KR20170003065A - 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치 - Google Patents

감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20170003065A
KR20170003065A KR1020150093238A KR20150093238A KR20170003065A KR 20170003065 A KR20170003065 A KR 20170003065A KR 1020150093238 A KR1020150093238 A KR 1020150093238A KR 20150093238 A KR20150093238 A KR 20150093238A KR 20170003065 A KR20170003065 A KR 20170003065A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pattern
group
photosensitive resin
resin composition
carbon atoms
Prior art date
Application number
KR1020150093238A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102402746B1 (ko
Inventor
조용환
김성빈
전지민
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Priority to KR1020150093238A priority Critical patent/KR102402746B1/ko
Publication of KR20170003065A publication Critical patent/KR20170003065A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102402746B1 publication Critical patent/KR102402746B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F224/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a heterocyclic ring containing oxygen
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Abstract

본 발명은 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 특정 구조로 표시되며, 수산기 당량이 130 내지 190 g/moL이고 분자량이 500 이상인 산화 방지제를 포함함에 따라, 그로부터 제조된 패턴의 홀패턴(Hole Pattern) 해상도가 높고 밀착성과 투과율이 우수한, 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.

Description

감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치{PHOTOSENSITIVE RESIN COMOPSITION, PHOTOCURABLE PATTERN FORMED FROM THE SAME AND IMAGE DISPLAY COMPRISING THE PATTERN}
본 발명은 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.
디스플레이 분야에 있어서, 감광성 수지 조성물은 포토레지스트, 절연막, 보호막, 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서 등의 다양한 광경화 패턴을 형성하기 위해 사용된다. 구체적으로, 감광성 수지 조성물을 포토리소그래피 공정에 의해 선택적으로 노광 및 현상하여 원하는 광경화 패턴을 형성하는데, 이 과정에서 공정상의 수율을 향상시키고, 적용 대상의 물성을 향상시키기 위해, 고감도를 가지는 감광성 수지 조성물이 요구되고 있다.
감광성 수지 조성물로 유기 절연막 형성 시 광경화 반응의 감도를 향상시키는 과정에서 Contact 홀패턴의 Bottom 선폭이 좁아지는 문제가 있는바 홀패턴의 해상도를 확보할 것이 요구된다.
한국등록특허 제1302508호는 사이클로헥세닐 아크릴레이트계 단량체를 사용하여 중합된 공중합체를 포함함으로써 내열성 및 내광성이 우수하고 감도를 향상할 수 있는 감광성 수지 조성물에 대해서 개시하고 있으나, 전술한 문제점에 대한 대안을 제시하지 못하였다.
한국등록특허 제1302508호
본 발명은 홀패턴(Hole Pattern) 해상도가 높고 패턴 밀착성과 투과율이 우수한 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 감광성 수지 조성물로 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
1. 하기 화학식 1로 표시되며, 수산기 당량이 130 내지 190 g/moL이고 분자량이 500 이상인 산화 방지제를 포함하는, 감광성 수지 조성물:
[화학식 1]
Figure pat00001
(식 중, R1은 탄소수 1 내지 6인 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이고, R2 내지 R7은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6인 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12인 아릴기임).
2. 위 1에 있어서, 상기 산화방지제는 각각의 벤젠고리가 적어도 하나의 메틸기를 포함하는, 감광성 수지 조성물.
3. 위 1에 있어서, 상기 산화방지제는 각각의 벤젠고리가 적어도 하나의 tert-부틸기를 포함하는, 감광성 수지 조성물.
4. 위 1에 있어서, 상기 산화방지제는 하기 화학식 2로 표시되는, 감광성 수지 조성물:
[화학식 2]
Figure pat00002
.
5. 위 1에 있어서, 알칼리 가용성 수지, 중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
6. 위 5에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지는,
하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위(a), 화학식 4로 표시되는 반복단위(b) 및 카르복실산기를 포함하는 반복단위(c)를 포함하는, 감광성 수지 조성물:
[화학식 3]
Figure pat00003
(식 중, R8은 수소 또는 메틸기임)
[화학식 4]
Figure pat00004
(식 중, R9는 수소 또는 메틸기이고 R10은 수소, 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기임 ).
7. 위 5에 있어서, λmax 가 345nm 이상인 히드록시 벤조페논계 또는 벤조트리아졸계 자외선 흡수제를 더 포함하는, 감광성 수지 조성물.
8. 위 5에 있어서, 하기 화학식 5로 표시되는 3관능 이상의 다관능 티올 화합물을 더 포함하는, 감광성 수지 조성물:
[화학식 5]
Figure pat00005
(식 중에서, Z1은 메틸렌기 또는 탄소수 2 내지 10의 직쇄 또는 분지쇄인 알킬렌기 또는 알킬메틸렌기이고, Y는 단결합, -CO-, -O-CO- 또는 -NHCO-이고, n이 3 내지 10의 정수이고, X가 1개 또는 복수개의 에테르 결합을 가질 수 있는 탄소수 2 내지 70의 n가의 탄화수소기이거나, 또는 n이 3이며 X가 하기 화학식 6으로 표시되는 3가의 기임)
[화학식 6]
Figure pat00006
(식 중에서, Z2, Z3 및 Z4는 서로 독립적으로 메틸렌기 또는 탄소수 2 내지 6의 알킬렌기이고, "*"는 결합손을 나타냄).
9. 위 1 내지 8 중의 어느 한 항의 감광성 수지 조성물로 형성되는, 광경화 패턴.
10. 위 9에 있어서, 상기 광경화 패턴은 어레이 평탄화막 패턴, 보호막 패턴, 절연막 패턴, 포토레지스트 패턴, 블랙 매트릭스 패턴 및 컬럼 스페이서 패턴으로 이루어진 군에서 선택되는, 광경화 패턴.
