KR20160134021A - 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치 및 영상 생성 방법 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 108
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 39
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 18
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 7
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 239000012567 medical material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
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Abstract
본 발명은 기준 검사체와 피검사체를 번갈아가며 실시간 또는 준-실시간으로 동시에 영상을 획득할 수 있어서 영상의 정확도 및 해상도를 높일 수 있고, 검사체를 이동하지 않고 검사체에 인가되는 테라헤르츠 전자기파의 위치를 변화시켜가면서 영상을 획득함으로써 영상의 정확도 및 해상도를 높일 수 있는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치 및 영상 생성 방법에 관한 것이다.
레이저 빔을 생성하는 광원; 상기 레이저 빔을 제1 레이저 빔 및 제2 레이저 빔으로 분리하여 출력하는 빔 스플리터; 기준 검사체 및 피검사체를 수용하며, 상기 제1 레이저 빔이 입사한 위치에서 테라헤르츠 전자기파를 생성하고, 생성된 상기 테라헤르츠 전자기파를 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 어느 하나로 방사하는 테라헤르츠 전자기파 생성부; 상기 빔 스플리터로부터 출력되는 상기 제1 레이저 빔의 조사 위치를 조정하여 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부로 진행시키는 레이저 빔 변조부; 상기 기준 검사체 또는 상기 피검사체를 투과한 상기 테라헤르츠 전자기파를 검출하는 검출부; 상기 검출부에서 검출된 상기 테라헤르츠 전자기파와 상기 제2 레이저 빔을 기초로 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 적어도 하나의 영상 신호를 획득하는 영상 획득부; 및 상기 제1 레이저 빔이 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부의 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중의 어느 하나에 대응하는 위치로 진행하도록 상기 레이저 빔 변조부의 동작을 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치가 제공된다.
레이저 빔을 생성하는 광원; 상기 레이저 빔을 제1 레이저 빔 및 제2 레이저 빔으로 분리하여 출력하는 빔 스플리터; 기준 검사체 및 피검사체를 수용하며, 상기 제1 레이저 빔이 입사한 위치에서 테라헤르츠 전자기파를 생성하고, 생성된 상기 테라헤르츠 전자기파를 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 어느 하나로 방사하는 테라헤르츠 전자기파 생성부; 상기 빔 스플리터로부터 출력되는 상기 제1 레이저 빔의 조사 위치를 조정하여 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부로 진행시키는 레이저 빔 변조부; 상기 기준 검사체 또는 상기 피검사체를 투과한 상기 테라헤르츠 전자기파를 검출하는 검출부; 상기 검출부에서 검출된 상기 테라헤르츠 전자기파와 상기 제2 레이저 빔을 기초로 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 적어도 하나의 영상 신호를 획득하는 영상 획득부; 및 상기 제1 레이저 빔이 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부의 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중의 어느 하나에 대응하는 위치로 진행하도록 상기 레이저 빔 변조부의 동작을 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치가 제공된다.
Description
본 발명은 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치 및 영상 생성 방법에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 기준 검사체와 피검사체를 번갈아가며 실시간 또는 준-실시간으로 동시에 영상을 획득할 수 있어서 영상의 정확도 및 해상도를 높일 수 있고, 검사체(피검사체, 기준 검사체)를 이동하지 않고 검사체에 인가되는 테라헤르츠 전자기파의 위치를 변화시켜가면서 영상을 획득함으로써 영상의 정확도 및 해상도를 높일 수 있는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치 및 영상 생성 방법에 관한 것이다.
테라헤르츠 전자기파를 이용하여 피검사체의 성분을 영상을 통하여 분석하는 방법이 최근에 각광을 받고 있다.
예컨대 한국전자통신연구원에 의해서 2011년 6월 28일자로 출원되고 2013년 1월 7일자로 공개된 "테라헤르츠파를 이용한 샘플의 분석 방법 및 장치"라는 명칭의 한국공개특허 제10-2013-0001969호는 종래의 테라헤르츠 전자기파를 이용하여 피검사체, 즉 샘플의 분석 영상을 획득하는 장치를 개시하고 있다.
그러나 종래의 테라헤르츠 전자기파를 이용한 영상 생성 장치는 피검사체만을 이용하여 피검사체 신호를 획득하는 경우 노이즈 등의 영향에 의해서 정확한 영상 획득이 어렵다는 단점이 있다. 따라서 종래의 테라헤르츠 전자기파를 이용한 영상 생성 장치는 기준이 되는 매질, 즉 기준 검사체를 장치 내에 삽입한 후 이동시켜가면서 기준 검사체 신호, 즉 기준 영상을 획득하고 이후 기준 검사체를 제거하고 피검사체를 장치 내에 삽입한 후 이동시켜가면서 피검사체 신호, 즉 피검사체 영상을 획득하는 구성을 통하여 노이즈 등의 영향을 제거하고 보다 정확한 영상을 획득하도록 구성된다.
