflow of the particles, a structure disclosed in the Registration Practical Utility Model Registration No. 10-0859644 has been proposed. However, there is a disadvantage that the storage box must be additionally installed, which is structurally complicated.

또한, 터보 펌프(30)는 보통 30000rpm 이상으로 진공 상태에서 고속 회전하고, 챔버(10) 내부의 고진공과 배관(50)의 진공 상태의 압력이 일정 수준 비슷해주어야 상기 터보 펌프(30)가 원활하게 회전되는데, 종래에는, 드라이 펌프(60)가 정지될 때, 챔버(10) 내부는 고진공이지만 배관(50) 내부가 역류로 인해 압력 상승된 상태가 되어, 터보 펌프(30) 양쪽 압력이 맞지 않게 되고, 그에 따라 터보 펌프(30)에 과도한 부하가 걸리게 되어, 터보 펌프(30)의 회전축이 파손되는 등 터보 펌프(30)에 문제가 발생될 수 있었다.The turbo pump 30 is rotated at a high speed in a vacuum state at a speed of 30,000 rpm or more and a high vacuum in the chamber 10 and a vacuum state of the pipe 50 should be maintained at a certain level, Conventionally, when the dry pump 60 is stopped, the interior of the chamber 10 is highly vacuumed, but the inside of the pipe 50 is pressure-increased due to the reverse flow, Accordingly, an excessive load is applied to the turbo pump 30, which may cause a problem with the turbo pump 30, such as the breakage of the rotating shaft of the turbo pump 30. [

공개특허 제 10-2006-0123851호, 공개일자: 2006.12.05., 발명의 명칭: 반도체 디바이스 제조를 위한 식각장비의 드라이 펌프Open Patent No. 10-2006-0123851, Published on December 5, 2006, Title of the Invention: Dry Pump of Etching Equipment for Semiconductor Device Manufacturing 등록특허 제 10-0859644호, 등록일자: 2008.09.16., 발명의 명칭: 반도체 장비의 드라이펌프 내 파우더 유입방지용 스토리지박스Registered Patent No. 10-0859644, Date of Registration: September 16, 2008. Title of the invention: Storage box for preventing powder infiltration in dry pump of semiconductor equipment

본 고안은 정전, 펌프 내부적 결함 등으로 인해 예기치않게 드라이 펌프가 작동 중지되더라도 파티클이 챔버로 역류되는 현상을 방지할 수 있는 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.The object of the present invention is to provide a backflow preventing device for a dry pump for manufacturing semiconductor wafers, which can prevent particles from flowing back to the chamber even if the dry pump is unexpectedly shut down due to power failure, pump internal defects,

본 고안의 일 측면에 따른 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치는 반도체 웨이퍼가 내삽되는 챔버와, 상기 챔버 내부에 부압(negative pressure)를 걸어주기 위한 드라이 펌프와, 상기 챔버와 상기 드라이 펌프를 연결해주는 배관을 포함하는 반도체 웨이퍼 제조 설비에 적용되어, 파티클 역류를 방지하는 것으로서,According to an aspect of the present invention, there is provided an apparatus for preventing reverse flow of a dry pump for manufacturing a semiconductor wafer, including a chamber into which a semiconductor wafer is inserted, a dry pump for applying a negative pressure to the chamber, To a semiconductor wafer fabrication facility including piping to prevent particle backflow,

외부에서 인가되는 공압에 의해 상기 배관을 개폐시킬 수 있는 아이솔레이션 밸브(isolation valve); 및 상기 드라이 펌프의 작동 신호를 실시간(real time)으로 전달받는 것으로, 상기 드라이 펌프로의 전원 공급이 오프되면, 그러한 드라이 펌프로의 전원 공급 오프 신호를 실시간으로 전달받아, 상기 아이솔레이션 밸브로 공급되는 공압을 실시간으로 차단함으로써, 상기 드라이 펌프의 정지 즉시 상기 아이솔레이션 밸브가 상기 배관을 차단하도록 하는 펌프 신호 즉답 제어 부재;를 포함하고,An isolation valve capable of opening and closing the pipe by an external applied air pressure; And an operation signal of the dry pump is received in real time. When the power supply to the dry pump is turned off, a power supply off signal to the dry pump is received in real time and supplied to the isolation valve And a pump signal response control member for blocking the air pressure in real time to cause the isolation valve to shut off the pipeline immediately after stopping the dry pump,