11. 위 10의 광경화 패턴을 포함하는 화상 표시 장치.
본 발명의 감광성 수지 조성물로 제조된 패턴은 홀패턴(Hole Pattern) 해상도가 높고 패턴 밀착성과 투과율이 우수하며 현상 잔사가 남지 않는다.
또한, 본 발명의 감광성 수지 조성물은 아웃 가스 발생을 줄일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예로 제조되어 현상 잔사가 발생하지 않은 패턴을 개략적으로 나타낸 사진이다.
도 2는 본 발명의 비교예로 제조되어 현상 잔사가 발생한 패턴을 개략적으로 나타낸 사진이다.
도 3은 본 발명의 감광성 수지 조성물로 제조된 패턴의 콘택트홀 Bottom 크기를 측정하는 방법을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4는 감광성 수지 조성물로 제조된 패턴의 밀착성 측정 시 Dot패턴 선폭의 값을 측정하는 방법을 개략적으로 나타낸 도면이다.
본 발명은 특정 구조로 표시되며, 수산기 당량이 130 내지 190 g/moL이고 분자량이 500 이상인 산화 방지제를 포함함에 따라, 그로부터 제조된 패턴의 홀패턴(Hole Pattern) 해상도가 높고 밀착성과 투과율이 우수한, 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.
본 발명에 있어서, 화학식으로 표시되는 반복단위, 화합물 또는 수지는 그 이성질체를 포함하는 것으로서, 각 식으로 표시되는 반복단위, 화합물 또는 수지가 이성질체가 있는 경우에는, 해당 식으로 표시되는 반복단위, 화합물 또는 수지는 그 이성질체까지 포함하는 대표 화학식을 의미한다.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
<감광성 수지 조성물>
산화방지제
본 발명의 감광성 수지 조성물은 하기 화학식 1으로 표시되는 산화방지제를 포함한다.
[화학식 1]
Figure pat00007
(식 중, R1은 탄소수 1 내지 6인 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이고, R2 내지 R7은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6인 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12인 아릴기임)
네거티브 타입 유기 절연막의 경우, 광경화 반응의 감도를 향상시키면 콘택트홀(Contact Hole) 패턴의 Bottom 선폭이 좁아지는 문제가 있다.
이에 본 발명은, 상기 화학식 1의 산화방지제를 포함함으로써 분자 내의 페놀성 수산기가 라디칼 중합(Radical-induced polymerization)에서 반응 라디칼의 이동을 지연 또는 방해하여, 부분 노광부 또는 미노광부로의 라디칼 확산을 방지하는 Radical Inhibitor의 역할을 함에 따라 홀패턴의 해상도를 높일 수 있다.
본 발명의 일 실시예로, 상기 산화방지제는 각각의 벤젠고리가 적어도 하나의 메틸기를 포함할 수 있고, 본 발명의 다른 실시예로 각각의 벤젠고리가 적어도 하나의 tert-부틸기를 포함할 수 있다.
상기 산화방지제는 고해상도와 패턴의 밀착성 및 투과율 개선 측면에서 바람직하게는 하기 화학식 2로 표시될 수 있다.
[화학식 2]
Figure pat00008
또한, 본 발명에 따른 산화방지제는 수산기 당량이 130 내지 190 g/moL이다. 수산기 당량이 상기 범위 내이면 홀패턴의 확장된 Bottom 크기를 가질 수 있다. 수산기 당량이 130 g/moL 미만이면 가열 공정에서 아웃 가스가 발생할 수 있고, 수산기 당량이 190g/moL 초과이면 홀패턴의 Bottom 크기 확장을 통한 선폭 제어 효과를 얻을 수 없는 문제가 있다.
또한, 본 발명에 따른 산화방지제는 분자량이 500 이상이다. 분자량이 500 미만이면 감광성 수지 조성물로 도막 형성 공정 중 생기는 아웃가스(Outgas)의 발생이 현저한 문제점이 있다. 분자량은 500 이상만 되면 아웃가스의 발생이 감소하므로 그 상한은 특별히 한정하지는 않으나, 예를 들면 1200 일 수 있다.
상기 산화방지제의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 감광성 수지 조성물 중의 고형분을 기준으로 후술하는 알칼리 가용성 수지 100중량부에 대하여 0.1 내지 10중량부로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 1 내지 8 중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 감광성 수지 조성물이 높은 홀패턴의 해상도를 유지할 수 있으며, 패턴의 밀착성 및 투과율 개선 효과가 극대화될 수 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물은 본 발명에 따른 전술한 산화 방지제 외에 당분야에 공지된 감광성 수지 조성물의 다른 성분들을 특별한 제한 없이 포함할 수 있다.
본 발명의 감광성 수지 조성물의 일 구현예는 전술한 산화 방지제 외에 알칼리 가용성 수지, 중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함할 수 있다. 이하 본 발명의 일 구현예에 대해서 보다 상세하게 설명하도록 한다.
알칼리 가용성 수지
알칼리 가용성 수지는 바인더 기능을 하며, 주쇄에 카르복시기를 포함하여 이는 패턴을 형성할 때의 현상 처리 공정에서 이용되는 알칼리 현상액에 대해서 가용성을 부여하는 성분이다.
본 발명에 따른 알칼리 가용성 수지는 바람직하게는 하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위(a), 화학식 4로 표시되는 반복단위(b) 및 카르복실산기를 포함하는 반복단위(c)를 포함할 수 있다. 화학식 3 및 화학식 4는 각각 에폭시 구조 및 옥세탄 구조를 분자 내에 포함함으로써 본 발명의 감광성 수지 조성물의 열경화성을 향상시킨다.
[화학식 3]
Figure pat00009
(식 중, R8은 수소 또는 메틸기임)
[화학식 4]
Figure pat00010
(식 중, R9는 수소 또는 메틸기이고 R10은 수소, 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기임)
또한, 본 발명에 따른 알칼리 가용성 수지는 알칼리 가용성을 확보하기 위해 카르복실산기를 포함하는 반복 단위를 포함할 수 있다. 카르복실산기를 포함하는 반복단위는 당분야에 알려진 단량체를 특별한 제한 없이 사용하여 형성될 수 있으며, 예를 들면, (메타)아크릴산, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈레이트, 2-(메타)아크릴로일옥시에틸프탈레이트 및 2-(메타)아크릴로일옥시에틸석시네이트로 이루어진 군에서 선택되는 단량체에서 유래된 구조일 수 있다.
본 발명에 있어서, "(메타)아크릴-"은 "메타크릴-", "아크릴-" 또는 이 둘 모두를 지칭한다.
알칼리 가용성 수지에 있어서, 화학식 3으로 표시되는 반복단위, 화학식 4로 표시되는 반복단위, 카르복실산기를 포함하는 반복 단위(c)의 함량은 알칼리 가용성 수지 전체에 대하여 (a)= 40 내지 80 mol%, (b)= 10 내지 50 mol%, (c)= 1 내지 15 mol%일 수 있으며, 바람직하게는 (a)= 50 내지 70 mol%, (b)= 20 내지 40 mol%, (c)= 5 내지 15mol%일 수 있다.
본 발명에 따른 알칼리 가용성 수지는 그 중량 평균 분자량이 5,000 내지 20,000 인 것이 바람직하다. 상기 분자량 범위에서 가장 우수한 패턴 형성성 및 내화학성을 나타낼 수 있다.
상기 알칼리 가용성 수지의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 고형분을 기준으로 감광성 수지 조성물 전체 100중량부에 대하여, 35 내지 60 중량부, 바람직하게는 40 내지 55 중량부로 포함될 수 있다.