그러나 이러한 종래 기술에 따르면 한번에 기준 검사체 신호와 피검사체 신호를 실시간 또는 준-실시간으로 획득하지 못하므로 기준 검사체 신호와 피검사체 신호를 획득하는 경우 측정 조건이 동일하지 않다. 예컨대 기준 검사체에 대해서 기준 검사체 신호를 획득하는 경우와 피검사체에 대해서 피검사체 신호를 획득하는 경우에서 측정 조건의 차이가 발생한다면 정확한 영상을 획득하기 어렵게 된다. 또한 검사체(피검사체, 기준 검사체 모두 포함함)를 이동시켜가면서 피검사체 신호를 획득하므로 진동 등의 외부 변수로 인하여 획득한 영상의 정확도 및 해상도가 낮아질 수 있다는 단점이 있다.
피검사체의 성분을 분석하기 위해서는, 기준이 되는 매질, 즉 기준 검사체에 테라헤르츠 전자기파를 방사하고 기준 검사체로부터 반사 또는 투과되는 테라헤르츠 전자기파와 레이저 빔을 기초로 생성한 전기적 신호를 비교하여 기준 검사체 신호를 생성한다. 또한 피검사체에 테라헤르츠 전자기파를 방사하고 피검사체로부터 반사 또는 투과되는 테라헤르츠 전자기파와 레이저 빔을 기초로 생성한 전기적 신호를 비교하여 피검사체 신호를 생성한다.
본 발명의 목적은 기준 검사체와 피검사체를 번갈아가며 실시간 또는 준-실시간으로 동시에 영상을 획득할 수 있어서 영상의 정확도 및 해상도를 높일 수 있고, 검사체를 이동하지 않고 검사체에 인가되는 테라헤르츠 전자기파의 위치를 변화시켜가면서 영상을 획득함으로써 영상의 정확도 및 해상도를 높일 수 있는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치 및 영상 생성 방법을 제공하는 데 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 레이저 빔을 생성하는 광원; 상기 레이저 빔을 제1 레이저 빔 및 제2 레이저 빔으로 분리하여 출력하는 빔 스플리터; 기준 검사체 및 피검사체를 수용하며, 상기 제1 레이저 빔이 입사한 위치에서 테라헤르츠 전자기파를 생성하고, 생성된 상기 테라헤르츠 전자기파를 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 어느 하나로 방사하는 테라헤르츠 전자기파 생성부; 상기 빔 스플리터로부터 출력되는 상기 제1 레이저 빔의 조사 위치를 조정하여 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부로 진행시키는 레이저 빔 변조부; 상기 기준 검사체 또는 상기 피검사체를 투과한 상기 테라헤르츠 전자기파를 검출하는 검출부; 상기 검출부에서 검출된 상기 테라헤르츠 전자기파와 상기 제2 레이저 빔을 기초로 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 적어도 하나의 영상 신호를 획득하는 영상 획득부; 및 상기 제1 레이저 빔이 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부의 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중의 어느 하나에 대응하는 위치로 진행하도록 상기 레이저 빔 변조부의 동작을 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치를 제공한다.
본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 레이저 빔은 펨토초 레이저 빔을 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 기준 검사체는 크리스탈을 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 기준 검사체는 석영을 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 레이저 빔 변조부에 의해서 조사 위치가 조정된 상기 제1 레이저 빔을 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부로 진행시키는 제1 광학계를 더 포함할 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 기준 검사체 또는 상기 피검사체를 투과한 상기 테라헤르츠 전자기파를 상기 검출부로 진행시키는 제2 광학계를 더 포함할 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 제2 레이저 빔을 상기 검출부로 지연 진행시키는 제3 광학계를 더 포함할 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부는 테라헤르츠 에미터(emitter)를 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 레이저 빔 변조부는 상기 제1 레이저 빔을 라인 스캔 형태로 진행시키는 갈바노미터를 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 영상 획득부는 상기 기준 검사체를 투과한 테라헤르츠 전자기파와 상기 피검사체를 투과한 테라헤르츠 전자기파를 비교하여 상기 피검사체의 영상 신호를 보정하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 제어부는 상기 제1 레이저 빔이 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부의 상기 기준 검사체에 대응하는 위치 및 상기 피검사체에 대응하는 위치에 번갈아가며 진행하도록 상기 레이저 빔 변조부의 동작을 제어하는 것일 수 있다.
또한 본 발명은, 레이저 빔을 생성하는 광원; 상기 레이저 빔을 제1 레이저 빔 및 제2 레이저 빔으로 분리하여 출력하는 빔 스플리터; 기준 검사체 및 피검사체를 수용하며, 상기 제1 레이저 빔이 입사한 위치에서 테라헤르츠 전자기파를 생성하고, 생성된 상기 테라헤르츠 전자기파를 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 어느 하나로 방사하는 테라헤르츠 전자기파 생성부; 상기 빔 스플리터로부터 출력되는 상기 제1 레이저 빔의 조사 위치를 조정하여 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부로 진행시키는 레이저 빔 변조부; 상기 기준 검사체 또는 상기 피검사체에서 반사된 상기 테라헤르츠 전자기파를 검출하는 검출부; 상기 검출부에서 검출된 상기 테라헤르츠 전자기파와 상기 제2 레이저 빔을 기초로 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 적어도 하나의 영상 신호를 획득하는 영상 획득부; 및 상기 제1 레이저 빔이 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부의 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중의 어느 하나에 대응하는 위치로 진행하도록 상기 레이저 빔 변조부의 동작을 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치를 제공한다.