상기 펌프 신호 즉답 제어 부재는 상기 드라이 펌프가 최초 연결되면, 상기 드라이 펌프로부터 전달되는 신호값을 다양한 모델 형태의 드라이 펌프의 고유값들이 저장된 것인 미리 설정된 테이블값과 비교하여, 상기 드라이 펌프의 모델을 구분함으로써, 상기 드라이 펌프의 모델을 자동적으로 인식하여 상기 드라이 펌프가 작동 중지되는 조건값을 자동적으로 미리 파악하는 것을 특징으로 한다.The pump signal instantaneous control member compares a signal value transmitted from the dry pump with a preset table value that stores eigenvalues of dry pumps of various model types when the dry pump is connected for the first time, And automatically recognizes the model of the dry pump and automatically grasps a condition value at which the dry pump stops operating.

본 고안의 일 측면에 따른 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치에 의하면, 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치가 아이솔레이션 밸브와, 펌프 신호 즉답 제어 부재를 포함함에 따라, 드라이 펌프가 정전, 펌프 내부적 결함 등으로 인해 예기치않게 작동 중지되더라도, 그 즉시 드라이 펌프와 챔버 사이가 차단될 수 있게 되어, 파티클이 챔버로 역류되는 현상이 방지될 수 있고, 그에 따라 챔버 내의 반도체 웨이퍼 오염이 방지될 수 있고, 그러한 파티클 오염에 따른 챔버 크리닝 등의 작업이 요구되지 아니하게 되며, 터보 펌프에 역류로 인한 과도한 부하가 걸리는 현상이 방지될 수 있는 효과가 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided an apparatus for preventing reverse flow of a dry pump for manufacturing semiconductor wafers, which includes an isolation valve and a pump signal response control member, It is possible to immediately shut off the dry pump and the chamber, so that the phenomenon that the particles are returned to the chamber can be prevented, so that contamination of the semiconductor wafer in the chamber can be prevented, It is not required to perform an operation such as cleaning of the chamber due to contamination of the particles, and it is possible to prevent an excessive load from being applied to the turbo pump due to the reverse flow.

도 1은 종래의 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프가 적용된 모습을 보이는 도면.
도 2는 본 고안의 일 실시예에 따른 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치가 적용된 모습을 보이는 도면.
도 3은 본 고안의 일 실시예에 따른 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치를 구성하는 제어 모듈을 보이는 도면.
도 4는 종래의 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프에서 역류가 발생되어 웨이퍼가 오염된 모습을 찍어 프린트한 사진.
도 5는 본 고안의 일 실시예에 따른 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치에 의해 역류가 방지되어 웨이퍼 오염이 최소화된 모습을 찍어 프린트한 사진.1 is a view showing a state where a conventional dry pump for semiconductor wafer production is applied.
2 is a view showing a state in which a backflow prevention device of a dry pump for manufacturing a semiconductor wafer is applied according to an embodiment of the present invention.
3 is a view showing a control module constituting a backflow prevention device of a dry pump for manufacturing a semiconductor wafer according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a photograph of a conventional dry pump for manufacturing a semiconductor wafer, in which a reverse flow is generated and the wafer is contaminated.
FIG. 5 is a photograph showing a state in which reverse flow is prevented by the backflow prevention device of a dry pump for manufacturing a semiconductor wafer according to an embodiment of the present invention, so that contamination of the wafer is minimized.