알칼리 가용성 수지가 상기 범위내로 포함되는 경우, 현상액에의 용해성이 충분하여 현상성이 우수해지며, 우수한 기계적 물성을 갖는 광경화 패턴을 형성할 수 있게 한다.
중합성 화합물
본 발명의 감광성 수지 조성물에 사용되는 중합성 화합물은 제조 공정 중 가교 밀도를 증가시키며, 광경화 패턴의 기계적 특성을 강화시킬 수 있다.
중합성 화합물은 당 분야에 사용되는 것이 특별한 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들면 단관능 단량체, 2관능 단량체 및 그 밖의 다관능 단량체로, 그 종류는 특별히 한정되지 않으나, 하기 화합물들을 그 예로 들 수 있다.
단관능 단량체의 구체예로는 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. 2관능 단량체의 구체예로는 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 밖의 다관능 단량체의 구체예로서는 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2관능 이상의 다관능 단량체가 바람직하게 사용된다.
상기 중합성 화합물의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 감광성 수지 조성물 중의 고형분을 기준으로 알칼리 가용성 수지 100중량부에 대하여, 10 내지 100중량부, 바람직하게는 30 내지 100중량부의 범위에서 사용된다. 중합성 화합물이 상기의 함량 범위로 포함되는 경우, 우수한 내구성을 가질 수 있고, 조성물의 현상성을 향상시킬 수 있다.
광중합 개시제
본 발명에 따른 광중합 개시제는 상기 중합성 화합물을 중합시킬 수 있는 것이라면, 그 종류를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있으며, 예를 들면, 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 옥심에스테르계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 옥심에스테르계 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 아세토페논계 화합물의 구체적인 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온, 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등을 들 수 있다.
상기 벤조페논계 화합물의 구체적인 예를 들면, 벤조페논, o-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다.
상기 트리아진계 화합물의 구체적인 예를 들면, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.
상기 비이미다졸계 화합물의 구체적인 예를 들면, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4’5,5’-테트라페닐-1,2’-비이미다졸 또는 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4’5,5’-테트라페닐-1,2’-비이미다졸 등을 들 수 있다.
상기 티오크산톤계 화합물의 구체적인 예를 들면, 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.
상기 옥심에스테르계 화합물의 구체적인 예를 들면, o-에톡시카르보닐-α-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온, 1,2-옥탄디온,-1-(4-페닐치오)페닐,-2-(o-벤조일옥심), 에타논,-1-(9-에틸)-6-(2-메틸벤조일-3-일)-,1-(o-아세틸옥심), 화학식 7로 표시되는 화합물 등을 들 수 있으며, 시판품으로 B-CIM(호도가야 화학공업㈜) CGI-124(시바가이기사), CGI-224(시바가이기사), Irgacure OXE-01(BASF사), Irgacure OXE-02(BASF사), N-1919(아데카사), NCI-831(아데카사) 등이 있다.
[화학식 7]
Figure pat00011
또한, 상기 광중합 개시제(D)는 본 발명의 감광성 수지 조성물의 감도를 향상시키기 위해서, 광중합 개시 보조제를 더 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 광중합 개시 보조제를 함유함으로써, 감도가 더욱 높아져 생산성을 향상시킬 수 있다.
상기 광중합 개시 보조제로는, 아민 화합물, 카르복실산 화합물 및 티올기를 가지는 유기 황화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 들 수 있다.
상기 아민 화합물의 구체적인 예를 들면, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭: 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있으며, 방향족 아민 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 카르복실산 화합물의 구체적인 예를 들면, 방향족 헤테로아세트산류인 것이 바람직하며, 예를 들면. 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다.
상기 티올기를 가지는 유기 황화합물의 구체적인 예를 들면, 2-머캅토벤조티아졸, 1,4-비스(3-머캅토부티릴옥시)부탄, 1,3,5-트리스(3-머캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-머캅토부틸레이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리스리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트), 테트라에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트) 등을 들 수 있다.
상기 광중합 개시제의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 감광성 수지 조성물 중의 고형분을 기준으로 알칼리 가용성 수지 100중량부에 대하여, 0.1 내지 10중량부로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 1 내지 8 중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위를 만족하는 경우, 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 노광 시간이 단축되므로 생산성이 향상되며 높은 해상도를 유지할 수 있으며, 형성한 화소부의 강도와 화소부의 표면에서의 평활성이 양호해질 수 있다는 점에서 좋다.
자외선 흡수제
필요에 따라, 본 발명의 감광성 수지 조성물은 λmax 가 345nm 이상인 히드록시 벤조페논계 또는 벤조트리아졸계 자외선 흡수제를 더 포함할 수 있다.
일반적인 자외선 흡수제는 도막의 심부에 도달하는 자외선을 약화시켜 부분 노광부 또는 미노광부의 바닥면 광경화를 약화시켜 선폭 확대를 어렵게 하는 문제가 있다.
따라서, 본 발명은 광중합개시제의 개시반응에 가장 큰 영향을 미치는 I선 영역(365nm)에 근접한 파장 영역을 차단할 수 있는 λmax 가 345nm 이상인 히드록시 벤조페논계 또는 벤조트리아졸계 자외선 흡수제를 더 포함함에 따라 홀패턴의 Bottom 선폭 확대 효과를 현저하게 한다.
상기 자외선 흡수제는 λmax 가 345nm 이상인 히드록시 벤조페논계 또는 벤조트리아졸계이면서 본 발명의 목적에 벗어나지 않는 범위 내라면 특별히 제한되지 않고, 바람직하게는 하기 화학식 8 및 화학식 9로 표시되는 화합물일 수 있다.
[화학식 8]
Figure pat00012
[화학식 9]
Figure pat00013
본 발명의 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 다른 자외선 흡수제를 더 포함할 수 있고, 구체적인 예로는 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸 등을 들 수 있다.