본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 레이저 빔은 펨토초 레이저 빔을 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 기준 검사체는 크리스탈을 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 기준 검사체는 석영을 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 레이저 빔 변조부에 의해서 조사 위치가 조정된 상기 제1 레이저 빔을 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부로 진행시키는 제1 광학계를 더 포함할 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 기준 검사체 또는 상기 피검사체에서 반사된 상기 테라헤르츠 전자기파를 상기 검출부로 진행시키는 제2 광학계를 더 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 제2 광학계는, 테라헤르츠 전자기파 생성부의 하단에 배치되며 상기 기준 검사체 또는 상기 피검사체에서 반사된 상기 테라헤르츠 전자기파를 반사하는 테라헤르츠 리플렉터를 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 제2 레이저 빔을 상기 검출부로 지연 진행시키는 제3 광학계를 더 포함할 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부는 테라헤르츠 에미터를 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 레이저 빔 변조부는 상기 제1 레이저 빔을 라인 스캔 형태로 진행시키는 갈바노미터를 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 영상 획득부는 상기 기준 검사체에서 반사된 테라헤르츠 전자기파와 상기 피검사체에서 반사된 테라헤르츠 전자기파를 비교하여 상기 피검사체의 영상 신호를 보정하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 상기 제어부는 상기 제1 레이저 빔이 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부의 상기 기준 검사체에 대응하는 위치 및 상기 피검사체에 대응하는 위치에 번갈아가며 진행하도록 상기 레이저 빔 변조부의 동작을 제어하는 것일 수 있다.
또한 본 발명은 (a) 기준 검사체 및 피검사체를 테라헤르츠 전자기파 생성부에 재치하는 단계; (b) 레이저 빔을 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부의 상기 기준 검사체에 대응하는 위치 및 상기 피검사체에 대응하는 위치 중 어느 하나로 진행시켜서 테라헤르츠 전자기파를 생성하고, 생성된 상기 테라헤르츠 전자기파를 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 어느 하나로 방사하는 단계; (c) 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 적어도 하나를 투과하거나 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 적어도 하나로부터 반사된 상기 테라헤르츠 전자기파를 검출하는 단계; 및 (d) 상기 단계 (c)에서 검출된 테라헤르츠 전자기파로부터 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 적어도 하나의 영상 신호를 획득하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 방법을 제공한다.
본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 방법에 있어서, 상기 기준 검사체는 크리스탈을 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 방법에 있어서, 상기 기준 검사체는 석영을 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 방법에 있어서, 상기 레이저 빔은 펨토초 레이저 빔을 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 방법에 있어서, 상기 단계 (b)는, 상기 레이저 빔이 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부의 상기 기준 검사체에 대응하는 위치 및 상기 피검사체에 대응하는 위치로 번갈아가며 진행하도록 상기 레이저 빔을 진행시키는 단계를 포함하는 것일 수 있다.
또한 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 방법에 있어서, 상기 단계 (d)는, 상기 기준 검사체를 투과한 또는 상기 기준 검사체에서 반사된 상기 테라헤르츠 전자기파와 상기 피검사체를 투과한 또는 상기 피검사체에서 반사된 상기 테라헤르츠 전자기파를 비교하여 상기 피검사체의 영상 신호를 보정하는 단계를 포함하는 것일 수 있다.
본 발명에 따르면 기준 검사체와 피검사체를 번갈아가며 실시간 또는 준-실시간으로 동시에 영상을 획득할 수 있어서 영상의 정확도 및 해상도를 높일 수 있고, 검사체를 이동하지 않고 검사체에 인가되는 테라헤르츠 전자기파의 위치를 변화시켜가면서 영상을 획득함으로써 영상의 정확도 및 해상도를 높일 수 있는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치 및 영상 생성 방법을 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치의 예시적인 블록도를 나타내는 도면.
도 2는 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치의 예시적인 구성을 나타내는 도면.
도 3은 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 레이저 빔 변조부의 예시적인 구성을 나타내는 도면.
도 4는 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 테라헤르츠 전자기파 생성부의 예시적인 구성을 나타내는 도면.
도 5는 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치의 다른 예시적인 구성을 나타내는 도면.
도 6은 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 방법의 예시적인 흐름도.
도 2는 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치의 예시적인 구성을 나타내는 도면.
도 3은 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 레이저 빔 변조부의 예시적인 구성을 나타내는 도면.
도 4는 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 테라헤르츠 전자기파 생성부의 예시적인 구성을 나타내는 도면.
도 5는 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치의 다른 예시적인 구성을 나타내는 도면.
도 6은 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 방법의 예시적인 흐름도.
이하, 본 발명의 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치의 실시예를 첨부한 도면을 참조로 보다 구체적으로 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치의 예시적인 블록도를 나타내는 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치는 광원(110)과, 빔 스플리터(120)와, 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)와, 레이저 빔 변조부(140)와, 검출부(150)와, 영상 획득부(160)와, 제어부(170)를 포함한다. 또한 도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치는 제1 광학계(180)와, 제2 광학계(190)와, 제3 광학계(200) 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다.
광원(110)은 레이저 빔을 생성한다.