이하에서는 도면을 참조하여 본 고안의 일 실시예에 따른 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치에 대하여 설명한다.Hereinafter, an apparatus for preventing reverse flow of a dry pump for manufacturing a semiconductor wafer according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 2는 본 고안의 일 실시예에 따른 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치가 적용된 모습을 보이는 도면이고, 도 3은 본 고안의 일 실시예에 따른 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치를 구성하는 제어 모듈을 보이는 도면이고, 도 4는 종래의 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프에서 역류가 발생되어 웨이퍼가 오염된 모습을 찍어 프린트한 사진이고, 도 5는 본 고안의 일 실시예에 따른 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치에 의해 역류가 방지되어 웨이퍼 오염이 최소화된 모습을 찍어 프린트한 사진이다.FIG. 2 is a view showing a backflow preventing device of a dry pump for manufacturing a semiconductor wafer according to an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a schematic view illustrating a backflow preventing device of a dry pump for manufacturing a semiconductor wafer according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a photograph showing a state in which reverse flow is generated in a conventional dry pump for manufacturing a semiconductor wafer and the wafer is contaminated. FIG. 5 is a view showing a control module It is a photograph printed with the reverse flow prevention by the backflow prevention device of the pump to minimize the contamination of the wafer.

도 2 내지 도 5를 함께 참조하면, 본 실시예에 따른 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치(100)는 반도체 웨이퍼가 내삽되는 챔버(10)와, 상기 챔버(10) 내부에 부압(negative pressure)를 걸어주기 위한 드라이 펌프(60)와, 상기 챔버(10)와 상기 드라이 펌프(60)를 연결해주는 배관(50)을 포함하는 반도체 웨이퍼 제조 설비에 적용되어, 파티클 역류를 방지하는 것으로, 아이솔레이션 밸브(isolation valve)(120)와, 펌프 신호 즉답 제어 부재(110)를 포함한다.2 to 5, the backflow prevention apparatus 100 of the dry pump for manufacturing a semiconductor wafer according to the present embodiment includes a chamber 10 into which a semiconductor wafer is inserted, and a negative pressure And a pipe 50 connecting the chamber 10 and the dry pump 60 to prevent particles from flowing back to the semiconductor wafer fabrication facility, An isolation valve 120, and a pump signal response control member 110.

상기 아이솔레이션 밸브(120)는 상기 배관(50) 상에 설치되어, 외부에서 인가되는 공압에 의해 상기 배관(50)을 개폐시킬 수 있는 것이다.The isolation valve 120 is installed on the piping 50 and can open / close the piping 50 by the external air pressure.

상기 펌프 신호 즉답 제어 부재(110)는 상기 드라이 펌프(60)의 작동 신호를 실시간(real time)으로 전달받는 것으로, 상기 드라이 펌프(60)로의 전원 공급이 오프되면, 그러한 드라이 펌프(60)로의 전원 공급 오프 신호를 실시간으로 전달받아, 상기 아이솔레이션 밸브(120)로 공급되는 공압을 실시간으로 차단함으로써, 상기 드라이 펌프(60)의 정지 즉시 상기 아이솔레이션 밸브(120)가 상기 배관(50)을 차단하도록 하는 것이다.When the power supply to the dry pump 60 is turned off, the pump signal response control member 110 receives an operation signal of the dry pump 60 in real time. The isolation valve 120 receives the power supply off signal in real time and blocks the air pressure supplied to the isolation valve 120 in real time so that the isolation valve 120 blocks the pipeline 50 immediately after stopping the dry pump 60 .

여기서, 상기 드라이 펌프(60)의 전원 공급 오프 신호는 정전, 펌프 내부적 결함 등으로 인해 상기 드라이 펌프(60)에 전원 공급이 중지될 때의 전압, 전류값 등의 변화 신호를 말하는 것으로, 상기 드라이 펌프(60)의 작동 중지 신호로도 정의될 수 있다.Here, the power supply off signal of the dry pump 60 refers to a change signal such as a voltage or a current value when the power supply to the dry pump 60 is stopped due to a power failure, an internal defect in the pump, Can also be defined as an operation stop signal of the pump 60. [