상기 자외선 흡수제의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 감광성 수지 조성물 중의 고형분을 기준으로 알칼리 가용성 수지 100중량부에 대하여, 0.1 내지 10 중량부, 바람직하게는 0.5 내지 8 중량부의 범위에서 사용된다. 자외선 흡수제가 상기의 함량 범위로 포함되는 경우, 고해상도 확보에 보다 유리하다.
다관능 티올 화합물
필요에 따라, 본 발명의 감광성 수지 조성물은 다관능 티올 화합물을 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 다관능 티올 화합물은 3관능 이상의 티올 화합물이며, 가교 밀도를 향상시켜 광경화 패턴의 내화학성 및 기재와의 밀착성을 향상시키고, 고온에서의 황변 현상을 방지하는 기능을 한다.
본 발명에 따른 3관능 이상의 다관능 티올 화합물은 3관능 이상의 티올 화합물로서 감광성 수지 조성물에 사용될 수 있는 화합물이라면 특별히 한정되지는 않으며, 4관능 이상의 티올 화합물이 바람직하다. 본 발명에 따른 티올 화합물의 예를 들면 하기 화학식 5로 표시될 수 있다.
[화학식 5]
Figure pat00014
(식 중에서, Z1은 메틸렌기 또는 탄소수 2 내지 10의 직쇄 또는 분지쇄인 알킬렌기 또는 알킬메틸렌기이고, Y는 단결합, -CO-, -O-CO- 또는 -NHCO-이고, n이 3 내지 10의 정수이고, X가 1개 또는 복수개의 에테르 결합을 가질 수 있는 탄소수 2 내지 70의 n가의 탄화수소기이거나, 또는 n이 3이며 X가 하기 화학식 6으로 표시되는 3가의 기임)
[화학식 6]
Figure pat00015
(식 중에서, Z2, Z3 및 Z4는 서로 독립적으로 메틸렌기 또는 탄소수 2 내지 6의 알킬렌기이고, "*"는 결합손을 나타냄).
n은 바람직하게는 4 이상, 또는 4 내지 10의 정수인 것이 바람직하고, 4, 6 또는 8인 것이 보다 바람직하다.
n이 3인 경우의 X로는, 예를 들면 하기 화학식 10으로 표시되는 3가의 기를 들 수 있으며,
n이 4, 6 또는 8인 경우의 X로는, 예를 들면 하기 화학식 11로 표시되는 4, 6 또는 8가의 기 등을 각각 바람직한 것으로서 들 수 있다.
[화학식 10]
Figure pat00016
(식 중, "*"는 결합손을 나타냄),
[화학식 11]
Figure pat00017
(식 중, m은 0 내지 2의 정수이며, "*"는 결합손을 나타냄).
본 발명에 따른 다관능 티올 화합물의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 감광성 수지 조성물 중의 고형분을 기준으로 알칼리 가용성 수지 100중량부에 대하여, 0.1 내지 15중량부, 바람직하게는 1 내지 10중량부의 범위에서 사용된다. 다관능 티올 화합물이 상기의 함량 범위로 포함되는 경우, 우수한 저온 경화 성능을 나타낼 수 있다.
첨가제
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 충진제, 다른 고분자 화합물, 경화제, 레벨링제, 밀착촉진제, 응집 방지제, 연쇄 이동제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
상기 충진제의 구체적인 예로는, 유리, 실리카, 알루미나 등을 들 수 있다.
상기 다른 고분자 화합물의 구체적인 예로는, 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지; 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다.
상기 경화제는 심부 경화 및 기계적 강도를 높이기 위해 사용되며, 경화제의 구체적인 예로서는 에폭시 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다.
상기 경화제에서 에폭시 화합물의 구체적인 예로서는 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노블락형 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 또는 이러한 에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족 에폭시 화합물, 부타디엔 (공)중합체 에폭시화물, 이소프렌 (공)중합체 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레트 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아눌레이트 등을 들 수 있다.
상기 경화제에서 옥세탄 화합물의 구체적인 예로서는 카르보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다.
상기 경화제는 경화제와 함께 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합하게 할 수 있는 경화 보조 화합물을 병용할 수 있다. 상기 경화 보조 화합물로서는, 예를 들면 다가 카르본산류, 다가 카르본산 무수물류, 산 발생제 등을 들 수 있다.
상기 카르본산 무수물류는 에폭시 수지 경화제로서 시판되는 것을 이용할 수 있다. 상기 에폭시 수지 경화제로서는, 예를 들면, 상품명(아데카하도나 EH-700)(아데카공업㈜ 제조), 상품명(리카싯도 HH)(신일본이화㈜ 제조), 상품명(MH-700)(신일본이화㈜ 제조) 등을 들 수 있다. 상기에서 예시한 경화제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 레벨링제로는, 시판되는 계면 활성제를 사용할 수 있고, 예를 들어 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성 등의 계면 활성제 등을 들 수 있고, 이들은 각각 단독으로도 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
상기 계면 활성제로는, 예를 들어 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄지방산 에스테르류, 지방산 변성 폴리에스테르류, 3 급 아민 변성 폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등 외에, 상품명으로 KP (신에쯔 화학 공업 (주) 제조), 폴리플로우 (쿄에이 화학(주) 제조), 에프톱 (토켐프로덕츠사 제조), 메가팍 (다이닛폰 잉크 화학 공업 (주) 제조), 플로라드 (스미토모쓰리엠 (주) 제조), 아사히가드, 사프론 (이상, 아사히가라스 (주) 제조), 소르스파스 (제네카 (주) 제조), EFKA (EFKA CHEMICALS 사 제조), PB821 (아지노모토 (주) 제조) 등을 들 수 있다.
상기 밀착 촉진제로는, 실란계 화합물이 바람직하고, 구체적으로는, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.
상기 응집 방지제로는, 구체적으로는, 폴리아크릴산 나트륨 등을 들 수 있다.
상기 연쇄 이동제로는, 구체적으로 도데실메르캅탄, 2,4-디페닐-4-메틸-1-펜텐 등을 들 수 있다.
용매
용매는 당해 분야에서 통상적으로 사용하는 것이라면 어떠한 것이라도 제한 없이 사용할 수 있다.