예컨대 광원(110)은 레이저 다이오드 등을 이용할 수 있으며, 광원(110)에서 생성되는 레이저 빔은 펨토초 레이저 빔을 포함할 수 있다.
빔 스플리터(120)는 광원(110)에서 생성되는 레이저 빔을 제1 레이저 빔 및 제2 레이저 빔으로 분리하여 출력한다.
테라헤르츠 전자기파 생성부(130)는 기준 검사체(도 2 참조) 및 피검사체(도 2 참조)를 수용하며, 빔 스플리터(120)에서 출력된 제1 레이저 빔이 입사한 위치에서 테라헤르츠 전자기파를 생성하고, 생성된 테라헤르츠 전자기파를 기준 검사체 및 피검사체 중 어느 하나로 방사한다.
기준 검사체는 예컨대 크리스탈을 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 기준 검사체는 석영(quartz)을 포함할 수 있다.
피검사체는 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치를 통하여 영상을 획득하는 대상이 되는 물질이다. 피검사체는 용도에 따라서 생화학 물질, 반도체 장치, 미세 물질, 의료용 물질 등을 포함할 수 있다.
테라헤르츠 전자기파 생성부(130)는 제1 레이저 빔이 입사하면 해당 위치에서 테라헤르츠 전자기파를 생성하고 이를 방사한다. 따라서 기준 검사체 및 피검사체 중에서 테라헤르츠 전자기파가 생성된 위치에 배치되는 물질로 테라헤르츠 전자기파가 방사된다.
테라헤르츠 전자기파 생성부(130)는 테라헤르츠 에미터(emitter)를 포함할 수 있다. 보다 구체적으로 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)는 스테이지 형태의 테라헤르츠 에미터로 구현될 수 있고, 테라헤르츠 에미터 상에 기준 검사체와 피검사체가 재치되는 것이 바람직하다.
레이저 빔 변조부(140)는 빔 스플리터(120)로부터 출력되는 제1 레이저 빔의 조사 위치를 조정하여 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)로 진행시킨다.
보다 구체적으로 레이저 빔 변조부(140)는 제1 레이저 빔이 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)의 소정 위치, 예컨대 테라헤르츠 전자기파 생성부(130) 내에서 기준 검사체 또는 피검사체에 대응되는 위치에 입사되도록 제1 레이저 빔의 조사 위치를 조정하여 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)로 진행시킨다.
레이저 빔 변조부(140)에 의해서 조사 위치가 조정된 레이저 빔에 의해서 테라헤르츠 전자기파 생성부(130) 내에서 위치가 조정된 테라헤르츠 전자기파가 발생되고, 테라헤르츠 전자기파가 기준 검사체 또는 피검사체의 대응되는 위치에 입사하는 것에 의해서 기준 검사체 또는 피검사체에 대한 측정이 수행된다.
보다 구체적으로 테라헤르츠 전자기파는 기준 검사체 및 피검사체의 소정 위치, 예컨대 기준 검사체의 가로 방향 및 세로 방향의 소정 위치와 피검사체의 가로 방향 및 세로 방향의 소정 위치에 입사될 수 있다.
이를 위해서 레이저 빔 변조부(140)는 제1 레이저 빔을 라인 스캔 형태로 진행시키는 갈바노미터를 포함할 수 있다.
라인 스캔 형태로 제1 레이저 빔이 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)의 소정 위치에 입사되면, 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)는 이를 이용하여 기준 검사체 또는 피검사체를 라인 스캔하도록 테라헤르츠 전자기파를 생성할 수 있다.
한편 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)에서 생성된 테라헤르츠 전자기파는 기준 검사체 또는 피검사체의 대응되는 위치에 입사하고, 기준 검사체 또는 피검사체를 투과하거나 또는 기준 검사체 또는 피검사체에서 반사된다.
검출부(150)는 기준 검사체 또는 피검사체를 투과하거나 또는 기준 검사체 또는 피검사체에서 반사된 테라헤르츠 전자기파를 검출한다.
영상 획득부(160)는 검출부(150)에서 검출된 테라헤르츠 전자기파와 제2 레이저 빔을 기초로 기준 검사체 및 피검사체 중 적어도 하나의 영상 신호를 획득한다.
영상 획득부(160)는 기준 검사체를 투과하거나 기준 검사체에서 반사된 테라헤르츠 전자기파와 피검사체를 투과하거나 피검사체에서 반사된 테라헤르츠 전자기파를 비교하여 피검사체의 영상 신호를 보정할 수 있다.
보다 구체적으로 측정 환경에 따라서 노이즈가 피검사체의 영상 신호에 포함될 수 있다. 영상 획득부(160)는 기준 검사체를 투과하거나 기준 검사체에서 반사된 테라헤르츠 전자기파를 기초로 노이즈를 제거할 수 있다.
종래 기술에 따르면, 기준 검사체를 투과하거나 기준 검사체에서 반사된 테라헤르츠 전자기파와 피검사체를 투과하거나 피검사체에서 반사된 테라헤르츠 전자기파는 그 측정 환경에 차이가 있을 수 있으므로 노이즈를 제거하는 것이 정확하지 않다는 단점이 있다.