상기 펌프 신호 즉답 제어 부재(110)는 내부에 회로가 설치되는 케이스(111)와, 상기 케이스(111) 표면에 형성되어 상기 펌프 신호 즉답 제어 부재(110)의 작동 상태 등 각종 정보를 표시하는 디스플레이부(112)와, 상기 케이스(111) 일 측에 형성되어 외부의 전원과 연결된 파워 케이블이 연결되는 파워 연결부(113)와, 상기 케이스(111) 표면에 형성되어 각종 정보 입력을 위한 키보드 형태 등의 입력부(114)와, 상기 드라이 펌프(60)의 신호 출력단과 연결된 데이터 케이블이 연결되는 데이터 케이블 연결부(115)을 포함한다.The pump signal instantaneous control member 110 includes a case 111 on which a circuit is installed and a display 111 on the surface of the case 111 for displaying various information such as the operation state of the pump signal instantaneous control member 110, A power connection part 113 formed at one side of the case 111 and connected to an external power source and connected to a power source and a keyboard type formed on the surface of the case 111 for inputting various information And a data cable connection unit 115 to which a data cable connected to a signal output terminal of the dry pump 60 is connected.

상기 펌프 신호 즉답 제어 부재(110)의 내부에는 정전에 대비하여 배터리가 내장되어 있고, 그에 따라 정전 시에도 안정적으로 상기 아이솔레이션 밸브(120)에 대한 차단 제어가 가능하다.A battery is built in the pump signal directive control member 110 in preparation for a power failure, so that it is possible to stably control the isolation valve 120 even when a power failure occurs.

또한, 상기 펌프 신호 즉답 제어 부재(110)의 내부에는 외부 펌프에서 상기 아이솔레이션 밸브(120)로 공압 전달을 위해 공기가 유동되는 공기 유동관 상에 설치되어 상기 공기 유동관을 차단하는 3-웨이 밸브(3-way valve) 등의 차단 밸브가 설치되어, 상기 드라이 펌프(60)의 전원 공급 오프 신호가 전달되면, 상기 차단 밸브가 작동되고, 그에 따라 외부 펌프에서 상기 아이솔레이션 밸브(120)로의 공압 전달이 즉시 차단될 수 있게 된다.A three-way valve (3), which is installed on the air flow pipe through which the air flows from the external pump to the isolation valve (120) to block the air flow pipe, a shut-off valve, such as a shut-off valve, is provided, and when the power supply off signal of the dry pump 60 is transmitted, the shut-off valve is actuated so that pneumatic transfer from the external pump to the isolation valve 120 is immediately It can be blocked.

여기서, 상기 차단 밸브로 이용되는 3-웨이 밸브 등은 일반적인 것이므로 그 구체적인 도시 및 설명은 생략한다.Here, the three-way valve or the like used as the shut-off valve is a general one, so that detailed description thereof will be omitted.

또한, 상기 차단 밸브로는 상기 공기 유동관의 공기 유동을 차단할 수 있는 다른 다양한 형태의 밸브가 적용될 수도 있다.In addition, the shutoff valve may be applied to various other types of valves that can block the air flow of the air flow tube.

본 실시예에서는, 상기 펌프 신호 즉답 제어 부재(110)는 상기 드라이 펌프(60)에 최초 연결되어 상기 드라이 펌프(60)로부터 전달되는 신호값을 미리 설정된 테이블값과 비교하여, 상기 드라이 펌프(60)의 모델을 구분함으로써 상기 드라이 펌프(60)가 작동 중지되는 조건값을 미리 파악할 수 있다.The pump signal instantaneous control member 110 is connected to the dry pump 60 and compares the signal value transmitted from the dry pump 60 with a preset table value to determine whether the dry pump 60 ), It is possible to grasp the condition value at which the dry pump 60 is stopped.