상기 용매의 구체적인 예로는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르 및 에틸렌글리콜모노부틸에테르와 같은 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르 등의 프로필렌글리콜모노알킬에테르류; 프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜디에틸에테르, 프로필렌글리콜에틸메틸에테르, 프로필렌글리콜디프로필에테르프로필렌글리콜프로필메틸에테르, 프로필렌글리콜에틸프로필에테르 등의 프로필렌글리콜디알킬에테르류; 프로필렌글리콜메틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜에틸에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜프로필에테르프로피오네이트, 프로필렌글리콜부틸에테르프로피오네이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르프로피오네이트류; 메톡시부틸알코올, 에톡시부틸알코올, 프로폭시부틸알코올, 부톡시부틸알코올 등의 부틸디올모노알킬에테르류; 메톡시부틸아세테이트, 에톡시부틸아세테이트, 프로폭시부틸아세테이트, 부톡시부틸아세테이트 등의 부탄디올모노알킬에테르아세테이트류; 메톡시부틸프로피오네이트, 에톡시부틸프로피오네이트, 프로폭시부틸프로피오네이트, 부톡시부틸프로피오네이트 등의 부탄디올모노알킬에테르프로피오네이트류; 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜디에틸에테르, 디프로필렌글리콜메틸에틸에테르 등의 디프로필렌글리콜디알킬에테르류; 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산부틸, 2-히드록시프로피온산에틸, 2-히드록시-2-메틸프로피온산메틸, 2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 히드록시아세트산메틸, 히드록시아세트산에틸, 히드록시아세트산부틸, 락트산메틸, 락트산에틸, 락트산프로필, 락트산부틸, 3-히드록시프로피온산메틸, 3-히드록시프로피온산에틸, 3-히드록시프로피온산프로필, 3-히드록시프로피온산부틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸, 메톡시아세트산메틸, 메톡시아세트산에틸, 메톡시아세트산프로필, 메톡시아세트산부틸, 에톡시아세트산메틸, 에톡시아세트산에틸, 에톡시아세트산프로필, 에톡시아세트산부틸, 프로폭시아세트산메틸, 프로폭시아세트산에틸, 프로폭시아세트산프로필, 프로폭시아세트산부틸, 부톡시아세트산메틸, 부톡시아세트산에틸, 부톡시아세트산프로필, 부톡시아세트산부틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-메톡시프로피온산부틸, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산부틸, 2-부톡시프로피온산메틸, 2-부톡시프로피온산에틸, 2-부톡시프로피온산프로필, 2-부톡시프로피온산부틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산프로필, 3-에톡시프로피온산부틸, 3-프로폭시프로피온산메틸, 3-프로폭시프로피온산에틸, 3-프로폭시프로피온산프로필, 3-프로폭시프로피온산부틸, 3-부톡시프로피온산메틸, 3-부톡시프로피온산에틸, 3-부톡시프로피온산프로필, 3-부톡시프로피온산부틸 등의 에스테르류; 테트라히드로푸란, 피란 등의 고리형 에테르류; γ-부티로락톤 등의 고리형 에스테르류 등을 들 수 있다. 여기서 예시한 용매는, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 용매는 도포성 및 건조성을 고려하였을 때 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 케톤류, 부탄디올알킬에테르아세테이트류, 부탄디올모노알킬에테르류, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류가 바람직하게 사용될 수 있으며, 더욱 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시부탄올, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등이 사용될 수 있다.
상기 용매의 함량은 감광성 수지 조성물에 전체 100중량부에 대하여, 30 내지 80 중량부, 바람직하게는 35 내지 70 중량부로 포함될 수 있다.
상기 범위를 만족하는 경우, 스핀 코터, 슬릿 & 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터, 커튼플로우 코터라고도 불리는 경우가 있다), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지기 때문에 바람직하다.
< 광경화 패턴 및 화상표시 장치>
본 발명은 상기 감광성 수지 조성물로 제조되는 광경화 패턴과 상기 광경화 패턴을 포함하는 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 감광성 수지 조성물로 제조된 광경화 패턴은 홀패턴(Hole Pattern) 해상도가 높고 패턴 밀착성과 투과율이 우수하며 현상 잔사가 남지 않는다. 도 1은 본 발명의 감광성 수지 조성물로 제조되어 현상 잔사가 발생하지 않은 패턴에 관한 사진이고, 도 2는 비교예의 감광성 수지 조성물로 제조되어 현상 잔사가 발생한 패턴에 관한 사진이다.
이에 따라 화상 표시 장치에 있어서 각종 패턴, 예를 들면 접착제층, 어레이 평탄화막, 보호막, 절연막 패턴 등으로 이용될 수 있고, 포토레지스트, 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서 패턴, 블랙 컬럼 스페이서 패턴 등으로 이용될 수도 있으나, 이에 제한되는 것은 아니며, 특히, 포토레지스트 패턴으로 매우 적합하다.
이러한 광경화 패턴을 구비하거나 제조 과정 중에 상기 패턴을 사용하는 화상 표시 장치로는 액정 표시 장치, OLED, 플렉서블 디스플레이 등이 있을 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 적용이 가능한 당분야에 알려진 모든 화상 표시 장치를 예시할 수 있다.
광경화 패턴은 전술한 본 발명의 감광성 수지 조성물을 기재 상에 도포하고, (필요에 따라 현상 공정 거친 후) 광경화 패턴을 형성함으로써 제조할 수 있다.
먼저, 감광성 수지 조성물을 기판에 도포한 후 가열 건조함으로써 용매 등의 휘발 성분을 제거하여 평활한 도막을 얻는다.
도포 방법으로는, 예를 들어 스핀 코트, 유연 도포법, 롤 도포법, 슬릿 앤드 스핀 코트 또는 슬릿 코트법 등에 의해 실시될 수 있다. 도포 후 가열건조 (프리베이크), 또는 감압 건조 후에 가열하여 용매 등의 휘발 성분을 휘발시킨다. 여기에서, 가열 온도는 상대적으로 저온인 70 내지 100℃ 이다. 가열건조 후의 도막 두께는 통상 1 내지 8㎛ 정도이다. 이렇게 하여 얻어진 도막에, 목적으로 하는 패턴을 형성하기 위한 마스크를 통해 자외선을 조사한다. 이 때, 노광부 전체에 균일하게 평행 광선이 조사되고, 또한 마스크와 기판의 정확한 위치 맞춤이 실시되도록, 마스크 얼라이너나 스테퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다. 자외선을 조사하면, 자외선이 조사된 부위의 경화가 이루어진다.
상기 자외선으로는 g선(파장: 436㎚), h선, i선(파장: 365㎚) 등을 사용할 수 있다. 자외선의 조사량은 필요에 따라 적절히 선택될 수 있는 것이며, 본 발명에서 이를 한정하지는 않는다. 경화가 종료된 도막을 필요에 따라 현상액에 접촉시켜 비노광부를 용해시켜 현상하면 목적으로 하는 패턴 형상을 형성할 수 있다.
상기 현상 방법은, 액첨가법, 디핑법, 스프레이법 등 어느 것을 사용하여도 무방하다. 또한 현상시에 기판을 임의의 각도로 기울여도 된다. 상기 현상액은 통상 알칼리성 화합물과 계면 활성제를 함유하는 수용액이다. 상기 알칼리성 화합물은, 무기 및 유기 알칼리성 화합물의 어느 것이어도 된다. 무기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로는, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 인산수소 2나트륨, 인산2수소나트륨, 인산수소 2암모늄, 인산2수소암모늄, 인산 2수소칼륨, 규산 나트륨, 규산 칼륨, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 탄산 수소나트륨, 탄산 수소 칼륨, 붕산 나트륨, 붕산 칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. 또한, 유기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로는, 테트라메틸암모늄히드록사이드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록사이드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다.