그러나 본 발명에 따르면, 기준 검사체와 피검사체가 실시간 또는 준-실시간으로 측정될 수 있으므로, 측정 환경의 변화에 따른 영향을 최소화할 수 있다. 따라서 피검사체의 영상 신호에 포함된 노이즈를 보다 정확하게 제거할 수 있다.
제어부(170)는 제1 레이저 빔이 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)의 기준 검사체 및 피검사체 중의 어느 하나에 대응하는 위치로 진행하도록 레이저 빔 변조부(140)의 동작을 제어한다.
예컨대 레이저 빔 변조부(140)가 갈바노미터를 포함하는 경우, 제어부(170)는 갈바노미터의 동작을 제어하여 제1 레이저 빔이 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)의 기준 검사체 및 피검사체 중의 어느 하나에 대응하는 위치에 라인 스캔 형태로 입사하도록 레이저 빔 변조부(140), 즉 갈바노미터의 동작을 제어한다.
또한 보다 구체적으로 제어부(170)는 실시간으로 또는 준-실시간으로 제1 레이저 빔이 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)의 기준 검사체에 대응하는 위치 및 피검사체에 대응하는 위치에 번갈아가며 진행하도록 레이저 빔 변조부(140)의 동작을 제어할 수 있다.
이와 같은 제어부(170)의 구성을 통하여, 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치는 기준 검사체와 피검사체를 실시간 또는 준-실시간으로 번갈아가며 측정할 수 있으므로, 측정 환경의 변화에 따른 영향을 최소화할 수 있다
한편 도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치는 제1 광학계(180)를 더 포함할 수 있다.
제1 광학계(180)는 레이저 빔 변조부(140)에 의해서 조사 위치가 조정된 제1 레이저 빔을 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)로 진행시킨다.
제1 광학계(180)는 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치의 설계에 있어서 유연성을 부여하기 위한 것으로서, 예컨대 제1 레이저 빔을 집속하는 렌즈 또는 반사하는 미러 등으로 구성될 수 있다.
한편 도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치는 제2 광학계(190)를 더 포함할 수 있다.
제2 광학계(190)는 기준 검사체를 투과하거나 또는 기준 검사체에서 반사된 테라헤르츠 전자기파 또는 피검사체를 투과하거나 피검사체에서 반사된 테라헤르츠 전자기파를 검출부(150)로 진행시킨다.
제2 광학계(190)는 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치의 설계에 있어서 유연성을 부여하기 위한 것으로서, 예컨대 테라헤르츠 전자기파를 진행시키는 파라볼릭(parabolic) 미러를 하나 이상 사용하여 구현될 수 있다.
한편 도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치는 제3 광학계(200)를 더 포함할 수 있다.
제3 광학계(200)는 빔 스플리터(120)에 의해서 분리된 제2 레이저 빔을 검출부(150)로 지연 진행시킨다. 제3 광학계(200)는 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치의 설계에 있어서 유연성을 부여하기 위한 것으로서, 예컨대 제2 레이저 빔을 집속하는 렌즈 또는 반사하는 미러 등으로 구성될 수 있다.
도 2는 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치의 예시적인 구성을 나타내는 도면이다.
도 2를 참조로 도시된 실시예는 특히 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치가 기준 검사체 또는 피검사체를 투과한 테라헤르츠 전자기파를 이용하여 영상 신호를 획득하는 구성을 도시한다.
도 2에서, 레이저 빔(제1 레이저 빔 및 제2 레이저 빔)의 진행은 실선으로, 테라헤르츠 전자기파의 진행은 파선으로 표시하였다.
도 2를 참조하면, 갈바노미터(145a, 145b)에 의해서 조사 위치가 조정된 제1 레이저 빔을 제1 광학계(180)를 통하여 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)의 기준 검사체(133) 또는 피검사체(137)에 대응하는 위치로 입사시킨다. 이후 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)에서 생성된 테라헤르츠 전자기파가 기준 검사체(133) 또는 피검사체(137)를 투과한 후, 파라볼릭 미러를 2개 이용하여 구현된 제2 광학계(190)를 통하여 검출부(150)로 진행한다.
한편 제2 레이저 빔은 복수의 미러 및 렌즈를 이용하여 구현된 제3 광학계(200)를 통하여 지연 진행한 후 검출부(150)로 진행된다.
영상 획득부(도 1의 160)는 검출부(150)에서 검출된 테라헤르츠 전자기파와 제2 레이저 빔을 기초로 영상 신호를 획득한다.
도 3은 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 레이저 빔 변조부의 예시적인 구성을 나타내는 도면이다.
도 3을 참조하면, 레이저 빔 변조부(140)는 예시적으로 미러(145aa, 145ba)와 미러(145aa, 145ba)에 연결되며 미러(145aa, 145ba)를 이동시키는 모터(147ab, 147bb)를 구비하는 갈바노미터(도 2의 145a, 145b)로 구현된다.
갈바노미터(도 2의 145a, 145b)는 예컨대 입사하는 제1 레이저 빔의 X 방향 위치를 조정하는 제1 갈바노미터(145a)와, Y 방향의 위치를 조정하는 제2 갈바노미터(145b)로 구현될 수 있다.