상기 펌프 신호 즉답 제어 부재(110)에는 미리 다양한 모델 형태의 상기 드라이 펌프(60)의 고유값들이 상기 미리 설정된 테이블값으로 저장되어 있고, 상기 데이터 케이블 연결부(115)에 상기 드라이 펌프(60)와 연결된 데이터 케이블이 최초 연결되면, 상기 데이터 케이블 연결부(115)에 연결된 데이터 케이블을 통해 상기 드라이 펌프(60)의 각종 신호값이 전달되어, 상기와 같이 전달되는 드라이 펌프(60)의 각종 신호값과 상기 미리 설정된 테이블값이 비교될 수 있고, 그에 따라 상기 펌프 신호 즉답 제어 부재(110)가 상기 드라이 펌프(60)의 모델을 자동적으로 인식하게 된다.The eigenvalues of the dry pump 60 of various model types are stored in advance in the pump signal instantaneous control member 110 as the predetermined table values and the data cable connection unit 115 is connected to the dry pump 60 When the connected data cable is initially connected, various signal values of the dry pump 60 are transmitted through the data cable connected to the data cable connection part 115, and various signal values of the dry pump 60, The predetermined table values can be compared with each other so that the pump signal instantaneous control member 110 automatically recognizes the model of the dry pump 60. [

상기 펌프 신호 즉답 제어 부재(110)는 상기 미리 설정된 테이블값 중 모델 인식된 상기 드라이 펌프(60)의 고유 작동 중지 조건값을 선정하여, 상기 데이터 케이블을 통해 지속적으로 실시간 전달되는 상기 드라이 펌프(60)의 신호값이 상기 드라이 펌프(60)가 작동 중지되는 상기 작동 중지 조건값에 도달되었는지 여부를 판단하게 된다.The pump signal instantaneous control member 110 selects the inherent operation suspension condition value of the dry pump 60 recognized as a model among the preset table values and transmits the data to the dry pump 60 Determines whether or not the signal value of the dry pump 60 has reached the shutdown condition value at which the dry pump 60 is stopped.

상기 펌프 신호 즉답 제어 부재(110)는 상기 드라이 펌프(60)로부터 실시간으로 전달되는 신호값이 상기 드라이 펌프(60)가 작동 중지되는 조건값에 도달되기 전인 일정값 오프셋된 작동값에 도달된 것으로 판단되면, 상기 아이솔레이션 밸브(120)에 상기 배관(50)을 차단하기 위한 차단 신호를 전달한다.The pump signal instantaneous control member 110 has a signal value delivered in real time from the dry pump 60 that has reached a predetermined value offset operating value before reaching a condition value at which the dry pump 60 is stopped And transmits a shutoff signal for shutting off the piping 50 to the isolation valve 120 when it is determined.

예를 들어, 상기 드라이 펌프(60)의 작동 중지 조건값이 30A인 경우, 상기 드라이 펌프(60)가 작동 중지되는 조건값에 도달되기 전인 일정값 오프셋된 작동값인 29A에 도달된 신호값이 상기 드라이 펌프(60)로부터 전달되자마자, 상기 펌프 신호 즉답 제어 부재(110)는 상기 아이솔레이션 밸브(120)에 대한 차단 신호를 전달하게 되는 것이다.For example, when the shutdown condition value of the dry pump 60 is 30 A, a signal value that reaches a predetermined value offset operation value 29A before reaching the condition value at which the dry pump 60 is shut down is reached As soon as it is transmitted from the dry pump 60, the pump signal directing control member 110 transmits a shutoff signal to the isolation valve 120.

상기 아이솔레이션 밸브(120)에 대한 차단 신호가 전달되면, 상기 펌프 신호 즉답 제어 부재(110) 내에 설치된 상기 차단 밸브가 즉시 차단됨으로써, 상기 아이솔레이션 밸브(120)에 대한 공압 전달이 차단되어, 상기 드라이 펌프(60)와 상기 챔버(10)를 연결하는 배관(50)이 즉시 차단될 수 있게 된다.When the shutoff signal for the isolation valve 120 is transmitted, the shutoff valve installed in the pump signal shutoff control member 110 is immediately shut off, thereby blocking the pneumatic transfer to the isolation valve 120, The pipe 50 connecting the chamber 60 and the chamber 10 can be immediately shut off.