이들 무기 및 유기 알칼리성 화합물은, 각각 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 알칼리 현상액 중의 알칼리성 화합물의 농도는, 바람직하게는 0.01 내지 10 중량%이고, 보다 바람직하게는 0.03 내지 5 중량%이다.
상기 알칼리 현상액 중의 계면 활성제는 비이온계 계면 활성제, 음이온계 계면 활성제 또는 양이온계 계면 활성제로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 사용할 수 있다.
상기 비이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨지방산에스테르, 글리세린지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다.
상기 음이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 라우릴알코올황산에스테르나트륨이나 올레일알코올황산에스테르나트륨 등의 고급 알코올 황산에스테르염류, 라우릴황산나트륨이나 라우릴황산암모늄 등의 알킬황산염류, 도데실벤젠술폰산나트륨이나 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 알킬아릴술폰산염류 등을 들 수 있다.
상기 양이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 스테아릴아민염산염이나 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 이들 계면 활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
상기 현상액 중의 계면 활성제의 농도는, 통상 0.01 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.05 내지 8 중량%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5 중량%이다. 현상 후, 수세하고, 상대적으로 저온인 100 내지 150℃에서 10 내지 60 분의 포스트베이크를 실시한다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.
제조예 : 알칼리 가용성 수지(A)의 합성
Figure pat00018
환류 냉각기, 적하 깔대기 및 교반기를 구비한 1L의 플라스크 내에 질소를 0.02L/분으로 흐르게 하여 질소 분위기로 하고, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르 150g을 넣고 교반하면서 70℃까지 가열하였다. 이어서, 하기 화학식 12 및 화학식 13의 혼합물(몰비는 50:50) 132.2g(0.60mol), 3-에틸-3-옥세타닐 메타크릴레이트 55.3g(0.30mol) 및 메타크릴산 8.6g(0.10mol)을 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르 150g에 용해하여 용액을 조제하였다.
[화학식 12]
Figure pat00019
[화학식 13]
Figure pat00020
제조된 용해액을, 적하 깔대기를 사용하여 플라스크 내에 적하한 후, 중합 개시제 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 27.9g(0.11mol)을 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르 200g에 용해한 용액을, 별도의 적하 깔대기를 사용하여 4 시간에 걸쳐 플라스크 내에 적하하였다. 중합 개시제의 용액의 적하가 종료된 후, 4 시간 동안 70℃로 유지하고, 그 후 실온까지 냉각시키고, 고형분 36.5 질량%, 산가 62㎎-KOH/g (고형분 환산)의 공중합체 (수지 A)의 용액을 얻었다. 얻어진 수지 A의 중량 평균 분자량 Mw는 8,200, 분자량 분포는 1.82이었다.
이때, 상기 분산수지의 중량평균 분자량(Mw) 및 수평균 분자량(Mn)의 측정은 HLC-8120GPC(도소㈜ 제조) 장치를 사용하였으며, 칼럼은 TSK-GELG4000HXL와 TSK-GELG2000HXL를 직렬 접속하여 사용하였고, 칼럼 온도는 40℃, 이동상 용매는 테트라히드로퓨란, 유속은 1.0㎖/분, 주입량은 50㎕, 검출기 RI를 사용하였으며, 측정 시료 농도는 0.6질량%(용매 = 테트라히드로퓨란), 교정용 표준 물질은 TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500(도소㈜ 제조)을 사용하였다.
상기에서 얻어진 중량평균분자량 및 수평균분자량의 비를 분자량 분포 (Mw/Mn)로 하였다.
실시예 및 비교예
하기 표 1의 성분 및 함량에 따른 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
구분 알칼리
가용성
수지
(A)		 중합성
화합물
(B)		 광중합
개시제
(C)		 산화방지제
(D)		 자외선흡수제
(E)		 티올
화합물
(F)		 용매
(G)
함량 함량 종류 함량 종류 함량 종류 함량 함량 종류 함량
실
시
예		 1 50 50 c-1/c-2 1/3 D-1 2 E-1 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
2 50 50 c-1/c-2 1/3 D-1 2 E-2 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
3 50 50 c-1/c-2 1/3 D-1 1 E-1 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
4 50 50 c-1/c-2 1/3 D-1 3 E-1 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
5 50 50 c-1/c-2 1/3 D-1 2 E-1 1.0 3 G-1/
G-2		 30/30
6 50 50 c-1/c-2 1/3 D-1 2 E-1 2.0 3 G-1/
G-2		 30/30
7 50 50 c-1/c-2 1/3 D-1 2 - - 3 G-1/
G-2		 30/30
8 50 50 c-1/c-2 1/3 D-1 2 E-3 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
9 50 50 c-1/c-2 1/3 D-1 2 E-4 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
10 50 50 c-1/c-2 1/3 D-1 2 E-5 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
11 50 50 c-1/c-2 1/3 D-8 2 E-1 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
12 50 50 c-1/c-2 1/3 D-1 0.3 E-1 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
13 50 50 c-1/c-2 1/3 D-1 5 E-1 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
비
교
예		 1 50 50 c-1/c-2 1/3 - - - - 3 G-1/
G-2		 30/30
2 50 50 c-1/c-2 1/3 - - E-1 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
3 50 50 c-1/c-2 1/3 D-2 2 - - 3 G-1/
G-2		 30/30