갈바노미터(도 2의 145a, 145b)에 의해서 X 방향 위치와 Y 방향 위치가 조정된 제1 레이저 빔은 이후 제1 광학계(180)를 통하여 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)의 기준 검사체(133) 또는 피검사체(137)에 대응하는 위치로 입사시킨다. 제1 광학계(180)는 단지 진행 방향을 변경하기 위한 것이며, 갈바노미터(도 2의 145a, 145b)에 의해서 X 방향 위치와 Y 방향 위치가 조정된 제1 레이저 빔은 예컨대 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)의 기준 검사체(133) 또는 피검사체(137)에 대응하는 위치 중 원하는 위치, 즉 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)의 입사면을 2차원으로 보았을 때 원하는 위치로 입사된다.
모터(147ab, 147bb)의 동작은 전술한 제어부(170)에 의해서 제어된다.
도 4는 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치에 있어서, 테라헤르츠 전자기파 생성부의 예시적인 구성을 나타내는 도면이다.
도 4를 참조하면, 제1 레이저 빔이 입사한 위치에서 테라헤르츠 전자기파가 생성되고 기준 검사체(133)를 투과하여 진행한다. 한편 제1 레이저 빔이 피검사체(137)에 대응하는 위치로 입사하면, 마찬가지로 테라헤르츠 전자기파가 생성되고 피검사체(137)를 투과하여 진행한다.
도 5는 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치의 다른 예시적인 구성을 나타내는 도면이다.
도 5를 참조로 하는 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치의 다른 예시적인 구성은 갈바노미터(145a, 145b)에 의해서 조사 위치가 조정된 제1 레이저 빔을 제1 광학계(180)를 통하여 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)의 기준 검사체(133) 또는 피검사체(137)에 대응하는 위치로 입사시킨다. 이후 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)에서 생성된 테라헤르츠 전자기파가 기준 검사체(133) 또는 피검사체(137)에서 반사된 후 테라헤르츠 리플렉터(195)를 구비하는 제2 광학계(190)를 통하여 검출부(150)로 진행한다. 테라헤르츠 리플렉터(195)는 테라헤르츠 전자기파 생성부(130)의 하단에 배치되며 기준 검사체(133) 또는 피검사체(137)에서 반사된 테라헤르츠 전자기파를 반사하여 검출부(150)로 진행시킨다
도 5를 참조로 하는 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치의 다른 예시적인 구성은 기준 검사체(133) 또는 피검사체(137)에서 반사된 테라헤르츠 전자기파를 반사하여 검출부(150)로 진행시키는 점을 제외하면 도 2를 참조로 도시된 실시예는 특히 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치와 동일하게 동작한다.
도 6은 본 발명에 따른 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 방법의 예시적인 흐름도이다.
도 6을 참조하면, 기준 검사체 및 피검사체를 테라헤르츠 전자기파 생성부에 재치한다(S100).
다음으로, 레이저 빔을 테라헤르츠 전자기파 생성부의 기준 검사체에 대응하는 위치 및 피검사체에 대응하는 위치 중 어느 하나로 진행시켜서 테라헤르츠 전자기파를 생성하고, 생성된 테라헤르츠 전자기파를 기준 검사체 및 피검사체 중 대응되는 어느 하나로 방사한다(S200).
다음으로, 기준 검사체 및 피검사체 중 적어도 하나를 투과하거나 기준 검사체 및 피검사체 중 적어도 하나로부터 반사된 테라헤르츠 전자기파를 검출한다(S300).
다음으로, 단계 S300을 통하여 검출된 테라헤르츠 전자기파로부터 기준 검사체 및 피검사체 중 적어도 하나의 영상 신호를 획득한다(S400).
한편 단계 S200에서, 레이저 빔이 테라헤르츠 전자기파 생성부의 기준 검사체에 대응하는 위치 및 피검사체에 대응하는 위치로 번갈아가며 진행하도록 레이저 빔을 진행시키는 것이 바람직하다.
또한 단계 S400에서, 기준 검사체를 투과한 또는 기준 검사체에서 반사된 테라헤르츠 전자기파와 피검사체를 투과한 또는 피검사체에서 반사된 테라헤르츠 전자기파를 비교하여 피검사체의 영상 신호를 보정하는 단계를 더 포함할 수도 있다.
비록 본 발명의 구성이 구체적으로 설명되었지만 이는 단지 본 발명을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가지는 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변형이 가능할 것이다.
따라서 본 명세서에 개시된 실시예들은 본 발명을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 사상과 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 범위는 아래의 청구범위에 의해 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
본 발명에 따르면 기준 검사체와 피검사체를 번갈아가며 실시간 또는 준-실시간으로 동시에 영상을 획득할 수 있어서 영상의 정확도 및 해상도를 높일 수 있고, 검사체를 이동하지 않고 검사체에 인가되는 테라헤르츠 전자기파의 위치를 변화시켜가면서 영상을 획득함으로써 영상의 정확도 및 해상도를 높일 수 있는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치 및 영상 생성 방법을 제공할 수 있다.