상기와 같은 본 실시예에 따른 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치(100)와, 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프에 에이지브이가 적용된 종래 구조에 대한 파티클 역류 실험에 대한 결과 사진이 도 4 및 도 5에 도시되어 있다.4 and 5 are photographs of a particle backflow test for the backflow prevention device 100 of the dry pump for manufacturing a semiconductor wafer and the dry pump for semiconductor wafer fabrication according to the present embodiment, Respectively.

도 4를 참조하면, 에이지브이에 의한 정전, 펌프 내부적 결함 등 비상시 종래 차단 구동에 의해서는 파티클 역류가 제대로 차단되지 못하여, 반도체 웨이퍼 상에 파티클이 다수량 역류되어 반도체 웨이퍼가 오염된 것을 알 수 있다.Referring to FIG. 4, it can be seen that the particle counterflow is not properly blocked by the conventional shut-off drive in case of emergency such as electrostatic discharge due to age V, internal pump failure, etc., so that many particles are backwashed on the semiconductor wafer and the semiconductor wafer is contaminated .

반면, 도 5를 참조하면, 본 실시예에 따른 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치(100)에 의한 정전, 펌프 내부적 결함 등 비상시 차단 구동에 의해서는 파티클 역류가 효과적으로 차단되어, 반도체 웨이퍼 상에 파티클이 거의 역류되지 아니하여 반도체 웨이퍼에 대한 오염이 최소화된 것을 알 수 있다.On the other hand, referring to FIG. 5, the reverse flow of particles is effectively blocked by emergency shutoff drive such as electrostatic discharge or pump internal defects of the backflow prevention device 100 of the dry pump for manufacturing a semiconductor wafer according to the present embodiment, It can be seen that the contamination of the semiconductor wafer is minimized because the particles are not nearly backwashed.

도 4 및 도 5의 실험에는 측정 장비로 KLA Tencor 社의 P4 모델이 적용되었고, 테스트 장비로는 Applied 社의 DPS-2 모델이 예시적으로 적용되었다.In the experiments of FIGS. 4 and 5, the P4 model of KLA Tencor was used as the measuring device and the DPS-2 model of Applied Co. was applied as the test device.

상기와 같이, 상기 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치(100)가 아이솔레이션 밸브(120)와, 펌프 신호 즉답 제어 부재(110)를 포함함에 따라, 드라이 펌프(60)가 정전, 펌프 내부적 결함 등으로 인해 예기치않게 작동 중지되더라도, 그 즉시 드라이 펌프(60)와 챔버(10) 사이가 차단될 수 있게 되어, 파티클이 챔버(10)로 역류되는 현상이 방지될 수 있고, 그에 따라 챔버(10) 내의 반도체 웨이퍼 오염이 방지될 수 있고, 그러한 파티클 오염에 따른 챔버(10) 크리닝 등의 작업이 요구되지 아니하게 되며, 터보 펌프(30)에 역류로 인한 과도한 부하가 걸리는 현상이 방지될 수 있다.As described above, since the backflow prevention device 100 of the dry pump for manufacturing a semiconductor wafer includes the isolation valve 120 and the pump signal response control member 110, It is possible to prevent the particles from flowing back to the chamber 10 and to prevent the chamber 10 from flowing back to the chamber 10, It is not necessary to perform an operation such as cleaning of the chamber 10 due to the contamination of the particles and it is possible to prevent the turbo pump 30 from being excessively loaded due to the reverse flow.

상기에서 본 고안은 특정한 실시예에 관하여 도시되고 설명되었지만, 당업계에서 통상의 지식을 가진 자라면 이하의 실용신안등록청구범위에 기재된 본 고안의 사상 및 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 고안을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 알 수 있을 것이다. 그렇지만 이러한 수정 및 변형 구조들은 모두 본 고안의 권리범위 내에 포함되는 것임을 분명하게 밝혀두고자 한다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the following claims It will be understood that the present invention may be modified and changed without departing from the spirit and scope of the invention. However, it is intended that the present invention covers the modifications and variations of this invention provided they come within the scope of the appended claims and their equivalents.