4 50 50 c-1/c-2 1/3 D-3 2 E-1 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
5 50 50 c-1/c-2 1/3 D-4 2 E-1 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
6 50 50 c-1/c-2 1/3 D-5 2 E-1 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
7 50 50 c-1/c-2 1/3 D-6 2 E-1 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
8 50 50 c-1/c-2 1/3 D-7 2 E-1 1.5 3 G-1/
G-2		 30/30
A: 제조예에서 합성된 알칼리 가용성 수지
B:디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD DPHA: 일본화약㈜ 제조)
C-1:2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,5,4',5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸(B-CIM: 호도가야 화학공업㈜ 제조)
C-2: 화학식6로 표시되는 옥심 에스테르계 화합물
D-1:
Figure pat00021
, 수산기 당량 181.6g/mol
D-2:
Figure pat00022
, 수산기 당량 184.3g/mol
D-3:
Figure pat00023
, 수산기 당량 191.3g/mol
D-4:
Figure pat00024
, 수산기 당량 258.4g/mol
D-5:
Figure pat00025
, 수산기 당량 294.4g/mol
D-6:
Figure pat00026
, 수산기 당량 530.9g/mol
D-7:
Figure pat00027
, 수산기 당량 111.2g/mol
D-8:
Figure pat00028
, 수산기 당량 190.9 g/mol
E-1:
Figure pat00029
(λmax = 361nm)
E-2:
Figure pat00030
(λmax = 354nm)
E-3:
Figure pat00031
(λmax = 335nm)
E-4:
Figure pat00032
(λmax = 295nm)
E-5:
Figure pat00033
(λmax = 332nm)
F:
Figure pat00034
G-1: 디에틸렌글리콜 메틸에틸 에테르
G-2: 프로필렌글리콜모노메일에테르아세테이트
실험예
가로 세로 4 인치의 실리콘 웨이퍼 상에 상기 실시예 및 비교예에서 제조된 감광성 수지 조성물을 각각 스핀 코팅한 다음 Hot plate를 이용하여 70℃에서 120 초간 가열하였다. 상기 가열된 기판을 상온으로 냉각 후, I-Line Stepper (DOF -0.15?m적용, NSR-i11D, Nikon제조)를 사용하여 직경이 10?m인 사각형의 패턴 가지며, 상호 간격이 100?m인 석영 유리제 포토 마스크를 적용하여 65mJ의 노광량(365nm기준)으로 광을 조사하였다.
광조사 후, 2.38% 테트라암모늄 히드록시드 수용액에 상기 도막을 25℃에서 60초간 침지하여 현상하고 수세 및 건조 후, 클린 오븐을 이용하여 150℃에서 30분간 포스트베이크를 실시하였다. 얻어진 콘택트홀 패턴 형성 도막의 막두께는 3.0 ㎛ 이었다. 이렇게 얻어진 도막을 아래와 같이 물성 평가를 실시하고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
(1) 패턴 Bottom CD size 측정
얻어진 Hole패턴을 3차원 형상측정장치(SIS-2000 system; SNU Precision사 제조)로 관찰하여 Hole패턴의 바닥 면으로부터 전체 높이의 5%인 지점을 Bottom CD로 정의하고, 가로 방향과 세로 방향의 측정 값의 평균 값을 패턴의 선폭으로 정의하였다(도 3 참조).
(2) 패턴의 CD - bias
상기에서 얻어진 Hole패턴의 Bottom선폭값과 마스크 사이즈와의 차이를 CD-bias로 아래와 같이 산출한다. CD-bias는 0에 근접할수록 양호하며, (+)는 Hole패턴의 Bottom CD값이 마스크보다 Hole size가 작고 (-)는 마스크보다 Hole size가 큰 것을 의미한다.
(3) 현상 잔사 평가
상기에서 얻어진 Hole패턴을 주사전자 현미경(Hitachi, S-4700)으로 측정하여 현상 후 잔사가 남아 있는지 확인하여 판단하였다.
(4) 패턴 밀착성 측정
가로 세로 2 인치의 amorphous ITO(증착두께 1500Å)가 증착된 유리 기판 상에 각각의 제조된 감광성 수지 조성물을 각각 스핀 코팅한 다음 Hot plate를 이용하여 70℃에서 120 초간 가열하였다. 상기 가열한 기판을 상온으로 냉각 후 석영 유리제 포토마스크와의 간격을 150㎛로 하여 노광기(UX-1100SM; Ushio (주) 제조)를 사용하여 50mJ/㎠의 노광량(365㎚ 기준)으로 광을 조사하였다. 이때 포토마스크는 지름(size)이 5 ㎛부터 20?㎛까지 1 ㎛간격의 팔각형 모양의 개구부를 가지는 Dot 패턴이 각각 1000개가 있는 25%투과율을 가지는 하프-톤 마스크(Half-tone Mask)를 이용하여 노광 공정을 진행하였다. 광조사 후 테트라암모늄 히드록시드 2.38%를 함유하는 수계 현상액에 상기 도막을 25℃ 에서 60초간 침지하여 현상하고, 수세 후 오븐 중에서, 150℃에서 30분간 포스트베이크를 실시하였다. 이 때, 막두께가 3 ㎛로 형성된 Square Dot패턴이 결락 없이 100% 남아있는 경우의 패턴의 실제 사이즈를 SNU Precision社의 3차원 형상 측정기 SIS-2000을 사용하여 선폭을 측정하였다.
Dot패턴 선폭의 값은 패턴의 바닥 면으로부터 전체 높이의 5%인 지점을 측정하여 가로와 세로의 값의 평균값을 Bottom CD의 값으로 정의하였다(도 4 참조). 결락 없이 남아 있는 최소 패턴 사이즈가 작을수록 현상 밀착성이 우수하다.
(5) 투과율 측정
얻어진 막의 400nm에서의 투과율을 분광광도계(올림푸스사 제조, OSP-200)로 측정하였다.
(6) Outgas 분석
상기 실험예와 동일한 방법으로 두께 3.0 ㎛의 경화막을 제작하여, 이를 100℃에서 15분간 가열하면서 발생하는 승화성 물질을 포함하는 기체 성분을 포집하여, GC/MS를 이용하여 기체 성분을 분석하였다.
구체적으로, 비교예 1의 조성물로 형성된 도막에서 발생하는 기체 성분에서 검출된 화합물 성분(outgas)의 부피 100%를 기준으로 하여, 실시예 및 비교예에서의 outgas 양을 측정하고, outgas 내에 각 실시예 및 비교예의 광중합 개시 보조제 성분이 포함되어 있는지 여부를 확인하였다.
구분 Bottom Size
(㎛)		 CD-Bias
(㎛)		 현상잔사 현상밀착성
(㎛)		 투과율
(%)		 아웃가스
(%)
실
시
예		 1 10.8 0.8 없음 12 99 100
2 10.5 0.5 없음 13 98 100
3 10.1 0.1 없음 10 98 100
4 11.8 1.8 없음 15 99 100
5 10.6 0.6 없음 12 99 100
6 11.1 1.1 없음 14 97 100
7 8.6 -1.4 없음 10 92 100
8 6.5 -3.5 없음 13 94 100
9 7.0 -3.0 없음 15 95 100
10 8.1 -1.9 없음 16 97 100
11 8.8 -1.2 없음 13 98 100
12 7.2 -2.8 없음 10 95 100
13 10.3 0.3 없음 17 99 100
비
교
예		 1 6.3 -3.7 없음 9 88 100
2 7.7 -2.3 없음 11 90 100
3 9.4 -0.6 없음 19 95 100
4 9.1 -0.9 없음 16 95 100
5 8.8 -1.2 있음 18 95 100
6 9.8 -0.2 있음 20 97 100
7 6.2 -3.8 없음 14 95 120
8 12.1 2.1 없음 20 97 165
상기 표 2를 참조하면 본 발명의 범위에 포함되는 실시예들이 대체적으로 비교예들에 비해 홀패턴 해상도가 높고 패턴 밀착성과 투과율이 우수하며 아웃 가스의 발생이 적음을 확인할 수 있었다.