110: 광원
120: 빔 스플리터
130: 테라헤르츠 전자기파 생성부 140: 레이저 빔 변조부
150: 검출부 160: 영상 획득부
170: 제어부 180: 제1 광학계
190: 제2 광학계 200: 제3 광학계
130: 테라헤르츠 전자기파 생성부 140: 레이저 빔 변조부
150: 검출부 160: 영상 획득부
170: 제어부 180: 제1 광학계
190: 제2 광학계 200: 제3 광학계
Claims (29)
- 레이저 빔을 생성하는 광원;
상기 레이저 빔을 제1 레이저 빔 및 제2 레이저 빔으로 분리하여 출력하는 빔 스플리터;
기준 검사체 및 피검사체를 수용하며, 상기 제1 레이저 빔이 입사한 위치에서 테라헤르츠 전자기파를 생성하고, 생성된 상기 테라헤르츠 전자기파를 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 어느 하나로 방사하는 테라헤르츠 전자기파 생성부;
상기 빔 스플리터로부터 출력되는 상기 제1 레이저 빔의 조사 위치를 조정하여 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부로 진행시키는 레이저 빔 변조부;
상기 기준 검사체 또는 상기 피검사체를 투과한 상기 테라헤르츠 전자기파를 검출하는 검출부;
상기 검출부에서 검출된 상기 테라헤르츠 전자기파와 상기 제2 레이저 빔을 기초로 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 적어도 하나의 영상 신호를 획득하는 영상 획득부; 및
상기 제1 레이저 빔이 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부의 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중의 어느 하나에 대응하는 위치로 진행하도록 상기 레이저 빔 변조부의 동작을 제어하는 제어부
를 포함하는 것을 특징으로 하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제1항에 있어서,
상기 레이저 빔은 펨토초 레이저 빔을 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제1항에 있어서,
상기 기준 검사체는 크리스탈을 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제1항에 있어서,
상기 기준 검사체는 석영을 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제1항에 있어서,
상기 레이저 빔 변조부에 의해서 조사 위치가 조정된 상기 제1 레이저 빔을 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부로 진행시키는 제1 광학계
를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제1항에 있어서, 상기 기준 검사체 또는 상기 피검사체를 투과한 상기 테라헤르츠 전자기파를 상기 검출부로 진행시키는 제2 광학계
를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제1항에 있어서,
상기 제2 레이저 빔을 상기 검출부로 지연 진행시키는 제3 광학계
를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제1항에 있어서,
상기 테라헤르츠 전자기파 생성부는 테라헤르츠 에미터(emitter)를 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제1항에 있어서,
상기 레이저 빔 변조부는 상기 제1 레이저 빔을 라인 스캔 형태로 진행시키는 갈바노미터를 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제1항에 있어서,
상기 영상 획득부는 상기 기준 검사체를 투과한 테라헤르츠 전자기파와 상기 피검사체를 투과한 테라헤르츠 전자기파를 비교하여 상기 피검사체의 영상 신호를 보정하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제10항에 있어서,
상기 제어부는 상기 제1 레이저 빔이 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부의 상기 기준 검사체에 대응하는 위치 및 상기 피검사체에 대응하는 위치에 번갈아가며 진행하도록 상기 레이저 빔 변조부의 동작을 제어하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 레이저 빔을 생성하는 광원;
상기 레이저 빔을 제1 레이저 빔 및 제2 레이저 빔으로 분리하여 출력하는 빔 스플리터;
기준 검사체 및 피검사체를 수용하며, 상기 제1 레이저 빔이 입사한 위치에서 테라헤르츠 전자기파를 생성하고, 생성된 상기 테라헤르츠 전자기파를 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 어느 하나로 방사하는 테라헤르츠 전자기파 생성부;
상기 빔 스플리터로부터 출력되는 상기 제1 레이저 빔의 조사 위치를 조정하여 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부로 진행시키는 레이저 빔 변조부;
상기 기준 검사체 또는 상기 피검사체에서 반사된 상기 테라헤르츠 전자기파를 검출하는 검출부;
상기 검출부에서 검출된 상기 테라헤르츠 전자기파와 상기 제2 레이저 빔을 기초로 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 적어도 하나의 영상 신호를 획득하는 영상 획득부; 및
상기 제1 레이저 빔이 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부의 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중의 어느 하나에 대응하는 위치로 진행하도록 상기 레이저 빔 변조부의 동작을 제어하는 제어부
를 포함하는 것을 특징으로 하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제12항에 있어서,
상기 레이저 빔은 펨토초 레이저 빔을 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제12항에 있어서,
상기 기준 검사체는 크리스탈을 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제12항에 있어서,
상기 기준 검사체는 석영을 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제12항에 있어서,
상기 레이저 빔 변조부에 의해서 조사 위치가 조정된 상기 제1 레이저 빔을 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부로 진행시키는 제1 광학계
를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제12항에 있어서, 상기 기준 검사체 또는 상기 피검사체에서 반사된 상기 테라헤르츠 전자기파를 상기 검출부로 진행시키는 제2 광학계
를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제17항에 있어서,
상기 제2 광학계는, 테라헤르츠 전자기파 생성부의 하단에 배치되며 상기 기준 검사체 또는 상기 피검사체에서 반사된 상기 테라헤르츠 전자기파를 반사하는 테라헤르츠 리플렉터를 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제12항에 있어서,
상기 제2 레이저 빔을 상기 검출부로 지연 진행시키는 제3 광학계
를 더 포함하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제12항에 있어서,
상기 테라헤르츠 전자기파 생성부는 테라헤르츠 에미터(emitter)를 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제12항에 있어서,
상기 레이저 빔 변조부는 상기 제1 레이저 빔을 라인 스캔 형태로 진행시키는 갈바노미터를 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제12항에 있어서,
상기 영상 획득부는 상기 기준 검사체에서 반사된 테라헤르츠 전자기파와 상기 피검사체에서 반사된 테라헤르츠 전자기파를 비교하여 상기 피검사체의 영상 신호를 보정하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - 제22항에 있어서,
상기 제어부는 상기 제1 레이저 빔이 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부의 상기 기준 검사체에 대응하는 위치 및 상기 피검사체에 대응하는 위치에 번갈아가며 진행하도록 상기 레이저 빔 변조부의 동작을 제어하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치. - (a) 기준 검사체 및 피검사체를 테라헤르츠 전자기파 생성부에 재치하는 단계;
(b) 레이저 빔을 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부의 상기 기준 검사체에 대응하는 위치 및 상기 피검사체에 대응하는 위치 중 어느 하나로 진행시켜서 테라헤르츠 전자기파를 생성하고, 생성된 상기 테라헤르츠 전자기파를 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 어느 하나로 방사하는 단계;
(c) 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 적어도 하나를 투과하거나 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 적어도 하나로부터 반사된 상기 테라헤르츠 전자기파를 검출하는 단계; 및
(d) 상기 단계 (c)에서 검출된 테라헤르츠 전자기파로부터 상기 기준 검사체 및 상기 피검사체 중 적어도 하나의 영상 신호를 획득하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 방법. - 제24항에 있어서,
상기 기준 검사체는 크리스탈을 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 방법. - 제24항에 있어서,
상기 기준 검사체는 석영을 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 방법. - 제24항에 있어서,
상기 레이저 빔은 펨토초 레이저 빔을 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 방법. - 제24항에 있어서,
상기 단계 (b)는,
상기 레이저 빔이 상기 테라헤르츠 전자기파 생성부의 상기 기준 검사체에 대응하는 위치 및 상기 피검사체에 대응하는 위치로 번갈아가며 진행하도록 상기 레이저 빔을 진행시키는 단계를 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 방법. - 제24항에 있어서,
상기 단계 (d)는,
상기 기준 검사체를 투과한 또는 상기 기준 검사체에서 반사된 상기 테라헤르츠 전자기파와 상기 피검사체를 투과한 또는 상기 피검사체에서 반사된 상기 테라헤르츠 전자기파를 비교하여 상기 피검사체의 영상 신호를 보정하는 단계를 포함하는 것인 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020150067383A KR101701409B1 (ko) | 2015-05-14 | 2015-05-14 | 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치 및 영상 생성 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20160134021A true KR20160134021A (ko) | 2016-11-23 |
| KR101701409B1 KR101701409B1 (ko) | 2017-02-01 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020150067383A KR101701409B1 (ko) | 2015-05-14 | 2015-05-14 | 테라헤르츠 전자기파를 이용한 고해상도 영상 생성 장치 및 영상 생성 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101701409B1 (ko) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN111856025A (zh) * | 2019-04-29 | 2020-10-30 | 中国人民解放军军事科学院军事医学研究院 | 对太赫兹波辐射敏感的神经元突触囊泡蛋白syn |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102340189B1 (ko) | 2020-09-04 | 2021-12-15 | 서울시립대학교 산학협력단 | 스플릿 링 공진기를 포함하는 테라헤르츠 센서 칩 및 이를 이용한 테라헤르츠 시료 분석 장치 |
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| US20130001969A1 (en) | 2011-06-30 | 2013-01-03 | Jones David J | Hand operated reaching device for accessing elevated doors |
| KR20130077221A (ko) * | 2011-12-29 | 2013-07-09 | 한국식품연구원 | 테라파를 이용한 물체 검사 장치 |
| KR101446236B1 (ko) * | 2013-06-13 | 2014-10-01 | 서울시립대학교 산학협력단 | 냉각 수단을 구비한 테라헤르츠 검사 장치 및 이를 이용한 저온 테라헤르츠 검사 방법 |
-
2015
- 2015-05-14 KR KR1020150067383A patent/KR101701409B1/ko active IP Right Grant
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2019199018A1 (ko) * | 2018-04-11 | 2019-10-17 | 한양대학교 산학협력단 | 테라헤르츠파 기반 검출기 및 그 동작 방법 |
| KR20190118873A (ko) * | 2018-04-11 | 2019-10-21 | 한양대학교 산학협력단 | 테라헤르츠파 기반 검출기 및 그 동작 방법 |
| CN111856025A (zh) * | 2019-04-29 | 2020-10-30 | 中国人民解放军军事科学院军事医学研究院 | 对太赫兹波辐射敏感的神经元突触囊泡蛋白syn |
| CN111856025B (zh) * | 2019-04-29 | 2024-03-19 | 中国人民解放军军事科学院军事医学研究院 | 对太赫兹波辐射敏感的神经元突触囊泡蛋白syn |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR101701409B1 (ko) | 2017-02-01 |
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