본 고안의 일 측면에 따른 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치에 의하면, 정전, 펌프 내부적 결함 등으로 인해 예기치않게 드라이 펌프가 작동 중지되더라도 파티클이 챔버로 역류되는 현상을 방지할 수 있으므로, 그 산업상 이용가능성이 높다고 하겠다.According to one aspect of the present invention, the backflow prevention device for a dry pump for manufacturing a semiconductor wafer can prevent particles from flowing back to the chamber even if the dry pump is unexpectedly shut down due to power failure, internal defect in the pump, It is highly likely to use the award.

10 : 챔버
60 : 드라이 펌프
100 : 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치
110 : 펌프 신호 즉답 제어 부재
120 : 아이솔레이션 밸브10: chamber
60: Dry pump
100: Backflow prevention device of dry pump for semiconductor wafer fabrication
110: pump signal instantaneous control member
120: Isolation valve

Claims (2)

반도체 웨이퍼가 내삽되는 챔버와, 상기 챔버 내부에 부압(negative pressure)를 걸어주기 위한 드라이 펌프와, 상기 챔버와 상기 드라이 펌프를 연결해주는 배관을 포함하는 반도체 웨이퍼 제조 설비에 적용되어, 파티클 역류를 방지하는 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치에 있어서,
외부에서 인가되는 공압에 의해 상기 배관을 개폐시킬 수 있는 아이솔레이션 밸브(isolation valve); 및
상기 드라이 펌프의 작동 신호를 실시간(real time)으로 전달받는 것으로, 상기 드라이 펌프로의 전원 공급이 오프되면, 그러한 드라이 펌프로의 전원 공급 오프 신호를 실시간으로 전달받아, 상기 아이솔레이션 밸브로 공급되는 공압을 실시간으로 차단함으로써, 상기 드라이 펌프의 정지 즉시 상기 아이솔레이션 밸브가 상기 배관을 차단하도록 하는 펌프 신호 즉답 제어 부재;를 포함하고,
상기 펌프 신호 즉답 제어 부재는
상기 드라이 펌프가 최초 연결되면, 상기 드라이 펌프로부터 전달되는 신호값을 다양한 모델 형태의 드라이 펌프의 고유값들이 저장된 것인 미리 설정된 테이블값과 비교하여, 상기 드라이 펌프의 모델을 구분함으로써, 상기 드라이 펌프의 모델을 자동적으로 인식하여 상기 드라이 펌프가 작동 중지되는 조건값을 자동적으로 미리 파악하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치.The present invention is applied to a semiconductor wafer manufacturing facility including a chamber into which a semiconductor wafer is inserted, a dry pump for applying a negative pressure inside the chamber, and a pipe connecting the chamber and the dry pump, Wherein the backflow prevention device is a dry pump for semiconductor wafer fabrication,
An isolation valve capable of opening and closing the pipe by an external applied air pressure; And
And a control unit that receives an operation signal of the dry pump in real time and receives a power supply off signal to the dry pump in real time when the power supply to the dry pump is off, And a pump signal response control member for causing the isolation valve to shut off the piping immediately after the dry pump is stopped,
The pump signal instantaneous control member
When the dry pump is connected for the first time, a signal value transmitted from the dry pump is compared with a preset table value that stores eigenvalues of the dry pump of various model types, Wherein the dry pump automatically recognizes the model of the dry pump and automatically grasps a condition value for stopping the dry pump. 제 1 항에 있어서,
상기 펌프 신호 즉답 제어 부재는
상기 드라이 펌프로부터 실시간으로 전달되는 신호값이 상기 드라이 펌프가 작동 중지되는 조건값에 도달되기 전인 일정값 오프셋된 작동값에 도달된 것으로 판단되면, 상기 아이솔레이션 밸브에 상기 배관을 차단하기 위한 차단 신호를 전달하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 제조용 드라이 펌프의 역류 방지 장치.The method according to claim 1,
The pump signal instantaneous control member
When a signal value transmitted from the dry pump in real time is determined to have reached a predetermined value offset operation value before reaching a condition value at which the dry pump is stopped, a shutoff signal for shutting off the piping to the isolation valve Wherein the backflow preventing device of the dry pump for semiconductor wafer fabrication is provided.
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