Claims (11)

  1. 하기 화학식 1로 표시되며, 수산기 당량이 130 내지 190 g/moL이고 분자량이 500 이상인 산화 방지제를 포함하는, 감광성 수지 조성물:
    [화학식 1]
    Figure pat00035

    (식 중, R1은 탄소수 1 내지 6인 직쇄 또는 분지쇄의 알킬렌기이고, R2 내지 R7은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 6인 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12인 아릴기임).
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 산화방지제는 각각의 벤젠고리가 적어도 하나의 메틸기를 포함하는, 감광성 수지 조성물.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 산화방지제는 각각의 벤젠고리가 적어도 하나의 tert-부틸기를 포함하는, 감광성 수지 조성물.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 산화방지제는 하기 화학식 2로 표시되는, 감광성 수지 조성물:
    [화학식 2]
    Figure pat00036
    .
  5. 청구항 1에 있어서, 알칼리 가용성 수지, 중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
  6. 청구항 5에 있어서, 상기 알칼리 가용성 수지는,
    하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위(a), 화학식 4로 표시되는 반복단위(b) 및 카르복실산기를 포함하는 반복단위(c)를 포함하는, 감광성 수지 조성물:
    [화학식 3]
    Figure pat00037

    (식 중, R8은 수소 또는 메틸기임)
    [화학식 4]
    Figure pat00038

    (식 중, R9는 수소 또는 메틸기이고 R10은 수소, 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 12의 아릴기임 ).
  7. 청구항 5에 있어서, λmax 가 345nm 이상인 히드록시 벤조페논계 또는 벤조트리아졸계 자외선 흡수제를 더 포함하는, 감광성 수지 조성물.
  8. 청구항 5에 있어서, 하기 화학식 5로 표시되는 3관능 이상의 다관능 티올 화합물을 더 포함하는, 감광성 수지 조성물:
    [화학식 5]
    Figure pat00039

    (식 중에서, Z1은 메틸렌기 또는 탄소수 2 내지 10의 직쇄 또는 분지쇄인 알킬렌기 또는 알킬메틸렌기이고, Y는 단결합, -CO-, -O-CO- 또는 -NHCO-이고, n이 3 내지 10의 정수이고, X가 1개 또는 복수개의 에테르 결합을 가질 수 있는 탄소수 2 내지 70의 n가의 탄화수소기이거나, 또는 n이 3이며 X가 하기 화학식 6으로 표시되는 3가의 기임)
    [화학식 6]
    Figure pat00040

    (식 중에서, Z2, Z3 및 Z4는 서로 독립적으로 메틸렌기 또는 탄소수 2 내지 6의 알킬렌기이고, "*"는 결합손을 나타냄).
  9. 청구항 1 내지 8 중의 어느 한 항의 감광성 수지 조성물로 형성되는, 광경화 패턴.
  10. 청구항 9에 있어서, 상기 광경화 패턴은 어레이 평탄화막 패턴, 보호막 패턴, 절연막 패턴, 포토레지스트 패턴, 블랙 매트릭스 패턴 및 컬럼 스페이서 패턴으로 이루어진 군에서 선택되는, 광경화 패턴.
  11. 청구항 10의 광경화 패턴을 포함하는 화상 표시 장치.
KR1020150093238A 2015-06-30 2015-06-30 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치 KR102402746B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150093238A KR102402746B1 (ko) 2015-06-30 2015-06-30 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150093238A KR102402746B1 (ko) 2015-06-30 2015-06-30 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170003065A true KR20170003065A (ko) 2017-01-09
KR102402746B1 KR102402746B1 (ko) 2022-05-26

Family

ID=57811012

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150093238A KR102402746B1 (ko) 2015-06-30 2015-06-30 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102402746B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200044871A (ko) * 2017-09-27 2020-04-29 후지필름 가부시키가이샤 임프린트용 경화성 조성물, 경화물 패턴의 제조 방법, 회로 기판의 제조 방법 및 경화물

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101302508B1 (ko) 2006-02-03 2013-09-02 주식회사 동진쎄미켐 네가티브 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법
KR20140123011A (ko) * 2013-04-11 2014-10-21 제이엔씨 주식회사 박리 방지제를 함유한 중합성 액정 조성물을 사용한 필름
KR20140146546A (ko) * 2013-06-17 2014-12-26 토요잉크Sc홀딩스주식회사 칼라필터용 착색 조성물 및 칼라필터
KR20150016087A (ko) * 2013-08-02 2015-02-11 제이에스알 가부시끼가이샤 감방사선성 수지 조성물, 경화막, 그의 형성 방법 및 표시 소자
KR20150032632A (ko) * 2013-09-18 2015-03-27 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 착색 경화성 수지 조성물

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101302508B1 (ko) 2006-02-03 2013-09-02 주식회사 동진쎄미켐 네가티브 감광성 수지 조성물, 그 경화물을 갖는 액정표시장치, 그를 사용한 액정표시장치의 패턴형성방법
KR20140123011A (ko) * 2013-04-11 2014-10-21 제이엔씨 주식회사 박리 방지제를 함유한 중합성 액정 조성물을 사용한 필름
KR20140146546A (ko) * 2013-06-17 2014-12-26 토요잉크Sc홀딩스주식회사 칼라필터용 착색 조성물 및 칼라필터
KR20150016087A (ko) * 2013-08-02 2015-02-11 제이에스알 가부시끼가이샤 감방사선성 수지 조성물, 경화막, 그의 형성 방법 및 표시 소자
KR20150032632A (ko) * 2013-09-18 2015-03-27 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 착색 경화성 수지 조성물

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200044871A (ko) * 2017-09-27 2020-04-29 후지필름 가부시키가이샤 임프린트용 경화성 조성물, 경화물 패턴의 제조 방법, 회로 기판의 제조 방법 및 경화물

Also Published As

Publication number Publication date
KR102402746B1 (ko) 2022-05-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101592848B1 (ko) 감광성 수지 조성물
KR101564872B1 (ko) 네가티브형 감광성 수지 조성물
KR101611836B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR101609234B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR101813911B1 (ko) 네가티브형 감광성 수지 조성물
KR20160029339A (ko) 감광성 수지 조성물
KR101612673B1 (ko) 네가티브형 감광성 수지 조성물
KR20170018679A (ko) 네가티브형 감광성 수지 조성물
KR20160091648A (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 경화막 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR20160111805A (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR102157642B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
TWI626507B (zh) 負型光敏性樹脂組成物
KR20160091646A (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR102173148B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR102135064B1 (ko) 네가티브형 감광성 수지 조성물
KR101592849B1 (ko) 네가티브형 감광성 수지 조성물
KR102120973B1 (ko) 감광성 수지 조성물
KR102402746B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR101494733B1 (ko) 포토레지스트 패턴 형성 방법
KR20170003064A (ko) 감광성 수지 조성물, 이로부터 형성된 광경화 패턴 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR102145934B1 (ko) 광경화 패턴의 형성 방법
KR20170077458A (ko) 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화성 패턴
KR20170027005A (ko) 감광성 수지 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 패턴
KR20150109939A (ko) 감광성 수지 조성물
KR101638354B1 (ko) 스페이서 형성용 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조되는 스페이서

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant